JP7467360B2 - Method for producing aromatic compounds from biomass - Google Patents

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Description

本発明は、BEA型骨格構造を有するゼオライト材料上でエチレンとフラン化合物とを含む混合物を反応させることを含む、芳香族化合物の製造方法であって、触媒に含まれるBEA型骨格構造を有するゼオライト材料が、有機テンプレートを用いない合成法により得ることができる及び/又は得られる、方法に関する。 The present invention relates to a method for producing aromatic compounds, which comprises reacting a mixture containing ethylene and a furan compound on a zeolitic material having a BEA-type framework structure, in which the zeolitic material having a BEA-type framework structure contained in the catalyst can be obtained and/or is obtained by a synthesis method that does not use an organic template.

広く使用されているバルク化学物質の、バイオマスからの持続可能な生産は、高コスト、市場の変動性、及び石油ベース原料の差し迫った枯渇のため、大きな注目を集めている。p-キシレン(PX)は、テレフタル酸(TA)、ポリエチレンテレフタレート(PET)の製造、及びその後のポリエステル、合成繊維及びプラスチックボトル等の合成のため広範囲にわたり使用されているので、最も重要な特定の当該化学物質の1つである。近年、エチレンと2,5-ジメチルフラン(2,5-DMF)との間のディールス-アルダー反応を使用した再生可能なp-キシレン製造のための有望な経路が提案されている(図1を参照)。特に、2,5-DMF及びエチレンの両方がバイオマスに由来することができ、これによって、それら2,5-DMF及びエチレンの生産の石油への依存を削減する可能性が提供される。 The sustainable production of widely used bulk chemicals from biomass has attracted considerable attention due to the high costs, market volatility, and impending depletion of petroleum-based feedstocks. p-Xylene (PX) is one of the most important particular chemicals due to its widespread use for the production of terephthalic acid (TA), polyethylene terephthalate (PET), and subsequent synthesis of polyesters, synthetic fibers, plastic bottles, etc. Recently, a promising route for renewable p-Xylene production using the Diels-Alder reaction between ethylene and 2,5-dimethylfuran (2,5-DMF) has been proposed (see Figure 1). Notably, both 2,5-DMF and ethylene can be derived from biomass, offering the possibility of reducing the dependency on petroleum for their production.

US2013/0245316A1は、触媒としてのルイス酸化合物の存在下で再生可能な源及びエチレンからp-キシレンを製造する方法に関するものである。Ni,L.et al.ChemSusChem2017,10,2394は、金属トリフラートを使用したバイオベースの2,5-ジメチルフランからのp-キシレンの合成に関する。Chang,C.-C.et al.Green Chem.2014,16,585は、バイオマス由来のエチレン及びジメチルフランのH-ゼオライトベータとの環化付加反応に関するものである。Cho,H.J.et al.ChemCatChem2017,9,398は、リン含有ゼオライトベータ触媒を使用した、2,5-ジメチルフラン及びエチレンからの再生可能なp-キシレンに関するものである。 US2013/0245316A1 relates to a method for producing p-xylene from renewable sources and ethylene in the presence of Lewis acid compounds as catalysts. Ni, L. et al. ChemSusChem2017,10,2394 relates to the synthesis of p-xylene from bio-based 2,5-dimethylfuran using metal triflates. Chang, C. -C. et al. Green Chem. 2014,16,585 relates to the cycloaddition reaction of biomass-derived ethylene and dimethylfuran with H-zeolite beta. Cho, H. J. et al. ChemCatChem2017,9,398 relates to renewable p-xylene from 2,5-dimethylfuran and ethylene using phosphorus-containing zeolite beta catalyst.

バイオマスから芳香族化合物を調製するための方法は存在するが、特に反応の活性及び選択性に関して、転化を最適化する必要性が残っている。 Although methods exist for preparing aromatics from biomass, there remains a need to optimize the conversion, especially with regard to reaction activity and selectivity.

US2013/0245316A1US2013/0245316A1

Ni,L.et al.ChemSusChem2017,10,2394Ni, L. et al. ChemSusChem 2017, 10, 2394 Chang,C.-C.et al.Green Chem.2014,16,585Chang, C.-C. et al. Green Chem. 2014, 16, 585 Cho,H.J.et al.ChemCatChem2017,9,398Cho, H. J. et al. ChemCatChem 2017, 9, 398

本発明の目的は、バイオマスから芳香族化合物を製造するための改善された方法、及び特にアルキレンと、フラン又はそのアルキル化誘導体とのディールス-アルダー環化付加反応、及びその後の水の除去を介して芳香族生成物を得る、改善された方法を提供することである。よって、驚くべきことに、有機テンプレートを用いない合成から得られるBEA型骨格構造を有するゼオライト材料を含む触媒を用いることにより、特に反応の活性及び選択性に関して、改善された方法が提供されることが見出された。 The object of the present invention is to provide an improved process for the production of aromatic compounds from biomass, and in particular an improved process for obtaining aromatic products via Diels-Alder cycloaddition reaction of alkylenes with furans or alkylated derivatives thereof, followed by removal of water. It has thus surprisingly been found that an improved process is provided, in particular with regard to the activity and selectivity of the reaction, by using a catalyst comprising a zeolitic material with a BEA-type framework structure obtained from an organic template-free synthesis.

従って本発明は、芳香族化合物の製造方法であって、
(1) エチレン及び式(I)
の化合物を含む混合物(M1)を調製する工程、
(2) 混合物(M1)を、触媒を含有する反応器に供給する工程であって、前記触媒がBEA型骨格構造を有するゼオライト材料を含む工程、
(3) 混合物(M1)の少なくとも一部を反応させて式(II)
の芳香族化合物を得るために、混合物(M1)を反応器内の触媒と接触させる工程、
(4) 式(II)の芳香族化合物を含有する反応混合物(M2)を反応器から回収する工程、
を含む方法に関し、
式中、R及びRは互いに独立して、H、又は置換又は非置換の(C~C)アルキル、好ましくはH、又は置換又は非置換の(C~C)アルキル、より好ましくはH、又は置換又は非置換のメチル、及びより好ましくはH、又は非置換のメチルを表し、及び
触媒に含まれるBEA型骨格構造を有するゼオライト材料は、有機テンプレートを用いない合成法により得ることができる及び/又は得られる。
The present invention therefore provides a method for producing an aromatic compound, comprising the steps of:
(1) Ethylene and formula (I)
preparing a mixture (M1) comprising a compound of
(2) feeding the mixture (M1) into a reactor containing a catalyst, the catalyst comprising a zeolitic material having a BEA-type framework structure;
(3) reacting at least a portion of the mixture (M1) to form a compound represented by formula (II)
contacting the mixture (M1) with a catalyst in a reactor to obtain aromatic compounds of
(4) recovering the reaction mixture (M2) containing the aromatic compound of formula (II) from the reactor;
Regarding the method,
wherein R 1 and R 2 independently of each other represent H or substituted or unsubstituted (C 1 -C 3 ) alkyl, preferably H or substituted or unsubstituted (C 1 -C 2 ) alkyl, more preferably H or substituted or unsubstituted methyl, and more preferably H or unsubstituted methyl; and the zeolitic material with BEA-type framework structure contained in the catalyst is obtainable and/or obtained by a synthesis method without the use of an organic template.

図1は、2,5-ジメチルフラン(2,5-DMF)が、エチレンのディールス-アルダー環化付加反応を介して、水の除去によりp-キシレンに転化する環化付加中間体となる反応スキームを示す。FIG. 1 shows a reaction scheme in which 2,5-dimethylfuran (2,5-DMF) undergoes a Diels-Alder cycloaddition reaction with ethylene to a cycloaddition intermediate that is converted to p-xylene by elimination of water. 図2は、2-メチルフランが、エチレンのディールス-アルダー環化付加反応を介して、水の除去によりトルエンに転化する環化付加中間体となる反応スキームを示す。FIG. 2 shows a reaction scheme in which 2-methylfuran undergoes a Diels-Alder cycloaddition reaction with ethylene to a cycloaddition intermediate that is converted to toluene upon elimination of water. 図3は、フランが、エチレンのディールス-アルダー環化付加反応を介して、水の除去によりベンゼンに転化する環化付加中間体となる反応スキームを示す。FIG. 3 shows a reaction scheme in which furan undergoes a Diels-Alder cycloaddition reaction with ethylene to form a cycloaddition intermediate that is converted to benzene with elimination of water. 図4は、参考例1、参考例2、参考例3、及び市販のゼオライトベータによる、ゼオライトベータ触媒による2,5-ジメチルフラン及びエチレンの転化における反応生成物及び選択性を示す。FIG. 4 shows the reaction products and selectivities in the conversion of 2,5-dimethylfuran and ethylene over zeolite beta catalysts for Reference Example 1, Reference Example 2, Reference Example 3, and commercial zeolite beta. 図5は、参考例2による、ゼオライトベータ触媒上でのエチレン及び2,5-ジメチルフラン(2,5-DMF)、2-メチルフラン(2-MF)、及びフランそれぞれの転化における反応生成物及び選択性を示す。FIG. 5 shows the reaction products and selectivities for the conversion of ethylene and 2,5-dimethylfuran (2,5-DMF), 2-methylfuran (2-MF), and furan, respectively, over a zeolite beta catalyst according to Example 2.

触媒に含まれるBEA型骨格構造を有するゼオライト材料の物理的及び/又は化学的特性、例えばXRDパターンに関して、特別な制限は適用されない。触媒に含まれるBEA型骨格構造を有するゼオライト材料は、少なくとも次の反射を含むX線回折パターンを示すことが好ましく、
ここで100%は、X線粉末回折パターンの20~45°の2θ範囲の最高ピークの強度を意味し、及び
BEA型骨格構造はSiO及びXを含み、Xは3価の元素である。
No particular restrictions apply with regard to the physical and/or chemical properties, e.g. XRD pattern, of the zeolitic material with a BEA-type framework structure contained in the catalyst. The zeolitic material with a BEA-type framework structure contained in the catalyst preferably exhibits an X-ray diffraction pattern including at least the following reflections:
Here, 100% means the intensity of the highest peak in the 2θ range of 20-45° in the X-ray powder diffraction pattern, and the BEA-type framework structure comprises SiO 2 and X 2 O 3 , where X is a trivalent element.

上記で開示したように、R及びRは、互いに独立して、H、又は置換又は非置換の(C~C)アルキル、好ましくはH、又は置換又は非置換の(C~C)アルキル、より好ましくはH、又は置換又は非置換のメチル、及びより好ましくはH、又は非置換のメチルを表す。R及びRが、互いに独立して、置換又は非置換の(C~C)アルキル、より好ましくは置換又は非置換の(C~C)アルキル、より好ましくは置換又は非置換のメチル、より好ましくは非置換のメチルを表すことが好ましい。 As disclosed above, R 1 and R 2 independently of each other represent H or substituted or unsubstituted (C 1 -C 3 ) alkyl, preferably H or substituted or unsubstituted (C 1 -C 2 ) alkyl, more preferably H or substituted or unsubstituted methyl, and more preferably H or unsubstituted methyl. It is preferred that R 1 and R 2 independently of each other represent substituted or unsubstituted (C 1 -C 3 ) alkyl, more preferably substituted or unsubstituted (C 1 -C 2 ) alkyl, more preferably substituted or unsubstituted methyl, more preferably unsubstituted methyl.

及びRに関して、特に好ましくは、RがHを表し、及びRが置換又は非置換の(C~C)アルキル、より好ましくは置換又は非置換の(C~C)アルキル、より好ましくは置換又は非置換のメチル、及びより好ましくは非置換のメチルを表す。 With regard to R1 and R2 , it is particularly preferred that R1 represents H and R2 represents substituted or unsubstituted ( C1 - C3 ) alkyl, more preferably substituted or unsubstituted ( C1 - C2 ) alkyl, more preferably substituted or unsubstituted methyl, and more preferably unsubstituted methyl.

上記で開示したように、混合物(M1)は、エチレンと式(I)
の化合物とを含む。
As disclosed above, the mixture (M1) is a mixture of ethylene and a cyclic olefin having the formula (I)
and

式(I)の化合物は、置換又は非置換のフラン、2-メチルフラン、2,5-ジメチルフラン、及びそれらの2種以上の混合物からなる群から、より好ましくは、非置換のフラン、2-メチルフラン、2,5-ジメチルフラン、及びそれらの2種以上の混合物からなる群から選択されることが好ましく、ここでより好ましくは、式(I)の化合物が、2-メチルフラン及び/又は2,5-ジメチルフラン、好ましくは2,5-ジメチルフランである。 The compound of formula (I) is preferably selected from the group consisting of substituted or unsubstituted furan, 2-methylfuran, 2,5-dimethylfuran, and mixtures of two or more thereof, more preferably from the group consisting of unsubstituted furan, 2-methylfuran, 2,5-dimethylfuran, and mixtures of two or more thereof, and more preferably, the compound of formula (I) is 2-methylfuran and/or 2,5-dimethylfuran, preferably 2,5-dimethylfuran.

エチレン:式(I)の化合物のモル比に関して、特別な制限は適用されない。工程(1)で調製し工程(3)で反応させる混合物(M1)中のエチレン:式(I)の化合物のモル比は、0.01~1.5、より好ましくは0.05~1、より好ましくは0.08~0.7、より好ましくは0.1~0.5、より好ましくは0.12~0.3、より好ましくは0.14~0.2、及びより好ましくは0.16~0.18の範囲であることが好ましい。 Regarding the molar ratio of ethylene to the compound of formula (I), no particular restrictions apply. The molar ratio of ethylene to the compound of formula (I) in the mixture (M1) prepared in step (1) and reacted in step (3) is preferably in the range of 0.01 to 1.5, more preferably 0.05 to 1, more preferably 0.08 to 0.7, more preferably 0.1 to 0.5, more preferably 0.12 to 0.3, more preferably 0.14 to 0.2, and more preferably 0.16 to 0.18.

従って、特に好ましくは、式(I)の化合物が、置換又は非置換のフラン、2-メチルフラン、2,5-ジメチルフラン、及びそれらの2種以上の混合物からなる群から、より好ましくは、非置換のフラン、2-メチルフラン、2,5-ジメチルフラン、及びそれらの2種以上の混合物からなる群から選択され、ここでより好ましくは、式(I)の化合物が2-メチルフラン及び/又は2,5-ジメチルフラン、好ましくは2,5-ジメチルフランであり、及び工程(1)で調製し工程(3)で反応させる混合物(M1)中のエチレン:式(I)の化合物のモル比が、0.01~1.5、より好ましくは0.05~1、より好ましくは0.08~0.7、より好ましくは0.1~0.5、より好ましくは0.12~0.3、より好ましくは0.14~0.2、及びより好ましくは0.16~0.18の範囲である。 Therefore, particularly preferably, the compound of formula (I) is selected from the group consisting of substituted or unsubstituted furan, 2-methylfuran, 2,5-dimethylfuran, and mixtures of two or more thereof, more preferably from the group consisting of unsubstituted furan, 2-methylfuran, 2,5-dimethylfuran, and mixtures of two or more thereof, where more preferably, the compound of formula (I) is 2-methylfuran and/or 2,5-dimethylfuran, preferably 2,5-dimethylfuran, and the molar ratio of ethylene:compound of formula (I) in the mixture (M1) prepared in step (1) and reacted in step (3) is in the range of 0.01 to 1.5, more preferably 0.05 to 1, more preferably 0.08 to 0.7, more preferably 0.1 to 0.5, more preferably 0.12 to 0.3, more preferably 0.14 to 0.2, and more preferably 0.16 to 0.18.

工程(1)で調製し工程(3)で反応させる混合物(M1)に関して、特別な制限は適用されず、さらなる成分、例えば水がそこに含まれてよい。工程(1)で調製し工程(3)で反応させる混合物(M1)は、100質量%の式(I)の化合物に基づいて5質量%以下の水、より好ましくは、100質量%の式(I)の化合物に基づいて1質量%以下、より好ましくは0.5質量%以下、より好ましくは0.1質量%以下、より好ましくは0.05質量%以下、より好ましくは0.01質量%以下、より好ましくは0.005質量%以下、より好ましくは0.001質量%以下、より好ましくは0.0005質量%以下、及びより好ましくは0.0001質量%以下の水を含有することが好ましい。特に好ましくは、工程(1)で調製し工程(3)で反応させる混合物(M1)は、実質的に水を含有しない。 No special restrictions apply to the mixture (M1) prepared in step (1) and reacted in step (3), and further components, such as water, may be included therein. It is preferred that the mixture (M1) prepared in step (1) and reacted in step (3) contains 5% by weight or less of water based on 100% by weight of the compound of formula (I), more preferably 1% by weight or less, more preferably 0.5% by weight or less, more preferably 0.1% by weight or less, more preferably 0.05% by weight or less, more preferably 0.01% by weight or less, more preferably 0.005% by weight or less, more preferably 0.001% by weight or less, more preferably 0.0005% by weight or less, and more preferably 0.0001% by weight or less. Particularly preferably, the mixture (M1) prepared in step (1) and reacted in step (3) contains substantially no water.

上記で開示したように、工程(1)で調製し工程(3)で反応させる混合物(M1)に関して、特別な制限は適用されず、さらなる成分、例えば溶媒システムがそこに含まれてよい。工程(1)で調製し工程(3)で反応させる混合物(M1)は、溶媒システムをさらに含むことが好ましく、ここで溶媒システムが、ブタン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デカン、及びそれらの2種以上の混合物からなる群から、より好ましくはペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、及びそれらの2種以上の混合物からなる群から、より好ましくはヘキサン、ヘプタン、オクタン、及びそれらの2種以上の混合物からなる群から選択される1種以上の溶媒を好ましくは含み、より好ましくは溶媒システムがヘプタンを含み、より好ましくは溶媒システムがヘプタンからなる。 As disclosed above, no special restrictions apply to the mixture (M1) prepared in step (1) and reacted in step (3), which may contain further components, such as a solvent system. The mixture (M1) prepared in step (1) and reacted in step (3) preferably further comprises a solvent system, where the solvent system preferably comprises one or more solvents selected from the group consisting of butane, pentane, hexane, heptane, octane, nonane, decane, and mixtures of two or more thereof, more preferably from the group consisting of pentane, hexane, heptane, octane, nonane, and mixtures of two or more thereof, more preferably from the group consisting of hexane, heptane, octane, and mixtures of two or more thereof, more preferably the solvent system comprises heptane, more preferably the solvent system consists of heptane.

工程(1)で調製し工程(3)で反応させる混合物(M1)が溶媒システムをさらに含む場合、工程(1)で調製し工程(3)で反応させる混合物(M1)が、式(I)の化合物の溶液を溶媒システム中に含有することが好ましく、ここで溶媒システムにおける式(I)の化合物の濃度は、0.1~5M、0.5~3M、より好ましくは1~2.5M、より好ましくは1.3~2M、より好ましくは1.4~1.7M、及びより好ましくは1.5~1.6Mの範囲である。 When the mixture (M1) prepared in step (1) and reacted in step (3) further comprises a solvent system, it is preferred that the mixture (M1) prepared in step (1) and reacted in step (3) contains a solution of the compound of formula (I) in the solvent system, where the concentration of the compound of formula (I) in the solvent system is in the range of 0.1-5M, 0.5-3M, more preferably 1-2.5M, more preferably 1.3-2M, more preferably 1.4-1.7M, and more preferably 1.5-1.6M.

従って、特に好ましくは、工程(1)で調製し工程(3)で反応させる混合物(M1)が、溶媒システムをさらに含み、ここで溶媒システムがブタン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デカン、及びそれらの2種以上の混合物からなる群から、より好ましくはペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、及びそれらの2種以上の混合物からなる群から、より好ましくはヘキサン、ヘプタン、オクタン、及びそれらの2種以上の混合物からなる群から選択される1種以上の溶媒を含み、より好ましくは溶媒システムがヘプタンを含み、より好ましくは溶媒システムがヘプタンからなり、及び工程(1)で調製し工程(3)で反応させる混合物(M1)が、式(I)の化合物の溶液を溶媒システム中に含有し、ここで溶媒システムにおける式(I)の化合物の濃度が0.1~5M、0.5~3M、より好ましくは1~2.5M、より好ましくは1.3~2M、より好ましくは1.4~1.7M、及びより好ましくは1.5~1.6Mの範囲であり、及び式(I)の化合物が、置換又は非置換のフラン、2-メチルフラン、2,5-ジメチルフラン、及びそれらの2種以上の混合物からなる群から、より好ましくは非置換のフラン、2-メチルフラン、2,5-ジメチルフラン、及びそれらの2種以上の混合物からなる群から選択され、ここでより好ましくは、式(I)の化合物が2-メチルフラン及び/又は2,5-ジメチルフラン、好ましくは2,5-ジメチルフランである。 Therefore, it is particularly preferred that the mixture (M1) prepared in step (1) and reacted in step (3) further comprises a solvent system, where the solvent system comprises one or more solvents selected from the group consisting of butane, pentane, hexane, heptane, octane, nonane, decane, and mixtures of two or more thereof, more preferably from the group consisting of pentane, hexane, heptane, octane, nonane, and mixtures of two or more thereof, more preferably from the group consisting of hexane, heptane, octane, and mixtures of two or more thereof, more preferably the solvent system comprises heptane, more preferably the solvent system consists of heptane, and the mixture (M1) prepared in step (1) and reacted in step (3) further comprises a solvent system for the compound of formula (I). The liquid is contained in a solvent system, wherein the concentration of the compound of formula (I) in the solvent system is in the range of 0.1 to 5M, 0.5 to 3M, more preferably 1 to 2.5M, more preferably 1.3 to 2M, more preferably 1.4 to 1.7M, and more preferably 1.5 to 1.6M, and the compound of formula (I) is selected from the group consisting of substituted or unsubstituted furan, 2-methylfuran, 2,5-dimethylfuran, and mixtures of two or more thereof, more preferably from the group consisting of unsubstituted furan, 2-methylfuran, 2,5-dimethylfuran, and mixtures of two or more thereof, and wherein more preferably the compound of formula (I) is 2-methylfuran and/or 2,5-dimethylfuran, preferably 2,5-dimethylfuran.

工程(2)で混合物(M1)を供給し工程(3)で触媒を接触させる反応器におけるエチレンの分圧に関して、特別な制限は適用されない。工程(2)で混合物(M1)を供給し工程(3)で触媒を接触させる反応器におけるエチレンの分圧は、25℃で測定して0.5~15、より好ましくは0.5~15MPa、より好ましくは1~10MPa、より好ましくは2~8MPa、より好ましくは2.5~6MPa、より好ましくは3~5MPa、及びより好ましくは3.5~4.5MPaの範囲であることが好ましい。 No particular restrictions apply to the partial pressure of ethylene in the reactor to which mixture (M1) is supplied in step (2) and to which the catalyst is contacted in step (3). The partial pressure of ethylene in the reactor to which mixture (M1) is supplied in step (2) and to which the catalyst is contacted in step (3) is preferably in the range of 0.5 to 15, more preferably 0.5 to 15 MPa, more preferably 1 to 10 MPa, more preferably 2 to 8 MPa, more preferably 2.5 to 6 MPa, more preferably 3 to 5 MPa, and more preferably 3.5 to 4.5 MPa, measured at 25°C.

式(I)の化合物及び/又はエチレンの起源に関して、特別な制限は適用されず、それは天然又は合成方法に由来してよい。式(I)の化合物及び/又はエチレン、好ましくは式(I)の化合物及びエチレンが、バイオマスに由来することが好ましい。 No particular restrictions apply regarding the origin of the compound of formula (I) and/or ethylene, which may be derived from natural or synthetic methods. It is preferred that the compound of formula (I) and/or ethylene, preferably the compound of formula (I) and ethylene, are derived from biomass.

上記で開示したように、触媒に含まれるBEA型骨格構造を有するゼオライト材料に関して、特別な制限は適用されない。工程(2)及び工程(3)において、触媒に含まれるBEA型骨格構造を有するゼオライト材料は、H型であることが好ましい。 As disclosed above, no special restrictions apply with respect to the zeolite material having a BEA-type framework structure contained in the catalyst. In steps (2) and (3), the zeolite material having a BEA-type framework structure contained in the catalyst is preferably H-type.

上記で開示したように、触媒に含まれるBEA型骨格構造を有するゼオライト材料に関して、特別な制限は適用されず、さらなる成分、例えば1種以上の金属、好ましくは1種以上のアルカリ金属及びアルカリ土類金属がそこに含まれてよい。工程(2)及び工程(3)において、触媒に含まれるBEA型骨格構造を有するゼオライト材料は、元素として計算され、BEA型骨格構造を有するゼオライト材料の骨格構造中に含有される100質量%のSiO に基づいて5質量%以下の金属AM、好ましくは、元素として計算され、BEA型骨格構造を有するゼオライト材料の骨格構造中に含有される100質量%のSiOに基づいて1質量%以下、より好ましくは0.5質量%以下、より好ましくは0.1質量%以下、より好ましくは0.05質量%以下、より好ましくは0.01質量%以下、より好ましくは0.005質量%以下、より好ましくは0.001質量%以下、より好ましくは0.0005質量%以下、及びより好ましくは0.0001質量%以下の金属AMを含有することが好ましく、ここで金属AMは、Na、好ましくはNa及びK、より好ましくはアルカリ金属、及びより好ましくはアルカリ及びアルカリ土類金属を表す。
As disclosed above, no particular restrictions apply with regard to the zeolitic material having a BEA-type framework structure contained in the catalyst, further components may be included therein, such as one or more metals, preferably one or more alkali metals and alkaline earth metals. In steps (2) and (3), the zeolite material having a BEA-type framework structure contained in the catalyst preferably contains 5% by mass or less of a metal AM, calculated as an element and based on 100% by mass of SiO 2 contained in the framework structure of the zeolite material having a BEA-type framework structure, preferably 1% by mass or less, more preferably 0.5% by mass or less, more preferably 0.1% by mass or less, more preferably 0.05% by mass or less, more preferably 0.01% by mass or less, more preferably 0.005% by mass or less, more preferably 0.001% by mass or less, more preferably 0.0005% by mass or less, and more preferably 0.0001% by mass or less, calculated as an element and based on 100% by mass of SiO 2 contained in the framework structure of the zeolite material having a BEA-type framework structure, where the metal AM represents Na, preferably Na and K, more preferably an alkali metal, and more preferably an alkali and alkaline earth metal.

上記で開示したように、触媒に含まれるBEA型骨格構造を有するゼオライト材料に関して、特別な制限は適用されず、さらなる成分、例えば1種以上の金属、好ましくは1種以上の遷移金属がそこに含まれてよい。工程(2)及び工程(3)において、触媒に含まれるBEA型骨格構造を有するゼオライト材料は、元素として計算され、BEA型骨格構造を有するゼオライト材料の骨格構造中に含有される100質量%のSiOに基づいて5質量%以下の金属TM、好ましくは、元素として計算され、BEA型骨格構造を有するゼオライト材料の骨格構造中に含有される100質量%のSiOに基づいて1質量%以下、より好ましくは0.5質量%以下、より好ましくは0.1質量%以下、より好ましくは0.05質量%以下、より好ましくは0.01質量%以下、より好ましくは0.005質量%以下、より好ましくは0.001質量%以下、より好ましくは0.0005質量%以下、及びより好ましくは0.0001質量%以下の金属TMを含有することが好ましく、ここで金属TMは、Pt、Pd、Rh、及びIrを表し、及び好ましくは、第3~12族の遷移金属元素を表す。 As disclosed above, no particular restrictions apply with regard to the zeolitic material having a BEA-type framework structure contained in the catalyst, further components may be included therein, such as one or more metals, preferably one or more transition metals. In steps (2) and (3), the zeolite material having a BEA-type framework structure contained in the catalyst preferably contains 5% by mass or less of metal TM, calculated as an element and based on 100% by mass of SiO 2 contained in the framework structure of the zeolite material having a BEA-type framework structure, preferably 1% by mass or less, more preferably 0.5% by mass or less, more preferably 0.1% by mass or less, more preferably 0.05% by mass or less, more preferably 0.01% by mass or less, more preferably 0.005% by mass or less, more preferably 0.001% by mass or less, more preferably 0.0005% by mass or less, and more preferably 0.0001% by mass or less, calculated as an element and based on 100% by mass of SiO 2 contained in the framework structure of the zeolite material having a BEA-type framework structure, where metal TM represents Pt, Pd, Rh, and Ir, and preferably represents a transition metal element of Groups 3 to 12.

反応器内に含有される触媒に関して、特別な制限は適用されず、さらなる成分、例えば1種以上の金属、好ましくは1種以上のアルカリ金属及びアルカリ土類金属がそこに含まれてよい。工程(2)及び工程(3)において、反応器内の触媒は、元素として計算され、100質量%の触媒に基づいて5質量%以下の金属AM、より好ましくは、元素として計算され、100質量%の触媒に基づいて1質量%以下、より好ましくは0.5質量%以下、より好ましくは0.1質量%以下、より好ましくは0.05質量%以下、より好ましくは0.01質量%以下、より好ましくは0.005質量%以下、より好ましくは0.001質量%以下、より好ましくは0.0005質量%以下、及びより好ましくは0.0001質量%以下の金属AMを含有することが好ましく、ここで金属AMは、Na、好ましくはNa及びK、より好ましくはアルカリ金属、及びより好ましくはアルカリ及びアルカリ土類金属を表す。 With regard to the catalyst contained in the reactor, no special restrictions apply, and further components, such as one or more metals, preferably one or more alkali metals and alkaline earth metals, may be contained therein. In steps (2) and (3), the catalyst in the reactor preferably contains, calculated as element, 5% by weight or less of metal AM based on 100% by weight of catalyst, more preferably 1% by weight or less, more preferably 0.5% by weight or less, more preferably 0.1% by weight or less, more preferably 0.05% by weight or less, more preferably 0.01% by weight or less, more preferably 0.005% by weight or less, more preferably 0.001% by weight or less, more preferably 0.0005% by weight or less, and more preferably 0.0001% by weight or less of metal AM, calculated as element, based on 100% by weight of catalyst, where metal AM represents Na, preferably Na and K, more preferably alkali metals, and more preferably alkali and alkaline earth metals.

上記で開示したように、反応器内に含有される触媒に関して、特別な制限は適用されず、さらなる成分、例えば1種以上の金属、好ましくは1種以上の遷移金属がそこに含まれてよい。反応器内に含有される触媒は、元素として計算され、100質量%の触媒に基づいて5質量%以下の金属TM、好ましくは、元素として計算され、100質量%の触媒に基づいて1質量%以下、より好ましくは0.5質量%以下、より好ましくは0.1質量%以下、より好ましくは0.05質量%以下、より好ましくは0.01質量%以下、より好ましくは0.005質量%以下、より好ましくは0.001質量%以下、より好ましくは0.0005質量%以下、及びより好ましくは0.0001質量%以下の金属TMを含有することが好ましく、ここで金属TMは、Pt、Pd、Rh、及びIrを表し、及び好ましくは、第3~12族の遷移金属元素を表す。 As disclosed above, no special restrictions apply with respect to the catalyst contained in the reactor, and further components, such as one or more metals, preferably one or more transition metals, may be contained therein. The catalyst contained in the reactor preferably contains 5% by weight or less of metal TM, calculated as element, based on 100% by weight of catalyst, preferably 1% by weight or less, more preferably 0.5% by weight or less, more preferably 0.1% by weight or less, more preferably 0.05% by weight or less, more preferably 0.01% by weight or less, more preferably 0.005% by weight or less, more preferably 0.001% by weight or less, more preferably 0.0005% by weight or less, and more preferably 0.0001% by weight or less, calculated as element, based on 100% by weight of catalyst, where metal TM represents Pt, Pd, Rh, and Ir, and preferably represents a transition metal element of groups 3 to 12.

上記で開示したように、触媒に含まれるBEA型骨格構造を有するゼオライト材料に関して、特別な制限は適用されず、さらなる成分、例えばリンがそこに含まれてよい。工程(2)及び工程(3)において、触媒に含まれるBEA型骨格構造を有するゼオライト材料は、元素として計算され、BEA型骨格構造を有するゼオライト材料の骨格構造中に含有される100質量%のSiOに基づいて、5質量%以下のリン、より好ましくは、元素として計算され、BEA型骨格構造を有するゼオライト材料の骨格構造中に含有される100質量%のSiOに基づいて1質量%以下、より好ましくは0.5質量%以下、より好ましくは0.1質量%以下、より好ましくは0.05質量%以下、より好ましくは0.01質量%以下、より好ましくは0.005質量%以下、より好ましくは0.001質量%以下、より好ましくは0.0005質量%以下、及びより好ましくは0.0001質量%以下のリンを含有することが好ましい。 As disclosed above, no special restrictions are applied with respect to the zeolite material having a BEA-type framework structure contained in the catalyst, and further components, such as phosphorus, may be contained therein. In steps (2) and (3), it is preferred that the zeolite material having a BEA-type framework structure contained in the catalyst contains, calculated as an element, 5% by weight or less of phosphorus based on 100% by weight of SiO 2 contained in the framework structure of the zeolite material having a BEA-type framework structure, more preferably, calculated as an element, 1% by weight or less of phosphorus based on 100% by weight of SiO 2 contained in the framework structure of the zeolite material having a BEA-type framework structure, more preferably, 0.5 ...

上記で開示したように、反応器内に含有される触媒に関して、特別な制限は適用されず、さらなる成分、例えばリンがそこに含まれてよい。工程(2)及び工程(3)において、触媒は、元素として計算され、100質量%の触媒に基づいて5質量%以下のリン、より好ましくは、元素として計算され、100質量%の触媒に基づいて1質量%以下、より好ましくは0.5質量%以下、より好ましくは0.1質量%以下、より好ましくは0.05質量%以下、より好ましくは0.01質量%以下、より好ましくは0.005質量%以下、より好ましくは0.001質量%以下、より好ましくは0.0005質量%以下、及びより好ましくは0.0001質量%以下の金属AMを含有することが好ましい。 As disclosed above, no special restrictions apply with regard to the catalyst contained in the reactor, and further components, such as phosphorus, may be included therein. In steps (2) and (3), the catalyst preferably contains 5% by weight or less of phosphorus, calculated as element, based on 100% by weight of catalyst, more preferably 1% by weight or less, more preferably 0.5% by weight or less, more preferably 0.1% by weight or less, more preferably 0.05% by weight or less, more preferably 0.01% by weight or less, more preferably 0.005% by weight or less, more preferably 0.001% by weight or less, more preferably 0.0005% by weight or less, and more preferably 0.0001% by weight or less of metal AM, calculated as element, based on 100% by weight of catalyst.

工程(3)における混合物(M1)の触媒との接触に関して、特別な制限は適用されず、例えば温度の観点からの任意の適した条件を適用してよい。工程(3)における混合物(M1)の触媒との接触は、150~350℃、より好ましくは200~330℃、より好ましくは230~320℃、より好ましくは250~315℃、より好ましくは270~310℃、より好ましくは280~305℃の範囲、及びより好ましくは290~300℃の範囲の温度で行うことが好ましい。 No particular restrictions apply with respect to the contact of mixture (M1) with the catalyst in step (3), and any suitable conditions, for example in terms of temperature, may be applied. The contact of mixture (M1) with the catalyst in step (3) is preferably carried out at a temperature in the range of 150 to 350°C, more preferably 200 to 330°C, more preferably 230 to 320°C, more preferably 250 to 315°C, more preferably 270 to 310°C, more preferably 280 to 305°C, and more preferably 290 to 300°C.

上記で開示したように、工程(3)における混合物(M1)の触媒との接触に関して、特別な制限は適用されず、例えば期間の観点からの任意の適した条件を適用してよい。工程(3)における混合物(M1)の触媒との接触の期間は、0.5~70時間、より好ましくは1~50時間、より好ましくは3~40時間、より好ましくは5~35時間、より好ましくは10~30時間、より好ましくは15~25時間、より好ましくは18~23時間の範囲、及びより好ましくは19~21時間の範囲であることが好ましい。 As disclosed above, no particular restrictions apply with respect to the contact of mixture (M1) with the catalyst in step (3), and any suitable conditions, for example in terms of duration, may be applied. The duration of contact of mixture (M1) with the catalyst in step (3) is preferably in the range of 0.5 to 70 hours, more preferably 1 to 50 hours, more preferably 3 to 40 hours, more preferably 5 to 35 hours, more preferably 10 to 30 hours, more preferably 15 to 25 hours, more preferably 18 to 23 hours, and more preferably 19 to 21 hours.

従って、特に好ましくは、工程(3)における混合物(M1)の触媒との接触を150~350℃、より好ましくは200~330℃、より好ましくは230~320℃、より好ましくは250~315℃、より好ましくは270~310℃、より好ましくは280~305℃の範囲、及びより好ましくは290~300℃の範囲の温度で行い、及び工程(3)における混合物(M1)の触媒との接触の期間が、0.5~70時間、より好ましくは1~50時間、より好ましくは3~40時間、より好ましくは5~35時間、より好ましくは10~30時間、より好ましくは15~25時間、より好ましくは18~23時間の範囲、及びより好ましくは19~21時間の範囲である。 Therefore, it is particularly preferred that the contact of mixture (M1) with the catalyst in step (3) is carried out at a temperature in the range of 150 to 350°C, more preferably 200 to 330°C, more preferably 230 to 320°C, more preferably 250 to 315°C, more preferably 270 to 310°C, more preferably 280 to 305°C, and more preferably 290 to 300°C, and that the contact period of mixture (M1) with the catalyst in step (3) is in the range of 0.5 to 70 hours, more preferably 1 to 50 hours, more preferably 3 to 40 hours, more preferably 5 to 35 hours, more preferably 10 to 30 hours, more preferably 15 to 25 hours, more preferably 18 to 23 hours, and more preferably 19 to 21 hours.

上記で開示したように、工程(3)における混合物(M1)の触媒との接触及び工程(4)における反応混合物(M2)の回収に関して、特別な制限は適用されず、例えば反応モードの観点からの任意の適した条件を適用してよい。工程(3)における混合物(M1)の触媒との接触及び工程(4)における反応混合物(M2)の回収は、連続モード及び/又はバッチモードで、より好ましくはバッチモードで行うことが好ましい。 As disclosed above, no particular restrictions apply with respect to the contact of mixture (M1) with the catalyst in step (3) and the recovery of reaction mixture (M2) in step (4), and any suitable conditions, for example in terms of reaction mode, may be applied. It is preferred that the contact of mixture (M1) with the catalyst in step (3) and the recovery of reaction mixture (M2) in step (4) are carried out in continuous mode and/or batch mode, more preferably in batch mode.

方法を行う反応モードに関して、特別な制限は適用されない。方法を、連続モード及び/又はバッチモードで、好ましくはバッチモードで行うことが好ましい。 No particular restrictions apply with regard to the reaction mode in which the method is carried out. It is preferred to carry out the method in continuous mode and/or batch mode, preferably in batch mode.

上記で開示したように、芳香族化合物の製造方法は、工程(1)、(2)、(3)、及び(4)を含む。前記方法に関して、方法工程の観点から特別な制限は適用されず、そこにさらなる方法工程が含まれてよい。方法が、
(5) 式(II)の化合物を反応混合物(M2)から分離して、未反応の式(I)の化合物及び/又は未反応のエチレンを含有する混合物(M3)を得る工程
をさらに含むことが好ましい。
As disclosed above, the method for producing an aromatic compound comprises steps (1), (2), (3) and (4). With respect to said method, no special restrictions apply in terms of the process steps, and further process steps may be included therein. The method further comprises:
(5) It is preferable to further include a step of separating the compound of formula (II) from the reaction mixture (M2) to obtain a mixture (M3) containing the unreacted compound of formula (I) and/or unreacted ethylene.

上記で開示したように、方法が工程(5)を含む場合、やはり方法工程の観点から特別な制限は適用されず、そこにさらなる方法工程が含まれてよい。方法が、
(6) 未反応の式(I)の化合物及び/又は未反応のエチレンを含有する混合物(M3)を工程(1)に再循環させる工程
をさらに含むことが好ましい。
As disclosed above, when the method includes step (5), again no special restrictions apply in terms of the method steps, and further method steps may be included therein.
(6) It is preferable to further include a step of recycling the mixture (M3) containing the unreacted compound of formula (I) and/or unreacted ethylene to the step (1).

上記で開示したように、触媒に含まれるBEA型骨格構造を有するゼオライト材料に関して、特別な制限は適用されない。触媒に含まれるBEA型骨格構造を有するゼオライト材料が、10~200、より好ましくは15~150、より好ましくは20~100、より好ましくは25~70、より好ましくは30~65、より好ましくは35~60、より好ましくは38~55、より好ましくは40~50、及びより好ましくは42~46の範囲のSiO:Xモル比を示すことが好ましく、ここで好ましくは、骨格構造のSiO:Xモル比は、元素分析又はゼオライト材料の29Si MAS NMRから、好ましくはゼオライト材料の29Si MAS NMRから決定する。好ましくは、骨格構造のSiO:Xモル比は、実験の項に記載の方法に従って、29Si MAS NMRにより決定する。 As disclosed above, no particular restrictions apply with regard to the zeolitic material with a BEA-type framework structure contained in the catalyst. It is preferred that the zeolitic material with a BEA-type framework structure contained in the catalyst exhibits a SiO 2 :X 2 O 3 molar ratio in the range of 10-200, more preferably 15-150, more preferably 20-100, more preferably 25-70, more preferably 30-65, more preferably 35-60, more preferably 38-55, more preferably 40-50, and more preferably 42-46, whereby preferably the SiO 2 :X 2 O 3 molar ratio of the framework structure is determined from elemental analysis or 29 Si MAS NMR of the zeolitic material, preferably from 29 Si MAS NMR of the zeolitic material. Preferably, the SiO 2 : X 2 O 3 molar ratio of the framework structure is determined by 29 Si MAS NMR according to the method described in the experimental section.

触媒に含まれるBEA型骨格構造を有するゼオライト材料の3価の元素Xに関して、特別な制限は適用されない。触媒に含まれるBEA型骨格構造を有するゼオライト材料の3価の元素Xは、Al、B、In、Ga、及びそれらの2種以上の混合物からなる群から、より好ましくはAl、Ga、及びそれらの混合物からなる群から選択されることが好ましく、Xは、より好ましくはAlである。 No special restrictions are applied to the trivalent element X of the zeolite material having a BEA-type framework structure contained in the catalyst. The trivalent element X of the zeolite material having a BEA-type framework structure contained in the catalyst is preferably selected from the group consisting of Al, B, In, Ga, and mixtures of two or more thereof, more preferably from the group consisting of Al, Ga, and mixtures thereof, and X is more preferably Al.

上記で開示したように、触媒に含まれるBEA型骨格構造を有するゼオライト材料に関して、特別な制限は適用されない。触媒に含まれるBEA型骨格構造を有するゼオライト材料が、100~900μmol/g、より好ましくは150~700μmol/g、より好ましくは200~650μmol/g、より好ましくは350~600μmol/g、より好ましくは380~550μmol/g、より好ましくは410~500μmol/g、より好ましくは430~470μmol/g、及びより好ましくは445~450μmol/gの範囲のブレンステッド酸部位(BA)の量を示すことが好ましく、ここでブレンステッド酸部位の量は、温度プログラムされたアンモニアの脱着(NH3-TPD)又はトリメチルホスフィンオキシドを使用した31P MAS NMRにより決定する。好ましくは、ブレンステッド酸部位の量は、実験の項に記載の方法に従って決定する。 As disclosed above, no particular restrictions apply with respect to the zeolitic material with a BEA-type framework structure contained in the catalyst. It is preferred that the zeolitic material with a BEA-type framework structure contained in the catalyst exhibits an amount of Bronsted acid sites (BA) in the range of 100-900 μmol/g, more preferably 150-700 μmol/g, more preferably 200-650 μmol/g, more preferably 350-600 μmol/g, more preferably 380-550 μmol/g, more preferably 410-500 μmol/g, more preferably 430-470 μmol/g, and more preferably 445-450 μmol/g, where the amount of Bronsted acid sites is determined by temperature programmed ammonia desorption (NH3-TPD) or 31 P MAS NMR using trimethylphosphine oxide. Preferably, the amount of Bronsted acid sites is determined according to the method described in the experimental section.

上記で開示したように、触媒に含まれるBEA型骨格構造を有するゼオライト材料に関して、特別な制限は適用されない。触媒に含まれるBEA型骨格構造を有するゼオライト材料が、100~350μmol/g、より好ましくは110~300μmol/g、より好ましくは120~280μmol/g、より好ましくは140~260μmol/g、より好ましくは150~240μmol/g、より好ましくは160~220μmol/g、より好ましくは170~200μmol/g、及びより好ましくは180~190μmol/gの範囲のルイス酸部位(LA)の量を示すことが好ましく、ここでルイス酸部位の量は、温度プログラムされたアンモニアの脱着(NH3-TPD)又はトリメチルホスフィンオキシドを使用した31P MAS NMRにより決定する。好ましくは、ルイス酸部位の量は、実験の項に記載の方法に従って決定する。 As disclosed above, no particular restrictions apply with regard to the zeolitic material with a BEA-type framework structure contained in the catalyst. It is preferred that the zeolitic material with a BEA-type framework structure contained in the catalyst exhibits an amount of Lewis acid sites (LA) in the range of 100-350 μmol/g, more preferably 110-300 μmol/g, more preferably 120-280 μmol/g, more preferably 140-260 μmol/g, more preferably 150-240 μmol/g, more preferably 160-220 μmol/g, more preferably 170-200 μmol/g, and more preferably 180-190 μmol/g, where the amount of Lewis acid sites is determined by temperature programmed desorption of ammonia (NH3-TPD) or 31 P MAS NMR using trimethylphosphine oxide. Preferably, the amount of Lewis acid sites is determined according to the method described in the experimental section.

従って、特に好ましくは、触媒に含まれるBEA型骨格構造を有するゼオライト材料が、100~900μmol/g、より好ましくは150~700μmol/g、より好ましくは200~650μmol/g、より好ましくは350~600μmol/g、より好ましくは380~550μmol/g、より好ましくは410~500μmol/g、より好ましくは430~470μmol/g、及びより好ましくは445~450μmol/gの範囲の量のブレンステッド酸部位(BA)を示し、ここでブレンステッド酸部位の量は、温度プログラムされたアンモニアの脱着(NH3-TPD)又はトリメチルホスフィンオキシドを使用した31P MAS NMRにより決定し、及び触媒に含まれるBEA型骨格構造を有するゼオライト材料が、100~350μmol/g、より好ましくは110~300μmol/g、より好ましくは120~280μmol/g、より好ましくは140~260μmol/g、より好ましくは150~240μmol/g、より好ましくは160~220μmol/g、より好ましくは170~200μmol/g、及びより好ましくは180~190μmol/gの範囲の量のルイス酸部位(LA)を示し、ここでルイス酸部位の量は、温度プログラムされたアンモニアの脱着(NH3-TPD)又はトリメチルホスフィンオキシドを使用した31P MAS NMRにより決定する。 Thus, it is particularly preferred that the zeolitic material with a BEA-type framework structure contained in the catalyst exhibits an amount of Brønsted acid sites (BA) in the range of 100-900 μmol/g, more preferably 150-700 μmol/g, more preferably 200-650 μmol/g, more preferably 350-600 μmol/g, more preferably 380-550 μmol/g, more preferably 410-500 μmol/g, more preferably 430-470 μmol/g and more preferably 445-450 μmol/g, wherein the amount of Brønsted acid sites can be determined by temperature programmed ammonia desorption (NH3-TPD) or 31 P MAS using trimethylphosphine oxide. The zeolitic material having a BEA-type framework structure as determined by NMR and contained in the catalyst exhibits an amount of Lewis acid sites (LA) in the range of 100-350 μmol/g, more preferably 110-300 μmol/g, more preferably 120-280 μmol/g, more preferably 140-260 μmol/g, more preferably 150-240 μmol/g, more preferably 160-220 μmol/g, more preferably 170-200 μmol/g, and more preferably 180-190 μmol/g, wherein the amount of Lewis acid sites is determined by temperature programmed ammonia desorption (NH3-TPD) or 31 P MAS NMR using trimethylphosphine oxide.

さらに、特に好ましくは、触媒に含まれるBEA型骨格構造を有するゼオライト材料が示すブレンステッド酸部位(BA)の量のルイス酸部位(LA)の量に対するBA:LA比が、0.5~8、好ましくは1~5、より好ましくは1.3~4、より好ましくは1.6~3.4、より好ましくは1.8~3、より好ましくは2.0~2.7、より好ましくは2.2~2.6、及びより好ましくは、2.3~2.5の範囲であり、ここでブレンステッド酸部位及びルイス酸部位の量はそれぞれ、温度プログラムされたアンモニアの脱着(NH3-TPD)により、又はトリメチルホスフィンオキシドを使用した31P MAS NMRにより決定する。 Furthermore, it is particularly preferred that the zeolitic material having a BEA-type framework structure contained in the catalyst has a BA:LA ratio of the amount of Bronsted acid sites (BA) to the amount of Lewis acid sites (LA) in the range of from 0.5 to 8, preferably from 1 to 5, more preferably from 1.3 to 4, more preferably from 1.6 to 3.4, more preferably from 1.8 to 3, more preferably from 2.0 to 2.7, more preferably from 2.2 to 2.6, and more preferably from 2.3 to 2.5, wherein the amount of Bronsted acid sites and Lewis acid sites, respectively, are determined by temperature programmed ammonia desorption (NH3-TPD) or by 31P MAS NMR using trimethylphosphine oxide.

触媒に含まれるBEA型骨格構造を有するゼオライト材料の物理的及び/又は化学的特性、例えばBET表面積に関して、特別な制限は適用されない。ISO9277:2010により決定する触媒に含まれるBEA型骨格構造を有するゼオライト材料のBET表面積が、350~800m/g、より好ましくは400~700m/g、より好ましくは430~650m/g、より好ましくは450~600m/g、より好ましくは460~550m/g、より好ましくは470~530m/g、より好ましくは480~520m/g、及びより好ましくは490~510m/gの範囲であることが好ましい。 No particular restrictions apply with regard to the physical and/or chemical properties, such as the BET surface area, of the zeolitic material having a BEA-type framework structure contained in the catalyst. It is preferred that the BET surface area, determined according to ISO 9277:2010, of the zeolitic material having a BEA-type framework structure contained in the catalyst is in the range of 350-800 m 2 /g, more preferably 400-700 m 2 /g, more preferably 430-650 m 2 /g, more preferably 450-600 m 2 /g, more preferably 460-550 m 2 /g, more preferably 470-530 m 2 /g, more preferably 480-520 m 2 /g, and more preferably 490-510 m 2 /g.

触媒に含まれるBEA型骨格構造を有するゼオライト材料の物理的及び/又は化学的特性、例えば総細孔容積に関して、特別な制限は適用されない。BJH法からの窒素吸着により決定する触媒に含まれるBEA型骨格構造を有するゼオライト材料の総細孔容積が、0.3~0.5cm/g、好ましくは0.31~0.45cm/g、より好ましくは0.32~0.42cm/g、より好ましくは0.33~0.4cm/g、より好ましくは0.34~0.39cm/g、より好ましくは0.35~0.38cm/g、及びより好ましくは0.36~0.37cm/gの範囲であることが好ましく、ここで総細孔容積は、好ましくは、DIN66134により決定する。 No particular restrictions apply with regard to the physical and/or chemical properties, such as the total pore volume, of the zeolitic material having a BEA-type framework structure contained in the catalyst. It is preferred that the total pore volume of the zeolitic material having a BEA-type framework structure contained in the catalyst, determined by nitrogen adsorption from the BJH method, is in the range of 0.3-0.5 cm/g, preferably 0.31-0.45 cm /g, more preferably 0.32-0.42 cm /g, more preferably 0.33-0.4 cm /g, more preferably 0.34-0.39 cm /g, more preferably 0.35-0.38 cm /g, and more preferably 0.36-0.37 cm /g, where the total pore volume is preferably determined according to DIN 66134.

触媒に含まれるBEA型骨格構造を有するゼオライト材料を得ることができる及び/又は得られる、有機テンプレートを用いない合成法に関して、特別な制限は適用されない。有機テンプレートを用いない合成法は、
(A) SiOの1種以上の源、Xの1種以上の源、及び種結晶を含む混合物を調製する工程であって、種結晶がBEA型骨格構造を有する1種以上のゼオライト材料を含む工程、
(B) BEA型骨格構造を有するゼオライト材料を得るために、工程(A)で得られた混合物を結晶化させる工程
を含むことが好ましく、ここでXは3価の元素であり、及び
工程(A)で調製し工程(B)で結晶化させる混合物は、構造指向剤としての有機テンプレートを含有しない。
No particular restrictions apply with regard to the organic template-free synthesis method by which the zeolitic material with BEA-type framework structure contained in the catalyst can be obtained and/or obtained. The organic template-free synthesis method can be
(A) preparing a mixture comprising one or more sources of SiO2 , one or more sources of X2O3 , and seed crystals , the seed crystals comprising one or more zeolitic materials having a BEA-type framework structure;
(B) It is preferred to include a step of crystallizing the mixture obtained in step (A) in order to obtain a zeolitic material having a BEA-type framework structure, where X is a trivalent element, and the mixture prepared in step (A) and crystallized in step (B) does not contain an organic template as a structure directing agent.

方法が、上記で開示したように工程(A)及び工程(B)を含む有機テンプレートを用いない合成法を含む場合、工程(A)で調製し工程(B)で結晶化させる混合物に関して、特別な制限は適用されず、そこにさらなる成分、例えば炭素が含まれてよい。工程(A)で調製し工程(B)で結晶化させる混合物は、元素として計算され、混合物に含有される100質量%のSiOに基づいて5質量%以下の炭素、より好ましくは、元素として計算され、混合物に含有される100質量%のSiOに基づいて1質量%以下、より好ましくは0.5質量%以下、より好ましくは0.1質量%以下、より好ましくは0.05質量%以下、より好ましくは0.01質量%以下、より好ましくは0.005質量%以下、より好ましくは0.001質量%以下、より好ましくは0.0005質量%以下、及びより好ましくは0.0001質量%以下の炭素を含有することが好ましい。 When the method includes an organic template-free synthesis method comprising steps (A) and (B) as disclosed above, no special restrictions are applied with respect to the mixture prepared in step (A) and crystallized in step (B), which may contain further components, such as carbon. It is preferred that the mixture prepared in step (A) and crystallized in step (B) contains 5% by weight or less of carbon, calculated as element and based on 100% by weight of SiO 2 contained in the mixture , more preferably 1% by weight or less, more preferably 0.5% by weight or less, more preferably 0.1% by weight or less, more preferably 0.05% by weight or less, more preferably 0.01% by weight or less, more preferably 0.005% by weight or less, more preferably 0.001% by weight or less, more preferably 0.0005% by weight or less, and more preferably 0.0001% by weight or less.

方法が、上記で開示したように工程(A)及び工程(B)を含む有機テンプレートを用いない合成法を含む場合、工程(B)で得られるBEA型骨格構造を有するゼオライト材料に関して、特別な制限は適用されず、そこにさらなる成分、例えば1種以上のアルカリ金属Mが含まれてよい。工程(B)で得られるBEA型骨格構造を有するゼオライト材料が、1種以上のアルカリ金属Mを含むことが好ましく、ここでMは、好ましくは、Li、Na、K、Cs、及びそれらの2種以上の組み合わせからなる群から、より好ましくはLi、Na、K、及びそれらの2種以上の組み合わせからなる群から選択され、より好ましくはアルカリ金属MはNa及び/又はK、より好ましくはNaである。 When the method comprises an organic template-free synthesis comprising steps (A) and (B) as disclosed above, no special restrictions apply with respect to the zeolitic material having a BEA-type framework structure obtained in step (B), which may comprise further components, for example one or more alkali metals M. It is preferred that the zeolitic material having a BEA-type framework structure obtained in step (B) comprises one or more alkali metals M, where M is preferably selected from the group consisting of Li, Na, K, Cs, and combinations of two or more thereof, more preferably from the group consisting of Li, Na, K, and combinations of two or more thereof, more preferably the alkali metal M is Na and/or K, more preferably Na.

工程(B)で得られるBEA型骨格構造を有するゼオライト材料が、上記で開示したように1種以上のアルカリ金属Mを含む場合、工程(A)で調製し工程(B)で結晶化させる混合物中のモル比M:SiOに関して、特別な制限は適用されない。工程(A)で調製し工程(B)で結晶化させる混合物中のモル比M:SiOは、0.05~5、より好ましくは0.1~2、より好ましくは0.3~1、より好ましくは0.4~0.8、より好ましくは0.45~0.7、より好ましくは0.5~0.65、及びより好ましくは0.55~0.6の範囲であることが好ましい。 When the zeolitic material with a BEA-type framework structure obtained in step (B) contains one or more alkali metals M as disclosed above, no special restrictions apply with regard to the molar ratio M: SiO2 in the mixture prepared in step (A) and crystallized in step (B). It is preferred that the molar ratio M: SiO2 in the mixture prepared in step (A) and crystallized in step (B) is in the range of 0.05 to 5, more preferably 0.1 to 2, more preferably 0.3 to 1, more preferably 0.4 to 0.8, more preferably 0.45 to 0.7, more preferably 0.5 to 0.65, and more preferably 0.55 to 0.6.

方法が、上記で開示したように工程(A)及び工程(B)を含む有機テンプレートを用いない合成法を含む場合、工程(A)で調製し工程(B)で結晶化させる混合物に含有されるSiOの1種以上の源に関して、特別な制限は適用されない。工程(A)で調製し工程(B)で結晶化させる混合物に含有されるSiOの1種以上の源は、1種以上のシリケート、好ましくは1種以上のアルカリ金属シリケートを含むことが好ましく、ここでアルカリ金属が、より好ましくはLi、Na、K、Rb、及びCsからなる群から選択され、より好ましくはアルカリ金属がNa及び/又はKであり、及びより好ましくはアルカリ金属がNaであり、ここでより好ましくは工程(A)で調製し工程(B)で結晶化させる混合物に含有されるSiOの1種以上の源が、水ガラス、好ましくはナトリウムシリケート及び/又はカリウムシリケート、より好ましくはナトリウムシリケートを含む。 When the method includes an organic template-free synthesis method comprising steps (A) and (B) as disclosed above, no special restrictions apply with respect to the one or more sources of SiO 2 contained in the mixture prepared in step (A) and crystallized in step (B). The one or more sources of SiO 2 contained in the mixture prepared in step (A) and crystallized in step (B) preferably comprise one or more silicates, preferably one or more alkali metal silicates, where the alkali metal is more preferably selected from the group consisting of Li, Na, K, Rb, and Cs, more preferably the alkali metal is Na and/or K, and more preferably the alkali metal is Na, and where the one or more sources of SiO 2 contained in the mixture prepared in step (A) and crystallized in step (B) preferably comprise water glass, preferably sodium silicate and/or potassium silicate, more preferably sodium silicate.

工程(A)で調製し工程(B)で結晶化させる混合物に含有されるSiOの1種以上の源が、上記で開示したように1種以上のシリケートを含む場合、そこに含まれるさらなる成分の観点において、特別な制限は適用されない。工程(A)で調製し工程(B)で結晶化させる混合物に含有されるSiOの1種以上の源は、1種以上のシリカ、より好ましくは1種以上のシリカヒドロゾル及び/又は1種以上のコロイダルシリカ、及びより好ましくは1種以上のコロイダルシリカをさらに含むことが好ましい。 When the one or more sources of SiO 2 contained in the mixture prepared in step (A) and crystallized in step (B) comprise one or more silicates as disclosed above, no special restrictions apply in terms of the further components contained therein. It is preferred that the one or more sources of SiO 2 contained in the mixture prepared in step (A) and crystallized in step (B) further comprise one or more silicas, more preferably one or more silica hydrosols and/or one or more colloidal silicas, and more preferably one or more colloidal silicas.

従って、特に好ましくは、方法が、上記で開示したように工程(A)及び工程(B)を含む有機テンプレートを用いない合成法を含む場合、工程(A)で調製し工程(B)で結晶化させる混合物に含有されるSiOの1種以上の源が、1種以上のシリケート、好ましくは1種以上のアルカリ金属シリケートを含み、ここでアルカリ金属がより好ましくはLi、Na、K、Rb、及びCsからなる群から選択され、より好ましくはアルカリ金属がNa及び/又はKであり、及びより好ましくはアルカリ金属がNaであり、ここでより好ましくは工程(A)で調製し工程(B)で結晶化させる混合物に含有されるSiOの1種以上の源が水ガラス、好ましくはナトリウムシリケート及び/又はカリウムシリケート、より好ましくはナトリウムシリケートを含み、及び工程(A)で調製し工程(B)で結晶化させる混合物に含有されるSiOの1種以上の源が1種以上のシリカ、より好ましくは1種以上のシリカヒドロゾル及び/又は1種以上のコロイダルシリカ、及びより好ましくは1種以上のコロイダルシリカをさらに含む。 Therefore, particularly preferred, when the method comprises an organic template-free synthesis comprising steps (A) and (B) as disclosed above, the one or more sources of SiO 2 contained in the mixture prepared in step (A) and crystallized in step (B) comprise one or more silicates, preferably one or more alkali metal silicates, where the alkali metal is more preferably selected from the group consisting of Li, Na, K, Rb and Cs, more preferably the alkali metal is Na and/or K, and more preferably the alkali metal is Na, and more preferably the one or more sources of SiO 2 contained in the mixture prepared in step (A) and crystallized in step (B) comprise water glass, preferably sodium silicate and/or potassium silicate, more preferably sodium silicate, and the one or more sources of SiO 2 contained in the mixture prepared in step (A) and crystallized in step (B) further comprise one or more silicas, more preferably one or more silica hydrosols and/or one or more colloidal silicas, and more preferably one or more colloidal silicas.

方法が、上記で開示したように工程(A)及び工程(B)を含む有機テンプレートを用いない合成法を含む場合、Xに関して、上記で開示したようにそれが3価の元素である限り、特別な制限は適用されない。Xは、Al、B、In、Ga、及びそれらの2種以上の混合物からなる群から、より好ましくは、Al、Ga、及びそれらの混合物からなる群から選択されることが好ましく、Xはより好ましくはAlである。 When the method includes an organic template-free synthesis method comprising steps (A) and (B) as disclosed above, no special restrictions apply regarding X, so long as it is a trivalent element as disclosed above. X is preferably selected from the group consisting of Al, B, In, Ga, and mixtures of two or more thereof, more preferably from the group consisting of Al, Ga, and mixtures thereof, and X is more preferably Al.

方法が、上記で開示したように工程(A)及び工程(B)を含む有機テンプレートを用いない合成法を含む場合、工程(A)で調製し工程(B)で結晶化させる混合物に含有されるXの1種以上の源に関して、特別な制限は適用されない。工程(A)で調製し工程(B)で結晶化させる混合物に含有されるXの1種以上の源は、1種以上のアルミネート塩、好ましくはアルカリ金属のアルミネートを含むことが好ましく、ここでアルカリ金属は、好ましくはLi、Na、K、Rb、及びCsからなる群から選択され、より好ましくはアルカリ金属はNa及び/又はKであり、及びより好ましくはアルカリ金属はNaである。 When the method comprises an organic template-free synthesis comprising steps (A) and (B) as disclosed above, no special restrictions apply with respect to the one or more sources of X2O3 contained in the mixture prepared in step (A) and crystallized in step (B). The one or more sources of X2O3 contained in the mixture prepared in step (A) and crystallized in step (B) preferably comprise one or more aluminate salts, preferably aluminates of alkali metals, where the alkali metals are preferably selected from the group consisting of Li, Na, K, Rb, and Cs, more preferably the alkali metals are Na and/or K, and more preferably the alkali metal is Na.

方法が、上記で開示したように工程(A)及び工程(B)を含む有機テンプレートを用いない合成法を含む場合、工程(A)で調製し工程(B)で結晶化させる混合物のモル比SiO:Xに関して、特別な制限は適用されない。工程(A)で調製し工程(B)で結晶化させる混合物のモル比SiO:Xは、1~200、より好ましくは5~100、より好ましくは10~50、より好ましくは15~40、より好ましくは20~30、より好ましくは23~25、及びより好ましくは23.5~24の範囲であることが好ましい。 When the method comprises an organotemplate-free synthesis comprising steps (A) and (B) as disclosed above, no special restrictions apply with regard to the molar ratio SiO 2 :X 2 O 3 of the mixture prepared in step (A) and crystallized in step (B). It is preferred that the molar ratio SiO 2 :X 2 O 3 of the mixture prepared in step (A) and crystallized in step (B) is in the range of 1-200, more preferably 5-100, more preferably 10-50, more preferably 15-40, more preferably 20-30, more preferably 23-25, and more preferably 23.5-24.

方法が、上記で開示したように工程(A)及び工程(B)を含む有機テンプレートを用いない合成法を含む場合、工程(A)で調製し工程(B)で結晶化させる混合物に関して、特別な制限は適用されず、さらなる成分、例えば1種以上の溶媒がそこに含まれてよい。工程(A)で調製し工程(B)で結晶化させる混合物が1種以上の溶媒をさらに含むことが好ましく、ここで前記1種以上の溶媒は、より好ましくは水、より好ましくは脱イオン水を含み、ここでより好ましくは、工程(A)で調製し工程(B)で結晶化させる混合物中にさらに含まれる溶媒として、水、好ましくは脱イオン水を用いる。 When the method comprises an organic template-free synthesis comprising steps (A) and (B) as disclosed above, no special restrictions apply with respect to the mixture prepared in step (A) and crystallized in step (B), which may comprise further components, such as one or more solvents. It is preferred that the mixture prepared in step (A) and crystallized in step (B) further comprises one or more solvents, where said one or more solvents more preferably comprise water, more preferably deionized water, where more preferably water, preferably deionized water, is used as the solvent further comprised in the mixture prepared in step (A) and crystallized in step (B).

工程(A)で調製し工程(B)で結晶化させる混合物が、上記で開示したように1種以上の溶媒をさらに含む場合、工程(A)で調製し工程(B)で結晶化させる混合物のモル比HO:SiOに関して、特別な制限は適用されない。工程(A)で調製し工程(B)で結晶化させる混合物のモル比HO:SiOは、5~100、好ましくは10~50、より好ましくは13~30、より好ましくは15~20、及びより好ましくは17~18の範囲であることが好ましい。 When the mixture prepared in step (A) and crystallized in step (B) further comprises one or more solvents as disclosed above, no special restrictions apply with respect to the molar ratio H 2 O:SiO 2 of the mixture prepared in step (A) and crystallized in step (B). It is preferred that the molar ratio H 2 O:SiO 2 of the mixture prepared in step (A) and crystallized in step (B) is in the range of 5-100, preferably 10-50, more preferably 13-30, more preferably 15-20, and more preferably 17-18.

方法が、上記で開示したように工程(A)及び工程(B)を含む有機テンプレートを用いない合成法を含む場合、条件、例えば工程(B)の結晶化を行う混合物の温度に関して、特別な制限は適用されない。工程(B)の結晶化は、混合物の加熱を伴うことが好ましく、より好ましくは温度が80~200℃、より好ましくは90~180℃、より好ましくは100~160℃、より好ましくは110~140℃、及びより好ましくは115~130℃の範囲である。 When the method comprises an organic template-free synthesis comprising steps (A) and (B) as disclosed above, no special restrictions apply with respect to the conditions, e.g., the temperature of the mixture under which the crystallization of step (B) is carried out. The crystallization of step (B) preferably involves heating the mixture, more preferably at temperatures in the range of 80-200°C, more preferably 90-180°C, more preferably 100-160°C, more preferably 110-140°C, and more preferably 115-130°C.

方法が、上記で開示したように工程(A)及び工程(B)を含む有機テンプレートを用いない合成法を含む場合、条件、例えば工程(B)の結晶化を行う圧力に関して、特別な制限は適用されない。工程(B)の結晶化は、自己圧力下で、より好ましくはソルボサーマル条件下で、及びより好ましくは水熱条件下で行うことが好ましい。 When the method comprises an organic template-free synthesis comprising steps (A) and (B) as disclosed above, no special restrictions apply with respect to the conditions, e.g. the pressure, under which the crystallization of step (B) is carried out. It is preferred that the crystallization of step (B) is carried out under autogenous pressure, more preferably under solvothermal conditions, and more preferably under hydrothermal conditions.

従って、特に好ましくは、工程(B)の結晶化が混合物の加熱を伴い、より好ましくは加熱の温度が80~200℃、より好ましくは90~180℃、より好ましくは100~160℃、より好ましくは110~140℃、及びより好ましくは115~130℃の範囲であり、及び工程(B)の結晶化を自己圧力下で、より好ましくはソルボサーマル条件下で、及びより好ましくは水熱条件下で行う。 Therefore, it is particularly preferred that the crystallization in step (B) involves heating the mixture, more preferably the temperature of heating is in the range of 80 to 200°C, more preferably 90 to 180°C, more preferably 100 to 160°C, more preferably 110 to 140°C, and more preferably 115 to 130°C, and that the crystallization in step (B) is carried out under autogenous pressure, more preferably under solvothermal conditions, and more preferably under hydrothermal conditions.

工程(B)の結晶化が上記で開示したように混合物の加熱を伴う場合、及び/又は工程(B)の結晶化を上記で開示したように自己圧力下で行う場合、工程(B)で混合物を加熱する期間に関して、特別な制限は適用されない。工程(B)で、混合物を5~200時間、好ましくは20~160時間、より好ましくは60~140時間、及びより好ましくは100~130時間の範囲の期間で加熱することが好ましい。 When the crystallization in step (B) involves heating the mixture as disclosed above and/or when the crystallization in step (B) is carried out under autogenous pressure as disclosed above, no special restrictions apply with respect to the period for which the mixture is heated in step (B). It is preferred to heat the mixture in step (B) for a period in the range of 5 to 200 hours, preferably 20 to 160 hours, more preferably 60 to 140 hours, and more preferably 100 to 130 hours.

方法が、上記で開示したように工程(A)及び工程(B)を含む有機テンプレートを用いない合成法を含む場合、そこに含まれるさらなる方法工程に関して、特別な制限は適用されない。BEA型骨格構造を有するゼオライト材料を調製するための有機テンプレートを用いない合成法が、
(C) 工程(B)で得られたBEA型骨格構造を有するゼオライト材料を単離する、好ましくは濾過による工程、及び
(D) 工程(B)又は(C)、好ましくは工程(C)で得られたBEA型骨格構造を有するゼオライト材料を、任意に洗浄する工程、及び/又は、
(E) 工程(B)、(C)又は(D)、好ましくは工程(D)で得られたBEA型骨格構造を有するゼオライト材料を、任意に乾燥させる工程
をさらに含むことが好ましく、
ここで、工程(C)及び/又は(D)及び/又は(E)は、任意の順序で行うことができ、及び
前記工程のうちの1つ以上を、好ましくは1回以上繰り返す。
When the method comprises an organotemplate-free synthesis method comprising steps (A) and (B) as disclosed above, no special restrictions apply with respect to the further process steps comprised therein.
(C) isolating the zeolitic material having a BEA-type framework structure obtained in step (B), preferably by filtration, and (D) optionally washing the zeolitic material having a BEA-type framework structure obtained in step (B) or (C), preferably in step (C), and/or
(E) optionally drying the zeolitic material having a BEA-type framework structure obtained in step (B), (C) or (D), preferably in step (D),
wherein steps (C) and/or (D) and/or (E) can be performed in any order, and wherein one or more of said steps are preferably repeated one or more times.

方法が、上記で開示したように工程(A)、(B)、(C)、任意に工程(D)、及び任意に工程(E)を含む有機テンプレートを用いない合成法を含む場合、そこに含まれるさらなる方法工程に関して、やはり特別な制限は適用されない。BEA型骨格構造を有するゼオライト材料を調製するための有機テンプレートを用いない合成法が、
(F) 工程(C)、(D)、又は(E)で、好ましくは工程(E)で得られたBEA型骨格構造を有するゼオライト材料に含有される1種以上のイオン性非骨格要素を、H及び/又はNH に対して、好ましくはNH に対して交換する工程;及び/又は、好ましくは
(G) 工程(C)、(D)、(E)、又は(F)で得られたBEA型骨格構造を有するゼオライト材料を乾燥及び/又はか焼する、好ましくは乾燥及びか焼する工程
をさらに含むことが好ましく、
ここで、工程(F)及び/又は(G)を、好ましくは1回以上、好ましくは1~3回、より好ましくは1回又は2回、及びより好ましくは1回繰り返す。
When the process comprises an organotemplate-free synthesis comprising steps (A), (B), (C), optionally step (D) and optionally step (E) as disclosed above, again no special restrictions apply with respect to the further process steps comprised therein. It is contemplated that the organotemplate-free synthesis for preparing a zeolitic material having a BEA-type framework structure comprises:
(F) in step (C), (D) or (E) exchanging one or more ionic non-framework elements contained in the zeolitic material with BEA-type framework structure preferably obtained in step (E) for H + and/or NH 4 + , preferably for NH 4 + ; and/or (G) preferably drying and/or calcining, preferably drying and calcining, the zeolitic material with BEA-type framework structure obtained in step (C), (D), (E) or (F),
Here, steps (F) and/or (G) are preferably repeated one or more times, preferably 1 to 3 times, more preferably 1 or 2 times, and more preferably 1 time.

方法が、上記で開示したように工程(A)、(B)、(C)、任意に工程(D)、任意に工程(E)、及び任意に工程(F)及び(G)を含む有機テンプレートを用いない合成法を含む場合、そこに含まれるさらなる方法工程に関しても、やはり特別な制限は適用されない。BEA型骨格構造を有するゼオライト材料を調製するための有機テンプレートを用いない合成法が、
(H) 工程(C)、(D)、(E)、(F)、又は(G)で、好ましくは工程(G)で得られたBEA型骨格構造を有するゼオライト材料を、pHが最大でも5である水溶液で処理する工程、及び
(I) 工程(H)で得られたBEA型骨格構造を有するゼオライト材料を単離する、好ましくは濾過による工程、及び/又は、
(J) 工程(H)又は(I)で、好ましくは工程(I)で得られたBEA型骨格構造を有するゼオライト材料を、任意に洗浄する工程、及び/又は、
(K) 工程(H)、(I)、又は(J)で、好ましくは工程(J)で得られたBEA型骨格構造を有するゼオライト材料を、任意に乾燥及び/又はか焼する、好ましくは乾燥する工程
をさらに含むことが好ましく、
ここで、工程(I)及び/又は(J)及び/又は(K)は、任意の順序で行うことができ、及び
前記工程の1つ以上を、好ましくは1回以上、好ましくは1~3回、より好ましくは1回又は2回、及びより好ましくは1回繰り返す。
When the process comprises an organotemplate-free synthesis comprising steps (A), (B), (C), optionally step (D), optionally step (E), and optionally steps (F) and (G) as disclosed above, no special restrictions apply as regards the further process steps comprised therein.
(H) in step (C), (D), (E), (F) or (G), preferably treating the zeolitic material having a BEA-type framework structure obtained in step (G) with an aqueous solution having a pH of at most 5, and (I) isolating the zeolitic material having a BEA-type framework structure obtained in step (H), preferably by filtration, and/or
(J) optionally washing the zeolitic material having a BEA-type framework structure obtained in step (H) or (I), preferably in step (I), and/or
(K) step (H), (I) or (J) preferably further comprises a step of optionally drying and/or calcining, preferably drying, the zeolitic material having a BEA-type framework structure preferably obtained in step (J);
wherein steps (I) and/or (J) and/or (K) can be performed in any order, and one or more of said steps are preferably repeated one or more times, preferably 1 to 3 times, more preferably 1 or 2 times, and more preferably once.

方法が、上記で開示したように工程(H)、(I)、任意に工程(J)、及び任意に工程(K)を含む有機テンプレートを用いない合成法を含む場合、条件、例えば工程(H)でゼオライト材料を処理するために使用する水溶液のpHに関して、水溶液のpHが最大でも5である限り、特別な制限は適用されない。工程(H)でゼオライト材料を処理するために使用する水溶液のpHが、-1.5~3、好ましくは-1.2~2、より好ましくは-1~1.5、より好ましくは-0.8~1、より好ましくは-0.6~0.7、より好ましくは-0.5~0.5、より好ましくは-0.3~0.3、より好ましくは-0.2~0.2、及びより好ましくは-0.1~0.1の範囲であることが好ましい。 When the method comprises an organic template-free synthesis comprising steps (H), (I), optionally step (J), and optionally step (K) as disclosed above, no special restrictions apply with respect to the conditions, e.g., the pH of the aqueous solution used to treat the zeolitic material in step (H), so long as the pH of the aqueous solution is at most 5. It is preferred that the pH of the aqueous solution used to treat the zeolitic material in step (H) is in the range of -1.5 to 3, preferably -1.2 to 2, more preferably -1 to 1.5, more preferably -0.8 to 1, more preferably -0.6 to 0.7, more preferably -0.5 to 0.5, more preferably -0.3 to 0.3, more preferably -0.2 to 0.2, and more preferably -0.1 to 0.1.

方法が、上記で開示したように工程(H)、(I)、任意に工程(J)、及び任意に工程(K)を含む有機テンプレートを用いない合成法を含む場合、工程(H)でゼオライト材料を処理するために用いる水溶液の性質に関して、特別な制限は適用されない。工程(H)でゼオライト材料を鉱酸の水溶液を用いて処理することが好ましい。さらに、水溶液中の鉱酸の濃度が、0.05~4M、より好ましくは0.1~3M、より好ましくは0.2~2.5M、より好ましくは0.4~2M、より好ましくは0.6~1.5M、より好ましくは0.8~1.2M、及びより好ましくは0.9~1.1Mの範囲であることが好ましい。 Where the method comprises an organotemplate-free synthesis comprising steps (H), (I), optionally step (J) and optionally step (K) as disclosed above, no particular restrictions apply with respect to the nature of the aqueous solution used to treat the zeolitic material in step (H). It is preferred that in step (H) the zeolitic material is treated with an aqueous solution of a mineral acid. Furthermore, it is preferred that the concentration of the mineral acid in the aqueous solution is in the range of 0.05-4M, more preferably 0.1-3M, more preferably 0.2-2.5M, more preferably 0.4-2M, more preferably 0.6-1.5M, more preferably 0.8-1.2M and more preferably 0.9-1.1M.

上記で開示したように、工程(H)で鉱酸を使用する場合、鉱酸の性質に関して、特別な制限は適用されない。鉱酸が、HF、HCl、HBr、HNO、HPO、HSO、HBO、HClO、及びそれらの2種以上の混合物からなる群から、より好ましくはHCl、HBr、HNO、HSO、HClO、及びそれらの2種以上の混合物からなる群から、より好ましくはHCl、HNO、HSO、及びそれらの2種以上の混合物からなる群から選択されることが好ましく、ここでより好ましくは鉱酸はHCl及び/又はHNO、好ましくはHNOである。 As disclosed above, when a mineral acid is used in step (H), no particular restrictions apply with respect to the nature of the mineral acid. It is preferred that the mineral acid is selected from the group consisting of HF , HCl, HBr , HNO3 , H3PO4 , H2SO4 , H3BO3 , HClO4 , and mixtures of two or more thereof, more preferably from the group consisting of HCl, HBr, HNO3 , H2SO4 , HClO4 , and mixtures of two or more thereof, more preferably from the group consisting of HCl, HNO3 , H2SO4 , and mixtures of two or more thereof, where more preferably the mineral acid is HCl and/or HNO3 , preferably HNO3 .

従って、特に好ましくは、工程(H)でゼオライト材料を鉱酸の水溶液を用いて処理する。さらに、水溶液中の鉱酸の濃度が0.05~4M、より好ましくは0.1~3M、より好ましくは0.2~2.5M、より好ましくは0.4~2M、より好ましくは0.6~1.5M、より好ましくは0.8~1.2M、及びより好ましくは0.9~1.1Mの範囲であり、及び鉱酸が、HF、HCl、HBr、HNO、HPO、HSO、HBO、HClO、及びそれらの2種以上の混合物からなる群から、より好ましくはHCl、HBr、HNO、HSO、HClO、及びそれらの2種以上の混合物からなる群から、より好ましくはHCl、HNO、HSO、及びそれらの2種以上の混合物からなる群から選択され、より好ましくは鉱酸がHCl及び/又はHNO、好ましくはHNOであることが好ましい。 Particularly preferably, therefore, in step (H) the zeolitic material is treated with an aqueous solution of a mineral acid. Further, it is preferred that the concentration of the mineral acid in the aqueous solution is in the range of 0.05-4M, more preferably 0.1-3M, more preferably 0.2-2.5M, more preferably 0.4-2M, more preferably 0.6-1.5M, more preferably 0.8-1.2M, and more preferably 0.9-1.1M, and that the mineral acid is selected from the group consisting of HF, HCl, HBr, HNO 3 , H 3 PO 4 , H 2 SO 4 , H 3 BO 3 , HClO 4 , and mixtures of two or more thereof, more preferably from the group consisting of HCl, HBr, HNO 3 , H 2 SO 4 , HClO 4 , and mixtures of two or more thereof, more preferably from the group consisting of HCl, HNO 3 , H 2 SO 4 , and mixtures of two or more thereof, and more preferably the mineral acid is HCl and/or HNO 3 , preferably HNO 3 .

方法が、上記で開示したように工程(H)、(I)、任意に工程(J)、及び任意に工程(K)を含む有機テンプレートを用いない合成法を含む場合、工程(C)、(D)、(E)、(F)、又は(G)で、好ましくは工程(G)で得られたBEA型骨格構造を有するゼオライト材料を、pHが最大でも5である水溶液で処理する方式に関して、特別な制限は適用されない。第1の代替法によれば、工程(H)で、ゼオライト材料を水溶液に添加し、及び混合物を、好ましくは30~100℃、より好ましくは35~90℃、より好ましくは40~80℃、より好ましくは45~75℃、より好ましくは50~70℃、及びより好ましくは55~65℃の範囲の温度で加熱することが好ましい。第2の代替法によれば、工程(H)で、ゼオライト材料を水溶液に添加し、及び混合物を、5~40℃、より好ましくは10~35℃、より好ましくは15~30℃、より好ましくは17~25℃、より好ましくは19~23℃、及びより好ましくは20~22℃の範囲の温度で処理することが好ましい。 If the method comprises an organic template-free synthesis comprising steps (H), (I), optionally step (J) and optionally step (K) as disclosed above, no special restrictions apply as to the manner in which in steps (C), (D), (E), (F) or (G) the zeolitic material having a BEA-type framework structure, preferably obtained in step (G), is treated with an aqueous solution having a pH of at most 5. According to a first alternative, in step (H), it is preferred to add the zeolitic material to the aqueous solution and to heat the mixture at a temperature preferably in the range of 30 to 100°C, more preferably 35 to 90°C, more preferably 40 to 80°C, more preferably 45 to 75°C, more preferably 50 to 70°C and more preferably 55 to 65°C. According to a second alternative, in step (H), it is preferred to add the zeolite material to the aqueous solution and treat the mixture at a temperature in the range of 5 to 40°C, more preferably 10 to 35°C, more preferably 15 to 30°C, more preferably 17 to 25°C, more preferably 19 to 23°C, and more preferably 20 to 22°C.

方法が、上記で開示したように工程(H)、(I)、任意に工程(J)、及び任意に工程(K)を含む有機テンプレートを用いない合成法を含む場合、条件、例えば混合物を工程(H)で処理する期間に関して、特別な制限は適用されない。工程(H)で、混合物を0.1~10時間、より好ましくは0.1~7時間、より好ましくは0.5~5時間、より好ましくは0.5~4.5時間、より好ましくは1~4時間、より好ましくは1~3.5時間、より好ましくは1.5~3時間、及びより好ましくは1.5~2.5時間の範囲の期間、処理することが好ましい。 When the method comprises an organic template-free synthesis comprising steps (H), (I), optionally step (J), and optionally step (K) as disclosed above, no particular restrictions apply with respect to the conditions, e.g., the period for which the mixture is treated in step (H). It is preferred to treat the mixture in step (H) for a period in the range of 0.1 to 10 hours, more preferably 0.1 to 7 hours, more preferably 0.5 to 5 hours, more preferably 0.5 to 4.5 hours, more preferably 1 to 4 hours, more preferably 1 to 3.5 hours, more preferably 1.5 to 3 hours, and more preferably 1.5 to 2.5 hours.

方法が、上記で開示したように少なくとも工程(A)、(B)、(C)、任意に工程(D)、及び任意に工程(E)を含む有機テンプレートを用いない合成法を含む場合、条件、例えば工程(E)及び/又は(G)及び/又は(K)での、好ましくは工程(E)、(G)及び(K)での乾燥を行う温度に関して、特別な制限は適用されない。工程(E)及び/又は(G)及び/又は(K)での、好ましくは工程(E)、(G)及び(K)での乾燥は、80~200℃、より好ましくは90~180℃、より好ましくは100~160℃、より好ましくは110~140℃、及びより好ましくは115~130℃の範囲の温度で行うことが好ましい。 When the method comprises an organic template-free synthesis comprising at least steps (A), (B), (C), optionally step (D), and optionally step (E) as disclosed above, no particular restrictions apply with regard to the conditions, e.g. the temperature, at which drying in steps (E) and/or (G) and/or (K), preferably in steps (E), (G) and (K), is carried out. Drying in steps (E) and/or (G) and/or (K), preferably in steps (E), (G) and (K), is preferably carried out at a temperature in the range of 80-200°C, more preferably 90-180°C, more preferably 100-160°C, more preferably 110-140°C, and more preferably 115-130°C.

方法が、上記で開示したように、少なくとも工程(A)、(B)、(C)、任意に工程(D)、及び任意に工程(E)を含む有機テンプレートを用いない合成法を含む場合、条件、例えば工程(E)及び/又は(G)及び/又は(K)での、好ましくは工程(E)、(G)及び(K)での乾燥を行う期間に関して、特別な制限は適用されない。工程(E)及び/又は(G)及び/又は(K)での、好ましくは工程(E)、(G)及び(K)での乾燥は、1~120時間、好ましくは5~96時間、より好ましくは8~72時間、より好ましくは10~60時間、より好ましくは12~48時間、より好ましくは14~42時間、より好ましくは16~36時間、より好ましくは18~30時間、より好ましくは20~24時間、及びより好ましくは21~23時間の範囲の期間、行うことが好ましい。 When the method comprises an organic template-free synthesis comprising at least steps (A), (B), (C), optionally step (D), and optionally step (E) as disclosed above, no special restrictions apply with respect to the conditions, e.g. the duration for which drying is carried out in steps (E) and/or (G) and/or (K), preferably in steps (E), (G) and (K). Drying in steps (E) and/or (G) and/or (K), preferably in steps (E), (G) and (K), is preferably carried out for a period in the range of 1 to 120 hours, preferably 5 to 96 hours, more preferably 8 to 72 hours, more preferably 10 to 60 hours, more preferably 12 to 48 hours, more preferably 14 to 42 hours, more preferably 16 to 36 hours, more preferably 18 to 30 hours, more preferably 20 to 24 hours, and more preferably 21 to 23 hours.

従って、特に好ましくは、方法が、上記で開示したように少なくとも工程(A)、(B)、(C)、任意に工程(D)、及び任意に工程(E)を含む有機テンプレートを用いない合成法を含む場合、工程(E)及び/又は(G)及び/又は(K)での、好ましくは工程(E)、(G)及び(K)での乾燥を、80~200℃、より好ましくは90~180℃、より好ましくは100~160℃、より好ましくは110~140℃、及びより好ましくは115~130℃の範囲の温度で行い、及び工程(E)及び/又は(G)及び/又は(K)での、好ましくは工程(E)、(G)及び(K)での乾燥を、1~120時間、好ましくは5~96時間、より好ましくは8~72時間、より好ましくは10~60時間、より好ましくは12~48時間、より好ましくは14~42時間、より好ましくは16~36時間、より好ましくは18~30時間、より好ましくは20~24時間、及びより好ましくは21~23時間の範囲の期間、行う。 Thus, particularly preferably, when the method comprises an organic template-free synthesis comprising at least steps (A), (B), (C), optionally step (D), and optionally step (E) as disclosed above, the drying in steps (E) and/or (G) and/or (K), preferably in steps (E), (G) and (K), is carried out at a temperature in the range of 80 to 200°C, more preferably 90 to 180°C, more preferably 100 to 160°C, more preferably 110 to 140°C, and more preferably 115 to 130°C, and the drying in steps (E) and/or (G) and/or (K), preferably in steps (E), (G) and (K), is carried out for a period in the range of 1 to 120 hours, preferably 5 to 96 hours, more preferably 8 to 72 hours, more preferably 10 to 60 hours, more preferably 12 to 48 hours, more preferably 14 to 42 hours, more preferably 16 to 36 hours, more preferably 18 to 30 hours, more preferably 20 to 24 hours, and more preferably 21 to 23 hours.

方法が、上記で開示したように、少なくとも工程(F)及び(G)を含む有機テンプレートを用いない合成法を含む場合、条件、例えばか焼を行う工程(G)及び/又は(K)(工程(K)が該当する場合)でのか焼の温度に関して、特別な制限は適用されない。工程(G)及び/又は(K)(工程(K)が該当する場合)での、より好ましくは工程(G)でのか焼は、250~1,000℃、好ましくは300~900℃、より好ましくは350~850℃、より好ましくは400~800℃、より好ましくは450~750℃、より好ましくは500~700℃、及びより好ましくは550~650℃の範囲の温度で行うことが好ましい。 When the method comprises an organic template-free synthesis comprising at least steps (F) and (G) as disclosed above, no special restrictions apply with respect to the conditions, e.g. the temperature of the calcination in steps (G) and/or (K) (if step (K) is applicable), where calcination is performed. Calcination in steps (G) and/or (K) (if step (K) is applicable), more preferably in step (G), is preferably performed at a temperature in the range of 250-1,000°C, preferably 300-900°C, more preferably 350-850°C, more preferably 400-800°C, more preferably 450-750°C, more preferably 500-700°C, and more preferably 550-650°C.

方法が、上記で開示したように、少なくとも工程(F)及び(G)を含む有機テンプレートを用いない合成法を含む場合、条件、例えばか焼を行う工程(G)及び/又は(K)(工程(K)が該当する場合)でのか焼の期間に関して、特別な制限は適用されない。工程(G)及び/又は(K)(工程(K)が該当する場合)での、より好ましくは工程(G)でのか焼は、0.5~36時間、より好ましくは1~24時間、より好ましくは1.5~18時間、より好ましくは2~12時間、より好ましくは2.5~9時間、より好ましくは3~7時間、より好ましくは3.5~6.5時間、より好ましくは4~6時間、及びより好ましくは4.5~5.5時間の範囲の期間、行うことが好ましい。 When the method comprises an organic template-free synthesis comprising at least steps (F) and (G) as disclosed above, no special restrictions apply with respect to the conditions, e.g. the duration of calcination in steps (G) and/or (K) (if step (K) is applicable), where calcination is performed. Calcination in steps (G) and/or (K) (if step (K) is applicable), more preferably in step (G), is preferably performed for a period in the range of 0.5 to 36 hours, more preferably 1 to 24 hours, more preferably 1.5 to 18 hours, more preferably 2 to 12 hours, more preferably 2.5 to 9 hours, more preferably 3 to 7 hours, more preferably 3.5 to 6.5 hours, more preferably 4 to 6 hours, and more preferably 4.5 to 5.5 hours.

従って、特に好ましくは、方法が、上記で開示したように、少なくとも工程(F)及び(G)を含む有機テンプレートを用いない合成法を含む場合、工程(G)及び/又は(K)(工程(K)が該当する場合)での、より好ましくは工程(G)でのか焼を、250~1,000℃、好ましくは300~900℃、より好ましくは350~850℃、より好ましくは400~800℃、より好ましくは450~750℃、より好ましくは500~700℃、及びより好ましくは550~650℃の範囲の温度で行い、及び工程(G)及び/又は(K)(工程(K)が該当する場合)での、より好ましくは工程(G)でのか焼を、0.5~36時間、より好ましくは1~24時間、より好ましくは1.5~18時間、より好ましくは2~12時間、より好ましくは2.5~9時間、より好ましくは3~7時間、より好ましくは3.5~6.5時間、より好ましくは4~6時間、及びより好ましくは4.5~5.5時間の範囲の期間、行う。 Therefore, particularly preferably, when the method comprises an organic template-free synthesis comprising at least steps (F) and (G) as disclosed above, the calcination in steps (G) and/or (K) (if step (K) is applicable), more preferably in step (G), is carried out at a temperature in the range of 250-1,000°C, preferably 300-900°C, more preferably 350-850°C, more preferably 400-800°C, more preferably 450-750°C, more preferably 500-700°C, and more preferably 550-650°C, and the calcination in steps (G) and/or (K) (if step (K) is applicable), more preferably in step (G), is carried out for a period in the range of 0.5-36 hours, more preferably 1-24 hours, more preferably 1.5-18 hours, more preferably 2-12 hours, more preferably 2.5-9 hours, more preferably 3-7 hours, more preferably 3.5-6.5 hours, more preferably 4-6 hours, and more preferably 4.5-5.5 hours.

方法が、上記で開示したように、少なくとも工程(A)及び工程(B)を含む有機テンプレートを用いない合成法を含む場合、BEA型骨格構造を有するゼオライト材料の物理的及び/又は化学的性質に関して、特別な制限は適用されない。工程(B)で形成されたBEA型骨格構造を有するゼオライト材料がゼオライトベータを含むことが好ましく、ここで好ましくは、工程(B)で形成されたBEA型骨格構造を有するゼオライト材料がゼオライトベータである。 When the method comprises an organic template-free synthesis method comprising at least steps (A) and (B) as disclosed above, no special restrictions apply with respect to the physical and/or chemical properties of the zeolitic material having a BEA-type framework structure. It is preferred that the zeolitic material having a BEA-type framework structure formed in step (B) comprises zeolite beta, where preferably the zeolitic material having a BEA-type framework structure formed in step (B) is zeolite beta.

方法が、上記で開示したように、少なくとも工程(A)及び工程(B)を含む有機テンプレートを用いない合成法を含む場合、工程(A)で調製し工程(B)で結晶化させる混合物に含有される種結晶の物理的及び/又は化学的性質に関して、特別な制限は適用されない。工程(A)で調製し工程(B)で結晶化させる混合物に含有される種結晶は、BEA型骨格構造を有するゼオライト材料、より好ましくはゼオライトベータ、及びより好ましくは本明細書に開示するBEA型骨格構造を有するゼオライト材料の製造のための有機テンプレートを用いない合成法により得ることができる及び/又は得られるBEA型骨格構造を有するゼオライト材料を含むことが好ましい。 When the method comprises an organic template-free synthesis process comprising at least steps (A) and (B) as disclosed above, no special restrictions apply with respect to the physical and/or chemical properties of the seed crystals contained in the mixture prepared in step (A) and crystallized in step (B). It is preferred that the seed crystals contained in the mixture prepared in step (A) and crystallized in step (B) comprise a zeolitic material having a BEA-type framework structure, more preferably zeolite beta, and more preferably a zeolitic material having a BEA-type framework structure obtainable and/or obtainable by an organic template-free synthesis process for the production of a zeolitic material having a BEA-type framework structure as disclosed herein.

本発明を、それぞれの従属関係及び後方参照によって示すように、次の実施形態及び実施形態の組み合わせによって、さらに例示する。特に、実施形態の組み合わせが範囲として言及される各例において、例えば「実施形態1から4のいずれか一項に記載の方法」のような用語の文脈では、この範囲内のすべての実施形態が当業者に明示的に開示されることが意図されており、すなわち、この用語の文言は、「実施形態1、2、3、及び4のいずれか一項に記載の方法」と同義であると当業者には理解されることに留意されたい。よって本発明は、次の実施形態を含み、ここでこれらは、そこに定義されたそれぞれの相互関係によって示される実施形態の特定の組み合わせを含む。 The present invention is further illustrated by the following embodiments and combinations of embodiments, as indicated by their respective dependencies and back references. In particular, in each instance where combinations of embodiments are referred to as ranges, it is noted that in the context of a term such as "the method according to any one of embodiments 1 to 4," all embodiments within this range are intended to be expressly disclosed to one of ordinary skill in the art, i.e., the wording of this term is understood by one of ordinary skill in the art to be equivalent to "the method according to any one of embodiments 1, 2, 3, and 4." Thus, the present invention includes the following embodiments, which include specific combinations of the embodiments as indicated by their respective interrelationships defined therein:

1. 芳香族化合物の製造方法であって、
(1) エチレン及び式(I)
の化合物を含む混合物(M1)を調製する工程、
(2) 混合物(M1)を、触媒を含有する反応器に供給する工程であって、前記触媒がBEA型骨格構造を有するゼオライト材料を含む工程、
(3) 混合物(M1)の少なくとも一部を反応させて式(II)
の芳香族化合物を得るために、混合物(M1)を反応器内の触媒と接触させる工程、
(4) 式(II)の芳香族化合物を含有する反応混合物(M2)を反応器から回収する工程、
を含み、
式中、R及びRが互いに独立して、H、又は置換又は非置換の(C~C)アルキル、好ましくはH、又は置換又は非置換の(C~C)アルキル、より好ましくはH、又は置換又は非置換のメチル、及びより好ましくはH、又は非置換のメチルを表し、及び
触媒に含まれるBEA型骨格構造を有するゼオライト材料が、有機テンプレートを用いない合成法により得ることができる及び/又は得られる、方法。
1. A method for producing an aromatic compound, comprising the steps of:
(1) Ethylene and formula (I)
preparing a mixture (M1) comprising a compound of
(2) feeding the mixture (M1) into a reactor containing a catalyst, the catalyst comprising a zeolitic material having a BEA-type framework structure;
(3) reacting at least a portion of the mixture (M1) to form a compound represented by formula (II)
contacting the mixture (M1) with a catalyst in a reactor to obtain aromatic compounds of
(4) recovering the reaction mixture (M2) containing the aromatic compound of formula (II) from the reactor;
Including,
wherein R 1 and R 2 independently of each other represent H or substituted or unsubstituted (C 1 -C 3 ) alkyl, preferably H or substituted or unsubstituted (C 1 -C 2 ) alkyl, more preferably H or substituted or unsubstituted methyl, and more preferably H or unsubstituted methyl; and wherein the zeolitic material with a BEA-type framework structure contained in the catalyst is obtainable and/or obtained by an organic template-free synthesis method.

2. BEA型骨格構造を有するゼオライト材料が、少なくとも次の反射を含むX線回折パターンを示し、

ここで100%が、X線粉末回折パターンの20~45°の2θ範囲の最高ピークの強度を意味し、及び
BEA型骨格構造がSiO及びXを含み、Xは3価の元素である、実施形態1に記載の方法。
2. Zeolitic materials having a BEA-type framework structure exhibit an X-ray diffraction pattern that includes at least the following reflections:

2. The method of embodiment 1, wherein 100% means the intensity of the highest peak in the 2θ range of 20-45° in the X-ray powder diffraction pattern; and wherein the BEA-type framework structure comprises SiO2 and X2O3 , where X is a trivalent element.

3. R及びRが、互いに独立して、置換又は非置換の(C~C)アルキル、好ましくは置換又は非置換の(C~C)アルキル、より好ましくは置換又は非置換のメチル、より好ましくは非置換のメチルを表す、実施形態1又は2に記載の方法。 3. The method according to embodiment 1 or 2, wherein R 1 and R 2 , independently of each other, represent substituted or unsubstituted (C 1 -C 3 ) alkyl, preferably substituted or unsubstituted (C 1 -C 2 ) alkyl, more preferably substituted or unsubstituted methyl, more preferably unsubstituted methyl.

4. RがHを表し、及びRが置換又は非置換の(C~C)アルキル、好ましくは置換又は非置換の(C~C)アルキル、より好ましくは置換又は非置換のメチル、及びより好ましくは非置換のメチルを表す、実施形態1から3のいずれか一項に記載の方法。 4. The method according to any one of embodiments 1 to 3, wherein R 1 represents H and R 2 represents substituted or unsubstituted (C 1 -C 3 ) alkyl, preferably substituted or unsubstituted (C 1 -C 2 ) alkyl, more preferably substituted or unsubstituted methyl, and more preferably unsubstituted methyl.

5. 式(I)の化合物が、置換又は非置換のフラン、2-メチルフラン、2,5-ジメチルフラン、及びそれらの2種以上の混合物からなる群から、好ましくは、非置換のフラン、2-メチルフラン、2,5-ジメチルフラン、及びそれらの2種以上の混合物からなる群から選択され、ここでより好ましくは、式(I)の化合物が、2-メチルフラン及び/又は2,5-ジメチルフラン、好ましくは2,5-ジメチルフランである、実施形態1から4のいずれか一項に記載の方法。 5. The method according to any one of embodiments 1 to 4, wherein the compound of formula (I) is selected from the group consisting of substituted or unsubstituted furan, 2-methylfuran, 2,5-dimethylfuran, and mixtures of two or more thereof, preferably from the group consisting of unsubstituted furan, 2-methylfuran, 2,5-dimethylfuran, and mixtures of two or more thereof, and more preferably wherein the compound of formula (I) is 2-methylfuran and/or 2,5-dimethylfuran, preferably 2,5-dimethylfuran.

6. 工程(1)で調製し工程(3)で反応させる混合物(M1)中のエチレンの、式(I)の化合物に対するエチレン:式(I)の化合物のモル比が、0.01~1.5、好ましくは0.05~1、より好ましくは0.08~0.7、より好ましくは0.1~0.5、より好ましくは0.12~0.3、より好ましくは0.14~0.2、及びより好ましくは0.16~0.18の範囲である、実施形態1から5のいずれか一項に記載の方法。 6. The method of any one of embodiments 1 to 5, wherein the molar ratio of ethylene to the compound of formula (I) in the mixture (M1) prepared in step (1) and reacted in step (3) is in the range of 0.01 to 1.5, preferably 0.05 to 1, more preferably 0.08 to 0.7, more preferably 0.1 to 0.5, more preferably 0.12 to 0.3, more preferably 0.14 to 0.2, and more preferably 0.16 to 0.18.

7. 工程(1)で調製し工程(3)で反応させる混合物(M1)が、100質量%の式(I)の化合物に基づいて5質量%以下の水、好ましくは、100質量%の式(I)の化合物に基づいて1質量%以下、より好ましくは0.5質量%以下、より好ましくは0.1質量%以下、より好ましくは0.05質量%以下、より好ましくは0.01質量%以下、より好ましくは0.005質量%以下、より好ましくは0.001質量%以下、より好ましくは0.0005質量%以下、及びより好ましくは0.0001質量%以下の水を含有する、実施形態1から6のいずれか一項に記載の方法。 7. The method according to any one of embodiments 1 to 6, wherein the mixture (M1) prepared in step (1) and reacted in step (3) contains 5% or less by weight of water based on 100% by weight of the compound of formula (I), preferably 1% or less by weight, more preferably 0.5% or less by weight, more preferably 0.1% or less by weight, more preferably 0.05% or less by weight, more preferably 0.01% or less by weight, more preferably 0.005% or less by weight, more preferably 0.001% or less by weight, more preferably 0.0005% or less by weight, and more preferably 0.0001% or less by weight of water based on 100% by weight of the compound of formula (I).

8. 工程(1)で調製し工程(3)で反応させる混合物(M1)が、溶媒システムをさらに含有し、ここで溶媒システムが、ブタン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デカン、及びそれらの2種以上の混合物からなる群から、好ましくはペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、及びそれらの2種以上の混合物からなる群から、より好ましくはヘキサン、ヘプタン、オクタン、及びそれらの2種以上の混合物からなる群から選択される1種以上の溶媒を好ましくは含み、より好ましくは溶媒システムがヘプタンを含み、より好ましくは溶媒システムがヘプタンからなる、実施形態1から7のいずれか一項に記載の方法。 8. The method according to any one of embodiments 1 to 7, wherein the mixture (M1) prepared in step (1) and reacted in step (3) further comprises a solvent system, wherein the solvent system preferably comprises one or more solvents selected from the group consisting of butane, pentane, hexane, heptane, octane, nonane, decane, and mixtures of two or more thereof, preferably from the group consisting of pentane, hexane, heptane, octane, nonane, and mixtures of two or more thereof, more preferably from the group consisting of hexane, heptane, octane, and mixtures of two or more thereof, more preferably the solvent system comprises heptane, more preferably the solvent system consists of heptane.

9. 工程(1)で調製し工程(3)で反応させる混合物(M1)が、式(I)の化合物の溶液を溶媒システム中に含有し、ここで溶媒システムにおける式(I)の化合物の濃度が、0.1~5M、0.5~3M、より好ましくは1~2.5M、より好ましくは1.3~2M、より好ましくは1.4~1.7M、及びより好ましくは1.5~1.6Mの範囲である、実施形態8に記載の方法。 9. The method of embodiment 8, wherein the mixture (M1) prepared in step (1) and reacted in step (3) contains a solution of the compound of formula (I) in a solvent system, wherein the concentration of the compound of formula (I) in the solvent system ranges from 0.1 to 5 M, 0.5 to 3 M, more preferably from 1 to 2.5 M, more preferably from 1.3 to 2 M, more preferably from 1.4 to 1.7 M, and more preferably from 1.5 to 1.6 M.

10. 工程(2)で混合物(M1)を供給し工程(3)で触媒を接触させる反応器におけるエチレンの分圧が、25℃で測定して0.5~15、好ましくは0.5~15MPa、より好ましくは1~10MPa、より好ましくは2~8MPa、より好ましくは2.5~6MPa、より好ましくは3~5MPa、及びより好ましくは3.5~4.5MPaの範囲である、実施形態1から9のいずれか一項に記載の方法。 10. The method according to any one of embodiments 1 to 9, wherein the partial pressure of ethylene in the reactor to which mixture (M1) is supplied in step (2) and to which the catalyst is contacted in step (3) is in the range of 0.5 to 15, preferably 0.5 to 15 MPa, more preferably 1 to 10 MPa, more preferably 2 to 8 MPa, more preferably 2.5 to 6 MPa, more preferably 3 to 5 MPa, and more preferably 3.5 to 4.5 MPa, measured at 25°C.

11. 式(I)の化合物及び/又はエチレン、好ましくは式(I)の化合物及びエチレンがバイオマスに由来する、実施形態1から10のいずれか一項に記載の方法。 11. The method of any one of embodiments 1 to 10, wherein the compound of formula (I) and/or ethylene, preferably the compound of formula (I) and ethylene, are derived from biomass.

12. 工程(2)及び工程(3)において、触媒に含まれるBEA型骨格構造を有するゼオライト材料がH型である、実施形態1から11のいずれか一項に記載の方法。 12. The method according to any one of embodiments 1 to 11, wherein in steps (2) and (3), the zeolite material having a BEA-type framework structure contained in the catalyst is H-type.

13. 工程(2)及び工程(3)において、触媒に含まれるBEA型骨格構造を有するゼオライト材料が、元素として計算され、BEA型骨格構造を有するゼオライト材料の骨格構造中に含有される100質量%のSiO に基づいて5質量%以下の金属AM、好ましくは、元素として計算され、BEA型骨格構造を有するゼオライト材料の骨格構造中に含有される100質量%のSiOに基づいて1質量%以下、より好ましくは0.5質量%以下、より好ましくは0.1質量%以下、より好ましくは0.05質量%以下、より好ましくは0.01質量%以下、より好ましくは0.005質量%以下、より好ましくは0.001質量%以下、より好ましくは0.0005質量%以下、及びより好ましくは0.0001質量%以下の金属AMを含有し、ここで金属AMがNa、好ましくはNa及びK、より好ましくはアルカリ金属、及びより好ましくはアルカリ及びアルカリ土類金属を表す、実施形態1から12のいずれか一項に記載の方法。



13. The method according to any one of the preceding embodiments, wherein in step (2) and step (3), the zeolite material having a BEA-type framework structure contained in the catalyst contains 5% by mass or less of metal AM, calculated as an element and based on 100% by mass of SiO 2 contained in the framework structure of the zeolite material having a BEA-type framework structure, preferably 1% by mass or less, more preferably 0.5% by mass or less, more preferably 0.1% by mass or less, more preferably 0.05% by mass or less, more preferably 0.01% by mass or less, more preferably 0.005% by mass or less, more preferably 0.001% by mass or less, more preferably 0.0005% by mass or less, and more preferably 0.0001% by mass or less, calculated as an element and based on 100% by mass of SiO 2 contained in the framework structure of the zeolite material having a BEA-type framework structure, wherein the metal AM represents Na, preferably Na and K, more preferably an alkali metal, and more preferably an alkali and alkaline earth metal.



14. 工程(2)及び工程(3)において、触媒に含まれるBEA型骨格構造を有するゼオライト材料が、元素として計算され、BEA型骨格構造を有するゼオライト材料の骨格構造中に含有される100質量%のSiOに基づいて5質量%以下の金属TM、好ましくは、元素として計算され、BEA型骨格構造を有するゼオライト材料の骨格構造中に含有される100質量%のSiOに基づいて1質量%以下、より好ましくは0.5質量%以下、より好ましくは0.1質量%以下、より好ましくは0.05質量%以下、より好ましくは0.01質量%以下、より好ましくは0.005質量%以下、より好ましくは0.001質量%以下、より好ましくは0.0005質量%以下、及びより好ましくは0.0001質量%以下の金属TMを含有し、
ここで金属TMがPt、Pd、Rh、及びIrを表し、及び好ましくは第3~12族の遷移金属元素を表す、実施形態1から13のいずれか一項に記載の方法。
14. In step (2) and step (3), the zeolite material having a BEA-type framework structure contained in the catalyst contains, calculated as an element, 5% or less by mass of metal TM based on 100% by mass of SiO 2 contained in the framework structure of the zeolite material having a BEA-type framework structure, preferably, calculated as an element, 1% or less by mass of metal TM based on 100% by mass of SiO 2 contained in the framework structure of the zeolite material having a BEA-type framework structure, more preferably 0.5 ...
14. The method of any one of the preceding embodiments, wherein the metal TM represents Pt, Pd, Rh, and Ir, and preferably represents a transition metal element of groups 3 to 12.

15. 工程(2)及び工程(3)において、反応器内の触媒が、元素として計算され、100質量%の触媒に基づいて5質量%以下の金属AM、好ましくは、元素として計算され、100質量%の触媒に基づいて1質量%以下、より好ましくは0.5質量%以下、より好ましくは0.1質量%以下、より好ましくは0.05質量%以下、より好ましくは0.01質量%以下、より好ましくは0.005質量%以下、より好ましくは0.001質量%以下、より好ましくは0.0005質量%以下、及びより好ましくは0.0001質量%以下の金属AMを含有し、
ここで金属AMが、Na、好ましくはNa及びK、より好ましくはアルカリ金属、及びより好ましくはアルカリ及びアルカリ土類金属を表す、実施形態1から14のいずれか一項に記載の方法。
15. In step (2) and step (3), the catalyst in the reactor contains, calculated as element, 5% or less by weight of metal AM based on 100% by weight of catalyst, preferably, calculated as element, 1% or less by weight of metal AM based on 100% by weight of catalyst, more preferably 0.5% or less by weight, more preferably 0.1% or less by weight, more preferably 0.05% or less by weight, more preferably 0.01% or less by weight, more preferably 0.005% or less by weight, more preferably 0.001% or less by weight, more preferably 0.0005% or less by weight, and more preferably 0.0001% or less by weight;
15. The method according to any one of the preceding embodiments, wherein the metal AM represents Na, preferably Na and K, more preferably alkali metals, and more preferably alkali and alkaline earth metals.

16. 反応器内に含有される触媒が、元素として計算され、100質量%の触媒に基づいて5質量%以下の金属TM、好ましくは、元素として計算され、100質量%の触媒に基づいて1質量%以下、より好ましくは0.5質量%以下、より好ましくは0.1質量%以下、より好ましくは0.05質量%以下、より好ましくは0.01質量%以下、より好ましくは0.005質量%以下、より好ましくは0.001質量%以下、より好ましくは0.0005質量%以下、及びより好ましくは0.0001質量%以下の金属TMを含有し、
ここで金属TMがPt、Pd、Rh、及びIrを表し、及び好ましくは第3~12族の遷移金属元素を表す、実施形態1から15のいずれか一項に記載の方法。
16. The catalyst contained in the reactor contains 5% or less by weight of TM metals, calculated as element, based on 100% by weight of catalyst, preferably 1% or less by weight, calculated as element, based on 100% by weight of catalyst, more preferably 0.5% or less by weight, more preferably 0.1% or less by weight, more preferably 0.05% or less by weight, more preferably 0.01% or less by weight, more preferably 0.005% or less by weight, more preferably 0.001% or less by weight, more preferably 0.0005% or less by weight, and more preferably 0.0001% or less by weight;
16. The method of any one of the preceding embodiments, wherein the metal TM represents Pt, Pd, Rh, and Ir, and preferably represents a transition metal element of groups 3 to 12.

17. 工程(2)及び工程(3)において、触媒に含まれるBEA型骨格構造を有するゼオライト材料が、元素として計算され、BEA型骨格構造を有するゼオライト材料の骨格構造中に含有される100質量%のSiOに基づいて、5質量%以下のリン、好ましくは、元素として計算され、BEA型骨格構造を有するゼオライト材料の骨格構造中に含有される100質量%のSiOに基づいて1質量%以下、より好ましくは0.5質量%以下、より好ましくは0.1質量%以下、より好ましくは0.05質量%以下、より好ましくは0.01質量%以下、より好ましくは0.005質量%以下、より好ましくは0.001質量%以下、より好ましくは0.0005質量%以下、及びより好ましくは0.0001質量%以下のリンを含有する、実施形態1から16のいずれか一項に記載の方法。 17. The method according to any one of embodiments 1 to 16, wherein in step (2) and step (3), the zeolite material having a BEA-type framework structure contained in the catalyst contains 5% by weight or less of phosphorus, calculated as the element and based on 100% by weight of SiO2 contained in the framework structure of the zeolite material having a BEA-type framework structure, preferably 1% by weight or less, more preferably 0.5% by weight or less, more preferably 0.1 % by weight or less, more preferably 0.05% by weight or less, more preferably 0.01% by weight or less, more preferably 0.005% by weight or less, more preferably 0.001% by weight or less, more preferably 0.0005% by weight or less, and more preferably 0.0001% by weight or less, calculated as the element and based on 100% by weight of SiO2 contained in the framework structure of the zeolite material having a BEA-type framework structure.

18. 工程(2)及び工程(3)において、触媒が、元素として計算され、100質量%の触媒に基づいて5質量%以下のリン、好ましくは、元素として計算され、100質量%の触媒に基づいて1質量%以下、より好ましくは0.5質量%以下、より好ましくは0.1質量%以下、より好ましくは0.05質量%以下、より好ましくは0.01質量%以下、より好ましくは0.005質量%以下、より好ましくは0.001質量%以下、より好ましくは0.0005質量%以下、及びより好ましくは0.0001質量%以下の金属AMを含有する、実施形態1から17のいずれか一項に記載の方法。 18. The method according to any one of embodiments 1 to 17, wherein in steps (2) and (3), the catalyst contains 5% by weight or less of phosphorus, calculated as element, based on 100% by weight of catalyst, and preferably 1% by weight or less, more preferably 0.5% by weight or less, more preferably 0.1% by weight or less, more preferably 0.05% by weight or less, more preferably 0.01% by weight or less, more preferably 0.005% by weight or less, more preferably 0.001% by weight or less, more preferably 0.0005% by weight or less, and more preferably 0.0001% by weight or less of metal AM, calculated as element, based on 100% by weight of catalyst.

19. 工程(3)における混合物(M1)の触媒との接触を、150~350℃、好ましくは200~330℃、より好ましくは230~320℃、より好ましくは250~315℃、より好ましくは270~310℃、より好ましくは280~305℃の範囲、及びより好ましくは290~300℃の範囲の温度で行う、実施形態1から18のいずれか一項に記載の方法。 19. The method according to any one of embodiments 1 to 18, wherein the contact of mixture (M1) with the catalyst in step (3) is carried out at a temperature in the range of 150 to 350°C, preferably 200 to 330°C, more preferably 230 to 320°C, more preferably 250 to 315°C, more preferably 270 to 310°C, more preferably 280 to 305°C, and more preferably 290 to 300°C.

20. 工程(3)における混合物(M1)の触媒との接触の期間が、0.5~70時間、好ましくは1~50時間、より好ましくは3~40時間、より好ましくは5~35時間、より好ましくは10~30時間、より好ましくは15~25時間、より好ましくは18~23時間の範囲、及びより好ましくは19~21時間の範囲である、実施形態1から19のいずれか一項に記載の方法。 20. The method according to any one of embodiments 1 to 19, wherein the duration of contact of mixture (M1) with the catalyst in step (3) is in the range of 0.5 to 70 hours, preferably 1 to 50 hours, more preferably 3 to 40 hours, more preferably 5 to 35 hours, more preferably 10 to 30 hours, more preferably 15 to 25 hours, more preferably 18 to 23 hours, and more preferably 19 to 21 hours.

21. 工程(3)における混合物(M1)の触媒との接触及び工程(4)における反応混合物(M2)の回収を、連続モード及び/又はバッチモードで、好ましくはバッチモードで行う、実施形態1から20のいずれか一項に記載の方法。 21. The method according to any one of the preceding claims, wherein the contacting of the mixture (M1) with the catalyst in step (3) and the recovery of the reaction mixture (M2) in step (4) are carried out in continuous and/or batch mode, preferably in batch mode.

22. 方法を、連続モード及び/又はバッチモードで、好ましくはバッチモードで行う、実施形態1から21のいずれか一項に記載の方法。 22. The method according to any one of the preceding claims, wherein the method is carried out in continuous and/or batch mode, preferably in batch mode.

23. 方法が、
(5) 式(II)の化合物を反応混合物(M2)から分離して、未反応の式(I)の化合物及び/又は未反応のエチレンを含有する混合物(M3)を得る工程
をさらに含む、実施形態1から22のいずれか一項に記載の方法。
23. The method is
(5) The method according to any one of the preceding embodiments, further comprising separating the compound of formula (II) from the reaction mixture (M2) to obtain a mixture (M3) containing unreacted compound of formula (I) and/or unreacted ethylene.

24. 方法が、
(6) 未反応の式(I)の化合物及び/又は未反応のエチレンを含有する混合物(M3)を工程(1)に再循環させる工程
をさらに含む、実施形態23に記載の方法。
24. The method is
(6) The process of embodiment 23, further comprising recycling the mixture (M3) containing unreacted compound of formula (I) and/or unreacted ethylene to step (1).

25. 触媒に含まれるBEA型骨格構造を有するゼオライト材料が、10~200、好ましくは15~150、より好ましくは20~100、より好ましくは25~70、より好ましくは30~65、より好ましくは35~60、より好ましくは38~55、より好ましくは40~50、及びより好ましくは42~46の範囲のSiO:Xモル比を示し、ここで好ましくは、骨格構造のSiO:Xモル比が、元素分析又はゼオライト材料の29Si MAS NMRから、好ましくはゼオライト材料の29Si MAS NMRから決定される、実施形態1から24のいずれか一項に記載の方法。 25. The method of any one of the preceding claims, wherein the zeolitic material having a BEA-type framework structure contained in the catalyst exhibits a SiO2:X2O3 molar ratio in the range of 10 to 200, preferably 15 to 150, more preferably 20 to 100, more preferably 25 to 70, more preferably 30 to 65, more preferably 35 to 60, more preferably 38 to 55 , more preferably 40 to 50, and more preferably 42 to 46, wherein preferably the SiO2 : X2O3 molar ratio of the framework structure is determined from elemental analysis or 29Si MAS NMR of the zeolitic material, preferably from 29Si MAS NMR of the zeolitic material.

26. 触媒に含まれるBEA型骨格構造を有するゼオライト材料の3価の元素Xが、Al、B、In、Ga、及びそれらの2種以上の混合物からなる群から選択され、Xが好ましくはAlである、実施形態1から25のいずれか一項に記載の方法。 26. The method according to any one of the preceding claims, wherein the trivalent element X of the zeolitic material having a BEA-type framework structure contained in the catalyst is selected from the group consisting of Al, B, In, Ga, and mixtures of two or more thereof, and X is preferably Al.

27. 触媒に含まれるBEA型骨格構造を有するゼオライト材料が、100~900μmol/g、好ましくは150~700μmol/g、より好ましくは200~650μmol/g、より好ましくは350~600μmol/g、より好ましくは380~550μmol/g、より好ましくは410~500μmol/g、より好ましくは430~470μmol/g、及びより好ましくは445~450μmol/gの範囲のブレンステッド酸部位(BA)の量を示し、
ここでブレンステッド酸部位の量が、温度プログラムされたアンモニアの脱着(NH3-TPD)又はトリメチルホスフィンオキシドを使用した31P MAS NMRにより決定される、実施形態1から26のいずれか一項に記載の方法。
27. The zeolitic material having a BEA-type framework structure contained in the catalyst exhibits an amount of Bronsted acid sites (BA) in the range of 100-900 μmol/g, preferably 150-700 μmol/g, more preferably 200-650 μmol/g, more preferably 350-600 μmol/g, more preferably 380-550 μmol/g, more preferably 410-500 μmol/g, more preferably 430-470 μmol/g, and more preferably 445-450 μmol/g;
27. The method of any one of the preceding embodiments, wherein the amount of Bronsted acid sites is determined by temperature programmed desorption of ammonia (NH3-TPD) or 31 P MAS NMR using trimethylphosphine oxide.

28. 触媒に含まれるBEA型骨格構造を有するゼオライト材料が、100~350μmol/g、好ましくは110~300μmol/g、より好ましくは120~280μmol/g、より好ましくは140~260μmol/g、より好ましくは150~240μmol/g、より好ましくは160~220μmol/g、より好ましくは170~200μmol/g、及びより好ましくは180~190μmol/gの範囲のルイス酸部位(LA)の量を示し、
ここでルイス酸部位の量が、温度プログラムされたアンモニアの脱着(NH3-TPD)又はトリメチルホスフィンオキシドを使用した31P MAS NMRにより決定される、実施形態1から27のいずれか一項に記載の方法。
28. The zeolitic material having a BEA-type framework structure contained in the catalyst exhibits an amount of Lewis acid sites (LA) in the range of 100-350 μmol/g, preferably 110-300 μmol/g, more preferably 120-280 μmol/g, more preferably 140-260 μmol/g, more preferably 150-240 μmol/g, more preferably 160-220 μmol/g, more preferably 170-200 μmol/g, and more preferably 180-190 μmol/g;
28. The method of any one of the preceding embodiments, wherein the amount of Lewis acid sites is determined by temperature programmed desorption of ammonia (NH3-TPD) or 31 P MAS NMR using trimethylphosphine oxide.

29. 触媒に含まれるBEA型骨格構造を有するゼオライト材料が示すブレンステッド酸部位(BA)の量のルイス酸部位(LA)の量に対するBA:LA比が、0.5~8、好ましくは1~5、より好ましくは1.3~4、より好ましくは1.6~3.4、より好ましくは1.8~3、より好ましくは2.0~2.7、より好ましくは2.2~2.6、及びより好ましくは、2.3~2.5の範囲であり、
ここでブレンステッド酸部位及びルイス酸部位の量がそれぞれ、温度プログラムされたアンモニアの脱着(NH3-TPD)により、又はトリメチルホスフィンオキシドを使用した31P MAS NMRにより決定される、実施形態1から28のいずれか一項に記載の方法。
29. The catalyst comprises a zeolitic material having a BEA-type framework structure, the BA:LA ratio of the amount of Bronsted acid sites (BA) to the amount of Lewis acid sites (LA) being in the range of 0.5 to 8, preferably 1 to 5, more preferably 1.3 to 4, more preferably 1.6 to 3.4, more preferably 1.8 to 3, more preferably 2.0 to 2.7, more preferably 2.2 to 2.6, and more preferably 2.3 to 2.5;
29. The method of any one of the preceding claims, wherein the amount of Bronsted acid sites and Lewis acid sites, respectively, is determined by temperature programmed desorption of ammonia (NH3-TPD) or by 31P MAS NMR using trimethylphosphine oxide.

30. ISO9277:2010により決定する触媒に含まれるBEA型骨格構造を有するゼオライト材料のBET表面積が、350~800m/g、好ましくは400~700m/g、より好ましくは430~650m/g、より好ましくは450~600m/g、より好ましくは460~550m/g、より好ましくは470~530m/g、より好ましくは480~520m/g、及びより好ましくは490~510m/gの範囲である、実施形態1から29のいずれか一項に記載の方法。 30. The method of any one of the preceding embodiments, wherein the BET surface area of the zeolitic material having a BEA-type framework structure contained in the catalyst, as determined by ISO 9277:2010, is in the range of 350-800 m 2 /g, preferably 400-700 m 2 /g, more preferably 430-650 m 2 /g, more preferably 450-600 m 2 /g, more preferably 460-550 m 2 /g, more preferably 470-530 m 2 /g, more preferably 480-520 m 2 /g, and more preferably 490-510 m 2 /g.

31. BJH法からの窒素吸着により決定する触媒に含まれるBEA型骨格構造を有するゼオライト材料の総細孔容積が、0.3~0.5cm/g、好ましくは0.31~0.45cm/g、より好ましくは0.32~0.42cm/g、より好ましくは0.33~0.4cm/g、より好ましくは0.34~0.39cm/g、より好ましくは0.35~0.38cm/g、及びより好ましくは0.36~0.37cm/gの範囲であり、
ここで総細孔容積は、好ましくは、DIN66134により決定される、実施形態1から30のいずれか一項に記載の方法。
31. The total pore volume of the zeolitic material having a BEA-type framework structure contained in the catalyst, as determined by nitrogen adsorption from the BJH method, is in the range of 0.3-0.5 cm 3 /g, preferably 0.31-0.45 cm 3 /g, more preferably 0.32-0.42 cm 3 /g, more preferably 0.33-0.4 cm 3 /g, more preferably 0.34-0.39 cm 3 /g, more preferably 0.35-0.38 cm 3 /g, and more preferably 0.36-0.37 cm 3 /g;
31. The method according to any one of the preceding embodiments, wherein the total pore volume is preferably determined according to DIN 66134.

32. 有機テンプレートを用いない合成法が、
(A) SiOの1種以上の源、Xの1種以上の源、及び種結晶を含む混合物を調製する工程であって、種結晶がBEA型骨格構造を有する1種以上のゼオライト材料を含む工程、
(B) BEA型骨格構造を有するゼオライト材料を得るために、工程(A)で得られた混合物を結晶化させる工程
を含み、
ここでXが3価の元素であり、及び
工程(A)で調製し工程(B)で結晶化させる混合物が、構造指向剤としての有機テンプレートを含有しない、実施形態1から31のいずれか一項に記載の方法。
32. A synthetic method that does not use organic templates
(A) preparing a mixture comprising one or more sources of SiO2 , one or more sources of X2O3 , and seed crystals, the seed crystals comprising one or more zeolitic materials having a BEA-type framework structure;
(B) crystallizing the mixture obtained in step (A) to obtain a zeolitic material having a BEA-type framework structure,
32. The method of any one of the preceding claims, wherein X is a trivalent element, and the mixture prepared in step (A) and crystallized in step (B) does not contain an organic template as a structure directing agent.

33. 工程(A)で調製し工程(B)で結晶化させる混合物が、元素として計算され、混合物に含有される100質量%のSiOに基づいて5質量%以下の炭素、好ましくは、元素として計算され、混合物に含有される100質量%のSiOに基づいて1質量%以下、より好ましくは0.5質量%以下、より好ましくは0.1質量%以下、より好ましくは0.05質量%以下、より好ましくは0.01質量%以下、より好ましくは0.005質量%以下、より好ましくは0.001質量%以下、より好ましくは0.0005質量%以下、及びより好ましくは0.0001質量%以下の炭素を含有する、実施形態1から32のいずれか一項に記載の方法。 33. The method according to any one of the preceding claims, wherein the mixture prepared in step (A) and crystallized in step (B) contains 5% by weight or less of carbon, calculated as the element and based on 100% by weight of SiO 2 contained in the mixture, preferably 1% by weight or less, more preferably 0.5% by weight or less, more preferably 0.1% by weight or less, more preferably 0.05% by weight or less, more preferably 0.01% by weight or less, more preferably 0.005% by weight or less, more preferably 0.001% by weight or less, more preferably 0.0005% by weight or less, and more preferably 0.0001% by weight or less, calculated as the element and based on 100% by weight of SiO 2 contained in the mixture.

34. 工程(B)で得られるBEA型骨格構造を有するゼオライト材料が、1種以上のアルカリ金属Mを含み、ここでMが、好ましくは、Li、Na、K、Cs、及びそれらの2種以上の組み合わせからなる群から、より好ましくはLi、Na、K、及びそれらの2種以上の組み合わせからなる群から選択され、より好ましくはアルカリ金属MがNa及び/又はK、より好ましくはNaである、実施形態32又は33のいずれかに記載の方法。 34. The method according to any of embodiments 32 or 33, wherein the zeolitic material having a BEA-type framework structure obtained in step (B) comprises one or more alkali metals M, where M is preferably selected from the group consisting of Li, Na, K, Cs, and combinations of two or more thereof, more preferably from the group consisting of Li, Na, K, and combinations of two or more thereof, more preferably the alkali metal M is Na and/or K, more preferably Na.

35. 工程(A)で調製し工程(B)で結晶化させる混合物中のモル比M:SiOが、0.05~5、好ましくは0.1~2、より好ましくは0.3~1、より好ましくは0.4~0.8、より好ましくは0.45~0.7、より好ましくは0.5~0.65、及びより好ましくは0.55~0.6の範囲である、実施形態34に記載の方法。 35. The method of embodiment 34, wherein the molar ratio M: SiO2 in the mixture prepared in step (A) and crystallized in step (B) ranges from 0.05 to 5, preferably from 0.1 to 2, more preferably from 0.3 to 1, more preferably from 0.4 to 0.8, more preferably from 0.45 to 0.7, more preferably from 0.5 to 0.65, and more preferably from 0.55 to 0.6.

36. 工程(A)で調製し工程(B)で結晶化させる混合物に含有されるSiOの1種以上の源が、1種以上のシリケート、好ましくは1種以上のアルカリ金属シリケートを含み、ここでアルカリ金属が、好ましくはLi、Na、K、Rb、及びCsからなる群から選択され、より好ましくはアルカリ金属がNa及び/又はKであり、及びより好ましくはアルカリ金属がNaであり、ここでより好ましくは工程(A)で調製し工程(B)で結晶化させる混合物に含有されるSiOの1種以上の源が、水ガラス、好ましくはナトリウムシリケート及び/又はカリウムシリケート、より好ましくはナトリウムシリケートを含む、実施形態32から35のいずれか一項に記載の方法。 36. The method according to any one of embodiments 32 to 35, wherein the one or more sources of SiO 2 contained in the mixture prepared in step (A) and crystallized in step (B) comprise one or more silicates, preferably one or more alkali metal silicates, where the alkali metal is preferably selected from the group consisting of Li, Na, K, Rb, and Cs, more preferably the alkali metal is Na and/or K, and more preferably the alkali metal is Na, and more preferably the one or more sources of SiO 2 contained in the mixture prepared in step (A) and crystallized in step (B) comprise water glass, preferably sodium silicate and/or potassium silicate, more preferably sodium silicate.

37. 工程(A)で調製し工程(B)で結晶化させる混合物に含有されるSiOの1種以上の源が、1種以上のシリカ、好ましくは1種以上のシリカヒドロゾル及び/又は1種以上のコロドシリカ、及びより好ましくは1種以上のコロイダルシリカをさらに含む、実施形態32から36のいずれか一項に記載の方法。 37. The method of any one of embodiments 32 to 36, wherein the one or more sources of SiO2 contained in the mixture prepared in step (A) and crystallized in step (B) further comprises one or more silicas, preferably one or more silica hydrosols and/or one or more colloidal silicas, and more preferably one or more colloidal silicas.

38. Xが、Al、B、In、Ga、及びそれらの2種以上の混合物からなる群から選択され、Xが好ましくはAlである、実施形態32から37のいずれか一項に記載の方法。 38. The method of any one of embodiments 32 to 37, wherein X is selected from the group consisting of Al, B, In, Ga, and mixtures of two or more thereof, and X is preferably Al.

39. 工程(A)で調製し工程(B)で結晶化させる混合物に含有されるXの1種以上の源が、1種以上のアルミネート塩、好ましくはアルカリ金属のアルミネートを含み、ここでアルカリ金属が、好ましくはLi、Na、K、Rb、及びCsからなる群から選択され、より好ましくはアルカリ金属がNa及び/又はKであり、及びより好ましくはアルカリ金属がNaである、実施形態32から38のいずれか一項に記載の方法。 39. The method according to any one of embodiments 32 to 38 , wherein the one or more sources of X2O3 contained in the mixture prepared in step (A) and crystallized in step (B) comprise one or more aluminate salts, preferably aluminates of alkali metals, where the alkali metal is preferably selected from the group consisting of Li, Na, K, Rb, and Cs, more preferably the alkali metal is Na and/or K, and more preferably the alkali metal is Na.

40. 工程(A)で調製し工程(B)で結晶化させる混合物のモル比SiO:Xが、1~200、好ましくは5~100、より好ましくは10~50、より好ましくは15~40、より好ましくは20~30、より好ましくは23~25、及びより好ましくは23.5~24の範囲である、実施形態32から39のいずれか一項に記載の方法。 40. The method of any one of embodiments 32 to 39, wherein the molar ratio SiO 2 :X 2 O 3 of the mixture prepared in step (A) and crystallized in step (B) is in the range of 1 to 200, preferably 5 to 100, more preferably 10 to 50, more preferably 15 to 40, more preferably 20 to 30, more preferably 23 to 25, and more preferably 23.5 to 24.

41. 工程(A)で調製し工程(B)で結晶化させる混合物に含まれる種結晶の量が、混合物中の100質量%のSiOの1種以上の源に基づいて、SiOとして計算して、0.1~30質量%、好ましくは0.5~20質量%、より好ましくは1~10質量%、より好ましくは1.5~5質量%、より好ましくは2~4質量%、及びより好ましくは2.5~3.5質量%の範囲である、実施形態32から40のいずれか一項に記載の方法。 41. The method of any one of embodiments 32 to 40, wherein the amount of seed crystals contained in the mixture prepared in step ( A ) and crystallized in step (B) is in the range of 0.1 to 30% by weight, preferably 0.5 to 20% by weight, more preferably 1 to 10% by weight, more preferably 1.5 to 5% by weight, more preferably 2 to 4% by weight, and more preferably 2.5 to 3.5% by weight, calculated as SiO2 based on 100% by weight of the one or more sources of SiO2 in the mixture.

42. 工程(A)で調製し工程(B)で結晶化させる混合物が1種以上の溶媒をさらに含み、ここで前記1種以上の溶媒が、好ましくは水、より好ましくは脱イオン水を含み、ここでより好ましくは、工程(A)で調製し工程(B)で結晶化させる混合物中にさらに含まれる溶媒として、水、好ましくは脱イオン水を用いる、実施形態32から41のいずれか一項に記載の方法。 42. The method according to any one of embodiments 32 to 41, wherein the mixture prepared in step (A) and crystallized in step (B) further comprises one or more solvents, wherein the one or more solvents preferably comprise water, more preferably deionized water, and wherein more preferably water, preferably deionized water, is used as the solvent further comprised in the mixture prepared in step (A) and crystallized in step (B).

43. 工程(A)で調製し工程(B)で結晶化させる混合物のモル比HO:SiOが、5~100、好ましくは10~50、より好ましくは13~30、より好ましくは15~20、及びより好ましくは17~18の範囲である、実施形態42に記載の方法。 43. The method of embodiment 42, wherein the molar ratio H 2 O:SiO 2 of the mixture prepared in step (A) and crystallized in step (B) ranges from 5 to 100, preferably from 10 to 50, more preferably from 13 to 30, more preferably from 15 to 20, and more preferably from 17 to 18.

44. 工程(B)の結晶化が混合物の加熱を伴い、好ましくは加熱の温度が80~200℃、より好ましくは90~180℃、より好ましくは100~160℃、より好ましくは110~140℃、及びより好ましくは115~130℃の範囲である、実施形態32から43のいずれか一項に記載の方法。 44. The method of any one of embodiments 32 to 43, wherein the crystallization in step (B) involves heating the mixture, preferably the temperature of the heating is in the range of 80 to 200°C, more preferably 90 to 180°C, more preferably 100 to 160°C, more preferably 110 to 140°C, and more preferably 115 to 130°C.

45. 工程(B)の結晶化を自己圧力下で、好ましくはソルボサーマル条件下で、及びより好ましくは水熱条件下で行う、実施形態32から44のいずれか一項に記載の方法。 45. The method according to any one of embodiments 32 to 44, wherein the crystallization in step (B) is carried out under autogenous pressure, preferably under solvothermal conditions, and more preferably under hydrothermal conditions.

46. 工程(B)で混合物を5~200時間、好ましくは20~160時間、より好ましくは60~140時間、及びより好ましくは100~130時間の範囲の期間で加熱する、実施形態44又は45に記載の方法。 46. The method of embodiment 44 or 45, wherein in step (B) the mixture is heated for a period ranging from 5 to 200 hours, preferably from 20 to 160 hours, more preferably from 60 to 140 hours, and more preferably from 100 to 130 hours.

47. BEA型骨格構造を有するゼオライト材料を調製するための有機テンプレートを用いない合成法が、
(C) 工程(B)で得られたBEA型骨格構造を有するゼオライト材料を単離する、好ましくは濾過による工程、及び
(D) 工程(B)又は(C)、好ましくは工程(C)で得られたBEA型骨格構造を有するゼオライト材料を、任意に洗浄する工程、及び/又は、
(E) 工程(B)、(C)又は(D)、好ましくは工程(D)で得られたBEA型骨格構造を有するゼオライト材料を、任意に乾燥させる工程
をさらに含み、
ここで、工程(C)及び/又は(D)及び/又は(E)を、任意の順序で行うことができ、及び
前記工程のうちの1つ以上を、好ましくは1回以上繰り返す、実施形態32から46のいずれか一項に記載の方法。
47. An organic template-free synthetic method for preparing zeolitic materials having a BEA-type framework structure is disclosed,
(C) isolating the zeolitic material having a BEA-type framework structure obtained in step (B), preferably by filtration, and (D) optionally washing the zeolitic material having a BEA-type framework structure obtained in step (B) or (C), preferably in step (C), and/or
(E) optionally drying the zeolitic material having a BEA-type framework structure obtained in step (B), (C) or (D), preferably in step (D),
47. The method according to any one of embodiments 32 to 46, wherein steps (C) and/or (D) and/or (E) can be performed in any order, and wherein one or more of said steps are repeated, preferably one or more times.

48. BEA型骨格構造を有するゼオライト材料を調製するための有機テンプレートを用いない合成法が、
(F) 工程(C)、(D)、又は(E)で、好ましくは工程(E)で得られたBEA型骨格構造を有するゼオライト材料に含有される1種以上のイオン性非骨格要素を、H及び/又はNH に対して、好ましくはNH に対して交換する工程;及び/又は、好ましくは
(G) 工程(C)、(D)、(E)、又は(F)で得られたBEA型骨格構造を有するゼオライト材料を乾燥及び/又はか焼する、好ましくは乾燥及びか焼する工程
をさらに含み、
ここで、工程(F)及び/又は(G)を、好ましくは1回以上、好ましくは1~3回、より好ましくは1回又は2回、及びより好ましくは1回繰り返す、実施形態47に記載の方法。
48. An organic template-free synthetic method for preparing zeolitic materials having a BEA-type framework structure is disclosed in
(F) in step (C), (D) or (E), exchanging one or more ionic non-framework elements contained in the zeolitic material with BEA-type framework structure preferably obtained in step (E) for H + and/or NH 4 + , preferably for NH 4 + ; and/or (G) preferably drying and/or calcining, preferably drying and calcining, the zeolitic material with BEA-type framework structure obtained in step (C), (D), (E) or (F),
48. The method according to embodiment 47, wherein steps (F) and/or (G) are preferably repeated one or more times, preferably 1 to 3 times, more preferably 1 or 2 times, and more preferably once.

49. BEA型骨格構造を有するゼオライト材料を調製するための有機テンプレートを用いない合成法が、
(H) 工程(C)、(D)、(E)、(F)、又は(G)で、好ましくは工程(G)で得られたBEA型骨格構造を有するゼオライト材料を、pHが最大でも5である水溶液で処理する工程、及び
(I) 工程(H)で得られたBEA型骨格構造を有するゼオライト材料を単離する、好ましくは濾過による工程、及び/又は、
(J) 工程(H)又は(I)で、好ましくは工程(I)で得られたBEA型骨格構造を有するゼオライト材料を、任意に洗浄する工程、及び/又は、
(K) 工程(H)、(I)、又は(J)で、好ましくは工程(J)で得られたBEA型骨格構造を有するゼオライト材料を、任意に乾燥及び/又はか焼する、好ましくは乾燥する工程
をさらに含み、
ここで、工程(I)及び/又は(J)及び/又は(K)を、任意の順序で行うことができ、及び
前記工程の1つ以上を、好ましくは1回以上、好ましくは1~3回、より好ましくは1回又は2回、及びより好ましくは1回繰り返す、実施形態47又は48に記載の方法。
49. An organic template-free synthetic method for preparing zeolitic materials having a BEA-type framework structure is disclosed in
(H) in step (C), (D), (E), (F) or (G), preferably treating the zeolitic material having a BEA-type framework structure obtained in step (G) with an aqueous solution having a pH of at most 5, and (I) isolating the zeolitic material having a BEA-type framework structure obtained in step (H), preferably by filtration, and/or
(J) optionally washing the zeolitic material having a BEA-type framework structure obtained in step (H) or (I), preferably in step (I), and/or
(K) optionally drying and/or calcining, preferably drying, the zeolitic material having a BEA-type framework structure obtained in step (H), (I) or (J), preferably in step (J);
The method according to embodiment 47 or 48, wherein steps (I) and/or (J) and/or (K) can be performed in any order, and wherein one or more of said steps are preferably repeated one or more times, preferably 1 to 3 times, more preferably 1 or 2 times, and more preferably once.

50. 工程(H)でゼオライト材料を処理するために使用する水溶液のpHが、-1.5~3、好ましくは-1.2~2、より好ましくは-1~1.5、より好ましくは-0.8~1、より好ましくは-0.6~0.7、より好ましくは-0.5~0.5、より好ましくは-0.3~0.3、より好ましくは-0.2~0.2、及びより好ましくは-0.1~0.1の範囲である、実施形態49に記載の方法。 50. The method of embodiment 49, wherein the pH of the aqueous solution used to treat the zeolitic material in step (H) is in the range of -1.5 to 3, preferably -1.2 to 2, more preferably -1 to 1.5, more preferably -0.8 to 1, more preferably -0.6 to 0.7, more preferably -0.5 to 0.5, more preferably -0.3 to 0.3, more preferably -0.2 to 0.2, and more preferably -0.1 to 0.1.

51. 工程(H)でゼオライト材料を鉱酸の水溶液を用いて処理し、ここで溶液中の鉱酸の濃度が0.05~4M、好ましくは0.1~3M、より好ましくは0.2~2.5M、より好ましくは0.4~2M、より好ましくは0.6~1.5M、より好ましくは0.8~1.2M、及びより好ましくは0.9~1.1Mの範囲である、実施形態49又は50に記載の方法。 51. The method of embodiment 49 or 50, wherein in step (H) the zeolitic material is treated with an aqueous solution of a mineral acid, wherein the concentration of the mineral acid in the solution is in the range of 0.05 to 4 M, preferably 0.1 to 3 M, more preferably 0.2 to 2.5 M, more preferably 0.4 to 2 M, more preferably 0.6 to 1.5 M, more preferably 0.8 to 1.2 M, and more preferably 0.9 to 1.1 M.

52. 鉱酸が、HF、HCl、HBr、HNO、HPO、HSO、HBO、HClO、及びそれらの2種以上の混合物からなる群から、好ましくはHCl、HBr、HNO、HSO、HClO、及びそれらの2種以上の混合物からなる群から、より好ましくはHCl、HNO、HSO、及びそれらの2種以上の混合物からなる群から選択され、より好ましくは鉱酸がHCl及び/又はHNO、好ましくはHNOである、実施形態51に記載の方法。 52. The method according to embodiment 51, wherein the mineral acid is selected from the group consisting of HF, HCl , HBr, HNO3 , H3PO4 , H2SO4 , H3BO3 , HClO4 , and mixtures of two or more thereof, preferably from the group consisting of HCl, HBr, HNO3, H2SO4 , HClO4 , and mixtures of two or more thereof, more preferably from the group consisting of HCl, HNO3 , H2SO4 , and mixtures of two or more thereof, more preferably the mineral acid is HCl and/or HNO3 , preferably HNO3 .

53. 工程(H)でゼオライト材料を水溶液に添加し、及び混合物を、好ましくは30~100℃、より好ましくは35~90℃、より好ましくは40~80℃、より好ましくは45~75℃、より好ましくは50~70℃、及びより好ましくは55~65℃の範囲の温度で加熱する、実施形態49から52のいずれか一項に記載の方法。 53. The method of any one of embodiments 49 to 52, wherein in step (H) the zeolite material is added to the aqueous solution and the mixture is heated at a temperature preferably in the range of 30 to 100°C, more preferably 35 to 90°C, more preferably 40 to 80°C, more preferably 45 to 75°C, more preferably 50 to 70°C, and more preferably 55 to 65°C.

54. 工程(H)で、ゼオライト材料を水溶液に添加し、及び混合物を、5~40℃、より好ましくは10~35℃、より好ましくは15~30℃、より好ましくは17~25℃、より好ましくは19~23℃、及びより好ましくは20~22℃の範囲の温度で処理する、実施形態49から52のいずれか一項に記載の方法。 54. The method of any one of embodiments 49 to 52, wherein in step (H), the zeolite material is added to the aqueous solution and the mixture is treated at a temperature in the range of 5 to 40°C, more preferably 10 to 35°C, more preferably 15 to 30°C, more preferably 17 to 25°C, more preferably 19 to 23°C, and more preferably 20 to 22°C.

55. 工程(H)で、混合物を0.1~10時間、好ましくは0.1~7時間、より好ましくは0.5~5時間、より好ましくは0.5~4.5時間、より好ましくは1~4時間、より好ましくは1~3.5時間、より好ましくは1.5~3時間、及びより好ましくは1.5~2.5時間の範囲の期間処理する、実施形態49から54のいずれか一項に記載の方法。 55. The method of any one of embodiments 49 to 54, wherein in step (H), the mixture is treated for a period in the range of 0.1 to 10 hours, preferably 0.1 to 7 hours, more preferably 0.5 to 5 hours, more preferably 0.5 to 4.5 hours, more preferably 1 to 4 hours, more preferably 1 to 3.5 hours, more preferably 1.5 to 3 hours, and more preferably 1.5 to 2.5 hours.

56. 工程(E)及び/又は(G)及び/又は(K)での、好ましくは工程(E)、(G)及び(K)での乾燥を、80~200℃、より好ましくは90~180℃、より好ましくは100~160℃、より好ましくは110~140℃、及びより好ましくは115~130℃の範囲の温度で行う、実施形態47から55のいずれか一項に記載の方法。 56. The method of any one of embodiments 47 to 55, wherein the drying in steps (E) and/or (G) and/or (K), preferably in steps (E), (G) and (K), is carried out at a temperature in the range of 80 to 200°C, more preferably 90 to 180°C, more preferably 100 to 160°C, more preferably 110 to 140°C, and more preferably 115 to 130°C.

57. 工程(E)及び/又は(G)及び/又は(K)での、好ましくは工程(E)、(G)及び(K)での乾燥を、1~120時間、好ましくは5~96時間、より好ましくは8~72時間、より好ましくは10~60時間、より好ましくは12~48時間、より好ましくは14~42時間、より好ましくは16~36時間、より好ましくは18~30時間、より好ましくは20~24時間、及びより好ましくは21~23時間の範囲の期間行う、実施形態47から56のいずれか一項に記載の方法。 57. The method according to any one of embodiments 47 to 56, wherein the drying in step (E) and/or (G) and/or (K), preferably in step (E), (G) and (K), is carried out for a period in the range of 1 to 120 hours, preferably 5 to 96 hours, more preferably 8 to 72 hours, more preferably 10 to 60 hours, more preferably 12 to 48 hours, more preferably 14 to 42 hours, more preferably 16 to 36 hours, more preferably 18 to 30 hours, more preferably 20 to 24 hours, and more preferably 21 to 23 hours.

58. 工程(G)及び/又は(K)での、好ましくは工程(G)でのか焼を、250~1,000℃、好ましくは300~900℃、より好ましくは350~850℃、より好ましくは400~800℃、より好ましくは450~750℃、より好ましくは500~700℃、及びより好ましくは550~650℃の範囲の温度で行う、実施形態48から57のいずれか一項に記載の方法。 58. The method of any one of embodiments 48 to 57, wherein the calcination in step (G) and/or (K), preferably in step (G), is carried out at a temperature in the range of 250 to 1,000°C, preferably 300 to 900°C, more preferably 350 to 850°C, more preferably 400 to 800°C, more preferably 450 to 750°C, more preferably 500 to 700°C, and more preferably 550 to 650°C.

59. 工程(G)及び/又は(K)での、好ましくは工程(G)でのか焼を、0.5~36時間、より好ましくは1~24時間、より好ましくは1.5~18時間、より好ましくは2~12時間、より好ましくは2.5~9時間、より好ましくは3~7時間、より好ましくは3.5~6.5時間、より好ましくは4~6時間、及びより好ましくは4.5~5.5時間の範囲の期間行う、実施形態48から58のいずれか一項に記載の方法。 59. The method of any one of embodiments 48 to 58, wherein the calcination in step (G) and/or (K), preferably in step (G), is carried out for a period in the range of 0.5 to 36 hours, more preferably 1 to 24 hours, more preferably 1.5 to 18 hours, more preferably 2 to 12 hours, more preferably 2.5 to 9 hours, more preferably 3 to 7 hours, more preferably 3.5 to 6.5 hours, more preferably 4 to 6 hours, and more preferably 4.5 to 5.5 hours.

60. 工程(B)で形成されたBEA型骨格構造を有するゼオライト材料がゼオライトベータを含み、ここで好ましくは、工程(B)で形成されたBEA型骨格構造を有するゼオライト材料がゼオライトベータである、実施形態32から59のいずれか一項に記載の方法。 60. The method of any one of embodiments 32 to 59, wherein the zeolitic material having a BEA-type framework structure formed in step (B) comprises zeolite beta, preferably wherein the zeolitic material having a BEA-type framework structure formed in step (B) is zeolite beta.

61. 工程(A)で調製し工程(B)で結晶化させる混合物に含有される種結晶が、BEA型骨格構造を有するゼオライト材料、好ましくはゼオライトベータ、及びより好ましくは実施形態32から59のいずれか一項に定義するBEA型骨格構造を有するゼオライト材料の製造のための有機テンプレートを用いない合成法により得ることができる及び/又は得られるBEA型骨格構造を有するゼオライト材料を含む、実施形態32から60のいずれか一項に記載の方法。 61. The method according to any one of embodiments 32 to 60, wherein the seed crystals contained in the mixture prepared in step (A) and crystallized in step (B) comprise a zeolitic material having a BEA-type framework structure, preferably zeolite beta, and more preferably a zeolitic material having a BEA-type framework structure that can be obtained and/or is obtained by an organic template-free synthesis method for the production of a zeolitic material having a BEA-type framework structure as defined in any one of embodiments 32 to 59.

図面の説明
図1は、2,5-ジメチルフラン(2,5-DMF)が、エチレンのディールス-アルダー環化付加反応を介して、水の除去によりp-キシレンに転化する環化付加中間体となる反応スキームを示す。3-メチル-シクロペンタノンへの、及び1-n-プロピル-4-メチルベンゼンへのさらなるアルキル化の主要な副反応も示す。
FIGURE 1 shows the reaction scheme in which 2,5-dimethylfuran (2,5-DMF) undergoes a Diels-Alder cycloaddition reaction with ethylene to a cycloaddition intermediate that is converted to p-xylene upon elimination of water. The major side reactions of further alkylation to 3-methyl-cyclopentanone and to 1-n-propyl-4-methylbenzene are also shown.

図2は、2-メチルフランが、エチレンのディールス-アルダー環化付加反応を介して、水の除去によりトルエンに転化する環化付加中間体となる反応スキームを示す。オリゴマーへの、環化付加物の異性化によるエポキシドへの、生成物のさらなるアルキル化を介する1-エチル-4-メチルベンゼンへの、及び二量化を介するオリゴマーへの主要な副反応も示す。 Figure 2 shows the reaction scheme where 2-methylfuran undergoes Diels-Alder cycloaddition of ethylene to a cycloaddition intermediate that is converted to toluene with elimination of water. Also shown are the major side reactions to oligomers, isomerization of the cycloadduct to epoxides, further alkylation of the product to 1-ethyl-4-methylbenzene, and dimerization to oligomers.

図3は、フランが、エチレンのディールス-アルダー環化付加反応を介して、水の除去によりベンゼンに転化する環化付加中間体となる反応スキームを示す。二量化を介したオリゴマーへの、環化付加物の異性化を介したケトンへの、及びエチルベンゼンへのさらなるアルキル化の主要な副反応も示す。 Figure 3 shows the reaction scheme in which furan undergoes Diels-Alder cycloaddition of ethylene to a cycloaddition intermediate that is converted to benzene with elimination of water. Major side reactions are also shown: dimerization to oligomers, isomerization of the cycloadduct to ketones, and further alkylation to ethylbenzene.

図4は、参考例1(Si/Al=7)、参考例2(Si/Al=22)、参考例3(Si/Al=36)、及び市販のゼオライトベータ(Si/Al=19)による、ゼオライトベータ触媒による2,5-ジメチルフラン及びエチレンの転化における反応生成物及び選択性を示す。この図では、転化率、p-キシレン及びアルキル化生成物1-n-プロピル-4-メチルベンゼンに対する選択性、及びp-キシレンの収率(「★」で示す)を%単位で示す。 Figure 4 shows the reaction products and selectivities for the conversion of 2,5-dimethylfuran and ethylene over zeolite beta catalysts for Reference Example 1 (Si/Al=7), Reference Example 2 (Si/Al=22), Reference Example 3 (Si/Al=36), and commercial zeolite beta (Si/Al=19). The figure shows the conversion, selectivity to p-xylene and the alkylation product 1-n-propyl-4-methylbenzene, and the yield of p-xylene (indicated by "★") in %.

図5は、参考例2(Si/Al=22)による、ゼオライトベータ触媒上でのエチレン及び2,5-ジメチルフラン(2,5-DMF)、2-メチルフラン(2-MF)、及びフランそれぞれの転化における反応生成物及び選択性を示す。この図では、転化率、p-キシレン及び副生成物(アルキル化及び異性化された副生成物及びオリゴマー)に対する選択性、及びp-キシレンの収率(「★」で示す)を%単位で示す。 Figure 5 shows the reaction products and selectivities for the conversion of ethylene to 2,5-dimethylfuran (2,5-DMF), 2-methylfuran (2-MF), and furan, respectively, over the zeolite beta catalyst according to Reference Example 2 (Si/Al=22). The figure shows the conversion, the selectivity to p-xylene and by-products (alkylated and isomerized by-products and oligomers), and the yield of p-xylene (denoted by "★") in %.

実験の項
気孔率の決定
表面積、細孔容積及び細孔径分布は、Micromeritics ASAP-2020分析器で、-196℃でのN吸着/脱着実験によって決定した。各測定の前に、サンプルを400℃及び10-3Pa未満で6時間、ガス放出した。
Experimental Section Porosity Determination Surface area, pore volume and pore size distribution were determined by N2 adsorption/desorption experiments on a Micromeritics ASAP-2020 analyzer at −196° C. Before each measurement, the samples were outgassed at 400° C. and <10 −3 Pa for 6 h.

温度プログラムされたアンモニアの脱着(NH-TPD)及び酸性度の決定
温度プログラムされたNH脱着(NH-TPD)は、化学吸着分析器(FINETECH、Finesorb3010C、中国)を使用して実行し、TCDを使用して排出ガスを検出した。測定前に、サンプルを500℃のHe流で前処理し、所望の温度に冷却した。He中の5000ppmのNH(100ml/分)を100℃で0.5時間導入し、続いてHeを1.5時間パージした後、温度を100~700℃まで10℃/分の速度で上昇させた。
Temperature programmed ammonia desorption (NH 3 -TPD) and acidity determination Temperature programmed NH 3 desorption (NH 3 -TPD) was performed using a chemisorption analyzer (FINETECH, Finesorb3010C, China) and the exhaust gas was detected using a TCD. Before the measurement, the samples were pretreated with He flow at 500°C and cooled to the desired temperature. 5000 ppm NH 3 in He (100 ml/min) was introduced at 100°C for 0.5 h, followed by purging with He for 1.5 h, after which the temperature was increased from 100 to 700°C at a rate of 10°C/min.

温度プログラムされたNH脱着(TPD)プロファイルのデコンボリューション後、すべてのサンプルはそれぞれ、約200℃(低温)、250℃(中温)、及び340℃(高温)を中心とする3つの脱着ピークを示した。後者の2つのピークは、大まかにブレンステッド酸部位(BA)の強弱でのNH脱着に起因する可能性があり、一方で低温ピークはルイス酸部位(LA)でのNH脱着に起因する可能性があった。これに基づいて、ブレンステッド(BA)酸部位及びルイス(LA)酸部位のそれぞれの量、及びB/L比を、脱着シグナルの積分によって算出した。 After deconvolution of the temperature programmed NH3 desorption (TPD) profiles, all samples showed three desorption peaks centered at about 200°C (low temperature), 250°C (medium temperature), and 340°C (high temperature), respectively. The latter two peaks could be roughly attributed to NH3 desorption at strong and weak Brønsted acid sites (BA), while the low temperature peak could be attributed to NH3 desorption at Lewis acid sites (LA). Based on this, the respective amounts of Brønsted (BA) and Lewis (LA) acid sites, and the B/L ratio were calculated by integration of the desorption signals.

31P MAS NMR測定及びTMPOを使用した酸性度の決定
すべての固体マジックアングルスピニング(MAS)NMR実験は、Agilent DD2-500MHz分光計で行った。31P MAS NMRシングルパルススペクトルは、202.3MHz、速度14kHz、π/4励起パルス1.2μsで、リサイクル遅延10秒で測定された。化学シフトは85%のHPOを基準にした。
31P MAS NMR measurements and acidity determination using TMPO All solid-state magic angle spinning (MAS) NMR experiments were performed on an Agilent DD2-500MHz spectrometer. 31P MAS NMR single pulse spectra were measured at 202.3MHz, speed 14kHz, π/4 excitation pulse 1.2μs , with a recycle delay of 10s. Chemical shifts were referenced to 85% H3PO4 .

様々なSi/Al比のH-ベータゼオライトの酸量及び強度をより深く理解するために、31P MAS NMR実験を行った。これは、トリメチルホスフィンオキシド(TMPO)をプローブ分子として使用する、酸性特性を調査するための効果的なツールである。酸部位の種類(ブレンステッド酸又はルイス酸)を区別できるだけでなく、31P-TMPO MAS NMRアプローチは、ゼオライト触媒のブレンステッド酸強度を識別するのにも有用であり、弱酸性、中酸性、強酸性から超酸性の全範囲を網羅することができる。 To better understand the acidity and strength of H-Beta zeolites with various Si/Al ratios, 31P MAS NMR experiments were performed, which is an effective tool to investigate the acidic properties using trimethylphosphine oxide (TMPO) as a probe molecule. In addition to being able to distinguish the types of acid sites (Bronsted or Lewis acid), the 31P -TMPO MAS NMR approach is also useful in identifying the Bronsted acid strength of the zeolite catalysts, which can cover the full range from weak, medium, strong to super acidic.

酸性度の定量的測定では、すべてのサンプルの質量を測定し、より長い90秒のパルス遅延を除いて同じ条件で行った既知量の(NHHPOを測定することによってスペクトルを較正した。測定用サンプルの調製中のトリメチルホスフィンオキシド(TMPO、99%、アルファ)の吸着のために、サンプルを最初に真空下で20時間完全に脱水した。その後、無水CHCl中に溶解した既知量のTMPOを、N雰囲気で脱水した固体サンプルを含有する容器に導入し、約50℃で排気してCHCl溶媒を除去した。ゼオライトへのプローブ分子の均一な吸着を確実にするために、それらを165℃で1時間の熱処理にさらに供した。最後に、サンプルをNMRローターに移してから、Nグローブボックス内の気密エンドキャップで密封した。 For quantitative measurements of acidity, the mass of all samples was measured and the spectra were calibrated by measuring a known amount of ( NH4 ) 2HPO4 , which was performed under the same conditions except for a longer 90 s pulse delay. For the adsorption of trimethylphosphine oxide (TMPO, 99%, alpha) during the preparation of the samples for measurement, the samples were first completely dehydrated under vacuum for 20 h. Then, a known amount of TMPO dissolved in anhydrous CH2Cl2 was introduced into the vessel containing the dehydrated solid samples in N2 atmosphere and evacuated at about 50 °C to remove the CH2Cl2 solvent. To ensure uniform adsorption of the probe molecules on the zeolite, they were further subjected to a heat treatment at 165 °C for 1 h. Finally, the samples were transferred to the NMR rotor and then sealed with an airtight end cap in a N2 glove box.

31P MAS NMRのデコンボリューション後、7つのピークが低磁場から高磁場に現れた。約43ppmの物理吸着TMPOに加えて、50~84ppmへの31P NMR化学シフトは、ブレンステッド酸部位又はルイス酸部位の化学吸着TMPOに起因した。より具体的には、約83、69、及び55~62ppmでのピークは、最強、中強度、及び最弱のブレンステッド酸部位に吸着されたTMPOにそれぞれ割り当てられ、65及び50ppmのピークは、ルイス酸部位に吸着されたTMPOに割り当てられる。前記分類に基づいて、ブレンステッド酸(BA)及びルイス(LA)酸部位の総量を定量化し、得られた値に基づいてB/L比を算出した。 After deconvolution of the 31 P MAS NMR, seven peaks appeared from downfield to upfield. In addition to physisorbed TMPO at about 43 ppm, the 31 P NMR chemical shifts from 50 to 84 ppm were attributed to chemisorbed TMPO on Bronsted or Lewis acid sites. More specifically, the peaks at about 83, 69, and 55-62 ppm were assigned to TMPO adsorbed on the strongest, medium, and weakest Bronsted acid sites, respectively, and the peaks at 65 and 50 ppm were assigned to TMPO adsorbed on Lewis acid sites. Based on the classification, the total amount of Bronsted acid (BA) and Lewis (LA) acid sites was quantified, and the B/L ratio was calculated based on the obtained values.

29Si MAS NMR測定
すべての固体マジックアングルスピニング(MAS)NMR実験は、Agilent DD2-500MHz分光計で行った。29Si MAS NMRスペクトルは、99.3MHzで6mmのMASプローブを使用して、速度4kHz、スキャン数400、リサイクル遅延4秒で回収した。化学シフトは、4,4-ジメチル-4-シラペンタンスルホネートナトリウム(DSS)を基準にした。
29Si MAS NMR Measurements All solid-state magic angle spinning (MAS) NMR experiments were performed on an Agilent DD2-500MHz spectrometer. 29Si MAS NMR spectra were collected using a 6mm MAS probe at 99.3MHz at a speed of 4kHz, 400 scans, and a 4s recycle delay. Chemical shifts were referenced to sodium 4,4-dimethyl-4-silapentanesulfonate (DSS).

それぞれの材料の骨格におけるSi/Alモル比は、対応する29Si MAS NMRスペクトルのデコンボリューションによって決定した。 The Si/Al molar ratio in the framework of each material was determined by deconvolution of the corresponding 29 Si MAS NMR spectrum.

参考例1:有機テンプレートを用いないH-BEAの合成
12.693kgの蒸留水を、攪拌手段を備えた60Lのオートクレーブに入れた。0.955kgのNaAlOを5Lの蒸留水に溶解し、攪拌しながらオートクレーブ内の水に加えた。次に、21.447kgのナトリウム水ガラス(26質量%のSiO、8質量%のNaO、及び66質量%のHO)を攪拌しながら加えたところ、混合物の粘度が急激に増加し、その後再び減少した。次に、3.762kgのLudox(登録商標)AS40(40質量%のSiO及び60質量%のHO)を添加し、得られたゲルを200rpmで3時間撹拌した後、0.717kgのゼオライトベータ種の懸濁液(Zeolyst International社、Valley Forge、PA19482、米国から、商品名CP814Cで市販されており、CAS登録番号1318-02-1で、550℃で5時間か焼(か焼温度を得るため1℃/分の加熱上昇を使用した)することにより、H型に転化した)を、100rpmで撹拌しながら1Lの蒸留水中に加えた。このようにして得られた混合物は、アルミノシリケートゲルを含有しており、モル比が1.00のSiO:0.0422のAl:0.291のNaO:17.50のHOであった。反応混合物を、一定の加熱上昇を使用して、100rpmで撹拌しながら3時間で120℃の温度に加熱し、次いで、前記温度を同じ撹拌速度で60時間維持した。反応混合物を室温まで冷却した後、固体を濾過により分離し、蒸留水で繰り返し洗浄してから、120℃で16時間乾燥させて、Naゼオライトベータを得た。生成物のX線回折により、得られた結晶性材料のBEA型骨格構造が確認された。得られた白色結晶性材料は、ゼオライトベータ種材料(Zeolyst社からのCP814C)の結晶化度と比較して、18~25°の範囲の2°シータで93%の結晶化度を示した。
Reference Example 1: Synthesis of H-BEA without organic template 12.693 kg of distilled water was placed in a 60 L autoclave equipped with stirring means. 0.955 kg of NaAlO2 was dissolved in 5 L of distilled water and added to the water in the autoclave with stirring. Next, 21.447 kg of sodium water glass (26% by weight SiO2 , 8% by weight Na2O , and 66% by weight H2O ) was added with stirring, causing the viscosity of the mixture to increase sharply and then decrease again. Then, 3.762 kg of Ludox® AS40 (40% by weight SiO2 and 60% by weight H2O ) were added and the resulting gel was stirred at 200 rpm for 3 hours, after which 0.717 kg of a suspension of zeolite Beta species (commercially available from Zeolyst International, Inc., Valley Forge, PA19482, USA, under the trade name CP814C, CAS registration number 1318-02-1, converted to H-form by calcination at 550°C for 5 hours (a heating ramp of 1°C/min was used to obtain the calcination temperature)) was added in 1 L of distilled water with stirring at 100 rpm. The mixture thus obtained contained an aluminosilicate gel with a molar ratio of 1.00 SiO 2 : 0.0422 Al 2 O 3 : 0.291 Na 2 O : 17.50 H 2 O. The reaction mixture was heated to a temperature of 120° C. in 3 hours with stirring at 100 rpm using a constant heating ramp, and then said temperature was maintained for 60 hours with the same stirring speed. After cooling the reaction mixture to room temperature, the solid was separated by filtration, washed repeatedly with distilled water, and then dried at 120° C. for 16 hours to obtain Na zeolite beta. X-ray diffraction of the product confirmed the BEA-type framework structure of the obtained crystalline material. The obtained white crystalline material showed a crystallinity of 93% at 2° theta in the range of 18-25°, compared to that of zeolite beta seed material (CP814C from Zeolyst).

1,000gの蒸留水を2Lの反応容器に入れた。次に、参考例1により得られた125gのアンモニウムニトレート及び125gのNa-ゼオライトベータを、漏斗を介して混合物に加え、次いで、これを125gの蒸留水ですすいだ。次に、得られた懸濁液を80℃に加熱し、2時間連続撹拌しながらこの温度に保った。固体を濾過し、次にフィルターケーキを、洗浄水の導電率が20マイクロシーメンス/cm未満になるまで蒸留水で洗浄した。フィルターケーキを120℃で一晩乾燥させて、138.5gのゼオライトベータをそのアンモニウムの形で得た。この手順を、参考例1からのさらなる125gのNa-ゼオライトベータを用いて繰り返し、さらなる131.5gのゼオライトベータをそのアンモニウムの形で得た。最後に、両方のバッチを500℃で5時間(加熱上昇2K/分)か焼する工程により、236gのゼオライトベータをそのH型で得た。 1,000 g of distilled water was placed in a 2 L reaction vessel. Then, 125 g of ammonium nitrate and 125 g of Na-zeolite beta obtained according to Reference Example 1 were added to the mixture via a funnel, which was then rinsed with 125 g of distilled water. The resulting suspension was then heated to 80° C. and kept at this temperature with continuous stirring for 2 hours. The solids were filtered and then the filter cake was washed with distilled water until the conductivity of the wash water was less than 20 microsiemens/cm. The filter cake was dried overnight at 120° C. to obtain 138.5 g of zeolite beta in its ammonium form. This procedure was repeated with an additional 125 g of Na-zeolite beta from Reference Example 1 to obtain an additional 131.5 g of zeolite beta in its ammonium form. Finally, 236 g of zeolite beta in its H form was obtained by calcining both batches at 500° C. for 5 hours (heating increase 2 K/min).

1,000gの蒸留水を2Lの反応容器に入れた。次に、最初のアンモニウムイオン交換手順から得られた118gのアンモニウムニトレート及び118gのH-ゼオライトベータを、漏斗を介して混合物に加え、次いで、これを118gの蒸留水ですすいだ。次に、得られた懸濁液を80℃に加熱し、2時間連続撹拌しながらこの温度に保った。固体を濾過し、次にフィルターケーキを、洗浄水の導電率が10マイクロシーメンス/cm未満になるまで蒸留水で洗浄した。フィルターケーキを120℃で一晩乾燥させて、111gのゼオライトベータをそのアンモニウムの形で得た。この手順を、最初のアンモニウムイオン交換手順からの125gのアンモニウムニトレート及びさらなる125gのH-ゼオライトベータを用いて繰り返し、このようにして、さらなる110gのゼオライトベータをそのアンモニウムの形で得た。H-ゼオライトベータのサンプルを結合し、その65gのサンプルを、750℃で5時間(加熱上昇2K/分)のか焼工程により、59.5gのゼオライトベータをそのH型で得た。29Si MAS NMRスペクトルから決定されたH-ゼオライトベータのSi:Alモル比は7であった。 1,000 g of distilled water was placed in a 2 L reaction vessel. Next, 118 g of ammonium nitrate from the first ammonium ion exchange procedure and 118 g of H-zeolite beta were added to the mixture via a funnel, which was then rinsed with 118 g of distilled water. The resulting suspension was then heated to 80° C. and held at this temperature with continuous stirring for 2 hours. The solids were filtered and then the filter cake was washed with distilled water until the conductivity of the wash water was less than 10 microSiemens/cm. The filter cake was dried at 120° C. overnight to obtain 111 g of zeolite beta in its ammonium form. This procedure was repeated with 125 g of ammonium nitrate from the first ammonium ion exchange procedure and an additional 125 g of H-zeolite beta, thus obtaining an additional 110 g of zeolite beta in its ammonium form. Samples of H-zeolite beta were combined and a 65 g sample was subjected to a calcination step at 750° C. for 5 h (heat increase 2 K/min) to obtain 59.5 g of zeolite beta in its H form. The Si:Al molar ratio of H-zeolite beta was 7 as determined from its 29 Si MAS NMR spectrum.

参考例2:有機テンプレートを用いない合成から得られたH-BEAの脱アルミニウム
1,250mlの硝酸の1M溶液を、スターラーを備えたビーカーに入れた。参考例1から得られた25gのH-ゼオライトベータを加え、混合物を室温で2時間撹拌した。固体を濾別し、洗浄水の導電率が165マイクロシーメンス/cmになるまで蒸留水で洗浄した。次に、固体を120℃で一晩乾燥させて、23.7gのゼオライトベータを得た。ここで元素分析から、40:2.6のSi:Al質量比を得た。29Si MAS NMRスペクトルから決定された脱アルミニウム化ゼオライトベータのSi:Alモル比は22であった。
Reference Example 2: Dealumination of H-BEA obtained from synthesis without organic template 1,250 ml of a 1 M solution of nitric acid was placed in a beaker equipped with a stirrer. 25 g of H-zeolite beta obtained from Reference Example 1 was added and the mixture was stirred at room temperature for 2 hours. The solid was filtered off and washed with distilled water until the conductivity of the wash water was 165 microSiemens/cm. The solid was then dried overnight at 120°C to obtain 23.7 g of zeolite beta, where elemental analysis gave a Si:Al mass ratio of 40:2.6. The Si:Al molar ratio of the dealuminated zeolite beta determined from the 29Si MAS NMR spectrum was 22.

参考例3:有機テンプレートを用いない合成から得られたH-BEAの脱アルミニウム
1,219mlの硝酸の1M溶液を、スターラーを備えたビーカーに入れた。参考例1から得られた24.38gのH-ゼオライトベータを加え、混合物を室温で5時間撹拌した。固体を濾別し、洗浄水の導電率が65マイクロシーメンス/cmになるまで蒸留水で洗浄した。次に、固体を120℃で一晩乾燥させて、21.4gのゼオライトベータを得た。ここで元素分析から、40:2.1のSi:Al質量比を得た。29Si MAS NMRスペクトルから決定された脱アルミニウム化ゼオライトベータのSi:Alモル比は36であった。
Reference Example 3: Dealumination of H-BEA obtained from synthesis without organic templates 1,219 ml of a 1 M solution of nitric acid was placed in a beaker equipped with a stirrer. 24.38 g of H-zeolite beta obtained from Reference Example 1 was added and the mixture was stirred at room temperature for 5 hours. The solid was filtered off and washed with distilled water until the conductivity of the wash water was 65 microSiemens/cm. The solid was then dried overnight at 120°C to give 21.4 g of zeolite beta, where elemental analysis gave a Si:Al mass ratio of 40:2.1. The Si:Al molar ratio of the dealuminated zeolite beta determined from the 29Si MAS NMR spectrum was 36.

実施例1:芳香族化合物の合成
エチレンを有する2,5-ジメチルフラン、2-メチルフラン、又はフランの触媒転化を、50mlのステンレス鋼オートクレーブで行った。反応前に、オートクレーブを窒素でパージし、次に0.3gのH-ベータゼオライトを反応器に入れ、所望の量の2,5-ジメチルフラン、2-メチルフラン又はフランを溶媒とオートクレーブに移した。より具体的には、ヘプタン中のそれぞれの化合物の1.56M溶液を用いた。次に、反応器をエチレンガスで加圧し、混合物を機械式スターラーを用いて1000rpmで攪拌して、システム内での物質移動が確実に容易になるようにし、最終温度まで加熱した。反応において、エチレンの2,5-ジメチルフランに対するモル比は0.18であり、エチレンの2-メチルフランに対するモル比は0.18であり、エチレンのフランに対するモル比は0.16であった。
Example 1: Synthesis of aromatic compounds Catalytic conversion of 2,5-dimethylfuran, 2-methylfuran, or furan with ethylene was carried out in a 50 ml stainless steel autoclave. Prior to the reaction, the autoclave was purged with nitrogen, then 0.3 g of H-beta zeolite was placed in the reactor, and the desired amount of 2,5-dimethylfuran, 2-methylfuran, or furan was transferred to the autoclave with the solvent. More specifically, a 1.56 M solution of the respective compound in heptane was used. The reactor was then pressurized with ethylene gas, and the mixture was stirred at 1000 rpm using a mechanical stirrer to ensure easy mass transfer in the system and heated to the final temperature. In the reaction, the molar ratio of ethylene to 2,5-dimethylfuran was 0.18, the molar ratio of ethylene to 2-methylfuran was 0.18, and the molar ratio of ethylene to furan was 0.16.

反応後、遠心分離によって液体生成物と固体触媒を分離した。生成物を、30mのHP-5キャピラリカラム及び水素炎イオン化検出器を備えたガスクロマトグラフ(島津製作所、GC-2014C)を使用して分析した。生成物は、標準化学物質の保持時間及び応答係数に基づいて識別し、外部標準として既知量のn-デカンを使用して定量した。生成物を、30mのHP-5MSカラムを備えたGC/MS(Agilent社、HP6890/5973MSD)によってさらに識別した。 After the reaction, the liquid product and the solid catalyst were separated by centrifugation. The products were analyzed using a gas chromatograph (Shimadzu, GC-2014C) equipped with a 30 m HP-5 capillary column and a flame ionization detector. The products were identified based on the retention times and response factors of standard chemicals and quantified using a known amount of n-decane as an external standard. The products were further identified by GC/MS (Agilent, HP6890/5973MSD) equipped with a 30 m HP-5MS column.

比較のため、有機テンプレートを介した合成(CP814C、NH 型、Zeolyst社)からのSi/Al=19の市販のゼオライトベータを、550℃で4時間のか焼によりH型に転化し、その後、比較試験実行に使用した。29Si MAS NMRスペクトルから決定された市販のゼオライトベータのSi:Alモル比は19であった。 For comparison, a commercial zeolite beta with Si/Al=19 from organotemplate-mediated synthesis (CP814C, NH4 + form, Zeolyst) was converted to the H + form by calcination at 550° C. for 4 h and then used in the comparative test runs. The Si:Al molar ratio of the commercial zeolite beta was 19 as determined from its 29Si MAS NMR spectrum.

試験実験で使用したゼオライトベータ触媒の特性を表1に示す。特に、29Si MAS NMRスペクトルから決定したSi:Alのモル比、温度プログラムされたアンモニアの脱着(NH-TPD)によって、及びトリメチルホスフィンオキシドを使用した31P MAS NMRによってそれぞれ決定したブレンステッド酸部位(BA)の量のルイス酸部位(LA)の量に対するBA:LAの比、NH-TPDによるブレンステッド酸部位及びルイス酸部位の絶対量、及びBET表面積及び総細孔容積を示す。 The properties of the zeolite beta catalyst used in the test experiments are given in Table 1. In particular, the molar ratio of Si:Al determined from 29Si MAS NMR spectra, the ratio of the amount of Brønsted acid sites (BA) to the amount of Lewis acid sites (LA) determined by temperature programmed ammonia desorption (NH 3 -TPD) and by 31P MAS NMR using trimethylphosphine oxide, respectively, the absolute amount of Brønsted acid sites and Lewis acid sites by NH 3 -TPD, and the BET surface area and total pore volume are given.

表1:試験実験で使用されたゼオライトベータ触媒の特性 Table 1: Characteristics of the zeolite beta catalyst used in the test experiments

エチレンを有する2,5-ジメチルフランの反応における様々なゼオライトベータ触媒の比較試験の結果を図4に示す。反応は300℃で20時間行い、反応前に反応器をエチレンで加圧して、加熱前に4.0MPaの初期圧力を得た。このように結果から分かるように、全く予想外にも、有機テンプレートを用いない合成から得られるゼオライトベータ上での転化は、テンプレート合成から得られる市販のゼオライトベータよりも実質的に高いことが見出された。特に、結果から分かるように、非常に驚くべきことに、より高い転化率はSi/Alモル比に関連していないが、本発明の方法で使用する触媒の改善された結果は、それらが有機テンプレートを用いない合成法から得られるという事実から得られることが見出された。よって、それぞれ7及び22のSi/Alモル比を示す、有機テンプレートを用いない合成から得られたゼオライトベータサンプルを使用して得られた結果から分かるように、19の、すなわち前述のSi/Alモル比の間にあるSi/Alモル比を有するテンプレート合成から得られる市販のゼオライトベータよりも、両方とも実質的に高い転化率を示すことが見出された。 The results of a comparative test of various zeolite beta catalysts in the reaction of 2,5-dimethylfuran with ethylene are shown in Figure 4. The reaction was carried out at 300°C for 20 hours, and the reactor was pressurized with ethylene before the reaction to obtain an initial pressure of 4.0 MPa before heating. Thus, as can be seen from the results, quite unexpectedly, it was found that the conversion on zeolite beta obtained from synthesis without organic templates is substantially higher than that of commercial zeolite beta obtained from template synthesis. In particular, as can be seen from the results, it was found that, very surprisingly, the higher conversion is not related to the Si/Al molar ratio, but that the improved results of the catalysts used in the process of the invention result from the fact that they are obtained from a synthesis method without organic templates. Thus, as can be seen from the results obtained using zeolite beta samples obtained from synthesis without organic templates, which exhibit Si/Al molar ratios of 7 and 22, respectively, it was found that both exhibit substantially higher conversions than commercial zeolite beta obtained from template synthesis, which has a Si/Al molar ratio of 19, i.e. between the aforementioned Si/Al molar ratios.

前述の試験に加えて、参考例2からのゼオライトベータを、エチレンの2,5-ジメチルフラン、2-メチルフラン、及びフランとの反応にそれぞれ使用した。その結果を図5に示す。ディールス-アルダー環化付加反応及びその後の水の除去による所望の芳香族生成物への反応経路、及び主要な副生成物への反応経路を、図1~3に示す。図5に示す結果から分かるように、2,5-ジメチルフランの反応では、所望の生成物への転化率及び反応の選択性は、それぞれほぼ100%であるが、エチレンを2-メチルフラン及びフランとそれぞれ反応させると、転化率及び選択性が大幅に低下した。 In addition to the aforementioned tests, the zeolite beta from Reference Example 2 was used to react ethylene with 2,5-dimethylfuran, 2-methylfuran, and furan, respectively. The results are shown in Figure 5. The reaction pathways to the desired aromatic products and the major by-products by Diels-Alder cycloaddition reaction and subsequent removal of water are shown in Figures 1-3. As can be seen from the results shown in Figure 5, in the reaction of 2,5-dimethylfuran, the conversion to the desired products and the selectivity of the reaction are nearly 100%, respectively, while the conversion and selectivity were significantly reduced when ethylene was reacted with 2-methylfuran and furan, respectively.

引用文献のリスト
- US2013/0245316A1
- Ni,L. et al.ChemSusChem2017,10,2394
- Chang,C.-C.et al.Green Chem.2014,16,585
- Cho,H.J.et al.ChemCatChem2017,9,398
List of cited references - US2013/0245316A1
- Ni, L. et al. ChemSusChem 2017, 10, 2394
- Chang, C. - C. et al. Green Chem. 2014, 16, 585
- Cho, H. J. et al. ChemCatChem 2017, 9, 398

Claims (12)

芳香族化合物の製造方法であって、
(1) エチレン及び式(I)
Figure 0007467360000009
の化合物を含む混合物(M1)を調製する工程、
(2) 混合物(M1)を、触媒を含有する反応器に供給する工程であって、前記触媒がBEA型骨格構造を有するゼオライト材料を含む工程、
(3) 混合物(M1)の少なくとも一部を反応させて式(II)
Figure 0007467360000010
の芳香族化合物を得るために、混合物(M1)を前記反応器内の前記触媒と接触させる工程、
(4) 式(II)の前記芳香族化合物を含有する反応混合物(M2)を前記反応器から回収する工程、
を含み、
式中、R及びRが互いに独立して、H、又は置換又は非置換の(C~C)アルキルを表し、及び
前記触媒に含まれるBEA型骨格構造を有する前記ゼオライト材料が、有機テンプレートを用いない合成法により得られ、
前記有機テンプレートを用いない合成法が、
(A) SiOの1種以上の源、Xの1種以上の源、及び種結晶を含む混合物を調製する工程であって、前記種結晶がBEA型骨格構造を有する1種以上のゼオライト材料を含む工程、
(B) BEA型骨格構造を有するゼオライト材料を得るために、工程(A)で得られた前記混合物を結晶化させる工程
を含み、
ここでXが3価の元素であり、Al、B、In、Ga、及びそれらの2種以上の混合物からなる群から選択され、
前記触媒に含まれるBEA型骨格構造を有する前記ゼオライト材料が、20~100の範囲のSiO :X モル比を示し、骨格構造の前記SiO :X モル比が、前記ゼオライト材料の 29 Si MAS NMRから決定され、
前記触媒に含まれるBEA型骨格構造を有する前記ゼオライト材料が示すブレンステッド酸部位(BA)の量のルイス酸部位(LA)の量に対するBA:LA比が、1.6~3.4の範囲であり、ここでブレンステッド酸部位及びルイス酸部位の量がそれぞれ、温度プログラムされたアンモニアの脱着(NH -TPD)により決定され、及び
工程(A)で調製し工程(B)で結晶化させる前記混合物が、構造指向剤としての有機テンプレートを含有しない、方法。
A method for producing an aromatic compound, comprising the steps of:
(1) Ethylene and formula (I)
Figure 0007467360000009
preparing a mixture (M1) comprising a compound of
(2) feeding the mixture (M1) into a reactor containing a catalyst, the catalyst comprising a zeolitic material having a BEA-type framework structure;
(3) reacting at least a portion of the mixture (M1) to form a compound represented by formula (II)
Figure 0007467360000010
contacting the mixture (M1) with the catalyst in the reactor to obtain aromatic compounds of
(4) recovering the reaction mixture (M2) containing the aromatic compound of formula (II) from the reactor;
Including,
wherein R 1 and R 2 are each independently H or a substituted or unsubstituted (C 1 -C 3 ) alkyl; and the zeolitic material with a BEA-type framework structure contained in the catalyst is obtained by a synthesis method without using an organic template;
The organic template-free synthesis method comprises:
(A) preparing a mixture comprising one or more sources of SiO2 , one or more sources of X2O3 , and seed crystals, the seed crystals comprising one or more zeolitic materials having a BEA-type framework structure;
(B) crystallizing the mixture obtained in step (A) to obtain a zeolitic material having a BEA-type framework structure,
wherein X is a trivalent element selected from the group consisting of Al, B, In, Ga, and mixtures of two or more thereof;
the zeolitic material having a BEA-type framework structure contained in the catalyst exhibits a SiO 2 :X 2 O 3 molar ratio in the range of 20 to 100, the SiO 2 :X 2 O 3 molar ratio of the framework structure being determined from 29 Si MAS NMR of the zeolitic material ;
the zeolitic material having a BEA-type framework structure in said catalyst has a BA:LA ratio of the amount of Bronsted acid sites (BA) to the amount of Lewis acid sites (LA) in the range of 1.6 to 3.4, wherein the amount of Bronsted acid sites and the amount of Lewis acid sites, respectively, are determined by temperature programmed ammonia desorption (NH 3 -TPD);
The process, wherein said mixture prepared in step (A) and crystallized in step (B) does not contain an organic template as a structure directing agent.
BEA型骨格構造を有する前記ゼオライト材料が、少なくとも次の反射を含むX線回折パターンを示し、
Figure 0007467360000011
ここで100%は、前記X線粉末回折パターンの20~45°の2θ範囲の最高ピークの強度を意味し、及び
前記BEA型骨格構造がSiO及びXを含み、Xは3価の元素である、請求項1に記載の方法。
The zeolitic material having a BEA-type framework structure exhibits an X-ray diffraction pattern including at least the following reflections:
Figure 0007467360000011
wherein 100% means the intensity of the highest peak in the 2θ range of 20-45° in the X-ray powder diffraction pattern; and wherein the BEA-type framework structure comprises SiO2 and X2O3 , where X is a trivalent element.
式(I)の化合物が、置換又は非置換のフラン、2-メチルフラン、2,5-ジメチルフラン、及びそれらの2種以上の混合物からなる群から選択される、請求項1又は2に記載の方法。 The method according to claim 1 or 2, wherein the compound of formula (I) is selected from the group consisting of substituted or unsubstituted furan, 2-methylfuran, 2,5-dimethylfuran, and mixtures of two or more thereof. 工程(1)で調製し工程(3)で反応させる混合物(M1)が溶媒システムをさらに含有する、請求項1から3のいずれか一項に記載の方法。 The method according to any one of claims 1 to 3, wherein the mixture (M1) prepared in step (1) and reacted in step (3) further contains a solvent system. 式(I)の化合物及び/又はエチレンがバイオマスに由来する、請求項1から4のいずれか一項に記載の方法。 The method according to any one of claims 1 to 4, wherein the compound of formula (I) and/or ethylene is derived from biomass. 工程(2)及び工程(3)において、前記触媒に含まれるBEA型骨格構造を有する前記ゼオライト材料がH型である、請求項1から5のいずれか一項に記載の方法。 The method according to any one of claims 1 to 5, wherein in steps (2) and (3), the zeolite material having a BEA-type framework structure contained in the catalyst is H-type. 工程(2)及び工程(3)において、前記触媒に含まれるBEA型骨格構造を有する前記ゼオライト材料が、元素として計算され、BEA型骨格構造を有する前記ゼオライト材料の骨格構造中に含有される100質量%のSiO に基づいて5質量%以下の金属AMを含有し、ここで前記金属AMがNaを表す、請求項1から6のいずれか一項に記載の方法。 7. The method according to claim 1, wherein in step (2) and step (3), the zeolitic material having a BEA-type framework structure contained in the catalyst contains not more than 5% by weight of a metal AM, calculated as an element and based on 100% by weight of SiO2 contained in the framework structure of the zeolitic material having a BEA-type framework structure, where the metal AM represents Na. 工程(2)及び工程(3)において、前記触媒に含まれるBEA型骨格構造を有する前記ゼオライト材料が、元素として計算され、BEA型骨格構造を有する前記ゼオライト材料の骨格構造中に含有される100質量%のSiOに基づいて5質量%以下の金属TMを含有し、ここで前記金属TMがPt、Pd、Rh、及びIrを表す、請求項1から7のいずれか一項に記載の方法。 8. The method according to claim 1, wherein in step (2) and step (3), the zeolitic material having a BEA-type framework structure contained in the catalyst contains not more than 5% by weight of metal TM, calculated as element and based on 100% by weight of SiO2 contained in the framework structure of the zeolitic material having a BEA-type framework structure, where the metal TM represents Pt, Pd, Rh, and Ir. 工程(2)及び工程(3)において、前記触媒に含まれるBEA型骨格構造を有する前記ゼオライト材料が、元素として計算され、BEA型骨格構造を有する前記ゼオライト材料の骨格構造中に含有される100質量%のSiOに基づいて、5質量%以下のリンを含有する、請求項1から8のいずれか一項に記載の方法。 9. The method according to claim 1, wherein in step (2) and step (3), the zeolitic material having a BEA-type framework structure contained in the catalyst contains not more than 5% by weight of phosphorus, calculated as element and based on 100% by weight of SiO2 contained in the framework structure of the zeolitic material having a BEA-type framework structure. 工程(3)における混合物(M1)の前記触媒との接触を、150~350℃の範囲の温度で行う、請求項1から9のいずれか一項に記載の方法。 The method according to any one of claims 1 to 9, wherein the contact of mixture (M1) with the catalyst in step (3) is carried out at a temperature in the range of 150 to 350°C. 前記方法を連続モード及び/又はバッチモードで行う、請求項1から10のいずれか一項に記載の方法 The method according to any one of claims 1 to 10, wherein the method is carried out in continuous and/or batch mode . 工程(A)で調製し工程(B)で結晶化させる前記混合物が、元素として計算され、前記混合物に含有される100質量%のSiOに基づいて5質量%以下の炭素を含有する、請求項1に記載の方法。 2. The method of claim 1, wherein the mixture prepared in step (A) and crystallized in step (B) contains not more than 5% by weight of carbon, calculated as element and based on 100% by weight of SiO2 contained in the mixture.
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