JP7464691B2 - Lithographic printing plate precursor, method for preparing a lithographic printing plate, and lithographic printing method - Google Patents

Lithographic printing plate precursor, method for preparing a lithographic printing plate, and lithographic printing method Download PDF

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Description

本開示は、平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法に関する。 This disclosure relates to a lithographic printing plate precursor, a method for making a lithographic printing plate, and a lithographic printing method.

一般に、平版印刷版は、印刷過程でインキを受容する親油性の画像部と湿し水を受容する親水性の非画像部とからなる。平版印刷は、水と油性インキとが互いに反発する性質を利用して、平版印刷版の親油性の画像部をインキ受容部、親水性の非画像部を湿し水受容部(インキ非受容部)として、平版印刷版の表面にインキの付着性の差異を生じさせ、画像部のみにインキを着肉させた後、紙などの被印刷体にインキを転写して印刷する方法である。 Generally, a lithographic printing plate consists of an oleophilic image area that accepts ink during the printing process and a hydrophilic non-image area that accepts dampening water. Lithographic printing utilizes the mutual repulsion properties of water and oil-based ink, making the oleophilic image area of the lithographic printing plate the ink-receptive area and the hydrophilic non-image area the dampening water-receptive area (ink-non-receptive area) to create a difference in ink adhesion on the surface of the lithographic printing plate, and then ink is applied only to the image area, after which the ink is transferred to the printing material such as paper to print.

現在、平版印刷版原版から平版印刷版を作製する製版工程においては、CTP(コンピュータ・トゥ・プレート)技術による画像露光が行われている。即ち、画像露光は、リスフィルムを介することなく、レーザーやレーザーダイオードを用いて直接平版印刷版原版に走査露光などにより行われる。Currently, in the platemaking process for producing a lithographic printing plate from a lithographic printing plate precursor, image exposure is performed using CTP (computer-to-plate) technology. In other words, image exposure is performed by scanning exposure or the like directly onto the lithographic printing plate precursor using a laser or laser diode, without using a lithographic film.

一方、地球環境への関心の高まりから、平版印刷版原版の製版に関して、現像処理などの湿式処理に伴う廃液に関する環境問題がクローズアップされ、これに伴い、現像処理の簡易化又は無処理化が指向されている。簡易な現像処理の一つとして、「機上現像」と呼ばれる方法が提案されている。機上現像は、平版印刷版原版を画像露光後、従来の湿式現像処理を行わず、そのまま印刷機に取り付け、画像記録層の非画像部の除去を通常の印刷工程の初期段階で行う方法である。On the other hand, with the growing concern for the global environment, environmental issues related to waste liquids that accompany wet processing such as development processing have come into focus when it comes to platemaking for lithographic printing plate precursors, and as a result, there has been a trend toward simplifying development processing or eliminating it altogether. A method called "on-press development" has been proposed as one simple development process. On-press development is a method in which after image exposure of a lithographic printing plate precursor, the plate is attached directly to the printing press without undergoing the conventional wet development processing, and the non-image areas of the image recording layer are removed at an early stage of the normal printing process.

平版印刷版を用いて印刷する場合、通常の枚葉印刷機のように印刷版のサイズよりも小さい紙への印刷においては、印刷版の端部は紙面外の位置にあるので端部が印刷品質に影響することはない。しかし、新聞印刷のような輪転機を用いてロール状の紙に連続して印刷する場合には、印刷版の端部はロール紙面内にあるため、端部に付着したインキが紙に転写して線状の汚れ(エッジ汚れ)が発生し、印刷物の商品価値を著しく損ねることになる。 When printing using a lithographic printing plate, when printing on paper smaller than the size of the printing plate, as with a normal sheet-fed printing press, the edges of the printing plate are outside the paper surface and do not affect the print quality. However, when printing continuously on rolled paper using a rotary press, such as for newspaper printing, the edges of the printing plate are within the surface of the rolled paper, so ink adhering to the edges is transferred to the paper, causing linear stains (edge stains) and significantly reducing the commercial value of the printed matter.

従来の平版印刷版原版としては、例えば、特許文献1~3に記載されたものが挙げられる。
特許文献1には、陽極酸化皮膜を有するアルミニウム支持体上に画像記録層を有する機上現像型平版印刷版原版であって、上記平版印刷版原版は端部にダレ形状を有し、上記画像記録層の上に支持体吸着性を有する化合物を含有する層を有し、上記化合物の含有量が上記支持体吸着性を有する化合物を含有する層の面内において実質的に同じである機上現像型平版印刷版原版が記載されている。
Conventional lithographic printing plate precursors include those described in, for example, Patent Documents 1 to 3.
Patent Document 1 describes an on-press development type lithographic printing plate precursor having an image recording layer on an aluminum support having an anodized film, the lithographic printing plate precursor having a drooped shape at the edge, a layer containing a compound having support adsorbability on the image recording layer, and the content of the compound is substantially the same within the plane of the layer containing the compound having support adsorbability.

特許文献2には、下記式(1)で表される化合物を含有する発色組成物を含む画像記録層を支持体上に有する平版印刷版原版が記載されている。Patent Document 2 describes a lithographic printing plate precursor having an image recording layer on a support, the image recording layer including a color-developing composition containing a compound represented by the following formula (1):

式(1)中、Rは熱又は赤外線露光によりR-O結合が開裂する基を表す。R及びRはそれぞれ独立に、水素原子又はアルキル基を表し、あるいはR及びRは互いに連結して環を形成してもよい。Ar及びArはそれぞれ独立に、ベンゼン環又はナフタレン環を形成する基を表す。Y及びYはそれぞれ独立に、酸素原子、硫黄原子、-NR-又はジアルキルメチレン基を表す。R及びRはそれぞれ独立に、アルキル基又は下記式(2)~(4)で表される基を表す。R~Rはそれぞれ独立に、水素原子又はアルキル基を表す。Rは水素原子、アルキル基又はアリール基を表す。Zaは電荷を中和するための対イオンを表す。但し、式(1)で表される化合物は、R若しくはRとして又はR、Ar若しくはAr中に式(2)~(4)で表される基を少なくとも1つ有する。 In formula (1), R 1 represents a group in which the R 1 -O bond is cleaved by exposure to heat or infrared rays. R 2 and R 3 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group, or R 2 and R 3 may be linked to each other to form a ring. Ar 1 and Ar 2 each independently represent a group forming a benzene ring or a naphthalene ring. Y 1 and Y 2 each independently represent an oxygen atom, a sulfur atom, -NR 0 -, or a dialkylmethylene group. R 4 and R 5 each independently represent an alkyl group or a group represented by the following formulas (2) to (4). R 6 to R 9 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group. R 0 represents a hydrogen atom, an alkyl group, or an aryl group. Za represents a counter ion for neutralizing the charge. However, the compound represented by formula (1) has at least one group represented by formulae (2) to (4) as R 4 or R 5 or in R 1 , Ar 1 or Ar 2 .

式(2)~(4)中、R10は炭素数2~6のアルキレン基を表す。Wは単結合又は酸素原子を表す。n1は1~45の整数を表す。R11は炭素数1~12のアルキル基又は-C(=O)-R14を表す。R14は炭素数1~12のアルキル基を表す。R12及びR13はそれぞれ独立に、単結合又は炭素数1~12のアルキレン基を表す。Mは水素原子、Na原子、K原子又はオニウム基を表す。 In formulas (2) to (4), R 10 represents an alkylene group having 2 to 6 carbon atoms. W represents a single bond or an oxygen atom. n1 represents an integer from 1 to 45. R 11 represents an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms or -C(=O)-R 14. R 14 represents an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms. R 12 and R 13 each independently represent a single bond or an alkylene group having 1 to 12 carbon atoms. M represents a hydrogen atom, a Na atom, a K atom or an onium group.

特許文献3には、支持体、重合性化合物及び光重合開始剤を含む画像記録層、及び、上記画像記録層上にトップ層を有し、上記トップ層の厚さが0.1g/mから1.75g/mまでの間であり、上記トップ層が、熱及び/又は赤外線照射により強い電子供与性基に変換される熱解離性基を有する赤外線吸収剤を含み、上記トップ層が、熱及び/又は赤外線照射により画像形成可能である平版印刷版原版が記載されている。 Patent Document 3 describes a lithographic printing plate precursor having a support, an image recording layer containing a polymerizable compound and a photopolymerization initiator, and a top layer on the image recording layer, the top layer having a thickness of between 0.1 g/ m2 and 1.75 g/ m2 , the top layer containing an infrared absorber having a thermally dissociable group that is converted into a strong electron-donating group by heat and/or infrared irradiation, and the top layer is capable of forming an image by heat and/or infrared irradiation.

特許文献1:国際公開第2019/151447号
特許文献2:国際公開第2017/141882号
特許文献3:国際公開第2019/219560号
Patent Document 1: International Publication No. 2019/151447 Patent Document 2: International Publication No. 2017/141882 Patent Document 3: International Publication No. 2019/219560

本開示の一実施形態が解決しようとする課題は、エッジ汚れ抑制性に優れる平版印刷版原版を提供することである。
本開示の他の実施形態が解決しようとする課題は、上記平版印刷版原版を用いた平版印刷版の作製方法又は平版印刷方法を提供することである。
An object of one embodiment of the present disclosure is to provide a lithographic printing plate precursor that is excellent in suppressing edge staining.
Another problem to be solved by another embodiment of the present disclosure is to provide a method for producing a lithographic printing plate or a lithographic printing method using the above-mentioned lithographic printing plate precursor.

上記課題を解決するための手段には、以下の態様が含まれる。
<1> 支持体上に、熱又は赤外線露光により開裂する基を有する発色性化合物を含む層を有し、上記支持体の少なくとも対向する2辺の端部に、ダレ量Xが25μm~150μm、かつダレ幅Yが70μm~300μmであるダレ形状を有する平版印刷版原版。
<2> 上記発色性化合物を含む層が、画像記録層である<1>に記載の平版印刷版原版。
<3> 支持体上に、画像記録層を有し、
上記発色性化合物を含む層を、上記画像記録層上に有する<1>に記載の平版印刷版原版。
<4> 上記熱又は赤外線露光により開裂する基を有する発色性化合物が、下記式(1)で表される化合物である<1>~<3>のいずれか1つに記載の平版印刷版原版。
Means for solving the above problems include the following aspects.
<1> A lithographic printing plate precursor having on a support a layer containing a color-forming compound having a group that is cleaved by exposure to heat or infrared light, and having a sagging shape in which the sagging amount X is 25 μm to 150 μm and the sagging width Y is 70 μm to 300 μm at the ends of at least two opposing sides of the support.
<2> The lithographic printing plate precursor according to <1>, wherein the layer containing a color-forming compound is an image recording layer.
<3> An image recording layer is provided on a support,
The lithographic printing plate precursor according to <1>, further comprising a layer containing the color-forming compound on the image recording layer.
<4> The lithographic printing plate precursor according to any one of <1> to <3>, wherein the color-forming compound having a group that is cleaved by exposure to heat or infrared light is a compound represented by the following formula (1):

式(1)中、Mは熱又は赤外線露光により開裂する基であり、R及びRはそれぞれ独立に、水素原子又はアルキル基を表し、R及びRは互いに連結して環を形成してもよく、Ar及びArはそれぞれ独立に、ベンゼン環又はナフタレン環を形成する基を表し、Y及びYはそれぞれ独立に、酸素原子、硫黄原子、-NR-又はジアルキルメチレン基を表し、R及びRはそれぞれ独立に、脂肪族炭化水素基を表し、R~Rはそれぞれ独立に、水素原子又はアルキル基を表し、Rは水素原子、アルキル基又はアリール基を表し、Zaは電荷を中和する対イオンを表す。 In formula (1), M 1 is a group that is cleaved by exposure to heat or infrared rays, R 2 and R 3 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group, R 2 and R 3 may be bonded to each other to form a ring, Ar 1 and Ar 2 each independently represent a group that forms a benzene ring or a naphthalene ring, Y 1 and Y 2 each independently represent an oxygen atom, a sulfur atom, -NR 0 - or a dialkylmethylene group, R 4 and R 5 each independently represent an aliphatic hydrocarbon group, R 6 to R 9 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group, R 0 represents a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group, and Za represents a counter ion that neutralizes the charge.

<5> 上記式(1)で表される化合物におけるR、R、M、Ar及びArよりなる群から選ばれた少なくとも1つの基が、親水性基を有する、<4>に記載の平版印刷版原版。
<6> 上記親水性基が、下記式(2)~式(5)のいずれかで表される基である<5>に記載の平版印刷版原版。
<5> The lithographic printing plate precursor according to <4>, wherein at least one group selected from the group consisting of R 4 , R 5 , M 1 , Ar 1 and Ar 2 in the compound represented by formula (1) has a hydrophilic group.
<6> The lithographic printing plate precursor according to <5>, wherein the hydrophilic group is a group represented by any one of the following formulas (2) to (5):

式(2)~式(5)中、R10は炭素数2~6のアルキレン基を表し、Wは単結合又は酸素原子を表し、n1は1~45の整数を表し、R11は炭素数1~12のアルキル基又は炭素数2~12のアシル基を表し、R12及びR13はそれぞれ独立に、単結合、又は、炭素数1~12のアルキレン基若しくはアルキレンオキシ基を表し、Mは水素原子、Na原子、K原子又はオニウム基を表し、また、式(1)で表される化合物全体で電荷が中和可能な場合は、Mを有していなくともよく、m1は1、2、3又は4を表し、Xは-O-、-S-又は-CH-を表し、波線部分は他の構造との結合位置を表す。 In formulas (2) to (5), R 10 represents an alkylene group having 2 to 6 carbon atoms, W 1 represents a single bond or an oxygen atom, n1 represents an integer from 1 to 45, R 11 represents an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms or an acyl group having 2 to 12 carbon atoms, R 12 and R 13 each independently represent a single bond, or an alkylene group or alkyleneoxy group having 1 to 12 carbon atoms, M represents a hydrogen atom, a Na atom, a K atom or an onium group, and M may not be present when the charge can be neutralized by the entire compound represented by formula (1), m1 represents 1, 2, 3 or 4, X 1 represents -O-, -S- or -CH 2 -, and the wavy line portion represents the bonding position with other structures.

<7> 上記式(1)におけるMが、-NR、-NR(SO)又は-NR(CO)である<4>~<6>のいずれか1つに記載の平版印刷版原版。
ただし、R及びRはそれぞれ独立に、アリール基を表し、R、R及びRはそれぞれ独立に、アルキル基又はアリール基を表し、Rは、アルキル基、アリール基、又は、-NRd1d2を表し、Rd1及びRd2はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基又はアリール基を表す。
<8> 上記式(1)におけるMが、-O-Rである<4>~<6>のいずれか1つに記載の平版印刷版原版。
ただし、Rは、熱又は赤外線露光によりR-O結合が開裂する基を表す。
<9> 上記Rが、下記式(6)で表される基である<8>に記載の平版印刷版原版。
<7> The lithographic printing plate precursor according to any one of <4> to <6>, wherein M 1 in the above formula (1) is -NR a R b , -NR c (SO 2 R d ) or -NR e (CO 2 R f ).
wherein R a and R b each independently represent an aryl group, R c , R e and R f each independently represent an alkyl group or an aryl group, R d represents an alkyl group, an aryl group, or -NR d1 R d2 , and R d1 and R d2 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group.
<8> The lithographic printing plate precursor according to any one of <4> to <6>, wherein M 1 in formula (1) is —O—R 1 .
Here, R 1 represents a group in which the R 1 -O bond is cleaved by heat or exposure to infrared rays.
<9> The lithographic printing plate precursor according to <8>, wherein R 1 is a group represented by the following formula (6):

式(6)中、R15及びR16はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基又はアリール基を表し、Eはオニウム基を表し、波線部分は酸素原子との結合位置を表す。 In formula (6), R 15 and R 16 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group, E represents an onium group, and the wavy line portion represents the bonding position to the oxygen atom.

<10> 上記式(6)におけるEが、下記式(7)で表されるピリジニウム基である<9>に記載の平版印刷版原版。 <10> A lithographic printing plate precursor described in <9>, wherein E in the above formula (6) is a pyridinium group represented by the following formula (7).

式(7)中、R17はハロゲン原子、アルキル基、アリール基、ヒドロキシ基又はアルコキシ基を表し、R17が複数存在する場合、複数のR17は同じでも異なってもよく、あるいは複数のR17が連結して環を形成してもよく、n2は0~4の整数を表すし、R18はアルキル基、アリール基又は下記式(2)~式(5)で表される基を表し、Zbは電荷を中和するための対イオンを表す。 In formula (7), R 17 represents a halogen atom, an alkyl group, an aryl group, a hydroxyl group or an alkoxy group. When a plurality of R 17s are present, the plurality of R 17s may be the same or different, or the plurality of R 17s may be linked to form a ring. n2 represents an integer of 0 to 4. R 18 represents an alkyl group, an aryl group or a group represented by any one of the following formulae (2) to (5). Zb represents a counter ion for neutralizing the charge.

式(2)~式(5)中、R10は炭素数2~6のアルキレン基を表し、Wは単結合又は酸素原子を表し、n1は1~45の整数を表し、R11は炭素数1~12のアルキル基又は炭素数2~12のアシル基を表し、R12及びR13はそれぞれ独立に、単結合、又は、炭素数1~12のアルキレン基若しくはアルキレンオキシ基を表し、Mは水素原子、Na原子、K原子又はオニウム基を表し、また、式(1)で表される化合物全体で電荷が中和可能な場合は、Mを有していなくともよく、m1は1、2、3又は4を表し、Xは-O-、-S-又は-CH-を表し、波線部分は他の構造との結合位置を表す。 In formulas (2) to (5), R 10 represents an alkylene group having 2 to 6 carbon atoms, W 1 represents a single bond or an oxygen atom, n1 represents an integer from 1 to 45, R 11 represents an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms or an acyl group having 2 to 12 carbon atoms, R 12 and R 13 each independently represent a single bond, or an alkylene group or alkyleneoxy group having 1 to 12 carbon atoms, M represents a hydrogen atom, a Na atom, a K atom or an onium group, and M may not be present when the charge can be neutralized by the entire compound represented by formula (1), m1 represents 1, 2, 3 or 4, X 1 represents -O-, -S- or -CH 2 -, and the wavy line portion represents the bonding position with other structures.

<11> 上記画像記録層が、重合開始剤及び重合性化合物を有する<2>又は<3>に記載の平版印刷版原版。
<12> 上記画像記録層が、ポリマー粒子を有する<2>、<3>又は<11>に記載の平版印刷版原版。
<13> 分子量1,000以下の支持体吸着性化合物をいずれかの層に含む<1>~<12>のいずれか1つに記載の平版印刷版原版。
<14> 上記平版印刷版原版の画像記録層側の面の端部から1cm以内の領域に親水化層を有する<1>~<13>のいずれか1つに記載の平版印刷版原版。
<15> <1>~<14>のいずれか1つに記載の平版印刷版原版を画像様に露光する工程と、印刷機上で印刷インキ及び湿し水よりなる群から選ばれた少なくとも一方を供給して非画像部の画像記録層を除去する工程と、を含む平版印刷版の作製方法。
<16> <1>~<14>のいずれか1つに記載の平版印刷版原版を画像様に露光する工程と、印刷インキ及び湿し水よりなる群から選ばれた少なくとも一方を供給して印刷機上で非画像部の画像記録層を除去し平版印刷版を作製する工程と、得られた平版印刷版により印刷する工程と、を含む平版印刷方法。
<11> The lithographic printing plate precursor according to <2> or <3>, wherein the image recording layer contains a polymerization initiator and a polymerizable compound.
<12> The lithographic printing plate precursor according to <2>, <3> or <11>, wherein the image recording layer contains polymer particles.
<13> The lithographic printing plate precursor according to any one of <1> to <12>, further comprising a support-adsorbable compound having a molecular weight of 1,000 or less in any one of its layers.
<14> The lithographic printing plate precursor according to any one of <1> to <13>, further comprising a hydrophilic layer in an area within 1 cm from an edge of the image recording layer side of the lithographic printing plate precursor.
<15> A method for preparing a lithographic printing plate, comprising: a step of imagewise exposing the lithographic printing plate precursor according to any one of <1> to <14>; and a step of supplying at least one selected from the group consisting of a printing ink and a fountain solution on a printing press to remove the image-recording layer in a non-image area.
<16> A lithographic printing method comprising: a step of imagewise exposing the lithographic printing plate precursor according to any one of <1> to <14>; a step of supplying at least one selected from the group consisting of a printing ink and a fountain solution to remove the image recording layer in a non-image area on a printing press to prepare a lithographic printing plate; and a step of printing with the obtained lithographic printing plate.

本開示の一実施形態によれば、エッジ汚れ抑制性に優れる平版印刷版原版を提供することができる。
また、本開示の他の実施形態によれば、上記平版印刷版原版を用いた平版印刷版の作製方法又は平版印刷方法を提供することができる。
According to one embodiment of the present disclosure, a lithographic printing plate precursor excellent in suppressing edge staining can be provided.
According to another embodiment of the present disclosure, there can be provided a method for producing a lithographic printing plate or a lithographic printing method using the above-mentioned lithographic printing plate precursor.

裁断装置により裁断された平版印刷版原版の支持体の端部の断面形状の一例を示す模式図である。FIG. 2 is a schematic diagram showing an example of a cross-sectional shape of an end portion of a support of a lithographic printing plate precursor cut by a cutting device. スリッター装置の裁断部の一例を示す概念図である。FIG. 2 is a conceptual diagram illustrating an example of a cutting section of a slitter device. アルミニウム支持体の一実施形態の模式的断面図である。FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of one embodiment of an aluminum support. アルミニウム支持体の別の一実施形態の模式的断面図である。FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of another embodiment of an aluminum support. アルミニウム支持体の製造方法における電気化学的粗面化処理に用いられる交番波形電流波形図の一例を示すグラフである。1 is a graph showing an example of an alternating current waveform used in electrochemical graining treatment in a method for producing an aluminum support. アルミニウム支持体の製造方法における交流を用いた電気化学的粗面化処理におけるラジアル型セルの一例を示す側面図である。FIG. 2 is a side view showing an example of a radial cell in electrochemical graining treatment using an alternating current in a method for producing an aluminum support. 陽極酸化皮膜を有するアルミニウム支持体の製造方法における機械的粗面化処理に用いられるブラシグレイニングの工程の概念を示す側面図である。FIG. 2 is a side view showing the concept of a brush graining step used in a mechanical roughening treatment in a method for producing an aluminum support having an anodized film. 陽極酸化皮膜を有するアルミニウム支持体の製造方法における陽極酸化処理に用いられる陽極酸化処理装置の概略図である。FIG. 1 is a schematic diagram of an anodizing treatment apparatus used in an anodizing treatment in a method for producing an aluminum support having an anodized coating.

以下において、本開示の内容について詳細に説明する。以下に記載する構成要件の説明は、本開示の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本開示はそのような実施態様に限定されるものではない。
なお、本明細書において、数値範囲を示す「~」とはその前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用される。
本開示中に段階的に記載されている数値範囲において、一つの数値範囲で記載された上限値又は下限値は、他の段階的な記載の数値範囲の上限値又は下限値に置き換えてもよい。また、本開示中に記載されている数値範囲において、その数値範囲の上限値又は下限値は、実施例に示されている値に置き換えてもよい。
また、本明細書における基(原子団)の表記において、置換及び無置換を記していない表記は、置換基を有さないものと共に置換基を有するものをも包含するものである。例えば「アルキル基」とは、置換基を有さないアルキル基(無置換アルキル基)のみならず、置換基を有するアルキル基(置換アルキル基)をも包含するものである。
本明細書において、「(メタ)アクリル」は、アクリル及びメタクリルの両方を包含する概念で用いられる語であり、「(メタ)アクリロイル」は、アクリロイル及びメタクリロイルの両方を包含する概念として用いられる語である。
また、本明細書中の「工程」の用語は、独立した工程だけではなく、他の工程と明確に区別できない場合であっても、その工程の所期の目的が達成されれば本用語に含まれる。 また、本開示において、「質量%」と「重量%」とは同義であり、「質量部」と「重量部」とは同義である。
更に、本開示において、2以上の好ましい態様の組み合わせは、より好ましい態様である。
また、本開示における重量平均分子量(Mw)及び数平均分子量(Mn)は、特に断りのない限り、TSKgel GMHxL、TSKgel G4000HxL、TSKgel G2000HxL(いずれも東ソー(株)製の商品名)のカラムを使用したゲルパーミエーションクロマトグラフィ(GPC)分析装置により、溶剤THF(テトラヒドロフラン)、示差屈折計により検出し、標準物質としてポリスチレンを用いて換算した分子量である。
本明細書において、「平版印刷版原版」の用語は、平版印刷版原版だけでなく、捨て版原版を包含する。また、「平版印刷版」の用語は、平版印刷版原版を、必要により、露光、現像などの操作を経て作製された平版印刷版だけでなく、捨て版を包含する。捨て版原版の場合には、必ずしも、露光、現像の操作は必要ない。なお、捨て版とは、例えばカラーの新聞印刷において一部の紙面を単色又は2色で印刷を行う場合に、使用しない版胴に取り付けるための平版印刷版原版である。
以下、本開示を詳細に説明する。
The contents of the present disclosure will be described in detail below. The following description of the components may be based on a representative embodiment of the present disclosure, but the present disclosure is not limited to such an embodiment.
In this specification, the use of "to" indicating a range of values means that the values before and after it are included as the lower limit and upper limit.
In the numerical ranges described in the present disclosure in stages, the upper or lower limit value described in one numerical range may be replaced with the upper or lower limit value of another numerical range described in stages. In addition, in the numerical ranges described in the present disclosure, the upper or lower limit value of the numerical range may be replaced with a value shown in the examples.
In addition, in the description of groups (atomic groups) in this specification, descriptions that do not indicate whether they are substituted or unsubstituted include those that have no substituents as well as those that have a substituent. For example, an "alkyl group" includes not only an alkyl group that has no substituents (unsubstituted alkyl groups) but also an alkyl group that has a substituent (substituted alkyl groups).
In this specification, "(meth)acrylic" is a term used as a concept including both acrylic and methacrylic, and "(meth)acryloyl" is a term used as a concept including both acryloyl and methacryloyl.
In addition, the term "step" in this specification includes not only an independent step, but also a step that cannot be clearly distinguished from other steps, as long as the intended purpose of the step is achieved. In addition, in this disclosure, "mass %" and "weight %" are synonymous, and "parts by mass" and "parts by weight" are synonymous.
Furthermore, in the present disclosure, combinations of two or more preferred aspects are more preferred aspects.
In addition, unless otherwise specified, the weight average molecular weight (Mw) and number average molecular weight (Mn) in the present disclosure are molecular weights detected by a gel permeation chromatography (GPC) analyzer using columns of TSKgel GMHxL, TSKgel G4000HxL, or TSKgel G2000HxL (all of which are product names manufactured by Tosoh Corporation) using a differential refractometer with THF (tetrahydrofuran) as a solvent, and converted using polystyrene as a standard substance.
In this specification, the term "lithographic printing plate precursor" includes not only lithographic printing plate precursors but also throwaway plate precursors. Furthermore, the term "lithographic printing plate" includes not only lithographic printing plates prepared by subjecting a lithographic printing plate precursor to operations such as exposure and development as necessary, but also throwaway plates. In the case of a throwaway plate precursor, the operations of exposure and development are not necessarily required. Note that a throwaway plate is a lithographic printing plate precursor that is attached to an unused plate cylinder when, for example, a portion of the page is printed in one color or two colors in color newspaper printing.
The present disclosure will be described in detail below.

(平版印刷版原版)
本開示に係る平版印刷版原版は、支持体上に、熱又は赤外線露光により開裂する基を有する発色性化合物を含む層を有し、上記支持体の少なくとも対向する2辺の端部に、ダレ量Xが25μm~150μm、かつダレ幅Yが70μm~300μmであるダレ形状を有する。
また、本開示に係る平版印刷版原版は、ネガ型平版印刷版原版であり、また、機上現像型平版印刷版原版として好適に用いることができる。
(Lithographic printing plate precursor)
The lithographic printing plate precursor according to the present disclosure has, on a support, a layer containing a color-forming compound having a group that is cleaved by exposure to heat or infrared light, and has a sagging shape with a sagging amount X of 25 μm to 150 μm and a sagging width Y of 70 μm to 300 μm at the ends of at least two opposing sides of the support.
Furthermore, the lithographic printing plate precursor according to the present disclosure is a negative-working lithographic printing plate precursor, and can be suitably used as an on-press development type lithographic printing plate precursor.

従来の平版印刷版原版である特許文献1~3に記載の平版印刷版原版では、エッジ汚れ抑制性が十分でないことを見出した。
本発明者らが鋭意検討した結果、上記構成をとることにより、エッジ汚れ抑制性に優れる平版印刷版原版を提供できることを見出した。
上記効果が得られる詳細なメカニズムは不明であるが、以下のように推測される。
熱又は赤外線露光により開裂する基を有する発色性化合物をいずれかの層に含むことにより、発色に必要な色素量が減少するため、疎水性素材量が少量となり、相対的に親水性が高まり、残膜を抑制してエッジ汚れを抑制すると推定している。更に、支持体の端部に特定形状のダレ形状を有することにより、端部とブランケットとの接触によるインキ転写を抑制し、エッジ汚れ抑制性に優れると推定している。
It has been found that the conventional lithographic printing plate precursors described in Patent Documents 1 to 3 do not have sufficient edge stain suppression properties.
As a result of extensive investigations, the present inventors have found that by adopting the above-mentioned configuration, it is possible to provide a lithographic printing plate precursor that is excellent in suppressing edge staining.
Although the detailed mechanism by which the above effects are obtained is unclear, it is speculated as follows.
By including a color-developing compound having a group that is cleaved by exposure to heat or infrared rays in any of the layers, the amount of dye required for color development is reduced, resulting in a smaller amount of hydrophobic material, which is relatively more hydrophilic, suppressing residual film and suppressing edge staining. Furthermore, by having a specific droop shape on the edge of the support, it is presumed that ink transfer due to contact between the edge and the blanket is suppressed, resulting in excellent edge stain suppression.

また、本開示に係る平版印刷版原版は、熱又は赤外線露光により開裂する基を有する発色性化合物をいずれかの層に含むことにより、上記発色性化合物より生じた色素のため、発色性、及び、経時発色性にも優れる。また、発色性に優れることにより、露光した平版印刷版原版の検版性にも優れ、また、経時発色性に優れることにより、経時後の露光した平版印刷版原版の検版性にも優れる。
また、本開示に係る平版印刷版原版は、熱又は赤外線露光により開裂する基を有する発色性化合物をいずれかの層に含み、支持体の端部に特定形状のダレ形状を有することにより、詳細なメカニズムは不明であるが、機上現像性、及び、耐薬品性にも優れる。
Furthermore, the lithographic printing plate precursor according to the present disclosure contains in any one of its layers a color-forming compound having a group that is cleaved by exposure to heat or infrared light, and thus has excellent color development and color development over time due to the dye generated from the color-forming compound. Furthermore, the excellent color development property also makes it possible to excellently inspect the exposed lithographic printing plate precursor, and the excellent color development over time also makes it possible to excellently inspect the exposed lithographic printing plate precursor after aging.
Furthermore, the lithographic printing plate precursor according to the present disclosure contains, in one of its layers, a color-forming compound having a group that is cleaved by exposure to heat or infrared light, and has a specific droop shape at the edge of the support, and therefore, although the detailed mechanism is unknown, it also has excellent on-press developability and chemical resistance.

本開示に係る平版印刷版原版は、熱又は赤外線露光により開裂する基を有する発色性化合物を含む層を有する。
上記熱又は赤外線露光により開裂する基を有する発色性化合物を含む層は、支持体上のいずれかの層であれば特に制限はないが、画像記録層及び保護層よりなる群から選ばれる少なくとも1層であることが好ましい。機上現像性及び耐薬品性の観点からは、少なくとも画像記録層であることがより好ましい。また、経時発色性の観点からは、少なくとも保護層であることがより好ましい。
また、本開示に係る平版印刷版原版は、経時発色性の観点から、支持体上に、画像記録層を有し、上記発色性化合物を含む層を、上記画像記録層上に有することが好ましく、支持体上に、画像記録層を有し、保護層として、上記発色性化合物を含む層を、上記画像記録層上に有することがより好ましい。
更に、本開示に係る平版印刷版原版は、エッジ汚れ抑制性、及び、機上現像性の観点から、分子量1,000以下の支持体吸着性化合物をいずれかの層に含むことが好ましく、保護層を有し、かつ分子量1,000以下の支持体吸着性化合物を少なくとも保護層に含むことがより好ましい。
The lithographic printing plate precursor according to the present disclosure has a layer containing a color-forming compound having a group that is cleaved by exposure to heat or infrared rays.
The layer containing the color-forming compound having a group cleaved by heat or infrared exposure is not particularly limited as long as it is any layer on the support, but is preferably at least one layer selected from the group consisting of an image recording layer and a protective layer. From the viewpoint of on-machine developability and chemical resistance, it is more preferably at least an image recording layer. Also, from the viewpoint of color development over time, it is more preferably at least a protective layer.
[0043] Furthermore, from the viewpoint of color development over time, the lithographic printing plate precursor according to the present disclosure preferably has an image recording layer on a support and has a layer containing the above-mentioned color-forming compound on the image recording layer, and more preferably has an image recording layer on a support and has a layer containing the above-mentioned color-forming compound as a protective layer on the image recording layer.
Furthermore, from the viewpoints of edge stain suppression and on-press developability, the lithographic printing plate precursor according to the present disclosure preferably contains a support-adsorbable compound having a molecular weight of 1,000 or less in any one of its layers, and more preferably has a protective layer and contains a support-adsorbable compound having a molecular weight of 1,000 or less in at least the protective layer.

<ダレ形状>
本開示に係る平版印刷版原版は、支持体の少なくとも対向する2辺の端部に、ダレ量Xが25μm~150μm、かつダレ幅Yが70μm~300μmであるダレ形状を有する。
支持体の端部において、支持体の画像記録層側の面の延長線から支持体の厚み方向に曲がった曲面部分の垂直方向の距離Xを「ダレ量」、上記曲面部分の支持体の画像記録層側の面と平行な方向の距離Yを「ダレ幅」という。
図1は、裁断装置により裁断された、平版印刷版原版の支持体の端部の断面形状の一例である。図1に示すように、支持体の厚み方向に曲がった曲面部分の垂直方向の距離がダレ量X、上記曲面部分の支持体の画像記録層側の面と平行な方向の距離がダレ幅Yである。
平版印刷版原版におけるエッジ汚れは、非画像部から端部に追いやられた印刷インキ成分が、ブランケットに転写して起こるため、端部とブランケットとの接触を避けるため、端部のダレ量を大きくする必要がある。
ダレ量Xは、エッジ汚れ抑制性、機上現像性、及び、耐薬品性の観点から、35μm~150μmであることが好ましく、50μm~150μmであることがより好ましく、50μm~100μmであることが更に好ましい。
ダレ幅Yは、エッジ汚れ抑制性、機上現像性、及び、耐薬品性の観点から、90μm~300μmの範囲であることが好ましく、150μm~250μmであることがより好ましい。
なお、上記ダレ量X及びダレ幅Yの好ましい範囲は、支持体の裏面のエッジ形状には関わらない。
<Drop shape>
The lithographic printing plate precursor according to the present disclosure has a sagging shape with a sagging amount X of 25 μm to 150 μm and a sagging width Y of 70 μm to 300 μm at the ends of at least two opposing sides of the support.
At the end of the support, the vertical distance X from an extension line of the surface of the support on the image recording layer side to the curved portion bent in the thickness direction of the support is called the "sagging amount", and the distance Y of the curved portion in a direction parallel to the surface of the support on the image recording layer side is called the "sagging width".
Fig. 1 shows an example of the cross-sectional shape of the edge of the support of a lithographic printing plate precursor cut by a cutting device. As shown in Fig. 1, the vertical distance of the curved surface portion curved in the thickness direction of the support is the sagging amount X, and the distance of the curved surface portion in the direction parallel to the surface of the support on the image recording layer side is the sagging width Y.
Edge staining in a lithographic printing plate precursor occurs when printing ink components that are pushed from non-image areas to the edges are transferred to the blanket, so it is necessary to increase the amount of sagging at the edges to prevent contact between the edges and the blanket.
From the viewpoints of edge stain suppression, on-press developability, and chemical resistance, the sagging amount X is preferably 35 μm to 150 μm, more preferably 50 μm to 150 μm, and even more preferably 50 μm to 100 μm.
From the viewpoints of edge stain suppression, on-press developability, and chemical resistance, the sagging width Y is preferably in the range of 90 μm to 300 μm, and more preferably 150 μm to 250 μm.
The preferable ranges of the sagging amount X and the sagging width Y are not related to the edge shape of the back surface of the support.

ダレ形状の形成方法としては、特に制限はなく、公知の裁断方法を用いることができるが、スリッター装置の上側裁断刃と下側裁断刃の隙間、噛み込み量及び刃先角度の調整により作製する方法が好適に挙げられる。
図2は、スリッター装置の裁断部を示す概念図である。スリッター装置には、上下一対の裁断刃210、220が左右に配置されている。これらの裁断刃210、220は円板状の丸刃からなり、上側裁断刃210a及び210bは回転軸211に、下側裁断刃220a及び220bは回転軸221に、それぞれ同軸上に支持されている。そして、上側裁断刃210a及び210bと下側裁断刃220a及び220bとは、相反する方向に回転される。アルミニウムの支持体230は、上側裁断刃210a、210bと下側裁断刃220a、220bとの間を通されて所定の幅に裁断される。更に具体的には、図2のスリッター装置の裁断部の上側裁断刃210aと下側裁断刃220aとの隙間、及び、上側裁断刃210bと下側裁断刃220bとの隙間を調整することにより、図1に示すようなダレ形状の端部を形成させることができる。
また、上記裁断は、後述するエッジ親水化層を有する部分において、少なくとも裁断することが好ましい。
The method for forming the sagging shape is not particularly limited, and any known cutting method can be used, but a suitable example is a method in which the sagging shape is created by adjusting the gap, biting amount, and blade angle between the upper and lower cutting blades of a slitter device.
2 is a conceptual diagram showing the cutting section of the slitter device. In the slitter device, a pair of upper and lower cutting blades 210, 220 are arranged on the left and right. These cutting blades 210, 220 are made of disc-shaped round blades, and the upper cutting blades 210a and 210b are supported coaxially on a rotating shaft 211, and the lower cutting blades 220a and 220b are supported coaxially on a rotating shaft 221. The upper cutting blades 210a and 210b and the lower cutting blades 220a and 220b are rotated in opposite directions. An aluminum support 230 is passed between the upper cutting blades 210a, 210b and the lower cutting blades 220a, 220b and cut to a predetermined width. More specifically, by adjusting the gap between the upper cutting blade 210a and the lower cutting blade 220a of the cutting section of the slitter device in Figure 2, and the gap between the upper cutting blade 210b and the lower cutting blade 220b, it is possible to form an end portion having a droopy shape as shown in Figure 1.
The cutting is preferably performed at least in the portion having the hydrophilized edge layer described below.

<画像記録層>
本開示に係る平版印刷版原版における画像記録層は、機上現像性及び耐薬品性の観点から、熱又は赤外線露光により開裂する基を有する発色性化合物を含むことが好ましい。
本開示における画像記録層は、ネガ型画像記録層であり、水溶性又は水分散性のネガ型画像記録層であることが好ましい。
また、本開示における画像記録層は、重合開始剤、及び、重合性化合物を含むことが好ましく、上記発色性化合物以外の赤外線吸収剤、重合開始剤、及び、重合性化合物を含むことがより好ましい。
また、本開示における画像記録層は、機上現像型画像記録層であることが好ましい。
以下、画像記録層に含まれる各成分の詳細について説明する。
<Image Recording Layer>
From the viewpoints of on-press developability and chemical resistance, the image recording layer in the lithographic printing plate precursor according to the present disclosure preferably contains a color-forming compound having a group that is cleaved by exposure to heat or infrared rays.
The image recording layer in the present disclosure is a negative image recording layer, and is preferably a water-soluble or water-dispersible negative image recording layer.
The image recording layer in the present disclosure preferably contains a polymerization initiator and a polymerizable compound, and more preferably contains an infrared absorbing agent other than the color-forming compound, a polymerization initiator, and a polymerizable compound.
The image recording layer in the present disclosure is preferably an on-press development type image recording layer.
Each component contained in the image recording layer will be described in detail below.

-熱又は赤外線露光により開裂する基を有する発色性化合物-
熱又は赤外線露光により開裂する基を有する発色性化合物は、化合物自体が直接熱又は赤外線を吸収して開裂する基を有する化合物であってもよいし、例えば、別途含まれる赤外線吸収剤が赤外線を吸収して発生した熱等により開裂する基を有する化合物であってもよい。
また、熱又は赤外線露光により開裂する基を有する発色性化合物は、上記基の開裂により発色する化合物である。
本開示において、発色とは、加熱又は露光前よりも、加熱又は露光後に強く着色又は吸収が短波長化し可視光領域に吸収を有するようになることを示す。
中でも、熱又は赤外線露光により開裂する基を有する発色性化合物としては、エッジ汚れ抑制性、発色性、経時発色性、機上現像性、及び、耐薬品性の観点から、分解性赤外線吸収剤であることが好ましく、下記式(A)で表される化合物であることがより好ましい。
--Color-forming compound having a group that is cleaved by exposure to heat or infrared rays--
The color-forming compound having a group that is cleaved by exposure to heat or infrared rays may be a compound having a group that is cleaved by directly absorbing heat or infrared rays, or may be a compound having a group that is cleaved by heat or the like generated when an infrared absorbing agent contained separately absorbs infrared rays.
Furthermore, the color-forming compound having a group that is cleaved by exposure to heat or infrared rays is a compound that develops color by cleavage of the above group.
In the present disclosure, color development refers to the coloring or absorption becoming stronger after heating or exposure than before heating or exposure, and having absorption in the visible light region.
Among these, the color-forming compound having a group that is cleaved by heat or infrared exposure is preferably a decomposable infrared absorber from the viewpoints of edge stain suppression, color development, color development over time, on-machine developability, and chemical resistance, and is more preferably a compound represented by the following formula (A):

式A中、A1=は以下の構造: In formula A, + Y A1 = has the following structure:

の1つにより表示され、
A2-は以下の構造:
is represented by one of
Y A2 - has the following structure:

の1つにより表示され、nは0、1、2又は3を表し、p及びqはそれぞれ独立に、0、1又は2を表し、RA1及びRA2はそれぞれ独立に、炭化水素基を表すか、RA1、RA2、RAd及びRAaのうちの2つは一緒になって環式構造を形成するのに必要な原子を含んでなり、RAdの少なくとも1つは赤外線照射又は熱への露出により誘発される化学反応により上記RAdより強い電子供与体である基に転換される基を表すか、又は、RAaの少なくとも1つは赤外線照射又は熱への露出により誘発される化学反応により上記RAaより強い電子供与体である基に転換される基を表し、他のRAd及びRAaはそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、-RAe、-ORAf、-SRAg及び-NRAuAvよりなる群から選ばれる基を表し、RAe、RAf、RAg、RAu及びRAvはそれぞれ独立に、脂肪族炭化水素基、アリール基又はヘテロアリール基を表し、上記転換は、波長400nm~700nmの間の光吸収の増加を与える転換である。
また、RA1及びRA2における炭化水素基、並びに、RAe、RAf、RAg、RAu及びRAvにおける脂肪族炭化水素基、アリール基又はヘテロアリール基は、置換基を有していてもよい。
n is 0, 1, 2 or 3; p and q each independently represent 0, 1 or 2; R A1 and R A2 each independently represent a hydrocarbon group; or two of R A1 , R A2 , R Ad and R Aa together comprise the atoms necessary to form a cyclic structure; at least one of R Ad represents a group that is converted into a group that is a stronger electron donor than R Ad by a chemical reaction induced by exposure to infrared radiation or heat; or at least one of R Aa represents a group that is converted into a group that is a stronger electron donor than R Aa by a chemical reaction induced by exposure to infrared radiation or heat; and the other R Ad and R Aa each independently represent a group selected from the group consisting of a hydrogen atom, a halogen atom, -R Ae , -OR Af , -SR Ag and -NR Au R Av ; , R Ag , R Au and R Av each independently represent an aliphatic hydrocarbon group, an aryl group or a heteroaryl group, and the above conversion is one that provides an increase in light absorption between wavelengths of 400 nm and 700 nm.
In addition, the hydrocarbon groups in R A1 and R A2 , and the aliphatic hydrocarbon groups, aryl groups, or heteroaryl groups in R Ae , R Af , R Ag , R Au , and R Av may have a substituent.

また、化学反応により転換される上記RAdは、以下に示すいずれかの基であることが好ましい。 Moreover, the above R Ad that is converted by a chemical reaction is preferably any one of the groups shown below.

上記式中、Aa、Ab、Ac及びAdはそれぞれ独立に、0又は1を表し、-L-は結合基を表し、RA17が水素原子、場合により置換されていてもよい脂肪族炭化水素基、場合により置換されていてもよいアリール基又は場合により置換されていてもよいヘテロアリール基を表すか、あるいは、RA17及びRA3、RA17及びRA5、又は、RA17及びRA11が一緒になって環構造を形成するのに必要な原子を含んでなり、RA4は、-ORA10、-NRA13A14又は-CFであり、RA10は、場合により置換されていてもよいアリール基、場合により置換されていてもよいヘテロアリール基又はα-分枝鎖状の脂肪族炭化水素基を表し、RA13及びRA14はそれぞれ独立に、水素原子、場合により置換されていてもよい脂肪族炭化水素基、場合により置換されていてもよいアリール基又は場合により置換されていてもよいヘテロアリール基を表すか、あるいは、RA13及びRA14が一緒になって環構造を形成するのに必要な原子を含んでなり、RA3は、水素原子、場合により置換されていてもよい脂肪族炭化水素基、場合により置換されていてもよいアリール基又は場合により置換されていてもよいヘテロアリール基であり、あるいは、RA3がRA10、RA13及びRA14の少なくとも1つと一緒になって環構造を形成するのに必要な原子を含んでなり、RA6は場合により置換されていてもよい脂肪族炭化水素基、場合により置換されていてもよいアリール基、場合により置換されていてもよいヘテロアリール基、-ORA10、-NRA13A14又は-CFを表し、ここでRA10、RA13及びRA14がRA4におけるものと同じ意味を有し、RA5は、水素原子、場合により置換されていてもよい脂肪族炭化水素基、場合により置換されていてもよいアリール基又は場合により置換されていてもよいヘテロアリール基を表すか、あるいは、RA5がRA10、RA13及びRA14の少なくとも1つと一緒になって環構造を形成するのに必要な原子を含んでなり、RA11、RA15及びRA16はそれぞれ独立に、水素原子、場合により置換されていてもよい脂肪族炭化水素基、場合により置換されていてもよいアリール基又は場合により置換されていてもよいヘテロアリール基を表すか、あるいは、RA15及びRA16が一緒になって環構造を形成するのに必要な原子を含んでなり、RA12が場合により置換されていてもよい脂肪族炭化水素基、場合により置換されていてもよいアリール基又は場合により置換されていてもよいヘテロアリール基を表し、RA7及びRA9はそれぞれ独立に、水素原子又は場合により置換されていてもよい脂肪族炭化水素基を表し、RA8が-COO-又は-COORA8’を表し、ここでRA8’が水素原子、アルカリ金属カチオン、アンモニウムイオン又はモノ-、ジ-、トリ-若しくはテトラアルキルアンモニウムイオンを表し、RA18が場合により置換されていてもよいアリール基、場合により置換されていてもよいヘテロアリール基又はα-分枝鎖状の脂肪族炭化水素基を表す。 In the above formula, Aa, Ab, Ac and Ad each independently represent 0 or 1; -L A - represents a bonding group; R A17 represents a hydrogen atom, an optionally substituted aliphatic hydrocarbon group, an optionally substituted aryl group or an optionally substituted heteroaryl group; or R A17 and R A3 , R A17 and R A5 , or R A17 and R A11 together comprise atoms necessary to form a ring structure; R A4 is -OR A10 , -NR A13 R A14 or -CF 3 ; R A10 represents an optionally substituted aryl group, an optionally substituted heteroaryl group or an α-branched aliphatic hydrocarbon group; A14 each independently represents a hydrogen atom, an optionally substituted aliphatic hydrocarbon group, an optionally substituted aryl group or an optionally substituted heteroaryl group, or R A13 and R A14 together comprise the atoms necessary to form a ring structure, R A3 is a hydrogen atom, an optionally substituted aliphatic hydrocarbon group, an optionally substituted aryl group or an optionally substituted heteroaryl group, or R A3 together with at least one of R A10 , R A13 and R A14 comprise the atoms necessary to form a ring structure, R A6 represents an optionally substituted aliphatic hydrocarbon group, an optionally substituted aryl group, an optionally substituted heteroaryl group, -OR A10 , -NR A13 R A14 or -CF 3 , where R A10 , R A13 and R A14 have the same meaning as in R A4 , and R A5 represents a hydrogen atom, an optionally substituted aliphatic hydrocarbon group, an optionally substituted aryl group, or an optionally substituted heteroaryl group; or R A5 comprises the atoms necessary to form a ring structure together with at least one of R A10 , R A13 , and R A14 ; R A11 , R A15 , and R A16 each independently represent a hydrogen atom, an optionally substituted aliphatic hydrocarbon group, an optionally substituted aryl group, or an optionally substituted heteroaryl group; or R A15 and R A16 comprise the atoms necessary to form a ring structure together; R A12 represents an optionally substituted aliphatic hydrocarbon group, an optionally substituted aryl group, or an optionally substituted heteroaryl group; R A7 and R A9 each independently represent a hydrogen atom or an optionally substituted aliphatic hydrocarbon group; R A8 represents -COO- or -COOR A8' ; A8' represents a hydrogen atom, an alkali metal cation, an ammonium ion, or a mono-, di-, tri-, or tetraalkylammonium ion; and R A18 represents an optionally substituted aryl group, an optionally substituted heteroaryl group, or an α-branched aliphatic hydrocarbon group.

また、熱又は赤外線露光により開裂する基を有する発色性化合物としては、エッジ汚れ抑制性、発色性、経時発色性、機上現像性、及び、耐薬品性の観点から、下記式(1)で表される化合物であることが特に好ましい。In addition, as a color-developing compound having a group that is cleaved by exposure to heat or infrared light, from the viewpoints of edge stain suppression, color development, color development over time, on-machine developability, and chemical resistance, it is particularly preferable to use a compound represented by the following formula (1).

式(1)中、Mは熱又は赤外線露光により開裂する基であり、R及びRはそれぞれ独立に、水素原子又はアルキル基を表し、R及びRは互いに連結して環を形成してもよく、Ar及びArはそれぞれ独立に、ベンゼン環又はナフタレン環を形成する基を表し、Y及びYはそれぞれ独立に、酸素原子、硫黄原子、-NR-又はジアルキルメチレン基を表し、R及びRはそれぞれ独立に、脂肪族炭化水素基を表し、R~Rはそれぞれ独立に、水素原子又はアルキル基を表し、Rは水素原子、アルキル基又はアリール基を表し、Zaは電荷を中和する対イオンを表す。 In formula (1), M 1 is a group that is cleaved by exposure to heat or infrared rays, R 2 and R 3 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group, R 2 and R 3 may be bonded to each other to form a ring, Ar 1 and Ar 2 each independently represent a group that forms a benzene ring or a naphthalene ring, Y 1 and Y 2 each independently represent an oxygen atom, a sulfur atom, -NR 0 - or a dialkylmethylene group, R 4 and R 5 each independently represent an aliphatic hydrocarbon group, R 6 to R 9 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group, R 0 represents a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group, and Za represents a counter ion that neutralizes the charge.

上記式(1)で表される化合物は、熱又は赤外線の露光により分解し、500nm~600nmに極大吸収波長を有する化合物を生成する化合物であることが好ましい。
また、式(1)で表される化合物の発色機構は、熱又は赤外線の露光により、Mが開裂することにより発色する。例えば、Mが後述するR-O-である場合、下記に示すように、開裂した上記酸素原子がカルボニル基を形成し、発色体であるメロシアニン色素が生成し発色するものと、本発明者等は推定している。
また、メロシアニン色素が生成するには、熱又は赤外線露光により結合が開裂するRとシアニン色素構造とが酸素原子を介して結合していることが重要であると本発明者等は推定している。
The compound represented by the above formula (1) is preferably a compound that decomposes upon exposure to heat or infrared rays to produce a compound having a maximum absorption wavelength in the range of 500 nm to 600 nm.
The color-developing mechanism of the compound represented by formula (1) is that M 1 is cleaved by exposure to heat or infrared rays, resulting in color development. For example, when M 1 is R 1 -O-, as described below, the inventors presume that the cleaved oxygen atom forms a carbonyl group, as shown below, and a merocyanine dye, which is a color-developing substance, is generated and develops color.
The present inventors also presume that in order to produce a merocyanine dye, it is important that R1 , the bond of which is cleaved by exposure to heat or infrared light, is bonded to the cyanine dye structure via an oxygen atom.

式(1)におけるMの好ましい態様については、後述する。
また、R~R、R、Ar及びArは、後述する親水性基等の置換基を有していてもよい。置換基の例としては、アルコキシ基、アリーロキシ基、アミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ハロゲン原子、カルボキシ基、カルボキシレート基、スルホ基、スルホネート基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ホスホン酸基、ホスホネート基、及び、これらを組み合わせた基等が挙げられる。また、上記基が、アニオン性基である場合、塩を形成していてもよく、対カチオンは、シアニン色素構造のカチオンであっても、プロトン、金属カチオン、オニウム等であってもよい。
Preferred embodiments of M1 in formula (1) will be described later.
Furthermore, R 2 to R 9 , R 0 , Ar 1 and Ar 2 may have a substituent such as a hydrophilic group described below. Examples of the substituent include an alkoxy group, an aryloxy group, an amino group, an alkylthio group, an arylthio group, a halogen atom, a carboxy group, a carboxylate group, a sulfo group, a sulfonate group, an alkyloxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, a phosphonic acid group, a phosphonate group, and a group combining these groups. Furthermore, when the above group is an anionic group, it may form a salt, and the counter cation may be a cation of a cyanine dye structure, or a proton, a metal cation, an onium, or the like.

式(1)におけるR~R及びRにおけるアルキル基は、炭素数1~30のアルキル基が好ましく、炭素数1~15のアルキル基がより好ましく、炭素数1~10のアルキル基が更に好ましい。上記アルキル基は、直鎖状であっても、分岐を有していても、環構造を有していてもよい。
具体的には、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、エイコシル基、イソプロピル基、イソブチル基、s-ブチル基、t-ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、1-メチルブチル基、イソヘキシル基、2-エチルヘキシル基、2-メチルヘキシル基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、及び、2-ノルボルニル基を挙げられる。
これらアルキル基の中でも、メチル基、エチル基、プロピル基又はブチル基が特に好ましい。
The alkyl group for R 2 to R 9 and R 0 in formula (1) is preferably an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, more preferably an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, and even more preferably an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms. The alkyl group may be linear, branched, or have a ring structure.
Specific examples include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, a hexyl group, a heptyl group, an octyl group, a nonyl group, a decyl group, an undecyl group, a dodecyl group, a tridecyl group, a hexadecyl group, an octadecyl group, an eicosyl group, an isopropyl group, an isobutyl group, a s-butyl group, a t-butyl group, an isopentyl group, a neopentyl group, a 1-methylbutyl group, an isohexyl group, a 2-ethylhexyl group, a 2-methylhexyl group, a cyclohexyl group, a cyclopentyl group, and a 2-norbornyl group.
Among these alkyl groups, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, or a butyl group is particularly preferred.

におけるアリール基としては、炭素数6~30のアリール基が好ましく、炭素数6~20のアリール基がより好ましく、炭素数6~12のアリール基が更に好ましい。
また、上記アリール基は、置換基を有していてもよい。置換基の例としては、アルキル基、アルコキシ基、アリーロキシ基、アミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ハロゲン原子、カルボキシ基、カルボキシレート基、スルホ基、スルホネート基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、及び、これらを組み合わせた基等が挙げられる。
具体的には、例えば、フェニル基、ナフチル基、p-トリル基、p-クロロフェニル基、p-フルオロフェニル基、p-メトキシフェニル基、p-ジメチルアミノフェニル基、p-メチルチオフェニル基、p-フェニルチオフェニル基等が挙げられる。
これらアリール基の中で、フェニル基、p-メトキシフェニル基、p-ジメチルアミノフェニル基、ナフチル基が好ましい。
The aryl group for R 0 is preferably an aryl group having 6 to 30 carbon atoms, more preferably an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, and even more preferably an aryl group having 6 to 12 carbon atoms.
The aryl group may have a substituent, for example, an alkyl group, an alkoxy group, an aryloxy group, an amino group, an alkylthio group, an arylthio group, a halogen atom, a carboxy group, a carboxylate group, a sulfo group, a sulfonate group, an alkyloxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, or a combination thereof.
Specific examples include a phenyl group, a naphthyl group, a p-tolyl group, a p-chlorophenyl group, a p-fluorophenyl group, a p-methoxyphenyl group, a p-dimethylaminophenyl group, a p-methylthiophenyl group, and a p-phenylthiophenyl group.
Of these aryl groups, a phenyl group, a p-methoxyphenyl group, a p-dimethylaminophenyl group, and a naphthyl group are preferred.

及びRは、連結して環を形成していることが好ましい。
及びRが連結して環を形成する場合、環員数は5又は6員環が好ましく、6員環がより好ましい。
It is preferable that R2 and R3 are linked to form a ring.
When R2 and R3 are linked to form a ring, the ring is preferably a 5- or 6-membered ring, more preferably a 6-membered ring.

及びYはそれぞれ独立に、酸素原子、硫黄原子、-NR-又はジアルキルメチレン基を表し、-NR-又はジアルキルメチレン基が好ましく、ジアルキルメチレン基がより好ましい。
は水素原子、アルキル基又はアリール基を表し、アルキル基であることが好ましい。
Y 1 and Y 2 each independently represent an oxygen atom, a sulfur atom, -NR 0 - or a dialkylmethylene group, preferably -NR 0 - or a dialkylmethylene group, more preferably a dialkylmethylene group.
R 0 represents a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group, and is preferably an alkyl group.

及びRは、同じ基であることが好ましい。また、R及びRがアニオン性基を有する場合、R及びRは、アニオン性基を有し、かつ対カチオンを有するか又は有しないか以外は同じ基であることが好ましい。
また、R及びRはそれぞれ独立に、直鎖アルキル基又は末端にスルホネート基を有するアルキル基であることが好ましく、メチル基、エチル基又は末端にスルホネート基を有するブチル基であることがより好ましい。
また、上記スルホネート基の対カチオンは、式(1)中の第四級アンモニウム基であってもよいし、アルカリ金属カチオンやアルカリ土類金属カチオンであってもよい。
更に、式(1)で表される化合物の水溶性を向上させる観点から、R及びRはそれぞれ独立に、アニオン構造を有するアルキル基であることが好ましく、カルボキシレート基又はスルホネート基を有するアルキル基であることがより好ましく、末端にスルホネート基を注するアルキル基であることが更に好ましい。
また、式(1)で表される化合物の極大吸収波長を長波長化し、また、発色性及び平版印刷版における耐刷性の観点から、R及びRはそれぞれ独立に、芳香環を有するアルキル基であることが好ましく、末端に芳香環を有するアルキル基であることがより好ましく、2-フェニルエチル基、2-ナフタレニルエチル基、又は、2-(9-アントラセニル)エチル基であることが特に好ましい。
It is preferable that R4 and R5 are the same group. When R4 and R5 have an anionic group, it is preferable that R4 and R5 are the same group except that they have an anionic group and have or do not have a counter cation.
Furthermore, R4 and R5 are each preferably independently a straight-chain alkyl group or an alkyl group having a terminal sulfonate group, and more preferably a methyl group, an ethyl group, or a butyl group having a terminal sulfonate group.
The counter cation of the sulfonate group may be the quaternary ammonium group in formula (1), or an alkali metal cation or an alkaline earth metal cation.
Furthermore, from the viewpoint of improving the water solubility of the compound represented by formula (1), R4 and R5 are each independently preferably an alkyl group having an anionic structure, more preferably an alkyl group having a carboxylate group or a sulfonate group, and further preferably an alkyl group having a sulfonate group at the terminal.
Furthermore, from the viewpoints of shifting the maximum absorption wavelength of the compound represented by formula (1) to a longer wavelength and of color development and printing durability in a lithographic printing plate, R4 and R5 are each preferably independently an alkyl group having an aromatic ring, more preferably an alkyl group having an aromatic ring at a terminal, and particularly preferably a 2-phenylethyl group, a 2-naphthalenylethyl group, or a 2-(9-anthracenyl)ethyl group.

~Rはそれぞれ独立に、水素原子又はアルキル基を表し、水素原子であることが好ましい。
Ar及びArはそれぞれ独立に、ベンゼン環又はナフタレン環を形成する基を表す。上記ベンゼン環及びナフタレン環上には、置換基を有していてもよい。置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、アリーロキシ基、アミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ハロゲン原子、カルボキシ基、カルボキシレート基、スルホ基、スルホネート基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、及び、これらを組み合わせた基等が挙げられるが、アルキル基であることが好ましい。
また、式(1)で表される化合物の極大吸収波長を長波長化し、また、発色性及び平版印刷版における耐刷性の観点から、Ar及びArはそれぞれ独立に、ナフタレン環、又は、アルキル基若しくはアルコキシ基を置換基として有したベンゼン環を形成する基であることが好ましく、ナフタレン環、又は、アルコキシ基を置換基として有したベンゼン環を形成する基であることがより好ましく、ナフタレン環、又は、メトキシ基を置換基として有したベンゼン環を形成する基であることが特に好ましい。
R 6 to R 9 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group, and are preferably a hydrogen atom.
Ar 1 and Ar 2 each independently represent a group forming a benzene ring or a naphthalene ring. The benzene ring and the naphthalene ring may have a substituent. Examples of the substituent include an alkyl group, an alkoxy group, an aryloxy group, an amino group, an alkylthio group, an arylthio group, a halogen atom, a carboxy group, a carboxylate group, a sulfo group, a sulfonate group, an alkyloxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, and a group formed by combining these groups, and the like, but an alkyl group is preferred.
[0043] In addition, from the viewpoints of shifting the maximum absorption wavelength of the compound represented by formula (1) to a longer wavelength and of color development and printing durability in a lithographic printing plate, Ar1 and Ar2 are each preferably independently a group forming a naphthalene ring or a benzene ring having an alkyl group or an alkoxy group as a substituent, more preferably a group forming a naphthalene ring or a benzene ring having an alkoxy group as a substituent, and particularly preferably a group forming a naphthalene ring or a benzene ring having a methoxy group as a substituent.

Zaは、電荷を中和する対イオンを表し、アニオン種を示す場合は、スルホネートイオン、カルボキシレートイオン、テトラフルオロボレートイオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、p-トルエンスルホネートイオン、過塩素酸塩イオン等が挙げられ、ヘキサフルオロホスフェートイオンが特に好ましい。カチオン種を示す場合は、アルカリ金属イオン、アルカリ土類金属イオン、アンモニウムイオン、ピリジニウムイオン又はスルホニウムイオンが好ましく、ナトリウムイオン、カリウムイオン、アンモニウムイオン、ピリジニウムイオン又はスルホニウムイオンがより好ましく、ナトリウムイオン、カリウムイオン又はアンモニウムイオンが更に好ましい。
~R、R、Ar、Ar、Y及びYは、アニオン構造やカチオン構造を有していてもよく、R~R、R、Ar、Ar、Y及びYの全てが電荷的に中性の基であれば、Zaは一価の対アニオンであるが、例えば、R~R、R、Ar、Ar、Y及びYに2以上のアニオン構造を有する場合、Zaは対カチオンにもなり得る。
Za represents a counter ion that neutralizes the charge, and when Za represents an anion species, examples thereof include a sulfonate ion, a carboxylate ion, a tetrafluoroborate ion, a hexafluorophosphate ion, a p-toluenesulfonate ion, a perchlorate ion, and the like, with a hexafluorophosphate ion being particularly preferred.When Za represents a cationic species, an alkali metal ion, an alkaline earth metal ion, an ammonium ion, a pyridinium ion, or a sulfonium ion is preferred, a sodium ion, a potassium ion, an ammonium ion, a pyridinium ion, or a sulfonium ion is more preferred, and a sodium ion, a potassium ion, or an ammonium ion is even more preferred.
R 1 to R 9 , R 0 , Ar 1 , Ar 2 , Y 1 and Y 2 may have an anionic structure or a cationic structure. When all of R 1 to R 9 , R 0 , Ar 1 , Ar 2 , Y 1 and Y 2 are electrically neutral groups, Za is a monovalent counter anion. However, when, for example, R 1 to R 9 , R 0 , Ar 1 , Ar 2 , Y 1 and Y 2 have two or more anionic structures, Za can also be a counter cation.

式(1)において、Ar又はArが、下記式(8)で表される基を形成する基であることが好ましい。 In formula (1), Ar 1 or Ar 2 is preferably a group that forms a group represented by the following formula (8).

式(8)中、R19は炭素数1~12のアルキル基又は後述する式(2)~(4)で表される基を表し、n3は1~4の整数を表し、*は結合部位を表す。 In formula (8), R 19 represents an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms or a group represented by any one of formulas (2) to (4) described below, n3 represents an integer of 1 to 4, and * represents a bonding site.

エッジ汚れ抑制性、機上現像性、及び、耐薬品性の観点から、上記式(1)で表される化合物におけるR、R、M、Ar及びArよりなる群から選ばれた少なくとも1つの基が、親水性基を有することが好ましく、R、R及びMよりなる群から選ばれた少なくとも1つの基が、親水性基を有することがより好ましく、R及びRよりなる群から選ばれた少なくとも1つの基が、親水性基を有することが更に好ましく、R及びRがそれぞれ独立に、親水性基を有することが特に好ましい。 From the viewpoints of edge stain suppression, on-press developability, and chemical resistance, it is preferable that at least one group selected from the group consisting of R 4 , R 5 , M 1 , Ar 1 , and Ar 2 in the compound represented by formula (1) above has a hydrophilic group, it is more preferable that at least one group selected from the group consisting of R 4 , R 5 , and M 1 has a hydrophilic group, it is even more preferable that at least one group selected from the group consisting of R 4 and R 5 has a hydrophilic group, and it is particularly preferable that R 4 and R 5 each independently have a hydrophilic group.

親水性基としては、ポリアルキレンオキシ基、酸基、酸基の塩、アルコキシ基、ヒドロキシ基等が挙げられる。
中でも、上記親水性基は、エッジ汚れ抑制性、機上現像性、及び、耐薬品性の観点から、下記式(2)~式(5)のいずれかで表される基であることが好ましく、下記式(2)又は式(5)のいずれかで表される基であることがより好ましく、下記式(2)で表される基であることが特に好ましい。
Examples of the hydrophilic group include a polyalkyleneoxy group, an acid group, a salt of an acid group, an alkoxy group, and a hydroxy group.
Among these, from the viewpoints of edge stain suppression property, on-press developability, and chemical resistance, the hydrophilic group is preferably a group represented by any one of the following formulas (2) to (5), more preferably a group represented by either the following formula (2) or formula (5), and particularly preferably a group represented by the following formula (2).

式(2)~式(5)中、R10は炭素数2~6のアルキレン基を表し、Wは単結合又は酸素原子を表し、n1は1~45の整数を表し、R11は炭素数1~12のアルキル基又は炭素数2~12のアシル基を表し、R12及びR13はそれぞれ独立に、単結合、又は、炭素数1~12のアルキレン基若しくはアルキレンオキシ基を表し、Mは水素原子、Na原子、K原子又はオニウム基を表し、また、式(1)で表される化合物全体で電荷が中和可能な場合は、Mを有していなくともよく、m1は1、2、3又は4を表し、Xは-O-、-S-又は-CH-を表し、波線部分は他の構造との結合位置を表す。 In formulas (2) to (5), R 10 represents an alkylene group having 2 to 6 carbon atoms, W 1 represents a single bond or an oxygen atom, n1 represents an integer from 1 to 45, R 11 represents an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms or an acyl group having 2 to 12 carbon atoms, R 12 and R 13 each independently represent a single bond, or an alkylene group or alkyleneoxy group having 1 to 12 carbon atoms, M represents a hydrogen atom, a Na atom, a K atom or an onium group, and M may not be present when the charge can be neutralized by the entire compound represented by formula (1), m1 represents 1, 2, 3 or 4, X 1 represents -O-, -S- or -CH 2 -, and the wavy line portion represents the bonding position with other structures.

10で表されるアルキレン基の具体例としては、エチレン基、n-プロピレン基、イソプロピレン基、n-ブチレン基、イソブチレン基、n-ペンチレン基、イソペンチレン基、n-ヘキシル基、イソヘキシル基等が挙げられ、エチレン基、n-プロピレン基、イソプロピレン基、又は、n-ブチレン基が好ましく、n-プロピレン基が特に好ましい。
n1は1~10が好ましく、1~5がより好ましく、1~3が特に好ましい。
11で表されるアルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、tert-ブチル基、n-ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、n-ヘキシル基、n-オクチル基、n-ドデシル基等が挙げられ、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、又は、tert-ブチル基が好ましく、メチル基、又は、エチル基が更に好ましく、メチル基が特に好ましい。
11におけるアシル基の具体例としては、アセチル基、プロピオニル基、ピバロイル基等が挙げられる。中でも、アセチル基が好ましい。
Specific examples of the alkylene group represented by R 10 include an ethylene group, an n-propylene group, an isopropylene group, an n-butylene group, an isobutylene group, an n-pentylene group, an isopentylene group, an n-hexyl group, and an isohexyl group. Of these, an ethylene group, an n-propylene group, an isopropylene group, or an n-butylene group is preferred, and an n-propylene group is particularly preferred.
n1 is preferably 1 to 10, more preferably 1 to 5, and particularly preferably 1 to 3.
Specific examples of the alkyl group represented by R 11 include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, an isobutyl group, a tert-butyl group, an n-pentyl group, an isopentyl group, a neopentyl group, an n-hexyl group, an n-octyl group, and an n-dodecyl group. Of these, a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, or a tert-butyl group is preferable, a methyl group or an ethyl group is more preferable, and a methyl group is particularly preferable.
Specific examples of the acyl group for R 11 include an acetyl group, a propionyl group, a pivaloyl group, etc. Among these, an acetyl group is preferable.

式(2)で表される基の具体例を以下に示すが、本開示はこれらに限定されるものではない。下記構造式中、Meはメチル基、Etはエチル基を表し、*は結合部位を表す。Specific examples of the group represented by formula (2) are shown below, but the present disclosure is not limited to these. In the following structural formula, Me represents a methyl group, Et represents an ethyl group, and * represents a bonding site.

式(3)又は式(4)において、R12又はR13で表されるアルキレン基の具体例としては、メチレン基、エチレン基、n-プロピレン基、イソプロピレン基、n-ブチレン基、イソブチレン基、n-ペンチレン基、イソペンチレン基、n-ヘキシル基、イソヘキシル基、n-オクチレン基、n-ドデシレン基等が挙げられ、エチレン基、n-プロピレン基、イソプロピレン基、又は、n-ブチレン基が好ましく、エチレン基、又は、n-プロピレン基が特に好ましい。
式(3)又は式(4)で表される基が、式(1)で表される化合物のAr又はArで表される基中に存在する場合、R12又はR13は単結合が好ましい。
式(3)又は式(4)で表される基が、式(1)で表される化合物のM中に存在する場合あるいはR又はRで表される基として存在する場合、R12又はR13はアルキレン基が好ましい。
式(4)において、2つ存在するMは同じでも異なってもよい。
In formula (3) or formula (4), specific examples of the alkylene group represented by R 12 or R 13 include a methylene group, an ethylene group, an n-propylene group, an isopropylene group, an n-butylene group, an isobutylene group, an n-pentylene group, an isopentylene group, an n-hexyl group, an isohexyl group, an n-octylene group, an n-dodecylene group, and the like. An ethylene group, an n-propylene group, an isopropylene group, or an n-butylene group is preferred, and an ethylene group or an n-propylene group is particularly preferred.
When a group represented by formula (3) or formula (4) is present in a group represented by Ar 1 or Ar 2 of a compound represented by formula (1), R 12 or R 13 is preferably a single bond.
When a group represented by formula (3) or formula (4) is present in M1 of a compound represented by formula (1) or as a group represented by R4 or R5 , R12 or R13 is preferably an alkylene group.
In formula (4), the two M's may be the same or different.

式(3)又は式(4)において、Mで表されるオニウム基の具体例としては、アンモニウム基、ヨードニウム基、ホスホニウム基、スルホニウム基等が挙げられる。In formula (3) or formula (4), specific examples of the onium group represented by M include an ammonium group, an iodonium group, a phosphonium group, a sulfonium group, etc.

アンモニウム基は、下記式(A1)で表される基を含む。The ammonium group includes a group represented by the following formula (A1):

式(A1)中、R~Rはそれぞれ独立に、水素原子又は炭素数20以下のアリール基、アルキル基、アルケニル基若しくはアルキニル基を表す。アリール基、アルキル基、アルケニル基又はアルキニル基は、置換基を有していてもよい。置換基としては、炭素数1~12のアルキル基、炭素数1~12のアルケニル基、炭素数1~12のアルキニル基、炭素数6~12のアリール基、炭素数1~12のアルコキシ基、炭素数6~12のアリーロキシ基、ハロゲン原子、炭素数1~12のアルキルアミノ基、炭素数2~12のジアルキルアミノ基、炭素数2~12のアルキルアミド基又はアリールアミド基、カルボニル基、カルボキシ基、シアノ基、スルホニル基、炭素数1~12のチオアルキル基、炭素数6~12のチオアリール基、ヒドロキシ基が挙げられる。R~Rとしては、水素原子、炭素数1~4のアルキル基又は炭素数6のアリール基が好ましい。 In formula (A1), R a to R d each independently represent a hydrogen atom or an aryl group, an alkyl group, an alkenyl group, or an alkynyl group having 20 or less carbon atoms. The aryl group, the alkyl group, the alkenyl group, or the alkynyl group may have a substituent. Examples of the substituent include an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkenyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkynyl group having 1 to 12 carbon atoms, an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, an aryloxy group having 6 to 12 carbon atoms, a halogen atom, an alkylamino group having 1 to 12 carbon atoms, a dialkylamino group having 2 to 12 carbon atoms, an alkylamide group or an arylamide group having 2 to 12 carbon atoms, a carbonyl group, a carboxy group, a cyano group, a sulfonyl group, a thioalkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a thioaryl group having 6 to 12 carbon atoms, and a hydroxy group. R a to R d are preferably a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, or an aryl group having 6 carbon atoms.

アンモニウム基の具体例を以下に示すが、本開示はこれらに限定されるものではない。下記構造式中、Meはメチル基を表し、Etはエチル基を表す。Specific examples of ammonium groups are shown below, but the present disclosure is not limited to these. In the following structural formulas, Me represents a methyl group, and Et represents an ethyl group.

ヨードニウム基は、下記式(B1)で表される基を含む。The iodonium group includes a group represented by the following formula (B1):

式(B1)中、R~Rはそれぞれ独立に、上記式(A1)におけるR~Rと同義である。好ましいR~Rの例としては、炭素数6~20のアリール基が挙げられる。 In formula (B1), R e to R f each independently have the same definition as R a to R d in formula (A1) above. Preferred examples of R e to R f include aryl groups having 6 to 20 carbon atoms.

ヨードニウム基の具体例を以下に示すが、本開示はこれらに限定されるものではない。 Specific examples of iodonium groups are shown below, but the present disclosure is not limited to these.

ホスホニウム基は、下記式(C1)で表される基を含む。The phosphonium group includes a group represented by the following formula (C1):

式(C1)中、R~Rはそれぞれ独立に、上記式(A1)におけるR~Rと同義である。好ましいR~Rの例としては、炭素数6~20のアリール基が挙げられる。 In formula (C1), R g to R j each independently have the same definition as R a to R d in formula (A1) above. Preferred examples of R g to R j include aryl groups having 6 to 20 carbon atoms.

ホスホニウム基の具体例を以下に示すが、本開示はこれらに限定されるものではない。 Specific examples of phosphonium groups are shown below, but the present disclosure is not limited to these.

スルホニウム基は、下記式(D1)で表される基を含む。The sulfonium group includes a group represented by the following formula (D1):

式(D1)中、R~Rはそれぞれ独立に、上記式(A1)におけるR~Rと同義である。好ましい例としては、炭素数6~20のアリール基が挙げられる。好ましいR~Rの例としては、炭素数6~20のアリール基が挙げられる。 In formula (D1), R k to R m each independently have the same meaning as R a to R d in formula (A1). Preferred examples include aryl groups having 6 to 20 carbon atoms. Preferred examples of R k to R m include aryl groups having 6 to 20 carbon atoms.

スルホニウム基の具体例を以下に示すが、本開示はこれらに限定されるものではない。 Specific examples of sulfonium groups are shown below, but the present disclosure is not limited to these.

上記オニウム基の中で、アンモニウム基が好ましい。
式(1)で表される化合物中に、オニウム基を含む場合には、Mは上記オニウム基であってもよい。
上記オニウム基は、分子内オニウム塩として存在してもよい。
Of the above onium groups, ammonium groups are preferred.
When the compound represented by formula (1) contains an onium group, M may be the above-mentioned onium group.
The onium group may be present as an intramolecular onium salt.

式(3)で表される基の具体例を以下に示すが、本開示はこれらに限定されるものではない。下記構造式中、Etはエチル基を表し、*は結合部位を表す。Specific examples of the group represented by formula (3) are shown below, but the present disclosure is not limited to these. In the following structural formula, Et represents an ethyl group, and * represents a bonding site.

式(4)で表される基の具体例を以下に示すが、本開示はこれらに限定されるものではない。下記構造式中、Etはエチル基を表し、*は結合部位を表す。Specific examples of the group represented by formula (4) are shown below, but the present disclosure is not limited to these. In the following structural formula, Et represents an ethyl group, and * represents a bonding site.

式(5)で表される基の具体例を以下に示すが、本開示はこれらに限定されるものではない。下記構造式中、*は結合部位を表す。Specific examples of the group represented by formula (5) are shown below, but the present disclosure is not limited to these. In the following structural formula, * represents a binding site.

式(2)~式(5)のいずれかで表される基は、式(1)で表される化合物中に1つ以上存在すればよい。式(2)~式(5)のいずれかで表される基の数の上限は、5が好ましい。式(2)~式(5)のいずれかで表される基の数は、好ましくは1~5、より好ましくは2~3である。
式(2)~式(5)のいずれかで表される基は、式(1)で表される化合物中R又はRで表される基として存在してもよいし、M、Ar又はArで表される基中に存在してもよい。
式(2)~式(5)のいずれかで表される基は、R及びRであることが特に好ましい。また、式(2)~式(5)のいずれかで表される基は、Ar及びArで表される基中に存在することが好ましい。
The compound represented by formula (1) may have one or more groups represented by any one of formulas (2) to (5). The upper limit of the number of groups represented by any one of formulas (2) to (5) is preferably 5. The number of groups represented by any one of formulas (2) to (5) is preferably 1 to 5, more preferably 2 to 3.
The group represented by any one of formulas (2) to (5) may be present as the group represented by R 4 or R 5 in the compound represented by formula (1), or may be present in the group represented by M 1 , Ar 1 or Ar 2 .
The group represented by any one of formulas (2) to (5) is particularly preferably R 4 and R 5. In addition, the group represented by any one of formulas (2) to (5) is preferably present in the groups represented by Ar 1 and Ar 2 .

上記式(1)におけるMは、エッジ汚れ抑制性、発色性、及び、経時発色性の観点から、-NR、-NR(SO)又は-NR(CO)であることが好ましい。
ただし、R及びRはそれぞれ独立に、アリール基を表し、R、R及びRはそれぞれ独立に、アルキル基又はアリール基を表し、Rは、アルキル基、アリール基、又は、-NRd1d2を表し、Rd1及びRd2はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基又はアリール基を表す。
In terms of edge stain suppression properties, color development, and color development over time , M 1 in the above formula (1) is preferably --NR.sub.aR.sub.b , --NR.sub.c ( SO.sub.2R.sub.d ) or --NR.sub.e ( CO.sub.2R.sub.f ).
wherein R a and R b each independently represent an aryl group, R c , R e and R f each independently represent an alkyl group or an aryl group, R d represents an alkyl group, an aryl group, or -NR d1 R d2 , and R d1 and R d2 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group.

~R、Rd1及びRd2におけるアルキル基は、炭素数1~20のアルキル基であることが好ましい。
また、R~R、Rd1及びRd2におけるアリール基は、炭素数6~20のアリール基であることが好ましい。
~R、Rd1及びRd2におけるアルキル基及びアリール基は、置換基を有していてもよい。置換基の例としては、アルコキシ基、アリーロキシ基、アミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ハロゲン原子、カルボキシ基、カルボキシレート基、スルホ基、スルホネート基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ホスホン酸基、ホスホネート基、及び、これらを組み合わせた基等が挙げられる。また、上記基が、アニオン性基である場合、塩を形成していてもよく、対カチオンは、シアニン色素構造のカチオンであっても、プロトン、金属カチオン、オニウム等であってもよい。
The alkyl group in R c to R f , R d1 and R d2 is preferably an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms.
The aryl group in R a to R f , R d1 and R d2 is preferably an aryl group having 6 to 20 carbon atoms.
The alkyl group and aryl group in R a to R f , R d1 and R d2 may have a substituent. Examples of the substituent include an alkoxy group, an aryloxy group, an amino group, an alkylthio group, an arylthio group, a halogen atom, a carboxy group, a carboxylate group, a sulfo group, a sulfonate group, an alkyloxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, a phosphonic acid group, a phosphonate group, and a group combining these groups. When the above group is an anionic group, it may form a salt, and the counter cation may be a cation of a cyanine dye structure, a proton, a metal cation, an onium, or the like.

また、上記式(1)におけるMは、エッジ汚れ抑制性、発色性、及び、経時発色性の観点から、-O-Rであることが好ましい。
ただし、Rは、熱又は赤外線露光によりR-O結合が開裂する基を表す。
Moreover, M 1 in the above formula (1) is preferably —O—R 1 from the viewpoints of edge stain suppression, color development, and color development over time.
Here, R 1 represents a group in which the R 1 -O bond is cleaved by heat or exposure to infrared rays.

発色性の観点から、Rは、下記式1-1~式1-7のいずれかで表される基であることが好ましく、下記式1-1~式1-3のいずれかで表される基であることがより好ましい。 From the viewpoint of color development, R 1 is preferably a group represented by any one of the following formulas 1-1 to 1-7, and more preferably a group represented by any one of the following formulas 1-1 to 1-3.

式1-1~式1-7中、●は、酸素原子との結合部位を表し、R20はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、-OR24、-NR2526又は-SR27を表し、R21はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基又はアリール基を表し、R22はアリール基、-OR24、-NR2526、-SR27、-C(=O)R28、-OC(=O)R28又はハロゲン原子を表し、R23はアリール基、アルケニル基、アルコキシ基又はオニウム基を表し、R24~R27はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基又はアリール基を表し、R28はそれぞれ独立に、アルキル基、アリール基、-OR24、-NR2526又は-SR27を表し、Zは電荷を中和する対イオンを表す。 In formulas 1-1 to 1-7, ● represents a bonding site with an oxygen atom; R 20 each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, -OR 24 , -NR 25 R 26 , or -SR 27 ; R 21 each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group, or an aryl group; R 22 represents an aryl group, -OR 24 , -NR 25 R 26 , -SR 27 , -C(═O)R 28 , -OC(═O)R 28 , or a halogen atom; R 23 represents an aryl group, an alkenyl group, an alkoxy group, or an onium group; R 24 to R 27 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, or an aryl group; and R 28 each independently represents an alkyl group, an aryl group, -OR 24 , -NR 25 R 26 , or -SR 27 , and Z1 represents a counter ion that neutralizes the charge.

20、R21及びR24~R28がアルキル基である場合の好ましい態様は、R~R及びRにおけるアルキル基の好ましい態様と同様である。
20及びR23におけるアルケニル基の炭素数は、1~30であることが好ましく、1~15であることがより好ましく、1~10であることが更に好ましい。
20~R28がアリール基である場合の好ましい態様は、Rにおけるアリール基の好ましい態様と同様である。
When R 20 , R 21 and R 24 to R 28 are alkyl groups, the preferred embodiments are the same as the preferred embodiments of the alkyl groups in R 2 to R 9 and R 0 .
The alkenyl group for R 20 and R 23 preferably has 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 15 carbon atoms, and even more preferably 1 to 10 carbon atoms.
When R 20 to R 28 are aryl groups, the preferred embodiments are the same as the preferred embodiments of the aryl group for R 0 .

発色性の観点から、式1-1におけるR20は、アルキル基、アルケニル基、アリール基、-OR24、-NR2526又は-SR27であることが好ましく、アルキル基、-OR24、-NR2526又は-SR27であることがより好ましく、アルキル基又は-OR24であることが更に好ましく、-OR24であることが特に好ましい。
また、式1-1におけるR20がアルキル基である場合、上記アルキル基は、α位にアリールチオ基又はアルキルオキシカルボニル基を有するアルキル基であることが好ましい。
式1-1におけるR20が-OR24である場合、R24は、アルキル基であることが好ましく、炭素数1~8のアルキル基であることがより好ましく、イソプロピル基又はt-ブチル基であることが更に好ましく、t-ブチル基であることが特に好ましい。
From the viewpoint of color development properties, R 20 in formula 1-1 is preferably an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, -OR 24 , -NR 25 R 26 , or -SR 27 , more preferably an alkyl group, -OR 24 , -NR 25 R 26 , or -SR 27 , still more preferably an alkyl group or -OR 24 , and particularly preferably -OR 24 .
When R 20 in formula 1-1 is an alkyl group, the alkyl group is preferably an alkyl group having an arylthio group or an alkyloxycarbonyl group at the α-position.
When R 20 in formula 1-1 is —OR 24 , R 24 is preferably an alkyl group, more preferably an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, further preferably an isopropyl group or a t-butyl group, and particularly preferably a t-butyl group.

発色性の観点から、式1-2におけるR21は、水素原子であることが好ましい。
また、発色性の観点から、式1-2におけるR22は、-C(=O)OR24、-OC(=O)OR24又はハロゲン原子であることが好ましく、-C(=O)OR24又は-OC(=O)OR24であることがより好ましい。式1-2におけるR22が-C(=O)OR24又は-OC(=O)OR24である場合、R24は、アルキル基であることが好ましい。
From the viewpoint of color development, R 21 in formula 1-2 is preferably a hydrogen atom.
Furthermore, from the viewpoint of color development, R 22 in formula 1-2 is preferably -C(=O)OR 24 , -OC(=O)OR 24 or a halogen atom, and more preferably -C(=O)OR 24 or -OC(=O)OR 24. When R 22 in formula 1-2 is -C(=O)OR 24 or -OC(=O)OR 24 , R 24 is preferably an alkyl group.

発色性の観点から、式1-3におけるR21はそれぞれ独立に、水素原子又はアルキル基であることが好ましく、また、式1-3における少なくとも1つのR11が、アルキル基であることがより好ましい。
また、R21におけるアルキル基は、炭素数1~10のアルキル基であることが好ましく、炭素数3~10のアルキル基であることがより好ましい。
更に、R21におけるアルキル基は、環構造を含む分岐を有するアルキル基であることが好ましく、第二級又は第三級アルキル基であることがより好ましく、イソプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、又は、t-ブチル基であることが更に好ましい。
また、発色性の観点から、式1-3におけるR23は、アリール基、アルコキシ基又はオニウム基であることが好ましく、p-ジメチルアミノフェニル基又はピリジニウム基であることがより好ましく、ピリジニウム基であることが更に好ましい。
23におけるオニウム基としては、ピリジニウム基、アンモニウム基、スルホニウム基等が挙げられる。オニウム基は、置換基を有していてもよい。置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、アリーロキシ基、アミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ハロゲン原子、カルボキシ基、スルホ基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、これらを組み合わせた基等が挙げられるが、アルキル基、アリール基及びこれらを組み合わせた基であることが好ましい。
中でも、ピリジニウム基が好ましく、N-アルキル-3-ピリジニウム基、N-ベンジル-3-ピリジニウム基、N-(アルコキシポリアルキレンオキシアルキル)-3-ピリジニウム基、N-アルコキシカルボニルメチル-3-ピリジニウム基、N-アルキル-4-ピリジニウム基、N-ベンジル-4-ピリジニウム基、N-(アルコキシポリアルキレンオキシアルキル)-4-ピリジニウム基、N-アルコキシカルボニルメチル-4-ピリジニウム基、又は、N-アルキル-3,5-ジメチル-4-ピリジニウム基がより好ましく、N-アルキル-3-ピリジニウム基、又は、N-アルキル-4-ピリジニウム基が更に好ましく、N-メチル-3-ピリジニウム基、N-オクチル-3-ピリジニウム基、N-メチル-4-ピリジニウム基、又は、N-オクチル-4-ピリジニウム基が特に好ましく、N-オクチル-3-ピリジニウム基、又は、N-オクチル-4-ピリジニウム基が最も好ましい。
また、R23がピリジニウム基である場合、対アニオンとしては、スルホネートイオン、カルボキシレートイオン、テトラフルオロボレートイオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、p-トルエンスルホネートイオン、過塩素酸塩イオン等が挙げられ、p-トルエンスルホネートイオン、ヘキサフルオロホスフェートイオンが好ましい。
From the viewpoint of color development, it is preferable that R 21 in formula 1-3 is each independently a hydrogen atom or an alkyl group, and it is more preferable that at least one R 11 in formula 1-3 is an alkyl group.
The alkyl group for R 21 is preferably an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and more preferably an alkyl group having 3 to 10 carbon atoms.
Furthermore, the alkyl group in R 21 is preferably an alkyl group having a branch containing a ring structure, more preferably a secondary or tertiary alkyl group, and further preferably an isopropyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, or a t-butyl group.
From the viewpoint of color development, R 23 in formula 1-3 is preferably an aryl group, an alkoxy group or an onium group, more preferably a p-dimethylaminophenyl group or a pyridinium group, and even more preferably a pyridinium group.
The onium group in R 23 includes a pyridinium group, an ammonium group, a sulfonium group, etc. The onium group may have a substituent. The substituent includes an alkyl group, an alkoxy group, an aryloxy group, an amino group, an alkylthio group, an arylthio group, a halogen atom, a carboxy group, a sulfo group, an alkyloxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, a group combining these, etc., but an alkyl group, an aryl group, and a group combining these are preferred.
Among these, a pyridinium group is preferred, and examples thereof include an N-alkyl-3-pyridinium group, an N-benzyl-3-pyridinium group, an N-(alkoxypolyalkyleneoxyalkyl)-3-pyridinium group, an N-alkoxycarbonylmethyl-3-pyridinium group, an N-alkyl-4-pyridinium group, an N-benzyl-4-pyridinium group, an N-(alkoxypolyalkyleneoxyalkyl)-4-pyridinium group, and an N-alkoxycarbonylmethyl-4-pyridinium group. An N-alkyl-3,5-dimethyl-4-pyridinium group or an N-alkyl-3-pyridinium group is more preferred, an N-alkyl-3-pyridinium group or an N-alkyl-4-pyridinium group is even more preferred, an N-methyl-3-pyridinium group, an N-octyl-3-pyridinium group, an N-methyl-4-pyridinium group or an N-octyl-4-pyridinium group is particularly preferred, and an N-octyl-3-pyridinium group or an N-octyl-4-pyridinium group is most preferred.
Furthermore, when R 23 is a pyridinium group, examples of the counter anion include a sulfonate ion, a carboxylate ion, a tetrafluoroborate ion, a hexafluorophosphate ion, a p-toluenesulfonate ion, a perchlorate ion, and the like, with the p-toluenesulfonate ion and the hexafluorophosphate ion being preferred.

発色性の観点から、式1-4におけるR20は、アルキル基又はアリール基であることが好ましく、2つのR20のうち、一方がアルキル基、他方がアリール基であることがより好ましい。
発色性の観点から、式1-5におけるR20は、アルキル基又はアリール基であることが好ましく、アリール基であることがより好ましく、p-メチルフェニル基であることが更に好ましい。
発色性の観点から、式1-6におけるR20はそれぞれ独立に、アルキル基又はアリール基であることが好ましく、メチル基又はフェニル基であることがより好ましい。
発色性の観点から、式1-7におけるZは、電荷を中和する対イオンであればよく、化合物全体として、上記Zaに含まれてもよい。
は、スルホネートイオン、カルボキシレートイオン、テトラフルオロボレートイオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、p-トルエンスルホネートイオン、又は、過塩素酸塩イオンであることが好ましく、p-トルエンスルホネートイオン、又は、ヘキサフルオロホスフェートイオンであることがより好ましい。
From the viewpoint of color development, R 20 in formula 1-4 is preferably an alkyl group or an aryl group, and it is more preferable that one of the two R 20 's is an alkyl group and the other is an aryl group.
From the viewpoint of color development, R 20 in formula 1-5 is preferably an alkyl group or an aryl group, more preferably an aryl group, and further preferably a p-methylphenyl group.
From the viewpoint of color development, each R 20 in formula 1-6 is preferably an alkyl group or an aryl group, and more preferably a methyl group or a phenyl group.
From the viewpoint of color development, Z 1 in formula 1-7 may be any counter ion that neutralizes the charge, and the compound as a whole may be included in the above Za.
Z1 is preferably a sulfonate ion, a carboxylate ion, a tetrafluoroborate ion, a hexafluorophosphate ion, a p-toluenesulfonate ion, or a perchlorate ion, and more preferably a p-toluenesulfonate ion or a hexafluorophosphate ion.

発色性の観点から、更に好ましくは、Rは下記式(6)で表される基である。 From the viewpoint of color development, R 1 is more preferably a group represented by the following formula (6).

式(6)中、R15及びR16はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基又はアリール基を表し、Eはオニウム基を表し、波線部分は酸素原子との結合位置を表す。 In formula (6), R 15 and R 16 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group, E represents an onium group, and the wavy line portion represents the bonding position to the oxygen atom.

15又はR16で表されるアルキル基は、R~R及びRにおけるアルキル基と同様であり、好ましい態様もR~R及びRにおけるアルキル基の好ましい態様と同様である。
15又はR16で表されるアリール基は、Rにおけるアリール基と同様であり、好ましい態様も、Rにおけるアリール基の好ましい態様と同様である。
Eで表されるオニウム基は、R23におけるオニウム基と同様であり、好ましい態様もR23におけるオニウム基の好ましい態様と同様である。
The alkyl group represented by R 15 or R 16 is the same as the alkyl group represented by R 2 to R 9 and R 0 , and preferred embodiments thereof are also the same as the preferred embodiments of the alkyl group represented by R 2 to R 9 and R 0 .
The aryl group represented by R 15 or R 16 is the same as the aryl group in R 0 , and preferred embodiments thereof are also the same as the preferred embodiments of the aryl group in R 0 .
The onium group represented by E is the same as the onium group represented by R 23 , and preferred embodiments thereof are also the same as the preferred embodiments of the onium group represented by R 23 .

上記式(6)におけるEは、発色性の観点から、下記式(7)で表されるピリジニウム基であることが好ましい。From the viewpoint of color development, it is preferable that E in the above formula (6) is a pyridinium group represented by the following formula (7).

式(7)中、R17はハロゲン原子、アルキル基、アリール基、ヒドロキシ基又はアルコキシ基を表し、R17が複数存在する場合、複数のR17は同じでも異なってもよく、あるいは複数のR17が連結して環を形成してもよく、n2は0~4の整数を表すし、R18はアルキル基、アリール基又は下記式(2)~式(5)で表される基を表し、Zbは電荷を中和するための対イオンを表す。 In formula (7), R 17 represents a halogen atom, an alkyl group, an aryl group, a hydroxyl group or an alkoxy group. When a plurality of R 17s are present, the plurality of R 17s may be the same or different, or the plurality of R 17s may be linked to form a ring. n2 represents an integer of 0 to 4. R 18 represents an alkyl group, an aryl group or a group represented by any one of the following formulae (2) to (5). Zb represents a counter ion for neutralizing the charge.

式(2)~式(5)中、R10は炭素数2~6のアルキレン基を表し、Wは単結合又は酸素原子を表し、n1は1~45の整数を表し、R11は炭素数1~12のアルキル基を表し、R12及びR13はそれぞれ独立に、単結合、又は、炭素数1~12のアルキレン基若しくはアルキレンオキシ基を表し、Mは水素原子、Na原子、K原子又はオニウム基を表し、また、式(1)で表される化合物全体で電荷が中和可能な場合は、Mを有していなくともよく、m1は1、2、3又は4を表し、Xは-O-、-S-又は-CH-を表し、波線部分は他の構造との結合位置を表す。 In formulas (2) to (5), R 10 represents an alkylene group having 2 to 6 carbon atoms, W 1 represents a single bond or an oxygen atom, n1 represents an integer of 1 to 45, R 11 represents an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, R 12 and R 13 each independently represent a single bond, or an alkylene group or alkyleneoxy group having 1 to 12 carbon atoms, M represents a hydrogen atom, a Na atom, a K atom or an onium group, and M may not be present when the charge can be neutralized by the entire compound represented by formula (1), m1 represents 1, 2, 3 or 4, X 1 represents -O-, -S- or -CH 2 -, and the wavy line portion represents the bonding position to another structure.

17又はR18で表されるアルキル基又はアリール基は、R~R及びRにおけるアルキル基又はRにおけるアリール基と同様であり、好ましい態様もR~R及びRにおけるアルキル基又はRにおけるアリール基の好ましい態様と同様である。
17で表されるアルコキシ基は、炭素数1~10のアルコキシ基が好ましく、メトキシ基、エトキシ基、n-プロポキシ基、イソプロポキシ基、n-ブトキシ基、イソブトキシ基、tert-ブトキシ基等が挙げられる。
n2は、好ましくは、0である。
Zbで表される電荷を中和するための対イオンは、式(1-7)におけるZと同様であり、好ましい態様も式(1-7)におけるZの好ましい態様と同様である。
また、式(7)のR18における式(2)~式(5)で表される基は、上述した式(2)~式(5)で表される基と同義であり、好ましい態様も同様である。
The alkyl group or aryl group represented by R17 or R18 is the same as the alkyl group in R2 to R9 and R0 or the aryl group in R0 , and preferred embodiments are also the same as the preferred embodiments of the alkyl group in R2 to R9 and R0 or the aryl group in R0 .
The alkoxy group represented by R 17 is preferably an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, and examples thereof include a methoxy group, an ethoxy group, an n-propoxy group, an isopropoxy group, an n-butoxy group, an isobutoxy group, and a tert-butoxy group.
n2 is preferably 0.
The counter ion for neutralizing the charge represented by Zb is the same as Z1 in formula (1-7), and preferred embodiments thereof are also the same as the preferred embodiments of Z1 in formula (1-7).
In addition, the groups represented by formulae (2) to (5) in R 18 of formula (7) have the same meanings as the groups represented by formulae (2) to (5) described above, and preferred embodiments are also the same.

以下にRの好ましい例を挙げるが、本開示はこれに限定されるものではない。なお、TsOは、トシレートアニオンを表し、●は、酸素原子との結合部位を表す。 Preferred examples of R 1 are given below, but the present disclosure is not limited thereto. In addition, TsO 4 - represents a tosylate anion, and ● represents a bonding site with an oxygen atom.

上記発色性化合物の具体例を以下に示すが、本開示はこれらに限定されるものではない。下記構造式中、Meはメチル基を表し、TsOは、トシレートアニオンを表す。 Specific examples of the color-forming compound are shown below, but the present disclosure is not limited thereto. In the following structural formula, Me represents a methyl group, and TsO 4 − represents a tosylate anion.

上記発色性化合物は、1種単独で使用しても、2種以上を併用してもよい。
上記画像記録層において、上記発色性化合物は、任意な量で含有させることができるが、エッジ汚れ抑制性、発色性、経時発色性、機上現像性、及び、耐薬品性の観点から、画像記録層の全質量に対し上記発色性化合物の含有量が、0.1質量%~95質量%であることが好ましく、1質量%~75質量%であることがより好ましく、1質量%~50質量%であることが特に好ましい。
また、上記画像記録層における上記発色性化合物の含有量は、エッジ汚れ抑制性、発色性、経時発色性、機上現像性、及び、耐薬品性の観点から、1mg/m~100mg/mであることが好ましく、10mg/m~80mg/mであることがより好ましく、20mg/m~60mg/mであることが特に好ましい。
The above color-forming compounds may be used alone or in combination of two or more.
In the image recording layer, the color-forming compound can be contained in any amount. From the viewpoints of edge stain suppression, color development, color development over time, on-machine developability, and chemical resistance, the content of the color-forming compound is preferably 0.1% by mass to 95% by mass, more preferably 1% by mass to 75% by mass, and particularly preferably 1% by mass to 50% by mass, relative to the total mass of the image recording layer.
Furthermore, the content of the color-forming compound in the image recording layer is preferably 1 mg/m 2 to 100 mg/m 2 , more preferably 10 mg/m 2 to 80 mg/m 2, and particularly preferably 20 mg/m 2 to 60 mg/m 2 , from the viewpoints of edge stain suppression, color development, color development over time , on-machine developability, and chemical resistance.

上記発色性化合物の作製方法としては、特に制限はなく、公知の方法により作製することができる。
例えば、上記式(1)で表される化合物は、合成スキームとして下記に示す合成法に準じて得ることができる。
例えば、上記式1-1、式1-5又は式1-6のいずれかで表される基を導入する方法としては、下記式S1~式S3で表される合成スキームが好適に挙げられ、上記式1-2~式1-4のいずれかで表される基を導入する方法としては、下記式S4で表される合成スキームが好適に挙げられる。
なお、DMAPは、N,N-ジメチルアミノ-4-ピリジンを表し、AcONaは、酢酸ナトリウムを表し、NEtは、トリエチルアミンを表し、catecolは、カテコールである。また、Rは、式1-1~式1-7における各部分に対応する基を表す。
The method for producing the color-forming compound is not particularly limited, and the compound can be produced by a known method.
For example, the compound represented by the above formula (1) can be obtained according to the synthesis method shown below as a synthesis scheme.
For example, preferred methods for introducing a group represented by any one of the above formulas 1-1, 1-5, and 1-6 include the synthetic schemes represented by the following formulas S1 to S3, and preferred methods for introducing a group represented by any one of the above formulas 1-2 to 1-4 include the synthetic scheme represented by the following formula S4.
In addition, DMAP represents N,N-dimethylamino-4-pyridine, AcONa represents sodium acetate, NEt3 represents triethylamine, and catecol represents catechol. Furthermore, R represents a group corresponding to each part in Formula 1-1 to Formula 1-7.

-分子量1,000以下の支持体吸着性化合物-
上記画像記録層は、エッジ汚れ抑制性、及び、機上現像性の観点から、支持体吸着性を有し、分子量が1,000以下であり、分子中にエチレン性不飽和基を有さない化合物(「分子量1,000以下の支持体吸着性化合物」、又は、「支持体吸着性化合物」ともいう。)を含むことが好ましい。
ここで、「支持体吸着性」とは、支持体が有する陽極酸化皮膜に対する吸着性を意味する。陽極酸化皮膜に対する吸着性の有無は、以下の方法により、容易に判定することができる。
即ち、試験化合物を易溶性溶媒(例えば、水)に溶解した溶液を調製する。この溶液を乾燥後の塗布量が30mg/mとなるように陽極酸化皮膜を有するアルミニウム支持体上に塗布し乾燥させる。次に試験化合物を塗布したアルミニウム支持体を、上記易溶性溶媒を用いて洗浄と乾燥を5回繰り返した後、洗浄除去されなかった試験化合物の残存量を測定する。残存量の測定は、残存する試験化合物量を直接定量してもよいし、洗浄液中に溶解した試験化合物量を定量してもよい。試験化合物の定量は、例えば蛍光X線測定、反射分光吸光度測定などで実施することができる。
残存量が、1mg/m以上であれば、試験化合物は、支持体吸着性を有すると判定される。
-Support-adsorbing compound with molecular weight of 1,000 or less-
From the viewpoints of edge stain suppression and on-machine developability, it is preferable that the image recording layer contains a compound that is support-adsorbable, has a molecular weight of 1,000 or less, and does not have an ethylenically unsaturated group in the molecule (also referred to as a "support-adsorbable compound having a molecular weight of 1,000 or less" or a "support-adsorbable compound").
Here, the term "support adsorption" refers to the adsorption of the support to the anodized film. The presence or absence of adsorption of the support to the anodized film can be easily determined by the following method.
That is, a solution is prepared by dissolving the test compound in a readily soluble solvent (e.g., water). This solution is applied to an aluminum support having an anodized film so that the coating amount after drying is 30 mg/ m2 , and then dried. Next, the aluminum support to which the test compound has been applied is washed and dried five times using the readily soluble solvent, and the remaining amount of the test compound that has not been washed off is measured. The remaining amount may be measured by directly quantifying the amount of the remaining test compound, or by quantifying the amount of the test compound dissolved in the washing solution. The test compound can be quantified, for example, by X-ray fluorescence measurement, reflection spectrophotometric measurement, or the like.
If the remaining amount is 1 mg/ m2 or more, the test compound is determined to have the ability to be adsorbed to the support.

支持体吸着性化合物は、アルミニウム支持体が有する陽極酸化皮膜に対して吸着性を示す基を有することが好ましい。アルミニウム支持体が有する陽極酸化皮膜に対して吸着性を示す基としては、陽極酸化皮膜の表面に存在する物質(例えば、金属、金属酸化物)又は官能基(例えば、ヒドロキシ基)と、化学結合(例えば、イオン結合、水素結合、配位結合)を形成することができる官能基が挙げられる。このような官能基の中で、酸基が好ましい。酸基は、酸解離定数(pKa)が7以下であることが好ましい。酸基の例としては、フェノール性水酸基、カルボキシ基、-SOH、-OSOH、-PO、-OPO、-CONHSO-、-SONHSO-、-COCHCOCHなどが挙げられる。特に、-OPO及び-POが好ましい。酸基は、塩を形成していてもよい。酸基が形成する塩としては、アルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩、アンモニウム塩などが挙げられる。 The support-adsorbing compound preferably has a group that exhibits adsorptivity to the anodized film of the aluminum support. Examples of groups that exhibit adsorptivity to the anodized film of the aluminum support include functional groups that can form chemical bonds (e.g., ionic bonds, hydrogen bonds, coordinate bonds) with substances (e.g., metals, metal oxides) or functional groups (e.g., hydroxyl groups) present on the surface of the anodized film. Among these functional groups, acid groups are preferred. The acid group preferably has an acid dissociation constant (pKa) of 7 or less. Examples of acid groups include phenolic hydroxyl groups, carboxy groups, -SO 3 H, -OSO 3 H, -PO 3 H 2 , -OPO 3 H 2 , -CONHSO 2 -, -SO 2 NHSO 2 -, -COCH 2 COCH 3 , and the like. In particular, -OPO 3 H 2 and -PO 3 H 2 are preferred. The acid group may form a salt. Examples of salts formed by the acid group include alkali metal salts, alkaline earth metal salts, and ammonium salts.

支持体吸着性化合物の分子量は、1,000以下である。分子量が1,000以下であることにより、機上現像時に陽極酸化皮膜の表面に移動しやすく、優れたエッジ汚れ防止効果が得られる。分子量は、好ましくは50~1,000、より好ましくは50~800、更に好ましくは50~600である。The molecular weight of the support-adsorbing compound is 1,000 or less. By having a molecular weight of 1,000 or less, the compound is easily transferred to the surface of the anodized film during on-machine development, providing excellent edge stain prevention effects. The molecular weight is preferably 50 to 1,000, more preferably 50 to 800, and even more preferably 50 to 600.

支持体吸着性化合物は、分子中にエチレン性不飽和基を有さない。エチレン性不飽和基とは、重合性を有する基であり、(メタ)アクリル基、ビニル基、アリル基、スチリル基などの基を包含する。支持体吸着性化合物が、分子中にエチレン性不飽和基を有さないことにより、露光で特定低分子化合物が画像記録層とともに硬化することを抑制できる。The support-adsorbing compound does not have an ethylenically unsaturated group in the molecule. An ethylenically unsaturated group is a polymerizable group, and includes groups such as (meth)acrylic groups, vinyl groups, allyl groups, and styryl groups. Since the support-adsorbing compound does not have an ethylenically unsaturated group in the molecule, it is possible to prevent the specific low molecular weight compound from curing together with the image recording layer upon exposure to light.

支持体吸着性化合物としては、オキソ酸を用いることができる。オキソ酸は、同じ原子にヒドロキシ基(-OH)とオキソ基(=O)が結合しており、且つそのヒドロキシ基が酸性プロトンを与える化合物を指す。An oxoacid can be used as the support-adsorbing compound. An oxoacid is a compound in which a hydroxyl group (-OH) and an oxo group (=O) are bonded to the same atom, and the hydroxyl group provides an acidic proton.

支持体吸着性化合物としては、リン酸、ポリリン酸、メタリン酸、第一リン酸アンモニウム、第二リン酸アンモニウム、リン酸二水素ナトリウム、リン酸一水素ナトリウム、第一リン酸カリウム、第二リン酸カリウム、トリポリリン酸ナトリウム、ピロリン酸カリウム、ヘキサメタリン酸ナトリウム、ホスフィン酸、エチルホスホン酸、プロピルホスホン酸、i-プロピルホスホン酸、ブチルホスホン酸、ヘキシルホスホン酸、オクチルホスホン酸、ドデシルホスホン酸、オクタデシルホスホン酸、2-ヒドロキシエチルホスホン酸及びこれらのナトリウム塩又はカリウム塩、メチルホスホン酸メチル、エチルホスホン酸メチル、2-ヒドロキシエチルホスホン酸メチルなどのアルキルホスホン酸モノアルキルエステル及びこれらのナトリウム塩又はカリウム塩、メチレンジホスホン酸、エチレンジホスホン酸等のアルキレンジホスホン酸及びこれらのナトリウム塩又はカリウム塩、ポリビニルホスホン酸、p-トルエンスルホン酸、p-トルエンスルホン酸ナトリウム、スルホフタル酸、クエン酸などが挙げられる。Examples of support-adsorbing compounds include phosphoric acid, polyphosphoric acid, metaphosphoric acid, ammonium monophosphate, ammonium diphosphate, sodium dihydrogen phosphate, sodium monohydrogen phosphate, potassium monophosphate, potassium diphosphate, sodium tripolyphosphate, potassium pyrophosphate, sodium hexametaphosphate, phosphinic acid, ethylphosphonic acid, propylphosphonic acid, i-propylphosphonic acid, butylphosphonic acid, hexylphosphonic acid, octylphosphonic acid, dodecylphosphonic acid, octadecylphosphonic acid, 2-hydroxyethylphosphonic acid, and their sodium or potassium salts; alkylphosphonic acid monoalkyl esters such as methyl methylphosphonate, methyl ethylphosphonate, and methyl 2-hydroxyethylphosphonate, and their sodium or potassium salts; alkylene diphosphonic acids such as methylene diphosphonic acid and ethylene diphosphonic acid, and their sodium or potassium salts; polyvinyl phosphonic acid, p-toluenesulfonic acid, sodium p-toluenesulfonate, sulfophthalic acid, and citric acid.

支持体吸着性化合物としては、下記式(B)で表される化合物が好ましい。As the support-adsorbing compound, a compound represented by the following formula (B) is preferred.

式(B)中、nBは、2~10の整数を表し、RB1、RB2及びRB3はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基又はアルキレンオキシド基を表す。 In formula (B), nB represents an integer of 2 to 10, and R B1 , R B2 and R B3 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group or an alkylene oxide group.

式(B)におけるアルキル基は、炭素数1~10のアルキル基が好ましく、炭素数1~5のアルキル基がより好ましく、炭素数1~3のアルキル基が更に好ましい。
式(B)におけるアルキレンオキシド基は、炭素数2又は3のアルキレンオキシド単位を1~10個有するアルキレンオキシド基が好ましく、炭素数2又は3のアルキレンオキシド単位を1~5個有するアルキレンオキシド基がより好ましく、炭素数2又は3のアルキレンオキシド単位を1~3個有するアルキレンオキシド基が更に好ましい。
The alkyl group in formula (B) is preferably an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, more preferably an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and even more preferably an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms.
The alkylene oxide group in formula (B) is preferably an alkylene oxide group having 1 to 10 alkylene oxide units having 2 or 3 carbon atoms, more preferably an alkylene oxide group having 1 to 5 alkylene oxide units having 2 or 3 carbon atoms, and even more preferably an alkylene oxide group having 1 to 3 alkylene oxide units having 2 or 3 carbon atoms.

支持体吸着性化合物としては、エッジ汚れ抑制性、及び、機上現像性の観点から、リン酸、ポリリン酸、ホスホン酸又はホスフィン酸が特に好ましい。As the support-adsorbing compound, from the viewpoints of edge stain suppression and on-press developability, phosphoric acid, polyphosphoric acid, phosphonic acid or phosphinic acid are particularly preferred.

また、支持体吸着性化合物は、エッジ汚れ抑制性、及び、機上現像性の観点から、2つ以上のヒドロキシ基を有するヒドロキシ酸化合物(以下、「特定ヒドロキシ酸化合物」ともいう。)を含むことが好ましい。In addition, from the viewpoints of suppressing edge staining and on-press developability, it is preferable that the support-adsorbing compound contains a hydroxy acid compound having two or more hydroxy groups (hereinafter also referred to as a "specific hydroxy acid compound").

特定ヒドロキシ酸化合物は、2つ以上のヒドロキシ基を有するヒドロキシカルボン酸及びその塩を包含する。塩としては、例えば、ナトリウム塩、カリウム塩、リチウム塩、カルシウム塩、マグネシウム塩、アルミニウム塩、アンモニウム塩が挙げられる。
2つ以上のヒドロキシ基を有するヒドロキシカルボン酸におけるヒドロキシ基の数は、2~15が好ましく、3~10がより好ましく、4~7が更に好ましい。
2つ以上のヒドロキシ基を有するヒドロキシカルボン酸におけるカルボキシ基の数は1~10が好ましく、1~5がより好ましく、1~3が更に好ましい。
The specific hydroxy acid compound includes a hydroxycarboxylic acid having two or more hydroxy groups and a salt thereof, such as a sodium salt, a potassium salt, a lithium salt, a calcium salt, a magnesium salt, an aluminum salt, or an ammonium salt.
The number of hydroxy groups in the hydroxycarboxylic acid having two or more hydroxy groups is preferably 2 to 15, more preferably 3 to 10, and even more preferably 4 to 7.
The number of carboxy groups in the hydroxycarboxylic acid having two or more hydroxy groups is preferably 1 to 10, more preferably 1 to 5, and even more preferably 1 to 3.

特定ヒドロキシ酸化合物は高い親水性を有することがエッジ汚れ防止の観点で好ましい。特定ヒドロキシ酸化合物の親水性は、一般に化合物の親水性を表す指標として知られているClogP値を用いて表すことができる。特定ヒドロキシ酸化合物はClogP値が0.5以下であることが好ましく、-1以下であることがより好ましく、-3以下であることが更に好ましい。また、特定ヒドロキシ酸化合物のClogP値は、端部領域における画像形成性の観点からは、-10以上が好ましく、-7以上がより好ましく、-5以上が更に好ましい。
ここで、特定ヒドロキシ酸化合物のClogP値は分子構造式エディタソフト「ChemDraw Professional 2016」により分子構造から算出された数値である。
From the viewpoint of preventing edge staining, it is preferable that the specific hydroxy acid compound has high hydrophilicity. The hydrophilicity of the specific hydroxy acid compound can be expressed by the ClogP value, which is generally known as an index of the hydrophilicity of a compound. The specific hydroxy acid compound preferably has a ClogP value of 0.5 or less, more preferably -1 or less, and even more preferably -3 or less. Moreover, from the viewpoint of image forming properties in the edge region, the ClogP value of the specific hydroxy acid compound is preferably -10 or more, more preferably -7 or more, and even more preferably -5 or more.
Here, the ClogP value of the specific hydroxy acid compound is a numerical value calculated from the molecular structure using the molecular structure editor software "ChemDraw Professional 2016."

特定ヒドロキシ酸化合物の分子量は1,000以下が好ましい。分子量が1,000以下であることにより、特定ヒドロキシ酸化合物が機上現像時に陽極酸化皮膜の表面に容易に移動し、エッジ汚れ防止に有効に寄与することができる。特定ヒドロキシ酸化合物の分子量は80~1,000がより好ましく、100~500が更に好ましく、100~300が特に好ましい。The molecular weight of the specific hydroxy acid compound is preferably 1,000 or less. By having a molecular weight of 1,000 or less, the specific hydroxy acid compound can easily migrate to the surface of the anodized film during on-machine development, effectively contributing to preventing edge staining. The molecular weight of the specific hydroxy acid compound is more preferably 80 to 1,000, even more preferably 100 to 500, and particularly preferably 100 to 300.

特定ヒドロキシ酸化合物としては、グリセリン酸、グルコン酸、酒石酸、メバロン酸、パントイン酸、キナ酸、シキミ酸、没食子酸、コーヒー酸、2,3-ジヒドロキシ安息香酸、2,4-ジヒドロキシ安息香酸、2,5-ジヒドロキシ安息香酸、2,6-ジヒドロキシ安息香酸、3,4-ジヒドロキシ安息香酸、3,5-ジヒドロキシ安息香酸、2,3,4-トリヒドロキシ安息香酸、3,4,5-トリヒドロキシ安息香酸、グルコン酸ナトリウム、グルコン酸カリウム、酒石酸ナトリウム、没食子酸ナトリウムなどが挙げられる。
特定ヒドロキシ酸化合物としては、エッジ汚れ抑制性、及び、機上現像性の観点から、グルコン酸、酒石酸、メバロン酸、キナ酸、グルコン酸Na、グルコン酸K、又は、酒石酸Naが好ましく、グルコン酸、グルコン酸Na、又は、グルコン酸Kがより好ましく、グルコン酸が特に好ましい。
Examples of the specific hydroxy acid compound include glyceric acid, gluconic acid, tartaric acid, mevalonic acid, pantoic acid, quinic acid, shikimic acid, gallic acid, caffeic acid, 2,3-dihydroxybenzoic acid, 2,4-dihydroxybenzoic acid, 2,5-dihydroxybenzoic acid, 2,6-dihydroxybenzoic acid, 3,4-dihydroxybenzoic acid, 3,5-dihydroxybenzoic acid, 2,3,4-trihydroxybenzoic acid, 3,4,5-trihydroxybenzoic acid, sodium gluconate, potassium gluconate, sodium tartrate, and sodium gallate.
As the specific hydroxy acid compound, from the viewpoints of edge stain suppression and on-press developability, gluconic acid, tartaric acid, mevalonic acid, quinic acid, sodium gluconate, potassium gluconate, or sodium tartrate is preferred, gluconic acid, sodium gluconate, or potassium gluconate is more preferred, and gluconic acid is particularly preferred.

支持体吸着性化合物は、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
画像記録層における支持体吸着性化合物の含有量は、エッジ汚れ抑制性、及び、機上現像性の観点から、10mg/m~150mg/mが好ましく、30mg/m~100mg/mがより好ましく、50mg/m~100mg/mが特に好ましい。
また、支持体吸着性化合物の含有量は、エッジ汚れ抑制性、及び、機上現像性の観点から、画像記録層の全質量に対して、0.5質量%~20質量%が好ましく、1質量%~15質量%がより好ましく、2質量%~10質量%が更に好ましい。
The support-adsorbing compound may be used alone or in combination of two or more kinds.
The content of the support-adsorbing compound in the image recording layer is preferably 10 mg/m 2 to 150 mg/m 2 , more preferably 30 mg/m 2 to 100 mg/m 2 , and particularly preferably 50 mg/m 2 to 100 mg/m 2 , from the viewpoints of edge stain suppression and on-press developability.
In addition, from the viewpoints of edge stain suppression and on-machine developability, the content of the support-adsorbing compound is preferably 0.5% by mass to 20% by mass, more preferably 1% by mass to 15% by mass, and even more preferably 2% by mass to 10% by mass, based on the total mass of the image recording layer.

-重合性化合物-
上記画像記録層は、重合性化合物を含むことが好ましい。
本開示に用いられる重合性化合物は、例えば、ラジカル重合性化合物であっても、カチオン重合性化合物であってもよいが、少なくとも1個のエチレン性不飽和結合を有する付加重合性化合物(エチレン性不飽和化合物)であることが好ましい。エチレン性不飽和化合物としては、末端エチレン性不飽和結合を少なくとも1個有する化合物であることが好ましく、末端エチレン性不飽和結合を2個以上有する化合物であることがより好ましい。重合性化合物は、例えばモノマー、プレポリマー、すなわち2量体、3量体若しくはオリゴマー、又は、それらの混合物などの化学的形態をもつ。
--Polymerizable compound--
The image recording layer preferably contains a polymerizable compound.
The polymerizable compound used in the present disclosure may be, for example, a radical polymerizable compound or a cationic polymerizable compound, but is preferably an addition polymerizable compound (ethylenically unsaturated compound) having at least one ethylenically unsaturated bond.The ethylenically unsaturated compound is preferably a compound having at least one terminal ethylenically unsaturated bond, and more preferably a compound having two or more terminal ethylenically unsaturated bonds.The polymerizable compound has a chemical form such as, for example, a monomer, a prepolymer, i.e., a dimer, a trimer, or an oligomer, or a mixture thereof.

モノマーの例としては、不飽和カルボン酸(例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸など)や、そのエステル類、アミド類が挙げられ、好ましくは、不飽和カルボン酸と多価アルコール化合物とのエステル類、不飽和カルボン酸と多価アミン化合物とのアミド類が用いられる。また、ヒドロキシ基、アミノ基、メルカプト基等の求核性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル類あるいはアミド類と単官能もしくは多官能イソシアネート類あるいはエポキシ類との付加反応物、及び単官能もしくは多官能のカルボン酸との脱水縮合反応物等も好適に使用される。また、イソシアネート基、エポキシ基等の親電子性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル類あるいはアミド類と単官能又は多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との付加反応物、更にハロゲン原子、トシルオキシ基等の脱離性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル類あるいはアミド類と単官能又は多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との置換反応物も好適である。また、別の例として、上記の不飽和カルボン酸を、不飽和ホスホン酸、スチレン、ビニルエーテル等に置き換えた化合物群を使用することも可能である。これらは、特表2006-508380号公報、特開2002-287344号公報、特開2008-256850号公報、特開2001-342222号公報、特開平9-179296号公報、特開平9-179297号公報、特開平9-179298号公報、特開2004-294935号公報、特開2006-243493号公報、特開2002-275129号公報、特開2003-64130号公報、特開2003-280187号公報、特開平10-333321号公報等に記載されている。Examples of monomers include unsaturated carboxylic acids (e.g., acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, maleic acid, etc.), their esters, and amides. Preferably, esters of unsaturated carboxylic acids and polyhydric alcohol compounds, and amides of unsaturated carboxylic acids and polyvalent amine compounds are used. In addition, addition reaction products of unsaturated carboxylic acid esters or amides having nucleophilic substituents such as hydroxyl groups, amino groups, and mercapto groups with monofunctional or polyfunctional isocyanates or epoxy groups, and dehydration condensation reaction products of monofunctional or polyfunctional carboxylic acids are also preferably used. In addition, addition reaction products of unsaturated carboxylic acid esters or amides having electrophilic substituents such as isocyanate groups and epoxy groups with monofunctional or polyfunctional alcohols, amines, and thiols, and substitution reaction products of unsaturated carboxylic acid esters or amides having eliminable substituents such as halogen atoms and tosyloxy groups with monofunctional or polyfunctional alcohols, amines, and thiols are also suitable. As another example, it is also possible to use a group of compounds in which the above unsaturated carboxylic acids are replaced with unsaturated phosphonic acids, styrene, vinyl ethers, etc. These are described in JP-T-2006-508380, JP-A-2002-287344, JP-A-2008-256850, JP-A-2001-342222, JP-A-9-179296, JP-A-9-179297, JP-A-9-179298, JP-A-2004-294935, JP-A-2006-243493, JP-A-2002-275129, JP-A-2003-64130, JP-A-2003-280187, JP-A-10-333321, etc.

多価アルコール化合物と不飽和カルボン酸とのエステルのモノマーの具体例としては、アクリル酸エステルとして、エチレングリコールジアクリレート、1,3-ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ソルビトールトリアクリレート、イソシアヌル酸エチレンオキシド(EO)変性トリアクリレート、ポリエステルアクリレートオリゴマー等がある。メタクリル酸エステルとして、テトラメチレングリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ビス〔p-(3-メタクリルオキシ-2-ヒドロキシプロポキシ)フェニル〕ジメチルメタン、ビス〔p-(メタクリルオキシエトキシ)フェニル〕ジメチルメタン等がある。また、多価アミン化合物と不飽和カルボン酸とのアミドのモノマーの具体例としては、メチレンビスアクリルアミド、メチレンビスメタクリルアミド、1,6-ヘキサメチレンビスアクリルアミド、1,6-ヘキサメチレンビスメタクリルアミド、ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミド等がある。Specific examples of monomers of esters of polyhydric alcohol compounds and unsaturated carboxylic acids include acrylic esters such as ethylene glycol diacrylate, 1,3-butanediol diacrylate, tetramethylene glycol diacrylate, propylene glycol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, hexanediol diacrylate, tetraethylene glycol diacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, sorbitol triacrylate, isocyanuric acid ethylene oxide (EO) modified triacrylate, polyester acrylate oligomer, etc. Specific examples of methacrylic esters include tetramethylene glycol dimethacrylate, neopentyl glycol dimethacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, bis[p-(3-methacryloxy-2-hydroxypropoxy)phenyl]dimethylmethane, bis[p-(methacryloxyethoxy)phenyl]dimethylmethane, etc. Specific examples of amide monomers of polyamine compounds and unsaturated carboxylic acids include methylene bisacrylamide, methylene bismethacrylamide, 1,6-hexamethylene bisacrylamide, 1,6-hexamethylene bismethacrylamide, diethylenetriamine trisacrylamide, xylylene bisacrylamide, and xylylene bismethacrylamide.

また、イソシアネートとヒドロキシ基の付加反応を用いて製造されるウレタン系付加重合性化合物も好適であり、その具体例としては、例えば、特公昭48-41708号公報に記載されている1分子に2個以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネート化合物に、下記式(M)で表されるヒドロキシ基を含有するビニルモノマーを付加させた1分子中に2個以上の重合性ビニル基を含有するビニルウレタン化合物等が挙げられる。
CH=C(RM4)COOCHCH(RM5)OH (M)
式(M)中、RM4及びRM5はそれぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表す。
Also suitable are urethane-based addition polymerizable compounds produced by an addition reaction between an isocyanate and a hydroxy group. Specific examples thereof include vinyl urethane compounds containing two or more polymerizable vinyl groups in one molecule, which are obtained by adding a vinyl monomer containing a hydroxy group represented by the following formula (M) to a polyisocyanate compound having two or more isocyanate groups in one molecule, as described in JP-B-48-41708.
CH2 =C( RM4 )COOCH2CH ( RM5 )OH(M)
In formula (M), R M4 and R M5 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group.

また、特開昭51-37193号公報、特公平2-32293号公報、特公平2-16765号公報、特開2003-344997号公報、特開2006-65210号公報に記載のウレタンアクリレート類、特公昭58-49860号公報、特公昭56-17654号公報、特公昭62-39417号公報、特公昭62-39418号公報、特開2000-250211号公報、特開2007-94138号公報に記載のエチレンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物類、米国特許第7153632号明細書、特表平8-505958号公報、特開2007-293221号公報、特開2007-293223号公報に記載の親水基を有するウレタン化合物類も好適である。In addition, urethane acrylates described in JP-A-51-37193, JP-B-2-32293, JP-B-2-16765, JP-A-2003-344997, and JP-A-2006-65210, JP-B-58-49860, JP-B-56-17654, JP-B-62-39417, and JP-B-62-39418 Also suitable are urethane compounds having an ethylene oxide skeleton described in JP-A-2000-250211 and JP-A-2007-94138, and urethane compounds having a hydrophilic group described in U.S. Pat. No. 7,153,632, JP-T-8-505958, JP-A-2007-293221 and JP-A-2007-293223.

重合性化合物の構造、単独使用か併用か、添加量等の使用方法の詳細は、任意に設定できる。
重合性化合物の含有量は、画像記録層の全質量に対して、5質量%~75質量%であることが好ましく、10質量%~70質量%であることがより好ましく、15質量%~60質量%であることが特に好ましい。
Details of the method of use, such as the structure of the polymerizable compound, whether it is used alone or in combination, and the amount added, can be set arbitrarily.
The content of the polymerizable compound is preferably from 5% by mass to 75% by mass, more preferably from 10% by mass to 70% by mass, and particularly preferably from 15% by mass to 60% by mass, based on the total mass of the image recording layer.

-重合開始剤-
本開示に係る平版印刷版原版における画像記録層は、重合開始剤を含むことが好ましく、重合開始剤、及び、重合性化合物を含むことがより好ましい。
また、重合開始剤としては、電子受容型重合開始剤を含むことが好ましく、電子受容型重合開始剤、及び、電子供与型重合開始剤を含むことがより好ましい。
- Polymerization initiator -
The image recording layer in the lithographic printing plate precursor according to the present disclosure preferably contains a polymerization initiator, and more preferably contains a polymerization initiator and a polymerizable compound.
The polymerization initiator preferably contains an electron-accepting polymerization initiator, and more preferably contains an electron-accepting polymerization initiator and an electron-donating polymerization initiator.

<<電子受容型重合開始剤>>
上記画像記録層は、重合開始剤として、電子受容型重合開始剤を含むことが好ましい。
電子受容型重合開始剤は、赤外線露光により赤外線吸収剤の電子が励起した際に、分子間電子移動で一電子を受容することにより、ラジカル等の重合開始種を発生する化合物である。
本開示に用いられる電子受容型重合開始剤は、光、熱あるいはその両方のエネルギーによりラジカルやカチオン等の重合開始種を発生する化合物であって、公知の熱重合開始剤、結合解離エネルギーの小さな結合を有する化合物、光重合開始剤などを適宜選択して用いることができる。
電子受容型重合開始剤としては、ラジカル重合開始剤が好ましく、オニウム塩化合物がより好ましい。
また、電子受容型重合開始剤としては、赤外線感光性重合開始剤であることが好ましい。
電子受容型ラジカル重合開始剤としては、例えば、(a)有機ハロゲン化物、(b)カルボニル化合物、(c)アゾ化合物、(d)有機過酸化物、(e)メタロセン化合物、(f)アジド化合物、(g)ヘキサアリールビイミダゾール化合物、(i)ジスルホン化合物、(j)オキシムエステル化合物、及び、(k)オニウム塩化合物が挙げられる。
<<Electron-accepting polymerization initiator>>
The image recording layer preferably contains an electron-accepting polymerization initiator as the polymerization initiator.
The electron-accepting polymerization initiator is a compound that generates a polymerization initiating species such as a radical by accepting one electron through intermolecular electron transfer when electrons of an infrared absorbing agent are excited by exposure to infrared light.
The electron-accepting polymerization initiator used in the present disclosure is a compound that generates a polymerization initiating species such as a radical or a cation by the energy of light, heat, or both, and can be appropriately selected from known thermal polymerization initiators, compounds having a bond with small bond dissociation energy, photopolymerization initiators, and the like.
As the electron-accepting polymerization initiator, a radical polymerization initiator is preferable, and an onium salt compound is more preferable.
The electron-accepting polymerization initiator is preferably an infrared-sensitive polymerization initiator.
Examples of the electron-accepting radical polymerization initiator include (a) organic halides, (b) carbonyl compounds, (c) azo compounds, (d) organic peroxides, (e) metallocene compounds, (f) azide compounds, (g) hexaarylbiimidazole compounds, (i) disulfone compounds, (j) oxime ester compounds, and (k) onium salt compounds.

(a)有機ハロゲン化物としては、例えば、特開2008-195018号公報の段落0022~0023に記載の化合物が好ましい。
(b)カルボニル化合物としては、例えば、特開2008-195018号公報の段落0024に記載の化合物が好ましい。
(c)アゾ化合物としては、例えば、特開平8-108621号公報に記載のアゾ化合物等を使用することができる。
(d)有機過酸化物としては、例えば、特開2008-195018号公報の段落0025に記載の化合物が好ましい。
(e)メタロセン化合物としては、例えば、特開2008-195018号公報の段落0026に記載の化合物が好ましい。
(f)アジド化合物としては、例えば、2,6-ビス(4-アジドベンジリデン)-4-メチルシクロヘキサノン等の化合物を挙げることができる。
(g)ヘキサアリールビイミダゾール化合物としては、例えば、特開2008-195018号公報の段落0027に記載の化合物が好ましい。
(i)ジスルホン化合物としては、例えば、特開昭61-166544号、特開2002-328465号の各公報に記載の化合物が挙げられる。
(j)オキシムエステル化合物としては、例えば、特開2008-195018号公報の段落0028~0030に記載の化合物が好ましい。
As the (a) organic halide, for example, the compounds described in paragraphs 0022 to 0023 of JP-A-2008-195018 are preferable.
As the (b) carbonyl compound, for example, the compounds described in paragraph 0024 of JP-A-2008-195018 are preferable.
As the azo compound (c), for example, the azo compounds described in JP-A-8-108621 can be used.
As the (d) organic peroxide, for example, the compounds described in paragraph 0025 of JP-A-2008-195018 are preferable.
As the (e) metallocene compound, for example, the compounds described in paragraph 0026 of JP-A-2008-195018 are preferable.
(f) Examples of the azide compound include 2,6-bis(4-azidobenzylidene)-4-methylcyclohexanone.
As the (g) hexaarylbiimidazole compound, for example, the compounds described in paragraph 0027 of JP-A-2008-195018 are preferable.
(i) Examples of the disulfone compound include the compounds described in JP-A-61-166544 and JP-A-2002-328465.
As the (j) oxime ester compound, for example, the compounds described in paragraphs 0028 to 0030 of JP-A-2008-195018 are preferable.

上記電子受容型重合開始剤の中でも好ましいものとして、硬化性の観点から、オキシムエステル化合物及びオニウム塩化合物が挙げられる。中でも、耐刷性の観点から、ヨードニウム塩化合物、スルホニウム塩化合物又はアジニウム塩化合物が好ましく、ヨードニウム塩化合物又はスルホニウム塩化合物がより好ましく、ヨードニウム塩化合物が特に好ましい。
これら化合物の具体例を以下に示すが、本開示はこれに限定されるものではない。
Among the electron-accepting polymerization initiators, preferred from the viewpoint of curability are oxime ester compounds and onium salt compounds. Among them, from the viewpoint of printing durability, preferred are iodonium salt compounds, sulfonium salt compounds and azinium salt compounds, more preferred are iodonium salt compounds and sulfonium salt compounds, and particularly preferred are iodonium salt compounds.
Specific examples of these compounds are shown below, but the present disclosure is not limited thereto.

ヨードニウム塩化合物の例としては、ジアリールヨードニウム塩化合物が好ましく、特に電子供与性基、例えば、アルキル基又はアルコキシル基で置換されたジフェニルヨードニウム塩化合物がより好ましく、また、非対称のジフェニルヨードニウム塩化合物が好ましい。具体例としては、ジフェニルヨードニウム=ヘキサフルオロホスファート、4-メトキシフェニル-4-(2-メチルプロピル)フェニルヨードニウム=ヘキサフルオロホスファート、4-(2-メチルプロピル)フェニル-p-トリルヨードニウム=ヘキサフルオロホスファート、4-ヘキシルオキシフェニル-2,4,6-トリメトキシフェニルヨードニウム=ヘキサフルオロホスファート、4-ヘキシルオキシフェニル-2,4-ジエトキシフェニルヨードニウム=テトラフルオロボラート、4-オクチルオキシフェニル-2,4,6-トリメトキシフェニルヨードニウム=1-ペルフルオロブタンスルホナート、4-オクチルオキシフェニル-2,4,6-トリメトキシフェニルヨードニウム=ヘキサフルオロホスファート、ビス(4-t-ブチルフェニル)ヨードニウム=ヘキサフルオロホスファートが挙げられる。Preferred examples of iodonium salt compounds include diaryliodonium salt compounds, more preferred are diphenyliodonium salt compounds substituted with electron-donating groups, such as alkyl or alkoxy groups, and more preferred are asymmetric diphenyliodonium salt compounds. Specific examples include diphenyliodonium hexafluorophosphate, 4-methoxyphenyl-4-(2-methylpropyl)phenyliodonium hexafluorophosphate, 4-(2-methylpropyl)phenyl-p-tolyliodonium hexafluorophosphate, 4-hexyloxyphenyl-2,4,6-trimethoxyphenyliodonium hexafluorophosphate, 4-hexyloxyphenyl-2,4-diethoxyphenyliodonium tetrafluoroborate, 4-octyloxyphenyl-2,4,6-trimethoxyphenyliodonium 1-perfluorobutanesulfonate, 4-octyloxyphenyl-2,4,6-trimethoxyphenyliodonium hexafluorophosphate, and bis(4-t-butylphenyl)iodonium hexafluorophosphate.

スルホニウム塩化合物の例としては、トリアリールスルホニウム塩化合物が好ましく、特に電子求引性基、例えば、芳香環上の基の少なくとも一部がハロゲン原子で置換されたトリアリールスルホニウム塩化合物が好ましく、芳香環上のハロゲン原子の総置換数が4以上であるトリアリールスルホニウム塩化合物が更に好ましい。具体例としては、トリフェニルスルホニウム=ヘキサフルオロホスファート、トリフェニルスルホニウム=ベンゾイルホルマート、ビス(4-クロロフェニル)フェニルスルホニウム=ベンゾイルホルマート、ビス(4-クロロフェニル)-4-メチルフェニルスルホニウム=テトラフルオロボラート、トリス(4-クロロフェニル)スルホニウム=3,5-ビス(メトキシカルボニル)ベンゼンスルホナート、トリス(4-クロロフェニル)スルホニウム=ヘキサフルオロホスファート、トリス(2,4-ジクロロフェニル)スルホニウム=ヘキサフルオロホスファートが挙げられる。Examples of sulfonium salt compounds include triarylsulfonium salt compounds, particularly triarylsulfonium salt compounds in which at least a portion of the electron-withdrawing groups, such as groups on the aromatic ring, are substituted with halogen atoms, and more preferably triarylsulfonium salt compounds in which the total number of halogen atoms substituted on the aromatic ring is 4 or more. Specific examples include triphenylsulfonium hexafluorophosphate, triphenylsulfonium benzoylformate, bis(4-chlorophenyl)phenylsulfonium benzoylformate, bis(4-chlorophenyl)-4-methylphenylsulfonium tetrafluoroborate, tris(4-chlorophenyl)sulfonium 3,5-bis(methoxycarbonyl)benzenesulfonate, tris(4-chlorophenyl)sulfonium hexafluorophosphate, and tris(2,4-dichlorophenyl)sulfonium hexafluorophosphate.

また、ヨードニウム塩化合物及びスルホニウム塩化合物の対アニオンの例としては、スルホネートアニオン、カルボキシレートアニオン、テトラフルオロボレートアニオン、ヘキサフルオロホスフェートアニオン、p-トルエンスルホネートアニオン、トシレートアニオン、スルホンアミドアニオン又はスルホンイミドアニオンが挙げられる。
上記の中でも、スルホンアミドアニオン又はスルホンイミドアニオンが好ましく、スルホンイミドアニオンがより好ましい。
スルホンアミドアニオンとしては、アリールスルホンアミドアニオンが好ましい。
また、スルホンイミドアニオンとしては、ビスアリールスルホンイミドアニオンが好ましい。
スルホンアミドアニオン又はスルホンイミドアニオンの具体例を以下に示すが、本開示はこれらに限定されるものではない。下記具体例中、Phはフェニル基を、Meはメチル基を、Etはエチル基を、それぞれ表す。
Examples of the counter anion of the iodonium salt compound and the sulfonium salt compound include a sulfonate anion, a carboxylate anion, a tetrafluoroborate anion, a hexafluorophosphate anion, a p-toluenesulfonate anion, a tosylate anion, a sulfonamide anion, and a sulfonimide anion.
Among the above, sulfonamide anions and sulfonimide anions are preferred, and sulfonimide anions are more preferred.
The sulfonamide anion is preferably an arylsulfonamide anion.
The sulfonimide anion is preferably a bisarylsulfonimide anion.
Specific examples of sulfonamide anions or sulfonimide anions are shown below, but the present disclosure is not limited thereto. In the following specific examples, Ph represents a phenyl group, Me represents a methyl group, and Et represents an ethyl group.

電子受容型重合開始剤の最低空軌道(LUMO)は、感度の向上の観点から、-3.00eV以下であることが好ましく、-3.02eV以下であることがより好ましい。
また、下限としては、-3.80eV以上であることが好ましく、-3.60eV以上であることがより好ましい。
The lowest unoccupied molecular orbital (LUMO) of the electron-accepting polymerization initiator is preferably −3.00 eV or less, and more preferably −3.02 eV or less, from the viewpoint of improving sensitivity.
The lower limit is preferably −3.80 eV or more, and more preferably −3.60 eV or more.

電子受容型重合開始剤は、1種単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
電子受容型重合開始剤の含有量は、画像記録層の全質量に対して、0.1質量%~50質量%であることが好ましく、0.5質量%~30質量%であることがより好ましく、0.8質量%~20質量%であることが特に好ましい。
The electron-accepting polymerization initiator may be used alone or in combination of two or more kinds.
The content of the electron-accepting polymerization initiator is preferably from 0.1% by mass to 50% by mass, more preferably from 0.5% by mass to 30% by mass, and particularly preferably from 0.8% by mass to 20% by mass, based on the total mass of the image recording layer.

<<電子供与型重合開始剤(重合助剤)>>
上記画像記録層は、重合開始剤として、電子供与型重合開始剤(「重合助剤」ともいう。)を含むことが好ましく、電子受容型重合開始剤、及び、電子供与型重合開始剤を含むことがより好ましい。
本開示における電子供与型重合開始剤は、赤外線露光により赤外線吸収剤の電子が励起又は分子内移動した際に、赤外線吸収剤の一電子抜けた軌道に分子間電子移動で一電子を供与することにより、ラジカル等の重合開始種を発生する化合物である。
電子供与型重合開始剤としては、電子供与型ラジカル重合開始剤であることが好ましい。
上記画像記録層は、平版印刷版における耐刷性向上の観点から、以下に説明する電子供与型重合開始剤を含有することがより好ましく、その例として以下の5種が挙げられる。
(i)アルキル又はアリールアート錯体:酸化的に炭素-ヘテロ結合が解裂し、活性ラジカルを生成すると考えられる。具体的には、ボレート化合物が好ましい。
(ii)N-アリールアルキルアミン化合物:酸化により窒素に隣接した炭素上のC-X結合が解裂し、活性ラジカルを生成するものと考えられる。Xとしては、水素原子、カルボキシル基、トリメチルシリル基又はベンジル基が好ましい。具体的には、例えば、N-フェニルグリシン類(フェニル基に置換基を有していてもいなくてもよい。)、N-フェニルイミノジ酢酸(フェニル基に置換基を有していてもいなくてもよい。)が挙げられる。
(iii)含硫黄化合物:上述のアミン類の窒素原子を硫黄原子に置き換えたものが、同様の作用により活性ラジカルを生成し得る。例えばフェニルチオ酢酸(フェニル基に置換基を有していてもいなくてもよい。)が挙げられる。
(iv)含錫化合物:上述のアミン類の窒素原子を錫原子に置き換えたものが、同様の作用により活性ラジカルを生成し得る。
(v)スルフィン酸塩類:酸化により活性ラジカルを生成し得る。具体的は、アリールスルフィン駿ナトリウム等を挙げることができる。
<<Electron-donating polymerization initiator (polymerization aid)>>
The image recording layer preferably contains, as a polymerization initiator, an electron-donating polymerization initiator (also called a "polymerization auxiliary"), and more preferably contains an electron-accepting polymerization initiator and an electron-donating polymerization initiator.
The electron-donating polymerization initiator in the present disclosure is a compound that, when an electron of an infrared absorber is excited or moves intramolecularly by exposure to infrared light, donates one electron to an orbital of the infrared absorber from which one electron has been lost through intermolecular electron transfer, thereby generating a polymerization initiating species such as a radical.
The electron-donating polymerization initiator is preferably an electron-donating radical polymerization initiator.
From the viewpoint of improving the printing durability of the lithographic printing plate, the image recording layer more preferably contains an electron-donating polymerization initiator as described below, examples of which include the following five types.
(i) Alkyl or aryl ate complexes: It is believed that the carbon-hetero bond is oxidatively cleaved to generate an active radical. Specifically, borate compounds are preferred.
(ii) N-arylalkylamine compounds: It is believed that the C-X bond on the carbon adjacent to the nitrogen is cleaved by oxidation to generate an active radical. X is preferably a hydrogen atom, a carboxyl group, a trimethylsilyl group, or a benzyl group. Specific examples include N-phenylglycines (which may or may not have a substituent on the phenyl group) and N-phenyliminodiacetic acids (which may or may not have a substituent on the phenyl group).
(iii) Sulfur-containing compounds: Compounds in which the nitrogen atom of the above-mentioned amines is replaced with a sulfur atom can generate active radicals by the same action, such as phenylthioacetic acid (which may or may not have a substituent on the phenyl group).
(iv) Tin-containing compounds: Compounds in which the nitrogen atom of the above-mentioned amines is replaced with a tin atom can generate active radicals by the same action.
(v) Sulfinates: capable of generating active radicals by oxidation. Specific examples include sodium arylsulfinates.

これらの中でも、上記画像記録層は、耐刷性の観点から、ボレート化合物を含有することが好ましい。
ボレート化合物としては、耐刷性及び発色性の観点から、テトラアリールボレート化合物、又は、モノアルキルトリアリールボレート化合物であることが好ましく、テトラアリールボレート化合物であることがより好ましい。
ボレート化合物が有する対カチオンとしては、特に制限はないが、アルカリ金属イオン、又は、テトラアルキルアンモニウムイオンであることが好ましく、ナトリウムイオン、カリウムイオン、又は、テトラブチルアンモニウムイオンであることがより好ましい。
Among these, from the viewpoint of printing durability, the image recording layer preferably contains a borate compound.
From the viewpoints of printing durability and color development, the borate compound is preferably a tetraarylborate compound or a monoalkyltriarylborate compound, and more preferably a tetraarylborate compound.
The counter cation of the borate compound is not particularly limited, but is preferably an alkali metal ion or a tetraalkylammonium ion, and more preferably a sodium ion, a potassium ion, or a tetrabutylammonium ion.

ボレート化合物として具体的には、ナトリウムテトラフェニルボレートが好ましく挙げられる。A specific example of a borate compound that is preferred is sodium tetraphenylborate.

以下に電子供与型重合開始剤の好ましい具体例として、B-1~B-9を示すが、これらに限定されないことは、言うまでもない。また、下記化学式において、Phはフェニル基を表し、Buはn-ブチル基を表す。 Preferred examples of electron donating polymerization initiators are shown below as B-1 to B-9, but needless to say, they are not limited to these. In the following chemical formulas, Ph represents a phenyl group, and Bu represents an n-butyl group.

また、本開示に用いられる電子供与型重合開始剤の最高被占軌道(HOMO)は、感度の向上の観点から、-6.00eV以上であることが好ましく、-5.95eV以上であることがより好ましく、-5.93eV以上であることが更に好ましい。
また、上限としては、-5.00eV以下であることが好ましく、-5.40eV以下であることがより好ましい。
Moreover, the highest occupied molecular orbital (HOMO) of the electron donating polymerization initiator used in the present disclosure is preferably −6.00 eV or more, more preferably −5.95 eV or more, and even more preferably −5.93 eV or more, from the viewpoint of improving sensitivity.
The upper limit is preferably −5.00 eV or less, and more preferably −5.40 eV or less.

電子供与型重合開始剤は、1種のみを含有しても、2種以上を併用してもよい。
電子供与型重合開始剤の含有量としては、感度及び耐刷性の観点から、画像記録層の全質量に対し、0.01質量%~30質量%であることが好ましく、0.05質量%~25質量%であることがより好ましく、0.1質量%~20質量%であることが更に好ましい。
The electron-donating polymerization initiator may be used alone or in combination of two or more kinds.
From the viewpoints of sensitivity and printing durability, the content of the electron-donating polymerization initiator is preferably from 0.01% by mass to 30% by mass, more preferably from 0.05% by mass to 25% by mass, and even more preferably from 0.1% by mass to 20% by mass, relative to the total mass of the image recording layer.

本開示において、画像記録層が、オニウムイオンと、上述の電子供与型重合開始剤におけるアニオンと、を含む場合、画像記録層は電子受容型重合開始剤及び上記電子供与型重合開始剤を含むものとする。In the present disclosure, when the image recording layer contains an onium ion and an anion in the above-mentioned electron-donating polymerization initiator, the image recording layer is deemed to contain an electron-accepting polymerization initiator and the above-mentioned electron-donating polymerization initiator.

-電子供与型重合開始剤と赤外線吸収剤との関係-
本開示における画像記録層は、感度の向上の観点から、上記電子供与型重合開始剤及び後述する赤外線吸収剤を含有し、赤外線吸収剤のHOMO-上記電子供与型重合開始剤のHOMOの値が0.70eV以下であることが好ましく、0.70eV~-0.10eVであることがより好ましい。
なお、マイナスの値は、上記電子供与型重合開始剤のHOMOが、赤外線吸収剤のHOMOよりも高くなることを意味する。
- Relationship between electron donor polymerization initiators and infrared absorbers -
From the viewpoint of improving sensitivity, the image recording layer in the present disclosure contains the electron-donating polymerization initiator and an infrared absorber described later, and the value of HOMO of the infrared absorber - HOMO of the electron-donating polymerization initiator is preferably 0.70 eV or less, and more preferably 0.70 eV to -0.10 eV.
A negative value means that the HOMO of the electron-donating polymerization initiator is higher than the HOMO of the infrared absorber.

-赤外線吸収剤及び電子受容型重合開始剤の好ましい態様-
また、後述する赤外線吸収剤としては、感度の向上の観点から、ハンセンの溶解度パラメータにおけるδdが16以上であり、δpが16~32であり、且つ、δhがδpの60%以下である有機アニオンを有することが好ましい態様である。
本開示における電子受容型重合開始剤としては、感度の向上の観点から、ハンセンの溶解度パラメータにおけるδdが16以上であり、δpが16~32であり、且つ、δhがδpの60%以下である有機アニオンを有することが好ましい態様である。
-Preferred embodiments of infrared absorber and electron-accepting polymerization initiator-
In addition, from the viewpoint of improving sensitivity, the infrared absorber described later preferably has an organic anion in which the Hansen solubility parameters δd is 16 or more, δp is 16 to 32, and δh is 60% or less of δp.
From the viewpoint of improving sensitivity, the electron-accepting polymerization initiator in the present disclosure preferably has an organic anion in which, in Hansen solubility parameters, δd is 16 or more, δp is 16 to 32, and δh is 60% or less of δp.

ここで、本開示におけるハンセンの溶解度パラメータにおけるδd、δp及びδhは、ハンセン(Hansen)の溶解度パラメータにおける分散項δd[単位:MPa0.5]及び極性項δp[単位:MPa0.5]を用いる。ここで、ハンセン(Hansen)の溶解度パラメータは、ヒルデブランド(Hildebrand)によって導入された溶解度パラメータを、分散項δd、極性項δp、水素結合項δhの3成分に分割し、3次元空間に表したものである。
ハンセン(Hansen)の溶解度パラメータの詳細については、Charles M.Hansen著の文献「Hansen Solubility Parameters;A Users Handbook(CRC Press,2007)」に記載されている。
Here, the δd, δp, and δh in the Hansen solubility parameter in the present disclosure use the dispersion term δd [unit: MPa 0.5 ] and the polar term δp [unit: MPa 0.5 ] in the Hansen solubility parameter. Here, the Hansen solubility parameter is a solubility parameter introduced by Hildebrand, which is divided into three components, the dispersion term δd, the polar term δp, and the hydrogen bond term δh, and is expressed in a three-dimensional space.
Details of Hansen's solubility parameters are described in the literature "Hansen Solubility Parameters; A Users Handbook (CRC Press, 2007)" written by Charles M. Hansen.

本開示において、上記有機アニオンのハンセンの溶解度パラメータにおけるδd、δp及びδhは、コンピュータソフトウェア「Hansen Solubility Parameters in Practice(HSPiP ver.4.1.07)」を用いることにより、その化学構造から推算した値である。In this disclosure, the δd, δp, and δh in the Hansen solubility parameters of the above organic anions are values estimated from their chemical structures using computer software "Hansen Solubility Parameters in Practice (HSPiP ver. 4.1.07)."

ハンセンの溶解度パラメータにおけるδdが16以上であり、δpが16~32であり、且つ、δhがδpの60%以下である有機アニオンの具体例としては、上述したI-1~I-15、I-17~I-21、及び、I-23~I-25、並びに、以下に示すものが好適に挙げられるが、これらに限定されないことは言うまでもない。中でも、ビス(ハロゲン置換ベンゼンスルホニル)イミドアニオンがより好適に挙げられ、上述したI-5が特に好適に挙げられる。 Specific examples of organic anions having a Hansen solubility parameter δd of 16 or more, δp of 16 to 32, and δh of 60% or less of δp preferably include the above-mentioned I-1 to I-15, I-17 to I-21, and I-23 to I-25, as well as the following, but needless to say, are not limited to these. Among these, bis(halogen-substituted benzenesulfonyl)imide anions are more preferably exemplified, and the above-mentioned I-5 is particularly preferably exemplified.

-粒子-
上記画像記録層は、UV耐刷性の観点から、粒子を含むことが好ましい。
粒子としては、有機粒子であっても、無機粒子であってもよいが、UV耐刷性の観点から、有機粒子を含むことが好ましく、ポリマー粒子を含むことがより好ましい。
無機粒子としては、公知の無機粒子を用いることができ、シリカ粒子、チタニア粒子等の金属酸化物粒子を好適に用いることができる。
-particle-
From the viewpoint of UV printing durability, the image recording layer preferably contains particles.
The particles may be organic particles or inorganic particles, but from the viewpoint of UV printing durability, it is preferable that the particles contain organic particles, and it is more preferable that the particles contain polymer particles.
As the inorganic particles, known inorganic particles can be used, and metal oxide particles such as silica particles and titania particles can be suitably used.

ポリマー粒子は、熱可塑性ポリマー粒子、熱反応性ポリマー粒子、重合性基を有するポリマー粒子、疎水性化合物を内包しているマイクロカプセル、及び、ミクロゲル(架橋ポリマー粒子)よりなる群から選ばれることが好ましい。中でも、重合性基を有するポリマー粒子又はミクロゲルが好ましい。特に好ましい実施形態では、ポリマー粒子は少なくとも1つのエチレン性不飽和重合性基を含む。このようなポリマー粒子の存在により、露光部の耐刷性及び未露光部の機上現像性を高める効果が得られる。
また、ポリマー粒子は、熱可塑性ポリマー粒子であることが好ましい。
The polymer particles are preferably selected from the group consisting of thermoplastic polymer particles, thermoreactive polymer particles, polymer particles having a polymerizable group, microcapsules containing a hydrophobic compound, and microgels (crosslinked polymer particles). Among them, polymer particles or microgels having a polymerizable group are preferred. In a particularly preferred embodiment, the polymer particles contain at least one ethylenically unsaturated polymerizable group. The presence of such polymer particles provides the effect of increasing the printing durability of the exposed area and the on-press developability of the unexposed area.
The polymer particles are preferably thermoplastic polymer particles.

熱可塑性ポリマー粒子としては、1992年1月のResearch Disclosure No.33303、特開平9-123387号公報、同9-131850号公報、同9-171249号公報、同9-171250号公報及び欧州特許第931647号明細書などに記載の熱可塑性ポリマー粒子が好ましい。
熱可塑性ポリマー粒子を構成するポリマーの具体例としては、エチレン、スチレン、塩化ビニル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、塩化ビニリデン、アクリロニトリル、ビニルカルバゾール、ポリアルキレン構造を有するアクリレート又はメタクリレートなどのモノマーのホモポリマー若しくはコポリマー又はそれらの混合物を挙げることができる。好ましくは、ポリスチレン、スチレン及びアクリロニトリルを含む共重合体、又は、ポリメタクリル酸メチルを挙げることができる。熱可塑性ポリマー粒子の平均粒径は0.01μm~3.0μmが好ましい。
As the thermoplastic polymer particles, preferred are those described in Research Disclosure No. 33303 of January 1992, JP-A Nos. 9-123387, 9-131850, 9-171249, and 9-171250, and European Patent No. 931647, etc.
Specific examples of the polymer constituting the thermoplastic polymer particles include homopolymers or copolymers of monomers such as ethylene, styrene, vinyl chloride, methyl acrylate, ethyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, vinylidene chloride, acrylonitrile, vinylcarbazole, acrylates or methacrylates having a polyalkylene structure, or mixtures thereof. Preferred examples include copolymers containing polystyrene, styrene and acrylonitrile, or polymethyl methacrylate. The average particle size of the thermoplastic polymer particles is preferably 0.01 μm to 3.0 μm.

熱反応性ポリマー粒子としては、熱反応性基を有するポリマー粒子が挙げられる。熱反応性ポリマー粒子は熱反応による架橋及びその際の官能基変化により疎水化領域を形成する。 Examples of thermally reactive polymer particles include polymer particles having thermally reactive groups. Thermally reactive polymer particles form hydrophobic regions due to crosslinking caused by the thermal reaction and the resulting changes in functional groups.

熱反応性基を有するポリマー粒子における熱反応性基としては、化学結合が形成されるならば、どのような反応を行う官能基でもよいが、重合性基であることが好ましく、その例として、ラジカル重合反応を行うエチレン性不飽和基(例えば、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、アリル基など)、カチオン重合性基(例えば、ビニル基、ビニルオキシ基、エポキシ基、オキセタニル基など)、付加反応を行うイソシアナト基又はそのブロック体、エポキシ基、ビニルオキシ基及びこれらの反応相手である活性水素原子を有する官能基(例えば、アミノ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基など)、縮合反応を行うカルボキシ基及び反応相手であるヒドロキシ基又はアミノ基、開環付加反応を行う酸無水物及び反応相手であるアミノ基又はヒドロキシ基などが好ましく挙げられる。The thermally reactive groups in the polymer particles having thermally reactive groups may be any functional group that undergoes any reaction as long as a chemical bond is formed, but are preferably polymerizable groups. Preferred examples of such groups include ethylenically unsaturated groups that undergo radical polymerization reactions (e.g., acryloyl groups, methacryloyl groups, vinyl groups, allyl groups, etc.), cationic polymerizable groups (e.g., vinyl groups, vinyloxy groups, epoxy groups, oxetanyl groups, etc.), isocyanato groups or their blocks that undergo addition reactions, epoxy groups, vinyloxy groups, and functional groups having active hydrogen atoms that are their reaction partners (e.g., amino groups, hydroxy groups, carboxy groups, etc.), carboxy groups and their reaction partners, hydroxy groups or amino groups that undergo condensation reactions, and acid anhydrides and their reaction partners, amino groups or hydroxy groups, that undergo ring-opening addition reactions.

マイクロカプセルとしては、例えば、特開2001-277740号公報、特開2001-277742号公報に記載のごとく、画像記録層の構成成分の少なくとも一部をマイクロカプセルに内包させたものが挙げられる。画像記録層の構成成分は、マイクロカプセル外にも含有させることもできる。マイクロカプセルを含有する画像記録層は、疎水性の構成成分をマイクロカプセルに内包し、親水性の構成成分をマイクロカプセル外に含有する構成が好ましい態様である。 As an example of the microcapsules, as described in JP-A-2001-277740 and JP-A-2001-277742, at least some of the components of the image recording layer are encapsulated in the microcapsules. The components of the image recording layer can also be contained outside the microcapsules. A preferred embodiment of the image recording layer containing microcapsules is one in which hydrophobic components are encapsulated in the microcapsules and hydrophilic components are contained outside the microcapsules.

ミクロゲル(架橋ポリマー粒子)は、その表面又は内部の少なくとも一方に、画像記録層の構成成分の一部を含有することができる。特に、ラジカル重合性基をその表面に有する反応性ミクロゲルは、得られる平版印刷版原版の感度、及び、得られる平版印刷版の耐刷性の観点から好ましい。The microgel (crosslinked polymer particle) can contain some of the components of the image recording layer on at least one of its surface or interior. In particular, reactive microgels having radically polymerizable groups on their surface are preferred from the viewpoints of the sensitivity of the resulting lithographic printing plate precursor and the printing durability of the resulting lithographic printing plate.

画像記録層の構成成分をマイクロカプセル化又はミクロゲル化するには、公知の方法が適用できる。 Known methods can be applied to microencapsulate or microgel the components of the image recording layer.

また、ポリマー粒子としては、得られる平版印刷版の耐刷性、耐汚れ性及び保存安定性の観点から、分子中に2個以上のヒドロキシ基を有する多価フェノール化合物とイソホロンジイソシアネートとの付加物である多価イソシアネート化合物、及び、活性水素を有する化合物の反応により得られるものが好ましい。
上記多価フェノール化合物としては、フェノール性水酸基を有するベンゼン環を複数有している化合物が好ましい。
上記活性水素を有する化合物としては、ポリオール化合物、又は、ポリアミン化合物が好ましく、ポリオール化合物がより好ましく、プロピレングリコール、グリセリン及びトリメチロールプロパンよりなる群から選ばれた少なくとも1種の化合物が更に好ましい。
分子中に2個以上のヒドロキシ基を有する多価フェノール化合物とイソホロンジイソシアネートとの付加物である多価イソシアネート化合物、及び、活性水素を有する化合物の反応により得られる樹脂の粒子としては、特開2012-206495号公報の段落0032~0095に記載のポリマー粒子が好ましく挙げられる。
From the viewpoint of the printing durability, stain resistance and storage stability of the resulting lithographic printing plate, the polymer particles are preferably those obtained by reacting a polyisocyanate compound, which is an adduct of a polyhydric phenol compound having two or more hydroxy groups in the molecule with isophorone diisocyanate, with a compound having active hydrogen.
The polyhydric phenol compound is preferably a compound having a plurality of benzene rings each having a phenolic hydroxyl group.
The compound having active hydrogen is preferably a polyol compound or a polyamine compound, more preferably a polyol compound, and even more preferably at least one compound selected from the group consisting of propylene glycol, glycerin, and trimethylolpropane.
Preferred examples of resin particles obtained by reacting a polyisocyanate compound, which is an adduct of a polyhydric phenol compound having two or more hydroxy groups in the molecule and isophorone diisocyanate, with a compound having active hydrogen include the polymer particles described in paragraphs 0032 to 0095 of JP2012-206495A.

更に、ポリマー粒子としては、得られる平版印刷版の耐刷性及び耐溶剤性の観点から、疎水性主鎖を有し、i)上記疎水性主鎖に直接的に結合されたペンダントシアノ基を有する構成ユニット、及び、ii)親水性ポリアルキレンオキシドセグメントを含むペンダント基を有する構成ユニットの両方を含むことが好ましい。
上記疎水性主鎖としては、アクリル樹脂鎖が好ましく挙げられる。
上記ペンダントシアノ基の例としては、-[CHCH(C≡N)-]又は-[CHC(CH)(C≡N)-]が好ましく挙げられる。
また、上記ペンダントシアノ基を有する構成ユニットは、エチレン系不飽和型モノマー、例えば、アクリロニトリル又はメタクリロニトリルから、又は、これらの組み合わせから容易に誘導することができる。
また、上記親水性ポリアルキレンオキシドセグメントにおけるアルキレンオキシドとしては、エチレンオキシド又はプロピレンオキシドが好ましく、エチレンオキシドがより好ましい。
上記親水性ポリアルキレンオキシドセグメントにおけるアルキレンオキシド構造の繰り返し数は、10~100であることが好ましく、25~75であることがより好ましく、40~50であることが更に好ましい。
疎水性主鎖を有し、i)上記疎水性主鎖に直接的に結合されたペンダントシアノ基を有する構成ユニット、及び、ii)親水性ポリアルキレンオキシドセグメントを含むペンダント基を有する構成ユニットの両方を含む樹脂の粒子としては、特表2008-503365号公報の段落0039~0068に記載のものが好ましく挙げられる。
Furthermore, from the viewpoint of the printing durability and solvent resistance of the resulting lithographic printing plate, it is preferable that the polymer particles have a hydrophobic main chain and contain both i) a constituent unit having a pendant cyano group directly bonded to the hydrophobic main chain, and ii) a constituent unit having a pendant group that includes a hydrophilic polyalkylene oxide segment.
A preferred example of the hydrophobic main chain is an acrylic resin chain.
Preferred examples of the pendant cyano group include -[CH 2 CH(C≡N)-] or -[CH 2 C(CH 3 )(C≡N)-].
Furthermore, the structural unit having a pendant cyano group can be easily derived from an ethylenically unsaturated monomer, such as acrylonitrile or methacrylonitrile, or a combination thereof.
The alkylene oxide in the hydrophilic polyalkylene oxide segment is preferably ethylene oxide or propylene oxide, and more preferably ethylene oxide.
The number of repeating alkylene oxide structures in the hydrophilic polyalkylene oxide segment is preferably 10-100, more preferably 25-75, and even more preferably 40-50.
Preferred examples of resin particles having a hydrophobic main chain and including both i) a constituent unit having a pendant cyano group directly bonded to the hydrophobic main chain, and ii) a constituent unit having a pendant group containing a hydrophilic polyalkylene oxide segment include those described in paragraphs [0039] to [0068] of JP2008-503365A.

また、上記ポリマー粒子は、UV耐刷性、及び、機上現像性の観点から、親水性基を有することが好ましい。
上記親水性基としては、親水性を有する構造であれば、特に制限はないが、カルボキシ基等の酸基、ヒドロキシ基、アミノ基、シアノ基、ポリアルキレンオキシド構造等が挙げられる。
中でも、機上現像性、及び、UV耐刷性の観点から、ポリアルキレンオキシド構造が好ましく、ポリエチレンオキシド構造、ポリプロピレンオキシド構造、又は、ポリエチレン/プロピレンオキシド構造がより好ましい。
また、機上現像性、及び、機上現像時の現像カス抑制性の観点からは、上記ポリアルキレンオキシド構造として、ポリプロピレンオキシド構造を有することが好ましく、ポリエチレンオキシド構造及びポリプロピレンオキシド構造を有することがより好ましい。
また、上記親水性基としては、耐刷性、着肉性、及び、機上現像性の観点から、シアノ基を有する構成単位、又は、下記式Zで表される基を含むことが好ましく、下記式(AN)で表される構成単位、又は、下記式Zで表される基を含むことがより好ましく、下記式Zで表される基を含むことが特に好ましい。
*-Q-W-Y 式Z
式Z中、Qは二価の連結基を表し、Wは親水性構造を有する二価の基又は疎水性構造を有する二価の基を表し、Yは親水性構造を有する一価の基又は疎水性構造を有する一価の基を表し、W及びYのいずれかは親水性構造を有し、*は他の構造との結合部位を表す。
In addition, from the viewpoints of UV printing durability and on-press developability, the polymer particles preferably have a hydrophilic group.
The hydrophilic group is not particularly limited as long as it has a structure having hydrophilicity, and examples of the hydrophilic group include acid groups such as a carboxy group, a hydroxy group, an amino group, a cyano group, and a polyalkylene oxide structure.
Among these, from the viewpoints of on-press developability and UV printing durability, a polyalkylene oxide structure is preferred, and a polyethylene oxide structure, a polypropylene oxide structure, or a polyethylene/propylene oxide structure is more preferred.
From the viewpoint of on-press developability and suppression of development residue during on-press development, the polyalkylene oxide structure preferably has a polypropylene oxide structure, and more preferably has a polyethylene oxide structure or a polypropylene oxide structure.
From the viewpoints of printing durability, ink receptivity, and on-press developability, the hydrophilic group preferably contains a structural unit having a cyano group or a group represented by the following formula Z, more preferably contains a structural unit represented by the following formula (AN) or a group represented by the following formula Z, and particularly preferably contains a group represented by the following formula Z:
*-Q-W-Y Formula Z
In formula Z, Q represents a divalent linking group, W represents a divalent group having a hydrophilic structure or a divalent group having a hydrophobic structure, Y represents a monovalent group having a hydrophilic structure or a monovalent group having a hydrophobic structure, either W or Y has a hydrophilic structure, and * represents a bonding site with another structure.

式(AN)中、RANは、水素原子又はメチル基を表す。 In formula (AN), R AN represents a hydrogen atom or a methyl group.

上記ポリマー粒子に含まれるポリマーは、UV耐刷性の観点から、シアノ基を有する化合物により形成される構成単位を含むことが好ましい。
シアノ基は、通常、シアノ基を有する化合物(モノマー)を用いて、シアノ基を含む構成単位として導入されることが好ましい。シアノ基を有する化合物としては、アクリロニトリル化合物が挙げられ、(メタ)アクリロニトリルが好適に挙げられる。
シアノ基を有する構成単位としては、アクリロニトリル化合物により形成される構成単位であることが好ましく、(メタ)アクリロニトリルにより形成される構成単位、すなわち、上記式(AN)で表される構成単位がより好ましい。
上記ポリマーが、シアノ基を有する構成単位を有するポリマーを含む場合、シアノ基を有する構成単位を有するポリマーにおけるシアノ基を有する構成単位、好ましくは上記式(AN)で表される構成単位の含有量は、UV耐刷性の観点から、シアノ基を有する構成単位を有するポリマーの全質量に対し、5質量%~90質量%であることが好ましく、20質量%~80質量%であることがより好ましく、30質量%~60質量%であることが特に好ましい。
From the viewpoint of UV printing durability, the polymer contained in the polymer particles preferably contains a structural unit formed from a compound having a cyano group.
The cyano group is preferably introduced as a structural unit containing a cyano group by using a compound (monomer) having a cyano group. Examples of the compound having a cyano group include an acrylonitrile compound, and (meth)acrylonitrile is preferred.
The structural unit having a cyano group is preferably a structural unit formed from an acrylonitrile compound, and more preferably a structural unit formed from (meth)acrylonitrile, that is, a structural unit represented by the above formula (AN).
When the above polymer contains a polymer having a structural unit having a cyano group, the content of the structural unit having a cyano group, preferably the structural unit represented by the above formula (AN), in the polymer having a structural unit having a cyano group is, from the viewpoint of UV printing durability, preferably 5% by mass to 90% by mass, more preferably 20% by mass to 80% by mass, and particularly preferably 30% by mass to 60% by mass, relative to the total mass of the polymer having a structural unit having a cyano group.

上記ポリマー粒子は、UV耐刷性の観点から、芳香族ビニル化合物により形成される構成単位を含むことが好ましい。
芳香族ビニル化合物としては、芳香環にビニル基が結合した構造を有する化合物であればよいが、スチレン化合物、ビニルナフタレン化合物等が挙げられ、スチレン化合物が好ましく、スチレンがより好ましい。
スチレン化合物としては、スチレン、p-メチルスチレン、p-メトキシスチレン、β-メチルスチレン、p-メチル-β-メチルスチレン、α-メチルスチレン、及びp-メトキシ-β-メチルスチレン等が挙げられ、スチレンが好ましく挙げられる。
ビニルナフタレン化合物としては、1-ビニルナフタレン、メチル-1-ビニルナフタレン、β-メチル-1-ビニルナフタレン、4-メチル-1-ビニルナフタレン、4-メトキシ-1-ビニルナフタレン等が挙げられ、1-ビニルナフタレンが好ましく挙げられる。
From the viewpoint of UV printing durability, the polymer particles preferably contain a structural unit formed from an aromatic vinyl compound.
The aromatic vinyl compound may be any compound having a structure in which a vinyl group is bonded to an aromatic ring, and examples thereof include styrene compounds and vinylnaphthalene compounds, with styrene compounds being preferred, and styrene being more preferred.
Examples of the styrene compound include styrene, p-methylstyrene, p-methoxystyrene, β-methylstyrene, p-methyl-β-methylstyrene, α-methylstyrene, and p-methoxy-β-methylstyrene, with styrene being preferred.
Examples of the vinylnaphthalene compound include 1-vinylnaphthalene, methyl-1-vinylnaphthalene, β-methyl-1-vinylnaphthalene, 4-methyl-1-vinylnaphthalene, and 4-methoxy-1-vinylnaphthalene, with 1-vinylnaphthalene being preferred.

また、芳香族ビニル化合物により形成される構成単位としては、下記式Z1で表される構成単位が好ましく挙げられる。 In addition, preferred examples of structural units formed by aromatic vinyl compounds include structural units represented by the following formula Z1:

式Z1中、RZ1及びRZ2はそれぞれ独立に、水素原子又はアルキル基を表し、Arは芳香環基を表し、RZ3は置換基を表し、nzは0以上Arの最大置換基数以下の整数を表す。
式Z1中、RZ1及びRZ2はそれぞれ独立に、水素原子又は炭素数1~4のアルキル基であることが好ましく、水素原子又はメチル基であることがより好ましく、いずれも水素原子であることが更に好ましい。
式Z1中、Arはベンゼン環又はナフタレン環であることが好ましく、ベンゼン環であることがより好ましい。
式Z1中、RZ3はアルキル基又はアルコキシ基であることが好ましく、炭素数1~4のアルキル基又は炭素数1~4のアルコキシ基であることがより好ましく、メチル基又はメトキシ基であることが更に好ましい。
式Z1中、RZ3が複数存在する場合、複数のRZ3は同一であってもよいし、それぞれ異なっていてもよい。
式Z1中、nzは0~2の整数であることが好ましく、0又は1であることがより好ましく、0であることが更に好ましい。
In formula Z1, R 2 Z1 and R 2 Z2 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group, Ar represents an aromatic ring group, R 2 Z3 represents a substituent, and nz represents an integer of 0 or more and the maximum number of substituents of Ar or less.
In formula Z1, R 2 Z1 and R 2 Z2 each independently preferably represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom or a methyl group, and further preferably both represent a hydrogen atom.
In formula Z1, Ar is preferably a benzene ring or a naphthalene ring, and more preferably a benzene ring.
In formula Z1, R 2 Z3 is preferably an alkyl group or an alkoxy group, more preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, and further preferably a methyl group or a methoxy group.
In formula Z1, when a plurality of R 2 Z3 are present, the plurality of R 2 Z3 may be the same or different.
In formula Z1, nz is preferably an integer of 0 to 2, more preferably 0 or 1, and even more preferably 0.

上記ポリマー粒子は、芳香族ビニル化合物により形成される構成単位を1種単独で含有していても、2種以上を含有していてもよい。
上記ポリマー粒子において、芳香族ビニル化合物により形成される構成単位の含有量は、インキ着肉性の観点から、上記ポリマー粒子の全質量に対し、0.1質量%~20質量%であることが好ましく、0.5質量%~15質量%であることがより好ましく、1質量%~10質量%であることが特に好ましい。
The polymer particles may contain one type of structural unit formed by an aromatic vinyl compound alone, or may contain two or more types.
In the above polymer particles, the content of the structural unit formed by the aromatic vinyl compound is preferably 0.1% by mass to 20% by mass, more preferably 0.5% by mass to 15% by mass, and particularly preferably 1% by mass to 10% by mass, relative to the total mass of the polymer particles, from the viewpoint of ink receptivity.

また、ポリマー粒子は、UV耐刷性の観点から、架橋構造を有することが好ましく、架橋構造を有する構成単位を含むことがより好ましい。
ポリマー粒子が架橋構造を有することにより、ポリマー粒子自体の硬度が向上するため、画像部強度が向上し、他のインキよりも版を劣化させやすい紫外線硬化型インキを使用した場合であっても、耐刷性(UV耐刷性)が更に向上すると考えられる。
上記架橋構造としては、特に制限はないが、多官能エチレン性不飽和化合物を重合してなる構成単位、又は1種以上の反応性基同士が粒子内部で共有結合を形成した構成単位であることが好ましい。上記多官能エチレン性不飽和化合物の官能数としては、UV耐刷性及び機上現像性の観点から、2~15であることが好ましく、3~10であることがより好ましく、4~10であることが更に好ましく、5~10であることが特に好ましい。
また、上記を言い換えると、上記架橋構造を有する構成単位は、UV耐刷性及び機上現像性の観点から、2官能性~15官能性分岐単位であることが好ましい。
なお、n官能性分岐単位とは、n本の分子鎖が出ている分岐単位のことをいい、言い換えると、n官能性分岐点(架橋構造)を有する構成単位のことである。
また、多官能メルカプト化合物により架橋構造を形成することも好ましく挙げられる。
From the viewpoint of UV printing durability, the polymer particles preferably have a crosslinked structure, and more preferably contain a structural unit having a crosslinked structure.
Since the polymer particles have a crosslinked structure, the hardness of the polymer particles themselves is improved, and therefore the strength of the image area is improved. It is believed that this further improves printing durability (UV printing durability) even when using an ultraviolet-curable ink, which is more likely to deteriorate the plate than other inks.
The crosslinked structure is not particularly limited, but is preferably a structural unit obtained by polymerizing a polyfunctional ethylenically unsaturated compound, or a structural unit in which one or more reactive groups form a covalent bond inside a particle. The number of functions of the polyfunctional ethylenically unsaturated compound is preferably 2 to 15, more preferably 3 to 10, even more preferably 4 to 10, and particularly preferably 5 to 10, from the viewpoints of UV printing durability and on-press developability.
In other words, the structural unit having the crosslinked structure is preferably a bifunctional to 15-functional branch unit from the viewpoints of UV printing durability and on-press developability.
The n-functional branch unit refers to a branch unit having n molecular chains, in other words, a structural unit having an n-functional branch point (crosslinked structure).
In addition, it is also preferable to form a crosslinked structure using a polyfunctional mercapto compound.

上記多官能エチレン性不飽和化合物におけるエチレン性不飽和基としては、特に限定されないが、(メタ)アクリロキシ基、(メタ)アクリルアミド基、芳香族ビニル基、マレイミド基等が挙げられる。
また、上記多官能エチレン性不飽和化合物は、多官能(メタ)アクリレート化合物、又は多官能(メタ)アクリルアミド化合物、又は、多官能芳香族ビニル化合物であることが好ましい。
The ethylenically unsaturated group in the polyfunctional ethylenically unsaturated compound is not particularly limited, but examples thereof include a (meth)acryloxy group, a (meth)acrylamide group, an aromatic vinyl group, and a maleimide group.
The polyfunctional ethylenically unsaturated compound is preferably a polyfunctional (meth)acrylate compound, a polyfunctional (meth)acrylamide compound, or a polyfunctional aromatic vinyl compound.

多官能(メタ)アクリレート化合物としては、ジエチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、トリメチロールプロパンジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、1,4-ブタンジオールジアクリレート、1,6-ヘキサンジオールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレート、トリシクロデカンジメチロールジアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、トリス(β-ヒドロキシエチル)イソシアヌレートのトリアクリレート等が挙げられる。
多官能(メタ)アクリレート化合物としては、N,N’-メチレンビスアクリルアミド、N-[トリス(3-アクリルアミドプロポキシメチル)メチル]アクリルアミド等が挙げられる。
多官能芳香族ビニル化合物としては、ジビニルベンゼン等が挙げられる。
Examples of the polyfunctional (meth)acrylate compound include diethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, tetraethylene glycol diacrylate, trimethylolpropane diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, 1,4-butanediol diacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, polyethylene glycol diacrylate, polypropylene glycol diacrylate, tricyclodecane dimethylol diacrylate, ditrimethylolpropane tetraacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol triacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, and tris(β-hydroxyethyl)isocyanurate triacrylate.
Examples of the polyfunctional (meth)acrylate compound include N,N'-methylenebisacrylamide, N-[tris(3-acrylamidopropoxymethyl)methyl]acrylamide, and the like.
The polyfunctional aromatic vinyl compound may, for example, be divinylbenzene.

上記分岐単位の炭素数としては、特に制限はないが、8~100であることが好ましく、8~70であることがより好ましい。The number of carbon atoms in the branching unit is not particularly limited, but is preferably 8 to 100, and more preferably 8 to 70.

上記ポリマー粒子は、架橋構造を有する構成単位を1種単独で含有していても、2種以上を含有していてもよい。
上記ポリマー粒子において、架橋構造を有する構成単位の含有量は、UV耐刷性及び機上現像性の観点から、上記ポリマー粒子の全質量に対し、0.1質量%~20質量%であることが好ましく、0.5質量%~15質量%であることがより好ましく、1質量%~10質量%であることが特に好ましい。
The polymer particles may contain one type of structural unit having a crosslinked structure, or may contain two or more types of structural units having a crosslinked structure.
In the above polymer particles, the content of the structural unit having a crosslinked structure is, from the viewpoints of UV printing durability and on-press developability, preferably 0.1% by mass to 20% by mass, more preferably 0.5% by mass to 15% by mass, and particularly preferably 1% by mass to 10% by mass, relative to the total mass of the above polymer particles.

また、上記ポリマー粒子は、耐刷性、着肉性、及び、機上現像性の観点から、上記式Zで表される基を有するポリマー粒子を含むことが好ましい。In addition, from the viewpoints of printing durability, ink receptivity, and on-press developability, it is preferable that the polymer particles contain polymer particles having a group represented by the above formula Z.

上記式ZにおけるQは、炭素数1~20の二価の連結基であることが好ましく、炭素数1~10の二価の連結基であることがより好ましい。
また、上記式ZにおけるQは、アルキレン基、アリーレン基、エステル結合、アミド結合、又は、これらを2以上組み合わせた基であることが好ましく、フェニレン基、エステル結合、又は、アミド結合であることがより好ましい。
Q in the above formula Z is preferably a divalent linking group having 1 to 20 carbon atoms, and more preferably a divalent linking group having 1 to 10 carbon atoms.
Furthermore, Q in the above formula Z is preferably an alkylene group, an arylene group, an ester bond, an amide bond, or a group consisting of a combination of two or more of these, and more preferably a phenylene group, an ester bond, or an amide bond.

上記式ZのWにおける親水性構造を有する二価の基は、ポリアルキレンオキシ基、又は、ポリアルキレンオキシ基の一方の末端に-CHCHNR-が結合した基であることが好ましい。なお、Rは、水素原子又はアルキル基を表す。
上記式ZのWにおける疎水性構造を有する二価の基は、-RWA-、-O-RWA-O-、-RN-RWA-NR-、-OC(=O)-RWA-O-、又は、-OC(=O)-RWA-O-であることが好ましい。なお、RWAはそれぞれ独立に、炭素数6~120の直鎖、分岐若しくは環状アルキレン基、炭素数6~120のハロアルキレン基、炭素数6~120のアリーレン基、炭素数6~120のアルカーリレン基(アルキルアリール基から水素原子を1つ除いた二価の基)、又は、炭素数6~120のアラルキレン基を表す。
The divalent group having a hydrophilic structure for W in the above formula Z is preferably a polyalkyleneoxy group or a group in which --CH 2 CH 2 NR W -- is bonded to one end of a polyalkyleneoxy group, where R W represents a hydrogen atom or an alkyl group.
The divalent group having a hydrophobic structure in W of the above formula Z is preferably -R WA -, -O-R WA -O-, -R W N-R WA -NR W -, -OC(═O)-R WA -O-, or -OC(═O)-R WA -O-. Each R WA independently represents a linear, branched or cyclic alkylene group having 6 to 120 carbon atoms, a haloalkylene group having 6 to 120 carbon atoms, an arylene group having 6 to 120 carbon atoms, an alkylylene group having 6 to 120 carbon atoms (a divalent group obtained by removing one hydrogen atom from an alkylaryl group), or an aralkylene group having 6 to 120 carbon atoms.

上記式ZのYにおける親水性構造を有する一価の基は、-OH、-C(=O)OH、末端が水素原子又はアルキル基であるポリアルキレンオキシ基、又は、末端が水素原子又はアルキル基であるポリアルキレンオキシ基の他方の末端に-CHCHN(R)-が結合した基であることが好ましい。
上記式ZのYにおける疎水性構造を有する一価の基は、炭素数6~120の直鎖、分岐若しくは環状アルキル基、炭素数6~120のハロアルキル基、炭素数6~120のアリール基、炭素数6~120のアルカーリル基(アルキルアリール基)、炭素数6~120のアラルキル基、-ORWB、-C(=O)ORWB、又は、-OC(=O)RWBであることが好ましい。RWBは、炭素数6~20を有するアルキル基を表す。
The monovalent group having a hydrophilic structure for Y in the above formula Z is preferably -OH, -C(=O)OH, a polyalkyleneoxy group whose terminal is a hydrogen atom or an alkyl group, or a group in which -CH 2 CH 2 N(R W )- is bonded to the other terminal of a polyalkyleneoxy group whose terminal is a hydrogen atom or an alkyl group.
The monovalent group having a hydrophobic structure for Y in the above formula Z is preferably a linear, branched or cyclic alkyl group having 6 to 120 carbon atoms, a haloalkyl group having 6 to 120 carbon atoms, an aryl group having 6 to 120 carbon atoms, an alkaryl group (alkylaryl group) having 6 to 120 carbon atoms, an aralkyl group having 6 to 120 carbon atoms, -OR WB , -C(=O)OR WB , or -OC(=O)R WB , where R WB represents an alkyl group having 6 to 20 carbon atoms.

上記式Zで表される基を有するポリマー粒子は、耐刷性、着肉性、及び、機上現像性の観点から、Wが親水性構造を有する二価の基であることがより好ましく、Qがフェニレン基、エステル結合、又は、アミド結合であり、Wは、ポリアルキレンオキシ基であり、Yが、末端が水素原子又はアルキル基であるポリアルキレンオキシ基であることがより好ましい。From the viewpoints of printing durability, ink receptivity, and on-press developability, it is more preferable that the polymer particles having a group represented by the above formula Z are such that W is a divalent group having a hydrophilic structure, Q is a phenylene group, an ester bond, or an amide bond, W is a polyalkyleneoxy group, and Y is a polyalkyleneoxy group whose terminal is a hydrogen atom or an alkyl group.

また、上記ポリマー粒子は、耐刷性、着肉性、及び、機上現像性の観点から、重合性基を有するポリマー粒子を含むことが好ましく、粒子表面に重合性基を有するポリマー粒子を含むことがより好ましい。
更に、上記ポリマー粒子は、耐刷性の観点から、親水性基及び重合性基を有するポリマー粒子を含むことが好ましい。
上記重合性基は、カチオン重合性基であっても、ラジカル重合性基であってもよいが、反応性の観点からは、ラジカル重合性基であることが好ましい。
上記重合性基としては、重合可能な基であれば特に制限はないが、反応性の観点から、エチレン性不飽和基が好ましく、ビニルフェニル基(スチリル基)、(メタ)アクリロキシ基、又は、(メタ)アクリルアミド基がより好ましく、(メタ)アクリロキシ基が特に好ましい。
また、重合性基を有するポリマー粒子におけるポリマーは、重合性基を有する構成単位を有することが好ましい。
更に、高分子反応によりポリマー粒子表面に重合性基を導入してもよい。
From the viewpoints of printing durability, ink receptivity, and on-press developability, the polymer particles preferably contain polymer particles having a polymerizable group, and more preferably contain polymer particles having a polymerizable group on the particle surface.
Furthermore, from the viewpoint of printing durability, the polymer particles preferably contain polymer particles having a hydrophilic group and a polymerizable group.
The polymerizable group may be a cationically polymerizable group or a radically polymerizable group, but from the viewpoint of reactivity, it is preferably a radically polymerizable group.
The polymerizable group is not particularly limited as long as it is a polymerizable group, but from the viewpoint of reactivity, an ethylenically unsaturated group is preferred, a vinylphenyl group (styryl group), a (meth)acryloxy group, or a (meth)acrylamide group is more preferred, and a (meth)acryloxy group is particularly preferred.
Furthermore, the polymer in the polymer particles having a polymerizable group preferably has a structural unit having a polymerizable group.
Furthermore, polymerizable groups may be introduced onto the surfaces of the polymer particles by a polymer reaction.

また、上記ポリマー粒子は、耐刷性、着肉性、機上現像性、機上現像時の現像カス抑制性の観点から、ウレア結合を有する樹脂を含むことが好ましく、下記式(Iso)で表されるイソシアネート化合物と水とを少なくとも反応させて得られる構造を有する樹脂を含むことがより好ましく、下記式(Iso)で表されるイソシアネート化合物と水とを少なくとも反応させて得られる構造を有し、かつポリオキシアルキレン構造として、ポリエチレンオキシド構造及びポリプロピレンオキシド構造を有する樹脂を含むことが特に好ましい。また、上記ウレア結合を有する樹脂を含む粒子は、ミクロゲルであることが好ましい。In addition, from the viewpoints of printing durability, ink adhesion, on-press developability, and suppression of development residue during on-press development, the above polymer particles preferably contain a resin having a urea bond, more preferably contain a resin having a structure obtained by at least reacting an isocyanate compound represented by the following formula (Iso) with water, and particularly preferably contain a resin having a structure obtained by at least reacting an isocyanate compound represented by the following formula (Iso) with water, and having a polyethylene oxide structure and a polypropylene oxide structure as a polyoxyalkylene structure. In addition, the particles containing the above resin having a urea bond are preferably microgels.

式(Iso)中、nは0~10の整数を表す。In formula (Iso), n represents an integer from 0 to 10.

上記式(Iso)で表されるイソシアネート化合物と水との反応の一例としては、下記に示す反応が挙げられる。なお、下記の例は、n=0、4,4-異性体を使用した例である。
下記に示すように、上記式(Iso)で表されるイソシアネート化合物と水とを反応させると、水によりイソシアネート基の一部が加水分解し、アミノ基が生じ、生じたアミノ基とイソシアネート基とが反応し、ウレア結合が生成し、二量体が形成される。また、下記反応が繰り返され、ウレア結合を有する樹脂が形成される。
また、下記反応において、アルコール化合物、アミン化合物等のイソシアネート基と反応性を有する化合物(活性水素を有する化合物)を添加することにより、アルコール化合物、アミン化合物等の構造をウレア結合を有する樹脂に導入することもできる。
上記活性水素を有する化合物としては、上述したミクロゲルにおいて記載したものが好ましく挙げられる。
An example of the reaction between the isocyanate compound represented by the above formula (Iso) and water is shown below. Note that the following example is an example in which n=0, 4,4-isomer is used.
As shown below, when the isocyanate compound represented by the above formula (Iso) is reacted with water, a part of the isocyanate group is hydrolyzed by the water to generate an amino group, and the generated amino group reacts with the isocyanate group to generate a urea bond, forming a dimer. In addition, the following reaction is repeated to form a resin having a urea bond.
In addition, in the reaction described below, by adding a compound (a compound having active hydrogen) reactive with an isocyanate group, such as an alcohol compound or an amine compound, it is also possible to introduce the structure of an alcohol compound, an amine compound, or the like into a resin having a urea bond.
Preferred examples of the compound having active hydrogen include those described above in relation to the microgel.

また、上記ウレア結合を有する樹脂は、エチレン性不飽和基を有することが好ましく、下記式(PETA)で表される基を有することがより好ましい。In addition, it is preferable that the resin having the above-mentioned urea bond has an ethylenically unsaturated group, and it is more preferable that the resin has a group represented by the following formula (PETA).

式(PETA)中、波線部分は、他の構造との結合位置を表す。In formula (PETA), the wavy line represents the bonding position with other structures.

上記粒子の平均粒径は、0.01μm~3.0μmが好ましく、0.03μm~2.0μmがより好ましく、0.10μm~1.0μmが更に好ましい。この範囲で良好な解像度と経時安定性が得られる。
本開示における上記粒子の平均一次粒径は、光散乱法により測定するか、又は、粒子の電子顕微鏡写真を撮影し、写真上で粒子の粒径を総計で5,000個測定し、平均値を算出するものとする。なお、非球形粒子については写真上の粒子面積と同一の粒子面積を有する球形粒子の粒径値を粒径とする。
また、本開示における平均粒径は、特に断りのない限り、体積平均粒径であるものとする。
The average particle size of the above particles is preferably 0.01 μm to 3.0 μm, more preferably 0.03 μm to 2.0 μm, and even more preferably 0.10 μm to 1.0 μm, in which case good resolution and stability over time can be obtained.
The average primary particle size of the particles in the present disclosure is measured by a light scattering method, or by taking an electron microscope photograph of the particles, measuring the particle sizes of 5,000 particles in total on the photograph, and calculating the average value. Note that for non-spherical particles, the particle size is the particle size value of a spherical particle having the same particle area as the particle area on the photograph.
In addition, the average particle size in this disclosure is taken to be the volume average particle size unless otherwise specified.

上記画像記録層は、粒子、特にポリマー粒子を1種単独で含有していても、2種以上を含有していてもよい。
また、上記画像記録層における粒子、特にポリマー粒子の含有量は、現像性、UV耐刷性の観点から、上記画像記録層の全質量に対し、5質量%~90質量%が好ましく、10質量%~90質量%であることがより好ましく、20質量%~90質量%であることが更に好ましく、50質量%~90質量%であることが特に好ましい。
また、上記画像記録層におけるポリマー粒子の含有量は、現像性、及び、UV耐刷性の観点から、上記画像記録層の分子量3,000以上の成分の全質量に対し、20質量%~100質量%が好ましく、35質量%~100質量%であることがより好ましく、50質量%~100質量%であることが更に好ましく、80質量%~100質量%であることが特に好ましい。
The image recording layer may contain one type of particles, particularly polymer particles, or may contain two or more types.
Furthermore, from the viewpoints of developability and UV printing durability, the content of particles, particularly polymer particles, in the image recording layer is preferably 5% by mass to 90% by mass, more preferably 10% by mass to 90% by mass, even more preferably 20% by mass to 90% by mass, and particularly preferably 50% by mass to 90% by mass, relative to the total mass of the image recording layer.
From the viewpoints of developability and UV printing durability, the content of the polymer particles in the image recording layer is preferably 20% by mass to 100% by mass, more preferably 35% by mass to 100% by mass, even more preferably 50% by mass to 100% by mass, and particularly preferably 80% by mass to 100% by mass, relative to the total mass of the components having a molecular weight of 3,000 or more in the image recording layer.

-バインダーポリマー-
上記画像記録層は、バインダーポリマーを含んでいてもよいが、機上現像性、及び、UV耐刷性の観点から、含まないことが好ましい。
上記バインダーポリマーは、上記ポリマー粒子以外のポリマー、すなわち、粒子形状でないバインダーポリマーである。
上記バインダーポリマーとしては、(メタ)アクリル樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、又は、ポリウレタン樹脂が好ましい。
- Binder polymer -
The image recording layer may contain a binder polymer, but from the viewpoints of on-press developability and UV printing durability, it is preferable that the image recording layer does not contain a binder polymer.
The binder polymer is a polymer other than the polymer particles, that is, a binder polymer not in particle form.
The binder polymer is preferably a (meth)acrylic resin, a polyvinyl acetal resin, or a polyurethane resin.

中でも、上記バインダーポリマーは、平版印刷版原版の画像記録層に用いられる公知のバインダーポリマーを好適に使用することができる。一例として、機上現像型の平版印刷版原版に用いられるバインダーポリマー(以下、機上現像用バインダーポリマーともいう。)について、詳細に記載する。
機上現像用バインダーポリマーとしては、アルキレンオキシド鎖を有するバインダーポリマーが好ましい。アルキレンオキシド鎖を有するバインダーポリマーは、ポリ(アルキレンオキシド)部位を主鎖に有していても側鎖に有していてもよい。また、ポリ(アルキレンオキシド)を側鎖に有するグラフトポリマーでも、ポリ(アルキレンオキシド)含有繰返し単位で構成されるブロックと(アルキレンオキシド)非含有繰返し単位で構成されるブロックとのブロックコポリマーでもよい。
ポリ(アルキレンオキシド)部位を主鎖に有する場合は、ポリウレタン樹脂が好ましい。ポリ(アルキレンオキシド)部位を側鎖に有する場合の主鎖のポリマーとしては、(メタ)アクリル樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリウレア樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、エポキシ樹脂、ポリスチレン樹脂、ノボラック型フェノール樹脂、ポリエステル樹脂、合成ゴム、天然ゴムが挙げられ、特に(メタ)アクリル樹脂が好ましい。
Among them, the binder polymer may suitably be a known binder polymer used in the image recording layer of a lithographic printing plate precursor. As an example, a binder polymer used in an on-press development type lithographic printing plate precursor (hereinafter also referred to as an on-press development binder polymer) will be described in detail.
The binder polymer for on-press development is preferably a binder polymer having an alkylene oxide chain. The binder polymer having an alkylene oxide chain may have a poly(alkylene oxide) moiety in the main chain or in the side chain. It may also be a graft polymer having a poly(alkylene oxide) in the side chain, or a block copolymer of a block composed of a poly(alkylene oxide)-containing repeating unit and a block composed of a non-(alkylene oxide)-containing repeating unit.
When the main chain has a poly(alkylene oxide) moiety, polyurethane resin is preferred. When the main chain has a poly(alkylene oxide) moiety in a side chain, examples of the polymer of the main chain include (meth)acrylic resin, polyvinyl acetal resin, polyurethane resin, polyurea resin, polyimide resin, polyamide resin, epoxy resin, polystyrene resin, novolac type phenolic resin, polyester resin, synthetic rubber, and natural rubber, and (meth)acrylic resin is particularly preferred.

また、バインダーポリマーの他の好ましい例として、6官能以上10官能以下の多官能チオールを核として、この核に対しスルフィド結合により結合したポリマー鎖を有し、当該ポリマー鎖が重合性基を有する高分子化合物(以下、星型高分子化合物ともいう。)が挙げられる。星型高分子化合物としては、例えば、特開2012-148555号公報に記載の化合物を好ましく用いることができる。Another preferred example of the binder polymer is a polymer compound (hereinafter also referred to as a star-shaped polymer compound) having a 6- to 10-functional polyfunctional thiol core, a polymer chain bonded to the core by a sulfide bond, and the polymer chain having a polymerizable group. As the star-shaped polymer compound, for example, the compounds described in JP-A-2012-148555 can be preferably used.

星型高分子化合物は、特開2008-195018号公報に記載のような画像部の皮膜強度を向上するためのエチレン性不飽和結合等の重合性基を、主鎖又は側鎖、好ましくは側鎖に有しているものが挙げられる。重合性基によってポリマー分子間に架橋が形成され、硬化が促進する。
重合性基としては、(メタ)アクリル基、ビニル基、アリル基、スチリル基などのエチレン性不飽和基やエポキシ基等が好ましく、(メタ)アクリル基、ビニル基、又は、スチリル基が重合反応性の観点でより好ましく、(メタ)アクリル基が特に好ましい。これらの基は高分子反応や共重合によってポリマーに導入することができる。例えば、カルボキシ基を側鎖に有するポリマーとグリシジルメタクリレートとの反応、あるいはエポキシ基を有するポリマーとメタクリル酸などのエチレン性不飽和基含有カルボン酸との反応を利用できる。これらの基は併用してもよい。
Examples of star-shaped polymer compounds include those having a polymerizable group such as an ethylenically unsaturated bond in the main chain or side chain, preferably in the side chain, for improving the film strength in the image area as described in JP-A-2008-195018. The polymerizable group forms a crosslink between polymer molecules, accelerating curing.
As the polymerizable group, an ethylenically unsaturated group such as a (meth)acrylic group, a vinyl group, an allyl group, or a styryl group, or an epoxy group, etc. are preferred, and a (meth)acrylic group, a vinyl group, or a styryl group is more preferred from the viewpoint of polymerization reactivity, and a (meth)acrylic group is particularly preferred. These groups can be introduced into a polymer by a polymer reaction or copolymerization. For example, a reaction between a polymer having a carboxy group in a side chain and glycidyl methacrylate, or a reaction between a polymer having an epoxy group and an ethylenically unsaturated group-containing carboxylic acid such as methacrylic acid can be utilized. These groups may be used in combination.

バインダーポリマーの分子量は、GPC法によるポリスチレン換算値として重量平均分子量(Mw)が、2,000以上であることが好ましく、5,000以上であることがより好ましく、10,000~300,000であることが更に好ましい。The molecular weight of the binder polymer is preferably a weight average molecular weight (Mw) of 2,000 or more, more preferably 5,000 or more, and even more preferably 10,000 to 300,000, as calculated in terms of polystyrene by the GPC method.

必要に応じて、特開2008-195018号公報に記載のポリアクリル酸、ポリビニルアルコールなどの親水性ポリマーを併用することができる。また、親油的なポリマーと親水的なポリマーとを併用することもできる。If necessary, hydrophilic polymers such as polyacrylic acid and polyvinyl alcohol described in JP 2008-195018 A can be used in combination. Also, a lipophilic polymer and a hydrophilic polymer can be used in combination.

本開示において用いられる画像記録層においては、バインダーポリマーを1種単独で使用しても、2種以上を併用してもよい。
上記バインダーポリマーは、画像記録層中に任意な量で含有させることができるが、機上現像性、及び、UV耐刷性の観点から、上記バインダーポリマーを含まないか、又は、上記バインダーポリマーの含有量は、画像記録層の全質量に対して、0質量%を超え20質量%以下であることが好ましく、上記バインダーポリマーを含まないか、又は、上記バインダーポリマーの含有量は、画像記録層の全質量に対して、0質量%を超え10質量%以下であることがより好ましく、上記バインダーポリマーを含まないか、又は、上記バインダーポリマーの含有量は、画像記録層の全質量に対して、0質量%を超え5質量%以下であることが更に好ましく、上記バインダーポリマーを含まないか、又は、上記バインダーポリマーの含有量は、画像記録層の全質量に対して、0質量%を超え2質量%以下であることが特に好ましく、上記バインダーポリマーを含まないことが最も好ましい。
In the image recording layer used in the present disclosure, the binder polymer may be used alone or in combination of two or more kinds.
The binder polymer can be contained in any amount in the image recording layer, but from the viewpoint of on-press developability and UV printing durability, it is preferable that the image recording layer does not contain the binder polymer, or the content of the binder polymer is more than 0 mass% and 20 mass% or less, relative to the total mass of the image recording layer, it is more preferable that the image recording layer does not contain the binder polymer, or the content of the binder polymer is more than 0 mass% and 10 mass% or less, relative to the total mass of the image recording layer, it is even more preferable that the image recording layer does not contain the binder polymer, or the content of the binder polymer is more than 0 mass% and 5 mass% or less, relative to the total mass of the image recording layer, it is particularly preferable that the image recording layer does not contain the binder polymer, or the content of the binder polymer is more than 0 mass% and 2 mass% or less, relative to the total mass of the image recording layer, and it is most preferable that the image recording layer does not contain the binder polymer.

-赤外線吸収剤-
上記画像記録層は、感度の観点から、上記発色性化合物以外の赤外線吸収剤(単に「赤外線吸収剤」ともいう。)を含んでいてもよい。
赤外線吸収剤としては、特に制限はなく、例えば、顔料及び染料が挙げられる。
赤外線吸収剤として用いられる染料としては、市販の染料及び例えば、「染料便覧」(有機合成化学協会編集、昭和45年刊)等の文献に記載されている公知のものが利用できる。具体的には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、ナフトキノン染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン染料、スクアリリウム色素、ピリリウム塩、金属チオレート錯体等の染料が挙げられる。
-Infrared absorbing agent-
From the viewpoint of sensitivity, the image recording layer may contain an infrared absorbing agent (also simply referred to as "infrared absorbing agent") other than the color-forming compound.
The infrared absorbing agent is not particularly limited, and examples thereof include pigments and dyes.
As the dye to be used as the infrared absorber, commercially available dyes and known dyes described in literature such as "Dye Handbook" (edited by the Organic Synthesis Chemistry Association, published in 1970) can be used. Specific examples of the dye include azo dyes, metal complex azo dyes, pyrazolone azo dyes, naphthoquinone dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, carbonium dyes, quinoneimine dyes, methine dyes, cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, and metal thiolate complex dyes.

これらの染料のうち特に好ましいものとしては、シアニン色素、スクアリリウム色素、ピリリウム塩、ニッケルチオレート錯体、インドレニンシアニン色素が挙げられる。更に、シアニン色素やインドレニンシアニン色素が挙げられる。中でも、シアニン色素が特に好ましい。Among these dyes, particularly preferred are cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, nickel thiolate complexes, and indolenine cyanine dyes. Further examples include cyanine dyes and indolenine cyanine dyes. Of these, cyanine dyes are particularly preferred.

上記赤外線吸収剤としては、メソ位に酸素又は窒素原子を有するカチオン性のポリメチン色素であることが好ましい。カチオン性のポリメチン色素としては、シアニン色素、ピリリウム色素、チオピリリウム色素、アズレニウム色素等が好ましく挙げられ、入手の容易性、導入反応時の溶剤溶解性等の観点から、シアニン色素であることが好ましい。The infrared absorbing agent is preferably a cationic polymethine dye having an oxygen or nitrogen atom at the meso position. Preferred examples of the cationic polymethine dye include cyanine dyes, pyrylium dyes, thiopyrylium dyes, and azulenium dyes. From the viewpoints of availability and solubility in the solvent during the introduction reaction, cyanine dyes are preferred.

シアニン色素の具体例としては、特開2001-133969号公報の段落0017~0019に記載の化合物、特開2002-023360号公報の段落0016~0021、特開2002-040638号公報の段落0012~0037に記載の化合物、好ましくは特開2002-278057号公報の段落0034~0041、特開2008-195018号公報の段落0080~0086に記載の化合物、特に好ましくは特開2007-90850号公報の段落0035~0043に記載の化合物、特開2012-206495号公報の段落0105~0113に記載の化合物が挙げられる。
また、特開平5-5005号公報の段落0008~0009、特開2001-222101号公報の段落0022~0025に記載の化合物も好ましく使用することができる。
顔料としては、特開2008-195018号公報の段落0072~0076に記載の化合物が好ましい。
Specific examples of the cyanine dye include the compounds described in paragraphs 0017 to 0019 of JP-A-2001-133969, paragraphs 0016 to 0021 of JP-A-2002-023360, and paragraphs 0012 to 0037 of JP-A-2002-040638, preferably the compounds described in paragraphs 0034 to 0041 of JP-A-2002-278057 and paragraphs 0080 to 0086 of JP-A-2008-195018, particularly preferably the compounds described in paragraphs 0035 to 0043 of JP-A-2007-90850, and the compounds described in paragraphs 0105 to 0113 of JP-A-2012-206495.
In addition, the compounds described in paragraphs 0008 to 0009 of JP-A No. 5-5005 and paragraphs 0022 to 0025 of JP-A No. 2001-222101 can also be preferably used.
As the pigment, the compounds described in paragraphs 0072 to 0076 of JP-A-2008-195018 are preferred.

赤外線吸収剤は、1種のみ用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。また、赤外線吸収剤として顔料と染料とを併用してもよい。
上記画像記録層中の赤外線吸収剤の含有量は、画像記録層の全質量に対し、0.1質量%~10.0質量%が好ましく、0.5質量%~5.0質量%がより好ましい。
The infrared absorbing agent may be used alone or in combination of two or more kinds. Also, a pigment and a dye may be used in combination as the infrared absorbing agent.
The content of the infrared absorbing agent in the image recording layer is preferably from 0.1% by mass to 10.0% by mass, and more preferably from 0.5% by mass to 5.0% by mass, based on the total mass of the image recording layer.

-酸発色剤-
上記画像記録層は、酸発色剤を含むことが好ましい。また、酸発色剤としては、ロイコ化合物を含むことが好ましい。
本開示で用いられる「酸発色剤」とは、電子受容性化合物(例えば酸等のプロトン)を受容した状態で加熱することにより、発色又は消色し画像記録層の色を変化させる性質を有する化合物を意味する。酸発色剤としては、特に、ラクトン、ラクタム、サルトン、スピロピラン、エステル、アミド等の部分骨格を有し、電子受容性化合物と接触した時に、速やかにこれらの部分骨格が開環若しくは開裂する無色の化合物が好ましい。
-Acid color former-
The image recording layer preferably contains an acid color former, and the acid color former preferably contains a leuco compound.
The term "acid color former" used in the present disclosure means a compound that has the property of developing or decolorizing a color and changing the color of an image recording layer when heated in a state in which it accepts an electron-accepting compound (e.g., a proton of an acid, etc.). As the acid color former, in particular, a colorless compound having a partial skeleton such as lactone, lactam, sultone, spiropyran, ester, amide, etc., which quickly opens or cleaves the partial skeleton when it comes into contact with an electron-accepting compound is preferred.

このような酸発色剤の例としては、3,3-ビス(4-ジメチルアミノフェニル)-6-ジメチルアミノフタリド(“クリスタルバイオレットラクトン”と称される。)、3,3-ビス(4-ジメチルアミノフェニル)フタリド、3-(4-ジメチルアミノフェニル)-3-(4-ジエチルアミノ-2-メチルフェニル)-6-ジメチルアミノフタリド、3-(4-ジメチルアミノフェニル)-3-(1,2-ジメチルインドール-3-イル)フタリド、3-(4-ジメチルアミノフェニル)-3-(2-メチルインドール-3-イル)フタリド、3,3-ビス(1,2-ジメチルインドール-3-イル)-5-ジメチルアミノフタリド、3,3-ビス(1,2-ジメチルインドール-3-イル)-6-ジメチルアミノフタリド、3,3-ビス(9-エチルカルバゾール-3-イル)-6-ジメチルアミノフタリド、3,3-ビス(2-フェニルインドール-3-イル)-6-ジメチルアミノフタリド、3-(4-ジメチルアミノフェニル)-3-(1-メチルピロール-3-イル)-6-ジメチルアミノフタリド、Examples of such acid color formers include 3,3-bis(4-dimethylaminophenyl)-6-dimethylaminophthalide (also called "crystal violet lactone"), 3,3-bis(4-dimethylaminophenyl)phthalide, 3-(4-dimethylaminophenyl)-3-(4-diethylamino-2-methylphenyl)-6-dimethylaminophthalide, 3-(4-dimethylaminophenyl)-3-(1,2-dimethylindol-3-yl)phthalide, 3-(4-dimethylaminophenyl)-3-(2-methylphenyl)phthalide, 3-(4-dimethylaminophenyl)-3-(1-methylpyrrol-3-yl)-6-dimethylaminophthalide,

3,3-ビス〔1,1-ビス(4-ジメチルアミノフェニル)エチレン-2-イル〕-4,5,6,7-テトラクロロフタリド、3,3-ビス〔1,1-ビス(4-ピロリジノフェニル)エチレン-2-イル〕-4,5,6,7-テトラブロモフタリド、3,3-ビス〔1-(4-ジメチルアミノフェニル)-1-(4-メトキシフェニル)エチレン-2-イル〕-4,5,6,7-テトラクロロフタリド、3,3-ビス〔1-(4-ピロリジノフェニル)-1-(4-メトキシフェニル)エチレン-2-イル〕-4,5,6,7-テトラクロロフタリド、3-〔1,1-ジ(1-エチル-2-メチルインドール-3-イル)エチレン-2-イル〕-3-(4-ジエチルアミノフェニル)フタリド、3-〔1,1-ジ(1-エチル-2-メチルインドール-3-イル)エチレン-2-イル〕-3-(4-N-エチル-N-フェニルアミノフェニル)フタリド、3-(2-エトキシ-4-ジエチルアミノフェニル)-3-(1-n-オクチル-2-メチルインドール-3-イル)-フタリド、3,3-ビス(1-n-オクチル-2-メチルインドール-3-イル)-フタリド、3-(2-メチル-4-ジエチルアミノフェニル)-3-(1-n-オクチル-2-メチルインドール-3-イル)-フタリド等のフタリド類、 3,3-bis[1,1-bis(4-dimethylaminophenyl)ethylene-2-yl]-4,5,6,7-tetrachlorophthalide, 3,3-bis[1,1-bis(4-pyrrolidinophenyl)ethylene-2-yl]-4,5,6,7-tetrabromophthalide, 3,3-bis[1-(4-dimethylaminophenyl)-1-(4-methoxyphenyl)ethylene-2-yl]-4,5,6,7-tetrachlorophthalide, 3,3-bis[1-(4-pyrrolidinophenyl)-1-(4-methoxyphenyl)ethylene-2-yl]-4,5,6,7-tetrachlorophthalide, 3-[1,1-di(1-ethyl-2-methylindo phthalides such as 3-[1,1-di(1-ethyl-2-methylindol-3-yl)ethylene-2-yl]-3-(4-diethylaminophenyl)phthalide, 3-[1,1-di(1-ethyl-2-methylindol-3-yl)ethylene-2-yl]-3-(4-N-ethyl-N-phenylaminophenyl)phthalide, 3-(2-ethoxy-4-diethylaminophenyl)-3-(1-n-octyl-2-methylindol-3-yl)-phthalide, 3,3-bis(1-n-octyl-2-methylindol-3-yl)-phthalide, and 3-(2-methyl-4-diethylaminophenyl)-3-(1-n-octyl-2-methylindol-3-yl)-phthalide;

4,4-ビス-ジメチルアミノベンズヒドリンベンジルエーテル、N-ハロフェニル-ロイコオーラミン、N-2,4,5-トリクロロフェニルロイコオーラミン、ローダミン-B-アニリノラクタム、ローダミン-(4-ニトロアニリノ)ラクタム、ローダミン-B-(4-クロロアニリノ)ラクタム、3,7-ビス(ジエチルアミノ)-10-ベンゾイルフェノオキサジン、ベンゾイルロイコメチレンブルー、4ーニトロベンゾイルメチレンブルー、 4,4-bis-dimethylaminobenzhydrin benzyl ether, N-halophenyl-leucoauramine, N-2,4,5-trichlorophenylleucoauramine, rhodamine-B-anilinolactam, rhodamine-(4-nitroanilino)lactam, rhodamine-B-(4-chloroanilino)lactam, 3,7-bis(diethylamino)-10-benzoylphenoxazine, benzoyl leuco methylene blue, 4-nitrobenzoyl methylene blue,

3,6-ジメトキシフルオラン、3-ジメチルアミノ-7-メトキシフルオラン、3-ジエチルアミノ-6-メトキシフルオラン、3-ジエチルアミノ-7-メトキシフルオラン、3-ジエチルアミノ-7-クロロフルオラン、3-ジエチルアミノ-6-メチル-7-クロロフルオラン、3-ジエチルアミノ-6,7-ジメチルフルオラン、3-N-シクロヘキシル-N-n-ブチルアミノ-7-メチルフルオラン、3-ジエチルアミノ-7-ジベンジルアミノフルオラン、3-ジエチルアミノ-7-オクチルアミノフルオラン、3-ジエチルアミノ-7-ジ-n-ヘキシルアミノフルオラン、3-ジエチルアミノ-7-アニリノフルオラン、3-ジエチルアミノ-7-(2’-フルオロフェニルアミノ)フルオラン、3-ジエチルアミノ-7-(2’-クロロフェニルアミノ)フルオラン、3-ジエチルアミノ-7-(3’-クロロフェニルアミノ)フルオラン、3-ジエチルアミノ-7-(2’,3’-ジクロロフェニルアミノ)フルオラン、3-ジエチルアミノ-7-(3’-トリフルオロメチルフェニルアミノ)フルオラン、3-ジ-n-ブチルアミノ-7-(2’-フルオロフェニルアミノ)フルオラン、3-ジ-n-ブチルアミノ-7-(2’-クロロフェニルアミノ)フルオラン、3-N-イソペンチル-N-エチルアミノ-7-(2’-クロロフェニルアミノ)フルオラン、 3,6-dimethoxyfluoran, 3-dimethylamino-7-methoxyfluoran, 3-diethylamino-6-methoxyfluoran, 3-diethylamino-7-methoxyfluoran, 3-diethylamino-7-chlorofluoran, 3-diethylamino-6-methyl-7-chlorofluoran, 3-diethylamino-6,7-dimethylfluoran, 3-N-cyclohexyl-N-n-butylamino-7-methylfluoran, 3-diethylamino-7-dibenzylaminofluoran, 3-diethylamino-7-octylaminofluoran, 3-diethylamino-7-di-n-hexylaminofluoran, 3-diethylamino-7-anilinofluoran, 3 -diethylamino-7-(2'-fluorophenylamino)fluoran, 3-diethylamino-7-(2'-chlorophenylamino)fluoran, 3-diethylamino-7-(3'-chlorophenylamino)fluoran, 3-diethylamino-7-(2',3'-dichlorophenylamino)fluoran, 3-diethylamino-7-(3'-trifluoromethylphenylamino)fluoran, 3-di-n-butylamino-7-(2'-fluorophenylamino)fluoran, 3-di-n-butylamino-7-(2'-chlorophenylamino)fluoran, 3-N-isopentyl-N-ethylamino-7-(2'-chlorophenylamino)fluoran,

3-N-n-ヘキシル-N-エチルアミノ-7-(2’-クロロフェニルアミノ)フルオラン、3-ジエチルアミノ-6-クロロ-7-アニリノフルオラン、3-ジ-n-ブチルアミノ-6-クロロ-7-アニリノフルオラン、3-ジエチルアミノ-6-メトキシ-7-アニリノフルオラン、3-ジ-n-ブチルアミノ-6-エトキシ-7-アニリノフルオラン、3-ピロリジノ-6-メチル-7-アニリノフルオラン、3-ピペリジノ-6-メチル-7-アニリノフルオラン、3-モルホリノ-6-メチル-7-アニリノフルオラン、3-ジメチルアミノ-6-メチル-7-アニリノフルオラン、3-ジエチルアミノ-6-メチル-7-アニリノフルオラン、3-ジ-n-ブチルアミノ-6-メチル-7-アニリノフルオラン、3-ジ-n-ペンチルアミノ-6-メチル-7-アニリノフルオラン、3-N-エチル-N-メチルアミノ-6-メチル-7-アニリノフルオラン、3-N-n-プロピル-N-メチルアミノ-6-メチル-7-アニリノフルオラン、3-N-n-プロピル-N-エチルアミノ-6-メチル-7-アニリノフルオラン、3-N-n-ブチル-N-メチルアミノ-6-メチル-7-アニリノフルオラン、3-N-n-ブチル-N-エチルアミノ-6-メチル-7-アニリノフルオラン、3-N-イソブチル-N-メチルアミノ-6-メチル-7-アニリノフルオラン、3-N-イソブチル-N-エチルアミノ-6-メチル-7-アニリノフルオラン、3-N-イソペンチル-N-エチルアミノ-6-メチル-7-アニリノフルオラン、3-N-n-ヘキシル-N-メチルアミノ-6-メチル-7-アニリノフルオラン、3-N-シクロヘキシル-N-エチルアミノ-6-メチル-7-アニリノフルオラン、3-N-シクロヘキシル-N-n-プロピルアミノ-6-メチル-7-アニリノフルオラン、3-N-シクロヘキシル-N-n-ブチルアミノ-6-メチル-7-アニリノフルオラン、3-N-シクロヘキシル-N-n-ヘキシルアミノ-6-メチル-7-アニリノフルオラン、3-N-シクロヘキシル-N-n-オクチルアミノ-6-メチル-7-アニリノフルオラン、 3-N-n-hexyl-N-ethylamino-7-(2'-chlorophenylamino)fluoran, 3-diethylamino-6-chloro-7-anilinofluoran, 3-di-n-butylamino-6-chloro-7-anilinofluoran, 3-diethylamino-6-methoxy-7-anilinofluoran, 3-di-n-butylamino-6-ethoxy-7-anilinofluoran, 3-pyrrolidino-6-methyl-7-anilinofluoran, 3-piperidino-6-methyl-7-anilinofluoran, 3-morpholino-6- Methyl-7-anilinofluoran, 3-dimethylamino-6-methyl-7-anilinofluoran, 3-diethylamino-6-methyl-7-anilinofluoran, 3-di-n-butylamino-6-methyl-7-anilinofluoran, 3-di-n-pentylamino-6-methyl-7-anilinofluoran, 3-N-ethyl-N-methylamino-6-methyl-7-anilinofluoran, 3-N-n-propyl-N-methylamino-6-methyl-7-anilinofluoran, 3-N-n-propyl-N-ethylamino amino-6-methyl-7-anilinofluoran, 3-N-n-butyl-N-methylamino-6-methyl-7-anilinofluoran, 3-N-n-butyl-N-ethylamino-6-methyl-7-anilinofluoran, 3-N-isobutyl-N-methylamino-6-methyl-7-anilinofluoran, 3-N-isobutyl-N-ethylamino-6-methyl-7-anilinofluoran, 3-N-isopentyl-N-ethylamino-6-methyl-7-anilinofluoran, 3-N-hexyl-N-methylamino no-6-methyl-7-anilinofluoran, 3-N-cyclohexyl-N-ethylamino-6-methyl-7-anilinofluoran, 3-N-cyclohexyl-N-n-propylamino-6-methyl-7-anilinofluoran, 3-N-cyclohexyl-N-n-butylamino-6-methyl-7-anilinofluoran, 3-N-cyclohexyl-N-n-hexylamino-6-methyl-7-anilinofluoran, 3-N-cyclohexyl-N-n-octylamino-6-methyl-7-anilinofluoran,

3-N-(2’-メトキシエチル)-N-メチルアミノ-6-メチル-7-アニリノフルオラン、3-N-(2’-メトキシエチル)-N-エチルアミノ-6-メチル-7-アニリノフルオラン、3-N-(2’-メトキシエチル)-N-イソブチルアミノ-6-メチル-7-アニリノフルオラン、3-N-(2’-エトキシエチル)-N-メチルアミノ-6-メチル-7-アニリノフルオラン、3-N-(2’-エトキシエチル)-N-エチルアミノ-6-メチル-7-アニリノフルオラン、3-N-(3’-メトキシプロピル)-N-メチルアミノ-6-メチル-7-アニリノフルオラン、3-N-(3’-メトキシプロピル)-N-エチルアミノ-6-メチル-7-アニリノフルオラン、3-N-(3’-エトキシプロピル)-N-メチルアミノ-6-メチル-7-アニリノフルオラン、3-N-(3’-エトキシプロピル)-N-エチルアミノ-6-メチル-7-アニリノフルオラン、3-N-(2’-テトラヒドロフルフリル)-N-エチルアミノ-6-メチル-7-アニリノフルオラン、3-N-(4’-メチルフェニル)-N-エチルアミノ-6-メチル-7-アニリノフルオラン、3-ジエチルアミノ-6-エチル-7-アニリノフルオラン、3-ジエチルアミノ-6-メチル-7-(3’-メチルフェニルアミノ)フルオラン、3-ジエチルアミノ-6-メチル-7-(2’,6’-ジメチルフェニルアミノ)フルオラン、3-ジ-n-ブチルアミノ-6-メチル-7-(2’,6’-ジメチルフェニルアミノ)フルオラン、3-ジ-n-ブチルアミノ-7-(2’,6’-ジメチルフェニルアミノ)フルオラン、2,2-ビス〔4’-(3-N-シクロヘキシル-N-メチルアミノ-6-メチルフルオラン)-7-イルアミノフェニル〕プロパン、3-〔4’-(4-フェニルアミノフェニル)アミノフェニル〕アミノ-6-メチル-7-クロロフルオラン、3-〔4’-(ジメチルアミノフェニル)〕アミノ-5,7-ジメチルフルオラン等のフルオラン類、 3-N-(2'-methoxyethyl)-N-methylamino-6-methyl-7-anilinofluoran, 3-N-(2'-methoxyethyl)-N-ethylamino-6-methyl-7-anilinofluoran, 3-N-(2'-methoxyethyl)-N-isobutylamino-6-methyl-7-anilinofluoran, 3-N-(2'-ethoxyethyl)-N-methylamino-6-methyl-7-anilinofluoran, 3-N-(2'-ethoxyethyl)-N-ethylamino-6-methyl-7 -Anilinofluoran, 3-N-(3'-methoxypropyl)-N-methylamino-6-methyl-7-anilinofluoran, 3-N-(3'-methoxypropyl)-N-ethylamino-6-methyl-7-anilinofluoran, 3-N-(3'-ethoxypropyl)-N-methylamino-6-methyl-7-anilinofluoran, 3-N-(3'-ethoxypropyl)-N-ethylamino-6-methyl-7-anilinofluoran, 3-N-(3'-ethoxypropyl)-N-ethylamino-6-methyl-7-anilinofluoran, 3-N-(2'-tetrahydrofurfuryl)- N-ethylamino-6-methyl-7-anilinofluoran, 3-N-(4'-methylphenyl)-N-ethylamino-6-methyl-7-anilinofluoran, 3-diethylamino-6-ethyl-7-anilinofluoran, 3-diethylamino-6-methyl-7-(3'-methylphenylamino)fluoran, 3-diethylamino-6-methyl-7-(2',6'-dimethylphenylamino)fluoran, 3-di-n-butylamino-6-methyl-7-(2',6'-dimethylphenylamino)fluoran fluorans such as 4'-(4-phenylaminophenyl)fluoran, 3-di-n-butylamino-7-(2',6'-dimethylphenylamino)fluoran, 2,2-bis[4'-(3-N-cyclohexyl-N-methylamino-6-methylfluoran)-7-ylaminophenyl]propane, 3-[4'-(4-phenylaminophenyl)aminophenyl]amino-6-methyl-7-chlorofluoran, and 3-[4'-(dimethylaminophenyl)]amino-5,7-dimethylfluoran;

3-(2-メチル-4-ジエチルアミノフェニル)-3-(1-エチル-2-メチルインドール-3-イル)-4-アザフタリド、3-(2-n-プロポキシカルボニルアミノ-4-ジ-n-プロピルアミノフェニル)-3-(1-エチル-2-メチルインドール-3-イル)-4-アザフタリド、3-(2-メチルアミノ-4-ジ-n-プロピルアミノフェニル)-3-(1-エチル-2-メチルインドール-3-イル)-4-アザフタリド、3-(2-メチル-4-ジn-ヘキシルアミノフェニル)-3-(1-n-オクチル-2-メチルインドール-3-イル)-4,7-ジアザフタリド、3,3-ビス(2-エトキシ-4-ジエチルアミノフェニル)-4-アザフタリド、3,3-ビス(1-n-オクチル-2-メチルインドール-3-イル)-4-アザフタリド、3-(2-エトキシ-4-ジエチルアミノフェニル)-3-(1-エチル-2-メチルインドール-3-イル)-4-アザフタリド、3-(2-エトキシ-4-ジエチルアミノフェニル)-3-(1-オクチル-2-メチルインドール-3-イル)-4又は7-アザフタリド、3-(2-エトキシ-4-ジエチルアミノフェニル)-3-(1-エチル-2-メチルインドール-3-イル)-4又は7-アザフタリド、3-(2-ヘキシルオキシ-4-ジエチルアミノフェニル)-3-(1-エチル-2-メチルインドール-3-イル)-4又は7-アザフタリド、3-(2-エトキシ-4-ジエチルアミノフェニル)-3-(1-エチル-2-フェニルインドール-3-イル)-4又は7-アザフタリド、3-(2-ブトキシ-4-ジエチルアミノフェニル)-3-(1-エチル-2-フェニルインドール-3-イル)-4又は7-アザフタリド、3-メチル-スピロ-ジナフトピラン、3-エチル-スピロ-ジナフトピラン、3-フェニル-スピロ-ジナフトピラン、3-ベンジル-スピロ-ジナフトピラン、3-メチル-ナフト-(3-メトキシベンゾ)スピロピラン、3-プロピル-スピロ-ジベンゾピラン-3,6-ビス(ジメチルアミノ)フルオレン-9-スピロ-3’-(6’-ジメチルアミノ)フタリド、3,6-ビス(ジエチルアミノ)フルオレン-9-スピロ-3’-(6’-ジメチルアミノ)フタリド等のフタリド類、 3-(2-methyl-4-diethylaminophenyl)-3-(1-ethyl-2-methylindol-3-yl)-4-azaphthalide, 3-(2-n-propoxycarbonylamino-4-di-n-propylaminophenyl)-3-(1-ethyl-2-methylindol-3-yl)-4-azaphthalide, 3-(2-methylamino-4-di-n-propylaminophenyl)-3-(1-ethyl-2-methylindol-3-yl)-4-azaphthalide, 3-(2-methyl-4-di-n-hexylaminophenyl)-3-(1-n-octyl 3-(2-ethoxy-4-diethylaminophenyl)-3-(1-ethyl-2-methylindol-3-yl)-4-azaphthalide, 3-(2-ethoxy-4-diethylaminophenyl)-3-(1-octyl-2-methylindol-3-yl)-4-azaphthalide, 3-(2-ethoxy-4-diethylaminophenyl)-3-(1-octyl-2-methylindol-3-yl)-4-azaphthalide, 3-(2-ethoxy-4-diethylaminophenyl)-3-(1-octyl-2-methylindol-3-yl)-4 or 7-azaphthalide, 3-( 2-ethoxy-4-diethylaminophenyl)-3-(1-ethyl-2-methylindol-3-yl)-4 or 7-azaphthalide, 3-(2-hexyloxy-4-diethylaminophenyl)-3-(1-ethyl-2-methylindol-3-yl)-4 or 7-azaphthalide, 3-(2-ethoxy-4-diethylaminophenyl)-3-(1-ethyl-2-phenylindol-3-yl)-4 or 7-azaphthalide, 3-(2-butoxy-4-diethylaminophenyl)-3-(1-ethyl-2-phenylindol-3-yl)-4 or 7-azaphthalide phthalides such as 3,6-bis(dimethylamino)fluorene-9-spiro-3'-(6'-dimethylamino)phthalide, 3,6-bis(diethyl ...-methyl-spiro-dinaphthopyran, 3-ethyl-spiro-dinaphthopyran, 3-phenyl-spiro-dinaphthopyran, 3-benzyl-spiro-dinaphthopyran, 3-methyl-naphtho-(3-methoxybenzo)spiropyran, 3-propyl-spiro-dibenzopyran-3,6-bis(dimethylamino)fluorene-9-spiro-3'-(6'-dimethylamino)phthalide, 3,6-bis(diethylamino)fluorene-9-spiro-3'-(6'-dimethylamino)phthalide,

その他、2’-アニリノ-6’-(N-エチル-N-イソペンチル)アミノ-3’-メチルスピロ[イソベンゾフラン-1(3H),9’-(9H)キサンテン-3-オン、2’-アニリノ-6’-(N-エチル-N-(4-メチルフェニル))アミノ-3’-メチルスピロ[イソベンゾフラン-1(3H),9’-(9H)キサンテン]-3-オン、3’-N,N-ジベンジルアミノ-6’-N,N-ジエチルアミノスピロ[イソベンゾフラン-1(3H),9’-(9H)キサンテン]-3-オン、2’-(N-メチル-N-フェニル)アミノ-6’-(N-エチル-N-(4-メチルフェニル))アミノスピロ[イソベンゾフラン-1(3H),9’-(9H)キサンテン]-3-オンなどが挙げられる。Other examples include 2'-anilino-6'-(N-ethyl-N-isopentyl)amino-3'-methylspiro[isobenzofuran-1(3H),9'-(9H)xanthene-3-one, 2'-anilino-6'-(N-ethyl-N-(4-methylphenyl))amino-3'-methylspiro[isobenzofuran-1(3H),9'-(9H)xanthene]-3-one, 3'-N,N-dibenzylamino-6'-N,N-diethylaminospiro[isobenzofuran-1(3H),9'-(9H)xanthene]-3-one, and 2'-(N-methyl-N-phenyl)amino-6'-(N-ethyl-N-(4-methylphenyl))aminospiro[isobenzofuran-1(3H),9'-(9H)xanthene]-3-one.

中でも、本開示に用いられる酸発色剤は、発色性の観点から、スピロピラン化合物、スピロオキサジン化合物、スピロラクトン化合物、及び、スピロラクタム化合物よりなる群から選ばれた少なくとも1種の化合物であることが好ましい。
発色後の色素の色相としては、可視性の観点から、緑、青又は黒であることが好ましい。
Among these, from the viewpoint of color development, the acid color former used in the present disclosure is preferably at least one compound selected from the group consisting of spiropyran compounds, spirooxazine compounds, spirolactone compounds, and spirolactam compounds.
From the viewpoint of visibility, the hue of the dye after color development is preferably green, blue or black.

また、上記酸発色剤は、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、ロイコ色素であることが好ましい。
上記ロイコ色素としては、ロイコ構造を有する色素であれば、特に制限はないが、スピロ構造を有することが好ましく、スピロラクトン環構造を有することがより好ましい。
また、上記ロイコ色素としては、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、フタリド構造又はフルオラン構造を有するロイコ色素であることが好ましい。
更に、上記フタリド構造又はフルオラン構造を有するロイコ色素は、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、下記式(Le-1)~式(Le-3)のいずれかで表される化合物であることが好ましく、下記式(Le-2)で表される化合物であることがより好ましい。
In addition, the acid color former is preferably a leuco dye from the viewpoints of color development and visibility of exposed areas.
The leuco dye is not particularly limited as long as it has a leuco structure, but it preferably has a spiro structure, and more preferably has a spirolactone ring structure.
From the viewpoints of color development and visibility of exposed areas, the leuco dye is preferably a leuco dye having a phthalide structure or a fluoran structure.
Furthermore, from the viewpoints of color development and visibility of exposed areas, the leuco dye having a phthalide structure or a fluoran structure is preferably a compound represented by any one of the following formulas (Le-1) to (Le-3), and more preferably a compound represented by the following formula (Le-2).

式(Le-1)~式(Le-3)中、ERGはそれぞれ独立に、電子供与性基を表し、X~Xはそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子又はジアルキルアニリノ基を表し、X~X10はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子又は一価の有機基を表し、Y及びYはそれぞれ独立に、C又はNを表し、YがNである場合は、Xは存在せず、YがNである場合は、Xは存在せず、Raは、水素原子、アルキル基又はアルコキシ基を表し、Rb~Rbはそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基又はアリール基を表す。 In formulas (Le-1) to (Le-3), ERG each independently represents an electron-donating group, X 1 to X 4 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, or a dialkylanilino group, X 5 to X 10 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, or a monovalent organic group, Y 1 and Y 2 each independently represent C or N, and when Y 1 is N, X 1 is not present, and when Y 2 is N, X 4 is not present, Ra 1 represents a hydrogen atom, an alkyl group, or an alkoxy group, and Rb 1 to Rb 4 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, or an aryl group.

式(Le-1)~式(Le-3)のERGにおける電子供与性基としては、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ジアルキルアミノ基、モノアルキルモノアリールアミノ基、ジアリールアミノ基、アルコキシ基、アリーロキシ基、又は、アルキル基であることが好ましく、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ジアルキルアミノ基、モノアルキルモノアリールアミノ基、ジアリールアミノ基、アルコキシ基、又は、アリーロキシ基であることがより好ましく、アリールアミノ基、モノアルキルモノアリールアミノ基、又は、ジアリールアミノ基であることが更に好ましく、アリールアミノ基、又は、モノアルキルモノアリールアミノ基であることが特に好ましい。
式(Le-1)~式(Le-3)におけるX~Xはそれぞれ独立に、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、水素原子、又は、塩素原子であることが好ましく、水素原子であることがより好ましい。
式(Le-2)又は式(Le-3)におけるX~X10はそれぞれ独立に、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ジアルキルアミノ基、モノアルキルモノアリールアミノ基、ジアリールアミノ基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリーロキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基又はシアノ基であることが好ましく、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、又は、アリーロキシ基であることがより好ましく、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、又は、アリール基であることが更に好ましく、水素原子であることが特に好ましい。
式(Le-1)~式(Le-3)におけるY及びYは、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、少なくとも1方がCであることが好ましく、Y及びYの両方がCであることがより好ましい。
式(Le-1)~式(Le-3)におけるRaは、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、アルキル基又はアルコキシ基であることが好ましく、アルコキシ基であることがより好ましく、メトキシ基であることが特に好ましい。
式(Le-1)~式(Le-3)におけるRb~Rbはそれぞれ独立に、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、水素原子又はアルキル基であることが好ましく、アルキル基であることがより好ましく、メチル基であることが特に好ましい。
The electron-donating group in ERG of formulae (Le-1) to (Le-3) is preferably an amino group, an alkylamino group, an arylamino group, a dialkylamino group, a monoalkylmonoarylamino group, a diarylamino group, an alkoxy group, an aryloxy group, or an alkyl group, more preferably an amino group, an alkylamino group, an arylamino group, a dialkylamino group, a monoalkylmonoarylamino group, a diarylamino group, an alkoxy group, or an aryloxy group, still more preferably an arylamino group, a monoalkylmonoarylamino group, or a diarylamino group, and particularly preferably an arylamino group or a monoalkylmonoarylamino group.
In formulae (Le-1) to (Le-3), X 1 to X 4 each independently represent, from the viewpoints of color development and visibility of exposed areas, preferably a hydrogen atom or a chlorine atom, and more preferably a hydrogen atom.
In formula (Le-2) or formula (Le-3), X 5 to X 10 are each independently, from the viewpoint of color development and visibility of the exposed area, preferably a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an aryl group, an amino group, an alkylamino group, an arylamino group, a dialkylamino group, a monoalkylmonoarylamino group, a diarylamino group, a hydroxy group, an alkoxy group, an aryloxy group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group or a cyano group, more preferably a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group or an aryloxy group, further preferably a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group or an aryl group, and particularly preferably a hydrogen atom.
In terms of color development and visibility of the exposed area, it is preferable that at least one of Y1 and Y2 in formulae (Le-1) to (Le-3) is C, and it is more preferable that both of Y1 and Y2 are C.
In terms of color development and visibility of the exposed area, Ra 1 in formulae (Le-1) to (Le-3) is preferably an alkyl group or an alkoxy group, more preferably an alkoxy group, and particularly preferably a methoxy group.
In formulae (Le-1) to (Le-3), Rb 1 to Rb 4 each independently represent, from the viewpoints of color development and visibility of the exposed area, preferably a hydrogen atom or an alkyl group, more preferably an alkyl group, and particularly preferably a methyl group.

また、上記フタリド構造又はフルオラン構造を有するロイコ色素は、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、上記フタリド構造又はフルオラン構造を有するロイコ色素は、下記式(Le-4)~式(Le-6)のいずれかで表される化合物であることがより好ましく、下記式(Le-5)で表される化合物であることが更に好ましい。Furthermore, from the viewpoints of color development and visibility of exposed areas, the leuco dye having the above-mentioned phthalide structure or fluoran structure is more preferably a compound represented by any one of the following formulas (Le-4) to (Le-6), and even more preferably a compound represented by the following formula (Le-5).

式(Le-4)~式(Le-6)中、ERGはそれぞれ独立に、電子供与性基を表し、X~Xはそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子又はジアルキルアニリノ基を表し、Y及びYはそれぞれ独立に、C又はNを表し、YがNである場合は、Xは存在せず、YがNである場合は、Xは存在せず、Raは、水素原子、アルキル基又はアルコキシ基を表し、Rb~Rbはそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基又はアリール基を表す。 In formulae (Le-4) to (Le-6), ERG each independently represents an electron donating group, X 1 to X 4 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, or a dialkylanilino group, Y 1 and Y 2 each independently represent C or N, and when Y 1 is N, X 1 is not present, and when Y 2 is N, X 4 is not present, Ra 1 represents a hydrogen atom, an alkyl group, or an alkoxy group, and Rb 1 to Rb 4 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, or an aryl group.

式(Le-4)~式(Le-6)におけるERG、X~X、Y、Y、Ra、及び、Rb~Rbはそれぞれ、式(Le-1)~式(Le-3)におけるERG、X~X、Y、Y、Ra、及び、Rb~Rbと同義であり、好ましい態様も同様である。 ERG, X 1 to X 4 , Y 1 , Y 2 , Ra 1 , and Rb 1 to Rb 4 in formulas (Le-4) to (Le-6) have the same meanings as ERG, X 1 to X 4 , Y 1 , Y 2 , Ra 1 , and Rb 1 to Rb 4 in formulas (Le-1) to (Le-3), respectively, and preferred embodiments are also the same.

更に、上記フタリド構造又はフルオラン構造を有するロイコ色素は、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、上記フタリド構造又はフルオラン構造を有するロイコ色素は、下記式(Le-7)~式(Le-9)のいずれかで表される化合物であることが更に好ましく、下記式(Le-8)で表される化合物であることが特に好ましい。Furthermore, from the viewpoints of color development and visibility of exposed areas, the leuco dye having the above-mentioned phthalide structure or fluoran structure is more preferably a compound represented by any one of the following formulas (Le-7) to (Le-9), and is particularly preferably a compound represented by the following formula (Le-8).

式(Le-7)~式(Le-9)中、X~Xはそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子又はジアルキルアニリノ基を表し、Y及びYはそれぞれ独立に、C又はNを表し、YがNである場合は、Xは存在せず、YがNである場合は、Xは存在せず、Ra~Raはそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基又はアルコキシ基を表し、Rb~Rbはそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基又はアリール基を表し、Rc及びRcはそれぞれ独立に、アリール基を表す。 In formulas (Le-7) to (Le-9), X 1 to X 4 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, or a dialkylanilino group; Y 1 and Y 2 each independently represent C or N; when Y 1 is N, X 1 is not present; when Y 2 is N, X 4 is not present; Ra 1 to Ra 4 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, or an alkoxy group; Rb 1 to Rb 4 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, or an aryl group; and Rc 1 and Rc 2 each independently represent an aryl group.

式(Le-7)~式(Le-9)におけるX~X、Y及びYは、式(Le-1)~式(Le-3)におけるX~X、Y及びYと同義であり、好ましい態様も同様である。
式(Le-7)~式(Le-9)におけるRa~Raはそれぞれ独立に、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、アルキル基又はアルコキシ基であることが好ましく、アルコキシ基であることがより好ましく、メトキシ基であることが特に好ましい。
式(Le-7)~式(Le-9)におけるRb~Rbはそれぞれ独立に、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、水素原子、アルキル基、又は、アルキル基若しくはアルコキシ基が置換したアリール基であることが好ましく、水素原子、又は、アルキル基であることがより好ましく、水素原子、又は、メチル基であることが特に好ましい。
式(Le-8)におけるRc及びRcはそれぞれ独立に、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、フェニル基、又は、アルキルフェニル基であることが好ましく、フェニル基であることがより好ましい。
また、式(Le-8)において、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、X~Xが水素原子であり、Y及びYがCであることが好ましい。
更に、式(Le-8)において、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、Rb及びRbがそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、又は、アルキル基若しくはアルコキシ基が置換したアリール基であることが好ましく、水素原子、又は、アルキル基であることがより好ましい。
X 1 to X 4 , Y 1 and Y 2 in formulae (Le-7) to (Le-9) have the same meanings as X 1 to X 4 , Y 1 and Y 2 in formulae (Le-1) to (Le-3), and preferred embodiments are also the same.
In formulae (Le-7) to (Le-9), Ra 1 to Ra 4 are each independently preferably an alkyl group or an alkoxy group, more preferably an alkoxy group, and particularly preferably a methoxy group, from the viewpoints of color development and visibility of the exposed area.
In formulae (Le-7) to (Le-9), Rb 1 to Rb 4 each independently represent, from the viewpoints of color development and visibility of the exposed area, preferably a hydrogen atom, an alkyl group, or an aryl group substituted with an alkyl group or an alkoxy group, more preferably a hydrogen atom or an alkyl group, and particularly preferably a hydrogen atom or a methyl group.
In formula (Le-8), Rc 1 and Rc 2 each independently represent, from the viewpoints of color development and visibility of exposed areas, preferably a phenyl group or an alkylphenyl group, and more preferably a phenyl group.
In formula (Le-8), from the viewpoints of color development and visibility of exposed areas, it is preferable that X 1 to X 4 are hydrogen atoms, and Y 1 and Y 2 are C.
Furthermore, in formula (Le-8), from the viewpoints of color development and visibility of the exposed area, it is preferable that Rb1 and Rb2 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, or an aryl group substituted with an alkyl group or an alkoxy group, and more preferably a hydrogen atom or an alkyl group.

式(Le-1)~式(Le-9)におけるアルキル基は、直鎖であっても、分岐を有していても、環構造を有していてもよい。
また、式(Le-1)~式(Le-9)におけるアルキル基の炭素数は、1~20であることが好ましく、1~8であることがより好ましく、1~4であることが更に好ましく、1又は2であることが特に好ましい。
式(Le-1)~式(Le-9)におけるアリール基の炭素数は、6~20であることが好ましく、6~10であることがより好ましく、6~8であることが特に好ましい。
The alkyl group in the formulae (Le-1) to (Le-9) may be linear, branched, or have a ring structure.
The number of carbon atoms in the alkyl group in formulas (Le-1) to (Le-9) is preferably 1 to 20, more preferably 1 to 8, even more preferably 1 to 4, and particularly preferably 1 or 2.
The aryl group in formulae (Le-1) to (Le-9) preferably has 6 to 20 carbon atoms, more preferably 6 to 10 carbon atoms, and particularly preferably 6 to 8 carbon atoms.

また、式(Le-1)~式(Le-9)における一価の有機基、アルキル基、アリール基、ジアルキルアニリノ基、アルキルアミノ基、アルコキシ基等の各基は、置換基を有していてもよい。置換基としては、アルキル基、アリール基、ハロゲン原子、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ジアルキルアミノ基、モノアルキルモノアリールアミノ基、ジアリールアミノ基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリーロキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、シアノ基等が挙げられる。また、これら置換基は、更にこれら置換基により置換されていてもよい。In addition, each of the monovalent organic groups, alkyl groups, aryl groups, dialkylanilino groups, alkylamino groups, alkoxy groups, etc. in formulas (Le-1) to (Le-9) may have a substituent. Examples of the substituent include an alkyl group, an aryl group, a halogen atom, an amino group, an alkylamino group, an arylamino group, a dialkylamino group, a monoalkylmonoarylamino group, a diarylamino group, a hydroxy group, an alkoxy group, an aryloxy group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, a cyano group, etc. In addition, these substituents may be further substituted with these substituents.

好適に用いられる上記フタリド構造又はフルオラン構造を有するロイコ色素としては、以下の化合物が挙げられる。Examples of suitable leuco dyes having the above-mentioned phthalide structure or fluoran structure include the following compounds:

また、好適に用いられるロイコ色素としては、以下の化合物が挙げられる。Suitable leuco dyes include the following compounds:

酸発色剤としては上市されている製品を使用することも可能であり、ETAC、RED500、RED520、CVL、S-205、BLACK305、BLACK400、BLACK100、BLACK500、H-7001、GREEN300、NIRBLACK78、BLUE220、H-3035、BLUE203、ATP、H-1046、H-2114(以上、福井山田化学工業(株)製)、ORANGE-DCF、Vermilion-DCF、PINK-DCF、RED-DCF、BLMB、CVL、GREEN-DCF、TH-107(以上、保土ヶ谷化学(株)製)、ODB、ODB-2、ODB-4、ODB-250、ODB-BlackXV、Blue-63、Blue-502、GN-169、GN-2、Green-118、Red-40、Red-8(以上、山本化成(株)製)、クリスタルバイオレットラクトン(東京化成工業(株)製)等が挙げられる。これらの市販品の中でも、ETAC、S-205、BLACK305、BLACK400、BLACK100、BLACK500、H-7001、GREEN300、NIRBLACK78、H-3035、ATP、H-1046、H-2114、GREEN-DCF、Blue-63、GN-169、クリスタルバイオレットラクトンが、形成される膜の可視光吸収率が良好のため好ましい。As an acid coloring agent, commercially available products can be used, such as ETAC, RED500, RED520, CVL, S-205, BLACK305, BLACK400, BLACK100, BLACK500, H-7001, GREEN300, NIRBLACK78, BLUE220, H-3035, BLUE203, ATP, H-1046, H-2114 (all manufactured by Fukui Yamada Chemical Co., Ltd.), ORANGE-DCF, Vermilion Examples of the dye include n-DCF, PINK-DCF, RED-DCF, BLMB, CVL, GREEN-DCF, and TH-107 (manufactured by Hodogaya Chemical Co., Ltd.), ODB, ODB-2, ODB-4, ODB-250, ODB-BlackXV, Blue-63, Blue-502, GN-169, GN-2, Green-118, Red-40, and Red-8 (manufactured by Yamamoto Chemical Industry Co., Ltd.), and crystal violet lactone (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.). Among these commercially available products, ETAC, S-205, BLACK 305, BLACK 400, BLACK 100, BLACK 500, H-7001, GREEN 300, NIRBLACK 78, H-3035, ATP, H-1046, H-2114, GREEN-DCF, Blue-63, GN-169, and crystal violet lactone are preferred because the films formed have good visible light absorptance.

これらの酸発色剤は、1種単独で用いてもよいし、2種類以上の成分を組み合わせて使用することもできる。
酸発色剤の含有量は、画像記録層の全質量に対し、0.5質量%~10質量%であることが好ましく、1質量%~5質量%であることがより好ましい。
These acid color formers may be used alone or in combination of two or more kinds.
The content of the acid color former is preferably from 0.5% by mass to 10% by mass, and more preferably from 1% by mass to 5% by mass, based on the total mass of the image recording layer.

-連鎖移動剤-
本開示において用いられる画像記録層は、連鎖移動剤を含有してもよい。連鎖移動剤は、平版印刷版における耐刷性の向上に寄与する。
連鎖移動剤としては、チオール化合物が好ましく、沸点(揮発し難さ)の観点で炭素数7以上のチオールがより好ましく、芳香環上にメルカプト基を有する化合物(芳香族チオール化合物)が更に好ましい。上記チオール化合物は単官能チオール化合物であることが好ましい。
- Chain transfer agent -
The image recording layer used in the present disclosure may contain a chain transfer agent. The chain transfer agent contributes to improving the printing durability of the lithographic printing plate.
The chain transfer agent is preferably a thiol compound, more preferably a thiol having 7 or more carbon atoms from the viewpoint of boiling point (difficulty of volatilization), and further preferably a compound having a mercapto group on an aromatic ring (aromatic thiol compound). The thiol compound is preferably a monofunctional thiol compound.

連鎖移動剤として具体的には、下記の化合物が挙げられる。 Specific examples of chain transfer agents include the following compounds:

Figure 0007464691000077
Figure 0007464691000077

連鎖移動剤は、1種のみを含有しても、2種以上を併用してもよい。
連鎖移動剤の含有量は、画像記録層の全質量に対し、0.01質量%~50質量%が好ましく、0.05質量%~40質量%がより好ましく、0.1質量%~30質量%が更に好ましい。
The chain transfer agent may be used alone or in combination of two or more kinds.
The content of the chain transfer agent is preferably from 0.01% by mass to 50% by mass, more preferably from 0.05% by mass to 40% by mass, and even more preferably from 0.1% by mass to 30% by mass, based on the total mass of the image recording layer.

-感脂化剤-
画像記録層は、着肉性を向上させるために、ホスホニウム化合物、含窒素低分子化合物、アンモニウム基含有ポリマー等の感脂化剤を含有してもよい。特に、保護層に無機層状化合物を含有させる場合、これらの化合物は、無機層状化合物の表面被覆剤として機能し、無機層状化合物による印刷途中の着肉性低下を抑制することができる。
感脂化剤としては、ホスホニウム化合物と、含窒素低分子化合物と、アンモニウム基含有ポリマーとを併用することが好ましく、ホスホニウム化合物と、第四級アンモニウム塩類と、アンモニウム基含有ポリマーとを併用することがより好ましい。
-Oil sensitizer-
In order to improve ink receptivity, the image recording layer may contain an oil sensitizer such as a phosphonium compound, a nitrogen-containing low molecular weight compound, an ammonium group-containing polymer, etc. In particular, when an inorganic layered compound is contained in the protective layer, these compounds function as a surface coating agent for the inorganic layered compound, and can suppress a decrease in ink receptivity during printing caused by the inorganic layered compound.
As the oil sensitizer, it is preferable to use a phosphonium compound, a nitrogen-containing low molecular weight compound, and an ammonium group-containing polymer in combination, and it is more preferable to use a phosphonium compound, a quaternary ammonium salt, and an ammonium group-containing polymer in combination.

ホスホニウム化合物としては、特開2006-297907号公報及び特開2007-50660号公報に記載のホスホニウム化合物が挙げられる。具体例としては、テトラブチルホスホニウムヨージド、ブチルトリフェニルホスホニウムブロミド、テトラフェニルホスホニウムブロミド、1,4-ビス(トリフェニルホスホニオ)ブタン=ジ(ヘキサフルオロホスファート)、1,7-ビス(トリフェニルホスホニオ)ヘプタン=スルファート、1,9-ビス(トリフェニルホスホニオ)ノナン=ナフタレン-2,7-ジスルホナート等が挙げられる。Examples of phosphonium compounds include those described in JP-A-2006-297907 and JP-A-2007-50660. Specific examples include tetrabutylphosphonium iodide, butyltriphenylphosphonium bromide, tetraphenylphosphonium bromide, 1,4-bis(triphenylphosphonio)butane=di(hexafluorophosphate), 1,7-bis(triphenylphosphonio)heptane=sulfate, and 1,9-bis(triphenylphosphonio)nonane=naphthalene-2,7-disulfonate.

含窒素低分子化合物としては、アミン塩類、第四級アンモニウム塩類が挙げられる。また、イミダゾリニウム塩類、ベンゾイミダゾリニウム塩類、ピリジニウム塩類、キノリニウム塩類も挙げられる。中でも、第四級アンモニウム塩類及びピリジニウム塩類が好ましい。具体例としては、テトラメチルアンモニウム=ヘキサフルオロホスファート、テトラブチルアンモニウム=ヘキサフルオロホスファート、ドデシルトリメチルアンモニウム=p-トルエンスルホナート、ベンジルトリエチルアンモニウム=ヘキサフルオロホスファート、ベンジルジメチルオクチルアンモニウム=ヘキサフルオロホスファート、ベンジルジメチルドデシルアンモニウム=ヘキサフルオロホスファート、特開2008-284858号公報の段落0021~0037、特開2009-90645号公報の段落0030~0057に記載の化合物等が挙げられる。Examples of the nitrogen-containing low molecular weight compound include amine salts and quaternary ammonium salts. Other examples include imidazolinium salts, benzimidazolinium salts, pyridinium salts, and quinolinium salts. Among these, quaternary ammonium salts and pyridinium salts are preferred. Specific examples include tetramethylammonium hexafluorophosphate, tetrabutylammonium hexafluorophosphate, dodecyltrimethylammonium p-toluenesulfonate, benzyltriethylammonium hexafluorophosphate, benzyldimethyloctylammonium hexafluorophosphate, benzyldimethyldodecylammonium hexafluorophosphate, and the compounds described in paragraphs 0021 to 0037 of JP 2008-284858 A and paragraphs 0030 to 0057 of JP 2009-90645 A.

アンモニウム基含有ポリマーとしては、その構造中にアンモニウム基を有すればよく、側鎖にアンモニウム基を有する(メタ)アクリレートを共重合成分として5モル%~80モル%含有するポリマーが好ましい。具体例としては、特開2009-208458号公報の段落0089~0105に記載のポリマーが挙げられる。The ammonium group-containing polymer may have an ammonium group in its structure, and is preferably a polymer that contains 5 mol % to 80 mol % of a (meth)acrylate having an ammonium group in the side chain as a copolymerization component. Specific examples include the polymers described in paragraphs 0089 to 0105 of JP 2009-208458 A.

アンモニウム塩含有ポリマーは、特開2009-208458号公報に記載の測定方法に従って求められる還元比粘度(単位:ml/g)の値が、5~120の範囲のものが好ましく、10~110の範囲のものがより好ましく、15~100の範囲のものが特に好ましい。上記還元比粘度を重量平均分子量(Mw)に換算した場合、10,000~150,0000が好ましく、17,000~140,000がより好ましく、20,000~130,000が特に好ましい。The ammonium salt-containing polymer preferably has a reduced specific viscosity (unit: ml/g) value determined according to the measurement method described in JP 2009-208458 A in the range of 5 to 120, more preferably in the range of 10 to 110, and particularly preferably in the range of 15 to 100. When the reduced specific viscosity is converted into a weight average molecular weight (Mw), it is preferably 10,000 to 150,0000, more preferably 17,000 to 140,000, and particularly preferably 20,000 to 130,000.

以下に、アンモニウム基含有ポリマーの具体例を示す。
(1)2-(トリメチルアンモニオ)エチルメタクリレート=p-トルエンスルホナート/3,6-ジオキサヘプチルメタクリレート共重合体(モル比10/90、Mw4.5万)
(2)2-(トリメチルアンモニオ)エチルメタクリレート=ヘキサフルオロホスファート/3,6-ジオキサヘプチルメタクリレート共重合体(モル比20/80、Mw6.0万)
(3)2-(エチルジメチルアンモニオ)エチルメタクリレート=p-トルエンスルホナート/ヘキシルメタクリレート共重合体(モル比30/70、Mw4.5万)
(4)2-(トリメチルアンモニオ)エチルメタクリレート=ヘキサフルオロホスファート/2-エチルヘキシルメタクリレート共重合体(モル比20/80、Mw6.0万)
(5)2-(トリメチルアンモニオ)エチルメタクリレート=メチルスルファート/ヘキシルメタクリレート共重合体(モル比40/60、Mw7.0万)
(6)2-(ブチルジメチルアンモニオ)エチルメタクリレート=ヘキサフルオロホスファート/3,6-ジオキサヘプチルメタクリレート共重合体(モル比25/75、Mw6.5万)
(7)2-(ブチルジメチルアンモニオ)エチルアクリレート=ヘキサフルオロホスファート/3,6-ジオキサヘプチルメタクリレート共重合体(モル比20/80、Mw6.5万)
(8)2-(ブチルジメチルアンモニオ)エチルメタクリレート=13-エチル-5,8,11-トリオキサ-1-ヘプタデカンスルホナート/3,6-ジオキサヘプチルメタクリレート共重合体(モル比20/80、Mw7.5万)
(9)2-(ブチルジメチルアンモニオ)エチルメタクリレート=ヘキサフルオロホスファート/3,6-ジオキサヘプチルメタクリレート/2-ヒドロキシ-3-メタクリロイルオキシプロピルメタクリレート共重合体(モル比15/80/5、Mw6.5万)
Specific examples of the ammonium group-containing polymer are shown below.
(1) 2-(trimethylammonio)ethyl methacrylate = p-toluenesulfonate/3,6-dioxaheptyl methacrylate copolymer (molar ratio 10/90, Mw 45,000)
(2) 2-(trimethylammonio)ethyl methacrylate = hexafluorophosphate/3,6-dioxaheptyl methacrylate copolymer (molar ratio 20/80, Mw 60,000)
(3) 2-(ethyldimethylammonio)ethyl methacrylate = p-toluenesulfonate/hexyl methacrylate copolymer (molar ratio 30/70, Mw 45,000)
(4) 2-(trimethylammonio)ethyl methacrylate = hexafluorophosphate/2-ethylhexyl methacrylate copolymer (molar ratio 20/80, Mw 60,000)
(5) 2-(trimethylammonio)ethyl methacrylate = methyl sulfate/hexyl methacrylate copolymer (molar ratio 40/60, Mw 70,000)
(6) 2-(butyldimethylammonio)ethyl methacrylate = hexafluorophosphate / 3,6-dioxaheptyl methacrylate copolymer (molar ratio 25/75, Mw 65,000)
(7) 2-(butyldimethylammonio)ethyl acrylate = hexafluorophosphate / 3,6-dioxaheptyl methacrylate copolymer (molar ratio 20/80, Mw 65,000)
(8) 2-(butyldimethylammonio)ethyl methacrylate = 13-ethyl-5,8,11-trioxa-1-heptadecanesulfonate/3,6-dioxaheptyl methacrylate copolymer (molar ratio 20/80, Mw 75,000)
(9) 2-(butyldimethylammonio)ethyl methacrylate = hexafluorophosphate/3,6-dioxaheptyl methacrylate/2-hydroxy-3-methacryloyloxypropyl methacrylate copolymer (molar ratio 15/80/5, Mw 65,000)

感脂化剤の含有量は、画像記録層の全質量に対して、0.01質量%~30.0質量%が好ましく、0.1質量%~15.0質量%がより好ましく、1質量%~10質量%が更に好ましい。The content of the oil sensitizer is preferably 0.01% by mass to 30.0% by mass, more preferably 0.1% by mass to 15.0% by mass, and even more preferably 1% by mass to 10% by mass, relative to the total mass of the image recording layer.

-その他の成分-
画像記録層には、その他の成分として、界面活性剤、重合禁止剤、高級脂肪酸誘導体、可塑剤、無機層状化合物等を含有することができる。具体的には、特開2008-284817号公報の段落0114~0159の記載を参照することができる。
-Other ingredients-
The image recording layer may contain other components such as a surfactant, a polymerization inhibitor, a higher fatty acid derivative, a plasticizer, an inorganic layer compound, etc. For details, the description in paragraphs 0114 to 0159 of JP-A-2008-284817 may be referred to.

-画像記録層の形成-
本開示に係る平版印刷版原版における画像記録層は、例えば、特開2008-195018号公報の段落0142~0143に記載のように、必要な上記各成分を公知の溶剤に分散又は溶解して塗布液を調製し、塗布液を支持体上にバーコーター塗布など公知の方法で塗布し、乾燥することにより形成することができる。
溶剤としては、公知の溶剤を用いることができる。具体的には、例えば、水、アセトン、メチルエチルケトン(2-ブタノン)、シクロヘキサン、酢酸エチル、エチレンジクロライド、テトラヒドロフラン、トルエン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、アセチルアセトン、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノメーチルエーテルアセテート、エチレングリコールエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、1-メトキシ-2-プロパノール、3-メトキシ-1-プロパノール、メトキシメトキシエタノール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、3-メトキシプロピルアセテート、N,N-ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、γ-ブチロラクトン、乳酸メチル、乳酸エチル等が挙げられる。溶剤は、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。塗布液中の固形分濃度は1~50質量%程度であることが好ましい。
塗布、乾燥後における画像記録層の塗布量(固形分)は、用途によって異なるが、良好な感度と画像記録層の良好な皮膜特性を得る観点から、0.3g/m~3.0g/mが好ましい。
--Formation of image recording layer--
The image recording layer in the lithographic printing plate precursor according to the present disclosure can be formed, for example, as described in paragraphs [0142] to [0143] of JP2008-195018A, by dispersing or dissolving the above-mentioned necessary components in a known solvent to prepare a coating liquid, applying the coating liquid onto a support by a known method such as bar coater coating, and drying.
As the solvent, a known solvent can be used. Specific examples of the solvent include water, acetone, methyl ethyl ketone (2-butanone), cyclohexane, ethyl acetate, ethylene dichloride, tetrahydrofuran, toluene, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol dimethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, acetylacetone, cyclohexanone, diacetone alcohol, ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol ethyl ether acetate, ethylene glycol monoisopropyl ether, ethylene glycol monobutyl ether acetate, 1-methoxy-2-propanol, 3-methoxy-1-propanol, methoxymethoxyethanol, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, 3-methoxypropyl acetate, N,N-dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, γ-butyrolactone, methyl lactate, and ethyl lactate. The solvent may be used alone or in combination of two or more. The solid content in the coating solution is preferably about 1 to 50% by mass.
The coating amount (solid content) of the image recording layer after coating and drying varies depending on the application, but is preferably 0.3 g/m 2 to 3.0 g/m 2 from the viewpoint of obtaining good sensitivity and good film properties of the image recording layer.

<支持体>
本開示に係る平版印刷版原版における支持体は、公知の平版印刷版原版用親水性支持体から適宜選択して用いることができる。
支持体としては、アルミニウム支持体が好ましい。
アルミニウム支持体としては、親水性表面を有するアルミニウム支持体(以下、「親水性アルミニウム支持体」ともいう。)が好ましい。
また、支持体としては、親水性支持体が好ましく挙げられる。
本開示に係る平版印刷版原版におけるアルミニウム支持体は、アルミニウム支持体の画像記録層側の表面における空中水滴法による水との接触角が、傷汚れ抑制性の観点から、110°以下であることが好ましく、90°以下であることがより好ましく、80°以下であることが更に好ましく、50°以下であることがより更に好ましく、30°以下であることが特に好ましく、20°以下であることがより特に好ましく、10°以下であることが最も好ましい。
<Support>
The support for the lithographic printing plate precursor according to the present disclosure can be appropriately selected from known hydrophilic supports for lithographic printing plate precursors.
The support is preferably an aluminum support.
The aluminum support is preferably an aluminum support having a hydrophilic surface (hereinafter, also referred to as "hydrophilic aluminum support").
The support is preferably a hydrophilic support.
[0043] From the viewpoint of preventing scratches and stains, the aluminum support in the lithographic printing plate precursor according to the present disclosure has a contact angle with water, as determined by a water drop method in the air, on the surface of the aluminum support on the image recording layer side, of preferably 110° or less, more preferably 90° or less, even more preferably 80° or less, even more preferably 50° or less, particularly preferably 30° or less, more particularly preferably 20° or less, and most preferably 10° or less.

本開示において、アルミニウム支持体の画像記録層側の表面における空中水滴法による水との接触角は、以下の方法により測定するものとする。
平版印刷版原版を画像記録層を除去可能な溶媒(例えば、画像記録層用塗布液で用いた溶媒)に浸漬させ、スポンジ及びコットンの少なくとも一方で画像記録層を掻き取り、画像記録層を溶媒中に溶解させることでアルミニウム支持体の表面を露出させる。
露出させたアルミニウム支持体の画像記録層側の表面における水との接触角は、測定装置として全自動接触角計(例えば、協和界面化学(株)製DM-501)によって、25℃における表面上の水滴の接触角(0.2秒後)として測定される。
In the present disclosure, the contact angle with water on the surface of the aluminum support on the side of the image recording layer is measured by the following method using a water drop method in the air.
The lithographic printing plate precursor is immersed in a solvent capable of removing the image recording layer (e.g., the solvent used in the coating liquid for the image recording layer), and the image recording layer is scraped off with at least one of a sponge and cotton, thereby dissolving the image recording layer in the solvent to expose the surface of the aluminum support.
The contact angle with water on the exposed surface of the aluminum support on the image recording layer side is measured as the contact angle of a water droplet on the surface at 25° C. (after 0.2 seconds) using a fully automatic contact angle meter (e.g., DM-501 manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd.) as a measuring device.

本開示におけるアルミニウム支持体としては、公知の方法で粗面化処理され、陽極酸化処理されたアルミニウム板が好ましい。即ち、本開示におけるアルミニウム支持体は、アルミニウム板とアルミニウム板上に配置されたアルミニウムの陽極酸化被膜とを有することが好ましい。The aluminum support in the present disclosure is preferably an aluminum plate that has been roughened and anodized by a known method. That is, the aluminum support in the present disclosure preferably has an aluminum plate and an anodized aluminum coating disposed on the aluminum plate.

本開示において用いられるアルミニウム支持体の好ましい態様の一例(本一例に係るアルミニウム支持体を、「支持体(1)」ともいう。)を以下に示す。
即ち、支持体(1)は、アルミニウム板と、上記アルミニウム板上に配置されたアルミニウムの陽極酸化皮膜とを有し、上記陽極酸化皮膜が、上記アルミニウム板よりも上記画像記録層側に位置し、上記陽極酸化皮膜が、上記画像記録層側の表面から深さ方向にのびるマイクロポアを有し、上記マイクロポアの上記陽極酸化皮膜表面における平均径が10nmを超え100nm以下であり、上記陽極酸化皮膜の上記画像記録層側の表面のL表色系における明度Lの値が、70~100である。
An example of a preferred embodiment of the aluminum support used in the present disclosure (the aluminum support according to this example is also referred to as "support (1)") is shown below.
That is, the support (1) has an aluminum plate and an anodized aluminum film disposed on the aluminum plate, the anodized film is located on the image recording layer side of the aluminum plate, the anodized film has micropores extending in the depth direction from the surface on the image recording layer side, the average diameter of the micropores on the surface of the anodized film is more than 10 nm and not more than 100 nm, and the lightness L * value of the surface of the anodized film on the image recording layer side is 70 to 100 in the L * a * b * color system.

図3は、アルミニウム支持体12aの一実施形態の模式的断面図である。
アルミニウム支持体12aは、アルミニウム板18とアルミニウムの陽極酸化皮膜20a(以後、単に「陽極酸化皮膜20a」とも称する)とをこの順で積層した積層構造を有する。なお、アルミニウム支持体12a中の陽極酸化皮膜20aが、アルミニウム板18よりも画像記録層側に位置する。つまり、本開示に係る平版印刷版原版は、アルミニウム板上に、陽極酸化皮膜、画像記録層、及び水溶性樹脂層をこの順で少なくとも有することが好ましい。
FIG. 3 is a schematic cross-sectional view of one embodiment of the aluminum support 12a.
The aluminum support 12a has a laminated structure in which an aluminum plate 18 and an aluminum anodized film 20a (hereinafter also simply referred to as "anodized film 20a") are laminated in this order. The anodized film 20a in the aluminum support 12a is located closer to the image recording layer than the aluminum plate 18. In other words, the lithographic printing plate precursor according to the present disclosure preferably has at least an anodized film, an image recording layer, and a water-soluble resin layer, in this order, on the aluminum plate.

-陽極酸化皮膜-
以下、陽極酸化被膜20aの好ましい態様について説明する。
陽極酸化皮膜20aは、陽極酸化処理によってアルミニウム板18の表面に作製される皮膜であって、この皮膜は、皮膜表面に略垂直であり、かつ、個々が均一に分布した極微細なマイクロポア22aを有する。マイクロポア22aは、画像記録層側の陽極酸化皮膜20a表面(アルミニウム板18側とは反対側の陽極酸化皮膜20a表面)から厚み方向(アルミニウム板18側)に沿ってのびる。
- Anodized film -
A preferred embodiment of the anodic oxide coating 20a will now be described.
The anodized film 20a is a film produced on the surface of the aluminum plate 18 by anodizing, and has extremely fine micropores 22a that are approximately perpendicular to the film surface and are uniformly distributed. The micropores 22a extend from the surface of the anodized film 20a on the image recording layer side (the surface of the anodized film 20a on the side opposite to the aluminum plate 18) along the thickness direction (toward the aluminum plate 18).

陽極酸化皮膜20a中のマイクロポア22aの陽極酸化皮膜表面における平均径(平均開口径)は、10nm超え100nm以下であることが好ましい。中でも、耐刷性、耐汚れ性、及び画像視認性のバランスの点から、15nm~60nmがより好ましく、20nm~50nmが更に好ましく、25nm~40nmが特に好ましい。ポア内部の径は、表層よりも広がっても狭まってもよい。
平均径が10nmを超えれば、耐刷性及び画像視認性が更に優れる。また、平均径が100nm以下であれば場合、耐刷性が更に優れる。
マイクロポア22aの平均径は、陽極酸化皮膜20a表面を倍率15万倍の電界放出型走査電子顕微鏡(FE-SEM)でN=4枚観察し、得られた4枚の画像において、400nm×600nmの範囲に存在するマイクロポアの径(直径)を50箇所測定し、算術平均値として算出される。
なお、マイクロポア22aの形状が円状でない場合は、円相当径を用いる。「円相当径」とは、開口部の形状を、開口部の投影面積と同じ投影面積をもつ円と想定したときの円の直径である。
The average diameter (average opening diameter) of the micropores 22a in the anodized coating 20a at the surface of the anodized coating is preferably more than 10 nm and not more than 100 nm. From the viewpoint of a balance between printing durability, stain resistance, and image visibility, the average diameter is more preferably 15 nm to 60 nm, even more preferably 20 nm to 50 nm, and particularly preferably 25 nm to 40 nm. The diameter inside the pores may be wider or narrower than that at the surface layer.
If the average diameter exceeds 10 nm, the printing durability and image visibility are further improved. If the average diameter is 100 nm or less, the printing durability is further improved.
The average diameter of the micropores 22a was calculated as the arithmetic mean value by observing N=4 images of the surface of the anodized coating 20a using a field emission scanning electron microscope (FE-SEM) at a magnification of 150,000 times, measuring the diameters of the micropores present in an area of 400 nm × 600 nm at 50 locations in the four images obtained.
When the shape of the micropores 22a is not circular, the equivalent circle diameter is used, which is the diameter of a circle when the shape of the opening is assumed to be a circle having the same projected area as the projected area of the opening.

マイクロポア22aの深さは特に制限されないが、10nm~3,000nmが好ましく、50nm~2,000nmがより好ましく、300nm~1,600nmが更に好ましい。
なお、上記深さは、陽極酸化皮膜20aの断面の写真(15万倍)をとり、25個以上のマイクロポア22aの深さを測定し、平均した値である。
The depth of the micropores 22a is not particularly limited, but is preferably 10 nm to 3,000 nm, more preferably 50 nm to 2,000 nm, and even more preferably 300 nm to 1,600 nm.
The above depth is determined by taking a photograph (150,000 times) of a cross section of the anodic oxide film 20a, measuring the depths of 25 or more micropores 22a, and averaging the measured depths.

マイクロポア22aの形状は特に制限されず、図1では、略直管状(略円柱状)であるが、深さ方向(厚み方向)に向かって径が小さくなる円錐状であってもよい。また、マイクロポア22aの底部の形状は特に制限されず、曲面状(凸状)であっても、平面状であってもよい。The shape of the micropore 22a is not particularly limited, and in FIG. 1, it is substantially straight (cylindrical), but it may be a cone whose diameter decreases in the depth direction (thickness direction). The shape of the bottom of the micropore 22a is not particularly limited, and it may be curved (convex) or flat.

アルミニウム支持体12aの画像記録層側の表面(陽極酸化皮膜20aの画像記録層側の表面)のL表色系における明度Lの値は、70~100であることが好ましい。中でも、耐刷性及び画像視認性のバランスがより優れる点で、75~100が好ましく、75~90がより好ましい。
上記明度Lの測定は、エックスライト(株)製、色彩色差計Spectro Eyeを用いて測定する。
The lightness L * value in the L * a * b * color system of the surface of the aluminum support 12a facing the image recording layer (the surface of the anodized film 20a facing the image recording layer) is preferably 70 to 100. In particular, a value of 75 to 100 is preferred, and a value of 75 to 90 is more preferred, in terms of achieving a better balance between printing durability and image visibility.
The lightness L * is measured using a color difference meter Spectro Eye manufactured by X-Rite Corporation.

支持体(1)において、上記マイクロポアが、上記陽極酸化皮膜表面から深さ10nm~1,000nmの位置までのびる大径孔部と、上記大径孔部の底部と連通し、連通位置から深さ20nm~2,000nmの位置までのびる小径孔部とから構成され、上記大径孔部の上記陽極酸化皮膜表面における平均径が15nm~150nmであり、上記小径孔部の上記連通位置における平均径が13nm以下である態様(以下、上記態様に係る支持体を、「支持体(2)」ともいう。)も好ましく挙げられる。
図4は、アルミニウム支持体12aの、図3に示したものとは別の一実施形態の模式的断面図である。
図4において、アルミニウム支持体12bは、アルミニウム板18と、大径孔部24と小径孔部26とから構成されるマイクロポア22bを有する陽極酸化皮膜20bとを含む。
陽極酸化皮膜20b中のマイクロポア22bは、陽極酸化皮膜表面から深さ10nm~1000nm(深さD:図4参照)の位置までのびる大径孔部24と、大径孔部24の底部と連通し、連通位置から更に深さ20nm~2,000nmの位置までのびる小径孔部26とから構成される。
以下に、大径孔部24と小径孔部26について詳述する。
In another preferred embodiment of the support (1), the micropores are composed of large-diameter pores extending from the surface of the anodized film to a depth of 10 nm to 1,000 nm, and small-diameter pores that communicate with the bottoms of the large-diameter pores and extend from the communication positions to a depth of 20 nm to 2,000 nm, and the large-diameter pores have an average diameter of 15 nm to 150 nm at the surface of the anodized film, and the small-diameter pores have an average diameter of 13 nm or less at the communication positions (hereinafter, the support according to the above embodiment will also be referred to as "support (2)").
FIG. 4 is a schematic cross-sectional view of an alternative embodiment of the aluminum support 12a to that shown in FIG.
In FIG. 4, an aluminum support 12 b includes an aluminum plate 18 and an anodized film 20 b having micropores 22 b composed of large diameter pores 24 and small diameter pores 26 .
The micropores 22b in the anodized coating 20b are composed of large-diameter pores 24 extending from the surface of the anodized coating to a depth of 10 nm to 1,000 nm (depth D: see FIG. 4), and small-diameter pores 26 that communicate with the bottom of the large-diameter pores 24 and extend from the communicating position to a depth of 20 nm to 2,000 nm.
The large diameter hole portion 24 and the small diameter hole portion 26 will be described in detail below.

大径孔部24の陽極酸化皮膜20b表面における平均径は、上述した陽極酸化皮膜20a中のマイクロポア22aの陽極酸化皮膜表面における平均径と同じで、10nm超100nm以下であり、好適範囲も同じである。
大径孔部24の陽極酸化皮膜20b表面における平均径の測定方法は、陽極酸化皮膜20a中のマイクロポア22aの陽極酸化皮膜表面における平均径の測定方法と同じである。
The average diameter of the large diameter pores 24 on the surface of the anodized film 20b is the same as the average diameter of the micropores 22a in the anodized film 20a on the surface of the anodized film, that is, more than 10 nm but not more than 100 nm, and the preferred range is also the same.
The method for measuring the average diameter of the large diameter pores 24 on the surface of the anodized film 20b is the same as the method for measuring the average diameter of the micropores 22a in the anodized film 20a on the surface of the anodized film.

大径孔部24の底部は、陽極酸化皮膜表面から深さ10nm~1,000nm(以後、深さDとも称する)に位置する。つまり、大径孔部24は、陽極酸化皮膜表面から深さ方向(厚み方向)に10nm~1,000nmの位置までのびる孔部である。上記深さは、10nm~200nmが好ましい。
なお、上記深さは、陽極酸化皮膜20bの断面の写真(15万倍)をとり、25個以上の大径孔部24の深さを測定し、平均した値である。
The bottom of the large diameter hole 24 is located at a depth of 10 nm to 1,000 nm (hereinafter also referred to as depth D) from the surface of the anodized film. In other words, the large diameter hole 24 is a hole that extends from the surface of the anodized film to a position 10 nm to 1,000 nm in the depth direction (thickness direction). The depth is preferably 10 nm to 200 nm.
The above depth is determined by taking a photograph (150,000 times) of a cross section of the anodic oxide film 20b, measuring the depth of 25 or more large diameter holes 24, and averaging the measured depth.

大径孔部24の形状は特に制限されず、例えば、略直管状(略円柱状)、及び、深さ方向(厚み方向)に向かって径が小さくなる円錐状が挙げられ、略直管状が好ましい。The shape of the large diameter hole portion 24 is not particularly limited, and examples include an approximately straight tube shape (approximately cylindrical shape) and a cone shape whose diameter decreases in the depth direction (thickness direction), with an approximately straight tube shape being preferred.

小径孔部26は、図4に示すように、大径孔部24の底部と連通して、連通位置より更に深さ方向(厚み方向)に延びる孔部である。
小径孔部26の連通位置における平均径は、13nm以下が好ましい。中でも、11nm以下が好ましく、10nm以下がより好ましい。下限は特に制限されないが、5nm以上の場合が多い。
As shown in FIG. 4, the small diameter hole 26 is a hole that communicates with the bottom of the large diameter hole 24 and extends further in the depth direction (thickness direction) than the communicating position.
The average diameter of the small diameter holes 26 at the communicating positions is preferably 13 nm or less. In particular, it is preferably 11 nm or less, and more preferably 10 nm or less. There is no particular lower limit, but it is often 5 nm or more.

小径孔部26の平均径は、陽極酸化皮膜20a表面を倍率15万倍のFE-SEMでN=4枚観察し、得られた4枚の画像において、400nm×600nmの範囲に存在するマイクロポア(小径孔部)の径(直径)を測定し、算術平均値として得られる。なお、大径孔部の深さが深い場合は、必要に応じて、陽極酸化皮膜20b上部(大径孔部のある領域)を切削し(例えば、アルゴンガスによって切削)、その後陽極酸化皮膜20b表面を上記FE-SEMで観察して、小径孔部の平均径を求めてもよい。
なお、小径孔部26の形状が円状でない場合は、円相当径を用いる。「円相当径」とは、開口部の形状を、開口部の投影面積と同じ投影面積をもつ円と想定したときの円の直径である。
The average diameter of the small diameter pores 26 is obtained by observing the surface of the anodized film 20a with an FE-SEM at a magnification of 150,000 times (N=4 images), measuring the diameters of the micropores (small diameter pores) present in the range of 400 nm × 600 nm in the four images obtained, and taking the arithmetic average value. Note that, if the large diameter pores are deep, the upper part of the anodized film 20b (the region where the large diameter pores are located) may be cut (e.g., cut with argon gas) as necessary, and then the surface of the anodized film 20b may be observed with the FE-SEM to determine the average diameter of the small diameter pores.
In addition, when the shape of the small diameter hole 26 is not circular, the equivalent circle diameter is used. The "equivalent circle diameter" is the diameter of a circle when the shape of the opening is assumed to be a circle having the same projected area as the projected area of the opening.

小径孔部26の底部は、上記の大径孔部24との連通位置から更に深さ方向に20nm~2,000nmのびた場所に位置する。言い換えると、小径孔部26は、上記大径孔部24との連通位置から更に深さ方向(厚み方向)にのびる孔部であり、小径孔部26の深さは20nm~2,000nmである。なお、上記深さは、500nm~2,000nmが好ましい。
なお、上記深さは、陽極酸化皮膜20bの断面の写真(5万倍)をとり、25個以上の小径孔部の深さを測定し、平均した値である。
The bottoms of the small diameter holes 26 are located at positions extending 20 nm to 2,000 nm in the depth direction from the positions where the small diameter holes 26 communicate with the large diameter holes 24. In other words, the small diameter holes 26 are holes that extend in the depth direction (thickness direction) from the positions where the small diameter holes 26 communicate with the large diameter holes 24, and the depth of the small diameter holes 26 is 20 nm to 2,000 nm. The depth is preferably 500 nm to 2,000 nm.
The above depth is determined by taking a photograph (50,000 times) of the cross section of the anodic oxide film 20b, measuring the depths of 25 or more small diameter holes, and averaging the measured depths.

小径孔部26の形状は特に制限されず、例えば、略直管状(略円柱状)、及び、深さ方向に向かって径が小さくなる円錐状が挙げられ、略直管状が好ましい。The shape of the small diameter hole portion 26 is not particularly limited, and examples include an approximately straight tube shape (approximately cylindrical shape) and a cone shape whose diameter decreases in the depth direction, with an approximately straight tube shape being preferred.

-アルミニウム支持体の製造方法-
本開示に用いられるアルミニウム支持体の製造方法としては、例えば、以下の工程を順番に実施する製造方法が好ましい。
・粗面化処理工程:アルミニウム板に粗面化処理を施す工程
・陽極酸化処理工程:粗面化処理されたアルミニウム板を陽極酸化する工程
・ポアワイド処理工程:陽極酸化処理工程で得られた陽極酸化皮膜を有するアルミニウム板を、酸水溶液又はアルカリ水溶液に接触させ、陽極酸化皮膜中のマイクロポアの径を拡大させる工程
以下、各工程の手順について詳述する。
-Method for producing aluminum support-
As a method for producing the aluminum support used in the present disclosure, for example, a production method in which the following steps are carried out in order is preferable.
Surface roughening process: a process of roughening the surface of an aluminum plate; Anodizing process: a process of anodizing the surface-roughened aluminum plate; Pore widening process: a process of contacting the aluminum plate having the anodized film obtained in the anodizing process with an acid aqueous solution or an alkaline aqueous solution to enlarge the diameter of the micropores in the anodized film. The procedure for each process is described in detail below.

〔粗面化処理工程〕
粗面化処理工程は、アルミニウム板の表面に、電気化学的粗面化処理を含む粗面化処理を施す工程である。本工程は、後述する陽極酸化処理工程の前に実施されることが好ましいが、アルミニウム板の表面がすでに好ましい表面形状を有していれば、特に実施しなくてもよい。
[Surface roughening treatment process]
The surface roughening step is a step of roughening the surface of the aluminum plate, including electrochemical roughening. This step is preferably performed before the anodizing step described below, but may not be necessary if the surface of the aluminum plate already has a desired surface shape.

粗面化処理は、電気化学的粗面化処理のみを実施してもよいが、電気化学的粗面化処理と機械的粗面化処理及び/又は化学的粗面化処理とを組み合わせて実施してもよい。
機械的粗面化処理と電気化学的粗面化処理とを組み合わせる場合には、機械的粗面化処理の後に、電気化学的粗面化処理を実施するのが好ましい。
電気化学的粗面化処理は、硝酸又は塩酸を主体とする水溶液中で、直流又は交流を用いて行われることが好ましい。
機械的粗面化処理の方法は特に制限されないが、例えば、特公昭50-40047号公報に記載されている方法が挙げられる。
化学的粗面化処理も特に制限されず、公知の方法が挙げられる。
The surface roughening treatment may be performed by electrochemical surface roughening alone, or may be performed by combining electrochemical surface roughening treatment with mechanical surface roughening treatment and/or chemical surface roughening treatment.
When mechanical graining and electrochemical graining are combined, it is preferable to carry out the electrochemical graining after the mechanical graining.
The electrochemical graining treatment is preferably carried out in an aqueous solution mainly containing nitric acid or hydrochloric acid, using a direct current or an alternating current.
The method for mechanically roughening the surface is not particularly limited, but may be, for example, the method described in Japanese Patent Publication No. 50-40047.
The chemical roughening treatment is not particularly limited, and known methods can be used.

機械的粗面化処理の後には、以下の化学エッチング処理を実施するのが好ましい。
機械的粗面化処理の後に施される化学エッチング処理は、アルミニウム板の表面の凹凸形状のエッジ部分をなだらかにし、印刷時のインキの引っかかりを防止し、印刷版の耐汚れ性を向上させるとともに、表面に残った研磨材粒子等の不要物を除去するために行われる。
化学エッチング処理としては、酸によるエッチング及びアルカリによるエッチングが挙げられ、エッチング効率の点で特に優れている方法として、アルカリ水溶液を用いる化学エッチング処理(以下、「アルカリエッチング処理」ともいう。)が挙げられる。
After the mechanical roughening treatment, the following chemical etching treatment is preferably carried out.
The chemical etching treatment carried out after the mechanical graining treatment is carried out to smooth the uneven edges of the surface of the aluminum plate, prevent the ink from catching during printing, improve the stain resistance of the printing plate, and remove any unwanted material such as abrasive particles remaining on the surface.
Examples of chemical etching treatments include etching with an acid and etching with an alkali, and a method that is particularly excellent in terms of etching efficiency is a chemical etching treatment using an aqueous alkali solution (hereinafter, also referred to as "alkaline etching treatment").

アルカリ水溶液に用いられるアルカリ剤は特に制限されないが、例えば、カセイソーダ、カセイカリ、メタケイ酸ソーダ、炭酸ソーダ、アルミン酸ソーダ、及び、グルコン酸ソーダが挙げられる。
アルカリ水溶液は、アルミニウムイオンを含んでいてもよい。
アルカリ水溶液のアルカリ剤の濃度は、0.01質量%以上が好ましく、3質量%以上がより好ましく、また、30質量%以下が好ましい。
The alkaline agent used in the alkaline aqueous solution is not particularly limited, but examples thereof include caustic soda, caustic potash, sodium metasilicate, sodium carbonate, sodium aluminate, and sodium gluconate.
The alkaline aqueous solution may contain aluminum ions.
The concentration of the alkaline agent in the alkaline aqueous solution is preferably 0.01% by mass or more, more preferably 3% by mass or more, and is preferably 30% by mass or less.

アルカリエッチング処理を施した場合、アルカリエッチング処理により生じる生成物を除去するために、低温の酸性水溶液を用いて化学エッチング処理(以下、「デスマット処理」ともいう。)を施すのが好ましい。
酸性水溶液に用いられる酸は特に制限されないが、例えば、硫酸、硝酸、及び、塩酸が挙げられる。また、酸性水溶液の温度は、20℃~80℃が好ましい。
When the alkaline etching treatment is carried out, it is preferable to carry out a chemical etching treatment (hereinafter also referred to as a "desmutting treatment") using a low-temperature acidic aqueous solution in order to remove products produced by the alkaline etching treatment.
The acid used in the acidic aqueous solution is not particularly limited, but examples thereof include sulfuric acid, nitric acid, and hydrochloric acid. The temperature of the acidic aqueous solution is preferably 20° C. to 80° C.

粗面化処理工程としては、A態様又はB態様に示す処理を以下に示す順に実施する方法が好ましい。As the roughening treatment process, it is preferable to carry out the treatments shown in form A or form B in the order shown below.

~A態様~
(2)アルカリ水溶液を用いた化学エッチング処理(第1アルカリエッチング処理)
(3)酸性水溶液を用いた化学エッチング処理(第1デスマット処理)
(4)硝酸を主体とする水溶液を用いた電気化学的粗面化処理(第1電気化学的粗面化処理)
(5)アルカリ水溶液を用いた化学エッチング処理(第2アルカリエッチング処理)
(6)酸性水溶液を用いた化学エッチング処理(第2デスマット処理)
(7)塩酸を主体とする水溶液中で電気化学的粗面化処理(第2電気化学的粗面化処理)
(8)アルカリ水溶液を用いた化学エッチング処理(第3アルカリエッチング処理)
(9)酸性水溶液を用いた化学エッチング処理(第3デスマット処理)
~A type~
(2) Chemical Etching Treatment Using an Alkaline Aqueous Solution (First Alkaline Etching Treatment)
(3) Chemical Etching Treatment Using Acidic Aqueous Solution (First Desmutting Treatment)
(4) Electrochemical roughening treatment using an aqueous solution mainly containing nitric acid (first electrochemical roughening treatment)
(5) Chemical Etching Treatment Using an Alkaline Aqueous Solution (Second Alkaline Etching Treatment)
(6) Chemical Etching Treatment Using Acidic Aqueous Solution (Second Desmutting Treatment)
(7) Electrochemical graining treatment in an aqueous solution mainly containing hydrochloric acid (second electrochemical graining treatment)
(8) Chemical etching treatment using an alkaline aqueous solution (third alkaline etching treatment)
(9) Chemical Etching Treatment Using Acidic Aqueous Solution (Third Desmutting Treatment)

~B態様~
(10)アルカリ水溶液を用いた化学エッチング処理(第4アルカリエッチング処理)
(11)酸性水溶液を用いた化学エッチング処理(第4デスマット処理)
(12)塩酸を主体とする水溶液を用いた電気化学的粗面化処理(第3電気化学的粗面化処理)
(13)アルカリ水溶液を用いた化学エッチング処理(第5アルカリエッチング処理)
(14)酸性水溶液を用いた化学エッチング処理(第5デスマット処理)
~B type~
(10) Chemical etching treatment using an alkaline aqueous solution (fourth alkaline etching treatment)
(11) Chemical Etching Treatment Using Acidic Aqueous Solution (Fourth Desmutting Treatment)
(12) Electrochemical roughening treatment using an aqueous solution mainly containing hydrochloric acid (third electrochemical roughening treatment)
(13) Chemical etching treatment using an alkaline aqueous solution (fifth alkaline etching treatment)
(14) Chemical Etching Treatment Using Acidic Aqueous Solution (Fifth Desmutting Treatment)

上記A態様の(2)の処理前、又は、B態様の(10)の処理前に、必要に応じて、(1)機械的粗面化処理を実施してもよい。 Before the treatment (2) in the above embodiment A or before the treatment (10) in the above embodiment B, a mechanical roughening treatment (1) may be carried out, if necessary.

第1アルカリエッチング処理及び第4アルカリエッチング処理におけるアルミニウム板の溶解量は、0.5g/m~30g/mが好ましく、1.0g/m~20g/mがより好ましい。 The amount of aluminum plate dissolved in the first alkaline etching treatment and the fourth alkaline etching treatment is preferably 0.5 g/m 2 to 30 g/m 2 , and more preferably 1.0 g/m 2 to 20 g/m 2 .

A態様における第1電気化学的粗面化処理で用いる硝酸を主体とする水溶液としては、直流又は交流を用いた電気化学的な粗面化処理に用いる水溶液が挙げられる。例えば、1~100g/Lの硝酸水溶液に、硝酸アルミニウム、硝酸ナトリウム、又は、硝酸アンモニウム等を添加して得られる水溶液が挙げられる。
A態様における第2電気化学的粗面化処理及びB態様における第3電気化学的粗面化処理で用いる塩酸を主体とする水溶液としては、通常の直流又は交流を用いた電気化学的な粗面化処理に用いる水溶液が挙げられる。例えば、1g/L~100g/Lの塩酸水溶液に、硫酸を0g/L~30g/L添加して得られる水溶液が挙げられる。なお、この溶液に、硝酸アルミニウム、硝酸ナトリウム、及び、硝酸アンモニウム等の硝酸イオン;塩化アルミニウム、塩化ナトリウム、及び、塩化アンモニウム等の塩酸イオンを更に添加してもよい。
The aqueous solution mainly containing nitric acid used in the first electrochemical graining treatment in embodiment A includes an aqueous solution used in electrochemical graining treatment using direct or alternating current, for example, an aqueous solution obtained by adding aluminum nitrate, sodium nitrate, ammonium nitrate, or the like to a 1 to 100 g/L aqueous solution of nitric acid.
The aqueous solution mainly containing hydrochloric acid used in the second electrochemical graining treatment in embodiment A and the third electrochemical graining treatment in embodiment B includes an aqueous solution used in a normal electrochemical graining treatment using direct or alternating current. For example, an aqueous solution obtained by adding 0 g/L to 30 g/L of sulfuric acid to an aqueous solution of 1 g/L to 100 g/L of hydrochloric acid may be included. Note that this solution may further include nitrate ions such as aluminum nitrate, sodium nitrate, and ammonium nitrate; or hydrochloride ions such as aluminum chloride, sodium chloride, and ammonium chloride.

電気化学的粗面化処理の交流電源波形は、サイン波、矩形波、台形波、及び、三角波等を用いることができる。周波数は0.1Hz~250Hzが好ましい。
図5は、電気化学的粗面化処理に用いられる交番波形電流波形図の一例を示すグラフである。
図5において、taはアノード反応時間、tcはカソード反応時間、tpは電流が0からピークに達するまでの時間、Iaはアノードサイクル側のピーク時の電流、Icはカソードサイクル側のピーク時の電流、AAはアルミニウム板のアノード反応の電流、CAはアルミニウム板のカソード反応の電流である。台形波において、電流が0からピークに達するまでの時間tpは1ms~10msが好ましい。電気化学的な粗面化に用いる交流の1サイクルの条件が、アルミニウム板のアノード反応時間taとカソード反応時間tcの比tc/taが1~20、アルミニウム板がアノード時の電気量Qcとアノード時の電気量Qaの比Qc/Qaが0.3~20、アノード反応時間taが5ms~1,000ms、の範囲にあるのが好ましい。電流密度は台形波のピーク値で電流のアノードサイクル側Ia、カソードサイクル側Icともに10A/dm~200A/dmが好ましい。Ic/Iaは、0.3~20が好ましい。電気化学的な粗面化が終了した時点でのアルミニウム板のアノード反応にあずかる電気量の総和は、25C/dm~1,000C/dmが好ましい。
The AC power waveform for the electrochemical graining treatment may be a sine wave, a square wave, a trapezoidal wave, a triangular wave, etc. The frequency is preferably 0.1 Hz to 250 Hz.
FIG. 5 is a graph showing an example of an alternating current waveform used in the electrochemical graining treatment.
In Fig. 5, ta is the anode reaction time, tc is the cathode reaction time, tp is the time from 0 to the peak current, Ia is the peak current on the anode cycle side, Ic is the peak current on the cathode cycle side, AA is the anode reaction current of the aluminum plate, and CA is the cathode reaction current of the aluminum plate. In the trapezoidal wave, the time tp from 0 to the peak current is preferably 1 ms to 10 ms. The conditions of one cycle of AC used for electrochemical roughening are preferably in the range of 1 to 20 for the ratio tc/ta of the anode reaction time ta of the aluminum plate to the cathode reaction time tc, 0.3 to 20 for the ratio Qc/Qa of the quantity of electricity when the aluminum plate is the anode to the quantity of electricity when the aluminum plate is the anode, and 5 ms to 1,000 ms for the anode reaction time ta. The current density at the peak value of the trapezoidal wave is preferably 10 A/ dm2 to 200 A/ dm2 for both the anode cycle side Ia and the cathode cycle side Ic of the current. Ic/Ia is preferably 0.3 to 20. The total amount of electricity involved in the anode reaction of the aluminum plate at the time when the electrochemical roughening is completed is preferably 25 C/ dm2 to 1,000 C/ dm2 .

交流を用いた電気化学的な粗面化には図6に示した装置を用いることができる。
図6は、交流を用いた電気化学的粗面化処理におけるラジアル型セルの一例を示す側面図である。
図6において、50は主電解槽、51は交流電源、52はラジアルドラムローラ、53a及び53bは主極、54は電解液供給口、55は電解液、56はスリット、57は電解液通路、58は補助陽極、60は補助陽極槽、Wはアルミニウム板である。図6中、矢印A1は電解液の給液方向を、矢印A2は電解液の排出方向をそれぞれ示している。である。電解槽を2つ以上用いるときには、電解条件は同じでもよいし、異なっていてもよい。
アルミニウム板Wは主電解槽50中に浸漬して配置されたラジアルドラムローラ52に巻装され、搬送過程で交流電源51に接続する主極53a及び53bにより電解処理される。電解液55は、電解液供給口54からスリット56を通じてラジアルドラムローラ52と主極53a及び53bとの間の電解液通路57に供給される。主電解槽50で処理されたアルミニウム板Wは、次いで、補助陽極槽60で電解処理される。この補助陽極槽60には補助陽極58がアルミニウム板Wと対向配置されており、電解液55が補助陽極58とアルミニウム板Wとの間の空間を流れるように供給される。
For electrochemical roughening using alternating current, an apparatus as shown in FIG. 6 can be used.
FIG. 6 is a side view showing an example of a radial cell for electrochemical surface roughening treatment using an alternating current.
In Fig. 6, 50 is a main electrolytic cell, 51 is an AC power source, 52 is a radial drum roller, 53a and 53b are main electrodes, 54 is an electrolyte supply port, 55 is an electrolyte, 56 is a slit, 57 is an electrolyte passage, 58 is an auxiliary anode, 60 is an auxiliary anode cell, and W is an aluminum plate. In Fig. 6, arrow A1 indicates the electrolyte supply direction, and arrow A2 indicates the electrolyte discharge direction. When two or more electrolytic cells are used, the electrolysis conditions may be the same or different.
The aluminum sheet W is wound around a radial drum roller 52 immersed in a main electrolytic cell 50, and is electrolyzed by main electrodes 53a and 53b connected to an AC power source 51 during the transport process. An electrolyte 55 is supplied from an electrolyte supply port 54 through a slit 56 to an electrolyte passage 57 between the radial drum roller 52 and the main electrodes 53a and 53b. The aluminum sheet W treated in the main electrolytic cell 50 is then electrolyzed in an auxiliary anode cell 60. In this auxiliary anode cell 60, an auxiliary anode 58 is disposed opposite the aluminum sheet W, and the electrolyte 55 is supplied so as to flow through the space between the auxiliary anode 58 and the aluminum sheet W.

第2アルカリエッチング処理におけるアルミニウム板の溶解量は、所定の印刷版原版が製造しやすい点で、1.0g/m以上が好ましく、2.0g/m~10g/mがより好ましい。 The amount of the aluminum plate dissolved in the second alkaline etching treatment is preferably 1.0 g/m 2 or more, and more preferably 2.0 g/m 2 to 10 g/m 2 , in terms of facilitating the production of a desired printing plate precursor.

第3アルカリエッチング処理及び第4アルカリエッチング処理におけるアルミニウム板の溶解量は、所定の印刷版原版が製造しやすい点で、0.01g/m~0.8g/mが好ましく、0.05g/m~0.3g/mがより好ましい。 The amount of the aluminum plate dissolved in the third alkaline etching treatment and the fourth alkaline etching treatment is preferably 0.01 g/m 2 to 0.8 g/m 2 , and more preferably 0.05 g/m 2 to 0.3 g/m 2 , in terms of ease of production of a predetermined printing plate precursor.

酸性水溶液を用いた化学エッチング処理(第1~第5デスマット処理)では、燐酸、硝酸、硫酸、クロム酸、塩酸、又はこれらの2以上の酸を含む混酸を含む酸性水溶液が好適に用いられる。
酸性水溶液の酸の濃度は、0.5質量%~60質量%が好ましい。
In the chemical etching treatments using acidic aqueous solutions (first to fifth desmutting treatments), an acidic aqueous solution containing phosphoric acid, nitric acid, sulfuric acid, chromic acid, hydrochloric acid, or a mixed acid containing two or more of these acids is suitably used.
The acid concentration of the acidic aqueous solution is preferably 0.5% by mass to 60% by mass.

〔陽極酸化処理工程〕
陽極酸化処理工程の手順は、上述したマイクロポアが得られれば特に制限されず、公知の方法が挙げられる。
陽極酸化処理工程においては、硫酸、リン酸、及び、シュウ酸等の水溶液を電解浴として用いることができる。例えば、硫酸の濃度は、100g/L~300g/Lが挙げられる。
陽極酸化処理の条件は使用される電解液によって適宜設定されるが、例えば、液温5℃~70℃(好ましくは10℃~60℃)、電流密度0.5A/dm~60A/dm(好ましくは1A/dm~60A/dm)、電圧1V~100V(好ましくは5V~50V)、電解時間1秒~100秒(好ましくは5秒~60秒)、及び、皮膜量0.1g/m~5g/m(好ましくは0.2g/m~3g/m)が挙げられる。
[Anodizing process]
The procedure for the anodizing treatment step is not particularly limited as long as the above-mentioned micropores can be obtained, and known methods can be used.
In the anodizing process, an aqueous solution of sulfuric acid, phosphoric acid, oxalic acid, etc. can be used as an electrolytic bath. For example, the concentration of sulfuric acid is 100 g/L to 300 g/L.
The conditions for the anodizing treatment are appropriately set depending on the electrolyte used, and examples include a solution temperature of 5°C to 70°C (preferably 10°C to 60°C), a current density of 0.5 A/ dm2 to 60 A/dm2 (preferably 1 A/ dm2 to 60 A/ dm2 ), a voltage of 1 V to 100 V (preferably 5 V to 50 V), an electrolysis time of 1 sec to 100 sec (preferably 5 sec to 60 sec), and a coating weight of 0.1 g/ m2 to 5 g/ m2 (preferably 0.2 g/ m2 to 3 g/ m2 ).

〔ポアワイド処理〕
ポアワイド処理は、上述した陽極酸化処理工程により形成された陽極酸化皮膜に存在するマイクロポアの径(ポア径)を拡大させる処理(孔径拡大処理)である。
ポアワイド処理は、上述した陽極酸化処理工程により得られたアルミニウム板を、酸水溶液又はアルカリ水溶液に接触させることにより行うことができる。接触させる方法は特に制限されず、例えば、浸せき法及びスプレー法が挙げられる。
[Pore widening treatment]
The pore widening treatment is a treatment (pore diameter enlargement treatment) for enlarging the diameter (pore diameter) of the micropores present in the anodized film formed by the above-mentioned anodizing treatment process.
The pore widening treatment can be carried out by contacting the aluminum plate obtained by the above-mentioned anodizing treatment step with an acid aqueous solution or an alkaline aqueous solution. The contacting method is not particularly limited, and examples thereof include a dipping method and a spraying method.

<保護層>
本開示に係る平版印刷版原版は、画像記録層上に、保護層(オーバーコート層と呼ばれることもある。)を有していることが好ましい。
<Protective Layer>
The lithographic printing plate precursor according to the present disclosure preferably has a protective layer (sometimes called an overcoat layer) on the image recording layer.

上記保護層は、発色性、及び、経時発色性の観点から、熱又は赤外線露光により開裂する基を有する発色性化合物を含むことが好ましい。
上記保護層における熱又は赤外線露光により開裂する基を有する発色性化合物の好ましい態様は、下記に示す態様以外は、上記画像記録層における熱又は赤外線露光により開裂する基を有する発色性化合物の好ましい態様と同様である。
上記保護層における上記発色性化合物の含有量は、エッジ汚れ抑制性、発色性、経時発色性、機上現像性、及び、耐薬品性の観点から、0.1mg/m~100mg/mであることが好ましく、1mg/m~50mg/mであることがより好ましく、5mg/m~40mg/mであることが特に好ましい。
From the viewpoint of color development and color development over time, the protective layer preferably contains a color-developing compound having a group that is cleaved by exposure to heat or infrared rays.
Preferred embodiments of the color-forming compound having a group that is cleaved by exposure to heat or infrared rays in the protective layer are the same as the preferred embodiments of the color-forming compound having a group that is cleaved by exposure to heat or infrared rays in the image recording layer, except for the embodiments described below.
The content of the color-forming compound in the protective layer is preferably 0.1 mg/ m2 to 100 mg/ m2 , more preferably 1 mg/ m2 to 50 mg/ m2 , and particularly preferably 5 mg/m2 to 40 mg/ m2 , from the viewpoints of edge stain suppression, color development, color development over time, on- machine developability, and chemical resistance.

また、上記保護層は、エッジ汚れ抑制性、及び、機上現像性の観点から、分子量1,000以下の支持体吸着性化合物を含むことが好ましい。
上記保護層における分子量1,000以下の支持体吸着性化合物の好ましい態様は、下記に示す態様以外は、上記画像記録層における分子量1,000以下の支持体吸着性化合物の好ましい態様と同様である。
上記保護層における上記支持体吸着性化合物の含有量は、エッジ汚れ抑制性、及び、機上現像性の観点から、0.1mg/m~100mg/mであることが好ましく、1mg/m~50mg/mであることがより好ましく、5mg/m~40mg/mであることが特に好ましい。
From the viewpoints of suppressing edge staining and on-press developability, the protective layer preferably contains a support-adsorbing compound having a molecular weight of 1,000 or less.
Preferred embodiments of the support-adsorbing compound having a molecular weight of 1,000 or less in the protective layer are the same as those of the support-adsorbing compound having a molecular weight of 1,000 or less in the image-recording layer, except for the embodiments described below.
The content of the support-adsorbing compound in the protective layer is preferably 0.1 mg/m 2 to 100 mg/m 2, more preferably 1 mg/m 2 to 50 mg/m 2 , and particularly preferably 5 mg/m 2 to 40 mg/m 2 , from the viewpoints of edge stain suppression and on-press developability.

また、保護層は、特に制限はないが、酸素遮断により画像形成阻害反応を抑制する機能の他、画像記録層における傷の発生防止及び高照度レーザー露光時のアブレーション防止の機能を有する保護層が挙げられる。In addition, the protective layer is not particularly limited, but examples of the protective layer include a layer that has the function of suppressing image formation inhibitory reactions by blocking oxygen, as well as the function of preventing scratches in the image recording layer and ablation during exposure to high-intensity laser light.

このような特性の保護層については、例えば、米国特許第3,458,311号明細書及び特公昭55-49729号公報に記載されている。保護層に用いられる酸素低透過性のポリマーとしては、水溶性ポリマー、水不溶性ポリマーのいずれをも適宜選択して使用することができ、必要に応じて2種類以上を混合して使用することもできる。具体的には、例えば、ポリビニルアルコール、変性ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、水溶性セルロース誘導体、ポリ(メタ)アクリロニトリル等が挙げられる。
変性ポリビニルアルコールとしてはカルボキシ基又はスルホ基を有する酸変性ポリビニルアルコールが好ましく用いられる。具体的には、特開2005-250216号公報及び特開2006-259137号公報に記載の変性ポリビニルアルコールが挙げられる。
Protective layers having such characteristics are described, for example, in U.S. Pat. No. 3,458,311 and Japanese Patent Publication No. 55-49729. As the low oxygen permeable polymer used in the protective layer, either a water-soluble polymer or a water-insoluble polymer can be appropriately selected and used, and two or more types can be mixed and used as necessary. Specific examples include polyvinyl alcohol, modified polyvinyl alcohol, polyvinylpyrrolidone, water-soluble cellulose derivatives, poly(meth)acrylonitrile, etc.
The modified polyvinyl alcohol is preferably an acid-modified polyvinyl alcohol having a carboxy group or a sulfo group, specifically, the modified polyvinyl alcohols described in JP-A-2005-250216 and JP-A-2006-259137.

保護層は、酸素遮断性を高めるために無機層状化合物を含有することが好ましい。無機層状化合物は、薄い平板状の形状を有する粒子であり、例えば、天然雲母、合成雲母等の雲母群、式:3MgO・4SiO・HOで表されるタルク、テニオライト、モンモリロナイト、サポナイト、ヘクトライト、リン酸ジルコニウム等が挙げられる。
好ましく用いられる無機層状化合物は雲母化合物である。雲母化合物としては、例えば、式:A(B,C)2-510(OH,F,O)〔ただし、Aは、K、Na、Caのいずれか、B及びCは、Fe(II)、Fe(III)、Mn、Al、Mg、Vのいずれかであり、Dは、Si又はAlである。〕で表される天然雲母、合成雲母等の雲母群が挙げられる。
The protective layer preferably contains an inorganic layered compound to improve the oxygen barrier property. The inorganic layered compound is a thin, tabular particle, and examples thereof include mica groups such as natural mica and synthetic mica, talc represented by the formula: 3MgO.4SiO.H2O , taeniolite, montmorillonite, saponite, hectorite, zirconium phosphate, and the like.
The inorganic layered compound preferably used is a mica compound, for example, a mica group such as natural mica or synthetic mica represented by the formula: A(B,C)2-5D4O10 ( OH ,F,O) 2 (wherein A is K, Na or Ca, B and C are Fe(II), Fe(III), Mn, Al, Mg or V, and D is Si or Al).

雲母群においては、天然雲母としては白雲母、ソーダ雲母、金雲母、黒雲母及び鱗雲母が挙げられる。合成雲母としてはフッ素金雲母KMg(AlSi10)F、カリ四ケイ素雲母KMg2.5Si10)F等の非膨潤性雲母、及び、NaテトラシリリックマイカNaMg2.5(Si10)F、Na又はLiテニオライト(Na,Li)MgLi(Si10)F、モンモリロナイト系のNa又はLiヘクトライト(Na,Li)1/8Mg2/5Li1/8(Si10)F等の膨潤性雲母等が挙げられる。更に合成スメクタイトも有用である。 In the mica group, natural micas include muscovite, sodalite, phlogopite, biotite and lepidolite.Synthetic micas include non-swelling micas such as fluorphlogopite KMg3 ( AlSi3O10 ) F2 , potassium tetrasilicic mica KMg2.5Si4O10 ) F2 , and swelling micas such as Na tetrasilicic mica NaMg2.5 ( Si4O10 ) F2 , Na or Li taeniolite (Na, Li ) Mg2Li ( Si4O10 ) F2 , and montmorillonite-based Na or Li hectorite (Na,Li) 1 / 8Mg2 / 5Li1 / 8 ( Si4O10 ) F2.Synthetic smectite is also useful.

上記の雲母化合物の中でも、フッ素系の膨潤性雲母が特に有用である。すなわち、膨潤性合成雲母は、10Å~15Å(1Å=0.1nm)程度の厚さの単位結晶格子層からなる積層構造を有し、格子内金属原子置換が他の粘土鉱物より著しく大きい。その結果、格子層は正電荷不足を生じ、それを補償するために層間にLi、Na、Ca2+、Mg2+等の陽イオンを吸着している。これらの層間に介在している陽イオンは交換性陽イオンと呼ばれ、いろいろな陽イオンと交換し得る。特に、層間の陽イオンがLi、Naの場合、イオン半径が小さいため層状結晶格子間の結合が弱く、水により大きく膨潤する。その状態でシェアーをかけると容易に劈開し、水中で安定したゾルを形成する。膨潤性合成雲母はこの傾向が強く、特に好ましく用いられる。 Among the above mica compounds, fluorine-based swellable mica is particularly useful. That is, swellable synthetic mica has a layered structure consisting of unit crystal lattice layers with a thickness of about 10 Å to 15 Å (1 Å = 0.1 nm), and the metal atom substitution in the lattice is significantly larger than other clay minerals. As a result, the lattice layers have a positive charge deficiency, and to compensate for this, cations such as Li + , Na + , Ca 2+ , and Mg 2+ are adsorbed between the layers. These cations interposed between the layers are called exchangeable cations and can be exchanged with various cations. In particular, when the cations between the layers are Li + and Na + , the ionic radius is small, so the bond between the layered crystal lattices is weak, and the mica swells greatly with water. When shear is applied in this state, it easily cleaves and forms a stable sol in water. Swellable synthetic mica has a strong tendency in this respect, and is particularly preferably used.

雲母化合物の形状としては、拡散制御の観点からは、厚さは薄ければ薄いほどよく、平面サイズは塗布面の平滑性や活性光線の透過性を阻害しない限りにおいて大きい程よい。従って、アスペクト比は、好ましくは20以上であり、より好ましくは100以上、特に好ましくは200以上である。アスペクト比は粒子の厚さに対する長径の比であり、例えば、粒子の顕微鏡写真による投影図から測定することができる。アスペクト比が大きい程、得られる効果が大きい。 From the viewpoint of diffusion control, the shape of the mica compound is such that the thinner the thickness, the better, and the larger the planar size, the better, as long as it does not impede the smoothness of the coating surface or the transmittance of actinic rays. Therefore, the aspect ratio is preferably 20 or more, more preferably 100 or more, and particularly preferably 200 or more. The aspect ratio is the ratio of the major axis to the thickness of the particle, and can be measured, for example, from a projection of the particle in a microscopic photograph. The larger the aspect ratio, the greater the effect that can be obtained.

雲母化合物の粒子径は、その平均長径が、好ましくは0.3μm~20μm、より好ましくは0.5μm~10μm、特に好ましくは1μm~5μmである。粒子の平均の厚さは、好ましくは0.1μm以下、より好ましくは0.05μm以下、特に好ましくは0.01μm以下である。具体的には、例えば、代表的化合物である膨潤性合成雲母の場合、好ましい態様としては、厚さが1nm~50nm程度、面サイズ(長径)が1μm~20μm程度である。The particle size of the mica compound is preferably 0.3 μm to 20 μm, more preferably 0.5 μm to 10 μm, and particularly preferably 1 μm to 5 μm in terms of average major axis. The average particle thickness is preferably 0.1 μm or less, more preferably 0.05 μm or less, and particularly preferably 0.01 μm or less. Specifically, for example, in the case of swellable synthetic mica, a representative compound, the preferred embodiment has a thickness of about 1 nm to 50 nm and a surface size (major axis) of about 1 μm to 20 μm.

無機層状化合物の含有量は、保護層の全固形分に対して、1質量%~60質量%が好ましく、3質量%~50質量%がより好ましい。複数種の無機層状化合物を併用する場合でも、無機層状化合物の合計量が上記の含有量であることが好ましい。上記範囲で酸素遮断性が向上し、良好な感度が得られる。また、着肉性の低下を防止できる。The content of the inorganic layered compound is preferably 1% by mass to 60% by mass, and more preferably 3% by mass to 50% by mass, based on the total solid content of the protective layer. Even when multiple types of inorganic layered compounds are used in combination, it is preferable that the total amount of the inorganic layered compounds is within the above content. Within the above range, oxygen barrier properties are improved and good sensitivity is obtained. In addition, a decrease in ink adhesion can be prevented.

保護層は可撓性付与のための可塑剤、塗布性を向上させための界面活性剤、表面の滑り性を制御するための無機粒子など公知の添加物を含有してもよい。また、画像記録層において記載した感脂化剤を保護層に含有させてもよい。The protective layer may contain known additives such as a plasticizer to impart flexibility, a surfactant to improve coatability, and inorganic particles to control surface slippage. The protective layer may also contain an oil sensitizer as described for the image recording layer.

保護層は公知の方法で塗布される。保護層の塗布量(固形分)は、0.01g/m~10g/mが好ましく、0.02g/m~3g/mがより好ましく、0.02g/m~1g/mが特に好ましい。 The protective layer is applied by a known method. The coating amount (solid content) of the protective layer is preferably 0.01 g/m 2 to 10 g/m 2 , more preferably 0.02 g/m 2 to 3 g/m 2 , and particularly preferably 0.02 g/m 2 to 1 g/m 2 .

<下塗り層>
本開示に係る平版印刷版原版は、画像記録層と支持体との間に下塗り層(中間層と呼ばれることもある。)を有することが好ましい。下塗り層は、露光部においては支持体と画像記録層との密着を強化し、未露光部においては画像記録層の支持体からのはく離を生じやすくさせるため、耐刷性を損なわずに現像性を向上させることに寄与する。また、赤外線レーザー露光の場合に、下塗り層が断熱層として機能することにより、露光により発生した熱が支持体に拡散して感度が低下するのを防ぐ効果も有する。
<Undercoat layer>
The lithographic printing plate precursor according to the present disclosure preferably has an undercoat layer (sometimes called an intermediate layer) between the image recording layer and the support. The undercoat layer strengthens the adhesion between the support and the image recording layer in the exposed area and facilitates peeling of the image recording layer from the support in the unexposed area, thereby contributing to improving developability without impairing printing durability. In addition, in the case of infrared laser exposure, the undercoat layer functions as a heat insulating layer, thereby preventing the heat generated by exposure from diffusing to the support and reducing sensitivity.

下塗り層に用いられる化合物としては、支持体表面に吸着可能な吸着性基及び親水性基を有するポリマーが挙げられる。画像記録層との密着性を向上させるために吸着性基及び親水性基を有し、更に架橋性基を有するポリマーが好ましい。下塗り層に用いられる化合物は、低分子化合物でもポリマーであってもよい。下塗り層に用いられる化合物は、必要に応じて、2種以上を混合して使用してもよい。Compounds used in the undercoat layer include polymers having adsorptive groups and hydrophilic groups that can be adsorbed to the support surface. In order to improve adhesion to the image recording layer, polymers having adsorptive groups and hydrophilic groups and further having crosslinkable groups are preferred. Compounds used in the undercoat layer may be low molecular weight compounds or polymers. Compounds used in the undercoat layer may be used in a mixture of two or more types, if necessary.

下塗り層に用いられる化合物がポリマーである場合、吸着性基を有するモノマー、親水性基を有するモノマー及び架橋性基を有するモノマーの共重合体が好ましい。
支持体表面に吸着可能な吸着性基としては、フェノール性水酸基、カルボキシ基、-PO、-OPO、-CONHSO-、-SONHSO-、-COCHCOCHが好ましい。親水性基としては、スルホ基又はその塩、カルボキシ基の塩が好ましい。架橋性基としては、アクリル基、メタクリル基、アクリルアミド基、メタクリルアミド基、アリル基などが好ましい。
ポリマーは、ポリマーの極性置換基と、上記極性置換基と対荷電を有する置換基及びエチレン性不飽和結合を有する化合物との塩形成で導入された架橋性基を有してもよいし、上記以外のモノマー、好ましくは親水性モノマーが更に共重合されていてもよい。
When the compound used in the undercoat layer is a polymer, it is preferably a copolymer of a monomer having an adsorptive group, a monomer having a hydrophilic group, and a monomer having a crosslinkable group.
Preferred examples of the adsorptive group capable of being adsorbed onto the surface of the support include a phenolic hydroxyl group, a carboxyl group, -PO3H2 , -OPO3H2 , -CONHSO2- , -SO2NHSO2- , and -COCH2COCH3 . Preferred examples of the hydrophilic group include a sulfo group or a salt thereof, and a salt of a carboxyl group. Preferred examples of the crosslinkable group include an acryl group, a methacryl group, an acrylamide group, a methacrylamide group, and an allyl group.
The polymer may have a crosslinkable group introduced by salt formation between a polar substituent of the polymer and a compound having an ethylenically unsaturated bond and a substituent having an opposite charge to the polar substituent, or may further be copolymerized with a monomer other than the above-mentioned monomers, preferably a hydrophilic monomer.

具体的には、特開平10-282679号公報に記載されている付加重合可能なエチレン性二重結合反応基を有しているシランカップリング剤、特開平2-304441号公報記載のエチレン性二重結合反応基を有しているリン化合物が好適に挙げられる。特開2005-238816号、特開2005-125749号、特開2006-239867号、特開2006-215263号の各公報に記載の架橋性基(好ましくは、エチレン性不飽和結合基)、支持体表面と相互作用する官能基及び親水性基を有する低分子又は高分子化合物も好ましく用いられる。
より好ましいものとして、特開2005-125749号及び特開2006-188038号公報に記載の支持体表面に吸着可能な吸着性基、親水性基及び架橋性基を有する高分子ポリマーが挙げられる。
Specific examples of suitable compounds include silane coupling agents having an addition-polymerizable ethylenic double bond reactive group described in JP-A-10-282679 and phosphorus compounds having an ethylenic double bond reactive group described in JP-A-2-304441. Also preferably used are low-molecular or high-molecular compounds having a crosslinkable group (preferably an ethylenically unsaturated bond group), a functional group that interacts with the support surface, and a hydrophilic group described in JP-A-2005-238816, JP-A-2005-125749, JP-A-2006-239867, and JP-A-2006-215263.
More preferred examples include polymers having an adsorptive group, a hydrophilic group and a crosslinkable group capable of being adsorbed onto the surface of a support, as described in JP-A Nos. 2005-125749 and 2006-188038.

下塗り層に用いられるポリマー中のエチレン性不飽和結合基の含有量は、ポリマー1g当たり、好ましくは0.1mmol~10.0mmol、より好ましくは0.2mmol~5.5mmolである。
下塗り層に用いられるポリマーの重量平均分子量(Mw)は、5,000以上が好ましく、1万~30万がより好ましい。
The content of the ethylenically unsaturated bond group in the polymer used in the undercoat layer is preferably from 0.1 mmol to 10.0 mmol, more preferably from 0.2 mmol to 5.5 mmol, per gram of the polymer.
The weight average molecular weight (Mw) of the polymer used in the undercoat layer is preferably 5,000 or more, and more preferably from 10,000 to 300,000.

〔親水性化合物〕
下塗り層は、現像性の観点から、親水性化合物を含むことが好ましい。
親水性化合物としては、特に制限はなく、下塗り層に用いられる公知の親水性化合物を用いることができる。
また、下塗り層における親水性化合物は、上記支持体吸着性化合物であることが好ましい。
親水性化合物としては、カルボキシメチルセルロース、デキストリン等のアミノ基を有するホスホン酸類、有機ホスホン酸、有機リン酸、有機ホスフィン酸、アミノ酸類、並びに、ヒドロキシ基を有するアミンの塩酸塩等が好ましく挙げられる。
また、親水性化合物としては、アミノ基又は重合禁止能を有する官能基と支持体表面と相互作用する基とを有する化合物(例えば、1,4-ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン(DABCO)、2,3,5,6-テトラヒドロキシ-p-キノン、クロラニル、スルホフタル酸、エチレンジアミン四酢酸(EDTA)又はその塩、ヒドロキシエチルエチレンジアミン三酢酸又はその塩、ジヒドロキシエチルエチレンジアミン二酢酸又はその塩、ヒドロキシエチルイミノ二酢酸又はその塩など)が好ましく挙げられる。
[Hydrophilic Compound]
From the viewpoint of developability, the undercoat layer preferably contains a hydrophilic compound.
The hydrophilic compound is not particularly limited, and any known hydrophilic compound used in an undercoat layer can be used.
The hydrophilic compound in the undercoat layer is preferably the above-mentioned support-adsorbing compound.
Preferred examples of the hydrophilic compound include phosphonic acids having an amino group such as carboxymethyl cellulose and dextrin, organic phosphonic acids, organic phosphoric acids, organic phosphinic acids, amino acids, and hydrochlorides of amines having a hydroxyl group.
Preferred examples of the hydrophilic compound include compounds having an amino group or a functional group having polymerization inhibition ability and a group that interacts with the surface of the support (e.g., 1,4-diazabicyclo[2.2.2]octane (DABCO), 2,3,5,6-tetrahydroxy-p-quinone, chloranil, sulfophthalic acid, ethylenediaminetetraacetic acid (EDTA) or a salt thereof, hydroxyethylethylenediaminetriacetic acid or a salt thereof, dihydroxyethylethylenediaminediacetic acid or a salt thereof, hydroxyethyliminodiacetic acid or a salt thereof, etc.).

親水性化合物としては、傷汚れ抑制性の観点から、ヒドロキシカルボン酸又はその塩を含むことが好ましい。
また、親水性化合物、好ましくはヒドロキシカルボン酸又はその塩は、傷汚れ抑制性の観点から、上記アルミニウム支持体上の層に含まれることが好ましい。また、上記アルミニウム支持体上の層は、画像記録層が形成されている側の層であることが好ましく、また、上記アルミニウム支持体と接する層であることが好ましい。
上記アルミニウム支持体上の層としては、上記アルミニウム支持体と接する層として、下塗り層又は画像記録層が好ましく挙げられる。また、上記アルミニウム支持体と接する層以外の層、例えば、保護層又は画像記録層に、親水性化合物、好ましくはヒドロキシカルボン酸又はその塩が含まれていてもよい。
本開示に係る平版印刷版原版において、画像記録層が、傷汚れ抑制性の観点から、ヒドロキシカルボン酸又はその塩を含むことが好ましい。
また、本開示に係る平版印刷版原版において、アルミニウム支持体の画像記録層側の表面が、少なくともヒドロキシカルボン酸又はその塩を含む組成物(例えば、水溶液等)により表面処理される態様も好ましく挙げられる。上記態様である場合、処理されたヒドロキシカルボン酸又はその塩は、アルミニウム支持体と接する画像記録層側の層(例えば、画像記録層又は下塗り層)に含まれた状態で少なくとも一部を検出することができる。
下塗り層等のアルミニウム支持体と接する画像記録層側の層にヒドロキシカルボン酸又はその塩を含むことにより、アルミニウム支持体の画像記録層側の表面を親水化することができ、また、アルミニウム支持体の画像記録層側の表面における空中水滴法による水との接触角を110°以下と容易にすることができ、傷汚れ抑制性に優れる。
From the viewpoint of scratch and stain suppression, the hydrophilic compound preferably contains a hydroxycarboxylic acid or a salt thereof.
From the viewpoint of scratch and stain suppression, the hydrophilic compound, preferably a hydroxycarboxylic acid or a salt thereof, is preferably contained in a layer on the aluminum support. The layer on the aluminum support is preferably a layer on the side on which an image recording layer is formed, and is preferably a layer in contact with the aluminum support.
The layer on the aluminum support is preferably a subbing layer or an image recording layer as a layer in contact with the aluminum support. A layer other than the layer in contact with the aluminum support, such as a protective layer or an image recording layer, may contain a hydrophilic compound, preferably a hydroxycarboxylic acid or a salt thereof.
In the lithographic printing plate precursor according to the present disclosure, the image recording layer preferably contains a hydroxycarboxylic acid or a salt thereof from the viewpoint of scratch and stain suppression.
In another preferred embodiment of the lithographic printing plate precursor according to the present disclosure, the surface of the aluminum support on the image recording layer side is surface-treated with a composition (e.g., an aqueous solution) containing at least a hydroxycarboxylic acid or a salt thereof. In the above embodiment, at least a portion of the treated hydroxycarboxylic acid or a salt thereof can be detected in a layer (e.g., an image recording layer or an undercoat layer) on the image recording layer side that is in contact with the aluminum support.
By including a hydroxycarboxylic acid or a salt thereof in a layer on the image recording layer side that is in contact with the aluminum support, such as an undercoat layer, the surface of the aluminum support on the image recording layer side can be made hydrophilic, and the contact angle with water, as measured by a water drop method in the air, on the surface of the aluminum support on the image recording layer side can be easily made to be 110° or less, resulting in excellent scratch and stain suppression.

ヒドロキシカルボン酸とは、1分子中に1個以上のカルボキシ基と1個以上のヒドロキシ基とを有する有機化合物の総称のことであり、ヒドロキシ酸、オキシ酸、オキシカルボン酸、アルコール酸とも呼ばれる(岩波理化学辞典第5版、(株)岩波書店発行(1998)参照)。
上記ヒドロキシカルボン酸又はその塩は、下記式(HC)で表されるものが好ましい。
HC(OH)mhc(COOMHCnhc 式(HC)
式(HC)中、RHCはmhc+nhc価の有機基を表し、MHCはそれぞれ独立に、水素原子、アルカリ金属又はオニウムを表し、mhc及びnhcはそれぞれ独立に、1以上の整数を表し、nが2以上の場合、Mは同じでも異なってもよい。
Hydroxycarboxylic acid is a general term for organic compounds having one or more carboxy groups and one or more hydroxy groups in one molecule, and is also called hydroxy acid, oxy acid, oxycarboxylic acid, or alcohol acid (see Iwanami Dictionary of Physics and Chemistry, 5th Edition, published by Iwanami Shoten Co., Ltd. (1998)).
The above hydroxycarboxylic acid or a salt thereof is preferably represented by the following formula (HC):
R HC (OH) mhc (COOM HC ) nhc formula (HC)
In formula (HC), R HC represents an organic group having a valence of mhc+nhc, each M HC independently represents a hydrogen atom, an alkali metal or an onium, mhc and nhc independently represent an integer of 1 or more, and when n is 2 or more, M may be the same or different.

式(HC)において、Rで表されるmhc+nhc価の有機基としては、mhc+nhc価の炭化水素基等が挙げられる。炭化水素基は置換基及び/又は連結基を有してもよい。
炭化水素基としては、脂肪族炭化水素から誘導されるmhc+nhc価の基、例えば、アルキレン基、アルカントリイル基、アルカンテトライル基、アルカンペンタイル基、アルケニレン基、アルケントリイル基、アルケンテトライル基、アルケンペンタイル基、アルキニレン基、アルキントリイル基、アルキンテトライル基、アルキンペンタイル基等、芳香族炭化水素から誘導されるmhc+nhc価の基、例えば、アリーレン基、アレーントリイル基、アレーンテトライル基、アレーンペンタイル基等が挙げられる。ヒドロキシル基及びカルボキシル基以外の置換基としては、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基、アリール基等が挙げられる。置換基の具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、エイコシル基、イソプロピル基、イソブチル基、s-ブチル基、t-ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、1-メチルブチル基、イソヘキシル基、2-エチルヘキシル基、2-メチルヘキシル基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、2-ノルボルニル基、メトキシメチル基、メトキシエトキシエチル基、アリルオキシメチル基、フェノキシメチル基、アセチルオキシメチル基、ベンゾイルオキシメチル基、ベンジル基、フェネチル基、α-メチルベンジル基、1-メチル-1-フェニルエチル基、p-メチルベンジル基、シンナミル基、アリル基、1-プロペニルメチル基、2-ブテニル基、2-メチルアリル基、2-メチルプロペニルメチル基、2-プロピニル基、2-ブチニル基、3-ブチニル基、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、クメニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、フェノキシフェニル基、アセトキシフェニル基、ベンゾイロキシフェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、エトキシカルボニルフェニル基、フェノキシカルボニルフェニル基等が挙げられる。また、連結基は、水素原子、炭素原子、酸素原子、窒素原子、硫黄原子及びハロゲン原子よりなる群から選ばれる少なくとも1種の原子により構成されるもので、その原子数は好ましくは1~50である。具体的には、アルキレン基、置換アルキレン基、アリーレン基、置換アリーレン基などが挙げられ、これらの2価の基がアミド結合、エーテル結合、ウレタン結合、ウレア結合及びエステル結合のいずれかで複数連結された構造を有していてもよい。
In formula (HC), the mhc+nhc valence organic group represented by R includes an mhc+nhc valence hydrocarbon group. The hydrocarbon group may have a substituent and/or a linking group.
Examples of the hydrocarbon group include mhc+nhc valence groups derived from aliphatic hydrocarbons, such as alkylene groups, alkanetriyl groups, alkanetetrayl groups, alkanpentyl groups, alkenylene groups, alkenetriyl groups, alkenetetrayl groups, alkenepentyl groups, alkynylene groups, alkyntriyl groups, alkyntetrayl groups, alkynpentyl groups, etc., and mhc+nhc valence groups derived from aromatic hydrocarbons, such as arylene groups, arenetriyl groups, arenetetrayl groups, arenepentyl groups, etc. Examples of the substituents other than the hydroxyl group and the carboxyl group include alkyl groups, alkenyl groups, alkynyl groups, aralkyl groups, aryl groups, etc. Specific examples of the substituent include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, a hexyl group, a heptyl group, an octyl group, a nonyl group, a decyl group, a undecyl group, a dodecyl group, a tridecyl group, a hexadecyl group, an octadecyl group, an eicosyl group, an isopropyl group, an isobutyl group, a s-butyl group, a t-butyl group, an isopentyl group, a neopentyl group, a 1-methylbutyl group, an isohexyl group, a 2-ethylhexyl group, a 2-methylhexyl group, a cyclohexyl group, a cyclopentyl group, a 2-norbornyl group, a methoxymethyl group, a methoxyethoxyethyl group, an allyloxymethyl group, a phenoxymethyl group, an acetyloxymethyl group, a benzoyloxymethyl group, and the like. Examples of the linking group include an alkyl group, a phenyl ... Specific examples include an alkylene group, a substituted alkylene group, an arylene group, and a substituted arylene group, and these divalent groups may have a structure in which a plurality of them are linked together via amide bonds, ether bonds, urethane bonds, urea bonds, or ester bonds.

HCで表されるアルカリ金属としては、リチウム、ナトリウム、カリウム等が挙げられ、ナトリウムが特に好ましい。オニウムとしてはアンモニウム、ホスホニウム、スルホニウム等が挙げられ、アンモニウムが特に好ましい。
また、MHCは、傷汚れ抑制性の観点から、アルカリ金属又はオニウムであることが好ましく、アルカリ金属であることがより好ましい。
mhcとnhcとの総数は、3以上が好ましく、3~8がより好ましく、4~6が更に好ましい。
The alkali metal represented by MHC includes lithium, sodium, potassium, etc., and sodium is particularly preferred. The onium includes ammonium, phosphonium, sulfonium, etc., and ammonium is particularly preferred.
Moreover, from the viewpoint of scratch and stain suppression, MHC is preferably an alkali metal or an onium, and more preferably an alkali metal.
The total number of mhc and nhc is preferably 3 or more, more preferably 3 to 8, and even more preferably 4 to 6.

上記ヒドロキシカルボン酸又はその塩は、分子量が600以下であることが好ましく、500以下であることがより好ましく、300以下であることが特に好ましい。また、上記分子量は、76以上であることが好ましい。
上記ヒドロキシカルボン酸、又は、上記ヒドロキシカルボン酸の塩を構成するヒドロキシカルボン酸は、具体的には、グルコン酸、グリコール酸、乳酸、タルトロン酸、ヒドロキシ酪酸(2-ヒドロキシ酪酸、3-ヒドロキシ酪酸、γ-ヒドロキシ酪酸等)、リンゴ酸、酒石酸、シトラマル酸、クエン酸、イソクエン酸、ロイシン酸、メバロン酸、パントイン酸、リシノール酸、リシネライジン酸、セレブロン酸、キナ酸、シキミ酸、モノヒドロキシ安息香酸誘導体(サリチル酸、クレオソート酸(ホモサリチル酸、ヒドロキシ(メチル)安息香酸)、バニリン酸、シリング酸等)、ジヒドロキシ安息香酸誘導体(ピロカテク酸、レソルシル酸、プロトカテク酸、ゲンチジン酸、オルセリン酸等)、トリヒドロキシ安息香酸誘導体(没食子酸等)、フェニル酢酸誘導体(マンデル酸、ベンジル酸、アトロラクチン酸等)、ヒドロケイヒ酸誘導体(メリロト酸、フロレト酸、クマル酸、ウンベル酸、コーヒー酸、フェルラ酸、シナピン酸、セレブロン酸、カルミン酸等)等が挙げられる。
The hydroxycarboxylic acid or salt thereof preferably has a molecular weight of 600 or less, more preferably 500 or less, and particularly preferably 300 or less. In addition, the molecular weight is preferably 76 or more.
Specific examples of the hydroxycarboxylic acid constituting the above hydroxycarboxylic acid or the salt of the above hydroxycarboxylic acid include gluconic acid, glycolic acid, lactic acid, tartronic acid, hydroxybutyric acid (2-hydroxybutyric acid, 3-hydroxybutyric acid, γ-hydroxybutyric acid, etc.), malic acid, tartaric acid, citramalic acid, citric acid, isocitric acid, leucinic acid, mevalonic acid, pantoic acid, ricinoleic acid, ricinelaidic acid, cerebroside acid, quinic acid, shikimic acid, monohydroxybenzoic acid derivatives (salicylic acid, creosinoic acid, etc.), and the like. Examples of the benzoic acid derivatives include benzoic acid (homosalicylic acid, hydroxy(methyl)benzoic acid), vanillic acid, syringic acid, etc.), dihydroxybenzoic acid derivatives (pyrocatechuic acid, resorcylic acid, protocatechuic acid, gentisic acid, orselliic acid, etc.), trihydroxybenzoic acid derivatives (gallic acid, etc.), phenylacetic acid derivatives (mandelic acid, benzilic acid, atrolactic acid, etc.), hydrocinnamic acid derivatives (mellitic acid, phloretic acid, coumaric acid, umbellic acid, caffeic acid, ferulic acid, sinapic acid, cerebronic acid, carminic acid, etc.).

これらの中でも、上記ヒドロキシカルボン酸、又は、上記ヒドロキシカルボン酸の塩を構成するヒドロキシカルボン酸としては、傷汚れ抑制性の観点から、ヒドロキシ基を2個以上有している化合物が好ましく、ヒドロキシ基を3個以上有している化合物がより好ましく、ヒドロキシ基を5個以上有している化合物が更に好ましく、ヒドロキシ基を5個~8個有している化合物が特に好ましい。
また、カルボキシ基を1個、ヒドロキシ基を2個以上有しているものとしては、グルコン酸、又は、シキミ酸が好ましい。
カルボキシ基を2個以上、ヒドロキシ基を1個有しているものとしては、クエン酸、又は、リンゴ酸が好ましい。
カルボキシ基及びヒドロキシ基をそれぞれ2個以上有しているものとしては、酒石酸が好ましい。
中でも、上記ヒドロキシカルボン酸としては、グルコン酸が特に好ましい。
Among these, as the hydroxycarboxylic acid constituting the above-mentioned hydroxycarboxylic acid or the salt of the above-mentioned hydroxycarboxylic acid, from the viewpoint of scratch and stain suppression, a compound having two or more hydroxy groups is preferred, a compound having three or more hydroxy groups is more preferred, a compound having five or more hydroxy groups is even more preferred, and a compound having 5 to 8 hydroxy groups is particularly preferred.
As an acid having one carboxy group and two or more hydroxy groups, gluconic acid or shikimic acid is preferred.
As an acid having two or more carboxy groups and one hydroxy group, citric acid or malic acid is preferred.
As an acid having two or more carboxy groups and two or more hydroxy groups, tartaric acid is preferred.
Among these, gluconic acid is particularly preferred as the hydroxycarboxylic acid.

親水性化合物は、1種単独で使用しても、2種以上を併用してもよい。
下塗り層に親水性化合物、好ましくはヒドロキシカルボン酸又はその塩を含む場合、親水性化合物、好ましくはヒドロキシカルボン酸及びその塩の含有量は、下塗り層の全質量に対し、0.01質量%~50質量%であることが好ましく、0.1質量%~40質量%であることがより好ましく、1.0質量%~30質量%であることが特に好ましい。
The hydrophilic compounds may be used alone or in combination of two or more.
When the undercoat layer contains a hydrophilic compound, preferably a hydroxycarboxylic acid or a salt thereof, the content of the hydrophilic compound, preferably a hydroxycarboxylic acid or a salt thereof, relative to the total mass of the undercoat layer is preferably 0.01% by mass to 50% by mass, more preferably 0.1% by mass to 40% by mass, and particularly preferably 1.0% by mass to 30% by mass.

下塗り層は、上記下塗り層用化合物の他に、経時による汚れ防止のため、キレート剤、第二級又は第三級アミン、重合禁止剤等を含有してもよい。In addition to the above-mentioned undercoat layer compounds, the undercoat layer may contain a chelating agent, a secondary or tertiary amine, a polymerization inhibitor, etc. to prevent contamination over time.

下塗り層は、公知の方法で塗布される。下塗り層の塗布量(固形分)は、0.1mg/m~100mg/mが好ましく、1mg/m~30mg/mがより好ましい。 The undercoat layer is applied by a known method. The coating amount (solid content) of the undercoat layer is preferably 0.1 mg/m 2 to 100 mg/m 2 , and more preferably 1 mg/m 2 to 30 mg/m 2 .

<エッジ親水化層>
本開示に係る平版印刷版原版は、エッジ汚れ抑制性の観点から、上記平版印刷版原版の画像記録層側の面の端部から1cm以内の領域に親水化層(「エッジ親水化層」ともいう。)を有することが好ましい。
上記エッジ親水化層は、上記平版印刷版原版の画像記録層側の面の少なくとも1つの辺の端部に有していても、四辺形状の上記平版印刷版原版の画像記録層側の面の4辺の端部に有していてもよいが、上記平版印刷版原版の画像記録層側の面の対向する2辺の端部から各1cm以内の領域に有していることが好ましい。
上記エッジ親水化層の幅は、特に制限はないが、1mm~50mmであることが好ましい。
また、本開示に係る平版印刷版原版は、上記エッジ親水化層が形成された領域で裁断してなる平版印刷版原版であることが好ましい。
上記エッジ親水化層は、画像記録層側の最外層として有していても、各層の間に有していてもよいが、エッジ汚れ抑制性の観点から、画像記録層側の最外層として有していることが好ましい。
<Edge hydrophilic layer>
From the viewpoint of suppressing edge staining, the lithographic printing plate precursor according to the present disclosure preferably has a hydrophilized layer (also referred to as an "edge hydrophilized layer") in an area within 1 cm from the edge of the surface of the lithographic printing plate precursor on the image recording layer side.
The edge hydrophilization layer may be present at the end of at least one side of the surface of the planographic printing plate precursor facing the image recording layer, or may be present at the ends of all four sides of the surface of the planographic printing plate precursor facing the image recording layer in a quadrilateral shape, but is preferably present in an area within 1 cm from each of the ends of two opposing sides of the surface of the planographic printing plate precursor facing the image recording layer.
The width of the edge hydrophilic layer is not particularly limited, but is preferably from 1 mm to 50 mm.
Furthermore, the lithographic printing plate precursor according to the present disclosure is preferably a lithographic printing plate precursor obtained by cutting at the region where the edge hydrophilized layer is formed.
The edge hydrophilic layer may be present as the outermost layer on the image recording layer side or between each of the layers, but from the viewpoint of suppressing edge staining, it is preferable that the edge hydrophilic layer be present as the outermost layer on the image recording layer side.

上記エッジ親水化層は、親水化剤を含むことが好ましい。
親水化剤としては、リン酸化合物及び/又はホスホン酸化合物を含むことが好ましく、親水化剤としてリン酸化合物及び/又はホスホン酸化合物並びに界面活性剤を含むことがより好ましい。
更に、上記2つの態様において、少なくともリン酸化合物を含むことが好ましい。
The edge hydrophilic layer preferably contains a hydrophilic agent.
The hydrophilizing agent preferably contains a phosphoric acid compound and/or a phosphonic acid compound, and more preferably contains a phosphoric acid compound and/or a phosphonic acid compound and a surfactant as the hydrophilizing agent.
Furthermore, in the above two aspects, it is preferable that the composition contains at least a phosphoric acid compound.

-界面活性剤-
親水化剤としては、界面活性剤を使用することが好ましい。
界面活性剤としては、アニオン性界面活性剤、非イオン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤、及び、両性界面活性剤が挙げられるが、アニオン性界面活性剤、非イオン性界面活性剤、及び、両性界面活性剤よりなる群から選ばれた少なくとも一種の界面活性剤が好ましく、アニオン性界面活性剤及び/又は非イオン性界面活性剤がより好ましい。上記態様によれば、塗布性に優れた親水化塗布液を得ることができる。
なお、フッ素系、シリコーン系等のアニオン性、非イオン性界面活性剤(典型的には、フッ素系又はシリコーン系のアニオン性又は非イオン性界面活性剤)は、アニオン性又は非イオン性界面活性剤としては好ましくない。これらの界面活性剤を使用すると親水化塗布液の塗布性が劣り好ましくない。
-Surfactants-
As the hydrophilizing agent, it is preferable to use a surfactant.
Examples of the surfactant include anionic surfactants, nonionic surfactants, cationic surfactants, and amphoteric surfactants, and at least one surfactant selected from the group consisting of anionic surfactants, nonionic surfactants, and amphoteric surfactants is preferred, and anionic surfactants and/or nonionic surfactants are more preferred. According to the above embodiment, a hydrophilic coating liquid with excellent coating properties can be obtained.
In addition, fluorine-based, silicone-based, and other anionic and nonionic surfactants (typically, fluorine-based or silicone-based anionic or nonionic surfactants) are not preferred as the anionic or nonionic surfactant, since the use of these surfactants leads to poor application properties of the hydrophilic coating liquid, which is not preferred.

アニオン性界面活性剤としては、脂肪酸塩類、アビエチン酸塩類、ヒドロキシアルカンスルホン酸塩類、アルカンスルホン酸塩類、ジアルキルスルホコハク酸塩類、直鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩類、分岐鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩類、アルキルナフタレンスルホン酸塩類、アルキルフェノキシポリオキシエチレンプロピルスルホン酸塩類、ポリオキシエチレンアリールエーテル硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルスルホフェニルエーテル塩類、N-メチル-N-オレイルタウリンナトリウム類、N-アルキルスルホコハク酸モノアミド二ナトリウム塩類、石油スルホン酸塩類、硫酸化ヒマシ油、硫酸化牛脂油、脂肪酸アルキルエステルの硫酸エステル塩類、アルキル硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸エステル塩類、脂肪酸モノグリセリド硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル硫酸エステル塩類、アルキル燐酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテル燐酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル燐酸エステル塩類、スチレン-無水マレイン酸共重合物の部分ケン化物類、オレフィン-無水マレイン酸共重合物の部分ケン化物類、ナフタレンスルホン酸塩ホルマリン縮合物類等が挙げられる。これらの中でもジアルキルスルホコハク酸塩類、アルキル硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアリールエーテル硫酸エステル塩類、及びアルキルナフタレンスルホン酸塩類が特に好ましく用いられる。
具体的には、式(I-A)又は式(I-B)で表されるアニオン界面活性剤からなる群から選ばれる少なくとも一種のアニオン性界面活性剤を挙げることができる。
Examples of anionic surfactants include fatty acid salts, abietic acid salts, hydroxyalkanesulfonates, alkanesulfonates, dialkylsulfosuccinates, linear alkylbenzenesulfonates, branched alkylbenzenesulfonates, alkylnaphthalenesulfonates, alkylphenoxypolyoxyethylenepropylsulfonates, polyoxyethylenearylethersulfate salts, polyoxyethylenealkylsulfophenylether salts, sodium N-methyl-N-oleyltaurates, disodium N-alkylsulfosuccinic acid monoamide salts, petroleum sulfonates, sulfated castor oil, sulfated beef tallow oil, Examples of the sulfuric acid ester salts include fatty acid alkyl ester salts, alkyl sulfate salts, polyoxyethylene alkyl ether sulfate salts, fatty acid monoglyceride sulfate salts, polyoxyethylene alkyl phenyl ether sulfate salts, polyoxyethylene styryl phenyl ether sulfate salts, alkyl phosphate salts, polyoxyethylene alkyl ether phosphate salts, polyoxyethylene alkyl phenyl ether phosphate salts, partially saponified products of styrene-maleic anhydride copolymers, partially saponified products of olefin-maleic anhydride copolymers, naphthalene sulfonate formalin condensates, etc. Among these, dialkyl sulfosuccinates, alkyl sulfate salts, polyoxyethylene aryl ether sulfate salts, and alkyl naphthalene sulfonates are particularly preferably used.
Specifically, at least one anionic surfactant selected from the group consisting of anionic surfactants represented by formula (IA) or formula (IB) can be mentioned.

上記式(I-A)中、Rは、直鎖又は分岐鎖の炭素原子数1~20のアルキル基を表し;pは0、1又は2を表し;Arは炭素原子数6~10のアリール基を表し;qは、1、2又は3を表し;M は、Na、K、Li又はNH を表す。pが2の場合、複数存在するRは互いに同じでも異なっていてもよい。
上記式(I-B)中、Rは、直鎖又は分岐鎖の炭素原子数1~20のアルキル基を表し;mは0、1又は2を表し;Arは炭素原子数6~10のアリール基を表し;Yは単結合又は炭素原子数1~10のアルキレン基を表し;Rは、直鎖又は分岐鎖の炭素原子数1~5のアルキレン基を表し;nは1~100の整数を表し;M は、Na、K、Li又はNH を表す。mが2の場合、複数存在するRは互いに同じでも異なっていてもよく;nが2以上の場合には、複数存在するRは互いに同じでも異なっていてもよい。
In the above formula (IA), R 1 represents a linear or branched alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, p represents 0, 1 or 2, Ar 1 represents an aryl group having 6 to 10 carbon atoms, q represents 1, 2 or 3, and M 1 + represents Na + , K + , Li + or NH 4 + . When p is 2, multiple R 1s may be the same or different from each other.
In the above formula (IB), R 2 represents a linear or branched alkyl group having 1 to 20 carbon atoms; m represents 0, 1, or 2; Ar 2 represents an aryl group having 6 to 10 carbon atoms; Y represents a single bond or an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms; R 3 represents a linear or branched alkylene group having 1 to 5 carbon atoms; n represents an integer of 1 to 100; and M 2 + represents Na + , K + , Li + , or NH 4 + . When m is 2, the multiple R 2s may be the same or different from each other; when n is 2 or more, the multiple R 3s may be the same or different from each other.

上記式(I-A)及び式(I-B)中、R及びRの好ましい例としては、CH、C、C、又はCが挙げられる。また、Rの好ましい例としては、それぞれ-CH-、-CHCH-、又は-CHCHCH-、-CHCH(CH)-が挙げられ、より好ましい例としては-CHCH-が挙げられる。また、p及びmは0又は1であることが好ましく、pは、0であることが特に好ましい。Yは単結合であることが好ましい。また、nは1~20の整数であることが好ましい。 In the above formula (IA) and formula (IB), preferred examples of R 1 and R 2 include CH 3 , C 2 H 5 , C 3 H 7 , or C 4 H 9. Preferred examples of R 3 include -CH 2 -, -CH 2 CH 2 -, -CH 2 CH 2 CH 2 -, or -CH 2 CH(CH 3 )-, and a more preferred example is -CH 2 CH 2 -. Furthermore, p and m are preferably 0 or 1, and p is particularly preferably 0. It is preferable that Y is a single bond. Furthermore, it is preferable that n is an integer of 1 to 20.

式(I-A)、又は式(I-B)で表される化合物の具体例としては以下の化合物が挙げられる。 Specific examples of compounds represented by formula (IA) or formula (IB) include the following compounds.

上記アニオン性界面活性剤は、高分子化合物(アニオン高分子界面活性剤)であることが好ましい。上記態様によれば、面状に優れる。上記高分子化合物は、親水性基としてアニオン性基の少なくとも1種を含むものであれば特に制限はない。
アニオン性基としては、スルホン酸基、硫酸基、カルボキシ基が挙げられる。中でも、スルホン酸基が好ましい。
これらのアニオン性基は塩を構成していてもよい。上記塩は、無機カチオンとの塩であっても、有機カチオンとの塩であってもよい。
無機カチオンとしては、リチウムカチオン、ナトリウムカチオン、カリウムカチオン、カルシウムカチオン、マグネシウムカチオンなどが挙げられる。リチウムカチオン、ナトリウムカチオン、カリウムカチオンが好ましく、ナトリウムカチオン、カリウムカチオンがより好ましい。
有機カチオンとしては、アンモニウム(NH )、第四級アンモニウム、第四級ピリジニウム、第四級ホスホニウムなどが挙げられる。アンモニウム、第四級アンモニウム、第四級ピリジニウムが好ましく、第四級アンモニウムがより好ましい。
上記高分子化合物としては、分子内にアニオン性基を有する単量体の重合体、分子内にアニオン性基を有する単量体の重合体と他の1種以上の単量体との共重合体、又は、アニオン性基を有さない高分子に後から親水性基を導入した高分子等が挙げられる。
分子内にアニオン性基を有する単量体としては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、イタコン酸、スチレンスルホン酸、スチレンスルホン酸ナトリウム、α-メチルスチレンスルホン酸などのスルホン酸基を有するスチレン誘導体、無水マレイン酸、ビニルスルホン酸、アリルスルホン酸ナトリウム、メタリルスルホン酸ナトリウム、イソプレンスルホン酸ナトリウム、3-ビニルオキシプロパンスルホン酸などのオレフィンスルホン酸、2-アクリルアミド-2-メチルプロパンスルホン酸、2-アクリルアミド-2-メチルプロパンスルホン酸ナトリウムなどのスルホン酸基を有するアクリルアミド誘導体、2-スルホエチルメタクリレートナトリウムなどの(メタ)アクリレート誘導体、ブタジエンスルホン酸などのジエンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸などが挙げられる。上記単量体の中でも、エッジ汚れ防止性能の観点から、スルホン酸基を有するスチレン誘導体、又は、スルホン酸基を有するアクリルアミド誘導体が好ましく、4-スチレンスルホン酸ナトリウム又は2-アクリルアミド-2-メチルプロパンスルホン酸ナトリウムがより好ましい。
なお、上記アニオン性基を有する単量体と、後述する分子内にリン酸エステル基を有する単量体との共重合体はアニオン性界面活性剤ではなくリン酸化合物に、後述する分子内にホスホン酸エステル基を有する単量体との共重合体はアニオン性界面活性剤ではなくホスホン酸化合物に、それぞれ該当するものとする。
上記高分子化合物としては、スチレン-無水マレイン酸共重合体の部分ケン化物類、多核芳香族化合物を含むスルホン化芳香族化合物のホルマリン縮合物(特に、ナフタレンスルホン酸ナトリウム塩ホルマリン縮合物類)、エチレン-無水マレイン酸共重合体の部分ケン化物類、ポリアクリル酸のナトリウム塩、ポリスチレンスルホン酸のナトリウム塩、ポリ2-アクリルアミド-2-メチルプロパンスルホン酸のナトリウム塩、等を挙げることができる。
上記高分子化合物の重量平均分子量は、2,000~1,000,000が好ましく、3,000~700,000がより好ましく、5,000~500,000が特に好ましい。
The anionic surfactant is preferably a polymer compound (anionic polymer surfactant). According to the above aspect, the surface condition is excellent. The polymer compound is not particularly limited as long as it contains at least one type of anionic group as a hydrophilic group.
Examples of the anionic group include a sulfonic acid group, a sulfate group, and a carboxy group. Among these, the sulfonic acid group is preferable.
These anionic groups may form salts, which may be salts with inorganic cations or salts with organic cations.
Examples of inorganic cations include lithium cations, sodium cations, potassium cations, calcium cations, magnesium cations, etc. Lithium cations, sodium cations, and potassium cations are preferred, and sodium cations and potassium cations are more preferred.
The organic cation includes ammonium (NH 4 + ), quaternary ammonium, quaternary pyridinium, quaternary phosphonium, etc. Ammonium, quaternary ammonium, and quaternary pyridinium are preferred, and quaternary ammonium is more preferred.
Examples of the polymer compound include a polymer of a monomer having an anionic group in the molecule, a copolymer of a polymer of a monomer having an anionic group in the molecule and one or more other monomers, and a polymer having no anionic group and into which a hydrophilic group has been subsequently introduced.
Examples of monomers having an anionic group in the molecule include styrene derivatives having a sulfonic acid group such as acrylic acid, methacrylic acid, maleic acid, itaconic acid, styrene sulfonic acid, sodium styrene sulfonate, and α-methylstyrene sulfonic acid, olefin sulfonic acids such as maleic anhydride, vinyl sulfonic acid, sodium allyl sulfonate, sodium methallyl sulfonate, sodium isoprene sulfonate, and 3-vinyloxypropane sulfonic acid, acrylamide derivatives having a sulfonic acid group such as 2-acrylamido-2-methylpropane sulfonic acid and sodium 2-acrylamido-2-methylpropane sulfonate, (meth)acrylate derivatives such as sodium 2-sulfoethyl methacrylate, dienesulfonic acids such as butadiene sulfonic acid, and naphthalene sulfonic acid. Among the above monomers, from the viewpoint of edge stain prevention performance, styrene derivatives having a sulfonic acid group or acrylamide derivatives having a sulfonic acid group are preferred, and sodium 4-styrene sulfonate or sodium 2-acrylamido-2-methylpropane sulfonate are more preferred.
It should be noted that a copolymer of the monomer having an anionic group and a monomer having a phosphate ester group in the molecule, which will be described later, corresponds to a phosphoric acid compound rather than an anionic surfactant, and a copolymer of the monomer having a phosphonate ester group in the molecule, which will be described later, corresponds to a phosphonic acid compound rather than an anionic surfactant.
Examples of the polymer compound include partially saponified products of styrene-maleic anhydride copolymers, formalin condensates of sulfonated aromatic compounds including polynuclear aromatic compounds (particularly, formalin condensates of sodium naphthalenesulfonate), partially saponified products of ethylene-maleic anhydride copolymers, sodium salts of polyacrylic acid, sodium salts of polystyrenesulfonic acid, and sodium salts of poly(2-acrylamido-2-methylpropanesulfonic acid).
The weight average molecular weight of the polymer compound is preferably from 2,000 to 1,000,000, more preferably from 3,000 to 700,000, and particularly preferably from 5,000 to 500,000.

また、非イオン性界面活性剤としては、ポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンアリールエーテル類、グリセリン脂肪酸部分エステル類、ソルビタン脂肪酸部分エステル類、ペンタエリスリトール脂肪酸部分エステル類、プロピレングリコールモノ脂肪酸エステル、ショ糖脂肪酸部分エステル、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸部分エステル類、ポリオキシエチレンソルビトール脂肪酸部分エステル類、ポリエチレングリコール脂肪酸エステル類、ポリグリセリン脂肪酸部分エステル類、ポリオキシエチレングリセリン脂肪酸部分エステル類、脂肪酸ジエタノールアミド類、N,N-ビス-2-ヒドロキシアルキルアミン類、ポリオキシエチレンアルキルアミン、トリエタノールアミン脂肪酸エステル、トリアルキルアミンオキシドなどが挙げられる。その中でもポリオキシエチレンアリールエーテル類、ポリオキシエチレン-ポリオキシプロピレンブロック共重合体類等が好ましく用いられる。Examples of nonionic surfactants include polyoxyethylene alkyl ethers, polyoxyethylene aryl ethers, glycerin fatty acid partial esters, sorbitan fatty acid partial esters, pentaerythritol fatty acid partial esters, propylene glycol mono fatty acid esters, sucrose fatty acid partial esters, polyoxyethylene sorbitan fatty acid partial esters, polyoxyethylene sorbitol fatty acid partial esters, polyethylene glycol fatty acid esters, polyglycerin fatty acid partial esters, polyoxyethylene glycerin fatty acid partial esters, fatty acid diethanolamides, N,N-bis-2-hydroxyalkylamines, polyoxyethylene alkylamines, triethanolamine fatty acid esters, trialkylamine oxides, etc. Among these, polyoxyethylene aryl ethers, polyoxyethylene-polyoxypropylene block copolymers, etc. are preferably used.

その他の界面活性剤としては、例えば、ポリオキシエチレンナフチルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンセチルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンステアレート等のポリオキシエチレンアルキルエステル類、ソルビタンモノラウレート、ソルビタンモノステアレート、ソルビタンジステアレート、ソルビタンモノオレエート、ソルビタンセスキオレエート、ソルビタントリオレエート等のソルビタンアルキルエステル類、グリセロールモノステアレート、グリセロールモノオレート等のモノグリセリドアルキルエステル類等の非イオン性界面活性剤が好ましく挙げられる。
また、非イオン性界面活性剤は、高分子化合物であることが好ましい。上記高分子化合物の重量平均分子量は、2,000~1,000,000が好ましく、3,000~700,000がより好ましく、5,000~500,000が特に好ましい。
Preferred examples of other surfactants include nonionic surfactants such as polyoxyethylene alkyl ethers, such as polyoxyethylene naphthyl ether, polyoxyethylene alkylphenyl ether, polyoxyethylene lauryl ether, polyoxyethylene cetyl ether, and polyoxyethylene stearyl ether; polyoxyethylene alkyl esters, such as polyoxyethylene stearate; sorbitan alkyl esters, such as sorbitan monolaurate, sorbitan monostearate, sorbitan distearate, sorbitan monooleate, sorbitan sesquioleate, and sorbitan trioleate; and monoglyceride alkyl esters, such as glycerol monostearate and glycerol monooleate.
The nonionic surfactant is preferably a polymer compound having a weight average molecular weight of preferably 2,000 to 1,000,000, more preferably 3,000 to 700,000, and particularly preferably 5,000 to 500,000.

非イオン性界面活性剤としては好ましくは、下記式(II-A)で表される界面活性剤、及び式(II-B)で表される界面活性剤が挙げられる。Preferred examples of nonionic surfactants include a surfactant represented by the following formula (II-A) and a surfactant represented by the following formula (II-B).

(上記式(II-A)中、R1は、水素原子又は炭素原子数1~100のアルキル基を表し、n及びmはそれぞれ0~100の整数を表し、n及びmの双方が0であることはない。
上記式(II-B)中、R2は、水素原子又は炭素原子数1~100のアルキル基を表し、n及びmはそれぞれ0~100の整数を表し、n及びmの双方が0であることはない。)
In the above formula (II-A), R 1 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 100 carbon atoms, and n and m each represent an integer of 0 to 100, provided that both n and m are not 0.
In the above formula (II-B), R 2 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 100 carbon atoms, and n and m each represent an integer of 0 to 100, provided that both n and m are not 0.

式(II-A)で表される化合物としては、ポリオキシエチレンフェニルエーテル、ポリオキシエチレンメチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等が挙げられる。式(II-B)で表される化合物としては、ポリオキシエチレンナフチルエーテル、ポリオキシエチレンメチルナフチルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルナフチルエーテル、ホリオキシエチレンノニルナフチルエーテル等が挙げられる。 Examples of compounds represented by formula (II-A) include polyoxyethylene phenyl ether, polyoxyethylene methyl phenyl ether, polyoxyethylene octyl phenyl ether, polyoxyethylene nonyl phenyl ether, etc. Examples of compounds represented by formula (II-B) include polyoxyethylene naphthyl ether, polyoxyethylene methyl naphthyl ether, polyoxyethylene octyl naphthyl ether, polyoxyethylene nonyl naphthyl ether, etc.

上記式(II-A)及び式(II-B)で表される化合物において、ポリオキシエチレン鎖の繰り返し単位数(n)は、好ましくは3~50、より好ましくは5~30である。ポリオキシプロピレン鎖の繰り返し単位数(m)は、好ましくは0~10、より好ましくは0~5である。ポリオキシエチレン部とポリオキシプロピレン部はランダムでもブロックの共重合体でもよい。
上記式(II-A)及び式(II-B)で表される非イオン芳香族エーテル系界面活性剤は、単独又は2種類以上を組み合わせて使用される。
下記に式(II-A)及び式(II-B)で表される化合物の具体例を示す。なお、下記例示化合物「Y-5」におけるオキシエチレン繰り返し単位及びオキシプロピレン繰り返し単位は、ランダム結合、及び、ブロック連結のいずれの態様をもとりうる。
In the compounds represented by the above formulas (II-A) and (II-B), the number of repeating units (n) of the polyoxyethylene chain is preferably 3 to 50, more preferably 5 to 30. The number of repeating units (m) of the polyoxypropylene chain is preferably 0 to 10, more preferably 0 to 5. The polyoxyethylene portion and the polyoxypropylene portion may be either a random or block copolymer.
The nonionic aromatic ether surfactants represented by the above formulae (II-A) and (II-B) may be used alone or in combination of two or more kinds.
Specific examples of the compounds represented by formula (II-A) and formula (II-B) are shown below. In addition, the oxyethylene repeating units and oxypropylene repeating units in the following exemplary compound "Y-5" may be either randomly bonded or block-linked.

上記エッジ親水化層は、両性界面活性剤を含むことが好ましい。
両性界面活性剤としては、例えば、カルボキシベタイン類、アミノカルボン酸類、スルホベタイン類、アミノ硫酸エステル類、イミダゾリン類などが挙げられる。
また、上記両性界面活性剤は高分子化合物(両性界面活性剤高分子)であることが好ましい。両性界面活性剤高分子としては、スルホベタイン系高分子、カルボキシベタイン系高分子、ホスホベタイン系高分子化合物が好ましく、例えば、特開2013-57747号公報、特開2012-194535号公報記載の化合物が挙げられる。
The edge hydrophilization layer preferably contains an amphoteric surfactant.
Examples of amphoteric surfactants include carboxybetaines, aminocarboxylic acids, sulfobetaines, aminosulfuric acid esters, and imidazolines.
The amphoteric surfactant is preferably a polymer compound (amphoteric surfactant polymer). Examples of amphoteric surfactant polymers include sulfobetaine polymers, carboxybetaine polymers, and phosphobetaine polymer compounds, such as those described in JP-A-2013-57747 and JP-A-2012-194535.

上記界面活性剤のうち、機上現像の促進効果が高いアニオン性界面活性剤が特に好ましく使用されるが、これら界面活性剤は2種以上併用することもできる。例えば、互いに異なる2種以上のアニオン界面活性剤の併用やアニオン界面活性剤と非イオン界面活性剤の併用が好ましい。Among the above surfactants, anionic surfactants that have a high on-press development promoting effect are particularly preferred, but these surfactants can also be used in combination of two or more. For example, it is preferred to use two or more different anionic surfactants in combination, or to use an anionic surfactant and a nonionic surfactant in combination.

ナフタレンスルホン酸ナトリウム、アルキルナフタレンスルホン酸ナトリウム、又は、ポリオキシエチレンアリールエーテルを用いることが好ましく、ナフタレンスルホン酸ナトリウム、又は、t-ブチルナフタレンスルホン酸ナトリウムを使用することが更に好ましい。It is preferable to use sodium naphthalene sulfonate, sodium alkyl naphthalene sulfonate, or polyoxyethylene aryl ether, and it is even more preferable to use sodium naphthalene sulfonate or sodium t-butyl naphthalene sulfonate.

上記の界面活性剤の含有量は特に限定する必要はないが、エッジ親水化層の全質量に対し、1質量%~95質量%であることが好ましく、10質量%~90質量%であることがより好ましく、50質量%~90質量%であることが更に好ましい。界面活性剤の含有量が上記範囲内である場合、機上現像性が促進される。The content of the above surfactant does not need to be particularly limited, but is preferably 1% to 95% by weight, more preferably 10% to 90% by weight, and even more preferably 50% to 90% by weight, relative to the total weight of the edge hydrophilization layer. When the content of the surfactant is within the above range, on-press developability is promoted.

その他、カチオン性界面活性剤の従来公知のものを併用することができる。カチオン性界面活性剤としては、例えば、アルキルアミン塩類、第四級アンモニウム塩類、ポリオキシアルキルアミン塩類、ポリエチレンポリアミン誘導体などが挙げられる。In addition, conventionally known cationic surfactants can be used in combination. Examples of cationic surfactants include alkylamine salts, quaternary ammonium salts, polyoxyalkylamine salts, and polyethylene polyamine derivatives.

-リン酸化合物-
親水化剤としては、リン酸化合物を使用することが好ましい。リン酸化合物としては、リン酸、メタリン酸、第一リン酸アンモニウム、第二リン酸アンモニウム、リン酸二水素ナトリウム、リン酸一水素ナトリウム、第一リン酸カリウム、第二リン酸カリウム、トリポリリン酸ナトリウム、ピロリン酸カリウム、ヘキサメタリン酸ナトリウムなどが挙げられる。中でも、リン酸二水素ナトリウム、リン酸一水素ナトリウム、ヘキサメタリン酸ナトリウムが好適に使用できる。
リン酸化合物の含有量は、エッジ親水化層の全質量に対し、1質量%~80質量%が好ましく、10質量%~50質量%がより好ましい。
-Phosphate compounds-
As the hydrophilizing agent, it is preferable to use a phosphoric acid compound. Examples of the phosphoric acid compound include phosphoric acid, metaphosphoric acid, ammonium phosphate, ammonium phosphate, sodium dihydrogen phosphate, sodium monohydrogen phosphate, potassium phosphate, potassium phosphate, sodium tripolyphosphate, potassium pyrophosphate, and sodium hexametaphosphate. Among them, sodium dihydrogen phosphate, sodium monohydrogen phosphate, and sodium hexametaphosphate are preferably used.
The content of the phosphoric acid compound is preferably from 1% by mass to 80% by mass, and more preferably from 10% by mass to 50% by mass, based on the total mass of the edge hydrophilization layer.

リン酸化合物としてリン酸モノエステル化合物、リン酸ジエステル化合物が使用できる。
リン酸化合物としては、高分子化合物を用いることが好ましく、リン酸モノエステル基を有する高分子化合物がより好ましい。上記態様によれば、支持体への塗布性に優れた親水化塗布液が得られる。
上記高分子化合物としては、分子内にリン酸エステル基を有する単量体の1種以上からなる重合体又は、リン酸エステル基を含む1種以上の単量体及びリン酸エステル基を含まない1種以上の単量体との共重合体、リン酸エステル基を有さない高分子に後からリン酸エステル基を導入した高分子等が挙げられる。
リン酸エステル基を有する単量体としては、モノ(2-メタクリロイルオキシエチル)アシッドホスフェート、モノ(2-メタクリロイルオキシポリオキシエチレングリコール)アシッドホスフェート、モノ(2-アクリロイルオキシエチル)アシッドホスフェート、3-クロロ-2-アシッドホスホオキシプロピルメタクリレート、アシッドホスホオキシポリオキシエチレングリコールモノメタクリレート、アシッドホスホオキシポリオキシプロピレングリコールメタクリレート、(メタ)アクリロイルオキシエチルアシッドホスフェート、(メタ)アクリロイルオキシプロピルアシッドホスフェート、(メタ)アクリロイルオキシ-2-ヒドロキシプロピルアシッドホスフェート、(メタ)アクリロイルオキシ-3-ヒドロキシプロピルアシッドホスフェート、(メタ)アクリロイルオキシ-3-クロロ-2-ヒドロキシプロピルアシッドホスフェート、アリルアルコールアシッドホスフェート、などが挙げられる。上記単量体の中でも、エッジ汚れ防止性能の観点から、モノ(2-アクリロイルオキシエチル)アシッドホスフェートが好ましく用いられる。代表的な製品としては、ライトエステルP-1M(共栄化学(株)製)、ホスマーPE(ユニケミカル(株)製)が挙げられる。
As the phosphoric acid compound, a phosphoric acid monoester compound or a phosphoric acid diester compound can be used.
As the phosphoric acid compound, a polymeric compound is preferably used, and a polymeric compound having a phosphoric acid monoester group is more preferable. According to the above-mentioned embodiment, a hydrophilic coating liquid having excellent coatability onto a support can be obtained.
Examples of the polymer compound include a polymer composed of one or more monomers having a phosphate ester group in the molecule, a copolymer of one or more monomers having a phosphate ester group and one or more monomers not having a phosphate ester group, and a polymer in which a phosphate ester group has been introduced into a polymer not having a phosphate ester group.
Examples of monomers having a phosphate group include mono(2-methacryloyloxyethyl) acid phosphate, mono(2-methacryloyloxypolyoxyethylene glycol) acid phosphate, mono(2-acryloyloxyethyl) acid phosphate, 3-chloro-2-acid phosphooxypropyl methacrylate, acid phosphooxypolyoxyethylene glycol monomethacrylate, acid phosphooxypolyoxypropylene glycol methacrylate, (meth)acryloyloxyethyl acid phosphate, (meth)acryloyloxypropyl acid phosphate, (meth)acryloyloxy-2-hydroxypropyl acid phosphate, (meth)acryloyloxy-3-hydroxypropyl acid phosphate, (meth)acryloyloxy-3-chloro-2-hydroxypropyl acid phosphate, and allyl alcohol acid phosphate. Among the above monomers, mono(2-acryloyloxyethyl) acid phosphate is preferably used from the viewpoint of edge stain prevention performance. Representative products include Light Ester P-1M (manufactured by Kyoei Chemical Co., Ltd.) and Phosmer PE (manufactured by Unichemical Co., Ltd.).

上記高分子化合物としては、リン酸エステル基を有する単量体の単独重合体、共重合体のどちらも用いられる。共重合体としては、例えば、リン酸エステル基を有する単量体と上記アニオン性基を有する単量体との共重合体や、リン酸エステル基を有する単量体とリン酸エステル基とアニオン性基のどちらも含まない単量体との共重合体が使用できる。
上記高分子化合物の好ましい態様は、分子内にリン酸エステル基を有するモノマー単位の割合が、1モル%~100モル%、より好ましくは5モル%~100モル%、更に好ましくは10モル%~100モル%の、共重合体又は単独重合体である。
リン酸エステル基とアニオン性基のどちらも含まない単量体としては、親水性基を有する単量体が好ましい。親水性基としては、例えば、ヒドロキシ基、アルキレンオキシド構造、アミノ基、アンモニウム基、アミド基、が挙げられ、中でも、ヒドロキシ基、アルキレンオキシド構造、アミド基が好ましく、炭素数2又は3のアルキレンオキシド単位を1~20個有するアルキレンオキシド構造がより好ましく、エチレンオキシド単位を2~10個有するポリエチレンオキシド構造が更に好ましい。例えば、2-ヒドロキシエチルアクリレート、エトキシジエチレングリコールアクリレート、メトキシトリエチレングリコールアクリレート、ポリ(オキシエチレン)メタクリレート、N-イソプロピルアクリルアミド、アクリルアミド、等が挙げられる。
また、リン酸化合物として、上記分子内にリン酸エステル基を有する単量体と上記アニオン性基を有する単量体との共重合体を用いることが好ましい。上記態様によれば、塗布性が高く、エッジ汚れ防止性能が高い親水化塗布液が得られる。
上記分子内にリン酸エステル基を有する単量体と上記アニオン性基を有する単量体との共重合体中、分子内にリン酸エステル基を有するモノマー単位の割合は、全モノマー単位に対し、2モル%~99モル%であることが好ましく、2モル%~80モル%であることがより好ましく、5モル%~70モル%であることが更に好ましく、5モル%~50モル%であることが特に好ましい。
上記高分子化合物の重量平均分子量は、5,000~1,000,000が好ましく、7,000~700,000がより好ましく、10,000~500,000が特に好ましい。
The polymer compound may be either a homopolymer or a copolymer of a monomer having a phosphate group. The copolymer may be, for example, a copolymer of a monomer having a phosphate group and a monomer having the anionic group, or a copolymer of a monomer having a phosphate group and a monomer containing neither a phosphate group nor an anionic group.
A preferred embodiment of the polymer compound is a copolymer or homopolymer in which the ratio of monomer units having a phosphate ester group in the molecule is 1 mol % to 100 mol %, more preferably 5 mol % to 100 mol %, and even more preferably 10 mol % to 100 mol %.
As the monomer containing neither a phosphate group nor an anionic group, a monomer having a hydrophilic group is preferred. Examples of the hydrophilic group include a hydroxy group, an alkylene oxide structure, an amino group, an ammonium group, and an amide group. Among them, a hydroxy group, an alkylene oxide structure, and an amide group are preferred, an alkylene oxide structure having 1 to 20 alkylene oxide units having 2 or 3 carbon atoms is more preferred, and a polyethylene oxide structure having 2 to 10 ethylene oxide units is even more preferred. Examples include 2-hydroxyethyl acrylate, ethoxydiethylene glycol acrylate, methoxytriethylene glycol acrylate, poly(oxyethylene) methacrylate, N-isopropylacrylamide, acrylamide, and the like.
In addition, it is preferable to use a copolymer of the monomer having a phosphate ester group in the molecule and the monomer having an anionic group as the phosphoric acid compound. According to the above-mentioned embodiment, a hydrophilic coating liquid having high coatability and high edge stain prevention performance can be obtained.
In the copolymer of the monomer having a phosphate ester group in its molecule and the monomer having an anionic group, the proportion of the monomer unit having a phosphate ester group in its molecule is preferably 2 mol % to 99 mol %, more preferably 2 mol % to 80 mol %, even more preferably 5 mol % to 70 mol %, and particularly preferably 5 mol % to 50 mol %, based on the total monomer units.
The weight average molecular weight of the polymer compound is preferably from 5,000 to 1,000,000, more preferably from 7,000 to 700,000, and particularly preferably from 10,000 to 500,000.

-ホスホン酸化合物-
親水化剤としては、ホスホン酸化合物を使用することが好ましい。ホスホン酸化合物としては、エチルホスホン酸、プロピルホスホン酸、i-プロピルホスホン酸、ブチルホスホン酸、ヘキシルホスホン酸、オクチルホスホン酸、ドデシルホスホン酸、オクタデシルホスホン酸、2-ヒドロキシエチルホスホン酸及びこれらのナトリウム塩又はカリウム塩、メチルホスホン酸メチル、エチルホスホン酸メチル、2-ヒドロキシエチルホスホン酸メチルなどのアルキルホスホン酸モノアルキルエステル及びこれらのナトリウム塩又はカリウム塩、メチレンジホスホン酸、エチレンジホスホン酸等のアルキレンジホスホン酸及びこれらのナトリウム塩又はカリウム塩、ポリビニルホスホン酸が挙げられる。
中でも、ポリビニルホスホン酸を用いることが好ましい。
ホスホン酸化合物の含有量は、エッジ親水化層の全質量に対し、1質量%~80質量%が好ましく、10質量%~50質量%がより好ましい。
-Phosphonic acid compounds-
As the hydrophilizing agent, it is preferable to use a phosphonic acid compound. Examples of the phosphonic acid compound include ethylphosphonic acid, propylphosphonic acid, i-propylphosphonic acid, butylphosphonic acid, hexylphosphonic acid, octylphosphonic acid, dodecylphosphonic acid, octadecylphosphonic acid, 2-hydroxyethylphosphonic acid, and their sodium or potassium salts, alkylphosphonic acid monoalkyl esters such as methyl methylphosphonate, methyl ethylphosphonate, and methyl 2-hydroxyethylphosphonate, and their sodium or potassium salts, alkylene diphosphonic acids such as methylene diphosphonic acid and ethylene diphosphonic acid, and their sodium or potassium salts, and polyvinyl phosphonic acid.
Of these, it is preferable to use polyvinyl phosphonic acid.
The content of the phosphonic acid compound is preferably from 1% by mass to 80% by mass, and more preferably from 10% by mass to 50% by mass, based on the total mass of the edge hydrophilization layer.

ホスホン酸化合物としては、高分子化合物が好ましい。上記態様により、支持体への塗布性に優れた親水化塗布液が得られる。
ホスホン酸化合物として好ましい高分子化合物は、ポリビニルホスホン酸の他、分子内にホスホン酸基又はホスホン酸モノエステル基を有する1種以上の単量体からなる重合体又は、ホスホン酸基又はホスホン酸モノエステル基を有する1種以上の単量体及びホスホン酸基又はホスホン酸モノエステル基を含まない1種以上の単量体との共重合体、等が挙げられる。
ホスホン酸基を有する単量体としては、ビニルホスホン酸、エチルホスホン酸モノビニルエステル、アクリロイルアミノメチルホスホン酸、3-メタクリロイルオキシプロピルホスホン酸などが挙げられる。
上記高分子化合物としては、ホスホン酸エステル基を有する単量体の単独重合体、共重合体のどちらも用いられる。共重合体としては、例えば、ホスホン酸エステル基を有する単量体と上記アニオン性基を有する単量体との共重合体や、リン酸エステル基を有する単量体とリン酸エステル基とアニオン性基のどちらも含まない単量体との共重合体が使用できる。
ホスホン酸エステル基とアニオン性基のどちらも含まない単量体としては、親水性基を有する単量体が好ましい。親水性基としては、例えば、ヒドロキシ基、アルキレンオキシド構造、アミノ基、アンモニウム基、アミド基、が挙げられ、中でも、ヒドロキシ基、アルキレンオキシド構造、アミド基が好ましく、炭素数2又は3のアルキレンオキシド単位を1~20個有するアルキレンオキシド構造がより好ましく、エチレンオキシド単位を2~10個有するポリエチレンオキシド構造が更に好ましい。例えば、2-ヒドロキシエチルアクリレート、エトキシジエチレングリコールアクリレート、メトキシトリエチレングリコールアクリレート、ポリ(オキシエチレン)メタクリレート、N-イソプロピルアクリルアミド、アクリルアミド、などが挙げられる。
上記高分子化合物の好ましい態様は、分子内にリン酸エステル基を有するモノマー単位の割合が、1モル%~100モル%、より好ましくは3モル%~100モル%、更に好ましくは5モル%~100モル%の、共重合体あるいは単独重合体である。
また、ホスホン酸化合物として、上記分子内にホスホン酸エステル基を有する単量体と上記アニオン性基を有する単量体との共重合体を用いることもできる。上記態様によれば、塗布性が高く、エッジ汚れ防止性能が高い親水化塗布液が得られるため好ましい。
上記分子内にホスホン酸エステル基を有する単量体と上記アニオン性基を有する単量体との共重合体中、分子内にホスホン酸エステル基を有するモノマー単位の割合は、全モノマー単位に対し、2モル%~99モル%であることが好ましく、2モル%~80モル%であることがより好ましく、5モル%~70モル%であることが更に好ましく、10モル%~50モル%であることが特に好ましい。
上記高分子化合物の重量平均分子量は、5,000~1,000,000が好ましく、7,000~700,000がより好ましく、10,000~500,000が特に好ましい。
The phosphonic acid compound is preferably a polymer compound. According to the above embodiment, a hydrophilic coating liquid having excellent coatability onto a support can be obtained.
Examples of polymeric compounds preferred as the phosphonic acid compound include, in addition to polyvinyl phosphonic acid, polymers composed of one or more monomers having a phosphonic acid group or a phosphonic acid monoester group in the molecule, and copolymers of one or more monomers having a phosphonic acid group or a phosphonic acid monoester group and one or more monomers not containing a phosphonic acid group or a phosphonic acid monoester group.
Examples of the monomer having a phosphonic acid group include vinyl phosphonic acid, ethyl phosphonic acid monovinyl ester, acryloylaminomethyl phosphonic acid, and 3-methacryloyloxypropyl phosphonic acid.
The polymer compound may be either a homopolymer or a copolymer of a monomer having a phosphonate ester group. The copolymer may be, for example, a copolymer of a monomer having a phosphonate ester group and a monomer having the anionic group, or a copolymer of a monomer having a phosphate ester group and a monomer containing neither a phosphate ester group nor an anionic group.
As the monomer containing neither a phosphonate group nor an anionic group, a monomer having a hydrophilic group is preferred. Examples of the hydrophilic group include a hydroxy group, an alkylene oxide structure, an amino group, an ammonium group, and an amide group. Among them, a hydroxy group, an alkylene oxide structure, and an amide group are preferred, an alkylene oxide structure having 1 to 20 alkylene oxide units having 2 or 3 carbon atoms is more preferred, and a polyethylene oxide structure having 2 to 10 ethylene oxide units is even more preferred. Examples include 2-hydroxyethyl acrylate, ethoxydiethylene glycol acrylate, methoxytriethylene glycol acrylate, poly(oxyethylene) methacrylate, N-isopropylacrylamide, acrylamide, and the like.
A preferred embodiment of the polymer compound is a copolymer or homopolymer in which the ratio of monomer units having a phosphate ester group in the molecule is 1 mol % to 100 mol %, more preferably 3 mol % to 100 mol %, and even more preferably 5 mol % to 100 mol %.
In addition, as the phosphonic acid compound, a copolymer of the monomer having a phosphonic acid ester group in the molecule and the monomer having an anionic group can be used. According to the above-mentioned embodiment, it is preferable because a hydrophilic coating liquid having high coatability and high edge stain prevention performance can be obtained.
In the copolymer of the monomer having a phosphonate ester group in its molecule and the monomer having an anionic group, the ratio of the monomer unit having a phosphonate ester group in its molecule to the total monomer units is preferably 2 mol % to 99 mol %, more preferably 2 mol % to 80 mol %, even more preferably 5 mol % to 70 mol %, and particularly preferably 10 mol % to 50 mol %.
The weight average molecular weight of the polymer compound is preferably from 5,000 to 1,000,000, more preferably from 7,000 to 700,000, and particularly preferably from 10,000 to 500,000.

-水溶性樹脂-
親水化剤としては、水溶性樹脂を含有することが好ましい。
水溶性樹脂としては、多糖類として分類される水溶性樹脂、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリアクリルアミド及びその共重合体、ビニルメチルエーテル/無水マレイン酸共重合体、酢酸ビニル/無水マレイン酸共重合体、スチレン/無水マレイン酸共重合体等を挙げることができる。
多糖類としては、澱粉誘導体(例えばデキストリン、酵素分解デキストリン、ヒドロキシプロピル化澱粉、カルボキシメチル化澱粉、リン酸エステル化澱粉、ポリオキシアルキレングラフト化澱粉、サイクロデキストリン)、セルロース類(例えばカルボキシメチルセルロース、カルボキシエチルセルロース、メチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、メチルプロピルセルロース等)、カラギーナン、アルギン酸、グァーガム、ローカストビーンガム、キサンタンガム、アラビアガム、大豆多糖類などを挙げることができる。
中でもデキストリン、ポリオキシアルキレングラフト化澱粉といった澱粉誘導体、アラビアガム、カルボキシメチルセルロース、大豆多糖類などが好ましく用いられる。
- Water-soluble resin -
The hydrophilizing agent preferably contains a water-soluble resin.
Examples of the water-soluble resin include water-soluble resins classified as polysaccharides, polyvinyl alcohol, polyvinylpyrrolidone, polyacrylamide and copolymers thereof, vinyl methyl ether/maleic anhydride copolymers, vinyl acetate/maleic anhydride copolymers, and styrene/maleic anhydride copolymers.
Examples of polysaccharides include starch derivatives (e.g., dextrin, enzymatically hydrolyzed dextrin, hydroxypropylated starch, carboxymethylated starch, phosphated starch, polyoxyalkylene-grafted starch, cyclodextrin), celluloses (e.g., carboxymethyl cellulose, carboxyethyl cellulose, methyl cellulose, hydroxypropyl cellulose, methylpropyl cellulose, etc.), carrageenan, alginic acid, guar gum, locust bean gum, xanthan gum, gum arabic, soybean polysaccharides, and the like.
Among these, dextrin, starch derivatives such as polyoxyalkylene-grafted starch, gum arabic, carboxymethylcellulose, soybean polysaccharides, etc. are preferably used.

これらの水溶性樹脂は2種以上組み合わせても使用できる。
水溶性樹脂の含有量は、エッジ親水化層の全質量に対し、好ましくは5質量%~40質量%、より好ましくは10質量%~30質量%の範囲で含有させることができる。この範囲内で、塗布性に優れ、良好な親水化保護膜が得られる。
These water-soluble resins may be used in combination of two or more kinds.
The content of the water-soluble resin is preferably in the range of 5% by mass to 40% by mass, more preferably 10% by mass to 30% by mass, based on the total mass of the edge hydrophilization layer. Within this range, a good hydrophilization protective film with excellent coatability can be obtained.

上記親水化剤は、1種単独で使用してもよいが、2種以上の親水化剤を組み合わせて使用することが好ましく、1種~4種の親水化剤を組み合わせて使用することがより好ましく、1種~3種の親水化剤を組み合わせて使用することが更に好ましく、2種の親水化剤を組み合わせて使用することが特に好ましい
複数の親水化剤を組み合わせて使用する場合、界面活性剤とリン酸化合物又はホスホン酸化合物とを組み合わせて使用することが好ましく、アニオン性界面活性剤とリン酸化合物又はホスホン酸化合物とを組み合わせて使用することがより好ましい。
また、親水化剤を1種単独で使用する場合は、分子内にリン酸エステル基又はホスホン酸エステル基を有する単量体と分子内にアニオン性基を有する単量体との共重合体を使用することが好ましく、分子内にリン酸エステル基を有する単量体と分子内にアニオン性基を有する単量体との共重合体を使用することがより好ましく、分子内にリン酸エステル基を有する単量体と分子内にスルホン酸基を有する単量体との共重合体を使用することが更に好ましい。
The above hydrophilizing agents may be used alone, but it is preferable to use two or more hydrophilizing agents in combination, it is more preferable to use one to four hydrophilizing agents in combination, it is even more preferable to use one to three hydrophilizing agents in combination, and it is particularly preferable to use two hydrophilizing agents in combination. When using a combination of multiple hydrophilizing agents, it is preferable to use a surfactant in combination with a phosphoric acid compound or a phosphonic acid compound, and it is more preferable to use an anionic surfactant in combination with a phosphoric acid compound or a phosphonic acid compound.
In addition, when using a single hydrophilizing agent, it is preferable to use a copolymer of a monomer having a phosphate ester group or a phosphonate ester group in the molecule and a monomer having an anionic group in the molecule, it is more preferable to use a copolymer of a monomer having a phosphate ester group in the molecule and a monomer having an anionic group in the molecule, and it is even more preferable to use a copolymer of a monomer having a phosphate ester group in the molecule and a monomer having a sulfonic acid group in the molecule.

-可塑剤-
上記エッジ親水化層には、可塑剤を含有させることができる。
可塑剤としては、例えばジブチルフタレート、ジヘプチルフタレート、ジ-n-オクチルフタレート、ジ(2-エチルヘキシル)フタレート、ジノニルフタレート、ジデシルフタレート、ジラウリルフタレート、ブチルベンジルフタレートなどのフタル酸ジエステル類、例えばジオクチルアジペート、ブチルグリコールアジペート、ジオクチルアゼレート、ジブチルセバケート、ジ(2-エチルヘキシル)セバケート、ジオクチルセバケートなどの脂肪族二塩基酸エステル類、例えばエポキシ化大豆油などのエポキシ化トリグリセリド類、例えばトリクレジルフォスフェート、トリオクチルフォスフェート、トリスクロルエチルフォスフェートなどの燐酸エステル類、例えば安息香酸ベンジルなどの安息香酸エステル類などの凝固点が15℃以下の可塑剤が含まれる。
- Plasticizer -
The edge hydrophilic layer may contain a plasticizer.
Examples of the plasticizer include plasticizers having a freezing point of 15° C. or lower, such as phthalic acid diesters such as dibutyl phthalate, diheptyl phthalate, di-n-octyl phthalate, di(2-ethylhexyl) phthalate, dinonyl phthalate, didecyl phthalate, dilauryl phthalate, and butyl benzyl phthalate; aliphatic dibasic acid esters such as dioctyl adipate, butyl glycol adipate, dioctyl azelate, dibutyl sebacate, di(2-ethylhexyl) sebacate, and dioctyl sebacate; epoxidized triglycerides such as epoxidized soybean oil; phosphate esters such as tricresyl phosphate, trioctyl phosphate, and trischloroethyl phosphate; and benzoic acid esters such as benzyl benzoate.

可塑剤は1種のみ用いてもよいし、2種以上を併用することもできる。
可塑剤の含有量は、エッジ親水化層の全質量に対し、0質量%を超え10質量%以下が好ましく、0質量%を超え5質量%以下がより好ましい。
The plasticizers may be used alone or in combination of two or more kinds.
The content of the plasticizer is preferably more than 0% by mass and not more than 10% by mass, more preferably more than 0% by mass and not more than 5% by mass, based on the total mass of the edge hydrophilization layer.

-その他の任意成分-
上記エッジ親水化層は、上記成分の他に、硝酸塩、硫酸塩などの無機塩、防腐剤、消泡剤等を含有できる。
また、上記エッジ親水化層は、上述したミクロゲル等の粒子を含むことも好ましい。
無機塩としては、例えば硝酸マグネシウム、硝酸ナトリウム、硝酸カリウム、硝酸アンモニウム、硫酸ナトリウム、硫酸カリウム、硫酸アンモニウム、硫酸水素ナトリウム、硫酸ニッケル等が挙げられる。
防腐剤としては、フェノール又はその誘導体、ホルマリン、イミダゾール誘導体、デヒドロ酢酸ナトリウム、4-イソチアゾリン-3-オン誘導体、ベンゾイソチアゾリン-3-オン、ベンズトリアゾール誘導体、アミジングアニジン誘導体、四級アンモニウム塩類、ピリジン、キノリン、グアニジン等の誘導体、ダイアジン、トリアゾール誘導体、オキサゾール、オキサジン誘導体、ニトロブロモアルコール系の2-ブロモ-2-ニトロプロパン-1,3-ジオール、1,1-ジブロモ-1-ニトロ-2-エタノール、1,1-ジブロモ-1-ニトロ-2-プロパノール等が挙げられる。
消泡剤としては一般的なシリコーン系の自己乳化タイプ、乳化タイプ、界面活性剤非イオン系のHLB値が5以下等の化合物を使用することができる。
-Other optional ingredients-
The edge hydrophilizing layer may contain, in addition to the above components, inorganic salts such as nitrates and sulfates, preservatives, antifoaming agents, and the like.
The edge hydrophilic layer also preferably contains particles such as the microgel described above.
Examples of inorganic salts include magnesium nitrate, sodium nitrate, potassium nitrate, ammonium nitrate, sodium sulfate, potassium sulfate, ammonium sulfate, sodium hydrogen sulfate, and nickel sulfate.
Examples of preservatives include phenol or derivatives thereof, formalin, imidazole derivatives, sodium dehydroacetate, 4-isothiazolin-3-one derivatives, benzoisothiazolin-3-one, benztriazole derivatives, amidine guanidine derivatives, quaternary ammonium salts, derivatives of pyridine, quinoline, guanidine, etc., diazine, triazole derivatives, oxazole, oxazine derivatives, nitrobromoalcohols such as 2-bromo-2-nitropropane-1,3-diol, 1,1-dibromo-1-nitro-2-ethanol, and 1,1-dibromo-1-nitro-2-propanol.
As the defoaming agent, general silicone-based self-emulsifying type, emulsifying type, non-ionic surfactant-based compounds having an HLB value of 5 or less, etc. can be used.

(平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法)
本開示に係る平版印刷版原版を画像露光して現像処理を行うことで平版印刷版を作製することができる。
本開示に係る平版印刷版の作製方法は、本開示に係る平版印刷版原版を画像様に露光する工程(以下、「露光工程」ともいう。)と、印刷インキ及び湿し水よりなる群から選ばれた少なくとも一方を供給して印刷機上で非画像部の画像記録層を除去する工程(以下、「機上現像工程」ともいう。)と、を含むことが好ましい。
本開示に係る平版印刷方法は、本開示に係る平版印刷版原版を画像様に露光する工程(露光工程)と、印刷インキ及び湿し水よりなる群から選ばれた少なくとも一方を供給して印刷機上で非画像部の画像記録層を除去し平版印刷版を作製する工程(機上現像工程)と、得られた平版印刷版により印刷する工程(印刷工程)と、を含むことが好ましい。
以下、本開示に係る平版印刷版の作製方法、及び、本開示に係る平版印刷方法について、各工程の好ましい態様を順に説明する。なお、本開示に係る平版印刷版原版は、現像液によっても現像可能である。
以下、平版印刷版の作製方法における露光工程及び機上現像工程について説明するが、本開示に係る平版印刷版の作製方法における露光工程と、本開示に係る平版印刷方法における露光工程とは同様の工程であり、本開示に係る平版印刷版の作製方法における機上現像工程と、本開示に係る平版印刷方法における機上現像工程とは同様の工程である。
また、上記最外層は、機上現像時において、一部は除去され、一部は画像部の表面に残留又は画像部の内部に印刷インキにより浸透しているものと推定している。
(Method of preparing a lithographic printing plate and lithographic printing method)
A lithographic printing plate can be prepared by imagewise exposing the lithographic printing plate precursor according to the present disclosure and then subjecting it to a development treatment.
The method for producing a lithographic printing plate according to the present disclosure preferably includes a step of exposing the lithographic printing plate precursor according to the present disclosure imagewise to light (hereinafter also referred to as an "exposure step"), and a step of removing the image recording layer in non-image areas on a printing press by supplying at least one selected from the group consisting of printing ink and fountain solution (hereinafter also referred to as an "on-press development step").
The lithographic printing method according to the present disclosure preferably includes a step of exposing the lithographic printing plate precursor according to the present disclosure in an imagewise manner (exposure step), a step of supplying at least one selected from the group consisting of printing ink and fountain solution to remove the image recording layer in non-image areas on a printing press to prepare a lithographic printing plate (on-press development step), and a step of printing with the obtained lithographic printing plate (printing step).
Hereinafter, preferred aspects of each step of the method for producing a lithographic printing plate according to the present disclosure and the lithographic printing method according to the present disclosure will be described in order. The lithographic printing plate precursor according to the present disclosure can also be developed using a developer.
The exposure step and on-press development step in the method for preparing a lithographic printing plate will be described below; however, the exposure step in the method for preparing a lithographic printing plate according to the present disclosure is the same as the exposure step in the lithographic printing method according to the present disclosure, and the on-press development step in the method for preparing a lithographic printing plate according to the present disclosure is the same as the on-press development step in the lithographic printing method according to the present disclosure.
It is also assumed that the outermost layer is partially removed during on-press development, and the remaining portion remains on the surface of the image area or penetrates into the inside of the image area with the printing ink.

<露光工程>
本開示に係る平版印刷版の作製方法は、本開示に係る平版印刷版原版を画像様に露光し、露光部と未露光部とを形成する露光工程を含むことが好ましい。本開示に係る平版印刷版原版は、線画像、網点画像等を有する透明原画を通してレーザー露光するかデジタルデータによるレーザー光走査等で画像様に露光されることが好ましい。
光源の波長は750nm~1,400nmが好ましく用いられる。波長750nm~1,400nmの光源としては、赤外線を放射する固体レーザー及び半導体レーザーが好適である。赤外線レーザーに関しては、出力は100mW以上であることが好ましく、1画素当たりの露光時間は20マイクロ秒以内であるのが好ましく、また照射エネルギー量は10mJ/cm~300mJ/cmであるのが好ましい。また、露光時間を短縮するためマルチビームレーザーデバイスを用いることが好ましい。露光機構は、内面ドラム方式、外面ドラム方式、及びフラットベッド方式等のいずれでもよい。
画像露光は、プレートセッターなどを用いて常法により行うことができる。機上現像の場合には、平版印刷版原版を印刷機に装着した後、印刷機上で画像露光を行ってもよい。
<Exposure process>
The method for producing a lithographic printing plate according to the present disclosure preferably includes an exposure step of exposing the lithographic printing plate precursor according to the present disclosure imagewise to form an exposed area and an unexposed area. The lithographic printing plate precursor according to the present disclosure is preferably exposed to laser light through a transparent original having a line image, a halftone dot image, or the like, or imagewise exposed by laser light scanning based on digital data, or the like.
The wavelength of the light source is preferably 750 nm to 1,400 nm. As a light source with a wavelength of 750 nm to 1,400 nm, a solid-state laser or a semiconductor laser that emits infrared rays is suitable. With regard to the infrared laser, the output is preferably 100 mW or more, the exposure time per pixel is preferably 20 microseconds or less, and the amount of irradiation energy is preferably 10 mJ/cm 2 to 300 mJ/cm 2. In addition, it is preferable to use a multi-beam laser device in order to shorten the exposure time. The exposure mechanism may be any of an internal drum type, an external drum type, a flatbed type, and the like.
Image exposure can be carried out by a conventional method using a plate setter, etc. In the case of on-press development, the lithographic printing plate precursor may be mounted on a printing press and then image exposure may be carried out on the printing press.

<機上現像工程>
本開示に係る平版印刷版の作製方法は、印刷インキ及び湿し水よりなる群から選ばれた少なくとも一方を供給して印刷機上で非画像部の画像記録層を除去する機上現像工程を含むことが好ましい。
以下に、機上現像方式について説明する。
<On-press development process>
The method for producing a lithographic printing plate according to the present disclosure preferably includes an on-press development step of supplying at least one selected from the group consisting of printing ink and fountain solution to remove the image recording layer in non-image areas on the printing press.
The on-press development method will be described below.

〔機上現像方式〕
機上現像方式においては、画像露光された平版印刷版原版は、印刷機上で油性インキと水性成分とを供給し、非画像部の画像記録層が除去されて平版印刷版が作製されることが好ましい。
すなわち、平版印刷版原版を画像露光後、何らの現像処理を施すことなくそのまま印刷機に装着するか、あるいは、平版印刷版原版を印刷機に装着した後、印刷機上で画像露光し、ついで、油性インキと水性成分とを供給して印刷すると、印刷途上の初期の段階で、非画像部においては、供給された油性インキ及び水性成分のいずれか又は両方によって、未硬化の画像記録層が溶解又は分散して除去され、その部分に親水性の表面が露出する。一方、露光部においては、露光により硬化した画像記録層が、親油性表面を有する油性インキ受容部を形成する。最初に版面に供給されるのは、油性インキでもよく、水性成分でもよいが、水性成分が除去された画像記録層の成分によって汚染されることを防止する点で、最初に油性インキを供給することが好ましい。このようにして、平版印刷版原版は印刷機上で機上現像され、そのまま多数枚の印刷に用いられる。油性インキ及び水性成分としては、通常の平版印刷用の印刷インキ及び湿し水が好適に用いられる。
[On-press development method]
In the on-press development method, it is preferable that an oil-based ink and an aqueous component are supplied to the image-exposed lithographic printing plate precursor on a printing press, and the image recording layer in the non-image areas is removed to prepare a lithographic printing plate.
That is, after image exposure, the lithographic printing plate precursor is mounted on a printing press as it is without any development treatment, or the lithographic printing plate precursor is mounted on a printing press and then image exposure is performed on the printing press, and then an oil-based ink and an aqueous component are supplied to print. In the early stage of printing, the uncured image recording layer is dissolved or dispersed by either or both of the supplied oil-based ink and aqueous component in the non-image area and removed, exposing a hydrophilic surface in that area. Meanwhile, in the exposed area, the image recording layer cured by exposure forms an oil-based ink receptive area having an oleophilic surface. The first thing supplied to the plate surface may be an oil-based ink or an aqueous component, but it is preferable to supply an oil-based ink first in order to prevent the aqueous component from being contaminated by the component of the image recording layer that has been removed. In this way, the lithographic printing plate precursor is developed on the press and used as it is for printing a large number of sheets. As the oil-based ink and aqueous component, printing ink and fountain solution for normal lithographic printing are preferably used.

上記本開示に係る平版印刷版原版を画像露光するレーザーとしては、光源の波長は300nm~450nm又は750nm~1,400nmが好ましく用いられる。波長300nm~450nmの光源の場合は、この波長領域に吸収極大を有する増感色素を画像記録層に含有する平版印刷版原版が好ましく用いられ、波長750nm~1,400nmの光源は上述したものが好ましく用いられる。波長300nm~450nmの光源としては、半導体レーザーが好適である。As the laser for imagewise exposing the lithographic printing plate precursor according to the present disclosure, a light source having a wavelength of 300 nm to 450 nm or 750 nm to 1,400 nm is preferably used. In the case of a light source having a wavelength of 300 nm to 450 nm, a lithographic printing plate precursor containing in an image recording layer a sensitizing dye having an absorption maximum in this wavelength region is preferably used, and as a light source having a wavelength of 750 nm to 1,400 nm, the above-mentioned light sources are preferably used. As a light source having a wavelength of 300 nm to 450 nm, a semiconductor laser is suitable.

<現像液現像工程>
本開示に係る平版印刷版の作製方法は、本開示に係る平版印刷版原版を画像様に露光する工程と、現像液により非画像部の画像記録層を除去し平版印刷版を作製する工程(「現像液現像工程」ともいう。)と、を含む方法であってもよい。
また、本開示に係る平版印刷方法は、本開示に係る平版印刷版原版を画像様に露光する工程と、現像液により非画像部の画像記録層を除去し平版印刷版を作製する工程と、得られた平版印刷版により印刷する工程と、を含む方法であってもよい。
現像液としては、公知の現像液を用いることができる。
現像液のpHは、特に制限はなく、強アルカリ現像液であってもよいが、pH2~11の現像液が好ましく挙げられる。pH2~11の現像液としては、例えば、界面活性剤及び水溶性高分子化合物のうち少なくとも1種を含有する現像液が好ましく挙げられる。
強アルカリ現像液を用いた現像処理においては、前水洗工程により保護層を除去し、次いでアルカリ現像を行い、後水洗工程でアルカリを水洗除去し、ガム液処理を行い、乾燥工程で乾燥する方法が挙げられる。
また、界面活性剤又は水溶性高分子化合物を含有する上記現像液を用いる場合は、現像-ガム液処理を同時に行うことができる。よって、後水洗工程は特に必要とせず、1液で現像とガム液処理を行った後、乾燥工程を行うことができる。更に、保護層の除去も現像、ガム液処理と同時に行うことができるので、前水洗工程も特に必要としない。現像処理後、スクイズローラー等を用いて余剰の現像液を除去した後、乾燥を行うことが好ましい。
<Developer Development Step>
The method for producing a lithographic printing plate according to the present disclosure may be a method including a step of exposing the lithographic printing plate precursor according to the present disclosure to light in an imagewise manner, and a step of removing the image recording layer in the non-image area using a developer to produce a lithographic printing plate (also referred to as a "developer developing step").
In addition, the lithographic printing method according to the present disclosure may be a method including the steps of exposing the lithographic printing plate precursor according to the present disclosure to light in an imagewise manner, removing the image recording layer in the non-image areas using a developer to prepare a lithographic printing plate, and printing with the obtained lithographic printing plate.
As the developer, a known developer can be used.
The pH of the developer is not particularly limited, and may be a strong alkaline developer, but preferred examples of the developer have a pH of 2 to 11. Preferred examples of the developer having a pH of 2 to 11 include developers containing at least one of a surfactant and a water-soluble polymer compound.
In the development process using a strong alkaline developer, the protective layer is removed in a pre-washing step, followed by alkaline development, the alkali is removed in a post-washing step, a gum solution treatment is performed, and then drying is performed in a drying step.
In addition, when the above-mentioned developer containing a surfactant or a water-soluble polymer compound is used, development and gum solution treatment can be carried out simultaneously. Therefore, a post-rinsing step is not particularly required, and development and gum solution treatment can be carried out using one solution, followed by a drying step. Furthermore, removal of the protective layer can be carried out simultaneously with development and gum solution treatment, so a pre-rinsing step is not particularly required. After development, it is preferable to remove excess developer using a squeeze roller or the like, and then carry out drying.

<印刷工程>
本開示に係る平版印刷方法は、平版印刷版に印刷インキを供給して記録媒体を印刷する印刷工程を含む。
印刷インキとしては、特に制限はなく、所望に応じ、種々の公知のインキを用いることができる。また、印刷インキとしては、油性インキ又は紫外線硬化型インキ(UVインキ)が好ましく挙げられる。
また、上記印刷工程においては、必要に応じ、湿し水を供給してもよい。
また、上記印刷工程は、印刷機を停止することなく、上記機上現像工程又は上記現像液現像工程に連続して行われてもよい。
記録媒体としては、特に制限はなく、所望に応じ、公知の記録媒体を用いることができる。
<Printing process>
The lithographic printing method according to the present disclosure includes a printing step of supplying printing ink to a lithographic printing plate to print a recording medium.
The printing ink is not particularly limited, and various known inks can be used as desired. Preferred examples of the printing ink include oil-based inks and ultraviolet-curable inks (UV inks).
In the printing process, dampening water may be supplied as necessary.
The printing step may be carried out consecutively to the on-press development step or the developer development step without stopping the printing press.
The recording medium is not particularly limited, and any known recording medium can be used as desired.

本開示に係る平版印刷版原版からの平版印刷版の作製方法、及び、本開示に係る平版印刷方法においては、必要に応じて、露光前、露光中、露光から現像までの間に、平版印刷版原版の全面を加熱してもよい。このような加熱により、画像記録層中の画像形成反応が促進され、感度や耐刷性の向上や感度の安定化等の利点が生じ得る。現像前の加熱は150℃以下の穏和な条件で行うことが好ましい。上記態様であると、非画像部が硬化してしまう等の問題を防ぐことができる。現像後の加熱には、上記よりも強い条件を利用することが好ましく、100℃~500℃の範囲であることが好ましい。上記範囲であると、十分な画像強化作用が得られまた、支持体の劣化、画像部の熱分解といった問題を抑制することができる。In the method for producing a lithographic printing plate from a lithographic printing plate precursor according to the present disclosure, and in the lithographic printing method according to the present disclosure, the entire surface of the lithographic printing plate precursor may be heated as necessary before exposure, during exposure, or between exposure and development. Such heating promotes the image formation reaction in the image recording layer, and can provide advantages such as improved sensitivity and printing durability and stabilization of sensitivity. Heating before development is preferably performed under mild conditions of 150°C or less. In the above embodiment, problems such as hardening of non-image areas can be prevented. For heating after development, it is preferable to use stronger conditions than those described above, and a range of 100°C to 500°C is preferable. In the above range, sufficient image strengthening effect can be obtained, and problems such as deterioration of the support and thermal decomposition of the image area can be suppressed.

以下、実施例により本開示を詳細に説明するが、本開示はこれらに限定されるものではない。なお、本実施例において、「%」、「部」とは、特に断りのない限り、それぞれ「質量%」、「質量部」を意味する。
なお、実施例で使用したA-1、A-4、A-7、A-9、A-13、A-16、A-21、A-46、A-55、AN-1及びAN-2は、上述したA-1、A-4、A-7、A-9、A-13、A-16、A-21、A-46、A-55、AN-1及びAN-2とそれぞれ同じ化合物である。
The present disclosure will be described in detail below with reference to examples, but the present disclosure is not limited thereto. In the examples, "%" and "parts" mean "% by mass" and "parts by mass", respectively, unless otherwise specified.
Incidentally, A-1, A-4, A-7, A-9, A-13, A-16, A-21, A-46, A-55, AN-1, and AN-2 used in the examples are the same compounds as the above-mentioned A-1, A-4, A-7, A-9, A-13, A-16, A-21, A-46, A-55, AN-1, and AN-2, respectively.

(実施例1~34、及び、比較例1~5)
<支持体1の作製>
厚さ0.3mmの材質1Sのアルミニウム板(アルミニウム合金板)に対し、下記(J-a)~(J-m)の処理を施し、支持体1を製造した。なお、全ての処理工程の間には水洗処理を施し、水洗処理の後にはニップローラで液切りを行った。
(Examples 1 to 34 and Comparative Examples 1 to 5)
<Preparation of Support 1>
An aluminum plate (aluminum alloy plate) having a thickness of 0.3 mm and made of material 1S was subjected to the following treatments (Ja) to (Jm) to manufacture a support 1. Note that a water washing treatment was performed between all of the treatment steps, and after the water washing treatment, the liquid was removed with a nip roller.

(J-a)機械的粗面化処理(ブラシグレイン法)
図7に示したような装置を使って、パミスの懸濁液(比重1.1g/cm)を研磨スラリー液としてアルミニウム板の表面に供給しながら、回転する束植ブラシにより機械的粗面化処理を行った。図7において、1はアルミニウム板、2及び4はローラ状ブラシ(本実施例においては、束植ブラシ)、3は研磨スラリー液、5、6、7及び8は支持ローラである。
機械的粗面化処理では、研磨材のメジアン径(μm)を30μm、ブラシ本数を4本、ブラシの回転数(rpm)を250rpmとした。束植ブラシの材質は6・10ナイロンで、ブラシ毛の直径0.3mm、毛長50mmであった。ブラシは、φ300mmのステンレス製の筒に穴をあけて密になるように植毛した。束植ブラシ下部の2本の支持ローラ(φ200mm)の距離は、300mmであった。束植ブラシはブラシを回転させる駆動モータの負荷が、束植ブラシをアルミニウム板に押さえつける前の負荷に対して10kWプラスになるまで押さえつけた。ブラシの回転方向はアルミニウム板の移動方向と同じであった。
(J-a) Mechanical Roughening Treatment (Brush Grain Method)
Using the apparatus shown in Fig. 7, a mechanical roughening treatment was performed by rotating bundled brushes while supplying a suspension of pumice (specific gravity 1.1 g/ cm3 ) as an abrasive slurry to the surface of an aluminum plate. In Fig. 7, 1 is an aluminum plate, 2 and 4 are roller-shaped brushes (bundled brushes in this embodiment), 3 is an abrasive slurry, and 5, 6, 7 and 8 are supporting rollers.
In the mechanical roughening treatment, the median diameter (μm) of the abrasive was 30 μm, the number of brushes was 4, and the rotation speed (rpm) of the brush was 250 rpm. The material of the bundled brush was 6-10 nylon, with a brush bristles diameter of 0.3 mm and bristles length of 50 mm. The brush was densely planted in a stainless steel cylinder with a diameter of φ300 mm. The distance between the two support rollers (φ200 mm) at the bottom of the bundled brush was 300 mm. The bundled brush was pressed down until the load of the drive motor rotating the brush was 10 kW more than the load before pressing the bundled brush against the aluminum plate. The rotation direction of the brush was the same as the movement direction of the aluminum plate.

(J-b)アルカリエッチング処理
アルミニウム板に、カセイソーダ濃度26質量%及びアルミニウムイオン濃度6.5質量%のカセイソーダ水溶液を、温度70℃でスプレーにより吹き付けてエッチング処理を行った。後に電気化学的粗面化処理を施す面のアルミニウム溶解量は、10g/mであった。
(J-b) Alkaline Etching Treatment An etching treatment was performed by spraying an aqueous solution of caustic soda having a caustic soda concentration of 26% by mass and an aluminum ion concentration of 6.5% by mass onto an aluminum plate at a temperature of 70° C. The amount of aluminum dissolved on the surface to be subsequently subjected to electrochemical graining treatment was 10 g/ m2 .

(J-c)酸性水溶液を用いたデスマット処理
酸性水溶液として、液温35℃の次工程の電気化学的粗面化処理に用いた硝酸の廃液をアルミニウム板にスプレーにて3秒間吹き付けて、デスマット処理を行った。
(J-c) Desmutting Treatment Using Acidic Aqueous Solution A desmutting treatment was performed by spraying, as an acidic aqueous solution, a waste solution of nitric acid used in the subsequent electrochemical graining treatment at a liquid temperature of 35° C. onto the aluminum plate for 3 seconds.

(J-d)硝酸水溶液を用いた電気化学的粗面化処理
60Hzの交流電圧を用いて、連続的に電気化学的粗面化処理を行った。電解液は、硝酸10.4g/Lの水溶液に硝酸アルミニウムを添加してアルミニウムイオン濃度を4.5g/Lに調整した、液温35℃の電解液を用いた。交流電源波形は図5に示した波形であり、電流値がゼロからピークに達するまでの時間tpが0.8msec、duty比1:1、台形の矩形波交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。電解槽は図6に示すものを使用した。電流密度は電流のピーク値で30A/dm、補助陽極には電源から流れる電流の5%を分流させた。電気量(C/dm)はアルミニウム板が陽極時の電気量の総和で185C/dmであった。
(J-d) Electrochemical roughening treatment using nitric acid aqueous solution Electrochemical roughening treatment was performed continuously using an AC voltage of 60 Hz. The electrolyte used was an electrolyte with a liquid temperature of 35°C, which was prepared by adding aluminum nitrate to an aqueous solution of nitric acid 10.4 g/L to adjust the aluminum ion concentration to 4.5 g/L. The AC power source waveform was the waveform shown in Figure 5, and the time tp from zero to the peak current was 0.8 msec, the duty ratio was 1:1, and a trapezoidal rectangular wave AC was used to perform electrochemical roughening treatment using a carbon electrode as a counter electrode. Ferrite was used as the auxiliary anode. The electrolytic cell shown in Figure 6 was used. The current density was 30 A/dm 2 at the peak current value, and 5% of the current flowing from the power source was diverted to the auxiliary anode. The amount of electricity (C/dm 2 ) was 185 C/dm 2 , which was the total amount of electricity when the aluminum plate was the anode.

(J-e)アルカリエッチング処理
アルミニウム板に、カセイソーダ濃度27質量%及びアルミニウムイオン濃度2.5質量%のカセイソーダ水溶液を、温度50℃でスプレーにより吹き付けてエッチング処理を行った。アルミニウム溶解量は、3.5g/mであった。
(J-e) Alkaline Etching Treatment An etching treatment was performed by spraying an aqueous solution of caustic soda having a caustic soda concentration of 27% by mass and an aluminum ion concentration of 2.5% by mass onto an aluminum plate at a temperature of 50° C. The amount of dissolved aluminum was 3.5 g/m 2 .

(J-f)酸性水溶液を用いたデスマット処理
酸性水溶液として、液温30℃の硫酸濃度170g/L及びアルミニウムイオン濃度5g/Lの水溶液をアルミニウム板にスプレーにて3秒間吹き付けて、デスマット処理を行った。
(J-f) Desmutting Treatment Using Acidic Aqueous Solution An acidic aqueous solution having a sulfuric acid concentration of 170 g/L and an aluminum ion concentration of 5 g/L and a liquid temperature of 30° C. was sprayed onto the aluminum plate for 3 seconds to perform a desmutting treatment.

(J-g)塩酸水溶液を用いた電気化学的粗面化処理
60Hzの交流電圧を用いて、連続的に電気化学的粗面化処理を行った。電解液は、塩酸6.2g/Lの水溶液に塩化アルミニウムを添加してアルミニウムイオン濃度を4.5g/Lに調整した、液温35℃の電解液を用いた。交流電源波形は図5に示した波形であり、電流値がゼロからピークに達するまでの時間tpが0.8msec、duty比1:1、台形の矩形波交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。電解槽は図6に示すものを使用した。電流密度は電流のピーク値で25A/dmであり、塩酸電解における電気量(C/dm)はアルミニウム板が陽極時の電気量の総和で63C/dmであった。
(J-g) Electrochemical roughening treatment using hydrochloric acid solution Electrochemical roughening treatment was performed continuously using an AC voltage of 60 Hz. The electrolyte used was an electrolyte with a liquid temperature of 35°C, which was prepared by adding aluminum chloride to an aqueous solution of 6.2 g/L hydrochloric acid to adjust the aluminum ion concentration to 4.5 g/L. The AC power source waveform was the waveform shown in Figure 5, and the time tp from zero to the peak was 0.8 msec, the duty ratio was 1:1, and a trapezoidal rectangular wave AC was used to perform electrochemical roughening treatment using a carbon electrode as a counter electrode. Ferrite was used as the auxiliary anode. The electrolytic cell shown in Figure 6 was used. The current density was 25 A/dm 2 at the peak value of the current, and the amount of electricity (C/dm 2 ) in hydrochloric acid electrolysis was 63 C/dm 2 as the total amount of electricity when the aluminum plate was the anode.

(J-h)アルカリエッチング処理
アルミニウム板に、カセイソーダ濃度5質量%及びアルミニウムイオン濃度0.5質量%のカセイソーダ水溶液を、温度60℃でスプレーにより吹き付けてエッチング処理を行った。アルミニウム溶解量は、0.2g/mであった。
(J-h) Alkaline Etching Treatment An etching treatment was performed by spraying an aqueous solution of caustic soda having a caustic soda concentration of 5% by mass and an aluminum ion concentration of 0.5% by mass onto an aluminum plate at a temperature of 60° C. The amount of dissolved aluminum was 0.2 g/ m2 .

(J-i)酸性水溶液を用いたデスマット処理
酸性水溶液として、液温35℃の陽極酸化処理工程で発生した廃液(硫酸濃度170g/L及びアルミニウムイオン濃度5g/L)の水溶液をアルミニウム板にスプレーにて4秒間吹き付けて、デスマット処理を行った。
(J-i) Desmutting treatment using an acidic aqueous solution An aqueous solution of waste liquid (sulfuric acid concentration 170 g/L and aluminum ion concentration 5 g/L) generated in an anodizing treatment process at a liquid temperature of 35° C. was sprayed onto the aluminum plate for 4 seconds to perform a desmutting treatment.

(J-j)第1段階の陽極酸化処理
図8に示す構造の直流電解による陽極酸化装置を用いて第1段階の陽極酸化処理を行った。電解液として170g/L硫酸水溶液を用い、液温50℃、電流密度30A/dmの条件にて陽極酸化処理を行い、皮膜量0.3g/mの陽極酸化皮膜を形成した。
なお、陽極酸化処理装置610において、アルミニウム板616は、図8中矢印で示すように搬送される。電解液618が貯溜された給電槽612にてアルミニウム板616は給電電極620によって(+)に荷電される。そして、アルミニウム板616は、給電槽612においてローラ622によって上方に搬送され、ニップローラ624によって下方に方向転換された後、電解液626が貯溜された電解処理槽614に向けて搬送され、ローラ628によって水平方向に方向転換される。ついで、アルミニウム板616は、電解電極630によって(-)に荷電されることにより、その表面に陽極酸化皮膜が形成され、電解処理槽614を出たアルミニウム板616は後工程に搬送される。陽極酸化処理装置610において、ローラ622、ニップローラ624及びローラ628によって方向転換手段が構成され、アルミニウム板616は、給電槽612と電解処理槽614との槽間部において、ローラ622、ニップローラ624及びローラ628により、山型及び逆U字型に搬送される。給電電極620と電解電極630とは、直流電源634に接続されている。
(J-j) First-stage anodizing treatment The first-stage anodizing treatment was performed using an anodizing apparatus using direct current electrolysis having the structure shown in Fig. 8. Anodizing treatment was performed using a 170 g/L aqueous sulfuric acid solution as the electrolytic solution under conditions of a solution temperature of 50°C and a current density of 30 A/ dm2 , forming an anodized film with a film weight of 0.3 g/ m2 .
In the anodizing treatment device 610, the aluminum sheet 616 is transported as shown by the arrow in Fig. 8. In the power supply tank 612 in which an electrolytic solution 618 is stored, the aluminum sheet 616 is charged (+) by a power supply electrode 620. Then, in the power supply tank 612, the aluminum sheet 616 is transported upward by a roller 622, and its direction is changed downward by a nip roller 624, and then the aluminum sheet 616 is transported toward an electrolytic treatment tank 614 in which an electrolytic solution 626 is stored, and its direction is changed horizontally by a roller 628. Next, the aluminum sheet 616 is charged (-) by an electrolytic electrode 630, so that an anodized film is formed on the surface of the aluminum sheet 616, and the aluminum sheet 616 that leaves the electrolytic treatment tank 614 is transported to a subsequent process. In the anodizing treatment device 610, a direction changing means is constituted by a roller 622, a nip roller 624, and a roller 628, and the aluminum sheet 616 is transported in a mountain shape and an inverted U shape in the space between the power supply tank 612 and the electrolytic treatment tank 614 by the rollers 622, the nip rollers 624, and the rollers 628. The power supply electrode 620 and the electrolytic electrode 630 are connected to a DC power source 634.

(J-k)ポアワイド処理
陽極酸化処理したアルミニウム板を、カセイソーダ濃度5質量%及びアルミニウムイオン濃度0.5質量%のカセイソーダ水溶液に、40℃で3秒間浸漬し、ポアワイド処理を行った。
(Jk) Pore Widening Treatment The anodized aluminum plate was immersed in an aqueous solution of caustic soda having a caustic soda concentration of 5 mass % and an aluminum ion concentration of 0.5 mass % at 40° C. for 3 seconds to perform a pore widening treatment.

(J-l)第2段階の陽極酸化処理
図8に示す構造の直流電解による陽極酸化装置を用いて第2段階の陽極酸化処理を行った。電解液として170g/L硫酸水溶液を用い、液温50℃、電流密度13A/dmの条件にて陽極酸化処理を行い、皮膜量2.1g/mの陽極酸化皮膜を形成した。
(J-l) Second-stage anodizing treatment The second-stage anodizing treatment was performed using an anodizing apparatus using direct current electrolysis having the structure shown in Fig. 8. Anodizing treatment was performed using a 170 g/L aqueous sulfuric acid solution as the electrolytic solution under conditions of a solution temperature of 50°C and a current density of 13 A/ dm2 , forming an anodized film with a film weight of 2.1 g/ m2 .

(J-m)親水化処理
非画像部の親水性を確保するため、アルミニウム板を、2.5質量%3号ケイ酸ソーダ水溶液に50℃で7秒間浸漬してシリケート処理を施した。Siの付着量は8.5mg/mであった。マイクロポアの平均径は30nmであった。
支持体1の陽極酸化皮膜表面のL表色系における明度Lの値は72.3であった。
(J-m) Hydrophilization Treatment In order to ensure hydrophilicity of non-image areas, the aluminum plate was subjected to a silicate treatment by immersing it in a 2.5% by mass aqueous solution of sodium silicate No. 3 at 50°C for 7 seconds. The amount of Si attached was 8.5 mg/ m2 . The average diameter of the micropores was 30 nm.
The anodic oxide film surface of Support 1 had a lightness L * value of 72.3 in the L * a * b * color system.

<下塗り層の形成>
次に、上記支持体1上に、下記組成の下塗り層用塗布液(1)を乾燥塗布量が20mg/mになるよう塗布して、下塗り層を形成した。
なお、実施例16又は17では、下塗り層用塗布液(1)にリン酸又はグルコン酸を乾燥塗布量が表1に記載の量となるように添加し、乾燥塗布量が70mg/mになるよう塗布して、下塗り層を形成した。
また、実施例25~30では、下塗り層を形成しなかった。
<Formation of Undercoat Layer>
Next, a coating solution (1) for undercoat layer having the following composition was applied onto the support 1 so that the dry coating amount became 20 mg/ m2 , thereby forming an undercoat layer.
In Examples 16 and 17, phosphoric acid or gluconic acid was added to the undercoat layer coating solution (1) so that the dry coating amount would be the amount shown in Table 1, and the undercoat layer was formed by coating the solution so that the dry coating amount would be 70 mg/ m2 .
In addition, in Examples 25 to 30, no undercoat layer was formed.

〔下塗り層用塗布液(1)〕
・下記構造の下塗り層用化合物(1):0.18部
・ヒドロキシエチルイミノ二酢酸:0.10部
・メタノール:55.24部
・水:6.15部
[Coating solution for undercoat layer (1)]
Undercoat layer compound (1) having the following structure: 0.18 parts Hydroxyethyliminodiacetic acid: 0.10 parts Methanol: 55.24 parts Water: 6.15 parts

<画像記録層の形成>
表1に記載の下記画像記録層(1)~(4)の形成のいずれかにより、画像記録層を形成した。
<Formation of Image Recording Layer>
An image recording layer was formed by any one of the following image recording layers (1) to (4) shown in Table 1.

<<画像記録層(1)の形成>>
下塗り層又は支持体1上に、下記組成の画像記録層塗布液(1)をバー塗布し、100℃で60秒間オーブン乾燥して、乾燥塗布量が1.0g/mの画像記録層(1)を形成した。
画像記録層塗布液(1)は下記感光液(1)及びミクロゲル液を塗布直前に混合し撹拌することにより調製した。
<<Formation of image recording layer (1)>>
An image recording layer coating solution (1) having the following composition was applied onto the undercoat layer or support 1 with a bar and dried in an oven at 100° C. for 60 seconds to form an image recording layer (1) with a dry coating amount of 1.0 g/m 2 .
The image recording layer coating solution (1) was prepared by mixing and stirring the following photosensitive solution (1) and a microgel solution immediately before coating.

-感光液(1)-
・表1に記載の発色性化合物:表1に記載の乾燥塗布量となる量
・表1に記載の支持体吸着性化合物:表1に記載の乾燥塗布量となる量
・バインダーポリマー(1)〔下記構造〕:0.240部
・重合開始剤(1)〔下記構造〕:0.245部
・ボレート化合物(テトラフェニルホウ酸ナトリウム):0.010部
・重合性化合物(トリス(アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート、NKエステル A-9300、新中村化学工業(株)製):0.192部
・低分子親水性化合物(トリス(2-ヒドロキシエチル)イソシアヌレート):0.062部
・低分子親水性化合物(1)〔下記構造〕:0.050部
・フッ素系界面活性剤(1)〔下記構造〕:0.008部
・2-ブタノン:1.091部
・1-メトキシ-2-プロパノール:8.609部
-Photosensitive solution (1)-
Color-forming compound described in Table 1: Amount to be applied in a dry coating amount described in Table 1 Support-adsorbing compound described in Table 1: Amount to be applied in a dry coating amount described in Table 1 Binder polymer (1) [structure below]: 0.240 parts Polymerization initiator (1) [structure below]: 0.245 parts Borate compound (sodium tetraphenylborate): 0.010 parts Polymerizable compound (tris(acryloyloxyethyl)isocyanurate, NK Ester A-9300, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.): 0.192 parts Low molecular weight hydrophilic compound (tris(2-hydroxyethyl)isocyanurate): 0.062 parts Low molecular weight hydrophilic compound (1) [structure below]: 0.050 parts Fluorine-based surfactant (1) [structure below]: 0.008 parts 2-butanone: 1.091 parts 1-methoxy-2-propanol: 8.609 parts

-ミクロゲル液-
・ミクロゲル(1):2.640部
・蒸留水:2.425部
-Microgel liquid-
Microgel (1): 2.640 parts Distilled water: 2.425 parts

上記ミクロゲル液に用いたミクロゲル(1)の調製法を以下に示す。
-多価イソシアネート化合物(1)の調製-
イソホロンジイソシアネート17.78g(80mmol)と下記多価フェノール化合物(1)7.35g(20mmol)との酢酸エチル(25.31g)懸濁溶液に、ビスマストリス(2-エチルヘキサノエート)(ネオスタン U-600、日東化成(株)製)43mgを加えて撹拌した。発熱が収まった時点で反応温度を50℃に設定し、3時間撹拌して多価イソシアネート化合物(1)の酢酸エチル溶液(50質量%)を得た。
The method for preparing the microgel (1) used in the above microgel solution is described below.
- Preparation of polyisocyanate compound (1) -
To a suspension of 17.78 g (80 mmol) of isophorone diisocyanate and 7.35 g (20 mmol) of the following polyhydric phenol compound (1) in ethyl acetate (25.31 g), 43 mg of bismuth tris(2-ethylhexanoate) (Neostan U-600, manufactured by Nitto Kasei Co., Ltd.) was added and stirred. When the heat generation subsided, the reaction temperature was set to 50° C., and the mixture was stirred for 3 hours to obtain an ethyl acetate solution (50% by mass) of the polyhydric isocyanate compound (1).

-ミクロゲル(1)の調製-
下記油相成分及び水相成分を混合し、ホモジナイザーを用いて12000rpmで10分間乳化した。得られた乳化物を45℃で4時間撹拌後、1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ-7-エン-オクチル酸塩(U-CAT SA102、サンアプロ(株)製)の10質量%水溶液5.20gを加え、室温で30分撹拌し、45℃で24時間静置した。蒸留水で、固形分濃度を20質量%になるように調整し、ミクロゲル(1)の水分散液が得られた。レーザ回折/散乱式粒度分布測定装置(LA-920、(株)堀場製作所製)を用いて、光散乱法により数平均粒径を測定したところ、0.28μmであった。
- Preparation of microgel (1) -
The following oil phase components and water phase components were mixed and emulsified for 10 minutes at 12000 rpm using a homogenizer. The resulting emulsion was stirred at 45°C for 4 hours, and then 5.20 g of a 10% by mass aqueous solution of 1,8-diazabicyclo[5.4.0]undec-7-ene-octylate (U-CAT SA102, manufactured by San-Apro Co., Ltd.) was added, stirred at room temperature for 30 minutes, and allowed to stand at 45°C for 24 hours. The solid content was adjusted to 20% by mass with distilled water to obtain an aqueous dispersion of microgel (1). The number average particle size was measured by a light scattering method using a laser diffraction/scattering particle size distribution analyzer (LA-920, manufactured by Horiba Ltd.), and was found to be 0.28 μm.

〔油相成分〕
(成分1)酢酸エチル:12.0g
(成分2)トリメチロールプロパン(6モル)とキシレンジイソシアネート(18モル)を付加させ、これにメチル辺末端ポリオキシエチレン(1モル、オキシエチレン単位の繰返し数:90)を付加させた付加体(50質量%酢酸エチル溶液、三井化学(株)製):3.76g
(成分3)多価イソシアネート化合物(1)(50質量%酢酸エチル溶液として):15.0g
(成分4)ジペンタエリスリトールペンタアクリレート(SR-399、サートマー社製)の65質量%酢酸エチル溶液:11.54g
(成分5)スルホン酸塩型界面活性剤(パイオニンA-41-C、竹本油脂(株)製)の10%酢酸エチル溶液:4.42g
[Oily Phase Components]
(Component 1) Ethyl acetate: 12.0 g
(Component 2) An adduct obtained by adding trimethylolpropane (6 moles) and xylene diisocyanate (18 moles) to which methyl-terminated polyoxyethylene (1 mole, number of repeating oxyethylene units: 90) was added (50% by weight in ethyl acetate solution, manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.): 3.76 g
(Component 3) Polyisocyanate compound (1) (as a 50% by mass solution in ethyl acetate): 15.0 g
(Component 4) 65% by weight solution of dipentaerythritol pentaacrylate (SR-399, manufactured by Sartomer Corporation) in ethyl acetate: 11.54 g
(Component 5) 10% ethyl acetate solution of sulfonate surfactant (Paionin A-41-C, Takemoto Oil Co., Ltd.): 4.42 g

〔水相成分〕
蒸留水:46.87g
[Aqueous Phase Components]
Distilled water: 46.87g

<<画像記録層(2)の形成>>
上記のようにして形成された下塗り層上に、下記組成の画像記録層塗布液(2)をバー塗布した後、100℃60秒でオーブン乾燥し、乾燥塗布量1.0g/mの画像記録層(2)を形成した。
画像記録層塗布液(2)は下記感光液(2)及びミクロゲル液(2)を塗布直前に混合し撹拌することにより得た。
<<Formation of image recording layer (2)>>
On the undercoat layer formed as described above, an image recording layer coating solution (2) having the following composition was applied with a bar, and then dried in an oven at 100° C. for 60 seconds to form an image recording layer (2) having a dry coating amount of 1.0 g/ m2 .
The image recording layer coating solution (2) was obtained by mixing and stirring the following photosensitive solution (2) and microgel solution (2) immediately before coating.

〔感光液(2)〕
・表1に記載の発色性化合物:表1に記載の乾燥塗布量となる量
・表1に記載の支持体吸着性化合物:表1に記載の乾燥塗布量となる量
・バインダーポリマー(2)〔下記構造、Mw:55,000、n:2(エチレンオキサイド(EO)単位数)〕:0.240部
・ボレート化合物(テトラフェニルホウ酸ナトリウム):0.010部
・重合開始剤(1)〔上記構造〕:0.162部
・重合性化合物(トリス(アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート、NKエステルA-9300、新中村化学工業(株)製):0.192部
・低分子親水性化合物(1)〔上記構造〕:0.050部
・感脂化剤(ホスホニウム化合物(1)〔下記構造〕):0.055部
・感脂化剤(ベンジル-ジメチル-オクチルアンモニウム・PF塩):0.018部
・アンモニウム基含有ポリマー(1)〔下記構造、Mw:50,000、還元比粘度:45ml/g〕:0.040部
・フッ素系界面活性剤(1)〔下記構造〕:0.008部
・2-ブタノン:1.091部
・1-メトキシ-2-プロパノール:8.609部
[Photosensitive solution (2)]
Color-forming compound described in Table 1: Amount to be applied on a dry basis as described in Table 1 Support-adsorbing compound described in Table 1: Amount to be applied on a dry basis as described in Table 1 Binder polymer (2) [structure below, Mw: 55,000, n: 2 (number of ethylene oxide (EO) units)]: 0.240 parts Borate compound (sodium tetraphenylborate): 0.010 parts Polymerization initiator (1) [structure above]: 0.162 parts Polymerizable compound (tris(acryloyloxyethyl)isocyanurate, NK Ester A-9300, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.): 0.192 parts Low molecular weight hydrophilic compound (1) [structure above]: 0.050 parts Oil sensitizer (phosphonium compound (1) [structure below]): 0.055 parts Oil sensitizer (benzyl-dimethyl-octylammonium.PF 6 salt): 0.018 parts Ammonium group-containing polymer (1) [structure below, Mw: 50,000, reduced specific viscosity: 45 ml / g]: 0.040 parts Fluorine-based surfactant (1) [structure below]: 0.008 parts 2-butanone: 1.091 parts 1-methoxy-2-propanol: 8.609 parts

〔ミクロゲル液(2)〕
・ミクロゲル(2):2.640部
・蒸留水:2.425部
[Microgel Liquid (2)]
Microgel (2): 2.640 parts Distilled water: 2.425 parts

上記のミクロゲル(2)の合成法は、以下に示す通りである。
-ミクロゲル(2)の合成-
油相成分として、トリメチロールプロパンとキシレンジイソシアナート付加体(三井化学ポリウレタン(株)製、タケネートD-110N)10g、ペンタエリスリトールトリアクリレート(日本化薬(株)製、SR444)3.15g、及びアルキルベンゼンスルホン酸塩(竹本油脂(株)製、パイオニンA-41C)0.1gを酢酸エチル17gに溶解した。水相成分としてポリビニルアルコール((株)クラレ製、PVA-205)の4質量%水溶液40gを調製した。油相成分及び水相成分を混合し、ホモジナイザーを用いて12,000rpmで10分間乳化した。得られた乳化物を、蒸留水25gに添加し、室温で30分撹拌後、50℃で3時間撹拌した。このようにして得られたミクロゲル液の固形分濃度を、15質量%になるように蒸留水を用いて希釈し、これを上記ミクロゲル(2)とした。ミクロゲルの体積平均粒子径を光散乱法により測定したところ、0.2μmであった。
The synthesis method of the above microgel (2) is as follows.
-Synthesis of microgel (2)-
As the oil phase component, 10 g of trimethylolpropane and xylylene diisocyanate adduct (Mitsui Chemical Polyurethane Co., Ltd., Takenate D-110N), 3.15 g of pentaerythritol triacrylate (Nippon Kayaku Co., Ltd., SR444), and 0.1 g of alkylbenzene sulfonate (Takemoto Oil Co., Ltd., Paionin A-41C) were dissolved in 17 g of ethyl acetate. As the aqueous phase component, 40 g of a 4% by mass aqueous solution of polyvinyl alcohol (Kuraray Co., Ltd., PVA-205) was prepared. The oil phase component and the aqueous phase component were mixed and emulsified for 10 minutes at 12,000 rpm using a homogenizer. The obtained emulsion was added to 25 g of distilled water, stirred at room temperature for 30 minutes, and then stirred at 50 ° C. for 3 hours. The solid content concentration of the microgel liquid obtained in this way was diluted with distilled water to 15% by mass, and this was used as the above microgel (2). The volume average particle size of the microgel was measured by a light scattering method and was found to be 0.2 μm.

<<画像記録層(3)の形成>>
上記のようにして形成された下塗り層又は支持体1上に、下記組成の画像記録層塗布液(3)を厚さ30μmにてバー塗布した後、120℃1分でオーブン乾燥し、画像記録層(3)を形成した。
<<Formation of image recording layer (3)>>
On the undercoat layer or support 1 formed as described above, an image recording layer coating solution (3) having the following composition was bar-coated to a thickness of 30 μm, and then dried in an oven at 120° C. for 1 minute to form an image recording layer (3).

〔画像記録層塗布液(3)〕
・表1に記載の発色性化合物:表1に記載の乾燥塗布量となる量
・表1に記載の支持体吸着性化合物:表1に記載の乾燥塗布量となる量
・2,2,4-トリメチルヘキサメチレンジイソシアネートの2モル当量ヒドロキシエチルメタアクリレート付加物(82質量%メチルエチルケトン溶液、AZ Electronics社製):0.250部
・エポキシアクリレートオリゴマー(Arkema社製):0.250部
・ビス(4-t-ブチルフェニル)ヨードニウムテトラフェニルボレート:0.045部
・ポリビニルブチラール(積水化学工業(株)製S-LEC BX35-Z):0.150部
・Tego Glide 410(ポリエーテル変性ポリシロキサンコポリマー、Evonik Tego Chemie社製):0.0015部
・メタクリロキシ基を有するリン酸エステル化合物(Sipomer PAM 100、Rhodia社製):0.130部
・ビニルホスホン酸とアクリル酸との共重合体(20質量%水性分散液、Albritect CP 30、Rhodia社製):0.024部
・メチルエチルケトン:1-メトキシ-2-プロパノール=35:65(体積比)の混合溶剤:固形分が35体積%となる量
[Image Recording Layer Coating Solution (3)]
Color-forming compound shown in Table 1: Amount to be applied on the dry coating amount shown in Table 1 Support-adsorbing compound shown in Table 1: Amount to be applied on the dry coating amount shown in Table 1 2 molar equivalent hydroxyethyl methacrylate adduct of 2,2,4-trimethylhexamethylene diisocyanate (82% by mass solution in methyl ethyl ketone, manufactured by AZ Electronics): 0.250 parts Epoxy acrylate oligomer (manufactured by Arkema): 0.250 parts Bis(4-t-butylphenyl)iodonium tetraphenylborate: 0.045 parts Polyvinyl butyral (S-LEC BX35-Z, manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.): 0.150 parts Tego Glide 410 (polyether-modified polysiloxane copolymer, manufactured by Evonik Tego Chemie): 0.0015 parts Phosphate compound having methacryloxy group (Sipomer PAM 100, manufactured by Rhodia): 0.130 parts; Copolymer of vinylphosphonic acid and acrylic acid (20% by weight aqueous dispersion, Albritect CP 30, manufactured by Rhodia): 0.024 parts; Mixed solvent of methyl ethyl ketone: 1-methoxy-2-propanol = 35:65 (volume ratio): amount to give a solid content of 35% by volume

<<画像記録層(4)の形成>>
熱可塑性ポリマー粒子、赤外線吸収剤及びポリアクリル酸を含有する画像記録層水系塗布液を調製し、pHを3.6に調整した後、下塗り層又は支持体1上に塗布し、50℃で1分間乾燥して画像記録層(4)を形成した。各成分の乾燥後の塗布量を以下に示す。
<<Formation of image recording layer (4)>>
An aqueous coating solution for an image recording layer containing thermoplastic polymer particles, an infrared absorbing agent, and polyacrylic acid was prepared, and the pH was adjusted to 3.6. The solution was then coated on the undercoat layer or on the support 1 and dried at 50° C. for 1 minute to form an image recording layer (4). The coating amounts of each component after drying are shown below.

・表1に記載の発色性化合物:表1に記載の乾燥塗布量となる量
・表1に記載の支持体吸着性化合物:表1に記載の乾燥塗布量となる量
・熱可塑性ポリマー粒子:0.7g/m
・ポリアクリル酸:0.09g/m
Color-forming compound shown in Table 1: Amount equivalent to the dry coating amount shown in Table 1. Support-adsorbing compound shown in Table 1: Amount equivalent to the dry coating amount shown in Table 1. Thermoplastic polymer particles: 0.7 g/ m2
Polyacrylic acid: 0.09 g/ m2

画像記録層塗布液に用いた熱可塑性ポリマー粒子、赤外線吸収剤IR-01、ポリアクリル酸は以下に示す通りである。The thermoplastic polymer particles, infrared absorber IR-01, and polyacrylic acid used in the image recording layer coating liquid are as shown below.

熱可塑性ポリマー粒子:スチレン/アクリロニトリル共重合体(モル比50/50)、Tg:99℃、体積平均粒子径:60nm
ポリアクリル酸:Mw:250,000
Thermoplastic polymer particles: styrene/acrylonitrile copolymer (molar ratio 50/50), Tg: 99° C., volume average particle size: 60 nm
Polyacrylic acid: Mw: 250,000

<保護層の形成>
表1に記載の下記保護層(1)又は(2)の形成により、保護層を形成した。
<Formation of protective layer>
A protective layer was formed by forming the following protective layer (1) or (2) shown in Table 1.

<<保護層(1)の形成>>
画像記録層上に、下記組成の保護層塗布液(1)をバー塗布し、120℃で60秒間オーブン乾燥して、乾燥塗布量が0.15g/mの保護層(1)を形成した。
<<Formation of protective layer (1)>>
A protective layer coating solution (1) having the following composition was applied onto the image recording layer with a bar and dried in an oven at 120° C. for 60 seconds to form a protective layer (1) having a dry coating amount of 0.15 g/m 2 .

-保護層塗布液(1)-
・表1に記載の発色性化合物:表1に記載の乾燥塗布量となる量
・表1に記載の支持体吸着性化合物:表1に記載の乾燥塗布量となる量
・無機層状化合物分散液(1)〔下記〕:1.5部
・ポリビニルアルコール(CKS50、日本合成化学工業(株)製、スルホン酸変性、けん化度99モル%以上、重合度300)6質量%水溶液:0.55部
・ポリビニルアルコール(PVA-405、(株)クラレ製、けん化度81.5モル%、重合度500)6質量%水溶液:0.03部
・界面活性剤(ポリオキシエチレンラウリルエーテル、エマレックス710、日本エマルジョン(株)製)1質量%水溶液:0.86部
・イオン交換水:6.0部
--Protective layer coating solution (1)--
Color-forming compound described in Table 1: Amount to be applied on a dry basis as described in Table 1 Support-adsorbing compound described in Table 1: Amount to be applied on a dry basis as described in Table 1 Inorganic layered compound dispersion (1) [below]: 1.5 parts Polyvinyl alcohol (CKS50, manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd., sulfonic acid modified, saponification degree 99 mol% or more, polymerization degree 300) 6% by weight aqueous solution: 0.55 parts Polyvinyl alcohol (PVA-405, manufactured by Kuraray Co., Ltd., saponification degree 81.5 mol%, polymerization degree 500) 6% by weight aqueous solution: 0.03 parts Surfactant (polyoxyethylene lauryl ether, EMALEX 710, manufactured by Nippon Emulsion Co., Ltd.) 1% by weight aqueous solution: 0.86 parts Ion-exchanged water: 6.0 parts

上記保護層塗布液(1)に用いた無機層状化合物分散液(1)の調製法を以下に示す。The method for preparing the inorganic layered compound dispersion (1) used in the above protective layer coating solution (1) is shown below.

-無機層状化合物分散液(1)の調製-
イオン交換水193.6gに合成雲母(ソマシフME-100、コープケミカル(株)製)6.4gを添加し、ホモジナイザーを用いて平均粒径(レーザー散乱法)が3μmになるまで分散した。得られた分散粒子のアスペクト比は100以上であった。
--Preparation of Inorganic Layered Compound Dispersion (1)--
6.4 g of synthetic mica (Somasif ME-100, manufactured by Co-op Chemical Co., Ltd.) was added to 193.6 g of ion-exchanged water, and dispersed using a homogenizer until the average particle size (laser scattering method) became 3 μm. The aspect ratio of the resulting dispersed particles was 100 or more.

<<保護層(2)の形成>>
上記画像記録層上に、更に下記組成の保護層用塗布液(2)をバー塗布した後、120℃、60秒でオーブン乾燥し、乾燥塗布量0.15g/mの保護層(2)を形成した。
<<Formation of protective layer (2)>>
A protective layer coating solution (2) having the following composition was further applied onto the image recording layer with a bar, and then dried in an oven at 120° C. for 60 seconds to form a protective layer (2) having a dry coating amount of 0.15 g/m 2 .

-保護層用塗布液(2)-
・無機質層状化合物分散液(1)(上記で得たもの):1.5部
・親水性ポリマー(1)(固形分)〔下記構造、Mw:3万〕:0.55部
・ポリビニルアルコール(日本合成化学工業(株)製CKS50、スルホン酸変性、けん化度99モル%以上、重合度300)6質量%水溶液:0.10部
・ポリビニルアルコール((株)クラレ製PVA-405、けん化度81.5モル%、重合度500)6質量%水溶液:0.03部
・界面活性剤(エマレックス710、商品名:日本エマルジョン(株)製)1質量%水溶液:0.86部
・イオン交換水:6.0部
--Protective layer coating solution (2)--
Inorganic layered compound dispersion (1) (obtained above): 1.5 parts Hydrophilic polymer (1) (solid content) [structure below, Mw: 30,000]: 0.55 parts Polyvinyl alcohol (manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd. CKS50, sulfonic acid modified, saponification degree 99 mol% or more, polymerization degree 300) 6 mass% aqueous solution: 0.10 parts Polyvinyl alcohol (manufactured by Kuraray Co., Ltd. PVA-405, saponification degree 81.5 mol%, polymerization degree 500) 6 mass% aqueous solution: 0.03 parts Surfactant (Emalex 710, product name: manufactured by Nippon Emulsion Co., Ltd.) 1 mass% aqueous solution: 0.86 parts Ion-exchanged water: 6.0 parts

<エッジ親水化層の形成>
実施例22及び25においては、エッジ親水化層を更に形成した。
塗布装置として、兵神装備(株)製2NL04を使用した。
エッジ親水化層を形成する塗布液は、下記に記載した純水以外の成分を純水に加えて撹拌し、親水化成分含有塗布液を調製した。
・下記式P-2で表される化合物(Mw:100,000):5.0質量部
・上記ミクロゲル(2):1.0質量部
・純水:194質量部
<Formation of Edge Hydrophilic Layer>
In Examples 22 and 25, an edge hydrophilization layer was further formed.
The coating device used was 2NL04 manufactured by Heishin Soubi Co., Ltd.
The coating liquid for forming the edge hydrophilic layer was prepared by adding the components other than the below-described pure water to pure water and stirring the mixture to prepare a coating liquid containing the hydrophilic components.
Compound represented by the following formula P-2 (Mw: 100,000): 5.0 parts by mass Microgel (2): 1.0 part by mass Pure water: 194 parts by mass

クリアランス0.3mmで送液量5cc/分で搬送速度を調整し、上記塗布液を固形分塗布量1.7g/mになるように塗布した。
塗布は、支持体の対向する2辺の端部からそれぞれ3cmの位置を中心とする幅5mmの領域(2箇所)に行った。
塗布後、120℃1分間で乾燥し、エッジ親水化層を画像記録層側の最外層として形成した。
The conveying speed was adjusted to a liquid feed rate of 5 cc/min with a clearance of 0.3 mm, and the coating liquid was applied to a solid coating amount of 1.7 g/ m2 .
The coating was carried out in two areas (2 locations) with a width of 5 mm and centered at a position 3 cm from each end of two opposing sides of the support.
After coating, the coating was dried at 120° C. for 1 minute to form an edge hydrophilized layer as the outermost layer on the image recording layer side.

<平版印刷版原版の裁断>
上記により得られた平版印刷版原版を、図2に示すようなスリッター装置を用いて、上側裁断刃と下側裁断刃の隙間、噛み込み量及び刃先角度を調整して裁断し、表1に記載の端部にダレ形状を形成した。
裁断位置は、エッジ親水化層の形成領域の中央の位置(上記支持体の対向する2辺の端部からそれぞれ3cmの位置)を裁断位置とし、支持体の2箇所を裁断した。
ダレ形状におけるダレ量X及びダレ幅Yを表1に記載する。
<Cutting of lithographic printing plate precursor>
The planographic printing plate precursor obtained as described above was cut using a slitter device as shown in FIG. 2 by adjusting the gap between the upper and lower cutting blades, the amount of engagement, and the blade tip angle, to form a droop shape at the edge as described in Table 1.
The cutting positions were set at the center of the region where the edge hydrophilized layer was formed (positions 3 cm from each of the ends of two opposing sides of the support), and the support was cut at two points.
The sagging amount X and the sagging width Y of the sagging shape are shown in Table 1.

<発色性、及び、経時発色性評価>
平版印刷版原版を、水冷式40W赤外線半導体レーザー搭載のCreo社製Trendsetter3244VXにより、出力11.7W、外面ドラム回転数250rpm、解像度2,400dpi(dots per inch、1inch=25.4mm)の条件で露光した。露光は25℃、50%RHの環境下で行った。
露光直後(発色性)、及び、露光後暗所(25℃)で2時間保存後(経時発色性)、平版印刷版原版の発色を測定した。測定は、コニカミノルタ(株)製分光測色計CM2600dとオペレーションソフトCM-S100Wとを用い、SCE(正反射光除去)方式で行った。発色性は、L表色系のL値(明度)を用い、露光部のL値と未露光部のL値との差ΔLにより評価した。ΔLの値が大きい程、発色性が優れる。
<Evaluation of color development and color development over time>
The lithographic printing plate precursor was exposed to light using a Creo Trendsetter 3244VX equipped with a water-cooled 40 W infrared semiconductor laser under the conditions of an output of 11.7 W, an outer drum rotation speed of 250 rpm, and a resolution of 2,400 dpi (dots per inch, 1 inch = 25.4 mm). The exposure was performed in an environment of 25°C and 50% RH.
The color development of the lithographic printing plate precursor was measured immediately after exposure (color development) and after storage in a dark place (25°C) for 2 hours after exposure (color development over time). Measurements were performed using a spectrophotometer CM2600d manufactured by Konica Minolta, Inc. and operation software CM-S100W, using the SCE (specular reflection excluded) method. Color development was evaluated using the L * value (lightness) of the L * a * b * color system, and the difference ΔL between the L * value of the exposed area and the L * value of the unexposed area. The larger the ΔL value, the better the color development.

<エッジ汚れ抑制性評価>
平版印刷版原版を、赤外線半導体レーザー搭載の富士フイルム(株)製Luxcel PLATESETTER T-6000IIIにて、外面ドラム回転数1,000rpm、レーザー出力70%、解像度2,400dpiの条件で露光した。露光画像にはベタ画像、50%網点、非画像部を含むチャートを用いた。
画像露光した平版印刷版原版を、(株)東京機械製作所製オフセット輪転印刷機に装着し、新聞用印刷インキとして、インクテック(株)製ソイビーKKST-S(紅)、湿し水として、東洋インキ(株)製東洋ALKYを用いて、新聞用紙に100,000枚/時のスピードで印刷し、地汚れ解消の水目盛から1.1倍の水目盛で、1,000枚目の印刷物をサンプリングし、印刷用原版の端部に起因する線状汚れの程度を下記の基準で評価した。
5:全く汚れていない
4:5と3との中間レベル
3:うっすらと汚れているが許容レベル
2:3と1との中間レベル(許容レベル)
1:はっきりと汚れており非許容レベル
<Evaluation of Edge Stain Suppression>
The lithographic printing plate precursor was exposed using a Luxcel PLATESETTER T-6000III equipped with an infrared semiconductor laser manufactured by Fujifilm Corporation under the conditions of an outer drum rotation speed of 1,000 rpm, a laser output of 70%, and a resolution of 2,400 dpi. A chart including a solid image, a 50% halftone dot, and a non-image area was used as the exposed image.
The image-exposed lithographic printing plate precursor was mounted on an offset rotary printing press manufactured by Tokyo Kikai Seisakusho Co., Ltd., and printing was carried out on newsprint at a speed of 100,000 sheets/hour using Soybee KKST-S (red) manufactured by Inktec Corporation as the newspaper printing ink and Toyo ALKY manufactured by Toyo Ink Co., Ltd. as the dampening water. The 1,000th print was sampled at a water mark 1.1 times the water mark for eliminating background staining, and the degree of linear staining caused by the edges of the printing plate precursor was evaluated according to the following criteria.
5: Not dirty at all 4: Intermediate level between 5 and 3 3: Slightly dirty but acceptable level 2: Intermediate level between 3 and 1 (acceptable level)
1: Clearly dirty and unacceptable

<機上現像性評価>
平版印刷版原版を赤外線半導体レーザー搭載の富士フイルム(株)製Luxel PLATESETTER T-6000IIIにより、外面ドラム回転数1,000rpm、レーザー出力70%、解像度2,400dpiの条件で露光した。露光画像にはベタ画像及び20μmドットFMスクリーンの50%網点チャートを含むようにした。
露光された平版印刷版原版を現像処理することなく、(株)小森コーポレーション製印刷機LITHRONE26の版胴に取り付けた。Ecolity-2(富士フイルム(株)製)/水道水=2/98(容量比)の湿し水とValues-G(N)墨インキ(DICグラフィックス(株)製)とを用い、LITHRONE26の標準自動印刷スタート方法で湿し水とインキとを供給し、毎時10,000枚の印刷速度で、特菱アート紙(連量:76.5kg、三菱製紙(株)製)に100枚印刷を行った。
印刷機上で画像記録層の未露光部の機上現像が完了し、非画像部にインキが転写しない状態になるまでに要した印刷用紙の枚数を計測し、機上現像性として評価した。枚数が少ない程、機上現像性が良好である。
<On-press developability evaluation>
The lithographic printing plate precursor was exposed using a Luxel PLATESETTER T-6000III equipped with an infrared semiconductor laser manufactured by Fujifilm Corp. under the conditions of an outer drum rotation speed of 1,000 rpm, a laser output of 70%, and a resolution of 2,400 dpi. The exposed image included a solid image and a 50% halftone dot chart of a 20 μm dot FM screen.
The exposed lithographic printing plate precursor was not developed and was attached to the plate cylinder of a printing machine LITHRONE26 manufactured by Komori Corporation. Using a dampening solution of Ecology-2 (manufactured by Fujifilm Corporation)/tap water=2/98 (volume ratio) and Values-G(N) black ink (manufactured by DIC Graphics Corporation), dampening solution and ink were supplied by the standard automatic print start method of LITHRONE26, and 100 sheets were printed on Tokubishi Art Paper (ream weight: 76.5 kg, manufactured by Mitsubishi Paper Mills, Ltd.) at a printing speed of 10,000 sheets per hour.
The number of sheets of printing paper required until the on-press development of the unexposed parts of the image recording layer was completed on the printing press and no ink was transferred to the non-image parts was counted and evaluated as on-press developability. The fewer the number of sheets, the better the on-press developability.

<耐薬品性(クリーナー耐刷性)評価>
上記機上現像性の評価を行った後、更に印刷を続けた。印刷枚数の増加に伴い徐々に画像記録層が摩耗するため印刷物上のインキ濃度が低下した。また、印刷の途中に10,000枚印刷する毎に、クリーナー(富士フイルム(株)製、HN-C)で版面を拭いた。印刷物におけるFMスクリーン50%網点の網点面積率をグレタグ濃度計で測定した値が印刷100枚目の測定値よりも5%低下するまでの印刷枚数を計測した。印刷枚数が10万枚の場合を100とする相対耐刷性により評価した。数値が大きい程、耐刷性が良好である。
相対耐刷性=(対象平版印刷版原版の印刷枚数)/100,000×100
<Chemical resistance (cleaner printing durability) evaluation>
After the evaluation of the on-press developability, printing was continued. As the number of printed sheets increased, the image recording layer gradually wore away, and the ink concentration on the printed matter decreased. In addition, during printing, the plate surface was wiped with a cleaner (HN-C, manufactured by Fujifilm Corporation) every time 10,000 sheets were printed. The number of printed sheets was counted until the dot area ratio of FM screen 50% dots in the printed matter, measured with a Gretag densitometer, decreased by 5% from the measured value on the 100th printed sheet. The relative printing durability was evaluated, with 100,000 printed sheets being taken as 100. The higher the value, the better the printing durability.
Relative printing durability = (number of prints of the target lithographic printing plate precursor) / 100,000 x 100

評価結果を表1にまとめて示す。The evaluation results are summarized in Table 1.

なお、表1に記載のB-1及びB-2は、以下の化合物である。 Note that B-1 and B-2 listed in Table 1 are the following compounds.

表1に記載の結果から、本開示に係る平版印刷版原版である実施例1~34の平版印刷版原版は、比較例の平版印刷版原版と比べ、エッジ汚れ抑制性に優れている。
また、表1に記載の結果から、本開示に係る平版印刷版原版である実施例1~34の平版印刷版原版は、発色性、経時発色性、機上現像性、及び、耐薬品性にも優れる。
From the results shown in Table 1, the lithographic printing plate precursors of Examples 1 to 34, which are the lithographic printing plate precursors according to the present disclosure, are superior in edge stain suppression properties compared to the lithographic printing plate precursors of the comparative examples.
Furthermore, from the results shown in Table 1, the lithographic printing plate precursors of Examples 1 to 34, which are the lithographic printing plate precursors according to the present disclosure, are also excellent in color developability, color developability over time, on-press developability, and chemical resistance.

X:ダレ量、Y:ダレ幅、1:アルミニウム板、2,4:ローラ状ブラシ、3:研磨スラリー液、5,6,7,8:支持ローラ、18:アルミニウム板、ta:アノード反応時間、tc:カソード反応時間、tp:電流が0からピークに達するまでの時間、Ia:アノードサイクル側のピーク時の電流、Ic:カソードサイクル側のピーク時の電流、AA:アルミニウム板のアノード反応の電流、CA:アルミニウム板のカソード反応の電流、10:平版印刷版原版、12a,12b:アルミニウム支持体、14:下塗り層、16:画像記録層、20a,20b:陽極酸化皮膜、22a,22b:マイクロポア、24:大径孔部、26:小径孔部、D:大径孔部の深さ、50:主電解槽、51:交流電源、52:ラジアルドラムローラ、53a,53b:主極、54:電解液供給口、55:電解液、56:補助陽極、60:補助陽極槽、W:アルミニウム板、A1:給液方向、A2:電解液排出方向、210:裁断刃、210a:上側裁断刃、210b:上側裁断刃、211:回転軸、220:裁断刃、220a:下側裁断刃、220b:下側裁断刃、221:回転軸、230:支持体、610:陽極酸化処理装置、612:給電槽、614:電解処理槽、616:アルミニウム板、618,26:電解液、620:給電電極、622,628:ローラ、624:ニップローラ、630:電解電極、632:槽壁、634:直流電源X: amount of sagging, Y: sagging width, 1: aluminum plate, 2, 4: roller brush, 3: polishing slurry liquid, 5, 6, 7, 8: support roller, 18: aluminum plate, ta: anode reaction time, tc: cathode reaction time, tp: time from 0 to peak current, Ia: peak current on the anode cycle side, Ic: peak current on the cathode cycle side, AA: anode reaction current on the aluminum plate, CA: cathode reaction current on the aluminum plate, 10: lithographic printing plate precursor, 12a, 12b: aluminum support, 14: undercoat layer, 16: image recording layer, 20a, 20b: anodized film, 22a, 22b: micropores, 24: large diameter hole portion, 26: small diameter hole portion, D: depth of large diameter hole portion 50: main electrolytic cell, 51: AC power source, 52: radial drum roller, 53a, 53b: main electrode, 54: electrolyte supply port, 55: electrolyte, 56: auxiliary anode, 60: auxiliary anode cell, W: aluminum plate, A1: electrolyte supply direction, A2: electrolyte discharge direction, 210: cutting blade, 210a: upper cutting blade, 210b: upper cutting blade, 211: rotating shaft, 220: cutting blade, 220a: lower cutting blade, 220b: lower cutting blade, 221: rotating shaft, 230: support, 610: anodizing treatment device, 612: power supply tank, 614: electrolytic treatment tank, 616: aluminum plate, 618, 26: electrolyte, 620: power supply electrode, 622, 628: roller, 624: nip roller, 630: electrolytic electrode, 632: tank wall, 634: DC power source

2020年2月28日に出願された日本国特許出願第2020-034241号の開示は、その全体が参照により本明細書に取り込まれる。
本明細書に記載された全ての文献、特許出願、及び、技術規格は、個々の文献、特許出願、及び、技術規格が参照により取り込まれることが具体的かつ個々に記された場合と同程度に、本明細書中に参照により取り込まれる。
The disclosure of Japanese Patent Application No. 2020-034241, filed on February 28, 2020, is incorporated herein by reference in its entirety.
All publications, patent applications, and standards mentioned in this specification are herein incorporated by reference to the same extent as if each individual publication, patent application, or standard was specifically and individually indicated to be incorporated by reference.

Claims (13)

支持体上に、画像記録層、及び分子量1000以下の支持体吸着性化合物を含む保護層をこの順に有し、
前記画像記録層又は前記保護層が、熱又は赤外線露光により開裂する基を有する発色性化合物を含み、
前記支持体の少なくとも対向する2辺の端部に、ダレ量Xが25μm~150μm、かつダレ幅Yが70μm~300μmであるダレ形状を有する
平版印刷版原版。
The image recording layer and the protective layer containing a support-adsorbing compound having a molecular weight of 1,000 or less are disposed on a support in this order,
the image recording layer or the protective layer contains a color-forming compound having a group that is cleaved by exposure to heat or infrared light,
the support has a sagging shape in which the sagging amount X is 25 μm to 150 μm and the sagging width Y is 70 μm to 300 μm at the ends of at least two opposing sides of the support.
前記熱又は赤外線露光により開裂する基を有する発色性化合物が、下記式(1)で表される化合物である請求項1に記載の平版印刷版原版。


式(1)中、Mは熱又は赤外線露光により開裂する基であり、R及びRはそれぞれ独立に、水素原子又はアルキル基を表し、R及びRは互いに連結して環を形成してもよく、Ar及びArはそれぞれ独立に、ベンゼン環又はナフタレン環を形成する基を表し、Y及びYはそれぞれ独立に、酸素原子、硫黄原子、-NR-又はジアルキルメチレン基を表し、R及びRはそれぞれ独立に、脂肪族炭化水素基を表し、R~Rはそれぞれ独立に、水素原子又はアルキル基を表し、Rは水素原子、アルキル基又はアリール基を表し、Zaは電荷を中和する対イオンを表す。
The lithographic printing plate precursor according to claim 1 , wherein the color-forming compound having a group that is cleaved by exposure to heat or infrared light is a compound represented by the following formula (1):


In formula (1), M 1 is a group that is cleaved by exposure to heat or infrared rays, R 2 and R 3 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group, R 2 and R 3 may be bonded to each other to form a ring, Ar 1 and Ar 2 each independently represent a group that forms a benzene ring or a naphthalene ring, Y 1 and Y 2 each independently represent an oxygen atom, a sulfur atom, -NR 0 - or a dialkylmethylene group, R 4 and R 5 each independently represent an aliphatic hydrocarbon group, R 6 to R 9 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group, R 0 represents a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group, and Za represents a counter ion that neutralizes the charge.
前記式(1)におけるMが、-NR、-NR(SO)又は-NR(CO)である請求項2に記載の平版印刷版原版。
ただし、R及びRはそれぞれ独立に、アリール基を表し、R、R及びRはそれぞれ独立に、アルキル基又はアリール基を表し、Rは、アルキル基、アリール基、又は、-NRd1d2を表し、Rd1及びRd2はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基又はアリール基を表す。
The lithographic printing plate precursor according to claim 2, wherein M 1 in formula (1) is -NR a R b , -NR c (SO 2 R d ) or -NR e (CO 2 R f ).
wherein R a and R b each independently represent an aryl group, R c , R e and R f each independently represent an alkyl group or an aryl group, R d represents an alkyl group, an aryl group, or -NR d1 R d2 , and R d1 and R d2 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group.
前記式(1)で表される化合物におけるR、R、M、Ar及びArよりなる群から選ばれた少なくとも1つの基が、親水性基を有する、請求項2又は請求項3に記載の平版印刷版原版。 The lithographic printing plate precursor according to claim 2 or 3, wherein at least one group selected from the group consisting of R 4 , R 5 , M 1 , Ar 1 and Ar 2 in the compound represented by formula (1) has a hydrophilic group. 前記親水性基が、下記式(2)~式(5)のいずれかで表される基である請求項に記載の平版印刷版原版。


式(2)~式(5)中、R10は炭素数2~6のアルキレン基を表し、Wは単結合又は酸素原子を表し、n1は1~45の整数を表し、R11は炭素数1~12のアルキル基又は炭素数2~12のアシル基を表し、R12及びR13はそれぞれ独立に、単結合、又は、炭素数1~12のアルキレン基若しくはアルキレンオキシ基を表し、Mは水素原子、Na原子、K原子又はオニウム基を表し、また、式(1)で表される化合物全体で電荷が中和可能な場合は、Mを有していなくともよく、m1は1、2、3又は4を表し、Xは-O-、-S-又は-CH-を表し、波線部分は他の構造との結合位置を表す。
The lithographic printing plate precursor according to claim 4 , wherein the hydrophilic group is a group represented by any one of the following formulas (2) to (5):


In formulas (2) to (5), R 10 represents an alkylene group having 2 to 6 carbon atoms, W 1 represents a single bond or an oxygen atom, n1 represents an integer from 1 to 45, R 11 represents an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms or an acyl group having 2 to 12 carbon atoms, R 12 and R 13 each independently represent a single bond, or an alkylene group or alkyleneoxy group having 1 to 12 carbon atoms, M represents a hydrogen atom, a Na atom, a K atom or an onium group, and M may not be present when the charge can be neutralized by the entire compound represented by formula (1), m1 represents 1, 2, 3 or 4, X 1 represents -O-, -S- or -CH 2 -, and the wavy line portion represents the bonding position with other structures.
前記式(1)におけるMが、-O-Rである請求項2~請求項のいずれか1項に記載の平版印刷版原版。
ただし、Rは、熱又は赤外線露光によりR-O結合が開裂する基を表す。
The lithographic printing plate precursor according to any one of claims 2 to 5 , wherein M 1 in formula (1) is -O-R 1 .
Here, R 1 represents a group in which the R 1 -O bond is cleaved by heat or exposure to infrared rays.
前記Rが、下記式(6)で表される基である請求項に記載の平版印刷版原版。


式(6)中、R15及びR16はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基又はアリール基を表し、Eはオニウム基を表し、波線部分は酸素原子との結合位置を表す。
The lithographic printing plate precursor according to claim 6 , wherein R 1 is a group represented by the following formula (6):


In formula (6), R 15 and R 16 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group, E represents an onium group, and the wavy line portion represents the bonding position to the oxygen atom.
前記式(6)におけるEが、下記式(7)で表されるピリジニウム基である請求項に記載の平版印刷版原版。


式(7)中、R17はハロゲン原子、アルキル基、アリール基、ヒドロキシ基又はアルコキシ基を表し、R17が複数存在する場合、複数のR17は同じでも異なってもよく、あるいは複数のR17が連結して環を形成してもよく、n2は0~4の整数を表し、R18はアルキル基、アリール基又は下記式(2)~式(5)のいずれかで表される基を表し、Zbは電荷を中和するための対イオンを表す。


式(2)~式(5)中、R10は炭素数2~6のアルキレン基を表し、Wは単結合又は酸素原子を表し、n1は1~45の整数を表し、R11は炭素数1~12のアルキル基又は炭素数2~12のアシル基を表し、R12及びR13はそれぞれ独立に、単結合、又は、炭素数1~12のアルキレン基若しくはアルキレンオキシ基を表し、Mは水素原子、Na原子、K原子又はオニウム基を表し、また、式(1)で表される化合物全体で電荷が中和可能な場合は、Mを有していなくともよく、m1は1、2、3又は4を表し、Xは-O-、-S-又は-CH-を表し、波線部分は他の構造との結合位置を表す。
The lithographic printing plate precursor according to claim 7 , wherein E in formula (6) is a pyridinium group represented by the following formula (7):


In formula (7), R 17 represents a halogen atom, an alkyl group, an aryl group, a hydroxyl group or an alkoxy group. When a plurality of R 17s are present, the plurality of R 17s may be the same or different, or the plurality of R 17s may be linked to form a ring. n2 represents an integer of 0 to 4. R 18 represents an alkyl group, an aryl group or a group represented by any one of the following formulas (2) to (5). Zb represents a counter ion for neutralizing the charge.


In formulas (2) to (5), R 10 represents an alkylene group having 2 to 6 carbon atoms, W 1 represents a single bond or an oxygen atom, n1 represents an integer from 1 to 45, R 11 represents an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms or an acyl group having 2 to 12 carbon atoms, R 12 and R 13 each independently represent a single bond, or an alkylene group or alkyleneoxy group having 1 to 12 carbon atoms, M represents a hydrogen atom, a Na atom, a K atom or an onium group, and M may not be present when the charge can be neutralized by the entire compound represented by formula (1), m1 represents 1, 2, 3 or 4, X 1 represents -O-, -S- or -CH 2 -, and the wavy line portion represents the bonding position with other structures.
前記画像記録層が、重合開始剤及び重合性化合物を有する請求項1~請求項3のいずれか1項に記載の平版印刷版原版。 The lithographic printing plate precursor according to any one of claims 1 to 3 , wherein the image recording layer comprises a polymerization initiator and a polymerizable compound. 前記画像記録層が、ポリマー粒子を有する請求項1~請求項3のいずれか1項に記載の平版印刷版原版。 The lithographic printing plate precursor according to any one of claims 1 to 3 , wherein the image recording layer contains polymer particles. 前記平版印刷版原版の画像記録層側の面の端部から1cm以内の領域に親水化層を有する請求項1~請求項10のいずれか1項に記載の平版印刷版原版。 The lithographic printing plate precursor according to any one of claims 1 to 10 , further comprising a hydrophilic layer in an area within 1 cm from an edge of the surface of the lithographic printing plate precursor on the image recording layer side. 請求項1~請求項11のいずれか1項に記載の平版印刷版原版を画像様に露光する工程と、
印刷機上で印刷インキ及び湿し水よりなる群から選ばれた少なくとも一方を供給して非画像部の画像記録層を除去する工程と、を含む
平版印刷版の作製方法。
A step of imagewise exposing the lithographic printing plate precursor according to any one of claims 1 to 11 ;
and removing the image recording layer in the non-image area by supplying at least one selected from the group consisting of printing ink and dampening water on the printing press.
請求項1~請求項11のいずれか1項に記載の平版印刷版原版を画像様に露光する工程と、
印刷インキ及び湿し水よりなる群から選ばれた少なくとも一方を供給して印刷機上で非画像部の画像記録層を除去し平版印刷版を作製する工程と、
得られた平版印刷版により印刷する工程と、を含む
平版印刷方法。
A step of imagewise exposing the lithographic printing plate precursor according to any one of claims 1 to 11 ;
a step of removing the image recording layer in the non-image area on the printing press by supplying at least one selected from the group consisting of printing ink and dampening water to prepare a lithographic printing plate;
and printing with the obtained lithographic printing plate.
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