JP7464001B2 - シリコンウエーハの強度の評価方法 - Google Patents
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Description
シリコンウエーハの強度を評価する方法であって、
実験用ウエーハとして、複数のシリコンウエーハを準備するサブステップと、
前記複数の実験用ウエーハの表面に、絶縁膜からなるラインアンドスペースパターンを形成するサブステップと、
前記ラインアンドスペースパターンを形成した複数の実験用ウエーハに対して、ドライエッチング時間を振ってドライエッチングを行い、少なくとも一部の実験用ウエーハにおける前記ラインアンドスペースパターンのライン部とスペース部の境界部である端部をオーバーエッチングするサブステップと、
前記ドライエッチングを行った複数の実験用ウエーハに所定の熱処理を行うサブステップと、
前記熱処理を行った複数の実験用ウエーハに対して、選択エッチングを行って少なくとも一部の実験用ウエーハにおいて転位を顕在化させるサブステップと
を含み、これにより、前記ラインアンドスペースパターンの端部の断面が応力特異点となる端部形状にならず、かつ、前記シリコンウエーハに転位が発生するドライエッチング時間を決定する工程と、
評価対象のシリコンウエーハを準備するサブステップと、
前記評価対象のシリコンウエーハの表面に、絶縁膜からなる所定の寸法のラインアンドスペースパターンを形成するサブステップと、
前記ラインアンドスペースパターンを形成した評価対象のシリコンウエーハに対して前記決定したドライエッチング時間でドライエッチングを行い、前記ラインアンドスペースパターンの端部をオーバーエッチングするサブステップと、
前記ドライエッチングを行った評価対象のシリコンウエーハの断面形状から有限要素法で用いるモデルを作成するサブステップと、
前記評価対象のシリコンウエーハのラインアンドスペースパターンの端部における局所応力を、前記モデルに基づいて前記有限要素法で計算して求めるサブステップと
を含み、これにより、評価対象のシリコンウエーハの強度を評価する工程と
を有することを特徴とするシリコンウエーハの強度の評価方法を提供する。
まず、実験用ウエーハを用いて、評価対象のシリコンウエーハにラインアンドスペースパターンを形成したときに、ラインアンドスペースパターンの端部の断面が応力特異点となる端部形状にならず、かつ、シリコンウエーハに転位が発生するドライエッチング時間を決定する。この工程は、以下のように、各サブステップを含む。
まず、図8のS11に示したように、実験用ウエーハとして、複数のシリコンウエーハを準備する。実験用ウエーハは、評価用ウエーハと同等の特性(直径、導電型、抵抗率、酸素濃度等)を有するシリコンウエーハとすることが好ましいが、これに限定されない。
次に、図8のS12に示したように、複数の実験用ウエーハの表面に、絶縁膜からなるラインアンドスペースパターンを形成する。このサブステップは、例えば、予めシリコンウエーハ上に絶縁膜を形成し、所定のストライプ状の形状(ラインアンドスペース)になるようにフォトリソグラフィーを行い、ドライエッチングで絶縁膜を除去することでラインアンドスペース構造を形成することができる。このラインアンドスペースの寸法は評価するシリコンウエーハ表面に形成されたラインアンドスペースと同じにすることが好ましいが、違っていてもよい。実際のライン幅は5~10μm、スペース幅は3~15μmとすることが好ましい。例えば、ラインの幅は10μmでスペースの幅は5μmとすることができる。
次に、図8のS13に示したように、サブステップS12でラインアンドスペースパターンを形成した複数の実験用ウエーハに対して、ドライエッチング時間を振ってドライエッチングを行い、少なくとも一部の実験用ウエーハにおけるラインアンドスペースパターンの端部(本発明では、ラインアンドスペースパターンのライン部とスペース部の境界部を「端部」と称する。)をオーバーエッチングする。
次に、図8のS14に示したように、サブステップS13でドライエッチングを行った複数の実験用ウエーハに所定の熱処理を行う。このときの熱処理は特に限定されず、転位を発生させることができればどんな熱処理であっても構わないが、デバイス熱処理に適用する熱処理条件とすることができる。例えば、熱処理温度:1000℃、熱処理時間:3分、熱処理雰囲気:Arとすることができる。
次に、図8のS15に示したように、サブステップS14で熱処理を行った複数の実験用ウエーハに対して、選択エッチングを行って少なくとも一部の実験用ウエーハにおいて転位を顕在化させる。このときの選択エッチング液は、単結晶シリコンの転位を顕在化させるために用いることができる、公知の溶液を使用することができる。選択エッチング液例えば混酸液(組成は(容量比)、フッ酸(50%):硝酸(61%):酢酸(99.9%):超純水=1:15:1:4である)を用いることができる。
次に、評価対象のシリコンウエーハの強度を評価する。ここでは、表面に評価対象のラインアンドスペースパターンを形成したシリコンウエーハに対し、上記のように決定したドライエッチング時間でラインアンドスペース端部のオーバーエッチングを行ってから有限要素法でラインアンドスペースパターン端部の応力を評価する。この工程は、以下のように、各サブステップを含む。
まず、図8のS21に示したように、評価対象のシリコンウエーハ(評価用ウエーハ)を準備する。ここで準備する評価用ウエーハは、上記のように実験用ウエーハと同等の特性を有するシリコンウエーハとすることが好ましいが、これに限定されない。
次に、図8のS22に示したように、評価対象のシリコンウエーハの表面に、絶縁膜からなる所定の寸法のラインアンドスペースパターンを形成する。このときの評価対象のウエーハのライン幅は上記のドライエッチング時間の条件を決定するときに形成したライン幅と違っていてもよい。ライン幅を振って、後述のように有限要素法で評価することにより、ライン幅の違いと局所応力との関係を定量的に見積もることができる。
次に、図8のS23に示したように、ラインアンドスペースパターンを形成した評価対象のシリコンウエーハに対して、上記で決定したドライエッチング時間でドライエッチングを行い、ラインアンドスペースパターンの端部をオーバーエッチングする。ドライエッチングの方法としては、実験用ウエーハの場合と同様とする。
次に、図8のS24に示したように、ドライエッチングを行った評価対象のシリコンウエーハの断面形状から有限要素法で用いるモデルを作成する。このサブステップで作成するモデルは、断面形状に基づいていればよく、その手法は特に限定されない。このとき、有限要素法のメッシュサイズはどのようなサイズで行っても構わない。
次に、図8のS25に示したように、評価対象のシリコンウエーハのラインアンドスペースパターンの端部における局所応力を、サブステップS24で作成されたモデルに基づいて有限要素法で計算して求める。
図8のサブステップS11~S13に沿って、直径200mmのp型PW(研磨済みシリコンウエーハ)(酸素濃度~15ppma:JEIDA)において、LP-CVD(低圧化学気相成長法)によりSiN膜を成膜(成膜温度:780℃、厚さ:200nm)した後に、フォトリソグラフィーでスペース幅を5μm、ライン幅を10μmとしたL&Sパターンを形成した後、132秒のドライエッチングを行った。
比較例1におけるエッチング時間を152秒と172秒の場合も同様に評価した。このときの実体顕微鏡観察結果を図1(d)、(e)に示す。どちらのエッチング時間の場合でもSiN膜端部に転位によるエッチピットが観察されず、ウエーハ強度を評価することができないことがわかった。この理由は、エッチング時間が長くなり、局所応力が小さくなったために転位が発生しなくなったためである。
図8のサブステップS11、S12に沿って、直径200mmのp型-シリコンウエーハ(酸素濃度~15ppma)において、LP-CVDによりSiN膜を成膜(成膜温度:780℃、厚さ:200nm)した後に、フォトリソグラフィーにより、スペース幅を5μmとし、ライン幅を10μmとしたL&Sパターンを形成した。その後、図8のサブステップS13に沿って、時間を振ったドライエッチング(時間:132~172秒)を行った。その後、図8のサブステップS14、S15に沿って、転位を発生させるための熱処理(1000℃/3min/Ar)を施し、混酸液による選択エッチングを行い、実体顕微鏡で転位ピットの有無を観察した。また、ドライエッチング後の段階でラインアンドスペース部の断面をSEMで観察した。実体顕微鏡の結果を図1(a)~(e)に、断面SEMの結果を図2(a)~(e)に示した。なお、132秒、152秒、172秒については、比較例1、2と重複している。
Claims (3)
- シリコンウエーハの強度を評価する方法であって、
実験用ウエーハとして、複数のシリコンウエーハを準備するサブステップと、
前記複数の実験用ウエーハの表面に、絶縁膜からなるラインアンドスペースパターンを形成するサブステップと、
前記ラインアンドスペースパターンを形成した複数の実験用ウエーハに対して、ドライエッチング時間を振ってドライエッチングを行い、少なくとも一部の実験用ウエーハにおける前記ラインアンドスペースパターンのライン部とスペース部の境界部である端部をオーバーエッチングするサブステップと、
前記ドライエッチングを行った複数の実験用ウエーハに所定の熱処理を行うサブステップと、
前記熱処理を行った複数の実験用ウエーハに対して、選択エッチングを行って少なくとも一部の実験用ウエーハにおいて転位を顕在化させるサブステップと
を含み、これにより、前記ラインアンドスペースパターンの端部の断面が応力特異点となる端部形状にならず、かつ、前記シリコンウエーハに転位が発生するドライエッチング時間を決定する工程と、
評価対象のシリコンウエーハを準備するサブステップと、
前記評価対象のシリコンウエーハの表面に、絶縁膜からなる所定の寸法のラインアンドスペースパターンを形成するサブステップと、
前記ラインアンドスペースパターンを形成した評価対象のシリコンウエーハに対して前記決定したドライエッチング時間でドライエッチングを行い、前記ラインアンドスペースパターンの端部をオーバーエッチングするサブステップと、
前記ドライエッチングを行った評価対象のシリコンウエーハの断面形状から有限要素法で用いるモデルを作成するサブステップと、
前記評価対象のシリコンウエーハのラインアンドスペースパターンの端部における局所応力を、前記モデルに基づいて前記有限要素法で計算して求めるサブステップと
を含み、これにより、評価対象のシリコンウエーハの強度を評価する工程と
を有することを特徴とするシリコンウエーハの強度の評価方法。 - 前記評価対象のシリコンウエーハの強度を評価する工程において、
予め、前記有限要素法によって求めた局所応力と、前記熱処理後に前記選択エッチングして得られた転位の密度の相関関係を取得しておき、
該相関関係を用いて、前記有限要素法によって求めた局所応力から、転位の発生の有無を推定することを特徴とする請求項1に記載のシリコンウエーハの強度の評価方法。 - 前記絶縁膜を窒化膜とすることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載のシリコンウエーハの強度の評価方法。
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