JP7457953B2 - 発光装置及び発光システム - Google Patents

発光装置及び発光システム Download PDF

Info

Publication number
JP7457953B2
JP7457953B2 JP2022530624A JP2022530624A JP7457953B2 JP 7457953 B2 JP7457953 B2 JP 7457953B2 JP 2022530624 A JP2022530624 A JP 2022530624A JP 2022530624 A JP2022530624 A JP 2022530624A JP 7457953 B2 JP7457953 B2 JP 7457953B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
light
light emitting
emitting device
optical amplifier
lights
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2022530624A
Other languages
English (en)
Other versions
JPWO2021251470A1 (ja
Inventor
孝典 明田
健一郎 田中
孝治 椿本
憲明 宮永
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd
Original Assignee
Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd filed Critical Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd
Publication of JPWO2021251470A1 publication Critical patent/JPWO2021251470A1/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP7457953B2 publication Critical patent/JP7457953B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/50Amplifier structures not provided for in groups H01S5/02 - H01S5/30
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/09Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping
    • H01S3/091Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping using optical pumping
    • H01S3/094Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping using optical pumping by coherent light
    • H01S3/09408Pump redundancy
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F21LIGHTING
    • F21VFUNCTIONAL FEATURES OR DETAILS OF LIGHTING DEVICES OR SYSTEMS THEREOF; STRUCTURAL COMBINATIONS OF LIGHTING DEVICES WITH OTHER ARTICLES, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • F21V9/00Elements for modifying spectral properties, polarisation or intensity of the light emitted, e.g. filters
    • F21V9/30Elements containing photoluminescent material distinct from or spaced from the light source
    • F21V9/32Elements containing photoluminescent material distinct from or spaced from the light source characterised by the arrangement of the photoluminescent material
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F21LIGHTING
    • F21VFUNCTIONAL FEATURES OR DETAILS OF LIGHTING DEVICES OR SYSTEMS THEREOF; STRUCTURAL COMBINATIONS OF LIGHTING DEVICES WITH OTHER ARTICLES, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • F21V9/00Elements for modifying spectral properties, polarisation or intensity of the light emitted, e.g. filters
    • F21V9/30Elements containing photoluminescent material distinct from or spaced from the light source
    • F21V9/38Combination of two or more photoluminescent elements of different materials
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L25/00Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof
    • H01L25/16Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof the devices being of types provided for in two or more different main groups of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. forming hybrid circuits
    • H01L25/167Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof the devices being of types provided for in two or more different main groups of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. forming hybrid circuits comprising optoelectronic devices, e.g. LED, photodiodes
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L33/00Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L33/48Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor body packages
    • H01L33/50Wavelength conversion elements
    • H01L33/501Wavelength conversion elements characterised by the materials, e.g. binder
    • H01L33/502Wavelength conversion materials
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L33/00Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L33/48Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor body packages
    • H01L33/58Optical field-shaping elements
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/05Construction or shape of optical resonators; Accommodation of active medium therein; Shape of active medium
    • H01S3/06Construction or shape of active medium
    • H01S3/0602Crystal lasers or glass lasers
    • H01S3/0604Crystal lasers or glass lasers in the form of a plate or disc
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/05Construction or shape of optical resonators; Accommodation of active medium therein; Shape of active medium
    • H01S3/06Construction or shape of active medium
    • H01S3/0602Crystal lasers or glass lasers
    • H01S3/0606Crystal lasers or glass lasers with polygonal cross-section, e.g. slab, prism
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/05Construction or shape of optical resonators; Accommodation of active medium therein; Shape of active medium
    • H01S3/06Construction or shape of active medium
    • H01S3/063Waveguide lasers, i.e. whereby the dimensions of the waveguide are of the order of the light wavelength
    • H01S3/067Fibre lasers
    • H01S3/06754Fibre amplifiers
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/09Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping
    • H01S3/091Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping using optical pumping
    • H01S3/094Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping using optical pumping by coherent light
    • H01S3/094084Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping using optical pumping by coherent light with pump light recycling, i.e. with reinjection of the unused pump light, e.g. by reflectors or circulators
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/14Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range characterised by the material used as the active medium
    • H01S3/16Solid materials
    • H01S3/1601Solid materials characterised by an active (lasing) ion
    • H01S3/1603Solid materials characterised by an active (lasing) ion rare earth
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/23Arrangements of two or more lasers not provided for in groups H01S3/02 - H01S3/22, e.g. tandem arrangements of separate active media
    • H01S3/2308Amplifier arrangements, e.g. MOPA
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/23Arrangements of two or more lasers not provided for in groups H01S3/02 - H01S3/22, e.g. tandem arrangements of separate active media
    • H01S3/2383Parallel arrangements
    • H01S3/2391Parallel arrangements emitting at different wavelengths
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/06Arrangements for controlling the laser output parameters, e.g. by operating on the active medium
    • H01S5/0607Arrangements for controlling the laser output parameters, e.g. by operating on the active medium by varying physical parameters other than the potential of the electrodes, e.g. by an electric or magnetic field, mechanical deformation, pressure, light, temperature
    • H01S5/0608Arrangements for controlling the laser output parameters, e.g. by operating on the active medium by varying physical parameters other than the potential of the electrodes, e.g. by an electric or magnetic field, mechanical deformation, pressure, light, temperature controlled by light, e.g. optical switch
    • H01S5/0609Arrangements for controlling the laser output parameters, e.g. by operating on the active medium by varying physical parameters other than the potential of the electrodes, e.g. by an electric or magnetic field, mechanical deformation, pressure, light, temperature controlled by light, e.g. optical switch acting on an absorbing region, e.g. wavelength convertors
    • H01S5/0611Arrangements for controlling the laser output parameters, e.g. by operating on the active medium by varying physical parameters other than the potential of the electrodes, e.g. by an electric or magnetic field, mechanical deformation, pressure, light, temperature controlled by light, e.g. optical switch acting on an absorbing region, e.g. wavelength convertors wavelength convertors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/06Arrangements for controlling the laser output parameters, e.g. by operating on the active medium
    • H01S5/065Mode locking; Mode suppression; Mode selection ; Self pulsating
    • H01S5/0656Seeding, i.e. an additional light input is provided for controlling the laser modes, for example by back-reflecting light from an external optical component
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/10Construction or shape of the optical resonator, e.g. extended or external cavity, coupled cavities, bent-guide, varying width, thickness or composition of the active region
    • H01S5/1092Multi-wavelength lasing
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05BELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
    • H05B45/00Circuit arrangements for operating light-emitting diodes [LED]
    • H05B45/20Controlling the colour of the light
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F21LIGHTING
    • F21VFUNCTIONAL FEATURES OR DETAILS OF LIGHTING DEVICES OR SYSTEMS THEREOF; STRUCTURAL COMBINATIONS OF LIGHTING DEVICES WITH OTHER ARTICLES, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • F21V29/00Protecting lighting devices from thermal damage; Cooling or heating arrangements specially adapted for lighting devices or systems
    • F21V29/50Cooling arrangements
    • F21V29/502Cooling arrangements characterised by the adaptation for cooling of specific components
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F21LIGHTING
    • F21YINDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASSES F21K, F21L, F21S and F21V, RELATING TO THE FORM OR THE KIND OF THE LIGHT SOURCES OR OF THE COLOUR OF THE LIGHT EMITTED
    • F21Y2115/00Light-generating elements of semiconductor light sources
    • F21Y2115/30Semiconductor lasers
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/09Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping
    • H01S3/091Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping using optical pumping
    • H01S3/094Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping using optical pumping by coherent light
    • H01S3/0941Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping using optical pumping by coherent light of a laser diode
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/14Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range characterised by the material used as the active medium
    • H01S3/16Solid materials
    • H01S3/1601Solid materials characterised by an active (lasing) ion
    • H01S3/1603Solid materials characterised by an active (lasing) ion rare earth
    • H01S3/1605Solid materials characterised by an active (lasing) ion rare earth terbium
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/14Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range characterised by the material used as the active medium
    • H01S3/16Solid materials
    • H01S3/1601Solid materials characterised by an active (lasing) ion
    • H01S3/1603Solid materials characterised by an active (lasing) ion rare earth
    • H01S3/1613Solid materials characterised by an active (lasing) ion rare earth praseodymium

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Sustainable Development (AREA)
  • Lasers (AREA)
  • Semiconductor Lasers (AREA)

Description

本開示は、一般に、発光装置及び発光システムに関し、より詳細には、励起光を利用する発光装置及び発光システムに関するものである。
従来、発光装置として、固体光源と、光伝送ファイバと、を備える光源装置が提案されている(特許文献1)。光伝送ファイバは、第1端面及び第2端面を有し、固体光源から出射された励起光が第1端面から導入される。光伝送ファイバは、波長変換コアと、導光コアと、クラッドと、を有する。波長変換コアは、励起光を吸収して電子の反転分布状態を生成すると共に可視光領域の波長変換光を放出する波長変換材料を含む。導光コアは、波長変換コアの周囲を被覆し、波長変換光を第1端面側から第2端面側に伝送する。クラッドは、導光コアの周囲を被覆する。
光伝送ファイバは、導光コアを伝搬する波長変換光により誘導放出が生じ、固体光源から出射された励起光及び誘導放出により増幅された波長変換光が第2端面から出射するように構成されている。
励起光を利用する発光装置では、高出力化が望まれることがある。
特開2018-195627号公報
本開示の目的は、高出力化が可能な発光装置及び発光システムを提供することにある。
本開示に係る一態様の発光装置は、光増幅器を備え、前記光増幅器に互いに波長の異なる複数のシード光が入射されることで、前記光増幅器から出力光を出力する。前記光増幅器は、波長変換要素を含む媒質部を有する。前記光増幅器は、励起光によって前記波長変換要素を励起され、前記複数のシード光それぞれと同じ波長を有する複数の部分コヒーレント光を発生させることにより、多波長光を前記出力光として出力する。前記励起光は、前記複数のシード光それぞれよりも短波長であって前記媒質部に入射する。前記多波長光は、増幅された複数の光を含む。前記増幅された複数の光は、前記複数のシード光それぞれと同じ波長を有する。前記励起光は、前記光増幅器内の前記複数のシード光の伝搬方向に交差する方向から、前記媒質部に入射され、前記光増幅器は、前記媒質部に入射された前記励起光の一部を前記媒質部内での前記複数のシード光の伝搬方向に沿った方向に分散させる光学素子を更に有する。
本開示に係る一態様の発光装置は、光増幅器を備え、前記光増幅器に互いに波長の異なる複数のシード光が入射されることで、前記光増幅器から出力光を出力する。前記光増幅器は、波長変換要素を含む媒質部を有する。前記光増幅器は、励起光によって前記波長変換要素を励起され、前記複数のシード光それぞれと同じ波長を有する複数の部分コヒーレント光を発生させることにより、多波長光を前記出力光として出力する。前記励起光は、前記複数のシード光それぞれよりも短波長であって前記媒質部に入射する。前記多波長光は、増幅された複数の光を含む。前記増幅された複数の光は、前記複数のシード光それぞれと同じ波長を有する。前記媒質部は、板状である。前記媒質部は、前記媒質部の厚さ方向において互いに対向する第1面及び第2面を有する。前記媒質部は、前記第1面に前記励起光が入射される。前記発光装置は、前記媒質部の前記第2面に配置された放熱部を更に備える。
本開示に係る一態様の発光装置は、光増幅器を備え、前記光増幅器に互いに波長の異なる複数のシード光が入射されることで、前記光増幅器から出力光を出力する。前記光増幅器は、波長変換要素を含む媒質部を有する。前記光増幅器は、励起光によって前記波長変換要素を励起され、前記複数のシード光それぞれと同じ波長を有する複数の部分コヒーレント光を発生させることにより、多波長光を前記出力光として出力する。前記励起光は、前記複数のシード光それぞれよりも短波長であって前記媒質部に入射する。前記多波長光は、増幅された複数の光を含む。前記増幅された複数の光は、前記複数のシード光それぞれと同じ波長を有する。前記媒質部は、板状である。前記媒質部での前記励起光の吸収長が、前記媒質部の厚みよりも長い。
本開示に係る一態様の発光システムは、前記発光装置と、前記励起光を出力する第1光源ユニットと、前記複数のシード光を出力する第2光源ユニットと、を備える。
図1は、実施形態1に係る発光装置を備える発光システムの構成図である。 図2は、同上の発光装置を備える発光システムにおいて発光装置を分解した状態の構成図である。 図3Aは、同上の発光装置を備える発光システムの要部平面図である。図3Bは、同上の発光装置を備える発光システムの要部断面図である。 図4は、同上の発光装置を備える発光システムの動作説明図である。 図5は、同上の発光装置の動作原理の説明図である。 図6は、同上の発光装置の発光スペクトル図である。 図7は、実施形態1の発光装置を備える発光システムの他の例を示す構成図である。 図8は、実施形態1の発光装置を備える発光システムの更に他の例を示す構成図である。 図9は、実施形態1の変形例1に係る発光装置を備える発光システムの構成図である。 図10は、実施形態1の変形例2に係る発光装置の断面図である。 図11Aは、実施形態1の変形例3に係る発光装置を備える発光システムの要部平面図である。図11Bは、同上の発光装置を備える発光システムの要部断面図である。 図12Aは、実施形態1の変形例4に係る発光装置を備える発光システムの要部平面図である。図12Bは、同上の発光装置を備える発光システムの要部断面図である。 図13は、実施形態2に係る発光装置を備える発光システムの要部断面図である。 図14は、実施形態3に係る発光装置を備える発光システムの構成図である。 図15は、同上の発光装置を備える発光システムにおいて発光装置を分解した状態の構成図である。 図16は、実施形態4に係る発光装置における光増幅器の斜視図である。 図17は、同上の発光装置における光増幅器の材料として用いるフッ化物の屈折率-波長特性図である。 図18は、実施形態5に係る発光装置を備える発光システムの構成図である。 図19は、実施形態6に係る発光システムの構成図である。
下記の実施形態1~6等において説明する各図は、模式的な図であり、図中の各構成要素の大きさや厚さそれぞれの比が、必ずしも実際の寸法比を反映しているとは限らない。
(実施形態1)
以下では、実施形態1に係る発光装置1及び発光システム100について図1~6に基づいて説明する。
(1)概要
実施形態1に係る発光装置1は、光増幅器2を備え、光増幅器2に互いに波長の異なる複数のシード光P2が入射されることで、光増幅器2から出力光P5を出力する。
発光システム100は、発光装置1と、励起光P1(図4及び5参照)を出力する第1光源ユニット11と、複数のシード光P2を出力する第2光源ユニット12と、を備える。発光システム100は、第1光源ユニット11を2つ備えている。
発光装置1及び発光システム100は、例えば、照明器具、照明装置、照明システム、プロジェクタ、印刷機器、内視鏡光源等に適用することができる。発光装置1は、住宅用の機器、システム等に適用する場合に限らず、例えば、施設用の機器、システム等に適用してもよいし、移動体の機器、システム等に適用してもよい。移動体は、例えば、自動車、自転車、電車、飛行機、船舶、ドローン等である。
(2)発光装置の構成
実施形態1に係る発光装置1は、図1~4に示すように、光増幅器2を備える。また、実施形態1に係る発光装置1は、光増幅器2から出力された出力光P5を集光するレンズ17と、レンズ17により集光された光が入射される透過型回折格子18と、を更に備える。
光増幅器2は、波長変換要素(例えば、希土類元素)を含む媒質部20を有する。光増幅器2は、励起光P1(図4及び5参照)によって波長変換要素を励起され、複数のシード光P2それぞれと同じ波長を有する複数の部分コヒーレント光P3(図5参照)を発生させるとともに、シード光P2を増幅することにより、多波長光を出力光P5として出力する。励起光P1は、複数のシード光P2それぞれよりも短波長であって媒質部20に入射する。多波長光は、増幅された複数の光P4を含む。増幅された複数の光P4は、複数のシード光P2それぞれと同じ波長を有する。発光装置1は、光増幅器2から出力された出力光P5に含まれている複数の光P4をレンズ17と透過型回折格子18とによって合成した出力光P6を出力する。
媒質部20は、板状である。ここにおいて、媒質部20は、例えば、矩形板状である。媒質部20は、厚さ方向D1(図2及び3B参照)から見て、例えば、長方形状であるが、これに限らず、正方形状であってもよい。媒質部20は、媒質部20の厚さ方向D1(図3B参照)において互いに対向する第1面21及び第2面22を有する。ここにおいて、「対向する」とは物理的ではなく幾何学的に対向することを意味する。したがって、媒質部20は、第1面21と、第1面21とは反対側の第2面22と、を有する。媒質部20は、第1面21及び第2面22の各々に励起光P1が入射される。以下では、説明の便宜上、媒質部20の厚さ方向D1を第1方向D1と規定し、媒質部20において複数のシードP2の入射方向に沿った方向であり第1方向D1に直交する第2方向D2(図3A参照)と、第1方向D1と第2方向D2とに直交する第3方向D3(図3A参照)と、を規定して説明する。
また、媒質部20は、第2方向D2において互いに対向する光入射面23及び光出射面24を有する。ここにおいて、「対向する」とは物理的ではなく幾何学的に対向することを意味する。したがって、媒質部20は、光入射面23と、光入射面23とは反対側の光出射面24と、を有する。媒質部20では、光入射面23に複数のシード光P2が入射され、光出射面24から出力光P5が出力される。光入射面23において複数のシード光P2の各々が入射される領域は、第3方向D3において互いに離れている。
媒質部20は、透光性材料と、上述の波長変換要素と、を含む。媒質部20は、透光性材料と波長変換要素とを含む透明セラミックスであるが、これに限らず、例えば、透光性材料と波長変換要素とを含むガラス、又は、透光性材料と波長変換要素とを含む結晶であってもよい。媒質部20における波長変換要素の濃度は、媒質部20の第2方向D2に沿った長さ方向の全長に亘って略均一であってもよいし、均一でなくてもよい。
透光性材料は、例えば、フッ化物である。フッ化物は、例えば、フッ化カルシウム、フッ化ストロンチウム、フッ化バリウム等である。
波長変換要素は、希土類元素である。波長変換要素は、例えば、Pr、Tb、Ho、Dy、Er、Eu、Nd及びMnの群から選択される1以上の元素を含む。波長変換要素は、希土類元素のイオンとして媒質部20に含有されており、例えば、Prのイオン(Pr3+)と、Tbのイオン(Tb3+)と、を含む。
波長変換要素は、励起光P1によって励起されるが、励起光P1によって励起されるだけに限らず、自身とは別の波長変換要素から発せられた自然放出光を内部シード光として増幅された光、即ち自然放射増幅光(ASE)によって励起されてもよい。励起された波長変換要素は、その波長変換要素を構成する元素特有のASEを放出し、併せてシード光P2の波長と同じ波長の部分コヒーレント光P3(誘導放出光)を発生する。励起光P1は、例えば、青色光を含む。ここにおいて、青色光の波長は、例えば、420nm以上480nm未満であり、430nm以上470nm以下であるのが好ましい。青色光の波長は、例えば、440nm±5nmである。ASE及びシード光P2の波長は、励起光P1の波長よりも長波長である。Pr3+は、シアン~赤色の範囲でASEあるいはシード光の増幅光を放出できる材料である。誘導放出光の強度は、励起光P1、内部シード光(自然放出光)及びシード光P2の強さに依存する。媒質部20がPr3+とTb3+とを含有している場合、Tb3+は、Pr3+からのASEを吸収して励起され、Tb3+特有の波長のASEを発生することもできる。
Pr3+は、480nm、520nm、605nm及び640nmそれぞれの波長の誘導放出光を発生可能な材料である。また、Tb3+は、Pr3+からの波長480nmの光によって励起されて550nmの波長の誘導放出光を発生可能な材料である。
実施形態1に係る発光装置1では、光増幅器2は、光学素子25(図3B及び4参照)を更に有する。光学素子25は、媒質部20に入射された励起光P1の一部を媒質部20内での複数のシード光P2の伝搬方向に沿った方向に分散させる。光学素子25は、例えば、回折格子である。光増幅器2は、光学素子25を複数(例えば、32個)有している。複数の光学素子25は、媒質部20の第1面21及び第2面22に配置されている。以下では、説明の便宜上、媒質部20の第2面22に配置されている複数(例えば、16個)の光学素子25を光学素子25Aと称し、媒質部20の第1面21に配置されている複数(例えば、16個)の光学素子25を光学素子25Bと称することもある。光増幅器2では、光学素子25Aの数と、光学素子25Bの数とが、同じであるが、これに限らない。複数の光学素子25A及び複数の光学素子25Bは、第2方向D2(図3A参照)を行方向、第3方向D3(図3A参照)を列方向としたm(mは、4)×n(nは、4)のマトリクス状に並んでいる。複数の光学素子25Aは、第2方向D2及び第3方向D3それぞれにおいて互いに離れている。また、複数の光学素子25Bは、第2方向D2及び第3方向D3それぞれにおいて互いに離れている。複数の光学素子25Aと、複数の光学素子25Bとは、第1方向D1において重なっていない。第1方向D1から見て、第2方向D2において一直線上に並んでいるm個の光学素子25Aとm個の光学素子25Bとは、1個ずつ交互に並んでいる。
(3)発光装置の動作
発光装置1では、励起光P1は、媒質部20の第1面21及び第2面22に入射される。つまり、発光装置1では、励起光P1は、光増幅器2内の複数のシード光P2の伝搬方向に交差する方向から、媒質部20に入射される。ここにおいて、励起光P1は、第1光源ユニット11から出力されて媒質部20に入射される。発光装置1では、複数のシード光P2は、媒質部20の光入射面23に入射される。ここにおいて、複数のシード光P2は、第2光源ユニット12から出力され媒質部20に入射される。
複数のシード光P2の波長は、例えば、いずれも430nm以上720nm以下の範囲内にある。発光装置1を照明用途に用いる観点では、複数のシード光P2の波長は、いずれも430nm以上640nm以下の範囲内にあるのが好ましい。例えば、発光装置1を照明用途に用いる場合、演色性の高い白色光を出力する観点から、複数のシード光P2は、少なくとも、互いに波長の異なる4つのシード光P2を含むことが好ましい。以下では、説明の便宜上、4つのシード光P2(図5参照)のうち最も波長の短いシード光P2を第1シード光P21と称し、2番目に波長の短いシード光P2を第2シード光P22と称し、3番目に波長の短いシード光P2を第3シード光P23と称し、4番目に波長の短いシード光P2を第4シード光P24と称することもある。また、以下では、説明の便宜上、4つの部分コヒーレント光P3(図5参照)のうち最も波長の短い部分コヒーレント光P3を第1部分コヒーレント光P31と称し、2番目に波長の短い部分コヒーレント光P3を第3部分コヒーレント光P32と称し、3番目に波長の短い部分コヒーレント光P3を第3部分コヒーレント光P33と称し、4番目に波長の短い部分コヒーレント光P3を第4部分コヒーレント光P34と称することもある。
第1シード光P21、第2シード光P22、第3シード光P23及び第4シード光P24の波長は、それぞれ、例えば、482nm、523nm、605nm及び637nmである。この場合、第1部分コヒーレント光P31、第2部分コヒーレント光P32、第3部分コヒーレント光P33及び第4部分コヒーレント光P34の波長は、それぞれ、482nm、523nm、605nm及び637nmである。なお、第1シード光P21の波長が励起光P1の波長(例えば、430nm)の場合は、430nmのシード光P2の一部を出力光P5の一部として利用する観点では、媒質部20の長さが短いほうが好ましい。
図5は、波長変換要素としてPr3+を含む発光装置1の動作原理の模式的な説明図である。発光装置1では、媒質部20に、波長変換要素を励起するための励起光P1と、励起光P1によって励起された波長変換要素から部分コヒーレント光P3を発生させるための複数のシード光P2と、が入射される。図5の縦軸は、エネルギ(ここでは、電子エネルギ)である。また、図5の上向きの矢印は、励起光P1の吸収を示している。また、図5の下向きの矢印は、自然放出増幅光及び誘導放出光(部分コヒーレント光P3)に関する遷移を示している。図5中の電子eは、波長変換要素の有している電子である。
光増幅器2では、媒質部20に入射した励起光P1によって、波長変換要素の基底準位E0にあった電子eが励起準位E2に励起される。ここにおいて、基底準位E0は、互いにエネルギレベルの異なる第1エネルギ準位E01、第2エネルギ準位E02、第3エネルギ準位E03及び第4エネルギ準位E04を含む。ここにおいて、第1エネルギ準位E01<第2エネルギ準位E02<第3エネルギ準位E03<第4エネルギ準位E04である。
励起準位E2に励起された電子eは、励起準位E2よりもエネルギの低い準安定準位E1に遷移する。
媒質部20では、例えば、第4シード光P24によって準安定準位E1の電子eが第4エネルギ準位E04に遷移するときに、第4シード光P24と同じ波長(例えば、637nm)の誘導放出光(第4部分コヒーレント光P34)が発生する。第4シード光P24は、準安定準位E1と基底準位E0の第4エネルギ準位E04とのエネルギ差に相当する波長のシード光P2である。
また、媒質部20では、例えば、第3シード光P23によって準安定準位E1の電子eが第3エネルギ準位E03に遷移するときに、第3シード光P23と同じ波長(例えば、605nm)の誘導放出光(第3部分コヒーレント光P33)が発生する。第3シード光P23は、準安定準位E1と基底準位E0の第3エネルギ準位E03とのエネルギ差に相当する波長のシード光P2である。
また、媒質部20では、例えば、第2シード光P22によって準安定準位E1の電子eが第2エネルギ準位E02に遷移するときに、第2シード光P22と同じ波長(例えば、523nm)の誘導放出光(第2部分コヒーレント光P32)が発生する。第2シード光P22は、準安定準位E1と基底準位E0の第2エネルギ準位E02とのエネルギ差に相当する波長のシード光P2である。
また、媒質部20では、例えば、第1シード光P21によって準安定準位E1の電子eが第1エネルギ準位E01に遷移するときに、第1シード光P21と同じ波長(例えば、482nm)の誘導放出光(第1部分コヒーレント光P31)が発生する。第1シード光P21は、準安定準位E1と基底準位E0の第1エネルギ準位E01とのエネルギ差に相当する波長のシード光P2である。
発光装置1は、光増幅器2から出力された出力光P5に含まれている複数の光P4をレンズ17と透過型回折格子18とによって合成した出力光P6を出力する。出力光P6は、例えば、白色光である。図1では、複数の光P4のうち第1シード光P21と同じ波長の光P4を光P41とし、第2シード光P22と同じ波長の光P4を光P42とし、第3シード光P23と同じ波長の光P4を光P43とし、第4シード光P24と同じ波長の光P4を光P44として図示してある。
(4)発光システムの構成
発光システム100は、上述のように、発光装置1と、第1光源ユニット11と、第2光源ユニット12と、を備える。また、発光システム100は、第1光源ユニット11及び第2光源ユニット12を制御する制御システムを更に備える。
(4.1)第1光源ユニット
第1光源ユニット11は、光増幅器2の媒質部20に含まれる波長変換要素を励起するための励起光P1(図4参照)を出力する。第1光源ユニット11は、例えば、実装基板110と、複数の固体発光素子113と、を有する。実装基板110は、第1主面111と、第1主面111とは反対側の第2主面112と、を有する。複数の固体発光素子113は、実装基板110の第1主面111に実装されている。
実装基板110は、例えば、プリント配線板であるが、これに限らず、例えば、セラミック基板、立体配線基板等でもよい。
複数の固体発光素子113の各々は、例えば、レーザ光源である。レーザ光源は、例えば、青色のレーザ光を出射する半導体レーザである。第1光源ユニット11は、複数の固体発光素子113の各々から出射されるレーザ光を励起光P1として出力する。この場合、励起光P1は、例えば、440nm以上450nm以下である。レーザ光源は、青色のレーザ光を出射する半導体レーザに限らず、例えば、紫色のレーザ光を出射する半導体レーザであってもよい。また、複数の固体発光素子113の各々は、LED(Light Emitting Diode)であってもよい。
励起光P1を光増幅器2へ入射するための光結合方式は、例えば、空間結合であるが、これに限らない。
以下では、説明の便宜上、2つの第1光源ユニット11のうち媒質部20の第1面21に向かって配置された第1光源ユニット11を第1光源ユニット11Aと称し、媒質部20の第2面22に向かって配置された第1光源ユニット11を第1光源ユニット11Bと称することもある。
発光システム100では、第1光源ユニット11Aから出力された励起光P1は、媒質部20の第1面21へ入射される。ここにおいて、媒質部20の第1面21では、第1方向D1において第1光源ユニット11Aの複数の固体発光素子113の各々に重なる領域に励起光P1が入射される。媒質部20の第2面22では、第1方向D1において第1光源ユニット11Aの複数の固体発光素子113の各々に重なる領域に、上述の光学素子25Aが配置されている。
発光システム100では、第1光源ユニット11Bから出力された励起光P1は、媒質部20の第2面22へ入射される。ここにおいて、媒質部20の第2面22では、第1方向D1において第1光源ユニット11Bの複数の固体発光素子113の各々に重なる領域に励起光P1が入射される。媒質部20の第1面21では、第1方向D1において第1光源ユニット11Bの複数の固体発光素子113の各々に重なる領域に、上述の光学素子25Bが配置されている。
(4.2)第2光源ユニット
実施形態1に係る発光システム100では、第2光源ユニット12は、図1及び2に示すように、多波長光源120と、コリメートレンズ13と、透過型回折格子14と、レンズ15と、を有する。
多波長光源120は、複数のシード光P2を含む多波長光P20を出力する。多波長光P20は、インコヒーレント光であり、かつ、指向性を有する。
コリメートレンズ13は、多波長光源120から出力された多波長光P20をコリメートする。
透過型回折格子14は、コリメートレンズ13によってコリメートされた多波長光P20を複数(例えば、4つ)のシード光P2に分光させる。透過型回折格子14の材料は、例えば、石英であるが、これに限らない。
レンズ15は、透過型回折格子14によって分光された複数(4つ)のシード光P2を光増幅器2における媒質部20の光入射面23の互いに異なる複数(4つ)の領域に入射させる。
(4.3)制御システム
制御システムは、2つの第1光源ユニット11を駆動する第1駆動回路と、第2光源ユニット12を駆動する第2駆動回路と、第1駆動回路及び第2駆動回路を制御する制御部と、を有する。
制御部は、コンピュータシステムを含んでいる。コンピュータシステムは、ハードウェアとしてのプロセッサ及びメモリを主構成とする。コンピュータシステムのメモリに記録されたプログラムをプロセッサが実行することによって、本開示における制御部としての機能が実現される。プログラムは、コンピュータシステムのメモリに予め記録されていてもよく、電気通信回線を通じて提供されてもよく、コンピュータシステムで読み取り可能なメモリカード、光学ディスク、ハードディスクドライブ等の非一時的記録媒体に記録されて提供されてもよい。コンピュータシステムのプロセッサは、半導体集積回路(IC)又は大規模集積回路(LSI)を含む1ないし複数の電子回路で構成される。ここでいうIC又はLSI等の集積回路は、集積の度合いによって呼び方が異なっており、システムLSI、VLSI(Very Large Scale Integration)、又はULSI(Ultra Large Scale Integration)と呼ばれる集積回路を含む。さらに、LSIの製造後にプログラムされる、FPGA(Field-Programmable Gate Array)、又はLSI内部の接合関係の再構成若しくはLSI内部の回路区画の再構成が可能な論理デバイスについても、プロセッサとして採用することができる。複数の電子回路は、1つのチップに集約されていてもよいし、複数のチップに分散して設けられていてもよい。複数のチップは、1つの装置に集約されていてもよいし、複数の装置に分散して設けられていてもよい。ここでいうコンピュータシステムは、1以上のプロセッサ及び1以上のメモリを有するマイクロコントローラを含む。したがって、マイクロコントローラについても、半導体集積回路又は大規模集積回路を含む1ないし複数の電子回路で構成される。
(5)発光システムの動作
発光システム100では、発光装置1の光増幅器2の媒質部20に対して、第1光源ユニット11から励起光P1を入射させ、第2光源ユニット12から複数のシード光P2を入射させる。これにより、発光システム100では、発光装置1の光増幅器2から、多波長光を出力光P5として出力させる。また、発光システム100は、光増幅器2から出力された出力光P5に含まれている複数の光P4をレンズ17と透過型回折格子18とによって合成した出力光P6を出力する。
出力光P6のスペクトルは、例えば、図6に示すように、波長440nm、482nm、523nm、550nm、605nm及び637nmそれぞれに輝線を有する。図6に示すような離散的なスペクトルを有する出力光P6の演色評価数Raは、80程度である。
(6)まとめ
実施形態1に係る発光装置1は、光増幅器2を備え、光増幅器2に互いに波長の異なる複数のシード光P2が入射されることで、光増幅器2から出力光P5を出力する。光増幅器2は、波長変換要素を含む媒質部20を有する。光増幅器2は、励起光P1によって波長変換要素を励起され、複数のシード光P2それぞれと同じ波長を有する複数の部分コヒーレント光P3を発生させることにより、多波長光を出力光P5として出力する。励起光P1は、複数のシード光P2それぞれよりも短波長であって媒質部20に入射する。多波長光は、増幅された複数の光P4を含む。増幅された複数の光P4は、複数のシード光P2それぞれと同じ波長を有する。
実施形態1に係る発光装置1は、高出力化を図ることが可能となる。
また、実施形態に係る発光装置1では、励起光P1は、光増幅器2内の複数のシード光P2の伝搬方向に交差する方向から、媒質部20に入射される。これにより、実施形態1に係る発光装置1は、増幅された複数の光P4それぞれの強度を、より大きくすることが可能となる。
また、実施形態1に係る発光装置1では、光増幅器2が、媒質部20に入射された励起光P1の一部を媒質部20内での複数のシード光P2の伝搬方向に沿った方向に分散させる光学素子25を有するので、励起光P1を出力光P5に利用することが可能となる。
実施形態1に係る発光システム100は、発光装置1と、第1光源ユニット11と、第2光源ユニット12と、を備えるので、高出力化を図ることが可能となる。
発光システム100は、図7に示すように、空間光変調器(SLM:Spatial Light Modulator)16を更に備えていてもよい。
空間光変調器16は、第2光源ユニット12に含まれており、透過型回折格子14とレンズ15との間に配置されている。これにより、空間光変調器16には、透過型回折格子14によって分光された複数のシード光P2が入射する。空間光変調器16は、例えば、液晶パネルである。液晶パネルは、例えば、制御部によって制御されて複数のシード光P2それぞれに対する透過率を調整できる。これにより、空間光変調器16は、複数のシード光P2それぞれの強度を調整することができる。
発光システム100は、空間光変調器16を備えることにより、光増幅器2から出力する出力光P4の色度を調整することが可能となる。
また、発光システム100では、図8に示すように、第1光源ユニット11Aが、媒質部20の第1面21の法線に対して傾いた方向から励起光P1を媒質部20の第1面21に入射させるように構成されていてもよい。この場合、発光装置1では、媒質部20での励起光P1の吸収長が、媒質部20の厚みよりも長くなる。これにより、発光システム100は、媒質部20の第1面21から媒質部20内に入った励起光P1が媒質部20において波長変換要素を励起しやすくなる。
また、発光システム100では、図8に示すように、第1光源ユニット11Bが、媒質部20の第2面22の法線に対して傾いた方向から励起光P1を媒質部20の第2面22に入射させるように構成されていてもよい。この場合、発光装置1では、媒質部20での励起光P1の吸収長が、媒質部20の厚みよりも長くなる。これにより、発光システム100は、媒質部20の第2面22から媒質部20内に入った励起光P1が媒質部20において波長変換要素を励起しやすくなる。
(7)実施形態1の変形例
(7.1)変形例1
実施形態1の変形例1に係る発光装置1は、図9に示すように、光拡散部30を更に備える点で、実施形態1に係る発光装置1と相違する。変形例1に係る発光装置1に関し、実施形態1に係る発光装置1と同様の構成要素には同一の符号を付して説明を省略する。
光拡散部30は、例えば、ガラス製の光拡散板である。光拡散部30は、光増幅器2から出力された出力光P5を拡散させる。ここにおいて、発光装置1は、光増幅器2から出力された出力光P5に含まれている複数の光P4をレンズ17と透過型回折格子18とによって合成した出力光P6を、光拡散部30によって拡散させる。光拡散部30は、出力光P6を出力光P6の配光特性とは異なる配光特性の出力光P7に変換する機能を有する。光拡散部30から出力される出力光P7は、出力光P6よりもコヒーレンスの低い光であり、照明光として好ましい光である。
実施形態1の変形例1に係る発光装置1は、実施形態1に係る発光装置1と同じ光増幅器2を備えるので、高出力化が可能となる。
また、実施形態1の変形例1に係る発光装置1及び発光システム100は、光拡散部30を備えるので、光増幅器2から出力された出力光P5よりもコヒーレンスの低い光を出射させることが可能となる。
(7.2)変形例2
実施形態1の変形例2に係る発光装置1は、図10に示すように、実施形態1に係る発光装置1の光学素子25の代わりに、光反射部26を備える点で、実施形態1に係る発光装置1と相違する。変形例2に係る発光装置1に関し、実施形態1に係る発光装置1と同様の構成要素には同一の符号を付して説明を省略する。
光反射部26は、第1光源ユニット11から出力されて媒質部20を媒質部20の厚さ方向D1(図3B参照)に透過した励起光P1を反射する。これにより、実施形態1の変形例2に係る発光装置1では、媒質部20の第2面22から媒質部20内に入った励起光P1が媒質部20において波長変換要素を励起しやすくなる。
光反射部26は、例えば、金属膜、反射フィルタ(光学多層膜)等である。
光反射部26は、励起光P1を媒質部20内での複数のシード光P2の伝搬方向に沿った方向に分散させるように構成されていてもよい。
(7.3)変形例3
実施形態1の変形例3に係る発光装置1では、図11A及び11Bに示すように、媒質部20が、互いに波長変換要素の種類と濃度との少なくとも一方が異なる複数(例えば、2つ)の波長変換領域201、202を含む。変形例3に係る発光装置1に関し、実施形態1に係る発光装置1と同様の構成要素には同一の符号を付して説明を省略する。
複数の波長変換領域201、202は、複数のシード光P2(図4参照)の伝搬方向に並んでいる。言い換えれば、複数の波長変換領域201、202は、光入射面23から光出射面24に向かう方向に並んでいる。媒質部20では、複数の波長変換領域201、202のうち最も光入射面23に近い波長変換領域201は、2番目に光入射面23に近い波長変換領域202と比べて、Pr3+の濃度が高く、Tb3+の濃度が低くなっている。これにより、実施形態1の変形例3に係る発光装置1は、波長変換領域201のPr3+で発生させた光を波長変換領域202のTb3+の励起光として利用しやすくなる。
媒質部20では、複数の波長変換領域201、202のうち最も光入射面23に近い波長変換領域201が波長変換要素としてPrのみを含み、波長変換領域202がTbのみを含んでいてもよい。また、媒質部20に含まれる複数の波長変換領域の数は、2つに限らず、3つ以上であってもよい。
(7.4)変形例4
実施形態1の変形例4に係る発光装置1では、図12A及び12Bに示すように、媒質部20が、複数のシード光P2(図1参照)それぞれが入射される複数(例えば、4つ)の波長変換部211、212、213、214を含む。変形例4に係る発光装置1に関し、実施形態1に係る発光装置1と同様の構成要素には同一の符号を付して説明を省略する。
複数の波長変換部211、212、213、214は、第3方向D3に並んでいる。複数の波長変換部211、212、213、214は、互いに波長変換要素の種類と濃度との少なくとも一方が異なる。これにより、実施形態1の変形例4に係る発光装置1では、複数の光P41、P42、P43、P44(図1参照)それぞれの強度を個別に設計しやすくなる。
なお、発光装置1は、変形例4に係る発光装置1における媒質部20の構成と変形例3に係る発光装置1における媒質部20の構成とを組み合わせてもよい。
(7.5)その他の変形例
例えば、発光装置1では、媒質部20の第2面22に配置されている光学素子25Aは、媒質部20の厚さ方向D1において第1面21と第2面22との間で第1面21及び第2面22から離れた位置に配置されていてもよい。また、媒質部20の第1面21に配置されている光学素子25Bは、媒質部20の厚さ方向D1において第1面21と第2面22との間で第1面21及び第2面22から離れた位置に配置されていてもよい。
また、発光システム100では、第2光源ユニット12が多波長光源120とコリメートレンズ13と透過型回折格子14とを有しているが、第2光源ユニット12の構成はこれに限定されない。例えば、第2光源ユニット12は、互いに異なる波長の複数のシード光P2を出力する複数のLEDと、複数のLEDに一対一に対応し、複数のシード光P2それぞれをコリメートする複数のコリメートレンズと、を有している構成であってもよい。
また、発光装置1では、複数のシード光P2のうち1つのシード光P2を近赤外光とし、Pr3+で発生した波長480nmの光、Tb3+で発生した波長530nmの光又は波長540nmの光を励起源として近赤外光を部分コヒーレント光P3として発生させるようにしてもよい。この場合、発光装置1は、可視光だけを出力させてもよいし、近赤外光だけを出力させてもよいし、可視光と近赤外光との両方を出力させてもよい。発光装置1では、例えば、可視光だけを出力させる場合、可視光の演色性を向上させることが可能となる。
(実施形態2)
以下、実施形態2に係る発光装置1a及び発光システム100aについて図13に基づいて説明する。
実施形態2に係る発光装置1aは、媒質部20の第2面22上に配置されている放熱部27を更に備える点で、実施形態1に係る発光装置1と相違する。発光システム100aは、実施形態1に係る発光装置1の代わりに発光装置1aを備え、第1光源ユニット11Bを備えていない点で、実施形態1に係る発光システム100と相違する。
放熱部27は、例えば、媒質部20の第2面22に接しているプレート部271と、プレート部271から媒質部20側とは反対側に突出した複数のフィン272と、を有している。放熱部27の熱伝導率は、媒質部20の熱伝導率よりも高い。放熱部27の材料は、例えば、金属(アルミニウム等)又は合金を含む。プレート部271の材料と複数のフィン272の材料とは同じであるが、これに限らず、異なっていてもよい。
プレート部271は、媒質部20の第2面22の全域を覆っているが、これに限らず、媒質部20の第2面22の一部のみを覆っていてもよい。放熱部27の構造は特に限定されない。放熱部27は、例えば、プレート部271と複数のフィン272とのうちプレート部271のみを有する構造であってもよい。また、放熱部27は、ペルチェ素子であってもよい。
実施形態2に係る発光装置1aは、放熱部27を有することにより、媒質部20の温度上昇を抑制することが可能となり、出力光P5(図1参照)の特性変動を抑制することが可能となる。
(実施形態3)
以下、実施形態3に係る発光装置1b及び発光システム100bについて図14及び15に基づいて説明する。実施形態3に係る発光装置1b及び発光システム100bに関し、実施形態1に係る発光装置1及び発光システム100と同様の構成要素には同一の符号を付して説明を省略する。
実施形態3に係る発光システム100bでは、第2光源ユニット12が、レンズ15と光増幅器2との間に配置されたレンズアレイ19を更に備える。レンズアレイ19は、複数のシード光P2に一対一に対応する複数のレンズ190を有する。複数のレンズ190は、透過型回折格子14で分光された複数のシード光P2のうち対応するシード光P2をコリメートするためのレンズである。レンズアレイ19における複数のレンズ190は、一体であってもよいし、別体であってもよい。
また、実施形態3に係る発光システム100bは、実施形態1に係る発光装置1のレンズ17及び透過型回折格子18を備えておらず、増幅された複数の光P4を合成せずに出力する。ここにおいて、実施形態3に係る発光装置1b及び発光システム100bでは、増幅された複数の光P4が直接出力される。なお、実施形態3に係る発光装置1b及び発光システム100bでは、増幅された複数の光P4を含む出力光P5を、増幅された複数の光P4を合成させないような透光性部材を通して出力してもよい。また、増幅された複数の光P4は、発光装置1b及び発光システム100bからの光が照射される照射面において合成されてもよい。
実施形態3に係る発光装置1bでは、例えば、発光装置1bを照明光源として利用する照明器具等において配光設計の自由度が高くなる。
(実施形態4)
以下、実施形態4に係る発光装置1cについて図16に基づいて説明する。
実施形態4に係る発光装置1cは、実施形態1に係る発光装置1の光増幅器2の代わりに、光増幅器2cを備える点で、実施形態1に係る発光装置1と相違する。実施形態4に係る発光装置1cに関し、実施形態1に係る発光装置1と同様の構成要素には同一の符号を付して説明を省略する。
光増幅器2cは、光増幅器2の媒質部20の代わりに、媒質部20cを有している。媒質部20cは、円柱状である。媒質部20cでは、長手方向の一方の端面が光入射面23を構成し、他方の端面が光出射面24を構成している。
光増幅器2cは、媒質部20cをコア28としており、コア28の外周面を覆っているクラッド29を更に有している。コア28に関し、光軸方向に直交する断面形状は、円形状である。クラッド29は、コア28と同軸状に配置されている。
クラッド29の屈折率は、コア28の屈折率よりも小さい。クラッド29は、コア28の含有している波長変換要素を含まない。クラッド29の熱伝導率は、コア28の熱伝導率よりも大きい。コア28の材料としては、例えば、母材であるフッ化物として、フッ化カルシウム、フッ化ストロンチウム、フッ化バリウムを採用することができ、波長変換要素として、Pr及びTbを採用することができる。また、クラッド29の材料としては、例えば、フッ化マグネシウム、フッ化カリウム、フッ化ストロンチウムを採用することができる。
図17は、上述のフッ化物の屈折率-波長特性図を示す。図17には、フッ化カルシウム、フッ化ストロンチウム、フッ化バリウム及びフッ化マグネシウムそれぞれの屈折率も示してある。なお、フッ化マグネシウムの屈折率は、平均屈折率である。
また、下記表1は、コア28の材料とクラッド29の材料との複数の組み合わせと、各組合せでの開口数(NA)と、の関係を示す。
Figure 0007457953000001
光増幅器2cは、光増幅器2cよりもコア径の小さな光ファイバと同様に開口数を定義することができる。したがって、光増幅器2cの開口数は、下記の式(1)によって定義される。
Figure 0007457953000002
ここにおいて、NAは、開口数である。nは、媒質部20cの光入射面23に接している媒質(例えば、空気)の屈折率である。θinmaxは、媒質部20cへのシード光P2(図1参照)の最大入射角である。ncoreは、コア28の屈折率である。ncladは、クラッド29の屈折率である。
光増幅器2cでは、クラッド29の外からクラッド29を通してコア28に励起光P1(図4参照)が入射される。また、光増幅器2cでは、媒質部20cの光入射面23には、媒質部20の光入射面23と同様、複数のシード光P2が入射される。
実施形態4に係る発光装置1cは、光増幅器2cを備えるので、高出力化が可能となる。実施形態4に係る発光装置1cでは、光増幅器2cにおいてコア28で発生した熱がクラッド29を通して放熱される。これにより、実施形態4に係る発光装置1cでは、放熱性の向上を図れる。
(実施形態5)
以下、実施形態5に係る発光システム100dについて図18に基づいて説明する。
発光システム100dは、複数(例えば、3つ)の光増幅器2と、各々が励起光P1(図5参照)を出力する複数(例えば、2つ)の第1光源ユニット11と、複数(例えば、3つ)のシード光P2(図5参照)それぞれを出力する複数の第2光源121、122、123を含む第2光源ユニット12と、を備える。また、発光システム100dは、2つのコンバイナ31、32と、2つの第1光結合器41、42と、2つの第2光結合器51、52と、2つの光ファイバ61、62と、を更に備える。実施形態5に係る発光システム100dに関し、実施形態1に係る発光システム100と同様の構成要素には同一の符号を付して説明を省略する。
2つの第1光源ユニット11の各々は、例えば、波長442nmの青色光を出力する半導体レーザである。青色光の波長は、例えば、442nmである。また、第2光源121は、例えば、第1光源ユニット11よりも長波長(例えば、450nm)の青色光をシード光P2(図5参照)として出力する半導体レーザである。第2光源122は、例えば、第2光源121よりも長波長(例えば、550nm)の緑色光をシード光P2として出力する半導体レーザである。第2光源123は、例えば、第2光源122よりも長波長(例えば、637nm)の赤色光をシード光P2として出力する半導体レーザである。
コンバイナ31には、2つの第1光源ユニット11のうち一方の第1光源ユニット11からの励起光P1(青色光)と、第2光源121からのシード光P2(青色光)と、第2光源123からのシード光P2(赤色光)とが、入射される。コンバイナ32には、2つの第1光源ユニット11のうち他方の第1光源ユニット11からの励起光P1(青色光)と、第2光源122からのシード光P2(緑色光)と、が入射される。
複数の光増幅器2の各々は、実施形態4に係る発光装置1cの光増幅器2cと同様、図16に示したように、媒質部20cとしてのコア28と、クラッド29と、を有する。
発光システム100dでは、複数の光増幅器2のうち光増幅器2Aのコア28が波長変換要素としてPr3+を含み、光増幅器2Bのコア28がPr3+を含み、光増幅器2Cのコア28が波長変換要素としてTb3+を含んでいる。光増幅器2Aは、第1光結合器41を介してコンバイナ31と結合されている。光増幅器2Bは、第1光結合器42を介してコンバイナ32と結合されている。光増幅器2Cは、光増幅器2Bと一体である。つまり、光増幅器2Cのコア28と光増幅器2Bのコア28とはつながっており、光増幅器2Cのクラッド29と光増幅器2Bのクラッド29とはつながっている。各第1光結合器41、42は、例えば、光ファイバ型カプラであるが、これに限らず、導波路型カプラ、多波長コンバイナ等であってもよい。
光増幅器2Aからは、少なくとも、波長450nmのシード光P2と同じ波長の青色光と、波長637nmのシード光P2と同じ波長の赤色光と、を含む出力光が出力される。また、光増幅器2Bからは、少なくとも、波長484nmの部分コヒーレント光P3(図5参照)と波長550nmのシード光P2とを含む出力光が出力される。また、光増幅器2Cからは、少なくとも、波長550nmのシード光P2と同じ波長の緑色光を含む出力光が出力される。
光増幅器2Aは、第2光結合器51を介して光ファイバ61と結合されている。光増幅器2Cは、第2光結合器52を介して光ファイバ62と結合されている。光ファイバ61及び光ファイバ62は、光伝送用の光ファイバである。各第2光結合器51、52は、例えば、光ファイバ型カプラであるが、これに限らず、導波路型カプラ、多波長コンバイナ等であってもよい。
発光システム100dは、光ファイバ61における第2光結合器51側とは反対側の端部と、光ファイバ62における第2光結合器52側とは反対側の端部とが、結合されており、光ファイバ61を伝送されてきた青色光及び赤色光と、光ファイバ62を伝送されてきた緑色光と、が合成された白色光からなる出力光P8を出力する。
(実施形態6)
以下、実施形態6に係る発光システム100eについて図19に基づいて説明する。
発光システム100eは、実施形態1に係る発光システム100の第2光源ユニット12の代わりに、第2光源ユニット12eを備える点で、実施形態1に係る発光システム100と相違する。実施形態6に係る発光システム100eに関し、実施形態1に係る発光システム100と同様の構成要素には同一の符号を付して説明を省略する。
第2光源ユニット12eは、光ファイバ124と、励起光源125と、複数のシード光源126、127と、を備える。
光ファイバ124は、コアと、クラッドと、を有する。光ファイバ124のコアは、波長変換要素(例えば、Pr3+及びTb3+)を含んでいる。コアは、第1端面及び第2端面を有する。コアは、第1端面と第2端面との間の全長にわたって波長変換要素を含んでいるが、これに限らず、第1端面と第2端面との間の一部の領域のみに波長変換要素を含んでいてもよい。光ファイバ124の波長変換要素は、励起光源125からの励起光によって励起され励起光よりも長波長の自然放出光を発生可能であり、かつ、自然放射増幅光によって励起可能である。
励起光源125は、光ファイバ124の波長変換要素を励起するための励起光を出力する。励起光源125は、例えば、励起光として青色光を出力する半導体レーザを含む。青色光の波長は、例えば、440nm以上450nmである。
複数のシード光源126、127は、励起光源125から出力される励起光よりも長波長の光であって互いに異なる波長のシード光を出力する。シード光源126は、例えば、シード光として緑色光を出力する半導体レーザを含む。また、シード光源127は、例えば、シード光として赤色光を出力する半導体レーザを含む。
複数のシード光源126、127は、励起光あるいは自然放射増幅光によって励起された波長変換要素から誘導放出光を発生させるためのシード光を出力する。誘導放出光の波長は、シード光の波長と同じである。ここにおいて、光ファイバ124では、自然放射増幅光の一部をシード光として利用することができる。
第2光源ユニット12eは、励起光源125及び複数のシード光源126、127と光ファイバ124との間に配置されているコンバイナ128を更に備える。また、第2光源ユニット12eは、コンバイナ128と光ファイバ124との間に配置されている光結合部129を更に備える。光結合部129は、例えば、レンズを含む。
励起光源125からの励起光及び複数のシード光源126、127からのシード光は、コンバイナ128と光結合部129とを通して光ファイバ124のコアの第1端面に入射される。
第2光源ユニット12eは、光ファイバ124と光増幅器2との間に配置されている光結合部130を更に備える。光結合部130は、例えば、レンズを含む。
光ファイバ124のコアの第2端面から出射される光は、光結合部130を通して光増幅器2の媒質部20の光入射面23に入射される。したがって、光増幅器2には、光ファイバ124から出射される光(混色光)に含まれ互いに波長の異なる誘導放出光が、複数のシード光P2(図1及び5参照)として入射される。第2光源ユニット12eから出力される光は、例えば、白色光である。第2光源ユニット12eから出力される光は、インコヒーレント光である。したがって、光増幅器2に入射される複数のシード光P2は、第2光源ユニット12eの複数のシード光源126、127それぞれと同じ波長の光である。
光増幅器2には、実施形態1の発光システム100と同様、第1光源ユニット11(図4参照)から励起光P1(図4参照)が入射される。
発光システム100eは、光結合器53及び光ファイバ63を更に備える。発光システム100eでは、光増幅器2における媒質部20の光出射面24は、光結合器53を介して光ファイバ63と光結合されている。光結合器53は、例えば、レンズ17(図1参照)及び透過型回折格子18(図1参照)を含む。光ファイバ63は、光伝送用の光ファイバである。
発光システム100eでは、光増幅器2から出力された光が光結合器53を介して光ファイバ63を伝送される。発光システム100eは、光ファイバ63から、例えば、白色光からなる出力光P8を出力する。
(変形例)
上記の実施形態1~6は、本開示の様々な実施形態の一つに過ぎない。上記の実施形態1~6は、本開示の目的を達成できれば、設計等に応じて種々の変更が可能である。
(態様)
以上説明した実施形態1~6等から本明細書には以下の態様が開示されている。
第1の態様に係る発光装置(1;1a;1b;1c)は、光増幅器(2;2c)を備え、光増幅器(2;2c)に互いに波長の異なる複数のシード光(P2)が入射されることで、光増幅器(2;2c)から出力光を出力する。光増幅器(2;2c)は、波長変換要素を含む媒質部(20;20c)を有する。光増幅器(2;2c)は、励起光(P1)によって波長変換要素を励起され、複数のシード光(P2)それぞれと同じ波長を有する複数の部分コヒーレント光(P3)を発生させることにより、多波長光を出力光(P5)として出力する。励起光(P1)は、複数のシード光(P2)それぞれよりも短波長であって媒質部(20;20c)に入射する。多波長光は、増幅された複数の光(P4)を含む。増幅された複数の光(P4)は、複数のシード光(P2)それぞれと同じ波長を有する。
第1の態様に係る発光装置(1;1a;1b;1c)では、高出力化が可能となる。
第2の態様に係る発光装置(1;1a;1b;1c)では、第1の態様において、複数の部分コヒーレント光(P3)の波長は、いずれも480nm以上640nm以下の範囲内にある。
第2の態様に係る発光装置(1;1a;1b;1c)では、シード光(P2)の波長の選択肢が多くなり、シード光(P2)の数をより多くすることが可能となる。
第3の態様に係る発光装置(1;1a;1b;1c)では、第1又は2の態様において、複数の部分コヒーレント光(P3)は、少なくとも、互いに波長の異なる4つの部分コヒーレント光(P31,P32,P33,P34)を含む。
第3の態様に係る発光装置(1;1a;1b;1c)では、出力光(P5)の演色性を高めることが可能となる。
第4の態様に係る発光装置(1;1a;1b;1c)では、第1~3の態様のいずれか一つにおいて、励起光(P1)は、青色光を含む。
第4の態様に係る発光装置(1;1a;1b;1c)では、シード光(P2)の波長の選択肢が多くなり、シード光(P2)の数をより多くすることが可能となる。
第5の態様に係る発光装置(1;1a;1b;1c)では、第1~4の態様のいずれか一つにおいて、励起光(P1)は、光増幅器(2;2c)内の複数のシード光(P2)の伝搬方向に交差する方向から、媒質部(20;20c)に入射される。
第5の態様に係る発光装置(1;1a;1b;1c)では、増幅された複数の光(P4)それぞれの強度を、より大きくすることが可能となる。
第6の態様に係る発光装置(1;1a;1b)では、第5の態様において、光増幅器(2)は、光学素子(25)を更に有する。光学素子(25)は、媒質部(20)に入射された励起光(P1)の一部を媒質部(20)内での複数のシード光(P2)の伝搬方向に沿った方向に分散させる。
第6の態様に係る発光装置(1;1a;1b)では、励起光(P1)を出力光(P5)に利用することが可能となる。
第7の態様に係る発光装置(1;1a;1b)では、第1~6の態様のいずれか一つにおいて、媒質部(20)は、板状である。媒質部(20)は、媒質部(20)の厚さ方向(D1)において互いに対向する第1面(21)及び第2面(22)を有する。媒質部(20)は、第1面(21)に励起光(P1)が入射される。発光装置(1;1a;1b)は、媒質部(20)の第2面(22)に配置された放熱部(27)を更に備える。
第7の態様に係る発光装置(1;1a;1b)は、放熱部(27)を有することにより、媒質部(20)の温度上昇を抑制することが可能となり、出力光(P5)の特性変動を抑制することが可能となる。
第8の態様に係る発光装置(1;1a;1b)では、第1~7の態様のいずれか一つにおいて、媒質部(20)は、板状である。媒質部(20)での励起光(P1)の吸収長が、媒質部(20)の厚みよりも長い。
第8の態様に係る発光装置(1;1a;1b)では、波長変換要素が励起光(P1)により励起されやすくなる。
第9の態様に係る発光装置(1;1a;1b;1c)では、第1~8の態様のいずれか一つにおいて、媒質部(20)は、複数のシード光(P2)の伝搬方向に並んでいる複数の波長変換領域(201,202)を含む。
第9の態様に係る発光装置(1;1a;1b;1c)では、光入射面(23)に近い波長変換領域(201)の波長変換要素(Pr3+)で発生させた光を光入射面(23)から遠い波長変換領域(202)の波長変換要素(Tb3+)の励起光として利用しやすくなる。
第10の態様に係る発光装置(1;1a;1b;1c)では、第1~9の態様のいずれか一つにおいて、媒質部(20)は、複数のシード光(P2)それぞれが入射される複数の波長変換部(211,212,213,214)を含む。
第10の態様に係る発光装置(1;1a;1b;1c)では、複数の光(P4)それぞれの強度を個別に設計しやすくなる。
第11の態様に係る発光装置(1;1a;1b;1c)は、第1~10の態様のいずれか一つにおいて、光拡散部(30)を更に備える。光拡散部(30)は、光増幅器(2;2c)から出力された出力光(P5)を拡散させる。
第11の態様に係る発光装置(1;1a;1b;1c)では、光増幅器(2;2c)から出力された出力光(P5)よりもコヒーレンスの低い光を出射させることが可能となる。
第12の態様に係る発光装置(1b)では、第1~11の態様のいずれか一つにおいて、発光装置(1b)は、出力光(P5)を合成せずに出力する。
第12の態様に係る発光装置(1b)では、例えば、発光装置(1b)を照明光源として利用する照明器具等において配光設計の自由度が高くなる。
第13の態様に係る発光システム(100;100a;100b;100c;100d;100e)は、第1~12の態様のいずれか一つの発光装置(1;1a;1b;1c)と、第1光源ユニット(11)と、第2光源ユニット(12)と、を備える。第1光源ユニット(11)は、励起光(P1)を出力する。第2光源ユニット(12)は、複数のシード光(P2)を出力する。
第13の態様に係る発光システム(100;100a;100b;100c;100d;100e)では、高出力化が可能となる。
1、1a、1b、1c 発光装置
2、2c 光増幅器
20 媒質部
21 第1面
22 第2面
23 光入射面
24 光出射面
25、25A、25B 光学素子
26 光反射部
27 放熱部
28 コア
29 クラッド
201、202 波長変換領域
211、212、213、214 波長変換部
11、11A、11B 第1光源ユニット
110 実装基板
111 第1主面
112 第2主面
113 固体発光素子
12、12e 第2光源ユニット
124 光ファイバ
125 励起光源
126、127 シード光源
128 コンバイナ
129 光結合部
13 コリメートレンズ
14 透過型回折格子
15 レンズ
16 空間光変調器
17 レンズ
18 透過型回折格子
19 レンズアレイ
190 レンズ
30 光拡散部
53 光結合器
63 光ファイバ
100、100a、100b、100c、100d、100e 発光システム
D1 厚さ方向
E0 基底準位
E1 準安定準位
E2 励起準位
P1 励起光
P2 シード光
P21 第1シード光
P22 第2シード光
P23 第3シード光
P24 第4シード光
P3 部分コヒーレント光
P31 第1部分コヒーレント光
P32 第2部分コヒーレント光
P33 第3部分コヒーレント光
P34 第4部分コヒーレント光
P4 光
P5 出力光
P6 出力光
P20 多波長光

Claims (15)

  1. 光増幅器を備え、前記光増幅器に互いに波長の異なる複数のシード光が入射されることで、前記光増幅器から出力光を出力する発光装置であって、
    前記光増幅器は、
    波長変換要素を含む媒質部を有し、
    前記光増幅器は、
    前記複数のシード光それぞれよりも短波長であって前記媒質部に入射する励起光によって前記波長変換要素を励起され、前記複数のシード光それぞれと同じ波長を有する複数の部分コヒーレント光を発生させることにより、
    前記複数のシード光それぞれと同じ波長を有し増幅された複数の光を含む多波長光を前記出力光として出力し、
    前記励起光は、前記光増幅器内の前記複数のシード光の伝搬方向に交差する方向から、前記媒質部に入射され、
    前記光増幅器は、前記媒質部に入射された前記励起光の一部を前記媒質部内での前記複数のシード光の伝搬方向に沿った方向に分散させる光学素子を更に有する、
    発光装置。
  2. 光増幅器を備え、前記光増幅器に互いに波長の異なる複数のシード光が入射されることで、前記光増幅器から出力光を出力する発光装置であって、
    前記光増幅器は、
    波長変換要素を含む媒質部を有し、
    前記光増幅器は、
    前記複数のシード光それぞれよりも短波長であって前記媒質部に入射する励起光によって前記波長変換要素を励起され、前記複数のシード光それぞれと同じ波長を有する複数の部分コヒーレント光を発生させることにより、
    前記複数のシード光それぞれと同じ波長を有し増幅された複数の光を含む多波長光を前記出力光として出力し、
    前記媒質部は、板状であり、
    前記媒質部は、前記媒質部の厚さ方向において互いに対向する第1面及び第2面を有し、
    前記第1面に前記励起光が入射され、
    前記発光装置は、前記媒質部の前記第2面に配置された放熱部を更に備える、
    発光装置。
  3. 光増幅器を備え、前記光増幅器に互いに波長の異なる複数のシード光が入射されることで、前記光増幅器から出力光を出力する発光装置であって、
    前記光増幅器は、
    波長変換要素を含む媒質部を有し、
    前記光増幅器は、
    前記複数のシード光それぞれよりも短波長であって前記媒質部に入射する励起光によって前記波長変換要素を励起され、前記複数のシード光それぞれと同じ波長を有する複数の部分コヒーレント光を発生させることにより、
    前記複数のシード光それぞれと同じ波長を有し増幅された複数の光を含む多波長光を前記出力光として出力し、
    前記媒質部は、板状であり、
    前記媒質部での前記励起光の吸収長が、前記媒質部の厚みよりも長い、
    発光装置。
  4. 前記複数の部分コヒーレント光の波長は、いずれも480nm以上640nm以下の範囲内にある、
    請求項1~3のいずれか一項に記載の発光装置。
  5. 前記複数の部分コヒーレント光は、少なくとも、互いに波長の異なる4つの部分コヒーレント光を含む、
    請求項1~4のいずれか一項に記載の発光装置。
  6. 前記励起光は、青色光を含む、
    請求項1~5のいずれか1項に記載の発光装置。
  7. 前記励起光は、前記光増幅器内の前記複数のシード光の伝搬方向に交差する方向から、前記媒質部に入射される、
    請求項2又は3に記載の発光装置。
  8. 前記光増幅器は、前記媒質部に入射された前記励起光の一部を前記媒質部内での前記複数のシード光の伝搬方向に沿った方向に分散させる光学素子を更に有する、
    請求項7に記載の発光装置。
  9. 前記媒質部は、板状であり、
    前記媒質部は、前記媒質部の厚さ方向において互いに対向する第1面及び第2面を有し、
    前記第1面に前記励起光が入射され、
    前記発光装置は、前記媒質部の前記第2面に配置された放熱部を更に備える、
    請求項1又は3に記載の発光装置。
  10. 前記媒質部は、板状であり、
    前記媒質部での前記励起光の吸収長が、前記媒質部の厚みよりも長い、
    請求項1又は2に記載の発光装置。
  11. 前記媒質部は、前記複数のシード光の伝搬方向に並んでいる複数の波長変換領域を含む、
    請求項1~10のいずれか1項に記載の発光装置。
  12. 前記媒質部は、前記複数のシード光それぞれが入射される複数の波長変換部を含む、
    請求項1~10のいずれか1項に記載の発光装置。
  13. 前記光増幅器から出力された前記出力光を拡散させる光拡散部を更に備える、
    請求項1~12のいずれか1項に記載の発光装置。
  14. 前記発光装置は、前記出力光を合成せずに出力する、
    請求項1~13のいずれか1項に記載の発光装置。
  15. 請求項1~14のいずれか1項に記載の発光装置と、
    前記励起光を出力する第1光源ユニットと、
    前記複数のシード光を出力する第2光源ユニットと、
    を備える、
    発光システム。
JP2022530624A 2020-06-12 2021-06-10 発光装置及び発光システム Active JP7457953B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2020102577 2020-06-12
JP2020102577 2020-06-12
PCT/JP2021/022166 WO2021251470A1 (ja) 2020-06-12 2021-06-10 発光装置及び発光システム

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPWO2021251470A1 JPWO2021251470A1 (ja) 2021-12-16
JP7457953B2 true JP7457953B2 (ja) 2024-03-29

Family

ID=78846112

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2022530624A Active JP7457953B2 (ja) 2020-06-12 2021-06-10 発光装置及び発光システム

Country Status (4)

Country Link
US (1) US20230238780A1 (ja)
EP (1) EP4166845A4 (ja)
JP (1) JP7457953B2 (ja)
WO (1) WO2021251470A1 (ja)

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008010720A (ja) 2006-06-30 2008-01-17 Toshiba Corp ファイバレーザ装置
JP2010080642A (ja) 2008-09-25 2010-04-08 Toshiba Corp ファイバレーザ装置、レーザ加工装置、並びにレーザ加工方法
WO2012033105A1 (ja) 2010-09-06 2012-03-15 国立大学法人大阪大学 レーザ装置
WO2013111271A1 (ja) 2012-01-24 2013-08-01 株式会社フジクラ ファイバレーザ装置
WO2017092789A1 (en) 2015-11-30 2017-06-08 Universität Stuttgart Radiation field generating unit
WO2019131970A1 (ja) 2017-12-28 2019-07-04 株式会社フジクラ 光ファイバ、及び、レーザ装置
WO2021014853A1 (ja) 2019-07-19 2021-01-28 公益財団法人レーザー技術総合研究所 発光装置及び光ファイバ

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5365538A (en) * 1992-10-29 1994-11-15 The Charles Stark Draper Laboratory Inc. Slab waveguide pumped channel waveguide laser
CN1254891C (zh) * 2003-12-05 2006-05-03 清华大学 板条状激光增益介质的双波长组合泵浦方法及其增益模块
EP2115831A2 (en) * 2007-02-27 2009-11-11 Philips Intellectual Property & Standards GmbH Blue ld pumped praseodymium doped solid state laser device with reduced temperature dependence
JP6868807B2 (ja) 2017-05-12 2021-05-12 パナソニックIpマネジメント株式会社 光源装置および照明器具

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008010720A (ja) 2006-06-30 2008-01-17 Toshiba Corp ファイバレーザ装置
JP2010080642A (ja) 2008-09-25 2010-04-08 Toshiba Corp ファイバレーザ装置、レーザ加工装置、並びにレーザ加工方法
WO2012033105A1 (ja) 2010-09-06 2012-03-15 国立大学法人大阪大学 レーザ装置
WO2013111271A1 (ja) 2012-01-24 2013-08-01 株式会社フジクラ ファイバレーザ装置
WO2017092789A1 (en) 2015-11-30 2017-06-08 Universität Stuttgart Radiation field generating unit
WO2019131970A1 (ja) 2017-12-28 2019-07-04 株式会社フジクラ 光ファイバ、及び、レーザ装置
WO2021014853A1 (ja) 2019-07-19 2021-01-28 公益財団法人レーザー技術総合研究所 発光装置及び光ファイバ

Also Published As

Publication number Publication date
WO2021251470A1 (ja) 2021-12-16
EP4166845A1 (en) 2023-04-19
US20230238780A1 (en) 2023-07-27
EP4166845A4 (en) 2023-11-29
JPWO2021251470A1 (ja) 2021-12-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US8096668B2 (en) Illumination systems utilizing wavelength conversion materials
US8628199B2 (en) Light source device with a plurality of light sources and a collimating lens
US11868023B2 (en) Light-emitting device and optical fiber
JP2008108553A (ja) 発光装置
JP6868807B2 (ja) 光源装置および照明器具
WO2013140484A1 (ja) 発光装置
WO2009040725A2 (en) Laser-pumped lamp using a light guide with a pinhole in its entrance mirror
KR20130107224A (ko) 형광체 디바이스, 조명 장치 및 프로젝터 장치
CN106796973A (zh) 发光设备
JP2009277734A (ja) 半導体光源装置
JP7457953B2 (ja) 発光装置及び発光システム
JP6147305B2 (ja) 内視鏡用光源システム
JP4668131B2 (ja) 導光板、および照明装置
WO2021215432A1 (ja) 発光システム
JP2016184564A (ja) 面光源装置および液晶表示装置
WO2011160693A1 (en) Light source unit with phosphor element
US20180283636A1 (en) Illumination arrangement and headlamp
EP3916289B1 (en) Illuminating device
JP7390674B2 (ja) 投影システム
CN109798489B (zh) 一种照明装置和汽车照明灯具
JP6113223B2 (ja) 照明用光源システム
CN217482552U (zh) 激光光源及照明装置
JP2012209190A (ja) 光源システム並びにそれに用いる光源ユニット及び光変換ユニット
WO2022239436A1 (ja) 照明システム
WO2023037958A1 (ja) 発光装置

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20221124

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20231024

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20231225

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20240206

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20240301

R151 Written notification of patent or utility model registration

Ref document number: 7457953

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151