JP7457081B2 - 低誘電基板材料及びそれを用いた金属基板 - Google Patents
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims description 97
- 239000000463 material Substances 0.000 title claims description 66
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 title claims description 28
- 239000002184 metal Substances 0.000 title claims description 28
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 claims description 93
- 239000005060 rubber Substances 0.000 claims description 93
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 claims description 45
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 43
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 40
- 239000011256 inorganic filler Substances 0.000 claims description 38
- 229910003475 inorganic filler Inorganic materials 0.000 claims description 38
- 229920001955 polyphenylene ether Polymers 0.000 claims description 28
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims description 26
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 claims description 24
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 23
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 23
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical group C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 21
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 1,2-Divinylbenzene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1C=C MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 claims description 13
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 claims description 12
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical group C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 claims description 11
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 125000003011 styrenyl group Chemical group [H]\C(*)=C(/[H])C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 claims description 5
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 claims description 4
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical group [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N Boron nitride Chemical compound N#B PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- YKTSYUJCYHOUJP-UHFFFAOYSA-N [O--].[Al+3].[Al+3].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] Chemical compound [O--].[Al+3].[Al+3].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] YKTSYUJCYHOUJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 claims description 2
- 229910052582 BN Inorganic materials 0.000 claims description 2
- PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M copper(1+);methylsulfanylmethane;bromide Chemical compound Br[Cu].CSC PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 2
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 claims description 2
- 239000003063 flame retardant Substances 0.000 description 11
- -1 amino, vinyl Chemical group 0.000 description 9
- RNFJDJUURJAICM-UHFFFAOYSA-N 2,2,4,4,6,6-hexaphenoxy-1,3,5-triaza-2$l^{5},4$l^{5},6$l^{5}-triphosphacyclohexa-1,3,5-triene Chemical compound N=1P(OC=2C=CC=CC=2)(OC=2C=CC=CC=2)=NP(OC=2C=CC=CC=2)(OC=2C=CC=CC=2)=NP=1(OC=1C=CC=CC=1)OC1=CC=CC=C1 RNFJDJUURJAICM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 6
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 6
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 5
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 4
- 239000011889 copper foil Substances 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 4
- KOMNUTZXSVSERR-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-tris(prop-2-enyl)-1,3,5-triazinane-2,4,6-trione Chemical compound C=CCN1C(=O)N(CC=C)C(=O)N(CC=C)C1=O KOMNUTZXSVSERR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 3
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 3
- 238000011161 development Methods 0.000 description 3
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 3
- OWICEWMBIBPFAH-UHFFFAOYSA-N (3-diphenoxyphosphoryloxyphenyl) diphenyl phosphate Chemical compound C=1C=CC=CC=1OP(OC=1C=C(OP(=O)(OC=2C=CC=CC=2)OC=2C=CC=CC=2)C=CC=1)(=O)OC1=CC=CC=C1 OWICEWMBIBPFAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BJELTSYBAHKXRW-UHFFFAOYSA-N 2,4,6-triallyloxy-1,3,5-triazine Chemical compound C=CCOC1=NC(OCC=C)=NC(OCC=C)=N1 BJELTSYBAHKXRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 2
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005062 Polybutadiene Substances 0.000 description 2
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 239000011231 conductive filler Substances 0.000 description 2
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 2
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 2
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 2
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 2
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 2
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 2
- 229920002587 poly(1,3-butadiene) polymer Polymers 0.000 description 2
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 description 2
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 2
- GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N resorcinol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1 GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 2
- MFFNRVNPBJQZFO-UHFFFAOYSA-N (2,6-dimethylphenyl) dihydrogen phosphate Chemical compound CC1=CC=CC(C)=C1OP(O)(O)=O MFFNRVNPBJQZFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BGGGMYCMZTXZBY-UHFFFAOYSA-N (3-hydroxyphenyl) phosphono hydrogen phosphate Chemical compound OC1=CC=CC(OP(O)(=O)OP(O)(O)=O)=C1 BGGGMYCMZTXZBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YMIUHIAWWDYGGU-UHFFFAOYSA-N 1,2,3,4,5-pentabromo-6-[2,3,5,6-tetrabromo-4-(2,3,4,5,6-pentabromophenoxy)phenoxy]benzene Chemical compound BrC1=C(Br)C(Br)=C(Br)C(Br)=C1OC(C(=C1Br)Br)=C(Br)C(Br)=C1OC1=C(Br)C(Br)=C(Br)C(Br)=C1Br YMIUHIAWWDYGGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DYIZJUDNMOIZQO-UHFFFAOYSA-N 4,5,6,7-tetrabromo-2-[2-(4,5,6,7-tetrabromo-1,3-dioxoisoindol-2-yl)ethyl]isoindole-1,3-dione Chemical compound O=C1C(C(=C(Br)C(Br)=C2Br)Br)=C2C(=O)N1CCN1C(=O)C2=C(Br)C(Br)=C(Br)C(Br)=C2C1=O DYIZJUDNMOIZQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIGFYZPCRLYGLF-UHFFFAOYSA-N Aluminum nitride Chemical compound [Al]#N PIGFYZPCRLYGLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004114 Ammonium polyphosphate Substances 0.000 description 1
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004641 Diallyl-phthalate Substances 0.000 description 1
- 229920002595 Dielectric elastomer Polymers 0.000 description 1
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 1
- 229920000388 Polyphosphate Polymers 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical group [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQPNUOYXSVUVMY-UHFFFAOYSA-N [4-[2-(4-diphenoxyphosphoryloxyphenyl)propan-2-yl]phenyl] diphenyl phosphate Chemical compound C=1C=C(OP(=O)(OC=2C=CC=CC=2)OC=2C=CC=CC=2)C=CC=1C(C)(C)C(C=C1)=CC=C1OP(=O)(OC=1C=CC=CC=1)OC1=CC=CC=C1 BQPNUOYXSVUVMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 235000019826 ammonium polyphosphate Nutrition 0.000 description 1
- 229920001276 ammonium polyphosphate Polymers 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- QUDWYFHPNIMBFC-UHFFFAOYSA-N bis(prop-2-enyl) benzene-1,2-dicarboxylate Chemical compound C=CCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC=C QUDWYFHPNIMBFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005388 borosilicate glass Substances 0.000 description 1
- 125000001246 bromo group Chemical group Br* 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 230000007812 deficiency Effects 0.000 description 1
- 229920003244 diene elastomer Polymers 0.000 description 1
- 150000001993 dienes Chemical class 0.000 description 1
- 125000000118 dimethyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- ASMQGLCHMVWBQR-UHFFFAOYSA-M diphenyl phosphate Chemical compound C=1C=CC=CC=1OP(=O)([O-])OC1=CC=CC=C1 ASMQGLCHMVWBQR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N melamine Chemical compound NC1=NC(N)=NC(N)=N1 JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZQKXQUJXLSSJCH-UHFFFAOYSA-N melamine cyanurate Chemical compound NC1=NC(N)=NC(N)=N1.O=C1NC(=O)NC(=O)N1 ZQKXQUJXLSSJCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GKTNLYAAZKKMTQ-UHFFFAOYSA-N n-[bis(dimethylamino)phosphinimyl]-n-methylmethanamine Chemical compound CN(C)P(=N)(N(C)C)N(C)C GKTNLYAAZKKMTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001151 other effect Effects 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 239000001205 polyphosphate Substances 0.000 description 1
- 235000011176 polyphosphates Nutrition 0.000 description 1
- 239000012779 reinforcing material Substances 0.000 description 1
- 230000008054 signal transmission Effects 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 1
- 125000005591 trimellitate group Chemical group 0.000 description 1
- XZZNDPSIHUTMOC-UHFFFAOYSA-N triphenyl phosphate Chemical compound C=1C=CC=CC=1OP(OC=1C=CC=CC=1)(=O)OC1=CC=CC=C1 XZZNDPSIHUTMOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
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Description
本発明は、低誘電基板材料を提供する。低誘電基板材料は、ゴム樹脂系に無機フィラー及びホウ珪酸型中空粒子を導入するものである。それによって、ゴム樹脂系の物性は高周波・高速の要求を満たし、従来の材料に比べて、高周波高速基板材料としてより好適である。
本発明において、ゴム樹脂組成物は、分子量が2500g/mol~6000g/molの液体ゴム30重量%(wt%)~60重量%と、ポリフェニレンエーテル樹脂10重量%~40重量%と、架橋剤10重量%~40重量%とを含む。
図3は、本発明に係る低誘電基板材料におけるホウ珪酸型中空粒子の構造を示す模式図である。ホウ珪酸型中空粒子によって、基板材料の硬化物に低誘電特性を与えられ、特に、誘電正接を0.0030以下に低減させる事ができ、高周波での応用にとって特に有利である。図3に示すように、ホウ珪酸型中空粒子11は、シェル111及び空気が充填された中空コア112を含む。ホウ珪酸型中空粒子11は、アルカリホウケイ酸ガラス(例えば、3M社製のim16K)で製造されてもよい。一つの実施形態において、ホウ珪酸型中空粒子11の中空コア112は、窒素ガス又は不活性ガスで充填されてもよい。
本発明の高分子系において、無機フィラーの存在によって、低誘電基板材料の機械的特性及び熱伝導性を向上させると共に、低誘電基板材料の硬化物の比誘電率及び誘電正接を低いレベルに維持させることができる。説明すべきことは、上述した説明は、本発明を制限するわけでもなく、実際に応用する際に、他の有利な効果又は他の作用を発揮することがあり、例えば、基板材料の耐熱性及び硬化した接着強度(bonding strength)を向上することと、低誘電基板材料の粘度を低減することが挙げられる。
本発明の低誘電基板材料は、シロキサンカップリング剤を更に含んでもよい。シロキサンカップリング剤の一端は、無機物と結合する可能なシラン端であり、シロキサンカップリング剤の他端は、ゴム/樹脂と結合する可能な官能基を有する。このように、シロキサンカップリング剤の存在によって、補強材料である繊維布、ゴム/樹脂と無機フィラーとの相容性を向上させ、基板材料の硬化物の機械的特性及び耐熱性を向上させることができる。
本発明の低誘電基板材料は、難燃剤を更に含んでもよい。難燃剤の添加により、低誘電基板材料の硬化物の難燃性を向上させることができる。例えば、難燃剤は、リン系難燃剤又は臭素系難燃剤であってもよい。好ましくは、難燃剤は臭素を含まないものである。ゴム樹脂組成物100重量部に対して、難燃剤の含有量は、0.1重量部~5重量部であり、0.5重量部~3重量部であることが好ましい。上述した内容はあくまでも、使用可能な実施形態であり、本発明はこれに制限されるものではない。
図1及び図2に示すように、本発明は、基板層1及び基板層1に設置した少なくとも1つの金属層2とを、備えた金属基板Zを提供する。その中、基板層1の材料は、上述した組成成分(ゴム樹脂組成物、無機フィラー、ホウ珪酸型中空粒子)を含む低誘電基板材料である。具体的に説明すると、金属基板Zは、銅箔基板であってもよい。なかでも、金属層2(銅箔層)は、基板層1の片面(例えば、上面)に形成されてもよい(金属層2の数は1つである)。もしくは、金属層2は、基板層1の両表面(例えば、上面、下面)にそれぞれ形成されてもよい(金属層2の数は2つである)。
(1)比誘電率(10GHz):誘電分析装置(Dielectric Analyzer)(品番:HP Agilent E5071C)を用いて、10GHzの周波数での比誘電率を測定する。
(2)誘電正接(10GHz):誘電分析装置(Dielectric Analyzer)(品番:HP Agilent E5071C)を用いて、10GHzの周波数での誘電正接を測定する。
(3)剥離強度:試験方法IPC-TM-650-2.4.8に基づいて、銅箔基板の剥離強度を測定する。
本発明の有利な効果として、本発明に係る低誘電基板材料及びそれを用いた金属基板は、「前記ゴム樹脂組成物は、分子量が2500g/mol~6000g/molの液体ゴム30重量%~60重量%と、ポリフェニレンエーテル樹脂10重量%~40重量%と、架橋剤10重量%~40重量%とを含む」及び「前記ホウ珪酸型中空粒子の含有量は、前記ゴム樹脂組成物100重量部に対して、10重量部以下である」といった技術特徴によって、実際に応用する際に所望の特性を達成する。例えば、より低い誘電特性、より高い剥離強度及び耐熱性など。本発明の有利な効果は、表1に示す実験データによって証明される。
1…基板層
11…ホウ珪酸型中空粒子
111…シェル
112…中空コア
Claims (12)
- ゴム樹脂組成物と、無機フィラーと、ホウ珪酸型中空粒子とを含む、低誘電基板材料であって、
前記ゴム樹脂組成物は、
分子量が2500g/mol~6000g/molの液体ゴム30重量%~60重量%と、
ポリフェニレンエーテル樹脂10重量%~40重量%と、
架橋剤10重量%~40重量%とのみを含み、
前記無機フィラーは、酸化マグネシウム、酸化アルミニウム、酸化ケイ素、酸化亜鉛、窒化アルミニウム、窒化ホウ素、炭化ケイ素及びケイ酸アルミニウムからなる群から選択され、
前記液体ゴムを構成するモノマーは、ブタジエンモノマー、スチレンモノマー、ジビニルベンゼンモノマー及び無水マレイン酸モノマーからなる群から選択され、
架橋剤は、アリル基(allyl group)を含み、
前記ホウ珪酸型中空粒子の含有量は、前記ゴム樹脂組成物100重量部に対して、10重量部以下であることを特徴とする、低誘電基板材料。 - 前記ホウ珪酸型中空粒子は、シェル及び空気が充填された中空コアを含む、請求項1に記載の低誘電基板材料。
- 前記ホウ珪酸型中空粒子の中位径(D50)は、10μm~30μmであり、前記ホウ珪酸型中空粒子の真密度は、0.4g/cm3~0.6g/cm3である、請求項2に記載の低誘電基板材料。
- 前記ホウ珪酸型中空粒子の前記シェルの表面は、アクリル基又はビニール基を含む、請求項2に記載の低誘電基板材料。
- 前記ゴム樹脂組成物100重量部に対して、前記無機フィラーの添加量は、30重量部~60重量部である、請求項1に記載の低誘電基板材料。
- 前記無機フィラーは、酸化アルミニウム及び酸化ケイ素を含み、前記酸化アルミニウム及び前記酸化ケイ素の添加量の合計は、前記ゴム樹脂組成物100重量部に対して、20重量部~45重量部である、請求項5に記載の低誘電基板材料。
- 前記ゴム樹脂組成物100重量部に対して、前記無機フィラーの添加量は、30重量部~60重量部であり、
前記ホウ珪酸型中空粒子の前記シェルの表面は、アクリル基又はビニール基を含む、請求項2に記載の低誘電基板材料。 - 前記ゴム樹脂組成物100重量部に対して、前記ホウ珪酸型中空粒子の含有量は、1重量部~7重量部であり、前記無機フィラーの添加量は、35重量部~55重量部である、請求項5に記載の低誘電基板材料。
- 前記液体ゴムの全ての末端基に占めるビニール基の割合は、30モル%~90モル%であり、前記液体ゴムの全ての末端基に占めるスチレン基の割合は、10モル%~50モル%である、請求項1に記載の低誘電基板材料。
- アクリル基又はビニール基を有するシロキサンカップリング剤を更に含み、前記ゴム樹脂組成物100重量部に対して、前記シロキサンカップリング剤の含有量は、0.1重量部~5重量部である、請求項1に記載の低誘電基板材料。
- 基板層と、前記基板層に設置した金属層とを備える、金属基板であって、前記基板層の材料は、請求項1に記載の低誘電基板材料を含むことを特徴とする、金属基板。
- 前記基板層の10GHzでの比誘電率は2.8~3であり、前記基板層の10GHzでの誘電正接は、0.003未満である、請求項11に記載の金属基板。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
TW111122318A TWI805409B (zh) | 2022-06-16 | 2022-06-16 | 低介電基板材料及應用其的金屬基板 |
TW111122318 | 2022-06-16 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2023184391A JP2023184391A (ja) | 2023-12-28 |
JP7457081B2 true JP7457081B2 (ja) | 2024-03-27 |
Family
ID=87802974
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2022170751A Active JP7457081B2 (ja) | 2022-06-16 | 2022-10-25 | 低誘電基板材料及びそれを用いた金属基板 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20230407062A1 (ja) |
JP (1) | JP7457081B2 (ja) |
CN (1) | CN117285757A (ja) |
TW (1) | TWI805409B (ja) |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008115280A (ja) | 2006-11-06 | 2008-05-22 | Hitachi Ltd | 低誘電損失樹脂組成物、その硬化物およびそれを用いた電子部品 |
JP2020125440A (ja) | 2019-02-02 | 2020-08-20 | ▲広▼▲東▼生益科技股▲ふん▼有限公司Shengyi Technology Co., Ltd. | 熱硬化性樹脂組成物、プリプレグ、積層板及びプリント回路板 |
CN111867239B (zh) | 2019-04-24 | 2021-08-27 | 广东生益科技股份有限公司 | 覆铜层压板和印制电路板 |
JP2022508173A (ja) | 2019-07-22 | 2022-01-19 | 南亜新材料科技股▲ふん▼有限公司 | 高周波樹脂組成物およびその使用 |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6352782B2 (en) * | 1999-12-01 | 2002-03-05 | General Electric Company | Poly(phenylene ether)-polyvinyl thermosetting resin |
-
2022
- 2022-06-16 TW TW111122318A patent/TWI805409B/zh active
- 2022-07-20 CN CN202210858056.5A patent/CN117285757A/zh active Pending
- 2022-10-25 JP JP2022170751A patent/JP7457081B2/ja active Active
- 2022-10-31 US US17/976,959 patent/US20230407062A1/en active Pending
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008115280A (ja) | 2006-11-06 | 2008-05-22 | Hitachi Ltd | 低誘電損失樹脂組成物、その硬化物およびそれを用いた電子部品 |
JP2020125440A (ja) | 2019-02-02 | 2020-08-20 | ▲広▼▲東▼生益科技股▲ふん▼有限公司Shengyi Technology Co., Ltd. | 熱硬化性樹脂組成物、プリプレグ、積層板及びプリント回路板 |
CN111867239B (zh) | 2019-04-24 | 2021-08-27 | 广东生益科技股份有限公司 | 覆铜层压板和印制电路板 |
JP2022508173A (ja) | 2019-07-22 | 2022-01-19 | 南亜新材料科技股▲ふん▼有限公司 | 高周波樹脂組成物およびその使用 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20230407062A1 (en) | 2023-12-21 |
JP2023184391A (ja) | 2023-12-28 |
TW202400712A (zh) | 2024-01-01 |
CN117285757A (zh) | 2023-12-26 |
TWI805409B (zh) | 2023-06-11 |
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