JP7442013B2 - 診断装置、診断方法、半導体製造装置システム及び半導体装置製造システム - Google Patents
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Description
図1の構成図に示すように、本実施例におけるプラズマ処理装置群1は、予め設定したプラズマ処理条件に従い、プラズマ100を発生させてウェハ(試料101)をプラズマ処理する。プラズマ処理装置群1は、半導体製造装置としてのプラズマ処理装置10,11を含む。また、プラズマ処理装置(10,11)は、プラズマ処理装置(10,11)の内部のチャンバ(反応室)内の状態や部品の状態をセンサするための状態センサ群102を有し、プラズマ処理中あるいはアイドル中のセンサ値(例えば、温度や圧力)の測定値をセンサ波形データとして取得することができる。
図1の構成図に示すように、診断装置2は、プラズマ処理装置群1の各プラズマ処理装置10,11に対応するセンサ波形データの取得や演算処理を実行する実行部31および実行部31の処理に必要な情報を格納する記憶部32で構成される計算機群(計算機30、計算機40、…)を備える。さらに、診断装置2は、実行部31の演算条件の設定や診断結果の分析を行う分析部51、分析部51の処理に必要な情報を格納する記憶部52および表示部53で構成されるサーバ50を備える。プラズマ処理装置群1は計算機群(計算機30、計算機40、…)と直接あるいはネットワークを介して接続されている。また、計算機群(計算機30、計算機40、…)とサーバ50はネットワークを介して接続されている。これにより、各計算機は各プラズマ処理装置から取得したセンサ波形データを用いた演算を実行部31で高速に行うことができる。また、サーバ50は、プラズマ処理装置群1にまたがる劣化度演算条件の設定や診断結果の分析および表示が可能となる。
図2を参照して、診断装置2が行うプラズマ処理装置群1の対象部品の保守要否の診断処理の一例について説明する。なお、図2は一回のプラズマ処理毎の処理のフローを示している。
取得されたセンサ波形が複数の波形変化種別毎の成分に分離され、
分離された波形変化種別毎の成分を基に劣化度が求められる。
波形変化種別毎の成分は、オフセット成分、トレンド成分またはノイズ成分に分離される。
波形変化種別毎の成分は、ノイズ成分に分離される。
演算された劣化度の時系列データがフィルタリング処理され、
フィルタリング処理された劣化度を用いて演算された分布を基に保守要否の診断に用いられる閾値が求められる。
劣化度を入力値とし、正規分布またはマルコフ連鎖モンテカルロ法を用いた機械学習により非正規分布が推定され、
正規分布または前記非正規分布との尤度を基に前記保守要否の診断に用いられる閾値が求められる。
取得されたセンサ波形を複数の波形変化種別毎の成分に分離するステップと、分離された波形変化種別毎の成分を基に劣化度を求めるステップと、がアプリケーションにより実行される。
取得されたセンサ波形を複数の波形変化種別毎の成分に分離する工程と、
前記分離された波形変化種別毎の成分を基に劣化度を求める工程と、を有する。
Claims (8)
- 部品の劣化状態を示す劣化度を用いて半導体製造装置の部品の保守要否が診断される診断装置において、
取得されたセンサ波形が複数の成分に分離され、
前記半導体製造装置の部品の劣化兆候と関連する成分が前記分離された成分の中から求められ、
前記求められた成分を用いて演算された劣化度を基に前記半導体製造装置の部品の保守要否が診断されることを特徴とする診断装置。 - 請求項1に記載の診断装置において、
前記センサ波形は、オフセット成分、トレンド成分およびノイズ成分に分離されることを特徴とする診断装置。 - 請求項2に記載の診断装置において、
前記分離された成分の中から求められた成分は、前記ノイズ成分であることを特徴とする診断装置。 - 請求項1に記載の診断装置において、
前記求められた劣化度の時系列データがフィルタリング処理され、
前記フィルタリング処理された劣化度を用いて演算された分布を基に前記保守要否の診断に用いられる閾値が求められることを特徴とする診断装置。 - 請求項1に記載の診断装置において、
正規分布またはマルコフ連鎖モンテカルロ法を用い前記劣化度を入力値とする機械学習により非正規分布が推定され、
前記正規分布または前記非正規分布との尤度を基に前記保守要否の診断に用いられる閾値が求められることを特徴とする診断装置。 - 半導体製造装置がネットワークを介して接続され請求項1に記載された診断装置を備えることを特徴とする半導体製造装置システム。
- 半導体製造装置がネットワークを介して接続され、部品の劣化状態を示す劣化度を用いて前記半導体製造装置の部品の保守要否を診断するためのアプリケーションが実装されたプラットフォームを備える半導体装置製造システムにおいて、
取得されたセンサ波形を複数の成分に分離するステップと、
前記半導体製造装置の部品の劣化兆候と関連する成分を前記分離された成分の中から求めるステップと、
前記求められた成分を用いて演算された劣化度を基に前記半導体製造装置の部品の保守要否を診断するステップと、が前記アプリケーションにより実行されることを特徴とする半導体装置製造システム。 - 部品の劣化状態を示す劣化度を用いて半導体製造装置の部品の保守要否を診断する診断方法において、
取得されたセンサ波形を複数の成分に分離する工程と、
前記半導体製造装置の部品の劣化兆候と関連する成分を前記分離された成分の中から求める工程と、
前記求められた成分を用いて演算された劣化度を基に前記半導体製造装置の部品の保守要否を診断する工程と、を有することを特徴とする診断方法。
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