JP7442009B1 - 表面粗さ評価方法とその装置、表面粗さ評価プログラム、および表面粗さ評価プログラムを記憶した記憶媒体 - Google Patents
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- Length Measuring Devices With Unspecified Measuring Means (AREA)
Abstract
Description
評価対象の表面に設定された複数の局所的な測定領域ごとに、当該測定領域内の前記表面の凹凸量と頻度との関係を示す局所ヒストグラム情報を求めるステップと、
前記測定領域ごとの1番目からN番目までの前記局所ヒストグラム情報を、1番目から順次N番目に向けて累積して、n(n=1~N)個でそれぞれ累積した複数の累積ヒストグラム情報を生成するステップと、
n=N個で累積して生成した前記累積ヒストグラム情報を基準累積ヒストグラム情報とし、n=1個からN個に向けて順次前記局所ヒストグラム情報を累積して生成した複数の前記累積ヒストグラム情報のそれぞれについて、前記基準累積ヒストグラム情報に対する類似度を検出するステップと、
前記検出した類似度が所定の基準に適合しているかをn=1番目からn=N番目に向けて順次検出し、最初に前記基準に適合している前記累積ヒストグラム情報のn番目を表す数nを、前記表面の粗さの不均一性を示す指標の一部として用いるステップと
を有する。
評価対象の表面に設定された複数の局所的な測定領域ごとに、当該測定領域内の前記表面の凹凸量と頻度との関係を示す局所ヒストグラム情報を求める手段と、
前記測定領域ごとの1番目からN番目までの前記局所ヒストグラム情報を、1番目から順次N番目に向けて累積して、n(n=1~N)個で累積した複数の累積ヒストグラム情報を生成する手段と、
n=N個で累積して生成した前記累積ヒストグラム情報を基準累積ヒストグラム情報とし、n=1個からN個に向けて順次前記局所ヒストグラム情報を累積して生成した複数の前記累積ヒストグラム情報のそれぞれについて、前記基準累積ヒストグラム情報に対する類似度を検出する手段と、
前記検出した類似度が所定の基準に適合しているかをn=1番目からn=N番目に向けて順次検出し、最初に前記基準に適合している前記累積ヒストグラム情報のn番目を表す数nを、前記表面の粗さの不均一性を示す指標の一部として用いる手段と
を有する。
評価対象の表面に設定された複数の局所的な測定領域ごとに、当該測定領域内の前記表面の凹凸量と頻度との関係を示す局所ヒストグラム情報を求めるステップと、
前記測定領域ごとの1番目からN番目までの前記局所ヒストグラム情報を、1番目から順次N番目に向けて累積して、n(n=1~N)個で累積した複数の累積ヒストグラム情報を生成するステップと、
n=N個で累積して生成した前記累積ヒストグラム情報を基準累積ヒストグラム情報とし、n=1個からN個に向けて順次前記局所ヒストグラム情報を累積して生成した複数の前記累積ヒストグラム情報のそれぞれについて、前記基準累積ヒストグラム情報に対する類似度を検出するステップと、
前記検出した類似度が所定の基準に適合しているかをn=1番目からn=N番目に向けて順次検出し、最初に前記基準に適合している前記累積ヒストグラム情報のn番目を表す数nを、前記表面の粗さの不均一性を示す指標の一部として用いるステップと
を、コンピュータに実行させるためのプログラムである。
Hmn ≧ HmTHL ・・・(2)
ただし、Hmnは、n番目の累積ヒストグラム情報と基準累積ヒストグラム情報との類似度であり、HmTHLは、所定の類似度の閾値である。
図8(A)に示すヒストグラムを基準とした場合、図8(B)に示すヒストグラムと、図8(C)に示すヒストグラムのいずれが基準ヒストグラムに類似しているかは、これらを基準のヒストグラムに重ね合わせたときの重なり部分の面積で判断するのが好ましい。
ただし、HmTHLは、所定の閾値である。
変が可能である。
このような本開示に係る方法により、表面粗さの不均一性を検出した実施例について説明する。ここでは、2種類の金属表面αおよびβについて、不均一性を検出した結果について説明する。
10…演算処理部
11…前処理部
12…局所ヒストグラム情報算出部
13…累積ヒストグラム情報算出部
14…類似度算出部
15…不均一度検出部
20…記憶部
31…入力I/F部
32…出力I/F部
50…表面形状測定装置
Claims (10)
- 評価対象の表面に設定された複数の局所的な測定領域ごとに、当該測定領域内の前記表面の凹凸量と頻度との関係を示す局所ヒストグラム情報を求めるステップと、
前記測定領域ごとの1番目からN番目までの前記局所ヒストグラム情報を、1番目から順次N番目に向けて累積して、n(n=1~N)個でそれぞれ累積した複数の累積ヒストグラム情報を生成するステップと、
n=N個で累積して生成した前記累積ヒストグラム情報を基準累積ヒストグラム情報とし、n=1個からN個に向けて順次前記局所ヒストグラム情報を累積して生成した複数の前記累積ヒストグラム情報のそれぞれについて、前記基準累積ヒストグラム情報に対する類似度を検出するステップと、
前記検出した類似度が所定の基準に適合しているかをn=1番目からn=N番目に向けて順次検出し、最初に前記基準に適合している前記累積ヒストグラム情報のn番目を表す数nを、前記表面の粗さの不均一性を示す指標の一部として用いるステップと
を有する表面粗さ評価方法。 - 前記複数の測定領域は、相互に所定距離以上離れて設定されている請求項1に記載の表面粗さ評価方法。
- 前記局所ヒストグラム情報を生成するステップでは、最も多い頻度を基準にして正規化された局所ヒストグラム情報を生成する請求項1に記載の表面粗さ評価方法。
- 前記n番目を表す数nを前記表面の粗さの不均一性を示す指標の一部として用いるステップでは、前記前記検出した類似度が、式(2)を満たす場合に、前記類似度が前記所定の基準に適合していると判断する請求項1に記載の表面粗さ評価方法。
Hmn ≧ HmTHL ・・・(2)
ただし、Hmnは、n番目の累積ヒストグラム情報と基準累積ヒストグラム情報との類似度、
HmTHLは、所定の類似度の閾値、である。 - 評価対象の表面に設定された複数の局所的な測定領域ごとに、当該測定領域内の前記表面の凹凸量と頻度との関係を示す局所ヒストグラム情報を求める手段と、
前記測定領域ごとの1番目からN番目までの前記局所ヒストグラム情報を、1番目から順次N番目に向けて累積して、n(n=1~N)個で累積した複数の累積ヒストグラム情報を生成する手段と、
n=N個で累積して生成した前記累積ヒストグラム情報を基準累積ヒストグラム情報とし、n=1個からN個に向けて順次前記局所ヒストグラム情報を累積して生成した複数の前記累積ヒストグラム情報のそれぞれについて、前記基準累積ヒストグラム情報に対する類似度を検出する手段と、
前記検出した類似度が所定の基準に適合しているかをn=1番目からn=N番目に向けて順次検出し、最初に前記基準に適合している前記累積ヒストグラム情報のn番目を表す数nを、前記表面の粗さの不均一性を示す指標の一部として用いる手段と
を有する表面粗さ評価装置。 - 前記複数の測定領域は、相互に所定距離以上離れて設定されている請求項5に記載の表面粗さ評価装置。
- 前記局所ヒストグラム情報を生成する手段では、最も多い頻度を基準にして正規化された局所ヒストグラム情報を生成する請求項5に記載の表面粗さ評価装置。
- 前記n番目を表す数nを前記表面の粗さの不均一性を示す指標の一部として用いる手段では、前記前記検出した類似度が、式(2)を満たす場合に、前記類似度が前記所定の基準に適合していると判断する請求項5に記載の表面粗さ評価装置。
Hmn ≧ HmTHL ・・・(2)
ただし、Hmnは、n番目の累積ヒストグラム情報と基準累積ヒストグラム情報との類似度、
HmTHLは、所定の類似度の閾値、である。 - 評価対象の表面に設定された複数の局所的な測定領域ごとに、当該測定領域内の前記表面の凹凸量と頻度との関係を示す局所ヒストグラム情報を求めるステップと、
前記測定領域ごとの1番目からN番目までの前記局所ヒストグラム情報を、1番目から順次N番目に向けて累積して、n(n=1~N)個で累積した複数の累積ヒストグラム情報を生成するステップと、
n=N個で累積して生成した前記累積ヒストグラム情報を基準累積ヒストグラム情報とし、n=1個からN個に向けて順次前記局所ヒストグラム情報を累積して生成した複数の前記累積ヒストグラム情報のそれぞれについて、前記基準累積ヒストグラム情報に対する類似度を検出するステップと、
前記検出した類似度が所定の基準に適合しているかをn=1番目からn=N番目に向けて順次検出し、最初に前記基準に適合している前記累積ヒストグラム情報のn番目を表す数nを、前記表面の粗さの不均一性を示す指標の一部として用いるステップと
をコンピュータに実行させるための表面粗さ評価プログラム。 - 請求項9に記載の表面粗さ評価プログラムを記憶した記憶媒体。
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JP2017090453A (ja) | 2015-11-04 | 2017-05-25 | 学校法人東京理科大学 | 表面粗さ評価装置及び表面粗さ評価方法 |
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