JP7430196B2 - 黒色物品 - Google Patents

Description

本発明は、計時器構成要素（限定はしないが、特に時計文字板）、装身具要素、光学機器のための迷光吸収要素等の黒色物品の技術分野に関する。より詳細には、本発明は、取扱いが容易で、強固で、清掃可能であるそのような物品に関する。

かなり濃い黒色物品は、多くの技術部門、特に時計製造及び光学機器の部門で有用である。前者の場合、濃く、光沢のない黒色の時計文字板は、明色の針等との対比をもたらすことによって時間表示の可読性を改善し、反射を抑制するため、大いに望ましい。この原理は、Ｐａｎｅｒａｉ Ｒａｄｉｏｍｉｒの潜水時計に関して、少なくとも１９３０年代に遡って適用されており、この潜水時計は、可読性を最大化するように、光沢のない黒い文字板と、発光マーキングとを組み合わせたものである。

より最近では、文献米国特許出願第２０１８／１５７２１４号（特許文献１）は、時計文字板のための黒色コーティングの一部としてカーボン・ナノチューブを使用することを開示している。カーボン・ナノチューブは、特に光がカーボン・ナノチューブの軸に平行に進行している際、かなり良好に光を吸収するため、そのようなコーティングは、ニス内に分散させるか又は基体上に直接コーティングされる従来の非晶質炭素ベースのコーティング（ランプ・ブラック又はカーボン・ブラックとしても公知）よりも吸光性があり、光沢がない。

しかし、そのようなカーボン・ナノチューブベースのコーティングは、非常に脆く、コーティングに損傷を与えることなく触れる又は清掃することができない。したがって、このことは、製造及び取扱いの際に著しい困難を引き起す。というのは、文字板のコーティングしていない側しか取り扱うことができないためである。ナノチューブベースのコーティングとの不慮の接触があれば、文字板を使用不可能にするほどまでにコーティングを損傷する危険性があり、廃棄しなければならない。

光検出器、分光計、モノクロメータ、顕微鏡、カメラ、宇宙機器のためのバッフル等の光学機器の場合、そのようなナノチューブ・コーティングは、光学測定に悪影響を及ぼす可能性がある迷光を除去するために内側に施すことがあるため、同じ問題が等しく当てはまる。

しかし、米国特許第４９９７５３８号（特許文献２）に記載されている陰極スパッタリング・コーティング、又はアルミニウム基体の黒色陽極酸化処理等、物理的により強固である既存の代替解決策は、カーボン・ナノチューブベースのコーティングより光学的に劣り、したがって、濃い黒色が望ましい場合、適さない代替物である。

米国特許第２０１８／１５７２１４号 米国特許第４９９７５３８号 米国特許第９７２６７８６号 国際公開第２００８１１２０４７号 独国特許出願第１０２０１５１１４８７７号 米国特許第９８１７１５５号

したがって、本発明の一目的は、従来技術の上述の欠点を少なくとも部分的に克服することである。

より詳細には、本発明は、請求項１で定義される黒色物品に関する。光起電力デバイスではない（即ち、太陽電池ではない）この物品は、
－例えば、ガラス、サファイア、アルミナ、ポリマー等の実質的に透過性の基体と、
－前記基体の第１の面上に直接又は間接的に設けられ、前記基体から離して向けられるテクスチャ面を有する実質的に透過性のテクスチャ層と、
－前記テクスチャ層の前記テクスチャ面上に直接又は間接的に位置する、シリコン－ゲルマニウム合金を含む吸光層と
を備え、この吸光層は、典型的には、光起電力デバイスの部品ではないために非ドープ吸光層である。更に、吸光層は、典型的には、同質で単一の層である。

シリコン－ゲルマニウム合金は、水素を含むか含まないかに関わらず、可視範囲内、特に、より長い赤色波長範囲内の光を強力に吸収し、基体側から見た際、物品に濃い黒色をもたらす。黒の色合いは、見る側とは反対の側に位置する層によってもたらされるため、取扱いによって生じたその層の自由面へのわずかな損傷は見えず、基体（又は基体上に設けられる反射防止層及び／若しくは耐引っ掻き層等のあらゆる更なる層）の表面は強固で、損傷に耐性があり、従来の機械的及び／又は化学的手段により容易に清掃される。テクスチャ層のテクスチャ面は、入射光を拡散することによってシリコン－ゲルマニウム層と共に相乗効果的に働き、これにより、より多くの入射光がＳｉ－Ｇｅ層によって吸収され、かなり濃い黒色を物品にもたらすことを保証する。

有利には、前記シリコン－ゲルマニウム合金は、少なくとも２％のゲルマニウム、好ましくは、少なくとも１０％のゲルマニウム、更に好ましくは、少なくとも２０％のゲルマニウム、更に好ましくは、実質的に３０％のゲルマニウムを含んでもよい。

有利には、物品は、前記基体と前記テクスチャ層との間に介挿した反射防止層を更に備えてもよい。この反射防止層は、鏡面反射を低減するのに役立ち、したがって、物品の黒さを向上させる。一例として、酸化窒化シリコンをこの反射防止層に使用してもよく、反射防止層の厚さ部を通じて増大する段階的な屈折率を有する多層とすることもできる。

有利には、前記反射防止層は、前記基体の屈折率を超える屈折率を呈してもよく、これにより、鏡面反射の抑制を向上させる。

有利には、反射防止コーティングは、前記基体の第２の面上に設けてもよく、前記第２の面は、前記第１の面の反対側であり、したがって、見ることが意図される方向に面する。このことにより、鏡面反射を更に低減する。

有利には、前記反射防止コーティングは、前記基体の屈折率よりも低い屈折率を呈してもよく、鏡面反射をより一層低減させる。

有利には、前記テクスチャ層は、前記吸光層の屈折率よりも低い屈折率を呈してもよく、同様に、鏡面反射を低減させる。

有利には、前記シリコン－ゲルマニウム合金層は、４００から７００ｎｍの間、好ましくは、５５０から６７５ｎｍの間の厚さを有してもよく、及び／又は前記テクスチャ層は、０．５から５μｍの間、好ましくは、２．５から３μｍの間の厚さを有し、前記テクスチャ面上に少なくとも１０ｎｍ ｒｍｓ（二乗平均）の表面ｒｍｓ粗さを有する。

有利には、前記テクスチャ層は、酸化亜鉛及び／又は酸化スズを含んでもよい。そのようなテクスチャ層を堆積する間、上述のテクスチャは、あらゆる更なるステップを必要とせずに、堆積中に自動的に形成される。

当該黒色物品は、例えば、計時器のための（非光起電力性）文字板、針、歯車、ばね又は受け等の別の計時器の部品、時計ケース、りゅうず、ベゼル等の装飾要素、ネックレス、えり飾り、指輪、ブレスレット、イヤリング、ペンダント又はブローチ等の上に設けられる装身具要素、又はセンサ、例えば光捕捉要素、光学バッフル若しくはビーム停止面等の光学デバイスのための吸光要素とすることができる。他の適用例は、電話、タブレット若しくは電子デバイス全般のための美観的なカバー・ガラス、又は家庭用家具、室内装飾物、自動車装飾物等のための他の装飾要素を含む。

本発明は、そのような黒色物品の製造方法にも関する。本方法は、
－実質的に透過性の基体を準備するステップと、
－前記基体の第１の面上に実質的に透過性のテクスチャ層を直接又は間接的に形成するステップであって、前記テクスチャ層は、前記基体から離して向けられるテクスチャ面を有する、ステップと、
－前記テクスチャ層の前記テクスチャ面上にシリコン－ゲルマニウム合金を含む層を直接又は間接的に形成するステップと
を含む。

このシリコン－ゲルマニウム合金を含む層により、上記した、既に開示した全ての付随する利点を有する黒色物品がもたらされる。この層は、完全に又は主にＳｉ－Ｇｅ合金としてもよく、水素化する、したがってＳｉ－Ｇｅ：Ｈ層としてもよい。

有利には、前記実質的に透過性のテクスチャ層は、酸化亜鉛及び／又は酸化スズを化学蒸着する間等、テクスチャ層の堆積の間、表面テクスチャを自動的に形成する材料から形成してもよい。したがって、テクスチャは堆積ステップの間に形成されるため、テクスチャを生成する余分なステップを必要としない。

代替的に、上述のテクスチャは、機械的テクスチャ加工及び／又は（化学エッチング等による）化学的テクスチャ加工、及び／又はイオン・エッチング、及び／又はレーザー・アブレーションによって施すことができる。このテクスチャは、テクスチャを生成するために使用する方法に応じて、確率的であっても、非確率的であり得る。

有利には、前記実質的に透過性の基体は、反射防止層を備えてもよく、この反射防止層は、例えば既製のガラス又はポリマー基体を使用するケースでは、基体の第２の面上に既に設けられている。

有利には、方法は、前記テクスチャ層を形成する前に、前記基体の前記第１の層上に反射防止層を形成するステップを更に含んでもよい。

有利には、吸光層は、非ドープ層及び／又は単一同質層として堆積される。

本発明の更なる詳細は、以下の図面に関連する下記の説明を読めばより明らかになるであろう。

本発明による最も単純な形態の物品の概略断面図である。 本発明による物品の更なる変形形態の概略断面図である。 本発明による様々な異なる物品サンプルの全反射のグラフである。 本発明による様々な異なる物品サンプルの拡散反射のグラフである。 本発明による物品のまた更なる変形形態の概略断面図である。 本発明による物品の３つの有利な使用法の概略図である。 本発明による物品の製造方法の概略図である。

図１は、本発明による最も単純な形態の黒色物品１の概略断面図を示す。上述のように、本物品１は、時計文字板、宝飾要素、光学機器のための吸光要素、又はかなり吸光性のある、あらゆる他の物品とすることができる。物品１は、光起電力デバイス、即ち太陽電池ではない。言い換えれば、物品１は、実質的に光起電力的に不活性であり、光に露出された際、電流を生成又は送出するように適合されていない。物品１は、所望の厚さの実質的に透過性の基体３を備え、基体３は、ガラス、ポリマー、サファイア若しくはアルミナ等の透過性セラミック、ガラスセラミック、又は任意の他の好都合な材料から作製してもよい。本文において、「実質的に透過性」とは、少なくとも９５％の可視光（３５０～７５０ｎｍ波長）透過率を呈するものであり、記載する全ての屈折率は、可視光波長に関するものであると理解されたい。基体３及び得られる物品は平坦なものとして示されるが、湾曲させても、あらゆる所望の形状に形成し得る。

見ることが意図される方向（見る者の視点を表す目の記号によって概略的に示される）から離れて面する基体３の第１の面３ａ上に、実質的に透過性のテクスチャ層５が設けられる。このテクスチャ層５は、図１に示すように前記第１の面３ａ上に直接配置してもよい、又は以下の図２の状況でより詳細に説明するように、１つ若しくは複数の補足層を基体３とテクスチャ層５との間に介挿して前記第１の面３ａ上に間接的に配置してもよい。

テクスチャ層５は、例えば、化学蒸着（ＣＶＤ）等により１の面３ａ上に形成される酸化亜鉛層としてもよく、不規則ジグザグ線により概略的に表されるように、基体３ａから離れて面するテクスチャ層５の表面５ａが複数のピラミッド形状を呈するようにする。この層に特に適切な別の材料は、ＣＶＤ蒸着酸化スズであり、透過性で、鋭角に画定されるピラミッド形状の酸化亜鉛よりも丸い面形態を呈する。同様の特性を呈する他の物質も可能である。

透過性ポリマー、アルミナ等、テクスチャ面を本質的に形成しない異なる材料を堆積した後、個別ステップで前記表面５ａにテクスチャ加工することも可能である。このテクスチャ加工は、機械的に（例えば機械加工、研削、研摩ブラシ、サンド・ブラスト、ビード・ブラスト等よって）、イオン・エッチング、レーザー・エッチング若しくはレーザー・アブレーションにより、又は化学エッチングによって実行することができる。

代替的に、基体の表面３ａ自体にテクスチャ加工してもよい。このテクスチャは、テクスチャ層５の表面５ａが、テクスチャ面を本質的に形成しない材料から作製される場合でさえ、テクスチャ層５の表面５ａに転写される。

どのようにテクスチャを形成するかは重要ではないが、理想的には、テクスチャは、１０ｎｍの最小ｒｍｓ値を有するべきであり、確率的であっても、非確率的であってもよい。特に、１５ｎｍから５００ｎｍ ｒｍｓの値が最も有用である。ＲＭＳ粗さは、ＡＳＭＥ Ｂ４６．１規格に記載されているため、当業者に周知である。

テクスチャ層５の形成の仕方とは無関係に、テクスチャ層５の厚さは、理想的には０．５から５μｍの間の厚さ、好ましくは、２．５から３．０μｍの間の厚さである。

テクスチャ層５の前記表面５ａ上に、シリコン－ゲルマニウム合金の吸光層７が形成され、吸光層７は、少なくとも２％のゲルマニウム、好ましくは、少なくとも１０％又は２０％のゲルマニウム、更に好ましくは、２０％から４０％のゲルマニウム、更に好ましくは、実質的に３０％のゲルマニウムを含み、この残りは、層を水素化したケースでは、実質的に全てシリコン及び水素である（ＳｉＧｅ：Ｈ）。この吸光層は、典型的には、４００から７００ｎｍの間、より詳細には５５０から６７５ｎｍの間の厚さを有し、典型的には、テクスチャ層５上に直接堆積されるが、介在する層も可能である。

シリコン－ゲルマニウム合金は、可視光波長を特に強力に吸収し、約３～４の高い屈折率も有し、典型的には、テクスチャ層５の屈折率をかなり超過する。酸化亜鉛の場合、テクスチャ層５の屈折率は約２である。したがって、テクスチャ面５ａでテクスチャ層５を離れる可視光は、多重反射によって吸光層７内で再循環し、したがって、最大吸光がもたらされる。

したがって、屈折率が基体３から（又は存在する場合、反射防止コーティング９から）Ｓｉ－Ｇｅ層７まで増大するように様々な層を配置することが可能であり、これにより、鏡面反射を最小化する。

この構造、及び本明細書で開示する全ての構造において、吸光層７は、半導体材料から形成され、存在する唯一の層であることを留意されたい。物品１は光起電力デバイスではない、即ち、光起電力的に不活性であるので、吸光層７は、典型的には、非ドープ層である（即ち、真性型である）が、Ｐ型又はＮ型ドーパントが存在し得ることを除外しない。更に、物品には、様々なドーピング等によって形成されるＰ－Ｎ、Ｎ－Ｐ、ＰＩＮ、ＮＩＰ又は他の種類の光起電力的に活性な接合部が一切ない。本質的に、層７のＳｉ－Ｇｅが半導体であることは偶然の一致である。というのは、層７は、その吸光特性のために選択されているためである。層７が、典型的には単一の実質的に同質の層であり、積層体でも、他のより複雑な構成でもないことにも留意されたい。というのは、このことにより、層７の堆積を単一プロセス・ステップで迅速、効率的に実行できることを保証し、かなり経済的な製造をもたらすためである。

図２は、黒さを改善する２つの更なる方策が実施されている黒色物品１の更なる変形形態を示す。しかし、１つ又は他の方策を個々に適用することが完全に可能である。

層３、５及び７は、上記のとおりであり、再度説明する必要はない。

色を更に濃くする第１の方策は、反射防止コーティング９の存在であり、反射防止コーティング９は、見ることが意図される方向の方に面する、即ち、Ｓｉ－Ｇｅ合金層７から離れて面する基体３の表面上に施される１つ又は複数の層を備える。この表面は、「第２の面」３ｂとして規定される。

この反射防止コーティング９は、耐引っ掻き性及び耐摩耗性も有してもよく、そのようなコーティングは、それ自体が特に眼鏡の分野で周知であり、鏡面反射、したがって、光沢を低減する。この例は、例えば米国特許第９７２６７８６号（特許文献３）、国際公開第２００８１１２０４７号（特許文献４）、独国特許出願第１０２０１５１１４８７７号（特許文献５）、米国特許第９８１７１５５号（特許文献６）及び無数の他の文献で開示されている。代替的に、反射防止コーティング９が耐引っ掻き性等に乏しい場合、更なる耐引っ掻き性コーティング（図示せず）を反射防止コーティング９の上に設けでもよい。

本発明の文脈において、反射防止コーティングは、有利には、基体３の屈折率よりも低い屈折率を有し、後方反射を低減する、したがって、色を濃くするのを助ける。

色を濃くする第２の方策は、更なる反射防止層１１を基体３とテクスチャ層５との間に介挿することである。この層は、典型的には、基体３の屈折率とテクスチャ層５の屈折率との間にある値の屈折率を有し、例えば、１０から２００ｎｍの間、より好ましくは７０から９０ｎｍの間の厚さを有する酸化窒化シリコン層としてもよい。この酸化窒化シリコン層は、Ｓｉ－Ｇｅ層７に向かって段階的に増大する屈折率を呈する多層としてもよい。

図３ａ及び図３ｂは、本発明の効果を表す一対のグラフを示し、５つの様々なサンプルによる、入射光波長を関数とする全反射及び拡散反射に対する反射光のパーセンテージを示す。５つの異なるサンプルに関する４５０～７４０ｎｍ波長範囲の平均的な結果は、以下のとおりであり、図３ａ及び図３ｂの各グラフの凡例の左から右、上から下に列挙する。

各ケースにおいて、反射防止コーティング９の厚さは、約７０～９０ｎｍであり、ガラス基体３の厚さは、約０．５ｍｍであり、反射防止層１１の厚さは、約８０ｎｍであり、ＺｎＯ層５の厚さは、約２．５μｍであり、ＳｉＧｅ吸光層７の厚さは、約６２５ｎｍである。

はっきりとわかるように、この結果は、良好に１％未満の反射で、拡散反射の場合と非常に類似しており、反射防止コーティング９及び反射防止層１１の両方は、組み合わせて使用した場合、全反射をわずか１％超まで下げるのに寄与する（サンプルｅ）。このことは、かなり濃い黒色を表す。

更に、４つのサンプルの色の測定値を取った。色のパラメータは、知覚的に均等で人間の目と相関するＬ^＊ａ^＊ｂ^＊系で測定した。このモデルでは、Ｌ^＊は、輝度（Ｌ^＊＝０である黒からＬ^＊＝１００である白まで）を表し、ａ^＊は、緑－赤の規模（ａ^＊＝－１２８である緑からａ^＊＝＋１２７である赤まで）であり、ｂ^＊は、青－黄色の規模（ｂ^＊＝－１２８である青からｂ^＊＝＋１２７である黄色まで）である。したがって、完全な黒は、Ｌ^＊＝ａ^＊＝ｂ^＊＝０によって規定される。サンプルは、鏡面反射成分を含むＳＣＩ（「正反射光を含む」）モード（即ち、全反射）、及び拡散反射成分のみを含むＳＣＥ（「正反射光を除く」）モードで同時に測定される。各ケースにおいて、標準光源Ｄ６５を使用し、１０°の観察者視野を用いた。

おおよその結果は以下のとおりであった。

これらの図からわかるように、サンプルの黒さはかなり濃く、反射防止コーティング９及び層１１は、色の値を実質的に変化させずに、鏡面反射成分を低減する。この結果は、従来の黒色物品では黒色が、見ている人に面する表面上にラッカ又はコーティングとして設けられる一方で、吸光層７が入射光方向から離れて配置されるため、より一層驚くべきものである。

したがって、吸光層７は、物品１の観察者に面する面上に配置されないため、取扱い時の損傷から保護される。実際、この吸光層７は、ユーザに見えずに、表面上の損傷に耐えることさえできる。というのは、吸光層７は、ユーザから離れて面する物品１の裏面上にあるためである。基体３、及び反射防止コーティング及び／又は耐引っ掻き性コーティング９等の基体３上のあらゆるコーティングは、物品１のユーザに面する側にあるため、従来の機械的、化学的製品で容易に取り扱い、清掃することができ、吸光層７に損傷を与える危険性がない、又は物品の光学特性に影響を与えることがない。清掃可能性（及び耐引っ掻き性）を最大化するため、基体３の第２の面３ｂ及び／又は第２の面３ｂ上に設けられるあらゆるコーティング９の最外面は、理想的には、５ｎｍ ｒｍｓ、より詳細には１ｎｍ ｒｍｓ以下の最大面粗さを呈する。

図４は、図２に示す物品１に対応する物品１の一実施形態を示し、この実施形態では、いくつかの更なる任意の方策が取られている。こうした方策は、個別に又は組み合わせて適用することができ、反射防止コーティング９及び／又は反射防止層１１を除外することが同様に可能である。

まず、吸光層７は、更なる保護層１３により物品１の下面上で保護することができ、この更なる保護層１３は、例えば封入材から作製され、吸光層７を保護するように吸光層７上に堆積される。

更に、基体の面の一方、もう一方又は両方に計画的に形成した浮彫り模様３ｃを設けることも可能である。この模様は、例えば、規則的なパターン、刻印、画像等としてもよく、基体３の主面の上方に延在してもよい、又は前記主面内に凹ませてもよい。浮彫模様の高さ及び／又は深さは、適宜、基体３の主面の上方及び／又は主面の下方に少なくとも１μｍである。

また、必要に応じて、拡散層等の更なる層を組み込み得ることを留意されたい。そのような層をテクスチャ層５とＳｉ－Ｇｅ合金層７との間に配設する場合、テクスチャは、基体３の方に面するＳｉ－Ｇｅ合金層７の表面が依然としてテクスチャ加工されるように、この余分な層を通じて入れ替えられることに留意されたい。

図５は、本発明による物品１の３つの可能性のある非限定的適用例を概略的に表す。この図の左には、物品１が文字板２２として使用される計時器２１が表され、物品１の基体３は、ユーザが時間を見る際、ユーザの方に面している。

図５の中間では、物品１は、装飾要素としてブレスレット、ペンダント、ブローチ、イヤリング等の装身具に組み込まれている。

図５の右では、物品１は、筐体２６を備える光学センサ２５内に組み込まれ、筐体２６は、光センサ２９を収容する封入空間２７を画定する。封入空間２７は、シャッタ又は開口３１に面し、物品１は、シャッタ３１からセンサ２９までを直接通過する光以外の不要な光を吸収するように構成され、基体３は、筐体の内部を向く及び／又はシャッタ３１の方に向く状態で、物品１の各区分内に配置される。

当然、他の適用が可能である。

製造ステップに関して、図６は、図２の物品１に対応する物品１の製造を概略的に示す。図１による物品１、又は反射防止コーティング９若しくは反射防止層１１の一方又は他方が除かれた物品の場合、対応する方法ステップは、単に除かれる。

まず、全ての他の層が上に形成される基礎として働く基体３を準備する。基体３の適切な材料は詳細に上記で説明してあるため、ここでは繰り返さない。

反射防止コーティング９は、存在する場合、例えば特許文献３、特許文献４、特許文献５、特許文献６又は無数の他の文献に記載されているように、方法の任意の好都合な時期で基体３の第２の面３ｂ上に設けられ、最初に堆積される層である必要はない。しかし、反射防止コーティングを既に備える市販のガラス及びプラスチック基体が既製品で入手可能であるため、実際には反射防止コーティング層が最初に堆積されている場合が多く、したがって、他の層を堆積する際、反射防止コーティング層は、基体３上に既に存在している。

次に、反射防止層１１は、存在する場合、基体３の第１の面３ａ上に堆積される。非限定的な例として、反射防止層１１は、酸化窒化シリコン層としてもよく、以下の条件下、１３．５６ＭＨｚプラズマ励起周波数、１５ｍｍ電極間距離、４５×５５ｃｍ電極面寸法を有する反応器内でプラズマ援用化学蒸着によって堆積され、以下で示される厚さがもたらされる。

次に、テクスチャ層５を前記第１の面３ａ上に直接又は間接的に堆積する。このテクスチャ層５が酸化亜鉛から作製される場合、テクスチャ層５は、以下の条件下、上述の反応器内で低圧化学蒸着によって堆積することができ、以下で示される厚さが与えられる。

テクスチャ層５が、堆積の結果、適切な表面テクスチャを有さない、ＺｎＯとは異なる材料から作製される場合、上記のように機械的、化学的、光学的又はイオン的に構成してもよい。

次に、Ｓｉ－Ｇｅ合金の吸光層７を、以下の条件下、上述の反応器内で、例えばプラズマ支援化学蒸着によって無テクスチャ層５の表面上に直接又は間接的に堆積し、示される厚さをもたらす。

当然、他の中間層又は外側層を必要に応じて堆積することができる。

本発明は、特定の実施形態を参照して説明してきたが、添付の特許請求の範囲において規定される本発明の範囲から逸脱することなく、これら特定の実施形態に対する変形形態が可能である。

Claims (18)

1. 迷光吸収要素としての黒色物品（１）であって、前記迷光吸収要素は、
   －透過性の基体（３）と、
   －前記基体の第１の面（３ａ）上に設けられ、前記基体（３）から離れて向けられるテクスチャ面（５ａ）を有する透過性のテクスチャ層（５）と、
   －シリコン－ゲルマニウム合金を含む吸光層（７）と
   を備え、前記吸光層（７）は、前記テクスチャ層（５）の前記テクスチャ面（５ａ）上に配置され、さらに、
   前記吸光層（７）の屈折率＞前記テクスチャー層（５）の屈折率＞前記基体（３）の屈折率の関係を有し、前記基体（３）から前記吸光層（７）まで屈折率が増大している、黒色物品（１）。
2. 前記シリコン－ゲルマニウム合金は、少なくとも２％のゲルマニウムを含む、請求項１に記載の黒色物品（１）。
3. 前記基体（３）と前記テクスチャ層（５）との間に介挿される反射防止層（１１）を更に備え、前記反射防止層（１１）は、前記基体（３）の屈折率を超える屈折率を呈する、請求項１又は２に記載の黒色物品（１）。
4. 前記反射防止層（１１）は、酸化窒化シリコン層であり、該酸化窒化シリコン層の屈折率は、前記基体（３）の屈折率と前記テクスチャ層（５）の屈折率と間の屈折率を有する、請求項３に記載の黒色物品（１）。
5. 前記基体（３）の第２の面（３ｂ）上に設けられる反射防止コーティング（９）を更に備え、前記第２の面（３ｂ）は、前記第１の面（３ａ）の反対側であり、前記反射防止コーティング（９）は、前記基体（３）の屈折率よりも低い屈折率を呈する、請求項１から４のいずれか一項に記載の黒色物品（１）。
6. 前記吸光層（７）は、４００から７００ｎｍの間の厚さを有する、請求項１から５のいずれか一項に記載の黒色物品（１）。
7. 前記テクスチャ層（５）は、０．５から５μｍの間の厚さを有し、前記テクスチャ面（５ａ）上に少なくとも１０ｎｍの表面ｒｍｓ粗さを有する、請求項１から６のいずれか一項に記載の黒色物品（１）。
8. 前記テクスチャ層（５）は、酸化亜鉛及び／又は酸化スズを含む、請求項７に記載の黒色物品（１）。
9. 前記黒色物品（１）は、
   －計時器の文字板、
   －計時器の針、歯車、ばね又は受け、
   －時計ケース、時計りゅうず、時計ベゼル、家庭用家具、室内装飾物、又は自動車装飾物のための装飾要素、
   －ネックレス、えり飾り、指輪、ブレスレット、イヤリング、ペンダント又はブローチのための装身具要素、
   －光捕捉要素、光学バッフル、又はビーム停止面のための吸光要素、
   －電話、タブレット又は電子デバイスのための装飾カバー・ガラス
   の内の１つである、請求項１から８のいずれか一項に記載の黒色物品（１）。
10. 前記吸光層（７）は、非ドープ層である、請求項１から９のいずれか一項に記載の黒色物品（１）。
11. 前記吸光層（７）は、単一の層である、請求項１から１０のいずれか一項に記載の黒色物品（１）。
12. （１３）
    迷光吸収要素としての黒色物品（１）の製造方法であって、前記方法は、
    －透過性の基体（３）を準備するステップと、
    －前記基体（３）の第１の面（３ａ）上に透過性のテクスチャ層（５）を形成するステップであって、前記テクスチャ層は、前記基体（３）から離れて向けられるテクスチャ面（５ａ）を有する、ステップと、
    －前記テクスチャ層（５）の前記テクスチャ面（５ａ）上にシリコン－ゲルマニウム合金を含む吸光層（７）を形成するステップと
    を含み、
    前記吸光層（７）の屈折率＞前記テクスチャー層（５）の屈折率＞前記基体（３）の屈折率の関係を有し、前記基体（３）から前記吸光層（７）まで屈折率が増大している、方法。
13. 前記透過性のテクスチャ層（５）は、前記テクスチャ層（５）の堆積中に表面テクスチャを自動的に展開する材料から形成される、請求項１２に記載の方法。
14. 前記透過性のテクスチャ層（５）は、化学蒸着によって堆積される酸化亜鉛又は酸化スズを含む、請求項１３に記載の方法。
15. 前記透過性のテクスチャ層（５）は、
    －機械的テクスチャ加工、
    －化学的テクスチャ加工、
    －イオン・エッチング、
    －レーザー・アブレーション
    の１つ又は複数によって施されたテクスチャを含む、請求項１２に記載の方法。
16. 前記透過性の基体（３）は、前記基体（３）の第２の面（３ｂ）上に設けた反射防止コーティング（９）を有する、請求項１２～１５のいずれか一項に記載の方法。
17. 前記テクスチャ層（５）を形成する前に、前記基体（３）の前記第１の面（３ａ）上に反射防止層（１１）を形成するステップを含む、請求項１２～１６のいずれか一項に記載の方法。
18. 前記吸光層（７）は、非ドープ層である、請求項１２～１７のいずれか一項に記載の方法。

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