JP7428930B1 - 電子線照射装置 - Google Patents

Abstract

【課題】送風部の風によるワークのめくれ上がりを抑制可能にした電子線照射装置を提供する。【解決手段】電子線照射装置１０は、出射口１９の外側から透過膜２０に風を送る送風部３６と、開閉可能に構成されたシャッター３５とを備える。シャッター３５は、開状態において照射エリアＡへの電子線の照射を許容し、閉状態において照射エリアＡへの電子線の照射を遮る。そして、電子線照射装置１０は、搬送部１０Ｂ上のワークＷの有無を検出する下流側センサ３７と、下流側センサ３７によるワークＷの検出に基づいて、ワーク先端Ｗａが照射エリアＡを通過した後にシャッター３５を閉状態から開状態に移行させる制御部と、を備える。【選択図】図２

Description

本開示は、電子線照射装置に関するものである。

電子線照射装置は、生成した電子線をワークに照射する装置である。電子線照射装置は、ワークの例えば素材の性質改善や機能付加、殺菌・滅菌を図る目的等で用いられている。例えば、特許文献１に記載の電子線照射装置は、電子線を出射する出射口に透過膜を備える。透過膜は、出射口を密閉しつつも、電子線は透過させる。また、電子線照射装置は、ワークを搬送する搬送部を備える。搬送部は、出射口から出射された電子線の照射エリアをワークが通過するようにワークを搬送する。また、電子線照射装置は、透過膜を介して出射口から出射された電子線を遮るシャッターを備える。シャッターは、開閉可能に構成されている。シャッターは、閉状態において照射エリアへの電子線の照射を遮る。また、シャッターは、開状態において照射エリアへの電子線の照射を許容する。すなわち、電子線をワークに照射する際には、シャッターは開状態とされる。また、電子線照射装置は、透過膜を冷却すべく、出射口の外側から透過膜に風を送る送風部を備える。

特開２０１１－２２０７２１号公報

上記のような電子線照射装置では、送風部から供給される風が透過膜に当たった後、ワークを搬送する搬送部に向かう下降流となることがある。ここで、ワークが例えばシート状をなす場合、ワークの搬送方向の先端に前記下降流が当たると、当該ワークの先端部がめくれ上がるおそれがある。ワークがめくれ上がってしまうと、例えばワークの詰まり等が発生する場合がある。

［１］上記課題を解決する電子線照射装置は、電子線が出射される出射口と、前記電子線を透過させつつ前記出射口を密閉する透過膜とを有する照射装置本体と、前記出射口から出射された前記電子線の照射エリアをワークが通過するように当該ワークを搬送する搬送部と、前記出射口の外側から前記透過膜に風を送る送風部と、開閉可能に構成され、開状態において前記照射エリアへの前記電子線の照射を許容し、閉状態において前記照射エリアへの前記電子線の照射を遮るシャッターと、前記搬送部上の前記ワークの有無を検出するセンサと、前記センサによる前記ワークの検出に基づいて、前記ワークの搬送方向の先端が前記照射エリアを通過した後に前記シャッターを前記閉状態から前記開状態に移行させるシャッター制御部と、を備える。

この構成によれば、ワークの搬送方向の先端が照射エリアを通過した後に、シャッターが開状態に移行される。すなわち、ワークの搬送方向の先端が照射エリア内にあるときには、透過膜に当たって搬送部に向かう送風部の風を、閉状態のシャッターで遮ることが可能となる。これにより、送風部の風がワークの搬送方向の先端に当たることを抑制可能となる。その結果、送風部の風によるワークのめくれ上がりを抑制することが可能となる。

［２］上記［１］に記載の電子線照射装置において、前記センサは、前記照射エリアよりも前記搬送方向の下流側に設けられた下流側センサを含み、前記シャッター制御部は、前記下流側センサによる前記ワークの検出に基づいて、前記ワークの前記先端が前記照射エリアを通過した後に前記シャッターを前記閉状態から前記開状態に移行させる。

この構成によれば、下流側センサの検出結果に基づいたシャッター制御部によるシャッターの制御によって、送風部の風によるワークのめくれ上がりを好適に抑制することが可能となる。

［３］上記［１］に記載の電子線照射装置において、前記センサは、前記照射エリアよりも前記搬送方向の上流側に設けられた上流側センサを含み、前記シャッター制御部は、前記上流側センサによる前記ワークの検出に基づいて、前記ワークの前記先端が前記照射エリアを通過した後に前記シャッターを前記閉状態から前記開状態に移行させる。

この構成によれば、上流側センサの検出結果に基づいたシャッター制御部によるシャッターの制御によって、送風部の風によるワークのめくれ上がりを好適に抑制することが可能となる。

［４］上記［１］から［３］のいずれか１つに記載の電子線照射装置において、前記シャッター制御部は、前記センサによる前記ワークの検出を条件として、前記シャッターの開動作を許可する照射準備状態に移行する。

この構成によれば、シャッター制御部による制御によって、送風部の風によるワークのめくれ上がりを好適に抑制することが可能となる。
［５］上記［１］から［４］のいずれか１つに記載の電子線照射装置において、前記電子線照射装置は、前記出射口、前記透過膜、前記照射エリア及び前記シャッターが内部に配置され、前記搬送部が通る入口及び出口を有する照射室と、前記照射室に連通される排気ダクトと、前記照射室内の空気を前記排気ダクトに排気する排気部と、前記センサによる前記ワークの検出に基づいて、前記排気部の出力を上げる排気出力制御部と、を備える。

この構成によれば、ワークが照射室に入る前の状態において、排気部の出力を低出力状態とすることが可能となる。これにより、ワークが照射室の入口から照射室内に入ってくる際において、当該入口での吸気によるワークの先端のめくれ上がりを抑制することが可能となる。

本開示の電子線照射装置によれば、送風部の風によるワークのめくれ上がりを抑制することが可能となる。

実施形態における電子線照射装置の概略構成図である。 同形態における電子線照射装置の要部を示す概略構成図である。 同形態における電子線照射装置の動作を示すタイムチャートである。 同形態における電子線照射装置の制御態様を説明するための説明図である。

以下、電子線照射装置の一実施形態について図面を参照して説明する。なお、図面では、説明の便宜上、構成の一部を誇張又は簡略化して示す場合がある。また、各部分の寸法比率についても、実際と異なる場合がある。

図１に示すように、電子線照射装置１０は、照射装置本体１０Ａと、搬送部１０Ｂとを備える。
（照射装置本体１０Ａの構成）
照射装置本体１０Ａは、例えば走査型の照射装置である。照射装置本体１０Ａは、熱電子の放出を行う例えばタングステン製のフィラメント１１を備えている。フィラメント１１は、フィラメント用電源１２からの電源供給に基づく自身の加熱により電子を放出する。フィラメント１１は、加速管１３の一端部に設けられている。なお、本実施形態の加速管１３は、自身の軸Ｌ１方向の一端部側が上方に向けられて配置されている。

加速管１３は、フィラメント１１が配置される上端側が閉塞された筒状をなしている。加速管１３は、軸Ｌ１方向に並設される複数の加速電極１４を有している。加速電極１４は、加速電極用電源１５からの電源供給に基づき、フィラメント１１から放出された電子を収束させつつ下方に向けて加速させるような電界を生じさせる。つまり、加速管１３では、加速電極１４にて生じる電界にて、軸Ｌ１方向の下方に向く電子流、即ち電子線ｅが生じるようになっている。加速管１３は、下端部に走査管１６が接続されている。加速管１３と走査管１６とは互いに内部空間１７が連通し、その内部空間１７において電子線ｅが加速管１３から走査管１６側に進む。

走査管１６は、例えば、上端側が幅狭で、下方に向かうほど拡開する形状をなしている。走査管１６は、その幅狭の上端部に走査コイル１８が設けられている。走査コイル１８は、自身への通電に基づき、加速管１３にて生成された電子線ｅの向きを偏向する、即ち電子線ｅの走査を行う。

図１及び図２に示すように、走査管１６の下端部、即ち出射側の端部には、例えば略長方形状の出射口１９が設けられている。出射口１９には略長方形状の透過膜２０が取り付けられている。透過膜２０は、例えば、極めて薄い金属箔からなる。透過膜２０の材料としては、例えばチタン系の金属材料が用いられる。透過膜２０は、出射口１９よりも一回り大きな形状をなし、出射口１９を塞ぐように設けられている。

図２に示すように、透過膜２０は、走査管１６の下端部と、出射口１９の周縁部に固定された取付枠１９ａとによって挟まれる態様で固定されている。取付枠１９ａは、電子線ｅを通すために環状をなしている。取付枠１９ａは、走査管１６の下端部に対して、図示しないボルトなどによって固定されている。

透過膜２０は、電子線ｅを透過させつつも、出射口１９を密閉するものである。つまり、加速管１３と走査管１６とに跨がる内部空間１７は、密閉空間である。内部空間１７は、例えば走査管１６に接続された真空ポンプ２１の駆動にて、少なくとも電子線ｅを生じさせる期間は真空状態とされる。

（搬送部１０Ｂの構成）
図１及び図２に示すように、搬送部１０Ｂは、出射口１９に装着された透過膜２０を介して出射される電子線ｅの照射エリアＡを通るように、ワークＷを搬送方向ｘに搬送する。搬送部１０Ｂは、例えば、搬送コンベアである。ワークＷとしては、搬送方向ｘに沿って長いゴムシート等が挙げられる。透過膜２０を介して出射される電子線ｅは、搬送部１０Ｂにより搬送方向ｘに搬送中のワークＷに対して照射される。電子線照射装置１０は、例えば、略長方形状をなす出射口１９の長手方向が搬送部１０Ｂの搬送直交方向ｙに向くように配置されている。搬送方向ｘ及び搬送直交方向ｙを含めた電子線ｅの所定走査が行われることにより、出射口１９に対応した略長方形状の照射エリアＡに電子線ｅが照射される。電子線ｅのワークＷへの照射効果としては、例えば素材の性質改善や機能付加、殺菌・滅菌等が期待できる。

図２に示すように、電子線照射装置１０は、照射室３０と、排気ダクト３３と、排気部３４と、シャッター３５と、送風部３６と、下流側センサ３７と、上流側センサ３８と、制御部４０と、をさらに備える。なお、図１では、説明の便宜上、照射室３０、排気ダクト３３、排気部３４、シャッター３５及び送風部３６の図示を省略している。

（照射室３０の構成）
図２に示すように、電子線照射装置１０は、照射室３０を備える。照射室３０の内部には、透過膜２０を含む走査管１６の出射口１９が少なくとも配置される。すなわち、透過膜２０を介して出射される電子線ｅの照射エリアＡは、照射室３０内に設定される。照射室３０は、照射装置本体１０Ａにて発生するＸ線やオゾンガスが外部に流出することを抑制する。照射室３０を形成する壁部は、例えば鉛系の金属材料にて形成されている。

照射室３０は、照射室３０の内外をそれぞれ連通する入口３１及び出口３２を有している。搬送部１０Ｂの搬送経路の一部は、照射室３０の内部を通っている。搬送部１０Ｂは、照射室３０の入口３１及び出口３２を通るように配置されている。搬送部１０Ｂにて搬送方向ｘに搬送されるワークＷは、入口３１から照射室３０内に入り、出口３２から照射室３０の外部に出る。

（排気ダクト３３及び排気部３４の構成）
電子線照射装置１０は、照射室３０に連通する排気ダクト３３と、照射室３０内の空気を排気ダクト３３に排気する排気部３４と、を備える。排気部３４は、例えば、照射室３０内の空気を排気ダクト３３に送風する複数の送風ファンである。排気部３４によって排気ダクト３３内に送られた空気は、排気ダクト３３の図示しない排気口から外部に排気される。

（シャッター３５の構成）
図２に示すように、電子線照射装置１０は、開閉可能なシャッター３５を備える。図２では、開状態のシャッター３５を実線で示すとともに、閉状態のシャッター３５を２点鎖線で示している。シャッター３５は、照射室３０内に配置される。シャッター３５は、閉状態において、出射口１９の外側の透過膜２０の下方に位置する。すなわち、シャッター３５は、閉状態において照射エリアＡへの電子線ｅの照射を遮る。また、シャッター３５は、開状態において照射エリアＡへの電子線ｅの照射を許容する。

（送風部３６の構成）
電子線照射装置１０は、電子線ｅの透過損失によって発熱する透過膜２０を冷却するための送風部３６を備える。送風部３６は、走査管１６の外部の位置であって、出射口１９の近傍の位置に配置されている。送風部３６は、例えば、ブロワに連結された吹き出しノズルである。送風部３６は、出射口１９の外側から透過膜２０に冷却風３６ａを供給する。本実施形態の送風部３６は、例えば、透過膜２０に当たった後に下降する冷却風３６ａが、搬送方向ｘに対して向かい合うように構成される。透過膜２０は、送風部３６から供給される冷却風３６ａによって冷却される。冷却風３６ａは、透過膜２０に当たった後、下方すなわち搬送部１０Ｂに向かう方向に流れる。透過膜２０に当たって搬送部１０Ｂに向かう冷却風３６ａは、閉状態にあるシャッター３５によって遮られる。

（下流側センサ３７及び上流側センサ３８の構成）
下流側センサ３７は、照射エリアＡよりも搬送方向ｘの下流側に設けられている。下流側センサ３７は、例えば、照射室３０の外部の位置であって、照射室３０の出口３２の近傍位置に設けられている。

上流側センサ３８は、照射エリアＡよりも搬送方向ｘの上流側に設けられている。上流側センサ３８は、例えば、照射室３０の外部の位置であって、照射室３０の入口３１の近傍位置に設けられている。

下流側センサ３７及び上流側センサ３８はそれぞれ、搬送部１０Ｂ上のワークＷの有無を検出する。下流側センサ３７は、搬送部１０Ｂ上のワークＷを検出すると、後述の制御部４０にオン信号を出力する。上流側センサ３８は、搬送部１０Ｂ上のワークＷを検出すると、制御部４０にオン信号を出力する。

（制御部４０の構成）
制御部４０は、例えば、フィラメント用電源１２、加速電極用電源１５、走査コイル１８、真空ポンプ２１、排気部３４、シャッター３５及び送風部３６に連結されたブロワを制御する。制御部４０は、各電源１２，１５を通じた電子線ｅの出力調整、走査コイル１８を通じた電子線ｅの走査制御、及び真空ポンプ２１を通じた内部空間１７の真空調整等を行う。また、制御部４０は、シャッター３５の開閉制御、送風部３６を通じた透過膜２０への送風の制御、及び、排気部３４を通じた排気の制御を行う。

なお、制御部４０は、コンピュータプログラム（ソフトウェア）に従って各種処理を実行する１つ以上のプロセッサ、または、各種処理のうち少なくとも一部の処理を実行する、特定用途向け集積回路（ＡＳＩＣ）などの１つ以上の専用のハードウェア回路、または、それらの組み合わせ、を含む回路（circuitry）として構成し得る。プロセッサは、ＣＰＵ並びに、ＲＡＭ及びＲＯＭなどのメモリを含み、メモリは、処理をＣＰＵに実行させるように構成されたプログラムコードまたは指令を格納している。メモリ即ちコンピュータ可読媒体は、汎用または専用のコンピュータでアクセスできるあらゆる利用可能な媒体を含む。

（制御部４０の制御態様及びその作用について）
図３に示すように、例えば作業者による操作によって電子線照射装置１０が起動されると、送風部３６に連結されたブロワ、及び排気部３４が起動される。送風部３６に連結されたブロワの起動により、送風部３６から透過膜２０に冷却風３６ａが供給される。このとき、シャッター３５は、閉状態とされている。このため、透過膜２０に当たって搬送部１０Ｂに向かう冷却風３６ａは、シャッター３５にて遮られる（図４参照）。

また、排気部３４の起動により、照射室３０内の空気が排気ダクト３３に排気される。このとき、制御部４０は、排気部３４を低出力状態で駆動させる。排気部３４による排気により、照射室３０内が負圧となるため、外部の空気が入口３１及び出口３２から照射室３０内に吸気される。なお、図２及び図４では、入口３１から照射室３０内への吸気３１ａを破線矢印で示している。

その後、例えば作業者による操作によって照射装置本体１０Ａが起動されると、加速電極用電源１５から加速電極１４に印加される加速電圧が立ち上がる。その後、フィラメント用電源１２からフィラメント１１への電源供給がなされることで、出射口１９から透過膜２０を介して出射される電子線ｅの電子線量が徐々に増加する。このとき、シャッター３５は、閉状態とされている。このため、透過膜２０を介して出射される電子線ｅは、シャッター３５にて受け止められる（図４参照）。これにより、ワークＷが照射エリアＡに無い状態で搬送部１０Ｂに電子線ｅが照射される、いわゆる空照射を抑制することが可能となっている。

搬送部１０Ｂにて搬送されるワークＷにおいて、その搬送方向ｘの先端Ｗａ（以下、ワーク先端Ｗａとも言う）が上流側センサ３８にて検出されると、上流側センサ３８から制御部４０にオン信号が出力される。その後、ワーク先端Ｗａは、入口３１から照射室３０内に入り、透過膜２０の下方の照射エリアＡを通過する（図４参照）。このとき、シャッター３５は、閉状態とされている。このため、ワーク先端Ｗａが冷却風３６ａによってめくり上がることが抑制されている。

その後、ワーク先端Ｗａは、出口３２から照射室３０の外部に出る。このとき、ワークＷの搬送方向ｘの一部は、照射エリアＡ内に位置する。その後、ワーク先端Ｗａが下流側センサ３７にて検出されると、下流側センサ３７から制御部４０にオン信号が出力される。

ここで、制御部４０は、少なくとも以下の条件１及び条件２を満たしたとき、照射準備状態に移行する。
（条件１）前記電子線量が予め設定された閾値に達する。

（条件２）下流側センサ３７からオン信号が出力される。
照射準備状態では、制御部４０は、シャッター３５の開動作を許可する。そして、照射準備状態において、例えば作業者による操作によって照射開始指示信号が出力されると、制御部４０は、シャッター３５を開状態に移行させる。これにより、透過膜２０を介して出射されてシャッター３５にて受け止められていた電子線ｅが、照射エリアＡを通るワークＷに照射される（図３中の照射状態：オン）。

また、制御部４０は、下流側センサ３７からのオン信号の出力に基づいて、排気部３４の出力を低出力状態よりも高出力な高出力状態とする。すなわち、ワーク先端Ｗａが入口３１から照射室３０内に入ってくるタイミングでは、排気部３４は低出力状態とされるため、同タイミングにおける入口３１からの吸気３１ａの量が少なく抑えられている。したがって、同タイミングにおいて、入口３１からの吸気３１ａによってワーク先端Ｗａがめくれ上がることが抑制されている。

本実施形態の効果について説明する。
（１）シャッター制御部としての制御部４０は、下流側センサ３７によるワークＷの検出に基づいて、ワーク先端Ｗａが照射エリアＡを通過した後にシャッター３５を閉状態から開状態に移行させる。この構成によれば、ワーク先端Ｗａが照射エリアＡ内にあるときには、透過膜２０に当たって搬送部１０Ｂに向かう冷却風３６ａを、閉状態のシャッター３５で遮ることが可能となる。これにより、冷却風３６ａがワーク先端Ｗａに当たることを抑制可能となる。その結果、冷却風３６ａによるワークＷのめくれ上がりを抑制することが可能となる。したがって、照射室３０内におけるワークＷの詰まりを抑制可能となる。

（２）制御部４０は、照射エリアＡよりも搬送方向ｘの下流側に設けられた下流側センサ３７によるワークＷの検出に基づいて、シャッター３５の開閉制御を行う。したがって、ワーク先端Ｗａが照射エリアＡを確実に通過した後に、シャッター３５を閉状態に移行させることが可能となる。その結果、冷却風３６ａによるワークＷのめくれ上がりをより好適に抑制することが可能となる。

（３）制御部４０は、下流側センサ３７によるワークＷの検出を条件として、シャッター３５の開動作を許可する照射準備状態に移行する。この構成によれば、制御部４０による制御によって、冷却風３６ａによるワークＷのめくれ上がりを好適に抑制することが可能となる。

（４）電子線照射装置１０は、出射口１９、透過膜２０、照射エリアＡ及びシャッター３５が内部に配置され、搬送部１０Ｂが通る入口３１及び出口３２を有する照射室３０を備える。また、電子線照射装置１０は、照射室３０に連通される排気ダクト３３と、照射室３０内の空気を排気ダクト３３に排気する排気部３４と、を備える。そして、排気出力制御部としての制御部４０は、下流側センサ３７によるワークＷの検出に基づいて、排気部３４の出力を上げる。この構成によれば、ワークＷが照射室３０に入る前の状態において、排気部３４の出力を低出力状態とすることが可能となる。これにより、ワークＷが照射室３０の入口３１から照射室３０内に入ってくる際において、入口３１での吸気３１ａによるワーク先端Ｗａのめくれ上がりを抑制することが可能となる。その結果、入口３１におけるワークＷの詰まりを抑制可能となる。

（５）下流側センサ３７及び上流側センサ３８の各々は、照射室３０の外部に配置されている。このため、下流側センサ３７及び上流側センサ３８が、照射室３０内のＸ線やオゾンガスの影響を受けにくい構成とすることが可能となる。

本実施形態は、以下のように変更して実施することができる。本実施形態及び以下の変更例は、技術的に矛盾しない範囲で互いに組み合わせて実施することができる。
・制御部４０の制御態様を、上流側センサ３８によるワークＷの検出に基づいて、ワーク先端Ｗａが照射エリアＡを通過した後にシャッター３５を閉状態から開状態に移行させる態様に変更してもよい。この場合、制御部４０は、例えば、上流側センサ３８によるワークＷの検出を条件として、シャッター３５の開動作を許可する照射準備状態に移行する。この場合の制御部４０の制御態様の一例を以下に説明する。

制御部４０は、少なくとも以下の条件３及び条件４を満たしたとき、照射準備状態に移行する。
（条件３）前記電子線量が予め設定された閾値に達する。

（条件４）上流側センサ３８からオン信号が出力された後、所定時間が経過する。
前記所定時間は、ワーク先端Ｗａが上流側センサ３８にて検出されてから、照射エリアＡを通過するのに必要な時間以上に設定される。前記所定時間は、例えば、搬送部１０Ｂの搬送速度等に基づいて予め設定される時間である。

このような制御態様によっても、ワーク先端Ｗａが照射エリアＡ内にあるときに、搬送部１０Ｂに向かう冷却風３６ａを、閉状態のシャッター３５で遮ることが可能となる。これにより、冷却風３６ａがワーク先端Ｗａに当たることを抑制可能となる。その結果、冷却風３６ａによるワークＷのめくれ上がりを抑制することが可能となる。また、このような制御態様によれば、下流側センサ３７及び上流側センサ３８を照射室３０の外部に配置しつつも、ワーク先端Ｗａが照射エリアＡを通過してから制御部４０が照射準備状態に移行するまでの時間を短縮することが可能となる。ワークＷにおいて、先端Ｗａを含む電子線ｅが照射されない部分を短く抑えることが可能となる。

・制御部４０の制御態様を、上流側センサ３８によるワークＷの検出に基づいて、排気部３４の出力を低出力状態から高出力状態に移行させる態様に変更してもよい。
・送風部３６の構成は、上記実施形態に限定されるものではない。例えば、搬送方向ｘにおける透過膜２０の両側にそれぞれブロワに連結された吹き出しノズルを配置した構成であってもよい。また、例えば、透過膜２０に当たった後に下降する冷却風３６ａが、搬送方向ｘにほぼ沿うような送風部３６の配置であってもよい。

・下流側センサ３７及び上流側センサ３８の少なくとも一方を、照射室３０内に配置してもよい。
・上記実施形態では、加速管１３の軸Ｌ１方向が鉛直方向に沿う配置としたが、斜め方向又は水平方向に向けた配置としてもよい。

・上記実施形態では、照射装置本体１０Ａを走査型としたが、これ以外に例えば、電子線ｅの走査を行わないエリアビーム型としてもよい。
・今回開示された実施形態及び変更例はすべての点で例示であって、本発明はこれらの例示に限定されるものではない。すなわち、本発明の範囲は、特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味及び範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。

１０…電子線照射装置
１０Ａ…照射装置本体
１０Ｂ…搬送部
１９…出射口
２０…透過膜
３０…照射室
３１…入口
３２…出口
３３…排気ダクト
３４…排気部
３５…シャッター
３６…送風部
３６ａ…冷却風
３７…下流側センサ（センサ）
３８…上流側センサ（センサ）
４０…制御部（シャッター制御部、排気出力制御部）
Ａ…照射エリア
ｅ…電子線
Ｗ…ワーク
Ｗａ…先端
ｘ…搬送方向

Claims (5)

1. 電子線が出射される出射口と、前記電子線を透過させつつ前記出射口を密閉する透過膜とを有する照射装置本体と、
   前記出射口から出射された前記電子線の照射エリアをワークが通過するように当該ワークを搬送する搬送部と、
   前記出射口の外側から前記透過膜に風を送る送風部と、
   開閉可能に構成され、開状態において前記照射エリアへの前記電子線の照射を許容し、閉状態において前記照射エリアへの前記電子線の照射を遮るシャッターと、
   前記搬送部上の前記ワークの有無を検出するセンサと、
   前記センサによる前記ワークの検出に基づいて、前記ワークの搬送方向の先端が前記照射エリアを通過した後に前記シャッターを前記閉状態から前記開状態に移行させるシャッター制御部と、を備える、
   電子線照射装置。
2. 前記センサは、前記照射エリアよりも前記搬送方向の下流側に設けられた下流側センサを含み、
   前記シャッター制御部は、前記下流側センサによる前記ワークの検出に基づいて、前記ワークの前記先端が前記照射エリアを通過した後に前記シャッターを前記閉状態から前記開状態に移行させる、
   請求項１に記載の電子線照射装置。
3. 前記センサは、前記照射エリアよりも前記搬送方向の上流側に設けられた上流側センサを含み、
   前記シャッター制御部は、前記上流側センサによる前記ワークの検出に基づいて、前記ワークの前記先端が前記照射エリアを通過した後に前記シャッターを前記閉状態から前記開状態に移行させる、
   請求項１に記載の電子線照射装置。
4. 前記シャッター制御部は、前記センサによる前記ワークの検出を条件として、前記シャッターの開動作を許可する照射準備状態に移行する、
   請求項１に記載の電子線照射装置。
5. 前記出射口、前記透過膜、前記照射エリア及び前記シャッターが内部に配置され、前記搬送部が通る入口及び出口を有する照射室と、
   前記照射室に連通される排気ダクトと、
   前記照射室内の空気を前記排気ダクトに排気する排気部と、
   前記センサによる前記ワークの検出に基づいて、前記排気部の出力を上げる排気出力制御部と、を備える、
   請求項１に記載の電子線照射装置。

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