JP7420600B2 - Corrosion resistant parts - Google Patents

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Description

本発明は、耐食性部材に関する。 The present invention relates to a corrosion-resistant member.

従来から、半導体製造装置において、基板の表面に化学気相成長法(CVD法)で薄膜を形成する際や、エッチングによって薄膜の微細加工を行う際などには、基板を収容する反応容器にプラズマガスを導入する。このプラズマガスを導入するための部材であるガスノズルなどは、プラズマ化されたフッ化物ガスなどのハロゲンガスに対する耐食性が良好であることが必要である。 Conventionally, in semiconductor manufacturing equipment, when forming a thin film on the surface of a substrate by chemical vapor deposition (CVD) or performing microfabrication of the thin film by etching, plasma is used in a reaction vessel that houses the substrate. Introduce gas. A gas nozzle, which is a member for introducing this plasma gas, needs to have good corrosion resistance against halogen gas such as fluoride gas turned into plasma.

例えば、特許文献1には、ハロゲン系腐食性ガスに曝される表面を気孔率3%以下のイットリウム・アルミニウム・ガーネット(YAG)焼結体により形成すると共に、その表面の中心線平均粗さ(Ra)を1μm以下とすることにより、腐食を少なくする技術が開示されている。 For example, Patent Document 1 discloses that the surface exposed to halogen-based corrosive gas is formed of a yttrium aluminum garnet (YAG) sintered body with a porosity of 3% or less, and that the centerline average roughness of the surface ( A technique for reducing corrosion by reducing Ra) to 1 μm or less has been disclosed.

また、特許文献2には、ガスノズルが、イットリアやスピネルなどの焼結体からなり、ガス排出口が形成された一端面における輪郭曲線要素の平均長さ(Rsm)を焼結体における平均結晶粒径の5倍以上とすることにより、耐食性の向上を図る技術が開示されている。 Further, Patent Document 2 discloses that the gas nozzle is made of a sintered body of yttria, spinel, etc., and the average length (Rsm) of the contour curve element at one end face where the gas discharge port is formed is the average crystal grain of the sintered body. A technique has been disclosed in which the corrosion resistance is improved by making the diameter five times or more.

特開平10-236871号公報Japanese Patent Application Publication No. 10-236871 国際公開2013/065666号International Publication 2013/065666

しかしながら、上記特許文献1,2に開示された技術においても、耐食性は十分なものではなく、短寿命であった。特に、局所的な表面粗さの悪化のために、短寿命となっていた。 However, even in the techniques disclosed in Patent Documents 1 and 2, the corrosion resistance was not sufficient and the service life was short. In particular, the service life was shortened due to local deterioration of surface roughness.

本発明は、かかる事情に鑑みてなされたものであり、寿命の向上を図ることが可能な耐食性部材を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide a corrosion-resistant member capable of improving the lifespan.

本発明の耐食性部材は、腐食性ガスに曝される部分を有する耐食性部材であって、前記腐食性ガスに曝される部分がセラミックス焼結体からなり、前記セラミックス焼結体の表面は、輪郭曲線要素の平均長さ(Rsm)が25μm以下、輪郭曲線要素の平均長さ(Rsm)と算術平均粗さ(Ra)との比(Rsm/Ra)が4000以下であることを特徴とする。 The corrosion-resistant member of the present invention is a corrosion-resistant member having a portion exposed to a corrosive gas, wherein the portion exposed to the corrosive gas is made of a ceramic sintered body, and the surface of the ceramic sintered body has a contour. It is characterized in that the average length (Rsm) of the curved elements is 25 μm or less, and the ratio (Rsm/Ra) of the average length (Rsm) of the contour curved elements to the arithmetic mean roughness (Ra) is 4000 or less.

本発明の耐食性部材によれば、そのセラミックス焼結体の表面は、輪郭曲線要素の平均長さ(Rsm)が、上記特許文献2に開示された試料の輪郭曲線要素の平均長さ(Rsm)の最小値である30μmよりも小さい。輪郭曲線要素の平均長さ(Rsm)が小さいということは、隣接する凹部の間隔が小さいことを意味する。これにより、表面状態の急激な悪化が抑制されるので、耐食性部材の寿命の増大を図ることが可能となる。 According to the corrosion-resistant member of the present invention, the average length (Rsm) of the contour curve elements on the surface of the ceramic sintered body is equal to the average length (Rsm) of the contour curve elements of the sample disclosed in Patent Document 2. is smaller than the minimum value of 30 μm. A small average length (Rsm) of the profile curve element means that the distance between adjacent recesses is small. This suppresses rapid deterioration of the surface condition, making it possible to extend the life of the corrosion-resistant member.

また、耐食性部材のセラミックス焼結体の表面は、輪郭曲線要素の平均長さ(Rsm)と算術平均粗さ(Ra)との比(Rsm/Ra)が4000以下である。これにより、長寿命の確保を図ることが可能となる。表面の凹部の平均的な大きさ(激しさ)は算術平均粗さ(Ra)によって推測することができるので、表面粗さの悪化の進行度合いは比(Rsm/Ra)によって推測することができると考えられるからである。 Moreover, the ratio (Rsm/Ra) of the average length (Rsm) of the contour curve element to the arithmetic mean roughness (Ra) of the surface of the ceramic sintered body of the corrosion-resistant member is 4000 or less. This makes it possible to ensure long life. Since the average size (severity) of surface depressions can be estimated by the arithmetic mean roughness (Ra), the degree of progression of surface roughness deterioration can be estimated by the ratio (Rsm/Ra). This is because it can be considered.

本発明の耐食性部材において、前記セラミックス焼結体の表面の算術平均粗さ(Ra)は0.02μm以下であることが好ましい。 In the corrosion-resistant member of the present invention, the arithmetic mean roughness (Ra) of the surface of the ceramic sintered body is preferably 0.02 μm or less.

この場合、長寿命の確保を図ることが可能となる。これは、セラミックス焼結体の表面の凹部の平均的な大きさ(激しさ)が、算術平均粗さ(Ra)から推測することができると考えられるからである。 In this case, it is possible to ensure long life. This is because it is considered that the average size (severity) of the recesses on the surface of the ceramic sintered body can be estimated from the arithmetic mean roughness (Ra).

本発明の耐食性部材において、前記セラミックス焼結体の表面の最大高さ(Rz)は0.2μm以下である。 In the corrosion-resistant member of the present invention, the maximum height (Rz) of the surface of the ceramic sintered body is 0.2 μm or less.

これにより、長寿命の確保を図ることが可能となる。これは、セラミックス焼結体の表面の凹部の局所的な大きさ(激しさ)が、最大高さ(Rz)から推測することができると考えられるからである。 This makes it possible to ensure long life. This is because it is considered that the local size (severity) of the recesses on the surface of the ceramic sintered body can be estimated from the maximum height (Rz).

本発明の耐食性部材において、例えば、前記セラミックス焼結体は、アルミナ、イットリア、及びイットリウム・アルミニウム・ガーネット(YAG)から選択される少なくとも一種を主成分とする。 In the corrosion-resistant member of the present invention, for example, the ceramic sintered body has at least one selected from alumina, yttria, and yttrium aluminum garnet (YAG) as a main component.

また、本発明の耐食性部材において、例えば、前記腐食性ガスに曝される部分は、少なくともガスノズルのノズル孔を形成する部分である。 Further, in the corrosion-resistant member of the present invention, for example, the portion exposed to the corrosive gas is at least a portion forming a nozzle hole of a gas nozzle.

また、本発明の耐食性部材において、前記輪郭曲線要素の平均長さ(Rsm)が5μm以上であることが好ましい。さらに、本発明の耐食性部材において、前記比(Rsm/Ra)が250以上であることが好ましい。 Moreover, in the corrosion-resistant member of the present invention, it is preferable that the average length (Rsm) of the profile curve element is 5 μm or more. Furthermore, in the corrosion-resistant member of the present invention, the ratio (Rsm/Ra) is preferably 250 or more.

輪郭曲線要素の平均長さ(Rsm)が5μm未満である場合、又は、比(Rsm/Ra)が250未満である場合、研磨加工に要する時間又は費用が過大になるおそれがあるためである。 This is because if the average length (Rsm) of the profile curve element is less than 5 μm or if the ratio (Rsm/Ra) is less than 250, the time or cost required for polishing may become excessive.

本発明の実施形態に係る耐食性部材を有するガスノズルを備えたプラズマ装置を示す大略断面図。1 is a schematic cross-sectional view showing a plasma device equipped with a gas nozzle having a corrosion-resistant member according to an embodiment of the present invention. プラズマ装置の他の形態を示す大略断面図。FIG. 7 is a schematic cross-sectional view showing another form of the plasma device.

本発明の実施形態に係る耐食性部材10について図面を参照して、説明する。なお、図1においては、耐食性部材10の構成を明確化するため、各構成要素はデフォルメされており、実際の比率を表すものではない。 A corrosion-resistant member 10 according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. In addition, in FIG. 1, each component is deformed in order to clarify the structure of the corrosion-resistant member 10, and does not represent an actual ratio.

耐食性部材10は、ここでは、半導体製造工程又は液晶製造工程において、半導体ウエハやガラス基板などの基板Wに薄膜を形成するための成膜装置、又は、基板Wに微細加工を施すためのエッチング装置などのプラズマ装置100に使用されるガスノズル10である。 The corrosion-resistant member 10 is used here as a film forming apparatus for forming a thin film on a substrate W such as a semiconductor wafer or a glass substrate, or an etching apparatus for performing microfabrication on the substrate W in a semiconductor manufacturing process or a liquid crystal manufacturing process. This is a gas nozzle 10 used in a plasma device 100 such as the following.

例えば、成膜装置においては、腐食性ガスを含む原料ガスをガスノズル10を用いて反応容器20内に導入し、この原料ガスをプラズマ化させるプラズマCVD(Chemical Vapor Deposition:化学気相成長)法により、基板W上に薄膜を形成することがある。また、エッチング装置においては、原料ガスとしてハロゲン系腐食性ガスをガスノズル10を用いて反応容器20内に導入し、この腐食性ガスをプラズマ化してエッチングガスとすることにより、基板Wに微細加工を施すことがある。 For example, in a film forming apparatus, a raw material gas containing a corrosive gas is introduced into a reaction vessel 20 using a gas nozzle 10, and a plasma CVD (Chemical Vapor Deposition) method is used in which the raw material gas is turned into plasma. , a thin film may be formed on the substrate W. Further, in the etching apparatus, a halogen-based corrosive gas is introduced into the reaction vessel 20 as a raw material gas using the gas nozzle 10, and this corrosive gas is turned into plasma and used as an etching gas, thereby performing microfabrication on the substrate W. Sometimes it is done.

ガスノズル10には、図示しないガス供給部から腐食性ガスなどのガスが供給されるガス供給口11、反応容器20内にガスを排出するガス排出口12、及びガス供給口11とガス排出口12とを連通するノズル孔13とを有している。 The gas nozzle 10 includes a gas supply port 11 to which a gas such as a corrosive gas is supplied from a gas supply section (not shown), a gas discharge port 12 to discharge gas into the reaction vessel 20, and the gas supply port 11 and the gas discharge port 12. It has a nozzle hole 13 that communicates with the.

本発明の実施形態に係る耐食性部材10は、腐食性ガスに曝される部分を有する部材であり、ここでは、ガスノズル10のうち腐食性ガスに曝される部分、例えば、ノズル孔13を含む部分、反応容器20内に露出する部分のうちの少なくとも一部を構成する部材である。ただし、耐食性部材10は、ガスノズル10の全体を構成するものであってもよい。また、耐食性部材は、例えば、図2を参照して、反応容器20を構成する容器本体21及び蓋部22のうち、ガスノズル10を含む蓋部22又はその一部であってもよい。 The corrosion-resistant member 10 according to the embodiment of the present invention is a member having a portion exposed to corrosive gas, and here, the portion of the gas nozzle 10 exposed to the corrosive gas, for example, the portion including the nozzle hole 13. , which constitutes at least a portion of the portion exposed inside the reaction vessel 20. However, the corrosion-resistant member 10 may constitute the entire gas nozzle 10. Further, the corrosion-resistant member may be, for example, the lid portion 22 including the gas nozzle 10, or a portion thereof, of the container body 21 and the lid portion 22 that constitute the reaction container 20, with reference to FIG.

そして、耐食性部材10のうち少なくとも腐食性ガスに曝される部分は、セラミックス焼結体からなっている。セラミックス焼結体は、例えば、アルミナ、イットリア、及びイットリウム・アルミニウム・ガーネット(YAG)から選択される少なくとも一種を主成分とする。 At least a portion of the corrosion-resistant member 10 that is exposed to corrosive gas is made of a sintered ceramic body. The ceramic sintered body has at least one type selected from, for example, alumina, yttria, and yttrium aluminum garnet (YAG) as a main component.

耐食性部材10のセラミックス焼結体の表面は、輪郭曲線要素の平均長さ(Rsm)が25μm以下であり、さらに好ましくは15μm以下である。このように、輪郭曲線要素の平均長さ(Rsm)が、上記特許文献2に開示された試料の輪郭曲線要素の平均長さ(Rsm)の最小値である30μmよりも小さい。輪郭曲線要素の平均長さ(Rsm)が小さいということは、隣接する凹部の間隔が小さいことを意味する。これにより、表面状態の急激な悪化が抑制されるので、耐食性部材10の寿命の増大を図ることが可能となる。
なお、輪郭曲線要素の平均長さ(Rsm)は5μm以上であることが好ましい。これは、 輪郭曲線要素の平均長さ(Rsm)が5μm未満である場合、研磨加工に要する時間又は費用が過大になるおそれがあるためである。
The average length (Rsm) of contour curve elements on the surface of the ceramic sintered body of the corrosion-resistant member 10 is 25 μm or less, more preferably 15 μm or less. Thus, the average length (Rsm) of the contour curve elements is smaller than 30 μm, which is the minimum value of the average length (Rsm) of the contour curve elements of the sample disclosed in Patent Document 2. A small average length (Rsm) of the profile curve element means that the distance between adjacent recesses is small. This suppresses rapid deterioration of the surface condition, so it is possible to increase the life of the corrosion-resistant member 10.
Note that the average length (Rsm) of the contour curve elements is preferably 5 μm or more. This is because if the average length (Rsm) of the profile curve elements is less than 5 μm, the time or cost required for polishing may become excessive.

プラズマ化した腐食性ガスがセラミック焼結体の表面に触れるとき、その表面の凹凸部が特にアタックされやすく、パーティクルの発生源となりやすい。セラミック焼結体の表面における輪郭曲線要素の平均長さ(Rsm)が大きいということは、隣接する凹部の間隔が大きい(凹部の数が低減されている)ことを意味する。これにより、少ない凹部にプラズマアタックが集中して起こることによって局所的に表面状態が悪化し、耐食性部材10の寿命が短くなると考えられる。 When corrosive gas that has turned into plasma comes into contact with the surface of a ceramic sintered body, the uneven portions of the surface are particularly likely to be attacked and become a source of particles. A large average length (Rsm) of the contour elements on the surface of the ceramic sintered body means that the distance between adjacent recesses is large (the number of recesses is reduced). As a result, the plasma attack is concentrated in a small number of concave portions, thereby locally deteriorating the surface condition and shortening the life of the corrosion-resistant member 10.

一方、本発明では、セラミックス焼結体の表面に存在する凹部の間隔が小さいので、腐食性ガスによる凹部からの粒子の脱落が局所的に集中せず平均的に生じることに起因して耐食性部材10の寿命の増大を図ることが可能になっていると考えられる。 On the other hand, in the present invention, since the intervals between the recesses existing on the surface of the ceramic sintered body are small, particles falling from the recesses due to corrosive gas do not concentrate locally but occur on an average basis. It is thought that it is possible to increase the lifespan of 10.

さらに、耐食性部材10のセラミックス焼結体の表面は、輪郭曲線要素の平均長さ(Rsm)と算術平均粗さ(Ra)との比(Rsm/Ra)が4000以下である。これにより、後述する実施例及び比較例から分かるように、長寿命の確保を図ることが可能となる。これは、表面の凹部の平均的な大きさ(激しさ)は算術平均粗さ(Ra)によって推測することができるので、表面粗さの悪化の進行度合いは比(Rsm/Ra)によって推測することができると推察されるからである。なお、比(Rsm/Ra)が250以上であることが好ましい。これは、比(Rsm/Ra)が250未満である場合、研磨加工に要する時間又は費用が過大になるおそれがあるためである。 Further, the surface of the ceramic sintered body of the corrosion-resistant member 10 has a ratio (Rsm/Ra) of the average length (Rsm) of the profile curve element to the arithmetic mean roughness (Ra) of 4000 or less. This makes it possible to ensure long life, as can be seen from the Examples and Comparative Examples described below. This is because the average size (severity) of surface depressions can be estimated from the arithmetic mean roughness (Ra), and the degree of progress of surface roughness deterioration can be estimated from the ratio (Rsm/Ra). This is because it is presumed that it can be done. Note that the ratio (Rsm/Ra) is preferably 250 or more. This is because if the ratio (Rsm/Ra) is less than 250, the time or cost required for polishing may become excessive.

そして、耐食性部材10のセラミックス焼結体の表面は、算術平均粗さ(Ra)が0.02μm以下、さらに好ましくは0.01μm以下であることが好ましい。算術平均粗さ(Ra)が大きくなると、プラズマ化した腐食性ガスのエッチングにより脱落する脱落片の大きさが大きくなる可能性が考えられるので、好ましくない。 The surface of the ceramic sintered body of the corrosion-resistant member 10 preferably has an arithmetic mean roughness (Ra) of 0.02 μm or less, more preferably 0.01 μm or less. If the arithmetic mean roughness (Ra) becomes large, it is not preferable because there is a possibility that the size of the pieces that fall off due to etching of the corrosive gas turned into plasma becomes large.

さらに、耐食性部材10のセラミックス焼結体の表面は、最大高さ(Rz)が0.2μm以下であ、0.1μm以下であることがさらに好ましい。これにより、プラズマ化した腐食性ガスによる局所的なエッチングを抑制することができ、長寿命の確保を図ることが可能となる。これは、表面の凹部の局所的な大きさ(激しさ)は最大高さ(Rz)によって推測することができるからである。 Furthermore, the maximum height (Rz) of the surface of the ceramic sintered body of the corrosion-resistant member 10 is 0.2 μm or less, and more preferably 0.1 μm or less. Thereby, local etching caused by corrosive gas turned into plasma can be suppressed, and a long life can be ensured. This is because the local size (severity) of the surface depression can be estimated by the maximum height (Rz).

なお、耐食性部材10のセラミックス焼結体の表面を、上記した輪郭曲線要素の平均長さ(Rsm)、比(Rsm/Ra)、算術平均粗さ(Ra)及び最大高さ(Rz)の範囲内とするには、例えば、前記表面を水や油などの液体にダイヤモンドなどの砥粒を混合した遊離砥粒を用いて、砥粒の粒度、荷重、盤の種類、研磨時間を調整し、ラッピング、ポリッシングなどを行えばよい。 Note that the surface of the ceramic sintered body of the corrosion-resistant member 10 is defined by the range of the average length (Rsm), ratio (Rsm/Ra), arithmetic mean roughness (Ra), and maximum height (Rz) of the contour curve elements described above. For example, to make the surface within the above range, use free abrasive grains made by mixing abrasive grains such as diamond in a liquid such as water or oil, adjust the grain size of the abrasive grains, load, type of disc, and polishing time, Wrapping, polishing, etc. may be performed.

なお、本発明は、上述した実施形態に具体的に記載した耐食性部材10に限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載した範囲内であれば適宜変更することができる。 Note that the present invention is not limited to the corrosion-resistant member 10 specifically described in the embodiments described above, and can be modified as appropriate within the scope of the claims.

以下、本発明の実施例及び比較例を具体的に挙げ、本発明を詳細に説明する。 EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be explained in detail by specifically citing examples and comparative examples of the present invention.

(実施例1~5)
まず、純度99.9%のイットリア粉末(信越化学工業株式会社製)を57重量%、純度99.99%のアルミナ粉末(住友化学株式会社製)を43重量%、バインダーとしてのPVA系バインダーを2重量%、分散剤としての水溶性アクリル酸系分散剤を0.3重量%及び可塑剤としてのグリセリンを0.5重量%、イオン交換水と共にポットに投入し、ボールミルにより湿式混合を行い、スラリーを形成した。なお、本実施例では添加していないが、焼結助剤としてのSiOを0.15重量%以上10重量%以下の範囲で加えてもよい。
(Examples 1 to 5)
First, 57% by weight of yttria powder (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) with a purity of 99.9%, 43% by weight of alumina powder (manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.) with a purity of 99.99%, and a PVA-based binder as a binder. 2% by weight, 0.3% by weight of a water-soluble acrylic acid dispersant as a dispersant, and 0.5% by weight of glycerin as a plasticizer, were put into a pot together with ion-exchanged water, and wet-mixed using a ball mill. A slurry was formed. Although not added in this example, SiO 2 as a sintering aid may be added in an amount of 0.15% by weight or more and 10% by weight or less.

このスラリーをスプレードライヤーにて乾燥及び造粒して、冷間等方圧加圧法(CIP)成形にて成形体を作製した。そして、円柱状に加工し、さらにその中心軸に直径3mmの貫通孔を形成した(貫通孔の形成は、後述の仕上げ加工時に行ってもよい)。そして、400℃以上600℃以下の温度範囲で脱脂を行い、1500℃以上1800℃以下の温度範囲で酸化雰囲気で常圧焼成及び熱間等方圧加圧法(HIP)処理を行いYAG焼結体を得た。そして、このYAG焼結体を直径50mm、高さ50mmの円柱状に仕上げ加工した。なお、マイクロスコープを用いて観察したところ、YAG焼結体の平均粒子径は5μmであった。また、YAG焼結体の嵩密度は4.5g/cm以上であった。 This slurry was dried and granulated using a spray dryer, and a molded article was produced by cold isostatic pressing (CIP). Then, it was processed into a cylindrical shape, and a through hole with a diameter of 3 mm was formed in the central axis of the cylinder (the through hole may be formed during finishing processing, which will be described later). The YAG sintered body is then degreased in a temperature range of 400°C or higher and 600°C or lower, and subjected to atmospheric pressure firing and hot isostatic pressing (HIP) treatment in an oxidizing atmosphere at a temperature range of 1500°C or higher and 1800°C or lower. I got it. This YAG sintered body was then finished into a cylindrical shape with a diameter of 50 mm and a height of 50 mm. In addition, when observed using a microscope, the average particle diameter of the YAG sintered body was 5 μm. Further, the bulk density of the YAG sintered body was 4.5 g/cm 3 or more.

さらに、このYAG焼結体のガス排出口12が開口する一方の円形状の面を銅製のラップ盤上に配置し、平均粒子径6μmのダイヤモンドスラリー砥粒を用いて研磨し、さらに錫製のラップ盤上に配置し、平均粒子径2μmのダイヤモンドスラリー砥粒を用いて研磨し、さらにシリカ砥粒を用いてポリッシュ加工を行った。加工条件は荷重をかけた状態でそれぞれ1時間以上研磨を行った。 Furthermore, one circular surface of this YAG sintered body where the gas discharge port 12 opens is placed on a copper lapping machine, polished using diamond slurry abrasive grains with an average particle size of 6 μm, and then It was placed on a lapping machine and polished using diamond slurry abrasive grains having an average particle diameter of 2 μm, and further polished using silica abrasive grains. The processing conditions were such that each polishing was performed for more than 1 hour while a load was applied.

そして、この面に対して、算術平均粗さ(Ra)、輪郭曲線要素の平均長さ(Rsm)及び最大高さ粗さ(Rz)を測定した。測定はJISB0601:2001に準拠して、ミツトヨ社製の接触式の表面粗さ計であるSV-C4100を用いて測定した。具体的には、測定速度0.20mm/s、測定長さ0.4mm、カットオフ波長0.08mmの測定条件で測定を行った。 Then, the arithmetic mean roughness (Ra), average length of contour curve elements (Rsm), and maximum height roughness (Rz) were measured for this surface. The measurement was conducted in accordance with JISB0601:2001 using a contact type surface roughness meter SV-C4100 manufactured by Mitutoyo. Specifically, the measurement was performed under the measurement conditions of a measurement speed of 0.20 mm/s, a measurement length of 0.4 mm, and a cutoff wavelength of 0.08 mm.

本実施例においては、中心から、中心角度120°の扇形状を想定し、中心部、外周部、その中間部を3点ずつ、計9点を測定した。測定結果を表1に示した。表1において、円筒形の半径をrとしたとき、No.1は中心からr×0.2の円上の部分の3点の最大値、No.2は中心からr×0.5の円上の3点の最大値、No.3は中心からr×0.8の円上の3点のそれぞれ測定値の最大値を記載している。なお、実施例1~5は、全て上記のように同様にYAG焼結体を作製し、計測面を同様に研磨したものである。 In this example, a fan shape with a central angle of 120° from the center was assumed, and measurements were taken at nine points, three points each at the center, the outer periphery, and the middle. The measurement results are shown in Table 1. In Table 1, when the radius of the cylinder is r, No. 1 is the maximum value of the three points on the circle r x 0.2 from the center, No. 2 is the maximum value of three points on the circle r x 0.5 from the center, No. 3 indicates the maximum value of each measurement value at three points on a circle r×0.8 from the center. Note that in all Examples 1 to 5, YAG sintered bodies were produced in the same manner as described above, and the measurement surfaces were polished in the same manner.

(比較例1)
比較例1においては、実施例1~5と同様に円柱形状のYAG焼結体を作製した。そして、このYAG焼結体の一方の円形状の面を表1の値となるように研磨加工を行った。加工条件は砥粒の種類、粒径、盤の種類、荷重、研磨時間などで調整した。
(Comparative example 1)
In Comparative Example 1, a cylindrical YAG sintered body was produced in the same manner as in Examples 1 to 5. Then, one circular surface of this YAG sintered body was polished to the values shown in Table 1. Processing conditions were adjusted by adjusting the type of abrasive grain, grain size, type of disc, load, polishing time, etc.

そして、この面に対して、算術平均粗さ(Ra)、輪郭曲線要素の平均長さ(Rsm)及び最大高さ粗さ(Rz)を実施例1~5と同様に測定した。結果を表1に示した。なお、比較例1,2では、No.2に相当する箇所のみ測定した。 Then, the arithmetic mean roughness (Ra), average length of contour curve elements (Rsm), and maximum height roughness (Rz) of this surface were measured in the same manner as in Examples 1 to 5. The results are shown in Table 1. Note that in Comparative Examples 1 and 2, No. Only the locations corresponding to 2 were measured.

(比較例2)
比較例2においては、実施例1~5と同様に円柱形状のYAG焼結体を作製した。そして、このYAG焼結体の一方の円形状の面を表1の値となるように研磨加工を行った。加工条件は砥粒の種類、粒径、盤の種類、荷重、研磨時間などで調整した。
(Comparative example 2)
In Comparative Example 2, a cylindrical YAG sintered body was produced in the same manner as in Examples 1 to 5. Then, one circular surface of this YAG sintered body was polished to the values shown in Table 1. Processing conditions were adjusted by adjusting the type of abrasive grain, grain size, type of disc, load, polishing time, etc.

そして、この面に対して、算術平均粗さ(Ra)、輪郭曲線要素の平均長さ(Rsm)及び最大高さ粗さ(Rz)を実施例1~5と同様に測定した。結果を表1に示した。 Then, the arithmetic mean roughness (Ra), average length of contour curve elements (Rsm), and maximum height roughness (Rz) of this surface were measured in the same manner as in Examples 1 to 5. The results are shown in Table 1.

Figure 0007420600000001
Figure 0007420600000001

実施例1~5、比較例1,2のYAG焼結体について、平行平板型RIE(反応性イオンエッチング)装置を用いてCF4プラズマ中で10時間エッチングの試験を行った。実施例1~5、比較例1,2のYAG焼結体の表面状態を確認したところ、比較例1,2のYAG焼結体では局所的に表面状態の悪い部分が確認された。これは、少ない凹部にプラズマアタックが集中したことにより、局所的にダメージが受けたものと考えられる。一方、実施例1~5では、表面に存在する凹部の間隔が小さいので、プラズマアタックが局所的に集中せず平均的に生じ、比較的大きな粒子の脱落を抑制できたと考えられ、表面状態の局所的な悪化は発生しなかった。 The YAG sintered bodies of Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 and 2 were subjected to an etching test for 10 hours in CF4 plasma using a parallel plate type RIE (reactive ion etching) device. When the surface conditions of the YAG sintered bodies of Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 and 2 were checked, it was found that the YAG sintered bodies of Comparative Examples 1 and 2 had localized areas with poor surface conditions. This is thought to be due to localized damage caused by plasma attack concentrated on a small number of recesses. On the other hand, in Examples 1 to 5, since the intervals between the recesses on the surface were small, the plasma attack was not concentrated locally but occurred on an average basis, and it is thought that the falling off of relatively large particles was suppressed, and the surface condition was No local deterioration occurred.

(実施例6,7)
酸化アルミニウムの焼結体を以下のようにして作製した。純度99.7%のアルミナ粉末(昭和電工株式会社製)に、バインダーとしてPVA系バインダーを2.0重量%、分散剤として水溶性アクリル酸系分散剤を0.15重量%、硝酸マグネシウムを0.6重量%、可塑剤としてグリセリンを0.5重量%、イオン交換水と共にポットに投入し、ボールミルにより湿式混合を行い、スラリーを形成した。
(Example 6, 7)
A sintered body of aluminum oxide was produced as follows. Alumina powder with a purity of 99.7% (manufactured by Showa Denko K.K.) was mixed with 2.0% by weight of a PVA binder as a binder, 0.15% by weight of a water-soluble acrylic acid dispersant as a dispersant, and 0% of magnesium nitrate. 0.6% by weight and 0.5% by weight of glycerin as a plasticizer were placed in a pot together with ion-exchanged water, and wet mixing was performed using a ball mill to form a slurry.

このスラリーをスプレードライヤーにて乾燥及び造粒して、冷間等方圧加圧法(CIP)成形にて成形体を作製した。そして、円柱状に加工し、さらにその中心軸に直径3mmの貫通孔を形成した。そして、1500℃以上1700℃以下の温度範囲で大気雰囲気で常圧焼成をして酸化アルミニウム焼結体を得た。そして、この酸化アルミニウム焼結体を直径50mm、高さ50mmの円柱状に仕上げ加工した。なお、マイクロスコープを用いて観察したところ、酸化アルミニウム焼結体の平均粒子径は4μmであった。また、嵩密度は3.9g/cmであった。 This slurry was dried and granulated using a spray dryer, and a molded article was produced by cold isostatic pressing (CIP). Then, it was processed into a cylindrical shape, and a through hole with a diameter of 3 mm was formed in the central axis. Then, the aluminum oxide sintered body was obtained by firing under normal pressure in the air atmosphere at a temperature range of 1500° C. or higher and 1700° C. or lower. This aluminum oxide sintered body was then finished into a cylindrical shape with a diameter of 50 mm and a height of 50 mm. In addition, when observed using a microscope, the average particle diameter of the aluminum oxide sintered body was 4 μm. Moreover, the bulk density was 3.9 g/cm 3 .

実施例1~5と同様に、酸化アルミニウム焼結体の一方の円形状の面を研磨加工し、この面に対して、算術平均粗さ(Ra)、輪郭曲線要素の平均長さ(Rsm)及び最大高さ粗さ(Rz)を測定した。その結果を表2に示した。 As in Examples 1 to 5, one circular surface of the aluminum oxide sintered body was polished, and the arithmetic mean roughness (Ra) and average length of contour curve elements (Rsm) were determined for this surface. and the maximum height roughness (Rz) were measured. The results are shown in Table 2.

Figure 0007420600000002
Figure 0007420600000002

(実施例8,9)
酸化イットリウムの焼結体を以下のようにして作製した。純度99.9%のイットリア粉末(信越化学工業株式会社製)に、バインダーとしてPVA系バインダーを2.0重量%、分散剤として水溶性アクリル酸系分散剤を0.2重量%、可塑剤としてグリセリンを0.5重量%、イオン交換水と共にポットに投入し、ボールミルにより湿式混合を行い、スラリーを形成した。
(Example 8, 9)
A sintered body of yttrium oxide was produced as follows. Yttria powder (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) with a purity of 99.9%, 2.0% by weight of a PVA binder as a binder, 0.2% by weight of a water-soluble acrylic acid dispersant as a dispersant, and 0.2% by weight as a plasticizer. 0.5% by weight of glycerin was put into a pot together with ion-exchanged water, and wet mixing was performed using a ball mill to form a slurry.

このスラリーをスプレードライヤーにて乾燥及び造粒して、冷間等方圧加圧法(CIP)成形にて成形体を作成した。そして、円柱状に加工し、さらにその中心軸に直径3mmの貫通孔を形成した。そして、1600℃以上1800℃以下の範囲で酸化雰囲気で常圧焼成をして酸化イットリウム焼結体を得た。そして、この酸化イットリウム焼結体を直径50mm、高さ50mmの円柱状に仕上げ加工した。なお、マイクロスコープを用いて観察したところ、酸化イットリウム焼結体の平均粒子径は4μmであった。また、嵩密度は5.0g/cmであった。 This slurry was dried and granulated using a spray dryer, and a molded article was created by cold isostatic pressing (CIP). Then, it was processed into a cylindrical shape, and a through hole with a diameter of 3 mm was formed in the central axis. Then, normal pressure firing was performed in an oxidizing atmosphere at a temperature of 1,600° C. to 1,800° C. to obtain a yttrium oxide sintered body. This yttrium oxide sintered body was then finished into a cylindrical shape with a diameter of 50 mm and a height of 50 mm. In addition, when observed using a microscope, the average particle diameter of the yttrium oxide sintered body was 4 μm. Moreover, the bulk density was 5.0 g/cm 3 .

実施例1~5と同様に、酸化イットリウム焼結体の一方の円形状の面を研磨加工し、この面に対して、算術平均粗さ(Ra)、輪郭曲線要素の平均長さ(Rsm)及び最大高さ粗さ(Rz)を測定した。その結果を表3に示した。 As in Examples 1 to 5, one circular surface of the yttrium oxide sintered body was polished, and the arithmetic mean roughness (Ra) and average length of contour curve elements (Rsm) were determined for this surface. and the maximum height roughness (Rz) were measured. The results are shown in Table 3.

Figure 0007420600000003
Figure 0007420600000003

実施例6,7及び実施例8,9においてもエッチングの試験では表面状態の局所的な悪化は発生しなかった。 In Examples 6 and 7 and Examples 8 and 9, no local deterioration of the surface condition occurred in the etching test.

10…ガスノズル、耐食性部材、 11…ガス供給口、 12…ガス排出口、 13…ノズル孔、 20…反応容器、 21…容器本体、 22…蓋部、 100…プラズマ装置。 DESCRIPTION OF SYMBOLS 10... Gas nozzle, corrosion-resistant member, 11... Gas supply port, 12... Gas discharge port, 13... Nozzle hole, 20... Reaction container, 21... Container main body, 22... Lid part, 100... Plasma device.

Claims (5)

腐食性ガスに曝される部分を有する耐食性部材であって、
前記腐食性ガスに曝される部分がセラミックス焼結体からなり、
前記セラミックス焼結体の表面は、輪郭曲線要素の平均長さ(Rsm)が25μm以下、輪郭曲線要素の平均長さ(Rsm)と算術平均粗さ(Ra)との比(Rsm/Ra)が4000以下であり、
前記セラミックス焼結体の表面の最大高さ(Rz)は0.2μm以下であることを特徴とする耐食性部材。
A corrosion-resistant member having a portion exposed to corrosive gas,
The part exposed to the corrosive gas is made of a ceramic sintered body,
The surface of the ceramic sintered body has an average length (Rsm) of the contour curve elements of 25 μm or less, and a ratio (Rsm/Ra) of the average length (Rsm) of the contour curve elements to the arithmetic mean roughness (Ra). 4000 or less ,
A corrosion-resistant member characterized in that the maximum height (Rz) of the surface of the ceramic sintered body is 0.2 μm or less .
前記セラミックス焼結体の表面の算術平均粗さ(Ra)は0.02μm以下であることを特徴とする請求項1に記載の耐食性部材。 The corrosion-resistant member according to claim 1, wherein the arithmetic mean roughness (Ra) of the surface of the ceramic sintered body is 0.02 μm or less. 前記セラミックス焼結体は、アルミナ、イットリア、及びイットリウム・アルミニウム・ガーネットから選択される少なくとも一種を主成分とすることを特徴とする請求項1又は2に記載の耐食性部材。 3. The corrosion-resistant member according to claim 1, wherein the ceramic sintered body contains at least one selected from alumina, yttria, and yttrium aluminum garnet as a main component. 前記腐食性ガスに曝される部分は、少なくともガスノズルのノズル孔を形成する部分であることを特徴とする請求項1からの何れか1項に記載の耐食性部材。 4. The corrosion-resistant member according to claim 1, wherein the portion exposed to the corrosive gas is at least a portion forming a nozzle hole of a gas nozzle. 前記輪郭曲線要素の平均長さ(Rsm)が5μm以上であって、前記比(Rsm/Ra)が250以上であることを特徴とする請求項1からの何れか1項に記載の耐食性部材。 The corrosion-resistant member according to any one of claims 1 to 4 , wherein the average length (Rsm) of the contour curve element is 5 μm or more, and the ratio (Rsm/Ra) is 250 or more. .
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