JP7411097B2 - パルス光ビームの予測制御 - Google Patents

Description

関連出願の相互参照
[0001] 本出願は、「PREDICTIVE CONTROL OF A PULSED LIGHT BEAM」と題された２０２０年３月２３日に出願された米国特許出願第６２／９９３，２３５号の優先権を主張するものであり、該出願はその全体が参照により本明細書に組み込まれる。

[0002] 開示される主題は、リソグラフィ露光装置に光を供給する光学装置から出力される光ビームのスペクトル特徴、例えば帯域幅又は波長などを制御することに関する。

[0003] 半導体リソグラフィ（又はフォトリソグラフィ）では、集積回路（ＩＣ）を製造するには、半導体（例えば、シリコン）基板（ウェーハとも呼ばれる）に対して様々な物理的処理及び化学的処理を行うことが必要である。リソグラフィ露光装置（スキャナとも呼ばれる）は、基板のターゲット領域に所望のパターンを施す機械である。代替的にマスク又はレチクルとも呼ばれるパターニングデバイスを使用して、形成されるべき所望のパターンを生成することができる。パターンの転写は、通常、基板上に設けられた放射感応性材料（レジスト）層上に結像することにより、成し遂げられる。

[0004] 基板は光ビームによって照射され、光ビームは、可視光とｘ線との間のどこかの紫外光範囲内の波長を有し、従って、約１０ナノメートル（ｎｍ）～約４００ｎｍの間の波長を有する。従って、光ビームは、例えば、約１００ｎｍ～約４００ｎｍに含まれ得る波長を有する深紫外線（ＤＵＶ）範囲内の波長、又は約１０ｎｍ～約１００ｎｍの間の波長を有する極端紫外線（ＥＵＶ）範囲内の波長、を有してもよい。これらの波長範囲は厳密ではなく、光がＤＵＶであるとみなされるか又はＥＵＶとみなされるかの間には重複がある場合がある。例えば、一般的に、光ビームを生成するためにＤＵＶエキシマレーザが使用される。ＤＵＶエキシマレーザの例としては、波長が２４８ｎｍのフッ化クリプトン（ＫｒＦ）レーザ、及び波長が１９３ｎｍのフッ化アルゴン（ＡｒＦ）レーザが挙げられる。

[0005] 光ビームは、ビーム送達ユニットを通過し、マスクを通じてフィルタリングされ、その後準備された基板に投射される。基板と光ビームとの相対的位置は、像平面内で移動し、このプロセスは、基板の各ターゲット領域において繰り返される。このようにして、チップデザインがフォトレジスト上にパターン付与され、その後フォトレジストがエッチング及び洗浄され、その後このプロセスは繰り返される。

[0006] 幾つかの一般的な態様では、光ビーム制御装置は、一組の異なる状態に関連付けられたスペクトル特徴アクチュエータであって、各状態は、光学装置に、光ビームの１つ又は複数のパルスを光ビームのスペクトル特徴の別々の値で生成させるように構成される、スペクトル特徴アクチュエータと、このスペクトル特徴アクチュエータと通信しているコントローラと、を含む。コントローラは、スペクトル特徴アクチュエータに、制御波形に従って一組の異なる状態間を遷移させるように構成されたアクチュエータ駆動モジュールと、一組の別々の値の間の遷移を決定するスペクトル特徴アクチュエータの制御波形を計算するように構成された波形モジュールと、スペクトル特徴アクチュエータの１つ又は複数の感知された態様を受け取り、この受け取られた感知された態様に基づいて、制御波形を調整するように波形モジュールに指示するように構成された予測モジュールと、を含む。

[0007] 実施は、以下の特徴のうちの１つ又は複数を含むことがある。例えば、光ビーム制御装置は、スペクトル特徴アクチュエータの１つ又は複数の態様を感知するように構成されたアクチュエータセンサを更に含むことがある。予測モジュールは、アクチュエータセンサと通信して、スペクトル特徴アクチュエータの感知された態様を受け取ることができる。

[0008] コントローラは、基板にパターン付与するための光ビームを受け取るリソグラフィ露光装置によって要求されたパルス繰り返し率と相関がある周波数で、一組の異なる状態間でスペクトル特徴アクチュエータを駆動することができる。コントローラは、パルス繰り返し率よりも高い周波数で、一組の異なる状態間で、スペクトル特徴アクチュエータを駆動することができ、パルス繰り返し率は、光ビームの１つ又は複数のパルスが生成される率と一致する。

[0009] コントローラは、リソグラフィ露光装置と通信し及びリソグラフィ露光装置からパルス繰り返し率を受け取るように構成されたリソグラフィモジュールを含むことがある。制御波形は、リソグラフィ露光装置から受け取られたパルス繰り返し率に基づくことがある。

[0010] パルスが生成される度に、スペクトル特徴アクチュエータは異なる状態のうちの１つになることがあり、光ビームパルスは、その異なる状態に対応するスペクトル特徴を有することがある。

[0011] 光ビーム制御装置は、光ビームのスペクトル特徴を感知するように構成された測定装置も含むことがある。コントローラは、光ビームの感知されたスペクトル特徴を受け取り、感知されたスペクトル特徴を分析し、その分析に基づいて、制御波形を調整するように波形モジュールに指示する、ように構成されたスペクトル特徴モジュールを含むことがある。スペクトル特徴モジュールは、比例－積分－微分制御、モデル予測制御、及びカルマンフィルタを用いた状態フィードバック、のうちの１つ又は複数を使用して、感知されたスペクトル特徴を分析するように構成されることがある。スペクトル特徴モジュールは、感知されたスペクトル特徴をスペクトル特徴アクチュエータの推定状態に変換し、次いでこのスペクトル特徴アクチュエータの推定状態を制御波形の出力と比較することにより、感知されたスペクトル特徴を分析するように構成されることがある。

[0012] スペクトル特徴アクチュエータは、光学装置のスペクトル特徴アジャスタの少なくとも１つの光学素子と連絡することがあり、この少なくとも１つの光学素子は、光ビームと光学的に相互作用する。スペクトル特徴アクチュエータの異なる状態のそれぞれは、光学素子の別々の状態に対応することがある。光学素子の別々の状態は、光学素子が光ビームと光学的に相互作用する別々の位置であり得る。光学素子は、光ビームが通過するプリズムを含むことがある。スペクトル特徴アクチュエータは、少なくとも、プリズムに物理的に結合されたモーターを含むことがあり、このモーターの動作は、プリズムの回転を引き起こす。

[0013] スペクトル特徴アジャスタは、光ビームと相互作用するように配置された分散光学素子、及び、分散光学素子と光学装置の出力との間の光ビームの経路中に配置された複数のプリズム、を含むことがある。スペクトル特徴アクチュエータと連絡している光学素子は、複数のプリズム又は分散光学素子のうちの少なくとも１つであり得る。

[0014] スペクトル特徴アジャスタは、光学装置の第１のガス放電ステージによって生成されたシードパルス光ビームと光学的に相互作用することがある。

[0015] 光ビームのスペクトル特徴とは、光ビームの波長又は帯域幅であり得る。

[0016] 制御波形は、周期的な駆動信号を含むことがある。波形モジュールは、制御波形の周波数及び／又は位相のうちの１つ又は複数を調整することにより制御波形を調整するように構成されることがある。波形モジュールは、光ビームを受け取るリソグラフィ露光装置から出力されるトリガーから決定されるパルス繰り返し率と、光ビームのスペクトル特徴の別々の値間のターゲット分離度と、スペクトル特徴アクチュエータの変化に応答して光ビームのスペクトル特徴の値がどれくらい変化するかを示す感度指標と、に基づいて、制御波形を計算するように構成されることがある。

[0017] 予測モジュールは、スペクトル特徴アクチュエータの受け取られた感知された態様を分析して、制御波形を調整するための波形モジュールへの指示を決定するように構成されることがある。スペクトル特徴アクチュエータの受け取られた感知された態様の分析には、比例－積分－微分制御、モデル予測制御、及びカルマンフィルタを用いた状態フィードバック、のうちの１つ又は複数が含まれることがある。波形モジュールは、制御波形の軌道をリアルタイムに変更することにより、制御波形を調整することができる。予測モジュールは、制御波形の周波数の少なくとも２倍、少なくとも３倍、又は少なくとも５倍の率で、スペクトル特徴アクチュエータの感知された態様を受け取り分析するように構成されることがある。

[0018] 制御波形は、スペクトル特徴アクチュエータを、状態周波数に従って別々の値の間で循環させることができる。予測モジュールは、状態周波数よりも高い更新周波数で、波形モジュールに調整を指示するように構成されることがある。

[0019] 他の一般的な態様では、方法は、光ビームのパルスを生成することと、パルスの生成中に、制御波形に従って一組の異なる状態間でスペクトル特徴アクチュエータを駆動することであって、パルスが生成される度に、スペクトル特徴アクチュエータが異なる状態のうちの１つになり、光ビームパルスがその異なる状態に対応するスペクトル特徴を有するように、異なる状態のそれぞれは、光ビームのスペクトル特徴の別々の値に対応することと、パルスの生成間の合間に、スペクトル特徴アクチュエータの１つ又は複数の感知された態様に基づいて、制御波形を調整することと、を含む。

[0020] 実施は、以下の特徴のうちの１つ又は複数を含むことがある。例えば、この方法は、スペクトル特徴アクチュエータの１つ又は複数の態様を感知することを更に含むことがある。また、この方法は、生成された光ビームパルスを受け取るように配置されたリソグラフィ露光装置からパルス繰り返し率を受け取ることを含むこともある。制御波形は、パルス繰り返し率と相関がある周期構造を含むことがある。この方法は、光ビームの感知されたスペクトル特徴を受け取ることと、受け取られた感知されたスペクトル特徴に基づいて制御波形を調整することと、も含むことがある。

[0021] 光ビームのスペクトル特徴とは、光ビームの波長又は帯域幅であり得る。

[0022] 制御波形は、周期的な駆動信号を含むことがある。

[0023] 制御波形は、制御波形の周波数、振幅、及び位相のうちの１つ又は複数を調整することにより調整できる。制御波形は、制御波形の軌道をリアルタイムに修正することにより、調整することができる。

[0024] この方法は、光ビームを受け取るリソグラフィ露光装置から出力されるトリガーから決定されるパルス繰り返し率と、光ビームのスペクトル特徴の別々の値間のターゲット分離度と、スペクトル特徴アクチュエータの変化に応答して光ビームのスペクトル特徴の値がどれくらい変化するかを示す感度指標と、のうちの１つ又は複数に基づいて、制御波形を計算することも含むことがある。

[0025] この方法は、比例－積分－微分制御、モデル予測制御、及びカルマンフィルタを用いた状態フィードバックのうちの１つ又は複数を実施することを含む、スペクトル特徴アクチュエータの１つ又は複数の感知された態様を分析することも含むことがある。

[0026]デバイスが使用するための光ビームのパルスを生成する光学装置と、その光学装置と相互作用するスペクトル特徴アクチュエータと、スペクトル特徴アクチュエータと通信するコントローラと、を含む予測制御装置のブロック図である。 [0027]図１のデバイスの実施のブロック図であり、デバイスは、光学装置によって生成された光ビームを受け取るフォトリソグラフィ露光装置である。 [0028]図１のスペクトル特徴アクチュエータの第１の状態を示すブロック図である。 [0028]図１のスペクトル特徴アクチュエータの第２の状態を示すブロック図である。 [0029]図１の光ビームの例示的な光スペクトルの図である。 [0030]図１の光学装置の実施のブロック図であり、光学装置は、デュアルステージパルス光源である。 [0031]図５のデュアルステージパルス光源のスペクトル特徴アジャスタの実施のブロック図であり、スペクトル特徴アジャスタは、図１のスペクトル特徴アクチュエータと通信している。 [0032]図６のスペクトル特徴アジャスタの実施の平面図である。 [0033]スペクトル特徴アクチュエータの第１の状態、並びに図７のスペクトル特徴アジャスタ内部の関連するプリズムの対応する第１の状態、を示す平面図である。 [0033]スペクトル特徴アクチュエータの第２の状態、並びに図７のスペクトル特徴アジャスタ内部の関連するプリズムの対応する第２の状態、を示す平面図である。 [0034]図１の予測制御装置の実施のブロック図である。 [0035]図９のスペクトル特徴アクチュエータに印加される制御波形と、フォトリソグラフィ露光装置から受け取られた到来トリガー信号と、到来トリガー信号に応答して光学装置によって生成される光ビームのパルス列と、光学装置内部のスペクトル特徴アジャスタの作動システムの実際の状態と、の間の関係を示す図である。 [0036]図１のスペクトル特徴アクチュエータに印加される正弦波制御波形の例である。 [0037]図１のスペクトル特徴アクチュエータに印加される方形制御波形の例である。 [0038]図１のスペクトル特徴アクチュエータに印加されることがある、修正された制御波形の例である。 [0038]図１のスペクトル特徴アクチュエータに印加されることがある、複数形状の制御波形の例である。 [0038]図１のスペクトル特徴アクチュエータに印加されることがある、より複雑な制御波形の例である。 [0039]図１又は図９の予測制御装置によって実装される制御構造のブロック図である。 [0040]図１又は図９の予測制御装置によって行われる手順のフローチャートである。

[0041] 図１を参照すると、予測制御装置１００が示されている。予測制御装置１００は、デバイス１３０に向けられる光ビーム１２０のパルスを生成する光学装置１１０を含む。時として、光ビーム１２０がデバイス１３０に向けられるときに、光ビーム１２０のスペクトル特徴（波長など）を変更することが望ましい。デバイス１３０は、光ビーム１２０の波長が、各パルスにつれて又は設定された数のパルス毎に、別個の又は異なる波長の組の間で変化することを必要とすることがある。光ビーム１２０のパルスは、パルスが生成されていない時間によって分割されるパルスの組又はクラスターで生成されることがある。そのようなクラスター又はパルスの組は、バーストと呼ばれる。バーストへのパルスのクラスタリング及びバースト中のパルスの数は、デバイス１３０の要件によって決定されることがある。

[0042] 図２を参照すると、実施によっては、デバイス１３０は、基板２３１のターゲット領域に所望のパターンを施すように構成されたフォトリソグラフィ露光装置２３０である。フォトリソグラフィ露光装置２３０は、到来する光ビーム１２０の経路中に光学機構２３２を含み、この光学機構２３２は、例えば、１つ又は複数の集光レンズ、マスク、及び対物系機構を含む。マスクは、１つ又は複数の方向に沿って、例えば光ビーム１２０の光軸ＯＡなどに沿って、又は光ビーム１２０の光軸ＯＡに垂直な平面内で、移動可能である。対物系機構２３２は、投影レンズを含み、マスクから基板２３１上のフォトレジストへの像転写を可能にする。

[0043] フォトリソグラフィ露光装置２３０は、パターン付与される基板２３１における多焦点イメージングを可能にする光ビーム１２０の制御を必要とすることがある。フォトリソグラフィ装置は、基板２３１上にメモリの３次元（３Ｄ）又は垂直ＮＡＮＤ層（即ち、ＮＡＮＤゲートに似た構造が互いの上に積み重ねられているメモリ）を形成する場合、光ビーム１２０の波長を規則的で周期的な態様で変化させる必要がある場合がある。基板上に複雑な３Ｄ構造を生成することは、複雑であり、スケールを達成するために、非常に高い精度、及び最終的には処理の均一性及び繰り返し精度が必要である。更に、多層積層体の高さが増すにつれて、積層体、例えばメモリアレイの上部及び底部における一貫したエッチング及び堆積結果を達成することがより困難になる。

[0044] ３Ｄ ＮＡＮＤメモリを形成するには、基板２３１における焦点深度を変化させる必要がある。リソグラフィ焦点深度（ＤＯＦ）は、関係式ＤＯＦ＝±ｍλ／（ＮＡ）^２によって決まり、ここで、λは照明光（光ビーム１２０）の波長であり、ＮＡは基板２３１から見た（フォトリソグラフィ露光装置２３０内部の）投影レンズの開口数であり、ｍはレジスト処理に依存する実際的因子である。従って、変化する焦点深度を得るために、複数回の露光通過が基板２３１に渡って行われ、通過毎に異なるレーザ波長が使用される。或いは、光ビームの波長を数パルス毎に、又はパルス毎に（即ち、各パルス毎に）変化させて、単一の通過において焦点深度に対してより細かい制御を可能にする。更に、フォトリソグラフィ露光装置２３０の光学機構２３２内部のレンズを構成する材料は分散性であり、従って、基板２３１内部の異なる深さに異なる波長が集束するようになる。これは、光ビーム１２０の波長を変更する能力を有することが望ましい場合があることの別の理由である。

[0045] この目的のために、予測制御装置１００は、スペクトル特徴アクチュエータ１４０、及びスペクトル特徴アクチュエータ１４０と通信しているコントローラ１５０を含む。スペクトル特徴アクチュエータ１４０は、一組の異なる状態に関連付けられており、各状態は、光学装置１１０に、光ビーム１２０の１つ又は複数のパルスを光ビーム１２０のスペクトル特徴の別々の値で生成させるように構成される。例えば、図３Ａに示すように、スペクトル特徴アクチュエータ１４０は、光ビーム１２０のパルスが放射される第１の状態１４０Ｓ１にあり、そのようなパルスは第１のスペクトル特徴ＳＦ１を有し、図３Ｂに示すように、スペクトル特徴アクチュエータは、光ビーム１２０のパルスが放射される第２の状態１４０Ｓ２にあり、そのようなパルスは第１のスペクトル特徴ＳＦ１とは異なる第２のスペクトル特徴ＳＦ２を有する。

[0046] コントローラ１５０は、制御波形１５４に従って、スペクトル特徴アクチュエータ１４０を一組の異なる状態（１４０Ｓｉ）の間で遷移させるように構成されたアクチュエータ駆動モジュール１５２を含む。アクチュエータ駆動モジュール１５２は、フィールド・プログラマブル・ゲート・アレイとして実装されることがある。コントローラ１５０は、一組の異なる状態１４０Ｓｉの間の遷移を決定するスペクトル特徴アクチュエータ１４０の制御波形１５４を計算又は算出するように構成された波形モジュール１５６も含む。

[0047] スペクトル特徴アクチュエータ１４０は、制御波形１５４に従って一組の異なる状態１４０Ｓｉ間を遷移するものの、スペクトル特徴アクチュエータ１４０は、光ビーム１２０のパルスが生成されたときに正しい状態１４０Ｓｉにはない可能性があり、従って、光ビーム１２０のパルスは、デバイス１３０が望むスペクトル特徴ＳＦｉの別々の値にはないことがある。その代わり、光ビーム１２０のパルスは、所望の値ＳＦｉからある量だけオフセットされた実際のスペクトル特徴値を有してもよい。従って、予測制御装置１００は、光ビーム１２０が光学装置１１０から出力される前に、光ビーム１２０に予測補正を提供する。予測制御装置１００は、予測補正を使用して制御波形１５４をリアルタイムに調整して、制御波形１５４の誤差、スペクトル特徴アクチュエータ１４０の擾乱若しくは変化、及び／又は動作中の光学装置１１０の擾乱若しくは変化を考慮に入れる。更に、以下で詳細に考察するように、コントローラ１５０は予測補正に加えて更に光ビーム１２０に関連したフィードバックを使用することができるものの、そのような予測補正は、コントローラ１５０が光ビーム１２０に関する情報（これは、光ビーム１２０が生成された後でのみ決定され得る）を決定するのを待つ必要がない。それによって、予測制御装置１００は、デバイス１３０によって多焦点イメージングが要求される場合に、光ビーム１２０の波長の制御を向上させることができる。

[0048] 予測補正はコントローラ１５０による影響を受け、コントローラ１５０は、スペクトル特徴アクチュエータ１４０の状態又は属性に関連した情報を受け取る。この目的のために、コントローラ１５０は、スペクトル特徴アクチュエータ１４０の１つ又は複数の感知された態様を受け取るように構成された予測モジュール１５８を更に含む。予測モジュール１５８は、これらの感知された態様を分析し、この分析に基づいて、制御波形１５４を調整するように波形モジュール１５６に指示する。

[0049] 再び図２を参照すると、フォトリソグラフィ露光装置の実施２３０は、基板２３１が載置されるテーブル又はマウント２３３を含み、テーブル２３３は、特定のパラメータに従って基板２３１を正確に位置決めするポジショナに接続されている。フォトリソグラフィ露光装置２３０は、リソグラフィコントローラ２３４、空調装置、及び様々な電気部品用の電源も含むことがある。リソグラフィコントローラ２３４は、基板２３１に層がどのようにプリントされるのかを制御し、テーブル２３３の位置決めも制御することができる。リソグラフィコントローラ２３４は、プロセスレシピなどの情報を記憶するメモリを含む。プロセスレシピは、例えば使用されるマスク、並びに露光に影響を与える他の要因に基づいて、基板２３１上での露光の長さを決定する。リソグラフィ中、光ビーム１２の複数のパルスが基板２３１の同じ領域を照射して、照射ドーズを構成する。

[0050] 図４を参照すると、光ビーム１２０のスペクトル特徴は、光ビーム１２０の光スペクトル４２２に関連付けられた表現の任意の態様を含むことがある。光スペクトル４２２は、図の形式で示されており、この図では、スペクトル強度４２３（必ずしも絶対較正されているとは限らない）が、波長又は光周波数４２４の関数としてプロットされている。光スペクトル４２２は、光ビーム１２０のスペクトル形状又は強度スペクトルと呼ばれることがある。従って、波長はスペクトル特徴であり、波長は、最大強度における光スペクトル４２２の値λｍａｘであり得る。別の例として、光スペクトル４２２の幅Δλの測度である帯域幅がスペクトル特徴である。帯域幅は、光スペクトル４２２の実際の瞬間的な帯域幅であり得る。

[0051] 一般に、フォトリソグラフィ露光装置２３０による使用のために、光ビーム１２０は、深紫外線（ＤＵＶ）範囲内の波長、例えば、約２４８ナノメートル（ｎｍ）又は約１９３ｎｍの波長を有する。基板２３１（図２）上にパターン付与することができる超小型電子フィーチャの最小サイズは、光ビーム１２０の波長に依存し、波長が短いほど最小フィーチャサイズがより小さくなる。例えば、光ビーム１２０の波長が２４８ｎｍか又は１９３ｎｍである場合、超小型電子フィーチャの最小サイズは５０ｎｍ以下であり得る。

[0052] 再び図１を参照すると、コントローラ１５０は、デジタル電子回路、コンピュータハードウェア、ファームウェア、及びソフトウェアのうちの１つ又は複数を含む。モジュール１５２、１５６、１５８のそれぞれは、そのようなデジタル電子回路、ハードウェア、ファームウェア、又はソフトウェアで実装されることがある。コントローラ１５０は、読み出し専用メモリ及び／又はランダムアクセスメモリであり得るメモリも含む。コンピュータプログラム命令及びデータを具体的に具現化するのに適した記憶デバイスには、例として、ＥＰＲＯＭ、ＥＥＰＲＯＭ、及びフラッシュメモリデバイスなどの半導体メモリデバイス、内蔵ハードディスク及びリムーバブルディスクなどの磁気ディスク、光磁気ディスク、並びにＣＤ－ＲＯＭディスク、を含む全ての形態の不揮発性メモリが含まれる。コントローラ１５０は、１つ又は複数の入力デバイス（キーボード、タッチスクリーン、マイクロフォン、マウス、手持ち式入力デバイスなど）及び１つ又は複数の出力デバイス（スピーカー又はモニターなど）を更に含むことがある。コントローラ１５０は、１つ又は複数のプログラム可能プロセッサ、及び１つ又は複数のプログラム可能プロセッサによって実行するための機械可読記憶デバイスに具体的に取り込まれた１つ又は複数のコンピュータプログラム製品も含む。コントローラ１５０は、中央集中化されていることがあるか（この場合、全ての構成要素は互いに近接して配置される）、又はコントローラ１５０の様々な構成要素が、予測制御装置１００全体に渡って部分的に又は完全に分散されていることがある。

[0053] 図５を参照すると、実施によっては、光学装置１１０は、光ビーム１２０としてパルス光ビーム５２０を生成するデュアルステージパルス光源５１０である。光源５１０は、ガス放電光源であり、これは、シード光ビーム５１５を生成するシード光ステージ５１１と、シード光ビーム５１５のパワーを増幅して光ビーム１２０として出力光ビーム５２０を生成する増幅ステージ５２５と、リレー光学系５１６と、出力システム５１７と、を含む。

[0054] シード光ステージ５１１は、例えば、利得媒質を収容する）主発振器（ＭＯ）チャンバ５１３、光出力カプラ５１４、及びビーム転向機構５１２を含む。ＭＯチャンバ５１３には、シード光ビームの一部（前駆体光ビーム５１５ｐと呼ばれる）がビーム転向機構５１２を通過できるようにするウィンドウが設けられていることがある。シード光ステージ５１１がシード光ビーム５１５を形成する発振器キャビティを形成する、ビーム転向機構５１２及び出力カプラ５１４。以下でより詳細に考察するように、ビーム転向機構５１２はスペクトル特徴アジャスタとして設計されることがあり、スペクトル特徴アジャスタでは、シード光ビーム５１５（従って出力光ビーム５２０）の１つ又は複数のスペクトル特徴を調整することができる。光出力カプラ５１４は、部分反射ミラーを含むことがある。

[0055] リレー光学系５１６は、シード光ビーム５１５を増幅ステージ５２５に向け直すように構成された１つ又は複数の光学素子を含むことがある。リレー光学系５１６はまた、シード光ビーム５１５の態様（横方向の広がり又は波面など）を変更するように構成された光学素子も含むことがある。

[0056] 増幅ステージ５２５は、例えば、電力増幅器（ＰＡ）チャンバ５２７（利得媒質を収容する）、ビーム反転器５２６、及び光結合システム５２８を含む電力リング増幅器として設計されることがある。光結合システム５２８は、シード光ビーム５１５を（シード光ステージ５１１から）増幅ステージ５２５へと結合し、及び、（出力システム５１７に向かう）増幅ステージ５２５からの光を出力光ビーム５２０として結合するようにはたらく部分反射型光学素子を含むことがある。光結合システムは、公称動作スペクトル特徴（例えば、ＤＵＶ範囲内の波長）で動作するように構成された１つ又は複数のミラー及びプリズムを更に含むことがある。

[0057] ＭＯチャンバ５１３及びＰＡチャンバ５２７は、電極間の電気放電が利得媒質中でガス放電を引き起こして、例えばアルゴン、クリプトン、及びキセノンを含む高エネルギー分子の挿入母集団を生成することができるチャンバとして構成される。

[0058] 出力システム５１７は、出力光ビーム５２０の態様を調整するための１つ又は複数のサブシステムを含むことがある。例えば、出力システム５１７は、光パルス伸張器、又は出力光ビーム５２０のエネルギーを測定するための計測器を含むことがある。

[0059] 更に、予測制御装置１００は、光源５１０内部の様々な位置に配置された１つ又は複数の測定デバイスを含む測定システム５１９も含むことがある。例えば、測定システム５１９は、１つ又は複数のスペクトル特徴分析デバイス５１８、５２１を含むことがあり、そのそれぞれは、光学装置５１０の内部で生成された光ビーム（シード光ビーム５１５など）又は光学装置５１０から出力された光ビーム（光ビーム５２０など）に関連したスペクトル特徴を測定又は感知するように構成される。一方のデバイス５１８は、光学装置５１０の内部又は出力部に配置された帯域幅分析モジュールである。帯域幅分析モジュール５１８は、光ビーム５２０の帯域幅を測定するように構成される。他方のデバイス５２１は、光学装置５１０の内部又は出力部に配置された波長分析モジュールである。実施によっては、波長分析モジュール５２１は、シード光ステージ５１１の出力部に配置される。波長分析モジュール５２１は、例えば、微細な波長測定を提供するエタロンスペクトロメータ、及び粗い波長測定を提供する回折格子スペクトロメータを含むことがある。

[0060] 上述したように、ビーム転向機構５１２はスペクトル特徴アジャスタとして設計されることがあり、スペクトル特徴アジャスタでは、シード光ビーム５１５（従って出力光ビーム５２０）の１つ又は複数のスペクトル特徴が調整される。具体的には、出力光ビーム５２０のスペクトル特徴の調節は、スペクトル特徴アジャスタ５１２によってシード光ビーム５１５に施される調節によって影響を受ける。図６を参照すると、実施によっては、スペクトル特徴アジャスタ５１２は、複数の光学部品又は機能部を含む光学機構６１２であり、複数の光学部品又は機能部のそれぞれは、ＭＯチャンバ５１３からの前駆体光ビーム６１５ｐと相互作用する。例えば、複数の光学部品には、前駆体光ビーム６１５ｐと光学的に相互作用するように配置された光学機能部又は部品６４１－１、６４１－２、６４１－３、６４１－４、及び６４１－５が含まれる。光学機構６１２の光学部品は、それぞれ、ＤＵＶ範囲内の波長を有する前駆体光ビーム６１５ｐと相互作用するのに適した材料でできている。

[0061] 実施によっては、光学部品６４１－５は、回折格子などの分散光学素子である。更に、光学部品６４１－１、６４１－２、６４１－３、６４１－４は、一緒になってビーム拡大器／ビーム圧縮器としてはたらく、プリズムなどの屈折光学素子である。回折格子６４１－５は、光ビーム６１５ｐを分散及び反射させるように設計された反射回折格子であり得る。プリズム６４１－１、６４１－２、６４１－３、６４１－４のそれぞれは、光ビーム６１５ｐがプリズムの本体を通過する際に光ビーム６１５ｐを分散させ向け直すようにはたらく透過プリズムである。これらのプリズムのそれぞれは、光ビーム６１５ｐの波長を透過する材料（例えば、フッ化カルシウムなど）でできていることがある。

[0062] 光ビーム６１５ｐは、開口部６４２を通って光学機構６１２に入り、次いでプリズム６４１－１、プリズム６４１－２、プリズム６４１－３、及びプリズム６４１－４をこの順序で通過した後、回折格子６４１－５の回折面に当たる。光ビーム６１５ｐが連続するプリズム６４１－１、６４１－２、６４１－３、６４１－４を通過する度に、光ビーム６１５ｐは光学的に拡大され、次の光学部品に向けて向け直される（ある角度で屈折する）。光ビーム６１５ｐは、回折格子６４１－５から回折及び反射されて、プリズム６４１－４、プリズム６４１－３、プリズム６４１－２、及びプリズム６４１－１をこの順序で通って戻った後、開口部６４２を通過し、光ビーム６１５ｐは光学機構６１２を出てＭＯチャンバ５１３に向かって戻る。開口部６４２に向けて進むとき、回折格子６４１－５から連続するプリズム６４１－４、６４１－３、６４１－２、６４１－１を通過する度に、光ビーム６１５ｐは光学的に圧縮される。

[0063] 光学機構６１２内の任意のあるプリズムＰ（但し、Ｐは６４１－１、６４１－２、６４１－３、又は６４１－４のいずれか）が回転すると、その回転したプリズムＰの入射面Ｈ（Ｐ）に光ビーム６１５ｐが当たる入射角が変わる。更に、２つの局所的な光学品質、即ち、その回転したプリズムＰを通る光ビーム６１５ｐの光学倍率ＯＭ（Ｐ）及びビーム屈折角δ（Ｐ）は、その回転したプリズムＰの入射面Ｈ（Ｐ）に当たる光ビーム６１５ｐの入射角の関数である。プリズムＰを通る光ビーム６１５ｐの光学倍率ＯＭ（Ｐ）は、そのプリズムＰに入ってくる光ビーム６１５ｐの横方向の幅Ｗｉ（Ｐ）に対する、そのプリズムＰを出てゆく光ビーム６１５ｐの横方向の幅Ｗｏ（Ｐ）の比率である。プリズムＰのうちの１つ又は複数における光ビーム１１０Ａの局所的な光学倍率ＯＭ（Ｐ）の変化は、光ビーム６１５ｐの光学倍率ＯＭの全体的な変化を引き起こす。更に、プリズムＰのうちの１つ又は複数を介した局所的ビーム屈折角δ（Ｐ）の変化は、回折格子６４１－５の表面における光ビーム６１５ｐの入射角Φの全体的な変化を引き起こす。光ビーム６１５ｐの波長は、光ビーム６１５ｐが回折格子６４１－５の回折面に当たる入射角Φを変化させることにより、調整することができる。光ビーム６１５ｐの帯域幅は、光ビーム６１５ｐの光学倍率ＯＭを変化させることにより、調整することができる。

[0064] 図７を参照すると、実施によっては、スペクトル特徴アクチュエータ１４０は、光学装置１１０のスペクトル特徴アジャスタ７１２に関連付けられたスペクトル特徴アクチュエータ７４０である。スペクトル特徴アジャスタ７１２は、プリズム７４１－１、７４１－２、７４１－３、７４１－４、及び回折格子７４１－５が、リトロー構成に配置されるように設計され、このリトロー構成では、回折格子７４１－５は、回折格子７４１－５への光ビーム７１５ｐの入射角Φが、回折格子７４１－５からの光ビーム７１５ｐの出射角に等しくなるように、用いられる。この例では、回折格子７４１－５は、高ブレーズ角エシェル格子であることがあり、回折格子の式を満たす任意の入射角Φで回折格子７４１－５に入射する光ビーム７１５ｐが反射される（回折される）。光ビーム７１５ｐの波長は、回折格子７４１－５上への光ビーム７１５ｐの入射角Φを変化させることにより、光学装置５１０内部の共振器の全利得帯域幅に渡って調節することができる。

[0065] スペクトル特徴アクチュエータ７４０は、ファームウェアとソフトウェアの任意の組み合わせの形態をした電子機器を含む制御モジュール７４２を含む。制御モジュール７４２は、プリズム７４１－３に物理的に結合された少なくとも１つの作動システム７４３－３に接続されており、コントローラ１５０のアクチュエータ駆動モジュール１５２から制御波形１５４を受け取るように構成されている。図７には示していないが、スペクトル特徴アクチュエータ７４０は、プリズム７４１－４に物理的に結合された作動システム、及びプリズム７４１－１に物理的に結合された作動システムなどの、他のプリズムに物理的に結合された他の作動システムを含むことがあり、そのような作動システムは、制御モジュール７４２によって制御される。更に、これに加えて又はその代わりに、スペクトル特徴アジャスタ７１２内部のプリズム及び回折格子のうちの１つ又は複数が、静止状態に保たれているか、又は作動システムに物理的に結合されていないことも可能である。例えば、実施によっては、回折格子７４１－５は静止状態に保たれることがあり、プリズム７４１－２は静止状態に保たれ且つ作動システムに物理的に結合されていないことがある。

[0066] 作動システム７４３－３は、プリズム７４１－３を動かすか又は制御するための機械式デバイスである。作動システム７４３－３は、制御モジュール７４２からエネルギーを受け取り、そのエネルギーを、プリズム７４１－３に与えられるある種の運動に変換する。例えば、作動システム７４３－３は、プリズム７４１－３を回転させるための力デバイス及び回転ステージのいずれかであり得る。作動システム７４３－３は、例えば、ステッパモーター、バルブ、圧力制御デバイス、圧電デバイス、リニアモーター、液圧アクチュエータ、又はボイスコイル、などのモーターを含むことがある。

[0067] 実施によっては、作動システム７４３－３は、プリズム７４１－３が固定されているマウントに取り付けられた機械的屈曲部に物理的に結合されたリニアモーター（例えば、圧電トランスデューサを含む）を含む。リニアモーターは、制御モジュール７４２からの信号を、機械的屈曲部に適用される線形平行移動に変換し、これは、プリズム７４１－３の回転移動を引き起こす。他の実施では、作動システム７４３－３は、プリズム７４１－３に物理的に結合された回転モーターと、その回転モーターを駆動する圧電モーターとを含み、それによって、プリズム７４１－３を回転させる。プリズム７４１－３が回転すると、回折格子７４１－５の表面での光ビーム７１５ｐの入射角Φ（図６を参照）が変わり、それによって、光ビーム７１５ｐの波長（従って、光学装置５１０から出力される光ビーム５２０の波長）が変更される。従って、図８Ａ及び図８Ｂを更に参照すると、この実施では、スペクトル特徴アクチュエータ７４０は、プリズム７４１－３が第１の回転状態７４０Ｓ１にあるときはいつでも、光ビーム７１５ｐ（及び出力光ビーム５２０）のパルスが第１の波長λ１で放射される第１の状態にあり、一方、スペクトル特徴アクチュエータ７４０は、プリズム７４１－３が第２の回転状態７４０Ｓ２にあるときはいつでも、光ビーム７１５ｐ（及び出力光ビーム５２０）のパルスが第２の波長λ２で放射される第２の状態にある。２つより多くの状態も可能である。

[0068] 図９を参照すると、予測制御装置１００の実施９００が示されている。予測制御装置１００と同様に、予測制御装置９００は、スペクトル特徴アクチュエータ１４０と通信するコントローラ９５０を含み、コントローラ９５０は、アクチュエータ駆動モジュール９５２、波形モジュール９５６、及び予測モジュール９５８（これらは、それぞれ、図１のアクチュエータ駆動モジュール１５２、波形モジュール１５６、及び予測モジュール１５８に対応する）を含む。アクチュエータ駆動モジュール９５２は、データが非常に高速でスペクトル特徴アクチュエータ１４０に供給される実施では、フィールド・プログラマブル・ゲート・アレイ（ＦＰＧＡ）を含むことがある。更に、コントローラ９５０は、光学装置１１０及びフォトリソグラフィ露光装置２３０とも通信しており、予測制御装置９００は、以下のように、この通信に関係した追加の構成要素を含む。

[0069] 予測制御装置９００は、スペクトル特徴アクチュエータ１４０の１つ又は複数の態様を感知するように構成されたアクチュエータセンサ９５５を含む。予測モジュール９５８は、アクチュエータセンサ９５５と通信し、それによって、アクチュエータセンサ９５５からスペクトル特徴アクチュエータ１４０の感知された態様を受け取る。実施によっては、アクチュエータセンサ９５５は、光ビーム９２０のスペクトル特徴を変えるために変更された、スペクトル特徴アジャスタ９１２内部の光学素子９４１の実際の位置を感知する。例えば、アクチュエータセンサ９５５は、プリズム６４１－３又は７４１－３の実際の位置又は状態を感知するように構成されることがある。他の実施では、アクチュエータセンサ９５５は、プリズムに物理的に結合されたスペクトル特徴アクチュエータ１４０内部の作動システムの状態又は位置を感知するように構成される。例えば、アクチュエータセンサ９５５は、作動システム７４３－３の状態又は物理的な態様を感知するように構成されることがある。アクチュエータセンサ９５５は、この計測を可能にする、例えば、角度位置フィードバックを提供する光学式回転エンコーダ、容量性位置センサ、ポテンショメータ、又はひずみゲージなどの、任意の感知デバイスであり得る。

[0070] 予測制御装置９００は、測定システム９１９を含み、このシステムは、測定システム５１９と同様に、光学装置１１０の内部の又は光学装置１１０から出力された光ビームのスペクトル特徴を測定又は感知するようにそれぞれ構成された１つ又は複数の測定デバイスを含む。従って、コントローラ９５０が光ビーム１２０の波長を複数の別々の値の間で遷移するように制御する実施では、コントローラ９５０は、測定システム９１９内部の波長分析モジュール（モジュール５２１など）から情報を受け取り、そのような波長分析モジュールは、光ビーム９２０の波長の感知された値を出力するように構成される。この目的のために、コントローラ９５０は、以下で考察するように、測定システム９１９から感知された波長を受け取り、その感知された波長を分析するように構成された、スペクトル特徴モジュール９５１を更に含む。

[0071] コントローラ９５０は、フォトリソグラフィ露光装置２３０と通信するリソグラフィモジュール９５３も含む。例えば、リソグラフィモジュール９５３は、リソグラフィコントローラ２３４から情報及び命令を受け取ることができる。コントローラ９５０は光源モジュール９５７も含み、光源モジュール９５７は、コントローラ９５０内部の他のモジュールのうちのいずれか１つ又は複数からの情報又は分析に基づいて、光ビーム９２０のパルスを生成するように光学装置１１０に指示するように構成されることがある。例えば、光源モジュール９５７は、光学装置５１０のＭＯチャンバ及びＰＡチャンバ内のエネルギー源（電極など）のうちの１つ又は複数にトリガー信号を送信して、光学装置５１０に光ビーム５２０を生成させることができ、そのような送出トリガー信号は、リソグラフィモジュール９５３から受け取られた到来トリガー信号に基づいている。

[0072] 図１０を参照すると、制御波形１５４は、作動システム（プリズム７４１－３に物理的に結合された作動システム７４３－３など）の軌道を決定する周期的駆動信号１０５４である。図１０は、リソグラフィモジュール９５３においてフォトリソグラフィ露光装置２３０のリソグラフィコントローラ２３４から受け取られた到来トリガー信号１０６４も示している。トリガー信号１０６４は一組のトリガーパルスを含み、各トリガーパルスは光学装置１１０に光ビーム９２０のパルスを生成するように指示する。スキャナ－放射源配置の様々な構成では、トリガーパルス間の間合いは、スキャナによって要求されるパルス繰り返し率を示す。図１０は、到来トリガー信号１０６４に応答して、（光源モジュール９５７の制御下で）光学装置１１０によって生成された光ビーム１２０のパルス列１０６２も示している。作動システム７４３－３の実際の状態は、波形１０６０によって示されている。

[0073] 制御波形１０５４は、光ビーム５１５ｐ（及び７１５ｐ）のパルスがシード光ステージ５１１から生成されるのと同時に、プリズム７４１－３が所望の位置又は状態にあることを確実にする、任意の波形であり得る。

[0074] この例で示されている駆動信号１０５４は、三角形の連続した形状を有している。しかしながら、駆動信号１０５４は、この形状に限定はされない。駆動信号１０５４は、スペクトル特徴アクチュエータ１４０が、様々な瞬間に、複数の目標とされる別々の状態、例えば、第１の状態１０４０Ｓ１及び第２の状態１０４０Ｓ２、のうちの１つで存在するように、様々な位置又は状態を経て連続的な態様で作動システムを駆動又は変更する、任意の形状である。スペクトル特徴アクチュエータ１４０の所望の動きとは、光学装置１１０からの光ビーム１２０の列１０６２中のパルスの生成と、スペクトル特徴アジャスタ９１２（例えば、プリズム７４１－３）の所望の位置又は状態への配置とを同期させることである。図１０によって示される例では、スペクトル特徴アジャスタ９１２は、パルス毎に２つの状態間で交互になる。この調整を使用して、例えば、光ビーム９２０について、２つの波長間でパルス毎に交互にすることができる。

[0075] 制御波形１５４の他の例が、図１１Ａ～図１１Ｅに示されている。図１１Ａでは、制御波形１１５４Ａは、正弦波波形である。図１１Ｂでは、制御波形１１５４Ｂは、方形波形である。図１１Ｃ～図１１Ｅには、修正された、多形状の、又はより複雑な波形１１５４Ｃ、１１５４Ｄ、１１５４Ｅがそれぞれ示されている。

[0076] 図１２を参照すると、制御構造１２６０のブロック図が示されている。制御構造１２６０は、どれ位の頻度でデータが受け取られるか及び／又は更新されるかに基づいて、２つのセクションに分割される。第１のより遅い制御セクション１２６１は、波形モジュール９５６内部に基準生成器１２６２を含む。基準生成器１２６２は、光ビーム９２０のパルスが生成される率よりも遅い（従って、光学装置１１０の繰り返し率よりも遅い）率でデータを受け取る。例えば、基準生成器１２６２は、光ビーム９２０のパルスのバースト毎に１回、データを受け取り、そのデータにより動作するように構成されることがある。基準生成器１２６２はデータを受け取り、このデータに基づいて、スペクトル特徴アクチュエータ１４０がどのように調整されるのかを決定する基準軌道Ｒ（ｔ）又は所望のベースライン軌道を計算する。

[0077] 図１２に示す実施では、基準生成器１２６２は、一組のデータ１２６３、１２６４、１２６５を受け取る。データ１２６３は、フォトリソグラフィ露光装置２３０から受け取られたトリガー信号１０６４から決定されるパルス繰り返し率（「Ω」）に対応する（図９及び図１０を参照）。データ（Ω）１２６３は、基準生成器１２６２による分析のために、リソグラフィモジュール９５３から波形モジュール９５６まで運ばれることがある。データ１２６４は、ターゲットスペクトル特徴分離度（「Δ」）に対応する。例えば、スペクトル特徴が波長である場合、この分離度Δは、光ビーム１２０／９２０の２つの別々の所望の波長間の差である。このターゲット波長分離度Δは、フォトリソグラフィ露光装置２３０からの情報に基づいて決定されることがある。例えば、ターゲット波長分離度Δは、リソグラフィモジュール９５３が受け取ったプロセスレシピに基づいて決定されることがある。データ１２６５は、感度指標Πに対応し、これは、光ビーム９２０のスペクトル特徴（波長など）の値が、スペクトル特徴アクチュエータ１４０の変化に応答してどれ位変化するかを示す。感度指標Πは、光学装置１１０の動作の開始に先立って決定される較正量であり得る。例えば、感度指標Πは、スペクトル特徴アクチュエータ１４０を既知の態様で走査し、測定システム９１９から出力されるスペクトル特徴の実際の値を測定して、光ビーム９２０のスペクトル特徴が、スペクトル特徴アクチュエータ１４０の変化に応答してどのように変化するかを測定することにより、決定されることがある。

[0078] 実施によっては、基準生成器１２６２は、以下の式に従って基準軌道Ｒ（ｔ）を計算する。
この式では、Ω／２の値は基準軌道波形の周波数に対応し、Δ／（２×Π）の値は、基準軌道波形の振幅（大きさ又は強度）に対応する。

[0079] 制御構造１２６０の他の部分によって調整が行われない場合、制御波形９５４は、基準軌道Ｒ（ｔ）に直接的に基づき、基準軌道Ｒ（ｔ）に対応する。即ち、スペクトル特徴アクチュエータ１４０の動作に外来の擾乱がなく、制御がモデル化された通りに動作する場合、基準軌道Ｒ（ｔ）に従ってスペクトル特徴アクチュエータ１４０を遷移させることは、所望の別々の波長で光ビーム９２０のパルスを生成するのに十分であり得る。

[0080] しかしながら、スペクトル特徴アクチュエータ１４０の動作並びに光学装置１１０の動作は完全ではなく、モデル化された基準軌道Ｒ（ｔ）とスペクトル特徴アクチュエータ１４０の実際の動きとの間に存在する不一致、並びにスペクトル特徴アクチュエータ１４０及び光学装置１１０への擾乱により、基準生成器１２６２からの出力にのみ基づいたであろう制御構造に誤差が持ち込まれる。

[0081] 従って、この目的のために、制御構造１２６２は、フィードバック制御部１２６７を含むより高速の制御セクション１２６６を含む。フィードバック制御部１２６７は、スペクトル特徴モジュール９５１及び予測モジュール９５８による影響を受ける、重複する２つの異なる制御によって実装される。

[0082] スペクトル特徴モジュール９５１によって実装されるフィードバック制御部１２６７は、測定システム９１９から光ビーム９２０の感知された波長を受け取り、これを分析する。このデータは、フォトリソグラフィ露光装置２３０によって指示された繰り返し率Ωに一致する率で受け取られることがある。従って、スペクトル特徴モジュール９５１は、光ビーム９２０のパルスが生成される度に、光ビーム９２０の感知された波長を受け取ることがある。フィードバック制御部１２６７は、光ビーム９２０の波長の測定された又は感知された値を、感度指標Πを使用して、スペクトル特徴アクチュエータ１４０の位置の推定値に変換することができる。上述のように、感度指標Πは、光ビーム９２０の波長の値が、スペクトル特徴アクチュエータ１４０の位置の変化に応答して、どれ位変化するかを示す。従って、スペクトル特徴モジュール９５１は、波長の測定値を感度指標Πで割って、スペクトル特徴アクチュエータ１４０の位置の推定値を取得することができる。

[0083] スペクトル特徴モジュール９５１は、スペクトル特徴アクチュエータ１４０の位置の推定値を、その時点の基準軌道Ｒ（ｔ）の値と比較する。スペクトル特徴モジュール９５１は、この分析に基づいて基準軌道Ｒ（ｔ）を調整する必要があるかどうかを判断する。この分析及び判断は、任意の適切な制御プロセス、例えば、比例－積分－微分制御、モデル予測制御、及びカルマンフィルタを用いた状態フィードバックなどに従って、進められることがある。

[0084] スペクトル特徴モジュール９５１は、波形モジュール９５６に指示を送って基準軌道Ｒ（ｔ）の振幅、周波数、及び位相のうちの１つ又は複数を調整することにより、基準軌道Ｒ（ｔ）に対する変更を制御又はこれに影響を与えることができる。例えば、スペクトル特徴アクチュエータ１４０によって適用される作動と、光学装置１１０において発生しているパルスイベントとの間のタイミングが変動し、この変動分が制御構造１２６２において制御波形Ｒ（ｔ）を計算するのに使用されるモデルに取り込まれていない場合、この変動分は、実際の波長分離度Δａｃｔｕａｌにおけるバイアスをもたらすことがあり、そのようなバイアスはスペクトル特徴モジュール９５１によって特定されることがある。従って、スペクトル特徴モジュール９５１は、制御波形Ｒ（ｔ）を調整して、そのようなバイアス、又はターゲット波長分離度Δと比較した誤差を補償しようと試みることがある。実施されている制御方法の種類に応じて、比例－積分－微分（ＰＩＤ）制御は、制御波形Ｒ（ｔ）の振幅を変調して、それによって波長分離度の誤差（即ち、実際の波長分離度Δａｃｔｕａｌとターゲット波長分離度Δとの差）を低減しようと試みることがある。スペクトル特徴モジュール９５１によって実施されることがある別の制御方法は、状態フィードバックを用いたカルマンフィルタであることがあり、これは、制御波形Ｒ（ｔ）の位相及び振幅のうちの１つ又は複数を調整しようと試みることがある。

[0085] 予測モジュール９５８によって実装されるフィードバック制御部１２６７は、アクチュエータセンサ９５５からスペクトル特徴アクチュエータ１４０の測定された態様（例えば、位置）を受け取る。このデータは、パルス繰り返し率Ωよりも高い率で受け取られることがある。従って、予測モジュール９５８は、第１の状態から第２の状態へのスペクトル特徴アクチュエータ１４０の遷移中に、スペクトル特徴アクチュエータ１４０の測定された位置を何回も受け取ることがある。例えば、スペクトル特徴アクチュエータ１４０の測定された位置は、パルス繰り返し率Ωの少なくとも２倍、少なくとも５倍、又は１０倍の率で受け取られることがある。

[0086] スペクトル特徴アクチュエータ１４０の測定された位置と基準軌道Ｒ（ｔ）との誤差又は差は、例えば、任意のサーボ制御技術、比例－積分－微分（ＰＩＤ）制御、モデル予測制御、又はカルマンフィルタを用いた状態フィードバック（これは、予測追跡及び擾乱除去について幾分かより優れた性能を提供することができる）などの任意の適切な制御を使用して評価することができる。

[0087] この評価に基づいて制御波形９５４への調節を行うことにより、光ビーム９２０の次のパルスがターゲット波長で生成されるようにスペクトル特徴アクチュエータ１４０の実際の軌道がプリズム７４１－３を制御することを確実にできる。

[0088] 図１３を参照すると、コントローラ９５０によって、手順１３７０が実施される。手順１３７０は、パルスのバーストの開始と共に始まる［１３７１］。波形モジュール９５６は、制御波形Ｒ（ｔ）９５４を計算する［１３７２］。例えば、波形モジュール９５６は、パルス繰り返し率Ω、ターゲットスペクトル特徴分離度Δ、及び感度指標Πを受け取り、実施し、これは、時間の関数として基準軌道Ｒ（ｔ）を計算するために使用される。

[0089] スペクトル特徴アクチュエータ１４０の動的モデルを使用して、光ビーム９２０の実際の波長とターゲット波長との差を最小化するように、制御波形Ｒ（ｔ）を計算することができる［１３７２］。例えば、制御波形Ｒ（ｔ）は、動的計画法を使用して計算することができ、動的計画法は、非線形のダイナミクスを含む複雑なモデルを扱えるように十分に適合されている。強い非線形ダイナミクスを有するスペクトル特徴アクチュエータ１４０の動的モデルが採用される場合、動的計画法を使用して、所与の波長ターゲットの制御信号Ｒ（ｔ）を生成することができる。しかしながら、動的計画法には、著しい計算リソースが必要であるという課題がある。この課題を克服するために、光学装置１１０が動作することができる異なる繰り返し率のうちの少なくとも幾つかについての最適な制御パラメータを含む、事前入力されたルックアップテーブル又は事前プログラムされたフィールド・プログラマブル・ゲート・アレイ（ＦＰＧＡ）などのデータ記憶デバイスを使用することができる。

[0090] 別の例として、制御波形Ｒ（ｔ）は、モデル反転フィードフォワード制御を使用して計算されることがある［１３７２］。この方法は、アクチュエータダイナミクスを反転するデジタルフィルタを構築するために、スペクトル特徴アクチュエータ１４０の動的モデルに依存する。所望のアクチュエータ軌道の所望の波形をこのフィルタに通すことにより、制御波形Ｒ（ｔ）をリアルタイムに生成して、定常状態誤差追跡ゼロを達成することができる。

[0091] 別の例として、制御波形Ｒ（ｔ）は、数回の学習の反復に渡っての誤差収束を保証する学習アルゴリズムを使用して、計算されることがある［１３７２］。

[0092] 制御波形Ｒ（ｔ）は、１０００フェムトメートル（ｆｍ）だけ分離した２つの別々の波長を、２０ｆｍ未満の分離誤差で潜在的に実現することができる。

[0093] 更なる例として、制御波形Ｒ（ｔ）は、フィードフォワード制御と繰り返し学習制御（ＩＬＣ）との組み合わせを使用して、計算されることがある［１３７２］。

[0094] 実施によっては、この計算において制約付きの二次計画法を使用して［１３７２］、実現可能な動作領域内の最適なフィードフォワード信号を見つけるのを支援することができる。

[0095] コントローラ９５０が（トリガー信号１０６４などから）トリガーパルスを受け取る［１３７３］場合、コントローラ９５０は、（アクチュエータ駆動モジュール９５２を介して）スペクトル特徴アクチュエータ１４０に、基準軌道Ｒ（ｔ）に従って動作するように指示する［１３７４］。コントローラ９５０は、（光源モジュール９５７を介して）光学装置１１０に、光ビーム９２０のパルスの生成を開始するようにも指示する。

[0096] コントローラ９５０は（スペクトル特徴モジュール９５１を介して）測定システム９１９の波長分析モジュールから光ビーム９２０の次のパルスの感知された波長を受け取り［１３７５］、スペクトル特徴モジュール９５１は、上述のように、感知された波長を分析して、測定されたスペクトル特徴が許容範囲内であるかどうかを判断する［１３７６］。スペクトル特徴モジュール９５１が、測定されたスペクトル特徴は許容範囲の外側であると判断した場合［１３７６］、波形モジュール９５６は、制御波形９５４を調整するように指示される［１３７７］。例えば、波形モジュール９５６は、基準軌道Ｒ（ｔ）の振幅、周波数、及び位相のうちの１つ又は複数を調整することがある。

[0097] 次に、コントローラ９５０は（予測モジュール９５８を介して）、アクチュエータセンサ９５５からスペクトル特徴アクチュエータ１４０の感知された１つ又は複数の態様を受け取り［１３７８］、（上述のように）この情報を分析して、スペクトル特徴アクチュエータ１４０が所望の状態にあるかどうかを判断する［１３７９］。予測モジュール９５８が、スペクトル特徴アクチュエータ１４０は所望の状態にはないと判断した場合［１３７９］、予測モジュール９５８は、波形モジュール９５６に、例えば、基準軌道Ｒ（ｔ）の振幅、周波数、及び位相のうちの１つ又は複数を調整することにより、制御波形９５４を調整するように指示する［１３８０］。

[0098] 次のトリガーパルスがまだ受け取られておらず［１３８１］、且つバーストの終わりではない［１３８２］限り、この手順はステップ１３７８に戻り、そこでは、コントローラ９５０は（予測モジュール９５８を介して）、アクチュエータセンサ９５５からスペクトル特徴アクチュエータ１４０の感知された１つ又は複数の態様を受け取る［１３７８］。上述のように、このループ（ステップ１３７８～１３８２）は、光ビーム９２０の２つのパルスが生成される間に、数回行われることがある。

[0099] 本発明の他の態様が、以下の番号付き条項に記載されている。
１． 光ビーム制御装置であって、
一組の異なる状態に関連付けられたスペクトル特徴アクチュエータであって、各状態は、光学装置に、光ビームの１つ又は複数のパルスを光ビームのスペクトル特徴の別々の値で生成させるように構成される、スペクトル特徴アクチュエータと、
スペクトル特徴アクチュエータと通信するコントローラであって、
スペクトル特徴アクチュエータに、制御波形に従って、一組の異なる状態の間を遷移させるように構成されたアクチュエータ駆動モジュール、
一組の別々の値の間の遷移を決定するスペクトル特徴アクチュエータの制御波形を計算するように構成された波形モジュール、及び
スペクトル特徴アクチュエータの１つ又は複数の感知された態様を受け取り、受け取られた感知された態様に基づいて、制御波形を調整するように波形モジュールに指示する、ように構成された予測モジュール、を含むコントローラと、を含む光ビーム制御装置。
２． スペクトル特徴アクチュエータの１つ又は複数の態様を感知するように構成されたアクチュエータセンサを更に含み、予測モジュールは、アクチュエータセンサと通信してスペクトル特徴アクチュエータの感知された態様を受け取る、条項１に記載の光ビーム制御装置。
３． コントローラは、基板にパターン付与するための光ビームを受け取るリソグラフィ露光装置によって要求されたパルス繰り返し率と相関がある周波数で、一組の異なる状態間でスペクトル特徴アクチュエータを駆動する、条項１に記載の光ビーム制御装置。
４． コントローラは、パルス繰り返し率よりも高い周波数で、一組の異なる状態間で、スペクトル特徴アクチュエータを駆動し、パルス繰り返し率は、光ビームの１つ又は複数のパルスが生成される率と一致する、条項１に記載の光ビーム制御装置。
５． コントローラは、リソグラフィモジュールであって、リソグラフィ露光装置と通信しており、リソグラフィ露光装置からパルス繰り返し率を受け取るように構成されたリソグラフィモジュールを含み、制御波形は、リソグラフィ露光装置から受け取られたパルス繰り返し率に基づいている、条項１に記載の光ビーム制御装置。
６． パルスが生成される度に、スペクトル特徴アクチュエータは異なる状態のうちの１つになり、光ビームパルスは、その異なる状態に対応するスペクトル特徴を有する、条項１に記載の光ビーム制御装置。
７． 光ビームのスペクトル特徴を感知するように構成された測定装置を更に含み、コントローラは、光ビームの感知されたスペクトル特徴を受け取り、感知されたスペクトル特徴を分析し、分析に基づいて制御波形を調整するように波形モジュールに指示する、ように構成されたスペクトル特徴モジュールを含む、条項１に記載の光ビーム制御装置。
８． スペクトル特徴モジュールは、比例－積分－微分制御、モデル予測制御、及びカルマンフィルタを用いた状態フィードバック、のうちの１つ又は複数を使用して、感知されたスペクトル特徴を分析するように構成される、条項７に記載の光ビーム制御装置。
９． スペクトル特徴モジュールは、感知されたスペクトル特徴をスペクトル特徴アクチュエータの推定状態に変換し、次いでスペクトル特徴アクチュエータのこの推定状態を制御波形の出力と比較することにより、感知されたスペクトル特徴を分析するように構成される、条項７に記載の光ビーム制御装置。
１０． スペクトル特徴アクチュエータは、光学装置のスペクトル特徴アジャスタの少なくとも１つの光学素子と連絡しており、少なくとも１つの光学素子は、光ビームと光学的に相互作用する、条項１に記載の光ビーム制御装置。
１１． スペクトル特徴アクチュエータの各異なる状態は、光学素子の別々の状態に対応する、条項１０に記載の光ビーム制御装置。
１２． 光学素子の別々の状態は、光学素子が光ビームと光学的に相互作用する別々の位置である、条項１１に記載の光ビーム制御装置。
１３． 光学素子は、光ビームが通過するプリズムを含む、条項１０に記載の光ビーム制御装置。
１４． スペクトル特徴アクチュエータは、少なくとも、プリズムに物理的に結合されたモーターを含み、モーターの動作は、プリズムの回転を引き起こす、条項１３に記載の光ビーム制御装置。
１５． スペクトル特徴アジャスタは、
光ビームと相互作用するように配置された分散光学素子と、
分散光学素子と光学装置の出力との間の光ビームの経路中に配置された複数のプリズムと、を含み、
スペクトル特徴アクチュエータと連絡している光学素子は、プリズム又は分散光学素子のうちの少なくとも１つである、条項１０に記載の光ビーム制御装置。
１６． スペクトル特徴アジャスタは、光学装置の第１のガス放電ステージによって生成されたシードパルス光ビームと光学的に相互作用する、条項１０に記載の光ビーム制御装置。
１７． 光ビームのスペクトル特徴は、光ビームの波長又は帯域幅である、条項１に記載の光ビーム制御装置。
１８． 制御波形は、周期的な駆動信号を含む、条項１に記載の光ビーム制御装置。
１９． 波形モジュールは、制御波形の周波数及び／又は位相のうちの１つ又は複数を調整することにより制御波形を調整するように構成される、条項１に記載の光ビーム制御装置。
２０． 波形モジュールは、
光ビームを受け取るリソグラフィ露光装置から出力されるトリガーから決定されるパルス繰り返し率と、
光ビームのスペクトル特徴の別々の値間のターゲット分離度と、
光ビームのスペクトル特徴の値が、スペクトル特徴アクチュエータの変化に応答して、どれ位変化するかを示す、感度指標と、に基づいて、制御波形を計算するように構成される、条項１に記載の光ビーム制御装置。
２１． 予測モジュールは、スペクトル特徴アクチュエータの受け取られた感知された態様を分析して、制御波形を調整するための波形モジュールへの指示を決定するように構成され、スペクトル特徴アクチュエータの受け取られた感知された態様の分析は、比例－積分－微分制御、モデル予測制御、及びカルマンフィルタを用いた状態フィードバック、のうちの１つ又は複数を含む、条項１に記載の光ビーム制御装置。
２２． 波形モジュールは、制御波形の軌道をリアルタイムに修正することにより、制御波形を調整する、条項２１に記載の光ビーム制御装置。
２３． 予測モジュールは、制御波形の周波数の少なくとも２倍、少なくとも３倍、又は少なくとも５倍の率で、スペクトル特徴アクチュエータの感知された態様を受け取り分析するように構成される、条項２１に記載の光ビーム制御装置。
２４． 制御波形は、スペクトル特徴アクチュエータを、状態周波数に従って別々の値の間で循環させ、予測モジュールは、状態周波数よりも高い更新周波数で波形モジュールへの調整を指示するように構成される、条項１に記載の光ビーム制御装置。
２５． 方法であって、
光ビームのパルスを生成することと、
パルスの生成中に、制御波形に従って一組の異なる状態間でスペクトル特徴アクチュエータを駆動することであって、パルスが生成される度に、スペクトル特徴アクチュエータが異なる状態のうちの１つになり、光ビームパルスがその異なる状態に対応するスペクトル特徴を有するように、異なる状態のそれぞれは、光ビームのスペクトル特徴の別々の値に対応することと、
パルスの生成間の合間に、スペクトル特徴アクチュエータの１つ又は複数の感知された態様に基づいて、制御波形を調整することと、を含む方法。
２６． スペクトル特徴アクチュエータの１つ又は複数の態様を感知することを更に含む、条項２５に記載の方法。
２７． 生成された光ビームパルスを受け取るように配置されたリソグラフィ露光装置からパルス繰り返し率を受け取ることを更に含み、制御波形は、パルス繰り返し率と相関のある周期構造を含む、条項２５に記載の方法。
２８． 光ビームの感知されたスペクトル特徴を受け取ることと、受け取られた感知されたスペクトル特徴に基づいて制御波形を調整することと、を更に含む、条項２５に記載の方法。
２９． 光ビームのスペクトル特徴は、光ビームの波長又は帯域幅である、条項２５に記載の方法。
３０． 制御波形は、周期的な駆動信号を含む、条項２５に記載の方法。
３１． スペクトル特徴アクチュエータの１つ又は複数の感知された態様に基づいて制御波形を調整することは、制御波形の周波数、振幅、及び位相のうちの１つ又は複数を調整することを含む、条項２５に記載の方法。
３２． 光ビームを受け取るリソグラフィ露光装置から出力されるトリガーから決定されるパルス繰り返し率と、
光ビームのスペクトル特徴の別々の値間のターゲット分離度と、
光ビームのスペクトル特徴の値が、スペクトル特徴アクチュエータの変化に応答して、どれ位変化するかを示す、感度指標と、のうちの１つ又は複数に基づいて、制御波形を計算することを更に含む、条項２５に記載の方法。
３３． 比例－積分－微分制御、モデル予測制御、及びカルマンフィルタを用いた状態フィードバック、のうちの１つ又は複数を実施することを含む、スペクトル特徴アクチュエータの１つ又は複数の感知された態様を分析することを更に含む、条項２５に記載の方法。
３４． スペクトル特徴アクチュエータの１つ又は複数の感知された態様に基づいて制御波形を調整することは、制御波形の軌道をリアルタイムで修正することを含む、条項２５に記載の方法。

[0100] 他の実施は、以下の特許請求の範囲内である。

Claims (20)

1. 光ビーム制御装置であって、
   一組の異なる状態に関連付けられたスペクトル特徴アクチュエータであって、各状態は、光学装置に、光ビームの１つ又は複数のパルスを前記光ビームのスペクトル特徴の別々の値で生成させるように構成される、スペクトル特徴アクチュエータと、
   前記スペクトル特徴アクチュエータと通信するコントローラであって、
   前記スペクトル特徴アクチュエータに、制御波形に従って、前記一組の異なる状態の間を遷移させるように構成されたアクチュエータ駆動モジュール、
   前記一組の別々の値の間の前記遷移を決定する前記スペクトル特徴アクチュエータの前記制御波形を計算するように構成された波形モジュール、及び
   前記光ビームが出力される前に予測補正を提供するように構成された予測モジュールであって、前記スペクトル特徴アクチュエータの１つ又は複数の感知された態様を受け取り、前記受け取られた感知された態様に基づいて、前記制御波形を調整するように前記波形モジュールに指示する、ように構成された予測モジュール、を含むコントローラと、を含む光ビーム制御装置。
2. 前記スペクトル特徴アクチュエータの１つ又は複数の態様を感知するように構成されたアクチュエータセンサを更に含み、前記予測モジュールは、前記アクチュエータセンサと通信して前記スペクトル特徴アクチュエータの前記感知された態様を受け取る、請求項１に記載の光ビーム制御装置。
3. 前記コントローラは、基板にパターン付与するための前記光ビームを受け取るリソグラフィ露光装置によって要求されたパルス繰り返し率と相関がある周波数で、前記一組の異なる状態間で前記スペクトル特徴アクチュエータを駆動する、請求項１に記載の光ビーム制御装置。
4. 前記光ビームのスペクトル特徴を感知するように構成された測定装置を更に含み、前記コントローラは、前記光ビームの前記感知されたスペクトル特徴を受け取り、前記感知されたスペクトル特徴を分析し、前記分析に基づいて前記制御波形を調整するように前記波形モジュールに指示する、ように構成されたスペクトル特徴モジュールを含む、請求項１に記載の光ビーム制御装置。
5. 前記スペクトル特徴モジュールは、比例－積分－微分制御、モデル予測制御、及びカルマンフィルタを用いた状態フィードバック、のうちの１つ又は複数を使用して、前記感知されたスペクトル特徴を分析するように構成される、請求項４に記載の光ビーム制御装置。
6. 光ビーム制御装置であって、
   一組の異なる状態に関連付けられたスペクトル特徴アクチュエータであって、各状態は、光学装置に、光ビームの１つ又は複数のパルスを前記光ビームのスペクトル特徴の別々の値で生成させるように構成される、スペクトル特徴アクチュエータと、
   前記スペクトル特徴アクチュエータと通信するコントローラであって、
   前記スペクトル特徴アクチュエータに、制御波形に従って、前記一組の異なる状態の間を遷移させるように構成されたアクチュエータ駆動モジュール、
   前記一組の別々の値の間の前記遷移を決定する前記スペクトル特徴アクチュエータの前記制御波形を計算するように構成された波形モジュール、及び
   前記スペクトル特徴アクチュエータの１つ又は複数の感知された態様を受け取り、前記受け取られた感知された態様に基づいて、前記制御波形を調整するように前記波形モジュールに指示する、ように構成された予測モジュール、を含むコントローラと、を含み、
   前記光ビームのスペクトル特徴を感知するように構成された測定装置を更に含み、前記コントローラは、前記光ビームの前記感知されたスペクトル特徴を受け取り、前記感知されたスペクトル特徴を分析し、前記分析に基づいて前記制御波形を調整するように前記波形モジュールに指示する、ように構成されたスペクトル特徴モジュールを含み、
   前記スペクトル特徴モジュールは、前記感知されたスペクトル特徴を前記スペクトル特徴アクチュエータの推定状態に変換し、次いで前記スペクトル特徴アクチュエータのこの推定状態を前記制御波形の出力と比較することにより、前記感知されたスペクトル特徴を分析するように構成される、光ビーム制御装置。
7. 前記スペクトル特徴アクチュエータは、前記光学装置のスペクトル特徴アジャスタの少なくとも１つの光学素子と連絡しており、前記少なくとも１つの光学素子は、前記光ビームと光学的に相互作用する、請求項１に記載の光ビーム制御装置。
8. 前記スペクトル特徴アクチュエータの各異なる状態は、前記光学素子の別々の状態に対応する、請求項７に記載の光ビーム制御装置。
9. 前記光学素子は、前記光ビームが通過するプリズムを含む、請求項７に記載の光ビーム制御装置。
10. 前記スペクトル特徴アジャスタは、
    前記光ビームと相互作用するように配置された分散光学素子と、
    前記分散光学素子と前記光学装置の出力との間の前記光ビームの経路中に配置された複数のプリズムと、を含み、
    前記スペクトル特徴アクチュエータと連絡している前記光学素子は、前記プリズム又は前記分散光学素子のうちの少なくとも１つである、請求項７に記載の光ビーム制御装置。
11. 前記スペクトル特徴アジャスタは、前記光学装置の第１のガス放電ステージによって生成されたシードパルス光ビームと光学的に相互作用する、請求項７に記載の光ビーム制御装置。
12. 光ビーム制御装置であって、
    一組の異なる状態に関連付けられたスペクトル特徴アクチュエータであって、各状態は、光学装置に、光ビームの１つ又は複数のパルスを前記光ビームのスペクトル特徴の別々の値で生成させるように構成される、スペクトル特徴アクチュエータと、
    前記スペクトル特徴アクチュエータと通信するコントローラであって、
    前記スペクトル特徴アクチュエータに、制御波形に従って、前記一組の異なる状態の間を遷移させるように構成されたアクチュエータ駆動モジュール、
    前記一組の別々の値の間の前記遷移を決定する前記スペクトル特徴アクチュエータの前記制御波形を計算するように構成された波形モジュール、及び
    前記スペクトル特徴アクチュエータの１つ又は複数の感知された態様を受け取り、前記受け取られた感知された態様に基づいて、前記制御波形を調整するように前記波形モジュールに指示する、ように構成された予測モジュール、を含むコントローラと、を含み、
    前記波形モジュールは、
    前記光ビームを受け取るリソグラフィ露光装置から出力されるトリガーから決定されるパルス繰り返し率と、
    前記光ビームの前記スペクトル特徴の前記別々の値間のターゲット分離度と、
    前記光ビームの前記スペクトル特徴の前記値が、前記スペクトル特徴アクチュエータの変化に応答して、どれ位変化するかを示す、感度指標と、に基づいて、前記制御波形を計算するように構成される、光ビーム制御装置。
13. 前記予測モジュールは、前記スペクトル特徴アクチュエータの前記受け取られた感知された態様を分析して、前記制御波形を調整するための前記波形モジュールへの前記指示を決定するように構成され、前記スペクトル特徴アクチュエータの前記受け取られた感知された態様の前記分析は、比例－積分－微分制御、モデル予測制御、及びカルマンフィルタを用いた状態フィードバック、のうちの１つ又は複数を含む、請求項１に記載の光ビーム制御装置。
14. 前記波形モジュールは、前記制御波形の軌道をリアルタイムに修正することにより、前記制御波形を調整する、請求項１３に記載の光ビーム制御装置。
15. 光ビーム制御装置であって、
    一組の異なる状態に関連付けられたスペクトル特徴アクチュエータであって、各状態は、光学装置に、光ビームの１つ又は複数のパルスを前記光ビームのスペクトル特徴の別々の値で生成させるように構成される、スペクトル特徴アクチュエータと、
    前記スペクトル特徴アクチュエータと通信するコントローラであって、
    前記スペクトル特徴アクチュエータに、制御波形に従って、前記一組の異なる状態の間を遷移させるように構成されたアクチュエータ駆動モジュール、
    前記一組の別々の値の間の前記遷移を決定する前記スペクトル特徴アクチュエータの前記制御波形を計算するように構成された波形モジュール、及び
    前記スペクトル特徴アクチュエータの１つ又は複数の感知された態様を受け取り、前記受け取られた感知された態様に基づいて、前記制御波形を調整するように前記波形モジュールに指示する、ように構成された予測モジュール、を含むコントローラと、を含み、
    前記制御波形は、前記スペクトル特徴アクチュエータを、状態周波数に従って前記別々の値の間で循環させ、前記予測モジュールは、前記状態周波数よりも高い更新周波数で前記波形モジュールへの前記調整を指示するように構成される、光ビーム制御装置。
16. 方法であって、
    光ビームのパルスを生成することと、
    前記パルスの生成中に、制御波形に従って一組の異なる状態間でスペクトル特徴アクチュエータを駆動することであって、パルスが生成される度に、前記スペクトル特徴アクチュエータが前記異なる状態のうちの１つになり、前記光ビームパルスがその異なる状態に対応するスペクトル特徴を有するように、前記異なる状態のそれぞれは、前記光ビームの前記スペクトル特徴の別々の値に対応することと、
    パルスの前記生成間の合間に、前記スペクトル特徴アクチュエータの１つ又は複数の感知された態様に基づいて、前記制御波形を調整することを含む、前記光ビームが出力される前に予測補正を提供することと、を含む方法。
17. 前記生成された光ビームパルスを受け取るように配置されたリソグラフィ露光装置からパルス繰り返し率を受け取ることを更に含み、前記制御波形は、前記パルス繰り返し率と相関のある周期構造を含む、請求項１６に記載の方法。
18. 前記光ビームの感知されたスペクトル特徴を受け取ることと、前記受け取られた感知されたスペクトル特徴に基づいて前記制御波形を調整することと、を更に含む、請求項１６に記載の方法。
19. 方法であって、
    光ビームのパルスを生成することと、
    前記パルスの生成中に、制御波形に従って一組の異なる状態間でスペクトル特徴アクチュエータを駆動することであって、パルスが生成される度に、前記スペクトル特徴アクチュエータが前記異なる状態のうちの１つになり、前記光ビームパルスがその異なる状態に対応するスペクトル特徴を有するように、前記異なる状態のそれぞれは、前記光ビームの前記スペクトル特徴の別々の値に対応することと、
    パルスの前記生成間の合間に、前記スペクトル特徴アクチュエータの１つ又は複数の感知された態様に基づいて、前記制御波形を調整することと、を含み、
    前記光ビームを受け取るリソグラフィ露光装置から出力されるトリガーから決定されるパルス繰り返し率と、
    前記光ビームの前記スペクトル特徴の前記別々の値間のターゲット分離度と、
    前記光ビームの前記スペクトル特徴の前記値が、前記スペクトル特徴アクチュエータの変化に応答して、どれ位変化するかを示す、感度指標と、のうちの１つ又は複数に基づいて、前記制御波形を計算することを更に含む、方法。
20. 比例－積分－微分制御、モデル予測制御、及びカルマンフィルタを用いた状態フィードバック、のうちの１つ又は複数を実施することを含む、前記スペクトル特徴アクチュエータの前記１つ又は複数の感知された態様を分析することを更に含む、請求項１６に記載の方法。

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