JP7394629B2 - Conjugated polymers, film-forming compositions, organic thin films, and organic semiconductor devices - Google Patents
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- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims description 181
- 229920000547 conjugated polymer Polymers 0.000 title claims description 93
- 239000010409 thin film Substances 0.000 title claims description 42
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 18
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 213
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 121
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 82
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 80
- 239000010408 film Substances 0.000 claims description 25
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 24
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 19
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 claims description 14
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 claims description 13
- 125000000304 alkynyl group Chemical group 0.000 claims description 13
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 claims description 12
- 229910052757 nitrogen Chemical group 0.000 claims description 12
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 claims description 8
- 150000001787 chalcogens Chemical group 0.000 claims description 7
- 125000001072 heteroaryl group Chemical group 0.000 claims description 7
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 claims description 7
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 claims description 7
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 claims description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 2
- -1 hentriacontyl group Chemical group 0.000 description 1353
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 426
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 258
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 203
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 197
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 190
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 130
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 114
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 95
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 86
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 78
- CXWXQJXEFPUFDZ-UHFFFAOYSA-N tetralin Chemical compound C1=CC=C2CCCCC2=C1 CXWXQJXEFPUFDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 75
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 72
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 71
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 71
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 67
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 61
- RFFLAFLAYFXFSW-UHFFFAOYSA-N 1,2-dichlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1Cl RFFLAFLAYFXFSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 60
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 60
- COIOYMYWGDAQPM-UHFFFAOYSA-N tris(2-methylphenyl)phosphane Chemical compound CC1=CC=CC=C1P(C=1C(=CC=CC=1)C)C1=CC=CC=C1C COIOYMYWGDAQPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 59
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 58
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 58
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 55
- 239000011572 manganese Substances 0.000 description 48
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 43
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 43
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 42
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 40
- 238000000944 Soxhlet extraction Methods 0.000 description 37
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 36
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 33
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 33
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 33
- MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N N-Butyllithium Chemical compound [Li]CCCC MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 32
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 30
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 30
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 30
- 125000001196 nonadecyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 30
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 30
- 239000000463 material Substances 0.000 description 29
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 29
- 125000000755 henicosyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 28
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 28
- PBKONEOXTCPAFI-UHFFFAOYSA-N 1,2,4-trichlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=C(Cl)C(Cl)=C1 PBKONEOXTCPAFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 27
- CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L Magnesium sulfate Chemical compound [Mg+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 27
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 27
- 125000001204 arachidyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 27
- HPALAKNZSZLMCH-UHFFFAOYSA-M sodium;chloride;hydrate Chemical class O.[Na+].[Cl-] HPALAKNZSZLMCH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 27
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonia chloride Chemical class [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 26
- LNAMMBFJMYMQTO-FNEBRGMMSA-N chloroform;(1e,4e)-1,5-diphenylpenta-1,4-dien-3-one;palladium Chemical compound [Pd].[Pd].ClC(Cl)Cl.C=1C=CC=CC=1\C=C\C(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1.C=1C=CC=CC=1\C=C\C(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1.C=1C=CC=CC=1\C=C\C(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1 LNAMMBFJMYMQTO-FNEBRGMMSA-N 0.000 description 26
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 26
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 26
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 24
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 23
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical group [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 22
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 21
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 21
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 21
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 21
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 20
- 238000010898 silica gel chromatography Methods 0.000 description 20
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 18
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 18
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 18
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 17
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 17
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 239000004210 ether based solvent Substances 0.000 description 16
- ZCSHNCUQKCANBX-UHFFFAOYSA-N lithium diisopropylamide Chemical compound [Li+].CC(C)[N-]C(C)C ZCSHNCUQKCANBX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N palladium;triphenylphosphane Chemical compound [Pd].C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 230000001376 precipitating effect Effects 0.000 description 16
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 239000002585 base Substances 0.000 description 15
- 239000000872 buffer Substances 0.000 description 15
- 239000003759 ester based solvent Substances 0.000 description 15
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 15
- KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N 1-Octanol Chemical compound CCCCCCCCO KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Chemical compound NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 14
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 14
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 14
- FKRCODPIKNYEAC-UHFFFAOYSA-N ethyl propionate Chemical compound CCOC(=O)CC FKRCODPIKNYEAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 238000000034 method Methods 0.000 description 14
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 14
- 150000003462 sulfoxides Chemical class 0.000 description 14
- IIYFAKIEWZDVMP-UHFFFAOYSA-N tridecane Chemical compound CCCCCCCCCCCCC IIYFAKIEWZDVMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- LYGJENNIWJXYER-UHFFFAOYSA-N nitromethane Chemical compound C[N+]([O-])=O LYGJENNIWJXYER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 13
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 12
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 12
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 12
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 12
- XMWRBQBLMFGWIX-UHFFFAOYSA-N C60 fullerene Chemical compound C12=C3C(C4=C56)=C7C8=C5C5=C9C%10=C6C6=C4C1=C1C4=C6C6=C%10C%10=C9C9=C%11C5=C8C5=C8C7=C3C3=C7C2=C1C1=C2C4=C6C4=C%10C6=C9C9=C%11C5=C5C8=C3C3=C7C1=C1C2=C4C6=C2C9=C5C3=C12 XMWRBQBLMFGWIX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 235000019270 ammonium chloride Nutrition 0.000 description 11
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 11
- 239000000284 extract Substances 0.000 description 11
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 11
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 11
- AVQQQNCBBIEMEU-UHFFFAOYSA-N 1,1,3,3-tetramethylurea Chemical compound CN(C)C(=O)N(C)C AVQQQNCBBIEMEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- WADSJYLPJPTMLN-UHFFFAOYSA-N 3-(cycloundecen-1-yl)-1,2-diazacycloundec-2-ene Chemical compound C1CCCCCCCCC=C1C1=NNCCCCCCCC1 WADSJYLPJPTMLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- PCLIMKBDDGJMGD-UHFFFAOYSA-N N-bromosuccinimide Chemical compound BrN1C(=O)CCC1=O PCLIMKBDDGJMGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M Sodium bicarbonate Chemical compound [Na+].OC([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 10
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 10
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 10
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 10
- SKTCDJAMAYNROS-UHFFFAOYSA-N methoxycyclopentane Chemical compound COC1CCCC1 SKTCDJAMAYNROS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N triphenylphosphine Chemical compound C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M Lithium hydroxide Chemical compound [Li+].[OH-] WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 9
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 9
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 9
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 9
- 238000004440 column chromatography Methods 0.000 description 9
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 9
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 9
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 9
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- MNALLGNMYJQSHP-UHFFFAOYSA-N 1,4-bis(5-bromothiophen-2-yl)-2,5-bis(2-hexyldecyl)pyrrolo[3,4-c]pyrrole-3,6-dione Chemical compound CCCCCCCCC(CCCCCC)CN1C(=O)C2=C(C=3SC(Br)=CC=3)N(CC(CCCCCC)CCCCCCCC)C(=O)C2=C1C1=CC=C(Br)S1 MNALLGNMYJQSHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 1-butoxybutane Chemical compound CCCCOCCCC DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- VRBFTYUMFJWSJY-UHFFFAOYSA-N 28804-46-8 Chemical compound ClC1CC(C=C2)=CC=C2C(Cl)CC2=CC=C1C=C2 VRBFTYUMFJWSJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000005456 alcohol based solvent Substances 0.000 description 8
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 8
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 8
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M hexanoate Chemical compound CCCCCC([O-])=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 8
- AUHZEENZYGFFBQ-UHFFFAOYSA-N mesitylene Substances CC1=CC(C)=CC(C)=C1 AUHZEENZYGFFBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 125000001827 mesitylenyl group Chemical group [H]C1=C(C(*)=C(C([H])=C1C([H])([H])[H])C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 8
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 8
- UUIQMZJEGPQKFD-UHFFFAOYSA-N n-butyric acid methyl ester Natural products CCCC(=O)OC UUIQMZJEGPQKFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 150000003606 tin compounds Chemical class 0.000 description 8
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical compound ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- SBLRHMKNNHXPHG-UHFFFAOYSA-N 4-fluoro-1,3-dioxolan-2-one Chemical compound FC1COC(=O)O1 SBLRHMKNNHXPHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229910021595 Copper(I) iodide Inorganic materials 0.000 description 7
- OIFBSDVPJOWBCH-UHFFFAOYSA-N Diethyl carbonate Chemical compound CCOC(=O)OCC OIFBSDVPJOWBCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N Diisopropyl ether Chemical compound CC(C)OC(C)C ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- KMTRUDSVKNLOMY-UHFFFAOYSA-N Ethylene carbonate Chemical compound O=C1OCCO1 KMTRUDSVKNLOMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- JGFBQFKZKSSODQ-UHFFFAOYSA-N Isothiocyanatocyclopropane Chemical compound S=C=NC1CC1 JGFBQFKZKSSODQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N Pentane Chemical compound CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 7
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- RHQDFWAXVIIEBN-UHFFFAOYSA-N Trifluoroethanol Chemical compound OCC(F)(F)F RHQDFWAXVIIEBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 150000001639 boron compounds Chemical class 0.000 description 7
- PWLNAUNEAKQYLH-UHFFFAOYSA-N butyric acid octyl ester Natural products CCCCCCCCOC(=O)CCC PWLNAUNEAKQYLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000004202 carbamide Substances 0.000 description 7
- LSXDOTMGLUJQCM-UHFFFAOYSA-M copper(i) iodide Chemical compound I[Cu] LSXDOTMGLUJQCM-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 7
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 7
- IEJIGPNLZYLLBP-UHFFFAOYSA-N dimethyl carbonate Chemical compound COC(=O)OC IEJIGPNLZYLLBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- GUVUOGQBMYCBQP-UHFFFAOYSA-N dmpu Chemical compound CN1CCCN(C)C1=O GUVUOGQBMYCBQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- JBTWLSYIZRCDFO-UHFFFAOYSA-N ethyl methyl carbonate Chemical compound CCOC(=O)OC JBTWLSYIZRCDFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 125000000457 gamma-lactone group Chemical group 0.000 description 7
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 7
- PIBWKRNGBLPSSY-UHFFFAOYSA-L palladium(II) chloride Chemical compound Cl[Pd]Cl PIBWKRNGBLPSSY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 7
- WVDDGKGOMKODPV-ZQBYOMGUSA-N phenyl(114C)methanol Chemical compound O[14CH2]C1=CC=CC=C1 WVDDGKGOMKODPV-ZQBYOMGUSA-N 0.000 description 7
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 7
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 7
- RUOJZAUFBMNUDX-UHFFFAOYSA-N propylene carbonate Chemical compound CC1COC(=O)O1 RUOJZAUFBMNUDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 7
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 7
- VJYJJHQEVLEOFL-UHFFFAOYSA-N thieno[3,2-b]thiophene Chemical group S1C=CC2=C1C=CS2 VJYJJHQEVLEOFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- OISVCGZHLKNMSJ-UHFFFAOYSA-N 2,6-dimethylpyridine Chemical compound CC1=CC=CC(C)=N1 OISVCGZHLKNMSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- JWUJQDFVADABEY-UHFFFAOYSA-N 2-methyltetrahydrofuran Chemical compound CC1CCCO1 JWUJQDFVADABEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- RJUFJBKOKNCXHH-UHFFFAOYSA-N Methyl propionate Chemical compound CCC(=O)OC RJUFJBKOKNCXHH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 6
- ZADPBFCGQRWHPN-UHFFFAOYSA-N boronic acid Chemical compound OBO ZADPBFCGQRWHPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N decane Chemical compound CCCCCCCCCC DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000000502 dialysis Methods 0.000 description 6
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 6
- 229910003472 fullerene Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 6
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 6
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 6
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 6
- RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K iron trichloride Chemical compound Cl[Fe](Cl)Cl RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 6
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 6
- 229940017219 methyl propionate Drugs 0.000 description 6
- XKBGEWXEAPTVCK-UHFFFAOYSA-M methyltrioctylammonium chloride Chemical compound [Cl-].CCCCCCCC[N+](C)(CCCCCCCC)CCCCCCCC XKBGEWXEAPTVCK-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 125000005447 octyloxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 6
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 6
- TYJJADVDDVDEDZ-UHFFFAOYSA-M potassium hydrogencarbonate Chemical compound [K+].OC([O-])=O TYJJADVDDVDEDZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 238000002953 preparative HPLC Methods 0.000 description 6
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 6
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 6
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 6
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 6
- CYPYTURSJDMMMP-WVCUSYJESA-N (1e,4e)-1,5-diphenylpenta-1,4-dien-3-one;palladium Chemical compound [Pd].[Pd].C=1C=CC=CC=1\C=C\C(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1.C=1C=CC=CC=1\C=C\C(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1.C=1C=CC=CC=1\C=C\C(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1 CYPYTURSJDMMMP-WVCUSYJESA-N 0.000 description 5
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 5
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N Thiophene Chemical group C=1C=CSC=1 YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 5
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 5
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 5
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 5
- YNESATAKKCNGOF-UHFFFAOYSA-N lithium bis(trimethylsilyl)amide Chemical compound [Li+].C[Si](C)(C)[N-][Si](C)(C)C YNESATAKKCNGOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 5
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 5
- 125000000913 palmityl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 5
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 5
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 5
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 5
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 5
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 5
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 5
- 229910000030 sodium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 5
- 235000017557 sodium bicarbonate Nutrition 0.000 description 5
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 5
- LVEYOSJUKRVCCF-UHFFFAOYSA-N 1,3-bis(diphenylphosphino)propane Chemical compound C=1C=CC=CC=1P(C=1C=CC=CC=1)CCCP(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 LVEYOSJUKRVCCF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000000175 2-thienyl group Chemical group S1C([*])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 4
- DFMPVYZMICAYCS-UHFFFAOYSA-N 3,6-dibromothieno[3,2-b]thiophene Chemical compound BrC1=CSC2=C1SC=C2Br DFMPVYZMICAYCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 4
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910021578 Iron(III) chloride Inorganic materials 0.000 description 4
- JGFZNNIVVJXRND-UHFFFAOYSA-N N,N-Diisopropylethylamine (DIPEA) Chemical compound CCN(C(C)C)C(C)C JGFZNNIVVJXRND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 4
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 4
- MUALRAIOVNYAIW-UHFFFAOYSA-N binap Chemical group C1=CC=CC=C1P(C=1C(=C2C=CC=CC2=CC=1)C=1C2=CC=CC=C2C=CC=1P(C=1C=CC=CC=1)C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 MUALRAIOVNYAIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- 230000005587 bubbling Effects 0.000 description 4
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 4
- 239000002026 chloroform extract Substances 0.000 description 4
- 229920001940 conductive polymer Polymers 0.000 description 4
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 4
- KVBKAPANDHPRDG-UHFFFAOYSA-N dibromotetrafluoroethane Chemical compound FC(F)(Br)C(F)(F)Br KVBKAPANDHPRDG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N hexamethyldisilazane Chemical compound C[Si](C)(C)N[Si](C)(C)C FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 4
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 4
- 150000007529 inorganic bases Chemical class 0.000 description 4
- 239000003446 ligand Substances 0.000 description 4
- 150000002641 lithium Chemical group 0.000 description 4
- ANYSGBYRTLOUPO-UHFFFAOYSA-N lithium tetramethylpiperidide Chemical compound [Li]N1C(C)(C)CCCC1(C)C ANYSGBYRTLOUPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KELHQGOVULCJSG-UHFFFAOYSA-N n,n-dimethyl-1-(5-methylfuran-2-yl)ethane-1,2-diamine Chemical compound CN(C)C(CN)C1=CC=C(C)O1 KELHQGOVULCJSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000001820 oxy group Chemical group [*:1]O[*:2] 0.000 description 4
- 150000003018 phosphorus compounds Chemical class 0.000 description 4
- 229920000052 poly(p-xylylene) Polymers 0.000 description 4
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 4
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 4
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 4
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 4
- NHGXDBSUJJNIRV-UHFFFAOYSA-M tetrabutylammonium chloride Chemical compound [Cl-].CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC NHGXDBSUJJNIRV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- PVQAASIVXYZXFF-UHFFFAOYSA-N thieno[3,2-b]thiophen-5-ylboronic acid Chemical compound S1C=CC2=C1C=C(B(O)O)S2 PVQAASIVXYZXFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- YWWDBCBWQNCYNR-UHFFFAOYSA-N trimethylphosphine Chemical compound CP(C)C YWWDBCBWQNCYNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VYXHVRARDIDEHS-UHFFFAOYSA-N 1,5-cyclooctadiene Chemical compound C1CC=CCCC=C1 VYXHVRARDIDEHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004912 1,5-cyclooctadiene Substances 0.000 description 3
- 125000004206 2,2,2-trifluoroethyl group Chemical group [H]C([H])(*)C(F)(F)F 0.000 description 3
- STTGYIUESPWXOW-UHFFFAOYSA-N 2,9-dimethyl-4,7-diphenyl-1,10-phenanthroline Chemical compound C=12C=CC3=C(C=4C=CC=CC=4)C=C(C)N=C3C2=NC(C)=CC=1C1=CC=CC=C1 STTGYIUESPWXOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MFGOFGRYDNHJTA-UHFFFAOYSA-N 2-amino-1-(2-fluorophenyl)ethanol Chemical compound NCC(O)C1=CC=CC=C1F MFGOFGRYDNHJTA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BCJVBDBJSMFBRW-UHFFFAOYSA-N 4-diphenylphosphanylbutyl(diphenyl)phosphane Chemical compound C=1C=CC=CC=1P(C=1C=CC=CC=1)CCCCP(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 BCJVBDBJSMFBRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 101150003085 Pdcl gene Proteins 0.000 description 3
- 229920002319 Poly(methyl acrylate) Polymers 0.000 description 3
- 239000004695 Polyether sulfone Substances 0.000 description 3
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 3
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical group [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000005055 alkyl alkoxy group Chemical group 0.000 description 3
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 3
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 3
- JFDZBHWFFUWGJE-UHFFFAOYSA-N benzonitrile Chemical compound N#CC1=CC=CC=C1 JFDZBHWFFUWGJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 3
- TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N caesium atom Chemical group [Cs] TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- FJDQFPXHSGXQBY-UHFFFAOYSA-L caesium carbonate Chemical compound [Cs+].[Cs+].[O-]C([O-])=O FJDQFPXHSGXQBY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- 229910000024 caesium carbonate Inorganic materials 0.000 description 3
- HUCVOHYBFXVBRW-UHFFFAOYSA-M caesium hydroxide Inorganic materials [OH-].[Cs+] HUCVOHYBFXVBRW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 3
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 3
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 3
- 125000006165 cyclic alkyl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000003963 dichloro group Chemical group Cl* 0.000 description 3
- 239000000539 dimer Substances 0.000 description 3
- HPYNZHMRTTWQTB-UHFFFAOYSA-N dimethylpyridine Natural products CC1=CC=CN=C1C HPYNZHMRTTWQTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 3
- GPAYUJZHTULNBE-UHFFFAOYSA-N diphenylphosphine Chemical compound C=1C=CC=CC=1PC1=CC=CC=C1 GPAYUJZHTULNBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 3
- 150000002366 halogen compounds Chemical class 0.000 description 3
- 125000003707 hexyloxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 3
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 3
- JJNVAYCGZVUOFH-UHFFFAOYSA-N iridium;methanol Chemical compound [Ir].OC JJNVAYCGZVUOFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MPOOBUXJJDKJOG-UHFFFAOYSA-M lithium;chloride;hydrochloride Chemical compound [Li+].Cl.[Cl-] MPOOBUXJJDKJOG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 125000002960 margaryl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- HZVOZRGWRWCICA-UHFFFAOYSA-N methanediyl Chemical class [CH2] HZVOZRGWRWCICA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000001421 myristyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 3
- 125000002465 nonacosyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 150000007530 organic bases Chemical class 0.000 description 3
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 3
- YJVFFLUZDVXJQI-UHFFFAOYSA-L palladium(ii) acetate Chemical compound [Pd+2].CC([O-])=O.CC([O-])=O YJVFFLUZDVXJQI-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- JGBZTJWQMWZVNX-UHFFFAOYSA-N palladium;tricyclohexylphosphane Chemical compound [Pd].C1CCCCC1P(C1CCCCC1)C1CCCCC1.C1CCCCC1P(C1CCCCC1)C1CCCCC1 JGBZTJWQMWZVNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MXQOYLRVSVOCQT-UHFFFAOYSA-N palladium;tritert-butylphosphane Chemical compound [Pd].CC(C)(C)P(C(C)(C)C)C(C)(C)C.CC(C)(C)P(C(C)(C)C)C(C)(C)C MXQOYLRVSVOCQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000002958 pentadecyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 3
- 229920001467 poly(styrenesulfonates) Polymers 0.000 description 3
- 229920000767 polyaniline Polymers 0.000 description 3
- 229920006393 polyether sulfone Polymers 0.000 description 3
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 3
- CUQOHAYJWVTKDE-UHFFFAOYSA-N potassium;butan-1-olate Chemical compound [K+].CCCC[O-] CUQOHAYJWVTKDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 3
- 125000002572 propoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 3
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000001226 reprecipitation Methods 0.000 description 3
- 229910052701 rubidium Inorganic materials 0.000 description 3
- IGLNJRXAVVLDKE-UHFFFAOYSA-N rubidium atom Chemical group [Rb] IGLNJRXAVVLDKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 3
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 3
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 3
- 235000011121 sodium hydroxide Nutrition 0.000 description 3
- AKHNMLFCWUSKQB-UHFFFAOYSA-L sodium thiosulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=S AKHNMLFCWUSKQB-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- 235000019345 sodium thiosulphate Nutrition 0.000 description 3
- SYXYWTXQFUUWLP-UHFFFAOYSA-N sodium;butan-1-olate Chemical compound [Na+].CCCC[O-] SYXYWTXQFUUWLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000001544 thienyl group Chemical group 0.000 description 3
- RMVRSNDYEFQCLF-UHFFFAOYSA-N thiophenol Chemical compound SC1=CC=CC=C1 RMVRSNDYEFQCLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 3
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WLPUWLXVBWGYMZ-UHFFFAOYSA-N tricyclohexylphosphine Chemical compound C1CCCCC1P(C1CCCCC1)C1CCCCC1 WLPUWLXVBWGYMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- IMNIMPAHZVJRPE-UHFFFAOYSA-N triethylenediamine Chemical compound C1CN2CCN1CC2 IMNIMPAHZVJRPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- INHYKPMJJAWZKY-UHFFFAOYSA-N trimethyl-[5-[4-(5-trimethylstannylthiophen-2-yl)-2,1,3-benzothiadiazol-7-yl]thiophen-2-yl]stannane Chemical compound S1C([Sn](C)(C)C)=CC=C1C(C1=NSN=C11)=CC=C1C1=CC=C([Sn](C)(C)C)S1 INHYKPMJJAWZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BWHDROKFUHTORW-UHFFFAOYSA-N tritert-butylphosphane Chemical compound CC(C)(C)P(C(C)(C)C)C(C)(C)C BWHDROKFUHTORW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UKSZBOKPHAQOMP-SVLSSHOZSA-N (1e,4e)-1,5-diphenylpenta-1,4-dien-3-one;palladium Chemical compound [Pd].C=1C=CC=CC=1\C=C\C(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1.C=1C=CC=CC=1\C=C\C(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1 UKSZBOKPHAQOMP-SVLSSHOZSA-N 0.000 description 2
- PEZNEXFPRSOYPL-UHFFFAOYSA-N (bis(trifluoroacetoxy)iodo)benzene Chemical compound FC(F)(F)C(=O)OI(OC(=O)C(F)(F)F)C1=CC=CC=C1 PEZNEXFPRSOYPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KZPYGQFFRCFCPP-UHFFFAOYSA-N 1,1'-bis(diphenylphosphino)ferrocene Chemical compound [Fe+2].C1=CC=C[C-]1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=C[C-]1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 KZPYGQFFRCFCPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QPFMBZIOSGYJDE-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2-tetrachloroethane Chemical compound ClC(Cl)C(Cl)Cl QPFMBZIOSGYJDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XGCDBGRZEKYHNV-UHFFFAOYSA-N 1,1-bis(diphenylphosphino)methane Chemical compound C=1C=CC=CC=1P(C=1C=CC=CC=1)CP(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 XGCDBGRZEKYHNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QFMZQPDHXULLKC-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(diphenylphosphino)ethane Chemical compound C=1C=CC=CC=1P(C=1C=CC=CC=1)CCP(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 QFMZQPDHXULLKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WJUKOGPNGRUXMG-UHFFFAOYSA-N 1,2-dibromo-1,1,2,2-tetrachloroethane Chemical compound ClC(Cl)(Br)C(Cl)(Cl)Br WJUKOGPNGRUXMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WNXJIVFYUVYPPR-UHFFFAOYSA-N 1,3-dioxolane Chemical group C1COCO1 WNXJIVFYUVYPPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MULORLONPRJAON-UHFFFAOYSA-N 1,4-bis(5-bromothiophen-2-yl)-2,5-bis(2-octyldodecyl)pyrrolo[3,4-c]pyrrole-3,6-dione Chemical compound CCCCCCCCCCC(CCCCCCCC)CN1C(=O)C2=C(C=3SC(Br)=CC=3)N(CC(CCCCCCCC)CCCCCCCCCC)C(=O)C2=C1C1=CC=C(Br)S1 MULORLONPRJAON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IVKPEQAIHJWGGT-UHFFFAOYSA-N 1,4-dibromo-2,5-diiodobenzene Chemical compound BrC1=CC(I)=C(Br)C=C1I IVKPEQAIHJWGGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OCJBOOLMMGQPQU-UHFFFAOYSA-N 1,4-dichlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=C(Cl)C=C1 OCJBOOLMMGQPQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HZNVUJQVZSTENZ-UHFFFAOYSA-N 2,3-dichloro-5,6-dicyano-1,4-benzoquinone Chemical compound ClC1=C(Cl)C(=O)C(C#N)=C(C#N)C1=O HZNVUJQVZSTENZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JGFXUYLYPITYGR-UHFFFAOYSA-N 2-(2-diphenylphosphanylphenyl)-n,n-dimethylaniline Chemical group CN(C)C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 JGFXUYLYPITYGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FVKFHMNJTHKMRX-UHFFFAOYSA-N 3,4,6,7,8,9-hexahydro-2H-pyrimido[1,2-a]pyrimidine Chemical compound C1CCN2CCCNC2=N1 FVKFHMNJTHKMRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZFMZIVKXDPTWBS-UHFFFAOYSA-N 4,7-bis(5-bromo-4-dodecylthiophen-2-yl)-2,1,3-benzothiadiazole Chemical compound S1C(Br)=C(CCCCCCCCCCCC)C=C1C(C1=NSN=C11)=CC=C1C1=CC(CCCCCCCCCCCC)=C(Br)S1 ZFMZIVKXDPTWBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FEOWHLLJXAECMU-UHFFFAOYSA-N 4,7-dibromo-2,1,3-benzothiadiazole Chemical compound BrC1=CC=C(Br)C2=NSN=C12 FEOWHLLJXAECMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DHDHJYNTEFLIHY-UHFFFAOYSA-N 4,7-diphenyl-1,10-phenanthroline Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC=NC2=C1C=CC1=C(C=3C=CC=CC=3)C=CN=C21 DHDHJYNTEFLIHY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001316 Ag alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920002284 Cellulose triacetate Polymers 0.000 description 2
- QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N Ethylamine Chemical compound CCN QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N Ethylbenzene Chemical compound CCC1=CC=CC=C1 YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001218 Gallium arsenide Inorganic materials 0.000 description 2
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000846 In alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- OKIZCWYLBDKLSU-UHFFFAOYSA-M N,N,N-Trimethylmethanaminium chloride Chemical compound [Cl-].C[N+](C)(C)C OKIZCWYLBDKLSU-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- AMQJEAYHLZJPGS-UHFFFAOYSA-N N-Pentanol Chemical compound CCCCCO AMQJEAYHLZJPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JRNVZBWKYDBUCA-UHFFFAOYSA-N N-chlorosuccinimide Chemical compound ClN1C(=O)CCC1=O JRNVZBWKYDBUCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LQZMLBORDGWNPD-UHFFFAOYSA-N N-iodosuccinimide Chemical compound IN1C(=O)CCC1=O LQZMLBORDGWNPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QZUPHAGRBBOLTB-UHFFFAOYSA-N NSC 244302 Chemical compound C=1C=CC=CC=1P(C(C)(C)C)C1=CC=CC=C1 QZUPHAGRBBOLTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001665 Poly-4-vinylphenol Polymers 0.000 description 2
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 2
- 239000004734 Polyphenylene sulfide Substances 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N Trifluoroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(F)(F)F DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 2
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N [(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-diacetyloxy-3-[(2s,3r,4s,5r,6r)-3,4,5-triacetyloxy-6-(acetyloxymethyl)oxan-2-yl]oxy-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-triacetyloxy-2-(acetyloxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-2-yl]methyl acetate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@@H](COC(C)=O)O1)OC(C)=O)COC(=O)C)[C@@H]1[C@@H](COC(C)=O)O[C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N 0.000 description 2
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 2
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 description 2
- VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K aluminium trichloride Chemical compound Cl[Al](Cl)Cl VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 2
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 2
- RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N anisole Chemical compound COC1=CC=CC=C1 RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002511 behenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- HTZCNXWZYVXIMZ-UHFFFAOYSA-M benzyl(triethyl)azanium;chloride Chemical compound [Cl-].CC[N+](CC)(CC)CC1=CC=CC=C1 HTZCNXWZYVXIMZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- YNHIGQDRGKUECZ-UHFFFAOYSA-L bis(triphenylphosphine)palladium(ii) dichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Pd+2].C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 YNHIGQDRGKUECZ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000004063 butyryl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- UHYPYGJEEGLRJD-UHFFFAOYSA-N cadmium(2+);selenium(2-) Chemical compound [Se-2].[Cd+2] UHYPYGJEEGLRJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000011088 calibration curve Methods 0.000 description 2
- 125000003901 ceryl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- KWTSZCJMWHGPOS-UHFFFAOYSA-M chloro(trimethyl)stannane Chemical compound C[Sn](C)(C)Cl KWTSZCJMWHGPOS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- GBRBMTNGQBKBQE-UHFFFAOYSA-L copper;diiodide Chemical compound I[Cu]I GBRBMTNGQBKBQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000012043 crude product Substances 0.000 description 2
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 2
- USVZFSNDGFNNJT-UHFFFAOYSA-N cyclopenta-1,4-dien-1-yl(diphenyl)phosphane (2,3-dichlorocyclopenta-1,4-dien-1-yl)-diphenylphosphane iron(2+) Chemical compound [Fe++].c1cc[c-](c1)P(c1ccccc1)c1ccccc1.Clc1c(cc[c-]1Cl)P(c1ccccc1)c1ccccc1 USVZFSNDGFNNJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 2
- HXWGXXDEYMNGCT-UHFFFAOYSA-M decyl(trimethyl)azanium;chloride Chemical compound [Cl-].CCCCCCCCCC[N+](C)(C)C HXWGXXDEYMNGCT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 2
- 239000012973 diazabicyclooctane Substances 0.000 description 2
- 229940117389 dichlorobenzene Drugs 0.000 description 2
- NQKXFODBPINZFK-UHFFFAOYSA-N dioxotantalum Chemical compound O=[Ta]=O NQKXFODBPINZFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N diphenyl Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CNXMDTWQWLGCPE-UHFFFAOYSA-N ditert-butyl-(2-phenylphenyl)phosphane Chemical group CC(C)(C)P(C(C)(C)C)C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 CNXMDTWQWLGCPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 229920001038 ethylene copolymer Polymers 0.000 description 2
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 2
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 2
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 2
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 2
- 125000000268 heptanoyl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000003187 heptyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- ZSIAUFGUXNUGDI-UHFFFAOYSA-N hexan-1-ol Chemical compound CCCCCCO ZSIAUFGUXNUGDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003104 hexanoyl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- SHFJWMWCIHQNCP-UHFFFAOYSA-M hydron;tetrabutylazanium;sulfate Chemical compound OS([O-])(=O)=O.CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC SHFJWMWCIHQNCP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 description 2
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 2
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000002463 lignoceryl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- KWGKDLIKAYFUFQ-UHFFFAOYSA-M lithium chloride Chemical compound [Li+].[Cl-] KWGKDLIKAYFUFQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- UBJFKNSINUCEAL-UHFFFAOYSA-N lithium;2-methylpropane Chemical compound [Li+].C[C-](C)C UBJFKNSINUCEAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WGOPGODQLGJZGL-UHFFFAOYSA-N lithium;butane Chemical compound [Li+].CC[CH-]C WGOPGODQLGJZGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DVSDBMFJEQPWNO-UHFFFAOYSA-N methyllithium Chemical compound C[Li] DVSDBMFJEQPWNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JKQOBWVOAYFWKG-UHFFFAOYSA-N molybdenum trioxide Chemical compound O=[Mo](=O)=O JKQOBWVOAYFWKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002819 montanyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000001802 myricyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 150000002829 nitrogen Chemical group 0.000 description 2
- 125000001400 nonyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- FTMKAMVLFVRZQX-UHFFFAOYSA-N octadecylphosphonic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCP(O)(O)=O FTMKAMVLFVRZQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N octane Chemical compound CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002801 octanoyl group Chemical group C(CCCCCCC)(=O)* 0.000 description 2
- NJGCRMAPOWGWMW-UHFFFAOYSA-N octylphosphonic acid Chemical compound CCCCCCCCP(O)(O)=O NJGCRMAPOWGWMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 2
- BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);tantalum(5+) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ta+5].[Ta+5] BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SOQBVABWOPYFQZ-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);titanium(4+) Chemical class [O-2].[O-2].[Ti+4] SOQBVABWOPYFQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002940 palladium Chemical class 0.000 description 2
- PENAXHPKEVTBLF-UHFFFAOYSA-L palladium(2+);prop-1-ene;dichloride Chemical class [Pd+]Cl.[Pd+]Cl.[CH2-]C=C.[CH2-]C=C PENAXHPKEVTBLF-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- GPNDARIEYHPYAY-UHFFFAOYSA-N palladium(ii) nitrate Chemical compound [Pd+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O GPNDARIEYHPYAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002460 pentacosyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 2
- 239000003444 phase transfer catalyst Substances 0.000 description 2
- 229920003207 poly(ethylene-2,6-naphthalate) Polymers 0.000 description 2
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 description 2
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 2
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 2
- 239000011112 polyethylene naphthalate Substances 0.000 description 2
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 2
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 2
- 229920000069 polyphenylene sulfide Polymers 0.000 description 2
- 229920000123 polythiophene Polymers 0.000 description 2
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 2
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 2
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 2
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001501 propionyl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- LEHBURLTIWGHEM-UHFFFAOYSA-N pyridinium chlorochromate Chemical compound [O-][Cr](Cl)(=O)=O.C1=CC=[NH+]C=C1 LEHBURLTIWGHEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010791 quenching Methods 0.000 description 2
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000004436 sodium atom Chemical group 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 125000004079 stearyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 2
- PBCFLUZVCVVTBY-UHFFFAOYSA-N tantalum pentoxide Inorganic materials O=[Ta](=O)O[Ta](=O)=O PBCFLUZVCVVTBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- CIHOLLKRGTVIJN-UHFFFAOYSA-N tert‐butyl hydroperoxide Chemical compound CC(C)(C)OO CIHOLLKRGTVIJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MRYQZMHVZZSQRT-UHFFFAOYSA-M tetramethylazanium;acetate Chemical compound CC([O-])=O.C[N+](C)(C)C MRYQZMHVZZSQRT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229930192474 thiophene Natural products 0.000 description 2
- GQUJEMVIKWQAEH-UHFFFAOYSA-N titanium(III) oxide Chemical compound O=[Ti]O[Ti]=O GQUJEMVIKWQAEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 2
- TUQOTMZNTHZOKS-UHFFFAOYSA-N tributylphosphine Chemical compound CCCCP(CCCC)CCCC TUQOTMZNTHZOKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FMYXZXAKZWIOHO-UHFFFAOYSA-N trichloro(2-phenylethyl)silane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)CCC1=CC=CC=C1 FMYXZXAKZWIOHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PYJJCSYBSYXGQQ-UHFFFAOYSA-N trichloro(octadecyl)silane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC[Si](Cl)(Cl)Cl PYJJCSYBSYXGQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RCHUVCPBWWSUMC-UHFFFAOYSA-N trichloro(octyl)silane Chemical compound CCCCCCCC[Si](Cl)(Cl)Cl RCHUVCPBWWSUMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002469 tricosyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000002889 tridecyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- KAAYGTMPJQOOGY-UHFFFAOYSA-N tris(2,5-dimethylphenyl)phosphane Chemical compound CC1=CC=C(C)C(P(C=2C(=CC=C(C)C=2)C)C=2C(=CC=C(C)C=2)C)=C1 KAAYGTMPJQOOGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DLQYXUGCCKQSRJ-UHFFFAOYSA-N tris(furan-2-yl)phosphane Chemical compound C1=COC(P(C=2OC=CC=2)C=2OC=CC=2)=C1 DLQYXUGCCKQSRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002948 undecyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 2
- 125000003774 valeryl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- CXNIUSPIQKWYAI-UHFFFAOYSA-N xantphos Chemical compound C=12OC3=C(P(C=4C=CC=CC=4)C=4C=CC=CC=4)C=CC=C3C(C)(C)C2=CC=CC=1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 CXNIUSPIQKWYAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 2
- YVTHLONGBIQYBO-UHFFFAOYSA-N zinc indium(3+) oxygen(2-) Chemical compound [O--].[Zn++].[In+3] YVTHLONGBIQYBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 2
- JRTIUDXYIUKIIE-KZUMESAESA-N (1z,5z)-cycloocta-1,5-diene;nickel Chemical compound [Ni].C\1C\C=C/CC\C=C/1.C\1C\C=C/CC\C=C/1 JRTIUDXYIUKIIE-KZUMESAESA-N 0.000 description 1
- WVDCLFVDCBDGPC-UHFFFAOYSA-N (2,2-dichloro-1-diphenylphosphanylpropyl)-diphenylphosphane Chemical compound ClC(C(P(C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1)P(C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1)(C)Cl WVDCLFVDCBDGPC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UBKCMQCDHVYUAF-UHFFFAOYSA-N (2,2-dichloro-3-diphenylphosphanylpropyl)-diphenylphosphane Chemical compound ClC(CP(C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1)(CP(C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1)Cl UBKCMQCDHVYUAF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CSPHGSFZFWKVDL-UHFFFAOYSA-M (3-chloro-2-hydroxypropyl)-trimethylazanium;chloride Chemical compound [Cl-].C[N+](C)(C)CC(O)CCl CSPHGSFZFWKVDL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- NNJRPZZMNBNRFJ-UHFFFAOYSA-N (3-ethoxy-3-oxo-2-phenylpropyl)azanium;chloride Chemical compound Cl.CCOC(=O)C(CN)C1=CC=CC=C1 NNJRPZZMNBNRFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DIJCUJJYNKHAJY-UHFFFAOYSA-N (4,5-dibenzoyloxy-3-fluoro-6-methoxyoxan-2-yl)methyl benzoate Chemical compound FC1C(OC(=O)C=2C=CC=CC=2)C(OC(=O)C=2C=CC=CC=2)C(OC)OC1COC(=O)C1=CC=CC=C1 DIJCUJJYNKHAJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QPZPQFBDNWCSGA-UHFFFAOYSA-N (5-bromo-3-oxo-1lambda3,2-benziodoxol-1-yl) acetate Chemical compound C(C)(=O)OI1OC(C2=C1C=CC(=C2)Br)=O QPZPQFBDNWCSGA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MIOPJNTWMNEORI-GMSGAONNSA-N (S)-camphorsulfonic acid Chemical compound C1C[C@@]2(CS(O)(=O)=O)C(=O)C[C@@H]1C2(C)C MIOPJNTWMNEORI-GMSGAONNSA-N 0.000 description 1
- POILWHVDKZOXJZ-ARJAWSKDSA-M (z)-4-oxopent-2-en-2-olate Chemical class C\C([O-])=C\C(C)=O POILWHVDKZOXJZ-ARJAWSKDSA-M 0.000 description 1
- UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 1,1,1-trichloroethane Chemical compound CC(Cl)(Cl)Cl UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 1,1-Dichloroethane Chemical compound CC(Cl)Cl SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CKJCTZAIDVFHCX-UHFFFAOYSA-N 1,10-diiododecane Chemical compound ICCCCCCCCCCI CKJCTZAIDVFHCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FNQJDLTXOVEEFB-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-benzothiadiazole Chemical compound C1=CC=C2SN=NC2=C1 FNQJDLTXOVEEFB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYCIHDBIKGRENI-UHFFFAOYSA-N 1,3-bis[2,6-di(propan-2-yl)phenyl]-2h-imidazol-1-ium-2-ide Chemical group CC(C)C1=CC=CC(C(C)C)=C1N1C=CN(C=2C(=CC=CC=2C(C)C)C(C)C)[C]1 VYCIHDBIKGRENI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVCBYFZCUVYBPP-UHFFFAOYSA-N 1,4-bis(5-bromothiophen-2-yl)-2,5-dioctylpyrrolo[3,4-c]pyrrole-3,6-dione Chemical compound CCCCCCCCN1C(=O)C2=C(C=3SC(Br)=CC=3)N(CCCCCCCC)C(=O)C2=C1C1=CC=C(Br)S1 LVCBYFZCUVYBPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXZSCWQHNVBVFS-UHFFFAOYSA-N 1,4-dibromo-2,5-bis[4-(2-decyltetradecoxy)phenyl]benzene Chemical group BrC1=C(C=C(C(=C1)C1=CC=C(C=C1)OCC(CCCCCCCCCCCC)CCCCCCCCCC)Br)C1=CC=C(C=C1)OCC(CCCCCCCCCCCC)CCCCCCCCCC XXZSCWQHNVBVFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ROUYUBHVBIKMQO-UHFFFAOYSA-N 1,4-diiodobutane Chemical compound ICCCCI ROUYUBHVBIKMQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QLIMAARBRDAYGQ-UHFFFAOYSA-N 1,6-diiodohexane Chemical compound ICCCCCCI QLIMAARBRDAYGQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PGTWZHXOSWQKCY-UHFFFAOYSA-N 1,8-Octanedithiol Chemical compound SCCCCCCCCS PGTWZHXOSWQKCY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OTCQGJASYOVVCB-UHFFFAOYSA-M 1-(2,2-dimethylpropyl)-n,n-dimethylpyridin-1-ium-4-amine;chloride Chemical compound [Cl-].CN(C)C1=CC=[N+](CC(C)(C)C)C=C1 OTCQGJASYOVVCB-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- IANQTJSKSUMEQM-UHFFFAOYSA-N 1-benzofuran Chemical group C1=CC=C2OC=CC2=C1 IANQTJSKSUMEQM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004973 1-butenyl group Chemical group C(=CCC)* 0.000 description 1
- 125000004972 1-butynyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C#C* 0.000 description 1
- JTPNRXUCIXHOKM-UHFFFAOYSA-N 1-chloronaphthalene Chemical compound C1=CC=C2C(Cl)=CC=CC2=C1 JTPNRXUCIXHOKM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RKAMCQVGHFRILV-UHFFFAOYSA-N 1-chlorononane Chemical compound CCCCCCCCCCl RKAMCQVGHFRILV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006039 1-hexenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000006023 1-pentenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000006017 1-propenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000530 1-propynyl group Chemical group [H]C([H])([H])C#C* 0.000 description 1
- UVAMFBJPMUMURT-UHFFFAOYSA-N 2,3,4,5,6-pentafluorobenzenethiol Chemical compound FC1=C(F)C(F)=C(S)C(F)=C1F UVAMFBJPMUMURT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GQHTUMJGOHRCHB-UHFFFAOYSA-N 2,3,4,6,7,8,9,10-octahydropyrimido[1,2-a]azepine Chemical compound C1CCCCN2CCCN=C21 GQHTUMJGOHRCHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZPEAXUUOTZDLNC-UHFFFAOYSA-N 2,3-dimethyl-n,n-diphenylaniline Chemical compound CC1=CC=CC(N(C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC=CC=2)=C1C ZPEAXUUOTZDLNC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZFFMLCVRJBZUDZ-UHFFFAOYSA-N 2,3-dimethylbutane Chemical group CC(C)C(C)C ZFFMLCVRJBZUDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GANNWZMKHSEFOU-UHFFFAOYSA-N 2,3-dimethylbutane-2,3-diol;propan-2-yloxyboronic acid Chemical compound CC(C)OB(O)O.CC(C)(O)C(C)(C)O GANNWZMKHSEFOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KLGFLRLLTLZESG-UHFFFAOYSA-N 2,4,6-tris(aziridin-1-yl)-5-chloropyrimidine Chemical compound ClC1=C(N2CC2)N=C(N2CC2)N=C1N1CC1 KLGFLRLLTLZESG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NWYYWIJOWOLJNR-UHFFFAOYSA-N 2-Amino-3-methyl-1-butanol Chemical compound CC(C)C(N)CO NWYYWIJOWOLJNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FBPINGSGHKXIQA-UHFFFAOYSA-N 2-amino-3-(2-carboxyethylsulfanyl)propanoic acid Chemical compound OC(=O)C(N)CSCCC(O)=O FBPINGSGHKXIQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YTVQIZRDLKWECQ-UHFFFAOYSA-N 2-benzoylcyclohexan-1-one Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1CCCCC1=O YTVQIZRDLKWECQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QVFHQENRNSAHEK-UHFFFAOYSA-M 2-benzoyloxyethyl(trimethyl)azanium;chloride Chemical compound [Cl-].C[N+](C)(C)CCOC(=O)C1=CC=CC=C1 QVFHQENRNSAHEK-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- XILQCEGWGBSDSH-UHFFFAOYSA-M 2-benzoyloxyethyl(trimethyl)azanium;iodide Chemical compound [I-].C[N+](C)(C)CCOC(=O)C1=CC=CC=C1 XILQCEGWGBSDSH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- OINMNSFDYTYXEQ-UHFFFAOYSA-M 2-bromoethyl(trimethyl)azanium;bromide Chemical compound [Br-].C[N+](C)(C)CCBr OINMNSFDYTYXEQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- TUCRZHGAIRVWTI-UHFFFAOYSA-N 2-bromothiophene Chemical compound BrC1=CC=CS1 TUCRZHGAIRVWTI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004974 2-butenyl group Chemical group C(C=CC)* 0.000 description 1
- 125000000069 2-butynyl group Chemical group [H]C([H])([H])C#CC([H])([H])* 0.000 description 1
- BVKRDNIULHRLCO-UHFFFAOYSA-N 2-carboxyethyl(triphenyl)phosphanium;bromide Chemical compound [Br-].C=1C=CC=CC=1[P+](C=1C=CC=CC=1)(CCC(=O)O)C1=CC=CC=C1 BVKRDNIULHRLCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LDJXFZUGZASGIW-UHFFFAOYSA-L 2-diphenylphosphanylethyl(diphenyl)phosphane;palladium(2+);dichloride Chemical compound Cl[Pd]Cl.C=1C=CC=CC=1P(C=1C=CC=CC=1)CCP(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 LDJXFZUGZASGIW-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002941 2-furyl group Chemical group O1C([*])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000006040 2-hexenyl group Chemical group 0.000 description 1
- WFUGQJXVXHBTEM-UHFFFAOYSA-N 2-hydroperoxy-2-(2-hydroperoxybutan-2-ylperoxy)butane Chemical compound CCC(C)(OO)OOC(C)(CC)OO WFUGQJXVXHBTEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001763 2-hydroxyethyl(trimethyl)azanium Substances 0.000 description 1
- 125000006024 2-pentenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001494 2-propynyl group Chemical group [H]C#CC([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004105 2-pyridyl group Chemical group N1=C([*])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- FRIBMENBGGCKPD-UHFFFAOYSA-N 3-(2,3-dimethoxyphenyl)prop-2-enal Chemical compound COC1=CC=CC(C=CC=O)=C1OC FRIBMENBGGCKPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004975 3-butenyl group Chemical group C(CC=C)* 0.000 description 1
- 125000000474 3-butynyl group Chemical group [H]C#CC([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- NHQDETIJWKXCTC-UHFFFAOYSA-N 3-chloroperbenzoic acid Chemical compound OOC(=O)C1=CC=CC(Cl)=C1 NHQDETIJWKXCTC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BHNRGBRMCNHNQD-UHFFFAOYSA-N 3-cyanobenzenesulfonyl chloride Chemical compound ClS(=O)(=O)C1=CC=CC(C#N)=C1 BHNRGBRMCNHNQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006041 3-hexenyl group Chemical group 0.000 description 1
- DHWADSHFLSDMBJ-UHFFFAOYSA-N 4,7-bis(4,4,5,5-tetramethyl-1,3,2-dioxaborolan-2-yl)-2,1,3-benzothiadiazole Chemical compound O1C(C)(C)C(C)(C)OB1C(C1=NSN=C11)=CC=C1B1OC(C)(C)C(C)(C)O1 DHWADSHFLSDMBJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZIIMIGRZSUYQGW-UHFFFAOYSA-N 4,7-bis(5-bromothiophen-2-yl)-2,1,3-benzothiadiazole Chemical compound S1C(Br)=CC=C1C(C1=NSN=C11)=CC=C1C1=CC=C(Br)S1 ZIIMIGRZSUYQGW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KPXJKVVGOPZOPK-UHFFFAOYSA-N 4,7-bis(5-bromothiophen-2-yl)-2-octylbenzotriazole Chemical compound C12=NN(CCCCCCCC)N=C2C(C=2SC(Br)=CC=2)=CC=C1C1=CC=C(Br)S1 KPXJKVVGOPZOPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CMSGUKVDXXTJDQ-UHFFFAOYSA-N 4-(2-naphthalen-1-ylethylamino)-4-oxobutanoic acid Chemical compound C1=CC=C2C(CCNC(=O)CCC(=O)O)=CC=CC2=C1 CMSGUKVDXXTJDQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006042 4-hexenyl group Chemical group 0.000 description 1
- LVUBSVWMOWKPDJ-UHFFFAOYSA-N 4-methoxy-1,2-dimethylbenzene Chemical compound COC1=CC=C(C)C(C)=C1 LVUBSVWMOWKPDJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- REAVCZWUMGIGSW-UHFFFAOYSA-M 4-methylbenzenesulfonate;tetrabutylazanium Chemical compound CC1=CC=C(S([O-])(=O)=O)C=C1.CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC REAVCZWUMGIGSW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- QKFFSWPNFCXGIQ-UHFFFAOYSA-M 4-methylbenzenesulfonate;tetraethylazanium Chemical compound CC[N+](CC)(CC)CC.CC1=CC=C(S([O-])(=O)=O)C=C1 QKFFSWPNFCXGIQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- VHJFWJXYEWHCGD-UHFFFAOYSA-N 4-nonyl-2-(4-nonylpyridin-2-yl)pyridine Chemical group CCCCCCCCCC1=CC=NC(C=2N=CC=C(CCCCCCCCC)C=2)=C1 VHJFWJXYEWHCGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LGCBVEQNSDSLIH-UHFFFAOYSA-N 4-pyridin-3-ylbutanal Chemical compound O=CCCCC1=CC=CN=C1 LGCBVEQNSDSLIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006043 5-hexenyl group Chemical group 0.000 description 1
- CMNQIVHHHBBVSC-UHFFFAOYSA-N 5-hydroxy-3,4-dihydro-2h-isoquinolin-1-one Chemical compound O=C1NCCC2=C1C=CC=C2O CMNQIVHHHBBVSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VFZQATFTQAZCMO-UHFFFAOYSA-N 6-chlorochromen-4-one Chemical compound O1C=CC(=O)C2=CC(Cl)=CC=C21 VFZQATFTQAZCMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UPMCDOMOBNMTPH-UHFFFAOYSA-N 6-phenyl-5,6-dihydroimidazo[2,1-b][1,3]thiazole Chemical compound N1=C2SC=CN2CC1C1=CC=CC=C1 UPMCDOMOBNMTPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005725 8-Hydroxyquinoline Substances 0.000 description 1
- 239000005964 Acibenzolar-S-methyl Substances 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- BTBUEUYNUDRHOZ-UHFFFAOYSA-N Borate Chemical compound [O-]B([O-])[O-] BTBUEUYNUDRHOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M Bromide Chemical compound [Br-] CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910004613 CdTe Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 description 1
- CXRFDZFCGOPDTD-UHFFFAOYSA-M Cetrimide Chemical compound [Br-].CCCCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)C CXRFDZFCGOPDTD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- LZZYPRNAOMGNLH-UHFFFAOYSA-M Cetrimonium bromide Chemical compound [Br-].CCCCCCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)C LZZYPRNAOMGNLH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 235000019743 Choline chloride Nutrition 0.000 description 1
- QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N Copper oxide Chemical compound [Cu]=O QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005751 Copper oxide Substances 0.000 description 1
- 229910021594 Copper(II) fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N Dodecane Natural products CCCCCCCCCCCC SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000219 Ethylene vinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 229910052693 Europium Inorganic materials 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- QZRGKCOWNLSUDK-UHFFFAOYSA-N Iodochlorine Chemical compound ICl QZRGKCOWNLSUDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002841 Lewis acid Substances 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000861 Mg alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- LFTLOKWAGJYHHR-UHFFFAOYSA-N N-methylmorpholine N-oxide Chemical compound CN1(=O)CCOCC1 LFTLOKWAGJYHHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930192627 Naphthoquinone Natural products 0.000 description 1
- 229910021586 Nickel(II) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 description 1
- 229920000144 PEDOT:PSS Polymers 0.000 description 1
- 239000002033 PVDF binder Substances 0.000 description 1
- 239000004696 Poly ether ether ketone Substances 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000004697 Polyetherimide Substances 0.000 description 1
- 229920000292 Polyquinoline Polymers 0.000 description 1
- 229910052772 Samarium Inorganic materials 0.000 description 1
- BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N Selenium Chemical group [Se] BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- QYTDEUPAUMOIOP-UHFFFAOYSA-N TEMPO Chemical compound CC1(C)CCCC(C)(C)N1[O] QYTDEUPAUMOIOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052771 Terbium Inorganic materials 0.000 description 1
- AVRWEULSKHQETA-UHFFFAOYSA-N Thiophene-2 Chemical compound S1C=2CCCCCC=2C(C(=O)OC)=C1NC(=O)C1=C(F)C(F)=C(F)C(F)=C1F AVRWEULSKHQETA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HEDRZPFGACZZDS-MICDWDOJSA-N Trichloro(2H)methane Chemical class [2H]C(Cl)(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-MICDWDOJSA-N 0.000 description 1
- 229910052769 Ytterbium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021536 Zeolite Inorganic materials 0.000 description 1
- NJSSICCENMLTKO-HRCBOCMUSA-N [(1r,2s,4r,5r)-3-hydroxy-4-(4-methylphenyl)sulfonyloxy-6,8-dioxabicyclo[3.2.1]octan-2-yl] 4-methylbenzenesulfonate Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1S(=O)(=O)O[C@H]1C(O)[C@@H](OS(=O)(=O)C=2C=CC(C)=CC=2)[C@@H]2OC[C@H]1O2 NJSSICCENMLTKO-HRCBOCMUSA-N 0.000 description 1
- OQWAXRPJEPTTSZ-UHFFFAOYSA-N [(2,3,4,5,6-pentafluorophenyl)-(2,2,2-trifluoroacetyl)oxy-$l^{3}-iodanyl] 2,2,2-trifluoroacetate Chemical compound FC1=C(F)C(F)=C(I(OC(=O)C(F)(F)F)OC(=O)C(F)(F)F)C(F)=C1F OQWAXRPJEPTTSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IGLKEXXECLLIAD-UHFFFAOYSA-L [1,3-bis[2,6-di(propan-2-yl)phenyl]imidazol-2-ylidene]-triphenyl-$l^{5}-phosphane;dichloronickel Chemical compound Cl[Ni]Cl.CC(C)C1=CC=CC(C(C)C)=C1N(C=CN1C=2C(=CC=CC=2C(C)C)C(C)C)C1=P(C=1C=CC=CC=1)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 IGLKEXXECLLIAD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- XXMOZDBOAIICDA-UHFFFAOYSA-N [4,8-bis(2-ethylhexoxy)-2-trimethylstannylthieno[2,3-f][1]benzothiol-6-yl]-trimethylstannane Chemical compound CCCCC(CC)COC1=C2C=C([Sn](C)(C)C)SC2=C(OCC(CC)CCCC)C2=C1SC([Sn](C)(C)C)=C2 XXMOZDBOAIICDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ULGYAEQHFNJYML-UHFFFAOYSA-N [AlH3].[Ca] Chemical compound [AlH3].[Ca] ULGYAEQHFNJYML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PKINRUTUIQQMLY-UHFFFAOYSA-L [Cr](=O)(=O)(O)F.N1=CC=CC=C1 Chemical compound [Cr](=O)(=O)(O)F.N1=CC=CC=C1 PKINRUTUIQQMLY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- JFBZPFYRPYOZCQ-UHFFFAOYSA-N [Li].[Al] Chemical compound [Li].[Al] JFBZPFYRPYOZCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JHYLKGDXMUDNEO-UHFFFAOYSA-N [Mg].[In] Chemical compound [Mg].[In] JHYLKGDXMUDNEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XHCLAFWTIXFWPH-UHFFFAOYSA-N [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[V+5].[V+5] Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[V+5].[V+5] XHCLAFWTIXFWPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZBIKORITPGTTGI-UHFFFAOYSA-N [acetyloxy(phenyl)-$l^{3}-iodanyl] acetate Chemical compound CC(=O)OI(OC(C)=O)C1=CC=CC=C1 ZBIKORITPGTTGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LRIUKPUCKCECPT-UHFFFAOYSA-N [hydroxy(phenyl)-$l^{3}-iodanyl] 4-methylbenzenesulfonate Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1S(=O)(=O)OI(O)C1=CC=CC=C1 LRIUKPUCKCECPT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 1
- 150000001242 acetic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- VPNCTSRXJAONGB-UHFFFAOYSA-N acetic acid;2-iodo-1,3,5-trimethylbenzene Chemical compound CC(O)=O.CC(O)=O.CC1=CC(C)=C(I)C(C)=C1 VPNCTSRXJAONGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RBYGDVHOECIAFC-UHFFFAOYSA-L acetonitrile;palladium(2+);dichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Pd+2].CC#N.CC#N RBYGDVHOECIAFC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 125000002777 acetyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 1
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- SNAAJJQQZSMGQD-UHFFFAOYSA-N aluminum magnesium Chemical compound [Mg].[Al] SNAAJJQQZSMGQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940072049 amyl acetate Drugs 0.000 description 1
- PGMYKACGEOXYJE-UHFFFAOYSA-N anhydrous amyl acetate Natural products CCCCCOC(C)=O PGMYKACGEOXYJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Natural products CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004056 anthraquinones Chemical class 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- SFXINVPZIZMFHM-UHFFFAOYSA-N azadol(r) Chemical compound C1C(C2)CC3CC1N(O)C2C3 SFXINVPZIZMFHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000498 ball milling Methods 0.000 description 1
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 description 1
- DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N barium atom Chemical compound [Ba] DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002113 barium titanate Inorganic materials 0.000 description 1
- JRPBQTZRNDNNOP-UHFFFAOYSA-N barium titanate Chemical compound [Ba+2].[Ba+2].[O-][Ti]([O-])([O-])[O-] JRPBQTZRNDNNOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960000686 benzalkonium chloride Drugs 0.000 description 1
- KHSLHYAUZSPBIU-UHFFFAOYSA-M benzododecinium bromide Chemical compound [Br-].CCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)CC1=CC=CC=C1 KHSLHYAUZSPBIU-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- KCXMKQUNVWSEMD-UHFFFAOYSA-N benzyl chloride Chemical compound ClCC1=CC=CC=C1 KCXMKQUNVWSEMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- CADWTSSKOVRVJC-UHFFFAOYSA-N benzyl(dimethyl)azanium;chloride Chemical compound [Cl-].C[NH+](C)CC1=CC=CC=C1 CADWTSSKOVRVJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UDYGXWPMSJPFDG-UHFFFAOYSA-M benzyl(tributyl)azanium;bromide Chemical compound [Br-].CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CC1=CC=CC=C1 UDYGXWPMSJPFDG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- VJGNLOIQCWLBJR-UHFFFAOYSA-M benzyl(tributyl)azanium;chloride Chemical compound [Cl-].CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CC1=CC=CC=C1 VJGNLOIQCWLBJR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- CHQVQXZFZHACQQ-UHFFFAOYSA-M benzyl(triethyl)azanium;bromide Chemical compound [Br-].CC[N+](CC)(CC)CC1=CC=CC=C1 CHQVQXZFZHACQQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- FKPSBYZGRQJIMO-UHFFFAOYSA-M benzyl(triethyl)azanium;hydroxide Chemical compound [OH-].CC[N+](CC)(CC)CC1=CC=CC=C1 FKPSBYZGRQJIMO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- UUZYBYIOAZTMGC-UHFFFAOYSA-M benzyl(trimethyl)azanium;bromide Chemical compound [Br-].C[N+](C)(C)CC1=CC=CC=C1 UUZYBYIOAZTMGC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- KXHPPCXNWTUNSB-UHFFFAOYSA-M benzyl(trimethyl)azanium;chloride Chemical compound [Cl-].C[N+](C)(C)CC1=CC=CC=C1 KXHPPCXNWTUNSB-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- ORJHCWPHEPKXRE-UHFFFAOYSA-M benzyl-dodecyl-dimethylazanium;chloride;dihydrate Chemical compound O.O.[Cl-].CCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)CC1=CC=CC=C1 ORJHCWPHEPKXRE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- AJQWOUVFEBQHAN-UHFFFAOYSA-M benzyl-hexadecyl-dimethylazanium;chloride;hydrate Chemical compound O.[Cl-].CCCCCCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)CC1=CC=CC=C1 AJQWOUVFEBQHAN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- PPDJNZTUDFPAHX-UHFFFAOYSA-N benzyltrimethylammonium dichloroiodate Chemical compound Cl[I-]Cl.C[N+](C)(C)CC1=CC=CC=C1 PPDJNZTUDFPAHX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 1
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 1
- IPWKHHSGDUIRAH-UHFFFAOYSA-N bis(pinacolato)diboron Chemical compound O1C(C)(C)C(C)(C)OB1B1OC(C)(C)C(C)(C)O1 IPWKHHSGDUIRAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002115 bismuth titanate Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 1
- WTEOIRVLGSZEPR-UHFFFAOYSA-N boron trifluoride Chemical compound FB(F)F WTEOIRVLGSZEPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001642 boronic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001649 bromium compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000001246 bromo group Chemical group Br* 0.000 description 1
- ODWXUNBKCRECNW-UHFFFAOYSA-M bromocopper(1+) Chemical compound Br[Cu+] ODWXUNBKCRECNW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000001273 butane Substances 0.000 description 1
- 125000004106 butoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 1
- XUPYJHCZDLZNFP-UHFFFAOYSA-N butyl butanoate Chemical compound CCCCOC(=O)CCC XUPYJHCZDLZNFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052792 caesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 1
- AIXAANGOTKPUOY-UHFFFAOYSA-N carbachol Chemical compound [Cl-].C[N+](C)(C)CCOC(N)=O AIXAANGOTKPUOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960004484 carbachol Drugs 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021393 carbon nanotube Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002041 carbon nanotube Substances 0.000 description 1
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 150000004653 carbonic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 1
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 1
- XMPZTFVPEKAKFH-UHFFFAOYSA-P ceric ammonium nitrate Chemical compound [NH4+].[NH4+].[Ce+4].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O XMPZTFVPEKAKFH-UHFFFAOYSA-P 0.000 description 1
- ZMIGMASIKSOYAM-UHFFFAOYSA-N cerium Chemical compound [Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce] ZMIGMASIKSOYAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WOWHHFRSBJGXCM-UHFFFAOYSA-M cetyltrimethylammonium chloride Chemical compound [Cl-].CCCCCCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)C WOWHHFRSBJGXCM-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- UHZZMRAGKVHANO-UHFFFAOYSA-M chlormequat chloride Chemical compound [Cl-].C[N+](C)(C)CCCl UHZZMRAGKVHANO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- SGMZJAMFUVOLNK-UHFFFAOYSA-M choline chloride Chemical compound [Cl-].C[N+](C)(C)CCO SGMZJAMFUVOLNK-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229960003178 choline chloride Drugs 0.000 description 1
- 239000003426 co-catalyst Substances 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 150000001879 copper Chemical class 0.000 description 1
- 229910000431 copper oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M copper(1+);methylsulfanylmethane;bromide Chemical compound Br[Cu].CSC PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L copper(II) chloride Chemical compound Cl[Cu]Cl ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- GWFAVIIMQDUCRA-UHFFFAOYSA-L copper(ii) fluoride Chemical compound [F-].[F-].[Cu+2] GWFAVIIMQDUCRA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- RLPXAKVDWHODPX-UHFFFAOYSA-N cyclohexane;ethene Chemical group C=C.C1CCCCC1 RLPXAKVDWHODPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001934 cyclohexanes Chemical class 0.000 description 1
- HPXRVTGHNJAIIH-UHFFFAOYSA-N cyclohexanol Chemical compound OC1CCCCC1 HPXRVTGHNJAIIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HHNHBFLGXIUXCM-GFCCVEGCSA-N cyclohexylbenzene Chemical compound [CH]1CCCC[C@@H]1C1=CC=CC=C1 HHNHBFLGXIUXCM-GFCCVEGCSA-N 0.000 description 1
- 125000002933 cyclohexyloxy group Chemical group C1(CCCCC1)O* 0.000 description 1
- QNUPENXMUJPLDQ-UHFFFAOYSA-M cyclopenta-1,3-diene;cyclopenta-1,3-dien-1-ylmethyl(trimethyl)azanium;iron(2+);bromide Chemical compound [Fe+2].[Br-].C=1C=C[CH-]C=1.C[N+](C)(C)CC1=CC=C[CH-]1 QNUPENXMUJPLDQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000001887 cyclopentyloxy group Chemical group C1(CCCC1)O* 0.000 description 1
- 229950000405 decamethonium Drugs 0.000 description 1
- 125000003074 decanoyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 1
- KQAHMVLQCSALSX-UHFFFAOYSA-N decyl(trimethoxy)silane Chemical compound CCCCCCCCCC[Si](OC)(OC)OC KQAHMVLQCSALSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DZQISOJKASMITI-UHFFFAOYSA-N decyl-dioxido-oxo-$l^{5}-phosphane;hydron Chemical compound CCCCCCCCCCP(O)(O)=O DZQISOJKASMITI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006612 decyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- PLMFYJJFUUUCRZ-UHFFFAOYSA-M decyltrimethylammonium bromide Chemical compound [Br-].CCCCCCCCCC[N+](C)(C)C PLMFYJJFUUUCRZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- NKLCNNUWBJBICK-UHFFFAOYSA-N dess–martin periodinane Chemical compound C1=CC=C2I(OC(=O)C)(OC(C)=O)(OC(C)=O)OC(=O)C2=C1 NKLCNNUWBJBICK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- LSXWFXONGKSEMY-UHFFFAOYSA-N di-tert-butyl peroxide Chemical compound CC(C)(C)OOC(C)(C)C LSXWFXONGKSEMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- LCSNDSFWVKMJCT-UHFFFAOYSA-N dicyclohexyl-(2-phenylphenyl)phosphane Chemical group C1CCCCC1P(C=1C(=CC=CC=1)C=1C=CC=CC=1)C1CCCCC1 LCSNDSFWVKMJCT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UMGXUWVIJIQANV-UHFFFAOYSA-M didecyl(dimethyl)azanium;bromide Chemical compound [Br-].CCCCCCCCCC[N+](C)(C)CCCCCCCCCC UMGXUWVIJIQANV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- XRWMGCFJVKDVMD-UHFFFAOYSA-M didodecyl(dimethyl)azanium;bromide Chemical compound [Br-].CCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)CCCCCCCCCCCC XRWMGCFJVKDVMD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- WLCFKPHMRNPAFZ-UHFFFAOYSA-M didodecyl(dimethyl)azanium;chloride Chemical compound [Cl-].CCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)CCCCCCCCCCCC WLCFKPHMRNPAFZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000004177 diethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- VIXPKJNAOIWFMW-UHFFFAOYSA-M dihexadecyl(dimethyl)azanium;bromide Chemical compound [Br-].CCCCCCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)CCCCCCCCCCCCCCCC VIXPKJNAOIWFMW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- MSSPASWTWTZPQU-UHFFFAOYSA-M dimethyl(dioctadecyl)azanium;iodide Chemical compound [I-].CCCCCCCCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)CCCCCCCCCCCCCCCCCC MSSPASWTWTZPQU-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- IRMGVPILCPGYNQ-UHFFFAOYSA-M dimethyl-di(tetradecyl)azanium;bromide Chemical compound [Br-].CCCCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)CCCCCCCCCCCCCC IRMGVPILCPGYNQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- REZZEXDLIUJMMS-UHFFFAOYSA-M dimethyldioctadecylammonium chloride Chemical compound [Cl-].CCCCCCCCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)CCCCCCCCCCCCCCCCCC REZZEXDLIUJMMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- XJWSAJYUBXQQDR-UHFFFAOYSA-M dodecyltrimethylammonium bromide Chemical compound [Br-].CCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)C XJWSAJYUBXQQDR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 description 1
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 1
- LYMHIBZGTAPASQ-UHFFFAOYSA-N ethcathinone Chemical compound CCNC(C)C(=O)C1=CC=CC=C1 LYMHIBZGTAPASQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VUFOSBDICLTFMS-UHFFFAOYSA-M ethyl-hexadecyl-dimethylazanium;bromide Chemical compound [Br-].CCCCCCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)CC VUFOSBDICLTFMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229920000840 ethylene tetrafluoroethylene copolymer Polymers 0.000 description 1
- 239000005038 ethylene vinyl acetate Substances 0.000 description 1
- ZPEBBUBSCOELHI-UHFFFAOYSA-M ethyltrimethylammonium iodide Chemical compound [I-].CC[N+](C)(C)C ZPEBBUBSCOELHI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000002534 ethynyl group Chemical group [H]C#C* 0.000 description 1
- OGPBJKLSAFTDLK-UHFFFAOYSA-N europium atom Chemical compound [Eu] OGPBJKLSAFTDLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005669 field effect Effects 0.000 description 1
- 150000008376 fluorenones Chemical class 0.000 description 1
- QEWYKACRFQMRMB-UHFFFAOYSA-M fluoroacetate Chemical compound [O-]C(=O)CF QEWYKACRFQMRMB-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000003784 fluoroethyl group Chemical group [H]C([H])(F)C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000002485 formyl group Chemical group [H]C(*)=O 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-L fumarate(2-) Chemical compound [O-]C(=O)\C=C\C([O-])=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-L 0.000 description 1
- 229910021389 graphene Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007646 gravure printing Methods 0.000 description 1
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000002818 heptacosyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- MNWFXJYAOYHMED-UHFFFAOYSA-M heptanoate Chemical compound CCCCCCC([O-])=O MNWFXJYAOYHMED-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000005446 heptyloxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- JYVPKRHOTGQJSE-UHFFFAOYSA-M hexyl(trimethyl)azanium;bromide Chemical compound [Br-].CCCCCC[N+](C)(C)C JYVPKRHOTGQJSE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- DKAGJZJALZXOOV-UHFFFAOYSA-N hydrate;hydrochloride Chemical compound O.Cl DKAGJZJALZXOOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical compound I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MWSPFHZPVVWJCO-UHFFFAOYSA-M hydron;methyl(trioctyl)azanium;sulfate Chemical compound OS([O-])(=O)=O.CCCCCCCC[N+](C)(CCCCCCCC)CCCCCCCC MWSPFHZPVVWJCO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- ZHBDKVWQJKYIFF-UHFFFAOYSA-M hydron;tetrabutylazanium;difluoride Chemical compound F.[F-].CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC ZHBDKVWQJKYIFF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- RULHPTADXJPDSN-UHFFFAOYSA-M hydron;tetrahexylazanium;sulfate Chemical compound OS([O-])(=O)=O.CCCCCC[N+](CCCCCC)(CCCCCC)CCCCCC RULHPTADXJPDSN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- RCBVKBFIWMOMHF-UHFFFAOYSA-L hydroxy-(hydroxy(dioxo)chromio)oxy-dioxochromium;pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1.C1=CC=NC=C1.O[Cr](=O)(=O)O[Cr](O)(=O)=O RCBVKBFIWMOMHF-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- JCYWCSGERIELPG-UHFFFAOYSA-N imes Chemical group CC1=CC(C)=CC(C)=C1N1C=CN(C=2C(=CC(C)=CC=2C)C)[C]1 JCYWCSGERIELPG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LHJOPRPDWDXEIY-UHFFFAOYSA-N indium lithium Chemical compound [Li].[In] LHJOPRPDWDXEIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YZASAXHKAQYPEH-UHFFFAOYSA-N indium silver Chemical compound [Ag].[In] YZASAXHKAQYPEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RHZWSUVWRRXEJF-UHFFFAOYSA-N indium tin Chemical compound [In].[Sn] RHZWSUVWRRXEJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003387 indolinyl group Chemical group N1(CCC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 238000009830 intercalation Methods 0.000 description 1
- 230000002687 intercalation Effects 0.000 description 1
- 150000004694 iodide salts Chemical class 0.000 description 1
- PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N iodine Chemical compound II PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MGFYSGNNHQQTJW-UHFFFAOYSA-N iodonium Chemical compound [IH2+] MGFYSGNNHQQTJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JYJVVHFRSFVEJM-UHFFFAOYSA-N iodosobenzene Chemical compound O=IC1=CC=CC=C1 JYJVVHFRSFVEJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002503 iridium Chemical class 0.000 description 1
- 125000003253 isopropoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(O*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000400 lauroyl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000007517 lewis acids Chemical class 0.000 description 1
- GCICAPWZNUIIDV-UHFFFAOYSA-N lithium magnesium Chemical compound [Li].[Mg] GCICAPWZNUIIDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002521 macromolecule Polymers 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- SJCKRGFTWFGHGZ-UHFFFAOYSA-N magnesium silver Chemical compound [Mg].[Ag] SJCKRGFTWFGHGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ULKSWZAXQDJMJT-UHFFFAOYSA-M magnesium;2,2,6,6-tetramethylpiperidin-1-ide;chloride Chemical compound [Cl-].CC1(C)CCCC(C)(C)N1[Mg+] ULKSWZAXQDJMJT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- FODOUIXGKGNSMR-UHFFFAOYSA-L magnesium;2-oxidooxycarbonylbenzoate;hexahydrate Chemical compound O.O.O.O.O.O.[Mg+2].[O-]OC(=O)C1=CC=CC=C1C([O-])=O FODOUIXGKGNSMR-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L manganese(2+);methyl n-[[2-(methoxycarbonylcarbamothioylamino)phenyl]carbamothioyl]carbamate;n-[2-(sulfidocarbothioylamino)ethyl]carbamodithioate Chemical compound [Mn+2].[S-]C(=S)NCCNC([S-])=S.COC(=O)NC(=S)NC1=CC=CC=C1NC(=S)NC(=O)OC WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 229910001510 metal chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 1
- UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N methoxybenzene Substances CCCCOC=C UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004184 methoxymethyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC([H])([H])* 0.000 description 1
- SYCUTYNFOZSYJF-UHFFFAOYSA-N methyl 3-piperazin-1-ylbenzoate Chemical compound COC(=O)C1=CC=CC(N2CCNCC2)=C1 SYCUTYNFOZSYJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GICWIDZXWJGTCI-UHFFFAOYSA-I molybdenum pentachloride Chemical compound Cl[Mo](Cl)(Cl)(Cl)Cl GICWIDZXWJGTCI-UHFFFAOYSA-I 0.000 description 1
- YYHPEVZFVMVUNJ-UHFFFAOYSA-N n,n-diethylethanamine;sulfur trioxide Chemical compound O=S(=O)=O.CCN(CC)CC YYHPEVZFVMVUNJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PJSOCBVWZJGTHW-UHFFFAOYSA-N n-(1h-indazol-5-yl)-5-[3-methoxy-4-[2-(2-methoxyethoxy)ethoxy]phenyl]-1,3-oxazol-2-amine Chemical group C1=C(OC)C(OCCOCCOC)=CC=C1C(O1)=CN=C1NC1=CC=C(NN=C2)C2=C1 PJSOCBVWZJGTHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N n-butane Chemical compound CCCC IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KKFHAJHLJHVUDM-UHFFFAOYSA-N n-vinylcarbazole Chemical compound C1=CC=C2N(C=C)C3=CC=CC=C3C2=C1 KKFHAJHLJHVUDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002071 nanotube Substances 0.000 description 1
- YTVNOVQHSGMMOV-UHFFFAOYSA-N naphthalenetetracarboxylic dianhydride Chemical compound C1=CC(C(=O)OC2=O)=C3C2=CC=C2C(=O)OC(=O)C1=C32 YTVNOVQHSGMMOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CIFWTDOEMTUUAO-UHFFFAOYSA-N naphthofluorescein diacetate Chemical compound O1C(=O)C2=CC=CC=C2C21C(C=CC=1C3=CC=C(OC(C)=O)C=1)=C3OC1=C2C=CC2=CC(OC(=O)C)=CC=C21 CIFWTDOEMTUUAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002791 naphthoquinones Chemical class 0.000 description 1
- 150000002815 nickel Chemical class 0.000 description 1
- QMMRZOWCJAIUJA-UHFFFAOYSA-L nickel dichloride Chemical compound Cl[Ni]Cl QMMRZOWCJAIUJA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- BMGNSKKZFQMGDH-SYWGCQIGSA-L nickel(2+);(e)-4-oxopent-2-en-2-olate Chemical compound [Ni+2].C\C([O-])=C/C(C)=O.C\C([O-])=C/C(C)=O BMGNSKKZFQMGDH-SYWGCQIGSA-L 0.000 description 1
- ZBRJXVVKPBZPAN-UHFFFAOYSA-L nickel(2+);triphenylphosphane;dichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Ni+2].C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 ZBRJXVVKPBZPAN-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 150000002823 nitrates Chemical class 0.000 description 1
- 125000001402 nonanoyl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000006611 nonyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 1
- SLYCYWCVSGPDFR-UHFFFAOYSA-N octadecyltrimethoxysilane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC[Si](OC)(OC)OC SLYCYWCVSGPDFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XCOHAFVJQZPUKF-UHFFFAOYSA-M octyltrimethylammonium bromide Chemical compound [Br-].CCCCCCCC[N+](C)(C)C XCOHAFVJQZPUKF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000007645 offset printing Methods 0.000 description 1
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- IFPHDUVGLXEIOQ-UHFFFAOYSA-N ortho-iodosylbenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1I=O IFPHDUVGLXEIOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FIYYMXYOBLWYQO-UHFFFAOYSA-N ortho-iodylbenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1I(=O)=O FIYYMXYOBLWYQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003891 oxalate salts Chemical class 0.000 description 1
- MMKQSIQNDMIVIN-UHFFFAOYSA-N oxido-(oxido(dioxo)chromio)oxy-dioxochromium;tetrabutylazanium Chemical compound [O-][Cr](=O)(=O)O[Cr]([O-])(=O)=O.CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC.CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC MMKQSIQNDMIVIN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960003540 oxyquinoline Drugs 0.000 description 1
- 125000001037 p-tolyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- PBDBXAQKXCXZCJ-UHFFFAOYSA-L palladium(2+);2,2,2-trifluoroacetate Chemical compound [Pd+2].[O-]C(=O)C(F)(F)F.[O-]C(=O)C(F)(F)F PBDBXAQKXCXZCJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- VUYVXCJTTQJVKJ-UHFFFAOYSA-L palladium(2+);tricyclohexylphosphane;dichloride Chemical compound Cl[Pd]Cl.C1CCCCC1P(C1CCCCC1)C1CCCCC1.C1CCCCC1P(C1CCCCC1)C1CCCCC1 VUYVXCJTTQJVKJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- JKDRQYIYVJVOPF-FDGPNNRMSA-L palladium(ii) acetylacetonate Chemical compound [Pd+2].C\C([O-])=C\C(C)=O.C\C([O-])=C\C(C)=O JKDRQYIYVJVOPF-FDGPNNRMSA-L 0.000 description 1
- INIOZDBICVTGEO-UHFFFAOYSA-L palladium(ii) bromide Chemical compound Br[Pd]Br INIOZDBICVTGEO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- FZYQHMHIALEGMG-MVOHYUIRSA-N pcbb Chemical compound CCCCOC(=O)CCCC1([C@]23C4=C5C=CC6=C7C=CC8=C9C=CC%10=C%11C=CC%12=C(C=C4)[C@]31C1=C3C4=C2C5=C6C=2C7=C8C5=C9C%10=C(C3=C5C4=2)C%11=C%121)C1=CC=CC=C1 FZYQHMHIALEGMG-MVOHYUIRSA-N 0.000 description 1
- SLIUAWYAILUBJU-UHFFFAOYSA-N pentacene Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=CC4=CC5=CC=CC=C5C=C4C=C3C=C21 SLIUAWYAILUBJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004115 pentoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 1
- JRKICGRDRMAZLK-UHFFFAOYSA-L peroxydisulfate Chemical compound [O-]S(=O)(=O)OOS([O-])(=O)=O JRKICGRDRMAZLK-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 125000002080 perylenyl group Chemical group C1(=CC=C2C=CC=C3C4=CC=CC5=CC=CC(C1=C23)=C45)* 0.000 description 1
- CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N peryrene Natural products C1=CC(C2=CC=CC=3C2=C2C=CC=3)=C3C2=CC=CC3=C1 CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000005041 phenanthrolines Chemical class 0.000 description 1
- 239000005054 phenyltrichlorosilane Substances 0.000 description 1
- 150000003003 phosphines Chemical class 0.000 description 1
- 150000003009 phosphonic acids Chemical class 0.000 description 1
- 150000004714 phosphonium salts Chemical class 0.000 description 1
- DHRLEVQXOMLTIM-UHFFFAOYSA-N phosphoric acid;trioxomolybdenum Chemical compound O=[Mo](=O)=O.O=[Mo](=O)=O.O=[Mo](=O)=O.O=[Mo](=O)=O.O=[Mo](=O)=O.O=[Mo](=O)=O.O=[Mo](=O)=O.O=[Mo](=O)=O.O=[Mo](=O)=O.O=[Mo](=O)=O.O=[Mo](=O)=O.O=[Mo](=O)=O.OP(O)(O)=O DHRLEVQXOMLTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 229920002493 poly(chlorotrifluoroethylene) Polymers 0.000 description 1
- 229920000548 poly(silane) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920001230 polyarylate Polymers 0.000 description 1
- 239000005023 polychlorotrifluoroethylene (PCTFE) polymer Substances 0.000 description 1
- 229920002530 polyetherether ketone Polymers 0.000 description 1
- 229920001601 polyetherimide Polymers 0.000 description 1
- 229920002098 polyfluorene Polymers 0.000 description 1
- 229920000128 polypyrrole Polymers 0.000 description 1
- 239000011970 polystyrene sulfonate Substances 0.000 description 1
- 229960002796 polystyrene sulfonate Drugs 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 229920002620 polyvinyl fluoride Polymers 0.000 description 1
- 229920002981 polyvinylidene fluoride Polymers 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012286 potassium permanganate Substances 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- HNJBEVLQSNELDL-UHFFFAOYSA-N pyrrolidin-2-one Chemical compound O=C1CCCN1 HNJBEVLQSNELDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 230000000171 quenching effect Effects 0.000 description 1
- MCJGNVYPOGVAJF-UHFFFAOYSA-N quinolin-8-ol Chemical compound C1=CN=C2C(O)=CC=CC2=C1 MCJGNVYPOGVAJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 238000012552 review Methods 0.000 description 1
- KZUNJOHGWZRPMI-UHFFFAOYSA-N samarium atom Chemical compound [Sm] KZUNJOHGWZRPMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052706 scandium Inorganic materials 0.000 description 1
- SIXSYDAISGFNSX-UHFFFAOYSA-N scandium atom Chemical compound [Sc] SIXSYDAISGFNSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 1
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004756 silanes Chemical group 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- FHKLOBNGYGFRSF-UHFFFAOYSA-N sodium;hypochlorite;pentahydrate Chemical compound O.O.O.O.O.[Na+].Cl[O-] FHKLOBNGYGFRSF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011877 solvent mixture Substances 0.000 description 1
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 description 1
- CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N strontium atom Chemical compound [Sr] CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000475 sulfinyl group Chemical group [*:2]S([*:1])=O 0.000 description 1
- 150000003467 sulfuric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052714 tellurium Inorganic materials 0.000 description 1
- PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N tellurium atom Chemical group [Te] PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GZCRRIHWUXGPOV-UHFFFAOYSA-N terbium atom Chemical compound [Tb] GZCRRIHWUXGPOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004213 tert-butoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C(O*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- JRMUNVKIHCOMHV-UHFFFAOYSA-M tetrabutylammonium bromide Chemical compound [Br-].CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC JRMUNVKIHCOMHV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- MCZDHTKJGDCTAE-UHFFFAOYSA-M tetrabutylazanium;acetate Chemical compound CC([O-])=O.CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC MCZDHTKJGDCTAE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- DPKBAXPHAYBPRL-UHFFFAOYSA-M tetrabutylazanium;iodide Chemical compound [I-].CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC DPKBAXPHAYBPRL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- KBLZDCFTQSIIOH-UHFFFAOYSA-M tetrabutylazanium;perchlorate Chemical compound [O-]Cl(=O)(=O)=O.CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC KBLZDCFTQSIIOH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- RSHBFZCIFFBTEW-UHFFFAOYSA-M tetrabutylazanium;thiocyanate Chemical compound [S-]C#N.CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC RSHBFZCIFFBTEW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- SFLXUZPXEWWQNH-UHFFFAOYSA-K tetrabutylazanium;tribromide Chemical compound [Br-].[Br-].[Br-].CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC.CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC.CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC SFLXUZPXEWWQNH-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- YNJQKNVVBBIPBA-UHFFFAOYSA-M tetrabutylazanium;trifluoromethanesulfonate Chemical compound [O-]S(=O)(=O)C(F)(F)F.CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC YNJQKNVVBBIPBA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- SBSSZSCMFDYICE-UHFFFAOYSA-N tetrabutylazanium;triiodide Chemical compound I[I-]I.CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC SBSSZSCMFDYICE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RKHXQBLJXBGEKF-UHFFFAOYSA-M tetrabutylphosphanium;bromide Chemical compound [Br-].CCCC[P+](CCCC)(CCCC)CCCC RKHXQBLJXBGEKF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- IBWGNZVCJVLSHB-UHFFFAOYSA-M tetrabutylphosphanium;chloride Chemical compound [Cl-].CCCC[P+](CCCC)(CCCC)CCCC IBWGNZVCJVLSHB-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- UGNWTBMOAKPKBL-UHFFFAOYSA-N tetrachloro-1,4-benzoquinone Chemical compound ClC1=C(Cl)C(=O)C(Cl)=C(Cl)C1=O UGNWTBMOAKPKBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HWCKGOZZJDHMNC-UHFFFAOYSA-M tetraethylammonium bromide Chemical compound [Br-].CC[N+](CC)(CC)CC HWCKGOZZJDHMNC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- YMBCJWGVCUEGHA-UHFFFAOYSA-M tetraethylammonium chloride Chemical compound [Cl-].CC[N+](CC)(CC)CC YMBCJWGVCUEGHA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- UQFSVBXCNGCBBW-UHFFFAOYSA-M tetraethylammonium iodide Chemical compound [I-].CC[N+](CC)(CC)CC UQFSVBXCNGCBBW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- PUZYNDBTWXJXKN-UHFFFAOYSA-M tetraethylazanium;trifluoromethanesulfonate Chemical compound [O-]S(=O)(=O)C(F)(F)F.CC[N+](CC)(CC)CC PUZYNDBTWXJXKN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- SZWHXXNVLACKBV-UHFFFAOYSA-N tetraethylphosphanium Chemical compound CC[P+](CC)(CC)CC SZWHXXNVLACKBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LIXPXSXEKKHIRR-UHFFFAOYSA-M tetraethylphosphanium;bromide Chemical compound [Br-].CC[P+](CC)(CC)CC LIXPXSXEKKHIRR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- KCSOHLKZTZMKQA-UHFFFAOYSA-M tetraheptylazanium;iodide Chemical compound [I-].CCCCCCC[N+](CCCCCCC)(CCCCCCC)CCCCCCC KCSOHLKZTZMKQA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- SYZCZDCAEVUSPM-UHFFFAOYSA-M tetrahexylazanium;bromide Chemical compound [Br-].CCCCCC[N+](CCCCCC)(CCCCCC)CCCCCC SYZCZDCAEVUSPM-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- VRKHAMWCGMJAMI-UHFFFAOYSA-M tetrahexylazanium;iodide Chemical compound [I-].CCCCCC[N+](CCCCCC)(CCCCCC)CCCCCC VRKHAMWCGMJAMI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- YIEDHPBKGZGLIK-UHFFFAOYSA-L tetrakis(hydroxymethyl)phosphanium;sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O.OC[P+](CO)(CO)CO.OC[P+](CO)(CO)CO YIEDHPBKGZGLIK-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- AHNISXOXSNAHBZ-UHFFFAOYSA-M tetrakis-decylazanium;bromide Chemical compound [Br-].CCCCCCCCCC[N+](CCCCCCCCCC)(CCCCCCCCCC)CCCCCCCCCC AHNISXOXSNAHBZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- DDFYFBUWEBINLX-UHFFFAOYSA-M tetramethylammonium bromide Chemical compound [Br-].C[N+](C)(C)C DDFYFBUWEBINLX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- RXMRGBVLCSYIBO-UHFFFAOYSA-M tetramethylazanium;iodide Chemical compound [I-].C[N+](C)(C)C RXMRGBVLCSYIBO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- KJFVITRRNTVAPC-UHFFFAOYSA-L tetramethylazanium;sulfate Chemical compound C[N+](C)(C)C.C[N+](C)(C)C.[O-]S([O-])(=O)=O KJFVITRRNTVAPC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- CZDYPVPMEAXLPK-UHFFFAOYSA-N tetramethylsilane Chemical compound C[Si](C)(C)C CZDYPVPMEAXLPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QBVXKDJEZKEASM-UHFFFAOYSA-M tetraoctylammonium bromide Chemical compound [Br-].CCCCCCCC[N+](CCCCCCCC)(CCCCCCCC)CCCCCCCC QBVXKDJEZKEASM-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- KGPZZJZTFHCXNK-UHFFFAOYSA-M tetraoctylazanium;iodide Chemical compound [I-].CCCCCCCC[N+](CCCCCCCC)(CCCCCCCC)CCCCCCCC KGPZZJZTFHCXNK-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- SPALIFXDWQTXKS-UHFFFAOYSA-M tetrapentylazanium;bromide Chemical compound [Br-].CCCCC[N+](CCCCC)(CCCCC)CCCCC SPALIFXDWQTXKS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- SXAWRMKQZKPHNJ-UHFFFAOYSA-M tetrapentylazanium;chloride Chemical compound [Cl-].CCCCC[N+](CCCCC)(CCCCC)CCCCC SXAWRMKQZKPHNJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- BRKFQVAOMSWFDU-UHFFFAOYSA-M tetraphenylphosphanium;bromide Chemical compound [Br-].C1=CC=CC=C1[P+](C=1C=CC=CC=1)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 BRKFQVAOMSWFDU-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- WAGFXJQAIZNSEQ-UHFFFAOYSA-M tetraphenylphosphonium chloride Chemical compound [Cl-].C1=CC=CC=C1[P+](C=1C=CC=CC=1)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 WAGFXJQAIZNSEQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- OSBSFAARYOCBHB-UHFFFAOYSA-N tetrapropylammonium Chemical compound CCC[N+](CCC)(CCC)CCC OSBSFAARYOCBHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BGQMOFGZRJUORO-UHFFFAOYSA-M tetrapropylammonium bromide Chemical compound [Br-].CCC[N+](CCC)(CCC)CCC BGQMOFGZRJUORO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- FBEVECUEMUUFKM-UHFFFAOYSA-M tetrapropylazanium;chloride Chemical compound [Cl-].CCC[N+](CCC)(CCC)CCC FBEVECUEMUUFKM-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- GKXDJYKZFZVASJ-UHFFFAOYSA-M tetrapropylazanium;iodide Chemical compound [I-].CCC[N+](CCC)(CCC)CCC GKXDJYKZFZVASJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000002411 thermogravimetry Methods 0.000 description 1
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JCHWNYYARSRCKZ-UHFFFAOYSA-M tributyl(cyanomethyl)phosphanium;chloride Chemical compound [Cl-].CCCC[P+](CCCC)(CCCC)CC#N JCHWNYYARSRCKZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- ABJGUZZWSKMTEI-UHFFFAOYSA-M tributyl(dodecyl)phosphanium;bromide Chemical compound [Br-].CCCCCCCCCCCC[P+](CCCC)(CCCC)CCCC ABJGUZZWSKMTEI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- RYVBINGWVJJDPU-UHFFFAOYSA-M tributyl(hexadecyl)phosphanium;bromide Chemical compound [Br-].CCCCCCCCCCCCCCCC[P+](CCCC)(CCCC)CCCC RYVBINGWVJJDPU-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- UJMLRSWRUXXZEW-UHFFFAOYSA-M tributyl(octyl)phosphanium;bromide Chemical compound [Br-].CCCCCCCC[P+](CCCC)(CCCC)CCCC UJMLRSWRUXXZEW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- UKTDFYOZPFNQOQ-UHFFFAOYSA-N tributyl(thiophen-2-yl)stannane Chemical compound CCCC[Sn](CCCC)(CCCC)C1=CC=CS1 UKTDFYOZPFNQOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KLBOFRLEHJAXIU-UHFFFAOYSA-N tributylazanium;chloride Chemical compound Cl.CCCCN(CCCC)CCCC KLBOFRLEHJAXIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HLWCOIUDOLYBGD-UHFFFAOYSA-N trichloro(decyl)silane Chemical compound CCCCCCCCCC[Si](Cl)(Cl)Cl HLWCOIUDOLYBGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ORVMIVQULIKXCP-UHFFFAOYSA-N trichloro(phenyl)silane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)C1=CC=CC=C1 ORVMIVQULIKXCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ILWRPSCZWQJDMK-UHFFFAOYSA-N triethylazanium;chloride Chemical compound Cl.CCN(CC)CC ILWRPSCZWQJDMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RXJKFRMDXUJTEX-UHFFFAOYSA-N triethylphosphine Chemical compound CCP(CC)CC RXJKFRMDXUJTEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-N triflic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C(F)(F)F ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UBMUZYGBAGFCDF-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(2-phenylethyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCC1=CC=CC=C1 UBMUZYGBAGFCDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(phenyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C1=CC=CC=C1 ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SSEGNMJSEROZIF-UHFFFAOYSA-M trimethyl(nonyl)azanium;bromide Chemical compound [Br-].CCCCCCCCC[N+](C)(C)C SSEGNMJSEROZIF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- SZEMGTQCPRNXEG-UHFFFAOYSA-M trimethyl(octadecyl)azanium;bromide Chemical compound [Br-].CCCCCCCCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)C SZEMGTQCPRNXEG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- AQZSPJRLCJSOED-UHFFFAOYSA-M trimethyl(octyl)azanium;chloride Chemical compound [Cl-].CCCCCCCC[N+](C)(C)C AQZSPJRLCJSOED-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- GNMJFQWRASXXMS-UHFFFAOYSA-M trimethyl(phenyl)azanium;bromide Chemical compound [Br-].C[N+](C)(C)C1=CC=CC=C1 GNMJFQWRASXXMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- MQAYPFVXSPHGJM-UHFFFAOYSA-M trimethyl(phenyl)azanium;chloride Chemical compound [Cl-].C[N+](C)(C)C1=CC=CC=C1 MQAYPFVXSPHGJM-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- FCGQIZKUTMUWDC-UHFFFAOYSA-M trimethyl(propyl)azanium;bromide Chemical compound [Br-].CCC[N+](C)(C)C FCGQIZKUTMUWDC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- CEYYIKYYFSTQRU-UHFFFAOYSA-M trimethyl(tetradecyl)azanium;chloride Chemical compound [Cl-].CCCCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)C CEYYIKYYFSTQRU-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- XPEMYYBBHOILIJ-UHFFFAOYSA-N trimethyl(trimethylsilylperoxy)silane Chemical compound C[Si](C)(C)OO[Si](C)(C)C XPEMYYBBHOILIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HLXQFVXURMXRPU-UHFFFAOYSA-L trimethyl-[10-(trimethylazaniumyl)decyl]azanium;dibromide Chemical compound [Br-].[Br-].C[N+](C)(C)CCCCCCCCCC[N+](C)(C)C HLXQFVXURMXRPU-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- ARMLJSXXXFXSLQ-UHFFFAOYSA-L trimethyl-[10-(trimethylazaniumyl)decyl]azanium;diiodide Chemical compound [I-].[I-].C[N+](C)(C)CCCCCCCCCC[N+](C)(C)C ARMLJSXXXFXSLQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- GTFSUBIVRHGESQ-UHFFFAOYSA-M trimethyl-[[2-(trimethylsilylmethyl)phenyl]methyl]azanium;iodide Chemical compound [I-].C[N+](C)(C)CC1=CC=CC=C1C[Si](C)(C)C GTFSUBIVRHGESQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- UYPYRKYUKCHHIB-UHFFFAOYSA-N trimethylamine N-oxide Chemical compound C[N+](C)(C)[O-] UYPYRKYUKCHHIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PRXNKYBFWAWBNZ-UHFFFAOYSA-N trimethylphenylammonium tribromide Chemical compound Br[Br-]Br.C[N+](C)(C)C1=CC=CC=C1 PRXNKYBFWAWBNZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LYRCQNDYYRPFMF-UHFFFAOYSA-N trimethyltin Chemical compound C[Sn](C)C LYRCQNDYYRPFMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RMZAYIKUYWXQPB-UHFFFAOYSA-N trioctylphosphane Chemical compound CCCCCCCCP(CCCCCCCC)CCCCCCCC RMZAYIKUYWXQPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LENZDBCJOHFCAS-UHFFFAOYSA-N tris Chemical compound OCC(N)(CO)CO LENZDBCJOHFCAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZMQDTYVODWKHNT-UHFFFAOYSA-N tris(2,2,2-trifluoroethyl) phosphate Chemical compound FC(F)(F)COP(=O)(OCC(F)(F)F)OCC(F)(F)F ZMQDTYVODWKHNT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IJGSGCGKAAXRSC-UHFFFAOYSA-M tris(2-hydroxyethyl)-methylazanium;hydroxide Chemical compound [OH-].OCC[N+](C)(CCO)CCO IJGSGCGKAAXRSC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N vanadium Chemical compound [V]#[V] GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001935 vanadium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 230000004580 weight loss Effects 0.000 description 1
- UGOMMVLRQDMAQQ-UHFFFAOYSA-N xphos Chemical group CC(C)C1=CC(C(C)C)=CC(C(C)C)=C1C1=CC=CC=C1P(C1CCCCC1)C1CCCCC1 UGOMMVLRQDMAQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NAWDYIZEMPQZHO-UHFFFAOYSA-N ytterbium Chemical compound [Yb] NAWDYIZEMPQZHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 1
- VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N yttrium atom Chemical compound [Y] VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010457 zeolite Substances 0.000 description 1
- 229960001296 zinc oxide Drugs 0.000 description 1
Landscapes
- Polyoxymethylene Polymers And Polymers With Carbon-To-Carbon Bonds (AREA)
- Thin Film Transistor (AREA)
- Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Oxygen Or Sulfur (AREA)
Description
本発明は、チエノチオフェン骨格を含んだオリゴヘテロアセンを構造単位として含む共役系高分子とその製造方法、ならびに有機半導体素子に関する。 The present invention relates to a conjugated polymer containing an oligoheteroacene containing a thienothiophene skeleton as a structural unit, a method for producing the same, and an organic semiconductor device.
π電子が一次元や二次元に拡張された共役系化合物は、有機薄膜太陽電池、電界効果型トランジスタ、並びに有機EL等に用いられる有機半導体としてよく知られる。また、省エネルギー、低コスト、有機溶媒可溶性、軽量、フレキシブル等の無機化合物に無い特徴を有し、プリンテッドエレクトロニクスへと応用される塗布材料としても用いることができる(特許文献1)。
非特許文献1に開示されるペンタセン等のオリゴアセンや、非特許文献2に開示されるチオフェン骨格やチエノチオフェン骨格等を有するオリゴアセン(「以下、オリゴヘテロアセンという。」)等の共役系化合物は電界効果型トランジスタへの応用研究がなされている。中でもチエノチオフェン骨格を有するオリゴヘテロアセンは高いキャリア移動度を示す傾向にあるが、低溶媒溶解性、低成膜性、並びに低大気安定性等の問題点が指摘されており(非特許文献3)、新しい共役系化合物の開発が求められている。
Conjugated compounds in which π electrons are expanded in one or two dimensions are well known as organic semiconductors used in organic thin film solar cells, field effect transistors, organic ELs, and the like. Furthermore, it has characteristics that inorganic compounds do not have, such as energy saving, low cost, solubility in organic solvents, light weight, and flexibility, and can be used as a coating material applied to printed electronics (Patent Document 1).
Conjugated compounds such as oligoacene such as pentacene disclosed in Non-Patent Document 1 and oligoacene having a thiophene skeleton or thienothiophene skeleton (hereinafter referred to as oligoheteroacene) disclosed in Non-patent Document 2 are Application research to effective transistors is being conducted. Among them, oligoheteroacene having a thienothiophene skeleton tends to exhibit high carrier mobility, but problems such as low solvent solubility, low film formability, and low atmospheric stability have been pointed out (Non-patent Document 3). ), the development of new conjugated compounds is required.
本発明は、高キャリア移動度、高耐熱性、及び高溶媒溶解性を併せ持つ新しい共役系高分子、該高分子の製造方法、該高分子を含む製膜用組成物、該製膜用組成物から作成される有機薄膜、該有機薄膜を活性層とする半導体素子及び有機トランジスタ素子を提供することである。 The present invention relates to a new conjugated polymer having high carrier mobility, high heat resistance, and high solvent solubility, a method for producing the polymer, a film-forming composition containing the polymer, and a film-forming composition. An object of the present invention is to provide an organic thin film made from the above, and a semiconductor device and an organic transistor device using the organic thin film as an active layer.
上記課題を解決するために、本発明者は鋭意検討を行った結果、チエノチオフェン骨格を有するオリゴヘテロアセンを構造単位として含む共役系高分子が、高溶媒溶解性、高耐熱性、及び高い製膜性を示すことを見出した。本発明のチオノチオフェン骨格から成るオリゴヘテロアセンを構造単位として含む共役系高分子並びに該高分子を与えるモノマーは新規であり、その製造方法についても一切報告されていない。また、本発明の高分子の溶媒溶解性、耐熱性といった諸物性、並びにそのキャリア移動度などの報告例もない。さらに、該共役高分子を含む製膜用組成物を用いて簡便に有機薄膜が製膜できること、並びに該有機薄膜を用いて作成した有機トランジスタ素子が安定に駆動することも合わせて見出し、本発明の完成に至った。 In order to solve the above-mentioned problems, the present inventor conducted intensive studies and found that a conjugated polymer containing an oligoheteroacene having a thienothiophene skeleton as a structural unit has high solvent solubility, high heat resistance, and high productivity. It was found that it exhibits membrane properties. The conjugated polymer of the present invention containing an oligoheteroacene having a thionothiophene skeleton as a structural unit and the monomer that provides the polymer are new, and no method for producing them has been reported. Furthermore, there are no reports on the physical properties of the polymer of the present invention, such as its solvent solubility and heat resistance, as well as its carrier mobility. Furthermore, we have also discovered that an organic thin film can be easily formed using a film forming composition containing the conjugated polymer, and that an organic transistor element made using the organic thin film can be stably driven, and the present invention has been completed.
すなわち本発明は以下の要旨から構成される。
[要旨1]
一般式(1)
That is, the present invention consists of the following points.
[Summary 1]
General formula (1)
(式中、R1は炭素数1から30のアルコキシ基で置換されていてもよい炭素数1から50のアルキル基、炭素数1から30のアルコキシ基で置換されていてもよい炭素数1から50のアルコキシ基、炭素数1から50のアシル基、炭素数4から30のアリール基、炭素数2から50のアルケニル基、炭素数2から50のアルキニル基又は水素原子からなる群から選択される一つの基を表す。複数のR1は同一又は相異なっていてもよい。M1は水素原子、ハロゲン原子、金属含有基、ホウ素含有基又はスズ含有基からなる群から選択される一つの基を表す。複数のM1は同一又は相異なっていてもよい。環Ar1は一般式(2-1)から(2-3) (In the formula, R 1 is an alkyl group having 1 to 50 carbon atoms which may be substituted with an alkoxy group having 1 to 30 carbon atoms, or an alkyl group having 1 to 50 carbon atoms which may be substituted with an alkoxy group having 1 to 30 carbon atoms. 50 alkoxy group, an acyl group having 1 to 50 carbon atoms, an aryl group having 4 to 30 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 50 carbon atoms, an alkynyl group having 2 to 50 carbon atoms, or a hydrogen atom. Represents one group. Plural R 1 may be the same or different. M 1 is one group selected from the group consisting of a hydrogen atom, a halogen atom, a metal-containing group, a boron-containing group, or a tin-containing group. represents.Multiple M 1 may be the same or different.Ring Ar 1 represents general formula (2-1) to (2-3)
(R2は炭素数1から30のアルコキシ基で置換されていてもよい炭素数1から50のアルキル基、炭素数1から30のアルコキシ基で置換されていてもよい炭素数1から50のアルコキシ基、炭素数1から50のアシル基、炭素数4から30のアリール基、炭素数2から50のアルケニル基、炭素数2から50のアルキニル基又は水素原子からなる群から選択される一つの基を表す。複数のR2は同一又は相異なっていてもよい。R3は炭素数1から30のアルコキシ基で置換されていてもよい炭素数1から50のアルキル基、炭素数1から30のアルコキシ基で置換されていてもよい炭素数1から50のアルコキシ基、炭素数1から50のアシル基、炭素数4から30のアリール基、炭素数2から50のアルケニル基、炭素数2から50のアルキニル基又は水素原子からなる群から選択される一つの基を表す。複数のR3は同一又は相異なっていてもよい。R4は炭素数1から50のアルキル基、炭素数1から50のアルコキシ基、炭素数1から50のアシル基、炭素数4から30のアリール基、炭素数2から50のアルケニル基、炭素数2から50のアルキニル基又は水素原子からなる群から選択される一つの基を表す。複数のR4は同一又は相異なっていてもよい。)のいずれかで表される芳香環連結基を表す。)で表されるモノマー。
[要旨2]
R1が炭素数6から50のアルキル基又は水素原子であり、R2が炭素数6から50のアルキル基、炭素数6から50のアルコキシ基又は水素原子からなる群から選択される一つの基であり、R3が炭素数6から50のアルキル基又は水素原子であり、R4が炭素数6から50のアルキル基又は水素原子であり、M1が水素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ホウ素含有基又はスズ含有基である要旨1に記載のモノマー。
[要旨3]
R1が水素原子であり、R2が炭素数6から34のアルキル基又は炭素数6から34のアルコキシ基であり、R3が炭素数6から34のアルキル基であり、R4が炭素数6から34のアルキル基であり、M1が水素原子、臭素原子又はホウ素含有基からなる群から選択される一つの基である要旨2に記載のモノマー。
[要旨4]
一般式(3)
( R2 is an alkyl group having 1 to 50 carbon atoms which may be substituted with an alkoxy group having 1 to 30 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 50 carbon atoms which may be substituted with an alkoxy group having 1 to 30 carbon atoms) one group selected from the group consisting of an acyl group having 1 to 50 carbon atoms, an aryl group having 4 to 30 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 50 carbon atoms, an alkynyl group having 2 to 50 carbon atoms, or a hydrogen atom. R 2 may be the same or different. R 3 is an alkyl group having 1 to 50 carbon atoms, which may be substituted with an alkoxy group having 1 to 30 carbon atoms, or an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms. Alkoxy group having 1 to 50 carbon atoms which may be substituted with an alkoxy group, acyl group having 1 to 50 carbon atoms, aryl group having 4 to 30 carbon atoms, alkenyl group having 2 to 50 carbon atoms, 2 to 50 carbon atoms represents one group selected from the group consisting of an alkynyl group or a hydrogen atom. Plural R 3 may be the same or different. R 4 is an alkyl group having 1 to 50 carbon atoms, or an alkyl group having 1 to 50 carbon atoms. an alkoxy group having 1 to 50 carbon atoms, an aryl group having 4 to 30 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 50 carbon atoms, an alkynyl group having 2 to 50 carbon atoms, or a hydrogen atom. represents an aromatic ring-linking group represented by any one of the following: R 4 may be the same or different. ) is a monomer represented by
[Summary 2]
R 1 is an alkyl group having 6 to 50 carbon atoms or a hydrogen atom, and R 2 is one group selected from the group consisting of an alkyl group having 6 to 50 carbon atoms, an alkoxy group having 6 to 50 carbon atoms, or a hydrogen atom. , R 3 is an alkyl group having 6 to 50 carbon atoms or a hydrogen atom, R 4 is an alkyl group having 6 to 50 carbon atoms or a hydrogen atom, and M 1 is a hydrogen atom, a bromine atom, an iodine atom, or a boron atom. The monomer according to Summary 1, which is a containing group or a tin-containing group.
[Summary 3]
R 1 is a hydrogen atom, R 2 is an alkyl group having 6 to 34 carbon atoms or an alkoxy group having 6 to 34 carbon atoms, R 3 is an alkyl group having 6 to 34 carbon atoms, and R 4 is an alkyl group having 6 to 34 carbon atoms. 6 to 34 alkyl groups, and M 1 is one group selected from the group consisting of a hydrogen atom, a bromine atom, or a boron-containing group.
[Summary 4]
General formula (3)
(式中、R1は炭素数1から50のアルキル基、炭素数1から50のアルコキシ基、炭素数1から50のアシル基、炭素数4から30のアリール基、炭素数2から50のアルケニル基、炭素数2から50のアルキニル基又は水素原子からなる群から選択される一つの基を表す。複数のR1は同一又は相異なっていてもよい。環Ar1は一般式(2-1)から(2-3) (In the formula, R 1 is an alkyl group having 1 to 50 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 50 carbon atoms, an acyl group having 1 to 50 carbon atoms, an aryl group having 4 to 30 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 50 carbon atoms) represents one group selected from the group consisting of a group, an alkynyl group having 2 to 50 carbon atoms, or a hydrogen atom. Plural R 1 may be the same or different. Ring Ar 1 represents the general formula (2-1 ) to (2-3)
(R2は炭素数1から30のアルコキシ基で置換されていてもよい炭素数1から50のアルキル基、炭素数1から30のアルコキシ基で置換されていてもよい炭素数1から50のアルコキシ基、炭素数1から50のアシル基、炭素数4から30のアリール基、炭素数2から50のアルケニル基、炭素数2から50のアルキニル基又は水素原子からなる群から選択される一つの基を表す。複数のR2は同一又は相異なっていてもよい。R3は炭素数1から30のアルコキシ基で置換されていてもよい炭素数1から50のアルキル基、炭素数1から30のアルコキシ基で置換されていてもよい炭素数1から50のアルコキシ基、炭素数1から50のアシル基、炭素数4から30のアリール基、炭素数2から50のアルケニル基、炭素数2から50のアルキニル基又は水素原子からなる群から選択される一つの基を表す。複数のR3は同一又は相異なっていてもよい。R4は炭素数1から50のアルキル基、炭素数1から50のアルコキシ基、炭素数1から50のアシル基、炭素数4から30のアリール基、炭素数2から50のアルケニル基、炭素数2から50のアルキニル基又は水素原子からなる群から選択される一つの基を表す。複数のR4は同一又は相異なっていてもよい。)のいずれかで表される芳香環連結基を表す。)で表される構造単位と一般式(4) ( R2 is an alkyl group having 1 to 50 carbon atoms which may be substituted with an alkoxy group having 1 to 30 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 50 carbon atoms which may be substituted with an alkoxy group having 1 to 30 carbon atoms) one group selected from the group consisting of an acyl group having 1 to 50 carbon atoms, an aryl group having 4 to 30 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 50 carbon atoms, an alkynyl group having 2 to 50 carbon atoms, or a hydrogen atom. R 2 may be the same or different. R 3 is an alkyl group having 1 to 50 carbon atoms, which may be substituted with an alkoxy group having 1 to 30 carbon atoms, or an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms. Alkoxy group having 1 to 50 carbon atoms which may be substituted with an alkoxy group, acyl group having 1 to 50 carbon atoms, aryl group having 4 to 30 carbon atoms, alkenyl group having 2 to 50 carbon atoms, 2 to 50 carbon atoms represents one group selected from the group consisting of an alkynyl group or a hydrogen atom. Plural R 3 may be the same or different. R 4 is an alkyl group having 1 to 50 carbon atoms, or an alkyl group having 1 to 50 carbon atoms. an alkoxy group having 1 to 50 carbon atoms, an aryl group having 4 to 30 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 50 carbon atoms, an alkynyl group having 2 to 50 carbon atoms, or a hydrogen atom. represents an aromatic ring-linking group represented by any one of the following: R 4 may be the same or different. ) and general formula (4)
(式中、X1は5-(炭素数6から10のアルキル)-2-チエニル基、又は炭素数1から50のアルキル基若しくは炭素数1から50のアルコキシ基で置換されていてもよい2価の複素芳香族環連結基を表す。)で表される構造単位より構成される共役系高分子。
[要旨5]
一般式(5)
( wherein , A conjugated polymer composed of structural units represented by (representing a valent heteroaromatic ring linking group).
[Summary 5]
General formula (5)
(式中、R1、環Ar1、及びX1は前記と同様の意味を表す。)で表される構造単位より構成される要旨4に記載の共役系高分子。
[要旨6]
R1が炭素数6から50のアルキル基又は水素原子であり、R2が炭素数6から50のアルキル基、炭素数6から50のアルコキシ基又は水素原子からなる群から選択される一つの基であり、R3が炭素数6から50のアルキル基又は水素原子であり、R4が炭素数6から50のアルキル基又は水素原子である要旨4又は5に記載の共役系高分子。
[要旨7]
R1が水素原子であり、R2が炭素数6から34のアルキル基又は炭素数6から34のアルコキシ基であり、R3が炭素数6から34のアルキル基であり、R4が炭素数6から34のアルキル基である要旨4乃至6いずれか一項に記載の共役系高分子。
[要旨8]
X1が、下記一般式(6)から(10)
(In the formula, R 1 , ring Ar 1 , and X 1 have the same meanings as above.) The conjugated polymer according to Summary 4, which is composed of a structural unit represented by the following.
[Summary 6]
R 1 is an alkyl group having 6 to 50 carbon atoms or a hydrogen atom, and R 2 is one group selected from the group consisting of an alkyl group having 6 to 50 carbon atoms, an alkoxy group having 6 to 50 carbon atoms, or a hydrogen atom. The conjugated polymer according to Item 4 or 5, wherein R 3 is an alkyl group having 6 to 50 carbon atoms or a hydrogen atom, and R 4 is an alkyl group having 6 to 50 carbon atoms or a hydrogen atom.
[Summary 7]
R 1 is a hydrogen atom, R 2 is an alkyl group having 6 to 34 carbon atoms or an alkoxy group having 6 to 34 carbon atoms, R 3 is an alkyl group having 6 to 34 carbon atoms, and R 4 is an alkyl group having 6 to 34 carbon atoms. The conjugated polymer according to any one of Summary 4 to 6, which is a 6 to 34 alkyl group.
[Summary 8]
X 1 is represented by the following general formulas (6) to (10)
(式中、Xはカルコゲン原子又は炭素数1から50のアルキル基で置換されていてもよい窒素原子を表す。R5は炭素数1から30のアルコキシ基で置換されていてもよい炭素数1から50のアルキル基又は水素原子を表す。複数のR5は同一又は相異なっていても良い。R6は炭素数1から30のアルコキシ基で置換されていてもよい炭素数1から50のアルコキシ基、フッ素原子又は水素原子からなる群から選択される一つの基を表す。複数のR6は同一又は相異なっていても良い。p及びqは、各々独立に、0、1又は2の整数
を表す。)
(In the formula, X represents a chalcogen atom or a nitrogen atom which may be substituted with an alkyl group having 1 to 50 carbon atoms. represents an alkyl group or hydrogen atom having 50 carbon atoms. Plural R 5 may be the same or different. R 6 is an alkoxy group having 1 to 50 carbon atoms, which may be substituted with an alkoxy group having 1 to 30 carbon atoms. represents one group selected from the group consisting of a group, a fluorine atom, or a hydrogen atom. Plural R 6 may be the same or different. p and q are each independently an integer of 0, 1, or 2. )
(式中、R7は炭素数1から30のアルコキシ基で置換されていてもよい炭素数1から50のアルキル基を表す。複数のR7は同一又は相異なっていても良い。Yは水素原子又はフッ素原子を表す。複数のYは同一又は相異なっていても良い。r及びsは各々独立に、1、又は2の整数を表す。) (In the formula, R 7 represents an alkyl group having 1 to 50 carbon atoms which may be substituted with an alkoxy group having 1 to 30 carbon atoms. Plural R 7 may be the same or different. Y is hydrogen Represents an atom or a fluorine atom. Plural Y may be the same or different. r and s each independently represent an integer of 1 or 2.)
(式中、R8は5-(炭素数1から20のアルキル)-2-チエニル基又は炭素数1から30のアルコキシ基で置換されていてもよい炭素数1から50のアルコキシ基を表す。複数のR8は同一又は相異なっていても良い。tは0,1又は2の整数を表す。) (In the formula, R 8 represents a 5-(alkyl having 1 to 20 carbon atoms)-2-thienyl group or an alkoxy group having 1 to 50 carbon atoms which may be substituted with an alkoxy group having 1 to 30 carbon atoms. (Plural R8 's may be the same or different. t represents an integer of 0, 1 or 2.)
(式中、Aはカルコゲン原子を表す。R9は炭素数1から30のアルコキシ基で置換されていてもよい炭素数1から50のアルキル基又は水素原子を表す。複数のR9は同一又は相異なっていても良い。R10は炭素数1から30のアルコキシ基で置換されていてもよい炭素数1から50のアルコキシ基、フッ素原子又は水素原子からなる群から選択される一つの基を表す。複数のR10は同一又は相異なっていても良い。u及びvは、各々独立に、0、1又は2の整数
を表す。)
(In the formula, A represents a chalcogen atom. R 9 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 50 carbon atoms which may be substituted with an alkoxy group having 1 to 30 carbon atoms. Plural R 9 are the same or They may be different.R10 represents one group selected from the group consisting of an alkoxy group having 1 to 50 carbon atoms which may be substituted with an alkoxy group having 1 to 30 carbon atoms, a fluorine atom, or a hydrogen atom. (Plural R 10 may be the same or different. u and v each independently represent an integer of 0, 1 or 2.)
(式中、R11は炭素数1から30のアルコキシ基で置換されていてもよい炭素数1から50のアルキル基を表す。複数のR11は同一又は相異なっていても良い。w及びzは各々独立に、1、又は2の整数を表す。)
からなる群より選ばれる2価の複素芳香族環連結基である要旨4乃至7いずれか一項に記載の共役系高分子。
[要旨9]
R5が炭素数6から34のアルキル基又は水素原子であり、R6が炭素数6から34のアルコキシ基、フッ素原子又は水素原子からなる群から選択される一つの基であり、R7が炭素数6から34のアルキル基であり、R8が5-(炭素数6から10のアルキル)-2-チエニル基又は炭素数6から34のアルコキシ基であり、Xが硫黄原子又は炭素数6から34のアルキル基で置換されていてもよい窒素原子であり、Yが水素原子であり、pが0又は1であり、qが0又は1であり、rが1であり、sが1であり、tが0又は1である要旨8に記載の共役系高分子。
[要旨10]
X1が式(11-1)、式(11-2)、式(11-5)、式(11-40)、式(11-41)、式(11-42)、式(11-43)、式(11-44)、式(11-45)、式(11-46)、式(11-49)、式(11-52)、式(11-54)
(In the formula, R 11 represents an alkyl group having 1 to 50 carbon atoms which may be substituted with an alkoxy group having 1 to 30 carbon atoms. Plural R 11s may be the same or different. w and z each independently represents an integer of 1 or 2.)
The conjugated polymer according to any one of Items 4 to 7, which is a divalent heteroaromatic ring linking group selected from the group consisting of:
[Summary 9]
R 5 is an alkyl group having 6 to 34 carbon atoms or a hydrogen atom, R 6 is one group selected from the group consisting of an alkoxy group having 6 to 34 carbon atoms, a fluorine atom, or a hydrogen atom, and R 7 is It is an alkyl group having 6 to 34 carbon atoms, R 8 is a 5-(alkyl having 6 to 10 carbon atoms)-2-thienyl group or an alkoxy group having 6 to 34 carbon atoms, and X is a sulfur atom or an alkyl group having 6 to 34 carbon atoms. is a nitrogen atom which may be substituted with an alkyl group of 34, Y is a hydrogen atom, p is 0 or 1, q is 0 or 1, r is 1, s is 1, and t is 0 or 1.
[Summary 10]
X 1 is formula (11-1), formula (11-2), formula (11-5), formula (11-40), formula (11-41), formula (11-42), formula (11-43) ), formula (11-44), formula (11-45), formula (11-46), formula (11-49), formula (11-52), formula (11-54)
のいずれかである要旨4乃至7いずれか一項に記載の共役系高分子。
[要旨11]
要旨4乃至10いずれか一項に記載の共役系高分子を含んで成る製膜用組成物。
[要旨12]
要旨11に記載の製膜用組成物を用いて作成することを特徴とする有機薄膜。
[要旨13]
要旨12に記載の有機薄膜を含む有機半導体素子。
[要旨14]
要旨13に記載の有機薄膜を含む有機トランジスタ素子。
The conjugated polymer according to any one of Summaries 4 to 7, which is any one of the above.
[Summary 11]
A film-forming composition comprising the conjugated polymer according to any one of Summaries 4 to 10.
[Summary 12]
An organic thin film produced using the film-forming composition according to Summary 11.
[Summary 13]
An organic semiconductor device comprising the organic thin film according to Summary 12.
[Summary 14]
An organic transistor element comprising the organic thin film according to Summary 13.
本発明の共役系高分子は高い溶媒溶解性と耐熱性を併せ持つ有機半導体であり、これを活性層とする有機トランジスタ素子、並びに有機太陽電池素子を効率よく駆動させることができる。 The conjugated polymer of the present invention is an organic semiconductor that has both high solvent solubility and heat resistance, and can efficiently drive organic transistor elements and organic solar cell elements that use the conjugated polymer as an active layer.
以下、本発明を詳細に説明する。 The present invention will be explained in detail below.
R1、R2、R3、R4、R5、R7、R9、R10及びR11で表される炭素数1から50のアルキル基としては、直鎖状、分岐状又は環状のいずれであってもよく、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、ノナデシル基、イコシル基、ヘンイコシル基、ドコシル基、トリコシル基、テトラコシル基、ペンタコシル基、ヘキサコシル基、ヘプタコシル基、オクタコシル基、ノナコシル基、トリアコンチル基、ヘントリアコンチル基、ドドリアコンチル基、トリトリアコンチル基、テトラトリアコンチル基、ペンタトリアコンチル基、ヘキサトリアコンチル基、テトラコンチル基、ヘンテトラコンチル基、ドテトラコンチル基、トリテトラコンチル基、テトラテトラコンチル基、ペンタコンチル基等の直鎖アルキル基、イソプロピル基、イソブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、2-エチルヘキシル基、3,7-ジメチルオクチル基、2-ヘキシルオクチル基、2-ヘキシルデシル基、2-オクチルドデシル基、2-デシルテトラデシル基、2-ドデシルテトラデシル基、2-ドデシルヘキサデシル基、2-テトラデシルヘキサデシル基、3-デシルペンタデシル基、3-ドデシルヘプタデシル基、3-テトラデシルノナコシル基、4-デシルヘキサデシル基、4-ドデシルオクタデシル基、4-テトラデシルイコシル基、等の分岐アルキル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等の環状アルキル基を例示することができる。該アルキル基は炭素数1から30のアルコキシ基で置換されていてもよく、メトキシメチル基、(2-メトキシエトキシ)メチル基、[2-(2-メトキシエトキシ)エトキシ]メチル基、{2-[2-(2-メトキシエトキシ)エトキシ]エトキシ}メチル基、(2-{2-[2-(2-メトキシエトキシ)エトキシ]エトキシ)エトキシ)メチル基、[2-(2-{2-[2-(2-メトキシエトキシ)エトキシ]エトキシ}エトキシ)エトキシ]メチル基、{2-[2-(2-{2-[2-(2-メトキシエトキシ)エトキシ]エトキシ}エトキシ)エトキシ]エトキシ}メチル基、3-(2-メトキシエトキシ)-2-[(2-メトキシエトキシ)メチル]プロピル基、3-[2-(2-メトキシエトキシ)エトキシ]-2-{[2-(2-メトキシエトキシ)エトキシ]メチル}プロピル基、3-{2-[2-(2-メトキシエトキシ)エトキシ]エトキシ}-2-({2-[2-(2-メトキシエトキシ)エトキシ]エトキシ}メチル)プロピル基、3-(2-{2-[2-(2-メトキシエトキシ)エトキシ]エトキシ}エトキシ)-2-[(2-{2-[2-(2-メトキシエトキシ)エトキシ]エトキシ}エトキシ)メチル]プロピル基、3-[2-(2-{2-[2-(2-メトキシエトキシ)エトキシ]エトキシ}エトキシ)エトキシ]-2-{[2-(2-{2-[2-(2-メトキシエトキシ)エトキシ]エトキシ}エトキシ)エトキシ]メチル}プロピル基、3-{2-[2-(2-{2-[2-(2-メトキシエトキシ)エトキシ]エトキシ}エトキシ)エトキシ]エトキシ}-2-({2-[2-(2-{2-[2-(2-メトキシエトキシ)エトキシ]エトキシ}エトキシ)エトキシ]エトキシ}メチル)プロピル基、3-(2-メトキシエトキシ)-2-(2-メトキシエトキシ)プロピル基、3-[2-(2-メトキシエトキシ)エトキシ]-2-[2-(2-メトキシエトキシ)エトキシ]プロピル基、3-{2-[2-(2-メトキシエトキシ)エトキシ]エトキシ}-2-{2-[2-(2-メトキシエトキシ)エトキシ]エトキシ}プロピル基、3-(2-{2-[2-(2-メトキシエトキシ)エトキシ]エトキシ}エトキシ)-2-(2-{2-[2-(2-メトキシエトキシ)エトキシ]エトキシ}エトキシ)プロピル基、3-[2-(2-{2-[2-(2-メトキシエトキシ)エトキシ]エトキシ}エトキシ)エトキシ]-2-[2-(2-{2-[2-(2-メトキシエトキシ)エトキシ]エトキシ}エトキシ)エトキシ]プロピル基、3-{2-[2-(2-{2-[2-(2-メトキシエトキシ)エトキシ]エトキシ}エトキシ)エトキシ]エトキシ}-2-{2-[2-(2-{2-[2-(2-メトキシエトキシ)エトキシ]エトキシ}エトキシ)エトキシ]エトキシ}プロピル基等のアルコキシ基置換アルキル基等を例示することができる。 The alkyl group having 1 to 50 carbon atoms represented by R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 7 , R 9 , R 10 and R 11 may be a linear, branched or cyclic alkyl group. Any of them may be methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, heptyl group, octyl group, nonyl group, decyl group, undecyl group, dodecyl group, tridecyl group, tetradecyl group, pentadecyl group. group, hexadecyl group, heptadecyl group, octadecyl group, nonadecyl group, icosyl group, henicosyl group, docosyl group, tricosyl group, tetracosyl group, pentacosyl group, hexacosyl group, heptacyl group, octacosyl group, nonacosyl group, triacontyl group, hentriacontyl group group, dodriacontyl group, tritriacontyl group, tetratriacontyl group, pentatriacontyl group, hexatriacontyl group, tetracontyl group, hetetracontyl group, dotetracontyl group, tritetracontyl group, tetratetra Linear alkyl groups such as contyl group and pentacontyl group, isopropyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, 2-ethylhexyl group, 3,7-dimethyloctyl group, 2-hexyloctyl group, 2 -hexyldecyl group, 2-octyldodecyl group, 2-decyltetradecyl group, 2-dodecyltetradecyl group, 2-dodecylhexadecyl group, 2-tetradecylhexadecyl group, 3-decylpentadecyl group, 3-dodecyl group Branched alkyl groups such as heptadecyl group, 3-tetradecyl nonacosyl group, 4-decylhexadecyl group, 4-dodecyloctadecyl group, 4-tetradecyl icosyl group, cyclic alkyl groups such as cyclopentyl group, cyclohexyl group, etc. I can give an example. The alkyl group may be substituted with an alkoxy group having 1 to 30 carbon atoms, and includes a methoxymethyl group, (2-methoxyethoxy)methyl group, [2-(2-methoxyethoxy)ethoxy]methyl group, {2- [2-(2-methoxyethoxy)ethoxy]ethoxy}methyl group, (2-{2-[2-(2-methoxyethoxy)ethoxy]ethoxy)ethoxy)methyl group, [2-(2-{2-[ 2-(2-methoxyethoxy)ethoxy]ethoxy}ethoxy)ethoxy]methyl group, {2-[2-(2-{2-[2-(2-methoxyethoxy)ethoxy]ethoxy}ethoxy}ethoxy)ethoxy} Methyl group, 3-(2-methoxyethoxy)-2-[(2-methoxyethoxy)methyl]propyl group, 3-[2-(2-methoxyethoxy)ethoxy]-2-{[2-(2-methoxy) ethoxy)ethoxy]methyl}propyl group, 3-{2-[2-(2-methoxyethoxy)ethoxy]ethoxy}-2-({2-[2-(2-methoxyethoxy)ethoxy]ethoxy}ethoxy}methyl)propyl group, 3-(2-{2-[2-(2-methoxyethoxy)ethoxy]ethoxy}ethoxy)-2-[(2-{2-[2-(2-methoxyethoxy)ethoxy]ethoxy]ethoxy}ethoxy) methyl]propyl group, 3-[2-(2-{2-[2-(2-methoxyethoxy)ethoxy]ethoxy}ethoxy)ethoxy]-2-{[2-(2-{2-[2-( 2-methoxyethoxy)ethoxy]ethoxy}ethoxy)ethoxy]methyl}propyl group, 3-{2-[2-(2-{2-[2-(2-methoxyethoxy)ethoxy]ethoxy}ethoxy}ethoxy)ethoxy]ethoxy }-2-({2-[2-(2-{2-[2-(2-methoxyethoxy)ethoxy]ethoxy}ethoxy}ethoxy)ethoxy]ethoxy}methyl)propyl group, 3-(2-methoxyethoxy)- 2-(2-methoxyethoxy)propyl group, 3-[2-(2-methoxyethoxy)ethoxy]-2-[2-(2-methoxyethoxy)ethoxy]propyl group, 3-{2-[2-( 2-methoxyethoxy)ethoxy]ethoxy}-2-{2-[2-(2-methoxyethoxy)ethoxy]ethoxy}propyl group, 3-(2-{2-[2-(2-methoxyethoxy)ethoxy] ethoxy}ethoxy)-2-(2-{2-[2-(2-methoxyethoxy)ethoxy]ethoxy}ethoxy)propyl group, 3-[2-(2-{2-[2-(2-methoxyethoxy) )ethoxy]ethoxy}ethoxy)ethoxy]-2-[2-(2-{2-[2-(2-methoxyethoxy)ethoxy]ethoxy}ethoxy)ethoxy]propyl group, 3-{2-[2-( 2-{2-[2-(2-methoxyethoxy)ethoxy]ethoxy}ethoxy)ethoxy]ethoxy}-2-{2-[2-(2-{2-[2-(2-methoxyethoxy)ethoxy)] Examples include alkyl groups substituted with alkoxy groups such as ethoxy}ethoxy)ethoxy}ethoxy}propyl groups.
R1、R2、R3、R4、R6及びR8で表される炭素数1から50のアルコキシ基としては、直鎖状、分岐状又は環状のいずれでもよく、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基、ノニルオキシ基、デシルオキシ基、ウンデシルオキシ基、ドデシルオキシ基、トリデシルオキシ基、テトラデシルオキシ基、ペンタデシルオキシ基、ヘキサデシルオキシ基、ヘプタデシルオキシ基、オクタデシルオキシ基、ノナデシルオキシ基、イコシルオキシ基、ヘンイコシルオキシ基、ドコシルオキシ基、トリコシルオキシ基、テトラコシルオキシ基、ペンタコシルオキシ基、ヘキサコシルオキシ基、ヘプタコシルオキシ基、オクタコシルオキシ基、ノナコシルオキシ基、トリアコンチルオキシ基、ヘントリアコンチルオキシ基、ドドリアコンチルオキシ基、トリトリアコンチルオキシ基、テトラトリアコンチルオキシ基、ペンタトリアコンチルオキシ基、ヘキサトリアコンチルオキシ基、テトラコンチルオキシ基、ヘンテトラコンチルオキシ基、ドテトラコンチルオキシ基、トリテトラコンチルオキシ基、テトラテトラコンチルオキシ基、ペンタコンチルオキシ基等の直鎖アルコシキ基、イソプロポキシ基、1-(2-メチルプロピル)オキシ基、2-ブチルオキシ基、tert-ブトキシ基、2-エチルヘキシルオキシ基、3,7-ジメチルオクチルオキシ基、2-デシルテトラデシルオキシ基、2-ドデシルテトラデシルオキシ基、2-ドデシルヘキサデシルオキシ基、2-テトラデシルヘキサデシルオキシ基等の分岐アルコキシ基、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基等の環状アルコキシ基を例示することができる。該アルコキシ基は炭素数1から30のアルコキシ基で置換されていてもよく、2-メトキシエトキシ基、2-(2-メトキシエトキシ)エトキシ基、2-[2-(2-メトキシエトキシ)エトキシ]エトキシ基、2-{2-[2-(2-メトキシエトキシ)エトキシ]エトキシ}エトキシ基、2-(2-{2-[2-(2-メトキシエトキシ)エトキシ]エトキシ}エトキシ)エトキシ基、2-[2-(2-{2-[2-(2-メトキシエトキシ)エトキシ]エトキシ}エトキシ)エトキシ]エトキシ基、2-{2-[2-(2-{2-[2-(2-メトキシエトキシ)エトキシ]エトキシ}エトキシ)エトキシ]エトキシ}エトキシ基、3-(2-メトキシエトキシ)-2-[(2-メトキシエトキシ)メチル]プロポキシ基、3-[2-(2-メトキシエトキシ)エトキシ]-2-{[2-(2-メトキシエトキシ)エトキシ]メチル}プロポキシ基、3-{2-[2-(2-メトキシエトキシ)エトキシ]エトキシ}-2-({2-[2-(2-メトキシエトキシ)エトキシ]エトキシ}メチル)プロポキシ基、3-(2-{2-[2-(2-メトキシエトキシ)エトキシ]エトキシ}エトキシ)-2-[(2-{2-[2-(2-メトキシエトキシ)エトキシ]エトキシ}エトキシ)メチル]プロポキシ基、3-[2-(2-{2-[2-(2-メトキシエトキシ)エトキシ]エトキシ}エトキシ)エトキシ]-2-{[2-(2-{2-[2-(2-メトキシエトキシ)エトキシ]エトキシ}エトキシ)エトキシ]メチル}プロポキシ基、3-({2-[2-(2-{2-[2-(2-メトキシエトキシ)エトキシ]エトキシ}エトキシ)エトキシ]エトキシ}-2-({2-[2-(2-{2-[2-(2-メトキシエトキシ)エトキシ]エトキシ}エトキシ)エトキシ]エトキシ}メチル)プロポキシ基、3-(2-メトキシエトキシ)-2-(2-メトキシエトキシ)プロポキシ基、3-[2-(2-メトキシエトキシ)エトキシ]-2-[2-(2-メトキシエトキシ)エトキシ]プロポキシ基、3-{2-[2-(2-メトキシエトキシ)エトキシ]エトキシ}-2-{2-[2-(2-メトキシエトキシ)エトキシ]エトキシ}プロポキシ基、3-(2-{2-[2-(2-メトキシエトキシ)エトキシ]エトキシ}エトキシ)-2-(2-{2-[2-(2-メトキシエトキシ)エトキシ]エトキシ}エトキシ)プロポキシ基、3-[2-(2-{2-[2-(2-メトキシエトキシ)エトキシ]エトキシ}エトキシ)エトキシ]-2-[2-(2-{2-[2-(2-メトキシエトキシ)エトキシ]エトキシ}エトキシ)エトキシ]プロポキシ基、3-{2-[2-(2-{2-[2-(2-メトキシエトキシ)エトキシ]エトキシ}エトキシ)エトキシ]エトキシ}-2-{2-[2-(2-{2-[2-(2-メトキシエトキシ)エトキシ]エトキシ}エトキシ)エトキシ]エトキシ}プロポキシ基等のアルコキシ基置換アルコキシ基等を例示することができる。 The alkoxy group having 1 to 50 carbon atoms represented by R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 6 and R 8 may be linear, branched or cyclic, and may be a methoxy group or an ethoxy group. , propoxy group, butoxy group, pentyloxy group, hexyloxy group, heptyloxy group, octyloxy group, nonyloxy group, decyloxy group, undecyloxy group, dodecyloxy group, tridecyloxy group, tetradecyloxy group, pentadecyl group Oxy group, hexadecyloxy group, heptadecyloxy group, octadecyloxy group, nonadecyloxy group, icosyloxy group, henicosyloxy group, docosyloxy group, tricosyloxy group, tetracosyloxy group, pentacosyloxy group, hexa Cosyloxy group, heptacosyloxy group, octacosyloxy group, nonacosyloxy group, triacontyloxy group, hentriacontyloxy group, dodriacontyloxy group, tritriacontyloxy group, tetratriacontyloxy group , pentatriacontyloxy group, hexatriacontyloxy group, tetracontyloxy group, hetetracontyloxy group, dotetracontyloxy group, tritetracontyloxy group, tetratetracontyloxy group, pentacontyl group Straight chain alkoxy groups such as oxy groups, isopropoxy groups, 1-(2-methylpropyl)oxy groups, 2-butyloxy groups, tert-butoxy groups, 2-ethylhexyloxy groups, 3,7-dimethyloctyloxy groups, 2 - Branched alkoxy groups such as decyltetradecyloxy group, 2-dodecyltetradecyloxy group, 2-dodecylhexadecyloxy group, 2-tetradecylhexadecyloxy group, cyclic alkoxy groups such as cyclopentyloxy group, cyclohexyloxy group, etc. I can give an example. The alkoxy group may be substituted with an alkoxy group having 1 to 30 carbon atoms, such as 2-methoxyethoxy group, 2-(2-methoxyethoxy)ethoxy group, 2-[2-(2-methoxyethoxy)ethoxy] Ethoxy group, 2-{2-[2-(2-methoxyethoxy)ethoxy]ethoxy}ethoxy group, 2-(2-{2-[2-(2-methoxyethoxy)ethoxy]ethoxy}ethoxy}ethoxy)ethoxy group, 2-[2-(2-{2-[2-(2-methoxyethoxy)ethoxy]ethoxy}ethoxy)ethoxy]ethoxy group, 2-{2-[2-(2-{2-[2-(2 -methoxyethoxy)ethoxy]ethoxy}ethoxy)ethoxy]ethoxy}ethoxy group, 3-(2-methoxyethoxy)-2-[(2-methoxyethoxy)methyl]propoxy group, 3-[2-(2-methoxyethoxy) ) ethoxy]-2-{[2-(2-methoxyethoxy)ethoxy]methyl}propoxy group, 3-{2-[2-(2-methoxyethoxy)ethoxy]ethoxy}-2-({2-[2 -(2-methoxyethoxy)ethoxy]ethoxy}methyl)propoxy group, 3-(2-{2-[2-(2-methoxyethoxy)ethoxy]ethoxy}ethoxy}ethoxy)-2-[(2-{2-[ 2-(2-methoxyethoxy)ethoxy]ethoxy}ethoxy)methyl]propoxy group, 3-[2-(2-{2-[2-(2-methoxyethoxy)ethoxy]ethoxy}ethoxy}ethoxy)ethoxy]-2- {[2-(2-{2-[2-(2-methoxyethoxy)ethoxy]ethoxy}ethoxy)ethoxy]methyl}propoxy group, 3-({2-[2-(2-{2-[2- (2-methoxyethoxy)ethoxy]ethoxy}ethoxy)ethoxy]ethoxy}-2-({2-[2-(2-{2-[2-(2-methoxyethoxy)ethoxy]ethoxy}ethoxy)ethoxy]ethoxy }Methyl)propoxy group, 3-(2-methoxyethoxy)-2-(2-methoxyethoxy)propoxy group, 3-[2-(2-methoxyethoxy)ethoxy]-2-[2-(2-methoxyethoxy) ) ethoxy]propoxy group, 3-{2-[2-(2-methoxyethoxy)ethoxy]ethoxy}-2-{2-[2-(2-methoxyethoxy)ethoxy]ethoxy}propoxy group, 3-(2 -{2-[2-(2-methoxyethoxy)ethoxy]ethoxy}ethoxy)-2-(2-{2-[2-(2-methoxyethoxy)ethoxy]ethoxy}ethoxy}ethoxy)propoxy group, 3-[2 -(2-{2-[2-(2-methoxyethoxy)ethoxy]ethoxy}ethoxy)ethoxy]-2-[2-(2-{2-[2-(2-methoxyethoxy)ethoxy]ethoxy]ethoxy}ethoxy ) ethoxy]propoxy group, 3-{2-[2-(2-{2-[2-(2-methoxyethoxy)ethoxy]ethoxy}ethoxy)ethoxy]ethoxy}-2-{2-[2-(2 Examples include alkoxy groups substituted with alkoxy groups such as -{2-[2-(2-methoxyethoxy)ethoxy]ethoxy}ethoxy)ethoxy]ethoxy}propoxy groups.
R1、R2、R3及びR4で表される炭素数1から50のアシル基としては、例えば、ホルミル基、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、バレリル基、ヘキサノイル基、ヘプタノイル基、オクタノイル基、ノナノイル基、デカノイル基、ドデカノイル基、2-エチルヘキサノイル基、3-エチルヘプタノイル基、3-エチルデカノイル基等の直鎖又は分岐アシル基等が挙げられる。本発明のモノマーと本発明の共役系高分子の溶解性が高い点で、炭素数3から14のアシル基が好ましく、プロピオニル基、ブチリル基、バレリル基、ヘキサノイル基、ヘプタノイル基又はオクタノイル基であることがより好ましい。
R1、R2、R3及びR4で表される炭素数4から30のアリール基としては、例えば、フェニル基、2-フリル基、2-チエニル基、2-ピリジル基、2-ビフェニリル基、2-ターフェニリル基、2-ビチエニル基、p-トリル基、p-ヘキシルフェニル基、p-オクチルフェニル基、p-(2-エチルヘキシル)フェニル基、5-フルオロ-2-フリル基、5-メチル-2-フリル基、5-エチル-2-フリル基、5-プロピル-2-フリル基、5-ブチル-2-フリル基、5-ペンチル-2-フリル基、5-ヘキシル-2-フリル基、5-オクチル-2-フリル基、5-(2-エチルヘキシル)-2-フリル基、5-フルオロ-2-チエニル基、5-メチル-2-チエニル基、5-エチル-2-チエニル基、5-プロピル-2-チエニル基、5-ブチル-2-チエニル基、5-ペンチル-2-チエニル基、5-ヘキシル-2-チエニル基、5-オクチル-2-チエニル基、5-(2-エチルヘキシル)-2-チエニル基、5’-(2-エチルヘキシル)-2-ビフェニリル基、5’,5’’-ビス(2-エチルヘキシル)-2-ターフェニリル基、5’-(2-エチルヘキシル)-2-チエニル基等を挙げることができる。
R1、R2、R3及びR4で表される炭素数2から50のアルケニル基としては、例えば、エテニル基、1-プロペニル基、2-プロペニル基、1-ブテニル基、2-ブテニル基、3-ブテニル基、1-ペンテニル基、2-ペンテニル基、3-ペンテニル基、4-ペンテニル基、1-ヘキセニル基、2-ヘキセニル基、3-ヘキセニル基、4-ヘキセニル基、5-ヘキセニル基、1-ヘプテニル基、2-ヘプテニル基、3-ヘプテニル基、4-ヘプテニル基、5-ヘプテニル基、6-ヘプテニル基、1-オクテニル基、2-オクテニル基、3-オクテニル基、4-オクテニル基、5-オクテニル基、6-オクテニル基、7-オクテニル基、1-ノネル基、2-ノネル基、3-ノネル基、4-ノネル基、5-ノネル基、6-ノネル基、7-ノネル基、8-ノネル基、1-デセニル基、2-デセニル基、3-デセニル基、4-デセニル基、5-デセニル基、6-デセニル基、7-デセニル基、8-デセニル基、9-デセニル基、1-ウンデセニル基、2-ウンデセニル基、3-ウンデセニル基、4-ウンデセニル基、5-ウンデセニル基、6-ウンデセニル基、7-ウンデセニル基、8-ウンデセニル基、9-ウンデセニル基、10-ウンデセニル基、1-ドデセニル基、2-ドデセニル基、3-ドデセニル基、4-ドデセニル基、5-ドデセニル基、6-ドデセニル基、7-ドデセニル基、8-ドデセニル基、9-ドデセニル基、10-ドデセニル基、11-ドデセニル基、1-トリデセニル基、2-トリデセニル基、3-トリデセニル基、4-トリデセニル基、5-トリデセニル基、6-トリデセニル基、7-トリデセニル基、8-トリデセニル基、9-トリデセニル基、10-トリデセニル基、11-トリデセニル基、12-トリデセニル基、1-テトラデセニル基、2-テトラデセニル基、3-テトラデセニル基、4-テトラデセニル基、5-テトラデセニル基、6-テトラデセニル基、7-テトラデセニル基、8-テトラデセニル基、9-テトラデセニル基、10-テトラデセニル基、11-テトラデセニル基、12-テトラデセニル基、13-テトラデセニル基、1-ペンタデセニル基、2-ペンタデセニル基、3-ペンタデセニル基、4-ペンタデセニル基、5-ペンタデセニル基、6-ペンタデセニル基、7-ペンタデセニル基、8-ペンタデセニル基、9-ペンタデセニル基、10-ペンタデセニル基、11-ペンタデセニル基、12-ペンタデセニル基、13-ペンタデセニル基、14-ペンタデセニル基、1-ヘキサデセニル基、2-ヘキサデセニル基、3-ヘキサデセニル基、4-ヘキサデセニル基、5-ヘキサデセニル基、6-ヘキサデセニル基、7-ヘキサデセニル基、8-ヘキサデセニル基、9-ヘキサデセニル基、10-ヘキサデセニル基、11-ヘキサデセニル基、12-ヘキサデセニル基、13-ヘキサデセニル基、14-ヘキサデセニル基、15-ヘキサデセニル基、1-ヘプタデセニル基、2-ヘプタデセニル基、3-ヘプタデセニル基、4-ヘプタデセニル基、5-ヘプタデセニル基、6-ヘプタデセニル基、7-ヘプタデセニル基、8-ヘプタデセニル基、9-ヘプタデセニル基、10-ヘプタデセニル基、11-ヘプタデセニル基、12-ヘプタデセニル基、13-ヘプタデセニル基、14-ヘプタデセニル基、15-ヘプタデセニル基、16-ヘプタデセニル基、1-オクタデセニル基、2-オクタデセニル基、3-オクタデセニル基、4-オクタデセニル基、5-オクタデセニル基、6-オクタデセニル基、7-オクタデセニル基、8-オクタデセニル基、9-オクタデセニル基、10-オクタデセニル基、11-オクタデセニル基、12-オクタデセニル基、13-オクタデセニル基、14-オクタデセニル基、15-オクタデセニル基、16-オクタデセニル基、17-オクタデセニル基、1-ノナデセニル基、2-ノナデセニル基、3-ノナデセニル基、4-ノナデセニル基、5-ノナデセニル基、6-ノナデセニル基、7-ノナデセニル基、8-ノナデセニル基、9-ノナデセニル基、10-ノナデセニル基、11-ノナデセニル基、12-ノナデセニル基、13-ノナデセニル基、14-ノナデセニル基、15-ノナデセニル基、16-ノナデセニル基、17-ノナデセニル基、18-ノナデセニル基、1-エイコセニル基、2-エイコセニル基、3-エイコセニル基、4-エイコセニル基、5-エイコセニル基、6-エイコセニル基、7-エイコセニル基、8-エイコセニル基、9-エイコセニル基、10-エイコセニル基、11-エイコセニル基、12-エイコセニル基、13-エイコセニル基、14-エイコセニル基、15-エイコセニル基、16-エイコセニル基、17-エイコセニル基、18-エイコセニル基、19-エイコセニル基、、1-ヘンイコセニル基、2-ヘンイコセニル基、3-ヘンイコセニル基、4-ヘンイコセニル基、5-ヘンイコセニル基、6-ヘンイコセニル基、7-ヘンイコセニル基、8-ヘンイコセニル基、9-ヘンイコセニル基、10-ヘンイコセニル基、11-ヘンイコセニル基、12-ヘンイコセニル基、13-ヘンイコセニル基、14-ヘンイコセニル基、15-ヘンイコセニル基、16-ヘンイコセニル基、17-ヘンイコセニル基、18-ヘンイコセニル基、19-ヘンイコセニル基、20-ヘンイコセニル基、1-ドコセニル基、2-ドコセニル基、3-ドコセニル基、4-ドコセニル基、5-ドコセニル基、6-ドコセニル基、7-ドコセニル基、8-ドコセニル基、9-ドコセニル基、10-ドコセニル基、11-ドコセニル基、12-ドコセニル基、13-ドコセニル基、14-ドコセニル基、15-ドコセニル基、16-ドコセニル基、17-ドコセニル基、18-ドコセニル基、19-ドコセニル基、20-ドコセニル基、21-ドコセニル基、1-トリコセニル基、2-トリコセニル基、3-トリコセニル基、4-トリコセニル基、5-トリコセニル基、6-トリコセニル基、7-トリコセニル基、8-トリコセニル基、9-トリコセニル基、10-トリコセニル基、11-トリコセニル基、12-トリコセニル基、13-トリコセニル基、14-トリコセニル基、15-トリコセニル基、16-トリコセニル基、17-トリコセニル基、18-トリコセニル基、19-トリコセニル基、20-トリコセニル基、21-トリコセニル基、22-トリコセニル基、1-テトラコセニル基、2-テトラコセニル基、3-テトラコセニル基、4-テトラコセニル基、5-テトラコセニル基、6-テトラコセニル基、7-テトラコセニル基、8-テトラコセニル基、9-テトラコセニル基、10-テトラコセニル基、11-テトラコセニル基、12-テトラコセニル基、13-テトラコセニル基、14-テトラコセニル基、15-テトラコセニル基、16-テトラコセニル基、17-テトラコセニル基、18-テトラコセニル基、19-テトラコセニル基、20-テトラコセニル基、21-テトラコセニル基、22-テトラコセニル基、23-テトラコセニル基、1-ペンタコセニル基、2-ペンタコセニル基、3-ペンタコセニル基、4-ペンタコセニル基、5-ペンタコセニル基、6-ペンタコセニル基、7-ペンタコセニル基、8-ペンタコセニル基、9-ペンタコセニル基、10-ペンタコセニル基、11-ペンタコセニル基、12-ペンタコセニル基、13-ペンタコセニル基、14-ペンタコセニル基、15-ペンタコセニル基、16-ペンタコセニル基、17-ペンタコセニル基、18-ペンタコセニル基、19-ペンタコセニル基、20-ペンタコセニル基、21-ペンタコセニル基、22-ペンタコセニル基、23-ペンタコセニル基、24-ペンタコセニル基、1-ヘキサコセニル基、2-ヘキサコセニル基、3-ヘキサコセニル基、4-ヘキサコセニル基、5-ヘキサコセニル基、6-ヘキサコセニル基、7-ヘキサコセニル基、8-ヘキサコセニル基、9-ヘキサコセニル基、10-ヘキサコセニル基、11-ヘキサコセニル基、12-ヘキサコセニル基、13-ヘキサコセニル基、14-ヘキサコセニル基、15-ヘキサコセニル基、16-ヘキサコセニル基、17-ヘキサコセニル基、18-ヘキサコセニル基、19-ヘキサコセニル基、20-ヘキサコセニル基、21-ヘキサコセニル基、22-ヘキサコセニル基、23-ヘキサコセニル基、24-ヘキサコセニル基、25-ヘキサコセニル基、、1-ヘプタコセニル基、2-ヘプタコセニル基、3-ヘプタコセニル基、4-ヘプタコセニル基、5-ヘプタコセニル基、6-ヘプタコセニル基、7-ヘプタコセニル基、8-ヘプタコセニル基、9-ヘプタコセニル基、10-ヘプタコセニル基、11-ヘプタコセニル基、12-ヘプタコセニル基、13-ヘプタコセニル基、14-ヘプタコセニル基、15-ヘプタコセニル基、16-ヘプタコセニル基、17-ヘプタコセニル基、18-ヘプタコセニル基、19-ヘプタコセニル基、20-ヘプタコセニル基、21-ヘプタコセニル基、22-ヘプタコセニル基、23-ヘプタコセニル基、24-ヘプタコセニル基、25-ヘプタコセニル基、26-ヘプタコセニル基、1-オクタコセニル基、2-オクタコセニル基、3-オクタコセニル基、4-オクタコセニル基、5-オクタコセニル基、6-オクタコセニル基、7-オクタコセニル基、8-オクタコセニル基、9-オクタコセニル基、10-オクタコセニル基、11-オクタコセニル基、12-オクタコセニル基、13-オクタコセニル基、14-オクタコセニル基、15-オクタコセニル基、16-オクタコセニル基、17-オクタコセニル基、18-オクタコセニル基、19-オクタコセニル基、20-オクタコセニル基、21-オクタコセニル基、22-オクタコセニル基、23-オクタコセニル基、24-オクタコセニル基、25-オクタコセニル基、26-オクタコセニル基、27-オクタコセニル基、1-ノナコセニル基、2-ノナコセニル基、3-ノナコセニル基、4-ノナコセニル基、5-ノナコセニル基、6-ノナコセニル基、7-ノナコセニル基、8-ノナコセニル基、9-ノナコセニル基、10-ノナコセニル基、11-ノナコセニル基、12-ノナコセニル基、13-ノナコセニル基、14-ノナコセニル基、15-ノナコセニル基、16-ノナコセニル基、17-ノナコセニル基、18-ノナコセニル基、19-ノナコセニル基、20-ノナコセニル基、21-ノナコセニル基、22-ノナコセニル基、23-ノナコセニル基、24-ノナコセニル基、25-ノナコセニル基、26-ノナコセニル基、27-ノナコセニル基、28-ノナコセニル基、1-トリアコンテニル基、2-トリアコンテニル基、3-トリアコンテニル基、4-トリアコンテニル基、5-トリアコンテニル基、6-トリアコンテニル基、7-トリアコンテニル基、8-トリアコンテニル基、9-トリアコンテニル基、10-トリアコンテニル基、11-トリアコンテニル基、12-トリアコンテニル基、13-トリアコンテニル基、14-トリアコンテニル基、15-トリアコンテニル基、16-トリアコンテニル基、17-トリアコンテニル基、18-トリアコンテニル基、19-トリアコンテニル基、20-トリアコンテニル基、21-トリアコンテニル基、22-トリアコンテニル基、23-トリアコンテニル基、24-トリアコンテニル基、25-トリアコンテニル基、26-トリアコンテニル基、27-トリアコンテニル基、28-トリアコンテニル基、29-トリアコンテニル基、1-ヘントリアコンテニル基、2-ヘントリアコンテニル基、3-ヘントリアコンテニル基、4-ヘントリアコンテニル基、5-ヘントリアコンテニル基、6-ヘントリアコンテニル基、7-ヘントリアコンテニル基、8-ヘントリアコンテニル基、9-ヘントリアコンテニル基、10-ヘントリアコンテニル基、11-ヘントリアコンテニル基、12-ヘントリアコンテニル基、13-ヘントリアコンテニル基、14-ヘントリアコンテニル基、15-ヘントリアコンテニル基、16-ヘントリアコンテニル基、17-ヘントリアコンテニル基、18-ヘントリアコンテニル基、19-ヘントリアコンテニル基、20-ヘントリアコンテニル基、21-ヘントリアコンテニル基、22-ヘントリアコンテニル基、23-ヘ
ントリアコンテニル基、24-ヘントリアコンテニル基、25-ヘントリアコンテニル基、26-ヘントリアコンテニル基、27-ヘントリアコンテニル基、28-ヘントリアコンテニル基、29-ヘントリアコンテニル基、30-ヘントリアコンテニル基、1-ドドリアコンテニル基、2-ドドリアコンテニル基、3-ドドリアコンテニル基、4-ドドリアコンテニル基、5-ドドリアコンテニル基、6-ドドリアコンテニル基、7-ドドリアコンテニル基、8-ドドリアコンテニル基、9-ドドリアコンテニル基、10-ドドリアコンテニル基、11-ドドリアコテンニル基、12-ドドリアコンテニル基、13-ドドリアコンテニル基、14-ドドリアコテンニル基、15-ドドリアコンテニル基、16-ドドリアコンテニル基、17-ドドリアコンテニル基、18-ドドリアコンテニル基、19-ドドリアコンテニル基、20-ドドリアコンテニル基、21-ドドリアコンテニル基、22-ドドリアコンテニル基、23-ドドリアコンテニル基、24-ドドリアコンテニル基、25-ドドリアコンテニル基、26-ドドリアコンテニル基、27-ドドリアコンテニル基、28-ドドリアコンテニル基、29-ドドリアコンテニル基、30-ドドリアコンテニル基、31-ドドリアコンテニル基、1-トリトリアコンテニル基、2-トリトリアコンテニル基、3-トリトリアコンテニル基、4-トリトリアコンテニル基、5-トリトリアコンテニル基、6-トリトリアコンテニル基、7-トリトリアコンテニル基、8-トリトリアコンテニル基、9-トリトリアコンテニル基、10-トリトリアコンテニル基、11-トリトリアコンテニル基、12-トリトリアコンテニル基、13-トリトリアコンテニル基、14-トリトリアコンテニル基、15-トリトリアコンテニル基、16-トリトリアコンテニル基、17-トリトリアコンテニル基、18-トリトリアコンテニル基、19-トリトリアコンテニル基、20-トリトリアコンテニル基、21-トリトリアコンテニル基、22-トリトリアコンテニル基、23-トリトリアコンテニル基、24-トリトリアコンテニル基、25-トリトリアコンテニル基、26-トリトリアコンテニル基、27-トリトリアコンテニル基、28-トリトリアコンテニル基、29-トリトリアコンテニル基、30-トリトリアコンテニル基、31-トリトリアコンテニル基、32-トリトリアコンテニル基、1-テトラトリアコンテニル基、2-テトラトリアコンテニル基、3-テトラトリアコンテニル基、4-テトラトリアコンテニル基、5-テトラトリアコンテニル基、6-テトラトリアコンテニル基、7-テトラトリアコンテニル基、8-テトラトリアコンテニル基、9-テトラトリアコンテニル基、10-テトラトリアコンテニル基、11-テトラトリアコンテニル基、12-テトラトリアコンテニル基、13-テトラトリアコンテニル基、14-テトラトリアコンテニル基、15-テトラトリアコンテニル基、16-テトラトリアコンテニル基、17-テトラトリアコンテニル基、18-テトラトリアコンテニル基、19-テトラトリアコンテニル基、20-テトラトリアコンテニル基、21-テトラトリアコンテニル基、22-テトラトリアコンテニル基、23-テトラトリアコンテニル基、24-テトラトリアコンテニル基、25-テトラトリアコンテニル基、26-テトラトリアコンテニル基、27-テトラトリアコンテニル基、28-テトラトリアコンテニル基、29-テトラトリアコンテニル基、30-テトラトリアコンテニル基、31-テトラトリアコンテニル基、32-テトラトリアコンテニル基、33-テトラトリアコンテニル基、1-ペンタトリアコンテニル基、2-ペンタトリアコンテニル基、3-ペンタトリアコンテニル基、4-ペンタトリアコンテニル基、5-ペンタトリアコンテニル基、6-ペンタトリアコンテニル基、7-ペンタトリアコンテニル基、8-ペンタトリアコンテニル基、9-ペンタトリアコンテニル基、10-ペンタトリアコンテニル基、11-ペンタトリアコンテニル基、12-ペンタトリアコンテニル基、13-ペンタトリアコンテニル基、14-ペンタトリアコンテニル基、15-ペンタトリアコンテニル基、16-ペンタトリアコンテニル基、17-ペンタトリアコンテニル基、18-ペンタトリアコンテニル基、19-ペンタトリアコンテニル基、20-ペンタトリアコンテニル基、21-ペンタトリアコンテニル基、22-ペンタトリアコンテニル基、23-ペンタトリアコンテニル基、24-ペンタトリアコンテニル基、25-ペンタトリアコンテニル基、26-ペンタトリアコンテニル基、27-ペンタトリアコンテニル基、28-ペンタトリアコンテニル基、29-ペンタトリアコンテニル基、30-ペンタトリアコンテニル基、31-ペンタトリアコンテニル基、32-ペンタトリアコンテニル基、33-ペンタトリアコンテニル基、34-ペンタトリアコンテニル基、1-ヘキサトリアコンテニル基、2-ヘキサトリアコンテニル基、3-ヘキサトリアコンテニル基、4-ヘキサトリアコンテニル基、5-ヘキサトリアコンテニル基、6-ヘキサトリアコンテニル基、7-ヘキサトリアコンテニル基、8-ヘキサトリアコンテニル基、9-ヘキサトリアコンテニル基、10-ヘキサトリアコンテニル基、11-ヘキサトリアコンテニル基、12-ヘキサトリアコンテニル基、13-ヘキサトリアコンテニル基、14-ヘキサトリアコンテニル基、15-ヘキサトリアコンテニル基、16-ヘキサトリアコンテニル基、17-ヘキサトリアコンテニル基、18-ヘキサトリアコンテニル基、19-ヘキサトリアコンテニル基、20-ヘキサトリアコンテニル基、21-ヘキサトリアコンテニル基、22-ヘキサトリアコンテニル基、23-ヘキサトリアコンテニル基、24-ヘキサトリアコンテニル基、25-ヘキサトリアコンテニル基、26-ヘキサトリアコンテニル基、27-ヘキサトリアコンテニル基、28-ヘキサトリアコンテニル基、29-ヘキサトリアコンテニル基、30-ヘキサトリアコンテニル基、31-ヘキサトリアコンテニル基、32-ヘキサトリアコンテニル基、33-ヘキサトリアコンテニル基、34-ヘキサトリアコンテニル基、35-ヘキサトリアコンテニル基、1-テトラコテニル基、2-テトラコテニル基、3-テトラコテニル基、4-テトラコテニル基、5-テトラコテニル基、6-テトラコテニル基、7-テトラコテニル基、8-テトラコテニル基、9-テトラコテニル基、10-テトラコテニル基、11-テトラコテニル基、12-テトラコテニル基、13-テトラコテニル基、14-テトラコテニル基、15-テトラコテニル基、16-テトラコテニル基、17-テトラコテニル基、18-テトラコテニル基、19-テトラコテニル基、20-テトラコテニル基、21-テトラコテニル基、22-テトラコテニル基、23-テトラコテニル基、24-テトラコテニル基、25-テトラコテニル基、26-テトラコテニル基、27-テトラコテニル基、28-テトラコテニル基、29-テトラコテニル基、30-テトラコテニル基、31-テトラコテニル基、32-テトラコテニル基、33-テトラコテニル基、34-テトラコテニル基、35-テトラコテニル基、36-テトラコテニル基、1-ヘンテトラコテニル基、2-ヘンテトラコテニル基、3-ヘンテトラコテニル基、4-ヘンテトラコテニル基、5-ヘンテトラコテニル基、6-ヘンテトラコテニル基、7-ヘンテトラコテニル基、8-ヘンテトラコテニル基、9-ヘンテトラコテニル基、10-ヘンテトラコテニル基、11-ヘンテトラコテニル基、12-ヘンテトラコテニル基、13-ヘンテトラコテニル基、14-ヘンテトラコテニル基、15-ヘンテトラコテニル基、16-ヘンテトラコテニル基、17-ヘンテトラコテニル基、18-ヘンテトラコテニル基、19-ヘンテトラコテニル基、20-ヘンテトラコテニル基、21-ヘンテトラコテニル基、22-ヘンテトラコテニル基、23-ヘンテトラコテニル基、24-ヘンテトラコテニル基、25-ヘンテトラコテニル基、26-ヘンテトラコテニル基、27-ヘンテトラコテニル基、28-ヘンテトラコテニル基、29-ヘンテトラコテニル基、30-ヘンテトラコテニル基、31-ヘンテトラコテニル基、32-ヘンテトラコテニル基、33-ヘンテトラコテニル基、34-ヘンテトラコテニル基、35-ヘンテトラコテニル基、36-ヘンテトラコテニル基、37-ヘンテトラコテニル基、1-ドテトラコテニル基、2-ドテトラコテニル基、3-ドテトラコテニル基、4-ドテトラコテニル基、5-ドテトラコテニル基、6-ドテトラコテニル基、7-ドテトラコテニル基、8-ドテトラコテニル基、9-ドテトラコテニル基、10-ドテトラコテニル基、11-ドテトラコテニル基、12-ドテトラコテニル基、13-ドテトラコテニル基、14-ドテトラコテニル基、15-ドテトラコテニル基、16-ドテトラコテニル基、17-ドテトラコテニル基、18-ドテトラコテニル基、19-ドテトラコテニル基、20-ドテトラコテニル基、21-ドテトラコテニル基、22-ドテトラコテニル基、23-ドテトラコテニル基、24-ドテトラコテニル基、25-ドテトラコテニル基、26-ドテトラコテニル基、27-ドテトラコテニル基、28-ドテトラコテニル基、29-ドテトラコテニル基、30-ドテトラコテニル基、31-ドテトラコテニル基、32-ドテトラコテニル基、33-ドテトラコテニル基、34-ドテトラコテニル基、35-ドテトラコテニル基、36-ドテトラコテニル基、37-ドテトラコテニル基、38-ドテトラコテニル基、1-トリテトラコテニル基、2-トリテトラコテニル基、3-トリテトラコテニル基、4-トリテトラコテニル基、5-トリテトラコテニル基、6-トリテトラコテニル基、7-トリテトラコテニル基、8-トリテトラコテニル基、9-トリテトラコテニル基、10-トリテトラコテニル基、11-トリテトラコテニル基、12-トリテトラコテニル基、13-トリテトラコテニル基、14-トリテトラコテニル基、15-トリテトラコテニル基、16-トリテトラコテニル基、17-トリテトラコテニル基、18-トリテトラコテニル基、19-トリテトラコテニル基、20-トリテトラコテニル基、21-トリテトラコテニル基、22-トリテトラコテニル基、23-トリテトラコテニル基、24-トリテトラコテニル基、25-トリテトラコテニル基、26-トリテトラコテニル基、27-トリテトラコテニル基、28-トリテトラコテニル基、29-トリテトラコテニル基、30-トリテトラコテニル基、31-トリテトラコテニル基、32-トリテトラコテニル基、33-トリテトラコテニル基、34-トリテトラコテニル基、35-トリテトラコテニル基、36-トリテトラコテニル基、37-トリテトラコテニル基、38-トリテトラコテニル基、39-トリテトラコテニル基、1-テトラテトラコテニル基、2-テトラテトラコテニル基、3-テトラテトラコテニル基、4-テトラテトラコテニル基、5-テトラテトラコテニル基、6-テトラテトラコテニル基、7-テトラテトラコテニル基、8-テトラテトラコテニル基、9-テトラテトラコテニル基、10-テトラテトラコテニル基、11-テトラテトラコテニル基、12-テトラテトラコテニル基、13-テトラテトラコテニル基、14-テトラテトラコテニル基、15-テトラテトラコテニル基、16-テトラテトラコテニル基、17-テトラテトラコテニル基、18-テトラテトラコテニル基、19-テトラテトラコテニル基、20-テトラテトラコテニル基、21-テトラテトラコテニル基、22-テトラテトラコテニル基、23-テトラテトラコテニル基、24-テトラテトラコテニル基、25-テトラテトラコテニル基、26-テトラテトラコテニル基、27-テトラテトラコテニル基、28-テトラテトラコテニル基、29-テトラテトラコテニル基、30-テトラテトラコテニル基、31-テトラテトラコテニル基、32-テトラテトラコテニル基、33-テトラテトラコテニル基、34-テトラテトラコテニル基、35-テトラテトラコテニル基、36-テトラテトラコテニル基、37-テトラテトラコテニル基、38-テ
トラテトラコテニル基、39-テトラテトラコテニル基、40-テトラテトラコテニル基、、1-ペンタコテニル基、2-ペンタコテニル基、3-ペンタコテニル基、4-ペンタコテニル基、5-ペンタコテニル基、6-ペンタコテニル基、7-ペンタコテニル基、8-ペンタコテニル基、9-ペンタコテニル基、10-ペンタコテニル基、11-ペンタコテニル基、12-ペンタコテニル基、13-ペンタコテニル基、14-ペンタコテニル基、15-ペンタコテニル基、16-ペンタコテニル基、17-ペンタコテニル基、18-ペンタコテニル基、19-ペンタコテニル基、20-ペンタコテニル基、21-ペンタコテニル基、22-ペンタコテニル基、23-ペンタコテニル基、24-ペンタコテニル基、25-ペンタコテニル基、26-ペンタコテニル基、27-ペンタコテニル基、28-ペンタコテニル基、29-ペンタコテニル基、30-ペンタコテニル基、31-ペンタコテニル基、32-ペンタコテニル基、33-ペンタコテニル基、34-ペンタコテニル基、35-ペンタコテニル基、36-ペンタコテニル基、37-ペンタコテニル基、38-ペンタコテニル基、39-ペンタコテニル基、40-ペンタコテニル基、41-ペンタコテニル基、42-ペンタコテニル基、43-ペンタコテニル基、44-ペンタコテニル基、45-ペンタコテニル基、46-ペンタコテニル基、47-ペンタコテニル基、48-ペンタコテニル基、49-ペンタコテニル基、50-ペンタコテニル基等の直鎖アルキル基、2-エチル-1-ヘキセニル基、2-エチル-2-ヘキセニル基、2-エチル-3-ヘキセニル基、2-エチル-4-ヘキセニル基、2-エチル-5-ヘキセニル基、3,7-ジメチル-1-オクテニル基、3,7-ジメチル-2-オクテニル基、3,7-ジメチル-3-オクテニル基、3,7-ジメチル-4-オクテニル基、3,7-ジメチル-5-オクテニル基、3,7-ジメチル-6-オクテニル基、3,7-ジメチル-7-オクテニル基、2-ヘキシル-1-デセニル基、2-ヘキシル-2-デセニル基、2-ヘキシル-3-デセニル基、2-ヘキシル-4-デセニル基、2-ヘキシル-5-デセニル基、2-ヘキシル-6-デセニル基、2-ヘキシル-7-デセニル基、2-ヘキシル-8-デセニル基、2-ヘキシル-9-デセニル基、2-デシル-1-テトラデセニル基、2-デシル-2-テトラデセニル基、2-デシル-3-テトラデセニル基、2-デシル-4-テトラデセニル基、2-デシル-5-テトラデセニル基、2-デシル-6-テトラデセニル基、2-デシル-7-テトラデセニル基、2-デシル-8-テトラデセニル基、2-デシル-9-テトラデセニル基、2-デシル-10-テトラデセニル基、2-デシル-11-テトラデセニル基、2-デシル-12-テトラデセニル基、2-デシル-13-テトラデセニル基、2-ドデシル-1-テトラデセニル基、2-ドデシル-2-テトラデセニル基、2-ドデシル-3-テトラデセニル基、2-ドデシル-4-テトラデセニル基、2-ドデシル-5-テトラデセニル基、2-ドデシル-6-テトラデセニル基、2-ドデシル-7-テトラデセニル基、2-ドデシル-8-テトラデセニル基、2-ドデシル-9-テトラデセニル基、2-ドデシル-10-テトラデセニル基、2-ドデシル-11-テトラデセニル基、2-ドデシル-12-テトラデセニル基、2-ドデシル-13-テトラデセニル基、2-ドデシル-1-ヘキサデセニル基、2-ドデシル-2-ヘキサデセニル基、2-ドデシル-3-ヘキサデセニル基、2-ドデシル-4-ヘキサデセニル基、2-ドデシル-5-ヘキサデセニル基、2-ドデシル-6-ヘキサデセニル基、2-ドデシル-7-ヘキサデセニル基、2-ドデシル-8-ヘキサデセニル基、2-ドデシル-9-ヘキサデセニル基、2-ドデシル-10-ヘキサデセニル基、2-ドデシル-11-ヘキサデセニル基、2-ドデシル-12-ヘキサデセニル基、2-ドデシル-13-ヘキサデセニル基、2-ドデシル-14-ヘキサデセニル基、2-ドデシル-15-ヘキサデセニル基、2-テトラデシル-1-ヘキサデセニル基、2-テトラデシル-2-ヘキサデセニル基、2-テトラデシル-3-ヘキサデセニル基、2-テトラデシル-4-ヘキサデセニル基、2-テトラデシル-5-ヘキサデセニル基、2-テトラデシル-6-ヘキサデセニル基、2-テトラデシル-7-ヘキサデセニル基、2-テトラデシル-8-ヘキサデセニル基、2-テトラデシル-9-ヘキサデセニル基、2-テトラデシル-10-ヘキサデセニル基、2-テトラデシル-11-ヘキサデセニル基、2-テトラデシル-12-ヘキサデセニル基、2-テトラデシル-13-ヘキサデセニル基、2-テトラデシル-14-ヘキサデセニル基、2-テトラデシル-15-ヘキサデセニル基等を挙げることができる。
Examples of the acyl group having 1 to 50 carbon atoms represented by R 1 , R 2 , R 3 and R 4 include formyl group, acetyl group, propionyl group, butyryl group, isobutyryl group, valeryl group, hexanoyl group, heptanoyl group. Examples include straight-chain or branched acyl groups such as octanoyl group, nonanoyl group, decanoyl group, dodecanoyl group, 2-ethylhexanoyl group, 3-ethylheptanoyl group, and 3-ethyldecanoyl group. From the viewpoint of high solubility of the monomer of the present invention and the conjugated polymer of the present invention, an acyl group having 3 to 14 carbon atoms is preferred, such as a propionyl group, a butyryl group, a valeryl group, a hexanoyl group, a heptanoyl group, or an octanoyl group. It is more preferable.
Examples of the aryl group having 4 to 30 carbon atoms represented by R 1 , R 2 , R 3 and R 4 include phenyl group, 2-furyl group, 2-thienyl group, 2-pyridyl group, and 2-biphenylyl group. , 2-terphenylyl group, 2-bitienyl group, p-tolyl group, p-hexylphenyl group, p-octylphenyl group, p-(2-ethylhexyl)phenyl group, 5-fluoro-2-furyl group, 5-methyl -2-furyl group, 5-ethyl-2-furyl group, 5-propyl-2-furyl group, 5-butyl-2-furyl group, 5-pentyl-2-furyl group, 5-hexyl-2-furyl group , 5-octyl-2-furyl group, 5-(2-ethylhexyl)-2-furyl group, 5-fluoro-2-thienyl group, 5-methyl-2-thienyl group, 5-ethyl-2-thienyl group, 5-propyl-2-thienyl group, 5-butyl-2-thienyl group, 5-pentyl-2-thienyl group, 5-hexyl-2-thienyl group, 5-octyl-2-thienyl group, 5-(2- ethylhexyl)-2-thienyl group, 5'-(2-ethylhexyl)-2-biphenylyl group, 5',5''-bis(2-ethylhexyl)-2-terphenylyl group, 5'-(2-ethylhexyl)- Examples include 2-thienyl group.
Examples of the alkenyl group having 2 to 50 carbon atoms represented by R 1 , R 2 , R 3 and R 4 include ethenyl group, 1-propenyl group, 2-propenyl group, 1-butenyl group, 2-butenyl group. , 3-butenyl group, 1-pentenyl group, 2-pentenyl group, 3-pentenyl group, 4-pentenyl group, 1-hexenyl group, 2-hexenyl group, 3-hexenyl group, 4-hexenyl group, 5-hexenyl group , 1-heptenyl group, 2-heptenyl group, 3-heptenyl group, 4-heptenyl group, 5-heptenyl group, 6-heptenyl group, 1-octenyl group, 2-octenyl group, 3-octenyl group, 4-octenyl group , 5-octenyl group, 6-octenyl group, 7-octenyl group, 1-nonel group, 2-nonel group, 3-nonel group, 4-nonel group, 5-nonel group, 6-nonel group, 7-nonel group , 8-nonel group, 1-decenyl group, 2-decenyl group, 3-decenyl group, 4-decenyl group, 5-decenyl group, 6-decenyl group, 7-decenyl group, 8-decenyl group, 9-decenyl group , 1-undecenyl group, 2-undecenyl group, 3-undecenyl group, 4-undecenyl group, 5-undecenyl group, 6-undecenyl group, 7-undecenyl group, 8-undecenyl group, 9-undecenyl group, 10-undecenyl group , 1-dodecenyl group, 2-dodecenyl group, 3-dodecenyl group, 4-dodecenyl group, 5-dodecenyl group, 6-dodecenyl group, 7-dodecenyl group, 8-dodecenyl group, 9-dodecenyl group, 10-dodecenyl group , 11-dodecenyl group, 1-tridecenyl group, 2-tridecenyl group, 3-tridecenyl group, 4-tridecenyl group, 5-tridecenyl group, 6-tridecenyl group, 7-tridecenyl group, 8-tridecenyl group, 9-tridecenyl group , 10-tridecenyl group, 11-tridecenyl group, 12-tridecenyl group, 1-tetradecenyl group, 2-tetradecenyl group, 3-tetradecenyl group, 4-tetradecenyl group, 5-tetradecenyl group, 6-tetradecenyl group, 7-tetradecenyl group , 8-tetradecenyl group, 9-tetradecenyl group, 10-tetradecenyl group, 11-tetradecenyl group, 12-tetradecenyl group, 13-tetradecenyl group, 1-pentadecenyl group, 2-pentadecenyl group, 3-pentadecenyl group, 4-pentadecenyl group , 5-pentadecenyl group, 6-pentadecenyl group, 7-pentadecenyl group, 8-pentadecenyl group, 9-pentadecenyl group, 10-pentadecenyl group, 11-pentadecenyl group, 12-pentadecenyl group, 13-pentadecenyl group, 14-pentadecenyl group , 1-hexadecenyl group, 2-hexadecenyl group, 3-hexadecenyl group, 4-hexadecenyl group, 5-hexadecenyl group, 6-hexadecenyl group, 7-hexadecenyl group, 8-hexadecenyl group, 9-hexadecenyl group, 10-hexadecenyl group , 11-hexadecenyl group, 12-hexadecenyl group, 13-hexadecenyl group, 14-hexadecenyl group, 15-hexadecenyl group, 1-heptadecenyl group, 2-heptadecenyl group, 3-heptadecenyl group, 4-heptadecenyl group, 5-heptadecenyl group , 6-heptadecenyl group, 7-heptadecenyl group, 8-heptadecenyl group, 9-heptadecenyl group, 10-heptadecenyl group, 11-heptadecenyl group, 12-heptadecenyl group, 13-heptadecenyl group, 14-heptadecenyl group, 15-heptadecenyl group , 16-heptadecenyl group, 1-octadecenyl group, 2-octadecenyl group, 3-octadecenyl group, 4-octadecenyl group, 5-octadecenyl group, 6-octadecenyl group, 7-octadecenyl group, 8-octadecenyl group, 9-octadecenyl group , 10-octadecenyl group, 11-octadecenyl group, 12-octadecenyl group, 13-octadecenyl group, 14-octadecenyl group, 15-octadecenyl group, 16-octadecenyl group, 17-octadecenyl group, 1-nonadecenyl group, 2-nonadecenyl group , 3-nonadecenyl group, 4-nonadecenyl group, 5-nonadecenyl group, 6-nonadecenyl group, 7-nonadecenyl group, 8-nonadecenyl group, 9-nonadecenyl group, 10-nonadecenyl group, 11-nonadecenyl group, 12-nonadecenyl group , 13-nonadecenyl group, 14-nonadecenyl group, 15-nonadecenyl group, 16-nonadecenyl group, 17-nonadecenyl group, 18-nonadecenyl group, 1-eicosenyl group, 2-eicosenyl group, 3-eicosenyl group, 4-eicosenyl group , 5-eicosenyl group, 6-eicosenyl group, 7-eicosenyl group, 8-eicosenyl group, 9-eicosenyl group, 10-eicosenyl group, 11-eicosenyl group, 12-eicosenyl group, 13-eicosenyl group, 14-eicosenyl group , 15-eicosenyl group, 16-eicosenyl group, 17-eicosenyl group, 18-eicosenyl group, 19-eicosenyl group, 1-heicosenyl group, 2-heicosenyl group, 3-heicosenyl group, 4-heicosenyl group, 5-heicosenyl group group, 6-henicosenyl group, 7-henicosenyl group, 8-henicosenyl group, 9-henicosenyl group, 10-henicosenyl group, 11-henicosenyl group, 12-henicosenyl group, 13-henicosenyl group, 14-henicosenyl group, 15-henicosenyl group group, 16-henicosenyl group, 17-henicosenyl group, 18-henicosenyl group, 19-henicosenyl group, 20-henicosenyl group, 1-docosenyl group, 2-docosenyl group, 3-docosenyl group, 4-docosenyl group, 5-docosenyl group group, 6-docosenyl group, 7-docosenyl group, 8-docosenyl group, 9-docosenyl group, 10-docosenyl group, 11-docosenyl group, 12-docosenyl group, 13-docosenyl group, 14-docosenyl group, 15-docosenyl group group, 16-docosenyl group, 17-docosenyl group, 18-docosenyl group, 19-docosenyl group, 20-docosenyl group, 21-docosenyl group, 1-tricosenyl group, 2-tricosenyl group, 3-tricosenyl group, 4-tricosenyl group group, 5-tricosenyl group, 6-tricosenyl group, 7-tricosenyl group, 8-tricosenyl group, 9-tricosenyl group, 10-tricosenyl group, 11-tricosenyl group, 12-tricosenyl group, 13-tricosenyl group, 14-tricosenyl group group, 15-tricosenyl group, 16-tricosenyl group, 17-tricosenyl group, 18-tricosenyl group, 19-tricosenyl group, 20-tricosenyl group, 21-tricosenyl group, 22-tricosenyl group, 1-tetracosenyl group, 2-tetracosenyl group group, 3-tetracosenyl group, 4-tetracosenyl group, 5-tetracosenyl group, 6-tetracosenyl group, 7-tetracosenyl group, 8-tetracosenyl group, 9-tetracosenyl group, 10-tetracosenyl group, 11-tetracosenyl group, 12-tetracosenyl group group, 13-tetracosenyl group, 14-tetracosenyl group, 15-tetracosenyl group, 16-tetracosenyl group, 17-tetracosenyl group, 18-tetracosenyl group, 19-tetracosenyl group, 20-tetracosenyl group, 21-tetracosenyl group, 22-tetracosenyl group group, 23-tetracosenyl group, 1-pentacocenyl group, 2-pentacocenyl group, 3-pentacocenyl group, 4-pentacocenyl group, 5-pentacocenyl group, 6-pentacocenyl group, 7-pentacocenyl group, 8-pentacocenyl group, 9-pentacocenyl group group, 10-pentacocenyl group, 11-pentacocenyl group, 12-pentacocenyl group, 13-pentacocenyl group, 14-pentacocenyl group, 15-pentacocenyl group, 16-pentacocenyl group, 17-pentacocenyl group, 18-pentacocenyl group, 19-pentacocenyl group group, 20-pentacocenyl group, 21-pentacocenyl group, 22-pentacocenyl group, 23-pentacocenyl group, 24-pentacosenyl group, 1-hexacosenyl group, 2-hexacosenyl group, 3-hexacosenyl group, 4-hexacosenyl group, 5-hexacosenyl group group, 6-hexacosenyl group, 7-hexacosenyl group, 8-hexacosenyl group, 9-hexacosenyl group, 10-hexacosenyl group, 11-hexacosenyl group, 12-hexacosenyl group, 13-hexacosenyl group, 14-hexacosenyl group, 15-hexacosenyl group group, 16-hexacosenyl group, 17-hexacosenyl group, 18-hexacosenyl group, 19-hexacosenyl group, 20-hexacosenyl group, 21-hexacosenyl group, 22-hexacosenyl group, 23-hexacosenyl group, 24-hexacosenyl group, 25-hexacosenyl group Groups, 1-heptacocenyl group, 2-heptacocenyl group, 3-heptacocenyl group, 4-heptacocenyl group, 5-heptacocenyl group, 6-heptacocenyl group, 7-heptacocenyl group, 8-heptacocenyl group, 9-heptacocenyl group, 10- heptacocenyl group, 11-heptacocenyl group, 12-heptacocenyl group, 13-heptacocenyl group, 14-heptacocenyl group, 15-heptacocenyl group, 16-heptacocenyl group, 17-heptacocenyl group, 18-heptacocenyl group, 19-heptacocenyl group, 20- Heptacocenyl group, 21-heptacocenyl group, 22-heptacocenyl group, 23-heptacocenyl group, 24-heptacocenyl group, 25-heptacocenyl group, 26-heptacocenyl group, 1-octacosenyl group, 2-octacosenyl group, 3-octacosenyl group, 4- Octacosenyl group, 5-octacosenyl group, 6-octacosenyl group, 7-octacosenyl group, 8-octacosenyl group, 9-octacosenyl group, 10-octacosenyl group, 11-octacosenyl group, 12-octacosenyl group, 13-octacosenyl group, 14- Octacosenyl group, 15-octacosenyl group, 16-octacosenyl group, 17-octacosenyl group, 18-octacosenyl group, 19-octacosenyl group, 20-octacosenyl group, 21-octacosenyl group, 22-octacosenyl group, 23-octacosenyl group, 24- Octacosenyl group, 25-octacosenyl group, 26-octacosenyl group, 27-octacosenyl group, 1-nonacosenyl group, 2-nonacosenyl group, 3-nonacosenyl group, 4-nonacosenyl group, 5-nonacosenyl group, 6-nonacosenyl group, 7- Nonacosenyl group, 8-nonacosenyl group, 9-nonacosenyl group, 10-nonacosenyl group, 11-nonacosenyl group, 12-nonacosenyl group, 13-nonacosenyl group, 14-nonacosenyl group, 15-nonacosenyl group, 16-nonacosenyl group, 17- Nonacosenyl group, 18-nonacosenyl group, 19-nonacosenyl group, 20-nonacosenyl group, 21-nonacosenyl group, 22-nonacosenyl group, 23-nonacosenyl group, 24-nonacosenyl group, 25-nonacosenyl group, 26-nonacosenyl group, 27- nonacosenyl group, 28-nonacosenyl group, 1-triacontenyl group, 2-triacontenyl group, 3-triacontenyl group, 4-triacontenyl group, 5-triacontenyl group, 6-triacontenyl group, 7-triacontenyl group, 8-triacontenyl group, 9-triacontenyl group, 10-triacontenyl group, 11-triacontenyl group, 12-triacontenyl group, 13-triacontenyl group, 14 -triacontenyl group, 15-triacontenyl group, 16-triacontenyl group, 17-triacontenyl group, 18-triacontenyl group, 19-triacontenyl group, 20-triacontenyl group, 21- triacontenyl group, 22-triacontenyl group, 23-triacontenyl group, 24-triacontenyl group, 25-triacontenyl group, 26-triacontenyl group, 27-triacontenyl group, 28-triacontenyl group contenyl group, 29-triacontenyl group, 1-hentriacontenyl group, 2-hentriacontenyl group, 3-hentriacontenyl group, 4-hentriacontenyl group, 5-hentriacontenyl group , 6-hentriacontenyl group, 7-hentriacontenyl group, 8-hentriacontenyl group, 9-hentriacontenyl group, 10-hentriacontenyl group, 11-hentriacontenyl group, 12 -hentriacontenyl group, 13-hentriacontenyl group, 14-hentriacontenyl group, 15-hentriacontenyl group, 16-hentriacontenyl group, 17-hentriacontenyl group, 18-hentriacontenyl group Triacontenyl group, 19-hentriacontenyl group, 20-hentriacontenyl group, 21-hentriacontenyl group, 22-hentriacontenyl group, 23-hentriacontenyl group, 24-hentriacontenyl group Nyl group, 25-hentriacontenyl group, 26-hentriacontenyl group, 27-hentriacontenyl group, 28-hentriacontenyl group, 29-hentriacontenyl group, 30-hentriacontenyl group , 1-dodoriacontenyl group, 2-dodoriacontenyl group, 3-dodoriacontenyl group, 4-dodoriacontenyl group, 5-dodoriacontenyl group, 6-dodoriacontenyl group, 7-dodoriacontenyl group, 8-dodoriacontenyl group, 9-dodoriacontenyl group, 10-dodoriacontenyl group, 11-dodoriacontenyl group, 12-dodoriacontenyl group, 13-dodoriacontenyl group, 14-dodoriacontenyl group, 15 - Dodoriacontenyl group, 16-Dodoriacontenyl group, 17-Dodoriacontenyl group, 18-Dodoriacontenyl group, 19-Dodoriacontenyl group, 20-Dodoriacontenyl group, 21-Dodoriacontenyl group, 22- Dodoryacontenyl group, 23-dodoriacontenyl group, 24-dodoriacontenyl group, 25-dodoriacontenyl group, 26-dodoriacontenyl group, 27-dodoriacontenyl group, 28-dodoriacontenyl group, 29-dodoriacontenyl group contenyl group, 30-dodoriacontenyl group, 31-dodoriacontenyl group, 1-tritriacontenyl group, 2-tritriacontenyl group, 3-tritriacontenyl group, 4-tritriacontenyl group, 5-tritriacontenyl group thenyl group, 6-tritriacontenyl group, 7-tritriacontenyl group, 8-tritriacontenyl group, 9-tritriacontenyl group, 10-tritriacontenyl group, 11-tritriacontenyl group, 12-tritriacontenyl group group, 13-tritriacontenyl group, 14-tritriacontenyl group, 15-tritriacontenyl group, 16-tritriacontenyl group, 17-tritriacontenyl group, 18-tritriacontenyl group, 19-tritriacontenyl group , 20-tritriacontenyl group, 21-tritriacontenyl group, 22-tritriacontenyl group, 23-tritriacontenyl group, 24-tritriacontenyl group, 25-tritriacontenyl group, 26-tritriacontenyl group, 27-tritriacontenyl group, 28-tritriacontenyl group, 29-tritriacontenyl group, 30-tritriacontenyl group, 31-tritriacontenyl group, 32-tritriacontenyl group, 1-tetratriacontenyl group, 2-tetratriacontenyl group, 3-tetratriacontenyl group, 4-tetratriacontenyl group, 5-tetratriacontenyl group, 6-tetratriacontenyl group, 7-tetratriacontenyl group, 8- Tetratriacontenyl group, 9-tetratriacontenyl group, 10-tetratriacontenyl group, 11-tetratriacontenyl group, 12-tetratriacontenyl group, 13-tetratriacontenyl group, 14-tetratriacontenyl group contenyl group, 15-tetratriacontenyl group, 16-tetratriacontenyl group, 17-tetratriacontenyl group, 18-tetratriacontenyl group, 19-tetratriacontenyl group, 20-tetratriacontenyl group group, 21-tetratriacontenyl group, 22-tetratriacontenyl group, 23-tetratriacontenyl group, 24-tetratriacontenyl group, 25-tetratriacontenyl group, 26-tetratriacontenyl group, 27-tetratriacontenyl group, 28-tetratriacontenyl group, 29-tetratriacontenyl group, 30-tetratriacontenyl group, 31-tetratriacontenyl group, 32-tetratriacontenyl group, 33- Tetratriacontenyl group, 1-pentatriacontenyl group, 2-pentatriacontenyl group, 3-pentatriacontenyl group, 4-pentatriacontenyl group, 5-pentatriacontenyl group, 6-pentatriacontenyl group Contenyl group, 7-pentatriacontenyl group, 8-pentatriacontenyl group, 9-pentatriacontenyl group, 10-pentatriacontenyl group, 11-pentatriacontenyl group, 12-pentatriacontenyl group group, 13-pentatriacontenyl group, 14-pentatriacontenyl group, 15-pentatriacontenyl group, 16-pentatriacontenyl group, 17-pentatriacontenyl group, 18-pentatriacontenyl group, 19-pentatriacontenyl group, 20-pentatriacontenyl group, 21-pentatriacontenyl group, 22-pentatriacontenyl group, 23-pentatriacontenyl group, 24-pentatriacontenyl group, 25- Pentatriacontenyl group, 26-pentatriacontenyl group, 27-pentatriacontenyl group, 28-pentatriacontenyl group, 29-pentatriacontenyl group, 30-pentatriacontenyl group, 31-pentatriacontenyl group Contenyl group, 32-pentatriacontenyl group, 33-pentatriacontenyl group, 34-pentatriacontenyl group, 1-hexatriacontenyl group, 2-hexatriacontenyl group, 3-hexatriacontenyl group group, 4-hexatriacontenyl group, 5-hexatriacontenyl group, 6-hexatriacontenyl group, 7-hexatriacontenyl group, 8-hexatriacontenyl group, 9-hexatriacontenyl group, 10-hexatriacontenyl group, 11-hexatriacontenyl group, 12-hexatriacontenyl group, 13-hexatriacontenyl group, 14-hexatriacontenyl group, 15-hexatriacontenyl group, 16- hexatriacontenyl group, 17-hexatriacontenyl group, 18-hexatriacontenyl group, 19-hexatriacontenyl group, 20-hexatriacontenyl group, 21-hexatriacontenyl group, 22-hexatriacontenyl group contenyl group, 23-hexatriacontenyl group, 24-hexatriacontenyl group, 25-hexatriacontenyl group, 26-hexatriacontenyl group, 27-hexatriacontenyl group, 28-hexatriacontenyl group group, 29-hexatriacontenyl group, 30-hexatriacontenyl group, 31-hexatriacontenyl group, 32-hexatriacontenyl group, 33-hexatriacontenyl group, 34-hexatriacontenyl group, 35-hexatriacontenyl group, 1-tetracotenyl group, 2-tetracotenyl group, 3-tetracotenyl group, 4-tetracotenyl group, 5-tetracotenyl group, 6-tetracotenyl group, 7-tetracotenyl group, 8-tetracotenyl group, 9- Tetracotenyl group, 10-tetracotenyl group, 11-tetracotenyl group, 12-tetracotenyl group, 13-tetracotenyl group, 14-tetracotenyl group, 15-tetracotenyl group, 16-tetracotenyl group, 17-tetracotenyl group, 18-tetracotenyl group, 19- Tetracotenyl group, 20-tetracotenyl group, 21-tetracotenyl group, 22-tetracotenyl group, 23-tetracotenyl group, 24-tetracotenyl group, 25-tetracotenyl group, 26-tetracotenyl group, 27-tetracotenyl group, 28-tetracotenyl group, 29- Tetracotenyl group, 30-tetracotenyl group, 31-tetracotenyl group, 32-tetracotenyl group, 33-tetracotenyl group, 34-tetracotenyl group, 35-tetracotenyl group, 36-tetracotenyl group, 1-hentetracotenyl group, 2-hentetracotenyl group cotenyl group, 3-hentetracotenyl group, 4-hentetracotenyl group, 5-hentetracotenyl group, 6-hentetracotenyl group, 7-hentetracotenyl group, 8-hentetracotenyl group group, 9-hentetracotenyl group, 10-hentetracotenyl group, 11-hentetracotenyl group, 12-hentetracotenyl group, 13-hentetracotenyl group, 14-hentetracotenyl group, 15-hentetracotenyl group, 16-hentetracotenyl group, 17-hentetracotenyl group, 18-hentetracotenyl group, 19-hentetracotenyl group, 20-hentetracotenyl group, 21- Hentetracotenyl group, 22-hentetracotenyl group, 23-hentetracotenyl group, 24-hentetracotenyl group, 25-hentetracotenyl group, 26-hentetracotenyl group, 27-hentetracotenyl group cotenyl group, 28-hentetracotenyl group, 29-hentetracotenyl group, 30-hentetracotenyl group, 31-hentetracotenyl group, 32-hentetracotenyl group, 33-hentetracotenyl group group, 34-hentetracotenyl group, 35-hentetracotenyl group, 36-hentetracotenyl group, 37-hentetracotenyl group, 1-dotetracotenyl group, 2-dotetracotenyl group, 3-dotetracotenyl group, 4 -dotetracotenyl group, 5-dotetracotenyl group, 6-dotetracotenyl group, 7-dotetracotenyl group, 8-dotetracotenyl group, 9-dotetracotenyl group, 10-dotetracotenyl group, 11-dotetracotenyl group, 12-dotetracotenyl group, 13-dotetracotenyl group, 14 -dotetracotenyl group, 15-dotetracotenyl group, 16-dotetracotenyl group, 17-dotetracotenyl group, 18-dotetracotenyl group, 19-dotetracotenyl group, 20-dotetracotenyl group, 21-dotetracotenyl group, 22-dotetracotenyl group, 23-dotetracotenyl group, 24 -dotetracotenyl group, 25-dotetracotenyl group, 26-dotetracotenyl group, 27-dotetracotenyl group, 28-dotetracotenyl group, 29-dotetracotenyl group, 30-dotetracotenyl group, 31-dotetracotenyl group, 32-dotetracotenyl group, 33-dotetracotenyl group, 34 -dotetracotenyl group, 35-dotetracotenyl group, 36-dotetracotenyl group, 37-dotetracotenyl group, 38-dotetracotenyl group, 1-tritetracotenyl group, 2-tritetracotenyl group, 3-tritetracotenyl group, 4-tritetracotenyl group group, 5-tritetracotenyl group, 6-tritetracotenyl group, 7-tritetracotenyl group, 8-tritetracotenyl group, 9-tritetracotenyl group, 10-tritetracotenyl group, 11-tritetracotenyl group , 12-tritetracotenyl group, 13-tritetracotenyl group, 14-tritetracotenyl group, 15-tritetracotenyl group, 16-tritetracotenyl group, 17-tritetracotenyl group, 18-tritetracotenyl group, 19-tritetracotenyl group, 20-tritetracotenyl group, 21-tritetracotenyl group, 22-tritetracotenyl group, 23-tritetracotenyl group, 24-tritetracotenyl group, 25-tritetracotenyl group, 26 -tritetracotenyl group, 27-tritetracotenyl group, 28-tritetracotenyl group, 29-tritetracotenyl group, 30-tritetracotenyl group, 31-tritetracotenyl group, 32-tritetracotenyl group, 33- tritetracotenyl group, 34-tritetracotenyl group, 35-tritetracotenyl group, 36-tritetracotenyl group, 37-tritetracotenyl group, 38-tritetracotenyl group, 39-tritetracotenyl group, 1-tetra Tetracotenyl group, 2-tetratetracotenyl group, 3-tetratetracotenyl group, 4-tetratetracotenyl group, 5-tetratetracotenyl group, 6-tetratetracotenyl group, 7-tetratetracotenyl group Nyl group, 8-tetratetracotenyl group, 9-tetratetracotenyl group, 10-tetratetracotenyl group, 11-tetratetracotenyl group, 12-tetratetracotenyl group, 13-tetratetracotenyl group , 14-tetratetracotenyl group, 15-tetratetracotenyl group, 16-tetratetracotenyl group, 17-tetratetracotenyl group, 18-tetratetracotenyl group, 19-tetratetracotenyl group, 20 -tetratetracotenyl group, 21-tetratetracotenyl group, 22-tetratetracotenyl group, 23-tetratetracotenyl group, 24-tetratetracotenyl group, 25-tetratetracotenyl group, 26-tetra Tetracotenyl group, 27-tetratetracotenyl group, 28-tetratetracotenyl group, 29-tetratetracotenyl group, 30-tetratetracotenyl group, 31-tetratetracotenyl group, 32-tetratetracotenyl group Nyl group, 33-tetratetracotenyl group, 34-tetratetracotenyl group, 35-tetratetracotenyl group, 36-tetratetracotenyl group, 37-tetratetracotenyl group, 38-tetratetracotenyl group , 39-tetratetracotenyl group, 40-tetratetracotenyl group, 1-pentacotenyl group, 2-pentacotenyl group, 3-pentacotenyl group, 4-pentacotenyl group, 5-pentacotenyl group, 6-pentacotenyl group, 7- Pentacotenyl group, 8-Pentacotenyl group, 9-Pentacotenyl group, 10-Pentacotenyl group, 11-Pentacotenyl group, 12-Pentacotenyl group, 13-Pentacotenyl group, 14-Pentacotenyl group, 15-Pentacotenyl group, 16-Pentacotenyl group, 17- Pentacotenyl group, 18-Pentacotenyl group, 19-Pentacotenyl group, 20-Pentacotenyl group, 21-Pentacotenyl group, 22-Pentacotenyl group, 23-Pentacotenyl group, 24-Pentacotenyl group, 25-Pentacotenyl group, 26-Pentacotenyl group, 27- Pentacotenyl group, 28-Pentacotenyl group, 29-Pentacotenyl group, 30-Pentacotenyl group, 31-Pentacotenyl group, 32-Pentacotenyl group, 33-Pentacotenyl group, 34-Pentacotenyl group, 35-Pentacotenyl group, 36-Pentacotenyl group, 37- Pentacotenyl group, 38-Pentacotenyl group, 39-Pentacotenyl group, 40-Pentacotenyl group, 41-Pentacotenyl group, 42-Pentacotenyl group, 43-Pentacotenyl group, 44-Pentacotenyl group, 45-Pentacotenyl group, 46-Pentacotenyl group, 47- Straight chain alkyl groups such as pentacotenyl group, 48-pentacotenyl group, 49-pentacotenyl group, 50-pentacotenyl group, 2-ethyl-1-hexenyl group, 2-ethyl-2-hexenyl group, 2-ethyl-3-hexenyl group , 2-ethyl-4-hexenyl group, 2-ethyl-5-hexenyl group, 3,7-dimethyl-1-octenyl group, 3,7-dimethyl-2-octenyl group, 3,7-dimethyl-3-octenyl group group, 3,7-dimethyl-4-octenyl group, 3,7-dimethyl-5-octenyl group, 3,7-dimethyl-6-octenyl group, 3,7-dimethyl-7-octenyl group, 2-hexyl- 1-decenyl group, 2-hexyl-2-decenyl group, 2-hexyl-3-decenyl group, 2-hexyl-4-decenyl group, 2-hexyl-5-decenyl group, 2-hexyl-6-decenyl group, 2-hexyl-7-decenyl group, 2-hexyl-8-decenyl group, 2-hexyl-9-decenyl group, 2-decyl-1-tetradecenyl group, 2-decyl-2-tetradecenyl group, 2-decyl-3 -tetradecenyl group, 2-decyl-4-tetradecenyl group, 2-decyl-5-tetradecenyl group, 2-decyl-6-tetradecenyl group, 2-decyl-7-tetradecenyl group, 2-decyl-8-tetradecenyl group, 2 -decyl-9-tetradecenyl group, 2-decyl-10-tetradecenyl group, 2-decyl-11-tetradecenyl group, 2-decyl-12-tetradecenyl group, 2-decyl-13-tetradecenyl group, 2-dodecyl-1- Tetradecenyl group, 2-dodecyl-2-tetradecenyl group, 2-dodecyl-3-tetradecenyl group, 2-dodecyl-4-tetradecenyl group, 2-dodecyl-5-tetradecenyl group, 2-dodecyl-6-tetradecenyl group, 2- Dodecyl-7-tetradecenyl group, 2-dodecyl-8-tetradecenyl group, 2-dodecyl-9-tetradecenyl group, 2-dodecyl-10-tetradecenyl group, 2-dodecyl-11-tetradecenyl group, 2-dodecyl-12-tetradecenyl group group, 2-dodecyl-13-tetradecenyl group, 2-dodecyl-1-hexadecenyl group, 2-dodecyl-2-hexadecenyl group, 2-dodecyl-3-hexadecenyl group, 2-dodecyl-4-hexadecenyl group, 2-dodecyl -5-hexadecenyl group, 2-dodecyl-6-hexadecenyl group, 2-dodecyl-7-hexadecenyl group, 2-dodecyl-8-hexadecenyl group, 2-dodecyl-9-hexadecenyl group, 2-dodecyl-10-hexadecenyl group , 2-dodecyl-11-hexadecenyl group, 2-dodecyl-12-hexadecenyl group, 2-dodecyl-13-hexadecenyl group, 2-dodecyl-14-hexadecenyl group, 2-dodecyl-15-hexadecenyl group, 2-tetradecyl- 1-hexadecenyl group, 2-tetradecyl-2-hexadecenyl group, 2-tetradecyl-3-hexadecenyl group, 2-tetradecyl-4-hexadecenyl group, 2-tetradecyl-5-hexadecenyl group, 2-tetradecyl-6-hexadecenyl group, 2-tetradecyl-7-hexadecenyl group, 2-tetradecyl-8-hexadecenyl group, 2-tetradecyl-9-hexadecenyl group, 2-tetradecyl-10-hexadecenyl group, 2-tetradecyl-11-hexadecenyl group, 2-tetradecyl-12 -hexadecenyl group, 2-tetradecyl-13-hexadecenyl group, 2-tetradecyl-14-hexadecenyl group, 2-tetradecyl-15-hexadecenyl group, and the like.
R1、R2、R3及びR4で表される炭素数2から50のアルキニル基としては、例えば、エチニル基、1-プロピニル基、2-プロピニル基、1-ブチニル基、2-ブチニル基、3-ブチニル基、1-ペンチニル基、2-ペンチニル基、3-ペンチニル基、4-ペンチニル基、1-ヘキシニル基、2-ヘキシニル基、3-ヘキシニル基、4-ヘキシニル基、5-ヘキシニル基、1-ヘプチニル基、2-ヘプチニル基、3-ヘプチニル基、4-ヘプチニル基、5-ヘプチニル基、6-ヘプチニル基、1-オクチニル基、2-オクチニル基、3-オクチニル基、4-オクチニル基、5-オクチニル基、6-オクチニル基、7-オクチニル基、1-ノニニル基、2-ノニニル基、3-ノニニル基、4-ノニニル基、5-ノニニル基、6-ノニニル基、7-ノニニル基、8-ノニニル基、1-デシニル基、2-デシニル基、3-デシニル基、4-デシニル基、5-デシニル基、6-デシニル基、7-デシニル基、8-デシニル基、9-デシニル基、1-ウンデシニル、2-ウンデシニル基、3-ウンデシニル基、4-ウンデシニル基、5-ウンデシニル基、6-ウンデシニル基、7-ウンデシニル基、8-ウンデシニル基、9-ウンデシニル基、10-ウンデシニル基、1-ドデシニル基、2-ドデシニル基、3-ドデシニル基、4-ドデシニル基、5-ドデシニル基、6-ドデシニル基、7-ドデシニル基、8-ドデシニル基、9-ドデシニル基、10-ドデシニル基、11-ドデシニル基、1-トリデシニル基、2-トリデシニル基、3-トリデシニル基、4-トリデシニル基、5-トリデシニル基、6-トリデシニル基、7-トリデシニル基、8-トリデシニル基、9-トリデシニル基、10-トリデシニル基、11-トリデシニル基、12-トリデシニル基、1-テトラデシニル基、2-テトラデシニル基、3-テトラデシニル基、4-テトラデシニル基、5-テトラデシニル基、6-テトラデシニル基、7-テトラデシニル基、8-テトラデシニル基、9-テトラデシニル基、10-テトラデシニル基、11-テトラデシニル基、12-テトラデシニル基、13-テトラデシニル基、1-ペンタデシニル基、2-ペンタデシニル基、3-ペンタデシニル基、4-ペンタデシニル基、5-ペンタデシニル基、6-ペンタデシニル基、7-ペンタデシニル基、8-ペンタデシニル基、9-ペンタデシニル基、10-ペンタデシニル基、11-ペンタデシニル基、12-ペンタデシニル基、13-ペンタデシニル基、14-ペンタデシニル基、1-ヘキサデシニル基、2-ヘキサデシニル基、3-ヘキサデシニル基、4-ヘキサデシニル基、5-ヘキサデシニル基、6-ヘキサデシニル基、7-ヘキサデシニル基、8-ヘキサデシニル基、9-ヘキサデシニル基、10-ヘキサデシニル基、11-ヘキサデシニル基、12-ヘキサデシニル基、13-ヘキサデシニル基、14-ヘキサデシニル基、15-ヘキサデシニル基、1-ヘプタデシニル基、2-ヘプタデシニル基、3-ヘプタデシニル基、4-ヘプタデシニル基、5-ヘプタデシニル基、6-ヘプタデシニル基、7-ヘプタデシニル基、8-ヘプタデシニル基、9-ヘプタデシニル基、10-ヘプタデシニル基、11-ヘプタデシニル基、12-ヘプタデシニル基、13-ヘプタデシニル基、14-ヘプタデシニル基、15-ヘプタデシニル基、16-ヘプタデシニル基、1-オクタデシニル基、2-オクタデシニル基、3-オクタデシニル基、4-オクタデシニル基、5-オクタデシニル基、6-オクタデシニル基、7-オクタデシニル基、8-オクタデシニル基、9-オクタデシニル基、10-オクタデシニル基、11-オクタデシニル基、12-オクタデシニル基、13-オクタデシニル基、14-オクタデシニル基、15-オクタデシニル基、16-オクタデシニル基、17-オクタデシニル基、1-ノナデシニル基、2-ノナデシニル基、3-ノナデシニル基、4-ノナデシニル基、5-ノナデシニル基、6-ノナデシニル基、7-ノナデシニル基、8-ノナデシニル基、9-ノナデシニル基、10-ノナデシニル基、11-ノナデシニル基、12-ノナデシニル基、13-ノナデシニル基、14-ノナデシニル基、15-ノナデシニル基、16-ノナデシニル基、17-ノナデシニル基、18-ノナデシニル基、1-エイコシニル基、2-エイコシニル基、3-エイコシニル基、4-エイコシニル基、5-エイコシニル基、6-エイコシニル基、7-エイコシニル基、8-エイコシニル基、9-エイコシニル基、10-エイコシニル基、11-エイコシニル基、12-エイコシニル基、13-エイコシニル基、14-エイコシニル基、15-エイコシニル基、16-エイコシニル基、17-エイコシニル基、18-エイコシニル基、19-エイコシニル基、1-ヘンイコシニル基、2-ヘンエイコシニル基、3-ヘンイコシニル基、4-ヘンイコシニル基、5-ヘンイコシニル基、6-ヘンイコシニル基、7-ヘンイコシニル基、8-ヘンイコシニル基、9-ヘンイコシニル基、10-ヘンイコシニル基、11-ヘンイコシニル基、12-ヘンイコシニル基、13-ヘンイコシニル基、14-ヘンイコシニル基、15-ヘンイコシニル基、16-ヘンイコシニル基、17-ヘンイコシニル基、18-ヘンイコシニル基、19-ヘンイコシニル基、20-ヘンイコシニル基、1-ドコシニル基、2-ドコシニル基、3-ドコシニル基、4-ドコシニル基、5-ドコシニル基、6-ドコシニル基、7-ドコシニル基、8-ドコシニル基、9-ドコシニル基、10-ドコシニル基、11-ドコシニル基、12-ドコシニル基、13-ドコシニル基、14-ドコシニル基、15-ドコシニル基、16-ドコシニル基、17-ドコシニル基、18-ドコシニル基、19-ドコシニル基、20-ドコシニル基、21-ドコシニル基、1-トリコシニル基、2-トリコシニル基、3-トリコシニル基、4-トリコシニル基、5-トリコシニル基、6-トリコシニル基、7-トリコシニル基、8-トリコシニル基、9-トリコシニル基、10-トリコシニル基、11-トリコシニル基、12-トリコシニル基、13-トリコシニル基、14-トリコシニル基、15-トリコシニル基、16-トリコシニル基、17-トリコシニル基、18-トリコシニル基、19-トリコシニル基、20-トリコシニル基、21-トリコシニル基、22-トリコシニル基、1-テトラコシニル基、2-テトラコシニル基、3-テトラコシニル基、4-テトラコシニル基、5-テトラコシニル基、6-テトラコシニル基、7-テトラコシニル基、8-テトラコシニル基、9-テトラコシニル基、10-テトラコシニル基、11-テトラコシニル基、12-テトラコシニル基、13-テトラコシニル基、14-テトラコシニル基、15-テトラコシニル基、16-テトラコシニル基、17-テトラコシニル基、18-テトラコシニル基、19-テトラコシニル基、20-テトラコシニル基、21-テトラコシニル基、22-テトラコシニル基、23-テトラコシニル基、1-ペンタコシニル基、2-ペンタコシニル基、3-ペンタコシニル基、4-ペンタコシニル基、5-ペンタコシニル基、6-ペンタコシニル基、7-ペンタコシニル基、8-ペンタコシニル基、9-ペンタコシニル基、10-ペンタコシニル基、11-ペンタコシニル基、12-ペンタコシニル基、13-ペンタコシニル基、14-ペンタコシニル基、15-ペンタコシニル基、16-ペンタコシニル基、17-ペンタコシニル基、18-ペンタコシニル基、19-ペンタコシニル基、20-ペンタコシニル基、21-ペンタコシニル基、22-ペンタコシニル基、23-ペンタコシニル基、24-ペンタコシニル基、1-ヘキサコシニル基、2-ヘキサコシニル基、3-ヘキサコシニル基、4-ヘキサコシニル基、5-ヘキサコシニル基、6-ヘキサコシニル基、7-ヘキサコシニル基、8-ヘキサコシニル基、9-ヘキサコシニル基、10-ヘキサコシニル基、11-ヘキサコシニル基、12-ヘキサコシニル基、13-ヘキサコシニル基、14-ヘキサコシニル基、15-ヘキサコシニル基、16-ヘキサコシニル基、17-ヘキサコシニル基、18-ヘキサコシニル基、19-ヘキサコシニル基、20-ヘキサコシニル基、21-ヘキサコシニル基、22-ヘキサコシニル基、23-ヘキサコシニル基、24-ヘキサコシニル基、25-ヘキサコシニル基、1-ヘプタコシニル基、2-ヘプタコシニル基、3-ヘプタコシニル基、4-ヘプタコシニル基、5-ヘプタコシニル基、6-ヘプタコシニル基、7-ヘプタコシニル基、8-ヘプタコシニル基、9-ヘプタコシニル基、10-ヘプタコシニル基、11-ヘプタコシニル基、12-ヘプタコシニル基、13-ヘプタコシニル基、14-ヘプタコシニル基、15-ヘプタコシニル基、16-ヘプタコシニル基、17-ヘプタコシニル基、18-ヘプタコシニル基、19-ヘプタコシニル基、20-ヘプタコシニル基、21-ヘプタコシニル基、22-ヘプタコシニル基、23-ヘプタコシニル基、24-ヘプタコシニル基、25-ヘプタコシニル基、26-ヘプタコシニル基、1-オクタコシニル基、2-オクタコシニル基、3-オクタコシニル基、4-オクタコシニル基、5-オクタコシニル基、6-オクタコシニル基、7-オクタコシニル基、8-オクタコシニル基、9-オクタコシニル基、10-オクタコシニル基、11-オクタコシニル基、12-オクタコシニル基、13-オクタコシニル基、14-オクタコシニル基、15-オクタコシニル基、16-オクタコシニル基、17-オクタコシニル基、18-オクタコシニル基、19-オクタコシニル基、20-オクタコシニル基、21-オクタコシニル基、22-オクタコシニル基、23-オクタコシニル基、24-オクタコシニル基、25-オクタコシニル基、26-オクタコシニル基、27-オクタコシニル基、1-ノナコシニル基、2-ノナコシニル基、3-ノナコシニル基、4-ノナコシニル基、5-ノナコシニル基、6-ノナコシニル基、7-ノナコシニル基、8-ノナコシニル基、9-ノナコシニル基、10-ノナコシニル基、11-ノナコシニル基、12-ノナコシニル基、13-ノナコシニル基、14-ノナコシニル基、15-ノナコシニル基、16-ノナコシニル基、17-ノナコシニル基、18-ノナコシニル基、19-ノナコシニル基、20-ノナコシニル基、21-ノナコシニル基、22-ノナコシニル基、23-ノナコシニル基、24-ノナコシニル基、25-ノナコシニル基、26-ノナコシニル基、27-ノナコシニル基、28-ノナコシニル基、1-トリアコンチニル基、2-トリアコンチニル基、3-トリアコンチニル基、4-トリアコンチニル基、5-トリアコンチニル基、6-トリアコンチニル基、7-トリアコンチニル基、8-トリアコンチニル基、9-トリアコンチニル基、10-トリアコンチニル基、11-トリアコンチニル基、12-トリアコンチニル基、13-トリアコンチニル基、14-トリアコンチニル基、15-トリアコンチニル基、16-トリアコンチニル基、17-トリアコンチニル基、18-トリアコンチニル基、19-トリアコンチニル基、20-トリアコンチニル基、21-トリアコンチニル基、22-トリアコンチニル基、23-トリアコンチニル基、24-トリアコンチニル基、25-トリアコンチニル基、26-トリアコンチニル基、27-トリアコンチニル基、28-トリアコンチニル基、29-トリアコンチニル基、1-ヘントリアコンチニル基、2-ヘントリアコンチニル基、3-ヘントリアコンチニル基、4-ヘントリアコンチニル基、5-ヘントリアコンチニル基、6-ヘントリアコンチニル基、7-ヘントリアコンチニル基、8-ヘントリアコンチニル基、9-ヘントリアコンチニル基、10-ヘントリアコンチニル基、11-ヘントリアコンチニル基、12-ヘントリアコンチニル基、13-ヘントリアコンチニル基、14-ヘントリアコンチニル基、15-ヘントリアコンチニル基、16-ヘントリアコンチニル基、17-ヘントリアコンチニル基、18-ヘントリアコンチニル基、19-ヘントリアコンチニル基、20-ヘントリアコンチニル基、21-ヘントリアコンチニル基、22-ヘントリアコンチニル
基、23-ヘントリアコンチニル基、24-ヘントリアコンチニル基、25-ヘントリアコンチニル基、26-ヘントリアコンチニル基、27-ヘントリアコンチニル基、28-ヘントリアコンチニル基、29-ヘントリアコンチニル基、30-ヘントリアコンチニル基、1-ドドリアコチニル基、2-ドドリアコチニル基、3-ドドリアコチニル基、4-ドドリアコチニル基、5-ドドリアコチニル基、6-ドドリアコチニル基、7-ドドリアコチニル基、8-ドドリアコチニル基、9-ドドリアコチニル基、10-ドドリアコチニル基、11-ドドリアコチニル基、12-ドドリアコチニル基、13-ドドリアコチニル基、14-ドドリアコチニル基、15-ドドリアコチニル基、16-ドドリアコチニル基、17-ドドリアコチニル基、18-ドドリアコチニル基、19-ドドリアコチニル基、20-ドドリアコチニル基、21-ドドリアコチニル基、22-ドドリアコチニル基、23-ドドリアコチニル基、24-ドドリアコチニル基、25-ドドリアコチニル基、26-ドドリアコチニル基、27-ドドリアコチニル基、28-ドドリアコチニル基、29-ドドリアコチニル基、30-ドドリアコチニル基、31-ドドリアコチニル基、1-トリトリアコンチニル基、2-トリトリアコンチニル基、3-トリトリアコンチニル基、4-トリトリアコンチニル基、5-トリトリアコンチニル基、6-トリトリアコンチニル基、7-トリトリアコンチニル基、8-トリトリアコンチニル基、9-トリトリアコンチニル基、10-トリトリアコンチニル基、11-トリトリアコンチニル基、12-トリトリアコンチニル基、13-トリトリアコンチニル基、14-トリトリアコンチニル基、15-トリトリアコンチニル基、16-トリトリアコンチニル基、17-トリトリアコンチニル基、18-トリトリアコンチニル基、19-トリトリアコンチニル基、20-トリトリアコンチニル基、21-トリトリアコンチニル基、22-トリトリアコンチニル基、23-トリトリアコンチニル基、24-トリトリアコンチニル基、25-トリトリアコンチニル基、26-トリトリアコンチニル基、27-トリトリアコンチニル基、28-トリトリアコンチニル基、29-トリトリアコンチニル基、30-トリトリアコンチニル基、31-トリトリアコンチニル基、32-トリトリアコンチニル基、1-テトラトリアコンチニル基、2-テトラトリアコンチニル基、3-テトラトリアコンチニル基、4-テトラトリアコンチニル基、5-テトラトリアコンチニル基、6-テトラトリアコンチニル基、7-テトラトリアコンチニル基、8-テトラトリアコンチニル基、9-テトラトリアコンチニル基、10-テトラトリアコンチニル基、11-テトラトリアコンチニル基、12-テトラトリアコンチニル基、13-テトラトリアコンチニル基、14-テトラトリアコンチニル基、15-テトラトリアコンチニル基、16-テトラトリアコンチニル基、17-テトラトリアコンチニル基、18-テトラトリアコンチニル基、19-テトラトリアコンチニル基、20-テトラトリアコンチニル基、21-テトラトリアコンチニル基、22-テトラトリアコンチニル基、23-テトラトリアコンチニル基、24-テトラトリアコンチニル基、25-テトラトリアコンチニル基、26-テトラトリアコンチニル基、27-テトラトリアコンチニル基、28-テトラトリアコンチニル基、29-テトラトリアコンチニル基、30-テトラトリアコンチニル基、31-テトラトリアコンチニル基、32-テトラトリアコンチニル基、33-テトラトリアコンチニル基、1-ペンタトリアコンチニル基、2-ペンタトリアコンチニル基、3-ペンタトリアコンチニル基、4-ペンタトリアコンチニル基、5-ペンタトリアコンチニル基、6-ペンタトリアコンチニル基、7-ペンタトリアコンチニル基、8-ペンタトリアコンチニル基、9-ペンタトリアコンチニル基、10-ペンタトリアコンチニル基、11-ペンタトリアコンチニル基、12-ペンタトリアコンチニル基、13-ペンタトリアコンチニル基、14-ペンタトリアコンチニル基、15-ペンタトリアコンチニル基、16-ペンタトリアコンチニル基、17-ペンタトリアコンチニル基、18-ペンタトリアコンチニル基、19-ペンタトリアコンチニル基、20-ペンタトリアコンチニル基、21-ペンタトリアコンチニル基、22-ペンタトリアコンチニル基、23-ペンタトリアコンチニル基、24-ペンタトリアコンチニル基、25-ペンタトリアコンチニル基、26-ペンタトリアコンチニル基、27-ペンタトリアコンチニル基、28-ペンタトリアコンチニル基、29-ペンタトリアコンチニル基、30-ペンタトリアコンチニル基、31-ペンタトリアコンチニル基、32-ペンタトリアコンチニル基、33-ペンタトリアコンチニル基、34-ペンタトリアコンチニル基、1-ヘキサトリアコンチニル基、2-ヘキサトリアコンチニル基、3-ヘキサトリアコンチニル基、4-ヘキサトリアコンチニル基、5-ヘキサトリアコンチニル基、6-ヘキサトリアコンチニル基、7-ヘキサトリアコンチニル基、8-ヘキサトリアコンチニル基、9-ヘキサトリアコンチニル基、10-ヘキサトリアコンチニル基、11-ヘキサトリアコンチニル基、12-ヘキサトリアコンチニル基、13-ヘキサトリアコンチニル基、14-ヘキサトリアコンチニル基、15-ヘキサトリアコンチニル基、16-ヘキサトリアコンチニル基、17-ヘキサトリアコンチニル基、18-ヘキサトリアコンチニル基、19-ヘキサトリアコンチニル基、20-ヘキサトリアコンチニル基、21-ヘキサトリアコンチニル基、22-ヘキサトリアコンチニル基、23-ヘキサトリアコンチニル基、24-ヘキサトリアコンチニル基、25-ヘキサトリアコンチニル基、26-ヘキサトリアコンチニル基、27-ヘキサトリアコンチニル基、28-ヘキサトリアコンチニル基、29-ヘキサトリアコンチニル基、30-ヘキサトリアコンチニル基、31-ヘキサトリアコンチニル基、32-ヘキサトリアコンチニル基、33-ヘキサトリアコンチニル基、34-ヘキサトリアコンチニル基、35-ヘキサトリアコンチニル基、1-テトラコチニル基、2-テトラコチニル基、3-テトラコチニル基、4-テトラコチニル基、5-テトラコチニル基、6-テトラコチニル基、7-テトラコチニル基、8-テトラコチニル基、9-テトラコチニル基、10-テトラコチニル基、11-テトラコチニル基、12-テトラコチニル基、13-テトラコチニル基、14-テトラコチニル基、15-テトラコチニル基、16-テトラコチニル基、17-テトラコチニル基、18-テトラコチニル基、19-テトラコチニル基、20-テトラコチニル基、21-テトラコチニル基、22-テトラコチニル基、23-テトラコチニル基、24-テトラコチニル基、25-テトラコチニル基、26-テトラコチニル基、27-テトラコチニル基、28-テトラコチニル基、29-テトラコチニル基、30-テトラコチニル基、31-テトラコチニル基、32-テトラコチニル基、33-テトラコチニル基、34-テトラコチニル基、35-テトラコチニル基、36-テトラコチニル基、1-ヘンテトラコチニル基、2-ヘンテトラコチニル基、3-ヘンテトラコチニル基、4-ヘンテトラコチニル基、5-ヘンテトラコチニル基、6-ヘンテトラコチニル基、7-ヘンテトラコチニル基、8-ヘンテトラコチニル基、9-ヘンテトラコチニル基、10-ヘンテトラコチニル基、11-ヘンテトラコチニル基、12-ヘンテトラコチニル基、13-ヘンテトラコチニル基、14-ヘンテトラコチニル基、15-ヘンテトラコチニル基、16-ヘンテトラコチニル基、17-ヘンテトラコチニル基、18-ヘンテトラコチニル基、19-ヘンテトラコチニル基、20-ヘンテトラコチニル基、21-ヘンテトラコチニル基、22-ヘンテトラコチニル基、23-ヘンテトラコチニル基、24-ヘンテトラコチニル基、25-ヘンテトラコチニル基、26-ヘンテトラコチニル基、27-ヘンテトラコチニル基、28-ヘンテトラコチニル基、29-ヘンテトラコチニル基、30-ヘンテトラコチニル基、31-ヘンテトラコチニル基、32-ヘンテトラコチニル基、33-ヘンテトラコチニル基、34-ヘンテトラコチニル基、35-ヘンテトラコチニル基、36-ヘンテトラコチニル基、37-ヘンテトラコチニル基、1-ドテトラコチニル基、2-ドテトラコチニル基、3-ドテトラコチニル基、4-ドテトラコチニル基、5-ドテトラコチニル基、6-ドテトラコチニル基、7-ドテトラコチニル基、8-ドテトラコチニル基、9-ドテトラコチニル基、10-ドテトラコチニル基、11-ドテトラコチニル基、12-ドテトラコチニル基、13-ドテトラコチニル基、14-ドテトラコチニル基、15-ドテトラコチニル基、16-ドテトラコチニル基、17-ドテトラコチニル基、18-ドテトラコチニル基、19-ドテトラコチニル基、20-ドテトラコチニル基、21-ドテトラコチニル基、22-ドテトラコチニル基、23-ドテトラコチニル基、24-ドテトラコチニル基、25-ドテトラコチニル基、26-ドテトラコチニル基、27-ドテトラコチニル基、28-ドテトラコチニル基、29-ドテトラコチニル基、30-ドテトラコチニル基、31-ドテトラコチニル基、32-ドテトラコチニル基、33-ドテトラコチニル基、34-ドテトラコチニル基、35-ドテトラコチニル基、36-ドテトラコチニル基、37-ドテトラコチニル基、38-ドテトラコチニル基、1-トリテトラコチニル基、2-トリテトラコチニル基、3-トリテトラコチニル基、4-トリテトラコチニル基、5-トリテトラコチニル基、6-トリテトラコチニル基、7-トリテトラコチニル基、8-トリテトラコチニル基、9-トリテトラコチニル基、10-トリテトラコチニル基、11-トリテトラコチニル基、12-トリテトラコチニル基、13-トリテトラコチニル基、14-トリテトラコチニル基、15-トリテトラコチニル基、16-トリテトラコチニル基、17-トリテトラコチニル基、18-トリテトラコチニル基、19-トリテトラコチニル基、20-トリテトラコチニル基、21-トリテトラコチニル基、22-トリテトラコチニル基、23-トリテトラコチニル基、24-トリテトラコチニル基、25-トリテトラコチニル基、26-トリテトラコチニル基、27-トリテトラコチニル基、28-トリテトラコチニル基、29-トリテトラコチニル基、30-トリテトラコチニル基、31-トリテトラコチニル基、32-トリテトラコチニル基、33-トリテトラコチニル基、34-トリテトラコチニル基、35-トリテトラコチニル基、36-トリテトラコチニル基、37-トリテトラコチニル基、38-トリテトラコチニル基、39-トリテトラコチニル基、1-テトラテトラコチニル基、2-テトラテトラコチニル基、3-テトラテトラコチニル基、4-テトラテトラコチニル基、5-テトラテトラコチニル基、6-テトラテトラコチニル基、7-テトラテトラコチニル基、8-テトラテトラコチニル基、9-テトラテトラコチニル基、10-テトラテトラコチニル基、11-テトラテトラコチニル基、12-テトラテトラコチニル基、13-テトラテトラコチニル基、14-テトラテトラコチニル基、15-テトラテトラコチニル基、16-テトラテトラコチニル基、17-テトラテトラコチニル基、18-テトラテトラコチニル基、19-テトラテトラコチニル基、20-テトラテトラコチニル基、21-テトラテトラコチニル基、22-テトラテトラコチニル基、23-テトラテトラコチニル基、24-テトラテトラコチニル基、25-テトラテトラコチニル基、26-テトラテトラコチニル基、27-テトラテトラコチニル基、28-テトラテトラコチニル基、29-テトラテトラコチニル基、30-テトラテトラコチニル基、31-テトラテトラコチニル基、32-テトラテトラコチニル基、33-テトラテトラコチニル基、34-テトラテトラコチニル基、35-テトラテトラコチニル基、36-テトラテトラコチニル基、37-テトラテトラコチニル基、38-テトラテトラコチニル基、39-テトラテトラコチニル基
、40-テトラテトラコチニル基、、1-ペンタコチニル基、2-ペンタコチニル基、3-ペンタコチニル基、4-ペンタコチニル基、5-ペンタコチニル基、6-ペンタコチニル基、7-ペンタコチニル基、8-ペンタコチニル基、9-ペンタコチニル基、10-ペンタコチニル基、11-ペンタコチニル基、12-ペンタコチニル基、13-ペンタコチニル基、14-ペンタコチニル基、15-ペンタコチニル基、16-ペンタコチニル基、17-ペンタコチニル基、18-ペンタコチニル基、19-ペンタコチニル基、20-ペンタコチニル基、21-ペンタコチニル基、22-ペンタコチニル基、23-ペンタコチニル基、24-ペンタコチニル基、25-ペンタコチニル基、26-ペンタコチニル基、27-ペンタコチニル基、28-ペンタコチニル基、29-ペンタコチニル基、30-ペンタコチニル基、31-ペンタコチニル基、32-ペンタコチニル基、33-ペンタコチニル基、34-ペンタコチニル基、35-ペンタコチニル基、36-ペンタコチニル基、37-ペンタコチニル基、38-ペンタコチニル基、39-ペンタコチニル基、40-ペンタコチニル基、41-ペンタコチニル基、42-ペンタコチニル基、43-ペンタコチニル基、44-ペンタコチニル基、45-ペンタコチニル基、46-ペンタコチニル基、47-ペンタコチニル基、48-ペンタコチニル基、49-ペンタコチニル基、50-ペンタコチニル基等の直鎖アルキル基、2-エチル-1-ヘキシニル基、2-エチル-2-ヘキシニル基、2-エチル-3-ヘキシニル基、2-エチル-4-ヘキシニル基、2-エチル-5-ヘキシニル基、3,7-ジメチル-1-オクテニル基、3,7-ジメチル-2-オクテニル基、3,7-ジメチル-3-オクテニル基、3,7-ジメチル-4-オクテニル基、3,7-ジメチル-5-オクテニル基、3,7-ジメチル-6-オクテニル基、3,7-ジメチル-7-オクテニル基、2-ヘキシル-1-デシニル基、2-ヘキシル-2-デシニル基、2-ヘキシル-3-デシニル基、2-ヘキシル-4-デシニル基、2-ヘキシル-5-デシニル基、2-ヘキシル-6-デシニル基、2-ヘキシル-7-デシニル基、2-ヘキシル-8-デシニル基、2-ヘキシル-9-デシニル基、2-デシル-1-テトラデシニル基、2-デシル-2-テトラデシニル基、2-デシル-3-テトラデシニル基、2-デシル-4-テトラデシニル基、2-デシル-5-テトラデシニル基、2-デシル-6-テトラデシニル基、2-デシル-7-テトラデシニル基、2-デシル-8-テトラデシニル基、2-デシル-9-テトラデシニル基、2-デシル-10-テトラデシニル基、2-デシル-11-テトラデシニル基、2-デシル-12-テトラデシニル基、2-デシル-13-テトラデシニル基、2-ドデシル-1-テトラデシニル基、2-ドデシル-2-テトラデシニル基、2-ドデシル-3-テトラデシニル基、2-ドデシル-4-テトラデシニル基、2-ドデシル-5-テトラデシニル基、2-ドデシル-6-テトラデシニル基、2-ドデシル-7-テトラデシニル基、2-ドデシル-8-テトラデシニル基、2-ドデシル-9-テトラデシニル基、2-ドデシル-10-テトラデシニル基、2-ドデシル-11-テトラデシニル基、2-ドデシル-12-テトラデシニル基、2-ドデシル-13-テトラデシニル基、2-ドデシル-1-ヘキサデシニル基、2-ドデシル-2-ヘキサデシニル基、2-ドデシル-3-ヘキサデシニル基、2-ドデシル-4-ヘキサデシニル基、2-ドデシル-5-ヘキサデシニル基、2-ドデシル-6-ヘキサデシニル基、2-ドデシル-7-ヘキサデシニル基、2-ドデシル-8-ヘキサデシニル基、2-ドデシル-9-ヘキサデシニル基、2-ドデシル-10-ヘキサデシニル基、2-ドデシル-11-ヘキサデシニル基、2-ドデシル-12-ヘキサデシニル基、2-ドデシル-13-ヘキサデシニル基、2-ドデシル-14-ヘキサデシニル基、2-ドデシル-15-ヘキサデシニル基、2-テトラデシル-1-ヘキサデシニル基、2-テトラデシル-2-ヘキサデシニル基、2-テトラデシル-3-ヘキサデシニル基、2-テトラデシル-4-ヘキサデシニル基、2-テトラデシル-5-ヘキサデシニル基、2-テトラデシル-6-ヘキサデシニル基、2-テトラデシル-7-ヘキサデシニル基、2-テトラデシル-8-ヘキサデシニル基、2-テトラデシル-9-ヘキサデシニル基、2-テトラデシル-10-ヘキサデシニル基、2-テトラデシル-11-ヘキサデシニル基、2-テトラデシル-12-ヘキサデシニル基、2-テトラデシル-13-ヘキサデシニル基、2-テトラデシル-14-ヘキサデシニル基、2-テトラデシル-15-ヘキサデシニル基等を挙げることができる。
Examples of the alkynyl group having 2 to 50 carbon atoms represented by R 1 , R 2 , R 3 and R 4 include ethynyl group, 1-propynyl group, 2-propynyl group, 1-butynyl group, 2-butynyl group. , 3-butynyl group, 1-pentynyl group, 2-pentynyl group, 3-pentynyl group, 4-pentynyl group, 1-hexynyl group, 2-hexynyl group, 3-hexynyl group, 4-hexynyl group, 5-hexynyl group , 1-heptynyl group, 2-heptynyl group, 3-heptynyl group, 4-heptynyl group, 5-heptynyl group, 6-heptynyl group, 1-octynyl group, 2-octynyl group, 3-octynyl group, 4-octynyl group , 5-octynyl group, 6-octynyl group, 7-octynyl group, 1-nonynyl group, 2-nonynyl group, 3-nonynyl group, 4-nonynyl group, 5-nonynyl group, 6-nonynyl group, 7-nonynyl group , 8-nonynyl group, 1-decynyl group, 2-decynyl group, 3-decynyl group, 4-decynyl group, 5-decynyl group, 6-decynyl group, 7-decynyl group, 8-decynyl group, 9-decynyl group , 1-undecynyl, 2-undecynyl group, 3-undecynyl group, 4-undecynyl group, 5-undecynyl group, 6-undecynyl group, 7-undecynyl group, 8-undecynyl group, 9-undecynyl group, 10-undecynyl group, 1-dodecynyl group, 2-dodecynyl group, 3-dodecynyl group, 4-dodecynyl group, 5-dodecynyl group, 6-dodecynyl group, 7-dodecynyl group, 8-dodecynyl group, 9-dodecynyl group, 10-dodecynyl group, 11-dodecynyl group, 1-tridecynyl group, 2-tridecynyl group, 3-tridecynyl group, 4-tridecynyl group, 5-tridecynyl group, 6-tridecynyl group, 7-tridecynyl group, 8-tridecynyl group, 9-tridecynyl group, 10-tridecynyl group, 11-tridecynyl group, 12-tridecynyl group, 1-tetradecinyl group, 2-tetradecinyl group, 3-tetradecinyl group, 4-tetradecinyl group, 5-tetradecinyl group, 6-tetradecinyl group, 7-tetradecinyl group, 8-tetradecinyl group, 9-tetradecinyl group, 10-tetradecinyl group, 11-tetradecinyl group, 12-tetradecinyl group, 13-tetradecinyl group, 1-pentadecynyl group, 2-pentadecynyl group, 3-pentadecynyl group, 4-pentadecynyl group, 5-pentadecynyl group, 6-pentadecynyl group, 7-pentadecynyl group, 8-pentadecynyl group, 9-pentadecynyl group, 10-pentadecynyl group, 11-pentadecynyl group, 12-pentadecynyl group, 13-pentadecynyl group, 14-pentadecynyl group, 1-hexadecynyl group, 2-hexadecynyl group, 3-hexadecynyl group, 4-hexadecynyl group, 5-hexadecynyl group, 6-hexadecynyl group, 7-hexadecynyl group, 8-hexadecynyl group, 9-hexadecynyl group, 10-hexadecynyl group, 11-hexadecynyl group, 12-hexadecynyl group, 13-hexadecynyl group, 14-hexadecynyl group, 15-hexadecynyl group, 1-heptadecinyl group, 2-heptadecinyl group, 3-heptadecinyl group, 4-heptadecinyl group, 5-heptadecinyl group, 6-heptadecinyl group, 7-heptadecinyl group, 8-heptadecinyl group, 9-heptadecinyl group, 10-heptadecinyl group, 11-heptadecinyl group, 12-heptadecinyl group, 13-heptadecinyl group, 14-heptadecinyl group, 15-heptadecinyl group, 16-heptadecynyl group, 1-octadecynyl group, 2-octadecynyl group, 3-octadecynyl group, 4-octadecynyl group, 5-octadecynyl group, 6-octadecynyl group, 7-octadecynyl group, 8-octadecynyl group, 9-octadecynyl group, 10-octadecynyl group, 11-octadecynyl group, 12-octadecynyl group, 13-octadecynyl group, 14-octadecynyl group, 15-octadecynyl group, 16-octadecynyl group, 17-octadecynyl group, 1-nonadecynyl group, 2-nonadecynyl group, 3-Nonadecynyl group, 4-Nonadecynyl group, 5-Nonadecynyl group, 6-Nonadecynyl group, 7-Nonadecynyl group, 8-Nonadecynyl group, 9-Nonadecynyl group, 10-Nonadecynyl group, 11-Nonadecynyl group, 12-Nonadecynyl group, 13-nonadecynyl group, 14-nonadecynyl group, 15-nonadecynyl group, 16-nonadecynyl group, 17-nonadecynyl group, 18-nonadecynyl group, 1-eicosinyl group, 2-eicosinyl group, 3-eicosinyl group, 4-eicosynyl group, 5-eicosinyl group, 6-eicosinyl group, 7-eicosinyl group, 8-eicosinyl group, 9-eicosinyl group, 10-eicosinyl group, 11-eicosinyl group, 12-eicosinyl group, 13-eicosinyl group, 14-eicosinyl group, 15-eicosinyl group, 16-eicosinyl group, 17-eicosinyl group, 18-eicosinyl group, 19-eicosinyl group, 1-henicosinyl group, 2-henicosinyl group, 3-henicosinyl group, 4-henicosinyl group, 5-henicosinyl group, 6-henicosinyl group, 7-henicosinyl group, 8-henicosinyl group, 9-henicosinyl group, 10-henicosinyl group, 11-henicosinyl group, 12-henicosinyl group, 13-henicosinyl group, 14-henicosinyl group, 15-henicosinyl group, 16-henicosinyl group, 17-henicosinyl group, 18-henicosinyl group, 19-henicosinyl group, 20-henicosinyl group, 1-docosinyl group, 2-docosinyl group, 3-docosinyl group, 4-docosinyl group, 5-docosinyl group, 6-dococinyl group, 7-dococinyl group, 8-dococinyl group, 9-dococinyl group, 10-dococinyl group, 11-dococinyl group, 12-dococinyl group, 13-dococinyl group, 14-dococinyl group, 15-dococinyl group, 16-docosinyl group, 17-docosinyl group, 18-docosinyl group, 19-docosinyl group, 20-docosinyl group, 21-docosinyl group, 1-tricosinyl group, 2-tricosinyl group, 3-tricosinyl group, 4-tricosinyl group, 5-tricosinyl group, 6-tricosinyl group, 7-tricosinyl group, 8-tricosinyl group, 9-tricosinyl group, 10-tricosinyl group, 11-tricosinyl group, 12-tricosinyl group, 13-tricosinyl group, 14-tricosinyl group, 15-tricosinyl group, 16-tricosinyl group, 17-tricosinyl group, 18-tricosinyl group, 19-tricosinyl group, 20-tricosinyl group, 21-tricosinyl group, 22-tricosinyl group, 1-tetracosinyl group, 2-tetracosinyl group, 3-tetracosynyl group, 4-tetracosynyl group, 5-tetracosynyl group, 6-tetracosynyl group, 7-tetracosynyl group, 8-tetracosynyl group, 9-tetracosynyl group, 10-tetracosinyl group, 11-tetracosynyl group, 12-tetracosynyl group, 13-tetracosynyl group, 14-tetracosynyl group, 15-tetracosynyl group, 16-tetracosinyl group, 17-tetracosinyl group, 18-tetracosinyl group, 19-tetracosinyl group, 20-tetracosinyl group, 21-tetracosinyl group, 22-tetracosinyl group, 23-tetracosinyl group, 1-pentacocinyl group, 2-pentacocinyl group, 3-pentacocinyl group, 4-pentacocinyl group, 5-pentacocinyl group, 6-pentacocinyl group, 7-pentacocinyl group, 8-pentacocinyl group, 9-pentacocinyl group, 10-pentacocinyl group, 11-pentacocinyl group, 12-pentacocinyl group, 13-pentacocinyl group, 14-pentacocinyl group, 15-pentacocinyl group, 16-pentacocinyl group, 17-pentacocinyl group, 18-pentacocinyl group, 19-pentacocinyl group, 20-pentacosinyl group, 21-pentacosinyl group, 22-pentacosinyl group, 23-pentacosinyl group, 24-pentacosinyl group, 1-hexacosinyl group, 2-hexacosinyl group, 3-hexacosinyl group, 4-hexacosinyl group, 5-hexacosinyl group, 6-hexacosinyl group, 7-hexacosinyl group, 8-hexacosinyl group, 9-hexacosinyl group, 10-hexacosinyl group, 11-hexacosinyl group, 12-hexacosinyl group, 13-hexacosinyl group, 14-hexacosinyl group, 15-hexacosinyl group, 16-hexacosinyl group, 17-hexacosinyl group, 18-hexacosinyl group, 19-hexacosinyl group, 20-hexacosinyl group, 21-hexacosinyl group, 22-hexacosinyl group, 23-hexacosinyl group, 24-hexacosinyl group, 25-hexacosinyl group, 1-heptacocinyl group, 2-heptacocinyl group, 3-heptacocinyl group, 4-heptacocinyl group, 5-heptacocinyl group, 6-heptacocinyl group, 7-heptacocinyl group, 8-heptacocinyl group, 9-heptacocinyl group, 10-heptacocinyl group, 11-heptacocinyl group, 12-heptacocinyl group, 13-heptacocinyl group, 14-heptacocinyl group, 15-heptacocinyl group, 16-heptacocinyl group, 17-heptacocinyl group, 18-heptacocinyl group, 19-heptacocinyl group, 20-heptacocinyl group, 21-heptacocinyl group, 22-heptacocinyl group, 23-heptacocinyl group, 24-heptacocinyl group, 25-heptacocinyl group, 26-heptacocinyl group, 1-octacosinyl group, 2-octacosinyl group, 3-octacosinyl group, 4-octacosinyl group, 5-octacosinyl group, 6-octacosinyl group, 7-octacosinyl group, 8-octacosinyl group, 9-octacosinyl group, 10-octacosinyl group, 11-octacosinyl group, 12-octacosinyl group, 13-octacosinyl group, 14-octacosinyl group, 15-octacosinyl group, 16-octacosinyl group, 17-octacosinyl group, 18-octacosinyl group, 19-octacosinyl group, 20-octacosinyl group, 21-octacosinyl group, 22-octacosinyl group, 23-octacosinyl group, 24-octacosinyl group, 25-octacosinyl group, 26-octacosinyl group, 27-octacosinyl group, 1-nonacosinyl group, 2-nonacosinyl group, 3-nonacosinyl group, 4-nonacosinyl group, 5-nonacosinyl group, 6-nonacosinyl group, 7-nonacosinyl group, 8-nonacosinyl group, 9-nonacosinyl group, 10-nonacosinyl group, 11-nonacosinyl group, 12-nonacosinyl group, 13-nonacosinyl group, 14-nonacosinyl group, 15-nonacosinyl group, 16-nonacosinyl group, 17-nonacosinyl group, 18-nonacosinyl group, 19-nonacosinyl group, 20-nonacosinyl group, 21-nonacosinyl group, 22-nonacosinyl group, 23-nonacosinyl group, 24-nonacosinyl group, 25-nonacosinyl group, 26-nonacosinyl group, 27-nonacosinyl group, 28-nonacocynyl group, 1-triacontinyl group, 2-triacontinyl group, 3-triacontinyl group, 4-triacontinyl group, 5-triacontinyl group, 6-triacontinyl group, 7-triacontinyl group Continyl group, 8-triacontinyl group, 9-triacontinyl group, 10-triacontinyl group, 11-triacontinyl group, 12-triacontinyl group, 13-triacontinyl group, 14-triacontinyl group Nyl group, 15-triacontinyl group, 16-triacontinyl group, 17-triacontinyl group, 18-triacontinyl group, 19-triacontinyl group, 20-triacontinyl group, 21-triacontinyl group group, 22-triacontinyl group, 23-triacontinyl group, 24-triacontinyl group, 25-triacontinyl group, 26-triacontinyl group, 27-triacontinyl group, 28-triacontinyl group , 29-hentriacontinyl group, 1-hentriacontinyl group, 2-hentriacontinyl group, 3-hentriacontinyl group, 4-hentriacontinyl group, 5-hentriacontinyl group, 6- hentriacontinyl group, 7-hentriacontinyl group, 8-hentriacontinyl group, 9-hentriacontinyl group, 10-hentriacontinyl group, 11-hentriacontinyl group, 12-hentriacontinyl group Continyl group, 13-hentriacontinyl group, 14-hentriacontinyl group, 15-hentriacontinyl group, 16-hentriacontinyl group, 17-hentriacontinyl group, 18-hentriacontinyl group group, 19-hentriacontinyl group, 20-hentriacontinyl group, 21-hentriacontinyl group, 22-hentriacontinyl group, 23-hentriacontinyl group, 24-hentriacontinyl group, 25-hentriacontinyl group, 26-hentriacontinyl group, 27-hentriacontinyl group, 28-hentriacontinyl group, 29-hentriacontinyl group, 30-hentriacontinyl group, 1- Dodriacotinyl group, 2-dodoriacotinyl group, 3-dodoriacotinyl group, 4-dodoriacotinyl group, 5-dodoriacotinyl group, 6-dodoriacotinyl group, 7-dodoriacotinyl group, 8-dodoriacotinyl group, 9-dodoriacotinyl group, 10-dodoriacotinyl group, 11- Dodriacotinyl group, 12-dodoriacotinyl group, 13-dodoriacotinyl group, 14-dodoriacotinyl group, 15-dodoriacotinyl group, 16-dodoriacotinyl group, 17-dodoriacotinyl group, 18-dodoriacotinyl group, 19-dodoriacotinyl group, 20-dodoriacotinyl group, 21- Dodriacotinyl group, 22-Dodoriacotinyl group, 23-Dodoriacotinyl group, 24-Dodoriacotinyl group, 25-Dodoriacotinyl group, 26-Dodoriacotinyl group, 27-Dodoriacotinyl group, 28-Dodoriacotinyl group, 29-Dodoriacotinyl group, 30-Dodoriacotinyl group, 31- Dodriacotinyl group, 1-tritriacontinyl group, 2-tritriacontinyl group, 3-tritriacontinyl group, 4-tritriacontinyl group, 5-tritriacontinyl group, 6-tritriacontinyl group , 7-tritriacontinyl group, 8-tritriacontinyl group, 9-tritriacontinyl group, 10-tritriacontinyl group, 11-tritriacontinyl group, 12-tritriacontinyl group, 13 -tritriacontinyl group, 14-tritriacontinyl group, 15-tritriacontinyl group, 16-tritriacontinyl group, 17-tritriacontinyl group, 18-tritriacontinyl group, 19-tritriacontinyl group Triatriacontinyl group, 20-Tritriacontinyl group, 21-Tritriacontinyl group, 22-Tritriacontinyl group, 23-Tritriacontinyl group, 24-Tritriacontinyl group, 25-Tritriacontinyl group Nyl group, 26-tritriacontinyl group, 27-tritriacontinyl group, 28-tritriacontinyl group, 29-tritriacontinyl group, 30-tritriacontinyl group, 31-tritriacontinyl group , 32-tritriacontinyl group, 1-tetratriacontinyl group, 2-tetratriacontinyl group, 3-tetratriacontinyl group, 4-tetratriacontinyl group, 5-tetratriacontinyl group, 6 -tetratriacontinyl group, 7-tetratriacontinyl group, 8-tetratriacontinyl group, 9-tetratriacontinyl group, 10-tetratriacontinyl group, 11-tetratriacontinyl group, 12-tetra triacontinyl group, 13-tetratriacontinyl group, 14-tetratriacontinyl group, 15-tetratriacontinyl group, 16-tetratriacontinyl group, 17-tetratriacontinyl group, 18-tetratriacontinyl group Nyl group, 19-tetratriacontinyl group, 20-tetratriacontinyl group, 21-tetratriacontinyl group, 22-tetratriacontinyl group, 23-tetratriacontinyl group, 24-tetratriacontinyl group , 25-tetratriacontinyl group, 26-tetratriacontinyl group, 27-tetratriacontinyl group, 28-tetratriacontinyl group, 29-tetratriacontinyl group, 30-tetratriacontinyl group, 31 -tetratriacontinyl group, 32-tetratriacontinyl group, 33-tetratriacontinyl group, 1-pentatriacontinyl group, 2-pentatriacontinyl group, 3-pentatriacontinyl group, 4-pentatriacontinyl group triacontinyl group, 5-pentatriacontinyl group, 6-pentatriacontinyl group, 7-pentatriacontinyl group, 8-pentatriacontinyl group, 9-pentatriacontinyl group, 10-pentatriacontinyl group Nyl group, 11-pentatriacontinyl group, 12-pentatriacontinyl group, 13-pentatriacontinyl group, 14-pentatriacontinyl group, 15-pentatriacontinyl group, 16-pentatriacontinyl group , 17-pentatriacontinyl group, 18-pentatriacontinyl group, 19-pentatriacontinyl group, 20-pentatriacontinyl group, 21-pentatriacontinyl group, 22-pentatriacontinyl group, 23 -Pentatriacontinyl group, 24-pentatriacontinyl group, 25-pentatriacontinyl group, 26-pentatriacontinyl group, 27-pentatriacontinyl group, 28-pentatriacontinyl group, 29-pentatriacontinyl group triacontinyl group, 30-pentatriacontinyl group, 31-pentatriacontinyl group, 32-pentatriacontinyl group, 33-pentatriacontinyl group, 34-pentatriacontinyl group, 1-hexatriacontinyl group Nyl group, 2-hexatriacontinyl group, 3-hexatriacontinyl group, 4-hexatriacontinyl group, 5-hexatriacontinyl group, 6-hexatriacontinyl group, 7-hexatriacontinyl group , 8-hexatriacontinyl group, 9-hexatriacontinyl group, 10-hexatriacontinyl group, 11-hexatriacontinyl group, 12-hexatriacontinyl group, 13-hexatriacontinyl group, 14 -hexatriacontinyl group, 15-hexatriacontinyl group, 16-hexatriacontinyl group, 17-hexatriacontinyl group, 18-hexatriacontinyl group, 19-hexatriacontinyl group, 20-hexatriacontinyl group triacontinyl group, 21-hexatriacontinyl group, 22-hexatriacontinyl group, 23-hexatriacontinyl group, 24-hexatriacontinyl group, 25-hexatriacontinyl group, 26-hexatriacontinyl group Nyl group, 27-hexatriacontinyl group, 28-hexatriacontinyl group, 29-hexatriacontinyl group, 30-hexatriacontinyl group, 31-hexatriacontinyl group, 32-hexatriacontinyl group , 33-hexatriacontinyl group, 34-hexatriacontinyl group, 35-hexatriacontinyl group, 1-tetracotinyl group, 2-tetracotinyl group, 3-tetracotinyl group, 4-tetracotinyl group, 5-tetracotinyl group, 6-tetracothinyl group, 7-tetracothinyl group, 8-tetracothinyl group, 9-tetracothinyl group, 10-tetracothinyl group, 11-tetracothinyl group, 12-tetracothinyl group, 13-tetracothinyl group, 14-tetracothinyl group, 15-tetracothinyl group, 16-tetracothinyl group, 17-tetracothinyl group, 18-tetracothinyl group, 19-tetracothinyl group, 20-tetracothinyl group, 21-tetracothinyl group, 22-tetracothinyl group, 23-tetracothinyl group, 24-tetracothinyl group, 25-tetracothinyl group, 26-tetracothinyl group, 27-tetracothinyl group, 28-tetracothinyl group, 29-tetracothinyl group, 30-tetracothinyl group, 31-tetracothinyl group, 32-tetracothinyl group, 33-tetracothinyl group, 34-tetracothinyl group, 35-tetracothinyl group, 36-tetracothinyl group, 1-hentetracothinyl group, 2-hentetracothinyl group, 3-hentetracothinyl group, 4-hentetracothinyl group, 5-hentetracothinyl group, 6-hentetracothinyl group Nyl group, 7-hentetracotinyl group, 8-hentetracotinyl group, 9-hentetracotinyl group, 10-hentetracotinyl group, 11-hentetracotinyl group, 12-hentetracotinyl group , 13-hentetracotinyl group, 14-hentetracotinyl group, 15-hentetracotinyl group, 16-hentetracotinyl group, 17-hentetracotinyl group, 18-hentetracotinyl group, 19 -hentetracotinyl group, 20-hentetracotinyl group, 21-hentetracotinyl group, 22-hentetracotinyl group, 23-hentetracotinyl group, 24-hentetracotinyl group, 25-hentetracotinyl group Tetracotinyl group, 26-hentetracotinyl group, 27-hentetracotinyl group, 28-hentetracotinyl group, 29-hentetracotinyl group, 30-hentetracotinyl group, 31-hentetracotinyl group Nyl group, 32-hentetracotinyl group, 33-hentetracotinyl group, 34-hentetracotinyl group, 35-hentetracotinyl group, 36-hentetracotinyl group, 37-hentetracotinyl group , 1-dotetracothinyl group, 2-dotetracothinyl group, 3-dotetracothinyl group, 4-dotetracothinyl group, 5-dotetracothinyl group, 6-dotetracothinyl group, 7-dotetracothinyl group, 8-dotetracothinyl group, 9-dotetracothinyl group, 10-dotetracothinyl group , 11-dotetracothinyl group, 12-dotetracothinyl group, 13-dotetracothinyl group, 14-dotetracothinyl group, 15-dotetracothinyl group, 16-dotetracothinyl group, 17-dotetracothinyl group, 18-dotetracothinyl group, 19-dotetracothinyl group, 20-dotetracothinyl group , 21-dotetracothinyl group, 22-dotetracothinyl group, 23-dotetracothinyl group, 24-dotetracothinyl group, 25-dotetracothinyl group, 26-dotetracothinyl group, 27-dotetracothinyl group, 28-dotetracothinyl group, 29-dotetracothinyl group, 30-dotetracothinyl group , 31-dotetracothinyl group, 32-dotetracothinyl group, 33-dotetracothinyl group, 34-dotetracothinyl group, 35-dotetracothinyl group, 36-dotetracothinyl group, 37-dotetracothinyl group, 38-dotetracothinyl group, 1-tritetracothinyl group, 2 - tritetracotinyl group, 3-tritetracotinyl group, 4-tritetracotinyl group, 5-tritetracotinyl group, 6-tritetracotinyl group, 7-tritetracotinyl group, 8-tritetracotinyl group Tetracothinyl group, 9-tritetracothinyl group, 10-tritetracothinyl group, 11-tritetracothinyl group, 12-tritetracothinyl group, 13-tritetracothinyl group, 14-tritetracothinyl group Nyl group, 15-tritetracotinyl group, 16-tritetracotinyl group, 17-tritetracotinyl group, 18-tritetracotinyl group, 19-tritetracotinyl group, 20-tritetracotinyl group , 21-tritetracotinyl group, 22-tritetracotinyl group, 23-tritetracotinyl group, 24-tritetracotinyl group, 25-tritetracotinyl group, 26-tritetracotinyl group, 27 - tritetracotinyl group, 28-tritetracotinyl group, 29-tritetracotinyl group, 30-tritetracotinyl group, 31-tritetracotinyl group, 32-tritetracotinyl group, 33-tritetracotinyl group Tetracotinyl group, 34-tritetracotinyl group, 35-tritetracotinyl group, 36-tritetracotinyl group, 37-tritetracotinyl group, 38-tritetracotinyl group, 39-tritetracotinyl group Nyl group, 1-tetratetracotinyl group, 2-tetratetracotinyl group, 3-tetratetracotinyl group, 4-tetratetracotinyl group, 5-tetratetracotinyl group, 6-tetratetracotinyl group , 7-tetratetracotinyl group, 8-tetratetracotinyl group, 9-tetratetracotinyl group, 10-tetratetracotinyl group, 11-tetratetracotinyl group, 12-tetratetracotinyl group, 13 -tetratetracotinyl group, 14-tetratetracotinyl group, 15-tetratetracotinyl group, 16-tetratetracotinyl group, 17-tetratetracotinyl group, 18-tetratetracotinyl group, 19-tetra Tetracothynyl group, 20-tetratetracothynyl group, 21-tetratetracothynyl group, 22-tetratetracothynyl group, 23-tetratetracothynyl group, 24-tetratetracothynyl group, 25-tetratetracothynyl group Nyl group, 26-tetratetracotinyl group, 27-tetratetracotinyl group, 28-tetratetracotinyl group, 29-tetratetracotinyl group, 30-tetratetracotinyl group, 31-tetratetracotinyl group , 32-tetratetracothinyl group, 33-tetratetracothinyl group, 34-tetratetracothinyl group, 35-tetratetracothinyl group, 36-tetratetracothinyl group, 37-tetratetracothinyl group, 38 -tetratetracotinyl group, 39-tetratetracotinyl group, 40-tetratetracotinyl group, 1-pentacotinyl group, 2-pentacotinyl group, 3-pentacotinyl group, 4-pentacotinyl group, 5-pentacotinyl group, 6 - Pentacotinyl group, 7-Pentacotinyl group, 8-Pentacotinyl group, 9-Pentacotinyl group, 10-Pentacotinyl group, 11-Pentacotinyl group, 12-Pentacotinyl group, 13-Pentacotinyl group, 14-Pentacotinyl group, 15-Pentacotinyl group, 16 - Pentacotinyl group, 17-Pentacotinyl group, 18-Pentacotinyl group, 19-Pentacotinyl group, 20-Pentacotinyl group, 21-Pentacotinyl group, 22-Pentacotinyl group, 23-Pentacotinyl group, 24-Pentacotinyl group, 25-Pentacotinyl group, 26 -pentacotinyl group, 27-pentacotinyl group, 28-pentacotinyl group, 29-pentacotinyl group, 30-pentacotinyl group, 31-pentacotinyl group, 32-pentacotinyl group, 33-pentacotinyl group, 34-pentacotinyl group, 35-pentacotinyl group, 36 -pentacotinyl group, 37-pentacotinyl group, 38-pentacotinyl group, 39-pentacotinyl group, 40-pentacotinyl group, 41-pentacotinyl group, 42-pentacotinyl group, 43-pentacotinyl group, 44-pentacotinyl group, 45-pentacotinyl group, 46 - Straight chain alkyl groups such as pentacotinyl group, 47-pentacotinyl group, 48-pentacotinyl group, 49-pentacotinyl group, 50-pentacotinyl group, 2-ethyl-1-hexynyl group, 2-ethyl-2-hexynyl group, 2- Ethyl-3-hexynyl group, 2-ethyl-4-hexynyl group, 2-ethyl-5-hexynyl group, 3,7-dimethyl-1-octenyl group, 3,7-dimethyl-2-octenyl group, 3,7 -dimethyl-3-octenyl group, 3,7-dimethyl-4-octenyl group, 3,7-dimethyl-5-octenyl group, 3,7-dimethyl-6-octenyl group, 3,7-dimethyl-7-octenyl group group, 2-hexyl-1-decynyl group, 2-hexyl-2-decynyl group, 2-hexyl-3-decynyl group, 2-hexyl-4-decynyl group, 2-hexyl-5-decynyl group, 2-hexyl -6-decynyl group, 2-hexyl-7-decynyl group, 2-hexyl-8-decynyl group, 2-hexyl-9-decynyl group, 2-decyl-1-tetradeynyl group, 2-decyl-2-tetradeynyl group , 2-decyl-3-tetradecinyl group, 2-decyl-4-tetradecinyl group, 2-decyl-5-tetradecinyl group, 2-decyl-6-tetradecinyl group, 2-decyl-7-tetradecinyl group, 2-decyl- 8-tetradecinyl group, 2-decyl-9-tetradecinyl group, 2-decyl-10-tetradecinyl group, 2-decyl-11-tetradecinyl group, 2-decyl-12-tetradecinyl group, 2-decyl-13-tetradecinyl group, 2-dodecyl-1-tetradecinyl group, 2-dodecyl-2-tetradecinyl group, 2-dodecyl-3-tetradecinyl group, 2-dodecyl-4-tetradecinyl group, 2-dodecyl-5-tetradecinyl group, 2-dodecyl-6 -tetradecinyl group, 2-dodecyl-7-tetradecinyl group, 2-dodecyl-8-tetradecinyl group, 2-dodecyl-9-tetradecinyl group, 2-dodecyl-10-tetradecinyl group, 2-dodecyl-11-tetradecinyl group, 2 -Dodecyl-12-tetradecinyl group, 2-dodecyl-13-tetradecinyl group, 2-dodecyl-1-hexadecynyl group, 2-dodecyl-2-hexadecynyl group, 2-dodecyl-3-hexadecynyl group, 2-dodecyl-4- hexadecynyl group, 2-dodecyl-5-hexadecynyl group, 2-dodecyl-6-hexadecynyl group, 2-dodecyl-7-hexadecynyl group, 2-dodecyl-8-hexadecynyl group, 2-dodecyl-9-hexadecynyl group, 2- Dodecyl-10-hexadecynyl group, 2-dodecyl-11-hexadecynyl group, 2-dodecyl-12-hexadecynyl group, 2-dodecyl-13-hexadecynyl group, 2-dodecyl-14-hexadecynyl group, 2-dodecyl-15-hexadecynyl group group, 2-tetradecyl-1-hexadecynyl group, 2-tetradecyl-2-hexadecynyl group, 2-tetradecyl-3-hexadecynyl group, 2-tetradecyl-4-hexadecynyl group, 2-tetradecyl-5-hexadecynyl group, 2-tetradecyl -6-hexadecynyl group, 2-tetradecyl-7-hexadecynyl group, 2-tetradecyl-8-hexadecynyl group, 2-tetradecyl-9-hexadecynyl group, 2-tetradecyl-10-hexadecynyl group, 2-tetradecyl-11-hexadecynyl group , 2-tetradecyl-12-hexadecynyl group, 2-tetradecyl-13-hexadecynyl group, 2-tetradecyl-14-hexadecynyl group, 2-tetradecyl-15-hexadecynyl group, and the like.
R8で表される5-(炭素数1から20のアルキル)-2-チエニル基としては、例えば、5-メチル2-チエニル基、5-エチル-2-チエニル基、5-プロピル-2-チエニル基、5-ブチル-2-チエニル基、5-ペンチル-2-チエニル基、5-ヘキシル-2-チエニル基、5-ヘプチル-2-チエニル基、5-オクチル-2-チエニル基、5-ノニル-2-チエニル基、5-デシル-2-チエニル基、5-ウンデシル-2-チエニル基、5-ドデシル-2-チエニル基、5-トリデシル-2-チエニル基、5-テトラデシル-2-チエニル基、5-ペンタデシル-2-チエニル基、5-ヘキサデシル-2-チエニル基、5-ヘプタデシル-2-チエニル基、5-オクタデシル-2-チエニル基、5-ノナデシル-2-チエニル基、5-イコシル-2-チエニル基、5-ヘンイコシル-2-チエニル基、5-ドコシル-2-チエニル基、5-トリコシル-2-チエニル基、5-テトラコシル-2-チエニル基、5-ペンタコシル-2-チエニル基、5-ヘキサコシル-2-チエニル基、5-ヘプタコシル-2-チエニル基、5-オクタコシル-2-チエニル基、5-ノナコシル-2-チエニル基、5-トリアンコシル-2-チエニル基等の直鎖アルキル基で置換された2-チエニル基、5-(2-イソプロピル)-2-チエニル基、5-(2-イソブチル)-2-チエニル基、5-(sec-ブチル)-2-チエニル基、5-(tert-ブチル)-2-チエニル基、5-(2-エチルヘキシル)-2-チエニル基、5-(3,7-ジメチルオクチル)-2-チエニル基、5-(2-デシルテトラデシル)-2-チエニル基、5-(2-ドデシルテトラデシル)-2-チエニル基、5-(2-ドデシルヘキサデシル)-2-チエニル基、5-(2-テトラデシルヘキサデシル)-2-チエニル基等の分岐アルキル基で置換された2-チエニル基、5-シクロペンチル-2-チエニル基、5-シクロヘキシル-2-チエニル基等を例示することができる。
R8で表される5-(炭素数1から20のアルキル)-2-チエニル基としては、本発明の共役系高分子の溶解性が高い点で、5-ヘキシル-2-チエニル基、5-(2-エチルヘキシル)-2-チエニル基、5-(3,7-ジメチルオクチル)-2-チエニル基が好ましく、5-ヘキシル-2-チエニル基、5-(2-エチルヘキシル)-2-チエニル基がより好ましく、5-(2-エチルヘキシル)-2-チエニル基がさらに好ましい。
Examples of the 5-(alkyl having 1 to 20 carbon atoms)-2-thienyl group represented by R 8 include 5-methyl-2-thienyl group, 5-ethyl-2-thienyl group, and 5-propyl-2-thienyl group. thienyl group, 5-butyl-2-thienyl group, 5-pentyl-2-thienyl group, 5-hexyl-2-thienyl group, 5-heptyl-2-thienyl group, 5-octyl-2-thienyl group, 5- Nonyl-2-thienyl group, 5-decyl-2-thienyl group, 5-undecyl-2-thienyl group, 5-dodecyl-2-thienyl group, 5-tridecyl-2-thienyl group, 5-tetradecyl-2-thienyl group group, 5-pentadecyl-2-thienyl group, 5-hexadecyl-2-thienyl group, 5-heptadecyl-2-thienyl group, 5-octadecyl-2-thienyl group, 5-nonadecyl-2-thienyl group, 5-icosyl group -2-thienyl group, 5-henicosyl-2-thienyl group, 5-docosyl-2-thienyl group, 5-tricosyl-2-thienyl group, 5-tetracosyl-2-thienyl group, 5-pentacosyl-2-thienyl group , 5-hexacosyl-2-thienyl group, 5-heptacosyl-2-thienyl group, 5-octacosyl-2-thienyl group, 5-nonacosyl-2-thienyl group, 5-triancosyl-2-thienyl group, etc. 2-thienyl group substituted with group, 5-(2-isopropyl)-2-thienyl group, 5-(2-isobutyl)-2-thienyl group, 5-(sec-butyl)-2-thienyl group, 5 -(tert-butyl)-2-thienyl group, 5-(2-ethylhexyl)-2-thienyl group, 5-(3,7-dimethyloctyl)-2-thienyl group, 5-(2-decyltetradecyl) -2-thienyl group, 5-(2-dodecyltetradecyl)-2-thienyl group, 5-(2-dodecylhexadecyl)-2-thienyl group, 5-(2-tetradecylhexadecyl)-2-thienyl Examples include a 2-thienyl group, a 5-cyclopentyl-2-thienyl group, a 5-cyclohexyl-2-thienyl group substituted with a branched alkyl group such as a group.
As the 5-(alkyl having 1 to 20 carbon atoms)-2-thienyl group represented by R 8 , 5-hexyl-2-thienyl group, 5-hexyl-2-thienyl group, etc. -(2-ethylhexyl)-2-thienyl group, 5-(3,7-dimethyloctyl)-2-thienyl group are preferred, 5-hexyl-2-thienyl group, 5-(2-ethylhexyl)-2-thienyl group. group is more preferred, and 5-(2-ethylhexyl)-2-thienyl group is even more preferred.
R1で表されるアルキル基として、本発明の一般式(1)で表されるモノマー(以下、「本発明のモノマー」という。)並びに本発明の一般式(3)と一般式(4)を含む共役系高分子(以下、「本発明の共役系高分子」という。)の溶解性が高い点で、炭素数6から50のアルキル基が好ましく、炭素数6から34のアルキル基がより好ましく、ヘキシル基、オクチル基、ノナデシル基、イコシル基、ヘンイコシル基、2-エチルヘキシル基、3,7-ジメチルオクチル基、2-ヘキシルオクチル基、2-ヘキシルデシル基、2-オクチルドデシル基、2-デシルテトラデシル基、2-ドデシルテトラデシル基、2-ドデシルヘキサデシル基、2-テトラデシルヘキサデシル基、3-デシルペンタデシル基、3-ドデシルヘプタデシル基、3-テトラデシルノナコシル基、4-デシルヘキサデシル基、4-ドデシルオクタデシル基、又は4-テトラデシルイコシル基がさらに好ましく、ノナデシル基、ヘンイコシル基、2-デシルテトラデシル基、2-デシルテトラデシル基、2-ドデシルヘキサデシル基、4-ドデシルオクタデシル基がことさら好ましい。
R1で表されるアルコキシ基として、本発明のモノマーと本発明の共役系高分子の溶解性が高い点で、炭素数6から50のアルコキシ基が好ましく、炭素数6から34のアルコキシ基がより好ましく、ヘキシルオキシ基、オクチルオキシ基、2-デシルテトラデシルオキシ基、2-ドデシルテトラデシルオキシ基、2-ドデシルヘキサデシルオキシ基又は2-テトラデシルヘキサデシルオキシ基がさらに好ましく、2-デシルテトラデシルオキシ基がことさら好ましい。
R1は、本発明の共役系高分子の溶解性並びにキャリア移動度が高い点で、水素原子又は炭素数6から50のアルキル基が好ましく、水素原子又は炭素数6から34のアルキル基がより好ましく、水素原子、ノナデシル基、イコシル基、ヘンイコシル基、2-ドデシルヘキサデシル基、2-テトラデシルヘキサデシル基がさらに好ましく、水素原子がことさら好ましい。
As the alkyl group represented by R 1 , monomers represented by general formula (1) of the present invention (hereinafter referred to as "monomers of the present invention") and general formulas (3) and (4) of the present invention are used. (hereinafter referred to as "conjugated polymer of the present invention"), an alkyl group having 6 to 50 carbon atoms is preferable, and an alkyl group having 6 to 34 carbon atoms is more preferable. Preferably, hexyl group, octyl group, nonadecyl group, icosyl group, henicosyl group, 2-ethylhexyl group, 3,7-dimethyloctyl group, 2-hexyloctyl group, 2-hexyldecyl group, 2-octyldodecyl group, 2- Decyltetradecyl group, 2-dodecyltetradecyl group, 2-dodecylhexadecyl group, 2-tetradecylhexadecyl group, 3-decylpentadecyl group, 3-dodecylheptadecyl group, 3-tetradecylnonacosyl group, 4 -decylhexadecyl group, 4-dodecyloctadecyl group, or 4-tetradecylicosyl group is more preferable, and nonadecyl group, henicosyl group, 2-decyltetradecyl group, 2-decyltetradecyl group, 2-dodecylhexadecyl group , 4-dodecyloctadecyl group is particularly preferred.
As the alkoxy group represented by R 1 , an alkoxy group having 6 to 50 carbon atoms is preferable, and an alkoxy group having 6 to 34 carbon atoms is preferable from the viewpoint of high solubility of the monomer of the present invention and the conjugated polymer of the present invention. More preferred are hexyloxy, octyloxy, 2-decyltetradecyloxy, 2-dodecyltetradecyloxy, 2-dodecylhexadecyloxy, or 2-tetradecylhexadecyloxy, and 2-decyl Tetradecyloxy group is particularly preferred.
R 1 is preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 6 to 50 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 6 to 34 carbon atoms, from the viewpoint of high solubility and carrier mobility of the conjugated polymer of the present invention. Preferred are a hydrogen atom, a nonadecyl group, an icosyl group, a henicosyl group, a 2-dodecylhexadecyl group, and a 2-tetradecylhexadecyl group, and a hydrogen atom is particularly preferred.
R2で表されるアルキル基として、本発明のモノマーと本発明の共役系高分子の溶解性が高い点で炭素数6から50のアルキル基が好ましく、炭素数6から34のアルキル基がより好ましく、ヘキシル基、オクチル基、ノナデシル基、イコシル基、ヘンイコシル基、2-エチルヘキシル基、3,7-ジメチルオクチル基、2-ヘキシルオクチル基、2-ヘキシルデシル基、2-オクチルドデシル基、2-デシルテトラデシル基、2-ドデシルテトラデシル基、2-ドデシルヘキサデシル基、2-テトラデシルヘキサデシル基、3-デシルペンタデシル基、3-ドデシルヘプタデシル基、3-テトラデシルノナコシル基、4-デシルヘキサデシル基、4-ドデシルオクタデシル基、又は4-テトラデシルイコシル基がさらに好ましく、ノナデシル基、イコシル基、ヘンイコシル基、2-デシルテトラデシル基、2-デシルテトラデシル基、2-ドデシルヘキサデシル基、4-ドデシルオクタデシル基がことさら好ましい。
R2で表されるアルコキシ基として、本発明のモノマーと本発明の共役系高分子の溶解性が高い点で、炭素数6から50のアルコキシ基が好ましく、炭素数6から34のアルコキシ基がより好ましく、2-デシルテトラデシルオキシ基、2-ドデシルテトラデシルオキシ基、2-ドデシルヘキサデシルオキシ基又は2-テトラデシルヘキサデシルオキシ基がさらに好ましく、2-デシルテトラデシルオキシ基がことさら好ましい。
R2は、本発明の共役系高分子の溶解性並びにキャリア移動度が高い点で、水素原子、炭素数6から50のアルキル基又は炭素数6から50のアルコキシ基が好ましく、水素原子、炭素数6から34のアルキル基又は炭素数6から34のアルコキシ基がより好ましく、水素原子、ノナデシル基、イコシル基、ヘンイコシル基、2-デシルテトラデシル基、2-ドデシルヘキサデシル基、2-テトラデシルヘキサデシル基、2-デシルテトラデシルオキシ基、2-ドデシルテトラデシルオキシ基、2-ドデシルヘキサデシルオキシ基又は2-テトラデシルヘキサデシルオキシ基がさらに好ましく、2-デシルテトラデシル基又は2-デシルテトラデシルオキシ基がことさらに好ましい。
As the alkyl group represented by R2 , an alkyl group having 6 to 50 carbon atoms is preferable, and an alkyl group having 6 to 34 carbon atoms is more preferable, since the monomer of the present invention and the conjugated polymer of the present invention have high solubility. Preferably, hexyl group, octyl group, nonadecyl group, icosyl group, henicosyl group, 2-ethylhexyl group, 3,7-dimethyloctyl group, 2-hexyloctyl group, 2-hexyldecyl group, 2-octyldodecyl group, 2- Decyltetradecyl group, 2-dodecyltetradecyl group, 2-dodecylhexadecyl group, 2-tetradecylhexadecyl group, 3-decylpentadecyl group, 3-dodecylheptadecyl group, 3-tetradecylnonacosyl group, 4 -decylhexadecyl group, 4-dodecyloctadecyl group, or 4-tetradecylicosyl group is more preferable, and nonadecyl group, icosyl group, henicosyl group, 2-decyltetradecyl group, 2-decyltetradecyl group, 2-dodecyl group Particularly preferred are hexadecyl group and 4-dodecyloctadecyl group.
As the alkoxy group represented by R2 , an alkoxy group having 6 to 50 carbon atoms is preferable, and an alkoxy group having 6 to 34 carbon atoms is preferable from the viewpoint of high solubility of the monomer of the present invention and the conjugated polymer of the present invention. More preferred are 2-decyltetradecyloxy, 2-dodecyltetradecyloxy, 2-dodecylhexadecyloxy, or 2-tetradecylhexadecyloxy, and even more preferred is 2-decyltetradecyloxy.
R2 is preferably a hydrogen atom, an alkyl group having 6 to 50 carbon atoms, or an alkoxy group having 6 to 50 carbon atoms, from the viewpoint of high solubility and carrier mobility of the conjugated polymer of the present invention; An alkyl group having 6 to 34 carbon atoms or an alkoxy group having 6 to 34 carbon atoms is more preferable; hydrogen atom, nonadecyl group, icosyl group, henicosyl group, 2-decyltetradecyl group, 2-dodecylhexadecyl group, 2-tetradecyl group. Hexadecyl group, 2-decyltetradecyloxy group, 2-dodecyltetradecyloxy group, 2-dodecylhexadecyloxy group or 2-tetradecylhexadecyloxy group are more preferred, and 2-decyltetradecyl group or 2-decyl Tetradecyloxy group is particularly preferred.
R3で表されるアルキル基として、本発明のモノマーと本発明の共役系高分子の溶解性が高い点で、炭素数6から50のアルキル基を用いることが好ましく、炭素数6から34のアルキル基がより好ましく、ヘキシル基、オクチル基、ノナデシル基、イコシル基、ヘンイコシル基、2-エチルヘキシル基、2-デシルテトラデシル基、2-ドデシルヘキサデシル基、又は2-テトラデシルヘキサデシル基がさらに好ましく、ノナデシル基又は2-デシルテトラデシル基がことさら好ましい。
R3で表されるアルコキシ基として、本発明のモノマーと本発明の共役系高分子の溶解性が高い点で、炭素数6から50のアルコキシ基が好ましく、炭素数6から34のアルコキシ基がより好ましく、2-デシルテトラデシルオキシ基、2-ドデシルテトラデシルオキシ基、2-ドデシルヘキサデシルオキシ基又は2-テトラデシルヘキサデシルオキシ基がさらに好ましく、2-デシルテトラデシルオキシ基がことさら好ましい。
R3は、本発明の共役系高分子の溶解性並びにキャリア移動度が高い点で、水素原子又は炭素数6から50のアルキル基を用いることが好ましく、水素原子又は炭素数6から34のアルキル基がより好ましく、水素原子、ノナデシル基、イコシル基、ヘンイコシル基、2-ドデシルヘキサデシル基又は2-テトラデシルヘキサデシル基がさらに好ましく、ノナデシル基、2-デシルテトラデシル基又は2-デシルテトラデシル基がことさら好ましい。
As the alkyl group represented by R3 , it is preferable to use an alkyl group having 6 to 50 carbon atoms, from the viewpoint of high solubility of the monomer of the present invention and the conjugated polymer of the present invention, and an alkyl group having 6 to 34 carbon atoms. Alkyl groups are more preferred, and hexyl, octyl, nonadecyl, icosyl, henicosyl, 2-ethylhexyl, 2-decyltetradecyl, 2-dodecylhexadecyl, or 2-tetradecylhexadecyl groups are more preferred. Preferably, a nonadecyl group or a 2-decyltetradecyl group is particularly preferred.
As the alkoxy group represented by R3 , an alkoxy group having 6 to 50 carbon atoms is preferable, and an alkoxy group having 6 to 34 carbon atoms is preferable from the viewpoint of high solubility of the monomer of the present invention and the conjugated polymer of the present invention. More preferred are 2-decyltetradecyloxy, 2-dodecyltetradecyloxy, 2-dodecylhexadecyloxy, or 2-tetradecylhexadecyloxy, and even more preferred is 2-decyltetradecyloxy.
R 3 is preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 6 to 50 carbon atoms, from the viewpoint of high solubility and carrier mobility of the conjugated polymer of the present invention; A hydrogen atom, a nonadecyl group, an icosyl group, a henicosyl group, a 2-dodecylhexadecyl group, or a 2-tetradecylhexadecyl group are more preferable, and a nonadecyl group, a 2-decyltetradecyl group, or a 2-decyltetradecyl group is more preferable. Particularly preferred are groups.
R4で表されるアルキル基として、本発明のモノマーと本発明の共役系高分子の溶解性が高い点で、炭素数6から50のアルキル基を用いることが好ましく、炭素数6から34のアルキル基がより好ましく、ヘキシル基、オクチル基、ノナデシル基、イコシル基、ヘンイコシル基、2-エチルヘキシル基、3,7-ジメチルオクチル基、2-ヘキシルオクチル基、2-ヘキシルデシル基、2-オクチルドデシル基、2-デシルテトラデシル基、2-ドデシルテトラデシル基、2-ドデシルヘキサデシル基、2-テトラデシルヘキサデシル基、3-デシルペンタデシル基、3-ドデシルヘプタデシル基、3-テトラデシルノナコシル基、4-デシルヘキサデシル基、4-ドデシルオクタデシル基、又は4-テトラデシルイコシル基がさらに好ましく、ノナデシル基、イコシル基、ヘンイコシル基、2-デシルテトラデシル基、2-デシルテトラデシル基、2-ドデシルヘキサデシル基、4-ドデシルオクタデシル基がことさら好ましい。
R4で表されるアルコキシ基として、本発明のモノマーと本発明の共役系高分子の溶解性が高い点で、炭素数6から50のアルコキシ基が好ましく、炭素数6から34のアルコキシ基がより好ましく、2-デシルテトラデシルオキシ基、2-ドデシルテトラデシルオキシ基、2-ドデシルヘキサデシルオキシ基又は2-テトラデシルヘキサデシルオキシ基がさらに好ましく、2-デシルテトラデシルオキシ基がことさら好ましい。
R4は、本発明の共役系高分子の溶解性並びにキャリア移動度が高い点で、水素原子又は炭素数6から50のアルキル基を用いることが好ましく、水素原子又は炭素数6から34のアルキル基がより好ましく、水素原子、ヘキシル基、オクチル基、ノナデシル基、イコシル基、ヘンイコシル基、2-エチルヘキシル基、3,7-ジメチルオクチル基、2-ヘキシルオクチル基、2-ヘキシルデシル基、2-オクチルドデシル基、2-デシルテトラデシル基、2-ドデシルテトラデシル基、2-ドデシルヘキサデシル基、2-テトラデシルヘキサデシル基、3-デシルペンタデシル基、3-ドデシルヘプタデシル基、3-テトラデシルノナコシル基、4-デシルヘキサデシル基、4-ドデシルオクタデシル基、又は4-テトラデシルイコシル基がさらに好ましく、ノナデシル基、イコシル基、ヘンイコシル基、2-デシルテトラデシル基、2-デシルテトラデシル基、2-ドデシルヘキサデシル基、4-ドデシルオクタデシル基がことさら好ましい。
As the alkyl group represented by R4 , it is preferable to use an alkyl group having 6 to 50 carbon atoms, and an alkyl group having 6 to 34 carbon atoms, from the viewpoint of high solubility of the monomer of the present invention and the conjugated polymer of the present invention. Alkyl groups are more preferred; hexyl, octyl, nonadecyl, icosyl, henicosyl, 2-ethylhexyl, 3,7-dimethyloctyl, 2-hexyloctyl, 2-hexyldecyl, 2-octyldodecyl group, 2-decyltetradecyl group, 2-dodecyltetradecyl group, 2-dodecylhexadecyl group, 2-tetradecylhexadecyl group, 3-decylpentadecyl group, 3-dodecylheptadecyl group, 3-tetradecylnonaco group A sil group, a 4-decylhexadecyl group, a 4-dodecyloctadecyl group, or a 4-tetradecyl icosyl group are more preferred, and a nonadecyl group, an icosyl group, a heneicosyl group, a 2-decyltetradecyl group, and a 2-decyltetradecyl group. , 2-dodecylhexadecyl group, and 4-dodecyloctadecyl group are particularly preferred.
As the alkoxy group represented by R 4 , an alkoxy group having 6 to 50 carbon atoms is preferable, and an alkoxy group having 6 to 34 carbon atoms is preferable from the viewpoint of high solubility of the monomer of the present invention and the conjugated polymer of the present invention. More preferred are 2-decyltetradecyloxy, 2-dodecyltetradecyloxy, 2-dodecylhexadecyloxy, or 2-tetradecylhexadecyloxy, and even more preferred is 2-decyltetradecyloxy.
R4 is preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 6 to 50 carbon atoms, from the viewpoint of high solubility and carrier mobility of the conjugated polymer of the present invention; More preferable groups include a hydrogen atom, hexyl group, octyl group, nonadecyl group, icosyl group, henicosyl group, 2-ethylhexyl group, 3,7-dimethyloctyl group, 2-hexyloctyl group, 2-hexyldecyl group, 2- Octyldodecyl group, 2-decyltetradecyl group, 2-dodecyltetradecyl group, 2-dodecylhexadecyl group, 2-tetradecylhexadecyl group, 3-decylpentadecyl group, 3-dodecylheptadecyl group, 3-tetra Decyl nonacosyl group, 4-decylhexadecyl group, 4-dodecyloctadecyl group, or 4-tetradecyl icosyl group is more preferable, and nonadecyl group, icosyl group, henicosyl group, 2-decyltetradecyl group, 2-decyltetradecyl group Particularly preferred are decyl, 2-dodecylhexadecyl, and 4-dodecyloctadecyl.
R5で表されるアルキル基として、本発明の共役系高分子の溶解性が高い点で、炭素数6から50のアルキル基を用いることが好ましく、炭素数6から34のアルキル基がより好ましく、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、ノナデシル基、イコシル基、ヘンイコシル基、2-エチルヘキシル基、3,7-ジメチルオクチル基、2-ヘキシルオクチル基、2-ヘキシルデシル基、2-オクチルドデシル基、2-デシルテトラデシル基、2-ドデシルテトラデシル基、2-ドデシルヘキサデシル基、2-テトラデシルヘキサデシル基、3-デシルペンタデシル基、3-ドデシルヘプタデシル基、3-テトラデシルノナコシル基、4-デシルヘキサデシル基、4-ドデシルオクタデシル基、又は4-テトラデシルイコシル基がさらに好ましく、ノナデシル基、イコシル基、ヘンイコシル基、2-デシルテトラデシル基、2-デシルテトラデシル基、2-ドデシルヘキサデシル基、4-ドデシルオクタデシル基がことさら好ましい。
R5は、本発明の共役系高分子の溶解性並びにキャリア移動度が高い点で水素原子、炭素数6から50のアルキル基が好ましく、水素原子又は炭素数6から34のアルキル基がより好ましく、水素原子、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、ノナデシル基、イコシル基、ヘンイコシル基、2-エチルヘキシル基、3,7-ジメチルオクチル基、2-ヘキシルオクチル基、2-ヘキシルデシル基、2-オクチルドデシル基、2-デシルテトラデシル基、2-ドデシルテトラデシル基、2-ドデシルヘキサデシル基、2-テトラデシルヘキサデシル基、3-デシルペンタデシル基、3-ドデシルヘプタデシル基、3-テトラデシルノナコシル基、4-デシルヘキサデシル基、4-ドデシルオクタデシル基、又は4-テトラデシルイコシル基がさらに好ましく、水素原子、ドデシル基、ノナデシル基、イコシル基、ヘンイコシル基、2-デシルテトラデシル基、2-デシルテトラデシル基、2-ドデシルヘキサデシル基、4-ドデシルオクタデシル基がことさら好ましい。
As the alkyl group represented by R5 , it is preferable to use an alkyl group having 6 to 50 carbon atoms, more preferably an alkyl group having 6 to 34 carbon atoms, from the viewpoint of high solubility of the conjugated polymer of the present invention. , hexyl group, octyl group, decyl group, dodecyl group, nonadecyl group, icosyl group, henicosyl group, 2-ethylhexyl group, 3,7-dimethyloctyl group, 2-hexyloctyl group, 2-hexyldecyl group, 2-octyl group Dodecyl group, 2-decyltetradecyl group, 2-dodecyltetradecyl group, 2-dodecylhexadecyl group, 2-tetradecylhexadecyl group, 3-decylpentadecyl group, 3-dodecylheptadecyl group, 3-tetradecyl A nonacosyl group, a 4-decylhexadecyl group, a 4-dodecyloctadecyl group, or a 4-tetradecyl icosyl group are more preferred, and a nonadecyl group, an icosyl group, a henicosyl group, a 2-decyltetradecyl group, and a 2-decyltetradecyl group. Particularly preferred are 2-dodecylhexadecyl and 4-dodecyloctadecyl groups.
R5 is preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 6 to 50 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 6 to 34 carbon atoms, from the viewpoint of high solubility and carrier mobility of the conjugated polymer of the present invention. , hydrogen atom, hexyl group, octyl group, decyl group, dodecyl group, nonadecyl group, icosyl group, henicosyl group, 2-ethylhexyl group, 3,7-dimethyloctyl group, 2-hexyloctyl group, 2-hexyldecyl group, 2-octyldodecyl group, 2-decyltetradecyl group, 2-dodecyltetradecyl group, 2-dodecylhexadecyl group, 2-tetradecylhexadecyl group, 3-decylpentadecyl group, 3-dodecylheptadecyl group, 3 -Tetradecylnonacosyl group, 4-decylhexadecyl group, 4-dodecyloctadecyl group, or 4-tetradecylicosyl group is more preferred, and hydrogen atom, dodecyl group, nonadecyl group, icosyl group, henicosyl group, 2-decyl group Tetradecyl group, 2-decyltetradecyl group, 2-dodecylhexadecyl group, and 4-dodecyloctadecyl group are particularly preferred.
R6で表されるアルコキシ基として、本発明の共役系高分子の溶解性が高い点で、炭素数6から50のアルコキシ基が好ましく、炭素数6から34のアルキルアルコキシ基がより好ましく、ヘキシルオキシ基、オクチルオキシ基、ドデシルオキシ基、ノナデシルオキシ基、イコシルオキシ基、ヘンイコシルオキシ基、2-デシルテトラデシルオキシ、2-ドデシルヘキサデシルオキシ基又は2-テトラデシルヘキサデシルオキシ基がさらに好ましく、オクチルオキシ基又はドデシルオキシ基がことさら好ましい。
R6は、本発明の共役系高分子の溶解性並びにキャリア移動度が高い点で水素原子、フッ素原子又は炭素数6から50のアルコキシ基が好ましく、水素原子、フッ素原子又は炭素数6から34のアルコキシ基がより好ましく、水素原子、フッ素原子、ヘキシルオキシ基、オクチルオキシ基、ドデシルオキシ基、ノナデシルオキシ基、イコシルオキシ基、ヘンイコシルオキシ基、2-デシルテトラデシルオキシ、2-ドデシルヘキサデシルオキシ基又は2-テトラデシルヘキサデシルオキシ基がさらに好ましく、水素原子がことさら好ましい。
The alkoxy group represented by R 6 is preferably an alkoxy group having 6 to 50 carbon atoms, more preferably an alkyl alkoxy group having 6 to 34 carbon atoms, from the viewpoint of high solubility of the conjugated polymer of the present invention, and hexyl More preferably, an oxy group, an octyloxy group, a dodecyloxy group, a nonadecyloxy group, an icosyloxy group, an icosyloxy group, a 2-decyltetradecyloxy group, a 2-dodecylhexadecyloxy group or a 2-tetradecylhexadecyloxy group, Particularly preferred are octyloxy or dodecyloxy groups.
R 6 is preferably a hydrogen atom, a fluorine atom, or an alkoxy group having 6 to 50 carbon atoms in view of the high solubility and carrier mobility of the conjugated polymer of the present invention; More preferred are alkoxy groups such as hydrogen atom, fluorine atom, hexyloxy group, octyloxy group, dodecyloxy group, nonadecyloxy group, icosyloxy group, henicosyloxy group, 2-decyltetradecyloxy, 2-dodecylhexadecyloxy or a 2-tetradecylhexadecyloxy group, and a hydrogen atom is particularly preferred.
R7で表されるアルキル基として、本発明の共役系高分子の溶解性が高い点で、炭素数6から50のアルキル基を用いることが好ましく、炭素数6から34のアルキル基がより好ましく、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、ノナデシル基、イコシル基、ヘンイコシル基、2-エチルヘキシル基、3,7-ジメチルオクチル基、2-ヘキシルオクチル基、2-ヘキシルデシル基、2-オクチルドデシル基、2-デシルテトラデシル基、2-ドデシルテトラデシル基、2-ドデシルヘキサデシル基、2-テトラデシルヘキサデシル基、3-デシルペンタデシル基、3-ドデシルヘプタデシル基、3-テトラデシルノナコシル基、4-デシルヘキサデシル基、4-ドデシルオクタデシル基、又は4-テトラデシルイコシル基がさらに好ましく、オクチル基、ドデシル基、ノナデシル基、イコシル基、ヘンイコシル基、2-ヘキシルデシル基、2-デシルテトラデシル基、2-デシルテトラデシル基、2-ドデシルヘキサデシル基、4-ドデシルオクタデシル基がことさら好ましい。
R7は、本発明の共役系高分子の溶解性並びにキャリア移動度が高い点で炭素数6から50のアルキル基を用いることが好ましく、炭素数6から34のアルキル基がより好ましく、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、ノナデシル基、イコシル基、ヘンイコシル基、2-エチルヘキシル基、3,7-ジメチルオクチル基、2-ヘキシルオクチル基、2-ヘキシルデシル基、2-オクチルドデシル基、2-デシルテトラデシル基、2-ドデシルテトラデシル基、2-ドデシルヘキサデシル基、2-テトラデシルヘキサデシル基、3-デシルペンタデシル基、3-ドデシルヘプタデシル基、3-テトラデシルノナコシル基、4-デシルヘキサデシル基、4-ドデシルオクタデシル基、又は4-テトラデシルイコシル基がさらに好ましく、オクチル基、ドデシル基、ノナデシル基、イコシル基、ヘンイコシル基、2-ヘキシルデシル基、2-デシルテトラデシル基、2-デシルテトラデシル基、2-ドデシルヘキサデシル基、4-ドデシルオクタデシル基がことさら好ましい。
As the alkyl group represented by R 7 , it is preferable to use an alkyl group having 6 to 50 carbon atoms, more preferably an alkyl group having 6 to 34 carbon atoms, from the viewpoint of high solubility of the conjugated polymer of the present invention. , hexyl group, octyl group, decyl group, dodecyl group, nonadecyl group, icosyl group, henicosyl group, 2-ethylhexyl group, 3,7-dimethyloctyl group, 2-hexyloctyl group, 2-hexyldecyl group, 2-octyl group Dodecyl group, 2-decyltetradecyl group, 2-dodecyltetradecyl group, 2-dodecylhexadecyl group, 2-tetradecylhexadecyl group, 3-decylpentadecyl group, 3-dodecylheptadecyl group, 3-tetradecyl Nonacosyl group, 4-decylhexadecyl group, 4-dodecyl octadecyl group, or 4-tetradecyl icosyl group are more preferable, and octyl group, dodecyl group, nonadecyl group, icosyl group, henicosyl group, 2-hexyldecyl group, Particularly preferred are 2-decyltetradecyl group, 2-decyltetradecyl group, 2-dodecylhexadecyl group, and 4-dodecyloctadecyl group.
R7 is preferably an alkyl group having 6 to 50 carbon atoms, more preferably an alkyl group having 6 to 34 carbon atoms, from the viewpoint of high solubility and carrier mobility of the conjugated polymer of the present invention, and a hexyl group. , octyl group, decyl group, dodecyl group, nonadecyl group, icosyl group, henicosyl group, 2-ethylhexyl group, 3,7-dimethyloctyl group, 2-hexyloctyl group, 2-hexyldecyl group, 2-octyldodecyl group, 2-decyltetradecyl group, 2-dodecyltetradecyl group, 2-dodecylhexadecyl group, 2-tetradecylhexadecyl group, 3-decylpentadecyl group, 3-dodecylheptadecyl group, 3-tetradecylnonacosyl group , 4-decylhexadecyl group, 4-dodecyloctadecyl group, or 4-tetradecylicosyl group are more preferable, and octyl group, dodecyl group, nonadecyl group, icosyl group, henicosyl group, 2-hexyldecyl group, 2-decyl group Tetradecyl group, 2-decyltetradecyl group, 2-dodecylhexadecyl group, and 4-dodecyloctadecyl group are particularly preferred.
R8で表されるアルコキシ基として、本発明の共役系高分子の溶解性が高い点で、炭素数6から50のアルコキシ基が好ましく、炭素数6から34のアルキルアルコキシ基がより好ましく、ヘキシルオキシ基、オクチルオキシ基、ドデシルオキシ基、ノナデシルオキシ基、イコシルオキシ基、ヘンイコシルオキシ基、2-エチルヘキシルオキシ基、2-ドデシルヘキサデシルオキシ基又は2-テトラデシルヘキサデシルオキシ基がさらに好ましく、2-エチルヘキシルオキシ基がことさら好ましい。
R8は、本発明の共役系高分子の溶解性が高い点で、炭素数6から34のアルキルアルコキシ基又は5-(炭素数1から20のアルキル)-2-チエニル基が好ましく、ヘキシルオキシ基、オクチルオキシ基、ドデシルオキシ基、ノナデシルオキシ基、イコシルオキシ基、ヘンイコシルオキシ基、2-エチルヘキシルオキシ基、2-ドデシルヘキサデシルオキシ基、2-テトラデシルヘキサデシルオキシ基、5-ヘキシル-2-チエニル基、5-(2-エチルヘキシル)-2-チエニル基、5-(3,7-ジメチルオクチル)-2-チエニル基がより好ましく、5-ヘキシル-2-チエニル基、5-(2-エチルヘキシル)-2-チエニル基がさらに好ましく、5-(2-エチルヘキシル)-2-チエニル基がことさら好ましい。
The alkoxy group represented by R 8 is preferably an alkoxy group having 6 to 50 carbon atoms, more preferably an alkyl alkoxy group having 6 to 34 carbon atoms, from the viewpoint of high solubility of the conjugated polymer of the present invention. More preferably, an oxy group, an octyloxy group, a dodecyloxy group, a nonadecyloxy group, an icosyloxy group, an icosyloxy group, a 2-ethylhexyloxy group, a 2-dodecylhexadecyloxy group or a 2-tetradecylhexadecyloxy group; -Ethylhexyloxy group is particularly preferred.
R 8 is preferably an alkyl alkoxy group having 6 to 34 carbon atoms or a 5-(alkyl having 1 to 20 carbon atoms)-2-thienyl group, and hexyloxy or group, octyloxy group, dodecyloxy group, nonadecyloxy group, icosyloxy group, henicosyloxy group, 2-ethylhexyloxy group, 2-dodecylhexadecyloxy group, 2-tetradecylhexadecyloxy group, 5-hexyl-2 -thienyl group, 5-(2-ethylhexyl)-2-thienyl group, 5-(3,7-dimethyloctyl)-2-thienyl group are more preferable, and 5-hexyl-2-thienyl group, 5-(2- Ethylhexyl)-2-thienyl group is more preferred, and 5-(2-ethylhexyl)-2-thienyl group is particularly preferred.
R9で表されるアルキル基として、本発明のモノマーと本発明の共役系高分子の溶解性が高い点で炭素数6から50のアルキル基が好ましく、炭素数6から34のアルキル基がより好ましく、ヘキシル基、オクチル基、ノナデシル基、イコシル基、ヘンイコシル基、2-エチルヘキシル基、3,7-ジメチルオクチル基、2-ヘキシルオクチル基、2-ヘキシルデシル基、2-オクチルドデシル基、2-デシルテトラデシル基、2-ドデシルテトラデシル基、2-ドデシルヘキサデシル基、2-テトラデシルヘキサデシル基、3-デシルペンタデシル基、3-ドデシルヘプタデシル基、3-テトラデシルノナコシル基、4-デシルヘキサデシル基、4-ドデシルオクタデシル基、又は4-テトラデシルイコシル基がさらに好ましく、ノナデシル基、イコシル基、ヘンイコシル基、2-デシルテトラデシル基、2-デシルテトラデシル基、2-ドデシルヘキサデシル基、4-ドデシルオクタデシル基がことさら好ましい。 As the alkyl group represented by R9 , an alkyl group having 6 to 50 carbon atoms is preferable, and an alkyl group having 6 to 34 carbon atoms is more preferable in terms of high solubility of the monomer of the present invention and the conjugated polymer of the present invention. Preferably hexyl group, octyl group, nonadecyl group, icosyl group, henicosyl group, 2-ethylhexyl group, 3,7-dimethyloctyl group, 2-hexyloctyl group, 2-hexyldecyl group, 2-octyldodecyl group, 2- Decyltetradecyl group, 2-dodecyltetradecyl group, 2-dodecylhexadecyl group, 2-tetradecylhexadecyl group, 3-decylpentadecyl group, 3-dodecylheptadecyl group, 3-tetradecylnonacosyl group, 4 -decylhexadecyl group, 4-dodecyloctadecyl group, or 4-tetradecylicosyl group is more preferable, and nonadecyl group, icosyl group, henicosyl group, 2-decyltetradecyl group, 2-decyltetradecyl group, 2-dodecyl group Particularly preferred are hexadecyl group and 4-dodecyloctadecyl group.
R10で表されるアルキル基として、本発明のモノマーと本発明の共役系高分子の溶解性が高い点で炭素数6から50のアルキル基、又は水素原子が好ましく、炭素数6から34のアルキル基がより好ましく、ヘキシル基、オクチル基、ノナデシル基、イコシル基、ヘンイコシル基、2-エチルヘキシル基、3,7-ジメチルオクチル基、2-ヘキシルオクチル基、2-ヘキシルデシル基、2-オクチルドデシル基、2-デシルテトラデシル基、2-ドデシルテトラデシル基、2-ドデシルヘキサデシル基、2-テトラデシルヘキサデシル基、3-デシルペンタデシル基、3-ドデシルヘプタデシル基、3-テトラデシルノナコシル基、4-デシルヘキサデシル基、4-ドデシルオクタデシル基、又は4-テトラデシルイコシル基、又は水素原子がさらに好ましく、ノナデシル基、イコシル基、ヘンイコシル基、2-デシルテトラデシル基、2-デシルテトラデシル基、2-ドデシルヘキサデシル基、4-ドデシルオクタデシル基、又は水素原子がことさら好ましい。 The alkyl group represented by R10 is preferably an alkyl group having 6 to 50 carbon atoms or a hydrogen atom, from the viewpoint of high solubility between the monomer of the present invention and the conjugated polymer of the present invention, and an alkyl group having 6 to 34 carbon atoms. Alkyl groups are more preferred; hexyl, octyl, nonadecyl, icosyl, henicosyl, 2-ethylhexyl, 3,7-dimethyloctyl, 2-hexyloctyl, 2-hexyldecyl, 2-octyldodecyl group, 2-decyltetradecyl group, 2-dodecyltetradecyl group, 2-dodecylhexadecyl group, 2-tetradecylhexadecyl group, 3-decylpentadecyl group, 3-dodecylheptadecyl group, 3-tetradecylnonaco group A sil group, 4-decylhexadecyl group, 4-dodecyloctadecyl group, or 4-tetradecylicosyl group, or a hydrogen atom is more preferable, and nonadecyl group, icosyl group, henicosyl group, 2-decyltetradecyl group, 2- Particularly preferred are a decyltetradecyl group, a 2-dodecylhexadecyl group, a 4-dodecyloctadecyl group, or a hydrogen atom.
R11で表されるアルキル基として、本発明のモノマーと本発明の共役系高分子の溶解性が高い点で炭素数6から50のアルキル基が好ましく、炭素数6から34のアルキル基がより好ましく、ヘキシル基、オクチル基、ノナデシル基、イコシル基、ヘンイコシル基、2-エチルヘキシル基、3,7-ジメチルオクチル基、2-ヘキシルオクチル基、2-ヘキシルデシル基、2-オクチルドデシル基、2-デシルテトラデシル基、2-ドデシルテトラデシル基、2-ドデシルヘキサデシル基、2-テトラデシルヘキサデシル基、3-デシルペンタデシル基、3-ドデシルヘプタデシル基、3-テトラデシルノナコシル基、4-デシルヘキサデシル基、4-ドデシルオクタデシル基、又は4-テトラデシルイコシル基がさらに好ましく、ノナデシル基、イコシル基、ヘンイコシル基、2-ヘキシルデシル基、2-オクチルドデシル基、2-デシルテトラデシル基、2-デシルテトラデシル基、2-ドデシルヘキサデシル基、4-ドデシルオクタデシル基がことさら好ましい。 As the alkyl group represented by R11 , an alkyl group having 6 to 50 carbon atoms is preferable, and an alkyl group having 6 to 34 carbon atoms is more preferable, since the monomer of the present invention and the conjugated polymer of the present invention have high solubility. Preferably, hexyl group, octyl group, nonadecyl group, icosyl group, henicosyl group, 2-ethylhexyl group, 3,7-dimethyloctyl group, 2-hexyloctyl group, 2-hexyldecyl group, 2-octyldodecyl group, 2- Decyltetradecyl group, 2-dodecyltetradecyl group, 2-dodecylhexadecyl group, 2-tetradecylhexadecyl group, 3-decylpentadecyl group, 3-dodecylheptadecyl group, 3-tetradecylnonacosyl group, 4 -decylhexadecyl group, 4-dodecyloctadecyl group, or 4-tetradecylicosyl group is more preferable, and nonadecyl group, icosyl group, henicosyl group, 2-hexyldecyl group, 2-octyldodecyl group, 2-decyltetradecyl group Particularly preferred are 2-decyltetradecyl, 2-dodecylhexadecyl, and 4-dodecyloctadecyl.
環Ar1は、一般式(2-1)から(2-3) Ring Ar 1 is represented by general formulas (2-1) to (2-3)
(式中、R2、R3及びR4は前記と同様の意味を表す。)からなる群から選択される一つの芳香環連結基である。
該芳香環を含む具体的な一般式(1)で表される本発明のモノマーは、式(1-1)から(1-3)
(In the formula, R 2 , R 3 and R 4 have the same meanings as above.) One aromatic ring linking group selected from the group consisting of:
The monomer of the present invention represented by the specific general formula (1) containing the aromatic ring is represented by formulas (1-1) to (1-3).
(式中、R1、R2、R3並びにR4は前記と同様を表す。)で表される。
M1で表されるハロゲン原子としては、本発明の共役系高分子の製造効率が良い点で、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子が好ましく、臭素原子又はヨウ素原子がさらに好ましく、臭素原子がことさら好ましい。
M1で表される金属含有基としては、本発明の共役系高分子の製造効率が良い点で、リチウム原子、クロロマグネシオ基又はブロモマグネシオ基が好ましく、クロロマグネシオ基がことさら好ましい。
(In the formula, R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are as defined above.)
The halogen atom represented by M1 is preferably a chlorine atom, a bromine atom, or an iodine atom, more preferably a bromine atom or an iodine atom, and particularly a bromine atom, from the viewpoint of high production efficiency of the conjugated polymer of the present invention. preferable.
As the metal-containing group represented by M 1 , a lithium atom, a chloromagnesio group, or a bromomagnesio group is preferable, and a chloromagnesio group is particularly preferable, from the viewpoint of good production efficiency of the conjugated polymer of the present invention.
M1で表されるホウ素含有基としては、本発明の共役系高分子の製造効率が良い点で、ボロン酸、ボロン酸エステル又はボレート塩などが好ましく、式(12-1)から(12-11) The boron-containing group represented by M 1 is preferably boronic acid, boronic acid ester, borate salt, etc. from the viewpoint of high production efficiency of the conjugated polymer of the present invention, and formulas (12-1) to (12- 11)
(式中、M2はリチウム原子、ナトリウム原子、カリウム原子、ルビジウム原子又はセシウム原子を表す。)が好ましく、式(12-1)、式(12-3)、式(12-10)又は式(12-11)で表される基がより好ましく、式(12-1)、式(12-3)、式(12-10)又は式(12-11)がさらに好ましく、式(12-3)がことさら好ましい。
M1で表されるスズ含有基としては、トリアルキルスズ基、ジアルキルアリールスズ基、アルキルジアリールスズ基又はトリアリールスズ基などが例示できる。本発明の共役系高分子の製造効率が良い点で、トリアルキルスズ基が好ましく、式(13-1)から式(13-5)
(In the formula, M 2 represents a lithium atom, a sodium atom, a potassium atom, a rubidium atom, or a cesium atom.) is preferable, and the formula (12-1), the formula (12-3), the formula (12-10), or the formula A group represented by (12-11) is more preferred, and a group represented by formula (12-1), formula (12-3), formula (12-10) or formula (12-11) is even more preferred, and formula (12-3) is more preferred. ) is particularly preferred.
Examples of the tin-containing group represented by M 1 include a trialkyltin group, a dialkylaryltin group, an alkyldiaryltin group, and a triaryltin group. Trialkyltin groups are preferred from the viewpoint of high production efficiency of the conjugated polymer of the present invention, and formulas (13-1) to (13-5)
で表される基がより好ましく、式(13-1)又は式(13-4)で表される基がさらに好ましく、式(13-1)で表される基がことさら好ましい。
M1は、本発明の共役系高分子の製造効率が高い点で、水素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ホウ素含有基又はスズ含有基が好ましく、水素原子、臭素原子、式(12-1)、式(12-3)、式(12-10)、式(12-11)、式(13-1)又は式(13-4)式がさらに好ましく、臭素原子、式(12-3)又は式(13-1)がことさら好ましい。
Xで表されるカルコゲン原子としては、酸素原子、硫黄原子、セレン原子又はテルル原子が好ましく、酸素原子又は硫黄原子がより好ましく、硫黄原子がさらに好ましい。
A group represented by the formula (13-1) or (13-4) is more preferred, a group represented by the formula (13-1) is even more preferred, and a group represented by the formula (13-1) is even more preferred.
M 1 is preferably a hydrogen atom, a bromine atom, an iodine atom, a boron-containing group, or a tin-containing group, from the viewpoint of high production efficiency of the conjugated polymer of the present invention, and is a hydrogen atom, a bromine atom, or a group containing formula (12-1). , formula (12-3), formula (12-10), formula (12-11), formula (13-1) or formula (13-4) are more preferred, and a bromine atom, formula (12-3) or Formula (13-1) is particularly preferred.
The chalcogen atom represented by X is preferably an oxygen atom, a sulfur atom, a selenium atom, or a tellurium atom, more preferably an oxygen atom or a sulfur atom, and even more preferably a sulfur atom.
Xで表される炭素数1から50のアルキル基で置換されていてもよい窒素原子において、炭素数1から50のアルキル基としては、直鎖状、分岐状又は環状のいずれであってもよく、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、ノナデシル基、イコシル基、ヘンイコシル基、ドコシル基、トリコシル基、テトラコシル基、ペンタコシル基、ヘキサコシル基、ヘプタコシル基、オクタコシル基、ノナコシル基、トリアコンチル基、ヘントリアコンチル基、ドドリアコンチル基、トリトリアコンチル基、テトラトリアコンチル基、ペンタトリアコンチル基、ヘキサトリアコンチル基、テトラコンチル基、ヘンテトラコンチル基、ドテトラコンチル基、トリテトラコンチル基、テトラテトラコンチル基、ペンタコンチル基等の直鎖アルキル基、イソプロピル基、イソブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、2-エチルヘキシル基、3,7-ジメチルオクチル基、2-ヘキシルデシル基、2-デシルテトラデシル基、2-ドデシルテトラデシル基、2-ドデシルヘキサデシル基、2-テトラデシルヘキサデシル基等の分岐アルキル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等の環状アルキル基を例示することができる。本発明の共役系高分子の成膜性並びに溶解性がよい点で、ヘキシル基、オクチル基、ドデシル基、2-エチルヘキシル基、3,7-ジメチルオクチル基、2-ヘキシルデシル基、2-デシルテトラデシル基、2-ドデシルテトラデシル基、2-ドデシルヘキサデシル基又は2-テトラデシルヘキサデシル基が好ましく、ヘキシル基、オクチル基、ドデシル基、2-エチルヘキシル基又は3,7-ジメチルオクチル基がより好ましく、オクチル基、ドデシル基又は2-エチルヘキシル基がさらに好ましく、オクチル基がことさら好ましい。
X1としては、5-(炭素数6から10のアルキル)-2-チエニル基、又は炭素数1から50のアルキル基若しくは炭素数1から50のアルコキシ基で置換されていてもよい2価の複素芳香族環連結基を例示することができ、具体的には下記一般式(6)から(10)
In the nitrogen atom that may be substituted with an alkyl group having 1 to 50 carbon atoms represented by X, the alkyl group having 1 to 50 carbon atoms may be linear, branched, or cyclic. , methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, heptyl group, octyl group, nonyl group, decyl group, undecyl group, dodecyl group, tridecyl group, tetradecyl group, pentadecyl group, hexadecyl group, heptadecyl group group, octadecyl group, nonadecyl group, icosyl group, henicosyl group, docosyl group, tricosyl group, tetracosyl group, pentacosyl group, hexacosyl group, heptacosyl group, octacosyl group, nonacosyl group, triacontyl group, hentriacontyl group, dodoriacontyl group , tritriacontyl group, tetratriacontyl group, pentatriacontyl group, hexatriacontyl group, tetracontyl group, hentetracontyl group, dotetracontyl group, tritetracontyl group, tetratetracontyl group, pentacontyl group Straight chain alkyl groups such as isopropyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, 2-ethylhexyl group, 3,7-dimethyloctyl group, 2-hexyldecyl group, 2-decyltetradecyl group, Examples include branched alkyl groups such as 2-dodecyltetradecyl group, 2-dodecylhexadecyl group, and 2-tetradecylhexadecyl group, and cyclic alkyl groups such as cyclopentyl group and cyclohexyl group. The conjugated polymer of the present invention has good film-forming properties and solubility, such as hexyl group, octyl group, dodecyl group, 2-ethylhexyl group, 3,7-dimethyloctyl group, 2-hexyldecyl group, and 2-decyl group. Tetradecyl group, 2-dodecyltetradecyl group, 2-dodecylhexadecyl group or 2-tetradecylhexadecyl group is preferable, and hexyl group, octyl group, dodecyl group, 2-ethylhexyl group or 3,7-dimethyloctyl group is preferable. More preferred are octyl, dodecyl or 2-ethylhexyl, and even more preferred is octyl.
X 1 is a 5-(alkyl having 6 to 10 carbon atoms)-2-thienyl group, or a divalent group optionally substituted with an alkyl group having 1 to 50 carbon atoms or an alkoxy group having 1 to 50 carbon atoms. Examples of heteroaromatic ring linking groups include the following general formulas (6) to (10).
(式中、R5及びR6は前記と同じ意味を表す。Xはカルコゲン原子又は炭素数1から50のアルキル基で置換されていてもよい窒素原子を表す。p及びqは、各々独立に、0、1又は2の整数を表す。) (In the formula, R 5 and R 6 represent the same meanings as above. X represents a nitrogen atom which may be substituted with a chalcogen atom or an alkyl group having 1 to 50 carbon atoms. p and q each independently represent , represents an integer of 0, 1 or 2.)
(式中、R7は前記と同じ意味を表す。Yは水素原子又はフッ素原子を表す。r及びsは各々独立に、0、1、又は2の整数を表す。) (In the formula, R 7 represents the same meaning as above. Y represents a hydrogen atom or a fluorine atom. r and s each independently represent an integer of 0, 1, or 2.)
(式中、R8は前記と同じ意味を表す。tは0,1又は2の整数を表す。) (In the formula, R8 represents the same meaning as above. t represents an integer of 0, 1 or 2.)
(式中、Aはカルコゲン原子を表す。R9及びR10は前記と同じ意味を表す。u及びvは、各々独立に、0、1又は2の整数を表す。) (In the formula, A represents a chalcogen atom. R 9 and R 10 have the same meanings as above. u and v each independently represent an integer of 0, 1 or 2.)
(式中、R11は前記と同じ意味を表す。w及びzは各々独立に、1、又は2の整数を表す。)からなる群より選ばれる2価の複素芳香族環連結基を挙げることができる。
Xとしては、成膜性並びにキャリア移動度が高い点で、硫黄原子又は炭素数6から34のアルキル基で置換されていてもよい窒素原子が好ましく、硫黄原子若しくはヘキシル基、オクチル基又は2-エチルヘキシル基で置換された窒素原子がより好ましく、硫黄原子又はオクチル基で置換された窒素原子がさらに好ましい。
Yとしては、本発明の共役系高分子の成膜性並びにキャリア移動度が高い点で、水素原子又はフッ素原子が好ましく、水素原子がさらに好ましい。
pとしては、本発明の共役系高分子の成膜性並びにキャリア移動度が高い点で、0又は1が好ましい。
qとしては、本発明の共役系高分子の成膜性並びにキャリア移動度が高い点で、0又は1が好ましい。
rとしては、本発明の共役系高分子の成膜性並びにキャリア移動度が高い点で、1が好ましい。
sとしては、本発明の共役系高分子の成膜性並びにキャリア移動度が高い点で、1が好ましい。
tとしては、本発明の共役系高分子の成膜性並びにキャリア移動度が高い点で、0又は1が好ましい。
uとしては、本発明の共役系高分子の成膜性並びにキャリア移動度が高い点で、1又は2が好ましい。
vとしては、本発明の共役系高分子の成膜性並びにキャリア移動度が高い点で、1又は2が好ましい。
wとしては、本発明の共役系高分子の成膜性並びにキャリア移動度が高い点で、1又は2が好ましい。
zとしては、本発明の共役系高分子の成膜性並びにキャリア移動度が高い点で、1又は2が好ましい。
X1として、本発明の共役系高分子の溶解性が高い点で、具体的には、式(11-1)から(11-150)
(In the formula, R 11 represents the same meaning as above. w and z each independently represent an integer of 1 or 2.) Divalent heteroaromatic ring linking group selected from the group consisting of I can do it.
As X, a sulfur atom or a nitrogen atom which may be substituted with an alkyl group having 6 to 34 carbon atoms is preferable from the viewpoint of high film-forming properties and carrier mobility; A nitrogen atom substituted with an ethylhexyl group is more preferred, and a nitrogen atom substituted with a sulfur atom or an octyl group is even more preferred.
As Y, a hydrogen atom or a fluorine atom is preferable, and a hydrogen atom is more preferable, since the conjugated polymer of the present invention has high film-forming properties and carrier mobility.
p is preferably 0 or 1 in terms of the film-forming properties and carrier mobility of the conjugated polymer of the present invention.
q is preferably 0 or 1 because the conjugated polymer of the present invention has high film-forming properties and high carrier mobility.
As r, 1 is preferable since the conjugated polymer of the present invention has high film-forming properties and high carrier mobility.
s is preferably 1, since the conjugated polymer of the present invention has high film-forming properties and high carrier mobility.
t is preferably 0 or 1, since the conjugated polymer of the present invention has high film-forming properties and high carrier mobility.
As u, 1 or 2 is preferable in that the conjugated polymer of the present invention has high film-forming properties and high carrier mobility.
v is preferably 1 or 2 in terms of the film-forming properties and carrier mobility of the conjugated polymer of the present invention.
As w, 1 or 2 is preferable since the conjugated polymer of the present invention has high film-forming properties and high carrier mobility.
z is preferably 1 or 2 because the conjugated polymer of the present invention has high film-forming properties and high carrier mobility.
As X 1 , in view of the high solubility of the conjugated polymer of the present invention, specifically, formulas (11-1) to (11-150)
を例示することができる。
X1は、本発明の共役系高分子の成膜性並びにキャリア移動度が高い点で、式(11-1)から式(11-25)、式(11-40)から式(11-56)、式(11-65)から式(11-72)が好ましく、式(11-1)から式(11-15)、式(11-40)から式(11-49)、式(11-51)から式(11-56)、式(11-65)がより好ましく、式(11-1)、式(11-2)、式(11-5)、式(11-40)、式(11-41)、式(11-42)、式(11-43)、式(11-44)、式(11-45)、式(11-46)、式(11-49)、式(11-52)、式(11-54)、式(11-65)がことさら好ましい。
can be exemplified.
X 1 is the point that the conjugated polymer of the present invention has high film formability and carrier mobility, ), formula (11-65) to formula (11-72) are preferred, formula (11-1) to formula (11-15), formula (11-40) to formula (11-49), formula (11- 51) to formula (11-56) and formula (11-65) are more preferable, and formula (11-1), formula (11-2), formula (11-5), formula (11-40), formula ( 11-41), formula (11-42), formula (11-43), formula (11-44), formula (11-45), formula (11-46), formula (11-49), formula (11 -52), formula (11-54), and formula (11-65) are particularly preferred.
次に本発明のモノマーについて説明する。
本発明のモノマーとして、具体的には式(200-1)から式(200-132)
Next, the monomer of the present invention will be explained.
Specifically, the monomers of the present invention include formulas (200-1) to (200-132).
で表される構造を例示することができる。
本発明の共役系高分子の製造効率と溶解性が高い点で、式(200-1)、式(200-4)、式(200-7)、式(200-10)、式(200-13)、式(200-16)、式(200-19)、式(200-22)、式(200-25)、式(200-26)、式(200-28)、式(200-29)、式(200-31)、式(200-32)、式(200-34)、式(200-35)、式(200-37)、式(200-38)、式(200-40)、式(200-41)、式(200-43)、式(200-44)、式(200-46)、式(200-47)、式(200-49)、式(200-50)、式(200-52)、式(200-53)、式(200-55)、式(200-56)、式(200-58)、式(200-59)、式(200-61)、式(200-62)、式(200-64)、式(200-65)、式(200-73)、式(200-76)、式(200-85)、式(200-88)、式(200-97)、式(200-98)、式(200-100)、式(200-101)、式(200-103)、式(200-106)、式(200-107)、式(200-109)、式(200-110)、式(200-112)、式(200-115)、式(200-116)、式(200-118)、式(200-119)、式(200-121)、式(200-124)、式(200-125)、式(200-127)、式(200-128)、式(200-130)又は式(200-131)が好ましく、式(200-1)、式(200-4)、式(200-7)、式(200-10)、式(200-13)、式(200-16)、式(200-19)、式(200-22)、式(200-26)、式(200-29)、式(200-32)、式(200-35)、式(200-38)、式(200-41)、式(200-44)、式(200-47)、式(200-49)、式(200-52)、式(200-55)、式(200-58)、式(200-61)、式(200-64)、式(200-73)、式(200-76)、式(200-85)、式(200-88)、式(200-97)、式(200-101)、式(200-103)、式(200-106)、式(200-110)、式(200-112)、式(200-115)、式(200-119)、式(200-121)、式(200-124)、式(200-125)、式(200-127)、式(200-128)、式(200-130)又は式(200-131)がより好ましく、式(200-4)、式(200-7)、式(200-10)、式(200-16)、式(200-26)、式(200-73)、式(200-76)、式(200-85)、式(200-88)、式(200-97)、式(200-103)、式(200-106)、式(200-112)、式(200-115)又は式(200-121)がさらに好ましい。
The structure represented by can be exemplified.
Formula (200-1), Formula (200-4), Formula (200-7), Formula (200-10), Formula (200- 13), formula (200-16), formula (200-19), formula (200-22), formula (200-25), formula (200-26), formula (200-28), formula (200-29) ), formula (200-31), formula (200-32), formula (200-34), formula (200-35), formula (200-37), formula (200-38), formula (200-40) , formula (200-41), formula (200-43), formula (200-44), formula (200-46), formula (200-47), formula (200-49), formula (200-50), Formula (200-52), Formula (200-53), Formula (200-55), Formula (200-56), Formula (200-58), Formula (200-59), Formula (200-61), Formula (200-62), Formula (200-64), Formula (200-65), Formula (200-73), Formula (200-76), Formula (200-85), Formula (200-88), Formula ( 200-97), formula (200-98), formula (200-100), formula (200-101), formula (200-103), formula (200-106), formula (200-107), formula (200 -109), Formula (200-110), Formula (200-112), Formula (200-115), Formula (200-116), Formula (200-118), Formula (200-119), Formula (200- 121), formula (200-124), formula (200-125), formula (200-127), formula (200-128), formula (200-130) or formula (200-131) are preferred; -1), formula (200-4), formula (200-7), formula (200-10), formula (200-13), formula (200-16), formula (200-19), formula (200- 22), formula (200-26), formula (200-29), formula (200-32), formula (200-35), formula (200-38), formula (200-41), formula (200-44) ), formula (200-47), formula (200-49), formula (200-52), formula (200-55), formula (200-58), formula (200-61), formula (200-64) , formula (200-73), formula (200-76), formula (200-85), formula (200-88), formula (200-97), formula (200-101), formula (200-103), Formula (200-106), Formula (200-110), Formula (200-112), Formula (200-115), Formula (200-119), Formula (200-121), Formula (200-124), Formula (200-125), formula (200-127), formula (200-128), formula (200-130) or formula (200-131) are more preferred, and formula (200-4), formula (200-7) , formula (200-10), formula (200-16), formula (200-26), formula (200-73), formula (200-76), formula (200-85), formula (200-88), More preferred are formula (200-97), formula (200-103), formula (200-106), formula (200-112), formula (200-115), or formula (200-121).
次に本発明の共役系高分子について説明する。
本発明の共役系高分子は一般式(3)
Next, the conjugated polymer of the present invention will be explained.
The conjugated polymer of the present invention has the general formula (3)
(式中、R1及び環Ar1は前記と同様の意味を表す。)で表される構造単位と一般式(4) (In the formula, R 1 and ring Ar 1 represent the same meanings as above.) and the general formula (4)
(式中、X1は5-(炭素数6から10のアルキル)-2-チエニル基、炭素数1から50のアルキル基若しくは炭素数1から50のアルコキシ基で置換されていてもよい2価の複素芳香族環連結基を表す。)で表される構造単位より構成される共役系高分子である。
環Ar1を含む具体的な一般式(2)で表される構造単位は、一般式(3-1)から(3-3)
(In the formula , It is a conjugated polymer composed of structural units represented by (representing a heteroaromatic ring linking group).
The specific structural unit represented by general formula (2) containing ring Ar 1 is represented by general formulas (3-1) to (3-3).
(式中、R1、R2、R3及びR4は前記と同じ意味を表す。)を例示することができる。
X1を含む具体的な一般式(4)で表される構造単位は、式(100-1)から式(100-150)
(In the formula, R 1 , R 2 , R 3 and R 4 have the same meanings as above.) can be exemplified.
The specific structural unit represented by general formula (4) containing X 1 is represented by formula (100-1) to formula (100-150).
を例示することができる。
X1は、本発明の共役系高分子の成膜性並びにキャリア移動度が高い点で、式(100-1)から式(100-25)、式(100-40)から式(100-56)、式(100-65)から式(100-72)が好ましく、式(100-1)から式(100-15)、式(100-40)から式(100-49)、式(100-51)から式(100-56)、式(100-65)がより好ましく、式(100-1)、式(100-2)、式(100-5)、式(100-40)、式(100-41)、式(100-42)、式(100-43)、式(100-44)、式(100-45)、式(100-46)、式(100-49)、式(100-52)、式(100-54)、式(100-65)がことさら好ましい。
本発明の共役系高分子は、一般式(3)と一般式(4)で表される構造単位を含んでいれば構造単位の順序に特に制限はなく、例えば交互、ランダム又はグラジエント等が挙げられる。成膜性並びに移動度が高い点で、一般式(3)と一般式(4)で表される構造単位が交互に繰り返される構造単位を含む共役系高分子が好ましく、該構造単位として一般式(5)
can be exemplified.
X 1 is a point in which the conjugated polymer of the present invention has high film-forming properties and carrier mobility; ), formula (100-65) to formula (100-72) are preferred, formula (100-1) to formula (100-15), formula (100-40) to formula (100-49), formula (100- 51) to formula (100-56) and formula (100-65) are more preferable, and formula (100-1), formula (100-2), formula (100-5), formula (100-40), formula ( 100-41), formula (100-42), formula (100-43), formula (100-44), formula (100-45), formula (100-46), formula (100-49), formula (100 -52), formula (100-54), and formula (100-65) are particularly preferred.
The conjugated polymer of the present invention is not particularly limited in the order of the structural units as long as it contains the structural units represented by the general formula (3) and the general formula (4). For example, the order of the structural units may be alternate, random, or gradient. It will be done. From the viewpoint of high film-forming properties and high mobility, a conjugated polymer containing a structural unit in which the structural units represented by the general formula (3) and the general formula (4) are alternately repeated is preferable, and the structural unit has the general formula (5)
(式中、R1、環Ar1及びX1は前記と同様の意味を表す。)で表すことができる。 (In the formula, R 1 , ring Ar 1 and X 1 have the same meanings as above.)
一般式(5)で表される本発明の共役系高分子として、成膜性並びにキャリア移動度が高い点で、具体的には式(14-1)から式(14-227) As the conjugated polymer of the present invention represented by general formula (5), specifically, formulas (14-1) to (14-227) have high film formability and carrier mobility.
で表される構造単位を表される共役系高分子が好ましく、式(14-1)から式(14-11)、式(14-21)から式(14-111)、式(14-176)から式(14-223)がより好ましく、式(14-1)から式(14-11)、式(14-21)から式(14-63)、式(14-176)から式(14-223)がさらに好ましく、式(14-1)から式(14-11)、式(14-21)、式(14-24)、式(14-28)、式(14-177)、式(14-181)から、式(14-183)、式(14-185)、式(14-186)、式(14-189)、式(14-190)、式(14-200)、式(14-209)、式(14-213)、式(14-217)がことさら好ましい。
本発明の共役系高分子の末端構造に特に制限はないが、例えば、水素原子、ボロン酸、ボロン酸エステル等のホウ素基、トリメチルスタニル、トリブチルスタニル等のスズ基、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子、フェニル基、チエニル基等の芳香族基等が挙げられ、両末端の構造は同一又は相異なっていてもよい。
Conjugated polymers having structural units represented by formulas (14-1) to (14-11), formulas (14-21) to (14-111), and formulas (14-176) are preferred. ) to formula (14-223) is more preferable, formula (14-1) to formula (14-11), formula (14-21) to formula (14-63), formula (14-176) to formula (14 -223) is more preferred, and formulas (14-1) to (14-11), formula (14-21), formula (14-24), formula (14-28), formula (14-177), and formula From (14-181), formula (14-183), formula (14-185), formula (14-186), formula (14-189), formula (14-190), formula (14-200), formula (14-209), formula (14-213), and formula (14-217) are particularly preferred.
There is no particular restriction on the terminal structure of the conjugated polymer of the present invention, but examples include a hydrogen atom, a boron group such as boronic acid and boronic acid ester, a tin group such as trimethylstannyl and tributylstannyl, a chlorine atom, and a bromine atom. , halogen atoms such as iodine atoms, aromatic groups such as phenyl groups, thienyl groups, etc., and the structures at both ends may be the same or different.
次に本発明のモノマーの製造方法(以下、「本発明のモノマーの製造方法」という。)
に関して説明する。本発明のモノマーは、以下に示す製造工程(A)から(E)によってそれぞれ製造することができる。
製造工程(A)
Next, the method for producing the monomer of the present invention (hereinafter referred to as "the method for producing the monomer of the present invention")
I will explain about it. The monomer of the present invention can be manufactured by the following manufacturing steps (A) to (E).
Manufacturing process (A)
(式中、M1aは、水素原子又はハロゲン原子を表す。R1及びR2は前記と同じ意味を表す。)
M1aで表されるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子等を例示することができる。
式(15-1)中におけるM1aは、反応収率が良い点で臭素原子又はヨウ素原子が好ましく、臭素原子がより好ましい。
製造工程(A)は化合物(15-1)を酸化剤と反応させて化合物(1a-1)を得る工程である。
製造工程(A)で用いることのできる酸化剤としては、特に限定するものではないが、例えば、フルオロクロム酸ピリジニウム、クロロクロム酸ピリジニウム、重クロム酸ピリジニウム、重クロム酸ビス(テトラブチルアンモニウム)、重クロム酸キノリニウム、次亜塩素酸ナトリウム五水和物、3-クロロ過安息香酸、モノペルオキシフタル酸マグネシウム六水和物、tert-ブチルヒドロペルオキシド、ビス(トリメチルシリル)ペルオキシド、クメンヒドロペルオキシド、ジ-tert-ブチルペルオキシド、過酸化水素、メチルエチルケトンペルオキシド、1-アセトキシ-5-ブロモ-1,2-ベンズヨードキソール-3(1H)-オン、[ビス(トリフルオロアセトキシ)ヨード]ベンゼン、[ビス(トリフルオロアセトキシ)ヨード]ペンタフルオロベンゼン、1-(tert-ブチルペルオキシ)-1,2-ベンズヨードキソール-3-(3H)-オン、ビス(ピリジン)ヨードニウムテトラフルオロボラート、1,1,1-トリアセトキシ-1,1-ジヒドロ-1,2-ベンゾヨードキソール-3-(1H)-オン、ヨードソベンゼン、2-ヨードソ安息香酸、ヨードベンゼンジアセタート、ヨードメシチレンジアセタート、2-ヨードキシ安息香酸、パラ過ヨウ素酸三ナトリウム、[ヒドロキシ(トシルオキシ)ヨード]ベンゼン、ポリ[4-(ジアセトキシヨード)スチレン]、[ビス(トリフルオロアセトキシ)ヨード]ベンゼン、ビス(テトラブチルアンモニウム)ペルオキシジスルファート、ピリジン-三酸化硫黄錯体、三酸化硫黄-トリエチルアミン錯体、4-アセトアミド-2,2,6,6-テトラメチル-1-オキソピペリジニウムテトラフルオロボラート、ベンゼンスルホンクロラミドナトリウム水和物、p-トルエンスルホンクロラミドナトリウム三水和物、硝酸セリウムアンモニウム、1,1-ジフェニル-2-ピクリルヒドラジルフリーラジカル、2-ヒドロキシ-2-アザアダマンタン、4-メチルモルホリンN-オキシド、過マンガン酸カリウム、リンモリブデン酸、塩化第二鉄、五塩化モリブデン、テトラプロピルアンモニウムペルルテナート、クロラニル、2,3-ジクロロ-5,6-ジシアノ-1,4-ベンゾキノン、トリメチルアミンN-オキシド、2,2,6,6-テトラメチルピペリジン1-オキシルフリーラジカル等が挙げられる。反応収率がよい点で塩化第二鉄を用いることが好ましい。
用いる酸化剤の量に特に制限は無いが、反応収率がよい点で、化合物(15-1)に対して、1~100等量の範囲にあることが好ましく、2~10等量の範囲にあることがさらに好ましい。
(In the formula, M 1a represents a hydrogen atom or a halogen atom. R 1 and R 2 represent the same meanings as above.)
Examples of the halogen atom represented by M 1a include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.
M 1a in formula (15-1) is preferably a bromine atom or an iodine atom, more preferably a bromine atom, from the viewpoint of good reaction yield.
Production step (A) is a step of reacting compound (15-1) with an oxidizing agent to obtain compound (1a-1).
The oxidizing agent that can be used in the manufacturing process (A) is not particularly limited, but includes, for example, pyridinium fluorochromate, pyridinium chlorochromate, pyridinium dichromate, bis(tetrabutylammonium) dichromate, Quinolinium dichromate, sodium hypochlorite pentahydrate, 3-chloroperbenzoic acid, magnesium monoperoxyphthalate hexahydrate, tert-butyl hydroperoxide, bis(trimethylsilyl) peroxide, cumene hydroperoxide, di- tert-Butyl peroxide, hydrogen peroxide, methyl ethyl ketone peroxide, 1-acetoxy-5-bromo-1,2-benziodoxol-3(1H)-one, [bis(trifluoroacetoxy)iodo]benzene, [bis( trifluoroacetoxy)iodo]pentafluorobenzene, 1-(tert-butylperoxy)-1,2-benziodoxol-3-(3H)-one, bis(pyridine)iodonium tetrafluoroborate, 1,1, 1-triacetoxy-1,1-dihydro-1,2-benziodoxol-3-(1H)-one, iodosobenzene, 2-iodosobenzoic acid, iodobenzene diacetate, iodomesitylene diacetate, 2-Iodoxybenzoic acid, trisodium paraperiodate, [hydroxy(tosyloxy)iodo]benzene, poly[4-(diacetoxyiodo)styrene], [bis(trifluoroacetoxy)iodo]benzene, bis(tetrabutylammonium) ) Peroxydisulfate, pyridine-sulfur trioxide complex, sulfur trioxide-triethylamine complex, 4-acetamido-2,2,6,6-tetramethyl-1-oxopiperidinium tetrafluoroborate, benzenesulfone chloramide Sodium hydrate, p-toluenesulfone chloramide sodium trihydrate, cerium ammonium nitrate, 1,1-diphenyl-2-picrylhydrazyl free radical, 2-hydroxy-2-azaadamantane, 4-methylmorpholine N -oxide, potassium permanganate, phosphomolybdic acid, ferric chloride, molybdenum pentachloride, tetrapropylammonium perruthenate, chloranil, 2,3-dichloro-5,6-dicyano-1,4-benzoquinone, trimethylamine N -oxide, 2,2,6,6-tetramethylpiperidine 1-oxyl free radical, and the like. It is preferable to use ferric chloride because it provides a good reaction yield.
There is no particular restriction on the amount of the oxidizing agent used, but from the viewpoint of a good reaction yield, it is preferably in the range of 1 to 100 equivalents, and preferably in the range of 2 to 10 equivalents, relative to compound (15-1). It is more preferable that the
製造工程(A)は溶媒中で実施することが可能である。用いることのできる溶媒としては、ヘキサン、ヘプタン、デカン、トリデカン等の脂肪族炭化水素溶媒、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル(CPME)、テトラヒドロフラン(THF)、2-メチルテトラヒドロフラン、1,4-ジオキサン、ジメトキシエタン等のエーテル溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、テトラリン等の芳香族炭化水素溶媒、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート、ジメチルカーボネート、ジエチルカーボネート、エチルメチルカーボネート、4-フルオロエチレンカーボネート等の炭酸エステル溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、酪酸メチル、γ-ラクトン等のエステル溶媒、ジメチルスルホキシド(DMF)、ジメチルアセトアミド(DMAc)、N-メチルピロリドン(NMP)等のアミド溶媒、N,N,N’,N’-テトラメチルウレア(TMU)、N,N’-ジメチルプロピレンウレア(DMPU)等のウレア溶媒、ジメチルスルホキシド(DMSO)等のスルホキシド溶媒、メタノール、エタノール、2-プロパノール、ブタノール、オクタノール、ベンジルアルコール、エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、2,2,2-トリフルオロエタノール等のアルコール溶媒、クロロホルム、ジクロロメタン、四塩化炭素、1,2-ジクロロエタン、クロロベンゼン、オルトジクロロベンゼン等のハロゲン溶媒、ビス(2,2,2-トリフルオロエチル)=N,N-ジイソプロピルホスホロアミダート(PF-37)、リン酸=トリス(2,2,2-トリフルオロエチル)(TFEP)等のフッ素溶媒、ニトロメタン、水等を例示することができ、これらを任意の比で混合して用いてもよい。
これらのうち、反応収率がよい点でハロゲン溶媒、ハロゲン溶媒とニトロメタンの混合溶媒が好ましく、ジクロロメタンとニトロメタンの混合溶媒、クロロホルムとニトロメタンの混合溶媒、オルトジクロロベンゼン(o-DCB)とニトロメタンの混合溶媒がさらに好ましい。
溶媒の使用量に特に制限はないが、使用する化合物(15-1)の重量に対して、0.1~100mL/mgの範囲にあることが好ましく、0.1~10mL/mgの範囲にあることがさらに好ましい。
製造工程(A)ははアルゴンガスまたは窒素ガスといった不活性ガス雰囲気下で行うことが好ましい。
製造工程(A)はを実施する反応温度に制限はないが、-78℃~100℃の範囲で実施することが好ましく、0℃~40℃の範囲で実施することより好ましい。
反応時間は用いる化合物(15-1)並びに溶媒及び反応温度により異なるが、0.1~100時間が好ましく、0.5~78時間がより好ましい。
化合物(1a-1)は、製造工程(A)の製造方法の終了後に通常の処理をすることで得られる。必要に応じて、沈殿、ろ過、透析、カラムクロマトグラフィー、分取HPLC、ソックスレー抽出等で精製してもよい。
製造工程(B)
Manufacturing step (A) can be carried out in a solvent. Solvents that can be used include aliphatic hydrocarbon solvents such as hexane, heptane, decane, and tridecane, diisopropyl ether, dibutyl ether, cyclopentyl methyl ether (CPME), tetrahydrofuran (THF), 2-methyltetrahydrofuran, 1,4- Ether solvents such as dioxane and dimethoxyethane; aromatic hydrocarbon solvents such as benzene, toluene, xylene, mesitylene, and tetralin; carbonic acids such as ethylene carbonate, propylene carbonate, dimethyl carbonate, diethyl carbonate, ethylmethyl carbonate, and 4-fluoroethylene carbonate; Ester solvents, ester solvents such as ethyl acetate, butyl acetate, methyl propionate, ethyl propionate, methyl butyrate, γ-lactone, amides such as dimethyl sulfoxide (DMF), dimethylacetamide (DMAc), N-methylpyrrolidone (NMP) Solvent, urea solvent such as N,N,N',N'-tetramethylurea (TMU), N,N'-dimethylpropyleneurea (DMPU), sulfoxide solvent such as dimethylsulfoxide (DMSO), methanol, ethanol, 2 - Alcohol solvents such as propanol, butanol, octanol, benzyl alcohol, ethylene glycol, propylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, 2,2,2-trifluoroethanol, chloroform, dichloromethane, carbon tetrachloride, 1,2-dichloroethane, Halogen solvents such as chlorobenzene and orthodichlorobenzene, bis(2,2,2-trifluoroethyl)=N,N-diisopropylphosphoramidate (PF-37), phosphoric acid=tris(2,2,2-trifluoroethyl) Examples include fluorine solvents such as fluoroethyl (TFEP), nitromethane, water, etc., and these may be used by mixing them in any ratio.
Among these, halogen solvents, mixed solvents of halogen solvents and nitromethane are preferred in terms of good reaction yield, mixed solvents of dichloromethane and nitromethane, mixed solvents of chloroform and nitromethane, and mixtures of orthodichlorobenzene (o-DCB) and nitromethane. More preferred are solvents.
There is no particular restriction on the amount of the solvent used, but it is preferably in the range of 0.1 to 100 mL/mg, and preferably in the range of 0.1 to 10 mL/mg, based on the weight of the compound (15-1) used. It is even more preferable that there be.
The manufacturing step (A) is preferably carried out under an inert gas atmosphere such as argon gas or nitrogen gas.
There is no restriction on the reaction temperature at which the production step (A) is carried out, but it is preferably carried out in the range of -78°C to 100°C, more preferably in the range of 0°C to 40°C.
The reaction time varies depending on the compound (15-1) used, the solvent and the reaction temperature, but is preferably 0.1 to 100 hours, more preferably 0.5 to 78 hours.
Compound (1a-1) can be obtained by carrying out a conventional treatment after completing the manufacturing method of manufacturing step (A). If necessary, it may be purified by precipitation, filtration, dialysis, column chromatography, preparative HPLC, Soxhlet extraction, etc.
Manufacturing process (B)
(式中、M1a、R1、R3並びにR4は前記と同じ意味を表す。)
式(16-1)並びに式(16-2)中におけるM1aは、反応収率が良い点で、水素原子、臭素原子又はヨウ素原子が好ましく、水素原子又は臭素原子がより好ましく、水素原子がさらに好ましい。
製造工程(B)は化合物(16-1)又は(16-2)を酸又は塩基で処理することにより化合物(1b-1)又は(1b-2)を製造する工程である。
製造工程(B)で用いることのできる酸としては特に限定するものではないが、例えば、塩酸、酢酸、硫酸、トリフルオロ酢酸、トリフルオロメタンスルホン酸等のブレンステッド酸、塩化アルミニウム、トリフルオロホウ素等のルイス酸を例示することができる。
製造工程(B)で用いることができる塩基としては、特に限定するものではないが、例えば、ナトリウムブトキシド、カリウムブトキシド等の金属アルコキシド、ブチルリチウム等のアルキル金属、リチウムヘキサメチルジシラジド、リチウムジイソプロピルアミド等の金属アミド、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化セシウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム等の無機塩基、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、ルチジン、DBU、TBD、MTBD、DABCO等の有機塩基等を例示することができ、これらを任意の比で混合してもよい。これらのうち、反応収率が良い点でDBUが好ましい。
用いる酸、塩基の量に特に制限は無いが、反応収率が良い点で、化合物(16-1)又は(16-2)に対して、0.001~10当量の範囲にあることが好ましく、0.1~4当量の範囲にあることがさらに好ましい。
(In the formula, M 1a , R 1 , R 3 and R 4 have the same meanings as above.)
M 1a in formulas (16-1) and (16-2) is preferably a hydrogen atom, a bromine atom, or an iodine atom, more preferably a hydrogen atom or a bromine atom, and a hydrogen atom is More preferred.
Production step (B) is a step of producing compound (1b-1) or (1b-2) by treating compound (16-1) or (16-2) with an acid or base.
Acids that can be used in the production step (B) are not particularly limited, but include, for example, Brønsted acids such as hydrochloric acid, acetic acid, sulfuric acid, trifluoroacetic acid, and trifluoromethanesulfonic acid, aluminum chloride, trifluoroboron, etc. Lewis acid can be exemplified.
The base that can be used in the production step (B) is not particularly limited, but includes, for example, metal alkoxides such as sodium butoxide and potassium butoxide, alkyl metals such as butyllithium, lithium hexamethyldisilazide, and lithium diisopropyl. Metal amides such as amides, inorganic bases such as lithium hydroxide, sodium hydroxide, potassium hydroxide, cesium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, cesium carbonate, triethylamine, diisopropylethylamine, pyridine, lutidine, DBU, TBD, MTBD, Examples include organic bases such as DABCO, and these may be mixed in any ratio. Among these, DBU is preferred because of its good reaction yield.
There is no particular restriction on the amount of acid or base used, but it is preferably in the range of 0.001 to 10 equivalents relative to compound (16-1) or (16-2) in terms of good reaction yield. , more preferably in the range of 0.1 to 4 equivalents.
製造工程(B)は溶媒中で実施することができる。用いることのできる溶媒としては、ヘキサン、ヘプタン、デカン、トリデカン等の炭化水素溶媒、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、CPME、THF、2-メチルテトラヒドロフラン、1,4-ジオキサン、ジメトキシエタン等のエーテル溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、テトラリン等の芳香族炭化水素溶媒、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート、ジメチルカーボネート、ジエチルカーボネート、エチルメチルカーボネート、4-フルオロエチレンカーボネート等の炭酸エステル溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、酪酸メチル、γ-ラクトン等のエステル溶媒、DMF、DMAc、NMP等のアミド溶媒、TMU、DMPU等のウレア溶媒、DMSO等のスルホキシド溶媒、メタノール、エタノール、2-プロパノール、ブタノール、オクタノール、ベンジルアルコール、エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、2,2,2-トリフルオロエタノール等のアルコール溶媒、クロロホルム、ジクロロメタン、四塩化炭素、1,2-ジクロロエタン、クロロベンゼン、オルトジクロロベンゼン等のハロゲン溶媒、PF-37、TFEP等のフッ素溶媒、ニトロメタン、水等を例示することができ、これらを任意の比で混合して用いてもよい。これらのうち、反応収率がよい点で炭化水素溶媒、もしくはアミド溶媒が好ましく、トリデカン又はNMPがより好ましく、NMPがさらに好ましい。
溶媒の使用量に特に制限はないが、使用する化合物(16-1)又は(16-2)の重量に対して、0.1~100mL/mgの範囲にあることが好ましく、0.1~10mL/mgの範囲にあることがさらに好ましい。
製造工程(B)はアルゴンガスまたは窒素ガスといった不活性ガス雰囲気下で行うことが好ましい。
製造工程(B)はを実施する反応温度に制限はないが、-78℃~300℃の範囲で実施することが好ましく、100℃~250℃の範囲で実施することより好ましい。
反応時間は用いる化合物(16-1)、(16-2)並びに溶媒及び反応温度により異なるが、0.1~100時間が好ましく、1~78時間がより好ましい。
化合物(1b-1)又は(1b-2)は、製造工程(B)の終了後に通常の処理をすることで得られる。必要に応じて、沈殿、濾過、透析、カラムクロマトグラフィー、分取HPLC、ソックスレー抽出等で精製してもよい。
製造工程(C)
Manufacturing step (B) can be carried out in a solvent. Examples of solvents that can be used include hydrocarbon solvents such as hexane, heptane, decane, and tridecane, ether solvents such as diisopropyl ether, dibutyl ether, CPME, THF, 2-methyltetrahydrofuran, 1,4-dioxane, and dimethoxyethane, and benzene. , aromatic hydrocarbon solvents such as toluene, xylene, mesitylene, and tetralin, carbonate ester solvents such as ethylene carbonate, propylene carbonate, dimethyl carbonate, diethyl carbonate, ethyl methyl carbonate, and 4-fluoroethylene carbonate, ethyl acetate, butyl acetate, and propion. Ester solvents such as methyl acid, ethyl propionate, methyl butyrate, γ-lactone, amide solvents such as DMF, DMAc, NMP, urea solvents such as TMU, DMPU, sulfoxide solvents such as DMSO, methanol, ethanol, 2-propanol, Alcohol solvents such as butanol, octanol, benzyl alcohol, ethylene glycol, propylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, 2,2,2-trifluoroethanol, chloroform, dichloromethane, carbon tetrachloride, 1,2-dichloroethane, chlorobenzene, ortho Examples include halogen solvents such as dichlorobenzene, fluorine solvents such as PF-37 and TFEP, nitromethane, water, etc., and these may be used by mixing them in any ratio. Among these, hydrocarbon solvents or amide solvents are preferred in terms of good reaction yield, tridecane or NMP is more preferred, and NMP is even more preferred.
There is no particular restriction on the amount of the solvent used, but it is preferably in the range of 0.1 to 100 mL/mg, and 0.1 to 100 mL/mg based on the weight of compound (16-1) or (16-2) used. More preferably, it is in the range of 10 mL/mg.
The manufacturing step (B) is preferably carried out under an inert gas atmosphere such as argon gas or nitrogen gas.
There is no restriction on the reaction temperature at which production step (B) is carried out, but it is preferably carried out in the range of -78°C to 300°C, more preferably in the range of 100°C to 250°C.
The reaction time varies depending on the compounds (16-1) and (16-2) used, as well as the solvent and reaction temperature, but is preferably 0.1 to 100 hours, more preferably 1 to 78 hours.
Compound (1b-1) or (1b-2) can be obtained by conventional treatment after completion of manufacturing step (B). If necessary, it may be purified by precipitation, filtration, dialysis, column chromatography, preparative HPLC, Soxhlet extraction, etc.
Manufacturing process (C)
(式中、R1及びR3は前記と同じ意味を表す。M1aaはフッ素原子、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子を表す。)
製造工程(C)は化合物(1bH-1)又は(1bH-2)をハロゲン化合物と反応させて化合物(1ba-1)又は(1ba-2)を製造する工程である。
製造工程(C)で用いることのできるハロゲン化合物としては、特に限定するものではないが、例えば、臭素、ヨウ素、塩化ヨウ素、N-クロロコハク酸イミド、N-ブロモコハク酸イミド、N-ヨードコハク酸イミド、1,2-ジブロモ-1,1,2,2-テトラフルオロエタン、又は1,2-ジブロモ-1,1,2,2-テトラクロロエタン等が挙げられる。反応収率がよい点で1,2-ジブロモ-1,1,2,2-テトラフルオロエタン、又は1,2-ジブロモ-1,1,2,2-テトラクロロエタンを用いることが好ましく、1,2-ジブロモ-1,1,2,2-テトラフルオロエタンがより好ましい。
用いるハロゲン化合物の量に特に制限は無いが、反応収率が良い点で、化合物(1bH-1)又は(1bH-2)に対して、1~10当量の範囲にあることが好ましく、2~5当量の範囲にあることがさらに好ましい。
製造工程(C)は塩基存在下で実施することも可能である。用いることのできる塩基としては、メチルリチウム、n-ブチルリチウム、sec-ブチルリチウム、tert-ブチルリチウム、リチウムヘキサメチルジシラジド、リチウムテトラメチルピペリジド、リチウムジイソプロピルアミド、2,2,6,6-テトラメチルピペリジニルマグネシウムクロリドリチウムクロリド錯体等を例示することができる。これらのうち、反応収率がよいn-ブチルリチウム、又はリチウムジイソプロピルアミドが好ましく、リチウムジイソプロピルアミドがさらに好ましい。
用いる塩基の量に特に制限は無いが、反応収率が良い点で、化合物(1bH-1)又は(1bH-2)に対して、1~10当量の範囲にあることが好ましく、2~4当量の範囲にあることがさらに好ましい。
(In the formula, R 1 and R 3 represent the same meanings as above. M 1aa represents a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, or an iodine atom.)
Production step (C) is a step of producing compound (1ba-1) or (1ba-2) by reacting compound (1bH-1) or (1bH-2) with a halogen compound.
Halogen compounds that can be used in the production step (C) are not particularly limited, but include, for example, bromine, iodine, iodine chloride, N-chlorosuccinimide, N-bromosuccinimide, N-iodosuccinimide, Examples include 1,2-dibromo-1,1,2,2-tetrafluoroethane and 1,2-dibromo-1,1,2,2-tetrachloroethane. It is preferable to use 1,2-dibromo-1,1,2,2-tetrafluoroethane or 1,2-dibromo-1,1,2,2-tetrachloroethane in terms of good reaction yield; 2-dibromo-1,1,2,2-tetrafluoroethane is more preferred.
There is no particular restriction on the amount of the halogen compound used, but from the viewpoint of a good reaction yield, it is preferably in the range of 1 to 10 equivalents, and 2 to 10 equivalents relative to compound (1bH-1) or (1bH-2). More preferably, the amount is in the range of 5 equivalents.
Production step (C) can also be carried out in the presence of a base. Bases that can be used include methyllithium, n-butyllithium, sec-butyllithium, tert-butyllithium, lithium hexamethyldisilazide, lithium tetramethylpiperidide, lithium diisopropylamide, 2,2,6, Examples include 6-tetramethylpiperidinylmagnesium chloride lithium chloride complex. Among these, n-butyllithium or lithium diisopropylamide is preferred, and lithium diisopropylamide is more preferred because of its good reaction yield.
There is no particular restriction on the amount of base used, but from the viewpoint of good reaction yield, it is preferably in the range of 1 to 10 equivalents, and 2 to 4 equivalents, based on compound (1bH-1) or (1bH-2). More preferably, the amount is within the equivalent range.
製造工程(C)は溶媒中で実施することが可能である。用いることのできる溶媒としては、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、トリデカン等の脂肪族炭化水素溶媒、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、CPME、THF、2-メチルテトラヒドロフラン、1,4-ジオキサン、ジメトキシエタン等のエーテル、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、テトラリン等の芳香族炭化水素溶媒、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート、ジメチルカーボネート、ジエチルカーボネート、エチルメチルカーボネート、4-フルオロエチレンカーボネート等の炭酸エステル溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、酪酸メチル、γ-ラクトン等のエステル溶媒、DMF、DMAc、NMP等のアミド溶媒、TMU、DMPU等のウレア溶媒、DMSO等のスルホキシド溶媒、メタノール、エタノール、2-プロパノール、ブタノール、オクタノール、ベンジルアルコール、エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、2,2,2-トリフルオロエタノール等のアルコール溶媒、クロロホルム、ジクロロメタン、四塩化炭素、1,2-ジクロロエタン、クロロベンゼン、オルトジクロロベンゼン等のハロゲン溶媒、ニトロメタン、水等を例示することができ、これらを任意の比で混合して用いてもよい。これらのうち、反応収率がよい点で脂肪族炭化水素溶媒、エーテル溶媒、芳香族炭化水素溶媒、脂肪族炭化水素溶媒とエーテル溶媒の混合溶媒、もしくは脂肪族炭化水素溶媒と芳香族炭化水素溶媒の混合溶媒が好ましく、脂肪族炭化水素溶媒とエーテル溶媒の混合溶媒の混合溶媒がさらに好ましい。
溶媒の使用量に特に制限はないが、使用する化合物(1bH-1)又は(1bH-2)の重量に対して、0.1~100mL/mgの範囲にあることが好ましく、0.1~10mL/mgの範囲にあることがさらに好ましい。
製造工程(C)はアルゴンガスまたは窒素ガスといった不活性ガス雰囲気下で行うことが好ましい。
製造工程(C)を実施する反応温度に制限はないが、-100℃~40℃の範囲で実施することが好ましく、-78℃~25℃の範囲で実施することより好ましい。
反応時間は用いる化合物(1bH-1)又は(1bH-2)並びに溶媒及び反応温度により異なるが、0.1~100時間が好ましく、1~78時間がより好ましい。
化合物(1ba-1)又は(1ba-2)は、本発明の製造方法の終了後に通常の処理をすることで得られる。必要に応じて、沈殿、濾過、透析、カラムクロマトグラフィー、分取HPLC、ソックスレー抽出等で精製してもよい。
製造工程(D)
Manufacturing step (C) can be carried out in a solvent. Examples of solvents that can be used include aliphatic hydrocarbon solvents such as pentane, hexane, heptane, and tridecane; ethers such as diisopropyl ether, dibutyl ether, CPME, THF, 2-methyltetrahydrofuran, 1,4-dioxane, and dimethoxyethane; Aromatic hydrocarbon solvents such as benzene, toluene, xylene, mesitylene, and tetralin, carbonate ester solvents such as ethylene carbonate, propylene carbonate, dimethyl carbonate, diethyl carbonate, ethyl methyl carbonate, and 4-fluoroethylene carbonate, ethyl acetate, butyl acetate, Ester solvents such as methyl propionate, ethyl propionate, methyl butyrate, and γ-lactone; amide solvents such as DMF, DMAc, and NMP; urea solvents such as TMU and DMPU; sulfoxide solvents such as DMSO; methanol, ethanol, and 2-propanol. , butanol, octanol, benzyl alcohol, ethylene glycol, propylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, alcohol solvents such as 2,2,2-trifluoroethanol, chloroform, dichloromethane, carbon tetrachloride, 1,2-dichloroethane, chlorobenzene, Examples include halogen solvents such as orthodichlorobenzene, nitromethane, water, etc., and these may be used by mixing them in any ratio. Among these, aliphatic hydrocarbon solvents, ether solvents, aromatic hydrocarbon solvents, mixed solvents of aliphatic hydrocarbon solvents and ether solvents, or aliphatic hydrocarbon solvents and aromatic hydrocarbon solvents are preferred in terms of reaction yield. A mixed solvent of an aliphatic hydrocarbon solvent and an ether solvent is preferred, and a mixed solvent of an aliphatic hydrocarbon solvent and an ether solvent is more preferred.
There is no particular restriction on the amount of the solvent used, but it is preferably in the range of 0.1 to 100 mL/mg, and 0.1 to 100 mL/mg, based on the weight of the compound (1bH-1) or (1bH-2) used. More preferably, it is in the range of 10 mL/mg.
The manufacturing step (C) is preferably carried out under an inert gas atmosphere such as argon gas or nitrogen gas.
There is no restriction on the reaction temperature at which the production step (C) is carried out, but it is preferably carried out in the range of -100°C to 40°C, more preferably in the range of -78°C to 25°C.
The reaction time varies depending on the compound (1bH-1) or (1bH-2) used, the solvent and the reaction temperature, but is preferably 0.1 to 100 hours, more preferably 1 to 78 hours.
Compound (1ba-1) or (1ba-2) can be obtained by conventional treatment after completion of the production method of the present invention. If necessary, it may be purified by precipitation, filtration, dialysis, column chromatography, preparative HPLC, Soxhlet extraction, etc.
Manufacturing process (D)
(式中、R1、環Ar1、及びM1aは前記と同じ意味を表す。M1cはホウ素基又はスズ基を表す。)
製造工程(D)は、化合物(1c)を遷移金属触媒存在下、ホウ素化合物又はスズ化合物と反応させて化合物(1d)を製造する工程である。
ホウ素化合物としては、特に限定するものではないが、例えば、(17-1)から(17-9)
(In the formula, R 1 , ring Ar 1 , and M 1a have the same meanings as above. M 1c represents a boron group or a tin group.)
Production step (D) is a step of producing compound (1d) by reacting compound (1c) with a boron compound or a tin compound in the presence of a transition metal catalyst.
Examples of boron compounds include, but are not limited to, (17-1) to (17-9).
等を例示することができる。反応収率がよい点で(17-2)、(17-7)又は(17-8)を用いることが好ましく、(17-2)がより好ましい。
用いるホウ素化合物の量に特に制限は無いが、反応収率がよい点で、化合物(1c)に対して、1~10モル当量の範囲にあることが好ましく、2~8モル当量の範囲にあることがさらに好ましい。
用いることのできるスズ化合物としては、特に限定するものではないが、例えば、式(18-1)から(18-2)
etc. can be exemplified. It is preferable to use (17-2), (17-7) or (17-8), and (17-2) is more preferable since the reaction yield is good.
There is no particular restriction on the amount of the boron compound used, but from the viewpoint of a good reaction yield, it is preferably in the range of 1 to 10 molar equivalents, and preferably in the range of 2 to 8 molar equivalents, relative to compound (1c). It is even more preferable.
The tin compounds that can be used are not particularly limited, but for example, the tin compounds of formulas (18-1) to (18-2)
等を例示することができる。収率が良い点で(18-2)を用いることが好ましい。
用いるスズ化合物の量に特に制限は無いが、収率が良い点で、化合物(1c)に対して、1~10当量の範囲にあることが好ましく、2~8当量の範囲にあることがさらに好ま
しい。
遷移金属触媒としては、特に限定するものではないが、具体的には、(1,5-シクロオクタジエン)(メトキシ)イリジウム(I)(ダイマー)等のイリジウム錯体、塩化パラジウム、酢酸パラジウム、トリフルオロ酢酸パラジウム、硝酸パラジウム等の塩、π-アリルパラジウムクロリドダイマ-、パラジウムアセチルアセトナト、トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム等の錯化合物、ジクロロビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム、ジクロロ(1,1’-ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン)パラジウム、ビス(トリ-tert-ブチルホスフィン)パラジウム、ビス(トリシクロヘキシルホスフィン)パラジウム、ビス(トリシクロヘキシルホスフィン)塩化パラジウム等の第三級リン化合物を配位子として有するパラジウム錯体を例示することができる。パラジウム錯体に関しては、パラジウム塩、または錯化合物に第三級リン化合物を添加し、反応系中で調製することもできる。この際用いることのできる第三級リン化合物としては、トリフェニルホスフィン、トリメチルホスフィン、トリブチルホスフィン、トリ(tert-ブチル)ホスフィン、トリシクロへキシルホスフィン、tert-ブチルジフェニルホスフィン、9,9-ジメチル-4,5-ビス(ジフェニルホスフィノ)キサンテン、2-(ジフェニルホスフィノ)-2’-(N,N-ジメチルアミノ)ビフェニル、2-(ジ-tert-ブチルホスフィノ)ビフェニル、2-(ジシクロへキシルホスフィノ)ビフェニル、ビス(ジフェニルホスフィノ)メタン、1,2-ビス(ジフェニルホスフィノ)エタン、1,3-ビス(ジフェニルホスフィノ)プロパン、1,4-ビス(ジフェニルホスフィノ)ブタン、1,1’-ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン、トリ(2-フリル)ホスフィン、トリ(o-トリル)ホスフィン、トリス(2,5-キシリル)ホスフィン、(±)-2,2’-ビス(ジフェニルホスフィノ)-1,1’-ビナフチル、2-ジシクロへキシルホスフィノ-2’,4’、6’-トリイソプロピルビフェニル等が例示できる。
M1aが水素原子の場合、収率が良い点で(1,5-シクロオクタジエン)(メトキシ)イリジウム(I)(ダイマー)が好ましい。
M1aがハロゲン原子の場合、収率が良い点で第三級リン化合物を配位子として有するパラジウム錯体が好ましく、トリフェニルホスフィンを配位子として有するパラジウム錯体がさらに好ましい。第三級リン化合物とパラジウム塩、または錯化合物とのモル比は1:10~10:1の範囲にあることが好ましく、収率がよい点で1:3~4:1の範囲にあることがさらに好ましい。
用いる遷移金属触媒の量に制限はないが、収率が良い点で、遷移金属触媒のモル比は、化合物(1c)に対して0.005~50モルパーセント0.005:1~0.50:1の範囲にあることが好ましく、0.05:1~0.10:1の範囲にあることがより好ましい。
製造工程(D)は触媒と塩基共存下で実施することも可能である。用いることのできる塩基としては、ナトリウムブトキシド、カリウムブトキシド、ブチルリチウム、リチウムヘキサメチルジシラジド、リチウムジイソプロピルアミド、2,2,6,6-テトラメチルピペリジニルリチウム錯体、2,2,6,6-テトラメチルピペリジニルマグネシウムクロリドリチウムクロリド錯体等の有機塩、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化セシウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、等の無機塩基、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、ルチジン、DBU、TBD、MTBD、DABCO等の有機塩基等を例示することができ、これらを任意の比で混合してもよい。これらのうち、反応収率がよい点で無機塩基が好ましく、炭酸ナトリウム又は炭酸カリウムがさらに好ましい。
etc. can be exemplified. It is preferable to use (18-2) because of its good yield.
There is no particular restriction on the amount of the tin compound used, but in terms of good yield, it is preferably in the range of 1 to 10 equivalents, more preferably in the range of 2 to 8 equivalents, relative to compound (1c). preferable.
Transition metal catalysts are not particularly limited, but specifically include iridium complexes such as (1,5-cyclooctadiene)(methoxy)iridium(I) (dimer), palladium chloride, palladium acetate, and Salts such as palladium fluoroacetate and palladium nitrate, complex compounds such as π-allylpalladium chloride dimer, palladium acetylacetonato, tris(dibenzylideneacetone)dipalladium, dichlorobis(triphenylphosphine)palladium, and tetrakis(triphenylphosphine) Palladium, dichloro(1,1'-bis(diphenylphosphino)ferrocene)palladium, bis(tri-tert-butylphosphine)palladium, bis(tricyclohexylphosphine)palladium, bis(tricyclohexylphosphine)palladium chloride, etc. A palladium complex having a class phosphorous compound as a ligand can be exemplified. A palladium complex can also be prepared in a reaction system by adding a tertiary phosphorus compound to a palladium salt or complex compound. Tertiary phosphorus compounds that can be used in this case include triphenylphosphine, trimethylphosphine, tributylphosphine, tri(tert-butyl)phosphine, tricyclohexylphosphine, tert-butyldiphenylphosphine, 9,9-dimethyl-4 , 5-bis(diphenylphosphino)xanthene, 2-(diphenylphosphino)-2'-(N,N-dimethylamino)biphenyl, 2-(di-tert-butylphosphino)biphenyl, 2-(dicyclo xylphosphino)biphenyl, bis(diphenylphosphino)methane, 1,2-bis(diphenylphosphino)ethane, 1,3-bis(diphenylphosphino)propane, 1,4-bis(diphenylphosphino)butane, 1, 1'-bis(diphenylphosphino)ferrocene, tri(2-furyl)phosphine, tri(o-tolyl)phosphine, tris(2,5-xylyl)phosphine, (±)-2,2'-bis(diphenylphosphine) Examples include fino)-1,1'-binaphthyl, 2-dicyclohexylphosphino-2',4',6'-triisopropylbiphenyl, and the like.
When M 1a is a hydrogen atom, (1,5-cyclooctadiene)(methoxy)iridium(I) (dimer) is preferred in terms of good yield.
When M 1a is a halogen atom, a palladium complex having a tertiary phosphorus compound as a ligand is preferred from the viewpoint of good yield, and a palladium complex having triphenylphosphine as a ligand is more preferred. The molar ratio of the tertiary phosphorus compound and the palladium salt or complex compound is preferably in the range of 1:10 to 10:1, and in terms of good yield, it is in the range of 1:3 to 4:1. is even more preferable.
There is no limit to the amount of the transition metal catalyst used, but in terms of good yield, the molar ratio of the transition metal catalyst to compound (1c) is 0.005 to 50 mol percent, 0.005:1 to 0.50. :1, more preferably 0.05:1 to 0.10:1.
Production step (D) can also be carried out in the coexistence of a catalyst and a base. Bases that can be used include sodium butoxide, potassium butoxide, butyllithium, lithium hexamethyldisilazide, lithium diisopropylamide, 2,2,6,6-tetramethylpiperidinyllithium complex, 2,2,6, Organic salts such as 6-tetramethylpiperidinylmagnesium chloride lithium chloride complex, inorganic bases such as lithium hydroxide, sodium hydroxide, potassium hydroxide, cesium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, cesium carbonate, triethylamine, diisopropyl Examples include organic bases such as ethylamine, pyridine, lutidine, DBU, TBD, MTBD, and DABCO, and these may be mixed in any ratio. Among these, inorganic bases are preferred in terms of good reaction yield, and sodium carbonate or potassium carbonate is more preferred.
製造工程(D)は溶媒中で実施することが可能である。用いることのできる溶媒としては、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、トリデカン等の脂肪族炭化水素溶媒、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、CPME、THF、2-メチルテトラヒドロフラン、1,4-ジオキサン、ジメトキシエタン等のエーテル、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、テトラリン等の芳香族炭化水素溶媒、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート、ジメチルカーボネート、ジエチルカーボネート、エチルメチルカーボネート、4-フルオロエチレンカーボネート等の炭酸エステル溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、酪酸メチル、γ-ラクトン等のエステル溶媒、DMF、DMAc、NMP等のアミド溶媒、TMU、DMPU等のウレア溶媒、DMSO等のスルホキシド溶媒、メタノール、エタノール、2-プロパノール、ブタノール、オクタノール、ベンジルアルコール、エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、2,2,2-トリフルオロエタノール等のアルコール溶媒、クロロホルム、ジクロロメタン、四塩化炭素、1,2-ジクロロエタン、クロロベンゼン、オルトジクロロベンゼン等のハロゲン溶媒、ニトロメタン、水等を例示することができ、これらを任意の比で混合して用いてもよい。これらのうち、反応収率がよい点でエーテル溶媒、アミド溶媒、もしくは水とエーテル溶媒の混合溶媒の混合溶媒が好ましく、エーテル溶媒とアミド溶媒がさらに好ましい。
溶媒の使用量に特に制限はないが、使用する化合物(1c)の重量に対して、0.1~100mL/mgの範囲にあることが好ましく、0.1~10mL/mgの範囲にあることがさらに好ましい。
製造工程(D)はアルゴンガスまたは窒素ガスといった不活性ガス雰囲気下で行うことが好ましい。
製造工程(D)を実施する反応温度に制限はないが、-78℃~200℃の範囲で実施することが好ましく、60℃~180℃の範囲がさらに好ましい。
製造工程(D)は、マイクロウェーブ反応装置を用いて実施することも可能である。
反応時間は化合物(1c)の種類、溶媒、ならびに反応温度により異なるが、0.1~100時間が好ましく、1~78時間がより好ましい。
(1d)は、本発明の製造方法の終了後に通常の処理をすることで得られる。必要に応じて、沈殿、濾過、透析、カラムクロマトグラフィー、分取HPLC、ソックスレー抽出等で精製してもよい。
製造工程(E)
Manufacturing step (D) can be carried out in a solvent. Examples of solvents that can be used include aliphatic hydrocarbon solvents such as pentane, hexane, heptane, and tridecane; ethers such as diisopropyl ether, dibutyl ether, CPME, THF, 2-methyltetrahydrofuran, 1,4-dioxane, and dimethoxyethane; Aromatic hydrocarbon solvents such as benzene, toluene, xylene, mesitylene, and tetralin, carbonate ester solvents such as ethylene carbonate, propylene carbonate, dimethyl carbonate, diethyl carbonate, ethyl methyl carbonate, and 4-fluoroethylene carbonate, ethyl acetate, butyl acetate, Ester solvents such as methyl propionate, ethyl propionate, methyl butyrate, and γ-lactone; amide solvents such as DMF, DMAc, and NMP; urea solvents such as TMU and DMPU; sulfoxide solvents such as DMSO; methanol, ethanol, and 2-propanol. , butanol, octanol, benzyl alcohol, ethylene glycol, propylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, alcohol solvents such as 2,2,2-trifluoroethanol, chloroform, dichloromethane, carbon tetrachloride, 1,2-dichloroethane, chlorobenzene, Examples include halogen solvents such as orthodichlorobenzene, nitromethane, water, etc., and these may be used by mixing them in any ratio. Among these, ether solvents, amide solvents, or mixed solvents of water and ether solvents are preferred, and ether solvents and amide solvents are more preferred, since they provide a good reaction yield.
There is no particular restriction on the amount of solvent used, but it is preferably in the range of 0.1 to 100 mL/mg, and preferably in the range of 0.1 to 10 mL/mg, based on the weight of compound (1c) used. is even more preferable.
The manufacturing step (D) is preferably carried out under an inert gas atmosphere such as argon gas or nitrogen gas.
There is no limit to the reaction temperature at which the production step (D) is carried out, but it is preferably carried out in the range of -78°C to 200°C, more preferably in the range of 60°C to 180°C.
Manufacturing step (D) can also be carried out using a microwave reaction device.
The reaction time varies depending on the type of compound (1c), the solvent, and the reaction temperature, but is preferably 0.1 to 100 hours, more preferably 1 to 78 hours.
(1d) can be obtained by normal treatment after completion of the production method of the present invention. If necessary, it may be purified by precipitation, filtration, dialysis, column chromatography, preparative HPLC, Soxhlet extraction, etc.
Manufacturing process (E)
(式中、R1、環Ar1、M1a及びM1cは前記と同じ意味を表す。)
製造工程(E)は、化合物(1c)を塩基存在下、ホウ素化合物又はスズ化合物と反応させて化合物(1d)を製造する工程である。
製造工程(E)で用いることのできるホウ素化合物としては、特に限定するものではないが、例えば、化合物(19-1)から(19-9)
(In the formula, R 1 , ring Ar 1 , M 1a and M 1c have the same meanings as above.)
Production step (E) is a step of producing compound (1d) by reacting compound (1c) with a boron compound or a tin compound in the presence of a base.
The boron compounds that can be used in the production step (E) are not particularly limited, but for example, compounds (19-1) to (19-9)
等を例示することができる。反応収率がよい点で(19-1)、(19-2)、(19-3)、(19-4)、(19-5)又は(19-6)を用いることが好ましく、(19-5)がさらに好ましい。
用いるホウ素化合物の量に特に制限は無いが、反応収率がよい点で、化合物(1c)に対して、1~10モル当量の範囲にあることが好ましく、2~8モル当量の範囲にあることがさらに好ましい。
用いることのできるスズ化合物としては、特に限定するものではないが、例えば、(20-1)から(20-3)
etc. can be exemplified. It is preferable to use (19-1), (19-2), (19-3), (19-4), (19-5) or (19-6) in terms of good reaction yield; -5) is more preferred.
There is no particular restriction on the amount of the boron compound used, but in terms of good reaction yield, it is preferably in the range of 1 to 10 molar equivalents, and preferably in the range of 2 to 8 molar equivalents, relative to compound (1c). It is even more preferable.
The tin compounds that can be used are not particularly limited, but for example, (20-1) to (20-3)
等が挙げられる。反応収率がよい点で(20-1)を用いることが好ましい。
用いるスズ化合物の量に特に制限は無いが、反応収率がよい点で、化合物(1c)に対して、1~10モル当量の範囲にあることが好ましく、2~8モル当量の範囲にあることがさらに好ましい。
製造工程(E)は塩基存在下で実施することが可能である。用いることのできる塩基としては、メチルリチウム、n-ブチルリチウム、sec-ブチルリチウム、tert-ブチルリチウム、リチウムヘキサメチルジシラジド、リチウムテトラメチルピペリジド、リチウムジイソプロピルアミド、2,2,6,6-テトラメチルピペリジニルマグネシウムクロリドリチウムクロリド錯体等を例示することができる。これらのうち、反応収率がよいn-ブチルリチウム、又はリチウムジイソプロピルアミドが好ましく、リチウムジイソプロピルアミドがさらに好ましい。
用いる塩基の量に制限はないが、収率がよい点で、化合物(1c)に対して1~10当量が好ましく、2~5当量の範囲にあることがより好ましい。
etc. It is preferable to use (20-1) because of its high reaction yield.
There is no particular restriction on the amount of the tin compound used, but from the viewpoint of good reaction yield, it is preferably in the range of 1 to 10 molar equivalents, and preferably in the range of 2 to 8 molar equivalents, relative to compound (1c). It is even more preferable.
Production step (E) can be carried out in the presence of a base. Bases that can be used include methyllithium, n-butyllithium, sec-butyllithium, tert-butyllithium, lithium hexamethyldisilazide, lithium tetramethylpiperidide, lithium diisopropylamide, 2,2,6, Examples include 6-tetramethylpiperidinylmagnesium chloride lithium chloride complex. Among these, n-butyllithium or lithium diisopropylamide is preferred, and lithium diisopropylamide is more preferred because of its good reaction yield.
There is no limit to the amount of base used, but from the viewpoint of good yield, it is preferably in the range of 1 to 10 equivalents, more preferably in the range of 2 to 5 equivalents, based on compound (1c).
製造工程(E)は溶媒中で実施することが可能である。用いることのできる溶媒としては、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、トリデカン等の脂肪族炭化水素溶媒、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、CPME、THF、2-メチルテトラヒドロフラン、1,4-ジオキサン、ジメトキシエタン等のエーテル、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、テトラリン等の芳香族炭化水素溶媒、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート、ジメチルカーボネート、ジエチルカーボネート、エチルメチルカーボネート、4-フルオロエチレンカーボネート等の炭酸エステル溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、酪酸メチル、γ-ラクトン等のエステル溶媒、DMF、DMAc、NMP等のアミド溶媒、TMU、DMPU等のウレア溶媒、DMSO等のスルホキシド溶媒、メタノール、エタノール、2-プロパノール、ブタノール、オクタノール、ベンジルアルコール、エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、2,2,2-トリフルオロエタノール等のアルコール溶媒、クロロホルム、ジクロロメタン、四塩化炭素、1,2-ジクロロエタン、クロロベンゼン、オルトジクロロベンゼン等のハロゲン溶媒、ニトロメタン、水等を例示することができ、これらを任意の比で混合して用いてもよい。これらのうち、反応収率がよい点で脂肪族炭化水素溶媒、エーテル溶媒、芳香族炭化水素溶媒、脂肪族炭化水素溶媒とエーテル溶媒の混合溶媒、もしくは脂肪族炭化水素溶媒と芳香族炭化水素溶媒の混合溶媒が好ましく、エーテル溶媒がさらに好ましい。
溶媒の使用量に特に制限はないが、使用する化合物(1c)の重量に対して、0.1~100mL/mgの範囲にあることが好ましく、0.1~10mL/mgの範囲にあることがさらに好ましい。
製造工程(E)はアルゴンガスまたは窒素ガスといった不活性ガス雰囲気下で行うことが好ましい。
製造工程(E)を実施する反応温度に制限はないが、-78℃~100℃の範囲で実施することが好ましく、-78℃~30℃がさらに好ましい。
反応時間は化合物(1c)の種類、溶媒、ならびに反応温度により異なるが、0.1~100時間が好ましく、1~78時間がより好ましい。
化合物(1d)は、本発明の製造方法の終了後に通常の処理をすることで得られる。必要に応じて、沈殿、濾過、透析、カラムクロマトグラフィー、分取HPLC、ソックスレー抽出等で精製してもよい。
Manufacturing step (E) can be carried out in a solvent. Examples of solvents that can be used include aliphatic hydrocarbon solvents such as pentane, hexane, heptane, and tridecane; ethers such as diisopropyl ether, dibutyl ether, CPME, THF, 2-methyltetrahydrofuran, 1,4-dioxane, and dimethoxyethane; Aromatic hydrocarbon solvents such as benzene, toluene, xylene, mesitylene, and tetralin, carbonate ester solvents such as ethylene carbonate, propylene carbonate, dimethyl carbonate, diethyl carbonate, ethyl methyl carbonate, and 4-fluoroethylene carbonate, ethyl acetate, butyl acetate, Ester solvents such as methyl propionate, ethyl propionate, methyl butyrate, and γ-lactone; amide solvents such as DMF, DMAc, and NMP; urea solvents such as TMU and DMPU; sulfoxide solvents such as DMSO; methanol, ethanol, and 2-propanol. , butanol, octanol, benzyl alcohol, ethylene glycol, propylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, alcohol solvents such as 2,2,2-trifluoroethanol, chloroform, dichloromethane, carbon tetrachloride, 1,2-dichloroethane, chlorobenzene, Examples include halogen solvents such as orthodichlorobenzene, nitromethane, water, etc., and these may be used by mixing them in any ratio. Among these, aliphatic hydrocarbon solvents, ether solvents, aromatic hydrocarbon solvents, mixed solvents of aliphatic hydrocarbon solvents and ether solvents, or aliphatic hydrocarbon solvents and aromatic hydrocarbon solvents are preferred in terms of reaction yield. A mixed solvent of these is preferred, and an ether solvent is more preferred.
There is no particular restriction on the amount of solvent used, but it is preferably in the range of 0.1 to 100 mL/mg, and preferably in the range of 0.1 to 10 mL/mg, based on the weight of compound (1c) used. is even more preferable.
The manufacturing step (E) is preferably carried out under an inert gas atmosphere such as argon gas or nitrogen gas.
There is no limit to the reaction temperature at which production step (E) is carried out, but it is preferably carried out within a range of -78°C to 100°C, more preferably -78°C to 30°C.
The reaction time varies depending on the type of compound (1c), the solvent, and the reaction temperature, but is preferably 0.1 to 100 hours, more preferably 1 to 78 hours.
Compound (1d) can be obtained by conventional treatment after completion of the production method of the present invention. If necessary, it may be purified by precipitation, filtration, dialysis, column chromatography, preparative HPLC, Soxhlet extraction, etc.
次に本発明の共役系高分子の製造方法(以下、「本発明の製造方法」という。)に関して説明する。製造本発明の共役系高分子の製造方法は、以下に示す製造工程(F)に示す通りである。
製造工程(F)
Next, the method for producing a conjugated polymer of the present invention (hereinafter referred to as "the production method of the present invention") will be explained. Production The method for producing the conjugated polymer of the present invention is as shown in the production process (F) below.
Manufacturing process (F)
(式中、R1、環Ar1、X1、及びM1及びは前記と同様の意味を表す。M3はハロゲン原子を表す。)
本発明の製造方法は、一般式(1)で表される化合物を遷移金属触媒存在下、一般式(21)で表される化合物と反応させて、本発明の共役系高分子を製造する方法である。
本発明の製造方法に用いる一般式(1)で表される化合物及び一般式(21)で表される化合物について説明する。
M3で表されるハロゲン原子としては、本発明の共役系高分子の製造効率が良い点で、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子が好ましく、臭素原子又はヨウ素原子がより好ましく、臭素原子がさらに好ましい。
M3で表される金属含有基としては、本発明の共役系高分子の製造効率が良い点で、リチウム原子、クロロマグネシオ基又はブロモマグネシオ基が好ましく、本発明の高分子の製造効率が良い点で、クロロマグネシオ基が好ましい。
M3で表されるホウ素含有基としては、本発明の共役系高分子の製造効率が良い点で、ホウ酸、ホウ酸エステル又はホウ酸塩などが好ましく、式(12-1)から(12-11)
(In the formula, R 1 , ring Ar 1 , X 1 , and M 1 have the same meanings as above. M 3 represents a halogen atom.)
The production method of the present invention is a method for producing the conjugated polymer of the present invention by reacting a compound represented by general formula (1) with a compound represented by general formula (21) in the presence of a transition metal catalyst. It is.
The compound represented by general formula (1) and the compound represented by general formula (21) used in the production method of the present invention will be explained.
The halogen atom represented by M3 is preferably a chlorine atom, a bromine atom, or an iodine atom, more preferably a bromine atom or an iodine atom, and more preferably a bromine atom, from the viewpoint of high production efficiency of the conjugated polymer of the present invention. preferable.
The metal-containing group represented by M3 is preferably a lithium atom, a chloromagnesio group, or a bromomagnesio group from the viewpoint of high production efficiency of the conjugated polymer of the present invention. A chloromagnesio group is preferable because of its good properties.
The boron-containing group represented by M3 is preferably boric acid, borate ester, borate, etc. from the viewpoint of high production efficiency of the conjugated polymer of the present invention, and formulas (12-1) to (12 -11)
(式中、M2はリチウム原子、ナトリウム原子、カリウム原子、ルビジウム原子又はセシウム原子を表す。)
で表される基がより好ましく、式(12-1)、式(12-3)、式(12-10)又は式(12-11)がさらに好ましく、式(12-1)又は式(12-3)がことさら好ましい。
M3で表されるスズ含有基としては、トリアルキルスズ基、ジアルキルアリールスズ基、アルキルジアリールスズ基又はトリアリールスズ基などが例示できる。本発明の共役系高分子の製造効率が良い点で、トリアルキルスズ基が好ましく、式(13-1)から式(13-5)
(In the formula, M2 represents a lithium atom, a sodium atom, a potassium atom, a rubidium atom, or a cesium atom.)
A group represented by formula (12-1), formula (12-3), formula (12-10) or formula (12-11) is more preferable, and group represented by formula (12-1) or formula (12-12) is more preferable. -3) is particularly preferred.
Examples of the tin-containing group represented by M3 include a trialkyltin group, a dialkylaryltin group, an alkyldiaryltin group, and a triaryltin group. Trialkyltin groups are preferred from the viewpoint of high production efficiency of the conjugated polymer of the present invention, and formulas (13-1) to (13-5)
で表される基がより好まし
く、式(13-1)又は式(13-4)で表される基がさらに好ましく、式(13-1)で表される基がことさら好ましい。
M3は、本発明の共役系高分子の製造効率が高い点で、水素原子、ハロゲン原子、金属含有基、ホウ素含有基又はスズ含有基が好ましく、水素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ホウ素含有基又はスズ含有基がより好ましく、水素原子、臭素原子、式(12-1)、式(12-3)、式(12-10)、式(12-11)、式(13-1)又は式(13-4)式がさらに好ましく、臭素原子、式(12-3)又は式(13-1)がことさら好ましい。
製造工程(F)中、二つのM1及び二つのM3の計四つのうち、二つが臭素原子又はヨウ素原子であり、残り二つが式(12-1)、式(12-3)、式(12-10)、式(12-11)、式(13-1)又は式(13-4)であることが収率が良い点で好ましい。
M1は収率が良い点で臭素原子、ヨウ素原子、式(12-1)、式(12-3)、式(12-10)、式(12-11)、式(13-1)又は式(13-4)が好ましく、臭素原子、式(12-3)又は式(13-1)がより好ましい。
M3は収率が良い点で臭素原子、ヨウ素原子、式(12-1)、式(12-3)、式(12-10)、式(12-11)、式(13-1)又は(13-4)が好ましく、臭素原子、式(12-3)又は式(13-1)がより好ましい。
収率が良い点で、M1が臭素原子もしくはヨウ素原子の場合、M3は式(12-1)、式(12-3)、式(12-10)、式(12-11)、式(13-1)又は式(13-4)であることが好ましい。
収率が良い点で、M3が式(12-1)、式(12-3)、式(12-10)、式(12-11)、式(13-1)又は式(13-4)である場合、M3は臭素原子又はヨウ素原子であることが好ましい。
化合物(1)中の1つのM1が臭素原子又はヨウ素原子であり、もう1つのM1が式(12-1)から(12-11)、または式(13-1)から(13-6)のいずれかで表される基の場合、化合物(21)中の一つのM3は臭素原子又はヨウ素原子であり、もう一つのM3は式(12-1)から(12-11)、または式(13-1)から(13-5)のいずれかで表される基であることが好ましい。
本発明の製造方法の工程Fは遷移金属触媒存在下に行うことが必須であり、用いることのできる遷移金属触媒としては例えば、パラジウム触媒、ニッケル触媒、白金触媒等を挙げることができる。これらの遷移金属触媒は、「金属」、「担持金属」、「金属の塩化物、臭化物、ヨウ化物、硝酸塩、硫酸塩、炭酸塩、シュウ酸塩、酢酸塩または酸化物等の金属塩」や「オレフィン錯体、ホスフィン錯体、アミン錯体、アンミン錯体、カルベン錯体またはアセチルアセトナート錯体等の錯化合物」を用いることができる。さらにこれらの金属、担持金属、金属塩および錯化合物と第3級リン化合物又はカルベン化合物等を組合わせて用いることもできる。収率が良い点でパラジウム触媒又はニッケル触媒を用いることが好ましく、パラジウム触媒がさらに好ましい。
パラジウム触媒としては特に限定するものではないが、パラジウム黒、パラジウムスポンジ等のパラジウム金属が例示でき、また、パラジウム/アルミナ、パラジウム/炭素、パラジウム/シリカ、パラジウム/Y型ゼオライト等の担持パラジウム金属も例示できる。また、塩化パラジウム、臭化パラジウム、ヨウ化パラジウム、酢酸パラジウム、トリフルオロ酢酸パラジウム、硝酸パラジウム等の金属塩、π―アリルパラジウムクロリドダイマー、パラジウムアセチルアセトナト、ジクロロビス(アセトニトリル)パラジウム、ジクロロビス(ベンゾニトリル)パラジウム、ビス(ジベンジリデンアセトン)パラジウム、トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム、トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム、ジクロロジアンミンパラジウム、ジクロロビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム、ジクロロビス(トリシクロヘキシルホスフィン)パラジウム、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム、ジクロロ[1,2-ビス(ジフェニルホスフィノ)エタン]パラジウム、ジクロロ[1,3-ビス(ジフェニルホスフィノ)プロパン]パラジウム、ジクロロ[1,4-ビス(ジフェニルホスフィノ)ブタン]パラジウムおよびジクロロ[1,1’-ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン]パラジウム、ビス(トリ-tert-ブチルホスフィン)パラジウム、ビス(トリシクロヘキシルホスフィン)パラジウム、[1,3-ビス(2,6-ジイソプロピルフェニル)イミダゾール-2-イリデン](3-クロロピリジル)パラジウム(II)ジクロリド(Pd-PEPPSI-IPent)、[1,3-ビス(2,6-ジ-3-ペンチルフェニル)イミダゾール-2-イリデン](3-クロロピリジル)パラジウム(II)ジクロリド(Pd-PEPPSI-IPr)、[1,3-ビス(2,6-ジイソプロピルフェニル)イミダゾリジン-2-イリデン](3-クロロピリジル)パラジウム(II)ジクロリド(Pd-PEPPSI-SIPr)等の錯化合物を例示できる。
A group represented by the formula (13-1) or (13-4) is more preferred, a group represented by the formula (13-1) is even more preferred.
M3 is preferably a hydrogen atom, a halogen atom, a metal-containing group, a boron-containing group, or a tin-containing group, and M3 is a hydrogen atom, a bromine atom, an iodine atom, a boron-containing group, from the viewpoint of high production efficiency of the conjugated polymer of the present invention. group or a tin-containing group is more preferable, and hydrogen atom, bromine atom, formula (12-1), formula (12-3), formula (12-10), formula (12-11), formula (13-1), or Formula (13-4) is more preferred, and a bromine atom, formula (12-3) or formula (13-1) is particularly preferred.
In the manufacturing process (F), two of the four M 1 and two M 3 are bromine atoms or iodine atoms, and the remaining two are formula (12-1), formula (12-3), and formula (12-10), formula (12-11), formula (13-1) or formula (13-4) are preferable in terms of good yield.
M1 is a bromine atom, an iodine atom, formula (12-1), formula (12-3), formula (12-10), formula (12-11), formula (13-1), or Formula (13-4) is preferred, and a bromine atom, formula (12-3) or formula (13-1) is more preferred.
M3 is a bromine atom, an iodine atom, formula (12-1), formula (12-3), formula (12-10), formula (12-11), formula (13-1), or (13-4) is preferred, and a bromine atom, formula (12-3) or formula (13-1) is more preferred.
In terms of good yield, when M 1 is a bromine atom or an iodine atom, M 3 is a formula (12-1), a formula (12-3), a formula (12-10), a formula (12-11), a formula (13-1) or formula (13-4) is preferred.
In terms of good yield, M 3 is a formula (12-1), a formula (12-3), a formula (12-10), a formula (12-11), a formula (13-1) or a formula (13-4). ), M 3 is preferably a bromine atom or an iodine atom.
One M 1 in compound (1) is a bromine atom or an iodine atom, and the other M 1 is a formula (12-1) to (12-11), or a formula (13-1) to (13-6). ), one M 3 in compound (21) is a bromine atom or an iodine atom, and the other M 3 is a group represented by formulas (12-1) to (12-11), Alternatively, it is preferably a group represented by any one of formulas (13-1) to (13-5).
It is essential that Step F of the production method of the present invention be carried out in the presence of a transition metal catalyst, and examples of transition metal catalysts that can be used include palladium catalysts, nickel catalysts, platinum catalysts, and the like. These transition metal catalysts include "metals,""supportedmetals,""metal salts such as metal chlorides, bromides, iodides, nitrates, sulfates, carbonates, oxalates, acetates, or oxides.""Complex compounds such as olefin complexes, phosphine complexes, amine complexes, ammine complexes, carbene complexes, or acetylacetonate complexes" can be used. Furthermore, these metals, supported metals, metal salts, and complex compounds can be used in combination with tertiary phosphorus compounds or carbene compounds. It is preferable to use a palladium catalyst or a nickel catalyst in terms of good yield, and a palladium catalyst is more preferable.
Palladium catalysts are not particularly limited, but examples include palladium metals such as palladium black and palladium sponge, and supported palladium metals such as palladium/alumina, palladium/carbon, palladium/silica, palladium/Y-type zeolite, etc. I can give an example. In addition, metal salts such as palladium chloride, palladium bromide, palladium iodide, palladium acetate, palladium trifluoroacetate, palladium nitrate, π-allylpalladium chloride dimer, palladium acetylacetonato, dichlorobis(acetonitrile)palladium, dichlorobis(benzonitrile) ) palladium, bis(dibenzylideneacetone)palladium, tris(dibenzylideneacetone)dipalladium, tris(dibenzylideneacetone)dipalladium, dichlorodiaminepalladium, dichlorobis(triphenylphosphine)palladium, dichlorobis(tricyclohexylphosphine)palladium, tetrakis (triphenylphosphine)palladium, dichloro[1,2-bis(diphenylphosphino)ethane]palladium, dichloro[1,3-bis(diphenylphosphino)propane]palladium, dichloro[1,4-bis(diphenylphosphino)propane]palladium, dichloro[1,4-bis(diphenylphosphino)propane]palladium, ) butane] palladium and dichloro[1,1'-bis(diphenylphosphino)ferrocene] palladium, bis(tri-tert-butylphosphine) palladium, bis(tricyclohexylphosphine) palladium, [1,3-bis(2, 6-diisopropylphenyl)imidazol-2-ylidene](3-chloropyridyl)palladium(II) dichloride (Pd-PEPPSI-IPent), [1,3-bis(2,6-di-3-pentylphenyl)imidazole- 2-ylidene](3-chloropyridyl)palladium(II) dichloride (Pd-PEPPSI-IPr), [1,3-bis(2,6-diisopropylphenyl)imidazolidin-2-ylidene](3-chloropyridyl) Examples include complex compounds such as palladium (II) dichloride (Pd-PEPPSI-SIPr).
収率が良い点で、酢酸パラジウム、パラジウムアセチルアセトナート、ビス(ジベンジリデンアセトン)パラジウム、トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム、トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(Pd(PPh3)4)、ビス(トリ-tert-ブチルホスフィン)パラジウムを用いることが好ましい。
ニッケル触媒としては特に限定するものではないが、具体的には、塩化ニッケル(II)、ビス(トリフェニルホスフィン)ニッケル(II)ジクロリド、ビス(2,4-ペンタンジオナト)ニッケル(II)水和物、ビス(1,5-シクロオクタジエン)ニッケル(0)、ジクロロ(1,1’-ビス(ジフェニルホスフィノ)エタン)ニッケル、ジクロロ(1,1’-ビス(ジフェニルホスフィノ)プロパン)ニッケル、[1,3-ビス(2,6-ジイソプロピルフェニル)イミダゾール-2-イリデン]トリフェニルホスフィンニッケル(II)ジクロリド等のニッケル錯体が例示できる。
これらのパラジウム触媒又はニッケル触媒は単独で用いても良いが、第三級リン化合物やカルベン化合物と組合わせて用いても良い。用いることのできる第三級リン化合物としては、トリフェニルホスフィン、トリメチルホスフィン、トリエチルホスフィン、トリブチルホスフィン、トリ(tert-ブチル)ホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィン、トリ-o-トリルホスフィン、トリオクチルホスフィン、9,9-ジメチル-4,5-ビス(ジフェニルホスフィノ)キサンテン、2-(ジ-tert-ブチルホスフィノ)ビフェニル、2-(ジシクロヘキシルホスフィノ)ビフェニル、1,2-ビス(ジフェニルホスフィノ)エタン、1,3-ビス(ジフェニルホスフィノ)プロパン、1,4-ビス(ジフェニルホスフィノ)ブタン、1,1’-ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン、tert-ブチルジフェニルホスフィン、2-(ジフェニルホスフィノ)-2’-(N,N-ジメチルアミノ)ビフェニル、ビス(ジフェニルホスフィノ)メタン、1,4-ビス(ジフェニルホスフィノ)ブタン、トリ(2-フリル)ホスフィン、トリス(2,5-キシリル)ホスフィン、(R)-(+)-2,2’-ビス(ジフェニルホスフィノ)-1,1’-ビナフチル、(S)-(-)-2,2’-ビス(ジフェニルホスフィノ)-1,1’-ビナフチルおよび(±)-2,2’-ビス(ジフェニルホスフィノ)-1,1’-ビナフチル等が例示できる。用いることのできるカルベン化合物としては、1,3-ビス(2,6-ジイソプロピルフェニル)イミダゾール-2-イリデン、1,3-ビス(2,6-ジイソプロピルフェニル)イミダゾリジン-2-イリデン、1,3-ジ-tert-ブチルイミダゾール-2-イリデン、又は1,3-ジメシチルイミダゾール-2-イリデン等が例示できる。
収率が良い点で、トリフェニルホスフィン、トリ(tert-ブチル)ホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィン又はトリ-o-トリルホスフィンを用いることが好ましい。
第三級リン化合物と遷移金属触媒とのモル比は1:10~10:1の範囲にあることが好ましく、収率がよい点で1:3~4:1の範囲にあることがさらに好ましい。
用いる遷移金属触媒としては、収率が良い点でトリフェニルホスフィン、トリ(o-トリル)ホスフィンを配位子として有するパラジウム触媒がさらに好ましい。
遷移金属触媒の使用量は特に制限はないが、収率がよい点で、化合物(1)に対して0.005~50モルパーセントが好ましく、0.05~10モルパーセントの範囲にあることがより好ましい。
本発明の製造方法は助触媒を使用することも可能である。助触媒としては特に限定するものではないが、具体的には、フッ化銅、塩化銅、臭化銅、ヨウ化銅、酸化銅等の一価、又は二価の銅塩等を例示することができる。収率が良い点で、一価のヨウ化銅が好ましい。
助触媒の使用量は特に制限はないが、収率がよい点で、化合物(1)に対して0.005~50モルパーセントが好ましく、0.05~10モルパーセントの範囲にあることがより好ましい。
Palladium acetate, palladium acetylacetonate, bis(dibenzylideneacetone)palladium, tris(dibenzylideneacetone)dipalladium, tris(dibenzylideneacetone)dipalladium, and tetrakis(triphenylphosphine)palladium (Pd) have good yields. (PPh 3 ) 4 ), bis(tri-tert-butylphosphine) palladium is preferably used.
The nickel catalyst is not particularly limited, but specifically includes nickel (II) chloride, bis(triphenylphosphine)nickel(II) dichloride, bis(2,4-pentanedionato)nickel(II) water. bis(1,5-cyclooctadiene)nickel(0), dichloro(1,1'-bis(diphenylphosphino)ethane)nickel, dichloro(1,1'-bis(diphenylphosphino)propane) Examples include nickel and nickel complexes such as [1,3-bis(2,6-diisopropylphenyl)imidazol-2-ylidene]triphenylphosphinenickel(II) dichloride.
These palladium catalysts or nickel catalysts may be used alone, or may be used in combination with a tertiary phosphorus compound or a carbene compound. Tertiary phosphorus compounds that can be used include triphenylphosphine, trimethylphosphine, triethylphosphine, tributylphosphine, tri(tert-butyl)phosphine, tricyclohexylphosphine, tri-o-tolylphosphine, trioctylphosphine, 9, 9-dimethyl-4,5-bis(diphenylphosphino)xanthene, 2-(di-tert-butylphosphino)biphenyl, 2-(dicyclohexylphosphino)biphenyl, 1,2-bis(diphenylphosphino)ethane, 1,3-bis(diphenylphosphino)propane, 1,4-bis(diphenylphosphino)butane, 1,1'-bis(diphenylphosphino)ferrocene, tert-butyldiphenylphosphine, 2-(diphenylphosphino) -2'-(N,N-dimethylamino)biphenyl, bis(diphenylphosphino)methane, 1,4-bis(diphenylphosphino)butane, tri(2-furyl)phosphine, tris(2,5-xylyl) Phosphine, (R)-(+)-2,2'-bis(diphenylphosphino)-1,1'-binaphthyl, (S)-(-)-2,2'-bis(diphenylphosphino)-1 , 1'-binaphthyl and (±)-2,2'-bis(diphenylphosphino)-1,1'-binaphthyl. Carbene compounds that can be used include 1,3-bis(2,6-diisopropylphenyl)imidazol-2-ylidene, 1,3-bis(2,6-diisopropylphenyl)imidazolidin-2-ylidene, 1, Examples include 3-di-tert-butylimidazol-2-ylidene and 1,3-dimesitylimidazol-2-ylidene.
It is preferable to use triphenylphosphine, tri(tert-butyl)phosphine, tricyclohexylphosphine or tri-o-tolylphosphine in terms of good yield.
The molar ratio of the tertiary phosphorus compound and the transition metal catalyst is preferably in the range of 1:10 to 10:1, and more preferably in the range of 1:3 to 4:1 in terms of good yield. .
As the transition metal catalyst to be used, a palladium catalyst having triphenylphosphine or tri(o-tolyl)phosphine as a ligand is more preferable because of its good yield.
The amount of the transition metal catalyst to be used is not particularly limited, but in terms of good yield, it is preferably 0.005 to 50 mol percent, and preferably in the range of 0.05 to 10 mol percent, based on compound (1). More preferred.
In the production method of the present invention, it is also possible to use a promoter. The promoter is not particularly limited, but specific examples include monovalent or divalent copper salts such as copper fluoride, copper chloride, copper bromide, copper iodide, and copper oxide. I can do it. Monovalent copper iodide is preferred because of its good yield.
There is no particular restriction on the amount of the co-catalyst used, but in terms of good yield, it is preferably from 0.005 to 50 mol%, more preferably from 0.05 to 10 mol%, based on compound (1). preferable.
本発明の製造方法は溶媒中で実施することができる。用いることのできる溶媒としては、反応を阻害しないものであれば特に制限は無く、ヘキサン、ヘプタン、デカン、トリデカン等の脂肪族炭化水素溶媒、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル(CPME)、テトラヒドロフラン(THF)、2-メチルテトラヒドロフラン、1,4-ジオキサン、1,2-ジメトキシエタン等のエーテル溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、テトラリン等の芳香族炭化水素溶媒、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート、ジメチルカーボネート、ジエチルカーボネート、エチルメチルカーボネート、4-フルオロエチレンカーボネート等の炭酸エステル溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、酪酸メチル、γ-ラクトン等のエステル溶媒、ジメチルスルホキシド(DMF)、ジメチルアセトアミド(DMAc)、N-メチルピロリドン(NMP)等のアミド溶媒、N,N,N’,N’-テトラメチルウレア(TMU)、N,N’-ジメチルプロピレンウレア(DMPU)等のウレア溶媒、ジメチルスルホキシド(DMSO)等のスルホキシド溶媒、メタノール、エタノール、2-プロパノール、ブタノール、オクタノール、ベンジルアルコール、エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、2,2,2-トリフルオロエタノール等のアルコール溶媒、クロロホルム、ジクロロメタン、四塩化炭素、1,2-ジクロロエタン、クロロベンゼン、オルトジクロロベンゼン等のハロゲン溶媒、ビス(2,2,2-トリフルオロエチル)=N,N-ジイソプロピルホスホロアミダート(PF-37)、リン酸=トリス(2,2,2-トリフルオロエチル)(TFEP)等のフッ素溶媒、ニトロメタン、水等を例示することができ、これらを任意の比で混合して用いてもよい。これらのうち、収率が良い点で芳香族炭化水素溶媒、ハロゲン溶媒、エーテル溶媒、アミド溶媒、スルホキシド溶媒、フッ素溶媒、芳香族炭化水素溶媒と水の混合溶媒、ハロゲン溶媒と水の混合溶媒、エーテル溶媒と水の混合溶媒、芳香族炭化水素溶媒とスルホキシド溶媒の混合溶媒、ハロゲン溶媒とスルホキシド溶媒の混合溶媒、エーテル溶媒とスルホキシド溶媒、芳香族炭化水素溶媒とフッ素溶媒の混合溶媒、ハロゲン溶媒とフッ素溶媒の混合溶媒、エーテル溶媒とフッ素溶媒の混合溶媒が好ましく、芳香族炭化水素溶媒と水の混合溶媒、ハロゲン溶媒と水の混合溶媒、エーテル溶媒と水の混合溶媒、芳香族炭化水素溶媒とスルホキシド溶媒の混合溶媒、ハロゲン溶媒とスルホキシド溶媒の混合溶媒、エーテル溶媒とスルホキシド溶媒、芳香族炭化水素溶媒とフッ素溶媒の混合溶媒、ハロゲン溶媒とフッ素溶媒の混合溶媒、エーテル溶媒とフッ素溶媒の混合溶媒がさらに好ましい。
溶媒の使用量に特に制限はないが、化合物(1)の重量に対して、0.1~100mL/mgの範囲にあることが好ましく、0.1~10mL/mgの範囲にあることがさらに好ましい。
本発明の製造方法は相間移動触媒を添加して実施することも可能である。用いることができる相間移動触媒としては、エチルトリメチルアンモニウムヨージド、ジドデシルジメチルアンモニウムクロリド、ジメチルジオクタデシルアンモニウムヨージド、ジメチルジオクチルアンモニウムブロミド、ジデシルジメチルアンモニウムブロミド、ジメチルジミリスチルアンモニウムブロミド、ジヘキサデシルジメチルアンモニウムブロミド、ジアリルジメチルアンモニウムクロリド、ジメチルジオクタデシルアンモニウムクロリド、ジドデシルジメチルアンモニウムブロミド、4-ジメチルアミノ-1-ネオペンチルピリジニウムクロリド、ドデシルトリメチルアンモニウムブロミド、デシルトリメチルアンモニウムブロミド、1,1-ジメチル-4-フェニルピペラジニウムヨージド、デカメトニウムヨージド、デカメトニウムブロミド、デシルトリメチルアンモニウムクロリド、デシルトリメチルアンモニウムクロリド、エチルヘキサデシルジメチルアンモニウムブロミド、(3-クロロ-2-ヒドロキシプロピル)トリメチルアンモニウムクロリド、カルバコール、コリンクロリド、クロロコリンクロリド、ビス(2-ヒドロキシエチル)ジメチルアンモニウムクロリド、ベンジルドデシルジメチルアンモニウムブロミド、ベンジルトリメチルアンモニウムブロミド、ベンジルドデシルジメチルアンモニウムクロリド二水和物、ジクロロヨウ素酸ベンジルトリメチルアンモニウム、ベンジルトリブチるアンモニウムクロリド、ベンジルトリブチルアンモニウムブロミド、ブロモコリンブロミド、ベンジルトリメチルアンモニウムクロリド、ベンジルトリエチルアンモニウムヨージド、ベンジルトリエチルアンモニウムヒドロキシド、ベンジルトリエチルアンモニウムクロリド、ベンジルトリエチルアンモニウムブロミド、ベンジルジメチルフェニルアンモニウムクロリド、塩化ベンザルコニウム、ベンゾイルチオコリンヨージド、ベンジルジメチルヘキサデシルアンモニウムクロリド水和物、ベンゾイルコリンヨージド、ベンゾイルコリンクロリド、ベンゾイルコリンブロミド、ゼフィランクロリド水和物、テトラブチルアンモニウムp-トルエンスルホナート、テトラブチルアンモニウムヒトラート、テトラヘキシルアンモニウム硫酸水素塩、テトラエチルアンモニウムニトラート、トリブチルアンモニウムクロリド、トリメチルプロピルアンモニウムブロミド、トリメチルノニルアンモニウムブロミド、テトラブチルアンモニウムアセタート、テトラブチルアンモニウムテトラフルオロボラート、トリメチル[2-[(トリメチルシリル)メチル]ベンジル]アンモニウムヨージド、トリエチルアンモニウムテトラフルオロボラート、トリス(2-ヒドロキシエチル)メチルアンモニウムヒドロキシド、テトラプロピルアンモニウムクロリド、テトラエチルアンモニウムトリフルオロメタンスルホナート、テトラ-n-オクチルアンモニウムブロミド、テトラベプチルアンモニウムブロミド、テトラヘキシルアンモニウムブロミド、テトラブチルアンモニウムトリフラート、テトラブチルアンモニウムテトラフェニルボラート、テトラペンチルアンモニウムクロリド、テトラペンチルアンモニウムブロミド、テトラメチルアンモニウムアセタート、テトラヘプチルアンモニウムヨージド、メチルトリ-n-オクチルアンモニウムクロリド、テトラメチルアンモニウムヘキサフルオロホスファート、テトラブチルアンモニウムビフルオリド、テトラブチルアンモニウムトリブロミド、テトラブチルアンモニウムヘキサフルオロホスファート、テトラブチルアンモニウムチオシアナート、テトラブチルアンモニウムトリヨージド、テトラメチルアンモニウムスルファート、テトラ-n-オクチルアンモニウムヨージド、テトラ(デシル)アンモニウムブロミド、テトラメチルアンモニウムアセタート、テトラヘキシルアンモニウムヨージド、テトラフルオロホウ酸テトラエチルアンモニウム、テトラエチルアンモニウムp-トルエンスルホナート、トリメチルテトラデシルアンモニウムクロリド、テトラブチルアンモニウムテトラフルオロボラート、テトラデシルトリメチルアンモニウムブロミド、テトラメチルアンモニウムテトラフルオロボラート、過塩素酸テトラブチルアンモニウム、テトラブチルアンモニウム硫酸水素塩、トリオクチルメチルアンモニウムクロリド(Aliquat336)、テトラプロピルアンモニウムブロミド、テトラプロピルアンモニウムヨージド、テトラブチルアンモニウムクロリド、テトラブチルアンモニウムヨージド、テトラエチルアンモニウムブロミド、テトラエチルアンモニウムクロリド、テトラエチルアンモニウムヨージド、テトラメチルアンモニウムブロミド、テトラメチルアンモニウムクロリド、テトラメチルアンモニウムヨージド、(フェロセニルメチル)トリメチルアンモニウムブロミド、(フェロセニルメチル)ドデシル、ヘキサデシルトリメチルアンモニウムブロミド、ヘキサデシルトリメチルアンモニウムクロリド、ヘキシルトリメチルアンモニウムブロミド、トリエチルアンモニウムクロリド、メチルトリ-n-オクチルアンモニウム硫酸水素塩、トリメチル-n-オクチルアンモニウムブロミド、トリメチル-n-オクチルアンモニウムクロリド、トリメチルフェニルアンモニウムブロミド、トリメチルフェニルアンモニウムクロリド、トリメチルフェニルアンモニウムトリブロミド、オクタデシルトリメチルアンモニウムブロミド、テトラブチルアンモニウムブロミドなどのアンモニウム塩、テトラブチルホスホニウムテトラフェニルボラート、テトラブチルホスホニウムヘキサフルオロホスファート、テトラブチルホスホニウムテトラフルオロボラート、テトラエチルホスホニウムテトラフルオロボラート、テトラエチルホスホニウムヘキサフルホロホスファート、テトラ-n-オクチルホスホニウムブロミド、テトラブチルホスホニウムクロリド、テトラエチルホスホニウムブロミド、テトラフェニルホスホニウムクロリド、テトラブチルホスホニウムブロミド、テトラキス(ヒドロキシメチル)ホスホニウムスルファート、テトラフェニルホスホニウムブロミド、テトラキス(ヒドロキシメチル)ホスホニウムクロリド、トリブチル-n-オクチルホスホニウムブロミド、ヘキサデシルトリブチルホスホニウムブロミド、トリブチルドデシルホスホニウムブロミド、(2-カルボキシエチル)トリフェニルホスホニウムブロミド、トリブチル(シアノメチル)ホスホニウムクロリドなどのホスホニウム塩などを例示することができ、これらを任意の比で混合してもよい。これらのうち、反応収率がよい点で、アンモニウム塩が好ましく、Aliquat336がより好ましい。
The production method of the present invention can be carried out in a solvent. The solvents that can be used are not particularly limited as long as they do not inhibit the reaction, and include aliphatic hydrocarbon solvents such as hexane, heptane, decane, and tridecane, diisopropyl ether, dibutyl ether, cyclopentyl methyl ether (CPME), and tetrahydrofuran. (THF), ether solvents such as 2-methyltetrahydrofuran, 1,4-dioxane, and 1,2-dimethoxyethane, aromatic hydrocarbon solvents such as benzene, toluene, xylene, mesitylene, and tetralin, ethylene carbonate, propylene carbonate, and dimethyl Carbonate ester solvents such as carbonate, diethyl carbonate, ethyl methyl carbonate, 4-fluoroethylene carbonate, ester solvents such as ethyl acetate, butyl acetate, methyl propionate, ethyl propionate, methyl butyrate, γ-lactone, dimethyl sulfoxide (DMF) , dimethylacetamide (DMAc), amide solvents such as N-methylpyrrolidone (NMP), urea such as N,N,N',N'-tetramethylurea (TMU), N,N'-dimethylpropyleneurea (DMPU), etc. Solvents, sulfoxide solvents such as dimethyl sulfoxide (DMSO), methanol, ethanol, 2-propanol, butanol, octanol, benzyl alcohol, ethylene glycol, propylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, 2,2,2-trifluoroethanol, etc. Alcohol solvents, halogen solvents such as chloroform, dichloromethane, carbon tetrachloride, 1,2-dichloroethane, chlorobenzene, orthodichlorobenzene, bis(2,2,2-trifluoroethyl)=N,N-diisopropylphosphoramidate ( PF-37), fluorine solvents such as tris(2,2,2-trifluoroethyl) phosphoric acid (TFEP), nitromethane, water, etc., and these can be used by mixing them in any ratio. Good too. Among these, aromatic hydrocarbon solvents, halogen solvents, ether solvents, amide solvents, sulfoxide solvents, fluorine solvents, mixed solvents of aromatic hydrocarbon solvents and water, mixed solvents of halogen solvents and water, Mixed solvent of ether solvent and water, mixed solvent of aromatic hydrocarbon solvent and sulfoxide solvent, mixed solvent of halogen solvent and sulfoxide solvent, mixed solvent of ether solvent and sulfoxide solvent, mixed solvent of aromatic hydrocarbon solvent and fluorine solvent, mixed solvent of halogen solvent and Mixed solvents of fluorine solvents, mixed solvents of ether solvents and fluorine solvents are preferred, mixed solvents of aromatic hydrocarbon solvents and water, mixed solvents of halogenated solvents and water, mixed solvents of ether solvents and water, and mixed solvents of aromatic hydrocarbon solvents and water. Mixed solvent of sulfoxide solvent, mixed solvent of halogen solvent and sulfoxide solvent, mixed solvent of ether solvent and sulfoxide solvent, mixed solvent of aromatic hydrocarbon solvent and fluorine solvent, mixed solvent of halogen solvent and fluorine solvent, mixed solvent of ether solvent and fluorine solvent is even more preferable.
There is no particular restriction on the amount of the solvent used, but it is preferably in the range of 0.1 to 100 mL/mg, more preferably in the range of 0.1 to 10 mL/mg, based on the weight of compound (1). preferable.
The production method of the present invention can also be carried out by adding a phase transfer catalyst. Phase transfer catalysts that can be used include ethyltrimethylammonium iodide, didodecyldimethylammonium chloride, dimethyldioctadecylammonium iodide, dimethyldioctylammonium bromide, didecyldimethylammonium bromide, dimethyldimyristyl ammonium bromide, dihexadecyldimethyl Ammonium bromide, diallyldimethylammonium chloride, dimethyldioctadecylammonium chloride, didodecyldimethylammonium bromide, 4-dimethylamino-1-neopentylpyridinium chloride, dodecyltrimethylammonium bromide, decyltrimethylammonium bromide, 1,1-dimethyl-4- Phenylpiperazinium iodide, decamethonium iodide, decamethonium bromide, decyltrimethylammonium chloride, decyltrimethylammonium chloride, ethylhexadecyldimethylammonium bromide, (3-chloro-2-hydroxypropyl)trimethylammonium chloride, carbachol, choline Chloride, chlorocholine chloride, bis(2-hydroxyethyl)dimethylammonium chloride, benzyldodecyldimethylammonium bromide, benzyltrimethylammonium bromide, benzyldodecyldimethylammonium chloride dihydrate, benzyltrimethylammonium dichloroiodate, benzyltributyl ammonium Chloride, benzyltributylammonium bromide, bromocholine bromide, benzyltrimethylammonium chloride, benzyltriethylammonium iodide, benzyltriethylammonium hydroxide, benzyltriethylammonium chloride, benzyltriethylammonium bromide, benzyldimethylphenylammonium chloride, benzalkonium chloride, benzoyl Thiocholine iodide, benzyldimethylhexadecyl ammonium chloride hydrate, benzoylcholine iodide, benzoylcholine chloride, benzoylcholine bromide, zephyran chloride hydrate, tetrabutylammonium p-toluenesulfonate, tetrabutylammonium hitlate, Tetrahexylammonium hydrogen sulfate, tetraethylammonium nitrate, tributylammonium chloride, trimethylpropylammonium bromide, trimethylnonylammonium bromide, tetrabutylammonium acetate, tetrabutylammonium tetrafluoroborate, trimethyl [2-[(trimethylsilyl)methyl] benzyl] ammonium iodide, triethylammonium tetrafluoroborate, tris(2-hydroxyethyl)methylammonium hydroxide, tetrapropylammonium chloride, tetraethylammonium trifluoromethanesulfonate, tetra-n-octylammonium bromide, tetrabeptylammonium bromide , tetrahexylammonium bromide, tetrabutylammonium triflate, tetrabutylammonium tetraphenylborate, tetrapentylammonium chloride, tetrapentylammonium bromide, tetramethylammonium acetate, tetraheptylammonium iodide, methyltri-n-octylammonium chloride, tetra Methyl ammonium hexafluorophosphate, tetrabutylammonium bifluoride, tetrabutylammonium tribromide, tetrabutylammonium hexafluorophosphate, tetrabutylammonium thiocyanate, tetrabutylammonium triiodide, tetramethylammonium sulfate, tetra- n-octylammonium iodide, tetra(decyl)ammonium bromide, tetramethylammonium acetate, tetrahexylammonium iodide, tetraethylammonium tetrafluoroborate, tetraethylammonium p-toluenesulfonate, trimethyltetradecylammonium chloride, tetrabutylammonium Tetrafluoroborate, tetradecyltrimethylammonium bromide, tetramethylammonium tetrafluoroborate, tetrabutylammonium perchlorate, tetrabutylammonium hydrogen sulfate, trioctylmethylammonium chloride (Aliquat336), tetrapropylammonium bromide, tetrapropylammonium Iodide, Tetrabutylammonium chloride, Tetrabutylammonium iodide, Tetraethylammonium bromide, Tetraethylammonium chloride, Tetraethylammonium iodide, Tetramethylammonium bromide, Tetramethylammonium chloride, Tetramethylammonium iodide, (ferrocenylmethyl)trimethyl Ammonium bromide, (ferrocenylmethyl)dodecyl, hexadecyltrimethylammonium bromide, hexadecyltrimethylammonium chloride, hexyltrimethylammonium bromide, triethylammonium chloride, methyltri-n-octylammonium hydrogensulfate, trimethyl-n-octylammonium bromide, Ammonium salts such as trimethyl-n-octylammonium chloride, trimethylphenylammonium bromide, trimethylphenylammonium chloride, trimethylphenylammonium tribromide, octadecyltrimethylammonium bromide, tetrabutylammonium bromide, tetrabutylphosphonium tetraphenylborate, tetrabutylphosphonium hexa Fluorophosphate, Tetrabutylphosphonium tetrafluoroborate, Tetraethylphosphonium tetrafluoroborate, Tetraethylphosphonium hexaflurophosphate, Tetra-n-octylphosphonium bromide, Tetrabutylphosphonium chloride, Tetraethylphosphonium bromide, Tetraphenylphosphonium chloride, Tetra Butylphosphonium bromide, Tetrakis(hydroxymethyl)phosphonium sulfate, Tetraphenylphosphonium bromide, Tetrakis(hydroxymethyl)phosphonium chloride, Tributyl-n-octylphosphonium bromide, Hexadecyltributylphosphonium bromide, Tributyldodecylphosphonium bromide, (2-Carboxyethyl ) Triphenylphosphonium bromide, tributyl(cyanomethyl)phosphonium chloride, and other phosphonium salts can be exemplified, and these may be mixed in any ratio. Among these, ammonium salts are preferred, and Aliquat 336 is more preferred in terms of high reaction yield.
本発明の製造方法は塩基存在下で実施することができる。用いることのできる塩基としては、ナトリウムブトキシド、カリウムブトキシド等の金属アルコキシド、ブチルリチウム等の金属アルキル、リチウムヘキサメチルジシラジド、リチウムジイソプロピルアミド、2,2,6,6-テトラメチルピペリジニルリチウム、2,2,6,6-テトラメチルピペリジニルマグネシウムクロリドリチウムクロリド錯体等の金属アミド、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化セシウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム等の無機塩基、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、ルチジン、ジアザビシクロウンデセン(DBU)、1,5,7-トリアザビシクロ[4.4.0]デカ-5-エン(TBD)、7-メチル-1,5,7-トリアザビシクロ[4.4.0]デカ-5-エン(MTBD)、1,4-ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン(DABCO)等の有機塩基等を例示することができ、これらを任意の比で混合してもよい。これらのうち、反応収率が良い点で無機塩が好ましく、炭酸ナトリウム、又は炭酸カリウムがさらに好ましい。
本発明の製造方法は、0℃~240℃から適宜選択された温度にて実施することができ、収率が良い点で70℃~220℃から適宜選択された温度にて実施することが好ましく、100℃~200℃から適宜選択された温度にて実施することがより好ましい。
本発明の製造方法は、マイクロウェーブ反応装置を用いて実施することも可能である。
本発明の製造方法は、アルゴンガスまたは窒素ガスといった不活性ガス雰囲気下、もしくは真空下で行うことが好ましい。
反応時間は、用いる化合物(1)、化合物(21)並びに溶媒及び反応温度により異なるが、0.1~100時間が好ましく、1~78時間がより好ましい。
本発明の共役系高分子は、製造工程の終了後に通常の処理をすることで得られる。必要に応じて、沈殿、ろ過、透析、カラムクロマトグラフィー、分取HPLC、ソックスレー抽出等の当業者が高分子化合物の精製に用いる汎用的な手段を適宜用いて精製してもよい。
移動度や溶解性を向上させる目的で、反応中又は反応後に有機ホウ素化合物や有機スズ化合物を添加することで本発明の共役系高分子の末端にチエニル基やフェニル基等の官能基が導入された共役系高分子を製造することもできる。官能基は公知の方法を組み合わせて導入してもよく、例えば、Macromolecules,48巻,6994-7006ページ,2015年等に開示されている方法に従って導入できる。
The production method of the present invention can be carried out in the presence of a base. Examples of bases that can be used include metal alkoxides such as sodium butoxide and potassium butoxide, metal alkyls such as butyllithium, lithium hexamethyldisilazide, lithium diisopropylamide, and 2,2,6,6-tetramethylpiperidinyllithium. , 2,2,6,6-tetramethylpiperidinylmagnesium chloride, metal amides such as lithium chloride complex, lithium hydroxide, sodium hydroxide, potassium hydroxide, cesium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, cesium carbonate, etc. Inorganic bases, triethylamine, diisopropylethylamine, pyridine, lutidine, diazabicycloundecene (DBU), 1,5,7-triazabicyclo[4.4.0]dec-5-ene (TBD), 7-methyl- Examples include organic bases such as 1,5,7-triazabicyclo[4.4.0]dec-5-ene (MTBD) and 1,4-diazabicyclo[2.2.2]octane (DABCO). and these may be mixed in any ratio. Among these, inorganic salts are preferred in terms of good reaction yield, and sodium carbonate or potassium carbonate is more preferred.
The production method of the present invention can be carried out at a temperature appropriately selected from 0°C to 240°C, and preferably carried out at a temperature suitably selected from 70°C to 220°C in terms of good yield. It is more preferable to conduct the reaction at a temperature appropriately selected from 100°C to 200°C.
The production method of the present invention can also be carried out using a microwave reaction device.
The manufacturing method of the present invention is preferably carried out under an inert gas atmosphere such as argon gas or nitrogen gas, or under vacuum.
The reaction time varies depending on the compound (1) and compound (21) used, as well as the solvent and reaction temperature, but is preferably 0.1 to 100 hours, more preferably 1 to 78 hours.
The conjugated polymer of the present invention can be obtained by carrying out a usual treatment after the manufacturing process is completed. If necessary, purification may be carried out by appropriately using general-purpose means used by those skilled in the art to purify polymeric compounds, such as precipitation, filtration, dialysis, column chromatography, preparative HPLC, and Soxhlet extraction.
For the purpose of improving mobility and solubility, a functional group such as a thienyl group or a phenyl group is introduced at the end of the conjugated polymer of the present invention by adding an organic boron compound or an organic tin compound during or after the reaction. It is also possible to produce conjugated polymers. The functional group may be introduced by combining known methods, for example, according to the method disclosed in Macromolecules, Volume 48, Pages 6994-7006, 2015.
次に本発明の共役系高分子を含む製膜用組成物(以下、「本発明の製膜用組成物」と称する。)の製造方法について説明する。
本発明の製膜組成物は、本発明の共役系高分子を溶媒に溶解又は分散させることにより、調製することができる。
該溶媒としては、本発明の共役系高分子を溶媒に溶解、又は分散させることができれば特に制限はないが、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル(CPME)、テトラヒドロフラン(THF)、2-メチルテトラヒドロフラン、1,4-ジオキサン、ジメトキシエタン等のエーテル溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、テトラリン等の芳香族炭化水素溶媒、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート、ジメチルカーボネート、ジエチルカーボネート、エチルメチルカーボネート、4-フルオロエチレンカーボネート等の炭酸エステル溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、酪酸メチル、γ-ラクトン等のエステル溶媒、N,N-ジメチルホルムアミド(DMF)、N,N-ジメチルアセトアミド(DMAc)、N-メチルピロリドン(NMP)等のアミド溶媒、N,N,N’,N’-テトラメチルウレア(TMU)、N,N’-ジメチルプロピレンウレア(DMPU)等のウレア溶媒、ジメチルスルホキシド(DMSO)等のスルホキシド溶媒、メタノール、エタノール、2-プロパノール、ブタノール、オクタノール、ベンジルアルコール、エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、2,2,2-トリフルオロエタノール等のアルコール溶媒、クロロホルム、ジクロロメタン、四塩化炭素、1,2-ジクロロエタン、クロロベンゼン、オルトジクロロベンゼン(o-DCB)等のハロゲン溶媒、ニトロメタン、水、等を例示することができ、これらを任意の比で混合して用いてもよい。これらのうち、沸点が高く穏やかに揮発する点で、芳香族炭化水素、ハロゲン溶媒が好ましく、トルエン、キシレン、メシチレン、シクロヘキシルベンゼン、テトラリン、3,4-ジメチルアニソール、クロロベンゼン、o-DCBがさらに好ましい。
溶媒の使用量に特に制限はなく、本発明の共役系高分子の濃度が、0.001~95重量パーセントであり、0.01~30重量パーセントから適宜選ばれた濃度となるように溶媒を加えることがより好ましい。
溶解又は分散の方法は、例えば、撹拌、振盪、ボールミル等の当業者のよく知る方法を用いることができる。この際、加熱を行っても良い。
本発明の製膜用組成物には製膜性を向上させるためのバインダーを加えてもよい。このようなバインダーとしては、例えば、ポリスチレン、ポリ-α-メチルスチレン、ポリビニルナフタレン、ポリ(エチレン-コ-ノルボルネン)、ポリメチルメタクリレート、ポリトリアリールアミン、ポリ(9,9-ジオクチルフルオレン-コ-ジメチルトリフェニルアミン)等のポリマーを例示することができる。該バインダーの濃度に特に制限はないが、塗布性が良い点で0.1~10.0重量パーセントが好ましい。
Next, a method for producing a film-forming composition containing the conjugated polymer of the present invention (hereinafter referred to as "film-forming composition of the present invention") will be described.
The film-forming composition of the present invention can be prepared by dissolving or dispersing the conjugated polymer of the present invention in a solvent.
The solvent is not particularly limited as long as the conjugated polymer of the present invention can be dissolved or dispersed in the solvent, but examples include diisopropyl ether, dibutyl ether, cyclopentyl methyl ether (CPME), tetrahydrofuran (THF), and 2-methyl. Ether solvents such as tetrahydrofuran, 1,4-dioxane, dimethoxyethane, aromatic hydrocarbon solvents such as benzene, toluene, xylene, mesitylene, tetralin, etc., ethylene carbonate, propylene carbonate, dimethyl carbonate, diethyl carbonate, ethyl methyl carbonate, 4- Carbonate ester solvents such as fluoroethylene carbonate, ester solvents such as ethyl acetate, butyl acetate, methyl propionate, ethyl propionate, methyl butyrate, γ-lactone, N,N-dimethylformamide (DMF), N,N-dimethylacetamide (DMAc), amide solvents such as N-methylpyrrolidone (NMP), urea solvents such as N,N,N',N'-tetramethylurea (TMU), N,N'-dimethylpropyleneurea (DMPU), dimethyl Sulfoxide solvents such as sulfoxide (DMSO), alcohol solvents such as methanol, ethanol, 2-propanol, butanol, octanol, benzyl alcohol, ethylene glycol, propylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, 2,2,2-trifluoroethanol, Examples include halogen solvents such as chloroform, dichloromethane, carbon tetrachloride, 1,2-dichloroethane, chlorobenzene, orthodichlorobenzene (o-DCB), nitromethane, water, etc., and these can be mixed in any ratio. May be used. Among these, aromatic hydrocarbons and halogen solvents are preferred because they have a high boiling point and gently volatilize, and toluene, xylene, mesitylene, cyclohexylbenzene, tetralin, 3,4-dimethylanisole, chlorobenzene, and o-DCB are more preferred. .
There is no particular restriction on the amount of the solvent used, and the solvent may be used so that the concentration of the conjugated polymer of the present invention is 0.001 to 95 weight percent, and the concentration is appropriately selected from 0.01 to 30 weight percent. It is more preferable to add
As the dissolution or dispersion method, methods well known to those skilled in the art such as stirring, shaking, and ball milling can be used. At this time, heating may be performed.
A binder may be added to the film-forming composition of the present invention to improve film-forming properties. Examples of such binders include polystyrene, poly-α-methylstyrene, polyvinylnaphthalene, poly(ethylene-conorbornene), polymethyl methacrylate, polytriarylamine, poly(9,9-dioctylfluorene-co- Examples include polymers such as dimethyltriphenylamine). The concentration of the binder is not particularly limited, but is preferably 0.1 to 10.0 weight percent from the viewpoint of good coating properties.
次に、本発明の製膜用組成物を用いて製膜する有機薄膜(以下、「本発明の有機薄膜」と称する。)の製膜方法について説明する。
本発明の製膜用組成物を用いて、本発明の有機薄膜を形成する際の方法に特に制限はなく、例えば、スピンコート、ドロップキャスト、ディップコート、キャストコート等の簡易塗工法、ディスペンサー、インクジェット、スリットコート、ブレードコート、フレキソ印刷、スクリーン印刷、グラビア印刷、オフセット印刷等の印刷法を挙げることができ、中でも効率よく製膜できる点で、スピンコート、ドロップキャスト、インクジェットが好ましい。
本発明の有機薄膜の膜厚に特に制限は無いが、キャリア移動度が高い点で1nm~1000nmが好ましく、10nm~500nmがさらに好ましい。
本発明の有機薄膜は製膜後、溶媒を乾燥させることで得ることができる。必要に応じて、40-400℃の範囲から適宜選択された温度にてアニールを行っても良い。
Next, a method for forming an organic thin film (hereinafter referred to as "organic thin film of the present invention") using the film forming composition of the present invention will be described.
There are no particular limitations on the method for forming the organic thin film of the present invention using the film-forming composition of the present invention, and examples include simple coating methods such as spin coating, drop casting, dip coating, and cast coating; Examples of printing methods include inkjet, slit coating, blade coating, flexo printing, screen printing, gravure printing, and offset printing, among which spin coating, drop casting, and inkjet are preferred because they allow efficient film formation.
The thickness of the organic thin film of the present invention is not particularly limited, but from the viewpoint of high carrier mobility, it is preferably 1 nm to 1000 nm, more preferably 10 nm to 500 nm.
The organic thin film of the present invention can be obtained by drying the solvent after film formation. If necessary, annealing may be performed at a temperature appropriately selected from the range of 40 to 400°C.
本発明の縮環高分子化合物を活性層に含む有機トランジスタ素子(以下、「本発明の有機トランジスタ素子」と称する)の作製方法について説明する。
本発明の有機トランジスタ素子は、基板上に絶縁層及び活性層として本発明の有機薄膜を製膜し、これにソース電極、ドレイン電極及びゲート電極を付設することにより得られる。
図1に、本発明の有機トランジスタ素子に含まれる素子の構造を示す。ここで、(A)は、ボトムゲート-トップコンタクト型、(B)は、ボトムゲート-ボトムコンタクト型、(C)は、トップゲート-トップコンタクト型、(D)は、トップゲート-ボトムコンタクト型のトランジスタ素子であり、1は活性層、2は基板、3はゲート電極、4はゲート絶縁層、5はソース電極、6はドレイン電極を示す。
基板としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリメチルメタクリレート、ポリメチルアクリレート、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、環状ポリオレフィン、ポリイミド、ポリカーボネート、ポリビニルフェノール、ポリビニルアルコール、ポリ(ジイソプロピルフマレート)、ポリ(ジエチルフマレート)、ポリ(ジイソプロピルマレエート)、ポリエーテルスルホン、ポリフェニレンスルフィド、セルローストリアセテート等のプラスチック基板、ガラス、石英、酸化アルミニウム、シリコン、ハイド-プシリコン、酸化シリコン、二酸化タンタル、五酸化タンタル、インジウムスズ酸化物等の無機基板、金、銅、クロム、チタン、アルムニウム等の金属基板等を挙げることができる。これらのうち、トランジスタ性能が良い点で、ガラス、シリコン、ハイドープシリコンが好ましく、ガラスがより好ましい。
ゲート電極としては、例えば、アルミニウム、金、銀、銅、ハイドープシリコン、スズ酸化物、酸化インジウム、インジウムスズ酸化物、クロム、チタン、タンタル、クロム、グラフェン、カーボンナノチューブ等の無機電極又はドープされた導電性高分子(PEDOT-PSS)等の有機電極等を挙げることができる。これらのうち、導電性が良い点で無機電極が好ましく、金がより好ましい。
絶縁層としては、例えば、酸化シリコン、窒化シリコン、酸化アルミニウム、窒化アルミニウム、酸化チタン、二酸化タンタル、五酸化タンタル、インジウムスズ酸化物、酸化スズ、酸化バナジウム、チタン酸バリウム、チタン酸ビスマス等の無機絶縁層、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリメチルメタクリレート、ポリメチルアクリレート、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、環状ポリオレフィン、ポリイミド、ポリカーボネート、ポリビニルフェノール、ポリビニルアルコール、ポリ(ジイソプロピルフマレート)、ポリ(ジエチルフマレート)、ポリ(ジイソプロピルマレエート)、ポリエーテルスルホン、ポリフェニレンスルフィド、セルローストリアセテート、ポリシクロペンタン、ポリシクロヘキサン-エチレン共重合体、ポリフッ素化シクロベンタン、ポリフッ素化シクロヘキサン、ポリフッ素化シクロヘキサン-エチレン共重合体、パリレンN、パリレンC、パリレンD、パリレンHT、パリレンC-UVF等の有機絶縁層等を挙げることができる。これらのうち、絶縁性が良い点で有機絶縁層が好ましく、パリレンCがさらに好ましい。また、これらの絶縁層表面は、例えば、オクタデシルトリクロロシラン、デシルトリクロロシラン、デシルトリメトキシシラン、オクチルトリクロロシラン、オクタデシルトリメトキシシラン、β-フェネチルトリクロロシラン、β-フェネチルトリメトキシシラン、フェニルトリクロロシラン、フェニルトリメトキシシラン等のシラン類、オクタデシルホスホン酸、デシルホスホン酸、オクチルホスホン酸等のホスホン酸類、ヘキサメチルジシラザン等のアミン類で修飾処理しても良い。これらのうち、本発明の有機トランジスタ素子のキャリア移動度及び電流オン・オフ比が向上し、並びに閾値電圧の低下する点で、オクタデシルトリクロロシラン、オクチルトリクロロシラン、β-フェネチルトリクロロシラン、オクタデシルホスホン酸、オクチルホスホン酸、ヘキサメチルジシラザンが好ましい。
ソース電極及びドレイン電極としては、ゲート電極で例示したものと同様の電極を例示することができる。これらのうち、導電性が良い点で無機電極が好ましく、金がさらに好ましい。また、キャリアの注入効率を上げる為に、これらの電極に表面処理材を用いて表面処理を実施することができる。このような表面処理材としては、例えば、ベンゼンチオール、ペンタフルオロベンゼンチオール等を挙げることができる。
A method for producing an organic transistor device (hereinafter referred to as "organic transistor device of the present invention") containing the fused ring polymer compound of the present invention in its active layer will be described.
The organic transistor element of the present invention can be obtained by forming the organic thin film of the present invention as an insulating layer and an active layer on a substrate, and attaching a source electrode, a drain electrode, and a gate electrode thereto.
FIG. 1 shows the structure of an element included in the organic transistor element of the present invention. Here, (A) is a bottom gate-top contact type, (B) is a bottom gate-bottom contact type, (C) is a top gate-top contact type, and (D) is a top gate-bottom contact type. The transistor element 1 is an active layer, 2 is a substrate, 3 is a gate electrode, 4 is a gate insulating layer, 5 is a source electrode, and 6 is a drain electrode.
Examples of the substrate include polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polymethyl methacrylate, polymethyl acrylate, polyethylene, polypropylene, polystyrene, cyclic polyolefin, polyimide, polycarbonate, polyvinylphenol, polyvinyl alcohol, poly(diisopropyl fumarate), poly(diethyl plastic substrates such as fumarate), poly(diisopropyl maleate), polyether sulfone, polyphenylene sulfide, cellulose triacetate, glass, quartz, aluminum oxide, silicon, hydoped silicon, silicon oxide, tantalum dioxide, tantalum pentoxide, indium tin Examples include inorganic substrates such as oxides, metal substrates such as gold, copper, chromium, titanium, and aluminum. Among these, glass, silicon, and highly doped silicon are preferable, and glass is more preferable in terms of good transistor performance.
As the gate electrode, for example, an inorganic electrode or doped electrode such as aluminum, gold, silver, copper, highly doped silicon, tin oxide, indium oxide, indium tin oxide, chromium, titanium, tantalum, chromium, graphene, carbon nanotube, etc. Examples include organic electrodes such as conductive polymers (PEDOT-PSS). Among these, inorganic electrodes are preferred because of their good conductivity, and gold is more preferred.
Examples of the insulating layer include inorganic materials such as silicon oxide, silicon nitride, aluminum oxide, aluminum nitride, titanium oxide, tantalum dioxide, tantalum pentoxide, indium tin oxide, tin oxide, vanadium oxide, barium titanate, and bismuth titanate. Insulating layer, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polymethyl methacrylate, polymethyl acrylate, polyethylene, polypropylene, polystyrene, cyclic polyolefin, polyimide, polycarbonate, polyvinylphenol, polyvinyl alcohol, poly(diisopropyl fumarate), poly(diethyl fumarate) , poly(diisopropyl maleate), polyether sulfone, polyphenylene sulfide, cellulose triacetate, polycyclopentane, polycyclohexane-ethylene copolymer, polyfluorinated cyclobentane, polyfluorinated cyclohexane, polyfluorinated cyclohexane-ethylene copolymer , Parylene N, Parylene C, Parylene D, Parylene HT, Parylene C-UVF, and the like. Among these, organic insulating layers are preferred because of their good insulation properties, and parylene C is more preferred. In addition, the surface of these insulating layers is, for example, octadecyltrichlorosilane, decyltrichlorosilane, decyltrimethoxysilane, octyltrichlorosilane, octadecyltrimethoxysilane, β-phenethyltrichlorosilane, β-phenethyltrimethoxysilane, phenyltrichlorosilane, It may be modified with silanes such as phenyltrimethoxysilane, phosphonic acids such as octadecylphosphonic acid, decylphosphonic acid, and octylphosphonic acid, and amines such as hexamethyldisilazane. Among these, octadecyltrichlorosilane, octyltrichlorosilane, β-phenethyltrichlorosilane, octadecylphosphonic acid , octylphosphonic acid, and hexamethyldisilazane are preferred.
As the source electrode and the drain electrode, the same electrodes as those exemplified for the gate electrode can be used. Among these, inorganic electrodes are preferred because of their good conductivity, and gold is more preferred. Furthermore, in order to increase carrier injection efficiency, these electrodes can be surface treated using a surface treatment material. Examples of such surface treatment materials include benzenethiol and pentafluorobenzenethiol.
本発明の高分子を活性層に含む有機薄膜太陽電池素子(以下、「本発明の有機太陽電池素子」と称する)の作製方法について説明する。
本発明の有機薄膜太陽電池素子は、本発明の高分子だけで構成されていても良く、本発明の高分子に加えて他の有機太陽電池材料や他の成分を含んでいても良い。また、本発明の高分子のうち一種類以上を含んでいても良い。
上記の有機薄膜太陽電池材料は、電子受容体としての機能を有する化合物(電子受容性化合物)を含むと好ましい。
電子受容性化合物としては、例えは゛、オキサシ゛アソ゛ール誘導体、アントラキノシ゛メタン、及ひ゛その誘導体、ヘ゛ンソ゛キノン及ひ゛その誘導体、ナフトキノン及ひ゛その誘導体、アントラキノン及ひ゛その誘導体、テトラシアノアントラキノシ゛メタン及ひ゛その誘導体、フルオレノン誘導体、シ゛フェニルシ゛シアノエチレン及ひ゛その誘導体、シ゛フェノキノン誘導体、8-ヒト゛ロキシキノリン及ひ゛その誘導体の金属錯体、ホ゜リキノリン及ひ゛その誘導体、ホ゜リキノキサリン及ひ゛その誘導体、ホ゜リフルオレン及ひ゛その誘導体、ペリレン及びその誘導体、フラーレン及びその誘導体、カーボンナノチューブ、2,9-ジメチル-4,7-ジフェニル-1,10-フェナントロリン等のフェナントロリン誘導体が例示でき、フラーレン及ひ゛その誘導体が好ましい。
A method for producing an organic thin film solar cell element (hereinafter referred to as "organic solar cell element of the present invention") containing the polymer of the present invention in the active layer will be described.
The organic thin film solar cell element of the present invention may be composed only of the polymer of the present invention, or may contain other organic solar cell materials or other components in addition to the polymer of the present invention. Moreover, it may contain one or more types of polymers of the present invention.
The organic thin film solar cell material described above preferably contains a compound having a function as an electron acceptor (electron-accepting compound).
Examples of electron-accepting compounds include oxasyl azoyl derivatives, anthraquinosymethane and its derivatives, hensonoquinone and its derivatives, naphthoquinone and its derivatives, anthraquinone and its derivatives, tetracyanoanthraquinosymethane and its derivatives, Fluorenone derivative , Cyphenylcyanoethylene and its derivatives, Cyphenoquinone derivatives, Metal complexes of 8-hydroxyquinoline and its derivatives, Polyquinoline and its derivatives, Polyquinoxaline and its derivatives, Polyfluorene and its derivatives, Perylene and its derivatives, Fullerene and its derivative, carbon Examples include nanotubes and phenanthroline derivatives such as 2,9-dimethyl-4,7-diphenyl-1,10-phenanthroline, with fullerene and its derivatives being preferred.
フラーレンとしては、C60フラーレン、C70フラーレン、C84フラーレン等が例示できる。フラーレン誘導体としては、例えば、フラーレンの炭素原子の一部に、炭素数1~20、好ましくは1~10のアルキル基;エポキシ基;1~2個程度のジオキソラン構造(ジオキソラン基);インドリン基、ベンゾフラン基等の縮環有機基;等の置換基が結合した化合物が例示できる。フラーレン誘導体として具体的には、各種のフラーレンエポキシド、1,3-ジオキソラン-フラーレン誘導体、フェニルC61酪酸メチルエステル(PC61BM)、フェニルC61酪酸ブチルエステル(PCBB)、インデン付加型フラーレン誘導体、シリルメチル付加型フラーレン誘導体、フェニルメチル付加型フラーレン誘導体、インドリノ-フラーレン誘導体、ベンゾフラノ-フラーレン誘導体等が例示できる。n型半導体材料として他には、例えば、ActivInkN2200(Polyera製)等が例示できる。
電子受容体としての機能を有する無機化合物としては、n型特性の無機半導体化合物を例示することができ、具体的には、n-Si、GaAs、CdS、PbS、CdSe、InP、Nb2O5、WO3、Fe2O3等のドーピング半導体、及び化合物半導体、また、二酸化チタン(TiO2)、一酸化チタン(TiO)、三酸化二チタン(Ti2O3)、等の酸化チタン、酸化亜鉛(ZnO)、酸化スズ(SnO2)、酸化モリブデン(MoO3)等の導電性酸化物が挙げられ、これらのうち一種類以上の組み合わせを用いても良い。
本発明の有機薄膜太陽電池素子は、後述する湿式成膜法等の塗布法によって有機太陽電池の層を形成することができる。
本発明の有機薄膜太陽電池素子のセル構造は、一対の電極の間に上記活性層を含有する構造であれば 特に限定されるものではないが、例えば、下記のいずれかの構成としてもよい。「p層」、「p材料」とは、本発明の高分子を含む層又は材料であり、「n層」、「n材料」とは、電子受容性化合物を含む層、又は材料である。(1)下部電極/p層/n層/上部電極(2)下部電極/p層/p材料とn材料の混合層/n層/上部電極(3)下部電極/p材料とn材料の混合層/上部電極上記(1)、(2)の各構成において、p層とn層を置換してもよい。
また、上記(1)~(3)の各構成において、必要に応じて電極と有機層の間にバッファー層を設けてもよい。例えば具体例として、上記構成(1)にバッファー層を設けた場合、下記構成を有する構造が例示できる。
(A)下部電極/バッファー層/p層/n層/上部電極(B)下部電極/p層/n層/バッファー層/上部電極(C)下部電極/バッファー層/p層/n層/バッファー層/上部電極また、上記構成(3)にバッファー層を設けた場合て゛は、(D)下部電極/バッファー層/p材料とn材料の混合層/上部電極(E)下部電極/p材料とn材料の混合層/バッファー層/上部電極(F)下部電極/バッファー層/p材料とn材料の混合層/バッファー層/上部電極とする構成等が例示できる。
Examples of fullerene include C 60 fullerene, C 70 fullerene, and C 84 fullerene. Examples of fullerene derivatives include, for example, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, preferably 1 to 10 carbon atoms; an epoxy group; a dioxolane structure (dioxolane group) having about 1 to 2 carbon atoms; an indoline group; Examples include compounds to which a substituent such as a condensed organic group such as a benzofuran group is bonded. Specifically, fullerene derivatives include various fullerene epoxides, 1,3-dioxolane-fullerene derivatives, phenyl C 61 butyric acid methyl ester (PC 61 BM), phenyl C 61 butyric acid butyl ester (PCBB), indene-added fullerene derivatives, Examples include silylmethyl addition type fullerene derivatives, phenylmethyl addition type fullerene derivatives, indolino-fullerene derivatives, and benzofurano-fullerene derivatives. Other examples of the n-type semiconductor material include ActivInkN2200 (manufactured by Polyera).
Examples of the inorganic compound having the function as an electron acceptor include inorganic semiconductor compounds with n-type characteristics, and specifically, n-Si, GaAs, CdS, PbS, CdSe, InP, Nb 2 O 5 , WO 3 , Fe 2 O 3 and other doped semiconductors, compound semiconductors, titanium oxides such as titanium dioxide (TiO 2 ), titanium monoxide (TiO), dititanium trioxide (Ti 2 O 3 ), etc. Examples include conductive oxides such as zinc (ZnO), tin oxide (SnO 2 ), and molybdenum oxide (MoO 3 ), and a combination of one or more of these may be used.
In the organic thin film solar cell element of the present invention, an organic solar cell layer can be formed by a coating method such as a wet film forming method described below.
The cell structure of the organic thin film solar cell element of the present invention is not particularly limited as long as it contains the active layer between a pair of electrodes, but may have any of the following structures, for example. "P-layer" and "p-material" are layers or materials containing the polymer of the present invention, and "n-layers" and "n-materials" are layers or materials containing electron-accepting compounds. (1) Lower electrode/p layer/n layer/upper electrode (2) Lower electrode/p layer/mixed layer of p and n materials/n layer/upper electrode (3) Lower electrode/mixture of p and n materials Layer/Top Electrode In each of the configurations (1) and (2) above, the p layer and the n layer may be replaced.
Furthermore, in each of the configurations (1) to (3) above, a buffer layer may be provided between the electrode and the organic layer if necessary. For example, as a specific example, when a buffer layer is provided in the above structure (1), a structure having the following structure can be exemplified.
(A) Lower electrode/buffer layer/p layer/n layer/upper electrode (B) Lower electrode/p layer/n layer/buffer layer/upper electrode (C) Lower electrode/buffer layer/p layer/n layer/buffer Layer/upper electrode Also, if a buffer layer is provided in the above structure (3), (D) lower electrode/buffer layer/mixed layer of p material and n material/upper electrode (E) lower electrode/p material and n Examples include a configuration of a mixed layer of materials/buffer layer/upper electrode (F) lower electrode/buffer layer/mixed layer of p material and n material/buffer layer/upper electrode.
以下、各構成部材について簡単に説明する。
本発明の有機薄膜太陽電池素子の活性層の膜厚は、2~1000nmが好ましく、5~500nmがより好ましく、20~300nmがさらに好ましい。
活性層には、本発明の高分子、及び上記電子受容性化合物以外に、任意の添加物を含んでも良い。添加物としては、1,8-ジオードオクタン(DIO)、1-クロロナフタレン、1,10-ジヨードデカン、1,4-ジヨードブタン、1,6-ジヨードヘキサン、1,8-オクタンジチオール等のハロゲン含有脂肪族炭化水素、ハロゲン含有芳香族炭化水素等を例示することができる。
添加剤の配合量は、活性層形成用溶液中、0.0001~20重量%であることが好ましく、0.01~10重量%であることがより好ましい。
活性層の形成は、スピンコーティング、ディップコート、キャスティング、ロールコート、フローコーティング、インクジェット等の湿式成膜法を適用することができる。この際、後述する任意の溶媒を使用することができる。
本発明の有機薄膜太陽電池素子は、通常、基板上に形成される。該基板は、機械的、熱的強度を有し、透明性を有するものが好ましい。例えば、ガラス基板、及び透明性樹脂フィルムがある。透明性樹脂フィルムとしては、ポリエチレン、エチレン-酢酸ビニル共重合体、エチレン-ビニルアルコール共重合体、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリメチルメタアクリレート、ポリ塩化ビニル、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール、ナイロン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリサルホン、ポリエーテルサルフォン、テトラフルオロエチレン-パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体、ポリビニルフルオライド、テトラフルオロエチレン-エチレン共重合体、テトラフルオロエチレン-ヘキサフルオロプロピレン共重合体、ポリクロロトリフルオロエチレン、ポリビニリデンフルオライド、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリウレタン、ポリイミド、ポリエーテルイミド、ポリイミド、ポリプロピレン等が例示することができる。
不透明な基板の場合には、反対の電極(即ち、基板から遠い方の電極)か゛透明電極、又は半透明電極であることが好ましい。
下部電極、上部電極の材料は特に制限はなく、金属、又は導電性高分子等を用いることができる。用いることができる金属としてはリチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム、セシウム、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウム、アルミニウム、スカンジウム、バナジウム、亜鉛、イットリウム、インジウム、セリウム、サマリウム、ユーロピウム、テルビウム、イッテルビウム等の金属、及ビそれらの金属のうちの2つ以上の金属の合金、又はそれらの金属のうちの一つ以上の金属と、金、銀、白金、銅、マンガン、チタン、コバルト、ニッケル、タングステン、錫のうちの一つ以上の金属との合金、グラファイト、グラファイト層間化合物等が用いられる。合金の例としては、マグネシウム-銀合金、マグネシウム-インジウム合金、マグネシウム-アルミニウム合金、インジウム-銀合金、リチウム-アルミニウム合金、リチウム-マグネシウム合金、リチウム-インジウム合金、カルシウム-アルミニウム合金等が例示することができる。導電性高分子としてはPEDOT-PSS等を例示できる。
上記の透明電極又は半透明電極の材料としては、導電性の金属酸化物膜、半透明の金属薄膜等が挙げられる。具体的には、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化スズ、及びそれらの複合体て゛あるインシ゛ウム・スス゛・オキサイト゛(ITO)、インシ゛ウム・亜鉛・オキサイド等からなる導電性材料を用いて作製された膜、NESA(酸化錫)、金、白金、銀、銅が用いられ、ITO、インジウム・亜鉛・オキサイド、酸化スズが好ましい。電極の作製方法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、メッキ法等が挙げられる。また、電極材料として、ポリアニリン、及びその誘導体、ポリチオフェン、及びその誘導体等の有機透明導電膜を用いてもよい。
バッファー層としては、低分子化合物であれば下記に示すNTCDAに代表される芳香族環状酸無水物等が挙げられ、高分子化合物であればポリ(3,4-エチレンジオキシ)チオフェン:ポリスチレンスルホネート(PEDOT:PSS)、ポリアニリン:カンファースルホン酸(PANI:CSA)等に代表される公知の導電性高分子等を例示することができる。
バッファー層には、励起子が電極まで拡散して失活してしまうのを防止する役割を持たせることも可能である。このように励起子阻止層としてバッファー層を挿入することは、高効率化のために有効である。励起子阻止層は陽極側、陰極側のいずれにも挿入することができ、両方同時に挿入することも可能である。この場合、励起子阻止層として好ましい材料としては、例えば有機エレクトロルミネッセンス素子(有機EL素子)用途て゛公知な正孔障壁層用材料又は電子障壁層用材料等が挙げられる。正孔障壁層として好ましい材料は、イオン化ポテンシャルか゛充分に大きい化合物であり、電子障壁層として好ましい材料は、電子親和力が十分に小さい化合物である。具体的には有機EL素子用途で公知な材料であるバソクプロイン(BCP)、バソフェナントロリン(BPhen)等が陰極側の正孔障壁材料として挙げられる。バッファー層には無機半導体化合物を用いてもよく、具体的には、p-Si、n-Si、GaAs、CdS、PbS、CdSe、CdTe、SiC、InP、Nb2O5、WO3、Fe2O3等のドーピング半導体、及び化合物半導体、また、二酸化チタン(TiO2)、一酸化チタン(TiO)、三酸化二チタン(Ti2O3)、等の酸化チタン、酸化亜鉛(ZnO)、酸化スズ(SnO2)、酸化モリブデン(MoO3)等の導電性酸化物が挙げられ、これらのうち一種類以上の組み合わせを用いてもよい。
Each component will be briefly explained below.
The thickness of the active layer of the organic thin film solar cell element of the present invention is preferably 2 to 1000 nm, more preferably 5 to 500 nm, and even more preferably 20 to 300 nm.
The active layer may contain any additives in addition to the polymer of the present invention and the electron-accepting compound described above. Additives include halogen-containing additives such as 1,8-diode octane (DIO), 1-chloronaphthalene, 1,10-diiododecane, 1,4-diiodobutane, 1,6-diiodohexane, and 1,8-octanedithiol. Examples include aliphatic hydrocarbons and halogen-containing aromatic hydrocarbons.
The blending amount of the additive is preferably 0.0001 to 20% by weight, more preferably 0.01 to 10% by weight in the active layer forming solution.
For forming the active layer, wet film forming methods such as spin coating, dip coating, casting, roll coating, flow coating, and inkjet can be applied. At this time, any solvent described below can be used.
The organic thin film solar cell element of the present invention is usually formed on a substrate. The substrate preferably has mechanical and thermal strength and transparency. Examples include glass substrates and transparent resin films. Transparent resin films include polyethylene, ethylene-vinyl acetate copolymer, ethylene-vinyl alcohol copolymer, polypropylene, polystyrene, polymethyl methacrylate, polyvinyl chloride, polyvinyl alcohol, polyvinyl butyral, nylon, polyether ether ketone. , polysulfone, polyethersulfone, tetrafluoroethylene-perfluoroalkyl vinyl ether copolymer, polyvinyl fluoride, tetrafluoroethylene-ethylene copolymer, tetrafluoroethylene-hexafluoropropylene copolymer, polychlorotrifluoroethylene, Examples include polyvinylidene fluoride, polyester, polycarbonate, polyurethane, polyimide, polyetherimide, polyimide, and polypropylene.
In the case of an opaque substrate, the opposite electrode (ie, the electrode further from the substrate), a transparent electrode, or a translucent electrode is preferred.
The materials for the lower electrode and the upper electrode are not particularly limited, and metals, conductive polymers, or the like can be used. Metals that can be used include lithium, sodium, potassium, rubidium, cesium, magnesium, calcium, strontium, barium, aluminum, scandium, vanadium, zinc, yttrium, indium, cerium, samarium, europium, terbium, ytterbium, etc. and alloys of two or more of those metals, or one or more of those metals with gold, silver, platinum, copper, manganese, titanium, cobalt, nickel, tungsten, tin. An alloy with one or more of these metals, graphite, a graphite intercalation compound, etc. are used. Examples of alloys include magnesium-silver alloy, magnesium-indium alloy, magnesium-aluminum alloy, indium-silver alloy, lithium-aluminum alloy, lithium-magnesium alloy, lithium-indium alloy, calcium-aluminum alloy, etc. I can do it. Examples of the conductive polymer include PEDOT-PSS.
Examples of the material for the transparent electrode or semitransparent electrode include a conductive metal oxide film, a semitransparent metal thin film, and the like. Specifically, NESA is a film made using a conductive material made of indium oxide, zinc oxide, tin oxide, a certain indium-tin-oxide (ITO), a composite thereof, indium-zinc-oxide, etc. (tin oxide), gold, platinum, silver, and copper are used, and ITO, indium zinc oxide, and tin oxide are preferred. Examples of methods for producing the electrode include vacuum evaporation, sputtering, ion plating, and plating. Further, as the electrode material, an organic transparent conductive film such as polyaniline and its derivatives, polythiophene and its derivatives, etc. may be used.
Examples of the buffer layer include low-molecular compounds such as aromatic cyclic acid anhydrides represented by NTCDA shown below, and high-molecular compounds such as poly(3,4-ethylenedioxy)thiophene:polystyrene sulfonate. (PEDOT:PSS), polyaniline:camphorsulfonic acid (PANI:CSA), and the like can be exemplified by known conductive polymers.
The buffer layer can also have the role of preventing excitons from diffusing to the electrodes and being deactivated. Inserting a buffer layer as an exciton blocking layer in this way is effective for increasing efficiency. The exciton blocking layer can be inserted on either the anode side or the cathode side, or both at the same time. In this case, preferred materials for the exciton blocking layer include, for example, well-known hole blocking layer materials or electron blocking layer materials for use in organic electroluminescent devices (organic EL devices). Preferred materials for the hole blocking layer are compounds with a sufficiently large ionization potential, and preferred materials for the electron blocking layer are compounds having a sufficiently low electron affinity. Specifically, bathocuproine (BCP), bathophenanthroline (BPhen), etc., which are known materials for use in organic EL devices, can be used as the hole blocking material on the cathode side. An inorganic semiconductor compound may be used for the buffer layer, and specifically, p-Si, n-Si, GaAs, CdS, PbS, CdSe, CdTe, SiC, InP, Nb 2 O 5 , WO 3 , Fe 2 Doped semiconductors such as O 3 and compound semiconductors, titanium oxides such as titanium dioxide (TiO 2 ), titanium monoxide (TiO), dititanium trioxide (Ti 2 O 3 ), zinc oxide (ZnO), and oxides. Examples include conductive oxides such as tin (SnO 2 ) and molybdenum oxide (MoO 3 ), and a combination of one or more of these may be used.
本発明の有機薄膜太陽電池の各層の形成は、真空蒸着、スパッタリング、プラズマ、イオンプレーティング等の乾式成膜法やスピンコーティング、ディップコート、キャスティング、ロールコート、フローコーティング、インクジェット等の湿式成膜法を適用することができる。
各層の膜厚は特に限定されないが、光電変換効率が高い点で、膜厚は1nm~10μmが好ましく、5nm~300nmがより好ましい。
湿式成膜法の場合各層を形成する材料を、適切な溶媒に溶解又は分散させて発光性有機溶液を調製し、薄膜を形成するかが、任意の溶媒を使用できる。例えば、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素、テトラクロロエタン、トリクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、クロロトルエン等のハロゲン系炭化水素系溶媒や、ジブチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、アニソール等のエーテル溶媒、メタノールやエタノール、プロパノール、ブタノール、ペンタノール、ヘキサノール、シクロヘキサノール、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、エチレングリコール等のアルコール溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、ヘキサン、オクタン、テ゛カン、テトラリン等の炭化水素溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸アミル等のエステル溶媒等が例示でき、これらの溶媒は単独で使用しても複数混合して用いても良い。これらのなかで、炭化水素溶媒、又はエーテル溶媒が好ましい。
本発明の有機薄膜太陽電池のいずれの有機化合物層においても、成膜性向上、膜のピンホール防止等のため適切な樹脂や添加剤を使用してもよい。使用の可能な樹脂としては、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリエステル、ポリアミド、ポリウレタン、ポリスルフォン、ポリメチルメタクリレート、ポリメチルアクリレート、セルロース等の絶縁性樹脂、及びそれらの共重合体、ホ゜リ-N-ビニルカルバゾール、ポリシラン等の光導電性樹脂、ポリチオフェン、ポリピロール等の導電性樹脂等を例示することができる。また、添加剤としては、酸化防止剤、紫外線吸収剤、可塑剤等を例示することができる。
本発明の有機薄膜太陽電池素子としては、太陽電池として機能する限り、他の素子構造であってもよい。
Each layer of the organic thin-film solar cell of the present invention can be formed by dry film formation methods such as vacuum evaporation, sputtering, plasma, and ion plating, or by wet film formation methods such as spin coating, dip coating, casting, roll coating, flow coating, and inkjet. law can be applied.
The thickness of each layer is not particularly limited, but from the viewpoint of high photoelectric conversion efficiency, the thickness is preferably 1 nm to 10 μm, more preferably 5 nm to 300 nm.
In the case of the wet film forming method, materials for forming each layer are dissolved or dispersed in an appropriate solvent to prepare a luminescent organic solution and a thin film is formed. Any solvent can be used. For example, halogenated hydrocarbon solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform, carbon tetrachloride, tetrachloroethane, trichloroethane, chlorobenzene, dichlorobenzene, chlorotoluene, ether solvents such as dibutyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, anisole, methanol and ethanol. , alcohol solvents such as propanol, butanol, pentanol, hexanol, cyclohexanol, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, ethylene glycol, hydrocarbon solvents such as benzene, toluene, xylene, ethylbenzene, hexane, octane, tetralin, ethyl acetate, Examples include ester solvents such as butyl acetate and amyl acetate, and these solvents may be used alone or in combination. Among these, hydrocarbon solvents or ether solvents are preferred.
Appropriate resins and additives may be used in any organic compound layer of the organic thin-film solar cell of the present invention to improve film formability, prevent pinholes in the film, and the like. Usable resins include insulating resins such as polystyrene, polycarbonate, polyarylate, polyester, polyamide, polyurethane, polysulfone, polymethyl methacrylate, polymethyl acrylate, cellulose, and their copolymers, Holly-N- Examples include photoconductive resins such as vinyl carbazole and polysilane, and conductive resins such as polythiophene and polypyrrole. Furthermore, examples of additives include antioxidants, ultraviolet absorbers, plasticizers, and the like.
The organic thin film solar cell element of the present invention may have other element structures as long as it functions as a solar cell.
以下、実施例を挙げて、本発明をさらに具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。 EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be explained in more detail with reference to Examples, but the present invention is not limited to the following Examples.
実施例で得られたモノマーは、1H-NMR測定により構造解析を行った。実施例で得られた高分子の分子量と分子量分布はGel Permeation Chro,atography(GPC)測定により見積もった。試薬類は市販品を用いた。
<NMR測定条件>
測定装置:Bruker ASCENDTM ADVANCE III HD(400MHz)
測定溶媒:重クロロホルム(CDCl3)
内部標準物質:テトラメチルシラン(TMS)
<GPC測定条件>
測定装置:東ソー株式会社 高速GPC装置 HLC-8320GPC EcoSEC
カラム:TSKgel SuperMultiporeHZ-H、TSKgel SuperHZ2000
測定溶媒:THF
測定温度:25℃
校正曲線:ポリスチレンスタンダード
<高温GPC測定条件> 測定装置:東ソー株式会社 高温GPC装置 HLC-8321GPC/HT
カラム:TSKgel GMHHR-H(20)HT
測定溶媒:1,2,4-トリクロロベンゼン(TCB)
測定温度:140℃
校正曲線:ポリスチレンスタンダード
<TGA測定条件>
測定装置:SII株式会社 EXSTAR6000 TGA/DTA6200
試料容器:アルミパン
測定雰囲気:窒素
Td3、Td5並びにTd10は3%、5%並びに10%重量減少温度をそれぞれ表す。
<DSC測定条件>
測定装置:SII株式会社 EXSTAR6000 DSC6220
試料容器:アルミパン
測定条件:窒素雰囲気、10℃/min、0~300℃、結果は三回目のHeatingScanを採用。
[参考例1]
The monomers obtained in Examples were structurally analyzed by 1 H-NMR measurement. The molecular weight and molecular weight distribution of the polymers obtained in the examples were estimated by gel permeation chromatography (GPC) measurement. Commercially available reagents were used.
<NMR measurement conditions>
Measuring device: Bruker ASCEND TM ADVANCE III HD (400MHz)
Measurement solvent: deuterated chloroform (CDCl 3 )
Internal standard substance: Tetramethylsilane (TMS)
<GPC measurement conditions>
Measuring device: Tosoh Corporation High-speed GPC device HLC-8320GPC EcoSEC
Column: TSKgel SuperMultiporeHZ-H, TSKgel SuperHZ2000
Measurement solvent: THF
Measurement temperature: 25℃
Calibration curve: Polystyrene standard <High temperature GPC measurement conditions> Measuring device: Tosoh Corporation High temperature GPC device HLC-8321GPC/HT
Column: TSKgel GMH HR -H(20)HT
Measurement solvent: 1,2,4-trichlorobenzene (TCB)
Measurement temperature: 140℃
Calibration curve: Polystyrene standard <TGA measurement conditions>
Measuring device: SII Corporation EXSTAR6000 TGA/DTA6200
Sample container: Aluminum pan Measurement atmosphere: Nitrogen T d3 , T d5 and T d10 represent 3%, 5% and 10% weight loss temperatures, respectively.
<DSC measurement conditions>
Measuring device: SII Corporation EXSTAR6000 DSC6220
Sample container: Aluminum pan Measurement conditions: Nitrogen atmosphere, 10°C/min, 0 to 300°C, third heating scan was used for the results.
[Reference example 1]
2’,5’-ジブロモ-4,4’’-ビス[(2-デシルテトラデシル)オキシ]-p-ターフェニル(824mg,754μmol)、チエノ[3,2-b]チオフェン-2-ボロン酸(505mg,1.90mmol)を1,2-ジメトキシエタン(18mL)に溶かして、2Mの炭酸カリウム水溶液(7.5mL,15mmol)を加えて凍結脱気を行った。そして、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)(87.3mg,75.6μmol)を加えて凍結脱気を行った後に、95度で62時間撹拌した。室温まで冷却した後に飽和塩化アンモニウム水溶液を加えてクエンチした後にジエチルエーテルで抽出を行った。有機層を飽和塩化アンモニウム水溶液、水、飽和食塩水で洗浄した後に、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた後にろ過を行い、減圧下でろ液の溶媒を留去した。得られた粗生成物をカラムクロマトグラフィー(シリカゲル;ヘキサン:クロロホルム=10:1)で精製を行い、淡黄色液体の2’,5’-ビス(チエノ[3,2-b]チオフェン-2-イル)-4,4’’-ビス(2-デシルテトラデシルオキシ)-p-ターフェニルを得た(326mg,36%)。
1H-NMR(CDCl3,400MHz)δ7.59(s,2H),7.31-7.27(m,8H),7.16(d,J=4.7Hz,4H),6.98(s,2H),6.87(d,J=8.7Hz,4H),3.84(d,J=5.7,4H),1.83-1.75(m,2H),1.47-1.20(m,80H),0.89-0.86(m,12H)。
[参考例2]
2',5'-dibromo-4,4''-bis[(2-decyltetradecyl)oxy]-p-terphenyl (824 mg, 754 μmol), thieno[3,2-b]thiophene-2-boronic acid (505 mg, 1.90 mmol) was dissolved in 1,2-dimethoxyethane (18 mL), and a 2M aqueous potassium carbonate solution (7.5 mL, 15 mmol) was added to perform freeze deaeration. Then, after adding tetrakis(triphenylphosphine)palladium(0) (87.3 mg, 75.6 μmol) and performing freeze deaeration, the mixture was stirred at 95 degrees for 62 hours. After cooling to room temperature, saturated ammonium chloride aqueous solution was added to quench the mixture, followed by extraction with diethyl ether. The organic layer was washed with a saturated aqueous ammonium chloride solution, water, and saturated brine, dried over anhydrous magnesium sulfate, filtered, and the solvent of the filtrate was distilled off under reduced pressure. The obtained crude product was purified by column chromatography (silica gel; hexane:chloroform = 10:1) to obtain 2',5'-bis(thieno[3,2-b]thiophene-2- yl)-4,4''-bis(2-decyltetradecyloxy)-p-terphenyl (326 mg, 36%) was obtained.
1 H-NMR (CDCl 3 , 400 MHz) δ7.59 (s, 2H), 7.31-7.27 (m, 8H), 7.16 (d, J = 4.7Hz, 4H), 6.98 (s, 2H), 6.87 (d, J=8.7Hz, 4H), 3.84 (d, J=5.7, 4H), 1.83-1.75 (m, 2H), 1 .47-1.20 (m, 80H), 0.89-0.86 (m, 12H).
[Reference example 2]
2’,5’-ビス(2-チエノ[3,2-b]チオフェン)-4,4’’-ビス(2-デシルテトラデシルオキシ)-p-ターフェニル(592mg,489μmol)をテトラヒドロフラン(10mL)に溶かして0度に冷却した後、N-ブロモコハク酸イミド(261mg,1.46mmol)を加えて、室温で3時間撹拌した。水で反応溶液をクエンチした後、クロロホルムで抽出を行い、有機層を水と飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥させた後にろ過を行い、減圧下でろ液の溶媒を留去した。得られた粗生成物をカラムクロマトグラフィー(シリカゲル;ヘキサン:クロロホルム=10:1)で精製を行い、淡黄色固体の2’,5’-ビス(2-ブロモチエノ[3,2-b]チオフェン-5-イル)-4,4’’-ビス(2-デシルテトラデシルオキシ)-p-ターフェニルを得た(660mg,>99%)。
1H-NMR(CDCl3,400MHz)δ7.55(s,2H),7.24(d,J=8.7Hz,4H),7.16(s,2H),6.88-6.86(m,6H),3.84(d,J=5.7Hz,4H),1.81-1.75(m,2H),1.48-1.21(m,80H),0.89-0.86(m,12H)。
[参考例3]
2',5'-bis(2-thieno[3,2-b]thiophene)-4,4''-bis(2-decyltetradecyloxy)-p-terphenyl (592 mg, 489 μmol) was added to tetrahydrofuran (10 mL). ) and cooled to 0 degrees, N-bromosuccinimide (261 mg, 1.46 mmol) was added and stirred at room temperature for 3 hours. After quenching the reaction solution with water, extraction was performed with chloroform, and the organic layer was washed with water and saturated brine. After drying over anhydrous magnesium sulfate, filtration was performed, and the solvent of the filtrate was distilled off under reduced pressure. The obtained crude product was purified by column chromatography (silica gel; hexane:chloroform = 10:1) to obtain a pale yellow solid of 2',5'-bis(2-bromothieno[3,2-b]thiophene- 5-yl)-4,4''-bis(2-decyltetradecyloxy)-p-terphenyl was obtained (660 mg, >99%).
1 H-NMR (CDCl 3 , 400 MHz) δ7.55 (s, 2H), 7.24 (d, J=8.7Hz, 4H), 7.16 (s, 2H), 6.88-6.86 (m, 6H), 3.84 (d, J=5.7Hz, 4H), 1.81-1.75 (m, 2H), 1.48-1.21 (m, 80H), 0.89 -0.86 (m, 12H).
[Reference example 3]
1,4-ジブロモ-2,5-ジヨードベンゼン(1.49g,3.05mmol)とトリエチルアミン(32mL)の混合物を30分間アルゴンバブリングした。この混合溶液に、アルゴン気流下で1-ヘンイコシン(2.23g,7.63mmol)とヨウ化銅(I)(23.3mg,122μmol)、ならびに塩化ビス(ジフェニルホスフィン)パラジウム(42.9mg,61.1μmol)を加えて62時間還流した。得られた混合物を室温まで冷やした後に飽和塩化アンモニウム水溶液を加えてクロロホルムで抽出した。集めた有機層を水と飽和食塩水で洗浄したのちに無水硫酸マグネシウムで乾燥してろ別し、減圧下で溶媒を留去した。得られた残渣を再結晶(ヘキサン)で精製し、黄色固体の1,4-ジブロモ-2,5-ビス(1-ヘンイコシニル)ベンゼンを得た(1.77g,71%)。
1H-NMR(CDCl3,400MHz)δ7.58(s,2H),2.45(t,J=7.0Hz,4H),1.62(pentet,J=7.3Hz,4H),1.48-1.43(m,4H),1.35-1.25(m,60H),0.88(t,J=6.8Hz,6H)。
[参考例4]
A mixture of 1,4-dibromo-2,5-diiodobenzene (1.49 g, 3.05 mmol) and triethylamine (32 mL) was bubbled with argon for 30 minutes. 1-henicosine (2.23 g, 7.63 mmol), copper(I) iodide (23.3 mg, 122 μmol), and bis(diphenylphosphine) palladium chloride (42.9 mg, 61 μmol) were added to this mixed solution under an argon stream. .1 μmol) was added and refluxed for 62 hours. After the resulting mixture was cooled to room temperature, a saturated aqueous ammonium chloride solution was added and extracted with chloroform. The collected organic layer was washed with water and saturated brine, dried over anhydrous magnesium sulfate, filtered, and the solvent was distilled off under reduced pressure. The obtained residue was purified by recrystallization (hexane) to obtain 1,4-dibromo-2,5-bis(1-henicosinyl)benzene as a yellow solid (1.77 g, 71%).
1 H-NMR (CDCl 3 , 400 MHz) δ7.58 (s, 2H), 2.45 (t, J=7.0Hz, 4H), 1.62 (pentet, J=7.3Hz, 4H), 1 .48-1.43 (m, 4H), 1.35-1.25 (m, 60H), 0.88 (t, J=6.8Hz, 6H).
[Reference example 4]
1,4-ジブロモ-2,5-ビス(1-ヘンイコシニル)ベンゼン(1.77g,2.17mmol)とチエノ[3,2-b]チオフェン-2-ボロン酸(0.997g,5.42mmol)、1,2-ジメトキシエタン(54mL)、ならびに2M炭酸カリウム水溶液(22mL,44mmol)の混合物を30分間アルゴンバブリングした。この混合溶液に、アルゴン気流下でテトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0.250g,0.217mmol)を加えて61時間還流した。得られた混合物を室温まで冷やした後に飽和塩化アンモニウム水溶液を加えてクロロホルムで抽出した。集めた有機層を水と飽和食塩水で洗浄した後に無水硫酸マグネシウムで乾燥してろ別し、減圧下で溶媒を留去した。得られた残渣を再結晶(ヘキサン)で精製し、黄色固体の2,5-ビス(1-ヘンイコシニル)-1,4-ビス(チエノ[3,2-b]チオフェン-2-イル)ベンゼンを得た(1.06g,52%)。
1H-NMR(CDCl3,400MHz)δ7.87(d,J=0.8Hz,2H),7.70(s,2H),7.39(d,J=5.2Hz,2H),7.27(dd,J=5.2Hz,0.8Hz,2H),2.47(t,J=7.0Hz,4H),1.63(pentet,J=7.3Hz,4H),1.43(pentet,J=7.4Hz,4H),1.32-1.25(m,60H),0.88(t,J=6.8Hz,6H)。
[参考例5]
1,4-dibromo-2,5-bis(1-henicosynyl)benzene (1.77 g, 2.17 mmol) and thieno[3,2-b]thiophene-2-boronic acid (0.997 g, 5.42 mmol) , 1,2-dimethoxyethane (54 mL), and a 2M aqueous potassium carbonate solution (22 mL, 44 mmol) was bubbled with argon for 30 minutes. Tetrakis(triphenylphosphine)palladium (0.250 g, 0.217 mmol) was added to this mixed solution under an argon stream, and the mixture was refluxed for 61 hours. After the resulting mixture was cooled to room temperature, a saturated aqueous ammonium chloride solution was added and extracted with chloroform. The collected organic layer was washed with water and saturated brine, dried over anhydrous magnesium sulfate, filtered, and the solvent was distilled off under reduced pressure. The obtained residue was purified by recrystallization (hexane) to obtain 2,5-bis(1-henicosinyl)-1,4-bis(thieno[3,2-b]thiophen-2-yl)benzene as a yellow solid. (1.06g, 52%).
1 H-NMR (CDCl 3 , 400 MHz) δ 7.87 (d, J = 0.8 Hz, 2H), 7.70 (s, 2H), 7.39 (d, J = 5.2 Hz, 2H), 7 .27 (dd, J=5.2Hz, 0.8Hz, 2H), 2.47 (t, J=7.0Hz, 4H), 1.63 (pentet, J=7.3Hz, 4H), 1. 43 (pentet, J=7.4Hz, 4H), 1.32-1.25 (m, 60H), 0.88 (t, J=6.8Hz, 6H).
[Reference example 5]
1,4-ジブロモ-2,5-ジヨードベンゼン(3.37g,6.92mmol)とトリエチルアミン(140mL)の混合物を30分間アルゴンバブリングした。この混合溶液に、アルゴン気流下で3-デシル-1-ペンタデシン(5.52g,15.2mmol)とヨウ化銅(I)(52.7mg,0.277mmol)、ならびに塩化ビス(ジフェニルホスフィン)パラジウム(97.1mg,0.138mmol)を加えて61時間還流した。得られた混合物を室温まで冷やしたのちに飽和塩化アンモニウム水溶液を加えてヘキサンで抽出した。集めた有機層を水と飽和食塩水で洗浄したのちに無水硫酸マグネシウムで乾燥してろ別し、減圧下で溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン)で精製し、黄色固体の1,4-ジブロモ-2,5-ビス(3-デシルペンタデシニル)ベンゼンを得た(5.55g,84%)。
1H-NMR(CDCl3,400MHz)δ7.57(s,2H),2.44(d,J=5.6Hz,4H),1.64-1.58(m,2H),1.43-1.25(m,80H),0.88(t,J=6.8Hz,12H)。
[参考例6]
A mixture of 1,4-dibromo-2,5-diiodobenzene (3.37 g, 6.92 mmol) and triethylamine (140 mL) was bubbled with argon for 30 minutes. To this mixed solution, 3-decyl-1-pentadecine (5.52 g, 15.2 mmol), copper(I) iodide (52.7 mg, 0.277 mmol), and bis(diphenylphosphine) palladium chloride were added under an argon stream. (97.1 mg, 0.138 mmol) was added and refluxed for 61 hours. After the resulting mixture was cooled to room temperature, a saturated aqueous ammonium chloride solution was added and extracted with hexane. The collected organic layer was washed with water and saturated brine, dried over anhydrous magnesium sulfate, filtered, and the solvent was distilled off under reduced pressure. The obtained residue was purified by silica gel column chromatography (hexane) to obtain 1,4-dibromo-2,5-bis(3-decylpentadecynyl)benzene as a yellow solid (5.55 g, 84%). .
1 H-NMR (CDCl 3 , 400 MHz) δ7.57 (s, 2H), 2.44 (d, J=5.6Hz, 4H), 1.64-1.58 (m, 2H), 1.43 -1.25 (m, 80H), 0.88 (t, J=6.8Hz, 12H).
[Reference example 6]
1,4-ジブロモ-2,5-ビス(3-デシルペンタデシニル)ベンゼン(2.39g,2.50mmol)とチエノ[3,2-b]チオフェン-2-ボロン酸(1.15g,6.25mmol)、1,2-ジメトキシエタン(63mL)、ならびに2M炭酸カリウム水溶液(25mL,50mmol)の混合物を30分間アルゴンバブリングした。この混合溶液に、アルゴン気流下でPd(PPh3)4(0.289g,0.250mmol)を加えて64時間還流した。得られた混合物を室温まで冷やした後に飽和塩化アンモニウム水溶液を加えてヘキサンで抽出した。集めた有機層を水と飽和食塩水で洗浄したのちに無水硫酸マグネシウムで乾燥してろ別し、減圧下で溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン)で精製し、黄色固体の2,5-ビス(3
-デシルペンタデシニル)-1,4-ビス(チエノ[3,2-b]チオフェン-2-イル)ベンゼンを得た(1.13g,42%)。
1H-NMR(CDCl3,400MHz)δ7.85(d,J=0.4Hz,2H),7.69(s,2H),7.38(d,J=5.2Hz,2H),7.26(dd,J=5.2Hz,0.4Hz,2H),2.45(d,J=6.0Hz,4H),1.63-1.57(m,2H),1.40-1.24(m,80H),0.89-0.85(m,12H)。
[参考例7]
1,4-dibromo-2,5-bis(3-decylpentadecynyl)benzene (2.39 g, 2.50 mmol) and thieno[3,2-b]thiophene-2-boronic acid (1.15 g, 6 Argon was bubbled through a mixture of 25 mmol), 1,2-dimethoxyethane (63 mL), and a 2M aqueous potassium carbonate solution (25 mL, 50 mmol) for 30 minutes. Pd(PPh 3 ) 4 (0.289 g, 0.250 mmol) was added to this mixed solution under an argon stream, and the mixture was refluxed for 64 hours. After the resulting mixture was cooled to room temperature, a saturated aqueous ammonium chloride solution was added and extracted with hexane. The collected organic layer was washed with water and saturated brine, dried over anhydrous magnesium sulfate, filtered, and the solvent was distilled off under reduced pressure. The obtained residue was purified by silica gel column chromatography (hexane) to obtain a yellow solid of 2,5-bis(3
-decylpentadecynyl)-1,4-bis(thieno[3,2-b]thiophen-2-yl)benzene (1.13 g, 42%) was obtained.
1 H-NMR (CDCl 3 , 400 MHz) δ 7.85 (d, J = 0.4 Hz, 2H), 7.69 (s, 2H), 7.38 (d, J = 5.2 Hz, 2H), 7 .26 (dd, J=5.2Hz, 0.4Hz, 2H), 2.45 (d, J=6.0Hz, 4H), 1.63-1.57 (m, 2H), 1.40- 1.24 (m, 80H), 0.89-0.85 (m, 12H).
[Reference example 7]
3,6-ジブロモチエノ[3,2-b]チオフェン(0.698g,2.34mmol)と3-デシル-1-ペンタデシン(1.87g,5.16mmol)ならびにトリエチルアミン(23mL)の混合物を30分間アルゴンバブリングした。この混合溶液に、アルゴン気流下でヨウ化銅(I)(17.9mg,93.7μmol)ならびにテトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(54.2mg,46.9μmol)を加えて65.5時間還流した。得られた混合物を室温まで冷やしたのちに飽和塩化アンモニウム水溶液を加えてクロロホルムで抽出した。集めた有機層を飽和塩化アンモニウム、水、ならびに飽和食塩水で洗浄したのちに無水硫酸マグネシウムで乾燥してろ別し、減圧下で溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン)で精製したのちに、さらに再結晶(アセトン)で精製することで白色固体の3,6-ビス(3-デシルペンタデシニル)チエノ[3,2-b]チオフェンを得た(1.54g,76%)。
1H-NMR(CDCl3,400MHz)δ7.36(s,2H),2.43(d,J=5.6Hz,4H),1.64-1.58(m,2H),1.46-1.25(m,80H),0.88(t,J=6.6Hz,12H)。
[参考例8]
A mixture of 3,6-dibromothieno[3,2-b]thiophene (0.698 g, 2.34 mmol), 3-decyl-1-pentadecine (1.87 g, 5.16 mmol) and triethylamine (23 mL) was heated under argon for 30 minutes. It bubbled. Copper(I) iodide (17.9 mg, 93.7 μmol) and tetrakis(triphenylphosphine)palladium (54.2 mg, 46.9 μmol) were added to this mixed solution under an argon stream, and the mixture was refluxed for 65.5 hours. . After the resulting mixture was cooled to room temperature, a saturated aqueous ammonium chloride solution was added and extracted with chloroform. The collected organic layer was washed with saturated ammonium chloride, water, and saturated brine, dried over anhydrous magnesium sulfate, filtered, and the solvent was distilled off under reduced pressure. The resulting residue was purified by silica gel column chromatography (hexane) and then further purified by recrystallization (acetone) to obtain a white solid, 3,6-bis(3-decylpentadecynyl)thieno[3,2 -b]thiophene was obtained (1.54 g, 76%).
1 H-NMR (CDCl 3 , 400 MHz) δ7.36 (s, 2H), 2.43 (d, J=5.6Hz, 4H), 1.64-1.58 (m, 2H), 1.46 -1.25 (m, 80H), 0.88 (t, J=6.6Hz, 12H).
[Reference example 8]
3,6-ビス(3-デシルペンタデシニル)チエノ[3,2-b]チオフェン(1.54g,1.79mmol)とTHF(36mL)の混合物に、0℃でn-ブチルリチウムの1.6Mヘキサン溶液(2.5mL,3.9mmol)を加え、3時間撹拌した。その後、1,2-ジブロモ-1,1,2,2-テトラフルオロエタン(0.63mL,5.26mmol)を加え、1.5時間撹拌した。反応終了後、水を加えてヘキサンで抽出した。集めた有機層を水と飽和食塩水で洗浄したのちに無水硫酸マグネシウムで乾燥してろ別し、減圧下で溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン)で精製し、黄色固体の2,5-ジブロモ-3,6-ビス(3-デシルペンタデシニル)チエノ[3,2-b]チオフェンを得た(1.34g,74%)。
1H-NMR(CDCl3,400MHz)δ2.43(d,J=5.2Hz,4H),1.66-1.58(m,2H),1.43-1.25(m,80H),0.88(t,J=6.6Hz,12H)。
[参考例9]
To a mixture of 3,6-bis(3-decylpentadecynyl)thieno[3,2-b]thiophene (1.54 g, 1.79 mmol) and THF (36 mL) was added 1.5 g of n-butyllithium at 0°C. A 6M hexane solution (2.5 mL, 3.9 mmol) was added and stirred for 3 hours. Then, 1,2-dibromo-1,1,2,2-tetrafluoroethane (0.63 mL, 5.26 mmol) was added and stirred for 1.5 hours. After the reaction was completed, water was added and extracted with hexane. The collected organic layer was washed with water and saturated brine, dried over anhydrous magnesium sulfate, filtered, and the solvent was distilled off under reduced pressure. The obtained residue was purified by silica gel column chromatography (hexane) to obtain 2,5-dibromo-3,6-bis(3-decylpentadecynyl)thieno[3,2-b]thiophene as a yellow solid. (1.34g, 74%).
1H -NMR (CDCl 3 , 400MHz) δ2.43 (d, J=5.2Hz, 4H), 1.66-1.58 (m, 2H), 1.43-1.25 (m, 80H) , 0.88 (t, J=6.6Hz, 12H).
[Reference example 9]
2,5-ジブロモ-3,6-ビス(3-デシルペンタデシニル)チエノ[3,2-b]チオフェン(0.306g,0.300mmol)とチエノ[3,2-b]チオフェン-2-ボロン酸(0.138g,0.750mmol)、1,2-ジメトキシエタン(7.5mL)、ならびに2M炭酸カリウム水溶液(3.0mL,6.0mmol)の混合物を30分間アルゴンバブリングした。この混合溶液に、アルゴン気流下でテトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(34.7mg,30.0μmol)を加えて67.5時間還流した。得られた混合物を室温まで冷やした後に水を加えてクロロホルムで抽出した。集めた有機層を水と飽和食塩水で洗浄したのちに無水硫酸マグネシウムで乾燥してろ別し、減圧下で溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン)で精製し、黄色固体の2,5-ビス(チエノ[3,2-b]チエニル)-3,6-ビス(3-デシルペンタデシニル)チエノ[3,2-b]チオフェンを得た(0.092g,28%)。
1H-NMR(CDCl3,400MHz)δ7.71(d,J=0.4Hz,2H),7.39(d,J=5.2Hz,2H),7.23(dd,J=5.2Hz,0.4Hz,2H),2.58(d,J=5.6Hz,4H),1.74-1.66(m,2H),1.48-1.24(m,80H),0.88-0.84(m,12H)。
[参考例10]
2,5-dibromo-3,6-bis(3-decylpentadecynyl)thieno[3,2-b]thiophene (0.306 g, 0.300 mmol) and thieno[3,2-b]thiophene-2- A mixture of boronic acid (0.138 g, 0.750 mmol), 1,2-dimethoxyethane (7.5 mL), and 2M aqueous potassium carbonate solution (3.0 mL, 6.0 mmol) was bubbled with argon for 30 minutes. Tetrakis(triphenylphosphine)palladium (34.7 mg, 30.0 μmol) was added to this mixed solution under an argon stream, and the mixture was refluxed for 67.5 hours. After the resulting mixture was cooled to room temperature, water was added and extracted with chloroform. The collected organic layer was washed with water and saturated brine, dried over anhydrous magnesium sulfate, filtered, and the solvent was distilled off under reduced pressure. The obtained residue was purified by silica gel column chromatography (hexane) to obtain a yellow solid of 2,5-bis(thieno[3,2-b]thienyl)-3,6-bis(3-decylpentadecynyl)thieno [3,2-b]thiophene was obtained (0.092 g, 28%).
1 H-NMR (CDCl 3 , 400 MHz) δ7.71 (d, J=0.4 Hz, 2H), 7.39 (d, J=5.2 Hz, 2H), 7.23 (dd, J=5. 2Hz, 0.4Hz, 2H), 2.58 (d, J=5.6Hz, 4H), 1.74-1.66 (m, 2H), 1.48-1.24 (m, 80H), 0.88-0.84 (m, 12H).
[Reference example 10]
2,5-ジブロモ-4,4’’-ビス(2-デシルテトラデシル)-p-ターフェニル(0.452g,0.426mmol)とチエノ[3,2-b]チオフェン-2-ボロン酸(0.196g,1.06mmol)、トリ(o-トリル)ホスフィン(19.4mg,63.9μmol)、1滴のAliquat336、トルエン(11mL)、ならびに1M炭酸ナトリウム水溶液(2.1mL,2.1mmol)の混合物を30分間アルゴンバブリングした。この混合溶液に、アルゴン気流下でPd2(dba)3・CHCl3(22.0mg,21.3μmol)を加えて67時間還流した。得られた混合物を室温まで冷やしたのちに水を加えてジエチルエーテルで抽出した。集めた有機層を水と飽和食塩水で洗浄したのちに無水硫酸マグネシウムで乾燥してろ別し、減圧下で溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン→クロロホルム/ヘキサン=1/20)で精製し、淡黄色固体の2’,5’-ビス(チエノ[3,2-b]チエニル)-4,4’’-ビス(2-デシルテトラデシル)-p-ターフェニルを得た(0.188g,37%)。
1H-NMR(CDCl3,400MHz)δ7.63(s,2H),7.28-7.26(m,6H),7.14-7.10(m,6H),6.91(d,J=0.4Hz,2H),2.55(d,J=8.0Hz,4H),1.66-1.60(m,2H),1.33-1.26(m,80H),0.87(t,J=6.8Hz,12H).
[参考例11]
2,5-dibromo-4,4''-bis(2-decyltetradecyl)-p-terphenyl (0.452 g, 0.426 mmol) and thieno[3,2-b]thiophene-2-boronic acid ( 0.196 g, 1.06 mmol), tri(o-tolyl)phosphine (19.4 mg, 63.9 μmol), 1 drop of Aliquat 336, toluene (11 mL), and 1M aqueous sodium carbonate solution (2.1 mL, 2.1 mmol) Argon was bubbled through the mixture for 30 minutes. Pd 2 (dba) 3 .CHCl 3 (22.0 mg, 21.3 μmol) was added to this mixed solution under an argon stream, and the mixture was refluxed for 67 hours. After the resulting mixture was cooled to room temperature, water was added and extracted with diethyl ether. The collected organic layer was washed with water and saturated brine, dried over anhydrous magnesium sulfate, filtered, and the solvent was distilled off under reduced pressure. The obtained residue was purified by silica gel column chromatography (hexane → chloroform/hexane = 1/20) to obtain 2',5'-bis(thieno[3,2-b]thienyl)-4,4 as a pale yellow solid. ''-bis(2-decyltetradecyl)-p-terphenyl was obtained (0.188 g, 37%).
1 H-NMR (CDCl 3 , 400 MHz) δ 7.63 (s, 2H), 7.28-7.26 (m, 6H), 7.14-7.10 (m, 6H), 6.91 (d , J=0.4Hz, 2H), 2.55 (d, J=8.0Hz, 4H), 1.66-1.60 (m, 2H), 1.33-1.26 (m, 80H) , 0.87 (t, J=6.8Hz, 12H).
[Reference example 11]
2’,5’-ビス(チエノ[3,2-b]チエニル)-4,4’’-ビス(2-デシルテトラデシル)-p-ターフェニル(0.287g,0.243mmol)とテトラヒドロフラン(4.9mL)の混合物に、0℃でN-ブロモスクシンイミド(0.130g,0.730mmol)を加えて室温で3時間撹拌した。反応終了後、水を加えてクロロホルムで抽出した。集めた有機層を水と飽和食塩水で洗浄したのちに無水硫酸マグネシウムで乾燥してろ別し、減圧下で溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン)で精製し、黄色固体の2’,5’-ビス(2-ブロモ-チエノ[3,2-b]チエニル)-4,4’’-ビス(2-デシルテトラデシル)-p-ターフェニルを得た(0.274g,84%)。
1H-NMR(CDCl3,400MHz)δ7.59(s,2H),7.24-7.22(m,4H),7.13-7.11(m,6H),6.81(s,2H),2.55(d,J=7.2Hz,4H),1.65-1.60(m,2H),1.31-1.25(m,80H),0.87(t,J=6.8Hz,12H).
[参考例12]
2',5'-bis(thieno[3,2-b]thienyl)-4,4''-bis(2-decyltetradecyl)-p-terphenyl (0.287 g, 0.243 mmol) and tetrahydrofuran ( N-bromosuccinimide (0.130 g, 0.730 mmol) was added to the mixture (4.9 mL) at 0° C. and stirred at room temperature for 3 hours. After the reaction was completed, water was added and extracted with chloroform. The collected organic layer was washed with water and saturated brine, dried over anhydrous magnesium sulfate, filtered, and the solvent was distilled off under reduced pressure. The obtained residue was purified by silica gel column chromatography (hexane) to obtain a yellow solid 2',5'-bis(2-bromo-thieno[3,2-b]thienyl)-4,4''-bis( 2-decyltetradecyl)-p-terphenyl was obtained (0.274 g, 84%).
1 H-NMR (CDCl 3 , 400 MHz) δ 7.59 (s, 2H), 7.24-7.22 (m, 4H), 7.13-7.11 (m, 6H), 6.81 (s , 2H), 2.55 (d, J = 7.2Hz, 4H), 1.65-1.60 (m, 2H), 1.31-1.25 (m, 80H), 0.87 (t , J=6.8Hz, 12H).
[Reference example 12]
3,6-ジブロモチエノ[3,2-b]チオフェン(0.698g,2.34mmol)と3-デシル-1-ペンタデシン(1.87g,5.16mmol)ならびにトリエチルアミン(23mL)の混合物を30分間アルゴンバブリングした。この混合溶液に、アルゴン気流下でヨウ化銅(I)(17.9mg,93.7μmol)ならびにテトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(54.2mg,46.9μmol)を加えて65.5時間還流した。得られた混合物を室温まで冷やしたのちに飽和塩化アンモニウム水溶液を加えてクロロホルムで抽出した。集めた有機層を飽和塩化アンモニウム、水、ならびに飽和食塩水で洗浄したのちに無水硫酸マグネシウムで乾燥してろ別し、減圧下で溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン)で精製したのちに、さらに再結晶(アセトン)で精製することで白色固体の3,6-ビス(3-デシルペンタデシニル)チエノ[3,2-b]チオフェンを得た(1.54g,76%)。
1H-NMR(CDCl3,400MHz)δ7.36(s,2H),2.43(t,J=5.6Hz,4H),1.64-1.58(m,2H),1.46-1.25(m,80H),0.88(t,J=6.6Hz,12H)
13C-NMR(CDCl3,100MHz)δ140.0,129.1,116.3,91.8,74.3,37.1,33.6,31.9,29.9,29.7,29.6,29.4,26.8,23.7,22.7,14.1。
IR(ATR,cm-1):2952,2915,2850,1471,1376,1349,1340,943,931,838,734,717。
[参考例13]
A mixture of 3,6-dibromothieno[3,2-b]thiophene (0.698 g, 2.34 mmol), 3-decyl-1-pentadecine (1.87 g, 5.16 mmol) and triethylamine (23 mL) was heated under argon for 30 minutes. It bubbled. Copper(I) iodide (17.9 mg, 93.7 μmol) and tetrakis(triphenylphosphine)palladium (54.2 mg, 46.9 μmol) were added to this mixed solution under an argon stream, and the mixture was refluxed for 65.5 hours. . After the resulting mixture was cooled to room temperature, a saturated aqueous ammonium chloride solution was added and extracted with chloroform. The collected organic layer was washed with saturated ammonium chloride, water, and saturated brine, dried over anhydrous magnesium sulfate, filtered, and the solvent was distilled off under reduced pressure. The resulting residue was purified by silica gel column chromatography (hexane) and then further purified by recrystallization (acetone) to obtain a white solid, 3,6-bis(3-decylpentadecynyl)thieno[3,2 -b]thiophene was obtained (1.54 g, 76%).
1 H-NMR (CDCl 3 , 400 MHz) δ7.36 (s, 2H), 2.43 (t, J=5.6Hz, 4H), 1.64-1.58 (m, 2H), 1.46 -1.25 (m, 80H), 0.88 (t, J=6.6Hz, 12H)
13C -NMR (CDCl 3 , 100MHz) δ140.0, 129.1, 116.3, 91.8, 74.3, 37.1, 33.6, 31.9, 29.9, 29.7, 29.6, 29.4, 26.8, 23.7, 22.7, 14.1.
IR (ATR, cm −1 ): 2952, 2915, 2850, 1471, 1376, 1349, 1340, 943, 931, 838, 734, 717.
[Reference example 13]
3,6-ビス(3-デシルペンタデシニル)チエノ[3,2-b]チオフェン(1.53g,1.77mmol)とテトラヒドロフラン(35mL)の混合物に、0℃でn-ブチルリチウム(2.6mL,4.08mmol)を加え、3時間撹拌した。その後、ヨウ素(1.08g,4.26mmol)を加え、1時間撹拌した。反応溶液に飽和チオ硫酸ナトリウム水溶液を加えてヘキサンで抽出した。集めた有機層を水と飽和食塩水で洗浄したのちに無水硫酸マグネシウムで乾燥してろ別し、減圧下で溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン)で精製し、白色固体の2,5-ジヨード-3,6-ビス(3-デシルペンタデシニル)チエノ[3,2-b]チオフェンを得た(1.51g,76%)。
1H-NMR(CDCl3,400MHz)δ2.46(d,J=5.6Hz,4H),1.67-1.61(m,2H),1.50-1.25(m,80H),0.87(t,J=6.6Hz,12H)。
13C-NMR(CDCl3,100MHz)δ142.0,123.3,96.0,82.3,75.1,37.1,33.6,31.9,29.9,29.7,29.4,26.9,23.8,22.7,14.1。
IR(ATR,cm-1):2952,2917,2848,2360,2223,1467,1457,1375,1348,1326,881,719,619。
[参考例14]
To a mixture of 3,6-bis(3-decylpentadecynyl)thieno[3,2-b]thiophene (1.53 g, 1.77 mmol) and tetrahydrofuran (35 mL) was added n-butyllithium (2. 6 mL, 4.08 mmol) was added and stirred for 3 hours. Then, iodine (1.08 g, 4.26 mmol) was added and stirred for 1 hour. A saturated aqueous sodium thiosulfate solution was added to the reaction solution, and the mixture was extracted with hexane. The collected organic layer was washed with water and saturated brine, dried over anhydrous magnesium sulfate, filtered, and the solvent was distilled off under reduced pressure. The obtained residue was purified by silica gel column chromatography (hexane) to obtain 2,5-diiodo-3,6-bis(3-decylpentadecynyl)thieno[3,2-b]thiophene as a white solid. (1.51g, 76%).
1H -NMR (CDCl 3 , 400MHz) δ2.46 (d, J=5.6Hz, 4H), 1.67-1.61 (m, 2H), 1.50-1.25 (m, 80H) , 0.87 (t, J=6.6Hz, 12H).
13C -NMR (CDCl 3 , 100MHz) δ142.0, 123.3, 96.0, 82.3, 75.1, 37.1, 33.6, 31.9, 29.9, 29.7, 29.4, 26.9, 23.8, 22.7, 14.1.
IR (ATR, cm −1 ): 2952, 2917, 2848, 2360, 2223, 1467, 1457, 1375, 1348, 1326, 881, 719, 619.
[Reference example 14]
2,5-ジブロモ-3,6-ビス(3-デシルペンタデシニル)チエノ[3,2-b]チオフェン(1.40g,1.26mmol)とチエノ[3,2-b]チオフェン-2-ボロン酸(0.579g,3.14mmol)、トルエン(32mL)、PTC(2滴)ならびに2M炭酸カリウム水溶液(13mL,26mmol)の混合物を30分間アルゴンバブリングした。この混合溶液に、アルゴン気流下で(AMPHOS)2PdCl2(89.0mg,126μmol)を加えて18時間還流した。得られた混合物を室温まで冷やしたのちに水を加えてヘキサンで抽出した。集めた有機層を水と飽和食塩水で洗浄したのちに無水硫酸マグネシウムで乾燥してろ別し、減圧下で溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム/ヘキサン=1/2)で精製し、黄色固体の2,5-ビス(チエノ[3,2-b]チエニル)-3,6-ビス(3-デシルペンタデシニル)チエノ[3,2-b]チオフェンを得た(1.21g,84%)。
1H-NMR(CDCl3,400MHz)δ7.71(d,J=0.4Hz,2H),7.39(d,J=5.2Hz,2H),7.23(dd,J=5.2Hz,0.4Hz,2H),2.58(d,J=5.6Hz,4H),1.74-1.66(m,2H),1.48-1.24(m,80H),0.88-0.84(m,12H)。
13C-NMR(CDCl3,100MHz)δ139.6,139.4,139.2,138.5,138.4,127.8,119.4,117.1,111.4,98.4,74.9,37.2,33.8,31.9,30.0,29.7,29.6,29.4,26.9,24.2,22.7,14.1。
IR(ATR,cm-1):2952,2919,2848,1465,1378,1191,952,908,863,854,808,769,759,721,698,632,619。
[参考例15]
2,5-dibromo-3,6-bis(3-decylpentadecynyl)thieno[3,2-b]thiophene (1.40 g, 1.26 mmol) and thieno[3,2-b]thiophene-2- A mixture of boronic acid (0.579 g, 3.14 mmol), toluene (32 mL), PTC (2 drops) and 2M aqueous potassium carbonate solution (13 mL, 26 mmol) was bubbled with argon for 30 minutes. (AMPHOS) 2 PdCl 2 (89.0 mg, 126 μmol) was added to this mixed solution under an argon stream, and the mixture was refluxed for 18 hours. After the resulting mixture was cooled to room temperature, water was added and extracted with hexane. The collected organic layer was washed with water and saturated brine, dried over anhydrous magnesium sulfate, filtered, and the solvent was distilled off under reduced pressure. The obtained residue was purified by silica gel column chromatography (chloroform/hexane = 1/2) to obtain a yellow solid of 2,5-bis(thieno[3,2-b]thienyl)-3,6-bis(3- Decylpentadecynyl)thieno[3,2-b]thiophene was obtained (1.21 g, 84%).
1 H-NMR (CDCl 3 , 400 MHz) δ7.71 (d, J=0.4 Hz, 2H), 7.39 (d, J=5.2 Hz, 2H), 7.23 (dd, J=5. 2Hz, 0.4Hz, 2H), 2.58 (d, J=5.6Hz, 4H), 1.74-1.66 (m, 2H), 1.48-1.24 (m, 80H), 0.88-0.84 (m, 12H).
13C -NMR (CDCl 3 , 100MHz) δ139.6, 139.4, 139.2, 138.5, 138.4, 127.8, 119.4, 117.1, 111.4, 98.4, 74.9, 37.2, 33.8, 31.9, 30.0, 29.7, 29.6, 29.4, 26.9, 24.2, 22.7, 14.1.
IR (ATR, cm −1 ): 2952, 2919, 2848, 1465, 1378, 1191, 952, 908, 863, 854, 808, 769, 759, 721, 698, 632, 619.
[Reference example 15]
3,6-ジブロモチエノ[3,2-b]チオフェン(1.62g,5.43mmol)と4-ドデシル-1-オクタデシン(5.00g,11.9mmol)、ならびにトリエチルアミン(109mL)の混合物を1時間アルゴンバブリングした。この混合溶液に、アルゴン気流下でヨウ化銅(I)(41.9mg,217μmol)、ならびにPd(PPh3)4(127mg,110μmol)を加えて100℃で120時間撹拌した。得られた混合物を室温で冷やしたのちに飽和塩化アンモニウム水溶液を加えてヘキサンで抽出した。集めた有機層を飽和塩化アンモニウム、水、ならびに飽和食塩水で洗浄したのちに無水硫酸マグネシウムで乾燥してろ別し、減圧下で溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン)で精製したのちに、さらに再結晶(アセトン)で精製することで黄土色固体の3,6-ビス(4-ドデシルオクタデシニル)チエノ[3,2-b]チオフェンを得た(4.35g,82%)。
1H-NMR(CDCl3,400MHz)δ7.37(s,1H),2.42(d,J=5.7Hz,4H),1.62-1.57(m,2H),1.42-1.25(m,96H),0.88(t,J=6.8Hz,12H)。
13C-NMR(CDCl3,100MHz)δ140.0,129.2,116.3,91.8,74.3,37,2,33.6,31.9,29.9,29.7,29.6,29.4,26.8,23.7,22.7,14.1。
IR(ATR,cm-1):2952,2915,2848,2364,1471,1350,839,735,717。
[参考例16]
A mixture of 3,6-dibromothieno[3,2-b]thiophene (1.62 g, 5.43 mmol), 4-dodecyl-1-octadecine (5.00 g, 11.9 mmol), and triethylamine (109 mL) was added for 1 hour. Argon was bubbled. Copper (I) iodide (41.9 mg, 217 μmol) and Pd(PPh 3 ) 4 (127 mg, 110 μmol) were added to this mixed solution under an argon stream, and the mixture was stirred at 100° C. for 120 hours. After the resulting mixture was cooled to room temperature, a saturated aqueous ammonium chloride solution was added and extracted with hexane. The collected organic layer was washed with saturated ammonium chloride, water, and saturated brine, dried over anhydrous magnesium sulfate, filtered, and the solvent was distilled off under reduced pressure. The obtained residue was purified by silica gel column chromatography (hexane) and then further purified by recrystallization (acetone) to obtain ocher solid 3,6-bis(4-dodecyloctadecynyl)thieno[3, 2-b]thiophene was obtained (4.35 g, 82%).
1 H-NMR (CDCl 3 , 400 MHz) δ7.37 (s, 1H), 2.42 (d, J=5.7Hz, 4H), 1.62-1.57 (m, 2H), 1.42 -1.25 (m, 96H), 0.88 (t, J=6.8Hz, 12H).
13C -NMR (CDCl 3 , 100MHz) δ140.0, 129.2, 116.3, 91.8, 74.3, 37, 2, 33.6, 31.9, 29.9, 29.7, 29.6, 29.4, 26.8, 23.7, 22.7, 14.1.
IR (ATR, cm −1 ): 2952, 2915, 2848, 2364, 1471, 1350, 839, 735, 717.
[Reference example 16]
3,6-ビス(4-ドデシルオクタデシニル)チエノ[3,2-b]チオフェン(165mg,0.170mmol)とテトラヒドロフラン(3.4mL)の混合物に、0℃でn-ブチルリチウム(0.25mL,0.387mmol)を加え、3時間撹拌した。その後、ヨウ素(104mg,0.410mmol)を加え、1時間撹拌した。チオ硫酸ナトリウム水溶液を加えてヘキサンで抽出した。集めた有機層を水と飽和食塩水で洗浄したのちに無水硫酸マグネシウムで乾燥してろ別し、減圧下で溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン)で精製したのちにさらに再結晶(アセトン)で精製することで薄赤褐色固体の2,5-ジヨード-3,6-ビス(4-ドデシルオクタデシニル)チエノ[3,2-b]チオフェンを得た(120mg,56%)。
1H-NMR(CDCl3,400MHz)δ2.46(d,J=5.6Hz,4H),1.65-1.59(m,2H),1.48-1.25(m,96H),0.88(t,j=6.8Hz,12H)。
13C-NMR(CDCl3,100MHz)δ142.0,123.4,96.0,82.3,75.1,37.1,33.6,31.9,30.0,29.7,29.6,29.4,26.9,23.8,22.7,14.1。
IR(ATR,cm-1):2918,2850,2358,1469,877,719,621。
[参考例17]
To a mixture of 3,6-bis(4-dodecyloctadecynyl)thieno[3,2-b]thiophene (165 mg, 0.170 mmol) and tetrahydrofuran (3.4 mL) was added n-butyllithium (0.5 ml) at 0°C. 25 mL, 0.387 mmol) was added and stirred for 3 hours. Then, iodine (104 mg, 0.410 mmol) was added and stirred for 1 hour. Aqueous sodium thiosulfate solution was added and extracted with hexane. The collected organic layer was washed with water and saturated brine, dried over anhydrous magnesium sulfate, filtered, and the solvent was distilled off under reduced pressure. The resulting residue was purified by silica gel column chromatography (hexane) and then further purified by recrystallization (acetone) to obtain 2,5-diiodo-3,6-bis(4-dodecyloctadecynyl) as a light reddish-brown solid. ) Thieno[3,2-b]thiophene was obtained (120 mg, 56%).
1H -NMR (CDCl 3 , 400MHz) δ2.46 (d, J=5.6Hz, 4H), 1.65-1.59 (m, 2H), 1.48-1.25 (m, 96H) , 0.88 (t,j=6.8Hz, 12H).
13C -NMR (CDCl 3 , 100MHz) δ142.0, 123.4, 96.0, 82.3, 75.1, 37.1, 33.6, 31.9, 30.0, 29.7, 29.6, 29.4, 26.9, 23.8, 22.7, 14.1.
IR (ATR, cm −1 ): 2918, 2850, 2358, 1469, 877, 719, 621.
[Reference example 17]
2,5-ジヨード-3,6-ビス(4-ドデシルオクタデシニル)チエノ[3,2-b]チオフェン(1.00g,0.810mmol)とチエノ[3,2-b]チオフェン-2-ボロン酸(372mg,2.02mmol)、ジメトキシエタン(20mL)、ならびに2M炭酸カリウム水溶液(8mL,0.40mmol)の混合物を30分間アルゴンバブリングした。この混合溶液に、アルゴン気流下で(AMPHOS)2PdCl2(57mg,81μmol)を加えて95℃で90時間撹拌した。得られた混合物を室温まで冷やしたのちに塩化アンモニウム水溶液を加えてヘキサンで抽出した。集めた有機層を水と飽和食塩水で洗浄したのちに無水硫酸マグネシウムで乾燥してろ別し、減圧下で溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン)で精製したのちに、さらに再結晶(アセトン/ヘキサン)で精製することで黄色固体の2,5-ビス(チエノ[3,2-b]チオニル)-3,6-ビス(4-ドデシルオクタデシニル)チエノ[3,2-b]チオフェンを得た(711mg,70%)。
1H-NMR(CDCl3,400MHz)δ7.71(s,2H),7.39(d,J=5.2Hz,2H),7.23(d,J=5.2Hz,2H),2.58(d,J=5.7Hz,4H),1.72-1.66(m,2H),1.52-1.23(m,96H),0.87(dt,J=6.8Hz,1.0Hz,12H)。
13C-NMR(CDCl3,100MHz)δ139.6,139.4,139.2,138.5,138.4,127.8,119.4,117.1,111.4,98.4,74.9,37.2,33.8,31.9,30.0,29.8,29.7,29.6,29.4,27.0,24.2,22.7,14.1。
IR(ATR,cm-1):2918,2848,2356,1469,808,719,698,632。
[参考例18]
2,5-diiodo-3,6-bis(4-dodecyloctadecynyl)thieno[3,2-b]thiophene (1.00 g, 0.810 mmol) and thieno[3,2-b]thiophene-2- A mixture of boronic acid (372 mg, 2.02 mmol), dimethoxyethane (20 mL), and 2M aqueous potassium carbonate (8 mL, 0.40 mmol) was bubbled with argon for 30 minutes. (AMPHOS) 2 PdCl 2 (57 mg, 81 μmol) was added to this mixed solution under an argon stream, and the mixture was stirred at 95° C. for 90 hours. After the resulting mixture was cooled to room temperature, an aqueous ammonium chloride solution was added and extracted with hexane. The collected organic layer was washed with water and saturated brine, dried over anhydrous magnesium sulfate, filtered, and the solvent was distilled off under reduced pressure. The obtained residue was purified by silica gel column chromatography (hexane) and then further purified by recrystallization (acetone/hexane) to obtain a yellow solid, 2,5-bis(thieno[3,2-b]thionyl). -3,6-bis(4-dodecyloctadecynyl)thieno[3,2-b]thiophene was obtained (711 mg, 70%).
1 H-NMR (CDCl 3 , 400 MHz) δ7.71 (s, 2H), 7.39 (d, J = 5.2 Hz, 2H), 7.23 (d, J = 5.2 Hz, 2H), 2 .58 (d, J=5.7Hz, 4H), 1.72-1.66 (m, 2H), 1.52-1.23 (m, 96H), 0.87 (dt, J=6. 8Hz, 1.0Hz, 12H).
13C -NMR (CDCl 3 , 100MHz) δ139.6, 139.4, 139.2, 138.5, 138.4, 127.8, 119.4, 117.1, 111.4, 98.4, 74.9, 37.2, 33.8, 31.9, 30.0, 29.8, 29.7, 29.6, 29.4, 27.0, 24.2, 22.7, 14. 1.
IR (ATR, cm −1 ): 2918, 2848, 2356, 1469, 808, 719, 698, 632.
[Reference example 18]
3,6-ジブロモチエノ[3,2-b]チオフェン(1.99g,6.68mmol)と5-デシル-1-ヘキサデシン(5.48g,14.0mmol)ならびにトリエチルアミン(134mL)の混合物を30分間アルゴンバブリングした。この混合溶液に、アルゴン気流下でヨウ化銅(I)(50.9mg,0.267mmol)ならびにPd(PPh3)4(154mg,0.133mmol)を加えて62時間還流した。得られた混合物を室温まで冷やしたのちに飽和塩化アンモニウム水溶液を加えてヘキサンで抽出した。集めた有機層を水ならびに飽和食塩水で洗浄したのちに無水硫酸マグネシウムで乾燥してろ別し、減圧下で溶媒を留去した。得られた残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン)で精製したのちに、再結晶(アセトン)で精製することで白色固体の3,6-ビス(5-デシル-1-ヘキサデシニル)チエノ[3,2-b]チオフェンを得た(4.14g,67%)。
1H-NMR(CDCl3,400MHz)δ7.38(s,2H),2.42(t,J=7.0Hz,4H),1.63-1.57(m,4H),1.44-1.39(m,4H),1.31-1.25(m,82H),0.88(t,J=6.8Hz,12H)。
13C-NMR(CDCl3,100MHz)δ139.9,129.4,116.2,93.1,73.5,37.1,33.6,32.9,31.9,30.1,29.7,29.6,29.4,26.7,25.8,22.7,19.9,14.1。
IR(ATR,cm-1):2950,2915,2848,2362,2333,1469,1457,1428,1373,1344,1261,1097,1027,838,802,732,717。
[参考例19]
A mixture of 3,6-dibromothieno[3,2-b]thiophene (1.99 g, 6.68 mmol), 5-decyl-1-hexadecine (5.48 g, 14.0 mmol) and triethylamine (134 mL) was heated with argon for 30 minutes. It bubbled. Copper (I) iodide (50.9 mg, 0.267 mmol) and Pd(PPh 3 ) 4 (154 mg, 0.133 mmol) were added to this mixed solution under an argon stream, and the mixture was refluxed for 62 hours. After the resulting mixture was cooled to room temperature, a saturated aqueous ammonium chloride solution was added and extracted with hexane. The collected organic layer was washed with water and saturated brine, dried over anhydrous magnesium sulfate, filtered, and the solvent was distilled off under reduced pressure. The resulting residue was purified by silica gel column chromatography (hexane) and then recrystallized (acetone) to obtain a white solid, 3,6-bis(5-decyl-1-hexadecynyl)thieno[3,2 -b]thiophene was obtained (4.14 g, 67%).
1 H-NMR (CDCl 3 , 400 MHz) δ7.38 (s, 2H), 2.42 (t, J=7.0Hz, 4H), 1.63-1.57 (m, 4H), 1.44 -1.39 (m, 4H), 1.31-1.25 (m, 82H), 0.88 (t, J=6.8Hz, 12H).
13C -NMR (CDCl 3 , 100MHz) δ139.9, 129.4, 116.2, 93.1, 73.5, 37.1, 33.6, 32.9, 31.9, 30.1, 29.7, 29.6, 29.4, 26.7, 25.8, 22.7, 19.9, 14.1.
IR (ATR, cm −1 ): 2950, 2915, 2848, 2362, 2333, 1469, 1457, 1428, 1373, 1344, 1261, 1097, 1027, 838, 802, 732, 717.
[Reference example 19]
3,6-ビス(5-デシル-1-ヘキサデシニル)チエノ[3,2-b]チオフェン(1.85g,2.02mmol)とテトラヒドロフラン(40mL)の混合物に、0℃でn-ブチルリチウム(3.0mL,4.65mmol)を加え、4時間撹拌した。その後、ヨウ素(1.23g,4.85mmol)を加え、1.5時間撹拌した。飽和チオ硫酸ナトリウム水溶液を加えてヘキサンで抽出した。集めた有機層を水と飽和食塩水で洗浄したのちに無水硫酸マグネシウムで乾燥してろ別し、減圧下で溶媒を留去した。得られた残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン)で精製し、白色固体の2,5-ジヨード-3,6-ビス(5-デシル-1-ヘキサデシニル)チエノ[3,2-b]チオフェンを得た(1.67g,71%)。
1H-NMR(CDCl3,400MHz)δ2.46(t,J=6.8Hz,4H),1.65-1.58(m,4H),1.49-1.43(m,4H),1.31-1.25(m,82H),0.88(t,J=6.8Hz,12H)。
13C-NMR(CDCl3,100MHz)δ141.9,123.2,97.4,82.5,37.1,33.7,32.9,31.9,30.2,29.7,29.6,29.3,26.7,25.7,22.7,20.0,14.1。
IR(ATR,cm-1):2948,2917,2848,2352,2227,1469,1330,869,719,620。
[参考例20]
To a mixture of 3,6-bis(5-decyl-1-hexadecynyl)thieno[3,2-b]thiophene (1.85 g, 2.02 mmol) and tetrahydrofuran (40 mL) was added n-butyllithium (3 .0 mL, 4.65 mmol) was added and stirred for 4 hours. Then, iodine (1.23 g, 4.85 mmol) was added and stirred for 1.5 hours. A saturated aqueous sodium thiosulfate solution was added, and the mixture was extracted with hexane. The collected organic layer was washed with water and saturated brine, dried over anhydrous magnesium sulfate, filtered, and the solvent was distilled off under reduced pressure. The resulting residue was purified by silica gel column chromatography (hexane) to obtain 2,5-diiodo-3,6-bis(5-decyl-1-hexadecynyl)thieno[3,2-b]thiophene as a white solid. (1.67g, 71%).
1 H-NMR (CDCl 3 , 400 MHz) δ2.46 (t, J = 6.8 Hz, 4H), 1.65-1.58 (m, 4H), 1.49-1.43 (m, 4H) , 1.31-1.25 (m, 82H), 0.88 (t, J=6.8Hz, 12H).
13C -NMR (CDCl 3 , 100MHz) δ141.9, 123.2, 97.4, 82.5, 37.1, 33.7, 32.9, 31.9, 30.2, 29.7, 29.6, 29.3, 26.7, 25.7, 22.7, 20.0, 14.1.
IR (ATR, cm −1 ): 2948, 2917, 2848, 2352, 2227, 1469, 1330, 869, 719, 620.
[Reference example 20]
2,5-ジヨード-3,6-ビス(5-デシル-1-ヘキサデシニル)チエノ[3,2-b]チオフェン(1.67g,1.43mmol)とチエノ[3,2-b]チオフェン-2-ボロン酸(0.657g,3.57mmol)、1,2-ジメトキシエタン(36mL)ならびに2M炭酸カリウム水溶液(14mL,28mmol)の混合物を30分間アルゴンバブリングした。この混合溶液に、アルゴン気流下で(AMPHOS)2PdCl2(101mg,143μmol)を加えて60時間還流した。得られた混合物を室温まで冷やしたのちに飽和塩化アンモニウム水溶液を加えてヘキサンで抽出した。集めた有機層を水と飽和食塩水で洗浄したのちに無水硫酸マグネシウムで乾燥してろ別し、減圧下で溶媒を留去した。得られた残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン/クロロホルム=10/1)で精製し、黄色固体の2,5-ビス(チエノ[3,2-b]チエニル)-3,6-ビス(5-デシル-1-ヘキサデシニル)チエノ[3,2-b]チオフェンを得た(1.02g,59%)。
1H-NMR(CDCl3,400MHz)δ7.71(s,2H),7.39(d,J=5.2Hz,2H),7.24(dd,J=5.2Hz,0.4Hz,2H),2.58(t,J=7.0Hz,4H),1.73-1.66(m,4H),1.53-1.49(m,4H),1.37-1.23(m,82H),0.87(dt,J=6.8Hz,2.0Hz,12H)。
13C-NMR(CDCl3,100MHz)δ139.9,139.4,139.2,138.5,138.2,127.9,119.4,117.1,111.2,99.5,37.2,33.7,33.2,31.9,30.2,29.7,29.6,29.4,26.7,25.7,22.7,20.5,14.1。
IR(ATR,cm-1):2917,2848,2362,2333,1469,1419,1378,1349,1191,1079,950,908,856,817,804,759,719,700,651,632,617,605。
[実施例1]
2,5-diiodo-3,6-bis(5-decyl-1-hexadecynyl)thieno[3,2-b]thiophene (1.67 g, 1.43 mmol) and thieno[3,2-b]thiophene-2 -A mixture of boronic acid (0.657 g, 3.57 mmol), 1,2-dimethoxyethane (36 mL) and 2M aqueous potassium carbonate solution (14 mL, 28 mmol) was bubbled with argon for 30 minutes. (AMPHOS) 2 PdCl 2 (101 mg, 143 μmol) was added to this mixed solution under an argon stream, and the mixture was refluxed for 60 hours. After the resulting mixture was cooled to room temperature, a saturated aqueous ammonium chloride solution was added and extracted with hexane. The collected organic layer was washed with water and saturated brine, dried over anhydrous magnesium sulfate, filtered, and the solvent was distilled off under reduced pressure. The obtained residue was purified by silica gel column chromatography (hexane/chloroform = 10/1) to obtain a yellow solid of 2,5-bis(thieno[3,2-b]thienyl)-3,6-bis(5- Decyl-1-hexadecynyl)thieno[3,2-b]thiophene was obtained (1.02 g, 59%).
1 H-NMR (CDCl 3 , 400 MHz) δ7.71 (s, 2H), 7.39 (d, J=5.2Hz, 2H), 7.24 (dd, J=5.2Hz, 0.4Hz, 2H), 2.58 (t, J=7.0Hz, 4H), 1.73-1.66 (m, 4H), 1.53-1.49 (m, 4H), 1.37-1. 23 (m, 82H), 0.87 (dt, J=6.8Hz, 2.0Hz, 12H).
13C -NMR (CDCl 3 , 100MHz) δ139.9, 139.4, 139.2, 138.5, 138.2, 127.9, 119.4, 117.1, 111.2, 99.5, 37.2, 33.7, 33.2, 31.9, 30.2, 29.7, 29.6, 29.4, 26.7, 25.7, 22.7, 20.5, 14. 1.
IR (ATR, cm -1 ): 2917, 2848, 2362, 2333, 1469, 1419, 1378, 1349, 1191, 1079, 950, 908, 856, 817, 804, 759, 719, 700, 651, 632, 617 , 605.
[Example 1]
2’,5’-ビス(2-ブロモチエノ[3,2-b]チオフェン-5-イル)-4,4’’-ビス(2-デシルテトラデシルオキシ)-p-ターフェニル(978mg,714μmol)をジクロロメタン(73mL)に溶かして15分間アルゴンバブリンを行った。さらに、ニトロメタン(7mL)に溶かした塩化鉄(III)(1.03g,6.34mmol)を滴下した後にアルゴンバブリンを行いながら1時間撹拌した。アルゴンバブリンを止めてさらに1時間撹拌した後に、反応溶液をメタノール/10wt%濃塩酸の溶液に滴下した。濾過を行い、得られた沈殿物を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水、メタノールで洗浄した後に、カラムクロマトグラフィー(シリカゲル;ヘキサン:クロロホルム=5:1)で精製を行い、黄色固体の(200-10)を得た(731mg,75%)。
1HNMR(CDCl3,400MHz)δ8.19(s,2H),8.14(d,J=9.3Hz,2H),7.20(s,2H),7.11-7.08(m,2H),7.04(s,2H),4.06(d,J=5.5Hz,4H),2.01-1.96(m,2H),1.69-1.26(m,80H),0.90-0.85(m,12H)。
[実施例2]
2',5'-bis(2-bromothieno[3,2-b]thiophen-5-yl)-4,4''-bis(2-decyltetradecyloxy)-p-terphenyl (978 mg, 714 μmol) was dissolved in dichloromethane (73 mL) and bubbled with argon for 15 minutes. Furthermore, iron (III) chloride (1.03 g, 6.34 mmol) dissolved in nitromethane (7 mL) was added dropwise, and the mixture was stirred for 1 hour while bubbling with argon. After stopping the argon bubble and stirring for an additional hour, the reaction solution was added dropwise to a methanol/10 wt % concentrated hydrochloric acid solution. After filtering and washing the obtained precipitate with a saturated aqueous sodium bicarbonate solution, water, and methanol, it was purified by column chromatography (silica gel; hexane:chloroform = 5:1) to obtain a yellow solid (200-10 ) was obtained (731 mg, 75%).
1 HNMR (CDCl 3 , 400 MHz) δ 8.19 (s, 2H), 8.14 (d, J = 9.3 Hz, 2H), 7.20 (s, 2H), 7.11-7.08 (m , 2H), 7.04 (s, 2H), 4.06 (d, J = 5.5Hz, 4H), 2.01-1.96 (m, 2H), 1.69-1.26 (m , 80H), 0.90-0.85 (m, 12H).
[Example 2]
2’,5’-ビス(2-ブロモ-チエノ[3,2-b]チエニル)-4,4’’-ビス(2-デシルテトラデシル)-p-ターフェニル(0.133g,0.100mmol)とテトラヒドロフラン(10mL)の混合物を15分間アルゴンバブリングした。この混合溶液に、塩化鉄(III)(0.146g,0.900mmol)とニトロメタン(1mL)の混合物を滴下した後にアルゴンバブリングを行いながら1.5時間撹拌した。反応終了後、メタノール/10wt%濃塩酸の溶液に沈殿させることで析出した固体をろ過した。得られた固体を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水、メタノールで洗浄し後に、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム/ヘキサン=1/1)と再結晶(ヘキサン)で精製することで橙色固体の(200-7)を得た(0.095g,71%)。
1H-NMR(CDCl3,400MHz)δ8.35(s,2H),8.23(d,J=8.8Hz,2H),7.58(s,2H),7.34(d,J=8.8Hz,2H),7.23(s,2H),2.79(d,J=6.4Hz,4H),1.87-1.81(m,2H),1.45-1.22(m,80H),0.86-0.83(m,12H).
[実施例3]
2',5'-bis(2-bromo-thieno[3,2-b]thienyl)-4,4''-bis(2-decyltetradecyl)-p-terphenyl (0.133g, 0.100mmol ) and tetrahydrofuran (10 mL) was bubbled with argon for 15 minutes. A mixture of iron(III) chloride (0.146 g, 0.900 mmol) and nitromethane (1 mL) was added dropwise to this mixed solution, and the mixture was stirred for 1.5 hours while bubbling with argon. After the reaction was completed, the precipitated solid was filtered by precipitation in a methanol/10 wt % concentrated hydrochloric acid solution. The obtained solid was washed with a saturated aqueous sodium bicarbonate solution, water, and methanol, and then purified by silica gel column chromatography (chloroform/hexane = 1/1) and recrystallization (hexane) to obtain an orange solid (200-7 ) was obtained (0.095 g, 71%).
1 H-NMR (CDCl 3 , 400 MHz) δ8.35 (s, 2H), 8.23 (d, J = 8.8 Hz, 2H), 7.58 (s, 2H), 7.34 (d, J =8.8Hz, 2H), 7.23 (s, 2H), 2.79 (d, J = 6.4Hz, 4H), 1.87-1.81 (m, 2H), 1.45-1 .22 (m, 80H), 0.86-0.83 (m, 12H).
[Example 3]
2,5-ビス(1-ヘンイコシニル)-1,4-ビス(チエノ[3,2-b]チオフェン-2-イル)ベンゼン(0.187g,0.200mmol)とNMP(5mL)の混合物を30分間アルゴンバブリングした。この混合溶液に、アルゴン気流下でDBU(90μL,0.60mmol)を加えて180℃で11時間撹拌した。得られた混合物を室温まで冷やしたのちにメタノールに滴下した。生じた茶色個体をろ別した後に、得られた個体を再結晶(クロロホルム)で精製し、黄色固体の(200-73)を得た(76mg,40%)。
1H-NMR(CDCl3,400MHz)δ8.61(s,2H),7.76(s,2H),7.58(d,J=5.2Hz,2H),7.47(d,J=5.2Hz,2H),3.22(t,J=7.8Hz,4H),1.91(pentet,J=7.6Hz,4H),1.60(pentet,J=7.3Hz,4H),1.43-1.41(m,4H),1.31-1.25(m,56H),0.88(t,J=6.8Hz,6H)。
[実施例4]
A mixture of 2,5-bis(1-henicosinyl)-1,4-bis(thieno[3,2-b]thiophen-2-yl)benzene (0.187 g, 0.200 mmol) and NMP (5 mL) was mixed with 30 Argon was bubbled for a minute. DBU (90 μL, 0.60 mmol) was added to this mixed solution under an argon stream, and the mixture was stirred at 180° C. for 11 hours. The resulting mixture was cooled to room temperature and then added dropwise to methanol. After filtering off the resulting brown solid, the resulting solid was purified by recrystallization (chloroform) to obtain (200-73) as a yellow solid (76 mg, 40%).
1 H-NMR (CDCl 3 , 400 MHz) δ8.61 (s, 2H), 7.76 (s, 2H), 7.58 (d, J = 5.2 Hz, 2H), 7.47 (d, J = 5.2Hz, 2H), 3.22 (t, J = 7.8Hz, 4H), 1.91 (pentet, J = 7.6Hz, 4H), 1.60 (pentet, J = 7.3Hz, 4H), 1.43-1.41 (m, 4H), 1.31-1.25 (m, 56H), 0.88 (t, J = 6.8Hz, 6H).
[Example 4]
(200-73)(0.293g,0.313mmol)と1,2-ジメトキシエタン(10mL)の混合物を30分間アルゴンバブリングした。この混合溶液に、アルゴン気流下でビス(ピナコラト)ジボロン(0.191g,0.752mmol)と4,4’-ジノニル-2,2’-ビピリジル(13mg,32μmol)、ならびに(1,5-シクロオクタジエン)(メトキシ)イリジウム(I)(ダイマー)(10mg,15μmol)を加えて36時間還流した。反応終了後、反応溶液を室温まで冷やした後に減圧下で濃縮した。得られた残渣を再結晶(ヘキサン)で精製し、黄色固体の(12-38)を得た(0.216g,58%)。
1H-NMR(CDCl3,400MHz)δ8.57(s,2H),7.95(s,2H),7.71(s,2H),3.22(t,J=7.8Hz,4H),1.91(pentet,J=7.6Hz,4H),1.60-1.54(m,4H),1.41-1.25(m,84H),0.88(t,J=6.8Hz,6H)。
[実施例5]
A mixture of (200-73) (0.293 g, 0.313 mmol) and 1,2-dimethoxyethane (10 mL) was bubbled with argon for 30 minutes. To this mixed solution was added bis(pinacolato)diboron (0.191 g, 0.752 mmol), 4,4'-dinonyl-2,2'-bipyridyl (13 mg, 32 μmol), and (1,5-cyclo Octadiene)(methoxy)iridium(I) (dimer) (10 mg, 15 μmol) was added and the mixture was refluxed for 36 hours. After the reaction was completed, the reaction solution was cooled to room temperature and then concentrated under reduced pressure. The obtained residue was purified by recrystallization (hexane) to obtain (12-38) as a yellow solid (0.216 g, 58%).
1 H-NMR (CDCl 3 , 400 MHz) δ8.57 (s, 2H), 7.95 (s, 2H), 7.71 (s, 2H), 3.22 (t, J = 7.8Hz, 4H ), 1.91 (pentet, J=7.6Hz, 4H), 1.60-1.54 (m, 4H), 1.41-1.25 (m, 84H), 0.88 (t, J =6.8Hz, 6H).
[Example 5]
2,5-ビス(3-デシルペンタデシニル)-1,4-ビス(チエノ[3,2-b]チエニル)ベンゼン(1.00g,0.929mmol)とNMP(25mL)の混合物を30分間アルゴンバブリングした。この混合溶液に、アルゴン気流下でDBU(0.42mL,2.8mmol)を加えて180℃で9時間撹拌した。得られた混合物を室温まで冷やした後にメタノールに滴下した。生じた茶色個体をろ別したのちに、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン)で精製し、黄色固体の(200-76)を得た(0.560g,56%)。
1H-NMR(CDCl3,400MHz)δ8.60(s,2H),7.71(s,2H),7.57(d,J=5.2Hz,2H),7.46(d,J=5.2Hz,2H),3.15(d,J=7.6Hz,4H),2.12-2.06(m,2H),1.48-1.22(m,80H),0.88-0.83(m,12H)。
[実施例6]
A mixture of 2,5-bis(3-decylpentadecynyl)-1,4-bis(thieno[3,2-b]thienyl)benzene (1.00 g, 0.929 mmol) and NMP (25 mL) was heated for 30 minutes. Argon was bubbled. DBU (0.42 mL, 2.8 mmol) was added to this mixed solution under an argon stream, and the mixture was stirred at 180° C. for 9 hours. The resulting mixture was cooled to room temperature and then added dropwise to methanol. The resulting brown solid was filtered and purified by silica gel column chromatography (hexane) to obtain (200-76) as a yellow solid (0.560 g, 56%).
1 H-NMR (CDCl 3 , 400 MHz) δ8.60 (s, 2H), 7.71 (s, 2H), 7.57 (d, J = 5.2 Hz, 2H), 7.46 (d, J =5.2Hz, 2H), 3.15 (d, J = 7.6Hz, 4H), 2.12-2.06 (m, 2H), 1.48-1.22 (m, 80H), 0 .88-0.83 (m, 12H).
[Example 6]
(200-76)(0.106g,98.2μmol)とTHF(5mL)の混合物に、0℃でn-ブチルリチウムの1.6Mヘキサン溶液(0.15mL,0.24mmol)を加え、1時間撹拌した。その後、1,2-ジブロモ-1,1,2,2-テトラフルオロエタン(35μL,0.30mmol)を加えて室温で13時間撹拌した。反応終了後、水を加えてクロロホルムで抽出した。集めた有機層を水と飽和食塩水で洗浄した後に無水硫酸マグネシウムで乾燥してろ別し、減圧下で溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン)で精製し、黄色固体の(200-4)を得た(30mg,21%)。
1H-NMR(CDCl3,400MHz)δ8.44(s,2H),7.61(s,2H),7.42(s,2H),3.00(d,J=7.2Hz,4H),2.02-1.99(m,2H),1.46-1.21(m,80H),0.88-0.83(m,12H)。
[実施例7]
A 1.6M hexane solution of n-butyllithium (0.15mL, 0.24mmol) was added to a mixture of (200-76) (0.106g, 98.2μmol) and THF (5mL) at 0°C for 1 hour. Stirred. Then, 1,2-dibromo-1,1,2,2-tetrafluoroethane (35 μL, 0.30 mmol) was added and stirred at room temperature for 13 hours. After the reaction was completed, water was added and extracted with chloroform. The collected organic layer was washed with water and saturated brine, dried over anhydrous magnesium sulfate, filtered, and the solvent was distilled off under reduced pressure. The obtained residue was purified by silica gel column chromatography (hexane) to obtain (200-4) as a yellow solid (30 mg, 21%).
1 H-NMR (CDCl 3 , 400 MHz) δ8.44 (s, 2H), 7.61 (s, 2H), 7.42 (s, 2H), 3.00 (d, J = 7.2Hz, 4H ), 2.02-1.99 (m, 2H), 1.46-1.21 (m, 80H), 0.88-0.83 (m, 12H).
[Example 7]
2,5-ビス(チエノ[3,2-b]チエニル)-3,6-ビス(3-デシルペンタデシニル)チエノ[3,2-b]チオフェン(95mg,83μmol)とNMP(1.7mL)の混合物を30分間アルゴンバブリングした。この混合溶液に、アルゴン気流下でDBU(37μL,0.25mmol)を加えて180℃で12時間撹拌した。得られた混合物を室温まで冷やしたのちにメタノールに沈殿させることで析出した固体をろ過し、黄色固体の(200-88)を得た(86mg,91%)。
1H-NMR(CDCl3,400MHz)δ7.56(s,2H),7.53(d,J=5.2Hz,2H),7.53(d,J=5.2Hz,2H),3.07(d,J=7.2Hz,4H),2.02-1.99(m,2H),1.43-1.22(m,80H),0.87-0.83(m,12H)。
[実施例8]
2,5-bis(thieno[3,2-b]thienyl)-3,6-bis(3-decylpentadecynyl)thieno[3,2-b]thiophene (95 mg, 83 μmol) and NMP (1.7 mL) ) was bubbled with argon for 30 minutes. DBU (37 μL, 0.25 mmol) was added to this mixed solution under an argon stream, and the mixture was stirred at 180° C. for 12 hours. The resulting mixture was cooled to room temperature and then precipitated into methanol, and the precipitated solid was filtered to obtain (200-88) as a yellow solid (86 mg, 91%).
1 H-NMR (CDCl 3 , 400 MHz) δ7.56 (s, 2H), 7.53 (d, J = 5.2 Hz, 2H), 7.53 (d, J = 5.2 Hz, 2H), 3 .07 (d, J=7.2Hz, 4H), 2.02-1.99 (m, 2H), 1.43-1.22 (m, 80H), 0.87-0.83 (m, 12H).
[Example 8]
(200-88)(85mg,75μmol)とクロロホルム(3.4mL)ならびに酢酸(0.34mL)の混合物にN-ブロモコハク酸イミド(32mg,0.18mmol)を加えて室温で3時間撹拌した。反応終了後、水を加えてクロロホルムで抽出した。集めた有機層を水と飽和食塩水で洗浄したのちに無水硫酸マグネシウムで乾燥してろ別し、減圧下で溶媒を留去した。得られた残渣を再結晶(ヘキサン)で精製し、淡黄色固体の(200-16)を得た(80mg,83%)。
1H-NMR(CDCl3,400MHz)δ7.50(s,2H),7.33(s,2H),3.07(d,J=7.6Hz,4H),1.96-1.93(m,2H),1.42-1.22(m,80H),0.87-0.83(m,12H)。
[実施例9]
N-bromosuccinimide (32 mg, 0.18 mmol) was added to a mixture of (200-88) (85 mg, 75 μmol), chloroform (3.4 mL), and acetic acid (0.34 mL), and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours. After the reaction was completed, water was added and extracted with chloroform. The collected organic layer was washed with water and saturated brine, dried over anhydrous magnesium sulfate, filtered, and the solvent was distilled off under reduced pressure. The obtained residue was purified by recrystallization (hexane) to obtain (200-16) as a pale yellow solid (80 mg, 83%).
1 H-NMR (CDCl 3 , 400 MHz) δ7.50 (s, 2H), 7.33 (s, 2H), 3.07 (d, J = 7.6Hz, 4H), 1.96-1.93 (m, 2H), 1.42-1.22 (m, 80H), 0.87-0.83 (m, 12H).
[Example 9]
2,5-ビス(チエノ[3,2-b]チエニル)-3,6-ビス(3-デシルペンタデシニル)チエノ[3,2-b]チオフェン(95mg,83μmol)とNMP(1.7mL)の混合物を30分間アルゴンバブリングした。この混合溶液に、アルゴン気流下でDBU(37μL,0.25mmol)を加えて180℃で12時間撹拌した。得られた混合物を室温まで冷やしたのちにメタノールに沈殿させることで析出した固体をろ過し、黄色固体の(200-88)を得た(86mg,91%)。
1H-NMR(CDCl3,400MHz)δ7.56(s,2H),7.53(d,J=5.2Hz,2H),7.53(d,J=5.2Hz,2H),3.07(d,J=7.2Hz,4H),2.02-1.99(m,2H),1.43-1.22(m,80H),0.87-0.83(m,12H)。
13C-NMR(CDCl3,100MHz)δ137.0,136.0,134.9,133.8,133.0,132.4,130.3,130.1,128.2,119.7,118.9,39.6,37.7,33.0,31.9,30.1,29.7,29.6,29.4,26.2,22.7,14.1。
IR(ATR,cm-1):2956,2917,2873,2850,1540,1508,1465,1455,1386,1361,1303,1265,1184,1079,902,856,825,796,750,721,694,653,642,620,605。
[実施例10]
2,5-bis(thieno[3,2-b]thienyl)-3,6-bis(3-decylpentadecynyl)thieno[3,2-b]thiophene (95 mg, 83 μmol) and NMP (1.7 mL) ) was bubbled with argon for 30 minutes. DBU (37 μL, 0.25 mmol) was added to this mixed solution under an argon stream, and the mixture was stirred at 180° C. for 12 hours. The resulting mixture was cooled to room temperature and then precipitated into methanol, and the precipitated solid was filtered to obtain (200-88) as a yellow solid (86 mg, 91%).
1 H-NMR (CDCl 3 , 400 MHz) δ7.56 (s, 2H), 7.53 (d, J = 5.2 Hz, 2H), 7.53 (d, J = 5.2 Hz, 2H), 3 .07 (d, J=7.2Hz, 4H), 2.02-1.99 (m, 2H), 1.43-1.22 (m, 80H), 0.87-0.83 (m, 12H).
13C -NMR (CDCl 3 , 100MHz) δ137.0, 136.0, 134.9, 133.8, 133.0, 132.4, 130.3, 130.1, 128.2, 119.7, 118.9, 39.6, 37.7, 33.0, 31.9, 30.1, 29.7, 29.6, 29.4, 26.2, 22.7, 14.1.
IR (ATR, cm -1 ): 2956, 2917, 2873, 2850, 1540, 1508, 1465, 1455, 1386, 1361, 1303, 1265, 1184, 1079, 902, 856, 825, 796, 750, 721, 694 , 653, 642, 620, 605.
[Example 10]
(200-88)(85mg,75μmol)とクロロホルム(3.4mL)ならびに酢酸(0.34mL)の混合物にN-ブロモコハク酸イミド(32mg,0.18mmol)を加えて室温で3時間撹拌した。反応終了後、水を加えてクロロホルムで抽出した。集めた有機層を水と飽和食塩水で洗浄したのちに無水硫酸マグネシウムで乾燥してろ別し、減圧下で溶媒を留去した。得られた残渣を再結晶(ヘキサン)で精製し、淡黄色固体の(200-16)を得た(80mg,83%)。
1H-NMR(CDCl3,400MHz)δ7.50(s,2H),7.33(s,2H),3.07(d,J=7.6Hz,4H),1.96-1.93(m,2H),1.42-1.22(m,80H),0.87-0.83(m,12H)。
13C-NMR(CDCl3,100MHz)δ135.5,134.8,134.5,133.5,132.4,132.2,129.9,129.8,122.2,118.8,114.4,39.8,37.6,33.0,31.9,30.1,29.7,29.6,29.4,26.2,22.7,14.1。
IR(ATR,cm-1):2956,2919,2850,1465,1457,1436,1361,1299,1263,1178,1151,1078,977,963,846,825,809,804,721。
[実施例11]
N-bromosuccinimide (32 mg, 0.18 mmol) was added to a mixture of (200-88) (85 mg, 75 μmol), chloroform (3.4 mL), and acetic acid (0.34 mL), and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours. After the reaction was completed, water was added and extracted with chloroform. The collected organic layer was washed with water and saturated brine, dried over anhydrous magnesium sulfate, filtered, and the solvent was distilled off under reduced pressure. The obtained residue was purified by recrystallization (hexane) to obtain (200-16) as a pale yellow solid (80 mg, 83%).
1 H-NMR (CDCl 3 , 400 MHz) δ7.50 (s, 2H), 7.33 (s, 2H), 3.07 (d, J = 7.6Hz, 4H), 1.96-1.93 (m, 2H), 1.42-1.22 (m, 80H), 0.87-0.83 (m, 12H).
13C -NMR (CDCl 3 , 100MHz) δ135.5, 134.8, 134.5, 133.5, 132.4, 132.2, 129.9, 129.8, 122.2, 118.8, 114.4, 39.8, 37.6, 33.0, 31.9, 30.1, 29.7, 29.6, 29.4, 26.2, 22.7, 14.1.
IR (ATR, cm −1 ): 2956, 2919, 2850, 1465, 1457, 1436, 1361, 1299, 1263, 1178, 1151, 1078, 977, 963, 846, 825, 809, 804, 721.
[Example 11]
(200-88)(0.447g,0.393mmol)とテトラヒドロフラン(16mL)の混合物に、0℃でn-ブチルリチウム(0.60mL,0.942mmol)を加え、3時間撹拌した。その後、イソプロポキシボロン酸ピナコール(0.24mL,0.219g,1.18mmol)を加え、1時間撹拌した。反応溶液に水を加えてクロロホルムで抽出した。集めた有機層を水と飽和食塩水で洗浄したのちに無水硫酸マグネシウムで乾燥してろ別し、減圧下で溶媒を留去した。得られた残渣を再結晶(ヘキサン/アセトン)で精製し、淡黄色固体の(200-41)を得た(0.402g,74%)。
1H-NMR(CDCl3,400MHz)δ7.87(s,2H),7.65(s,2H),3.16(d,J=7.2Hz,4H),2.07-2.01(m,2H),1.48-1.40(m,32H),1.29-1.22(m,72H),0.87-0.82(m,12H)。
13C-NMR(CDCl3,100MHz)δ141.6,138.5,137.5,134.1,133.9,132.9,130.8,130.4,129.2,118.7,84.4,39.2,37.9,33.1,31.9,30.0,29.7,29.4,26.4,24.8,22.7,14.1。
IR(ATR,cm-1):2956,2921,2852,2360,1500,1457,1438,1388,1363,1330,1253,1209,1135,1031,1022,958,881,850,831,721,657,607。
[実施例12]
To a mixture of (200-88) (0.447 g, 0.393 mmol) and tetrahydrofuran (16 mL) was added n-butyllithium (0.60 mL, 0.942 mmol) at 0°C, and the mixture was stirred for 3 hours. Then, isopropoxyboronic acid pinacol (0.24 mL, 0.219 g, 1.18 mmol) was added and stirred for 1 hour. Water was added to the reaction solution and extracted with chloroform. The collected organic layer was washed with water and saturated brine, dried over anhydrous magnesium sulfate, filtered, and the solvent was distilled off under reduced pressure. The obtained residue was purified by recrystallization (hexane/acetone) to obtain (200-41) as a pale yellow solid (0.402 g, 74%).
1 H-NMR (CDCl 3 , 400 MHz) δ7.87 (s, 2H), 7.65 (s, 2H), 3.16 (d, J = 7.2Hz, 4H), 2.07-2.01 (m, 2H), 1.48-1.40 (m, 32H), 1.29-1.22 (m, 72H), 0.87-0.82 (m, 12H).
13C -NMR (CDCl 3 , 100MHz) δ141.6, 138.5, 137.5, 134.1, 133.9, 132.9, 130.8, 130.4, 129.2, 118.7, 84.4, 39.2, 37.9, 33.1, 31.9, 30.0, 29.7, 29.4, 26.4, 24.8, 22.7, 14.1.
IR (ATR, cm -1 ): 2956, 2921, 2852, 2360, 1500, 1457, 1438, 1388, 1363, 1330, 1253, 1209, 1135, 1031, 1022, 958, 881, 850, 831, 721, 657 , 607.
[Example 12]
(200-88)(0.150g,0.132mmol)とテトラヒドロフラン(5.3mL)の混合物に、0℃でn-ブチルリチウム(0.20mL,0.316mmol)を加え、3時間撹拌した。その後、トリメチルすずクロリド(78.8mg,0.395mmol)を加え、室温で13時間撹拌した。反応溶液に水を加えてヘキサンで抽出した。集めた有機層を水と飽和食塩水で洗浄したのちに無水硫酸マグネシウムで乾燥してろ別し、減圧下で溶媒を留去した。得られた残渣を再沈殿(エタノール)で精製し、淡黄色固体の(200-64)を得た(0.132g,68%)。
1H-NMR(CDCl3,400MHz)δ7.60(s,2H),7.42(s,2H),3.12(d,J=7.6Hz,4H),2.07-1.98(m,2H),1.43-1.22(m,80H),0.87-0.82(m,12H),0.48(s,18H)。
13C-NMR(CDCl3,100MHz)δ142.8,141.0,138.0,137.4,134.0,133.4,132.4,130.3,130.2,126.8,118.8,39.5,37.8,33.1,31.9,30.1,29.7,29.4,26.3,22.7,14.1,-8.0。
IR(ATR,cm-1):2956,2919,2852,2360,1457,1386,1363,1301,1189,1160,1074,956,817,767,719,628,609。
[実施例13]
To a mixture of (200-88) (0.150 g, 0.132 mmol) and tetrahydrofuran (5.3 mL) was added n-butyllithium (0.20 mL, 0.316 mmol) at 0°C, and the mixture was stirred for 3 hours. Then, trimethyltin chloride (78.8 mg, 0.395 mmol) was added, and the mixture was stirred at room temperature for 13 hours. Water was added to the reaction solution and extracted with hexane. The collected organic layer was washed with water and saturated brine, dried over anhydrous magnesium sulfate, filtered, and the solvent was distilled off under reduced pressure. The obtained residue was purified by reprecipitation (ethanol) to obtain (200-64) as a pale yellow solid (0.132 g, 68%).
1 H-NMR (CDCl 3 , 400 MHz) δ7.60 (s, 2H), 7.42 (s, 2H), 3.12 (d, J = 7.6Hz, 4H), 2.07-1.98 (m, 2H), 1.43-1.22 (m, 80H), 0.87-0.82 (m, 12H), 0.48 (s, 18H).
13C -NMR (CDCl 3 , 100MHz) δ142.8, 141.0, 138.0, 137.4, 134.0, 133.4, 132.4, 130.3, 130.2, 126.8, 118.8, 39.5, 37.8, 33.1, 31.9, 30.1, 29.7, 29.4, 26.3, 22.7, 14.1, -8.0.
IR (ATR, cm −1 ): 2956, 2919, 2852, 2360, 1457, 1386, 1363, 1301, 1189, 1160, 1074, 956, 817, 767, 719, 628, 609.
[Example 13]
2,5-ビス(チエノ[3,2-b]チオニル)-3,6-ビス(4-ドデシルオクタデシニル)チエノ[3,2-b]チオフェン(600mg,0.480mmol)とN-メチルピロリドン(9.6mL)の混合物を40分間アルゴンバブリングした。この混合溶液に、アルゴン気流下で1,8-ジアザビシクロ[5,4,0]-7-ウンデセン(0.21mL,0.220g,1.44mmol)を加えて180℃で19時間撹拌した。得られた混合物を室温まで冷やしのちにメタノールに沈殿させることで析出した固体をろ過し、白色固体の(200-103)を得た(486mg,81%)。
1H-NMR(CDCl3,400MHz)δ7.61(s,2H),7.56(d,J=5.2Hz,2H),7.39(d,J=5.2Hz,2H),3.11(d,J=7.4Hz,4H),2.07-2.01(m,2H),1.54-1.22(m,96H),0.86(dt,J=6.9Hz,2.0Hz,12H)。
13C-NMR(CDCl3,100MHz)δ137.1,136.1,134.9,133.8,133.1,132.4,130.3,130.2,119.7,118.9,39.6,37.7,33.0,31.9,30.1,29.7,29.6,29.4,26.2,22.7,14.1。
IR(ATR,cm-1):2918,2848,2362,1471,719。
[実施例14]
2,5-bis(thieno[3,2-b]thionyl)-3,6-bis(4-dodecyloctadecynyl)thieno[3,2-b]thiophene (600 mg, 0.480 mmol) and N-methyl A mixture of pyrrolidone (9.6 mL) was bubbled with argon for 40 minutes. To this mixed solution, 1,8-diazabicyclo[5,4,0]-7-undecene (0.21 mL, 0.220 g, 1.44 mmol) was added under an argon stream, and the mixture was stirred at 180° C. for 19 hours. The resulting mixture was cooled to room temperature and then precipitated into methanol, and the precipitated solid was filtered to obtain (200-103) as a white solid (486 mg, 81%).
1 H-NMR (CDCl 3 , 400 MHz) δ7.61 (s, 2H), 7.56 (d, J = 5.2 Hz, 2H), 7.39 (d, J = 5.2 Hz, 2H), 3 .11 (d, J=7.4Hz, 4H), 2.07-2.01 (m, 2H), 1.54-1.22 (m, 96H), 0.86 (dt, J=6. 9Hz, 2.0Hz, 12H).
13C -NMR (CDCl 3 , 100MHz) δ137.1, 136.1, 134.9, 133.8, 133.1, 132.4, 130.3, 130.2, 119.7, 118.9, 39.6, 37.7, 33.0, 31.9, 30.1, 29.7, 29.6, 29.4, 26.2, 22.7, 14.1.
IR (ATR, cm −1 ): 2918, 2848, 2362, 1471, 719.
[Example 14]
(200-103)(397mg,0.320mmol)とテトラヒドロフラン(12.8mL)の混合物に0℃でn-ブチルリチウム(0.50mL,0.77mmol)を加え、3時間撹拌した。その後、Me3SnCl(191mg,0.960mmol)を加え、室温で20.5時間撹拌した。反応溶液に水を加えてヘキサンで抽出した。集めた有機層を水と飽和食塩水で洗浄したのちに無水硫酸マグネシウムで乾燥してろ別し、減圧下で溶媒を留去した。得られた残さを再沈殿(エタノール)で精製し、淡黄色固体の(200-97)を得た(454mg,90%)。
1H-NMR(CDCl3,400MHz)δ7.59(s,2H),7.41(s,2H),3.12(d,J=7.4Hz,4H),2.02(bs,1H),1.43-1.22(m,96H),0.86(dt,J=6.9Hz,4.0Hz,12H),0.48(s,18H)。
13C-NMR(CDCl3,100MHz)δ142.7,140.9,138.0,137.4,133.9,133.4,132.4,130.3,130.2,126.8,118.8,39.5,37.8,33.1,31.9,30.1,29.7,29.6,29.4,26.3,22.7,14.1,-8.0。
IR(ATR,cm-1):2918,2850,1471,952,766,719。
[実施例15]
To a mixture of (200-103) (397 mg, 0.320 mmol) and tetrahydrofuran (12.8 mL) was added n-butyllithium (0.50 mL, 0.77 mmol) at 0°C, and the mixture was stirred for 3 hours. Then, Me 3 SnCl (191 mg, 0.960 mmol) was added and stirred at room temperature for 20.5 hours. Water was added to the reaction solution and extracted with hexane. The collected organic layer was washed with water and saturated brine, dried over anhydrous magnesium sulfate, filtered, and the solvent was distilled off under reduced pressure. The obtained residue was purified by reprecipitation (ethanol) to obtain (200-97) as a pale yellow solid (454 mg, 90%).
1 H-NMR (CDCl 3 , 400 MHz) δ7.59 (s, 2H), 7.41 (s, 2H), 3.12 (d, J = 7.4Hz, 4H), 2.02 (bs, 1H) ), 1.43-1.22 (m, 96H), 0.86 (dt, J=6.9Hz, 4.0Hz, 12H), 0.48 (s, 18H).
13C -NMR (CDCl 3 , 100MHz) δ142.7, 140.9, 138.0, 137.4, 133.9, 133.4, 132.4, 130.3, 130.2, 126.8, 118.8, 39.5, 37.8, 33.1, 31.9, 30.1, 29.7, 29.6, 29.4, 26.3, 22.7, 14.1, -8 .0.
IR (ATR, cm −1 ): 2918, 2850, 1471, 952, 766, 719.
[Example 15]
2,5-ビス(チエノ[3,2-b]チエニル)-3,6-ビス(5-デシル-1-ヘキサデシニル)チエノ[3,2-b]チオフェン(200mg,167μmol)とN-メチルピロリドン(3.3mL)の混合物を30分間アルゴンバブリングした。この混合溶液に、アルゴン気流下でジアザビシクロウンデセン(75μL,76.5mg,502μmol)を加えて180℃で14時間撹拌した。得られた混合物を室温まで冷やしたのちにメタノールに沈殿させることで析出した固体をろ過した。得られた固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン/クロロホルム=4/1)で精製し、黄色固体の(200-112)を得た(162mg,81%)。
1H-NMR(CDCl3,400MHz)δ7.62(s,2H),7.54(d,J=5.2Hz,2H),7.37(d,J=5.2Hz,2H),3.13-3.09(m,4H),1.85-1.77(m,4H),1.56-1.51(m,4H),1.40-1.24(m,82H),0.87(t,J=6.8Hz,12H)。
13C-NMR(CDCl3,100MHz)δ136.9,136.0,134.7,134.0,133.7,132.4,130.3,129.8,128.2,119.7,117.3,37.5,34.9,33.7,31.9,30.2,29.8,29.7,29.6,29.4,27.5,26.8,22.7,14.1。
IR(ATR,cm-1):2919,2850,2360,1457,1436,1386,1363,1311,1187,1074,902,858,819,794,750,721,701,657,638,619。
[実施例16]
2,5-bis(thieno[3,2-b]thienyl)-3,6-bis(5-decyl-1-hexadecynyl)thieno[3,2-b]thiophene (200 mg, 167 μmol) and N-methylpyrrolidone (3.3 mL) was bubbled with argon for 30 minutes. Diazabicycloundecene (75 μL, 76.5 mg, 502 μmol) was added to this mixed solution under an argon stream, and the mixture was stirred at 180° C. for 14 hours. The resulting mixture was cooled to room temperature, and then precipitated into methanol, and the precipitated solid was filtered. The obtained solid was purified by silica gel column chromatography (hexane/chloroform = 4/1) to obtain (200-112) as a yellow solid (162 mg, 81%).
1 H-NMR (CDCl 3 , 400 MHz) δ7.62 (s, 2H), 7.54 (d, J = 5.2 Hz, 2H), 7.37 (d, J = 5.2 Hz, 2H), 3 .13-3.09 (m, 4H), 1.85-1.77 (m, 4H), 1.56-1.51 (m, 4H), 1.40-1.24 (m, 82H) , 0.87 (t, J=6.8Hz, 12H).
13C -NMR (CDCl 3 , 100MHz) δ136.9, 136.0, 134.7, 134.0, 133.7, 132.4, 130.3, 129.8, 128.2, 119.7, 117.3, 37.5, 34.9, 33.7, 31.9, 30.2, 29.8, 29.7, 29.6, 29.4, 27.5, 26.8, 22. 7,14.1.
IR (ATR, cm −1 ): 2919, 2850, 2360, 1457, 1436, 1386, 1363, 1311, 1187, 1074, 902, 858, 819, 794, 750, 721, 701, 657, 638, 619.
[Example 16]
(200-112)(300mg,0.251mmol)とテトラヒドロフラン(10mL)の混合物に、0℃でn-ブチルリチウム(0.40mL,0.620mmol)を加え、3時間撹拌した。その後、トリメチルすずクロリド(150mg,0.754mmol)を加え、室温で12時間撹拌した。反応溶液に水を加えてヘキサンで抽出した。集めた有機層を水と飽和食塩水で洗浄したのちに無水硫酸マグネシウムで乾燥してろ別し、減圧下で溶媒を留去した。得られた残さを再沈殿(エタノール)で精製し、淡黄色固体の(200-106)を得た(354mg,93%)。
1H-NMR(CDCl3,400MHz)δ7.67(s,2H),7.43(s,2H),3.19-3.15(m,4H),1.87-1.80(m,4H),1.58-1.54(m,4H),1.40-1.24(m,82H),0.86(t,J=6.8Hz,12H),0.48(s,18H)。
13C-NMR(CDCl3,100MHz)δ142.9,140.8,138.0,137.3,134.4,133.9,132.4,130.5,129.8,126.9,117.4,37.5,34.9,33.7,31.9,30.2,29.8,29.7,29.6,29.4,27.7,26.8,22.7,14.1,-8.0。
IR(ATR,cm-1):2956,2919,2852,2366,1457,1436,1419,1373,1303,1189,1176,1159,952,819,771,721。
[実施例17]
To a mixture of (200-112) (300 mg, 0.251 mmol) and tetrahydrofuran (10 mL) was added n-butyllithium (0.40 mL, 0.620 mmol) at 0°C, and the mixture was stirred for 3 hours. Then, trimethyltin chloride (150 mg, 0.754 mmol) was added and stirred at room temperature for 12 hours. Water was added to the reaction solution and extracted with hexane. The collected organic layer was washed with water and saturated brine, dried over anhydrous magnesium sulfate, filtered, and the solvent was distilled off under reduced pressure. The obtained residue was purified by reprecipitation (ethanol) to obtain (200-106) as a pale yellow solid (354 mg, 93%).
1 H-NMR (CDCl 3 , 400 MHz) δ7.67 (s, 2H), 7.43 (s, 2H), 3.19-3.15 (m, 4H), 1.87-1.80 (m , 4H), 1.58-1.54 (m, 4H), 1.40-1.24 (m, 82H), 0.86 (t, J=6.8Hz, 12H), 0.48 (s , 18H).
13C -NMR (CDCl 3 , 100MHz) δ142.9, 140.8, 138.0, 137.3, 134.4, 133.9, 132.4, 130.5, 129.8, 126.9, 117.4, 37.5, 34.9, 33.7, 31.9, 30.2, 29.8, 29.7, 29.6, 29.4, 27.7, 26.8, 22. 7, 14.1, -8.0.
IR (ATR, cm −1 ): 2956, 2919, 2852, 2366, 1457, 1436, 1419, 1373, 1303, 1189, 1176, 1159, 952, 819, 771, 721.
[Example 17]
(200-10)(100mg,73.3μmol)と2,6-ビス(トリメチルスズ)-チエノ[3,2-b]チオフェン(34.1mg,73.3μmol)、ならびにトルエン(2.5mL)の混合物を凍結脱気した。この混合液に、アルゴン気流下でPd(PPh3)4(4.40mg,3.81μmol)を加えて120℃で67時間撹拌して室温まで冷やした。この混合液溶媒を減圧下で留去した。得られた固体を少量のクロロホルムに溶解し、メタノールと濃塩酸の混合液(300mL/30mL)に滴下してろ過した。得られた固体を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水、メタノールで洗浄したのちにソックスレー抽出(メタノール→アセトン→ヘキサン→クロロホルム→モノクロロベンゼン→テトラリン)を行い、それぞれ濃縮した溶液をメタノールに滴下したのち、生じた沈殿をろ別した。得られた固体を90℃で減圧乾燥することで、モノクロロベンゼンに可溶な赤色固体の(14-1)(15.0mg,15%)を得た。
高温GPC:Mn=3200g/mol、Mw=4900g/mol、PDI=1.53。
[実施例18]
(200-10) (100 mg, 73.3 μmol), 2,6-bis(trimethyltin)-thieno[3,2-b]thiophene (34.1 mg, 73.3 μmol), and toluene (2.5 mL). The mixture was freeze degassed. Pd(PPh 3 ) 4 (4.40 mg, 3.81 μmol) was added to this mixture under an argon stream, stirred at 120° C. for 67 hours, and cooled to room temperature. The solvent of this mixture was distilled off under reduced pressure. The obtained solid was dissolved in a small amount of chloroform, added dropwise to a mixed solution of methanol and concentrated hydrochloric acid (300 mL/30 mL), and filtered. The obtained solid was washed with a saturated aqueous sodium bicarbonate solution, water, and methanol, and then subjected to Soxhlet extraction (methanol → acetone → hexane → chloroform → monochlorobenzene → tetralin), and the concentrated solutions were added dropwise to methanol. The precipitate was filtered off. The obtained solid was dried under reduced pressure at 90° C. to obtain (14-1) (15.0 mg, 15%) as a red solid soluble in monochlorobenzene.
High temperature GPC: Mn=3200g/mol, Mw=4900g/mol, PDI=1.53.
[Example 18]
(200-10)(100mg,73.3μmol)と2,6-ビス(トリメチルスズ)-4,8-ビス(2-エチルヘキシルオキシ)ベンゾ[1,2-b:4,5-b’]ジチオフェン(66.2mg,73.2μmol)、ならびにトルエン(2.5mL)の混合物を凍結脱気した。この混合液に、アルゴン気流下でPd(PPh3)4(5.87mg,5.08μmol)を加えて120℃で67時間撹拌して室温まで冷やした。この混合液溶媒を減圧下で留去した。得られた固体を少量のクロロホルムに溶解し、メタノールと濃塩酸の混合液(300mL/30mL)に滴下してろ過した。得られた固体を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水、メタノールで洗浄したのちにソックスレー抽出(メタノール→アセトン→ヘキサン→クロロホルム)を行い、クロロホルムに可溶部を90℃で減圧乾燥することで、赤色固体の(14-3)を得た(123mg,94%)。
GPC(THF)Mn=6900g/mol、Mw=37900g/mol、PDI=5.49。
[実施例19]
(200-10) (100 mg, 73.3 μmol) and 2,6-bis(trimethyltin)-4,8-bis(2-ethylhexyloxy)benzo[1,2-b:4,5-b']dithiophene (66.2 mg, 73.2 μmol) and toluene (2.5 mL) was freeze-degassed. Pd(PPh 3 ) 4 (5.87 mg, 5.08 μmol) was added to this mixture under an argon stream, stirred at 120° C. for 67 hours, and cooled to room temperature. The solvent of this mixture was distilled off under reduced pressure. The obtained solid was dissolved in a small amount of chloroform, added dropwise to a mixed solution of methanol and concentrated hydrochloric acid (300 mL/30 mL), and filtered. After washing the obtained solid with a saturated aqueous sodium bicarbonate solution, water, and methanol, Soxhlet extraction (methanol → acetone → hexane → chloroform) was performed, and the chloroform-soluble portion was dried under reduced pressure at 90°C to obtain a red solid. (14-3) was obtained (123 mg, 94%).
GPC (THF) Mn=6900g/mol, Mw=37900g/mol, PDI=5.49.
[Example 19]
(200-10)(100mg,73.3μmol)とベンゾチアジアゾール(28.6mg、73.6mmol)、トリス(2-メチルフェニル)ホスフィン(1.40g、4.60μmol)、塩化トリ(n-オクチルメチル)アンモニウム1滴、トルエン(2mL)、ならびに1M炭酸ナトリウム水溶液(0.4mL、400μmol)の混合物を30分間アルゴンバブリングした。この混合液に、アルゴン気流下でトリス(ジベンジデンアセトン)ジパラジウム(0)・クロロホルム(Pd2(dba)3・CHCl3)(1.76mg、1.70μmol)を加えて30分間アルゴンバブリングしたのちに67時間還流して室温まで冷やした。この混合液溶媒を減圧下で濃縮し、メタノールと濃塩酸の混合液(300mL/30mL)に滴下してろ過した。得られた固体を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水、メタノールで洗浄したのちにソックスレー抽出(メタノール→アセトン→ヘキサン→シクロヘキサン→クロロホルム)を行い、クロロホルムに可溶部を濃縮した溶液をメタノールに滴下した後、生じた沈殿をろ別した。得られた固体を90℃で減圧乾燥することで、青黒色固体の(14-2)を得た(35mg,36%)。
GPC(THF)Mn=19100g/mol,Mw=78300g/mol,PDI=4.09。Td3=323℃、Td5=338℃、Td10=364℃。
[実施例20]
(200-10) (100 mg, 73.3 μmol), benzothiadiazole (28.6 mg, 73.6 mmol), tris(2-methylphenyl)phosphine (1.40 g, 4.60 μmol), tri(n-octylmethyl chloride) ) A mixture of 1 drop of ammonium, toluene (2 mL), and 1M aqueous sodium carbonate (0.4 mL, 400 μmol) was bubbled with argon for 30 min. Tris(dibenzidenacetone)dipalladium(0)・chloroform (Pd 2 (dba) 3・CHCl 3 ) (1.76 mg, 1.70 μmol) was added to this mixed solution under an argon stream, and argon bubbling was carried out for 30 minutes. Thereafter, the mixture was refluxed for 67 hours and cooled to room temperature. The solvent mixture was concentrated under reduced pressure, added dropwise to a mixture of methanol and concentrated hydrochloric acid (300 mL/30 mL), and filtered. The obtained solid was washed with a saturated aqueous sodium bicarbonate solution, water, and methanol, and then subjected to Soxhlet extraction (methanol → acetone → hexane → cyclohexane → chloroform), and a solution in which the soluble portion was concentrated in chloroform was added dropwise to methanol. The resulting precipitate was filtered off. The obtained solid was dried under reduced pressure at 90° C. to obtain (14-2) as a blue-black solid (35 mg, 36%).
GPC (THF) M n =19100 g/mol, M w =78300 g/mol, PDI = 4.09. T d3 = 323°C, T d5 = 338°C, T d10 = 364°C.
[Example 20]
(200-7)(90.0mg,67.5μmol)と4,7-ビス(4,4,5,5-テトラメチル-1,3,2-ジオキサボロラン-2-イル)-2,1,3-ベンゾチアジアゾール(26.2mg,67.5μmol)と炭酸ナトリウム(35.6mg,337μmol)、トリ(o-トリル)ホスフィン(1.2mg,4.0μmol)、トルエン(1.7mL)ならびにDMSO(0.34mL)の混合物を30分間アルゴンバブリングした。この混合溶液に、アルゴン気流下でPd2(dba)3・CHCl3(1.4mg,1.3μmol)を加えて120℃で68時間撹拌した。得られた混合物を室温まで冷やしたのちにメタノールに沈殿させることで析出した固体をろ過し、黒色固体の(14-24)(85.8mg,97%)を得た。GPC(THF)Mn=8800g/mol、Mw=25700g/mol、PDI=2.93。
[実施例21]
(200-7) (90.0 mg, 67.5 μmol) and 4,7-bis(4,4,5,5-tetramethyl-1,3,2-dioxaborolan-2-yl)-2,1,3 -Benzothiadiazole (26.2 mg, 67.5 μmol), sodium carbonate (35.6 mg, 337 μmol), tri(o-tolyl)phosphine (1.2 mg, 4.0 μmol), toluene (1.7 mL) and DMSO (0 Argon was bubbled through the mixture for 30 minutes. Pd 2 (dba) 3 .CHCl 3 (1.4 mg, 1.3 μmol) was added to this mixed solution under an argon stream, and the mixture was stirred at 120° C. for 68 hours. The resulting mixture was cooled to room temperature and then precipitated into methanol, and the precipitated solid was filtered to obtain (14-24) (85.8 mg, 97%) as a black solid. GPC (THF) Mn=8800g/mol, Mw=25700g/mol, PDI=2.93.
[Example 21]
(200-26)(100mg,84.2μmol)と3,6-ビス(5-ブロモ-2-チエニル)-2,5-ジヒドロ-2,5-ジオクチルピロロ[3,4-c]ピロール-1,4-ジオン(57.5mg,84.2μmol)と炭酸ナトリウム(44.6mg,421μmol)とトルエン(2.1mL)ならびにDMSO(0.42mL)の混合物を30分間アルゴンバブリングした。この混合溶液に、アルゴン気流下でPd2(dba)3・CHCl3(1.8mg,1.7μmol)とトリ(o-トリル)ホスフィン(1.5mg,5.1μmol)を加えて120℃で65.5時間撹拌した。得られた混合物を室温まで冷やした後にメタノールに沈殿させることで析出した固体をろ過した。得られた固体をメタノール、アセトン、ヘキサン、クロロホルムおよびモノクロロベンゼンを用いてソックスレー抽出にてこれらの溶媒に可溶な成分を除去した。さらに、フィルター残渣をo-DCBに溶解させ、メタノールに沈殿させることで析出した固体をろ過した。得られた固体をメタノールで洗浄したのちに90℃で減圧乾燥することで黒色固体の(14-4)を得た(17mg,14%)。
高温GPC:Mn=5110、Mw=16900、PDI=3.30。Td3=369℃、Td5=396℃、Td10=426℃。DSCで相転移点は観測されなかった。
[実施例22]
(200-26) (100 mg, 84.2 μmol) and 3,6-bis(5-bromo-2-thienyl)-2,5-dihydro-2,5-dioctylpyrrolo[3,4-c]pyrrole-1 A mixture of ,4-dione (57.5 mg, 84.2 μmol), sodium carbonate (44.6 mg, 421 μmol), toluene (2.1 mL) and DMSO (0.42 mL) was bubbled with argon for 30 minutes. Pd 2 (dba) 3 .CHCl 3 (1.8 mg, 1.7 μmol) and tri(o-tolyl)phosphine (1.5 mg, 5.1 μmol) were added to this mixed solution under an argon stream, and the mixture was heated at 120°C. Stirred for 65.5 hours. The resulting mixture was cooled to room temperature and then precipitated into methanol, and the precipitated solid was filtered. The obtained solid was subjected to Soxhlet extraction using methanol, acetone, hexane, chloroform and monochlorobenzene to remove components soluble in these solvents. Furthermore, the filter residue was dissolved in o-DCB and precipitated in methanol, and the precipitated solid was filtered. The obtained solid was washed with methanol and then dried under reduced pressure at 90°C to obtain (14-4) as a black solid (17 mg, 14%).
High temperature GPC: Mn=5110, Mw=16900, PDI=3.30. T d3 = 369°C, T d5 = 396°C, T d10 = 426°C. No phase transition point was observed by DSC.
[Example 22]
(200-26)(100mg,84.2μmol)と3,6-ビス(5-ブロモ-2-チエニル)-2,5-ビス(2-ヘキシルデシル)-2,5-ジヒドロピロロ[3,4-c]ピロール-1,4-ジオン(76.4mg,84.2μmol)と1M炭酸ナトリウム水溶液(0.42mL,0.42mmol)とトルエン(2.1mL)ならびに1滴のAliquat336の混合物を30分間アルゴンバブリングした。この混合溶液に、アルゴン気流下でPd2(dba)3・CHCl3(1.8mg,1.7μmol)とトリ(o-トリル)ホスフィン(1.5mg,5.1μmol)を加えて120℃で65.5時間撹拌した。得られた混合物を室温まで冷やした後にメタノールに沈殿させることで析出した固体をろ過した。得られた固体をメタノール、アセトン、ヘキサン、クロロホルムおよびモノクロロベンゼンを用いてソックスレー抽出にてこれらの溶媒に可溶な成分を除去した。さらに、フィルター残渣をo-DCBに溶解させ、メタノールに沈殿させることで析出した固体をろ過した。得られた固体をメタノールで洗浄したのちに90℃で減圧乾燥することで黒色固体の(14-5)を得た(61mg,43%)。
GPC(TCB,120℃)Mn=6200g/mol、Mw=22800g/mol、
PDI=3.66。Td3=332℃、Td5=367℃、Td10=410℃。DSCで相転移点は観測されなかった。
[実施例23]
(200-26) (100 mg, 84.2 μmol) and 3,6-bis(5-bromo-2-thienyl)-2,5-bis(2-hexyldecyl)-2,5-dihydropyrrolo[3,4 -c] A mixture of pyrrole-1,4-dione (76.4 mg, 84.2 μmol), 1M aqueous sodium carbonate solution (0.42 mL, 0.42 mmol), toluene (2.1 mL) and 1 drop of Aliquat 336 for 30 minutes. Argon was bubbled. Pd 2 (dba) 3 .CHCl 3 (1.8 mg, 1.7 μmol) and tri(o-tolyl)phosphine (1.5 mg, 5.1 μmol) were added to this mixed solution under an argon stream, and the mixture was heated at 120°C. Stirred for 65.5 hours. The resulting mixture was cooled to room temperature and then precipitated into methanol, and the precipitated solid was filtered. The obtained solid was subjected to Soxhlet extraction using methanol, acetone, hexane, chloroform and monochlorobenzene to remove components soluble in these solvents. Furthermore, the filter residue was dissolved in o-DCB and precipitated in methanol, and the precipitated solid was filtered. The obtained solid was washed with methanol and then dried under reduced pressure at 90°C to obtain (14-5) as a black solid (61 mg, 43%).
GPC (TCB, 120°C) Mn = 6200g/mol, Mw = 22800g/mol,
PDI=3.66. T d3 = 332°C, T d5 = 367°C, T d10 = 410°C. No phase transition point was observed by DSC.
[Example 23]
(200-26)(100mg,84.2μmol)と4,7-ジブロモ-2,1,3-ベンゾチアジアゾール(24.8mg,84.2μmol)と炭酸ナトリウム(44.6mg,421μmol)とトルエン(2.1mL)ならびにDMSO(0.42mL)の混合物を30分間アルゴンバブリングした。この混合溶液に、アルゴン気流下でPd2(dba)3・CHCl3(1.8mg,1.7μmol)とトリ(o-トリル)ホスフィン(1.5mg,5.1μmol)を加えて120℃で62時間撹拌した。得られた混合物を室温まで冷やした後にメタノールに沈殿させることで析出した固体をろ過した。得られた固体をメタノール、アセトン、ヘキサンおよびクロロホルムを用いてソックスレー抽出にてこれらの溶媒に可溶な成分を除去した。さらに、フィルター残渣をモノクロロベンゼンに溶解させ、メタノールに沈殿させることで析出した固体をろ過した。得られた固体をメタノールで洗浄したのちに90℃で減圧乾燥することで黒色固体の(14-7)を得た(7.2mg,8%)。
高温GPC:Mn=4100g/mol、Mw=45500、PDI=11.1。
[実施例24]
(200-26) (100 mg, 84.2 μmol), 4,7-dibromo-2,1,3-benzothiadiazole (24.8 mg, 84.2 μmol), sodium carbonate (44.6 mg, 421 μmol), and toluene (2 Argon was bubbled through a mixture of 0.1 mL) and DMSO (0.42 mL) for 30 minutes. Pd 2 (dba) 3 .CHCl 3 (1.8 mg, 1.7 μmol) and tri(o-tolyl)phosphine (1.5 mg, 5.1 μmol) were added to this mixed solution under an argon stream, and the mixture was heated at 120°C. Stirred for 62 hours. The resulting mixture was cooled to room temperature and then precipitated into methanol, and the precipitated solid was filtered. The obtained solid was subjected to Soxhlet extraction using methanol, acetone, hexane and chloroform to remove components soluble in these solvents. Furthermore, the filter residue was dissolved in monochlorobenzene, and the precipitated solid was filtered by precipitating it in methanol. The obtained solid was washed with methanol and then dried under reduced pressure at 90°C to obtain (14-7) as a black solid (7.2 mg, 8%).
High temperature GPC: Mn=4100g/mol, Mw=45500, PDI=11.1.
[Example 24]
(200-38)(100mg,84.2μmol)と4,7-ビス(5-ブロモ-2-チエニル)-2,1,3-ベンゾチアジアゾール(38.6mg,84.2μmol)と炭酸ナトリウム(44.6mg,421μmol)とトルエン(2.1mL)ならびにDMSO(0.42mL)の混合物を30分間アルゴンバブリングした。この混合溶液に、アルゴン気流下でPd2(dba)3・CHCl3(1.8mg,1.7μmol)とトリ(o-トリル)ホスフィン(1.5mg,5.1μmol)を加えて120℃で67.5時間撹拌した。得られた混合物を室温まで冷やした後にメタノールに沈殿させることで析出した固体をろ過した。得られた固体をメタノール、アセトン、ヘキサン、クロロホルムおよびモノクロロベンゼンを用いてソックスレー抽出にてこれらの溶媒に可溶な成分を除去した。さらに、フィルター残渣をo-DCBに溶解させ、メタノールに沈殿させることで析出した固体をろ過した。得られた固体をメタノールで洗浄したのちに90℃で減圧乾燥することで黒色固体の(14-9)を得た(13mg,13%)。
高温GPC:Mn=1000、Mw=10300、PDI=10.3。Td3=216℃、Td5=381℃、Td10=437℃。DSCで相転移点は観測されなかった。
[実施例25]
(200-38) (100 mg, 84.2 μmol), 4,7-bis(5-bromo-2-thienyl)-2,1,3-benzothiadiazole (38.6 mg, 84.2 μmol), and sodium carbonate (44 A mixture of toluene (2.1 mL) and DMSO (0.42 mL) was bubbled with argon for 30 minutes. Pd 2 (dba) 3 .CHCl 3 (1.8 mg, 1.7 μmol) and tri(o-tolyl)phosphine (1.5 mg, 5.1 μmol) were added to this mixed solution under an argon stream, and the mixture was heated at 120°C. Stirred for 67.5 hours. The resulting mixture was cooled to room temperature, and then precipitated into methanol, and the precipitated solid was filtered. The obtained solid was subjected to Soxhlet extraction using methanol, acetone, hexane, chloroform and monochlorobenzene to remove components soluble in these solvents. Furthermore, the filter residue was dissolved in o-DCB and precipitated in methanol, and the precipitated solid was filtered. The obtained solid was washed with methanol and then dried under reduced pressure at 90°C to obtain (14-9) as a black solid (13 mg, 13%).
High temperature GPC: Mn=1000, Mw=10300, PDI=10.3. T d3 = 216°C, T d5 = 381°C, T d10 = 437°C. No phase transition point was observed by DSC.
[Example 25]
(200-38)(100mg,84.2μmol)と4,7-ビス(5-ブロモ-4-ドデシル-2-チエニル)-2,1,3-ベンゾチアジアゾール(66.9mg,84.2μmol)と炭酸ナトリウム(44.6mg,421μmol)とトルエン(2.1mL)ならびにDMSO(0.42mL)の混合物を30分間アルゴンバブリングした。この混合溶液に、アルゴン気流下でPd2(dba)3・CHCl3(1.8mg,1.7μmol)とトリ(o-トリル)ホスフィン(1.5mg,5.1μmol)を加えて120℃で62時間撹拌した。得られた混合物を室温まで冷やしたのちにメタノールに沈殿させることで析出した固体をろ過した。得られた固体をメタノール、アセトン、ヘキサン、クロロホルムおよびモノクロロベンゼンを用いてソックスレー抽出にてこれらの溶媒に可溶な成分を除去した。さらに、フィルター残渣をo-DCBに溶解させ、メタノールに沈殿させることで析出した固体をろ過した。得られた固体をメタノールで洗浄したのちに90℃で減圧乾燥することで黒色固体の(14-8)を得た(28mg,21%)。
高温GPC:Mn=12900、Mw=31200、PDI=2.42。Td3=299℃、Td5=339℃、Td10=399℃。DSCで相転移点は観測されなかった。
[実施例26]
(200-38) (100 mg, 84.2 μmol) and 4,7-bis(5-bromo-4-dodecyl-2-thienyl)-2,1,3-benzothiadiazole (66.9 mg, 84.2 μmol). A mixture of sodium carbonate (44.6 mg, 421 μmol), toluene (2.1 mL) and DMSO (0.42 mL) was bubbled with argon for 30 minutes. Pd 2 (dba) 3 .CHCl 3 (1.8 mg, 1.7 μmol) and tri(o-tolyl)phosphine (1.5 mg, 5.1 μmol) were added to this mixed solution under an argon stream, and the mixture was heated at 120°C. Stirred for 62 hours. The resulting mixture was cooled to room temperature, and then precipitated into methanol, and the precipitated solid was filtered. The obtained solid was subjected to Soxhlet extraction using methanol, acetone, hexane, chloroform and monochlorobenzene to remove components soluble in these solvents. Furthermore, the filter residue was dissolved in o-DCB and precipitated in methanol, and the precipitated solid was filtered. The obtained solid was washed with methanol and then dried under reduced pressure at 90°C to obtain (14-8) as a black solid (28 mg, 21%).
High temperature GPC: Mn=12900, Mw=31200, PDI=2.42. T d3 = 299°C, T d5 = 339°C, T d10 = 399°C. No phase transition point was observed by DSC.
[Example 26]
(200-38)(100mg,84.2μmol)と4,7-ビス(5-ブロモ-2-チエニル)-2-n-オクチル-2H-ベンゾトリアゾール(46.6mg,84.2μmol)と炭酸ナトリウム(44.6mg,421μmol)とトルエン(2.1mL)ならびにDMSO(0.42mL)の混合物を30分間アルゴンバブリングした。この混合溶液に、アルゴン気流下でPd2(dba)3・CHCl3(1.8mg,1.7μmol)とトリ(o-トリル)ホスフィン(1.5mg,5.1μmol)を加えて120℃で65時間撹拌した。得られた混合物を室温まで冷やしたのちにメタノールに沈殿させることで析出した固体をろ過した。得られた固体をメタノール、アセトン、ヘキサン、クロロホルムおよびモノクロロベンゼンを用いてソックスレー抽出にてこれらの溶媒に可溶な成分を除去した。さらに、フィルター残渣をo-DCBに溶解させ、メタノールに沈殿させることで析出した固体をろ過した。得られた固体をメタノールで洗浄したのちに90℃で減圧乾燥することで黒色固体の(14-6)を得た(20mg,18%)。
高温GPC:Mn=3860、Mw=12700、PDI=3.29。Td3=323℃、Td5=353℃、Td10=409℃。DSCで相転移点は観測されなかった。
[実施例27]
(200-38) (100 mg, 84.2 μmol), 4,7-bis(5-bromo-2-thienyl)-2-n-octyl-2H-benzotriazole (46.6 mg, 84.2 μmol), and sodium carbonate A mixture of (44.6 mg, 421 μmol), toluene (2.1 mL) and DMSO (0.42 mL) was bubbled with argon for 30 minutes. Pd 2 (dba) 3 .CHCl 3 (1.8 mg, 1.7 μmol) and tri(o-tolyl)phosphine (1.5 mg, 5.1 μmol) were added to this mixed solution under an argon stream, and the mixture was heated at 120°C. Stirred for 65 hours. The resulting mixture was cooled to room temperature, and then precipitated into methanol, and the precipitated solid was filtered. The obtained solid was subjected to Soxhlet extraction using methanol, acetone, hexane, chloroform and monochlorobenzene to remove components soluble in these solvents. Furthermore, the filter residue was dissolved in o-DCB and precipitated in methanol, and the precipitated solid was filtered. The obtained solid was washed with methanol and then dried under reduced pressure at 90°C to obtain (14-6) as a black solid (20 mg, 18%).
High temperature GPC: Mn=3860, Mw=12700, PDI=3.29. T d3 = 323°C, T d5 = 353°C, T d10 = 409°C. No phase transition point was observed by DSC.
[Example 27]
(200-4)(100mg,81.1μmol)と4,7-ビス(5-トリメチルスタンニル-2-チエニル)-2,1,3-ベンゾチアジアゾール(50.7mg,81.1μmol)ならびにトルエン(2.0mL)の混合物を凍結脱気した。この混合溶液に、アルゴン気流下でPd(PPh3)4(4.7mg,4.1μmol)を加えて120℃で64時間撹拌した。得られた混合物を室温まで冷やした後にメタノールに沈殿させることで析出した固体をろ過した。得られた固体をメタノール、アセトン、ヘキサン、クロロホルムおよびモノクロロベンゼンを用いてソックスレー抽出にてこれらの溶媒に可溶な成分を除去した。さらに、フィルター残渣をo-DCBに溶解させ、メタノールに沈殿させることで析出した固体をろ過した。得られた固体をメタノールで洗浄した後に90℃で減圧乾燥することで黒色固体の(14-10)を得た(35mg,32%)。
高温GPC:Mn=3900g/mol、Mw=28500g/mol、PDI=7.31。Td3=338℃、Td5=359℃、Td10=390℃。DSCで相転移点は観測されなかった。
[実施例28]
(200-4) (100 mg, 81.1 μmol), 4,7-bis(5-trimethylstannyl-2-thienyl)-2,1,3-benzothiadiazole (50.7 mg, 81.1 μmol) and toluene ( 2.0 mL) of the mixture was freeze-degassed. Pd(PPh 3 ) 4 (4.7 mg, 4.1 μmol) was added to this mixed solution under an argon stream, and the mixture was stirred at 120° C. for 64 hours. The resulting mixture was cooled to room temperature, and then precipitated into methanol, and the precipitated solid was filtered. The obtained solid was subjected to Soxhlet extraction using methanol, acetone, hexane, chloroform and monochlorobenzene to remove components soluble in these solvents. Furthermore, the filter residue was dissolved in o-DCB and precipitated in methanol, and the precipitated solid was filtered. The obtained solid was washed with methanol and then dried under reduced pressure at 90°C to obtain (14-10) as a black solid (35 mg, 32%).
High temperature GPC: Mn=3900g/mol, Mw=28500g/mol, PDI=7.31. T d3 = 338°C, T d5 = 359°C, T d10 = 390°C. No phase transition point was observed by DSC.
[Example 28]
(200-16)(100mg,77.2μmol)と4,7-ビス(5-トリメチルスタンニル-2-チエニル)-2,1,3-ベンゾチアジアゾール(48.3mg,77.2μmol)ならびにトルエン(1.9mL)の混合物を凍結脱気した。この混合溶液に、アルゴン気流下でPd(PPh3)4(4.6mg,3.9μmol)を加えて120℃で65時間撹拌した。得られた混合物を室温まで冷やしたのちにメタノールに沈殿させることで析出した固体をろ過した。得られた固体をメタノール、アセトン、ヘキサン、クロロホルムおよびモノクロロベンゼンを用いてソックスレー抽出にてこれらの溶媒に可溶な成分を除去した。さらに、フィルター残渣をo-ジクロロベンゼンに溶解させ、メタノールに沈殿させることで析出した固体をろ過した。得られた固体をメタノールで洗浄したのちに90℃で減圧乾燥することで黒色固体の(14-11)を得た(35mg,31%)。
高温GPC:Mn=5400、Mw=9100、PDI=1.68。Td3=367℃、Td5=389℃、Td10=424℃。DSCで相転移点は観測されなかった。
[実施例29]
(200-16) (100 mg, 77.2 μmol) and 4,7-bis(5-trimethylstannyl-2-thienyl)-2,1,3-benzothiadiazole (48.3 mg, 77.2 μmol) and toluene ( 1.9 mL) of the mixture was freeze-degassed. Pd(PPh 3 ) 4 (4.6 mg, 3.9 μmol) was added to this mixed solution under an argon stream, and the mixture was stirred at 120° C. for 65 hours. The resulting mixture was cooled to room temperature, and then precipitated into methanol, and the precipitated solid was filtered. The obtained solid was subjected to Soxhlet extraction using methanol, acetone, hexane, chloroform and monochlorobenzene to remove components soluble in these solvents. Furthermore, the filter residue was dissolved in o-dichlorobenzene and precipitated in methanol, and the precipitated solid was filtered. The obtained solid was washed with methanol and then dried under reduced pressure at 90°C to obtain (14-11) as a black solid (35 mg, 31%).
High temperature GPC: Mn=5400, Mw=9100, PDI=1.68. T d3 = 367°C, T d5 = 389°C, T d10 = 424°C. No phase transition point was observed by DSC.
[Example 29]
(200-41)(200mg,144μmol)と3,6-ビス(5-ブロモ-2-チエニル)-2,5-ジヒドロ-2,5-ジオクチルピロロ[3,4-c]ピロール-1,4-ジオン(98.2mg,144μmol)、炭酸ナトリウム(76.3mg,719μmol)、トリ(o-トリル)ホスフィン(2.6mg,8.6μmol)、テトラリン(3.6mL)ならびにDMSO(0.7mL)の混合物を30分間アルゴンバブリングした。この混合溶液に、アルゴン気流下でPd2(dba)3・CHCl3(3.0mg,2.9μmol)を加えて120℃で66時間撹拌した。得られた混合物を室温まで冷やしたのちにメタノールに沈殿させることで析出した固体をろ過した。得られた固体をメタノール、アセトン、ヘキサン、クロロホルムおよびモノクロロベンゼンを用いてソックスレー抽出にてこれらの溶媒に可溶な成分を除去した。さらに、フィルター残渣をo-ジクロロベンゼンに溶解させ、メタノールに沈殿させることで析出した固体をろ過した。得られた固体をメタノールで洗浄したのちに90℃で減圧乾燥することで黒色固体の(14-177)を得た(30mg,13%)。
GPC(TCB,120℃):Mn=4300g/mol、Mw=14900g/mol、PDI=3.47。
Td3=349℃,Td5=360℃,Td10=375℃。
DSCで相転移点は観測されなかった。
[実施例30]
(200-41) (200 mg, 144 μmol) and 3,6-bis(5-bromo-2-thienyl)-2,5-dihydro-2,5-dioctylpyrrolo[3,4-c]pyrrole-1,4 -dione (98.2 mg, 144 μmol), sodium carbonate (76.3 mg, 719 μmol), tri(o-tolyl)phosphine (2.6 mg, 8.6 μmol), tetralin (3.6 mL) and DMSO (0.7 mL) The mixture was bubbled with argon for 30 minutes. Pd 2 (dba) 3 .CHCl 3 (3.0 mg, 2.9 μmol) was added to this mixed solution under an argon stream, and the mixture was stirred at 120° C. for 66 hours. The resulting mixture was cooled to room temperature, and then precipitated into methanol, and the precipitated solid was filtered. The obtained solid was subjected to Soxhlet extraction using methanol, acetone, hexane, chloroform and monochlorobenzene to remove components soluble in these solvents. Furthermore, the filter residue was dissolved in o-dichlorobenzene and precipitated in methanol, and the precipitated solid was filtered. The obtained solid was washed with methanol and then dried under reduced pressure at 90°C to obtain (14-177) as a black solid (30 mg, 13%).
GPC (TCB, 120°C): Mn=4300g/mol, Mw=14900g/mol, PDI=3.47.
T d3 = 349°C, T d5 = 360°C, T d10 = 375°C.
No phase transition point was observed by DSC.
[Example 30]
(200-64)(200mg,144μmol)と3,6-ビス(5-ブロモ-2-チエニル)-2,5-ビス(2-ヘキシルデシル)-2,5-ジヒドロピロロ[3,4-c]ピロール-1,4-ジオン(131mg,144μmol)、炭酸ナトリウム(76.3mg,719μmol)、トリ(o-トリル)ホスフィン(2.6mg,8.6μmol)、テトラリン(3.6mL)ならびにDMSO(0.7mL)の混合物を30分間アルゴンバブリングした。この混合溶液に、アルゴン気流下でPd2(dba)3・CHCl3(3.0mg,2.9μmol)を加えて120℃で66時間撹拌した。得られた混合物を室温まで冷やしたのちにメタノールに沈殿させることで析出した固体をろ過した。得られた固体をメタノール、アセトンおよびヘキサンを用いてソックスレー抽出にてこれらの溶媒に可溶な成分を除去した。さらに、フィルター残渣をクロロホルムに溶解させ、メタノールに沈殿させることで析出した固体をろ過した。得られた固体をメタノールで洗浄したのちに90℃で減圧乾燥することで黒色固体の(14-181)を得た(254mg,94%)。
GPC(THF):Mn=44000g/mol、Mw=326000g/mol、PDI=7.71。
GPC(TCB,120℃):Mn=37700g/mol、Mw=86900g/mol、PDI=2.31。
Td3=348℃,Td5=358℃,Td10=371℃。
DSCで相転移点は観測されなかった。
[実施例31]
(200-64) (200 mg, 144 μmol) and 3,6-bis(5-bromo-2-thienyl)-2,5-bis(2-hexyldecyl)-2,5-dihydropyrrolo[3,4-c ] Pyrrole-1,4-dione (131 mg, 144 μmol), sodium carbonate (76.3 mg, 719 μmol), tri(o-tolyl)phosphine (2.6 mg, 8.6 μmol), tetralin (3.6 mL) and DMSO ( Argon was bubbled through the mixture for 30 minutes. Pd 2 (dba) 3 .CHCl 3 (3.0 mg, 2.9 μmol) was added to this mixed solution under an argon stream, and the mixture was stirred at 120° C. for 66 hours. The resulting mixture was cooled to room temperature, and then precipitated into methanol, and the precipitated solid was filtered. The obtained solid was subjected to Soxhlet extraction using methanol, acetone, and hexane to remove components soluble in these solvents. Furthermore, the filter residue was dissolved in chloroform, and the precipitated solid was filtered by precipitating it in methanol. The obtained solid was washed with methanol and then dried under reduced pressure at 90°C to obtain (14-181) as a black solid (254 mg, 94%).
GPC (THF): Mn=44000g/mol, Mw=326000g/mol, PDI=7.71.
GPC (TCB, 120°C): Mn=37700g/mol, Mw=86900g/mol, PDI=2.31.
T d3 = 348°C, T d5 = 358°C, T d10 = 371°C.
No phase transition point was observed by DSC.
[Example 31]
(200-64)(100mg,68.3μmol)と3,6-ビス(5-ブロモ-2-チエニル)-2,5-ビス(2-ヘキシルデシル)-2,5-ジヒドロピロロ[3,4-c]ピロール-1,4-ジオン(62.0mg,68.3μmol)ならびにモノクロロベンゼン(1.7mL)の混合物を30分間アルゴンバブリングした。この混合溶液に、Pd(PPh3)4(1.6mg,1.4μmol)を加えてマイクロウェーブリアクターを用いて180℃で2時間撹拌した。得られた混合物を室温まで冷やしたのちにメタノールに沈殿させることで析出した固体をろ過した。得られた固体をメタノール、アセトンおよびヘキサンを用いてソックスレー抽出にてこれらの溶媒に可溶な成分を除去した。さらに、フィルター残渣をクロロホルムに溶解させ、メタノールに沈殿させることで析出した固体をろ過した。得られた固体をメタノールで洗浄したのちに90℃で減圧乾燥することで黒色固体の(14-181)を得た(124mg,96%)。
GPC(THF):Mn=29000g/mol,Mw=619000g/mol,PDI=21.4。
GPC(TCB,120℃):Mn=15000g/mol、Mw=89000g/mol、PDI=6.00。
Td3=364℃,Td5=375℃,Td10=389℃。
DSCで相転移点は観測されなかった。
[実施例32]
(200-64) (100 mg, 68.3 μmol) and 3,6-bis(5-bromo-2-thienyl)-2,5-bis(2-hexyldecyl)-2,5-dihydropyrrolo[3,4 A mixture of -c]pyrrole-1,4-dione (62.0 mg, 68.3 μmol) and monochlorobenzene (1.7 mL) was bubbled with argon for 30 minutes. Pd(PPh 3 ) 4 (1.6 mg, 1.4 μmol) was added to this mixed solution and stirred at 180° C. for 2 hours using a microwave reactor. The resulting mixture was cooled to room temperature and then precipitated into methanol, and the precipitated solid was filtered. The obtained solid was subjected to Soxhlet extraction using methanol, acetone, and hexane to remove components soluble in these solvents. Furthermore, the filter residue was dissolved in chloroform, and the precipitated solid was filtered by precipitating it in methanol. The obtained solid was washed with methanol and then dried under reduced pressure at 90°C to obtain (14-181) as a black solid (124 mg, 96%).
GPC (THF): Mn=29000g/mol, Mw=619000g/mol, PDI=21.4.
GPC (TCB, 120°C): Mn=15000g/mol, Mw=89000g/mol, PDI=6.00.
T d3 = 364°C, T d5 = 375°C, T d10 = 389°C.
No phase transition point was observed by DSC.
[Example 32]
(200-64)(100mg,68.3μmol)と3,6-ビス(5-ブロモ-2-チエニル)-2,5-ビス(2-ヘキシルデシル)-2,5-ジヒドロピロロ[3,4-c]ピロール-1,4-ジオン(62.0mg,68.3μmol)ならびにテトラリン(2.0mL)の混合物を30分間アルゴンバブリングした。この混合溶液に、Pd2(dba)3・CHCl3(1.4mg,1.4μmol)とトリ(o-トリル)ホスフィン(1.7mg,5.5μmol)を加えてマイクロウェーブリアクターを用いて180℃で2時間撹拌した。得られた混合物を室温まで冷やしたのちにメタノール/濃塩酸の混合溶液(150mL/10mL)に沈殿させることで析出した固体をろ過した。得られた固体をメタノール、アセトンおよびヘキサンを用いてソックスレー抽出にてこれらの溶媒に可溶な成分を除去した。さらに、フィルター残さをクロロホルムに溶解させ、メタノールに沈殿させることで析出した固体をろ過した。得られた固体をメタノールで洗浄したのちに90℃で減圧乾燥することで黒色固体の(14-181)を得た(124mg,95%)。
GPC(THF):Mn=68000g/mol,Mw=430000g/mol,PDI=6.28。
GPC(TCB,120℃):Mn=12000g/mol、Mw=48000g/mol、PDI=4.16。
Td3=365℃,Td5=377℃,Td10=392℃。
DSCで相転移点は観測されなかった。
[実施例33]
(200-64) (100 mg, 68.3 μmol) and 3,6-bis(5-bromo-2-thienyl)-2,5-bis(2-hexyldecyl)-2,5-dihydropyrrolo[3,4 -c] Pyrrole-1,4-dione (62.0 mg, 68.3 μmol) and tetralin (2.0 mL) were bubbled with argon for 30 minutes. Pd 2 (dba) 3 .CHCl 3 (1.4 mg, 1.4 μmol) and tri(o-tolyl)phosphine (1.7 mg, 5.5 μmol) were added to this mixed solution, and the mixture was heated to 180 μm using a microwave reactor. Stirred at ℃ for 2 hours. The resulting mixture was cooled to room temperature, and then precipitated in a mixed solution of methanol/concentrated hydrochloric acid (150 mL/10 mL), and the precipitated solid was filtered. The obtained solid was subjected to Soxhlet extraction using methanol, acetone, and hexane to remove components soluble in these solvents. Furthermore, the filter residue was dissolved in chloroform, and the precipitated solid was filtered by precipitating it in methanol. The obtained solid was washed with methanol and then dried under reduced pressure at 90°C to obtain (14-181) as a black solid (124 mg, 95%).
GPC (THF): Mn=68000g/mol, Mw=430000g/mol, PDI=6.28.
GPC (TCB, 120°C): Mn=12000g/mol, Mw=48000g/mol, PDI=4.16.
T d3 = 365°C, T d5 = 377°C, T d10 = 392°C.
No phase transition point was observed by DSC.
[Example 33]
(200-64)(100mg,68.3μmol)と3,6-ビス(5-ブロモ-2-チエニル)-2,5-ビス(2-ヘキシルデシル)-2,5-ジヒドロピロロ[3,4-c]ピロール-1,4-ジオン(62.0mg,68.3μmol)ならびにテトラリン(2.0mL)の混合物を30分間アルゴンバブリングした。この混合溶液に、Pd2(dba)3・CHCl3(1.4mg,1.4μmol)とトリ(o-トリル)ホスフィン(1.7mg,5.5μmol)を加えてマイクロウェーブリアクターを用いて200℃で2時間撹拌した。得られた混合物を室温まで冷やしたのちにメタノール/濃塩酸の混合溶液(150mL/10mL)に沈殿させることで析出した固体をろ過した。得られた固体をメタノール、アセトンおよびヘキサンを用いてソックスレー抽出にてこれらの溶媒に可溶な成分を除去した。さらに、フィルター残さをクロロホルムに溶解させ、メタノールに沈殿させることで析出した固体をろ過した。得られた固体をメタノールで洗浄したのちに90℃で減圧乾燥することで黒色固体の(14-181)を得た(118mg,91%)。
GPC(THF):Mn=65000g/mol,Mw=423000g/mol,PDI=6.46。
GPC(TCB,120℃):Mn=12000g/mol、Mw=53000g/mol、PDI=4.39。
Td3=337℃,Td5=346℃,Td10=360℃。
DSCで相転移点は観測されなかった。
[実施例34]
(200-64) (100 mg, 68.3 μmol) and 3,6-bis(5-bromo-2-thienyl)-2,5-bis(2-hexyldecyl)-2,5-dihydropyrrolo[3,4 -c] Pyrrole-1,4-dione (62.0 mg, 68.3 μmol) and tetralin (2.0 mL) were bubbled with argon for 30 minutes. Pd 2 (dba) 3 .CHCl 3 (1.4 mg, 1.4 μmol) and tri(o-tolyl)phosphine (1.7 mg, 5.5 μmol) were added to this mixed solution, and the mixture was heated to 200 μm using a microwave reactor. Stirred at ℃ for 2 hours. The resulting mixture was cooled to room temperature, and then precipitated in a mixed solution of methanol/concentrated hydrochloric acid (150 mL/10 mL), and the precipitated solid was filtered. The obtained solid was subjected to Soxhlet extraction using methanol, acetone, and hexane to remove components soluble in these solvents. Furthermore, the filter residue was dissolved in chloroform, and the precipitated solid was filtered by precipitating it in methanol. The obtained solid was washed with methanol and then dried under reduced pressure at 90°C to obtain (14-181) as a black solid (118 mg, 91%).
GPC (THF): Mn=65000g/mol, Mw=423000g/mol, PDI=6.46.
GPC (TCB, 120°C): Mn=12000g/mol, Mw=53000g/mol, PDI=4.39.
T d3 = 337°C, T d5 = 346°C, T d10 = 360°C.
No phase transition point was observed by DSC.
[Example 34]
(200-64)(100mg,68.3μmol)と3,6-ビス(5-ブロモ-2-チエニル)-2,5-ビス(2-ヘキシルデシル)-2,5-ジヒドロピロロ[3,4-c]ピロール-1,4-ジオン(62.0mg,68.3μmol)ならびにモノクロロベンゼン(2.0mL)の混合物を30分間アルゴンバブリングした。この混合溶液に、Pd2(dba)3・CHCl3(1.4mg,1.4μmol)とトリ(o-トリル)ホスフィン(1.7mg,5.5μmol)を加えてマイクロウェーブリアクターを用いて180℃で2時間撹拌した。得られた混合物を室温まで冷やしたのちにメタノール/濃塩酸の混合溶液(150mL/10mL)に沈殿させることで析出した固体をろ過した。得られた固体をメタノール、アセトンおよびヘキサンを用いてソックスレー抽出にてこれらの溶媒に可溶な成分を除去した。さらに、フィルター残さをクロロホルムに溶解させ、メタノールに沈殿させることで析出した固体をろ過した。得られた固体をメタノールで洗浄したのちに90℃で減圧乾燥することで黒色固体の(14-181)を得た(108mg,84%)。
GPC(THF):Mn=63000g/mol,Mw=306000g/mol,PDI=4.88。
GPC(TCB,120℃):Mn=14000g/mol、Mw=51000g/mol、PDI=3.74。
Td3=338℃,Td5=352℃,Td10=368℃。
DSCで相転移点は観測されなかった。
[実施例35]
(200-64) (100 mg, 68.3 μmol) and 3,6-bis(5-bromo-2-thienyl)-2,5-bis(2-hexyldecyl)-2,5-dihydropyrrolo[3,4 -c] Pyrrole-1,4-dione (62.0 mg, 68.3 μmol) and monochlorobenzene (2.0 mL) were bubbled with argon for 30 minutes. Pd 2 (dba) 3 .CHCl 3 (1.4 mg, 1.4 μmol) and tri(o-tolyl)phosphine (1.7 mg, 5.5 μmol) were added to this mixed solution, and the mixture was heated to 180 μm using a microwave reactor. Stirred at ℃ for 2 hours. The resulting mixture was cooled to room temperature, and then precipitated in a mixed solution of methanol/concentrated hydrochloric acid (150 mL/10 mL), and the precipitated solid was filtered. The obtained solid was subjected to Soxhlet extraction using methanol, acetone, and hexane to remove components soluble in these solvents. Furthermore, the filter residue was dissolved in chloroform, and the precipitated solid was filtered by precipitating it in methanol. The obtained solid was washed with methanol and then dried under reduced pressure at 90°C to obtain (14-181) as a black solid (108 mg, 84%).
GPC (THF): Mn=63000g/mol, Mw=306000g/mol, PDI=4.88.
GPC (TCB, 120°C): Mn=14000g/mol, Mw=51000g/mol, PDI=3.74.
T d3 = 338°C, T d5 = 352°C, T d10 = 368°C.
No phase transition point was observed by DSC.
[Example 35]
(200-64)(100mg,68.3μmol)と3,6-ビス(5-ブロモ-2-チエニル)-2,5-ビス(2-ヘキシルデシル)-2,5-ジヒドロピロロ[3,4-c]ピロール-1,4-ジオン(62.0mg,68.3μmol)ならびにモノクロロベンゼン(2.0mL)の混合物を30分間アルゴンバブリングした。この混合溶液に、Pd2(dba)3・CHCl3(1.4mg,1.4μmol)とトリ(o-トリル)ホスフィン(1.7mg,5.5μmol)とヨウ化銅(I)(1.0mg,5.5μmol)を加えてマイクロウェーブリアクターを用いて180℃で2時間撹拌した。得られた混合物を室温まで冷やしたのちにメタノール/濃塩酸の混合溶液(150mL/10mL)に沈殿させることで析出した固体をろ過した。得られた固体をメタノール、アセトンおよびヘキサンを用いてソックスレー抽出にてこれらの溶媒に可溶な成分を除去した。さらに、フィルター残さをクロロホルムに溶解させ、メタノールに沈殿させることで析出した固体をろ過した。得られた固体をメタノールで洗浄したのちに90℃で減圧乾燥することで黒色固体の(14-181)を得た(112mg,87%)。
GPC(THF):Mn=60000g/mol,Mw=251000g/mol,PDI=4.16。
GPC(TCB,120℃):Mn=13000g/mol、Mw=40000g/mol、PDI=3.10。
Td3=336℃,Td5=348℃,Td10=365℃。
DSCで相転移点は観測されなかった。
[実施例36]
(200-64) (100 mg, 68.3 μmol) and 3,6-bis(5-bromo-2-thienyl)-2,5-bis(2-hexyldecyl)-2,5-dihydropyrrolo[3,4 -c] Pyrrole-1,4-dione (62.0 mg, 68.3 μmol) and monochlorobenzene (2.0 mL) were bubbled with argon for 30 minutes. To this mixed solution, Pd 2 (dba) 3 .CHCl 3 (1.4 mg, 1.4 μmol), tri(o-tolyl)phosphine (1.7 mg, 5.5 μmol), and copper(I) iodide (1.5 μmol) were added. 0 mg, 5.5 μmol) and stirred at 180° C. for 2 hours using a microwave reactor. The resulting mixture was cooled to room temperature, and then precipitated in a mixed solution of methanol/concentrated hydrochloric acid (150 mL/10 mL), and the precipitated solid was filtered. The obtained solid was subjected to Soxhlet extraction using methanol, acetone and hexane to remove components soluble in these solvents. Furthermore, the filter residue was dissolved in chloroform, and the precipitated solid was filtered by precipitating it in methanol. The obtained solid was washed with methanol and then dried under reduced pressure at 90°C to obtain (14-181) as a black solid (112 mg, 87%).
GPC (THF): Mn=60000g/mol, Mw=251000g/mol, PDI=4.16.
GPC (TCB, 120°C): Mn=13000g/mol, Mw=40000g/mol, PDI=3.10.
T d3 = 336°C, T d5 = 348°C, T d10 = 365°C.
No phase transition point was observed by DSC.
[Example 36]
(12-64)(100mg,68.3μmol)と3,6-ビス(5-ブロモ-2-チエニル)-2,5-ビス(2-ヘキシルデシル)-2,5-ジヒドロピロロ[3,4-c]ピロール-1,4-ジオン(62.0mg,68.3μmol)ならびにテトラリン(2.0mL)の混合物を30分間アルゴンバブリングした。この混合溶液に、Pd2(dba)3・CHCl3(1.4mg,1.4μmol)とトリ(o-トリル)ホスフィン(1.7mg,5.5μmol)を加えてマイクロウェーブリアクターを用いて180℃で2時間撹拌した。その後、反応溶液に2-(トリブチルスタンニル)チオフェン(0.20mL,229mg,0.615mmol)を加えてマイクロウェーブリアクターを用いて180℃で10分撹拌した。さらに、2-ブロモチオフェン(0.06mL,111mg,0.683mmol)を加えてマイクロウェーブリアクターを用いて180℃で10分撹拌した。得られた混合物を室温まで冷やしたのちにメタノール/1N塩酸の混合溶液(150mL/10mL)に沈殿させることで析出した固体をろ過した。得られた固体をメタノール、アセトンおよびヘキサンを用いてソックスレー抽出にてこれらの溶媒に可溶な成分を除去した。さらに、フィルター残さをクロロホルムに溶解させ、メタノールに沈殿させることで析出した固体をろ過した。得られた固体をメタノールで洗浄したのちに90℃で減圧乾燥することで黒色固体のチオフェンで末端官能基化された(14-181)を得た(70mg,54%)。
GPC(THF):Mn=28000g/mol,Mw=49000g/mol,PDI=1.75。
GPC(TCB,120℃):Mn=8000g/mol、Mw=19000g/mol、PDI=2.35。
Td3=340℃,Td5=367℃,Td10=396℃。
DSCで相転移点は観測されなかった。
[実施例37]
(12-64) (100 mg, 68.3 μmol) and 3,6-bis(5-bromo-2-thienyl)-2,5-bis(2-hexyldecyl)-2,5-dihydropyrrolo[3,4 -c] Pyrrole-1,4-dione (62.0 mg, 68.3 μmol) and tetralin (2.0 mL) were bubbled with argon for 30 minutes. Pd 2 (dba) 3 .CHCl 3 (1.4 mg, 1.4 μmol) and tri(o-tolyl)phosphine (1.7 mg, 5.5 μmol) were added to this mixed solution, and the mixture was heated to 180 μm using a microwave reactor. Stirred at ℃ for 2 hours. Thereafter, 2-(tributylstannyl)thiophene (0.20 mL, 229 mg, 0.615 mmol) was added to the reaction solution, and the mixture was stirred at 180° C. for 10 minutes using a microwave reactor. Furthermore, 2-bromothiophene (0.06 mL, 111 mg, 0.683 mmol) was added and stirred at 180° C. for 10 minutes using a microwave reactor. The resulting mixture was cooled to room temperature, and then precipitated in a mixed solution of methanol/1N hydrochloric acid (150 mL/10 mL), and the precipitated solid was filtered. The obtained solid was subjected to Soxhlet extraction using methanol, acetone, and hexane to remove components soluble in these solvents. Furthermore, the filter residue was dissolved in chloroform, and the precipitated solid was filtered by precipitating it in methanol. The obtained solid was washed with methanol and then dried under reduced pressure at 90° C. to obtain a black solid (14-181) terminally functionalized with thiophene (70 mg, 54%).
GPC (THF): Mn=28000g/mol, Mw=49000g/mol, PDI=1.75.
GPC (TCB, 120°C): Mn=8000g/mol, Mw=19000g/mol, PDI=2.35.
T d3 = 340°C, T d5 = 367°C, T d10 = 396°C.
No phase transition point was observed by DSC.
[Example 37]
(200-64)(100mg,68.3μmol)と3,6-ビス(5-ブロモ-2-チエニル)-2,5-ビス(2-オクチルドデシル)-2,5-ジヒドロピロロ[3,4-c]ピロール-1,4-ジオン(69.6mg,68.3μmol)ならびにテトラリン(2.0mL)の混合物を30分間アルゴンバブリングした。この混合溶液に、Pd2(dba)3・CHCl3(1.4mg,1.4μmol)とトリ(o-トリル)ホスフィン(1.7mg,5.5μmol)を加えてマイクロウェーブリアクターを用いて180℃で2時間撹拌した。得られた混合物を室温まで冷やしたのちにメタノール/濃塩酸の混合溶液(150mL/10mL)に沈殿させることで析出した固体をろ過した。得られた固体をメタノール、アセトンおよびメチルエチルケトンを用いてソックスレー抽出にてこれらの溶媒に可溶な成分を除去した。さらに、フィルター残さをヘキサンに溶解させ、メタノールに沈殿させることで析出した固体をろ過した。得られた固体をメタノールで洗浄したのちに90℃で減圧乾燥することで黒色固体の(14-185)を得た(105mg,77%)。
GPC(THF):Mn=10000g/mol,Mw=33000g/mol,PDI=3.30。
GPC(TCB,120℃):Mn=4600g/mol、Mw=16400g/mol、PDI=3.55。
Td3=339℃,Td5=383℃,Td10=411℃。
DSCで相転移点は観測されなかった。
[実施例38]
(200-64) (100 mg, 68.3 μmol) and 3,6-bis(5-bromo-2-thienyl)-2,5-bis(2-octyldodecyl)-2,5-dihydropyrrolo[3,4 -c] Pyrrole-1,4-dione (69.6 mg, 68.3 μmol) and tetralin (2.0 mL) were bubbled with argon for 30 minutes. Pd 2 (dba) 3 .CHCl 3 (1.4 mg, 1.4 μmol) and tri(o-tolyl)phosphine (1.7 mg, 5.5 μmol) were added to this mixed solution, and the mixture was heated to 180 μm using a microwave reactor. Stirred at ℃ for 2 hours. The resulting mixture was cooled to room temperature, and then precipitated in a mixed solution of methanol/concentrated hydrochloric acid (150 mL/10 mL), and the precipitated solid was filtered. The obtained solid was subjected to Soxhlet extraction using methanol, acetone and methyl ethyl ketone to remove components soluble in these solvents. Furthermore, the filter residue was dissolved in hexane, and the precipitated solid was filtered by precipitating it in methanol. The obtained solid was washed with methanol and then dried under reduced pressure at 90°C to obtain (14-185) as a black solid (105 mg, 77%).
GPC (THF): Mn=10000g/mol, Mw=33000g/mol, PDI=3.30.
GPC (TCB, 120°C): Mn=4600g/mol, Mw=16400g/mol, PDI=3.55.
T d3 = 339°C, T d5 = 383°C, T d10 = 411°C.
No phase transition point was observed by DSC.
[Example 38]
(200-64)(100mg,68.3μmol)と3,6-ビス(5-ブロモ-2-チエニル)-2,5-ビス(2-デシルテトラデシル)-2,5-ジヒドロピロロ[3,4-c]ピロール-1,4-ジオン(77.3mg,68.3μmol)ならびにテトラリン(2.0mL)の混合物を30分間アルゴンバブリングした。この混合溶液に、Pd2(dba)3・CHCl3(1.4mg,1.4μmol)とトリ(o-トリル)ホスフィン(1.7mg,5.5μmol)を加えてマイクロウェーブリアクターを用いて180℃で2時間撹拌した。得られた混合物を室温まで冷やしたのちにメタノール/濃塩酸の混合溶液(150mL/10mL)に沈殿させることで析出した固体をろ過した。得られた固体をメタノール、アセトンおよびヘキサンを用いてソックスレー抽出にてこれらの溶媒に可溶な成分を除去した。さらに、フィルター残さをクロロホルムに溶解させ、メタノールに沈殿させることで析出した固体をろ過した。得られた固体をメタノールで洗浄したのちに90℃で減圧乾燥することで黒色固体の(14-189)を得た(115mg,80%)。
GPC(THF):Mn=67000g/mol,Mw=347000g/mol,PDI=5.16。
GPC(TCB,120℃):Mn=16000g/mol、Mw=48000g/mol、PDI=2.92。
Td3=350℃,Td5=388℃,Td10=413℃。
DSCで相転移点は観測されなかった。
[実施例39]
(200-64) (100 mg, 68.3 μmol) and 3,6-bis(5-bromo-2-thienyl)-2,5-bis(2-decyltetradecyl)-2,5-dihydropyrrolo[3, A mixture of 4-c]pyrrole-1,4-dione (77.3 mg, 68.3 μmol) and tetralin (2.0 mL) was bubbled with argon for 30 minutes. Pd 2 (dba) 3 .CHCl 3 (1.4 mg, 1.4 μmol) and tri(o-tolyl)phosphine (1.7 mg, 5.5 μmol) were added to this mixed solution, and the mixture was heated to 180 μm using a microwave reactor. Stirred at ℃ for 2 hours. The resulting mixture was cooled to room temperature, and then precipitated in a mixed solution of methanol/concentrated hydrochloric acid (150 mL/10 mL), and the precipitated solid was filtered. The obtained solid was subjected to Soxhlet extraction using methanol, acetone, and hexane to remove components soluble in these solvents. Furthermore, the filter residue was dissolved in chloroform, and the precipitated solid was filtered by precipitating it in methanol. The obtained solid was washed with methanol and then dried under reduced pressure at 90°C to obtain (14-189) as a black solid (115 mg, 80%).
GPC (THF): Mn=67000g/mol, Mw=347000g/mol, PDI=5.16.
GPC (TCB, 120°C): Mn=16000g/mol, Mw=48000g/mol, PDI=2.92.
T d3 = 350°C, T d5 = 388°C, T d10 = 413°C.
No phase transition point was observed by DSC.
[Example 39]
(200-41)(200mg,144μmol)とDPP-O4(121mg,144μmol)、炭酸ナトリウム(76.3mg,719μmol)、トリ(o-トリル)ホスフィン(2.6mg,8.6μmol)、テトラリン(3.6mL)ならびにDMSO(0.7mL)の混合物を30分間アルゴンバブリングした。この混合溶液に、アルゴン気流下でPd2(dba)3・CHCl3(3.0mg,2.9μmol)を加えて120℃で66時間撹拌した。得られた混合物を室温まで冷やしたのちにメタノールに沈殿させることで析出した固体をろ過した。得られた固体をメタノール、アセトン、ヘキサン、クロロホルムおよびモノクロロベンゼンを用いてソックスレー抽出にてこれらの溶媒に可溶な成分を除去した。さらに、フィルター残渣をo-ジクロロベンゼンに溶解させ、メタノールに沈殿させることで析出した固体をろ過した。得られた固体をメタノールで洗浄したのちに90℃で減圧乾燥することで黒色固体の(14-200)を得た(モノクロロベンゼン抽出分:69mg,27%,o-ジクロロベンゼン抽出分:141mg,54%)。
モノクロロベンゼン抽出分:
GPC(TCB,120℃):Mn=5700g/mol、Mw=30600g/mol、PDI=5.32。
Td3=347℃,Td5=388℃,Td10=407℃。
DSCで相転移点は観測されなかった。
o-ジクロロベンゼン抽出分:
GPC(TCB,120℃):Mn=5300g/mol、Mw=29400g/mol、PDI=5.53。
Td3=339℃,Td5=349℃,Td10=365℃。
DSCで相転移点は観測されなかった。
[実施例40]
(200-41) (200 mg, 144 μmol), DPP-O4 (121 mg, 144 μmol), sodium carbonate (76.3 mg, 719 μmol), tri(o-tolyl)phosphine (2.6 mg, 8.6 μmol), tetralin (3 Argon was bubbled through a mixture of 0.6 mL) and DMSO (0.7 mL) for 30 minutes. Pd 2 (dba) 3 .CHCl 3 (3.0 mg, 2.9 μmol) was added to this mixed solution under an argon stream, and the mixture was stirred at 120° C. for 66 hours. The resulting mixture was cooled to room temperature, and then precipitated into methanol, and the precipitated solid was filtered. The obtained solid was subjected to Soxhlet extraction using methanol, acetone, hexane, chloroform and monochlorobenzene to remove components soluble in these solvents. Furthermore, the filter residue was dissolved in o-dichlorobenzene and precipitated in methanol, and the precipitated solid was filtered. The obtained solid was washed with methanol and then dried under reduced pressure at 90°C to obtain (14-200) as a black solid (monochlorobenzene extract: 69 mg, 27%, o-dichlorobenzene extract: 141 mg, 54%).
Monochlorobenzene extract:
GPC (TCB, 120°C): Mn=5700g/mol, Mw=30600g/mol, PDI=5.32.
T d3 = 347°C, T d5 = 388°C, T d10 = 407°C.
No phase transition point was observed by DSC.
o-dichlorobenzene extract:
GPC (TCB, 120°C): Mn=5300g/mol, Mw=29400g/mol, PDI=5.53.
T d3 = 339°C, T d5 = 349°C, T d10 = 365°C.
No phase transition point was observed by DSC.
[Example 40]
(200-97)(100mg,63.5μmol)と3,6-ビス(5-ブロモ-2-チエニル)-2,5-ビス(2-ヘキシルデシル)-2,5-ジヒドロピロロ[3,4-c]ピロール-1,4-ジオン(57.5mg,63.5μmol)ならびにテトラリン(2.0mL)の混合物を30分間アルゴンバブリングした。この混合溶液に、Pd2(dba)3・CHCl3(1.3mg,1.3μmol)とトリ(o-トリル)ホスフィン(1.5mg,5.1μmol)を加えてマイクロウェーブリアクターを用いて180℃で2時間撹拌した。得られた混合物を室温まで冷やしたのちにメタノール/1N塩酸の混合溶液(150mL/10mL)に沈殿させることで析出した固体をろ過した。得られた固体をメタノール、アセトンおよびヘキサンを用いてソックスレー抽出にてこれらの溶媒に可溶な成分を除去した。さらに、フィルター残さをクロロホルムに溶解させ、メタノールに沈殿させることで析出した固体をろ過した。得られた固体をメタノールで洗浄したのちに90℃で減圧乾燥することで黒色固体の(14-182)を得た(147mg,quant)。
GPC(THF):Mn=127000g/mol,Mw=650000g/mol,PDI=5.12。
GPC(TCB,120℃):Mn=15000g/mol、Mw=56000、PDI=3.56。
Td3=237℃,Td5=324℃,Td10=372℃。
DSCで相転移点は観測されなかった。
[実施例41]
(200-97) (100 mg, 63.5 μmol) and 3,6-bis(5-bromo-2-thienyl)-2,5-bis(2-hexyldecyl)-2,5-dihydropyrrolo[3,4 -c] Pyrrole-1,4-dione (57.5 mg, 63.5 μmol) and tetralin (2.0 mL) were bubbled with argon for 30 minutes. Pd 2 (dba) 3 .CHCl 3 (1.3 mg, 1.3 μmol) and tri(o-tolyl)phosphine (1.5 mg, 5.1 μmol) were added to this mixed solution, and the mixture was heated to 180 μm using a microwave reactor. Stirred at ℃ for 2 hours. The resulting mixture was cooled to room temperature, and then precipitated in a mixed solution of methanol/1N hydrochloric acid (150 mL/10 mL), and the precipitated solid was filtered. The obtained solid was subjected to Soxhlet extraction using methanol, acetone and hexane to remove components soluble in these solvents. Furthermore, the filter residue was dissolved in chloroform, and the precipitated solid was filtered by precipitating it in methanol. The obtained solid was washed with methanol and then dried under reduced pressure at 90° C. to obtain (14-182) as a black solid (147 mg, quant).
GPC (THF): Mn=127000g/mol, Mw=650000g/mol, PDI=5.12.
GPC (TCB, 120°C): Mn=15000g/mol, Mw=56000, PDI=3.56.
T d3 = 237°C, T d5 = 324°C, T d10 = 372°C.
No phase transition point was observed by DSC.
[Example 41]
(200-97)(100mg,63.5μmol)と3,6-ビス(5-ブロモ-2-チエニル)-2,5-ビス(2-デシルテトラデシル)-2,5-ジヒドロピロロ[3,4-c]ピロール-1,4-ジオン(77.3mg,63.5μmol)ならびにテトラリン(2.0mL)の混合物を30分間アルゴンバブリングした。この混合溶液に、Pd2(dba)3・CHCl3(1.3mg,1.3μmol)とトリ(o-トリル)ホスフィン(1.5mg,5.1μmol)を加えてマイクロウェーブリアクターを用いて180℃で2時間撹拌した。得られた混合物を室温まで冷やしたのちにメタノール/1N塩酸の混合溶液(150mL/10mL)に沈殿させることで析出した固体をろ過した。得られた固体をメタノール、アセトンおよびヘキサンを用いてソックスレー抽出にてこれらの溶媒に可溶な成分を除去した。さらに、フィルター残さをクロロホルムに溶解させ、メタノールに沈殿させることで析出した固体をろ過した。得られた固体をメタノールで洗浄したのちに90℃で減圧乾燥することで黒色固体の(14-190)を得た(140mg,quant)。
GPC(THF):Mn=46000g/mol,Mw=410000g/mol,PDI=8.92。
Td3=331℃,Td5=346℃,Td10=365℃。
DSC:Tg=183℃。
[実施例42]
(200-97) (100 mg, 63.5 μmol) and 3,6-bis(5-bromo-2-thienyl)-2,5-bis(2-decyltetradecyl)-2,5-dihydropyrrolo[3, A mixture of 4-c]pyrrole-1,4-dione (77.3 mg, 63.5 μmol) and tetralin (2.0 mL) was bubbled with argon for 30 minutes. Pd 2 (dba) 3 .CHCl 3 (1.3 mg, 1.3 μmol) and tri(o-tolyl)phosphine (1.5 mg, 5.1 μmol) were added to this mixed solution, and the mixture was heated to 180 μm using a microwave reactor. Stirred at ℃ for 2 hours. The resulting mixture was cooled to room temperature, and then precipitated in a mixed solution of methanol/1N hydrochloric acid (150 mL/10 mL), and the precipitated solid was filtered. The obtained solid was subjected to Soxhlet extraction using methanol, acetone and hexane to remove components soluble in these solvents. Furthermore, the filter residue was dissolved in chloroform, and the precipitated solid was filtered by precipitating it in methanol. The obtained solid was washed with methanol and then dried under reduced pressure at 90°C to obtain (14-190) as a black solid (140 mg, quant).
GPC (THF): Mn=46000g/mol, Mw=410000g/mol, PDI=8.92.
T d3 = 331°C, T d5 = 346°C, T d10 = 365°C.
DSC: Tg = 183°C.
[Example 42]
(200-106)(100mg,65.8μmol)と3,6-ビス(5-ブロモ-2-チエニル)-2,5-ビス(2-ヘキシルデシル)-2,5-ジヒドロピロロ[3,4-c]ピロール-1,4-ジオン(59.7mg,65.8μmol)ならびにモノクロロベンゼン(2.0mL)の混合物を30分間アルゴンバブリングした。この混合溶液に、Pd2(dba)3・CHCl3(1.4mg,1.3μmol)とトリ(o-トリル)ホスフィン(1.6mg,5.3μmol)を加えてマイクロウェーブリアクターを用いて180℃で2時間撹拌した。得られた混合物を室温まで冷やしたのちにメタノール/1N塩酸の混合溶液(150mL/10mL)に沈殿させることで析出した固体をろ過した。得られた固体をメタノール、アセトンおよびヘキサンを用いてソックスレー抽出にてこれらの溶媒に可溶な成分を除去した。さらに、フィルター残さをクロロホルムに溶解させ、メタノールに沈殿させることで析出した固体をろ過した。得られた固体をメタノールで洗浄したのちに90℃で減圧乾燥することで黒色固体の(14-183)を得た(111mg,87%)。
GPC(THF):Mn=149000g/mol,Mw=935000g/mol,PDI=6.29。
GPC(TCB,120℃):Mn=15000g/mol、Mw=108000g/mol、PDI=7.23。
Td3=348℃,Td5=358℃,Td10=373℃。
DSCで相転移点は観測されなかった。
[実施例43]
(200-106) (100 mg, 65.8 μmol) and 3,6-bis(5-bromo-2-thienyl)-2,5-bis(2-hexyldecyl)-2,5-dihydropyrrolo[3,4 -c] Pyrrole-1,4-dione (59.7 mg, 65.8 μmol) and monochlorobenzene (2.0 mL) were bubbled with argon for 30 minutes. Pd 2 (dba) 3 .CHCl 3 (1.4 mg, 1.3 μmol) and tri(o-tolyl)phosphine (1.6 mg, 5.3 μmol) were added to this mixed solution, and the mixture was heated to 180 μm using a microwave reactor. Stirred at ℃ for 2 hours. The resulting mixture was cooled to room temperature, and then precipitated in a mixed solution of methanol/1N hydrochloric acid (150 mL/10 mL), and the precipitated solid was filtered. The obtained solid was subjected to Soxhlet extraction using methanol, acetone, and hexane to remove components soluble in these solvents. Furthermore, the filter residue was dissolved in chloroform, and the precipitated solid was filtered by precipitating it in methanol. The obtained solid was washed with methanol and then dried under reduced pressure at 90°C to obtain (14-183) as a black solid (111 mg, 87%).
GPC (THF): Mn=149000g/mol, Mw=935000g/mol, PDI=6.29.
GPC (TCB, 120°C): Mn=15000g/mol, Mw=108000g/mol, PDI=7.23.
T d3 = 348°C, T d5 = 358°C, T d10 = 373°C.
No phase transition point was observed by DSC.
[Example 43]
(200-64)(100mg,68.3μmol)と4,7-ジブロモ-2,1,3-ベンゾチアジアゾール(20mg,68.3μmol)ならびにテトラリン(2.0mL)の混合物を30分間アルゴンバブリングした。この混合溶液に、Pd2(dba)3・CHCl3(1.4mg,1.4μmol)とトリ(o-トリル)ホスフィン(1.7mg,5.5μmol)を加えてマイクロウェーブリアクターを用いて180℃で2時間撹拌した。得られた混合物を室温まで冷やしたのちにメタノール/1N塩酸の混合溶液(150mL/10mL)に沈殿させることで析出した固体をろ過した。得られた固体をメタノール、アセトン、ヘキサンおよびクロロホルムを用いてソックスレー抽出にてこれらの溶媒に可溶な成分を除去した。さらに、フィルター残さをモノジクロロベンゼンに溶解させ、メタノールに沈殿させることで析出した固体をろ過した。得られた固体をメタノールで洗浄したのちに90℃で減圧乾燥することで黒色固体の(14-209)を得た(33mg,38%)。
GPC(TCB,120℃):Mn=5500g/mol、Mw=23000g/mol、PDI=4.15。
Td3=373℃,Td5=389℃,Td10=410℃。
DSCで相転移点は観測されなかった。
[実施例44]
A mixture of (200-64) (100 mg, 68.3 μmol), 4,7-dibromo-2,1,3-benzothiadiazole (20 mg, 68.3 μmol) and tetralin (2.0 mL) was bubbled with argon for 30 minutes. Pd 2 (dba) 3 .CHCl 3 (1.4 mg, 1.4 μmol) and tri(o-tolyl)phosphine (1.7 mg, 5.5 μmol) were added to this mixed solution, and the mixture was heated to 180 μm using a microwave reactor. Stirred at ℃ for 2 hours. The resulting mixture was cooled to room temperature, and then precipitated in a mixed solution of methanol/1N hydrochloric acid (150 mL/10 mL), and the precipitated solid was filtered. The obtained solid was subjected to Soxhlet extraction using methanol, acetone, hexane and chloroform to remove components soluble in these solvents. Furthermore, the filter residue was dissolved in monodichlorobenzene, and the precipitated solid was filtered by precipitating it in methanol. The obtained solid was washed with methanol and then dried under reduced pressure at 90°C to obtain (14-209) as a black solid (33 mg, 38%).
GPC (TCB, 120°C): Mn=5500g/mol, Mw=23000g/mol, PDI=4.15.
T d3 = 373°C, T d5 = 389°C, T d10 = 410°C.
No phase transition point was observed by DSC.
[Example 44]
(200-16)(100mg,77.2μmol)と4,7-ビス(5-トリメチルスタンニル-2-チエニル)-2,1,3-ベンゾチアジアゾール(48.3mg,77.2μmol)ならびにトルエン(1.9mL)の混合物を凍結脱気した。この混合溶液に、アルゴン気流下でPd(PPh3)4(4.6mg,3.9μmol)を加えて120℃で65時間撹拌した。得られた混合物を室温まで冷やしたのちにメタノールに沈殿させることで析出した固体をろ過した。得られた固体をメタノール、アセトン、ヘキサン、クロロホルムおよびモノクロロベンゼンを用いてソックスレー抽出にてこれらの溶媒に可溶な成分を除去した。さらに、フィルター残渣をo-ジクロロベンゼンに溶解させ、メタノールに沈殿させることで析出した固体をろ過した。得られた固体をメタノールで洗浄したのちに90℃で減圧乾燥することで黒色固体の(14-28)を得た(35mg,31%)。
GPC(TCB,120℃):Mn=5500g/mol、Mw=9000g/mol、PDI=1.66。
Td3=367℃,Td5=389℃,Td10=424℃。
DSCで相転移点は観測されなかった。
[実施例45]
(200-16) (100 mg, 77.2 μmol) and 4,7-bis(5-trimethylstannyl-2-thienyl)-2,1,3-benzothiadiazole (48.3 mg, 77.2 μmol) and toluene ( 1.9 mL) of the mixture was freeze-degassed. Pd(PPh 3 ) 4 (4.6 mg, 3.9 μmol) was added to this mixed solution under an argon stream, and the mixture was stirred at 120° C. for 65 hours. The resulting mixture was cooled to room temperature, and then precipitated into methanol, and the precipitated solid was filtered. The obtained solid was subjected to Soxhlet extraction using methanol, acetone, hexane, chloroform and monochlorobenzene to remove components soluble in these solvents. Furthermore, the filter residue was dissolved in o-dichlorobenzene and precipitated in methanol, and the precipitated solid was filtered. The obtained solid was washed with methanol and then dried under reduced pressure at 90°C to obtain (14-28) as a black solid (35 mg, 31%).
GPC (TCB, 120°C): Mn=5500g/mol, Mw=9000g/mol, PDI=1.66.
T d3 = 367°C, T d5 = 389°C, T d10 = 424°C.
No phase transition point was observed by DSC.
[Example 45]
(200-41)(200mg,144μmol)と4,7-ビス(5-ブロモ-4-ドデシル-2-チエニル)-2,1,3-ベンゾチアジアゾール(114mg,144μmol)、炭酸ナトリウム(76.3mg,719μmol)、トリ(o-トリル)ホスフィン(2.6mg,8.6μmol)、テトラリン(3.6mL)ならびにDMSO(0.7mL)の混合物を30分間アルゴンバブリングした。この混合溶液に、アルゴン気流下でPd2(dba)3・CHCl3(3.0mg,2.9μmol)を加えて120℃で66時間撹拌した。得られた混合物を室温まで冷やしたのちにメタノールに沈殿させることで析出した固体をろ過した。得られた固体をメタノール、アセトン、ヘキサンおよびクロロホルムを用いてソックスレー抽出にてこれらの溶媒に可溶な成分を除去した。さらに、フィルター残渣をモノクロロベンゼンに溶解させ、メタノールに沈殿させることで析出した固体をろ過した。得られた固体をメタノールで洗浄したのちに90℃で減圧乾燥することで黒色固体の(14-21)を得た(154mg,60%)。
GPC(TCB,120℃):Mn=14400g/mol、Mw=22100g/mol、PDI=1.53。
Td3=331℃,Td5=345℃,Td10=369℃。
DSCで相転移点は観測されなかった。
[実施例46]
(200-41) (200 mg, 144 μmol), 4,7-bis(5-bromo-4-dodecyl-2-thienyl)-2,1,3-benzothiadiazole (114 mg, 144 μmol), and sodium carbonate (76.3 mg). , 719 μmol), tri(o-tolyl)phosphine (2.6 mg, 8.6 μmol), tetralin (3.6 mL) and DMSO (0.7 mL) through argon bubbling for 30 minutes. Pd 2 (dba) 3 .CHCl 3 (3.0 mg, 2.9 μmol) was added to this mixed solution under an argon stream, and the mixture was stirred at 120° C. for 66 hours. The resulting mixture was cooled to room temperature, and then precipitated into methanol, and the precipitated solid was filtered. The obtained solid was subjected to Soxhlet extraction using methanol, acetone, hexane and chloroform to remove components soluble in these solvents. Furthermore, the filter residue was dissolved in monochlorobenzene, and the precipitated solid was filtered by precipitating it in methanol. The obtained solid was washed with methanol and then dried under reduced pressure at 90°C to obtain (14-21) as a black solid (154 mg, 60%).
GPC (TCB, 120°C): Mn=14400g/mol, Mw=22100g/mol, PDI=1.53.
T d3 = 331°C, T d5 = 345°C, T d10 = 369°C.
No phase transition point was observed by DSC.
[Example 46]
(200-64)(90.5mg,61.8μmol)と2,5-ビス(2-ヘキシルデシル)-3,6-ビス(チエノ[3,2-b]チオフェニル)-2,5-ジヒドロピロロ[3,4-c]ピロール-1,4-ジオン(63.0mg,61.8μmol)ならびにテトラリン(2.0mL)の混合物を30分間アルゴンバブリングした。この混合溶液に、Pd2(dba)3・CHCl3(1.3mg,1.2μmol)とトリ(o-トリル)ホスフィン(1.5mg,4.9μmol)を加えてマイクロウェーブリアクターを用いて180℃で2時間撹拌した。得られた混合物を室温まで冷やしたのちにメタノール/1N塩酸の混合溶液(150mL/10mL)に沈殿させることで析出した固体をろ過した。得られた固体をメタノール、アセトン、ヘキサン、クロロホルムおよびモノクロロベンゼンを用いてソックスレー抽出にてこれらの溶媒に可溶な成分を除去した。さらに、フィルター残渣をo-ジクロロベンゼンに溶解させ、メタノールに沈殿させることで析出した固体をろ過した。得られた固体をメタノールで洗浄したのちに90℃で減圧乾燥することで黒色固体の(14-213)を得た(クロロホルム抽出分:39mg,32%,モノクロロベンゼン抽出分:16mg,13%,o-ジクロロベンゼン抽出分:23mg,19%)。
クロロホルム抽出分:
GPC(THF):Mn=28000g/mol,Mw=115000g/mol,PDI=4.06。
GPC(TCB,120℃):Mn=12000g/mol、Mw=23000g/mol、PDI=1.92。
Td3=241℃,Td5=353℃,Td10=406℃。
DSCで相転移点は観測されなかった。
o-ジクロロベンゼン抽出分:
GPC(TCB,120℃):Mn=9800g/mol、Mw=24900g/mol、PDI=3.16。
Td3=354℃,Td5=394℃,Td10=416℃。
DSCで相転移点は観測されなかった。
[実施例47]
(200-64) (90.5 mg, 61.8 μmol) and 2,5-bis(2-hexyldecyl)-3,6-bis(thieno[3,2-b]thiophenyl)-2,5-dihydropyrrolo A mixture of [3,4-c]pyrrole-1,4-dione (63.0 mg, 61.8 μmol) and tetralin (2.0 mL) was bubbled with argon for 30 minutes. Pd 2 (dba) 3 .CHCl 3 (1.3 mg, 1.2 μmol) and tri(o-tolyl)phosphine (1.5 mg, 4.9 μmol) were added to this mixed solution, and the mixture was heated to 180 μm using a microwave reactor. Stirred at ℃ for 2 hours. The resulting mixture was cooled to room temperature, and then precipitated in a mixed solution of methanol/1N hydrochloric acid (150 mL/10 mL), and the precipitated solid was filtered. The obtained solid was subjected to Soxhlet extraction using methanol, acetone, hexane, chloroform and monochlorobenzene to remove components soluble in these solvents. Furthermore, the filter residue was dissolved in o-dichlorobenzene and precipitated in methanol, and the precipitated solid was filtered. The obtained solid was washed with methanol and then dried under reduced pressure at 90°C to obtain (14-213) as a black solid (chloroform extract: 39 mg, 32%, monochlorobenzene extract: 16 mg, 13%, o-dichlorobenzene extract: 23 mg, 19%).
Chloroform extract:
GPC (THF): Mn=28000g/mol, Mw=115000g/mol, PDI=4.06.
GPC (TCB, 120°C): Mn=12000g/mol, Mw=23000g/mol, PDI=1.92.
T d3 = 241°C, T d5 = 353°C, T d10 = 406°C.
No phase transition point was observed by DSC.
o-dichlorobenzene extract:
GPC (TCB, 120°C): Mn=9800g/mol, Mw=24900g/mol, PDI=3.16.
T d3 = 354°C, T d5 = 394°C, T d10 = 416°C.
No phase transition point was observed by DSC.
[Example 47]
(200-64)(100mg,68.3μmol)と2,5-ビス(2-デシルテトラデシル)-3,6-ビス(チエノ[3,2-b]チオフェニル)-2,5-ジヒドロピロロ[3,4-c]ピロール-1,4-ジオン(85.0mg,68.3μmol)ならびにテトラリン(2.0mL)の混合物を30分間アルゴンバブリングした。この混合溶液に、Pd2(dba)3・CHCl3(1.4mg,1.4μmol)とトリ(o-トリル)ホスフィン(1.7mg,5.5μmol)を加えてマイクロウェーブリアクターを用いて180℃で2時間撹拌した。得られた混合物を室温まで冷やしたのちにメタノール/濃塩酸の混合溶液(150mL/10mL)に沈殿させることで析出した固体をろ過した。得られた固体をメタノール、アセトン、ヘキサン、クロロホルムおよびモノクロロベンゼンを用いてソックスレー抽出にてこれらの溶媒に可溶な成分を除去した。さらに、フィルター残渣をo-ジクロロベンゼンに溶解させ、メタノールに沈殿させることで析出した固体をろ過した。得られた固体をメタノールで洗浄したのちに90℃で減圧乾燥することで黒色固体の(14-217)を得た(クロロホルム抽出分:41mg,27%,モノクロロベンゼン抽出分:26mg,17%,o-ジクロロベンゼン抽出分:28mg,18%)。
クロロホルム抽出分:
GPC(THF):Mn=6400g/mol,Mw=32000g/mol,PDI=5.03。
GPC(TCB,120℃):Mn=5300g/mol、Mw=20300g/mol、PDI=3.84。
Td3=234℃,Td5=322℃,Td10=386℃。
DSCで相転移点は観測されなかった。
モノクロロベンゼン抽出分:
GPC(TCB,120℃):Mn=6700g/mol、Mw=21500g/mol、PDI=3.22。
Td3=257℃,Td5=343℃,Td10=402℃。
DSCで相転移点は観測されなかった。
o-ジクロロベンゼン抽出分:
GPC(TCB,120℃):Mn=9400g/mol、Mw=23300g/mol、PDI=2.49。
Td3=284℃,Td5=368℃,Td10=409℃。
DSCで相転移点は観測されなかった。
[実施例48]
(200-64) (100 mg, 68.3 μmol) and 2,5-bis(2-decyltetradecyl)-3,6-bis(thieno[3,2-b]thiophenyl)-2,5-dihydropyrrolo[ A mixture of 3,4-c]pyrrole-1,4-dione (85.0 mg, 68.3 μmol) and tetralin (2.0 mL) was bubbled with argon for 30 minutes. Pd 2 (dba) 3 .CHCl 3 (1.4 mg, 1.4 μmol) and tri(o-tolyl)phosphine (1.7 mg, 5.5 μmol) were added to this mixed solution, and the mixture was heated to 180 μm using a microwave reactor. Stirred at ℃ for 2 hours. The resulting mixture was cooled to room temperature, and then precipitated in a mixed solution of methanol/concentrated hydrochloric acid (150 mL/10 mL), and the precipitated solid was filtered. The obtained solid was subjected to Soxhlet extraction using methanol, acetone, hexane, chloroform and monochlorobenzene to remove components soluble in these solvents. Furthermore, the filter residue was dissolved in o-dichlorobenzene and precipitated in methanol, and the precipitated solid was filtered. The obtained solid was washed with methanol and then dried under reduced pressure at 90°C to obtain (14-217) as a black solid (chloroform extract: 41 mg, 27%, monochlorobenzene extract: 26 mg, 17%, o-dichlorobenzene extract: 28 mg, 18%).
Chloroform extract:
GPC (THF): Mn=6400g/mol, Mw=32000g/mol, PDI=5.03.
GPC (TCB, 120°C): Mn=5300g/mol, Mw=20300g/mol, PDI=3.84.
T d3 = 234°C, T d5 = 322°C, T d10 = 386°C.
No phase transition point was observed by DSC.
Monochlorobenzene extract:
GPC (TCB, 120°C): Mn=6700g/mol, Mw=21500g/mol, PDI=3.22.
T d3 = 257°C, T d5 = 343°C, T d10 = 402°C.
No phase transition point was observed by DSC.
o-dichlorobenzene extract:
GPC (TCB, 120°C): Mn=9400g/mol, Mw=23300g/mol, PDI=2.49.
T d3 = 284°C, T d5 = 368°C, T d10 = 409°C.
No phase transition point was observed by DSC.
[Example 48]
(200-97)(100mg,63.5μmol)と3,6-ビス(5-ブロモ-2-チエニル)-2,5-ビス(2-オクチルドデシル)-2,5-ジヒドロピロロ[3,4-c]ピロール-1,4-ジオン(64.7mg,63.5μmol)ならびにテトラリン(2.0mL)の混合物を30分間アルゴンバブリングした。この混合溶液に、Pd2(dba)3・CHCl3(1.3mg,1.3μmol)とトリ(o-トリル)ホスフィン(1.5mg,5.1μmol)を加えてマイクロウェーブリアクターを用いて180℃で2時間撹拌した。得られた混合物を室温まで冷やしたのちにメタノール/1N塩酸の混合溶液(150mL/10mL)に沈殿させることで析出した固体をろ過した。得られた固体をメタノール、アセトンおよびヘキサンを用いてソックスレー抽出にてこれらの溶媒に可溶な成分を除去した。さらに、フィルター残さをクロロホルムに溶解させ、メタノールに沈殿させることで析出した固体をろ過した。得られた固体をメタノールで洗浄したのちに90℃で減圧乾燥することで黒色固体の(14-186)を得た(86mg,61%)。
GPC(THF):Mn=40000g/mol,Mw=192000g/mol,PDI=4.77。
Td3=341℃,Td5=365℃,Td10=389℃。
DSCで相転移点は観測されなかった。
[実施例49]
実施例21で合成した共役系高分子(14-4)の0.5wt%o-DCB溶液をグローブボックス中、窒素雰囲気下で加熱調製することで有機薄膜の製膜用組成物を得た。
(200-97) (100 mg, 63.5 μmol) and 3,6-bis(5-bromo-2-thienyl)-2,5-bis(2-octyldodecyl)-2,5-dihydropyrrolo[3,4 -c] Pyrrole-1,4-dione (64.7 mg, 63.5 μmol) and tetralin (2.0 mL) were bubbled with argon for 30 minutes. Pd 2 (dba) 3 .CHCl 3 (1.3 mg, 1.3 μmol) and tri(o-tolyl)phosphine (1.5 mg, 5.1 μmol) were added to this mixed solution, and the mixture was heated to 180 μm using a microwave reactor. Stirred at ℃ for 2 hours. The resulting mixture was cooled to room temperature, and then precipitated in a mixed solution of methanol/1N hydrochloric acid (150 mL/10 mL), and the precipitated solid was filtered. The obtained solid was subjected to Soxhlet extraction using methanol, acetone, and hexane to remove components soluble in these solvents. Furthermore, the filter residue was dissolved in chloroform, and the precipitated solid was filtered by precipitating it in methanol. The obtained solid was washed with methanol and then dried under reduced pressure at 90°C to obtain (14-186) as a black solid (86 mg, 61%).
GPC (THF): Mn=40000g/mol, Mw=192000g/mol, PDI=4.77.
T d3 = 341°C, T d5 = 365°C, T d10 = 389°C.
No phase transition point was observed by DSC.
[Example 49]
A 0.5 wt% o-DCB solution of the conjugated polymer (14-4) synthesized in Example 21 was heated and prepared in a glove box under a nitrogen atmosphere to obtain a composition for forming an organic thin film.
次に大気下、ガラス基板上に蒸着法でアルミ電極を作成した。アルミ電極上にゲート絶縁膜としてパリレンCをCVD法により製膜したのちに、上述した溶液をグローブボックス中で窒素下でスピンコートした。これを150℃に加熱し、15分間保持することで(15-4)の有機薄膜を作成した。 Next, aluminum electrodes were created by vapor deposition on a glass substrate in the atmosphere. After forming a film of parylene C as a gate insulating film on the aluminum electrode by CVD method, the above-mentioned solution was spin-coated under nitrogen in a glove box. This was heated to 150° C. and held for 15 minutes to form an organic thin film (15-4).
該有機薄膜にチャネル長100μm、チャネル幅500μmのシャドウマスクを置き、真空下、金を蒸着することでソース及びドレイン電極を付設し、ボトムゲート-トップコンタクト型の有機薄膜トランジスタ素子を作成した(ゲート電極はアルミ、ゲート絶縁層はパリレンC、ソース電極は金、ドレイン電極は金)。 A shadow mask with a channel length of 100 μm and a channel width of 500 μm was placed on the organic thin film, and source and drain electrodes were attached by depositing gold under vacuum to create a bottom gate-top contact type organic thin film transistor element (gate electrode is aluminum, the gate insulating layer is Parylene C, the source electrode is gold, and the drain electrode is gold).
大気下、該有機トランジスタ素子を半導体パラメーターアナライザー(ケースレー製、4200-SCS)に接続し、ドレイン電圧(Vd=-100V)で、ゲート電圧(Vg)を+10~-100Vまで1V刻みで走査し、伝達特性を評価した。該有機トランジスタ素子はp型特性を示し、その正孔のキャリア移動度は0.0018cm2/Vsであった。150℃で15分間アニール処理したのちの正孔のキャリア移動度は0.0020cm2/Vsであった。このことから熱処理後もキャリア移動度が低下しないことを確認した。
[実施例50~実施例55]
実施例49と同じ操作を繰り返して、表1に示される共役系高分子を用い、有機トランジスタ素子を作成した。キャリア移動度を表1に示した。
The organic transistor element was connected to a semiconductor parameter analyzer (manufactured by Keithley, 4200-SCS) in the atmosphere, and the gate voltage (Vg) was scanned from +10 to -100V in 1V steps at the drain voltage (Vd = -100V), The transfer characteristics were evaluated. The organic transistor device exhibited p-type characteristics, and its hole carrier mobility was 0.0018 cm 2 /Vs. After annealing at 150° C. for 15 minutes, the carrier mobility of holes was 0.0020 cm 2 /Vs. This confirmed that carrier mobility did not decrease even after heat treatment.
[Example 50 to Example 55]
By repeating the same operations as in Example 49, an organic transistor element was created using the conjugated polymers shown in Table 1. The carrier mobility is shown in Table 1.
実施例50~実施例55においても熱処理後のキャリア移動度が低下しないことを確認した。
[実施例56]
実施例31で合成した共役系高分子(14-181)の0.5wt%o-DCB溶液をグローブボックス中、窒素雰囲気下で加熱調製することで有機薄膜の製膜用組成物を得た。
In Examples 50 to 55, it was confirmed that the carrier mobility after heat treatment did not decrease.
[Example 56]
A 0.5 wt% o-DCB solution of the conjugated polymer (14-181) synthesized in Example 31 was heated and prepared in a glove box under a nitrogen atmosphere to obtain a composition for forming an organic thin film.
ガラス基板上に下地層としてパリレンCをCVD法により製膜したのち、該パリレンC層にチャネル長100μm、チャネル幅500μmのシャドウマスクを置き、真空下、金を蒸着することでソース及びドレイン電極を付設した。上述した溶液をグローブボックス中で窒素下でスピンコートした。これを150℃に加熱し、15分間保持することで(14-181)の有機薄膜を作成した。ゲート絶縁膜としてパリレンCをCVD法により製膜したのちに蒸着法でアルミ電極を作成し、トップゲート-ボトムコンタクト型の有機薄膜トランジスタ素子を作成した(ゲート電極はアルミ、ゲート絶縁層はパリレンC、ソース電極は金、ドレイン電極は金)。 After forming a Parylene C film as a base layer on a glass substrate by CVD method, a shadow mask with a channel length of 100 μm and a channel width of 500 μm was placed on the Parylene C layer, and source and drain electrodes were formed by vapor depositing gold under vacuum. Attached. The solution described above was spin coated under nitrogen in a glove box. This was heated to 150° C. and held for 15 minutes to create an organic thin film of (14-181). After forming a film of Parylene C as a gate insulating film by the CVD method, an aluminum electrode was created by a vapor deposition method to create a top gate-bottom contact type organic thin film transistor element (the gate electrode was made of aluminum, the gate insulating layer was made of Parylene C, The source electrode is gold, the drain electrode is gold).
大気下、該有機トランジスタ素子を半導体パラメーターアナライザー(ケースレー製、4200-SCS)に接続し、ドレイン電圧(Vd=-100V)で、ゲート電圧(Vg)を+10~-100Vまで1V刻みで走査し、伝達特性を評価した。該有機トランジスタ素子はp型特性を示し、その正孔のキャリア移動度は0.19cm2/Vsであった。150℃で15分間アニール処理したのちの正孔のキャリア移動度は0.20cm2/Vsであった。このことから熱処理後もキャリア移動度が低下しないことを確認した。
[実施例57~実施例60]
実施例56と同じ操作を繰り返して、表2に示される共役系高分子を用い、有機トランジスタ素子を作成した。キャリア移動度を表2に示した。
The organic transistor element was connected to a semiconductor parameter analyzer (manufactured by Keithley, 4200-SCS) in the atmosphere, and the gate voltage (Vg) was scanned from +10 to -100V in 1V steps at the drain voltage (Vd = -100V), The transfer characteristics were evaluated. The organic transistor element exhibited p-type characteristics, and its hole carrier mobility was 0.19 cm 2 /Vs. After annealing at 150° C. for 15 minutes, the carrier mobility of holes was 0.20 cm 2 /Vs. This confirmed that carrier mobility did not decrease even after heat treatment.
[Example 57 to Example 60]
By repeating the same operations as in Example 56, an organic transistor element was created using the conjugated polymers shown in Table 2. The carrier mobility is shown in Table 2.
実施例57~実施例60においても熱処理後のキャリア移動度が低下しないことを確認した。 It was confirmed that the carrier mobility after heat treatment did not decrease in Examples 57 to 60 as well.
本発明により提供される共役系高分子は、高いキャリア移動度を与えるとともに溶媒への溶解性及び耐熱性に優れることから有機トランジスタ素子、並びに有機薄膜太陽電池に代表される半導体デバイス材料としての適用が期待される。 The conjugated polymer provided by the present invention provides high carrier mobility and has excellent solubility in solvents and heat resistance, so it can be applied as a material for semiconductor devices such as organic transistor elements and organic thin-film solar cells. There is expected.
(A):ボトムゲート-トップコンタクト型有機薄膜トランジスタ
(B):ボトムゲート-ボトムコンタクト型有機薄膜トランジスタ
(C):トップゲート-トップコンタクト型有機薄膜トランジスタ
(D):トップゲート-ボトムコンタクト型有機薄膜トランジスタ
1:有機半導体層
2:基板
3:ゲート電極
4:ゲート絶縁層
5:ソース電極
6:ドレイン電極
(A): Bottom gate - top contact type organic thin film transistor (B): Bottom gate - bottom contact type organic thin film transistor (C): Top gate - top contact type organic thin film transistor (D): Top gate - bottom contact type organic thin film transistor 1: Organic semiconductor layer 2: Substrate 3: Gate electrode 4: Gate insulating layer 5: Source electrode 6: Drain electrode
Claims (11)
を表す。)
を表す。)
からなる群より選ばれる2価の複素芳香族環連結基である請求項1乃至4いずれか一項に記載の共役系高分子。 X 1 is represented by the following general formulas (6) to (10)
The conjugated polymer according to any one of claims 1 to 4 , which is a divalent heteroaromatic ring linking group selected from the group consisting of:
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2023181519A JP2024020227A (en) | 2019-01-09 | 2023-10-23 | Conjugated polymer, film-forming composition, organic thin film, and organic semiconductor device |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019001611 | 2019-01-09 | ||
JP2019001611 | 2019-01-09 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2023181519A Division JP2024020227A (en) | 2019-01-09 | 2023-10-23 | Conjugated polymer, film-forming composition, organic thin film, and organic semiconductor device |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2020111737A JP2020111737A (en) | 2020-07-27 |
JP7394629B2 true JP7394629B2 (en) | 2023-12-08 |
Family
ID=71668105
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020001872A Active JP7394629B2 (en) | 2019-01-09 | 2020-01-09 | Conjugated polymers, film-forming compositions, organic thin films, and organic semiconductor devices |
JP2023181519A Pending JP2024020227A (en) | 2019-01-09 | 2023-10-23 | Conjugated polymer, film-forming composition, organic thin film, and organic semiconductor device |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2023181519A Pending JP2024020227A (en) | 2019-01-09 | 2023-10-23 | Conjugated polymer, film-forming composition, organic thin film, and organic semiconductor device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (2) | JP7394629B2 (en) |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009302463A (en) | 2008-06-17 | 2009-12-24 | Mitsui Chemicals Inc | Organic transistor |
JP2012177104A (en) | 2011-01-31 | 2012-09-13 | Sumitomo Chemical Co Ltd | Polycyclic condensed ring compound, polycyclic condensed ring polymer, and organic thin film including same |
JP2014515727A (en) | 2011-02-28 | 2014-07-03 | コーニング インコーポレイテッド | Compounds containing fused thiophene rings and polymers thereof for use in electronic applications |
JP2018104716A (en) | 2012-02-23 | 2018-07-05 | スマートケム リミテッド | Organic semiconductor compositions |
-
2020
- 2020-01-09 JP JP2020001872A patent/JP7394629B2/en active Active
-
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JP2009302463A (en) | 2008-06-17 | 2009-12-24 | Mitsui Chemicals Inc | Organic transistor |
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JP2014515727A (en) | 2011-02-28 | 2014-07-03 | コーニング インコーポレイテッド | Compounds containing fused thiophene rings and polymers thereof for use in electronic applications |
JP2018104716A (en) | 2012-02-23 | 2018-07-05 | スマートケム リミテッド | Organic semiconductor compositions |
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---|---|
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