JP7392225B2 - Electron beam curable composition, food packaging material and manufacturing method thereof - Google Patents

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本発明の実施形態は電子線硬化型組成物に関し、より詳細には電子線硬化型オーバーコートニスとして好適に使用できる電子線硬化型組成物に関する。本発明の他の実施形態は、電子線硬化型組成物の硬化塗膜を表面層に有する食品包装材料及び食品包装材料の製造方法に関する。 Embodiments of the present invention relate to an electron beam curable composition, and more particularly to an electron beam curable composition that can be suitably used as an electron beam curable overcoat varnish. Other embodiments of the present invention relate to a food packaging material having a cured coating film of an electron beam curable composition on the surface layer, and a method for producing the food packaging material.

近年、瞬間乾燥による工程時間の短縮、揮発性成分を含有しないこと(Non-VOC)による環境負荷低減、および架橋反応による強固な塗膜物性の実現が可能となる観点から、印刷産業では活性エネルギー線硬化技術の利用が拡大している。例えば、紫外線硬化又は電子線硬化を利用したインキおよびニスが様々な用途で実用化されている。しかし、食品包装材料等の用途向けたインキ又はニスについては、重合開始剤などの低分子量の成分が内包食品へ移行すること(以下、マイグレーションという)が問題視され、改善が求められている。 In recent years, active energy has been used in the printing industry from the viewpoints of shortening process time through instant drying, reducing environmental impact by not containing volatile components (Non-VOC), and achieving strong coating film properties through crosslinking reactions. The use of line curing technology is expanding. For example, inks and varnishes that utilize ultraviolet curing or electron beam curing have been put into practical use for various purposes. However, with regard to inks or varnishes intended for use as food packaging materials, migration of low molecular weight components such as polymerization initiators into encapsulated foods (hereinafter referred to as migration) has been seen as a problem, and improvements are being sought.

紫外線硬化型の反応形態では重合開始剤が必要となるが、電子線硬化型の反応形態では高エネルギーの電子線を利用するため光重合開始剤を必要としない。そのため、マイグレーションの問題を改善する観点から、食品包装材料等の用途で使用するインキ又はニスとして電子線硬化型組成物を好ましく利用することができる。しかし、代表的な電子線硬化型組成物は、紫外線硬化型組成物と同様に、主成分として(メタ)アクリレートモノマーを含み、低分子量の(メタ)アクリレートモノマーによるマイグレーションの問題が起こりやすい。そのため、マイグレーション改善に向けたさらなる検討が求められている。 The ultraviolet curing type reaction type requires a polymerization initiator, but the electron beam curing type reaction type uses a high-energy electron beam and therefore does not require a photopolymerization initiator. Therefore, from the viewpoint of improving the problem of migration, electron beam curable compositions can be preferably used as inks or varnishes used in applications such as food packaging materials. However, typical electron beam curable compositions, like ultraviolet ray curable compositions, contain (meth)acrylate monomers as a main component, and are likely to suffer from migration problems due to low molecular weight (meth)acrylate monomers. Therefore, further studies are required to improve migration.

一般的に、食品包装材料においてインキ又はニスを印刷した印刷面は、直接食品に接触することのない構成(食品非接触)となっている。上記食品包装材料の構成において主要なマイグレーション機構は、塗膜中の成分が基材を透過するペネトレーションと、塗膜表面が基材の非印刷面(裏面)に接触することによるセットオフであり、両要因の影響を総合的に評価しなければならない。電子線硬化型組成物をインキ又はニスとして使用した場合、塗膜表面の硬化性は良好であるため、前者のペネトレーションが主たる要因となる。 Generally, in food packaging materials, the printed surface printed with ink or varnish does not come into direct contact with food (non-food contact). The main migration mechanisms in the structure of the food packaging material described above are penetration, in which the components in the coating film permeate the substrate, and set-off, which occurs when the coating surface comes into contact with the non-printing surface (back surface) of the substrate. The influence of both factors must be evaluated comprehensively. When an electron beam curable composition is used as an ink or varnish, the surface of the coating film has good curability, so penetration of the former is the main factor.

ペネトレーションによるマイグレーションの抑制には、基材そのものの膜厚増加、バリア性の高い基材の適用、アルミ箔、シリカ、およびアルミナ蒸着などの完全バリア層の導入などの方法が効果的である。しかし、これらの方法は、近年の環境対策としてのプラスチック使用量削減、およびリサイクル性という観点から実用的ではない。特に、リサイクル性の高いポリオレフィンフィルム(ポリエチレン又はポリプロピレンなど)は、比較的ガラス転移温度が低いため、バリア性が低く、マイグレーション抑制効果も低い。
このようなことから、インキ又はニスを印刷した印刷面からのマイグレーションを抑制する技術として、インキ又はニスとして使用する電子線硬化型組成物それ自体の開発が望まれている。
Effective methods for suppressing migration due to penetration include increasing the film thickness of the base material itself, applying a base material with high barrier properties, and introducing a complete barrier layer such as aluminum foil, silica, and alumina vapor deposition. However, these methods are not practical from the viewpoint of reducing the amount of plastic used as an environmental measure in recent years and from the viewpoint of recyclability. In particular, highly recyclable polyolefin films (such as polyethylene or polypropylene) have a relatively low glass transition temperature, and therefore have low barrier properties and low migration suppression effects.
For this reason, it is desired to develop an electron beam curable composition itself to be used as an ink or varnish as a technique for suppressing migration from a printed surface with ink or varnish.

食品包装材料におけるマイグレーションについては、食品包装の安全性を確保するために設けられた様々な規制が知られている。なかでも、スイス連邦の条例(SwissOrdinance RS817.023.21Annex10)では、食品非接触のインキおよびニスを含む包装材料のポジティブリスト(使用可能な原材料の規制)が設けられ、さらに各原材料について許容されるマイグレーション量(SML)について規制している。スイス連邦の条例における規制水準は非常に厳しいが、その規制水準は、消費者の安全志向の高まりから、近年、食品包装材料の世界基準として重要な指標となっている。 Regarding migration in food packaging materials, various regulations are known that have been established to ensure the safety of food packaging. Among these, the Swiss Ordinance RS817.023.21 Annex 10 establishes a positive list (regulations of usable raw materials) for packaging materials including non-food contact inks and varnishes, and further specifies the permissible raw materials for each raw material. The amount of migration (SML) is regulated. The regulatory standards in the Swiss Federal Ordinance are extremely strict, but in recent years, these regulatory standards have become an important indicator as a global standard for food packaging materials due to the increasing safety consciousness of consumers.

一方、食品包装材料の分野では、裏刷り印刷のラミネーション構成から表刷りの構成への代替が検討されている。裏刷り印刷のラミネーション構成の包装材料は、複数のフィルムを接着剤で張り合わせフィルム層を形成することによって、内容物が必要とする保護機能を発現させている。このような構成の場合、印刷面はフィルム層に挟まれ、フィルムが最表面となるため、インキ塗膜には強度などの物性が求められない。これに対し、表刷り印刷の包装材料では、インキ塗膜が包装材料の最表面となるため、インキ塗膜の保護を目的として、一般的にオーバーコートニスが塗布される。 On the other hand, in the field of food packaging materials, consideration is being given to replacing the back-print lamination structure with a front-print structure. Packaging materials with a back-printed lamination structure exhibit the protective function required by the contents by laminating a plurality of films together with an adhesive to form a film layer. In such a configuration, the printed surface is sandwiched between film layers and the film is the outermost surface, so the ink coating is not required to have physical properties such as strength. On the other hand, in front-printed packaging materials, the ink coating is the outermost surface of the packaging material, so an overcoat varnish is generally applied to protect the ink coating.

食品包装材料の用途で使用されるオーバーコートニスとしては、溶剤又は水性タイプの熱乾燥型オーバーコートニスが主流となっている。しかし、上記熱乾燥型オーバーコートニスを使用した場合、様々な印刷システムにインライン又はオフラインで適応可能となる十分な塗膜強度を得ることは難しい。
一方、活性エネルギー線硬化型組成物をオーバーコートニスとして使用した場合、所望とする塗膜強度を容易に得ることはできる。しかし、上述のように従来の活性エネルギー線硬化型オーバーコートニスではマイグレーションの改善が望まれている。また、最表面に従来のオーバーコートニスの塗膜を有する表刷り印刷の包装材料は、最表面がフィルムからなる裏刷り印刷の包装材料と比べて光沢性に劣る傾向がある。そのため、包装材料の外観及び意匠性を高める観点から、弾きが発生し難く、光沢性に優れる塗膜を形成できるオーバーコートニスが求められている。また、後加工適性及び内容物の充填適性の観点から、スリップ性に優れる包装材料が求められている。
As overcoat varnishes used for food packaging materials, solvent or water-based heat-drying overcoat varnishes are the mainstream. However, when using the above-described heat-drying overcoat varnish, it is difficult to obtain sufficient coating strength to be applicable to various printing systems in-line or offline.
On the other hand, when an active energy ray-curable composition is used as an overcoat varnish, a desired coating film strength can be easily obtained. However, as mentioned above, improvement in migration is desired in conventional active energy ray-curable overcoat varnishes. In addition, front-print packaging materials having a conventional overcoat varnish coating on the outermost surface tend to be inferior in gloss than back-print packaging materials whose outermost surface is a film. Therefore, from the viewpoint of improving the appearance and design of packaging materials, there is a need for an overcoat varnish that is resistant to flickering and can form a coating film with excellent gloss. Furthermore, from the viewpoint of suitability for post-processing and suitability for filling contents, packaging materials with excellent slip properties are required.

これに対し、特許文献1は、ポリオールを添加することで、電子線硬化を促進し、低分子量アクリレートモノマーのマイグレーションを抑制する技術を開示している。また、特許文献2は、電子線硬化型オーバーコートニスにジメチルポリシロキサンを添加することで、硬化性、密着性、耐スクラッチ性等の塗膜特性を向上させる技術を開示している。 On the other hand, Patent Document 1 discloses a technique for promoting electron beam curing and suppressing migration of low molecular weight acrylate monomers by adding a polyol. Additionally, Patent Document 2 discloses a technique for improving coating film properties such as curability, adhesion, and scratch resistance by adding dimethylpolysiloxane to an electron beam-curable overcoat varnish.

国際公開第2020/012157号International Publication No. 2020/012157 特開2020-147730号公報Japanese Patent Application Publication No. 2020-147730

しかし、いずれの技術も、マイグレーション、弾き及び光沢性の観点では、十分に満足できるレベルではなく、さらなる検討が望まれている。
したがって、上述の状況に鑑み、本発明の一実施形態は、マイグレーションを改善し、かつ、弾きが起こり難く、及び光沢性に優れる塗膜を形成できる、電子線硬化型組成物を提供する。本発明の他の実施形態は、上記電子線硬化型組成物を使用して、スリップ性に優れる食品用包装材料及びその製造方法を提供する。
However, none of these techniques is at a fully satisfactory level in terms of migration, repellency, and gloss, and further study is desired.
Therefore, in view of the above-mentioned situation, one embodiment of the present invention provides an electron beam curable composition that improves migration, is resistant to repelling, and can form a coating film with excellent gloss. Another embodiment of the present invention provides a food packaging material with excellent slip properties and a method for producing the same, using the electron beam curable composition.

本発明者らは鋭意検討を重ねた結果、以下に記載の電子線硬化型組成物を構成することによって上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。すなわち、本発明の実施形態は以下に関する。但し、本発明は、以下の記載に限定されるものではなく、様々な実施形態を含む。 As a result of extensive studies, the present inventors have found that the above problems can be solved by constructing the electron beam curable composition described below, and have completed the present invention. That is, embodiments of the present invention relate to the following. However, the present invention is not limited to the following description, and includes various embodiments.

一実施形態は、官能基数3以上のプロピレンオキサイド(PO)変性(メタ)アクリレート(A1)を含有する1以上の(メタ)アクリレート化合物(A)を含み、下記(1)及び(2)を満たす電子線硬化型組成物に関する。
(1)前記1以上の(メタ)アクリレート化合物(A)のそれぞれにおいて、分子量が500未満の(メタ)アクリレート化合物の含有量が、組成物の全質量を基準として25質量%未満である。
(2)前記官能基数3以上のプロピレンオキサイド(PO)変性(メタ)アクリレート(A1)の含有量が、組成物の全質量を基準として15質量%以上である。
一実施形態において、上記電子線硬化型組成物は、25℃における粘度が、700Pa・s以下であることが好ましい。
One embodiment includes one or more (meth)acrylate compounds (A) containing a propylene oxide (PO)-modified (meth)acrylate (A1) having three or more functional groups, and satisfies the following (1) and (2). The present invention relates to an electron beam curable composition.
(1) In each of the one or more (meth)acrylate compounds (A), the content of the (meth)acrylate compound having a molecular weight of less than 500 is less than 25% by mass based on the total mass of the composition.
(2) The content of the propylene oxide (PO) modified (meth)acrylate (A1) having three or more functional groups is 15% by mass or more based on the total mass of the composition.
In one embodiment, the electron beam curable composition preferably has a viscosity at 25°C of 700 mPa ·s or less.

上記実施形態の電子線硬化型組成物は、さらに、平均粒子径が0.5~6.0μmである樹脂ビーズ(B)を含むことが好ましい。上記樹脂ビーズ(B)の含有量は、電子線硬化型組成物の全質量を基準として、5.0質量%未満であることが好ましい。 The electron beam curable composition of the above embodiment preferably further contains resin beads (B) having an average particle diameter of 0.5 to 6.0 μm. The content of the resin beads (B) is preferably less than 5.0% by mass based on the total mass of the electron beam curable composition.

上記官能基数3以上のプロピレンオキサイド(PO)変性(メタ)アクリレート(A1)は、PO変性トリメチロールプロパントリアクリレート、PO変性グリセリルトリアクリレート、PO変性ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、PO変性イソシアヌル酸トリ(メタ)アクリレート、PO変性ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、PO変性ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、PO変性ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、及びPO変性ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレートからなる群より選ばれる少なくとも1種を含む、ことが好ましい。 The propylene oxide (PO) modified (meth)acrylate (A1) having a functional group number of 3 or more includes PO modified trimethylolpropane triacrylate, PO modified glyceryl triacrylate, PO modified pentaerythritol tri(meth)acrylate, and PO modified isocyanuric acid triacrylate. Consisting of (meth)acrylate, PO-modified pentaerythritol tetra(meth)acrylate, PO-modified ditrimethylolpropane tetra(meth)acrylate, PO-modified dipentaerythritol penta(meth)acrylate, and PO-modified dipentaerythritol hexa(meth)acrylate. It is preferable that at least one kind selected from the group is included.

上記実施形態の電子線硬化型組成物において、上記(メタ)アクリレート化合物(A)は、さらに、官能基数3以上のエチレンオキサイド(EO)変性(メタ)アクリレートを含むことが好ましい。 In the electron beam curable composition of the above embodiment, the (meth)acrylate compound (A) preferably further contains ethylene oxide (EO) modified (meth)acrylate having 3 or more functional groups.

上記実施形態の電子線硬化型組成物は、さらに、アクリル系レベリング剤を含むことが好ましい。 It is preferable that the electron beam curable composition of the above embodiment further contains an acrylic leveling agent.

上記実施形態の電子線硬化型組成物は、さらに、合成非晶質シリカを含むことが好ましい。 It is preferable that the electron beam curable composition of the above embodiment further contains synthetic amorphous silica.

上記実施形態の電子線硬化型組成物は、光重合開始剤を実質的に含有しないことが好ましい。 It is preferable that the electron beam curable composition of the above embodiment does not substantially contain a photopolymerization initiator.

上記実施形態の電子線硬化型組成物は、電子線硬化型オーバーコートニスとして用いられることが好ましい。 The electron beam curable composition of the above embodiment is preferably used as an electron beam curable overcoat varnish.

上記実施形態の電子線硬化型組成物は、食品包装材料の表面層を形成するために用いられることが好ましい。 The electron beam curable composition of the above embodiment is preferably used to form a surface layer of a food packaging material.

一実施形態は、基材と、基材上に設けられた表面層とを含み、上記表面層が上記実施形態の電子線硬化型組成物の硬化塗膜からなる食品包装材料に関する。 One embodiment relates to a food packaging material that includes a base material and a surface layer provided on the base material, where the surface layer is made of a cured coating film of the electron beam curable composition of the above embodiment.

上記実施形態の食品包装材料において、上記表面層は、1以上の(メタ)アクリレート化合物(A)と樹脂ビーズ(B)とを含む上記実施形態の電子線硬化型組成物の硬化塗膜からなる食品包装材料であって、
上記硬化塗膜における上記樹脂ビーズ(B)の平均粒子径bと、上記硬化塗膜を形成する上記電子線硬化型組成物の塗布量tの比(b/t)は、0.5~2.0であることが好ましい。
In the food packaging material of the above embodiment, the surface layer is made of a cured coating film of the electron beam curable composition of the above embodiment containing one or more (meth)acrylate compounds (A) and resin beads (B). A food packaging material,
The ratio (b/t) of the average particle diameter b of the resin beads (B) in the cured coating film to the coating amount t of the electron beam curable composition forming the cured coating film is 0.5 to 2. .0 is preferable.

一実施形態は、基材の上に、1以上の(メタ)アクリレート化合物(A)と樹脂ビーズ(B)とを含む上記実施形態の電子線硬化型組成物を塗布して塗膜を形成すること
上記塗膜を電子線によって硬化し、硬化塗膜からなる表面層を形成すること
を含み、
上記表面層の形成において、上記硬化塗膜における前記樹脂ビーズ(B)の平均粒子径bと、上記硬化塗膜を形成する上記電子線硬化型組成物の塗布量tの比(b/t)は0.5~2.0である、食品包装材料の製造方法に関する。
In one embodiment, the electron beam curable composition of the above embodiment containing one or more (meth)acrylate compounds (A) and resin beads (B) is applied onto a substrate to form a coating film. curing the coating film with an electron beam to form a surface layer consisting of a cured coating film,
In forming the surface layer, the ratio (b/t) of the average particle diameter b of the resin beads (B) in the cured coating film to the coating amount t of the electron beam curable composition forming the cured coating film. is 0.5 to 2.0, and relates to a method for producing food packaging materials.

本発明の一実施形態によれば、マイグレーションを改善し、弾きが起こり難く、及び光沢性に優れる塗膜を形成できる、電子線硬化型組成物を提供することができる。本発明の他の実施形態は、上記電子線硬化型組成物を使用して、スリップ性に優れる食品用包装材料及びその製造方法を提供することができる。 According to one embodiment of the present invention, it is possible to provide an electron beam curable composition that improves migration, is less prone to repelling, and can form a coating film with excellent gloss. Another embodiment of the present invention can provide a food packaging material with excellent slip properties and a method for producing the same using the electron beam curable composition.

以下、本発明の実施形態を詳細に説明する。但し、以下に記載する構成要件および条件等は、本発明における実施形態の一例である。したがって、本発明は、以下の説明における趣旨を超えず、また発明の効果が得られる限り、これらの内容に限定されない。また、特にことわりのない限り、「部」とは「質量部」、「%」とは「質量%」を表す。 Embodiments of the present invention will be described in detail below. However, the constituent elements, conditions, etc. described below are examples of embodiments of the present invention. Therefore, the present invention is not limited to these contents as long as it does not go beyond the gist of the following description and the effects of the invention can be obtained. Further, unless otherwise specified, "parts" means "parts by mass" and "%" means "% by mass."

1.電子線硬化型組成物
本発明の一実施形態は、官能基数3以上のプロピレンオキサイド変性(メタ)アクリレート(A1)を含有する1以上の(メタ)アクリレート化合物(A)を含み、下記(1)及び(2)を満たす電子線硬化型組成物に関する。
(1)上記1以上の(メタ)アクリレート化合物(A)のそれぞれにおいて、分子量が500未満の(メタ)アクリレート化合物の含有量が、組成物の全質量を基準として25質量%未満である。
(2)上記官能基数3以上のプロピレンオキサイド変性(メタ)アクリレートの含有量が、組成物の全質量を基準として15質量%以上である。
1. Electron Beam Curable Composition One embodiment of the present invention includes one or more (meth)acrylate compounds (A) containing a propylene oxide-modified (meth)acrylate (A1) having three or more functional groups, and the following (1) The present invention relates to an electron beam curable composition that satisfies (2) and (2).
(1) In each of the one or more (meth)acrylate compounds (A), the content of the (meth)acrylate compound having a molecular weight of less than 500 is less than 25% by mass based on the total mass of the composition.
(2) The content of the propylene oxide-modified (meth)acrylate having three or more functional groups is 15% by mass or more based on the total mass of the composition.

以下、上記電子線硬化型組成物の構成成分について説明する。
<(メタ)アクリレート化合物(A)>
本発明の一実施形態である電子線硬化型組成物は、(メタ)アクリレート化合物(A)を主成分とする。一実施形態において、電子線硬化型組成物の全質量を基準とする、(メタ)アクリレート化合物(A)の含有量は、80質量%以上であることが好ましく、90質量%以上であることがより好ましく、95質量%以上であることがさらに好ましい。
The constituent components of the electron beam curable composition will be explained below.
<(meth)acrylate compound (A)>
An electron beam curable composition that is an embodiment of the present invention has a (meth)acrylate compound (A) as a main component. In one embodiment, the content of the (meth)acrylate compound (A) is preferably 80% by mass or more, and preferably 90% by mass or more, based on the total mass of the electron beam curable composition. More preferably, it is 95% by mass or more.

本明細書において(メタ)アクリレート化合物(A)とは、重合性基である(メタ)アクリロイル基(官能基という場合がある)を1分子中に1つ以上有する化合物である。「(メタ)アクリレート」とは、「アクリレート」と「メタクリレート」の併記を表す。電子線硬化型組成物において、(メタ)アクリレート化合物(A)は、少なくとも、官能基数3以上のプロピレンオキサイド変性(メタ)アクリレート(A1)を含有する。 In this specification, the (meth)acrylate compound (A) is a compound having one or more (meth)acryloyl groups (sometimes referred to as functional groups) that are polymerizable groups in one molecule. “(Meth)acrylate” refers to both “acrylate” and “methacrylate”. In the electron beam curable composition, the (meth)acrylate compound (A) contains at least a propylene oxide-modified (meth)acrylate (A1) having 3 or more functional groups.

上記(メタ)アクリレート化合物(A)は、官能基数3以上のプロピレンオキサイド変性(メタ)アクリレート(A1)以外の多官能(メタ)アクリレートモノマー、単官能(メタ)アクリレートモノマー、(メタ)アクリレートオリゴマー、及び(メタ)アクリレートポリマーからなる群から選択される少なくとも1種をさらに含んでもよい。本発明において、「モノマー」とは、オリゴマー又はポリマーを構成するための最小構成単位の化合物を意味し、以下の記載では(メタ)アクリレートとして記載する場合もある。以下、電子線硬化型組成物を構成する(メタ)アクリレート化合物についてより具体的に説明する。 The above (meth)acrylate compound (A) includes a polyfunctional (meth)acrylate monomer other than propylene oxide-modified (meth)acrylate (A1) having a functional group number of 3 or more, a monofunctional (meth)acrylate monomer, a (meth)acrylate oligomer, and (meth)acrylate polymer. In the present invention, the term "monomer" refers to a compound that is the minimum structural unit for constituting an oligomer or polymer, and may be referred to as (meth)acrylate in the following description. Hereinafter, the (meth)acrylate compound constituting the electron beam curable composition will be explained in more detail.

電子線硬化型組成物を構成する(メタ)アクリレート化合物(A)は、官能基数3以上のPO変性(メタ)アクリレート(A1)を少なくとも含む。PO変性された(メタ)アクリレートは表面張力が小さいことから、塗工時の弾きを抑制し、光沢性の向上に寄与する。弾きを抑制し、光沢性に優れる塗膜を容易に得る観点から、官能基数3以上のPO変性(メタ)アクリレート(A1)の含有量は、電子線硬化型組成物の全質量を基準として、15質量%以上であることが好ましい。上記含有量は、18質量%以上であることがより好ましく、24質量%以上であることがさらに好ましく、35質量%以上であることがよりいっそう好ましい。一方、一実施形態において、官能基数3以上のPO変性(メタ)アクリレート(A1)の含有量は、電子線硬化型組成物の全質量を基準として、97質量%以下であることが好ましく、85質量%以下であることがより好ましく、70質量%以下であることがさらに好ましい。 The (meth)acrylate compound (A) constituting the electron beam curable composition contains at least a PO-modified (meth)acrylate (A1) having 3 or more functional groups. Since PO-modified (meth)acrylate has a low surface tension, it suppresses repellency during coating and contributes to improving gloss. From the viewpoint of suppressing repellency and easily obtaining a coating film with excellent gloss, the content of PO-modified (meth)acrylate (A1) having 3 or more functional groups is based on the total mass of the electron beam curable composition. It is preferably 15% by mass or more. The content is more preferably 18% by mass or more, even more preferably 24% by mass or more, and even more preferably 35% by mass or more. On the other hand, in one embodiment, the content of the PO-modified (meth)acrylate (A1) having 3 or more functional groups is preferably 97% by mass or less, based on the total mass of the electron beam curable composition, and 85% by mass or less, based on the total mass of the electron beam curable composition. It is more preferably at most 70% by mass, even more preferably at most 70% by mass.

官能基数3以上のPO変性(メタ)アクリレート(A1)は、(メタ)アクリレート官能基数が3~6であることが好ましい。官能基数は3又は4であることがより好ましく、官能基数は4であることがさらに好ましい。
官能基数3以上のPO変性(メタ)アクリレート(A1)の具体例として、PO変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、PO変性グリセリルトリ(メタ)アクリレート、PO変性ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、PO変性イソシアヌル酸トリ(メタ)アクリレート、PO変性ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、PO変性ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、PO変性ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、及びPO変性ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレートが挙げられる。これらの1種又は2種以上を組合せて使用することができる。
The PO-modified (meth)acrylate (A1) having 3 or more functional groups preferably has 3 to 6 (meth)acrylate functional groups. The number of functional groups is more preferably 3 or 4, and even more preferably 4.
Specific examples of PO-modified (meth)acrylate (A1) having a functional group number of 3 or more include PO-modified trimethylolpropane tri(meth)acrylate, PO-modified glyceryl tri(meth)acrylate, PO-modified pentaerythritol tri(meth)acrylate, PO Modified isocyanuric acid tri(meth)acrylate, PO modified pentaerythritol tetra(meth)acrylate, PO modified ditrimethylolpropane tetra(meth)acrylate, PO modified dipentaerythritol penta(meth)acrylate, and PO modified dipentaerythritol hexa(meth)acrylate. ) acrylates. These can be used alone or in combination of two or more.

官能基数3以上のPO変性(メタ)アクリレート(A1)は、プロピレンオキサイド基の付加数が2~20であってよい。プロピレンオキサイド基の付加数は、3~15が好ましく、3~10がより好ましく、4~6がさらに好ましい。
例えば、PO変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート化合物は、PO(3モル)変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、PO(6モル)変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレートであってよい。PO変性グリセリルトリ(メタ)アクリレート化合物は、PO(3モル)変性グリセリルトリ(メタ)アクリレート、PO(6モル)変性グリセリルトリ(メタ)アクリレート、PO(9モル)変性グリセリルトリ(メタ)アクリレートであってよい。 PO変性イソシアヌル酸トリ(メタ)アクリレート化合物はPO(3モル)変性イソシアヌル酸トリ(メタ)アクリレートであってよい。PO変性ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート化合物は、PO(4モル)変性ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、PO(8モル)変性ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、PO(10モル)変性ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレートであってよい。PO変性ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート化合物は、PO変性(4モル)ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレートであってよい。さらに、PO変性ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート化合物は、PO変性(6モル)ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレートであってよい。
The PO-modified (meth)acrylate (A1) having 3 or more functional groups may have 2 to 20 propylene oxide groups. The number of propylene oxide groups added is preferably 3 to 15, more preferably 3 to 10, and even more preferably 4 to 6.
For example, the PO-modified trimethylolpropane tri(meth)acrylate compound may be PO (3 moles) modified trimethylolpropane tri(meth)acrylate, PO (6 moles) modified trimethylolpropane tri(meth)acrylate. PO-modified glyceryl tri(meth)acrylate compounds include PO (3 mol) modified glyceryl tri(meth)acrylate, PO (6 mol) modified glyceryl tri(meth)acrylate, and PO (9 mol) modified glyceryl tri(meth)acrylate. It's good. The PO-modified isocyanuric acid tri(meth)acrylate compound may be PO (3 moles)-modified isocyanuric acid tri(meth)acrylate. PO-modified pentaerythritol tetra(meth)acrylate compounds include PO (4 mol) modified pentaerythritol tetra(meth)acrylate, PO (8 mol) modified pentaerythritol tetra(meth)acrylate, PO (10 mol) modified pentaerythritol tetra( It may be a meth)acrylate. The PO-modified ditrimethylolpropane tetra(meth)acrylate compound may be a PO-modified (4 mole) ditrimethylolpropane tetra(meth)acrylate. Furthermore, the PO-modified dipentaerythritol hexa(meth)acrylate compound may be a PO-modified (6 mole) dipentaerythritol hexa(meth)acrylate.

一実施形態において、官能基数3以上のPO変性(メタ)アクリレート(A1)は、PO変性トリメチロールプロパントリアクリレート、PO変性ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、PO変性ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、及びPO変性ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレートからなる群から選択される少なくとも1種を含むことが好ましい。なかでも、硬化性と光沢の観点から、PO変性トリメチロールプロパントリアクリレート、又はPO変性ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレートを使用することが好ましい。 In one embodiment, the PO-modified (meth)acrylate (A1) having 3 or more functional groups is PO-modified trimethylolpropane triacrylate, PO-modified pentaerythritol tetra(meth)acrylate, PO-modified ditrimethylolpropane tetra(meth)acrylate, and PO-modified dipentaerythritol hexa(meth)acrylate. Among these, from the viewpoint of curability and gloss, it is preferable to use PO-modified trimethylolpropane triacrylate or PO-modified pentaerythritol tetra(meth)acrylate.

官能基数3以上のPO変性(メタ)アクリレート(A1)は、市販品として入手することができる。例えば、新中村化学工業社製の「ATM-4P」(PO(4モル)変性ペンタエリスリトールテトラアクリレート)、「A-DPA-6PA」(PO(6モル)変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート)を好適に使用することができる。 PO-modified (meth)acrylate (A1) having three or more functional groups is available as a commercial product. For example, "ATM-4P" (PO (4 mol) modified pentaerythritol tetraacrylate) and "A-DPA-6PA" (PO (6 mol) modified dipentaerythritol hexaacrylate) manufactured by Shin Nakamura Chemical Industry Co., Ltd. are preferably used. can be used.

一実施形態において、電子線硬化型組成物を構成する(メタ)アクリレート化合物は、官能基数3以上のPO変性(メタ)アクリレート(A1)と、これ以外の官能基数3以上の多官能(メタ)アクリレートモノマーとを含んでよい。
官能基数3以上の(メタ)アクリレートモノマーの具体例として、
トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ε-カプロラクトン変性トリス-(2-アクリロキシエチル)イソシアヌレート、エトキシ化イソシアヌル酸トリ(メタ)アクリレート、トリス(2-ヒドロキシエチル)イソシアヌレートトリ(メタ)アクリレート、及びペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレートなどの3官能(メタ)アクリレート、
ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、及びジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレートなどの4官能(メタ)アクリレート、
ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレートなどの5官能(メタ)アクリレート、及び
ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレートなどの6官能(メタ)アクリレート、などが挙げられる。
In one embodiment, the (meth)acrylate compounds constituting the electron beam curable composition include PO-modified (meth)acrylate (A1) having 3 or more functional groups and other polyfunctional (meth)acrylates having 3 or more functional groups. acrylate monomers.
As a specific example of a (meth)acrylate monomer having three or more functional groups,
Trimethylolpropane tri(meth)acrylate, ε-caprolactone modified tris-(2-acryloxyethyl)isocyanurate, ethoxylated isocyanuric acid tri(meth)acrylate, tris(2-hydroxyethyl)isocyanurate tri(meth)acrylate, and trifunctional (meth)acrylates such as pentaerythritol tri(meth)acrylate,
Tetrafunctional (meth)acrylates such as pentaerythritol tetra(meth)acrylate and ditrimethylolpropane tetra(meth)acrylate,
Examples include pentafunctional (meth)acrylates such as dipentaerythritol penta(meth)acrylate, and hexafunctional (meth)acrylates such as dipentaerythritol hexa(meth)acrylate.

一実施形態において、官能基数3以上のPO変性(メタ)アクリレート(A1)と併用される多官能(メタ)アクリレートは、官能基数3以上のアルキレンオキサイド変性された(メタ)アクリレート(但し、PO変性の(メタ)アクリレートは除く)を少なくとも含むことがより好ましい。上記官能基数3以上のアルキレンオキサイド変性(メタ)アクリレートは、アルキレンオキサイド基数が2~20であり、(メタ)アクリレート官能基数が3~6であってよい。 In one embodiment, the polyfunctional (meth)acrylate used in combination with the PO-modified (meth)acrylate (A1) having a functional group number of 3 or more is an alkylene oxide-modified (meth)acrylate having a functional group number of 3 or more (however, a PO-modified (excluding (meth)acrylate). The alkylene oxide-modified (meth)acrylate having 3 or more functional groups may have 2 to 20 alkylene oxide groups and 3 to 6 (meth)acrylate functional groups.

官能基数3以上のアルキレンオキサイド変性(メタ)アクリレートの具体例として、アルキレンオキサイド変性グリセリルトリ(メタ)アクリレート、及びアルキレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、アルキレンオキサイド変性ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、アルキレンオキサイド変性イソシアヌル酸トリ(メタ)アクリレートなどの、アルキレンオキサイド変性3官能(メタ)アクリレート、
アルキレンオキサイド変性ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、及びアルキレンオキサイド変性ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレートなどの、アルキレンオキサイド変性4官能(メタ)アクリレート、
アルキレンオキサイド変性ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレートなどの、アルキレンオキサイド変性5官能(メタ)アクリレート、及び
アルキレンオキサイド変性ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレートなどの、アルキレンオキサイド変性6官能(メタ)アクリレート、などが挙げられる。
Specific examples of alkylene oxide-modified (meth)acrylates having three or more functional groups include alkylene oxide-modified glyceryl tri(meth)acrylate, alkylene oxide-modified trimethylolpropane tri(meth)acrylate, and alkylene oxide-modified pentaerythritol tri(meth)acrylate. , alkylene oxide-modified trifunctional (meth)acrylates such as alkylene oxide-modified isocyanuric acid tri(meth)acrylates,
alkylene oxide-modified tetrafunctional (meth)acrylates, such as alkylene oxide-modified pentaerythritol tetra(meth)acrylate, and alkylene oxide-modified ditrimethylolpropane tetra(meth)acrylate;
Alkylene oxide modified pentafunctional (meth)acrylates such as alkylene oxide modified dipentaerythritol penta(meth)acrylate, and alkylene oxide modified hexafunctional (meth)acrylates such as alkylene oxide modified dipentaerythritol hexa(meth)acrylate. can be mentioned.

例示した上記(メタ)アクリレートにおいて、アルキレンオキサイド基は、エチレンオキサイド基、ブチレンオキサイド基、ペンチレンオキサイド基、及びへキシレンオキサイド基からなる群から選択される少なくとも1種であってよい。なかでも、入手容易性、及びマイグレーションの抑制の観点から、エチレンオキサイド基が好ましい。したがって、一実施形態において、官能基数3以上のアルキレンオキサイド変性(メタ)アクリレートのなかでも、官能基数3以上のエチレンオキサイド(EO)変性(メタ)アクリレートを好ましく使用することができる。 In the above-mentioned (meth)acrylates illustrated, the alkylene oxide group may be at least one selected from the group consisting of ethylene oxide group, butylene oxide group, pentylene oxide group, and hexylene oxide group. Among these, an ethylene oxide group is preferred from the viewpoint of easy availability and suppression of migration. Therefore, in one embodiment, among alkylene oxide-modified (meth)acrylates having three or more functional groups, ethylene oxide (EO)-modified (meth)acrylates having three or more functional groups can be preferably used.

一実施形態において、電子線硬化型組成物を構成する(メタ)アクリレート化合物は、官能基数3以上のPO変性(メタ)アクリレート(A1)と、官能基数3以上のEO変性(メタ)アクリレートとを含むことが好ましい。
官能基数3以上のEO変性(メタ)アクリレートの具体例として、EO変性トリメチロールプロパントリアクリレート、EO変性グリセリルトリアクリレート、EO変性ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、EO変性ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、EO変性ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、EO変性ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、及び、EO変性ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレートが挙げられる。これらの1種又は2種以上を組合せて使用することができる。
In one embodiment, the (meth)acrylate compound constituting the electron beam curable composition includes a PO-modified (meth)acrylate (A1) having 3 or more functional groups and an EO-modified (meth)acrylate having 3 or more functional groups. It is preferable to include.
Specific examples of EO-modified (meth)acrylates having 3 or more functional groups include EO-modified trimethylolpropane triacrylate, EO-modified glyceryl triacrylate, EO-modified pentaerythritol tri(meth)acrylate, EO-modified pentaerythritol tetra(meth)acrylate, Examples include EO-modified ditrimethylolpropane tetra(meth)acrylate, EO-modified dipentaerythritol penta(meth)acrylate, and EO-modified dipentaerythritol hexa(meth)acrylate. These can be used alone or in combination of two or more.

一実施形態において、上記官能基数3以上のアルキレンオキサイド変性(メタ)アクリレートのなかでも、下記一般式(I)で表されるアルキレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレートを好適に使用することができる。

Figure 0007392225000001
In one embodiment, among the alkylene oxide-modified (meth)acrylates having three or more functional groups, alkylene oxide-modified trimethylolpropane triacrylate represented by the following general formula (I) can be preferably used.
Figure 0007392225000001

一般式(I)中、Rは、アルキレンオキサイド基を表す。アルキレンオキサイド基は、エチレンオキサイド、ブチレンオキサイド、ペンチレンオキサイド、及びヘキシレンオキサイドからなる群から選択される1種又は2種以上の基であってよい。Rは、エチレンオキサイドであることが好ましい。
l+m+nは、それぞれ付加しているアルキレンオキサイド基の平均付加数を示す。アルキレンオキサイドの平均付加数は、1分子あたり2~20モルであることが好ましい。
In general formula (I), R represents an alkylene oxide group. The alkylene oxide group may be one or more groups selected from the group consisting of ethylene oxide, butylene oxide, pentylene oxide, and hexylene oxide. Preferably, R is ethylene oxide.
l+m+n represents the average number of alkylene oxide groups added. The average number of alkylene oxides added is preferably 2 to 20 moles per molecule.

アルキレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレートは、アルキレンオキサイド基の種類および付加数によって、塗膜特性を容易に調整することができる。例えば、付加数を上げることによって、ペネトレーションによるマイグレーションを容易に抑制することができる。また、1分子中に反応性のアクリロイル基を3つ有していることから、反応性が高く、強固な塗膜を得ることができる。アルキレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート化合物の含有量および変性数を調整することによって、硬化塗膜の強度とマイグレーション抑制との良好なバランスを得ることができる。アルキレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレートのなかでも、EO変性トリメチロールプロパントリアクリレートを好適に使用することができる。 The coating film properties of alkylene oxide-modified trimethylolpropane triacrylate can be easily adjusted by adjusting the type and number of alkylene oxide groups added. For example, by increasing the number of additions, migration due to penetration can be easily suppressed. Furthermore, since it has three reactive acryloyl groups in one molecule, it has high reactivity and can form a strong coating film. By adjusting the content and modification number of the alkylene oxide-modified trimethylolpropane triacrylate compound, a good balance between the strength of the cured coating film and migration suppression can be obtained. Among the alkylene oxide-modified trimethylolpropane triacrylates, EO-modified trimethylolpropane triacrylate can be preferably used.

市販品として入手可能なEO変性トリメチロールプロパントリアクリレートとして、EO(3モル)変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、EO(6モル)変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、EO(9モル)変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、EO(15モル)変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、及びEO(20モル)変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、などが挙げられる。 Commercially available EO-modified trimethylolpropane triacrylates include EO (3 moles) modified trimethylolpropane tri(meth)acrylate, EO (6 moles) modified trimethylolpropane tri(meth)acrylate, and EO (9 moles). Examples include modified trimethylolpropane tri(meth)acrylate, EO (15 mol) modified trimethylolpropane tri(meth)acrylate, and EO (20 mol) modified trimethylolpropane tri(meth)acrylate.

他の実施形態において、電子線硬化型組成物を構成する(メタ)アクリレート化合物は、官能基数3以上のPO変性(メタ)アクリレート(A1)と、(メタ)アクリレートオリゴマー、又は(メタ)アクリレートポリマーとを含んでもよい。(メタ)アクリレートオリゴマー又は(メタ)アクリレートポリマーは、少なくとも分子内に(メタ)アクリロイル基を有するモノマーから誘導されるオリゴマー又はポリマーを意味する。本発明において、「オリゴマー」とは、比較的重合度の低い、2個~100個のモノマーに基づく構成単位を有する重合体である。(メタ)アクリレートオリゴマーは、(メタ)アクリレートモノマーに比べて分子量が高いことから、マイグレーションのリスクを大きく低減することができる。 In another embodiment, the (meth)acrylate compound constituting the electron beam curable composition includes a PO-modified (meth)acrylate (A1) having 3 or more functional groups, a (meth)acrylate oligomer, or a (meth)acrylate polymer. It may also include. (Meth)acrylate oligomer or (meth)acrylate polymer means an oligomer or polymer derived from a monomer having at least a (meth)acryloyl group in the molecule. In the present invention, an "oligomer" is a polymer having a relatively low degree of polymerization and having structural units based on 2 to 100 monomers. Since (meth)acrylate oligomers have a higher molecular weight than (meth)acrylate monomers, the risk of migration can be greatly reduced.

一実施形態において、(メタ)アクリレート化合物は、官能基数3以上のPO変性(メタ)アクリレート(A1)と、(メタ)アクリレートオリゴマーとを含むことが好ましい。(メタ)アクリレートオリゴマーとしては、例えば、ウレタン(メタ)アクリレート、ポリエステル(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレートなどが挙げられる。オリゴマーは、1種単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせてもよい。一実施形態において、ポリエステル(メタ)アクリレートを好適に使用することができる。 In one embodiment, the (meth)acrylate compound preferably contains a PO-modified (meth)acrylate (A1) having three or more functional groups and a (meth)acrylate oligomer. Examples of the (meth)acrylate oligomer include urethane (meth)acrylate, polyester (meth)acrylate, and epoxy (meth)acrylate. The oligomers may be used alone or in combination of two or more. In one embodiment, polyester (meth)acrylate can be suitably used.

ポリエステル(メタ)アクリレートは、多塩基酸及び多価アルコールを公知の方法で重縮合して得られる化合物であってよく、カルボキシル基量と水酸基量の配合比によって、分子量、水酸基またはカルボキシル基などの末端基の量を調整することができる。例えば、多塩基酸に含まれるカルボキシル基量が多価アルコールに含まれる水酸基量よりも多い場合、末端官能基はカルボキシル基となる。このカルボキシル基と水酸基含有(メタ)アクリレートの水酸基とを縮合反応させることで、目的とするポリエステル(メタ)アクリレートを得ることができる。 Polyester (meth)acrylate may be a compound obtained by polycondensing a polybasic acid and a polyhydric alcohol by a known method, and the molecular weight, hydroxyl group, carboxyl group, etc. The amount of end groups can be adjusted. For example, when the amount of carboxyl groups contained in the polybasic acid is greater than the amount of hydroxyl groups contained in the polyhydric alcohol, the terminal functional group becomes a carboxyl group. By subjecting this carboxyl group to a condensation reaction with the hydroxyl group of the hydroxyl group-containing (meth)acrylate, the desired polyester (meth)acrylate can be obtained.

ポリエステル(メタ)アクリレートを使用した場合、強固な硬化皮膜が容易に得られる。また、官能基数3以上のPO変性(メタ)アクリレート(A1)との相溶性が良好で、低粘度であるため、電子線硬化型組成物をインキ又はニスとして使用する際の粘度増加を容易に抑制できる。一実施形態において、電子線硬化型組成物におけるポリエステル(メタ)アクリレートの含有量は、組成物の全質量を基準として、25~85質量%であることが好ましく、45~65質量%であることがより好ましい。 When polyester (meth)acrylate is used, a strong cured film can be easily obtained. In addition, it has good compatibility with PO-modified (meth)acrylate (A1) having a functional group number of 3 or more, and has a low viscosity, so it is easy to increase the viscosity when using the electron beam curable composition as an ink or varnish. It can be suppressed. In one embodiment, the content of polyester (meth)acrylate in the electron beam curable composition is preferably 25 to 85% by mass, and preferably 45 to 65% by mass, based on the total mass of the composition. is more preferable.

ポリエステル(メタ)アクリレートは、市販品として入手することもできる。例えば、ダイセル・オルネクス社製のEBECRYL820、824、837、及び450が挙げられ、これらを好適に使用することができる。 Polyester (meth)acrylates can also be obtained as commercial products. Examples include EBECRYL820, 824, 837, and 450 manufactured by Daicel Allnex, and these can be preferably used.

一実施形態において、電子線硬化型組成物を構成する(メタ)アクリレート化合物は、必要に応じて、単官能(メタ)アクリレートモノマー及び2官能(メタ)アクリレートモノマーからなる群から選択される少なくとも1種をさらに含んでもよい。
単官能(メタ)アクリレートモノマーの具体例として、2-エチルヘキシル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、β-カルボキシルエチル(メタ)アクリレート、4-tert-ブチルシクロヘキノール(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、アルコキシ化テトラヒドロフルフリルアクリレート、カプロラクトン(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、イソアミル(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレート、イソデシル(メタ)アクリレート、3,3,5-トリメチルシクロヘキサノール(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、ノルボルニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニル(オキシエチル)(メタ)アクリレート、1,4-シクロヘキサンジメタノール(メタ)アクリレート、環状トリメチロールプロパンフォルマル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、EO変性ノニルフェノールアクリレート、2-メチル-2-エチル-1、3-ジオキソラン-4-イル)メチルアクリレート、アクリロイルモルフォリンなどが挙げられる。
In one embodiment, the (meth)acrylate compound constituting the electron beam curable composition is optionally at least one selected from the group consisting of monofunctional (meth)acrylate monomers and bifunctional (meth)acrylate monomers. It may further contain seeds.
Specific examples of monofunctional (meth)acrylate monomers include 2-ethylhexyl (meth)acrylate, 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, 2-hydroxypropyl (meth)acrylate, β-carboxylethyl (meth)acrylate, and 4-tert. -Butylcyclohexynol (meth)acrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate, alkoxylated tetrahydrofurfuryl acrylate, caprolactone (meth)acrylate, lauryl (meth)acrylate, stearyl (meth)acrylate, isoamyl (meth)acrylate, phenoxyethyl (meth)acrylate Acrylate, isodecyl (meth)acrylate, 3,3,5-trimethylcyclohexanol (meth)acrylate, cyclohexyl (meth)acrylate, isobornyl (meth)acrylate, norbornyl (meth)acrylate, dicyclopentanyl (meth)acrylate, Cyclopentenyl (oxyethyl) (meth)acrylate, 1,4-cyclohexanedimethanol (meth)acrylate, cyclic trimethylolpropane formal (meth)acrylate, benzyl (meth)acrylate, EO-modified nonylphenol acrylate, 2-methyl-2- Examples include ethyl-1,3-dioxolan-4-yl)methyl acrylate and acryloylmorpholine.

2官能(メタ)アクリレートモノマーの具体例として、1,3-ブチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,4-ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、3-メチル-1,5-ペンタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,6-ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、1,9-ノナンジオールジ(メタ)アクリレート、1,10-デカンジオールジ(メタ)アクリレート、1,2-ドデカンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ジプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、EO変性1,6-ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、PO変性ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、(ネオペンチルグリコール変性)トリメチロールプロパンジ(メタ)アクリレート、ジメチロールトリシクロデカンジ(メタ)アクリレート、EO変性ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート、PO変性ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート、シクロヘキサンジメタノールジ(メタ)アクリレート、ジメチロール-トリシクロデカンジ(メタ)アクリレート、及びジシクロペンタニルジ(メタ)アクリレートなどが挙げられる。 Specific examples of difunctional (meth)acrylate monomers include 1,3-butylene glycol di(meth)acrylate, 1,4-butanediol di(meth)acrylate, and 3-methyl-1,5-pentanediol di(meth)acrylate. Acrylate, 1,6-hexanediol di(meth)acrylate, 1,9-nonanediol di(meth)acrylate, 1,10-decanediol di(meth)acrylate, 1,2-dodecanediol di(meth)acrylate, Neopentyl glycol di(meth)acrylate, polyethylene glycol di(meth)acrylate, polypropylene glycol di(meth)acrylate, hydroxypivalic acid neopentyl glycol di(meth)acrylate, dipropylene glycol di(meth)acrylate, tripropylene glycol di(meth)acrylate (meth)acrylate, EO-modified 1,6-hexanediol di(meth)acrylate, PO-modified neopentyl glycol di(meth)acrylate, (neopentyl glycol-modified) trimethylolpropane di(meth)acrylate, dimethylol tricyclode Kandi(meth)acrylate, EO-modified bisphenol A di(meth)acrylate, PO-modified bisphenol A di(meth)acrylate, cyclohexanedimethanol di(meth)acrylate, dimethylol-tricyclodecane di(meth)acrylate, and dicyclopenta Examples include nyldi(meth)acrylate.

上述のように、電子線硬化型組成物は、組成物の全質量を基準として官能基数3以上のPO変性(メタ)アクリレート(A1)を15質量%以上含むことによって、塗工時の弾きの発生を抑制し、かつ光沢性に優れた塗膜を容易に得ることができる。一実施形態において、(メタ)アクリレート化合物(A)の全質量を基準として、官能基数3以上のPO変性(メタ)アクリレート(A1)の含有量は100質量%であってもよい。このような実施形態において、官能基数3以上のPO変性(メタ)アクリレート(A1)の含有量は、電子線硬化型組成物の全質量を基準として、80質量%以上であることが好ましく、90質量%以上であることがより好ましく、95質量%以上であることがさらに好ましい。 As mentioned above, the electron beam curable composition improves repellency during coating by containing 15% by mass or more of PO-modified (meth)acrylate (A1) having 3 or more functional groups based on the total mass of the composition. It is possible to easily obtain a coating film that suppresses generation and has excellent gloss. In one embodiment, the content of the PO-modified (meth)acrylate (A1) having 3 or more functional groups may be 100% by mass based on the total mass of the (meth)acrylate compound (A). In such an embodiment, the content of the PO-modified (meth)acrylate (A1) having 3 or more functional groups is preferably 80% by mass or more, and 90% by mass or more based on the total mass of the electron beam curable composition. It is more preferably at least 95% by mass, and even more preferably at least 95% by mass.

また、官能基数3以上のPO変性(メタ)アクリレート(A1)と、その他の(メタ)アクリレート化合物とを併用することによって、マイグレーションの改善、及び塗膜特性の改善が容易となる。例えば、官能基数3以上のPO変性(メタ)アクリレート(A1)と、官能基数3以上のEO変性(メタ)アクリレートとを併用した場合、マイグレーション、弾き、及び光沢性をバランスよく改善することができる。このような実施形態において、(メタ)アクリレート化合物の全質量を基準として、官能基数3以上のPO変性(メタ)アクリレート(A1)、及び官能基数3以上のEO変性(メタ)アクリレートの合計配合量は、100質量%であってもよい。上記実施形態において、官能基数3以上のPO変性(メタ)アクリレート(A1)の含有量は、電子線硬化型組成物の全質量を基準として、好ましくは15~70質量%の範囲であってよく、より好ましくは、24~65質量%の範囲であってよく、さらに好ましくは40~60質量の範囲であってよい。 Furthermore, by using the PO-modified (meth)acrylate (A1) having three or more functional groups in combination with another (meth)acrylate compound, it becomes easy to improve migration and coating film properties. For example, when PO-modified (meth)acrylate (A1) with a functional group number of 3 or more and an EO-modified (meth)acrylate with a functional group number of 3 or more are used together, migration, repellency, and gloss can be improved in a well-balanced manner. . In such an embodiment, the total amount of the PO-modified (meth)acrylate (A1) having 3 or more functional groups and the EO-modified (meth)acrylate having 3 or more functional groups, based on the total mass of the (meth)acrylate compound. may be 100% by mass. In the above embodiment, the content of the PO-modified (meth)acrylate (A1) having 3 or more functional groups may preferably be in the range of 15 to 70% by mass based on the total mass of the electron beam curable composition. , more preferably in the range of 24 to 65% by weight, and still more preferably in the range of 40 to 60% by weight.

官能基数3以上のPO変性又はEO変性(メタ)アクリレートは、市販品として入手でき、各メーカーではPO又はEO付加数を明示している。しかし、実際のところ、付加数には分布があり、あくまで主要な付加数が明示されているに過ぎず、分子量にバラつきがある。そのため、正味の付加数を把握するためには、GPC(ゲルパーミエーションクロマトグラフィー)などによる分子量分布の測定が必要である。 PO-modified or EO-modified (meth)acrylates having three or more functional groups are available as commercial products, and each manufacturer specifies the number of PO or EO additions. However, in reality, there is a distribution in the number of additions, and only the main number of additions is clearly specified, and there are variations in molecular weight. Therefore, in order to understand the net number of additions, it is necessary to measure the molecular weight distribution by GPC (gel permeation chromatography) or the like.

このような観点から、本発明では、電子線硬化型組成物を構成する(メタ)アクリレート化合物について、それぞれGPCによる分子量分布を測定し、そのグラフから特定範囲の分子量を有する化合物の含有量を規定する。例えば、GPCのグラフにおいて、分子量が500未満の範囲における成分量がX%である場合、PO変性多官能(メタ)アクリレートの含有量Aにおいて、分子量が500未満のPO変性多官能(メタ)アクリレートの含有量はA×X(%)として算出される。オリゴマー及びポリマーについても分子量分布を有するため、一般的に、分子量は重量平均分子量又は数平均分子量として規定されている。しかし、本発明では、上記のようにGPCのグラフから得られる特定範囲の分子量を有する化合物の含有率から、その化合物の含有量を算出する。 From this point of view, in the present invention, the molecular weight distribution of each (meth)acrylate compound constituting the electron beam curable composition is measured by GPC, and the content of the compound having a molecular weight in a specific range is determined from the graph. do. For example, in the GPC graph, if the component amount in the molecular weight range of less than 500 is The content of is calculated as A×X (%). Since oligomers and polymers also have molecular weight distributions, molecular weights are generally defined as weight average molecular weights or number average molecular weights. However, in the present invention, the content of the compound is calculated from the content of the compound having a molecular weight in a specific range obtained from the GPC graph as described above.

上記電子線硬化型組成物を構成する(メタ)アクリレート化合物において、分子量が500未満の(メタ)アクリレート化合物は、硬化性が良好なため、強固な塗膜を形成できる。しかし、分子量が低く、未反応成分のペネトレーションによるマイグレーションが発生しやすくなる。そのため、電子線硬化型組成物において、分子量が500未満の(メタ)アクリレート化合物の含有量は可能な限り低減させることが好ましい。したがって、一実施形態において、マイグレーションを抑制する観点から、分子量が500未満の(メタ)アクリレート化合物の含有量は、組成物の全質量を基準として、25質量%未満であることが好ましい。(メタ)アクリレート化合物は、2種以上の(メタ)アクリレート化合物を含むことが好ましい。例えば、(メタ)アクリレート化合物は、官能基数3以上のPO変性(メタ)アクリレートと、官能基数3以上のEO変性(メタ)アクリレート又はポリエステル(メタ)アクリレートとを含んでよい。この場合、それぞれの化合物について分子量が500未満の成分の含有量が25質量%未満であることが好ましい。 Among the (meth)acrylate compounds constituting the electron beam curable composition, a (meth)acrylate compound having a molecular weight of less than 500 has good curability and can form a strong coating film. However, since the molecular weight is low, migration due to penetration of unreacted components is likely to occur. Therefore, in the electron beam curable composition, it is preferable to reduce the content of (meth)acrylate compounds having a molecular weight of less than 500 as much as possible. Therefore, in one embodiment, from the viewpoint of suppressing migration, the content of the (meth)acrylate compound having a molecular weight of less than 500 is preferably less than 25% by mass based on the total mass of the composition. It is preferable that the (meth)acrylate compound contains two or more types of (meth)acrylate compounds. For example, the (meth)acrylate compound may include a PO-modified (meth)acrylate having three or more functional groups and an EO-modified (meth)acrylate or polyester (meth)acrylate having three or more functional groups. In this case, it is preferable that the content of components having a molecular weight of less than 500 in each compound is less than 25% by mass.

上記のように分子量が500未満の成分の含有量が25質量%未満である場合、マイグレーションのレベルを許容範囲内に容易に抑制することができる。(メタ)アクリレート化合物における、分子量が500未満の(メタ)アクリレート化合物の含有量は、組成物の全質量を基準として、より好ましくは21質量%未満であり、さらに好ましくは16質量%未満であってよい。一実施形態において、上記含有量は0質量%であってもよい。 As mentioned above, when the content of components having a molecular weight of less than 500 is less than 25% by mass, the level of migration can be easily suppressed within an acceptable range. The content of the (meth)acrylate compound having a molecular weight of less than 500 in the (meth)acrylate compound is more preferably less than 21% by mass, and even more preferably less than 16% by mass, based on the total mass of the composition. It's fine. In one embodiment, the content may be 0% by mass.

マイグレーションを抑制する観点から、上記(メタ)アクリレート化合物は、分子量が500以上の(メタ)アクリレート化合物を1種以上含むことが好ましい。一実施形態において、官能基数3以上のPO変性(メタ)アクリレートと、官能基数3以上のEO変性(メタ)アクリレート又はポリエステル(メタ)アクリレートとを含んでよく、それぞれの分子量は500以上であることが好ましい。 From the viewpoint of suppressing migration, the (meth)acrylate compound preferably contains one or more (meth)acrylate compounds having a molecular weight of 500 or more. In one embodiment, it may include a PO-modified (meth)acrylate having three or more functional groups and an EO-modified (meth)acrylate or polyester (meth)acrylate having three or more functional groups, each having a molecular weight of 500 or more. is preferred.

一実施形態において、電子線硬化型組成物の粘度は、700mPa・s未満であることが好ましい。粘度が700mPa・s未満である場合、レベリング性の低下を抑制し、塗膜特性として優れた光沢性を得ることが容易となる。但し、700mPa・s以上の粘度であっても、加温設備を備えた印刷装置を使用することで、優れた光沢性を有する硬化塗膜を得ることはできる。上記粘度は、600mPa・s未満であることが好ましく、500mPa・s未満であることがより好ましく、400mPa・s未満であることが更に好ましい。かかる粘度は、JISZ8803:2011による測定値をいい、25℃におけるE型粘度計による測定値である。電子線硬化型組成物を構成する(メタ)アクリレート化合物として、官能基数3以上のPO変性(メタ)アクリレート(A1)と、その他の(メタ)アクリレート化合物とを併用した場合、粘度を容易に調整することができる。そのため、例えば、粘度が700mPa・s未満の電子線硬化型組成物を容易に得ることができる。 In one embodiment, the viscosity of the electron beam curable composition is preferably less than 700 mPa·s. When the viscosity is less than 700 mPa·s, it becomes easy to suppress a decrease in leveling properties and to obtain excellent gloss as a coating film property. However, even if the viscosity is 700 mPa·s or more, a cured coating film with excellent gloss can be obtained by using a printing device equipped with heating equipment. The viscosity is preferably less than 600 mPa·s, more preferably less than 500 mPa·s, and even more preferably less than 400 mPa·s. This viscosity refers to a value measured according to JIS Z8803:2011, and is a value measured using an E-type viscometer at 25°C. When PO-modified (meth)acrylate (A1) having 3 or more functional groups is used in combination with other (meth)acrylate compounds as the (meth)acrylate compound constituting the electron beam curable composition, the viscosity can be easily adjusted. can do. Therefore, for example, an electron beam curable composition having a viscosity of less than 700 mPa·s can be easily obtained.

(樹脂ビーズ(B))
一実施形態において、電子線硬化型組成物は、樹脂ビーズ(B)をさらに含んでもよい。樹脂ビーズの使用によって、塗膜のスリップ性を改善することができる。樹脂ビーズは、各種樹脂から構成される粒子、又は表面を各種樹脂で被覆した粒子のいずれの形態であってもよい。原料となる樹脂は、例えば、シリコーン樹脂、アクリル樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、アマイド樹脂、ポリテトラフルオロエチレン樹脂、及びウレタン樹脂からなる群から選択される少なくとも1種であってよい。特に限定するものではないが、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)ビーズを使用した場合、スリップ性を容易に向上できる。
樹脂ビーズは、市販品として入手することができる。例えば、モメンティブ社のトスルパールのシリーズ(シリコーンビーズ)、根上工業社製のアートパールシリーズ(アクリルビーズ)を好適に使用することができる。
(Resin beads (B))
In one embodiment, the electron beam curable composition may further include resin beads (B). The use of resin beads can improve the slip properties of the coating film. The resin beads may be in the form of particles made of various resins or particles whose surfaces are coated with various resins. The resin serving as the raw material may be, for example, at least one selected from the group consisting of silicone resin, acrylic resin, polyethylene resin, polypropylene resin, amide resin, polytetrafluoroethylene resin, and urethane resin. Although not particularly limited, when polytetrafluoroethylene (PTFE) beads are used, slip properties can be easily improved.
Resin beads can be obtained as commercial products. For example, the Tosle Pearl series (silicone beads) manufactured by Momentive Co., Ltd. and the Art Pearl series (acrylic beads) manufactured by Negami Kogyo Co., Ltd. can be suitably used.

樹脂ビーズの含有量は、電子線硬化型組成物の全質量を基準として、5.0質量%未満であってよい。一実施形態において、樹脂ビーズの含有量は、好ましくは4.5質量%以下であってよく、より好ましくは4.2質量%以下であってよく、さらに好ましくは4.0質量%以下であってよい。樹脂ビーズの含有量を5.0質量%未満に調整することによって、光沢性の低下を容易に抑制することができる。一実施形態において、樹脂ビーズの含有量は0質量%であってもよい。
一実施形態において、スリップ性と光沢性の観点から、樹脂ビーズの含有量は、好ましくは0.15~3.5質量%であってよい。上記含有量は、より好ましくは0.25~3.0質量%であってよく、さらに好ましくは0.5~2.0質量%であってよく、さらにより好ましくは0.5~1.5質量%であってよい。
The content of the resin beads may be less than 5.0% by mass based on the total mass of the electron beam curable composition. In one embodiment, the content of the resin beads may be preferably 4.5% by mass or less, more preferably 4.2% by mass or less, still more preferably 4.0% by mass or less. It's fine. By adjusting the content of resin beads to less than 5.0% by mass, reduction in glossiness can be easily suppressed. In one embodiment, the content of resin beads may be 0% by mass.
In one embodiment, from the viewpoint of slip properties and gloss, the content of resin beads may preferably be 0.15 to 3.5% by mass. The content may be more preferably 0.25 to 3.0% by mass, still more preferably 0.5 to 2.0% by mass, even more preferably 0.5 to 1.5% by mass. It may be mass %.

一実施形態において、光沢性の観点から樹脂ビーズの平均粒子径は、好ましくは0.5~6.0μmであってよく、より好ましくは0.5~5.0μmであってよく、さらに好ましくは0.7~4.0μmであってよい。一実施形態において、スリップ性の観点から、樹脂ビーズの平均粒子径は、好ましくは1.3~6.0μmであってよく、より好ましくは1.5~5.0μmであってよく、さらに好ましくは2.0~4.0μmであってよい。樹脂ビーズの平均粒子径を上記範囲内に調整した場合、硬化塗膜のスリップ性と光沢性のバランスが良好となる。上記平均粒子径は、島津製作所株式会社製のレーザー回折粒度分布測定装置SALD-2200を用いて、粒度分布曲線において積算値が50%にあたる粒径(体積基準)を測定することにより得た値である。 In one embodiment, from the viewpoint of glossiness, the average particle diameter of the resin beads may be preferably 0.5 to 6.0 μm, more preferably 0.5 to 5.0 μm, and still more preferably It may be 0.7 to 4.0 μm. In one embodiment, from the viewpoint of slip properties, the average particle diameter of the resin beads may be preferably 1.3 to 6.0 μm, more preferably 1.5 to 5.0 μm, and even more preferably may be 2.0 to 4.0 μm. When the average particle diameter of the resin beads is adjusted within the above range, the cured coating film has a good balance between slip properties and gloss. The above average particle size is a value obtained by measuring the particle size (volume basis) where the integrated value corresponds to 50% in the particle size distribution curve using a laser diffraction particle size distribution analyzer SALD-2200 manufactured by Shimadzu Corporation. be.

(レベリング剤)
一実施形態において、電子線硬化型組成物は、さらにレベリング剤を含んでよい。レベリング剤を使用することによって、レベリング性が向上し、弾き、ピンホール性、光沢性などの塗膜特性を容易に向上させることができる。使用できるレベリング剤は特に限定されず、公知の化合物であってよい。特に限定するものではないが、一実施形態において、アクリル系レベリング剤を好適に使用することができる。一般的に、硬化塗膜の表面張力を大きく低下させるレベリング剤を使用した場合、硬化塗膜上に印刷したインキは弾きやすくなるため、印字適性が低下する。これに対し、アクリル系レベリング剤を使用した場合、硬化塗膜に対して上刷りインキを塗布し、賞味期限又はバーコードなどの印字を容易に行うことができる。このように、アクリル系レベリング剤を使用した場合、印字適性を低下させることなく、より優れた光学性を得ることが容易となる。
(Leveling agent)
In one embodiment, the electron beam curable composition may further include a leveling agent. By using a leveling agent, leveling properties are improved, and coating film properties such as repellency, pinhole properties, and gloss can be easily improved. The leveling agent that can be used is not particularly limited, and may be a known compound. Although not particularly limited, in one embodiment, an acrylic leveling agent can be suitably used. Generally, when a leveling agent that significantly reduces the surface tension of a cured coating film is used, the ink printed on the cured coating film becomes more repellent, resulting in a decrease in printing suitability. On the other hand, when an acrylic leveling agent is used, an overprint ink can be applied to the cured coating film to easily print an expiration date or a bar code. In this way, when an acrylic leveling agent is used, it is easy to obtain better optical properties without reducing printing suitability.

アクリル系レベリング剤としては、ポリ(メタ)アクリレート骨格を有する公知の化合物を使用できる。ポリ(メタ)アクリレート骨格の側鎖のカルボキシル基は、例えば、アルキルエステルのようにエステル化されていてもよく、アミン塩などの有機塩を形成していてもよい。アクリル系レベリング剤は、市販品として入手することもできる。具体例として、ビックケミー・ジャパン株式会社製のBYKシリーズのアクリル系レベリング剤であってよく、BYK-350、BYK-352、BYK-354、BYK-355/356、BYK-358N/361N、BYK-381、BYK-392、BYK-394、BYK-3440、及びBYK-3441など挙げられる。特に限定するものではないが、BYK-361Nを好適に使用することができる。 As the acrylic leveling agent, known compounds having a poly(meth)acrylate skeleton can be used. The carboxyl group in the side chain of the poly(meth)acrylate skeleton may be esterified, such as an alkyl ester, or may form an organic salt such as an amine salt. Acrylic leveling agents are also available as commercial products. Specific examples include BYK series acrylic leveling agents manufactured by BYK Chemie Japan Co., Ltd., such as BYK-350, BYK-352, BYK-354, BYK-355/356, BYK-358N/361N, BYK-381. , BYK-392, BYK-394, BYK-3440, and BYK-3441. Although not particularly limited, BYK-361N can be suitably used.

(合成非晶質シリカ)
一実施形態において、電子線硬化型組成物は、さらに合成非晶質シリカを含んでよい。合成非晶質シリカは、湿式法シリカと乾式法シリカに大別されるが、いずれであってもよい。湿式法シリカは、沈降(沈澱)法シリカおよびゲル法シリカのいずれであってもよい。これらシリカは、一般的に、ケイ酸ナトリウムと鉱酸(通常は硫酸)との中和反応によって合成することができる。
一方、乾式法シリカは、原料として四塩化ケイ素を使用し、酸素と水素の火炎中で加水分解することによって得られる。得られたシリカの表面には、親水性のシラノール基と疎水性のシロキサンが存在する。シラノール基は化学的に活性であり、他の物質と化学反応させることができる。例えば、シラノール基を有機処理剤と反応させることで、親水性であるシリカに疎水性を付与することができる。その他、処理剤の官能基(表面修飾基)の種類によって、様々な機能をシリカに付与することができる。主な表面修飾基としては、ジメチルシリル基、トリメチルシリル基、オクチルシリル基、アルキルシリル基、ジメチルポリシロキサン基、アミノアルキルシリル基、メタクリルシリル基などが挙げられる。
(synthetic amorphous silica)
In one embodiment, the electron beam curable composition may further include synthetic amorphous silica. Synthetic amorphous silica is broadly classified into wet process silica and dry process silica, but it may be either of them. The wet process silica may be either precipitation (precipitation) process silica or gel process silica. These silicas can generally be synthesized by a neutralization reaction between sodium silicate and a mineral acid (usually sulfuric acid).
On the other hand, dry process silica uses silicon tetrachloride as a raw material and is obtained by hydrolyzing it in a flame of oxygen and hydrogen. Hydrophilic silanol groups and hydrophobic siloxane are present on the surface of the obtained silica. Silanol groups are chemically active and can undergo chemical reactions with other substances. For example, hydrophilic silica can be made hydrophobic by reacting a silanol group with an organic treatment agent. In addition, various functions can be imparted to silica depending on the type of functional group (surface modification group) of the treatment agent. Main surface modification groups include dimethylsilyl group, trimethylsilyl group, octylsilyl group, alkylsilyl group, dimethylpolysiloxane group, aminoalkylsilyl group, methacrylsilyl group, and the like.

特に限定するものではないが、光沢および透明性の観点から乾式法シリカが好ましい。また、相溶性および分散安定性の観点からジメチルシリル基を含有する処理剤によって表面修飾されたシリカが好ましい。一実施形態において、合成非晶質シリカは、樹脂ビーズと同じ組成であってもよいが、要求される機能の観点から真比重および比表面積によって区別することができる。例えば、合成非晶質シリカは、25℃における真比重が1.60以上であり、BET法による比表面積が50m/g以上であることが好ましい。
一実施形態において、合成非晶質シリカのBET法による比表面積は、好ましくは50~380m/gであってよく、より好ましくは70~330m/g、さらに好ましくは90~230m/gであってよい。また、合成非晶質シリカの平均一次粒子径は、好ましくは7~40nmであってよく、より好ましくは10~35nm、さらに好ましくは12~30nmであってよい。このような合成非晶質シリカは、市販品として入手することもできる。例えば、日本アエロジル社製のAEROSILR972(平均一次粒子径16nm、比表面積110m/g、乾式法シリカ)を好適に使用することができる。
Although not particularly limited, dry process silica is preferred from the viewpoint of gloss and transparency. Furthermore, from the viewpoint of compatibility and dispersion stability, silica whose surface has been modified with a treatment agent containing a dimethylsilyl group is preferred. In one embodiment, the synthetic amorphous silica may have the same composition as the resin beads, but can be differentiated by true specific gravity and specific surface area in terms of required functionality. For example, it is preferable that the synthetic amorphous silica has a true specific gravity of 1.60 or more at 25° C. and a specific surface area of 50 m 2 /g or more by the BET method.
In one embodiment, the specific surface area of the synthetic amorphous silica determined by the BET method may be preferably 50 to 380 m 2 /g, more preferably 70 to 330 m 2 /g, and even more preferably 90 to 230 m 2 /g. It may be. Furthermore, the average primary particle diameter of the synthetic amorphous silica may be preferably 7 to 40 nm, more preferably 10 to 35 nm, and even more preferably 12 to 30 nm. Such synthetic amorphous silica can also be obtained as a commercial item. For example, AEROSIL R972 manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd. (average primary particle diameter 16 nm, specific surface area 110 m 2 /g, dry method silica) can be suitably used.

(重合禁止剤)
本発明の一実施形態である電子線硬化型組成物は、保存安定性の向上のため、更に重合禁止剤を添加してもよい。重合禁止剤の具体例示として、(アルキル)フェノール、ハイドロキノン、カテコール、レゾルシン、p-メトキシフェノール、t-ブチルカテコール、t-ブチルハイドロキノン、ピロガロール、1,1-ピクリルヒドラジル、フェノチアジン、p-ベンゾキノン、ニトロソベンゼン、2,5-ジ-tert-ブチル-p-ベンゾキノン、ジチオベンゾイルジスルフィド、ピクリン酸、クペロン、アルミニウムN-ニトロソフェニルヒドロキシルアミン、トリ-p-ニトロフェニルメチル、N-(3-オキシアニリノ-1,3-ジメチルブチリデン)アニリンオキシド、ジブチルクレゾール、シクロヘキサノンオキシムクレゾール、グアヤコール、o-イソプロピルフェノール、ブチラルドキシム、メチルエチルケトキシム、およびシクロヘキサノンオキシム等が挙げられる。重合禁止剤を使用する場合、その含有量は、組成物の全質量を基準として、0.01~1質量%の範囲であってよい。
(Polymerization inhibitor)
The electron beam curable composition that is one embodiment of the present invention may further contain a polymerization inhibitor to improve storage stability. Specific examples of polymerization inhibitors include (alkyl)phenol, hydroquinone, catechol, resorcinol, p-methoxyphenol, t-butylcatechol, t-butylhydroquinone, pyrogallol, 1,1-picrylhydrazyl, phenothiazine, and p-benzoquinone. , nitrosobenzene, 2,5-di-tert-butyl-p-benzoquinone, dithiobenzoyl disulfide, picric acid, cuperone, aluminum N-nitrosophenylhydroxylamine, tri-p-nitrophenylmethyl, N-(3-oxyanilino- Examples include 1,3-dimethylbutylidene)aniline oxide, dibutylcresol, cyclohexanoneoximcresol, guaiacol, o-isopropylphenol, butyraldoxime, methylethylketoxime, and cyclohexanoneoxime. If a polymerization inhibitor is used, its content may range from 0.01 to 1% by weight, based on the total weight of the composition.

(その他成分)
本発明の一実施形態である電子線硬化型組成物は、必要に応じて、不活性樹脂などの当技術分野で公知の成分をさらに含んでよい。また、一実施形態において、電子線硬化型組成物は、必要に応じて、公知の添加剤をさらに含んでもよい。添加剤として、例えば、硬化剤、可塑剤、湿潤剤、接着補助剤、消泡剤、帯電防止剤、トラッピング剤、ブロッキング防止剤、シリカ粒子、防腐剤などを使用することができる。さらに、油、難燃剤、充填剤、安定剤、補強剤、艶消し剤、研削剤などを使用してもよい。
(Other ingredients)
The electron beam curable composition that is an embodiment of the present invention may further contain components known in the art, such as an inert resin, as necessary. In one embodiment, the electron beam curable composition may further contain known additives, if necessary. As additives, for example, curing agents, plasticizers, wetting agents, adhesion aids, antifoaming agents, antistatic agents, trapping agents, antiblocking agents, silica particles, preservatives, etc. can be used. Additionally, oils, flame retardants, fillers, stabilizers, reinforcing agents, matting agents, abrasives, etc. may be used.

上記実施形態の電子線硬化型組成物を構成するために、カーボンニュートラルの観点などから、各種原材料として、植物などの再生可能な資源を利用したバイオマス由来の原材料を好ましく用いることができる。 In order to constitute the electron beam curable composition of the above embodiment, biomass-derived raw materials using renewable resources such as plants can be preferably used as various raw materials from the viewpoint of carbon neutrality.

上記実施形態の電子線硬化型組成物は、光重合開始剤を実質的に含有しない。ここで、「実質的に含有しない」とは、組成物に意図的に添加することなく、かつ、非意図的添加による含有量が1%未満であることを意味する。非意図的添加には、各原料に微量に含まれている場合や、組成物の製造工程、印刷物の作製工程におけるコンタミネーションなどが該当する。電子線硬化型組成物が、光重合開始剤を実質的に含有しないことによって、光重合開始剤を使用した場合に生じる光重合開始剤またはその分解物のマイグレーションの問題を解消することができる。 The electron beam curable composition of the above embodiment does not substantially contain a photopolymerization initiator. Here, "substantially not containing" means that it is not intentionally added to the composition and that the content due to unintentional addition is less than 1%. Unintentional addition includes cases where the substance is contained in trace amounts in each raw material, contamination during the composition manufacturing process, and the printed matter manufacturing process. Since the electron beam curable composition does not substantially contain a photopolymerization initiator, it is possible to solve the problem of migration of the photopolymerization initiator or its decomposed product that occurs when a photopolymerization initiator is used.

<電子線硬化型組成物の製造方法>
本発明の電子線硬化型組成物の製造方法としては、(メタ)アクリレート化合物(A)と、必要に応じて使用される樹脂ビーズ、レベリング剤、及び重合禁止剤等とをミキサーなどを用いて30分~3時間程度混合攪拌することによって製造することができる。なお、予め2種以上の(メタ)アクリレート化合物(A)を混合攪拌しておき、その後、更に樹脂ビーズ(B)、レベリング剤、合成非晶質シリカ、及び重合禁止剤などを添加して製造してもよい。
<Method for producing electron beam curable composition>
As a method for producing the electron beam curable composition of the present invention, the (meth)acrylate compound (A) and resin beads, a leveling agent, a polymerization inhibitor, etc. used as necessary are mixed using a mixer or the like. It can be produced by mixing and stirring for about 30 minutes to 3 hours. In addition, two or more types of (meth)acrylate compounds (A) are mixed and stirred in advance, and then resin beads (B), a leveling agent, synthetic amorphous silica, a polymerization inhibitor, etc. are further added. You may.

<印刷方法>
上記実施形態の電子線硬化型組成物を印刷する方法は、特に制限がなく、公知の方法を用いることができる。具体的には、ロールコーター、ロッドコーター、ブレード、ワイヤーバー、ドクターナイフ、スピンコーター、スクリーンコーター、グラビアコーター、オフセットグラビアコーター、フレキソコーターなどが挙げられる。また、インライン印刷およびオフライン印刷において、UV硬化型、電子線硬化型、熱乾燥型、蒸発乾燥型、酸化重合型、浸透乾燥型、熱重合型、2液硬化型、液体トナー型、及び粉体トナー型のインキなどを、必要に応じて組み合わせて使用することもできる。
<Printing method>
The method for printing the electron beam curable composition of the above embodiment is not particularly limited, and any known method can be used. Specific examples include a roll coater, rod coater, blade, wire bar, doctor knife, spin coater, screen coater, gravure coater, offset gravure coater, and flexo coater. In addition, in-line printing and offline printing, UV curing type, electron beam curing type, heat drying type, evaporation drying type, oxidation polymerization type, penetrating drying type, thermal polymerization type, two-component curing type, liquid toner type, and powder It is also possible to use a combination of toner-type inks and the like as necessary.

一実施形態において、電子線硬化後の組成物の塗布量は、0.5~10g/mが好ましく、1.0~5.0g/mがより好ましい。上記印刷方式にて印刷層が形成された後、直ちに電子線照射機を通って電子線硬化印刷層が形成される。なお電子線の照射線量としては、加速電圧110kVにおいて10~150kGyであってよい。一実施形態において、電子線の照射は、好ましくは110kVの加速電圧において15~100kGy、より好ましくは110kVの加速電圧において20~45kGyの照射線量で実施できる。電子線の照射後は、必要に応じて加熱を行って硬化の促進を図ることもできる。 In one embodiment, the coating amount of the composition after electron beam curing is preferably 0.5 to 10 g/m 2 , more preferably 1.0 to 5.0 g/m 2 . After the printed layer is formed by the above printing method, the printed layer is immediately passed through an electron beam irradiation machine to form an electron beam cured printed layer. Note that the irradiation dose of the electron beam may be 10 to 150 kGy at an accelerating voltage of 110 kV. In one embodiment, the electron beam irradiation can be carried out at an irradiation dose of 15 to 100 kGy, preferably at an accelerating voltage of 110 kV, more preferably from 20 to 45 kGy at an accelerating voltage of 110 kV. After irradiation with the electron beam, heating may be performed as necessary to accelerate curing.

<電子線硬化型オーバーコートニス>
上記実施形態の電子線硬化型組成物は、電子線硬化型オーバーコートニスとして好適に使用することができる。電子線硬化型オーバーコートニスとは、基材上の印刷面および非印刷面に塗布し、電子線を照射することで硬化塗膜を形成し、基材上の印刷面および非印刷面に必要な表面物性を付与することを目的とした電子線硬化型組成物である。
<Electron beam curing overcoat varnish>
The electron beam curable composition of the above embodiment can be suitably used as an electron beam curable overcoat varnish. Electron beam-curable overcoat varnish is applied to the printed and non-printed surfaces of the substrate, and is irradiated with electron beams to form a cured coating film that is used to coat the printed and non-printed surfaces of the substrate. This is an electron beam curable composition intended to provide surface properties.

オーバーコートニスの用途で使用する電子線硬化型組成物は、顔料、染料、その他着色成分を含有しない場合が多い。オーバーコートニスの用途で必要とされる表面物性は、その印刷物の最終用途によって異なる。例えば、グロスコートニスの目的は、表面保護と光沢性の付与とを基本としている。その他、オーバーコートニスには、マット性、スリップ性、ノンスリップ性、ソフトフィール性、耐熱性、耐溶剤性、疑似密着性、印字適性、突き刺し性、弾き性、剥離性、及びバリア性、などが要求されることもある。本発明の一実施形態である電子線硬化型組成物は、グロスコートニスに要求される光沢性などの特性に優れる。また、上記実施形態の電子線硬化型組成物は、光沢性に加えて、スリップ性を発現させることもできる。 Electron beam curable compositions used as overcoat varnishes often do not contain pigments, dyes, or other coloring components. The surface properties required for overcoat varnish applications vary depending on the final use of the printed material. For example, the purpose of gloss coat varnish is basically to protect the surface and provide gloss. In addition, overcoat varnish has matte properties, slip properties, non-slip properties, soft feel properties, heat resistance, solvent resistance, pseudo adhesion, printing suitability, piercing properties, repellency, peelability, barrier properties, etc. Sometimes required. The electron beam curable composition that is an embodiment of the present invention has excellent properties such as gloss required for gloss coat varnish. Further, the electron beam curable composition of the above embodiment can exhibit slip properties in addition to gloss.

電子線硬化型オーバーコートニスの塗工方式としては、先刷りの印刷面が乾燥しないうちにすぐに続けてオーバーコートニスを塗工するウェット方式と、先刷りの印刷面を乾燥させてからオーバーコートニスを塗工するドライ方式とに分けられるが、いずれの方式であってもよい。一実施形態において、上記電子線硬化型組成物は、食品包装材料の表面層の形成に用いられるオーバーコートニスとして好適に使用することができる。 There are two methods for applying electron beam-curable overcoat varnish: a wet method, in which the overcoat varnish is immediately applied before the first printing surface dries, and the other is the wet method, in which the overcoat varnish is applied immediately after the first printing surface dries. It can be divided into a dry method in which a coat varnish is applied, and either method may be used. In one embodiment, the electron beam curable composition can be suitably used as an overcoat varnish used for forming a surface layer of a food packaging material.

<食品包装材料>
本発明の一実施形態は、基材と、基材上に設けられた表面層とを含み、上記表面層は上記実施形態の電子線硬化型組成物の硬化層である、食品包装材料に関する。
(基材)
基材は、フィルム状の基材が好ましい。一実施形態において、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン基材、ポリエチレンテレフタレート、ポリ乳酸などのポリエステル基材、ポリカーボネート基材、ポリスチレン、AS樹脂、ABS樹脂などのポリスチレン系基材、ナイロン基材、ポリアミド基材、ポリ塩化ビニル基材、ポリ塩化ビニリデン基材、セロハン基材、紙基材、アルミニウム基材など、もしくはこれらの複合材料からなるフィルム状の基材が挙げられる。
また、シリカ、アルミナ、アルミニウムなどの無機化合物を、フィルム基材に蒸着した蒸着基材を用いることもできる。更に、蒸着処理面に対し、ポリビニルアルコールなどによるコート処理を施されていてもよい。基材は、印刷される面(印刷層と接する面)が易接着処理されていることが好ましい。易接着処理の具体例として、コロナ放電処理、紫外線/オゾン処理、プラズマ処理、酸素プラズマ処理、プライマー処理等が挙げられる。また、ポリエチレンテレフタレート基材において、十分な密着性が得られない場合は、アクリルコート処理、ポリエステル処理、ポリ塩化ビニリデン処理などの表面処理を施してもよい。
<Food packaging materials>
One embodiment of the present invention relates to a food packaging material that includes a base material and a surface layer provided on the base material, the surface layer being a cured layer of the electron beam curable composition of the above embodiment.
(Base material)
The base material is preferably a film-like base material. In one embodiment, for example, a polyolefin base material such as polyethylene or polypropylene, a polyester base material such as polyethylene terephthalate or polylactic acid, a polycarbonate base material, a polystyrene base material such as polystyrene, AS resin, or ABS resin, a nylon base material, or a polyamide base material. Examples include a base material such as a polyvinyl chloride base material, a polyvinylidene chloride base material, a cellophane base material, a paper base material, an aluminum base material, or a film-like base material made of a composite material thereof.
Alternatively, a vapor deposition base material in which an inorganic compound such as silica, alumina, or aluminum is vapor-deposited onto a film base material can also be used. Further, the vapor-deposited surface may be coated with polyvinyl alcohol or the like. The surface of the base material to be printed (the surface in contact with the printing layer) is preferably treated to facilitate adhesion. Specific examples of the adhesion-facilitating treatment include corona discharge treatment, ultraviolet/ozone treatment, plasma treatment, oxygen plasma treatment, primer treatment, and the like. Furthermore, if sufficient adhesion cannot be obtained with the polyethylene terephthalate base material, surface treatments such as acrylic coating treatment, polyester treatment, and polyvinylidene chloride treatment may be performed.

基材として、紙基材を用いてもよい。該紙基材としては、通常の紙又は段ボールなどであり、膜厚としては特に指定はない。紙基材の厚さは、例えば、0.2mm~1.0mm、20~150g/mのものを使用でき、印刷表面が易接着処理されていてもよい。紙基材は、意匠性を付与させる目的で表面がアルミなどの金属で蒸着処理されていてもよい。また、紙基材は、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリオレフィン樹脂やその他の樹脂などで表面コート処理が施されていてもよく、さらに、コロナ処理などの表面処理が施されていてもよい。例えば、表面処理された紙基材の具体例として、コート紙およびアート紙などが挙げられる。 A paper base material may be used as the base material. The paper base material may be ordinary paper or cardboard, and the film thickness is not particularly specified. The thickness of the paper base material may be, for example, 0.2 mm to 1.0 mm and 20 to 150 g/m 2 , and the printing surface may be treated to facilitate adhesion. The surface of the paper base material may be vapor-deposited with a metal such as aluminum for the purpose of imparting design properties. Further, the paper base material may be surface-coated with acrylic resin, urethane resin, polyester resin, polyolefin resin, or other resin, and may also be subjected to surface treatment such as corona treatment. . For example, specific examples of surface-treated paper base materials include coated paper and art paper.

上述した基材(第1の基材)は、印刷する面と反対側の面に、第2の基材をさらに積層させた構造で用いることもできる。この場合、積層される第2の基材としては、上述したフィルム状基材と同様であってよい。第2の基材は、第1の基材と同一でも異なっていてもよい。なかでも、第2の基材としては、未延伸ポリエチレン、未延伸ポリプロピレン、ナイロン基材、アルミニウム箔基材、アルミニウム蒸着基材などが好ましい。この場合、第2の基材は、接着剤層によって第1の基材と貼り合わされることが好ましい。 The above-described base material (first base material) can also be used in a structure in which a second base material is further laminated on the surface opposite to the surface to be printed. In this case, the second base material to be laminated may be the same as the film-like base material described above. The second base material may be the same as or different from the first base material. Among these, as the second base material, unstretched polyethylene, unstretched polypropylene, nylon base material, aluminum foil base material, aluminum vapor-deposited base material, etc. are preferable. In this case, the second base material is preferably bonded to the first base material using an adhesive layer.

接着剤層は、アンカーコート剤、ウレタン系ラミネート接着剤、溶融樹脂等からなる層が挙げられる。アンカーコート剤(AC剤)としては、イミン系AC剤、イソシアネート系AC剤、ポリブタジエン系AC剤、チタン系AC剤が挙げられ、ウレタン系ラミネート接着剤としてはポリエーテルウレタン系ラミネート接着剤、ポリエステル系ラミネート接着剤などが挙げられる。これらの接着剤は、有機溶剤を含むものと、無溶剤のものとがある。また、溶融樹脂としては、溶融ポリエチレン等が挙げられる。 Examples of the adhesive layer include a layer made of an anchor coating agent, a urethane laminating adhesive, a molten resin, and the like. Examples of anchor coating agents (AC agents) include imine-based AC agents, isocyanate-based AC agents, polybutadiene-based AC agents, and titanium-based AC agents. Examples of urethane-based laminate adhesives include polyether urethane-based laminate adhesives and polyester-based laminate adhesives. Examples include laminating adhesives. These adhesives include those containing organic solvents and those without solvents. Furthermore, examples of the molten resin include molten polyethylene.

(バリア性)
一実施形態において、上記第2の基材において、ガス(酸素、水蒸気、窒素、炭酸ガス等)に対するバリア性を付与することもできる。バリア性を付与する方法としては、積層体としてバリア性基材を導入する方法と、コーティングによってバリア層を形成する方法とがある。導入できるバリア性材料としては、シリカ、アルミナ、アルミ、塩化ビニリデン-メチルアクリレート共重合体、エチレン-ビニルアルコール共重合体、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、ポリビニルアルコール-酢酸ビニル共重合体、メタキシリレンアジパミド、およびMXD6ナイロンなどが挙げられる。また、上記バリア性材料と基材とを組み合わせた共押し出しフィルムも使用できる。一方、このような技法とは異なり、容器の内部に侵入してくる酸素を積極的に取り除くタイプの技法であるアクティブ・パッケージングも適用できる。アクティブ・パッケージングに適用されるアクティブバリヤー材としては、還元鉄/塩化ナトリウム、亜硫酸ナトリウム、アスコルビン酸などの酸素と反応する物質を樹脂にブレンドした材料が挙げられる。また、MXD6ナイロン/コバルト塩、二重結合系ポリマー/コバルト塩、シクロヘキセン側鎖含有ポリマー/コバルト塩などのコバルト塩を酸化触媒として樹脂にブレンドし、この酸価触媒によって樹脂を酸化させて酸素を吸収する材料なども挙げられる。
(barrier property)
In one embodiment, the second base material can also be provided with barrier properties against gases (oxygen, water vapor, nitrogen, carbon dioxide, etc.). Methods for imparting barrier properties include a method of introducing a barrier substrate as a laminate and a method of forming a barrier layer by coating. Barrier materials that can be introduced include silica, alumina, aluminum, vinylidene chloride-methyl acrylate copolymer, ethylene-vinyl alcohol copolymer, polyvinylidene chloride, polyvinyl alcohol, polyvinyl alcohol-vinyl acetate copolymer, metaxylylene. Examples include adipamide, MXD6 nylon, and the like. Furthermore, a coextruded film that is a combination of the above-mentioned barrier material and a base material can also be used. On the other hand, unlike this technique, active packaging, which is a type of technique that actively removes oxygen that enters the inside of the container, can also be applied. Active barrier materials used in active packaging include materials in which resins are blended with substances that react with oxygen, such as reduced iron/sodium chloride, sodium sulfite, and ascorbic acid. In addition, cobalt salts such as MXD6 nylon/cobalt salt, double bond polymer/cobalt salt, and cyclohexene side chain-containing polymer/cobalt salt are blended into the resin as an oxidation catalyst, and this acid value catalyst oxidizes the resin to release oxygen. Examples include absorbent materials.

(表面層)
表面層は上記実施形態の電子線硬化型組成物の硬化塗膜から構成される。基材上に電子線硬化型組成物を塗布し、電子線を照射して硬化させることによって形成することができる。硬化塗膜を得るための電子線硬化型組成物の塗布量は特に限定されないが、電子線硬化型組成物中の樹脂ビーズの平均粒子径を考慮して調整することが好ましい。
一実施形態において、硬化塗膜における樹脂ビーズ(B)の平均粒子径bと、塗布量tの比(b/t)として調整することが好ましい。上記比(b/t)が小さすぎると高光沢性/低スリップ性となりやすく、大きすぎると低光沢性/高スリップ性となりやすい。
一実施形態において、上記比(b/t)は0.5~2.0であることが好ましく、0.6~1.5であることがより好ましく、0.8~1.2であることがさらに好ましい。上記比(b/t)を上記範囲内になるように調整した場合、スリップ性と光沢性とを両立することが容易となる。
(Surface layer)
The surface layer is composed of a cured coating film of the electron beam curable composition of the above embodiment. It can be formed by applying an electron beam curable composition onto a base material and curing it by irradiating it with an electron beam. The amount of the electron beam curable composition to be applied to obtain a cured coating film is not particularly limited, but it is preferably adjusted in consideration of the average particle size of the resin beads in the electron beam curable composition.
In one embodiment, it is preferable to adjust the ratio (b/t) between the average particle diameter b of the resin beads (B) in the cured coating film and the coating amount t. If the ratio (b/t) is too small, high gloss/low slip properties tend to occur; if it is too large, low gloss/high slip properties tend to occur.
In one embodiment, the ratio (b/t) is preferably 0.5 to 2.0, more preferably 0.6 to 1.5, and more preferably 0.8 to 1.2. is even more preferable. When the ratio (b/t) is adjusted to fall within the above range, it becomes easy to achieve both slip properties and gloss.

(製造方法)
本発明の一実施形態は、食品包装材料の製造方法に関する。上記製造方法は、基材の上に電子線硬化型組成物を塗布して塗膜を形成すること、前記塗膜を電子線によって硬化し、硬化塗膜からなる表面層を形成することを含む。表面層の形成において、上記硬化塗膜における樹脂ビーズ(B)の平均粒子径bと、上記電子線硬化型組成物の塗布量tの比(b/t)が、0.5~2.0となるように、上記実施形態の電子線硬化型組成物を塗布することを含む。このような実施形態によれば、マイグレーション、弾き及び光沢性の改善に加えて、スリップ性に優れる食品包装材料を提供できる。
(Production method)
One embodiment of the present invention relates to a method of manufacturing food packaging materials. The above manufacturing method includes applying an electron beam curable composition on a base material to form a coating film, and curing the coating film with an electron beam to form a surface layer consisting of a cured coating film. . In forming the surface layer, the ratio (b/t) of the average particle diameter b of the resin beads (B) in the cured coating film to the coating amount t of the electron beam curable composition is 0.5 to 2.0. The method includes applying the electron beam curable composition of the above embodiment so that the composition becomes as follows. According to such an embodiment, it is possible to provide a food packaging material that has excellent slip properties in addition to improved migration, repellency, and gloss.

以下、実施例として本発明を具体的に説明するが、本発明は、以下の実施例により限定されるものではない。本発明において、特に断らない限り、「部」は「質量部」、「%」は、「質量%」をそれぞれ表す。 EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be specifically described as examples, but the present invention is not limited to the following examples. In the present invention, "parts" and "%" respectively represent "parts by mass" and "% by mass" unless otherwise specified.

(使用原料)
表1および表2に記載した各原料の詳細は以下のとおりである。
<(メタ)アクリレート化合物(A)>
A-TMPT-6PO:新中村化学工業社製、TMP(PO)6TA(PO(6モル)変性トリメチロールプロパントリアクリレート)
Miramer M3190:MIWON社製、TMP(EO)9TA(EO(9モル)変性トリメチロールプロパントリアクリレート)
OTA-480:ダイセル・オルネクス社製、Gly(PO)3TA(PO(3モル)変性グリセリルトリアクリレート)
EBECRYL50:ダイセル・オルネクス社製、PETTA(EO)5(EO(5モル)変性ペンタエリスリトールテトラアクリエート)
ATM-4P:新中村化学工業社製、PETTA(PO)4(PO(4モル)変性ペンタエリスリトールテトラアクリエート)
EBECRYL1142:ダイセル・オルネクス社製、DiTMPTA(ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート)
AD-TMP-4P:新中村化学工業社製、DiTMPTA(PO)4(PO(4モル)変性ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート)
Miramer M600:MIWON社製、DPHA(ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート)
A-DPH-6PA:新中村化学工業社製、DPHA(PO)6(PO(6モル)変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート)
EBECRYL820:ダイセル・オルネクス社製、ポリエステルアクリレート
(Raw materials used)
Details of each raw material listed in Tables 1 and 2 are as follows.
<(meth)acrylate compound (A)>
A-TMPT-6PO: Manufactured by Shin Nakamura Chemical Co., Ltd., TMP(PO)6TA (PO (6 mol) modified trimethylolpropane triacrylate)
Miramer M3190: manufactured by MIWON, TMP (EO) 9TA (EO (9 mol) modified trimethylolpropane triacrylate)
OTA-480: manufactured by Daicel Allnex, Gly(PO)3TA (PO (3 mol) modified glyceryl triacrylate)
EBECRYL50: manufactured by Daicel Allnex, PETTA (EO) 5 (EO (5 mol) modified pentaerythritol tetraacrylate)
ATM-4P: Manufactured by Shin Nakamura Chemical Industry Co., Ltd., PETTA (PO) 4 (PO (4 mol) modified pentaerythritol tetraacrylate)
EBECRYL1142: Manufactured by Daicel Allnex, DiTMPTA (ditrimethylolpropane tetraacrylate)
AD-TMP-4P: Manufactured by Shin Nakamura Chemical Industry Co., Ltd., DiTMPTA (PO) 4 (PO (4 mol) modified ditrimethylolpropane tetraacrylate)
Miramer M600: manufactured by MIWON, DPHA (dipentaerythritol hexaacrylate)
A-DPH-6PA: Shin Nakamura Chemical Industry Co., Ltd., DPHA (PO) 6 (PO (6 mol) modified dipentaerythritol hexaacrylate)
EBECRYL820: Manufactured by Daicel Allnex, polyester acrylate

TPGDA:ダイセル・オルネクス社製、TPGDA(トリプロピレングリコールジアクリレート)
Miramer M300:MIWON社製、TMPTA(トリメチルプロパントリアクリレート)
Miramer M3130:MIWON社製、TMP(EO)3TA(EO(3モル)変性トリメチロールプロパントリアクリレート)
Etermer 2381:長興材料工業社製、TMP(PO)3TA(PO(3モル)変性トリメチロールプロパントリアクリレート)
Miramer M3160:MIWON社製、TMP(EO)6TA(EO(6モル)変性トリメチロールプロパントリアクリレート)
TPGDA: Manufactured by Daicel Allnex, TPGDA (tripropylene glycol diacrylate)
Miramer M300: manufactured by MIWON, TMPTA (trimethylpropane triacrylate)
Miramer M3130: manufactured by MIWON, TMP(EO)3TA (EO (3 mol) modified trimethylolpropane triacrylate)
Etermer 2381: manufactured by Choko Materials Co., Ltd., TMP(PO)3TA (PO (3 mol) modified trimethylolpropane triacrylate)
Miramer M3160: manufactured by MIWON, TMP(EO)6TA (EO (6 mol) modified trimethylolpropane triacrylate)

<樹脂ビーズ(B)>
X-52-85:信越化学工業社製、平均粒子径0.7μm、シリコーンビーズ
SST-1 MG-RC:シャムロック社製、平均粒子径1.0μm、PTEFビーズ
アートパールJ3PY:根上工業社製、平均粒子径1.2μm、アクリルビーズ
トスパール120:モメンティブ社製、平均粒子径2.0μm、シリコーンビーズ
アートパールJ4PY:根上工業社製、平均粒子径2.2μm、アクリルビーズ
トスパール130:モメンティブ社製、平均粒子径2.7μm、シリコーンビーズ
SST 3H-RC:シャムロック社製、平均粒子径4.0μm、PTEFビーズ
トスパール240:モメンティブ社製、平均粒子径4.0μm、シリコーンビーズ
Cerafloure991:ビックケミー社製、平均粒子径5.0μm、ポリエチレンビーズ
トスパール2000B:モメンティブ社製、平均粒子径6.0μm、シリコーンビーズ
<Resin beads (B)>
X-52-85: Manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., average particle size 0.7 μm, silicone beads SST-1 MG-RC: Manufactured by Shamrock Co., Ltd., average particle size 1.0 μm, PTEF beads Art Pearl J3PY: Manufactured by Negami Kogyo Co., Ltd. , average particle size 1.2 μm, acrylic beads Tospearl 120: manufactured by Momentive Co., Ltd., average particle size 2.0 μm, silicone beads Art Pearl J4PY: manufactured by Negami Kogyo Co., Ltd., average particle size 2.2 μm, acrylic beads Tospearl 130: manufactured by Momentive Co., Ltd. , average particle size 2.7 μm, silicone beads SST 3H-RC: manufactured by Shamrock, average particle size 4.0 μm, PTEF beads Tospearl 240 * : manufactured by Momentive, average particle size 4.0 μm, silicone beads Ceraflore991: BYK Chemie manufactured by Momentive, average particle size 5.0 μm, polyethylene beads Tospear 2000B: manufactured by Momentive, average particle size 6.0 μm, silicone beads

<レベリング剤(C)>
BYK-361N:ビックケミー社製、アクリル系レベリング剤
<合成非晶質シリカ(D)>
AEROSIL R972:日本アエロジル社製、平均一次粒子径16nm、比表面積110m/g、乾式法シリカ)
<重合禁止剤(E)>
Genorad24:LAHN社製、ジ-t-ブチル-7-フェニルキノンメチド
<Leveling agent (C)>
BYK-361N: Manufactured by BYK Chemie, acrylic leveling agent <synthetic amorphous silica (D)>
AEROSIL R972: Nippon Aerosil Co., Ltd., average primary particle diameter 16 nm, specific surface area 110 m 2 /g, dry process silica)
<Polymerization inhibitor (E)>
Genorad24: manufactured by LAHN, di-t-butyl-7-phenylquinone methide

(分子量分布)
以下の実施例および比較例で(メタ)アクリレート成分(A)として使用した化合物の分子量分布は、東ソー株式会社製のゲルパーミエーションクロマトグラフィー(HLC-8320)を用いて測定した。検量線は、標準ポリスチレンサンプルにより作成した。溶離液はテトラヒドロフランを、カラムにはTSKgelSuperHM-M(東ソー(株)製)3本を用いた。測定は、流速0.6ml/分、注入量10μl、カラム温度40℃の条件下で行った。
上述の条件下で実施したゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)の測定のグラフに基づき、分子量が500未満の範囲の各面積の割合を求めた、また、重量平均分子量についても測定した。これらの結果を表1および表2において(I)分子量500未満の割合(%)として示す。
(molecular weight distribution)
The molecular weight distribution of the compound used as the (meth)acrylate component (A) in the following Examples and Comparative Examples was measured using gel permeation chromatography (HLC-8320) manufactured by Tosoh Corporation. A calibration curve was created using standard polystyrene samples. Tetrahydrofuran was used as the eluent, and three TSK gel Super HM-M (manufactured by Tosoh Corporation) were used as the columns. The measurement was performed under conditions of a flow rate of 0.6 ml/min, an injection volume of 10 μl, and a column temperature of 40°C.
Based on the graph of the gel permeation chromatography (GPC) measurement conducted under the above conditions, the proportion of each area in which the molecular weight was less than 500 was determined, and the weight average molecular weight was also measured. These results are shown in Tables 1 and 2 as the percentage (%) of (I) molecular weight less than 500.

<1>電子線硬化型組成物の調製
(実施例1)
新中村化学工業社製のA-TMPT-6PO(プロパンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート)を78.3部、新中村化学工業社製のATM-4P((PO(4モル)変性ペンタエリスリトールテトラアクリエート)を18.0部、平均粒子径2.0μmのシリコーンビーズ(モメンティブ社製のトスパール120)を1.0部、アクリル系レベリング剤(ビックケミー社製のBTY-361N)を0.5部、合成非晶質シリカ(日本アエロジル社製のAEROSIL R972)を2.0部、重合禁止剤(LAHN社製のGenorad24)を0.2部混合し、バタフライミキサーを用いて攪拌して、実施例1の電子線硬化型組成物を調製した。
<1> Preparation of electron beam curable composition (Example 1)
78.3 parts of A-TMPT-6PO (propane oxide modified trimethylolpropane triacrylate) manufactured by Shin Nakamura Chemical Industries, Ltd., and ATM-4P ((PO (4 mol) modified pentaerythritol tetraacrylate) manufactured by Shin Nakamura Chemical 18.0 parts of CREATE), 1.0 part of silicone beads with an average particle diameter of 2.0 μm (Tospearl 120 manufactured by Momentive), 0.5 parts of an acrylic leveling agent (BTY-361N manufactured by BIC Chemie), Example 1 was prepared by mixing 2.0 parts of synthetic amorphous silica (AEROSIL R972 manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.) and 0.2 parts of a polymerization inhibitor (Genorad 24 manufactured by LAHN) and stirring using a butterfly mixer. An electron beam curable composition was prepared.

(実施例2~34)
表1に記載した材料および比率で使用した以外は、実施例1と同様の方法によって、実施例2~34の電子線硬化型組成物を調製した。
(Examples 2 to 34)
Electron beam curable compositions of Examples 2 to 34 were prepared in the same manner as in Example 1, except that the materials and ratios listed in Table 1 were used.

(比較例1~17)
表2に記載した材料および比率で使用した以外は、実施例1と同様の方法によって、比較例1~17の電子線硬化型組成物を調製した。
(Comparative Examples 1 to 17)
Electron beam curable compositions of Comparative Examples 1 to 17 were prepared in the same manner as in Example 1, except that the materials and ratios listed in Table 2 were used.

<2>電子線硬化型オーバーコートニスの評価
実施例1~34および比較例1~17で調製した各々の電子線硬化型組成物を用いて、印刷物を作製し、電子線硬化型オーバーコートニスとしての評価を行った。
<2> Evaluation of electron beam curable overcoat varnish Printed matter was produced using each of the electron beam curable compositions prepared in Examples 1 to 34 and Comparative Examples 1 to 17, and the electron beam curable overcoat varnish was It was evaluated as follows.

<2-1>印刷物の作製方法
(実施例1の印刷物の作製方法)
実施例1で得た電子線硬化型組成物を用いて、フレキソ印刷方式にて基材に印刷を行った。印刷後の塗膜に対して、直ちに電子線を照射することによって硬化塗膜を形成し、印刷物(表面に硬化塗膜を設けた基材)を作製した。より詳細には、以下のとおりである。
上記印刷では、印刷機としてRK社製のフレキシプルーフ100を使用した。印刷条件は、印刷スピード70m/min、アニロックスロール線数100~500Line/inch、アニロックスロールのセル容量8~20cm/mとした。アニロックスロールの彫刻パターンは、ヘキサゴナルとした。版材はKodak社製のFlexcel NXH デジタルフレキソプレートを使用し、版材の面積は157.5cmとした。
電子線硬化型組成物の塗布量は、硬化後の塗布量が2~3g/mとなるように印刷した。
電子線の照射は、岩崎電気社製の電子線照射機EC250/15/180Lを使用し、加速電圧110kV、電子線量30kGyの条件で実施した。
基材としては、二軸延伸ポリプロピレンフィルムと無延伸ポリプロピレンフィルムとのラミネート積層体を用いた。ラミネート積層体の二軸延伸ポリプロピレンフィルム側に電子線硬化型組成物を印刷した。ラミネート積層体は、以下のようにして作製した。(ラミネート積層体の作製方法)
イノビアフィルム製の二軸延伸ポリプロピレンフィルム(製品名:RGN-30、厚さ30μm)に接着剤希釈液を塗布して溶剤を揮散させた。接着剤希釈液は、接着剤(東洋モートン株式会社製のTM-321A/TM-321B=2/1)を有効成分が30%となるように酢酸エチルで希釈して調製した。接着剤希釈液の塗布は、常温において、バーコーターを用いて、溶剤揮発後の固形分塗布量が2.0~2.5g/mとなるように調整して実施した。
次に、上記フィルムの接着剤希釈液の塗布面を、無延伸ポリプロピレンフィルム(フタムラ化学株式会社製、FHK2、30μm)と貼り合せた。次いで、35℃、湿度60%RT~80%RTの環境下にて24時間放置し、ラミネート積層体を得た。
<2-1> Method for producing printed matter (method for producing printed matter in Example 1)
Using the electron beam curable composition obtained in Example 1, printing was performed on a substrate by a flexographic printing method. A cured coating was formed by immediately irradiating the printed coating with an electron beam to produce a printed matter (a substrate with a cured coating on the surface). More details are as follows.
In the above printing, Flexiproof 100 manufactured by RK was used as a printing machine. The printing conditions were a printing speed of 70 m/min, an anilox roll line number of 100 to 500 lines/inch, and an anilox roll cell capacity of 8 to 20 cm 3 /m 2 . The engraving pattern on the anilox roll was hexagonal. A Flexcel NXH digital flexo plate manufactured by Kodak was used as the printing plate, and the area of the printing plate was 157.5 cm 2 .
The coating amount of the electron beam curable composition was printed so that the coating amount after curing was 2 to 3 g/m 2 .
The electron beam irradiation was performed using an electron beam irradiation machine EC250/15/180L manufactured by Iwasaki Electric Co., Ltd. under conditions of an acceleration voltage of 110 kV and an electron beam dose of 30 kGy.
As the base material, a laminate of a biaxially stretched polypropylene film and an unstretched polypropylene film was used. An electron beam curable composition was printed on the biaxially stretched polypropylene film side of the laminate. The laminate was produced as follows. (Method for producing laminate laminate)
A diluted adhesive solution was applied to a biaxially stretched polypropylene film manufactured by Innovia Film (product name: RGN-30, thickness 30 μm), and the solvent was evaporated. An adhesive diluted solution was prepared by diluting an adhesive (TM-321A/TM-321B=2/1, manufactured by Toyo Morton Co., Ltd.) with ethyl acetate so that the active ingredient content was 30%. The diluted adhesive solution was applied at room temperature using a bar coater, with the amount of solid content applied after solvent volatilization adjusted to 2.0 to 2.5 g/m 2 .
Next, the surface of the film coated with the diluted adhesive was bonded to an unstretched polypropylene film (manufactured by Futamura Chemical Co., Ltd., FHK2, 30 μm). Next, it was left to stand for 24 hours in an environment of 35° C. and humidity of 60% RT to 80% RT to obtain a laminate.

(実施例2~34の印刷物の作製方法)
実施例1の印刷物と同様の方法で、それぞれ実施例2~34で得た電子線硬化型組成物を使用して印刷物を作製した。
(Method for producing printed matter of Examples 2 to 34)
In the same manner as the printed matter of Example 1, printed matter was produced using the electron beam curable compositions obtained in Examples 2 to 34, respectively.

(比較例1~17の印刷物の作製方法)
実施例1の印刷物と同様の方法で、それぞれ比較例1~17で得た電子線硬化型組成物を使用して印刷物を作製した。
(Method for producing printed matter of Comparative Examples 1 to 17)
In the same manner as the printed matter of Example 1, printed matter was produced using the electron beam curable compositions obtained in Comparative Examples 1 to 17, respectively.

<2-2>各種評価
上記にて得た印刷物を用いて、以下にしたがって各種評価を行った。評価結果を表1に示す。
(マイグレーション耐性評価)
実施例および比較例の電子線硬化型組成物を用いて作製した印刷物について、以下に記載する方法にしたがって、マイグレーションの評価を実施した。
先ず、印刷物を9cm×9cmに切り出したものを3枚作製し、3枚を印刷面と非印刷面が接触するように重ね合わせ、1kg/dmの荷重付加にて25℃、50%環境条件下にて10日間保持した。その後、3枚の内の中央の印刷物を取り出し、その非印刷面の面積0.5dmに対して、50mlの95%エタノールが接触するように、マイグレーションセルにセットした。
その後、攪拌を加えながら、60℃にて10日間かけて残留モノマーの抽出をした。マイグレーションセルは、器具により完全に密閉されており、上記工程において内容物の損失や、内容物(抽出物)へのその他成分の混入は完全に抑制できる。次に、Bruker Daltonics社製の四重極-飛行時間型質量分析計、及び島津製作所製のLC30Aシリーズ液体クロマトグラフを用いて、上記抽出物の分析を行なった。さらに、以下に記載する検出濃度に基づく評価基準にしたがい、エタノール中に存在する(メタ)アクリレート化合物(A)のマイグレーション耐性を評価した。
評価基準は以下のとおりである。
合格:組成物中の全ての成分について、マイグレーション量が50ppb以下である。
不合格:組成物中の1以上の成分について、マイグレーション量が50ppbを超える。
<2-2> Various evaluations Using the printed matter obtained above, various evaluations were performed according to the following. The evaluation results are shown in Table 1.
(Migration resistance evaluation)
Migration was evaluated for printed matter produced using the electron beam curable compositions of Examples and Comparative Examples according to the method described below.
First, three sheets of 9cm x 9cm were cut out from the printed matter, and the three sheets were stacked so that the printed and non-printed surfaces were in contact with each other, and the sheets were heated at 25°C under a 50% environmental condition under a load of 1kg/ dm2 . It was kept for 10 days under the condition. Thereafter, the central printed matter among the three was taken out and set in a migration cell so that 50 ml of 95% ethanol came into contact with the area of 0.5 dm 2 of its non-printed surface.
Thereafter, residual monomers were extracted at 60° C. for 10 days while stirring. The migration cell is completely sealed by a device, and loss of the contents and contamination of the contents (extract) with other components can be completely suppressed in the above steps. Next, the above extract was analyzed using a quadrupole-time-of-flight mass spectrometer manufactured by Bruker Daltonics and an LC30A series liquid chromatograph manufactured by Shimadzu Corporation. Furthermore, the migration resistance of the (meth)acrylate compound (A) present in ethanol was evaluated according to the evaluation criteria based on the detected concentration described below.
The evaluation criteria are as follows.
Pass: The amount of migration is 50 ppb or less for all components in the composition.
Fail: The amount of migration exceeds 50 ppb for one or more components in the composition.

(弾きの評価)
実施例及び比較例の電子線硬化型組成物を用いて作製した印刷物の表面における弾きをレーザー顕微鏡(キーエンス社製の製品名「VK-X100」)で観察した画像を得た。次いで、アプリケーション(観察アプリケーション「VX-H1XV」)で画像処理を行い、フィルム上で、弾いている面積を算出した。印刷物の表面に対する弾きの面積割合から、弾きについて評価した。
評価基準は以下のとおりである。
合格:印刷物の表面に対する弾きの面積割合が5%未満である。
不合格:印刷物の表面に対する弾きの面積割合が5%以上である。
(Playing evaluation)
Images of repellency on the surfaces of printed matter produced using the electron beam curable compositions of Examples and Comparative Examples were observed using a laser microscope (product name "VK-X100" manufactured by Keyence Corporation). Next, image processing was performed using an application (observation application "VX-H1XV"), and the area of the flicked area on the film was calculated. The repellency was evaluated based on the area ratio of the repellent area to the surface of the printed matter.
The evaluation criteria are as follows.
Pass: The area ratio of the repelled area to the surface of the printed matter is less than 5%.
Fail: The area ratio of the repelled area to the surface of the printed matter is 5% or more.

(光沢性の評価)
実施例及び比較例の電子線硬化型組成物を用いて作製した印刷物について、村上色彩研究所製の光沢計GM-26Dを用いて、印刷物に対して60°の反射角で光沢値(JISZ 8741に準拠)を測定した。光沢値の値から以下の基準にしたがって印刷物の光沢を評価した。なお、弾きの評価で不合格となった印刷物については、評価せず「NA」と記載した。評価3~5が産業上実用可能な範囲である。
(評価基準)
5:光沢値が125以上である
4:光沢値が120以上125未満である
3:光沢値が115以上120未満である
2:光沢値が110以上115未満である
1:光沢値が110未満である
(Evaluation of glossiness)
The gloss values (JISZ 8741 ) was measured. The gloss of the printed matter was evaluated based on the gloss value according to the following criteria. It should be noted that printed matter that failed the evaluation of playability was not evaluated and was written as "NA". Ratings of 3 to 5 are within the industrially practical range.
(Evaluation criteria)
5: Gloss value is 125 or more 4: Gloss value is 120 or more and less than 125 3: Gloss value is 115 or more and less than 120 2: Gloss value is 110 or more and less than 115 1: Gloss value is less than 110 be

(樹脂ビーズ平均粒子径/塗布量の比)
樹脂ビーズの平均粒子径は、ベックマン・コールター社製の製品名「マルチサイザー」を用い、コールターカウンター法により測定した体積基準平均粒径(D50)を表す。
電子線硬化型組成物の塗布量(g/m)は、硬化後の塗膜の重量(g)を塗膜面積(m)で割ることによって算出した値である。実施例及び比較例で調製した電子線硬化型組成物(ニス)の比重がほぼ1.0であることから、塗布量と塗膜厚さとほぼ等しくなる。そのため、本発明では、樹脂ビーズ平均粒子径/塗膜厚さの比に代えて、樹脂ビーズ平均粒子径/塗布量の比を算出した。結果を表1および表2に示す。
一般的に、樹脂ビーズの平均粒子径が塗膜厚よりも小さすぎると、粒子が塗膜内に隠れてしまいスリップ性を発現させることは困難である。一方、樹脂ビーズの平均粒子径が塗膜厚よりも大きすぎると、光沢性が大きく低下する。このような観点から、本発明の一実施形態では、硬化塗膜における樹脂ビーズ(B)の平均粒子径bと、塗布量tの比(b/t)は0.5~2.0であることが好ましく、0.6~1.5であることがより好ましく、0.8~1.2であることがさらに好ましい。
(Resin bead average particle diameter/coating amount ratio)
The average particle diameter of the resin beads represents the volume-based average particle diameter (D50) measured by the Coulter counter method using a product named "Multicizer" manufactured by Beckman Coulter.
The coating amount (g/m 2 ) of the electron beam curable composition is a value calculated by dividing the weight (g) of the cured coating film by the coating area (m 2 ). Since the specific gravity of the electron beam curable compositions (varnishes) prepared in Examples and Comparative Examples is approximately 1.0, the coating amount and coating film thickness are approximately equal. Therefore, in the present invention, instead of the ratio of resin bead average particle diameter/coating film thickness, the ratio of resin bead average particle diameter/coating amount was calculated. The results are shown in Tables 1 and 2.
Generally, if the average particle diameter of the resin beads is too small than the coating film thickness, the particles will be hidden within the coating film, making it difficult to develop slip properties. On the other hand, if the average particle diameter of the resin beads is too large than the coating thickness, the glossiness will be greatly reduced. From this point of view, in one embodiment of the present invention, the ratio (b/t) of the average particle diameter b of the resin beads (B) in the cured coating film to the coating amount t is 0.5 to 2.0. It is preferably from 0.6 to 1.5, even more preferably from 0.8 to 1.2.

(スリップ性)
実施例および比較例の電子線硬化型組成物を使用して得た印刷物について、JIS K7125(プラスチック-フィルム及びシート-摩擦係数試験方法)に準じて、塗膜-塗膜間の動摩擦係数を求めた。
得られた値から、以下の基準にしたがいスリップ性を評価した。結果を表に示す。なお、弾きの評価で不合格となった印刷物については、評価せず「NA」と記載した。
5:動摩擦係数が0.45未満である。
4:動摩擦係数が0.45以上0.55未満である。
3:動摩擦係数が0.55以上0.65未満である。
2:動摩擦係数が0.65以上0.75未満である。
1:動摩擦係数が0.75以上である。
(Slip property)
For the printed matter obtained using the electron beam curable compositions of Examples and Comparative Examples, the coefficient of dynamic friction between coating films was determined according to JIS K7125 (Plastic films and sheets - Friction coefficient test method). Ta.
From the obtained values, slip properties were evaluated according to the following criteria. The results are shown in the table. It should be noted that printed matter that failed the evaluation of playability was not evaluated and was written as "NA".
5: Dynamic friction coefficient is less than 0.45.
4: Dynamic friction coefficient is 0.45 or more and less than 0.55.
3: Dynamic friction coefficient is 0.55 or more and less than 0.65.
2: Dynamic friction coefficient is 0.65 or more and less than 0.75.
1: Dynamic friction coefficient is 0.75 or more.

Figure 0007392225000002
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Figure 0007392225000003
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Figure 0007392225000004
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Figure 0007392225000005
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以上のように、本発明の一実施形態である電子線硬化型組成物(実施例)では、優れたマイグレーション耐性を実現できることが分かる。また、電子線硬化型組成物を構成する(メタ)アクリレート化合物の種類及びその配合量を調整することによって、弾きの発生を抑制し、かつ光沢性といった塗膜特性においても良好な結果が得られることが分かる。したがって、本発明の実施形態である電子線硬化型組成物を用いることによって、硬化塗膜中に残存する未反応成分の外部移行を抑制し、かつ、弾き及び光沢性に優れた印刷物を提供することが可能となる。また、一実施形態によれば、印刷面(塗膜表面)が優れたスリップ性を有することにより、食品包装材料の使用時に内容物の充填および搬送工程を効率よく進めることが可能となる。 As described above, it can be seen that the electron beam curable composition (Example), which is an embodiment of the present invention, can realize excellent migration resistance. In addition, by adjusting the type and amount of the (meth)acrylate compound that makes up the electron beam curable composition, it is possible to suppress the occurrence of repellency and obtain good results in terms of coating properties such as gloss. I understand that. Therefore, by using the electron beam curable composition that is an embodiment of the present invention, it is possible to suppress external migration of unreacted components remaining in the cured coating film and provide printed matter with excellent repellency and gloss. becomes possible. Further, according to one embodiment, the printed surface (coated film surface) has excellent slip properties, so that it is possible to efficiently proceed with the filling and conveying process of contents when using the food packaging material.

Claims (12)

官能基数3以上のプロピレンオキサイド(PO)変性(メタ)アクリレート(A1)を含有する1以上の(メタ)アクリレート化合物(A)を含み、下記(1)及び(2)を満たし、光重合開始剤を実質的に含有しない、電子線硬化型組成物。
(1)前記1以上の(メタ)アクリレート化合物(A)のそれぞれにおいて、分子量が500未満の(メタ)アクリレート化合物の含有量が、組成物の全質量を基準として25質量%未満である。
(2)前記官能基数3以上のプロピレンオキサイド(PO)変性(メタ)アクリレート(A1)の含有量が、組成物の全質量を基準として15質量%以上である。
Contains one or more (meth)acrylate compounds (A) containing propylene oxide (PO) modified (meth)acrylate (A1) having a functional group number of 3 or more, satisfies the following (1) and (2), and initiates photopolymerization. An electron beam curable composition that is substantially free of agents .
(1) In each of the one or more (meth)acrylate compounds (A), the content of the (meth)acrylate compound having a molecular weight of less than 500 is less than 25% by mass based on the total mass of the composition.
(2) The content of the propylene oxide (PO) modified (meth)acrylate (A1) having three or more functional groups is 15% by mass or more based on the total mass of the composition.
さらに、平均粒子径が0.5~6.0μmである樹脂ビーズ(B)を含み、前記樹脂ビーズ(B)の含有量が、電子線硬化型組成物の全質量を基準として、5.0質量%未満である、請求項1に記載の電子線硬化型組成物。 Furthermore, it contains resin beads (B) having an average particle diameter of 0.5 to 6.0 μm, and the content of the resin beads (B) is 5.0 μm based on the total mass of the electron beam curable composition. The electron beam curable composition according to claim 1, which is less than % by mass. 前記官能基数3以上のプロピレンオキサイド(PO)変性(メタ)アクリレート(A1)が、PO変性トリメチロールプロパントリアクリレート、PO変性グリセリルトリアクリレート、PO変性ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、PO変性ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、PO変性ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、及びPO変性ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレートからなる群より選ばれる少なくとも1種を含む、請求項1又は2に記載の電子線硬化型組成物。 The propylene oxide (PO)-modified (meth)acrylate (A1) having a functional group number of 3 or more is PO-modified trimethylolpropane triacrylate, PO-modified glyceryl triacrylate, PO-modified pentaerythritol tetra(meth)acrylate, PO-modified ditrimethylolpropane. The electron beam according to claim 1 or 2, comprising at least one selected from the group consisting of tetra(meth)acrylate, PO-modified dipentaerythritol penta(meth)acrylate, and PO-modified dipentaerythritol hexa(meth)acrylate. Curable composition. 前記(メタ)アクリレート化合物(A)が、さらに、官能基数3以上のエチレンオキサイド(EO)変性(メタ)アクリレートを含む、請求項1~3のいずれか1項に記載の電子線硬化型組成物。 The electron beam curable composition according to any one of claims 1 to 3, wherein the (meth)acrylate compound (A) further contains an ethylene oxide (EO) modified (meth)acrylate having a functional group number of 3 or more. . さらに、アクリル系レベリング剤を含む、請求項1~4のいずれか1項に記載の電子線硬化型組成物。 The electron beam curable composition according to any one of claims 1 to 4, further comprising an acrylic leveling agent. さらに、合成非晶質シリカを含む、請求項1~5のいずれか1項に記載の電子線硬化型組成物。 The electron beam curable composition according to any one of claims 1 to 5, further comprising synthetic amorphous silica. 25℃における粘度が、700mPa・s以下である、請求項1~6のいずれか1項に記載の電子線硬化型組成物。 The electron beam curable composition according to any one of claims 1 to 6, which has a viscosity at 25° C. of 700 mPa·s or less. 電子線硬化型オーバーコートニスとして用いられる、請求項1~のいずれか1項に記載の電子線硬化型組成物。 The electron beam curable composition according to any one of claims 1 to 7 , which is used as an electron beam curable overcoat varnish. 食品包装材料の表面層の形成に用いられる、請求項に記載の電子線硬化型組成物。 The electron beam curable composition according to claim 8 , which is used for forming a surface layer of a food packaging material. 基材と、基材上に設けられた表面層とを含み、前記表面層が請求項1~のいずれか1項に記載の電子線硬化型組成物の硬化塗膜からなる食品包装材料。 A food packaging material comprising a base material and a surface layer provided on the base material, the surface layer comprising a cured coating film of the electron beam curable composition according to any one of claims 1 to 9 . 前記表面層が、1以上の(メタ)アクリレート化合物(A)と樹脂ビーズ(B)とを含む請求項2~のいずれか1項に記載の電子線硬化型組成物の硬化塗膜からなる食品包装材料であって、
前記硬化塗膜における前記樹脂ビーズ(B)の平均粒子径bと、前記硬化塗膜を形成する前記電子線硬化型組成物の塗布量tの比(b/t)が、0.5~2.0である、請求項10に記載の食品包装材料。
The surface layer consists of a cured coating film of the electron beam curable composition according to any one of claims 2 to 9 , comprising one or more (meth)acrylate compounds (A) and resin beads (B). A food packaging material,
The ratio (b/t) of the average particle diameter b of the resin beads (B) in the cured coating film to the coating amount t of the electron beam curable composition forming the cured coating film is 0.5 to 2. 11. The food packaging material according to claim 10 , wherein the food packaging material is .0.
基材の上に、1以上の(メタ)アクリレート化合物(A)と樹脂ビーズ(B)とを含む請求項2~のいずれか1項に記載の電子線硬化型組成物を塗布して塗膜を形成すること
前記塗膜を電子線によって硬化し、硬化塗膜からなる表面層を形成すること
を含み、
前記表面層の形成において、前記硬化塗膜における前記樹脂ビーズ(B)の平均粒子径bと、前記硬化塗膜を形成する前記電子線硬化型組成物の塗布量tの比(b/t)が0.5~2.0である、食品包装材料の製造方法。
The electron beam curable composition according to any one of claims 2 to 9 , which contains one or more (meth)acrylate compounds (A) and resin beads (B), is applied onto a base material. Forming a film includes curing the coating film with an electron beam to form a surface layer consisting of a cured coating film,
In forming the surface layer, the ratio (b/t) of the average particle diameter b of the resin beads (B) in the cured coating film and the coating amount t of the electron beam curable composition forming the cured coating film. is 0.5 to 2.0, a method for producing a food packaging material.
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