JP7390686B2 - Rice production method - Google Patents

Rice production method Download PDF

Info

Publication number
JP7390686B2
JP7390686B2 JP2020141466A JP2020141466A JP7390686B2 JP 7390686 B2 JP7390686 B2 JP 7390686B2 JP 2020141466 A JP2020141466 A JP 2020141466A JP 2020141466 A JP2020141466 A JP 2020141466A JP 7390686 B2 JP7390686 B2 JP 7390686B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
plasma
rice
flowering
atmospheric pressure
production method
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2020141466A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2022037370A (en
Inventor
勝 堀
博司 橋爪
英己 北野
正義 前島
正明 水野
省吾 松本
元気 湯浅
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujitsu Client Computing Ltd
Tokai National Higher Education and Research System NUC
Original Assignee
Fujitsu Client Computing Ltd
Tokai National Higher Education and Research System NUC
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujitsu Client Computing Ltd, Tokai National Higher Education and Research System NUC filed Critical Fujitsu Client Computing Ltd
Priority to JP2020141466A priority Critical patent/JP7390686B2/en
Publication of JP2022037370A publication Critical patent/JP2022037370A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP7390686B2 publication Critical patent/JP7390686B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Plasma Technology (AREA)

Description

本明細書の技術分野は、イネの生産方法に関する。 The technical field of the present specification relates to a method for producing rice.

プラズマ技術は、電気、化学、材料の各分野に応用されている。プラズマの内部では、電子やイオン等の荷電粒子の他に、紫外線やラジカルが発生する。これらには、生体組織の殺菌をはじめとして、生体組織に対する種々の効果があることが分かってきている。 Plasma technology is applied to electrical, chemical, and materials fields. Inside the plasma, ultraviolet rays and radicals are generated in addition to charged particles such as electrons and ions. It has been found that these have various effects on living tissues, including sterilization of living tissues.

また、プラズマが農作物の育成にも効果を奏することが明らかになってきている。例えば、特許文献1には、イネに大気圧プラズマを照射することによりイネの成長を促進する技術が開示されている。特許文献2には、L-乳酸ナトリウムを含有する水溶液にプラズマを照射することによりプラズマ活性化水溶液を製造する技術が開示されている。プラズマ活性化水溶液を用いることにより、酒米の心白米の割合を増加させることが開示されている(引用例2の段落[0083])。 It has also become clear that plasma is effective in growing agricultural crops. For example, Patent Document 1 discloses a technique for promoting the growth of rice by irradiating the rice with atmospheric pressure plasma. Patent Document 2 discloses a technique for producing a plasma-activated aqueous solution by irradiating an aqueous solution containing sodium L-lactate with plasma. It has been disclosed that the proportion of heart white rice in sake rice is increased by using a plasma-activated aqueous solution (paragraph [0083] of Cited Example 2).

特開2020-18278号公報JP 2020-18278 Publication 特開2020-18277号公報Japanese Patent Application Publication No. 2020-18277

心白米は、米粒の中心領域に白色不透明部分を有する。この心白部は澱粉を含んでおり、心白の多い米粒ははぜ込みに適していると言われる。このため、酒米においては心白米の割合が多いことが好ましい。これに対して、食用米においては心白等がない完全米が良品であるとされている。つまり、食用米においては心白米の割合が少ないことが好ましい。 Shinshiro rice has a white opaque area in the central region of the rice grain. This white part contains starch, and rice grains with a lot of white part are said to be suitable for inlaying. For this reason, it is preferable that the ratio of Shinpaku rice is high in sake rice. On the other hand, when it comes to edible rice, it is said that complete rice without shinpaku etc. is of good quality. In other words, it is preferable that the proportion of white rice in edible rice be small.

特許文献1および特許文献2に記載の技術では、心白米の割合を減少させることができない。また、特許文献1および特許文献2に記載の技術では、酒米または食用米に応じて、心白米の割合を増減させることは困難である。 The techniques described in Patent Document 1 and Patent Document 2 cannot reduce the proportion of white rice. In addition, with the techniques described in Patent Document 1 and Patent Document 2, it is difficult to increase or decrease the proportion of white white rice depending on whether the sake rice or the edible rice is used.

本明細書の技術が解決しようとする課題は、心白米の割合の増減を制御することが可能なイネの生産方法を提供することである。 The problem to be solved by the technology of the present specification is to provide a rice production method capable of controlling increase/decrease in the ratio of white-heart rice.

第1の態様におけるイネの生産方法は、イネに大気圧プラズマを照射するプラズマ照射工程を有する。プラズマ照射工程では、開花後の穎花または穎果に向けて大気圧プラズマを照射する。 The rice production method in the first aspect includes a plasma irradiation step of irradiating rice with atmospheric pressure plasma. In the plasma irradiation step, atmospheric pressure plasma is irradiated toward the flower spikelet or carob after flowering.

このイネの生産方法においては、心白米の割合を制御することができる。つまり、酒米に対しては心白米の割合を増加させ、食用米に対しては心白米の割合を減少させることができる。したがって、このイネの生産方法は、酒米および食用米の両方に対して適している。 In this rice production method, the proportion of white rice can be controlled. In other words, it is possible to increase the ratio of Shinpakumai to sake rice, and decrease the ratio of Shinpakumai to table rice. Therefore, this rice production method is suitable for both sake rice and table rice.

本明細書では、心白米の割合の増減を制御することが可能なイネの生産方法が提供されている。 The present specification provides a method for producing rice that can control increase or decrease in the proportion of white-heart rice.

図1.Aは第1のプラズマ発生装置の構成を示す断面図であり、図1.Bは電極の形状を示す図である。Figure 1. A is a sectional view showing the configuration of the first plasma generation device, and FIG. B is a diagram showing the shape of the electrode. 図2.Aは第2のプラズマ発生装置の構成を示す断面図であり、図2.Bは電極の形状を示す図である。Figure 2. A is a sectional view showing the configuration of the second plasma generator, and FIG. B is a diagram showing the shape of the electrode. イネの開花後の成長とプラズマ照射時期を示す図である。FIG. 3 is a diagram showing the growth of rice after flowering and the timing of plasma irradiation. イネに対するプラズマ照射方法を説明する図である。It is a figure explaining the plasma irradiation method to rice. 玄米の一粒重と心白米の割合とを示すグラフである。It is a graph showing the weight of one grain of brown rice and the proportion of white rice.

以下、具体的な実施形態について、イネの生産方法を例に挙げて図を参照しつつ説明する。なお、プラズマ発生装置の寸法等は例示であり、例示されている数値範囲以外の数値を用いてもよい。 Hereinafter, specific embodiments will be described with reference to the drawings, taking a rice production method as an example. Note that the dimensions of the plasma generator are merely examples, and numerical values outside the illustrated numerical range may be used.

(第1の実施形態)
第1の実施形態について説明する。第1の実施形態のイネの生産方法においては、イネに大気圧プラズマを直接照射する。そのため、まず、プラズマを照射するプラズマ照射装置について説明する。
(First embodiment)
A first embodiment will be described. In the rice production method of the first embodiment, atmospheric pressure plasma is directly irradiated onto rice. Therefore, first, a plasma irradiation device that irradiates plasma will be explained.

1.プラズマ装置
1-1.第1のプラズマ発生装置
図1.Aはプラズマ発生装置P10の概略構成を示す断面図である。ここで、プラズマ発生装置P10は、プラズマを点状に噴出する第1のプラズマ発生装置である。図1.Bは、図1.Aのプラズマ発生装置P10の電極2a、2bの形状の詳細を示す図である。
1. Plasma device 1-1. First plasma generator Figure 1. A is a sectional view showing a schematic configuration of a plasma generator P10. Here, the plasma generator P10 is a first plasma generator that spouts plasma in a dotted manner. Figure 1. B is Figure 1. It is a figure showing the details of the shape of electrodes 2a and 2b of plasma generator P10 of A.

プラズマ発生装置P10は、筐体部10と、電極2a、2bと、電圧印加部3と、を有している。筐体部10は、アルミナ(Al2 3 )を原料とする焼結体から成るものである。そして、筐体部10の形状は、筒形状である。筐体部10の内径は2mm以上3mm以下である。筐体部10の厚みは0.2mm以上0.3mm以下である。筐体部10の長さは10cm以上30cm以下である。筐体部10の両端には、ガス導入口10iと、ガス噴出口10oとが形成されている。ガス導入口10iは、プラズマを発生させるためのガスを導入するためのものである。ガス噴出口10oは、プラズマを筐体部10の外部に照射するための照射部である。なお、ガスの移動する向きは、図中の矢印の向きである。 The plasma generator P10 includes a housing section 10, electrodes 2a and 2b, and a voltage application section 3. The housing portion 10 is made of a sintered body made of alumina (Al 2 O 3 ). The shape of the housing portion 10 is a cylindrical shape. The inner diameter of the housing portion 10 is 2 mm or more and 3 mm or less. The thickness of the housing portion 10 is 0.2 mm or more and 0.3 mm or less. The length of the housing portion 10 is 10 cm or more and 30 cm or less. A gas inlet 10i and a gas outlet 10o are formed at both ends of the casing 10. The gas inlet 10i is for introducing gas for generating plasma. The gas outlet 10o is an irradiation part for irradiating plasma to the outside of the housing part 10. Note that the direction in which the gas moves is the direction of the arrow in the figure.

電極2a、2bは、対向して配置されている対向電極対である。電極2a、2bの対向面方向の長さは、筐体部10の内径より小さい。例えば1mm程度である。電極2a、2bには、図1.Bに示すように、対向面のそれぞれに多数の凹部(ホロー)Hが形成されている。そのため、電極2a、2bの対向面は、微細な凹凸形状となっている。なお、この凹部Hの深さは、0.5mm程度である。 The electrodes 2a and 2b are a pair of opposing electrodes arranged to face each other. The length of the electrodes 2 a and 2 b in the direction of the opposing surfaces is smaller than the inner diameter of the housing section 10 . For example, it is about 1 mm. The electrodes 2a and 2b are shown in FIG. As shown in B, a large number of recesses (hollows) H are formed on each of the opposing surfaces. Therefore, the opposing surfaces of the electrodes 2a and 2b have minute irregularities. Note that the depth of this recess H is approximately 0.5 mm.

電極2aは、筐体部10の内部であってガス導入口10iの近傍に配置されている。電極2bは、筐体部10の内部であってガス噴出口10oの近傍に配置されている。そのため、プラズマ発生装置P10では、電極2aの対向面の反対側からガスを導入するとともに、電極2bの対向面の反対側にガスを噴出するようになっている。そして、電極2a、2b間の距離は、例えば24cmである。電極2a、2b間の距離は、これより小さい距離であってもよい。 The electrode 2a is arranged inside the housing section 10 and near the gas inlet 10i. The electrode 2b is arranged inside the housing section 10 and near the gas outlet 10o. Therefore, in the plasma generator P10, gas is introduced from the side opposite to the facing surface of the electrode 2a, and the gas is ejected to the side opposite to the facing surface of the electrode 2b. The distance between the electrodes 2a and 2b is, for example, 24 cm. The distance between the electrodes 2a and 2b may be smaller than this.

電圧印加部3は、電極2a、2b間に交流電圧を印加するためのものである。電圧印加部3は、商用交流電圧である、60Hz、100Vを用いて9kVに昇圧するとともに、電極2a、2b間に電圧を印加する。 The voltage application section 3 is for applying an alternating current voltage between the electrodes 2a and 2b. The voltage applying unit 3 boosts the voltage to 9 kV using a commercial AC voltage of 60 Hz and 100 V, and applies a voltage between the electrodes 2a and 2b.

ガス導入口10iからアルゴン等の希ガスを導入するとともに、電圧印加部3により、電極2a、2b間に電圧を印加すると、筐体部10の内部にプラズマが発生する。図1.Aの斜線で示すように、プラズマが発生する領域をプラズマ発生領域Pとする。プラズマ発生領域Pは、筐体部10に覆われている。 When a rare gas such as argon is introduced through the gas inlet 10i and a voltage is applied between the electrodes 2a and 2b by the voltage application section 3, plasma is generated inside the housing section 10. Figure 1. As shown by the diagonal line A, the region where plasma is generated is defined as a plasma generation region P. The plasma generation region P is covered by the housing section 10.

1-2.第2のプラズマ発生装置
図2.Aはプラズマ発生装置P20の概略構成を示す断面図である。ここで、プラズマ発生装置P20は、プラズマを線状に噴出する第2のプラズマ発生装置である。図2.Bは、図2.Aのプラズマ発生装置P20のプラズマ発生領域Pの長手方向に垂直な断面における部分断面図である。
1-2. Second plasma generator Figure 2. A is a sectional view showing a schematic configuration of a plasma generator P20. Here, the plasma generator P20 is a second plasma generator that ejects plasma linearly. Figure 2. B is Figure 2. FIG. 3 is a partial sectional view taken in a cross section perpendicular to the longitudinal direction of the plasma generation region P of the plasma generation device P20 of FIG.

プラズマ発生装置P20は、筐体部11と、電極2a、2bと、電圧印加部3と、を有している。筐体部11は、アルミナ(Al2 3 )を原料とする焼結体から成るものである。筐体部11の両端には、ガス導入口11iと、多数のガス噴出口11oとが形成されている。ガス導入口11iは、図2.Aの左右方向を長手方向とするスリット形状をしている。ガス導入口11iからプラズマ発生領域Pの直上までのスリット幅(図2.Bの左右方向の幅)は、例えば1mmである。 The plasma generator P20 includes a housing section 11, electrodes 2a and 2b, and a voltage application section 3. The housing portion 11 is made of a sintered body made of alumina (Al 2 O 3 ). A gas inlet 11i and a large number of gas ejection ports 11o are formed at both ends of the housing portion 11. The gas inlet 11i is shown in FIG. It has a slit shape whose longitudinal direction is the left and right direction of A. The slit width from the gas inlet 11i to just above the plasma generation region P (width in the left-right direction in FIG. 2B) is, for example, 1 mm.

ガス噴出口11oは、プラズマを筐体部11の外部に照射するための照射部である。ガス噴出口11oは、円筒形状もしくはスリット形状である。円筒形状の場合のガス噴出口11oは、プラズマ発生領域の長手方向に沿って一直線状に形成されている。ガス噴出口11oの内径は1mm以上2mm以下の範囲内である。また、スリット形状の場合には、ガス噴出口11oのスリット幅を1mm以下とすることが好ましい。これにより、安定したプラズマが形成される。また、ガス導入口11iは、電極2aと電極2bとを結ぶ線と交差する向きにガスを導入するようになっている。 The gas outlet 11o is an irradiation part for irradiating plasma to the outside of the housing part 11. The gas outlet 11o has a cylindrical shape or a slit shape. The gas ejection port 11o in the case of a cylindrical shape is formed in a straight line along the longitudinal direction of the plasma generation region. The inner diameter of the gas outlet 11o is within the range of 1 mm or more and 2 mm or less. Moreover, in the case of a slit shape, it is preferable that the slit width of the gas jet port 11o is 1 mm or less. As a result, stable plasma is formed. Further, the gas introduction port 11i is configured to introduce gas in a direction intersecting a line connecting the electrode 2a and the electrode 2b.

電極2a、2bおよび電圧印加部3については、図1に示したプラズマ発生装置P10と同じものである。そして、同様に、商用交流電圧を用いて、電極2a、2b間に電圧を印加する。これにより、プラズマを一直線状に噴出することができる。 The electrodes 2a, 2b and voltage application section 3 are the same as those of the plasma generator P10 shown in FIG. Similarly, a voltage is applied between the electrodes 2a and 2b using a commercial AC voltage. Thereby, plasma can be ejected in a straight line.

また、この一直線状にプラズマを噴出するプラズマ発生装置P20を図2.Bの左右方向に列状に並べて配置すれば、プラズマをある長方形の領域にわたって平面的に噴出することができる。 Furthermore, the plasma generator P20 that ejects plasma in a straight line is shown in FIG. By arranging them in rows in the left and right direction of B, plasma can be ejected planarly over a certain rectangular area.

2.プラズマ発生装置により発生されるプラズマ
プラズマ発生装置P10、P20により発生されるプラズマは、非平衡大気圧プラズマである。ここで、大気圧プラズマとは、0.5気圧以上2.0気圧以下の範囲内の圧力であるプラズマをいう。
2. Plasma Generated by the Plasma Generator The plasma generated by the plasma generators P10 and P20 is non-equilibrium atmospheric pressure plasma. Here, atmospheric pressure plasma refers to plasma having a pressure within a range of 0.5 atm or more and 2.0 atm or less.

本実施の形態では、プラズマ発生ガスとして、主にArガスを用いる。プラズマ発生装置P10、P20により発生されるプラズマの内部では、もちろん、電子と、Arイオンとが生成されている。そして、Arイオンは、紫外線を発生させる。また、このプラズマは大気中に放出されているため、酸素ラジカルや窒素ラジカル等を発生させる。 In this embodiment, Ar gas is mainly used as the plasma generating gas. Of course, electrons and Ar ions are generated inside the plasma generated by the plasma generators P10 and P20. Then, the Ar ions generate ultraviolet rays. Furthermore, since this plasma is released into the atmosphere, it generates oxygen radicals, nitrogen radicals, and the like.

このプラズマのプラズマ密度は、1×1014cm-3以上1×1017cm-3以下の範囲内である。なお、誘電体バリア放電により発生されるプラズマにおけるプラズマ密度は、1×1011cm-3以上1×1013cm-3以下の程度である。したがって、プラズマ発生装置P10、P20により発生されるプラズマのプラズマ密度は、誘電体バリア放電により発生されるプラズマのプラズマ密度に比べて、3桁程度大きい。したがって、このプラズマの内部では、より多くのArイオンが生成する。そのため、ラジカルや、紫外線の発生量も多い。なお、このプラズマ密度は、プラズマ内部の電子密度にほぼ等しい。 The plasma density of this plasma is within the range of 1×10 14 cm −3 or more and 1×10 17 cm −3 or less. Note that the plasma density of plasma generated by dielectric barrier discharge is approximately 1×10 11 cm −3 or more and 1×10 13 cm −3 or less. Therefore, the plasma density of the plasma generated by the plasma generators P10 and P20 is about three orders of magnitude higher than the plasma density of the plasma generated by dielectric barrier discharge. Therefore, more Ar ions are generated inside this plasma. Therefore, a large amount of radicals and ultraviolet rays are generated. Note that this plasma density is approximately equal to the electron density inside the plasma.

そして、このプラズマ発生時におけるプラズマ温度は、およそ1000K以上2500K以下の範囲内である。また、このプラズマにおける電子温度は、ガスの温度に比べて大きい。しかも、電子の密度が1×1014cm-3以上1×1017cm-3以下の範囲内の程度であるにもかかわらず、ガスの温度はおよそ1000K以上2500K以下の範囲内である。このプラズマの温度は、プラズマの発生しているプラズマ発生領域Pでの温度である。したがって、プラズマの条件や、ガス噴出口から対象物までの距離を異なる条件とすることにより、対象物の位置でのプラズマ温度を室温程度とすることができる。 The plasma temperature at the time of plasma generation is within a range of about 1000K or more and 2500K or less. Further, the electron temperature in this plasma is higher than the gas temperature. Furthermore, although the electron density is within the range of 1×10 14 cm −3 to 1×10 17 cm −3 , the gas temperature is within the range of approximately 1000 K to 2500 K. The temperature of this plasma is the temperature in the plasma generation region P where plasma is generated. Therefore, by setting different plasma conditions and the distance from the gas outlet to the target object, the plasma temperature at the target object position can be made to be about room temperature.

3.イネの開花後の成長とプラズマ照射時期
図3はイネの開花後の成長とプラズマ照射時期を示す図である。イネは開花後に胚乳組織形成期間と登熟期間とを有する。胚乳組織形成期間においては、胚乳組織が形成される。登熟期間においては、糖の転流や澱粉の蓄積が行われる。
3. Growth of rice after flowering and timing of plasma irradiation Figure 3 is a diagram showing growth of rice after flowering and timing of plasma irradiation. After flowering, rice has an endosperm tissue formation period and a ripening period. During the endosperm tissue formation period, endosperm tissue is formed. During the ripening period, sugar translocation and starch accumulation occur.

第1の実施形態では、イネの開花後にイネの穂に大気圧プラズマを照射する。第1の実施形態では、開花後の穂に向けて大気圧プラズマを照射する。つまり、胚乳組織形成期間または登熟期間の穂にプラズマを照射する。 In the first embodiment, the ears of rice are irradiated with atmospheric pressure plasma after the rice has bloomed. In the first embodiment, atmospheric pressure plasma is irradiated toward the panicle after flowering. That is, plasma is irradiated to the panicle during the endosperm tissue formation period or the ripening period.

4.イネの生産方法
4-1.発芽工程
イネの種子を発芽させる。そのために、イネの種子を水に漬ける吸水工程を実施する。
4. Rice production method 4-1. Germination process Germinate rice seeds. For this purpose, a water absorption process is performed in which rice seeds are soaked in water.

4-2.育苗工程
次に、発芽した種子を苗代に播種する。そして、種子から苗に成長させる。
4-2. Seedling raising process Next, the germinated seeds are sown into seedlings. The seeds are then grown into seedlings.

4-3.田植え
よく育った苗を水田に植える。または、人工気象器の内部で成長させてもよい。
4-3. Rice planting Plant well-grown seedlings in paddy fields. Alternatively, it may be grown inside an artificial climate machine.

4-4.出穂
その後、イネは出穂する。
4-4. Earing After that, the rice starts heading.

4-5.開花
出穂したイネは開花する。
4-5. Flowering After heading, rice flowers.

4-6.プラズマ照射工程
図4に示すように、開花後の穂に、プラズマ照射工程を実施する。具体的には、開花後の稲穂の穎花または穎果(K1)に向かって非平衡大気圧プラズマを直接照射する。プラズマ照射工程をイネの開花後0日以降4日以内に実施する。穎花は時間の経過とともに穎果となる。
4-6. Plasma irradiation process As shown in FIG. 4, a plasma irradiation process is performed on the panicle after flowering. Specifically, non-equilibrium atmospheric pressure plasma is directly irradiated toward the panicle or carob (K1) of the rice ear after flowering. The plasma irradiation step is carried out within 4 days after 0 days after flowering of the rice plants. The spikelets turn into carpus over time.

稲穂の穎花または穎果に大気圧プラズマを照射する際のプラズマ密度時間積は、6×1016sec・cm-3以上4×1017sec・cm-3以下であるとよい。この数値範囲は、例えば、プラズマ密度が2×1016cm-3の大気圧プラズマを3秒以上20秒以下で照射した場合に相当する。プラズマ密度時間積は、イネの穎花または穎果に照射するプラズマ生成物のおおよその量を規定する量である。 The plasma density time product when irradiating atmospheric pressure plasma to the panicles or panicles of rice ears is preferably 6×10 16 sec·cm −3 or more and 4×10 17 sec·cm −3 or less. This numerical range corresponds, for example, to the case where atmospheric pressure plasma with a plasma density of 2×10 16 cm −3 is irradiated for 3 seconds or more and 20 seconds or less. The plasma density-time product is a quantity that defines the approximate amount of plasma product that is irradiated onto the rice spikelet or carole.

また、大気圧プラズマの発光領域が、穎花または穎果に接触していても、接触していなくてもよい。プラズマの照射距離は、5mm以上30mm以下であるとよい。プラズマの照射距離とは、プラズマ発生装置P10、P20の照射口から穎花または穎果までの距離である。プラズマの照射距離は、上記の範囲外であってもよい。プラズマ生成物がイネの穎花または穎果に照射されることに変わりないからである。 Furthermore, the emission region of the atmospheric pressure plasma may or may not be in contact with the spikelet or the carob. The plasma irradiation distance is preferably 5 mm or more and 30 mm or less. The plasma irradiation distance is the distance from the irradiation port of the plasma generators P10, P20 to the spikelet or carole. The plasma irradiation distance may be outside the above range. This is because the plasma product is still irradiated to the rice spikelet or carol.

4-7.収穫
その後、苗を通常の育成方法により育成し、収穫する。
4-7. Harvesting After that, the seedlings are grown using normal growing methods and harvested.

5.プラズマをイネに直接照射する効果
イネの開花後0日以降4日以内の期間に大気圧プラズマを稲穂の穎花または穎果に照射することにより、心白米の割は減少する。このため、第1の実施形態のイネの生産方法は食用米の生産に適している。
5. Effects of direct irradiation of rice with plasma By irradiating the spikelets or panicles of rice ears with atmospheric pressure plasma within 4 days from day 0 after flowering of rice, the percentage of white rice is reduced. Therefore, the rice production method of the first embodiment is suitable for producing edible rice.

6.変形例
6-1.小型化したプラズマ発生装置
プラズマ発生装置P10、P20等をさらに小型化してもよい。十分に小型化することにより、ペン型のプラズマ発生装置を製造することができる。その場合であっても、プラズマ発生装置P10、P20と同等のプラズマ密度が得られる。
6. Modification 6-1. Miniaturized Plasma Generator The plasma generators P10, P20, etc. may be further miniaturized. By sufficiently reducing the size, a pen-shaped plasma generator can be manufactured. Even in that case, a plasma density equivalent to that of the plasma generators P10 and P20 can be obtained.

(第2の実施形態)
第2の実施形態について説明する。第2の実施形態が第1の実施形態と異なる点はプラズマ照射工程の実施時期である。そのため、異なる点について説明する。
(Second embodiment)
A second embodiment will be described. The second embodiment differs from the first embodiment in the timing of the plasma irradiation process. Therefore, the different points will be explained.

1.イネの生産方法
1-1.プラズマ照射工程
第2の実施形態においても開花後の穂に、プラズマ照射工程を実施する。具体的には、開花後の稲穂の穎花または穎果に向かって非平衡大気圧プラズマを直接照射する。プラズマ照射工程をイネの開花後6日以降20日以内に実施する。
1. Rice production method 1-1. Plasma irradiation process In the second embodiment as well, a plasma irradiation process is performed on the panicle after flowering. Specifically, non-equilibrium atmospheric pressure plasma is directly irradiated toward the panicle or carob of the rice ear after flowering. The plasma irradiation step is carried out within 6 days and 20 days after flowering of the rice plants.

2.第2の実施形態の効果
イネの開花後6日以降20日以内の期間に大気圧プラズマを稲穂の穎花または穎果に照射することにより、心白米の割は増加する。このため、第1の実施形態のイネの生産方法は酒米の生産に適している。
2. Effects of the Second Embodiment By irradiating the spikelets or panicles of rice ears with atmospheric pressure plasma during a period from 6 days to 20 days after flowering of rice, the percentage of white rice increases. Therefore, the rice production method of the first embodiment is suitable for producing sake rice.

3.変形例
第2の実施形態の変形例を用いてもよい。
3. Modifications Modifications of the second embodiment may also be used.

1.イネ
本実験では、酒造好適米の山田錦(イネの品種)を栽培した。
1. Rice In this experiment, Yamada Nishiki (a rice variety), which is suitable for sake brewing, was cultivated.

2.実験方法
育苗したイネを田植えし、開花後の稲穂に大気圧プラズマを照射した。開花後の経過日数を変えて大気圧プラズマを直接照射した。その際に、プラズマ発生装置P20を用いた。プラズマ発生装置P20におけるプラズマ密度は、2×1016cm-3であった。プラズマガスはアルゴンガスであった。プラズマ照射時間は10秒または20秒であった。
2. Experimental method: The raised rice seedlings were planted in rice fields, and after flowering, the rice ears were irradiated with atmospheric pressure plasma. Atmospheric pressure plasma was directly irradiated at different days after flowering. At that time, a plasma generator P20 was used. The plasma density in plasma generator P20 was 2×10 16 cm −3 . The plasma gas was argon gas. The plasma irradiation time was 10 seconds or 20 seconds.

稲穂の一粒ずつにマーカーにより目印をつけた。この目印は開花日を示している。これにより、稲穂の一粒ずつに開花してから何日後に大気圧プラズマを照射したか識別することが可能である。 Each grain of rice was marked with a marker. This landmark indicates the flowering date. This makes it possible to determine how many days after flowering each rice ear was irradiated with atmospheric pressure plasma.

3.実験結果
プラズマ照射時間は10秒であっても20秒であってもほとんど差が無かった。
3. Experimental Results There was almost no difference whether the plasma irradiation time was 10 seconds or 20 seconds.

図5は、玄米の一粒重と心白米の割合とを示すグラフである。図5の横軸は開花後からプラズマを照射するまでの日数である。図5の上のグラフの縦軸は玄米の一粒の重さである。図5の下のグラフの縦軸は心白の割合である。なお、図5の一番左の欄は、プラズマを照射しなかったイネの値を示している。 FIG. 5 is a graph showing the weight of each grain of brown rice and the proportion of white rice. The horizontal axis in FIG. 5 is the number of days from flowering to plasma irradiation. The vertical axis of the upper graph in Figure 5 is the weight of one grain of brown rice. The vertical axis of the lower graph in FIG. 5 is the ratio of white spots. Note that the leftmost column in FIG. 5 shows the values for rice that was not irradiated with plasma.

図5に示すように、プラズマの照射により玄米の一粒重に変化はなかった。 As shown in Figure 5, there was no change in the weight of each grain of brown rice due to plasma irradiation.

イネにプラズマを照射しなかった場合には、心白米の割合は30%程度であった。イネの開花後1日後にプラズマを照射した場合には、心白米の割合は20%程度であった。イネの開花後5日後にプラズマを照射した場合には、心白米の割合は30%程度であった。イネの開花後10日後にプラズマを照射した場合には、心白米の割合は48%程度であった。イネの開花後15日後にプラズマを照射した場合には、心白米の割合は45%程度であった。 When the rice was not irradiated with plasma, the percentage of white rice was about 30%. When the rice was irradiated with plasma one day after flowering, the percentage of white rice was about 20%. When the rice was irradiated with plasma 5 days after flowering, the percentage of white rice was about 30%. When the rice was irradiated with plasma 10 days after flowering, the percentage of white rice was about 48%. When the rice was irradiated with plasma 15 days after flowering, the percentage of white rice was about 45%.

イネの開花後0日以降4日以内にプラズマを照射した場合には、心白米の割合が減少している。その一方、イネの開花後6日以降20日以内にプラズマを照射した場合には、心白米の割合が増加している。 When the plasma was irradiated within 4 days after 0 days after flowering of rice, the percentage of white rice decreased. On the other hand, when the plasma was irradiated from 6 days to 20 days after flowering of rice, the proportion of white rice increased.

3.実験のまとめ
イネが胚乳組織形成期間の初期段階にあるときに大気圧プラズマを照射した場合には、心白米の割合は減少する。一方、イネが胚乳組織形成期間を終了する期間に大気圧プラズマを照射した場合には、心白米の割合は増加する。また、イネが登熟期間にあるときに大気圧プラズマを照射した場合には、心白米の割合は増加する。
3. Summary of experiments When rice is irradiated with atmospheric pressure plasma when it is in the early stages of endosperm tissue formation, the proportion of white-heart rice decreases. On the other hand, if atmospheric pressure plasma is irradiated during the period when rice finishes the endosperm tissue formation period, the percentage of white-heart rice increases. Furthermore, if atmospheric pressure plasma is irradiated when rice is in the ripening period, the percentage of white rice increases.

このようにイネの開花後の成長段階に応じて稲穂に非平衡大気圧プラズマを直接照射することにより、心白米の割合を増加または減少させることができる。つまり、心白米の割合を制御することができる。 In this way, by directly irradiating the rice ears with non-equilibrium atmospheric pressure plasma according to the growth stage after flowering of the rice, it is possible to increase or decrease the percentage of white rice. In other words, the proportion of white rice can be controlled.

(付記)
第1の態様におけるイネの生産方法は、イネに大気圧プラズマを照射するプラズマ照射工程を有する。プラズマ照射工程では、開花後の穎花または穎果に向けて大気圧プラズマを照射する。
(Additional note)
The rice production method in the first aspect includes a plasma irradiation step of irradiating rice with atmospheric pressure plasma. In the plasma irradiation step, atmospheric pressure plasma is irradiated toward the flower spikelet or carob after flowering.

第2の態様におけるイネの生産方法においては、プラズマ照射工程を開花後0日以降4日以内に実施する。 In the rice production method according to the second aspect, the plasma irradiation step is performed within 4 days after flowering on day 0.

第3の態様におけるイネの生産方法においては、プラズマ照射工程を開花後6日以降に実施する。 In the rice production method according to the third aspect, the plasma irradiation step is carried out after 6 days after flowering.

P10、P20…プラズマ発生装置
10、11…筐体部
10i、11i…ガス導入口
10o、11o…ガス噴出口
2a、2b…電極
P…プラズマ発生領域
H…凹部(ホロー)
K1…穎花または穎果
P10, P20...Plasma generation device 10, 11...Casing portion 10i, 11i...Gas inlet 10o, 11o...Gas outlet 2a, 2b...Electrode P...Plasma generation region H...Concave portion (hollow)
K1... spikelet or carob

Claims (3)

イネに大気圧プラズマを照射するプラズマ照射工程を有し、
前記プラズマ照射工程では、
開花後の穎花または穎果に向けて大気圧プラズマを照射すること
を含むイネの生産方法。
It has a plasma irradiation process in which rice is irradiated with atmospheric pressure plasma,
In the plasma irradiation step,
A method for producing rice comprising irradiating atmospheric pressure plasma to the spikelets or carcasses after flowering.
請求項1に記載のイネの生産方法において、
前記プラズマ照射工程を
開花後0日以降4日以内に実施すること
を含むイネの生産方法。
In the rice production method according to claim 1,
A rice production method comprising carrying out the plasma irradiation step within 4 days after flowering.
請求項1に記載のイネの生産方法において、
前記プラズマ照射工程を
開花後6日以降に実施すること
を含むイネの生産方法。
In the rice production method according to claim 1,
A rice production method comprising carrying out the plasma irradiation step after 6 days after flowering.
JP2020141466A 2020-08-25 2020-08-25 Rice production method Active JP7390686B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2020141466A JP7390686B2 (en) 2020-08-25 2020-08-25 Rice production method

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2020141466A JP7390686B2 (en) 2020-08-25 2020-08-25 Rice production method

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2022037370A JP2022037370A (en) 2022-03-09
JP7390686B2 true JP7390686B2 (en) 2023-12-04

Family

ID=80494612

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2020141466A Active JP7390686B2 (en) 2020-08-25 2020-08-25 Rice production method

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP7390686B2 (en)

Non-Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
橋爪博司、北野英己、水野寛子、木下悟、湯浅元気、東野里江、田中宏昌、 石川健治、松本省吾、榊原均、仁川進、 前島正義、水野正明、堀勝,イネ種子への低温プラズマ照射による成長促進効果,第66回応用物理学会春季学術講演会講演予稿集,2019年02月25日,pp. 06.056
橋爪博司、北野英己、水野寛子、阿部明子、三田薫、HSIAO S. N.、湯浅元気、東野里江、田中宏昌、石川健治、松本省吾、榊原均、仁川進、前島正義、水野正明、堀勝,稲穂への低温プラズマ照射がもたらす酒造品種玄米の品質向上,第69回応用物理学会春季学術講演会講演予稿集,日本,公益社団法人応用物理学会,2022年03月10日,pp. 07.105
橋爪博司、北野英己、水野寛子、阿部明子、湯浅元気、東野里江、田中宏昌、石川健治、松本省吾、榊原均、仁川進、前島正義、水野正明、堀勝,酒米品種イネ栽培における低温プラズマ処理の品質への効果,第81回応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集,2020年08月26日,pp. 07.032

Also Published As

Publication number Publication date
JP2022037370A (en) 2022-03-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Dubinov et al. Effect of glow discharge air plasma on grain crops seed
CN105010339B (en) Plant growth regulator and use thereof
JP7085735B2 (en) How to produce crops
JP3213329B2 (en) Method and apparatus for improving seed growth characteristics using ion and electron avalanches
US5281315A (en) Gas plasma treatment of plant seeds
JP7390686B2 (en) Rice production method
JP7141036B2 (en) Rice production method
CN108770688A (en) A kind of rapid propagation method of murraya paniculataJack
JP7040770B2 (en) Active species-containing liquid injection device
Barjasteh et al. Recent progress of non-thermal atmospheric pressure plasma for seed germination and plant development: current scenario and future landscape
Heping et al. Applications of cold atmospheric plasmas (CAPs) in agriculture: a brief review and the novel development of a radio-frequency CAP jet generator for plant mutation
WO2020027343A1 (en) Rice plant production method
JPS6360905A (en) Growth promoting adjuvant water for cultivating plant such as field crop or the like
JP3191907B2 (en) Seeding method of gel-coated seeds
CN113439501A (en) Method for improving activity of grass seeds
KR20140045268A (en) Method of plant growth
KR102332152B1 (en) The composition for aeroponic culture system containing non-thermal plasma treated water
RU2315461C1 (en) Method for decontamination of cotton seeds before seeding
Mukhammadiev et al. Study of the effect of using electrical stimulation on the increase of potato yield
Mishra et al. Impact of Plasma Treatment on Coriander Seeds for Germination and Growth
RU2231249C1 (en) Method for enhancing productivity of crops
CN102318555B (en) Radiation and dwarfing method for flower bulbs
JP7400142B1 (en) Seed germination and growth system using electric shock method
KR102449546B1 (en) A method of controlling the root hair growth of plants using plasma activated water
WO2018207667A1 (en) Method for producing agricultural crop

Legal Events

Date Code Title Description
RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

Effective date: 20220701

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20230410

RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

Effective date: 20230410

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821

Effective date: 20230410

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20231006

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20231024

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20231113

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 7390686

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150