JP7388269B2 - gas detection device - Google Patents

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Description

本発明は、ガス検出装置に関する。 The present invention relates to a gas detection device.

煙道ガス中の二酸化硫黄や窒素酸化物等の濃度を測定する非分散型赤外線吸収方式(NDIR)のガス分析計が知られている(例えば、特許文献1参照)。特許文献1に記載のガス分析計は、赤外線を照射する光源と、赤外線が交互に入射する試料セルおよび補償セルと、赤外線強度を検出する検出器と、対象ガス成分(例えば二酸化硫黄)の濃度を検出する指示計とを備える。 BACKGROUND ART A non-dispersive infrared absorption (NDIR) gas analyzer that measures the concentration of sulfur dioxide, nitrogen oxides, etc. in flue gas is known (for example, see Patent Document 1). The gas analyzer described in Patent Document 1 includes a light source that irradiates infrared rays, a sample cell and a compensation cell to which infrared rays are alternately incident, a detector that detects the intensity of infrared rays, and a concentration sensor for target gas components (for example, sulfur dioxide). and an indicator that detects.

補償セルには、赤外線を吸収しない窒素ガスが封入されており、ここを透過する赤外線は、強度が減衰しない。一方、試料セルには、対象ガス成分を含む測定ガスが通過可能となっており、ここを透過する赤外線は、対象ガス成分によって一部が吸収されることにより、強度が減衰する。このように試料セルおよび補償セルにそれぞれ独立してガスが導入させることができる構造を、以下「2系統構造」と言う。また、補償セルは、連続測定の安定性を増す(例えば、ドリフトや周囲温度変化影響を低減する)ために設けられている。
また、特許文献1に記載のガス分析計は、2つチャンバを有する干渉セルを備える。特許文献1に記載のガス分析計では、干渉セルの2つチャンバの間に差圧センサを設けることができる。
The compensation cell is filled with nitrogen gas that does not absorb infrared rays, and the intensity of infrared rays that pass through it is not attenuated. On the other hand, a measurement gas containing a target gas component can pass through the sample cell, and the intensity of the infrared rays transmitted through the sample cell is attenuated as a part of the infrared rays is absorbed by the target gas component. A structure in which gas can be introduced into the sample cell and the compensation cell independently in this manner is hereinafter referred to as a "two-system structure." Compensation cells are also provided to increase the stability of continuous measurements (eg, reduce drift and ambient temperature change effects).
Further, the gas analyzer described in Patent Document 1 includes an interference cell having two chambers. In the gas analyzer described in Patent Document 1, a differential pressure sensor can be provided between the two chambers of the interference cell.

特開2003-014591号公報Japanese Patent Application Publication No. 2003-014591

例えば、赤外線を吸収する波長帯が一部重なり合う二酸化硫黄とメタンとを含むガスを測定ガスとする場合、干渉セルにメタンを封入して、特許文献1に記載のガス分析計を用いることが考えられるが、二酸化硫黄の濃度を正確に検出するのが困難となる場合がある。 For example, if the measurement gas is a gas containing sulfur dioxide and methane whose wavelength bands that absorb infrared rays partially overlap, it is possible to fill an interference cell with methane and use the gas analyzer described in Patent Document 1. However, it may be difficult to accurately detect the concentration of sulfur dioxide.

本発明の目的は、簡単な構成で、第1ガスの濃度を検出することができるガス検出装置を提供することにある。 An object of the present invention is to provide a gas detection device that can detect the concentration of a first gas with a simple configuration.

本発明の態様は、赤外線を照射する光源と、前記光源から照射された赤外線の光路上に配置され、赤外線が通過するとともに、赤外線のうち、第1波長帯の赤外線を吸収する第1ガスを含むサンプルガスが通過する第1チャンバと、前記光路上の前記第1チャンバよりも下流側に配置され、赤外線が通過するとともに、赤外線のうち、前記第1波長帯と一部重なる第2波長帯の赤外線を吸収する第2ガスが充填された第2チャンバと、前記第1チャンバおよび前記第2チャンバを順に通過した赤外線を受光し、その受光量を検出する受光量検出部と、前記第2チャンバ内に存在する気体の圧力を検出する圧力検出部と、前記受光量に基づいて、前記サンプルガス中の前記第1ガスの濃度を演算する演算部とを備え、前記演算部は、前記圧力に基づいて、前記第1ガスの濃度を補正するガス検出装置に関する。 Aspects of the present invention include a light source that irradiates infrared rays, and a first gas that is disposed on the optical path of the infrared rays irradiated from the light source, through which the infrared rays pass, and that absorbs infrared rays in a first wavelength band of the infrared rays. a first chamber through which a sample gas containing the sample gas passes; and a second wavelength band of the infrared rays, which is disposed downstream of the first chamber on the optical path, through which infrared rays pass, and which partially overlaps with the first wavelength band of the infrared rays. a second chamber filled with a second gas that absorbs the infrared rays; a received light amount detection section that receives the infrared rays that have passed through the first chamber and the second chamber in order and detects the amount of the received light; A pressure detection unit that detects the pressure of the gas existing in the chamber; and a calculation unit that calculates the concentration of the first gas in the sample gas based on the amount of light received, the calculation unit configured to detect the pressure The present invention relates to a gas detection device that corrects the concentration of the first gas based on.

本発明によれば、サンプルガス中の第2ガスの濃度の大小に関わらず、当該サンプルガス中の第1ガスの濃度を正確に検出することができる。また、ガス検出装置は、前述したような2系統構造になってはおらず、簡単な構成の装置となっている。 According to the present invention, the concentration of the first gas in the sample gas can be accurately detected regardless of the magnitude of the concentration of the second gas in the sample gas. Further, the gas detection device does not have a two-system structure as described above, but has a simple configuration.

図1は、本発明のガス検出装置の第1実施形態を示す概略構成図である。FIG. 1 is a schematic configuration diagram showing a first embodiment of a gas detection device of the present invention. 図2は、図1に示すガス検出装置のブロック図である。FIG. 2 is a block diagram of the gas detection device shown in FIG. 1. 図3は、第2チャンバ内の圧力と、サンプルガスに含まれる第2ガスの濃度との関係を示す検量線の一例である。FIG. 3 is an example of a calibration curve showing the relationship between the pressure in the second chamber and the concentration of the second gas contained in the sample gas. 図4は、サンプルガスに含まれる第2ガスの濃度と、演算部で演算された第1ガスの濃度に対する補正値との関係を示す検量線の一例である。FIG. 4 is an example of a calibration curve showing the relationship between the concentration of the second gas contained in the sample gas and the correction value for the concentration of the first gas calculated by the calculation unit. 図5は、第1ガスで吸収される赤外線の第1波長帯を示すグラフと、第2ガスで吸収される赤外線の第2波長帯を示すグラフである。FIG. 5 is a graph showing a first wavelength band of infrared rays absorbed by the first gas and a graph showing a second wavelength band of infrared rays absorbed by the second gas. 図6は、本発明のガス検出装置の第2実施形態を示す概略構成図である。FIG. 6 is a schematic configuration diagram showing a second embodiment of the gas detection device of the present invention. 図7は、第2チャンバ内の圧力(圧力変動の実効値)と、サンプルガスに含まれる第2ガスの濃度との関係を示す検量線の一例である。FIG. 7 is an example of a calibration curve showing the relationship between the pressure in the second chamber (effective value of pressure fluctuation) and the concentration of the second gas contained in the sample gas. 図8は、サンプルガスに含まれる第2ガスの濃度と、演算部で演算された第1ガスの濃度に対する補正値との関係を示す検量線の一例である。FIG. 8 is an example of a calibration curve showing the relationship between the concentration of the second gas contained in the sample gas and the correction value for the concentration of the first gas calculated by the calculation section.

以下、本発明のガス検出装置を添付図面に示す好適な実施形態に基づいて詳細に説明する。
<第1実施形態>
以下、図1~図5を参照して、本発明のガス検出装置の第1実施形態について説明する。なお、以下では、説明の都合上、図1中(図6についても同様)では、互いに直交するX軸、Y軸、Z軸を設定し、XY平面が水平面と平行となり、Z軸方向が鉛直方向と平行となっている。また、図1中(図6についても同様)の上側を「上」、下側を「下」、左側を「左」、右側を「右」と言うことがある。また、図3、図4に示す検量線は、いずれも、模式図である。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The gas detection device of the present invention will be described in detail below based on preferred embodiments shown in the accompanying drawings.
<First embodiment>
A first embodiment of the gas detection device of the present invention will be described below with reference to FIGS. 1 to 5. In the following, for convenience of explanation, in FIG. 1 (the same applies to FIG. 6), the X-axis, Y-axis, and Z-axis are set to be perpendicular to each other, and the XY plane is parallel to the horizontal plane, and the Z-axis direction is vertical. parallel to the direction. Further, the upper side in FIG. 1 (the same applies to FIG. 6) may be referred to as "upper", the lower side as "lower", the left side as "left", and the right side as "right". Furthermore, the calibration curves shown in FIGS. 3 and 4 are schematic diagrams.

図1に示すガス検出装置1は、「JIS K0151:1983」規定の赤外線ガス分析計であり、非分散赤外線吸収法(NDIR)を用いて、サンプルガスGS0中に含まれる特定のガスである第1ガスGS1の濃度を測定することができる。
煙道ガスには、例えば、硫黄酸化物等の二酸化硫黄(SO)や、その他、窒素酸化物(NO)、一酸化炭素(CO)等の様々なガス成分が含まれている。本実施形態では、煙道ガスをサンプルガスGS0とし、二酸化硫黄ガスを第1ガスGS1とする。従って、本実施形態では、ガス検出装置1は、二酸化硫黄濃度測定装置として使用される。また、煙道ガスには、メタンガスも含まれている場合があり、このメタンガスを第2ガスGS2とする。
The gas detection device 1 shown in FIG. 1 is an infrared gas analyzer specified in "JIS K0151:1983", and uses non-dispersive infrared absorption method (NDIR) to detect specific gases contained in sample gas GS0. The concentration of one gas GS1 can be measured.
The flue gas contains, for example, sulfur dioxide ( SO2 ) such as sulfur oxides, and various other gas components such as nitrogen oxides ( NOx ) and carbon monoxide (CO). In this embodiment, the flue gas is the sample gas GS0, and the sulfur dioxide gas is the first gas GS1. Therefore, in this embodiment, the gas detection device 1 is used as a sulfur dioxide concentration measuring device. Further, the flue gas may also contain methane gas, and this methane gas is referred to as the second gas GS2.

図1に示すように、ガス検出装置1は、光源2と、セクタ3と、回転駆動部4と、第1チャンバ5と、第1ガス供給部6と、第2チャンバ7と、第2ガス供給部8と、受光量検出部9と、圧力検出部10と、操作部11と、表示部12と、制御部13とを備える。
光源2は、赤外線IFをX軸方向正側に向かって照射することができる。光源2としては、特に限定されず、例えば、ニクロム線を有し、ニクロム線を通電状態とすることにより、赤外線を照射可能な構成となっている。
As shown in FIG. 1, the gas detection device 1 includes a light source 2, a sector 3, a rotation drive section 4, a first chamber 5, a first gas supply section 6, a second chamber 7, and a second gas supply section 6. It includes a supply section 8 , a received light amount detection section 9 , a pressure detection section 10 , an operation section 11 , a display section 12 , and a control section 13 .
The light source 2 can emit infrared IF toward the positive side in the X-axis direction. The light source 2 is not particularly limited, and has, for example, a nichrome wire, and is configured to be able to emit infrared rays by energizing the nichrome wire.

光源2のX軸方向正側には、セクタ3が配置されている。セクタ3は、X軸方向正側への赤外線IFの照射(投光)と照射停止(遮光)とを切り換える切換部である。セクタ3は、円板状をなす部材で構成され、その中心から偏心した位置にスリット31を有する。スリット31は、セクタ3を厚さ方向(X軸方向)に貫通して形成されている。 A sector 3 is arranged on the positive side of the light source 2 in the X-axis direction. Sector 3 is a switching unit that switches between irradiation (projection) of infrared IF on the positive side in the X-axis direction and stop of irradiation (shielding). The sector 3 is composed of a disc-shaped member, and has a slit 31 at a position eccentric from the center. The slit 31 is formed to penetrate the sector 3 in the thickness direction (X-axis direction).

また、セクタ3には、回転駆動部4が接続されている。回転駆動部4は、例えば、モータを有する。そして、このモータが作動することにより、セクタ3をその中心軸回りに回転させることができる。これにより、スリット31が光源2に臨んだ、すなわち、対向した状態では、赤外線IFがスリット31を通過して、X軸方向正側への赤外線IFの照射が行われる。また、セクタ3が回転して、スリット31が光源2からズレた、すなわち、退避した状態では、赤外線IFが遮断されて、X軸方向正側への赤外線IFの照射が停止する。 Further, a rotation drive unit 4 is connected to the sector 3 . The rotation drive unit 4 includes, for example, a motor. By operating this motor, the sector 3 can be rotated around its central axis. As a result, when the slit 31 faces the light source 2, that is, in a state where it faces the light source 2, the infrared IF passes through the slit 31, and irradiation of the infrared IF toward the positive side in the X-axis direction is performed. Furthermore, when the sector 3 rotates and the slit 31 is displaced from the light source 2, that is, in a retracted state, the infrared IF is blocked and irradiation of the infrared IF to the positive side in the X-axis direction is stopped.

セクタ3のX軸方向正側には、第1チャンバ5が配置されている。第1チャンバ5は、チャンバ本体51と、供給ポート52と、排出ポート53とを有する。
チャンバ本体51は、光源2から照射された赤外線IFのX軸方向に沿った光路LP上に配置されている。チャンバ本体51は、例えば、中空の直方体で構成され、その内部空間(空間512)を介して互いに対向するX軸方向正側の壁部と、負側の壁部とに赤外線IFが透過する窓部511を有する。これにより、赤外線IFは、チャンバ本体51を、X軸方向負側の窓部511、空間512、X軸方向正側の窓部511の順に通過する(透過する)ことができる。なお、窓部511は、フッ化カルシウム(CaF)等で構成されるのが好ましい。
A first chamber 5 is arranged on the positive side of the sector 3 in the X-axis direction. The first chamber 5 has a chamber body 51, a supply port 52, and a discharge port 53.
The chamber body 51 is arranged on the optical path LP of the infrared ray IF emitted from the light source 2 along the X-axis direction. The chamber main body 51 is, for example, formed of a hollow rectangular parallelepiped, and has a window through which infrared IF passes through a wall on the positive side in the X-axis direction and a wall on the negative side in the X-axis direction, which face each other via an internal space (space 512). It has a section 511. Thereby, the infrared IF can pass through (transmit) the chamber main body 51 through the window 511 on the negative side in the X-axis direction, the space 512, and the window 511 on the positive side in the X-axis direction in this order. Note that the window portion 511 is preferably made of calcium fluoride (CaF 2 ) or the like.

チャンバ本体51のX軸方向側には、管状をなす供給ポート52が突出形成されている。供給ポート52は、空間512に連通している。そして、第1ガス供給部6からのサンプルガスGS0を、供給ポート52を介して、チャンバ本体51に供給することができる。
チャンバ本体51のX軸方向側には、管状をなす排出ポート53が突出形成されている。排出ポート53は、空間512に連通している。チャンバ本体51内のサンプルガスGS0は、排出ポート53を介して、排出される。これにより、サンプルガスGS0は、チャンバ本体51を、供給ポート52から排出ポート53に向かって、すなわち、X軸方向に沿って通過することができる。
A tubular supply port 52 is formed protruding from the negative side of the chamber body 51 in the X-axis direction. Supply port 52 communicates with space 512. Then, the sample gas GS0 from the first gas supply section 6 can be supplied to the chamber body 51 via the supply port 52.
A tubular discharge port 53 is formed protruding from the positive side of the chamber body 51 in the X-axis direction. The discharge port 53 communicates with the space 512. The sample gas GS0 within the chamber body 51 is exhausted via the exhaust port 53. Thereby, the sample gas GS0 can pass through the chamber body 51 from the supply port 52 toward the discharge port 53, that is, along the X-axis direction.

第1ガス供給部6は、供給源61と、連結菅62と、切換弁63とを有する。
供給源61は、例えば、サンプルガスGS0が充填されたタンクを有する。
連結菅62は、供給源61と第1チャンバ5の供給ポート52とを連結する。これにより、供給源61と第1チャンバ5とが連通する。
The first gas supply unit 6 includes a supply source 61 , a connecting pipe 62 , and a switching valve 63 .
The supply source 61 includes, for example, a tank filled with sample gas GS0.
The connecting tube 62 connects the supply source 61 and the supply port 52 of the first chamber 5 . Thereby, the supply source 61 and the first chamber 5 are communicated with each other.

連結菅62の途中には、切換弁63が設けられている。切換弁63は、連結菅62を開閉する。そして、開状態では、供給源61内のサンプルガスGS0を第1チャンバ5に供給することができる。閉状態では、第1チャンバ5へのサンプルガスGS0の供給を停止することができる。なお、切換弁63は、省略されていてもよい。 A switching valve 63 is provided in the middle of the connecting pipe 62. The switching valve 63 opens and closes the connection pipe 62. In the open state, the sample gas GS0 in the supply source 61 can be supplied to the first chamber 5. In the closed state, the supply of sample gas GS0 to the first chamber 5 can be stopped. Note that the switching valve 63 may be omitted.

第1チャンバ5のX軸方向正側には、第2チャンバ7が配置されている。第2チャンバ7の構成については、後述する。 A second chamber 7 is arranged on the positive side of the first chamber 5 in the X-axis direction. The configuration of the second chamber 7 will be described later.

第2チャンバ7のX軸方向正側には、受光量検出部9が配置されている。受光量検出部9は、例えば、光導電素子を有する。光導電素子は、第1チャンバ5のチャンバ本体51と、第2チャンバ7のチャンバ本体71とを順に通過した赤外線IFを受光することができる。そして、光導電素子では、光導電効果を利用して、赤外線IFの受光量が検出される。また、この赤外線IFの受光量は、制御部13の記憶部132に記憶される。なお、赤外線IFは、非分散なので、受光検出部9は、対象ガス成分(第1成分)の赤外線吸収波長だけに感応する。 A received light amount detection section 9 is arranged on the positive side of the second chamber 7 in the X-axis direction. The received light amount detection section 9 includes, for example, a photoconductive element. The photoconductive element can receive infrared IF that has passed through the chamber body 51 of the first chamber 5 and the chamber body 71 of the second chamber 7 in order. The photoconductive element detects the amount of infrared IF received by utilizing the photoconductive effect. Further, the amount of light received by the infrared IF is stored in the storage unit 132 of the control unit 13. Note that since the infrared IF is non-dispersive, the light reception and detection section 9 is sensitive only to the infrared absorption wavelength of the target gas component (first component).

図1に示すように、ガス検出装置1では、受光量検出部9と、制御部13と、操作部11と、表示部12とがユニット化されており、制御ユニット14を構成している。
図2に示すように、制御部13は、光源2、回転駆動部4、第1ガス供給部6、第2ガス供給部8、受光量検出部9、圧力検出部10、操作部11および表示部12と電気的に接続されており、各部の作動を制御することができる。制御部13は、CPU131と、記憶部132とを有する。CPU131は、例えば、記憶部132に予め記憶されている制御プログラムを実行することができる。また、CPU131は、受光量検出部9で検出された赤外線IFの受光量に基づいて、サンプルガスGS0中の第1ガスGS1の濃度を演算する演算部133としての機能も有する。記憶部132は、例えば、制御プログラムや、後述する検量線CC1(図3参照)、検量線CC2(図4参照)等の各種情報を記憶することができる。
As shown in FIG. 1, in the gas detection device 1, a received light amount detection section 9, a control section 13, an operation section 11, and a display section 12 are integrated into a unit, and constitute a control unit 14.
As shown in FIG. 2, the control section 13 includes a light source 2, a rotation drive section 4, a first gas supply section 6, a second gas supply section 8, a received light amount detection section 9, a pressure detection section 10, an operation section 11, and a display. It is electrically connected to the section 12 and can control the operation of each section. The control unit 13 includes a CPU 131 and a storage unit 132. For example, the CPU 131 can execute a control program stored in advance in the storage unit 132. Further, the CPU 131 also has a function as a calculation section 133 that calculates the concentration of the first gas GS1 in the sample gas GS0 based on the amount of infrared IF light received by the received light amount detection section 9. The storage unit 132 can store various information such as a control program and a calibration curve CC1 (see FIG. 3) and a calibration curve CC2 (see FIG. 4), which will be described later.

操作部11は、ガス検出装置1を操作して使用するユーザからの入力を受け付ける部分である。操作部11としては、特に限定されず、例えば、キーボードやマウス等が挙げられる。
表示部12は、例えば、第1ガスGS1の濃度を測定する際の測定条件や、その他、第1ガスGS1の濃度等を表示することができる。表示部12としては、特に限定されず、例えば、例えば、液晶、有機EL等で構成することができる。
The operation unit 11 is a part that receives input from a user who operates and uses the gas detection device 1. The operation unit 11 is not particularly limited, and examples thereof include a keyboard, a mouse, and the like.
The display unit 12 can display, for example, the measurement conditions for measuring the concentration of the first gas GS1, the concentration of the first gas GS1, and the like. The display section 12 is not particularly limited, and may be constructed of, for example, liquid crystal, organic EL, or the like.

前述したように、本実施形態では、煙道ガスをサンプルガスGS0とし、煙道ガスに含まれている二酸化硫黄ガスを第1ガスGS1とする。また、煙道ガスには、メタンガスも含まれている場合があり、このメタンガスを第2ガスGS2とする。
図5に示すように、第1ガスGS1は、赤外線IFのうち、第1波長帯の赤外線IFを吸収する特性を有する。第1ガスGS1が二酸化硫黄ガスである場合、当該第1ガスGS1は、波長が7.4μmの赤外線IFを吸収のピークとして、その前後の範囲内にある波長の赤外線IFを吸収する。
As described above, in this embodiment, the flue gas is the sample gas GS0, and the sulfur dioxide gas contained in the flue gas is the first gas GS1. Further, the flue gas may also contain methane gas, and this methane gas is referred to as the second gas GS2.
As shown in FIG. 5, the first gas GS1 has a characteristic of absorbing infrared IF in the first wavelength band among infrared IF. When the first gas GS1 is sulfur dioxide gas, the first gas GS1 has an absorption peak of infrared IF having a wavelength of 7.4 μm, and absorbs infrared IF of a wavelength within a range before and after that.

また、第2ガスGS2は、赤外線IFのうち、第1波長帯と一部重なる第2波長帯の赤外線IFを吸収する特性を有する。第2ガスGS2がメタンガスである場合、当該第2ガスGS2は、波長が7.6μmの赤外線IFを吸収のピークとして、その前後の範囲内にある波長の赤外線IFを吸収する。 Furthermore, the second gas GS2 has a characteristic of absorbing infrared IF in a second wavelength band that partially overlaps with the first wavelength band. When the second gas GS2 is methane gas, the second gas GS2 has an absorption peak at an infrared IF having a wavelength of 7.6 μm, and absorbs infrared IF having a wavelength within a range before and after that.

そして、第1波長帯と第2波長帯とが重なる重複波長帯には、第1ガスGS1が最大に吸収する赤外線IFのピーク波長と、第2ガスGS2が最大に吸収する赤外線IFのピーク波長とを含まれる。なお、各ピーク波長は、本実施形態では重複波長帯に含まれているが、これに限定されず、例えば第1ガスGS1や第2ガスGS2の種類によっては、重複波長帯から外れる場合もある。 In the overlapping wavelength band where the first wavelength band and the second wavelength band overlap, there is a peak wavelength of infrared IF that is maximally absorbed by the first gas GS1, and a peak wavelength of infrared IF that is maximally absorbed by the second gas GS2. and included. Although each peak wavelength is included in the overlapping wavelength band in this embodiment, the peak wavelength is not limited to this, and may fall outside the overlapping wavelength band depending on the type of the first gas GS1 and the second gas GS2, for example. .

受光量検出部9では、赤外線IFの吸収量の大小に応じて、赤外線IFの受光量が検出される。例えば、吸収量が大の場合には、受光量が小で検出される。反対に、吸収量が小の場合には、受光量が大で検出される。
また、演算部133では、赤外線IFの受光量に基づいて、サンプルガスGS0中の第1ガスGS1の濃度が演算される。
The amount of received light detection section 9 detects the amount of received light of the infrared IF depending on the amount of absorption of the infrared IF. For example, when the amount of absorption is large, the amount of received light is detected as small. Conversely, when the amount of absorption is small, the amount of received light is detected as large.
Furthermore, the calculation unit 133 calculates the concentration of the first gas GS1 in the sample gas GS0 based on the amount of light received by the infrared IF.

そして、サンプルガスGS0中に第2ガスGS2が混在している場合、第1チャンバ5内では、赤外線IFは、重複波長帯が第1ガスGS1の他に、第2ガスGS2にも吸収されることとなる。従って、受光量検出部9での受光量は、第2ガスGS2で吸収された分も影響を受けて検出される。その結果、受光量に基づいて演算される第1ガスGS1の濃度(実測値)は、第2ガスGS2も含まれた濃度となり、その分の誤差が生じて不正確となる。
また、ガス検出装置1を前述した2系統構造とした場合、その分、ガス検出装置1の装置構成が複雑となる。
When the second gas GS2 is mixed in the sample gas GS0, in the first chamber 5, the overlapping wavelength band of the infrared IF is absorbed not only by the first gas GS1 but also by the second gas GS2. That will happen. Therefore, the amount of light received by the received light amount detection section 9 is also affected by the amount absorbed by the second gas GS2. As a result, the concentration (actually measured value) of the first gas GS1 calculated based on the amount of received light includes the concentration of the second gas GS2, which causes an error corresponding to the concentration and becomes inaccurate.
Further, when the gas detection device 1 has the above-mentioned two-system structure, the device configuration of the gas detection device 1 becomes complicated accordingly.

そこで、ガス検出装置1は、このような不具合を解消可能に構成されている。以下、この構成および作用について説明する。なお、以下では、第2チャンバ7、第2ガス供給部8および圧力検出部10で構成された部分を「補正ユニット15」と言うことがある。
第1チャンバ5と受光量検出部9との間には、第2チャンバ7が配置されている。第2チャンバ7は、チャンバ本体71と、供給ポート72とを有する。なお、第2チャンバ7は、予め第2ガスGS2が充填された密閉状態でもよい。
チャンバ本体71は、光路LP上の第1チャンバ5のチャンバ本体51よりも下流側、すなわち、X軸方向正側に配置されている。チャンバ本体71は、例えば、中空の直方体で構成されている。
Therefore, the gas detection device 1 is configured to be able to eliminate such problems. This configuration and operation will be explained below. In addition, below, the part comprised by the 2nd chamber 7, the 2nd gas supply part 8, and the pressure detection part 10 may be called the "correction unit 15."
A second chamber 7 is arranged between the first chamber 5 and the received light amount detection section 9. The second chamber 7 has a chamber body 71 and a supply port 72. Note that the second chamber 7 may be in a sealed state filled with the second gas GS2 in advance.
The chamber body 71 is disposed on the optical path LP on the downstream side of the chamber body 51 of the first chamber 5, that is, on the positive side in the X-axis direction. The chamber body 71 is, for example, formed of a hollow rectangular parallelepiped.

また、第2チャンバ7は、チャンバ本体71(第2チャンバ7)内を上下に2つの空間に仕切る仕切り部74と、2つの空間を連通させる連通部75とを有する。以下、2つの空間のうちの一方(下側)の空間を「第1空間712」と言い、他方(上側)の空間を「第2空間713」と言う。仕切り部74は、板状をなし、連通部75は、仕切り部74を厚さ方向(Z軸方向)に貫通する貫通孔で構成されている。 The second chamber 7 also includes a partition portion 74 that vertically partitions the inside of the chamber body 71 (second chamber 7) into two spaces, and a communication portion 75 that communicates the two spaces. Hereinafter, one (lower) of the two spaces will be referred to as the "first space 712," and the other (upper) space will be referred to as the "second space 713." The partition portion 74 has a plate shape, and the communication portion 75 is formed of a through hole that penetrates the partition portion 74 in the thickness direction (Z-axis direction).

チャンバ本体71は、第1空間712を介して互いに対向するX軸方向正側の壁部と、負側の壁部とに赤外線IFが透過する窓部711を有する。これにより、赤外線IFは、チャンバ本体71を、X軸方向負側の窓部711、第1空間712、X軸方向正側の窓部711の順に通過することができる。なお、窓部711は、窓部511と同様に、フッ化カルシウム等で構成されるのが好ましい。 The chamber main body 71 has a window 711 through which infrared IF passes through a wall on the positive side in the X-axis direction and a wall on the negative side that face each other with a first space 712 interposed therebetween. Thereby, the infrared IF can pass through the chamber body 71 in this order: the window 711 on the negative side in the X-axis direction, the first space 712, and the window 711 on the positive side in the X-axis direction. Note that, like the window portion 511, the window portion 711 is preferably made of calcium fluoride or the like.

なお、第1空間712のY軸方向に沿った横断面形状と、第1チャンバ5における空間512のY軸方向に沿った横断面形状とは、同じであるのが好ましく、第1空間712の横断面積S712と、空間512の横断面積S512とは、同じであるのが好ましい。これにより、赤外線IFを受光量検出部9まで十分に到達させることができる。 Note that the cross-sectional shape of the first space 712 along the Y-axis direction and the cross-sectional shape of the space 512 in the first chamber 5 along the Y-axis direction are preferably the same. It is preferable that cross-sectional area S712 and cross-sectional area S512 of space 512 be the same. Thereby, the infrared IF can sufficiently reach the received light amount detection section 9.

また、第2空間713は、第1空間712よりも容積が小さく、圧力検出部10が配置されている。圧力検出部10が第2空間713に配置されていることにより、赤外線IFが第1空間712を通過する際、圧力検出部10が赤外線IFを妨げるのを防止することができる。これにより、受光量検出部9で赤外線IFを十分に受光することができる。 Further, the second space 713 has a smaller volume than the first space 712, and the pressure detection unit 10 is disposed therein. By arranging the pressure detection unit 10 in the second space 713, when the infrared IF passes through the first space 712, the pressure detection unit 10 can be prevented from interfering with the infrared IF. Thereby, the received light amount detecting section 9 can sufficiently receive the infrared IF.

チャンバ本体71のX軸方向側には、管状をなす供給ポート72が突出形成されている。供給ポート72は、第2空間713に連通している。そして、第2ガス供給部8からの第2ガスGS2を、供給ポート72を介して、チャンバ本体71内に供給することができる。これにより、第2ガスGS2をチャンバ本体71内、すなわち、第1空間712および第2空間713に充填することができる。
A tubular supply port 72 is formed protruding from the negative side of the chamber body 71 in the X-axis direction. The supply port 72 communicates with the second space 713. Then, the second gas GS2 from the second gas supply section 8 can be supplied into the chamber body 71 via the supply port 72. Thereby, the chamber main body 71, that is, the first space 712 and the second space 713 can be filled with the second gas GS2.

第2ガス供給部8は、供給源81と、連結菅82と、切換弁83とを有する。
供給源81は、例えば、第2ガスGS2が充填されたタンクを有する。
連結菅82は、供給源81と第2チャンバ7の供給ポート72とを連結する。これにより、供給源81と第2チャンバ7とが連通する。
The second gas supply section 8 includes a supply source 81 , a connecting tube 82 , and a switching valve 83 .
The supply source 81 includes, for example, a tank filled with the second gas GS2.
The connecting pipe 82 connects the supply source 81 and the supply port 72 of the second chamber 7 . Thereby, the supply source 81 and the second chamber 7 are communicated with each other.

連結菅82の途中には、切換弁83が設けられている。切換弁83は、連結菅82を開閉する。そして、開状態では、供給源81内の第2ガスGS2を第2チャンバ7に供給することができる。閉状態では、第2チャンバ7への第2ガスGS2の供給を停止することができる。
なお、ガス検出装置1は、本実施形態では第2ガス供給部8を有する構成となっているが、これに限定されず、例えば、第2ガス供給部8(供給ポート72)が省略された構成となっていてもよい。この場合、第2チャンバ7は、密閉されており、第2ガスGS2が予め充填された状態となっている。
A switching valve 83 is provided in the middle of the connecting pipe 82. The switching valve 83 opens and closes the connecting pipe 82 . In the open state, the second gas GS2 in the supply source 81 can be supplied to the second chamber 7. In the closed state, the supply of the second gas GS2 to the second chamber 7 can be stopped.
Although the gas detection device 1 is configured to include the second gas supply section 8 in this embodiment, it is not limited to this, and for example, the second gas supply section 8 (supply port 72) may be omitted. It may be configured as follows. In this case, the second chamber 7 is sealed and filled with the second gas GS2 in advance.

第2チャンバ7の第2空間713には、圧力検出部10が配置されている。圧力検出部10は、第2チャンバ7内に存在する気体の圧力(以下単に「圧力」または「第2チャンバ7内の圧力」と言う)を検出する。この圧力は、実際には、圧力変化の実効値である。
図2に示すように、圧力検出部10は、圧力の変化を電気的に検出する圧電変換部101を有する。圧電変換部101としては、特に限定されず、例えば、コンデンサマイクロホンやフローセンサ(例えばくし形熱線マイクロセンサ)等のセンサが挙げられる。
The pressure detection unit 10 is arranged in the second space 713 of the second chamber 7 . The pressure detection unit 10 detects the pressure of the gas present in the second chamber 7 (hereinafter simply referred to as "pressure" or "pressure in the second chamber 7"). This pressure is actually the effective value of the pressure change.
As shown in FIG. 2, the pressure detection section 10 includes a piezoelectric conversion section 101 that electrically detects changes in pressure. The piezoelectric conversion unit 101 is not particularly limited, and examples thereof include sensors such as a capacitor microphone and a flow sensor (for example, a comb-shaped hot wire microsensor).

光源2から赤外線IFが照射されて、第2チャンバ7を通過した際、第2チャンバ7内では、メタンガスである第2ガスGS2が第2波長帯の赤外線IFが吸収する。これにより、第2チャンバ7内の温度が上昇し、それに伴って、圧力も上昇する、すなわち、圧力が変化することとなる。圧力検出部10は、圧電変換部101によって圧力の変化分を検出して、赤外線照射時における第2チャンバ7内の圧力を正確に検出することができる。 When infrared IF is emitted from the light source 2 and passes through the second chamber 7, the second gas GS2, which is methane gas, absorbs the infrared IF in the second wavelength band. As a result, the temperature inside the second chamber 7 rises, and the pressure also rises accordingly, that is, the pressure changes. The pressure detection unit 10 can detect a change in pressure using the piezoelectric conversion unit 101 and accurately detect the pressure inside the second chamber 7 during infrared irradiation.

なお、第1チャンバ5の空間512内のX軸方向に沿った長さLX512は、例えば、200mm程度が好ましい。また、第2チャンバ7の第1空間712内のX軸方向(光路LP)に沿った長さLX712は、5mm以上50mm以下であるのが好ましい。
また、第2チャンバ7内の第2ガスGS2の濃度は、20g/Nm以上700g/Nm以下であるのが好ましく、40g/Nm以上300g/Nm以下であるのがより好ましい。
Note that the length LX512 along the X-axis direction within the space 512 of the first chamber 5 is preferably about 200 mm, for example. Moreover, it is preferable that the length LX712 along the X-axis direction (optical path LP) in the first space 712 of the second chamber 7 is 5 mm or more and 50 mm or less.
Further, the concentration of the second gas GS2 in the second chamber 7 is preferably 20 g/Nm 3 or more and 700 g/Nm 3 or less, more preferably 40 g/Nm 3 or more and 300 g/Nm 3 or less.

このような数値範囲により、赤外線IFが第2チャンバ7を通過した際、第2チャンバ7内の第2ガスGS2が第2波長帯の赤外線IFが過不足なく吸収することができる。これにより、第2チャンバ7内の圧力をより正確に検出可能な程度に、第2チャンバ7内の圧力変化を生じさせることができる。 With such a numerical range, when the infrared IF passes through the second chamber 7, the second gas GS2 in the second chamber 7 can absorb just the right amount of infrared IF in the second wavelength band. Thereby, the pressure inside the second chamber 7 can be changed to such an extent that the pressure inside the second chamber 7 can be detected more accurately.

記憶部132には、図3に示す検量線CC1と、図4に示す検量線CC2とが予め記憶されている。
検量線CC1は、第2チャンバ7内の圧力(圧力変動の実効値)と、サンプルガスGS0に含まれる、すなわち、第1チャンバ5内の第2ガスGS2の濃度との関係を示すグラフである。前述したように、検量線CC1は、あくまでも模式図である。なお、傾向として、第2チャンバ7内の圧力は、ベースは一定ある(通常は大気圧)。また、赤外線IF(赤外光)の断続照射にあわせて、同じ周波数で微変動する。第1チャンバ5内の第2ガスGS2の濃度が大きくなると、その圧力の微変動の振幅(実効値)が小さくなる。
検量線CC2は、サンプルガスGS0に含まれる第2ガスGS2の濃度と、第1ガスGS1の濃度(実測値)に対する補正値との関係を示すグラフである。
The storage unit 132 stores in advance a calibration curve CC1 shown in FIG. 3 and a calibration curve CC2 shown in FIG. 4.
The calibration curve CC1 is a graph showing the relationship between the pressure in the second chamber 7 (effective value of pressure fluctuation) and the concentration of the second gas GS2 contained in the sample gas GS0, that is, in the first chamber 5. . As mentioned above, the calibration curve CC1 is just a schematic diagram. Note that the pressure within the second chamber 7 tends to be constant at the base (usually atmospheric pressure). Further, in accordance with the intermittent irradiation of infrared IF (infrared light), the same frequency slightly fluctuates. As the concentration of the second gas GS2 in the first chamber 5 increases, the amplitude (effective value) of the slight fluctuation in pressure decreases.
The calibration curve CC2 is a graph showing the relationship between the concentration of the second gas GS2 contained in the sample gas GS0 and the correction value for the concentration (actually measured value) of the first gas GS1.

なお、検量線CC1および検量線CC2は、例えば、実験的にまたはシミュレーションによって予め求められている。
また、検量線CC1および検量線CC2としては、本実施形態ではグラフとなっているが、これに限定されず、例えば、表や数式等であってもよい。
Note that the calibration curve CC1 and the calibration curve CC2 are determined in advance, for example, experimentally or by simulation.
Further, although the calibration curve CC1 and the calibration curve CC2 are graphs in this embodiment, they are not limited to this, and may be, for example, a table or a mathematical formula.

演算部133は、受光量検出部9で検出された赤外線IFの受光量に基づいて、サンプルガスGS0中の第1ガスGS1の濃度を演算する。
前述したように、サンプルガスGS0(煙道ガス)に第2ガスGS2(メタンガス)が混在している場合、受光量に基づいた第1ガスGS1の濃度の実測値には、誤差が生じるおそれがある。演算部133は、この誤差を解消して、正確な濃度に補正することができる。
The calculation unit 133 calculates the concentration of the first gas GS1 in the sample gas GS0 based on the amount of infrared IF received by the received light amount detection unit 9.
As mentioned above, if the second gas GS2 (methane gas) is mixed in the sample gas GS0 (flue gas), there is a risk that an error will occur in the actual measured value of the concentration of the first gas GS1 based on the amount of light received. be. The calculation unit 133 can eliminate this error and correct the density to an accurate density.

具体的には、演算部133は、圧力に基づいて、第1ガスGS1の濃度を補正する。特に、本実施形態では、演算部133は、検量線CC1および検量線CC2に基づいて、第1ガスGS1の濃度を補正する。
ガス検出装置1では、まず、受光量検出部9での受光量に基づいて、一旦、第1ガスGS1の濃度を演算する。これにより、第1ガスGS1の濃度の実測値が得られる。
Specifically, the calculation unit 133 corrects the concentration of the first gas GS1 based on the pressure. In particular, in this embodiment, the calculation unit 133 corrects the concentration of the first gas GS1 based on the calibration curve CC1 and the calibration curve CC2.
In the gas detection device 1, first, the concentration of the first gas GS1 is calculated based on the amount of light received by the amount of received light detection section 9. Thereby, an actual measured value of the concentration of the first gas GS1 is obtained.

また、このとき、圧力検出部10によって、第2チャンバ7内の圧力が検出される。演算部133は、検量線CC1を用いて、圧力検出部10で検出された圧力に対応する第2ガスGS2の濃度を求める。例えば、図3に示すように、圧力検出部10で検出された圧力が「圧力P」だった場合、検量線CC1により、第2ガスGS2の濃度は、「濃度Q」として求められる。 Moreover, at this time, the pressure inside the second chamber 7 is detected by the pressure detection section 10. The calculation unit 133 uses the calibration curve CC1 to determine the concentration of the second gas GS2 corresponding to the pressure detected by the pressure detection unit 10. For example, as shown in FIG. 3, when the pressure detected by the pressure detection unit 10 is "pressure P", the concentration of the second gas GS2 is determined as "concentration Q" using the calibration curve CC1.

次いで、演算部133は、検量線CC2を用いて、前記で求められた第2ガスGS2の濃度に対応する第1ガスGS1の濃度の補正値を求める。例えば、図4に示すように、第2ガスGS2の濃度が「濃度Q」だった場合、検量線CC2により、補正値は、「補正値R」として求められる。 Next, the calculation unit 133 uses the calibration curve CC2 to determine a correction value for the concentration of the first gas GS1 corresponding to the concentration of the second gas GS2 determined above. For example, as shown in FIG. 4, when the concentration of the second gas GS2 is "concentration Q", the correction value is determined as "correction value R" using the calibration curve CC2.

次いで、演算部133は、第1ガスGS1の濃度の実測値に補正値Rを反映させた、すなわち、加味した値を演算する。これにより、第1ガスGS1の濃度は、正確な値に補正される。そして、この補正後の第1ガスGS1の濃度は、表示部12に表示される。これにより、正確な第1ガスGS1の濃度を確認することができる。 Next, the calculation unit 133 calculates a value that reflects, or takes into account, the correction value R on the actually measured value of the concentration of the first gas GS1. Thereby, the concentration of the first gas GS1 is corrected to an accurate value. The concentration of the first gas GS1 after this correction is displayed on the display section 12. Thereby, the accurate concentration of the first gas GS1 can be confirmed.

例えば、サンプルガスGS0中に、濃度が26mg/Nmの二酸化硫黄ガス(第1ガスGS1)が含まれおり、さらに、濃度が300mg/Nmのメタンガス(第2ガスGS2)が混在している場合の実験例について述べる。なお、サンプルガスGS0中の二酸化硫黄ガスの濃度、メタンガスの濃度は、いずれも既知とする。 For example, sample gas GS0 contains sulfur dioxide gas (first gas GS1) with a concentration of 26 mg/Nm 3 and methane gas (second gas GS2) with a concentration of 300 mg/Nm 3 . An example of an experiment in this case will be described. Note that the concentration of sulfur dioxide gas and the concentration of methane gas in the sample gas GS0 are both known.

ガス検出装置1を用いた場合には、二酸化硫黄ガスの濃度は、26mg/Nmで検出された。この検出結果は、既知の値と同じである。
一方、ガス検出装置1から補正ユニット15を省略した場合には、二酸化硫黄ガスの濃度は、66mg/Nmで検出された。この検出結果は、既知の値から著しく外れている。
When gas detection device 1 was used, the concentration of sulfur dioxide gas was detected at 26 mg/Nm 3 . This detection result is the same as the known value.
On the other hand, when the correction unit 15 was omitted from the gas detection device 1, the concentration of sulfur dioxide gas was detected at 66 mg/Nm 3 . This detection result deviates significantly from known values.

以上のように、ガス検出装置1は、補正ユニット15により、サンプルガスGS0中の第2ガスGS2の濃度の大小に関わらず、当該サンプルガスGS0中の第1ガスGS1の濃度を正確に検出することができる。また、ガス検出装置1は、2系統構造になってはおらず、簡単な構成の装置となっている。 As described above, the gas detection device 1 uses the correction unit 15 to accurately detect the concentration of the first gas GS1 in the sample gas GS0, regardless of the magnitude of the concentration of the second gas GS2 in the sample gas GS0. be able to. Further, the gas detection device 1 does not have a two-system structure, but has a simple configuration.

<第2実施形態>
以下、図6~図8を参照して本発明のガス検出装置の第2実施形態について説明するが、前述した実施形態との相違点を中心に説明し、同様の事項はその説明を省略する。
本実施形態は、補正ユニットの構成が異なること以外は前記第1実施形態と同様である。
<Second embodiment>
The second embodiment of the gas detection device of the present invention will be described below with reference to FIGS. 6 to 8, but the explanation will focus on the differences from the above-described embodiment, and the explanation of similar matters will be omitted. .
This embodiment is similar to the first embodiment except that the configuration of the correction unit is different.

図6に示すように、本実施形態では、第2チャンバ7は、チャンバ本体71および供給ポート72の他に、さらに、排出ポート73を有する。
排出ポート73は、管状をなし、チャンバ本体71のX軸方向負側に突出形成されている。排出ポート73は、第2空間713に連通している。
As shown in FIG. 6, in this embodiment, the second chamber 7 further includes a discharge port 73 in addition to a chamber body 71 and a supply port 72.
The discharge port 73 has a tubular shape and is formed to protrude toward the negative side of the chamber body 71 in the X-axis direction. The discharge port 73 communicates with the second space 713.

また、補正ユニット15(ガス検出装置1)は、第2チャンバ7内の第2ガスGS2の濃度を調整する調整部16を備える。調整部16は、連結菅161と、切換弁162とを有する。
連結菅161は、排出ポート73に連結されている。これにより、排出ポート73を介して、連結菅161とチャンバ本体71とが連通する。
Further, the correction unit 15 (gas detection device 1) includes an adjustment section 16 that adjusts the concentration of the second gas GS2 in the second chamber 7. The adjustment section 16 includes a connection pipe 161 and a switching valve 162.
The connecting tube 161 is connected to the discharge port 73. Thereby, the connecting tube 161 and the chamber body 71 communicate with each other via the discharge port 73.

連結菅161の途中には、切換弁162が設けられている。切換弁162は、連結菅161を開閉する。そして、切換弁162の開度を調整することにより、チャンバ本体71内の第2ガスGS2を連結菅161から排出して、チャンバ本体71内を大気開放することができる。これにより、第2ガスGS2の濃度を段階的に(例えば3段階に)調整することができる。 A switching valve 162 is provided in the middle of the connecting pipe 161. The switching valve 162 opens and closes the connection pipe 161. Then, by adjusting the opening degree of the switching valve 162, the second gas GS2 in the chamber body 71 can be discharged from the connection tube 161, and the inside of the chamber body 71 can be opened to the atmosphere. Thereby, the concentration of the second gas GS2 can be adjusted in stages (for example, in three stages).

また、記憶部132には、図7に示す検量線CC1-1、検量線CC1-2および検量線CC1-3と、図8に示す検量線CC2-1、検量線CC2-2および検量線CC2-3とが予め記憶されている。
検量線CC1-1~検量線CC1-3は、第2チャンバ7内の圧力と、サンプルガスGS0に含まれる、すなわち、第1チャンバ5内の第2ガスGS2の濃度との関係を示すグラフであり、第2ガスGS2の濃度の大小に応じて使い分けられる。
The storage unit 132 also stores calibration curve CC1-1, calibration curve CC1-2, and calibration curve CC1-3 shown in FIG. 7, and calibration curve CC2-1, calibration curve CC2-2, and calibration curve CC2 shown in FIG. -3 is stored in advance.
The calibration curve CC1-1 to the calibration curve CC1-3 are graphs showing the relationship between the pressure in the second chamber 7 and the concentration of the second gas GS2 contained in the sample gas GS0, that is, the second gas GS2 in the first chamber 5. Yes, and can be used depending on the concentration of the second gas GS2.

検量線CC2-1~検量線CC2-3は、サンプルガスGS0に含まれる第2ガスGS2の濃度と、第1ガスGS1の濃度(実測値)に対する補正値との関係を示すグラフであり、検量線CC1-1~検量線CC1-3と同様に、第2ガスGS2の濃度の大小に応じて使い分けられる。
The calibration curve CC2-1 to the calibration curve CC2-3 are graphs showing the relationship between the concentration of the second gas GS2 contained in the sample gas GS0 and the correction value for the concentration (actually measured value) of the first gas GS1. Similar to the curve CC1-1 to the calibration curve CC1-3 , they can be used depending on the concentration of the second gas GS2.

第1ガスGS1の濃度を検出する際、例えば、検量線CC1-1を用いた場合には、検量線CC2-1が用いられる。また、検量線CC1-2を用いた場合には、検量線CC2-2が用いられる。また、検量線CC1-3を用いた場合には、検量線CC2-3が用いられる。
このように、ガス検出装置1では、第2ガスGS2の濃度の大小に応じて、検量線CC1-1~検量線CC1-3のうちの1つ選択するとともに、検量線CC2-1~検量線CC2-3のうちの1つを選択して用いることができる。これにより、第1ガスGS1の濃度をより正確に検出することができる。
When detecting the concentration of the first gas GS1, for example, when the calibration curve CC1-1 is used, the calibration curve CC2-1 is used. Furthermore, when the calibration curve CC1-2 is used, the calibration curve CC2-2 is used. Furthermore, when the calibration curve CC1-3 is used, the calibration curve CC2-3 is used.
In this manner, the gas detection device 1 selects one of the calibration curves CC1-1 to CC1-3 depending on the concentration of the second gas GS2, and also selects one of the calibration curves CC2-1 to CC1-3 . One of CC2-3 can be selected and used. Thereby, the concentration of the first gas GS1 can be detected more accurately.

以上、本発明のガス検出装置を図示の実施形態について説明したが、本発明は、これに限定されるものではなく、ガス検出装置を構成する各部は、同様の機能を発揮し得る任意の構成のものと置換することができる。また、任意の構成物が付加されていてもよい。
また、本発明のガス検出装置は、前記各実施形態のうちの、任意の2以上の構成(特徴)を組み合わせたものであってもよい。
Although the gas detection device of the present invention has been described above with reference to the illustrated embodiment, the present invention is not limited to this, and each part constituting the gas detection device can be configured in any arbitrary configuration that can perform the same function. It can be replaced with that of . Moreover, arbitrary components may be added.
Further, the gas detection device of the present invention may be a combination of any two or more configurations (features) of the above embodiments.

また、前記各実施形態では、第1ガスGS1として、二酸化硫黄ガスを挙げ、第2ガスGS2として、メタンガスを挙げているが、これに限定されない。例えば、窒素酸化物や一酸化炭素を第1ガスGS1とし、二酸化炭素を第2ガスGS2としてもよい。
また、第1チャンバ5は、サンプルガスGS0をポンプで吸引して、チャンバ本体51に連続的にサンプルガスを流通させるよう構成されていてもよい。
Further, in each of the embodiments, sulfur dioxide gas is used as the first gas GS1, and methane gas is used as the second gas GS2, but the present invention is not limited thereto. For example, nitrogen oxide or carbon monoxide may be used as the first gas GS1, and carbon dioxide may be used as the second gas GS2.
Further, the first chamber 5 may be configured to suck the sample gas GS0 with a pump and continuously circulate the sample gas through the chamber body 51.

また、第1チャンバ5と第2チャンバ7との位置関係は、前記実施形態では第1チャンバ5が上流側、第2チャンバ7が下流側に配置された関係となっているが、これに限定されず、例えば、第2チャンバ7が上流側、第1チャンバ5が下流側に配置された関係となっていてもよい。 Further, the positional relationship between the first chamber 5 and the second chamber 7 is such that the first chamber 5 is placed on the upstream side and the second chamber 7 is placed on the downstream side in the above embodiment, but it is not limited to this. For example, the second chamber 7 may be placed on the upstream side and the first chamber 5 may be placed on the downstream side.

[態様]
上述した複数の例示的な実施形態は、以下の態様の具体例であることが当業者により理解される。
[Mode]
It will be appreciated by those skilled in the art that the exemplary embodiments described above are specific examples of the following aspects.

(第1項)一態様に係るガス検出装置は、
赤外線を照射する光源と、
前記光源から照射された赤外線の光路上に配置され、赤外線が通過するとともに、赤外線のうち、第1波長帯の赤外線を吸収する第1ガスを含むサンプルガスが通過する第1チャンバと、
前記光路上に配置され、赤外線が通過するとともに、赤外線のうち、前記第1波長帯と一部重なる第2波長帯の赤外線を吸収する第2ガスが充填された第2チャンバと、
前記第1チャンバおよび前記第2チャンバを順に通過した赤外線を受光し、その受光量を検出する受光量検出部と、
前記第2チャンバ内に存在する気体の圧力を検出する圧力検出部と、
前記受光量に基づいて、前記サンプルガス中の前記第1ガスの濃度を演算する演算部とを備え、
前記演算部は、前記圧力に基づいて、前記第1ガスの濃度を補正する。
(Section 1) The gas detection device according to one embodiment includes:
a light source that emits infrared rays;
a first chamber disposed on the optical path of the infrared rays emitted from the light source, through which the infrared rays pass and a sample gas containing a first gas that absorbs the infrared rays in a first wavelength band of the infrared rays;
a second chamber disposed on the optical path and filled with a second gas through which infrared rays pass and which absorbs infrared rays in a second wavelength band that partially overlaps with the first wavelength band;
a received light amount detection unit that receives infrared rays that have passed through the first chamber and the second chamber in order, and detects the amount of the received light;
a pressure detection unit that detects the pressure of gas existing in the second chamber;
a calculation unit that calculates the concentration of the first gas in the sample gas based on the amount of received light;
The calculation unit corrects the concentration of the first gas based on the pressure.

第1項に記載のガス検出装置によれば、サンプルガス中の第2ガスの濃度の大小に関わらず、当該サンプルガス中の第1ガスの濃度を正確に検出することができる。また、ガス検出装置は、前述したような2系統構造になってはおらず、簡単な構成の装置となっている。 According to the gas detection device described in item 1, the concentration of the first gas in the sample gas can be accurately detected regardless of the magnitude of the concentration of the second gas in the sample gas. Further, the gas detection device does not have a two-system structure as described above, but has a simple configuration.

(第2項)第1項に記載のガス検出装置において、
前記圧力と、前記サンプルガスに含まれる前記第2ガスの濃度との関係を示す検量線を記憶する記憶部を備え、
前記演算部は、前記検量線に基づいて、前記第1ガスの濃度を補正する。
(Section 2) In the gas detection device according to Section 1,
comprising a storage unit that stores a calibration curve indicating the relationship between the pressure and the concentration of the second gas contained in the sample gas;
The calculation unit corrects the concentration of the first gas based on the calibration curve.

第2項に記載のガス検出装置によれば、検量線を用いるという簡単な構成で、第1ガスの濃度を正確に検出することができる。 According to the gas detection device described in item 2, the concentration of the first gas can be accurately detected with a simple configuration that uses a calibration curve.

(第3項)第1項または第2項に記載のガス検出装置において、
前記第2チャンバは、該第2チャンバ内を2つの空間に仕切る仕切り部と、前記2つの空間を連通させる連通部とを有し、
前記2つの空間のうちの一方の空間を赤外線が通過し、他方の空間に前記圧力検出部が配置される。
(Section 3) In the gas detection device according to Item 1 or 2,
The second chamber has a partition portion that partitions the inside of the second chamber into two spaces, and a communication portion that communicates the two spaces,
Infrared rays pass through one of the two spaces, and the pressure detection section is arranged in the other space.

第3項に記載のガス検出装置によれば、赤外線が一方の空間を通過する際、圧力検出部が赤外線を妨げるのを防止することができ、よって、受光量検出部で赤外線を十分に受光することができる。 According to the gas detection device described in item 3, when the infrared rays pass through one of the spaces, it is possible to prevent the pressure detection section from interfering with the infrared rays, so that the received light amount detection section sufficiently receives the infrared rays. can do.

(第4項)第1項~第3項のいずれか1項に記載のガス検出装置において、
前記第2チャンバ内の前記光路に沿った長さは、5mm以上50mm以下である。
(Section 4) In the gas detection device according to any one of Items 1 to 3,
The length along the optical path within the second chamber is 5 mm or more and 50 mm or less.

第4項に記載のガス検出装置によれば、赤外線が第2チャンバを通過した際、第2チャンバ内の第2ガスが第2波長帯の赤外線が過不足なく吸収することができる。これにより、第2チャンバ内の圧力をより正確に検出可能な程度に、第2チャンバ内の圧力変化を生じさせることができる。 According to the gas detection device described in item 4, when infrared rays pass through the second chamber, the second gas in the second chamber can absorb just the right amount of infrared rays in the second wavelength band. Thereby, the pressure inside the second chamber can be changed to such an extent that the pressure inside the second chamber can be detected more accurately.

(第5項)第1項~第4項のいずれか1項に記載のガス検出装置において、
前記第2チャンバ内の前記第2ガスの濃度は、20g/Nm以上700g/Nm以下である。
(Section 5) In the gas detection device according to any one of Items 1 to 4,
The concentration of the second gas in the second chamber is 20 g/Nm 3 or more and 700 g/Nm 3 or less.

第5項に記載のガス検出装置によれば、赤外線が第2チャンバを通過した際、第2チャンバ内の第2ガスが第2波長帯の赤外線が過不足なく吸収することができる。これにより、第2チャンバ内の圧力をより正確に検出可能な程度に、第2チャンバ内の圧力変化を生じさせることができる。 According to the gas detection device described in item 5, when infrared rays pass through the second chamber, the second gas in the second chamber can absorb just the right amount of infrared rays in the second wavelength band. Thereby, the pressure inside the second chamber can be changed to such an extent that the pressure inside the second chamber can be detected more accurately.

(第6項)第1項~第5項のいずれか1項に記載のガス検出装置において、
前記圧力検出部は、前記圧力の変化を電気的に検出する圧電変換部を有する。
(Section 6) In the gas detection device according to any one of Items 1 to 5,
The pressure detection section includes a piezoelectric conversion section that electrically detects changes in the pressure.

第6項に記載のガス検出装置によれば、圧電変換部を用いるという簡単な構成で、圧力を正確に検出することができる。 According to the gas detection device described in item 6, pressure can be accurately detected with a simple configuration that uses a piezoelectric conversion section.

(第7項)第1項~第6項のいずれか1項に記載のガス検出装置において、
前記第2チャンバ内の前記第2ガスの濃度を調整する調整部を備える。
(Section 7) In the gas detection device according to any one of Items 1 to 6,
An adjustment unit is provided that adjusts the concentration of the second gas in the second chamber.

第7項に記載のガス検出装置によれば、例えば、第2ガスの濃度の大小に応じて、検量線を使い分けることができる。 According to the gas detection device described in item 7, it is possible to use different calibration curves depending on the concentration of the second gas, for example.

(第8項)第1項~第7項のいずれか1項に記載のガス検出装置において、
前記第1ガスは、二酸化硫黄ガスであり、前記第2ガスは、メタンガスである。
(Section 8) In the gas detection device according to any one of Items 1 to 7,
The first gas is sulfur dioxide gas, and the second gas is methane gas.

第8項に記載のガス検出装置によれば、当該ガス検出装置を、二酸化硫黄ガスの濃度を測定する二酸化硫黄濃度測定装置として使用することができる。 According to the gas detection device described in item 8, the gas detection device can be used as a sulfur dioxide concentration measuring device that measures the concentration of sulfur dioxide gas.

1 ガス検出装置
2 光源
3 セクタ
31 スリット
4 回転駆動部
5 第1チャンバ
51 チャンバ本体
511 窓部
512 空間
52 供給ポート
53 排出ポート
6 第1ガス供給部
61 供給源
62 連結菅
63 切換弁
7 第2チャンバ
71 チャンバ本体
711 窓部
712 第1空間
713 第2空間
72 供給ポート
73 排出ポート
74 仕切り部
75 連通部
8 第2ガス供給部
81 供給源
82 連結菅
83 切換弁
9 受光量検出部
10 圧力検出部
101 圧電変換部
11 操作部
12 表示部
13 制御部
131 CPU
132 記憶部
133 演算部
14 制御ユニット
15 補正ユニット
16 調整部
161 連結菅
162 切換弁
CC1 検量線
CC1-1 検量線
CC1-2 検量線
CC1-3 検量線
CC2 検量線
CC2-1 検量線
CC2-2 検量線
CC2-3 検量線
GS0 サンプルガス
GS1 第1ガス
GS2 第2ガス
IF 赤外線
LP 光路
LX512 長さ
LX712 長さ
P 圧力
Q 濃度
R 補正値
S512 横断面積
S712 横断面積

1 Gas detection device 2 Light source 3 Sector 31 Slit 4 Rotation drive section 5 First chamber 51 Chamber body 511 Window section 512 Space 52 Supply port 53 Discharge port 6 First gas supply section 61 Supply source 62 Connection pipe 63 Switching valve 7 Second Chamber 71 Chamber body 711 Window section 712 First space 713 Second space 72 Supply port 73 Discharge port 74 Partition section 75 Communication section 8 Second gas supply section 81 Supply source 82 Connection tube 83 Switching valve 9 Received light amount detection section 10 Pressure detection Section 101 Piezoelectric conversion section 11 Operation section 12 Display section 13 Control section 131 CPU
132 Storage section 133 Calculation section 14 Control unit 15 Correction unit 16 Adjustment section 161 Connection tube 162 Switching valve CC1 Calibration curve CC1-1 Calibration curve CC1-2 Calibration curve CC1-3 Calibration curve CC2 Calibration curve CC2-1 Calibration curve CC2-2 Calibration curve CC2-3 Calibration curve GS0 Sample gas GS1 1st gas GS2 2nd gas IF Infrared LP Optical path LX512 Length LX712 Length P Pressure Q Concentration R Correction value S512 Cross-sectional area S712 Cross-sectional area

Claims (8)

赤外線を照射する光源と、
前記光源から照射された赤外線の光路上に配置され、赤外線が通過するとともに、赤外線のうち、第1波長帯の赤外線を吸収する第1ガスを含むサンプルガスが通過する第1チャンバと、
前記光路上に配置され、赤外線が通過するとともに、赤外線のうち、前記第1波長帯と一部重なる第2波長帯の赤外線を吸収する第2ガスが充填された第2チャンバと、
前記第1チャンバおよび前記第2チャンバを順に通過した赤外線を受光し、その受光量を検出する受光量検出部と、
前記第2チャンバ内に存在する気体の圧力を検出する圧力検出部と、
前記受光量に基づいて、前記サンプルガス中の前記第1ガスの濃度を演算する演算部と、
前記第2チャンバ内に存在する気体の圧力と、前記第1チャンバ内のサンプルガスに含まれる第2ガスの濃度との関係を示す第1検量線、および、前記第1チャンバ内の前記第2ガスの濃度と前記受光量検出部で検出される受光量に基づき前記演算部で演算される前記第1チャンバ内の第1ガスの濃度の実測値の濃度補正値(R)との関係を示す第2検量線を記憶する記憶部を備え、
前記演算部は、前記圧力検出部により検出された前記第2チャンバ内に存在する気体の圧力値と前記第1検量線に基づいて前記1チャンバ内の前記第2ガスの濃度を求め、さらに、求めた前記第1チャンバ内の前記第2ガスの濃度と前記第2検量線とから第1ガスの濃度補正値(R)を求め、前記受光量検出部で検出された受光量に基づいて演算されるサンプルガス中の第1ガスの濃度の実測値を前記求めた濃度補正値(R)により補正することで前記第1ガスの濃度を算出することを特徴とするガス検出装置。
a light source that emits infrared rays;
a first chamber disposed on the optical path of the infrared rays emitted from the light source, through which the infrared rays pass and a sample gas containing a first gas that absorbs the infrared rays in a first wavelength band of the infrared rays;
a second chamber disposed on the optical path and filled with a second gas through which infrared rays pass and which absorbs infrared rays in a second wavelength band that partially overlaps with the first wavelength band;
a received light amount detection unit that receives infrared rays that have passed through the first chamber and the second chamber in order, and detects the amount of the received light;
a pressure detection unit that detects the pressure of gas existing in the second chamber;
a calculation unit that calculates the concentration of the first gas in the sample gas based on the amount of received light;
a first calibration curve showing the relationship between the pressure of the gas existing in the second chamber and the concentration of the second gas contained in the sample gas in the first chamber; A relationship between the concentration of the gas and the concentration correction value (R) of the actual measured concentration of the first gas in the first chamber calculated by the calculation unit based on the amount of received light detected by the amount of received light detection unit is shown. comprising a storage unit that stores the second calibration curve;
The calculation unit calculates the concentration of the second gas in the first chamber based on the pressure value of the gas existing in the second chamber detected by the pressure detection unit and the first calibration curve, and further , a concentration correction value (R) of the first gas is determined from the determined concentration of the second gas in the first chamber and the second calibration curve, and based on the amount of received light detected by the amount of received light detection section. A gas detection device characterized in that the concentration of the first gas is calculated by correcting the measured value of the concentration of the first gas in the sample gas to be calculated using the determined concentration correction value (R).
前記第2チャンバは、該第2チャンバ内を2つの空間に仕切る仕切り部と、前記2つの空間を連通させる連通部とを有し、
前記2つの空間のうちの一方の空間を赤外線が通過し、他方の空間に前記圧力検出部が配置される請求項1に記載のガス検出装置。
The second chamber has a partition portion that partitions the inside of the second chamber into two spaces, and a communication portion that communicates the two spaces,
The gas detection device according to claim 1, wherein infrared rays pass through one of the two spaces, and the pressure detection section is arranged in the other space.
前記第2チャンバ内の前記光路に沿った長さは、5mm以上50mm以下である請求項1~2のいずれか1項に記載のガス検出装置。 The gas detection device according to claim 1, wherein the length along the optical path in the second chamber is 5 mm or more and 50 mm or less. 前記第2チャンバ内の前記第2ガスの濃度は、20g/Nm 以上700g/Nm 以下である請求項1~3のいずれか1項に記載のガス検出装置。 The gas detection device according to any one of claims 1 to 3, wherein the concentration of the second gas in the second chamber is 20 g/Nm 3 or more and 700 g/Nm 3 or less. 前記圧力検出部は、前記圧力の変化を電気的に検出する圧電変換部を有する請求項1~4のいずれか1項に記載のガス検出装置。 The gas detection device according to claim 1, wherein the pressure detection section includes a piezoelectric conversion section that electrically detects changes in the pressure. 前記第2チャンバ内の前記第2ガスの濃度を調整する調整部を備える請求項1~5のいずれか1項に記載のガス検出装置。 The gas detection device according to claim 1, further comprising an adjustment section that adjusts the concentration of the second gas in the second chamber. 前記記憶部には、前記第2チャンバ内の前記第2ガスの濃度の大小に応じて、第1検量線および第2検量線が複数記憶され、当該第2ガスの濃度の大小に応じてこれらの検量線が使い分けられることを特徴とする請求項1~6のいずれか1項に記載のガス検出装置。 The storage unit stores a plurality of first calibration curves and second calibration curves depending on the concentration of the second gas in the second chamber, and stores a plurality of first calibration curves and second calibration curves in accordance with the concentration of the second gas in the second chamber. The gas detection device according to any one of claims 1 to 6, wherein the calibration curves are used for different purposes. 前記第1ガスは、二酸化硫黄ガスであり、前記第2ガスは、メタンガスである請求項1~7のいずれか1項に記載のガス検出装置。 The gas detection device according to claim 1, wherein the first gas is sulfur dioxide gas and the second gas is methane gas.
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