JP7387522B2 - optical laminate - Google Patents

optical laminate Download PDF

Info

Publication number
JP7387522B2
JP7387522B2 JP2020064490A JP2020064490A JP7387522B2 JP 7387522 B2 JP7387522 B2 JP 7387522B2 JP 2020064490 A JP2020064490 A JP 2020064490A JP 2020064490 A JP2020064490 A JP 2020064490A JP 7387522 B2 JP7387522 B2 JP 7387522B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
weight
meth
optical laminate
glare
adhesive layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2020064490A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2021160242A (en
Inventor
かさね 眞田
恵太 家原
量子 浅井
武史 仲野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nitto Denko Corp
Original Assignee
Nitto Denko Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nitto Denko Corp filed Critical Nitto Denko Corp
Priority to JP2020064490A priority Critical patent/JP7387522B2/en
Priority to KR1020227037330A priority patent/KR20220160631A/en
Priority to CN202180025907.1A priority patent/CN115362234A/en
Priority to PCT/JP2021/013066 priority patent/WO2021200733A1/en
Priority to TW110111838A priority patent/TW202147662A/en
Publication of JP2021160242A publication Critical patent/JP2021160242A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP7387522B2 publication Critical patent/JP7387522B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J7/00Adhesives in the form of films or foils
    • C09J7/30Adhesives in the form of films or foils characterised by the adhesive composition
    • C09J7/38Pressure-sensitive adhesives [PSA]
    • C09J7/381Pressure-sensitive adhesives [PSA] based on macromolecular compounds obtained by reactions involving only carbon-to-carbon unsaturated bonds
    • C09J7/385Acrylic polymers
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B7/00Layered products characterised by the relation between layers; Layered products characterised by the relative orientation of features between layers, or by the relative values of a measurable parameter between layers, i.e. products comprising layers having different physical, chemical or physicochemical properties; Layered products characterised by the interconnection of layers
    • B32B7/02Physical, chemical or physicochemical properties
    • B32B7/023Optical properties
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D201/00Coating compositions based on unspecified macromolecular compounds
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D5/00Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D5/00Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes
    • C09D5/006Anti-reflective coatings
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D5/00Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes
    • C09D5/04Thixotropic paints
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D7/00Features of coating compositions, not provided for in group C09D5/00; Processes for incorporating ingredients in coating compositions
    • C09D7/40Additives
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D7/00Features of coating compositions, not provided for in group C09D5/00; Processes for incorporating ingredients in coating compositions
    • C09D7/40Additives
    • C09D7/43Thickening agents
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D7/00Features of coating compositions, not provided for in group C09D5/00; Processes for incorporating ingredients in coating compositions
    • C09D7/40Additives
    • C09D7/60Additives non-macromolecular
    • C09D7/61Additives non-macromolecular inorganic
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D7/00Features of coating compositions, not provided for in group C09D5/00; Processes for incorporating ingredients in coating compositions
    • C09D7/40Additives
    • C09D7/60Additives non-macromolecular
    • C09D7/63Additives non-macromolecular organic
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J11/00Features of adhesives not provided for in group C09J9/00, e.g. additives
    • C09J11/02Non-macromolecular additives
    • C09J11/04Non-macromolecular additives inorganic
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J11/00Features of adhesives not provided for in group C09J9/00, e.g. additives
    • C09J11/02Non-macromolecular additives
    • C09J11/06Non-macromolecular additives organic
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J133/00Adhesives based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Adhesives based on derivatives of such polymers
    • C09J133/04Homopolymers or copolymers of esters
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J201/00Adhesives based on unspecified macromolecular compounds
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J4/00Adhesives based on organic non-macromolecular compounds having at least one polymerisable carbon-to-carbon unsaturated bond ; adhesives, based on monomers of macromolecular compounds of groups C09J183/00 - C09J183/16
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J7/00Adhesives in the form of films or foils
    • C09J7/20Adhesives in the form of films or foils characterised by their carriers
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J7/00Adhesives in the form of films or foils
    • C09J7/20Adhesives in the form of films or foils characterised by their carriers
    • C09J7/29Laminated material
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J7/00Adhesives in the form of films or foils
    • C09J7/30Adhesives in the form of films or foils characterised by the adhesive composition
    • C09J7/38Pressure-sensitive adhesives [PSA]
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/11Anti-reflection coatings
    • G02B1/111Anti-reflection coatings using layers comprising organic materials
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/02Diffusing elements; Afocal elements
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J2301/00Additional features of adhesives in the form of films or foils
    • C09J2301/30Additional features of adhesives in the form of films or foils characterized by the chemical, physicochemical or physical properties of the adhesive or the carrier
    • C09J2301/312Additional features of adhesives in the form of films or foils characterized by the chemical, physicochemical or physical properties of the adhesive or the carrier parameters being the characterizing feature

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Adhesive Tapes (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)
  • Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
  • Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)

Description

本発明は、ミニ/マイクロLED等の自発光型表示装置の発光素子の封止に適する光学積層体に関する。 The present invention relates to an optical laminate suitable for sealing light-emitting elements of self-luminous display devices such as mini/micro LEDs.

近年、次世代型の表示装置として、ミニ/マイクロLED表示装置(Mini/Micro Light Emitting Diode Display)に代表される自発光型表示装置が考案されている。ミニ/マイクロLED表示装置は、基本構成として、多数の微小なLED発光素子(LEDチップ)が高密度に配列された基板が表示パネルとして使用され、該LEDチップは封止材で封止され、最表層に樹脂フィルムやガラス板などのカバー部材が積層されるものである。 2. Description of the Related Art In recent years, self-emissive display devices typified by mini/micro LED display devices (Mini/Micro Light Emitting Diode Displays) have been devised as next-generation display devices. The basic configuration of a mini/micro LED display device is that a substrate on which many minute LED light emitting elements (LED chips) are arranged at high density is used as a display panel, and the LED chips are sealed with a sealing material. A cover member such as a resin film or a glass plate is laminated on the outermost layer.

ミニ/マイクロLED表示装置等の自発光型表示装置には、白色バックライト方式、白色発光カラーフィルター方式、RGB方式などいくつかの方式があるが、白色発光カラーフィルター方式、RGB方式では、表示パネルの基板上に配置された金属配線やITOなどの金属酸化物などの反射防止のために黒色の封止材が用いられることがある(例えば、特許文献1~3参照)。中でも、LEDチップが配列されたRGB方式のミニ/マイクロLED表示装置では、上記黒色封止材はRGBの混色防止やコントラスト向上にも貢献し得る。 There are several types of self-emitting display devices such as mini/micro LED display devices, such as a white backlight method, a white light emitting color filter method, and an RGB method. A black sealing material is sometimes used to prevent reflection of metal wiring or metal oxides such as ITO arranged on a substrate (for example, see Patent Documents 1 to 3). In particular, in an RGB type mini/micro LED display device in which LED chips are arranged, the black sealing material can also contribute to preventing RGB color mixing and improving contrast.

特開2019-204905号公報JP2019-204905A 特開2017-203810号公報JP2017-203810A 特表2018-523854号公報Special table 2018-523854 publication

前記黒色封止材としては、黒色着色剤(染料や顔料)を含む液状硬化性樹脂や粘着剤が用いられている。黒色着色剤を含む液状硬化性樹脂を用いる場合、厚みムラにより黒色度にムラが生じるという問題がある。また、染料に比べて顔料は耐熱性・耐候性ともに優れているために選定されることが多いが、顔料を分散させた液状硬化性樹脂を用いる場合、上記厚みムラに加えて、液状硬化性樹脂充填時の充填ムラ、流動時に顔料の分散ムラが生じるなどの問題も生じる。また、封止後に硬化した液状硬化性樹脂の表面には密着力がないため、さらに、接着剤などを使用してカバー部材を積層する必要があり、さらなる工数や部材が必要になるという問題もあった。 As the black sealing material, a liquid curable resin or adhesive containing a black coloring agent (dye or pigment) is used. When using a liquid curable resin containing a black colorant, there is a problem in that the degree of blackness becomes uneven due to uneven thickness. In addition, pigments are often selected because they have superior heat resistance and weather resistance compared to dyes, but when using liquid curable resin in which pigments are dispersed, in addition to the above-mentioned thickness unevenness, liquid curable resin Problems also arise, such as uneven filling during resin filling and uneven pigment dispersion during flow. Additionally, since the surface of the liquid curable resin that has hardened after sealing does not have adhesion, it is necessary to laminate the cover member using an adhesive or the like, which creates the problem of requiring additional man-hours and materials. there were.

本発明は、以上のような事情のもとで考え出されたものであって、本発明の目的は、反射防止機能及び/又はアンチグレア機能、コントラストが向上したミニ/マイクロLED表示装置等の自発光型表示装置の製造工程において、工程数や必要部材を削減することである。 The present invention was devised under the above-mentioned circumstances, and an object of the present invention is to provide mini/micro LED display devices with improved anti-reflection function and/or anti-glare function and contrast. The objective is to reduce the number of steps and required members in the manufacturing process of light-emitting display devices.

本発明者らは、前記目的を達成するため鋭意検討した結果、片面が反射防止処理およびまたはアンチグレア処理された基材と、着色剤を含む粘着剤層とを積層させた光学積層体を自発光型表示装置の製造に使用することにより、工程数や必要部材を削減することが可能になり、反射防止機能及び/又はアンチグレア機能、コントラストが向上した自発光型表示装置を効率的に製造できることを見出した。本発明は、これらの知見に基づいて完成されたものである。 As a result of intensive studies to achieve the above object, the present inventors have developed an optical laminate that is a self-luminous optical laminate in which a base material on one side of which has been subjected to anti-reflection treatment and/or anti-glare treatment and an adhesive layer containing a colorant is laminated. By using it in the production of type display devices, it is possible to reduce the number of processes and required materials, and it is possible to efficiently manufacture self-luminous display devices with anti-reflection and/or anti-glare functions and improved contrast. I found it. The present invention was completed based on these findings.

すなわち、本発明の第1の側面は、基材と、着色剤を含む粘着剤層とを含む光学積層体であって、前記基材は、片面が反射防止処理及び/又はアンチグレア処理されており、前記基材の前記反射防止処理及び/又はアンチグレア処理されていない側の面上に前記粘着剤層が積層されている光学積層体を提供する。本発明の第1の側面の光学積層体を自発光型表示装置の製造に用いることにより、前記粘着剤層は表示パネル上に配列された発光素子を封止する封止材となり、基材は最表層のカバー部材となるため、封止後に別途カバー部材を積層させる必要がなく、工程数や必要部材を削減することができ、製造効率が向上する。 That is, a first aspect of the present invention is an optical laminate including a base material and an adhesive layer containing a colorant, wherein one side of the base material is subjected to antireflection treatment and/or antiglare treatment. The present invention provides an optical laminate in which the adhesive layer is laminated on the side of the base material that is not subjected to the antireflection treatment and/or the antiglare treatment. By using the optical laminate of the first aspect of the present invention for manufacturing a self-luminous display device, the adhesive layer becomes a sealing material for sealing light emitting elements arranged on a display panel, and the base material Since it becomes the outermost cover member, there is no need to separately laminate a cover member after sealing, which reduces the number of steps and required members, and improves manufacturing efficiency.

また、前記粘着剤層が着色剤を含むという構成は、自発光型表示装置の製造において発光素子を前記粘着剤層で封止する際に、前述の厚みムラ、充填ムラ、顔料の分散ムラなどによる黒色度のムラが生じにくく、さらに、金属配線などの反射防止、RGBの混色防止やコントラストを向上できるため、好適である。
さらに、基材の片面が反射防止処理及び/又はアンチグレア処理されているという構成は、外光の反射や像の映り込み等による視認性の低下を防止する、光沢度などの見栄えを調整するといった観点で好ましい。
In addition, the configuration in which the adhesive layer contains a coloring agent can be used to prevent uneven thickness, uneven filling, uneven pigment dispersion, etc., when sealing a light emitting element with the adhesive layer in the manufacture of a self-luminous display device. This is preferable because it is less likely to cause unevenness in blackness, and can also prevent reflections on metal wiring, prevent RGB color mixing, and improve contrast.
Furthermore, the configuration in which one side of the base material is treated with anti-reflection treatment and/or anti-glare treatment can be used to prevent deterioration of visibility due to reflection of external light or image reflection, and to adjust appearance such as gloss level. Preferred from this point of view.

本発明の第1の側面の光学積層体において、前記粘着剤層は、ポリマーと、光重合性化合物と、光重合開始剤と、着色剤とを含有する光硬化性粘着剤組成物から形成される粘着剤層であることが好ましい。前記着色剤は、波長330~400nmの平均透過率が、波長400~700nmの平均透過率よりも大きいことが好ましい。前記光重合開始剤は、波長330~400nmの範囲に少なくとも1つの吸収極大を有することが好ましい。前記光学積層体は、350nm~450nmに透過率の極大値を有することが好ましい。前記粘着剤層の全光線透過率は80%以下であることが好ましい。前記粘着剤層の厚みは10~500μmであることが好ましい。これらの構成は、前記粘着剤層において、可視光領域で十分な遮光性を有しつつ、紫外線照射による光硬化性を付与できる点で好ましい。 In the optical laminate according to the first aspect of the invention, the adhesive layer is formed from a photocurable adhesive composition containing a polymer, a photopolymerizable compound, a photoinitiator, and a colorant. It is preferable that the pressure-sensitive adhesive layer is The colorant preferably has an average transmittance in the wavelength range of 330 to 400 nm that is higher than an average transmittance in the wavelength range of 400 to 700 nm. The photopolymerization initiator preferably has at least one absorption maximum in the wavelength range of 330 to 400 nm. Preferably, the optical laminate has a maximum transmittance between 350 nm and 450 nm. The total light transmittance of the adhesive layer is preferably 80% or less. The thickness of the adhesive layer is preferably 10 to 500 μm. These configurations are preferable in that the pressure-sensitive adhesive layer has sufficient light-shielding properties in the visible light region and can be photocurable by ultraviolet irradiation.

本発明の第1の側面の光学積層体において、前記ポリマーはアクリル系ポリマーであることが好ましい。前記ポリマーのガラス転移温度は0℃以下であることが好ましい。前記粘着剤層の温度85℃におけるせん断貯蔵弾性率は3~300kPaであることが好ましい。これらの構成は、本発明の第1の側面の光学積層体を自発光型表示装置の製造に用いる際に、前記粘着剤層が表示パネル上に配列された発光素子の段差に隙間なく充填され、段差吸収性に優れる点で好ましい。 In the optical laminate according to the first aspect of the invention, the polymer is preferably an acrylic polymer. The glass transition temperature of the polymer is preferably 0°C or lower. The adhesive layer preferably has a shear storage modulus of 3 to 300 kPa at a temperature of 85°C. These configurations are such that when the optical laminate according to the first aspect of the present invention is used for manufacturing a self-luminous display device, the adhesive layer is filled without gaps between the steps of the light emitting elements arranged on the display panel. , is preferable in that it has excellent level difference absorbability.

本発明の第1の側面の光学積層体において、前記光硬化性粘着剤組成物は、さらに、前記ポリマーと架橋可能な架橋剤を含むことが好ましい。前記粘着剤層の温度25℃におけるせん断貯蔵弾性率は10~1000kPaであることが好ましい。これらの構成は、前記粘着剤層の加工性と接着信頼性を向上できる点で好ましい。 In the optical laminate according to the first aspect of the present invention, it is preferable that the photocurable adhesive composition further contains a crosslinking agent capable of crosslinking with the polymer. The adhesive layer preferably has a shear storage modulus of 10 to 1000 kPa at a temperature of 25°C. These configurations are preferable in that they can improve the processability and adhesion reliability of the pressure-sensitive adhesive layer.

本発明の第1の側面の光学積層体において、前記反射防止処理及び/又はアンチグレア処理は、前記基材の片面に設けられたアンチグレア層であることが好ましい。前記アンチグレア層は、樹脂、粒子およびチキソトロピー付与剤を含むアンチグレア層形成材料を用いて形成されており、前記アンチグレア層が、前記粒子および前記チキソトロピー付与剤が凝集することによって、前記アンチグレア層の表面に凸状部を形成する凝集部を有することが好ましい。前記アンチグレア層表面の凸状部において、平均傾斜角θa(°)は0.1~5.0の範囲であることが好ましい。これらの構成は、本発明の第1の側面の光学積層体の表面に反射防止機能及び/又はアンチグレア処理を付与し、外光の反射や像の映り込み等による視認性の低下を防止する、又は光沢度などの見栄えを調整するといった観点で好ましい。 In the optical laminate according to the first aspect of the present invention, the antireflection treatment and/or antiglare treatment is preferably an antiglare layer provided on one side of the base material. The anti-glare layer is formed using an anti-glare layer forming material containing a resin, particles and a thixotropy-imparting agent, and the anti-glare layer is formed on the surface of the anti-glare layer by aggregation of the particles and the thixotropy-imparting agent. It is preferable to have an agglomerated portion forming a convex portion. In the convex portions on the surface of the anti-glare layer, the average inclination angle θa (°) is preferably in the range of 0.1 to 5.0. These configurations provide an anti-reflection function and/or anti-glare treatment to the surface of the optical laminate according to the first aspect of the present invention, and prevent a decrease in visibility due to reflection of external light or image reflection. Alternatively, it is preferable from the viewpoint of adjusting appearance such as glossiness.

本発明の第1の側面の光学積層体は、さらに、前記基材の反射防止処理及び/又はアンチグレア処理された面に、表面保護フィルムが積層されていてもよい。かかる構成は、前記光学積層体やこれを含む光学製品の製造、搬送、出荷時に、傷や汚れの付着を防止する上で好適である。 In the optical laminate according to the first aspect of the present invention, a surface protection film may be further laminated on the antireflection-treated and/or anti-glare-treated surface of the base material. Such a configuration is suitable for preventing scratches and dirt from adhering during manufacturing, transportation, and shipping of the optical laminate and optical products including the same.

また、本発明の第2の側面は、基板の片面に複数の発光素子が配列した表示パネルと、本発明の第1の側面の光学積層体とを含む自発光型表示装置であって、前記表示パネルの発光素子が配列した面と、前記光学積層体の粘着剤層が積層した、自発光型表示装置を提供する。本発明の第2の側面の自発光型表示装置において、前記表示パネルは、基板の片面に複数のLEDチップが配列したLEDパネルであってもよい。かかる構成は、本発明の第2の側面の自発光型表示装置が、基板上の金属配線などの反射防止、RGBの混色防止やコントラストの向上、外光の反射や像の映り込み等による視認性の低下を防止でき、又は光沢度などの見栄えを調整するという点で好ましい。 A second aspect of the present invention is a self-luminous display device comprising a display panel in which a plurality of light emitting elements are arranged on one side of a substrate, and the optical laminate of the first aspect of the present invention, A self-luminous display device is provided, in which a surface of a display panel on which light emitting elements are arranged and an adhesive layer of the optical laminate are laminated. In the self-luminous display device according to the second aspect of the present invention, the display panel may be an LED panel in which a plurality of LED chips are arranged on one side of a substrate. Such a configuration allows the self-luminous display device according to the second aspect of the present invention to prevent reflection of metal wiring on the substrate, prevent RGB color mixing, improve contrast, and improve visibility by reflecting external light and reflecting images. This is preferable in that it can prevent deterioration in properties or adjust appearance such as glossiness.

本発明の光学積層体を自発光型表示装置の製造に使用することにより、工程数や必要部材を削減することが可能になり、反射防止機能及び/又はアンチグレア機能、コントラストが向上した自発光型表示装置を効率的に製造することができる。 By using the optical laminate of the present invention in the production of a self-emissive display device, it is possible to reduce the number of steps and required components, and it is possible to reduce the number of processes and necessary materials, and it is possible to produce a self-emissive display device with improved anti-reflection and/or anti-glare functions and contrast. A display device can be efficiently manufactured.

図1は、本発明の光学積層体の一実施形態を示す模式図(断面図)である。FIG. 1 is a schematic diagram (cross-sectional view) showing an embodiment of the optical laminate of the present invention. 図2は、本発明の光学積層体の他の一実施形態を示す模式図(断面図)である。FIG. 2 is a schematic diagram (cross-sectional view) showing another embodiment of the optical laminate of the present invention. 図3は、本発明の自発光型表示装置(ミニ/マイクロLED表示装置)の一実施形態を示す模式図(断面図)である。FIG. 3 is a schematic diagram (cross-sectional view) showing an embodiment of a self-luminous display device (mini/micro LED display device) of the present invention. 図4は、本発明の自発光型表示装置(ミニ/マイクロLED表示装置)の他の一実施形態を示す模式図(断面図)である。FIG. 4 is a schematic diagram (cross-sectional view) showing another embodiment of the self-luminous display device (mini/micro LED display device) of the present invention.

本発明の第1の側面の光学積層体は、基材と、着色剤を含む粘着剤層とを含む光学積層体であって、前記基材は、片面が反射防止処理及び/又はアンチグレア処理されており、前記基材の前記反射防止処理及び/又はアンチグレア処理されていない側の面上に前記粘着剤層が積層されている。 The optical laminate according to the first aspect of the present invention is an optical laminate including a base material and an adhesive layer containing a colorant, wherein one side of the base material is treated with anti-reflection treatment and/or anti-glare treatment. The adhesive layer is laminated on the surface of the base material that is not subjected to the antireflection treatment and/or the antiglare treatment.

本発明の第1の側面の光学積層体における「光学」とは、光学用途に用いられることを意味し、より具体的には、光学部材が用いられた製品(光学製品)の製造などに用いられることを意味する。光学製品としては、例えば、画像表示装置、タッチパネルなどの入力装置などが挙げられるが、ミニ/マイクロLED表示装置、有機EL(エレクトロルミネッセンス)表示装置などの自発光型表示装置が好ましく、特に、ミニ/マイクロLED表示装置の製造に好適に使用することができる。 "Optical" in the optical laminate in the first aspect of the present invention means used for optical purposes, and more specifically, used for manufacturing products (optical products) using optical members. means to be Examples of optical products include image display devices and input devices such as touch panels, but self-luminous display devices such as mini/micro LED display devices and organic EL (electroluminescence) display devices are preferred, and in particular mini /Can be suitably used for manufacturing micro LED display devices.

以下、本発明の実施形態を図に関連して説明するが、本発明はこれに限定されるものではなく、例示に過ぎない。
図1は、本発明の第1の側面の光学積層体の一実施態様を示す模式図(断面図)である。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings, but the present invention is not limited thereto and is merely an example.
FIG. 1 is a schematic diagram (cross-sectional view) showing one embodiment of the optical laminate according to the first aspect of the present invention.

本実施形態において、光学積層体10は、基材1と、着色剤を含む粘着剤層2とを含む。基材1は、その片面1aに反射防止処理及び/又はアンチグレア処理3が施されている。基材1の反射防止処理及び/又はアンチグレア処理されていない側の面1b上に粘着剤層2が積層されている。 In this embodiment, the optical laminate 10 includes a base material 1 and an adhesive layer 2 containing a colorant. The base material 1 has been subjected to anti-reflection treatment and/or anti-glare treatment 3 on one side 1a thereof. An adhesive layer 2 is laminated on the side 1b of the base material 1 that has not been subjected to anti-reflection treatment and/or anti-glare treatment.

<基材>
本実施形態において、基材1は、特に制限されないが、例えば、ガラスや透明プラスチックフィルム基材等があげられる。前記透明プラスチックフィルム基材は、特に制限されないが、可視光の光線透過率に優れ(好ましくは光線透過率90%以上)、透明性に優れるもの(好ましくはヘイズ値5%以下のもの)が好ましく、例えば、特開2008-90263号公報に記載の透明プラスチックフィルム基材があげられる。前記透明プラスチックフィルム基材としては、光学的に複屈折の少ないものが好適に用いられる。本実施形態において基材1は、例えば、自発光型表示装置のカバー部材として使用することもでき、この場合には、前記透明プラスチックフィルム基材としては、トリアセチルセルロース(TAC)、ポリカーボネート、アクリル系ポリマー、環状ないしノルボルネン構造を有するポリオレフィン等から形成されたフィルムが好ましい。また、本実施形態において基材1は、前記カバー部材自体であってもよい。このような構成であると、自発光型表示装置の製造においてカバー部材を別途に積層する工程を削減できるので、工程数や必要部材を減少させ、生産効率の向上が図れる。また、このような構成であれば、前記カバー部材を、より薄層化することができる。なお、基材1がカバー部材である場合には、反射防止処理及び/又はアンチグレア処理された面1aが、自発光型表示装置の最表面となり、外光の反射や像の映り込み等による視認性の低下を防止する、光沢度などの見栄えを調整するといった役割を果たすことになる。
<Base material>
In this embodiment, the base material 1 is not particularly limited, and examples thereof include glass, a transparent plastic film base material, and the like. The transparent plastic film substrate is not particularly limited, but preferably has excellent visible light transmittance (preferably 90% or more light transmittance) and excellent transparency (preferably haze value 5% or less). , for example, the transparent plastic film base material described in JP-A-2008-90263. As the transparent plastic film base material, one having optically low birefringence is suitably used. In this embodiment, the base material 1 can also be used as a cover member of a self-luminous display device, for example, and in this case, the transparent plastic film base material may be triacetyl cellulose (TAC), polycarbonate, acrylic A film formed from a polyolefin having a cyclic or norbornene structure or the like is preferred. Further, in this embodiment, the base material 1 may be the cover member itself. With such a configuration, it is possible to eliminate the step of separately laminating the cover member in manufacturing the self-luminous display device, thereby reducing the number of steps and required members, and improving production efficiency. Moreover, with such a configuration, the cover member can be made thinner. Note that when the base material 1 is a cover member, the surface 1a that has been subjected to anti-reflection treatment and/or anti-glare treatment becomes the outermost surface of the self-luminous display device, and visibility due to reflection of external light, reflection of images, etc. It plays the role of preventing deterioration in quality and adjusting appearance such as glossiness.

本実施形態において、基材1の厚みは、特に制限されないが、例えば、強度、取り扱い性などの作業性および薄層性などの点を考慮すると、10~500μmの範囲が好ましく、より好ましくは20~300μmの範囲であり、最適には、30~200μmの範囲である。前記基材1の屈折率は、特に制限されないが、例えば、1.30~1.80の範囲であり、好ましくは、1.40~1.70の範囲である。基材1の可視光透過率は、特に限定されないが、例えば85~100%であり、88%以上、90%以上、または92%以上であってもよい。 In this embodiment, the thickness of the base material 1 is not particularly limited, but in consideration of workability such as strength and handleability, and thin layer property, the thickness is preferably in the range of 10 to 500 μm, more preferably 20 μm. ~300 μm, optimally between 30 and 200 μm. The refractive index of the base material 1 is not particularly limited, but is, for example, in the range of 1.30 to 1.80, preferably in the range of 1.40 to 1.70. The visible light transmittance of the base material 1 is not particularly limited, but is, for example, 85 to 100%, and may be 88% or more, 90% or more, or 92% or more.

本実施形態において、基材1の片面1aに施される反射防止処理としては、公知の反射防止処理を特に限定なく使用することができ、例えば、アンチリフレクション(AR)処理が挙げられる。 In the present embodiment, as the antireflection treatment applied to one side 1a of the base material 1, any known antireflection treatment can be used without particular limitation, such as antireflection (AR) treatment.

前記アンチリフレクション(AR)処理としては、公知のAR処理を特に制限なく適用することができ、具体的には、基材1の片面1a上に厚みおよび屈折率を厳密に制御した光学薄膜若しくは前記光学薄膜を二層以上積層した反射防止層(AR層)を形成することにより実施することができる。前記AR層は、光の干渉効果を利用して入射光と反射光の逆転した位相を互いに打ち消し合わせることで反射防止機能を発現する。反射防止機能を発現させる可視光線の波長領域は、例えば、380~780nmであり、特に視感度が高い波長領域は450~650nmの範囲であり、その中心波長である550nmの反射率を最小にするようにAR層を設計することが好ましい。 As the anti-reflection (AR) treatment, any known AR treatment can be applied without any particular restriction, and specifically, an optical thin film whose thickness and refractive index are strictly controlled on one side 1a of the base material 1 or the aforementioned This can be carried out by forming an antireflection layer (AR layer) in which two or more optical thin films are laminated. The AR layer exhibits an antireflection function by canceling out the reversed phases of incident light and reflected light using light interference effects. The wavelength range of visible light that exhibits the antireflection function is, for example, 380 to 780 nm, and the wavelength range with particularly high visibility is 450 to 650 nm, and the reflectance at the center wavelength of 550 nm is minimized. It is preferable to design the AR layer as follows.

前記AR層としては、一般的に、二ないし五層の光学薄層(厚みおよび屈折率を厳密に制御した薄膜)を積層した構造の多層反射防止層が挙げられ、屈折率の異なる成分を所定の厚さだけ複数層形成することで、AR層の光学設計の自由度が上がり、より反射防止効果を向上させることができ、分光反射特性も可視光領域で均一(フラット)にすることが可能になる。前記光学薄膜において、高い厚み精度が要求されるため、一般的に、各層の形成は、ドライ方式である真空蒸着、スパッタリング、CVD等で実施される。 The AR layer generally includes a multilayer antireflection layer having a laminated structure of two to five optical thin layers (thin films with strictly controlled thickness and refractive index), in which components with different refractive indexes are stacked in a predetermined manner. By forming multiple layers with a thickness of become. In the optical thin film, since high thickness accuracy is required, each layer is generally formed by a dry method such as vacuum evaporation, sputtering, CVD, etc.

前記アンチグレア(AG)処理としては、公知のAG処理を特に制限なく適用することができ、例えば、基材1の片面1a上にアンチグレア層を形成することにより実施することができる。図2は、本発明の第1の側面の光学積層体の他の一実施態様を示す模式図(断面図)である。本実施形態の光学積層体11において、基材1の片面1a上にアンチグレア層3aが形成されている。前記アンチグレア層3aとしては、公知のものを制限なく採用することができ、一般的に、樹脂中にアンチグレア剤として無機又は有機の粒子を分散した層として形成される。 As the anti-glare (AG) treatment, any known AG treatment can be applied without particular limitation, and can be carried out, for example, by forming an anti-glare layer on one side 1a of the base material 1. FIG. 2 is a schematic diagram (cross-sectional view) showing another embodiment of the optical laminate according to the first aspect of the present invention. In the optical laminate 11 of this embodiment, an anti-glare layer 3a is formed on one side 1a of the base material 1. As the anti-glare layer 3a, any known anti-glare layer can be used without limitation, and is generally formed as a layer in which inorganic or organic particles as an anti-glare agent are dispersed in a resin.

本実施形態において、アンチグレア層3aは、樹脂、粒子およびチキソトロピー付与剤を含むアンチグレア層形成材料を用いて形成されており、前記粒子および前記チキソトロピー付与剤が凝集することによって、前記アンチグレア層3aの表面に凸状部が形成される。当該構成により、アンチグレア層3aは、アンチグレア性と、白ボケの防止とを両立した優れた表示特性を有するとともに、粒子の凝集を利用してアンチグレア層を形成しているにもかかわらず、外観欠点となるアンチグレア層表面の突起状物の発生を防止して製品の歩留まりを向上させることができる。 In this embodiment, the anti-glare layer 3a is formed using an anti-glare layer forming material containing a resin, particles and a thixotropy agent, and the particles and the thixotropy agent aggregate to form a surface of the anti-glare layer 3a. A convex portion is formed on the surface. With this configuration, the anti-glare layer 3a has excellent display characteristics that are both anti-glare and prevents white blurring, and also has no appearance defects even though the anti-glare layer is formed using particle aggregation. It is possible to prevent the formation of protrusions on the surface of the anti-glare layer and improve the yield of the product.

前記樹脂は、例えば、熱硬化性樹脂、紫外線や光で硬化する電離放射線硬化性樹脂があげられる。前記樹脂として、市販の熱硬化型樹脂や紫外線硬化型樹脂等を用いることも可能である。 Examples of the resin include thermosetting resins and ionizing radiation-curable resins that are cured by ultraviolet light or light. As the resin, it is also possible to use commercially available thermosetting resins, ultraviolet curable resins, and the like.

前記熱硬化型樹脂や紫外線硬化型樹脂としては、例えば、熱、光(紫外線等)または電子線等により硬化するアクリレート基およびメタクリレート基の少なくとも一方の基を有する硬化型化合物が使用でき、例えば、シリコーン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂、多価アルコール等の多官能化合物のアクリレートやメタクリレート等のオリゴマーまたはプレポリマー等があげられる。これらは、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を併用してもよい。 As the thermosetting resin or the ultraviolet curable resin, for example, a curable compound having at least one of an acrylate group and a methacrylate group that is cured by heat, light (such as ultraviolet rays), or electron beam, etc. can be used, for example, Silicone resins, polyester resins, polyether resins, epoxy resins, urethane resins, alkyd resins, spiroacetal resins, polybutadiene resins, polythiol polyene resins, oligomers or prepolymers such as acrylates and methacrylates of polyfunctional compounds such as polyhydric alcohols, etc. can give. These may be used alone or in combination of two or more.

前記樹脂には、例えば、アクリレート基およびメタクリレート基の少なくとも一方の基を有する反応性希釈剤を用いることもできる。前記反応性希釈剤は、例えば、特開2008-88309号公報に記載の反応性希釈剤を用いることができ、例えば、単官能アクリレート、単官能メタクリレート、多官能アクリレート、多官能メタクリレート等を含む。前記反応性希釈剤としては、3官能以上のアクリレート、3官能以上のメタクリレートが好ましい。これは、アンチグレア層3aの硬度を、優れたものにできるからである。前記反応性希釈剤としては、例えば、ブタンジオールグリセリンエーテルジアクリレート、イソシアヌル酸のアクリレート、イソシアヌル酸のメタクリレート等もあげられる。これらは、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を併用してもよい。 For example, a reactive diluent having at least one of an acrylate group and a methacrylate group can also be used in the resin. The reactive diluent can be, for example, the reactive diluent described in JP-A No. 2008-88309, and includes, for example, monofunctional acrylate, monofunctional methacrylate, polyfunctional acrylate, polyfunctional methacrylate, and the like. As the reactive diluent, trifunctional or higher functional acrylates or trifunctional or higher functional methacrylates are preferred. This is because the hardness of the anti-glare layer 3a can be made excellent. Examples of the reactive diluent include butanediol glycerol ether diacrylate, isocyanuric acid acrylate, isocyanuric acid methacrylate, and the like. These may be used alone or in combination of two or more.

アンチグレア層3aを形成するための粒子は、形成されるアンチグレア層3aの表面を凹凸形状にしてアンチグレア性を付与し、また、アンチグレア層3aのヘイズ値を制御することを主な機能とする。アンチグレア層3aのヘイズ値は、前記粒子と前記樹脂との屈折率差を制御することで、設計することができる。前記粒子としては、例えば、無機粒子と有機粒子とがある。前記無機粒子は、特に制限されず、例えば、酸化ケイ素粒子、酸化チタン粒子、酸化アルミニウム粒子、酸化亜鉛粒子、酸化錫粒子、炭酸カルシウム粒子、硫酸バリウム粒子、タルク粒子、カオリン粒子、硫酸カルシウム粒子等があげられる。また、前記有機粒子は、特に制限されず、例えば、ポリメチルメタクリレート樹脂粉末(PMMA微粒子)、シリコーン樹脂粉末、ポリスチレン樹脂粉末、ポリカーボネート樹脂粉末、アクリルスチレン樹脂粉末、ベンゾグアナミン樹脂粉末、メラミン樹脂粉末、ポリオレフィン樹脂粉末、ポリエステル樹脂粉末、ポリアミド樹脂粉末、ポリイミド樹脂粉末、ポリフッ化エチレン樹脂粉末等があげられる。これらの無機粒子および有機粒子は、一種類を単独で使用してもよいし、二種類以上を併用してもよい。 The main functions of the particles for forming the anti-glare layer 3a are to provide anti-glare properties by making the surface of the anti-glare layer 3a uneven and to control the haze value of the anti-glare layer 3a. The haze value of the anti-glare layer 3a can be designed by controlling the refractive index difference between the particles and the resin. Examples of the particles include inorganic particles and organic particles. The inorganic particles are not particularly limited, and include, for example, silicon oxide particles, titanium oxide particles, aluminum oxide particles, zinc oxide particles, tin oxide particles, calcium carbonate particles, barium sulfate particles, talc particles, kaolin particles, calcium sulfate particles, etc. can be given. The organic particles are not particularly limited, and include, for example, polymethyl methacrylate resin powder (PMMA fine particles), silicone resin powder, polystyrene resin powder, polycarbonate resin powder, acrylic styrene resin powder, benzoguanamine resin powder, melamine resin powder, polyolefin. Examples include resin powder, polyester resin powder, polyamide resin powder, polyimide resin powder, polyfluoroethylene resin powder, and the like. One type of these inorganic particles and organic particles may be used alone, or two or more types may be used in combination.

前記粒子の重量平均粒径(D)は、2.5~10μmの範囲内にあることが好ましい。前記粒子の重量平均粒径を、前記範囲とすることで、例えば、よりアンチグレア性に優れ、かつ白ボケが防止できる。前記粒子の重量平均粒径は、より好ましくは、3~7μmの範囲内である。なお、前記粒子の重量平均粒径は、例えば、コールターカウント法により測定できる。例えば、細孔電気抵抗法を利用した粒度分布測定装置(商品名:コールターマルチサイザー、ベックマン・コールター社製)を用い、粒子が前記細孔を通過する際の粒子の体積に相当する電解液の電気抵抗を測定することにより、前記粒子の数と体積を測定し、重量平均粒径を算出する。 The weight average particle diameter (D) of the particles is preferably within the range of 2.5 to 10 μm. By setting the weight average particle diameter of the particles within the above range, for example, it is possible to have better anti-glare properties and prevent white blurring. The weight average particle diameter of the particles is more preferably within the range of 3 to 7 μm. Note that the weight average particle diameter of the particles can be measured, for example, by the Coulter counting method. For example, using a particle size distribution measuring device (trade name: Coulter Multisizer, manufactured by Beckman Coulter) that uses the pore electrical resistance method, an electrolyte solution corresponding to the volume of the particles when the particles pass through the pores is measured. By measuring electrical resistance, the number and volume of the particles are determined, and the weight average particle diameter is calculated.

前記粒子の形状は、特に制限されず、例えば、ビーズ状の略球形であってもよく、粉末等の不定形のものであってもよいが、略球形のものが好ましく、より好ましくは、アスペクト比が1.5以下の略球形の粒子であり、最も好ましくは球形の粒子である。 The shape of the particles is not particularly limited, and may be, for example, approximately spherical in the form of beads, or irregularly shaped such as powder, but is preferably approximately spherical, and more preferably has an aspect ratio. The particles are approximately spherical particles with a ratio of 1.5 or less, and most preferably spherical particles.

アンチグレア層3aにおける前記粒子の割合は、前記樹脂100重量部に対し、0.2~12重量部の範囲が好ましく、より好ましくは、0.5~12重量部の範囲であり、さらに好ましくは1~7重量部の範囲である。前記範囲とすることで、例えば、よりアンチグレア性に優れ、かつ白ボケが防止できる。 The proportion of the particles in the anti-glare layer 3a is preferably in the range of 0.2 to 12 parts by weight, more preferably in the range of 0.5 to 12 parts by weight, even more preferably 1. ~7 parts by weight. By setting it within the above range, for example, it is possible to have better anti-glare properties and prevent white blurring.

アンチグレア層3aを形成するためのチキソトロピー付与剤としては、例えば、有機粘土、酸化ポリオレフィン、変性ウレア等があげられる。 Examples of the thixotropy imparting agent for forming the anti-glare layer 3a include organic clay, oxidized polyolefin, and modified urea.

前記有機粘土は、前記樹脂との親和性を改善するために、有機化処理した粘土であることが好ましい。有機粘土としては、例えば、層状有機粘土をあげることができる。前記有機粘土は、自家調製してもよいし、市販品を用いてもよい。前記市販品としては、例えば、ルーセンタイトSAN、ルーセンタイトSTN、ルーセンタイトSEN、ルーセンタイトSPN、ソマシフME-100、ソマシフMAE、ソマシフMTE、ソマシフMEE、ソマシフMPE(商品名、いずれもコープケミカル(株)製);エスベン、エスベンC、エスベンE、エスベンW、エスベンP、エスベンWX、エスベンN-400、エスベンNX、エスベンNX80、エスベンNO12S、エスベンNEZ、エスベンNO12、エスベンNE、エスベンNZ、エスベンNZ70、オルガナイト、オルガナイトD、オルガナイトT(商品名、いずれも(株)ホージュン製);クニピアF、クニピアG、クニピアG4(商品名、いずれもクニミネ工業(株)製);チクソゲルVZ、クレイトンHT、クレイトン40(商品名、いずれもロックウッド アディティブズ社製)等があげられる。 It is preferable that the organic clay is a clay that has been subjected to an organic treatment in order to improve its affinity with the resin. Examples of the organic clay include layered organic clay. The organic clay may be prepared in-house or a commercially available product may be used. Examples of the commercially available products include Lucentite SAN, Lucentite STN, Lucentite SEN, Lucentite SPN, Somasif ME-100, Somasif MAE, Somasif MTE, Somasif MEE, Somasif MPE (trade names, all manufactured by Co-op Chemical Co., Ltd.). ); Esben, Esben C, Esben E, Esben W, Esben P, Esben WX, Esben N-400, Esben NX, Esben NX80, Esben NO12S, Esben NEZ, Esben NO12, Esben NE, Esben NZ, Esben NZ70, Organite, Organite D, Organite T (trade names, all manufactured by Hojun Co., Ltd.); Kunipia F, Kunipia G, Kunipia G4 (trade names, all manufactured by Kunimine Industries Co., Ltd.); Thixogel VZ, Clayton HT and Kraton 40 (trade names, both manufactured by Rockwood Additives).

前記酸化ポリオレフィンは、自家調製してもよいし、市販品を用いてもよい。前記市販品としては、例えば、ディスパロン4200-20(商品名、楠本化成(株)製)、フローノンSA300(商品名、共栄社化学(株)製)等があげられる。 The oxidized polyolefin may be prepared in-house or a commercially available product may be used. Examples of the commercially available products include Disparon 4200-20 (trade name, manufactured by Kusumoto Kasei Co., Ltd.) and Fluonon SA300 (trade name, manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.).

前記変性ウレアは、イソシアネート単量体あるいはそのアダクト体と有機アミンとの反応物である。前記変性ウレアは、自家調製してもよいし、市販品を用いてもよい。前記市販品としては、例えば、BYK410(ビッグケミー社製)等があげられる。 The modified urea is a reaction product of an isocyanate monomer or its adduct and an organic amine. The modified urea may be prepared in-house or a commercially available product may be used. Examples of the commercially available products include BYK410 (manufactured by Big Chemie).

前記チキソトロピー付与剤は、一種類を単独で使用してもよいし、二種類以上を併用してもよい。 The thixotropy imparting agent may be used alone or in combination of two or more.

本実施形態の光学積層体11において、前記凸状部の前記アンチグレア層3aの粗さ平均線からの高さが、アンチグレア層3aの厚みの0.4倍未満であることが好ましい。より好ましくは、0.01倍以上0.4倍未満の範囲であり、さらに好ましくは、0.01倍以上0.3倍未満の範囲である。この範囲であれば、前記凸状部に外観欠点となる突起物が形成されることを好適に防止できる。本実施形態のアンチグレア層3aは、このような高さの凸状部を有することで、外観欠点を生じにくくすることができる。ここで、前記平均線からの高さは、例えば、特開2017-138620号公報に記載の方法により測定することができる。 In the optical laminate 11 of this embodiment, the height of the convex portion from the average roughness line of the anti-glare layer 3a is preferably less than 0.4 times the thickness of the anti-glare layer 3a. More preferably, it is in the range of 0.01 times or more and less than 0.4 times, and still more preferably in the range of 0.01 times or more and less than 0.3 times. Within this range, it is possible to suitably prevent the formation of protrusions that would cause defects in appearance on the convex portion. The anti-glare layer 3a of this embodiment has convex portions with such a height, thereby making it difficult to cause defects in appearance. Here, the height from the average line can be measured, for example, by the method described in JP-A-2017-138620.

アンチグレア層3aにおける前記チキソトロピー付与剤の割合は、前記樹脂100重量部に対し、0.1~5重量部の範囲が好ましく、より好ましくは、0.2~4重量部の範囲である。 The proportion of the thixotropy imparting agent in the anti-glare layer 3a is preferably in the range of 0.1 to 5 parts by weight, more preferably in the range of 0.2 to 4 parts by weight, based on 100 parts by weight of the resin.

アンチグレア層3aの厚み(d)は、特に制限されないが、3~12μmの範囲内にあることが好ましい。アンチグレア層3aの厚み(d)を、前記範囲とすることで、例えば、光学積層体11のカールの発生を防ぐことができ、搬送性不良等の生産性の低下の問題を回避できる。また、前記厚み(d)が前記範囲にある場合、前記粒子の重量平均粒径(D)は、前述のように、2.5~10μmの範囲内にあることが好ましい。アンチグレア層3aの厚み(d)と、前記粒子の重量平均粒径(D)とが、前述の組み合わせであることで、さらにアンチグレア性に優れるものとすることができる。アンチグレア層3aの厚み(d)は、より好ましくは、3~8μmの範囲内である。 The thickness (d) of the anti-glare layer 3a is not particularly limited, but is preferably within the range of 3 to 12 μm. By setting the thickness (d) of the anti-glare layer 3a within the above range, for example, it is possible to prevent the optical laminate 11 from curling, and to avoid the problem of reduced productivity such as poor conveyance. Further, when the thickness (d) is within the above range, the weight average particle diameter (D) of the particles is preferably within the range of 2.5 to 10 μm, as described above. When the thickness (d) of the anti-glare layer 3a and the weight average particle diameter (D) of the particles are in the above-mentioned combination, the anti-glare properties can be further improved. The thickness (d) of the anti-glare layer 3a is more preferably within the range of 3 to 8 μm.

アンチグレア層3aの厚み(d)と前記粒子の重量平均粒径(D)との関係は、0.3≦D/d≦0.9の範囲内にあることが好ましい。このような関係にあることにより、よりアンチグレア性に優れ、かつ白ボケが防止でき、さらに、外観欠点のないアンチグレア層とすることができる。 The relationship between the thickness (d) of the anti-glare layer 3a and the weight average particle diameter (D) of the particles is preferably within the range of 0.3≦D/d≦0.9. By having such a relationship, it is possible to obtain an anti-glare layer that has better anti-glare properties, can prevent white blurring, and has no defects in appearance.

本実施形態の光学積層体11では、前述のように、アンチグレア層3aは、前記粒子および前記チキソトロピー付与剤が凝集することによって、アンチグレア層3aの表面に凸状部を形成する。前記凸状部を形成する凝集部においては、前記粒子が、アンチグレア層3aの面方向に、複数集まった状態で存在する。これにより、前記凸状部が、なだらかな形状となっている。本実施形態のアンチグレア層3aは、このような形状の凸状部を有することで、アンチグレア性を維持しつつ、かつ、白ボケを防止することができ、さらに、外観欠点を生じにくくすることができる。 In the optical laminate 11 of this embodiment, as described above, the anti-glare layer 3a forms convex portions on the surface of the anti-glare layer 3a by aggregation of the particles and the thixotropy imparting agent. In the agglomerated portion forming the convex portion, a plurality of the particles are present in a state of being gathered in the surface direction of the anti-glare layer 3a. Thereby, the convex portion has a gentle shape. By having the convex portion having such a shape, the anti-glare layer 3a of the present embodiment can maintain anti-glare properties and prevent white blurring, and furthermore, can prevent appearance defects from occurring. can.

アンチグレア層3aの表面形状は、アンチグレア層形成材料に含まれる粒子の凝集状態を制御することで、任意に設計することができる。前記粒子の凝集状態は、例えば、前記粒子の材質(例えば、粒子表面の化学的修飾状態、溶媒や樹脂に対する親和性等)、樹脂(バインダー)または溶媒の種類、組合せ等により制御できる。ここで、本実施形態では、前記アンチグレア層形成材料に含まれるチキソトロピー付与剤により、前記粒子の凝集状態をコントロールすることができる。この結果、本実施形態では、前記粒子の凝集状態を前述のようにすることができ、前記凸状部を、なだらかな形状とすることができる。 The surface shape of the anti-glare layer 3a can be arbitrarily designed by controlling the aggregation state of particles contained in the anti-glare layer forming material. The agglomeration state of the particles can be controlled by, for example, the material of the particles (for example, the chemical modification state of the particle surface, the affinity for solvents and resins, etc.), the type and combination of resins (binder) or solvents, and the like. Here, in this embodiment, the agglomeration state of the particles can be controlled by the thixotropy imparting agent contained in the anti-glare layer forming material. As a result, in this embodiment, the agglomeration state of the particles can be made as described above, and the convex portion can have a gentle shape.

本実施形態の光学積層体11において、基材1が樹脂等から形成されている場合、基材1とアンチグレア層3aとの界面において、浸透層を有していることが好ましい。前記浸透層は、アンチグレア層3aの形成材料に含まれる樹脂成分が、基材1に浸透して形成される。浸透層が形成されると、基材1とアンチグレア層3aとの密着性を向上させることができ、好ましい。前記浸透層は、厚みが0.2~3μmの範囲であることが好ましく、より好ましくは0.5~2μmの範囲である。例えば、基材1がトリアセチルセルロースであり、アンチグレア層3aに含まれる樹脂がアクリル樹脂である場合には、前記浸透層を形成させることができる。前記浸透層は、例えば、光学積層体11の断面を、透過型電子顕微鏡(TEM)で観察することで、確認することができ、厚みを測定することができる。 In the optical laminate 11 of this embodiment, when the base material 1 is made of resin or the like, it is preferable to have a permeable layer at the interface between the base material 1 and the anti-glare layer 3a. The permeable layer is formed by permeating the base material 1 with a resin component included in the material for forming the anti-glare layer 3a. It is preferable that the permeable layer is formed because the adhesion between the base material 1 and the anti-glare layer 3a can be improved. The thickness of the permeable layer is preferably in the range of 0.2 to 3 μm, more preferably in the range of 0.5 to 2 μm. For example, when the base material 1 is triacetylcellulose and the resin contained in the anti-glare layer 3a is an acrylic resin, the permeable layer can be formed. The permeation layer can be confirmed and its thickness can be measured, for example, by observing a cross section of the optical laminate 11 with a transmission electron microscope (TEM).

本実施形態では、このような浸透層を有する光学積層体11に適用した場合であっても、アンチグレア性と、白ボケの防止とを両立した所望するなだらかな表面凹凸形状を容易に形成することができる。前記浸透層は、アンチグレア層3aとの密着性が乏しい基材1であるほど、密着性の向上のため、厚く形成することが好ましい。 In this embodiment, even when applied to the optical laminate 11 having such a permeable layer, it is possible to easily form a desired smooth surface unevenness that combines anti-glare properties and prevention of white blur. Can be done. The penetration layer is preferably formed thicker in order to improve adhesion as the base material 1 has poorer adhesion to the anti-glare layer 3a.

本実施形態では、アンチグレア層3aにおいて、最大径が200μm以上の外観欠点がアンチグレア層3aの1m2あたり1個以下であることが好ましい。より好ましくは、前記外観欠点が無いことである。 In this embodiment, in the anti-glare layer 3a, it is preferable that the number of appearance defects having a maximum diameter of 200 μm or more is one or less per 1 m 2 of the anti-glare layer 3a. More preferably, there is no appearance defect.

本実施形態において、アンチグレア層3aが形成された基材1は、へイズ値が0~10%の範囲内であることが好ましい。前記ヘイズ値とは、JIS K 7136(2000年版)に準じたヘイズ値(曇度)である。前記ヘイズ値は、0~5%の範囲がより好ましく、さらに好ましくは、0~3%の範囲である。ヘイズ値を上記範囲とするためには、前記粒子と前記樹脂との屈折率差が0.001~0.02の範囲となるように、前記粒子と前記樹脂とを選択することが好ましい。ヘイズ値が前記範囲であることにより、鮮明な画像が得られ、また、暗所でのコントラストを向上させることができる。 In this embodiment, the base material 1 on which the anti-glare layer 3a is formed preferably has a haze value within the range of 0 to 10%. The haze value is a haze value (cloudiness) according to JIS K 7136 (2000 edition). The haze value is more preferably in the range of 0 to 5%, and even more preferably in the range of 0 to 3%. In order to keep the haze value within the above range, it is preferable to select the particles and the resin so that the difference in refractive index between the particles and the resin is in the range of 0.001 to 0.02. When the haze value is within the above range, a clear image can be obtained and the contrast in a dark place can be improved.

本実施形態は、アンチグレア層3a表面の凹凸形状において、平均傾斜角θa(°)が0.1~5.0の範囲であることが好ましく、0.3~4.5の範囲であることがより好ましく、1.0~4.0の範囲であることがさらに好ましく、1.6~4.0であることが特に好ましい。ここで、前記平均傾斜角θaは、下記数式(1)で定義される値である。前記平均傾斜角θaは、例えば、特開2017-138620に記載の方法により測定される値である。
平均傾斜角θa=tan-1Δa (1)
In this embodiment, in the uneven shape of the surface of the anti-glare layer 3a, the average inclination angle θa (°) is preferably in the range of 0.1 to 5.0, and preferably in the range of 0.3 to 4.5. It is more preferably in the range of 1.0 to 4.0, and particularly preferably in the range of 1.6 to 4.0. Here, the average inclination angle θa is a value defined by the following formula (1). The average inclination angle θa is a value measured by the method described in JP-A-2017-138620, for example.
Average inclination angle θa=tan-1Δa (1)

前記数式(1)において、Δaは、下記数式(2)に示すように、JIS B 0601(1994年度版)に規定される粗さ曲線の基準長さLにおいて、隣り合う山の頂点と谷の最下点との差(高さh)の合計(h1+h2+h3・・・+hn)を前記基準長さLで割った値である。前記粗さ曲線は、断面曲線から、所定の波長より長い表面うねり成分を位相差補償形高域フィルタで除去した曲線である。また、前記断面曲線とは、対象面に直角な平面で対象面を切断したときに、その切り口に現れる輪郭である。
Δa=(h1+h2+h3・・・+hn)/L (2)
In the above formula (1), Δa is the distance between the peaks and valleys of adjacent peaks in the standard length L of the roughness curve specified in JIS B 0601 (1994 edition), as shown in the formula (2) below. This is the value obtained by dividing the total (h1+h2+h3...+hn) of the difference (height h) from the lowest point by the reference length L. The roughness curve is a curve obtained by removing surface waviness components longer than a predetermined wavelength from a cross-sectional curve using a phase difference compensating high-pass filter. Further, the cross-sectional curve is a contour that appears at a cut end when the target surface is cut by a plane perpendicular to the target surface.
Δa=(h1+h2+h3...+hn)/L (2)

θaが、上記範囲にあると、よりアンチグレア性に優れ、かつ白ボケが防止できる。 When θa is within the above range, anti-glare properties are better and white blur can be prevented.

アンチグレア層3aを形成するにあたり、調製したアンチグレア層形成材料(塗工液)がチキソ性を示していることが好ましく、下記で規定されるTi値が、1.3~3.5の範囲にあることが好ましく、より好ましくは1.3~2.8の範囲である。
Ti値=β1/β2
ここで、β1はHAAKE社製レオストレス6000を用いてずり速度20(1/s)の条件で測定される粘度、β2はHAAKE社製レオストレス6000を用いてずり速度200(1/s)の条件で測定される粘度である。
In forming the anti-glare layer 3a, it is preferable that the prepared anti-glare layer forming material (coating liquid) exhibits thixotropic properties, and the Ti value defined below is in the range of 1.3 to 3.5. It is preferably in the range of 1.3 to 2.8.
Ti value = β1/β2
Here, β1 is the viscosity measured at a shear rate of 20 (1/s) using Rheostress 6000 manufactured by HAAKE, and β2 is the viscosity measured at a shear rate of 200 (1/s) using Rheostress 6000 manufactured by HAAKE. This is the viscosity measured under the following conditions.

Ti値が、1.3未満であると、外観欠点が生じやすくなり、アンチグレア性、白ボケについての特性が悪化する。また、Ti値が、3.5を超えると、前記粒子が凝集しにくく分散状態となりやすくなる。 When the Ti value is less than 1.3, appearance defects are likely to occur, and the anti-glare properties and white blurring properties are deteriorated. Furthermore, when the Ti value exceeds 3.5, the particles are less likely to aggregate and become more likely to be in a dispersed state.

本実施形態のアンチグレア層3aの製造方法は、特に制限されず、いかなる方法で製造されてもよいが、例えば、前記樹脂、前記粒子、前記チキソトロピー付与剤および溶媒を含むアンチグレア層形成材料(塗工液)を準備し、前記アンチグレア層形成材料(塗工液)を前記基材1の片面1aに塗工して塗膜を形成し、前記塗膜を硬化させてアンチグレア層3aを形成することにより、製造できる。本実施形態においては、金型による転写方式や、サンドブラスト、エンボスロールなどの適宜な方式で凹凸形状を付与する方法などを、併せて用いることもできる。 The method for producing the anti-glare layer 3a of the present embodiment is not particularly limited and may be produced by any method. For example, the anti-glare layer forming material (coating liquid), apply the anti-glare layer forming material (coating liquid) to one side 1a of the base material 1 to form a coating film, and cure the coating film to form an anti-glare layer 3a. , can be manufactured. In this embodiment, a transfer method using a mold, a method of imparting an uneven shape by an appropriate method such as sandblasting, embossing roll, etc. can also be used.

前記溶媒は、特に制限されず、種々の溶媒を使用可能であり、一種類を単独で使用してもよいし、二種類以上を併用してもよい。前記樹脂の組成、前記粒子および前記チキソトロピー付与剤の種類、含有量等に応じて最適な溶媒種類や溶媒比率が存在する。溶媒としては、特に限定されないが、例えば、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノール、2-メトキシエタノール等のアルコール類;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン等のケトン類;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類;ジイソプロピルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のエーテル類;エチレングリコール、プロピレングリコール等のグリコール類;エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ等のセロソルブ類;ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類;ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類等があげられる。 The solvent is not particularly limited, and various solvents can be used, and one type may be used alone or two or more types may be used in combination. There are optimal solvent types and solvent ratios depending on the composition of the resin, the types and contents of the particles and the thixotropy-imparting agent, and the like. Examples of the solvent include, but are not limited to, alcohols such as methanol, ethanol, isopropyl alcohol, butanol, and 2-methoxyethanol; ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, and cyclopentanone; methyl acetate, ethyl acetate. , esters such as butyl acetate; ethers such as diisopropyl ether and propylene glycol monomethyl ether; glycols such as ethylene glycol and propylene glycol; cellosolves such as ethyl cellosolve and butyl cellosolve; aliphatic hydrocarbons such as hexane, heptane, and octane. Aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene, etc.

基材1として、例えば、トリアセチルセルロース(TAC)を採用して浸透層を形成する場合は、TACに対する良溶媒が好適に使用できる。その溶媒としては、例えば、酢酸エチル、メチルエチルケトン、シクロペンタノンなどをあげることができる。 For example, when triacetylcellulose (TAC) is used as the base material 1 to form the permeation layer, a good solvent for TAC can be suitably used. Examples of the solvent include ethyl acetate, methyl ethyl ketone, and cyclopentanone.

また、溶媒を適宜選択することによって、チキソトロピー付与剤によるアンチグレア層形成材料(塗工液)へのチキソ性を良好に発現させることができる。例えば、有機粘土を用いる場合には、トルエンおよびキシレンを好適に、単独使用または併用することができ、例えば、酸化ポリオレフィンを用いる場合には、メチルエチルケトン、酢酸エチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルを好適に、単独使用または併用することができ、例えば、変性ウレアを用いる場合には、酢酸ブチルおよびメチルイソブチルケトンを好適に、単独使用または併用することができる。 In addition, by appropriately selecting the solvent, the thixotropy imparting agent can exhibit good thixotropy to the anti-glare layer forming material (coating liquid). For example, when using organoclay, toluene and xylene can be preferably used alone or in combination; for example, when using an oxidized polyolefin, methyl ethyl ketone, ethyl acetate, propylene glycol monomethyl ether can preferably be used alone. They can be used or used in combination. For example, when using modified urea, butyl acetate and methyl isobutyl ketone can be suitably used alone or in combination.

前記アンチグレア層形成材料には、各種レベリング剤を添加することができる。前記レベリング剤としては、塗工ムラ防止(塗工面の均一化)を目的に、例えば、フッ素系またはシリコーン系のレベリング剤を用いることができる。本実施形態では、アンチグレア層3aの表面に防汚性が求められる場合、または、反射防止層(低屈折率層)や層間充填剤を含む層がアンチグレア層3a上に形成される場合などに応じて、適宜レベリング剤を選定することができる。本実施形態では、例えば、前記チキソトロピー付与剤を含ませることで塗工液にチキソ性を発現させることができるため、塗工ムラが発生しにくい。このため、本実施形態は、例えば、前記レベリング剤の選択肢を広げられるという優位点を有している。 Various leveling agents can be added to the anti-glare layer forming material. As the leveling agent, for example, a fluorine-based or silicone-based leveling agent can be used for the purpose of preventing uneven coating (uniform coating surface). In this embodiment, the anti-glare layer 3a is used in cases where antifouling properties are required on the surface of the anti-glare layer 3a, or where an anti-reflection layer (low refractive index layer) or a layer containing an interlayer filler is formed on the anti-glare layer 3a. The leveling agent can be selected as appropriate. In this embodiment, for example, by including the thixotropy imparting agent, the coating liquid can exhibit thixotropy, so that coating unevenness is less likely to occur. Therefore, this embodiment has the advantage that, for example, the options for the leveling agent can be expanded.

前記レベリング剤の配合量は、前記樹脂100重量部に対して、例えば、5重量部以下、好ましくは0.01~5重量部の範囲である。 The blending amount of the leveling agent is, for example, 5 parts by weight or less, preferably in the range of 0.01 to 5 parts by weight, based on 100 parts by weight of the resin.

前記アンチグレア層形成材料には、必要に応じて、性能を損なわない範囲で、顔料、充填剤、分散剤、可塑剤、紫外線吸収剤、界面活性剤、防汚剤、酸化防止剤等が添加されてもよい。これらの添加剤は一種類を単独で使用してもよく、また二種類以上併用してもよい。 If necessary, pigments, fillers, dispersants, plasticizers, ultraviolet absorbers, surfactants, antifouling agents, antioxidants, etc. may be added to the anti-glare layer forming material within a range that does not impair performance. You can. These additives may be used alone or in combination of two or more.

前記アンチグレア層形成材料には、例えば、特開2008-88309号公報に記載されるような、従来公知の光重合開始剤を用いることができる。 For the anti-glare layer forming material, a conventionally known photopolymerization initiator as described in JP-A-2008-88309, for example, can be used.

前記アンチグレア層形成材料を基材1の片面1a上に塗工する方法としては、例えば、ファンテンコート法、ダイコート法、スピンコート法、スプレーコート法、グラビアコート法、ロールコート法、バーコート法等の塗工法を用いることができる。 Examples of the method for coating the anti-glare layer forming material on one side 1a of the base material 1 include a fountain coating method, a die coating method, a spin coating method, a spray coating method, a gravure coating method, a roll coating method, and a bar coating method. Coating methods such as the following can be used.

前記アンチグレア層形成材料を塗工して基材1の上に塗膜を形成し、前記塗膜を硬化させる。前記硬化に先立ち、前記塗膜を乾燥させることが好ましい。前記乾燥は、例えば、自然乾燥でもよいし、風を吹きつけての風乾であってもよいし、加熱乾燥であってもよいし、これらを組み合わせた方法であってもよい。 The anti-glare layer forming material is applied to form a coating film on the base material 1, and the coating film is cured. It is preferable to dry the coating film prior to the curing. The drying may be, for example, natural drying, air drying by blowing wind, heat drying, or a combination of these methods.

前記アンチグレア層形成材料の塗膜の硬化手段は、特に制限されないが、紫外線硬化が好ましい。エネルギー線源の照射量は、紫外線波長365nmでの積算露光量として、50~500mJ/cm2が好ましい。照射量が、50mJ/cm2以上であれば、硬化がより十分となり、形成されるアンチグレア層の硬度もより十分なものとなる。また、500mJ/cm2以下であれば、形成されるアンチグレア層の着色を防止することができる。 The means for curing the coating film of the anti-glare layer forming material is not particularly limited, but ultraviolet curing is preferred. The irradiation amount of the energy ray source is preferably 50 to 500 mJ/cm 2 as a cumulative exposure amount at an ultraviolet wavelength of 365 nm. If the irradiation amount is 50 mJ/cm 2 or more, curing will be more sufficient, and the anti-glare layer formed will also have more sufficient hardness. Moreover, if it is 500 mJ/cm 2 or less, coloring of the anti-glare layer to be formed can be prevented.

以上のようにして、基材1の片面1aに、アンチグレア層3aを形成することができる。なお、前述の方法以外の製造方法でアンチグレア層3aを形成してもよい。本実施形態のアンチグレア層3aの硬度は、鉛筆硬度において、層の厚みにも影響されるが、2H以上の硬度を有することが好ましい。 As described above, the anti-glare layer 3a can be formed on one side 1a of the base material 1. Note that the anti-glare layer 3a may be formed by a manufacturing method other than the above-mentioned method. The hardness of the anti-glare layer 3a of this embodiment is influenced by the thickness of the layer in pencil hardness, but preferably has a hardness of 2H or more.

本実施形態は、アンチグレア層アンチグレア層3aは、二層以上が積層された複数層構造であってもよい。 In this embodiment, the anti-glare layer 3a may have a multi-layer structure in which two or more layers are laminated.

本実施形態において、アンチグレア層3aの上に、上述のAR層(低屈折率層)を配置してもよい。例えば、自発光型表示装置に本実施形態に係る光学積層体11を装着した場合、画像の視認性を低下させる要因のひとつに空気とアンチグレア層界面での光の反射があげられる。AR層は、その表面反射を低減させるものである。なお、アンチグレア層3aおよびAR層は、それぞれ、二層以上が積層された複数層構造であってもよい。 In this embodiment, the above-mentioned AR layer (low refractive index layer) may be placed on the anti-glare layer 3a. For example, when the optical laminate 11 according to this embodiment is attached to a self-luminous display device, one of the factors that reduces the visibility of images is the reflection of light at the interface between the air and the anti-glare layer. The AR layer reduces surface reflection. Note that the anti-glare layer 3a and the AR layer may each have a multilayer structure in which two or more layers are laminated.

また、汚染物の付着防止および付着した汚染物の除去容易性の向上のために、フッ素基含有のシラン系化合物若しくはフッ素基含有の有機化合物等から形成される汚染防止層をアンチグレア層3a上に積層することが好ましい。 In addition, in order to prevent the adhesion of contaminants and improve the ease of removing the adhered contaminants, a contamination prevention layer formed from a fluorine group-containing silane compound, a fluorine group-containing organic compound, etc. is provided on the anti-glare layer 3a. Lamination is preferred.

本実施形態において、基材1およびアンチグレア層3aの少なくとも一方に対し表面処理を行うことが好ましい。基材1の表面を表面処理すれば、アンチグレア層3aとの密着性がさらに向上する。また、アンチグレア層3aの表面を表面処理すれば、前記AR層との密着性がさらに向上する。 In this embodiment, it is preferable to perform surface treatment on at least one of the base material 1 and the anti-glare layer 3a. If the surface of the base material 1 is surface-treated, the adhesion with the anti-glare layer 3a will be further improved. Moreover, if the surface of the anti-glare layer 3a is subjected to a surface treatment, the adhesion with the AR layer is further improved.

基材1のカール発生を防止するために、アンチグレア層3aの他方の面に対し溶剤処理を行ってもよい。また、カール発生を防止するために、アンチグレア層3aの他方の面に透明樹脂層を形成してもよい。 In order to prevent the substrate 1 from curling, the other surface of the anti-glare layer 3a may be treated with a solvent. Furthermore, in order to prevent curling, a transparent resin layer may be formed on the other surface of the anti-glare layer 3a.

<粘着剤層>
本実施形態において、粘着剤層2は、着色剤を含む光硬化性粘着剤組成物及び溶媒型粘着剤組成物から選ばれる粘着剤組成物から形成される粘着剤層であることが好ましい。
<Adhesive layer>
In this embodiment, the adhesive layer 2 is preferably an adhesive layer formed from an adhesive composition selected from a photocurable adhesive composition containing a colorant and a solvent-based adhesive composition.

<光硬化性粘着剤組成物>
前記光硬化性粘着剤組成物は、着色剤に加えて、ポリマーと、光重合性化合物と、光重合開始剤とを含む。すなわち、本実施形態の粘着剤層2の形成に用いられる光硬化性粘着剤組成物は、ポリマーと、光重合性化合物と、光重合開始剤と、着色剤とを含有する。本実施形態の粘着剤層2は、可視光に光吸収を有する粘着剤層である。
<Photocurable adhesive composition>
The photocurable adhesive composition contains a polymer, a photopolymerizable compound, and a photopolymerization initiator in addition to a colorant. That is, the photocurable adhesive composition used to form the adhesive layer 2 of this embodiment contains a polymer, a photopolymerizable compound, a photopolymerization initiator, and a colorant. The adhesive layer 2 of this embodiment is an adhesive layer that absorbs visible light.

光硬化性粘着剤組成物を用いて形成される粘着剤層は、光硬化を行うタイプのもの(第一形態)と、光硬化を行わず、後述の表示パネルと貼り合わせ後に光硬化を行うタイプのもの(第二形態)に大別される。 The adhesive layer formed using a photocurable adhesive composition is of a type that is photocured (first form), and of a type that is not photocured but is photocured after being bonded to a display panel as described below. It is roughly divided into two types (second form).

[第一形態]
第一形態の粘着剤層は、ポリマーと、光重合性化合物と、光重合開始剤と、着色剤とを含有する光硬化性粘着剤組成物を、剥離フィルム上に塗布し、光硬化を行うことにより、形成することができる。
[First form]
The adhesive layer of the first form applies a photocurable adhesive composition containing a polymer, a photopolymerizable compound, a photopolymerization initiator, and a colorant onto a release film, and photocures the composition. By doing so, it can be formed.

<光硬化性粘着剤組成物>
(ポリマー)
前記光硬化性粘着剤組成物に含まれるポリマーとしては、アクリル系ポリマー、シリコーン系ポリマー、ポリエステル、ポリウレタン、ポリアミド、ポリビニルエーテル、酢酸ビニル/塩化ビニルコポリマー、変性ポリオレフィン、エポキシ系、フッ素系、天然ゴム、合成ゴム等のゴム系等のポリマーが挙げられる。特に、適度な濡れ性、凝集性および接着性等の粘着特性を示し、耐候性や耐熱性等にも優れることから、アクリル系ポリマーが好適に用いられる。
<Photocurable adhesive composition>
(polymer)
Examples of polymers contained in the photocurable adhesive composition include acrylic polymers, silicone polymers, polyesters, polyurethanes, polyamides, polyvinyl ethers, vinyl acetate/vinyl chloride copolymers, modified polyolefins, epoxy systems, fluorine systems, and natural rubber. and rubber-based polymers such as synthetic rubber. In particular, acrylic polymers are preferably used because they exhibit appropriate adhesive properties such as wettability, cohesiveness, and adhesiveness, and are also excellent in weather resistance and heat resistance.

前記アクリル系ポリマーは、主たる構成モノマー成分として(メタ)アクリル酸アルキルエステルを含有する。なお、本明細書において、「(メタ)アクリル」とは、アクリルおよび/またはメタクリルを意味する。アクリル系ポリマーを構成するモノマー成分全量に対する、(メタ)アクリル酸アルキルエステルの量は、50重量%以上が好ましく、55重量%以上がより好ましく、60重量%以上がさらに好ましい。 The acrylic polymer contains a (meth)acrylic acid alkyl ester as a main constituent monomer component. In addition, in this specification, "(meth)acrylic" means acrylic and/or methacryl. The amount of the (meth)acrylic acid alkyl ester relative to the total amount of monomer components constituting the acrylic polymer is preferably 50% by weight or more, more preferably 55% by weight or more, and even more preferably 60% by weight or more.

(メタ)アクリル酸アルキルエステルとしては、アルキル基の炭素数が1~20である(メタ)アクリル酸アルキルエステルが好適に用いられる。(メタ)アクリル酸アルキルエステルは、アルキル基が分枝を有していてもよく、環状アルキル基を有していてもよい。 As the (meth)acrylic acid alkyl ester, a (meth)acrylic acid alkyl ester in which the alkyl group has 1 to 20 carbon atoms is preferably used. The (meth)acrylic acid alkyl ester may have a branched alkyl group or a cyclic alkyl group.

鎖状アルキル基を有する(メタ)アクリル酸アルキルエステルの具体例としては、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸ブチル、(メタ)アクリル酸イソブチル、(メタ)アクリル酸s-ブチル、(メタ)アクリル酸t-ブチル、(メタ)アクリル酸ペンチル、(メタ)アクリル酸イソペンチル、(メタ)アクリル酸ネオペンチル、(メタ)アクリル酸ヘキシル、(メタ)アクリル酸ヘプチル、(メタ)アクリル酸2-エチルヘキシル、(メタ)アクリル酸オクチル、(メタ)アクリル酸イソオクチル、(メタ)アクリル酸ノニル、(メタ)アクリル酸イソノニル、(メタ)アクリル酸デシル、(メタ)アクリル酸イソデシル、(メタ)アクリル酸ウンデシル、(メタ)アクリル酸ドデシル、(メタ)アクリル酸イソトリドデシル、(メタ)アクリル酸テトラデシル、(メタ)アクリル酸イソテトラデシル、(メタ)アクリル酸ペンタデシル、(メタ)アクリル酸セチル、(メタ)アクリル酸ヘプタデシル、(メタ)アクリル酸オクタデシル、(メタ)アクリル酸イソオクタデシル、(メタ)アクリル酸ノナデシル等が挙げられる。第一形態に用いられる好ましい鎖状アルキル基を有する(メタ)アクリル酸アルキルエステルとしては、(メタ)アクリル酸ブチル、(メタ)アクリル酸2-エチルヘキシル、(メタ)アクリル酸オクタデシル、(メタ)アクリル酸ドデシルである。アクリル系ポリマーを構成するモノマー成分全量に対する鎖状アルキル基を有する(メタ)アクリル酸アルキルエステルの量は、例えば、40~90重量%程度であり、45~80重量%または50~70重量%であってもよい。 Specific examples of (meth)acrylic acid alkyl esters having a chain alkyl group include methyl (meth)acrylate, ethyl (meth)acrylate, butyl (meth)acrylate, isobutyl (meth)acrylate, and (meth)acrylate. s-butyl acrylate, t-butyl (meth)acrylate, pentyl (meth)acrylate, isopentyl (meth)acrylate, neopentyl (meth)acrylate, hexyl (meth)acrylate, heptyl (meth)acrylate, 2-ethylhexyl (meth)acrylate, octyl (meth)acrylate, isooctyl (meth)acrylate, nonyl (meth)acrylate, isononyl (meth)acrylate, decyl (meth)acrylate, isodecyl (meth)acrylate , undecyl (meth)acrylate, dodecyl (meth)acrylate, isotridodecyl (meth)acrylate, tetradecyl (meth)acrylate, isotetradecyl (meth)acrylate, pentadecyl (meth)acrylate, (meth) Examples include cetyl acrylate, heptadecyl (meth)acrylate, octadecyl (meth)acrylate, isooctadecyl (meth)acrylate, and nonadecyl (meth)acrylate. Preferred (meth)acrylic acid alkyl esters having a chain alkyl group used in the first embodiment include butyl (meth)acrylate, 2-ethylhexyl (meth)acrylate, octadecyl (meth)acrylate, and (meth)acrylate. The acid is dodecyl. The amount of the (meth)acrylic acid alkyl ester having a chain alkyl group relative to the total amount of monomer components constituting the acrylic polymer is, for example, about 40 to 90% by weight, 45 to 80% by weight, or 50 to 70% by weight. There may be.

脂環式アルキル基を有する(メタ)アクリル酸アルキルエステルの具体例としては、(メタ)アクリル酸シクロペンチル、(メタ)アクリル酸シクロヘキシル、(メタ)アクリル酸シクロヘプチル、(メタ)アクリル酸シクロオクチル等の(メタ)アクリル酸シクロアルキルエステル;(メタ)アクリル酸イソボルニル等の二環式の脂肪族炭化水素環を有する(メタ)アクリル酸エステル;ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニルオキシエチル(メタ)アクリレート、トリシクロペンタニル(メタ)アクリレート、1-アダマンチル(メタ)アクリレート、2-メチル-2-アダマンチル(メタ)アクリレート、2-エチル-2-アダマンチル(メタ)アクリレート等の三環以上の脂肪族炭化水素環を有する(メタ)アクリル酸エステルが挙げられる。第一形態に用いられる好ましい脂環式アルキル基を有する(メタ)アクリル酸アルキルエステルとしては、(メタ)アクリル酸シクロヘキシル、(メタ)アクリル酸イソボルニルである。アクリル系ポリマーを構成するモノマー成分全量に対する脂環式アルキル基を有する(メタ)アクリル酸アルキルエステルの量は、例えば、3~50重量%程度であり、5~40重量%または10~30重量%であってもよい。 Specific examples of (meth)acrylic acid alkyl esters having an alicyclic alkyl group include cyclopentyl (meth)acrylate, cyclohexyl (meth)acrylate, cycloheptyl (meth)acrylate, cyclooctyl (meth)acrylate, etc. (meth)acrylic acid cycloalkyl ester; (meth)acrylic acid ester having a bicyclic aliphatic hydrocarbon ring such as isobornyl (meth)acrylate; dicyclopentanyl (meth)acrylate, dicyclopentanyloxy Tricycles such as ethyl (meth)acrylate, tricyclopentanyl (meth)acrylate, 1-adamantyl (meth)acrylate, 2-methyl-2-adamantyl (meth)acrylate, 2-ethyl-2-adamantyl (meth)acrylate, etc. Examples include (meth)acrylic esters having the above aliphatic hydrocarbon rings. Preferred alkyl (meth)acrylates having an alicyclic alkyl group used in the first embodiment include cyclohexyl (meth)acrylate and isobornyl (meth)acrylate. The amount of the (meth)acrylic acid alkyl ester having an alicyclic alkyl group relative to the total amount of monomer components constituting the acrylic polymer is, for example, about 3 to 50% by weight, 5 to 40% by weight, or 10 to 30% by weight. It may be.

アクリル系ポリマーは、構成モノマー成分として、水酸基含有モノマー、カルボキシ基含有モノマー、窒素含有モノマー等の極性基含有モノマーを含んでいてもよい。アクリル系ポリマーが、構成モノマー成分として、極性基含有モノマーを含むことにより、粘着剤の凝集力が高められ、接着力が向上する傾向がある。第一形態に用いられる好ましい極性基含有モノマーは、水酸基含有モノマー、窒素含有モノマーである。 アクリル系ポリマーを構成するモノマー成分全量に対する極性基含有モノマーの量(ヒドロキシ基含有モノマー、カルボキシ基含有モノマー、および窒素含有モノマーの合計)は、例えば、3~50重量%程度であり、5~40重量%または10~30重量%であってもよい。 The acrylic polymer may contain polar group-containing monomers such as hydroxyl group-containing monomers, carboxyl group-containing monomers, and nitrogen-containing monomers as constituent monomer components. When the acrylic polymer contains a polar group-containing monomer as a constituent monomer component, the cohesive force of the pressure-sensitive adhesive tends to be increased, and the adhesive strength tends to be improved. Preferred polar group-containing monomers used in the first embodiment are hydroxyl group-containing monomers and nitrogen-containing monomers. The amount of polar group-containing monomer (total of hydroxy group-containing monomer, carboxyl group-containing monomer, and nitrogen-containing monomer) with respect to the total amount of monomer components constituting the acrylic polymer is, for example, about 3 to 50% by weight, and 5 to 40% by weight. It may be % by weight or 10-30% by weight.

水酸基含有モノマーとしては、(メタ)アクリル酸2‐ヒドロキシエチル、(メタ)アクリル酸2‐ヒドロキシプロピル、(メタ)アクリル酸4‐ヒドロキシブチル、(メタ)アクリル酸6‐ヒドロキシヘキシル、(メタ)アクリル酸8‐ヒドロキシオクチル、(メタ)アクリル酸10‐ヒドロキシデシル、(メタ)アクリル酸12‐ヒドロキシラウリルや(4‐ヒドロキシメチルシクロヘキシル)‐メチル(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリル酸エステルが挙げられる。イソシアネート架橋剤によりポリマーに架橋構造が導入される場合は、水酸基がイソシアネート基との反応点(架橋点)となり得る。第一形態に用いられる好ましい水酸基含有モノマーとしては、(メタ)アクリル酸2‐ヒドロキシエチル、(メタ)アクリル酸4‐ヒドロキシブチルである。アクリル系ポリマーを構成するモノマー成分全量に対する水酸基含有モノマーの量は、例えば、3~50重量%程度であり、5~40重量%または10~30重量%であってもよい。 Examples of hydroxyl group-containing monomers include 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, 2-hydroxypropyl (meth)acrylate, 4-hydroxybutyl (meth)acrylate, 6-hydroxyhexyl (meth)acrylate, and (meth)acrylate. Examples include (meth)acrylic acid esters such as 8-hydroxyoctyl acid, 10-hydroxydecyl (meth)acrylate, 12-hydroxylauryl (meth)acrylate, and (4-hydroxymethylcyclohexyl)-methyl (meth)acrylate. . When a crosslinked structure is introduced into the polymer by an isocyanate crosslinking agent, the hydroxyl group can serve as a reaction point (crosslinking point) with the isocyanate group. Preferred hydroxyl group-containing monomers used in the first embodiment include 2-hydroxyethyl (meth)acrylate and 4-hydroxybutyl (meth)acrylate. The amount of the hydroxyl group-containing monomer relative to the total amount of monomer components constituting the acrylic polymer is, for example, about 3 to 50% by weight, and may be 5 to 40% by weight or 10 to 30% by weight.

カルボキシ基含有モノマーとしては、(メタ)アクリル酸、(メタ)アクリル酸カルボキシエチル、(メタ)アクリル酸カルボキシペンチル等のアクリル系モノマーや、イタコン酸、マレイン酸、フマール酸、クロトン酸等が挙げられる。エポキシ系架橋剤によりポリマーに架橋構造が導入される場合は、カルボキシ基がエポキシ基との反応点(架橋点)となり得る。第一形態に用いられる好ましいカルボキシ基含有モノマーとしては、(メタ)アクリル酸である。 アクリル系ポリマーを構成するモノマー成分全量に対するカルボキシ基含有モノマーの量は、例えば、3~50重量%程度であり、5~40重量%または10~30重量%であってもよい。 Examples of carboxy group-containing monomers include acrylic monomers such as (meth)acrylic acid, carboxyethyl (meth)acrylate, and carboxypentyl (meth)acrylate, itaconic acid, maleic acid, fumaric acid, and crotonic acid. . When a crosslinked structure is introduced into a polymer by an epoxy crosslinking agent, a carboxy group can become a reaction point (crosslinking point) with an epoxy group. A preferred carboxy group-containing monomer used in the first embodiment is (meth)acrylic acid. The amount of the carboxy group-containing monomer relative to the total amount of monomer components constituting the acrylic polymer is, for example, about 3 to 50% by weight, and may be 5 to 40% by weight or 10 to 30% by weight.

窒素含有モノマーとしては、N-ビニルピロリドン、メチルビニルピロリドン、ビニルピリジン、ビニルピペリドン、ビニルピリミジン、ビニルピペラジン、ビニルピラジン、ビニルピロール、ビニルイミダゾール、ビニルオキサゾール、ビニルモルホリン、(メタ)アクリロイルモルホリン、N-ビニルカルボン酸アミド類、N-ビニルカプロラクタム、アクリルアミド等のビニル系モノマーや、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等のシアノ基含有モノマーが挙げられる。第一形態に用いられる好ましい窒素含有モノマーとしては、N-ビニルピロリドンである。アクリル系ポリマーを構成するモノマー成分全量に対する窒素含有モノマーの量は、例えば、3~50重量%程度であり、5~40重量%または10~30重量%であってもよい。 Examples of nitrogen-containing monomers include N-vinylpyrrolidone, methylvinylpyrrolidone, vinylpyridine, vinylpiperidone, vinylpyrimidine, vinylpiperazine, vinylpyrazine, vinylpyrrole, vinylimidazole, vinyloxazole, vinylmorpholine, (meth)acryloylmorpholine, and N-vinyl. Examples include vinyl monomers such as carboxylic acid amides, N-vinylcaprolactam, and acrylamide, and cyano group-containing monomers such as acrylonitrile and methacrylonitrile. A preferred nitrogen-containing monomer used in the first embodiment is N-vinylpyrrolidone. The amount of the nitrogen-containing monomer based on the total amount of monomer components constituting the acrylic polymer is, for example, about 3 to 50% by weight, and may be 5 to 40% by weight or 10 to 30% by weight.

アクリル系ポリマーは、上記以外のモノマー成分(「その他のモノマー」と称する場合がある)として、酸無水物基含有モノマー、(メタ)アクリル酸のカプロラクトン付加物、スルホン酸基含有モノマー、燐酸基含有モノマー、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、スチレン、α-メチルスチレン、等のビニル系モノマー;(メタ)アクリル酸グリシジル等のエポキシ基含有モノマー;(メタ)アクリル酸ポリエチレングリコール、(メタ)アクリル酸ポリプロピレングリコール、(メタ)アクリル酸メトキシエチレングリコール、(メタ)アクリル酸メトキシポリプロピレングリコール等のグリコール系アクリルエステルモノマー;(メタ)アクリル酸テトラヒドロフルフリル、フッ素(メタ)アクリレート、シリコーン(メタ)アクリレートや(メタ)アクリル酸2-メトキシエチル等のアクリル酸エステル系モノマー等を含んでいてもよい。 Acrylic polymers contain monomer components other than those listed above (sometimes referred to as "other monomers"), such as acid anhydride group-containing monomers, caprolactone adducts of (meth)acrylic acid, sulfonic acid group-containing monomers, and phosphoric acid group-containing monomers. Monomers, vinyl monomers such as vinyl acetate, vinyl propionate, styrene, α-methylstyrene; epoxy group-containing monomers such as glycidyl (meth)acrylate; polyethylene glycol (meth)acrylate, polypropylene glycol (meth)acrylate Glycol-based acrylic ester monomers such as , methoxyethylene glycol (meth)acrylate, and methoxypolypropylene glycol (meth)acrylate; tetrahydrofurfuryl (meth)acrylate, fluorine (meth)acrylate, silicone (meth)acrylate, and (meth)acrylate. It may also contain an acrylic ester monomer such as 2-methoxyethyl acrylate.

光硬化性粘着剤組成物に含まれるポリマーのガラス転移温度(Tg)は、0℃以下が好ましい。ポリマーのガラス転移温度は、-5℃以下、-10℃以下または-15℃以下であってもよい。ポリマーのガラス転移温度は、動的粘弾性測定による損失正接(tanδ)のピークトップ温度である。ポリマーに架橋構造が導入されている場合は、ポリマーの組成から、理論Tgに基づいてガラス転移温度を算出すればよい。理論Tgは、後述のFoxの式により算出されるものである。 The glass transition temperature (Tg) of the polymer contained in the photocurable pressure-sensitive adhesive composition is preferably 0°C or lower. The glass transition temperature of the polymer may be -5°C or lower, -10°C or lower, or -15°C or lower. The glass transition temperature of a polymer is the peak top temperature of loss tangent (tan δ) measured by dynamic viscoelasticity measurement. When a crosslinked structure is introduced into the polymer, the glass transition temperature may be calculated from the composition of the polymer based on the theoretical Tg. The theoretical Tg is calculated using the Fox equation described later.

上記モノマー成分を、各種公知の方法により重合することにより、ポリマーが得られる。重合方法は特に限定されないが、光重合によりポリマーを調製することが好ましい。光重合では溶媒を用いずにポリマーを調製できるため、粘着剤層の形成時に溶媒の乾燥除去を必要とせず、厚みの大きい粘着剤層を均一に形成できる。 A polymer can be obtained by polymerizing the above monomer components by various known methods. Although the polymerization method is not particularly limited, it is preferable to prepare the polymer by photopolymerization. In photopolymerization, a polymer can be prepared without using a solvent, so it is not necessary to dry and remove the solvent when forming an adhesive layer, and a thick adhesive layer can be formed uniformly.

第一形態の粘着剤層の作製においては、モノマー成分の一部が未反応で残存している低重合度のポリマー(プレポリマー)として調製することが好ましい。プレポリマーの調製に用いる組成物(プレポリマー形成用組成物)は、モノマーに加えて光重合開始剤を含むことが好ましい。光重合開始剤は、モノマーの種類に応じて適宜選択すればよい。例えば、アクリル系ポリマーの重合には、光ラジカル重合開始剤が用いられる。光重合開始剤としては、ベンゾインエーテル系光重合開始剤、アセトフェノン系光重合開始剤、α-ケトール系光重合開始剤、芳香族スルホニルクロリド系光重合開始剤、光活性オキシム系光重合開始剤、ベンゾイン系光重合開始剤、ベンジル系光重合開始剤、ベンゾフェノン系光重合開始剤、ケタール系光重合開始剤、チオキサントン系光重合開始剤、アシルフォスフィンオキサイド系光重合開始剤等が挙げられる。 In producing the adhesive layer of the first form, it is preferable to prepare a polymer (prepolymer) with a low degree of polymerization in which a portion of the monomer components remains unreacted. The composition used for preparing the prepolymer (composition for forming a prepolymer) preferably contains a photopolymerization initiator in addition to the monomer. The photopolymerization initiator may be appropriately selected depending on the type of monomer. For example, a photoradical polymerization initiator is used for polymerizing acrylic polymers. Examples of photopolymerization initiators include benzoin ether photopolymerization initiators, acetophenone photopolymerization initiators, α-ketol photopolymerization initiators, aromatic sulfonyl chloride photopolymerization initiators, photoactive oxime photopolymerization initiators, Examples include benzoin-based photopolymerization initiators, benzyl-based photopolymerization initiators, benzophenone-based photopolymerization initiators, ketal-based photopolymerization initiators, thioxanthone-based photopolymerization initiators, acylphosphine oxide-based photopolymerization initiators, and the like.

重合に際しては、分子量調整等を目的として、連鎖移動剤や重合禁止剤(重合遅延剤)等を用いてもよい。連鎖移動剤としては、α-チオグリセロール、ラウリルメルカプタン、グリシジルメルカプタン、メルカプト酢酸、2-メルカプトエタノール、チオグリコール酸、チオグルコール酸2-エチルヘキシル、2,3-ジメルカプト-1-プロパノール等のチオール類や、α-メチルスチレン二量体等が挙げられる。 During polymerization, a chain transfer agent, a polymerization inhibitor (polymerization retardant), etc. may be used for the purpose of controlling the molecular weight. Examples of chain transfer agents include thiols such as α-thioglycerol, lauryl mercaptan, glycidyl mercaptan, mercaptoacetic acid, 2-mercaptoethanol, thioglycolic acid, 2-ethylhexyl thioglycolate, and 2,3-dimercapto-1-propanol; Examples include α-methylstyrene dimer.

プレポリマーの重合率は特に限定されないが、基材上への塗布に適した粘度とする観点から、3~50重量%が好ましく、5~40重量%がより好ましい。プレポリマーの重合率は、光重合開始剤の種類や使用量、UV光等の活性光線の照射強度・照射時間等を調整することによって、所望の範囲に調整できる。プレポリマーの重合率は、130℃で3時間加熱した際の不揮発分であり、下記式により算出される。粘着剤層の重合率(不揮発分)も同様の方法により測定される。
重合率(%)=加熱後の重量/加熱前の重量×100
The polymerization rate of the prepolymer is not particularly limited, but from the viewpoint of achieving a viscosity suitable for coating onto a substrate, it is preferably 3 to 50% by weight, more preferably 5 to 40% by weight. The polymerization rate of the prepolymer can be adjusted within a desired range by adjusting the type and amount of photopolymerization initiator used, the irradiation intensity and irradiation time of active light such as UV light, and the like. The polymerization rate of the prepolymer is the nonvolatile content when heated at 130° C. for 3 hours, and is calculated by the following formula. The polymerization rate (nonvolatile content) of the adhesive layer is also measured by the same method.
Polymerization rate (%) = Weight after heating / Weight before heating x 100

前述のように、粘着剤層の形成に用いられる光硬化性粘着剤組成物は、ポリマーと、光重合性化合物と、光重合開始剤と、着色剤とを含有する。例えば、プレポリマーに、光重合性化合物、光重合開始剤および着色剤を添加することにより、光硬化性粘着剤組成物が得られる。プレポリマーを用いる代わりに、低分子量のポリマー(オリゴマー)を用い、低分子量のポリマーに、光重合性化合物、光重合開始剤および着色剤を混合して、光硬化性粘着剤組成物を調製してもよい。 As mentioned above, the photocurable adhesive composition used to form the adhesive layer contains a polymer, a photopolymerizable compound, a photopolymerization initiator, and a colorant. For example, a photocurable adhesive composition can be obtained by adding a photopolymerizable compound, a photopolymerization initiator, and a colorant to a prepolymer. Instead of using a prepolymer, a photocurable adhesive composition is prepared by using a low molecular weight polymer (oligomer) and mixing a photopolymerizable compound, a photoinitiator, and a coloring agent with the low molecular weight polymer. You can.

(光重合性化合物)
前記光硬化性粘着剤組成物に含まれる光重合性化合物は、1分子中に1または複数の光重合性官能基を有する。光重合性官能基は、ラジカル重合性、カチオン重合性およびアニオン重合性のいずれでもよいが、反応性に優れることから、不飽和二重結合(エチレン性不飽和基)を有するラジカル重合性官能基が好ましい。
(Photopolymerizable compound)
The photopolymerizable compound contained in the photocurable adhesive composition has one or more photopolymerizable functional groups in one molecule. The photopolymerizable functional group may be radically polymerizable, cationically polymerizable, or anionically polymerizable; however, since it has excellent reactivity, a radically polymerizable functional group having an unsaturated double bond (ethylenic unsaturated group) is preferable. is preferred.

プレポリマーには、ポリマーと未反応のモノマーが含まれており、未反応のモノマーは光重合性を保持している。そのため、光硬化性粘着剤組成物の調製においては、必ずしも光重合性化合物を添加する必要はない。プレポリマーに光重合性化合物を添加する場合、添加する光重合性化合物は、プレポリマーの調製に用いたモノマーと同一でもよく、異なっていてもよい。 The prepolymer contains monomers that have not reacted with the polymer, and the unreacted monomers retain photopolymerizability. Therefore, in preparing a photocurable pressure-sensitive adhesive composition, it is not necessarily necessary to add a photopolymerizable compound. When adding a photopolymerizable compound to the prepolymer, the photopolymerizable compound added may be the same as or different from the monomer used to prepare the prepolymer.

ポリマーがアクリル系ポリマーである場合、光重合性化合物として添加する化合物は、ポリマーとの相溶性が高いことから、光重合性官能基として(メタ)アクリロイル基を有するモノマーまたはオリゴマーが好ましい。光重合性化合物は、1分子中に2以上の光重合性官能基を有する多官能化合物でもよい。光重合性の多官能化合物としては、多官能(メタ)アクリレートが挙げられる。多官能(メタ)アクリレートとしては、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリテトラメチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAエチレンオキサイド変性ジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAプロピレンオキサイド変性ジ(メタ)アクリレート、アルカンジオールジ(メタ)アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリストールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、グリセリンジ(メタ)アクリレート、ウレタンジ(メタ)アクリレート等の2官能(メタ)アクリル酸エステル;ペンタエリストールトリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、およびエトキシ化イソシアヌル酸トリ(メタ)アクリレート等の3官能(メタ)アクリル酸エステル;ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、エトキシ化ペンタエリストールテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリストールテトラ(メタ)アクリレート等の4官能(メタ)アクリル酸エステル;ジペンタエリストールペンタ(メタ)アクリレート等およびジペンタエリストールヘキサ(メタ)アクリレート等の5官能以上の(メタ)アクリル酸エステルが挙げられる。 When the polymer is an acrylic polymer, the compound added as a photopolymerizable compound is preferably a monomer or oligomer having a (meth)acryloyl group as a photopolymerizable functional group because of its high compatibility with the polymer. The photopolymerizable compound may be a polyfunctional compound having two or more photopolymerizable functional groups in one molecule. Examples of photopolymerizable polyfunctional compounds include polyfunctional (meth)acrylates. Examples of polyfunctional (meth)acrylates include polyethylene glycol di(meth)acrylate, polypropylene glycol di(meth)acrylate, polytetramethylene glycol di(meth)acrylate, bisphenol A ethylene oxide-modified di(meth)acrylate, and bisphenol A propylene oxide. Modified di(meth)acrylate, alkanediol di(meth)acrylate, tricyclodecanedimethanol di(meth)acrylate, pentaerythritol di(meth)acrylate, neopentyl glycol di(meth)acrylate, glycerin di(meth)acrylate , difunctional (meth)acrylic acid esters such as urethane di(meth)acrylate; trifunctional (such as pentaerythritol tri(meth)acrylate, trimethylolpropane tri(meth)acrylate, and ethoxylated isocyanuric acid tri(meth)acrylate) meth)acrylic acid ester; tetrafunctional (meth)acrylic ester such as ditrimethylolpropane tetra(meth)acrylate, ethoxylated pentaerythol tetra(meth)acrylate, pentaerythritol tetra(meth)acrylate; dipentaerythol penta Examples include (meth)acrylic acid esters having five or more functional groups such as (meth)acrylate and dipentaerythol hexa(meth)acrylate.

光重合性化合物として多官能化合物を用いる場合、多官能化合物の使用量は、ポリマー(プレポリマーを含む)100重量部に対して、10重量部以下が好ましく、より好ましくは0.001~1重量部であり、さらに好ましくは0.005~0.5重量部である。多官能モノマーの使用量が過度に大きい場合は、光硬化後の粘着剤層の粘性が低く、接着力に劣る場合がある。多官能化合物の使用量は、10重量部以下、5重量部以下、3重量部以下または1重量部以下であってもよい。多官能モノマーの使用量は0であってもよく、0.001重量部以上、0.01重量部以上または0.1重量部以上であってもよい。 When using a polyfunctional compound as a photopolymerizable compound, the amount of the polyfunctional compound used is preferably 10 parts by weight or less, more preferably 0.001 to 1 part by weight, based on 100 parts by weight of the polymer (including prepolymer). parts, more preferably 0.005 to 0.5 parts by weight. If the amount of the polyfunctional monomer used is too large, the viscosity of the pressure-sensitive adhesive layer after photocuring may be low and the adhesive strength may be poor. The amount of the polyfunctional compound used may be 10 parts by weight or less, 5 parts by weight or less, 3 parts by weight or less, or 1 part by weight or less. The amount of the polyfunctional monomer used may be 0, 0.001 parts by weight or more, 0.01 parts by weight or more, or 0.1 parts by weight or more.

光重合性化合物として、プレポリマーを形成するモノマーを用いる場合、水酸基含有モノマーが好ましく、(メタ)アクリル酸2‐ヒドロキシエチル、(メタ)アクリル酸4‐ヒドロキシブチルがより好ましい。光重合性化合物として水酸基含有モノマーを用いる場合、水酸基含有モノマーの使用量は、ポリマー(プレポリマーを含む)100重量部に対して、40重量部以下が好ましく、より好ましくは1~30重量部であり、さらに好ましくは5~20重量部である。水酸基含有モノマーの使用量は、40重量部以下、30重量部以下、20重量部以下であってもよい。水酸基含有モノマーの使用量は0であってもよく、1重量部以上、5重量部以上または10重量部以上であってもよい。 When using a monomer that forms a prepolymer as the photopolymerizable compound, a hydroxyl group-containing monomer is preferred, and 2-hydroxyethyl (meth)acrylate and 4-hydroxybutyl (meth)acrylate are more preferred. When using a hydroxyl group-containing monomer as a photopolymerizable compound, the amount of the hydroxyl group-containing monomer used is preferably 40 parts by weight or less, more preferably 1 to 30 parts by weight, based on 100 parts by weight of the polymer (including prepolymer). The amount is more preferably 5 to 20 parts by weight. The amount of the hydroxyl group-containing monomer used may be 40 parts by weight or less, 30 parts by weight or less, or 20 parts by weight or less. The amount of the hydroxyl group-containing monomer used may be 0, 1 part by weight or more, 5 parts by weight or more, or 10 parts by weight or more.

(光重合開始剤)
光硬化性粘着剤組成物は、光重合開始剤を含む。光重合開始剤は、紫外線等の活性光線の照射により、ラジカル、酸、塩基等を発生するものであり、光重合性化合物の種類等に応じて適宜に選択できる。光重合性化合物が(メタ)アクリロイル基を有する化合物(例えば、単官能または多官能の(メタ)アクリレート)である場合は、光重合開始剤として、光ラジカル重合開始剤を用いることが好ましい。光重合開始剤は、単独で使用してもよく、2種以上を混合して使用してもよい。
(Photopolymerization initiator)
The photocurable adhesive composition contains a photopolymerization initiator. The photopolymerization initiator generates radicals, acids, bases, etc. upon irradiation with actinic rays such as ultraviolet rays, and can be appropriately selected depending on the type of photopolymerizable compound. When the photopolymerizable compound is a compound having a (meth)acryloyl group (for example, a monofunctional or polyfunctional (meth)acrylate), it is preferable to use a radical photopolymerization initiator as the photopolymerization initiator. The photopolymerization initiators may be used alone or in combination of two or more.

前記ポリマー(プレポリマーを含む)の調製(重合)の際に用いた光重合開始剤が失活せずに残存している場合は、光重合開始剤の添加を省略してもよい。ポリマーに光重合開始剤を添加する場合、添加する光重合開始剤は、ポリマーの調製に用いた光重合開始剤と同一でもよく、異なっていてもよい。 If the photopolymerization initiator used during the preparation (polymerization) of the polymer (including prepolymer) remains without being deactivated, the addition of the photopolymerization initiator may be omitted. When adding a photopolymerization initiator to a polymer, the photopolymerization initiator added may be the same as or different from the photopolymerization initiator used for preparing the polymer.

光硬化性粘着剤組成物に含まれる光重合開始剤は、後述の着色剤による光吸収が小さい波長領域に吸収極大を有するものが好ましい。具体的には、光重合開始剤は、波長330~400nmの領域に吸収極大を有するものが好ましい。着色剤による光吸収が小さい領域に光重合開始剤が吸収極大を有することにより、着色剤による硬化阻害が抑制されるため、光硬化により重合率を十分に高めることができる。波長330~400nmの領域に吸収極大を有する光ラジカル重合開始剤としては、ヒドロキシケトン類、ベンジルジメチルケタール類、アミノケトン類、アシルフォスフィンオキサイド類、ベンゾフェノン類、トリクロロメチル基含有トリアジン誘導体等が挙げられる。 The photopolymerization initiator contained in the photocurable pressure-sensitive adhesive composition preferably has an absorption maximum in a wavelength region where light absorption by the colorant described below is small. Specifically, the photopolymerization initiator preferably has an absorption maximum in the wavelength range of 330 to 400 nm. Since the photopolymerization initiator has an absorption maximum in a region where light absorption by the colorant is small, inhibition of curing by the colorant is suppressed, so that the polymerization rate can be sufficiently increased by photocuring. Examples of the photoradical polymerization initiator having an absorption maximum in the wavelength range of 330 to 400 nm include hydroxyketones, benzyldimethyl ketals, aminoketones, acylphosphine oxides, benzophenones, and trichloromethyl group-containing triazine derivatives. .

光硬化性粘着剤組成物における光重合開始剤の含有量は、モノマー全量(ポリマーの調製に用いるモノマーと、ポリマーに添加する光重合性化合物)100重量部に対して、0.01~10重量部程度であり、0.05~5重量部程度が好ましい。 The content of the photopolymerization initiator in the photocurable adhesive composition is 0.01 to 10 parts by weight based on 100 parts by weight of the total amount of monomers (monomer used for preparing the polymer and photopolymerizable compound added to the polymer). The amount is about 0.05 to 5 parts by weight, preferably about 0.05 to 5 parts by weight.

(着色剤)
粘着剤層の形成に用いられる光硬化性粘着剤組成物は、着色剤を含む。着色剤は、光硬化性粘着剤組成物に溶解または分散可能なものであれば、染料でも顔料でもよい。少量の添加でも低いヘイズが達成でき、顔料のように沈降性がなく均一に分布させやすいことから、染料が好ましい。また、少量の添加でも色発現性が高いことから、顔料も好ましい。着色剤として顔料を使用する場合は、導電性が低いか、ないものが好ましい。また、染料を使用する場合は、後述の酸化防止剤などと併用することが好ましい。
(colorant)
The photocurable adhesive composition used to form the adhesive layer contains a colorant. The colorant may be a dye or a pigment as long as it can be dissolved or dispersed in the photocurable pressure-sensitive adhesive composition. Dyes are preferred because they can achieve low haze even when added in small amounts, and are easy to distribute uniformly without settling unlike pigments. Pigments are also preferred because they provide high color development even when added in small amounts. If a pigment is used as a coloring agent, it is preferably one with low or no electrical conductivity. Furthermore, when a dye is used, it is preferable to use it together with an antioxidant, which will be described later.

着色剤としては、可視光を吸収し、かつ紫外線透過性を有するものが用いられる。着色剤は、波長330~400nmの平均透過率が、波長400~700nmの平均透過率よりも大きいものが好ましい。着色剤の透過率は、波長400nmにおける透過率が50~60%程度となるように、テトラヒドロフラン(THF)等の適宜の溶媒または分散媒(波長330~700nmの範囲の吸収が小さい有機溶媒)により希釈した溶液または分散液を用いて測定する。 As the colorant, one that absorbs visible light and is transparent to ultraviolet light is used. The colorant preferably has an average transmittance in the wavelength range of 330 to 400 nm that is larger than that in the wavelength range of 400 to 700 nm. The transmittance of the colorant is determined by using an appropriate solvent or dispersion medium (an organic solvent with low absorption in the wavelength range of 330 to 700 nm) such as tetrahydrofuran (THF) so that the transmittance at a wavelength of 400 nm is about 50 to 60%. Measure using a diluted solution or dispersion.

可視光の吸収よりも紫外線の吸収が小さい紫外線透過性の黒色顔料としては、トクシキ製の「9050BLACK」、「UVBK-0001」等が挙げられる。紫外線透過性の黒色染料としては、オリヱント化学工業製の「SOC-L-0123」等が挙げられる。 Examples of ultraviolet-transparent black pigments that absorb less ultraviolet light than visible light include "9050BLACK" and "UVBK-0001" manufactured by Tokushiki. Examples of the ultraviolet-transparent black dye include "SOC-L-0123" manufactured by Orient Chemical Industry Co., Ltd.

黒色着色剤として一般に用いられているカーボンブラックやチタンブラックは、可視光の吸収よりも紫外線の吸収が大きい(可視光透過率よりも紫外線透過率が小さい)。そのため、紫外線に感度を有する光硬化性粘着剤組成物にカーボンブラック等の着色剤を添加すると、光硬化のために照射した紫外線の多くが着色剤により吸収され、光重合開始剤が吸収する光量が小さく、光硬化に時間を要する(積算照射光量が多くなる)。また、粘着剤層の厚みが大きい場合は、光照射面の反対側の面に到達する紫外線が少ないため、長時間の光照射を行っても、光硬化が不十分となる傾向がある。これに対して、可視光に比べて紫外線の透過率が大きい着色剤を用いることにより、着色剤に起因する硬化阻害を抑制できる。 Carbon black and titanium black, which are commonly used as black colorants, absorb more ultraviolet light than visible light (their ultraviolet transmittance is lower than their visible light transmittance). Therefore, when a colorant such as carbon black is added to a photocurable adhesive composition that is sensitive to ultraviolet light, most of the ultraviolet light irradiated for photocuring is absorbed by the colorant, and the amount of light absorbed by the photoinitiator is small and takes time to photocure (integrated amount of irradiation light increases). Furthermore, when the adhesive layer is thick, less ultraviolet rays reach the surface opposite to the light irradiation surface, so even if light irradiation is performed for a long time, photocuring tends to be insufficient. On the other hand, by using a colorant that has a higher transmittance for ultraviolet light than visible light, curing inhibition caused by the colorant can be suppressed.

光硬化性粘着剤組成物における着色剤の含有量は、例えば、モノマー全量100重量部に対して、0.01~20重量部程度であり、着色剤の種類や、粘着剤層の色調および光透過率等に応じて適宜設定すればよい。着色剤は、適宜の溶媒に溶解または分散させた溶液または分散液として、組成物に添加してもよい。 The content of the colorant in the photocurable adhesive composition is, for example, about 0.01 to 20 parts by weight based on 100 parts by weight of the total amount of monomers, and depends on the type of colorant, the color tone of the adhesive layer, and the light intensity. What is necessary is just to set it suitably according to transmittance|permeability etc. The colorant may be added to the composition as a solution or dispersion dissolved or dispersed in a suitable solvent.

(シランカップリング剤)
光硬化性粘着剤組成物には、本発明の効果を損なわない範囲で、シランカップリング剤が含まれていてもよい。光硬化性粘着剤組成物にシランカップリング剤が含まれていると、ガラスに対する接着信頼性(特に、高温高湿環境下でのガラスに対する接着信頼性)が向上し、好ましい。
(Silane coupling agent)
The photocurable pressure-sensitive adhesive composition may contain a silane coupling agent to the extent that the effects of the present invention are not impaired. It is preferable that the photocurable pressure-sensitive adhesive composition contains a silane coupling agent because it improves the reliability of adhesion to glass (particularly the reliability of adhesion to glass in a high temperature and high humidity environment).

前記シランカップリング剤としては、特に限定されないが、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ-アミノプロピルトリメトキシシラン、N-フェニル-アミノプロピルトリメトキシシラン、3-アクリロキシプロピルトリメトキシシランなどが好ましく挙げられる。中でも、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシランが好ましい。また、市販品として、例えば、商品名「KBM-403」(信越化学工業株式会社製)が挙げられる。なお、シランカップリング剤は、単独で又は2種以上を組み合わせて用いられてもよい。 The silane coupling agent is not particularly limited, but includes γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltriethoxysilane, γ-aminopropyltrimethoxysilane, and N-phenyl-aminopropyltrimethoxysilane. , 3-acryloxypropyltrimethoxysilane and the like are preferred. Among these, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane is preferred. Further, as a commercially available product, for example, the trade name "KBM-403" (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) can be mentioned. Note that the silane coupling agents may be used alone or in combination of two or more.

光硬化性粘着剤組成物におけるシランカップリング剤の含有量は、特に限定されないが、ポリマー100重量部に対して、0.01~1重量部が好ましく、より好ましくは0.03~0.5重量部である。 The content of the silane coupling agent in the photocurable adhesive composition is not particularly limited, but is preferably 0.01 to 1 part by weight, more preferably 0.03 to 0.5 parts by weight, based on 100 parts by weight of the polymer. Parts by weight.

(その他の成分)
第一形態において、光硬化性粘着剤組成物は、ポリマー、光重合性化合物、光重合開始剤および着色剤以外の成分を含んでいてもよい。例えば、光硬化速度の調製等を目的として連鎖移動剤が含まれていてもよい。また、前記光硬化性粘着剤組成物の粘度調整や粘着剤層の接着力の調整等を目的として、オリゴマーや粘着付与剤が含まれていてもよい。オリゴマーとしては、例えば重量平均分子量が1000~30000程度のものが用いられる。オリゴマーとしては、アクリル系ポリマーとの相溶性に優れることから、アクリル系オリゴマーが好ましい。前記光硬化性粘着剤組成物は、可塑剤、軟化剤、劣化防止剤、充填剤、酸化防止剤、界面活性剤、帯電防止剤等の添加剤を含んでいてもよい。
(Other ingredients)
In the first form, the photocurable adhesive composition may contain components other than the polymer, photopolymerizable compound, photoinitiator, and colorant. For example, a chain transfer agent may be included for the purpose of adjusting the photocuring speed. Further, an oligomer or a tackifier may be included for the purpose of adjusting the viscosity of the photocurable adhesive composition and adjusting the adhesive force of the adhesive layer. As the oligomer, for example, one having a weight average molecular weight of about 1,000 to 30,000 is used. As the oligomer, acrylic oligomers are preferred because they have excellent compatibility with acrylic polymers. The photocurable adhesive composition may contain additives such as a plasticizer, a softener, a deterioration inhibitor, a filler, an antioxidant, a surfactant, and an antistatic agent.

[第二形態]
第二形態の粘着剤層は、光硬化を行わないタイプの粘着剤層であり、光硬化性粘着剤組成物がシート状に形成されたものである。第二形態の粘着剤層は、光重合性化合物が未反応の状態で含まれているため、粘着剤層が光硬化性を有している。
[Second form]
The second type of adhesive layer is a type of adhesive layer that does not undergo photocuring, and is a sheet-shaped adhesive layer made of a photocurable adhesive composition. Since the adhesive layer of the second form contains the photopolymerizable compound in an unreacted state, the adhesive layer has photocurability.

<光硬化性粘着剤組成物>
第二形態の粘着剤層の形成に用いられる光硬化性粘着剤組成物は、ポリマーと、光重合性化合物と、光重合開始剤と、着色剤とを含有する。
<Photocurable adhesive composition>
The photocurable adhesive composition used to form the second type of adhesive layer contains a polymer, a photopolymerizable compound, a photopolymerization initiator, and a colorant.

(ポリマー)
光硬化性粘着剤組成物に含まれるポリマーとしては、第一形態と同様、各種のポリマーが適用可能であり、アクリル系ポリマーが好適に用いられる。アクリル系ポリマーを構成するモノマー成分は、第一形態と同様である。
(polymer)
As the polymer contained in the photocurable pressure-sensitive adhesive composition, various polymers can be used, as in the first embodiment, and acrylic polymers are preferably used. The monomer components constituting the acrylic polymer are the same as in the first embodiment.

後述の架橋剤により架橋構造を導入するために、ポリマーを構成するモノマー成分には、ヒドロキシ基含有モノマーおよび/またはカルボキシ基含有モノマーが含まれていることが好ましい。例えば、イソシアネート系架橋剤を用いる場合は、モノマー成分として、ヒドロキシ基含有モノマーを含有することが好ましい。エポキシ系架橋剤を用いる場合は、モノマーとして、カルボキシ基含有モノマーを含有することが好ましい。 In order to introduce a crosslinked structure using a crosslinking agent described below, it is preferable that the monomer component constituting the polymer contains a hydroxy group-containing monomer and/or a carboxyl group-containing monomer. For example, when using an isocyanate-based crosslinking agent, it is preferable to contain a hydroxy group-containing monomer as a monomer component. When using an epoxy crosslinking agent, it is preferable to contain a carboxyl group-containing monomer as the monomer.

第二形態では基材上では光硬化を行わないため、固体状(定型)の粘着剤層を形成するために、光硬化性粘着剤組成物に含まれるポリマーとして、比較的分子量が大きいものが用いられる。ポリマーの重量平均分子量は、例えば10万~200万程度である。 In the second form, photocuring is not performed on the base material, so in order to form a solid (standard shape) adhesive layer, a polymer with a relatively large molecular weight is used as the polymer contained in the photocurable adhesive composition. used. The weight average molecular weight of the polymer is, for example, about 100,000 to 2,000,000.

高分子量のポリマーは固体であるため、光硬化性粘着剤組成物はポリマーが有機溶媒に溶解している溶液であることが好ましい。例えば、モノマー成分を溶液重合することにより、ポリマー溶液が得られる。固体のポリマーを有機溶媒に溶解してポリマー溶液を調製してもよい。 Since high molecular weight polymers are solid, the photocurable adhesive composition is preferably a solution in which the polymer is dissolved in an organic solvent. For example, a polymer solution can be obtained by solution polymerizing monomer components. A polymer solution may be prepared by dissolving a solid polymer in an organic solvent.

溶液重合の溶媒としては一般に酢酸エチル、トルエン等が用いられる。溶液濃度は通常20~80重量%程度である。重合開始剤としては、アゾ系開始剤、過酸化物系開始剤、過酸化物と還元剤とを組み合わせたレドックス系開始剤(例えば、過硫酸塩と亜硫酸水素ナトリウムの組み合わせ、過酸化物とアスコルビン酸ナトリウムの組み合わせ)等の熱重合開始剤が好ましく用いられる。重合開始剤の使用量は特に制限はされないが、例えば、ポリマーを形成するモノマー成分全量100重量部に対して、0.005~5重量部程度が好ましく、0.02~3重量部程度がより好ましい。 Ethyl acetate, toluene, etc. are generally used as a solvent for solution polymerization. The solution concentration is usually about 20 to 80% by weight. Polymerization initiators include azo initiators, peroxide initiators, redox initiators that combine peroxide and reducing agent (for example, combinations of persulfate and sodium bisulfite, peroxide and ascorbic acid). A thermal polymerization initiator such as a combination of sodium acid and the like is preferably used. The amount of the polymerization initiator used is not particularly limited, but for example, it is preferably about 0.005 to 5 parts by weight, more preferably about 0.02 to 3 parts by weight, based on 100 parts by weight of the total amount of monomer components forming the polymer. preferable.

(光重合性化合物)
第二形態において光硬化性粘着剤組成物に含まれる光重合性化合物は、第一形態について前述したものと同様であり、1または2以上の光重合性官能基を有する化合物が用いられる。
(Photopolymerizable compound)
The photopolymerizable compound contained in the photocurable pressure-sensitive adhesive composition in the second form is the same as that described above for the first form, and a compound having one or more photopolymerizable functional groups is used.

(光重合開始剤)
第二形態において光硬化性粘着剤組成物に含まれる光重合開始剤は、第一形態について前述したものと同様であり、波長330~400nmの領域に吸収極大を有するものが好ましい。光重合開始剤の量は、ポリマー100重量部に対して、0.01~10重量部程度であり、0.05~5重量部程度が好ましい。
(Photopolymerization initiator)
The photopolymerization initiator contained in the photocurable pressure-sensitive adhesive composition in the second embodiment is the same as that described above for the first embodiment, and preferably has an absorption maximum in the wavelength range of 330 to 400 nm. The amount of the photopolymerization initiator is about 0.01 to 10 parts by weight, preferably about 0.05 to 5 parts by weight, based on 100 parts by weight of the polymer.

(着色剤)
第二形態において光硬化性粘着剤組成物に含まれる着色剤は、第一形態について前述したものと同様であり、波長330~400nmの平均透過率が、波長400~700nmの平均透過率よりも大きいものが好ましい。
(colorant)
The colorant contained in the photocurable adhesive composition in the second form is the same as that described above for the first form, and the average transmittance in the wavelength range of 330 to 400 nm is higher than the average transmittance in the wavelength range of 400 to 700 nm. Larger ones are preferred.

(架橋剤)
第二形態の光硬化性粘着剤組成物は、上記のポリマーと架橋可能な架橋剤を含むことが好ましい。ポリマーに架橋構造を導入するための架橋剤の具体例としては、イソシアネート系架橋剤、エポキシ系架橋剤、オキサゾリン系架橋剤、アジリジン系架橋剤、カルボジイミド系架橋剤、金属キレート系架橋剤等が挙げられる。中でも、ポリマーの水酸基やカルボキシ基との反応性が高く、架橋構造の導入が容易であることから、イソシアネート系架橋剤およびエポキシ系架橋剤が好ましい。これらの架橋剤は、ポリマー中に導入された水酸基やカルボキシ基等の官能基と反応して架橋構造を形成する。
(Crosslinking agent)
The photocurable pressure-sensitive adhesive composition of the second form preferably contains a crosslinking agent capable of crosslinking with the above polymer. Specific examples of crosslinking agents for introducing crosslinked structures into polymers include isocyanate crosslinking agents, epoxy crosslinking agents, oxazoline crosslinking agents, aziridine crosslinking agents, carbodiimide crosslinking agents, metal chelate crosslinking agents, etc. It will be done. Among these, isocyanate-based crosslinking agents and epoxy-based crosslinking agents are preferred because they have high reactivity with the hydroxyl groups and carboxyl groups of polymers and can easily introduce a crosslinked structure. These crosslinking agents react with functional groups such as hydroxyl groups and carboxy groups introduced into the polymer to form a crosslinked structure.

イソシアネート系架橋剤としては、1分子中に2個以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネートが用いられる。イソシアネート系架橋剤としては、例えば、ブチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート等の低級脂肪族ポリイソシアネート類;シクロペンチレンジイソシアネート、シクロへキシレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート等の脂環族イソシアネート類;2,4-トリレンジイソシアネート、4,4’-ジフェニルメタンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート等の芳香族イソシアネート類;トリメチロールプロパン/トリレンジイソシアネート3量体付加物(例えば、東ソー製「コロネートL」)、トリメチロールプロパン/へキサメチレンジイソシアネート3量体付加物(例えば、東ソー製「コロネートHL」)、キシリレンジイソシアネートのトリメチロールプロパン付加物(例えば、三井化学製「タケネートD110N」、ヘキサメチレンジイソシアネートのイソシアヌレート体(例えば、東ソー製「コロネートHX」)等のイソシアネート付加物等が挙げられる。 As the isocyanate crosslinking agent, polyisocyanate having two or more isocyanate groups in one molecule is used. Examples of the isocyanate-based crosslinking agent include lower aliphatic polyisocyanates such as butylene diisocyanate and hexamethylene diisocyanate; alicyclic isocyanates such as cyclopentylene diisocyanate, cyclohexylene diisocyanate, and isophorone diisocyanate; 2,4-tolylene diisocyanate; Aromatic isocyanates such as isocyanate, 4,4'-diphenylmethane diisocyanate, xylylene diisocyanate; trimethylolpropane/tolylene diisocyanate trimer adduct (for example, "Coronate L" manufactured by Tosoh), trimethylolpropane/hexamethylene Diisocyanate trimer adducts (e.g. "Coronate HL" manufactured by Tosoh), trimethylolpropane adducts of xylylene diisocyanate (e.g. "Takenate D110N" manufactured by Mitsui Chemicals), isocyanurates of hexamethylene diisocyanate (e.g. "Coronate HL" manufactured by Tosoh), Examples include isocyanate adducts such as "Coronate HX").

エポキシ系架橋剤としては、1分子中に2個以上のエポキシ基を有する多官能エポキシ化合物が用いられる。エポキシ系架橋剤のエポキシ基はグリシジル基であってもよい。エポキシ系架橋剤としては、例えば、N,N,N’,N’-テトラグリシジル-m-キシレンジアミン、ジグリシジルアニリン、1,3-ビス(N,N-ジグリシジルアミノメチル)シクロヘキサン、1,6-ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、エチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ソルビトールポリグリシジルエーテル、グリセロールポリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールポリグリシジルエーテル、ポリグリセロールポリグリシジルエーテル、ソルビタンポリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパンポリグリシジルエーテル、アジピン酸ジグリシジルエステル、o-フタル酸ジグリシジルエステル、トリグリシジル-トリス(2-ヒドロキシエチル)イソシアヌレート、レゾルシンジグリシジルエーテル、ビスフェノール-S-ジグリシジルエーテル等が挙げられる。エポキシ系架橋剤として、ナガセケムテックス製の「デナコール」、三菱ガス化学製の「テトラッドX」「テトラッドC」等の市販品を用いてもよい。 As the epoxy crosslinking agent, a polyfunctional epoxy compound having two or more epoxy groups in one molecule is used. The epoxy group of the epoxy crosslinking agent may be a glycidyl group. Examples of the epoxy crosslinking agent include N,N,N',N'-tetraglycidyl-m-xylene diamine, diglycidylaniline, 1,3-bis(N,N-diglycidylaminomethyl)cyclohexane, 1, 6-hexanediol diglycidyl ether, neopentyl glycol diglycidyl ether, ethylene glycol diglycidyl ether, propylene glycol diglycidyl ether, polyethylene glycol diglycidyl ether, polypropylene glycol diglycidyl ether, sorbitol polyglycidyl ether, glycerol polyglycidyl ether, penta Erythritol polyglycidyl ether, polyglycerol polyglycidyl ether, sorbitan polyglycidyl ether, trimethylolpropane polyglycidyl ether, adipic acid diglycidyl ester, o-phthalic acid diglycidyl ester, triglycidyl tris(2-hydroxyethyl) isocyanurate, Examples include resorcin diglycidyl ether and bisphenol-S-diglycidyl ether. As the epoxy crosslinking agent, commercially available products such as "Denacol" manufactured by Nagase ChemteX, "Tetrad X" and "Tetrad C" manufactured by Mitsubishi Gas Chemical may be used.

架橋剤の量は、ポリマー100重量部に対して、0.01~5重量部程度であり、0.05重量部以上、0.1重量部以上または0.2重量部以上であってもよく、3重量部以下、2重量部以下または1重量部以下であってもよい。 The amount of the crosslinking agent is about 0.01 to 5 parts by weight per 100 parts by weight of the polymer, and may be 0.05 parts by weight or more, 0.1 parts by weight or more, or 0.2 parts by weight or more. , 3 parts by weight or less, 2 parts by weight or less, or 1 part by weight or less.

(その他の成分)
第二形態の光硬化性粘着剤組成物は、上記の成分以外に、オリゴマー、粘着付与剤、シランカップリング剤、連鎖移動剤、可塑剤、軟化剤、劣化防止剤、充填剤、酸化防止剤、界面活性剤、帯電防止剤等を含んでいてもよい。
(Other ingredients)
In addition to the above-mentioned components, the photocurable adhesive composition of the second form also contains an oligomer, a tackifier, a silane coupling agent, a chain transfer agent, a plasticizer, a softener, an anti-degradation agent, a filler, and an antioxidant. , a surfactant, an antistatic agent, and the like.

<溶媒型粘着剤組成物>
本実施形態において、粘着剤層2は、着色剤を含む溶媒型粘着剤組成物から形成される粘着剤層(第三形態)であってもよい。前記溶媒型粘着剤組成物は、着色剤に加えて、ポリマーと、溶媒とを少なくとも含み、架橋剤を含んでいてもよい。すなわち、この実施形態の粘着剤層2の形成に用いられる溶媒型粘着剤組成物は、ポリマーと、溶媒と、着色剤とを含有し、必要に応じて架橋剤を含んでいてもよい。本実施形態の粘着剤層2は、可視光に光吸収を有する粘着剤層である。
<Solvent type adhesive composition>
In this embodiment, the adhesive layer 2 may be an adhesive layer (third form) formed from a solvent-based adhesive composition containing a colorant. In addition to the colorant, the solvent-based adhesive composition contains at least a polymer and a solvent, and may also contain a crosslinking agent . That is, the solvent-based adhesive composition used to form the adhesive layer 2 of this embodiment contains a polymer, a solvent, and a colorant, and may also contain a crosslinking agent if necessary. The adhesive layer 2 of this embodiment is an adhesive layer that absorbs visible light.

[第三形態]
第三形態の粘着剤層は、ポリマーと、溶媒と、着色剤とを含有し、必要に応じて架橋剤を含む溶媒型粘着剤組成物を、剥離フィルム上に塗布し、溶媒を乾燥除去することにより、形成することができる。
[Third form]
The third type of adhesive layer contains a polymer, a solvent, and a colorant, and a solvent-based adhesive composition containing a crosslinking agent if necessary is applied onto a release film, and the solvent is dried and removed. By doing so, it can be formed.

第三形態の粘着剤層の形成に用いられる溶媒型粘着剤組成物は、ポリマーと、溶媒と、着色剤とを含有し、必要に応じて架橋剤を含む。 The solvent-based adhesive composition used to form the third type of adhesive layer contains a polymer, a solvent, a colorant, and optionally a crosslinking agent.

(ポリマー)
溶媒型粘着剤組成物に含まれるポリマーとしては、第一形態と同様、各種のポリマーが適用可能であり、アクリル系ポリマーが好適に用いられる。アクリル系ポリマーを構成するモノマー成分は、第一形態と同様である。
(polymer)
As the polymer contained in the solvent-based adhesive composition, various polymers can be used, as in the first embodiment, and acrylic polymers are preferably used. The monomer components constituting the acrylic polymer are the same as in the first embodiment.

第三形態では基材上で固体状(定型)の粘着剤層を形成するために、溶媒型粘着剤組成物に含まれるポリマーとして、比較的分子量が大きいものが用いられる。ポリマーの重量平均分子量は、例えば10万~200万程度である。 In the third embodiment, in order to form a solid (standard shape) adhesive layer on a substrate, a polymer having a relatively large molecular weight is used as the polymer contained in the solvent-based adhesive composition. The weight average molecular weight of the polymer is, for example, about 100,000 to 2,000,000.

第三形態の溶媒型粘着剤組成物に含まれる前記アクリル系ポリマーは、(メタ)アクリル系ブロックコポリマーであってもよい。粘着剤層2が、(メタ)アクリル系ブロックコポリマーを含有する溶媒型粘着剤組成物ら形成される場合、段差吸収性に優れるとともに、加工性にも優れるので、表示パネルの基板5上に配列された複数のLEDチップの段差に気泡を残すことなく隙間なく封止することができると共に、加工性にも優れるため、保管時に端部から粘着剤層がはみ出す不具合が生じにくい。 The acrylic polymer contained in the third embodiment of the solvent-based adhesive composition may be a (meth)acrylic block copolymer. When the adhesive layer 2 is formed from a solvent-based adhesive composition containing a (meth)acrylic block copolymer, it has excellent step absorbability and processability, so it can be arranged on the substrate 5 of the display panel. It is possible to seal the steps of a plurality of LED chips without leaving any air bubbles and have excellent processability, so that the problem of the adhesive layer protruding from the edges during storage is less likely to occur.

本実施形態において、前記(メタ)アクリル系ブロックコポリマーは、0℃以上100℃以下のガラス転移温度を有する高Tgセグメントと、-100℃以上0℃未満のガラス転移温度を有する低Tgセグメントとを有し、0℃以上の領域と0℃未満の領域にそれぞれtanδのピークを有することが好ましい。 In this embodiment, the (meth)acrylic block copolymer has a high Tg segment having a glass transition temperature of 0°C or more and 100°C or less, and a low Tg segment having a glass transition temperature of -100°C or more and less than 0°C. It is preferable to have a peak of tan δ in a region of 0° C. or higher and a region of lower than 0° C., respectively.

本明細書において、「0℃以上100℃以下のガラス転移温度を有する高Tgセグメント」を単に「高Tgセグメント」、「-100℃以上0℃未満のガラス転移温度を有する低Tgセグメント」を単に「低Tgセグメント」、0℃以上の領域のtanδのピークを単に「高温領域tanδピーク」、0℃未満の領域のtanδのピークを単に「低温領域tanδピーク」、前記高Tgセグメントと前記低Tgセグメントと前記高温領域tanδピークと低温領域tanδピークとを有する(メタ)アクリル系ブロックコポリマーを「(メタ)アクリル系ブロックコポリマーA」、前記(メタ)アクリル系ブロックコポリマーAを含有する溶媒型粘着剤組成物を「溶媒型粘着剤組成物A」と称する場合がある。 In this specification, "high Tg segment having a glass transition temperature of 0°C or higher and 100°C or lower" is simply referred to as "high Tg segment", and "low Tg segment having a glass transition temperature of -100°C or higher and lower than 0°C" is simply referred to as "high Tg segment". "Low Tg segment", the tan δ peak in the region above 0°C is simply "high temperature region tan δ peak", the tan δ peak in the region below 0° C. is simply "low temperature region tan δ peak", the high Tg segment and the low Tg A (meth)acrylic block copolymer having a segment, the high-temperature region tan δ peak, and the low-temperature region tan δ peak is “(meth)acrylic block copolymer A,” and a solvent-based adhesive containing the (meth)acrylic block copolymer A. The composition may be referred to as "solvent-based adhesive composition A."

高Tgセグメント及び低Tgセグメントにおける「セグメント」とは、(メタ)アクリル系ブロックコポリマーAの各ブロック単位を構成する部分構造をいう。 The "segment" in the high Tg segment and the low Tg segment refers to a partial structure that constitutes each block unit of the (meth)acrylic block copolymer A.

前記(メタ)アクリル系ブロックコポリマーAの構造は、線状ブロックコポリマー、分岐状(星状)ブロックコポリマー、またはこれらの混合物であってもよい。このようなブロックコポリマーの構造は、求められるブロックコポリマーの物性に応じて適宜選択すればよいが、コスト面、製造容易性の観点から、線状ブロックコポリマーであることが好ましい。また、線状ブロックコポリマーは、いずれの構造(配列)であっても良いが、線状ブロックコポリマーの物性、または溶媒型粘着剤組成物Aの物性の観点から、(A-B)n型、(A-B)n-A型(nは1以上の整数、例えば1~3の整数)からなる群より選択される少なくとも1種の構造を持つブロックコポリマーであることが好ましい。これらの構造においてA及びBは、異なるモノマー組成から構成されるセグメントを意味する。本明細書において、前記線状ブロックコポリマーを構成するAで表されるセグメントを「Aセグメント」、Bで表されるセグメントを「Bセグメント」と称する場合がある。 The structure of the (meth)acrylic block copolymer A may be a linear block copolymer, a branched (star-shaped) block copolymer, or a mixture thereof. The structure of such a block copolymer may be appropriately selected depending on the desired physical properties of the block copolymer, but from the viewpoint of cost and ease of manufacture, a linear block copolymer is preferable. In addition, the linear block copolymer may have any structure (arrangement), but from the viewpoint of the physical properties of the linear block copolymer or the physical properties of the solvent-based adhesive composition A, (AB) n- type, It is preferable that the block copolymer has at least one type of structure selected from the group consisting of (AB) n -A type (n is an integer of 1 or more, for example, an integer of 1 to 3). In these structures, A and B refer to segments composed of different monomer compositions. In this specification, the segment represented by A constituting the linear block copolymer may be referred to as an "A segment", and the segment represented by B may be referred to as a "B segment".

これらの中でも、製造容易性、溶媒型粘着剤組成物Aの物性等の観点から、A-Bで表されるAB型ジブロックコポリマー、A-B-Aで表されるABA型トリブロックコポリマーが好ましく、より好ましくはABA型トリブロックコポリマーである。ABA型トリブロックコポリマーは、両端のAセグメント同士の擬似架橋によりブロックコポリマー同士の架橋構造がより高度なものとなり、ブロックコポリマーの凝集力が向上し、より高い密着性(付着力)が発現することができるものと考えられる。なお、ABA型トリブロックコポリマーにおいて、両端に位置する2つのAセグメントは互いに同一であってもよいし、異なっていてもよい。 Among these, from the viewpoint of ease of manufacture and physical properties of solvent-based adhesive composition A, AB type diblock copolymers represented by AB and ABA type triblock copolymers represented by ABA are preferred. Preferably, an ABA type triblock copolymer is more preferable. The ABA type triblock copolymer has a more advanced crosslinked structure between the block copolymers due to pseudo-crosslinking between the A segments at both ends, which improves the cohesive force of the block copolymer and develops higher adhesion (adhesive force). It is thought that this can be done. In addition, in the ABA type triblock copolymer, the two A segments located at both ends may be the same or different.

(メタ)アクリル系ブロックコポリマーAがABA型トリブロックコポリマーである場合、2つのAセグメント及び1つのBセグメント(合計3つ)において、少なくとも1つが高Tgセグメントであり、少なくとも他の1つが低Tgセグメントであれば良い。製造の容易性、溶媒型粘着剤組成物Aの物性等の観点から、Aセグメントが前記高Tgセグメントであり、Bセグメントが前記低TgセグメントであるABA型トリブロックコポリマーが好ましい。その場合において、2つのAセグメントのうち少なくとも1つが高Tgセグメントであり、Bセグメントが低TgセグメントであるABA型トリブロックコポリマーが好ましく、2つのAセグメントの両方が高Tgセグメントであり、Bセグメントが低TgセグメントであるABA型トリブロックコポリマーがより好ましい。 When (meth)acrylic block copolymer A is an ABA type triblock copolymer, at least one of two A segments and one B segment (total of three) is a high Tg segment, and at least one other is a low Tg segment. It is fine as long as it is a segment. From the viewpoint of ease of production, physical properties of the solvent-based adhesive composition A, etc., an ABA type triblock copolymer in which the A segment is the above-mentioned high Tg segment and the B segment is the above-mentioned low Tg segment is preferred. In that case, an ABA type triblock copolymer is preferred in which at least one of the two A segments is a high Tg segment and the B segment is a low Tg segment, both of the two A segments are high Tg segments, and the B segment More preferred are ABA-type triblock copolymers in which Tg is a low Tg segment.

(メタ)アクリル系ブロックコポリマーAを構成する高Tgセグメントのガラス転移温度(Tg)は、上記の通り、0℃以上100℃以下である。高TgセグメントのTgがこの範囲にあることにより、溶媒型粘着剤組成物Aの室温(25℃)における貯蔵弾性率を高く制御しやすくなり、堅く加工性に優れるとともに、50℃を超える領域において貯蔵弾性率が顕著に低下して高流動性の粘着剤組成物となる傾向がある。溶媒型粘着剤組成物Aの室温(25℃)における加工性を向上できるという観点から、高TgセグメントのTgは、4℃以上が好ましく、6℃以上がより好ましく、8℃以上がさらに好ましく、10℃以上がさらにより好ましく、12℃以上が特に好ましい。一方、50℃を超える領域において溶媒型粘着剤組成物Aの貯蔵弾性率(G’)が顕著に低下して高流動性になりやすいという観点から、高TgセグメントのTgは、90℃以下が好ましく、85℃以下がより好ましく、60℃以下がさらに好ましく、50℃以下がさらにより好ましく、35℃以下が特に好ましい。 As described above, the glass transition temperature (Tg) of the high Tg segment constituting (meth)acrylic block copolymer A is 0° C. or higher and 100° C. or lower. By having the Tg of the high Tg segment within this range, it is easy to control the storage modulus of solvent-based adhesive composition A at room temperature (25°C) to a high level, and it is hard and has excellent processability, as well as in the region exceeding 50°C. There is a tendency for the storage modulus to decrease significantly, resulting in a highly fluid adhesive composition. From the viewpoint of improving the processability of solvent-based adhesive composition A at room temperature (25°C), the Tg of the high Tg segment is preferably 4°C or higher, more preferably 6°C or higher, even more preferably 8°C or higher, The temperature is even more preferably 10°C or higher, particularly preferably 12°C or higher. On the other hand, from the viewpoint that the storage modulus (G') of the solvent-based adhesive composition A decreases significantly in the region exceeding 50°C and tends to have high fluidity, the Tg of the high Tg segment is set at 90°C or lower. The temperature is preferably 85°C or lower, more preferably 60°C or lower, even more preferably 50°C or lower, and particularly preferably 35°C or lower.

(メタ)アクリル系ブロックコポリマーAを構成する低TgセグメントのTgは、上記の通り、-100℃以上0℃未満である。低TgセグメントのガラスTgがこの範囲にあることにより、室温(25℃)において当該低Tgセグメントのみが流動化して、加工性を担保しつつ、適度な粘着力を溶媒型粘着剤組成物Aに付与できる傾向がある。室温(25℃)において溶媒型粘着剤組成物Aの貯蔵弾性率が低下しにくく、加工性が向上できるという観点から低TgセグメントのTgは、-95℃以上が好ましく、-90℃以上がより好ましく、-80℃以上がさらに好ましい。一方、室温(25℃)において溶媒型粘着剤組成物Aの適度な粘着力と加工性を向上できるという観点から、低TgセグメントのTgは、-5℃以下が好ましく、-10℃以下がより好ましく、-20℃以下がさらに好ましく、-30℃以下がさらにより好ましく、-40℃以下が特に好ましい。 As mentioned above, the Tg of the low Tg segment constituting (meth)acrylic block copolymer A is -100°C or more and less than 0°C. By having the glass Tg of the low Tg segment within this range, only the low Tg segment becomes fluidized at room temperature (25°C), ensuring processability while imparting appropriate adhesive strength to the solvent-based adhesive composition A. There is a tendency for it to be granted. The Tg of the low Tg segment is preferably -95°C or higher, more preferably -90°C or higher from the viewpoint that the storage modulus of the solvent-based adhesive composition A is less likely to decrease at room temperature (25°C) and the processability can be improved. Preferably, −80° C. or higher is more preferable. On the other hand, from the viewpoint of improving the appropriate adhesive strength and processability of the solvent-based adhesive composition A at room temperature (25°C), the Tg of the low Tg segment is preferably -5°C or lower, and more preferably -10°C or lower. The temperature is preferably -20°C or lower, more preferably -30°C or lower, and particularly preferably -40°C or lower.

(メタ)アクリル系ブロックコポリマーAを構成する高Tgセグメントと低TgセグメントのTgの差(高TgセグメントのTg-低TgセグメントのTg)は、特に限定されないが、溶媒型粘着剤組成物Aの室温(25℃)における貯蔵弾性率を高く制御しやすくなり、堅く加工性に優れるとともに、50℃を超える領域において貯蔵弾性率が顕著に低下して高流動性の粘着剤組成物となるという観点から、好ましくは30℃以上、より好ましくは35℃以上、より好ましくは40℃以上、より好ましくは45℃以上、さらに好ましくは50℃以上、特に好ましくは55℃以上であり、好ましくは120℃以下、より好ましくは115℃以下、より好ましくは110℃以下、より好ましくは105℃以下、さらに好ましくは100℃以下、特に好ましくは95℃以下である。 The difference in Tg between the high Tg segment and the low Tg segment (Tg of the high Tg segment - Tg of the low Tg segment) constituting the (meth)acrylic block copolymer A is not particularly limited; The storage modulus at room temperature (25°C) can be easily controlled to be high, and the adhesive composition is hard and has excellent processability, and the storage modulus decreases significantly in the region exceeding 50°C, resulting in a highly fluid adhesive composition. , preferably 30°C or higher, more preferably 35°C or higher, more preferably 40°C or higher, more preferably 45°C or higher, even more preferably 50°C or higher, particularly preferably 55°C or higher, and preferably 120°C or lower. , more preferably 115°C or lower, more preferably 110°C or lower, more preferably 105°C or lower, even more preferably 100°C or lower, particularly preferably 95°C or lower.

(メタ)アクリル系ブロックコポリマーAを構成する高Tgセグメント及び低Tgセグメントのガラス転移温度(Tg)は、以下のFoxの式から算出される計算ガラス転移温度である。この計算ガラス転移温度は、(メタ)アクリル系ブロックコポリマーAの高Tgセグメント又は低Tgセグメントを構成する各モノマー成分の種類及び量に基づいて算出されるものであり、したがって、各セグメントのモノマー成分の種類及び量等を選択することにより調整することができる。 The glass transition temperature (Tg) of the high Tg segment and low Tg segment constituting (meth)acrylic block copolymer A is a calculated glass transition temperature calculated from the following Fox equation. This calculated glass transition temperature is calculated based on the type and amount of each monomer component constituting the high Tg segment or low Tg segment of (meth)acrylic block copolymer A, and therefore, the monomer component of each segment It can be adjusted by selecting the type, amount, etc.

計算ガラス転移温度(計算Tg)は、以下のFoxの式〔1〕から算出することができる。
1/計算Tg=W1/Tg(1)+W2/Tg(2)+・・・+Wn/Tg(n) 〔1〕
ここで、W1、W2、・・・Wnは共重合体を構成するモノマー成分(1)、モノマー成分(2)、・・・モノマー成分(n)の全モノマー成分に対する各重量分率(重量%)を意味し、Tg(1)、Tg(2)、・・・Tg(n)は、モノマー成分(1)、モノマー成分(2)、・・・モノマー成分(n)のホモポリマーのガラス転移温度(単位は絶対温度:K)を表す。
なお、ホモポリマーのガラス転移温度は、各種文献、カタログなどから公知であり、例えば、J. Brandup, E. H. Immergut,E. A. Grulke: Polymer Handbook:JOHNWILEY & SONS, INCに記載されている。各種文献に数値が無いモノマーについては、一般的な熱分析、例えば示差熱分析や動的粘弾性測定法等により測定した値を採用することができる。
The calculated glass transition temperature (calculated Tg) can be calculated from the following Fox equation [1].
1/Calculation Tg=W1/Tg(1)+W2/Tg(2)+...+Wn/Tg(n) [1]
Here, W1, W2, ... Wn are the respective weight fractions (wt% ), and Tg(1), Tg(2), ...Tg(n) is the glass transition of the homopolymer of monomer component (1), monomer component (2), ... monomer component (n). Represents temperature (unit: absolute temperature: K).
Note that the glass transition temperature of a homopolymer is known from various documents, catalogs, etc., and is described, for example, in J. Brandup, EH Immergut, EA Grulke: Polymer Handbook: JOHNWILEY & SONS, INC. For monomers that do not have numerical values in various literatures, values measured by general thermal analysis, such as differential thermal analysis or dynamic viscoelasticity measurement, can be employed.

(メタ)アクリル系ブロックコポリマーAが有する高温領域tanδピークが現れる温度領域は、前述の通り0℃以上(例えば、0℃以上100℃以下)である。高温領域tanδピークがこの温度範囲にあることにより、溶媒型粘着剤組成物Aの室温(25℃)における貯蔵弾性率を高く制御しやすくなり、堅く加工性に優れるとともに、50℃を超える領域において貯蔵弾性率が顕著に低下して高流動性の粘着剤組成物となる傾向がある。溶媒型粘着剤組成物Aの室温(25℃)における加工性を向上できるという観点から、高温領域tanδピークが現れる温度は、3℃以上が好ましく、6℃以上がより好ましく、9℃以上がさらに好ましく、12℃以上がさらにより好ましく、15℃以上が特に好ましい。一方、50℃を超える領域において溶媒型粘着剤組成物Aの貯蔵弾性率(G’)が顕著に低下して高流動性になりやすいという観点から、高温領域tanδピークが現れる温度は、90℃以下が好ましく、80℃以下がより好ましく、70℃以下がさらに好ましく、65℃以下がさらに好ましく、60℃以下が特に好ましい。 The temperature range in which the high-temperature tan δ peak of (meth)acrylic block copolymer A appears is 0° C. or higher (for example, 0° C. or higher and 100° C. or lower), as described above. Since the high temperature region tan δ peak is in this temperature range, the storage modulus of solvent-based adhesive composition A at room temperature (25°C) can be easily controlled to be high, and it is hard and has excellent processability, as well as in the region exceeding 50°C. There is a tendency for the storage modulus to decrease significantly, resulting in a highly fluid adhesive composition. From the viewpoint of improving the processability of solvent-based adhesive composition A at room temperature (25°C), the temperature at which the tan δ peak appears in the high temperature region is preferably 3°C or higher, more preferably 6°C or higher, and even more preferably 9°C or higher. The temperature is preferably 12°C or higher, even more preferably 15°C or higher, and particularly preferably 15°C or higher. On the other hand, from the viewpoint that the storage modulus (G') of solvent-based adhesive composition A is likely to decrease significantly in the region exceeding 50°C and become highly fluid, the temperature at which the tan δ peak appears in the high temperature region is 90°C. The temperature is preferably below, more preferably 80°C or below, even more preferably 70°C or below, even more preferably 65°C or below, and particularly preferably 60°C or below.

(メタ)アクリル系ブロックコポリマーAが有する低温領域tanδピークが現れる温度領域は、前述の通り0℃未満(例えば、-100℃以上0℃未満)である。低温領域tanδピークがこの温度範囲にあることにより、室温(25℃)において当該低Tgセグメントのみが流動化して、加工性を担保しつつ、適度な粘着力を溶媒型粘着剤組成物Aに付与できる傾向がある。室温(25℃)において溶媒型粘着剤組成物Aの貯蔵弾性率が低下しにくく、加工性が向上できるという観点から、低温領域tanδピークが現れる温度は、-95℃以上が好ましく、-90℃以上がより好ましく、-80℃以上がさらに好ましく、-70℃以上がさらに好ましい。一方、室温(25℃)において溶媒型粘着剤組成物Aの適度な粘着力と加工性を向上できるという観点から、低温領域tanδピークが現れる温度は、-5℃以下が好ましく、-10℃以下がより好ましく、-20℃以下がさらに好ましく、-30℃以下がさらにより好ましく、-40℃以下が特に好ましい。 The temperature range in which the low-temperature tan δ peak of (meth)acrylic block copolymer A appears is below 0°C (for example, -100°C or higher and below 0°C), as described above. Since the low-temperature region tan δ peak is in this temperature range, only the low Tg segment becomes fluidized at room temperature (25 ° C.), providing appropriate adhesive strength to solvent-based adhesive composition A while ensuring processability. There is a tendency to do so. From the viewpoint that the storage modulus of the solvent-based adhesive composition A is unlikely to decrease at room temperature (25°C) and the processability can be improved, the temperature at which the low-temperature region tan δ peak appears is preferably -95°C or higher, and -90°C. The temperature is more preferably -80°C or higher, even more preferably -70°C or higher. On the other hand, from the viewpoint of improving the appropriate adhesive strength and processability of the solvent-based adhesive composition A at room temperature (25°C), the temperature at which the low-temperature region tan δ peak appears is preferably -5°C or lower, and -10°C or lower. is more preferred, -20°C or lower is even more preferred, -30°C or lower is even more preferred, and -40°C or lower is particularly preferred.

前記高温領域tanδピークの極大値は、特に限定されないが、0.5~3.0であることが好ましい。高温領域tanδピークの極大値がこの範囲にあることにより、前記(メタ)アクリル系ブロックコポリマーAの優れる加工性と形状安定性を実現できる点で好ましい。前記高温領域tanδピークの極大値は、優れる加工性を実現できる点で、0.6以上が好ましく、より好ましくは0.7以上である。また、前記高温領域tanδピークの極大値は、打痕が生じにくい点から、2.5以下が好ましく、より好ましくは2.2以下である。 The maximum value of the tan δ peak in the high temperature region is not particularly limited, but is preferably 0.5 to 3.0. It is preferable that the maximum value of the tan δ peak in the high temperature region be within this range, since it is possible to realize excellent processability and shape stability of the (meth)acrylic block copolymer A. The maximum value of the tan δ peak in the high temperature region is preferably 0.6 or more, more preferably 0.7 or more, from the viewpoint of achieving excellent workability. Further, the maximum value of the tan δ peak in the high temperature region is preferably 2.5 or less, and more preferably 2.2 or less, from the viewpoint that dents are less likely to occur.

前記低温領域tanδピークの極大値は、特に限定されないが、0.1~2.0であることが好ましい。低温領域tanδピークの極大値がこの範囲にあることにより、前記(メタ)アクリル系ブロックコポリマーAの優れる加工性と形状安定性を実現できる点で好ましい。前記高温領域tanδピークの極大値は、優れる加工性を実現できる点で、0.2以上が好ましく、より好ましくは0.3以上である。また、前記低温領域tanδピークの極大値は、打痕が生じにくい点から、1.5以下が好ましく、より好ましくは1以下である。 The maximum value of the tan δ peak in the low temperature region is not particularly limited, but is preferably 0.1 to 2.0. It is preferable that the maximum value of the tan δ peak in the low temperature region be within this range, since it is possible to realize excellent processability and shape stability of the (meth)acrylic block copolymer A. The maximum value of the tan δ peak in the high temperature region is preferably 0.2 or more, more preferably 0.3 or more, from the viewpoint of achieving excellent workability. Further, the maximum value of the tan δ peak in the low temperature region is preferably 1.5 or less, and more preferably 1 or less, from the viewpoint that dents are less likely to occur.

なお、前記の高温領域tanδピークと低温領域tanδピーク、並びにそれらが現れる温度及び極大値は、動的粘弾性測定により測定されるものである。 Note that the above-mentioned high temperature region tan δ peak and low temperature region tan δ peak, as well as the temperature and maximum value at which they appear, are measured by dynamic viscoelasticity measurement.

(メタ)アクリル系ブロックコポリマーAは、モノマー成分を重合して得られる複数のセグメント(高Tgセグメント及び低Tgセグメントを含む)により構成され、当該モノマー成分が、分子中に(メタ)アクリロイル基を有するモノマー(アクリル系モノマー)を含むものである。
(メタ)アクリル系ブロックコポリマーA又はその各セグメントは、アクリル系モノマーをモノマー成分全量(100重量%)に対して70重量%以上含むことが好ましく、80重量%以上含むことがより好ましく、90重量%以上含むことが特に好ましい。
(Meth)acrylic block copolymer A is composed of multiple segments (including high Tg segments and low Tg segments) obtained by polymerizing monomer components, and the monomer components have (meth)acryloyl groups in the molecule. This includes monomers (acrylic monomers) that have
The (meth)acrylic block copolymer A or each segment thereof preferably contains an acrylic monomer in an amount of 70% by weight or more, more preferably 80% by weight or more, and 90% by weight based on the total amount of monomer components (100% by weight). % or more is particularly preferable.

(メタ)アクリル系ブロックコポリマーA又はその各セグメント(高Tgセグメント及び低Tgセグメントを含む)を構成するアクリル系モノマーとしては、直鎖状または分岐鎖状のアルキル基を有するアクリル酸アルキルエステル、および/または、直鎖状または分岐鎖状のアルキル基を有するメタクリル酸アルキルエステルに由来するモノマー成分を重量割合で最も多い主たるモノマーユニットとして含む。 The acrylic monomer constituting (meth)acrylic block copolymer A or each segment thereof (including high Tg segment and low Tg segment) includes an acrylic acid alkyl ester having a linear or branched alkyl group, and Or, it contains a monomer component derived from a methacrylic acid alkyl ester having a linear or branched alkyl group as the main monomer unit with the largest proportion by weight.

(メタ)アクリル系ブロックコポリマーAのセグメントをなすための、直鎖状または分岐鎖状のアルキル基を有する(メタ)アクリル酸アルキルエステルとしては、上記の鎖状アルキル基を有する(メタ)アクリル酸アルキルエステルの具体例が挙げられる。前記セグメントのための当該(メタ)アクリル酸アルキルエステルとしては、一種類の(メタ)アクリル酸アルキルエステルを用いてもよいし、二種類以上の(メタ)アクリル酸アルキルエステルを用いてもよい。前記セグメントのための当該(メタ)アクリル酸アルキルエステルとして、好ましくは、アクリル酸メチル、アクリル酸n-ブチル、およびアクリル酸2-エチルヘキシル、アクリル酸t-ブチル、アクリル酸ヘキシル、アクリル酸ヘプチル、アクリル酸オクチル、アクリル酸イソノニルからなる群より選択される少なくとも一種が用いられる。 As the (meth)acrylic acid alkyl ester having a linear or branched alkyl group to form a segment of the (meth)acrylic block copolymer A, the above-mentioned (meth)acrylic acid having a chain alkyl group is used. Specific examples of alkyl esters are listed. As the (meth)acrylic acid alkyl ester for the segment, one type of (meth)acrylic acid alkyl ester may be used, or two or more types of (meth)acrylic acid alkyl ester may be used. The (meth)acrylic acid alkyl ester for the segment is preferably methyl acrylate, n-butyl acrylate, and 2-ethylhexyl acrylate, t-butyl acrylate, hexyl acrylate, heptyl acrylate, acrylic At least one selected from the group consisting of octyl acrylate and isononyl acrylate is used.

(メタ)アクリル系ブロックコポリマーAのセグメントは、脂環式モノマーに由来するモノマーユニットを含んでもよい。前記セグメントのモノマーユニットをなすための脂環式モノマーとしては、上記の脂環式アルキル基を有する(メタ)アクリル酸アルキルエステルの具体例が挙げられる。前記脂環式アルキル基は、置換基を有していてもよい。当該置換基としては、ハロゲン原子(例、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子)、炭素数1~6の直鎖又は分岐鎖のアルキル基(例、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基等)等が挙げられる。前記置換基の数は、特に限定されず、1~6個から適宜選択できる。当該置換基が2個以上ある場合は、2個以上の置換基は同一であってもよく、異なっていてもよい。前記セグメントのための脂環式モノマーとしては、一種類の脂環式モノマーを用いてもよいし、二種類以上の脂環式モノマーを用いてもよい。前記セグメントのための脂環式モノマーとして、好ましくは、置換基(例、炭素数1~6の直鎖又は分岐鎖のアルキル基)を有していてもよい炭素数が4~10であるシクロアルキル基を有する(メタ)アクリル酸シクロアルキルエステルであり、より好ましくは、アクリル酸シクロヘキシル、及び(メタ)アクリル酸3,3,5-トリメチルシクロヘキシルからなる群より選択される少なくとも一種が用いられる。 The segment of the (meth)acrylic block copolymer A may include a monomer unit derived from an alicyclic monomer. Specific examples of the alicyclic monomer for forming the monomer unit of the segment include the above-mentioned (meth)acrylic acid alkyl esters having an alicyclic alkyl group. The alicyclic alkyl group may have a substituent. Examples of the substituent include halogen atoms (e.g., fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, iodine atom), straight-chain or branched alkyl groups having 1 to 6 carbon atoms (e.g., methyl group, ethyl group, n-propyl group), group, isopropyl group, etc.). The number of the substituents is not particularly limited and can be appropriately selected from 1 to 6. When there are two or more substituents, the two or more substituents may be the same or different. As the alicyclic monomer for the segment, one type of alicyclic monomer may be used, or two or more types of alicyclic monomers may be used. The alicyclic monomer for the segment is preferably a cycloaliphatic monomer having 4 to 10 carbon atoms that may have a substituent (e.g., a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms). It is a (meth)acrylic acid cycloalkyl ester having an alkyl group, and more preferably at least one selected from the group consisting of cyclohexyl acrylate and 3,3,5-trimethylcyclohexyl (meth)acrylate is used.

(メタ)アクリル系ブロックコポリマーAのセグメントは、水酸基含有モノマーに由来するモノマーユニットを含んでもよい。水酸基含有モノマーは、モノマーユニット内に少なくとも一つの水酸基を有することとなるモノマーである。(メタ)アクリル系ブロックコポリマーA内のセグメントが水酸基含有モノマーユニットを含む場合、溶媒型粘着剤組成物Aにおいて接着性や適度な凝集力を得られやすい。 The segment of the (meth)acrylic block copolymer A may include a monomer unit derived from a hydroxyl group-containing monomer. A hydroxyl group-containing monomer is a monomer that has at least one hydroxyl group within its monomer unit. When the segment in the (meth)acrylic block copolymer A contains a hydroxyl group-containing monomer unit, adhesiveness and appropriate cohesive force can be easily obtained in the solvent-based pressure-sensitive adhesive composition A.

前記セグメントのモノマーユニットをなすための水酸基含有モノマーとしては、上記の水酸基含有モノマーの具体例が挙げられる。前記セグメントのための水酸基含有モノマーとしては、一種類の水酸基含有モノマーを用いてもよいし、二種類以上の水酸基含有モノマーを用いてもよい。前記セグメントのための水酸基含有モノマーとして、好ましくは、水酸基含有(メタ)アクリル酸エステルであり、より好ましくはアクリル酸2-ヒドロキシエチル、メタクリル酸2-ヒドロキシエチル、アクリル酸2-ヒドロキシプロピル、メタクリル酸2-ヒドロキシプロピル、アクリル酸4-ヒドロキシブチル、およびメタクリル酸4-ヒドロキシブチルからなる群より選択される少なくとも一種が用いられる。 Specific examples of the hydroxyl group-containing monomer for forming the monomer unit of the segment include the above-mentioned hydroxyl group-containing monomers. As the hydroxyl group-containing monomer for the segment, one type of hydroxyl group-containing monomer may be used, or two or more types of hydroxyl group-containing monomers may be used. The hydroxyl group-containing monomer for the segment is preferably a hydroxyl group-containing (meth)acrylic ester, more preferably 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, or methacrylic acid. At least one selected from the group consisting of 2-hydroxypropyl, 4-hydroxybutyl acrylate, and 4-hydroxybutyl methacrylate is used.

(メタ)アクリル系ブロックコポリマーAのセグメントは、窒素原子含有モノマーに由来するモノマーユニットを含んでもよい。窒素原子含有モノマーは、モノマーユニット内に少なくとも一つの窒素原子を有することとなるモノマーである。(メタ)アクリル系ブロックコポリマーAのセグメントが窒素原子含有モノマーユニットを含む場合、溶媒型粘着剤組成物Aにおいて硬さや良好な接着信頼性を得られやすい。 The segment of the (meth)acrylic block copolymer A may include a monomer unit derived from a nitrogen atom-containing monomer. A nitrogen atom-containing monomer is a monomer that has at least one nitrogen atom within the monomer unit. When the segment of the (meth)acrylic block copolymer A contains a nitrogen atom-containing monomer unit, it is easy to obtain good hardness and good adhesion reliability in the solvent-based adhesive composition A.

前記セグメントをなすための窒素原子含有モノマーとしては、上記の窒素原子含有モノマーの具体例が挙げられる。アクリル系ポリマーのための窒素原子含有モノマーとしては、一種類の窒素原子含有モノマーを用いてもよいし、二種類以上の窒素原子含有モノマーを用いてもよい。前記セグメントのための窒素原子含有モノマーとして、好ましくはN-ビニル-2-ピロリドンが用いられる。 Examples of the nitrogen atom-containing monomer for forming the segment include the above-mentioned nitrogen atom-containing monomers. As the nitrogen atom-containing monomer for the acrylic polymer, one type of nitrogen atom-containing monomer may be used, or two or more types of nitrogen atom-containing monomers may be used. N-vinyl-2-pyrrolidone is preferably used as nitrogen atom-containing monomer for the segment.

(メタ)アクリル系ブロックコポリマーAのセグメントは、カルボキシ基含有モノマーに由来するモノマーユニットを含んでもよい。カルボキシ基含有モノマーは、モノマーユニット内に少なくとも一つのカルボキシ基を有することとなるモノマーである。(メタ)アクリル系ブロックコポリマーAのセグメントがカルボキシ基含有モノマーユニットを含む場合、溶媒型粘着剤組成物Aにおいて良好な接着信頼性が得られることがある。 The segment of the (meth)acrylic block copolymer A may include a monomer unit derived from a carboxy group-containing monomer. A carboxy group-containing monomer is a monomer that has at least one carboxy group within the monomer unit. When the segment of the (meth)acrylic block copolymer A contains a carboxyl group-containing monomer unit, good adhesion reliability may be obtained in the solvent-based adhesive composition A.

前記セグメントのモノマーユニットをなすためのカルボキシ基含有モノマーとしては、上記のカルボキシ基含有モノマーの具体例が挙げられる。前記セグメントのためのカルボキシ基含有モノマーとしては、一種類のカルボキシ基含有モノマーを用いてもよいし、二種類以上のカルボキシ基含有モノマーを用いてもよい。前記セグメントのためのカルボキシ基含有モノマーとして、好ましくはアクリル酸が用いられる。 As the carboxy group-containing monomer for forming the monomer unit of the segment, the above-mentioned carboxy group-containing monomers may be mentioned. As the carboxyl group-containing monomer for the segment, one type of carboxyl group-containing monomer may be used, or two or more types of carboxyl group-containing monomers may be used. Acrylic acid is preferably used as the carboxy group-containing monomer for the segment.

さらに、前記セグメントをなすためのモノマーユニットとしては、上記のその他のモノマーが挙げられる。(メタ)アクリル系ブロックコポリマーAのセグメントを構成するモノマーユニットにおけるその他のモノマーの含有量は、モノマー成分全量(100重量%)に対して30重量%以下である限り、特に限定されず、本発明の効果を損なわない範囲で適宜選択される。 Furthermore, examples of the monomer unit for forming the segment include the other monomers mentioned above. The content of other monomers in the monomer units constituting the segments of (meth)acrylic block copolymer A is not particularly limited as long as it is 30% by weight or less based on the total amount of monomer components (100% by weight), and the present invention It is selected as appropriate within a range that does not impair the effect of.

(メタ)アクリル系ブロックコポリマーAの高Tgセグメントを構成するモノマー成分としては、高TgセグメントのTgを所定の範囲に制御しやすく、(メタ)アクリル系ブロックコポリマーAに所望の物性を付与できるという観点から、炭素数が1~3である直鎖状のアルキル基を有する(メタ)アクリル酸アルキルエステル(以下、「(メタ)アクリル酸C1-3直鎖状アルキルエステル」と称する場合がある)、炭素数が3又は4である分岐鎖状のアルキル基を有する(メタ)アクリル酸アルキルエステル(以下、「(メタ)アクリル酸C3-4分岐鎖状アルキルエステル」と称する場合がある)及び脂環式モノマーからなる群から選ばれる少なくとも1種を含有することが好ましい。これらモノマーのホモポリマーは比較的高いTgを有するため、これらから選ばれるモノマーを高Tgセグメントを構成するモノマー成分として含有することにより、高TgセグメントのTgを本発明所定の範囲に制御しやすい。 The monomer component constituting the high Tg segment of the (meth)acrylic block copolymer A is said to be able to easily control the Tg of the high Tg segment within a predetermined range and impart desired physical properties to the (meth)acrylic block copolymer A. From this point of view, (meth)acrylic acid alkyl ester having a linear alkyl group having 1 to 3 carbon atoms (hereinafter sometimes referred to as "(meth)acrylic acid C 1-3 linear alkyl ester") ), (meth)acrylic acid alkyl ester having a branched alkyl group having 3 or 4 carbon atoms (hereinafter sometimes referred to as "(meth)acrylic acid C 3-4 branched alkyl ester") and alicyclic monomers. Since homopolymers of these monomers have a relatively high Tg, by including a monomer selected from these as a monomer component constituting the high Tg segment, it is easy to control the Tg of the high Tg segment within the predetermined range of the present invention.

前記脂環式モノマーとしては、置換基(例、炭素数1~6の直鎖又は分岐鎖のアルキル基)を有していてもよい炭素数が4~10であるシクロアルキル基を有する(メタ)アクリル酸シクロアルキルエステルが好ましく、置換基(例、炭素数1~6の直鎖又は分岐鎖のアルキル基)を有していてもよい炭素数が4~10であるシクロアルキル基を有するアクリル酸シクロアルキルエステルがより好ましく、アクリル酸シクロヘキシル(ホモポリマーのTg:15℃)、(メタ)アクリル酸3,3,5-トリメチルシクロヘキシル(ホモポリマーのTg:52℃)が特に好ましい。 The alicyclic monomer has a cycloalkyl group having 4 to 10 carbon atoms (meth, ) Acrylic acid cycloalkyl ester is preferable, and an acrylic acid having a cycloalkyl group having 4 to 10 carbon atoms which may have a substituent (e.g., a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms) Acid cycloalkyl esters are more preferred, and cyclohexyl acrylate (Tg of homopolymer: 15°C) and 3,3,5-trimethylcyclohexyl (meth)acrylate (Tg of homopolymer: 52°C) are particularly preferred.

高Tgセグメントが構成するモノマー成分として脂環式モノマーを含有する場合、脂環式モノマーのモノマー成分全量(100重量%)に対する含有量は、高TgセグメントのTgを所定の範囲に制御しやすく、(メタ)アクリル系ブロックコポリマーAに所望の物性を付与できるという観点から、好ましくは10重量%以上(例えば、10~100重量%)、より好ましくは20重量%以上、より好ましくは30重量%以上、より好ましくは30重量%以上、より好ましくは40重量%以上、より好ましくは50重量%以上、より好ましくは60重量%以上、より好ましくは70重量%以上、より好ましくは80重量%以上、より好ましくは80重量%以上、さらに好ましくは90重量%以上、特に好ましくは95重量%以上である。 When a high Tg segment contains an alicyclic monomer as a monomer component, the content of the alicyclic monomer relative to the total amount of monomer components (100% by weight) can easily control the Tg of the high Tg segment within a predetermined range. From the viewpoint of imparting desired physical properties to the (meth)acrylic block copolymer A, it is preferably 10% by weight or more (for example, 10 to 100% by weight), more preferably 20% by weight or more, and even more preferably 30% by weight or more. , more preferably 30% by weight or more, more preferably 40% by weight or more, more preferably 50% by weight or more, more preferably 60% by weight or more, more preferably 70% by weight or more, more preferably 80% by weight or more, and more. The content is preferably 80% by weight or more, more preferably 90% by weight or more, particularly preferably 95% by weight or more.

前記(メタ)アクリル酸C1-3直鎖状アルキルエステルとしては、アクリル酸C1-3直鎖状アルキルエステルが好ましく、アクリル酸メチル(ホモポリマーのTg:8℃)が特に好ましい。
前記(メタ)アクリル酸C3-4分岐鎖状アルキルエステルとしては、アクリル酸C3-4分岐鎖状アルキルエステルが好ましく、アクリル酸t-ブチル(ホモポリマーのTg:35℃)が特に好ましい。
As the (meth)acrylic acid C 1-3 linear alkyl ester, acrylic acid C 1-3 linear alkyl ester is preferable, and methyl acrylate (Tg of homopolymer: 8° C.) is particularly preferable.
As the (meth)acrylic acid C 3-4 branched alkyl ester, acrylic acid C 3-4 branched alkyl ester is preferable, and t-butyl acrylate (Tg of homopolymer: 35° C.) is particularly preferable.

高Tgセグメントが構成するモノマー成分として(メタ)アクリル酸C1-3直鎖状アルキルエステル及び/又は(メタ)アクリル酸C3-4分岐鎖状アルキルエステルを含有する場合、(メタ)アクリル酸C1-3直鎖状アルキルエステル及び/又は(メタ)アクリル酸C3-4分岐鎖状アルキルエステルのモノマー成分全量(100重量%)に対する含有量は、高TgセグメントのTgを所定の範囲に制御しやすく、(メタ)アクリル系ブロックコポリマーAに所望の物性を付与できるという観点から、好ましくは10重量%以上(例えば、10~100重量%)、より好ましくは20重量%以上、より好ましくは30重量%以上、より好ましくは30重量%以上、より好ましくは40重量%以上、より好ましくは50重量%以上、より好ましくは60重量%以上、より好ましくは70重量%以上、より好ましくは80重量%以上、より好ましくは80重量%以上、さらに好ましくは90重量%以上、特に好ましくは95重量%以上である。 When the high Tg segment contains (meth)acrylic acid C 1-3 linear alkyl ester and/or (meth)acrylic acid C 3-4 branched alkyl ester as a monomer component, (meth)acrylic acid The content of C 1-3 linear alkyl ester and/or (meth)acrylic acid C 3-4 branched alkyl ester with respect to the total amount of monomer components (100% by weight) is such that the Tg of the high Tg segment is within a predetermined range. From the viewpoint of easy control and imparting desired physical properties to the (meth)acrylic block copolymer A, it is preferably 10% by weight or more (for example, 10 to 100% by weight), more preferably 20% by weight or more, and more preferably 30% by weight or more, more preferably 30% by weight or more, more preferably 40% by weight or more, more preferably 50% by weight or more, more preferably 60% by weight or more, more preferably 70% by weight or more, more preferably 80% by weight. % or more, more preferably 80% by weight or more, still more preferably 90% by weight or more, particularly preferably 95% by weight or more.

(メタ)アクリル系ブロックコポリマーAの低Tgセグメントを構成するモノマー成分としては、低TgセグメントのTgを所定の範囲に制御しやすく、(メタ)アクリル系ブロックコポリマーAに所望の物性を付与できるという観点から、炭素数が4~18である直鎖又は分岐鎖状のアルキル基を有する(メタ)アクリル酸アルキルエステル(以下、「(メタ)アクリル酸C4-18アルキルエステル」と称する場合がある)及び水酸基含有モノマーからなる群から選ばれる少なくとも1種を含有することが好ましい。すなわち、(メタ)アクリル酸C4-18アルキルエステルのホモポリマーは比較的低いTgを有するため、これを低Tgセグメントを構成するモノマー成分として含有することにより、低TgセグメントのTgを本発明所定の範囲に制御しやすい。一方、水酸基含有モノマーも比較的低いTgを有し、さらに(メタ)アクリル系ブロックコポリマーAにおいて接着性や適度な凝集力を得られやすくなる。従って、(メタ)アクリル系ブロックコポリマーAの低Tgセグメントを構成するモノマー成分として、(メタ)アクリル酸C4-18アルキルエステルと水酸基含有モノマーの両方を含有することがさらに好ましい。 The monomer component constituting the low Tg segment of the (meth)acrylic block copolymer A is said to be able to easily control the Tg of the low Tg segment within a predetermined range and impart desired physical properties to the (meth)acrylic block copolymer A. From this point of view, (meth)acrylic acid alkyl ester having a linear or branched alkyl group having 4 to 18 carbon atoms (hereinafter sometimes referred to as "(meth)acrylic acid C 4-18 alkyl ester") ) and a hydroxyl group-containing monomer. That is, since the homopolymer of (meth)acrylic acid C 4-18 alkyl ester has a relatively low Tg, by including it as a monomer component constituting the low Tg segment, the Tg of the low Tg segment can be adjusted to the specified value in the present invention. Easy to control within the range. On the other hand, the hydroxyl group-containing monomer also has a relatively low Tg, and furthermore, the (meth)acrylic block copolymer A can easily obtain adhesive properties and appropriate cohesive force. Therefore, it is more preferable that the monomer component constituting the low Tg segment of the (meth)acrylic block copolymer A contains both a (meth)acrylic acid C 4-18 alkyl ester and a hydroxyl group-containing monomer.

前記(メタ)アクリル酸C4-18アルキルエステルとしては、アクリル酸C4-18アルキルエステルが好ましく、アクリル酸ブチル(ホモポリマーのTg:-55℃)、アクリル酸2-エチルヘキシル(ホモポリマーのTg:-70℃)、アクリル酸n-ヘキシル(ホモポリマーのTg:-57℃)、アクリル酸n-オクチル(ホモポリマーのTg:-65℃)、アクリル酸イソノニル(ホモポリマーのTg:-58℃)が特に好ましい。 As the (meth)acrylic acid C 4-18 alkyl ester, acrylic acid C 4-18 alkyl ester is preferable, and butyl acrylate (Tg of homopolymer: -55°C), 2-ethylhexyl acrylate (Tg of homopolymer: -55°C), : -70℃), n-hexyl acrylate (Tg of homopolymer: -57℃), n-octyl acrylate (Tg of homopolymer: -65℃), isononyl acrylate (Tg of homopolymer: -58℃) ) is particularly preferred.

低Tgセグメントが構成するモノマー成分として(メタ)アクリル酸C4-18アルキルエステルを含有する場合、(メタ)アクリル酸C4-18アルキルエステルのモノマー成分全量(100重量%)に対する含有量は、低TgセグメントのTgを所定の範囲に制御しやすく、(メタ)アクリル系ブロックコポリマーAに所望の物性を付与できるという観点から、好ましくは10重量%以上(例えば、10~100重量%)、より好ましくは20重量%以上、より好ましくは30重量%以上、より好ましくは30重量%以上、より好ましくは40重量%以上、より好ましくは50重量%以上、より好ましくは60重量%以上、より好ましくは70重量%以上、より好ましくは80重量%以上、より好ましくは80重量%以上、さらに好ましくは90重量%以上、特に好ましくは95重量%以上である。 When a (meth)acrylic acid C 4-18 alkyl ester is contained as a monomer component constituting the low Tg segment, the content of the (meth)acrylic acid C 4-18 alkyl ester with respect to the total amount of monomer components (100% by weight) is: From the viewpoint of easily controlling the Tg of the low Tg segment within a predetermined range and imparting desired physical properties to the (meth)acrylic block copolymer A, preferably 10% by weight or more (for example, 10 to 100% by weight), more Preferably 20% by weight or more, more preferably 30% by weight or more, more preferably 30% by weight or more, more preferably 40% by weight or more, more preferably 50% by weight or more, more preferably 60% by weight or more, more preferably The content is 70% by weight or more, more preferably 80% by weight or more, even more preferably 80% by weight or more, even more preferably 90% by weight or more, particularly preferably 95% by weight or more.

前記水酸基含有モノマーとしては、水酸基含有(メタ)アクリル酸アルキルエステルが好ましく、アクリル酸4-ヒドロキシブチル(ホモポリマーのTg:-65℃)、アクリル酸2-ヒドロキシエチル(ホモポリマーのTg:-15℃)が特に好ましい。 The hydroxyl group-containing monomer is preferably a hydroxyl group-containing (meth)acrylic acid alkyl ester, such as 4-hydroxybutyl acrylate (Tg of homopolymer: -65°C), 2-hydroxyethyl acrylate (Tg of homopolymer: -15 °C) is particularly preferred.

低Tgセグメントが構成するモノマー成分として水酸基含有モノマーを含有する場合、水酸基含有モノマーのモノマー成分全量(100重量%)に対する含有量は、低TgセグメントのTgを所定の範囲に制御しやすく、(メタ)アクリル系ブロックコポリマーAに所望の物性を付与できるという観点から、好ましくは1重量%以上、より好ましくは1.5重量%以上、より好ましくは2重量%以上、さらに好ましくは2.5重量%以上、特に好ましくは3重量%以上である。一方、水酸基含有モノマーのモノマー成分全量(100重量%)に対する含有量は、好ましくは50重量%以下、より好ましくは40重量%以下、より好ましくは30重量%以下、より好ましくは20重量%以下、さらに好ましくは10重量%以下、特に好ましくは5重量%以下である。 When a hydroxyl group-containing monomer is contained as a monomer component constituting a low Tg segment, the content of the hydroxyl group-containing monomer with respect to the total amount of monomer components (100% by weight) is such that it is easy to control the Tg of the low Tg segment within a predetermined range; ) From the viewpoint of imparting desired physical properties to the acrylic block copolymer A, preferably 1% by weight or more, more preferably 1.5% by weight or more, more preferably 2% by weight or more, even more preferably 2.5% by weight. The content is particularly preferably 3% by weight or more. On the other hand, the content of the hydroxyl group-containing monomer relative to the total amount of monomer components (100% by weight) is preferably 50% by weight or less, more preferably 40% by weight or less, more preferably 30% by weight or less, more preferably 20% by weight or less, More preferably it is 10% by weight or less, particularly preferably 5% by weight or less.

(メタ)アクリル系ブロックコポリマーAの低Tgセグメントを構成するモノマー成分として、(メタ)アクリル酸C4-18アルキルエステルと水酸基含有モノマーの両方を含有する場合、水酸基含有モノマーと(メタ)アクリル酸C4-18アルキルエステルの比率(水酸基含有モノマー/(メタ)アクリル酸C4-18アルキルエステル)は特に限定されないが、下限値は、好ましくは1/99、より好ましくは1.5/98.5、より好ましくは2/98、さらに好ましくは2.5/97.5、特に好ましくは3/97であり、一方、上限値は50/50、より好ましくは40/60、より好ましくは30/70、さらに好ましくは20/80である。 When the monomer component constituting the low Tg segment of (meth)acrylic block copolymer A contains both a (meth)acrylic acid C 4-18 alkyl ester and a hydroxyl group-containing monomer, the hydroxyl group-containing monomer and (meth)acrylic acid The ratio of C 4-18 alkyl ester (hydroxyl group-containing monomer/(meth)acrylic acid C 4-18 alkyl ester) is not particularly limited, but the lower limit is preferably 1/99, more preferably 1.5/98. 5, more preferably 2/98, further preferably 2.5/97.5, particularly preferably 3/97, while the upper limit is 50/50, more preferably 40/60, more preferably 30/97. 70, more preferably 20/80.

(メタ)アクリル系ブロックコポリマーAは、上述のモノマー成分のリビングラジカル重合法によって製造することができる。リビングラジカル重合法は、従来のラジカル重合法の簡便性と汎用性を保ちながら、停止反応や、連鎖移動が起こりにくく、成長末端が失活することなく成長するため、分子量分布の精密制御、均一な組成のポリマーの製造が容易である点で好ましい。 (Meth)acrylic block copolymer A can be produced by the above-mentioned living radical polymerization method of monomer components. Living radical polymerization maintains the simplicity and versatility of conventional radical polymerization, while preventing termination reactions and chain transfer and allowing growth without deactivation of growing terminals, allowing precise control and uniformity of molecular weight distribution. This is preferable because it is easy to produce a polymer having a specific composition.

リビングラジカル重合法においては、高Tgセグメントを先に製造し、高Tgセグメントに低Tgセグメントのモノマーを重合してもよく;低Tgセグメントを先に製造し、低Tgセグメントに高Tgセグメントのモノマーを重合してもよい。 In the living radical polymerization method, the high Tg segment may be produced first and the monomer of the low Tg segment may be polymerized to the high Tg segment; the low Tg segment may be produced first and the monomer of the high Tg segment may be polymerized.

(メタ)アクリル系ブロックコポリマーAがABA型トリブロックコポリマーである場合は、製造容易性に観点から、Aセグメントを先に製造し、AセグメントにBセグメントのモノマーを重合することが好ましい。 When the (meth)acrylic block copolymer A is an ABA type triblock copolymer, from the viewpoint of ease of production, it is preferable to produce the A segment first and to polymerize the monomer of the B segment onto the A segment.

前記リビングラジカル重合法は、公知の方法を特に限定されなく使用することができ、重合成長末端を安定化させる手法の違いにより、遷移金属触媒を用いる方法(ATRP法);硫黄系の可逆的付加開裂連鎖移動剤(RAFT剤)を用いる方法(RAFT法);有機テルル化合物を用いる方法(TERP法)等の方法がある。これらの方法のなかでも、使用できるモノマーの多様性、分子量制御のしやすさ、金属が溶媒型粘着剤組成物に残留しないなどの観点から、RAFT法を用いることが好ましい。 For the living radical polymerization method, any known method can be used without particular limitation, and depending on the method of stabilizing the polymer growth terminal, there may be a method using a transition metal catalyst (ATRP method); a sulfur-based reversible addition method; There are methods such as a method using a cleavage chain transfer agent (RAFT agent) (RAFT method) and a method using an organic tellurium compound (TERP method). Among these methods, it is preferable to use the RAFT method from the viewpoints of diversity of usable monomers, ease of molecular weight control, and no metal remaining in the solvent-based adhesive composition.

前記RAFT法は、公知の方法を特に限定されなく使用することができ、例えば、例えば、RAFT剤を用いて、モノマー成分を重合して第1のセグメントを調製する工程1(第1のRAFT重合)と、工程1で得られた第1のセグメントに、工程1でのモノマー組成とは異なるモノマー成分をさらに添加・重合して、第2のセグメントを第1のセグメントに付加する工程2(第2のRAFT重合)とを有する。第2のRAFT重合の後に、さらに第3、4・・・のRAFT重合を第2のRAFT重合と同様に行い、第3、4・・・のセグメントをさらに付加してもよい。 For the RAFT method, any known method can be used without particular limitation. For example, step 1 (first RAFT polymerization ), and Step 2 (Step 2) in which a monomer component different from the monomer composition in Step 1 is further added and polymerized to the first segment obtained in Step 1 to add the second segment to the first segment. 2 RAFT polymerization). After the second RAFT polymerization, third, fourth, etc. RAFT polymerizations may be performed in the same manner as the second RAFT polymerization, and third, fourth, etc. segments may be further added.

前記工程1、工程2は、公知慣用の方法により行うことができ、例えば、溶液重合方法、乳化重合方法、塊状重合方法、熱や活性エネルギー線照射による重合方法(熱重合方法、活性エネルギー線重合方法)などが挙げられる。中でも、透明性、耐水性、コストなどの点で、溶液重合方法が好ましい。なお、重合は、酸素による重合阻害を抑制する点より、酸素との接触を避けて行われることが好ましい。例えば窒素雰囲気下で重合を行うことが好ましい。 The steps 1 and 2 can be carried out by a known and commonly used method, such as a solution polymerization method, an emulsion polymerization method, a bulk polymerization method, a polymerization method using heat or active energy ray irradiation (thermal polymerization method, active energy ray polymerization). method), etc. Among these, the solution polymerization method is preferred in terms of transparency, water resistance, cost, and the like. Note that the polymerization is preferably carried out while avoiding contact with oxygen in order to suppress polymerization inhibition caused by oxygen. For example, it is preferable to carry out the polymerization under a nitrogen atmosphere.

(メタ)アクリル系ブロックコポリマーAがABA型トリブロックコポリマーである場合は、前記工程1でAセグメントを調製し、得られたAセグメントに前記工程2でBセグメントを付加して調製することが好ましい。この場合、Aセグメントとしては高Tgセグメント、Bセグメントとしては低Tgセグメントであることが好ましい。 When the (meth)acrylic block copolymer A is an ABA type triblock copolymer, it is preferable to prepare an A segment in step 1 and add a B segment to the obtained A segment in step 2. . In this case, it is preferable that the A segment is a high Tg segment and the B segment is a low Tg segment.

前記RAFT剤としては、公知のものを特に限定なく使用することができ、例えば、下記式(1)、式(2)、又は式(3)で表される化合物(トリチオカーボネート、ジチオエステル、ジチオカーボネート)が好ましい。

Figure 0007387522000001
Figure 0007387522000002
Figure 0007387522000003
As the RAFT agent, known agents can be used without particular limitation, such as compounds represented by the following formula (1), formula (2), or formula (3) (trithiocarbonate, dithioester, dithiocarbonates) are preferred.
Figure 0007387522000001
Figure 0007387522000002
Figure 0007387522000003

式(1)、式(2)、又は式(3)[式(1)~(3)]中、R1a及びR1bは、同一又は異なって、水素原子、炭化水素基、又はシアノ基を示す。R1cは、シアノ基を有していてもよい炭化水素基を示す。上記R1a、R1b、及びR1cとしての炭化水素基としては、例えば、炭素数1~20の炭化水素基(直鎖、分岐鎖、若しくは環状の飽和又は不飽和の炭化水素基等)が挙げられ、中でも、炭素数1~12の炭化水素基が好ましい。上記炭化水素基としては、具体的には、例えば、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、tert-ブチル基、シクロヘキシル基、ドデシル基、オクタデシル基等の炭素数1~12の直鎖、分岐鎖、又は環状のアルキル基;フェニル基等の炭素数6~12のアリール基;ベンジル基、フェネチル基等の総炭素数7~10のアリールアルキル基等が挙げられる。上記R1cとしてのシアノ基を有する炭化水素基としては、例えば、上述の炭化水素基が有する水素原子の1~3個がシアノ基で置換された基等が挙げられる。 In formula (1), formula (2), or formula (3) [formulas (1) to (3)], R 1a and R 1b are the same or different and represent a hydrogen atom, a hydrocarbon group, or a cyano group. show. R 1c represents a hydrocarbon group which may have a cyano group. Examples of the hydrocarbon groups as R 1a , R 1b , and R 1c include hydrocarbon groups having 1 to 20 carbon atoms (linear, branched, or cyclic saturated or unsaturated hydrocarbon groups, etc.). Among them, hydrocarbon groups having 1 to 12 carbon atoms are preferred. Specific examples of the hydrocarbon group include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, tert-butyl group, cyclohexyl group, dodecyl group, octadecyl group, etc. Straight chain, branched, or cyclic alkyl group having 1 to 12 carbon atoms; Aryl group having 6 to 12 carbon atoms such as phenyl group; Aryl alkyl group having 7 to 10 total carbon atoms such as benzyl group and phenethyl group, etc. can be mentioned. Examples of the hydrocarbon group having a cyano group as R 1c include a group in which 1 to 3 of the hydrogen atoms of the above-mentioned hydrocarbon group are substituted with a cyano group.

式(1)~(3)中、R2は、炭化水素基、又は、その炭化水素基が有する水素原子の一部がカルボキシル基で置換された基(例えば、カルボキシアルキル基)を示す。上記炭化水素基としては、例えば、炭素数1~20の炭化水素基(直鎖、分岐鎖、若しくは環状の飽和又は不飽和の炭化水素基等)が挙げられ、中でも、炭素数1~12の炭化水素基が好ましい。炭化水素基としては、具体的には、例えば、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、tert-ブチル基、シクロヘキシル基、ドデシル基、オクタデシル基等の炭素数1~12の直鎖、分岐鎖、又は環状のアルキル基;ベンジル基、フェネチル基等の総炭素数7~10のアリールアルキル基等が挙げられる。 In formulas (1) to (3), R 2 represents a hydrocarbon group or a group in which some of the hydrogen atoms of the hydrocarbon group are substituted with carboxyl groups (eg, carboxyalkyl group). Examples of the above-mentioned hydrocarbon groups include hydrocarbon groups having 1 to 20 carbon atoms (straight chain, branched chain, or cyclic saturated or unsaturated hydrocarbon groups, etc.), and among them, carbon atoms having 1 to 12 carbon atoms. Hydrocarbon groups are preferred. Specific examples of the hydrocarbon group include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, tert-butyl group, cyclohexyl group, dodecyl group, octadecyl group, etc. Straight chain, branched, or cyclic alkyl groups having 1 to 12 carbon atoms; arylalkyl groups having 7 to 10 total carbon atoms such as benzyl group and phenethyl group; and the like.

RAFT法では、式(1)~(3)に示すRAFT剤中の硫黄原子と当該硫黄原子に隣接するメチレン基との間に、原料モノマーが挿入するように反応して、重合が進行する。 In the RAFT method, polymerization proceeds by reacting so that a raw material monomer is inserted between the sulfur atom in the RAFT agent shown in formulas (1) to (3) and the methylene group adjacent to the sulfur atom.

前記RAFT剤の多くは、商業的に入手可能である。商業的に入手できないものは、公知乃至慣用の方法により容易に合成することができる。なお、本発明においてRAFT剤は、1種を単独で使用することもできるし、2種以上を組み合わせて使用することもできる。 Many of the above RAFT agents are commercially available. Those that are not commercially available can be easily synthesized by known or conventional methods. In addition, in this invention, RAFT agent can also be used individually by 1 type, and can also be used in combination of 2 or more types.

RAFT剤としては、ジベンジルトリチオカーボネート、S-シアノメチル-S-ドデシルトリチオカーボネート等のトリチオカーボネート類;ジチオプロピオン酸シアノエチル、ジチオプロピオン酸ベンジル、ジチオ安息香酸ベンジル、ジチオ安息香酸アセトキシエチル等のジチオエステル類;O-エチル-S-(1-フェニルエチル)ジチオカーボネート、O-エチル-S-(2-プロポキシエチル)ジチオカーボネート、O-エチル-S-(1-シアノ-1-メチルエチル)ジチオカーボネート等のジチオカーボネート類等が挙げられ、このうち、トリチオカーボネート類が好ましく、式(1)において左右対称構造を有するトリチオカーボネート類がより好ましく、特にジベンジルトリチオカーボネート、ビス{4-[エチル-(2-アセチロキシエチル)カルバモイル]ベンジル}トリチオカーボネートが好ましい。 Examples of RAFT agents include trithiocarbonates such as dibenzyltrithiocarbonate and S-cyanomethyl-S-dodecyltrithiocarbonate; cyanoethyl dithiopropionate, benzyl dithiopropionate, benzyl dithiobenzoate, acetoxyethyl dithiobenzoate, etc. Dithioesters; O-ethyl-S-(1-phenylethyl)dithiocarbonate, O-ethyl-S-(2-propoxyethyl)dithiocarbonate, O-ethyl-S-(1-cyano-1-methylethyl) Examples include dithiocarbonates such as dithiocarbonate, among which trithiocarbonates are preferred, and trithiocarbonates having a left-right symmetrical structure in formula (1) are more preferred, particularly dibenzyltrithiocarbonate, bis{4 -[ethyl-(2-acetyloxyethyl)carbamoyl]benzyl}trithiocarbonate is preferred.

前記工程1は、RAFT剤の存在下、モノマー成分を重合することにより行うことができる。工程1においてRAFT剤の使用量は、モノマー成分の総量100重量部に対して、通常は0.05~20重量部、好ましくは0.05~10重量部である。このような使用量であれば、反応制御が容易であり、また得られるセグメントの重量平均分子量を制御することが容易である。
前記工程2は、前記工程1で得られた重合反応混合物に、モノマー成分を添加してさらに重合することにより行うことができる。
The step 1 can be performed by polymerizing monomer components in the presence of a RAFT agent. In step 1, the amount of the RAFT agent used is usually 0.05 to 20 parts by weight, preferably 0.05 to 10 parts by weight, based on 100 parts by weight of the total amount of monomer components. With such an amount used, it is easy to control the reaction, and it is also easy to control the weight average molecular weight of the obtained segment.
The step 2 can be carried out by adding a monomer component to the polymerization reaction mixture obtained in the step 1 and further polymerizing the mixture.

RAFT法は、重合開始剤の存在下に行うことが好ましい。重合開始剤としては、例えば、通常の有機系重合開始剤が挙げられ、具体的には、過酸化物、アゾ化合物が挙げられ、これらの中でも、アゾ化合物が好ましい。重合開始剤は1種単独で又は2種以上を用いることができる。 The RAFT method is preferably carried out in the presence of a polymerization initiator. Examples of the polymerization initiator include ordinary organic polymerization initiators, and specific examples include peroxides and azo compounds. Among these, azo compounds are preferred. One kind of polymerization initiator can be used alone or two or more kinds can be used.

過酸化物系重合開始剤としては、例えば、過酸化ベンゾイルおよびtert-ブチルペルマレエートが挙げられる。
アゾ化合物としては、例えば、2,2’-アゾビスイソブチロニトリル、2,2’-アゾビス(4-メトキシ-2,4-ジメチルバレロニトリル)、2,2’-アゾビス(2-シクロプロピルプロピオニトリル)、2,2’-アゾビス(2,4-ジメチルバレロニトリル)、2,2’-アゾビス(2-メチルブチロニトリル)、1,1’-アゾビス(シクロヘキサン-1-カルボニトリル)、2-(カルバモイルアゾ)イソブチロニトリル、2-フェニルアゾ-4-メトキシ-2,4-ジメチルバレロニトリル、2,2’-アゾビス(2-アミジノプロパン)ジヒドロクロリド、2,2’-アゾビス(N,N’-ジメチレンイソブチルアミジン)、2,2’-アゾビス(イソブチルアミド)ジヒドレート、4,4’-アゾビス(4-シアノペンタン酸)、2,2’-アゾビス(2-シアノプロパノール)、ジメチル-2,2’-アゾビス(2-メチルプロピオネート)、2,2’-アゾビス[2-メチル-N-(2-ヒドロキシエチル)プロピオンアミド]が挙げられる。
Examples of peroxide-based polymerization initiators include benzoyl peroxide and tert-butyl permaleate.
Examples of azo compounds include 2,2'-azobisisobutyronitrile, 2,2'-azobis(4-methoxy-2,4-dimethylvaleronitrile), 2,2'-azobis(2-cyclopropyl propionitrile), 2,2'-azobis(2,4-dimethylvaleronitrile), 2,2'-azobis(2-methylbutyronitrile), 1,1'-azobis(cyclohexane-1-carbonitrile) , 2-(carbamoylazo)isobutyronitrile, 2-phenylazo-4-methoxy-2,4-dimethylvaleronitrile, 2,2'-azobis(2-amidinopropane) dihydrochloride, 2,2'-azobis( N,N'-dimethyleneisobutyramidine), 2,2'-azobis(isobutyramide) dihydrate, 4,4'-azobis(4-cyanopentanoic acid), 2,2'-azobis(2-cyanopropanol), Examples include dimethyl-2,2'-azobis(2-methylpropionate) and 2,2'-azobis[2-methyl-N-(2-hydroxyethyl)propionamide].

重合開始剤の使用量は、モノマー成分の総量100重量部に対して、通常は0.001~2重量部、好ましくは0.002~1重量部である。このような使用量であれば、得られるセグメントの重量平均分子量を制御することが容易である。 The amount of the polymerization initiator used is usually 0.001 to 2 parts by weight, preferably 0.002 to 1 part by weight, based on 100 parts by weight of the total amount of monomer components. With such a usage amount, it is easy to control the weight average molecular weight of the obtained segment.

RAFT法は、重合溶媒を使用しない塊状重合であってもよいが、重合溶媒を使用することが好ましい。重合溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素;n-ペンタン、n-ヘキサン、n-ヘプタン、n-オクタン等の脂肪族炭化水素;シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン、シクロオクタン等の脂環式炭化水素;クロロホルム、四塩化炭素、1,2-ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素;ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、1,2-ジメトキシエタン、ジブチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、アニソール、フェニルエチルエーテル、ジフェニルエーテル等のエーテル;酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、プロピオン酸メチル等のエステル;アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン;N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセタミド、N-メチルピロリドン等のアミド;アセトニトリル、ベンゾニトリル等のニトリル;ジメチルスルホキシド、スルホラン等のスルホキシドが挙げられる。重合溶媒は1種単独で又は2種以上を用いることができる。 Although the RAFT method may be bulk polymerization without using a polymerization solvent, it is preferable to use a polymerization solvent. Examples of the polymerization solvent include aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, and xylene; aliphatic hydrocarbons such as n-pentane, n-hexane, n-heptane, and n-octane; cyclopentane, cyclohexane, cycloheptane, and cyclopentane; Alicyclic hydrocarbons such as octane; halogenated hydrocarbons such as chloroform, carbon tetrachloride, 1,2-dichloroethane, chlorobenzene; diethyl ether, diisopropyl ether, 1,2-dimethoxyethane, dibutyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, anisole , phenylethyl ether, diphenyl ether; esters such as ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, methyl propionate; ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, diethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone; N,N-dimethylformamide, N , N-dimethylacetamide, and N-methylpyrrolidone; nitriles such as acetonitrile and benzonitrile; and sulfoxides such as dimethyl sulfoxide and sulfolane. The polymerization solvent can be used alone or in combination of two or more.

重合溶媒の使用量としては、特に限定されず、例えば、モノマー成分1gに対して、0.01mL以上が好ましく、より好ましくは0.05mL以上、さらに好ましくは0.1mL以上であり、50mL以下が好ましく、より好ましくは10mL以下、さらに好ましくは1mL以下である。 The amount of the polymerization solvent used is not particularly limited, and for example, it is preferably 0.01 mL or more, more preferably 0.05 mL or more, still more preferably 0.1 mL or more, and 50 mL or less per 1 g of monomer component. It is preferably 1 mL or less, more preferably 1 mL or less.

RAFT法での反応温度は、通常は60~120℃、好ましくは70~110℃であり、通常は窒素ガス等の不活性ガス雰囲気下で行われる。この反応は常圧、加圧および減圧のいずれの条件でも行うことができ、通常は常圧で行われる。また、反応時間は通常は1~20時間、好ましくは2~14時間である。 The reaction temperature in the RAFT method is usually 60 to 120°C, preferably 70 to 110°C, and is usually carried out under an inert gas atmosphere such as nitrogen gas. This reaction can be carried out under normal pressure, increased pressure or reduced pressure, and is usually carried out under normal pressure. Further, the reaction time is usually 1 to 20 hours, preferably 2 to 14 hours.

上述のRAFT法の重合反応条件は、それぞれ工程1および工程2に適用されうる。 The polymerization reaction conditions of the RAFT method described above can be applied to Step 1 and Step 2, respectively.

重合反応の終了後、得られた反応混合物から、通常の分離精製手段により使用溶媒、残存モノマーの除去等を行い、目的とする(メタ)アクリル系ブロックコポリマーAを分離することができる。 After the completion of the polymerization reaction, the solvent used, residual monomers, etc. are removed from the resulting reaction mixture by ordinary separation and purification means, and the desired (meth)acrylic block copolymer A can be separated.

(メタ)アクリル系ブロックコポリマーAの高Tgセグメント又は低Tgセグメントを前記工程1で調製する場合、当該高Tgセグメント又は低Tgセグメントの重量平均分子量(Mw)は、特に限定されないが、好ましくは10,000~1,000,000であり、より好ましくは50,000~500,000、さらに好ましくは100,000~300,000である。高Tgセグメント又は低TgセグメントのMwがこの範囲内にあることは、上述の本発明の効果に好適である。
前記のMwは、(メタ)アクリル系ブロックコポリマーAに高Tgセグメント又は低Tgセグメントが二つ以上存在する場合、その和のMwである。
When preparing the high Tg segment or low Tg segment of the (meth)acrylic block copolymer A in step 1, the weight average molecular weight (Mw) of the high Tg segment or low Tg segment is not particularly limited, but is preferably 10 ,000 to 1,000,000, more preferably 50,000 to 500,000, still more preferably 100,000 to 300,000. It is suitable for the Mw of the high Tg segment or the low Tg segment to be within this range for the effects of the present invention described above.
When the (meth)acrylic block copolymer A has two or more high Tg segments or low Tg segments, the above Mw is the sum of the two or more high Tg segments or low Tg segments.

(メタ)アクリル系ブロックコポリマーAの重量平均分子量(Mw)は、特に限定されないが、好ましくは20万(200,000)以上であり、より好ましくは300,000~5,000,000、さらに好ましくは400,000~2,500,000である。(メタ)アクリル系ブロックコポリマーAのMwがこの範囲内にあることは、上述の本発明の効果に好適である。 The weight average molecular weight (Mw) of the (meth)acrylic block copolymer A is not particularly limited, but is preferably 200,000 (200,000) or more, more preferably 300,000 to 5,000,000, even more preferably is 400,000 to 2,500,000. It is suitable for the Mw of the (meth)acrylic block copolymer A to be within this range for the above-mentioned effects of the present invention.

(メタ)アクリル系ブロックコポリマーAの分子量分布(Mw/Mn)は、特に限定されないが、好ましくは1より大きく、より好ましくは1.5以上、さらに好ましくは2以上であり、特に好ましくは2.5以上であり、好ましくは5以下、より好ましくは4.5以下、さらに好ましくは4以下、特に好ましくは3.5以下である。 The molecular weight distribution (Mw/Mn) of the (meth)acrylic block copolymer A is not particularly limited, but is preferably larger than 1, more preferably 1.5 or more, still more preferably 2 or more, particularly preferably 2. It is 5 or more, preferably 5 or less, more preferably 4.5 or less, even more preferably 4 or less, particularly preferably 3.5 or less.

なお、上記重量平均分子量(Mw)、分子量分布(Mw/Mn)は、GPC法により測定されるものである。 Note that the above weight average molecular weight (Mw) and molecular weight distribution (Mw/Mn) are measured by the GPC method.

(メタ)アクリル系ブロックコポリマーA中の高Tgセグメントの含有率は、(メタ)アクリル系ブロックコポリマーA全体100重量%中において10重量%以上が好ましく、より好ましくは20重量%以上、さらに好ましくは25重量%以上であり、特に好ましくは30重量%以上であり、95重量%以下が好ましく、より好ましくは90重量%以下、さらに好ましくは85重量%以下である。 The content of high Tg segments in the (meth)acrylic block copolymer A is preferably 10% by weight or more, more preferably 20% by weight or more, even more preferably The content is 25% by weight or more, particularly preferably 30% by weight or more, and preferably 95% by weight or less, more preferably 90% by weight or less, still more preferably 85% by weight or less.

(メタ)アクリル系ブロックコポリマーA中の低Tgセグメントの含有率は、(メタ)アクリル系ブロックコポリマーA全体100重量%中において5重量%以上が好ましく、より好ましくは10重量%以上、さらに好ましくは15重量%以上であり、60重量%以下が好ましく、より好ましくは50重量%以下、さらに好ましくは40重量%以下、特に好ましくは30重量%以下である。 The content of the low Tg segment in the (meth)acrylic block copolymer A is preferably 5% by weight or more, more preferably 10% by weight or more, and even more preferably The content is 15% by weight or more, preferably 60% by weight or less, more preferably 50% by weight or less, even more preferably 40% by weight or less, particularly preferably 30% by weight or less.

前記各セグメントの含有率及びそれらの比率は、前記RAFT法の各工程で得られる各セグメント又は(メタ)アクリル系ブロックコポリマーAの重量平均分子量(Mw)から算出でき、各セグメントを形成する際のモノマーの仕込み比および各モノマーの重合率等で制御することができる。 The content of each segment and their ratio can be calculated from the weight average molecular weight (Mw) of each segment or (meth)acrylic block copolymer A obtained in each step of the RAFT method, and the It can be controlled by the charging ratio of monomers, the polymerization rate of each monomer, etc.

溶媒型粘着剤組成物Aにおける(メタ)アクリル系ブロックコポリマーAの含有量は、特に限定されないが、室温(25℃)での優れた加工性と50℃を超える領域での優れた段差吸収性を得る観点から、溶媒型粘着剤組成物A全量(全重量、100重量%)に対して、50重量%以上(例えば、50~100重量%)であることが好ましく、より好ましくは60重量%以上、さらに好ましくは80重量%以上、特に好ましくは90重量%以上である。 The content of (meth)acrylic block copolymer A in solvent-based pressure-sensitive adhesive composition A is not particularly limited, but has excellent processability at room temperature (25°C) and excellent level difference absorption in a region exceeding 50°C. From the viewpoint of obtaining the desired amount, it is preferably 50% by weight or more (for example, 50 to 100% by weight), more preferably 60% by weight, based on the total amount (total weight, 100% by weight) of the solvent-based adhesive composition A. The content is more preferably 80% by weight or more, particularly preferably 90% by weight or more.

(溶媒)
第三形態におけるポリマーは固体であるため、溶媒型粘着剤組成物はポリマーが有機溶媒に溶解している溶液である。例えば、モノマー成分を溶液重合することにより、ポリマー溶液が得られる。固体のポリマーを有機溶媒に溶解してポリマー溶液を調製してもよい。
(solvent)
Since the polymer in the third form is a solid, the solvent-based adhesive composition is a solution in which the polymer is dissolved in an organic solvent. For example, a polymer solution can be obtained by solution polymerizing monomer components. A polymer solution may be prepared by dissolving a solid polymer in an organic solvent.

溶媒としては一般に酢酸エチル、トルエン等が用いられる。溶液濃度は通常20~80重量%程度である。 Ethyl acetate, toluene, etc. are generally used as the solvent. The solution concentration is usually about 20 to 80% by weight.

モノマー成分を溶液重合する場合の重合開始剤としては、アゾ系開始剤、過酸化物系開始剤、過酸化物と還元剤とを組み合わせたレドックス系開始剤(例えば、過硫酸塩と亜硫酸水素ナトリウムの組み合わせ、過酸化物とアスコルビン酸ナトリウムの組み合わせ)等の熱重合開始剤が好ましく用いられる。重合開始剤の使用量は特に制限はされないが、例えば、ポリマーを形成するモノマー成分全量100重量部に対して、0.005~5重量部程度が好ましく、0.02~3重量部程度がより好ましい。 Polymerization initiators for solution polymerization of monomer components include azo initiators, peroxide initiators, and redox initiators that combine peroxides and reducing agents (for example, persulfate and sodium bisulfite). (a combination of peroxide and sodium ascorbate) are preferably used. The amount of the polymerization initiator used is not particularly limited, but for example, it is preferably about 0.005 to 5 parts by weight, more preferably about 0.02 to 3 parts by weight, based on 100 parts by weight of the total amount of monomer components forming the polymer. preferable.

(着色剤)
第三形態の粘着剤層の形成に用いられる溶媒型粘着剤組成物は、着色剤を含む。着色剤は、溶媒型粘着剤組成物に溶解または分散可能なものであれば、染料でも顔料でもよい。少量の添加でも低いヘイズが達成でき、顔料のように沈降性がなく均一に分布させやすいことから、染料が好ましい。また、少量の添加でも色発現性が高いことから、顔料も好ましい。着色剤として顔料を使用する場合は、導電性が低いか、ないものが好ましい。また、染料を使用する場合は、酸化防止剤などと併用することが好ましい。
(colorant)
The solvent-based adhesive composition used to form the third type of adhesive layer contains a colorant. The colorant may be a dye or a pigment as long as it can be dissolved or dispersed in the solvent-based adhesive composition. Dyes are preferred because they can achieve low haze even when added in small amounts, and are easy to distribute uniformly without settling unlike pigments. Pigments are also preferred because they provide high color development even when added in small amounts. If a pigment is used as a coloring agent, it is preferably one with low or no electrical conductivity. Moreover, when using a dye, it is preferable to use it together with an antioxidant or the like.

第三形態において溶媒型粘着剤組成物に含まれる着色剤としては、第一形態について前述した紫外線透過性着色剤に加えて、紫外線吸収性着色剤も含まれる。 In the third embodiment, the colorant contained in the solvent-based pressure-sensitive adhesive composition includes, in addition to the ultraviolet-transparent colorant described above for the first embodiment, an ultraviolet-absorbing colorant.

紫外線透過性の黒色顔料としては、トクシキ製の「9050BLACK」、「UVBK-0001」等が挙げられる。紫外線吸収性の黒色染料としては、オリヱント化学工業製の「VALIFAST BLACK 3810」、「NUBIAN Black PA-2802」等が挙げられる。紫外線吸収性の黒色顔料としては、カーボンブラック、チタンブラック等が挙げられる。 Examples of ultraviolet-transparent black pigments include "9050BLACK" and "UVBK-0001" manufactured by Tokushiki. Examples of the ultraviolet absorbing black dye include "VALIFAST BLACK 3810" and "NUBIAN Black PA-2802" manufactured by Orient Chemical Industry Co., Ltd. Examples of ultraviolet absorbing black pigments include carbon black and titanium black.

溶媒型粘着剤組成物における着色剤の含有量は、例えば、モノマー全量100重量部に対して、0.01~20重量部程度であり、着色剤の種類や、粘着剤層の色調および光透過率等に応じて適宜設定すればよい。着色剤は、適宜の溶媒に溶解または分散させた溶液または分散液として、組成物に添加してもよい。 The content of the colorant in the solvent-based adhesive composition is, for example, about 0.01 to 20 parts by weight based on 100 parts by weight of the total amount of monomers, and depends on the type of colorant, the color tone of the adhesive layer, and the light transmission. It may be set as appropriate depending on the rate, etc. The colorant may be added to the composition as a solution or dispersion dissolved or dispersed in a suitable solvent.

(架橋剤)
第三形態の溶媒型粘着剤組成物は、上記のポリマーと架橋可能な架橋剤を含んでいてもよい。なお、溶媒型粘着剤組成物が(メタ)アクリル系ブロックコポリマーを含む場合、第三形態の粘着剤層は、十分な形状安定性を有するため、架橋剤を含まなくてもよい。
(Crosslinking agent)
The solvent-based pressure-sensitive adhesive composition of the third form may contain a crosslinking agent capable of crosslinking with the above-mentioned polymer. Note that when the solvent-based adhesive composition contains a (meth)acrylic block copolymer, the third form of the adhesive layer has sufficient shape stability and therefore does not need to contain a crosslinking agent.

第三形態において溶媒型粘着剤組成物が架橋剤を含む場合、架橋剤としては、第二形態について前述したものと同様であり、イソシアネート系架橋剤およびエポキシ系架橋剤が好ましい。 When the solvent-based adhesive composition contains a crosslinking agent in the third embodiment, the crosslinking agent is the same as that described above for the second embodiment, and isocyanate-based crosslinking agents and epoxy-based crosslinking agents are preferable.

第三形態において溶媒型粘着剤組成物が架橋剤を含む場合、その含有量は、ポリマー100重量部に対して、0.01~5重量部程度であり、0.05重量部以上、0.1重量部以上または0.2重量部以上であってもよく、3重量部以下、2重量部以下または1重量部以下であってもよい。 In the third embodiment, when the solvent-based adhesive composition contains a crosslinking agent, the content thereof is about 0.01 to 5 parts by weight, 0.05 parts by weight or more, and 0.05 parts by weight or more, based on 100 parts by weight of the polymer. The amount may be 1 part by weight or more, or 0.2 parts by weight or more, and may be 3 parts by weight or less, 2 parts by weight or less, or 1 part by weight or less.

(その他の成分)
第三形態の溶媒型粘着剤組成物は、上記の成分以外に、オリゴマー、粘着付与剤、シランカップリング剤、連鎖移動剤、可塑剤、軟化剤、劣化防止剤、充填剤、酸化防止剤、界面活性剤、帯電防止剤等を含んでいてもよい。
(Other ingredients)
In addition to the above-mentioned components, the third form of the solvent-based adhesive composition contains oligomers, tackifiers, silane coupling agents, chain transfer agents, plasticizers, softeners, deterioration inhibitors, fillers, antioxidants, It may also contain surfactants, antistatic agents, and the like.

<光学積層体>
本実施形態において、光学積層体10又は11は、基材1の反射防止処理及び/又はアンチグレア処理されていない面1b上に、粘着剤層2を積層させることより調製することができる。
<Optical laminate>
In this embodiment, the optical laminate 10 or 11 can be prepared by laminating the adhesive layer 2 on the surface 1b of the base material 1 that has not been subjected to anti-reflection treatment and/or anti-glare treatment.

[第一形態]
面1b上に第一形態の粘着剤層を積層させる方法は、特に限定されず、例えば、剥離フィルム上に第一形態の光硬化性粘着剤組成物を塗布してシート上に成形し、光硬化を行ってシート状の粘着剤層を作製した後に基材1の面1b上に貼り合わせることにより行うことができる。
[First form]
The method for laminating the adhesive layer of the first form on the surface 1b is not particularly limited, and for example, the photocurable adhesive composition of the first form is applied onto a release film, formed into a sheet, and then exposed to light. This can be done by curing to produce a sheet-like adhesive layer and then bonding it onto the surface 1b of the base material 1.

第一形態の光硬化性粘着剤組成物を剥離フィルム上にシート状(層状)に塗布し、剥離フィルム上の光硬化性粘着剤組成物の塗膜に紫外線を照射して、光硬化を行うことにより、第一形態の粘着剤層が得られる。光硬化を行う際は、塗膜の表面にさらに剥離フィルムを付設して、光硬化性粘着剤組成物を2枚の剥離フィルム間に挟持した状態で紫外線を照射して、酸素による重合阻害を防止することが好ましい。光硬化の前に、着色剤の溶媒または分散媒の除去等を目的として、シート状の塗膜を加熱してもよい。加熱による溶媒等の除去を行う場合は、剥離フィルムを付設する前に実施することが好ましい。 The photocurable adhesive composition of the first form is applied in the form of a sheet (layer) on a release film, and the coating film of the photocurable adhesive composition on the release film is irradiated with ultraviolet rays to perform photocuring. As a result, a pressure-sensitive adhesive layer of the first form is obtained. When performing photocuring, a release film is further attached to the surface of the coating film, and the photocurable adhesive composition is sandwiched between the two release films and irradiated with ultraviolet rays to prevent polymerization inhibition caused by oxygen. It is preferable to prevent this. Before photocuring, the sheet-like coating film may be heated for the purpose of removing the solvent or dispersion medium of the colorant. When removing the solvent and the like by heating, it is preferable to remove the solvent before attaching the release film.

剥離フィルムのフィルム基材としては、各種の樹脂材料からなるフィルムが用いられる。樹脂材料としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂、アセテート系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、(メタ)アクリル系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリフェニレンサルファイド系樹脂等が挙げられる。これらの中でも、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル系樹脂が特に好ましい。フィルム基材の厚みは、10~200μmが好ましく、25~150μmがより好ましい。離型層の材料としては、シリコーン系離型剤、フッ素系離型剤、長鎖アルキル系離型剤、脂肪酸アミド系離型剤等が挙げられる。離型層の厚みは、一般には、10~2000nm程度である。 Films made of various resin materials are used as the film base material of the release film. Examples of resin materials include polyester resins such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate, acetate resins, polyether sulfone resins, polycarbonate resins, polyamide resins, polyimide resins, polyolefin resins, (meth)acrylic resins, Examples include polyvinyl chloride resin, polyvinylidene chloride resin, polystyrene resin, polyvinyl alcohol resin, polyarylate resin, polyphenylene sulfide resin, and the like. Among these, polyester resins such as polyethylene terephthalate are particularly preferred. The thickness of the film base material is preferably 10 to 200 μm, more preferably 25 to 150 μm. Examples of the material for the mold release layer include silicone mold release agents, fluorine mold release agents, long chain alkyl mold release agents, fatty acid amide mold release agents, and the like. The thickness of the release layer is generally about 10 to 2000 nm.

剥離フィルム上への光硬化性粘着剤組成物の塗布方法としては、ロールコート、キスロールコート、グラビアコート、リバースコート、ロールブラッシュ、スプレーコート、ディップロールコート、バーコート、ナイフコート、エアーナイフコート、カーテンコート、リップコート、ダイコーター等の各種方法が用いられる。 Methods for applying the photocurable adhesive composition onto the release film include roll coating, kiss roll coating, gravure coating, reverse coating, roll brushing, spray coating, dip roll coating, bar coating, knife coating, and air knife coating. Various methods such as , curtain coat, lip coat, and die coater are used.

着色剤を含有する粘着剤層の厚みは特に限定されず、後述の表示パネル上に配列された発光素子を十分に封止できるように、該発光素子の高さ以上になるように適宜設定すればよい。例えば、着色剤を含有する粘着剤層の厚みは、該発光素子の高さの1.0~4.0倍、好ましくは1.1~3.0倍、より好ましくは1.2~2.5倍、さらに好ましくは1.3~2.0倍になるように調整される。具体的には、着色剤を含有する粘着剤層の厚みは、例えば、10~500μm程度であり、20μm以上、30μm以上、40μm以上または50μm以上であってもよい。上記のように、着色剤が紫外線透過性を有しているため、粘着剤層の厚みが大きい場合でも、光硬化性粘着剤組成物を、厚み方向に均一に光硬化することが可能である。着色剤を含有する粘着剤層の厚みは、400μm以下、300μm以下、250μm以下または200μm以下であってもよい。 The thickness of the adhesive layer containing the colorant is not particularly limited, and should be appropriately set to be equal to or higher than the height of the light emitting elements arranged on the display panel, which will be described later, so as to be able to sufficiently seal the light emitting elements arranged on the display panel. Bye. For example, the thickness of the adhesive layer containing the colorant is 1.0 to 4.0 times, preferably 1.1 to 3.0 times, more preferably 1.2 to 2.0 times the height of the light emitting element. It is adjusted to be 5 times, more preferably 1.3 to 2.0 times. Specifically, the thickness of the adhesive layer containing the colorant is, for example, about 10 to 500 μm, and may be 20 μm or more, 30 μm or more, 40 μm or more, or 50 μm or more. As mentioned above, since the colorant has UV transmittance, it is possible to photocure the photocurable adhesive composition uniformly in the thickness direction even when the adhesive layer is thick. . The thickness of the adhesive layer containing the colorant may be 400 μm or less, 300 μm or less, 250 μm or less, or 200 μm or less.

剥離フィルム上に層状に塗布した光硬化性粘着剤組成物に紫外線を照射することにより、光重合開始剤から活性種が生成し、光重合性化合物が重合し、重合率の上昇(未反応のモノマーの減少)に伴って、液状の光硬化性粘着剤組成物は、固体状(定型)の粘着剤層となる。紫外線照射のための光源としては、粘着剤組成物に含まれる光重合開始剤が感度を有する波長範囲の光を照射できるものであれば特に限定されず、LED光源、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、キセノンランプ等が用いられる。 By irradiating the photocurable adhesive composition coated in a layer on a release film with ultraviolet rays, active species are generated from the photopolymerization initiator, the photopolymerizable compound is polymerized, and the polymerization rate increases (unreacted As the amount of monomer decreases, the liquid photocurable adhesive composition becomes a solid (standard shape) adhesive layer. The light source for ultraviolet irradiation is not particularly limited as long as it can irradiate light in the wavelength range to which the photopolymerization initiator contained in the adhesive composition is sensitive, and includes LED light sources, high-pressure mercury lamps, and ultra-high-pressure mercury lamps. Lamps, metal halide lamps, xenon lamps, etc. are used.

照射光の積算光量は、例えば、100~5000mJ/cm2程度である。光硬化性粘着剤組成物の光硬化物からなる粘着剤層の重合率(不揮発分)は、80%以上が好ましく、85%以上がより好ましく、90%以上がさらに好ましい。重合率は、93%以上または95%以上であってもよい。不揮発分を減少させるために、粘着剤層を加熱して、残存モノマー、未反応の重合開始剤、溶媒等の揮発分を除去してもよい。 The cumulative amount of irradiation light is, for example, about 100 to 5000 mJ/cm 2 . The polymerization rate (nonvolatile content) of the adhesive layer made of the photocured product of the photocurable adhesive composition is preferably 80% or more, more preferably 85% or more, and even more preferably 90% or more. The polymerization rate may be 93% or more or 95% or more. In order to reduce the nonvolatile content, the adhesive layer may be heated to remove volatile content such as residual monomers, unreacted polymerization initiators, and solvents.

粘着剤層の両面に剥離フィルムが設けられる場合、一方の剥離フィルムの厚みと他方の剥離フィルムの厚みは、同一でもよく、異なっていてもよい。粘着剤層から一方の面に仮着された剥離フィルムを剥離する際の剥離力と、粘着剤層から他方の面に仮着された剥離フィルムを剥離する際の剥離力は、同一でも異なっていてもよい。両者の剥離力が異なる場合は、相対的に剥離力の小さい剥離フィルム(軽剥離フィルム)を粘着剤層から先に剥離して基材1の面1bに貼り合わせを行うことにより、第一形態の粘着剤層を有する光学積層体を作製することができる。 When release films are provided on both sides of the adhesive layer, the thickness of one release film and the thickness of the other release film may be the same or different. The peeling force when peeling a release film temporarily attached to one side from the adhesive layer and the peeling force when peeling the release film temporarily attached to the other side from the adhesive layer may be the same or different. You can. If the peeling forces of the two are different, the first form can be obtained by peeling off the release film (light release film) with a relatively small peeling force from the adhesive layer first and then bonding it to the surface 1b of the base material 1. An optical laminate having a pressure-sensitive adhesive layer can be produced.

また、基材1の面1bに前記光硬化性粘着剤組成物を塗布し、シート上に成形した後に、塗膜の表面に剥離フィルムを付設して、紫外線を照射すること以外は上記と同様にして、第一形態の粘着剤層を有する光学積層体を作製することもできる。 The method is the same as above except that the photocurable adhesive composition is applied to the surface 1b of the substrate 1 and formed into a sheet, followed by attaching a release film to the surface of the coating film and irradiating it with ultraviolet rays. It is also possible to produce an optical laminate having the adhesive layer of the first form.

着色剤が含まれている粘着剤層は、可視光に光吸収を有する。第一形態の光学積層体の全光線透過率は、例えば80%以下であり、70%以下、60%以下、50%以下、40%以下、30%以下、20%以下、10%以下または5%以下であってもよい。 The adhesive layer containing the colorant absorbs visible light. The total light transmittance of the optical laminate of the first form is, for example, 80% or less, 70% or less, 60% or less, 50% or less, 40% or less, 30% or less, 20% or less, 10% or less, or 5 % or less.

第一形態においては、前述のように、着色剤としては、可視光の吸収よりも紫外線の吸収が小さいものが用いられる。そのため、粘着剤層は、波長330~400nmの平均透過率TUVが波長400~700nmの平均透過率TVISよりも大きい。粘着剤層の波長400~700nmの平均透過率TVISは、例えば80%以下であり、70%以下、60%以下、50%以下、40%以下、30%以下、20%以下または10%以下であってもよい。粘着剤層の波長330~400nmの平均透過率TUVは、5%以上が好ましく、10%以上、15%以上、20%以上または25%以上であってもよい。TUVとTVISとの差TUV-TVISは、3%以上、5%以上、8%以上または10%以上であってもよい。 In the first embodiment, as described above, a coloring agent that absorbs ultraviolet light less than visible light is used. Therefore, in the adhesive layer, the average transmittance T UV in the wavelength range of 330 to 400 nm is larger than the average transmittance T VIS in the wavelength range of 400 to 700 nm. The average transmittance T VIS of the adhesive layer at a wavelength of 400 to 700 nm is, for example, 80% or less, 70% or less, 60% or less, 50% or less, 40% or less, 30% or less, 20% or less, or 10% or less. It may be. The average transmittance T UV of the adhesive layer at a wavelength of 330 to 400 nm is preferably 5% or more, and may be 10% or more, 15% or more, 20% or more, or 25% or more. The difference T UV -T VIS between T UV and T VIS may be 3% or more, 5% or more, 8% or more, or 10% or more.

第一形態において、粘着剤層の温度25℃におけるせん断貯蔵弾性率G’25℃は、例えば10~1000kPa程度であり、30kPa以上、50kPa以上、70kPa以上または100kPa以上であってもよく、700kPa以下、500kPa以下、300kPa以下または200kPa以下であってもよい。粘着剤層の温度85℃におけるせん断貯蔵弾性率G’85℃は、例えば、3~300kPa程度であり、5kPa以上、7kPa以上、または10kPa以上であってもよく、200kPa以下、150kPa以下、または100kPa以下であってもよい。粘着剤層のせん断貯蔵弾性率が上記範囲であれば、適度の柔軟性と接着性とを両立できる。せん断貯蔵弾性率は、周波数1Hzの動的粘弾性測定による測定値である。 In the first form, the shear storage modulus G'25°C of the adhesive layer at a temperature of 25°C is, for example, about 10 to 1000 kPa, and may be 30 kPa or more, 50 kPa or more, 70 kPa or more, or 100 kPa or more, and 700 kPa or less. , 500 kPa or less, 300 kPa or less, or 200 kPa or less. The shear storage modulus G'85° C. of the adhesive layer at a temperature of 85° C. is, for example, about 3 to 300 kPa, and may be 5 kPa or more, 7 kPa or more, or 10 kPa or more, and 200 kPa or less, 150 kPa or less, or 100 kPa. It may be the following. If the shear storage modulus of the adhesive layer is within the above range, appropriate flexibility and adhesiveness can be achieved at the same time. The shear storage modulus is a value measured by dynamic viscoelasticity measurement at a frequency of 1 Hz.

[第二形態]
第二形態の粘着剤層を有する光学積層体は、剥離フィルムに上に前記第二形態の硬化性粘着剤組成物を塗布し、必要に応じて溶媒を乾燥除去し、基材1の面1bと積層させることにより調製することができる。また、第二形態の粘着剤層を有する光学積層体は、基材1の面1b上に前記第二形態の硬化性粘着剤組成物を塗布し、必要に応じて溶媒を乾燥除去することによっても調製することができる。
[Second form]
The optical laminate having the adhesive layer of the second form is prepared by coating the curable adhesive composition of the second form on a release film, drying and removing the solvent as necessary, and then applying the curable adhesive composition of the second form to the surface 1b of the base material 1. It can be prepared by laminating with. Further, the optical laminate having the adhesive layer of the second form can be prepared by applying the curable adhesive composition of the second form onto the surface 1b of the base material 1, and drying and removing the solvent as necessary. can also be prepared.

光硬化性粘着剤組成物が溶媒を含む場合は、粘着剤組成物の塗布後に、溶剤の乾燥を行うことが好ましい。乾燥方法としては、目的に応じて、適宜、適切な方法が採用され得る。加熱乾燥温度は、好ましくは40℃~200℃であり、さらに好ましくは、50℃~180℃であり、特に好ましくは70℃~170℃である。乾燥時間は、適宜、適切な時間が採用され得る。乾燥時間は、好ましくは5秒~20分、さらに好ましくは5秒~15分、特に好ましくは10秒~10分である。 When the photocurable adhesive composition contains a solvent, it is preferable to dry the solvent after applying the adhesive composition. As the drying method, an appropriate method may be adopted depending on the purpose. The heat drying temperature is preferably 40°C to 200°C, more preferably 50°C to 180°C, particularly preferably 70°C to 170°C. As the drying time, an appropriate time can be adopted as needed. The drying time is preferably 5 seconds to 20 minutes, more preferably 5 seconds to 15 minutes, particularly preferably 10 seconds to 10 minutes.

光硬化性粘着剤組成物を塗布後、必要に応じて加熱を行うことにより、ポリマーに架橋構造が導入される。加熱温度や加熱時間は、使用する架橋剤の種類によって適宜設定すればよく、通常、20℃~160℃の範囲で、1分から7日程度である。溶媒を乾燥させるための加熱が、架橋のための加熱を兼ねていてもよい。架橋構造の導入は、必ずしも加熱を伴う必要はない。 After applying the photocurable adhesive composition, a crosslinked structure is introduced into the polymer by heating if necessary. The heating temperature and heating time may be appropriately set depending on the type of crosslinking agent used, and are usually in the range of 20° C. to 160° C. for about 1 minute to 7 days. The heating for drying the solvent may also serve as the heating for crosslinking. Introduction of the crosslinked structure does not necessarily need to involve heating.

第二形態の粘着剤層は、第一形態の粘着剤層と同様の厚み、光透過率、せん断貯蔵弾性率を有していることが好ましい。第二形態の粘着剤層は、光硬化を行わないため、光重合性化合物が未反応の状態で含まれている。すなわち、第二形態の粘着剤層は、ポリマーと、光重合性化合物と、光重合開始剤と、着色剤とを含有する光硬化性の粘着剤層である。 The adhesive layer of the second form preferably has the same thickness, light transmittance, and shear storage modulus as the adhesive layer of the first form. The adhesive layer of the second form is not photocured and therefore contains the photopolymerizable compound in an unreacted state. That is, the adhesive layer of the second form is a photocurable adhesive layer containing a polymer, a photopolymerizable compound, a photopolymerization initiator, and a colorant.

第二形態の光硬化性の粘着剤層を有する光学積層体は、後述の表示パネルと貼り合わせた後に、紫外線を照射することにより、光硬化を行うことができる。光硬化により光学積層体と表示パネルとの接着力を変化させることができる。例えば、光硬化前の粘着剤層は柔軟性が高いため、表示パネル上に配列された発光素子により形成される凹凸形状や段差を埋めることが可能であり、光硬化後は表示パネルに対する接着力や接着信頼性を向上できる。 The optical laminate having the photocurable adhesive layer of the second form can be photocured by irradiating it with ultraviolet rays after being bonded to a display panel described below. The adhesive force between the optical laminate and the display panel can be changed by photocuring. For example, since the adhesive layer before photo-curing is highly flexible, it can fill in uneven shapes and steps formed by light-emitting elements arranged on the display panel, and after photo-curing, the adhesive layer has strong adhesion to the display panel. and improve adhesion reliability.

第二形態の粘着剤層を光硬化するための活性線としては紫外線が用いられる。第一形態の粘着剤層と同様、着色剤は可視光に比べて紫外線の透過率が大きいため、粘着剤層の厚みが大きい場合でも、光硬化の際の硬化阻害を抑制できる。 Ultraviolet rays are used as actinic rays for photocuring the adhesive layer of the second form. Similar to the adhesive layer of the first embodiment, the colorant has a higher transmittance for ultraviolet light than visible light, so even if the adhesive layer is thick, curing inhibition during photocuring can be suppressed.

[第三形態]
第三形態の粘着剤層を有する光学積層体は、剥離フィルムに上に前記溶媒型粘着剤組成物を塗布し、溶媒を乾燥除去し、基材1の面1bと積層させることにより調製することができる。また、第三形態の粘着剤層を有する光学積層体は、基材1の面1b上に前記溶媒型粘着剤組成物を塗布し、溶媒を乾燥除去することによっても調製することができる。
[Third form]
The optical laminate having the third type of adhesive layer can be prepared by applying the solvent-based adhesive composition on a release film, drying and removing the solvent, and laminating it with the surface 1b of the base material 1. Can be done. The optical laminate having the third type of adhesive layer can also be prepared by applying the solvent-based adhesive composition on the surface 1b of the base material 1 and drying and removing the solvent.

溶媒型粘着剤組成物の塗布後に、溶剤の乾燥を行う。乾燥方法としては、目的に応じて、適宜、適切な方法が採用され得る。加熱乾燥温度は、好ましくは40℃~200℃であり、さらに好ましくは、50℃~180℃であり、特に好ましくは70℃~170℃である。乾燥時間は、適宜、適切な時間が採用され得る。乾燥時間は、好ましくは5秒~20分、さらに好ましくは5秒~15分、特に好ましくは10秒~10分である。 After applying the solvent-based adhesive composition, the solvent is dried. As the drying method, an appropriate method may be adopted depending on the purpose. The heat drying temperature is preferably 40°C to 200°C, more preferably 50°C to 180°C, particularly preferably 70°C to 170°C. As the drying time, an appropriate time can be adopted as needed. The drying time is preferably 5 seconds to 20 minutes, more preferably 5 seconds to 15 minutes, particularly preferably 10 seconds to 10 minutes.

溶媒型粘着剤組成物を塗布後、必要に応じて加熱を行ってもよい。加熱温度や加熱時間は、使用する架橋剤の種類によって適宜設定すればよく、通常、20℃~160℃の範囲で、1分から7日程度である。 After applying the solvent-based adhesive composition, heating may be performed as necessary. The heating temperature and heating time may be appropriately set depending on the type of crosslinking agent used, and are usually in the range of 20° C. to 160° C. for about 1 minute to 7 days.

第三形態の粘着剤層は、第一形態の粘着剤層と同様の厚み、光透過率、せん断貯蔵弾性率を有していることが好ましい。 It is preferable that the adhesive layer of the third form has the same thickness, light transmittance, and shear storage modulus as the adhesive layer of the first form.

また、溶媒型粘着剤組成物が(メタ)アクリル系ブロックコポリマーAを含む場合の粘着剤層の25℃における貯蔵弾性率(G’25)は、特に限定されないが、室温における加工性を向上させる観点から、1MPa以上が好ましく、より好ましくは1.5MPa以上、より好ましくは2MPa以上、より好ましくは2.5MPa以上、より好ましくは3MPa以上であり、室温における粘着信頼性を向上させる観点から、50MPa以下が好ましく、より好ましくは45MPa以下、より好ましくは40MPa以下、より好ましくは35MPa以下、より好ましくは30MPa以下である。 In addition, the storage modulus (G'25) at 25° C. of the adhesive layer when the solvent-based adhesive composition contains (meth)acrylic block copolymer A is not particularly limited, but it improves processability at room temperature. From the viewpoint, the pressure is preferably 1 MPa or more, more preferably 1.5 MPa or more, more preferably 2 MPa or more, more preferably 2.5 MPa or more, and even more preferably 3 MPa or more, and from the viewpoint of improving adhesive reliability at room temperature, 50 MPa or more. The following is preferable, more preferably 45 MPa or less, more preferably 40 MPa or less, more preferably 35 MPa or less, more preferably 30 MPa or less.

溶媒型粘着剤組成物が(メタ)アクリル系ブロックコポリマーAを含む場合の粘着剤層の50℃における貯蔵弾性率(G’50)は、特に限定されないが、50℃を超える領域の段差吸収性を向上させる観点から、0.5MPa以下が好ましく、より好ましくは0.45MPa以下、より好ましくは0.4MPa以下、より好ましくは0.35MPa以下、より好ましくは0.3MPa以下であり、50℃を超える領域の取り扱い性を向上させる観点から、0.0001MPa以上が好ましく、より好ましくは0.0005MPa以上、より好ましくは0.001MPa以上、より好ましくは0.005MPa以上、より好ましくは0.01MPa以上である。 When the solvent-based adhesive composition contains (meth)acrylic block copolymer A, the storage modulus (G'50) at 50°C of the adhesive layer is not particularly limited, but the level difference absorption in the region exceeding 50°C From the viewpoint of improving the From the viewpoint of improving handling properties in areas exceeding be.

溶媒型粘着剤組成物が(メタ)アクリル系ブロックコポリマーAを含む場合の粘着剤層の25℃における貯蔵弾性率と50℃における貯蔵弾性率の比(G’25/G’50)は、特に限定されないが、室温における加工性を向上させ、且つ50℃を超える領域の段差吸収性を向上させる観点から、3以上が好ましく、より好ましくは5以上、より好ましくは10以上、さらに好ましくは15以上、特に好ましくは20以上であり、接着信頼性、取り扱い性等の観点から、100以下が好ましく、より好ましくは95以下、より好ましくは90以下、さらに好ましくは85以下、特に好ましくは80以下である。 When the solvent-based adhesive composition contains (meth)acrylic block copolymer A, the ratio of the storage modulus at 25°C and the storage modulus at 50°C (G'25/G'50) of the adhesive layer is particularly Although not limited, it is preferably 3 or more, more preferably 5 or more, more preferably 10 or more, even more preferably 15 or more, from the viewpoint of improving processability at room temperature and improving step absorbability in a region exceeding 50 ° C. , is particularly preferably 20 or more, and from the viewpoint of adhesion reliability, handleability, etc., is preferably 100 or less, more preferably 95 or less, more preferably 90 or less, still more preferably 85 or less, particularly preferably 80 or less. .

なお、前記の25℃における貯蔵弾性率(G’25)と50℃における貯蔵弾性率(G’25)、及びそれらの比(G’25/G’50)は、動的粘弾性測定により測定されるものである。 The storage modulus (G'25) at 25°C, the storage modulus (G'25) at 50°C, and their ratio (G'25/G'50) are measured by dynamic viscoelasticity measurement. It is something that will be done.

着色剤が含まれている粘着剤層を有する光学積層体は、可視光に光吸収を有する。本実施形態の光学積層体は、350nm~450nmで透過率の極大値を有することが好ましい。 An optical laminate having an adhesive layer containing a colorant absorbs visible light. The optical laminate of this embodiment preferably has a maximum value of transmittance between 350 nm and 450 nm.

本実施形態の光学積層体の全光線透過率は、例えば80%以下であり、70%以下、60%以下、50%以下、40%以下、30%以下、20%以下、10%以下または5%以下であってもよい。 The total light transmittance of the optical laminate of this embodiment is, for example, 80% or less, 70% or less, 60% or less, 50% or less, 40% or less, 30% or less, 20% or less, 10% or less, or 5 % or less.

本実施形態の光学積層体は、使用時までは粘着剤層に剥離フィルムが設けられていてもよい。また、本実施形態の光学積層体は、基材1の反射防止処理及び/又はアンチグレア処理された面1aに表面保護フィルムが積層されていてもよい。表面保護フィルム成は、前記光学積層体やこれを含む光学製品の製造、搬送、出荷時に、傷や汚れの付着を防止する上で好適である。 In the optical laminate of this embodiment, a release film may be provided on the adhesive layer until use. Further, in the optical laminate of this embodiment, a surface protection film may be laminated on the surface 1a of the base material 1 that has been subjected to antireflection treatment and/or antiglare treatment. Formation of a surface protection film is suitable for preventing scratches and dirt from adhering to the optical laminate and optical products including the optical laminate during manufacture, transportation, and shipping.

本実施形態の光学積層体は、基材1、粘着剤層2、剥離フィルム、表面保護フィルム以外にも、本発明の効果を損なわない範囲で、他の層、例えば、基材1以外の基材、粘着剤層2以外の粘着剤層、中間層、下塗り層などを、表面又は任意の層間に有していてもよい。 In addition to the base material 1, the adhesive layer 2, the release film, and the surface protection film, the optical laminate of this embodiment may include other layers, such as base materials other than the base material 1, to the extent that the effects of the present invention are not impaired. It may have a material, an adhesive layer other than the adhesive layer 2, an intermediate layer, an undercoat layer, etc. on the surface or between arbitrary layers.

<自発光型表示装置>
本発明の第2の側面に係る自発光型表示装置は、微少且つ多数の発光素子を配線基板上に配列し、各発光素子をこれに接続された発光制御手段により選択的に発光させることにより、文字・画像・動画等の視覚情報を、各発光素子の点滅により直接的に表示画面上に表示することができる表示装置である。自発光型表示装置としては、ミニ/マイクロLED表示装置、有機EL(エレクトロルミネッセンス)表示装置が挙げられる。本発明の第1の側面に係る光学積層体は、特にミニ/マイクロLED表示装置の製造に好適に使用される。
<Self-luminous display device>
A self-luminous display device according to a second aspect of the present invention is provided by arranging a small number of light-emitting elements on a wiring board and selectively causing each light-emitting element to emit light by a light-emission control means connected thereto. This is a display device that can directly display visual information such as characters, images, and moving images on a display screen by blinking each light emitting element. Examples of self-luminous display devices include mini/micro LED display devices and organic EL (electroluminescence) display devices. The optical laminate according to the first aspect of the present invention is particularly suitable for manufacturing mini/micro LED display devices.

図3は、本発明の第2の側面に係る自発光型表示装置(ミニ/マイクロLED表示装置)の一実施形態を示す模式図(断面図)である。本実施形態に係るミニ/マイクロLED表示装置20は、基板4の片面に複数のLEDチップ6が配列した表示パネルと、本発明の第1の側面に係る光学積層体10を含む。前記表示パネル上のLEDチップ6が配列した面と、光学積層体10の粘着剤層2が積層している。 FIG. 3 is a schematic diagram (cross-sectional view) showing an embodiment of a self-luminous display device (mini/micro LED display device) according to the second aspect of the present invention. The mini/micro LED display device 20 according to the present embodiment includes a display panel in which a plurality of LED chips 6 are arranged on one side of a substrate 4, and an optical laminate 10 according to the first aspect of the present invention. The surface on which the LED chips 6 are arranged on the display panel and the adhesive layer 2 of the optical laminate 10 are laminated.

本実施形態において、表示パネルの基板4上には、各LEDチップ6に発光制御信号を送るための金属配線層5が積層されている。赤色(R)、緑色(G)、青色(B)の各色の光を発する各LEDチップ6は、表示パネルの基板4上に金属配線層5を介して交互に配列されている。金属配線層5は、銅などの金属によって形成されており、各LEDチップ6の発光を反射して、画像の視認性を低下させる。また、RGBの各色の各LEDチップ6が発する光が混色し、コントラストが低下する。 In this embodiment, a metal wiring layer 5 for sending light emission control signals to each LED chip 6 is laminated on the substrate 4 of the display panel. LED chips 6 that emit light in each color of red (R), green (G), and blue (B) are alternately arranged on the substrate 4 of the display panel with metal wiring layers 5 interposed therebetween. The metal wiring layer 5 is made of metal such as copper, and reflects the light emitted from each LED chip 6, reducing the visibility of the image. Moreover, the light emitted by each LED chip 6 of each color of RGB is mixed, resulting in a decrease in contrast.

本実施形態のミニ/マイクロLED表示装置において、表示パネル上に配列された各LEDチップ6は、粘着剤層2により隙間なく封止されている。粘着剤層2は着色剤を含むため、可視光領域で十分な遮光性を有する。遮光性が高い粘着剤層2により各LEDチップ6が封止されているため、金属配線層5による反射を防止することができる。また、粘着剤層2は各LEDチップ6間も隙間なく封止しているため、各LEDチップ6同士の混色を防止し、コントラストを向上させることができる。 In the mini/micro LED display device of this embodiment, each LED chip 6 arranged on the display panel is sealed with an adhesive layer 2 without any gaps. Since the adhesive layer 2 contains a coloring agent, it has sufficient light-shielding properties in the visible light region. Since each LED chip 6 is sealed with the adhesive layer 2 having high light-shielding properties, reflection by the metal wiring layer 5 can be prevented. Further, since the adhesive layer 2 seals the LED chips 6 without any gaps, it is possible to prevent color mixing between the LED chips 6 and improve contrast.

上述のように、本実施形態に係る光学積層体は、粘着剤層が着色剤を含むため、粘着剤層に金属被着体を積層させた場合であっても、金属表面の反射や光沢を防止することができる。本実施形態の光学積層体の粘着剤層に金属被着体を積層させたときの基材表面1aの5°正反射の可視光領域の反射率は、50%以下であることが好ましく、30%以下であることがより好ましく、15%以下であることがさらに好ましく、10%以下であることが特に好ましい。本実施形態の光学積層体の粘着剤層に金属被着体を積層させたときの基材表面1aの光沢度(JIS Z 8741-1997に基づく)は100%以下であることが好ましく、80%以下であることがより好ましく、60%以下であることがさらに好ましく、50%以下があることが特に好ましい。
なお、上記金属被着体としては、銅、アルミニウム、ステンレスなどを用いることができる。
As described above, in the optical laminate according to this embodiment, since the adhesive layer contains a colorant, even when a metal adherend is laminated on the adhesive layer, reflection and gloss of the metal surface are not affected. It can be prevented. When a metal adherend is laminated on the adhesive layer of the optical laminate of this embodiment, the reflectance of the base material surface 1a in the visible light region of 5° specular reflection is preferably 50% or less, and 30% or less. % or less, even more preferably 15% or less, particularly preferably 10% or less. When a metal adherend is laminated on the adhesive layer of the optical laminate of this embodiment, the glossiness (based on JIS Z 8741-1997) of the base material surface 1a is preferably 100% or less, and preferably 80%. It is more preferably at most 60%, even more preferably at most 50%.
Note that copper, aluminum, stainless steel, etc. can be used as the metal adherend.

また、本実施形態のミニ/マイクロLED表示装置において、基材1の面1aには反射防止処理及び/又はアンチグレア処理3が施されており、基材表面1aにおける外光の反射や像の映り込み等による視認性の低下が防止され、又は光沢度などの見栄えが調整されている。図4は、本発明の第2の側面に係る自発光型表示装置(ミニ/マイクロLED表示装置)の他の一実施形態を示す模式図(断面図)である。本実施形態に係るミニ/マイクロLED表示装置21は、基材1の面1aにアンチグレア層3aが形成されていること以外は、図3と同じである。本実施形態に係るミニ/マイクロLED表示装置21のアンチグレア層3aの平均傾斜角θa(°)は、上記と同様である。 Furthermore, in the mini/micro LED display device of this embodiment, the surface 1a of the base material 1 is subjected to anti-reflection treatment and/or anti-glare treatment 3, which prevents reflection of external light and image reflection on the surface 1a of the base material. Decrease in visibility due to crowding etc. is prevented, or appearance such as glossiness is adjusted. FIG. 4 is a schematic diagram (cross-sectional view) showing another embodiment of a self-luminous display device (mini/micro LED display device) according to the second aspect of the present invention. The mini/micro LED display device 21 according to this embodiment is the same as that shown in FIG. 3 except that an anti-glare layer 3a is formed on the surface 1a of the base material 1. The average inclination angle θa (°) of the anti-glare layer 3a of the mini/micro LED display device 21 according to this embodiment is the same as described above.

本実施形態の自発光型表示装置は、表示パネル及び光学積層体以外の光学部材を備えていてもよい。上記光学部材としては、特に限定されないが、偏光板、位相差板、反射防止フィルム、視野角調整フィルム、光学補償フィルム、などが挙げられる。なお、光学部材には、表示装置や入力装置の視認性を保ちながら加飾や保護の役割を担う部材(意匠フィルム、装飾フィルムや表面保護板等)も含むものとする。 The self-luminous display device of this embodiment may include optical members other than the display panel and the optical laminate. Examples of the optical member include, but are not particularly limited to, a polarizing plate, a retardation plate, an antireflection film, a viewing angle adjustment film, an optical compensation film, and the like. Note that optical members also include members (design films, decorative films, surface protection plates, etc.) that play a role of decoration and protection while maintaining the visibility of display devices and input devices.

本実施形態のミニ/マイクロLED表示装置は、基板の片面に複数のLEDチップが配列した表示パネルと、本発明の第1の側面に係る光学積層体の粘着剤層を貼り合わせることのより製造するにより製造することができる。 The mini/micro LED display device of this embodiment is manufactured by bonding a display panel in which a plurality of LED chips are arranged on one side of a substrate and the adhesive layer of the optical laminate according to the first aspect of the present invention. It can be manufactured by

具体的には、表示パネルと第一形態の粘着剤層を有する光学積層体の貼り付けは、加熱及び/又は加圧下で積層させるにより実施することができる。表示パネルと第二形態の粘着剤層を有する光学積層体の貼り付ける場合は、加熱及び/又は加圧下で積層させた後に光硬化を行うことにより実施することができる。光硬化は、上記の第一形態の粘着剤層を形成する光硬化と同様に行うことができる。 Specifically, the display panel and the optical laminate having the adhesive layer of the first embodiment can be attached by laminating them under heat and/or pressure. When an optical laminate having a display panel and an adhesive layer of the second embodiment is attached, it can be carried out by laminating them under heat and/or pressure and then photocuring. Photocuring can be performed in the same manner as the photocuring for forming the adhesive layer of the first embodiment described above.

粘着剤層が、(メタ)アクリル系ブロックコポリマーAを含む溶媒型粘着剤組成物から形成される場合は、上記貼り合わせは、50℃以上で加熱加圧することが好ましい。50℃以上で加熱加圧することにより、粘着剤層が高流動性になって、基板上に配列されたLEDチップの段差に十分に追従して、隙間なく密着できる。加熱は、50℃以上で行い、好ましくは60℃以上、より好ましくは70℃以上で行う。加圧は、特に限定されないが、例えば1.5atm以上、好ましくは2atm以上、より好ましくは3atm以上で行う。加熱加圧は、例えば、オートクレーブなどを用いて行うことができる。これにより製造されたミニ/マイクロLED表示装置は、室温(25℃)に戻した後に、粘着剤層の貯蔵弾性率が高くなり、加工性、接着信頼性が向上する。 When the adhesive layer is formed from a solvent-based adhesive composition containing (meth)acrylic block copolymer A, the above bonding is preferably carried out by heating and pressing at 50° C. or higher. By heating and pressurizing at 50° C. or higher, the adhesive layer becomes highly fluid and can sufficiently follow the steps of the LED chips arranged on the substrate and adhere to them without any gaps. Heating is performed at 50°C or higher, preferably 60°C or higher, more preferably 70°C or higher. Pressurization is not particularly limited, but is performed at, for example, 1.5 atm or higher, preferably 2 atm or higher, and more preferably 3 atm or higher. The heating and pressurization can be performed using, for example, an autoclave. After the mini/micro LED display device manufactured in this manner is returned to room temperature (25° C.), the storage modulus of the adhesive layer becomes high, and processability and adhesion reliability are improved.

以下に、実施例に基づいて本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例により限定されるものではない。なお、下記製造例における各種特性は、下記の方法により評価または測定を行った。 The present invention will be explained in more detail below based on Examples, but the present invention is not limited to these Examples. In addition, various characteristics in the following production examples were evaluated or measured by the following methods.

(表面形状測定)
アンチグレア性フィルムのアンチグレア層が形成されていない面に、松浪ガラス工業(株)製のガラス板(厚み1.3mm)を粘着剤で貼り合わせ、高精度微細形状測定器(商品名;サーフコーダET4000、(株)小坂研究所製)を用いて、カットオフ値0.8mmの条件で前記アンチグレア層の表面形状を測定し、平均傾斜角θaを求めた。なお、前記高精度微細形状測定器は、前記平均傾斜角θaを自動算出する。前記平均傾斜角θaは、JIS B 0601(1994年版)に基づくものである。
(Surface shape measurement)
A glass plate (thickness 1.3 mm) manufactured by Matsunami Glass Industry Co., Ltd. was attached to the surface of the anti-glare film on which the anti-glare layer was not formed using an adhesive, and a high-precision micro-shape measuring device (product name: Surfcoder ET4000) was used. , manufactured by Kosaka Institute Co., Ltd.), the surface shape of the anti-glare layer was measured under the condition of a cutoff value of 0.8 mm, and the average inclination angle θa was determined. Note that the high-precision fine shape measuring device automatically calculates the average inclination angle θa. The average inclination angle θa is based on JIS B 0601 (1994 edition).

(ヘイズ)
JIS 7136で定める方法により、ヘイズメーター(村上色彩科学研究所社製、商品名「HN-150」)へ、アンチグレア性フィルムのアンチグレア層面から光が入射するように設置し、ヘイズ値を測定した。
(Haze)
According to the method specified in JIS 7136, a haze meter (manufactured by Murakami Color Science Institute, trade name "HN-150") was installed so that light was incident on the anti-glare layer surface of the anti-glare film, and the haze value was measured.

製造例1
(アンチグレア性フィルムの調製)
アンチグレア層に含まれる樹脂として、紫外線硬化型ウレタンアクリレート樹脂(DIC(株)製、商品名「ユニディック17-806」、固形分80%)100重量部を準備した。前記樹脂の樹脂固形分100重量部あたり、光拡散性微粒子としてスチレン架橋粒子(綜研化学(株)製、商品名「MX-350H」、重量平均粒径:3.5μm、屈折率1.59)を14重量部、チキソトロピー付与剤として有機粘土である合成スメクタイト(クニミネ工業(株)製、商品名「スメクトンSAN」)を2.5重量部、光重合開始剤(BASF社製、商品名「OMNIRAD907」)を5重量部、レベリング剤(DIC(株)製、商品名「メガファックF-556」、固形分100%)を0.5重量部混合した。この混合物を固形分濃度が30重量%となるように、トルエン/酢酸エチル混合溶媒(重量比90/10)で希釈して、光拡散素子形成材料(塗工液)を調製した。
保護層として機能し得るトリアセチルセルロース(TAC)フィルム(富士フイルム社製、製品名「TG60UL」、厚み:60μm)の片面に、バーコータを用いてアンチグレア層形成材料(塗工液)を塗布し、塗膜を形成した。そして、この塗膜が形成された透明TACフィルム基材を、乾燥工程へと搬送した。乾燥工程において、110℃で1分間加熱することにより前記塗膜を乾燥させた。その後、高圧水銀ランプにて積算光量300mJ/cm2の紫外線を照射し、前記塗膜を硬化処理して厚み5.0μmの光拡散素子をTACフィルムの片面に形成してアンチグレア性フィルム1を得た。アンチグレア性フィルム1のヘイズ値は、42%であった。アンチグレア性フィルム1のアンチグレア層のθa(°)は、1.22であった。
Manufacturing example 1
(Preparation of anti-glare film)
As a resin included in the anti-glare layer, 100 parts by weight of an ultraviolet curable urethane acrylate resin (manufactured by DIC Corporation, trade name "Unidic 17-806", solid content 80%) was prepared. Styrene crosslinked particles (manufactured by Soken Kagaku Co., Ltd., trade name "MX-350H", weight average particle size: 3.5 μm, refractive index 1.59) were used as light-diffusing fine particles per 100 parts by weight of the resin solid content of the resin. 14 parts by weight of synthetic smectite (manufactured by Kunimine Kogyo Co., Ltd., trade name "Smecton SAN"), which is an organic clay, as a thixotropy imparting agent, and a photopolymerization initiator (manufactured by BASF, trade name "OMNIRAD907"). '') and 0.5 parts by weight of a leveling agent (manufactured by DIC Corporation, trade name ``Megafac F-556'', solid content 100%) were mixed. This mixture was diluted with a toluene/ethyl acetate mixed solvent (weight ratio 90/10) so that the solid content concentration was 30% by weight to prepare a light diffusing element forming material (coating liquid).
Applying an anti-glare layer forming material (coating liquid) using a bar coater to one side of a triacetyl cellulose (TAC) film (manufactured by Fuji Film Corporation, product name "TG60UL", thickness: 60 μm) that can function as a protective layer, A coating film was formed. The transparent TAC film base material on which this coating film was formed was then conveyed to a drying process. In the drying step, the coating film was dried by heating at 110° C. for 1 minute. Thereafter, the coating film was cured by irradiating ultraviolet rays with a cumulative light intensity of 300 mJ/cm 2 using a high-pressure mercury lamp, and a light diffusing element with a thickness of 5.0 μm was formed on one side of the TAC film to obtain anti-glare film 1. Ta. The haze value of anti-glare film 1 was 42%. The anti-glare layer of anti-glare film 1 had an θa (°) of 1.22.

製造例2
(アンチグレア性フィルムの調製)
光拡散性微粒子として不定形シリカ(富士シリシア化学(株)製、商品名「サイロホービック100」、重量平均粒径:2.6μm)を14重量部添加し、硬化処理後の厚みを7.0μmとした以外は、製造例1と同様の方法でTACフィルムの片面に光拡散素子を形成してアンチグレア性フィルム2を得た。アンチグレア性フィルム2のヘイズ値は、11%であった。アンチグレア性フィルム2のアンチグレア層のθa(°)は、1.43であった。
Manufacturing example 2
(Preparation of anti-glare film)
14 parts by weight of amorphous silica (manufactured by Fuji Silysia Chemical Co., Ltd., trade name "Silohobic 100", weight average particle size: 2.6 μm) was added as light-diffusing fine particles, and the thickness after curing treatment was 7.5 μm. An anti-glare film 2 was obtained by forming a light diffusing element on one side of the TAC film in the same manner as in Production Example 1, except that the thickness was 0 μm. The haze value of anti-glare film 2 was 11%. The anti-glare layer of anti-glare film 2 had an θa (°) of 1.43.

製造例3
(アンチグレア性フィルムの調製)
アンチグレア層形成材料に含まれる樹脂として、紫外線硬化型ウレタンアクリレート樹脂(DIC(株)製、商品名「ユニディック17-806」、固形分80%)100重量部を準備した。前記樹脂の樹脂固形分100重量部あたり、アンチグレア層形成粒子として、不定形シリカ(富士シリシア(株)製、商品名「サイロホービック702」)を7重量部、不定形シリカ(富士シリシア(株)製、商品名「サイロホービック100」)を6.5重量部、光重合開始剤(BASF社製、商品名「OMNIRAD184」)を5重量部、レベリング剤(DIC(株)製、商品名「メガファックF-556」)を0.5重量部混合した。この混合物を固形分濃度が30%となるように、トルエンで希釈して、アンチグレア層形成材料(塗工液)を調製した。
透光性基材として、透明プラスチックフィルム基材(TACフィルム、富士フィルム(株)製、商品名「TD80UL」、厚さ:80μm)を準備した。前記透明プラスチックフィルム基材の片面に、前記アンチグレア層形成材料(塗工液)を、バーコータを用いて塗膜を形成した。そして、この塗膜が形成された透明プラスチックフィルム基材を、乾燥工程へと搬送した。乾燥工程において、110℃で1分間加熱することにより前記塗膜を乾燥させた。その後、高圧水銀ランプにて積算光量300mJ/cm2の紫外線を照射し、前記塗膜を硬化処理して厚み5.0μmのアンチグレア層を形成し、アンチグレア性フィルム3を得た。アンチグレア性フィルム3のアンチグレア層のθa(°)は、3.5であった。
Manufacturing example 3
(Preparation of anti-glare film)
As a resin included in the anti-glare layer forming material, 100 parts by weight of an ultraviolet curable urethane acrylate resin (manufactured by DIC Corporation, trade name "Unidic 17-806", solid content 80%) was prepared. Per 100 parts by weight of resin solid content of the resin, 7 parts by weight of amorphous silica (manufactured by Fuji Silysia Co., Ltd., trade name "Silohobic 702") as anti-glare layer forming particles, 6.5 parts by weight of a photopolymerization initiator (manufactured by BASF, trade name "OMNIRAD184"), 5 parts by weight of a photopolymerization initiator (manufactured by BASF, trade name "OMNIRAD184"), a leveling agent (manufactured by DIC Corporation, trade name) 0.5 part by weight of "Megafac F-556") was mixed. This mixture was diluted with toluene so that the solid content concentration was 30% to prepare an anti-glare layer forming material (coating liquid).
A transparent plastic film base material (TAC film, manufactured by Fuji Film Co., Ltd., trade name "TD80UL", thickness: 80 μm) was prepared as a translucent base material. A coating film was formed on one side of the transparent plastic film substrate using the anti-glare layer forming material (coating liquid) using a bar coater. The transparent plastic film base material on which this coating film was formed was then transported to a drying process. In the drying step, the coating film was dried by heating at 110° C. for 1 minute. Thereafter, the coating film was cured by irradiating ultraviolet rays with a cumulative light intensity of 300 mJ/cm 2 using a high-pressure mercury lamp to form an anti-glare layer with a thickness of 5.0 μm, thereby obtaining an anti-glare film 3. The anti-glare layer of anti-glare film 3 had an θa (°) of 3.5.

製造例4
(アンチグレア性フィルムの調製)
アンチグレア層形成粒子として、不定形シリカ(富士シリシア(株)製、商品名「サイロホービック702」)を6.5重量部、不定形シリカ(富士シリシア(株)製、商品名「サイロホービック200」)を6.5重量部を添加し、増粘剤(コープケミカル製、商品名「ルーセンタイトSAN」)を2.5重量部添加し、硬化処理後の厚みを8.0μmとした以外は、製造例3と同様の方法でアンチグレア性フィルム4を得た。アンチグレア性フィルム4のアンチグレア層のθa(°)は、2.3であった。
Production example 4
(Preparation of anti-glare film)
As anti-glare layer forming particles, 6.5 parts by weight of amorphous silica (manufactured by Fuji Silicia Co., Ltd., trade name "Cylohobic 702"), 200") was added, 2.5 parts by weight of a thickener (manufactured by Co-op Chemical, trade name "Lucentite SAN") was added, and the thickness after hardening treatment was 8.0 μm. An anti-glare film 4 was obtained in the same manner as in Production Example 3. The anti-glare layer of anti-glare film 4 had an θa (°) of 2.3.

製造例5
(プレポリマーの調製)
温度計、攪拌機、還流冷却管および窒素ガス導入管を備えたセパラブルフラスコに、ブチルアクリレート(BA)67重量部、シクロヘキシルアクリレート(CHA、大阪有機化学工業製、商品名「ビスコート#155」)14重量部、4-ヒドロキシブチルアクリレート(4-HBA)19重量部、光重合開始剤(BASF社製、商品名「イルガキュア184」)0.09重量部、及び光重合開始剤(BASF社製、商品名「イルガキュア651」)0.09重量部を投入した後、窒素ガスを流し、攪拌しながら約1時間窒素置換を行った。その後、5mW/cm2でUVAを照射し重合を行い、反応率が5~15%になるように調整して、アクリル系プレポリマー溶液を得た。
Manufacturing example 5
(Preparation of prepolymer)
In a separable flask equipped with a thermometer, a stirrer, a reflux condenser, and a nitrogen gas inlet tube, 67 parts by weight of butyl acrylate (BA) and 14 parts by weight of cyclohexyl acrylate (CHA, manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd., trade name "Viscoat #155") were added. parts by weight, 19 parts by weight of 4-hydroxybutyl acrylate (4-HBA), 0.09 parts by weight of photopolymerization initiator (manufactured by BASF, trade name "Irgacure 184"), and photopolymerization initiator (manufactured by BASF, product name) After adding 0.09 parts by weight (named "Irgacure 651"), nitrogen gas was passed through the solution, and nitrogen substitution was performed for about 1 hour while stirring. Thereafter, polymerization was performed by irradiating UVA at 5 mW/cm 2 and the reaction rate was adjusted to 5 to 15% to obtain an acrylic prepolymer solution.

製造例6
(黒色粘着剤組成物の調製)
製造例7で得られたアクリル系プレポリマー溶液(プレポリマー全量を100重量部とする)に、2-ヒドロキシエチルアクリレート(HEA)9重量部、4-ヒドロキシブチルアクリレート(4-HBA)8重量部、多官能モノマーとしてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(新中村工業化学製、商品名「KAYARAD DPHA」)0.02重量部、シランカップリング剤として3-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン0.35重量部、および光重合開始剤(BASF社製、商品名「イルガキュア651」)0.3量部を加えて、光重合性粘着剤組成物溶液を調製した。
上記で得られた光重合性粘着剤組成物溶液100重量部に、光重合開始剤(BASF社製、商品名「イルガキュア651」)0.2量部と黒色顔料分散液(株式会社トクシキ製、商品名「トクシキ9050 Black」)4重量部を加えて、光重合性の黒色粘着剤組成物溶液を調製した。
Manufacturing example 6
(Preparation of black adhesive composition)
To the acrylic prepolymer solution obtained in Production Example 7 (total prepolymer amount is 100 parts by weight), 9 parts by weight of 2-hydroxyethyl acrylate (HEA) and 8 parts by weight of 4-hydroxybutyl acrylate (4-HBA) were added. , 0.02 parts by weight of dipentaerythritol hexaacrylate (manufactured by Shin Nakamura Industrial Chemical Co., Ltd., trade name "KAYARAD DPHA") as a polyfunctional monomer, 0.35 parts by weight of 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane as a silane coupling agent, and 0.3 parts of a photopolymerization initiator (manufactured by BASF, trade name "Irgacure 651") were added to prepare a photopolymerizable adhesive composition solution.
To 100 parts by weight of the photopolymerizable adhesive composition solution obtained above, 0.2 parts by weight of a photopolymerization initiator (manufactured by BASF, trade name "Irgacure 651") and a black pigment dispersion (manufactured by Tokushiki Co., Ltd., 4 parts by weight of Tokushiki 9050 Black (trade name) was added to prepare a photopolymerizable black adhesive composition solution.

製造例7
(粘着剤組成物の調製)
製造例7で得られたアクリル系プレポリマー溶液(プレポリマー全量を100重量部とする)に、2-ヒドロキシエチルアクリレート(HEA)9重量部、4-ヒドロキシブチルアクリレート(4-HBA)8重量部、多官能モノマーとしてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(新中村工業化学製、商品名「KAYARAD DPHA」)0.12重量部、及びシランカップリング剤として3-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン0.35重量部を加えて、光重合性の粘着剤組成物溶液を調製した。
Manufacturing example 7
(Preparation of adhesive composition)
To the acrylic prepolymer solution obtained in Production Example 7 (total prepolymer amount is 100 parts by weight), 9 parts by weight of 2-hydroxyethyl acrylate (HEA) and 8 parts by weight of 4-hydroxybutyl acrylate (4-HBA) were added. , 0.12 parts by weight of dipentaerythritol hexaacrylate (manufactured by Shin Nakamura Industrial Chemical Co., Ltd., trade name "KAYARAD DPHA") as a polyfunctional monomer, and 0.35 parts by weight of 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane as a silane coupling agent. was added to prepare a photopolymerizable adhesive composition solution.

製造例8
(粘着シートの調製)
ポリエステルフィルムの片面が剥離面となっている厚さ38μmの剥離フィルムR1(三菱樹脂社製、商品名「MRF#38」)の剥離面に製造例6で調製した黒色粘着剤組成物溶液を硬化後の厚さが100μmになるように塗布し、ポリエステルフィルムの片面が剥離面となっている剥離フィルムR2(三菱樹脂社製、MRE#38)を被せて空気を遮断した。この積層体の片側から、ブラックライト(東芝社製、商品名「FL15BL」)を用いて照度5mW/cm2、積算光量1300mJ/cm2の条件で紫外線を照射した。これにより、上記黒色粘着剤組成物の硬化物である光架橋性粘着剤が上記剥離フィルムR1,R2に挟まれた厚さ100μmの粘着シート1を、基材レス粘着シートの形態で得た。
なお、上記ブラックライトの照度の値は、ピーク感度波長約350nmの工業用UVチェッカー(トプコン社製、商品名:UVR-T1、受光部型式UD-T36)による測定値である。
Production example 8
(Preparation of adhesive sheet)
The black adhesive composition solution prepared in Production Example 6 was cured on the release surface of a 38 μm thick release film R1 (manufactured by Mitsubishi Plastics Co., Ltd., trade name "MRF#38"), in which one side of the polyester film is the release surface. The film was coated to a final thickness of 100 μm, and a release film R2 (manufactured by Mitsubishi Plastics Co., Ltd., MRE #38) having one side of the polyester film as a release surface was covered to block air. One side of this laminate was irradiated with ultraviolet rays using a black light (manufactured by Toshiba Corporation, trade name "FL15BL") under conditions of an illuminance of 5 mW/cm 2 and an integrated light amount of 1300 mJ/cm 2 . Thereby, a 100 μm thick adhesive sheet 1 in which a photocrosslinkable adhesive, which is a cured product of the black adhesive composition, was sandwiched between the release films R1 and R2 was obtained in the form of a substrate-less adhesive sheet.
Note that the value of the illuminance of the black light is a value measured by an industrial UV checker (manufactured by Topcon Corporation, trade name: UVR-T1, light receiving unit model UD-T36) with a peak sensitivity wavelength of about 350 nm.

製造例9
(粘着シートの調製)
硬化後の厚さが50μmになるように塗布したこと以外は、製造例10と同様にして、黒色粘着剤組成物の硬化物である光架橋性粘着剤が剥離フィルムR1,R2に挟まれた厚さ50μmの粘着シート2を、基材レス粘着シートの形態で得た。
Production example 9
(Preparation of adhesive sheet)
A photocrosslinkable adhesive, which is a cured product of the black adhesive composition, was sandwiched between release films R1 and R2 in the same manner as in Production Example 10, except that the coating was applied so that the thickness after curing was 50 μm. An adhesive sheet 2 having a thickness of 50 μm was obtained in the form of a substrate-less adhesive sheet.

製造例10
(粘着シートの調製)
製造例7で調製した粘着剤組成物溶液を使用したこと以外は、製造例10と同様にして、粘着剤組成物の硬化物である光架橋性粘着剤が剥離フィルムR1,R2に挟まれた厚さ50μmの粘着シート3を、基材レス粘着シートの形態で得た。
Production example 10
(Preparation of adhesive sheet)
A photocrosslinkable adhesive, which is a cured product of the adhesive composition, was sandwiched between release films R1 and R2 in the same manner as in Production Example 10, except that the adhesive composition solution prepared in Production Example 7 was used. An adhesive sheet 3 having a thickness of 50 μm was obtained in the form of a substrate-less adhesive sheet.

実施例1~4
(光学積層体の調製)
製造例10で得られた粘着シート1から一方の剥離フィルムを剥離し、露出させた粘着面を製造例1~4で得られたアンチグレア性フィルム1~4のアンチグレア層が形成されていない面に貼り合わせて、それぞれアンチグレア性フィルム1~4/粘着シート1/剥離フィルムからなる光学積層体を得た。
Examples 1 to 4
(Preparation of optical laminate)
Peel off one of the release films from the adhesive sheet 1 obtained in Production Example 10, and apply the exposed adhesive surface to the surface of the anti-glare films 1 to 4 obtained in Production Examples 1 to 4 on which the anti-glare layer is not formed. By laminating them together, optical laminates each consisting of anti-glare films 1 to 4/adhesive sheet 1/release film were obtained.

実施例5~8
(光学積層体の調製)
製造例9で得られた粘着シート2を使用したこと以外は、実施例1~4と同様にして、それぞれアンチグレア性フィルム1~4/粘着シート2/剥離フィルムからなる光学積層体を得た。
Examples 5-8
(Preparation of optical laminate)
Optical laminates each consisting of anti-glare films 1 to 4/adhesive sheet 2/release film were obtained in the same manner as Examples 1 to 4, except that adhesive sheet 2 obtained in Production Example 9 was used.

比較例1~4
(光学積層体の調製)
製造例10で得られた粘着シート3を使用したこと以外は、実施例1~6と同様にして、それぞれアンチグレア性フィルム1~4/粘着シート3/剥離フィルムからなる光学積層体を得た。
Comparative examples 1 to 4
(Preparation of optical laminate)
Optical laminates each consisting of anti-glare films 1 to 4/adhesive sheet 3/release film were obtained in the same manner as in Examples 1 to 6, except that adhesive sheet 3 obtained in Production Example 10 was used.

比較例5
(光学積層体の調製)
アンチグレア性フィルムに代えて、TACフィルム(コニカミノルタ(株)製、商品名「KC4UY」)を使用したこと以外は、実施例1~4と同様にして、TACフィルム/粘着シート1/剥離フィルムからなる光学積層体を得た。
Comparative example 5
(Preparation of optical laminate)
From TAC film/adhesive sheet 1/release film in the same manner as in Examples 1 to 4, except that TAC film (manufactured by Konica Minolta, Inc., trade name "KC4UY") was used instead of the anti-glare film. An optical laminate was obtained.

比較例6
(光学積層体の調製)
アンチグレア性フィルムに代えて、TACフィルム(コニカミノルタ(株)製、商品名「KC4UY」)を使用したこと以外は、実施例5~8と同様にして、TACフィルム/粘着シート2/剥離フィルムからなる光学積層体を得た。
Comparative example 6
(Preparation of optical laminate)
From TAC film/adhesive sheet 2/release film in the same manner as in Examples 5 to 8, except that TAC film (manufactured by Konica Minolta, Inc., trade name "KC4UY") was used instead of the anti-glare film. An optical laminate was obtained.

比較例7
(光学積層体の調製)
アンチグレア性フィルムに代えて、TACフィルム(コニカミノルタ(株)製、商品名「KC4UY」)を使用したこと以外は、比較例1~4と同様にして、TACフィルム/粘着シート3/剥離フィルムからなる光学積層体を得た。
Comparative example 7
(Preparation of optical laminate)
From TAC film/adhesive sheet 3/release film in the same manner as Comparative Examples 1 to 4, except that TAC film (manufactured by Konica Minolta, Inc., trade name "KC4UY") was used instead of the anti-glare film. An optical laminate was obtained.

(評価)
上記の実施例及び比較例で得られた光学積層体を用いて、透過率、反射率、及び光沢度を測定した。測定の方法を以下に示す。測定の結果は表1に示した。
(evaluation)
Transmittance, reflectance, and gloss were measured using the optical laminates obtained in the above examples and comparative examples. The measurement method is shown below. The measurement results are shown in Table 1.

(1)透過率
上記の実施例及び比較例で得られた光学積層体の剥離フィルムを剥離し、分光光度計U4100(日立ハイテクノロジー社製)に、アンチグレア性フィルム/TACフィルム側から光が入射するように設置し、可視光領域の透過率(%)を測定した。この透過率は、JIS Z8701の2度視野(C光源)により測定して視感度補正を行なったY値である。
(1) Transmittance The release film of the optical laminate obtained in the above Examples and Comparative Examples is peeled off, and light enters a spectrophotometer U4100 (manufactured by Hitachi High-Technologies) from the anti-glare film/TAC film side. The transmittance (%) in the visible light region was measured. This transmittance is a Y value measured using a 2-degree field of view (C light source) according to JIS Z8701 and subjected to visibility correction.

(2)反射率・光沢度
黒色のアクリル板にアルミニウム箔を貼り付けて積層したプレートを作製した。上記の実施例及び比較例で得られた光学積層体の剥離フィルムを剥離して露出させた粘着面を上記プレートのアルミニウム箔側に積層し、サンプルとした。得られたサンプルを、分光光度計U4100(日立ハイテクノロジー社製)へアンチグレア性フィルム/TACフィルムを光源側に設置し、5°正反射の可視光領域の反射率(%)を測定した。また、得られたサンプルを、JIS Z8741-1997で定める方法により、光沢度計(村上色彩化学研究所社製、商品名「GM-26 PRO」)へ、アンチグレア性フィルム/TACフィルムを光源側に設置し、光沢度(%)を測定した。
(2) Reflectance/Gloss A plate was prepared by laminating aluminum foil on a black acrylic plate. The adhesive surface exposed by peeling off the release film of the optical laminate obtained in the above Examples and Comparative Examples was laminated on the aluminum foil side of the above plate to prepare a sample. The obtained sample was placed in a spectrophotometer U4100 (manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation) with an anti-glare film/TAC film placed on the light source side, and the reflectance (%) in the visible light region of 5° specular reflection was measured. In addition, the obtained sample was placed in a gloss meter (manufactured by Murakami Color Chemistry Institute, trade name: "GM-26 PRO") using the method specified in JIS Z8741-1997, with the anti-glare film/TAC film facing the light source. The glossiness (%) was measured.

Figure 0007387522000004
Figure 0007387522000004

10、11 光学積層体
1 基材
2 粘着剤層
3 反射防止処理及び/又はアンチグレア処理
3a アンチグレア層
20、21 自発光型表示装置(ミニ/マイクロLED表示装置)
4 基板
5 配線層
6 発光素子(LEDチップ)
10, 11 Optical laminate 1 Base material 2 Adhesive layer 3 Anti-reflection treatment and/or anti-glare treatment 3a Anti-glare layer 20, 21 Self-luminous display device (mini/micro LED display device)
4 Substrate 5 Wiring layer 6 Light emitting element (LED chip)

Claims (18)

基材と、着色剤を含む粘着剤層と、を含む光学積層体であって、
前記基材は、片面が反射防止処理及び/又はアンチグレア処理されており、
前記基材の前記反射防止処理及び/又はアンチグレア処理されていない側の面上に前記粘着剤層が積層されており、
前記粘着剤層が、ポリマーと、光重合性化合物と、光重合開始剤と、着色剤とを含有する光硬化性粘着剤組成物から形成される粘着剤層であり、
前記着色剤は、波長330~400nmの平均透過率が、波長400~700nmの平均透過率よりも大きい光学積層体。
An optical laminate comprising a base material and an adhesive layer containing a colorant,
The base material is anti-reflection treated and/or anti-glare treated on one side,
The adhesive layer is laminated on the side of the base material that is not subjected to the anti-reflection treatment and/or the anti-glare treatment,
The adhesive layer is an adhesive layer formed from a photocurable adhesive composition containing a polymer, a photopolymerizable compound, a photoinitiator, and a colorant,
The colorant is an optical laminate in which the average transmittance in the wavelength range of 330 to 400 nm is higher than the average transmittance in the wavelength range of 400 to 700 nm .
前記着色剤は、可視光の吸収よりも紫外線の吸収が小さい紫外線透過性の黒色顔料、又は可視光の吸収よりも紫外線の吸収が小さい紫外線透過性の黒色染料である、請求項1記載の光学積層体。 The optical system according to claim 1, wherein the colorant is an ultraviolet-transparent black pigment that absorbs ultraviolet light less than visible light, or an ultraviolet-transparent black dye that absorbs ultraviolet light less than visible light. laminate. 前記光硬化性粘着剤組成物における前記着色剤の含有量は、モノマー全量100重量部に対して、0.01~20重量部である、請求項1又は2に記載の光学積層体。 The optical laminate according to claim 1 , wherein the content of the colorant in the photocurable adhesive composition is 0.01 to 20 parts by weight based on 100 parts by weight of the total amount of monomers. 前記光重合開始剤が、波長330~400nmの範囲に少なくとも1つの吸収極大を有する、請求項1~3のいずれか1項に記載の光学積層体。 The optical laminate according to any one of claims 1 to 3 , wherein the photopolymerization initiator has at least one absorption maximum in a wavelength range of 330 to 400 nm. 前記ポリマーがアクリル系ポリマーである、請求項~4のいずれか1項に記載の光学積層体。 The optical laminate according to any one of claims 1 to 4, wherein the polymer is an acrylic polymer. 前記ポリマーのガラス転移温度が0℃以下である、請求項~5のいずれか1項に記載の光学積層体。 The optical laminate according to any one of claims 1 to 5, wherein the polymer has a glass transition temperature of 0° C. or lower. 前記光硬化性粘着剤組成物が、さらに、前記ポリマーと架橋可能な架橋剤を含む、請求項~6のいずれか1項に記載の光学積層体。 The optical laminate according to any one of claims 1 to 6, wherein the photocurable adhesive composition further contains a crosslinking agent capable of crosslinking with the polymer. 前記光学積層体は、350nm~450nmで透過率の極大値を有する、請求項1~7のいずれか1項に記載の光学積層体。 The optical laminate according to any one of claims 1 to 7, wherein the optical laminate has a maximum value of transmittance in a range of 350 nm to 450 nm. 前記粘着剤層の全光線透過率が80%以下である、請求項1~8のいずれか1項に記載の光学積層体。 The optical laminate according to any one of claims 1 to 8, wherein the adhesive layer has a total light transmittance of 80% or less. 前記粘着剤層の厚みが10~500μmである、請求項1~9のいずれか1項に記載の光学積層体。 The optical laminate according to any one of claims 1 to 9, wherein the adhesive layer has a thickness of 10 to 500 μm. 前記粘着剤層の温度25℃におけるせん断貯蔵弾性率が10~1000kPaである、請求項1~10のいずれか1項に記載の光学積層体。 The optical laminate according to any one of claims 1 to 10, wherein the adhesive layer has a shear storage modulus of 10 to 1000 kPa at a temperature of 25°C. 前記粘着剤層の温度85℃におけるせん断貯蔵弾性率が3~300kPaである、請求項1~11のいずれか1項に記載の光学積層体。 The optical laminate according to any one of claims 1 to 11, wherein the adhesive layer has a shear storage modulus of 3 to 300 kPa at a temperature of 85°C. 前記アンチグレア処理が、前記基材の片面に設けられたアンチグレア層である、請求項1~12のいずれか1項に記載の光学積層体。 The optical laminate according to claim 1, wherein the anti-glare treatment is an anti-glare layer provided on one side of the base material. 前記アンチグレア層が、樹脂、粒子およびチキソトロピー付与剤を含むアンチグレア層形成材料を用いて形成されており、
前記アンチグレア層が、前記粒子および前記チキソトロピー付与剤が凝集することによって、前記アンチグレア層の表面に凸状部を形成する凝集部を有する、請求項13に記載の光学積層体。
The anti-glare layer is formed using an anti-glare layer forming material containing a resin, particles and a thixotropy agent,
The optical laminate according to claim 13, wherein the anti-glare layer has an agglomerated portion where the particles and the thixotropy imparting agent aggregate to form a convex portion on the surface of the anti-glare layer.
前記アンチグレア層表面の凸状部において、平均傾斜角θa(°)が0.1~5.0の範囲である、請求項14に記載の光学積層体。 The optical laminate according to claim 14, wherein the average inclination angle θa (°) of the convex portion on the surface of the anti-glare layer is in the range of 0.1 to 5.0. さらに、前記基材の反射防止処理及び/又はアンチグレア処理された面に、表面保護フィルムが積層された、請求項1~15のいずれか1項に記載の光学積層体。 The optical laminate according to any one of claims 1 to 15, further comprising a surface protection film laminated on the antireflection-treated and/or anti-glare-treated surface of the base material. 基板の片面に複数の発光素子が配列した表示パネルと、
請求項1~16のいずれか1項に記載の光学積層体と、を含む自発光型表示装置であって、
前記表示パネルの発光素子が配列した面と、前記光学積層体の粘着剤層が積層した、自発光型表示装置。
A display panel with multiple light emitting elements arranged on one side of a substrate,
A self-luminous display device comprising the optical laminate according to any one of claims 1 to 16,
A self-luminous display device, wherein a surface of the display panel on which light emitting elements are arranged and an adhesive layer of the optical laminate are laminated.
前記表示パネルが、基板の片面に複数のLEDチップが配列したLEDパネルである、請求項17に記載の自発光型表示装置。 The self-luminous display device according to claim 17, wherein the display panel is an LED panel in which a plurality of LED chips are arranged on one side of a substrate.
JP2020064490A 2020-03-31 2020-03-31 optical laminate Active JP7387522B2 (en)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2020064490A JP7387522B2 (en) 2020-03-31 2020-03-31 optical laminate
KR1020227037330A KR20220160631A (en) 2020-03-31 2021-03-26 optical stack
CN202180025907.1A CN115362234A (en) 2020-03-31 2021-03-26 Optical laminate
PCT/JP2021/013066 WO2021200733A1 (en) 2020-03-31 2021-03-26 Optical multilayer product
TW110111838A TW202147662A (en) 2020-03-31 2021-03-31 Optical multilayer product

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2020064490A JP7387522B2 (en) 2020-03-31 2020-03-31 optical laminate

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2021160242A JP2021160242A (en) 2021-10-11
JP7387522B2 true JP7387522B2 (en) 2023-11-28

Family

ID=77930054

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2020064490A Active JP7387522B2 (en) 2020-03-31 2020-03-31 optical laminate

Country Status (5)

Country Link
JP (1) JP7387522B2 (en)
KR (1) KR20220160631A (en)
CN (1) CN115362234A (en)
TW (1) TW202147662A (en)
WO (1) WO2021200733A1 (en)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7369760B2 (en) * 2021-12-24 2023-10-26 日東電工株式会社 Sheet for encapsulating optical semiconductor devices
JP7369761B2 (en) * 2021-12-24 2023-10-26 日東電工株式会社 Sheet for encapsulating optical semiconductor devices
CN116031351B (en) * 2022-03-25 2024-03-08 日东电工株式会社 Optical semiconductor element sealing sheet and display
JP2024030886A (en) * 2022-08-25 2024-03-07 日東電工株式会社 Curable composition and composite material

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000265133A (en) 1999-03-11 2000-09-26 Tomoegawa Paper Co Ltd Application film for electronic display
WO2004035665A1 (en) 2002-10-17 2004-04-29 Bridgestone Corporation Film and pressure-sensitive adhesive for use therein
JP2004294601A (en) 2003-03-26 2004-10-21 Nitto Denko Corp Anti-reflection film, optical element, and image display device
JP2008503639A (en) 2005-01-19 2008-02-07 エルジー・ケム・リミテッド Filter for plasma display panel having excellent removability and plasma display panel including the same
JP2008070708A (en) 2006-09-15 2008-03-27 Bridgestone Corp Antireflection / near infrared ray shielding filter, optical filter for plasma display panel using the same and plasma display panel
JP2013033240A (en) 2011-06-29 2013-02-14 Nitto Denko Corp Antiglare film, polarizing plate, image display apparatus and process for manufacturing antiglare film
JP2013228720A (en) 2012-03-30 2013-11-07 Fujifilm Corp Antiglare film, method for producing the same, polarizing plate and image display device
WO2014069542A1 (en) 2012-10-30 2014-05-08 旭硝子株式会社 Laminated body and display device

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10219136A (en) * 1997-02-10 1998-08-18 Nitto Denko Corp Glareproofing agent, glareproof film, and production thereof
KR102010759B1 (en) 2016-03-08 2019-08-14 주식회사 엘지화학 Display device
JP2017203810A (en) 2016-05-09 2017-11-16 日本化薬株式会社 Light absorption layer contained in color filter for organic electroluminescence display and sheet using the same
JP7067269B6 (en) 2018-05-24 2023-12-20 大日本印刷株式会社 Self-luminous display

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000265133A (en) 1999-03-11 2000-09-26 Tomoegawa Paper Co Ltd Application film for electronic display
WO2004035665A1 (en) 2002-10-17 2004-04-29 Bridgestone Corporation Film and pressure-sensitive adhesive for use therein
JP2004294601A (en) 2003-03-26 2004-10-21 Nitto Denko Corp Anti-reflection film, optical element, and image display device
JP2008503639A (en) 2005-01-19 2008-02-07 エルジー・ケム・リミテッド Filter for plasma display panel having excellent removability and plasma display panel including the same
JP2008070708A (en) 2006-09-15 2008-03-27 Bridgestone Corp Antireflection / near infrared ray shielding filter, optical filter for plasma display panel using the same and plasma display panel
JP2013033240A (en) 2011-06-29 2013-02-14 Nitto Denko Corp Antiglare film, polarizing plate, image display apparatus and process for manufacturing antiglare film
JP2013228720A (en) 2012-03-30 2013-11-07 Fujifilm Corp Antiglare film, method for producing the same, polarizing plate and image display device
WO2014069542A1 (en) 2012-10-30 2014-05-08 旭硝子株式会社 Laminated body and display device

Also Published As

Publication number Publication date
TW202147662A (en) 2021-12-16
JP2021160242A (en) 2021-10-11
KR20220160631A (en) 2022-12-06
CN115362234A (en) 2022-11-18
WO2021200733A1 (en) 2021-10-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP7387522B2 (en) optical laminate
JP7478574B2 (en) Optical laminate
WO2021200732A1 (en) Optical laminate body
JP7208435B1 (en) Optical semiconductor element encapsulation sheet
WO2022045130A1 (en) Photocurable adhesive sheet
WO2021200730A1 (en) Optical pressure-sensitive adhesive composition and optical multilayered object
JP7338085B2 (en) optical laminate
WO2023013652A1 (en) Optical-semiconductor-device sealing sheet
WO2024070715A1 (en) Adhesive sheet and laminate
CN114514299A (en) Photocurable adhesive composition, double-sided adhesive sheet and method for producing same, and optical device and method for producing same
JP2024091668A (en) Optical pressure sensitive adhesive composition and optical laminate
JP2023024316A (en) Optical semiconductor device sealing sheet
CN117882203A (en) Optical semiconductor element sealing sheet
TW202421741A (en) Adhesive sheets and laminates
JP2022117421A (en) optical adhesive tape
JP2022039945A (en) Photocurable adhesive sheet
JP2022117424A (en) optical adhesive tape
JP2022117422A (en) optical adhesive tape
JP2022117423A (en) optical adhesive tape

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20221007

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20230509

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20230705

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20231017

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20231115

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 7387522

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150