JP7383559B2 - Optical film inspection method and optical film manufacturing method - Google Patents

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Description

本発明は、光学フィルムの検査方法及び光学フィルムの製造方法に関する。 The present invention relates to an optical film inspection method and an optical film manufacturing method.

光学フィルムとして、第1位相差層と第2位相差層とを有する位相差積層体がある。位相差積層体において、第1位相差層と第2位相差層とは接着層(例えば紫外線硬化樹脂接着剤で形成される層)を介して接合されている。位相差積層体の例は、有機エレクトロルミネッセンス(有機EL)画像表示装置に適用される円偏光板である(特許文献1参照)。 As an optical film, there is a retardation laminate having a first retardation layer and a second retardation layer. In the retardation laminate, the first retardation layer and the second retardation layer are bonded via an adhesive layer (for example, a layer formed of an ultraviolet curable resin adhesive). An example of the retardation laminate is a circularly polarizing plate applied to an organic electroluminescence (organic EL) image display device (see Patent Document 1).

特開2018-17996号公報Japanese Patent Application Publication No. 2018-17996

第1位相差層、接着層及び第2位相差層をこの順に有する光学フィルムを例えば画像表示装置に適用する場合には、上記光学フィルムの干渉ムラを低減することが求められている。そのため、光学フィルムを形成した後、光学フィルムの干渉ムラの程度に応じた良否検査を行う。この良否検査は、通常、光学フィルムに光を照射し、目視検査で行われていた。しかしながら、目視検査では、光学フィルムの良否が、検査者の主観、体調などに依存し易いため、光学フィルムの性能の信頼性が低下し易い。 When applying an optical film having a first retardation layer, an adhesive layer, and a second retardation layer in this order to, for example, an image display device, it is required to reduce interference unevenness of the optical film. Therefore, after forming an optical film, a quality inspection is performed depending on the degree of interference unevenness of the optical film. This quality inspection is usually performed by visual inspection by irradiating the optical film with light. However, in visual inspection, the reliability of the performance of the optical film tends to decrease because the quality of the optical film tends to depend on the subjectivity, physical condition, etc. of the examiner.

そこで、本発明は、性能信頼性の向上を図ることができる光学フィルムの検査方法及び光学フィルムの製造方法を提供することを目的とする。 Therefore, an object of the present invention is to provide an optical film inspection method and an optical film manufacturing method that can improve performance reliability.

本発明の一側面に係る光学フィルムの検査方法は、第1位相差層と第2位相差層と上記第1位相差層及び第2位相差層の間に配置される第1接着層とを有する光学フィルムの検査面に、上記検査面側に配置された光源部から検査光を照射するとともに、上記光源部から照射され上記光学フィルムで反射した光を、上記検査面側に配置された検出部によって検出する検出工程と、上記検出部によって検出された光の輝度に基づいて、上記光学フィルムにおける断面に沿った輝度分布を取得し、上記輝度分布に基づいて光学フィルムが良品か否かを判定する判定工程と、を備える。 An optical film inspection method according to one aspect of the present invention includes a first retardation layer, a second retardation layer, and a first adhesive layer disposed between the first retardation layer and the second retardation layer. A light source section disposed on the inspection surface side irradiates the inspection surface of the optical film having the inspection surface with inspection light, and a detection section disposed on the inspection surface side detects the light irradiated from the light source section and reflected by the optical film. a detection step in which the optical film is detected by the detection unit, and a brightness distribution along the cross section of the optical film is obtained based on the brightness of the light detected by the detection unit, and it is determined whether the optical film is a good product based on the brightness distribution. and a determination step of making a determination.

上記検査方法では、検出部によって検出された光の輝度に基づいて、上記光学フィルムにおける断面に沿った輝度分布を取得し、上記輝度分布に基づいて光学フィルムを良品か否かを判定する。そのため、客観的に光学フィルムの良否を判定できることから、光学フィルムの性能信頼性が向上する。 In the above inspection method, a brightness distribution along a cross section of the optical film is obtained based on the brightness of light detected by the detection unit, and it is determined whether the optical film is a good product based on the brightness distribution. Therefore, since the quality of the optical film can be determined objectively, the performance reliability of the optical film is improved.

上記光学フィルムを搬送しながら検出工程及び判定工程を行ってもよい。 The detection step and the determination step may be performed while conveying the optical film.

上記断面は、光学フィルムの幅方向における断面であってよい。 The cross section may be a cross section in the width direction of the optical film.

上記検出工程では、上記光源部からの上記検査光を、第1偏光フィルターを通して上記検査面に照射するとともに、上記光源部から上記光学フィルムに照射され上記光学フィルムで反射した光を、第2偏光フィルターを通して、上記検出部によって検出してもよい。この場合、例えば、第1偏光フィルター及び第2偏光フィルターの配置関係を調整することで、光学フィルムの表面反射の影響を低減でき、より正確に光学フィルムを検査できる。 In the detection step, the inspection light from the light source section is irradiated onto the inspection surface through a first polarizing filter, and the light irradiated from the light source section to the optical film and reflected by the optical film is irradiated with second polarized light. It may be detected by the above-mentioned detection unit through a filter. In this case, for example, by adjusting the arrangement relationship of the first polarizing filter and the second polarizing filter, the influence of surface reflection of the optical film can be reduced, and the optical film can be inspected more accurately.

上記第1位相差層および上記第2位相差層のうち一方は1/2波長層であり、他方は1/4波長層であり、互いに直交するx軸及びy軸を上記検査面に仮想的に設定し、上記検査面側からみて上記x軸及び上記y軸の一方を基準軸とし、上記基準軸に対して反時計回りを正の角度方向と称した場合において、上記第1位相差層の第1遅相軸及び上記第2位相差層の第2遅相軸が下記条件(1)~(3)を満たすように、上記光学フィルムにおいて、上記第1位相差層及び上記第2位相差層が配置されており、上記第1偏光フィルターの第1吸収軸及び上記第2偏光フィルターの第2吸収軸が、下記条件(4)、(5)及び(6)の条件を満たすように、上記第1偏光フィルター及び上記第2偏光フィルターが上記光学フィルムに対して配置されていてもよい。
(1)-40°<θ1<-10°(θ1は、上記第1遅相軸と上記基準軸との間の角度)
(2)+15°<θ2<+50°(θ2は、上記第2遅相軸と上記基準軸との間の角度)
(3)+55°<θ3<+65°(θ3は、上記第1遅相軸と上記第2遅相軸との間の角度)
(4)-20°<θ4<+20°(θ4は、上記第1吸収軸と及び上記第2吸収軸のうちの一方と上記基準軸との間の角度)
(5)+70°<θ5<+110°(θ5は、上記第1吸収軸と及び上記第2吸収軸のうちの他方と上記基準軸との間の角度)
(6)+70°<θ6<+110°(θ6は、上記第1吸収軸と上記第2吸収軸との間の角度)
One of the first retardation layer and the second retardation layer is a 1/2 wavelength layer, and the other is a 1/4 wavelength layer. , one of the x-axis and the y-axis is the reference axis when viewed from the inspection surface side, and when the counterclockwise direction with respect to the reference axis is referred to as a positive angular direction, the first retardation layer In the optical film, the first retardation layer and the second slow axis of the second retardation layer satisfy the following conditions (1) to (3). A retardation layer is arranged such that a first absorption axis of the first polarizing filter and a second absorption axis of the second polarizing filter satisfy the following conditions (4), (5) and (6). , the first polarizing filter and the second polarizing filter may be arranged with respect to the optical film.
(1) -40°<θ1<-10° (θ1 is the angle between the first slow axis and the reference axis)
(2) +15°<θ2<+50° (θ2 is the angle between the second slow axis and the reference axis)
(3) +55°<θ3<+65° (θ3 is the angle between the first slow axis and the second slow axis)
(4) -20°<θ4<+20° (θ4 is the angle between the first absorption axis and one of the second absorption axes and the reference axis)
(5) +70°<θ5<+110° (θ5 is the angle between the first absorption axis and the other of the second absorption axis and the reference axis)
(6) +70°<θ6<+110° (θ6 is the angle between the first absorption axis and the second absorption axis)

上記構成では、光学フィルムの表面反射を一層低減できる。 With the above configuration, surface reflection of the optical film can be further reduced.

上記光学フィルムは、積層方向において、上記1/2波長層からみて上記1/4波長層と反対側に位置する偏光板と、上記偏光板と上記1/2波長層との間に位置する第2接着層と、を有してもよい。 The optical film includes, in the lamination direction, a polarizing plate located on the opposite side to the 1/4 wavelength layer when viewed from the 1/2 wavelength layer, and a polarizing plate located between the polarizing plate and the 1/2 wavelength layer. 2 adhesive layers.

上記第1接着層は、活性エネルギー線硬化型接着剤の硬化層でもよい。 The first adhesive layer may be a cured layer of an active energy ray-curable adhesive.

上記光学フィルムを搬送しながら上記検出工程を実施してもよい。 The detection step may be carried out while the optical film is being conveyed.

上記検査光のピーク波長は、400nm~750nmの範囲内でもよい。 The peak wavelength of the test light may be within the range of 400 nm to 750 nm.

上記光学フィルムを支持板の主面上に配置した状態で上記検出工程を実施し、上記主面の正反射率が45%以下でもよい。この場合、支持板の主面での反射の影響を低減できるので、光学フィルムの良否を正確に判定し易い。 The detection step may be performed with the optical film disposed on the main surface of the support plate, and the regular reflectance of the main surface may be 45% or less. In this case, since the influence of reflection on the main surface of the support plate can be reduced, it is easy to accurately determine the quality of the optical film.

本発明の他の側面に係る光学フィルムの製造方法は、本発明に係る上記光学フィルムの検査方法を含む。 A method for manufacturing an optical film according to another aspect of the present invention includes the above-mentioned method for inspecting an optical film according to the present invention.

上記検査方法では、上記検出部によって検出された光の輝度に基づいて、上記光学フィルムにおける断面に沿った輝度分布を取得し、上記輝度分布に基づいて光学フィルムを良品か否かを判定する。そのため、客観的に光学フィルムの良否を判定できることから、光学フィルムの性能信頼性が向上する。その結果、性能信頼性の向上した光学フィルムを製造できる。 In the above inspection method, a brightness distribution along a cross section of the optical film is obtained based on the brightness of light detected by the detection unit, and it is determined whether the optical film is a good product based on the brightness distribution. Therefore, since the quality of the optical film can be determined objectively, the performance reliability of the optical film is improved. As a result, an optical film with improved performance reliability can be manufactured.

本発明によれば、性能信頼性の向上を図ることができる光学フィルムの検査方法及び光学フィルムの製造方法を提供できる。 According to the present invention, it is possible to provide an optical film inspection method and an optical film manufacturing method that can improve performance reliability.

図1は、一実施形態に係る検査方法を含む光学フィルムの製造方法のフローチャートである。FIG. 1 is a flowchart of an optical film manufacturing method including an inspection method according to an embodiment. 図2は、一実施形態に係る光学フィルムの製造方法で製造される光学フィルムの概略構成を示す模式図である。FIG. 2 is a schematic diagram showing a schematic configuration of an optical film manufactured by an optical film manufacturing method according to an embodiment. 図3は、光学フィルムの変形例の概略構成を示す模式図である。FIG. 3 is a schematic diagram showing a schematic configuration of a modified example of the optical film. 図4は、一実施形態に係る光学フィルムの検査方法を説明するための図面である。FIG. 4 is a diagram for explaining an optical film inspection method according to an embodiment. 図5は、光学フィルムが有する第1位相差層及び第2位相差層の配置関係を説明する図面である。FIG. 5 is a diagram illustrating the arrangement relationship between the first retardation layer and the second retardation layer included in the optical film. 図6は、光学フィルムに対する第1偏光フィルター及び第2偏光フィルターの配置関係を説明する図面である。FIG. 6 is a diagram illustrating the arrangement relationship of the first polarizing filter and the second polarizing filter with respect to the optical film. 図7は、実験例で使用したサンプルS1~S4の検出結果を示す図表である。FIG. 7 is a chart showing the detection results of samples S1 to S4 used in the experimental examples. 図8は、目視検査に使用した光学フィルムの概略構成を示す模式図である。FIG. 8 is a schematic diagram showing the schematic structure of the optical film used for visual inspection.

以下、図面を参照して本発明の実施形態を説明する。図面において同一又は相当の部分に対しては同一の符号を付し、重複する説明を省略する。図面の寸法比率は、説明のものと必ずしも一致していない。 Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. In the drawings, the same or corresponding parts are denoted by the same reference numerals, and redundant explanation will be omitted. The dimensional proportions in the drawings do not necessarily correspond to those in the description.

図1は、一実施形態に係る検査方法を含む光学フィルムの製造方法のフローチャートである。光学フィルムの製造方法は、光学フィルムの形成工程S01と、光学フィルムの検査工程S02と、光学フィルムの形成条件の変更工程S03と、良品である光学フィルムの回収工程S04とを有する。 FIG. 1 is a flowchart of an optical film manufacturing method including an inspection method according to an embodiment. The method for manufacturing an optical film includes an optical film forming step S01, an optical film inspection step S02, an optical film forming condition changing step S03, and a recovering optical film that is a good product S04.

[形成工程]
形成工程S01では、図2に示した光学フィルム10を形成する。光学フィルム10は、円偏光板であり、例えば、有機エレクトロルミネッセンス装置に適用され得る。
[Formation process]
In the forming step S01, the optical film 10 shown in FIG. 2 is formed. The optical film 10 is a circularly polarizing plate, and can be applied to, for example, an organic electroluminescent device.

光学フィルム10は、位相差積層体11を有する。位相差積層体11は、第1位相差層12と、第2位相差層13と、それらを接着する第1接着層14とを有する。通常、光学フィルム10は、位相差積層体11を保護する第1保護層15及び第2保護層16の少なくとも一方を有する。以下では、断らない限り、光学フィルム10が第1保護層15と第2保護層16を有する場合を説明する。 The optical film 10 has a retardation laminate 11. The retardation laminate 11 includes a first retardation layer 12, a second retardation layer 13, and a first adhesive layer 14 that adheres them. Usually, the optical film 10 has at least one of a first protective layer 15 and a second protective layer 16 that protect the retardation laminate 11 . Below, unless otherwise specified, the case where the optical film 10 has the first protective layer 15 and the second protective layer 16 will be described.

<第1位相差層>
第1位相差層12は、例えば、λ/2の位相差を与えるλ/2板(1/2波長層)である。第1位相差層12の厚さの例は、1μm~3μmである。第1位相差層12の面内位相差(R0)の例は、236nm±4nm、234nm±5nm及び240nm±5nmを含む。上記面内位相差の例は、例えば波長550nmに対する例である。本実施形態における面内位相差は、例えばAxoScan(Axometrics社製)によって測定され得る。
<First retardation layer>
The first retardation layer 12 is, for example, a λ/2 plate (1/2 wavelength layer) that provides a retardation of λ/2. An example of the thickness of the first retardation layer 12 is 1 μm to 3 μm. Examples of the in-plane retardation (R0) of the first retardation layer 12 include 236 nm±4 nm, 234 nm±5 nm, and 240 nm±5 nm. The example of the above-mentioned in-plane retardation is, for example, for a wavelength of 550 nm. The in-plane phase difference in this embodiment can be measured, for example, by AxoScan (manufactured by Axometrics).

第1位相差層12は、1/2波長層である場合、透光性を有する熱可塑性樹脂のフィルムに、λ/2の位相差を与えるように延伸処理等を施すことによって製造され得る。この場合、第1位相差層12は、複屈折性フィルムである。熱可塑性樹脂の例は、トリアセチルセルロース等のセルロースエステル系樹脂である。 When the first retardation layer 12 is a 1/2 wavelength layer, it can be manufactured by subjecting a translucent thermoplastic resin film to a stretching treatment or the like to provide a retardation of λ/2. In this case, the first retardation layer 12 is a birefringent film. Examples of thermoplastic resins are cellulose ester resins such as triacetyl cellulose.

第1位相差層12は、基材フィルム上に、λ/2の位相差を与える第1液晶層、第1配向層等を形成することで製造されてもよい。この場合、第1液晶層、第1配向層等が第1位相差層12に相当する。基材フィルムは、第1位相差層12を形成した後、剥離されてもよい。或いは、上記基材フィルムも第1位相差層12の構成要素であってもよい。基材フィルムの例は、第1保護層15と同じである。第1保護層15が基材フィルムを兼ねてもよい。 The first retardation layer 12 may be manufactured by forming a first liquid crystal layer, a first alignment layer, etc. that provides a retardation of λ/2 on a base film. In this case, the first liquid crystal layer, the first alignment layer, etc. correspond to the first retardation layer 12. The base film may be peeled off after forming the first retardation layer 12. Alternatively, the base film may also be a component of the first retardation layer 12. The example of the base film is the same as the first protective layer 15. The first protective layer 15 may also serve as a base film.

<第2位相差層>
第2位相差層13は、例えば、λ/4の位相差を与えるλ/4板(1/4波長層)である。第2位相差層13の厚さの例は、0.1μm~2μmである。第2位相差層13の面内位相差(R0)の例は、116nm±4nm及び120nm±5nmを含む。第1位相差層12の面内位相差が、236nm±4nm又は234nm±5nmである場合、第2位相差層13の面内位相差は、116nm±4nmであり得る。第1位相差層12の面内位相差が、240nm±5nmである場合、第2位相差層13の面内位相差は、116nm±4nmであり得る。上記面内位相差の例は、例えば波長550nmに対する例である。第2位相差層13の遅相軸(後述する第2遅相軸13a)と第1位相差層12の遅相軸(後述する第1遅相軸12a)とのなす角度は、光学フィルム10が円偏光板として機能するように配置されていればよく、通常60°±1°である。
<Second retardation layer>
The second retardation layer 13 is, for example, a λ/4 plate (1/4 wavelength layer) that provides a λ/4 retardation. An example of the thickness of the second retardation layer 13 is 0.1 μm to 2 μm. Examples of the in-plane retardation (R0) of the second retardation layer 13 include 116 nm±4 nm and 120 nm±5 nm. When the in-plane retardation of the first retardation layer 12 is 236 nm±4 nm or 234 nm±5 nm, the in-plane retardation of the second retardation layer 13 may be 116 nm±4 nm. When the in-plane retardation of the first retardation layer 12 is 240 nm±5 nm, the in-plane retardation of the second retardation layer 13 may be 116 nm±4 nm. The example of the above-mentioned in-plane retardation is, for example, for a wavelength of 550 nm. The angle between the slow axis of the second retardation layer 13 (second slow axis 13a described later) and the slow axis of the first retardation layer 12 (first slow axis 12a described later) is the angle between the optical film 10 It suffices if the angle is arranged so that it functions as a circularly polarizing plate, and is usually 60°±1°.

第2位相差層13は、1/4波長層である場合、透光性を有する熱可塑性樹脂のフィルムに、λ/4の位相差を与えるように延伸処理等が施すことによって製造され得る。この場合、第2位相差層13は、複屈折性フィルムである。熱可塑性樹脂の例は、第1位相差層12の場合と同様である。 When the second retardation layer 13 is a 1/4 wavelength layer, it can be manufactured by subjecting a translucent thermoplastic resin film to a stretching treatment or the like so as to give a retardation of λ/4. In this case, the second retardation layer 13 is a birefringent film. Examples of the thermoplastic resin are the same as those for the first retardation layer 12.

第2位相差層13は、基材フィルム上に、λ/4の位相差を与える液晶層、配向層等を形成することで製造されてもよい。この場合、第2液晶層、第2配向層等が第2位相差層13に相当する。基材フィルムは、第2位相差層13を形成した後、剥離されてもよい。或いは、上記基材フィルムも第2位相差層13の構成要素であってもよい。基材フィルムの例は、第2保護層16と同じである。第2保護層16が基材フィルムを兼ねてもよい。 The second retardation layer 13 may be manufactured by forming a liquid crystal layer, an alignment layer, etc. that provides a retardation of λ/4 on a base film. In this case, the second liquid crystal layer, second alignment layer, etc. correspond to the second retardation layer 13. The base film may be peeled off after forming the second retardation layer 13. Alternatively, the base film may also be a component of the second retardation layer 13. The example of the base film is the same as the second protective layer 16. The second protective layer 16 may also serve as a base film.

第1位相差層12及び第2位相差層13は、位相差を与える層であれば特に限定されず、それぞれ1/2波長層、1/4波長層、ポジティブC層等であってもよく、逆波長分散性を示す逆位相差層であってもよい。
ポジティブC層の面内位相差値Re(550)は通常0~10nmの範囲、好ましくは0~5nmの範囲であり、厚さ方向の位相差値Rthは通常-10~-300nmの範囲、好ましくは-20~-200nmの範囲である。
The first retardation layer 12 and the second retardation layer 13 are not particularly limited as long as they provide a retardation, and may be a 1/2 wavelength layer, a 1/4 wavelength layer, a positive C layer, etc., respectively. , or may be a reverse retardation layer exhibiting reverse wavelength dispersion.
The in-plane retardation value Re (550) of the positive C layer is usually in the range of 0 to 10 nm, preferably in the range of 0 to 5 nm, and the retardation value Rth in the thickness direction is usually in the range of -10 to -300 nm, preferably is in the range of -20 to -200 nm.

光学フィルム10は、第1位相差層12が上記λ/4層であり、第2位相差層13が上記λ/2層である光学フィルムであってもよい。
光学フィルム10は、上記第1位相差層12が上記λ/4層であり、第2位相差層13がポジティブC層である光学フィルムであってもよいし、上記第1位相差層12がポジティブC層であり、第2位相差層13がλ/4層である光学フィルムであってもよい。
光学フィルム10は、上記第1位相差層12、第2位相差層13に加え、更に位相差層を含む光学フィルムであってよい。例えば、上記第1位相差層12が上記λ/2層であり、第2位相差層13が上記λ/4層である場合、更に、ポジティブC層や逆位相差層を含んでもよい。
The optical film 10 may be an optical film in which the first retardation layer 12 is the above λ/4 layer and the second retardation layer 13 is the above λ/2 layer.
The optical film 10 may be an optical film in which the first retardation layer 12 is the λ/4 layer and the second retardation layer 13 is a positive C layer, or the first retardation layer 12 may be the λ/4 layer. The optical film may be a positive C layer, and the second retardation layer 13 may be a λ/4 layer.
The optical film 10 may be an optical film that further includes a retardation layer in addition to the first retardation layer 12 and the second retardation layer 13 described above. For example, when the first retardation layer 12 is the λ/2 layer and the second retardation layer 13 is the λ/4 layer, a positive C layer or a reverse retardation layer may be further included.

<第1接着層>
第1接着層14は、第1位相差層12と第2位相差層13との間に配置され、第1位相差層12及び第2位相差層13を接着する層である。第1接着層14の厚さの例は、0.1μm~5.0μmであり、好ましくは0.5μm~4.0μmであり、更に好ましくは1.0μm~3.0μmである。第1接着層14は、粘着剤または接着剤によって形成することができる。第1接着層14の例は、活性エネルギー線硬化型接着剤の硬化層である。活性エネルギー線硬化接着剤は、紫外線、可視光、電子線、X線等の活性エネルギー線の照射によって硬化する接着剤である。
<First adhesive layer>
The first adhesive layer 14 is a layer that is disposed between the first retardation layer 12 and the second retardation layer 13 and bonds the first retardation layer 12 and the second retardation layer 13 together. An example of the thickness of the first adhesive layer 14 is 0.1 μm to 5.0 μm, preferably 0.5 μm to 4.0 μm, and more preferably 1.0 μm to 3.0 μm. The first adhesive layer 14 can be formed from a pressure-sensitive adhesive or an adhesive. An example of the first adhesive layer 14 is a cured layer of an active energy ray-curable adhesive. An active energy ray-curable adhesive is an adhesive that is cured by irradiation with active energy rays such as ultraviolet rays, visible light, electron beams, and X-rays.

第1接着層14は、硬化性の樹脂成分を水に溶解又は分散させた公知の水系接着剤で形成されてもよい。水系接着剤に含有される樹脂成分としては、ポリビニルアルコール系樹脂やウレタン樹脂等が挙げられる。ポリビニルアルコール系樹脂を含む水系組成物は、硬化性成分や架橋剤を更に含有することができる。ウレタン樹脂を含む水系組成物としては、ポリエステル系アイオノマー型ウレタン樹脂とグリシジルオキシ基を有する化合物とを含む水系組成物が挙げられる。ポリエステル系アイオノマー型ウレタン樹脂とは、ポリエステル骨格を有するウレタン樹脂であって、その中に少量のイオン性成分(親水成分)が導入されたものである。 The first adhesive layer 14 may be formed of a known water-based adhesive in which a curable resin component is dissolved or dispersed in water. Examples of resin components contained in the water-based adhesive include polyvinyl alcohol resins and urethane resins. The aqueous composition containing the polyvinyl alcohol resin can further contain a curable component and a crosslinking agent. Examples of the water-based composition containing a urethane resin include a water-based composition containing a polyester-based ionomer type urethane resin and a compound having a glycidyloxy group. A polyester-based ionomer type urethane resin is a urethane resin having a polyester skeleton into which a small amount of an ionic component (hydrophilic component) is introduced.

上記粘着剤としては、アクリル系共重合体及び架橋剤を含むアクリル系粘着剤を使用することができる。上記アクリル系共重合体は、炭素数1~12のアルキル基を有する(メタ)アクリレート単量体と、架橋可能な官能基を有する重合性単量体をラジカル重合させて製造することができる。上記(メタ)アクリレートはアクリレート及びメタクリレートを意味する。
上記炭素数1~12のアルキル基を有する(メタ)アクリレート単量体の具体的な例としては、n-ブチル(メタ)アクリレート、2-ブチル(メタ)アクリレート、t-ブチル(メタ)アクリレート、2-エチルヘキシル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、メチル(メタ)アクリレート、n-プロピル(メタ)アクリレート、イソプロピル(メタ)アクリレート、ペンチル(メタ)アクリレート、 n-オクチル(メタ)アクリレート、イソオクチル(メタ)アクリレート、ノニル(メタ)アクリレート、デシル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレートなどを挙げることができ、これらの中でn-ブチルアクリレート、メチルアクリレートまたはこれらの混合物が好ましい。これらは単独または2種以上混合して使用することができる。
上記架橋可能な官能基を有する重合性単量体は、下記架橋剤との化学結合によって粘着剤の凝集力または粘着強度を補強して耐久性と切断性を付与するための成分として、例えば、ヒドロキシ基を有する単量体、カルボキシ基を有する単量体、アミド基を有する単量体、3次アミン基を有する単量体などを挙げることができ、これらは単独または2種以上混合して使用することができる。
架橋剤は、共重合体を適切に架橋することで粘着剤の凝集力を強化するための成分として、その種類は特に限定されない。例えば、イソシアネート系化合物、エポキシ系化合物などを挙げることができ、これらは単独または2種以上混合して使用することができる。
上記粘着剤を構成する各成分を酢酸エチルなどの適当な溶剤に溶解させて粘着剤組成物を得て、該粘着剤組成物を基材上に塗布した後に乾燥させて、接着層が形成される。一部溶剤に溶解しない成分がある場合には、それらは系中に分散した状態であってもよい。
As the adhesive, an acrylic adhesive containing an acrylic copolymer and a crosslinking agent can be used. The above acrylic copolymer can be produced by radical polymerization of a (meth)acrylate monomer having an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms and a polymerizable monomer having a crosslinkable functional group. The above (meth)acrylate means acrylate and methacrylate.
Specific examples of the (meth)acrylate monomer having an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms include n-butyl (meth)acrylate, 2-butyl (meth)acrylate, t-butyl (meth)acrylate, 2-Ethylhexyl (meth)acrylate, ethyl (meth)acrylate, methyl (meth)acrylate, n-propyl (meth)acrylate, isopropyl (meth)acrylate, pentyl (meth)acrylate, n-octyl (meth)acrylate, isooctyl ( Examples include meth)acrylate, nonyl(meth)acrylate, decyl(meth)acrylate, and lauryl(meth)acrylate, among which n-butyl acrylate, methyl acrylate, or a mixture thereof is preferred. These can be used alone or in combination of two or more.
The above-mentioned polymerizable monomer having a crosslinkable functional group is used as a component for reinforcing the cohesive force or adhesive strength of the adhesive through chemical bonding with the crosslinking agent described below and imparting durability and cuttability, for example. Examples include monomers having a hydroxy group, monomers having a carboxyl group, monomers having an amide group, monomers having a tertiary amine group, and these may be used alone or in combination of two or more. can be used.
The crosslinking agent is a component for strengthening the cohesive force of the adhesive by appropriately crosslinking the copolymer, and its type is not particularly limited. Examples include isocyanate compounds and epoxy compounds, which may be used alone or in combination of two or more.
A pressure-sensitive adhesive composition is obtained by dissolving each component constituting the pressure-sensitive adhesive in an appropriate solvent such as ethyl acetate, and the pressure-sensitive adhesive composition is applied onto a base material and then dried to form an adhesive layer. Ru. If there are components that are not partially soluble in the solvent, they may be in a dispersed state in the system.

本実施形態において、第1保護層15及び第2保護層16は、位相差積層体11の両面に設けられている。具体的には、第1保護層15は、第1位相差層12からみて第1接着層14と反対側に設けられている。第2保護層16は、第2位相差層13からみて第1接着層14と反対側に設けられている。 In this embodiment, the first protective layer 15 and the second protective layer 16 are provided on both sides of the retardation laminate 11. Specifically, the first protective layer 15 is provided on the opposite side to the first adhesive layer 14 when viewed from the first retardation layer 12 . The second protective layer 16 is provided on the opposite side of the first adhesive layer 14 when viewed from the second retardation layer 13 .

第1保護層15及び第2保護層16の材料の例は、環状ポリオレフィン系樹脂;トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース等の酢酸セルロース系樹脂;ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート(PET)、ポリブチレンテレフタレート等のポリエステル系樹脂;ポリカーボネート系樹脂フィルム;(メタ)アクリル系樹脂;ポリプロピレン系樹脂等、当分野において材料を挙げることができる。第1保護層15及び第2保護層16の厚さの例は、30μm~100μmである。第1保護層15及び第2保護層16の厚さは異なっていてもよい。 Examples of materials for the first protective layer 15 and the second protective layer 16 include cyclic polyolefin resin; cellulose acetate resin such as triacetyl cellulose and diacetyl cellulose; polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate (PET), and polybutylene terephthalate. Materials in this field may include polyester resins; polycarbonate resin films; (meth)acrylic resins; polypropylene resins and the like. An example of the thickness of the first protective layer 15 and the second protective layer 16 is 30 μm to 100 μm. The thickness of the first protective layer 15 and the second protective layer 16 may be different.

光学フィルム10は、各層を準備した後、それらを積層することによって形成され得る。各層は、形成工程S01で製造してもよいし、購入品を使用してもよい。光学フィルム10を形成する際、例えば、第1位相差層12と第2位相差層13とを第1接着層14を介して貼合することによって位相差積層体11を形成した後、位相差積層体11に第1保護層15及び第2保護層16を貼合してもよい。或いは、第1位相差層12に第1保護層15を貼合するとともに、第2位相差層13に第2保護層16を貼合した後、第1位相差層12と第2位相差層13とを第1接着層14を介して貼合してもよい。 The optical film 10 can be formed by preparing each layer and then laminating them. Each layer may be manufactured in the formation step S01, or purchased products may be used. When forming the optical film 10, for example, after forming the retardation laminate 11 by laminating the first retardation layer 12 and the second retardation layer 13 via the first adhesive layer 14, the retardation layer 11 is formed. The first protective layer 15 and the second protective layer 16 may be bonded to the laminate 11. Alternatively, after laminating the first protective layer 15 to the first retardation layer 12 and laminating the second protective layer 16 to the second retardation layer 13, the first retardation layer 12 and the second retardation layer 13 may be bonded to each other via the first adhesive layer 14.

形成工程S01で製造する光学フィルム10は、図3に示した光学フィルム10Aでもよい。光学フィルム10Aは、第1位相差層12上に、第2接着層18を介して偏光板17が積層されている点で、主に光学フィルム10と相違する。この相違点を中心に光学フィルム10Aを説明する。 The optical film 10 manufactured in the forming step S01 may be the optical film 10A shown in FIG. 3. The optical film 10A differs from the optical film 10 mainly in that a polarizing plate 17 is laminated on the first retardation layer 12 via a second adhesive layer 18. The optical film 10A will be explained focusing on this difference.

<偏光板>
偏光板17は、直線偏光板である。偏光板17は、直線偏光特性を有する偏光子を有する。偏光板は、偏光子の片面又は両面に積層された熱可塑性樹脂フィルムを有してもよい。
<Polarizing plate>
The polarizing plate 17 is a linear polarizing plate. The polarizing plate 17 has a polarizer having linear polarization characteristics. The polarizing plate may have a thermoplastic resin film laminated on one or both sides of the polarizer.

偏光子は、例えば、吸収異方性を有する色素を吸着させた延伸フィルム(又は延伸層)である。吸収異方性を有する色素としては、例えば、二色性色素が挙げられる。二色性色素として、具体的には、ヨウ素や二色性の有機染料が用いられる。偏光子の材料の例は、ポリビニルアルコール系樹脂である。偏光子は、吸収異方性を有する色素を基材フィルムに塗布し硬化させてなる層等でもよい。基材フィルムは、偏光子の一部でもよいし、偏光子を形成した後に剥離されてもよい。基材フィルムの材料は、熱可塑性樹脂フィルムと同じであり、熱可塑性樹脂フィルムが基材フィルムを兼ねてもよい。 The polarizer is, for example, a stretched film (or stretched layer) on which a dye having absorption anisotropy is adsorbed. Examples of dyes having absorption anisotropy include dichroic dyes. Specifically, iodine or a dichroic organic dye is used as the dichroic dye. An example of the polarizer material is polyvinyl alcohol resin. The polarizer may be a layer formed by coating a base film with a dye having absorption anisotropy and curing the coating. The base film may be a part of the polarizer, or may be peeled off after forming the polarizer. The material of the base film is the same as the thermoplastic resin film, and the thermoplastic resin film may also serve as the base film.

偏光子の厚みは、通常30μm以下であり、好ましくは18μm以下、より好ましくは15μm以下である。偏光子の厚みは、通常1μm以上であり、例えば5μm以上であってよい。 The thickness of the polarizer is usually 30 μm or less, preferably 18 μm or less, more preferably 15 μm or less. The thickness of the polarizer is usually 1 μm or more, and may be, for example, 5 μm or more.

熱可塑性樹脂フィルムの材料の例は、第1保護層15(又は第2保護層16)の材料の例と同様とし得る。熱可塑性樹脂フィルムの厚みは、好ましくは5μm以上150μm以下、より好ましくは5μm以上100μm以下、さらに好ましくは10μm以上50μm以下である。 Examples of the material of the thermoplastic resin film may be the same as those of the first protective layer 15 (or second protective layer 16). The thickness of the thermoplastic resin film is preferably 5 μm or more and 150 μm or less, more preferably 5 μm or more and 100 μm or less, and still more preferably 10 μm or more and 50 μm or less.

偏光板17の吸収軸と第1位相差層12の遅相軸(後述する第1遅相軸12a)との角度は、好ましくは71°~74°である。 The angle between the absorption axis of the polarizing plate 17 and the slow axis (first slow axis 12a to be described later) of the first retardation layer 12 is preferably 71° to 74°.

<第2接着層>
第2接着層18は、第1接着層14と同じ接着剤又は粘着剤から形成された層であっても良いし、異なる接着剤又は粘着剤から形成された層であっても良い。第2接着層18は、粘着剤によって形成された層でもよい。粘着剤の例は、(メタ)アクリル系樹脂、ゴム系樹脂、ウレタン系樹脂、エステル系樹脂、シリコーン系樹脂、ポリビニルエーテル系樹脂等を主成分とする粘着剤組成物である。第2接着層18の厚さは、例えば0.1μm~10μmである。
<Second adhesive layer>
The second adhesive layer 18 may be a layer formed from the same adhesive or pressure-sensitive adhesive as the first adhesive layer 14, or may be a layer formed from a different adhesive or pressure-sensitive adhesive. The second adhesive layer 18 may be a layer formed of an adhesive. Examples of adhesives are adhesive compositions containing (meth)acrylic resins, rubber resins, urethane resins, ester resins, silicone resins, polyvinyl ether resins, etc. as main components. The thickness of the second adhesive layer 18 is, for example, 0.1 μm to 10 μm.

光学フィルム10Aは、偏光板17上に、第1保護層15Aを有してもよい。第1保護層15Aの材料の例は、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリプロピレン(PP)、ポリエチレン(PE)を含む。第1保護層15Aの厚さの例は、30μm~100μmである。 The optical film 10A may have a first protective layer 15A on the polarizing plate 17. Examples of materials for the first protective layer 15A include polyethylene terephthalate (PET), polypropylene (PP), and polyethylene (PE). An example of the thickness of the first protective layer 15A is 30 μm to 100 μm.

光学フィルム10Aは、光学フィルム10の場合と同様に、各層を準備した後、それらを積層することによって製造され得る。各層は、形成工程S01で製造されてもよいし、購入品を使用してもよい。 The optical film 10A can be manufactured by preparing each layer and then laminating them, as in the case of the optical film 10. Each layer may be manufactured in the formation step S01, or purchased products may be used.

以下では、断らない限り、形成工程S01で光学フィルム10を形成し、それを検査する場合を説明する。 In the following, unless otherwise specified, a case will be described in which the optical film 10 is formed in the forming step S01 and is inspected.

[検査工程]
検査工程S02では、第1接着層14と第1位相差層12の屈折率差及び第1接着層14と第2位相差層13の屈折率差の少なくとも一方に起因する界面反射、第1接着層14の厚さの均一性などの影響で生じる干渉ムラの程度が許容範囲か否かを検査する。
[Inspection process]
In the inspection step S02, interface reflection caused by at least one of the refractive index difference between the first adhesive layer 14 and the first retardation layer 12 and the refractive index difference between the first adhesive layer 14 and the second retardation layer 13, and the first adhesive It is checked whether the degree of interference unevenness caused by the uniformity of the thickness of the layer 14 is within an allowable range.

図4は、光学フィルム10を検査する検査方法を説明するための図面である。本実施形態では、第1位相差層12側の面(図2の構成では、第1保護層15の表面)を検査面10aとし、光源部21及び検出部22を有する検査光学系20を利用して光学フィルム10を検査する。検査光学系20は、光源部21及び検出部22が、光学フィルム10に対して同じ側に位置する反射光学系である。検査方法は、図1に示したように、検出工程S02Aと、判定工程S02Bとを有する。 FIG. 4 is a drawing for explaining an inspection method for inspecting the optical film 10. In this embodiment, the surface on the first retardation layer 12 side (in the configuration of FIG. 2, the surface of the first protective layer 15) is used as the inspection surface 10a, and an inspection optical system 20 having a light source section 21 and a detection section 22 is used. The optical film 10 is then inspected. The inspection optical system 20 is a reflective optical system in which a light source section 21 and a detection section 22 are located on the same side with respect to the optical film 10. As shown in FIG. 1, the inspection method includes a detection step S02A and a determination step S02B.

<検出工程>
検出工程S02Aでは、光学フィルム10を図4の白抜き矢印方向に搬送しながら、検査面10aに、光源部21から検査光L1を照射するとともに、光源部21から照射され光学フィルム10で反射した光(以下、「反射光L2」と称す)を、検出部22によって検出する。
光学フィルム10が枚葉状である場合、光学フィルム10は、例えばベルトコンベアで搬送され得る。光学フィルム10が長尺である場合、光学フィルム10は、例えば搬送ロールなどで搬送され得る。以下、光学フィルム10の幅方向(搬送方向に直交する方向)をTD方向と称し、光学フィルム10の搬送方向をMD方向と称す。搬送速度の例は、1m/min~100m/minである。
<Detection process>
In the detection step S02A, while the optical film 10 is being conveyed in the direction of the white arrow in FIG. The light (hereinafter referred to as “reflected light L2”) is detected by the detection unit 22.
When the optical film 10 is sheet-shaped, the optical film 10 can be conveyed, for example, by a belt conveyor. When the optical film 10 is long, the optical film 10 may be conveyed, for example, by a conveyance roll. Hereinafter, the width direction (direction perpendicular to the transport direction) of the optical film 10 will be referred to as the TD direction, and the transport direction of the optical film 10 will be referred to as the MD direction. An example of the transport speed is 1 m/min to 100 m/min.

検査光学系20が有する光源部21及び検出部22を説明する。 The light source section 21 and the detection section 22 included in the inspection optical system 20 will be explained.

光源部21は、検査光L1を出力する。検査光L1のピーク波長は、例えば400nm~750nmであり、好ましくは500nm~700nmであり、より好ましくは550nm~680nmであり、更に好ましくは600nm~650nmである。 The light source section 21 outputs inspection light L1. The peak wavelength of the inspection light L1 is, for example, 400 nm to 750 nm, preferably 500 nm to 700 nm, more preferably 550 nm to 680 nm, and even more preferably 600 nm to 650 nm.

検査光L1の光源部21における照度は、光源部21からの距離が15mmの位置において、通常1000~25000[lx]となる範囲であり、好ましくは1000~15000[lx]となる範囲であり、より好ましくは50,00~10000[lx]となる範囲である。 The illuminance of the inspection light L1 at the light source section 21 is usually in the range of 1000 to 25000 [lx], preferably in the range of 1000 to 15000 [lx], at a position at a distance of 15 mm from the light source section 21, More preferably, it is in the range of 50,00 to 10,000 [lx].

検査光L1は、検査面10a上の1点に照射されてもよいし、フィルム幅全体にわたって照射されてもよい。 The inspection light L1 may be irradiated to one point on the inspection surface 10a, or may be irradiated over the entire width of the film.

光源部21は、例えば、複数のLEDがライン状に配置されたラインLED光源である。この場合、光源部21の延在方向は、光学フィルム10の法線nに直交するとともに、例えばMD方向に直交する方向である。 The light source section 21 is, for example, a line LED light source in which a plurality of LEDs are arranged in a line. In this case, the extending direction of the light source section 21 is perpendicular to the normal n of the optical film 10 and, for example, perpendicular to the MD direction.

光源部21は、検査面10a側に配置されている。光源部21と検査面10aとの間の距離d1は、通常、100mm~2000mmである。距離d1は、例えば光源部21の光出射面と検査面10aとの間の距離である。光源部21の光軸と、検査面10aの法線n(光学フィルム10の厚さ方向)との角度α1[°]は、通常、1°~60°であり、好ましくは5°~50°であり、更に好ましくは10°~45°である。 The light source section 21 is arranged on the inspection surface 10a side. The distance d1 between the light source section 21 and the inspection surface 10a is usually 100 mm to 2000 mm. The distance d1 is, for example, the distance between the light exit surface of the light source section 21 and the inspection surface 10a. The angle α1 [°] between the optical axis of the light source section 21 and the normal n of the inspection surface 10a (thickness direction of the optical film 10) is usually 1° to 60°, preferably 5° to 50°. and more preferably 10° to 45°.

検出部22は、検査面10aからの反射光L2を受光する。検出部22は2次元輝度計である。検出部22の例は、エリアセンサカメラ(2次元センサカメラ)であり、エリアセンサカメラの例は、CCDカメラである。検出部22は、ライン状の輝度計(例えば、ラインセンサカメラ)でもよい。 The detection unit 22 receives reflected light L2 from the inspection surface 10a. The detection unit 22 is a two-dimensional luminance meter. An example of the detection unit 22 is an area sensor camera (two-dimensional sensor camera), and an example of the area sensor camera is a CCD camera. The detection unit 22 may be a line-shaped luminance meter (for example, a line sensor camera).

検出部22は、検査面10a側において、光学フィルム10によって検査光L1が反射した反射光L2を受光可能に配置されている。検出部22の光軸と検査面10aの法線nとのなす角度α2の大きさは、角度α1の大きさと実質的に同じである。検出部22と検査面10aとの間の距離d2の例は、100mm~2000mmである。検出部22と検査面10aとの間の距離d2は、検出部22の受光面と検査面10aとの距離であり得る。 The detection unit 22 is arranged on the inspection surface 10a side so as to be able to receive reflected light L2 that is the inspection light L1 reflected by the optical film 10. The size of the angle α2 between the optical axis of the detection unit 22 and the normal n to the inspection surface 10a is substantially the same as the size of the angle α1. An example of the distance d2 between the detection unit 22 and the inspection surface 10a is 100 mm to 2000 mm. The distance d2 between the detection section 22 and the inspection surface 10a may be the distance between the light receiving surface of the detection section 22 and the inspection surface 10a.

本実施形態の検出工程S02Aでは、第1偏光フィルター23及び第2偏光フィルター24を使用する。第1偏光フィルター23及び第2偏光フィルター24は検査光学系20の一部でもよい。 In the detection step S02A of this embodiment, the first polarizing filter 23 and the second polarizing filter 24 are used. The first polarizing filter 23 and the second polarizing filter 24 may be part of the inspection optical system 20.

第1偏光フィルター23及び第2偏光フィルター24は、直線偏光特性を有するフィルターである。第1偏光フィルター23は、光源部21と光学フィルム10の間に配置されている。第2偏光フィルター24は、光学フィルム10と検出部22との間に配置されている。したがって、光源部21から出力された検査光L1は、第1偏光フィルター23を通過して直線偏光光として光学フィルム10に照射される。光学フィルム10で反射された検査光L1である反射光L2は、第2偏光フィルター24を介して検出部22に入射する。第1偏光フィルター23は検査光L1の光路上に配置されており、第2偏光フィルター24は反射光L2の光路上に配置されていれば、第1偏光フィルター23及び第2偏光フィルター24の配置位置は限定されない。ただし、第1偏光フィルター23は、光源部21から発せられる熱の影響を加味し、光源部21から距離を置いた方がより好ましい。光源部21から第1偏光フィルター23までの距離は、50mm以上が好ましい。 The first polarizing filter 23 and the second polarizing filter 24 are filters having linear polarization characteristics. The first polarizing filter 23 is arranged between the light source section 21 and the optical film 10. The second polarizing filter 24 is arranged between the optical film 10 and the detection section 22. Therefore, the inspection light L1 output from the light source section 21 passes through the first polarizing filter 23 and is irradiated onto the optical film 10 as linearly polarized light. The reflected light L2, which is the inspection light L1 reflected by the optical film 10, enters the detection unit 22 via the second polarizing filter 24. If the first polarizing filter 23 is placed on the optical path of the inspection light L1, and the second polarizing filter 24 is placed on the optical path of the reflected light L2, then the first polarizing filter 23 and the second polarizing filter 24 are arranged The location is not limited. However, it is more preferable to place the first polarizing filter 23 at a distance from the light source section 21 in consideration of the influence of heat emitted from the light source section 21. The distance from the light source section 21 to the first polarizing filter 23 is preferably 50 mm or more.

図5及び図6を利用して、検査工程S02Aでの光学フィルム10、第1偏光フィルター23及び第2偏光フィルター24の配置関係を説明する。配置関係の説明において、第1位相差層12の面内位相差は、236nm±4nm又は234nm±5nmであり、第2位相差層13の面内位相差は、116nm±4nmである。或いは、第1位相差層12の面内位相差が240nm±5nmであり、第2位相差層13の面内位相差は120nm±4nmである。 The arrangement relationship of the optical film 10, the first polarizing filter 23, and the second polarizing filter 24 in the inspection step S02A will be explained using FIGS. 5 and 6. In the description of the arrangement relationship, the in-plane retardation of the first retardation layer 12 is 236 nm±4 nm or 234 nm±5 nm, and the in-plane retardation of the second retardation layer 13 is 116 nm±4 nm. Alternatively, the in-plane retardation of the first retardation layer 12 is 240 nm±5 nm, and the in-plane retardation of the second retardation layer 13 is 120 nm±4 nm.

図5は、光学フィルム10が有する第1位相差層12及び第2位相差層13の配置関係を説明する図面である。図5では、第1位相差層12が有する第1遅相軸12aと、第2位相差層13が有する第2遅相軸13aとの関係で、第1位相差層12と第2位相差層13の配置関係を示している。 FIG. 5 is a diagram illustrating the arrangement relationship between the first retardation layer 12 and the second retardation layer 13 included in the optical film 10. In FIG. 5, the relationship between the first slow axis 12a of the first retardation layer 12 and the second slow axis 13a of the second retardation layer 13 shows that the first retardation layer 12 and the second retardation The arrangement relationship of layers 13 is shown.

図5中のx軸及びy軸は、検査面10aに設定した仮想的な軸である。x軸及びy軸は互いに直交していれば任意に設定され得る。一例として、x軸方向はMD方向である。第1遅相軸12a及び第2遅相軸13aの角度を規定するために、y軸を基準軸RAとする。基準軸RAに対する角度を規定する場合、光学フィルム10を検査面10a側からみた場合に基準軸RAに対して反時計回り(左回り)を正の角度方向とし、時計回り(右回り)を負の角度方向とする。 The x-axis and y-axis in FIG. 5 are virtual axes set on the inspection surface 10a. The x-axis and the y-axis can be arbitrarily set as long as they are orthogonal to each other. As an example, the x-axis direction is the MD direction. In order to define the angles of the first slow axis 12a and the second slow axis 13a, the y-axis is set as the reference axis RA. When defining the angle with respect to the reference axis RA, when the optical film 10 is viewed from the inspection surface 10a side, counterclockwise (left rotation) with respect to the reference axis RA is defined as a positive angle direction, and clockwise (right rotation) is defined as a negative angle direction. The angular direction is

図5に示したように、第1遅相軸12aと基準軸RAとの間の角度をθ1とし、第2遅相軸13aと基準軸RAとの間の角度をθ2とし、第1遅相軸12aと第2遅相軸13aとの間の角度をθ3としたとき、第1位相差層12及び第2位相差層13は、角度θ1、角度θ2及び角度θ3が下記の条件(1)~条件(3)を満たすように、配置されている。
(1)-40°<θ1<―10°
(2)+15°<θ2<+50°
(3)+55°<θ3<+65°
図5では、θ1及びθ2の許容範囲をハッチングで示している。条件(3)を満たすことで、光学フィルム10が円偏光板として機能する。
As shown in FIG. 5, the angle between the first slow axis 12a and the reference axis RA is θ1, the angle between the second slow axis 13a and the reference axis RA is θ2, and the first slow axis When the angle between the axis 12a and the second slow axis 13a is θ3, the first retardation layer 12 and the second retardation layer 13 have the angle θ1, the angle θ2, and the angle θ3 under the following condition (1). - Arranged to satisfy condition (3).
(1) -40°<θ1<-10°
(2) +15°<θ2<+50°
(3) +55°<θ3<+65°
In FIG. 5, the allowable ranges of θ1 and θ2 are indicated by hatching. By satisfying condition (3), the optical film 10 functions as a circularly polarizing plate.

図6は、光学フィルム10に対する第1偏光フィルター23及び第2偏光フィルター24の配置関係を説明する図面である。図6では、第1偏光フィルター23が有する第1吸収軸23aと、第2偏光フィルター24が有する第2吸収軸24aとの関係で、第1偏光フィルター23と第2偏光フィルター24の配置関係を示している。図6中のx軸及びy軸は、図5中のx軸及びy軸と同じである。換言すれば、図6中の第1吸収軸23aは、図4において、第1偏光フィルター23を、法線nと直交する位置まで移動(角度α1が0°になるように回転)させた状態で、第1偏光フィルター23の第1吸収軸23aを検査面10aに投影した軸に相当する。図6中の第2吸収軸24aについても同様である。 FIG. 6 is a diagram illustrating the arrangement relationship of the first polarizing filter 23 and the second polarizing filter 24 with respect to the optical film 10. In FIG. 6, the arrangement relationship between the first polarizing filter 23 and the second polarizing filter 24 is determined by the relationship between the first absorption axis 23a of the first polarizing filter 23 and the second absorption axis 24a of the second polarizing filter 24. It shows. The x-axis and y-axis in FIG. 6 are the same as the x-axis and y-axis in FIG. 5. In other words, the first absorption axis 23a in FIG. 6 corresponds to the state in which the first polarizing filter 23 is moved to a position perpendicular to the normal n (rotated so that the angle α1 becomes 0°) in FIG. This corresponds to an axis obtained by projecting the first absorption axis 23a of the first polarizing filter 23 onto the inspection surface 10a. The same applies to the second absorption shaft 24a in FIG.

図6に示したように、第1吸収軸23aと基準軸RAとの間の角度をθ4とし、第2吸収軸24aと基準軸RAとの間の角度をθ5とし、第1吸収軸23aと第2吸収軸24aとの間の角度をθ6としたとき、第1偏光フィルター23及び第2偏光フィルター24は、角度θ4、角度θ5及び角度θ6が下記の条件(4)~条件(6)を満たすように、配置されている。
(4)-20°<θ4<+20°
(5)+70°<θ5<+110°
(6)+70°<θ6<+110°
図6では、θ4及びθ5の許容範囲をハッチングで示している。条件(6)は、第1偏光フィルター23及び第2偏光フィルター24がクロスニコル状態にある点を、第1吸収軸23a及び第2吸収軸24aが理想的に直交している状態に対して一定の許容範囲を考慮して表した式である。以下、説明の便宜のため、条件(6)を満たす第1偏光フィルター23及び第2偏光フィルター24の配置関係を、クロスニコル状態と称す。
As shown in FIG. 6, the angle between the first absorption axis 23a and the reference axis RA is θ4, the angle between the second absorption axis 24a and the reference axis RA is θ5, and the angle between the first absorption axis 23a and the reference axis RA is θ5. When the angle with the second absorption axis 24a is θ6, the first polarizing filter 23 and the second polarizing filter 24 have an angle θ4, an angle θ5, and an angle θ6 that satisfy the following conditions (4) to (6). arranged to meet the needs.
(4) -20°<θ4<+20°
(5) +70°<θ5<+110°
(6) +70°<θ6<+110°
In FIG. 6, the allowable ranges of θ4 and θ5 are indicated by hatching. Condition (6) is such that the point where the first polarizing filter 23 and the second polarizing filter 24 are in a crossed nicol state is constant with respect to the state where the first absorption axis 23a and the second absorption axis 24a are ideally orthogonal. This is an expression that takes into account the allowable range of . Hereinafter, for convenience of explanation, the arrangement relationship between the first polarizing filter 23 and the second polarizing filter 24 that satisfies condition (6) will be referred to as a crossed Nicols state.

条件(1)~条件(6)の角度θ1~角度θ6は、共通の基準軸RAに対して規定されているため、条件(1)~条件(6)は、検出工程S02Aにおける第1位相差層12、第2位相差層13、第1偏光フィルター23及び第2偏光フィルター24の配置関係を規定している。図5及び図6を利用した条件(1)~条件(6)の関係の説明では、y軸を基準軸RAとした。しかしながら、基準軸RAはx軸でもよい。換言すれば、光学フィルム10を±90°又は180°回転させてもよいし、第1偏光フィルター23及び第2偏光フィルター24の配置関係を反転させてもよい。 Since the angles θ1 to θ6 of conditions (1) to (6) are defined with respect to the common reference axis RA, conditions (1) to (6) are based on the first phase difference in the detection step S02A. The arrangement relationship between the layer 12, the second retardation layer 13, the first polarizing filter 23, and the second polarizing filter 24 is defined. In the explanation of the relationship between conditions (1) to (6) using FIGS. 5 and 6, the y-axis is taken as the reference axis RA. However, the reference axis RA may be the x-axis. In other words, the optical film 10 may be rotated by ±90° or 180°, or the arrangement of the first polarizing filter 23 and the second polarizing filter 24 may be reversed.

光学フィルム10の形成時における第1位相差層12及び第2位相差層13の配置関係並びに光学フィルム10の検査時における光学フィルム10、第1偏光フィルター23及び第2偏光フィルター24の配置関係を調整することによって、条件(1)~条件(6)の角度θ1~角度θ6が実現され得る。 The arrangement relationship of the first retardation layer 12 and the second retardation layer 13 at the time of forming the optical film 10, and the arrangement relation of the optical film 10, the first polarizing filter 23, and the second polarizing filter 24 at the time of inspecting the optical film 10. By adjusting, angles θ1 to θ6 of conditions (1) to (6) can be realized.

図4に示したように、光学フィルム10は、背面板(支持板)25上に配置されていてもよい。背面板25の主面25a(光学フィルム10側の面)の正反射率は、例えば45%以下である。背面板25は、上記例示した範囲の正反射率を有する材料で形成された板を使用してもよいし、板部材の表面に上記例示した範囲の正反射率を有する材料の例えばシートを貼合した構成を有してもよい。 As shown in FIG. 4, the optical film 10 may be placed on a back plate (support plate) 25. The regular reflectance of the main surface 25a (the surface on the optical film 10 side) of the back plate 25 is, for example, 45% or less. The back plate 25 may be a plate made of a material having a specular reflectance within the range exemplified above, or a sheet made of a material having a specular reflectance within the range exemplified above may be pasted on the surface of the plate member. It may also have a combined configuration.

<判定工程>
判定工程S02Bでは、検出部22によって検出された反射光L2の輝度に基づいて、光学フィルム10における幅方向(TD方向)の断面に沿った輝度分布を取得する。次いで、輝度分布に基づいて光学フィルム10を良品か否かを判定する。上記輝度分布は、例えば、解析装置で検出部22によって取得した輝度データに基づいて作成され得る。解析装置は、例えば、検出方法を実施するための専用の装置でもよいし、解析用のプログラムがインストールされたパーソナルコンピュータでもよい。
<Judgment process>
In the determination step S02B, a brightness distribution along the cross section of the optical film 10 in the width direction (TD direction) is acquired based on the brightness of the reflected light L2 detected by the detection unit 22. Next, it is determined whether the optical film 10 is a good product or not based on the luminance distribution. The brightness distribution may be created based on brightness data acquired by the detection unit 22 in the analysis device, for example. The analysis device may be, for example, a dedicated device for implementing the detection method, or a personal computer installed with an analysis program.

判定工程S02Bでは、輝度分布に表される干渉縞(振幅の変化)において、干渉ムラを判定可能な指標(判定指標)に従って判定すればよい。例えば、輝度分布における最大輝度に対する最小輝度の比([最小輝度/最大輝度](%))を判定指標として判定を行ってもよいし、最大輝度と、輝度分布の平均値(平均輝度)との差([最大輝度-平均輝度]を判定指標として判定を行ってもよい。光学フィルム10が良品か否かは、判定方法に応じて例えば予め実験などに応じて基準を設定すればよい。 In the determination step S02B, it is sufficient to determine interference unevenness in the interference fringes (changes in amplitude) represented by the brightness distribution according to an index (determination index) that can determine interference unevenness. For example, the determination may be made using the ratio of the minimum brightness to the maximum brightness in the brightness distribution ([minimum brightness/maximum brightness] (%)), or the maximum brightness and the average value of the brightness distribution (average brightness) may be used as a determination index. Determination may be made using the difference between (maximum brightness - average brightness) as a determination index. Whether or not the optical film 10 is a non-defective product may be determined by setting a standard in advance, for example, by experiment, depending on the determination method.

判定工程S02Bで、光学フィルム10が不良品と判定された場合(判定工程S02Bで「NO」)、変更工程S03を実施する。 If the optical film 10 is determined to be a defective product in the determination step S02B (“NO” in the determination step S02B), a change step S03 is performed.

[変更工程]
変更工程S03では、光学フィルム10の形成条件を変更する。形成条件の変更は、例えば、第1接着層14の厚さの変更、第1接着層14の下地となる部材の平坦性の調整、第1接着層14の材料である接着剤の特性などの調整を含む。
[Change process]
In the changing step S03, the conditions for forming the optical film 10 are changed. Changes in the formation conditions include, for example, changing the thickness of the first adhesive layer 14, adjusting the flatness of the member that is the base of the first adhesive layer 14, and changing the characteristics of the adhesive that is the material of the first adhesive layer 14. Including adjustments.

変更工程S03を実施した場合、再度形成工程S01を実施する。判定工程S02Bで光学フィルム10が良品と判定されるまで、形成工程S01、検査工程S02及び変更工程S03を繰り返せばよい。 When the changing step S03 is performed, the forming step S01 is performed again. The forming step S01, the inspection step S02, and the changing step S03 may be repeated until the optical film 10 is determined to be non-defective in the determining step S02B.

判定工程S02Bで、光学フィルム10が良品と判定された場合(判定工程S02Bで「YES」)、回収工程S04を実施する。 If the optical film 10 is determined to be non-defective in the determination step S02B (“YES” in the determination step S02B), a collection step S04 is performed.

[回収工程]
回収工程S04では、検査用の光学フィルム10を形成した場合と同じ条件で、光学フィルム10を形成し、形成された光学フィルム10を回収すればよい。例えば、光学フィルム10が長尺であり、検査工程S02を、形成工程S01で形成した光学フィルム10を搬送しながら実施する場合、検査工程S02を経た光学フィルム10を、例えば巻き取ることで光学フィルム10を回収してもよい。
[Collection process]
In the collection step S04, the optical film 10 may be formed under the same conditions as when the optical film 10 for inspection was formed, and the formed optical film 10 may be collected. For example, when the optical film 10 is long and the inspection step S02 is carried out while conveying the optical film 10 formed in the forming step S01, the optical film 10 that has passed through the inspection step S02 is rolled up, 10 may be collected.

本実施形態の検査方法では、上記のように、光源部21から検査光L1を光学フィルム10に照射し、その反射光L2を検出部22で検出する。検出部22で検出された反射光L2の輝度データに基づいて光学フィルム10のTD方向における断面の輝度分布を取得し、その輝度分布に基づいて光学フィルム10の良否を判定する。そのため、客観的に光学フィルム10の良否を判定できる。 In the inspection method of this embodiment, as described above, the optical film 10 is irradiated with the inspection light L1 from the light source section 21, and the reflected light L2 is detected by the detection section 22. The brightness distribution of the cross section of the optical film 10 in the TD direction is obtained based on the brightness data of the reflected light L2 detected by the detection unit 22, and the quality of the optical film 10 is determined based on the brightness distribution. Therefore, the quality of the optical film 10 can be determined objectively.

例えば目視検査を行う場合、検査結果は、検査者間の個人差(見る角度の違いなども含む)、同じ検査者の状態(例えば体調、検査中の疲れ等)、及び光学フィルム10の製造工場間の違い等が生じる可能性がある。これに対して、本実施形態の光学フィルムの検査方法では、検査光学系20と光学フィルム10の配置関係及び使用する検査光L1等が固定されており且つ輝度分布に基づいて判定を行うため、検査者間(或いは同一検査者間)の違い、工場間の検査方法の違いなどが除去されている。そのため、客観的に光学フィルム10の良否を判定できる。 For example, when performing a visual inspection, the inspection results may vary depending on individual differences among inspectors (including differences in viewing angles, etc.), the condition of the same inspector (for example, physical condition, fatigue during the inspection, etc.), and the manufacturing factory of the optical film 10. There is a possibility that there may be differences between the two. On the other hand, in the optical film inspection method of the present embodiment, the arrangement relationship between the inspection optical system 20 and the optical film 10, the inspection light L1, etc. to be used are fixed, and the determination is made based on the brightness distribution. Differences between inspectors (or between the same inspectors), differences in inspection methods between factories, etc. are eliminated. Therefore, the quality of the optical film 10 can be determined objectively.

光学フィルム10の製造方法では、上記検査方法で、光学フィルム10の良否を客観的に判定することから、良品の光学フィルム10を効率的に製造できる。その結果、光学フィルム10の製造歩留まりが向上する。 In the method for manufacturing the optical film 10, since the quality of the optical film 10 is objectively determined by the above-mentioned inspection method, it is possible to efficiently manufacture the optical film 10 of good quality. As a result, the manufacturing yield of the optical film 10 is improved.

光学フィルム10の製造方法では、上述の検出工程S02Aと判定工程S02Bを、光学フィルム10を搬送しながら自動的に行うことが可能なので、不良品の発生を直ぐに検出することができる。その結果、良品の光学フィルム10を更に効率的に製造できる。 In the method for manufacturing the optical film 10, since the above-mentioned detection step S02A and determination step S02B can be performed automatically while the optical film 10 is being transported, it is possible to immediately detect the occurrence of a defective product. As a result, the optical film 10 of good quality can be manufactured more efficiently.

判定工程S02Bで使用する輝度分布は、反射光L2の干渉縞を現している。したがって、輝度分布に基づいて干渉ムラを評価可能である。 The brightness distribution used in the determination step S02B represents interference fringes of the reflected light L2. Therefore, interference unevenness can be evaluated based on the brightness distribution.

輝度分布における最大輝度に対する最小輝度の比を、判定指標として使用する場合、光学フィルム10の材料などの違いの影響を低減できる。そのため、上記最大輝度に対する最小輝度の比は、汎用性を有し得る。 When the ratio of the minimum brightness to the maximum brightness in the brightness distribution is used as a determination index, the influence of differences in the material of the optical film 10, etc. can be reduced. Therefore, the ratio of the minimum brightness to the maximum brightness can have general versatility.

第1偏光フィルター23及び第2偏光フィルター24を使用する場合、検査面10aでの表面反射の影響を低減できる。光学フィルム10、第1偏光フィルター23及び第2偏光フィルター24が上記条件(1)~条件(6)を満たすように配置された場合に、表面反射の影響を一層低減できるので、第1接着層14の影響(第1接着層14に隣接する層の界面の影響も含む)で生じる干渉ムラをより正確に評価できる。そのため、光学フィルム10、第1偏光フィルター23及び第2偏光フィルター24が上記条件(1)~条件(6)を満たすように配置して、検出工程S02Aを実施することで、光学フィルム10の良否を一層正確に判定できる。 When using the first polarizing filter 23 and the second polarizing filter 24, the influence of surface reflection on the inspection surface 10a can be reduced. When the optical film 10, the first polarizing filter 23, and the second polarizing filter 24 are arranged so as to satisfy the above conditions (1) to (6), the influence of surface reflection can be further reduced. 14 (including the influence of the interface between layers adjacent to the first adhesive layer 14) can be evaluated more accurately. Therefore, by arranging the optical film 10, the first polarizing filter 23, and the second polarizing filter 24 so as to satisfy the above conditions (1) to (6) and performing the detection step S02A, it is possible to determine whether the optical film 10 is good or not. can be determined more accurately.

光源部21から出力される検査光L1のピーク波長が、例えば400nm~750nm、好ましくは500nm~700nm、より好ましくは600nm~650nmの範囲である場合、波長領域が限定されていることから、干渉ムラを検知し易い。更に、輝度分布の最大値と最小値がデータ上、より明確になる。この観点でも干渉ムラをより検知しやすい。その結果、より正確に光学フィルム10の良否を判定できる。 If the peak wavelength of the inspection light L1 output from the light source section 21 is in the range of, for example, 400 nm to 750 nm, preferably 500 nm to 700 nm, more preferably 600 nm to 650 nm, interference unevenness may occur because the wavelength range is limited. easy to detect. Furthermore, the maximum and minimum values of the brightness distribution become clearer in the data. Also from this point of view, it is easier to detect interference unevenness. As a result, the quality of the optical film 10 can be determined more accurately.

光源部21と光学フィルム10の間の距離d1が100mm~2000mmである場合、検査光学系20の設置スペースを縮小できる。更に、反射光L2の輝度が向上しやすい。同様に、光学フィルム10と検出部22との間の距離d2が100mm~2000mmである場合、検査光学系20の設置スペースを縮小できる。 When the distance d1 between the light source section 21 and the optical film 10 is 100 mm to 2000 mm, the installation space for the inspection optical system 20 can be reduced. Furthermore, the brightness of the reflected light L2 is likely to improve. Similarly, when the distance d2 between the optical film 10 and the detection section 22 is 100 mm to 2000 mm, the installation space for the inspection optical system 20 can be reduced.

背面板25の正反射率が45%以下であれば、背面板25からの反射の影響を低減できる。その結果、より正確に光学フィルム10の良否を判定できる。 If the regular reflectance of the back plate 25 is 45% or less, the influence of reflection from the back plate 25 can be reduced. As a result, the quality of the optical film 10 can be determined more accurately.

以下、光学フィルム10のサンプルを用いた実験例を説明する。 An experimental example using a sample of the optical film 10 will be described below.

[実験例]
実験例では、光学フィルム10の具体的なサンプルとして、サンプルS1、サンプルS2、サンプルS3及びサンプルS4を準備した。各サンプルの幅は1340mmであった。
[Experiment example]
In the experimental example, sample S1, sample S2, sample S3, and sample S4 were prepared as specific samples of the optical film 10. The width of each sample was 1340 mm.

(サンプルS1)
サンプルS1は、図2に示した構成を有していた。すなわち、サンプルS1は、第2保護層16、第2位相差層13、第1接着層14、第1位相差層12及び第1保護層15を有し、第2位相差層13、第1接着層14、第1位相差層12及び第1保護層15が、この順に第2保護層16上に積層されていた。サンプルS1の平面視形状は矩形であった。
(Sample S1)
Sample S1 had the configuration shown in FIG. That is, sample S1 has the second protective layer 16, the second retardation layer 13, the first adhesive layer 14, the first retardation layer 12, and the first protective layer 15, and the second retardation layer 13, the first The adhesive layer 14, the first retardation layer 12, and the first protective layer 15 were laminated in this order on the second protective layer 16. The plan view shape of sample S1 was a rectangle.

第1保護層15及び第2保護層16は、トリアセチルセルロース樹脂フィルムであった。第1保護層15及び第2保護層16の厚さは、80μmであった。 The first protective layer 15 and the second protective layer 16 were triacetylcellulose resin films. The thickness of the first protective layer 15 and the second protective layer 16 was 80 μm.

第1位相差層12はλ/2板であった。面内位相差は236nmであった。第2位相差層13はλ/4板であった。面内位相差は116nmであった。第1位相差層12の第1遅相軸12aと第2位相差層13の第2遅相軸13aとの間の角度θ3(図5参照)は60°であった。第1位相差層12の厚さは2μm、第2位相差層13の厚さは、1μmであった。 The first retardation layer 12 was a λ/2 plate. The in-plane retardation was 236 nm. The second retardation layer 13 was a λ/4 plate. The in-plane retardation was 116 nm. The angle θ3 (see FIG. 5) between the first slow axis 12a of the first retardation layer 12 and the second slow axis 13a of the second retardation layer 13 was 60°. The thickness of the first retardation layer 12 was 2 μm, and the thickness of the second retardation layer 13 was 1 μm.

第1接着層14の材料はエポキシ樹脂系紫外線硬化性接着剤(波長589nmでの屈折率が1.54)であった。第1接着層14の厚さは、3.0μmであった。 The material of the first adhesive layer 14 was an epoxy resin-based ultraviolet curable adhesive (refractive index at a wavelength of 589 nm was 1.54). The thickness of the first adhesive layer 14 was 3.0 μm.

(サンプルS2)
サンプルS2は、第1接着層14の厚さが、2.5μmであった点以外は、サンプルS1と同じ構成を有していた。
(サンプルS3)
サンプルS3は、第1接着層14の厚さが、2.0μmであった点以外は、サンプルS1と同じ構成を有していた。
(サンプルS4)
サンプルS4は、第1接着層14の材料としてエポキシ樹脂系紫外線硬化性接着剤(波長589nmでの屈折率が1.51)を使用した点、及び、第1接着層14の厚さが1.5μmであった点以外は、サンプルS1と同じ構成を有していた。
(Sample S2)
Sample S2 had the same configuration as sample S1 except that the thickness of the first adhesive layer 14 was 2.5 μm.
(Sample S3)
Sample S3 had the same configuration as sample S1 except that the thickness of the first adhesive layer 14 was 2.0 μm.
(Sample S4)
Sample S4 uses an epoxy resin-based ultraviolet curable adhesive (refractive index at a wavelength of 589 nm: 1.51) as the material for the first adhesive layer 14, and the thickness of the first adhesive layer 14 is 1.51 nm. It had the same configuration as sample S1 except that it was 5 μm.

準備したサンプルS1~S4に対して、図4を用いて説明した検出工程S02Aを実施した。検査対象が異なる点以外の条件は同じであったため、サンプルS1~S4をサンプルSと称して、実験例における検出工程S02Aを具体的に説明する。 The detection step S02A described using FIG. 4 was performed on the prepared samples S1 to S4. Since the conditions were the same except that the test targets were different, the samples S1 to S4 will be referred to as samples S, and the detection step S02A in the experimental example will be specifically explained.

光源部21として、複数の赤色LEDが配置されたライン光源を用いた。光源部21は、検査対象のフィルム(サンプルS)における幅中央部に検査光L1が照射されるよう設置した。検査光L1のピーク波長は、600nm~650nmであった。光源部21の光軸と検査面10aとの法線nとの間の角度α1は20°であった。同様に、検査面10aとの法線nと検出部22の法線nとの間の角度α2は、20°であった。光源部21と検査面10aとの間の距離は135mmであった。検査面10aと検出部22との間の距離d2は760mmであった。なお、検査光L1の照度は、光源部21からの距離が15mmの位置において6570[lx]となる照度で行った。 As the light source section 21, a line light source in which a plurality of red LEDs were arranged was used. The light source unit 21 was installed so that the inspection light L1 was irradiated onto the width center of the film to be inspected (sample S). The peak wavelength of the test light L1 was 600 nm to 650 nm. The angle α1 between the optical axis of the light source section 21 and the normal n to the inspection surface 10a was 20°. Similarly, the angle α2 between the normal n to the inspection surface 10a and the normal n to the detection unit 22 was 20°. The distance between the light source section 21 and the inspection surface 10a was 135 mm. The distance d2 between the inspection surface 10a and the detection section 22 was 760 mm. Note that the illuminance of the inspection light L1 was set to 6570 [lx] at a position 15 mm away from the light source section 21.

検出工程S02Aでは、エリアスキャンカメラ(商品名:G0-5000M-PGE、JAI社製)、第1偏光フィルター23及び第2偏光フィルター24を使用した。条件(1)~条件(6)を満たすように、サンプルS、第1偏光フィルター23及び第2偏光フィルター24を配置した。具体的には、角度θ1~角度θ6は次のとおりであった。
角度θ1:-26.5°
角度θ2: 33.5°
角度θ3: 60°
角度θ4: 0°
角度θ5: 90°
角度θ6: 90°
サンプルSを搬送速度500mm/sで搬送しながら、検出工程S02Aを実施した。
In the detection step S02A, an area scan camera (product name: G0-5000M-PGE, manufactured by JAI), a first polarizing filter 23, and a second polarizing filter 24 were used. The sample S, the first polarizing filter 23, and the second polarizing filter 24 were arranged so as to satisfy conditions (1) to (6). Specifically, angles θ1 to θ6 were as follows.
Angle θ1: -26.5°
Angle θ2: 33.5°
Angle θ3: 60°
Angle θ4: 0°
Angle θ5: 90°
Angle θ6: 90°
The detection step S02A was carried out while transporting the sample S at a transport speed of 500 mm/s.

図7は、サンプルS1~S4の検出結果を示す図表である。図中の輝度分布は、サンプルS1~S4の短手方向(幅方向)の中央部における断面の輝度分布(幅方向に沿った輝度分布)である。輝度分布の横軸は幅方向の位置(単位:mm、検出箇所の一端での位置を0mmとして表示)を示し、縦軸は輝度を示している。 FIG. 7 is a chart showing the detection results of samples S1 to S4. The brightness distribution in the figure is a cross-sectional brightness distribution (brightness distribution along the width direction) of the samples S1 to S4 at the center in the transverse direction (width direction). The horizontal axis of the brightness distribution indicates the position in the width direction (unit: mm, the position at one end of the detection point is 0 mm), and the vertical axis shows the brightness.

図7に示した輝度分布において、最大輝度に対する最小輝度の比([最小輝度/最大輝度])(%)を判定指標とし、目視評価との関係を検証した。 In the brightness distribution shown in FIG. 7, the ratio of the minimum brightness to the maximum brightness ([minimum brightness/maximum brightness]) (%) was used as a determination index, and the relationship with visual evaluation was verified.

目視評価には、次のサンプルS1a、サンプルS2a、サンプルS3a及びサンプルS4aを使用した。サンプルS1a、サンプルS2a、サンプルS3a及びサンプルS4aは、サンプルS1、サンプルS2、サンプルS3及びサンプルS4の目視評価用のサンプルに対応する。 The following samples S1a, S2a, S3a, and S4a were used for visual evaluation. Sample S1a, sample S2a, sample S3a, and sample S4a correspond to samples for visual evaluation of sample S1, sample S2, sample S3, and sample S4.

(サンプルS1a)
図8に示したように、サンプルS1aとして、第3接着層32、第2位相差層13、第1接着層14、第1位相差層12、第2接着層18及び偏光板33からなる光学フィルム30を作製した。
(Sample S1a)
As shown in FIG. 8, as sample S1a, an optical system consisting of a third adhesive layer 32, a second retardation layer 13, a first adhesive layer 14, a first retardation layer 12, a second adhesive layer 18, and a polarizing plate 33 is used. A film 30 was produced.

サンプルS1aを構成する第2位相差層13、第1接着層14及び第1位相差層12は、サンプルS1の対応する層と同じであった。第2接着層18(厚み5μm)及び第3接着層32(厚み25μm)の材料はアクリル系粘着剤であった。すなわち、第2接着層18及び第3接着層32は粘着層であった。偏光板33は、図3を利用して説明した偏光板17と同様の直線偏光板であった。偏光板33の吸収軸と第1位相差層12の第1遅相軸12aとの間の角度は72.1°~72.9°であった。 The second retardation layer 13, first adhesive layer 14, and first retardation layer 12 constituting sample S1a were the same as the corresponding layers of sample S1. The material of the second adhesive layer 18 (thickness: 5 μm) and the third adhesive layer 32 (thickness: 25 μm) was an acrylic adhesive. That is, the second adhesive layer 18 and the third adhesive layer 32 were adhesive layers. The polarizing plate 33 was a linear polarizing plate similar to the polarizing plate 17 described using FIG. The angle between the absorption axis of the polarizing plate 33 and the first slow axis 12a of the first retardation layer 12 was 72.1° to 72.9°.

目視評価の際には、サンプルS1aを支持するために、第3接着層32の面を、支持体としての黒アクリル板31上に配置した。更に、偏光板33の表面の色むらを低減するために、偏光板33の面上に順に水層34(厚み約1mm)及びガラス板35(厚み1.1mm)を積層した(図8参照)。 During the visual evaluation, the surface of the third adhesive layer 32 was placed on a black acrylic plate 31 as a support in order to support the sample S1a. Furthermore, in order to reduce color unevenness on the surface of the polarizing plate 33, a water layer 34 (thickness: approximately 1 mm) and a glass plate 35 (thickness: 1.1 mm) were laminated in this order on the surface of the polarizing plate 33 (see FIG. 8). .

(サンプルS2a~S4a)
サンプルS2a~S4aとしての光学フィルムの構成は、サンプルS2~S4とサンプルS1との違いと同じ違いを有する点以外は、光学フィルム30の構成と同じであった。サンプルS2a~S4aを目視評価する際にも、サンプルS1aの場合と同様に、サンプルS2a~S4aを黒アクリル板31上に配置し、サンプルS2a~S4aが有する偏光板33の面上に、水層34及びガラス板35を積層した。
(Samples S2a to S4a)
The configurations of the optical films as samples S2a to S4a were the same as the configuration of optical film 30, except that they had the same differences as those between samples S2 to S4 and sample S1. When visually evaluating the samples S2a to S4a, the samples S2a to S4a are placed on the black acrylic plate 31, and a water layer is placed on the surface of the polarizing plate 33 that the samples S2a to S4a have. 34 and glass plate 35 were laminated.

目視評価は、目視の結果を1~4で評価した(数字が大きい方が高評価)。目視評価は、4人が予め定めていた目視評価方法に従って行い、各サンプルS1a~S4aに対する4人の平均を各サンプルS1a~S4aの目視評価結果として採用した。サンプルS1a~サンプルS4aをサンプルSaと称した場合、目視評価は次のように行った。すなわち、サンプルSaを、水平面に対して傾けて配置した。上記水平面に直交する方向からサンプルSaに3波長蛍光灯から光を照射した。傾けられたサンプルSaをその表面に垂直な方向から見て、上記蛍光灯からサンプルSaに入射し反射した光による干渉ムラを目視観察した。サンプルS1a~サンプルS4aは、サンプルS1~S4の違いと同じ違いを有する点以外の構成は同じであった。そのため、サンプルS1a~サンプルS4aの目視評価の違いは、サンプルS1~S4の目視評価の違いに相当する。 In the visual evaluation, the visual results were evaluated on a scale of 1 to 4 (the larger the number, the higher the evaluation). The visual evaluation was performed by four people according to a predetermined visual evaluation method, and the average of the four people for each sample S1a to S4a was adopted as the visual evaluation result for each sample S1a to S4a. When samples S1a to S4a were referred to as samples Sa, visual evaluation was performed as follows. That is, the sample Sa was arranged tilted with respect to the horizontal plane. Sample Sa was irradiated with light from a three-wavelength fluorescent lamp from a direction perpendicular to the horizontal plane. The tilted sample Sa was viewed from a direction perpendicular to its surface, and interference unevenness caused by light that was incident on the sample Sa from the fluorescent lamp and reflected was visually observed. Samples S1a to S4a had the same structure except that they had the same differences as samples S1 to S4. Therefore, the difference in visual evaluation of samples S1a to S4a corresponds to the difference in visual evaluation of samples S1 to S4.

目視評価と、定量評価(検出工程S02Aでの輝度データを用いた評価)との関係は表1のとおりであった。表1の結果より、目視評価と、輝度分布に基づいた評価(定量評価)との間に、高い相関関係を有することがわかった。すなわち、検出工程S02Aを実施して得られる輝度分布に基づいて、客観的に光学フィルム10の良否を判定できることが検証できた。

Figure 0007383559000001
Table 1 shows the relationship between the visual evaluation and the quantitative evaluation (evaluation using luminance data in the detection step S02A). From the results in Table 1, it was found that there was a high correlation between visual evaluation and evaluation based on luminance distribution (quantitative evaluation). That is, it was verified that the quality of the optical film 10 could be determined objectively based on the brightness distribution obtained by performing the detection step S02A.
Figure 0007383559000001

以上説明した実施形態とともに、種々の変形例を説明した。しかしながら、本発明は、上記実施形態及び種々の変形例に限定されるものではなく、特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味及び範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。 In addition to the embodiment described above, various modifications have been described. However, the present invention is not limited to the above embodiments and various modifications, but is indicated by the claims, and includes all changes within the meaning and range equivalent to the claims. is intended.

例えば、光学フィルム10の検査面10aは、第2位相差層13側の面(図2及び図3に示した構成では、第2保護層16の表面)であってもよい。光学フィルム10を用いて、検査工程S02以降を説明したが、光学フィルム10の代わりに光学フィルム10Aを用いてもよい。光学フィルムは、第1位相差層と第2位相差層と、それらを接着する接着層とを有していればよい。 For example, the inspection surface 10a of the optical film 10 may be the surface on the second retardation layer 13 side (in the configurations shown in FIGS. 2 and 3, the surface of the second protective layer 16). Although the inspection process S02 and subsequent steps have been described using the optical film 10, the optical film 10A may be used instead of the optical film 10. The optical film only needs to have a first retardation layer, a second retardation layer, and an adhesive layer that adheres them.

第1位相差層はλ/2の位相差を与える層に限定されず、第2位相差層は、λ/4の位相差を与える層に限定されない。第1位相差層及び第2位相差層が与える位相差は、それらを含む光学フィルムの所望の光学特性を実現できるように設定された位相差であればよい。第1位相差層及び第2位相差層がそれぞれλ/2及びλ/4の位相差を与える層でない場合、条件(1)~条件(6)に相当する条件は、第1位相差層及び第2位相差層が与える位相差に応じ、光学フィルムの良否判定に適したように設定されればよい。 The first retardation layer is not limited to a layer that provides a retardation of λ/2, and the second retardation layer is not limited to a layer that provides a retardation of λ/4. The retardation provided by the first retardation layer and the second retardation layer may be set so as to realize desired optical properties of the optical film containing them. When the first retardation layer and the second retardation layer are not layers that give a retardation of λ/2 and λ/4, respectively, the conditions corresponding to conditions (1) to (6) are the first retardation layer and the second retardation layer. It may be set in accordance with the retardation provided by the second retardation layer to be suitable for determining the quality of the optical film.

検出工程では、光学フィルムを搬送しなくてもよい。 In the detection step, it is not necessary to transport the optical film.

本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、上述した種々の実施形態及び変形例は、適宜、組み合わされてもよい。 The various embodiments and modifications described above may be combined as appropriate without departing from the spirit of the present invention.

10,10A…光学フィルム、10a…検査面、11…位相差積層体、12…第1位相差層、12a…第1遅相軸、13…第2位相差層、13a…第2遅相軸、14…第1接着層、15,15A…第1保護層、16…第2保護層、17…偏光板、18…第2接着層、20…検査光学系、21…光源部、22…検出部、23…第1偏光フィルター、23a…第1吸収軸、24…第2偏光フィルター、24a…第2吸収軸、25…背面板、25a…背面板の主面。

10, 10A... Optical film, 10a... Inspection surface, 11... Retardation laminate, 12... First retardation layer, 12a... First slow axis, 13... Second retardation layer, 13a... Second slow axis , 14... First adhesive layer, 15, 15A... First protective layer, 16... Second protective layer, 17... Polarizing plate, 18... Second adhesive layer, 20... Inspection optical system, 21... Light source section, 22... Detection 23...First polarizing filter, 23a...First absorption axis, 24...Second polarizing filter, 24a...Second absorption axis, 25...Back plate, 25a...Main surface of the back plate.

Claims (10)

第1位相差層と第2位相差層と前記第1位相差層及び第2位相差層の間に配置される第1接着層とを有する光学フィルムの検査面に、前記検査面側に配置された光源部から検査光を照射するとともに、前記光源部から照射され前記光学フィルムで反射した光を、前記検査面側に配置された検出部によって検出する検出工程と、
前記検出部によって検出された光の輝度に基づいて、前記光学フィルムにおける断面に沿った輝度分布を取得し、前記輝度分布に基づいて光学フィルムが良品か否かを判定する判定工程と、
を備え、
前記検出工程では、前記光源部からの前記検査光を、第1偏光フィルターを通して前記検査面に照射するとともに、前記光源部から前記光学フィルムに照射され前記光学フィルムで反射した光を、第2偏光フィルターを通して、前記検出部によって検出し、
互いに直交するx軸及びy軸を前記検査面に仮想的に設定し、前記検査面側からみて前記x軸及び前記y軸の一方を基準軸とし、前記基準軸に対して反時計回りを正の角度方向と称した場合において、
前記第1偏光フィルターの第1吸収軸及び前記第2偏光フィルターの第2吸収軸が、下記条件(A)の条件を満たすように、前記第1偏光フィルター及び前記第2偏光フィルターが前記光学フィルムに対して配置されている、
光学フィルムの検査方法。
(A)+70°<θ6<+110°(θ6は、前記第1吸収軸と前記第2吸収軸との間の角度)
Disposed on the inspection surface side of an optical film having a first retardation layer, a second retardation layer, and a first adhesive layer disposed between the first retardation layer and the second retardation layer. a detection step of irradiating inspection light from the light source section and detecting the light irradiated from the light source section and reflected by the optical film by a detection section disposed on the inspection surface side;
a determination step of obtaining a brightness distribution along a cross section of the optical film based on the brightness of the light detected by the detection unit, and determining whether the optical film is a good product based on the brightness distribution;
Equipped with
In the detection step, the inspection light from the light source section is irradiated onto the inspection surface through a first polarizing filter, and the light irradiated from the light source section to the optical film and reflected by the optical film is converted into second polarized light. Detected by the detection unit through a filter,
An x-axis and a y-axis that are orthogonal to each other are virtually set on the inspection surface, one of the x-axis and the y-axis is set as a reference axis when viewed from the inspection surface, and the counterclockwise direction is set as a positive axis with respect to the reference axis. When referred to as the angular direction of
The first polarizing filter and the second polarizing filter are arranged in the optical film such that the first absorption axis of the first polarizing filter and the second absorption axis of the second polarizing filter satisfy the following condition (A). is located against
Inspection method for optical film.
(A) +70°<θ6<+110° (θ6 is the angle between the first absorption axis and the second absorption axis)
前記光学フィルムを搬送しながら検出工程及び判定工程を行う、
請求項1に記載の光学フィルムの検査方法。
performing a detection step and a determination step while conveying the optical film;
The method for inspecting an optical film according to claim 1.
前記断面は、光学フィルムの幅方向における断面である、
請求項1又は2に記載の光学フィルムの検査方法。
The cross section is a cross section in the width direction of the optical film,
The method for inspecting an optical film according to claim 1 or 2.
前記第1位相差層および前記第2位相差層のうち一方は1/2波長層であり、他方は1/4波長層であり、
前記第1位相差層の第1遅相軸及び前記第2位相差層の第2遅相軸が下記条件(1)~(3)を満たすように、前記光学フィルムにおいて、前記第1位相差層及び前記第2位相差層が配置されており、
前記第1偏光フィルターの第1吸収軸及び前記第2偏光フィルターの第2吸収軸が、下記条件(4)及び(5)の条件を満たすように、前記第1偏光フィルター及び前記第2偏光フィルターが前記光学フィルムに対して配置されている、
請求項1~3の何れか1項に記載の光学フィルムの検査方法。
(1)-40°<θ1<-10°(θ1は、前記第1遅相軸と前記基準軸との間の角度)
(2)+15°<θ2<+50°(θ2は、前記第2遅相軸と前記基準軸との間の角度)
(3)+55°<θ3<+65°(θ3は、前記第1遅相軸と前記第2遅相軸との間の角度)
(4)-20°<θ4<+20°(θ4は、前記第1吸収軸と及び前記第2吸収軸のうちの一方と前記基準軸との間の角度)
(5)+70°<θ5<+110°(θ5は、前記第1吸収軸と及び前記第2吸収軸のうちの他方と前記基準軸との間の角度)
One of the first retardation layer and the second retardation layer is a 1/2 wavelength layer, and the other is a 1/4 wavelength layer,
In the optical film, the first retardation layer and the second retardation layer are arranged,
The first polarizing filter and the second polarizing filter such that the first absorption axis of the first polarizing filter and the second absorption axis of the second polarizing filter satisfy the following conditions (4) and (5). is arranged with respect to the optical film,
The method for inspecting an optical film according to any one of claims 1 to 3.
(1) -40°<θ1<-10° (θ1 is the angle between the first slow axis and the reference axis)
(2) +15°<θ2<+50° (θ2 is the angle between the second slow axis and the reference axis)
(3) +55°<θ3<+65° (θ3 is the angle between the first slow axis and the second slow axis)
(4) -20°<θ4<+20° (θ4 is the angle between one of the first absorption axis and the second absorption axis and the reference axis)
(5) +70°<θ5<+110° (θ5 is the angle between the first absorption axis and the other of the second absorption axis and the reference axis)
前記光学フィルムは、
積層方向において、前記1/2波長層からみて前記1/4波長層と反対側に位置する偏光板と、
前記偏光板と前記1/2波長層との間に位置する第2接着層と、
を有する、
請求項4に記載の光学フィルムの検査方法。
The optical film is
a polarizing plate located on the opposite side of the 1/4 wavelength layer when viewed from the 1/2 wavelength layer in the stacking direction;
a second adhesive layer located between the polarizing plate and the 1/2 wavelength layer;
has,
The method for inspecting an optical film according to claim 4.
前記第1接着層は、活性エネルギー線硬化型接着剤の硬化層である、
請求項1~5の何れか一項に記載の光学フィルムの検査方法。
The first adhesive layer is a cured layer of an active energy ray-curable adhesive,
The method for inspecting an optical film according to any one of claims 1 to 5.
前記光学フィルムを搬送しながら前記検出工程を実施する、
請求項1~6の何れか一項に記載の光学フィルムの検査方法。
carrying out the detection step while conveying the optical film;
The method for inspecting an optical film according to any one of claims 1 to 6.
前記検査光のピーク波長は、400nm~750nmの範囲内である、
請求項1~7の何れか一項に記載の光学フィルムの検査方法。
The peak wavelength of the inspection light is within the range of 400 nm to 750 nm.
The method for inspecting an optical film according to any one of claims 1 to 7.
前記光学フィルムを支持板の主面上に配置した状態で前記検出工程を実施し、
前記主面の正反射率が45%以下である、
請求項1~8の何れか一項に記載の光学フィルムの検査方法。
Performing the detection step with the optical film disposed on the main surface of the support plate,
The regular reflectance of the main surface is 45% or less,
The method for inspecting an optical film according to any one of claims 1 to 8.
請求項1~9の何れか一項に記載の光学フィルムの検査方法を含む、光学フィルムの製造方法。 A method for producing an optical film, comprising the method for inspecting an optical film according to any one of claims 1 to 9.
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