JP7366215B2 - Mold release method and mold release device for molded products - Google Patents

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本発明は、成型品をモールド(型)から離型する方法、及びその装置に関する。成型品は、好ましくは、インプリント成型品である。 The present invention relates to a method for releasing a molded product from a mold, and an apparatus therefor. The molded product is preferably an imprint molded product.

近年、携帯電話、スマートフォンをはじめとするモバイル電子機器においては、センサーやカメラ等の光学部品を搭載することにより製品価値を向上することが求められている。また、年々、小型化、薄型化が進み、使用される部品も、より小型で、より薄型のものが求められている。そのような要求に対して、従来、射出成型によって部品を製造することで対応してきたが、射出成型法では小型化、薄型化への対応に限界がきている。そこで、射出成型法に代わる新たな成型方法としてインプリント成型法が注目を浴びている。しかし、インプリント成型法では、モールドからの成型品の離型性に問題が生じやすく、成型精度が損なわれる場合があった。 In recent years, mobile electronic devices such as mobile phones and smartphones are required to improve product value by incorporating optical components such as sensors and cameras. In addition, as devices become smaller and thinner year by year, smaller and thinner parts are required. Conventionally, such demands have been met by manufacturing parts by injection molding, but the injection molding method has reached its limits in responding to miniaturization and thinning. Therefore, imprint molding is attracting attention as a new molding method to replace injection molding. However, in the imprint molding method, problems tend to occur in the releasability of the molded product from the mold, and molding accuracy may be impaired.

インプリント成型においてモールドからの成型品を離型する方法としては、モールドと成型品の間にピンを差し込んで離型する方法(例えば、特許文献1)、成型品の周辺部を保持して垂直方向にモールドから離型する方法(例えば、特許文献2)、成型品の一部を保持して斜め方向にモールドから離型する方法(例えば、特許文献3、4)、モールドに振動や超音波を照射して離型をアシストする方法(例えば、特許文献5)、モールドを傾斜させて成型品から離型する方法(例えば、特許文献6)などが報告されている。 Methods for releasing a molded product from a mold in imprint molding include a method in which a pin is inserted between the mold and the molded product (for example, Patent Document 1), a method in which the peripheral part of the molded product is held and the molded product is vertically A method of releasing the mold from the mold in a diagonal direction (for example, Patent Document 2), a method of holding a part of the molded product and releasing it from the mold in an oblique direction (for example, Patent Documents 3 and 4), A method of assisting mold release by irradiating the mold (for example, Patent Document 5), a method of tilting the mold and releasing from the molded product (for example, Patent Document 6), and the like have been reported.

特開2007-118552号公報Japanese Patent Application Publication No. 2007-118552 特開2003-181855号公報Japanese Patent Application Publication No. 2003-181855 特開2008-284822号公報Japanese Patent Application Publication No. 2008-284822 WO2010/142958号パンフレットWO2010/142958 pamphlet 特開2012-254559号公報Japanese Patent Application Publication No. 2012-254559 特開2012-253303号公報Japanese Patent Application Publication No. 2012-253303

インプリント成型法では、一般にモールドに微細な形状パターンが形成されており、高度な成型精度が要求される。特に、ウェハレベルレンズアレイのように、一度の成型で複数の製品の集合体を成型する場合、ダイシングにより個々の製品に個片化する必要があるため、成型品全体の反りが小さく、さらに個々の製品間の位置精度に優れることが要求される。しかし、特許文献1~4の方法では、特に離型開始時において成型品の一部に過度の負荷がかかるため、成型品に反りが生じたり、位置精度が悪化するといった問題が生じることが判明した。また、モールドに樹脂やガラスを使用する場合は、モールド自体の強度が低く、特許文献5、6といった外部から力を加える方法は採用することが困難であった。 In the imprint molding method, a fine pattern is generally formed on a mold, and a high degree of molding precision is required. In particular, when molding an assembly of multiple products in one molding process, such as a wafer-level lens array, it is necessary to separate the products into individual products by dicing, which minimizes warping of the entire molded product and furthermore Excellent positional accuracy between products is required. However, with the methods of Patent Documents 1 to 4, it has been found that excessive load is applied to a part of the molded product, especially at the start of mold release, which causes problems such as warping of the molded product and deterioration of positional accuracy. did. Furthermore, when resin or glass is used for the mold, the strength of the mold itself is low, and it has been difficult to employ methods of applying force from the outside, such as in Patent Documents 5 and 6.

従って、本発明の目的は、モールドから高精度の成型品を取り出すことができる離型方法を提供することである。
また、本発明の他の目的は、モールドから高精度の成型品を取り出すことができる離型装置を提供することである。
Therefore, an object of the present invention is to provide a mold release method that can take out a molded product with high precision from a mold.
Another object of the present invention is to provide a mold release device that can take out a molded product with high precision from a mold.

本発明者等は上記課題を解決するため鋭意検討した結果、モールドの成型面に付着した成型品をモールドから離型する際に、成型品のモールドに付着していない方の面の全体に基材を貼り付けて離型することにより、離型時の負荷が成型品全体に均一に分散される結果、成型品全体の反りが小さく、さらに成型パターンの位置精度が高い高精度の成型品をモールドから安定的に取り出すことができることを見出した。本発明はこれらの知見に基づいて完成させたものである。 As a result of intensive studies to solve the above-mentioned problems, the inventors of the present invention found that when a molded product attached to the molding surface of a mold is released from the mold, the entire surface of the molded product that is not attached to the mold is By pasting the material and releasing the mold, the load during mold release is evenly distributed over the entire molded product, resulting in less warping of the entire molded product and a high-precision molded product with high positional accuracy of the molding pattern. It has been found that it can be stably taken out from the mold. The present invention was completed based on these findings.

すなわち、本発明は、モールドの成型面に供給された硬化性材料を硬化することにより形成される、前記成型面のパターン形状が転写された第1の面とその裏側の第2の面を有する成型品を前記モールドから離型する方法であって、以下の工程を有することを特徴とする、前記成型品の離型方法を提供する。
第1工程:前記成型品の前記第2の面の全体に基材を貼り付ける;
第2工程:前記基材と前記モールドが離間する方向に、前記基材と前記モールドを相対的に移動させることにより前記成型品を前記モールドから離型する。
That is, the present invention has a first surface to which the pattern shape of the molding surface is transferred, which is formed by curing a curable material supplied to the molding surface of the mold, and a second surface on the back side thereof. The present invention provides a method for releasing a molded product from the mold, the method comprising the following steps.
First step: attaching a base material to the entire second surface of the molded product;
Second step: The molded product is released from the mold by relatively moving the base material and the mold in a direction in which the base material and the mold are separated.

前記成型品の離型方法において、前記成型品は、前記第1の面上に2個以上の光学素子が2次元的に配列され、これらの光学素子を互いに連結する基板部を有するアレイであってもよい。 In the method for releasing a molded product, the molded product is an array having two or more optical elements two-dimensionally arranged on the first surface and a substrate portion that connects these optical elements to each other. It's okay.

前記成型品の離型方法において、前記第2の面上に、前記基材が貼り付く平面部が少なくとも存在することが好ましい。 In the method for releasing a molded product, it is preferable that at least a flat portion to which the base material sticks exists on the second surface.

前記成型品の離型方法において、前記基材は、樹脂製シートであってもよい。
前記樹脂製シートは、一方の面に粘着剤層を有していてもよい。
In the method for releasing a molded product, the base material may be a resin sheet.
The resin sheet may have an adhesive layer on one side.

前記成型品の離型方法は、さらに、以下の工程を有していてもよい。
第3工程:第2工程で得られる前記成型品の第2の面から前記基材を剥離する。
The method for releasing the molded product may further include the following steps.
Third step: The base material is peeled off from the second surface of the molded product obtained in the second step.

前記成型品の離型方法は、さらに、以下の工程を有していてもよい。
第3'工程:第2工程で得られる、第1の面に2次元的に配列された複数の光学素子を有し、第2の面が前記基材で固定された成型品をダイシングすることにより光学素子を個片化して光学部材を得る。
The method for releasing the molded product may further include the following steps.
3' step: dicing the molded product obtained in the second step, which has a plurality of optical elements two-dimensionally arranged on the first surface and whose second surface is fixed to the base material. The optical element is separated into individual pieces to obtain an optical member.

前記成型品の離型方法において、前記光学素子は、ウェハレベルレンズであってもよい。 In the method for releasing a molded product, the optical element may be a wafer level lens.

前記成型品の離型方法において、前記硬化性材料は、硬化性エポキシ樹脂組成物であってもよい。 In the method for releasing a molded article, the curable material may be a curable epoxy resin composition.

前記成型品の離型方法において、前記モールドを構成する材質は、樹脂、金属、及びガラスからなる群から選択される少なくとも1種であってもよい。 In the method for releasing a molded product, the material constituting the mold may be at least one selected from the group consisting of resin, metal, and glass.

前記成型品の離型方法において、前記モールドの成型面のパターン領域の少なくとも一部は離型剤で処理されていてもよい。 In the method for releasing a molded product, at least a part of the pattern area on the molding surface of the mold may be treated with a mold release agent.

また、本発明は、モールドの成型面に供給された硬化性材料を硬化することにより形成される、前記成型面のパターンが転写された第1の面とその裏側の第2の面を有する成型品を前記モールドから離型する装置であって、
前記第2の面に基材の貼り付けを行う貼付手段と、
前記基材と前記モールドを相対的に移動させる移動手段と、
前記貼付手段を制御して、前記成型品の第2の面の全体に前記基材を貼り付ける貼付制御手段と、
前記移動手段を制御して、前記基材と前記モールドが離間する方向に、前記基材と前記モールドを相対的に移動させる移動制御手段と、を含むことを特徴とする離型装置を提供する。
Further, the present invention provides a molding device having a first surface to which a pattern of the molding surface is transferred and a second surface on the back side, which is formed by curing a curable material supplied to the molding surface of the mold. A device for releasing a product from the mold, the device comprising:
A pasting means for pasting a base material on the second surface;
a moving means for relatively moving the base material and the mold;
Pasting control means for controlling the pasting means and pasting the base material on the entire second surface of the molded product;
A mold release device is provided, comprising: a movement control means that controls the movement means to relatively move the base material and the mold in a direction in which the base material and the mold are separated from each other. .

本発明の離型方法及び離型装置は上記構成を有するため、成型品をモールドから離型する際の負荷が成型品全体に均一に分散される結果、成型品全体の反りが小さく、成型パターンの位置精度が高い高精度の成型品をモールドから安定的に取り出すことができる。
本発明の離型方法又は離型装置は、一度の成型(好ましくは、インプリント成型)で複数の製品の集合体の成型品に使用することにより、成型品全体の反りや個々の製品の位置関係のずれが小さい高精度の成型品を安定的に製造することができるので、例えば、携帯電話、スマートフォンをはじめとするモバイル電子機器のセンサー用レンズやカメラ用レンズを効率的に製造するためのウェハレベルレンズアレイの製造に好適に適用することができる。
Since the mold release method and mold release device of the present invention have the above configuration, the load when releasing the molded product from the mold is uniformly distributed over the entire molded product, and as a result, the warpage of the entire molded product is small, and the molding pattern is High-precision molded products with high positional accuracy can be stably removed from the mold.
The mold release method or mold release device of the present invention can be used for a molded product that is an aggregate of a plurality of products in one molding (preferably imprint molding), thereby preventing warping of the entire molded product and the position of individual products. Since it is possible to stably manufacture high-precision molded products with small relationship deviations, it is useful for efficiently manufacturing sensor lenses and camera lenses for mobile electronic devices such as mobile phones and smartphones. It can be suitably applied to manufacturing a wafer level lens array.

モールドの一例を示す概略図である。(a)は斜視図、(b)は上面図、(c)は側面図である。It is a schematic diagram showing an example of a mold. (a) is a perspective view, (b) is a top view, and (c) is a side view. 成型品の一例を示す概略図である。(a)は斜視図、(b)は上面図、(c)は側面図である。It is a schematic diagram showing an example of a molded article. (a) is a perspective view, (b) is a top view, and (c) is a side view. 成型品の第1の面がモールドの成型面に付着している状態の一例を示す概略図である。(a)は斜視図、(b)は上面図、(c)は側面図である。FIG. 3 is a schematic diagram showing an example of a state in which the first surface of the molded product is attached to the molding surface of the mold. (a) is a perspective view, (b) is a top view, and (c) is a side view. 本発明の離型方法の第1工程の一例を示す説明図である。(a)は斜視図、(b)は上面図、(c)は側面図である。It is an explanatory view showing an example of the 1st process of the mold release method of the present invention. (a) is a perspective view, (b) is a top view, and (c) is a side view. 本発明の離型方法の第2工程の一例を示す説明図である。(a)は斜視図、(b)側面図である。It is an explanatory view showing an example of the 2nd process of the mold release method of the present invention. (a) is a perspective view, (b) is a side view. 本発明の離型方法の第2工程の他の一例を示す説明図である。(a)は斜視図、(b)側面図である。FIG. 7 is an explanatory diagram showing another example of the second step of the mold release method of the present invention. (a) is a perspective view, (b) is a side view. 本発明の離型方法により得られる基材が第2の面に貼り付いた成型品の一例を示す概略図である。(a)は斜視図、(b)は上面図、(c)はX-X'における断面図である。FIG. 2 is a schematic diagram showing an example of a molded product in which a base material obtained by the mold release method of the present invention is stuck to the second surface. (a) is a perspective view, (b) is a top view, and (c) is a sectional view taken along line XX'. 本発明の離型装置一例を示すブロック図である。FIG. 1 is a block diagram showing an example of a mold release device of the present invention. 本発明の離型方法の一例の流れを示すフローチャートである。1 is a flowchart showing an example of a mold release method of the present invention. 実施例、比較例で用いた下型の模式図である。(a)は上面図、(b)はA-A'における断面図である。FIG. 3 is a schematic diagram of a lower mold used in Examples and Comparative Examples. (a) is a top view, and (b) is a cross-sectional view taken along line AA'. 製造例1の工程を示す説明図(断面図)である。FIG. 3 is an explanatory diagram (cross-sectional view) showing the steps of Manufacturing Example 1. 比較例1の離型方法を示す説明図である。(a)は上面図、(b)はY-Y'における断面図である。FIG. 3 is an explanatory diagram showing a mold release method of Comparative Example 1. (a) is a top view, and (b) is a sectional view taken along YY'. 比較例2の離型方法を示す説明図である。(a)は上面図、(b)はI-I'、II-II'、III-III'における断面図である。FIG. 3 is an explanatory diagram showing a mold release method of Comparative Example 2. (a) is a top view, and (b) is a sectional view along II', II-II', and III-III'.

本発明の典型的な実施形態について図面を参照しつつ説明するが、本発明はこれに限定されるものではなく、例示に過ぎない。 Typical embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings, but the present invention is not limited thereto and is merely an example.

[成型品の離型方法]
本発明の成型品の離型方法(以下、「本発明の離型方法」と称す場合がある)は、モールド(以下、「本発明のモールド」と称す場合がある)の成型面に供給された硬化性材料を硬化することにより形成される、前記成型面のパターン形状が転写された第1の面とその裏側の第2の面を有する成型品(以下、「本発明の成型品」と称す場合がある)を前記モールドから離型する方法であって、以下の工程を有することを特徴とする。
第1工程:前記成型品の前記第2の面の全体に基材を貼り付ける;
第2工程:前記基材と前記モールドが離間する方向に、前記基材と前記モールドを相対的に移動させることにより前記成型品を前記モールドから離型する。
[How to release molded products]
The mold release method for a molded product of the present invention (hereinafter sometimes referred to as the "mold release method of the present invention") includes supplying the molded product to the molding surface of a mold (hereinafter sometimes referred to as the "mold of the present invention"). A molded product (hereinafter referred to as "molded product of the present invention") having a first surface to which the pattern shape of the molded surface is transferred and a second surface on the back side thereof, which is formed by curing a curable material. This is a method for releasing a product (sometimes referred to as a mold) from the mold, and is characterized by having the following steps.
First step: attaching a base material to the entire second surface of the molded product;
Second step: The molded product is released from the mold by relatively moving the base material and the mold in a direction in which the base material and the mold are separated.

[モールド]
図1に、本発明のモールドの一例の概略図を示す。(a)は斜視図、(b)は上面図、(c)は側面図である。
[mold]
FIG. 1 shows a schematic diagram of an example of the mold of the present invention. (a) is a perspective view, (b) is a top view, and (c) is a side view.

本発明のモールド1は、パターン領域11(パターン形状は図示略)を有する成型面1Aを少なくとも有する。本発明のモールド1の成型面1Aは、パターン領域11以外に、パターン領域11の周囲に非パターン領域12を有していてもよい。 The mold 1 of the present invention has at least a molding surface 1A having a pattern area 11 (pattern shape is not shown). In addition to the pattern area 11, the molding surface 1A of the mold 1 of the present invention may have a non-pattern area 12 around the pattern area 11.

本発明のモールドにおいて、パターン領域には、成型品に所望の形状を付与するための、当該形状に対応する逆凹凸のパターン形状(所望の成型品の反転形状)が付与されている。上記モールドが有するパターン形状部の水平面の形状は、特に限定されないが、アスペクト比が0.1~1であることが好ましく、より好ましくは0.5~1であり、1に近いほど好ましい。上記アスペクト比は、上記水平面の形状のうち最長の方向を横方向としたときの横方向の長さに対する縦方向の長さの割合である。上記アスペクト比が上記範囲内であると、本発明の成型品全体で硬化度が均等となりやすく、硬化前後で位置ずれが起こりにくくなる。上記水平面の形状は、図1(a)に示すように、パターン領域11が上面となるようにモールドを水平位置に静置したときの上面(図1(b)に相当)から見たパターン形状部の形状である。 In the mold of the present invention, the pattern area is provided with an inverse uneven pattern shape (an inverted shape of the desired molded product) corresponding to the desired shape in order to give the molded product a desired shape. The shape of the horizontal plane of the patterned portion of the mold is not particularly limited, but the aspect ratio is preferably 0.1 to 1, more preferably 0.5 to 1, and the closer it is to 1, the more preferable it is. The aspect ratio is the ratio of the length in the vertical direction to the length in the horizontal direction when the longest direction of the shape of the horizontal plane is the horizontal direction. When the aspect ratio is within the above range, the degree of curing is likely to be uniform throughout the molded product of the present invention, and positional shift is less likely to occur before and after curing. As shown in FIG. 1(a), the shape of the horizontal plane is the pattern shape seen from the top surface (corresponding to FIG. 1(b)) when the mold is placed in a horizontal position so that the pattern area 11 is the top surface. This is the shape of the part.

本発明のモールドを構成する材質は、特に限定されないが、樹脂、金属、ガラス、これら材料の組み合わせなどが挙げられる。 The material constituting the mold of the present invention is not particularly limited, and examples include resin, metal, glass, and combinations of these materials.

本発明のモールドを構成する樹脂としては、特に限定されないが、上記硬化性材料との相性(濡れ性等)、硬化後の成型品の形状精度、剥離性(離型性)等を考慮して選択され、例えば、シリコーン系樹脂(ジメチルポリシロキサン等)、フッ素系樹脂、ポリオレフィン系樹脂(ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ環状オレフィン等)、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂(ポリアリレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等)、ポリアミド系樹脂、ポリメチルメタクリレート等が挙げられる。 The resin constituting the mold of the present invention is not particularly limited, but it should be considered in consideration of compatibility with the above-mentioned curable material (wettability, etc.), shape accuracy of the molded product after curing, peelability (mold releasability), etc. For example, silicone resins (dimethylpolysiloxane, etc.), fluorine resins, polyolefin resins (polyethylene, polypropylene, polycyclic olefins, etc.), polyether sulfone resins, polycarbonate resins, polyester resins (polyarylate, (polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, etc.), polyamide resins, polymethyl methacrylate, etc.

本発明のモールドを構成する金属としては、特に限定されないが、鉄、鉄合金(ステンレス、パーマロイなど)、ニッケル、真鍮、シリコンウェハ、銅、銅合金、金、銀、コバルト、アルミニウム、亜鉛、錫、錫合金、チタン、クロムなどの金属材料が挙げられる。本発明のモールドが金属から構成される場合、成型面は、ニッケル等の金属材料の無電解メッキ、電鋳などのメッキ処理、フォトリソグラフィーによる形状加工などがされていてもよい。 Metals constituting the mold of the present invention are not particularly limited, but include iron, iron alloys (stainless steel, permalloy, etc.), nickel, brass, silicon wafers, copper, copper alloys, gold, silver, cobalt, aluminum, zinc, tin. , tin alloy, titanium, chromium, and other metal materials. When the mold of the present invention is made of metal, the molding surface may be subjected to electroless plating with a metal material such as nickel, plating treatment such as electroforming, or shape processing by photolithography.

本発明のモールドを構成する材質としては、樹脂が好ましく、中でも、シリコーン系樹脂が好ましい。シリコーン系樹脂を用いると、エポキシ化合物を含む硬化性材料との相性、形状精度に優れる。また、成型品の離型性及びモールドの柔軟性にも優れるため、成型品をより容易に取り出すことができる。 As the material constituting the mold of the present invention, resin is preferable, and silicone resin is especially preferable. When silicone resin is used, it has excellent compatibility with curable materials containing epoxy compounds and has excellent shape accuracy. Furthermore, since the molded product has excellent mold releasability and mold flexibility, the molded product can be taken out more easily.

本発明のモールドは、市販品を用いてもよいし、製造したものを用いてもよい。本発明のモールドを製造する場合、例えば、モールドを形成する樹脂組成物を成型(好ましくは、インプリント成型)し、その後熱硬化させることにより製造することができる。樹脂組成物の成型には、所望の凹凸形状を有する金型を使用することができ、例えば、下記(1)、(2)の方法で製造することができる。
(1)基板上に塗布した樹脂組成物の塗膜に対し、金型を押し付け、樹脂組成物の塗膜を硬化させたうえで、金型を剥離する方法
(2)金型に対し樹脂組成物を直接塗工し、その上から基板を密着させた後、樹脂組成物の塗膜を硬化させたうえで、金型を剥離する方法
The mold of the present invention may be a commercially available product or a manufactured product. When manufacturing the mold of the present invention, it can be manufactured, for example, by molding (preferably imprint molding) a resin composition that forms the mold, and then thermally curing it. A mold having a desired uneven shape can be used for molding the resin composition, and can be manufactured by, for example, the following methods (1) and (2).
(1) A method of pressing a mold against a coating film of a resin composition applied on a substrate, curing the coating film of the resin composition, and then peeling off the mold. (2) A method of peeling off the resin composition from the mold. A method in which the object is directly coated, a substrate is placed on top of it, the resin composition coating is cured, and the mold is removed.

本発明のモールドの成型面では、上記パターン領域の少なくとも一部が離型剤で処理されていてもよい。離型剤の処理方法としては、例えば、フッ素系離型剤、シリコーン系離型剤、ワックス系離型剤等の離型剤を塗布することにより離型膜を形成する方法や、フッ素樹脂等を真空蒸着することにより蒸着離型膜を形成する方法等が挙げられる。上記離型剤の塗布方法としては、スプレーコート法、ディップコート法、スピンコート法、スクリーン印刷法等が挙げられる。 On the molding surface of the mold of the present invention, at least a portion of the pattern area may be treated with a mold release agent. Methods for treating mold release agents include, for example, a method of forming a mold release film by applying a mold release agent such as a fluorine-based mold release agent, a silicone-based mold release agent, a wax-based mold release agent, etc.; Examples include a method of forming a vapor-deposited release film by vacuum vapor-depositing. Examples of the method for applying the release agent include spray coating, dip coating, spin coating, and screen printing.

上記離型膜は1層であっても多層であってもよい。又、離型膜が多層である場合、各層は同じ成分で形成されていてもよく、異なる成分で形成されていてもよい。本発明においては、なかでも、フッ素系離型剤が塗布された離型膜を成型面に有するモールドが、優れた離型性を有する点で好ましい。 The above mold release film may be one layer or multilayer. Moreover, when the mold release film is multilayered, each layer may be formed of the same component or may be formed of different components. In the present invention, a mold having a mold release film coated with a fluorine-based mold release agent on the molding surface is particularly preferred because it has excellent mold release properties.

[成型品]
図2に、本発明の成型品の一例の概略図を示す。(a)は斜視図、(b)は上面図、(c)は側面図である。
[Molded product]
FIG. 2 shows a schematic diagram of an example of a molded product of the present invention. (a) is a perspective view, (b) is a top view, and (c) is a side view.

本発明の成型品2は、本発明のモールド1の成型面1Aのパターン形状11が転写された第1の面2Aとその裏側の第2の面2Bを有する。本発明の成型品2の形状は、当該第1の面2Aと第2の面2Bを有している限り特に限定されないが、図2に示すように、第1の面2Aと第2の面2Bを有する基板が好ましい。 The molded product 2 of the present invention has a first surface 2A to which the pattern shape 11 of the molding surface 1A of the mold 1 of the present invention is transferred, and a second surface 2B on the back side thereof. The shape of the molded product 2 of the present invention is not particularly limited as long as it has the first surface 2A and the second surface 2B, but as shown in FIG. A substrate with 2B is preferred.

本発明の成型品の第1の面2Aは、本発明のモールドの成型面1Aのパターン領域11のパターン形状が転写された反転形状を有する転写領域21(パターン形状は図示略)を有する。第1の面2Aは、転写領域21以外に、転写領域21の周囲に非転写領域22を有していてもよい。 The first surface 2A of the molded product of the present invention has a transfer region 21 (the pattern shape is not shown) having an inverted shape to which the pattern shape of the pattern region 11 of the molding surface 1A of the mold of the present invention is transferred. In addition to the transfer area 21, the first surface 2A may have a non-transfer area 22 around the transfer area 21.

第1の面2A上の転写領域21に形成されるパターン形状は、特に限定されないが、高品質の光学部材に好ましく適応され、例えば、レンズ、プリズム、LED、有機EL素子、半導体レーザー、トランジスタ、太陽電池、CCDイメージセンサ、光導波路、光ファイバー、代替ガラス(例えば、ディスプレイ用基板、ハードディスク基板、偏光フィルム)、光学回折素子等が挙げられ、特に、高い精度が求められるレンズが好ましい。 The pattern shape formed in the transfer area 21 on the first surface 2A is not particularly limited, but is preferably applied to high-quality optical members, such as lenses, prisms, LEDs, organic EL elements, semiconductor lasers, transistors, etc. Examples include solar cells, CCD image sensors, optical waveguides, optical fibers, substitute glass (for example, display substrates, hard disk substrates, polarizing films), optical diffraction elements, etc. Lenses that require high precision are particularly preferred.

レンズの種類や形状は、特に制限されないが、例えば、眼鏡レンズ、光学機器用レンズ、オプトエレクトロニクス用レンズ、レーザー用レンズ、ピックアップ用レンズ、車載カメラ用レンズ、携帯カメラ用レンズ、スマートフォン用レンズ、デジタルカメラ用レンズ、OHP用レンズ、フレネルレンズ、マイクロレンズ、ウェハレベルレンズ等が挙げられ、特に、小型、薄型で高い精度が求められるウェハレベルレンズに好ましく適用できる。 The type and shape of the lens is not particularly limited, but examples include eyeglass lenses, lenses for optical equipment, lenses for optoelectronics, lenses for lasers, lenses for pickups, lenses for car cameras, lenses for mobile cameras, lenses for smartphones, and digital lenses. Examples include camera lenses, OHP lenses, Fresnel lenses, microlenses, wafer level lenses, etc., and it is particularly preferably applicable to wafer level lenses that are small, thin, and require high precision.

本発明の成型品は、特に限定はされないが、第1の面上に上記光学部材の素子(光学素子)の2個以上が2次元的に配列され、これらの光学素子を互いに連結する基板部を有するアレイ(光学素子アレイ)に好適に適用できる。本発明の成型品は、成型品全体の反りが小さく、成型パターンの位置精度が高いことから、光学素子アレイを個々の光学素子に個片化した場合、形状精度が揃った複数の光学素子を得ることができる。光学素子アレイがウェハレベルレンズアレイの場合、レンズの直径は、例えば1~5mmである。また、前記基板部幅は、例えば1mm以下、好ましくは0.05~1mm、特に好ましくは0.05~0.5mmである。 The molded product of the present invention includes, but is not particularly limited to, a substrate portion in which two or more of the elements (optical elements) of the optical member are arranged two-dimensionally on the first surface and connects these optical elements to each other. It can be suitably applied to an array (optical element array) having the following. The molded product of the present invention has small warpage of the entire molded product and high positional accuracy of the molded pattern, so when the optical element array is separated into individual optical elements, multiple optical elements with uniform shape accuracy can be created. Obtainable. When the optical element array is a wafer level lens array, the diameter of the lens is, for example, 1 to 5 mm. Further, the width of the substrate portion is, for example, 1 mm or less, preferably 0.05 to 1 mm, particularly preferably 0.05 to 0.5 mm.

本発明の成型品の第2の面は、特に限定されないが、パターン形状を有していてもよく、パターン形状を有しない平面状であってもよいが、本発明の離型方法の第1工程で、基材が貼り付いて第2の面に安定的に固定するための平面部を少なくとも有することが好ましい。当該平面部の面積の第2の面の全体面積(100%)に対する割合は、特に限定されないが、好ましくは15%以上、より好ましくは25%以上、さらに好ましくは35%以上である。前記平面部の面積の割合が15%以上であることにより、第2の面を基材に安定的に固定することができ、成型品をモールドから確実に離型することができる。平面部の面積の割合の上限は、特に限定されず、100%、すなわち第2の面の全面が平面部であってもよい。上記平面部の面積、第2の面の全体面積は、図2(a)に示すように、第2の面が上面となるように成型品を水平位置に静置したときの上面(図2(b))から見た平面部、第2の面の全体の投影図の面積である。以下、本願明細書で「面積」という場合は、同様に定義するものとする。 Although the second surface of the molded product of the present invention is not particularly limited, it may have a pattern shape or may have a planar shape without a pattern shape. It is preferable to have at least a flat part to which the base material sticks and is stably fixed to the second surface in the process. The ratio of the area of the flat portion to the total area (100%) of the second surface is not particularly limited, but is preferably 15% or more, more preferably 25% or more, and still more preferably 35% or more. When the area ratio of the flat portion is 15% or more, the second surface can be stably fixed to the base material, and the molded product can be reliably released from the mold. The upper limit of the area ratio of the flat portion is not particularly limited, and may be 100%, that is, the entire second surface may be the flat portion. The area of the flat part and the total area of the second surface are the upper surface when the molded product is placed in a horizontal position with the second surface facing upward (see FIG. (b) This is the area of the entire projected view of the plane part and the second surface as seen from (a). Hereinafter, in the specification of this application, "area" shall be defined in the same manner.

本発明の成型品の第2の面がパターン形状を有している場合、特に限定されないが、基材が貼り付く前記平面部に対して凸部を有しないことが好ましい。第2の面が前記平面部に対して凸部を有すると、基材が第2の面の平面部に十分に貼り付くことができず、成型品の離型がうまくできない場合がある。 When the second surface of the molded product of the present invention has a pattern shape, it is not particularly limited, but it is preferable that the second surface has no convex portion on the plane portion to which the base material is attached. If the second surface has a convex portion relative to the flat portion, the base material may not be able to sufficiently adhere to the flat portion of the second surface, and the molded product may not be released properly.

本発明の成型品の第2の面がパターン形状を有している場合、特に限定されないが、基材が貼り付く前記平面部に対して凹部を有していてもよい。その際、本発明の成型品が光学素子アレイである場合、第2の面に存在する2個以上の凹部が第1の面に存在する上記2個以上の光学素子に対応する位置に配列していることが好ましい。 When the second surface of the molded product of the present invention has a pattern shape, it may have a recessed portion relative to the flat portion to which the base material is attached, although it is not particularly limited. In this case, when the molded product of the present invention is an optical element array, the two or more recesses present on the second surface are arranged at positions corresponding to the two or more optical elements present on the first surface. It is preferable that

本発明の成型品の第2の面が、基材が貼り付く前記平面部に対して凹部を有している場合、凹部の面積の第2の面2Bの全体面積(100%)に対する割合は、特に限定されないが、好ましくは85%以下、より好ましくは75%以下、さらに好ましくは65%以下である。前記凹部の面積の割合が85%以下であることにより、第2の面を本発明の基材に安定的に固定することができ、成型品をモールドから確実に離型することができる。第2の面の全面積に対する凹部の面積の割合の下限値は、特に限定されず、0%、すなわち、第2の面に凹部が存在しない場合も本願発明は包含する。 When the second surface of the molded product of the present invention has a recess with respect to the plane portion to which the base material is attached, the ratio of the area of the recess to the entire area (100%) of the second surface 2B is Although not particularly limited, it is preferably 85% or less, more preferably 75% or less, and still more preferably 65% or less. When the area ratio of the recessed portion is 85% or less, the second surface can be stably fixed to the base material of the present invention, and the molded product can be reliably released from the mold. The lower limit of the ratio of the area of the recess to the total area of the second surface is not particularly limited, and the present invention also includes a case where the ratio is 0%, that is, there is no recess on the second surface.

本発明の成型品は、本発明のモールドの成型面に硬化性材料を供給して硬化することにより形成することができる。 The molded article of the present invention can be formed by supplying a curable material to the molding surface of the mold of the present invention and curing it.

上記硬化性材料は、特に限定されないが、成型品の量産性や成型性の観点から、短時間に硬化し、耐熱性に優れる樹脂が好ましく、エポキシ系カチオン硬化性樹脂組成物、アクリル系ラジカル硬化性樹脂組成物、硬化性シリコーン樹脂組成物等が挙げられ、このうち、短時間に硬化し、モールドへのキャスト時間が短く、硬化収縮率が小さく寸法安定性に優れ、硬化時に酸素阻害を受けないエポキシ系カチオン硬化性樹脂組成物(硬化性エポキシ樹脂組成物)が好ましい。 The above-mentioned curable material is not particularly limited, but from the viewpoint of mass production and moldability of molded products, resins that cure in a short time and have excellent heat resistance are preferred, such as epoxy-based cation-curable resin compositions, acrylic-based radical-curable resin compositions, etc. curable resin compositions, curable silicone resin compositions, etc. Among these, silicone resin compositions that cure in a short time, have a short casting time in a mold, have a low curing shrinkage rate, have excellent dimensional stability, and are susceptible to oxygen inhibition during curing. An epoxy-based cationically curable resin composition (curable epoxy resin composition) is preferred.

エポキシ樹脂としては、分子内に1以上のエポキシ基(オキシラン環)を有する公知乃至慣用の化合物を使用することができ、例えば、脂環式エポキシ化合物、芳香族エポキシ化合物、脂肪族エポキシ化合物等が挙げられる。本発明においては、なかでも、耐熱性、及び透明性に優れた硬化物を形成することができる点で、1分子内に脂環構造と、官能基としてのエポキシ基を2個以上有する、多官能脂環式エポキシ化合物が好ましい。 As the epoxy resin, known or commonly used compounds having one or more epoxy groups (oxirane ring) in the molecule can be used, such as alicyclic epoxy compounds, aromatic epoxy compounds, aliphatic epoxy compounds, etc. Can be mentioned. In the present invention, in particular, a polycyclic resin having an alicyclic structure and two or more epoxy groups as a functional group in one molecule is advantageous in that a cured product with excellent heat resistance and transparency can be formed. Preferred are functional cycloaliphatic epoxy compounds.

前記多官能脂環式エポキシ化合物としては、具体的には、
(i)脂環を構成する隣接する2つの炭素原子と酸素原子とで構成されるエポキシ基(すなわち、脂環エポキシ基)を有する化合物
(ii)脂環に直接単結合で結合したエポキシ基を有する化合物
(iii)脂環とグリシジル基とを有する化合物
等が挙げられる。
Specifically, the polyfunctional alicyclic epoxy compound includes:
(i) A compound having an epoxy group composed of two adjacent carbon atoms and an oxygen atom constituting an alicyclic ring (i.e., an alicyclic epoxy group) (ii) A compound having an epoxy group directly bonded to an alicyclic ring with a single bond. (iii) A compound having an alicyclic ring and a glycidyl group.

上述の脂環エポキシ基を有する化合物(i)としては、例えば、下記式(i)で表される化合物を挙げられる。

Figure 0007366215000001
Examples of the above-mentioned compound (i) having an alicyclic epoxy group include a compound represented by the following formula (i).
Figure 0007366215000001

上記式(i)中、Xは単結合又は連結基(1以上の原子を有する二価の基)を示す。上記連結基としては、例えば、二価の炭化水素基、炭素-炭素二重結合の一部又は全部がエポキシ化されたアルケニレン基、カルボニル基、エーテル結合、エステル結合、カーボネート基、アミド基、これらが複数個連結した基等が挙げられる。尚、式(i)中のシクロヘキセンオキシド基には、置換基(例えば、アルキル基等)が結合していてもよい。 In the above formula (i), X represents a single bond or a connecting group (a divalent group having one or more atoms). Examples of the above-mentioned linking group include a divalent hydrocarbon group, an alkenylene group in which part or all of the carbon-carbon double bond is epoxidized, a carbonyl group, an ether bond, an ester bond, a carbonate group, an amide group, and the like. Examples include a group in which a plurality of are connected. In addition, a substituent (for example, an alkyl group, etc.) may be bonded to the cyclohexene oxide group in formula (i).

上記二価の炭化水素基としては、炭素数が1~18の直鎖状又は分岐鎖状のアルキレン基、二価の脂環式炭化水素基等が挙げられる。炭素数が1~18の直鎖状又は分岐鎖状のアルキレン基としては、例えば、メチレン基、メチルメチレン基、ジメチルメチレン基、エチレン基、プロピレン基、トリメチレン基等が挙げられる。上記二価の脂環式炭化水素基としては、例えば、1,2-シクロペンチレン基、1,3-シクロペンチレン基、シクロペンチリデン基、1,2-シクロヘキシレン基、1,3-シクロヘキシレン基、1,4-シクロヘキシレン基、シクロヘキシリデン基等のシクロアルキレン基(シクロアルキリデン基を含む)等が挙げられる。 Examples of the divalent hydrocarbon group include a linear or branched alkylene group having 1 to 18 carbon atoms, a divalent alicyclic hydrocarbon group, and the like. Examples of the linear or branched alkylene group having 1 to 18 carbon atoms include a methylene group, a methylmethylene group, a dimethylmethylene group, an ethylene group, a propylene group, and a trimethylene group. Examples of the divalent alicyclic hydrocarbon group include a 1,2-cyclopentylene group, a 1,3-cyclopentylene group, a cyclopentylidene group, a 1,2-cyclohexylene group, and a 1,3-cyclopentylene group. Examples include cycloalkylene groups (including cycloalkylidene groups) such as cyclohexylene group, 1,4-cyclohexylene group, and cyclohexylidene group.

上記炭素-炭素二重結合の一部又は全部がエポキシ化されたアルケニレン基(「エポキシ化アルケニレン基」と称する場合がある)におけるアルケニレン基としては、例えば、ビニレン基、プロペニレン基、1-ブテニレン基、2-ブテニレン基、ブタジエニレン基、ペンテニレン基、ヘキセニレン基、ヘプテニレン基、オクテニレン基等の炭素数2~8の直鎖状又は分岐鎖状のアルケニレン基等が挙げられる。特に、上記エポキシ化アルケニレン基としては、炭素-炭素二重結合の全部がエポキシ化されたアルケニレン基が好ましく、より好ましくは炭素-炭素二重結合の全部がエポキシ化された炭素数2~4のアルケニレン基である。 Examples of the alkenylene group in which part or all of the carbon-carbon double bond is epoxidized (sometimes referred to as an "epoxidized alkenylene group") include a vinylene group, a propenylene group, and a 1-butenylene group. , 2-butenylene group, butadienylene group, pentenylene group, hexenylene group, heptenylene group, octenylene group, and other straight or branched alkenylene groups having 2 to 8 carbon atoms. In particular, the epoxidized alkenylene group is preferably an alkenylene group in which all of the carbon-carbon double bonds are epoxidized, more preferably an alkenylene group having 2 to 4 carbon atoms in which all of the carbon-carbon double bonds are epoxidized. It is an alkenylene group.

上記Xにおける連結基としては、特に、酸素原子を含有する連結基が好ましく、具体的には、-CO-、-O-CO-O-、-COO-、-O-、-CONH-、エポキシ化アルケニレン基;これらの基が複数個連結した基;これらの基の1又は2以上と上記二価の炭化水素基の1又は2以上とが連結した基等が挙げられる。 The linking group in alkenylene group; a group in which a plurality of these groups are connected; and a group in which one or more of these groups are connected to one or more of the above divalent hydrocarbon groups.

上記式(i)で表される化合物の代表的な例としては、(3,4,3',4'-ジエポキシ)ビシクロヘキシル、ビス(3,4-エポキシシクロヘキシルメチル)エーテル、1,2-エポキシ-1,2-ビス(3,4-エポキシシクロヘキサン-1-イル)エタン、2,2-ビス(3,4-エポキシシクロヘキサン-1-イル)プロパン、1,2-ビス(3,4-エポキシシクロヘキサン-1-イル)エタンや、下記式(i-1)~(i-10)で表される化合物等が挙げられる。下記式(i-5)中のLは炭素数1~8のアルキレン基であり、中でも、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、イソプロピレン基等の炭素数1~3の直鎖状又は分岐鎖状のアルキレン基が好ましい。下記式(i-5)、(i-7)、(i-9)、(i-10)中のn1~n8は、それぞれ1~30の整数を示す。 Representative examples of the compound represented by the above formula (i) include (3,4,3',4'-diepoxy)bicyclohexyl, bis(3,4-epoxycyclohexylmethyl)ether, 1,2- Epoxy-1,2-bis(3,4-epoxycyclohexan-1-yl)ethane, 2,2-bis(3,4-epoxycyclohexan-1-yl)propane, 1,2-bis(3,4- Examples include epoxycyclohexan-1-yl)ethane and compounds represented by the following formulas (i-1) to (i-10). L in the following formula (i-5) is an alkylene group having 1 to 8 carbon atoms, and among them, a linear or branched chain having 1 to 3 carbon atoms such as a methylene group, ethylene group, propylene group, and isopropylene group. An alkylene group having a shape is preferable. n 1 to n 8 in the following formulas (i-5), (i-7), (i-9), and (i-10) each represent an integer of 1 to 30.

Figure 0007366215000002
Figure 0007366215000002
Figure 0007366215000003
Figure 0007366215000003

上述の脂環エポキシ基を有する化合物(i)には、エポキシ変性シロキサンも含まれる。 The above-mentioned compound (i) having an alicyclic epoxy group also includes epoxy-modified siloxane.

エポキシ変性シロキサンとしては、例えば、下記式(i')で表される構成単位を有する、鎖状又は環状のポリオルガノシロキサンが挙げられる。

Figure 0007366215000004
Examples of the epoxy-modified siloxane include chain or cyclic polyorganosiloxanes having a structural unit represented by the following formula (i').
Figure 0007366215000004

上記式(i')中、R1は下記式(1a)又は(1b)で表されるエポキシ基を含む置換基を示し、R2はアルキル基又はアルコキシ基を示す。 In the above formula (i'), R 1 represents a substituent containing an epoxy group represented by the following formula (1a) or (1b), and R 2 represents an alkyl group or an alkoxy group.

Figure 0007366215000005
Figure 0007366215000005

式中、R1a、R1bは、同一又は異なって、直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基を示し、例えば、メチレン基、メチルメチレン基、ジメチルメチレン基、エチレン基、プロピレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、デカメチレン基等の炭素数1~10の直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基が挙げられる。 In the formula, R 1a and R 1b are the same or different and represent a linear or branched alkylene group, such as methylene group, methylmethylene group, dimethylmethylene group, ethylene group, propylene group, trimethylene group, tetra Examples include linear or branched alkylene groups having 1 to 10 carbon atoms such as methylene group, pentamethylene group, hexamethylene group, and decamethylene group.

エポキシ変性シロキサンのエポキシ当量(JIS K7236に準拠)は、例えば100~400、好ましくは150~300である。 The epoxy equivalent weight (according to JIS K7236) of the epoxy-modified siloxane is, for example, 100 to 400, preferably 150 to 300.

エポキシ変性シロキサンとしては、例えば、下記式(i’-1)で表されるエポキシ変性環状ポリオルガノシロキサン(商品名「X-40-2670」、信越化学工業(株)製)等の市販品を用いることができる。

Figure 0007366215000006
As the epoxy-modified siloxane, for example, commercially available products such as epoxy-modified cyclic polyorganosiloxane (trade name "X-40-2670", manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) represented by the following formula (i'-1) can be used. Can be used.
Figure 0007366215000006

上述の脂環に直接単結合で結合したエポキシ基を有する化合物(ii)としては、例えば、下記式(ii)で表される化合物等が挙げられる。

Figure 0007366215000007
Examples of the compound (ii) having an epoxy group bonded directly to the alicyclic ring with a single bond include a compound represented by the following formula (ii).
Figure 0007366215000007

式(ii)中、R'は、p価のアルコールの構造式からp個の水酸基(-OH)を除いた基(p価の有機基)であり、p、n9はそれぞれ自然数を表す。p価のアルコール[R'-(OH)p]としては、2,2-ビス(ヒドロキシメチル)-1-ブタノール等の多価アルコール(炭素数1~15のアルコール等)等が挙げられる。pは1~6が好ましく、n9は1~30が好ましい。pが2以上の場合、それぞれの角括弧(外側の括弧)内の基におけるn9は同一でもよく異なっていてもよい。上記式(ii)で表される化合物としては、具体的には、2,2-ビス(ヒドロキシメチル)-1-ブタノールの1,2-エポキシ-4-(2-オキシラニル)シクロヘキサン付加物[例えば、商品名「EHPE3150」((株)ダイセル製)等]等が挙げられる。 In formula (ii), R' is a group (p-valent organic group) obtained by removing p hydroxyl groups (-OH) from the structural formula of a p-valent alcohol, and p and n 9 each represent a natural number. Examples of the p-valent alcohol [R'-(OH) p ] include polyhydric alcohols (alcohols having 1 to 15 carbon atoms, etc.) such as 2,2-bis(hydroxymethyl)-1-butanol. p is preferably 1-6, and n 9 is preferably 1-30. When p is 2 or more, n 9 in the groups within each square bracket (outer bracket) may be the same or different. Specifically, the compound represented by the above formula (ii) is a 1,2-epoxy-4-(2-oxiranyl)cyclohexane adduct of 2,2-bis(hydroxymethyl)-1-butanol [e.g. , trade name "EHPE3150" (manufactured by Daicel Corporation), etc.].

上述の脂環とグリシジル基とを有する化合物(iii)としては、例えば、水添ビスフェノールAジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールFジグリシジルエーテル、水添ビフェノール型エポキシ化合物、水添フェノールノボラック型エポキシ化合物、水添クレゾールノボラック型エポキシ化合物、ビスフェノールAの水添クレゾールノボラック型エポキシ化合物、水添ナフタレン型エポキシ化合物、トリスフェノールメタン型エポキシ化合物の水添物等の水素化芳香族グリシジルエーテル系エポキシ化合物等が挙げられる。 Examples of the above-mentioned compound (iii) having an alicyclic ring and a glycidyl group include hydrogenated bisphenol A diglycidyl ether, hydrogenated bisphenol F diglycidyl ether, hydrogenated biphenol type epoxy compounds, hydrogenated phenol novolak type epoxy compounds, Hydrogenated aromatic glycidyl ether type epoxy compounds such as hydrogenated cresol novolac type epoxy compounds, hydrogenated cresol novolac type epoxy compounds of bisphenol A, hydrogenated naphthalene type epoxy compounds, hydrogenated products of trisphenolmethane type epoxy compounds, etc. It will be done.

多官能脂環式エポキシ化合物としては、表面硬度が高く、透明性に優れた硬化物が得られる点で、脂環エポキシ基を有する化合物(i)が好ましく、上記式(i)で表される化合物(特に、(3,4,3',4'-ジエポキシ)ビシクロヘキシル)が特に好ましい。 As the polyfunctional alicyclic epoxy compound, a compound (i) having an alicyclic epoxy group is preferable, since a cured product having high surface hardness and excellent transparency can be obtained, and is represented by the above formula (i). Particularly preferred are the compounds, especially (3,4,3',4'-diepoxy)bicyclohexyl.

本発明における硬化性樹脂組成物は、硬化性化合物としてエポキシ樹脂以外にも他の硬化性化合物を含有していても良く、例えば、オキセタン化合物、ビニルエーテル化合物等のカチオン硬化性化合物を1種又は2種以上含有することができる。 The curable resin composition of the present invention may contain other curable compounds in addition to the epoxy resin, for example, one or two cationic curable compounds such as oxetane compounds and vinyl ether compounds. It can contain more than one species.

前記硬化性樹脂組成物に含まれる硬化性化合物全量(100重量%)に占めるエポキシ樹脂の割合は、例えば50重量%以上、好ましくは60重量%以上、特に好ましくは70重量%以上、最も好ましくは80重量%以上である。尚、上限は、例えば100重量%、好ましくは90重量%である。 The proportion of the epoxy resin in the total amount (100% by weight) of the curable compound contained in the curable resin composition is, for example, 50% by weight or more, preferably 60% by weight or more, particularly preferably 70% by weight or more, and most preferably It is 80% by weight or more. Note that the upper limit is, for example, 100% by weight, preferably 90% by weight.

また、前記硬化性樹脂組成物に含まれる硬化性化合物全量(100重量%)に占める脂環エポキシ基を有する化合物(i)の割合は、例えば20重量%以上、好ましくは30重量%以上、特に好ましくは40重量%以上である。尚、上限は、例えば70重量%、好ましくは60重量%である。 Further, the proportion of the compound (i) having an alicyclic epoxy group in the total amount (100% by weight) of the curable compounds contained in the curable resin composition is, for example, 20% by weight or more, preferably 30% by weight or more, particularly Preferably it is 40% by weight or more. The upper limit is, for example, 70% by weight, preferably 60% by weight.

また、前記硬化性樹脂組成物に含まれる硬化性化合物全量(100重量%)に占める式(i)で表される化合物の割合は、例えば10重量%以上、好ましくは15重量%以上、特に好ましくは20重量%以上である。尚、上限は、例えば50重量%、好ましくは40重量%である。 Further, the proportion of the compound represented by formula (i) in the total amount (100% by weight) of the curable compounds contained in the curable resin composition is, for example, 10% by weight or more, preferably 15% by weight or more, particularly preferably is 20% by weight or more. The upper limit is, for example, 50% by weight, preferably 40% by weight.

前記硬化性樹脂組成物は、上記硬化性化合物と共に重合開始剤を含有することが好ましく、なかでも光又は熱重合開始剤(特に、光又は熱カチオン重合開始剤)を1種又は2種以上含有することが好ましい。 The curable resin composition preferably contains a polymerization initiator together with the curable compound, and particularly contains one or more photo or thermal polymerization initiators (particularly photo or thermal cationic polymerization initiators). It is preferable to do so.

光カチオン重合開始剤は、光の照射によって酸を発生して、硬化性樹脂組成物に含まれる硬化性化合物(特に、カチオン硬化性化合物)の硬化反応を開始させる化合物であり、光を吸収するカチオン部と酸の発生源となるアニオン部からなる。 A photocationic polymerization initiator is a compound that generates acid upon irradiation with light and starts a curing reaction of a curable compound (especially a cationic curable compound) contained in a curable resin composition, and absorbs light. It consists of a cation part and an anion part which is a source of acid generation.

光カチオン重合開始剤としては、例えば、ジアゾニウム塩系化合物、ヨードニウム塩系化合物、スルホニウム塩系化合物、ホスホニウム塩系化合物、セレニウム塩系化合物、オキソニウム塩系化合物、アンモニウム塩系化合物、臭素塩系化合物等を挙げられる。 Examples of photocationic polymerization initiators include diazonium salt compounds, iodonium salt compounds, sulfonium salt compounds, phosphonium salt compounds, selenium salt compounds, oxonium salt compounds, ammonium salt compounds, bromine salt compounds, etc. can be mentioned.

本発明においては、なかでも、スルホニウム塩系化合物を使用することが、硬化性に優れた硬化物を形成することができる点で好ましい。スルホニウム塩系化合物のカチオン部としては、例えば、(4-ヒドロキシフェニル)メチルベンジルスルホニウムイオン、トリフェニルスルホニウムイオン、ジフェニル[4-(フェニルチオ)フェニル]スルホニウムイオン、4-(4-ビフェニリルチオ)フェニル-4-ビフェニリルフェニルスルホニウムイオン、トリ-p-トリルスルホニウムイオン等のアリールスルホニウムイオン(特に、トリアリールスルホニウムイオン)を挙げられる。 In the present invention, it is particularly preferable to use a sulfonium salt-based compound since a cured product with excellent curability can be formed. Examples of the cation moiety of the sulfonium salt compound include (4-hydroxyphenyl)methylbenzylsulfonium ion, triphenylsulfonium ion, diphenyl[4-(phenylthio)phenyl]sulfonium ion, and 4-(4-biphenylylthio)phenyl. Examples include arylsulfonium ions (particularly triarylsulfonium ions) such as -4-biphenylylphenylsulfonium ion and tri-p-tolylsulfonium ion.

光カチオン重合開始剤のアニオン部としては、例えば、[(Y)sB(Phf)4-s-(式中、Yはフェニル基又はビフェニリル基を示す。Phfは水素原子の少なくとも1つが、パーフルオロアルキル基、パーフルオロアルコキシ基、及びハロゲン原子から選択される少なくとも1種で置換されたフェニル基を示す。sは0~3の整数である)、BF4 -、[(Rf)tPF6-t-(式中、Rfは水素原子の80%以上がフッ素原子で置換されたアルキル基を示す。tは0~5の整数を示す)、AsF6 -、SbF6 -、SbF5OH-等を挙げられる。 The anion moiety of the photocationic polymerization initiator is, for example, [(Y) s B(Phf) 4-s ] - (wherein, Y represents a phenyl group or a biphenylyl group. Phf represents a hydrogen atom in which at least one hydrogen atom is represents a phenyl group substituted with at least one selected from a perfluoroalkyl group, a perfluoroalkoxy group, and a halogen atom (s is an integer of 0 to 3), BF 4 - , [(Rf) t PF 6-t ] - (wherein, Rf represents an alkyl group in which 80% or more of the hydrogen atoms are substituted with fluorine atoms; t represents an integer from 0 to 5), AsF 6 - , SbF 6 - , SbF 5 Examples include OH - .

光カチオン重合開始剤としては、例えば、(4-ヒドロキシフェニル)メチルベンジルスルホニウム テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、4-(4-ビフェニリルチオ)フェニル-4-ビフェニリルフェニルスルホニウム テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、4-(フェニルチオ)フェニルジフェニルスルホニウム フェニルトリス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、[4-(4-ビフェニリルチオ)フェニル]-4-ビフェニリルフェニルスルホニウム フェニルトリス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、ジフェニル[4-(フェニルチオ)フェニル]スルホニウム トリス(ペンタフルオロエチル)トリフルオロホスフェート、ジフェニル[4-(フェニルチオ)フェニル]スルホニウム テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、ジフェニル[4-(フェニルチオ)フェニル]スルホニウム ヘキサフルオロホスフェート、4-(4-ビフェニリルチオ)フェニル-4-ビフェニリルフェニルスルホニウム トリス(ペンタフルオロエチル)トリフルオロホスフェート、ビス[4-(ジフェニルスルホニオ)フェニル]スルフィド フェニルトリス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、[4-(2-チオキサントニルチオ)フェニル]フェニル-2-チオキサントニルスルホニウム フェニルトリス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、4-(フェニルチオ)フェニルジフェニルスルホニウム ヘキサフルオロアンチモネート、商品名「サイラキュアUVI-6970」、「サイラキュアUVI-6974」、「サイラキュアUVI-6990」、「サイラキュアUVI-950」(以上、米国ユニオンカーバイド社製)、「Irgacure250」、「Irgacure261」、「Irgacure264」、「CG-24-61」(以上、BASF社製)、「オプトマーSP-150」、「オプトマーSP-151」、「オプトマーSP-170」、「オプトマーSP-171」(以上、(株)ADEKA製)、「DAICAT II」((株)ダイセル製)、「UVAC1590」、「UVAC1591」(以上、ダイセル・サイテック(株)製)、「CI-2064」、「CI-2639」、「CI-2624」、「CI-2481」、「CI-2734」、「CI-2855」、「CI-2823」、「CI-2758」、「CIT-1682」(以上、日本曹達(株)製)、「PI-2074」(ローディア社製、テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート トリルクミルヨードニウム塩)、「FFC509」(3M社製)、「BBI-102」、「BBI-101」、「BBI-103」、「MPI-103」、「TPS-103」、「MDS-103」、「DTS-103」、「NAT-103」、「NDS-103」(以上、ミドリ化学(株)製)、「CD-1010」、「CD-1011」、「CD-1012」(以上、米国、Sartomer社製)、「CPI-100P」、「CPI-101A」(以上、サンアプロ(株)製)等の市販品を使用できる。 Examples of the photocationic polymerization initiator include (4-hydroxyphenyl)methylbenzylsulfonium tetrakis(pentafluorophenyl)borate, 4-(4-biphenylylthio)phenyl-4-biphenylylphenylsulfonium tetrakis(pentafluorophenyl) Borate, 4-(phenylthio)phenyldiphenylsulfonium Phenyltris(pentafluorophenyl)borate, [4-(4-biphenylylthio)phenyl]-4-biphenylylphenylsulfonium Phenyltris(pentafluorophenyl)borate, diphenyl[4 -(phenylthio)phenyl]sulfonium tris(pentafluoroethyl)trifluorophosphate, diphenyl[4-(phenylthio)phenyl]sulfonium tetrakis(pentafluorophenyl)borate, diphenyl[4-(phenylthio)phenyl]sulfonium hexafluorophosphate, 4 -(4-biphenylylthio)phenyl-4-biphenylylphenylsulfonium tris(pentafluoroethyl)trifluorophosphate, bis[4-(diphenylsulfonio)phenyl]sulfide phenyltris(pentafluorophenyl)borate, [4- (2-thioxanthonylthio)phenyl]phenyl-2-thioxantonylsulfonium phenyltris(pentafluorophenyl)borate, 4-(phenylthio)phenyldiphenylsulfonium hexafluoroantimonate, trade name "Cyracure UVI-6970", " CYRACURE UVI-6974'', ``CYRACURE UVI-6990'', ``CYRACURE UVI-950'' (manufactured by Union Carbide, USA), ``Irgacure250'', ``Irgacure261'', ``Irgacure264'', ``CG-24-61'' (all of the above) , manufactured by BASF), "Optomer SP-150", "Optomer SP-151", "Optomer SP-170", "Optomer SP-171" (manufactured by ADEKA Co., Ltd.), "DAICAT II" (manufactured by ADEKA Co., Ltd.) ) manufactured by Daicel), “UVAC1590”, “UVAC1591” (manufactured by Daicel Cytec Corporation), “CI-2064”, “CI-2639”, “CI-2624”, “CI-2481”, “CI -2734'', ``CI-2855'', ``CI-2823'', ``CI-2758'', ``CIT-1682'' (manufactured by Nippon Soda Co., Ltd.), ``PI-2074'' (manufactured by Rhodia, Tetrakis ( (pentafluorophenyl)borate tolylkumyliodonium salt), "FFC509" (manufactured by 3M), "BBI-102", "BBI-101", "BBI-103", "MPI-103", "TPS-103" , "MDS-103", "DTS-103", "NAT-103", "NDS-103" (manufactured by Midori Chemical Co., Ltd.), "CD-1010", "CD-1011", "CD- Commercial products such as "1012" (manufactured by Sartomer, USA), "CPI-100P", and "CPI-101A" (manufactured by San-Apro Co., Ltd.) can be used.

熱カチオン重合開始剤は、加熱処理を施すことによって酸を発生して、硬化性樹脂組成物に含まれるカチオン硬化性化合物の硬化反応を開始させる化合物であり、熱を吸収するカチオン部と酸の発生源となるアニオン部からなる。熱カチオン重合開始剤は1種を単独で、又は2種以上を組み合わせて使用することができる。 Thermal cationic polymerization initiator is a compound that generates acid by heat treatment and starts the curing reaction of the cationic curable compound contained in the curable resin composition. It consists of an anion part that is the source of generation. One type of thermal cationic polymerization initiator can be used alone or two or more types can be used in combination.

熱カチオン重合開始剤としては、例えば、ヨードニウム塩系化合物、スルホニウム塩系化合物等を挙げることができる。 Examples of the thermal cationic polymerization initiator include iodonium salt compounds and sulfonium salt compounds.

熱カチオン重合開始剤のカチオン部としては、例えば、4-ヒドロキシフェニル-メチル-ベンジルスルホニウムイオン、4-ヒドロキシフェニル-メチル-(2-メチルベンジル)スルホニウムイオン、4-ヒドロキシフェニル-メチル-1-ナフチルメチルスルホニウムイオン、p-メトキシカルボニルオキシフェニル-ベンジル-メチルスルホニウムイオン等を挙げることができる。 Examples of the cation moiety of the thermal cationic polymerization initiator include 4-hydroxyphenyl-methyl-benzylsulfonium ion, 4-hydroxyphenyl-methyl-(2-methylbenzyl)sulfonium ion, and 4-hydroxyphenyl-methyl-1-naphthyl. Examples include methylsulfonium ion, p-methoxycarbonyloxyphenyl-benzyl-methylsulfonium ion, and the like.

熱カチオン重合開始剤のアニオン部としては、上記光カチオン重合開始剤のアニオン部と同様の例を挙げることができる。 Examples of the anion part of the thermal cationic polymerization initiator include the same examples as the anion part of the photo-cationic polymerization initiator.

熱カチオン重合開始剤としては、例えば、4-ヒドロキシフェニル-メチル-ベンジルスルホニウム フェニルトリス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、4-ヒドロキシフェニル-メチル-(2-メチルベンジル)スルホニウム フェニルトリス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、4-ヒドロキシフェニル-メチル-1-ナフチルメチルスルホニウム フェニルトリス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、p-メトキシカルボニルオキシフェニル-ベンジル-メチルスルホニウム フェニルトリス(ペンタフルオロフェニル)ボレート等を挙げることができる。 Examples of the thermal cationic polymerization initiator include 4-hydroxyphenyl-methyl-benzylsulfonium phenyltris(pentafluorophenyl)borate, 4-hydroxyphenyl-methyl-(2-methylbenzyl)sulfonium phenyltris(pentafluorophenyl)borate , 4-hydroxyphenyl-methyl-1-naphthylmethylsulfonium phenyltris(pentafluorophenyl)borate, p-methoxycarbonyloxyphenyl-benzyl-methylsulfonium phenyltris(pentafluorophenyl)borate, and the like.

重合開始剤の含有量は、硬化性樹脂組成物に含まれる硬化性化合物(特に、カチオン硬化性化合物)100重量部に対して、例えば0.1~5.0重量部となる範囲である。重合開始剤の含有量が上記範囲を下回ると、硬化不良を引き起こすおそれがある。一方、重合開始剤の含有量が上記範囲を上回ると、硬化物が着色しやすくなる傾向がある。 The content of the polymerization initiator is, for example, in a range of 0.1 to 5.0 parts by weight based on 100 parts by weight of the curable compound (in particular, the cationic curable compound) contained in the curable resin composition. If the content of the polymerization initiator is below the above range, curing failure may occur. On the other hand, when the content of the polymerization initiator exceeds the above range, the cured product tends to be easily colored.

本発明における硬化性樹脂組成物は、上記硬化性化合物と重合開始剤と、必要に応じて他の成分(例えば、溶剤、酸化防止剤、表面調整剤、光増感剤、消泡剤、レベリング剤、カップリング剤、界面活性剤、難燃剤、紫外線吸収剤、着色剤等)を混合することによって製造することができる。他の成分の配合量は、硬化性樹脂組成物全量の、例えば20重量%以下、好ましくは10重量%以下、特に好ましくは5重量%以下である。 The curable resin composition of the present invention contains the above-mentioned curable compound and polymerization initiator, and other components as necessary (for example, a solvent, an antioxidant, a surface conditioner, a photosensitizer, an antifoaming agent, a leveling agent, etc.). (coupling agents, surfactants, flame retardants, ultraviolet absorbers, colorants, etc.). The amount of other components blended is, for example, 20% by weight or less, preferably 10% by weight or less, particularly preferably 5% by weight or less, based on the total amount of the curable resin composition.

本発明の硬化性樹脂組成物の25℃における粘度としては、特に限定されないが、5000mPa・s以下が好ましく、より好ましくは2500mPa・s以下である。本発明の硬化性樹脂組成物の粘度を上記範囲に調整することにより、流動性が向上し、気泡が残存しにくくなり、注入圧の上昇を抑制しつつ、モールドへの充填を行うことができる。即ち、塗布性及び充填性を向上することができ、本発明の硬化性樹脂組成物の成型作業全体に亘り、作業性を向上させることができる。尚、本明細書における粘度とは、レオメーター(Paar Physica社製「PHYSICA UDS200」)を使用して、温度25℃、回転速度20/秒の条件下で測定した値である。 The viscosity at 25° C. of the curable resin composition of the present invention is not particularly limited, but is preferably 5000 mPa·s or less, more preferably 2500 mPa·s or less. By adjusting the viscosity of the curable resin composition of the present invention within the above range, fluidity is improved, bubbles are less likely to remain, and the mold can be filled while suppressing an increase in injection pressure. . That is, the coating properties and filling properties can be improved, and the workability can be improved throughout the entire molding operation of the curable resin composition of the present invention. The viscosity in this specification is a value measured using a rheometer ("PHYSICA UDS200" manufactured by Paar Physica) at a temperature of 25° C. and a rotation speed of 20/sec.

本発明における硬化性樹脂組成物としては、例えば、商品名「CELVENUS OUH106」、「CELVENUS OTM107」(以上、(株)ダイセル製)等の市販品を使用することができる。 As the curable resin composition in the present invention, commercially available products such as "CELVENUS OUH106" and "CELVENUS OTM107" (all manufactured by Daicel Corporation) can be used, for example.

硬化性材料の硬化は、例えば硬化性樹脂組成物として光硬化性樹脂組成物を使用する場合は、紫外線を照射することによって行うことができる。紫外線照射を行う時の光源としては、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、キセノン灯、メタルハライド灯等が用いられる。照射時間は、光源の種類、光源と塗布面との距離、その他の条件により異なるが、長くとも数十秒である。照度は、5~200mW程度である。紫外線照射後は、必要に応じて加熱(ポストキュア)を行って硬化の促進を図ってもよい。 For example, when a photocurable resin composition is used as the curable resin composition, the curable material can be cured by irradiating it with ultraviolet rays. As a light source for ultraviolet irradiation, a high-pressure mercury lamp, an ultra-high-pressure mercury lamp, a carbon arc lamp, a xenon lamp, a metal halide lamp, etc. are used. The irradiation time varies depending on the type of light source, the distance between the light source and the coating surface, and other conditions, but is several tens of seconds at most. The illumination intensity is about 5 to 200 mW. After irradiation with ultraviolet rays, heating (post-curing) may be performed as necessary to accelerate curing.

例えば硬化性樹脂組成物として熱硬化性樹脂組成物を使用する場合は、加熱処理を施すことによって硬化性樹脂組成物を硬化させることができる。加熱温度は、例えば60~150℃程度である。加熱時間は、例えば0.5~20時間程度である。 For example, when a thermosetting resin composition is used as the curable resin composition, the curable resin composition can be cured by heat treatment. The heating temperature is, for example, about 60 to 150°C. The heating time is, for example, about 0.5 to 20 hours.

本発明のモールドの成型面に上記の硬化性材料を供給して硬化するする方法としては、好ましくは、インプリント成型法で行うことができ、例えば、下記(1)~(3)の方法が挙げられる。
(1)本発明のモールドの成型面に対し硬化性材料を塗布し、その上から基板を密着させた後、硬化性材料の塗膜を硬化させたうえで、前記基板を剥離する方法
(2)基板上に塗布した硬化性材料の塗膜に対し、本発明のモールドの成型面を押し付け、硬化性材料の塗膜を硬化させたうえで、前記基板を剥離する方法
(3)本発明のモールドの成型面に対し硬化性材料を塗布し、その上から硬化性材料を塗布した基板を密着させた後、合わさった硬化性材料の塗膜を硬化させたうえで、前記基板を剥離する方法
The method of supplying and curing the above-mentioned curable material to the molding surface of the mold of the present invention can preferably be carried out by an imprint molding method, and for example, the following methods (1) to (3) can be used. Can be mentioned.
(1) A method of applying a curable material to the molding surface of the mold of the present invention, adhering a substrate thereon, curing the coating film of the curable material, and then peeling off the substrate (2) ) A method of pressing the molding surface of the mold of the present invention against a coating film of a curable material applied on a substrate, curing the coating film of the curable material, and then peeling off the substrate. A method in which a curable material is applied to the molding surface of a mold, a substrate coated with the curable material is brought into close contact with the molded surface, the combined coating film of the curable material is cured, and then the substrate is peeled off.

例えば、硬化性材料として光硬化性樹脂組成物を使用する場合は、前記基板として400nmの波長の光線透過率が90%以上である基板を使用することが好ましく、石英やガラス、樹脂からなる基板を好適に使用することができる。尚、前記波長の光線透過率は、基板(厚み:1mm)を試験片として使用し、当該試験片に照射した前記波長の光線透過率を分光光度計を用いて測定することで求められる。 For example, when using a photocurable resin composition as a curable material, it is preferable to use a substrate having a light transmittance of 90% or more at a wavelength of 400 nm, and a substrate made of quartz, glass, or resin. can be suitably used. Note that the light transmittance at the wavelength is determined by using a substrate (thickness: 1 mm) as a test piece and measuring the light transmittance at the wavelength irradiated onto the test piece using a spectrophotometer.

例えば、硬化性材料として熱硬化性樹脂組成物を使用する場合は、加熱処理を施すことによって硬化性樹脂組成物を硬化させることができる。加熱温度は、例えば60~150℃程度である。加熱時間は、例えば0.5~20時間程度である。 For example, when a thermosetting resin composition is used as the curable material, the curable resin composition can be cured by heat treatment. The heating temperature is, for example, about 60 to 150°C. The heating time is, for example, about 0.5 to 20 hours.

上記(1)~(3)の方法において、上記基板が剥離して露出する成型品の面が第2の面であり、本発明のモールドの成型面に保持され、パターン形状が反転転写された面が第1の面である。 In the methods (1) to (3) above, the surface of the molded product exposed by peeling off the substrate is the second surface, which is held on the molding surface of the mold of the present invention, and the pattern shape is reversely transferred. The surface is the first surface.

前記基板は、パターン形状部を有するモールドであってもよいし、平面基板であってもよい。例えば、本発明の成型品の第2の面が凹凸形状を有しない場合は平面基板を用いることができる。一方、第2の面が凹凸形状を有する場合は、基板として対応する凸凹形状を有するモールドを用いることができるが、平面部を少なくとも有することが好ましい。前記基板が、平面部を有することにより、第2の面に平面部が転写され、基材が貼り付いて安定的に固定しやすくなる。 The substrate may be a mold having a patterned portion, or may be a flat substrate. For example, if the second surface of the molded product of the present invention does not have an uneven shape, a flat substrate can be used. On the other hand, when the second surface has an uneven shape, a mold having a corresponding uneven shape can be used as the substrate, but it is preferable to have at least a flat portion. Since the substrate has a flat portion, the flat portion is transferred to the second surface, and the base material is easily attached and stably fixed.

前記基板は、本発明のモールドと異なる材料から形成されていてもよいし、同じ材料から形成されていてもよい。また、前記基板と本発明のモールドの成型面は、同じ又は対応するパターン形状を有していてもよいし、異なるパターン形状を有していてもよい。 The substrate may be made of a different material from the mold of the present invention, or may be made of the same material. Moreover, the molding surfaces of the substrate and the mold of the present invention may have the same or corresponding pattern shapes, or may have different pattern shapes.

重ね合わせられる前の本発明のモールドの成型面及び前記基板の少なくとも一方には硬化性材料が塗布されているが、成型品内のボイド(気泡)の発生を防止するためには、本発明のモールドの成型面に硬化性材料が塗布されたものを用いることが好ましい。この場合、前記基板には、硬化性材料が塗布されていてもよいし、塗布されていなくてもよい。 A curable material is applied to at least one of the molding surface of the mold of the present invention and the substrate before being superimposed, but in order to prevent the generation of voids (bubbles) in the molded product, the hardening material of the present invention is applied. It is preferable to use a mold whose molding surface is coated with a curable material. In this case, the substrate may or may not be coated with a curable material.

本発明のモールドの成型面及び/又は前記基板への硬化性材料の塗布は、公知乃至慣用の塗布方法により行うことができる。上記塗布としては、例えば、スピンコート塗布、ロールコート塗布、スプレー塗布(スプレー噴霧)、ディスペンスコート、ディップコート、インクジェット塗布、エアーブラシ塗布(エアーブラシ噴霧)、超音波塗布(超音波噴霧)等が挙げられる。 The curable material can be applied to the molding surface of the mold of the present invention and/or the substrate by a known or commonly used coating method. Examples of the above coating include spin coating, roll coating, spray coating (spray atomization), dispense coating, dip coating, inkjet coating, airbrush coating (airbrush atomization), and ultrasonic coating (ultrasonic atomization). Can be mentioned.

上記(1)~(3)の方法により、第1の面がモールドの成型面に付着した成型品が得られる。図3に成型品の第1の面がモールドの成型面に付着している状態の一例の概略図を示す。(a)は斜視図、(b)は上面図、(c)は側面図である。 By the methods (1) to (3) above, a molded product with the first surface attached to the molding surface of the mold can be obtained. FIG. 3 shows a schematic diagram of an example of a state in which the first surface of the molded product is attached to the molding surface of the mold. (a) is a perspective view, (b) is a top view, and (c) is a side view.

成型品2の第1の面2Aはモールド1の成型面1Aに付着しており、成型面1Aのパターン領域11(図示せず)とパターン領域11のパターン形状が反転転写された転写領域21(パターン形状は図示略)が篏合した状態で密着している。従って、成型品2をモールド1の成型面1Aから離型すると、転写領域21に形成されたパターン形状に負荷がかかり、成型品2の全体に反りが生じたり、パターン形状の位置精度が悪化しやすい。 The first surface 2A of the molded product 2 is attached to the molding surface 1A of the mold 1, and has a pattern region 11 (not shown) on the molding surface 1A and a transfer region 21 (not shown) in which the pattern shape of the pattern region 11 is reversely transferred. (pattern shapes are not shown) are in close contact with each other in an interlocking state. Therefore, when the molded product 2 is released from the molding surface 1A of the mold 1, a load is applied to the pattern shape formed in the transfer area 21, causing warping of the entire molded product 2 or deteriorating the positional accuracy of the pattern shape. Cheap.

本発明の離型方法の第1工程は、成型品の前記第2の面の全体に基材(以下、「本発明の基材」と称す場合がある)を貼り付ける工程である。図4に本発明の離型方法の第1工程の一例を示す。本発明の基材3は、本発明の成型品2の第2の面2Bの全体に貼り付けられる。 The first step of the mold release method of the present invention is a step of attaching a base material (hereinafter sometimes referred to as "the base material of the present invention") to the entire second surface of the molded product. FIG. 4 shows an example of the first step of the mold release method of the present invention. The base material 3 of the present invention is attached to the entire second surface 2B of the molded product 2 of the present invention.

「第2の面の全体に基材が貼り付く」とは、第2の面の非転写領域22のみではなく、転写領域21に対応する第2の面の全面に基材が貼り付くことを意味する。ただし、第2の面に凹部が存在する場合は、当該凹部の部分は基材と接触していなくともよい。すなわち、第2の面上に存在する上記平面部の全体が基材と貼り付いていればよい。 "The base material sticks to the entire second surface" means that the base material sticks not only to the non-transfer area 22 of the second surface but also to the entire surface of the second surface corresponding to the transfer area 21. means. However, if a recess is present on the second surface, the recess does not need to be in contact with the base material. In other words, it is sufficient that the entire plane portion existing on the second surface sticks to the base material.

本発明の基材を構成する材質は、特に限定されないが、紙、樹脂、不織布、金属、ガラス、シリコン等を使用できるが、離型する際の負荷を成型品全体に均一に分散させるためには、樹脂が好ましい。 The material constituting the base material of the present invention is not particularly limited, but paper, resin, nonwoven fabric, metal, glass, silicone, etc. can be used. is preferably a resin.

本発明の基材を構成する材質としての樹脂としては、特に限定されないが、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン、エチレン-酢酸ビニル共重合体、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニル-酢酸ビニル共重合体、ポリ(メタ)アクリル酸エステル、ポリスチレン、ポリビニルアルコール、エチレン-ビニルアルコール共重合体、酢酸セルロース等のセルロース誘導体、ポリエステル(ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート等のポリアルキレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンナフタレート等のポリアルキレンナフタレート等)、ポリカーボネート、ポリアミド(ポリアミド6、ポリアミド6/6、ポリアミド6/10、ポリアミド6/12等)、ポリエステルアミド、ポリエーテル、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルエステル等が挙げられ、さらにこれらの共重合体、ブレンド物、架橋物を用いてもよい。離型する際の負荷を成型品全体に均一に分散させるためには、ポリエステル樹脂、ポリオレフィン樹脂が好ましい。 The resin as the material constituting the base material of the present invention is not particularly limited, but includes, for example, polyolefins such as polyethylene and polypropylene, ethylene-vinyl acetate copolymer, polyvinyl chloride, and polyvinyl chloride-vinyl acetate copolymer. , poly(meth)acrylic esters, polystyrene, polyvinyl alcohol, ethylene-vinyl alcohol copolymers, cellulose derivatives such as cellulose acetate, polyesters (polyalkylene terephthalates such as polyethylene terephthalate and polybutylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polybutylene terephthalate, etc.) polyalkylene naphthalate, etc.), polycarbonate, polyamide (polyamide 6, polyamide 6/6, polyamide 6/10, polyamide 6/12, etc.), polyester amide, polyether, polyimide, polyamideimide, polyether ester, etc. Furthermore, copolymers, blends, and crosslinked products of these may also be used. In order to uniformly distribute the load during mold release over the entire molded product, polyester resins and polyolefin resins are preferred.

本発明の基材の形状は、特に限定されず、フィルム状、シート状、板状のいずれであってもよいが、離型する際の負荷を成型品全体に均一に分散させるためには、シート状が好ましく、特に、樹脂製シートが好ましい。 The shape of the base material of the present invention is not particularly limited, and may be in the form of a film, sheet, or plate. However, in order to uniformly distribute the load during mold release over the entire molded product, A sheet form is preferred, and a resin sheet is particularly preferred.

本発明の基材がシート状である場合、その面積は、本発明の成型品の第2の面以上の広さである限り特に限定されないが、後述の第2工程で基材の端部を保持するためには、本発明のモールドの成型面よりも広いことが好ましい。本発明の基材の面積の本発明のモールドの成型面の面積(100%)に対する割合は、特に限定されないが、好ましくは100~500%、より好ましくは100~400%である。 When the base material of the present invention is in the form of a sheet, its area is not particularly limited as long as it is larger than the second surface of the molded product of the present invention. In order to hold it, it is preferably wider than the molding surface of the mold of the present invention. The ratio of the area of the base material of the present invention to the area (100%) of the molding surface of the mold of the present invention is not particularly limited, but is preferably 100 to 500%, more preferably 100 to 400%.

本発明の基材がシート状である場合、その厚さは特に限定されないが、離型する際の負荷を成型品全体に均一に分散させるためには、好ましくは50~300μm、より好ましくは50~200μmである。 When the base material of the present invention is in the form of a sheet, its thickness is not particularly limited, but in order to uniformly distribute the load during mold release over the entire molded product, it is preferably 50 to 300 μm, more preferably 50 μm. ~200μm.

本発明の基材の破断応力は、特に限定されないが、好ましくは20~200MPa、より好ましくは25~180MPaである。本発明の基材の破断応力がこの範囲にあることにより、離型する際の負荷を成型品全体に均一に分散させやすくなる。すなわち、本発明の基材の破断応力が20MPaよりも低いと、本発明の基材が柔らかくなりすぎ、離型する際の負荷を成型品全体に均一に分散させることが困難になる場合がある。一方、本発明の基材の破断応力が200MPaよりも高いと、本発明の基材が硬くなりすぎ、離型自体が困難になる場合がある。
上記破断応力は、サンプルサイズが15mm×10mm、引っ張り速度200mm/minで測定された値である。
The breaking stress of the base material of the present invention is not particularly limited, but is preferably 20 to 200 MPa, more preferably 25 to 180 MPa. When the breaking stress of the base material of the present invention is within this range, it becomes easier to uniformly distribute the load during mold release over the entire molded product. That is, if the breaking stress of the base material of the present invention is lower than 20 MPa, the base material of the present invention becomes too soft, and it may be difficult to uniformly distribute the load during mold release over the entire molded product. . On the other hand, when the breaking stress of the base material of the present invention is higher than 200 MPa, the base material of the present invention becomes too hard, and mold release itself may become difficult.
The above breaking stress is a value measured at a sample size of 15 mm x 10 mm and a tensile speed of 200 mm/min.

本発明の基材がシート状である場合、本発明の成型品の第2の面に固定するために、その一方の面に粘着剤層を有することが好ましい。 When the base material of the present invention is in the form of a sheet, it is preferable to have an adhesive layer on one surface of the base material in order to fix it to the second surface of the molded product of the present invention.

上記粘着剤層を構成する粘着剤としては、特に限定されないが、アクリル系粘着剤、ゴム系粘着剤(天然ゴム系粘着剤、合成ゴム系粘着剤等)、シリコーン系粘着剤、ポリエステル系粘着剤、ウレタン系粘着剤、ポリアミド系粘着剤、エポキシ系粘着剤、ビニルアルキルエーテル系粘着剤、フッ素系粘着剤等を使用することができる。上記粘着剤は、1種のみを使用してもよいし、2種以上を使用してもよい。なお、上記粘着剤は、エマルジョン系粘着剤、溶剤系粘着剤、ホットメルト型粘着剤、オリゴマー系粘着剤、固系粘着剤等のいずれの形態の粘着剤であってもよい。離型する際の負荷を成型品全体に均一に分散させやすいという観点から、アクリル系粘着剤等が好ましい。 The adhesives constituting the above adhesive layer are not particularly limited, but include acrylic adhesives, rubber adhesives (natural rubber adhesives, synthetic rubber adhesives, etc.), silicone adhesives, and polyester adhesives. , urethane adhesive, polyamide adhesive, epoxy adhesive, vinyl alkyl ether adhesive, fluorine adhesive, etc. can be used. The above-mentioned pressure-sensitive adhesives may be used alone or in combination of two or more. The adhesive may be in any form such as an emulsion adhesive, a solvent adhesive, a hot melt adhesive, an oligomer adhesive, or a solid adhesive. Acrylic pressure-sensitive adhesives and the like are preferred from the viewpoint of easily distributing the load during mold release uniformly over the entire molded product.

上記粘着剤層は、単層であってもよいし、複数の層からなる積層体であってもよく、複数の層からなる場合は、同種の粘着剤層の積層体であってもよく、異種の粘着剤層の積層体であってもよい。また、中間層、下塗り層等を介して本発明の基材に積層されていてもよい。 The adhesive layer may be a single layer or a laminate consisting of multiple layers, and when consisting of multiple layers, it may be a laminate of adhesive layers of the same type, It may also be a laminate of different types of adhesive layers. Further, it may be laminated on the base material of the present invention via an intermediate layer, an undercoat layer, or the like.

上記粘着剤層は、本発明の基材の一方の面の全体に積層されていてもよく、成型品の第2の面全体に粘着剤層が密着できる限り、本発明の基材の一方の面の一部に積層されていてもよい。 The above-mentioned adhesive layer may be laminated on the entire one side of the base material of the present invention, as long as the adhesive layer can adhere to the entire second side of the molded product. It may be laminated on a part of the surface.

上記粘着剤層は、離型シートで保護されていてもよく、その場合は、本発明の離型方法に使用する前に離型シートは取り除かれる。 The pressure-sensitive adhesive layer may be protected by a release sheet, and in that case, the release sheet is removed before use in the mold release method of the present invention.

上記粘着剤層の厚さは特に限定されないが、離型する際の負荷を成型品全体に均一に分散させやすくするという観点から、好ましくは5~50μm、より好ましくは5~40μmである。 The thickness of the adhesive layer is not particularly limited, but is preferably 5 to 50 μm, more preferably 5 to 40 μm, from the viewpoint of making it easier to uniformly distribute the load during mold release over the entire molded product.

上記粘着剤層の粘着力は、本発明の基材を第2の面に保持したまま、モールドの成型面から成型品を離型させる程度の粘着力である限り、特に限定されないが、好ましくは3N/20mm以上、より好ましくは4N/20mm以上、さらに好ましくは5N/20mm以上である。粘着剤層の粘着力が3N/20mm以上であることにより、成型品をモールドの成型面から確実に離型させることができると共に、離型する際の負荷を成型品全体に均一に分散させやすくなり、成型品の精度を向上しやすい。一方、粘着剤層の粘着力の上限値は、特に限定されないが、好ましくは25N/20mm以下、より好ましくは24N/20mm以下、さらに好ましくは23N/20mm以下である。粘着剤層の粘着力が25N/20mmを超えると、成型品をモールドから離型した後に、基材を成型品の第2の面から剥離しにくくなり、基材を剥離する際に成型品の精度が低下したり、剥離後に第2の面に糊残りが発生する場合がある。
上記粘着力は、JIS-Z-0237に準拠し、シリコンミラーウェハに対する180°ピール粘着力として測定された値である。
The adhesive force of the adhesive layer is not particularly limited as long as it is strong enough to release the molded product from the molding surface of the mold while holding the base material of the present invention on the second surface, but preferably It is 3N/20mm or more, more preferably 4N/20mm or more, even more preferably 5N/20mm or more. By setting the adhesive force of the adhesive layer to 3N/20mm or more, the molded product can be reliably released from the molding surface of the mold, and the load when releasing the mold can be easily distributed evenly over the entire molded product. This makes it easier to improve the precision of molded products. On the other hand, the upper limit of the adhesive force of the adhesive layer is not particularly limited, but is preferably 25 N/20 mm or less, more preferably 24 N/20 mm or less, and still more preferably 23 N/20 mm or less. If the adhesive force of the adhesive layer exceeds 25N/20mm, it becomes difficult to peel the base material from the second surface of the molded product after the molded product is released from the mold, and when the base material is peeled off, the molded product Accuracy may decrease or adhesive residue may be left on the second surface after peeling.
The above adhesive strength is a value measured as a 180° peel adhesive strength to a silicon mirror wafer in accordance with JIS-Z-0237.

上記粘着剤層を構成する粘着剤は非硬化型であっても良く、硬化型であっても良い。上記粘着剤が硬化型である場合、熱硬化型であっても良く、光硬化型(紫外線や電子線等の活性エネルギー線による硬化型)であっても良い。上記粘着剤が硬化型である場合、本発明の離型方法の後、加熱又は光照射することにより上記粘着剤が固化するため、得られた本発明の成型品を基材から剥離することが容易となる。 The adhesive constituting the adhesive layer may be a non-curing type or a curable type. When the above-mentioned pressure-sensitive adhesive is a curable type, it may be a thermosetting type or a photocurable type (a type that is cured by active energy rays such as ultraviolet rays or electron beams). When the above-mentioned adhesive is a curable type, the above-mentioned adhesive is solidified by heating or light irradiation after the mold release method of the present invention, so that the obtained molded product of the present invention cannot be peeled from the base material. It becomes easier.

本発明の基材としては、市販の粘着シートを制限なく用いることができ、日東電工(株)、リンテック(株)、3M(株)、古河電工(株)、デンカアドテックス(株)等が一般に販売している粘着テープ、UV剥離テープ、熱剥離テープ等が挙げられる。 As the base material of the present invention, commercially available adhesive sheets can be used without limitation, and those manufactured by Nitto Denko Co., Ltd., Lintec Co., Ltd., 3M Co., Ltd., Furukawa Electric Co., Ltd., Denka Adtex Co., Ltd., etc. Commonly sold adhesive tapes, UV release tapes, heat release tapes, and the like can be used.

本発明の離型方法の第1工程は、特に限定されないが、本発明の基材が粘着剤層を有するシートである場合、成型品の第2の面の全体に粘着剤層が密着するように貼り付けることにより行うことができる。第2の面の全体に粘着剤層が確実に密着するように、本発明の基材の粘着剤層を有しない面をローラなどで押し付けてもよい。 The first step of the mold release method of the present invention is not particularly limited, but when the base material of the present invention is a sheet having an adhesive layer, the adhesive layer is in close contact with the entire second surface of the molded product. This can be done by pasting it on. The surface of the base material of the present invention that does not have an adhesive layer may be pressed with a roller or the like so that the adhesive layer reliably adheres to the entire second surface.

本発明の離型方法の第2工程は、本発明の基材と本発明のモールドが離間する方向に、基材とモールドを相対的に移動させることにより本発明の成型品をモールドから離型する工程である。第2工程により、成型品が基材に保持されたまま、モールドの成型面から離型される。 In the second step of the mold release method of the present invention, the molded product of the present invention is released from the mold by relatively moving the base material and the mold in a direction in which the base material of the present invention and the mold of the present invention are separated from each other. This is the process of In the second step, the molded product is released from the molding surface of the mold while being held on the base material.

基材及び/又はモールドの移動は、両者が離間する限り相対的であればよく、基材のみを移動させても、モールドのみを移動させても、両者を移動させてもよいが、効率的に成型品を離型するためには、モールドを固定して、基材をモールドから離間する方向に移動させることが好ましい。 The movement of the base material and/or the mold may be relative as long as the two are spaced apart, and it may be possible to move only the base material, only the mold, or both, but it is not necessary to move the base material and/or the mold in an efficient manner. In order to release the molded product, it is preferable to fix the mold and move the base material in a direction away from the mold.

基材及び/又はモールドの移動は、特に限定されないが、手作業で行ってもよく、例えば、基材の端部を保持部材に保持して移動させて行ってもよい。 Although the movement of the base material and/or the mold is not particularly limited, it may be performed manually, for example, the end portion of the base material may be held by a holding member and moved.

図5に本発明の離型方法の第2工程の一例を示す。(a)は斜視図、(b)側面図である。基材3の端部の1ヵ所を手作業又は保持部材で保持し、図5(a1)、(b1)に示すように、当該端部に基材3の中心方向に傾くように、斜め方向に離間するように力Fをかけて、図5(a2)、(b2)に示すように、基材とモールドを斜めに離間させて、成型品2を基材3に保持したままモールド1の成型面から離型する。 FIG. 5 shows an example of the second step of the mold release method of the present invention. (a) is a perspective view, (b) is a side view. Hold one end of the base material 3 manually or with a holding member, and as shown in FIGS. As shown in FIGS. 5(a2) and 5(b2), the base material and the mold are diagonally separated by applying force F to separate the molded product 2 from the base material 3. Release from the molding surface.

図6に本発明の離型方法の第2工程の他の一例を示す。(a)は斜視図、(b)側面図である。基材3の端部の少なくとも2ヵ所以上を手作業又は保持部材で保持し、図6(a1)、(b1)に示すように、当該2ヵ所以上の端部に垂直方向に同時に離間するように力Fをかけて、図6(a2)、(b2)に示すように、基材とモールドを水平に離間させて、成型品2を基材3に保持したままモールド1の成型面から離型する。 FIG. 6 shows another example of the second step of the mold release method of the present invention. (a) is a perspective view, (b) is a side view. At least two or more ends of the base material 3 are held manually or with a holding member, and as shown in FIGS. Apply force F to horizontally separate the base material and the mold as shown in FIGS. Make a mold.

離型する際に、負荷を成型品全体に均一に分散させて、成型品の精度を向上するためには、図5に示すように、基材の端部を斜め方向にモールドから離間させて、成型品を基材に保持したままモールドの成型面から離型する態様が好ましい。 When releasing the mold, in order to uniformly distribute the load over the entire molded product and improve the precision of the molded product, the end of the base material is spaced diagonally away from the mold, as shown in Figure 5. Preferably, the molded product is released from the molding surface of the mold while being held on the base material.

本発明の離型方法により、第2の面が基材に付着した成型品を得ることができる。図7に、本発明の離型方法により得られる基材が第2の面に貼り付いた成型品の一例の概略図を示す。(a)は斜視図、(b)は上面図、(c)はX-X'における断面図である。 By the mold release method of the present invention, it is possible to obtain a molded product in which the second surface is attached to the base material. FIG. 7 shows a schematic diagram of an example of a molded product in which the base material obtained by the mold release method of the present invention is stuck to the second surface. (a) is a perspective view, (b) is a top view, and (c) is a sectional view taken along line XX'.

図7(a)に、第2の面2Bが基材3に付着した成型品2の斜視図を示す。成型品2の第1の面2Aには、パターン形状が転写された転写領域21(パターン形状は図示略)が露出している。 FIG. 7(a) shows a perspective view of the molded product 2 with the second surface 2B attached to the base material 3. On the first surface 2A of the molded product 2, a transfer region 21 (the pattern shape is not shown) to which the pattern shape is transferred is exposed.

図7(b)に、第2の面2Bが基材3に付着した成型品2の上面図、図7(c)にX-X'における断面図を示す。図7(b)において、成型品2の第1の面2Aの転写領域21には、2個以上の光学素子23が2次元的に配列している。本発明の離型方法により、成型品2はモールド1の成型面1Aから離型する際に、負荷が成型品2の全体に均一に掛かるため、成型品2の反りが小さく、2個以上の光学素子23間の位置精度に優れる。 FIG. 7(b) shows a top view of the molded product 2 with the second surface 2B attached to the base material 3, and FIG. 7(c) shows a cross-sectional view along line XX'. In FIG. 7(b), two or more optical elements 23 are two-dimensionally arranged in the transfer area 21 of the first surface 2A of the molded product 2. According to the mold release method of the present invention, when the molded product 2 is released from the molding surface 1A of the mold 1, the load is uniformly applied to the entire molded product 2, so the warpage of the molded product 2 is small and two or more Excellent positional accuracy between optical elements 23.

本発明の離型方法は、第2工程の後、さらに、以下の第3工程を有していてもよい。
第3工程:第2工程で得られる前記成型品の第2の面から前記基材を剥離する。
The mold release method of the present invention may further include the following third step after the second step.
Third step: The base material is peeled off from the second surface of the molded product obtained in the second step.

上記第3工程により、成型品の第2の面から基材を剥離して、例えば、図2に示される成型品2を得ることができる。 In the third step, the base material is peeled off from the second surface of the molded product, and for example, the molded product 2 shown in FIG. 2 can be obtained.

成型品の第2の面から基材を剥離する方法は、特に限定されず、基材の端部の少なくとも1ヵ所を保持し、成型品から離間する方向に基材及び/成型品を相対的に離間移動することにより行うことができる。基材及び/成型品を相対的な離間移動は、特に限定されないが、例えば、図5、6に示す基材及び/モールドを相対的に離間移動する方法と同様に行うことができる。 The method of peeling the base material from the second surface of the molded product is not particularly limited, and includes holding at least one end of the base material and moving the base material and/or molded product relative to each other in a direction away from the molded product. This can be done by moving away. The base material and/or the molded product can be relatively moved apart, but is not particularly limited, and can be performed in the same manner as the method of relatively moving the base material and/or mold shown in FIGS. 5 and 6, for example.

上述のように、上記粘着剤層の粘着剤が硬化型である場合、加熱又は光照射することにより上記粘着剤が固化するため、本発明の成型品を基材から剥離することが容易となる。 As mentioned above, when the adhesive in the adhesive layer is a curable type, the adhesive is solidified by heating or irradiation with light, making it easy to peel off the molded product of the present invention from the base material. .

また、成型品が光学素子アレイの場合は、本発明の離型方法は、第2工程の後、さらに、以下の第3'工程を有する態様も好ましい。
第3'工程:第2工程で得られる、第1の面に2次元的に配列された複数の光学素子を有し、第2の面が基材で固定された成型品(すなわち、光学素子アレイ)をダイシングすることにより光学素子を個片化して光学部材を得る。
Furthermore, when the molded product is an optical element array, it is also preferable that the mold release method of the present invention further includes the following 3' step after the second step.
3' step: A molded product obtained in the second step, which has a plurality of optical elements two-dimensionally arranged on the first surface and whose second surface is fixed with the base material (i.e., the optical element The optical element is diced to obtain an optical member.

図7(b)、(c)に光学素子アレイである成型品2の第2の面2Bが基材3に固定されている状態を示す。基材3は、ダイシングテープとしても機能できるため、基材3に固定された光学素子アレイである成型品2をダイシングすることにより光学素子23を個片化して光学部材を得ることができる。 FIGS. 7(b) and 7(c) show a state in which the second surface 2B of the molded product 2, which is an optical element array, is fixed to the base material 3. Since the base material 3 can also function as a dicing tape, by dicing the molded product 2, which is an optical element array fixed to the base material 3, it is possible to separate the optical elements 23 into pieces and obtain optical members.

図7(b)の切断線24に沿って光学素子アレイである成型品2をダイシングすることにより光学素子23を個片化することができる。ダイシングにより、個片化された光学素子23の周辺に成型品2の基板に相当する基板部が結合している光学部材が得られる。本発明の離型方法により得られる光学素子アレイである成型品2は、反りが少なく、2個以上の光学素子23の位置精度が高く、ずれが小さいため、形状の揃った複数の光学部材を得ることができる。 The optical element 23 can be separated into individual pieces by dicing the molded product 2, which is an optical element array, along the cutting line 24 in FIG. 7(b). By dicing, an optical member is obtained in which a substrate portion corresponding to the substrate of the molded product 2 is bonded to the periphery of the individualized optical element 23. The molded product 2, which is an optical element array obtained by the mold release method of the present invention, has little warpage, high positional accuracy of two or more optical elements 23, and small deviation, so that it can be used for a plurality of optical members with uniform shapes. Obtainable.

光学素子アレイの個片化手段としては特に制限されることがなく周知慣用の手段を採用することができるが、なかでも高速回転するダイシングブレードを用いることが好ましい。 The means for dividing the optical element array into pieces is not particularly limited and any known and commonly used means can be employed, but it is particularly preferable to use a dicing blade that rotates at high speed.

高速回転するダイシングブレードを使用して切断する場合、ダイシングブレードの回転速度は例えば10000~50000回転/分程度である。また、光学素子アレイを高速回転するブレード等を用いて切断する際には摩擦熱が生じるため、光学素子アレイを冷却しながら切断することが、摩擦熱によって光学素子が変形したり光学特性が低下するのを抑制することができる点で好ましい。 When cutting using a dicing blade that rotates at high speed, the rotational speed of the dicing blade is, for example, about 10,000 to 50,000 revolutions/minute. Additionally, when cutting an optical element array using a blade that rotates at high speed, frictional heat is generated, so cutting the optical element array while cooling it is recommended that the frictional heat deform the optical element or deteriorate its optical properties. This is preferable in that it can suppress the occurrence of

光学素子アレイをダイシングブレードを使用して切断する際、本発明の基材は切断しないことが好ましい。その場合、個片化された光学部材は、第2の面で基材に固定された状態となり、各光学部材を基材からピックアップすることにより、光学部材を取り出すことができる。 When cutting the optical element array using a dicing blade, it is preferable not to cut the base material of the present invention. In that case, the individualized optical members are fixed to the base material on the second surface, and the optical members can be taken out by picking up each optical member from the base material.

本発明の離型方法は、本発明の離型装置が実施するものであってもよい。以下、図8および図9を参照して、本発明の離型装置100について説明する。図8は、本発明の離型装置100を示すブロック図である。 The mold release method of the present invention may be carried out by the mold release apparatus of the present invention. The mold release device 100 of the present invention will be described below with reference to FIGS. 8 and 9. FIG. 8 is a block diagram showing a mold release device 100 of the present invention.

本発明の離型装置100は、図8に示すように、貼付部(貼付手段)101、及び移動部(移動手段)102を備えており、制御部110は、貼付制御部(貼付制御手段)111、及び移動制御部(移動制御手段)112を備えている。 As shown in FIG. 8, the mold release device 100 of the present invention includes a pasting section (pasting means) 101 and a moving section (moving means) 102, and the control section 110 is a pasting control section (pasting control means). 111, and a movement control section (movement control means) 112.

本発明の離型装置100において、貼付部101は、モールドの成型面に付着した成型品の第2の面に基材を貼り付ける。移動部102は、基材及び/又はモールドを離接方向に相対的に移動させる。移動部102は、基材のみを移動させるものであってもよいし、モールドのみを移動させるものであってもよいし、基材及びモールドの両方を移動させるものであってもよいが、基材のみを移動させるものが好ましい。制御部110は、貼付部101、及び移動部102を制御して、本発明の離型方法を実行する。 In the mold release device 100 of the present invention, the sticking section 101 sticks the base material to the second surface of the molded product attached to the molding surface of the mold. The moving unit 102 relatively moves the base material and/or the mold in the direction of separation. The moving unit 102 may move only the base material, only the mold, or both the base material and the mold. It is preferable to move only the material. The control unit 110 controls the pasting unit 101 and the moving unit 102 to execute the mold release method of the present invention.

次に、制御部110の各部の処理について、図9を参照し説明する。図9は、本発明の離型方法の流れを示すフローチャートである。 Next, the processing of each part of the control section 110 will be explained with reference to FIG. FIG. 9 is a flowchart showing the flow of the mold release method of the present invention.

貼付制御部111は、第2の面に基材の貼り付けを行う第1工程を実行するよう、貼付部101を制御する。貼付部101は、貼付制御部111からの制御に従い、基材を成型品の第2の面の全体に貼り付ける(S1:第1工程)。本発明の離型装置100において、貼付部101および貼付制御部111は、市販の粘着シートの貼付装置およびその制御部等をそのまま使用することができ、高精度の制御システムを別途構築する必要はない。 The pasting control unit 111 controls the pasting unit 101 to perform the first step of pasting the base material on the second surface. The pasting unit 101 pastes the base material on the entire second surface of the molded product under control from the pasting control unit 111 (S1: first step). In the mold release device 100 of the present invention, a commercially available adhesive sheet applicator and its control unit can be used as is for the applicator 101 and the applicator control unit 111, and there is no need to separately construct a high-precision control system. do not have.

第1工程の後、移動制御部112は、基材及び/又はモールドが離間する方向に、基材とモールドを相対的に移動させる第2工程を実行するよう、移動部102を制御する。移動部102は、移動制御部112からの制御に従い、基材及び/モールドを相対的に離間移動させる(S2:第2工程)。移動制御部112は、移動部102が有する保持部材(例えば、ロボットハンド)で基材の端部に保持し、図5又は6に示すように、基材端部に力Fをかけるように調整することが好ましい。本発明の離型装置100において、移動部102及び移動制御部112は、市販のロボットハンド、ロボットアーム及びその制御部等をそのまま使用することができ、高精度の制御システムを別途構築する必要はない。 After the first step, the movement control unit 112 controls the moving unit 102 to perform a second step of relatively moving the base material and the mold in a direction in which the base material and/or the mold are separated. The moving unit 102 relatively moves the base material and/or the mold apart according to the control from the movement control unit 112 (S2: second step). The movement control unit 112 holds the end of the base material with a holding member (for example, a robot hand) included in the moving unit 102, and adjusts it to apply force F to the end of the base material as shown in FIG. 5 or 6. It is preferable to do so. In the mold release device 100 of the present invention, a commercially available robot hand, robot arm, control unit, etc. can be used as they are for the moving unit 102 and the movement control unit 112, and there is no need to separately construct a high-precision control system. do not have.

本発明の離型装置は、必要に応じて、第3工程を実施するための第2の移動部及び第2の移動制御部を有していてもよい。第2の移動部及び第2の移動制御部は、移動部102及び移動制御部112と同様の市販のロボットハンド、ロボットアーム及びその制御部等を使用することができる。 The mold release device of the present invention may have a second movement section and a second movement control section for implementing the third step, if necessary. As the second moving unit and the second movement control unit, a commercially available robot hand, a robot arm, a control unit thereof, etc. similar to the movement unit 102 and the movement control unit 112 can be used.

本発明の離型装置は、必要に応じて、第3'工程を実施するためのダイシング部及びダイシング制御部を有していてもよい。ダイシング部及びダイシング制御部は、市販のダイシング装置及びその制御部等を使用することができる。 The mold release device of the present invention may have a dicing section and a dicing control section for implementing the third' step, if necessary. As the dicing section and the dicing control section, a commercially available dicing device and its control section can be used.

本発明は上述した各実施形態に限定されるものではなく、請求項に示した範囲で種々の変更が可能であり、異なる実施形態にそれぞれ開示された技術的手段を適宜組み合わせて得られる実施形態についても本発明の技術的範囲に含まれる。 The present invention is not limited to the embodiments described above, and various modifications can be made within the scope of the claims, and embodiments obtained by appropriately combining technical means disclosed in different embodiments. are also included within the technical scope of the present invention.

本発明の典型的な実施形態について実施例及び比較例を示すが、本発明はこれに限定されるものではなく、例示に過ぎない。 Examples and comparative examples will be shown regarding typical embodiments of the present invention, but the present invention is not limited thereto and are merely illustrative.

製造例1
図10に示す直径150mm×高さ3mmのシリコーン樹脂製モールド(下型4)を準備した。(a)は上面図、(b)はA-A'における断面図である。下型4の成型面には複数の凹部41が図10(a)に示すように配列されている。
下型4の成型面をフッ素系離型剤(オプツールHD-1100、ダイキン工業(株)社製)にてディップコート処理を行った後、エポキシ樹脂(CELVENUS106、(株)ダイセル製)を10g滴下し、同じ大きさの表面がフッ素系離型剤で離型処理されたシリコーン樹脂板(上型5、平板基板)を厚みが約0.5mmになるように型を閉じ(図11(a)参照)、100mW/cm2×30秒でUV照射を行った。上型5を取り除くと、エポキシ樹脂の硬化物として、下型4の凹部41に対応する位置に凸部61がそれぞれ形成された樹脂ウェハ6が下型4の成型面に付着した状態で得られた(図11(b)参照)。
Manufacturing example 1
A silicone resin mold (lower mold 4) having a diameter of 150 mm and a height of 3 mm as shown in FIG. 10 was prepared. (a) is a top view, and (b) is a cross-sectional view taken along line AA'. A plurality of recesses 41 are arranged on the molding surface of the lower mold 4 as shown in FIG. 10(a).
After dip-coating the molding surface of the lower mold 4 with a fluorine-based mold release agent (Optool HD-1100, manufactured by Daikin Industries, Ltd.), 10 g of epoxy resin (CELVENUS106, manufactured by Daicel Corporation) was dropped. Then, a silicone resin plate (upper mold 5, flat substrate) whose surface of the same size had been subjected to mold release treatment with a fluorine-based mold release agent was closed to a thickness of about 0.5 mm (Fig. 11(a)). ), UV irradiation was performed at 100 mW/cm 2 ×30 seconds. When the upper mold 5 is removed, a resin wafer 6 is obtained as a cured product of epoxy resin in which convex portions 61 are formed at positions corresponding to the concave portions 41 of the lower mold 4 and adhered to the molding surface of the lower mold 4. (See Figure 11(b)).

実施例1
製造例1で得られた下型4の成型面に樹脂ウェハ6が付着した状態から、樹脂ウェハ6の上型5を取り除いて形成された面の全体に粘着シート(SRL-0759、リンテック(株)製)を貼り付け、粘着シートの端部を、図5に示す要領で斜め方向に力Fをかけて引っ張り、樹脂ウェハ6を下型4から離型した。
Example 1
After the resin wafer 6 was attached to the molding surface of the lower mold 4 obtained in Production Example 1, the upper mold 5 of the resin wafer 6 was removed and an adhesive sheet (SRL-0759, Lintec Co., Ltd.) was applied to the entire surface formed. ) was attached, and the end of the adhesive sheet was pulled with a force F applied diagonally as shown in FIG. 5, and the resin wafer 6 was released from the lower mold 4.

比較例1
比較例1の離型方法を示す説明図を図12に示す。(a)は上面図、(b)はY-Y'における断面図である。
製造例1で得られた下型4の成型面に樹脂ウェハ6が付着した状態から、図12(a)に示す要領で、外周の任意の1点に下型4と樹脂ウェハ6の間に金属製の先が平らなへら7を挿入し、図12(b1)に示す要領で、へら7にてこの原理を使って力Fを加え、図12(b2)に示すように下型4の成型面から樹脂ウェハ6を離型した。
Comparative example 1
An explanatory diagram showing the mold release method of Comparative Example 1 is shown in FIG. (a) is a top view, and (b) is a sectional view taken along YY'.
From the state where the resin wafer 6 is attached to the molding surface of the lower mold 4 obtained in Production Example 1, as shown in FIG. Insert a metal spatula 7 with a flat tip, apply force F using this principle with the spatula 7 as shown in Figure 12 (b1), and press the lower die 4 as shown in Figure 12 (b2). The resin wafer 6 was released from the molding surface.

比較例2
比較例2の離型方法を示す説明図を図13に示す。(a)は上面図、(b)はI-I'、II-II'、III-III'における断面図である。
製造例1で得られた下型4の成型面に樹脂ウェハ6が付着した状態から、図13(a)に示す要領で、樹脂ウェハ6の外周の任意の6点に縦30mm×横10mmの粘着テープ8を貼り付け、図13(b1)に示す要領で、粘着テープ8の端部を6点同時に力Fをかけて持ち上げて、図13(b2)に示すように下型4の成型面から樹脂ウェハ6を離型した。
Comparative example 2
An explanatory diagram showing the mold release method of Comparative Example 2 is shown in FIG. (a) is a top view, and (b) is a sectional view along II', II-II', and III-III'.
With the resin wafer 6 attached to the molding surface of the lower mold 4 obtained in Production Example 1, a 30 mm long x 10 mm wide piece is placed at six arbitrary points on the outer periphery of the resin wafer 6 as shown in FIG. 13(a). Attach the adhesive tape 8, apply force F at six points at the same time to lift the ends of the adhesive tape 8 as shown in FIG. 13(b1), and press the molding surface of the lower mold 4 as shown in FIG. 13(b2). The resin wafer 6 was released from the mold.

<評価>
実施例及び比較例で得られた樹脂ウェハについて、下記の評価試験を実施した。
<Evaluation>
The following evaluation tests were conducted on the resin wafers obtained in Examples and Comparative Examples.

離型した樹脂ウェハの反りを表面形状測定システム(Dyvoce、神津精機社製)、位置精度をCNC画像測定システム(NEXIV-VMR-3030、ニコン社製)で測定した。
反りは樹脂ウェハ6面内の高さを測定し、[(ピークトップ)-(ボトム)](μm)によって求めた。
位置精度は樹脂ウェハ6の中心の位置を基準にして、各凸部61が下型4の対応する凹部41の位置からX方向Y方向にどれだけずれたかにより評価した。具体的には、測定点として基準点42の凹部41から約50mm離れたA~Dの凹部41に対応する凸部61の4点について各X,Yの座標を測定し、凹部41からのずれの大きさ(mm)で評価した。凸部61の測定点は、高さ0.2mm、直径1mmの半球形の頂点位置とした。結果を表1に示す。
The warpage of the released resin wafer was measured using a surface shape measurement system (Dyvoce, manufactured by Kozu Seiki Co., Ltd.), and the position accuracy was measured using a CNC image measurement system (NEXIV-VMR-3030, manufactured by Nikon Corporation).
The warpage was determined by measuring the height within the surface of the resin wafer 6 and calculating it by [(peak top) - (bottom)] (μm).
The positional accuracy was evaluated based on how far each convex portion 61 deviated from the position of the corresponding concave portion 41 of the lower mold 4 in the X and Y directions with reference to the center position of the resin wafer 6. Specifically, the X and Y coordinates of each of the four points of the convex portion 61 corresponding to the concave portions A to D, which are approximately 50 mm away from the concave portion 41 of the reference point 42 as measurement points, are measured, and the deviation from the concave portion 41 is determined. It was evaluated based on the size (mm). The measurement point of the convex portion 61 was the apex position of a hemisphere with a height of 0.2 mm and a diameter of 1 mm. The results are shown in Table 1.

Figure 0007366215000008
Figure 0007366215000008

本発明の離型方法及び離型装置は、レンズ、プリズム、LED、有機EL素子、半導体レーザー、トランジスタ、太陽電池、CCDイメージセンサ、光導波路、光ファイバー、代替ガラス(例えば、ディスプレイ用基板、ハードディスク基板、偏光フィルム)、光学回折素子等の各種光学部材の製造分野および製造装置において好適に利用することができる。 The mold release method and mold release apparatus of the present invention can be applied to lenses, prisms, LEDs, organic EL elements, semiconductor lasers, transistors, solar cells, CCD image sensors, optical waveguides, optical fibers, substitute glass (for example, display substrates, hard disk substrates, etc.). , polarizing film), optical diffraction elements, etc., and in manufacturing equipment for various optical members such as optical diffraction elements.

1 モールド(型)
11 パターン領域
12 非パターン領域
1A 成型面
2 成型品
21 転写領域
22 非転写領域
23 光学素子
24 切断線
2A 第1の面
2B 第2の面
3 基材
F 力(の方向)
4 下型(樹脂製モールド)
41 凹部
42 基準点
5 上型(樹脂板)
6 樹脂ウェハ
61 凸部
7 金属製へら
8 粘着テープ
1 Mold
11 Pattern area 12 Non-pattern area 1A Molded surface 2 Molded product 21 Transfer area 22 Non-transfer area 23 Optical element 24 Cutting line 2A First surface 2B Second surface 3 Base material F Force (direction)
4 Lower mold (resin mold)
41 Recess 42 Reference point 5 Upper mold (resin plate)
6 Resin wafer 61 Convex portion 7 Metal spatula 8 Adhesive tape

Claims (8)

モールドの成型面に供給された硬化性材料を硬化することにより形成される、前記成型面のパターン形状が転写された第1の面とその裏側の第2の面を有する成型品を前記モールドから離型する装置であって、
前記第2の面に基材の貼り付けを行う貼付手段と、
前記基材と前記モールドを相対的に移動させる移動手段と、
前記貼付手段を制御して、前記硬化性材料の硬化物である前記成型品の第2の面の全体に前記基材を貼り付ける貼付制御手段と、
前記移動手段を制御して、前記基材と前記モールドが離間する方向に、前記基材と前記モールドを相対的に移動させる移動制御手段と、
前記基材と前記成型品を相対的に移動させる第2の移動手段と、
前記第2の移動手段を制御して、前記基材と前記成型品が離間する方向に、前記基材と前記成型品を相対的に移動させる第2の移動制御手段と、を含
前記成型品が、前記第1の面上に2個以上の光学素子が2次元的に配列され、これらの光学素子を互いに連結する基板部を有するアレイであり、
前記モールドの成型面のパターン領域の少なくとも一部が離型剤で処理されており、
前記離型剤は、フッ素系離型剤、シリコーン系離型剤、及びワックス系離型剤からなる群から選ばれる少なくも一種である、離型装置。
A molded product is formed by curing a curable material supplied to the molding surface of the mold, and has a first surface to which the pattern shape of the molding surface is transferred, and a second surface on the back side thereof, from the mold. A device for releasing the mold,
A pasting means for pasting a base material on the second surface;
a moving means for relatively moving the base material and the mold;
Pasting control means for controlling the pasting means to paste the base material over the entire second surface of the molded product that is a cured product of the curable material;
Movement control means that controls the moving means to relatively move the base material and the mold in a direction in which the base material and the mold are separated;
a second moving means for relatively moving the base material and the molded product;
a second movement control means that controls the second movement means to relatively move the base material and the molded product in a direction in which the base material and the molded product are separated ;
The molded product is an array in which two or more optical elements are two-dimensionally arranged on the first surface and has a substrate portion that connects these optical elements to each other ,
At least a part of the pattern area of the molding surface of the mold is treated with a mold release agent,
In the mold release device, the mold release agent is at least one selected from the group consisting of a fluorine mold release agent, a silicone mold release agent, and a wax mold release agent.
さらに、ダイシング手段と、
前記ダイシング手段を制御して、第1の面に2次元的に配列された複数の光学素子を有し、第2の面が前記基材で固定された成型品をダイシングするダイシング制御手段と、を含む、請求項1に記載の離型装置。
Furthermore, dicing means;
dicing control means for controlling the dicing means to dice a molded product having a plurality of optical elements two-dimensionally arranged on a first surface and having a second surface fixed to the base material; The mold release device according to claim 1, comprising:
前記光学素子が、ウェハレベルレンズである、請求項1又は2に記載の離型装置。 The mold release device according to claim 1 or 2, wherein the optical element is a wafer level lens. 前記第2の面上に、前記基材が貼り付く平面部が少なくとも存在する、請求項1~3の何れか1項に記載の離型装置。 The mold release device according to any one of claims 1 to 3, wherein there is at least a flat portion on the second surface to which the base material sticks. 前記基材が、樹脂製シートである、請求項1~4の何れか1項に記載の離型装置。 The mold release device according to any one of claims 1 to 4, wherein the base material is a resin sheet. 前記樹脂製シートが、一方の面に粘着剤層を有する、請求項5に記載の離型装置。 The mold release device according to claim 5, wherein the resin sheet has an adhesive layer on one surface. 前記硬化性材料が、硬化性エポキシ樹脂組成物である請求項1~6の何れか1項に記載の離型装置。 The mold release device according to any one of claims 1 to 6, wherein the curable material is a curable epoxy resin composition. 前記モールドを構成する材質が、樹脂、金属、及びガラスからなる群から選択される少なくとも1種である、請求項1~7の何れか1項に記載の離型装置。 The mold release device according to any one of claims 1 to 7, wherein the material constituting the mold is at least one selected from the group consisting of resin, metal, and glass.
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