JP6938190B2 - Manufacturing method of resin molded products and manufacturing method of optical parts - Google Patents

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本発明は、樹脂成型品の製造方法、及び光学部品の製造方法に関する。より詳細には、インプリント成型により樹脂成型品を製造する方法、及び該樹脂成型品を用いて光学部品を製造する方法に関する。 The present invention relates to a method for manufacturing a resin molded product and a method for manufacturing an optical component. More specifically, the present invention relates to a method of manufacturing a resin molded product by imprint molding, and a method of manufacturing an optical component using the resin molded product.

近年、携帯電話、スマートフォンをはじめとする、モバイル電子機器について、センサーやカメラを搭載することによる製品価値の向上が進んでいる。年々、小型化、薄型化が進み、それらに使用されるレンズ等の光学部品も、より小型で、より薄型のものが求められている。そのような要求に対して、従来、射出成型によって光学部品を製造することで対応してきたが、射出成型法では小型化、薄型化への対応に限界がきている。そこで、射出成型法に代わる新たな成型方法としてインプリント成型技術が注目を浴びている(特許文献1参照)。 In recent years, the product value of mobile electronic devices such as mobile phones and smartphones has been improved by installing sensors and cameras. The size and thickness of the optical components such as lenses used for them are becoming smaller and thinner year by year, and there is a demand for smaller and thinner optical components. Conventionally, such demands have been met by manufacturing optical parts by injection molding, but the injection molding method has reached its limit in responding to miniaturization and thinning. Therefore, imprint molding technology is attracting attention as a new molding method instead of the injection molding method (see Patent Document 1).

特開2010−266664号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2010-266664

微細な形状を有する樹脂成型品をインプリント成型により成型する場合、用いるモールドには、樹脂成型品の微細な形状に対応する微細なパターン形状が設けられている。しかしながら、本発明者は、このような微細なパターン形状を有するモールドを用いてインプリント成型により樹脂成型品を成型する場合、樹脂成型品を形成する硬化性組成物をモールドに塗布した際に硬化性組成物中に気泡が発生(泡かみ)しやすいことを見出した。上記気泡は、モールドに設けられた微細なパターン形状の凹部の底付近(成型後に樹脂成型品の凸部の先端となる部分)に特に発生しやすい。 When a resin molded product having a fine shape is molded by imprint molding, the mold used is provided with a fine pattern shape corresponding to the fine shape of the resin molded product. However, when the present inventor molds a resin molded product by imprint molding using a mold having such a fine pattern shape, the present inventor cures when the curable composition forming the resin molded product is applied to the mold. It was found that bubbles are likely to be generated (foam biting) in the sex composition. The bubbles are particularly likely to be generated near the bottom of the finely patterned concave portion provided in the mold (the portion that becomes the tip of the convex portion of the resin molded product after molding).

従って、本発明の目的は、インプリント成型において、パターン形状を有するモールドに硬化性組成物を塗布した際に気泡の発生が起こりにくい樹脂成型品の製造方法、及び該樹脂成型品を用いた光学部品の製造方法を提供することにある。 Therefore, an object of the present invention is a method for producing a resin molded product in which bubbles are less likely to be generated when a curable composition is applied to a mold having a pattern shape in imprint molding, and optics using the resin molded product. The purpose is to provide a method for manufacturing parts.

本発明者は、上記目的を達成するため鋭意検討した結果、樹脂成型品を形成する硬化性組成物としてモールドに対する接触角が小さく且つ誘電性を有する硬化性組成物を用い、該硬化性組成物を一旦導電性基板上に塗布し、その後導電性基板と上記モールドとの間に電圧を印加することによって、導電性基板上に塗布された上記硬化性組成物をモールドのパターン形状に接触させて塗布することにより、パターン形状を有するモールドに硬化性組成物を塗布した際に気泡の発生を起こりにくくすることができることを見出した。本発明はこれらの知見に基づいて完成させたものである。 As a result of diligent studies to achieve the above object, the present inventor uses a curable composition having a small contact angle with respect to the mold and having a dielectric property as a curable composition for forming a resin molded product, and the curable composition is used. Is once applied onto the conductive substrate, and then a voltage is applied between the conductive substrate and the mold to bring the curable composition coated on the conductive substrate into contact with the pattern shape of the mold. It has been found that by applying the curable composition, it is possible to prevent the generation of bubbles when the curable composition is applied to the mold having a pattern shape. The present invention has been completed based on these findings.

すなわち、本発明は、インプリント成型により樹脂成型品を製造する方法であって、パターン形状を有するモールドに対する接触角が50°以下の誘電性硬化性組成物を導電性基板上に塗布する導電性基板塗布工程、前記導電性基板の前記誘電性硬化性組成物塗布面と前記モールドのパターン形状を有する面とを対向させ、前記導電性基板と前記モールドの間に電圧を印加することにより前記導電性基板上に塗布された前記誘電性硬化性組成物を前記モールドの硬化性組成物未塗布部分に接触させ塗布する電圧印加塗布段階を含むモールド塗布工程、及び前記モールドに塗布された前記誘電性硬化性組成物を硬化させて樹脂成型品を得る硬化工程を有する、樹脂成型品の製造方法を提供する。 That is, the present invention is a method for producing a resin molded product by imprint molding, wherein a dielectric curable composition having a contact angle of 50 ° or less with respect to a mold having a pattern shape is applied onto a conductive substrate. In the substrate coating step, the conductive substrate is made conductive by facing the coated surface of the dielectric curable composition of the conductive substrate and the surface having the pattern shape of the mold and applying a voltage between the conductive substrate and the mold. A mold coating step including a voltage-applied coating step in which the dielectric curable composition coated on the property substrate is brought into contact with the uncoated portion of the curable composition of the mold and coated, and the dielectric coated on the mold. Provided is a method for producing a resin molded product, which comprises a curing step of curing the curable composition to obtain a resin molded product.

前記モールド塗布工程の後に、前記モールド塗布工程を経て得られた前記誘電性硬化性組成物が塗布されたモールドを、前記導電性基板塗布工程及び前記モールド塗布工程を経て前記誘電性硬化性組成物が塗布された別のモールドと、前記誘電性硬化性組成物同士が接触するように重ね合わせる型閉じ工程を有することが好ましい。 After the mold coating step, the mold to which the dielectric curable composition obtained through the mold coating step is applied is subjected to the conductive substrate coating step and the mold coating step to obtain the dielectric curable composition. It is preferable to have a mold closing step of superimposing the dielectric curable composition on another mold coated with the above so as to be in contact with each other.

前記モールド塗布工程が、前記電圧印加塗布段階の後に、100ml/min以上の塗布速度で前記誘電性硬化性組成物を前記モールドに塗布する段階を含むことが好ましい。 It is preferable that the mold coating step includes a step of applying the dielectric curable composition to the mold at a coating rate of 100 ml / min or more after the voltage application coating step.

前記誘電性硬化性組成物はエポキシ化合物を含有することが好ましい。 The dielectric curable composition preferably contains an epoxy compound.

前記モールド塗布工程の後に、減圧による脱泡を行う脱泡工程を有することが好ましい。 After the mold coating step, it is preferable to have a defoaming step of defoaming by reducing pressure.

前記モールドにおけるパターン形状が凹凸形状であり、凹部最底部と凸部最頂部の高低差が0.05mm以上であることが好ましい。 It is preferable that the pattern shape in the mold is an uneven shape, and the height difference between the bottommost portion of the concave portion and the topmost portion of the convex portion is 0.05 mm or more.

前記樹脂成型品はマイクロレンズアレイであることが好ましい。 The resin molded product is preferably a microlens array.

また、本発明は、前記樹脂成型品の製造方法により得られる樹脂成型品を用いた光学部品の製造方法を提供する。 The present invention also provides a method for manufacturing an optical component using the resin molded product obtained by the method for manufacturing the resin molded product.

本発明の樹脂成型品の製造方法によれば、パターン形状を有するモールドに硬化性組成物を塗布した際に気泡の発生を起こりにくくすることができる。特に、微細なパターン形状を有するモールドを用いた場合であっても、気泡の発生が起こりにくい。このため、微細な形状を有する樹脂成型品を、優れた形状精度で且つ容易に製造することができる。 According to the method for producing a resin molded product of the present invention, it is possible to prevent the generation of air bubbles when the curable composition is applied to a mold having a pattern shape. In particular, even when a mold having a fine pattern shape is used, bubbles are unlikely to be generated. Therefore, a resin molded product having a fine shape can be easily manufactured with excellent shape accuracy.

モールド塗布工程において電圧の印加により誘電性硬化性組成物をモールドに接触させ塗布する様子を表す模式図である。It is a schematic diagram which shows the mode that the dielectric curable composition is brought into contact with a mold, and is coated by applying a voltage in a mold coating process. 本発明の樹脂成型品の製造方法の一実施形態を示す工程図である。It is a process drawing which shows one Embodiment of the manufacturing method of the resin molded article of this invention. フレネルレンズの一例を示す模式図であり、(1−a)は断面図、(1−b)は真上から見た図である。It is a schematic diagram which shows an example of a Fresnel lens, (1-a) is a cross-sectional view, and (1-b) is a view seen from directly above. フレネルレンズ断面におけるレンズ面4と非レンズ面5、レンズ面4と基準面6の成す角θを示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the angle θ formed by a lens surface 4 and a non-lens surface 5, a lens surface 4 and a reference surface 6 in a Fresnel lens cross section.

本発明の樹脂成型品の製造方法は、インプリント成型により樹脂成型品を製造する方法であって、パターン形状を有するモールドに対する接触角が50°以下の誘電性硬化性組成物を導電性基板上に塗布する導電性基板塗布工程、上記導電性基板の上記誘電性硬化性組成物塗布面と上記モールドのパターン形状を有する面とを対向させ、上記導電性基板と上記モールドの間に電圧を印加することにより上記導電性基板上に塗布された上記誘電性硬化性組成物を上記モールドの硬化性組成物未塗布部分に接触させ塗布する電圧印加塗布段階を含むモールド塗布工程、及び上記モールドに塗布された上記誘電性硬化性組成物を硬化させて樹脂成型品を得る硬化工程を有する。なお、本明細書において、本発明の樹脂成型品の製造方法を、単に「本発明の製造方法」と称する場合がある。 The method for producing a resin molded product of the present invention is a method for producing a resin molded product by imprint molding, in which a dielectric curable composition having a contact angle of 50 ° or less with respect to a mold having a pattern shape is placed on a conductive substrate. In the conductive substrate coating step of coating the conductive substrate, the surface of the conductive substrate coated with the dielectric curable composition and the surface having the pattern shape of the mold are opposed to each other, and a voltage is applied between the conductive substrate and the mold. A mold coating step including a voltage application coating step in which the dielectric curable composition coated on the conductive substrate is brought into contact with the uncoated portion of the curable composition of the mold and coated, and the mold is coated. It has a curing step of curing the above-mentioned dielectric curable composition to obtain a resin molded product. In addition, in this specification, the manufacturing method of the resin molded article of this invention may be simply referred to as "the manufacturing method of this invention".

なお、本明細書において「硬化性組成物」と称する場合は、上記誘電性硬化性組成物及びその他の硬化性組成物を含む、樹脂成型品を形成するための全ての硬化性組成物をいう。 The term "curable composition" as used herein refers to all curable compositions for forming resin molded products, including the above-mentioned dielectric curable composition and other curable compositions. ..

上述のように、本発明の製造方法は、インプリント成型により樹脂成型品を製造する方法であり、基板に樹脂成型品を形成する硬化性組成物を塗布し、塗布された硬化性組成物を挟み込むように他の基板を重ね合わせ、その後上記硬化性組成物を硬化させて樹脂成型品を製造する。なお、本発明の製造方法では、少なくとも一方の基板としてパターン形状を有するモールドを用い、このパターン形状を有するモールド(以下、単に「モールド」と称する場合がある)に誘電性の硬化性組成物を電圧の印加により塗布する。 As described above, the production method of the present invention is a method of producing a resin molded product by imprint molding, and a curable composition for forming the resin molded product is applied to a substrate, and the applied curable composition is applied. Other substrates are superposed so as to be sandwiched, and then the curable composition is cured to produce a resin molded product. In the production method of the present invention, a mold having a pattern shape is used as at least one substrate, and a dielectric curable composition is applied to the mold having this pattern shape (hereinafter, may be simply referred to as “mold”). Apply by applying voltage.

(導電性基板塗布工程)
上記導電性基板塗布工程は、樹脂成型品に所望の形状を付与するためのパターン形状を有するモールドに対する接触角が50°以下の誘電性硬化性組成物を導電性基板上に塗布する工程である。
(Conductive substrate coating process)
The conductive substrate coating step is a step of coating a conductive substrate with a dielectric curable composition having a contact angle of 50 ° or less with respect to a mold having a pattern shape for imparting a desired shape to the resin molded product. ..

上記誘電性硬化性組成物は、硬化して樹脂成型品を形成する組成物である。上記誘電性硬化性組成物は、上記モールドに対する接触角が50°以下である。これにより、モールドに対する誘電性硬化性組成物の濡れ性が高くなるため、パターン形状が微細な構造を有している場合であっても、電圧の印加による塗布時にモールドに付着した際には誘電性硬化性組成物がパターン形状に追従してなじみやすく、気泡が発生しにくい。上記接触角は、好ましくは45°以下、より好ましくは40°以下である。上記接触角は、公知乃至慣用の方法で測定することができる。 The dielectric curable composition is a composition that is cured to form a resin molded product. The dielectric curable composition has a contact angle with respect to the mold of 50 ° or less. As a result, the wettability of the dielectric curable composition with respect to the mold is increased, so that even if the pattern shape has a fine structure, it is dielectric when it adheres to the mold during application by applying a voltage. The curable composition follows the pattern shape and becomes familiar, and bubbles are less likely to be generated. The contact angle is preferably 45 ° or less, more preferably 40 ° or less. The contact angle can be measured by a known or conventional method.

上記誘電性硬化性組成物は、硬化性の化合物(硬化性化合物)を含有する。上記誘電性硬化性組成物としては、公知乃至慣用のインプリント成型に用いられる誘電性の組成物を使用することができ、目的とする樹脂成型品の種類に応じて適宜選択される。上記硬化性化合物としては、例えば、カチオン硬化性化合物、ラジカル硬化性化合物、アニオン硬化性化合物等が挙げられる。上記カチオン硬化性化合物としては、例えば、エポキシ基を有する化合物(エポキシ化合物)、オキセタニル基を有する化合物(オキセタン化合物)、ビニルエーテル基を有する化合物(ビニルエーテル化合物)が挙げられ、好ましくはエポキシ化合物である。上記硬化性化合物は、1種のみを使用してもよいし、2種以上を使用してもよい。 The dielectric curable composition contains a curable compound (curable compound). As the dielectric curable composition, a dielectric composition used for known or conventional imprint molding can be used, and it is appropriately selected according to the type of the target resin molded product. Examples of the curable compound include a cationic curable compound, a radical curable compound, an anion curable compound and the like. Examples of the cationically curable compound include a compound having an epoxy group (epoxide compound), a compound having an oxetanyl group (oxetan compound), and a compound having a vinyl ether group (vinyl ether compound), and an epoxy compound is preferable. As the curable compound, only one kind may be used, or two or more kinds may be used.

上記エポキシ化合物としては、分子内に1以上のエポキシ基(オキシラン環)を有する公知乃至慣用の化合物を使用することができ、特に限定されないが、例えば、脂環式エポキシ化合物(脂環式エポキシ樹脂)、芳香族エポキシ化合物(芳香族エポキシ樹脂)、脂肪族エポキシ化合物(脂肪族エポキシ樹脂)等が挙げられる。 As the epoxy compound, a known or commonly used compound having one or more epoxy groups (oxylan rings) in the molecule can be used, and is not particularly limited, but for example, an alicyclic epoxy compound (alicyclic epoxy resin). ), Aromatic epoxy compound (aromatic epoxy resin), aliphatic epoxy compound (aliphatic epoxy resin) and the like.

上記脂環式エポキシ化合物としては、分子内に1個以上の脂環と1個以上のエポキシ基とを有する公知乃至慣用の化合物が挙げられ、特に限定されないが、例えば、(1)分子内に脂環を構成する隣接する2つの炭素原子と酸素原子とで構成されるエポキシ基(「脂環エポキシ基」と称する)を有する化合物;(2)脂環にエポキシ基が直接単結合で結合している化合物;(3)分子内に脂環及びグリシジルエーテル基を有する化合物(グリシジルエーテル型エポキシ化合物)等が挙げられる。 Examples of the alicyclic epoxy compound include known and commonly used compounds having one or more alicyclics and one or more epoxy groups in the molecule, and are not particularly limited. For example, (1) in the molecule. A compound having an epoxy group (referred to as "alicyclic epoxy group") composed of two adjacent carbon atoms and oxygen atoms constituting the alicyclic; (2) The epoxy group is directly bonded to the alicyclic by a single bond. Compounds; (3) Compounds having an alicyclic ring and a glycidyl ether group in the molecule (glycidyl ether type epoxy compound) and the like can be mentioned.

上記(1)分子内に脂環エポキシ基を有する化合物としては、下記式(i)で表される化合物が挙げられる。

Figure 0006938190
Examples of the compound (1) having an alicyclic epoxy group in the molecule include a compound represented by the following formula (i).
Figure 0006938190

上記式(i)中、Yは単結合又は連結基(1以上の原子を有する二価の基)を示す。上記連結基としては、例えば、二価の炭化水素基、炭素−炭素二重結合の一部又は全部がエポキシ化されたアルケニレン基、カルボニル基、エーテル結合、エステル結合、カーボネート基、アミド基、これらが複数個連結した基等が挙げられる。なお、式(i)におけるシクロヘキサン環(シクロヘキセンオキシド基)を構成する炭素原子の1以上には、アルキル基等の置換基が結合していてもよい。 In the above formula (i), Y represents a single bond or a linking group (a divalent group having one or more atoms). Examples of the linking group include a divalent hydrocarbon group, an alkenylene group in which part or all of the carbon-carbon double bond is epoxidized, a carbonyl group, an ether bond, an ester bond, a carbonate group, an amide group, and the like. Examples thereof include a group in which a plurality of groups are linked. A substituent such as an alkyl group may be bonded to one or more of the carbon atoms constituting the cyclohexane ring (cyclohexene oxide group) in the formula (i).

上記二価の炭化水素基としては、炭素数が1〜18の直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基、二価の脂環式炭化水素基等が挙げられる。炭素数が1〜18の直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基としては、例えば、メチレン基、メチルメチレン基、ジメチルメチレン基、エチレン基、プロピレン基、トリメチレン基等が挙げられる。上記二価の脂環式炭化水素基としては、例えば、1,2−シクロペンチレン基、1,3−シクロペンチレン基、シクロペンチリデン基、1,2−シクロヘキシレン基、1,3−シクロヘキシレン基、1,4−シクロヘキシレン基、シクロヘキシリデン基等の二価のシクロアルキレン基(シクロアルキリデン基を含む)等が挙げられる。 Examples of the divalent hydrocarbon group include a linear or branched alkylene group having 1 to 18 carbon atoms, a divalent alicyclic hydrocarbon group and the like. Examples of the linear or branched alkylene group having 1 to 18 carbon atoms include a methylene group, a methylmethylene group, a dimethylmethylene group, an ethylene group, a propylene group and a trimethylene group. Examples of the divalent alicyclic hydrocarbon group include 1,2-cyclopentylene group, 1,3-cyclopentylene group, cyclopentylidene group, 1,2-cyclohexylene group and 1,3-. Examples thereof include a divalent cycloalkylene group (including a cycloalkylidene group) such as a cyclohexylene group, a 1,4-cyclohexylene group and a cyclohexylidene group.

上記炭素−炭素二重結合の一部又は全部がエポキシ化されたアルケニレン基(「エポキシ化アルケニレン基」と称する場合がある)におけるアルケニレン基としては、例えば、ビニレン基、プロペニレン基、1−ブテニレン基、2−ブテニレン基、ブタジエニレン基、ペンテニレン基、ヘキセニレン基、ヘプテニレン基、オクテニレン基等の炭素数2〜8の直鎖又は分岐鎖状のアルケニレン基等が挙げられる。特に、上記エポキシ化アルケニレン基としては、炭素−炭素二重結合の全部がエポキシ化されたアルケニレン基が好ましく、より好ましくは炭素−炭素二重結合の全部がエポキシ化された炭素数2〜4のアルケニレン基である。 Examples of the alkenylene group in the alkenylene group in which a part or all of the carbon-carbon double bond is epoxidized (sometimes referred to as “epoxidized alkenylene group”) include a vinylene group, a propenylene group, and a 1-butenylene group. , 2-Butenylene group, butazienylene group, pentenylene group, hexenylene group, heptenylene group, octenylene group and the like, such as a linear or branched alkenylene group having 2 to 8 carbon atoms. In particular, as the epoxidized alkenylene group, an alkenylene group in which the entire carbon-carbon double bond is epoxidized is preferable, and more preferably, the entire carbon-carbon double bond is epoxidized and has 2 to 4 carbon atoms. It is an alkenylene group.

上記式(i)で表される脂環式エポキシ化合物の代表的な例としては、(3,4,3’,4’−ジエポキシ)ビシクロヘキシル、下記式(i−1)〜(i−10)で表される化合物等が挙げられる。なお、下記式(i−5)、(i−7)中のl、mは、それぞれ1〜30の整数を表す。下記式(i−5)中のR’は炭素数1〜8のアルキレン基であり、中でも、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、イソプロピレン基等の炭素数1〜3の直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基が好ましい。下記式(i−9)、(i−10)中のn1〜n6は、それぞれ1〜30の整数を示す。また、上記式(i)で表される脂環式エポキシ化合物としては、その他、例えば、2,2−ビス(3,4−エポキシシクロヘキシル)プロパン、1,2−ビス(3,4−エポキシシクロヘキサン−1−イル)エタン、1,2−エポキシ−1,2−ビス(3,4−エポキシシクロヘキサン−1−イル)エタン、ビス(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル)エーテル等が挙げられる。

Figure 0006938190
Figure 0006938190
Typical examples of the alicyclic epoxy compound represented by the above formula (i) are (3,4,3', 4'-diepoxy) bicyclohexyl, and the following formulas (i-1) to (i-10). ), And the like. In addition, l and m in the following formulas (i-5) and (i-7) represent integers of 1 to 30, respectively. R'in the following formula (i-5) is an alkylene group having 1 to 8 carbon atoms, and among them, a linear or branched chain having 1 to 3 carbon atoms such as a methylene group, an ethylene group, a propylene group and an isopropylene group. The shape of the alkylene group is preferable. N1 to n6 in the following formulas (i-9) and (i-10) represent integers of 1 to 30, respectively. Examples of the alicyclic epoxy compound represented by the above formula (i) include 2,2-bis (3,4-epoxycyclohexyl) propane and 1,2-bis (3,4-epoxycyclohexane). Examples thereof include -1-yl) ethane, 1,2-epoxy-1,2-bis (3,4-epoxycyclohexane-1-yl) ethane, and bis (3,4-epoxycyclohexylmethyl) ether.
Figure 0006938190
Figure 0006938190

上述の(2)脂環にエポキシ基が直接単結合で結合している化合物としては、例えば、下記式(ii)で表される化合物等が挙げられる。

Figure 0006938190
Examples of the compound in which the epoxy group is directly bonded to the alicyclic (2) by a single bond include a compound represented by the following formula (ii).
Figure 0006938190

式(ii)中、R"は、p価のアルコールの構造式からp個の水酸基(−OH)を除いた基(p価の有機基)であり、p、nはそれぞれ自然数を表す。p価のアルコール[R"(OH)p]としては、2,2−ビス(ヒドロキシメチル)−1−ブタノール等の多価アルコール(炭素数1〜15のアルコール等)等が挙げられる。pは1〜6が好ましく、nは1〜30が好ましい。pが2以上の場合、それぞれの( )内(外側の括弧内)の基におけるnは同一でもよく異なっていてもよい。上記式(ii)で表される化合物としては、具体的には、2,2−ビス(ヒドロキシメチル)−1−ブタノールの1,2−エポキシ−4−(2−オキシラニル)シクロヘキサン付加物[例えば、商品名「EHPE3150」((株)ダイセル製)等]等が挙げられる。 In formula (ii), R "is a group (p-valent organic group) obtained by removing p hydroxyl groups (-OH) from the structural formula of a p-valent alcohol, and p and n each represent a natural number. Examples of the valent alcohol [R "(OH) p ] include polyhydric alcohols such as 2,2-bis (hydroxymethyl) -1-butanol (alcohols having 1 to 15 carbon atoms) and the like. p is preferably 1 to 6, and n is preferably 1 to 30. When p is 2 or more, n in each group in parentheses (in parentheses on the outside) may be the same or different. Specific examples of the compound represented by the above formula (ii) include 1,2-epoxy-4- (2-oxylanyl) cyclohexane adducts of 2,2-bis (hydroxymethyl) -1-butanol [for example. , Product name "EHPE3150" (manufactured by Daicel Corporation), etc.] and the like.

上述の(3)分子内に脂環及びグリシジルエーテル基を有する化合物としては、例えば、脂環式アルコール(特に、脂環式多価アルコール)のグリシジルエーテルが挙げられる。より詳しくは、例えば、2,2−ビス[4−(2,3−エポキシプロポキシ)シクロへキシル]プロパン、2,2−ビス[3,5−ジメチル−4−(2,3−エポキシプロポキシ)シクロへキシル]プロパン等のビスフェノールA型エポキシ化合物を水素化した化合物(水素化ビスフェノールA型エポキシ化合物);ビス[o,o−(2,3−エポキシプロポキシ)シクロへキシル]メタン、ビス[o,p−(2,3−エポキシプロポキシ)シクロへキシル]メタン、ビス[p,p−(2,3−エポキシプロポキシ)シクロへキシル]メタン、ビス[3,5−ジメチル−4−(2,3−エポキシプロポキシ)シクロへキシル]メタン等のビスフェノールF型エポキシ化合物を水素化した化合物(水素化ビスフェノールF型エポキシ化合物);水素化ビフェノール型エポキシ化合物;水素化フェノールノボラック型エポキシ化合物;水素化クレゾールノボラック型エポキシ化合物;ビスフェノールAの水素化クレゾールノボラック型エポキシ化合物;水素化ナフタレン型エポキシ化合物;トリスフェノールメタンから得られるエポキシ化合物の水素化エポキシ化合物;下記芳香族エポキシ化合物の水素化エポキシ化合物等が挙げられる。 Examples of the compound having an alicyclic and glycidyl ether group in the molecule (3) described above include glycidyl ether of an alicyclic alcohol (particularly, an alicyclic polyhydric alcohol). More specifically, for example, 2,2-bis [4- (2,3-epoxypropoxy) cyclohexyl] propane, 2,2-bis [3,5-dimethyl-4- (2,3-epoxypropoxy)). Cyclohexyl] A compound obtained by hydrogenating a bisphenol A type epoxy compound such as propane (hydrogenated bisphenol A type epoxy compound); bis [o, o- (2,3-epoxypropoxy) cyclohexyl] methane, bis [o , P- (2,3-epoxypropoxy) cyclohexyl] methane, bis [p, p- (2,3-epoxypropoxy) cyclohexyl] methane, bis [3,5-dimethyl-4- (2,5-dimethylpropoxy) 3-Epoxypropoxy) Cyclohexyl] A compound obtained by hydrogenating a bisphenol F-type epoxy compound such as methane (hydrogenated bisphenol F-type epoxy compound); a hydrogenated biphenol-type epoxy compound; a hydrogenated phenol novolac-type epoxy compound; Novolak type epoxy compound; bisphenol A hydride cresol novolak type epoxy compound; hydride naphthalene type epoxy compound; hydride epoxy compound of epoxy compound obtained from trisphenol methane; hydride epoxy compound of the following aromatic epoxy compound and the like. Be done.

上記芳香族エポキシ化合物としては、例えば、ビスフェノール類[例えば、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールS、フルオレンビスフェノール等]と、エピハロヒドリンとの縮合反応により得られるエピビスタイプグリシジルエーテル型エポキシ樹脂;これらのエピビスタイプグリシジルエーテル型エポキシ樹脂を上記ビスフェノール類とさらに付加反応させることにより得られる高分子量エピビスタイプグリシジルエーテル型エポキシ樹脂;フェノール類[例えば、フェノール、クレゾール、キシレノール、レゾルシン、カテコール、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールS等]とアルデヒド[例えば、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、ベンズアルデヒド、ヒドロキシベンズアルデヒド、サリチルアルデヒド等]とを縮合反応させて得られる多価アルコール類を、さらにエピハロヒドリンと縮合反応させることにより得られるノボラック・アルキルタイプグリシジルエーテル型エポキシ樹脂;フルオレン環の9位に2つのフェノール骨格が結合し、かつこれらフェノール骨格のヒドロキシ基から水素原子を除いた酸素原子に、それぞれ、直接又はアルキレンオキシ基を介してグリシジル基が結合しているエポキシ化合物等が挙げられる。 Examples of the aromatic epoxy compound include epibis-type glycidyl ether-type epoxy resins obtained by a condensation reaction between bisphenols [for example, bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, fluorene bisphenol, etc.] and epihalohydrin; these epis. High molecular weight epibistype glycidyl ether type epoxy resin obtained by further addition reaction of bistype glycidyl ether type epoxy resin with the above bisphenols; phenols [for example, phenol, cresol, xylenol, resorcin, catechol, bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, etc.] and aldehydes [for example, formaldehyde, acetaldehyde, benzaldehyde, hydroxybenzaldehyde, salicylaldehyde, etc.] and polyhydric alcohols obtained by condensing reaction with epihalohydrin. Alkyl type glycidyl ether type epoxy resin; Two phenol skeletons are bonded to the 9-position of the fluorene ring, and glycidyl is attached to the oxygen atom obtained by removing the hydrogen atom from the hydroxy group of these phenol skeletons, either directly or via an alkyleneoxy group. Examples thereof include an epoxy compound to which a group is bonded.

上記脂肪族エポキシ化合物としては、例えば、q価の環状構造を有しないアルコール(qは自然数である)のグリシジルエーテル;一価又は多価カルボン酸[例えば、酢酸、プロピオン酸、酪酸、ステアリン酸、アジピン酸、セバシン酸、マレイン酸、イタコン酸等]のグリシジルエステル;エポキシ化亜麻仁油、エポキシ化大豆油、エポキシ化ひまし油等の二重結合を有する油脂のエポキシ化物;エポキシ化ポリブタジエン等のポリオレフィン(ポリアルカジエンを含む)のエポキシ化物等が挙げられる。なお、上記q価の環状構造を有しないアルコールとしては、例えば、メタノール、エタノール、1−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、1−ブタノール等の一価のアルコール;エチレングリコール、1,2−プロパンジオール、1,3−プロパンジオール、1,4−ブタンジオール、ネオペンチルグリコール、1,6−ヘキサンジオール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール等の二価のアルコール;グリセリン、ジグリセリン、エリスリトール、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、ソルビトール等の三価以上の多価アルコール等が挙げられる。また、q価のアルコールは、ポリエーテルポリオール、ポリエステルポリオール、ポリカーボネートポリオール、ポリオレフィンポリオール等であってもよい。 Examples of the aliphatic epoxy compound include glycidyl ethers of alcohols having no q-valent cyclic structure (q is a natural number); monovalent or polyvalent carboxylic acids [for example, acetic acid, propionic acid, butyric acid, stearic acid, etc. Glycidyl ester of adipic acid, sebacic acid, maleic acid, itaconic acid, etc.; epoxidized fats and oils with double bonds such as epoxidized flaxseed oil, epoxidized soybean oil, epoxidized castor oil; polyolefin (poly) such as epoxidized polybutadiene (Including alkaziene) epoxides and the like can be mentioned. Examples of the alcohol having no q-valent cyclic structure include monohydric alcohols such as methanol, ethanol, 1-propyl alcohol, isopropyl alcohol and 1-butanol; ethylene glycol, 1,2-propanediol, 1 , 3-Propanediol, 1,4-Butanediol, Neopentyl glycol, 1,6-hexanediol, Diethylene glycol, Triethylene glycol, Tetraethylene glycol, Dipropylene glycol, Polyethylene glycol, Polypropylene glycol and other dihydric alcohols; Examples thereof include trihydric or higher polyhydric alcohols such as glycerin, diglycerin, erythritol, trimethylolethane, trimethylolpropane, pentaerythritol, dipentaerythritol and sorbitol. Further, the q-valent alcohol may be a polyether polyol, a polyester polyol, a polycarbonate polyol, a polyolefin polyol or the like.

上記オキセタン化合物としては、分子内に1以上のオキセタン環を有する公知乃至慣用の化合物が挙げられ、特に限定されないが、例えば、3,3−ビス(ビニルオキシメチル)オキセタン、3−エチル−3−(ヒドロキシメチル)オキセタン、3−エチル−3−(2−エチルヘキシルオキシメチル)オキセタン、3−エチル−3−[(フェノキシ)メチル]オキセタン、3−エチル−3−(ヘキシルオキシメチル)オキセタン、3−エチル−3−(クロロメチル)オキセタン、3,3−ビス(クロロメチル)オキセタン、1,4−ビス[(3−エチル−3−オキセタニルメトキシ)メチル]ベンゼン、ビス{[1−エチル(3−オキセタニル)]メチル}エーテル、4,4'−ビス[(3−エチル−3−オキセタニル)メトキシメチル]ビシクロヘキシル、1,4−ビス[(3−エチル−3−オキセタニル)メトキシメチル]シクロヘキサン、1,4−ビス{〔(3−エチル−3−オキセタニル)メトキシ〕メチル}ベンゼン、3−エチル−3−{〔(3−エチルオキセタン−3−イル)メトキシ〕メチル)}オキセタン、キシリレンビスオキセタン、3−エチル−3−{[3−(トリエトキシシリル)プロポキシ]メチル}オキセタン、オキセタニルシルセスキオキサン、フェノールノボラックオキセタン等が挙げられる。 Examples of the oxetane compound include known and commonly used compounds having one or more oxetane rings in the molecule, and are not particularly limited. For example, 3,3-bis (vinyloxymethyl) oxetane, 3-ethyl-3-3. (Hydroxymethyl) oxetane, 3-ethyl-3- (2-ethylhexyloxymethyl) oxetane, 3-ethyl-3-[(phenoxy) methyl] oxetane, 3-ethyl-3- (hexyloxymethyl) oxetane, 3- Ethyl-3- (chloromethyl) oxetane, 3,3-bis (chloromethyl) oxetane, 1,4-bis [(3-ethyl-3-oxetanylmethoxy) methyl] benzene, bis {[1-ethyl (3-ethyl (3-ethyl) Oxetane)] methyl} ether, 4,4'-bis [(3-ethyl-3-oxetanyl) methoxymethyl] bicyclohexyl, 1,4-bis [(3-ethyl-3-oxetanyl) methoxymethyl] cyclohexane, 1 , 4-Bis {[(3-ethyl-3-oxetanyl) methoxy] methyl} benzene, 3-ethyl-3-{[(3-ethyloxetane-3-yl) methoxy] methyl)} oxetane, xylylene bisoxetane , 3-Ethyl-3-{[3- (triethoxysilyl) propoxy] methyl} oxetane, oxetanylsilsesquioxane, phenol novolac oxetane and the like.

上記ビニルエーテル化合物としては、分子内に1以上のビニルエーテル基を有する公知乃至慣用の化合物を使用することができ、特に限定されないが、例えば、2−ヒドロキシエチルビニルエーテル(エチレングリコールモノビニルエーテル)、3−ヒドロキシプロピルビニルエーテル、2−ヒドロキシプロピルビニルエーテル、2−ヒドロキシイソプロピルビニルエーテル、4−ヒドロキシブチルビニルエーテル、3−ヒドロキシブチルビニルエーテル、2−ヒドロキシブチルビニルエーテル、3−ヒドロキシイソブチルビニルエーテル、2−ヒドロキシイソブチルビニルエーテル、1−メチル−3−ヒドロキシプロピルビニルエーテル、1−メチル−2−ヒドロキシプロピルビニルエーテル、1−ヒドロキシメチルプロピルビニルエーテル、4−ヒドロキシシクロヘキシルビニルエーテル、1,6−ヘキサンジオールモノビニルエーテル、1,6−ヘキサンジオールジビニルエーテル、1,8−オクタンジオールジビニルエーテル、1,4−シクロヘキサンジメタノールモノビニルエーテル、1,4−シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル、1,3−シクロヘキサンジメタノールモノビニルエーテル、1,3−シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル、1,2−シクロヘキサンジメタノールモノビニルエーテル、1,2−シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル、p−キシレングリコールモノビニルエーテル、p−キシレングリコールジビニルエーテル、m−キシレングリコールモノビニルエーテル、m−キシレングリコールジビニルエーテル、o−キシレングリコールモノビニルエーテル、o−キシレングリコールジビニルエーテル、エチレングリコールジビニルエーテル、ジエチレングリコールモノビニルエーテル、ジエチレングリコールジビニルエーテル、トリエチレングリコールモノビニルエーテル、トリエチレングリコールジビニルエーテル、テトラエチレングリコールモノビニルエーテル、テトラエチレングリコールジビニルエーテル、ペンタエチレングリコールモノビニルエーテル、ペンタエチレングリコールジビニルエーテル、オリゴエチレングリコールモノビニルエーテル、オリゴエチレングリコールジビニルエーテル、ポリエチレングリコールモノビニルエーテル、ポリエチレングリコールジビニルエーテル、ジプロピレングリコールモノビニルエーテル、ジプロピレングリコールジビニルエーテル、トリプロピレングリコールモノビニルエーテル、トリプロピレングリコールジビニルエーテル、テトラプロピレングリコールモノビニルエーテル、テトラプロピレングリコールジビニルエーテル、ペンタプロピレングリコールモノビニルエーテル、ペンタプロピレングリコールジビニルエーテル、オリゴプロピレングリコールモノビニルエーテル、オリゴプロピレングリコールジビニルエーテル、ポリプロピレングリコールモノビニルエーテル、ポリプロピレングリコールジビニルエーテル、イソソルバイドジビニルエーテル、オキサノルボルネンジビニルエーテル、フェニルビニルエーテル、n−ブチルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル、オクチルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、ハイドロキノンジビニルエーテル、1,4−ブタンジオールジビニルエーテル、シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル、トリメチロールプロパンジビニルエーテル、トリメチロールプロパントリビニルエーテル、ビスフェノールAジビニルエーテル、ビスフェノールFジビニルエーテル、ヒドロキシオキサノルボルナンメタノールジビニルエーテル、1,4−シクロヘキサンジオールジビニルエーテル、ペンタエリスリトールトリビニルエーテル、ペンタエリスリトールテトラビニルエーテル、ジペンタエリスリトールペンタビニルエーテル、ジペンタエリスリトールヘキサビニルエーテル等が挙げられる。 As the vinyl ether compound, a known or commonly used compound having one or more vinyl ether groups in the molecule can be used, and is not particularly limited, but for example, 2-hydroxyethyl vinyl ether (ethylene glycol monovinyl ether), 3-hydroxy. Propyl vinyl ether, 2-hydroxypropyl vinyl ether, 2-hydroxyisopropyl vinyl ether, 4-hydroxybutyl vinyl ether, 3-hydroxybutyl vinyl ether, 2-hydroxybutyl vinyl ether, 3-hydroxyisobutylvinyl ether, 2-hydroxyisobutylvinyl ether, 1-methyl-3 -Hydroxypropyl vinyl ether, 1-methyl-2-hydroxypropyl vinyl ether, 1-hydroxymethylpropyl vinyl ether, 4-hydroxycyclohexylvinyl ether, 1,6-hexanediol monovinyl ether, 1,6-hexanediol divinyl ether, 1,8- Octanediol divinyl ether, 1,4-cyclohexanedimethanol monovinyl ether, 1,4-cyclohexanedimethanol divinyl ether, 1,3-cyclohexanedimethanol monovinyl ether, 1,3-cyclohexanedimethanol divinyl ether, 1,2-cyclohexane Dimethanol monovinyl ether, 1,2-cyclohexanedimethanol divinyl ether, p-xylene glycol monovinyl ether, p-xylene glycol divinyl ether, m-xylene glycol monovinyl ether, m-xylene glycol divinyl ether, o-xylene glycol monovinyl ether, o-xylene glycol divinyl ether, ethylene glycol divinyl ether, diethylene glycol monovinyl ether, diethylene glycol divinyl ether, triethylene glycol monovinyl ether, triethylene glycol divinyl ether, tetraethylene glycol monovinyl ether, tetraethylene glycol divinyl ether, pentaethylene glycol monovinyl ether, Pentaethylene glycol divinyl ether, oligoethylene glycol monovinyl ether, oligoethylene glycol divinyl ether, polyethylene glycol monovinyl ether, polyethylene glycol divinyl ether, dipropylene glycol monovinyl ether, dipropylene grease Cole divinyl ether, tripropylene glycol monovinyl ether, tripropylene glycol divinyl ether, tetrapropylene glycol monovinyl ether, tetrapropylene glycol divinyl ether, pentapropylene glycol monovinyl ether, pentapropylene glycol divinyl ether, oligopropylene glycol monovinyl ether, oligopropylene glycol di Vinyl ether, polypropylene glycol monovinyl ether, polypropylene glycol divinyl ether, isosorbide divinyl ether, oxanolborne divinyl ether, phenylvinyl ether, n-butyl vinyl ether, isobutyl vinyl ether, octyl vinyl ether, cyclohexyl vinyl ether, hydroquinone divinyl ether, 1,4-butanediol Divinyl ether, cyclohexanedimethanol divinyl ether, trimethylolpropane divinyl ether, trimethylolpropanetrivinyl ether, bisphenol A divinyl ether, bisphenol F divinyl ether, hydroxyoxanorbornane methanol divinyl ether, 1,4-cyclohexanediol divinyl ether, pentaerythritol tri Examples thereof include vinyl ether, pentaerythritol tetravinyl ether, dipentaerythritol pentavinyl ether, dipentaerythritol hexavinyl ether and the like.

上記誘電性硬化性組成物中の硬化性化合物(特に、エポキシ化合物)の含有量は、特に限定されないが、誘電性硬化性組成物の総量(100重量%)に対して、10〜95重量%が好ましく、より好ましくは15〜90重量%、さらに好ましくは20〜85重量%である。上記含有量が10重量%以上であると、誘電性硬化性組成物の硬化性、樹脂成型品の耐熱性、耐光性、及び透明性に優れる傾向がある。 The content of the curable compound (particularly the epoxy compound) in the dielectric curable composition is not particularly limited, but is 10 to 95% by weight with respect to the total amount (100% by weight) of the dielectric curable composition. Is preferable, more preferably 15 to 90% by weight, still more preferably 20 to 85% by weight. When the content is 10% by weight or more, the curability of the dielectric curable composition, the heat resistance of the resin molded product, the light resistance, and the transparency tend to be excellent.

上記誘電性硬化性組成物は、上記硬化性化合物と共に光重合開始剤を含有することが好ましく、特に光カチオン重合開始剤を含有することが好ましい。光カチオン重合開始剤は、光の照射によって酸を発生して、誘電性硬化性組成物に含まれる硬化性化合物(特に、カチオン硬化性化合物)の硬化反応を開始させる化合物であり、光を吸収するカチオン部と酸の発生源となるアニオン部からなる。 The dielectric curable composition preferably contains a photopolymerization initiator together with the curable compound, and particularly preferably contains a photocationic polymerization initiator. The photocationic polymerization initiator is a compound that generates an acid by irradiation with light to initiate a curing reaction of a curable compound (particularly, a cationically curable compound) contained in a dielectric curable composition, and absorbs light. It consists of a cation part and an anion part that is a source of acid.

上記光カチオン重合開始剤としては、例えば、ジアゾニウム塩系化合物、ヨードニウム塩系化合物、スルホニウム塩系化合物、ホスホニウム塩系化合物、セレニウム塩系化合物、オキソニウム塩系化合物、アンモニウム塩系化合物、臭素塩系化合物等が挙げられる。本発明においては、中でも、スルホニウム塩系化合物を使用することが、硬化性に優れた樹脂成型品を形成することができる点で好ましい。 Examples of the photocationic polymerization initiator include diazonium salt compounds, iodonium salt compounds, sulfonium salt compounds, phosphonium salt compounds, selenium salt compounds, oxonium salt compounds, ammonium salt compounds, and bromine salt compounds. And so on. In the present invention, it is particularly preferable to use a sulfonium salt-based compound in that a resin molded product having excellent curability can be formed.

上記スルホニウム塩系化合物のカチオン部としては、例えば、トリフェニルスルホニウムイオン、ジフェニル[4−(フェニルチオ)フェニル]スルホニウムイオン、トリ−p−トリルスルホニウムイオン、(4−ヒドロキシフェニル)メチルベンジルスルホニウムイオン、4−(4−ビフェニリルチオ)フェニル−4−ビフェニリルフェニルスルホニウムイオン等のアリールスルホニウムイオン(特に、トリアリールスルホニウムイオン)が挙げられる。 Examples of the cation portion of the sulfonium salt-based compound include triphenylsulfonium ion, diphenyl [4- (phenylthio) phenyl] sulfonium ion, tri-p-tolylsulfonium ion, and (4-hydroxyphenyl) methylbenzylsulfonium ion, 4 -(4-Bifenirylthio) phenyl-4-biphenylylphenylsulfonium ion and other aryl sulfonium ions (particularly, triarylsulfonium ions) can be mentioned.

上記アニオン部としては、例えば、[(X)sB(Phf)4-s-(式中、Xはフェニル基又はビフェニリル基を示す。Phfは水素原子の少なくとも1つが、パーフルオロアルキル基、パーフルオロアルコキシ基、及びハロゲン原子からなる群より選択される少なくとも1種で置換されたフェニル基を示す。sは0〜3の整数である)、BF4 -、[(Rf)nPF6-n-(Rf:水素原子の80%以上がフッ素原子で置換されたアルキル基、n:0〜5の整数)、AsF6 -、SbF6 -、ペンタフルオロヒドロキシアンチモネート等が挙げられる。 Examples of the anion portion include [(X) s B (Phf) 4-s ] - (in the formula, X represents a phenyl group or a biphenylyl group. Phf has at least one hydrogen atom of a perfluoroalkyl group. perfluoroalkoxy group, and .s indicating at least one substituted phenyl group selected from the group consisting of halogen atoms is an integer of 0~3), BF 4 -, [ (Rf) n PF 6- n] - (Rf: alkyl group in which at least 80% are substituted with fluorine atoms of the hydrogen atom, n: 0 to 5 integer), AsF 6 -, SbF 6 -, pentafluoro-hydroxy antimonate and the like.

上記光カチオン重合開始剤としては、例えば、(4−ヒドロキシフェニル)メチルベンジルスルホニウム テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、4−(4−ビフェニリルチオ)フェニル−4−ビフェニリルフェニルスルホニウム テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、4−(フェニルチオ)フェニルジフェニルスルホニウム フェニルトリス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、[4−(4−ビフェニリルチオ)フェニル]−4−ビフェニリルフェニルスルホニウム フェニルトリス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、ジフェニル[4−(フェニルチオ)フェニル]スルホニウム トリス(ペンタフルオロエチル)トリフルオロホスフェート、ジフェニル[4−(フェニルチオ)フェニル]スルホニウム テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、ジフェニル[4−(フェニルチオ)フェニル]スルホニウム ヘキサフルオロホスフェート、4−(4−ビフェニリルチオ)フェニル−4−ビフェニリルフェニルスルホニウム トリス(ペンタフルオロエチル)トリフルオロホスフェート、ビス[4−(ジフェニルスルホニオ)フェニル]スルフィド フェニルトリス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、[4−(2−チオキサントニルチオ)フェニル]フェニル−2−チオキサントニルスルホニウム フェニルトリス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、商品名「サイラキュアUVI−6970」、「サイラキュアUVI−6974」、「サイラキュアUVI−6990」、「サイラキュアUVI−950」(以上、米国ユニオンカーバイド社製)、「イルガキュア250」、「イルガキュア261」、「イルガキュア264」(以上、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)、「SP−150」、「SP−151」、「SP−170」、「オプトマーSP−171」(以上、(株)ADEKA製)、「CG−24−61」(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)、「DAICAT II」((株)ダイセル製)、「UVAC1590」、「UVAC1591」(以上、ダイセル・サイテック(株)製)、「CI−2064」、「CI−2639」、「CI−2624」、「CI−2481」、「CI−2734」、「CI−2855」、「CI−2823」、「CI−2758」、「CIT−1682」(以上、日本曹達(株)製)、「PI−2074」(ローディア社製、テトラキス(ペンタフルオロフェニルボレート)トルイルクミルヨードニウム塩)、「FFC509」(3M社製)、「BBI−102」、「BBI−101」、「BBI−103」、「MPI−103」、「TPS−103」、「MDS−103」、「DTS−103」、「NAT−103」、「NDS−103」(以上、ミドリ化学(株)製)、「CD−1010」、「CD−1011」、「CD−1012」(以上、米国、Sartomer社製)、「CPI−100P」、「CPI−101A」、「CPI−200K」(以上、サンアプロ(株)製)等の市販品を使用できる。 Examples of the photocationic polymerization initiator include (4-hydroxyphenyl) methylbenzylsulfonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate and 4- (4-biphenylylthio) phenyl-4-biphenylylphenylsulfonium tetrakis (pentafluorophenyl). ) Borate, 4- (Phenylthio) Phenyldiphenylsulfonium Phenyltris (Pentafluorophenyl) Borate, [4- (4-Bifenirylthio) Phenyl] -4-Bifenirylphenylsulfonium Phenyltris (Pentafluorophenyl) Borate, Diphenyl [ 4- (Phenylthio) phenyl] sulfonium tris (pentafluoroethyl) trifluorophosphate, diphenyl [4- (phenylthio) phenyl] sulfonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate, diphenyl [4- (phenylthio) phenyl] sulfonium hexafluorophosphate, 4- (4-Biphenylylthio) phenyl-4-biphenylylphenylsulfonium Tris (pentafluoroethyl) trifluorophosphate, bis [4- (diphenylsulfonio) phenyl] sulfide phenyltris (pentafluorophenyl) borate, [4 -(2-Thioxanthonylthio) phenyl] Phenyl-2-thioxanthonyl sulfonium Phenyltris (pentafluorophenyl) borate, trade names "Cyracure UVI-6970", "Cyracure UVI-6974", "Cyracure UVI-6990" , "Cyracure UVI-950" (above, manufactured by Union Carbide, USA), "Irgacure 250", "Irgacure 261", "Irgacure 264" (above, manufactured by Ciba Specialty Chemicals), "SP-150", " "SP-151", "SP-170", "Optomer SP-171" (above, manufactured by ADEKA Co., Ltd.), "CG-24-61" (manufactured by Ciba Specialty Chemicals), "DAICAT II" ((() (Manufactured by Daicel Co., Ltd.), "UVAC1590", "UVAC1591" (all manufactured by Daicel Cytec Co., Ltd.), "CI-2064", "CI-2339", "CI-2624", "CI-2481", " "CI-2734", "CI-2855", "CI-2823", "CI-2758", "CIT-1682" (all manufactured by Nippon Soda Co., Ltd.), "PI-" 2074 "(Rodia, tetrakis (pentafluorophenylbolate) toluyl cumyliodonium salt)," FFC509 "(3M)," BBI-102 "," BBI-101 "," BBI-103 "," MPI -103 "," TPS-103 "," MDS-103 "," DTS-103 "," NAT-103 "," NDS-103 "(all manufactured by Midori Chemical Co., Ltd.)," CD-1010 ", Commercially available products such as "CD-1011", "CD-1012" (above, manufactured by Saltomer, USA), "CPI-100P", "CPI-101A", "CPI-200K" (above, manufactured by Sun Appro Co., Ltd.), etc. Goods can be used.

上記光重合開始剤は、1種のみを使用してもよいし、2種以上を使用してもよい。その使用量(配合量)は、誘電性硬化性組成物に含まれる硬化性化合物(特に、カチオン硬化性化合物)100重量部に対して、0.01〜15重量部が好ましく、より好ましくは0.05〜10重量部、さらに好ましくは0.1〜5重量部である。光重合開始剤を上記範囲内で使用することにより、硬化性、耐熱性、耐光性、透明性、光学特性等に優れた樹脂成型品を得ることができる。 As the photopolymerization initiator, only one kind may be used, or two or more kinds may be used. The amount used (blended amount) is preferably 0.01 to 15 parts by weight, more preferably 0, with respect to 100 parts by weight of the curable compound (particularly, the cationically curable compound) contained in the dielectric curable composition. It is .05 to 10 parts by weight, more preferably 0.1 to 5 parts by weight. By using the photopolymerization initiator within the above range, a resin molded product having excellent curability, heat resistance, light resistance, transparency, optical properties and the like can be obtained.

上記誘電性硬化性組成物は、上記硬化性化合物、上記光重合開始剤、及び必要に応じて他の成分(例えば、溶剤、酸化防止剤、光増感剤、消泡剤、レベリング剤、カップリング剤、界面活性剤、難燃剤、紫外線吸収剤、着色剤等)を含有していてもよい。上記誘電性硬化性組成物として、例えば、商品名「CELVENUS OUH106」((株)ダイセル製)等の市販品を使用することもできる。 The dielectric curable composition comprises the curable compound, the photopolymerization initiator, and, if necessary, other components (eg, solvent, antioxidant, photosensitizer, defoaming agent, leveling agent, cup). It may contain a ring agent, a surfactant, a flame retardant, an ultraviolet absorber, a colorant, etc.). As the dielectric curable composition, for example, a commercially available product such as the trade name "CELVENUS OUH106" (manufactured by Daicel Corporation) can be used.

上記導電性基板は、公知乃至慣用の導電性材料の基板を用いることができる。上記導電性基板としては、例えば、金、銀、銅、ニッケル、クロム、アルミニウム、鉄等の金属製の基板(金属基板);シリコン等の半導体製の基板(半導体基板)等が挙げられる。また、樹脂基板の表面に金属メッキ処理を施して導電性が付与されたものを用いてもよい。また、上記導電性基板は、後述の導電性を有するモールドであってもよい。 As the conductive substrate, a substrate made of a known or commonly used conductive material can be used. Examples of the conductive substrate include a metal substrate (metal substrate) such as gold, silver, copper, nickel, chromium, aluminum, and iron; and a semiconductor substrate (semiconductor substrate) such as silicon. Further, the surface of the resin substrate may be subjected to a metal plating treatment to impart conductivity. Further, the conductive substrate may be a mold having conductivity described later.

上記導電性基板への塗布は、公知乃至慣用の塗布方法により行うことができる。上記塗布としては、例えば、スピンコート塗布、ロールコート塗布、スプレー塗布、ディスペンスコート、ディップコート、インクジェット塗布等が挙げられる。 The coating on the conductive substrate can be performed by a known or conventional coating method. Examples of the coating include spin coating coating, roll coating coating, spray coating, dispense coating, dip coating, inkjet coating and the like.

(モールド塗布工程)
上記モールド塗布工程は、上記導電性基板の上記誘電性硬化性組成物塗布面と上記モールド(樹脂成型品に所望の形状を付与するためのパターン形状を有するモールド)のパターン形状を有する面とを対向させて配置し、上記導電性基板と上記モールドの間に電圧を印加することにより、上記導電性基板上に塗布された誘電性硬化性組成物を上記モールドの硬化性組成物未塗布部分に接触させ塗布する段階(「電圧印加塗布段階」と称する場合がある)を含む。なお、本明細書において、上記のように電圧を印加することによりモールドに誘電性硬化性組成物を塗布することを、「電圧印加塗布」と称する場合がある。
(Mold coating process)
In the mold coating step, the surface of the conductive substrate coated with the dielectric curable composition and the surface having the pattern shape of the mold (a mold having a pattern shape for imparting a desired shape to the resin molded product) are formed. By arranging them facing each other and applying a voltage between the conductive substrate and the mold, the dielectric curable composition coated on the conductive substrate is applied to the non-applied portion of the curable composition of the mold. It includes a step of contacting and coating (sometimes referred to as a "voltage application coating step"). In the present specification, applying the dielectric curable composition to the mold by applying a voltage as described above may be referred to as "voltage application coating".

上記「モールドの硬化性組成物未塗布部分」は、樹脂成型品を形成する硬化性組成物(上記誘電性硬化性組成物及びその他の硬化性組成物)を塗布すべき部分であって未だ塗布されていないモールドのパターン形状の部分である。すなわち、上記電圧印加塗布段階では、モールドに樹脂成型品を形成する硬化性組成物を塗布する際、初めにモールドに塗布する硬化性組成物として、上記モールドに対する接触角が50°以下の誘電性硬化性組成物を用い、上記導電性基板と上記モールドとの間に電圧を印加することによって、導電性基板上に塗布された上記誘電性硬化性組成物を上記モールドのパターン形状が付与された部分に接触させ、モールドへの誘電性硬化性組成物の塗布を行う。例えば、上記モールドに離型剤が塗布されている場合は離型剤が塗布されたモールドに、離型剤等が塗布されていない場合は上記モールド表面に、上記誘電性硬化性組成物を塗布する。 The "mold curable composition unapplied portion" is a portion to which the curable composition (the dielectric curable composition and other curable compositions) for forming a resin molded product should be applied and is still applied. It is a part of the pattern shape of the mold that has not been formed. That is, in the voltage application coating stage, when the curable composition for forming the resin molded product is applied to the mold, the curable composition to be applied to the mold first has a dielectric property with a contact angle of 50 ° or less with respect to the mold. By using the curable composition and applying a voltage between the conductive substrate and the mold, the dielectric curable composition applied on the conductive substrate was given the pattern shape of the mold. The dielectric curable composition is applied to the mold by contacting the portions. For example, when the mold release agent is applied to the mold, the mold with the release agent is applied, and when the mold release agent or the like is not applied, the dielectric curable composition is applied to the mold surface. do.

本発明の製造方法では、上述のように、モールドに樹脂成型品を形成する硬化性組成物を塗布する際、初めにモールドに塗布する硬化性組成物として、上記モールドに対する接触角が50°以下の誘電性硬化性組成物を用い、且つ当該誘電性硬化性組成物を、上記導電性基板と上記モールドとの間に電圧を印加することによってモールドへ接触させ塗布することを重要な特徴とする。これにより、誘電性硬化性組成物は、電圧の印加による塗布時にモールドに付着した際にパターン形状に追従してなじみやすく、気泡が発生しにくくなる。また、電圧を印加することによって塗布を行う本発明の製造方法によれば、電圧印加によりモールドが変形することが想定され、誘電性硬化性組成物の変形とモールドの変形の相乗効果により、パターン形状の追従性及び気泡発生の抑制性が向上することが考えられる。 In the production method of the present invention, as described above, when a curable composition for forming a resin molded product is applied to a mold, the curable composition to be applied to the mold first has a contact angle of 50 ° or less with respect to the mold. It is an important feature that the dielectric curable composition of the above is used, and the dielectric curable composition is brought into contact with the mold by applying a voltage between the conductive substrate and the mold to be applied. .. As a result, the dielectric curable composition easily follows the pattern shape when it adheres to the mold during coating by applying a voltage, and bubbles are less likely to be generated. Further, according to the manufacturing method of the present invention in which coating is performed by applying a voltage, it is assumed that the mold is deformed by applying a voltage, and the pattern is formed by the synergistic effect of the deformation of the dielectric curable composition and the deformation of the mold. It is considered that the shape followability and the suppression of bubble generation are improved.

図1を用いて、モールド塗布工程において電圧の印加により誘電性硬化性組成物をモールドに接触させ塗布する様子を説明する。図1(a)に示すように、片面にパターン形状を有するモールド1と、上記導電性基板塗布工程において準備された誘電性硬化性組成物2が塗布された導電性基板3とを、モールド1のパターン形状を有する面(図1では下面)と、導電性基板3の誘電性硬化性組成物2が塗布された面(図1では上面)とを向かい合う(対向する)ように配置し、電源及びスイッチを備えた導線で接続する。そして、スイッチを入れてモールド1と導電性基板3との間に電圧を印加する。これにより、図1(b)に示すように、導電性基板3上の誘電性硬化性組成物2がモールド1の方向に延びて接触して、モールド1のパターン形状部分に誘電性硬化性組成物2が塗布される。そして、図1(c)に示すように、パターン形状部分に誘電性硬化性組成物2が塗布されたモールド1が得られる。なお、導線中の電源及びスイッチの位置は特に限定されない。また、電源の正極と負極は逆であってもよい。また、モールド1と導電性基板3との位置関係は、図1(a)に示すように鉛直上側がモールド1であり鉛直下側が導電性基板3であってもよく、鉛直下側がモールド1であり鉛直上側が導電性基板3であってもよい。 With reference to FIG. 1, a state in which the dielectric curable composition is brought into contact with the mold and applied by applying a voltage in the mold coating step will be described. As shown in FIG. 1A, the mold 1 having a pattern shape on one side and the conductive substrate 3 coated with the dielectric curable composition 2 prepared in the conductive substrate coating step are combined with the mold 1. The surface having the pattern shape (lower surface in FIG. 1) and the surface of the conductive substrate 3 coated with the dielectric curable composition 2 (upper surface in FIG. 1) are arranged so as to face each other (oppose each other). And connect with a conductor equipped with a switch. Then, the switch is turned on and a voltage is applied between the mold 1 and the conductive substrate 3. As a result, as shown in FIG. 1B, the dielectric curable composition 2 on the conductive substrate 3 extends in the direction of the mold 1 and comes into contact with the pattern-shaped portion of the mold 1. Object 2 is applied. Then, as shown in FIG. 1 (c), a mold 1 in which the dielectric curable composition 2 is applied to the pattern-shaped portion is obtained. The positions of the power supply and the switch in the conducting wire are not particularly limited. Further, the positive electrode and the negative electrode of the power supply may be reversed. Further, as for the positional relationship between the mold 1 and the conductive substrate 3, as shown in FIG. 1A, the vertically upper side may be the mold 1 and the vertically lower side may be the conductive substrate 3, and the vertically lower side is the mold 1. Yes, the vertical upper side may be the conductive substrate 3.

上記電圧印加塗布における導電性基板とモールドの間の距離は、導電性基板上の誘電性硬化性組成物が電圧の印加によってモールドに接触可能な範囲内で適宜設定される。また、印加する電圧は、導電性基板上の誘電性硬化性組成物が電圧の印加によってモールドに接触できる範囲内で適宜設定され、例えば100〜500Vである。 The distance between the conductive substrate and the mold in the voltage application coating is appropriately set within a range in which the dielectric curable composition on the conductive substrate can come into contact with the mold by applying a voltage. The voltage to be applied is appropriately set within a range in which the dielectric curable composition on the conductive substrate can come into contact with the mold by applying the voltage, and is, for example, 100 to 500 V.

上記モールドは、樹脂成型品に所望の形状を付与するための、当該形状に対応する逆凹凸形状のパターン形状(所望の樹脂成型品の反転形状)が付与されている。上記モールドは、樹脂成型品を形成する誘電性硬化性組成物のモールドに対する接触角が50°以下であり且つ導電性を有していればよいが、樹脂製であることが好ましい。上記モールドを形成する樹脂としては、上記誘電性硬化性組成物の接触角、硬化後の樹脂成型品の剥離性等を考慮して選択され、例えば、シリコーン系樹脂(ジメチルポリシロキサン等)、フッ素系樹脂、ポリオレフィン系樹脂(ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ環状オレフィン等)、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂(ポリアリレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等)、ポリアミド系樹脂、ポリメチルメタクリレート等が挙げられる。上記樹脂としては、中でも、シリコーン系樹脂が好ましい。シリコーン系樹脂を用いると、エポキシ化合物を含む誘電性硬化性組成物との相性に優れ、上記接触角が小さくなりやすい傾向がある。また、樹脂成型品の離型性及びモールドの柔軟性にも優れるため、樹脂成型品をより容易に取り出すことができる。 The mold is provided with an inverted concave-convex pattern shape (inverted shape of the desired resin molded product) corresponding to the desired shape to give the resin molded product a desired shape. The mold may have a contact angle of 50 ° or less with respect to the mold of the dielectric curable composition forming the resin molded product and have conductivity, but is preferably made of resin. The resin forming the mold is selected in consideration of the contact angle of the dielectric curable composition, the peelability of the resin molded product after curing, and the like. For example, a silicone resin (dimethylpolysiloxane or the like), fluorine, etc. Based resin, polyolefin resin (polyethylene, polypropylene, polycyclic olefin, etc.), polyether sulfone resin, polycarbonate resin, polyester resin (polyarylate, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, etc.), polyamide resin, polymethyl methacrylate And so on. Among the above resins, silicone-based resins are preferable. When a silicone-based resin is used, it is excellent in compatibility with a dielectric curable composition containing an epoxy compound, and the contact angle tends to be small. In addition, since the resin molded product is excellent in releasability and mold flexibility, the resin molded product can be taken out more easily.

上記樹脂製のモールドは、導電性を発揮するために、金属等の導電性材料を含有していてもよい。導電性を有する樹脂製モールドとしては、例えば、導電性粒子を含有する樹脂製モールド、樹脂製モールドの少なくともパターン形状部分表面に金属膜等の導電膜を有するもの、樹脂製モールドの内部(特に、樹脂製モールドの内部のパターン形状部分付近)に金属板等の導電性基板が埋め込まれたもの、樹脂製モールドのパターン形状部分とは反対面に金属膜等の導電膜を有するもの等が挙げられる。また、上記樹脂製のモールドは、導電性を発揮するために、少なくともパターン形状部分にプラズマ処理が施されていてもよい。また、導電性粒子や導電膜は、樹脂製モールドのパターン形状やパターン周期に従って、部分的に配置されていてもよい。上記導電性材料としては、上述の導電性基板を構成する金属等の導電性材料として例示されたものが挙げられる。上記金属膜は、例えば、金属蒸着処理等の公知乃至慣用の方法によりモールド表面に設けることができる。 The resin mold may contain a conductive material such as metal in order to exhibit conductivity. Examples of the conductive resin mold include a resin mold containing conductive particles, a resin mold having a conductive film such as a metal film on the surface of at least a pattern-shaped portion, and the inside of the resin mold (particularly,). Examples include those in which a conductive substrate such as a metal plate is embedded in (near the pattern-shaped portion inside the resin mold), and those having a conductive film such as a metal film on the surface opposite to the pattern-shaped portion of the resin mold. .. Further, in order to exhibit conductivity, at least the pattern-shaped portion of the resin mold may be subjected to plasma treatment. Further, the conductive particles and the conductive film may be partially arranged according to the pattern shape and the pattern period of the resin mold. Examples of the conductive material include those exemplified as a conductive material such as a metal constituting the above-mentioned conductive substrate. The metal film can be provided on the mold surface by a known or conventional method such as metal vapor deposition treatment.

上記モールドは、市販品を用いてもよいし、製造したものを用いてもよい。モールドを製造する場合、例えば、モールドを形成する樹脂組成物を成型(好ましくは、インプリント成型)し、その後、熱硬化させることにより製造することができる。凹凸形状を有する金型を使用することができ、例えば、下記(1)、(2)の方法で製造することができる。
(1)基板上に塗布した樹脂組成物の塗膜に対し、金型を押し付け、樹脂組成物の塗膜を硬化させたうえで、金型を剥離する方法
(2)金型に対し樹脂組成物を直接塗工し、その上から基板を密着させた後、樹脂組成物の塗膜を硬化させたうえで、金型を剥離する方法
As the mold, a commercially available product may be used, or a manufactured product may be used. When producing a mold, for example, the resin composition forming the mold can be produced by molding (preferably imprint molding) and then thermosetting. A mold having an uneven shape can be used, and for example, it can be manufactured by the methods (1) and (2) below.
(1) A method in which a mold is pressed against a coating film of a resin composition applied on a substrate to cure the coating film of the resin composition, and then the mold is peeled off. (2) The resin composition is applied to the mold. A method in which an object is directly coated, a substrate is brought into close contact with the object, the coating film of the resin composition is cured, and then the mold is peeled off.

上記モールドは、パターン形状の少なくとも一部に離型剤が塗布されていてもよい。上記電圧印加塗布の前にモールドに離型剤が塗布されていると、形成された樹脂成型品をモールドから取り出す(離型する)際に容易に離型することができる。この場合、通常は離型層も同時にモールドから離型するため、得られる樹脂成型品は、表面に離型層を少なくとも1層有することとなる。 The mold may be coated with a mold release agent on at least a part of the pattern shape. If the mold release agent is applied to the mold before the voltage application application, the mold can be easily released when the formed resin molded product is taken out (removed) from the mold. In this case, since the release layer is usually released from the mold at the same time, the obtained resin molded product has at least one release layer on the surface.

上記離型剤としては、例えば、フッ素系離型剤、シリコーン系離型剤、ワックス系離型剤等が挙げられる。上記離型剤は、1種を使用してもよいし、2種以上を使用してもよい。上記離型剤の塗布方法としては、スプレー法、スピンコート法、スクリーン印刷法等が挙げられる。 Examples of the release agent include a fluorine-based release agent, a silicone-based release agent, a wax-based release agent, and the like. As the release agent, one kind may be used, or two or more kinds may be used. Examples of the method for applying the release agent include a spray method, a spin coating method, and a screen printing method.

上記モールド塗布工程において、上記電圧印加塗布は、少なくともパターン形状の全体に誘電性硬化性組成物の塗布膜ができていることを目視で確認できるまで行うことが好ましい。また、上記電圧印加塗布は、樹脂成型品を形成するための硬化性組成物の全量を塗布するまで行ってもよく、パターン形状の全体に誘電性硬化性組成物の塗布膜ができていることを目視で確認できるまで上記電圧印加塗布を行った後、樹脂成型品を形成するための硬化性組成物の残りの全量を他の塗布方法により塗布してもよい。上記他の塗布方法としては、生産性の観点から、100ml/min以上(好ましくは1000ml/min以上)の塗布速度で塗布する方法が好ましい。すなわち、上記モールド塗布工程は、上記電圧印加塗布段階の後に、100ml/min以上(好ましくは1000ml/min以上)の塗布速度で硬化性組成物を上記モールドに塗布する段階を含むことが好ましい。なお、上記他の塗布方法で塗布する硬化性組成物は、上記誘電性硬化性組成物であってもよく、その他の硬化性組成物であってもよい。また、その他の硬化性組成物は、誘電性を有していてもよく有していなくてもよい。 In the mold coating step, the voltage application coating is preferably performed until at least it can be visually confirmed that a coating film of the dielectric curable composition is formed on the entire pattern shape. Further, the voltage application coating may be performed until the entire amount of the curable composition for forming the resin molded product is applied, and the coating film of the dielectric curable composition is formed on the entire pattern shape. After applying the above voltage until it can be visually confirmed, the remaining total amount of the curable composition for forming the resin molded product may be applied by another coating method. As the other coating method, a method of coating at a coating rate of 100 ml / min or more (preferably 1000 ml / min or more) is preferable from the viewpoint of productivity. That is, the mold coating step preferably includes a step of applying the curable composition to the mold at a coating rate of 100 ml / min or more (preferably 1000 ml / min or more) after the voltage application coating step. The curable composition applied by the other coating method may be the above-mentioned dielectric curable composition or other curable composition. In addition, other curable compositions may or may not have dielectric properties.

上記他の塗布方法は、公知乃至慣用の塗布方法により行うことができる。上記他の塗布としては、例えば、スピンコート塗布、ロールコート塗布、スプレー塗布(スプレー噴霧)、ディスペンスコート、ディップコート、インクジェット塗布、エアーブラシ塗布(エアーブラシ噴霧)、超音波塗布(超音波噴霧)等が挙げられる。 The above-mentioned other coating method can be performed by a known or conventional coating method. Examples of the above other coatings include spin coating coating, roll coating coating, spray coating (spray spraying), dispense coating, dip coating, inkjet coating, airbrush coating (airbrush spraying), and ultrasonic coating (ultrasonic spraying). And so on.

上記モールド塗布工程では、上記電圧印加塗布、及びその後必要に応じて上記他の塗布方法による塗布を行うことにより、上記誘電性硬化性組成物を含む硬化性組成物がパターン形状部分に塗布(充填)されたモールドが得られる。 In the mold coating step, the curable composition containing the dielectric curable composition is coated (filled) on the pattern-shaped portion by applying the voltage and then coating by the other coating method as needed. ) Is obtained.

(脱泡工程)
本発明の製造方法は、上記モールド塗布工程後に、塗布された硬化性組成物中の気泡を脱泡する工程(脱泡工程)を有していてもよい。本発明の製造方法において上記モールド塗布工程では、硬化性組成物中の気泡の発生はかなり抑制されるが、上記脱泡工程により、わずかに発生した気泡を抜くことができる。
(Defoaming process)
The production method of the present invention may include a step of defoaming bubbles in the applied curable composition (defoaming step) after the mold coating step. In the manufacturing method of the present invention, the generation of bubbles in the curable composition is considerably suppressed in the mold coating step, but the slightly generated bubbles can be removed by the defoaming step.

上記脱泡は、公知乃至慣用の脱泡方法により行うことができ、減圧による脱泡(減圧脱泡、真空脱泡)が好ましい。上記減圧脱泡は、例えば、上記硬化性組成物が充填されたモールドを、圧力0.1〜20kPaの環境下に1〜10分間静置して行うことができる。 The defoaming can be performed by a known or conventional defoaming method, and defoaming by decompression (decompression defoaming, vacuum defoaming) is preferable. The decompression defoaming can be performed, for example, by allowing the mold filled with the curable composition to stand in an environment of a pressure of 0.1 to 20 kPa for 1 to 10 minutes.

(型閉じ工程)
上記モールド塗布工程(必要に応じて、脱泡工程)を経て得られた上記硬化性組成物が塗布(充填)されたモールドを、塗布された硬化性組成物を挟み込むように他の基板と重ね合わせる工程(型閉じ工程)を行う。すなわち、上記硬化性組成物が塗布されたモールドと上記他の基板とを、それぞれ、上型と下型として用い、硬化性組成物を挟み込むようにして上型及び下型の型閉じ工程を行う。この際、どちらが上型又は下型であってもよい。
(Mold closing process)
A mold coated (filled) with the curable composition obtained through the mold coating step (necessarily, a defoaming step) is superposed on another substrate so as to sandwich the coated curable composition. Perform the matching process (mold closing process). That is, the mold coated with the curable composition and the other substrate are used as the upper mold and the lower mold, respectively, and the mold closing steps of the upper mold and the lower mold are performed so as to sandwich the curable composition. .. At this time, whichever is the upper mold or the lower mold may be used.

上記他の基板としては、パターン形状を有するモールド(上記電圧印加塗布を行ったモールドとは異なる他のモールド)であってもよく、パターン形状を有しない基板(平面基板)であってもよい。例えば、一方の面のみに凹凸形状を有する樹脂成型品を製造する場合は上記他の基板として上記平面基板を用いることができ、両面に凹凸形状を有する樹脂成型品を製造する場合は上記他の基板として上記他のモールドを用いることができる。 The other substrate may be a mold having a pattern shape (another mold different from the mold to which the voltage application is applied) or a substrate having no pattern shape (flat substrate). For example, when manufacturing a resin molded product having an uneven shape on only one surface, the flat substrate can be used as the other substrate, and when producing a resin molded product having an uneven shape on both sides, the above other substrate can be used. The other molds described above can be used as the substrate.

上記他のモールドとしては、上述の電圧印加塗布を行うモールドと同様のものを用いることができる。上記の2つのモールドは、異なる材料から形成されていてもよいし、同じ材料から形成されていてもよい。また、上記の2つのモールドは、同じパターン形状を有していてもよいし、異なるパターン形状を有していてもよい。 As the other mold, the same mold as the above-mentioned mold for applying voltage can be used. The above two molds may be made of different materials or may be made of the same material. Further, the above two molds may have the same pattern shape or may have different pattern shapes.

上記平面基板としては、例えば、ガラス板;シリコン、ガリウム砒素、窒化ガリウム等の半導体;ポリカーボネート、ポリプロピレン、ポリエチレン等の樹脂基板;金属基板;これらの材料の組み合わせ等が挙げられる。上記平面基板は、微細配線、結晶構造、光導波路、ホログラフィ等の光学的構造等のパターン構造物を有していてもよい。 Examples of the flat substrate include a glass plate; a semiconductor such as silicon, gallium arsenide, and gallium nitride; a resin substrate such as polycarbonate, polypropylene, and polyethylene; a metal substrate; and a combination of these materials. The flat substrate may have a pattern structure such as a fine wiring, a crystal structure, an optical waveguide, and an optical structure such as holography.

上記他の基板には、硬化性組成物が塗布されていてもよいし、塗布されていなくてもよい。上記他の基板に硬化性組成物が塗布されている場合、電圧印加塗布を行う上記モールド塗布工程(必要に応じて、脱泡工程)を経て硬化性組成物が塗布(充填)された基板を用いてもよい。特に、上記他の基板としてモールドを用いる場合(すなわち、両面に凹凸形状を有する樹脂成型品を製造する場合)、上記他の基板としてのモールドは、上記導電性基板塗布工程及び上記モールド塗布工程(必要に応じて、脱泡工程)を経て硬化性組成物が塗布(充填)されたモールドを用いることが好ましい。上記他の基板として硬化性組成物が塗布された基板(特に、上記導電性基板塗布工程及び上記モールド塗布工程を経て硬化性組成物が塗布されたモールド)を用いる場合、上記型閉じ工程は、硬化性組成物同士が接触するように上型と下型とを重ね合わせる。 The curable composition may or may not be applied to the other substrate. When the curable composition is applied to the other substrate, the substrate to which the curable composition is applied (filled) is subjected to the above-mentioned mold coating step (if necessary, defoaming step) of applying voltage. You may use it. In particular, when a mold is used as the other substrate (that is, when a resin molded product having an uneven shape on both sides is manufactured), the mold as the other substrate is the conductive substrate coating step and the mold coating step (that is, the mold coating step). If necessary, it is preferable to use a mold to which the curable composition is applied (filled) through a defoaming step). When a substrate coated with the curable composition (particularly, a mold coated with the curable composition through the conductive substrate coating step and the mold coating step) is used as the other substrate, the mold closing step is performed. The upper mold and the lower mold are superposed so that the curable compositions are in contact with each other.

また、上述のように、上記導電性基板として誘電性を有するモールドを用いることが可能である。この場合、上型への塗布と下型への誘電性硬化性組成物の塗布を各々行う必要がなく、例えば下型としての誘電性を有するモールドへ塗布した後、上型としての誘電性を有するモールドと下型へ電圧印加しながら、上型へ上記誘電性硬化性組成物を接触させ、これと同時に型閉じして後述のプレス工程においてプレスすることも可能である。そして、この場合、上型と下型へ別々の塗布を行う工程が一括されるため、工程短縮の効果が得られ、作業性にも優れる。 Further, as described above, it is possible to use a mold having a dielectric property as the conductive substrate. In this case, it is not necessary to apply the dielectric curable composition to the upper mold and the dielectric curable composition to the lower mold, respectively. It is also possible to bring the dielectric curable composition into contact with the upper mold while applying a voltage to the mold to be held and the lower mold, and at the same time, close the mold and press it in the pressing step described later. In this case, since the steps of separately applying the coating to the upper die and the lower die are integrated, the effect of shortening the steps can be obtained and the workability is also excellent.

(プレス工程)
本発明の製造方法は、上記型閉じ工程後、上型の上部からプレスする工程(プレス工程)を有していてもよい。これにより、得られる樹脂成型品の厚みバラツキを小さくすることができる。プレスする際の圧力は、例えば、0.01〜100MPaである。
(Press process)
The manufacturing method of the present invention may include a step (pressing step) of pressing from the upper part of the upper mold after the mold closing step. Thereby, the thickness variation of the obtained resin molded product can be reduced. The pressure at the time of pressing is, for example, 0.01 to 100 MPa.

(硬化工程)
上記硬化工程では、上記モールドに塗布(充填)された硬化性組成物を硬化させて樹脂成型品を得る。具体的には、上記誘電性硬化性組成物等の硬化性組成物に含まれる硬化性化合物(特に、カチオン硬化性化合物)の重合反応を進行させることにより、該硬化性組成物を硬化させることができる。硬化の方法は、周知乃至慣用の方法より適宜選択でき、特に限定されないが、例えば、活性エネルギー線の照射、及び/又は、加熱する方法が挙げられる。上記活性エネルギー線としては、例えば、赤外線、可視光線、紫外線、X線、電子線、α線、β線、γ線等のいずれを使用することもできる。中でも、取り扱い性に優れる点で、紫外線が好ましい。
(Curing process)
In the curing step, the curable composition applied (filled) to the mold is cured to obtain a resin molded product. Specifically, the curable composition is cured by advancing the polymerization reaction of the curable compound (particularly, the cationic curable compound) contained in the curable composition such as the dielectric curable composition. Can be done. The curing method can be appropriately selected from well-known or conventional methods, and is not particularly limited, and examples thereof include a method of irradiating with active energy rays and / or heating. As the active energy ray, for example, any of infrared rays, visible rays, ultraviolet rays, X-rays, electron beams, α rays, β rays, γ rays and the like can be used. Of these, ultraviolet rays are preferable because they are easy to handle.

紫外線照射を行う際の光源としては、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、キセノン灯、メタルハライド灯等が用いられる。照射時間は、光源の種類、光源と塗布面との距離、その他の条件により異なるが、長くとも数十秒である。照度は、例えば5〜200mW程度である。活性エネルギー線照射後は、必要に応じて加熱(ポストキュア)を行って硬化の促進を図ってもよい。 As a light source for irradiating ultraviolet rays, a high-pressure mercury lamp, an ultra-high-pressure mercury lamp, a carbon arc lamp, a xenon lamp, a metal halide lamp, or the like is used. The irradiation time varies depending on the type of light source, the distance between the light source and the coated surface, and other conditions, but is several tens of seconds at the longest. The illuminance is, for example, about 5 to 200 mW. After irradiation with active energy rays, heating (post-cure) may be performed as necessary to promote curing.

上記硬化工程を経て、硬化性組成物が硬化し、樹脂成型品を得ることができる。上記硬化工程後、上型と下型とを開き、モールドから樹脂成型品を取り出すことができる。 Through the above curing step, the curable composition is cured, and a resin molded product can be obtained. After the curing step, the upper mold and the lower mold can be opened, and the resin molded product can be taken out from the mold.

図2は、本発明の製造方法の一実施形態を示す工程図である。図2に示す本発明の製造方法は、パターン形状を有するモールドに対する接触角が50°以下の誘電性硬化性組成物を導電性基板上に塗布する導電性基板塗布工程S1、上記導電性基板の上記誘電性硬化性組成物塗布面と上記モールドのパターン形状を有する面とを対向させ、上記導電性基板と上記モールドの間に電圧を印加することにより上記導電性基板上に塗布された上記誘電性硬化性組成物を上記モールドの硬化性組成物未塗布部分に接触させ塗布する電圧印加塗布段階を含むモールド塗布工程S2、塗布された硬化性組成物中の気泡を脱泡する脱泡工程S3、硬化性組成物が塗布(充填)されたモールドを、塗布された硬化性組成物を挟み込むように他の基板と重ね合わせる型閉じ工程S4、上型の上部からプレスするプレス工程S5、及び上記モールドに塗布された硬化性組成物を硬化させて樹脂成型品を得る硬化工程S6を、この順に有する。 FIG. 2 is a process diagram showing an embodiment of the manufacturing method of the present invention. The manufacturing method of the present invention shown in FIG. 2 is a conductive substrate coating step S1 of coating a conductive substrate with a dielectric curable composition having a contact angle of 50 ° or less with respect to a mold having a pattern shape, the above-mentioned conductive substrate. The dielectric coated on the conductive substrate by facing the coated surface of the dielectric curable composition and the surface having the pattern shape of the mold and applying a voltage between the conductive substrate and the mold. Mold coating step S2 including a voltage application coating step in which the curable composition is brought into contact with the uncoated portion of the mold and coated, and defoaming step S3 for defoaming bubbles in the coated curable composition. , The mold closing step S4 in which the mold coated (filled) with the curable composition is superposed on another substrate so as to sandwich the coated curable composition, the press step S5 in which the mold is pressed from the upper part of the upper mold, and the above. The curing step S6 for obtaining a resin molded product by curing the curable composition applied to the mold is provided in this order.

本発明の製造方法により得られる樹脂成型品は、例えば、レンズ、プリズム、LED、有機EL素子、半導体レーザー、トランジスタ、太陽電池、CCDイメージセンサ、光導波路、光ファイバー、代替ガラス(例えば、ディスプレイ用基板、ハードディスク基板、偏光フィルム)等の光学部品として好ましく使用することができる。 The resin molded product obtained by the manufacturing method of the present invention includes, for example, a lens, a prism, an LED, an organic EL element, a semiconductor laser, a transistor, a solar cell, a CCD image sensor, an optical waveguide, an optical fiber, and a substitute glass (for example, a substrate for a display). , Hard disk substrate, polarizing film) and the like.

上記光学部品として、例えばレンズを製造する際は、マイクロレンズアレイ[例えば、複数のマイクロレンズが縦横方向に、行列状に並置された形状を有する構造体]として得てもよい。即ち、上記モールドは、マイクロレンズアレイの形状に対応するパターン形状を有することが好ましい。 As the optical component, for example, when manufacturing a lens, it may be obtained as a microlens array [for example, a structure having a shape in which a plurality of microlenses are arranged in a matrix in the vertical and horizontal directions]. That is, it is preferable that the mold has a pattern shape corresponding to the shape of the microlens array.

光学部品のサイズとしては、例えば光学部品がマイクロレンズアレイの場合、マイクロレンズ1個のサイズは、直径が例えば0.01〜100mm程度、厚みが例えば0.1〜2.0mm程度である。また、マイクロレンズアレイにおけるピッチ幅は、例えば10〜1000μm程度である。 As for the size of the optical component, for example, when the optical component is a microlens array, the size of one microlens is, for example, about 0.01 to 100 mm in diameter and about 0.1 to 2.0 mm in thickness. The pitch width of the microlens array is, for example, about 10 to 1000 μm.

上記光学部品としては、特に、フレネルレンズアレイであることが好ましい。なお、フレネルレンズとは、図3に示すように、表面にレンズ面4と、該レンズ面と相対する非レンズ面5によって構成されるプリズムであって、断面が山形形状であるプリズムが複数個形成されているレンズである。レンズ面4と基準面6のなす角θは、中心に向かっていくに従い、連続的に角度が小さく(又は大きく)なっており、レンズ面1のみを連続すると、1つの凸レンズ(または凹レンズ)を形成する(図4参照)。フレネルレンズアレイを成型するためのモールドは図3及び4に示すように凹凸形状が細かいため、硬化性組成物の塗布時に特に気泡が発生しやすい。しかし、本発明の樹脂成型品の製造方法は、フレネルレンズアレイのような特に微細な凹凸形状を有する樹脂成型品を製造するためのモールドに対しても塗布時の気泡の発生を抑制することができる。 The optical component is particularly preferably a Fresnel lens array. As shown in FIG. 3, the Fresnel lens is a prism composed of a lens surface 4 on the surface and a non-lens surface 5 facing the lens surface, and there are a plurality of prisms having a chevron-shaped cross section. It is a formed lens. The angle θ formed by the lens surface 4 and the reference surface 6 continuously decreases (or increases) toward the center, and when only the lens surface 1 is continuous, one convex lens (or concave lens) is formed. Form (see FIG. 4). As shown in FIGS. 3 and 4, the mold for molding the Fresnel lens array has a fine uneven shape, so that bubbles are particularly likely to be generated when the curable composition is applied. However, the method for producing a resin molded product of the present invention can suppress the generation of air bubbles during coating even for a mold for producing a resin molded product having a particularly fine uneven shape such as a Fresnel lens array. can.

上記フレネルレンズアレイにおける繰返し間隔(凸部最頂部間又は凹部最深部間の距離、つまりプリズム形状のピッチ幅)は、特に限定されないが、0.5mm以下が好ましく、より好ましくは0.2mm以下、さらに好ましくは0.1mm以下である。なお、下限は、例えば0.05mmである。上記繰返し間隔が狭いほど気泡発生の防止の難易度が高くなるが、本発明の樹脂成型品の製造方法によれば、このような繰返し間隔に対応するモールドに対しても塗布時の気泡の発生を抑制することができる。 The repetition interval (distance between the top of the convex portion or the deepest portion of the concave portion, that is, the pitch width of the prism shape) in the Fresnel lens array is not particularly limited, but is preferably 0.5 mm or less, more preferably 0.2 mm or less. More preferably, it is 0.1 mm or less. The lower limit is, for example, 0.05 mm. The narrower the repetition interval, the more difficult it is to prevent the generation of bubbles. However, according to the method for producing a resin molded product of the present invention, the generation of bubbles during coating even for a mold corresponding to such a repetition interval. Can be suppressed.

上記フレネルレンズアレイにおける先鋭度(凸部先端部R又は凹部谷部R、つまり尖り角度・切れ込み角度の鋭さ)は、特に限定されないが、R0.01mm以下が好ましく、より好ましくはR0.005mm以下、さらに好ましくはR0.001mm以下である。なお、下限は、例えば0.0005mmである。上記Rが小さいほど気泡発生の防止の難易度が高くなるが、本発明の樹脂成型品の製造方法によれば、このような先鋭度に対応するモールドに対しても塗布時の気泡の発生を抑制することができる。 The sharpness (the tip R of the convex portion or the valley R of the concave portion, that is, the sharpness of the sharpness angle / cutting angle) in the Fresnel lens array is not particularly limited, but is preferably R0.01 mm or less, more preferably R0.005 mm or less. More preferably, it is R0.001 mm or less. The lower limit is, for example, 0.0005 mm. The smaller the R, the more difficult it is to prevent the generation of bubbles. However, according to the method for producing a resin molded product of the present invention, the generation of bubbles during coating can be generated even in a mold corresponding to such sharpness. It can be suppressed.

上記フレネルレンズアレイにおける高さ間隔(凸部最頂部と凹部最深部の高低差)は、特に限定されないが、0.05mm以上が好ましく、より好ましくは0.5mm以上、さらに好ましくは5mm以上である。上限は、例えば10mmである。上記高さ間隔が高いほど気泡発生の防止の難易度が高くなるが、本発明の樹脂成型品の製造方法によれば、このような高さ間隔に対応するモールドに対しても塗布時の気泡の発生を抑制することができる。 The height interval (height difference between the top of the convex portion and the deepest portion of the concave portion) in the Fresnel lens array is not particularly limited, but is preferably 0.05 mm or more, more preferably 0.5 mm or more, still more preferably 5 mm or more. .. The upper limit is, for example, 10 mm. The higher the height interval, the more difficult it is to prevent the generation of air bubbles. However, according to the method for producing a resin molded product of the present invention, air bubbles at the time of coating can be applied to a mold corresponding to such a height interval. Can be suppressed.

S1 導電性基板塗布工程
S2 モールド塗布工程
S3 脱泡工程
S4 型閉じ工程
S5 プレス工程
S6 硬化工程
S1 Conductive substrate coating process S2 Mold coating process S3 Defoaming process S4 Mold closing process S5 Pressing process S6 Curing process

Claims (7)

インプリント成型により樹脂成型品を製造する方法であって、
パターン形状を有するモールドに対する接触角が50°以下の誘電性硬化性組成物を導電性基板上に塗布する導電性基板塗布工程、
前記導電性基板の前記誘電性硬化性組成物塗布面と前記モールドのパターン形状を有する面とを対向させ、前記導電性基板と前記モールドの間に電圧を印加することにより前記導電性基板上に塗布された前記誘電性硬化性組成物を前記モールドの硬化性組成物未塗布部分に接触させ塗布する電圧印加塗布段階を含むモールド塗布工程、
及び前記モールドに塗布された前記誘電性硬化性組成物を硬化させて樹脂成型品を得る硬化工程を有する、樹脂成型品の製造方法であって、
前記誘電性硬化性組成物が、エポキシ化合物を含有する硬化性組成物であり、
前記モールドが、シリコーン系樹脂製のモールドである、樹脂成型品の製造方法。
It is a method of manufacturing resin molded products by imprint molding.
A conductive substrate coating step of coating a conductive substrate with a dielectric curable composition having a contact angle of 50 ° or less with respect to a mold having a pattern shape.
The surface coated with the dielectric curable composition of the conductive substrate and the surface having the pattern shape of the mold are opposed to each other, and a voltage is applied between the conductive substrate and the mold on the conductive substrate. A mold coating step including a voltage-applied coating step in which the coated dielectric curable composition is brought into contact with a non-coated portion of the mold and coated.
A method for producing a resin molded product, which comprises a curing step of curing the dielectric curable composition applied to the mold to obtain a resin molded product.
The dielectric curable composition is a curable composition containing an epoxy compound.
A method for manufacturing a resin molded product, wherein the mold is a mold made of a silicone-based resin.
前記モールド塗布工程の後に、前記モールド塗布工程を経て得られた前記誘電性硬化性組成物が塗布されたモールドを、前記導電性基板塗布工程及び前記モールド塗布工程を経て前記誘電性硬化性組成物が塗布された別のモールドと、前記誘電性硬化性組成物同士が接触するように重ね合わせる型閉じ工程を有する、請求項1に記載の樹脂成型品の製造方法。 After the mold coating step, the mold to which the dielectric curable composition obtained through the mold coating step is applied is subjected to the conductive substrate coating step and the mold coating step to obtain the dielectric curable composition. The method for producing a resin molded product according to claim 1, further comprising a mold closing step of superimposing the dielectric curable composition on another mold coated with the above so that the dielectric curable compositions are in contact with each other. 前記モールド塗布工程が、前記電圧印加塗布段階の後に、100ml/min以上の塗布速度で前記誘電性硬化性組成物を前記モールドに塗布する段階を含む、請求項1又は2に記載の樹脂成型品の製造方法。 The resin molded product according to claim 1 or 2, wherein the mold coating step includes a step of applying the dielectric curable composition to the mold at a coating rate of 100 ml / min or more after the voltage application coating step. Manufacturing method. 前記モールド塗布工程の後に、減圧による脱泡を行う脱泡工程を有する、請求項1〜のいずれか1項に記載の樹脂成型品の製造方法。 The method for producing a resin molded product according to any one of claims 1 to 3 , further comprising a defoaming step of defoaming by reducing pressure after the mold coating step. 前記モールドにおけるパターン形状が凹凸形状であり、凹部最底部と凸部最頂部の高低差が0.05mm以上である、請求項1〜のいずれか1項に記載の樹脂成型品の製造方法。 The method for producing a resin molded product according to any one of claims 1 to 4 , wherein the pattern shape in the mold is an uneven shape, and the height difference between the bottom of the concave portion and the top of the convex portion is 0.05 mm or more. 前記樹脂成型品がマイクロレンズアレイである、請求項1〜のいずれか1項に記載の樹脂成型品の製造方法。 The method for producing a resin molded product according to any one of claims 1 to 5 , wherein the resin molded product is a microlens array. 請求項1〜のいずれか1項に記載の樹脂成型品の製造方法により得られる樹脂成型品を用いた光学部品の製造方法。 A method for manufacturing an optical component using a resin molded product obtained by the method for manufacturing a resin molded product according to any one of claims 1 to 6.
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