JP7365801B2 - Substrate, X-ray detector substrate, and method for manufacturing an X-ray detector - Google Patents

Substrate, X-ray detector substrate, and method for manufacturing an X-ray detector Download PDF

Info

Publication number
JP7365801B2
JP7365801B2 JP2019129585A JP2019129585A JP7365801B2 JP 7365801 B2 JP7365801 B2 JP 7365801B2 JP 2019129585 A JP2019129585 A JP 2019129585A JP 2019129585 A JP2019129585 A JP 2019129585A JP 7365801 B2 JP7365801 B2 JP 7365801B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
hole
ray
ray detector
underfill
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2019129585A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2021015886A (en
Inventor
輝 西島
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Canon Medical Systems Corp
Original Assignee
Canon Medical Systems Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Canon Medical Systems Corp filed Critical Canon Medical Systems Corp
Priority to JP2019129585A priority Critical patent/JP7365801B2/en
Publication of JP2021015886A publication Critical patent/JP2021015886A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP7365801B2 publication Critical patent/JP7365801B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Description

本発明の実施形態は、基板、X線検出器用の基板、及び、X線検出器の製造方法に関する。 Embodiments of the present invention relate to a substrate, a substrate for an X-ray detector, and a method for manufacturing an X-ray detector.

被検体の体内組織が画像化された医用画像データを生成する医用画像診断装置が存在する。医用画像診断装置としては、X線CT(Computed Tomography)装置及びX線診断装置等が挙げられる。X線CT装置は、基板に光センサとシンチレータとが実装された検出器パックを2次元配列し、その前面にグリッドが装着されたX線検出器を備える。X線CT装置は、寝台装置に載置された被検体にX線を照射することで、被検体を透過したX線をX線検出器が検出することで、X線に基づく電気信号に基づいて、被検体のアキシャル断層のCT画像データやボリュームデータ等の再構成画像データを生成する。X線診断装置もまた、X線検出器を備える。 2. Description of the Related Art There are medical image diagnostic apparatuses that generate medical image data in which internal tissues of a subject are imaged. Examples of the medical image diagnostic apparatus include an X-ray CT (Computed Tomography) apparatus and an X-ray diagnostic apparatus. An X-ray CT apparatus includes a two-dimensional array of detector packs each having an optical sensor and a scintillator mounted on a substrate, and an X-ray detector having a grid attached to the front surface of the detector pack. An X-ray CT device irradiates a subject placed on a bed with X-rays, and an X-ray detector detects the X-rays that have passed through the subject. Then, reconstructed image data such as CT image data and volume data of an axial tomogram of the subject is generated. The X-ray diagnostic device also includes an X-ray detector.

X線検出器を構成する各検出器パックは、基板に光センサとシンチレータとが実装された実装基板に、硬化剤としてのアンダーフィルが充填されることで製造される。実装基板に対するアンダーフィルの充填手法としては、小口径のニードルをもつディスペンサを用いて、隣り合う光センサの隙間からアンダーフィルを注入することで充填する手法がある。また、アンダーフィルの塗布領域が基板上に確保できない場合には、実装基板自体を傾け、上方から光センサと基板との隙間にアンダーフィルを注入することで充填する手法がある。 Each detector pack constituting an X-ray detector is manufactured by filling a mounting board in which an optical sensor and a scintillator are mounted on the board with an underfill as a hardening agent. As a method of filling the mounting board with underfill, there is a method of filling the mounting board by injecting the underfill from the gap between adjacent optical sensors using a dispenser with a small diameter needle. Furthermore, if an area for application of the underfill cannot be secured on the substrate, there is a method of filling the gap by tilting the mounting substrate itself and injecting the underfill into the gap between the optical sensor and the substrate from above.

特開2019-041046号公報Japanese Patent Application Publication No. 2019-041046

本発明が解決しようとする課題は、効率よく、かつ、効果的に硬化剤を充填することができる基板を提供することである。 The problem to be solved by the present invention is to provide a substrate that can be efficiently and effectively filled with a curing agent.

実施形態に係る基板は、電子デバイスと電気的に接続するための複数のパッドに電気的に接続可能な第1の面を有する基板である。基板には、複数のパッド間に設けられる穴を第1の面に有し、穴は第1の面と対向する第2の面に貫通するように設けられる。 The substrate according to the embodiment is a substrate having a first surface electrically connectable to a plurality of pads for electrically connecting to an electronic device. The substrate has holes provided between the plurality of pads on a first surface, and the holes are provided so as to penetrate through a second surface opposite to the first surface.

図1は、第1の実施形態に係る基板の構成を示す概略図。FIG. 1 is a schematic diagram showing the configuration of a substrate according to the first embodiment. 図2は、比較例に係る基板の構成を示す概略図。FIG. 2 is a schematic diagram showing the configuration of a substrate according to a comparative example. 図3は、第2の実施形態に係る基板の構成を示す概略図。FIG. 3 is a schematic diagram showing the configuration of a substrate according to the second embodiment. 図4は、第3の実施形態に係る基板の構成を示す概略図。FIG. 4 is a schematic diagram showing the configuration of a substrate according to the third embodiment. 図5は、第4の実施形態に係る基板の構成を示す概略図。FIG. 5 is a schematic diagram showing the configuration of a substrate according to the fourth embodiment. 図6は、第5の実施形態に係る基板の構成を示す概略図。FIG. 6 is a schematic diagram showing the configuration of a substrate according to the fifth embodiment. 図7は、第5の実施形態に係る基板の第1及び第2変形例を示す上面図。FIG. 7 is a top view showing first and second modified examples of the substrate according to the fifth embodiment. 図8は、第5の実施形態に係る基板の第3変形例を示す上面図。FIG. 8 is a top view showing a third modification of the substrate according to the fifth embodiment. 図9は、第5の実施形態に係る基板の第4変形例を示す概略図。FIG. 9 is a schematic diagram showing a fourth modification of the substrate according to the fifth embodiment. 図10は、実施形態に係る基板が適用されるX線CT装置の構成を示す概略図。FIG. 10 is a schematic diagram showing the configuration of an X-ray CT apparatus to which the substrate according to the embodiment is applied. 図11は、X線検出器の、アンダーフィルが各基板に充填される前のX線検出器を示す図。FIG. 11 is a diagram showing the X-ray detector before each substrate is filled with underfill. 図12は、充填前のX線検出器から製造されたX線検出器を示す図。FIG. 12 is a diagram showing an X-ray detector manufactured from an X-ray detector before filling. 図13は、実施形態に係るX線検出器の製造方法をフローチャートとして示す図。FIG. 13 is a flow chart showing a method for manufacturing an X-ray detector according to an embodiment.

以下、図面を参照しながら、基板、X線検出器用の基板、及び、X線検出器の製造方法の実施形態について詳細に説明する。 Hereinafter, embodiments of a substrate, a substrate for an X-ray detector, and a method for manufacturing an X-ray detector will be described in detail with reference to the drawings.

(第1の実施形態に係る基板)
図1は、第1の実施形態に係る基板の構成を示す概略図である。図1(A)は、第1の実施形態に係る基板の上面図を示す。図1(B)~(D)は、図1(A)のI-I断面図を示す。
(Substrate according to the first embodiment)
FIG. 1 is a schematic diagram showing the configuration of a substrate according to the first embodiment. FIG. 1A shows a top view of the substrate according to the first embodiment. FIGS. 1(B) to (D) show cross-sectional views taken along line II in FIG. 1(A).

図1(A),(B)は、第1の実施形態に係る基板61Aを備える実装基板60Aを示す。実装基板60Aは、基板61Aと、電子デバイスとしての光センサ62と、電子デバイスとしてのシンチレータ63と、複数のパッド(「金属バンプ」とも呼ばれる)64とを備える。 FIGS. 1A and 1B show a mounting board 60A including a board 61A according to the first embodiment. The mounting board 60A includes a substrate 61A, an optical sensor 62 as an electronic device, a scintillator 63 as an electronic device, and a plurality of pads (also called "metal bumps") 64.

基板61Aは、単層基板である。基板61Aは、光センサ62と電気的に接続するための複数のパッド64に電気的に接続可能な第1の面P1と、第1の面P1に対向する第2の面P2とを有する。例えば、基板61Aは、アルミナから形成されたセラミック基板である。 The substrate 61A is a single layer substrate. The substrate 61A has a first surface P1 that can be electrically connected to a plurality of pads 64 for electrically connecting to the optical sensor 62, and a second surface P2 that faces the first surface P1. For example, the substrate 61A is a ceramic substrate made of alumina.

光センサ62は、後述するシンチレータ63からの光量に応じて電気信号を発生する機能を有し、フォトダイオード等の光電変換素子を有するASIC(Application Specific Integrated Circuit)である。即ち、光センサ62は、光を電気信号に変換する。光センサ62は、基板61Aの第1の面P1上に配置される。本明細書では、第1の面P1上に所定のギャップで、チャンネル方向に2行、列方向に2列の光センサ62がアレイ状に配置されるものとして説明する。しかしながら、その場合に限定されるものではない。また、チャンネル方向と列方向とで数が異なっていてもよい。 The optical sensor 62 has a function of generating an electric signal according to the amount of light from a scintillator 63, which will be described later, and is an ASIC (Application Specific Integrated Circuit) having a photoelectric conversion element such as a photodiode. That is, the optical sensor 62 converts light into an electrical signal. The optical sensor 62 is arranged on the first surface P1 of the substrate 61A. In this specification, the optical sensors 62 will be described as being arranged in an array on the first surface P1 with two rows in the channel direction and two columns in the column direction with a predetermined gap. However, it is not limited to that case. Further, the number may be different between the channel direction and the column direction.

複数の光センサ62の集合は、光センサアレイとも呼ばれる。光センサ62の電極に形成されるパッド64と第1の面P1上の電極とが、導電性接着剤を用いたフリップチップボンディングによって電気的に接続される。これにより、複数の光センサ62と基板61Aの第1の面P1とが接続される。なお、光センサ62は、光電子増倍管(フォトマルチプライヤ:PMT)等の構成を含むものとする。 A collection of multiple optical sensors 62 is also called an optical sensor array. The pad 64 formed on the electrode of the optical sensor 62 and the electrode on the first surface P1 are electrically connected by flip chip bonding using a conductive adhesive. Thereby, the plurality of optical sensors 62 and the first surface P1 of the substrate 61A are connected. Note that the optical sensor 62 includes a configuration such as a photomultiplier tube (PMT).

シンチレータ63は、入射X線量に応じた光子量の光を出力するシンチレータ結晶を有する。即ち、シンチレータ63は、入射したX線を光に変換する。シンチレータ63は、複数の光センサ62(即ち、光センサアレイ)上に透明接着フィルム(図示省略)を介して積層される。 The scintillator 63 has a scintillator crystal that outputs light with an amount of photons corresponding to the amount of incident X-rays. That is, the scintillator 63 converts the incident X-rays into light. The scintillator 63 is laminated on the plurality of optical sensors 62 (ie, optical sensor array) via a transparent adhesive film (not shown).

ここで、検出器パックは、一般に、フリップチップボンディングにより光センサが基板に実装されることが多いが、電極同士の接合力のみでは十分な強度が得られない場合がある。よって、光センサと基板との隙間にアンダーフィルを充填し、硬化させることで信頼性を高める処理が行われる。 Here, in the detector pack, the optical sensor is generally mounted on the substrate in many cases by flip-chip bonding, but sufficient strength may not be obtained only by the bonding force between the electrodes. Therefore, a process is performed to improve reliability by filling the gap between the optical sensor and the substrate with underfill and curing it.

基板に対して複数の電子デバイスが実装された実装基板に対するアンダーフィルの充填手法としては、小口径のニードルをもつディスペンサを用いて、隣り合う光センサの隙間からアンダーフィルを注入することで充填する手法がある。また、アンダーフィルの塗布領域が基板上に確保できない場合には、実装基板自体を傾け、上方から光センサと基板との隙間にアンダーフィルを注入することで充填する手法がある。 A method for filling underfill into a mounted board with multiple electronic devices mounted on the board is to use a dispenser with a small diameter needle to inject underfill from the gap between adjacent optical sensors. There is a method. Furthermore, if an area for application of the underfill cannot be secured on the substrate, there is a method of filling the gap by tilting the mounting substrate itself and injecting the underfill into the gap between the optical sensor and the substrate from above.

しかし、例えば、X線CT装置で用いられるような実装基板は、100μm以下という極めて狭いギャップで隣り合う光センサが実装されており、さらに、光センサ上にシンチレータが設置されているため、隣り合う光センサの隙間から直接にアンダーフィルを注入することは極めて困難である。また、実装基板を傾けてアンダーフィルを注入する場合、シンチレータ及び透明接着フィルムにアンダーフィルが付着し、アンダーフィル硬化後の検出器パックの性能が劣化するという問題がある。 However, for example, on a mounting board used in an X-ray CT device, adjacent optical sensors are mounted with an extremely narrow gap of 100 μm or less, and furthermore, a scintillator is installed on the optical sensor. It is extremely difficult to inject underfill directly through the gap between the optical sensors. Furthermore, when injecting underfill by tilting the mounting board, there is a problem that the underfill adheres to the scintillator and the transparent adhesive film, and the performance of the detector pack after the underfill is cured deteriorates.

そこで、第1の実施形態では、基板61Aに、アンダーフィル注入用の貫通孔HAを設けるものとする。具体的には、基板61Aは、複数のパッド64間に設けられる穴を第1の面P1に有し、穴は第1の面P1に対向する第2の面P2に貫通するように設けられる。第1の面P1の穴と、第2の面P2の穴とにより、貫通孔HAが形成される。なお、穴の形状は、丸の場合に限定されるものではなく、楕円や四角等であってもよい。 Therefore, in the first embodiment, a through hole HA for underfill injection is provided in the substrate 61A. Specifically, the substrate 61A has holes provided between the plurality of pads 64 on the first surface P1, and the holes are provided so as to penetrate through the second surface P2 opposite to the first surface P1. . A through hole HA is formed by the hole on the first surface P1 and the hole on the second surface P2. Note that the shape of the hole is not limited to a circle, but may be an ellipse, a square, or the like.

貫通孔HAの第1の面P1に形成される穴の径は、パッド64が接続される電極の配置位置に被らない最大径(最大面積)であることが好適であり、かつ、第2の面P2に形成される穴の径は、ディスペンサのニードルN(図1(C)に図示)の先端側が所定深さだけ挿入可能な径であることが好適である。例えば、貫通孔HAは、第1の面P1の中央に位置する4個のパッド間に対応する第1の面P1上の位置に配置され、かつ、第1の面P1における穴の径と、第2の面P2における穴の径とを同等とすればよい。 It is preferable that the diameter of the hole formed in the first surface P1 of the through hole HA is a maximum diameter (maximum area) that does not overlap the arrangement position of the electrode to which the pad 64 is connected, and The diameter of the hole formed in the surface P2 is preferably such that the tip side of the dispenser needle N (shown in FIG. 1(C)) can be inserted to a predetermined depth. For example, the through hole HA is arranged at a position on the first surface P1 corresponding to between the four pads located at the center of the first surface P1, and the diameter of the hole on the first surface P1 is The diameter of the hole in the second surface P2 may be made equal to the diameter of the hole.

そして、基板61Aに、光センサアレイとシンチレータ63が実装されて成る複数の実装基板60Aは、X線検出器の基台の上に2次元配列される(後述する図11(A)の符号「60E」が「60A」に置換された状態)。 A plurality of mounting boards 60A each having a photosensor array and a scintillator 63 mounted on the board 61A are two-dimensionally arranged on the base of the X-ray detector (reference numeral "" in FIG. 11A, which will be described later). 60E" is replaced with "60A").

X線検出器の基台の上に複数の実装基板60Aが2次元配列された状態で、各基板61Aについて、貫通孔HAの第2の面からニードルNの先端が挿入される(図1(C)に図示)。そして、ニードルNの先端から貫通孔HA内にアンダーフィルUが注入される。アンダーフィルUは、集積回路の封止に用いられる液状硬化性樹脂(硬化剤)の総称であり、主にエポキシ樹脂を主剤としたコンポジットレジンが主な材料となる。ニードルNの先端から貫通孔HA内に注入されたアンダーフィルUは、貫通孔HA内から光センサ62と基板61Aとの隙間に流入され、硬化する(図1(D)に図示)。実装基板60Aに、硬化されたアンダーフィルUが設けられることで、検出器パック70Aが製造される。 With a plurality of mounting boards 60A arranged two-dimensionally on the base of the X-ray detector, the tip of the needle N is inserted into each board 61A from the second surface of the through hole HA (see FIG. 1). (Illustrated in C)). Then, the underfill U is injected into the through hole HA from the tip of the needle N. Underfill U is a general term for liquid curable resins (curing agents) used for sealing integrated circuits, and the main material is a composite resin mainly composed of epoxy resin. The underfill U injected into the through hole HA from the tip of the needle N flows into the gap between the optical sensor 62 and the substrate 61A from within the through hole HA, and is cured (as shown in FIG. 1(D)). The detector pack 70A is manufactured by providing the hardened underfill U on the mounting board 60A.

基台上の複数の検出器パック70Aのそれぞれについて実装基板60AにアンダーフィルUが設けられることで、後述するX線検出器12が製造される(後述する図12(A)の符号「70E」が「70A」に置換された状態)。 By providing an underfill U on the mounting board 60A for each of the plurality of detector packs 70A on the base, the X-ray detector 12 described later is manufactured (reference numeral "70E" in FIG. 12(A) described later). is replaced with "70A").

以上のように、基板61Aによれば、第1の面P1上における電極の配置位置との関係と、ディスペンサのニードルNの径との関係との両方を考慮することによって、電極の配置位置とニードルNの径とに応じた位置及び径をもつ適切な貫通孔HAを基板61Aに設けることができる。それにより、効率よく、かつ、効果的に基板にアンダーフィルUを充填することができる。 As described above, according to the substrate 61A, the arrangement position of the electrode can be determined by considering both the relationship with the arrangement position of the electrode on the first surface P1 and the relationship with the diameter of the needle N of the dispenser. An appropriate through hole HA having a position and diameter depending on the diameter of the needle N can be provided in the substrate 61A. Thereby, the underfill U can be efficiently and effectively filled into the substrate.

(比較例に係る基板)
図2は、比較例に係る基板の構成を示す概略図である。図2(A)は、比較例に係る基板の上面図を示す。図2(B),(C)は、図2(A)のII-II断面図を示す。
(Substrate according to comparative example)
FIG. 2 is a schematic diagram showing the structure of a substrate according to a comparative example. FIG. 2A shows a top view of a substrate according to a comparative example. FIGS. 2(B) and 2(C) show cross-sectional views taken along line II-II in FIG. 2(A).

図2(A),(B)は、比較例に係る基板81を備える実装基板80を示す。実装基板80は、後述するX線CT装置やX線診断装置等に備えられるX線検出器に設けられるものである。 FIGS. 2A and 2B show a mounting board 80 including a board 81 according to a comparative example. The mounting board 80 is provided in an X-ray detector included in an X-ray CT device, an X-ray diagnostic device, etc., which will be described later.

実装基板80は、基板81と、光センサ82と、シンチレータ83と、パッド84とを備える。なお、光センサ82と、シンチレータ83と、パッド84とは、図1に示す光センサ62と、シンチレータ63と、パッド64とそれぞれ同一構造、同一機能を有するものであるものとして説明を省略する。 The mounting board 80 includes a board 81, a photosensor 82, a scintillator 83, and a pad 84. Note that the optical sensor 82, scintillator 83, and pad 84 are assumed to have the same structure and the same function as the optical sensor 62, scintillator 63, and pad 64 shown in FIG. 1, respectively, and a description thereof will be omitted.

基板81は、光センサ82側の第1の面Q1と、第1の面Q1に対向する第2の面Q2とを有する。基板81は、アンダーフィル注入用の貫通孔Iを設ける。具体的には、基板81は、複数のパッド84間に設けられる穴を第1の面Q1に有し、穴は第1の面Q1と対向する第2の面Q2に貫通するように設けられる。第1の面Q1の穴と、第2の面Q2の穴とにより、貫通孔Iが形成される。 The substrate 81 has a first surface Q1 on the optical sensor 82 side and a second surface Q2 opposite to the first surface Q1. The substrate 81 is provided with a through hole I for injecting underfill. Specifically, the substrate 81 has holes provided between the plurality of pads 84 on the first surface Q1, and the holes are provided so as to penetrate through the second surface Q2 facing the first surface Q1. . A through hole I is formed by the hole in the first surface Q1 and the hole in the second surface Q2.

貫通孔Iの第1の面Q1は、パッド64が接続される電極の配置位置に被らない位置に設けられる。しかし、第2の面における穴の径や、第1の面Q1の穴の径と第2の面Q2との径との関係(即ち、貫通孔Iの形状)や、貫通孔Iの位置については考慮されていない。したがって、電極の配置に邪魔にならず、かつ、ニードルNが挿入可能な貫通孔は存在していない。 The first surface Q1 of the through hole I is provided at a position that does not overlap the arrangement position of the electrode to which the pad 64 is connected. However, regarding the diameter of the hole on the second surface, the relationship between the diameter of the hole on the first surface Q1 and the diameter on the second surface Q2 (i.e., the shape of the through hole I), and the position of the through hole I, is not taken into account. Therefore, there is no through hole that does not interfere with the arrangement of the electrodes and into which the needle N can be inserted.

一方で、図1(A),(B)に示す基板61A(後述する基板61B~61Eでも同様)によれば、第1の面P1上における電極の配置位置との関係と、ニードルNの径との関係との両方を考慮することによって、電極の配置位置とニードルNの径とに応じた位置及び径をもつ適切な貫通孔HAを基板61Aに設けることができる。それにより、比較例と比較して、効率よく、かつ、効果的に基板にアンダーフィルUを充填することができる。 On the other hand, according to the substrate 61A shown in FIGS. 1(A) and 1(B) (the same applies to substrates 61B to 61E described later), the relationship between the electrode arrangement position on the first surface P1 and the diameter of the needle N By considering both the relationship between the two, it is possible to provide the substrate 61A with an appropriate through hole HA having a position and diameter that correspond to the electrode arrangement position and the diameter of the needle N. Thereby, the underfill U can be filled into the substrate more efficiently and effectively than in the comparative example.

続いて、実施形態に係る基板の第2~第5の実施形態に係る基板について順に説明する。 Next, substrates according to second to fifth embodiments of the substrates according to the embodiments will be described in order.

(第2の実施形態に係る基板)
第2の実施形態に係る基板の、第1の実施形態に係る基板61Aと異なる点は、第1の面P1の径と第2の面P2の径とが異なる点である。
(Substrate according to second embodiment)
The substrate according to the second embodiment differs from the substrate 61A according to the first embodiment in that the diameter of the first surface P1 and the diameter of the second surface P2 are different.

図3は、第2の実施形態に係る基板の構成を示す概略図である。図3(A)は、第2の実施形態に係る基板の上面図を示す。図3(B)~(D)は、図3(A)のIII-III断面図を示す。 FIG. 3 is a schematic diagram showing the configuration of a substrate according to the second embodiment. FIG. 3(A) shows a top view of the substrate according to the second embodiment. 3(B) to (D) show cross-sectional views taken along line III-III in FIG. 3(A).

図3(A),(B)は、第2の実施形態に係る基板61Bを備える実装基板60Bを示す。 FIGS. 3A and 3B show a mounting board 60B including a board 61B according to the second embodiment.

実装基板60Bは、基板61Bと、シンチレータ63と、光センサ62と、複数のパッド64とを備える。なお、図3において、図1に示す部材と同一部材には同一符号を付して説明を省略する。 The mounting board 60B includes a board 61B, a scintillator 63, an optical sensor 62, and a plurality of pads 64. Note that in FIG. 3, the same members as those shown in FIG.

基板61Bは、単層基板である。基板61Bは、光センサ62側の第1の面P1と、第1の面P1に対向する第2の面P2とを有する。例えば、基板61Bは、アルミナから形成されたセラミック基板である。 The substrate 61B is a single layer substrate. The substrate 61B has a first surface P1 on the optical sensor 62 side and a second surface P2 opposite to the first surface P1. For example, the substrate 61B is a ceramic substrate made of alumina.

第2の実施形態では、基板61Bに、アンダーフィル注入用の貫通孔HBを設けるものとする。具体的には、基板61Bは、複数のパッド64間に設けられる穴を第1の面P1に有し、穴は第1の面P1に対向する第2の面P2に貫通するように設けられる。第1の面P1の穴と、第2の面P2の穴とにより、貫通孔HBが形成される。なお、穴の形状は、丸の場合に限定されるものではなく、楕円や四角等であってもよい。 In the second embodiment, a through hole HB for underfill injection is provided in the substrate 61B. Specifically, the substrate 61B has holes provided between the plurality of pads 64 on the first surface P1, and the holes are provided so as to penetrate through the second surface P2 opposite to the first surface P1. . A through hole HB is formed by the hole on the first surface P1 and the hole on the second surface P2. Note that the shape of the hole is not limited to a circle, but may be an ellipse, a square, or the like.

貫通孔HBの第1の面P1に形成される穴の径は、パッド64が接続される電極の配置位置に被らない最大径であることが好適であり、かつ、第2の面P2に形成される穴の径は、ディスペンサのニードルN(図3(C)に図示)の先端側が所定深さだけ挿入可能な径であることが好適である。例えば、貫通孔HBは、第1の面P1の中央に位置する4個のパッド間に対応する第1の面P1上の位置に配置され、かつ、第2の面P2における穴の径が第1の面P1における穴の径より大きくなるように形成されればよい。例えば、貫通孔HBは、第1の面P1から第2の面P2にかけて径が徐々に拡がるように形成される。 It is preferable that the diameter of the hole formed on the first surface P1 of the through hole HB is a maximum diameter that does not overlap the arrangement position of the electrode to which the pad 64 is connected, and The diameter of the hole to be formed is preferably such that the tip side of the needle N (shown in FIG. 3(C)) of the dispenser can be inserted to a predetermined depth. For example, the through hole HB is arranged at a position on the first surface P1 corresponding to between the four pads located at the center of the first surface P1, and the diameter of the hole on the second surface P2 is It is sufficient that the diameter of the hole is larger than the diameter of the hole on the surface P1 of FIG. For example, the through hole HB is formed so that its diameter gradually increases from the first surface P1 to the second surface P2.

そして、基板61Bに、光センサアレイとシンチレータ63が実装されて成る複数の実装基板60Bは、X線検出器の基台の上に2次元配列される(後述する図11(A)の符号「60E」が「60B」に置換された状態)。 A plurality of mounting boards 60B each having a photosensor array and a scintillator 63 mounted on the board 61B are two-dimensionally arranged on the base of the X-ray detector (symbol " 60E" is replaced with "60B").

X線検出器の基台の上に複数の実装基板60Bが2次元配列された状態で、各基板61Bについて、貫通孔HBの第2の面からニードルNの先端が挿入される(図3(C)に図示)。そして、ニードルNの先端から貫通孔HB内にアンダーフィルUが注入される。ニードルNの先端から貫通孔HB内に注入されたアンダーフィルUは、貫通孔HBから光センサ62と基板61Bとの隙間に流入され、硬化する(図3(D)に図示)。実装基板60Bに、硬化されたアンダーフィルUが設けられることで、検出器パック70Bが製造される。 With a plurality of mounting boards 60B arranged two-dimensionally on the base of the X-ray detector, the tip of the needle N is inserted into each board 61B from the second surface of the through hole HB (see FIG. 3). (Illustrated in C)). Then, the underfill U is injected into the through hole HB from the tip of the needle N. The underfill U injected into the through hole HB from the tip of the needle N flows into the gap between the optical sensor 62 and the substrate 61B from the through hole HB, and hardens (shown in FIG. 3(D)). The detector pack 70B is manufactured by providing the hardened underfill U on the mounting board 60B.

基台上の複数の検出器パック70Bのそれぞれについて実装基板60BにアンダーフィルUが設けられることで、後述するX線検出器12が製造される(後述する図12(A)の符号「70E」が「70B」に置換された状態)。 By providing an underfill U on the mounting board 60B for each of the plurality of detector packs 70B on the base, the X-ray detector 12 described later is manufactured (symbol "70E" in FIG. 12(A) described later). is replaced with "70B").

以上のように、基板61Bによれば、前述した基板61Aと同等の効果が期待できる。 As described above, the substrate 61B can be expected to have the same effects as the substrate 61A described above.

続いて、基板が複数の基板要素(基板要素も基板の一種である)から成る多層積層構造である場合について説明する。その場合、多層積層構造を構成する全ての基板要素の大きさと中心位置とが同一の穴が設けられることで貫通穴が形成されるか(後述する図4に図示)、多層積層構造を構成する最上層の基板要素と最下層の基板要素にそれぞれ大きさの異なる穴が設けられることで貫通穴が形成されるか(後述する図5に図示)、多層積層構造を構成する複数の基板要素のうち少なくとも1つの基板要素の穴の中心位置が他の基板要素の穴の中心位置と異なるような貫通穴が形成されるか(図示省略)、それらの組み合わせで貫通孔が形成される(後述する図6に図示)。それらの場合について以下に説明する。 Next, a case will be described in which the substrate has a multilayer laminated structure consisting of a plurality of substrate elements (a substrate element is also a type of substrate). In that case, either a through hole is formed by providing a hole with the same size and center position for all the substrate elements constituting the multilayer laminated structure (as shown in FIG. 4, which will be described later), or Through-holes are formed by providing holes of different sizes in the top layer substrate element and the bottom layer substrate element, respectively (as shown in FIG. 5, which will be described later), or through holes are formed by providing holes of different sizes in the top layer substrate element and the bottom layer substrate element, respectively (as shown in FIG. 5, which will be described later). A through-hole is formed such that the center position of the hole in at least one of the board elements is different from the center position of the hole in the other board elements (not shown), or a through-hole is formed by a combination of these (described later). (Illustrated in Figure 6). Those cases will be explained below.

(第3の実施形態に係る基板)
第3の実施形態に係る基板の、第1の実施形態に係る基板61Aと異なる点は、基板が多層積層構造を備える点である。
(Substrate according to third embodiment)
The substrate according to the third embodiment differs from the substrate 61A according to the first embodiment in that the substrate has a multilayer laminated structure.

図4は、第3の実施形態に係る基板の構成を示す概略図である。図4(A)は、第3の実施形態に係る基板の上面図を示す。図4(B)~(D)は、図4(A)のIV-IV断面図を示す。 FIG. 4 is a schematic diagram showing the configuration of a substrate according to the third embodiment. FIG. 4(A) shows a top view of the substrate according to the third embodiment. 4(B) to (D) show cross-sectional views taken along the line IV-IV in FIG. 4(A).

図4(A),(B)は、第3の実施形態に係る基板61Cを備える実装基板60Cを示す。実装基板60Cは、基板61Cと、シンチレータ63と、光センサ62と、複数のパッド64とを備える。なお、図4において、図1に示す部材と同一部材には同一符号を付して説明を省略する。 FIGS. 4A and 4B show a mounting board 60C including a board 61C according to the third embodiment. The mounting board 60C includes a board 61C, a scintillator 63, an optical sensor 62, and a plurality of pads 64. Note that in FIG. 4, the same members as those shown in FIG.

基板61Cは、多層、例えば4層積層基板である。基板61Cは、光センサ62側に設けられる第4層(最上層)の第1の面P1と、第1の面P1に対向する、第1層(最下層)の第2の面P2とを有する。例えば、基板61Cの各層を構成する基板要素は、アルミナから形成されたセラミック基板である。 The substrate 61C is a multilayer, for example, a four-layer laminated substrate. The substrate 61C has a first surface P1 of the fourth layer (top layer) provided on the optical sensor 62 side and a second surface P2 of the first layer (bottom layer) opposite to the first surface P1. have For example, the substrate elements constituting each layer of the substrate 61C are ceramic substrates made of alumina.

第3の実施形態では、基板61Cに、アンダーフィル注入用の貫通孔HCを設けるものとする。具体的には、基板61Cは、複数のパッド64間に設けられる穴を第1の面P1に有し、穴は第1の面P1に対向する第2の面P2に貫通するように設けられる。第1の面P1の穴と、第2の面P2の穴とにより、貫通孔HCが形成される。なお、穴の形状は、丸の場合に限定されるものではなく、楕円や四角等であってもよい。 In the third embodiment, a through hole HC for injecting underfill is provided in the substrate 61C. Specifically, the substrate 61C has holes provided between the plurality of pads 64 on the first surface P1, and the holes are provided so as to penetrate through the second surface P2 opposite to the first surface P1. . A through hole HC is formed by the hole on the first surface P1 and the hole on the second surface P2. Note that the shape of the hole is not limited to a circle, but may be an ellipse, a square, or the like.

貫通孔HCの第1の面P1に形成される穴の径は、パッド64が接続される電極の配置位置に被らない最大径であることが好適であり、かつ、第2の面P2に形成される穴の径は、ディスペンサのニードルN(図4(C)に図示)の先端側が所定深さだけ挿入可能な径であることが好適である。例えば、貫通孔HCは、第1の面P1の中央に位置する4個のパッド間に対応する第1の面P1上の位置に配置され、かつ、第1の面P1における穴の径と、第2の面P2における穴の径とを同等とすればよい。 It is preferable that the diameter of the hole formed in the first surface P1 of the through hole HC is a maximum diameter that does not overlap the arrangement position of the electrode to which the pad 64 is connected, and The diameter of the hole to be formed is preferably such that the tip side of the needle N (shown in FIG. 4C) of the dispenser can be inserted to a predetermined depth. For example, the through hole HC is arranged at a position on the first surface P1 corresponding to between the four pads located at the center of the first surface P1, and the diameter of the hole on the first surface P1 is The diameter of the hole in the second surface P2 may be made equal to the diameter of the hole.

そして、基板61Cに、光センサアレイとシンチレータ63が実装されて成る実装基板60Cは、X線検出器の基台の上に複数の2次元配列される(後述する図11(A)の符号「60E」が「60C」に置換された状態)。 Then, a plurality of mounting boards 60C in which the optical sensor array and the scintillator 63 are mounted on the board 61C are arranged in a two-dimensional array on the base of the X-ray detector (reference numeral "" in FIG. 11(A) to be described later). 60E" is replaced with "60C").

X線検出器の基台の上に複数の実装基板60Cが2次元配列された状態で、各基板61Cについて、貫通孔HCの第2の面からニードルNの先端が挿入される(図4(C)に図示)。そして、ニードルNの先端から貫通孔HC内にアンダーフィルUが注入される。ニードルNの先端から貫通孔HC内に注入されたアンダーフィルUは、貫通孔HCから光センサ62と基板61Cとの隙間に流入され、硬化する(図4(D)に図示)。実装基板60Cに、硬化されたアンダーフィルUが設けられることで、検出器パック70Cが製造される。 With a plurality of mounting boards 60C arranged two-dimensionally on the base of the X-ray detector, the tip of the needle N is inserted into each board 61C from the second surface of the through hole HC (see FIG. 4). (Illustrated in C)). Then, the underfill U is injected into the through hole HC from the tip of the needle N. The underfill U injected into the through hole HC from the tip of the needle N flows into the gap between the optical sensor 62 and the substrate 61C from the through hole HC, and is cured (as shown in FIG. 4(D)). The detector pack 70C is manufactured by providing the hardened underfill U on the mounting board 60C.

基台上の複数の検出器パック70Cのそれぞれについて実装基板60CにアンダーフィルUが設けられることで、後述するX線検出器12が製造される(後述する図12(A)の符号「70E」が「70C」に置換された状態)。 By providing an underfill U on the mounting board 60C for each of the plurality of detector packs 70C on the base, the X-ray detector 12 described later is manufactured (reference numeral "70E" in FIG. 12(A) described later). is replaced with "70C").

以上のように、基板61Cによれば、前述した基板61Aと同等の効果が期待できる。 As described above, the substrate 61C can be expected to have the same effects as the substrate 61A described above.

(第4の実施形態に係る基板)
第4の実施形態に係る基板の、第3の実施形態に係る基板61Cと異なる点は、第1の面P1の径と第2の面P2の径とが異なる点である。
(Substrate according to fourth embodiment)
The substrate according to the fourth embodiment differs from the substrate 61C according to the third embodiment in that the diameter of the first surface P1 and the diameter of the second surface P2 are different.

図5は、第4の実施形態に係る基板の構成を示す概略図である。図5(A)は、第4の実施形態に係る基板の上面図を示す。図5(B)~(D)は、図5(A)のV-V断面図を示す。 FIG. 5 is a schematic diagram showing the configuration of a substrate according to the fourth embodiment. FIG. 5A shows a top view of the substrate according to the fourth embodiment. 5(B) to (D) show cross-sectional views taken along the line VV in FIG. 5(A).

図5(A),(B)は、第4の実施形態に係る基板61Dを備える実装基板60Dを示す。実装基板60Dは、基板61Dと、シンチレータ63と、光センサ62と、複数のパッド64とを備える。なお、図5において、図1に示す部材と同一部材には同一符号を付して説明を省略する。 FIGS. 5A and 5B show a mounting board 60D including a board 61D according to the fourth embodiment. The mounting board 60D includes a board 61D, a scintillator 63, an optical sensor 62, and a plurality of pads 64. In FIG. 5, the same members as those shown in FIG. 1 are designated by the same reference numerals, and their explanations will be omitted.

基板61Dは、多層、例えば4層積層基板である。基板61Dは、光センサ62側に設けられる最上層の第1の面P1と、第1の面P1に対向する、最下層の第2の面P2とを有する。例えば、基板61Dの各層を構成する基板要素は、アルミナから形成されたセラミック基板である。 The substrate 61D is a multilayer, for example, a four-layer laminated substrate. The substrate 61D has a first surface P1 of the uppermost layer provided on the optical sensor 62 side and a second surface P2 of the lowermost layer opposite to the first surface P1. For example, the substrate elements constituting each layer of the substrate 61D are ceramic substrates made of alumina.

第4の実施形態では、基板61Dに、アンダーフィル注入用の貫通孔HDを設けるものとする。具体的には、基板61Dは、複数のパッド64間に設けられる穴を第1の面P1に有し、穴は第1の面P1に対向する第2の面P2に貫通するように設けられる。第1の面P1の穴と、第2の面P2の穴とにより、貫通孔HDが形成される。なお、穴の形状は、丸の場合に限定されるものではなく、楕円や四角等であってもよい。 In the fourth embodiment, a through hole HD for underfill injection is provided in the substrate 61D. Specifically, the substrate 61D has holes provided between the plurality of pads 64 on the first surface P1, and the holes are provided so as to penetrate through the second surface P2 opposite to the first surface P1. . A through hole HD is formed by the hole on the first surface P1 and the hole on the second surface P2. Note that the shape of the hole is not limited to a circle, but may be an ellipse, a square, or the like.

貫通孔HDの第1の面P1に形成される穴の径は、パッド64が接続される電極の配置位置に被らない最大径であることが好適であり、かつ、第2の面P2に形成される穴の径は、ディスペンサのニードルN(図5(C)に図示)の先端側が所定深さだけ挿入可能な径であることが好適である。例えば、貫通孔HDは、第1の面P1の中央に位置する4個のパッド間に対応する第1の面P1上の位置に配置され、かつ、第2の面P2における穴の径が第1の面P1における穴の径より大きくなるように形成されればよい。例えば、貫通孔HDは、第1の面P1から第2の面P2にかけて径が徐々に拡がるように形成される。 The diameter of the hole formed on the first surface P1 of the through hole HD is preferably a maximum diameter that does not overlap the arrangement position of the electrode to which the pad 64 is connected, and The diameter of the hole to be formed is preferably such that the tip side of the needle N (shown in FIG. 5C) of the dispenser can be inserted to a predetermined depth. For example, the through hole HD is arranged at a position on the first surface P1 corresponding to between the four pads located at the center of the first surface P1, and the diameter of the hole on the second surface P2 is It is sufficient that the diameter of the hole is larger than the diameter of the hole on the surface P1 of FIG. For example, the through hole HD is formed so that its diameter gradually increases from the first surface P1 to the second surface P2.

そして、基板61Dに、光センサアレイとシンチレータ63が実装されて成る複数の実装基板60Dは、X線検出器の基台の上に2次元配列される(後述する図11(A)の符号「60E」が「60D」に置換された状態)。 A plurality of mounting boards 60D each having a photosensor array and a scintillator 63 mounted on the board 61D are two-dimensionally arranged on the base of the X-ray detector (reference numeral "" in FIG. 11A to be described later). 60E" is replaced with "60D").

X線検出器の基台の上に複数の実装基板60Dが2次元配列された状態で、各基板61Dについて、貫通孔HDの第2の面からニードルNの先端が挿入される(図5(C)に図示)。そして、ニードルNの先端から貫通孔HD内にアンダーフィルUが注入される。ニードルNの先端から貫通孔HD内に注入されたアンダーフィルUは、貫通孔HDから光センサ62と基板61Dとの隙間に流入され、硬化する(図5(D)に図示)。実装基板60Dに、硬化されたアンダーフィルUが設けられることで、検出器パック70Dが製造される。 With a plurality of mounting boards 60D arranged two-dimensionally on the base of the X-ray detector, the tip of the needle N is inserted into each board 61D from the second surface of the through hole HD (see FIG. 5). (Illustrated in C)). Then, the underfill U is injected into the through hole HD from the tip of the needle N. The underfill U injected into the through hole HD from the tip of the needle N flows into the gap between the optical sensor 62 and the substrate 61D from the through hole HD, and is cured (as shown in FIG. 5(D)). The detector pack 70D is manufactured by providing the hardened underfill U on the mounting board 60D.

基台上の複数の検出器パック70Dのそれぞれについて実装基板60DにアンダーフィルUが設けられることで、後述するX線検出器12が製造される(後述する図12(A)の符号「70E」が「70D」に置換された状態)。 By providing an underfill U on the mounting board 60D for each of the plurality of detector packs 70D on the base, the X-ray detector 12 described later is manufactured (reference numeral "70E" in FIG. 12(A) described later). is replaced with "70D").

以上のように、基板61Dによれば、前述した基板61Aと同等の効果が期待できる。 As described above, the substrate 61D can be expected to have the same effects as the substrate 61A described above.

(第5の実施形態に係る基板)
第5の実施形態に係る基板の、第4の実施形態に係る基板61Dと異なる点は、穴の位置が異なる点である。
(Substrate according to the fifth embodiment)
The substrate according to the fifth embodiment differs from the substrate 61D according to the fourth embodiment in that the positions of the holes are different.

図6は、第5の実施形態に係る基板の構成を示す概略図である。図6(A)は、第5の実施形態に係る基板の上面図を示す。図6(B)~(D)は、図6(A)のVI-VI断面図を示す。 FIG. 6 is a schematic diagram showing the configuration of a substrate according to the fifth embodiment. FIG. 6(A) shows a top view of the substrate according to the fifth embodiment. 6(B) to (D) show cross-sectional views taken along VI-VI in FIG. 6(A).

図6(A),(B)は、第5の実施形態に係る基板61Eを備える実装基板60Eを示す。実装基板60Eは、基板61Eと、シンチレータ63と、光センサ62と、複数のパッド64とを備える。なお、図6において、図1に示す部材と同一部材には同一符号を付して説明を省略する。 FIGS. 6A and 6B show a mounting board 60E including a board 61E according to the fifth embodiment. The mounting board 60E includes a board 61E, a scintillator 63, an optical sensor 62, and a plurality of pads 64. Note that in FIG. 6, the same members as those shown in FIG.

基板61Eは、多層、例えば4層積層基板である。基板61Eは、光センサ62側に設けられる最上層の第1の面P1と、第1の面P1に対向する、最下層の第2の面P2とを有する。例えば、基板61Eの各層を構成する基板要素は、アルミナから形成されたセラミック基板である。 The substrate 61E is a multilayer, for example, a four-layer laminated substrate. The substrate 61E has a first surface P1 of the uppermost layer provided on the optical sensor 62 side and a second surface P2 of the lowermost layer opposite to the first surface P1. For example, the substrate elements constituting each layer of the substrate 61E are ceramic substrates made of alumina.

第5の実施形態では、基板61Eに、アンダーフィル注入用の貫通孔HEを設けるものとする。具体的には、基板61Eは、複数のパッド64間に設けられる穴を第1の面P1に有し、穴は第1の面P1に対向する第2の面P2に貫通するように設けられる。第1の面P1の穴と、第2の面P2の穴とにより、貫通孔HEが形成される。なお、穴の形状は、丸の場合に限定されるものではなく、楕円や四角等であってもよい。 In the fifth embodiment, a through hole HE for underfill injection is provided in the substrate 61E. Specifically, the substrate 61E has holes provided between the plurality of pads 64 on the first surface P1, and the holes are provided so as to penetrate through the second surface P2 opposite to the first surface P1. . A through hole HE is formed by the hole on the first surface P1 and the hole on the second surface P2. Note that the shape of the hole is not limited to a circle, but may be an ellipse, a square, or the like.

貫通孔HEの第1の面P1に形成される穴の径は、パッド64が接続される電極の配置位置に被らない最大径であることが好適であり、かつ、第2の面P2に形成される穴の径は、ディスペンサのニードルN(図6(C)に図示)の先端側が所定深さだけ挿入可能な径であることが好適である。例えば、貫通孔HEは、第1の面P1の中央に位置する4個のパッド間に対応する第1の面P1上の位置に配置され、かつ、第2の面P2における穴の径が第1の面P1における穴の径より大きくなるように形成されればよい。例えば、貫通孔HEは、第1の面P1から第2の面P2にかけて径が徐々に拡がるように形成され、かつ、各穴の中心位置が異なる位置となるように形成される。 It is preferable that the diameter of the hole formed on the first surface P1 of the through hole HE is a maximum diameter that does not overlap the arrangement position of the electrode to which the pad 64 is connected, and The diameter of the hole to be formed is preferably such that the tip side of the needle N (shown in FIG. 6(C)) of the dispenser can be inserted to a predetermined depth. For example, the through hole HE is arranged at a position on the first surface P1 corresponding to between the four pads located at the center of the first surface P1, and the diameter of the hole on the second surface P2 is It is sufficient that the diameter of the hole is larger than the diameter of the hole on the surface P1 of FIG. For example, the through holes HE are formed so that the diameter gradually increases from the first surface P1 to the second surface P2, and the centers of each hole are formed at different positions.

そして、基板61Eに、光センサアレイとシンチレータ63が実装されて成る複数の実装基板60Eは、X線検出器の基台の上に2次元配列される(後述する図11の状態)。 A plurality of mounting boards 60E each having a photosensor array and a scintillator 63 mounted on the board 61E are two-dimensionally arranged on the base of the X-ray detector (the state shown in FIG. 11, which will be described later).

X線検出器の基台の上に複数の実装基板60Cが2次元配列された状態で、各基板61Eについて、貫通孔HEの第2の面からニードルNの先端が挿入される(図6(C)に図示)。そして、ニードルNの先端から貫通孔HE内にアンダーフィルUが注入される。ニードルNの先端から貫通孔HE内に注入されたアンダーフィルUは、貫通孔HEから光センサ62と基板61Eとの隙間に流入され、硬化する(図6(D)に図示)。実装基板60Eに、硬化されたアンダーフィルUが設けられることで、検出器パック70Eが製造される。 With a plurality of mounting boards 60C arranged two-dimensionally on the base of the X-ray detector, the tip of the needle N is inserted into each board 61E from the second surface of the through hole HE (see FIG. 6). (Illustrated in C)). Then, the underfill U is injected into the through hole HE from the tip of the needle N. The underfill U injected into the through hole HE from the tip of the needle N flows into the gap between the optical sensor 62 and the substrate 61E from the through hole HE, and is cured (shown in FIG. 6(D)). The detector pack 70E is manufactured by providing the hardened underfill U on the mounting board 60E.

基台上の複数の検出器パック70Eのそれぞれについて実装基板60EにアンダーフィルUが設けられることで、後述するX線検出器12が製造される(後述する図12の状態)。 By providing underfill U on the mounting board 60E for each of the plurality of detector packs 70E on the base, the X-ray detector 12 described later is manufactured (state in FIG. 12 described later).

以上のように、基板61Eによれば、前述した基板61Aと同等の効果が期待できる。 As described above, the substrate 61E can be expected to have the same effects as the substrate 61A described above.

(変形例)
図1、図3~図6を用いて、第1の面P1の中央に位置する4個の電極間に貫通孔が配置されるものとして説明したがその場合に限定されるものではない。例えば、基板の中央以外に位置する4個の電極間に貫通孔が配置されてもよいし、4個の電極間に貫通孔が配置されると共に、別の4個の電極間に貫通孔が配置されてもよい。前者の場合における基板61Eの変形例を図7(A)に示し、後者の場合における基板61Eの変形例を図7(B)に示す。
(Modified example)
Although the description has been made using FIGS. 1 and 3 to 6 on the assumption that the through holes are arranged between the four electrodes located at the center of the first surface P1, the present invention is not limited to that case. For example, a through hole may be arranged between four electrodes located other than the center of the substrate, or a through hole may be arranged between four electrodes, and a through hole may be arranged between another four electrodes. may be placed. A modified example of the substrate 61E in the former case is shown in FIG. 7(A), and a modified example of the substrate 61E in the latter case is shown in FIG. 7(B).

図7は、第5の実施形態に係る基板の第1及び第2変形例を示す上面図である。図7(A)は、基板61E(図6に図示)の中央以外に位置する4個の電極間に貫通孔が配置される構成を示す。図7(B)は、4個の電極間に貫通孔が配置されると共に、別の4個の電極間に貫通孔が配置される構成を示す。 FIG. 7 is a top view showing first and second modified examples of the substrate according to the fifth embodiment. FIG. 7A shows a configuration in which through holes are arranged between four electrodes located other than the center of the substrate 61E (shown in FIG. 6). FIG. 7(B) shows a configuration in which a through hole is arranged between four electrodes and a through hole is arranged between another four electrodes.

また、例えば、基板の端に位置する2個の電極と基板の端部との間に貫通孔が配置されてもよい。その場合、第1の基板の端部に位置する2個の電極と、隣り合う第2の基板の電極であって当該2個の電極に近接する2個の電極との4個の電極間に貫通孔が配置されることになる。 Further, for example, a through hole may be arranged between two electrodes located at the ends of the substrate and the end of the substrate. In that case, between the four electrodes, two electrodes located at the end of the first substrate and two electrodes on the adjacent second substrate that are close to the two electrodes, A through hole will be placed.

図8は、第5の実施形態に係る基板の第3の変形例を示す上面図である。図8は、基板61Eの端に位置する2個の電極と基板の端部との間に貫通孔が配置される構成を示す。 FIG. 8 is a top view showing a third modification of the substrate according to the fifth embodiment. FIG. 8 shows a configuration in which through holes are arranged between two electrodes located at the ends of the substrate 61E and the ends of the substrate.

以上のように、図7及び図8に示す基板61A~61Eの第1~第3変形例によれば、前述した基板61Aと同等の効果が期待できる。 As described above, according to the first to third modified examples of the substrates 61A to 61E shown in FIGS. 7 and 8, effects equivalent to those of the substrate 61A described above can be expected.

また、第2の面P2の穴から所定の距離離間した位置に溝が設けられてもよい。この場合における基板61Eの変形例を図9に示す。 Furthermore, a groove may be provided at a position spaced a predetermined distance from the hole on the second surface P2. A modification of the substrate 61E in this case is shown in FIG.

図9は、第5の実施形態に係る基板の第4の変形例を示す概略図である。図9(A)は、第5の実施形態に係る基板の下面図を示す。図9(B)は、図9(A)のIX-IX断面図を示す。 FIG. 9 is a schematic diagram showing a fourth modification of the substrate according to the fifth embodiment. FIG. 9A shows a bottom view of the substrate according to the fifth embodiment. FIG. 9(B) shows a sectional view taken along line IX-IX in FIG. 9(A).

第2の面P2の穴から所定の距離だけ離間した位置に、溝Gが設けられる。これにより、ニードルNの先端を基板の穴に挿入して注入されるアンダーフィルUの穴からの漏れを溝Gにて食い止めることができる。なお、溝Gを下面から見た場合の形状は、第2の面P2の穴から一定の距離だけ離間した位置に設けられる円形に限定されるものではなく、楕円形状でも四角形状でもよい。 A groove G is provided at a position spaced a predetermined distance from the hole on the second surface P2. Thereby, the groove G can prevent leakage of the underfill U, which is injected by inserting the tip of the needle N into the hole of the substrate, from the hole. Note that the shape of the groove G when viewed from the bottom surface is not limited to a circular shape provided at a position spaced a certain distance from the hole in the second surface P2, but may be an elliptical shape or a square shape.

以上のように、図9に示す基板61A~61Eの第4変形例によれば、前述した基板61Aと同等の効果が期待できるし、さらに、注入されるアンダーフィルUの穴からの漏れを溝Gにて食い止めることもできる。 As described above, according to the fourth modified example of the substrates 61A to 61E shown in FIG. You can also stop it with G.

(第1~第5の実施形態に係る基板の適用例)
続いて、X線検出器に、図1、図3~図9で説明した基板61A~61Eが適用される場合について以下に説明する。なお、X線検出器に、図1、図3~図9のうち図6に示す基板61Eが適用される場合を例にとって以下に説明するが、その場合に限定されるものではない。例えば、X線検出器に、図1、図3~図5、図7~図9のいずれかが適用されてもよい。また、X線検出器がX線CT装置に設けられる場合について以下に説明するが、その場合に限定されるものではない。例えば、X線検出器は、X線診断装置や、PET(Positron Emission tomography)-CT装置等の診断装置に設けられてもよい。
(Application example of the substrate according to the first to fifth embodiments)
Next, a case where the substrates 61A to 61E described in FIGS. 1 and 3 to 9 are applied to an X-ray detector will be described below. Note that, although a case will be described below taking as an example a case where the substrate 61E shown in FIG. 6 among FIGS. 1 and 3 to 9 is applied to an X-ray detector, the present invention is not limited to that case. For example, any one of FIGS. 1, 3 to 5, and 7 to 9 may be applied to the X-ray detector. Further, although a case where the X-ray detector is provided in an X-ray CT apparatus will be described below, the present invention is not limited to this case. For example, the X-ray detector may be provided in a diagnostic device such as an X-ray diagnostic device or a PET (Positron Emission Tomography)-CT device.

なお、X線CT装置によるデータ収集方式には、X線源とX線検出器とが1体として被検体の周囲を回転する回転/回転(R-R:Rotate/Rotate)方式や、リング状に多数の検出素子がアレイされ、X線管のみが被検体の周囲を回転する固定/回転(S-R:Stationary/Rotate)方式等の様々な方式がある。いずれの方式でも本発明を適用可能である。以下、実施形態に係るX線CT装置では、現在、主流を占めている第3世代の回転/回転方式を採用する場合を例にとって説明する。 Data acquisition methods using X-ray CT devices include the Rotate/Rotate (R-R) method, in which the X-ray source and X-ray detector rotate around the subject as a single unit, and the ring-shaped There are various methods such as a stationary/rotate (SR) method in which a large number of detection elements are arrayed in the X-ray tube and only the X-ray tube rotates around the subject. The present invention is applicable to either method. Hereinafter, an X-ray CT apparatus according to an embodiment will be described, taking as an example a case where the third generation rotation/rotation method, which is currently the mainstream, is adopted.

図10は、実施形態に係る基板が適用されるX線CT装置の構成を示す概略図である。 FIG. 10 is a schematic diagram showing the configuration of an X-ray CT apparatus to which the substrate according to the embodiment is applied.

図10は、実施形態に係る基板61E(図6に図示)が適用されるX線CT装置1を示す。X線CT装置1は、架台装置10と、寝台装置30と、コンソール装置40とを備える。架台装置10と、寝台装置30とは、検査室に設置される。架台装置10は、寝台装置30に載置された被検体(例えば、患者)Pに関するX線の検出データ(「純生データ」とも呼ばれる)を取得する。コンソール装置40は、複数ビュー分の検出データに対して前処理を施すことで生データを生成し、生データに対して再構成処理を施すことでCT画像データを再構成して表示する。 FIG. 10 shows an X-ray CT apparatus 1 to which a substrate 61E (shown in FIG. 6) according to the embodiment is applied. The X-ray CT apparatus 1 includes a gantry device 10, a bed device 30, and a console device 40. The gantry device 10 and the bed device 30 are installed in an examination room. The gantry device 10 acquires X-ray detection data (also referred to as "pure raw data") regarding the subject (eg, patient) P placed on the bed device 30. The console device 40 generates raw data by performing preprocessing on the detection data for a plurality of views, and reconstructs and displays CT image data by performing reconstruction processing on the raw data.

なお、図10において、説明の便宜上、架台装置10を左側の上下に複数描画しているが、実際の構成としては、架台装置10は1つである。 In FIG. 10, for convenience of explanation, a plurality of gantry devices 10 are drawn above and below the left side, but in actual configuration, there is only one gantry device 10.

架台装置10は、X線源(例えば、X線管)11と、X線検出器12と、回転部(例えば、回転フレーム)13と、X線高電圧装置14と、制御装置15と、ウェッジ16と、コリメータ17と、データ収集回路(DAS:Data Acquisition System)18とを備える。なお、架台装置10は、架台部の一例である。 The gantry device 10 includes an X-ray source (for example, an X-ray tube) 11, an X-ray detector 12, a rotating section (for example, a rotating frame) 13, an X-ray high voltage device 14, a control device 15, and a wedge 16, a collimator 17, and a data acquisition circuit (DAS: Data Acquisition System) 18. Note that the pedestal device 10 is an example of a pedestal section.

X線管11は、回転フレーム13に備えられる。X線管11は、X線高電圧装置14からの高電圧の印加により、陰極(フィラメント)から陽極(ターゲット)に向けて熱電子を照射することでX線を発生する真空管である。例えば、X線管11には、回転する陽極に熱電子を照射することでX線を発生させる回転陽極型のX線管がある。 The X-ray tube 11 is provided on a rotating frame 13. The X-ray tube 11 is a vacuum tube that generates X-rays by applying a high voltage from the X-ray high-voltage device 14 to irradiate thermoelectrons from a cathode (filament) toward an anode (target). For example, the X-ray tube 11 includes a rotating anode type X-ray tube that generates X-rays by irradiating a rotating anode with thermoelectrons.

なお、実施形態においては、一管球型のX線CT装置にも、X線管とX線検出器との複数のペアを回転リングに搭載したいわゆる多管球型のX線CT装置にも適用可能である。また、X線を発生させるX線源は、X線管11に限定されるものではない。例えば、X線管11に替えて、電子銃から発生した電子ビームを収束させるフォーカスコイル、電磁偏向させる偏向コイル、患者Pの半周を囲い偏向した電子ビームが衝突することによってX線を発生させるターゲットリングを含む第5世代方式によりX線を発生させてもよい。なお、X線管11は、X線照射部の一例である。 In addition, in the embodiment, it can be applied to both a single-tube type X-ray CT device and a so-called multi-tube type X-ray CT device in which multiple pairs of X-ray tubes and X-ray detectors are mounted on a rotating ring. Applicable. Furthermore, the X-ray source that generates X-rays is not limited to the X-ray tube 11. For example, in place of the X-ray tube 11, examples include a focus coil that converges the electron beam generated from the electron gun, a deflection coil that electromagnetically deflects it, and a target that surrounds half the patient P and generates X-rays when the deflected electron beam collides with it. X-rays may be generated by a fifth generation system including a ring. Note that the X-ray tube 11 is an example of an X-ray irradiation unit.

X線検出器12は、X線管11に対向するように回転フレーム13に備えられる。X線検出器12は、X線管11から照射されたX線を検出し、当該X線量に対応した検出データを電気信号としてDAS18に出力する。X線検出器12は、例えば、X線管の焦点を中心として1つの円弧に沿ってチャネル方向に複数のX線検出素子が配列された複数のX線検出素子列を有する。X線検出器12は、例えば、チャネル方向に複数のX線検出素子が配列されたX線検出素子列が列方向(スライス方向、row方向)に複数配列された2次元配列構造を有する。本実施形態では、X線検出素子列の構成を複数の検出器パック70Eで実現した構成を想定している。なお、検出器パックは、図1(D)の検出器パック70A、図3(D)の検出器パック70B、図4(D)の検出器パック70C、図5の検出器パック70Dのいずれかであってもよいことは言うまでもない。 The X-ray detector 12 is provided on the rotating frame 13 so as to face the X-ray tube 11 . The X-ray detector 12 detects the X-rays irradiated from the X-ray tube 11, and outputs detection data corresponding to the X-ray dose to the DAS 18 as an electrical signal. The X-ray detector 12 has, for example, a plurality of X-ray detection element rows in which a plurality of X-ray detection elements are arranged in the channel direction along one circular arc centered on the focal point of the X-ray tube. The X-ray detector 12 has, for example, a two-dimensional array structure in which a plurality of X-ray detection element rows in which a plurality of X-ray detection elements are arranged in a channel direction are arranged in a column direction (slice direction, row direction). In this embodiment, a configuration is assumed in which the X-ray detection element array is realized by a plurality of detector packs 70E. Note that the detector pack is one of the detector pack 70A in FIG. 1(D), the detector pack 70B in FIG. 3(D), the detector pack 70C in FIG. 4(D), and the detector pack 70D in FIG. Needless to say, it may be.

複数の検出器パック70Eのそれぞれは、図6を用いて前述したように、光センサアレイと、シンチレータ63とを有する間接変換型の検出器である。グリッドは、複数のシンチレータからなるシンチレータアレイのX線入射側の面に配置され、散乱X線を吸収する機能を有するX線遮蔽板である。 Each of the plurality of detector packs 70E is an indirect conversion type detector having a photosensor array and a scintillator 63, as described above using FIG. The grid is an X-ray shielding plate that is arranged on the X-ray incident side surface of a scintillator array made up of a plurality of scintillators and has a function of absorbing scattered X-rays.

ここで、X線検出器12の製造方法について、図11及び図12を用いて概略する。 Here, a method for manufacturing the X-ray detector 12 will be outlined using FIGS. 11 and 12.

図11は、X線検出器12の、アンダーフィルUが各実装基板に充填される前のX線検出器(以下、「充填前のX線検出器」という。)12´を示す図である。図11(A)は、充填前のX線検出器12´の上面図を示す。図11(B)は、図11(A)のXI-XI断面図を示す。 FIG. 11 is a diagram showing the X-ray detector 12' of the X-ray detector 12 before each mounting board is filled with the underfill U (hereinafter referred to as "X-ray detector before filling"). . FIG. 11(A) shows a top view of the X-ray detector 12' before filling. FIG. 11(B) shows a cross-sectional view taken along line XI-XI in FIG. 11(A).

図11(A),(B)に示すように、充填前のX線検出器12´は、複数の実装基板60Eがチャンネル方向及び列方向に配列されて成る。実装基板60Eは、図6(A),(B)にも示される。 As shown in FIGS. 11A and 11B, the X-ray detector 12' before filling is composed of a plurality of mounting boards 60E arranged in the channel direction and the column direction. The mounting board 60E is also shown in FIGS. 6(A) and 6(B).

実装基板60Eを構成する基板61Eの貫通孔HEの下部側からディスペンサのニードルが挿入され、ニードルを介して貫通孔HE内にアンダーフィルUが注入される。アンダーフィルUは、前述したように、貫通孔HEを介して基板61Eと光センサ62との隙間にも充填され、硬化する。充填されたアンダーフィルUが硬化すると、図12(A),(B)に示すような、複数の検出器パック70Eから成るX線検出器12が製造される。 A needle of a dispenser is inserted from the lower side of the through hole HE of the substrate 61E constituting the mounting board 60E, and the underfill U is injected into the through hole HE through the needle. As described above, the underfill U is also filled into the gap between the substrate 61E and the optical sensor 62 via the through hole HE and hardened. When the filled underfill U is cured, an X-ray detector 12 consisting of a plurality of detector packs 70E as shown in FIGS. 12(A) and 12(B) is manufactured.

このように、実装基板60Eによれば、隣接する光センサの極めて狭い隙間から直接にアンダーフィルを注入する必要がなくなる。また、実装基板60Eを傾けてアンダーフィルを注入することもないので、シンチレータ及び透明接着フィルムにアンダーフィルが付着し、後に製造される検出器パックの性能が劣化することもない。また、隣接する実装基板60Eの隙間からアンダーフィルを注入する必要がなくなるので、そのような隙間を構成する必要がなくなり、光センサ62の側面とシンチレータ63の側面とを面一で、かつ、複数の検出器パック70Eを隙間なく密に配置することもできる。 In this way, with the mounting board 60E, there is no need to directly inject underfill through the extremely narrow gap between adjacent optical sensors. Furthermore, since the mounting board 60E is not tilted to inject underfill, there is no possibility that the underfill will adhere to the scintillator and the transparent adhesive film and deteriorate the performance of the detector pack manufactured later. Furthermore, since there is no need to inject underfill through the gap between the adjacent mounting boards 60E, there is no need to form such a gap, and the side surface of the optical sensor 62 and the side surface of the scintillator 63 are flush with each other, and multiple It is also possible to arrange the detector packs 70E closely together without any gaps.

図12は、充填前のX線検出器12´から製造されたX線検出器12を示す図である。図12(A)は、X線検出器12の上面図を示す。図12(B)は、図12(A)のXII-XII断面図を示す。基板61EへのアンダーフィルUの充填前、又は、アンダーフィルUの硬化後、X線入射側にグリッドが配置されることでX線検出器12が製造される。 FIG. 12 is a diagram showing an X-ray detector 12 manufactured from an X-ray detector 12' before filling. FIG. 12(A) shows a top view of the X-ray detector 12. FIG. 12(B) shows a cross-sectional view taken along line XII-XII of FIG. 12(A). Before filling the substrate 61E with the underfill U or after the underfill U is hardened, the X-ray detector 12 is manufactured by disposing a grid on the X-ray incident side.

なお、X線検出器12は、入射したX線を電気信号に変換する半導体素子を有する直接変換型の検出器であっても構わない。また、X線検出器12は、X線検出部の一例である。 Note that the X-ray detector 12 may be a direct conversion type detector having a semiconductor element that converts incident X-rays into electrical signals. Furthermore, the X-ray detector 12 is an example of an X-ray detection section.

図10の説明に戻って、回転フレーム13は、X線管11及びX線検出器12を対向支持する。回転フレーム13は、後述する制御装置15による制御の下、X線管11及びX線検出器12を一体として回転させる円環状のフレームである。なお、回転フレーム13は、X線管11及びX線検出器12に加えて、X線高電圧装置14やDAS18を更に備えて支持する場合もある。また、回転フレーム13は、回転部の一例である。 Returning to the explanation of FIG. 10, the rotating frame 13 supports the X-ray tube 11 and the X-ray detector 12 facing each other. The rotating frame 13 is an annular frame that rotates the X-ray tube 11 and the X-ray detector 12 together under the control of a control device 15, which will be described later. Note that, in addition to the X-ray tube 11 and the X-ray detector 12, the rotating frame 13 may further include and support an X-ray high voltage device 14 and a DAS 18. Furthermore, the rotating frame 13 is an example of a rotating section.

このように、X線CT装置1は、X線管11とX線検出器12とを対向させて支持する回転フレーム13を患者Pの周りに回転させることで、複数ビュー、即ち、患者Pの360°分の検出データを収集する。なお、CT画像データの再構成方式は、360°分の検出データを用いるフルスキャン再構成方式には限定されない。例えば、X線CT装置1は、半周(180°)+ファン角度分の検出データに基づいてCT画像データを再構成するハーフ再構成方式を採ってもよい。 In this way, the X-ray CT apparatus 1 rotates the rotating frame 13, which supports the X-ray tube 11 and the X-ray detector 12 facing each other, around the patient P, thereby providing multiple views of the patient P. Collects 360° worth of detection data. Note that the reconstruction method for CT image data is not limited to the full scan reconstruction method using 360° worth of detection data. For example, the X-ray CT apparatus 1 may employ a half-reconstruction method in which CT image data is reconstructed based on detection data for a half-circle (180°) + fan angle.

X線高電圧装置14は、回転フレーム13、又は、回転フレーム13を回転可能に支持する非回転部分(例えば図示しない固定フレーム)に備えられる。X線高電圧装置14は、変圧器(トランス)及び整流器等の電気回路を有する。X線高電圧装置14は、後述する制御装置15による制御の下、X線管11に印加する高電圧を発生する機能を有する高電圧発生装置(図示省略)と、後述する制御装置15による制御の下、X線管11が照射するX線に応じた出力電圧の制御を行うX線制御装置(図示省略)を有する。高電圧発生装置は、変圧器方式であってもよいし、インバータ方式であっても構わない。なお、図10において、説明の便宜上、X線高電圧装置14が、X線管11に対してx軸の正方向の位置に配置されているが、X線管11に対してx軸の負方向の位置に配置されてもよい。 The X-ray high voltage device 14 is provided on the rotating frame 13 or a non-rotating portion (for example, a fixed frame, not shown) that rotatably supports the rotating frame 13. The X-ray high voltage device 14 has electric circuits such as a transformer and a rectifier. The X-ray high voltage device 14 includes a high voltage generator (not shown) that has a function of generating a high voltage to be applied to the X-ray tube 11 under the control of a control device 15 that will be described later, and a high voltage generator (not shown) that has a function of generating a high voltage to be applied to the Below, it has an X-ray control device (not shown) that controls the output voltage according to the X-rays irradiated by the X-ray tube 11. The high voltage generator may be of a transformer type or an inverter type. Note that in FIG. 10, for convenience of explanation, the X-ray high voltage device 14 is placed at a position in the positive direction of the x-axis with respect to the X-ray tube 11; It may be placed at a position in the direction.

制御装置15は、処理回路及びメモリと、モータ及びアクチュエータ等の駆動機構とを有する。処理回路及びメモリの構成については、後述するコンソール装置40の処理回路44及びメモリ41と同等であるので説明を省略する。 The control device 15 includes a processing circuit, a memory, and a drive mechanism such as a motor and an actuator. The configurations of the processing circuit and memory are the same as the processing circuit 44 and memory 41 of the console device 40, which will be described later, so a description thereof will be omitted.

制御装置15は、コンソール装置40又は架台装置10に取り付けられた、後述する入力インターフェースからの入力信号を受けて、架台装置10及び寝台装置30の動作制御を行う機能を有する。例えば、制御装置15は、入力信号を受けて回転フレーム13を回転させる制御や、架台装置10をチルトさせる制御や、寝台装置30及び天板33を動作させる制御を行う。なお、架台装置10をチルトさせる制御は、架台装置10に取り付けられた入力インターフェースによって入力される傾斜角度(チルト角度)情報により、制御装置15がX軸方向に平行な軸を中心に回転フレーム13を回転させることによって実現される。なお、制御装置15は架台装置10に設けられてもよいし、コンソール装置40に設けられてもよい。なお、制御装置15は、制御部の一例である。 The control device 15 has a function of receiving input signals from an input interface, which will be described later, attached to the console device 40 or the gantry device 10, and controlling the operations of the gantry device 10 and the bed device 30. For example, the control device 15 receives an input signal and performs control to rotate the rotating frame 13, control to tilt the gantry device 10, and control to operate the bed device 30 and the top plate 33. Note that the control for tilting the gantry device 10 is performed by the control device 15 tilting the rotating frame 13 about an axis parallel to the This is achieved by rotating the . Note that the control device 15 may be provided on the gantry device 10 or may be provided on the console device 40. Note that the control device 15 is an example of a control section.

また、制御装置15は、コンソール装置40や架台装置10に取り付けられた、後述する入力インターフェースから入力された撮像条件に基づいて、X線管11の回転角度や、後述するウェッジ16及びコリメータ17の動作を制御する。 The control device 15 also controls the rotation angle of the X-ray tube 11 and the rotation angle of the wedge 16 and collimator 17, which will be described later, based on imaging conditions input from an input interface, which will be described later, attached to the console device 40 and the gantry device 10. Control behavior.

ウェッジ16は、X線管11のX線出射側に配置されるように回転フレーム13に備えられる。ウェッジ16は、制御装置15による制御の下、X線管11から照射されたX線量を調節するためのフィルタである。具体的には、ウェッジ16は、X線管11から患者Pに照射されるX線が予め定められた分布になるように、X線管11から照射されたX線を透過して減衰させるフィルタである。例えば、ウェッジ16(ウェッジフィルタ(Wedge Filter)、又は、ボウタイフィルタ(bow-tie filter))は、所定のターゲット角度や所定の厚みとなるようにアルミニウムを加工したフィルタである。 The wedge 16 is provided on the rotating frame 13 so as to be disposed on the X-ray emission side of the X-ray tube 11. The wedge 16 is a filter for adjusting the amount of X-rays irradiated from the X-ray tube 11 under the control of the control device 15. Specifically, the wedge 16 is a filter that transmits and attenuates the X-rays irradiated from the X-ray tube 11 so that the X-rays irradiated from the X-ray tube 11 to the patient P have a predetermined distribution. It is. For example, the wedge 16 (wedge filter or bow-tie filter) is a filter made of aluminum processed to have a predetermined target angle and a predetermined thickness.

コリメータ17は、X線絞り又はスリットとも呼ばれ、X線管11のX線出射側に配置されるように回転フレーム13に備えられる。コリメータ17は、制御装置15による制御の下、ウェッジ16を透過したX線の照射範囲を絞り込むための鉛板等であり、複数の鉛板等の組合せによってX線の照射開口を形成する。 The collimator 17 is also called an X-ray diaphragm or a slit, and is provided on the rotating frame 13 so as to be disposed on the X-ray emission side of the X-ray tube 11. The collimator 17 is a lead plate or the like for narrowing down the irradiation range of the X-rays transmitted through the wedge 16 under the control of the control device 15, and forms an X-ray irradiation aperture by combining a plurality of lead plates or the like.

DAS18は、回転フレーム13に備えられる。DAS18は、制御装置15による制御の下、X線検出器12の各X線検出素子から出力される電気信号に対して増幅処理を行う増幅器と、制御装置15による制御の下、電気信号をデジタル信号に変換するA/D(Analog to Digital)変換器とを有し、増幅及びデジタル変換後の検出データを生成する。DAS18によって生成された、複数ビュー分の検出データは、コンソール装置40に転送される。 The DAS 18 is provided on the rotating frame 13. The DAS 18 includes an amplifier that performs amplification processing on the electrical signals output from each X-ray detection element of the X-ray detector 12 under the control of the control device 15, and an amplifier that amplifies the electrical signals under the control of the control device 15. It has an A/D (Analog to Digital) converter that converts into a signal, and generates detection data after amplification and digital conversion. Detection data for multiple views generated by the DAS 18 is transferred to the console device 40.

ここで、DAS18によって生成された検出データは、回転フレーム13に設けられた発光ダイオード(LED)を有する送信機から光通信によって架台装置10の固定フレームに設けられたフォトダイオードを有する受信機に送信され、コンソール装置40に転送される。なお、回転フレーム13から架台装置10の固定フレームへの検出データの送信方法は、前述の光通信に限らず、非接触型のデータ伝送であれば如何なる方式を採用しても構わない。また、回転フレーム13は、回転部の一例である。 Here, the detection data generated by the DAS 18 is transmitted from a transmitter having a light emitting diode (LED) provided in the rotating frame 13 to a receiver having a photodiode provided in the fixed frame of the gantry device 10 by optical communication. and is transferred to the console device 40. Note that the method of transmitting the detection data from the rotating frame 13 to the fixed frame of the gantry device 10 is not limited to the above-mentioned optical communication, but any method may be used as long as it is a non-contact data transmission method. Furthermore, the rotating frame 13 is an example of a rotating section.

寝台装置30は、基台31と、寝台駆動装置32と、天板33と、支持フレーム34とを備える。寝台装置30は、スキャン対象の患者Pを載置し、制御装置15による制御の下、患者Pを移動させる装置である。 The bed device 30 includes a base 31, a bed driving device 32, a top plate 33, and a support frame 34. The bed device 30 is a device on which a patient P to be scanned is placed and moves the patient P under the control of the control device 15.

基台31は、支持フレーム34を鉛直方向(y軸方向)に昇降可能に支持する筐体である。 The base 31 is a casing that supports the support frame 34 so as to be movable up and down in the vertical direction (y-axis direction).

寝台駆動装置32は、基台31を鉛直方向(y軸方向)に移動させるモータ又はアクチュエータである。 The bed driving device 32 is a motor or actuator that moves the base 31 in the vertical direction (y-axis direction).

天板33は、支持フレーム34の上面に設けられ、患者Pを載置可能な形状を有する板である。天板33は、天板33を天板33の長軸方向(z軸方向)に移動するモータ又はアクチュエータである天板駆動装置(図3に図示)により、天板33を移動可能である。 The top plate 33 is a plate provided on the upper surface of the support frame 34 and has a shape on which the patient P can be placed. The top plate 33 can be moved by a top drive device (shown in FIG. 3), which is a motor or actuator that moves the top plate 33 in the longitudinal direction (z-axis direction) of the top plate 33.

なお、天板駆動装置は、天板33に加え、支持フレーム34を天板33の長軸方向(z軸方向)に移動させてもよい。また、天板駆動装置は、寝台装置30の基台31ごと移動させてもよい。本発明を立位CTに応用する場合、天板33に相当する患者移動機構を移動する方式であってもよい。また、ヘリカルスキャンや位置決め等のためのスキャノ撮像等、架台装置10の撮像系と天板33の位置関係の相対的な変更を伴う撮像を実行する場合は、当該位置関係の相対的な変更は天板33の駆動によって行われてもよいし、架台装置10の固定部の走行によって行われてもよく、またそれらの複合によって行われてもよい。 In addition to the top plate 33, the top drive device may move the support frame 34 in the longitudinal direction (z-axis direction) of the top plate 33. Further, the top drive device may move the base 31 of the bed device 30 together. When the present invention is applied to standing CT, a method may be adopted in which a patient moving mechanism corresponding to the top plate 33 is moved. Furthermore, when performing imaging that involves a relative change in the positional relationship between the imaging system of the gantry device 10 and the top plate 33, such as scano-imaging for helical scanning or positioning, the relative change in the positional relationship is This may be performed by driving the top plate 33, by moving the fixed portion of the gantry device 10, or by a combination thereof.

なお、実施形態では、非チルト状態での回転フレーム13の回転軸又は寝台装置30の天板33の長手方向をz軸方向、z軸方向に直交し、床面に対し水平である軸方向をx軸方向、z軸方向に直交し、床面に対し垂直である軸方向をy軸方向とそれぞれ定義するものとする。 In the embodiment, the rotation axis of the rotation frame 13 in a non-tilted state or the longitudinal direction of the top plate 33 of the bed device 30 is the z-axis direction, and the axial direction perpendicular to the z-axis direction and horizontal to the floor surface is the z-axis direction. The axial direction that is perpendicular to the x-axis direction and the z-axis direction and perpendicular to the floor surface is defined as the y-axis direction.

コンソール装置40は、コンピュータとしての構成を備え、メモリ41と、ディスプレイ42と、入力インターフェース43と、処理回路44とを備える。なお、コンソール装置40は架台装置10とは別体として説明するが、架台装置10にコンソール装置40又はコンソール装置40の各構成要素の一部が含まれてもよい。また、以下の説明では、コンソール装置40が単一のコンソールで全ての機能を実行するものとするが、これらの機能は、複数のコンソールが実行してもよい。なお、コンソール装置40は、医用画像処理装置の一例である。 The console device 40 is configured as a computer and includes a memory 41, a display 42, an input interface 43, and a processing circuit 44. Although the console device 40 will be described as being separate from the gantry device 10, the gantry device 10 may include the console device 40 or a part of each component of the console device 40. Further, in the following description, it is assumed that the console device 40 executes all functions with a single console, but these functions may be executed with a plurality of consoles. Note that the console device 40 is an example of a medical image processing device.

メモリ41は、例えば、RAM(Random Access Memory)、フラッシュメモリ(Flash Memory)等の半導体メモリ素子、ハードディスク、光ディスク等によって構成される。メモリ41は、USB(Universal Serial Bus)メモリ及びDVD(Digital Video Disk)等の可搬型メディアによって構成されてもよい。メモリ41は、処理回路44において用いられる各種処理プログラム(アプリケーションプログラムの他、OS(Operating System)等も含まれる)や、プログラムの実行に必要なデータを記憶する。また、OSに、操作者に対するディスプレイ42への情報の表示にグラフィックを多用し、基礎的な操作を入力インターフェース43によって行うことができるGUI(Graphic User Interface)を含めることもできる。 The memory 41 is configured by, for example, a semiconductor memory element such as a RAM (Random Access Memory), a flash memory, a hard disk, an optical disk, or the like. The memory 41 may be configured by a portable medium such as a USB (Universal Serial Bus) memory and a DVD (Digital Video Disk). The memory 41 stores various processing programs (including application programs as well as an OS (Operating System), etc.) used in the processing circuit 44 and data necessary for executing the programs. Further, the OS may include a GUI (Graphic User Interface) that makes extensive use of graphics to display information on the display 42 to the operator and allows basic operations to be performed using the input interface 43.

メモリ41は、例えば、前処理前の検出データや、前処理後かつ再構成前の生データや、生データに基づく再構成画像データを記憶する。前処理は、検出データに対する、対数変換処理、オフセット補正処理、チャンネル間の感度補正処理、ビームハードニング処理等のうち少なくとも1つを意味する。また、インターネット等の通信ネットワークを介してX線CT装置1と接続可能なクラウドサーバがX線CT装置1からの保存要求を受けて検出データ、生データ、又は再構成画像データを記憶するように構成されてもよい。なお、メモリ41は、記憶部の一例である。 The memory 41 stores, for example, detection data before preprocessing, raw data after preprocessing and before reconstruction, and reconstructed image data based on the raw data. Pre-processing means at least one of logarithmic conversion processing, offset correction processing, inter-channel sensitivity correction processing, beam hardening processing, etc. on the detected data. In addition, a cloud server that can be connected to the X-ray CT apparatus 1 via a communication network such as the Internet stores detected data, raw data, or reconstructed image data upon receiving a storage request from the X-ray CT apparatus 1. may be configured. Note that the memory 41 is an example of a storage section.

ディスプレイ42は、各種の情報を表示する。例えば、ディスプレイ42は、処理回路44によって生成された再構成画像データや、ユーザからの各種操作を受け付けるためのGUI(Graphical User Interface)等を出力するモニタである。例えば、ディスプレイ42は、液晶ディスプレイやCRT(Cathode Ray Tube)ディスプレイ、OLED(Organic Light Emitting Diode)ディスプレイ等である。また、ディスプレイ42は、デスクトップ型でもよいし、コンソール装置40本体と無線通信可能なタブレット端末等で構成されることにしてもよい。なお、ディスプレイ42は、表示部の一例である。 The display 42 displays various information. For example, the display 42 is a monitor that outputs reconstructed image data generated by the processing circuit 44 and a GUI (Graphical User Interface) for accepting various operations from the user. For example, the display 42 is a liquid crystal display, a CRT (Cathode Ray Tube) display, an OLED (Organic Light Emitting Diode) display, or the like. Further, the display 42 may be of a desktop type, or may be constituted by a tablet terminal or the like that can communicate wirelessly with the main body of the console device 40. Note that the display 42 is an example of a display section.

入力インターフェース43は、技師等の操作者によって操作が可能な入力デバイスと、入力デバイスからの信号を入力する入力回路とを含む。入力デバイスは、マウス、キーボード、トラックボール、スイッチ、ボタン、ジョイスティック、操作面に触れることで入力操作を行うタッチパッド、表示画面とタッチパッドとが一化されたタッチスクリーン、光学センサを用いた非接触入力回路、音声入力回路等によって実現される。入力デバイスが操作者から入力操作を受け付けると、入力回路は当該入力操作に応じた電気信号を生成して処理回路44に出力する。また、入力インターフェース43は、架台装置10に設けられてもよい。また、入力インターフェース43は、コンソール装置40本体と無線通信可能なタブレット端末等で構成されてもよい。なお、入力インターフェース43は、入力部の一例である。 The input interface 43 includes an input device that can be operated by an operator such as a technician, and an input circuit that inputs signals from the input device. Input devices include mice, keyboards, trackballs, switches, buttons, joysticks, touchpads that perform input operations by touching the operating surface, touchscreens that integrate the display screen and touchpad, and non-controllers that use optical sensors. This is realized by a touch input circuit, a voice input circuit, etc. When the input device receives an input operation from the operator, the input circuit generates an electrical signal according to the input operation and outputs it to the processing circuit 44 . Further, the input interface 43 may be provided in the gantry device 10. Furthermore, the input interface 43 may be configured with a tablet terminal or the like that can communicate wirelessly with the console device 40 main body. Note that the input interface 43 is an example of an input section.

なお、コンソール装置40は、ネットワークインターフェース(図示省略)を備える場合もある。ネットワークインターフェースは、パラレル接続仕様やシリアル接続仕様に合わせたコネクタによって構成される。X線CT装置1が医用画像システム上に設けられる場合、ネットワークインターフェースは、ネットワーク上の外部装置と情報の送受信を行なう。例えば、ネットワークインターフェースは、処理回路44の制御の下、外部装置からCT検査に係る検査オーダを受信し、また、X線CT装置1によって取得された検出データや、生成された生データ又は再構成画像データを外部装置に送信する。 Note that the console device 40 may include a network interface (not shown). The network interface is composed of connectors that meet parallel connection specifications and serial connection specifications. When the X-ray CT apparatus 1 is installed on a medical imaging system, the network interface sends and receives information to and from external devices on the network. For example, under the control of the processing circuit 44, the network interface receives an examination order related to a CT examination from an external device, and also receives detection data acquired by the X-ray CT apparatus 1, raw data generated, or reconstructed data. Send image data to an external device.

処理回路44は、X線CT装置1の全体の動作を制御する。処理回路44は、専用又は汎用のCPU(Central Processing Unit)、MPU(Micro Processor Unit)、又はGPU(Graphics Processing Unit)等のプロセッサの他、ASIC、及び、プログラマブル論理デバイス等を意味する。プログラマブル論理デバイスとしては、例えば、単純プログラマブル論理デバイス(SPLD:Simple Programmable Logic Device)、複合プログラマブル論理デバイス(CPLD:Complex Programmable Logic Device)、及び、フィールドプログラマブルゲートアレイ(FPGA:Field Programmable Gate Array)等が挙げられる。 The processing circuit 44 controls the overall operation of the X-ray CT apparatus 1. The processing circuit 44 means a dedicated or general-purpose processor such as a CPU (Central Processing Unit), an MPU (Micro Processor Unit), or a GPU (Graphics Processing Unit), as well as an ASIC, a programmable logic device, and the like. Examples of programmable logic devices include simple programmable logic devices (SPLDs), complex programmable logic devices (CPLDs), and field programmable gate arrays (FPGAs). Can be mentioned.

また、処理回路44は、単一の回路によって構成されてもよいし、複数の独立した処理回路要素の組み合わせによって構成されてもよい。後者の場合、メモリは処理回路要素ごとに個別に設けられてもよいし、単一のメモリが複数の処理回路要素の機能に対応するプログラムを記憶するものであってもよい。 Further, the processing circuit 44 may be configured by a single circuit, or may be configured by a combination of a plurality of independent processing circuit elements. In the latter case, a memory may be provided individually for each processing circuit element, or a single memory may store programs corresponding to the functions of a plurality of processing circuit elements.

コンソール装置40は、予め設定されたスキャン条件に従って制御装置15を介して架台装置10及び寝台装置30等を制御することで、X線の照射及び検出を含むCTスキャンを実行させ、再構成画像データとして、断層像であるCT画像データや、3次元画像データを生成する。例えば、スキャン条件は、照射X線に関する、管電流mA、管電圧kV、X線強度制御条件(X線モジュレーション条件)、X線管11(又は、回転フレーム13)の回転速度等を含む。 The console device 40 executes a CT scan including X-ray irradiation and detection by controlling the gantry device 10, bed device 30, etc. via the control device 15 according to preset scan conditions, and generates reconstructed image data. As a result, CT image data, which is a tomographic image, and three-dimensional image data are generated. For example, the scan conditions include tube current mA, tube voltage kV, X-ray intensity control conditions (X-ray modulation conditions), rotation speed of the X-ray tube 11 (or rotating frame 13), etc. regarding irradiated X-rays.

また、コンソール装置40は、再構成画像データをメモリ41に記憶させる機能や、再構成画像データを再構成画像としてディスプレイ42に表示させる機能や、再構成画像データを、ネットワークインターフェース(図示省略)を介して外部装置に送信する機能を含む場合もある。 The console device 40 also has a function of storing reconstructed image data in the memory 41, a function of displaying the reconstructed image data as a reconstructed image on a display 42, and a function of displaying the reconstructed image data on a network interface (not shown). It may also include the ability to send data to an external device via an external device.

続いて、X線検出器12の製造方法について詳細する。 Next, a method for manufacturing the X-ray detector 12 will be described in detail.

図13は、X線検出器12の製造方法をフローチャートとして示す図である。図13において、「ST」に数字を付した符号はフローチャートの各ステップを示す。なお、特に言及する場合を除いて、基板が図6、図11、及び図12に示す基板61Eである場合について説明するが、その場合に限定されるものではない。基板は、図1、図3~図5、図7~図9に示す基板61A~61Eであってもよい。 FIG. 13 is a flowchart showing a method for manufacturing the X-ray detector 12. As shown in FIG. In FIG. 13, the symbol "ST" with a number indicates each step of the flowchart. Note that, unless otherwise specified, the case where the substrate is the substrate 61E shown in FIGS. 6, 11, and 12 will be described, but the present invention is not limited to that case. The substrate may be the substrates 61A to 61E shown in FIGS. 1, 3 to 5, and 7 to 9.

まず、適宜切断され基板61Eの基となる複数の基材、例えば未焼成の4枚のグリーンシートに径及び中心位置の異なる穴が形成される(ステップST1)。例えば、グリーンシートに上下層の回路を接続するビアを形成する際に当該穴が形成されればよい。 First, holes having different diameters and center positions are formed in a plurality of base materials, for example, four unfired green sheets, which are appropriately cut and become the basis of the substrate 61E (step ST1). For example, the holes may be formed when forming vias connecting upper and lower layer circuits in the green sheet.

4枚のグリーンシートのうち、径が最小であるグリーンシートは、第4層(最上層)に積層されるものなので、穴は、第1の面P1上の4個の電極間の中央位置に形成される。径が2番目に小さいグリーンシートは、第4層の下層である第3層に積層されるものなので、穴は、第4層の穴に一部が重なる位置に形成される。径が2番目に大きいグリーンシートは、第3層の下層である第2層に積層されるものなので、穴は、第3層の穴に一部が重なる位置に形成される。径が最大であるグリーンシートは、第2層の下層である第1層であるので、穴は、第2層の穴に一部が重なる位置に形成される。また、第1層のグリーンシートの穴の径は、ディスペンサのニードルの先端径より大きいものとして形成される。 The green sheet with the smallest diameter among the four green sheets is the one that is laminated on the fourth layer (top layer), so the hole is placed at the center position between the four electrodes on the first surface P1. It is formed. Since the green sheet with the second smallest diameter is laminated on the third layer, which is the layer below the fourth layer, the holes are formed at positions that partially overlap the holes in the fourth layer. Since the green sheet with the second largest diameter is laminated on the second layer, which is the layer below the third layer, the holes are formed at positions that partially overlap the holes in the third layer. Since the green sheet with the largest diameter is the first layer below the second layer, the holes are formed at positions that partially overlap the holes in the second layer. Further, the diameter of the hole in the first layer green sheet is larger than the diameter of the tip of the needle of the dispenser.

なお、基板が、図1及び図3に示す単層基板である場合、1枚のグリーンシートの、複数のパッド64に電気的に接続可能な第1の面P1に、第2の面P2に貫通するような穴を形成すればよい。さらに、基板が、図3に示す単層基板である場合、第1の面P1から第2の面P2にかけて径が拡がるように貫通孔を形成すればよい。 In addition, when the board is a single-layer board shown in FIGS. 1 and 3, the first surface P1 and the second surface P2 of one green sheet, which can be electrically connected to the plurality of pads 64, are What is necessary is to form a penetrating hole. Further, when the substrate is a single layer substrate shown in FIG. 3, the through hole may be formed so that the diameter increases from the first surface P1 to the second surface P2.

次いで、穴の径が小さいグリーンシートを上層とし、穴の径が大きいグリーンシートを下層とし、各グリーンシートに回路パターンが印刷される(ステップST2)。 Next, a green sheet with a small hole diameter is used as an upper layer, a green sheet with a large hole diameter is used as a lower layer, and a circuit pattern is printed on each green sheet (step ST2).

回路パターンが印刷された穴の小さいグリーンシートが上層に、回路パターンが印刷された穴の大きいグリーンシートが下層になるように積層される(ステップST3)。積層体が加圧焼結されることで基板61Eが製造される(ステップST4)。 The green sheets with small holes on which circuit patterns are printed are stacked on top, and the green sheets with large holes on which circuit patterns are printed are stacked on the bottom layer (step ST3). The substrate 61E is manufactured by pressure sintering the laminate (step ST4).

基板61Eの各層の穴によって形成される貫通孔HEを有する基板61Eに、光センサ62とシンチレータ63とが実装されて実装基板60Eが製造される(ステップST5)。複数の実装基板60Eが、チャンネル方向及び列方向に沿ってX線検出器12´の基台に2次元配列される(ステップST6)。X線検出器12´の基台に複数の実装基板60Eが2次元配列された状態は、図11を使って説明済みである。 The optical sensor 62 and the scintillator 63 are mounted on the substrate 61E having the through holes HE formed by holes in each layer of the substrate 61E, thereby manufacturing the mounting substrate 60E (step ST5). A plurality of mounting boards 60E are two-dimensionally arranged on the base of the X-ray detector 12' along the channel direction and the column direction (step ST6). The state in which the plurality of mounting boards 60E are two-dimensionally arranged on the base of the X-ray detector 12' has already been explained using FIG. 11.

2次元配列された複数の実装基板60Eのそれぞれについて、貫通孔HEの第2の面P2側にニードルNの先端が挿入される(ステップST7)。2次元配列された複数の実装基板60Eのそれぞれについて、ニードルNの先端から貫通孔HE内にアンダーフィルUが注入され、貫通孔HE内と、光センサ62及び基板61Eの隙間とにアンダーフィルUが充填される(ステップST8)。 For each of the plurality of mounting boards 60E arranged two-dimensionally, the tip of the needle N is inserted into the second surface P2 side of the through hole HE (step ST7). For each of the plurality of two-dimensionally arranged mounting boards 60E, underfill U is injected into the through hole HE from the tip of the needle N, and the underfill U is injected into the through hole HE and the gap between the optical sensor 62 and the board 61E. is filled (step ST8).

2次元配列された複数の実装基板60Eのそれぞれについて、充填されたアンダーフィルUが硬化され、検出器パック70Eが製造される(ステップST9)。複数の実装基板60Eのそれぞれにアンダーフィルが充填された後の複数の検出器パック70Eの状態は、図12を使って説明済みである。複数の検出器パック70Eの前面にグリッドが設置されてX線検出器12が製造される(ステップST10)。 The filled underfill U is cured for each of the plurality of two-dimensionally arranged mounting boards 60E, and the detector pack 70E is manufactured (step ST9). The state of the plurality of detector packs 70E after each of the plurality of mounting boards 60E is filled with underfill has already been explained using FIG. 12. A grid is installed in front of the plurality of detector packs 70E to manufacture the X-ray detector 12 (step ST10).

以上のように、X線検出器12の製造方法によれば、第1の面P1上における電極の配置位置との関係と、ディスペンサのニードルNの径との関係との両方を考慮することによって、電極の配置位置とニードルNの径とに応じた位置及び径をもつ適切な貫通孔HA~HEを基板61A~61Eに設けることができる。それにより、効率よく、かつ、効果的に基板にアンダーフィルUを充填することができる。また、X線検出器12の製造方法によれば、隣接する実装基板60A~60Eの隙間を構成する必要がないので、光センサ62の側面とシンチレータ63の側面とを面一で、かつ、複数の検出器パック70A~70Eを隙間なく密に配置することもできる。 As described above, according to the method for manufacturing the X-ray detector 12, by considering both the relationship with the arrangement position of the electrode on the first surface P1 and the relationship with the diameter of the needle N of the dispenser. Appropriate through holes HA to HE having positions and diameters corresponding to the arrangement positions of the electrodes and the diameters of the needles N can be provided in the substrates 61A to 61E. Thereby, the underfill U can be efficiently and effectively filled into the substrate. Furthermore, according to the method for manufacturing the X-ray detector 12, there is no need to form gaps between the adjacent mounting boards 60A to 60E, so the side surface of the optical sensor 62 and the side surface of the scintillator 63 are flush with each other, and multiple It is also possible to arrange the detector packs 70A to 70E densely without any gaps.

以上説明した少なくとも1つの実施形態によれば、効率よく、かつ、効果的に硬化剤を充填することができる基板を提供することができる。 According to at least one embodiment described above, it is possible to provide a substrate that can be efficiently and effectively filled with a curing agent.

本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれると同様に、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれるものである。 Although several embodiments of the invention have been described, these embodiments are presented by way of example and are not intended to limit the scope of the invention. These embodiments can be implemented in various other forms, and various omissions, substitutions, and changes can be made without departing from the gist of the invention. These embodiments and their modifications are included within the scope and gist of the invention as well as within the scope of the invention described in the claims and its equivalents.

1 X線CT装置
12 X線検出器
60A~60E 実装基板
61A~61E 基板
62 光センサ
63 シンチレータ
64 パッド
70A~70E 検出器パック
N ニードル
HA~HE 貫通孔
U アンダーフィル
1 X-ray CT device 12 X-ray detector 60A to 60E Mounting board 61A to 61E Board 62 Optical sensor 63 Scintillator 64 Pad 70A to 70E Detector pack N Needle HA to HE Through hole U Underfill

Claims (9)

電子デバイスと電気的に接続するための複数のパッドに電気的に接続可能な第1の面と前記第1の面に対向する第2の面とを有する、複数の基板要素から成る積層基板であって、
前記複数の基板要素のうち最上層の基板要素は、前記第1の面を有し、
前記複数の基板要素のうち最下層の基板要素は、前記第2の面を有し、
前記複数のパッド間において、前記第1の面と前記第2の面との間で貫通するように貫通孔が設けられ
前記貫通孔は、前記複数の基板要素の少なくとも1つの基板要素の穴の中心位置が他の基板要素の穴の中心位置と異なるように形成された、
基板。
A laminated board consisting of a plurality of substrate elements, having a first surface electrically connectable to a plurality of pads for electrically connecting with an electronic device , and a second surface opposite to the first surface. There it is,
The uppermost substrate element among the plurality of substrate elements has the first surface,
The lowest substrate element among the plurality of substrate elements has the second surface,
A through hole is provided between the plurality of pads so as to penetrate between the first surface and the second surface ,
The through hole is formed such that the center position of the hole in at least one of the plurality of board elements is different from the center position of the hole in the other board elements.
substrate.
前記第2の面の穴が、アンダーフィル注入用のニードルの先端が所定深さだけ挿入可能な大きさで設けられた、
請求項1に記載の基板。
The hole on the second surface is provided with a size that allows the tip of a needle for underfill injection to be inserted to a predetermined depth.
The substrate according to claim 1.
前記第2の面の穴が、前記第1の面の穴よりも大きくなるように設けられた、
請求項1又は2に記載の基板。
The hole in the second surface is provided to be larger than the hole in the first surface.
The substrate according to claim 1 or 2.
前記第1の面から前記第2の面にかけて大きさが徐々に拡がるように貫通孔が形成された、
請求項1乃至3のいずれか1項に記載の基板。
A through hole is formed such that the size thereof gradually increases from the first surface to the second surface.
The substrate according to any one of claims 1 to 3.
記最上層の基板要素と前記最下層の基板要素にそれぞれ大きさの異なる穴が設けられることで貫通穴が形成された、
請求項1に記載の基板。
A through hole is formed by providing holes of different sizes in the uppermost layer substrate element and the lowermost layer substrate element, respectively.
The substrate according to claim 1.
前記第2の面の穴から所定の距離離間した位置に溝が設けられた、
請求項1乃至のいずれか1項に記載の基板。
a groove is provided at a position spaced a predetermined distance from the hole in the second surface;
The substrate according to any one of claims 1 to 5 .
前記第2の面の穴から前記所定の距離離間した位置に、当該穴を中心として当該穴を囲うように溝が設けられた、A groove is provided at a position spaced apart from the hole of the second surface by the predetermined distance so as to surround the hole with the hole as the center.
請求項6に記載の基板。The substrate according to claim 6.
請求項1乃至のいずれか1項に記載の前記基板が複数配列されて成る、
X線検出器用の基板。
A plurality of the substrates according to any one of claims 1 to 7 are arranged.
Substrate for X-ray detector.
複数の基板要素から成る積層基材の、電子デバイスと電気的に接続するための複数のパッドに電気的に接続可能な第1の面であって前記複数の基板要素のうち最上層の基板要素に設けられる第1の面と、前記第1の面と対向する第2の面であって前記複数の基板要素のうち最下層の基板要素に設けれる第2の面との間で貫通するような貫通孔を、前記複数の基板要素の少なくとも1つの基板要素の穴の中心位置が他の基板要素の穴の中心位置と異なるように形成し、
前記貫通孔を有する基板に、電子デバイスを実装することで複数の実装基板を製造し、
前記複数の実装基板を基台に2次元配列し、
2次元配列された複数の実装基板のそれぞれについて、前記貫通孔の第2の面側にニードルの先端を挿入して硬化剤を注入して充填する、
X線検出器の製造方法。
A first surface of a laminated base material consisting of a plurality of substrate elements , which is electrically connectable to a plurality of pads for electrically connecting to an electronic device, and is the uppermost substrate element among the plurality of substrate elements. and a second surface opposite to the first surface and provided on the lowest substrate element among the plurality of substrate elements. a through hole is formed such that the center position of the hole in at least one of the plurality of substrate elements is different from the center position of the hole in the other substrate elements,
manufacturing a plurality of mounting boards by mounting electronic devices on the board having the through hole;
two-dimensionally arranging the plurality of mounting boards on a base;
For each of the plurality of two-dimensionally arranged mounting boards, inserting the tip of a needle into the second surface side of the through hole and injecting and filling the hardening agent.
A method for manufacturing an X-ray detector.
JP2019129585A 2019-07-11 2019-07-11 Substrate, X-ray detector substrate, and method for manufacturing an X-ray detector Active JP7365801B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2019129585A JP7365801B2 (en) 2019-07-11 2019-07-11 Substrate, X-ray detector substrate, and method for manufacturing an X-ray detector

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2019129585A JP7365801B2 (en) 2019-07-11 2019-07-11 Substrate, X-ray detector substrate, and method for manufacturing an X-ray detector

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2021015886A JP2021015886A (en) 2021-02-12
JP7365801B2 true JP7365801B2 (en) 2023-10-20

Family

ID=74531957

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2019129585A Active JP7365801B2 (en) 2019-07-11 2019-07-11 Substrate, X-ray detector substrate, and method for manufacturing an X-ray detector

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP7365801B2 (en)

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010141018A (en) 2008-12-10 2010-06-24 Shinko Electric Ind Co Ltd Wiring board and method of manufacturing the same
JP2010243394A (en) 2009-04-08 2010-10-28 Tele Systems:Kk Radiation detector and radiation imaging device
JP2016192551A (en) 2016-04-20 2016-11-10 浜松ホトニクス株式会社 Detector, pet apparatus and x-ray ct device
JP2018160526A (en) 2017-03-22 2018-10-11 株式会社デンソー Electronic device and manufacturing method of the same

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3353501B2 (en) * 1994-11-09 2002-12-03 ソニー株式会社 Semiconductor device and method of manufacturing semiconductor device

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010141018A (en) 2008-12-10 2010-06-24 Shinko Electric Ind Co Ltd Wiring board and method of manufacturing the same
JP2010243394A (en) 2009-04-08 2010-10-28 Tele Systems:Kk Radiation detector and radiation imaging device
JP2016192551A (en) 2016-04-20 2016-11-10 浜松ホトニクス株式会社 Detector, pet apparatus and x-ray ct device
JP2018160526A (en) 2017-03-22 2018-10-11 株式会社デンソー Electronic device and manufacturing method of the same

Also Published As

Publication number Publication date
JP2021015886A (en) 2021-02-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6039179B2 (en) Sensor stack, method of forming detector array, detector array
JP7365801B2 (en) Substrate, X-ray detector substrate, and method for manufacturing an X-ray detector
WO2014136734A1 (en) Radiation detector and x-ray ct device provided therewith
JP7058998B2 (en) Detector module and X-ray CT device
JP7118610B2 (en) DETECTOR PACK, X-RAY DETECTOR, X-RAY CT APPARATUS, AND METHOD FOR MANUFACTURING DETECTOR PACK
JP7034635B2 (en) Manufacturing method of detector module, radiation detector, X-ray computed tomography equipment and radiation detector
US10024984B2 (en) Radiation detector, detector module, and medical image diagnosis apparatus
JP2016035449A (en) X-ray computer tomography apparatus and x-ray detector
CN111820932B (en) X-ray CT apparatus
CN111973211A (en) Medical image diagnosis device
JP2019213711A (en) Medical image diagnostic apparatus
JP7399780B2 (en) Medical image diagnostic equipment
US11650337B2 (en) Converter array, detector, and photodiode array
JP2020018766A (en) Radiation detector and radiation detector module
JP2019063509A (en) Radiodiagnosis device, radiation detector, and collimator
JP7362270B2 (en) Radiation detector and radiation diagnostic equipment
US20220334267A1 (en) Radiation detector module, radiation detector, and x-ray ct apparatus
JP7114381B2 (en) X-ray CT device and X-ray tube device
JP7223572B2 (en) X-ray CT device
JP2022178846A (en) Medical information processing method, medical information processing device, and medical image processing device
JP6793553B2 (en) Manufacturing method of detector pack, X-ray detector, X-ray CT device, detector pack
JP2023074957A (en) Direct conversion type x-ray detector, x-ray detection method, and x-ray computer tomographic device
JP2022011724A (en) X-ray ct apparatus
JP2022014431A (en) Correcting x-ray detector, x-ray ct apparatus and detection element determination method
JP2022081092A (en) X-ray ct apparatus, moving image generation method, and imaging control method

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20220519

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20230309

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20230328

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20230529

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20230912

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20231010

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 7365801

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150