JP7365530B1 - 銀微粒子組成物 - Google Patents
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Abstract
Description
本出願は、2022年3月30日出願の日本出願第2022-054774号に基づく優先権を主張し、前記日本出願に記載された全ての記載内容を援用するものである。
このような性質を利用して、銀微粒子を含む組成物をLED等の発光素子を基板に接合するための接合材、半導体チップを基板に接合するための接合材、これらの基板をさらに放熱部材に接合するための接合材などに、使用することが提案されている。
一方、粒子径が小さい銀微粒子を焼結させた場合、塗布した銀微粒子組成物の体積に比べて、得られた銀の焼結体の体積が大きく減少する。そのため、形成された焼結層は空隙が多く、密な焼結層を得ることが難しい。
また、接合用組成物としての銀微粒子組成物を被接合部材の間に挟んで使用する場合に、使用する銀微粒子組成物が焼結後に体積の大きく減少する銀微粒子組成物であると、大面積(例えば、25mm2以上)の接合面同士を強固に接合することが難しくなる。
そのため、焼結後の体積の減少を抑制するならば、銀微粒子の粒子径を大きくする必要があるが、粒子径の大きな銀微粒子が多くなると低温で焼結することが難しくなり、接合できる被接合部材が制限されたり、接合時に必要となる熱エネルギーが増大したりしてしまう。
銀微粒子とアミンとジオールとを含む銀微粒子組成物であって、
上記銀微粒子の平均粒子径は、40nm以上100nm以下であり、
上記銀微粒子全体に占める粒子径100nm以下の銀微粒子の体積比率は、5%以上25%以下であり、
上記銀微粒子全体に占める粒子径500nm超えの銀微粒子の体積比率は、10%以上60%以下である。
本発明の実施形態に係る銀微粒子組成物は、特定の粒子径を有する銀微粒子と、アミンと、ジオールとを含む。
本発明の実施形態では、銀微粒子が特定の粒子径を有することが極めて重要である。
具体的には、上記銀微粒子は、平均粒子径が40nm以上100nm以下であり、上記銀微粒子全体に占める粒子径100nm以下の銀微粒子の体積比率が5%以上25%以下であり、上記銀微粒子全体に占める粒子径500nm超えの銀微粒子の体積比率が10%以上60%以下である。
そのため、上記銀微粒子組成物によれば、低温で焼成可能でありながら、緻密な焼結銀層を形成することができる。
上記平均粒子径が40nm未満では、銀微粒子を安定に分散させるために必要なアミンの量が多くなるため、焼結に伴う体積収縮が大きくなり、その結果、焼成後の銀焼結層の空隙率増加や接合強度低下の原因となりうる。一方、上記平均粒子径が100nmを超えると比較的低温で銀微粒子を焼結させることが難しくなる。本発明において、比較的低温とは、200℃以下の温度をいう。
上記平均粒子径は、50nm以上80nm以下が好ましい。
上記平均粒子径は、走査型電子線顕微鏡(日立製S-4800型)を用いて5万倍の倍率で銀微粒子を観察、撮影した画像に含まれる微粒子について画像解析ソフト(MITANI CORPORATION製 WinROOF)で300点の粒子径を測定し、その数平均値を算出することで取得する。
上記粒子径100nm以下の銀微粒子の体積比率が5%未満では、上述した平均粒子径との両立が難しく、低温焼結性が損なわれる。一方、上記粒子径100nm以下の銀微粒子の体積比率が25%を超えると、平均粒子径の小さな微粒子が多くなり過ぎるため、焼成に伴う体積収縮が大きくなる。そのため、被接合面の面積が大きい部材の接合に使用するのが難しくなる。
上記銀微粒子全体に占める粒子径100nm以下の銀微粒子の体積比率は、10%以上25%以下が好ましい。
上記体積比率は、上記画像解析ソフトを用いて算出する。
このように、粒子径の大きい銀微粒子を含有する銀微粒子組成物では、焼成時の体積収縮を抑制することができる。
上記粒子径500nm超えの銀微粒子の体積比率が10%未満では、焼成時の体積収縮を抑制することが難しくなる。一方、上記粒子径500nm超えの銀微粒子の体積比率が60%を超えると、上述した平均粒子径との両立が難しく、低温焼結性が損なわれる。
上記粒子径300nmを超える微粒子の体積比率を50%以上とすることにより、焼成時により体積収縮しにくくなる。
上記粒子径300nmを超える微粒子の体積比率が50%未満の場合、焼成後の体積収縮が大きくなりやすく、被接合面の面積が大きい部材の接合に使用しにくくなる。一方、上記粒子径300nmを超える微粒子の体積比率が90%を超えると、上述した平均粒子径との両立が難しくなる。
銀微粒子全体に占める粒子径300nmを超える微粒子の体積比率は、50%以上80%以下がより好ましい。
上記アミンは、銀微粒子の凝集を防止し、銀微粒子の分散安定性を高める成分である。上記アミンは、分散剤としての役割を有する。
上記銀微粒子組成物において、上記アミンは、少なくとも一部が銀微粒子に配位して存在し、これによって銀微粒子が凝集しないように保護していると考えられる。そのため、上記アミンとしては、極性基を有するアミンが用いられる。
このような機能を有するアミンとしては、炭素数4~8のアミンが好ましい。
上記銀微粒子組成物が融着する際に、上記アミンが残存していると、銀微粒子同士の融着を阻害される。そのため、上記アミンは、焼成時には早期に蒸発又は分解され、銀微粒子の表面から離脱することが望まれる。この点から、上記アミンの沸点は、180℃以下が好ましく、150℃以下がより好ましい。
本発明において、沸点とは1気圧での沸点をいう。
上記アミンは、例えば、ヒドロキシル基、カルボキシル基、アルコキシ基、カルボニル基、エステル基、メルカプト基等の、アミン以外の官能基を含む化合物であってもよい。
上記銀微粒子組成物におけるアミンの含有量が0.1重量%以上であると、分散剤としての効果が発揮され、上記銀微粒子組成物の分散安定性が良い傾向にある。また、上記アミンの含有量が5重量%以下であれば、焼成時に銀微粒子の融着を妨げるアミンが無くなるか、微量になりやすい。
上記アミンの含有量のより好ましい下限は0.2重量%であり、より好ましい上限は4重量%であり、更に好ましい下限は0.3重量%であり、更に好ましい上限は3重量%である。
ジオールは、上記銀微粒子組成物において、分散媒としての役割を有する。
ジオールを分散媒として使用した場合、銀微粒子組成物の粘度を調整しやすい。また、ジオールを分散媒として使用した場合は、銀微粒子組成物を塗布ペーストとして使用する際の寿命が確保しやすくなる。
上記ジオールとしては、接合用材料として被接合部材に塗布する際の取り扱いのしやすさの観点から、沸点が200℃以上のものが好ましい。
分散媒として役割を有するジオールとしては、炭素数5~9のジオールが好ましい。
これらのジオールは単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
また、上記銀微粒子組成物は、分散媒として機能する成分として、イソトリデカノール、2,2,4-トリメチルペンタン-1,3-ジオールモノイソブチラート(別名:テキサノール)等の化合物を含んでいてもよい。これらの成分を含有させると、銀微粒子組成物の粘度がより調整しやすくなる。
上記ジオールの濃度が上記の範囲にあると、銀微粒子とジオールとの分離を効果的に防止することができ、銀微粒子組成物の塗布安定性が向上する。
一方、上記ジオールの濃度が2重量%未満であると、銀微粒子組成物のせん断粘度が高すぎるため取り扱い性が悪く、被接合部材に塗工し難くなる。また、上記ジオールの濃度が、15重量%を超えると、銀微粒子組成物に含まれる流体の割合が上昇し、銀微粒子の沈降速度が上昇するため、銀微粒子組成物中のジオールと銀微粒子との分離が効果的に防止されず、銀微粒子組成物の安定性が低下する可能性がある。更には、銀微粒子組成物中の銀微粒子の含有量が少なくなるため、焼成によって得られた銀焼結体は、密度が低くなり、充分な強度が得られない場合がある。
上記ジオールのより好ましい濃度は、3重量%以上12重量%以下である。
上記銀微粒子組成物全体に対する、上記銀微粒子の含有量は、85重量%以上97重量%以下が好ましい。
上記銀微粒子の含有量が85重量%未満では、焼成工程を経た際に、体積が大きく減少する懸念がある。また、焼成時に発生するガスの量が多くなり、銀焼結体に空隙が発生しやすくなる。一方、上記銀微粒子の含有量が97重量%を超えると、銀微粒子組成物がペーストとしての形状を保つことができず、銀微粒子が凝集して銀微粒子組成物の粘度が変化してしまうことがある。この場合、銀微粒子組成物を安定して塗布することができないことがある。
上記市販品としては、例えば、ソルスパース(SOLSPERSE)11200、ソルスパース13940、ソルスパース16000、ソルスパース17000、ソルスパース18000、ソルスパース20000、ソルスパース21000、ソルスパース24000、ソルスパース26000、ソルスパース27000、ソルスパース28000(日本ルーブリゾール(株)製);ディスパービック(DISPERBYK)118、ディスパービック142、ディスパービック160、ディスパービック161、ディスパービック162、ディスパービック163、ディスパービック166、ディスパービック170、ディスパービック180、ディスパービック182、ディスパービック184、ディスパービック190、ディスパービック2155(ビックケミー・ジャパン(株)製);EFKA-46、EFKA-47、EFKA-48、EFKA-49(EFKAケミカル社製);ポリマー100、ポリマー120、ポリマー150、ポリマー400、ポリマー401、ポリマー402、ポリマー403、ポリマー450、ポリマー451、ポリマー452、ポリマー453(EFKAケミカル社製);アジスパーPB711、アジスパーPA111、アジスパーPB811、アジスパーPW911(味の素社製);フローレンDOPA-15B、フローレンDOPA-22、フローレンDOPA-17、フローレンTG-730W、フローレンG-700、フローレンTG-720W(共栄社化学工業(株)製)等を挙げることができる。
上記有機溶剤を含む場合、当該有機溶剤は銀微粒子の分散媒としての役割を果たすこともある。
上記せん断粘度が100Pa・s以上であれば、被接合部材に銀微粒子組成物を塗布したときに、銀微粒子組成物がダレることがないため、銀微粒子組成物の塗布厚さを所望の厚さにすることができる。
また、上記銀微粒子組成物によって接合された被接合部材を、温度サイクル試験等の歪の大きい試験にも耐えうる部材とすることができる。
一方、せん断粘度が100Pa・s未満では、銀微粒子組成物を厚く塗布することが難しく、大きな歪にも耐えることができる接合層の形成が難しくなる。
これらの観点から、上記せん断粘度は、100Pa・s以上500Pa・s以下が好ましい。上記せん断粘度は、より好ましくは100Pa・s以上400Pa・s以下である。
ここでは、25℃条件下、コーンプレート(φ25mm、アングル 2°、ギャップ0.105mm)にて、始めに10s-1でプレシェアをかけた後、0.1~100s-1までせん断速度を変えたときの粘度挙動を27点測定し、5s-1時の値を読み取る。
上記銀微粒子を製造する方法としては、例えば、表面にアミンが付着した銀微粒子を調製した後、得られた銀微粒子をジオールと捏和し、ジオール中に分散させる方法が挙げられる。
銀微粒子を含む分散液を調製する工程としては、例えば、下記のように、溶媒中に溶解させた銀塩(又は銀イオン)を還元させればよく、還元手順としては、化学還元法に基づく手順を採用すればよい。また、金属アミン錯体分解法を用いることもできる。
この還元によって、アミンが表面の一部に付着した銀微粒子が得られる。
上記金属アミン錯体分解法を用いる場合は、例えば、極性基を有するアミンと、銀原子を含む銀化合物を混合して、当該銀化合物とアミンとを含む錯化合物を生成する第1工程と、当該錯化合物を加熱することで分解して銀微粒子を生成する第2工程と、により銀微粒子を製造すればよい。
また、当該被膜を形成するアミン分子は加熱等により容易に脱離可能であるため、得られた銀微粒子は非常に低温で焼結可能な銀微粒子となる。
このようなアミンが付着した銀微粒子とジオールとの捏和方法は特に限定されるものではなく、攪拌機やスターラー等を用いて従来公知の方法によって行うことができる。スパチュラのようなもので撹拌したりして、適当な出力の超音波ホモジナイザーを当ててもよい。
上記銀微粒子の粒子径分布は、例えば、原材料の配合比率を変えることによって調整することができる。
また、金属アミン錯体分解法で銀微粒子を製造する場合は、例えば、上記第2工程における加熱条件によって、銀微粒子の粒子径分布を調整することができる。上記銀微粒子が有する所定の粒子径分布を達成するためには、例えば、上記第2工程における昇温速度を3℃/分以上20℃/分以下の範囲内で調整する方法が採用できる。
上記昇温速度が20℃/分より速いと、銀微粒子の粒度分布が狭くなる傾向にある。また、上記昇温速度が3℃/分よりも遅いと、銀微粒子の平均粒子径が大きくなる傾向にある。
上記銀微粒子組成物は、接合用組成物として用いることができる。
例えば、2つの被接合部材(第1の被接合部材と第2の被接合部材)を接合する場合には、
(1)上記接合用組成物(銀微粒子組成物)を第1の被接合部材と第2の被接合部材との間に塗布する塗布工程と、
(2)第1の被接合部材と第2の被接合部材との間に塗布した接合用組成物を、所望の温度(例えば、200℃以下、好ましくは150℃程度)で焼成する焼成工程と、
により、第1の被接合部材と第2の被接合部材とを接合することができる。
従って、焼成工程を経て形成される接合層には、面状の接合層や線状の接合層が含まれる。
上記被接合部材は、接合用組成物との接着性若しくは密着性の向上等の目的ために、プライマー層等の表面層が形成されたり、コロナ処理、プラズマ処理、UV処理、電子線処理等の表面処理が施されたりしてもよい。
上記焼成工程を経て形成された焼結層は、なるべく高い接合強度を得るという点で、アミンやジオール等に由来する有機物の残存量は少ないほうがよいが、有機物の一部が残存していても構わない。
<銀微粒子(A)の製造>
3-メトキシプロピルアミン(東京化成工業製)35.0gと3-エトキシプロピルアミン(東京化成工業製)40.0gとデカノール(富士フイルム和光純薬製)33.0gとの混合溶液に、撹拌を行いながらシュウ酸銀(東洋化学工業製)30.0gを加え、粘性物質を得た。
次に、得られた粘性物質を12分かけて100℃まで昇温し、反応させた。
その後、反応液にメタノール(富士フイルム和光純薬製)150mlを加えて撹拌後、遠心分離によって銀微粒子を沈殿させて分離し、上澄みを捨てた。この操作をもう一度繰り返し、表面にアミンが吸着した銀微粒子(A)を得た。
銀微粒子(A)5.0gに、2-エチル-1,3-ヘキサンジオール(富士フイルム和光純薬製)0.3gを加えてよく捏和し、銀微粒子組成物を得た。
<銀微粒子(B)の製造>
粘性物質の加熱を8分かけて100℃まで昇温としたこと以外は実施例1における銀微粒子(A)の製造と同様にして、銀微粒子(B)を得た。
銀微粒子(B)5.0gに、2-エチル-1,3-ヘキサンジオール0.3gを加えてよく捏和し、銀微粒子組成物を得た。
<銀微粒子(C)の製造>
デカノールを30.0gとし、粘性物質の加熱を10分かけて100℃まで昇温としたこと以外は実施例1における銀微粒子(A)の製造と同様にして、銀微粒子(C)を得た。
銀微粒子(C)5.0gに、2-エチル-1,3-ヘキサンジオール0.3gを加えてよく捏和し、銀微粒子組成物を得た。
<銀微粒子(D)の製造>
デカノールを35.0gとし、粘性物質の加熱を9分かけて100℃まで昇温としたこと以外は実施例1における銀微粒子(A)の製造と同様にして、銀微粒子(D)を得た。
銀微粒子(D)5.0gに、2-エチル-1,3-ヘキサンジオール0.3gを加えてよく捏和し、銀微粒子組成物を得た。
2-エチル-1,3-ヘキサンジオールの代わりに2,4-ジエチル-1,5-ペンタンジオール(富士フイルム和光純薬製)0.35gを加えたこと以外は実施例1と同様にして銀微粒子組成物を得た。
<銀微粒子(E)の製造>
3-エトキシプロピルアミン10.0gと2-(2-アミノエトキシ)エタノール(富士フイルム和光純薬製)20.0gとの混合溶液に、撹拌を行いながらシュウ酸銀10.0gを添加し、粘性物質を得た。
次に、得られた粘性物質を4分かけて100℃まで昇温し、反応させた。
その後、反応液にメタノール30mlを加えて撹拌後、遠心分離により銀微粒子を沈殿させて分離し、上澄みを捨てた。この操作をもう一度繰り返し、表面にアミンが吸着した銀微粒子(E)を得た。
3-メトキシプロピルアミン2.0gに、撹拌を行いながらシュウ酸銀3.0gを添加し、粘性物質を得た。
次に、得られた粘性物質を1.5分かけて100℃まで昇温し、反応させた。
その後、反応液にメタノール10mlを加えて撹拌後、遠心分離により銀微粒子を沈殿させて分離し、上澄みを捨てた。この操作をもう一度繰り返し、表面にアミンが吸着した銀微粒子(F)を得た。
銀微粒子(E)3.0g及び銀微粒子(F)2.0gに、2,4-ジエチル-1,5-ペンタンジオール0.4gと、1,2-オクタンジオール(富士フイルム和光純薬製)0.13gと、ソルスパース21000(ルーブリゾール製)0.02gとを加えてよく捏和し、銀微粒子組成物を得た。
<銀微粒子(G)の製造>
デカノールを40.0gとした以外は、実施例4における銀微粒子(D)の製造と同様にして、銀微粒子(G)を得た。
銀微粒子(G)5.0gに、2-エチル-1,3-ヘキサンジオール0.2gと1,2-オクタンジオール0.1gとを加えてよく捏和し、銀微粒子組成物を得た。
実施例1の銀微粒子(A)2.5g、及び実施例6の銀微粒子(E)2.5gに、2-エチル-1,3-ヘキサンジオール0.2gを加えてよく捏和し、銀微粒子組成物を得た。
<銀微粒子(H)の製造>
3-メトキシプロピルアミン9.0gとジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート(富士フイルム和光純薬製)90.0gの混合溶液に、撹拌を行いながらシュウ酸銀30.0gを加え、粘性物質を得た。
次に、得られた粘性物質を10分かけて140℃まで昇温し、反応させた。
その後、3-メトキシプロピルアミン9.0gを加えて反応液を冷まし、3-エトキシプロピルアミン8.0gを加えた。
更に、反応液にメタノール100mlを加えて撹拌後、遠心分離によって銀微粒子を沈殿させて分離し、上澄みを捨てた。この操作をもう一度繰り返し、表面にアミンが吸着した銀微粒子(H)を得た。
銀微粒子(H)5.0gに、2-エチル-1,3-ヘキサンジオール0.56gを加えてよく捏和し、銀微粒子組成物を得た。
<銀微粒子(I)の製造>
3-メトキシプロピルアミン4.5gとジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート90.0gの混合溶液に、撹拌を行いながらシュウ酸銀30.0gを加え、粘性物質を得た。
次に、得られた粘性物質を10分かけて140℃まで昇温し、反応させた。
その後、3-メトキシプロピルアミン9.0gを加えて反応液を冷ました。
更に、反応液にメタノール100mlを加えて撹拌後、遠心分離によって銀微粒子を沈殿させて分離し、上澄みを捨てた。この操作をもう一度繰り返し、表面にアミンが吸着した銀微粒子(I)を得た。
銀微粒子(I)5.0gに、2-エチル-1,3-ヘキサンジオール0.56gを加えてよく捏和し、銀微粒子組成物を得た。
<銀微粒子(J)の製造>
3-メトキシプロピルアミン7.0gと、ドデシルアミン(富士フイルム和光純薬製)0.5gの混合溶液に、撹拌を行いながらシュウ酸銀6.0gを加え、粘性物質を得た。
次に、得られた粘性物質を3分かけて100℃まで昇温し、反応させた。
その後、反応液にメタノール20mlを加えて撹拌後、遠心分離によって銀微粒子を沈殿させて分離し、上澄みを捨てた。この操作をもう一度繰り返し、表面にアミンが吸着した銀微粒子(J)を得た。
銀微粒子(J)6.0gに、イソトリデカノール1.2gと、ソルスパース21000(ルーブリゾール製)0.03gとを加えてよく捏和し、銀微粒子組成物を得た。
<銀微粒子(K)の製造>
3-エトキシプロピルアミン5.0gと3-メトキシプロピルアミン11.0gとの混合溶液に、撹拌を行いながらシュウ酸銀10.0gを加え、粘性物質を得た。
次に、得られた粘性物質を120℃の恒温槽で反応させた。
その後、反応液にメタノール30mlを加えて撹拌後、遠心分離により銀微粒子を沈殿させて分離し、上澄みを捨てた。この操作をもう一度繰り返し、表面にアミンが吸着した銀微粒子(K)を得た。
銀微粒子(K)4g、及び実施例6の銀微粒子(E)4gに、1-デカノール0.32gと、ソルスパース16000(ルーブリゾール製)0.06gとを加えてよく捏和し、銀微粒子組成物を得た。
<銀微粒子(L)の製造>
3-メトキシプロピルアミン3.0gに、撹拌を行いながらシュウ酸銀3.0gを加え、粘性物質を得た。
次に、得られた粘性物質を1.5分かけて100℃まで昇温し、反応させた。
その後、反応液にメタノール10mlを加えて撹拌後、遠心分離により銀微粒子を沈殿させて分離し、上澄みを捨てた。この操作をもう一度繰り返し、表面にアミンが吸着した銀微粒子(L)を得た。
2-(2-アミノエトキシ)エタノール6.0gに、撹拌を行いながらシュウ酸銀3.0gを加え、粘性物質を得た。
次に、得られた粘性物質を15分かけて100℃まで昇温し、反応させた。
その後、反応液にメタノール10mlを加えて撹拌後、遠心分離により銀微粒子を沈殿させて分離し、上澄みを捨てた。この操作をもう一度繰り返し、表面にアミンが吸着した銀微粒子(M)を得た。
銀微粒子(L)0.5g、及び銀微粒子(M)1.5gに、2,4-ジエチル-1,5-ペンタンジオール0.15gと、1,2-オクタンジオール0.06gと、ソルスパース21000(ルーブリゾール製)0.01gとを加えてよく捏和し、銀微粒子組成物を得た。
(1)粒径測定
上記のようにして得た銀微粒子組成物を走査型電子線顕微鏡(日立製 S-4800型)を用いて5万倍の倍率で銀微粒子を観察、撮影した画像に含まれる微粒子について、無作為に300点の粒子を抽出し、画像解析ソフト(MITANI CORPORATION製 WinROOF)で粒子径を測定し、数平均粒子径を算出した。
図1,3、5、7,9、11、13,15、17、19、21、及び23は、撮影した画像の一部である。
結果は、図2,4、6、8,10、12、14,16、18、20、22、及び24に示した。
上記のようにして得た銀微粒子組成物に含まれる有機成分(銀微粒子以外の成分)の含有量を、熱重量分析法で測定した。具体的には、銀微粒子組成物を熱重量測定装置(リガク製TG-DTA8122)を用いて、大気雰囲気下、10℃/分の昇温速度で加熱し、30~500℃の重量減少率として有機成分の含有量(重量%)を特定した。100(重量%)から有機成分の含有量(重量%)を差し引いた値を銀微粒子の含有量(重量%)として表1、2に示した。
上記のようにして得た銀微粒子組成物を表面に銀めっきを施した銅板(20mm×25mm×t1mm)にメタルマスク版を用いた手刷り印刷によって少量塗布し、その上にダミー炭化ケイ素チップ(底面積3mm×3mm×t0.2mm、表面膜構成Au200nm/Ni200nm/Ti200nm)を積層した。その際、部材を密着させるために30gf程度の外力を加えたが、必要以上に加圧することはしなかった。
その後、積層体を送風定温乾燥器(アドバンテック製FV-630)に入れ、大気雰囲気下で70℃40分に続いて200℃60分の焼成処理を施した。送風定温乾燥器が150℃以下になるまで放置した後、積層体を取り出し、超音波探傷装置(KJTD製)を用いて空隙率(%)を測定した。
その後、ボンドテスター(レスカ製)を用いて接合強度試験を行った。接合強度試験時には100kgfのロードセルを用いた。ダミーチップ剥離時の接合強度をチップの底面積で除した値を用いた。なお、接合強度の単位はMPaである。
結果は、表1、2に示した。
結果を図25~27に示した。
図25~27に示した通り、100nm以下の微粒子が大半を占める比較例4(図27)では比較的小さな空孔が多く、100nmより大きく200nm以下の微粒子が多い比較例2(図26)では比較的大きな空孔が多数発生していた。
一方、実施例1(図25)では焼結銀組織が密になっている様子が観察され、実施例1では部材を強固に接合する焼結銀組織が得られた。このことは、接合サンプルの超音波探傷装置で確認される空隙率が低く抑えられ、接合サンプルが高い接合強度が発現していることからも明らかであった。
なお、図27では、Aの領域が焼結銀層であり、焼結銀層の上側がチップ、下側が銅板である。
Claims (6)
- 銀微粒子とアミンとジオールとを含む銀微粒子組成物であって、
前記銀微粒子の数平均粒子径は、40nm以上100nm以下であり、
前記銀微粒子全体に占める粒子径100nm以下の銀微粒子の体積比率は、5%以上25%以下であり、
前記銀微粒子全体に占める粒子径500nm超えの銀微粒子の体積比率は、10%以上60%以下である、銀微粒子組成物。 - 前記銀微粒子全体に占める粒子径300nm超えの銀微粒子の体積比率は、40%以上90%以下である、請求項1に記載の銀微粒子組成物。
- 前記アミンは、3-メトキシプロピルアミン、3-エトキシプロピルアミン、3-プロポキシプロピルアミン、3-ブトキシプロピルアミン、2-エトキシプロピルアミン、3-イソプロポキシプロピルアミン、2-メトキシ-2-メチルプロピルアミン、ヘキシルアミン、ヘプチルアミン、オクチルアミン、及び2-(2-アミノエトキシ)エタノールからなる群より選ばれる1種以上のアミンである、請求項1又は2に記載の銀微粒子組成物。
- 前記ジオールは、1,2-オクタンジオール、2-メチル-2,4-ペンタンジオール、2-エチル-1,3-ヘキサンジオール、2,4-ジエチル-1,5-ペンタンジオール、及び3-メチル-1,3-ブタンジオールからなる群より選ばれる1種以上のジオールである、請求項1又は2に記載の銀微粒子組成物。
- 前記銀微粒子の含有量は、85重量%以上97重量%以下である、請求項1又は2に記載の銀微粒子組成物。
- せん断速度5s-1で測定したせん断粘度は、100Pa・s以上である、請求項1又は2に記載の銀微粒子組成物。
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