JP7347803B2 - Combination of mold and release film, method for manufacturing release film, mold, and molded object - Google Patents

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Description

本発明は、金型と離型フィルムとの組合せ、離型フィルム、金型、及び成形体の製造方法に関し、より詳しくはトランスファーモールド成形又はコンプレッションモールド成形のために用いられる金型と離型フィルムとの組合せ、当該組合せを構成する離型フィルム及び金型、並びに、当該組合せを用いた成形体の製造方法に関する。 The present invention relates to a combination of a mold and a release film, a release film, a mold, and a method for manufacturing a molded article, and more specifically to a mold and a release film used for transfer molding or compression molding. , a release film and a mold constituting the combination, and a method for manufacturing a molded article using the combination.

半導体を樹脂により封止するために、例えばトランスファーモールド成形法及びコンプレッションモールド成形法などの成形手法が用いられる。前記成形手法において、樹脂が金型内で硬化した後に、金型から成形体を容易にはずすためにしばしば離型フィルムが用いられる。これまで、離型フィルム及び金型について種々の提案がされている。 In order to seal semiconductors with resin, molding techniques such as transfer molding and compression molding are used. In the above molding method, a release film is often used to easily remove the molded article from the mold after the resin has hardened within the mold. Until now, various proposals have been made regarding release films and molds.

例えば、下記特許文献1には、官能基Xを含有するフッ素樹脂(A)と離型成分(B)とを含む組成物から形成された塗膜と、非フッ素化ポリマーから形成された層とを含むことを特徴とする離型フィルムが開示されている。
また、下記特許文献2には、対向する第1、第2の金型で半導体チップが搭載された被成形品をクランプし、前記金型内に充填した樹脂を用いて前記被成形品を封止する樹脂封止金型であって、 前記第1、第2の金型の少なくとも一方には、前記金型内に充填される前記樹脂の前記金型の対向方向の厚みよりも前記金型の表面に近い位置に、第1のヒータが配置されていることを特徴とする樹脂封止金型が開示されている。
For example, Patent Document 1 below describes a coating film formed from a composition containing a fluororesin (A) containing a functional group X and a mold release component (B), and a layer formed from a non-fluorinated polymer. Disclosed is a release film characterized by comprising:
Further, Patent Document 2 below discloses that a molded product on which a semiconductor chip is mounted is clamped between first and second molds facing each other, and the molded product is sealed using a resin filled in the mold. a resin-sealing mold for sealing, wherein at least one of the first and second molds has a thickness that is smaller than a thickness of the resin filled in the mold in a direction in which the molds face each other; A resin-sealed mold is disclosed in which a first heater is disposed near the surface of the mold.

特開2015-74201号公報Japanese Patent Application Publication No. 2015-74201 特開2012-256925号公報JP2012-256925A

成形体の表面を調整することが求められることがある。例えば、前記成形体の表面にはレーザマーカによって印字されることがあり、当該印字の視認性又は読み取り装置による可読性を高めるような表面を形成することが求められることがある。 It may be necessary to adjust the surface of the molded body. For example, the surface of the molded body may be printed with a laser marker, and it may be required to form a surface that improves the visibility of the printing or the readability of the print by a reading device.

本発明は、前記成形体の表面を調整するための新たな技法を提供することを目的とする。 The present invention aims to provide a new technique for adjusting the surface of the molded body.

本発明者らは、特定の金型、製造方法、離型フィルム、並びに、金型及び離型フィルムの組合せが、前記成形体の表面調整に適していることを見出した。 The present inventors have discovered that a specific mold, manufacturing method, release film, and combination of the mold and release film are suitable for surface conditioning of the molded article.

すなわち、本発明は、
熱硬化性樹脂の硬化のために、離型フィルムと組み合わせて用いられる金型であって、
前記金型は、前記硬化において前記離型フィルムと接触する面に凹凸が形成されており、
前記金型の前記面の表面粗さRaが1μm~4μmであり
記硬化において、前記凹凸が、前記離型フィルムを介して、前記熱硬化性樹脂の表面に反映され、且つ、
前記熱硬化性樹脂の硬化によって得られる成形体に、入射角60°での光沢度が3~50である表面を形成するために用いられる、
前記金型を提供する。
前記表面はエポキシ樹脂表面でありうる。
前記金型の金型硬度が50HRC以上でありうる。
前記成形体は、その表面に、レーザマーカによる印字が行われるものであってよい。
前記印字の文字高さは0.1mm~10mmであってよい。
前記金型と組み合わせて用いられる前記離型フィルムが、
熱可塑性樹脂から形成されている基材層と、
前記基材層の2つの面のうち前記硬化において熱硬化性樹脂側に配置される面に積層されている、粒子を含むフッ素系樹脂から形成されている表面層と、を含みうる。
前記硬化において、前記粒子に起因する前記離型フィルムの表面形状が、前記熱硬化性樹脂の表面に直接的に反映されうる。



That is, the present invention
A mold used in combination with a release film for curing a thermosetting resin,
The mold has unevenness formed on a surface that contacts the release film during the curing,
The surface roughness Ra of the surface of the mold is 1 μm to 4 μm ,
In the curing, the unevenness is reflected on the surface of the thermosetting resin via the release film, and
Used to form a surface having a glossiness of 3 to 50 at an incident angle of 60° on the molded body obtained by curing the thermosetting resin,
The mold is provided.
The surface may be an epoxy resin surface.
The mold may have a mold hardness of 50HRC or more.
The molded body may have a surface printed with a laser marker.
The character height of the printing may be 0.1 mm to 10 mm.
The release film used in combination with the mold,
a base material layer formed from a thermoplastic resin;
The surface layer may include a surface layer formed of a fluororesin containing particles and laminated on the surface of the base material layer that is disposed on the thermosetting resin side during curing.
In the curing, the surface shape of the release film caused by the particles can be directly reflected on the surface of the thermosetting resin.



また、本発明は、
熱硬化性樹脂を硬化させるために用いられる金型内に、離型フィルムを配置する配置工程と、
前記配置工程後に、前記熱硬化性樹脂を前記金型内で、前記離型フィルムに接触した状態で硬化させる硬化工程と、
前記硬化工程後に、前記金型から、硬化した前記熱硬化性樹脂を離型して成形体を得る離型工程と
を含み、
前記金型は、前記硬化において前記離型フィルムと接触する面に凹凸が形成されており、
前記金型の前記面の表面粗さRaが1μm~4μmであり、
前記凹凸が、放電加工又はショットブラストによって形成された凹凸であり、
前記硬化工程において、前記凹凸が、前記離型フィルムを介して、前記熱硬化性樹脂の表面に反映され、且つ
前記熱硬化性樹脂の硬化によって得られる成形体に、入射角60°での光沢度が3~50である表面が形成される、
成形体の製造方法も提供する。

Moreover, the present invention
a step of arranging a release film in a mold used for curing the thermosetting resin;
After the placement step, a curing step of curing the thermosetting resin in the mold while in contact with the release film;
After the curing step, the cured thermosetting resin is released from the mold to obtain a molded object, and
The mold has unevenness formed on a surface that contacts the release film during the curing,
The surface roughness Ra of the surface of the mold is 1 μm to 4 μm,
The unevenness is an unevenness formed by electrical discharge machining or shot blasting,
In the curing step, the unevenness is reflected on the surface of the thermosetting resin via the release film , and
A surface having a glossiness of 3 to 50 at an incident angle of 60° is formed on the molded body obtained by curing the thermosetting resin.
A method of manufacturing the molded body is also provided.

また、本発明は、
熱硬化性樹脂の硬化のために、金型と組み合わせて用いられる離型フィルムであって、
前記金型は、前記硬化において前記離型フィルムと接触する面に凹凸が形成されており、
前記金型の前記面の表面粗さRaが1μm~4μmであり、
前記凹凸が、放電加工又はショットブラストによって形成された凹凸であり、
前記硬化において、前記凹凸を、前記離型フィルムを介して、前記熱硬化性樹脂の表面に反映するために用いられ、且つ、
前記熱硬化性樹脂の硬化によって得られる成形体に、入射角60°での光沢度が3~50である表面を形成するために用いられる、
前記離型フィルムも提供する。
前記離型フィルムの引張破断強度は、JIS K7127に従い175℃で測定された場合に、40MPa~200MPaであり、且つ、前記離型フィルムの引張破断伸びが、JIS K7127に従い175℃で測定された場合に、200%~500%でありうる。
前記離型フィルムの厚みが30μm~100μmでありうる。

Moreover, the present invention
A release film used in combination with a mold for curing a thermosetting resin,
The mold has unevenness formed on a surface that contacts the release film during the curing,
The surface roughness Ra of the surface of the mold is 1 μm to 4 μm,
The unevenness is an unevenness formed by electrical discharge machining or shot blasting,
In the curing, it is used to reflect the unevenness on the surface of the thermosetting resin via the release film , and
Used to form a surface having a glossiness of 3 to 50 at an incident angle of 60° on the molded body obtained by curing the thermosetting resin,
The release film is also provided.
The tensile strength at break of the release film is 40 MPa to 200 MPa when measured at 175°C according to JIS K7127, and the tensile elongation at break of the release film is measured at 175°C according to JIS K7127. It can be between 200% and 500%.
The thickness of the release film may be 30 μm to 100 μm.

また、本発明は、
熱硬化性樹脂の硬化のために用いられる、金型と離型フィルムとの組合せであって、
前記金型は、前記硬化において前記離型フィルムと接触する面に凹凸が形成されており、
前記金型の前記面の表面粗さRaが1μm~4μmであり
記硬化において、前記凹凸が、前記離型フィルムを介して、前記熱硬化性樹脂の表面に反映され、且つ、
前記熱硬化性樹脂の硬化によって得られる成形体に、入射角60°での光沢度が3~50である表面を形成するために用いられる、
前記組合せも提供する。
Moreover, the present invention
A combination of a mold and a release film used for curing a thermosetting resin,
The mold has unevenness formed on a surface that contacts the release film during the curing,
The surface roughness Ra of the surface of the mold is 1 μm to 4 μm ,
In the curing, the unevenness is reflected on the surface of the thermosetting resin via the release film, and
Used to form a surface having a glossiness of 3 to 50 at an incident angle of 60° on the molded body obtained by curing the thermosetting resin,
Combinations of the above are also provided.

本発明により、成形体の表面調整が可能となる。例えば、本発明により、レーザマーカによる印字の視認性及び可読性を高めることができる。
なお、本発明の効果は、ここに記載された効果に必ずしも限定されるものではなく、本明細書中に記載されたいずれかの効果であってもよい。
The present invention makes it possible to adjust the surface of a molded body. For example, according to the present invention, visibility and readability of characters printed by a laser marker can be improved.
Note that the effects of the present invention are not necessarily limited to the effects described herein, and may be any of the effects described herein.

トランスファーモールド成形における本発明の組合せの使用方法の一例を説明するための図である。It is a figure for explaining an example of the usage method of the combination of this invention in transfer molding. 本発明の組合せを構成する離型フィルムの積層構造の一例の模式図である。FIG. 2 is a schematic diagram of an example of a laminated structure of release films constituting the combination of the present invention. コンプレッションモールド成形における本発明の組合せの使用方法の一例を説明するための図である。It is a figure for explaining an example of the usage method of the combination of this invention in compression molding. 成形体側表面層の形成を説明するための図である。FIG. 3 is a diagram for explaining the formation of a surface layer on the molded body side. レーザマーカによる観察結果を示す図である。It is a figure which shows the observation result by a laser marker.

以下、本発明を実施するための形態について詳細に説明する。なお、以下に説明する実施形態は本発明の代表的な実施形態の一例を示したものであり、本発明はこれらの実施形態のみに限定されるものでない。 EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, the form for implementing this invention is demonstrated in detail. Note that the embodiments described below are examples of typical embodiments of the present invention, and the present invention is not limited only to these embodiments.

1.金型と離型フィルムとの組合せ 1. Combination of mold and release film

本発明は、熱硬化性樹脂の硬化のために用いられる金型と前記硬化において前記熱硬化性樹脂と前記金型との間に配置される離型フィルムとの組合せを提供する。前記離型フィルムは、熱可塑性樹脂から形成されている基材層と、前記基材層の2つの面のうち前記硬化において熱硬化性樹脂側に配置される面に積層されている表面層とを含み、当該表面層は、粒子を含むフッ素系樹脂から形成されている。前記金型は、前記硬化において前記離型フィルムと接触する面に、凹凸が形成されている。 The present invention provides a combination of a mold used for curing a thermosetting resin and a release film disposed between the thermosetting resin and the mold during the curing. The release film includes a base layer made of a thermoplastic resin, and a surface layer laminated on one of the two surfaces of the base layer that is disposed on the thermosetting resin side during curing. The surface layer is formed from a fluororesin containing particles. The mold has irregularities formed on a surface that comes into contact with the release film during the curing.

前記組合せを例えばトランスファーモールド成形法及びコンプレッションモールド成形法などの成形手法において用いることで、成形体の表面状態を調整することができ、例えば、成形体表面に所望の光沢度を付与することができる。例えば、本発明に従う組合せは、入射角60°での光沢度が3~50である表面を有する成形体を製造するために用いられてよい。例えば、本発明に従う組合せは、入射角60°での光沢度が3~15、好ましくは3~10、より好ましくは4~8、さらにより好ましくは4~6である表面(特にはエポキシ樹脂表面)を有する成形体を製造するために用いられてよい。
また、上記組合せを用いることで、例えば成形体表面に施された印字又は模様の視認性又は可読性を高めることができる。例えば、本発明に従う組合せは、レーザマーカによる印字が行われる表面(特にはエポキシ樹脂表面)を有する成形体を製造する為に用いられてよい。前記印字の文字高さは例えば0.1mm~10mm、好ましくは0.2mm~5mmでありうる。前記印字の文字高さは特には0.5mm~3mmであってもよい。本発明の組合せを用いることによって、製造された成形体の表面上のこのような小さい文字の視認性又は可読性を高めることができる。
By using the above combination in a molding method such as a transfer molding method or a compression molding method, the surface condition of the molded object can be adjusted, and for example, a desired gloss can be imparted to the surface of the molded object. . For example, the combination according to the invention may be used to produce molded bodies having a surface with a gloss level of 3 to 50 at an angle of incidence of 60°. For example, the combination according to the invention provides a surface (in particular an epoxy resin surface) whose gloss at an angle of incidence of 60° is from 3 to 15, preferably from 3 to 10, more preferably from 4 to 8, even more preferably from 4 to 6. ) may be used to produce a molded body.
Further, by using the above combination, it is possible to improve the visibility or readability of, for example, printing or patterns on the surface of the molded article. For example, the combination according to the invention may be used to produce molded bodies having a surface (in particular an epoxy resin surface) which is marked with a laser marker. The character height of the printing may be, for example, 0.1 mm to 10 mm, preferably 0.2 mm to 5 mm. In particular, the character height of the printing may be between 0.5 mm and 3 mm. By using the combination according to the invention, it is possible to increase the visibility or readability of such small characters on the surface of the molded bodies produced.

前記離型フィルムは、前記金型の表面の凹凸を成形体表面に反映させるために適しており、且つ、優れた離型性を発揮する。特には表面層に含まれる粒子及びフッ素系樹脂の組合せが、優れた離型性を発揮するために貢献し、且つ、成形体の表面状態の調整に貢献している。 The release film is suitable for reflecting the unevenness of the surface of the mold on the surface of the molded product, and exhibits excellent mold release properties. In particular, the combination of particles and fluororesin contained in the surface layer contributes to exhibiting excellent mold releasability and to adjusting the surface condition of the molded article.

以下で、まず前記組合せの使用方法の例を説明し、次に、前記組合せの構成要素である離型フィルム及び金型についてより詳細に説明する。 Below, an example of how to use the above combination will first be explained, and then the release film and the mold, which are the constituent elements of the above combination, will be explained in more detail.

1-1.本発明の組合せの使用方法 1-1. How to use the combination of the invention

本発明の組合せは、例えば熱硬化性樹脂の種々の成形方法において用いられてよい。好ましくは、本発明の組合せは、前記熱硬化性樹脂の硬化物の表面に、凹凸を形成するために用いられうる。
例えば、当該成形手法は、例えばトランスファーモールド成形又はコンプレッションモールド成形であり、本発明の組合せはこれら成形方法において使用するために特に適している。特には、本発明の組合せは、これら成形方法において得られる成形体の表面状態を調整するために、好ましくはこれら成形体の表面に凹凸を形成するために用いられうる。
以下で、これら成形方法における本発明の組合せの使用方法の例を説明する。
The combinations of the invention may be used, for example, in various molding processes for thermosetting resins. Preferably, the combination of the present invention can be used to form irregularities on the surface of the cured thermosetting resin.
For example, the molding techniques are, for example, transfer molding or compression molding, and the combination of the invention is particularly suitable for use in these molding methods. In particular, the combination of the present invention can be used to adjust the surface condition of molded bodies obtained in these molding methods, preferably to form irregularities on the surfaces of these molded bodies.
Examples of how to use the combination of the invention in these molding methods are described below.

(1)トランスファーモールド成形 (1) Transfer molding

図1は、トランスファーモールド成形における本発明の組合せの使用方法の一例を説明するための図である。図1(A)に示されるとおり、本発明の組合せを構成する離型フィルム11が、本発明の組合せを構成する上側金型12及び基板14を載せられた下側金型13との間に配置される。基板14上には例えば半導体素子17が搭載されていてよい。上側金型12及び下側金型13は、熱硬化性樹脂15の成形を行うために用いられる。当該成形によって、半導体素子17が、熱硬化性樹脂15の硬化物によって封止される。なお、図1において、1つの半導体素子17が示されているが、1回の成形において封止される半導体素子17の数は1つに限られず、好ましくは複数である。
離型フィルム11は、例えば図2に示される積層構造を有する。離型フィルム11は、基材層101と、基材層101の一方の面に表面層102が積層されており、他方の面に表面層103が積層されている。なお、離型フィルム11の詳細は、以下「1-2.離型フィルム」において説明する。
表面層102は、基材層101の2つの面のうち、前記トランスファーモールド成形において熱硬化性樹脂側に配置される面に積層されている。すなわち、表面層102は、前記トランスファーモールド成形において熱硬化性樹脂15に接触する。表面層102は、粒子を含むフッ素系樹脂から形成されている。
表面層103は、基材層101の2つの面のうち、前記トランスファーモールド成形において上側金型12側に配置される面に積層されている。すなわち、表面層103は、前記前記トランスファーモールド成形において上側金型12に接触する。
上側金型12の表面16に、凹凸が形成されている。すなわち、表面16は、前記トランスファーモールド成形において、離型フィルム11(特にはその表面層103)に接触する。
FIG. 1 is a diagram for explaining an example of how to use the combination of the present invention in transfer molding. As shown in FIG. 1(A), a release film 11 constituting the combination of the present invention is placed between an upper mold 12 and a lower mold 13 on which a substrate 14 is placed, which constitutes the combination of the present invention. Placed. For example, a semiconductor element 17 may be mounted on the substrate 14. The upper mold 12 and the lower mold 13 are used to mold the thermosetting resin 15. By this molding, the semiconductor element 17 is sealed with the cured product of the thermosetting resin 15. Although one semiconductor element 17 is shown in FIG. 1, the number of semiconductor elements 17 sealed in one molding is not limited to one, but is preferably plural.
The release film 11 has a laminated structure shown in FIG. 2, for example. The release film 11 includes a base layer 101, a surface layer 102 laminated on one side of the base layer 101, and a surface layer 103 laminated on the other side. The details of the release film 11 will be explained in "1-2. Release Film" below.
The surface layer 102 is laminated on one of the two surfaces of the base material layer 101, which is disposed on the thermosetting resin side in the transfer molding. That is, the surface layer 102 comes into contact with the thermosetting resin 15 during the transfer molding. The surface layer 102 is made of a fluororesin containing particles.
Of the two surfaces of the base material layer 101, the surface layer 103 is laminated on the surface disposed on the upper mold 12 side in the transfer molding. That is, the surface layer 103 contacts the upper mold 12 during the transfer molding.
The surface 16 of the upper mold 12 is formed with projections and depressions. That is, the surface 16 comes into contact with the release film 11 (particularly the surface layer 103 thereof) during the transfer molding.

次に、図1(B)に示されるとおり、離型フィルム11(特にはその表面層103)が上側金型12の表面16に張り付いた状態で、上側金型12を基板14及び下側金型13に接触させる。 Next, as shown in FIG. 1(B), with the release film 11 (particularly its surface layer 103) stuck to the surface 16 of the upper mold 12, the upper mold 12 is attached to the substrate 14 and the lower side. It is brought into contact with the mold 13.

次に、図1(C)に示されるとおり、熱硬化性樹脂15が、上側金型12(特には離型フィルム11)と基板14との間に導入され、その後、熱硬化性樹脂15が加熱によって硬化される。
当該硬化において、上側金型12の表面16に形成された凹凸形状が、離型フィルム11を介して熱硬化性樹脂15の表面に反映され、且つ、離型フィルム11の表面形状(特には表面層102中に含まれる粒子に起因する表面形状)が、熱硬化性樹脂15の表面に反映される。すなわち、上側金型12の表面16に形成された凹凸形状が、熱硬化性樹脂15の表面に間接的に反映され、且つ、離型フィルム11の表面形状(特には表面層102中に含まれる粒子に起因する表面形状)が、熱硬化性樹脂15の表面に直接的に反映される。前記凹凸形状及び前記表面形状が熱硬化性樹脂15の表面に反映された状態で、熱硬化性樹脂15が硬化される。すなわち、当該硬化の結果得られた成形体の表面に、前記凹凸形状及び前記表面形状が反映される。ここで、当該成形体(硬化物)の表面に形成される凹凸は、前記金型の凹凸と異なっていてよい。
以上のとおり、本発明の組合せによって、成形体の表面状態の調整が可能となる。
Next, as shown in FIG. 1(C), a thermosetting resin 15 is introduced between the upper mold 12 (particularly the release film 11) and the substrate 14, and then the thermosetting resin 15 Hardened by heating.
In the curing, the uneven shape formed on the surface 16 of the upper mold 12 is reflected on the surface of the thermosetting resin 15 via the mold release film 11, and the surface shape of the mold release film 11 (especially the surface The surface shape caused by the particles contained in the layer 102 is reflected on the surface of the thermosetting resin 15. That is, the uneven shape formed on the surface 16 of the upper mold 12 is indirectly reflected on the surface of the thermosetting resin 15, and the surface shape of the release film 11 (particularly the surface shape included in the surface layer 102) is reflected indirectly on the surface of the thermosetting resin 15. The surface shape caused by the particles is directly reflected on the surface of the thermosetting resin 15. The thermosetting resin 15 is cured with the uneven shape and the surface shape reflected on the surface of the thermosetting resin 15. That is, the uneven shape and the surface shape are reflected on the surface of the molded product obtained as a result of the curing. Here, the unevenness formed on the surface of the molded body (cured product) may be different from the unevenness of the mold.
As described above, the combination of the present invention makes it possible to adjust the surface condition of the molded article.

硬化後に図1(D)に示されるとおりに、上側金型12を基板14から離す。離型フィルム11は、特には粒子を含むフッ素系樹脂から形成されていることによって、離型性に優れている。そのため、図1(D)の工程において、硬化した樹脂15からスムーズに離れる。離型性が良好でない場合、例えば図1(E)に示されるように、離型フィルム19が、硬化した樹脂15にくっついてしまうことがある。 After curing, the upper mold 12 is separated from the substrate 14 as shown in FIG. 1(D). The release film 11 has excellent mold releasability, especially because it is formed from a fluororesin containing particles. Therefore, in the step of FIG. 1(D), it is smoothly separated from the cured resin 15. If the mold releasability is not good, the mold release film 19 may stick to the cured resin 15, as shown in FIG. 1(E), for example.

(2)コンプレッションモールド成形 (2) Compression molding

図3は、コンプレッションモールド成形における本発明の組合せの使用方法の一例を説明するための図である。図3(A)に示されるとおり、本発明の組合せを構成する離型フィルム11が、複数の半導体素子27が搭載された基板24が取り付けられた上側金型22と下側金型23との間に配置される。
離型フィルム11は、上記(1)において説明したとおり、基材層101と、基材層101の一方の面に表面層102が積層されており、他方の面に表面層103が積層されている。
表面層102は、基材層101の2つの面のうち、前記コンプレッションモールド成形において熱硬化性樹脂側に配置される面に積層されている。すなわち、表面層102は、前記コンプレッションモールド成形において、後述する熱硬化性樹脂25に接触する。
表面層103は、基材層101の2つの面のうち、前記コンプレッションモールド成形において下側金型23側に配置される面に積層されている。すなわち、表面層103は、前記コンプレッションモールド成形において下側金型23に接触する。
下側金型23の表面26に、凹凸が形成されている。すなわち、表面26は、前記コンプレッションモールド成形において、離型フィルム11(特にその表面層103)に接触する。
FIG. 3 is a diagram for explaining an example of how to use the combination of the present invention in compression molding. As shown in FIG. 3(A), the release film 11 constituting the combination of the present invention is attached to an upper mold 22 and a lower mold 23 to which a substrate 24 on which a plurality of semiconductor elements 27 are mounted is attached. placed between.
As explained in (1) above, the release film 11 includes a base layer 101, a surface layer 102 laminated on one side of the base layer 101, and a surface layer 103 laminated on the other side. There is.
The surface layer 102 is laminated on one of the two surfaces of the base material layer 101 that is disposed on the thermosetting resin side in the compression molding. That is, the surface layer 102 comes into contact with the thermosetting resin 25, which will be described later, during the compression molding.
Of the two surfaces of the base material layer 101, the surface layer 103 is laminated on the surface disposed on the lower mold 23 side in the compression molding. That is, the surface layer 103 contacts the lower mold 23 during the compression molding.
The surface 26 of the lower mold 23 is formed with projections and depressions. That is, the surface 26 contacts the release film 11 (particularly the surface layer 103 thereof) during the compression molding.

次に、図3(B)に示されるとおり、離型フィルム11が下側金型23の表面26に張り付いた状態で、下側金型23の窪み内に熱硬化性樹脂25が配置される。 Next, as shown in FIG. 3(B), the thermosetting resin 25 is placed in the recess of the lower mold 23 with the release film 11 stuck to the surface 26 of the lower mold 23. Ru.

次に、図3(C)に示されるとおり、上側金型22を移動させて、基板24を熱硬化性樹脂25に接触させる。その後、熱硬化性樹脂25が加熱によって硬化する。
当該硬化において、下側金型23の表面26に形成された凹凸形状が、離型フィルム11を介して熱硬化性樹脂25の表面に反映され、且つ、離型フィルム11の表面形状(特には表面層102中に含まれる粒子に起因する表面形状)が、熱硬化性樹脂25の表面に反映される。すなわち、下側金型23の表面26に形成された凹凸形状が、熱硬化性樹脂25の表面に間接的に反映され、且つ、離型フィルム11の表面形状(特には表面層102中に含まれる粒子に起因する表面形状)が、熱硬化性樹脂25の表面に直接的に反映される。前記凹凸形状及び前記表面形状が熱硬化性樹脂25の表面に反映された状態で、熱硬化性樹脂25が硬化される。すなわち、当該硬化の結果得られた成形体の表面に、前記凹凸形状及び前記表面形状が反映される。ここで、当該成形体(硬化物)の表面に形成される凹凸は、前記金型の凹凸と異なっていてよい。
以上のとおり、本発明の組合せによって、本発明の組合せによって、成形体の表面状態の調整が可能となる。
Next, as shown in FIG. 3C, the upper mold 22 is moved to bring the substrate 24 into contact with the thermosetting resin 25. Thereafter, the thermosetting resin 25 is cured by heating.
During the curing, the uneven shape formed on the surface 26 of the lower mold 23 is reflected on the surface of the thermosetting resin 25 via the release film 11, and the surface shape of the release film 11 (especially The surface shape resulting from the particles contained in the surface layer 102 is reflected on the surface of the thermosetting resin 25. That is, the uneven shape formed on the surface 26 of the lower mold 23 is indirectly reflected on the surface of the thermosetting resin 25, and the surface shape of the release film 11 (especially the surface layer 102) is (the surface shape caused by the particles) is directly reflected on the surface of the thermosetting resin 25. The thermosetting resin 25 is cured with the uneven shape and the surface shape reflected on the surface of the thermosetting resin 25. That is, the uneven shape and the surface shape are reflected on the surface of the molded product obtained as a result of the curing. Here, the unevenness formed on the surface of the molded body (cured product) may be different from the unevenness of the mold.
As described above, the combination of the present invention makes it possible to adjust the surface condition of the molded article.

硬化後に図3(D)に示されるとおりに、上側金型22を下側金型23から離す。離型フィルム11は、特にはその表面層102が粒子を含むフッ素系樹脂から形成されていることによって、離型性に優れている。そのため、図3(D)の工程において、硬化した樹脂25を、下側金型23からスムーズに離型することを可能である。 After curing, the upper mold 22 is separated from the lower mold 23 as shown in FIG. 3(D). The release film 11 has excellent mold releasability, especially because its surface layer 102 is made of a fluororesin containing particles. Therefore, in the step of FIG. 3(D), it is possible to smoothly release the cured resin 25 from the lower mold 23.

以上のとおり、本発明の組合せは、熱硬化性樹脂の硬化のために用いられる。特には、本発明の組合せは、熱硬化性樹脂を硬化して成形体を得るために用いられうる。当該熱硬化性樹脂は、例えばエポキシ樹脂又はシリコーン樹脂であり、好ましくはエポキシ樹脂である。本発明の組合せは、これらの樹脂の表面状態の調整に特に適している。 As mentioned above, the combination of the present invention is used for curing thermosetting resins. In particular, the combination according to the invention can be used for curing thermosetting resins to obtain molded bodies. The thermosetting resin is, for example, an epoxy resin or a silicone resin, preferably an epoxy resin. The combination of the invention is particularly suitable for adjusting the surface condition of these resins.

本発明の組合せが使用される成形における成形温度は、当該成形温度は、熱硬化性樹脂の種類に応じて適宜選択されてよい。当該成形温度は、例えば100℃~250℃であり、好ましくは120℃~200℃であり、より好ましくは150℃~200℃でありうる。 The molding temperature in molding using the combination of the present invention may be appropriately selected depending on the type of thermosetting resin. The molding temperature may be, for example, 100°C to 250°C, preferably 120°C to 200°C, more preferably 150°C to 200°C.

1-2.離型フィルム 1-2. release film

本発明の組合せを構成する離型フィルムを、図2を参照しながら説明する。図2は、上記で述べたとおり、当該離型フィルムの積層構造の一例の模式図である。 The release film constituting the combination of the present invention will be explained with reference to FIG. 2. As described above, FIG. 2 is a schematic diagram of an example of the laminated structure of the release film.

図2に示される離型フィルム11は、基材層101と、基材層101の2つの面のうち前記硬化において熱硬化性樹脂側(成形体側)に配置される面に積層されている表面層102(本明細書内において「成形体側表面層」ともいう)を含む。基材層101は、熱可塑性樹脂から形成されている。成形体側表面層102は、粒子を含むフッ素系樹脂から形成されている。離型フィルム11が基材層101及び成形体側表面層102を含むことが、上記「1-1.本発明の組合せの使用方法」において述べたとおりの表面調整を可能とすることに貢献する。また、成形体側表面層102は、粒子を含むフッ素系樹脂から形成されていることによって、硬化した成形体から離れやすい。 The release film 11 shown in FIG. 2 has a base material layer 101 and a surface that is laminated on the surface of the base material layer 101 that is disposed on the thermosetting resin side (molded object side) during the curing. It includes a layer 102 (also referred to herein as a "molded object side surface layer"). The base material layer 101 is made of thermoplastic resin. The molded body side surface layer 102 is formed from a fluororesin containing particles. The fact that the release film 11 includes the base material layer 101 and the surface layer 102 on the molded body side contributes to enabling the surface adjustment as described in the above "1-1. Method of using the combination of the present invention". Further, since the molded body side surface layer 102 is formed from a fluororesin containing particles, it is easily separated from the cured molded body.

離型フィルム11は、基材層101の2つの面のうち前記硬化において金型側に配置される面に積層されている表面層103(本明細書内において、「金型側表面層」ともいう)も含む。金型側表面層103は、好ましくはフッ素系樹脂から形成されていてよく、より好ましくは粒子を含むフッ素系樹脂から形成されうる。これにより、熱硬化性樹脂の硬化後に離型フィルム11が金型から離れやすくなる。 The release film 11 includes a surface layer 103 (also referred to as a "mold side surface layer" in this specification) that is laminated on the surface of the base layer 101 that will be placed on the mold side during curing. ) is also included. The mold side surface layer 103 may be preferably formed from a fluororesin, more preferably formed from a fluororesin containing particles. This makes it easier for the release film 11 to separate from the mold after the thermosetting resin is cured.

以上のとおり、離型フィルム11は、成形体側表面層102、基材層101、及び金型側表面層103が、この順に積層されている積層構造を有する。以下で、各層についてより詳細に説明する。 As described above, the release film 11 has a laminated structure in which the molded body side surface layer 102, the base material layer 101, and the mold side surface layer 103 are laminated in this order. Each layer will be explained in more detail below.

[基材層] [Base material layer]

基材層101は、熱可塑性樹脂から形成されている。当該熱可塑性樹脂は、好ましくは上記熱硬化性樹脂の硬化において採用される成形温度以上の融点、より好ましくは当該成形温度よりも高い融点を有する樹脂でありうる。これにより、前記成形において、前記金型の表面の凹凸が、離型フィルム11を介して前記熱硬化性樹脂の表面に反映されやすくなる。 The base material layer 101 is made of thermoplastic resin. The thermoplastic resin may preferably be a resin having a melting point higher than the molding temperature employed in curing the thermosetting resin, more preferably higher than the molding temperature. Thereby, in the molding, the irregularities on the surface of the mold are easily reflected on the surface of the thermosetting resin via the mold release film 11.

前記熱可塑性樹脂は、好ましくはポリエステル系樹脂である。ポリエステル系樹脂は、主鎖中にエステル結合を有する高分子である。前記ポリエステル系樹脂は、例えば多価アルコールと多塩基酸との重合体でありうる。前記ポリエステル系樹脂は、ポリエステルを主成分とする樹脂であり、例えばポリエステルを当該樹脂質量に対して90質量%以上、好ましくは95質量%以上、好ましくは98質量%以上の割合で含みうる。
前記熱可塑性樹脂は、例えばポリエチレンテレフタレート(PET)樹脂、ポリブチレンテレフタレート(PBT)樹脂、ポリエチレンナフタレート(PEN)樹脂、ポリブチレンナフタレート(PBN)、及びポリカーボネート(PC)樹脂樹脂から選ばれるいずれか1つ又は2つ以上の混合物であってよい。前記熱可塑性樹脂は、より好ましくはPET樹脂又はPEN樹脂であり、特に好ましくPET樹脂である。PET樹脂は、前記成形において、前記金型の表面の凹凸を前記熱硬化性樹脂の表面に反映するために特に適している。
The thermoplastic resin is preferably a polyester resin. Polyester resin is a polymer having ester bonds in its main chain. The polyester resin may be, for example, a polymer of polyhydric alcohol and polybasic acid. The polyester resin is a resin containing polyester as a main component, and may contain polyester in a proportion of, for example, 90% by mass or more, preferably 95% by mass or more, preferably 98% by mass or more based on the mass of the resin.
The thermoplastic resin is, for example, one selected from polyethylene terephthalate (PET) resin, polybutylene terephthalate (PBT) resin, polyethylene naphthalate (PEN) resin, polybutylene naphthalate (PBN), and polycarbonate (PC) resin. It may be one or a mixture of two or more. The thermoplastic resin is more preferably PET resin or PEN resin, and particularly preferably PET resin. PET resin is particularly suitable for reflecting the unevenness of the surface of the mold onto the surface of the thermosetting resin during the molding.

PET樹脂は、汎用PET樹脂であってもよく、又は、易成型PET樹脂であってもよい。汎用PET樹脂のガラス転移温度は、100℃以上でありうる。本明細書内において、ガラス転移温度は示差熱分析(DTA)により測定されるガラス転移温度である。易成型PET樹脂のガラス転移温度は、100℃未満であり、好ましくは60℃~95℃であり、より好ましくは65℃~90℃でありうる。易成型PET樹脂は、PET樹脂に含まれるオリゴマーによる金型又は成形体の汚染を防止するために特に適している。 The PET resin may be a general-purpose PET resin or an easily moldable PET resin. The glass transition temperature of general-purpose PET resin may be 100° C. or higher. Within this specification, glass transition temperature is the glass transition temperature measured by differential thermal analysis (DTA). The glass transition temperature of the easily moldable PET resin may be less than 100°C, preferably 60°C to 95°C, more preferably 65°C to 90°C. Easily moldable PET resin is particularly suitable for preventing contamination of molds or molded objects by oligomers contained in PET resin.

前記汎用PET樹脂から形成される基材層として、例えばテトロン(登録商標)シリーズのフィルムを用いることができるが、これらに限定されない。 As the base material layer formed from the general-purpose PET resin, for example, Tetron (registered trademark) series films can be used, but the invention is not limited thereto.

前記易成型PET樹脂は、例えば共重合ポリエチレンテレフタレート樹脂であってよい。共重合ポリエチレンテレフタレートは、例えばテレフタル酸とエチレングリコールと共重合成分とを反応させることにより得られてよく、又は、共重合成分のポリマーとポリエチレンテレフタレートとを混合及び溶融し次に分配反応をさせることにより得られてもよい。
前記共重合成分は、例えば酸成分であってよく又はアルコール成分であってもよい。前記酸成分として、芳香族二塩基酸(例えばイソフタル酸、フタル酸、及びナフタレンジカルボン酸など)、脂肪族ジカルボン酸(例えばアジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、及びデカンジカルボン酸など)、及び脂環族ジカルボン酸(例えばシクロヘキサンジカルボン酸など)を挙げることができる。前記アルコール成分として、脂肪族ジオール(例えばブタンジオール、ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、及びヘキサンジオールなど)及び脂環族ジオール(例えばシクロヘキサンジメタノールなど)を挙げることができる。前記共重合成分として、これらの化合物のうちの1つ又は2つ以上の組合せが用いられてよい。前記酸成分は、特にはイソフタル酸及び/又はセバシン酸でありうる。
The easily moldable PET resin may be, for example, a copolymerized polyethylene terephthalate resin. Copolymerized polyethylene terephthalate may be obtained, for example, by reacting terephthalic acid, ethylene glycol, and a copolymer component, or by mixing and melting the copolymer component polymer and polyethylene terephthalate, and then performing a partition reaction. It may be obtained by
The copolymerization component may be, for example, an acid component or an alcohol component. The acid components include aromatic dibasic acids (such as isophthalic acid, phthalic acid, and naphthalene dicarboxylic acid), aliphatic dicarboxylic acids (such as adipic acid, azelaic acid, sebacic acid, and decanedicarboxylic acid), and alicyclic acids. Mention may be made, for example, of the group dicarboxylic acids such as cyclohexanedicarboxylic acid. Examples of the alcohol component include aliphatic diols (eg, butanediol, hexanediol, neopentyl glycol, hexanediol, etc.) and alicyclic diols (eg, cyclohexanedimethanol, etc.). As the copolymerization component, one or a combination of two or more of these compounds may be used. The acid component can in particular be isophthalic acid and/or sebacic acid.

易成型PET樹脂から形成される基材層として、市販入手可能なものを用いてもよい。例えば、易成型PET樹脂から形成される基材層として、テフレックス(商標)FT、テフレックス(商標)FT3、及びテフレックス(商標)FW2(いずれも帝人フィルムソリューション株式会社製)を用いることができる。また、易成型PET樹脂から形成される基材層として、エンブレットCTK-38(ユニチカ株式会社製)が用いられてよい。また、前記基材層として、CH285J(南亜プラスチック社製)が用いられてもよい。
前記易成型PET樹脂から形成される基材層は、例えば特開平2-305827号公報、特開平3-86729号公報、又は特開平3-110124号公報に記載された方法により製造されてもよい。本発明の一つの好ましい実施態様に従い、前記基材層は、これらの公報のいずれかに記載されるように、面配向係数が好ましくは0.06~0.16、より好ましくは0.07~0.15となるように、易成型PET樹脂を二軸延伸したものであってよい。
As the base material layer formed from easily moldable PET resin, a commercially available material may be used. For example, Teflex (trademark) FT, Teflex (trademark) FT3, and Teflex (trademark) FW2 (all manufactured by Teijin Film Solutions Ltd.) can be used as the base material layer formed from easily moldable PET resin. can. Furthermore, Emblet CTK-38 (manufactured by Unitika Co., Ltd.) may be used as the base material layer formed from easily moldable PET resin. Furthermore, CH285J (manufactured by Nanya Plastics Co., Ltd.) may be used as the base material layer.
The base material layer formed from the easily moldable PET resin may be manufactured, for example, by the method described in JP-A-2-305827, JP-A-3-86729, or JP-A-3-110124. . According to one preferred embodiment of the present invention, the base layer has a planar orientation coefficient of preferably 0.06 to 0.16, more preferably 0.07 to 0.16, as described in any of these publications. It may be one obtained by biaxially stretching an easily moldable PET resin so that the particle diameter is 0.15.

前記基材層の引張破断強度は、JIS K7127に従い175℃で測定された場合に、好ましくは40MPa~200MPaであり、より好ましくは40MPa~120MPaであり、さらにより好ましくは40MPa~110MPaであり、特に好ましくは45MPa~100MPaでありうる。
前記基材層の引張破断伸びは、JIS K7127に従い175℃で測定された場合に、好ましくは200%~500%であり、より好ましくは250%~450%であり、さらにより好ましくは300%~400%でありうる。
The tensile breaking strength of the base layer is preferably 40 MPa to 200 MPa, more preferably 40 MPa to 120 MPa, even more preferably 40 MPa to 110 MPa, particularly when measured at 175° C. according to JIS K7127. Preferably, it may be 45 MPa to 100 MPa.
The tensile elongation at break of the base material layer is preferably 200% to 500%, more preferably 250% to 450%, even more preferably 300% to 300%, when measured at 175°C according to JIS K7127. It can be 400%.

前記基材層の厚みは、例えば10μm~80μm、好ましくは15μm~75μm、より好ましくは20μm~70μm、特に好ましくは30μm~60μmでありうる。当該厚みが、金型表面の凹凸形状を成形体表面に反映するために適している。 The thickness of the base layer may be, for example, 10 μm to 80 μm, preferably 15 μm to 75 μm, more preferably 20 μm to 70 μm, particularly preferably 30 μm to 60 μm. This thickness is suitable for reflecting the uneven shape of the mold surface on the molded body surface.

[成形体側表面層] [Surface layer on molded body side]

成形体側表面層102は、粒子を含むフッ素系樹脂から形成されている。本発明の好ましい実施態様に従い、前記フッ素系樹脂は塩素を含まない。塩素を含まないことによって、当該層の耐久性及び/又は防汚性が向上する。当該フッ素系樹脂は、例えば反応性官能基含有フッ素系重合体と硬化剤とを含むフッ素系樹脂組成物の硬化物でありうる。
当該フッ素系樹脂は、好ましくは四フッ化エチレン系樹脂を含み、より好ましくは四フッ化エチレン系樹脂を主成分として含む。本明細書内において、前記四フッ化エチレン系樹脂は、以下で述べる反応性官能基含有四フッ化エチレン系重合体と硬化剤との硬化反応により得られる成分をいう。四フッ化エチレン系樹脂が主成分であるとは、当該フッ素系樹脂が四フッ化エチレン系樹脂のみからなること、又は、当該フッ素系樹脂に含まれる成分のうち四フッ化エチレン系樹脂の量が最も多いことを意味する。例えば、当該フッ素系樹脂中の四フッ化エチレン系樹脂の含有割合は、当該フッ素系樹脂の全質量に対して例えば70質量%以上、好ましくは75質量%以上、より好ましくは80質量%以上、特に好ましくは85質量%以上であってよい。当該含有割合は、当該フッ素系樹脂の全質量に対して例えば99質量%以下、特には98質量%以下、より特には97質量%以下でありうる。
The molded body side surface layer 102 is formed from a fluororesin containing particles. According to a preferred embodiment of the invention, the fluororesin does not contain chlorine. By not containing chlorine, the durability and/or antifouling properties of the layer are improved. The fluororesin may be, for example, a cured product of a fluororesin composition containing a fluoropolymer containing a reactive functional group and a curing agent.
The fluororesin preferably contains a tetrafluoroethylene resin, and more preferably contains a tetrafluoroethylene resin as a main component. In this specification, the tetrafluoroethylene resin refers to a component obtained by a curing reaction between a reactive functional group-containing tetrafluoroethylene polymer and a curing agent, which will be described below. "Tetrafluoroethylene resin is the main component" means that the fluorocarbon resin consists only of tetrafluoroethylene resin, or the amount of tetrafluoroethylene resin among the components contained in the fluorocarbon resin. means the most. For example, the content of the tetrafluoroethylene resin in the fluororesin is, for example, 70% by mass or more, preferably 75% by mass or more, more preferably 80% by mass or more, based on the total mass of the fluororesin. Particularly preferably, it may be 85% by mass or more. The content may be, for example, 99% by mass or less, particularly 98% by mass or less, and more particularly 97% by mass or less, based on the total mass of the fluororesin.

前記フッ素系樹脂組成物に含まれる前記反応性官能基含有フッ素系重合体は、前記硬化剤によって硬化可能であるフッ素系重合体であってよい。前記反応性官能基と前記硬化剤とは当業者により適宜選択されてよい。
前記反応性官能基は、例えば水酸基、カルボキシル基、-COOCO-で表される基、アミノ基、又はシリル基であってよく、好ましくは水酸基である。これらの基によって、前記硬化物を得るための反応が良好に進行する。
これらの反応性官能基のうち、水酸基が、前記硬化物を得るための反応に特に適している。すなわち、前記反応性官能基含有フッ素系重合体は、好ましくは水酸基含有フッ素系重合体であり、より好ましくは水酸基含有四フッ化エチレン系重合体でありうる。
The reactive functional group-containing fluoropolymer contained in the fluororesin composition may be a fluoropolymer that can be cured by the curing agent. The reactive functional group and the curing agent may be appropriately selected by those skilled in the art.
The reactive functional group may be, for example, a hydroxyl group, a carboxyl group, a group represented by -COOCO-, an amino group, or a silyl group, and is preferably a hydroxyl group. These groups allow the reaction for obtaining the cured product to proceed favorably.
Among these reactive functional groups, hydroxyl groups are particularly suitable for the reaction to obtain the cured product. That is, the reactive functional group-containing fluoropolymer is preferably a hydroxyl group-containing fluoropolymer, more preferably a hydroxyl group-containing tetrafluoroethylene polymer.

前記反応性官能基含有フッ素系重合体のフッ素含有単位は、好ましくはパーフルオロオレフィンに基づくフッ素含有単位である。当該パーフルオロオレフィンに基づくフッ素含有単位は、より好ましくはテトラフルオロエチレン(四フッ化エチレン、本明細書内以下において「TFE」ともいう)、ヘキサフルオロプロピレン(HFP)、及びパーフルオロ(アルキルビニルエーテル)(PAVE)から選ばれる1つ、2つ、又は3つに基づくものであってよい。好ましくは、当該パーフルオロオレフィンに基づくフッ素含有単位のうち、TFEに基づくフッ素含有単位が最も多い。 The fluorine-containing units of the reactive functional group-containing fluoropolymer are preferably fluorine-containing units based on perfluoroolefins. The fluorine-containing units based on the perfluoroolefins are more preferably tetrafluoroethylene (tetrafluoroethylene, hereinafter also referred to as "TFE"), hexafluoropropylene (HFP), and perfluoro(alkyl vinyl ether). (PAVE) may be based on one, two, or three selected from (PAVE). Preferably, among the fluorine-containing units based on the perfluoroolefins, the fluorine-containing units based on TFE are the largest.

前記反応性官能基含有フッ素系重合体の水酸基価(特には水酸基含有フッ素系重合体の水酸基価)は、好ましくは10mgKOH/g~300mgKOH/gであり、より好ましくは10mgKOH/g~200mgKOH/gであり、さらにより好ましくは10mgKOH/g~150mgKOH/gでありうる。前記反応性官能基含有フッ素系重合体の水酸基価が上記数値範囲の下限値以上であることによって、樹脂組成物の硬化性が良好になりうる。また、前記反応性官能基含有フッ素系重合体の水酸基価が上記数値範囲の上限値以下であることが、当該樹脂組成物の硬化物を複数回の成形に適したものとすることに寄与しうる。当該水酸基価は、JIS K 0070に準拠する方法により測定して得られる。 The hydroxyl value of the reactive functional group-containing fluoropolymer (especially the hydroxyl value of the hydroxyl group-containing fluoropolymer) is preferably 10 mgKOH/g to 300 mgKOH/g, more preferably 10 mgKOH/g to 200 mgKOH/g. and even more preferably 10 mgKOH/g to 150 mgKOH/g. When the hydroxyl value of the reactive functional group-containing fluoropolymer is at least the lower limit of the above numerical range, the curability of the resin composition can be improved. Furthermore, the fact that the hydroxyl value of the reactive functional group-containing fluoropolymer is less than or equal to the upper limit of the numerical range mentioned above contributes to making the cured product of the resin composition suitable for multiple moldings. sell. The hydroxyl value is obtained by measuring by a method based on JIS K 0070.

前記反応性官能基含有フッ素系重合体の酸価(特には水酸基含有フッ素系重合体の酸価)は、好ましくは0.5mgKOH/g~100mgKOH/gであり、より好ましくは0.5mgKOH/g~50mgKOH/gでありうる。 The acid value of the reactive functional group-containing fluoropolymer (especially the acid value of the hydroxyl group-containing fluoropolymer) is preferably 0.5 mgKOH/g to 100 mgKOH/g, more preferably 0.5 mgKOH/g. It can be ~50 mg KOH/g.

前記反応性官能基含有フッ素系重合体の反応性官能基は、当該反応性官能基を有するモノマーを、フッ素含有モノマー(特には上記パーフルオロオレフィン)と共重合することにより、当該フッ素系重合体に導入されてよい。すなわち、前記反応性官能基含有フッ素系重合体は、反応性官能基含有モノマーに基づく重合単位とフッ素含有モノマー(特には上記パーフルオロオレフィン)に基づく重合単位とを含みうる。 The reactive functional group of the reactive functional group-containing fluoropolymer can be obtained by copolymerizing the monomer having the reactive functional group with a fluorine-containing monomer (particularly the above-mentioned perfluoroolefin). may be introduced. That is, the reactive functional group-containing fluoropolymer may include a polymerized unit based on a reactive functional group-containing monomer and a polymerized unit based on a fluorine-containing monomer (particularly the above-mentioned perfluoroolefin).

前記反応性官能基が水酸基である場合、前記反応性官能基を有するモノマーは、好ましくは水酸基含有ビニルエーテル又は水酸基含有アリルエーテルでありうる。水酸基含有ビニルエーテルとして、例えば2-ヒドロキシエチルビニルエーテル、3-ヒドロキシプロピルビニルエーテル、2-ヒドロキシプロピルビニルエーテル、2-ヒドロキシ-2-メチルプロピルビニルエーテル、4-ヒドロキシブチルビニルエーテル、4-ヒドロキシ-2-メチルブチルビニルエーテル、5-ヒドロキシペンチルビニルエーテル、及び6-ヒドロキシヘキシルビニルエーテルを挙げることができ、水酸基含有水酸基含有アリルエーテルとして、例えば2-ヒドロキシエチルアリルエーテル、4-ヒドロキシブチルアリルエーテル、及びグリセロールモノアリルエーテルを挙げることができる。代替的には、前記反応性官能基を有するモノマーは、例えばアクリル酸2-ヒドロキシエチル及びメタクリル酸2-ヒドロキシエチルなどの(メタ)アクリル酸のヒドロキシアルキルエステルであってもよい。前記反応性官能基を有するモノマーとして、これらの化合物のうちの1つ又は2つ以上の組み合わせが用いられてよい。前記反応性官能基が水酸基である場合、前記反応性官能基を有するモノマーは、前記樹脂組成物の硬化性の観点から、より好ましくは水酸基含有ビニルエーテルであり、特に好ましくは4-ヒドロキシブチルビニルエーテル及び/又は2-ヒドロキシエチルビニルエーテルでありうる。 When the reactive functional group is a hydroxyl group, the monomer having the reactive functional group may preferably be a hydroxyl group-containing vinyl ether or a hydroxyl group-containing allyl ether. Examples of the hydroxyl group-containing vinyl ether include 2-hydroxyethyl vinyl ether, 3-hydroxypropyl vinyl ether, 2-hydroxypropyl vinyl ether, 2-hydroxy-2-methylpropyl vinyl ether, 4-hydroxybutyl vinyl ether, 4-hydroxy-2-methylbutyl vinyl ether, Examples include 5-hydroxypentyl vinyl ether and 6-hydroxyhexyl vinyl ether, and examples of hydroxyl group-containing allyl ethers include 2-hydroxyethyl allyl ether, 4-hydroxybutyl allyl ether, and glycerol monoallyl ether. can. Alternatively, the monomer having reactive functional groups may be a hydroxyalkyl ester of (meth)acrylic acid, such as 2-hydroxyethyl acrylate and 2-hydroxyethyl methacrylate. As the monomer having the reactive functional group, one or a combination of two or more of these compounds may be used. When the reactive functional group is a hydroxyl group, the monomer having the reactive functional group is more preferably a hydroxyl group-containing vinyl ether, particularly preferably 4-hydroxybutyl vinyl ether and /or 2-hydroxyethyl vinyl ether.

前記反応性官能基がカルボキシル基である場合、前記反応性官能基を有するモノマーは、好ましくは不飽和カルボン酸、不飽和カルボン酸のエステル、又は不飽和カルボン酸の酸無水物であってよい。
前記反応性官能基がアミノ基である場合、前記反応性官能基を有するモノマーは、例えばアミノビニルエーテル又はアリルアミンであってよい。
前記反応性官能基がシリル基である場合、前記反応性官能基を有するモノマーは、好ましくはシリコーン系ビニルモノマーでありうる。
When the reactive functional group is a carboxyl group, the monomer having the reactive functional group may preferably be an unsaturated carboxylic acid, an ester of an unsaturated carboxylic acid, or an acid anhydride of an unsaturated carboxylic acid.
When the reactive functional group is an amino group, the monomer having the reactive functional group may be, for example, amino vinyl ether or allylamine.
When the reactive functional group is a silyl group, the monomer having the reactive functional group may preferably be a silicone vinyl monomer.

前記フッ素含有モノマーは、好ましくはパーフルオロオレフィンである。パーフルオロオレフィンとして、例えばテトラフルオロエチレン(TFE)、ヘキサフルオロプロピレン(HFP)、及びパーフルオロ(アルキルビニルエーテル)(PAVE)を挙げることができる。好ましくは、前記フッ素含有モノマーはTFEを含む。 The fluorine-containing monomer is preferably a perfluoroolefin. As perfluoroolefins, mention may be made, for example, of tetrafluoroethylene (TFE), hexafluoropropylene (HFP), and perfluoro(alkyl vinyl ether) (PAVE). Preferably, the fluorine-containing monomer comprises TFE.

好ましくは、前記反応性官能基含有フッ素系重合体は、反応性官能基含有モノマーに基づく重合単位及びフッ素含有モノマーに基づく重合単位に加えて、フッ素非含有ビニルモノマーに基づく重合単位も含みうる。当該フッ素非含有ビニルモノマーは、例えばカルボン酸ビニルエステル、アルキルビニルエーテル、及び非フッ素化オレフィンからなる群から選ばれる1つ又は2つ以上の組み合わせでありうる。
カルボン酸ビニルエステルとして、例えば酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル、イソ酪酸ビニル、ピバリン酸ビニル、カプロン酸ビニル、バーサチック酸ビニル、ラウリン酸ビニル、ステアリン酸ビニル、シクロヘキシルカルボン酸ビニル、安息香酸ビニル、及びパラ-t-ブチル安息香酸ビニルを挙げることができる。
アルキルビニルエーテルとして、例えばメチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、及びシクロヘキシルビニルエーテルを挙げることができる。
非フッ素化オレフィンとして例えば、エチレン、プロピレン、n-ブテン、イソブテンを挙げることができる。
また、前記反応性官能基含有フッ素系重合体は、反応性官能基含有モノマーに基づく重合単位及びパーフルオロオレフィンであるフッ素含有モノマーに基づく重合単位に加えて、例えばビニリデンフルオライド(VdF)、クロロトリフルオロエチレン(CTFE)、ビニルフルオライド(VF)、及びフルオロビニルエーテルなどの、パーフルオロオレフィン以外のフッ素系単量体に基づく重合単位を含んでもよい。
Preferably, the reactive functional group-containing fluoropolymer may include polymerized units based on a fluorine-free vinyl monomer in addition to the polymerized units based on the reactive functional group-containing monomer and the polymerized units based on the fluorine-containing monomer. The fluorine-free vinyl monomer can be, for example, one or a combination of two or more selected from the group consisting of carboxylic acid vinyl esters, alkyl vinyl ethers, and non-fluorinated olefins.
Examples of carboxylic acid vinyl esters include vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl butyrate, vinyl isobutyrate, vinyl pivalate, vinyl caproate, vinyl versatate, vinyl laurate, vinyl stearate, vinyl cyclohexylcarboxylate, vinyl benzoate, and vinyl para-t-butylbenzoate.
As alkyl vinyl ethers, mention may be made, for example, of methyl vinyl ether, ethyl vinyl ether, butyl vinyl ether, and cyclohexyl vinyl ether.
Examples of non-fluorinated olefins include ethylene, propylene, n-butene, and isobutene.
In addition, the reactive functional group-containing fluoropolymer includes, in addition to a polymer unit based on a reactive functional group-containing monomer and a polymer unit based on a fluorine-containing monomer that is a perfluoroolefin, for example, vinylidene fluoride (VdF), chloro It may also contain polymerized units based on fluoromonomers other than perfluoroolefins, such as trifluoroethylene (CTFE), vinyl fluoride (VF), and fluorovinylether.

前記反応性官能基含有フッ素系重合体は、例えば、TFE/非フッ素化オレフィン/ヒドロキシブチルビニルエーテル系共重合体、TFE/カルボン酸ビニルエステル/ヒドロキシブチルビニルエーテル系共重合体、又はTFE/アルキルビニルエーテル/ヒドロキシブチルビニルエーテル系共重合体でありうる。
より具体的には、前記反応性官能基含有フッ素系重合体は、TFE/イソブチレン/ヒドロキシブチルビニルエーテル系共重合体、TFE/バーサチック酸ビニル/ヒドロキシブチルビニルエーテル系共重合体、又はTFE/VdF/ヒドロキシブチルビニルエーテル系共重合体でありうる。前記反応性官能基含有フッ素系重合体は、特に好ましくは、TFE/イソブチレン/ヒドロキシブチルビニルエーテル系共重合体又はTFE/バーサチック酸ビニル/ヒドロキシブチルビニルエーテル系共重合体でありうる。
前記反応性官能基含有フッ素系重合体として、例えばゼッフルGKシリーズの製品を使用することができる。
The reactive functional group-containing fluoropolymer is, for example, TFE/non-fluorinated olefin/hydroxybutyl vinyl ether copolymer, TFE/carboxylic acid vinyl ester/hydroxybutyl vinyl ether copolymer, or TFE/alkyl vinyl ether/ It may be a hydroxybutyl vinyl ether copolymer.
More specifically, the reactive functional group-containing fluoropolymer is a TFE/isobutylene/hydroxybutyl vinyl ether copolymer, a TFE/vinyl versatate/hydroxybutyl vinyl ether copolymer, or a TFE/VdF/hydroxybutyl vinyl ether copolymer. It may be a butyl vinyl ether copolymer. The reactive functional group-containing fluoropolymer may particularly preferably be a TFE/isobutylene/hydroxybutyl vinyl ether copolymer or a TFE/vinyl versatate/hydroxybutyl vinyl ether copolymer.
As the reactive functional group-containing fluoropolymer, for example, products of the Zeffle GK series can be used.

前記フッ素系樹脂組成物に含まれる前記硬化剤は、前記反応性官能基含有フッ素系重合体に含まれる反応性官能基の種類に応じて当業者により適宜選択されてよい。
前記反応性官能基が水酸基である場合、前記硬化剤は、好ましくはイソシアネート系硬化剤、メラミン樹脂、シリケート化合物、及びイソシアネート基含有シラン化合物から選ばれる1つ又は2つ以上の組み合わせでありうる。
前記反応性官能基がカルボキシル基である場合、前記硬化剤は、好ましくはアミノ系硬化剤及びエポキシ系硬化剤から選ばれる1つ又は2つ以上の組み合わせでありうる。
前記反応性官能基がアミノ基である場合、前記硬化剤は、カルボニル基含有硬化剤、エポキシ系硬化剤、及び酸無水物系硬化剤から選ばれる1つ又は2つ以上の組み合わせでありうる。
前記フッ素系樹脂組成物中の前記硬化剤の含有量は、前記反応性官能基含有フッ素系重合体100質量部に対して、例えば15質量部~50質量部、好ましくは20質量部~40質量部、より好ましくは23質量部~35質量部でありうる。これらの数値範囲は、当該フッ素系樹脂組成物の硬化物中の前記硬化剤の含有量についても当てはまる。
前記硬化剤の含有量は、熱分解ガスクロマトグラフ(Py-GC/MS)法により測定されてよい。
The curing agent contained in the fluororesin composition may be appropriately selected by those skilled in the art depending on the type of reactive functional group contained in the reactive functional group-containing fluoropolymer.
When the reactive functional group is a hydroxyl group, the curing agent is preferably one or a combination of two or more selected from isocyanate curing agents, melamine resins, silicate compounds, and isocyanate group-containing silane compounds.
When the reactive functional group is a carboxyl group, the curing agent may be one or a combination of two or more selected from amino curing agents and epoxy curing agents.
When the reactive functional group is an amino group, the curing agent may be one or a combination of two or more selected from a carbonyl group-containing curing agent, an epoxy curing agent, and an acid anhydride curing agent.
The content of the curing agent in the fluororesin composition is, for example, 15 parts by mass to 50 parts by mass, preferably 20 parts by mass to 40 parts by mass, based on 100 parts by mass of the reactive functional group-containing fluoropolymer. parts, more preferably 23 parts to 35 parts by weight. These numerical ranges also apply to the content of the curing agent in the cured product of the fluororesin composition.
The content of the curing agent may be measured by a pyrolysis gas chromatography (Py-GC/MS) method.

本発明の1つの実施態様において、前記反応性官能基含有フッ素系重合体に含まれる反応性官能基は水酸基であり且つ前記硬化剤がイソシアネート系硬化剤でありうる。この実施態様において、前記イソシアネート系硬化剤は、好ましくはヘキサメチレンジイソシアネート(HDI)系ポリイソシアネートである。
前記フッ素系樹脂組成物中の前記HDI系ポリイソシアネートの含有量は、前記反応性官能基含有フッ素系重合体100質量部に対して、例えば15質量部~50質量部、好ましくは20質量部~40質量部、より好ましくは23質量部~35質量部でありうる。これらの数値範囲は、当該フッ素樹脂組成物の硬化物中の前記HDI系ポリイソシアネートの含有量についても当てはまる。
In one embodiment of the present invention, the reactive functional group contained in the reactive functional group-containing fluoropolymer may be a hydroxyl group, and the curing agent may be an isocyanate-based curing agent. In this embodiment, the isocyanate-based curing agent is preferably a hexamethylene diisocyanate (HDI)-based polyisocyanate.
The content of the HDI polyisocyanate in the fluororesin composition is, for example, 15 parts by mass to 50 parts by mass, preferably 20 parts by mass to 100 parts by mass of the reactive functional group-containing fluoropolymer. It may be 40 parts by weight, more preferably 23 parts to 35 parts by weight. These numerical ranges also apply to the content of the HDI polyisocyanate in the cured product of the fluororesin composition.

HDI系ポリイソシアネートとして、例えばイソシアヌレート型ポリイソシアネート、アダクト型ポリイソシアネート、及びビウレット型ポリイソシアネートから選ばれる1つ又は2つ以上の組み合わせを用いることができる。本発明において、前記イソシアネート系硬化剤は、好ましくはイソシアヌレート型ポリイソシアネート及び/又はアダクト型ポリイソシアネート、より好ましくはイソシアヌレート型ポリイソシアネートとアダクト型ポリイソシアネートとの組み合わせでありうる。
前記硬化剤としてイソシアヌレート型ポリイソシアネートとアダクト型ポリイソシアネートとの組み合わせが用いられる場合、両者の質量比は例えば10:6~10:10、好ましくは10:7~10:9である。両者の合計量が、前記反応性官能基含有フッ素系重合体100質量部に対して、例えば15質量部~50質量部、好ましくは20質量部~40質量部、より好ましくは25質量部~35質量部でありうる。
これら硬化剤の含有比率は、熱分解ガスクロマトグラフ(Py-GC/MS)法により決定されてよい。
As the HDI-based polyisocyanate, one or a combination of two or more selected from, for example, isocyanurate-type polyisocyanates, adduct-type polyisocyanates, and biuret-type polyisocyanates can be used. In the present invention, the isocyanate-based curing agent is preferably an isocyanurate-type polyisocyanate and/or an adduct-type polyisocyanate, and more preferably a combination of an isocyanurate-type polyisocyanate and an adduct-type polyisocyanate.
When a combination of isocyanurate type polyisocyanate and adduct type polyisocyanate is used as the curing agent, the mass ratio of the two is, for example, 10:6 to 10:10, preferably 10:7 to 10:9. The total amount of both is, for example, 15 parts by mass to 50 parts by mass, preferably 20 parts by mass to 40 parts by mass, more preferably 25 parts by mass to 35 parts by mass, based on 100 parts by mass of the reactive functional group-containing fluoropolymer. It can be parts by mass.
The content ratio of these curing agents may be determined by pyrolysis gas chromatography (Py-GC/MS) method.

前記成形体側表面層を形成するフッ素系樹脂は、粒子を含み、好ましくはレーザー回折式粒度分析測定法に従い測定された平均粒径が1μm~10μm、より好ましくは2μm~9μmである粒子を含む。前記平均粒径は、体積で重みづけされた体積平均径であり、JIS Z8825に従い測定されるものである。当該粒子を含むことによって、成形体の表面に当該粒子に起因する形状を反映することができ、且つ、前記離型フィルムの離型性を高めることができる。また、前記粒子の平均粒径が前記数値範囲の下限値よりも小さい場合、当該粒子に起因する表面形状が、成形体表面に反映されないことがある。また、前記粒子の平均粒径が前記数値範囲の上限値よりも高い場合、離型性の低下又は前記フッ素系樹脂からの前記粒子の脱落が起こりうる。さらに、前記粒子の平均粒径が前記数値範囲の上限値よりも高い場合、例えば当該フッ素系樹脂を基材層に塗工する際にスジが発生し、離型フィルムの製造が困難になりうる。 The fluororesin forming the surface layer on the molded body side contains particles, preferably particles having an average particle size of 1 μm to 10 μm, more preferably 2 μm to 9 μm, as measured according to a laser diffraction particle size analysis method. The average particle diameter is a volume-weighted volume average diameter, and is measured according to JIS Z8825. By including the particles, the shape caused by the particles can be reflected on the surface of the molded article, and the releasability of the release film can be improved. Further, when the average particle diameter of the particles is smaller than the lower limit of the numerical range, the surface shape caused by the particles may not be reflected on the surface of the molded article. Furthermore, if the average particle diameter of the particles is higher than the upper limit of the numerical range, the releasability may deteriorate or the particles may fall off from the fluororesin. Furthermore, if the average particle diameter of the particles is higher than the upper limit of the numerical range, for example, streaks may occur when the fluororesin is applied to the base layer, making it difficult to produce a release film. .

前記粒子は、好ましくは無機粒子又は有機粒子である。無機粒子として、例えば二酸化ケイ素(特には非晶質二酸化ケイ素)、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、リン酸カルシウム、カオリン、タルク、酸化アルミニウム、酸化チタン、アルミナ、硫酸バリウム、フッ化カルシウム、フッ化リチウム、ゼオライト、及び硫化モリブデンを挙げることができる。有機粒子として、例えば架橋高分子粒子及びシュウ酸カルシウムを挙げることができる。本発明において、前記粒子は好ましくは無機粒子であり、より好ましくは二酸化ケイ素粒子であり、さらにより好ましくは非晶質二酸化ケイ素である。非晶質二酸化ケイ素はゾルゲルタイプのシリカでありうる。非晶質二酸化ケイ素として、例えばサイシリアシリーズの非晶質二酸化ケイ素を用いることができる。 The particles are preferably inorganic or organic particles. Examples of inorganic particles include silicon dioxide (especially amorphous silicon dioxide), calcium carbonate, magnesium carbonate, calcium phosphate, kaolin, talc, aluminum oxide, titanium oxide, alumina, barium sulfate, calcium fluoride, lithium fluoride, zeolite, and molybdenum sulfide. Examples of organic particles include crosslinked polymer particles and calcium oxalate. In the present invention, the particles are preferably inorganic particles, more preferably silicon dioxide particles, even more preferably amorphous silicon dioxide. Amorphous silicon dioxide can be sol-gel type silica. As the amorphous silicon dioxide, for example, amorphous silicon dioxide of the Cycilia series can be used.

前記フッ素系樹脂組成物中の前記粒子の含有量は、前記反応性官能基含有フッ素系重合体100質量部に対して、例えば1質量部~30質量部、好ましくは2質量部~25質量部、より好ましくは3質量部~20質量部でありうる。これらの数値範囲は、当該フッ素樹脂組成物の硬化物中の前記粒子の含有量についても当てはまる。前記含有量が上記数値範囲内にあることが、前記粒子に起因する表面形状が成形体に反映されることに貢献し、及び/又は、前記離型フィルムの離型性の向上に寄与する。
本発明の一つの好ましい実施態様に従い、前記フッ素系樹脂組成物中の前記粒子の含有量は、前記反応性官能基含有フッ素系重合体100質量部に対して、例えば1質量部~17質量部、好ましくは2質量部~16質量部、特に好ましくは3質量部~10質量部でありうる。これらの数値範囲は、当該フッ素樹脂組成物の硬化物中の前記粒子の含有量についても当てはまる。前記含有量が上記数値範囲内にあることによって、成形体表面にレーザマーカによる印字又は模様を施した場合の視認性又は可読性を高めることができる。
前記粒子の含有量は、熱重量分析法(TGA)により測定されてよい。
The content of the particles in the fluororesin composition is, for example, 1 part by mass to 30 parts by mass, preferably 2 parts by mass to 25 parts by mass, based on 100 parts by mass of the reactive functional group-containing fluoropolymer. , more preferably 3 parts by weight to 20 parts by weight. These numerical ranges also apply to the content of the particles in the cured product of the fluororesin composition. Having the content within the above numerical range contributes to the surface shape resulting from the particles being reflected in the molded article, and/or contributes to improving the releasability of the release film.
According to one preferred embodiment of the present invention, the content of the particles in the fluororesin composition is, for example, 1 part by mass to 17 parts by mass based on 100 parts by mass of the reactive functional group-containing fluoropolymer. , preferably from 2 parts by weight to 16 parts by weight, particularly preferably from 3 parts by weight to 10 parts by weight. These numerical ranges also apply to the content of the particles in the cured product of the fluororesin composition. When the content is within the above numerical range, it is possible to improve the visibility or readability when printing or patterning is performed on the surface of the molded article using a laser marker.
The content of the particles may be determined by thermogravimetric analysis (TGA).

前記フッ素系樹脂組成物は、溶剤を含みうる。溶剤の種類は当業者により適宜選択されてよい。溶剤として、例えば酢酸ブチル、酢酸エチル、及びメチルエチルケトン(MEKともいう)を挙げることができる。例えば、これら3種の混合物が、前記溶剤として用いられうる。この混合物が、前記フッ素系樹脂組成物の調製に適している。 The fluororesin composition may contain a solvent. The type of solvent may be appropriately selected by those skilled in the art. As solvents, mention may be made, for example, of butyl acetate, ethyl acetate, and methyl ethyl ketone (also referred to as MEK). For example, a mixture of these three types can be used as the solvent. This mixture is suitable for preparing the fluororesin composition.

前記フッ素系樹脂組成物は、離型促進剤を含みうる。離型促進剤として、例えば、アミノ変性メチルポリシロキサン、エポキシ変性メチルポリシロキサン、カルボキシ変性メチルポリシロキサン、及びカルビノール変性メチルポリシロキサンを挙げることができる。好ましくは、離型促進剤はアミノ変性メチルポリシロキサンである。
離型促進剤は、前記反応性官能基含有フッ素系重合体100質量部に対して、例えば0.01質量部~3質量部、好ましくは0.05質量部~2質量部、より好ましくは0.1質量部~1質量部でありうる。これらの数値範囲は、当該フッ素樹脂組成物の硬化物中の前記離型促進剤の含有量についても当てはまる。
The fluororesin composition may include a release promoter. Examples of the release accelerator include amino-modified methylpolysiloxane, epoxy-modified methylpolysiloxane, carboxy-modified methylpolysiloxane, and carbinol-modified methylpolysiloxane. Preferably, the mold release promoter is an amino-modified methylpolysiloxane.
The release accelerator is, for example, 0.01 parts by mass to 3 parts by mass, preferably 0.05 parts by mass to 2 parts by mass, more preferably 0 parts by mass, based on 100 parts by mass of the reactive functional group-containing fluoropolymer. .1 part by weight to 1 part by weight. These numerical ranges also apply to the content of the release accelerator in the cured product of the fluororesin composition.

前記成形体側表面層の厚みは、例えば1μm~10μmであり、好ましくは2~9μmであり、より好ましくは3μm~8μmでありうる。 The thickness of the surface layer on the molded body side may be, for example, 1 μm to 10 μm, preferably 2 to 9 μm, and more preferably 3 μm to 8 μm.

前記フッ素系樹脂組成物は、以上で説明した成分を当業者に既知の手段により混合及び撹拌することによって製造することができる。前記混合及び撹拌のために、例えばハイスピードミキサー、ホモミキサー、及びペイントシェーカーなどのミキサーを用いることができる。前記混合及び撹拌のために、例えばエッジタービン型の高速ディゾルバーなどのディゾルバーが用いられてもよい。
前記フッ素系樹脂組成物の硬化物は、前記フッ素系樹脂組成物を前記基材層の表面に塗布し、例えば100℃~200℃、好ましくは120℃~180℃で、例えば10秒間~240秒間、好ましくは30秒間~120秒間加熱することにより得られる。当該硬化物が、前記表面層を形成する。塗布される前記フッ素系樹脂組成物の量は、形成されるべき表面層の厚みに応じて、当業者により適宜設定されてよい。
The fluororesin composition can be produced by mixing and stirring the components described above by means known to those skilled in the art. Mixers such as high-speed mixers, homo mixers, and paint shakers can be used for the mixing and stirring. For the mixing and stirring, a dissolver such as an edge turbine type high speed dissolver may be used.
The cured product of the fluororesin composition is obtained by coating the fluororesin composition on the surface of the base layer and heating it at, for example, 100°C to 200°C, preferably 120°C to 180°C, for 10 seconds to 240 seconds. , preferably by heating for 30 seconds to 120 seconds. The cured product forms the surface layer. The amount of the fluororesin composition applied may be appropriately determined by those skilled in the art depending on the thickness of the surface layer to be formed.

成形体側表面層の形状について、図4を参照して説明する。成形体側表面層を形成するフッ素系樹脂組成物は、基材層上に施与される。施与直後は、図4(a)に示されるとおり、当該樹脂組成物は液状であり、当該組成物中に粒子が存在している。当該樹脂組成物を、上記のとおり加熱することによって、当該組成物中の溶剤が揮発し、図4(b)の状態となり、粒子に起因する形状が現れてくる。最終的には、当該組成物の硬化物は、図4(c)に示されるような表面状態を有し、すなわち、粒子に起因する凹凸形状が現れる。図4(d)の模式図に示されるとおり、前記離型フィルムは、基材層401上に、粒子に起因する凹凸を有する成形体側表面層402を有する。以上のとおり、本発明の組合せを構成する離型フィルムは、粒子に起因する凹凸が形成されている成形体側表面層を有する。 The shape of the surface layer on the molded body side will be explained with reference to FIG. 4. The fluororesin composition forming the surface layer on the molded body side is applied onto the base material layer. Immediately after application, as shown in FIG. 4(a), the resin composition is in a liquid state, and particles are present in the composition. By heating the resin composition as described above, the solvent in the composition evaporates, resulting in the state shown in FIG. 4(b), and the shape resulting from the particles appears. Ultimately, the cured product of the composition has a surface state as shown in FIG. 4(c), that is, an uneven shape due to the particles appears. As shown in the schematic diagram of FIG. 4(d), the release film has a molded body side surface layer 402 having irregularities caused by particles on a base material layer 401. As described above, the release film constituting the combination of the present invention has a molded body side surface layer in which irregularities caused by particles are formed.

[金型側表面層] [Mold side surface layer]

金型側表面層103も、粒子を含むフッ素系樹脂から形成されていてよい。本発明の好ましい実施態様に従い、前記フッ素系樹脂は塩素を含まない。当該フッ素系樹脂は、好ましくは四フッ化エチレン系樹脂を含み、より好ましくは四フッ化エチレン系樹脂を主成分として含む。当該フッ素系樹脂は、例えば反応性官能基含有フッ素系重合体と硬化剤とを含むフッ素系樹脂組成物の硬化物でありうる。 The mold side surface layer 103 may also be formed from a fluororesin containing particles. According to a preferred embodiment of the invention, the fluororesin does not contain chlorine. The fluororesin preferably contains a tetrafluoroethylene resin, and more preferably contains a tetrafluoroethylene resin as a main component. The fluororesin may be, for example, a cured product of a fluororesin composition containing a fluoropolymer containing a reactive functional group and a curing agent.

前記フッ素系樹脂組成物に含まれる前記反応性官能基含有フッ素系重合体に関して、上記で述べた成形体側表面層102に含まれる反応性官能基含有フッ素系重合体についての説明が全て当てはまるので、当該反応性官能基含有フッ素系重合体についての説明は省略する。 Regarding the reactive functional group-containing fluoropolymer contained in the fluororesin composition, all the explanations regarding the reactive functional group-containing fluoropolymer contained in the molded body side surface layer 102 described above apply, A description of the reactive functional group-containing fluoropolymer will be omitted.

前記フッ素系樹脂組成物に含まれる前記硬化剤に関しても、上記で述べた成形体側表面層102に含まれる硬化剤の種類及び含有量についての説明が当てはまるので、当該反応性官能基含有フッ素系重合体についての説明は省略する。 Regarding the curing agent contained in the fluororesin composition, the above explanation regarding the type and content of the curing agent contained in the molded body side surface layer 102 also applies. Explanation regarding the combination will be omitted.

前記金型側表面層を形成するフッ素系樹脂は、粒子を含み、好ましくはレーザー回折式粒度分析測定法に従い測定された平均粒径が1μm~10μm、より好ましくは2μm~9μmである粒子を含む。前記平均粒径は、体積で重みづけされた体積平均径であり、JIS Z8825に従い測定されるものである。当該粒子を含むことによって、前記離型フィルムの離型性を高めることができる。また、前記粒子の平均粒径が前記数値範囲の上限値よりも高い場合、離型性の低下又は前記フッ素系樹脂からの前記粒子の脱落が起こりうる。さらに、前記粒子の平均粒径が前記数値範囲の上限値よりも高い場合、例えば当該フッ素系樹脂を基材層に塗工する際にスジが発生し、離型フィルムの製造が困難になりうる。 The fluororesin forming the mold side surface layer contains particles, preferably particles having an average particle size of 1 μm to 10 μm, more preferably 2 μm to 9 μm, as measured according to a laser diffraction particle size analysis method. . The average particle diameter is a volume-weighted volume average diameter, and is measured according to JIS Z8825. By including the particles, the releasability of the release film can be improved. Furthermore, if the average particle diameter of the particles is higher than the upper limit of the numerical range, the releasability may deteriorate or the particles may fall off from the fluororesin. Furthermore, if the average particle diameter of the particles is higher than the upper limit of the numerical range, for example, streaks may occur when the fluororesin is applied to the base layer, making it difficult to produce a release film. .

前記粒子は、好ましくは無機粒子又は有機粒子である。無機粒子として、例えば二酸化ケイ素(特には非晶質二酸化ケイ素)、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、リン酸カルシウム、カオリン、タルク、酸化アルミニウム、酸化チタン、アルミナ、硫酸バリウム、フッ化カルシウム、フッ化リチウム、ゼオライト、及び硫化モリブデンを挙げることができる。有機粒子として、例えば架橋高分子粒子及びシュウ酸カルシウムを挙げることができる。本発明において、前記粒子は好ましくは無機粒子であり、より好ましくは二酸化ケイ素粒子であり、さらにより好ましくは非晶質二酸化ケイ素である。非晶質二酸化ケイ素はゾルゲルタイプのシリカでありうる。非晶質二酸化ケイ素として、例えばサイシリアシリーズの非晶質二酸化ケイ素を用いることができる。 The particles are preferably inorganic or organic particles. Examples of inorganic particles include silicon dioxide (especially amorphous silicon dioxide), calcium carbonate, magnesium carbonate, calcium phosphate, kaolin, talc, aluminum oxide, titanium oxide, alumina, barium sulfate, calcium fluoride, lithium fluoride, zeolite, and molybdenum sulfide. Examples of organic particles include crosslinked polymer particles and calcium oxalate. In the present invention, the particles are preferably inorganic particles, more preferably silicon dioxide particles, even more preferably amorphous silicon dioxide. Amorphous silicon dioxide can be sol-gel type silica. As the amorphous silicon dioxide, for example, amorphous silicon dioxide of the Cycilia series can be used.

前記フッ素系樹脂組成物中の前記粒子の含有量は、前記反応性官能基含有フッ素系重合体100質量部に対して、例えば3質量部~30質量部、好ましくは5質量部~25質量部、より好ましくは10質量部~20質量部でありうる。これらの数値範囲は、当該フッ素樹脂組成物の硬化物中の前記粒子の含有量についても当てはまる。前記含有量が上記数値範囲内にあることが、前記離型フィルムの離型性の向上に寄与する。
前記粒子の含有量は、熱重量分析法(TGA)により測定されてよい。
The content of the particles in the fluororesin composition is, for example, 3 parts by mass to 30 parts by mass, preferably 5 parts by mass to 25 parts by mass, based on 100 parts by mass of the reactive functional group-containing fluoropolymer. , more preferably 10 parts by weight to 20 parts by weight. These numerical ranges also apply to the content of the particles in the cured product of the fluororesin composition. The content falling within the numerical range contributes to improving the releasability of the release film.
The content of the particles may be determined by thermogravimetric analysis (TGA).

前記フッ素系樹脂組成物は、溶剤を含みうる。溶剤の種類は当業者により適宜選択されてよい。溶剤として、例えば酢酸ブチル、酢酸エチル、及びメチルエチルケトン(MEKともいう)を挙げることができる。例えば、これら3種の混合物が、前記溶剤として用いられうる。この混合物が、前記フッ素系樹脂組成物の調製に適している。 The fluororesin composition may contain a solvent. The type of solvent may be appropriately selected by those skilled in the art. As solvents, mention may be made, for example, of butyl acetate, ethyl acetate, and methyl ethyl ketone (also referred to as MEK). For example, a mixture of these three types can be used as the solvent. This mixture is suitable for preparing the fluororesin composition.

前記フッ素系樹脂組成物は、離型促進剤を含みうる。離型促進剤として、例えば、アミノ変性メチルポリシロキサン、エポキシ変性メチルポリシロキサン、カルボキシ変性メチルポリシロキサン、及びカルビノール変性メチルポリシロキサンを挙げることができる。好ましくは、離型促進剤はアミノ変性メチルポリシロキサンである。
離型促進剤は、前記反応性官能基含有フッ素系重合体100質量部に対して、例えば0.01質量部~3質量部、好ましくは0.05質量部~2質量部、より好ましくは0.1質量部~1質量部でありうる。これらの数値範囲は、当該フッ素樹脂組成物の硬化物中の前記離型促進剤の含有量についても当てはまる。
好ましくは、金型側表面層を形成する為に用いられる前記フッ素系樹脂組成物は離型促進剤を含まない。
The fluororesin composition may include a release promoter. Examples of the release accelerator include amino-modified methylpolysiloxane, epoxy-modified methylpolysiloxane, carboxy-modified methylpolysiloxane, and carbinol-modified methylpolysiloxane. Preferably, the mold release promoter is an amino-modified methylpolysiloxane.
The release accelerator is, for example, 0.01 parts by mass to 3 parts by mass, preferably 0.05 parts by mass to 2 parts by mass, more preferably 0 parts by mass, based on 100 parts by mass of the reactive functional group-containing fluoropolymer. .1 part by weight to 1 part by weight. These numerical ranges also apply to the content of the release accelerator in the cured product of the fluororesin composition.
Preferably, the fluororesin composition used to form the mold side surface layer does not contain a mold release promoter.

前記金型側表面層の厚みは、例えば1μm~10μmであり、好ましくは2~9μmであり、より好ましくは3μm~8μmでありうる。 The thickness of the mold side surface layer may be, for example, 1 μm to 10 μm, preferably 2 μm to 9 μm, and more preferably 3 μm to 8 μm.

前記フッ素系樹脂組成物の製造方法は、成形体側表面層102を形成するために用いられるフッ素系樹脂組成物の製造方法についての説明が全て当てはまるので、当該製造方法についての説明は省略する。 As for the method for manufacturing the fluororesin composition, all the explanations regarding the method for manufacturing the fluororesin composition used to form the molded object side surface layer 102 apply, so the description of the method will be omitted.

本技術の一つの好ましい実施態様において、前記成形体側表面層は、前記反応性官能基含有フッ素系重合体(特には水酸基含有四フッ化エチレン系重合体)と前記硬化剤と前記粒子と前記離型促進剤とを含むフッ素系樹脂組成物の硬化物から形成されている。また、前記金型側表面層は、前記反応性官能基含有フッ素系重合体(特には水酸基含有四フッ化エチレン系重合体)と前記硬化剤と前記粒子とを含むフッ素系樹脂組成物の硬化物から形成されている。
より好ましくは、前記成形体側表面層は、水酸基含有四フッ化エチレン系重合体とHDI系ポリイソシアネートと二酸化ケイ素粒子とアミノ変性メチルポリシロキサンとを含むフッ素系樹脂組成物の硬化物から形成されている。また、前記金型側表面層は、水酸基含有四フッ化エチレン系重合体とHDI系ポリイソシアネートと二酸化ケイ素粒子とを含むフッ素系樹脂組成物の硬化物から形成されている。
前記離型フィルムがこのような2つの表面層を有することが、本発明の組合せによる成形体の表面状態の調整を可能とすること及び/又は前記離型フィルムの離型性を向上することに特に寄与する。
In one preferred embodiment of the present technology, the surface layer on the molded body side includes the reactive functional group-containing fluoropolymer (particularly the hydroxyl group-containing tetrafluoroethylene polymer), the curing agent, the particles, and the separating agent. It is formed from a cured product of a fluororesin composition containing a mold accelerator. The mold side surface layer is made of a cured fluororesin composition containing the reactive functional group-containing fluoropolymer (particularly the hydroxyl group-containing tetrafluoroethylene polymer), the curing agent, and the particles. formed from things.
More preferably, the surface layer on the molded body side is formed from a cured product of a fluororesin composition containing a hydroxyl group-containing tetrafluoroethylene polymer, an HDI polyisocyanate, silicon dioxide particles, and an amino-modified methylpolysiloxane. There is. The mold side surface layer is formed from a cured product of a fluororesin composition containing a hydroxyl group-containing tetrafluoroethylene polymer, an HDI polyisocyanate, and silicon dioxide particles.
The fact that the release film has such two surface layers makes it possible to adjust the surface condition of the molded article by the combination of the present invention and/or improve the releasability of the release film. Particularly helpful.

[離型フィルムの特徴] [Features of release film]

本発明の好ましい実施態様に従い、前記離型フィルムの引張破断強度は、JIS K7127に従い175℃で測定された場合に、40MPa~200MPaであり、より好ましくは40MPa~120MPaであり、さらにより好ましくは40MPa~110MPaであり、特に好ましくは45MPa~100MPaであり、且つ、前記離型フィルムの引張破断伸びが、JIS K7127に従い175℃で測定された場合に、200%~500%であり、より好ましくは250%~450%であり、さらにより好ましくは300%~400%でありうる。
前記離型フィルムの引張破断強度及び引張破断伸びが上記数値範囲内にあることが、本発明の組合せによる表面形状の調整のために適している。
According to a preferred embodiment of the present invention, the tensile breaking strength of the release film is 40 MPa to 200 MPa, more preferably 40 MPa to 120 MPa, even more preferably 40 MPa, when measured at 175° C. according to JIS K7127. -110 MPa, particularly preferably 45 MPa - 100 MPa, and the tensile elongation at break of the release film is 200% - 500%, more preferably 250 MPa when measured at 175°C according to JIS K7127. % to 450%, and even more preferably 300% to 400%.
It is suitable for the surface shape adjustment by the combination of the present invention that the tensile strength at break and the tensile elongation at break of the release film are within the above numerical ranges.

前記離型フィルムのガス(O)透過性は、JIS K7126-1に従い175℃で測定された場合に、例えば5000~50000cc/m・24hr・atmであり、特には5000~30000cc/m・24hr・atmであり、より特には5000~20000cc/m・24hr・atm以下でありうる。前記離型フィルムは、このような低いガス透過性を有する。そのため、前記離型フィルムを用いて成形を行うことで、樹脂から生じるガスによる金型汚染が抑制される。 The gas (O 2 ) permeability of the release film is, for example, 5000 to 50000 cc/m 2 24 hr atm, particularly 5000 to 30000 cc/m 2 when measured at 175°C according to JIS K7126-1.・24 hr・atm, more particularly, it can be 5000 to 20000 cc/m 2・24 hr・atm or less. The release film has such low gas permeability. Therefore, by performing molding using the mold release film, mold contamination due to gas generated from the resin is suppressed.

前記離型フィルムの厚みは、例えば30μm~100μmであり、好ましくは35μm~90μmであり、より好ましくは40μm~80μmでありうる。前記離型フィルムの厚みが上記数値範囲内にあることによって、金型表面の凹凸形状が、成形体に反映されやすくなる。 The thickness of the release film may be, for example, 30 μm to 100 μm, preferably 35 μm to 90 μm, and more preferably 40 μm to 80 μm. When the thickness of the release film is within the above numerical range, the uneven shape of the mold surface is easily reflected in the molded product.

前記離型フィルムは、1回の成形に用いられてよく、又は、複数回の成形に用いられてもよい。前記離型フィルムは、例えば2回以上、好ましくは4回以上、より好ましくは5回以上、より好ましくは6回以上、さらにより好ましくは8回以上の成形のために用いられうる。前記離型フィルムは、例えば2回~20回、好ましくは4回~15回、より好ましくは5回~15回、より好ましくは6回~15回、さらにより好ましくは8回~12回の成形のために用いられうる。前記離型フィルムは複数回の離型を通じてその性能を維持し且つ破れにくい。そのため、複数回の成形に前記離型フィルムを用いることができる。これにより、成形コストを削減することができる。
また、ポリエステル系樹脂(特にはPET樹脂)にはオリゴマーが含まれ、当該オリゴマーは成形において(特には当該樹脂を含む離型フィルムを複数回の成形に繰り返し用いた場合に)、金型及び/又は成形体を汚染しうる。しかしながら、前記離型フィルムは、基材層を形成する熱可塑性樹脂がポリエステル系樹脂である場合であっても、成形における金型及び/又は成形体の汚染が起こりにくい。前記離型フィルムは、同フィルムを複数回の成形に繰り返し用いた場合であっても、金型及び/又は成形体の汚染が起こりにくい。当該低汚染性は、特にはフッ素系樹脂から形成されている表面層によるものと考えられる。
The release film may be used for one molding, or may be used for multiple moldings. The release film may be used for molding, for example, two or more times, preferably four or more times, more preferably five or more times, more preferably six or more times, even more preferably eight or more times. The release film may be molded, for example, from 2 to 20 times, preferably from 4 to 15 times, more preferably from 5 to 15 times, more preferably from 6 to 15 times, even more preferably from 8 to 12 times. can be used for. The release film maintains its performance through multiple demolding cycles and is resistant to tearing. Therefore, the release film can be used for multiple moldings. Thereby, molding costs can be reduced.
In addition, polyester resins (especially PET resins) contain oligomers, and the oligomers are used in molds and/or Or it may contaminate the molded article. However, in the release film, even when the thermoplastic resin forming the base layer is a polyester resin, contamination of the mold and/or the molded body during molding is unlikely to occur. The mold release film is unlikely to cause contamination of the mold and/or molded product even when the same film is repeatedly used for multiple moldings. The low contamination property is thought to be due to the surface layer made of a fluororesin.

[離型フィルムの製造方法]
前記離型フィルムの製造方法、前記基材層の2つの面にフッ素系樹脂組成物を塗布する塗布工程と、当該塗布工程後に、前記フッ素系樹脂組成物を硬化させる硬化工程とを含む。
塗布工程において用いられる基材層及びフッ素系樹脂組成物については、以上で述べた内容が当てはまるので、これらについての説明は省略する。
前記塗布工程は、所望の層厚を達成するように当業者により適宜行われてよい。例えば、前記フッ素系樹脂組成物は、グラビアロール法、リバースロール法、オフセットグラビア法、キスコート法、リバースキスコート法、ワイヤーバーコート法、スプレーコート法、又は含浸法により前記基材層の2つの面に塗布されうる。これらの方法による塗布を行うための装置は、当業者により適宜選択されてよい。
当該硬化工程は、前記フッ素系樹脂組成物を、例えば100℃~200℃、好ましくは120℃~180℃で、例えば10秒間~240秒間、好ましくは30秒間~120秒間加熱することを含む。当該加熱によって、前記フッ素系樹脂組成物が硬化される。
[Manufacturing method of release film]
The method for producing the release film includes a coating step of applying a fluororesin composition to two surfaces of the base layer, and a curing step of curing the fluororesin composition after the coating step.
Since the contents described above apply to the base material layer and the fluororesin composition used in the coating process, a description thereof will be omitted.
Said application step may be carried out as appropriate by a person skilled in the art to achieve the desired layer thickness. For example, the fluororesin composition can be applied to the two base material layers by a gravure roll method, a reverse roll method, an offset gravure method, a kiss coating method, a reverse kiss coating method, a wire bar coating method, a spray coating method, or an impregnation method. Can be applied to surfaces. Apparatus for coating by these methods may be appropriately selected by those skilled in the art.
The curing step includes heating the fluororesin composition at, for example, 100°C to 200°C, preferably 120°C to 180°C, for example, 10 seconds to 240 seconds, preferably 30 seconds to 120 seconds. The fluororesin composition is cured by the heating.

1-3.金型 1-3. Mold

本発明の組合せを構成する金型は、前記熱硬化性樹脂の硬化において前記離型フィルムが接触する金型表面に凹凸が形成されている。当該凹凸が、前記離型フィルムを介して、前記熱硬化性樹脂の表面に反映される。このように、当該凹凸は、前記熱硬化性樹脂の表面に間接的に反映される。そのため、前記熱硬化性樹脂の硬化物の表面に形成される凹凸は、前記金型の凹凸と異なりうる。 In the mold constituting the combination of the present invention, irregularities are formed on the mold surface with which the release film contacts during curing of the thermosetting resin. The unevenness is reflected on the surface of the thermosetting resin via the release film. In this way, the irregularities are indirectly reflected on the surface of the thermosetting resin. Therefore, the unevenness formed on the surface of the cured product of the thermosetting resin may be different from the unevenness of the mold.

本発明の一つの実施態様に従い、前記凹凸は、前記成形において前記離型フィルムが接触する前記金型表面の一部に設けられてよい。例えば、前記金型表面のうち、表面調整が行われることが必要とされる成形体表面部分をカバーする領域だけに、前記凹凸が設けられてよい。これにより、金型表面のうち凹凸が形成される面積を減らすことができ、金型の製造コストを削減可能である。
本発明の他の実施態様に従い、前記凹凸は、前記成形において前記離型フィルムが接触する前記金型表面の全体に設けられていてもよい。
According to one embodiment of the present invention, the unevenness may be provided on a part of the mold surface with which the release film contacts during the molding. For example, the unevenness may be provided only in a region of the mold surface that covers a surface portion of the molded object that requires surface adjustment. This makes it possible to reduce the area of the mold surface where irregularities are formed, thereby reducing the manufacturing cost of the mold.
According to another embodiment of the present invention, the unevenness may be provided on the entire surface of the mold with which the release film comes into contact during the molding.

前記金型の、前記硬化において前記離型フィルムと接触する面の表面粗さRaが、好ましくは1μm~4μmであり、より好ましくは1.2μm~3.8μmであり、特に好ましくは1.4μm~3.6μmでありうる。前記凹凸を有する金型表面が、上記数値範囲内の表面粗さを有することによって、前記凹凸が、前記離型フィルムを介して前記熱硬化性樹脂の硬化物の表面に反映されやすくなる。前記表面粗さが小さすぎる場合、表面調整が出来なくなりうる。また、前記表面粗さが大きすぎる場合、離型フィルムが金型から離れにくくなることがあり、及び/又は、成形において離型フィルムに破れが生じうる。また、前記表面粗さが大きすぎる場合、金型表面の粗さが不均一になり、成形体の外観に悪影響を及ぼしうる。
本明細書内において、表面粗さRaは、JIS B0601に従い測定される。
The surface roughness Ra of the surface of the mold that comes into contact with the release film during curing is preferably 1 μm to 4 μm, more preferably 1.2 μm to 3.8 μm, and particularly preferably 1.4 μm. ~3.6 μm. When the surface of the mold having the unevenness has a surface roughness within the above numerical range, the unevenness is easily reflected on the surface of the cured product of the thermosetting resin via the release film. If the surface roughness is too small, surface adjustment may not be possible. Furthermore, if the surface roughness is too large, the release film may be difficult to separate from the mold, and/or the release film may be torn during molding. Furthermore, if the surface roughness is too large, the surface roughness of the mold becomes uneven, which may adversely affect the appearance of the molded product.
In this specification, surface roughness Ra is measured according to JIS B0601.

前記金型表面の凹凸は、例えば放電加工(EDM)又はショットブラストなど当技術分野で既知の手法により形成されてよいが、好ましくは放電加工(EDM)によって形成されうる。放電加工は、上記数値範囲内の表面粗さRaを有する面を形成するために適している。当該放電加工は、例えば上記で述べたような表面粗さを金属表面に付与するために特に適している。当該放電加工は、当技術分野で既知の手法及び装置により行われてよく、所望の凹凸が形成されるように放電加工装置を設定して、放電加工処理を行うことによって、当該凹凸が金型表面に形成されうる。 The unevenness on the mold surface may be formed by a method known in the art, such as electrical discharge machining (EDM) or shot blasting, and preferably by electrical discharge machining (EDM). Electric discharge machining is suitable for forming a surface having a surface roughness Ra within the above numerical range. The electrical discharge machining is particularly suitable for imparting surface roughness to metal surfaces, such as those mentioned above. The electric discharge machining may be performed by a method and apparatus known in the art, and by setting the electric discharge machining apparatus so that desired unevenness is formed and performing the electric discharge machining process, the unevenness is formed in the mold. can be formed on the surface.

前記金型の材料は、例えば熱硬化性樹脂の種類及び/又は成形体の形状などに応じて、当業者により適宜選択されてよい。前記金型の材料は、例えばトランスファーモールド成形又はコンプレッションモールド成形において通常用いられる材料から選択されてよい。前記金型の材料は、例えばマルテンサイト系ステンレス鋼であり、より具体的にはSUS404Cでありうる。前記金型の硬度は、好ましくは50HRC以上であり、より好ましくは55HRC以上でありうる。前記金型は、当技術分野で既知の手法により製造されてよく、例えばNC切削により製造されうる。 The material of the mold may be appropriately selected by those skilled in the art depending on, for example, the type of thermosetting resin and/or the shape of the molded product. The material of the mold may be selected, for example, from materials commonly used in transfer molding or compression molding. The material of the mold may be, for example, martensitic stainless steel, more specifically SUS404C. The hardness of the mold is preferably 50HRC or more, more preferably 55HRC or more. The mold may be manufactured by a method known in the art, for example, by NC cutting.

前記金型は、好ましくは表面処理されている。当該表面処理の種類は、金型の材料に応じて当業者により適宜選択されてよい。前記金型の材料がマルテンサイト系ステンレス鋼である場合、当該金型は、例えば硬質クロームメッキ処理されうる。 The mold is preferably surface-treated. The type of surface treatment may be appropriately selected by those skilled in the art depending on the material of the mold. When the material of the mold is martensitic stainless steel, the mold may be plated with hard chrome, for example.

2.離型フィルム 2. release film

本発明は、熱硬化性樹脂の硬化のために金型と組み合わせて用いられる離型フィルムも提供する。当該離型フィルムは、上記「1.金型と離型フィルムとの組合せ」において説明した本発明の組合せを構成する離型フィルムであり、当該説明の全てが本発明の離型フィルムにも当てはまる。 The present invention also provides a release film that is used in combination with a mold for curing thermosetting resins. The release film is a release film that constitutes the combination of the present invention described in "1. Combination of mold and release film" above, and all of the explanations also apply to the release film of the present invention. .

本発明の離型フィルムを、上記「1.金型と離型フィルムとの組合せ」において説明した金型と組み合わせて熱硬化性樹脂の硬化において用いることで、当該熱硬化性樹脂の硬化物からなる成形体の表面状態を調整することができる。本発明の離型フィルムは、前記金型の表面の凹凸を成形体に反映するために適している。
また、本発明の離型フィルムは、離型性に優れている。前記金型表面のうち、前記硬化において前記離型フィルムと接触する部分には凹凸が設けられているにもかかわらず、当該離型フィルムは、前記金型からスムーズに離れる。
By using the release film of the present invention in curing of a thermosetting resin in combination with the mold described in "1. Combination of mold and release film" above, the cured product of the thermosetting resin can be cured. The surface condition of the molded product can be adjusted. The mold release film of the present invention is suitable for reflecting the unevenness of the surface of the mold onto the molded product.
Furthermore, the release film of the present invention has excellent release properties. Although the part of the mold surface that comes into contact with the mold release film during curing is uneven, the mold release film smoothly leaves the mold.

3.金型 3. Mold

本発明は、熱硬化性樹脂の硬化のために、離型フィルムと組み合わせて用いられる金型も提供する。当該金型は、上記「1.金型と離型フィルムとの組合せ」において説明した本発明の組合せを構成する金型であり、当該説明の全てが本発明の金型にも当てはまる。 The present invention also provides a mold used in combination with a release film for curing a thermosetting resin. The mold is a mold that constitutes the combination of the present invention described in the above "1. Combination of mold and release film", and all of the above description also applies to the mold of the present invention.

本発明の金型を、上記「1.金型と離型フィルムとの組合せ」において説明した離型フィルムと組み合わせて熱硬化性樹脂の硬化において用いることで、当該熱硬化性樹脂の硬化物からなる成形体の表面状態を調整することができる。 By using the mold of the present invention in combination with the release film described in "1. Combination of mold and release film" in curing a thermosetting resin, the cured product of the thermosetting resin can be cured. The surface condition of the molded product can be adjusted.

4.成形体の製造方法 4. Method for manufacturing molded bodies

本発明は、成形体の製造方法を提供する。当該製造方法は、熱硬化性樹脂を硬化させるために用いられる金型内に、離型フィルムを配置する配置工程と、前記配置工程後に、前記熱硬化性樹脂を前記金型内で、前記離型フィルムに接触した状態で硬化させる硬化工程と、前記硬化工程後に、前記金型から、硬化した前記熱硬化性樹脂を離型して成形体を得る離型工程とを含む。 The present invention provides a method for manufacturing a molded article. The manufacturing method includes a step of arranging a release film in a mold used for curing the thermosetting resin, and after the arranging step, placing the thermosetting resin in the mold. The method includes a curing step of curing the resin in contact with a mold film, and a mold release step of releasing the cured thermosetting resin from the mold after the curing step to obtain a molded body.

本発明の製造方法において用いられる前記金型及び前記離型フィルムは、上記「1.金型と離型フィルムとの組合せ」において説明した本発明の組合せを構成する金型及び離型フィルムであり、当該説明の全てが本発明の製造方法においても当てはまる。前記成形体の製造方法は、例えばトランスファーモールド成形方式に従うものであってよく又はコンプレッションモールド成形方式に従うものであってもよいが、これらに限定されない。 The mold and the release film used in the manufacturing method of the present invention are the mold and release film that constitute the combination of the present invention described in "1. Combination of mold and release film" above. , all of the above descriptions also apply to the manufacturing method of the present invention. The method for producing the molded body may be, for example, a transfer molding method or a compression molding method, but is not limited thereto.

前記配置工程において、前記金型内に前記離型フィルムが配置される。前記離型フィルムの前記成形体側表面層が前記熱硬化性樹脂に接触し且つ前記金型側表面層が前記金型の前記凹凸が形成されている表面に接触するように、前記離型フィルムが前記金型内に配置されうる。例えば、上記「1-1.本発明の組合せの使用方法」において説明した図1(A)又は図3(A)に示される状態となるにように、前記配置工程において前記離型フィルムが配置されうる。 In the placement step, the release film is placed within the mold. The release film is arranged such that the surface layer on the molded body side of the release film contacts the thermosetting resin and the surface layer on the mold side contacts the surface of the mold on which the unevenness is formed. It may be placed within the mold. For example, in the arrangement step, the release film is arranged so as to be in the state shown in FIG. 1(A) or FIG. 3(A) explained in “1-1. It can be done.

前記配置工程の後に、前記離型フィルムが、前記金型の前記凹凸が形成されている表面に、例えば吸引によって貼り付けられうる。当該貼り付けに先立ち、前記離型フィルムは加熱により軟化されてもよい。 After the placement step, the release film may be attached to the surface of the mold on which the unevenness is formed, for example, by suction. Prior to the pasting, the release film may be softened by heating.

前記硬化工程において、前記熱硬化性樹脂が前記金型内で硬化される。
例えばトランスファーモールド成形において、当該硬化に先立ち、金型内から前記熱硬化性樹脂が漏れ出さないように、閉空間が形成されうる。例えば、図1(B)に示されるとおり、上側金型及び下側金型を閉じて閉空間が形成される。そして、当該閉空間内に、図1(C)に示されるとおり、前記熱硬化性樹脂が導入され、そして、前記熱硬化性樹脂が加熱により硬化されうる。
例えばコンプレッションモールド成形において、当該硬化に先立ち、金型内に熱硬化性樹脂が導入されうる。例えば、図3(B)に示されるとおり、下側金型の窪み内に熱硬化性樹脂が導入されうる。そして、図3(C)に示されるとおり、半導体素子搭載基板を有する上側金型を下側金型に向けて移動させて、これら金型を閉じる。これら金型が閉じられた状態で、前記熱硬化性樹脂が加熱により硬化される。
In the curing step, the thermosetting resin is cured within the mold.
For example, in transfer molding, a closed space may be formed prior to curing to prevent the thermosetting resin from leaking out of the mold. For example, as shown in FIG. 1(B), a closed space is formed by closing the upper mold and the lower mold. Then, as shown in FIG. 1(C), the thermosetting resin is introduced into the closed space, and the thermosetting resin can be cured by heating.
For example, in compression molding, a thermosetting resin may be introduced into the mold prior to curing. For example, as shown in FIG. 3(B), a thermosetting resin can be introduced into the depression of the lower mold. Then, as shown in FIG. 3C, the upper mold having the semiconductor element mounting substrate is moved toward the lower mold, and these molds are closed. With these molds closed, the thermosetting resin is cured by heating.

前記硬化工程において、前記熱硬化性樹脂の表面に、前記金型の表面に形成された凹凸形状が間接的に反映され、且つ、前記離型フィルムの表面形状(特には成形体側表面層中に含まれる粒子に起因する表面形状)が、前記熱硬化性樹脂の表面に直接的に反映される。前記凹凸形状及び前記表面形状が前記熱硬化性樹脂の表面に反映された状態で、前記熱硬化性樹脂が硬化される。すなわち、当該硬化の結果得られた成形体の表面に、前記凹凸形状及び前記表面形状が反映される。このようにして、成形体の表面状態が調整される。 In the curing step, the uneven shape formed on the surface of the mold is indirectly reflected on the surface of the thermosetting resin, and the surface shape of the release film (particularly in the surface layer on the molded body side) is reflected indirectly. The surface shape caused by the contained particles is directly reflected on the surface of the thermosetting resin. The thermosetting resin is cured while the uneven shape and the surface shape are reflected on the surface of the thermosetting resin. That is, the uneven shape and the surface shape are reflected on the surface of the molded product obtained as a result of the curing. In this way, the surface condition of the molded body is adjusted.

前記離型工程において、前記金型から、硬化した前記熱硬化性樹脂(成形体)を離型する。例えば、当該成形体から、図1(D)又は図3(D)に示されるとおり、前記凹凸が形成された表面を有する金型を離れる。 In the mold release step, the cured thermosetting resin (molded body) is released from the mold. For example, as shown in FIG. 1(D) or FIG. 3(D), the molded body is removed from a mold having a surface on which the unevenness is formed.

本発明の製造方法は、前記離型工程後に、上記のとおりに表面状態が調整された前記成形体表面にレーザマーカによる印字を行う印字工程をさらに含んでもよい。本発明に従う製造方法により、レーザマーカによる印字の視認性又は可読性を向上することができる。前記印字の文字高さは例えば0.1mm~10mm、好ましくは0.2mm~5mmでありうる。前記印字の文字高さは特には0.5mm~3mmであってもよい。本発明に従う製造方法により得られる成形体の表面は、このような小さい文字の視認性又は可読性を高めることができる。 The manufacturing method of the present invention may further include, after the mold release step, a printing step of printing with a laser marker on the surface of the molded article whose surface condition has been adjusted as described above. The manufacturing method according to the present invention can improve the visibility or readability of markings printed with a laser marker. The character height of the printing may be, for example, 0.1 mm to 10 mm, preferably 0.2 mm to 5 mm. In particular, the character height of the printing may be between 0.5 mm and 3 mm. The surface of the molded article obtained by the manufacturing method according to the present invention can improve the visibility or readability of such small characters.

以上の工程によって、表面状態が調整された成形体が得られる。 Through the above steps, a molded article with an adjusted surface condition can be obtained.

以下、実施例に基づいて本発明をより詳細に説明する。なお、以下に説明する実施例は、本発明の代表的な実施例の一例を示したものであり、本発明の範囲はこれらの実施例のみに限定されるものでない。 Hereinafter, the present invention will be explained in more detail based on Examples. It should be noted that the examples described below are only representative examples of the present invention, and the scope of the present invention is not limited only to these examples.

実施例1:成形体の表面調整の例 Example 1: Example of surface conditioning of molded body

(1)離型フィルムの製造 (1) Manufacture of release film

以下に述べるとおり、2種類の離型フィルムを製造した。 Two types of release films were manufactured as described below.

(1-1)離型フィルムの製造 (1-1) Production of release film

基材層として、汎用ポリエチレンテレフタレート樹脂から形成されているフィルム(テトロンG2CW、帝人株式会社、厚み38μm)を用意した。
次に、当該フィルムに塗布するための2種類のフッ素系樹脂組成物(以下、第一フッ素系樹脂組成物及び第二フッ素系樹脂組成物という)を調製した。第一フッ素系樹脂組成物は、金型側表面層を形成するためものである。第二フッ素系樹脂組成物は、成形体側表面層を形成するためのものである。
第一フッ素系樹脂組成物は、水酸基含有四フッ化エチレン系重合体含有組成物100質量部(ゼッフルGK570、ダイキン工業株式会社、このうち65質量%が水酸基含有四フッ化エチレン系重合体である)、非晶質二酸化ケイ素11.47質量部(サイシリア380、富士シリシア化学株式会社)、イソシアヌレート型ポリイソシアネート10質量部(硬化剤、スミジュールN3300、住友バイエルウレタン株式会社)、アダクト型ポリイソシアネート7.79質量部(硬化剤、デュラネートAE700-100)、酢酸ブチル6.18質量部、酢酸エチル44.62質量部、及びMEK89.25質量部を混合及び撹拌することにより調製された。前記非晶質二酸化ケイ素の平均粒径(上記体積平均径である)は、粒度分析測定装置(SALD-2200、株式会社島津製作所)を用いてレーザー回折式粒度分析測定法に従い測定されたときに、8.8μmであった。
第二フッ素系樹脂組成物は、前記第一フッ素系樹脂組成物にさらにアミノ変性メチルポリシロキサン0.31質量部(離型促進剤、信越化学工業株式会社)を追加したこと及び酢酸エチルの量を44.81質量部に変更したこと及びMEKの量を89.63質量部に変更したこと以外は、前記第一フッ素系樹脂組成物と同じである。
As a base material layer, a film (Tetron G2CW, Teijin Ltd., thickness 38 μm) made of a general-purpose polyethylene terephthalate resin was prepared.
Next, two types of fluororesin compositions (hereinafter referred to as a first fluororesin composition and a second fluororesin composition) were prepared to be applied to the film. The first fluororesin composition is for forming a mold side surface layer. The second fluororesin composition is for forming a surface layer on the molded body side.
The first fluororesin composition was composed of 100 parts by mass of a composition containing a hydroxyl group-containing tetrafluoroethylene polymer (Zeffle GK570, Daikin Industries, Ltd., of which 65% by mass was a hydroxyl group-containing tetrafluoroethylene polymer). ), 11.47 parts by mass of amorphous silicon dioxide (Silysia 380, Fuji Silysia Chemical Co., Ltd.), 10 parts by mass of isocyanurate type polyisocyanate (curing agent, Sumidur N3300, Sumitomo Bayer Urethane Co., Ltd.), adduct type polyisocyanate It was prepared by mixing and stirring 7.79 parts by mass (curing agent, Duranate AE700-100), 6.18 parts by mass of butyl acetate, 44.62 parts by mass of ethyl acetate, and 89.25 parts by mass of MEK. The average particle diameter (the volume average diameter) of the amorphous silicon dioxide is measured using a particle size analyzer (SALD-2200, Shimadzu Corporation) according to the laser diffraction particle size analysis method. , 8.8 μm.
The second fluororesin composition was prepared by adding 0.31 parts by mass of amino-modified methylpolysiloxane (release accelerator, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) to the first fluororesin composition and the amount of ethyl acetate. The composition was the same as the first fluororesin composition except that the amount of MEK was changed to 44.81 parts by mass and the amount of MEK was changed to 89.63 parts by mass.

前記フィルムの一方の面に、前記第一フッ素系樹脂組成物を塗布し、且つ、前記フィルムの他方の面に、前記第二フッ素系樹脂組成物を塗布した。これらの塗布は、キスリバース方式の塗布装置を用いて行われた。前記塗布後に、これらの組成物を150℃にて60秒間加熱することによって硬化して、汎用PET樹脂フィルムの両面にフッ素系樹脂層が積層された離型フィルム(以下、「離型フィルム1」という)を得た。 The first fluororesin composition was applied to one side of the film, and the second fluororesin composition was applied to the other side of the film. These coatings were performed using a kiss-reverse coating device. After the coating, these compositions are cured by heating at 150° C. for 60 seconds to form a release film (hereinafter referred to as "Release Film 1") in which fluorine-based resin layers are laminated on both sides of a general-purpose PET resin film. ) was obtained.

離型フィルム1の厚みは60±5μmであった。離型フィルム1中の基材層の厚みは38μm±10%であった。離型フィルム1の2つの表面層のうち、金型側表面層の厚みは5.5±0.5μmであり、且つ、成形体側表面層の厚みは5.5±0.5μmであった。 The thickness of the release film 1 was 60±5 μm. The thickness of the base material layer in the release film 1 was 38 μm±10%. Of the two surface layers of the release film 1, the thickness of the surface layer on the mold side was 5.5±0.5 μm, and the thickness of the surface layer on the molded body side was 5.5±0.5 μm.

前記第一フッ素系樹脂組成物の硬化物(金型側表面層)は、前記水酸基含有四フッ化エチレン系重合体100質量部に対して、前記非晶質二酸化ケイ素を17.65質量部含み、前記イソシアヌレート型ポリイソシアネートを15.39質量部含み、且つ、前記アダクト型ポリイソシアネートを11.98質量部含んでいた。 The cured product (mold side surface layer) of the first fluororesin composition contains 17.65 parts by mass of the amorphous silicon dioxide based on 100 parts by mass of the hydroxyl group-containing tetrafluoroethylene polymer. , contained 15.39 parts by mass of the isocyanurate type polyisocyanate, and 11.98 parts by mass of the adduct type polyisocyanate.

前記第二フッ素系樹脂組成物の硬化物(成形体側表面層)は、前記水酸基含有四フッ化エチレン系重合体100質量部に対して、前記非晶質二酸化ケイ素を17.65質量部含み、前記イソシアヌレート型ポリイソシアネートを15.39質量部含み、前記アダクト型ポリイソシアネートを11.98質量部含み、且つ、アミノ変性メチルポリシロキサンを0.48質量部含んでいた。 The cured product of the second fluororesin composition (surface layer on the molded body side) contains 17.65 parts by mass of the amorphous silicon dioxide based on 100 parts by mass of the hydroxyl group-containing tetrafluoroethylene polymer, It contained 15.39 parts by mass of the isocyanurate-type polyisocyanate, 11.98 parts by mass of the adduct-type polyisocyanate, and 0.48 parts by mass of amino-modified methylpolysiloxane.

(1-2)離型フィルムの製造 (1-2) Production of release film

上記(1-1)において述べた第二フッ素系樹脂組成物の組成を、以下のとおりに変更したこと以外は上記(1-1)と同じ方法で、離型フィルム(以下、「離型フィルム2」という)を製造した。
すなわち、第二フッ素系樹脂組成物は、水酸基含有四フッ化エチレン系重合体含有組成物100質量部(ゼッフルGK570、ダイキン工業株式会社、このうち65質量%が水酸基含有四フッ化エチレン系重合体である)、非晶質二酸化ケイ素3.42質量部(サイシリア430、富士シリシア化学株式会社)、イソシアヌレート型ポリイソシアネート10質量部(硬化剤、スミジュールN3300、住友バイエルウレタン株式会社)、アダクト型ポリイソシアネート7.79質量部(硬化剤、デュラネートAE700-100)、酢酸ブチル1.84質量部、酢酸エチル41.15質量部、MEK82.30質量部、及びアミノ変性メチルポリシロキサン0.11質量部(離型促進剤、信越化学工業株式会社)を混合及び撹拌することにより調製された。前記非晶質二酸化ケイ素の平均粒径(上記体積平均径である)は、粒度分析測定装置(SALD-2200、株式会社島津製作所)を用いてレーザー回折式粒度分析測定法に従い測定されたときに、4.1μmであった。
A release film (hereinafter referred to as "release film 2) was produced.
That is, the second fluororesin composition contains 100 parts by mass of a composition containing a hydroxyl group-containing tetrafluoroethylene polymer (Zeffle GK570, Daikin Industries, Ltd., of which 65% by mass is a hydroxyl group-containing tetrafluoroethylene polymer). ), 3.42 parts by mass of amorphous silicon dioxide (Silysia 430, Fuji Silysia Chemical Co., Ltd.), 10 parts by mass of isocyanurate type polyisocyanate (curing agent, Sumidur N3300, Sumitomo Bayer Urethane Co., Ltd.), adduct type 7.79 parts by mass of polyisocyanate (curing agent, Duranate AE700-100), 1.84 parts by mass of butyl acetate, 41.15 parts by mass of ethyl acetate, 82.30 parts by mass of MEK, and 0.11 parts by mass of amino-modified methylpolysiloxane. (Mold release accelerator, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) was prepared by mixing and stirring. The average particle diameter (the volume average diameter) of the amorphous silicon dioxide is measured using a particle size analyzer (SALD-2200, Shimadzu Corporation) according to the laser diffraction particle size analysis method. , 4.1 μm.

離型フィルム2の厚みは60±5μmであった。離型フィルム2中の基材層の厚みは38μm±10%であった。離型フィルム2の2つの表面層のうち、金型側表面層の厚みは5.5±0.5μmであり、且つ、成形体側表面層の厚みは3.5±0.5μmであった。 The thickness of the release film 2 was 60±5 μm. The thickness of the base material layer in the release film 2 was 38 μm±10%. Of the two surface layers of the release film 2, the thickness of the surface layer on the mold side was 5.5±0.5 μm, and the thickness of the surface layer on the molded body side was 3.5±0.5 μm.

前記第一フッ素系樹脂組成物の硬化物(金型側表面層)は、前記水酸基含有四フッ化エチレン系重合体100質量部に対して、前記非晶質二酸化ケイ素を17.65質量部含み、前記イソシアヌレート型ポリイソシアネートを15.39質量部含み、且つ、前記アダクト型ポリイソシアネートを11.98質量部含んでいた。 The cured product (mold side surface layer) of the first fluororesin composition contains 17.65 parts by mass of the amorphous silicon dioxide based on 100 parts by mass of the hydroxyl group-containing tetrafluoroethylene polymer. , contained 15.39 parts by mass of the isocyanurate type polyisocyanate, and 11.98 parts by mass of the adduct type polyisocyanate.

前記第二フッ素系樹脂組成物の硬化物(成形体側表面層)は、前記水酸基含有四フッ化エチレン系重合体100質量部に対して、前記非晶質二酸化ケイ素を5.26質量部含み、前記イソシアヌレート型ポリイソシアネートを15.39質量部含み、前記アダクト型ポリイソシアネートを11.98質量部含み、且つ、アミノ変性メチルポリシロキサンを0.16質量部含んでいた。 The cured product of the second fluororesin composition (surface layer on the molded body side) contains 5.26 parts by mass of the amorphous silicon dioxide based on 100 parts by mass of the hydroxyl group-containing tetrafluoroethylene polymer, It contained 15.39 parts by mass of the isocyanurate-type polyisocyanate, 11.98 parts by mass of the adduct-type polyisocyanate, and 0.16 parts by mass of amino-modified methylpolysiloxane.

(2)金型の製造 (2) Manufacture of molds

4つの金型を製造した。これら4つの金型はいずれも、上側金型及び下側金型の組合せからなるトランスファーモールド成形用の金型であり、上側金型のキャビティ表面に設けられた凹凸が異なること以外は同じ形状を有した。前記凹凸は、図1(A)の上側金型12の表面16に対応する位置に設けられた。前記凹凸はいずれも、放電加工により形成された。 Four molds were manufactured. These four molds are all molds for transfer molding consisting of a combination of an upper mold and a lower mold, and have the same shape except for the unevenness provided on the cavity surface of the upper mold. I had it. The unevenness was provided at a position corresponding to the surface 16 of the upper mold 12 in FIG. 1(A). All of the above-mentioned irregularities were formed by electric discharge machining.

前記4つの金型の前記凹凸が設けられた領域の表面粗さRaは、JIS B0601に従い測定したところ、それぞれ2.0μm、2.5μm、3.0μm、及び3.5μmであった。表面粗さRaが2.0μmである表面を有する金型を以下で「金型1」という。表面粗さRaが2.5μm、3.0μm、及び3.5μmである金型について、同様に、それぞれ「金型2」、「金型3」、及び「金型4」という。 The surface roughness Ra of the region of the four molds where the unevenness was provided was 2.0 μm, 2.5 μm, 3.0 μm, and 3.5 μm, respectively, when measured according to JIS B0601. A mold having a surface with a surface roughness Ra of 2.0 μm is hereinafter referred to as “mold 1”. The molds having surface roughness Ra of 2.5 μm, 3.0 μm, and 3.5 μm are similarly referred to as “mold 2,” “mold 3,” and “mold 4,” respectively.

これら4つの金型の主な材質はいずれもSUS440Cであった。また、これら4つの金型はいずれも、HRC55以上の硬度を有し、且つ、その表面は硬質クロームメッキされていた。 The main material of these four molds was all SUS440C. Furthermore, all of these four molds had a hardness of HRC55 or higher, and their surfaces were plated with hard chrome.

(3)成形体の製造 (3) Manufacture of molded bodies

以下表1に示されるとおりの離型フィルム及び金型の組合せを用いて、熱硬化性樹脂(エポキシ樹脂、GE100、日立化成株式会社)を成形した。当該成形において8.5MPa又は5.0MPaのトランスファー圧が採用された。当該成形において前記熱硬化性樹脂を硬化させるために採用された成形温度は175℃であった。当該成形により得られた成形体それぞれの表面の入射角60°での光沢度を、光沢度計(PG-IIM、日本電色工業株式会社)により測定した。測定結果も以下表1に示す。 A thermosetting resin (epoxy resin, GE100, Hitachi Chemical Co., Ltd.) was molded using a combination of a release film and a mold as shown in Table 1 below. A transfer pressure of 8.5 MPa or 5.0 MPa was employed in the molding. In the molding, the molding temperature employed to cure the thermosetting resin was 175°C. The glossiness of the surface of each of the molded bodies obtained by the molding at an incident angle of 60° was measured using a glossmeter (PG-IIM, Nippon Denshoku Kogyo Co., Ltd.). The measurement results are also shown in Table 1 below.

表1に示されるとおり、離型フィルム1を用いた場合において、金型のRaが増加するにつれて、光沢度が減少した。これらの結果より、金型1~4の凹凸が、離型フィルム1を介して成形体の表面状態に反映されていることが分かる。
離型フィルム2を用いた場合においても、同様に、金型のRaが増加するにつれて、光沢度が減少した。この結果より、金型1~4の凹凸が、離型フィルム2を介して成形体の表面状態に反映されていることが分かる。
As shown in Table 1, when the release film 1 was used, the gloss level decreased as the Ra of the mold increased. From these results, it can be seen that the unevenness of the molds 1 to 4 is reflected in the surface condition of the molded product through the release film 1.
Similarly, when the release film 2 was used, the gloss level decreased as the Ra of the mold increased. From this result, it can be seen that the unevenness of the molds 1 to 4 is reflected in the surface condition of the molded product via the mold release film 2.

また、金型1を用いた場合の4つの結果を比較すると、同じ金型であっても、離型フィルムの違いによって成形体の表面の光沢度が異なる。離型フィルム1及び2は、成形体側表面層の組成が異なり、特には表面層中の粒子の含有比率が異なる。これらの結果より、離型フィルムの表面層の形状、特には表面層中の粒子に起因する形状が、成形体の表面状態に反映されていることが分かる。 Further, when comparing the four results using mold 1, even with the same mold, the glossiness of the surface of the molded article differs depending on the difference in the release film. Release films 1 and 2 differ in the composition of the surface layer on the molded body side, particularly in the content ratio of particles in the surface layer. These results show that the shape of the surface layer of the release film, particularly the shape caused by particles in the surface layer, is reflected in the surface condition of the molded article.

以上の結果より、本発明に従う金型及び離型フィルムの組合せによって、成形体の表面状態を調整することができることが分かる。例えば、当該組み合わせによって、成形体表面の光沢度を調整することができると分かる。 From the above results, it can be seen that the surface condition of the molded article can be adjusted by the combination of the mold and the release film according to the present invention. For example, it is understood that the glossiness of the surface of the molded article can be adjusted by the combination.

また、得られた全ての成形体の表面状態(特には表面の凹凸の状態)が、用いられた金型表面の凹凸と異なっており且つ用いられた離型フィルムの成形体側表面層の表面状態とも異なっていた。この結果より、金型表面の凹凸及び離型フィルムの成形体側表面層の形状の両方が、成形体の表面状態(特には表面の凹凸の状態)の調整に貢献していると考えられる。 In addition, the surface condition (especially the surface unevenness condition) of all the obtained molded objects is different from the unevenness of the surface of the mold used, and the surface condition of the surface layer on the molded object side of the mold release film used is It was also different. From this result, it is considered that both the irregularities on the mold surface and the shape of the molded body side surface layer of the mold release film contribute to the adjustment of the surface condition of the molded body (particularly the condition of the surface irregularities).

また、前記成形において、いずれの離型フィルムも成形体からスムーズに離れた。従って、本発明の組合せを構成する離型フィルムは、表面に凹凸を有する成形体の成形後に、当該成形体からスムーズに離れることができると分かる。 Furthermore, in the molding, all of the release films were smoothly separated from the molded product. Therefore, it can be seen that the release film constituting the combination of the present invention can be smoothly separated from the molded product having an uneven surface after the molded product is molded.

実施例2:レーザマーカにより印字された成形体表面の評価 Example 2: Evaluation of the surface of the molded product printed with a laser marker

(1)離型フィルムの製造 (1) Manufacture of release film

以下に述べるとおり、3種類の離型フィルムを製造した。 Three types of release films were manufactured as described below.

(1-1)離型フィルムの製造 (1-1) Production of release film

基材層として、易成型ポリエチレンテレフタレート樹脂から形成されているフィルム(CH285J、南亜プラスチック社、厚み50μm)を用意した。
次に、当該フィルムに塗布するための2種類のフッ素系樹脂組成物(以下、第一フッ素系樹脂組成物及び第二フッ素系樹脂組成物という)を調製した。第一フッ素系樹脂組成物は、金型側表面層を形成するためものである。第二フッ素系樹脂組成物は、成形体側表面層を形成するためのものである。
第一フッ素系樹脂組成物は、水酸基含有四フッ化エチレン系重合体含有組成物100質量部(ゼッフルGK570、ダイキン工業株式会社、このうち65質量%が水酸基含有四フッ化エチレン系重合体である)、非晶質二酸化ケイ素11.47質量部(サイシリア380、富士シリシア化学株式会社)、イソシアヌレート型ポリイソシアネート10質量部(硬化剤、スミジュールN3300、住友バイエルウレタン株式会社)、アダクト型ポリイソシアネート7.79質量部(硬化剤、デュラネートAE700-100)、酢酸ブチル6.18質量部、酢酸エチル44.62質量部、及びMEK89.25質量部を混合及び撹拌することにより調製された。前記非晶質二酸化ケイ素の平均粒径(上記体積平均径である)は、粒度分析測定装置(SALD-2200、株式会社島津製作所)を用いてレーザー回折式粒度分析測定法に従い測定されたときに、8.8μmであった。
第二フッ素系樹脂組成物は、記第一フッ素系樹脂組成物にさらにアミノ変性メチルポリシロキサン0.31質量部(離型促進剤、信越化学工業株式会社)を追加したこと及び酢酸エチルの量を44.81質量部に変更したこと及びMEKの量を89.63質量部に変更したこと以外は、前記第一フッ素系樹脂組成物と同じである。
As a base material layer, a film (CH285J, Nan-ya Plastics Co., Ltd., thickness 50 μm) made of easily moldable polyethylene terephthalate resin was prepared.
Next, two types of fluororesin compositions (hereinafter referred to as a first fluororesin composition and a second fluororesin composition) were prepared to be applied to the film. The first fluororesin composition is for forming a mold side surface layer. The second fluororesin composition is for forming a surface layer on the molded body side.
The first fluororesin composition was composed of 100 parts by mass of a composition containing a hydroxyl group-containing tetrafluoroethylene polymer (Zeffle GK570, Daikin Industries, Ltd., of which 65% by mass was a hydroxyl group-containing tetrafluoroethylene polymer). ), 11.47 parts by mass of amorphous silicon dioxide (Silysia 380, Fuji Silysia Chemical Co., Ltd.), 10 parts by mass of isocyanurate type polyisocyanate (curing agent, Sumidur N3300, Sumitomo Bayer Urethane Co., Ltd.), adduct type polyisocyanate It was prepared by mixing and stirring 7.79 parts by mass (curing agent, Duranate AE700-100), 6.18 parts by mass of butyl acetate, 44.62 parts by mass of ethyl acetate, and 89.25 parts by mass of MEK. The average particle diameter (the volume average diameter) of the amorphous silicon dioxide is measured using a particle size analyzer (SALD-2200, Shimadzu Corporation) according to the laser diffraction particle size analysis method. , 8.8 μm.
The second fluororesin composition was prepared by adding 0.31 parts by mass of amino-modified methylpolysiloxane (release accelerator, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) to the first fluororesin composition and the amount of ethyl acetate. The composition was the same as the first fluororesin composition except that the amount of MEK was changed to 44.81 parts by mass and the amount of MEK was changed to 89.63 parts by mass.

前記フィルムの一方の面に、前記第一フッ素系樹脂組成物を塗布し、且つ、前記フィルムの他方の面に、前記第二フッ素系樹脂組成物を塗布した。これらの塗布は、キスリバース方式の塗布装置を用いて行われた。前記塗布後に、これらの組成物を150℃にて60秒間加熱することによって硬化して、汎用PET樹脂フィルムの両面にフッ素系樹脂層が積層された離型フィルム(以下、「離型フィルム3」という)を得た。 The first fluororesin composition was applied to one side of the film, and the second fluororesin composition was applied to the other side of the film. These coatings were performed using a kiss-reverse coating device. After the application, these compositions are cured by heating at 150° C. for 60 seconds to form a release film (hereinafter referred to as "Release Film 3") in which fluorine-based resin layers are laminated on both sides of a general-purpose PET resin film. ) was obtained.

離型フィルム3の厚みは70±5μmであった。離型フィルム3中の基材層の厚みは50μm±10%であった。離型フィルム3の2つの表面層のうち、金型側表面層の厚みは5.5±0.5μmであり、且つ、成形体側表面層の厚みは5.5±0.5μmであった。 The thickness of the release film 3 was 70±5 μm. The thickness of the base material layer in the release film 3 was 50 μm±10%. Of the two surface layers of the release film 3, the mold side surface layer had a thickness of 5.5±0.5 μm, and the molded body side surface layer had a thickness of 5.5±0.5 μm.

前記第一フッ素系樹脂組成物の硬化物(金型側表面層)は、前記水酸基含有四フッ化エチレン系重合体100質量部に対して、前記非晶質二酸化ケイ素を17.65質量部含み、前記イソシアヌレート型ポリイソシアネートを15.39質量部含み、且つ、前記アダクト型ポリイソシアネートを11.98質量部含んでいた。 The cured product (mold side surface layer) of the first fluororesin composition contains 17.65 parts by mass of the amorphous silicon dioxide based on 100 parts by mass of the hydroxyl group-containing tetrafluoroethylene polymer. , contained 15.39 parts by mass of the isocyanurate type polyisocyanate, and 11.98 parts by mass of the adduct type polyisocyanate.

前記第二フッ素系樹脂組成物の硬化物(成形体側表面層)は、前記水酸基含有四フッ化エチレン系重合体100質量部に対して、前記非晶質二酸化ケイ素を17.65質量部含み、前記イソシアヌレート型ポリイソシアネートを15.39質量部含み、前記アダクト型ポリイソシアネートを11.98質量部含み、且つ、アミノ変性メチルポリシロキサンを0.48質量部含んでいた。 The cured product of the second fluororesin composition (surface layer on the molded body side) contains 17.65 parts by mass of the amorphous silicon dioxide based on 100 parts by mass of the hydroxyl group-containing tetrafluoroethylene polymer, It contained 15.39 parts by mass of the isocyanurate-type polyisocyanate, 11.98 parts by mass of the adduct-type polyisocyanate, and 0.48 parts by mass of amino-modified methylpolysiloxane.

(1-2)離型フィルムの製造 (1-2) Production of release film

上記(1-1)において述べた第二フッ素系樹脂組成物の組成を、以下のとおりに変更したこと以外は上記(1-1)の離型フィルム3と同じ方法で、離型フィルム(以下、「離型フィルム4」という)を製造した。
すなわち、第二フッ素系樹脂組成物は、水酸基含有四フッ化エチレン系重合体含有組成物100質量部(ゼッフルGK570、ダイキン工業株式会社、このうち65質量%が水酸基含有四フッ化エチレン系重合体である)、非晶質二酸化ケイ素9.71質量部(サイシリア380、富士シリシア化学株式会社)、イソシアヌレート型ポリイソシアネート10質量部(硬化剤、スミジュールN3300、住友バイエルウレタン株式会社)、アダクト型ポリイソシアネート7.79質量部(硬化剤、デュラネートAE700-100)、酢酸ブチル5.23質量部、酢酸エチル44.03質量部、MEK88.07質量部、及びアミノ変性メチルポリシロキサン0.30質量部(離型促進剤、信越化学工業株式会社)を混合及び撹拌することにより調製された。
A release film (hereinafter referred to as , "Release Film 4") was manufactured.
That is, the second fluororesin composition contains 100 parts by mass of a composition containing a hydroxyl group-containing tetrafluoroethylene polymer (Zeffle GK570, Daikin Industries, Ltd., of which 65% by mass is a hydroxyl group-containing tetrafluoroethylene polymer). ), 9.71 parts by mass of amorphous silicon dioxide (Silysia 380, Fuji Silysia Chemical Co., Ltd.), 10 parts by mass of isocyanurate type polyisocyanate (curing agent, Sumidur N3300, Sumitomo Bayer Urethane Co., Ltd.), adduct type 7.79 parts by mass of polyisocyanate (curing agent, Duranate AE700-100), 5.23 parts by mass of butyl acetate, 44.03 parts by mass of ethyl acetate, 88.07 parts by mass of MEK, and 0.30 parts by mass of amino-modified methylpolysiloxane. (Mold release accelerator, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) was prepared by mixing and stirring.

離型フィルム4の厚みは60±5μmであった。離型フィルム4中の基材層の厚みは50μm±10%であった。離型フィルム4の2つの表面層のうち、金型側表面層の厚みは5.5±0.5μmであり、且つ、成形体側表面層の厚みは5.5±0.5μmであった。 The thickness of the release film 4 was 60±5 μm. The thickness of the base material layer in the release film 4 was 50 μm±10%. Of the two surface layers of the release film 4, the mold side surface layer had a thickness of 5.5±0.5 μm, and the molded body side surface layer had a thickness of 5.5±0.5 μm.

前記第一フッ素系樹脂組成物の硬化物(金型側表面層)は、前記水酸基含有四フッ化エチレン系重合体100質量部に対して、前記非晶質二酸化ケイ素を17.65質量部含み、前記イソシアヌレート型ポリイソシアネートを15.39質量部含み、且つ、前記アダクト型ポリイソシアネートを11.97質量部含んでいた。 The cured product (mold side surface layer) of the first fluororesin composition contains 17.65 parts by mass of the amorphous silicon dioxide based on 100 parts by mass of the hydroxyl group-containing tetrafluoroethylene polymer. , contained 15.39 parts by mass of the isocyanurate type polyisocyanate, and 11.97 parts by mass of the adduct type polyisocyanate.

前記第二フッ素系樹脂組成物の硬化物(成形体側表面層)は、前記水酸基含有四フッ化エチレン系重合体100質量部に対して、前記非晶質二酸化ケイ素を14.94質量部含み、前記イソシアヌレート型ポリイソシアネートを15.38質量部含み、前記アダクト型ポリイソシアネートを11.97質量部含み、且つ、アミノ変性メチルポリシロキサンを0.46質量部含んでいた。 The cured product of the second fluororesin composition (surface layer on the molded body side) contains 14.94 parts by mass of the amorphous silicon dioxide based on 100 parts by mass of the hydroxyl group-containing tetrafluoroethylene polymer, It contained 15.38 parts by mass of the isocyanurate-type polyisocyanate, 11.97 parts by mass of the adduct-type polyisocyanate, and 0.46 parts by mass of amino-modified methylpolysiloxane.

(1-3)離型フィルムの製造 (1-3) Production of release film

上記(1-1)において述べた第二フッ素系樹脂組成物の組成を、以下のとおりに変更したこと以外は上記(1-1)の離型フィルム3と同じ方法で、離型フィルム(以下、「離型フィルム5」という)を製造した。
すなわち、第二フッ素系樹脂組成物は、水酸基含有四フッ化エチレン系重合体含有組成物100質量部(ゼッフルGK570、ダイキン工業株式会社、このうち65質量%が水酸基含有四フッ化エチレン系樹脂である)、非晶質二酸化ケイ素3.42質量部(サイシリア380、富士シリシア化学株式会社)、イソシアヌレート型ポリイソシアネート10質量部(硬化剤、スミジュールN3300、住友バイエルウレタン株式会社)、アダクト型ポリイソシアネート7.79質量部(硬化剤、デュラネートAE700-100)、酢酸ブチル1.84質量部、酢酸エチル41.15質量部、MEK82.30質量部、及びアミノ変性メチルポリシロキサン0.11質量部(離型促進剤、信越化学工業株式会社)を混合及び撹拌することにより調製された。
A release film (hereinafter referred to as , referred to as "Release Film 5") was manufactured.
That is, the second fluororesin composition contains 100 parts by mass of a composition containing a hydroxyl group-containing tetrafluoroethylene polymer (Zeffle GK570, Daikin Industries, Ltd., of which 65% by mass is a hydroxyl group-containing tetrafluoroethylene polymer). ), 3.42 parts by mass of amorphous silicon dioxide (Sycilia 380, Fuji Silysia Chemical Co., Ltd.), 10 parts by mass of isocyanurate-type polyisocyanate (curing agent, Sumidur N3300, Sumitomo Bayer Urethane Co., Ltd.), adduct-type polyisocyanate 7.79 parts by mass of isocyanate (curing agent, Duranate AE700-100), 1.84 parts by mass of butyl acetate, 41.15 parts by mass of ethyl acetate, 82.30 parts by mass of MEK, and 0.11 parts by mass of amino-modified methylpolysiloxane ( A mold release accelerator (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) was mixed and stirred.

離型フィルム5の厚みは60±5μmであった。離型フィルム5中の基材層の厚みは50μm±10%であった。離型フィルム5の2つの表面層のうち、金型側表面層の厚みは5.5±0.5μmであり、且つ、成形体側表面層の厚みは3.5±0.5μmであった。 The thickness of the release film 5 was 60±5 μm. The thickness of the base material layer in the release film 5 was 50 μm±10%. Of the two surface layers of the release film 5, the mold side surface layer had a thickness of 5.5±0.5 μm, and the molded body side surface layer had a thickness of 3.5±0.5 μm.

前記第一フッ素系樹脂組成物の硬化物(金型側表面層)は、前記水酸基含有四フッ化エチレン系重合体100質量部に対して、前記非晶質二酸化ケイ素を17.65質量部含み、前記イソシアヌレート型ポリイソシアネートを15.39質量部含み、且つ、前記アダクト型ポリイソシアネートを11.98質量部含んでいた。 The cured product (mold side surface layer) of the first fluororesin composition contains 17.65 parts by mass of the amorphous silicon dioxide based on 100 parts by mass of the hydroxyl group-containing tetrafluoroethylene polymer. , contained 15.39 parts by mass of the isocyanurate type polyisocyanate, and 11.98 parts by mass of the adduct type polyisocyanate.

前記第二フッ素系樹脂組成物の硬化物(成形体側表面層)は、前記水酸基含有四フッ化エチレン系重合体100質量部に対して、前記非晶質二酸化ケイ素を5.26質量部含み、前記イソシアヌレート型ポリイソシアネートを15.39質量部含み、前記アダクト型ポリイソシアネートを11.98質量部含み、且つ、アミノ変性メチルポリシロキサンを0.16質量部含んでいた。 The cured product of the second fluororesin composition (surface layer on the molded body side) contains 5.26 parts by mass of the amorphous silicon dioxide based on 100 parts by mass of the hydroxyl group-containing tetrafluoroethylene polymer, It contained 15.39 parts by mass of the isocyanurate-type polyisocyanate, 11.98 parts by mass of the adduct-type polyisocyanate, and 0.16 parts by mass of amino-modified methylpolysiloxane.

(2)金型の製造 (2) Manufacture of molds

上側金型及び下側金型の組合せからなるコンプレッションモールド用金型(以下、「金型5」という)を製造した。当該金型を構成する前記下側金型の表面に凹凸が形成されていた。前記凹凸は、図3(A)の下型金型23の表面26に対応する位置に設けられた。前記凹凸は放電加工により形成された。前記凹凸が形成されている領域の表面粗さRaは、JIS B0601に従い測定されたときに、1.0μmであった。 A compression mold (hereinafter referred to as "mold 5") consisting of a combination of an upper mold and a lower mold was manufactured. Irregularities were formed on the surface of the lower mold that constitutes the mold. The unevenness was provided at a position corresponding to the surface 26 of the lower mold 23 in FIG. 3(A). The unevenness was formed by electrical discharge machining. The surface roughness Ra of the region where the unevenness was formed was 1.0 μm when measured according to JIS B0601.

金型5の主な材質はSUS440Cであった。また、金型5は、HRC55以上の硬度を有し、且つ、その表面は硬質クロームメッキされていた。 The main material of the mold 5 was SUS440C. Furthermore, the mold 5 had a hardness of HRC55 or higher, and its surface was plated with hard chrome.

(3)成形体の製造 (3) Manufacture of molded bodies

離型フィルム3~5のいずれか一つと金型5とを用いて、熱硬化性樹脂(エポキシ樹脂、GE100、日立化成株式会社)を成形した。当該成形において前記熱硬化性樹脂を硬化させるために採用された成形温度は175℃であった。当該成形により得られた成形体それぞれの表面に、レーザマーカ(MD-S9910型3次元YVOレーザマーカ、株式会社キーエンス)により印字を施した。印字条件は以下のとおりであった:
文字高さ:1mm
Power:3.6W
スイッチ周波数:40KHz
スキャンスピード:700mm/s
A thermosetting resin (epoxy resin, GE100, Hitachi Chemical Co., Ltd.) was molded using any one of release films 3 to 5 and mold 5. In the molding, the molding temperature employed to cure the thermosetting resin was 175°C. Printing was performed on the surface of each of the molded bodies obtained by the molding using a laser marker (MD-S9910 type three-dimensional YVO 4 laser marker, Keyence Corporation). The printing conditions were as follows:
Character height: 1mm
Power: 3.6W
Switch frequency: 40KHz
Scan speed: 700mm/s

各成形体表面の印字を、3Dマイクロスコープ(VR-3200型3Dマイクロスコープ、株式会社キーエンス)及び目視により観察した。 The printing on the surface of each molded body was observed visually using a 3D microscope (VR-3200 model 3D microscope, Keyence Corporation).

3Dマイクロスコープによる観察結果を、図5に示す。図5に示されるとおり、離型フィルム3を用いて得られた成形体よりも、離型フィルム4を用いて得られた成形体ほうが、文字の視認性が良好であり、さらに、離型フィルム4を用いて得られた成形体よりも、離型フィルム5を用いて得られた成形体ほうが、文字の視認性が良かった。目視の場合においても、同様の観察結果が得られた。これらの結果により、同じ表面凹凸を有する金型を用いた場合であっても、離型フィルムの成形体側表面層の形状が異なる離型フィルムを用いることによって、成形体の表面状態を調整することができることが分かる。 The results of observation using a 3D microscope are shown in FIG. As shown in FIG. 5, the molded product obtained using the release film 4 has better character visibility than the molded product obtained using the release film 3. The molded product obtained using release film 5 had better visibility of characters than the molded product obtained using molded product 4. Similar observation results were obtained in the case of visual observation. Based on these results, even when using molds with the same surface unevenness, it is possible to adjust the surface condition of the molded object by using a release film with a different shape of the surface layer on the molded object side of the mold release film. It turns out that you can do it.

また、以上の結果より、成形体側表面層の粒子含有量を、フッ素系樹脂100質量部に対して、好ましくは16質量部以下、より好ましくは10質量部以下とすることによって、レーザマーカにより印字された文字又は模様の視認性を高めることができると考えられる。 In addition, from the above results, by setting the particle content of the surface layer on the molded body side to preferably 16 parts by mass or less, more preferably 10 parts by mass or less, based on 100 parts by mass of the fluororesin, it is possible to print with a laser marker. It is thought that the visibility of written characters or patterns can be improved.

なお、本発明は以下の構成を採用することもできる。
[1]
熱硬化性樹脂の硬化のために用いられる金型と、前記硬化において前記熱硬化性樹脂と前記金型との間に配置される離型フィルムとの組合せであって、
前記離型フィルムは、
熱可塑性樹脂から形成されている基材層と、
前記基材層の2つの面のうち前記硬化において熱硬化性樹脂側に配置される面に積層されている、粒子を含むフッ素系樹脂から形成されている表面層と、
を含み、且つ、
前記金型は、前記硬化において前記離型フィルムと接触する面に、凹凸が形成されている、
前記組合せ。
[2]
前記粒子の平均粒径が、レーザー回折式粒度分析測定法に従い測定されたときに、1μm~10μmである、[1]に記載の組合せ。
[3]
前記金型の、前記硬化において前記離型フィルムと接触する面の表面粗さRaが、1μm~4μmである、[1]又は[2]に記載の組合せ。
[4]
前記表面層の前記フッ素系樹脂が、四フッ化エチレン系樹脂を含む、請求項[1]~[3]のいずれか一つに記載の組合せ。
[5]
前記表面層の前記フッ素系樹脂が、イソシアネート系硬化剤をさらに含む、[1]~[4]のいずれか一つに記載の組合せ。
[6]
前記粒子が、二酸化ケイ素である、[1]~[5]のいずれか一つに記載の組合せ。
[7]
前記基材層の前記熱可塑性樹脂が、ポリエチレンテレフタレート樹脂である、[1]~[6]のいずれか一つに記載の組合せ。
[8]
前記熱硬化性樹脂が、エポキシ樹脂である、[1]~[7]のいずれか一つに記載の組合せ。
[9]
前記熱硬化性樹脂の硬化物の表面に、凹凸を形成するために用いられる、[1]~[8]のいずれか一つに記載の組合せ。
[10]
前記熱硬化性樹脂の硬化物の表面に形成される凹凸が、前記金型の凹凸と異なる、[9]に記載の組合せ。
[11]
前記組合せが、トランスファーモールド成形又はコンプレッションモールド成形のために用いられる、[1]~[10]のいずれか一つに記載の組合せ。
[12]
熱硬化性樹脂の硬化のために、金型と組み合わせて用いられる離型フィルムであって、
前記離型フィルムは、
熱可塑性樹脂から形成されている基材層と、
前記基材層の2つの面のうち前記硬化において熱硬化性樹脂側に配置される面に積層されている、粒子を含むフッ素系樹脂から形成されている表面層と、
を含み、
前記金型は、前記硬化において前記離型フィルムと接触する面に凹凸が形成されている、
前記離型フィルム。
[13]
熱硬化性樹脂の硬化のために、離型フィルムと組み合わせて用いられる金型であって、
前記金型は、前記硬化において前記離型フィルムと接触する面に凹凸が形成されており、且つ、
前記離型フィルムは、
熱可塑性樹脂から形成されている基材層と、
前記基材層の2つの面のうち前記硬化において熱硬化性樹脂側に配置される面に積層されている、粒子を含むフッ素系樹脂から形成されている表面層と、
を含む、前記金型。
[14]
熱硬化性樹脂を硬化させるために用いられる金型内に、離型フィルムを配置する配置工程と、
前記配置工程後に、前記熱硬化性樹脂を前記金型内で、前記離型フィルムに接触した状態で硬化させる硬化工程と、
前記硬化工程後に、前記金型から、硬化した前記熱硬化性樹脂を離型して成形体を得る離型工程と
を含み、
前記離型フィルムは、
熱可塑性樹脂から形成されている基材層と、
前記基材層の2つの面のうち前記硬化において熱硬化性樹脂側に配置される面に積層されている、粒子を含むフッ素系樹脂から形成されている表面層と、
を含み、
前記金型は、前記硬化において前記離型フィルムと接触する面に凹凸が形成されている、
成形体の製造方法。
Note that the present invention can also adopt the following configuration.
[1]
A combination of a mold used for curing a thermosetting resin and a release film disposed between the thermosetting resin and the mold during the curing,
The release film is
a base material layer formed from a thermoplastic resin;
A surface layer formed from a fluororesin containing particles, which is laminated on one of the two surfaces of the base layer that will be placed on the thermosetting resin side during curing;
including, and
The mold has irregularities formed on a surface that contacts the release film during the curing.
The above combination.
[2]
The combination according to [1], wherein the average particle diameter of the particles is 1 μm to 10 μm when measured according to a laser diffraction particle size analysis method.
[3]
The combination according to [1] or [2], wherein the surface of the mold that comes into contact with the release film during the curing has a surface roughness Ra of 1 μm to 4 μm.
[4]
The combination according to any one of claims [1] to [3], wherein the fluororesin of the surface layer includes a tetrafluoroethylene resin.
[5]
The combination according to any one of [1] to [4], wherein the fluororesin of the surface layer further contains an isocyanate curing agent.
[6]
The combination according to any one of [1] to [5], wherein the particles are silicon dioxide.
[7]
The combination according to any one of [1] to [6], wherein the thermoplastic resin of the base layer is a polyethylene terephthalate resin.
[8]
The combination according to any one of [1] to [7], wherein the thermosetting resin is an epoxy resin.
[9]
The combination according to any one of [1] to [8], which is used to form irregularities on the surface of the cured product of the thermosetting resin.
[10]
The combination according to [9], wherein the unevenness formed on the surface of the cured product of the thermosetting resin is different from the unevenness of the mold.
[11]
The combination according to any one of [1] to [10], wherein the combination is used for transfer molding or compression molding.
[12]
A release film used in combination with a mold for curing a thermosetting resin,
The release film is
a base material layer formed from a thermoplastic resin;
A surface layer formed from a fluororesin containing particles, which is laminated on one of the two surfaces of the base layer that will be placed on the thermosetting resin side during curing;
including;
The mold has irregularities formed on a surface that contacts the release film during the curing.
The release film.
[13]
A mold used in combination with a release film for curing a thermosetting resin,
The mold has irregularities formed on a surface that contacts the release film during the curing, and
The release film is
a base material layer formed from a thermoplastic resin;
A surface layer formed from a fluororesin containing particles, which is laminated on one of the two surfaces of the base layer that will be placed on the thermosetting resin side during curing;
The mold.
[14]
a step of arranging a release film in a mold used for curing the thermosetting resin;
After the placement step, a curing step of curing the thermosetting resin in the mold while in contact with the release film;
After the curing step, the cured thermosetting resin is released from the mold to obtain a molded object, and
The release film is
a base material layer formed from a thermoplastic resin;
A surface layer formed from a fluororesin containing particles, which is laminated on one of the two surfaces of the base layer that will be placed on the thermosetting resin side during curing;
including;
The mold has irregularities formed on a surface that contacts the release film during the curing.
Method for manufacturing a molded object.

11 離型フィルム
12 上側金型
13 下側金型
11 Release film 12 Upper mold 13 Lower mold

Claims (9)

熱硬化性樹脂の硬化のために、離型フィルムと組み合わせて用いられる金型であって、
前記金型は、前記硬化において前記離型フィルムと接触する面に凹凸が形成されており、
前記金型の前記面の表面粗さRaが1μm~4μmであり
記硬化において、前記凹凸が、前記離型フィルムを介して、前記熱硬化性樹脂の表面に反映され、且つ、
前記熱硬化性樹脂の硬化によって得られる成形体に、入射角60°での光沢度が3~50である表面を形成するために用いられる、
前記金型。
A mold used in combination with a release film for curing a thermosetting resin,
The mold has unevenness formed on a surface that contacts the release film during the curing,
The surface roughness Ra of the surface of the mold is 1 μm to 4 μm ,
In the curing, the unevenness is reflected on the surface of the thermosetting resin via the release film, and
Used to form a surface having a glossiness of 3 to 50 at an incident angle of 60° on the molded body obtained by curing the thermosetting resin,
The mold.
前記表面はエポキシ樹脂表面である、請求項1に記載の金型。 The mold according to claim 1, wherein the surface is an epoxy resin surface. 前記金型の金型硬度が50HRC以上である、請求項1又は2に記載の金型。 The mold according to claim 1 or 2, wherein the mold has a mold hardness of 50HRC or more. 前記成形体は、その表面に、レーザマーカによる印字が行われるものである、請求項1~3のいずれか一項に記載の金型。 The mold according to any one of claims 1 to 3, wherein the molded body has a surface printed with a laser marker. 前記印字の文字高さは0.1mm~10mmである、請求項4に記載の金型。 The mold according to claim 4, wherein the character height of the printed character is 0.1 mm to 10 mm. 前記金型と組み合わせて用いられる前記離型フィルムが、
熱可塑性樹脂から形成されている基材層と、
前記基材層の2つの面のうち前記硬化において熱硬化性樹脂側に配置される面に積層されている、粒子を含むフッ素系樹脂から形成されている表面層と、を含む、
請求項1~5のいずれか一項に記載の金型。
The release film used in combination with the mold,
a base material layer formed from a thermoplastic resin;
a surface layer formed from a fluororesin containing particles and laminated on the surface of the base material layer that is disposed on the thermosetting resin side during curing;
The mold according to any one of claims 1 to 5.
前記硬化において、前記粒子に起因する前記離型フィルムの表面形状が、前記熱硬化性樹脂の表面に直接的に反映される、請求項に記載の金型。 The mold according to claim 6 , wherein in the curing, the surface shape of the release film caused by the particles is directly reflected on the surface of the thermosetting resin. 熱硬化性樹脂を硬化させるために用いられる金型内に、離型フィルムを配置する配置工程と、
前記配置工程後に、前記熱硬化性樹脂を前記金型内で、前記離型フィルムに接触した状態で硬化させる硬化工程と、
前記硬化工程後に、前記金型から、硬化した前記熱硬化性樹脂を離型して成形体を得る離型工程と
を含み、
前記金型は、前記硬化において前記離型フィルムと接触する面に凹凸が形成されており、
前記金型の前記面の表面粗さRaが1μm~4μmであり、
前記凹凸が、放電加工又はショットブラストによって形成された凹凸であり、
前記硬化工程において、前記凹凸が、前記離型フィルムを介して、前記熱硬化性樹脂の表面に反映され、且つ
前記熱硬化性樹脂の硬化によって得られる成形体に、入射角60°での光沢度が3~50である表面が形成される、
成形体の製造方法。
a step of arranging a release film in a mold used for curing the thermosetting resin;
After the placement step, a curing step of curing the thermosetting resin in the mold while in contact with the release film;
After the curing step, the cured thermosetting resin is released from the mold to obtain a molded object, and
The mold has unevenness formed on a surface that contacts the release film during the curing,
The surface roughness Ra of the surface of the mold is 1 μm to 4 μm,
The unevenness is an unevenness formed by electrical discharge machining or shot blasting,
In the curing step, the unevenness is reflected on the surface of the thermosetting resin via the release film, and the molded article obtained by curing the thermosetting resin has a gloss at an incident angle of 60°. A surface with a degree of 3 to 50 is formed.
Method for manufacturing a molded object.
熱硬化性樹脂の硬化のために用いられる、金型と離型フィルムとの組合せであって、
前記金型は、前記硬化において前記離型フィルムと接触する面に凹凸が形成されており、
前記金型の前記面の表面粗さRaが1μm~4μmであり
記硬化において、前記凹凸が、前記離型フィルムを介して、前記熱硬化性樹脂の表面に反映され、且つ、
前記熱硬化性樹脂の硬化によって得られる成形体に、入射角60°での光沢度が3~50である表面を形成するために用いられる、
前記組合せ。

A combination of a mold and a release film used for curing a thermosetting resin,
The mold has unevenness formed on a surface that contacts the release film during the curing,
The surface roughness Ra of the surface of the mold is 1 μm to 4 μm ,
In the curing, the unevenness is reflected on the surface of the thermosetting resin via the release film, and
Used to form a surface having a glossiness of 3 to 50 at an incident angle of 60° on the molded body obtained by curing the thermosetting resin,
The above combination.

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