JP2020152101A - Combination of mold and release film, release film, mold, and method for manufacturing molding - Google Patents

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Abstract

To provide a technique for adjusting a surface state of a molding.SOLUTION: There is provided a combination of molds used for curing a thermosetting resin, and a release film arranged between the thermosetting resin and the mold in the curing. The release film includes a base material layer formed of a thermoplastic resin, and a surface layer which is layered on a surface arranged on the side of the thermosetting resin in the curing in two surfaces of the base material layer and is formed of a fluorine resin containing particles. The mold has unevenness formed on a surface in contact with the release film in the curing.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、金型と離型フィルムとの組合せ、離型フィルム、金型、及び成形体の製造方法に関し、より詳しくはトランスファーモールド成形又はコンプレッションモールド成形のために用いられる金型と離型フィルムとの組合せ、当該組合せを構成する離型フィルム及び金型、並びに、当該組合せを用いた成形体の製造方法に関する。 The present invention relates to a combination of a mold and a mold release film, a mold release film, a mold, and a method for manufacturing a molded product. More specifically, the mold and the mold release film used for transfer molding or compression molding. The present invention relates to a combination with the above, a release film and a mold constituting the combination, and a method for producing a molded product using the combination.

半導体を樹脂により封止するために、例えばトランスファーモールド成形法及びコンプレッションモールド成形法などの成形手法が用いられる。前記成形手法において、樹脂が金型内で硬化した後に、金型から成形体を容易にはずすためにしばしば離型フィルムが用いられる。これまで、離型フィルム及び金型について種々の提案がされている。 In order to seal the semiconductor with a resin, molding methods such as a transfer molding method and a compression molding method are used. In the molding technique, a mold release film is often used to easily remove the molded body from the mold after the resin has hardened in the mold. So far, various proposals have been made for release films and molds.

例えば、下記特許文献1には、官能基Xを含有するフッ素樹脂(A)と離型成分(B)とを含む組成物から形成された塗膜と、非フッ素化ポリマーから形成された層とを含むことを特徴とする離型フィルムが開示されている。
また、下記特許文献2には、対向する第1、第2の金型で半導体チップが搭載された被成形品をクランプし、前記金型内に充填した樹脂を用いて前記被成形品を封止する樹脂封止金型であって、 前記第1、第2の金型の少なくとも一方には、前記金型内に充填される前記樹脂の前記金型の対向方向の厚みよりも前記金型の表面に近い位置に、第1のヒータが配置されていることを特徴とする樹脂封止金型が開示されている。
For example, Patent Document 1 below describes a coating film formed from a composition containing a fluororesin (A) containing a functional group X and a release component (B), and a layer formed from a non-fluorinated polymer. A release film comprising the above is disclosed.
Further, in Patent Document 2 below, the product to be molded on which the semiconductor chip is mounted is clamped by the first and second dies facing each other, and the product to be molded is sealed by using the resin filled in the mold. A resin-sealing mold for stopping, in which at least one of the first and second molds is filled with the resin in the mold rather than the thickness of the resin in the opposite direction. A resin-sealed mold is disclosed, wherein the first heater is arranged at a position close to the surface of the resin.

特開2015−74201号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2015-742201 特開2012−256925号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2012-256925

成形体の表面を調整することが求められることがある。例えば、前記成形体の表面にはレーザマーカによって印字されることがあり、当該印字の視認性又は読み取り装置による可読性を高めるような表面を形成することが求められることがある。 It may be required to adjust the surface of the part. For example, the surface of the molded product may be printed by a laser marker, and it may be required to form a surface that enhances the visibility of the printing or the readability by a reading device.

本発明は、前記成形体の表面を調整するための新たな技法を提供することを目的とする。 An object of the present invention is to provide a new technique for adjusting the surface of the molded product.

本発明者らは、特定の金型、製造方法、離型フィルム、並びに、金型及び離型フィルムの組合せが、前記成形体の表面調整に適していることを見出した。 The present inventors have found that a specific mold, a manufacturing method, a mold release film, and a combination of a mold and a mold release film are suitable for surface adjustment of the molded product.

すなわち、本発明は、
熱硬化性樹脂の硬化のために、離型フィルムと組み合わせて用いられる金型であって、
前記金型は、前記硬化において前記離型フィルムと接触する面に凹凸が形成されており、且つ、
前記硬化において、前記凹凸が、前記離型フィルムを介して、前記熱硬化性樹脂の表面に反映される、
前記金型を提供する。
前記金型の前記面の表面粗さRaが1μm〜4μmでありうる。
前記金型の金型硬度が50HRC以上でありうる。
前記凹凸が、放電加工又はショットブラストによって形成された凹凸でありうる。
前記金型は、前記熱硬化性樹脂の硬化によって得られる成形体に、入射角60°での光沢度が3〜50である表面を形成するために用いられうる。
前記金型と組み合わせて用いられる前記離型フィルムが、
熱可塑性樹脂から形成されている基材層と、
前記基材層の2つの面のうち前記硬化において熱硬化性樹脂側に配置される面に積層されている、粒子を含むフッ素系樹脂から形成されている表面層と、を含みうる。
前記硬化において、前記粒子に起因する前記離型フィルムの表面形状が、前記熱硬化性樹脂の表面に直接的に反映されうる。
That is, the present invention
A mold used in combination with a release film for curing thermosetting resins.
The mold has irregularities formed on the surface that comes into contact with the release film during the curing, and the mold has irregularities.
In the curing, the unevenness is reflected on the surface of the thermosetting resin via the release film.
The mold is provided.
The surface roughness Ra of the surface of the mold can be 1 μm to 4 μm.
The mold hardness of the mold can be 50 HRC or more.
The unevenness may be an unevenness formed by electric discharge machining or shot blasting.
The mold can be used to form a surface having a glossiness of 3 to 50 at an incident angle of 60 ° on a molded product obtained by curing the thermosetting resin.
The release film used in combination with the mold
A substrate layer formed of a thermoplastic resin and
It may include a surface layer formed of a fluorine-based resin containing particles, which is laminated on the surface arranged on the thermosetting resin side in the curing of the two surfaces of the base material layer.
In the curing, the surface shape of the release film caused by the particles can be directly reflected on the surface of the thermosetting resin.

また、本発明は、
熱硬化性樹脂を硬化させるために用いられる金型内に、離型フィルムを配置する配置工程と、
前記配置工程後に、前記熱硬化性樹脂を前記金型内で、前記離型フィルムに接触した状態で硬化させる硬化工程と、
前記硬化工程後に、前記金型から、硬化した前記熱硬化性樹脂を離型して成形体を得る離型工程と
を含み、
前記金型は、前記硬化において前記離型フィルムと接触する面に凹凸が形成されており、且つ、
前記硬化工程において、前記凹凸が、前記離型フィルムを介して、前記熱硬化性樹脂の表面に反映される、
成形体の製造方法も提供する。
In addition, the present invention
An arrangement process for arranging the release film in the mold used to cure the thermosetting resin, and
After the placement step, a curing step of curing the thermosetting resin in the mold in contact with the release film,
After the curing step, the present invention includes a mold release step of releasing the cured thermosetting resin from the mold to obtain a molded product.
The mold has irregularities formed on the surface that comes into contact with the release film during the curing, and the mold has irregularities.
In the curing step, the unevenness is reflected on the surface of the thermosetting resin via the release film.
A method for producing a molded product is also provided.

また、本発明は、
熱硬化性樹脂の硬化のために、金型と組み合わせて用いられる離型フィルムであって、
前記金型は、前記硬化において前記離型フィルムと接触する面に凹凸が形成されており、且つ、
前記硬化において、前記凹凸を、前記離型フィルムを介して、前記熱硬化性樹脂の表面に反映するために用いられる、
前記離型フィルムも提供する。
前記離型フィルムの引張破断強度は、JIS K7127に従い175℃で測定された場合に、40MPa〜200MPaであり、且つ、前記離型フィルムの引張破断伸びが、JIS K7127に従い175℃で測定された場合に、200%〜500%でありうる。
前記離型フィルムの厚みが30μm〜100μmでありうる。
In addition, the present invention
A mold release film used in combination with a mold for curing thermosetting resins.
The mold has irregularities formed on the surface that comes into contact with the release film during the curing, and the mold has irregularities.
In the curing, the unevenness is used to reflect the unevenness on the surface of the thermosetting resin via the release film.
The release film is also provided.
The tensile breaking strength of the release film is 40 MPa to 200 MPa when measured at 175 ° C. according to JIS K7127, and the tensile breaking elongation of the release film is measured at 175 ° C. according to JIS K7127. In addition, it can be 200% to 500%.
The thickness of the release film can be 30 μm to 100 μm.

また、本発明は、
熱硬化性樹脂の硬化のために用いられる、金型と離型フィルムとの組合せであって、
前記金型は、前記硬化において前記離型フィルムと接触する面に凹凸が形成されており、且つ、
前記硬化において、前記凹凸が、前記離型フィルムを介して、前記熱硬化性樹脂の表面に反映される、
前記組合せも提供する。
In addition, the present invention
A combination of a mold and a mold release film used for curing thermosetting resins.
The mold has irregularities formed on the surface that comes into contact with the release film during the curing, and the mold has irregularities.
In the curing, the unevenness is reflected on the surface of the thermosetting resin via the release film.
The combination is also provided.

本発明により、成形体の表面調整が可能となる。例えば、本発明により、レーザマーカによる印字の視認性及び可読性を高めることができる。
なお、本発明の効果は、ここに記載された効果に必ずしも限定されるものではなく、本明細書中に記載されたいずれかの効果であってもよい。
According to the present invention, the surface of the molded product can be adjusted. For example, according to the present invention, the visibility and readability of printing by a laser marker can be improved.
The effect of the present invention is not necessarily limited to the effects described here, and may be any of the effects described in the present specification.

トランスファーモールド成形における本発明の組合せの使用方法の一例を説明するための図である。It is a figure for demonstrating an example of the method of using the combination of this invention in transfer molding. 本発明の組合せを構成する離型フィルムの積層構造の一例の模式図である。It is a schematic diagram of an example of the laminated structure of the release film which constitutes the combination of this invention. コンプレッションモールド成形における本発明の組合せの使用方法の一例を説明するための図である。It is a figure for demonstrating an example of the use method of the combination of this invention in compression molding. 成形体側表面層の形成を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the formation of the surface layer on the molded body side. レーザマーカによる観察結果を示す図である。It is a figure which shows the observation result by a laser marker.

以下、本発明を実施するための形態について詳細に説明する。なお、以下に説明する実施形態は本発明の代表的な実施形態の一例を示したものであり、本発明はこれらの実施形態のみに限定されるものでない。 Hereinafter, embodiments for carrying out the present invention will be described in detail. It should be noted that the embodiments described below show an example of typical embodiments of the present invention, and the present invention is not limited to these embodiments.

1.金型と離型フィルムとの組合せ 1. 1. Combination of mold and release film

本発明は、熱硬化性樹脂の硬化のために用いられる金型と前記硬化において前記熱硬化性樹脂と前記金型との間に配置される離型フィルムとの組合せを提供する。前記離型フィルムは、熱可塑性樹脂から形成されている基材層と、前記基材層の2つの面のうち前記硬化において熱硬化性樹脂側に配置される面に積層されている表面層とを含み、当該表面層は、粒子を含むフッ素系樹脂から形成されている。前記金型は、前記硬化において前記離型フィルムと接触する面に、凹凸が形成されている。 The present invention provides a combination of a mold used for curing a thermosetting resin and a release film arranged between the thermosetting resin and the mold in the curing. The release film includes a base material layer formed of a thermoplastic resin and a surface layer laminated on one of the two surfaces of the base material layer, which is arranged on the thermosetting resin side in the curing. The surface layer is formed of a fluororesin containing particles. The mold has irregularities formed on the surface that comes into contact with the release film during the curing.

前記組合せを例えばトランスファーモールド成形法及びコンプレッションモールド成形法などの成形手法において用いることで、成形体の表面状態を調整することができ、例えば、成形体表面に所望の光沢度を付与することができる。例えば、本発明に従う組合せは、入射角60°での光沢度が3〜50である表面を有する成形体を製造するために用いられてよい。例えば、本発明に従う組合せは、入射角60°での光沢度が3〜15、好ましくは3〜10、より好ましくは4〜8、さらにより好ましくは4〜6である表面(特にはエポキシ樹脂表面)を有する成形体を製造するために用いられてよい。
また、上記組合せを用いることで、例えば成形体表面に施された印字又は模様の視認性又は可読性を高めることができる。例えば、本発明に従う組合せは、レーザマーカによる印字が行われる表面(特にはエポキシ樹脂表面)を有する成形体を製造する為に用いられてよい。前記印字の文字高さは例えば0.1mm〜10mm、好ましくは0.2mm〜5mmでありうる。前記印字の文字高さは特には0.5mm〜3mmであってもよい。本発明の組合せを用いることによって、製造された成形体の表面上のこのような小さい文字の視認性又は可読性を高めることができる。
By using the combination in a molding method such as a transfer molding method and a compression molding method, the surface state of the molded body can be adjusted, and for example, a desired glossiness can be imparted to the surface of the molded body. .. For example, the combination according to the present invention may be used to produce a molded product having a surface having a glossiness of 3 to 50 at an incident angle of 60 °. For example, a combination according to the present invention has a surface (particularly an epoxy resin surface) having a glossiness of 3 to 15, preferably 3 to 10, more preferably 4 to 8, and even more preferably 4 to 6 at an incident angle of 60 °. ) May be used to produce a molded article.
Further, by using the above combination, for example, the visibility or readability of the print or pattern applied to the surface of the molded product can be enhanced. For example, the combination according to the present invention may be used to produce a molded product having a surface (particularly an epoxy resin surface) on which printing by a laser marker is performed. The character height of the print may be, for example, 0.1 mm to 10 mm, preferably 0.2 mm to 5 mm. The character height of the print may be particularly 0.5 mm to 3 mm. By using the combination of the present invention, the visibility or readability of such small characters on the surface of the manufactured molded product can be enhanced.

前記離型フィルムは、前記金型の表面の凹凸を成形体表面に反映させるために適しており、且つ、優れた離型性を発揮する。特には表面層に含まれる粒子及びフッ素系樹脂の組合せが、優れた離型性を発揮するために貢献し、且つ、成形体の表面状態の調整に貢献している。 The mold release film is suitable for reflecting the unevenness of the surface of the mold on the surface of the molded product, and exhibits excellent mold releasability. In particular, the combination of the particles contained in the surface layer and the fluorine-based resin contributes to exhibiting excellent mold releasability and also contributes to the adjustment of the surface state of the molded product.

以下で、まず前記組合せの使用方法の例を説明し、次に、前記組合せの構成要素である離型フィルム及び金型についてより詳細に説明する。 Hereinafter, an example of how to use the combination will be described first, and then the release film and the mold, which are the components of the combination, will be described in more detail.

1−1.本発明の組合せの使用方法 1-1. How to use the combination of the present invention

本発明の組合せは、例えば熱硬化性樹脂の種々の成形方法において用いられてよい。好ましくは、本発明の組合せは、前記熱硬化性樹脂の硬化物の表面に、凹凸を形成するために用いられうる。
例えば、当該成形手法は、例えばトランスファーモールド成形又はコンプレッションモールド成形であり、本発明の組合せはこれら成形方法において使用するために特に適している。特には、本発明の組合せは、これら成形方法において得られる成形体の表面状態を調整するために、好ましくはこれら成形体の表面に凹凸を形成するために用いられうる。
以下で、これら成形方法における本発明の組合せの使用方法の例を説明する。
The combination of the present invention may be used, for example, in various molding methods for thermosetting resins. Preferably, the combination of the present invention can be used to form irregularities on the surface of the cured product of the thermosetting resin.
For example, the molding method is, for example, transfer molding or compression molding, and the combinations of the present invention are particularly suitable for use in these molding methods. In particular, the combination of the present invention can be used to adjust the surface condition of the molded products obtained by these molding methods, preferably to form irregularities on the surface of these molded products.
An example of how to use the combination of the present invention in these molding methods will be described below.

(1)トランスファーモールド成形 (1) Transfer molding

図1は、トランスファーモールド成形における本発明の組合せの使用方法の一例を説明するための図である。図1(A)に示されるとおり、本発明の組合せを構成する離型フィルム11が、本発明の組合せを構成する上側金型12及び基板14を載せられた下側金型13との間に配置される。基板14上には例えば半導体素子17が搭載されていてよい。上側金型12及び下側金型13は、熱硬化性樹脂15の成形を行うために用いられる。当該成形によって、半導体素子17が、熱硬化性樹脂15の硬化物によって封止される。なお、図1において、1つの半導体素子17が示されているが、1回の成形において封止される半導体素子17の数は1つに限られず、好ましくは複数である。
離型フィルム11は、例えば図2に示される積層構造を有する。離型フィルム11は、基材層101と、基材層101の一方の面に表面層102が積層されており、他方の面に表面層103が積層されている。なお、離型フィルム11の詳細は、以下「1−2.離型フィルム」において説明する。
表面層102は、基材層101の2つの面のうち、前記トランスファーモールド成形において熱硬化性樹脂側に配置される面に積層されている。すなわち、表面層102は、前記トランスファーモールド成形において熱硬化性樹脂15に接触する。表面層102は、粒子を含むフッ素系樹脂から形成されている。
表面層103は、基材層101の2つの面のうち、前記トランスファーモールド成形において上側金型12側に配置される面に積層されている。すなわち、表面層103は、前記前記トランスファーモールド成形において上側金型12に接触する。
上側金型12の表面16に、凹凸が形成されている。すなわち、表面16は、前記トランスファーモールド成形において、離型フィルム11(特にはその表面層103)に接触する。
FIG. 1 is a diagram for explaining an example of how to use the combination of the present invention in transfer molding. As shown in FIG. 1A, the release film 11 constituting the combination of the present invention is placed between the upper mold 12 constituting the combination of the present invention and the lower mold 13 on which the substrate 14 is placed. Be placed. For example, a semiconductor element 17 may be mounted on the substrate 14. The upper mold 12 and the lower mold 13 are used for molding the thermosetting resin 15. By the molding, the semiconductor element 17 is sealed with the cured product of the thermosetting resin 15. Although one semiconductor element 17 is shown in FIG. 1, the number of semiconductor elements 17 sealed in one molding is not limited to one, and is preferably a plurality.
The release film 11 has, for example, the laminated structure shown in FIG. In the release film 11, the base material layer 101 and the surface layer 102 are laminated on one surface of the base material layer 101, and the surface layer 103 is laminated on the other surface. The details of the release film 11 will be described below in "1-2. Release film".
The surface layer 102 is laminated on the surface of the base material layer 101 that is arranged on the thermosetting resin side in the transfer molding. That is, the surface layer 102 comes into contact with the thermosetting resin 15 in the transfer molding. The surface layer 102 is formed of a fluorine-based resin containing particles.
The surface layer 103 is laminated on the surface of the two surfaces of the base material layer 101 that is arranged on the upper mold 12 side in the transfer molding. That is, the surface layer 103 contacts the upper mold 12 in the transfer molding.
Unevenness is formed on the surface 16 of the upper mold 12. That is, the surface 16 comes into contact with the release film 11 (particularly its surface layer 103) in the transfer molding.

次に、図1(B)に示されるとおり、離型フィルム11(特にはその表面層103)が上側金型12の表面16に張り付いた状態で、上側金型12を基板14及び下側金型13に接触させる。 Next, as shown in FIG. 1 (B), the upper mold 12 is attached to the substrate 14 and the lower side in a state where the release film 11 (particularly the surface layer 103 thereof) is attached to the surface 16 of the upper mold 12. It is brought into contact with the mold 13.

次に、図1(C)に示されるとおり、熱硬化性樹脂15が、上側金型12(特には離型フィルム11)と基板14との間に導入され、その後、熱硬化性樹脂15が加熱によって硬化される。
当該硬化において、上側金型12の表面16に形成された凹凸形状が、離型フィルム11を介して熱硬化性樹脂15の表面に反映され、且つ、離型フィルム11の表面形状(特には表面層102中に含まれる粒子に起因する表面形状)が、熱硬化性樹脂15の表面に反映される。すなわち、上側金型12の表面16に形成された凹凸形状が、熱硬化性樹脂15の表面に間接的に反映され、且つ、離型フィルム11の表面形状(特には表面層102中に含まれる粒子に起因する表面形状)が、熱硬化性樹脂15の表面に直接的に反映される。前記凹凸形状及び前記表面形状が熱硬化性樹脂15の表面に反映された状態で、熱硬化性樹脂15が硬化される。すなわち、当該硬化の結果得られた成形体の表面に、前記凹凸形状及び前記表面形状が反映される。ここで、当該成形体(硬化物)の表面に形成される凹凸は、前記金型の凹凸と異なっていてよい。
以上のとおり、本発明の組合せによって、成形体の表面状態の調整が可能となる。
Next, as shown in FIG. 1C, the thermosetting resin 15 is introduced between the upper mold 12 (particularly the release film 11) and the substrate 14, and then the thermosetting resin 15 is introduced. It is cured by heating.
In the curing, the uneven shape formed on the surface 16 of the upper mold 12 is reflected on the surface of the thermosetting resin 15 via the release film 11, and the surface shape (particularly the surface) of the release film 11 is reflected. The surface shape caused by the particles contained in the layer 102) is reflected on the surface of the thermosetting resin 15. That is, the uneven shape formed on the surface 16 of the upper mold 12 is indirectly reflected on the surface of the thermosetting resin 15, and is included in the surface shape of the release film 11 (particularly in the surface layer 102). The surface shape caused by the particles) is directly reflected on the surface of the thermosetting resin 15. The thermosetting resin 15 is cured in a state where the uneven shape and the surface shape are reflected on the surface of the thermosetting resin 15. That is, the uneven shape and the surface shape are reflected on the surface of the molded product obtained as a result of the curing. Here, the unevenness formed on the surface of the molded product (cured product) may be different from the unevenness of the mold.
As described above, the combination of the present invention makes it possible to adjust the surface state of the molded product.

硬化後に図1(D)に示されるとおりに、上側金型12を基板14から離す。離型フィルム11は、特には粒子を含むフッ素系樹脂から形成されていることによって、離型性に優れている。そのため、図1(D)の工程において、硬化した樹脂15からスムーズに離れる。離型性が良好でない場合、例えば図1(E)に示されるように、離型フィルム19が、硬化した樹脂15にくっついてしまうことがある。 After curing, the upper mold 12 is separated from the substrate 14 as shown in FIG. 1 (D). The release film 11 is excellent in releasability because it is formed of a fluorine-based resin containing particles in particular. Therefore, in the step of FIG. 1D, the cured resin 15 is smoothly separated from the cured resin 15. If the releasability is not good, the releasable film 19 may stick to the cured resin 15, for example, as shown in FIG. 1 (E).

(2)コンプレッションモールド成形 (2) Compression molding

図3は、コンプレッションモールド成形における本発明の組合せの使用方法の一例を説明するための図である。図3(A)に示されるとおり、本発明の組合せを構成する離型フィルム11が、複数の半導体素子27が搭載された基板24が取り付けられた上側金型22と下側金型23との間に配置される。
離型フィルム11は、上記(1)において説明したとおり、基材層101と、基材層101の一方の面に表面層102が積層されており、他方の面に表面層103が積層されている。
表面層102は、基材層101の2つの面のうち、前記コンプレッションモールド成形において熱硬化性樹脂側に配置される面に積層されている。すなわち、表面層102は、前記コンプレッションモールド成形において、後述する熱硬化性樹脂25に接触する。
表面層103は、基材層101の2つの面のうち、前記コンプレッションモールド成形において下側金型23側に配置される面に積層されている。すなわち、表面層103は、前記コンプレッションモールド成形において下側金型23に接触する。
下側金型23の表面26に、凹凸が形成されている。すなわち、表面26は、前記コンプレッションモールド成形において、離型フィルム11(特にその表面層103)に接触する。
FIG. 3 is a diagram for explaining an example of how to use the combination of the present invention in compression molding. As shown in FIG. 3 (A), the release film 11 constituting the combination of the present invention is formed by the upper mold 22 and the lower mold 23 on which the substrate 24 on which the plurality of semiconductor elements 27 are mounted is mounted. Placed in between.
In the release film 11, as described in (1) above, the base material layer 101 and the surface layer 102 are laminated on one surface of the base material layer 101, and the surface layer 103 is laminated on the other surface. There is.
The surface layer 102 is laminated on the surface of the base material layer 101 that is arranged on the thermosetting resin side in the compression molding. That is, the surface layer 102 comes into contact with the thermosetting resin 25, which will be described later, in the compression molding.
The surface layer 103 is laminated on the surface of the two surfaces of the base material layer 101 that is arranged on the lower mold 23 side in the compression molding. That is, the surface layer 103 contacts the lower mold 23 in the compression molding.
Unevenness is formed on the surface 26 of the lower mold 23. That is, the surface 26 comes into contact with the release film 11 (particularly its surface layer 103) in the compression molding.

次に、図3(B)に示されるとおり、離型フィルム11が下側金型23の表面26に張り付いた状態で、下側金型23の窪み内に熱硬化性樹脂25が配置される。 Next, as shown in FIG. 3B, the thermosetting resin 25 is arranged in the recess of the lower mold 23 in a state where the release film 11 is attached to the surface 26 of the lower mold 23. To.

次に、図3(C)に示されるとおり、上側金型22を移動させて、基板24を熱硬化性樹脂25に接触させる。その後、熱硬化性樹脂25が加熱によって硬化する。
当該硬化において、下側金型23の表面26に形成された凹凸形状が、離型フィルム11を介して熱硬化性樹脂25の表面に反映され、且つ、離型フィルム11の表面形状(特には表面層102中に含まれる粒子に起因する表面形状)が、熱硬化性樹脂25の表面に反映される。すなわち、下側金型23の表面26に形成された凹凸形状が、熱硬化性樹脂25の表面に間接的に反映され、且つ、離型フィルム11の表面形状(特には表面層102中に含まれる粒子に起因する表面形状)が、熱硬化性樹脂25の表面に直接的に反映される。前記凹凸形状及び前記表面形状が熱硬化性樹脂25の表面に反映された状態で、熱硬化性樹脂25が硬化される。すなわち、当該硬化の結果得られた成形体の表面に、前記凹凸形状及び前記表面形状が反映される。ここで、当該成形体(硬化物)の表面に形成される凹凸は、前記金型の凹凸と異なっていてよい。
以上のとおり、本発明の組合せによって、本発明の組合せによって、成形体の表面状態の調整が可能となる。
Next, as shown in FIG. 3C, the upper mold 22 is moved to bring the substrate 24 into contact with the thermosetting resin 25. After that, the thermosetting resin 25 is cured by heating.
In the curing, the uneven shape formed on the surface 26 of the lower mold 23 is reflected on the surface of the thermosetting resin 25 via the release film 11, and the surface shape of the release film 11 (particularly, particularly. The surface shape caused by the particles contained in the surface layer 102) is reflected on the surface of the thermosetting resin 25. That is, the uneven shape formed on the surface 26 of the lower mold 23 is indirectly reflected on the surface of the thermosetting resin 25, and is included in the surface shape of the release film 11 (particularly in the surface layer 102). The surface shape caused by the particles) is directly reflected on the surface of the thermosetting resin 25. The thermosetting resin 25 is cured in a state where the uneven shape and the surface shape are reflected on the surface of the thermosetting resin 25. That is, the uneven shape and the surface shape are reflected on the surface of the molded product obtained as a result of the curing. Here, the unevenness formed on the surface of the molded product (cured product) may be different from the unevenness of the mold.
As described above, the combination of the present invention makes it possible to adjust the surface state of the molded product by the combination of the present invention.

硬化後に図3(D)に示されるとおりに、上側金型22を下側金型23から離す。離型フィルム11は、特にはその表面層102が粒子を含むフッ素系樹脂から形成されていることによって、離型性に優れている。そのため、図3(D)の工程において、硬化した樹脂25を、下側金型23からスムーズに離型することを可能である。 After curing, the upper mold 22 is separated from the lower mold 23 as shown in FIG. 3 (D). The release film 11 is particularly excellent in releasability because its surface layer 102 is formed of a fluororesin containing particles. Therefore, in the step of FIG. 3D, the cured resin 25 can be smoothly released from the lower mold 23.

以上のとおり、本発明の組合せは、熱硬化性樹脂の硬化のために用いられる。特には、本発明の組合せは、熱硬化性樹脂を硬化して成形体を得るために用いられうる。当該熱硬化性樹脂は、例えばエポキシ樹脂又はシリコーン樹脂であり、好ましくはエポキシ樹脂である。本発明の組合せは、これらの樹脂の表面状態の調整に特に適している。 As described above, the combination of the present invention is used for curing a thermosetting resin. In particular, the combination of the present invention can be used to cure a thermosetting resin to obtain a molded product. The thermosetting resin is, for example, an epoxy resin or a silicone resin, preferably an epoxy resin. The combination of the present invention is particularly suitable for adjusting the surface condition of these resins.

本発明の組合せが使用される成形における成形温度は、当該成形温度は、熱硬化性樹脂の種類に応じて適宜選択されてよい。当該成形温度は、例えば100℃〜250℃であり、好ましくは120℃〜200℃であり、より好ましくは150℃〜200℃でありうる。 The molding temperature in the molding in which the combination of the present invention is used may be appropriately selected depending on the type of the thermosetting resin. The molding temperature may be, for example, 100 ° C. to 250 ° C., preferably 120 ° C. to 200 ° C., and more preferably 150 ° C. to 200 ° C.

1−2.離型フィルム 1-2. Release film

本発明の組合せを構成する離型フィルムを、図2を参照しながら説明する。図2は、上記で述べたとおり、当該離型フィルムの積層構造の一例の模式図である。 The release film constituting the combination of the present invention will be described with reference to FIG. As described above, FIG. 2 is a schematic view of an example of the laminated structure of the release film.

図2に示される離型フィルム11は、基材層101と、基材層101の2つの面のうち前記硬化において熱硬化性樹脂側(成形体側)に配置される面に積層されている表面層102(本明細書内において「成形体側表面層」ともいう)を含む。基材層101は、熱可塑性樹脂から形成されている。成形体側表面層102は、粒子を含むフッ素系樹脂から形成されている。離型フィルム11が基材層101及び成形体側表面層102を含むことが、上記「1−1.本発明の組合せの使用方法」において述べたとおりの表面調整を可能とすることに貢献する。また、成形体側表面層102は、粒子を含むフッ素系樹脂から形成されていることによって、硬化した成形体から離れやすい。 The release film 11 shown in FIG. 2 is a surface laminated on the surface of the base material layer 101 and the base material layer 101 which is arranged on the thermosetting resin side (molded body side) in the curing. Includes layer 102 (also referred to herein as the "mold side surface layer"). The base material layer 101 is formed of a thermoplastic resin. The molded body side surface layer 102 is formed of a fluorine-based resin containing particles. The fact that the release film 11 includes the base material layer 101 and the surface layer 102 on the molded body side contributes to enabling the surface adjustment as described in the above "1-1. How to use the combination of the present invention". Further, since the surface layer 102 on the molded body side is formed of a fluororesin containing particles, it is easy to separate from the cured molded body.

離型フィルム11は、基材層101の2つの面のうち前記硬化において金型側に配置される面に積層されている表面層103(本明細書内において、「金型側表面層」ともいう)も含む。金型側表面層103は、好ましくはフッ素系樹脂から形成されていてよく、より好ましくは粒子を含むフッ素系樹脂から形成されうる。これにより、熱硬化性樹脂の硬化後に離型フィルム11が金型から離れやすくなる。 The release film 11 is also referred to as a surface layer 103 (also referred to as a “mold side surface layer” in the present specification) which is laminated on the surface arranged on the mold side in the curing of the two surfaces of the base material layer 101. Also includes). The mold side surface layer 103 may be preferably formed of a fluorine-based resin, and more preferably can be formed of a fluorine-based resin containing particles. As a result, the release film 11 is easily separated from the mold after the thermosetting resin is cured.

以上のとおり、離型フィルム11は、成形体側表面層102、基材層101、及び金型側表面層103が、この順に積層されている積層構造を有する。以下で、各層についてより詳細に説明する。 As described above, the release film 11 has a laminated structure in which the molded body side surface layer 102, the base material layer 101, and the mold side surface layer 103 are laminated in this order. Each layer will be described in more detail below.

[基材層] [Base material layer]

基材層101は、熱可塑性樹脂から形成されている。当該熱可塑性樹脂は、好ましくは上記熱硬化性樹脂の硬化において採用される成形温度以上の融点、より好ましくは当該成形温度よりも高い融点を有する樹脂でありうる。これにより、前記成形において、前記金型の表面の凹凸が、離型フィルム11を介して前記熱硬化性樹脂の表面に反映されやすくなる。 The base material layer 101 is formed of a thermoplastic resin. The thermoplastic resin may preferably be a resin having a melting point equal to or higher than the molding temperature used in curing the thermosetting resin, and more preferably a melting point higher than the molding temperature. As a result, in the molding, the unevenness of the surface of the mold is easily reflected on the surface of the thermosetting resin via the release film 11.

前記熱可塑性樹脂は、好ましくはポリエステル系樹脂である。ポリエステル系樹脂は、主鎖中にエステル結合を有する高分子である。前記ポリエステル系樹脂は、例えば多価アルコールと多塩基酸との重合体でありうる。前記ポリエステル系樹脂は、ポリエステルを主成分とする樹脂であり、例えばポリエステルを当該樹脂質量に対して90質量%以上、好ましくは95質量%以上、好ましくは98質量%以上の割合で含みうる。
前記熱可塑性樹脂は、例えばポリエチレンテレフタレート(PET)樹脂、ポリブチレンテレフタレート(PBT)樹脂、ポリエチレンナフタレート(PEN)樹脂、ポリブチレンナフタレート(PBN)、及びポリカーボネート(PC)樹脂樹脂から選ばれるいずれか1つ又は2つ以上の混合物であってよい。前記熱可塑性樹脂は、より好ましくはPET樹脂又はPEN樹脂であり、特に好ましくPET樹脂である。PET樹脂は、前記成形において、前記金型の表面の凹凸を前記熱硬化性樹脂の表面に反映するために特に適している。
The thermoplastic resin is preferably a polyester resin. The polyester resin is a polymer having an ester bond in the main chain. The polyester resin can be, for example, a polymer of a polyhydric alcohol and a polybasic acid. The polyester-based resin is a resin containing polyester as a main component, and may contain, for example, 90% by mass or more, preferably 95% by mass or more, preferably 98% by mass or more of polyester with respect to the mass of the resin.
The thermoplastic resin is selected from, for example, polyethylene terephthalate (PET) resin, polybutylene terephthalate (PBT) resin, polyethylene naphthalate (PEN) resin, polybutylene naphthalate (PBN), and polycarbonate (PC) resin resin. It may be one or a mixture of two or more. The thermoplastic resin is more preferably a PET resin or a PEN resin, and particularly preferably a PET resin. The PET resin is particularly suitable for reflecting the unevenness of the surface of the mold on the surface of the thermosetting resin in the molding.

PET樹脂は、汎用PET樹脂であってもよく、又は、易成型PET樹脂であってもよい。汎用PET樹脂のガラス転移温度は、100℃以上でありうる。本明細書内において、ガラス転移温度は示差熱分析(DTA)により測定されるガラス転移温度である。易成型PET樹脂のガラス転移温度は、100℃未満であり、好ましくは60℃〜95℃であり、より好ましくは65℃〜90℃でありうる。易成型PET樹脂は、PET樹脂に含まれるオリゴマーによる金型又は成形体の汚染を防止するために特に適している。 The PET resin may be a general-purpose PET resin or an easily molded PET resin. The glass transition temperature of the general-purpose PET resin can be 100 ° C. or higher. In the present specification, the glass transition temperature is the glass transition temperature measured by differential thermal analysis (DTA). The glass transition temperature of the easily molded PET resin is less than 100 ° C., preferably 60 ° C. to 95 ° C., and more preferably 65 ° C. to 90 ° C. The easily molded PET resin is particularly suitable for preventing contamination of the mold or the molded product by the oligomer contained in the PET resin.

前記汎用PET樹脂から形成される基材層として、例えばテトロン(登録商標)シリーズのフィルムを用いることができるが、これらに限定されない。 As the base material layer formed from the general-purpose PET resin, for example, a film of the Tetron (registered trademark) series can be used, but the present invention is not limited thereto.

前記易成型PET樹脂は、例えば共重合ポリエチレンテレフタレート樹脂であってよい。共重合ポリエチレンテレフタレートは、例えばテレフタル酸とエチレングリコールと共重合成分とを反応させることにより得られてよく、又は、共重合成分のポリマーとポリエチレンテレフタレートとを混合及び溶融し次に分配反応をさせることにより得られてもよい。
前記共重合成分は、例えば酸成分であってよく又はアルコール成分であってもよい。前記酸成分として、芳香族二塩基酸(例えばイソフタル酸、フタル酸、及びナフタレンジカルボン酸など)、脂肪族ジカルボン酸(例えばアジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、及びデカンジカルボン酸など)、及び脂環族ジカルボン酸(例えばシクロヘキサンジカルボン酸など)を挙げることができる。前記アルコール成分として、脂肪族ジオール(例えばブタンジオール、ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、及びヘキサンジオールなど)及び脂環族ジオール(例えばシクロヘキサンジメタノールなど)を挙げることができる。前記共重合成分として、これらの化合物のうちの1つ又は2つ以上の組合せが用いられてよい。前記酸成分は、特にはイソフタル酸及び/又はセバシン酸でありうる。
The easily molded PET resin may be, for example, a copolymerized polyethylene terephthalate resin. The copolymerized polyethylene terephthalate may be obtained, for example, by reacting terephthalic acid with ethylene glycol and a copolymerization component, or the polymer of the copolymerization component and polyethylene terephthalate may be mixed and melted and then subjected to a distribution reaction. May be obtained by
The copolymerization component may be, for example, an acid component or an alcohol component. The acid components include aromatic dibasic acids (eg isophthalic acid, phthalic acid, and naphthalenedicarboxylic acid, etc.), aliphatic dicarboxylic acids (eg, adipic acid, azelaic acid, sebacic acid, and decandicarboxylic acid, etc.), and alicyclic. Group dicarboxylic acids (eg cyclohexanedicarboxylic acids) can be mentioned. Examples of the alcohol component include aliphatic diols (such as butanediol, hexanediol, neopentyl glycol, and hexanediol) and alicyclic diols (such as cyclohexanedimethanol). As the copolymerization component, one or a combination of two or more of these compounds may be used. The acid component can be isophthalic acid and / or sebacic acid in particular.

易成型PET樹脂から形成される基材層として、市販入手可能なものを用いてもよい。例えば、易成型PET樹脂から形成される基材層として、テフレックス(商標)FT、テフレックス(商標)FT3、及びテフレックス(商標)FW2(いずれも帝人フィルムソリューション株式会社製)を用いることができる。また、易成型PET樹脂から形成される基材層として、エンブレットCTK−38(ユニチカ株式会社製)が用いられてよい。また、前記基材層として、CH285J(南亜プラスチック社製)が用いられてもよい。
前記易成型PET樹脂から形成される基材層は、例えば特開平2−305827号公報、特開平3−86729号公報、又は特開平3−110124号公報に記載された方法により製造されてもよい。本発明の一つの好ましい実施態様に従い、前記基材層は、これらの公報のいずれかに記載されるように、面配向係数が好ましくは0.06〜0.16、より好ましくは0.07〜0.15となるように、易成型PET樹脂を二軸延伸したものであってよい。
As the base material layer formed from the easily molded PET resin, a commercially available one may be used. For example, Teflex (trademark) FT, Teflex (trademark) FT3, and Teflex (trademark) FW2 (all manufactured by Teijin Film Solutions Co., Ltd.) can be used as the base material layer formed from the easily molded PET resin. it can. Further, as a base material layer formed of an easily molded PET resin, Emblet CTK-38 (manufactured by Unitika Ltd.) may be used. Further, CH285J (manufactured by Nan Ya Plastics) may be used as the base material layer.
The base material layer formed from the easily molded PET resin may be produced, for example, by the method described in JP-A-2-305827, JP-A-3-86729, or JP-A-3-110124. .. According to one preferred embodiment of the present invention, the substrate layer preferably has a plane orientation coefficient of 0.06 to 0.16, more preferably 0.07 to 0.07, as described in any of these publications. The easily molded PET resin may be biaxially stretched so as to have a value of 0.15.

前記基材層の引張破断強度は、JIS K7127に従い175℃で測定された場合に、好ましくは40MPa〜200MPaであり、より好ましくは40MPa〜120MPaであり、さらにより好ましくは40MPa〜110MPaであり、特に好ましくは45MPa〜100MPaでありうる。
前記基材層の引張破断伸びは、JIS K7127に従い175℃で測定された場合に、好ましくは200%〜500%であり、より好ましくは250%〜450%であり、さらにより好ましくは300%〜400%でありうる。
The tensile breaking strength of the base material layer is preferably 40 MPa to 200 MPa, more preferably 40 MPa to 120 MPa, still more preferably 40 MPa to 110 MPa, especially when measured at 175 ° C. according to JIS K7127. It can be preferably 45 MPa to 100 MPa.
The tensile elongation at break of the base material layer is preferably 200% to 500%, more preferably 250% to 450%, and even more preferably 300% to 300% when measured at 175 ° C. according to JIS K7127. It can be 400%.

前記基材層の厚みは、例えば10μm〜80μm、好ましくは15μm〜75μm、より好ましくは20μm〜70μm、特に好ましくは30μm〜60μmでありうる。当該厚みが、金型表面の凹凸形状を成形体表面に反映するために適している。 The thickness of the base material layer can be, for example, 10 μm to 80 μm, preferably 15 μm to 75 μm, more preferably 20 μm to 70 μm, and particularly preferably 30 μm to 60 μm. The thickness is suitable for reflecting the uneven shape of the mold surface on the surface of the molded product.

[成形体側表面層] [Surface layer on the molded body side]

成形体側表面層102は、粒子を含むフッ素系樹脂から形成されている。本発明の好ましい実施態様に従い、前記フッ素系樹脂は塩素を含まない。塩素を含まないことによって、当該層の耐久性及び/又は防汚性が向上する。当該フッ素系樹脂は、例えば反応性官能基含有フッ素系重合体と硬化剤とを含むフッ素系樹脂組成物の硬化物でありうる。
当該フッ素系樹脂は、好ましくは四フッ化エチレン系樹脂を含み、より好ましくは四フッ化エチレン系樹脂を主成分として含む。本明細書内において、前記四フッ化エチレン系樹脂は、以下で述べる反応性官能基含有四フッ化エチレン系重合体と硬化剤との硬化反応により得られる成分をいう。四フッ化エチレン系樹脂が主成分であるとは、当該フッ素系樹脂が四フッ化エチレン系樹脂のみからなること、又は、当該フッ素系樹脂に含まれる成分のうち四フッ化エチレン系樹脂の量が最も多いことを意味する。例えば、当該フッ素系樹脂中の四フッ化エチレン系樹脂の含有割合は、当該フッ素系樹脂の全質量に対して例えば70質量%以上、好ましくは75質量%以上、より好ましくは80質量%以上、特に好ましくは85質量%以上であってよい。当該含有割合は、当該フッ素系樹脂の全質量に対して例えば99質量%以下、特には98質量%以下、より特には97質量%以下でありうる。
The molded body side surface layer 102 is formed of a fluorine-based resin containing particles. According to a preferred embodiment of the present invention, the fluororesin does not contain chlorine. By not containing chlorine, the durability and / or antifouling property of the layer is improved. The fluorine-based resin can be, for example, a cured product of a fluorine-based resin composition containing a reactive functional group-containing fluorine-based polymer and a curing agent.
The fluorine-based resin preferably contains a tetrafluoroethylene-based resin, and more preferably contains a tetrafluoroethylene-based resin as a main component. In the present specification, the tetrafluoroethylene resin refers to a component obtained by a curing reaction between a reactive functional group-containing tetrafluoroethylene polymer described below and a curing agent. The fact that the tetrafluoroethylene resin is the main component means that the fluororesin consists only of the tetrafluoroethylene resin, or the amount of the tetrafluoroethylene resin among the components contained in the fluororesin. Means that is the most. For example, the content ratio of the tetrafluoroethylene resin in the fluororesin is, for example, 70% by mass or more, preferably 75% by mass or more, more preferably 80% by mass or more, based on the total mass of the fluororesin. Particularly preferably, it may be 85% by mass or more. The content ratio may be, for example, 99% by mass or less, particularly 98% by mass or less, and more particularly 97% by mass or less, based on the total mass of the fluorine-based resin.

前記フッ素系樹脂組成物に含まれる前記反応性官能基含有フッ素系重合体は、前記硬化剤によって硬化可能であるフッ素系重合体であってよい。前記反応性官能基と前記硬化剤とは当業者により適宜選択されてよい。
前記反応性官能基は、例えば水酸基、カルボキシル基、−COOCO−で表される基、アミノ基、又はシリル基であってよく、好ましくは水酸基である。これらの基によって、前記硬化物を得るための反応が良好に進行する。
これらの反応性官能基のうち、水酸基が、前記硬化物を得るための反応に特に適している。すなわち、前記反応性官能基含有フッ素系重合体は、好ましくは水酸基含有フッ素系重合体であり、より好ましくは水酸基含有四フッ化エチレン系重合体でありうる。
The reactive functional group-containing fluorine-based polymer contained in the fluorine-based resin composition may be a fluorine-based polymer that can be cured by the curing agent. The reactive functional group and the curing agent may be appropriately selected by those skilled in the art.
The reactive functional group may be, for example, a hydroxyl group, a carboxyl group, a group represented by −COOCO−, an amino group, or a silyl group, and is preferably a hydroxyl group. With these groups, the reaction for obtaining the cured product proceeds well.
Of these reactive functional groups, the hydroxyl group is particularly suitable for the reaction for obtaining the cured product. That is, the reactive functional group-containing fluorine-based polymer may be preferably a hydroxyl group-containing fluorine-based polymer, and more preferably a hydroxyl group-containing tetrafluoroethylene-based polymer.

前記反応性官能基含有フッ素系重合体のフッ素含有単位は、好ましくはパーフルオロオレフィンに基づくフッ素含有単位である。当該パーフルオロオレフィンに基づくフッ素含有単位は、より好ましくはテトラフルオロエチレン(四フッ化エチレン、本明細書内以下において「TFE」ともいう)、ヘキサフルオロプロピレン(HFP)、及びパーフルオロ(アルキルビニルエーテル)(PAVE)から選ばれる1つ、2つ、又は3つに基づくものであってよい。好ましくは、当該パーフルオロオレフィンに基づくフッ素含有単位のうち、TFEに基づくフッ素含有単位が最も多い。 The fluorine-containing unit of the reactive functional group-containing fluorine-based polymer is preferably a fluorine-containing unit based on a perfluoroolefin. Fluorine-containing units based on the perfluoroolefin are more preferably tetrafluoroethylene (ethylene tetrafluoroethylene, also referred to as "TFE" in the present specification), hexafluoropropylene (HFP), and perfluoro (alkyl vinyl ether). It may be based on one, two, or three selected from (PAVE). Preferably, among the fluorine-containing units based on the perfluoroolefin, the fluorine-containing unit based on TFE is the most.

前記反応性官能基含有フッ素系重合体の水酸基価(特には水酸基含有フッ素系重合体の水酸基価)は、好ましくは10mgKOH/g〜300mgKOH/gであり、より好ましくは10mgKOH/g〜200mgKOH/gであり、さらにより好ましくは10mgKOH/g〜150mgKOH/gでありうる。前記反応性官能基含有フッ素系重合体の水酸基価が上記数値範囲の下限値以上であることによって、樹脂組成物の硬化性が良好になりうる。また、前記反応性官能基含有フッ素系重合体の水酸基価が上記数値範囲の上限値以下であることが、当該樹脂組成物の硬化物を複数回の成形に適したものとすることに寄与しうる。当該水酸基価は、JIS K 0070に準拠する方法により測定して得られる。 The hydroxyl value of the reactive functional group-containing fluoropolymer (particularly, the hydroxyl value of the hydroxyl group-containing fluoropolymer) is preferably 10 mgKOH / g to 300 mgKOH / g, and more preferably 10 mgKOH / g to 200 mgKOH / g. And even more preferably 10 mgKOH / g to 150 mgKOH / g. When the hydroxyl value of the reactive functional group-containing fluoropolymer is at least the lower limit of the above numerical range, the curability of the resin composition can be improved. Further, the fact that the hydroxyl value of the reactive functional group-containing fluoropolymer is not more than the upper limit of the above numerical range contributes to making the cured product of the resin composition suitable for molding a plurality of times. sell. The hydroxyl value is obtained by measuring by a method conforming to JIS K 0070.

前記反応性官能基含有フッ素系重合体の酸価(特には水酸基含有フッ素系重合体の酸価)は、好ましくは0.5mgKOH/g〜100mgKOH/gであり、より好ましくは0.5mgKOH/g〜50mgKOH/gでありうる。 The acid value of the reactive functional group-containing fluoropolymer (particularly the acid value of the hydroxyl group-containing fluoropolymer) is preferably 0.5 mgKOH / g to 100 mgKOH / g, more preferably 0.5 mgKOH / g. It can be ~ 50 mgKOH / g.

前記反応性官能基含有フッ素系重合体の反応性官能基は、当該反応性官能基を有するモノマーを、フッ素含有モノマー(特には上記パーフルオロオレフィン)と共重合することにより、当該フッ素系重合体に導入されてよい。すなわち、前記反応性官能基含有フッ素系重合体は、反応性官能基含有モノマーに基づく重合単位とフッ素含有モノマー(特には上記パーフルオロオレフィン)に基づく重合単位とを含みうる。 The reactive functional group of the reactive functional group-containing fluoropolymer is obtained by copolymerizing a monomer having the reactive functional group with a fluorine-containing monomer (particularly, the perfluoroolefin). May be introduced in. That is, the reactive functional group-containing fluoropolymer may contain a polymerization unit based on the reactive functional group-containing monomer and a polymerization unit based on the fluorine-containing monomer (particularly the perfluoroolefin).

前記反応性官能基が水酸基である場合、前記反応性官能基を有するモノマーは、好ましくは水酸基含有ビニルエーテル又は水酸基含有アリルエーテルでありうる。水酸基含有ビニルエーテルとして、例えば2−ヒドロキシエチルビニルエーテル、3−ヒドロキシプロピルビニルエーテル、2−ヒドロキシプロピルビニルエーテル、2−ヒドロキシ−2−メチルプロピルビニルエーテル、4−ヒドロキシブチルビニルエーテル、4−ヒドロキシ−2−メチルブチルビニルエーテル、5−ヒドロキシペンチルビニルエーテル、及び6−ヒドロキシヘキシルビニルエーテルを挙げることができ、水酸基含有水酸基含有アリルエーテルとして、例えば2−ヒドロキシエチルアリルエーテル、4−ヒドロキシブチルアリルエーテル、及びグリセロールモノアリルエーテルを挙げることができる。代替的には、前記反応性官能基を有するモノマーは、例えばアクリル酸2−ヒドロキシエチル及びメタクリル酸2−ヒドロキシエチルなどの(メタ)アクリル酸のヒドロキシアルキルエステルであってもよい。前記反応性官能基を有するモノマーとして、これらの化合物のうちの1つ又は2つ以上の組み合わせが用いられてよい。前記反応性官能基が水酸基である場合、前記反応性官能基を有するモノマーは、前記樹脂組成物の硬化性の観点から、より好ましくは水酸基含有ビニルエーテルであり、特に好ましくは4−ヒドロキシブチルビニルエーテル及び/又は2−ヒドロキシエチルビニルエーテルでありうる。 When the reactive functional group is a hydroxyl group, the monomer having the reactive functional group can be preferably a hydroxyl group-containing vinyl ether or a hydroxyl group-containing allyl ether. Examples of the hydroxyl group-containing vinyl ether include 2-hydroxyethyl vinyl ether, 3-hydroxypropyl vinyl ether, 2-hydroxypropyl vinyl ether, 2-hydroxy-2-methylpropyl vinyl ether, 4-hydroxybutyl vinyl ether, 4-hydroxy-2-methylbutyl vinyl ether, and the like. 5-Hydroxypentyl vinyl ether and 6-hydroxyhexyl vinyl ether can be mentioned, and examples of the hydroxyl group-containing hydroxyl group-containing allyl ether include 2-hydroxyethyl allyl ether, 4-hydroxybutyl allyl ether, and glycerol monoallyl ether. it can. Alternatively, the monomer having the reactive functional group may be a hydroxyalkyl ester of (meth) acrylic acid such as 2-hydroxyethyl acrylate and 2-hydroxyethyl methacrylate. As the monomer having a reactive functional group, one or a combination of two or more of these compounds may be used. When the reactive functional group is a hydroxyl group, the monomer having the reactive functional group is more preferably a hydroxyl group-containing vinyl ether, particularly preferably 4-hydroxybutyl vinyl ether and, from the viewpoint of curability of the resin composition. / Or it can be 2-hydroxyethyl vinyl ether.

前記反応性官能基がカルボキシル基である場合、前記反応性官能基を有するモノマーは、好ましくは不飽和カルボン酸、不飽和カルボン酸のエステル、又は不飽和カルボン酸の酸無水物であってよい。
前記反応性官能基がアミノ基である場合、前記反応性官能基を有するモノマーは、例えばアミノビニルエーテル又はアリルアミンであってよい。
前記反応性官能基がシリル基である場合、前記反応性官能基を有するモノマーは、好ましくはシリコーン系ビニルモノマーでありうる。
When the reactive functional group is a carboxyl group, the monomer having the reactive functional group may be preferably an unsaturated carboxylic acid, an ester of an unsaturated carboxylic acid, or an acid anhydride of an unsaturated carboxylic acid.
When the reactive functional group is an amino group, the monomer having the reactive functional group may be, for example, aminovinyl ether or allylamine.
When the reactive functional group is a silyl group, the monomer having the reactive functional group can be preferably a silicone-based vinyl monomer.

前記フッ素含有モノマーは、好ましくはパーフルオロオレフィンである。パーフルオロオレフィンとして、例えばテトラフルオロエチレン(TFE)、ヘキサフルオロプロピレン(HFP)、及びパーフルオロ(アルキルビニルエーテル)(PAVE)を挙げることができる。好ましくは、前記フッ素含有モノマーはTFEを含む。 The fluorine-containing monomer is preferably a perfluoroolefin. Examples of perfluoroolefins include tetrafluoroethylene (TFE), hexafluoropropylene (HFP), and perfluoro (alkyl vinyl ether) (PAVE). Preferably, the fluorine-containing monomer comprises TFE.

好ましくは、前記反応性官能基含有フッ素系重合体は、反応性官能基含有モノマーに基づく重合単位及びフッ素含有モノマーに基づく重合単位に加えて、フッ素非含有ビニルモノマーに基づく重合単位も含みうる。当該フッ素非含有ビニルモノマーは、例えばカルボン酸ビニルエステル、アルキルビニルエーテル、及び非フッ素化オレフィンからなる群から選ばれる1つ又は2つ以上の組み合わせでありうる。
カルボン酸ビニルエステルとして、例えば酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル、イソ酪酸ビニル、ピバリン酸ビニル、カプロン酸ビニル、バーサチック酸ビニル、ラウリン酸ビニル、ステアリン酸ビニル、シクロヘキシルカルボン酸ビニル、安息香酸ビニル、及びパラ−t−ブチル安息香酸ビニルを挙げることができる。
アルキルビニルエーテルとして、例えばメチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、及びシクロヘキシルビニルエーテルを挙げることができる。
非フッ素化オレフィンとして例えば、エチレン、プロピレン、n−ブテン、イソブテンを挙げることができる。
また、前記反応性官能基含有フッ素系重合体は、反応性官能基含有モノマーに基づく重合単位及びパーフルオロオレフィンであるフッ素含有モノマーに基づく重合単位に加えて、例えばビニリデンフルオライド(VdF)、クロロトリフルオロエチレン(CTFE)、ビニルフルオライド(VF)、及びフルオロビニルエーテルなどの、パーフルオロオレフィン以外のフッ素系単量体に基づく重合単位を含んでもよい。
Preferably, the reactive functional group-containing fluoropolymer may contain a polymerization unit based on a fluorine-free vinyl monomer in addition to a polymerization unit based on the reactive functional group-containing monomer and a polymerization unit based on the fluorine-containing monomer. The fluorine-free vinyl monomer may be one or a combination of two or more selected from the group consisting of, for example, carboxylic acid vinyl esters, alkyl vinyl ethers, and non-fluorinated olefins.
Examples of vinyl carboxylic acid esters include vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl butyrate, vinyl isobutyrate, vinyl pivalate, vinyl caproate, vinyl versatic acid, vinyl laurate, vinyl stearate, vinyl cyclohexyl carboxylate, vinyl benzoate, etc. And para-t-butyl benzoate vinyl can be mentioned.
Examples of the alkyl vinyl ether include methyl vinyl ether, ethyl vinyl ether, butyl vinyl ether, and cyclohexyl vinyl ether.
Examples of the non-fluorinated olefin include ethylene, propylene, n-butene and isobutene.
Further, the reactive functional group-containing fluoropolymer is, for example, vinylidene fluoride (VdF), chloro, in addition to the polymerization unit based on the reactive functional group-containing monomer and the polymerization unit based on the fluorine-containing monomer which is a perfluoroolefin. It may contain polymerization units based on fluoromonomers other than perfluoroolefins, such as trifluoroethylene (CTFE), vinyl fluoride (VF), and fluorovinyl ether.

前記反応性官能基含有フッ素系重合体は、例えば、TFE/非フッ素化オレフィン/ヒドロキシブチルビニルエーテル系共重合体、TFE/カルボン酸ビニルエステル/ヒドロキシブチルビニルエーテル系共重合体、又はTFE/アルキルビニルエーテル/ヒドロキシブチルビニルエーテル系共重合体でありうる。
より具体的には、前記反応性官能基含有フッ素系重合体は、TFE/イソブチレン/ヒドロキシブチルビニルエーテル系共重合体、TFE/バーサチック酸ビニル/ヒドロキシブチルビニルエーテル系共重合体、又はTFE/VdF/ヒドロキシブチルビニルエーテル系共重合体でありうる。前記反応性官能基含有フッ素系重合体は、特に好ましくは、TFE/イソブチレン/ヒドロキシブチルビニルエーテル系共重合体又はTFE/バーサチック酸ビニル/ヒドロキシブチルビニルエーテル系共重合体でありうる。
前記反応性官能基含有フッ素系重合体として、例えばゼッフルGKシリーズの製品を使用することができる。
The reactive functional group-containing fluoropolymer is, for example, TFE / non-fluorinated olefin / hydroxybutyl vinyl ether-based copolymer, TFE / carboxylic acid vinyl ester / hydroxybutyl vinyl ether-based copolymer, or TFE / alkyl vinyl ether /. It can be a hydroxybutyl vinyl ether-based copolymer.
More specifically, the reactive functional group-containing fluoropolymer is TFE / isobutylene / hydroxybutyl vinyl ether-based copolymer, TFE / vinyl versatic acid / hydroxybutyl vinyl ether-based copolymer, or TFE / VdF / hydroxy. It can be a butyl vinyl ether-based copolymer. The reactive functional group-containing fluoropolymer may be particularly preferably a TFE / isobutylene / hydroxybutyl vinyl ether-based copolymer or a TFE / vinyl versatic acid / hydroxybutyl vinyl ether-based copolymer.
As the reactive functional group-containing fluorine-based polymer, for example, a product of the Zeffle GK series can be used.

前記フッ素系樹脂組成物に含まれる前記硬化剤は、前記反応性官能基含有フッ素系重合体に含まれる反応性官能基の種類に応じて当業者により適宜選択されてよい。
前記反応性官能基が水酸基である場合、前記硬化剤は、好ましくはイソシアネート系硬化剤、メラミン樹脂、シリケート化合物、及びイソシアネート基含有シラン化合物から選ばれる1つ又は2つ以上の組み合わせでありうる。
前記反応性官能基がカルボキシル基である場合、前記硬化剤は、好ましくはアミノ系硬化剤及びエポキシ系硬化剤から選ばれる1つ又は2つ以上の組み合わせでありうる。
前記反応性官能基がアミノ基である場合、前記硬化剤は、カルボニル基含有硬化剤、エポキシ系硬化剤、及び酸無水物系硬化剤から選ばれる1つ又は2つ以上の組み合わせでありうる。
前記フッ素系樹脂組成物中の前記硬化剤の含有量は、前記反応性官能基含有フッ素系重合体100質量部に対して、例えば15質量部〜50質量部、好ましくは20質量部〜40質量部、より好ましくは23質量部〜35質量部でありうる。これらの数値範囲は、当該フッ素系樹脂組成物の硬化物中の前記硬化剤の含有量についても当てはまる。
前記硬化剤の含有量は、熱分解ガスクロマトグラフ(Py-GC/MS)法により測定されてよい。
The curing agent contained in the fluorine-based resin composition may be appropriately selected by a person skilled in the art according to the type of the reactive functional group contained in the reactive functional group-containing fluorine-based polymer.
When the reactive functional group is a hydroxyl group, the curing agent may be preferably one or a combination of two or more selected from an isocyanate-based curing agent, a melamine resin, a silicate compound, and an isocyanate group-containing silane compound.
When the reactive functional group is a carboxyl group, the curing agent may be preferably one or a combination of two or more selected from an amino-based curing agent and an epoxy-based curing agent.
When the reactive functional group is an amino group, the curing agent may be one or a combination of two or more selected from a carbonyl group-containing curing agent, an epoxy-based curing agent, and an acid anhydride-based curing agent.
The content of the curing agent in the fluorine-based resin composition is, for example, 15 parts by mass to 50 parts by mass, preferably 20 parts by mass to 40 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the reactive functional group-containing fluorine-based polymer. Parts, more preferably 23 parts by mass to 35 parts by mass. These numerical ranges also apply to the content of the curing agent in the cured product of the fluororesin composition.
The content of the curing agent may be measured by a pyrolysis gas chromatograph (Py-GC / MS) method.

本発明の1つの実施態様において、前記反応性官能基含有フッ素系重合体に含まれる反応性官能基は水酸基であり且つ前記硬化剤がイソシアネート系硬化剤でありうる。この実施態様において、前記イソシアネート系硬化剤は、好ましくはヘキサメチレンジイソシアネート(HDI)系ポリイソシアネートである。
前記フッ素系樹脂組成物中の前記HDI系ポリイソシアネートの含有量は、前記反応性官能基含有フッ素系重合体100質量部に対して、例えば15質量部〜50質量部、好ましくは20質量部〜40質量部、より好ましくは23質量部〜35質量部でありうる。これらの数値範囲は、当該フッ素樹脂組成物の硬化物中の前記HDI系ポリイソシアネートの含有量についても当てはまる。
In one embodiment of the present invention, the reactive functional group contained in the reactive functional group-containing fluoropolymer may be a hydroxyl group and the curing agent may be an isocyanate-based curing agent. In this embodiment, the isocyanate-based curing agent is preferably hexamethylene diisocyanate (HDI) -based polyisocyanate.
The content of the HDI-based polyisocyanate in the fluorine-based resin composition is, for example, 15 parts by mass to 50 parts by mass, preferably 20 parts by mass to 100 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the reactive functional group-containing fluorine-based polymer. It can be 40 parts by mass, more preferably 23 parts by mass to 35 parts by mass. These numerical ranges also apply to the content of the HDI-based polyisocyanate in the cured product of the fluororesin composition.

HDI系ポリイソシアネートとして、例えばイソシアヌレート型ポリイソシアネート、アダクト型ポリイソシアネート、及びビウレット型ポリイソシアネートから選ばれる1つ又は2つ以上の組み合わせを用いることができる。本発明において、前記イソシアネート系硬化剤は、好ましくはイソシアヌレート型ポリイソシアネート及び/又はアダクト型ポリイソシアネート、より好ましくはイソシアヌレート型ポリイソシアネートとアダクト型ポリイソシアネートとの組み合わせでありうる。
前記硬化剤としてイソシアヌレート型ポリイソシアネートとアダクト型ポリイソシアネートとの組み合わせが用いられる場合、両者の質量比は例えば10:6〜10:10、好ましくは10:7〜10:9である。両者の合計量が、前記反応性官能基含有フッ素系重合体100質量部に対して、例えば15質量部〜50質量部、好ましくは20質量部〜40質量部、より好ましくは25質量部〜35質量部でありうる。
これら硬化剤の含有比率は、熱分解ガスクロマトグラフ(Py-GC/MS)法により決定されてよい。
As the HDI-based polyisocyanate, for example, one or a combination of two or more selected from isocyanurate type polyisocyanate, adduct type polyisocyanate, and biuret type polyisocyanate can be used. In the present invention, the isocyanate-based curing agent may preferably be an isocyanurate-type polyisocyanate and / or an adduct-type polyisocyanate, and more preferably a combination of an isocyanurate-type polyisocyanate and an adduct-type polyisocyanate.
When a combination of isocyanurate-type polyisocyanate and adduct-type polyisocyanate is used as the curing agent, the mass ratio of the two is, for example, 10: 6 to 10:10, preferably 10: 7 to 10: 9. The total amount of both is, for example, 15 parts by mass to 50 parts by mass, preferably 20 parts by mass to 40 parts by mass, and more preferably 25 parts by mass to 35 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the reactive functional group-containing fluoropolymer. It can be parts by mass.
The content ratio of these curing agents may be determined by a pyrolysis gas chromatograph (Py-GC / MS) method.

前記成形体側表面層を形成するフッ素系樹脂は、粒子を含み、好ましくはレーザー回折式粒度分析測定法に従い測定された平均粒径が1μm〜10μm、より好ましくは2μm〜9μmである粒子を含む。前記平均粒径は、体積で重みづけされた体積平均径であり、JIS Z8825に従い測定されるものである。当該粒子を含むことによって、成形体の表面に当該粒子に起因する形状を反映することができ、且つ、前記離型フィルムの離型性を高めることができる。また、前記粒子の平均粒径が前記数値範囲の下限値よりも小さい場合、当該粒子に起因する表面形状が、成形体表面に反映されないことがある。また、前記粒子の平均粒径が前記数値範囲の上限値よりも高い場合、離型性の低下又は前記フッ素系樹脂からの前記粒子の脱落が起こりうる。さらに、前記粒子の平均粒径が前記数値範囲の上限値よりも高い場合、例えば当該フッ素系樹脂を基材層に塗工する際にスジが発生し、離型フィルムの製造が困難になりうる。 The fluororesin forming the surface layer on the molded body side contains particles, and preferably contains particles having an average particle size of 1 μm to 10 μm, more preferably 2 μm to 9 μm, measured according to a laser diffraction type particle size analysis measurement method. The average particle size is a volume average diameter weighted by volume and is measured according to JIS Z8825. By including the particles, the shape caused by the particles can be reflected on the surface of the molded product, and the releasability of the release film can be enhanced. Further, when the average particle size of the particles is smaller than the lower limit of the numerical range, the surface shape caused by the particles may not be reflected on the surface of the molded product. Further, when the average particle size of the particles is higher than the upper limit of the numerical range, the releasability may be lowered or the particles may fall off from the fluororesin. Further, when the average particle size of the particles is higher than the upper limit of the numerical range, for example, when the fluorine-based resin is applied to the base material layer, streaks may occur, which may make it difficult to manufacture a release film. ..

前記粒子は、好ましくは無機粒子又は有機粒子である。無機粒子として、例えば二酸化ケイ素(特には非晶質二酸化ケイ素)、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、リン酸カルシウム、カオリン、タルク、酸化アルミニウム、酸化チタン、アルミナ、硫酸バリウム、フッ化カルシウム、フッ化リチウム、ゼオライト、及び硫化モリブデンを挙げることができる。有機粒子として、例えば架橋高分子粒子及びシュウ酸カルシウムを挙げることができる。本発明において、前記粒子は好ましくは無機粒子であり、より好ましくは二酸化ケイ素粒子であり、さらにより好ましくは非晶質二酸化ケイ素である。非晶質二酸化ケイ素はゾルゲルタイプのシリカでありうる。非晶質二酸化ケイ素として、例えばサイシリアシリーズの非晶質二酸化ケイ素を用いることができる。 The particles are preferably inorganic particles or organic particles. Inorganic particles include, for example, silicon dioxide (particularly amorphous silicon dioxide), calcium carbonate, magnesium carbonate, calcium phosphate, kaolin, talc, aluminum oxide, titanium oxide, alumina, barium sulfate, calcium fluoride, lithium fluoride, zeolite, And molybdenum sulfide can be mentioned. Examples of the organic particles include crosslinked polymer particles and calcium oxalate. In the present invention, the particles are preferably inorganic particles, more preferably silicon dioxide particles, and even more preferably amorphous silicon dioxide. Amorphous silicon dioxide can be sol-gel type silica. As the amorphous silicon dioxide, for example, the amorphous silicon dioxide of the Cycilia series can be used.

前記フッ素系樹脂組成物中の前記粒子の含有量は、前記反応性官能基含有フッ素系重合体100質量部に対して、例えば1質量部〜30質量部、好ましくは2質量部〜25質量部、より好ましくは3質量部〜20質量部でありうる。これらの数値範囲は、当該フッ素樹脂組成物の硬化物中の前記粒子の含有量についても当てはまる。前記含有量が上記数値範囲内にあることが、前記粒子に起因する表面形状が成形体に反映されることに貢献し、及び/又は、前記離型フィルムの離型性の向上に寄与する。
本発明の一つの好ましい実施態様に従い、前記フッ素系樹脂組成物中の前記粒子の含有量は、前記反応性官能基含有フッ素系重合体100質量部に対して、例えば1質量部〜17質量部、好ましくは2質量部〜16質量部、特に好ましくは3質量部〜10質量部でありうる。これらの数値範囲は、当該フッ素樹脂組成物の硬化物中の前記粒子の含有量についても当てはまる。前記含有量が上記数値範囲内にあることによって、成形体表面にレーザマーカによる印字又は模様を施した場合の視認性又は可読性を高めることができる。
前記粒子の含有量は、熱重量分析法(TGA)により測定されてよい。
The content of the particles in the fluorine-based resin composition is, for example, 1 part by mass to 30 parts by mass, preferably 2 parts by mass to 25 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the reactive functional group-containing fluorine-based polymer. , More preferably 3 parts by mass to 20 parts by mass. These numerical ranges also apply to the content of the particles in the cured product of the fluororesin composition. When the content is within the above numerical range, it contributes to the surface shape caused by the particles being reflected in the molded product and / or to the improvement of the releasability of the releasable film.
According to one preferred embodiment of the present invention, the content of the particles in the fluorine-based resin composition is, for example, 1 part by mass to 17 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the reactive functional group-containing fluorine-based polymer. It can be preferably 2 parts by mass to 16 parts by mass, and particularly preferably 3 parts by mass to 10 parts by mass. These numerical ranges also apply to the content of the particles in the cured product of the fluororesin composition. When the content is within the above numerical range, the visibility or readability when the surface of the molded product is printed or patterned with a laser marker can be improved.
The content of the particles may be measured by thermogravimetric analysis (TGA).

前記フッ素系樹脂組成物は、溶剤を含みうる。溶剤の種類は当業者により適宜選択されてよい。溶剤として、例えば酢酸ブチル、酢酸エチル、及びメチルエチルケトン(MEKともいう)を挙げることができる。例えば、これら3種の混合物が、前記溶剤として用いられうる。この混合物が、前記フッ素系樹脂組成物の調製に適している。 The fluororesin composition may contain a solvent. The type of solvent may be appropriately selected by those skilled in the art. Examples of the solvent include butyl acetate, ethyl acetate, and methyl ethyl ketone (also referred to as MEK). For example, a mixture of these three types can be used as the solvent. This mixture is suitable for preparing the fluororesin composition.

前記フッ素系樹脂組成物は、離型促進剤を含みうる。離型促進剤として、例えば、アミノ変性メチルポリシロキサン、エポキシ変性メチルポリシロキサン、カルボキシ変性メチルポリシロキサン、及びカルビノール変性メチルポリシロキサンを挙げることができる。好ましくは、離型促進剤はアミノ変性メチルポリシロキサンである。
離型促進剤は、前記反応性官能基含有フッ素系重合体100質量部に対して、例えば0.01質量部〜3質量部、好ましくは0.05質量部〜2質量部、より好ましくは0.1質量部〜1質量部でありうる。これらの数値範囲は、当該フッ素樹脂組成物の硬化物中の前記離型促進剤の含有量についても当てはまる。
The fluororesin composition may contain a mold release accelerator. Examples of the release accelerator include amino-modified methylpolysiloxane, epoxy-modified methylpolysiloxane, carboxy-modified methylpolysiloxane, and carbinol-modified methylpolysiloxane. Preferably, the release accelerator is an amino-modified methylpolysiloxane.
The release accelerator is, for example, 0.01 part by mass to 3 parts by mass, preferably 0.05 part by mass to 2 parts by mass, and more preferably 0, based on 100 parts by mass of the reactive functional group-containing fluorine-based polymer. It can be 1 part by mass to 1 part by mass. These numerical ranges also apply to the content of the release accelerator in the cured product of the fluororesin composition.

前記成形体側表面層の厚みは、例えば1μm〜10μmであり、好ましくは2〜9μmであり、より好ましくは3μm〜8μmでありうる。 The thickness of the surface layer on the molded body side can be, for example, 1 μm to 10 μm, preferably 2 to 9 μm, and more preferably 3 μm to 8 μm.

前記フッ素系樹脂組成物は、以上で説明した成分を当業者に既知の手段により混合及び撹拌することによって製造することができる。前記混合及び撹拌のために、例えばハイスピードミキサー、ホモミキサー、及びペイントシェーカーなどのミキサーを用いることができる。前記混合及び撹拌のために、例えばエッジタービン型の高速ディゾルバーなどのディゾルバーが用いられてもよい。
前記フッ素系樹脂組成物の硬化物は、前記フッ素系樹脂組成物を前記基材層の表面に塗布し、例えば100℃〜200℃、好ましくは120℃〜180℃で、例えば10秒間〜240秒間、好ましくは30秒間〜120秒間加熱することにより得られる。当該硬化物が、前記表面層を形成する。塗布される前記フッ素系樹脂組成物の量は、形成されるべき表面層の厚みに応じて、当業者により適宜設定されてよい。
The fluorine-based resin composition can be produced by mixing and stirring the components described above by means known to those skilled in the art. Mixers such as high speed mixers, homomixers, and paint shakers can be used for the mixing and stirring. For the mixing and stirring, a dissolver such as an edge turbine type high-speed dissolver may be used.
The cured product of the fluorine-based resin composition is prepared by applying the fluorine-based resin composition to the surface of the base material layer, for example, at 100 ° C. to 200 ° C., preferably 120 ° C. to 180 ° C., for example, 10 seconds to 240 seconds. It is preferably obtained by heating for 30 seconds to 120 seconds. The cured product forms the surface layer. The amount of the fluororesin composition to be applied may be appropriately set by those skilled in the art according to the thickness of the surface layer to be formed.

成形体側表面層の形状について、図4を参照して説明する。成形体側表面層を形成するフッ素系樹脂組成物は、基材層上に施与される。施与直後は、図4(a)に示されるとおり、当該樹脂組成物は液状であり、当該組成物中に粒子が存在している。当該樹脂組成物を、上記のとおり加熱することによって、当該組成物中の溶剤が揮発し、図4(b)の状態となり、粒子に起因する形状が現れてくる。最終的には、当該組成物の硬化物は、図4(c)に示されるような表面状態を有し、すなわち、粒子に起因する凹凸形状が現れる。図4(d)の模式図に示されるとおり、前記離型フィルムは、基材層401上に、粒子に起因する凹凸を有する成形体側表面層402を有する。以上のとおり、本発明の組合せを構成する離型フィルムは、粒子に起因する凹凸が形成されている成形体側表面層を有する。 The shape of the surface layer on the molded body side will be described with reference to FIG. The fluorine-based resin composition forming the surface layer on the molded body side is applied onto the base material layer. Immediately after the application, as shown in FIG. 4A, the resin composition is in a liquid state, and particles are present in the composition. By heating the resin composition as described above, the solvent in the composition is volatilized, and the state shown in FIG. 4B is obtained, and the shape caused by the particles appears. Finally, the cured product of the composition has a surface condition as shown in FIG. 4 (c), that is, an uneven shape due to particles appears. As shown in the schematic view of FIG. 4D, the release film has a molded body side surface layer 402 having irregularities due to particles on the base material layer 401. As described above, the release film constituting the combination of the present invention has a molded body side surface layer on which irregularities due to particles are formed.

[金型側表面層] [Mold side surface layer]

金型側表面層103も、粒子を含むフッ素系樹脂から形成されていてよい。本発明の好ましい実施態様に従い、前記フッ素系樹脂は塩素を含まない。当該フッ素系樹脂は、好ましくは四フッ化エチレン系樹脂を含み、より好ましくは四フッ化エチレン系樹脂を主成分として含む。当該フッ素系樹脂は、例えば反応性官能基含有フッ素系重合体と硬化剤とを含むフッ素系樹脂組成物の硬化物でありうる。 The mold side surface layer 103 may also be formed of a fluorine-based resin containing particles. According to a preferred embodiment of the present invention, the fluororesin does not contain chlorine. The fluorine-based resin preferably contains a tetrafluoroethylene-based resin, and more preferably contains a tetrafluoroethylene-based resin as a main component. The fluorine-based resin can be, for example, a cured product of a fluorine-based resin composition containing a reactive functional group-containing fluorine-based polymer and a curing agent.

前記フッ素系樹脂組成物に含まれる前記反応性官能基含有フッ素系重合体に関して、上記で述べた成形体側表面層102に含まれる反応性官能基含有フッ素系重合体についての説明が全て当てはまるので、当該反応性官能基含有フッ素系重合体についての説明は省略する。 With respect to the reactive functional group-containing fluoropolymer contained in the fluororesin composition, all the descriptions of the reactive functional group-containing fluoropolymer contained in the surface layer 102 on the molded body side described above apply. The description of the reactive functional group-containing fluoropolymer will be omitted.

前記フッ素系樹脂組成物に含まれる前記硬化剤に関しても、上記で述べた成形体側表面層102に含まれる硬化剤の種類及び含有量についての説明が当てはまるので、当該反応性官能基含有フッ素系重合体についての説明は省略する。 As for the curing agent contained in the fluororesin composition, the description about the type and content of the curing agent contained in the surface layer 102 on the molded body side described above applies, so that the reactive functional group-containing fluorine-based weight The description of coalescence is omitted.

前記金型側表面層を形成するフッ素系樹脂は、粒子を含み、好ましくはレーザー回折式粒度分析測定法に従い測定された平均粒径が1μm〜10μm、より好ましくは2μm〜9μmである粒子を含む。前記平均粒径は、体積で重みづけされた体積平均径であり、JIS Z8825に従い測定されるものである。当該粒子を含むことによって、前記離型フィルムの離型性を高めることができる。また、前記粒子の平均粒径が前記数値範囲の上限値よりも高い場合、離型性の低下又は前記フッ素系樹脂からの前記粒子の脱落が起こりうる。さらに、前記粒子の平均粒径が前記数値範囲の上限値よりも高い場合、例えば当該フッ素系樹脂を基材層に塗工する際にスジが発生し、離型フィルムの製造が困難になりうる。 The fluorine-based resin forming the mold-side surface layer contains particles, and preferably contains particles having an average particle size of 1 μm to 10 μm, more preferably 2 μm to 9 μm, measured according to a laser diffraction particle size analysis measurement method. .. The average particle size is a volume average diameter weighted by volume and is measured according to JIS Z8825. By including the particles, the releasability of the release film can be enhanced. Further, when the average particle size of the particles is higher than the upper limit of the numerical range, the releasability may be lowered or the particles may fall off from the fluororesin. Further, when the average particle size of the particles is higher than the upper limit of the numerical range, for example, when the fluorine-based resin is applied to the base material layer, streaks may occur, which may make it difficult to manufacture a release film. ..

前記粒子は、好ましくは無機粒子又は有機粒子である。無機粒子として、例えば二酸化ケイ素(特には非晶質二酸化ケイ素)、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、リン酸カルシウム、カオリン、タルク、酸化アルミニウム、酸化チタン、アルミナ、硫酸バリウム、フッ化カルシウム、フッ化リチウム、ゼオライト、及び硫化モリブデンを挙げることができる。有機粒子として、例えば架橋高分子粒子及びシュウ酸カルシウムを挙げることができる。本発明において、前記粒子は好ましくは無機粒子であり、より好ましくは二酸化ケイ素粒子であり、さらにより好ましくは非晶質二酸化ケイ素である。非晶質二酸化ケイ素はゾルゲルタイプのシリカでありうる。非晶質二酸化ケイ素として、例えばサイシリアシリーズの非晶質二酸化ケイ素を用いることができる。 The particles are preferably inorganic particles or organic particles. Inorganic particles include, for example, silicon dioxide (particularly amorphous silicon dioxide), calcium carbonate, magnesium carbonate, calcium phosphate, kaolin, talc, aluminum oxide, titanium oxide, alumina, barium sulfate, calcium fluoride, lithium fluoride, zeolite, And molybdenum sulfide can be mentioned. Examples of the organic particles include crosslinked polymer particles and calcium oxalate. In the present invention, the particles are preferably inorganic particles, more preferably silicon dioxide particles, and even more preferably amorphous silicon dioxide. Amorphous silicon dioxide can be sol-gel type silica. As the amorphous silicon dioxide, for example, the amorphous silicon dioxide of the Cycilia series can be used.

前記フッ素系樹脂組成物中の前記粒子の含有量は、前記反応性官能基含有フッ素系重合体100質量部に対して、例えば3質量部〜30質量部、好ましくは5質量部〜25質量部、より好ましくは10質量部〜20質量部でありうる。これらの数値範囲は、当該フッ素樹脂組成物の硬化物中の前記粒子の含有量についても当てはまる。前記含有量が上記数値範囲内にあることが、前記離型フィルムの離型性の向上に寄与する。
前記粒子の含有量は、熱重量分析法(TGA)により測定されてよい。
The content of the particles in the fluororesin composition is, for example, 3 parts by mass to 30 parts by mass, preferably 5 parts by mass to 25 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the reactive functional group-containing fluorine-based polymer. , More preferably 10 parts by mass to 20 parts by mass. These numerical ranges also apply to the content of the particles in the cured product of the fluororesin composition. When the content is within the above numerical range, it contributes to the improvement of the releasability of the releasable film.
The content of the particles may be measured by thermogravimetric analysis (TGA).

前記フッ素系樹脂組成物は、溶剤を含みうる。溶剤の種類は当業者により適宜選択されてよい。溶剤として、例えば酢酸ブチル、酢酸エチル、及びメチルエチルケトン(MEKともいう)を挙げることができる。例えば、これら3種の混合物が、前記溶剤として用いられうる。この混合物が、前記フッ素系樹脂組成物の調製に適している。 The fluororesin composition may contain a solvent. The type of solvent may be appropriately selected by those skilled in the art. Examples of the solvent include butyl acetate, ethyl acetate, and methyl ethyl ketone (also referred to as MEK). For example, a mixture of these three types can be used as the solvent. This mixture is suitable for preparing the fluororesin composition.

前記フッ素系樹脂組成物は、離型促進剤を含みうる。離型促進剤として、例えば、アミノ変性メチルポリシロキサン、エポキシ変性メチルポリシロキサン、カルボキシ変性メチルポリシロキサン、及びカルビノール変性メチルポリシロキサンを挙げることができる。好ましくは、離型促進剤はアミノ変性メチルポリシロキサンである。
離型促進剤は、前記反応性官能基含有フッ素系重合体100質量部に対して、例えば0.01質量部〜3質量部、好ましくは0.05質量部〜2質量部、より好ましくは0.1質量部〜1質量部でありうる。これらの数値範囲は、当該フッ素樹脂組成物の硬化物中の前記離型促進剤の含有量についても当てはまる。
好ましくは、金型側表面層を形成する為に用いられる前記フッ素系樹脂組成物は離型促進剤を含まない。
The fluororesin composition may contain a mold release accelerator. Examples of the release accelerator include amino-modified methylpolysiloxane, epoxy-modified methylpolysiloxane, carboxy-modified methylpolysiloxane, and carbinol-modified methylpolysiloxane. Preferably, the release accelerator is an amino-modified methylpolysiloxane.
The release accelerator is, for example, 0.01 part by mass to 3 parts by mass, preferably 0.05 part by mass to 2 parts by mass, and more preferably 0, based on 100 parts by mass of the reactive functional group-containing fluorine-based polymer. It can be 1 part by mass to 1 part by mass. These numerical ranges also apply to the content of the release accelerator in the cured product of the fluororesin composition.
Preferably, the fluororesin composition used to form the mold side surface layer does not contain a mold release accelerator.

前記金型側表面層の厚みは、例えば1μm〜10μmであり、好ましくは2〜9μmであり、より好ましくは3μm〜8μmでありうる。 The thickness of the mold-side surface layer can be, for example, 1 μm to 10 μm, preferably 2 to 9 μm, and more preferably 3 μm to 8 μm.

前記フッ素系樹脂組成物の製造方法は、成形体側表面層102を形成するために用いられるフッ素系樹脂組成物の製造方法についての説明が全て当てはまるので、当該製造方法についての説明は省略する。 Since all the descriptions of the method for producing the fluorine-based resin composition used for forming the surface layer 102 on the molded body side apply to the method for producing the fluorine-based resin composition, the description of the production method will be omitted.

本技術の一つの好ましい実施態様において、前記成形体側表面層は、前記反応性官能基含有フッ素系重合体(特には水酸基含有四フッ化エチレン系重合体)と前記硬化剤と前記粒子と前記離型促進剤とを含むフッ素系樹脂組成物の硬化物から形成されている。また、前記金型側表面層は、前記反応性官能基含有フッ素系重合体(特には水酸基含有四フッ化エチレン系重合体)と前記硬化剤と前記粒子とを含むフッ素系樹脂組成物の硬化物から形成されている。
より好ましくは、前記成形体側表面層は、水酸基含有四フッ化エチレン系重合体とHDI系ポリイソシアネートと二酸化ケイ素粒子とアミノ変性メチルポリシロキサンとを含むフッ素系樹脂組成物の硬化物から形成されている。また、前記金型側表面層は、水酸基含有四フッ化エチレン系重合体とHDI系ポリイソシアネートと二酸化ケイ素粒子とを含むフッ素系樹脂組成物の硬化物から形成されている。
前記離型フィルムがこのような2つの表面層を有することが、本発明の組合せによる成形体の表面状態の調整を可能とすること及び/又は前記離型フィルムの離型性を向上することに特に寄与する。
In one preferred embodiment of the present technology, the molded product side surface layer is formed from the reactive functional group-containing fluorine-based polymer (particularly, a hydroxyl group-containing tetrafluoroethylene-based polymer), the curing agent, the particles, and the separation. It is formed from a cured product of a fluororesin composition containing a mold accelerator. Further, the surface layer on the mold side is a curing of a fluorine-based resin composition containing the reactive functional group-containing fluorine-based polymer (particularly, a hydroxyl group-containing tetrafluoroethylene-based polymer), the curing agent, and the particles. It is made of things.
More preferably, the molded product side surface layer is formed from a cured product of a fluororesin composition containing a hydroxyl group-containing tetrafluoroethylene-based polymer, HDI-based polyisocyanate, silicon dioxide particles, and amino-modified methylpolysiloxane. There is. The mold-side surface layer is formed from a cured product of a fluorine-based resin composition containing a hydroxyl group-containing tetrafluoroethylene-based polymer, HDI-based polyisocyanate, and silicon dioxide particles.
The fact that the release film has such two surface layers makes it possible to adjust the surface state of the molded body by the combination of the present invention and / or improves the releasability of the release film. Especially contributes.

[離型フィルムの特徴] [Characteristics of release film]

本発明の好ましい実施態様に従い、前記離型フィルムの引張破断強度は、JIS K7127に従い175℃で測定された場合に、40MPa〜200MPaであり、より好ましくは40MPa〜120MPaであり、さらにより好ましくは40MPa〜110MPaであり、特に好ましくは45MPa〜100MPaであり、且つ、前記離型フィルムの引張破断伸びが、JIS K7127に従い175℃で測定された場合に、200%〜500%であり、より好ましくは250%〜450%であり、さらにより好ましくは300%〜400%でありうる。
前記離型フィルムの引張破断強度及び引張破断伸びが上記数値範囲内にあることが、本発明の組合せによる表面形状の調整のために適している。
According to a preferred embodiment of the present invention, the tensile breaking strength of the release film is 40 MPa to 200 MPa, more preferably 40 MPa to 120 MPa, still more preferably 40 MPa when measured at 175 ° C. according to JIS K7127. It is ~ 110 MPa, particularly preferably 45 MPa ~ 100 MPa, and the tensile elongation at break of the release film is 200% to 500%, more preferably 250 when measured at 175 ° C. according to JIS K7127. It can be% to 450%, and even more preferably 300% to 400%.
It is suitable for adjusting the surface shape by the combination of the present invention that the tensile breaking strength and the tensile breaking elongation of the release film are within the above numerical ranges.

前記離型フィルムのガス(O)透過性は、JIS K7126−1に従い175℃で測定された場合に、例えば5000〜50000cc/m・24hr・atmであり、特には5000〜30000cc/m・24hr・atmであり、より特には5000〜20000cc/m・24hr・atm以下でありうる。前記離型フィルムは、このような低いガス透過性を有する。そのため、前記離型フィルムを用いて成形を行うことで、樹脂から生じるガスによる金型汚染が抑制される。 (O 2) gas permeability of the release film, when measured at 175 ° C. according to JIS K7126-1, for example 5000~50000cc / m 2 · 24hr · atm , particularly 5000~30000cc / m 2 · 24 hr or · an atm, more particularly can be a less 5000~20000cc / m 2 · 24hr · atm . The release film has such low gas permeability. Therefore, by performing molding using the release film, mold contamination by the gas generated from the resin is suppressed.

前記離型フィルムの厚みは、例えば30μm〜100μmであり、好ましくは35μm〜90μmであり、より好ましくは40μm〜80μmでありうる。前記離型フィルムの厚みが上記数値範囲内にあることによって、金型表面の凹凸形状が、成形体に反映されやすくなる。 The thickness of the release film can be, for example, 30 μm to 100 μm, preferably 35 μm to 90 μm, and more preferably 40 μm to 80 μm. When the thickness of the release film is within the above numerical range, the uneven shape of the mold surface is easily reflected in the molded body.

前記離型フィルムは、1回の成形に用いられてよく、又は、複数回の成形に用いられてもよい。前記離型フィルムは、例えば2回以上、好ましくは4回以上、より好ましくは5回以上、より好ましくは6回以上、さらにより好ましくは8回以上の成形のために用いられうる。前記離型フィルムは、例えば2回〜20回、好ましくは4回〜15回、より好ましくは5回〜15回、より好ましくは6回〜15回、さらにより好ましくは8回〜12回の成形のために用いられうる。前記離型フィルムは複数回の離型を通じてその性能を維持し且つ破れにくい。そのため、複数回の成形に前記離型フィルムを用いることができる。これにより、成形コストを削減することができる。
また、ポリエステル系樹脂(特にはPET樹脂)にはオリゴマーが含まれ、当該オリゴマーは成形において(特には当該樹脂を含む離型フィルムを複数回の成形に繰り返し用いた場合に)、金型及び/又は成形体を汚染しうる。しかしながら、前記離型フィルムは、基材層を形成する熱可塑性樹脂がポリエステル系樹脂である場合であっても、成形における金型及び/又は成形体の汚染が起こりにくい。前記離型フィルムは、同フィルムを複数回の成形に繰り返し用いた場合であっても、金型及び/又は成形体の汚染が起こりにくい。当該低汚染性は、特にはフッ素系樹脂から形成されている表面層によるものと考えられる。
The release film may be used for one molding, or may be used for a plurality of moldings. The release film can be used for molding, for example, 2 times or more, preferably 4 times or more, more preferably 5 times or more, more preferably 6 times or more, and even more preferably 8 times or more. The release film is molded, for example, 2 to 20 times, preferably 4 to 15 times, more preferably 5 to 15 times, more preferably 6 to 15 times, and even more preferably 8 to 12 times. Can be used for. The release film maintains its performance through multiple release and is not easily torn. Therefore, the release film can be used for a plurality of moldings. As a result, the molding cost can be reduced.
Further, the polyester resin (particularly PET resin) contains an oligomer, and the oligomer can be used in molding (particularly when a release film containing the resin is repeatedly used in a plurality of moldings) in a mold and /. Or it can contaminate the molded product. However, in the release film, even when the thermoplastic resin forming the base material layer is a polyester resin, contamination of the mold and / or the molded product during molding is unlikely to occur. The release film is less likely to contaminate the mold and / or the molded product even when the film is repeatedly used for molding a plurality of times. The low pollution property is considered to be due to the surface layer formed of the fluororesin in particular.

[離型フィルムの製造方法]
前記離型フィルムの製造方法、前記基材層の2つの面にフッ素系樹脂組成物を塗布する塗布工程と、当該塗布工程後に、前記フッ素系樹脂組成物を硬化させる硬化工程とを含む。
塗布工程において用いられる基材層及びフッ素系樹脂組成物については、以上で述べた内容が当てはまるので、これらについての説明は省略する。
前記塗布工程は、所望の層厚を達成するように当業者により適宜行われてよい。例えば、前記フッ素系樹脂組成物は、グラビアロール法、リバースロール法、オフセットグラビア法、キスコート法、リバースキスコート法、ワイヤーバーコート法、スプレーコート法、又は含浸法により前記基材層の2つの面に塗布されうる。これらの方法による塗布を行うための装置は、当業者により適宜選択されてよい。
当該硬化工程は、前記フッ素系樹脂組成物を、例えば100℃〜200℃、好ましくは120℃〜180℃で、例えば10秒間〜240秒間、好ましくは30秒間〜120秒間加熱することを含む。当該加熱によって、前記フッ素系樹脂組成物が硬化される。
[Manufacturing method of release film]
The method for producing the release film includes a coating step of applying the fluorine-based resin composition to the two surfaces of the base material layer, and a curing step of curing the fluorine-based resin composition after the coating step.
Since the contents described above apply to the base material layer and the fluorine-based resin composition used in the coating step, the description thereof will be omitted.
The coating step may be appropriately performed by those skilled in the art so as to achieve a desired layer thickness. For example, the fluorine-based resin composition has two of the base material layers by a gravure roll method, a reverse roll method, an offset gravure method, a kiss coating method, a reverse kiss coating method, a wire bar coating method, a spray coating method, or an impregnation method. Can be applied to the surface. A device for performing coating by these methods may be appropriately selected by those skilled in the art.
The curing step comprises heating the fluororesin composition at, for example, 100 ° C. to 200 ° C., preferably 120 ° C. to 180 ° C., for example, 10 seconds to 240 seconds, preferably 30 seconds to 120 seconds. The heating cures the fluororesin composition.

1−3.金型 1-3. Mold

本発明の組合せを構成する金型は、前記熱硬化性樹脂の硬化において前記離型フィルムが接触する金型表面に凹凸が形成されている。当該凹凸が、前記離型フィルムを介して、前記熱硬化性樹脂の表面に反映される。このように、当該凹凸は、前記熱硬化性樹脂の表面に間接的に反映される。そのため、前記熱硬化性樹脂の硬化物の表面に形成される凹凸は、前記金型の凹凸と異なりうる。 In the mold constituting the combination of the present invention, irregularities are formed on the surface of the mold with which the release film comes into contact during the curing of the thermosetting resin. The unevenness is reflected on the surface of the thermosetting resin via the release film. As described above, the unevenness is indirectly reflected on the surface of the thermosetting resin. Therefore, the unevenness formed on the surface of the cured product of the thermosetting resin may be different from the unevenness of the mold.

本発明の一つの実施態様に従い、前記凹凸は、前記成形において前記離型フィルムが接触する前記金型表面の一部に設けられてよい。例えば、前記金型表面のうち、表面調整が行われることが必要とされる成形体表面部分をカバーする領域だけに、前記凹凸が設けられてよい。これにより、金型表面のうち凹凸が形成される面積を減らすことができ、金型の製造コストを削減可能である。
本発明の他の実施態様に従い、前記凹凸は、前記成形において前記離型フィルムが接触する前記金型表面の全体に設けられていてもよい。
According to one embodiment of the present invention, the unevenness may be provided on a part of the mold surface that the release film comes into contact with in the molding. For example, the unevenness may be provided only in the region of the mold surface that covers the surface portion of the molded product that needs to be surface-adjusted. As a result, it is possible to reduce the area of the mold surface where irregularities are formed, and it is possible to reduce the manufacturing cost of the mold.
According to another embodiment of the present invention, the unevenness may be provided on the entire surface of the mold with which the release film comes into contact in the molding.

前記金型の、前記硬化において前記離型フィルムと接触する面の表面粗さRaが、好ましくは1μm〜4μmであり、より好ましくは1.2μm〜3.8μmであり、特に好ましくは1.4μm〜3.6μmでありうる。前記凹凸を有する金型表面が、上記数値範囲内の表面粗さを有することによって、前記凹凸が、前記離型フィルムを介して前記熱硬化性樹脂の硬化物の表面に反映されやすくなる。前記表面粗さが小さすぎる場合、表面調整が出来なくなりうる。また、前記表面粗さが大きすぎる場合、離型フィルムが金型から離れにくくなることがあり、及び/又は、成形において離型フィルムに破れが生じうる。また、前記表面粗さが大きすぎる場合、金型表面の粗さが不均一になり、成形体の外観に悪影響を及ぼしうる。
本明細書内において、表面粗さRaは、JIS B0601に従い測定される。
The surface roughness Ra of the surface of the mold that comes into contact with the release film during the curing is preferably 1 μm to 4 μm, more preferably 1.2 μm to 3.8 μm, and particularly preferably 1.4 μm. It can be ~ 3.6 μm. When the surface of the mold having the unevenness has a surface roughness within the numerical range, the unevenness is easily reflected on the surface of the cured product of the thermosetting resin via the release film. If the surface roughness is too small, the surface adjustment may not be possible. Further, if the surface roughness is too large, the release film may be difficult to separate from the mold, and / or the release film may be torn during molding. Further, if the surface roughness is too large, the surface roughness of the mold becomes non-uniform, which may adversely affect the appearance of the molded product.
In the present specification, the surface roughness Ra is measured according to JIS B0601.

前記金型表面の凹凸は、例えば放電加工(EDM)又はショットブラストなど当技術分野で既知の手法により形成されてよいが、好ましくは放電加工(EDM)によって形成されうる。放電加工は、上記数値範囲内の表面粗さRaを有する面を形成するために適している。当該放電加工は、例えば上記で述べたような表面粗さを金属表面に付与するために特に適している。当該放電加工は、当技術分野で既知の手法及び装置により行われてよく、所望の凹凸が形成されるように放電加工装置を設定して、放電加工処理を行うことによって、当該凹凸が金型表面に形成されうる。 The unevenness of the mold surface may be formed by a method known in the art such as electric discharge machining (EDM) or shot blasting, but is preferably formed by electric discharge machining (EDM). Electric discharge machining is suitable for forming a surface having a surface roughness Ra within the above numerical range. The electric discharge machining is particularly suitable for imparting surface roughness as described above to a metal surface, for example. The electric discharge machining may be performed by a method and an apparatus known in the art, and by setting the electric discharge machining apparatus so that a desired unevenness is formed and performing the electric discharge machining process, the unevenness is formed into a mold. Can be formed on the surface.

前記金型の材料は、例えば熱硬化性樹脂の種類及び/又は成形体の形状などに応じて、当業者により適宜選択されてよい。前記金型の材料は、例えばトランスファーモールド成形又はコンプレッションモールド成形において通常用いられる材料から選択されてよい。前記金型の材料は、例えばマルテンサイト系ステンレス鋼であり、より具体的にはSUS404Cでありうる。前記金型の硬度は、好ましくは50HRC以上であり、より好ましくは55HRC以上でありうる。前記金型は、当技術分野で既知の手法により製造されてよく、例えばNC切削により製造されうる。 The material of the mold may be appropriately selected by those skilled in the art depending on, for example, the type of thermosetting resin and / or the shape of the molded product. The mold material may be selected from, for example, materials commonly used in transfer molding or compression molding. The material of the mold may be, for example, martensitic stainless steel, more specifically SUS404C. The hardness of the mold is preferably 50 HRC or more, and more preferably 55 HRC or more. The mold may be manufactured by a method known in the art, for example by NC cutting.

前記金型は、好ましくは表面処理されている。当該表面処理の種類は、金型の材料に応じて当業者により適宜選択されてよい。前記金型の材料がマルテンサイト系ステンレス鋼である場合、当該金型は、例えば硬質クロームメッキ処理されうる。 The mold is preferably surface-treated. The type of the surface treatment may be appropriately selected by those skilled in the art depending on the material of the mold. When the material of the mold is martensitic stainless steel, the mold can be subjected to, for example, hard chrome plating.

2.離型フィルム 2. 2. Release film

本発明は、熱硬化性樹脂の硬化のために金型と組み合わせて用いられる離型フィルムも提供する。当該離型フィルムは、上記「1.金型と離型フィルムとの組合せ」において説明した本発明の組合せを構成する離型フィルムであり、当該説明の全てが本発明の離型フィルムにも当てはまる。 The present invention also provides a release film used in combination with a mold for curing a thermosetting resin. The release film is a release film constituting the combination of the present invention described in "1. Combination of mold and release film", and all of the explanations also apply to the release film of the present invention. ..

本発明の離型フィルムを、上記「1.金型と離型フィルムとの組合せ」において説明した金型と組み合わせて熱硬化性樹脂の硬化において用いることで、当該熱硬化性樹脂の硬化物からなる成形体の表面状態を調整することができる。本発明の離型フィルムは、前記金型の表面の凹凸を成形体に反映するために適している。
また、本発明の離型フィルムは、離型性に優れている。前記金型表面のうち、前記硬化において前記離型フィルムと接触する部分には凹凸が設けられているにもかかわらず、当該離型フィルムは、前記金型からスムーズに離れる。
By using the release film of the present invention in the curing of a thermosetting resin in combination with the mold described in "1. Combination of a mold and a release film" above, a cured product of the thermosetting resin can be obtained. The surface condition of the molded product can be adjusted. The release film of the present invention is suitable for reflecting the unevenness of the surface of the mold on the molded product.
Further, the release film of the present invention is excellent in releasability. The release film is smoothly separated from the mold even though the portion of the mold surface that comes into contact with the release film during the curing is provided with irregularities.

3.金型 3. 3. Mold

本発明は、熱硬化性樹脂の硬化のために、離型フィルムと組み合わせて用いられる金型も提供する。当該金型は、上記「1.金型と離型フィルムとの組合せ」において説明した本発明の組合せを構成する金型であり、当該説明の全てが本発明の金型にも当てはまる。 The present invention also provides a mold used in combination with a release film for curing a thermosetting resin. The mold is a mold constituting the combination of the present invention described in "1. Combination of mold and mold release film", and all of the explanations also apply to the mold of the present invention.

本発明の金型を、上記「1.金型と離型フィルムとの組合せ」において説明した離型フィルムと組み合わせて熱硬化性樹脂の硬化において用いることで、当該熱硬化性樹脂の硬化物からなる成形体の表面状態を調整することができる。 By using the mold of the present invention in the curing of a thermosetting resin in combination with the mold release film described in "1. Combination of mold and mold release film", the cured product of the thermosetting resin can be obtained. The surface condition of the molded product can be adjusted.

4.成形体の製造方法 4. Manufacturing method of molded product

本発明は、成形体の製造方法を提供する。当該製造方法は、熱硬化性樹脂を硬化させるために用いられる金型内に、離型フィルムを配置する配置工程と、前記配置工程後に、前記熱硬化性樹脂を前記金型内で、前記離型フィルムに接触した状態で硬化させる硬化工程と、前記硬化工程後に、前記金型から、硬化した前記熱硬化性樹脂を離型して成形体を得る離型工程とを含む。 The present invention provides a method for producing a molded product. The manufacturing method includes an arrangement step of arranging a release film in a mold used for curing a thermosetting resin, and a release of the thermosetting resin in the mold after the arrangement step. It includes a curing step of curing in contact with a mold film, and a mold removing step of removing the cured thermosetting resin from the mold after the curing step to obtain a molded product.

本発明の製造方法において用いられる前記金型及び前記離型フィルムは、上記「1.金型と離型フィルムとの組合せ」において説明した本発明の組合せを構成する金型及び離型フィルムであり、当該説明の全てが本発明の製造方法においても当てはまる。前記成形体の製造方法は、例えばトランスファーモールド成形方式に従うものであってよく又はコンプレッションモールド成形方式に従うものであってもよいが、これらに限定されない。 The mold and the release film used in the production method of the present invention are the mold and the release film constituting the combination of the present invention described in the above "1. Combination of the mold and the release film". , All of the above description also applies to the manufacturing method of the present invention. The method for producing the molded product may, for example, follow a transfer molding method or a compression molding method, but is not limited thereto.

前記配置工程において、前記金型内に前記離型フィルムが配置される。前記離型フィルムの前記成形体側表面層が前記熱硬化性樹脂に接触し且つ前記金型側表面層が前記金型の前記凹凸が形成されている表面に接触するように、前記離型フィルムが前記金型内に配置されうる。例えば、上記「1−1.本発明の組合せの使用方法」において説明した図1(A)又は図3(A)に示される状態となるにように、前記配置工程において前記離型フィルムが配置されうる。 In the arrangement step, the release film is arranged in the mold. The release film is formed so that the surface layer on the molded body side of the release film is in contact with the thermosetting resin and the surface layer on the mold side is in contact with the surface on which the unevenness of the mold is formed. It can be placed in the mold. For example, the release film is arranged in the arrangement step so as to be in the state shown in FIG. 1 (A) or FIG. 3 (A) described in the above "1-1. How to use the combination of the present invention". Can be done.

前記配置工程の後に、前記離型フィルムが、前記金型の前記凹凸が形成されている表面に、例えば吸引によって貼り付けられうる。当該貼り付けに先立ち、前記離型フィルムは加熱により軟化されてもよい。 After the placement step, the release film can be attached to the surface of the mold on which the irregularities are formed, for example by suction. Prior to the application, the release film may be softened by heating.

前記硬化工程において、前記熱硬化性樹脂が前記金型内で硬化される。
例えばトランスファーモールド成形において、当該硬化に先立ち、金型内から前記熱硬化性樹脂が漏れ出さないように、閉空間が形成されうる。例えば、図1(B)に示されるとおり、上側金型及び下側金型を閉じて閉空間が形成される。そして、当該閉空間内に、図1(C)に示されるとおり、前記熱硬化性樹脂が導入され、そして、前記熱硬化性樹脂が加熱により硬化されうる。
例えばコンプレッションモールド成形において、当該硬化に先立ち、金型内に熱硬化性樹脂が導入されうる。例えば、図3(B)に示されるとおり、下側金型の窪み内に熱硬化性樹脂が導入されうる。そして、図3(C)に示されるとおり、半導体素子搭載基板を有する上側金型を下側金型に向けて移動させて、これら金型を閉じる。これら金型が閉じられた状態で、前記熱硬化性樹脂が加熱により硬化される。
In the curing step, the thermosetting resin is cured in the mold.
For example, in transfer molding, a closed space can be formed so that the thermosetting resin does not leak from the mold prior to the curing. For example, as shown in FIG. 1 (B), the upper mold and the lower mold are closed to form a closed space. Then, as shown in FIG. 1C, the thermosetting resin is introduced into the closed space, and the thermosetting resin can be cured by heating.
For example, in compression molding, a thermosetting resin can be introduced into a mold prior to the curing. For example, as shown in FIG. 3B, the thermosetting resin can be introduced into the recess of the lower mold. Then, as shown in FIG. 3C, the upper mold having the semiconductor element mounting substrate is moved toward the lower mold, and these molds are closed. With these molds closed, the thermosetting resin is cured by heating.

前記硬化工程において、前記熱硬化性樹脂の表面に、前記金型の表面に形成された凹凸形状が間接的に反映され、且つ、前記離型フィルムの表面形状(特には成形体側表面層中に含まれる粒子に起因する表面形状)が、前記熱硬化性樹脂の表面に直接的に反映される。前記凹凸形状及び前記表面形状が前記熱硬化性樹脂の表面に反映された状態で、前記熱硬化性樹脂が硬化される。すなわち、当該硬化の結果得られた成形体の表面に、前記凹凸形状及び前記表面形状が反映される。このようにして、成形体の表面状態が調整される。 In the curing step, the uneven shape formed on the surface of the mold is indirectly reflected on the surface of the thermosetting resin, and the surface shape of the release film (particularly in the surface layer on the molded body side). The surface shape caused by the contained particles) is directly reflected on the surface of the thermosetting resin. The thermosetting resin is cured in a state where the uneven shape and the surface shape are reflected on the surface of the thermosetting resin. That is, the uneven shape and the surface shape are reflected on the surface of the molded product obtained as a result of the curing. In this way, the surface condition of the molded product is adjusted.

前記離型工程において、前記金型から、硬化した前記熱硬化性樹脂(成形体)を離型する。例えば、当該成形体から、図1(D)又は図3(D)に示されるとおり、前記凹凸が形成された表面を有する金型を離れる。 In the mold release step, the cured thermosetting resin (molded product) is released from the mold. For example, as shown in FIG. 1 (D) or FIG. 3 (D), the molded product leaves the mold having the surface on which the unevenness is formed.

本発明の製造方法は、前記離型工程後に、上記のとおりに表面状態が調整された前記成形体表面にレーザマーカによる印字を行う印字工程をさらに含んでもよい。本発明に従う製造方法により、レーザマーカによる印字の視認性又は可読性を向上することができる。前記印字の文字高さは例えば0.1mm〜10mm、好ましくは0.2mm〜5mmでありうる。前記印字の文字高さは特には0.5mm〜3mmであってもよい。本発明に従う製造方法により得られる成形体の表面は、このような小さい文字の視認性又は可読性を高めることができる。 The manufacturing method of the present invention may further include a printing step of printing with a laser marker on the surface of the molded product whose surface state has been adjusted as described above after the mold release step. By the manufacturing method according to the present invention, the visibility or readability of printing by the laser marker can be improved. The character height of the print may be, for example, 0.1 mm to 10 mm, preferably 0.2 mm to 5 mm. The character height of the print may be particularly 0.5 mm to 3 mm. The surface of the molded product obtained by the manufacturing method according to the present invention can enhance the visibility or readability of such small characters.

以上の工程によって、表面状態が調整された成形体が得られる。 By the above steps, a molded product having an adjusted surface condition can be obtained.

以下、実施例に基づいて本発明をより詳細に説明する。なお、以下に説明する実施例は、本発明の代表的な実施例の一例を示したものであり、本発明の範囲はこれらの実施例のみに限定されるものでない。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail based on Examples. The examples described below show examples of typical examples of the present invention, and the scope of the present invention is not limited to these examples.

実施例1:成形体の表面調整の例 Example 1: Example of surface adjustment of a molded product

(1)離型フィルムの製造 (1) Manufacture of release film

以下に述べるとおり、2種類の離型フィルムを製造した。 As described below, two types of release films were produced.

(1−1)離型フィルムの製造 (1-1) Manufacture of release film

基材層として、汎用ポリエチレンテレフタレート樹脂から形成されているフィルム(テトロンG2CW、帝人株式会社、厚み38μm)を用意した。
次に、当該フィルムに塗布するための2種類のフッ素系樹脂組成物(以下、第一フッ素系樹脂組成物及び第二フッ素系樹脂組成物という)を調製した。第一フッ素系樹脂組成物は、金型側表面層を形成するためものである。第二フッ素系樹脂組成物は、成形体側表面層を形成するためのものである。
第一フッ素系樹脂組成物は、水酸基含有四フッ化エチレン系重合体含有組成物100質量部(ゼッフルGK570、ダイキン工業株式会社、このうち65質量%が水酸基含有四フッ化エチレン系重合体である)、非晶質二酸化ケイ素11.47質量部(サイシリア380、富士シリシア化学株式会社)、イソシアヌレート型ポリイソシアネート10質量部(硬化剤、スミジュールN3300、住友バイエルウレタン株式会社)、アダクト型ポリイソシアネート7.79質量部(硬化剤、デュラネートAE700−100)、酢酸ブチル6.18質量部、酢酸エチル44.62質量部、及びMEK89.25質量部を混合及び撹拌することにより調製された。前記非晶質二酸化ケイ素の平均粒径(上記体積平均径である)は、粒度分析測定装置(SALD−2200、株式会社島津製作所)を用いてレーザー回折式粒度分析測定法に従い測定されたときに、8.8μmであった。
第二フッ素系樹脂組成物は、前記第一フッ素系樹脂組成物にさらにアミノ変性メチルポリシロキサン0.31質量部(離型促進剤、信越化学工業株式会社)を追加したこと及び酢酸エチルの量を44.81質量部に変更したこと及びMEKの量を89.63質量部に変更したこと以外は、前記第一フッ素系樹脂組成物と同じである。
As a base material layer, a film (Tetron G2CW, Teijin Limited, thickness 38 μm) formed of a general-purpose polyethylene terephthalate resin was prepared.
Next, two types of fluorine-based resin compositions (hereinafter, referred to as a first fluorine-based resin composition and a second fluorine-based resin composition) for coating on the film were prepared. The first fluorine-based resin composition is for forming a surface layer on the mold side. The second fluorine-based resin composition is for forming a surface layer on the molded body side.
The first fluorine-based resin composition is 100 parts by mass (Zefle GK570, Daikin Industries, Ltd., of which 65% by mass is a hydroxyl group-containing ethylene tetrafluoride polymer) of the hydroxylated-containing ethylene tetrafluoride polymer-containing composition. ), 11.47 parts by mass of amorphous silicon dioxide (Cycilia 380, Fuji Silysia Chemical Ltd.), 10 parts by mass of isocyanurate type polyisocyanate (hardener, Sumijour N3300, Sumitomo Bayer Urethane Co., Ltd.), Adduct type polyisocyanate It was prepared by mixing and stirring 7.79 parts by mass (hardener, duranate AE700-100), 6.18 parts by mass of butyl acetate, 44.62 parts by mass of ethyl acetate, and 89.25 parts by mass of MEK. When the average particle size of the amorphous silicon dioxide (which is the volume average diameter) is measured according to the laser diffraction type particle size analysis measurement method using a particle size analyzer (SALD-2200, Shimadzu Corporation). , 8.8 μm.
As for the second fluororesin composition, 0.31 part by mass of amino-modified methylpolysiloxane (release accelerator, Shin-Etsu Chemical Industry Co., Ltd.) was added to the first fluororesin composition, and the amount of ethyl acetate was added. Is changed to 44.81 parts by mass and the amount of MEK is changed to 89.63 parts by mass, which is the same as that of the first fluororesin composition.

前記フィルムの一方の面に、前記第一フッ素系樹脂組成物を塗布し、且つ、前記フィルムの他方の面に、前記第二フッ素系樹脂組成物を塗布した。これらの塗布は、キスリバース方式の塗布装置を用いて行われた。前記塗布後に、これらの組成物を150℃にて60秒間加熱することによって硬化して、汎用PET樹脂フィルムの両面にフッ素系樹脂層が積層された離型フィルム(以下、「離型フィルム1」という)を得た。 The first fluorine-based resin composition was applied to one surface of the film, and the second fluorine-based resin composition was applied to the other surface of the film. These coatings were performed using a kiss-reverse coating device. After the coating, these compositions are cured by heating at 150 ° C. for 60 seconds, and a release film in which a fluorine-based resin layer is laminated on both sides of a general-purpose PET resin film (hereinafter, “release film 1””. ) Was obtained.

離型フィルム1の厚みは60±5μmであった。離型フィルム1中の基材層の厚みは38μm±10%であった。離型フィルム1の2つの表面層のうち、金型側表面層の厚みは5.5±0.5μmであり、且つ、成形体側表面層の厚みは5.5±0.5μmであった。 The thickness of the release film 1 was 60 ± 5 μm. The thickness of the base material layer in the release film 1 was 38 μm ± 10%. Of the two surface layers of the release film 1, the thickness of the mold side surface layer was 5.5 ± 0.5 μm, and the thickness of the molded body side surface layer was 5.5 ± 0.5 μm.

前記第一フッ素系樹脂組成物の硬化物(金型側表面層)は、前記水酸基含有四フッ化エチレン系重合体100質量部に対して、前記非晶質二酸化ケイ素を17.65質量部含み、前記イソシアヌレート型ポリイソシアネートを15.39質量部含み、且つ、前記アダクト型ポリイソシアネートを11.98質量部含んでいた。 The cured product (mold side surface layer) of the first fluorine-based resin composition contains 17.65 parts by mass of the amorphous silicon dioxide with respect to 100 parts by mass of the hydroxyl group-containing ethylene tetrafluoride polymer. , The isocyanurate-type polyisocyanate was contained in an amount of 15.39 parts by mass, and the adduct-type polyisocyanate was contained in an amount of 11.98 parts by mass.

前記第二フッ素系樹脂組成物の硬化物(成形体側表面層)は、前記水酸基含有四フッ化エチレン系重合体100質量部に対して、前記非晶質二酸化ケイ素を17.65質量部含み、前記イソシアヌレート型ポリイソシアネートを15.39質量部含み、前記アダクト型ポリイソシアネートを11.98質量部含み、且つ、アミノ変性メチルポリシロキサンを0.48質量部含んでいた。 The cured product (surface layer on the molded body side) of the second fluororesin composition contains 17.65 parts by mass of the amorphous silicon dioxide with respect to 100 parts by mass of the hydroxyl group-containing ethylene tetrafluoride polymer. It contained 15.39 parts by mass of the isocyanurate-type polyisocyanate, 11.98 parts by mass of the adduct-type polyisocyanate, and 0.48 parts by mass of an amino-modified methylpolysiloxane.

(1−2)離型フィルムの製造 (1-2) Manufacture of release film

上記(1−1)において述べた第二フッ素系樹脂組成物の組成を、以下のとおりに変更したこと以外は上記(1−1)と同じ方法で、離型フィルム(以下、「離型フィルム2」という)を製造した。
すなわち、第二フッ素系樹脂組成物は、水酸基含有四フッ化エチレン系重合体含有組成物100質量部(ゼッフルGK570、ダイキン工業株式会社、このうち65質量%が水酸基含有四フッ化エチレン系重合体である)、非晶質二酸化ケイ素3.42質量部(サイシリア430、富士シリシア化学株式会社)、イソシアヌレート型ポリイソシアネート10質量部(硬化剤、スミジュールN3300、住友バイエルウレタン株式会社)、アダクト型ポリイソシアネート7.79質量部(硬化剤、デュラネートAE700−100)、酢酸ブチル1.84質量部、酢酸エチル41.15質量部、MEK82.30質量部、及びアミノ変性メチルポリシロキサン0.11質量部(離型促進剤、信越化学工業株式会社)を混合及び撹拌することにより調製された。前記非晶質二酸化ケイ素の平均粒径(上記体積平均径である)は、粒度分析測定装置(SALD−2200、株式会社島津製作所)を用いてレーザー回折式粒度分析測定法に従い測定されたときに、4.1μmであった。
The release film (hereinafter, "release film") is formed in the same manner as in (1-1) above, except that the composition of the second fluorine-based resin composition described in (1-1) above is changed as follows. 2 ”) was manufactured.
That is, the second fluorine-based resin composition is 100 parts by mass of the hydroxyl group-containing ethylene tetrafluoride polymer-containing composition (Zeffle GK570, Daikin Industries, Ltd., of which 65% by mass is a hydroxyl group-containing ethylene tetrafluoride polymer. ), Amorphous silicon dioxide 3.42 parts by mass (Cycilia 430, Fuji Silysia Chemical Ltd.), Isocyanurate type polyisocyanate 10 parts by mass (hardener, Sumijour N3300, Sumitomo Bayer Urethane Co., Ltd.), Adduct type 7.79 parts by mass of polyisocyanate (hardener, duranate AE700-100), 1.84 parts by mass of butyl acetate, 41.15 parts by mass of ethyl acetate, 82.30 parts by mass of MEK, and 0.11 parts by mass of amino-modified methylpolysiloxane. (Separation accelerator, Shin-Etsu Chemical Industry Co., Ltd.) was prepared by mixing and stirring. The average particle size of the amorphous silicon dioxide (which is the volume average diameter) is measured according to a laser diffraction type particle size analysis measurement method using a particle size analyzer (SALD-2200, Shimadzu Corporation). It was 4.1 μm.

離型フィルム2の厚みは60±5μmであった。離型フィルム2中の基材層の厚みは38μm±10%であった。離型フィルム2の2つの表面層のうち、金型側表面層の厚みは5.5±0.5μmであり、且つ、成形体側表面層の厚みは3.5±0.5μmであった。 The thickness of the release film 2 was 60 ± 5 μm. The thickness of the base material layer in the release film 2 was 38 μm ± 10%. Of the two surface layers of the release film 2, the thickness of the surface layer on the mold side was 5.5 ± 0.5 μm, and the thickness of the surface layer on the molded body side was 3.5 ± 0.5 μm.

前記第一フッ素系樹脂組成物の硬化物(金型側表面層)は、前記水酸基含有四フッ化エチレン系重合体100質量部に対して、前記非晶質二酸化ケイ素を17.65質量部含み、前記イソシアヌレート型ポリイソシアネートを15.39質量部含み、且つ、前記アダクト型ポリイソシアネートを11.98質量部含んでいた。 The cured product (mold side surface layer) of the first fluorine-based resin composition contains 17.65 parts by mass of the amorphous silicon dioxide with respect to 100 parts by mass of the hydroxyl group-containing ethylene tetrafluoride polymer. , The isocyanurate-type polyisocyanate was contained in an amount of 15.39 parts by mass, and the adduct-type polyisocyanate was contained in an amount of 11.98 parts by mass.

前記第二フッ素系樹脂組成物の硬化物(成形体側表面層)は、前記水酸基含有四フッ化エチレン系重合体100質量部に対して、前記非晶質二酸化ケイ素を5.26質量部含み、前記イソシアヌレート型ポリイソシアネートを15.39質量部含み、前記アダクト型ポリイソシアネートを11.98質量部含み、且つ、アミノ変性メチルポリシロキサンを0.16質量部含んでいた。 The cured product (surface layer on the molded body side) of the second fluorine-based resin composition contains 5.26 parts by mass of the amorphous silicon dioxide with respect to 100 parts by mass of the hydroxyl group-containing ethylene tetrafluoride polymer. It contained 15.39 parts by mass of the isocyanurate-type polyisocyanate, 11.98 parts by mass of the adduct-type polyisocyanate, and 0.16 parts by mass of an amino-modified methylpolysiloxane.

(2)金型の製造 (2) Mold manufacturing

4つの金型を製造した。これら4つの金型はいずれも、上側金型及び下側金型の組合せからなるトランスファーモールド成形用の金型であり、上側金型のキャビティ表面に設けられた凹凸が異なること以外は同じ形状を有した。前記凹凸は、図1(A)の上側金型12の表面16に対応する位置に設けられた。前記凹凸はいずれも、放電加工により形成された。 Four molds were manufactured. All of these four molds are molds for transfer mold molding consisting of a combination of an upper mold and a lower mold, and have the same shape except that the irregularities provided on the cavity surface of the upper mold are different. Had. The unevenness was provided at a position corresponding to the surface 16 of the upper mold 12 of FIG. 1 (A). All of the irregularities were formed by electric discharge machining.

前記4つの金型の前記凹凸が設けられた領域の表面粗さRaは、JIS B0601に従い測定したところ、それぞれ2.0μm、2.5μm、3.0μm、及び3.5μmであった。表面粗さRaが2.0μmである表面を有する金型を以下で「金型1」という。表面粗さRaが2.5μm、3.0μm、及び3.5μmである金型について、同様に、それぞれ「金型2」、「金型3」、及び「金型4」という。 The surface roughness Ra of the uneven region of the four molds was 2.0 μm, 2.5 μm, 3.0 μm, and 3.5 μm, respectively, as measured according to JIS B0601. A mold having a surface having a surface roughness Ra of 2.0 μm is hereinafter referred to as “mold 1”. The molds having a surface roughness Ra of 2.5 μm, 3.0 μm, and 3.5 μm are also referred to as “mold 2”, “mold 3”, and “mold 4”, respectively.

これら4つの金型の主な材質はいずれもSUS440Cであった。また、これら4つの金型はいずれも、HRC55以上の硬度を有し、且つ、その表面は硬質クロームメッキされていた。 The main material of these four molds was SUS440C. Further, all of these four molds had a hardness of HRC55 or higher, and the surface thereof was hard chrome plated.

(3)成形体の製造 (3) Manufacture of molded product

以下表1に示されるとおりの離型フィルム及び金型の組合せを用いて、熱硬化性樹脂(エポキシ樹脂、GE100、日立化成株式会社)を成形した。当該成形において8.5MPa又は5.0MPaのトランスファー圧が採用された。当該成形において前記熱硬化性樹脂を硬化させるために採用された成形温度は175℃であった。当該成形により得られた成形体それぞれの表面の入射角60°での光沢度を、光沢度計(PG−IIM、日本電色工業株式会社)により測定した。測定結果も以下表1に示す。 A thermosetting resin (epoxy resin, GE100, Hitachi Chemical Co., Ltd.) was molded using a combination of a release film and a mold as shown in Table 1 below. A transfer pressure of 8.5 MPa or 5.0 MPa was adopted in the molding. The molding temperature adopted for curing the thermosetting resin in the molding was 175 ° C. The glossiness of the surface of each molded product obtained by the molding at an incident angle of 60 ° was measured by a glossiness meter (PG-IIM, Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.). The measurement results are also shown in Table 1 below.

表1に示されるとおり、離型フィルム1を用いた場合において、金型のRaが増加するにつれて、光沢度が減少した。これらの結果より、金型1〜4の凹凸が、離型フィルム1を介して成形体の表面状態に反映されていることが分かる。
離型フィルム2を用いた場合においても、同様に、金型のRaが増加するにつれて、光沢度が減少した。この結果より、金型1〜4の凹凸が、離型フィルム2を介して成形体の表面状態に反映されていることが分かる。
As shown in Table 1, when the release film 1 was used, the glossiness decreased as the Ra of the mold increased. From these results, it can be seen that the unevenness of the molds 1 to 4 is reflected in the surface state of the molded product via the release film 1.
Similarly, when the release film 2 was used, the glossiness decreased as the Ra of the mold increased. From this result, it can be seen that the unevenness of the molds 1 to 4 is reflected in the surface state of the molded product via the release film 2.

また、金型1を用いた場合の4つの結果を比較すると、同じ金型であっても、離型フィルムの違いによって成形体の表面の光沢度が異なる。離型フィルム1及び2は、成形体側表面層の組成が異なり、特には表面層中の粒子の含有比率が異なる。これらの結果より、離型フィルムの表面層の形状、特には表面層中の粒子に起因する形状が、成形体の表面状態に反映されていることが分かる。 Further, comparing the four results when the mold 1 is used, even if the mold is the same, the glossiness of the surface of the molded product differs depending on the difference in the release film. The release films 1 and 2 have different compositions of the surface layer on the molded body side, and particularly different in the content ratio of particles in the surface layer. From these results, it can be seen that the shape of the surface layer of the release film, particularly the shape caused by the particles in the surface layer, is reflected in the surface state of the molded product.

以上の結果より、本発明に従う金型及び離型フィルムの組合せによって、成形体の表面状態を調整することができることが分かる。例えば、当該組み合わせによって、成形体表面の光沢度を調整することができると分かる。 From the above results, it can be seen that the surface condition of the molded product can be adjusted by the combination of the mold and the release film according to the present invention. For example, it can be seen that the glossiness of the surface of the molded product can be adjusted by the combination.

また、得られた全ての成形体の表面状態(特には表面の凹凸の状態)が、用いられた金型表面の凹凸と異なっており且つ用いられた離型フィルムの成形体側表面層の表面状態とも異なっていた。この結果より、金型表面の凹凸及び離型フィルムの成形体側表面層の形状の両方が、成形体の表面状態(特には表面の凹凸の状態)の調整に貢献していると考えられる。 In addition, the surface state of all the obtained molded bodies (particularly the state of unevenness on the surface) is different from the unevenness of the surface of the mold used, and the surface state of the surface layer on the molded body side of the release film used. It was also different. From this result, it is considered that both the unevenness of the mold surface and the shape of the surface layer on the molded body side of the release film contribute to the adjustment of the surface state of the molded body (particularly the state of the surface unevenness).

また、前記成形において、いずれの離型フィルムも成形体からスムーズに離れた。従って、本発明の組合せを構成する離型フィルムは、表面に凹凸を有する成形体の成形後に、当該成形体からスムーズに離れることができると分かる。 Further, in the molding, all the release films were smoothly separated from the molded body. Therefore, it can be seen that the release film constituting the combination of the present invention can be smoothly separated from the molded product after molding the molded product having irregularities on the surface.

実施例2:レーザマーカにより印字された成形体表面の評価 Example 2: Evaluation of the surface of the molded product printed by the laser marker

(1)離型フィルムの製造 (1) Manufacture of release film

以下に述べるとおり、3種類の離型フィルムを製造した。 As described below, three types of release films were produced.

(1−1)離型フィルムの製造 (1-1) Manufacture of release film

基材層として、易成型ポリエチレンテレフタレート樹脂から形成されているフィルム(CH285J、南亜プラスチック社、厚み50μm)を用意した。
次に、当該フィルムに塗布するための2種類のフッ素系樹脂組成物(以下、第一フッ素系樹脂組成物及び第二フッ素系樹脂組成物という)を調製した。第一フッ素系樹脂組成物は、金型側表面層を形成するためものである。第二フッ素系樹脂組成物は、成形体側表面層を形成するためのものである。
第一フッ素系樹脂組成物は、水酸基含有四フッ化エチレン系重合体含有組成物100質量部(ゼッフルGK570、ダイキン工業株式会社、このうち65質量%が水酸基含有四フッ化エチレン系重合体である)、非晶質二酸化ケイ素11.47質量部(サイシリア380、富士シリシア化学株式会社)、イソシアヌレート型ポリイソシアネート10質量部(硬化剤、スミジュールN3300、住友バイエルウレタン株式会社)、アダクト型ポリイソシアネート7.79質量部(硬化剤、デュラネートAE700−100)、酢酸ブチル6.18質量部、酢酸エチル44.62質量部、及びMEK89.25質量部を混合及び撹拌することにより調製された。前記非晶質二酸化ケイ素の平均粒径(上記体積平均径である)は、粒度分析測定装置(SALD−2200、株式会社島津製作所)を用いてレーザー回折式粒度分析測定法に従い測定されたときに、8.8μmであった。
第二フッ素系樹脂組成物は、記第一フッ素系樹脂組成物にさらにアミノ変性メチルポリシロキサン0.31質量部(離型促進剤、信越化学工業株式会社)を追加したこと及び酢酸エチルの量を44.81質量部に変更したこと及びMEKの量を89.63質量部に変更したこと以外は、前記第一フッ素系樹脂組成物と同じである。
As a base material layer, a film (CH285J, Nan Ya Plastics, thickness 50 μm) formed of an easily molded polyethylene terephthalate resin was prepared.
Next, two types of fluorine-based resin compositions (hereinafter, referred to as a first fluorine-based resin composition and a second fluorine-based resin composition) for coating on the film were prepared. The first fluorine-based resin composition is for forming a surface layer on the mold side. The second fluorine-based resin composition is for forming a surface layer on the molded body side.
The first fluorine-based resin composition is 100 parts by mass (Zefle GK570, Daikin Industries, Ltd., of which 65% by mass is a hydroxyl group-containing ethylene tetrafluoride polymer) of the hydroxylated-containing ethylene tetrafluoride polymer-containing composition. ), 11.47 parts by mass of amorphous silicon dioxide (Cycilia 380, Fuji Silysia Chemical Ltd.), 10 parts by mass of isocyanurate type polyisocyanate (hardener, Sumijour N3300, Sumitomo Bayer Urethane Co., Ltd.), Adduct type polyisocyanate It was prepared by mixing and stirring 7.79 parts by mass (hardener, duranate AE700-100), 6.18 parts by mass of butyl acetate, 44.62 parts by mass of ethyl acetate, and 89.25 parts by mass of MEK. When the average particle size of the amorphous silicon dioxide (which is the volume average diameter) is measured according to the laser diffraction type particle size analysis measurement method using a particle size analyzer (SALD-2200, Shimadzu Corporation). , 8.8 μm.
As for the second fluororesin composition, 0.31 part by mass of amino-modified methylpolysiloxane (release accelerator, Shin-Etsu Chemical Industry Co., Ltd.) was added to the first fluororesin composition, and the amount of ethyl acetate. Is changed to 44.81 parts by mass and the amount of MEK is changed to 89.63 parts by mass, which is the same as that of the first fluororesin composition.

前記フィルムの一方の面に、前記第一フッ素系樹脂組成物を塗布し、且つ、前記フィルムの他方の面に、前記第二フッ素系樹脂組成物を塗布した。これらの塗布は、キスリバース方式の塗布装置を用いて行われた。前記塗布後に、これらの組成物を150℃にて60秒間加熱することによって硬化して、汎用PET樹脂フィルムの両面にフッ素系樹脂層が積層された離型フィルム(以下、「離型フィルム3」という)を得た。 The first fluorine-based resin composition was applied to one surface of the film, and the second fluorine-based resin composition was applied to the other surface of the film. These coatings were performed using a kiss-reverse coating device. After the coating, these compositions are cured by heating at 150 ° C. for 60 seconds, and a release film in which a fluorine-based resin layer is laminated on both sides of a general-purpose PET resin film (hereinafter, “release film 3””. ) Was obtained.

離型フィルム3の厚みは70±5μmであった。離型フィルム3中の基材層の厚みは50μm±10%であった。離型フィルム3の2つの表面層のうち、金型側表面層の厚みは5.5±0.5μmであり、且つ、成形体側表面層の厚みは5.5±0.5μmであった。 The thickness of the release film 3 was 70 ± 5 μm. The thickness of the base material layer in the release film 3 was 50 μm ± 10%. Of the two surface layers of the release film 3, the thickness of the mold-side surface layer was 5.5 ± 0.5 μm, and the thickness of the molded product-side surface layer was 5.5 ± 0.5 μm.

前記第一フッ素系樹脂組成物の硬化物(金型側表面層)は、前記水酸基含有四フッ化エチレン系重合体100質量部に対して、前記非晶質二酸化ケイ素を17.65質量部含み、前記イソシアヌレート型ポリイソシアネートを15.39質量部含み、且つ、前記アダクト型ポリイソシアネートを11.98質量部含んでいた。 The cured product (mold side surface layer) of the first fluorine-based resin composition contains 17.65 parts by mass of the amorphous silicon dioxide with respect to 100 parts by mass of the hydroxyl group-containing ethylene tetrafluoride polymer. , The isocyanurate-type polyisocyanate was contained in an amount of 15.39 parts by mass, and the adduct-type polyisocyanate was contained in an amount of 11.98 parts by mass.

前記第二フッ素系樹脂組成物の硬化物(成形体側表面層)は、前記水酸基含有四フッ化エチレン系重合体100質量部に対して、前記非晶質二酸化ケイ素を17.65質量部含み、前記イソシアヌレート型ポリイソシアネートを15.39質量部含み、前記アダクト型ポリイソシアネートを11.98質量部含み、且つ、アミノ変性メチルポリシロキサンを0.48質量部含んでいた。 The cured product (surface layer on the molded body side) of the second fluororesin composition contains 17.65 parts by mass of the amorphous silicon dioxide with respect to 100 parts by mass of the hydroxyl group-containing ethylene tetrafluoride polymer. It contained 15.39 parts by mass of the isocyanurate-type polyisocyanate, 11.98 parts by mass of the adduct-type polyisocyanate, and 0.48 parts by mass of an amino-modified methylpolysiloxane.

(1−2)離型フィルムの製造 (1-2) Manufacture of release film

上記(1−1)において述べた第二フッ素系樹脂組成物の組成を、以下のとおりに変更したこと以外は上記(1−1)の離型フィルム3と同じ方法で、離型フィルム(以下、「離型フィルム4」という)を製造した。
すなわち、第二フッ素系樹脂組成物は、水酸基含有四フッ化エチレン系重合体含有組成物100質量部(ゼッフルGK570、ダイキン工業株式会社、このうち65質量%が水酸基含有四フッ化エチレン系重合体である)、非晶質二酸化ケイ素9.71質量部(サイシリア380、富士シリシア化学株式会社)、イソシアヌレート型ポリイソシアネート10質量部(硬化剤、スミジュールN3300、住友バイエルウレタン株式会社)、アダクト型ポリイソシアネート7.79質量部(硬化剤、デュラネートAE700−100)、酢酸ブチル5.23質量部、酢酸エチル44.03質量部、MEK88.07質量部、及びアミノ変性メチルポリシロキサン0.30質量部(離型促進剤、信越化学工業株式会社)を混合及び撹拌することにより調製された。
The release film (hereinafter referred to as the release film) is formed in the same manner as the release film 3 described in the above (1-1) except that the composition of the second fluorine-based resin composition described in the above (1-1) is changed as follows. , "Release film 4") was manufactured.
That is, the second fluorine-based resin composition is 100 parts by mass of the hydroxyl group-containing ethylene tetrafluoride polymer-containing composition (Zeffle GK570, Daikin Industries, Ltd., of which 65% by mass is a hydroxyl group-containing ethylene tetrafluoride polymer. ), Amorphous silicon dioxide 9.71 parts by mass (Cycilia 380, Fuji Silysia Chemical Ltd.), Isocyanurate type polyisocyanate 10 parts by mass (hardener, Sumijour N3300, Sumitomo Bayer Urethane Co., Ltd.), Adduct type 7.79 parts by mass of polyisocyanate (hardener, duranate AE700-100), 5.23 parts by mass of butyl acetate, 44.03 parts by mass of ethyl acetate, 88.07 parts by mass of MEK, and 0.30 parts by mass of amino-modified methylpolysiloxane. (Separation accelerator, Shin-Etsu Chemical Industry Co., Ltd.) was prepared by mixing and stirring.

離型フィルム4の厚みは60±5μmであった。離型フィルム4中の基材層の厚みは50μm±10%であった。離型フィルム4の2つの表面層のうち、金型側表面層の厚みは5.5±0.5μmであり、且つ、成形体側表面層の厚みは5.5±0.5μmであった。 The thickness of the release film 4 was 60 ± 5 μm. The thickness of the base material layer in the release film 4 was 50 μm ± 10%. Of the two surface layers of the release film 4, the thickness of the mold-side surface layer was 5.5 ± 0.5 μm, and the thickness of the molded product-side surface layer was 5.5 ± 0.5 μm.

前記第一フッ素系樹脂組成物の硬化物(金型側表面層)は、前記水酸基含有四フッ化エチレン系重合体100質量部に対して、前記非晶質二酸化ケイ素を17.65質量部含み、前記イソシアヌレート型ポリイソシアネートを15.39質量部含み、且つ、前記アダクト型ポリイソシアネートを11.97質量部含んでいた。 The cured product (mold side surface layer) of the first fluorine-based resin composition contains 17.65 parts by mass of the amorphous silicon dioxide with respect to 100 parts by mass of the hydroxyl group-containing ethylene tetrafluoride polymer. , The isocyanurate-type polyisocyanate was contained in an amount of 15.39 parts by mass, and the adduct-type polyisocyanate was contained in an amount of 11.97 parts by mass.

前記第二フッ素系樹脂組成物の硬化物(成形体側表面層)は、前記水酸基含有四フッ化エチレン系重合体100質量部に対して、前記非晶質二酸化ケイ素を14.94質量部含み、前記イソシアヌレート型ポリイソシアネートを15.38質量部含み、前記アダクト型ポリイソシアネートを11.97質量部含み、且つ、アミノ変性メチルポリシロキサンを0.46質量部含んでいた。 The cured product (surface layer on the molded body side) of the second fluororesin composition contains 14.94 parts by mass of the amorphous silicon dioxide with respect to 100 parts by mass of the hydroxyl group-containing ethylene tetrafluoride polymer. It contained 15.38 parts by mass of the isocyanurate-type polyisocyanate, 11.97 parts by mass of the adduct-type polyisocyanate, and 0.46 parts by mass of an amino-modified methylpolysiloxane.

(1−3)離型フィルムの製造 (1-3) Manufacture of release film

上記(1−1)において述べた第二フッ素系樹脂組成物の組成を、以下のとおりに変更したこと以外は上記(1−1)の離型フィルム3と同じ方法で、離型フィルム(以下、「離型フィルム5」という)を製造した。
すなわち、第二フッ素系樹脂組成物は、水酸基含有四フッ化エチレン系重合体含有組成物100質量部(ゼッフルGK570、ダイキン工業株式会社、このうち65質量%が水酸基含有四フッ化エチレン系樹脂である)、非晶質二酸化ケイ素3.42質量部(サイシリア380、富士シリシア化学株式会社)、イソシアヌレート型ポリイソシアネート10質量部(硬化剤、スミジュールN3300、住友バイエルウレタン株式会社)、アダクト型ポリイソシアネート7.79質量部(硬化剤、デュラネートAE700−100)、酢酸ブチル1.84質量部、酢酸エチル41.15質量部、MEK82.30質量部、及びアミノ変性メチルポリシロキサン0.11質量部(離型促進剤、信越化学工業株式会社)を混合及び撹拌することにより調製された。
The mold release film (hereinafter , "Release film 5") was manufactured.
That is, the second fluorine-based resin composition is 100 parts by mass of the hydroxyl group-containing ethylene tetrafluoride polymer-containing composition (Zeffle GK570, Daikin Industries, Ltd., of which 65% by mass is a hydroxyl group-containing ethylene tetrafluoride resin. Yes), Amorphous silicon dioxide 3.42 parts by mass (Cycilia 380, Fuji Silysia Chemical Ltd.), Isocyanurate type polyisocyanate 10 parts by mass (hardener, Sumijour N3300, Sumitomo Bayer Urethane Co., Ltd.), Adduct type poly 7.79 parts by mass of isocyanate (hardener, duranate AE700-100), 1.84 parts by mass of butyl acetate, 41.15 parts by mass of ethyl acetate, 82.30 parts by mass of MEK, and 0.11 parts by mass of amino-modified methylpolysiloxane ( It was prepared by mixing and stirring a release accelerator (Shinetsu Chemical Industry Co., Ltd.).

離型フィルム5の厚みは60±5μmであった。離型フィルム5中の基材層の厚みは50μm±10%であった。離型フィルム5の2つの表面層のうち、金型側表面層の厚みは5.5±0.5μmであり、且つ、成形体側表面層の厚みは3.5±0.5μmであった。 The thickness of the release film 5 was 60 ± 5 μm. The thickness of the base material layer in the release film 5 was 50 μm ± 10%. Of the two surface layers of the release film 5, the thickness of the mold-side surface layer was 5.5 ± 0.5 μm, and the thickness of the molded product-side surface layer was 3.5 ± 0.5 μm.

前記第一フッ素系樹脂組成物の硬化物(金型側表面層)は、前記水酸基含有四フッ化エチレン系重合体100質量部に対して、前記非晶質二酸化ケイ素を17.65質量部含み、前記イソシアヌレート型ポリイソシアネートを15.39質量部含み、且つ、前記アダクト型ポリイソシアネートを11.98質量部含んでいた。 The cured product (mold side surface layer) of the first fluorine-based resin composition contains 17.65 parts by mass of the amorphous silicon dioxide with respect to 100 parts by mass of the hydroxyl group-containing ethylene tetrafluoride polymer. , The isocyanurate-type polyisocyanate was contained in an amount of 15.39 parts by mass, and the adduct-type polyisocyanate was contained in an amount of 11.98 parts by mass.

前記第二フッ素系樹脂組成物の硬化物(成形体側表面層)は、前記水酸基含有四フッ化エチレン系重合体100質量部に対して、前記非晶質二酸化ケイ素を5.26質量部含み、前記イソシアヌレート型ポリイソシアネートを15.39質量部含み、前記アダクト型ポリイソシアネートを11.98質量部含み、且つ、アミノ変性メチルポリシロキサンを0.16質量部含んでいた。 The cured product (surface layer on the molded body side) of the second fluorine-based resin composition contains 5.26 parts by mass of the amorphous silicon dioxide with respect to 100 parts by mass of the hydroxyl group-containing ethylene tetrafluoride polymer. It contained 15.39 parts by mass of the isocyanurate-type polyisocyanate, 11.98 parts by mass of the adduct-type polyisocyanate, and 0.16 parts by mass of an amino-modified methylpolysiloxane.

(2)金型の製造 (2) Mold manufacturing

上側金型及び下側金型の組合せからなるコンプレッションモールド用金型(以下、「金型5」という)を製造した。当該金型を構成する前記下側金型の表面に凹凸が形成されていた。前記凹凸は、図3(A)の下型金型23の表面26に対応する位置に設けられた。前記凹凸は放電加工により形成された。前記凹凸が形成されている領域の表面粗さRaは、JIS B0601に従い測定されたときに、1.0μmであった。 A mold for compression mold (hereinafter referred to as "mold 5") composed of a combination of an upper mold and a lower mold was manufactured. Unevenness was formed on the surface of the lower mold constituting the mold. The unevenness was provided at a position corresponding to the surface 26 of the lower mold 23 of FIG. 3 (A). The unevenness was formed by electric discharge machining. The surface roughness Ra of the region where the unevenness was formed was 1.0 μm when measured according to JIS B0601.

金型5の主な材質はSUS440Cであった。また、金型5は、HRC55以上の硬度を有し、且つ、その表面は硬質クロームメッキされていた。 The main material of the mold 5 was SUS440C. Further, the mold 5 had a hardness of HRC55 or higher, and its surface was hard chrome plated.

(3)成形体の製造 (3) Manufacture of molded product

離型フィルム3〜5のいずれか一つと金型5とを用いて、熱硬化性樹脂(エポキシ樹脂、GE100、日立化成株式会社)を成形した。当該成形において前記熱硬化性樹脂を硬化させるために採用された成形温度は175℃であった。当該成形により得られた成形体それぞれの表面に、レーザマーカ(MD−S9910型3次元YVOレーザマーカ、株式会社キーエンス)により印字を施した。印字条件は以下のとおりであった:
文字高さ:1mm
Power:3.6W
スイッチ周波数:40KHz
スキャンスピード:700mm/s
A thermosetting resin (epoxy resin, GE100, Hitachi Chemical Co., Ltd.) was molded using any one of the release films 3 to 5 and the mold 5. The molding temperature adopted for curing the thermosetting resin in the molding was 175 ° C. The surface of each molded product obtained by the molding was printed with a laser marker (MD-S9910 type 3D YVO 4 laser marker, KEYENCE CORPORATION). The printing conditions were as follows:
Character height: 1 mm
Power: 3.6W
Switch frequency: 40KHz
Scan speed: 700 mm / s

各成形体表面の印字を、3Dマイクロスコープ(VR−3200型3Dマイクロスコープ、株式会社キーエンス)及び目視により観察した。 The printing on the surface of each molded product was visually observed with a 3D microscope (VR-3200 type 3D microscope, KEYENCE Co., Ltd.).

3Dマイクロスコープによる観察結果を、図5に示す。図5に示されるとおり、離型フィルム3を用いて得られた成形体よりも、離型フィルム4を用いて得られた成形体ほうが、文字の視認性が良好であり、さらに、離型フィルム4を用いて得られた成形体よりも、離型フィルム5を用いて得られた成形体ほうが、文字の視認性が良かった。目視の場合においても、同様の観察結果が得られた。これらの結果により、同じ表面凹凸を有する金型を用いた場合であっても、離型フィルムの成形体側表面層の形状が異なる離型フィルムを用いることによって、成形体の表面状態を調整することができることが分かる。 The observation result by the 3D microscope is shown in FIG. As shown in FIG. 5, the molded body obtained by using the release film 4 has better visibility of characters than the molded body obtained by using the release film 3, and further, the release film is obtained. The visibility of the characters was better in the molded product obtained by using the release film 5 than in the molded product obtained by using 4. Similar observation results were obtained in the case of visual inspection. Based on these results, even when a mold having the same surface unevenness is used, the surface condition of the molded body can be adjusted by using a release film having a different shape of the surface layer on the molded body side of the release film. You can see that you can.

また、以上の結果より、成形体側表面層の粒子含有量を、フッ素系樹脂100質量部に対して、好ましくは16質量部以下、より好ましくは10質量部以下とすることによって、レーザマーカにより印字された文字又は模様の視認性を高めることができると考えられる。 Further, based on the above results, the particle content of the surface layer on the molded body side is preferably 16 parts by mass or less, more preferably 10 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the fluororesin, and is printed by the laser marker. It is considered that the visibility of the characters or patterns can be improved.

なお、本発明は以下の構成を採用することもできる。
[1]
熱硬化性樹脂の硬化のために用いられる金型と、前記硬化において前記熱硬化性樹脂と前記金型との間に配置される離型フィルムとの組合せであって、
前記離型フィルムは、
熱可塑性樹脂から形成されている基材層と、
前記基材層の2つの面のうち前記硬化において熱硬化性樹脂側に配置される面に積層されている、粒子を含むフッ素系樹脂から形成されている表面層と、
を含み、且つ、
前記金型は、前記硬化において前記離型フィルムと接触する面に、凹凸が形成されている、
前記組合せ。
[2]
前記粒子の平均粒径が、レーザー回折式粒度分析測定法に従い測定されたときに、1μm〜10μmである、[1]に記載の組合せ。
[3]
前記金型の、前記硬化において前記離型フィルムと接触する面の表面粗さRaが、1μm〜4μmである、[1]又は[2]に記載の組合せ。
[4]
前記表面層の前記フッ素系樹脂が、四フッ化エチレン系樹脂を含む、請求項[1]〜[3]のいずれか一つに記載の組合せ。
[5]
前記表面層の前記フッ素系樹脂が、イソシアネート系硬化剤をさらに含む、[1]〜[4]のいずれか一つに記載の組合せ。
[6]
前記粒子が、二酸化ケイ素である、[1]〜[5]のいずれか一つに記載の組合せ。
[7]
前記基材層の前記熱可塑性樹脂が、ポリエチレンテレフタレート樹脂である、[1]〜[6]のいずれか一つに記載の組合せ。
[8]
前記熱硬化性樹脂が、エポキシ樹脂である、[1]〜[7]のいずれか一つに記載の組合せ。
[9]
前記熱硬化性樹脂の硬化物の表面に、凹凸を形成するために用いられる、[1]〜[8]のいずれか一つに記載の組合せ。
[10]
前記熱硬化性樹脂の硬化物の表面に形成される凹凸が、前記金型の凹凸と異なる、[9]に記載の組合せ。
[11]
前記組合せが、トランスファーモールド成形又はコンプレッションモールド成形のために用いられる、[1]〜[10]のいずれか一つに記載の組合せ。
[12]
熱硬化性樹脂の硬化のために、金型と組み合わせて用いられる離型フィルムであって、
前記離型フィルムは、
熱可塑性樹脂から形成されている基材層と、
前記基材層の2つの面のうち前記硬化において熱硬化性樹脂側に配置される面に積層されている、粒子を含むフッ素系樹脂から形成されている表面層と、
を含み、
前記金型は、前記硬化において前記離型フィルムと接触する面に凹凸が形成されている、
前記離型フィルム。
[13]
熱硬化性樹脂の硬化のために、離型フィルムと組み合わせて用いられる金型であって、
前記金型は、前記硬化において前記離型フィルムと接触する面に凹凸が形成されており、且つ、
前記離型フィルムは、
熱可塑性樹脂から形成されている基材層と、
前記基材層の2つの面のうち前記硬化において熱硬化性樹脂側に配置される面に積層されている、粒子を含むフッ素系樹脂から形成されている表面層と、
を含む、前記金型。
[14]
熱硬化性樹脂を硬化させるために用いられる金型内に、離型フィルムを配置する配置工程と、
前記配置工程後に、前記熱硬化性樹脂を前記金型内で、前記離型フィルムに接触した状態で硬化させる硬化工程と、
前記硬化工程後に、前記金型から、硬化した前記熱硬化性樹脂を離型して成形体を得る離型工程と
を含み、
前記離型フィルムは、
熱可塑性樹脂から形成されている基材層と、
前記基材層の2つの面のうち前記硬化において熱硬化性樹脂側に配置される面に積層されている、粒子を含むフッ素系樹脂から形成されている表面層と、
を含み、
前記金型は、前記硬化において前記離型フィルムと接触する面に凹凸が形成されている、
成形体の製造方法。
The present invention may also adopt the following configuration.
[1]
It is a combination of a mold used for curing a thermosetting resin and a release film arranged between the thermosetting resin and the mold in the curing.
The release film is
A substrate layer formed of a thermoplastic resin and
A surface layer formed of a fluorine-based resin containing particles, which is laminated on the surface arranged on the thermosetting resin side in the curing of the two surfaces of the base material layer, and
Including and
The mold has irregularities formed on the surface that comes into contact with the release film during the curing.
The combination.
[2]
The combination according to [1], wherein the average particle size of the particles is 1 μm to 10 μm when measured according to a laser diffraction type particle size analysis measurement method.
[3]
The combination according to [1] or [2], wherein the surface roughness Ra of the surface of the mold that comes into contact with the release film during the curing is 1 μm to 4 μm.
[4]
The combination according to any one of claims [1] to [3], wherein the fluorine-based resin in the surface layer contains a tetrafluoroethylene-based resin.
[5]
The combination according to any one of [1] to [4], wherein the fluorine-based resin in the surface layer further contains an isocyanate-based curing agent.
[6]
The combination according to any one of [1] to [5], wherein the particles are silicon dioxide.
[7]
The combination according to any one of [1] to [6], wherein the thermoplastic resin of the base material layer is a polyethylene terephthalate resin.
[8]
The combination according to any one of [1] to [7], wherein the thermosetting resin is an epoxy resin.
[9]
The combination according to any one of [1] to [8], which is used for forming irregularities on the surface of a cured product of the thermosetting resin.
[10]
The combination according to [9], wherein the unevenness formed on the surface of the cured product of the thermosetting resin is different from the unevenness of the mold.
[11]
The combination according to any one of [1] to [10], wherein the combination is used for transfer molding or compression molding.
[12]
A mold release film used in combination with a mold for curing thermosetting resins.
The release film is
A substrate layer formed of a thermoplastic resin and
A surface layer formed of a fluorine-based resin containing particles, which is laminated on the surface arranged on the thermosetting resin side in the curing of the two surfaces of the base material layer, and
Including
The mold has irregularities formed on the surface that comes into contact with the release film during the curing.
The release film.
[13]
A mold used in combination with a release film for curing thermosetting resins.
The mold has irregularities formed on the surface that comes into contact with the release film during the curing, and the mold has irregularities.
The release film is
A substrate layer formed of a thermoplastic resin and
A surface layer formed of a fluorine-based resin containing particles, which is laminated on the surface arranged on the thermosetting resin side in the curing of the two surfaces of the base material layer, and
The mold, including.
[14]
An arrangement process for arranging the release film in the mold used to cure the thermosetting resin, and
After the placement step, a curing step of curing the thermosetting resin in the mold in contact with the release film,
After the curing step, the present invention includes a mold release step of releasing the cured thermosetting resin from the mold to obtain a molded product.
The release film is
A substrate layer formed of a thermoplastic resin and
A surface layer formed of a fluorine-based resin containing particles, which is laminated on the surface arranged on the thermosetting resin side in the curing of the two surfaces of the base material layer, and
Including
The mold has irregularities formed on the surface that comes into contact with the release film during the curing.
A method for manufacturing a molded product.

11 離型フィルム
12 上側金型
13 下側金型
11 Release film 12 Upper mold 13 Lower mold

Claims (12)

熱硬化性樹脂の硬化のために、離型フィルムと組み合わせて用いられる金型であって、
前記金型は、前記硬化において前記離型フィルムと接触する面に凹凸が形成されており、且つ、
前記硬化において、前記凹凸が、前記離型フィルムを介して、前記熱硬化性樹脂の表面に反映される、
前記金型。
A mold used in combination with a release film for curing thermosetting resins.
The mold has irregularities formed on the surface that comes into contact with the release film during the curing, and the mold has irregularities.
In the curing, the unevenness is reflected on the surface of the thermosetting resin via the release film.
The mold.
前記金型の前記面の表面粗さRaが1μm〜4μmである、請求項1に記載の金型。 The mold according to claim 1, wherein the surface roughness Ra of the surface of the mold is 1 μm to 4 μm. 前記金型の金型硬度が50HRC以上である、請求項1又は2に記載の金型。 The mold according to claim 1 or 2, wherein the mold hardness of the mold is 50 HRC or more. 前記凹凸が、放電加工又はショットブラストによって形成された凹凸である、請求項1〜3のいずれか一項に記載の金型。 The mold according to any one of claims 1 to 3, wherein the unevenness is an unevenness formed by electric discharge machining or shot blasting. 前記熱硬化性樹脂の硬化によって得られる成形体に、入射角60°での光沢度が3〜50である表面を形成するために用いられる、請求項1〜4のいずれか一項に記載の金型。 The invention according to any one of claims 1 to 4, which is used for forming a surface having a glossiness of 3 to 50 at an incident angle of 60 ° on a molded product obtained by curing the thermosetting resin. Mold. 前記金型と組み合わせて用いられる前記離型フィルムが、
熱可塑性樹脂から形成されている基材層と、
前記基材層の2つの面のうち前記硬化において熱硬化性樹脂側に配置される面に積層されている、粒子を含むフッ素系樹脂から形成されている表面層と、を含む、
請求項1〜5のいずれか一項に記載の金型。
The release film used in combination with the mold
A substrate layer formed of a thermoplastic resin and
A surface layer formed of a fluorine-based resin containing particles, which is laminated on the surface arranged on the thermosetting resin side in the curing of the two surfaces of the base material layer, is included.
The mold according to any one of claims 1 to 5.
前記硬化において、前記粒子に起因する前記離型フィルムの表面形状が、前記熱硬化性樹脂の表面に直接的に反映される、請求項1〜6のいずれか一項に記載の金型。 The mold according to any one of claims 1 to 6, wherein in the curing, the surface shape of the release film caused by the particles is directly reflected on the surface of the thermosetting resin. 熱硬化性樹脂を硬化させるために用いられる金型内に、離型フィルムを配置する配置工程と、
前記配置工程後に、前記熱硬化性樹脂を前記金型内で、前記離型フィルムに接触した状態で硬化させる硬化工程と、
前記硬化工程後に、前記金型から、硬化した前記熱硬化性樹脂を離型して成形体を得る離型工程と
を含み、
前記金型は、前記硬化において前記離型フィルムと接触する面に凹凸が形成されており、且つ、
前記硬化工程において、前記凹凸が、前記離型フィルムを介して、前記熱硬化性樹脂の表面に反映される、
成形体の製造方法。
An arrangement process for arranging the release film in the mold used to cure the thermosetting resin, and
After the placement step, a curing step of curing the thermosetting resin in the mold in contact with the release film,
After the curing step, the present invention includes a mold release step of releasing the cured thermosetting resin from the mold to obtain a molded product.
The mold has irregularities formed on the surface that comes into contact with the release film during the curing, and the mold has irregularities.
In the curing step, the unevenness is reflected on the surface of the thermosetting resin via the release film.
A method for manufacturing a molded product.
熱硬化性樹脂の硬化のために、金型と組み合わせて用いられる離型フィルムであって、
前記金型は、前記硬化において前記離型フィルムと接触する面に凹凸が形成されており、且つ、
前記硬化において、前記凹凸を、前記離型フィルムを介して、前記熱硬化性樹脂の表面に反映するために用いられる、
前記離型フィルム。
A mold release film used in combination with a mold for curing thermosetting resins.
The mold has irregularities formed on the surface that comes into contact with the release film during the curing, and the mold has irregularities.
In the curing, it is used to reflect the unevenness on the surface of the thermosetting resin via the release film.
The release film.
前記離型フィルムの引張破断強度は、JIS K7127に従い175℃で測定された場合に、40MPa〜200MPaであり、且つ、前記離型フィルムの引張破断伸びが、JIS K7127に従い175℃で測定された場合に、200%〜500%である、請求項9に記載の離型フィルム。 The tensile breaking strength of the release film is 40 MPa to 200 MPa when measured at 175 ° C. according to JIS K7127, and the tensile breaking elongation of the release film is measured at 175 ° C. according to JIS K7127. The release film according to claim 9, which is 200% to 500%. 前記離型フィルムの厚みが30μm〜100μmである、請求項9又は10に記載の離型フィルム。 The release film according to claim 9 or 10, wherein the release film has a thickness of 30 μm to 100 μm. 熱硬化性樹脂の硬化のために用いられる、金型と離型フィルムとの組合せであって、
前記金型は、前記硬化において前記離型フィルムと接触する面に凹凸が形成されており、且つ、
前記硬化において、前記凹凸が、前記離型フィルムを介して、前記熱硬化性樹脂の表面に反映される、
前記組合せ。

A combination of a mold and a mold release film used for curing thermosetting resins.
The mold has irregularities formed on the surface that comes into contact with the release film during the curing, and the mold has irregularities.
In the curing, the unevenness is reflected on the surface of the thermosetting resin via the release film.
The combination.

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20220152882A1 (en) * 2019-03-20 2022-05-19 Kobayashi & Co.,Ltd. Combination of mold and release film, release film, mold, and method for manufacturing molded article

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5266578A (en) * 1975-11-29 1977-06-02 Ibigawa Electric Ind Co Ltd Manufacture of decorated plate having grainnlike uneven figures
JP2000210987A (en) * 1999-01-26 2000-08-02 Apic Yamada Corp Resin mold apparatus and mold used therein
JP2004017483A (en) * 2002-06-17 2004-01-22 Shin Etsu Polymer Co Ltd Mold
JP2014188746A (en) * 2013-03-26 2014-10-06 Tokai Rubber Ind Ltd Manufacturing method of molding die, and molding die
JP2014212239A (en) * 2013-04-19 2014-11-13 株式会社巴川製紙所 Release sheet for molding
WO2015068808A1 (en) * 2013-11-07 2015-05-14 旭硝子株式会社 Mold release film and semiconductor package manufacturing method
WO2017199440A1 (en) * 2016-05-20 2017-11-23 日立化成株式会社 Mold release sheet for semiconductor compression molding and semiconductor package which is molded using same

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5266578A (en) * 1975-11-29 1977-06-02 Ibigawa Electric Ind Co Ltd Manufacture of decorated plate having grainnlike uneven figures
JP2000210987A (en) * 1999-01-26 2000-08-02 Apic Yamada Corp Resin mold apparatus and mold used therein
JP2004017483A (en) * 2002-06-17 2004-01-22 Shin Etsu Polymer Co Ltd Mold
JP2014188746A (en) * 2013-03-26 2014-10-06 Tokai Rubber Ind Ltd Manufacturing method of molding die, and molding die
JP2014212239A (en) * 2013-04-19 2014-11-13 株式会社巴川製紙所 Release sheet for molding
WO2015068808A1 (en) * 2013-11-07 2015-05-14 旭硝子株式会社 Mold release film and semiconductor package manufacturing method
WO2017199440A1 (en) * 2016-05-20 2017-11-23 日立化成株式会社 Mold release sheet for semiconductor compression molding and semiconductor package which is molded using same

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20220152882A1 (en) * 2019-03-20 2022-05-19 Kobayashi & Co.,Ltd. Combination of mold and release film, release film, mold, and method for manufacturing molded article

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