JP7341349B2 - 圧電プラズマ発生器の動作方法 - Google Patents
圧電プラズマ発生器の動作方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP7341349B2 JP7341349B2 JP2022536974A JP2022536974A JP7341349B2 JP 7341349 B2 JP7341349 B2 JP 7341349B2 JP 2022536974 A JP2022536974 A JP 2022536974A JP 2022536974 A JP2022536974 A JP 2022536974A JP 7341349 B2 JP7341349 B2 JP 7341349B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- plasma generator
- frequency
- absolute value
- piezoelectric
- peak amplitude
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
- H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
- H05H1/24—Generating plasma
- H05H1/2475—Generating plasma using acoustic pressure discharges
- H05H1/2481—Generating plasma using acoustic pressure discharges the plasma being activated using piezoelectric actuators
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
- H05H2242/00—Auxiliary systems
- H05H2242/20—Power circuits
- H05H2242/22—DC, AC or pulsed generators
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Acoustics & Sound (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Plasma Technology (AREA)
Description
1 圧電トランス
2 第1の領域
3 第2の領域
4 入力側端部領域
5 出力側端部領域
6 第1の内部電極
7 第2の内部電極
8 圧電材料
9 第1の側面
10 第2の側面
11 第1の外部電極
12 第2の外部電極
13 圧電材料
14 圧電プラズマ発生器
15 制御回路
16 ベース信号生成器
17 変調信号生成器
18 信号ミキサ
19 測定装置
20 基板
z 長手方向
x 積層方向
Sin 入力信号
Sbase ベース信号
Smod 変調信号
fbase ベース信号の周波数(第1の周波数)
fmod 変調信号の周波数(第2の周波数)
Apeak ピーク振幅
|Apeak| ピーク振幅の絶対値
Upp ピークツーピーク電圧
Vig 点火電圧
Ton オン時間
Toff オフ時間
Tcycle サイクル時間
DC デューティサイクル
Claims (13)
- 圧電プラズマ発生器を動作させる方法であって、
前記圧電プラズマ発生器の圧電トランスに入力信号を印加するステップを含み、
前記入力信号のピーク振幅の絶対値は、プラズマの発生が周期的に崩壊するように、前記圧電プラズマ発生器の点火電圧より小さいレベル及び大きいレベルに周期的に減少及び増加され、
前記入力信号の前記ピーク振幅の前記絶対値は、高レベルと低レベルとの間で切り替わり、前記ピーク振幅の前記絶対値の前記低レベルは0より大きく、
前記ピーク振幅の前記絶対値は、連続した包絡線に従って振動する、
方法。 - 前記ピーク振幅の前記絶対値の振動の1周期中で前記ピーク振幅の前記絶対値が前記点火電圧より大きいオン時間の割合であるデューティサイクルが、前記圧電プラズマ発生器の動作中に調整される、
請求項1に記載の方法。 - プラズマ処理されるべき基板におけるエネルギー入力に相関するパラメータが、前記圧電プラズマ発生器の動作中に測定され、前記デューティサイクルが、前記測定されたエネルギー入力に応じて調整される、請求項2に記載の方法。
- 前記入力信号の前記ピーク振幅の前記絶対値は、高レベルと低レベルとの間で切り替わり、前記ピーク振幅の前記絶対値の前記低レベルは0である、
請求項1から3のいずれか一項に記載の方法。 - 前記ピーク振幅の前記絶対値が前記点火電圧より小さいオフ時間中の前記ピーク振幅の前記絶対値は、少なくとも前記オフ時間の大部分にわたって0より大きい、
請求項1から4のいずれか一項に記載の方法。 - 前記入力信号は、第1の周波数を有するベース信号に基づき、前記ベース信号は、第2の周波数を有する変調信号によって変調され、前記第2の周波数は、前記第1の周波数より低い、
請求項1から5のいずれか一項に記載の方法。 - 前記第2の周波数は、最大でも、前記第1の周波数の1/20である、
請求項6に記載の方法。 - 前記ピーク振幅の前記絶対値が前記点火電圧より小さいオフ時間の後に、前記第1の周波数が前記圧電プラズマ発生器の共振周波数に調整される、
請求項6または7に記載の方法。 - 圧電プラズマ発生器であって、
圧電トランスと、
請求項1から8のいずれか一項に記載の方法に従って前記圧電プラズマ発生器を動作させるための制御回路と、
を備える、圧電プラズマ発生器。 - 前記制御回路は、前記圧電トランスに入力信号を供給するように構成され、
前記制御回路は、第1の周波数を有するベース信号を生成するためのベース信号生成器と、前記第1の周波数より小さい第2の周波数を有する変調信号を生成するための変調信号生成器と、
入力信号のピーク振幅の絶対値が前記圧電プラズマ発生器の点火電圧より小さいレベル及び大きいレベルに周期的に減少及び増加するような前記入力信号が供給されるように、前記ベース信号と前記変調信号とを混合するための信号ミキサとを備える、
請求項9に記載の圧電プラズマ発生器。 - 前記制御回路は、プラズマ処理される基板に前記圧電プラズマ発生器によって供給されるエネルギー入力に関連するパラメータを測定するための測定装置をさらに備え、前記変調信号は、前記測定されたエネルギー入力に応じて調整される
請求項10に記載の圧電プラズマ発生器。 - 前記制御回路は、前記ピーク振幅の前記絶対値の振動の1周期中で前記ピーク振幅の前記絶対値が前記点火電圧より大きいオン時間の割合であるデューティサイクルを、前記圧電プラズマ発生器の動作中に調整するように構成される、
請求項9又は11に記載の圧電プラズマ発生器。 - 前記圧電プラズマ発生器の共振周波数からの前記第1の周波数のシフトに関連するパラメータを測定するための測定装置を備える、
請求項10に記載の圧電プラズマ発生器。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE102019135497.8 | 2019-12-20 | ||
DE102019135497.8A DE102019135497B4 (de) | 2019-12-20 | 2019-12-20 | Piezoelektrischer Plasmagenerator und Verfahren zum Betrieb eines piezoelektrischen Plasmagenerators |
PCT/EP2020/086771 WO2021122995A1 (en) | 2019-12-20 | 2020-12-17 | Method of operating a piezoelectric plasma generator |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2023506892A JP2023506892A (ja) | 2023-02-20 |
JP7341349B2 true JP7341349B2 (ja) | 2023-09-08 |
Family
ID=74125198
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2022536974A Active JP7341349B2 (ja) | 2019-12-20 | 2020-12-17 | 圧電プラズマ発生器の動作方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20230007764A1 (ja) |
JP (1) | JP7341349B2 (ja) |
CN (1) | CN115399074A (ja) |
DE (1) | DE102019135497B4 (ja) |
WO (1) | WO2021122995A1 (ja) |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2016093269A1 (ja) | 2014-12-12 | 2016-06-16 | 株式会社ダイヘン | 高周波電源 |
JP2019500743A (ja) | 2015-11-12 | 2019-01-10 | エプコス アクチエンゲゼルシャフトEpcos Ag | 圧電トランスの駆動回路および圧電トランスを駆動するための方法 |
US20190098739A1 (en) | 2016-03-07 | 2019-03-28 | Epcos Ag | Process for Producing Ozone and Apparatus for Ozone Generation |
Family Cites Families (27)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19616187B4 (de) | 1996-04-23 | 2004-03-25 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Anregen elektrischer Gas-Entladungen mit Spannungspulsen |
DE19836561A1 (de) | 1998-08-12 | 2000-02-24 | Siemens Ag | Vorrichtung und Verfahren zur Ansteuerung eines Piezo-Transformators |
DE102005032890B4 (de) * | 2005-07-14 | 2009-01-29 | Je Plasmaconsult Gmbh | Vorrichtung zur Erzeugung von Atmosphärendruck-Plasmen |
JP5201958B2 (ja) * | 2007-11-22 | 2013-06-05 | 国立大学法人東京工業大学 | 圧電トランス電極を用いたイオナイザ及びそれによる除電用イオン発生方法 |
DE102013100617B4 (de) * | 2013-01-22 | 2016-08-25 | Epcos Ag | Vorrichtung zur Erzeugung eines Plasmas und Handgerät mit der Vorrichtung |
WO2015083155A1 (en) | 2013-12-02 | 2015-06-11 | Nova Plasma Ltd | Apparatus for generation of non-thermal plasma for oral treatment, plasma applicator and related method |
US11490947B2 (en) * | 2015-05-15 | 2022-11-08 | Clear Intradermal Technologies, Inc. | Tattoo removal using a liquid-gas mixture with plasma gas bubbles |
DE102015112410A1 (de) | 2015-07-29 | 2017-02-02 | Epcos Ag | Verfahren zur Frequenzregelung eines piezoelektrischen Transformators sowie Schaltungsanordnung mit einem piezoelektrischen Transformator |
DE102015120160B4 (de) * | 2015-11-20 | 2023-02-23 | Tdk Electronics Ag | Piezoelektrischer Transformator |
DE102016102488A1 (de) * | 2016-02-12 | 2017-08-17 | Epcos Ag | Verfahren zur Herstellung eines piezoelektrischen Transformators und piezoelektrischer Transformator |
DE102016110141A1 (de) | 2016-06-01 | 2017-12-07 | TRUMPF Hüttinger GmbH + Co. KG | Verfahren und Vorrichtung zum Zünden einer Plasmalast |
DE102016110216B4 (de) * | 2016-06-02 | 2018-10-11 | Epcos Ag | Verfahren zur Herstellung einer Vielzahl von piezoelektrischen Vielschichtbauelementen |
DE102016116760B4 (de) * | 2016-09-07 | 2018-10-18 | Epcos Ag | Vorrichtung zur Erzeugung einer haptischen Rückmeldung und elektronisches Gerät |
DE102016120324B4 (de) * | 2016-10-25 | 2020-12-17 | Tdk Electronics Ag | Verfahren zur Bereitstellung einer Vorrichtung zur Erzeugung eines Atmosphärendruck-Plasmas |
NL2017822B1 (en) * | 2016-11-18 | 2018-05-25 | Plasmacure B V | Non-Thermal Plasma Device with electromagnetic compatibility control |
US10728997B2 (en) * | 2016-12-02 | 2020-07-28 | Tdk Corporation | Plasma generator |
DE102017105415B4 (de) * | 2017-03-14 | 2018-10-11 | Epcos Ag | Vorrichtung zur Erzeugung eines nicht-thermischen Atmosphärendruck-Plasmas und Verfahren zur Frequenzregelung eines piezoelektrischen Transformators |
DE102017105410A1 (de) * | 2017-03-14 | 2018-09-20 | Epcos Ag | Plasmagenerator |
DE102017105401B4 (de) * | 2017-03-14 | 2019-01-31 | Tdk Electronics Ag | Vorrichtung zur Erzeugung eines nichtthermischen Atmosphärendruck-Plasmas |
DE102017111946A1 (de) * | 2017-05-31 | 2018-12-06 | Epcos Ag | Elektrische Schaltung und Verwendung der elektrischen Schaltung |
DE102017116925B4 (de) * | 2017-07-26 | 2021-04-22 | Tdk Electronics Ag | Harte PZT-Keramik, piezoelektrisches Vielschichtbauelement und Verfahren zur Herstellung eines piezoelektrischen Vielschichtbauelements |
US10264663B1 (en) * | 2017-10-18 | 2019-04-16 | Lam Research Corporation | Matchless plasma source for semiconductor wafer fabrication |
DE102018105895A1 (de) * | 2018-03-14 | 2019-09-19 | Tdk Electronics Ag | Vorrichtung zur Erzeugung eines nicht-thermischen Atmosphärendruck-Plasmas und Verfahren zum Betrieb eines piezoelektrischen Transformators |
DE102018113190B4 (de) * | 2018-06-04 | 2020-03-12 | Epcos Ag | Vorrichtung mit einem elektrokeramischem Bauteil |
EP3662854A1 (de) | 2018-12-05 | 2020-06-10 | Erbe Elektromedizin GmbH | Plasmabehandlungseinrichtung |
DE102019122939B4 (de) * | 2019-08-27 | 2021-06-17 | Tdk Electronics Ag | Vorrichtung und Plasmagenerator aufweisend ein elektrokeramisches Bauteil |
JP7423233B2 (ja) * | 2019-09-26 | 2024-01-29 | 株式会社ダイヘン | 高周波電源装置及び高周波電力の出力方法 |
-
2019
- 2019-12-20 DE DE102019135497.8A patent/DE102019135497B4/de active Active
-
2020
- 2020-12-17 JP JP2022536974A patent/JP7341349B2/ja active Active
- 2020-12-17 US US17/783,576 patent/US20230007764A1/en active Pending
- 2020-12-17 CN CN202080088679.8A patent/CN115399074A/zh active Pending
- 2020-12-17 WO PCT/EP2020/086771 patent/WO2021122995A1/en active Application Filing
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2016093269A1 (ja) | 2014-12-12 | 2016-06-16 | 株式会社ダイヘン | 高周波電源 |
JP2019500743A (ja) | 2015-11-12 | 2019-01-10 | エプコス アクチエンゲゼルシャフトEpcos Ag | 圧電トランスの駆動回路および圧電トランスを駆動するための方法 |
US20190098739A1 (en) | 2016-03-07 | 2019-03-28 | Epcos Ag | Process for Producing Ozone and Apparatus for Ozone Generation |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE102019135497A1 (de) | 2021-06-24 |
DE102019135497B4 (de) | 2021-11-11 |
WO2021122995A1 (en) | 2021-06-24 |
CN115399074A (zh) | 2022-11-25 |
JP2023506892A (ja) | 2023-02-20 |
US20230007764A1 (en) | 2023-01-05 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101170591B1 (ko) | 전원 장치 및 이를 이용한 마이크로파 발생 장치 | |
JP6181792B2 (ja) | イオンエネルギー分布を制御するためのシステム、方法、および装置 | |
KR101339931B1 (ko) | 이온 에너지 분포를 제어하기 위한 방법 및 장치 | |
US6433458B2 (en) | Method and unit for driving piezoelectric transformer used for controlling luminance of cold-cathode tube | |
JP7124705B2 (ja) | プラズマ発生器 | |
JP2006524422A (ja) | プラズマ発生装置、方法、および調整可能デューティサイクルを有するrf駆動回路 | |
WO2008143893A1 (en) | System and method for controlling an electromagnetic field generator | |
US5395453A (en) | Apparatus and method for controlling oscillation output of magnetron | |
KR20170006736A (ko) | 직류-교류 전력 변환 회로 | |
KR20230025486A (ko) | 플라즈마 프로세싱 애플리케이션들을 위한 펄스 전압 소스 | |
KR20030003951A (ko) | 고농도 오존 발생 장치 | |
JP7341349B2 (ja) | 圧電プラズマ発生器の動作方法 | |
KR100818068B1 (ko) | 유도 결합 플라즈마를 사용하여 기판을 에칭하기 위한 장치 및 방법 | |
CN109071225B (zh) | 用于制备臭氧的方法和用于生成臭氧的设备 | |
KR20020010194A (ko) | 전자렌지 | |
JP2005116385A (ja) | 誘導加熱装置 | |
Guo et al. | Analysis and design of pulse frequency modulation dielectric barrier discharge for low power applications | |
KR100315741B1 (ko) | 오존발생기용 전원장치 | |
JP2005116818A (ja) | プラズマ発生装置 | |
JP2007080700A (ja) | 誘導加熱装置 | |
JPH07161464A (ja) | 高周波加熱装置 | |
KR102521387B1 (ko) | 플라스마 처리 장치, 및 플라스마 처리 방법 | |
KR20070107681A (ko) | 가스 플라즈마 살균 장치 | |
CN117981472A (zh) | 用于等离子体放电的电极组件 | |
KR101686627B1 (ko) | 직류차단회로를 포함하는 플라즈마 식각장치 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20220616 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20230425 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20230721 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20230815 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20230829 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7341349 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |