JP7339112B2 - 細霧散布システム、および細霧散布方法 - Google Patents
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Description
作物15に細霧Mができるだけ付着しないように、作物15とノズル43との間隔が確保されることが好ましい。
作物15の上(真上または略真上)にある物体に細霧Mが付着すると、細霧Mの粒子が集まって水滴になり、この水滴が落下し、作物15に付着する場合がある。そのため、作物15の上にある物体に細霧Mができるだけ付着しないように、作物15の上にある物体とノズル43との間隔を確保できるように、ノズル43が配置されることが好ましい。作物15の上にある物体は、例えば、施設11の一部(天井、梁など)、膜状部材(シート、ネットなど)、および配管などである。作物15の上にある物体は、ノズル43よりも上に配置される場合がある。作物15の上にある物体は、ノズル43よりも下(ノズル43と作物15との間)に配置される場合がある。[配置例C]ノズル43から、作物15の上にある物体までの距離は、好ましくは1m以上であり、さらに好ましくは2m以上であり、さらに好ましくは3m以上である。
ノズル43が噴射する細霧Mの粒子径(さらに詳しくは細霧Mを構成する水滴の粒子径)は、作物15ができるだけ濡れないような大きさであることが好ましい。細霧Mの粒子径が小さいほど、ノズル43から噴射された細霧Mが作物15に到達することなく蒸発しやすい。また、細霧Mが作物15に付着した場合でも、細霧Mの粒子径が小さいほど、作物15の表面で早く蒸発しやすい。細霧Mの粒子径は、好ましくは30μm以下であり、さらに好ましくは25μm以下であり、さらに好ましくは20μm以下である。上記の通り、ポンプ41が処理水W5の圧力を高くするほど、細霧Mの粒子径を小さくすることができる。具体的には例えば、ポンプ41が処理水W5を6MPa以上に加圧して、噴射口43a(図3参照)の寸法や形状が適切に設定されたノズル43が細霧Mを噴射した場合、細霧Mの粒子径を30μm以下とすることができる。ここで、細霧Mの粒子径は、図3に示すノズル43の噴射口43aの先端から細霧Mの噴射方向Dに50mm離れた位置における、細霧Mの粒子の体面積平均粒子径(ザウター平均粒子径)で評価される。噴射方向Dに離れた位置とは、ノズル43の噴射口43aの中心軸の方向であって、細霧Mの噴射の向き(ノズル43の内部から外部に向かう向き)に離れた位置を意味する。体面積平均粒子径は、レーザ回折法により、レーザ回折粒子径測定器(Malvern Instruments社製、マスターサイザーS型、使用レーザ:He-Neレーザ)で5回測定した平均値とする。
ノズル43による細霧Mの噴射方向Dは、図1に示す作物15の上にある物体および作物15に細霧Mができるだけ付着しないような向きであることが好ましい。噴射方向Dは、作物15の上にある物体および作物15を避けるような向きであることが好ましい。噴射方向Dの延長線上に、作物15の上にある物体および作物15が存在しないことが好ましい。具体的には例えば、施設11の上部(天井)と作物15との間にノズル43が配置される場合、噴射方向Dは、横向き(水平方向)または斜め下向きであることが好ましい。なお、図1には、4つのノズル43を示しており、そのうち1つのノズル43の噴射方向Dのみを図示した。
ノズル43は、処理水W5のみ(1流体)を噴射してもよい。ノズル43は、処理水W5を含む複数の流体を噴射してもよい。具体的には、ノズル43は、処理水W5および空気(2流体)を噴射してもよい。ノズル43が噴射する処理水W5に、農薬および肥料の少なくともいずれかが混合されてもよい。この農薬および肥料の少なくともいずれかが水溶性である場合は、ノズル43の目詰まりを抑制することができる。その結果、作物15に関する作業(農作業)の負荷を軽減することができる。
細霧散布システム1(主に制御装置60)は、以下のように作動するように構成される。
図1に示す細霧散布システム1による効果は次の通りである。
[構成1]細霧散布システム1は、作物15を栽培する施設11の内部に細霧Mを散布する。細霧散布システム1は、逆浸透膜濾過装置24と、タンク30と、ポンプ41と、ノズル43と、を備える。逆浸透膜濾過装置24は、逆浸透膜により水を濾過する。タンク30は、逆浸透膜濾過装置24により濾過された処理水W5を貯める。ポンプ41は、タンク30に貯められた処理水W5を加圧する。ノズル43は、施設11の内部に配置され、ポンプ41に加圧された処理水W5を細霧Mとして噴射する。
[構成2]ノズル43は、作物15よりも上に配置される。
[構成3]作物15からノズル43までの距離は、1m以上である。
[構成4]図3に示すノズル43の噴射口43aの先端から細霧Mの噴射方向Dに50mm離れた位置における、細霧Mの粒子の体面積平均粒子径は、30μm以下である。
[構成5]細霧散布システム1は、温湿度センサ51と、制御装置60と、を備える。温湿度センサ51は、施設11の内部の温湿度を検出する。制御装置60には、温湿度センサ51の検出値が入力される。制御装置60は、施設11の内部の温湿度が目標設定値内に収まるようにポンプ41を制御する。
[構成6]本実施形態の細霧散布方法による効果は次の通りである。細霧散布方法は、作物15を栽培する施設11の内部に細霧Mを散布する方法である。細霧散布方法は、逆浸透膜濾過工程と、貯水工程と、加圧工程と、噴射工程と、を備える。逆浸透膜濾過工程は、水を逆浸透膜により濾過する工程である。貯水工程は、逆浸透膜濾過工程により濾過された処理水W5を貯める工程である。加圧工程は、貯水工程で貯められた処理水W5を加圧する工程である。噴射工程は、加圧工程で加圧された処理水W5を細霧Mとして施設11の内部に噴射する工程である。
上記実施形態は様々に変形されてもよい。例えば、上記実施形態の各構成要素の配置や形状が変更されてもよい。例えば、図1などに示す濾過装置20の構成は変更されてもよい。例えば、構成要素の数が変更されてもよく、構成要素の一部(例えば温湿度センサ51および制御装置60など)が設けられなくてもよい。例えば、互いに異なる複数の部材や部分として説明したものが、一つの部材や部分とされてもよい。具体的に例えば、濾過装置20とタンク30とが一体でもよい。例えば、一つの部材や部分として説明したもの(例えば図2に示す濾過装置20の各装置)が、互いに異なる複数の部材や部分に分けて設けられてもよい。
11 施設
15 作物
24 逆浸透膜濾過装置
30 タンク
41 ポンプ
43 ノズル
51 温湿度センサ
60 制御装置
M 細霧
W5 処理水
Claims (6)
- 作物を栽培する施設の内部に細霧を散布する細霧散布システムであって、
逆浸透膜により水を濾過する逆浸透膜濾過装置と、
前記逆浸透膜濾過装置により濾過された処理水を貯めるタンクと、
前記タンクに貯められた前記処理水を加圧するポンプと、
前記施設の内部に配置され、前記ポンプに加圧された前記処理水を前記細霧として噴射するノズルと、
を備え、
前記ノズルの噴射口の先端から前記細霧の噴射方向に50mm離れた位置における、前記細霧の粒子の体面積平均粒子径は、30μm以下である、
細霧散布システム。 - 請求項1に記載の細霧散布システムであって、
前記ノズルは、前記作物よりも上に配置される、
細霧散布システム。 - 請求項1または2に記載の細霧散布システムであって、
前記作物から前記ノズルまでの距離は、1m以上である、
細霧散布システム。 - 請求項1~3のいずれか1項に記載の細霧散布システムであって、
前記ノズルから、前記作物の上にある物体までの距離は、1m以上である、
細霧散布システム。 - 請求項1~4のいずれか1項に記載の細霧散布システムであって、
前記施設の内部の温湿度を検出する温湿度センサと、
前記温湿度センサの検出値が入力され、前記施設の内部の温湿度が目標設定値内に収まるように前記ポンプを制御する制御装置と、
を備える、
細霧散布システム。 - 作物を栽培する施設の内部に細霧を散布する細霧散布方法であって、
逆浸透膜により水を濾過する逆浸透膜濾過工程と、
前記逆浸透膜濾過工程により濾過された処理水を貯める貯水工程と、
前記貯水工程で貯められた前記処理水を加圧する加圧工程と、
前記加圧工程で加圧された前記処理水を細霧としてノズルから前記施設の内部に噴射する噴射工程と、
を備え、
前記ノズルの噴射口の先端から前記細霧の噴射方向に50mm離れた位置における、前記細霧の粒子の体面積平均粒子径は、30μm以下である、
細霧散布方法。
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