JP7338699B2 - 光学センサ - Google Patents

光学センサ Download PDF

Info

Publication number
JP7338699B2
JP7338699B2 JP2021558173A JP2021558173A JP7338699B2 JP 7338699 B2 JP7338699 B2 JP 7338699B2 JP 2021558173 A JP2021558173 A JP 2021558173A JP 2021558173 A JP2021558173 A JP 2021558173A JP 7338699 B2 JP7338699 B2 JP 7338699B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
light
optical sensor
force
light source
proximity
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2021558173A
Other languages
English (en)
Other versions
JPWO2021100261A1 (ja
Inventor
博 渡邊
滉平 菅原
貴敏 加藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Murata Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Murata Manufacturing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Murata Manufacturing Co Ltd filed Critical Murata Manufacturing Co Ltd
Publication of JPWO2021100261A1 publication Critical patent/JPWO2021100261A1/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP7338699B2 publication Critical patent/JP7338699B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01VGEOPHYSICS; GRAVITATIONAL MEASUREMENTS; DETECTING MASSES OR OBJECTS; TAGS
    • G01V8/00Prospecting or detecting by optical means
    • G01V8/10Detecting, e.g. by using light barriers
    • G01V8/12Detecting, e.g. by using light barriers using one transmitter and one receiver
    • G01V8/14Detecting, e.g. by using light barriers using one transmitter and one receiver using reflectors
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01VGEOPHYSICS; GRAVITATIONAL MEASUREMENTS; DETECTING MASSES OR OBJECTS; TAGS
    • G01V8/00Prospecting or detecting by optical means
    • G01V8/10Detecting, e.g. by using light barriers
    • G01V8/12Detecting, e.g. by using light barriers using one transmitter and one receiver
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01LMEASURING FORCE, STRESS, TORQUE, WORK, MECHANICAL POWER, MECHANICAL EFFICIENCY, OR FLUID PRESSURE
    • G01L5/00Apparatus for, or methods of, measuring force, work, mechanical power, or torque, specially adapted for specific purposes
    • G01L5/16Apparatus for, or methods of, measuring force, work, mechanical power, or torque, specially adapted for specific purposes for measuring several components of force
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01SRADIO DIRECTION-FINDING; RADIO NAVIGATION; DETERMINING DISTANCE OR VELOCITY BY USE OF RADIO WAVES; LOCATING OR PRESENCE-DETECTING BY USE OF THE REFLECTION OR RERADIATION OF RADIO WAVES; ANALOGOUS ARRANGEMENTS USING OTHER WAVES
    • G01S17/00Systems using the reflection or reradiation of electromagnetic waves other than radio waves, e.g. lidar systems
    • G01S17/02Systems using the reflection of electromagnetic waves other than radio waves
    • G01S17/06Systems determining position data of a target
    • G01S17/46Indirect determination of position data
    • G01S17/48Active triangulation systems, i.e. using the transmission and reflection of electromagnetic waves other than radio waves
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/02Details
    • H01L31/02016Circuit arrangements of general character for the devices
    • H01L31/02019Circuit arrangements of general character for the devices for devices characterised by at least one potential jump barrier or surface barrier
    • H01L31/02024Position sensitive and lateral effect photodetectors; Quadrant photodiodes
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/12Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof structurally associated with, e.g. formed in or on a common substrate with, one or more electric light sources, e.g. electroluminescent light sources, and electrically or optically coupled thereto
    • H01L31/16Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof structurally associated with, e.g. formed in or on a common substrate with, one or more electric light sources, e.g. electroluminescent light sources, and electrically or optically coupled thereto the semiconductor device sensitive to radiation being controlled by the light source or sources
    • H01L31/167Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof structurally associated with, e.g. formed in or on a common substrate with, one or more electric light sources, e.g. electroluminescent light sources, and electrically or optically coupled thereto the semiconductor device sensitive to radiation being controlled by the light source or sources the light sources and the devices sensitive to radiation all being semiconductor devices characterised by potential barriers
    • H01L31/173Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof structurally associated with, e.g. formed in or on a common substrate with, one or more electric light sources, e.g. electroluminescent light sources, and electrically or optically coupled thereto the semiconductor device sensitive to radiation being controlled by the light source or sources the light sources and the devices sensitive to radiation all being semiconductor devices characterised by potential barriers formed in, or on, a common substrate

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Geophysics (AREA)
  • General Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Computer Networks & Wireless Communication (AREA)
  • Radar, Positioning & Navigation (AREA)
  • Remote Sensing (AREA)
  • Geophysics And Detection Of Objects (AREA)
  • Switches Operated By Changes In Physical Conditions (AREA)

Description

本発明は、光学式において物体の近接を検知する光学センサに関する。
近年、ロボットハンド等に搭載され、物体の近接或いは接触といった多様なセンシングを可能とする各種センサが提案されている(例えば特許文献1から3)。
特許文献1は、ロボットが物体を把持する等の動作時において、物体による接触力および物体までの距離等を計測するシステムを開示している。特許文献1のシステムでは、赤外光に対して透光性を有するエラストマーに埋め込まれた赤外線近接センサの信号を用いて、力、距離及び接触の計測を図っている。
特許文献2は、6軸力の計測を可能とする光学式触覚センサを開示している。特許文献3は、可変フレームを用いてせん断力を検出する力センサを開示している。特許文献2,3では、弾性体の変形を利用した光学的な機構において、物体による各種の接触力のセンシングが行われている。
米国特許出願公開第2017/0297206号明細書 特許第5825604号公報 国際公開第2014/045685号
特許文献1等の従来技術では、赤外線近接センサの信号として物体からの赤外光の反射光量が用いられている。しかしながら、反射光量は対象とする物体の反射率によって変化し、接触したとされる状態の反射光量の絶対値が変化してしまう。このため、種々の物体に関して、接近に伴って光量が変化したのか或いは接触した状態でセンサに押し込まれているのか等を切り分けてセンシングすることは困難となる。
本発明の目的は、物体の反射率に依らずに、物体が特定の距離に到る近接を検知することができる光学センサを提供することにある。
本発明に係る光学センサは、光の受光結果に応じて、物体の近接を検知する。光学センサは、光源と、受光部と、凸部とを備える。光源は、物体に光を出射する。受光部は、出射した光が物体で反射した反射光を受光して、受光結果を示す信号を生成する。凸部は、光源及び受光部よりも高い高さを有する。光源からの光が、凸部から所定距離の範囲内で反射したときの反射光を、受光部から遮るように、凸部が光源と受光部との間に配置される。受光部は、所定距離の範囲内に到る物体の近接に応じて、反射光が受光されていないことを示すしきい値光量以下の受光結果を示すように信号を出力する。なお、反射光が受光されていないとみなせるしきい値光量は、光源から出力される光出力パワーの10%以下に予め設定される。
本発明に係る光学センサによると、物体の反射率に依らずに、物体が特定の距離に到る近接を精度良く検知することできる。
実施形態1に係る光学センサの概要を説明するための図 実施形態1に係る光学センサの平面図 実施形態1に係る光学センサの構成を示すブロック図 光学センサにおけるしきい値距離を例示する図 光学センサの動作の概要を説明するための図 光学センサの動作を例示するタイミングチャート 光学センサについての数値シミュレーションの環境を説明するための図 光学センサについての数値シミュレーションの結果を示す図 実施形態2に係る光学センサの構成を示すブロック図 実施形態2に係る光学センサの動作を例示するフローチャート 図10のステップS4の処理の一例を示すフローチャート 実施形態3に係る光学センサの構成を示すブロック図 実施形態3における光学センサの力センサ部を説明するための図 実施形態3に係る光学センサの一例を示す平面図 図14に例示する光学センサの断面図 実施形態1の変形例に係る光学センサの平面図 光学センサにおけるしきい値距離の変形例を示す図
以下、添付の図面を参照して本発明に係る光学センサの実施の形態を説明する。
各実施形態は例示であり、異なる実施形態で示した構成の部分的な置換または組み合わせが可能であることは言うまでもない。実施形態2以降では実施形態1と共通の事項についての記述を省略し、異なる点についてのみ説明する。特に、同様の構成による同様の作用効果については、実施形態毎には逐次言及しない。
(実施形態1)
1.構成
実施形態1に係る光学センサの構成について、図1を参照して説明する。図1は、本実施形態に係る光学センサ1の概要を説明するための図である。
本実施形態の光学センサ1は、光学式の検知方式において対象物5の近接を検知する近接センサ部12と、対象物5が接触したときに作用する力(即ち接触力)を検知する力センサ部13とが一体的に構成されたモジュールである。光学センサ1は、例えばロボットハンドにおいて、把持する対象の各種物体を対象物5として検知する用途に適用可能である。光学センサ1は、近接センサ部12及び力センサ部13により、対象物5が近接して接触に到り、力を作用させる等の一連の過程を連続的に検知可能である。
光学センサ1において、近接センサ部12は、対象物5の近接を検知するための検知光L1を発光する光源21と、外部から入射する光を受光する受光部22とを含む。近接センサ部12によると、検知光L1が対象物5において反射された反射光L2を受光部22で受光することにより、対象物5の近接が検知される。
一般的な光学式の近接検知方式においては、各種の対象物5が同じ距離まで近接した場合であっても、各々の対象物5の反射率に依存して反射光L2の光量が変わることから、対象物5がどの程度の距離まで近接したのかを検知し難くなってしまう問題があった。これに対して、本実施形態では、対象物5の反射率に依らず、対象物5が特定の距離まで近接していることの検知を可能とする光学センサ1を提供する。
1-1.構成の詳細
以下、本実施形態に係る光学センサ1の構成の詳細を説明する。
図2は、本実施形態に係る光学センサ1の平面図を示す。光学センサ1は、例えば基板11上に近接センサ部12と力センサ部13とを組み付けて構成される。以下、基板11の主面に平行な2方向をそれぞれX方向及びY方向とし、当該主面の法線方向をZ方向とする。
本実施形態の光学センサ1では、近接センサ部12の光源21と受光部22とが、例えばX方向において、力センサ部13を挟むように基板11上に配置される。以下、基板11から力センサ部13が突出する+Z側を上側といい、反対側となる-Z側を下側という場合がある。光学センサ1における近接センサ部12及び力センサ部13の配置の詳細については後述する。
図3は、本実施形態に係る光学センサ1の構成を示すブロック図である。本実施形態の光学センサ1は、近接センサ部12、光源駆動回路23及び近接検知回路24で構成される近接検知部2と、力センサ部13及び力検知回路30で構成される力検知部3とを備える。
近接検知部2において、光源21は、例えばシングル又はマルチエミッタのVCSEL(面発光レーザ)等の発光素子を含み、狭指向性を有する。例えば、光源21は、赤外領域などの所定の波長帯を有する光を発光し、検知光L1として出射する光出射面21aを有する。光源21は、光出射面21aを上側に向けて配置される。
光源21は、VCSELに限らず、例えばLD(半導体レーザ)或いはLEDなど種々の固体発光素子を含んでもよい。光源21は、複数の発光素子を含んでもよい。光源21には、発光素子からの光をコリメートするレンズ及びミラー等の光学系が設けられてもよい。
受光部22は、PD(フォトダイオード)等の1つ又は複数の受光素子を含み、受光素子で構成される受光面22aを有する。受光部22は、受光面22aにおいて検知光L1の反射光L2等の光を受光して、例えば受光された光量を受光結果として示す受光信号を生成する。
受光部22は、PDに限らず、例えばフォトトランジスタ、PSD(位置検出素子)、CIS(CMOSイメージセンサ)或いはCCDなど種々の受光素子を含んでもよい。受光部22は、受光素子のリニアアレイ或いは2次元アレイで構成されてもよい。受光部22には反射光L2を集光するためのレンズ等の光学系が設けられてもよい。また、受光部22の受光面22aには、検知光L1の波長帯とは異なる波長帯の光を遮断するバンドパスフィルタ等が設けられてもよい。これにより、外部環境による外乱光の影響を抑制できる。
光源駆動回路23は、検知光L1を発光させる駆動信号を光源21に供給する。光源駆動回路23は、例えばAM変調などの変調器を含んでもよい。例えば、光源駆動回路23は、10Hzから1MHz等における特定の周波数を、光の振幅を周期的に変動させる変調周波数に用いて、検知光L1を変調してもよい。検知光L1の変調により、外乱光から検知光L1及びその反射光L2を区別し易くなる。
近接検知回路24は、受光部22から出力される受光信号に各種の信号処理を行って、近接検知信号を生成する。当該信号処理は、例えば受光結果の光量に応じて対象物5までの距離及びその変動を推定するための各種演算処理を含み、また受光結果から反射光L2の光量を抽出する処理を含んでもよい。近接検知信号は、各種信号処理に応じて対象物5の近接の検知結果を示す種々の信号に設定可能である。又、近接検知回路24は、受光部22を駆動する回路構成を含んでもよく、受光素子から出力される信号を増幅するセンサアンプ等を含んでもよい。こうした回路構成は、受光素子と共に受光部22に含められてもよい。
近接検知回路24は、例えば検知光L1の変調周波数を含む信号成分を通過させるバンドパスフィルタ等のフィルタ処理を行ってもよいし、光源駆動回路23と同期して同期検波を行ってもよい。例えば、近接検知回路24において、定常的なDC成分を遮断することにより、外乱光から分離して反射光L2の解析を行うことができる。検知光L1の変調周波数は、例えば赤外線リモコンのキャリアとして利用される38kHzなど、既存の外部システムにおいて利用される周波数を避けて適宜、設定可能である。これにより、外部システムに起因するような光学センサ1の誤動作を抑制することができる。
本実施形態の力検知部3においては、対象物5からの力を検知するために各種の力検知方式を採用可能である。各種の力検知方式は、例えば圧電式、光学式、ひずみ抵抗式及び静電容量式などを含む。力検知部3は、例えば3軸又は6軸といった多軸における力を検知する。
力センサ部13は、採用された力検知方式において、対象物5からの力を検知する際に対象物5が接触する部分を構成する。力センサ部13は、当該力検知方式におけるセンサ素子およびそのパッケージ等を含む。例えば、力センサ部13は円錐台形状を有し、上面13aにおいて対象物5と接触する。力センサ部13の形状は特に限定されず、種々の凸形状であってもよい。力センサ部13は、本実施形態の光学センサ1における凸部の一例である。
力検知回路30は、力センサ部13中のセンサ素子から出力される信号に基づいて、例えば多軸における力の検知結果を示す力検知信号を生成する。力検知回路30は、多軸に限らず、一軸の力の検知結果の力検知信号を出力してもよい。力検知回路30は、センサ素子を駆動する回路構成を含んでもよく、センサ素子から出力される信号を増幅するセンサアンプ等を含んでもよい。
なお、以上に説明した構成は一例であり、光学センサ1は、特に上記の構成に限定されない。例えば、本実施形態の光学センサ1は、各回路23,24,30の何れかを外部構成としてもよいし、各回路23,24,30とは別体のモジュールとして提供されてもよい。
1-2.近接センサ部及び力センサ部の配置について
光学センサ1における近接センサ部12及び力センサ部13の配置の詳細を、図4を用いて説明する。
図4は、光学センサ1におけるしきい値距離D1を例示する図である。本実施形態では、光学センサ1にしきい値距離D1を持たせるように、光源21及び受光部22(近接センサ部12)と力センサ部13とが配置される。しきい値距離D1は、光源21から出射した検知光L1の反射光L2が力センサ部13によって遮られ、受光部22の受光面22aに入射する反射光L2が設定されたしきい値光量以下となる境界の距離である。しきい値光量は、反射光L2が受光されていないとみなせる基準の光量を示す。なお、しきい値光量は、例えば光源21から出力される光出力パワーの10%以下に予め設定される。
図4は、光学センサ1をY方向から見た側面図に対応する。本実施形態では、力センサ部13は、上面13aが光源21の光出射面21a及び受光部22の受光面22aよりも上方に突出する高さH1を有する。換言すると、光源21及び受光部22は、力センサ部13の上面13aよりも低い位置に設けられる。さらに、近接センサ部12の光源21及び受光部22の間に、力センサ部13が配置され、光源21は力センサ部13よりも小さい。また光源21は、力センサ部13との距離即ち間隔W1が力センサ部13の高さH1よりも短い距離になるように配置される。こうした配置により、対象物5と光学センサ1間の距離に応じて、力センサ部13が反射光L2の受光を遮る現象を生じさせることができる。
図4では、しきい値距離D1に対象物5がある場合の検知光L1及び反射光L2の光路を例示している。対象物5と光学センサ1間の距離は、力センサ部13の上面13aを基準としてZ方向に沿って規定できる。
図4の例において、検知光L1は、光源21からZ方向に沿って上方にしきい値距離D1だけ進み、同距離D1にある反射位置P1において反射する。反射位置P1からの反射光L2の光路の中で、受光部22に直線的に向かう光路は、途中で力センサ部13に重なる。よって、反射光L2の中で当該光路を進む成分は、力センサ部13に入射して遮断される。一方、力センサ部13に重ならない光路を進む反射光L2の成分は、受光部22から外れて進み、受光面22aに到らない。
以上のように、しきい値距離D1の反射位置P1からの反射光L2は、力センサ部13によって遮られ、受光部22に受光されないこととなる。また、しきい値距離D1よりも光学センサ1に近い反射位置からの反射光L2についても上記と同様に、受光部22に受光されない。一方、しきい値距離D1よりも遠い反射位置からの反射光L2は、力センサ部13に重ならず受光部22に向かう光路を有し、受光面22aに到達可能となる。
本実施形態では、上記のようなしきい値距離D1は、例えば光学センサ1の製造時などに寸法及びレイアウトのパラメータを調整することによって、光学センサ1における各種仕様などに応じた所望の大きさに予め設定可能である。しきい値距離D1は、本実施形態の光学センサ1における所定距離の一例である。
しきい値距離D1を調整可能なパラメータは、例えば光源21と力センサ部13間の間隔W1、及び受光部22と力センサ部13間の間W2等を含む。図4の例では、間隔W1を大きくする程、しきい値距離D1を大きくすることができる。一方、間隔W2を小さくする程、しきい値距離D1を大きくすることができる。また、しきい値距離D1のパラメータは、間隔W1,W2に限らず、例えば力センサ部13の高さH1等のサイズ及び形状、光源21の高さ等のサイズ及び形状、並びに受光部22の高さ等のサイズ及び形状を含んでもよい。
また、以上のような光学センサ1によると、力センサ部13の上面13aよりも低い位置に光源21及び受光部22が位置することから、対象物5が、光源21及び受光部22に接触して破損するような事態を回避し易くすることができる。また、以上のような構成により、小型で低コストの光学センサ1を提供可能である。
2.動作
以上のように構成される光学センサ1の動作について、以下説明する。
2-1.動作の概要
本実施形態に係る光学センサ1の動作の概要を、図5を用いて説明する。
本実施形態の光学センサ1において、光源駆動回路23は、駆動信号により光源21を駆動して、検知光L1を発光させる。光源21は、例えばZ方向に沿って上方に検知光L1を出射する。検知光L1は、対象物5に入射すると、対象物5が有する反射率に応じて、例えば拡散的に反射する。
図5(A)は、対象物5が光学センサ1から距離Dをおいた状態を例示する。図5(B)は、図5(A)の状態から対象物5が接近して、光学センサ1と接触した状態を例示する。図5(A)に例示する状態において、対象物5までの距離Dは、しきい値距離D1よりも大きい。
図5(A)の例において、対象物5における検知光L1の反射光L2は、受光部22に入射している。光学センサ1において、近接検知回路24は、受光部22の受光結果に基づいて、近接検知信号を生成する。受光部22が受光する反射光L2の光量は、対象物5までの距離Dに応じて変動することから、近接検知回路24には、受光信号に基づき対象物5までの距離を推定するための各種の演算が適用可能である。
また、例えば図5(B)に示すように、対象物5が力センサ部13と接触すると、接触の程度に応じて対象物5から力がかかる。光学センサ1の力検知回路30は、例えば多軸において力を検知して、力検知信号を生成する。
本実施形態の光学センサ1では、図5(A)の状態から図5(B)の状態に到る間において、対象物5までの距離がしきい値距離D1以下になると、検知光L1の反射光L2が、力センサ部13によって遮られ、受光部22に到達しなくなる。この現象を利用して、本実施形態の光学センサ1は、受光部22の受光結果に応じて、対象物5がしきい値距離D1以内に近接したか否かを示す情報を近接検知信号に含めて出力できる。
上記のようなしきい値距離D1前後の近接の検知結果は、対象物5の反射率に依存することなく精度良く得ることができる。また、しきい値距離D1は、予め所望の距離に設定可能である。よって、本実施形態の光学センサ1は、しきい値距離D1を利用して、対象物5が近接してから接触力を及ぼすに到る一連の過程を連続的に検知する精度を良くすることができる。以下、光学センサ1の動作の詳細を説明する。
2-2.動作の詳細
本実施形態の光学センサ1は、例えば、ロボットハンド等に光学センサ1が適用された各種ロボットの制御システムによって対象物5の存在が確認されたときに動作を開始される。このような場合の光学センサ1の動作の一例を、図6(A)~(E)を用いて説明する。
図6(A)は、対象物5と光学センサ1間の距離の変化の一例を示すグラフである。図6(B)は、光源21の駆動信号を例示する。図6(C)は、受光部22における受光信号を(近接検知信号の一例として)例示する。図6(D)は、光学センサ1における近接検知信号の一例の近接フラグを例示する。図6(E)は、光学センサ1における力検知信号を例示する。図6(A)~(E)の横軸は時間を示す。
図6(A)では、対象物5が、時刻t1から光学センサ1に接近し始めて、時刻t2に力センサ部13と接触する状況(図5(A),(B)参照)を例示している。本例において、光学センサ1は、図6(B)に例示する駆動信号に基づき検知光L1を発光して、対象物5に照射する。対象物5における検知光L1の反射光L2は、例えば外乱光と共に、受光部22に入射する。図6(C)では、光学センサ1において外乱光がフィルタリングされた後の受光信号を例示する。
光学センサ1は、図6(C)に例示するような受光信号を近接検知信号の一例として上記の制御システム等に出力してもよい。図6(A)の状況において、受光信号の信号レベルは、受光される反射光L2の光量に応じて時刻t1から徐々に増大する。こうした受光信号の変化により、対象物5が接近中であることが検知できる。
図6(A)の状況において、対象物5までの距離は、力センサ部13と接触する時刻t2直前の時刻t20に、しきい値距離D1に到る。この際、受光信号は、図6(C)に示すように、時刻t20前から急峻に減少して時刻t20にしきい値光量A1となる。こうした受光信号の信号レベルにより、対象物5がしきい値距離D1に到るタイミング、即ち接触直前のタイミングが検知できる。
更なる近接検知信号の一例として、本実施形態の光学センサ1は、図6(D)に示すように、近接フラグを生成してもよい。近接フラグは、対象物5がしきい値距離D1以上に近接したか否かを「1」又は「0」で示すフラグである。図6(C)の受光信号の信号レベルに応じて、近接フラグは、時刻t20において「0」から「1」に立ち上がる。
また、図6(A)の例において、対象物5は、時刻t2から時刻t3までの力センサ部13に接触中の期間T11に、各種の接触力を生じさせる。このとき、光学センサ1の力検知部3は、例えば図6(E)に示すように、接触力の検知結果を示す力検知信号を生成する。
さらに、図6(A)の例の対象物5は、時刻t3に力センサ部13から離れ、その後の時刻t31にしきい値距離D1に到り、光学センサ1から遠ざかっている。光学センサ1において、受光信号の信号レベルは、図6(C)に示すように、時刻t31にしきい値光量A1を超えるように急峻に増大する。近接フラグは、図6(D)に示すように、時刻t31において「1」から「0」に戻る。なお、以上のような近接フラグは、光学センサ1において生成されなくてもよく、制御システムにおいて管理されてもよい。
以上の光学センサ1の動作によると、光学センサ1の力検知信号(図6(E))により、対象物5が接触する時刻t2から時刻t3までの期間T11において生じた接触力を検知することができる。また、近接検知信号(図6(C),(D))により、当該期間T11を含む時刻t20から時刻t31までの期間T10に、対象物5が光学センサ1近傍(しきい値距離D1以内)にあることが検知できる。例えば、近接フラグが立ち上がる時刻t21において、光学センサ1が接触する直前のタイミングを検知できる。こうした光学センサ1の動作により、例えば制御システムにおいて対象物5を把持する際の計画を行い易くすることができる。
例えば、多指ハンドやグリッパのようなロボットアームのエンドエフェクタ(即ちロボットハンド)に光学センサ1を適用することにより、不定形物や柔軟物といった対象物5の把持が容易に実現可能なる。一般的にロボットアームにて対象物5を把持するような場合、ロボットの制御システム内におけるカメラなどのビジョンセンサから対象物5が認識され、対象物5を把持できる位置にロボットアームが動かされる。この際に、例えばロボットアームの関節といった可動部の可動誤差やアーム自体の剛性によって、ロボットアームが目標位置からずれてしまい、適切な動作を行えず、不定形物や柔軟物を把持できない事態に陥ることがある。また、ロボットアームを移動させたことで、ビジョンセンサの死角に対象物5が入り、対象物5の位置が把握できない事態もあり得る。
これに対して、本実施形態の光学センサ1が設けられたエンドエフェクタをロボットアームに用いることで、ロボットアームが目標位置からずれが生じても、対象物5にエンドエフェクタがどの程度、近接しているかが検知できる。このため、光学センサ1による近接及び力の検知結果の情報に基づき、ロボットアームの位置やエンドエフェクタの動作を精密に補正するような制御が可能となり、不定形物や柔軟物の把持が可能となる。
加えて、ビジョンセンサの死角に対象物5が入っても光学センサ1による近接の検知結果の情報から、対象物5までの距離が推定可能となる。さらに、対象物5の近接及び力の検知結果の情報が一つのセンサから得られるので、対象物5に触れる前からどのように対象物5を把持するのかを示す把持計画が策定できるだけでなく、対象物5を把持している最中に把持状態が変化しても失敗しないよう把持のフィードバック制御ができる。よって、効率良く、失敗の少ない不定形物や柔軟物の把持が実現可能となる。
2-3.しきい値距離の数値シミュレーション
以上のような光学センサ1のしきい値距離D1について、本願発明者は数値シミュレーションを行い、その効果を確認した。光学センサ1におけるしきい値距離D1の数値シミュレーションについて、図7,8を用いて説明する。
図7は、光学センサ1についての数値シミュレーションの環境を説明するための図である。図8は、本シミュレーションの結果を示す図である。
本シミュレーションでは、様々な間隔W1,W2において対象物5までの距離Dを変化させた場合に、検知光L1の反射光L2が受光部22によって受光される光量に対応する受光パワーを数値計算した。本シミュレーションにおいて、光源21と力センサ部13間の間隔W1は、図7に示すように、X方向における光源21の中心位置から力センサ部13の端部までの距離で規定し、昇順にW11,W12,W13と増大させた。また、受光部22と力センサ部13間の間隔W2は、X方向における受光部22の中心位置から力センサ部13の端部までの距離で規定し、昇順にW21,W22,W23と増大させた。
本シミュレーションでは、対象物5の反射率を変更して、上記の数値計算をそれぞれ行った。図8(A)は、対象物5の反射率を99%に設定したときのシミュレーション結果を示す。図8(B)は、対象物5の反射率を14%に設定したときのシミュレーション結果を示す。図8(A),(B)の横軸は、距離Dをmm単位で示す。縦軸は、受光パワーを0以上1以下に規格化して示す。
図8(A),(B)に示すように、本シミュレーションにおいて対象物5の反射率が変わると、種々の距離Dにおける受光パワーが変動する一方、受光パワーが「0」に到るときの距離D、即ちしきい値距離D1は変動していない。よって、本シミュレーションにより、光学センサ1において対象物5の反射率に依らず、しきい値距離D1の近接検知を行えることが確認された。
また、図8(A),(B)のシミュレーション結果では、光源21と力センサ部13間の間隔W1を「W13」から「W11」へと減少させたり、受光部22と力センサ部13間の間隔W2を「W21」から「W23」へと増大させたりすると、しきい値距離D1が小さくなっている。よって、間隔W1,W2等を調整する等の光源21、受光部22及び力センサ部13のレイアウトにより、しきい値距離D1を所望の長さに設定可能であることも確認された。こうしたレイアウトによっては、例えば力センサ部13の高さH1等も考慮して、しきい値距離D1を「0」近傍とすることもでき、対象物5が力センサ部13に接触する位置を検知対象にすることができる。
3.まとめ
以上のように、本実施形態における光学センサ1は、光の受光結果に応じて、種々の物体である対象物5の近接を検知する。光学センサは、第1光源の一例である光源21と、第1受光部の一例である受光部22と、凸部の一例である力センサ部13とを備える。光源21は、対象物5に検知光L1のような光を出射する。受光部22は、出射した検知光L1が対象物5で反射した反射光L2を受光して、受光結果を示す信号として受光信号を生成する。力センサ部13は、光源21及び受光部22よりも高い高さH1を有する。光源21からの検知光L1が、力センサ部13からしきい値距離D1(所定距離)の範囲内で反射したときの反射光L2を、受光部22から遮るように、力センサ部13が光源21と受光部22との間に配置される。受光部22は、しきい値距離D1の範囲内に到る対象物5の近接に応じて、反射光L2が受光されていないことを示すしきい値光量A1以下の受光結果を示すように受光信号等の近接検知信号を出力する。なお、反射光L2が受光されていないとみなせるしきい値光量A1は、例えば光源21から出力される光出力パワーの10%以下に予め設定される。
以上の光学センサ1によると、対象物5からの反射光L2の受光結果に応じて、種々の物体である対象物5の近接を検知する際に、しきい値距離D1の範囲内に到る対象物5の近接に応じて、反射光L2が受光されていないとみなせるしきい値光量A1以下の受光結果を得られる。これにより、対象物5からの反射光L2が受光部22により受光可能な反射率の範囲内で、対象物5の反射率に依らず、対象物5がしきい値距離D1まで近接していることを検知することができる。
例えば、受光部22は、対象物5がしきい値距離D1の範囲内に近接したときに当該対象物5からの反射光L2が受光されない結果を示すように受光信号を出力する。また、受光部22は、しきい値距離D1の範囲外までの対象物5の近接に応じて、力センサ部13に遮られずに到達した反射光L2を受光する。受光部22は、対象物5がしきい値距離D1の範囲内にある状態からしきい値距離D1の範囲外に到ると、反射光L2が受光されだす受光結果を示すように受光信号を出力する。こうした受光信号により、しきい値距離D1前後に近接する対象物5の動きを容易に検知することができる。こうした近接検知は、力センサ部13、光源21及び受光部22が、光源21からの光がしきい値距離D1の範囲外で反射したときの反射光L2の少なくとも一部を、受光部22から遮らないように配置されることで実現できる。
本実施形態において、凸部としての力センサ部13は、対象物5が接触して生じる力を検知する力検知部3を構成する。こうした光学センサ1によると、対象物5が近接して接触に到り、力を生じさせるといった一連の過程を連続的に検知可能にすることができる。
(実施形態2)
実施形態2では、しきい値距離D1における近接の検知結果を、力検知部3の電力制御に活用する例について、図9~11を用いて説明する。
図9は、実施形態2に係る光学センサ1Aの構成を示すブロック図である。本実施形態の光学センサ1Aは、例えば実施形態1と同様の構成(図3参照)に加えて、さらに力検知部3及び近接検知部2の動作を制御する制御部10をさらに備える。
制御部10は、例えばマイクロコンピュータで構成され、ソフトウェアと協働して所定の機能を実現する。制御部10は、例えばROM及びRAMといった内部メモリを有し、ROMに格納されたデータ及びプログラムをRAMに読み出して種々の演算処理を行い、各種の機能を実現する。なお、制御部10は、所定の機能を実現するように設計された専用の電子回路や再構成可能な電子回路などのハードウェア回路であってもよい。制御部10は、CPU、MPU、DSP、FPGA、ASIC等の種々の半導体集積回路で構成されてもよい。
例えば、制御部10は、力検知部3及び近接検知部2の動作の開始/停止をそれぞれ制御する機能を有する。制御部10は、力検知部3及び近接検知部2に供給する電力を制御してもよい。なお、光学センサ1Aは、外部電源から供給される電力によって駆動されてもよいし、バッテリ等の電源を内蔵してもよい。
図10は、本実施形態に係る光学センサ1Aの動作を例示するフローチャートである。以下では、図6(A)~(E)と同様の状況において本実施形態の光学センサ1Aが動作する一例について説明する。
図10のフローチャートに示す処理は、力検知部3の動作が停止された状態において開始される。本フローチャートに示す各処理は、例えば光学センサ1Aの制御部10によって実行される。
まず、光学センサ1Aの制御部10は、例えば近接検知回路24から近接フラグを取得して(S1)、取得した近接フラグが「1」であるか否かを判断する(S2)。ステップS2は、対象物5がしきい値距離D1の範囲内まで近接したか否かを判断するために行われる。
例えば図6(A)~(E)と同様の動作例では、対象物5がしきい値距離D1まで接近する時刻t20よりも前の期間中、近接フラグは「0」であることから(S2でNO)、ステップS1,S2の処理が周期的に繰り返される。このとき、力検知部3は、動作を停止した状態で維持され、消費電力を低減できる。その後の時刻t20において、近接フラグは「1」となり、制御部10はステップS2でYESに進む。
制御部10は、取得した近接フラグが「1」であると判断すると(S2でYES)、力検知部3の動作を開始させる(S3)。例えば、制御部10は力センサ部13及び力検知回路30に動作可能な電力を供給する。本実施形態における力検知部3は、例えばステップS3から力検知信号を生成する動作を開始する。
その後、制御部10は、例えば力検知信号に基づいて、近接検知部2の動作を制御する(S4)。ステップS4によると、近接検知部2の消費電力も低減することができる。ステップS4の処理については後述する。なお、ステップS4の処理は適宜、省略されてもよい。
次に、制御部10は、再び近接検知回路24から近接フラグを取得して(S5)、例えばステップS2と同様に取得した近接フラグが「1」であるか否かを判断する(S6)。近接フラグが「1」であるとき(S6でYES)、制御部10は、ステップS4以降の処理を再び行う。
図6(A)~(E)の例では、時刻t20から時刻t31までの期間T10中、近接フラグは「1」であることから(S6でYES)、ステップS4~S6の処理が行われる。このとき、力検知部3は動作中であることから、本実施形態では図6(E)において期間T10の分の力検知信号が得られる。時刻t31に、近接フラグは「0」となり、制御部10はステップS6でNOに進む。
制御部10は、取得した近接フラグが「0」であると判断すると(S6でNO)、力検知部3の動作を停止させる(S7)。例えば、制御部10は力センサ部13及び力検知回路30への電力の供給を停止する、或いは待機電力に制限する。
制御部10は、力検知部3の動作を停止した(S7)後に、本フローチャートに示す処理を終了する。例えば、制御部10は、以上の処理を所定の周期で繰り返す。
以上の処理によると、近接フラグに基づいて、対象物5がしきい値距離D1以内まで近接しない限り(S2でNO)、力検知部3を動作させないといった力検知部3の電力制御が実現される。一方、対象物5がしきい値距離D1以内に接近すると(S2,S6でYES)、力検知部3が起動され(S3)、対象物5の接触により生じる力を検知し損ねることなく省電力化することができる。
以上の説明では、ステップS1,S5において制御部10が近接フラグを取得する例を説明したが、これに代えて受光信号を取得してもよい。制御部10は、取得した受光信号に基づき、ステップS2,S6と同様の判断を行うことができる。
以上の説明では、ステップS3,S7において力検知部3の動作を開始/停止させる例を説明したが、特にこれに限らず、力検知部3を省電力化する各種の電力制御が行われてもよい。制御部10は、ステップS3よりも前及びステップS7において力検知部3の消費電力を低減するように動作を制限し、ステップS3において力検知部3の制限を解除して動作させてもよい。
以上のステップS4の処理について、図11を用いて説明する。図11に示す処理は、力検知部3の動作中に実行される。
まず、制御部10は、力検知部3の力検知回路30から力検知信号を取得し(S21)、取得した力検知信号に基づき、接触力が検知されたか否かを判断する(S22)。例えば対象物5の接触前など接触力が生じていないとき、制御部10はステップS22でNOに進み、図10のステップS4を終了する。この場合、近接検知部2の動作は継続する(ステップS5参照)。
一方、接触力が検知された場合(S22でYES)、対象物5は力センサ部13に接触しており、近接検知部2を動作させなくてもよいと考えられる。この場合、制御部10は、例えば近接検知部2において光源21を消灯するように光源駆動回路23を制御する(S23)。これにより、近接検知部2の消費電力を低減できる。
その後、制御部10は、再び力検知回路30から力検知信号を取得して(S24)、例えばステップS22と同様に接触力が検知されたか否かを判断する(S25)。接触力が検知されていれば(S25でYES)、制御部10は、ステップS24以降の処理を再び行う。
一方、接触力が検知されなくなった場合(S25でNO)、対象物5は光学センサ1Aの近傍にあり得る。この場合は近接検知部2を動作させて対象物5の近接を検知するべく、制御部10は、例えば消灯された光源21を点灯するように、光源駆動回路23を制御する(S26)。
制御部10は、近接検知部2を動作させる(S26)と、図10のステップS4を終了して、ステップS5に進む。
以上の処理によると、力検知部3の検知結果に基づいて、対象物5が力センサ部13と接触して接触力が検知されれば(S22,S25でYES)、近接検知部2を動作させない(S23)といった近接検知部2の電力制御が実現される。
以上のステップS23では、光源21が消灯される例を説明したが、特にこれに限らず、制御部10は、近接検知部2を省電力化する各種の動作制限を行ってもよい。例えば、制御部10は、光源21の光量を低減してもよいし、受光部22のセンサアンプのゲインを低減してもよい。この場合、制御部10は、ステップS26において、低減した光量又はゲインを戻す。これにより、近接検知部2の動作制限を解除し、動作状態を適切に復帰させることができる。
また、以上の説明では、図10,11に示す処理が光学センサ1Aの制御部10によって行われる例を説明した。図10,11と同様の処理が、光学センサ1Aが適用される制御システムによって行われてもよい。この場合、同処理を実行するCPU等は制御部の一例である。
以上のように、本実施形態の光学センサ1Aは、例えば近接フラグを介して、受光部22から出力される受光信号に応じて力検知部3の動作を制御する制御部10をさらに備える。制御部10は、しきい値光量A1以下の受光結果に応じて(S2,S6でYES)、力検知部3を動作させる(S3)。制御部10は、しきい値光量A1を超える受光結果に応じて(S2,S6でNO)、力検知部3の動作を制限する(S7)。これにより、対象物5がしきい値距離Dまで近接していない限り力検知部3の動作を制限して、力検知部3による消費電力を低減することができる。
(実施形態3)
実施形態3では、力検知方式として光学式を採用する例について、図12~15を用いて説明する。
図12は、実施形態3に係る光学センサ1Bの構成を示すブロック図である。本実施形態の光学センサ1Bは、例えば実施形態2の光学センサ1Aと同様の構成において、光学式の力検知方式を力検知部3Bに採用する。本実施形態の力検知部3Bは、光源31及び受光部32を備えた光学式の力センサ部13Bと、光源駆動回路33と、力検知回路30Bとを備える。
図13は、本実施形態における光学センサ1Bの力センサ部13Bを説明するための図である。光学式の力センサ部13Bは、凸状に形成された弾性部材35で光源31及び受光部32を覆って構成される。力センサ部13Bの内部では、例えば受光部32が光源31を取り囲むように、光源31と受光部32とが基板11上に配置される。弾性部材35は、対象物5が接触して作用する接触力などの外力に応じて変形する各種の弾性体で構成される。
図13(A)は、力センサ部13Bに、Z方向に向いた力が作用した状態を例示する。図13(B)は、図13(A)とは異なる向きの力が作用した状態を例示する。
光学式の力センサ部13Bにおいて、光源31は光を発光し、受光部32は、弾性部材35内部において発光した光の反射光を受光する。ここで、力センサ部13Bに力が作用すると、図13(A),(B)に例示するように、弾性部材35の変形の仕方が、作用する力の違いに応じて変化する。
光学式の力センサ部13Bによると、弾性部材35の変形に対応して変化する受光部32の受光結果に基づいて、種々の力を検知可能である。弾性部材35には、光源31からの光を反射する反射部が設けられてもよい。又、特に反射部が弾性部材35に設けられなくてもよく、弾性部材35と対象物5の接触中などに対象物5からの反射光を受光部32に受光させるようにしてもよい。
力センサ部13Bの光源31は、近接センサ部12の光源21と同様に、VCSEL等の各種の発光素子で構成される。力センサ部13Bの受光部32は、例えば近接センサ部12の受光部22と同様に、PD等の各種受光素子で構成され、受光結果を示す受光信号を生成する。力センサ部13Bの受光部32の受光素子は、例えば3個以上であり、例えば4個である。
図12に戻り、力検知部3Bの光源駆動回路33は、例えば近接検知部2の光源駆動回路23と同様に構成される。本実施形態の力検知回路30Bは、例えば受光部32に含まれる受光素子を組分けして扱い、各組の受光信号間の差分などを演算することによって、3軸の力を検知可能な力検知信号を生成する。
本実施形態の光学センサ1Bに、実施形態2と同様の電力制御を適用する場合、例えば、制御部10は、図10のステップS3において光源31を点灯し、ステップS7において光源31を消灯するといった制御を行う。本実施形態において、光学式の力検知部3Bの電力制御(S3,S7)には、近接検知部2の電力制御(図11のS23,S26)と同様の各種制御を適用可能である。
図14は、本実施形態に係る光学センサ1Bの一例を示す平面図である。図15は、図14のX方向に沿ったA-A’線に対応する、光学センサ1Bの断面図を示す。
本実施形態の光学センサ1Bにおいて、弾性部材35は、例えば図15に示すように、3層の樹脂体35a,35b,35cを含む。1層目の樹脂体35aは、例えば比較的に硬質の樹脂で構成され、光源31及び受光部32を封止する。2層目の樹脂体35bは、例えば1層目の樹脂体35aよりも軟質の樹脂で構成され、1層目の樹脂体35aを封止する。3層目の樹脂体35cは、2層目の樹脂体35bを封止する。
本実施形態において、近接検知部2の光源21及び受光部22は、それぞれ樹脂体21b,22bによって封止されてもよい。図14,15では、樹脂体21b,22bが、弾性部材35の1層目の樹脂体35aと同じ樹脂材料である例を示している。光源21及び受光部22を封止する樹脂材料と、弾性部材35の樹脂材料とを共通にすることにより、製造プロセスを統合でき、光学センサ1Bの製造を容易化することができる。
光源21及び受光部22を封止する樹脂材料は、検知光L1及びその反射光L2(図1参照)を選択的に透過する波長フィルタ特性を有してもよい。樹脂体21b,22bの波長フィルタ特性は、例えば検知光L1のピーク波長近傍よりも短い及び/又は長い所定の波長帯の光を遮光する光学特性である。こうした樹脂体21b,22bにより、光学センサ1Bによる近接検知において外乱光の影響を容易に抑制できる。例えば、弾性部材35の樹脂体35aも、上記と同様の波長フィルタ特性を有してもよい。
以上のような樹脂体35a,35b,35c,21b,22bの樹脂材料としては、例えばメチルシリコーン、フェニルシリコーン及び変形シリコーンといったシリコーン系樹脂、或いはエポキシ樹脂を採用できる。また、光源21及び受光部22を封止する樹脂材料は、弾性部材35の1層目に限らず、他の層の樹脂体35b、35cと共通化してもよい。弾性部材35は、3層に限らず、2層以下又は4層以上の樹脂体を含んでもよい。
以上のように、本実施形態の光学センサ1Bにおいて、力検知部3Bは、第2光源の一例である光源31と、第2受光部の一例である受光部32と、凸部の一例である力センサ部13Bの弾性部材35とを備える。光源31は、弾性部材35の内部において光を発光する。受光部32は、弾性部材35の内部において光を受光する。弾性部材35は、外力に応じて変形する。本実施形態の光学センサ1Bによると、光学式の力検知方式により、対象物5の接触による力の検知を実現できる。
本実施形態において、弾性部材35は、第1樹脂体の一例として樹脂体35aを含んでもよい。光源21及び受光部22は、第1樹脂体と共通の樹脂材料で構成される第2樹脂体の一例として樹脂体21b,22bによって封止されてもよい。これにより、光学センサ1Bの製造時における封止プロセスを容易化できる。
本実施形態において、樹脂体21b,22bは、光源21が発光する光を選択的に透過する波長フィルタ特性を有してもよい。これにより、光学センサ1Bにおける外乱光の影響を抑制できる。
(他の実施形態)
以上の各実施形態1~3では、近接センサ部12に受光部22が設けられたが、さらに追加の受光部が設けられてもよい。この変形例について、図16を用いて説明する。
図16は、本変形例に係る光学センサ1Cの平面図を示す。本変形例の光学センサ1Cは、例えば実施形態1と同様の構成(図2参照)に加えて、追加の受光部25を備える。図16では、追加の受光部25が、光源21に隣接して配置される例を示している。受光部25の位置は、しきい値距離D1における検知光L1の反射光L2が受光可能な種々の位置であってもよい。
本変形例において、追加の受光部25は、例えば近接センサ部12の受光部22と同様に構成され、受光信号を生成する。光学センサ1Cは、追加の受光部25からの受光信号を処理する各種の回路構成をさらに備えてもよい。追加の受光部25からの受光信号によると、近接センサ部12の受光部22の受光信号の信号レベルが例えば「0」近傍の場合に、対象物5がしきい値距離D1にあるのか、それとも対象物5が存在しないのかを判定することができる。
また、追加の受光部25を光源21に隣接させることにより、環境温度の変化或いは経年劣化による光源21の特性変化が、受光部25の受光信号からモニタでき、光学センサ1Cの温度補償や故障の検知に活用できる。
以上の変形例のように、本実施形態の光学センサ1Cは、光源21から出射した検知光L1がしきい値距離D1において反射したときの反射光L2を受光するように配置された第3受光部の一例として受光部25をさらに備えてもよい。
上記の各実施形態においては、光源21が狭指向性を有する例を説明したが、光源21の指向性は特に限定されず、広指向性であってもよい。光源21が広指向性の場合のしきい値距離D1を図17に例示する。本実施形態において、光学センサ1のしきい値距離D1は、光源21の指向性も考慮して適宜設定可能である。
また、上記の各実施形態においては、近接センサ部12の受光部22の受光信号による反射光L2の光量に基づいて、対象物5までの距離を検知する光学センサ1について説明した。本実施形態の光学センサは、反射光L2の光量に限らず、位相差に基づいて対象物5までの距離を検知してもよい。例えば、近接検知回路24と光源駆動回路23とを同期させて、光源21からの検知光L1の出射時から反射光L2が受光されるまでの位相差が、受光部22の受光信号から検知でき、当該位相差は対象物5までの距離に対応している。こうした検知方式においても、対象物5がしきい値距離D1以内に近接すると受光部22の受光信号の信号レベルが「0」となることから、こうした受光結果の変化を利用して対象物5の反射率に依らずしきい値距離D1に到る近接を精度良く検知できる。
また、上記の各実施形態においては、光学センサの凸部が力検知部3を構成する例を説明した。本実施形態において、光学センサの凸部は特に力検知部を構成しなくてもよい。例えば、光学センサの凸部は、力センサ部13とは別の機能を有する部材であってもよいし、単なる構造体であってもよい。こうした凸部によっても、上記各実施形態と同様に、しきい値距離D1において受光部22から反射光L2を遮る現象を生じさせることができ、しきい値距離D1における対象物5の近接を精度良く検知できる。
1,1A,1B,1C 光学センサ
10 制御部
12 近接センサ部
13,13B 力センサ部
21 光源
22 受光部
25 受光部
21b,22b 樹脂体
2 近接検知部
3,3B 力検知部
31 光源
32 受光部
35 弾性部材
35a,35b,35c 樹脂体

Claims (6)

  1. 光の受光結果に応じて、物体の近接を検知する光学センサであって、
    前記物体に光を出射する第1光源と、
    出射した光が前記物体で反射した反射光を受光して、受光結果を示す信号を生成する第1受光部と、
    前記第1光源及び前記第1受光部よりも高い高さを有する凸部とを備え、
    前記第1光源からの光が、前記凸部から所定距離の範囲内で反射したときの前記反射光を、前記第1受光部から遮るように、前記凸部が前記第1光源と前記第1受光部との間に配置され、
    前記第1受光部は、前記所定距離の範囲内に到る前記物体の近接に応じて、前記反射光が受光されていないことを示すしきい値光量以下の受光結果を示すように前記信号を出力し、
    前記凸部は、前記物体が接触して生じる力を検知する力検知部を構成する
    光学センサ。
  2. 前記第1受光部から出力される信号に応じて、前記力検知部の動作を制御する制御部をさらに備え、
    前記制御部は、
    前記しきい値光量以下の受光結果に応じて、前記力検知部を動作させ、
    前記しきい値光量を超える受光結果に応じて、前記力検知部の動作を制限する
    請求項に記載の光学センサ。
  3. 前記力検知部は、
    前記凸部の内部において光を発光する第2光源と、
    前記凸部の内部において光を受光する第2受光部とを備え、
    前記凸部は、外力に応じて変形する弾性部材で構成される
    請求項又はに記載の光学センサ。
  4. 前記弾性部材は、第1樹脂体を含み、
    前記第1光源及び前記第1受光部は、前記第1樹脂体と共通の樹脂材料で構成される第2樹脂体によって封止される
    請求項に記載の光学センサ。
  5. 前記第2樹脂体は、前記第1光源が発光する光を選択的に透過する波長フィルタ特性を有する
    請求項に記載の光学センサ。
  6. 前記第1光源から出射した光が前記所定距離において反射したときの反射光を受光するように配置された第3受光部をさらに備える
    請求項1からのいずれか1項に記載の光学センサ。
JP2021558173A 2019-11-18 2020-08-05 光学センサ Active JP7338699B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2019208138 2019-11-18
JP2019208138 2019-11-18
PCT/JP2020/030070 WO2021100261A1 (ja) 2019-11-18 2020-08-05 光学センサ

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPWO2021100261A1 JPWO2021100261A1 (ja) 2021-05-27
JP7338699B2 true JP7338699B2 (ja) 2023-09-05

Family

ID=75980492

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2021558173A Active JP7338699B2 (ja) 2019-11-18 2020-08-05 光学センサ

Country Status (4)

Country Link
US (1) US11933936B2 (ja)
JP (1) JP7338699B2 (ja)
CN (1) CN114730019A (ja)
WO (1) WO2021100261A1 (ja)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10969878B2 (en) 2017-08-20 2021-04-06 Pixart Imaging Inc. Joystick with light emitter and optical sensor within internal chamber
US20220137723A1 (en) * 2017-08-20 2022-05-05 Pixart Imaging Inc. Force sensor device and method for detecting force based on temporal or spatial differential image
US10372155B2 (en) 2017-08-20 2019-08-06 Pixart Imaging Inc. Joystick and related control method
WO2023002866A1 (ja) * 2021-07-21 2023-01-26 株式会社村田製作所 センサ装置
TWI828483B (zh) * 2022-09-02 2024-01-01 大陸商業泓科技(成都)有限公司 直接飛時測距模組及其製作方法
WO2024195278A1 (ja) * 2023-03-20 2024-09-26 株式会社村田製作所 複合センサ

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010539474A (ja) 2007-09-10 2010-12-16 ネーデルランデ オルガニサティー ヴール トゥーヘパストナツールウェテンスハペライク オンデルズーク テーエヌオー 力分布測定用光学センサ
JP2011525239A (ja) 2008-06-20 2011-09-15 オスラム オプト セミコンダクターズ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング オブジェクトを検出するための光電スイッチおよび方法
WO2014045685A1 (ja) 2012-09-21 2014-03-27 株式会社安川電機 力センサおよび力センサを有するロボット
US20140103199A1 (en) 2012-10-16 2014-04-17 Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. Proximity Sensor Device With Internal Channeling Section
JP2015525478A (ja) 2012-06-06 2015-09-03 オスラム オプト セミコンダクターズ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツングOsram Opto Semiconductors GmbH オプトエレクトロニクスデバイスおよびそのようなデバイスを有する装置
US20170297206A1 (en) 2016-04-14 2017-10-19 The Regents Of The University Of Colorado, A Body Corporate Measuring distance and contact force during robotic manipulation
US20190341518A1 (en) 2018-05-07 2019-11-07 Lite-On Singapore Pte. Ltd. Proximity sensing module with dual transmitters

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5825604B2 (ja) 2011-09-13 2015-12-02 国立大学法人名古屋大学 6軸力計測装置、及び6軸力計測方法
US11073615B2 (en) * 2018-08-20 2021-07-27 Lite-On Singapore Pte. Ltd. Proximity sensor module with two sensors

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010539474A (ja) 2007-09-10 2010-12-16 ネーデルランデ オルガニサティー ヴール トゥーヘパストナツールウェテンスハペライク オンデルズーク テーエヌオー 力分布測定用光学センサ
JP2011525239A (ja) 2008-06-20 2011-09-15 オスラム オプト セミコンダクターズ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング オブジェクトを検出するための光電スイッチおよび方法
JP2015525478A (ja) 2012-06-06 2015-09-03 オスラム オプト セミコンダクターズ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツングOsram Opto Semiconductors GmbH オプトエレクトロニクスデバイスおよびそのようなデバイスを有する装置
WO2014045685A1 (ja) 2012-09-21 2014-03-27 株式会社安川電機 力センサおよび力センサを有するロボット
US20140103199A1 (en) 2012-10-16 2014-04-17 Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. Proximity Sensor Device With Internal Channeling Section
US20170297206A1 (en) 2016-04-14 2017-10-19 The Regents Of The University Of Colorado, A Body Corporate Measuring distance and contact force during robotic manipulation
US20190341518A1 (en) 2018-05-07 2019-11-07 Lite-On Singapore Pte. Ltd. Proximity sensing module with dual transmitters

Also Published As

Publication number Publication date
WO2021100261A1 (ja) 2021-05-27
US20220276405A1 (en) 2022-09-01
JPWO2021100261A1 (ja) 2021-05-27
CN114730019A (zh) 2022-07-08
US11933936B2 (en) 2024-03-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP7338699B2 (ja) 光学センサ
CN112105900B (zh) 触觉以及接近传感器和传感器阵列
JP5886158B2 (ja) 多方向近接センサー
TW201104537A (en) Apparatus and method for optical proximity sensing and touch input control
US20210384703A1 (en) Light emitting module including enhanced eye-safety feature
US11662850B1 (en) Solid-state touch-enabled switch and related method
US10456920B2 (en) Proximity robot blade detection and auto retraction
US11953351B2 (en) Tactile and proximity sensor
CN104101312A (zh) 检测使用机械臂的机械操作中的位置偏移的装置和方法
JP7520867B2 (ja) 光学式センサおよび光学式センサモジュール
WO2021111705A1 (ja) 光学センサ
US11698295B2 (en) Optical sensor including a hard resin and a soft resin and proximity sensor including the same
WO2021005952A1 (ja) 光学センサ、及び、それを備えた近接センサ
WO2021033391A1 (ja) 保護カバーおよび発光装置
WO2022230410A1 (ja) センサ装置
JP7571884B2 (ja) センサ装置
CN114097097B (zh) 光学传感器以及具备该光学传感器的接近传感器
US20240220033A1 (en) User interface device
JP4594247B2 (ja) 情報通信システムおよびその情報通信システムに適用されるタグ装置
US20240142323A1 (en) Sensor device
EP4081885A1 (en) A sensing system
JP2018206903A (ja) 近接覚センサ及び近接覚センサの製造方法
JP2009009489A (ja) 近接センサおよび近接センサシステム

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20220513

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20230509

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20230707

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20230725

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20230807

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 7338699

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150