JP7338295B2 - Molded body manufacturing method - Google Patents

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Description

本発明は、成形体の製造方法に関する。より具体的には、いわゆるインプリントプロセスによる成形体の製造方法に関する。 The present invention relates to a method for producing a molded article. More specifically, it relates to a method for manufacturing a molded article by a so-called imprint process.

いわゆる「インプリントプロセス」により、微細凹凸構造を有する成形体を製造する方法が知られている。
インプリントプロセスの流れは、例えば以下の通りである。
(1)まず、樹脂材料を加熱して軟化させる。
(2)次に、その軟化した樹脂を、金型表面に設けられた微細構造を有する転写面に押し当て加圧成形する。
(3)そのまま(加圧が維持されたまま)樹脂を冷却する。
(4)樹脂が冷えた後、金型から樹脂を離型することで、金型の転写面の微細構造が転写された樹脂成形体を得る。
A method for producing a molded article having a fine relief structure by a so-called "imprint process" is known.
The imprint process flow is, for example, as follows.
(1) First, the resin material is heated and softened.
(2) Next, the softened resin is pressed against a transfer surface having a fine structure provided on the surface of the mold and pressure-molded.
(3) Cool the resin as it is (while maintaining the pressurization).
(4) After the resin has cooled, the resin is released from the mold to obtain a molded resin article onto which the fine structure of the transfer surface of the mold has been transferred.

先行技術の一例として、特許文献1には、インプリントプロセスにより、半硬化の状態のドライフィルムに、成形型を加熱された状態で押圧し、押圧後に冷却して、成形型の凹凸の形状が反転して転写されたフレネルレンズを形成する方法が開示されている。 As an example of the prior art, Patent Literature 1 discloses that a semi-cured dry film is pressed against a semi-cured dry film by an imprint process in a heated state with a mold, and then cooled after being pressed, so that the uneven shape of the mold is formed. A method of forming an inverted transferred Fresnel lens is disclosed.

別の先行技術の例として、特許文献2には、インプリントプロセスにより、液体試料検査キットに用いられる凹部微細構造を有する膜担体を形成する方法が開示されている。 As another example of the prior art, US Pat. No. 6,300,001 discloses a method of forming a membrane carrier with a recessed microstructure for use in a liquid sample test kit by an imprint process.

国際公開第2012/043573号WO2012/043573 国際公開第2016/098740号WO2016/098740

本発明者は、インプリントプロセスの改良検討を行う中で、インプリントプロセスにより微細凹凸構造を有する成形体を製造する際に、成形体に意図せぬ「シワ」が生じ、所望の成形体が得られない場合があることを見出した。 The inventors of the present invention, in the course of studying improvements to the imprint process, found that unintended "wrinkles" occurred in the molded article when producing a molded article having a fine relief structure by the imprint process, and the desired molded article was not produced. I found that it may not be obtained.

本発明はこのような事情に鑑みてなされたものである。本発明の目的の1つは、インプリントプロセスによる成形体の製造において、成形体に意図せぬ「シワ」を生じにくくすることである。 The present invention has been made in view of such circumstances. One of the objects of the present invention is to make it difficult for unintended "wrinkles" to occur in a molded article in the production of the molded article by an imprint process.

本発明者らは、鋭意検討の結果、以下に提供される発明を完成させ、上記課題を解決した。 As a result of intensive studies, the inventors of the present invention completed the invention provided below and solved the above problems.

本発明によれば、
加熱された被転写材を、微細凹凸構造が設けられた転写面を有する金型の前記転写面に押し当てる押圧工程を含み、
前記被転写材は、加熱により軟化する性質を有し、
前記押圧工程においては、前記被転写材の前記金型とは反対側の面に、静摩擦係数が以下の低摩擦部材が接しており、
前記低摩擦部材は、ポリイミドおよびポリエーテルエーテルケトンからなる群より選ばれる1または2以上の樹脂を含む、微細凹凸構造を有する成形体の製造方法
が提供される。
According to the invention,
A pressing step of pressing the heated transfer material against the transfer surface of a mold having a transfer surface provided with a fine uneven structure,
The material to be transferred has a property of being softened by heating,
In the pressing step, a low-friction member having a static friction coefficient of 1 or less is in contact with the surface of the material to be transferred opposite to the mold,
The low-friction member contains one or more resins selected from the group consisting of polyimide and polyetheretherketone .

本発明によれば、インプリントプロセスによる成形体の製造において、成形体に意図せぬ「シワ」が生じにくくなる。 Advantageous Effects of Invention According to the present invention, unintended "wrinkles" are less likely to occur in a molded article in the production of the molded article by the imprint process.

成形体の製造方法について説明するための図である。It is a figure for demonstrating the manufacturing method of a molded object. 成形体の製造方法について説明するための図である。It is a figure for demonstrating the manufacturing method of a molded object. 「金型」について説明するための模式図である。It is a schematic diagram for demonstrating a "mold." 実施例および比較例におけるシワの状態を可視化したものである。It visualizes the state of wrinkles in Examples and Comparative Examples.

以下、本発明の実施形態について、図面を参照しつつ、詳細に説明する。
すべての図面において、同様な構成要素には同様の符号を付し、適宜説明を省略する。
煩雑さを避けるため、(i)同一図面内に同一の構成要素が複数ある場合には、その1つのみに符号を付し、全てには符号を付さない場合や、(ii)特に図2以降において、図1と同様の構成要素に改めては符号を付さない場合がある。
すべての図面はあくまで説明用のものである。図面中の各部材の形状や寸法比などは、必ずしも現実の物品と対応しない。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
In all the drawings, the same constituent elements are denoted by the same reference numerals, and the description thereof will be omitted as appropriate.
In order to avoid complication, (i) when there are a plurality of the same components in the same drawing, only one of them is given a reference numeral and not all of them, and (ii) in particular the figure 2 onward, the same constituent elements as those in FIG. 1 may not be denoted by reference numerals.
All drawings are for illustration purposes only. The shape and dimensional ratio of each member in the drawings do not necessarily correspond to the actual article.

本明細書中、数値範囲の説明における「x~y」との表記は、特に断らない限り、x以上y以下のことを表す。例えば、「1~5質量%」とは「1質量%以上5質量%以下」を意味する。
本明細書における「(メタ)アクリル」との表記は、アクリルとメタクリルの両方を包含する概念を表す。「(メタ)アクリレート」等の類似の表記についても同様である。
In this specification, the notation "x to y" in the description of numerical ranges means from x to y, unless otherwise specified. For example, "1 to 5% by mass" means "1% by mass or more and 5% by mass or less".
The notation "(meth)acryl" used herein represents a concept that includes both acryl and methacryl. The same applies to similar notations such as "(meth)acrylate".

<成形体の製造方法>
図1のI.~III.および図2は、本実施形態の成形体の製造方法について説明するための模式的な図である。より具体的には、図1のI.~III.および図2は、本実施形態の成形体の製造方法を行うための「装置」やその動作、手順などを示す概略断面図ということができる。図1のI.~III.および図2で説明されるような手順により、微細凹凸構造を有する成形体を製造することができる。
<Method for manufacturing molded body>
I. in FIG. ~III. 2A and 2B are schematic diagrams for explaining the method for producing a molded article according to the present embodiment. More specifically, FIG. ~III. and FIG. 2 can be said to be a schematic cross-sectional view showing the "apparatus" for carrying out the method for producing a molded article of the present embodiment, its operation, procedures, and the like. I. in FIG. ~III. , and the procedure as illustrated in FIG. 2, a molded body having a fine relief structure can be produced.

図1のI.において、被転写材20は、シリコンウェハ33および低摩擦部材15を介してプレス上板31に設置されている。低摩擦部材15はシリコンウェハ33と被転写材20との間に存在する。シリコンウェハ33はプレス上板31と低摩擦部材15との間に存在する。
被転写材20は、加熱により軟化する性質を有する。
低摩擦部材15の表面(被転写材20と接する面)の静摩擦係数は、10以下である。
念のため述べておくと、プレス上板31の下面、シリコンウェハ33の両面、低摩擦部材15の両面、および、被転写材20の少なくとも上面が、十分に平坦であれば、図1のI.のように、シリコンウェハ33、低摩擦部材15および被転写材20が重力により「下に落ちない」ようにすることができる(各部材の間に空気が入らないため)。もちろん、これらのうち一部または全部は、何らかの手段により、落下しないように物理的に固定されてもよい。
I. in FIG. , the transfer material 20 is placed on the upper press plate 31 with the silicon wafer 33 and the low-friction member 15 interposed therebetween. The low-friction member 15 exists between the silicon wafer 33 and the transfer material 20 . A silicon wafer 33 is present between the press top plate 31 and the low friction member 15 .
The material to be transferred 20 has a property of being softened by heating.
The static friction coefficient of the surface of the low-friction member 15 (the surface in contact with the transferred material 20) is 10 or less.
Just to be sure, if the lower surface of the upper press plate 31, both surfaces of the silicon wafer 33, both surfaces of the low-friction member 15, and at least the upper surface of the transfer material 20 are sufficiently flat, I in FIG. . , the silicon wafer 33, the low-friction member 15, and the transferred material 20 can be prevented from "falling downward" due to gravity (because air does not enter between the members). Of course, some or all of these may be physically fixed by some means so as not to fall.

図1のI.において、金型10は、シリコンウェハ34を介してプレス下板32に設置されている。
図1のI.において、金型10の転写面10a(微細凹凸構造が設けられている)は、被転写材20の表面20aと向かい合っている。
I. in FIG. , the mold 10 is placed on the lower press plate 32 with the silicon wafer 34 interposed therebetween.
I. in FIG. , the transfer surface 10a of the mold 10 (provided with a fine uneven structure) faces the surface 20a of the material 20 to be transferred.

図1のI.において、プレス上板31及びプレス下板32は、金型10の転写面10aに、被転写材20の表面20aを押し当てることができるものである。
通常、プレス上板31およびプレス下板32の少なくとも一方(好ましくは両方)は、加熱手段を内蔵している。加熱手段により、金型10や被転写材20などを加熱できるようになっている。そして、金型10および/または被転写材20を加熱しながら押圧できるようになっている。
I. in FIG. , the press upper plate 31 and the press lower plate 32 are capable of pressing the transfer surface 10a of the mold 10 against the surface 20a of the material 20 to be transferred.
Generally, at least one (preferably both) of the upper press plate 31 and the lower press plate 32 incorporate heating means. The heating means can heat the mold 10, the transfer material 20, and the like. Then, the mold 10 and/or the material to be transferred 20 can be pressed while being heated.

なお、被転写材20および低摩擦部材15の配置位置は、図1のI.のようなプレス上板31の側ではなく、図2のように、プレス下板32の側であってもよい。つまり、プレス下板32の上面に、シリコンウェハ34、金型10、被転写材20および低摩擦部材15がこの順に重ねられてもよい。 The arrangement positions of the transferred material 20 and the low-friction member 15 correspond to I. in FIG. It may be on the side of the lower press plate 32 as shown in FIG. In other words, the silicon wafer 34, the mold 10, the material to be transferred 20, and the low-friction member 15 may be stacked in this order on the upper surface of the lower press plate 32. FIG.

図1のII.は、図1のI.または図2の状態を変化させて、加熱されて軟化した被転写材20を、金型10の転写面10aに押し当てている状態(押圧工程)を模式的に表した図である。
被転写材20は、加熱により軟化しているため、金型10の転写面10aに押し当てられることで塑性変形する。そして、被転写材20には、転写面10aの微細凹凸構造が転写される。
II. of FIG. is I. in FIG. Alternatively, the state of FIG. 2 is changed to schematically show a state (pressing step) in which the transferred material 20 that has been heated and softened is pressed against the transfer surface 10a of the mold 10. FIG.
Since the transferred material 20 is softened by heating, it is plastically deformed when pressed against the transfer surface 10 a of the mold 10 . Then, the fine concavo-convex structure of the transfer surface 10 a is transferred to the transferred material 20 .

この際、被転写材20の、金型10とは反対側の面に、低摩擦部材15が接していることにより、被転写材20にシワが発生することが抑えられる。この推定メカニズムについては以下のように説明される(以下説明により本発明が限定されるものではない)。
被転写材20が加熱された際、被転写材20は「膨張」し、「たわみ」「ゆがみ」等が生じると推測される。その「たわみ」「ゆがみ」等がある被転写材20を転写面10aに押し当てると、「たわみ」「ゆがみ」に起因して、被転写材20にシワが発生してしまうと推測される。
しかし、被転写材20の、金型10とは反対側の面に、低摩擦部材15が接しているならば、低摩擦部材15の「低摩擦性」により、被転写材20の「たわみ」「ゆがみ」がうまく逃がされて、シワが生じにくくなると推測される。
At this time, since the low-friction member 15 is in contact with the surface of the transfer material 20 opposite to the mold 10, the transfer material 20 is prevented from wrinkling. This presumed mechanism is explained as follows (the following explanation does not limit the present invention).
When the transfer material 20 is heated, it is presumed that the transfer material 20 "expands" and causes "deflection", "distortion", and the like. It is presumed that when the transfer material 20 having such "bending" and "distortion" is pressed against the transfer surface 10a, the transfer material 20 is wrinkled due to the "bending" and "distortion".
However, if the low-friction member 15 is in contact with the surface of the transfer-receiving material 20 opposite to the mold 10, the "low-friction property" of the low-friction member 15 causes the transfer-receiving material 20 to "deflect". It is presumed that the "distortion" is successfully released, and wrinkles are less likely to occur.

被転写材20を加熱する方法やタイミングについては、被転写材20に転写面10aの微細凹凸構造が転写される限り、特に限定されない。 The method and timing of heating the transfer material 20 are not particularly limited as long as the fine concavo-convex structure of the transfer surface 10 a is transferred to the transfer material 20 .

被転写材20を加熱する方法について具体的には、(i)プレス上板31に内蔵された加熱手段を用いて被転写材20を加熱する方法、(ii)プレス下板32に内蔵された加熱手段を用いて金型10を加熱しておき、被転写材20の押圧時に被転写材20に熱を伝える方法、(iii)上記(i)と(ii)の併用、つまり、プレス上板31とプレス下板32の「両方」を利用する方法、などが挙げられる。
(iii)の場合、プレス上板31による加熱の温度と、プレス下板32による加熱の温度は同じであっても異なっていてもよい。例えば、プレス上板31による加熱の温度を、被転写材20のガラス転移温度以下とし、プレス下板32による加熱の温度を、被転写材20のガラス転移温度以上とすることが考えられる。こうすることで、押圧工程前の被転写材20の「たわみ」「ゆがみ」発生を抑えつつ、押圧後速やかに被転写材20を変形させて微細凹凸構造を転写することができる。
Specifically, the method of heating the transfer material 20 includes (i) a method of heating the transfer material 20 using a heating means built in the press upper plate 31, and (ii) a method of heating the transfer material 20 built into the press lower plate 32 (iii) a combination of (i) and (ii) above, that is, a press upper plate; 31 and the press lower plate 32, and the like.
In the case of (iii), the temperature of heating by the upper press plate 31 and the temperature of heating by the lower press plate 32 may be the same or different. For example, the heating temperature of the upper press plate 31 may be lower than the glass transition temperature of the transfer material 20 and the heating temperature of the lower press plate 32 may be higher than the glass transition temperature of the transfer material 20 . By doing so, it is possible to transfer the fine concavo-convex structure by quickly deforming the transfer material 20 after pressing while suppressing the occurrence of "deflection" and "distortion" of the transfer material 20 before the pressing process.

被転写材20や金型10を加熱するタイミング(加熱開始のタイミング)については、(i)押圧の前(図1のI.または図2の段階)から加熱を開始してもよいし、(ii)転写面10aに被転写材20を押し当てた後、または転写面10aに被転写材20を押し当てたと同時に、加熱を開始してもよい。(i)のタイミングのほうが、工業的生産性などの点で好ましい。 Regarding the timing of heating the transfer material 20 and the mold 10 (heating start timing), (i) heating may be started before pressing (stage I in FIG. 1 or FIG. 2), or ( ii) Heating may be started after the transfer material 20 is pressed against the transfer surface 10a or at the same time as the transfer material 20 is pressed against the transfer surface 10a. Timing (i) is preferable in terms of industrial productivity.

図1のIII.は、図1のII.の押圧工程の後に、金型10から被転写材20(微細凹凸構造が転写されている)を離型する離型工程を模式的に表した図である。図1のIII.において、被転写材20および金型10以外の構成要素の記載は省略されている。
離型工程は、通常、押圧工程の後、被転写材20が十分に冷えてから行われる。被転写材20を冷やす方法は特に限定されない。例えば、大気下で放置しておく方法であってもよいし、風を当てる方法であってもよい。
III. of FIG. II. of FIG. 2 is a diagram schematically showing a mold release step of releasing the transferred material 20 (on which the fine concavo-convex structure has been transferred) from the mold 10 after the pressing step of . III. of FIG. , description of components other than the transferred material 20 and the mold 10 is omitted.
The releasing process is usually performed after the material to be transferred 20 is sufficiently cooled after the pressing process. A method for cooling the transfer material 20 is not particularly limited. For example, it may be left in the atmosphere or exposed to air.

以上、図1のI.~III.および図2で説明されるような手順により、微細凹凸構造を有する成形体を製造することができる。特に、押圧工程において、被転写材20の金型10とは反対側の面に、低摩擦部材15が接していることにより、成形体にシワが生じることが抑えられる。 As described above, I. in FIG. ~III. , and the procedure as illustrated in FIG. 2, a molded body having a fine relief structure can be produced. In particular, in the pressing step, the low-friction member 15 is in contact with the surface of the transferred material 20 opposite to the mold 10, thereby suppressing wrinkles in the molded body.

本実施形態の成形体の製造方法の「概要」は以上のとおりである。
以下、本実施形態の成形体の製造方法についてより具体的な説明を加える。
The "outline" of the method for producing a molded article according to this embodiment is as described above.
A more specific description of the method for manufacturing the molded article of the present embodiment will be given below.

(被転写材)
被転写材20は、加熱により軟化する性質を有し、金型10の転写面10aに押圧することで微細凹凸構造を形成可能なものである限り、任意の素材、形状等であることができる。
(Receiving material)
The material to be transferred 20 has the property of being softened by heating, and can be of any material, shape, etc., as long as it can form a fine uneven structure by being pressed against the transfer surface 10a of the mold 10. .

被転写材20は、好ましくは第一の樹脂フィルムである(低摩擦部材15も「樹脂フィルム」である場合があるため、「第一の」樹脂フィルムと表記して区別している)。被転写材20がフィルム状であることにより、押圧工程の際に被転写材20に均一に圧力をかけやすく、寸法精度が良好な成形体を製造しやすい。 The transfer material 20 is preferably a first resin film (since the low-friction member 15 may also be a "resin film", it is referred to as a "first" resin film for distinction). Since the material to be transferred 20 is in the form of a film, it is easy to apply pressure uniformly to the material to be transferred 20 in the pressing process, and it is easy to manufacture a molded product with good dimensional accuracy.

被転写材20は、通常、熱可塑性樹脂および/または熱硬化性樹脂を含む。離型工程における離型しやすさ、製造される成形体のその後の加工しやすさ等を考慮すると、被転写材20は熱可塑性樹脂を含むことが好ましい。 The transfer material 20 usually contains a thermoplastic resin and/or a thermosetting resin. Considering ease of mold release in the mold release process, ease of subsequent processing of the molded article to be manufactured, etc., it is preferable that the material to be transferred 20 contains a thermoplastic resin.

被転写材20は、例えば、ポリ(メタ)アクリル酸メチル、ポリカーボネート、ポリシクロオレフィン、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、アクリロニトリル・スチレン共重合体、アクリロニトリル・ブタジエン・スチレン共重合体、ポリノルボルネン、ポリエチレンテレフタレート等を含むことができる。これらは通常は熱可塑性樹脂に分類される。
別観点として、被転写材20は、非晶性の樹脂を含むことが好ましい。非晶性の材料は、成形温度幅が広いため成形性が良好であり、寸法安定性の向上に効果的である。非晶性の樹脂としては、ポリ(メタ)アクリル酸メチル、ポリカーボネート、ポリシクロオレフィン、ポリスチレン、(メタ)アクリロニトリル・スチレン共重合体、(メタ)アクリロニトリル・ブタジエン・スチレン共重合体などが挙げられる。
被転写材20は、1種のみの樹脂を含んでもよいし、2種以上の樹脂を含んでもよい。
The material to be transferred 20 is, for example, polymethyl(meth)acrylate, polycarbonate, polycycloolefin, polyethylene, polystyrene, polypropylene, acrylonitrile/styrene copolymer, acrylonitrile/butadiene/styrene copolymer, polynorbornene, polyethylene terephthalate, or the like. can include These are usually classified as thermoplastics.
From another point of view, the transfer material 20 preferably contains an amorphous resin. Amorphous materials have a wide molding temperature range, and therefore have good moldability and are effective in improving dimensional stability. Examples of amorphous resins include polymethyl(meth)acrylate, polycarbonate, polycycloolefin, polystyrene, (meth)acrylonitrile/styrene copolymer, and (meth)acrylonitrile/butadiene/styrene copolymer.
The material to be transferred 20 may contain only one kind of resin, or may contain two or more kinds of resins.

被転写材20は、特に、ポリシクロオレフィン、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレートおよびポリスチレンからなる群より選ばれる1または2以上の樹脂を含むことが好ましい。とりわけ、ポリシクロオレフィンが、良好な離型性の点から好ましい。加えて、ポリシクロオレフィンは、成形体を後述する成形体の用途(バイオチップ等)に適用する際の光学特性の点で好ましい。 The material to be transferred 20 preferably contains one or more resins selected from the group consisting of polycycloolefin, polycarbonate, polymethylmethacrylate and polystyrene. Among them, polycycloolefin is preferable from the viewpoint of good releasability. In addition, polycycloolefin is preferable in terms of optical properties when the molded article is applied to uses (biochips, etc.) described below.

被転写材20のガラス転移温度Tgは、典型的には50~300℃、好ましくは60~250℃、さらに好ましくは70~200℃である。
ガラス転移温度としては、例えば、被転写材20を動的粘弾性測定したときの、貯蔵弾性率の下がり始めの変曲点の温度を採用することができる。動的粘弾性測定の測定モードはせん断モード、周波数は1Hz、昇温速度は5℃/分とすることができる。
The glass transition temperature Tg of the transfer material 20 is typically 50 to 300.degree. C., preferably 60 to 250.degree. C., more preferably 70 to 200.degree.
As the glass transition temperature, for example, the temperature at the inflection point at which the storage elastic modulus begins to decrease when the transfer material 20 is subjected to dynamic viscoelasticity measurement can be used. The measurement mode of the dynamic viscoelasticity measurement can be the shear mode, the frequency can be 1 Hz, and the heating rate can be 5° C./min.

被転写材20が第一の樹脂フィルムである場合、その厚みは、0.01~10mmが好ましく、0.02~5mmがより好ましく、0.04~2mmがさらに好ましい。
被転写材20の厚さを0.01mm以上にすることにより、被転写材20にシワが発生することを一層抑制することができる。また、被転写材の厚さを10mm以下にすることにより、被転写材20の冷却性が高まり、製造効率化/製造時間短縮などを図ることができる。
When the material to be transferred 20 is the first resin film, its thickness is preferably 0.01 to 10 mm, more preferably 0.02 to 5 mm, even more preferably 0.04 to 2 mm.
By setting the thickness of the transfer material 20 to 0.01 mm or more, the generation of wrinkles in the transfer material 20 can be further suppressed. Further, by setting the thickness of the transfer material to 10 mm or less, the cooling property of the transfer material 20 is enhanced, and production efficiency and production time can be reduced.

被転写材20については、合成樹脂メーカ、フィルムメーカなどから入手可能な市販品を用いることができる。 Commercially available products from synthetic resin manufacturers, film manufacturers, and the like can be used as the material to be transferred 20 .

(金型)
図3は、図1における金型10について説明するための模式図である。具体的には、図2A.は、金型10の転写面10aを示す上面図である。また、図2B.は、金型10のX-X縦断面図である。
金型10の転写面10aは、通常、複数の凸部を有している。個々の凸部の形状は、例えば、柱状、錐状、半球状、これら形状の角部を面取りした形状、各形状同士を連結した形状、各形状同士を合成した形状などであることができる。ここでの「柱状」は、円柱状や四角柱状などを含む。
また、転写面10aは、ストライプ状の凹凸の微細構造を有するものであってもよい。
(Mold)
FIG. 3 is a schematic diagram for explaining the mold 10 in FIG. Specifically, FIG. 2A. 1] is a top view showing a transfer surface 10a of a mold 10. [FIG. Also, FIG. 2B. is an XX vertical sectional view of the mold 10. FIG.
The transfer surface 10a of the mold 10 usually has a plurality of convex portions. The shape of each convex portion can be, for example, a columnar shape, a conical shape, a hemispherical shape, a shape obtained by chamfering the corners of these shapes, a shape in which each shape is connected, a shape in which each shape is synthesized, or the like. The “columnar shape” as used herein includes a columnar shape, a square columnar shape, and the like.
Further, the transfer surface 10a may have a stripe-shaped uneven fine structure.

金型10は、Ni電鋳モールドであることが好ましい。別の言い方として、金型10の少なくとも転写面10aは、Ni電鋳処理されたものであることが好ましい。Ni電鋳モールドは、耐摩耗性などの点で好ましい。 The mold 10 is preferably a Ni electroformed mold. In other words, at least the transfer surface 10a of the mold 10 is preferably Ni electroformed. A Ni electroformed mold is preferable in terms of wear resistance and the like.

転写面10aに設けられた微細凹凸構造の凸部のピッチ(図3A.におけるp)は、例えば0.02~6000μm、具体的には0.04~4000μm、より具体的には0.06~2000μmである。
転写面10aに設けられた微細凹凸構造の凸部が円柱状である場合、円柱の直径(図3A.におけるd)は、例えば0.1~3000μm、具体的には0.2~2000μm、より具体的には0.3~1000μmである。
転写面10aに設けられた微細凹凸構造の凸部の高さ(図3B.におけるh)は、例えば0.01~3000μm、具体的には0.02~2000μm、より具体的には0.03~1000μmである。
The pitch (p in FIG. 3A) of the projections of the fine uneven structure provided on the transfer surface 10a is, for example, 0.02 to 6000 μm, specifically 0.04 to 4000 μm, more specifically 0.06 to 0.06 μm. 2000 μm.
When the projections of the fine uneven structure provided on the transfer surface 10a are columnar, the diameter of the column (d in FIG. 3A) is, for example, 0.1 to 3000 μm, specifically 0.2 to 2000 μm, or more. Specifically, it is 0.3 to 1000 μm.
The height (h in FIG. 3B) of the projections of the fine uneven structure provided on the transfer surface 10a is, for example, 0.01 to 3000 μm, specifically 0.02 to 2000 μm, more specifically 0.03. ~1000 μm.

金型10は、公知の製造方法により製造することができる。 The mold 10 can be manufactured by a known manufacturing method.

(低摩擦部材)
低摩擦部材15の材質、形状等は、成形体にシワが生じにくくなる効果が得られる限り、特に限定されない。
(Low friction member)
The material, shape, and the like of the low-friction member 15 are not particularly limited as long as the effect of preventing wrinkles from forming on the molded body can be obtained.

低摩擦部材15は、好ましくは、第二の樹脂フィルムである(被転写材20も「樹脂フィルム」である場合があるため、「第二の」樹脂フィルムと表記して区別している)。
低摩擦部材15が第二の樹脂フィルムである場合、その厚みは、1~1000μmが好ましく、10~800μmがより好ましく、20~500μmがさらに好ましい。
The low-friction member 15 is preferably a second resin film.
When the low-friction member 15 is the second resin film, its thickness is preferably 1 to 1000 μm, more preferably 10 to 800 μm, even more preferably 20 to 500 μm.

低摩擦部材15は、好ましくは、ポリイミド、ポリエステルおよびポリエーテルエーテルケトンからなる群より選ばれる1または2以上の樹脂を含む。これら樹脂の1または2以上を低摩擦部材15の素材として採用することで、低摩擦部材15の摩擦係数を小さくしやすい。また、これら樹脂は、比較的高耐熱性であるため、押圧工程において低摩擦部材15が変形してしまう事態を避けやすい。また、高耐熱性であるため、繰返し使用の点でも好ましい。
ちなみに、低摩擦部材15の変形を確実に避ける点では、被転写材20のガラス転移温度<押圧工程時の温度<低摩擦部材のガラス転移温度となるように、押圧工程時の温度を調整したり、各部材について適切なガラス転移温度を有するものを選択したりすることが好ましい。
The low-friction member 15 preferably contains one or more resins selected from the group consisting of polyimide, polyester and polyetheretherketone. By adopting one or more of these resins as the material of the low friction member 15, the coefficient of friction of the low friction member 15 can be easily reduced. In addition, since these resins have relatively high heat resistance, it is easy to avoid deformation of the low-friction member 15 during the pressing process. Moreover, since it has high heat resistance, it is also preferable in terms of repeated use.
Incidentally, in order to reliably avoid deformation of the low-friction member 15, the temperature during the pressing process is adjusted so that the glass transition temperature of the transferred material 20<the temperature during the pressing process<the glass transition temperature of the low-friction member. Also, it is preferable to select a material having an appropriate glass transition temperature for each member.

低摩擦部材15の静摩擦係数(正確には、低摩擦部材15の、被転写材20と接する面の静摩擦係数)は、10以下、好ましくは5以下、より好ましくは3以下、さらに好ましくは1以下である。
静摩擦係数の下限は特になく、基本的には静摩擦係数が小さいほど成形体にシワは生じにくくなる。ただし、現実的な観点から、静摩擦係数は例えば0.01以上、具体的には0.1以上である。
The static friction coefficient of the low friction member 15 (more precisely, the static friction coefficient of the surface of the low friction member 15 in contact with the transferred material 20) is 10 or less, preferably 5 or less, more preferably 3 or less, and still more preferably 1 or less. is.
There is no particular lower limit for the coefficient of static friction, and basically, the smaller the coefficient of static friction, the less wrinkled the molded product. However, from a realistic point of view, the coefficient of static friction is, for example, 0.01 or more, specifically 0.1 or more.

静摩擦係数は、被転写材20(例えばポリシクロオレフィンの樹脂フィルム)と低摩擦部材15とを重ね合わせ、JIS K 7125に準じ、200gの負荷をかけた状態で、100mm/minの速度にて摩擦試験を実施することにより求めることができる。このときの測定環境は、23℃、50%RHに設定されることが好ましい。 The static friction coefficient is obtained by superimposing the transferred material 20 (for example, a polycycloolefin resin film) and the low-friction member 15, applying a load of 200 g according to JIS K 7125, and friction at a speed of 100 mm / min. It can be determined by conducting tests. The measurement environment at this time is preferably set to 23° C. and 50% RH.

低摩擦部材15については、合成樹脂メーカ、フィルムメーカなどから入手可能な市販品(フィルム)の中から、静摩擦係数が10以下のものを選択して用いることができる。 As the low-friction member 15, one having a static friction coefficient of 10 or less can be selected and used from commercial products (films) available from synthetic resin makers, film makers, and the like.

(シリコンウェハ)
図1のI.やII.において、シリコンウェハ33は、通常、プレス上板31の損傷を抑えるために用いられる。また、シリコンウェハ34は、通常、プレス下板32の損傷を抑えるために用いられる。つまり、シリコンウェハ33およびシリコンウェハ34は、成形体の製造に「必須」ではない。しかし、プレス上板31およびプレス下板32の損傷を抑えて装置の寿命を延ばす等の目的で、シリコンウェハ33やシリコンウェハ34は用いられることが好ましい。また、シリコンウェハを介して押圧工程を行うことで、プレス上板31やプレス下板32の表面に凹凸が存在する場合であっても、押圧力を均一にしやすいということも言える。
シリコンウェハ33およびシリコンウェハ34については、市場で入手可能なものを適宜用いることができる。
(silicon wafer)
I. in FIG. and II. , the silicon wafer 33 is usually used to prevent damage to the upper press plate 31 . Also, the silicon wafer 34 is generally used to prevent damage to the lower press plate 32 . In other words, silicon wafer 33 and silicon wafer 34 are not "essential" for the production of the compact. However, it is preferable to use the silicon wafer 33 and the silicon wafer 34 for the purpose of suppressing damage to the press upper plate 31 and the press lower plate 32 and extending the life of the apparatus. In addition, it can be said that by performing the pressing step through the silicon wafer, even if the surfaces of the press upper plate 31 and the press lower plate 32 are uneven, the pressing force can be easily made uniform.
As for the silicon wafer 33 and the silicon wafer 34, commercially available ones can be appropriately used.

ちなみに、プレス上板31/プレス下板32の損傷を抑えるという点では、シリコン以外の適当な素材による、何らかの「当て板」が用いられてもよい。本実施形態では、市場で比較的容易に入手可能な、平面性の高い板材として、シリコンウェハを用いている。 Incidentally, in terms of suppressing damage to the upper press plate 31/lower press plate 32, some kind of "backing plate" made of a suitable material other than silicon may be used. In this embodiment, a silicon wafer is used as a plate material with high flatness that is relatively easily available on the market.

(押圧工程における圧力、温度等)
押圧工程における圧力は、被転写材20を十分に変形させる観点と、金型10の損傷防止の観点から、好ましくは0.1~50MPa、より好ましくは1~20MPaである。圧力は、プレス上板31およびプレス下板32によるプレス圧を変更することで調整することができる。
(Pressure, temperature, etc. in the pressing process)
The pressure in the pressing step is preferably 0.1 to 50 MPa, more preferably 1 to 20 MPa, from the viewpoints of sufficiently deforming the transfer material 20 and preventing damage to the mold 10 . The pressure can be adjusted by changing the press pressure by the press upper plate 31 and press lower plate 32 .

押圧工程において被転写材20が熱せられる温度は、被転写材20が十分に軟化する限り特に限定されない。被転写材20の素材、軟化点、ガラス転移温度などを踏まえて適当な加熱温度を設定すればよい。 The temperature at which the material to be transferred 20 is heated in the pressing step is not particularly limited as long as the material to be transferred 20 is sufficiently softened. An appropriate heating temperature may be set based on the material, softening point, glass transition temperature, etc., of the material to be transferred 20 .

押圧工程において、被転写材20の、少なくとも転写面10aに押し当てられている面は、典型的には50~300℃、好ましくは60~250℃、より好ましくは80~200℃に熱せられる。より具体的には、被転写材20がポリシクロオレフィンを含む場合、被転写材20は、好ましくは100~180℃に熱せられる。 In the pressing step, at least the surface of the transfer material 20 pressed against the transfer surface 10a is typically heated to 50 to 300°C, preferably 60 to 250°C, more preferably 80 to 200°C. More specifically, when the transfer material 20 contains polycycloolefin, the transfer material 20 is preferably heated to 100-180.degree.

別観点として、押圧工程において被転写材20の転写面10aに押し当てられている面が熱せられる温度は、(i)被転写材20のガラス転移温度よりも若干高いこと、かつ、(ii)被転写材20のガラス転移温度に比べて高すぎないことが好ましい。(i)により、押圧で被転写材20が十分に変形し、転写面10aに忠実な微細凹凸構造を有する成形体を製造しやすい。また、(ii)により、被転写材20が軟らかくなりすぎることが抑えられ、被転写材20の意図せぬ変形等が抑えられる。
具体的には、押圧工程において被転写材20の転写面10aに押し当てられている面が熱せられる温度をT(℃)とし、被転写材20のガラス転移温度をTg(℃)としたとき、式「Tg+5℃≦T≦Tg+60℃」の関係を充足することが好ましく、式「Tg+10℃≦T≦Tg+50℃」の関係を充足することがより好ましく、式「Tg+15℃≦T≦Tg+40℃」の関係を充足することが特に好ましい。
From another point of view, the temperature at which the surface of the transfer material 20 pressed against the transfer surface 10a in the pressing step is heated is (i) slightly higher than the glass transition temperature of the transfer material 20, and (ii) It is preferably not too high compared to the glass transition temperature of the transfer material 20 . According to (i), the material to be transferred 20 is sufficiently deformed by pressing, and it is easy to manufacture a molded article having a fine concavo-convex structure faithful to the transfer surface 10a. Further, due to (ii), excessive softening of the transfer material 20 is suppressed, and unintended deformation of the transfer material 20 is suppressed.
Specifically, when the temperature at which the surface of the material to be transferred 20 pressed against the transfer surface 10a in the pressing step is heated is T (°C), and the glass transition temperature of the material to be transferred 20 is Tg (°C) , preferably satisfies the relationship of the formula "Tg + 5 ° C. ≤ T ≤ Tg + 60 ° C.", more preferably satisfies the relationship of the formula "Tg + 10 ° C. ≤ T 0 ≤ Tg + 50 ° C." ° C” is particularly preferred.

ガラス転移温度としては、例えば、被転写材20を動的粘弾性測定したときの、貯蔵弾性率の下がり始めの変曲点の温度を採用することができる。動的粘弾性測定の測定モードはせん断モード、周波数は1Hz、昇温速度は5℃/分とすることができる。 As the glass transition temperature, for example, the temperature at the inflection point at which the storage elastic modulus begins to decrease when the transfer material 20 is subjected to dynamic viscoelasticity measurement can be used. The measurement mode of the dynamic viscoelasticity measurement can be the shear mode, the frequency can be 1 Hz, and the heating rate can be 5° C./min.

押圧工程において温度が安定した状態における「被転写材20の転写面10aに押し当てられている面が熱せられる温度」は、通常、金型10の温度と同じと見做すことができる。特に、被転写材20が第一の樹脂フィルムである場合(つまり、被転写材20が薄い場合)には、押圧工程において、被転写材20の温度は速やかに金型10の温度に到達すると考えられる。 “The temperature at which the surface of the material to be transferred 20 pressed against the transfer surface 10 a is heated” in the pressing step can be generally regarded as the same as the temperature of the mold 10 . In particular, when the material to be transferred 20 is the first resin film (that is, when the material to be transferred 20 is thin), the temperature of the material to be transferred 20 rapidly reaches the temperature of the mold 10 in the pressing step. Conceivable.

(製造された成形体の用途)
上述のようにして得られた微細凹凸構造を有する成形体の用途は、特に限定されない。
用途の例として、バイオチップ等が挙げられる。すなわち、成形体の凹部部分(転写面10aの凸部に相当)に、特異抗体などの認識物質を固定することで、バイオチップを得ることができる。
バイオチップの具体的態様については、例えば特開2015-49161号公報、特開2015-49162号公報などを参照することができる。
(Uses of manufactured compacts)
The use of the molded article having a fine relief structure obtained as described above is not particularly limited.
Examples of uses include biochips and the like. That is, a biochip can be obtained by fixing a recognition substance such as a specific antibody to the concave portion (corresponding to the convex portion of the transfer surface 10a) of the molded body.
For specific aspects of the biochip, for example, JP-A-2015-49161, JP-A-2015-49162, etc. can be referred to.

以上、本発明の実施形態について述べたが、これらは本発明の例示であり、上記以外の様々な構成を採用することができる。また、本発明は上述の実施形態に限定されるものではなく、本発明の目的を達成できる範囲での変形、改良等は本発明に含まれる。
以下、参考形態の例を付記する。
1.
加熱された被転写材を、微細凹凸構造が設けられた転写面を有する金型の前記転写面に押し当てる押圧工程を含み、
前記被転写材は、加熱により軟化する性質を有し、
前記押圧工程においては、前記被転写材の前記金型とは反対側の面に、静摩擦係数が10以下の低摩擦部材が接している、微細凹凸構造を有する成形体の製造方法。
2.
1.に記載の成形体の製造方法であって、
前記被転写材は、第一の樹脂フィルムである、成形体の製造方法。
3.
1.または2.に記載の成形体の製造方法であって、
前記被転写材は、熱可塑性樹脂を含む、成形体の製造方法。
4.
1.~3.のいずれか1つに記載の成形体の製造方法であって、
前記被転写材は、ポリシクロオレフィン、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレートおよびポリスチレンからなる群より選ばれる1または2以上の樹脂を含む、成形体の製造方法。
5.
1.~4.のいずれか1つに記載の成形体の製造方法であって、
前記低摩擦部材は、第二の樹脂フィルムである、成形体の製造方法。
6.
1.~5.のいずれか1つに記載の成形体の製造方法であって、
前記低摩擦部材は、ポリイミド、ポリエステルおよびポリエーテルエーテルケトンからなる群より選ばれる1または2以上の樹脂を含む、成形体の製造方法。
7.
1.~6.のいずれか1つに記載の成形体の製造方法であって、
前記押圧工程において、前記被転写材の前記転写面に押し当てられている面は、50~300℃に加熱される、成形体の製造方法。
8.
1.~7.のいずれか1つに記載の成形体の製造方法であって、
前記金型は、Ni電鋳モールドである、成形体の製造方法。
9.
1.~8.のいずれか1つに記載の成形体の製造方法であって、
前記転写面に設けられた微細凹凸構造の凸部の高さは、0.01~3000μmである、成形体の製造方法。
10.
1.~9.のいずれか1つに記載の成形体の製造方法であって、
前記押圧工程の後に、前記金型から前記被転写材を離型する離型工程を含む、成形体の製造方法。
Although the embodiments of the present invention have been described above, these are examples of the present invention, and various configurations other than those described above can be adopted. Moreover, the present invention is not limited to the above-described embodiments, and includes modifications, improvements, etc. within the scope of achieving the object of the present invention.
Examples of reference forms are added below.
1.
A pressing step of pressing the heated transfer material against the transfer surface of a mold having a transfer surface provided with a fine uneven structure,
The material to be transferred has a property of being softened by heating,
In the pressing step, a method for producing a molded body having a fine uneven structure, wherein a low-friction member having a static friction coefficient of 10 or less is in contact with the surface of the material to be transferred opposite to the mold.
2.
1. A method for producing a molded article according to
A method for producing a molded article, wherein the material to be transferred is a first resin film.
3.
1. or 2. A method for producing a molded article according to
A method for producing a molded body, wherein the material to be transferred contains a thermoplastic resin.
4.
1. ~3. A method for producing a molded article according to any one of
A method for producing a molded article, wherein the material to be transferred contains one or more resins selected from the group consisting of polycycloolefin, polycarbonate, polymethylmethacrylate and polystyrene.
5.
1. ~ 4. A method for producing a molded article according to any one of
A method for producing a molded body, wherein the low-friction member is a second resin film.
6.
1. ~ 5. A method for producing a molded article according to any one of
A method for producing a molded body, wherein the low-friction member contains one or more resins selected from the group consisting of polyimide, polyester and polyetheretherketone.
7.
1. ~6. A method for producing a molded article according to any one of
The method for producing a molded body, wherein in the pressing step, the surface of the material to be transferred that is pressed against the transfer surface is heated to 50 to 300°C.
8.
1. ~7. A method for producing a molded article according to any one of
A method for producing a compact, wherein the mold is a Ni electroforming mold.
9.
1. ~8. A method for producing a molded article according to any one of
The method for producing a molded article, wherein the height of the projections of the fine uneven structure provided on the transfer surface is 0.01 to 3000 μm.
10.
1. ~ 9. A method for producing a molded article according to any one of
A method for manufacturing a molded body, comprising a mold release step of releasing the transferred material from the mold after the pressing step.

本発明の実施態様を、実施例および比較例に基づき詳細に説明する。念のため述べておくと、本発明は実施例のみに限定されない。 Embodiments of the present invention will be described in detail based on examples and comparative examples. It should be noted that the invention is not limited to the examples only.

<準備>
金型、被転写材、低摩擦部材およびシリコンウェハとして、それぞれ以下を準備した。
<Preparation>
A mold, a material to be transferred, a low-friction member, and a silicon wafer were prepared as follows.

(金型)
図2に示されるような、転写面に円柱状の凸部が設けられたNi電鋳モールドを準備した。
円柱状の凸部の直径(図2のd)は10μm、高さ(図2のh)は10μm、ピッチ(図2のp)は20μmであった。
(Mold)
A Ni electroforming mold having cylindrical projections on the transfer surface as shown in FIG. 2 was prepared.
The cylindrical projections had a diameter (d in FIG. 2) of 10 μm, a height (h in FIG. 2) of 10 μm, and a pitch (p in FIG. 2) of 20 μm.

(被転写材)
以下の「COP」を用いた。
・COP:ポリシクロオレフィン樹脂フィルム(日本ゼオン社製ゼオノアフィルムZF-14、厚
さ:0.19mm、ガラス転移温度:136℃)
(Receiving material)
The following "COP" was used.
・ COP: polycycloolefin resin film (Zeonor film ZF-14 manufactured by Zeon Corporation, thickness: 0.19 mm, glass transition temperature: 136 ° C.)

なお、ガラス転移温度については、以下条件の動的粘弾性測定を行い、貯蔵弾性率(G')の下がり始めの変曲点からガラス転移温度を求めた。
・測定装置:ティー・エイ・インスツルメント社製ARES-2KFRTN1-FCO-HR
・サンプルサイズ:パラレルプレートφ25mm、ギャップ2mm
・測定温度範囲:100~180℃
・昇温速度:5℃/min
・周波数:1Hz
・モード:せん断モード
For the glass transition temperature, dynamic viscoelasticity measurement was performed under the following conditions, and the glass transition temperature was determined from the inflection point at which the storage elastic modulus (G') began to decrease.
・ Measuring device: ARES-2KFRTN1-FCO-HR manufactured by TA Instruments
・Sample size: Parallel plate φ25mm, gap 2mm
・Measurement temperature range: 100 to 180°C
・Temperature increase rate: 5°C/min
・Frequency: 1Hz
・Mode: Shear mode

(低摩擦部材、または、比較用の摩擦係数が大きい部材)
・PI(ポリイミド)、125μm厚、静摩擦係数0.35
・PEEK(ポリエーテルエーテルケトン)、500μm厚、静摩擦係数0.59
・PET(ポリエチレンテレフタレート)、100μm厚、静摩擦係数0.44
・PC(ポリカーボネート)、300μm厚、静摩擦係数10.41(比較用)
・PES(ポリエーテルサルフォン)、200μm厚、静摩擦係数14.49(比較用)
(Low friction member, or member with large friction coefficient for comparison)
・PI (polyimide), 125 μm thick, static friction coefficient 0.35
・PEEK (polyetheretherketone), 500 μm thick, static friction coefficient 0.59
・PET (polyethylene terephthalate), 100 μm thick, static friction coefficient 0.44
・PC (polycarbonate), 300 μm thick, static friction coefficient 10.41 (for comparison)
・PES (polyethersulfone), 200 μm thick, static friction coefficient 14.49 (for comparison)

なお、低摩擦部材の静摩擦係数は、前述のように、被転写材(COP)と各低摩擦部材とを重ね合わせ、JIS K 7125に準じ、200gの負荷をかけた状態で、100mm/minの速度にて摩擦試験を実施することにより求めた。測定環境は、23℃、50%RHに設定した。
各低摩擦部材において、3回の測定を実施し、得られた3つの値の平均を静摩擦係数として採用した。
As described above, the static friction coefficient of the low-friction member is 100 mm/min when the material to be transferred (COP) and each low-friction member are superimposed and a load of 200 g is applied according to JIS K 7125. It was determined by performing a friction test at high speed. The measurement environment was set at 23° C. and 50% RH.
Three measurements were performed on each low-friction member, and the average of the three obtained values was adopted as the static friction coefficient.

(シリコンウェハ)
市販の6インチシリコンウェハ
(silicon wafer)
Commercially available 6-inch silicon wafer

<実施例1:成形体の製造>
以下手順で行った。
(1)図2に示されるように、プレス上板とプレス下板(加熱手段を内蔵する)との間に、金型、被転写材、低摩擦部材であるPIおよびシリコンウェハを配置した。
(2)プレス下板の加熱手段を用いて、金型を155℃に加熱した(この加熱により、被転写材はそのガラス転移温度Tg以上に加熱された)。
(3)上記温度を維持したまま、プレス上板とプレス下板とにより、被転写材COPを金型の転写面に押し当て、4MPaの圧力で2分間押圧した。
(4)その後、同じ圧力で押圧したまま、金型および被転写材COPの温度を、135℃まで約3分間かけて冷却した。
(5)プレス上板を上げて、プレス下板の上にある金型と被転写材が一体となったものに、上から冷風を当て、被転写材を十分に(少なくともTg以下の温度に)冷却した。
(6)金型から被転写材COPを離型して、微細凹凸構造を有する成形体を得た。
<Example 1: Production of compact>
The procedure was as follows.
(1) As shown in FIG. 2, a mold, a material to be transferred, PI as a low-friction member, and a silicon wafer were placed between an upper press plate and a lower press plate (with built-in heating means).
(2) The mold was heated to 155.degree.
(3) While maintaining the above temperature, the material to be transferred COP was pressed against the transfer surface of the mold by the press upper plate and the press lower plate, and pressed for 2 minutes at a pressure of 4 MPa.
(4) After that, the temperature of the mold and the transferred material COP was cooled down to 135° C. over about 3 minutes while being pressed with the same pressure.
(5) Raise the upper plate of the press and apply cold air to the integrated mold and material to be transferred on the lower plate of the press to sufficiently heat the material to be transferred (at least to a temperature below Tg). ) cooled.
(6) The transferred material COP was released from the mold to obtain a compact having a fine concave-convex structure.

<実施例2、3および比較例1、2:成形体の製造>
実施例2:低摩擦部材としてPIでなくPETを使用した以外は、実施例1と同様にして成形体を製造した。
実施例3:低摩擦部材としてPIでなくPEEKを使用した以外は、実施例1と同様にして成形体を製造した。
比較例1:低摩擦部材PIの代わりに、摩擦係数の大きいPCを使用した以外は、実施例1と同様にして成形体を製造した。
比較例2:低摩擦部材PIの代わりに、摩擦係数の大きいPESを使用した以外は、実施例1と同様にして成形体を製造した。
<Examples 2 and 3 and Comparative Examples 1 and 2: Production of compacts>
Example 2: A molded article was produced in the same manner as in Example 1, except that PET was used instead of PI as the low-friction member.
Example 3: A compact was produced in the same manner as in Example 1, except that PEEK was used instead of PI as the low-friction member.
Comparative Example 1: A compact was produced in the same manner as in Example 1, except that PC having a large friction coefficient was used instead of the low-friction member PI.
Comparative Example 2: A molded article was produced in the same manner as in Example 1, except that PES having a large friction coefficient was used instead of the low friction member PI.

<目視によるシワの評価>
得られた成形体を目視で注意深く観察し、シワが全く確認されなかったものを○(良い)、1本でもシワが観察されたものを×(悪い)と評価した。評価結果を表1に示す。
<Visual evaluation of wrinkles>
The obtained molded article was carefully visually observed, and the case where no wrinkles were observed was evaluated as ◯ (good), and the case where even one wrinkle was observed was evaluated as x (bad). Table 1 shows the evaluation results.

Figure 0007338295000001
Figure 0007338295000001

表1より、微細凹凸構造を有する成形体を製造するにあたり、成形体に意図せぬ「シワ」が生じにくくなることが理解される。 From Table 1, it is understood that unintended "wrinkles" are less likely to occur in the molded article when producing the molded article having the fine relief structure.

<圧力測定フィルムによるシワの確認>
参考のため、圧力測定フィルム(富士フイルム株式会社のプレスケール(登録商標))により、シワの状態を可視化したものを図4に示す。
図4A.は、摩擦係数の大きいPESを用いた場合の、シワの状態を可視化したものである。矢印で示す部分に大きなシワが発生している。
図4B.は、低摩擦部材としてPEEKを用いた場合の、シワの状態を可視化したものである。目立ったシワは見られない。
<Confirmation of wrinkles by pressure measurement film>
For reference, FIG. 4 shows the state of wrinkles visualized by a pressure measurement film (Prescale (registered trademark) manufactured by Fuji Film Co., Ltd.).
Figure 4A. is a visualization of the state of wrinkles when PES with a large friction coefficient is used. A large wrinkle is generated in the part indicated by the arrow.
Figure 4B. is a visualization of the state of wrinkles when PEEK is used as the low-friction member. No noticeable wrinkles are seen.

10 金型
10a 転写面
15 低摩擦部材
20 被転写材
20a 表面(被転写材の表面)
31 プレス上板
32 プレス下板
33 シリコンウェハ
34 シリコンウェハ
10 mold 10a transfer surface 15 low friction member 20 transfer material 20a surface (surface of transfer material)
31 press upper plate 32 press lower plate 33 silicon wafer 34 silicon wafer

Claims (9)

加熱された被転写材を、微細凹凸構造が設けられた転写面を有する金型の前記転写面に押し当てる押圧工程を含み、
前記被転写材は、加熱により軟化する性質を有し、
前記押圧工程においては、前記被転写材の前記金型とは反対側の面に、静摩擦係数が以下の低摩擦部材が接しており、
前記低摩擦部材は、ポリイミドおよびポリエーテルエーテルケトンからなる群より選ばれる1または2以上の樹脂を含む、微細凹凸構造を有する成形体の製造方法。
A pressing step of pressing the heated transfer material against the transfer surface of a mold having a transfer surface provided with a fine uneven structure,
The material to be transferred has a property of being softened by heating,
In the pressing step, a low-friction member having a static friction coefficient of 1 or less is in contact with the surface of the material to be transferred opposite to the mold,
A method for producing a molded article having a fine relief structure, wherein the low-friction member contains one or more resins selected from the group consisting of polyimide and polyetheretherketone.
請求項1に記載の成形体の製造方法であって、
前記被転写材は、第一の樹脂フィルムである、成形体の製造方法。
A method for producing a molded article according to claim 1,
A method for producing a molded article, wherein the material to be transferred is a first resin film.
請求項1または2に記載の成形体の製造方法であって、
前記被転写材は、熱可塑性樹脂を含む、成形体の製造方法。
A method for producing a molded article according to claim 1 or 2,
A method for producing a molded body, wherein the material to be transferred contains a thermoplastic resin.
請求項1~3のいずれか1項に記載の成形体の製造方法であって、
前記被転写材は、ポリシクロオレフィン、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレートおよびポリスチレンからなる群より選ばれる1または2以上の樹脂を含む、成形体の製造方法。
A method for producing a molded article according to any one of claims 1 to 3,
A method for producing a molded article, wherein the material to be transferred contains one or more resins selected from the group consisting of polycycloolefin, polycarbonate, polymethylmethacrylate and polystyrene.
請求項1~4のいずれか1項に記載の成形体の製造方法であって、
前記低摩擦部材は、第二の樹脂フィルムである、成形体の製造方法。
A method for producing a molded article according to any one of claims 1 to 4,
A method for producing a molded body, wherein the low-friction member is a second resin film.
請求項1~のいずれか1項に記載の成形体の製造方法であって、
前記押圧工程において、前記被転写材の前記転写面に押し当てられている面は、50~300℃に加熱される、成形体の製造方法。
A method for producing a molded article according to any one of claims 1 to 5 ,
The method for producing a molded body, wherein in the pressing step, the surface of the material to be transferred that is pressed against the transfer surface is heated to 50 to 300°C.
請求項1~のいずれか1項に記載の成形体の製造方法であって、
前記金型は、Ni電鋳モールドである、成形体の製造方法。
A method for producing a molded article according to any one of claims 1 to 6 ,
A method for producing a compact, wherein the mold is a Ni electroforming mold.
請求項1~のいずれか1項に記載の成形体の製造方法であって、
前記転写面に設けられた微細凹凸構造の凸部の高さは、0.01~3000μmである、成形体の製造方法。
A method for producing a molded article according to any one of claims 1 to 7 ,
The method for producing a molded article, wherein the height of the projections of the fine uneven structure provided on the transfer surface is 0.01 to 3000 μm.
請求項1~のいずれか1項に記載の成形体の製造方法であって、
前記押圧工程の後に、前記金型から前記被転写材を離型する離型工程を含む、成形体の製造方法。
A method for producing a molded article according to any one of claims 1 to 8 ,
A method for manufacturing a molded body, comprising a mold release step of releasing the transferred material from the mold after the pressing step.
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