JP7333577B2 - バルブ装置、このバルブ装置を用いた流体制御装置および半導体製造装置 - Google Patents
バルブ装置、このバルブ装置を用いた流体制御装置および半導体製造装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP7333577B2 JP7333577B2 JP2019059802A JP2019059802A JP7333577B2 JP 7333577 B2 JP7333577 B2 JP 7333577B2 JP 2019059802 A JP2019059802 A JP 2019059802A JP 2019059802 A JP2019059802 A JP 2019059802A JP 7333577 B2 JP7333577 B2 JP 7333577B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- flow path
- valve
- valve body
- joint block
- valve device
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Landscapes
- Valve Housings (AREA)
Description
たとえば、特許文献1は、バルブシートにブリード用の流通孔を設けることにより、バルブ閉状態であっても流入路から流出路に一定流量のガスを流すことができるバルブ装置を開示している。
本発明の他の目的は、上記のバルブ装置を用いた流体制御装置、半導体製造装置を提供することにある。
前記第2流路と接続される第4流路と前記第3流路と接続される第5流路と、前記第4流路と前記第5流路とが合流する共通流路とを有し、前記バルブボディと締結部材により連結される継手ブロックと、
前記バルブボディの第3流路の開口と前記継手ブロックの第5流路の開口との間に設けられ、かつ、前記バルブボディと前記継手ブロックにより圧せられる金属製のオリフィスガスケットと、を有する。
前記複数の流体機器は、上記のバルブ装置を含む、構成である。
なお、図中に示す矢印A,Bは、バルブ装置10に流れる流体の流れを示すものであって、矢印Aがバルブ装置10への流体の流入方向を示し、矢印Bがバルブ装置10からの流体の流出方向を示しているが、逆方向になってもよい。
第1の流出路13Aは、弁室11aの底面で開口し、この開口の周囲にバルブシート16が設けられている。
流入路12および第2の流出路13Bの弁室11a側の端部は、環状の接続流路14により接続され、流入路12および第2の流出路13Bは常時連通している。
ダイヤフラム19は、接続流路14、バルブシート16および第1の流出路13Aの開口を覆うように配置され、ダイヤフラム19の外周縁部が押えアダプタ17を介してアクチュエータ15のケーシング15aの下端部によりバルブボディ11に押圧固定されている。
アクチュエータ15は、例えば、空圧により駆動されるものが採用されるが、これに限定されるわけではない。
継手ブロック40は、流入路12と接続される流路41が形成されている。
継手ブロック20,40は、複数の締結部材BTにより、バルブボディ11に締結される。
ガスケット52は、金属製や合成樹脂製で、バルブボディ11の流入路12の開口と継手ブロック40の流路41の開口の周囲に設けられ、流入路12と流路41の間をシールする。
ALD法による半導体製造プロセスでは、処理ガス(プロセスガス)の流量を精密に調整する必要があるとともに、基板の大口径化等により、処理ガスの流量をある程度確保する必要もある。
処理チャンバ800は、ALD法による基板への膜形成のための密閉処理空間を提供する。
排気ポンプ900は、処理チャンバ800内を真空引きする。
図4に示す流体制御装置には、幅方向W1,W2に沿って配列され長手方向G1,G2に延びる金属製のベースプレートBSが設けられている。なお、W1は背面側、W2は正面側,G1は上流側、G2は下流側の方向を示している。ベースプレートBSには、複数の流路ブロック992を介して各種流体機器991A~991Eが設置され、複数の流路ブロック992によって、上流側G1から下流側G2に向かって流体が流通する図示しない流路がそれぞれ形成されている。
バルブ装置10はこのような流体制御装置の一つの流体機器として用いられる。
11 :バルブボディ
11a :弁室
12 :流入路(第1流路)
13A :第1の流出路(第2流路)
13B :第2の流出路(第3流路)
14 :接続流路
15 :アクチュエータ
15a :ケーシング
16 :バルブシート
17 :押えアダプタ
18 :ダイヤフラム押え
19 :ダイヤフラム
20 :継手ブロック
22A :第1流路(第4流路)
22B :第2流路(第5流路)
23 :共通流路
40 :継手ブロック
41 :流路
50 :オリフィスガスケット
51 :ガスケット
52 :ガスケット
600 :プロセスガス供給減
700 :ガスボックス
710 :タンク
720 :バルブ
800 :処理チャンバ
900 :排気ポンプ
991A :開閉弁(二方弁)
991B :レギュレータ
991C :プレッシャーゲージ
991D :開閉弁(三方弁)
991E :マスフローコントローラ
992 :流路ブロック
993 :導入管
1000 :半導体製造装置
BS :ベースプレート
BT :締結部材
Claims (5)
- 第1流路と、弁が開くと前記第1流路と連通する第2流路と、前記第1流路と常時連通する第3流路とを有するバルブボディと、
前記第2流路と接続される第4流路と前記第3流路と接続される第5流路と、前記第4流路と前記第5流路とが合流する共通流路とを有し、前記バルブボディと締結部材により連結される継手ブロックと、
前記バルブボディの第3流路の開口と前記継手ブロックの第5流路の開口との間に設けられ、かつ、前記バルブボディと前記継手ブロックにより圧せられるオリフィスガスケットと、を有し、
前記第1流路と前記第2の流路との間はダイヤフラムで開閉され、かつ、前記第1流路と前記第3流路とを接続する流路の一部は前記ダイヤフラムで画定されている、バルブ装置。 - 前記バルブボディの第2流路の開口と前記継手ブロックの第4流路の開口との周囲に設けられ、かつ、前記バルブボディと前記継手ブロックにより圧せられるガスケットをさらに有する、請求項1に記載のバルブ装置。
- 前記第1流路と前記第2流路と前記第3流路は、前記バルブボディの共通面で開口している、請求項1又は2に記載のバルブ装置。
- 複数の流体機器が配列された流体制御装置であって、
前記複数の流体機器は、請求項1ないし3のいずれかに記載のバルブ装置を含む、流体制御装置。 - 密閉されたチャンバ内においてプロセスガスによる処理工程を要する半導体装置の製造プロセスにおいて、前記プロセスガスの流量制御に請求項1ないし3のいずれかに記載のバルブ装置を用いた半導体製造装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019059802A JP7333577B2 (ja) | 2019-03-27 | 2019-03-27 | バルブ装置、このバルブ装置を用いた流体制御装置および半導体製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019059802A JP7333577B2 (ja) | 2019-03-27 | 2019-03-27 | バルブ装置、このバルブ装置を用いた流体制御装置および半導体製造装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2020159477A JP2020159477A (ja) | 2020-10-01 |
JP7333577B2 true JP7333577B2 (ja) | 2023-08-25 |
Family
ID=72642594
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019059802A Active JP7333577B2 (ja) | 2019-03-27 | 2019-03-27 | バルブ装置、このバルブ装置を用いた流体制御装置および半導体製造装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7333577B2 (ja) |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001235099A (ja) | 2000-02-21 | 2001-08-31 | Ckd Corp | プロセスガス供給ユニットの載せ替えシステム |
JP2002130479A (ja) | 2000-10-23 | 2002-05-09 | Tokyo Electron Ltd | 集積化流体供給装置及びこれに用いるシール材及びこれを用いた半導体製造装置 |
JP2007057474A (ja) | 2005-08-26 | 2007-03-08 | Fujikin Inc | ガスケット型オリフィス及びこれを用いた圧力式流量制御装置 |
US20150059902A1 (en) | 2013-08-30 | 2015-03-05 | Flextronics Automotive, Inc. | Bypass valve |
CN108458129A (zh) | 2018-06-20 | 2018-08-28 | 宿州中矿三杰科技有限公司 | 一种膜垫式电磁阀 |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS52114122A (en) * | 1976-03-22 | 1977-09-24 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Flow control valve |
JPH10169881A (ja) * | 1996-12-03 | 1998-06-26 | Benkan Corp | 集積化ガスパネル及びその組立方法 |
-
2019
- 2019-03-27 JP JP2019059802A patent/JP7333577B2/ja active Active
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001235099A (ja) | 2000-02-21 | 2001-08-31 | Ckd Corp | プロセスガス供給ユニットの載せ替えシステム |
JP2002130479A (ja) | 2000-10-23 | 2002-05-09 | Tokyo Electron Ltd | 集積化流体供給装置及びこれに用いるシール材及びこれを用いた半導体製造装置 |
JP2007057474A (ja) | 2005-08-26 | 2007-03-08 | Fujikin Inc | ガスケット型オリフィス及びこれを用いた圧力式流量制御装置 |
US20150059902A1 (en) | 2013-08-30 | 2015-03-05 | Flextronics Automotive, Inc. | Bypass valve |
CN108458129A (zh) | 2018-06-20 | 2018-08-28 | 宿州中矿三杰科技有限公司 | 一种膜垫式电磁阀 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2020159477A (ja) | 2020-10-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP7140402B2 (ja) | バルブ装置、このバルブ装置を用いた流体制御装置および半導体製造装置 | |
JP7161780B2 (ja) | バルブ装置 | |
JP7262778B2 (ja) | バルブ装置、このバルブ装置を用いた流体制御装置および半導体製造装置 | |
JP7157461B2 (ja) | バルブ装置 | |
JP7333577B2 (ja) | バルブ装置、このバルブ装置を用いた流体制御装置および半導体製造装置 | |
US11397443B2 (en) | Fluid control device and semiconductor manufacturing apparatus | |
WO2018180449A1 (ja) | 継手ブロックおよびこれを用いた流体制御装置 | |
JP7376935B2 (ja) | 流路アセンブリ、この流路アセンブリを用いたバルブ装置、流体制御装置、半導体製造装置および半導体製造方法 | |
JP2000068209A (ja) | 基板処理装置 | |
TW202040034A (zh) | 流路形成區塊及具備流路形成區塊的流體控制裝置 | |
JP2020051447A (ja) | バルブ | |
JP7372664B2 (ja) | 継手ブロックアセンブリおよび流体制御装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20220221 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20230131 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20230302 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20230331 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20230718 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20230807 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7333577 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |