JP7331420B2 - Composite substrate and manufacturing method thereof - Google Patents

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本開示の実施形態は、複数の配線基板をタイリングした複合基板及びその製造方法に関する。 An embodiment of the present disclosure relates to a composite substrate in which a plurality of wiring substrates are tiled and a manufacturing method thereof.

配線基板の一例として、TFT(Thin Film Transistor)基板を挙げることができる。TFT基板は、例えばディスプレイ装置に組み込まれたり、圧力センサ装置に組み込まれたりする。 An example of the wiring substrate is a TFT (Thin Film Transistor) substrate. The TFT substrate is incorporated into, for example, a display device or a pressure sensor device.

TFT基板にはマトリクス状に配列される複数の薄膜トランジスタが形成されており、薄膜トランジスタは、ゲート電極、ソース電極、ドレイン電極及び半導体層などを印刷などにより積層することで形成され得る。そのため、TFT基板は大面積化し易い構造と言える。しかしながら、大型のTFT基板を製造するためには、専用の製造装置も大型化し、設備コストが増加する。このような点を考慮し、タイリングと呼ばれる技術が利用される場合がある(例えば、特許文献1、特許文献2)。 A plurality of thin film transistors arranged in a matrix are formed on the TFT substrate, and the thin film transistors can be formed by laminating a gate electrode, a source electrode, a drain electrode, a semiconductor layer, and the like by printing or the like. Therefore, it can be said that the TFT substrate has a structure that facilitates a large area. However, in order to manufacture a large-sized TFT substrate, a dedicated manufacturing apparatus also becomes large-sized, resulting in an increase in equipment cost. In consideration of such points, a technique called tiling may be used (for example, Patent Documents 1 and 2).

タイリングは、例えば複数のTFT基板をシート状に配列し、隣り合うTFT基板を電気的に接続することで、大型のTFT基板ユニット(複合基板)を作成する手法である。 Tiling is a method of forming a large TFT substrate unit (composite substrate) by, for example, arranging a plurality of TFT substrates in a sheet and electrically connecting adjacent TFT substrates.

TFT基板は、近年、大型化且つフレキシブル性を求められる場合があり、この場合、TFT基板、及びTFT基板間を接続する接続部の双方にフレキシブル性を持たすことが求められる。なお、フレキシブル性とは、可撓性及び/または伸縮性のことを意味する。TFT基板にフレキシブル性を持たせる手法としては、フレキシブル性を有するプラスチック基材をTFT基板の基材として用いたり、半導体層として、有機半導体材料を用いたりすることが挙げられる。接続部にフレキシブル性を持たせる手法としては、接続部をフレキシブル基板(FPC)で構成することなどが挙げられる。 In recent years, TFT substrates are sometimes required to be large and flexible. In this case, both the TFT substrates and the connecting portions that connect the TFT substrates are required to be flexible. In addition, flexibility means flexibility and/or stretchability. Techniques for imparting flexibility to the TFT substrate include using a flexible plastic substrate as the substrate of the TFT substrate, and using an organic semiconductor material as the semiconductor layer. As a technique for imparting flexibility to the connection portion, there is a method of configuring the connection portion with a flexible printed circuit board (FPC).

特開2006-108525号公報JP 2006-108525 A 特開2006-253564号公報JP 2006-253564 A

上述したように隣り合う配線基板をFPCで接続する場合、境界部分の可撓性は良好となり得るが、伸縮性を十分に確保できているとは言い難い。 As described above, when adjacent wiring boards are connected by FPC, the flexibility of the boundary portion can be improved, but it is difficult to say that stretchability is sufficiently ensured.

タイリングで用いる接続部に良好な伸縮性を確保することができた場合には、耐久性が一層向上し、適用分野の拡大を図ることができる。例えば人体の動きを緻密に検出するセンサ装置にタイリングされたTFT基板を利用する場合には、長期にわたって人体の複雑な動きを検出するべく、良好な可撓性と良好な伸縮性との双方を確保することが求められる。隣り合う配線基板をFPCで接続する場合には、このような要望に十分に対応できない。 If good stretchability can be ensured for the joints used in the tiling, the durability will be further improved and the fields of application can be expanded. For example, when a tiled TFT substrate is used in a sensor device that precisely detects the movement of the human body, both good flexibility and good stretchability are required to detect complex movements of the human body over a long period of time. It is required to ensure Such a demand cannot be fully met when connecting adjacent wiring boards with an FPC.

本開示の実施形態は、タイリングされた隣り合う配線基板の間に良好な伸縮性を確保できる複合基板及びその製造方法を提供することを目的とする。 An object of the embodiments of the present disclosure is to provide a composite substrate capable of ensuring good stretchability between adjacent wiring substrates that are tiled, and a method of manufacturing the same.

本開示の一実施形態は、シート状に配列される複数の配線基板と、前記複数の配線基板のうちの隣り合う前記配線基板を電気的に接続するべく、隣り合う前記配線基板の間に跨がるように設けられる複数の接続部と、を備え、前記配線基板は、外縁の少なくとも一部に沿って表面上に並ぶ複数の接続電極を有し、隣り合う前記配線基板のうちの一方の前記配線基板の接続電極は、隣り合う前記配線基板が並ぶ方向で、他方の前記配線基板の対応する接続電極に近接し、前記接続部はそれぞれ伸縮性を有し、隣り合う前記配線基板が並ぶ方向で近接する一方の前記配線基板の接続電極と、他方の前記配線基板の接続電極とを、一連に接続している、複合基板である。 In one embodiment of the present disclosure, a plurality of wiring boards arranged in a sheet form, and a wiring board straddling between the adjacent wiring boards in order to electrically connect the adjacent wiring boards among the plurality of wiring boards. and a plurality of connecting portions provided so as to form a ridge, wherein the wiring substrate has a plurality of connection electrodes arranged on a surface along at least a portion of an outer edge thereof, and one of the adjacent wiring substrates has a plurality of connection electrodes. The connection electrodes of the wiring substrate are close to the corresponding connection electrodes of the other wiring substrate in the direction in which the wiring substrates adjacent to each other are aligned, and the connection portions each have elasticity, and the wiring substrates adjacent to each other are aligned. In the composite substrate, the connection electrodes of one of the wiring substrates adjacent in direction and the connection electrodes of the other wiring substrate are connected in series.

本開示の一実施形態に係る複合基板において、前記接続部は、前記複数の接続電極が並ぶ方向及び隣り合う前記配線基板が並ぶ方向の両方に直交する方向で見た際に、線状になっていてもよい。 In the composite substrate according to an embodiment of the present disclosure, the connection portion has a linear shape when viewed in a direction orthogonal to both the direction in which the plurality of connection electrodes are arranged and the direction in which the adjacent wiring substrates are arranged. may be

本開示の一実施形態に係る複合基板において、前記接続部は、伸縮性を有するバインダと、前記バインダに含有された複数の導電性粒子とを含んでもよい。 In the composite substrate according to one embodiment of the present disclosure, the connection portion may include a stretchable binder and a plurality of conductive particles contained in the binder.

本開示の一実施形態に係る複合基板において、前記接続部の一部は、隣り合う前記配線基板が並ぶ方向で近接する一方の前記配線基板の接続電極と、他方の前記配線基板の接続電極と、の間に進入してもよい。 In the composite substrate according to an embodiment of the present disclosure, a part of the connection portion is a connection electrode of one of the wiring substrates and a connection electrode of the other wiring substrate that are adjacent in a direction in which the adjacent wiring substrates are arranged. may enter between

本開示の一実施形態に係る複合基板において、前記接続部の前記一部は、隣り合う前記配線基板の間の空間にさらに進入してもよい。 In the composite substrate according to one embodiment of the present disclosure, the portion of the connecting portion may further enter the space between the adjacent wiring substrates.

本開示の一実施形態に係る複合基板において、前記接続部の表面は凹み部を有し、前記凹み部は、隣り合う前記配線基板が並ぶ方向で近接する一方の前記配線基板の接続電極と、他方の前記配線基板の接続電極と、の間に向けて凹んでもよい。 In the composite substrate according to an embodiment of the present disclosure, the surface of the connection portion has a recessed portion, and the recessed portion is adjacent to the adjacent wiring substrates in the direction in which the wiring substrates are arranged. It may be recessed toward between the connection electrodes of the other wiring board.

本開示の一実施形態に係る複合基板において、隣り合う前記配線基板は、互いに接触しており、前記接続部の表面は、平坦でもよい。 In the composite substrate according to an embodiment of the present disclosure, the wiring substrates adjacent to each other may be in contact with each other, and the surfaces of the connection portions may be flat.

本開示の一実施形態に係る複合基板においては、隣り合う前記接続部の間に、スペーサ絶縁部が設けられ、前記スペーサ絶縁部は、隣り合う前記配線基板の間の空間に少なくとも位置してもよい。 In the composite substrate according to one embodiment of the present disclosure, a spacer insulating portion is provided between the adjacent connection portions, and the spacer insulating portion is located at least in the space between the adjacent wiring substrates. good.

本開示の一実施形態に係る複合基板においては、隣り合う前記配線基板の間の空間に、前記接続部が並ぶ方向に延びる充填用絶縁部が充填されてもよい。 In the composite substrate according to one embodiment of the present disclosure, a space between the adjacent wiring substrates may be filled with a filling insulating portion extending in a direction in which the connection portions are arranged.

本開示の一実施形態に係る複合基板には、複数の前記接続部が並ぶ方向に沿って延び、複数の前記接続部を被覆する被覆絶縁部が設けられてもよい。 A composite substrate according to an embodiment of the present disclosure may be provided with a covering insulating portion that extends along the direction in which the plurality of connection portions are arranged and that covers the plurality of connection portions.

本開示の一実施形態に係る複合基板は、シート状に配列された前記複数の配線基板を支持する支持基板をさらに備えてもよい。 A composite substrate according to an embodiment of the present disclosure may further include a support substrate that supports the plurality of wiring substrates arranged in a sheet.

また、本開示の一実施形態は、外縁の少なくとも一部に沿って表面上に並ぶ複数の接続電極を有する配線基板を複数準備する工程と、前記複数の配線基板をシート状に配列し、隣り合う前記配線基板が並ぶ方向で、隣り合う前記配線基板のうちの一方の前記配線基板の接続電極を、他方の前記配線基板の対応する接続電極に近接させる工程と、隣り合う前記配線基板が並ぶ方向で近接する一方の前記配線基板の接続電極と、他方の前記配線基板の接続電極と、に跨がるように、導電性ペースト材を塗布する工程と、前記導電性ペースト材を硬化させることにより、接続部を形成する工程と、を備え、前記導電性ペースト材として、少なくとも硬化後に伸縮性を発現する材料を用い、前記接続部は、隣り合う前記配線基板が並ぶ方向で近接する一方の前記配線基板の接続電極と、他方の前記配線基板の接続電極とを一連に接続するように形成される、複合基板の製造方法である。 Further, one embodiment of the present disclosure includes a step of preparing a plurality of wiring substrates having a plurality of connection electrodes arranged on a surface along at least a part of an outer edge; bringing the connection electrodes of one of the adjacent wiring boards closer to the corresponding connection electrodes of the other of the adjacent wiring boards in the direction in which the adjacent wiring boards are aligned; and aligning the adjacent wiring boards. a step of applying a conductive paste material so as to straddle a connection electrode of one of the wiring boards and a connection electrode of the other wiring board that are adjacent in direction; and curing the conductive paste material. and forming a connection portion by using a material that exhibits elasticity at least after curing as the conductive paste material, and the connection portion is one of the adjacent wiring substrates in the direction in which they are arranged. In the method of manufacturing a composite substrate, the connection electrodes of the wiring substrate and the connection electrodes of the other wiring substrate are connected in series.

本開示の一実施形態に係る複合基板の製造方法において、前記導電性ペースト材は、ディスペンサにより塗布されもよい。 In the method of manufacturing a composite substrate according to an embodiment of the present disclosure, the conductive paste material may be applied using a dispenser.

本開示の一実施形態に係る複合基板の製造方法において、前記導電性ペースト材は、線状に塗布されもよい。 In the method for manufacturing a composite substrate according to an embodiment of the present disclosure, the conductive paste material may be linearly applied.

本開示の一実施形態に係る複合基板の製造方法において、前記接続部は、伸縮性を有するバインダと、前記バインダに含有された複数の導電性粒子とを含んでもよい。 In the method of manufacturing a composite substrate according to an embodiment of the present disclosure, the connection portion may include a stretchable binder and a plurality of conductive particles contained in the binder.

本開示の一実施形態に係る複合基板の製造方法においては、前記接続部の一部が、隣り合う前記配線基板が並ぶ方向で近接する一方の前記配線基板の接続電極と、他方の前記配線基板の接続電極との間に進入するように、前記導電性ペースト材を塗布してもよい。 In the method for manufacturing a composite substrate according to an embodiment of the present disclosure, a part of the connection part is a connection electrode of one of the wiring substrates and a connection electrode of the other wiring substrate that are adjacent in a direction in which the adjacent wiring substrates are arranged. The conductive paste material may be applied so as to enter between the connection electrodes.

本開示の一実施形態に係る複合基板の製造方法においては、前記接続部の前記一部が、隣り合う前記配線基板の間の空間にさらに進入するように、前記導電性ペースト材を塗布してもよい。 In the method for manufacturing a composite substrate according to an embodiment of the present disclosure, the conductive paste material is applied such that the part of the connection part further enters the space between the adjacent wiring boards. good too.

本開示の一実施形態に係る複合基板の製造方法においては、隣り合う前記配線基板が並ぶ方向で近接する一方の前記配線基板の接続電極と、他方の前記配線基板の接続電極との間に向けた凹み部が前記接続部の表面に形成されるように、前記導電性ペースト材を塗布し且つ硬化してもよい。 In the method for manufacturing a composite substrate according to an embodiment of the present disclosure, the wiring board is directed between the connection electrode of one of the wiring boards and the connection electrode of the other wiring board that are adjacent in the direction in which the adjacent wiring boards are arranged. The conductive paste material may be applied and cured such that a concave portion is formed on the surface of the connection portion.

本開示の一実施形態に係る複合基板の製造方法においては、隣り合う前記配線基板が、互いに接触するように配置され、前記接続部の表面が平坦となるように、前記導電性ペースト材を塗布し且つ硬化してもよい。 In the method for manufacturing a composite substrate according to an embodiment of the present disclosure, the adjacent wiring substrates are arranged so as to be in contact with each other, and the conductive paste material is applied so that the surfaces of the connection portions are flat. and may be cured.

本開示の一実施形態に係る複合基板の製造方法は、少なくとも、隣り合う前記配線基板の間の空間における、隣り合う前記配線基板が並ぶ方向で両側に前記接続電極が位置しない部分に、スペーサ絶縁部を設ける工程をさらに備え、前記導電性ペースト材は、前記スペーサ絶縁部と重ならない位置に間欠的に塗布されもよい。 In a method for manufacturing a composite substrate according to an embodiment of the present disclosure, spacer insulation is provided at least in a space between the adjacent wiring substrates where the connection electrodes are not located on both sides in the direction in which the adjacent wiring substrates are arranged. The step of providing a portion may be further provided, and the conductive paste material may be intermittently applied to a position not overlapping the spacer insulating portion.

本開示の一実施形態に係る複合基板の製造方法は、隣り合う前記配線基板の間の空間に、充填用絶縁部を充填する工程をさらに備え、前記導電性ペースト材は、前記充填用絶縁部上に塗布されてもよい。 A method for manufacturing a composite substrate according to an embodiment of the present disclosure further includes a step of filling a space between the adjacent wiring substrates with a filling insulating portion, wherein the conductive paste material contains the filling insulating portion may be applied on top.

本開示の一実施形態に係る複合基板の製造方法は、複数の前記接続部が並ぶ方向に沿って延び、複数の前記接続部を被覆する被覆絶縁部を設ける工程をさらに備えてもよい。 The method for manufacturing a composite substrate according to an embodiment of the present disclosure may further include the step of providing a covering insulating portion that extends along the direction in which the plurality of connection portions are arranged and covers the plurality of connection portions.

本開示の一実施形態に係る複合基板の製造方法において、前記複数の配線基板は、支持基板上でシート状に配列されてもよい。 In the method for manufacturing a composite substrate according to an embodiment of the present disclosure, the plurality of wiring substrates may be arranged in a sheet on a support substrate.

本開示の実施形態によれば、タイリングされた隣り合う配線基板の間に良好な伸縮性を確保できる。 According to the embodiments of the present disclosure, good stretchability can be ensured between adjacent wiring boards that are tiled.

一実施形態に係る複合基板を示す図である。It is a figure which shows the composite substrate which concerns on one Embodiment. 図1に示す複合基板を構成する配線基板の要部の拡大図である。2 is an enlarged view of a main part of a wiring board that constitutes the composite board shown in FIG. 1; FIG. 図1に示す複合基板の断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view of the composite substrate shown in FIG. 1; 図1に示す領域IVの拡大図である。2 is an enlarged view of area IV shown in FIG. 1; FIG. 図4のV-V線に沿う断面図である。FIG. 5 is a cross-sectional view taken along line VV of FIG. 4; 図1に示す複合基板の製造方法を説明する図である。It is a figure explaining the manufacturing method of the composite substrate shown in FIG. 図1に示す複合基板の製造方法を説明する図である。It is a figure explaining the manufacturing method of the composite substrate shown in FIG. 図1に示す複合基板の製造方法を説明する図である。It is a figure explaining the manufacturing method of the composite substrate shown in FIG. 図1に示す複合基板の製造方法を説明する図である。It is a figure explaining the manufacturing method of the composite substrate shown in FIG. 図1に示す複合基板の製造方法を説明する図である。It is a figure explaining the manufacturing method of the composite substrate shown in FIG. 他の実施形態に係る複合基板の断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view of a composite substrate according to another embodiment; 他の実施形態に係る複合基板の断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view of a composite substrate according to another embodiment; 図8に示す複合基板を図8の矢印IXの方向で見た図である。FIG. 9 is a view of the composite substrate shown in FIG. 8 as viewed in the direction of arrow IX in FIG. 8; 他の実施形態に係る複合基板の断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view of a composite substrate according to another embodiment;

以下、本開示の実施形態に係る複合基板の構成及びその製造方法について、図面を参照しながら詳細に説明する。なお、以下に示す実施形態は本開示の実施形態の一例であって、本開示はこれらの実施形態に限定して解釈されるものではない。また、本明細書において、「基板」、「基材」、「シート」や「フィルム」などの用語は、呼称の違いのみに基づいて、互いから区別されるものではない。例えば、「基材」は、基板、シートやフィルムと呼ばれ得るような部材も含む概念である。更に、本明細書において用いる、形状や幾何学的条件並びにそれらの程度を特定する、例えば、「平行」や「直交」などの用語や長さや角度の値などについては、厳密な意味に縛られることなく、同様の機能を期待し得る程度の範囲を含めて解釈することとする。また、本実施形態で参照する図面において、同一部分または同様な機能を有する部分には同一の符号または類似の符号を付し、その繰り返しの説明は省略する場合がある。また、図面の寸法比率は説明の都合上実際の比率とは異なる場合や、構成の一部が図面から省略される場合がある。 Hereinafter, a configuration of a composite substrate and a manufacturing method thereof according to embodiments of the present disclosure will be described in detail with reference to the drawings. The embodiments shown below are examples of the embodiments of the present disclosure, and the present disclosure should not be construed as being limited to these embodiments. Also, in this specification, terms such as "substrate", "base material", "sheet" and "film" are not to be distinguished from each other based only on the difference in designation. For example, "base material" is a concept that includes members that can be called substrates, sheets, and films. Furthermore, terms used herein to specify shapes and geometrical conditions as well as degrees thereof, such as terms such as "parallel" and "perpendicular," length and angle values, etc., are bound by strict meanings. However, it is interpreted to include the extent to which similar functions can be expected. In addition, in the drawings referred to in this embodiment, the same reference numerals or similar reference numerals may be assigned to the same portions or portions having similar functions, and repeated description thereof may be omitted. Also, the dimensional ratios in the drawings may differ from the actual ratios for convenience of explanation, and some of the configurations may be omitted from the drawings.

以下、本開示の一実施形態について説明する。 An embodiment of the present disclosure will be described below.

(複合基板)
まず、本実施形態に係る複合基板1について説明する。図1に示す複合基板1は、支持基板2と、支持基板2上にシート状に配列された複数の配線基板10と、複数の接続部20と、を備える。複合基板1は、複数の配線基板10をタイリングしたものであり、複数の接続部20は、複数の配線基板10のうちの隣り合う配線基板10を電気的に接続するべく、隣り合う配線基板10の間に跨がるように設けられている。
(Composite substrate)
First, the composite substrate 1 according to this embodiment will be described. A composite substrate 1 shown in FIG. 1 includes a support substrate 2 , a plurality of wiring substrates 10 arranged in a sheet on the support substrate 2 , and a plurality of connection portions 20 . The composite substrate 1 is obtained by tiling a plurality of wiring substrates 10, and the plurality of connecting portions 20 are arranged between the adjacent wiring substrates 10 in order to electrically connect the adjacent wiring substrates 10 among the plurality of wiring substrates 10. It is provided so as to straddle between 10.

複数の接続部20のうちの隣り合う接続部20の間のそれぞれには、スペーサ絶縁部30が設けられている。また、複数の接続部20及び複数のスペーサ絶縁部30上には、複数の接続部20が直線的に並ぶ方向に延びる被覆絶縁部40が設けられている。図1においては、説明の便宜上、被覆絶縁部40を二点鎖線で示している。 Spacer insulating portions 30 are provided between adjacent connection portions 20 among the plurality of connection portions 20 . Further, on the plurality of connection portions 20 and the plurality of spacer insulation portions 30, a covering insulation portion 40 extending in the direction in which the plurality of connection portions 20 are linearly arranged is provided. In FIG. 1, the covering insulating portion 40 is indicated by a chain double-dashed line for convenience of explanation.

複合基板1は、一例として、フレキシブル性を有する圧力センサ装置として構成されており、例えばベッドや車両シートなどの人体の荷重を受ける器具に組み込んで使用される。ただし、本開示は、圧力センサ装置として構成される複合基板1に限定されるものはなく、大型のディスプレイ装置に組み込まれるものとして構成されもよい。以下、複合基板1の各構成要素について説明する。 As an example, the composite substrate 1 is configured as a pressure sensor device having flexibility, and is used by being incorporated in a device such as a bed or a vehicle seat that receives the load of the human body. However, the present disclosure is not limited to the composite substrate 1 configured as a pressure sensor device, and may be configured to be incorporated in a large display device. Each component of the composite substrate 1 will be described below.

〔支持基板〕
支持基板2はシート状の部材であり、本例では、その主面が矩形状に形成されるものであるが、その形状は特に限られるものではない。支持基板2はフレキシブル性、特に可撓性を有する部材であることが好ましく、支持基板2を構成する材料としては、例えば、ポリエチレンナフタレート、ポリイミド、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネイト、アクリル樹脂などを用いることができる。その中でも、耐久性や耐熱性がよいポリエチレンナフタレートかポリイミドが好ましく用いられ得る。
[Supporting substrate]
The support substrate 2 is a sheet-like member, and in this example, its main surface is formed in a rectangular shape, but the shape is not particularly limited. It is preferable that the support substrate 2 is a member having flexibility, particularly flexibility, and as the material constituting the support substrate 2, for example, polyethylene naphthalate, polyimide, polyethylene terephthalate, polycarbonate, acrylic resin, etc. can be used. can. Among them, polyethylene naphthalate or polyimide having good durability and heat resistance can be preferably used.

支持基板2の厚みは、例えば10μm以上100μm以下であってもよいが、その寸法は特に限定されるものではない。 The thickness of the support substrate 2 may be, for example, 10 μm or more and 100 μm or less, but the dimensions are not particularly limited.

〔配線基板〕
配線基板10は、本実施形態ではマトリクス状に配列された複数のTFT(Thin Film Transistor)を有するセンサ基板である。図2は、配線基板10に形成されるトランジスタ12Tを概略的に示した図であり、図3は、配線基板10の断面図である。
[Wiring board]
The wiring substrate 10 is a sensor substrate having a plurality of TFTs (Thin Film Transistors) arranged in a matrix in this embodiment. FIG. 2 is a diagram schematically showing the transistor 12T formed on the wiring board 10, and FIG. 3 is a cross-sectional view of the wiring board 10. As shown in FIG.

配線基板10は、シート状の基材11と、基材11上に第1方向D1および第1方向に交差する第2方向D2に沿ってマトリクス状に設けられる複数のトランジスタ12Tを有するトランジスタ層12と、トランジスタ12Tの配列に対応したマトリクス状にトランジスタ層12上に設けられ、トランジスタ12Tのそれぞれに電気的に接続される複数の第1電極13と、各第1電極13上に設けられる複数の感圧体14と、複数の感圧体14を覆うように設けられるシート状の第2電極15と、第2電極15を感圧体14側とは反対の側で支持する対向基板16と、を有している。なお、本例において、第1方向D1及び第2方向D2はトランジスタの配列方向を示しており、第1方向D1及び第2方向D2は互いに直交している。 The wiring board 10 includes a sheet-like base material 11 and a transistor layer 12 having a plurality of transistors 12T arranged in a matrix on the base material 11 along a first direction D1 and a second direction D2 intersecting the first direction. a plurality of first electrodes 13 provided on the transistor layer 12 in a matrix corresponding to the arrangement of the transistors 12T and electrically connected to each of the transistors 12T; a pressure sensitive element 14, a sheet-like second electrode 15 provided so as to cover the plurality of pressure sensitive elements 14, a counter substrate 16 supporting the second electrode 15 on the side opposite to the pressure sensitive element 14 side, have. In this example, the first direction D1 and the second direction D2 indicate the directions in which the transistors are arranged, and the first direction D1 and the second direction D2 are orthogonal to each other.

基材11とトランジスタ層12との合計の厚みは、例えば0.1μm以上100μm以下であってもよい。感圧体14の厚みは、例えば10μm以上100μm以下であってもよい。第2電極15と対向基板16との合計の厚みは、例えば10μm以上100μm以下であってもよい。ただし、これらの寸法は特に限られるものではなく、用途によって適宜変更され得る。 The total thickness of the base material 11 and the transistor layer 12 may be, for example, 0.1 μm or more and 100 μm or less. The thickness of the pressure sensitive body 14 may be, for example, 10 μm or more and 100 μm or less. The total thickness of the second electrode 15 and the counter substrate 16 may be, for example, 10 μm or more and 100 μm or less. However, these dimensions are not particularly limited and can be changed as appropriate depending on the application.

基材11はシート状の部材であり、本例では、その主面が矩形状に形成されるものであるが、その形状は特に限られるものではない。基材11はフレキシブル性、特に可撓性を有する部材であることが好ましく、基材11を構成する材料としては、例えば可撓性および熱硬化性を有するプラスチックフィルムを挙げることができる。 The base material 11 is a sheet-like member and has a rectangular main surface in this example, but the shape is not particularly limited. The base material 11 is preferably a member having flexibility, particularly flexibility, and examples of the material forming the base material 11 include plastic films having flexibility and thermosetting properties.

ここで、基材11と支持基板2との間には粘着層50が位置しており、配線基板10は、基材11を粘着層50によって支持基板2に固定することで、支持基板2に固定されている。粘着層50は、例えば熱硬化性の粘着剤から構成されるものであるが、粘着層50の構成材料は、複合基板1の形成時の加熱の際に大きく変形しないものであればよい。また、粘着層50の厚みは例えば1μm以上50μm以下であってもよいが、特に限られるものではない。ただし、粘着層50の厚みは、配線基板10のフレキシブル性を損なわないようにするために、極力薄いほうが望ましい。 Here, the adhesive layer 50 is positioned between the base material 11 and the support substrate 2 , and the wiring board 10 is attached to the support substrate 2 by fixing the base material 11 to the support substrate 2 with the adhesive layer 50 . Fixed. The adhesive layer 50 is made of, for example, a thermosetting adhesive, but the constituent material of the adhesive layer 50 may be any material as long as it does not significantly deform when heated during formation of the composite substrate 1 . Also, the thickness of the adhesive layer 50 may be, for example, 1 μm or more and 50 μm or less, but is not particularly limited. However, the thickness of the adhesive layer 50 is desirably as thin as possible so as not to impair the flexibility of the wiring board 10 .

トランジスタ層12は、図2および図3に示すように、基材11上に設けられるゲート端子100および第1配線ライン111と、ゲート端子100および第1配線ライン111上に設けられるゲート絶縁層112と、ゲート絶縁層112上で互いに隣り合うように設けられ、ゲート絶縁層112を介してゲート端子100と向き合う第1端子101および第2端子102と、第1端子101および第2端子102と同様にゲート絶縁層112上に設けられる第2配線ライン121と、第1端子101と第2端子102との間に設けられ且つ第1端子101および第2端子102のそれぞれに接する半導体層103と、第1端子101、第2端子102、半導体層103および第2配線ライン121上に設けられる上部絶縁層122と、上部絶縁層122の表面上に設けられ、ゲート絶縁層112、上部絶縁層122および基材11によって形成される配線基板10の矩形状の外縁に沿って並ぶ複数の接続電極130と、を有している。なお、トランジスタ12Tは、ゲート端子100、第1端子101、第2端子102および半導体層103によって構成されている。 As shown in FIGS. 2 and 3, the transistor layer 12 includes a gate terminal 100 and a first wiring line 111 provided on the substrate 11, and a gate insulating layer 112 provided on the gate terminal 100 and the first wiring line 111. and a first terminal 101 and a second terminal 102 provided adjacent to each other on the gate insulating layer 112 and facing the gate terminal 100 with the gate insulating layer 112 interposed therebetween; a second wiring line 121 provided on the gate insulating layer 112, a semiconductor layer 103 provided between the first terminal 101 and the second terminal 102 and in contact with the first terminal 101 and the second terminal 102, respectively; An upper insulating layer 122 provided on the first terminal 101, the second terminal 102, the semiconductor layer 103, and the second wiring line 121; and a plurality of connection electrodes 130 arranged along the rectangular outer edge of the wiring board 10 formed by the base material 11 . The transistor 12T is composed of a gate terminal 100, a first terminal 101, a second terminal 102 and a semiconductor layer 103. FIG.

ゲート端子100、第1端子101、第2端子102、ゲート絶縁層112や上部絶縁層122を構成する材料としては、トランジスタにおいて用いられる公知の材料が用いられる。例えば、特開2010-79196号公報において開示されている材料を用いることができる。 As materials for forming the gate terminal 100, the first terminal 101, the second terminal 102, the gate insulating layer 112, and the upper insulating layer 122, known materials used in transistors are used. For example, materials disclosed in JP-A-2010-79196 can be used.

半導体層103を構成する材料としては、無機半導体材料または有機半導体材料のいずれが用いられてもよいが、好ましくは有機半導体材料が用いられる。有機半導体材料は一般に、無機半導体材料に比べて低い温度で形成され得る。このため、トランジスタ12Tを支持する基材11を構成する材料として、可撓性を有するプラスチックなどの材料を利用することができる。このことにより、機械的衝撃に対する安定性を有し、かつ軽量なトランジスタシートを提供することが可能となる。また、印刷法などの塗布プロセスを用いて有機半導体材料を基材11上に形成することができるので、無機半導体材料が用いられる場合に比べて、多数の有機トランジスタを基材11上に効率的に形成することが可能となる。このため、トランジスタシートの製造コストを低くすることができる可能性がある。 As a material constituting the semiconductor layer 103, either an inorganic semiconductor material or an organic semiconductor material may be used, but an organic semiconductor material is preferably used. Organic semiconductor materials can generally be formed at lower temperatures than inorganic semiconductor materials. Therefore, a flexible material such as plastic can be used as a material for forming the base material 11 that supports the transistor 12T. This makes it possible to provide a lightweight transistor sheet that has stability against mechanical impact. In addition, since the organic semiconductor material can be formed on the base material 11 using a coating process such as a printing method, a large number of organic transistors can be efficiently formed on the base material 11 as compared with the case where an inorganic semiconductor material is used. It becomes possible to form Therefore, there is a possibility that the manufacturing cost of the transistor sheet can be reduced.

有機半導体材料としては、ペンタセンなどの低分子有機半導体材料や、ポリピロール類などの高分子有機半導体材料が用いられ得る。より具体的には、特開2013-21190号公報において開示されている低分子有機半導体材料や高分子有機半導体材料を用いることができる。ここで「低分子有機半導体材料」とは、例えば、分子量が10000未満の有機半導体材料を意味している。また「高分子有機半導体材料」とは、例えば、分子量が10000以上の有機半導体材料を意味している。 As the organic semiconductor material, a low-molecular-weight organic semiconductor material such as pentacene or a high-molecular-weight organic semiconductor material such as polypyrroles can be used. More specifically, low-molecular-weight organic semiconductor materials and high-molecular-weight organic semiconductor materials disclosed in JP-A-2013-21190 can be used. Here, "low-molecular-weight organic semiconductor material" means, for example, an organic semiconductor material having a molecular weight of less than 10,000. The term "polymeric organic semiconductor material" means, for example, an organic semiconductor material having a molecular weight of 10,000 or more.

第1配線ライン111は、図2に示すように第1方向D1に平行に延びており、第1方向D1に並ぶ複数のゲート端子100はそれぞれ、第2方向D2で隣接する第1配線ライン111に接続されている。また、第1配線ライン111は、その両端部で、第2方向D2に並ぶ複数の接続電極130のうちのいずれかに接続している。 The first wiring line 111 extends parallel to the first direction D1 as shown in FIG. It is connected to the. Also, the first wiring line 111 is connected at both ends thereof to one of the plurality of connection electrodes 130 arranged in the second direction D2.

また、本実施形態では、第1端子101がドレイン端子として機能し、第1電極13と電気的に接続している。一方、第2端子102はソース端子として機能する。ここで、図2に示すように、第2配線ライン121は第2方向D2に平行に延びており、第2方向D2に並ぶ複数の第2端子102はそれぞれ、第1方向D1で隣接する第2配線ライン121に接続されている。第2配線ライン121は、その両端部で、第1方向D1に並ぶ複数の接続電極130のうちのいずれかに接続している。 Further, in this embodiment, the first terminal 101 functions as a drain terminal and is electrically connected to the first electrode 13 . On the other hand, the second terminal 102 functions as a source terminal. Here, as shown in FIG. 2, the second wiring line 121 extends parallel to the second direction D2, and the plurality of second terminals 102 arranged in the second direction D2 are adjacent to each other in the first direction D1. 2 is connected to the wiring line 121 . Both ends of the second wiring line 121 are connected to one of the plurality of connection electrodes 130 arranged in the first direction D1.

感圧体14は、第1電極13に対応してマトリクス状に設けられており、本実施形態ではドーム状に形成され、シート状の配線基板10の主面に対する法線方向で見た際に、円形状をなす。感圧体14は、第1電極13に電気的に接続するとともに、第2電極15に電的に接続している。 The pressure-sensitive bodies 14 are arranged in a matrix corresponding to the first electrodes 13. In this embodiment, the pressure-sensitive bodies 14 are formed in a dome shape. , forming a circle. The pressure sensing element 14 is electrically connected to the first electrode 13 and electrically connected to the second electrode 15 .

感圧体14は、感圧体14に加えられる圧力に応じて電気抵抗または静電容量が変化する部材である。感圧体14は、例えば、感圧体に加えられる圧力に応じて電気抵抗が変化するよう構成された、いわゆる感圧導電体である。感圧導電体は、例えば、シリコーンゴムなどのゴムと、ゴムに添加されたカーボンなどの導電性を有する複数の粒子と、を含んでいる。感圧体14に圧力が加えられた際には、感圧体14の電気抵抗が低下する。これにより、第1電極13と第2電極15との間に感圧体14を介して流れる電流の値が変化することで、感圧体14に加えられた圧力の値を測定することが可能となる。 The pressure sensitive body 14 is a member whose electrical resistance or capacitance changes according to the pressure applied to the pressure sensitive body 14 . The pressure-sensitive body 14 is, for example, a so-called pressure-sensitive conductor configured to change electrical resistance in accordance with pressure applied to the pressure-sensitive body. The pressure-sensitive conductor includes, for example, rubber such as silicone rubber, and a plurality of conductive particles such as carbon added to the rubber. When pressure is applied to the pressure sensing element 14, the electrical resistance of the pressure sensing element 14 decreases. As a result, the value of the current that flows between the first electrode 13 and the second electrode 15 via the pressure sensing element 14 changes, making it possible to measure the value of the pressure applied to the pressure sensing element 14. becomes.

第2電極15は矩形のシート状をなしており、第1電極13に対する共通電極として構成されている。第2電極15はフレキシブル性を有することが好ましく、例えば、銅、アルミニウム、チタン、銀などを真空蒸着で形成したもの、または導電性ペースト材などから形成されてもよい。
導電性ペースト材に含まれる導電性粒子は、金属または炭素の少なくとも一方を含んでいてもよい。導電性粒子に含まれる金属は、ニッケル、金、銀、銅またはアルミのうちの少なくとも1つを含んでいてもよい。導電性粒子に含まれる炭素としては、例えば、グラファイトやカーボンブラックなど、炭素によって構成される物質のうち導電性を有するものを用いることができる。また導電性粒子は、メッキ粉を含んでいてもよい。なおメッキ粉とは、ベースとなる粉体の表面に金属層を無電解めっきなどによって形成することによって得られる粒子のことである。メッキ粉の金属層に含まれる金属としては、ニッケル、金、銀、銅またはアルミなどを用いることができる。一方、導電性ペースト材に含まれるバインダは、熱可塑性樹脂および熱硬化性樹脂を含むものでもよい。
The second electrode 15 has a rectangular sheet shape and is configured as a common electrode for the first electrode 13 . The second electrode 15 preferably has flexibility, and may be formed by vacuum deposition of copper, aluminum, titanium, silver, or the like, or may be formed from a conductive paste material, for example.
The conductive particles contained in the conductive paste material may contain at least one of metal and carbon. The metal contained in the conductive particles may include at least one of nickel, gold, silver, copper or aluminum. As the carbon contained in the conductive particles, for example, graphite, carbon black, or other substances composed of carbon and having conductivity can be used. Also, the conductive particles may contain plating powder. The plated powder is a particle obtained by forming a metal layer on the surface of the base powder by electroless plating or the like. Nickel, gold, silver, copper, aluminum, or the like can be used as the metal contained in the metal layer of the plating powder. On the other hand, the binder contained in the conductive paste material may contain thermoplastic resin and thermosetting resin.

対向基板16は矩形のシート状をなしており、第2電極15を支持する。対向基板16もフレキシブル性を有することが好ましく、例えば、ポリエチレンナフタレート、ポリイミド、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネイト、アクリル樹脂などを用いることができる。その中でも、耐久性や耐熱性がよいポリエチレンナフタレートかポリイミドが好ましく用いられ得る。 The opposing substrate 16 has a rectangular sheet shape and supports the second electrode 15 . The counter substrate 16 also preferably has flexibility, and for example, polyethylene naphthalate, polyimide, polyethylene terephthalate, polycarbonate, acrylic resin, or the like can be used. Among them, polyethylene naphthalate or polyimide having good durability and heat resistance can be preferably used.

また、本実施形態では、上部絶縁層122と第2電極15との間にスペーサ60が設けられている。スペーサ60は感圧体14と同等の厚みを有し、上部絶縁層122と第2電極15との間に介在することで、上部絶縁層122と第2電極15との接触を抑制している。 Moreover, in this embodiment, a spacer 60 is provided between the upper insulating layer 122 and the second electrode 15 . The spacer 60 has a thickness equivalent to that of the pressure sensitive body 14, and is interposed between the upper insulating layer 122 and the second electrode 15, thereby suppressing contact between the upper insulating layer 122 and the second electrode 15. .

以上のように構成された配線基板10は、支持基板2上に複数、本例では4つ設けられ、互いに隣り合うようにシート状に配列される。ここで、図1および図3に示すように、隣り合う配線基板10のうちの一方の配線基板10の接続電極130は、隣り合う配線基板10が並ぶ方向(第1方向D1又は第2方向D2)で、他方の配線基板10の対応する接続電極130に近接する。なお、本実施形態において、「対応する接続電極」とは、ある接続電極130に電気的に接続されることが予定されている他の接続電極130のことを意味する。また、本実施形態では、隣り合う配線基板10が空間を空けて隣り合っているが、このような空間はなくてもよい。このような空間が形成される場合、空間の寸法は、感圧体14の幅と同程度か又はそれ以上が好ましく、10μm以上100μm以下が好ましい。 A plurality of wiring boards 10 configured as described above, four in this example, are provided on the support board 2 and arranged in a sheet form so as to be adjacent to each other. Here, as shown in FIGS. 1 and 3, the connection electrodes 130 of one wiring board 10 of the adjacent wiring boards 10 are aligned in the direction in which the adjacent wiring boards 10 are arranged (first direction D1 or second direction D2). ) to approach the corresponding connection electrode 130 of the other wiring substrate 10 . In the present embodiment, “corresponding connection electrode” means another connection electrode 130 that is scheduled to be electrically connected to a certain connection electrode 130 . Also, in the present embodiment, the adjacent wiring boards 10 are adjacent to each other with a space therebetween, but such a space may not be present. When such a space is formed, the dimension of the space is preferably equal to or greater than the width of the pressure sensitive body 14, preferably 10 μm or more and 100 μm or less.

〔接続部〕
接続部20は、上述のように近接する互いに異なる配線基板10の2つの接続電極130に跨がるように設けられ、これにより、これら接続電極130を電気的に接続している。
[Connection part]
The connection part 20 is provided so as to straddle the two adjacent connection electrodes 130 of the wiring substrates 10 different from each other as described above, thereby electrically connecting these connection electrodes 130 .

接続部20は伸縮性を有するとともに導電性を有する。接続部20は、図1および図3に示すように、隣り合う配線基板10が並ぶ方向で近接する一方の配線基板10の接続電極130と、他方の配線基板10の接続電極130とを、一連に接続している。ここで、「一連に接続している」とは、接続部20が複数の部材から構成されるものではなく、一体物の形態で接続電極130間を接続することを意味する。一体物とは、例えば粘着性を有する導電部分、これに接続されたフィルム状の導電部分などの複数の導電部分を含んで構成されるものではないことを意味する。本実施形態では、一例として、接続部20が、導電性ペースト材をディスペンサで塗布して硬化させることにより形成され、これにより一体物の形態をなしている。 The connecting portion 20 has stretchability and conductivity. As shown in FIGS. 1 and 3, the connection portion 20 connects the connection electrode 130 of one wiring substrate 10 and the connection electrode 130 of the other wiring substrate 10 that are adjacent in the direction in which the adjacent wiring substrates 10 are arranged. connected to. Here, "connected in series" means that the connection portion 20 is not composed of a plurality of members, but that the connection electrodes 130 are connected in the form of an integral body. An integrated body means that it does not include a plurality of conductive parts such as an adhesive conductive part and a film-like conductive part connected thereto. In the present embodiment, as an example, the connecting portion 20 is formed by applying a conductive paste material with a dispenser and curing it, thereby forming an integral form.

接続部20は、図1に示すように配線基板10の主面に対する法線方向で見た際に、言い換えると、複数の接続電極130が直線状に並ぶ方向及び隣り合う配線基板10が並ぶ方向の両方に直交する方向で見た際に、線状になっている。線状となる接続部20の線幅は、10μm以上1000μm以下であることが好ましく、その長さは、20μm以上2000μm以下であることが好ましい。 When viewed in the direction normal to the main surface of the wiring board 10 as shown in FIG. is linear when viewed in a direction orthogonal to both The linear connecting portion 20 preferably has a line width of 10 μm or more and 1000 μm or less, and a length of 20 μm or more and 2000 μm or less.

接続部20は伸縮性および導電性を有するものであれば特に限られるものではないが、本実施形態では、伸縮性を有するバインダと、このバインダに含有された複数の導電性粒子とを含むものが用いられる。より具体的には、接続部20は、伸縮性を有するバインダと、このバインダに含有された複数の導電性粒子とを含み、少なくとも硬化後に伸縮性を発現する導電性ペースト材で形成されている。 The connection part 20 is not particularly limited as long as it has stretchability and conductivity, but in this embodiment, it contains a stretchable binder and a plurality of conductive particles contained in this binder. is used. More specifically, the connecting portion 20 includes a stretchable binder and a plurality of conductive particles contained in the binder, and is formed of a conductive paste material that develops stretchability at least after curing. .

導電性ペースト材に含まれる導電性粒子は、金属または炭素の少なくとも一方を含んでいてもよい。導電性粒子に含まれる金属は、ニッケル、金、銀、銅またはアルミのうちの少なくとも1つを含んでいてもよい。導電性粒子に含まれる炭素としては、例えば、グラファイトやカーボンブラックなど、炭素によって構成される物質のうち導電性を有するものを用いることができる。また導電性粒子は、メッキ粉を含んでいてもよい。なおメッキ粉とは、ベースとなる粉体の表面に金属層を無電解めっきなどによって形成することによって得られる粒子のことである。メッキ粉の金属層に含まれる金属としては、ニッケル、金、銀、銅またはアルミなどを用いることができる。一方、導電性ペースト材に含まれるバインダは、熱可塑性樹脂および熱硬化性樹脂を含むものでもよい。 The conductive particles contained in the conductive paste material may contain at least one of metal and carbon. The metal contained in the conductive particles may include at least one of nickel, gold, silver, copper or aluminum. As the carbon contained in the conductive particles, for example, graphite, carbon black, or other substances composed of carbon and having conductivity can be used. Also, the conductive particles may contain plating powder. The plated powder is a particle obtained by forming a metal layer on the surface of the base powder by electroless plating or the like. Nickel, gold, silver, copper, aluminum, or the like can be used as the metal contained in the metal layer of the plating powder. On the other hand, the binder contained in the conductive paste material may contain thermoplastic resin and thermosetting resin.

本実施形態では、導電性ペースト材として伸縮性銀ペーストが用いられるが、導電性ペースト材は、上述で説明したように種々の組成のものを使用することができる。 In this embodiment, stretchable silver paste is used as the conductive paste material, but the conductive paste material can be of various compositions as described above.

接続部20は伸縮性を有することで、互い連結された配線基板10の間の部分に伸縮性及び可撓性を付与する。ここで、図3に示すように、本実施形態における接続部20では、その一部20Aが、隣り合う配線基板10が並ぶ方向で近接する一方の配線基板10の接続電極130と、他方の配線基板10の接続電極130との間、さらには、配線基板10の間の空間に進入している。また、接続部20の表面は凹み部20Bを有し、凹み部20Bは、一方の配線基板10の接続電極130と、他方の配線基板10の接続電極130と、の間に向けて凹んでいる。 Since the connection part 20 has elasticity, it imparts elasticity and flexibility to the portion between the interconnected wiring boards 10 . Here, as shown in FIG. 3, in the connection portion 20 in the present embodiment, a portion 20A thereof includes the connection electrode 130 of one wiring substrate 10 and the wiring of the other wiring substrate 10 adjacent in the direction in which the adjacent wiring substrates 10 are arranged. It enters the space between the connection electrodes 130 of the substrate 10 and further between the wiring substrates 10 . Further, the surface of the connection portion 20 has a recessed portion 20B, and the recessed portion 20B is recessed between the connection electrode 130 of one wiring substrate 10 and the connection electrode 130 of the other wiring substrate 10. .

本実施形態では、接続部20がディスペンサで塗布された導電性ペースト材で形成され、且つ、接続部20が接続する一方の配線基板10の接続電極130と他方の配線基板10の接続電極130との間の部分が、これら接続電極130に対して凹む状態となっており、このことにより、導電性ペースト材が一部で凹むように塗布される結果、接続部20の一部20Aが接続電極130間に進入する。また、隣り合う配線基板10の間に空間が形成され、導電性ペースト材が当該空間に進入するように塗布される結果、接続部20の一部20Aが当該空間に進入する。また、導電性ペースト材が一部で凹むように塗布される結果、接続部20の表面に凹み部20Bが生じる。 In this embodiment, the connection portion 20 is formed of a conductive paste material applied by a dispenser, and the connection electrode 130 of one wiring substrate 10 and the connection electrode 130 of the other wiring substrate 10 to which the connection portion 20 is connected are connected. The portion between the connection electrodes 130 is in a recessed state, and as a result of this, the conductive paste material is applied so as to be partially recessed, so that the portion 20A of the connection portion 20 becomes the connection electrode. Enter between 130. Further, a space is formed between the adjacent wiring boards 10, and as a result of applying the conductive paste material so as to enter the space, the part 20A of the connection portion 20 enters the space. In addition, as a result of applying the conductive paste material so as to be partially recessed, a recessed portion 20B is formed on the surface of the connection portion 20 .

以上のようにして形成される接続部20の一部20Aは、隣り合う配線基板10の間の隙間を埋めるように配線基板10を結合するため、配線基板10間の結合強度を向上させ得る。また、上述の凹み部20Bは、接続部20の一部を切り欠くことで、隣り合う配線基板10の間の良好な可撓性を付与する。 The portion 20A of the connection portion 20 formed as described above couples the wiring substrates 10 so as to fill the gap between the adjacent wiring substrates 10, so that the bonding strength between the wiring substrates 10 can be improved. In addition, the above-described recessed portion 20B provides good flexibility between adjacent wiring boards 10 by notching a portion of the connection portion 20 .

なお、接続部20の伸縮性とは、接続部20が伸び縮みすることができる性質、すなわち、常態である非伸長状態から伸長することができ、この伸長状態から解放したときに復元することができる性質をいう。非伸長状態とは、引張応力が加えられていない時の接続部20の状態である。本実施形態において、伸縮可能な接続部20は、好ましくは、破壊されることなく非伸長状態から1%以上伸長することができ、より好ましくは20%以上伸長することができ、更に好ましくは75%以上伸長することができる。 The stretchability of the connection part 20 means the property that the connection part 20 can expand and contract, that is, it can be stretched from a normal non-stretched state, and can be restored when released from this stretched state. It refers to the nature of being able to The non-stretched state is the state of the joint 20 when no tensile stress is applied. In this embodiment, the stretchable connection 20 is preferably capable of stretching 1% or more, more preferably 20% or more, and even more preferably 75% from its unstretched state without breaking. % or more.

また、非伸長状態にある接続部20の形状と、非伸長状態から伸長された後に再び非伸長状態に戻ったときの接続部20の形状との差が小さいことが好ましい。この差のことを、以下の説明において形状変化とも称する。接続部20の形状変化は、例えば面積比で20%以下、より好ましくは10%以下、さらに好ましくは5%以下である。 Moreover, it is preferable that the difference between the shape of the connecting portion 20 in the non-stretched state and the shape of the connecting portion 20 when it returns to the non-stretched state after being stretched from the non-stretched state is small. This difference is also referred to as shape change in the following description. The shape change of the connecting portion 20 is, for example, 20% or less, more preferably 10% or less, and still more preferably 5% or less in terms of area ratio.

接続部20の伸縮性を表すパラメータの例として、接続部20の弾性係数を挙げることができる。接続部20の弾性係数は、例えば10MPa以下であり、より好ましくは1MPa以下である。また、接続部20の弾性係数は、1kPa以上であってもよい。 An elastic modulus of the connection portion 20 can be given as an example of a parameter representing the stretchability of the connection portion 20 . The elastic modulus of the connecting portion 20 is, for example, 10 MPa or less, more preferably 1 MPa or less. Also, the elastic modulus of the connecting portion 20 may be 1 kPa or more.

接続部20の弾性係数を算出する方法としては、接続部20のサンプルを用いて、JIS K6251に準拠して引張試験を実施するという方法を採用することができる。また、接続部20のサンプルの弾性係数を、ISO14577に準拠してナノインデンテーション法によって測定するという方法を採用することもできる。ナノインデンテーション法において用いる測定器としては、ナノインデンターを用いることができる。接続部20のサンプルを準備する方法としては、接続部20の一部をサンプルとして取り出す方法が考えられる。その他にも、接続部20の弾性係数を算出する方法として、接続部20を構成する材料を分析し、材料の既存のデータベースに基づいて接続部20の弾性係数を算出するという方法を採用することもできる。なお、本願における弾性係数は、25℃の環境下における弾性係数である。 As a method for calculating the elastic modulus of the connecting portion 20, a method of performing a tensile test in accordance with JIS K6251 using a sample of the connecting portion 20 can be adopted. A method of measuring the elastic modulus of a sample of the connecting portion 20 by a nanoindentation method in compliance with ISO14577 can also be adopted. A nanoindenter can be used as a measuring instrument used in the nanoindentation method. As a method of preparing a sample of the connection portion 20, a method of taking out a part of the connection portion 20 as a sample is conceivable. In addition, as a method of calculating the elastic modulus of the connecting portion 20, adopting a method of analyzing the material forming the connecting portion 20 and calculating the elastic modulus of the connecting portion 20 based on an existing material database. can also In addition, the elastic modulus in this application is an elastic modulus in a 25 degreeC environment.

〔スペーサ絶縁部〕
次にスペーサ絶縁部30について説明する。図4は図1に示す領域IVの拡大図である。図5は図4のV-V線に沿う断面図である。
[Spacer insulating part]
Next, the spacer insulating portion 30 will be explained. FIG. 4 is an enlarged view of area IV shown in FIG. FIG. 5 is a cross-sectional view along line VV of FIG.

図4に示すように、スペーサ絶縁部30は、隣り合う接続部20の間のそれぞれに設けられている。スペーサ絶縁部30は、本例において、隣り合う配線基板10の間の空間に少なくとも位置することにより、その両側に位置する接続部20の短絡を抑制するための機能を有する。本実施形態のように接続部20が導電性ペースト材で形成される場合、導電性ペースト材が塗布された際に、隣り合う配線基板10の間に進入して空間の長手方向に延び拡がる虞がある。この際、本実施形態では、スペーサ絶縁部30が導電性ペースト材の流動を抑制することで、隣接する導電性ペースト材同士が混ざり合うことが抑制され、その結果、接続部20の短絡が抑制されることになる。 As shown in FIG. 4 , spacer insulating portions 30 are provided between adjacent connecting portions 20 . In this example, the spacer insulating part 30 is positioned at least in the space between the adjacent wiring boards 10 and has a function of suppressing a short circuit between the connection parts 20 positioned on both sides thereof. When the connecting portion 20 is formed of a conductive paste material as in the present embodiment, there is a risk that when the conductive paste material is applied, it may enter between the adjacent wiring boards 10 and expand in the longitudinal direction of the space. There is At this time, in the present embodiment, the spacer insulating portion 30 suppresses the flow of the conductive paste material, thereby suppressing the mixing of the adjacent conductive paste materials, and as a result, suppressing the short circuit of the connection portion 20. will be

本実施形態においては、スペーサ絶縁部30が隣り合う配線基板10の間の空間に位置するとともに、隣り合う配線基板10の上部絶縁層122の表面上にも位置する。この場合、上部絶縁層122上においても接続部20間の短絡を抑制できるため、有用である。ただし、隣り合う配線基板10の間の空間にスペーサ絶縁部30が位置するだけでも、効果的に接続部20の短絡を抑制できるようになる。 In this embodiment, the spacer insulating part 30 is located in the space between the adjacent wiring substrates 10 and also located on the surface of the upper insulating layer 122 of the adjacent wiring substrate 10 . In this case, short-circuiting between the connecting portions 20 can be suppressed even on the upper insulating layer 122, which is useful. However, even if the spacer insulating portion 30 is positioned in the space between the adjacent wiring substrates 10, the short circuit of the connection portion 20 can be effectively suppressed.

スペーサ絶縁部30は、接続部20と同様にディスペンサを利用することで形成され得るが、その形成方法は特に限られるものではない。ディスペンサを利用する場合、隣り合う配線基板10の間の空間における、隣り合う配線基板10が並ぶ方向で両側に接続電極130が位置しない部分に、絶縁性を有するペースト材をディスペンサから塗布し、その後、硬化させることで、スペーサ絶縁部30が形成され得る。スペーサ絶縁部30を形成する材料は特に限られるものではないが、可撓性および伸縮性を有することが望ましい。スペーサ絶縁部30を形成する材料としては、例えば、一般的な熱可塑性エラストマーおよび熱硬化性エラストマーを用いることができ、例えば、スチレン系エラストマー、アクリル系エラストマー、オレフィン系エラストマー、ウレタン系エラストマー、シリコーンゴム、ウレタンゴム、フッ素ゴム、ニトリルゴム、ポリブタジエン、ポリクロロプレンが挙げられる。また、アクリル系、ウレタン系、エポキシ系、ポリエステル系、エポキシ系、ビニルエーテル系、ポリエン・チオール系、シリコーン系など、フッ素系のオリゴマー、ポリマーなどを挙げることができる。 The spacer insulating portion 30 can be formed by using a dispenser like the connecting portion 20, but the forming method is not particularly limited. When using a dispenser, a paste material having insulating properties is applied from a dispenser to a portion of the space between the adjacent wiring substrates 10 where the connection electrodes 130 are not located on both sides in the direction in which the adjacent wiring substrates 10 are arranged. , the spacer insulation 30 can be formed by curing. Although the material forming the spacer insulating portion 30 is not particularly limited, it is desirable that the material has flexibility and stretchability. As a material for forming the spacer insulating portion 30, for example, general thermoplastic elastomers and thermosetting elastomers can be used. , urethane rubber, fluororubber, nitrile rubber, polybutadiene, and polychloroprene. In addition, acrylic-, urethane-, epoxy-, polyester-, epoxy-, vinyl-ether-, polyene-thiol-, and silicone-based fluorine-based oligomers and polymers can also be used.

〔被覆絶縁部〕
次に被覆絶縁部40について説明する。上述したように、被覆絶縁部40は、隣り合う配線基板10の間に設けられる複数の接続部20が並ぶ方向(第1方向D1および第2方向D2)に延びている。被覆絶縁部40は複数の接続部20を被覆することにより、接続部20を保護している。図3に示すように、被覆絶縁部40は対向基板16から面外方向に飛び出さないように形成されており、これにより、外部からの圧力の一部が被覆絶縁部40に分散されることを抑制し、圧力検出の精度低下が抑制される。
[Coating insulation part]
Next, the covering insulating portion 40 will be described. As described above, the covering insulating portion 40 extends in the direction (the first direction D1 and the second direction D2) in which the plurality of connecting portions 20 provided between the adjacent wiring boards 10 are arranged. The covering insulating portion 40 protects the connection portions 20 by covering the plurality of connection portions 20 . As shown in FIG. 3, the covering insulating portion 40 is formed so as not to protrude from the opposing substrate 16 in the out-of-plane direction. is suppressed, and a decrease in accuracy of pressure detection is suppressed.

被覆絶縁部40は、接続部20と同様にディスペンサを利用することで形成され得るが、その形成方法は特に限られるものではない。ディスペンサを利用する場合、絶縁性を有するペースト材をディスペンサから塗布し、その後、硬化させることで、被覆絶縁部40が形成され得る。被覆絶縁部40を形成する材料は特に限られるものではないが、可撓性および伸縮性を有することが望ましい。被覆絶縁部40を形成する材料を形成する材料としては、例えば、一般的な熱可塑性エラストマーおよび熱硬化性エラストマーを用いることができ、例えば、スチレン系エラストマー、アクリル系エラストマー、オレフィン系エラストマー、ウレタン系エラストマー、シリコーンゴム、ウレタンゴム、フッ素ゴム、ニトリルゴム、ポリブタジエン、ポリクロロプレンが挙げられる。また、アクリル系、ウレタン系、エポキシ系、ポリエステル系、エポキシ系、ビニルエーテル系、ポリエン・チオール系、シリコーン系など、フッ素系のオリゴマー、ポリマーなどを挙げることができる。 The insulating covering portion 40 can be formed by using a dispenser in the same manner as the connecting portion 20, but the forming method is not particularly limited. When using a dispenser, the covering insulating portion 40 can be formed by applying an insulating paste material from the dispenser and then curing the paste material. Although the material forming the covering insulating portion 40 is not particularly limited, it is desirable that the material has flexibility and stretchability. As a material forming the material forming the covering insulating portion 40, for example, general thermoplastic elastomers and thermosetting elastomers can be used. Elastomers, silicone rubbers, urethane rubbers, fluororubbers, nitrile rubbers, polybutadiene, and polychloroprene. In addition, acrylic-, urethane-, epoxy-, polyester-, epoxy-, vinyl-ether-, polyene-thiol-, and silicone-based fluorine-based oligomers and polymers can also be used.

(複合基板の製造方法)
次に、複合基板1の製造方法の一例を図6A乃至図6Eを参照しつつ説明する。
(Manufacturing method of composite substrate)
Next, an example of a method for manufacturing the composite substrate 1 will be described with reference to FIGS. 6A to 6E.

まず、複数の配線基板10と、支持基板2とが準備される。その後、支持基板2上に、例えば粘着剤が塗布されることにより粘着層50が形成され、続いて、図6Aの矢印αに示すように、複数の配線基板10が、粘着層50を介して支持基板2上にシート状に配列される。これにより、複数の配線基板10が、支持基板2に粘着層50を介して固定される。この際、隣り合う配線基板10は、これらが並ぶ方向で、一方の配線基板10の接続電極130が他方の配線基板10の対応する接続電極に近接するように配置される(図6B)。 First, a plurality of wiring substrates 10 and a support substrate 2 are prepared. After that, an adhesive layer 50 is formed on the support substrate 2 by applying, for example, an adhesive agent, and then, as indicated by the arrow α in FIG. They are arranged in a sheet on the support substrate 2 . Thereby, the plurality of wiring boards 10 are fixed to the support substrate 2 via the adhesive layer 50 . At this time, the adjacent wiring boards 10 are arranged so that the connection electrodes 130 of one wiring board 10 are close to the corresponding connection electrodes of the other wiring board 10 in the direction in which they are arranged (FIG. 6B).

次いで、図6Cに示すように、隣り合う配線基板10の間の空間における、隣り合う配線基板10が並ぶ方向で両側に接続電極130が位置しない部分のそれぞれに、スペーサ絶縁部30が設けられる。すなわち、スペーサ絶縁部30は、隣り合う配線基板10の間の空間を画定する配線基板10の外縁に沿って間欠的に設けられる。 Next, as shown in FIG. 6C, spacer insulating portions 30 are provided in the spaces between the adjacent wiring substrates 10 at portions where the connection electrodes 130 are not located on both sides in the direction in which the adjacent wiring substrates 10 are arranged. That is, the spacer insulating portions 30 are intermittently provided along the outer edges of the wiring substrates 10 that define the spaces between the adjacent wiring substrates 10 .

本例では、スペーサ絶縁部30が、ディスペンサ201により絶縁性を有するペースト材を塗布し、その後、硬化させることで形成される。この際、ディスペンサ201は、隣り合う配線基板10が並ぶ方向における直進動作に伴って上記ペースト材を塗布し、この動作を配線基板10の外縁に沿って間欠的に繰り返すことで、複数のスペーサ絶縁部30を形成するようになっている。 In this example, the spacer insulating portion 30 is formed by applying an insulating paste material with a dispenser 201 and then curing it. At this time, the dispenser 201 applies the paste material as it moves straight in the direction in which the adjacent wiring substrates 10 are aligned, and intermittently repeats this operation along the outer edge of the wiring substrate 10, thereby insulating the plurality of spacers. It is adapted to form a section 30 .

次いで、図6Dに示すように、隣り合う配線基板10が並ぶ方向で近接する一方の配線基板10の接続電極130と他方の配線基板10の接続電極130とに跨がるように、導電性ペースト材20Pが塗布される。そして、導電性ペースト材20Pを硬化させることにより、接続部20が形成される。 Next, as shown in FIG. 6D, the conductive paste is applied so as to straddle the connection electrodes 130 of one wiring substrate 10 and the connection electrodes 130 of the other wiring substrate 10 that are adjacent in the direction in which the adjacent wiring substrates 10 are arranged. A material 20P is applied. Then, the connecting portion 20 is formed by curing the conductive paste material 20P.

本例では、図6Dに示すように、導電性ペースト材20Pがディスペンサ202により塗布される。導電性ペースト材20Pは、スペーサ絶縁部30と重ならない位置に間欠的に塗布され、一方の配線基板10の接続電極130と他方の配線基板10の接続電極130との組の間に順次設けられる。この際、ディスペンサ202も、隣り合う配線基板10が並ぶ方向における直進動作に伴って導電性ペースト材20Pを塗布し、この動作を配線基板10の外縁に沿って間欠的に繰り返すことで、複数の導電性ペースト材20P、つまり接続部20を形成するようになっている。また、これにより、導電性ペースト材20Pは、複数の接続電極130が並ぶ方向及び隣り合う配線基板10が並ぶ方向の両方に直交する方向で見た際に、線状に塗布され、接続部20も線状に形成されることになる。 In this example, a conductive paste material 20P is applied by a dispenser 202, as shown in FIG. 6D. The conductive paste material 20P is intermittently applied to a position that does not overlap with the insulating spacer portion 30, and is sequentially provided between the set of the connection electrode 130 of one wiring board 10 and the connection electrode 130 of the other wiring board 10. . At this time, the dispenser 202 also applies the conductive paste material 20P along with the linear movement in the direction in which the adjacent wiring boards 10 are arranged, and intermittently repeats this movement along the outer edge of the wiring board 10, so that a plurality of A conductive paste material 20P, that is, a connecting portion 20 is formed. Further, as a result, the conductive paste material 20P is applied in a linear shape when viewed in a direction orthogonal to both the direction in which the plurality of connection electrodes 130 are arranged and the direction in which the adjacent wiring substrates 10 are arranged. is also formed linearly.

また、本例では、接続部20の一部20Aが、隣り合う配線基板10が並ぶ方向で近接する一方の配線基板10の接続電極130と、他方の配線基板10の接続電極130との間及び隣り合う配線基板10の間の空間に進入するように、導電性ペースト材20Pが塗布される。また、隣り合う配線基板10が並ぶ方向で近接する一方の配線基板10の接続電極130と、他方の配線基板10の接続電極130との間に向けた凹み部20Bが接続部20の表面に形成されるように、導電性ペースト材20Pが塗布され且つ硬化されるようになっている。 In this example, the part 20A of the connection part 20 is located between the connection electrode 130 of one wiring board 10 and the connection electrode 130 of the other wiring board 10, which are adjacent in the direction in which the adjacent wiring boards 10 are arranged. A conductive paste material 20P is applied so as to enter the space between adjacent wiring boards 10 . In addition, a recessed portion 20B directed between the connection electrode 130 of one wiring substrate 10 and the connection electrode 130 of the other wiring substrate 10, which are adjacent in the direction in which the adjacent wiring substrates 10 are arranged, is formed on the surface of the connection portion 20. The conductive paste material 20P is applied and cured as shown in FIG.

次いで、図6Eに示すように、複数の接続部20が直線的に並ぶ方向に沿って延び、複数の接続部20を被覆する被覆絶縁部40が設けられる。本例では、被覆絶縁部40が、ディスペンサ203により絶縁性を有するペースト材を塗布し、その後、硬化させることで形成される。 Next, as shown in FIG. 6E , a covering insulating portion 40 that extends along the direction in which the plurality of connecting portions 20 are arranged linearly and covers the plurality of connecting portions 20 is provided. In this example, the covering insulating portion 40 is formed by applying an insulating paste material with a dispenser 203 and then curing the paste material.

以上に説明した本実施形態に係る複合基板1では、伸縮性を有する接続部20がそれぞれ、隣り合う配線基板10が並ぶ方向で近接する一方の配線基板10の接続電極130と、他方の配線基板10の対応する接続電極130とを、一連に接続している。これにより、タイリングされた隣り合う配線基板10の間に良好な伸縮性を確保できる。この場合、隣り合う配線基板10の間を起点に複合基板1が曲げられた際に、接続部20が伸長できるため、接続部20の破損や、接続電極130からの接続部20からの剥がれが抑制され、複合基板1の耐久性を向上させることができる。 In the composite substrate 1 according to the present embodiment described above, the connection electrodes 130 of one wiring substrate 10 and the connection electrodes 130 of the other wiring substrate 10 are adjacent to each other in the direction in which the adjacent wiring substrates 10 are arranged. 10 corresponding connection electrodes 130 are connected in series. Thereby, good stretchability can be ensured between adjacent wiring boards 10 that are tiled. In this case, when the composite substrate 1 is bent from between the adjacent wiring substrates 10, the connection portions 20 can be stretched. Therefore, the durability of the composite substrate 1 can be improved.

また、接続部20は、複数の接続電極130が並ぶ方向及び隣り合う配線基板10が並ぶ方向の両方に直交する方向で見た際に、線状である。これにより、近接する一対の接続電極130の密度が高い場合であっても、接続電極130間を容易に電気的に接続することができる。 Moreover, the connecting portion 20 has a linear shape when viewed in a direction orthogonal to both the direction in which the plurality of connection electrodes 130 are arranged and the direction in which the adjacent wiring substrates 10 are arranged. Thereby, even when the density of a pair of adjacent connection electrodes 130 is high, the connection electrodes 130 can be electrically connected easily.

また、接続部20の一部20Aは、隣り合う配線基板10が並ぶ方向で近接する一方の配線基板10の接続電極130と、他方の配線基板10の接続電極130と、の間に進入している。これにより、接続部20は、隣り合う配線基板10の間の隙間を埋めるように配線基板10を結合するため、配線基板10間の結合強度を向上できる。また、上述の実施形態では、接続部20の一部20Aが、隣り合う配線基板10の間の空間にさらに進入しているため、配線基板10間の結合強度を効果的に向上できる。 In addition, the part 20A of the connection part 20 enters between the connection electrode 130 of one wiring board 10 and the connection electrode 130 of the other wiring board 10 that are adjacent in the direction in which the adjacent wiring boards 10 are arranged. there is Accordingly, since the connecting portion 20 connects the wiring substrates 10 so as to fill the gap between the adjacent wiring substrates 10, the bonding strength between the wiring substrates 10 can be improved. In addition, in the above-described embodiment, the portion 20A of the connection portion 20 further enters the space between the adjacent wiring boards 10, so that the bonding strength between the wiring boards 10 can be effectively improved.

また、接続部20の表面は凹み部20Bを有し、凹み部20Bは、隣り合う配線基板が並ぶ方向で近接する一方の配線基板10の接続電極130と、他方の配線基板10の接続電極130と、の間に向けて凹んでいる。この場合、凹み部20Bが接続部20の一部を切り欠くことで、隣り合う配線基板10の間の良好な可撓性を付与できる。 In addition, the surface of the connection portion 20 has a recessed portion 20B, and the recessed portion 20B is formed by connecting the connection electrodes 130 of one wiring substrate 10 and the connection electrodes 130 of the other wiring substrate 10 adjacent to each other in the direction in which the adjacent wiring substrates are arranged. And it's concave towards the middle. In this case, by notching a part of the connecting portion 20 with the recessed portion 20B, good flexibility can be imparted between the adjacent wiring substrates 10 .

また、隣り合う接続部20の間には、スペーサ絶縁部30が設けられ、スペーサ絶縁部30は、隣り合う配線基板10の間の空間に少なくとも位置する。この場合、隣り合う接続部20の短絡を抑制でき、信頼性を向上できる。 A spacer insulating portion 30 is provided between the adjacent connecting portions 20 , and the spacer insulating portion 30 is positioned at least in the space between the adjacent wiring boards 10 . In this case, it is possible to suppress short-circuiting of adjacent connection portions 20 and improve reliability.

(他の実施形態)
以下、他の実施形態について説明する。
(Other embodiments)
Other embodiments will be described below.

図7に示す他の実施形態に係る複合基板では、配線基板10におけるトランジスタ層12上の第1電極13と対向基板16との間に、複数の第1電極13を覆うシート状の感圧体14Sが設けられている。このような配線基板10においても、接続部20を適用できる。 In the composite substrate according to another embodiment shown in FIG. 7, a sheet-like pressure-sensitive body covering the plurality of first electrodes 13 is provided between the first electrodes 13 on the transistor layer 12 of the wiring substrate 10 and the opposing substrate 16. 14S is provided. The connecting portion 20 can also be applied to such a wiring board 10 .

また、図8は、さらに他の実施形態に係る複合基板の断面図であり、図9は、図8に示す複合基板を図8の矢印IXの方向で見た図である。図8及び図9に示す実施形態では、隣り合う配線基板10の間の空間に、接続部が130並ぶ方向に延びる充填用絶縁部70が充填されている。この場合、接続部20は充填用絶縁部70上に塗布された導電性ペースト剤を硬化させることにより形成される。このような構成では、隣り合う配線基板10の間の空間における接続部20の短絡を効果的に抑制できる。なお、充填用絶縁部70は、隣り合う配線基板10の間の空間に、ディスペンサにより絶縁性を有するペースト材を塗布し、その後、硬化させることで形成されてもよい。 8 is a cross-sectional view of a composite substrate according to still another embodiment, and FIG. 9 is a view of the composite substrate shown in FIG. 8 as viewed in the direction of arrow IX in FIG. In the embodiment shown in FIGS. 8 and 9, the space between the adjacent wiring boards 10 is filled with a filling insulating portion 70 extending in the direction in which the connecting portions 130 are arranged. In this case, the connecting portion 20 is formed by curing the conductive paste applied on the filling insulating portion 70 . With such a configuration, it is possible to effectively suppress the short circuit of the connection portion 20 in the space between the adjacent wiring boards 10 . Note that the filling insulating portion 70 may be formed by applying an insulating paste material to the space between the adjacent wiring boards 10 using a dispenser and then curing the paste material.

また、図10は、さらに他の実施形態に係る複合基板の断面図である。図10に示す実施形態では、隣り合う配線基板10が互いに接触している。この場合、導電性ペースト材を塗布後に硬化させて形成される接続部20が、隣り合う配線基板10の間に進入しないか、又は、進入した場合であっても、進入部分の基板厚さにおける寸法は、50μm未満である。また、接続部20の表面は平坦であり、図3で示したような凹み部20Bは形成されない。 Also, FIG. 10 is a cross-sectional view of a composite substrate according to still another embodiment. In the embodiment shown in FIG. 10, adjacent wiring boards 10 are in contact with each other. In this case, the connection part 20 formed by applying the conductive paste material and then curing it does not enter between the adjacent wiring boards 10, or even if it does enter, the board thickness of the entering part The dimensions are less than 50 μm. Moreover, the surface of the connecting portion 20 is flat, and the concave portion 20B as shown in FIG. 3 is not formed.

以上、本開示の複数の実施形態を説明したが、各実施形態には各種の変更が加えられてもよい。 Although a plurality of embodiments of the present disclosure have been described above, various modifications may be made to each embodiment.

1…複合基板
2…支持基板
10…配線基板
11…基材
12…トランジスタ層
12T…トランジスタ
13…第1電極
14,14S…感圧体
15…第2電極
16…対向基板
20…接続部
20A…一部
20B…凹み部
20P…導電性ペースト材
30…スペーサ絶縁部
40…被覆絶縁部
50…粘着層
60…スペーサ
70…充填用絶縁部
100…ゲート端子
101…第1端子
102…第2端子
103…半導体層
111…第1配線ライン
112…ゲート絶縁層
121…第2配線ライン
122…上部絶縁層
130…接続電極
201,202,203…ディスペンサ
D1…第1方向
D2…第2方向
Reference Signs List 1 Composite substrate 2 Supporting substrate 10 Wiring substrate 11 Base material 12 Transistor layer 12T Transistor 13 First electrodes 14, 14S Pressure-sensitive element 15 Second electrode 16 Counter substrate 20 Connecting portion 20A Part 20B... Recessed part 20P... Conductive paste material 30... Spacer insulating part 40... Coating insulating part 50... Adhesive layer 60... Spacer 70... Filling insulating part 100... Gate terminal 101... First terminal 102... Second terminal 103 Semiconductor layer 111 First wiring line 112 Gate insulating layer 121 Second wiring line 122 Upper insulating layer 130 Connection electrodes 201, 202, 203 Dispenser D1 First direction D2 Second direction

Claims (23)

シート状に配列される複数の配線基板と、
前記複数の配線基板のうちの隣り合う前記配線基板を電気的に接続するべく、隣り合う前記配線基板の間に跨がるように設けられる複数の接続部と、を備え、
前記配線基板は、前記配線基板の主面に対する法線方向で見た際に、前記配線基板の外縁の少なくとも一部に沿って前記外縁の内側の表面上に並ぶ複数の接続電極を有し、
隣り合う前記配線基板のうちの一方の前記配線基板の接続電極は、隣り合う前記配線基板が並ぶ方向で、他方の前記配線基板の対応する接続電極に近接し、
前記接続部はそれぞれ伸縮性を有し、隣り合う前記配線基板が並ぶ方向で近接する一方の前記配線基板の接続電極と、他方の前記配線基板の接続電極とを、一連に接続しており、
前記接続部の一部は、隣り合う前記配線基板が並ぶ方向で近接する一方の前記配線基板の接続電極および他方の前記配線基板の接続電極それぞれの前記法線方向での表面から、前記法線方向に直交する方向における一方の前記配線基板の接続電極と他方の前記配線基板の接続電極と、の間に進入している、複合基板。
a plurality of wiring boards arranged in a sheet;
a plurality of connecting portions provided to straddle between the adjacent wiring substrates in order to electrically connect the adjacent wiring substrates among the plurality of wiring substrates;
The wiring board has a plurality of connection electrodes arranged on the inner surface of the outer edge along at least a part of the outer edge of the wiring board when viewed in the direction normal to the main surface of the wiring board ,
a connection electrode of one of the adjacent wiring boards is close to a corresponding connection electrode of the other wiring board in a direction in which the adjacent wiring boards are arranged;
Each of the connection portions has elasticity, and connects the connection electrode of one of the wiring substrates and the connection electrode of the other wiring substrate, which are adjacent in the direction in which the adjacent wiring substrates are arranged, in series ,
A part of the connection portion extends from the surface in the normal direction of each of the connection electrode of one of the wiring substrates and the connection electrode of the other wiring substrate that are adjacent in the direction in which the adjacent wiring substrates are arranged. A composite substrate that is inserted between a connection electrode of one of the wiring substrates and a connection electrode of the other wiring substrate in a direction perpendicular to the direction.
前記接続部は、前記複数の接続電極が並ぶ方向及び隣り合う前記配線基板が並ぶ方向の両方に直交する方向で見た際に、線状である、請求項1に記載の複合基板。 2. The composite substrate according to claim 1, wherein said connection portion has a linear shape when viewed in a direction orthogonal to both the direction in which said plurality of connection electrodes are arranged and the direction in which said adjacent wiring substrates are arranged. 前記接続部は、伸縮性を有するバインダと、前記バインダに含有された複数の導電性粒子とを含む、請求項1又は2に記載の複合基板。 3. The composite substrate according to claim 1, wherein said connecting portion includes a stretchable binder and a plurality of conductive particles contained in said binder. 前記接続部の前記一部は、隣り合う前記配線基板の間の空間にさらに進入している、請求項に記載の複合基板。 2. The composite substrate according to claim 1 , wherein said part of said connecting portion further enters a space between said adjacent wiring substrates. 前記接続部の前記一部は、隣り合う前記配線基板の間の空間を埋めるように隣り合う前記配線基板を結合する、請求項1又は4に記載の複合基板。5. The composite substrate according to claim 1, wherein said part of said connecting portion joins said adjacent wiring substrates so as to fill a space between said adjacent wiring substrates. シート状に配列される複数の配線基板と、
前記複数の配線基板のうちの隣り合う前記配線基板を電気的に接続するべく、隣り合う前記配線基板の間に跨がるように設けられる複数の接続部と、を備え、
前記配線基板は、外縁の少なくとも一部に沿って表面上に並ぶ複数の接続電極を有し、
隣り合う前記配線基板のうちの一方の前記配線基板の接続電極は、隣り合う前記配線基板が並ぶ方向で、他方の前記配線基板の対応する接続電極に近接し、
前記接続部はそれぞれ伸縮性を有し、隣り合う前記配線基板が並ぶ方向で近接する一方の前記配線基板の接続電極と、他方の前記配線基板の接続電極とを、一連に接続しており、
前記接続部の表面は凹み部を有し、
前記凹み部は、隣り合う前記配線基板が並ぶ方向で近接する一方の前記配線基板の接続電極と、他方の前記配線基板の接続電極と、の間に向けて凹んでいる、複合基板。
a plurality of wiring boards arranged in a sheet;
a plurality of connecting portions provided to straddle between the adjacent wiring substrates in order to electrically connect the adjacent wiring substrates among the plurality of wiring substrates;
The wiring board has a plurality of connection electrodes arranged on the surface along at least part of the outer edge,
a connection electrode of one of the adjacent wiring boards is close to a corresponding connection electrode of the other wiring board in a direction in which the adjacent wiring boards are arranged;
Each of the connection portions has elasticity, and connects the connection electrode of one of the wiring substrates and the connection electrode of the other wiring substrate, which are adjacent in the direction in which the adjacent wiring substrates are arranged, in series,
The surface of the connecting portion has a recessed portion,
The composite substrate, wherein the recessed portion is recessed between the connection electrode of one of the wiring substrates and the connection electrode of the other wiring substrate that are adjacent in the direction in which the adjacent wiring substrates are arranged.
シート状に配列される複数の配線基板と、
前記複数の配線基板のうちの隣り合う前記配線基板を電気的に接続するべく、隣り合う前記配線基板の間に跨がるように設けられる複数の接続部と、を備え、
前記配線基板は、外縁の少なくとも一部に沿って表面上に並ぶ複数の接続電極を有し、
隣り合う前記配線基板のうちの一方の前記配線基板の接続電極は、隣り合う前記配線基板が並ぶ方向で、他方の前記配線基板の対応する接続電極に近接し、
前記接続部はそれぞれ伸縮性を有し、隣り合う前記配線基板が並ぶ方向で近接する一方の前記配線基板の接続電極と、他方の前記配線基板の接続電極とを、一連に接続しており、
隣り合う前記配線基板は、互いに接触しており、
前記接続部の表面は、平坦である、複合基板。
a plurality of wiring boards arranged in a sheet;
a plurality of connecting portions provided to straddle between the adjacent wiring substrates in order to electrically connect the adjacent wiring substrates among the plurality of wiring substrates;
The wiring board has a plurality of connection electrodes arranged on the surface along at least part of the outer edge,
a connection electrode of one of the adjacent wiring boards is close to a corresponding connection electrode of the other wiring board in a direction in which the adjacent wiring boards are arranged;
Each of the connection portions has elasticity, and connects the connection electrode of one of the wiring substrates and the connection electrode of the other wiring substrate, which are adjacent in the direction in which the adjacent wiring substrates are arranged, in series,
The adjacent wiring boards are in contact with each other,
The composite substrate, wherein the surface of the connecting portion is flat.
シート状に配列される複数の配線基板と、
前記複数の配線基板のうちの隣り合う前記配線基板を電気的に接続するべく、隣り合う前記配線基板の間に跨がるように設けられる複数の接続部と、を備え、
前記配線基板は、外縁の少なくとも一部に沿って表面上に並ぶ複数の接続電極を有し、
隣り合う前記配線基板のうちの一方の前記配線基板の接続電極は、隣り合う前記配線基板が並ぶ方向で、他方の前記配線基板の対応する接続電極に近接し、
前記接続部はそれぞれ伸縮性を有し、隣り合う前記配線基板が並ぶ方向で近接する一方の前記配線基板の接続電極と、他方の前記配線基板の接続電極とを、一連に接続しており、
隣り合う前記接続部の間に、スペーサ絶縁部が設けられ、
前記スペーサ絶縁部は、隣り合う前記配線基板の間の空間に少なくとも位置し、
複数の前記スペーサ絶縁部が、隣り合う前記配線基板の間の空間に沿って間欠的に設けられている、複合基板。
a plurality of wiring boards arranged in a sheet;
a plurality of connecting portions provided to straddle between the adjacent wiring substrates in order to electrically connect the adjacent wiring substrates among the plurality of wiring substrates;
The wiring board has a plurality of connection electrodes arranged on the surface along at least part of the outer edge,
a connection electrode of one of the adjacent wiring boards is close to a corresponding connection electrode of the other wiring board in a direction in which the adjacent wiring boards are arranged;
Each of the connection portions has elasticity, and connects the connection electrode of one of the wiring substrates and the connection electrode of the other wiring substrate, which are adjacent in the direction in which the adjacent wiring substrates are arranged, in series,
A spacer insulating portion is provided between the adjacent connection portions,
the spacer insulating portion is positioned at least in a space between the adjacent wiring substrates,
A composite substrate, wherein a plurality of said spacer insulating parts are provided intermittently along a space between said adjacent wiring substrates .
隣り合う前記配線基板の間の空間に、前記接続部が並ぶ方向に延びる充填用絶縁部が充填されている、請求項1乃至3のいずれかに記載の複合基板。 4. The composite substrate according to claim 1, wherein a space between said adjacent wiring substrates is filled with a filling insulating portion extending in a direction in which said connection portions are arranged. 複数の前記接続部が並ぶ方向に沿って延び、複数の前記接続部を被覆する被覆絶縁部が設けられている、請求項1乃至9のいずれかに記載の複合基板。 10. The composite substrate according to any one of claims 1 to 9, further comprising a covering insulating portion extending along the direction in which the plurality of connection portions are arranged and covering the plurality of connection portions. シート状に配列された前記複数の配線基板を支持する支持基板をさらに備える、請求項1乃至10のいずれかに記載の複合基板。 11. The composite substrate according to any one of claims 1 to 10, further comprising a support substrate that supports said plurality of wiring substrates arranged in a sheet. 配線基板であって、前記配線基板の主面に対する法線方向で見た際に、前記配線基板の外縁の少なくとも一部に沿って前記外縁の内側の表面上に並ぶ複数の接続電極を有する配線基板を複数準備する工程と、
前記複数の配線基板をシート状に配列し、隣り合う前記配線基板が並ぶ方向で、隣り合う前記配線基板のうちの一方の前記配線基板の接続電極を、他方の前記配線基板の対応する接続電極に近接させる工程と、
隣り合う前記配線基板が並ぶ方向で近接する一方の前記配線基板の接続電極と、他方の前記配線基板の接続電極と、に跨がるように、導電性ペースト材を塗布する工程と、
前記導電性ペースト材を硬化させることにより、接続部を形成する工程と、を備え、
前記導電性ペースト材として、少なくとも硬化後に伸縮性を発現する材料を用い、
前記接続部は、隣り合う前記配線基板が並ぶ方向で近接する一方の前記配線基板の接続電極と、他方の前記配線基板の接続電極とを一連に接続するように、且つ、前記接続部の一部が、一方の前記配線基板の接続電極および他方の前記配線基板の接続電極それぞれの前記法線方向での表面から、前記法線方向に直交する方向における一方の前記配線基板の接続電極と他方の前記配線基板の接続電極と、の間に進入するように形成される、複合基板の製造方法。
A wiring board having a plurality of connection electrodes arranged on an inner surface of the outer edge along at least a part of the outer edge of the wiring board when viewed in a direction normal to the main surface of the wiring board. a step of preparing a plurality of substrates;
The plurality of wiring boards are arranged in a sheet form, and in the direction in which the adjacent wiring boards are arranged, the connection electrodes of one of the adjacent wiring boards are connected to the corresponding connection electrodes of the other wiring board. and
a step of applying a conductive paste material so as to straddle a connection electrode of one of the wiring substrates and a connection electrode of the other wiring substrate that are adjacent in the direction in which the adjacent wiring substrates are arranged;
forming a connecting portion by curing the conductive paste material;
As the conductive paste material, using a material that exhibits stretchability at least after curing,
The connection portion connects in series the connection electrode of one of the wiring substrates adjacent in the direction in which the adjacent wiring substrates are arranged, and the connection electrode of the other wiring substrate. from the surfaces of the connection electrodes of one of the wiring boards and the connection electrodes of the other wiring board in the normal direction, the connection electrodes of the one wiring board and the connection electrodes of the other wiring board in the direction orthogonal to the normal direction. and the connection electrodes of the wiring substrate of the above .
前記導電性ペースト材は、ディスペンサにより塗布される、請求項12に記載の複合基板の製造方法。 13. The method of manufacturing a composite substrate according to claim 12, wherein said conductive paste material is applied by a dispenser. 前記導電性ペースト材は、線状に塗布される、請求項12又は13に記載の複合基板の製造方法。 14. The method of manufacturing a composite substrate according to claim 12, wherein said conductive paste material is applied linearly. 前記接続部は、伸縮性を有するバインダと、前記バインダに含有された複数の導電性粒子とを含む、請求項12乃至14のいずれかに記載の複合基板の製造方法。 15. The method of manufacturing a composite substrate according to claim 12, wherein said connecting portion includes a stretchable binder and a plurality of conductive particles contained in said binder. 前記接続部の一部が、隣り合う前記配線基板が並ぶ方向で近接する一方の前記配線基板の接続電極と、他方の前記配線基板の接続電極との間に進入するように、前記導電性ペースト材を塗布する、請求項12乃至15のいずれかに記載の複合基板の製造方法。 The conductive paste is arranged such that a part of the connection portion enters between the connection electrode of one of the wiring substrates and the connection electrode of the other wiring substrate that are adjacent in the direction in which the adjacent wiring substrates are arranged. 16. The method for manufacturing a composite substrate according to any one of claims 12 to 15, wherein the material is applied. 前記接続部の前記一部が、隣り合う前記配線基板の間の空間にさらに進入するように、前記導電性ペースト材を塗布する、請求項16に記載の複合基板の製造方法。 17. The method of manufacturing a composite substrate according to claim 16, wherein said conductive paste material is applied such that said part of said connecting portion further enters a space between said adjacent wiring substrates. 外縁の少なくとも一部に沿って表面上に並ぶ複数の接続電極を有する配線基板を複数準備する工程と、
前記複数の配線基板をシート状に配列し、隣り合う前記配線基板が並ぶ方向で、隣り合う前記配線基板のうちの一方の前記配線基板の接続電極を、他方の前記配線基板の対応する接続電極に近接させる工程と、
隣り合う前記配線基板が並ぶ方向で近接する一方の前記配線基板の接続電極と、他方の前記配線基板の接続電極と、に跨がるように、導電性ペースト材を塗布する工程と、
前記導電性ペースト材を硬化させることにより、接続部を形成する工程と、を備え、
前記導電性ペースト材として、少なくとも硬化後に伸縮性を発現する材料を用い、
隣り合う前記配線基板が並ぶ方向で近接する一方の前記配線基板の接続電極と、他方の前記配線基板の接続電極との間に向けた凹み部が前記接続部の表面に形成されるように、前記導電性ペースト材を塗布し且つ硬化し、
前記接続部は、隣り合う前記配線基板が並ぶ方向で近接する一方の前記配線基板の接続電極と、他方の前記配線基板の接続電極とを一連に接続するように形成される、
複合基板の製造方法。
preparing a plurality of wiring substrates having a plurality of connection electrodes arranged on the surface along at least a portion of the outer edge;
The plurality of wiring boards are arranged in a sheet form, and in the direction in which the adjacent wiring boards are arranged, the connection electrodes of one of the adjacent wiring boards are connected to the corresponding connection electrodes of the other wiring board. and
a step of applying a conductive paste material so as to straddle a connection electrode of one of the wiring substrates and a connection electrode of the other wiring substrate that are adjacent in the direction in which the adjacent wiring substrates are arranged;
forming a connecting portion by curing the conductive paste material;
As the conductive paste material, using a material that exhibits stretchability at least after curing,
so that a concave portion directed between the connection electrode of one of the wiring substrates and the connection electrode of the other wiring substrate, which are adjacent in the direction in which the adjacent wiring substrates are arranged, is formed on the surface of the connection portion; applying and curing the conductive paste material ;
The connection portion is formed so as to connect the connection electrode of one of the wiring substrates and the connection electrode of the other wiring substrate, which are adjacent in the direction in which the adjacent wiring substrates are arranged, in series.
A method for manufacturing a composite substrate.
外縁の少なくとも一部に沿って表面上に並ぶ複数の接続電極を有する配線基板を複数準備する工程と、
前記複数の配線基板をシート状に配列し、隣り合う前記配線基板が並ぶ方向で、隣り合う前記配線基板のうちの一方の前記配線基板の接続電極を、他方の前記配線基板の対応する接続電極に近接させる工程と、
隣り合う前記配線基板が並ぶ方向で近接する一方の前記配線基板の接続電極と、他方の前記配線基板の接続電極と、に跨がるように、導電性ペースト材を塗布する工程と、
前記導電性ペースト材を硬化させることにより、接続部を形成する工程と、を備え、
前記導電性ペースト材として、少なくとも硬化後に伸縮性を発現する材料を用い、
隣り合う前記配線基板が、互いに接触するように配置され、
前記接続部の表面が平坦となるように、前記導電性ペースト材を塗布し且つ硬化し、
前記接続部は、隣り合う前記配線基板が並ぶ方向で近接する一方の前記配線基板の接続電極と、他方の前記配線基板の接続電極とを一連に接続するように形成される、複合基板の製造方法。
preparing a plurality of wiring substrates having a plurality of connection electrodes arranged on the surface along at least a portion of the outer edge;
The plurality of wiring boards are arranged in a sheet form, and in the direction in which the adjacent wiring boards are arranged, the connection electrodes of one of the adjacent wiring boards are connected to the corresponding connection electrodes of the other wiring board. and
a step of applying a conductive paste material so as to straddle a connection electrode of one of the wiring substrates and a connection electrode of the other wiring substrate that are adjacent in the direction in which the adjacent wiring substrates are arranged;
forming a connecting portion by curing the conductive paste material;
As the conductive paste material, using a material that exhibits stretchability at least after curing,
the adjacent wiring substrates are arranged so as to be in contact with each other;
applying and curing the conductive paste material so that the surface of the connecting portion is flat ;
Manufacture of a composite substrate, wherein the connection part is formed so as to connect the connection electrode of one of the wiring substrates and the connection electrode of the other wiring substrate, which are adjacent in the direction in which the adjacent wiring substrates are arranged, in series. Method.
外縁の少なくとも一部に沿って表面上に並ぶ複数の接続電極を有する配線基板を複数準備する工程と、
前記複数の配線基板をシート状に配列し、隣り合う前記配線基板が並ぶ方向で、隣り合う前記配線基板のうちの一方の前記配線基板の接続電極を、他方の前記配線基板の対応する接続電極に近接させる工程と、
隣り合う前記配線基板が並ぶ方向で近接する一方の前記配線基板の接続電極と、他方の前記配線基板の接続電極と、に跨がるように、導電性ペースト材を塗布する工程と、
前記導電性ペースト材を硬化させることにより、接続部を形成する工程と、を備え複合基板の製造方法であって、
前記導電性ペースト材として、少なくとも硬化後に伸縮性を発現する材料を用い、
前記接続部は、隣り合う前記配線基板が並ぶ方向で近接する一方の前記配線基板の接続電極と、他方の前記配線基板の接続電極とを一連に接続するように形成され、
前記複合基板の製造方法は、少なくとも、隣り合う前記配線基板の間の空間における、隣り合う前記配線基板が並ぶ方向で両側に前記接続電極が位置しない部分に、スペーサ絶縁部を設ける工程をさらに備え、
前記導電性ペースト材は、前記スペーサ絶縁部と重ならない位置に間欠的に塗布される、複合基板の製造方法。
preparing a plurality of wiring substrates having a plurality of connection electrodes arranged on the surface along at least a portion of the outer edge;
The plurality of wiring boards are arranged in a sheet form, and in the direction in which the adjacent wiring boards are arranged, the connection electrodes of one of the adjacent wiring boards are connected to the corresponding connection electrodes of the other wiring board. and
a step of applying a conductive paste material so as to straddle a connection electrode of one of the wiring substrates and a connection electrode of the other wiring substrate that are adjacent in the direction in which the adjacent wiring substrates are arranged;
A method for manufacturing a composite substrate, comprising a step of forming a connection portion by curing the conductive paste material,
As the conductive paste material, using a material that exhibits stretchability at least after curing,
the connection portion is formed so as to connect in series a connection electrode of one of the wiring substrates adjacent in a direction in which the adjacent wiring substrates are arranged and a connection electrode of the other wiring substrate;
The method for manufacturing the composite substrate further comprises the step of providing spacer insulating portions in at least portions of the space between the adjacent wiring substrates where the connection electrodes are not positioned on both sides in the direction in which the adjacent wiring substrates are arranged. ,
The method of manufacturing a composite substrate, wherein the conductive paste material is intermittently applied to a position that does not overlap the insulating spacer portion.
隣り合う前記配線基板の間の空間に、充填用絶縁部を充填する工程をさらに備え、
前記導電性ペースト材は、前記充填用絶縁部上に塗布される、請求項12乃至15のいずれかに記載の複合基板の製造方法。
further comprising filling a space between the adjacent wiring substrates with a filling insulating portion;
16. The method of manufacturing a composite substrate according to any one of claims 12 to 15, wherein said conductive paste material is applied onto said filling insulating portion.
複数の前記接続部が並ぶ方向に沿って延び、複数の前記接続部を被覆する被覆絶縁部を設ける工程をさらに備える、請求項12乃至21のいずれかに記載の複合基板の製造方法。 22. The method of manufacturing a composite substrate according to claim 12, further comprising the step of providing a covering insulating portion that extends along the direction in which the plurality of connection portions are arranged and covers the plurality of connection portions. 前記複数の配線基板は、支持基板上でシート状に配列される、請求項12乃至22のいずれかに記載の複合基板の製造方法。 23. The method of manufacturing a composite substrate according to claim 12, wherein said plurality of wiring substrates are arranged in a sheet on a support substrate.
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Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014107484A (en) 2012-11-29 2014-06-09 Jsr Corp Connection method and conductive ink
JP2016017753A (en) 2014-07-04 2016-02-01 大日本印刷株式会社 Pressure sensor device
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Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06325840A (en) * 1993-05-18 1994-11-25 Hitachi Ltd Connector, wiring board module with this connector incorporated, and packaging module

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014107484A (en) 2012-11-29 2014-06-09 Jsr Corp Connection method and conductive ink
JP2016017753A (en) 2014-07-04 2016-02-01 大日本印刷株式会社 Pressure sensor device
JP2018532250A (en) 2015-06-30 2018-11-01 アップル インコーポレイテッドApple Inc. Electronic devices with flexible input / output components

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