JP7329350B2 - Curable epoxy resin composition - Google Patents

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Description

本発明は、硬化性エポキシ樹脂組成物に関する。 The present invention relates to curable epoxy resin compositions.

近年、光半導体装置の高出力化が進んでおり、光半導体装置に用いられる樹脂としては、良好な光学特性(例えば、透明性、光反射性)や耐水性、耐熱性を与える硬化物を形成可能な樹脂が求められている。 In recent years, the output of optical semiconductor devices has been increasing, and the resin used in optical semiconductor devices forms a cured product that provides good optical properties (e.g., transparency, light reflectivity), water resistance, and heat resistance. A resin capable of

光半導体装置においては、光半導体素子の保護等を目的として、これを被覆する封止材として上記の樹脂の硬化物が用いられることがある。この様な封止材では、光半導体素子から発せられる熱等によって封止材の着色が進行することで、本来出力されるべき光が吸収されてしまい、その結果、光半導体装置から出力される光の光度が経時で低下するといった問題が生じていた。このため、より耐熱性が高い封止材が求められている。 In an optical semiconductor device, a cured product of the above resin is sometimes used as a sealing material for covering the optical semiconductor element for the purpose of protecting the optical semiconductor element. In such a sealing material, the coloration of the sealing material progresses due to the heat emitted from the optical semiconductor element, and the light that should be originally output is absorbed, and as a result, it is output from the optical semiconductor device. There is a problem that the luminous intensity of the light decreases over time. Therefore, there is a demand for a sealing material with higher heat resistance.

これまでに、耐熱性が高い封止材を形成するための封止剤として、脂環式エポキシ化合物と、硬化剤としてのノルボルナン-2,3-ジカルボン酸無水物とを含む硬化性エポキシ樹脂組成物が提案されている(特許文献1)。しかし、当該硬化性エポキシ樹脂組成物の硬化物は、柔軟性が劣り、耐衝撃性に不安があるという問題が生じていた。 A curable epoxy resin composition containing an alicyclic epoxy compound and norbornane-2,3-dicarboxylic anhydride as a curing agent has been proposed as a sealing agent for forming a sealing material with high heat resistance. has been proposed (Patent Document 1). However, the cured product of the curable epoxy resin composition has a problem of poor flexibility and poor impact resistance.

また、エポキシ樹脂と、硬化剤としての酸無水物と、チオールとを含む樹脂組成物についても提案されている(特許文献2)。しかしながら、このような樹脂組成物では、充分な柔軟性を得ることができなかった。なお、本技術では、組成物を調製した後、熱硬化によりエポキシ樹脂を得ており、あらかじめ硬化剤である酸無水物とチオールとを反応させているものではない。 A resin composition containing an epoxy resin, an acid anhydride as a curing agent, and a thiol has also been proposed (Patent Document 2). However, with such a resin composition, sufficient flexibility could not be obtained. In the present technology, the epoxy resin is obtained by heat curing after the composition is prepared, and the acid anhydride and thiol, which are curing agents, are not reacted in advance.

また、硬化性エポキシ樹脂組成物は、封止剤の他にも種々の用途において使用されているが、柔軟性を有し、高温高湿下における耐久性を有するものは知られておらず、よって、これらの性能が改善されれば、多くの用途における適用が期待される。 In addition, curable epoxy resin compositions are used in various applications other than sealants, but none are known to have flexibility and durability under high temperature and high humidity. Therefore, if these performances are improved, application in many uses is expected.

特開2016-160352号公報JP 2016-160352 A 特許第5224734号公報Japanese Patent No. 5224734

したがって、本発明の目的は、高い耐熱性、耐水性、及び柔軟性を備える硬化物を形成可能な硬化性エポキシ樹脂組成物を提供することである。 SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, an object of the present invention is to provide a curable epoxy resin composition capable of forming a cured product having high heat resistance, water resistance and flexibility.

本発明者は、上記課題を解決するため鋭意検討した結果、脂環式エポキシ化合物と、特定の硬化剤と、硬化促進剤を含む硬化性エポキシ樹脂組成物により、高い耐熱性、耐水性、及び柔軟性を備える硬化物を形成することが可能であることを見出し、本発明を完成させた。 As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have found that a curable epoxy resin composition containing an alicyclic epoxy compound, a specific curing agent, and a curing accelerator provides high heat resistance, water resistance, and The inventors have found that it is possible to form a cured product having flexibility, and completed the present invention.

すなわち、本発明では、脂環式エポキシ化合物(A)と、硬化剤(B)と、硬化促進剤(C)を含む硬化性エポキシ樹脂組成物であって、
硬化剤(B)が、下記式(B1)

Figure 0007329350000001

[式中、Rxは、同一又は異なって、水素原子、下記式(b1)
Figure 0007329350000002

(R1~R6は、同一又は異なって、水素原子又は直鎖若しくは分岐状の炭素数1~4のアルキル基を示す。波線は結合部位を表す。)
で表される構造を有する基、又は下記式(b2)
Figure 0007329350000003

(R7~R10は、同一又は異なって、水素原子又は直鎖若しくは分岐状の炭素数1~4のアルキル基を示す。波線は結合部位を表す。)
で表される構造を有する基を示し、その1つ以上が式(b1)又は(b2)で表される構造を有する基である。Aは、置換基を有していてもよく、主鎖中及び/又は側鎖中にヘテロ原子を含む官能基を有していてもよい、炭素数2~50の、a価の直鎖又は分岐状炭化水素基である。aは2~6の整数を示す。]
で表される酸無水物及び下記式(B2)
Figure 0007329350000004

[式中、Rxは、同一又は異なって、水素原子、下記式(b1)
Figure 0007329350000005

(R1~R6は、同一又は異なって、水素原子又は直鎖若しくは分岐状の炭素数1~4のアルキル基を示す。波線は結合部位を表す。)
で表される構造を有する基、又は下記式(b2)
Figure 0007329350000006

(R7~R10は、同一又は異なって、水素原子又は直鎖若しくは分岐状の炭素数1~4のアルキル基を示す。波線は結合部位を表す。)
で表される構造を有する基を示し、その1つ以上が式(b1)又は(b2)で表される構造を有する基である。Rsは、同一又は異なって、水素原子又はメチル基である。Rは、ヘテロ原子を含む官能基を有してもよい、炭素数2~28の、直鎖、分岐状、又は環状の構造を有する(b+c)価の基である。R’は、同一又は異なって、水素原子、炭素数が1~8のアルキル基、チオール基、又は下記式(b3)
Figure 0007329350000007

(式中、R11及びR12は、異なって、R11はチオール基又はメチル基を示し、R12は水素原子又はチオール基を示す。波線は結合部位を表す。)
で表される基を示す。bとcは、b+c=2~6であって、bは0を含む整数であり、cは1~6の整数を示す。]
で表される酸無水物からなる群より選択される少なくとも1つであることを特徴とする硬化性エポキシ樹脂組成物を提供する。 That is, in the present invention, a curable epoxy resin composition containing an alicyclic epoxy compound (A), a curing agent (B), and a curing accelerator (C),
Curing agent (B) is represented by the following formula (B1)
Figure 0007329350000001

[Wherein, Rx is the same or different, a hydrogen atom, the following formula (b1)
Figure 0007329350000002

(R 1 to R 6 are the same or different and represent a hydrogen atom or a linear or branched alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. A wavy line represents a bonding site.)
A group having a structure represented by the following formula (b2)
Figure 0007329350000003

(R 7 to R 10 are the same or different and represent a hydrogen atom or a linear or branched alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. Wavy lines represent bonding sites.)
is a group having a structure represented by formula (b1) or (b2). A may have a substituent, may have a functional group containing a heteroatom in the main chain and / or side chain, having 2 to 50 carbon atoms, a-valent straight chain or It is a branched hydrocarbon group. a represents an integer of 2 to 6; ]
and an acid anhydride represented by the following formula (B2)
Figure 0007329350000004

[Wherein, Rx is the same or different, a hydrogen atom, the following formula (b1)
Figure 0007329350000005

(R 1 to R 6 are the same or different and represent a hydrogen atom or a linear or branched alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. A wavy line represents a bonding site.)
A group having a structure represented by the following formula (b2)
Figure 0007329350000006

(R 7 to R 10 are the same or different and represent a hydrogen atom or a linear or branched alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. Wavy lines represent bonding sites.)
is a group having a structure represented by formula (b1) or (b2). Rs are the same or different and are a hydrogen atom or a methyl group. R is a (b+c)-valent group having a linear, branched or cyclic structure and having 2 to 28 carbon atoms, which may have a functional group containing a heteroatom. R' is the same or different and is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, a thiol group, or the following formula (b3)
Figure 0007329350000007

(In the formula, R 11 and R 12 are different, R 11 represents a thiol group or a methyl group, R 12 represents a hydrogen atom or a thiol group, and the wavy line represents a binding site.)
represents a group represented by b and c are such that b+c=2-6, b is an integer including 0, and c is an integer of 1-6. ]
To provide a curable epoxy resin composition characterized by being at least one selected from the group consisting of acid anhydrides represented by

前記式(B2)で表される酸無水物におけるRは、下記式(b4)~(b8)

Figure 0007329350000008

Figure 0007329350000009

Figure 0007329350000010
Figure 0007329350000011

Figure 0007329350000012

(式中、nは1~10の整数を示す。波線は結合部位を示す。)
で表される基のいずれか1つであることが好ましい。 R in the acid anhydride represented by the formula (B2) is represented by the following formulas (b4) to (b8)
Figure 0007329350000008

Figure 0007329350000009

Figure 0007329350000010
Figure 0007329350000011

Figure 0007329350000012

(In the formula, n represents an integer of 1 to 10. A wavy line represents a binding site.)
Any one of the groups represented by is preferable.

前記脂環式エポキシ化合物(A)の脂環エポキシ基は、シクロヘキセンオキシド基であることが好ましい。 The alicyclic epoxy group of the alicyclic epoxy compound (A) is preferably a cyclohexene oxide group.

前記脂環式エポキシ化合物(A)は、下記式(I-1)

Figure 0007329350000013

で表される化合物であることが好ましい。 The alicyclic epoxy compound (A) has the following formula (I-1)
Figure 0007329350000013

It is preferably a compound represented by.

また、本発明では、前記硬化性エポキシ樹脂組成物の硬化物を提供する。 Moreover, in this invention, the hardened|cured material of the said curable epoxy resin composition is provided.

また、本発明では、前記硬化性エポキシ樹脂組成物を含む封止剤を提供する。 The present invention also provides a sealant containing the curable epoxy resin composition.

また、本発明では、前記硬化性エポキシ樹脂組成物を含む接着剤を提供する。 The present invention also provides an adhesive containing the curable epoxy resin composition.

また、本発明では、前記硬化性エポキシ樹脂組成物を含むコーティング剤を提供する。 In addition, the present invention provides a coating agent containing the curable epoxy resin composition.

また、本発明では、前記硬化物を含む光学部材を提供する。 Moreover, in this invention, the optical member containing the said hardened|cured material is provided.

本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物は上記構成を有するため、硬化させることにより、高い耐熱性、耐水性、及び柔軟性を備える硬化物を得ることができる。したがって、当該樹脂組成物は、封止剤、接着剤、コーティング剤として使用することができる。また、その硬化物は光学部材として使用することができる。 Since the curable epoxy resin composition of the present invention has the above constitution, a cured product having high heat resistance, water resistance and flexibility can be obtained by curing. Therefore, the resin composition can be used as a sealing agent, an adhesive and a coating agent. Moreover, the cured product can be used as an optical member.

参考例1で得られた生成物の1H-NMRチャートである。1 is a 1 H-NMR chart of the product obtained in Reference Example 1. FIG. 実施例の評価で作製した、樹脂組成物の硬化物により光半導体素子が封止された光半導体装置である。左側の図(a)は斜視図であり、右側の図(b)は断面図である。An optical semiconductor device in which an optical semiconductor element is encapsulated with a cured product of a resin composition produced in the evaluation of Examples. The left figure (a) is a perspective view, and the right figure (b) is a sectional view.

<硬化性エポキシ樹脂組成物>
本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物は、脂環式エポキシ化合物(A)と、硬化剤(B)と、硬化促進剤(C)を含み、硬化剤(B)が前記式(B1)で表される酸無水物及び前記式(B2)で表される酸無水物からなる群より選択される少なくとも1つであることを特徴とする。
<Curable epoxy resin composition>
The curable epoxy resin composition of the present invention comprises an alicyclic epoxy compound (A), a curing agent (B), and a curing accelerator (C), wherein the curing agent (B) is represented by the formula (B1). and at least one selected from the group consisting of the acid anhydride represented by the formula (B2).

[脂環式エポキシ化合物(A)]
本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物の必須成分である脂環式エポキシ化合物(脂環式エポキシ樹脂)(A)は、分子内(一分子中)に脂環(脂肪族炭化水素環)構造とエポキシ基(オキシラニル基)とを少なくとも有する化合物であり、公知乃至慣用の脂環式エポキシ化合物を使用することができる。脂環式エポキシ化合物(A)としては、より具体的には、例えば、脂環を構成する隣接する2つの炭素原子と酸素原子とで構成されるエポキシ基(脂環エポキシ基)を有する化合物(「化合物(A-1)」と称する場合がある)、脂環に直接単結合で結合しているエポキシ基を有する化合物(「化合物(A-2)」と称する場合がある)が挙げられる。
[Alicyclic epoxy compound (A)]
The alicyclic epoxy compound (alicyclic epoxy resin) (A), which is an essential component of the curable epoxy resin composition of the present invention, has an alicyclic (aliphatic hydrocarbon ring) structure in the molecule (in one molecule). It is a compound having at least an epoxy group (oxiranyl group), and known or commonly used alicyclic epoxy compounds can be used. As the alicyclic epoxy compound (A), more specifically, for example, a compound having an epoxy group (alicyclic epoxy group) composed of two adjacent carbon atoms and an oxygen atom constituting an alicyclic ring ( (sometimes referred to as "compound (A-1)"), and compounds having an epoxy group directly bonded to an alicyclic ring with a single bond (sometimes referred to as "compound (A-2)").

前記の化合物(A-1)としては、分子内に脂環エポキシ基を1つ以上有する公知乃至慣用の化合物を使用することができ、特に限定されない。上記脂環エポキシ基としては、硬化物の耐熱性の観点から、シクロヘキセンオキシド基が好ましい。特に、化合物(A-1)としては、硬化物の耐熱性の観点から、分子内に2つ以上のシクロヘキセンオキシド基を有する化合物が好ましく、より好ましくは下記式(I)で表される化合物である。

Figure 0007329350000014
As the compound (A-1), known or commonly used compounds having one or more alicyclic epoxy groups in the molecule can be used without particular limitation. As the alicyclic epoxy group, a cyclohexene oxide group is preferable from the viewpoint of the heat resistance of the cured product. In particular, from the viewpoint of heat resistance of the cured product, the compound (A-1) is preferably a compound having two or more cyclohexene oxide groups in the molecule, more preferably a compound represented by the following formula (I). be.
Figure 0007329350000014

式(I)中、Xは単結合又は連結基(1以上の原子を有する二価の基)を示す。上記連結基としては、例えば、二価の炭化水素基、炭素-炭素二重結合の一部又は全部がエポキシ化されたアルケニレン基(「エポキシ化アルケニレン基」と称する場合がある)、カルボニル基、エーテル結合、エステル結合、カーボネート基、アミド基、及びこれらが複数個連結した基等が挙げられる。なお、式(I)におけるシクロヘキサン環(シクロヘキセンオキシド基)を構成する炭素原子の1以上には、アルキル基等の置換基が結合していてもよい。 In formula (I), X represents a single bond or a linking group (a divalent group having one or more atoms). Examples of the linking group include a divalent hydrocarbon group, an alkenylene group in which part or all of the carbon-carbon double bond is epoxidized (sometimes referred to as an "epoxidized alkenylene group"), a carbonyl group, Examples include ether bond, ester bond, carbonate group, amide group, and groups in which a plurality of these are linked. One or more carbon atoms constituting the cyclohexane ring (cyclohexene oxide group) in formula (I) may be bonded with a substituent such as an alkyl group.

式(I)中のXが単結合である化合物としては、(3,4,3',4'-ジエポキシ)ビシクロヘキシル等が挙げられる。 Compounds in which X in formula (I) is a single bond include (3,4,3′,4′-diepoxy)bicyclohexyl and the like.

上記二価の炭化水素基としては、炭素数が1~18の直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基、二価の脂環式炭化水素基等が挙げられる。炭素数が1~18の直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基としては、例えば、メチレン基、メチルメチレン基、ジメチルメチレン基、エチレン基、プロピレン基、トリメチレン基等が挙げられる。上記二価の脂環式炭化水素基としては、例えば、1,2-シクロペンチレン基、1,3-シクロペンチレン基、シクロペンチリデン基、1,2-シクロヘキシレン基、1,3-シクロヘキシレン基、1,4-シクロヘキシレン基、シクロヘキシリデン基等のシクロアルキレン基(シクロアルキリデン基を含む)等が挙げられる。 Examples of the divalent hydrocarbon group include linear or branched alkylene groups having 1 to 18 carbon atoms, divalent alicyclic hydrocarbon groups, and the like. Examples of linear or branched alkylene groups having 1 to 18 carbon atoms include methylene group, methylmethylene group, dimethylmethylene group, ethylene group, propylene group and trimethylene group. Examples of the divalent alicyclic hydrocarbon group include 1,2-cyclopentylene group, 1,3-cyclopentylene group, cyclopentylidene group, 1,2-cyclohexylene group, 1,3- Cycloalkylene groups (including cycloalkylidene groups) such as a cyclohexylene group, a 1,4-cyclohexylene group, and a cyclohexylidene group are included.

上記炭素-炭素二重結合の一部又は全部がエポキシ化されたアルケニレン基(エポキシ化アルケニレン基)におけるアルケニレン基としては、例えば、ビニレン基、プロペニレン基、1-ブテニレン基、2-ブテニレン基、ブタジエニレン基、ペンテニレン基、ヘキセニレン基、ヘプテニレン基、オクテニレン基等の炭素数2~8の直鎖又は分岐鎖状のアルケニレン基等が挙げられる。特に、上記エポキシ化アルケニレン基としては、炭素-炭素二重結合の全部がエポキシ化されたアルケニレン基が好ましく、より好ましくは炭素-炭素二重結合の全部がエポキシ化された炭素数2~4のアルケニレン基である。 Examples of the alkenylene group in the alkenylene group in which part or all of the carbon-carbon double bond is epoxidized (epoxidized alkenylene group) include vinylene group, propenylene group, 1-butenylene group, 2-butenylene group, butadienylene linear or branched alkenylene groups having 2 to 8 carbon atoms, such as groups, pentenylene groups, hexenylene groups, heptenylene groups, and octenylene groups. In particular, the epoxidized alkenylene group is preferably an alkenylene group in which all of the carbon-carbon double bonds are epoxidized, more preferably an alkenylene group having 2 to 4 carbon atoms in which all of the carbon-carbon double bonds are epoxidized. It is an alkenylene group.

上記Xにおける連結基としては、特に、酸素原子を含有する連結基が好ましく、具体的には、-CO-、-O-CO-O-、-COO-、-O-、-CONH-、エポキシ化アルケニレン基;これらの基が複数個連結した基;これらの基の1又は2以上と二価の炭化水素基の1又は2以上とが連結した基等が挙げられる。二価の炭化水素基としては上記で例示したものが挙げられる。 As the linking group for X, a linking group containing an oxygen atom is particularly preferable, and specifically, -CO-, -O-CO-O-, -COO-, -O-, -CONH-, epoxy groups in which a plurality of these groups are linked; groups in which one or more of these groups are linked to one or more of divalent hydrocarbon groups, and the like. Examples of the divalent hydrocarbon group include those exemplified above.

式(I)で表される化合物の代表的な例としては、下記式(I-1)~(I-10)で表される化合物、2,2-ビス(3,4-エポキシシクロヘキサン-1-イル)プロパン、1,2-ビス(3,4-エポキシシクロヘキサン-1-イル)エタン、1,2-エポキシ-1,2-ビス(3,4-エポキシシクロヘキサン-1-イル)エタン、ビス(3,4-エポキシシクロヘキシルメチル)エーテル等が挙げられる。なお、下記式(I-5)、(I-7)中のl'、m'は、それぞれ1~30の整数を表す。下記式(I-5)中のRは炭素数1~8のアルキレン基であり、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、イソプロピレン基、ブチレン基、イソブチレン基、s-ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基、ヘプチレン基、オクチレン基等の直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基が挙げられる。これらの中でも、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、イソプロピレン基等の炭素数1~3の直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基が好ましい。下記式(I-9)、(I-10)中のn1~n6は、それぞれ1~30の整数を示す。

Figure 0007329350000015

Figure 0007329350000016
Representative examples of the compound represented by formula (I) include compounds represented by the following formulas (I-1) to (I-10), 2,2-bis(3,4-epoxycyclohexane-1 -yl)propane, 1,2-bis(3,4-epoxycyclohexan-1-yl)ethane, 1,2-epoxy-1,2-bis(3,4-epoxycyclohexan-1-yl)ethane, bis (3,4-epoxycyclohexylmethyl)ether and the like. l' and m' in the following formulas (I-5) and (I-7) each represent an integer of 1 to 30. R in the following formula (I-5) is an alkylene group having 1 to 8 carbon atoms, and is a methylene group, ethylene group, propylene group, isopropylene group, butylene group, isobutylene group, s-butylene group, pentylene group, hexylene. linear or branched alkylene groups such as radicals, heptylene groups, and octylene groups. Among these, straight-chain or branched-chain alkylene groups having 1 to 3 carbon atoms such as methylene, ethylene, propylene and isopropylene are preferred. n1 to n6 in the following formulas (I-9) and (I-10) each represent an integer of 1 to 30.
Figure 0007329350000015

Figure 0007329350000016

化合物(A-2)としては、例えば、下記式(II)で表される化合物(エポキシ樹脂)が挙げられる。

Figure 0007329350000017
Examples of the compound (A-2) include compounds (epoxy resins) represented by the following formula (II).
Figure 0007329350000017

式(II)中、R1はp価の有機基を示す。pは、1~20の整数を示す。p価の有機基としては、例えば、後述のp個のヒドロキシ基を有する有機化合物の構造式からp個のヒドロキシ基を除いて形成された構造を有するp価の有機基等が挙げられる。 In formula (II), R 1 represents a p-valent organic group. p represents an integer of 1-20. The p-valent organic group includes, for example, a p-valent organic group having a structure formed by removing p hydroxy groups from the structural formula of an organic compound having p hydroxy groups described below.

式(II)中、qは、1~50の整数を示す。なお、pが2以上の整数の場合、複数のqは同一であってもよいし、異なっていてもよい。式(II)におけるqの和(総和)は、3~100の整数である。 In formula (II), q represents an integer of 1-50. When p is an integer of 2 or more, multiple qs may be the same or different. The sum of q in formula (II) is an integer of 3-100.

式(II)中、R2は、式中に示されるシクロヘキサン環上の置換基であり、下記式(IIa)~(IIc)で表される基のいずれかを示す。上記シクロヘキサン環上のR2の結合位置は特に限定されないが、通常、酸素原子と結合するシクロヘキサン環の2つの炭素原子の位置を1位、2位とした場合、4位又は5位の炭素原子である。また、式(II)で表される化合物が複数のシクロヘキサン環を有する場合、それぞれのシクロヘキサン環におけるR2の結合位置は同一であってもよいし、異なっていてもよい。式(II)におけるR2の少なくとも1つは、式(IIa)で表される基(エポキシ基)である。なお、式(II)で表される化合物が2以上のR2を有する場合、複数のR2は同一であってもよいし、異なっていてもよい。

Figure 0007329350000018

Figure 0007329350000019

Figure 0007329350000020
In formula (II), R 2 is a substituent on the cyclohexane ring shown in the formula and represents any of the groups represented by formulas (IIa) to (IIc) below. The bonding position of R 2 on the cyclohexane ring is not particularly limited, but usually, when the positions of the two carbon atoms of the cyclohexane ring bonded to the oxygen atom are the 1st and 2nd positions, the carbon atom at the 4th or 5th position is. Also, when the compound represented by formula (II) has a plurality of cyclohexane rings, the bonding positions of R 2 in each cyclohexane ring may be the same or different. At least one of R 2 in formula (II) is a group (epoxy group) represented by formula (IIa). In addition, when the compound represented by formula (II) has two or more R 2 , the plurality of R 2 may be the same or different.
Figure 0007329350000018

Figure 0007329350000019

Figure 0007329350000020

式(IIc)中、R3は、水素原子、置換若しくは無置換のアルキル基、置換若しくは無置換のアルキルカルボニル基、又は置換若しくは無置換のアリールカルボニル基を示す。上記アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、s-ブチル基、t-ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、2-エチルヘキシル基等の炭素数1~20の直鎖又は分岐鎖状のアルキル基等が挙げられる。上記アルキルカルボニル基としては、例えば、メチルカルボニル基(アセチル基)、エチルカルボニル基、n-プロピルカルボニル基、イソプロピルカルボニル基、n-ブチルカルボニル基、イソブチルカルボニル基、s-ブチルカルボニル基、t-ブチルカルボニル基等の炭素数1~20の直鎖又は分岐鎖状のアルキル-カルボニル基等が挙げられる。上記アリールカルボニル基としては、例えば、フェニルカルボニル基(ベンゾイル基)、1-ナフチルカルボニル基、2-ナフチルカルボニル基等の炭素数6~20のアリール-カルボニル基等が挙げられる。 In formula (IIc), R 3 represents a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted alkylcarbonyl group, or a substituted or unsubstituted arylcarbonyl group. Examples of the alkyl group include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, butyl group, isobutyl group, s-butyl group, t-butyl group, pentyl group, hexyl group, octyl group, and 2-ethylhexyl. straight-chain or branched-chain alkyl groups having 1 to 20 carbon atoms such as groups. Examples of the alkylcarbonyl group include methylcarbonyl group (acetyl group), ethylcarbonyl group, n-propylcarbonyl group, isopropylcarbonyl group, n-butylcarbonyl group, isobutylcarbonyl group, s-butylcarbonyl group, t-butyl A linear or branched alkyl-carbonyl group having 1 to 20 carbon atoms such as a carbonyl group can be mentioned. Examples of the arylcarbonyl group include aryl-carbonyl groups having 6 to 20 carbon atoms such as a phenylcarbonyl group (benzoyl group), 1-naphthylcarbonyl group and 2-naphthylcarbonyl group.

上述のアルキル基、アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基が有していてもよい置換基としては、例えば、炭素数0~20(より好ましくは炭素数0~10)の置換基等が挙げられる。上記置換基としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子;ヒドロキシ基;メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロピルオキシ基、ブトキシ基、イソブチルオキシ基等のアルコキシ基(好ましくはC1-6アルコキシ基、より好ましくはC1-4アルコキシ基);アリルオキシ基等のアルケニルオキシ基(好ましくはC2-6アルケニルオキシ基、より好ましくはC2-4アルケニルオキシ基);アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基、(メタ)アクリロイルオキシ基等のアシルオキシ基(好ましくはC1-12アシルオキシ基);メルカプト基;メチルチオ基、エチルチオ基等のアルキルチオ基(好ましくはC1-6アルキルチオ基、より好ましくはC1-4アルキルチオ基);アリルチオ基等のアルケニルチオ基(好ましくはC2-6アルケニルチオ基、より好ましくはC2-4アルケニルチオ基);カルボキシ基;メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基等のアルコキシカルボニル基(好ましくはC1-6アルコキシ-カルボニル基);アミノ基;メチルアミノ基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基等のモノ又はジアルキルアミノ基(好ましくはモノ又はジ-C1-6アルキルアミノ基);アセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基等のアシルアミノ基(好ましくはC1-11アシルアミノ基);エチルオキセタニルオキシ基等のオキセタニル基含有基;アセチル基、プロピオニル基等のアシル基;オキソ基;これらの2以上が必要に応じてC1-6アルキレン基を介して結合した基等が挙げられる。また、上述のアリールカルボニル基が有していてもよい置換基としては、さらに、上記置換若しくは無置換のアルキル基、上記置換若しくは無置換のアルキルカルボニル基も挙げられる。 Examples of substituents that the above alkyl group, alkylcarbonyl group, and arylcarbonyl group may have include substituents having 0 to 20 carbon atoms (more preferably 0 to 10 carbon atoms). Examples of the substituents include halogen atoms such as fluorine atom, chlorine atom, bromine atom and iodine atom; hydroxy group; alkoxy group such as methoxy group, ethoxy group, propoxy group, isopropyloxy group, butoxy group and isobutyloxy group. (preferably C 1-6 alkoxy group, more preferably C 1-4 alkoxy group); alkenyloxy group such as allyloxy group (preferably C 2-6 alkenyloxy group, more preferably C 2-4 alkenyloxy group) Acyloxy groups (preferably C 1-12 acyloxy groups) such as acetyloxy group, propionyloxy group and (meth)acryloyloxy group; Mercapto group; Alkylthio groups such as methylthio group and ethylthio group (preferably C 1-6 alkylthio group, more preferably C 1-4 alkylthio group); alkenylthio group such as allylthio group (preferably C 2-6 alkenylthio group, more preferably C 2-4 alkenylthio group); carboxy group; methoxycarbonyl group, Alkoxycarbonyl groups (preferably C 1-6 alkoxy-carbonyl groups) such as ethoxycarbonyl group, propoxycarbonyl group and butoxycarbonyl group; amino group; dialkylamino group (preferably mono- or di-C 1-6 alkylamino group); acylamino group (preferably C 1-11 acylamino group) such as acetylamino group and propionylamino group; oxetanyl group-containing group such as ethyloxetanyloxy group groups; acyl groups such as an acetyl group and a propionyl group; oxo groups; Further, examples of the substituent that the above-mentioned arylcarbonyl group may have include the above-mentioned substituted or unsubstituted alkyl group and the above-mentioned substituted or unsubstituted alkylcarbonyl group.

式(II)で表される化合物におけるR2の全量(100モル%)に対する、式(IIa)で表される基(エポキシ基)の割合は、特に限定されないが、40モル%以上(例えば、40~100モル%)が好ましく、より好ましくは60モル%以上、さらに好ましくは80モル%以上である。上記割合が40モル%以上であると、硬化物の耐熱性がより向上する傾向がある。なお、上記割合は、例えば、1H-NMRスペクトル測定や、オキシラン酸素濃度測定等により算出することができる。 The ratio of the group (epoxy group) represented by the formula (IIa) to the total amount (100 mol%) of R 2 in the compound represented by the formula (II) is not particularly limited, but is 40 mol% or more (for example, 40 to 100 mol %), more preferably 60 mol % or more, and still more preferably 80 mol % or more. When the ratio is 40 mol % or more, the heat resistance of the cured product tends to be further improved. The above ratio can be calculated by, for example, 1 H-NMR spectrum measurement, oxirane oxygen concentration measurement, or the like.

式(II)で表される化合物は、特に限定されないが、例えば、分子内にp個のヒドロキシ基を有する有機化合物[R1(OH)p]を開始剤として(すなわち、当該化合物のヒドロキシ基(活性水素)を出発点として)、1,2-エポキシ-4-ビニルシクロヘキサン(3-ビニル-7-オキサビシクロ[4.1.0]ヘプタン)を開環重合(カチオン重合)させ、その後、酸化剤によりエポキシ化することによって製造される。 The compound represented by formula ( II ) is not particularly limited. (active hydrogen) as a starting point), 1,2-epoxy-4-vinylcyclohexane (3-vinyl-7-oxabicyclo[4.1.0]heptane) is subjected to ring-opening polymerization (cationic polymerization), and then It is produced by epoxidation with an oxidizing agent.

上記分子内にp個のヒドロキシ基を有する有機化合物[R1(OH)p]としては、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、ペンタノール、ヘキサノール、オクタノール等の脂肪族アルコール;エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、1,3-ブタンジオール、1,4-ブタンジオール、ペンタンジオール、1,6-ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、ネオペンチルグリコールエステル、シクロヘキサンジメタノール、グリセリン、ジグリセリン、ポリグリセリン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、水添ビスフェノールA、水添ビスフェノールF、水添ビスフェノールS等の多価アルコール;ポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル部分加水分解物、デンプン、アクリルポリオール樹脂、スチレン-アリルアルコール共重合樹脂、ポリエステルポリオール、ポリカプロラクトンポリオール、ポリプロピレンポリオール、ポリテトラメチレングリコール、ポリカーボネートポリオール類、ヒドロキシ基を有するポリブタジエン、セルロース、セルロースアセテート、セルロースアセテートブチレート、ヒドロキシエチルセルロース等のセルロース系ポリマー等のヒドロキシ基を有するオリゴマー又はポリマー等が挙げられる。 Examples of the organic compound [R 1 (OH) p ] having p hydroxy groups in the molecule include aliphatic alcohols such as methanol, ethanol, propanol, butanol, pentanol, hexanol and octanol; ethylene glycol and diethylene glycol. , triethylene glycol, polyethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, 1,3-butanediol, 1,4-butanediol, pentanediol, 1,6-hexanediol, neopentyl glycol, neopentyl glycol ester, cyclohexanediol Polyhydric alcohols such as methanol, glycerin, diglycerin, polyglycerin, trimethylolpropane, pentaerythritol, dipentaerythritol, hydrogenated bisphenol A, hydrogenated bisphenol F, hydrogenated bisphenol S; polyvinyl alcohol, polyvinyl acetate partial hydrolysis starch, acrylic polyol resin, styrene-allyl alcohol copolymer resin, polyester polyol, polycaprolactone polyol, polypropylene polyol, polytetramethylene glycol, polycarbonate polyols, hydroxyl group-containing polybutadiene, cellulose, cellulose acetate, cellulose acetate butyrate , oligomers or polymers having a hydroxy group, such as cellulose-based polymers such as hydroxyethyl cellulose.

上記1,2-エポキシ-4-ビニルシクロヘキサンは、公知乃至慣用の方法により製造でき、特に限定されないが、例えば、ブタジエンの二量化反応によって得られる4-ビニルシクロヘキセンを、過酢酸等の酸化剤を使用して部分エポキシ化することによって得られる。また、1,2-エポキシ-4-ビニルシクロヘキサンとしては、市販品を使用することもできる。 The above 1,2-epoxy-4-vinylcyclohexane can be produced by a known or commonly used method, and is not particularly limited. obtained by partial epoxidation using A commercial product can also be used as 1,2-epoxy-4-vinylcyclohexane.

また、上記酸化剤としては、過酸化水素や有機過酸等の公知乃至慣用の酸化剤を使用することができ、特に限定されないが、例えば、有機過酸としては、過ギ酸、過酢酸、過安息香酸、トリフルオロ過酢酸等が挙げられる。中でも、過酢酸は工業的に安価に入手可能であり、かつ安定度も高いため、好ましい。 As the oxidizing agent, known or commonly used oxidizing agents such as hydrogen peroxide and organic peracids can be used without particular limitation. Examples of organic peracids include performic acid, peracetic acid, peroxide benzoic acid, trifluoroperacetic acid, and the like. Among them, peracetic acid is preferable because it is industrially available at low cost and has high stability.

なお、前記の開環重合及びエポキシ化は、より具体的には、例えば、特開昭60-161973号公報等に記載の周知慣用の方法に従って実施することができる。 More specifically, the ring-opening polymerization and epoxidation can be carried out, for example, according to the well-known and commonly used method described in JP-A-60-161973.

式(II)で表される化合物の標準ポリスチレン換算の重量平均分子量は、特に限定されないが、300~100000が好ましく、より好ましくは1000~10000である。重量平均分子量が300以上であると、硬化物の耐熱性が向上する傾向がある。一方、重量平均分子量が100000以下であると、粘度が高くなり過ぎず成型時の流動性を低く維持しやすい傾向がある。なお、重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)法により測定される。 The weight average molecular weight of the compound represented by formula (II) in terms of standard polystyrene is not particularly limited, but is preferably from 300 to 100,000, more preferably from 1,000 to 10,000. When the weight average molecular weight is 300 or more, the heat resistance of the cured product tends to be improved. On the other hand, when the weight-average molecular weight is 100,000 or less, the viscosity tends to be too high and the fluidity during molding tends to be kept low. In addition, a weight average molecular weight is measured by a gel permeation chromatography (GPC) method.

式(II)で表される化合物のエポキシ基の当量(エポキシ当量)は、特に限定されないが、50~1000が好ましく、より好ましくは100~500である。エポキシ当量が50以上であると、硬化物が脆くなりにくい傾向がある。一方、エポキシ当量が1000以下であると、硬化物の機械強度が向上する傾向がある。なお、エポキシ当量は、JIS K7236:2001に準じて測定される。 The epoxy group equivalent weight (epoxy equivalent weight) of the compound represented by formula (II) is not particularly limited, but is preferably 50 to 1,000, more preferably 100 to 500. When the epoxy equivalent is 50 or more, the cured product tends to be less brittle. On the other hand, when the epoxy equivalent is 1000 or less, the mechanical strength of the cured product tends to improve. In addition, an epoxy equivalent is measured according to JISK7236:2001.

脂環式エポキシ化合物(A)としては、硬化物の耐熱性の観点から、化合物(A-1)、化合物(A-2)が好ましい。また、化合物(A-1)としては、硬化物の耐熱性の観点から、式(I-1)で表される化合物[3,4-エポキシシクロヘキシルメチル(3,4-エポキシ)シクロヘキサンカルボキシレート;例えば、商品名「セロキサイド2021P」((株)ダイセル製)]が特に好ましい。 As the alicyclic epoxy compound (A), compound (A-1) and compound (A-2) are preferable from the viewpoint of heat resistance of the cured product. As the compound (A-1), from the viewpoint of heat resistance of the cured product, the compound represented by the formula (I-1) [3,4-epoxycyclohexylmethyl (3,4-epoxy)cyclohexanecarboxylate; For example, the trade name "Celoxide 2021P" (manufactured by Daicel Corporation)] is particularly preferable.

本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物において脂環式エポキシ化合物(A)は、一種を単独で使用することもできるし、二種以上を組み合わせて使用することもできる。また、脂環式エポキシ化合物(A)は、公知乃至慣用の方法により製造することもできるし、例えば、商品名「セロキサイド2021P」、「セロキサイド2081」(以上、(株)ダイセル製)等の市販品を使用することもできる。 In the curable epoxy resin composition of the present invention, the alicyclic epoxy compound (A) may be used singly or in combination of two or more. The alicyclic epoxy compound (A) can also be produced by a known or commonly used method. You can also use the product.

本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物における脂環式エポキシ化合物(A)の含有量(配合量)は、特に限定されないが、硬化性エポキシ樹脂組成物(100重量%)に対して、1~90重量%が好ましく、より好ましくは10~80重量%、さらに好ましくは20~70重量%、特に好ましくは20~60重量%である。脂環式エポキシ化合物(A)を上記範囲内で使用することにより、硬化物の耐熱性、耐水性、柔軟性が向上する傾向がある。なお、本明細書において、本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物に含まれる各成分(例えば、脂環式エポキシ化合物(A)、硬化剤(B)、硬化促進剤(C)等)の含有量は、それぞれ、合計が100重量%以下となるように、記載の範囲内から適宜選択することができる。 The content (amount) of the alicyclic epoxy compound (A) in the curable epoxy resin composition of the present invention is not particularly limited, but is 1 to 90% with respect to the curable epoxy resin composition (100% by weight). % by weight is preferable, more preferably 10 to 80% by weight, still more preferably 20 to 70% by weight, particularly preferably 20 to 60% by weight. By using the alicyclic epoxy compound (A) within the above range, the heat resistance, water resistance and flexibility of the cured product tend to be improved. In this specification, the content of each component contained in the curable epoxy resin composition of the present invention (e.g., alicyclic epoxy compound (A), curing agent (B), curing accelerator (C), etc.) can be appropriately selected from within the ranges described so that the total is 100% by weight or less.

[硬化剤(B)]
本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物における硬化剤(B)は、下記式(B1)

Figure 0007329350000021

[式中、Rxは、同一又は異なって、水素原子、下記式(b1)
Figure 0007329350000022

(R1~R6は、同一又は異なって、水素原子又は直鎖若しくは分岐状の炭素数1~4のアルキル基を示す。波線は結合部位を表す。)
で表される構造を有する基、又は下記式(b2)
Figure 0007329350000023

(R7~R10は、同一又は異なって、水素原子又は直鎖若しくは分岐状の炭素数1~4のアルキル基を示す。波線は結合部位を表す。)
で表される構造を有する基を示し、その1つ以上が式(b1)又は(b2)で表される構造を有する基である。Aは、置換基を有していてもよく、主鎖中及び/又は側鎖中にヘテロ原子を含む官能基を有していてもよい、炭素数2~50の、a価の直鎖又は分岐状炭化水素基である。aは2~6の整数を示す。]
で表される酸無水物及び下記式(B2)
Figure 0007329350000024

[式中、Rxは、同一又は異なって、水素原子、下記式(b1)
Figure 0007329350000025

(R1~R6は、同一又は異なって、水素原子又は直鎖若しくは分岐状の炭素数1~4のアルキル基を示す。波線は結合部位を表す。)
で表される構造を有する基、又は下記式(b2)
Figure 0007329350000026

(R7~R10は、同一又は異なって、水素原子又は直鎖若しくは分岐状の炭素数1~4のアルキル基を示す。波線は結合部位を表す。)
で表される構造を有する基を示し、その1つ以上が式(b1)又は(b2)で表される構造を有する基である。Rsは、同一又は異なって、水素原子又はメチル基である。Rは、ヘテロ原子を含む官能基を有してもよい、炭素数2~28の、直鎖、分岐状、又は環状の構造を有する(b+c)価の基である。R’は、同一又は異なって、水素原子、炭素数が1~8のアルキル基、チオール基、又は下記式(b3)
Figure 0007329350000027

(式中、R11及びR12は、異なって、R11はチオール基又はメチル基を示し、R12は水素原子又はチオール基を示す。波線は結合部位を表す。)
で表される基を示す。bとcは、b+c=2~6であって、bは0を含む整数であり、cは1~6の整数を示す。]
で表される酸無水物からなる群より選択される少なくとも1つである。すなわち、硬化剤(B)は分子中に1又は2以上(2~6)の-S-Rx基を有する酸無水物である。 [Curing agent (B)]
The curing agent (B) in the curable epoxy resin composition of the present invention has the following formula (B1)
Figure 0007329350000021

[Wherein, Rx is the same or different, a hydrogen atom, the following formula (b1)
Figure 0007329350000022

(R 1 to R 6 are the same or different and represent a hydrogen atom or a linear or branched alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. A wavy line represents a bonding site.)
A group having a structure represented by the following formula (b2)
Figure 0007329350000023

(R 7 to R 10 are the same or different and represent a hydrogen atom or a linear or branched alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. Wavy lines represent bonding sites.)
is a group having a structure represented by formula (b1) or (b2). A may have a substituent, may have a functional group containing a heteroatom in the main chain and / or side chain, having 2 to 50 carbon atoms, a-valent straight chain or It is a branched hydrocarbon group. a represents an integer of 2 to 6; ]
and an acid anhydride represented by the following formula (B2)
Figure 0007329350000024

[Wherein, Rx is the same or different, a hydrogen atom, the following formula (b1)
Figure 0007329350000025

(R 1 to R 6 are the same or different and represent a hydrogen atom or a linear or branched alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. A wavy line represents a bonding site.)
A group having a structure represented by the following formula (b2)
Figure 0007329350000026

(R 7 to R 10 are the same or different and represent a hydrogen atom or a linear or branched alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. Wavy lines represent bonding sites.)
is a group having a structure represented by formula (b1) or (b2). Rs are the same or different and are a hydrogen atom or a methyl group. R is a (b+c)-valent group having a linear, branched or cyclic structure and having 2 to 28 carbon atoms, which may have a functional group containing a heteroatom. R' is the same or different and is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, a thiol group, or the following formula (b3)
Figure 0007329350000027

(In the formula, R 11 and R 12 are different, R 11 represents a thiol group or a methyl group, R 12 represents a hydrogen atom or a thiol group, and the wavy line represents a binding site.)
represents a group represented by b and c are such that b+c=2-6, b is an integer including 0, and c is an integer of 1-6. ]
is at least one selected from the group consisting of acid anhydrides represented by That is, the curing agent (B) is an acid anhydride having one or more (2 to 6) -S-Rx groups in the molecule.

上述の通り、エポキシ樹脂の硬化剤として、酸無水物とチオール化合物とを併用して使用することは公知である。しかし、不飽和基を有する酸無水物とチオール化合物との反応において、式(B1)で表される酸無水物又は式(B2)で表される酸無水物を得るためには、エンチオール反応によりスルフィド結合を生成するための操作(例えば、紫外線の照射やラジカル反応による付加反応)が必要であり、単に混合することのみでは得ることは不可能である。 As described above, it is known to use an acid anhydride and a thiol compound in combination as curing agents for epoxy resins. However, in the reaction between an acid anhydride having an unsaturated group and a thiol compound, in order to obtain the acid anhydride represented by the formula (B1) or the acid anhydride represented by the formula (B2), the enethiol reaction An operation (for example, addition reaction by ultraviolet irradiation or radical reaction) is required to generate a sulfide bond, and it is impossible to obtain the sulfide bond simply by mixing.

さらに、酸無水物とチオール化合物とを併用して使用した場合と比較して、式(B1)で表される酸無水物又は式(B2)で表される酸無水物を使用した場合は、硬化剤としての性能が良好である。本発明者は、脂環式エポキシ化合物(A)に対し、硬化剤として式(B1)で表される酸無水物又は式(B2)で表される酸無水物を配合して得られた硬化性エポキシ樹脂組成物が、柔軟性に優れ、高温高湿下における優れた耐久性を有する硬化物を形成可能であることを見出して本発明を完成した。このような優れた効果が得られるのは、式(B1)で表される酸無水物及び式(B2)で表される酸無水物由来の構造により架橋密度を上げることができ、その結果として耐熱性が維持されることに加え、スルフィド結合を骨格内に導入することで柔軟性が付与されているためであると推測される。 Furthermore, when using the acid anhydride represented by the formula (B1) or the acid anhydride represented by the formula (B2), compared to the case of using an acid anhydride and a thiol compound in combination, Good performance as a curing agent. The present inventors have found that an alicyclic epoxy compound (A) is cured by blending an acid anhydride represented by the formula (B1) or an acid anhydride represented by the formula (B2) as a curing agent. The present inventors have completed the present invention by discovering that a flexible epoxy resin composition can form a cured product having excellent flexibility and excellent durability under high temperature and high humidity conditions. Such an excellent effect can be obtained because the structure derived from the acid anhydride represented by the formula (B1) and the acid anhydride represented by the formula (B2) can increase the crosslink density, and as a result It is presumed that this is because flexibility is imparted by introducing a sulfide bond into the skeleton in addition to maintaining heat resistance.

以下、式(B1)で表される酸無水物及び式(B2)で表される酸無水物の構成単位である、式(b9)、式(b10)、式(b11)、式(b12)で表される化合物について説明する。 Hereinafter, formula (b9), formula (b10), formula (b11), and formula (b12), which are structural units of the acid anhydride represented by formula (B1) and the acid anhydride represented by formula (B2) The compound represented by is explained.

Figure 0007329350000028

式中、R1~R6は、同一又は異なって、水素原子又は直鎖若しくは分岐状の炭素数1~4のアルキル基を示す。
Figure 0007329350000028

In the formula, R 1 to R 6 are the same or different and represent a hydrogen atom or a linear or branched C 1-4 alkyl group.

式(b9)で表される化合物は、5-ノルボルネン-2,3-ジカルボン酸無水物又はその誘導体である。式(b9)で表される化合物は、硬化物の耐湿性、耐吸湿リフロー性の観点で、R1~R6のうち0~4個(特に0~2個)がメチル基である化合物が好ましく、より好ましくはメチルノルボルネン2,3-ジカルボン酸無水物、ノルボルネン2,3-ジカルボン酸無水物である。 The compound represented by formula (b9) is 5-norbornene-2,3-dicarboxylic anhydride or a derivative thereof. The compound represented by the formula (b9) is a compound in which 0 to 4 (especially 0 to 2) of R 1 to R 6 are methyl groups from the viewpoint of moisture resistance and moisture absorption reflow resistance of the cured product. Methylnorbornene-2,3-dicarboxylic anhydride and norbornene-2,3-dicarboxylic anhydride are preferred, and more preferred.

式(b9)で表される化合物のノルボルネン骨格には、エキソ体とエンド体の立体異性体が存在する。式(b9)で表される化合物において、エキソ体の存在比率が増加すると、室温で液状となりやすいため、取り扱いが容易となる傾向がある。したがって、式(b9)で表される化合物としては、そのエキソ体の存在比率が高いことが好ましい。より詳しくは、式(b9)で表される化合物中のエキソ体の存在比率[エキソ体/(エキソ体+エンド体)]は、40重量%以上が好ましく、より好ましくは50重量%以上である。エキソ体の存在比率が40重量%未満であると、式(3)で表される化合物が室温で固体となりやすく、取り扱いが困難となる傾向がある。エキソ体の存在比率を40重量%以上とする方法は、特に限定されないが、下記の具体例で述べるように、式(b9)で表される化合物においてエキソ体への異性化を進行させておく方法等が挙げられる。 The norbornene skeleton of the compound represented by formula (b9) has stereoisomers of an exo form and an endo form. In the compound represented by the formula (b9), when the abundance ratio of the exo form increases, the compound tends to become liquid at room temperature, which tends to facilitate handling. Therefore, it is preferable that the compound represented by the formula (b9) has a high proportion of the exo form. More specifically, the abundance ratio of the exo form in the compound represented by formula (b9) [exo form/(exo form + endo form)] is preferably 40% by weight or more, more preferably 50% by weight or more. . When the abundance ratio of the exo form is less than 40% by weight, the compound represented by the formula (3) tends to become solid at room temperature, and tends to be difficult to handle. The method for increasing the abundance ratio of the exo form to 40% by weight or more is not particularly limited, but as described in the specific examples below, the compound represented by the formula (b9) is isomerized to the exo form. methods and the like.

なお、本明細書における上記「メチルノルボルネン2,3-ジカルボン酸無水物」は、ノルボルネン環上のメチル基の結合位置が異なる各異性体の総称である。メチルノルボルネン2,3-ジカルボン酸無水物の代表的な例としては、5-メチルノルボルネン2,3-ジカルボン酸無水物等が挙げられる。 The term "methylnorbornene 2,3-dicarboxylic anhydride" used herein is a general term for isomers having different bonding positions of the methyl groups on the norbornene ring. Typical examples of methylnorbornene-2,3-dicarboxylic anhydride include 5-methylnorbornene-2,3-dicarboxylic anhydride.

ノルボルネン2,3-ジカルボン酸無水物は、例えば、シクロペンタジエンと無水マレイン酸のディールスアルダー反応により得られる。通常、シクロペンタジエンと無水マレイン酸のディールスアルダー反応により得られるノルボルネン-2,3-ジカルボン酸無水物は、エンド体の存在比率が95重量%以上であるため、150℃以上に加熱してエキソ体に異性化(熱異性化)させることで、エキソ体の存在比率が多いノルボルネン2,3-ジカルボン酸無水物(例えば、エキソ体の存在比率が30重量%以上のノルボルネン2,3-ジカルボン酸無水物)を生成させることができる。式(b9)で表される化合物の市販品としては、5-ノルボルネン-2,3-ジカルボン酸無水物、商品名「MHAC-P」((株)日立化成製)等を挙げることができる。 Norbornene 2,3-dicarboxylic anhydride can be obtained, for example, by the Diels-Alder reaction of cyclopentadiene and maleic anhydride. Norbornene-2,3-dicarboxylic anhydride, which is usually obtained by the Diels-Alder reaction of cyclopentadiene and maleic anhydride, has an abundance ratio of endo form of 95% by weight or more. Norbornene 2,3-dicarboxylic anhydride with a high exo form abundance ratio (for example, norbornene 2,3-dicarboxylic anhydride with an exo form abundance ratio of 30% by weight or more objects) can be generated. Commercially available products of the compound represented by formula (b9) include 5-norbornene-2,3-dicarboxylic anhydride, trade name "MHAC-P" (manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.).

Figure 0007329350000029

式中、R7~R10は、同一又は異なって、水素原子又は直鎖若しくは分岐状の炭素数1~4のアルキル基を示す。
Figure 0007329350000029

In the formula, R 7 to R 10 are the same or different and represent a hydrogen atom or a linear or branched C 1-4 alkyl group.

式(b10)で表される化合物は、1,2,3,6-テトラヒドロフタル酸無水物又はその誘導体である。誘導体としては、各種アルキル置換物を挙げることができる。例えば、メチルテトラヒドロ無水フタル酸(4-メチルテトラヒドロ無水フタル酸、3-メチルテトラヒドロ無水フタル酸等)等を挙げることができる。このような化合物の市販品としては、商品名「HN-2200」、「HN-2000」(以上、(株)日立化成製)等を挙げることができる。 The compound represented by formula (b10) is 1,2,3,6-tetrahydrophthalic anhydride or a derivative thereof. Derivatives can include various alkyl substitutions. Examples include methyltetrahydrophthalic anhydride (4-methyltetrahydrophthalic anhydride, 3-methyltetrahydrophthalic anhydride, etc.). Commercially available products of such compounds include trade names "HN-2200" and "HN-2000" (manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.).

なお、後述の式(b11)で表される化合物との反応性や、エポキシ樹脂硬化剤として使用した際の性能等の観点からみて、式(b9)で表される化合物は、式(b10)で表される化合物よりも好ましい。 From the viewpoint of reactivity with the compound represented by the formula (b11) described later and performance when used as an epoxy resin curing agent, the compound represented by the formula (b9) is the compound represented by the formula (b10) is more preferable than the compound represented by

Figure 0007329350000030

式中、Aは、置換基を有していてもよく、主鎖中及び/又は側鎖中にヘテロ原子を含む官能基を有していてもよい、炭素数2~50の、d価の直鎖又は分岐状炭化水素基である。dは、2~6の整数を表す。
Figure 0007329350000030

In the formula, A may have a substituent and may have a functional group containing a heteroatom in the main chain and/or side chain, having 2 to 50 carbon atoms, d-valent It is a straight chain or branched hydrocarbon group. d represents an integer of 2 to 6;

式(b11)で表される化合物は、複数のチオール基を有する有機化合物である。Aにおいて、主鎖中及び/又は側鎖中にヘテロ原子を含む官能基を有していてもよいとは、例えば、炭化水素基を構成する2以上の炭素原子間にヘテロ原子を有すること等を意味する。 The compound represented by formula (b11) is an organic compound having multiple thiol groups. In A, having a functional group containing a heteroatom in the main chain and/or side chain means, for example, having a heteroatom between two or more carbon atoms constituting a hydrocarbon group. means

式(b11)で表される化合物において、Aは、エンチオール反応に直接の影響を与えない炭化水素基であれば、任意のものを使用することができる。 In the compound represented by formula (b11), A can be any hydrocarbon group that does not directly affect the enethiol reaction.

Aで表される炭化水素としては、特に限定されず、炭素数2~50の、a価の直鎖又は分岐状炭化水素基であり、主鎖中及び/又は側鎖中にヘテロ原子を含む官能基を有しているものであってもよい。炭素数は、5以上であることがより好ましく、14以上であることが最も好ましい。また、炭素数は36以下であることがより好ましく、28以下であることが最も好ましい。A中に存在していてもよい置換基としては、例えば、エーテル基、エステル基、環状炭化水素構造を有する基、ウリル基、複素環構造を有する基、スルフィド基、アミノ基、アミド基、ウレタン基、ケトン基等を挙げることができる。これらのうち、2以上の構造を有するものであってもよい。これらの官能基は、側鎖官能基として存在するものであってもよいし、主鎖の一部を形成する官能基であってもよい。 The hydrocarbon represented by A is not particularly limited, and is an a-valent linear or branched hydrocarbon group having 2 to 50 carbon atoms and containing a heteroatom in the main chain and/or side chain. It may have a functional group. The number of carbon atoms is more preferably 5 or more, most preferably 14 or more. Also, the number of carbon atoms is more preferably 36 or less, most preferably 28 or less. Substituents that may be present in A include, for example, an ether group, an ester group, a group having a cyclic hydrocarbon structure, a uryl group, a group having a heterocyclic structure, a sulfide group, an amino group, an amide group, and a urethane group. groups, ketone groups, and the like. Among these, those having two or more structures may be used. These functional groups may exist as side chain functional groups or may be functional groups forming part of the main chain.

A中に存在していてもよい置換基として例示した環状炭化水素構造を有する基には、ベンゼン環、ナフタレン環等の芳香族環を有する基であっても、シクロヘキサン環等の脂環族環を有する基であってもよい。複素環構造を有する基としては、1,3,5-トリアジン環を有する基、1,3,4,6-グリコールウリル環を有する基等の任意の基が挙げられる。これらの置換基は、主鎖中に存在するものであっても、側鎖中に存在するものであってもよい。 The group having a cyclic hydrocarbon structure exemplified as a substituent that may be present in A includes a group having an aromatic ring such as a benzene ring and a naphthalene ring, and an alicyclic ring such as a cyclohexane ring. may be a group having The group having a heterocyclic structure includes arbitrary groups such as a group having a 1,3,5-triazine ring and a group having a 1,3,4,6-glycoluril ring. These substituents may be present in the main chain or in side chains.

Figure 0007329350000031

式中、Rsは、同一又は異なって、水素原子又はメチル基である。Rは、ヘテロ原子を含む官能基を有してもよい、炭素数2~28の、直鎖、分岐状、又は環状の構造を有する(e+f)価の基である。R’’は、同一又は異なって、水素原子、炭素数が1~8のアルキル基、チオール基、又は下記式(b3)で表される基を示す。eとfは、e+f=2~6であって、eは0を含む整数であり、fは1~6の整数を示す。
Figure 0007329350000031

In the formula, Rs are the same or different and are a hydrogen atom or a methyl group. R is a (e+f) valent group having a linear, branched or cyclic structure with 2 to 28 carbon atoms which may have a functional group containing a heteroatom. R'' is the same or different and represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, a thiol group, or a group represented by the following formula (b3). e and f are such that e+f=2-6, e is an integer including 0, and f is an integer of 1-6.

Figure 0007329350000032

式中、R11及びR12は、異なって、R11はチオール基又はメチル基を示し、R12は水素原子又はチオール基を示す。波線は結合部位を表す。
Figure 0007329350000032

In the formula, R 11 and R 12 are different, R 11 represents a thiol group or a methyl group, and R 12 represents a hydrogen atom or a thiol group. Wavy lines represent binding sites.

式(b12)で表される化合物は、式(b11)で表される化合物と同様に、複数のチオール基を有する有機化合物である。Rにおいて、ヘテロ原子を含む官能基を有していてもよいとは、例えば、炭化水素基を構成する2以上の炭素原子間にヘテロ原子を有していてもよい場合などが挙げられる。 The compound represented by formula (b12) is an organic compound having a plurality of thiol groups, like the compound represented by formula (b11). R may have a functional group containing a hetero atom, for example, may have a hetero atom between two or more carbon atoms constituting a hydrocarbon group.

R中には、反応性に悪影響を与えない限りは、任意のヘテロ原子を含む官能基を有していてもよい。前記官能基としては、例えば、エーテル基、エステル基、少なくとも1つの炭素原子がヘテロ原子に置換された環状炭化水素構造を有する基、ウリル基、複素環構造を有する基、スルフィド基、アミノ基、アミド基、ウレタン基、ケトン基等が挙げられる。 Any functional group containing a heteroatom may be present in R as long as it does not adversely affect reactivity. Examples of the functional group include an ether group, an ester group, a group having a cyclic hydrocarbon structure in which at least one carbon atom is substituted with a heteroatom, a uryl group, a group having a heterocyclic structure, a sulfide group, an amino group, An amide group, a urethane group, a ketone group and the like can be mentioned.

Rの、炭素数2~28の、直鎖、分岐状、又は環状の構造を有する(e+f)価の基とは、例えば、炭素数2~28の炭化水素基が挙げられ、より具体的には、脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基、脂環式炭化水素基が挙げられる。 The (e+f)-valent group of R having a linear, branched or cyclic structure having 2 to 28 carbon atoms includes, for example, a hydrocarbon group having 2 to 28 carbon atoms, more specifically includes an aliphatic hydrocarbon group, an aromatic hydrocarbon group and an alicyclic hydrocarbon group.

Rは、下記式(b4)~(b8)で示される基のいずれかであることが特に好ましい。 R is particularly preferably any one of the groups represented by the following formulas (b4) to (b8).

Figure 0007329350000033
Figure 0007329350000033

Figure 0007329350000034
Figure 0007329350000034

Figure 0007329350000035
Figure 0007329350000035

Figure 0007329350000036
Figure 0007329350000036

Figure 0007329350000037
Figure 0007329350000037

式(b4)~(b8)中、nは1~10の整数を示す。波線は結合部位を示す。 In formulas (b4) to (b8), n represents an integer of 1 to 10. Wavy lines indicate binding sites.

式(b12)で表される化合物は、例えば、メルカプトカルボン酸と多価アルコールとのエステル化物である。当該化合物の一部又は全部のチオール基を特定の酸無水物によりスルフィド化することで、式(B2)で表される酸無水物を得ることができる。 The compound represented by formula (b12) is, for example, an ester of mercaptocarboxylic acid and polyhydric alcohol. By sulfidating a part or all of the thiol groups of the compound with a specific acid anhydride, the acid anhydride represented by formula (B2) can be obtained.

式(b11)及び式(b12)で表される化合物としては、例えば、トリメチロールプロパントリス(3-メルカプトプロピオネート)(SC有機化学株式会社製TMMP)、トリス-[(3-メルカプトプロピオニルオキシ)-エチル]-イソシアヌレート(SC有機化学株式会社製TMPIC)、ペンタエリスリトールテトラキス(3-メルカプトプロピオネート)(SC有機化学株式会社製PEMP)、テトラエチレングリコールビス(3-メルカプトプロピオネート)(SC有機化学株式会社製EGMP-4)、ジペンタエリスリトールヘキサキス(3-メルカプトプロピオネート)(SC有機化学株式会社製DPMP)を挙げることができる。さらに、昭和電工株式会社より販売されている、ペンタエリスリトール テトラキス(3-メルカプトブチレート)、1,4-ビス(3-メルカプトブチリルオキシ)ブタン、1,3,5-トリス(3-メルカプトブチリルオキシエチル)-1,3,5-トリアジン-2,4,6(1H,3H,5H)-トリオン、トリメチロールプロパン トリス(3-メルカプトブチレート)、トリメチロールエタン トリス(3-メルカプトブチレート)、三井化学株式会社より販売されている、ペンタエリスリトールポリ(3-メルカプトプロピオネート)、4-(メルカプトメチル)-3,6-ジチアオクタン-1,8-ジチオール、4,8-ビス(メルカプトメチル)-3,6,9-トリチアウンデカン-1,11-ジチオール、四国化成工業株式会社より販売されている、1,3,4,6-テトラキス(2-メルカプトエチル)グリコールウリル(TS-G)等も使用することができる。さらに、エタンジチオール、プロパンジチオール、ブタンジチオール、ヘキサメチレンジチオール、デカメチレンジチオール、トリレン-2,4-ジチオール、キシレンジチオール、ジグリコールジメルカプタン、トリグリコールジメルカプタン、ポリオキシプロピレングリコールジメルカプタン、トリス-[(3-メルカプトプロピオニルオキシ)-エチル]-イソシアヌレート、1,3,5-トリチオプロピルイソシアヌレート等の公知の化合物も使用することができる。 Examples of compounds represented by formulas (b11) and (b12) include trimethylolpropane tris(3-mercaptopropionate) (TMMP manufactured by SC Organic Chemical Co., Ltd.), tris-[(3-mercaptopropionyloxy )-ethyl]-isocyanurate (TMPIC manufactured by SC Organic Chemical Co., Ltd.), pentaerythritol tetrakis(3-mercaptopropionate) (PEMP manufactured by SC Organic Chemical Co., Ltd.), tetraethylene glycol bis(3-mercaptopropionate) (EGMP-4 manufactured by SC Organic Chemical Co., Ltd.) and dipentaerythritol hexakis (3-mercaptopropionate) (DPMP manufactured by SC Organic Chemical Co., Ltd.). Furthermore, pentaerythritol tetrakis (3-mercaptobutyrate), 1,4-bis (3-mercaptobutyryloxy) butane, 1,3,5-tris (3-mercaptobutyrate) sold by Showa Denko K.K. lyloxyethyl)-1,3,5-triazine-2,4,6(1H,3H,5H)-trione, trimethylolpropane tris(3-mercaptobutyrate), trimethylolethane tris(3-mercaptobutyrate) ), pentaerythritol poly(3-mercaptopropionate), 4-(mercaptomethyl)-3,6-dithiaoctane-1,8-dithiol, 4,8-bis(mercapto methyl)-3,6,9-trithiaundecane-1,11-dithiol, 1,3,4,6-tetrakis (2-mercaptoethyl) glycoluril (TS- G) etc. can also be used. Furthermore, ethanedithiol, propanedithiol, butanedithiol, hexamethylenedithiol, decamethylenedithiol, tolylene-2,4-dithiol, xylene dithiol, diglycol dimercaptan, triglycol dimercaptan, polyoxypropylene glycol dimercaptan, tris-[ Known compounds such as (3-mercaptopropionyloxy)-ethyl]-isocyanurate and 1,3,5-trithiopropyl isocyanurate can also be used.

式(B1)及び(B2)で表される酸無水物の各置換基は、上述した式(b9)、式(b10)、式(b11)、式(b12)で表される化合物に由来した構造となる。 Each substituent of the acid anhydrides represented by formulas (B1) and (B2) was derived from the compounds represented by the above formulas (b9), (b10), (b11), and (b12). structure.

また、式(b9)で表される化合物、式(b10)で表される化合物として複数種の化合物を併用すれば、式(B1)のRxが複数種の構造を有する化合物とすることもできる。このような化合物も式(B1)で表される酸無水物に包含される。また、式(B2)で表される酸無水物にも同様のことが言える。すなわち、式(B1)及び(B2)で表される酸無水物は単一で用いてもよいが、複数種の酸無水物の混合物の状態で用いてもよい。 In addition, when multiple types of compounds are used in combination as the compound represented by formula (b9) and the compound represented by formula (b10), Rx of formula (B1) can be a compound having multiple types of structures. . Such compounds are also included in the acid anhydride represented by formula (B1). The same applies to the acid anhydride represented by formula (B2). That is, the acid anhydrides represented by formulas (B1) and (B2) may be used singly or in the form of a mixture of two or more kinds of acid anhydrides.

式(b11)及び式(b12)で表される化合物は、複数のチオール基を有するものである。そして、反応させる不飽和基含有酸無水物とチオール基とのモル比を調整することによって、原料中のチオール基のうち、任意の割合をスルフィド基とすることができる。また、チオール基が残存していたとしても、残存したチオール基は、エポキシ基との硬化反応を生じるものであることから、本発明の効果に悪影響を与えるものではなく、むしろチオール基による低温硬化が期待できる。 The compounds represented by formulas (b11) and (b12) have a plurality of thiol groups. By adjusting the molar ratio between the unsaturated group-containing acid anhydride and the thiol groups to be reacted, any proportion of the thiol groups in the raw material can be converted to sulfide groups. In addition, even if the thiol group remains, the remaining thiol group causes a curing reaction with the epoxy group, so it does not adversely affect the effects of the present invention, but rather low-temperature curing by the thiol group. can be expected.

例えば、式(b11)で表される化合物としてチオール基を6個有する化合物を使用した場合、チオール化合物1モルに対して、不飽和基含有酸無水物を3モル使用して反応すると、原料中の50%のチオール基がスルフィド基に置換される。この場合、6個のチオール基のうち3個がスルフィド化合物のみが得られるのではなく、組成物全体の平均として50%のチオール基がスルフィド基に置換されたものとなる。その結果、上記式のaとbの割合のみが相違する複数種の化合物の混合物となる。このような混合物も本発明の一部である。 For example, when a compound having six thiol groups is used as the compound represented by the formula (b11), when reacting using 3 mol of an unsaturated group-containing acid anhydride with respect to 1 mol of the thiol compound, 50% of the thiol groups of are substituted with sulfide groups. In this case, 3 of the 6 thiol groups are not only sulfide compounds, but 50% of the thiol groups in the composition as a whole are substituted with sulfide groups. As a result, a mixture of a plurality of compounds differing only in the proportions of a and b in the above formula is obtained. Such mixtures are also part of this invention.

上記チオール基の反応率(式(B1)及び(B2)で表される酸無水物における(スルフィド基数)/(スルフィド基数+チオール基数)は特に限定されないが、例えば15~100%であることが好ましく、50~70%であることがより好ましい。 The reaction rate of the thiol group ((number of sulfide groups)/(number of sulfide groups + number of thiol groups) in the acid anhydrides represented by formulas (B1) and (B2) is not particularly limited, but may be, for example, 15 to 100%. Preferably, it is 50 to 70%.

当該混合物においては、一部に未反応の原料として式(b9)、式(b10)、式(b11)、式(b12)で表される化合物が残存している場合もあるが、このような原料が残存した組成物も、本発明に包含される。 In the mixture, the compounds represented by the formulas (b9), (b10), (b11), and (b12) may remain as unreacted raw materials in some cases. A composition in which raw materials remain is also included in the present invention.

式(B1)及び(B2)で表される酸無水物としては、上述した構造を有するものであれば、特に限定されるものではないが、具体的な化合物の例を以下に例示する。 The acid anhydrides represented by the formulas (B1) and (B2) are not particularly limited as long as they have the structures described above, but specific examples of the compounds are shown below.

式(B1)で表される酸無水物としては、以下が挙げられる。

Figure 0007329350000038
Acid anhydrides represented by formula (B1) include the following.
Figure 0007329350000038

Figure 0007329350000039
Figure 0007329350000039

式(B2)で表される酸無水物としては、以下が挙げられる。

Figure 0007329350000040
Examples of the acid anhydride represented by formula (B2) include the following.
Figure 0007329350000040

Figure 0007329350000041
Figure 0007329350000041

このような化合物は、3-メルカプトプロピオン酸や3-メルカプトブタン酸等のメルカプトカルボン酸とペンタエリスリトールやトリメチロールプロパン等の多価アルコールとのエステル化反応により、容易に製造できる式(b12)で表される化合物を原料としているという点で特に好ましいものである。 Such a compound is represented by formula (b12), which can be easily produced by an esterification reaction of a mercaptocarboxylic acid such as 3-mercaptopropionic acid or 3-mercaptobutanoic acid and a polyhydric alcohol such as pentaerythritol or trimethylolpropane. It is particularly preferable in that the represented compound is used as a raw material.

式(B1)で表される酸無水物は、式(b9)で表される化合物及び/又は式(b10)で表される化合物並びに式(b11)で表される化合物とを混合し、エンチオール反応によりスルフィド結合を形成する方法によって得ることができる。同様に、式(B2)で表される酸無水物は、式(b9)で表される化合物及び/又は式(b10)で表される化合物並びに式(b12)で表される化合物とを混合し、エンチオール反応によりスルフィド結合を形成する方法によって得ることができる。 The acid anhydride represented by the formula (B1) is mixed with the compound represented by the formula (b9) and/or the compound represented by the formula (b10) and the compound represented by the formula (b11) to obtain an enthiol It can be obtained by a method of forming a sulfide bond through a reaction. Similarly, the acid anhydride represented by formula (B2) is mixed with the compound represented by formula (b9) and/or the compound represented by formula (b10) and the compound represented by formula (b12). and can be obtained by a method of forming a sulfide bond by an enethiol reaction.

エンチオール反応によりスルフィド結合を形成する方法としては特に限定されず、例えば、紫外線照射又はラジカル反応を行う方法が挙げられる。このような反応の一般式を以下に示す。ただし、式(B1)で表される酸無水物は、以下の反応式によって合成されたものに限定されるものではない。 A method of forming a sulfide bond by an enethiol reaction is not particularly limited, and examples thereof include a method of ultraviolet irradiation or a radical reaction. A general formula for such a reaction is shown below. However, the acid anhydride represented by formula (B1) is not limited to those synthesized by the following reaction scheme.

Figure 0007329350000042
Figure 0007329350000042

また、式(B2)で表される酸無水物についての反応式の一例を以下に示す。

Figure 0007329350000043
An example of the reaction formula for the acid anhydride represented by formula (B2) is shown below.
Figure 0007329350000043

上記紫外線照射又はラジカル反応は、有機溶媒中で行うことができる。有機溶媒としては、式(B1)及び/又は式(B2)で表される酸無水物、式(b9)で表される化合物及び/又は式(b10)で表される化合物並びに式(b11)及び/又は式(b12)が溶解する有機溶媒であれば特に限定されるものではないが、例えば、テトラヒドロフラン等を挙げることができる。 The ultraviolet irradiation or radical reaction can be carried out in an organic solvent. Examples of the organic solvent include acid anhydrides represented by formula (B1) and/or formula (B2), compounds represented by formula (b9) and/or compounds represented by formula (b10), and formula (b11). and/or is not particularly limited as long as it is an organic solvent in which the formula (b12) is dissolved, and examples thereof include tetrahydrofuran.

上記紫外線照射は、脂環式エポキシ化合物(A)の存在下で行うこともできる。上述した紫外線照射による反応の場合は、系中にエポキシ基が存在していても、不飽和結合とチオール基によるスルフィド基の形成反応が優先的に生じることから、脂環式エポキシ化合物(A)存在下で紫外線照射による反応を行っても、式(B1)及び(B2)で表される酸無水物を得ることができる。 The ultraviolet irradiation can also be performed in the presence of the alicyclic epoxy compound (A). In the case of the reaction by ultraviolet irradiation described above, even if an epoxy group is present in the system, the formation reaction of the sulfide group by the unsaturated bond and the thiol group occurs preferentially, so the alicyclic epoxy compound (A) The acid anhydrides represented by the formulas (B1) and (B2) can also be obtained by performing the reaction by ultraviolet irradiation in the presence of these.

脂環式エポキシ化合物(A)中で反応を行う場合、液状のエポキシ化合物は溶媒としての役割を果たすことができるため、好ましい。 When the reaction is carried out in the alicyclic epoxy compound (A), a liquid epoxy compound is preferred because it can serve as a solvent.

[硬化促進剤(C)]
本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物は硬化促進剤(C)を含む。硬化促進剤(C)は、エポキシ基を有する化合物が硬化剤等と反応する際、その反応速度を促進する機能を有する化合物である。硬化促進剤(C)としては、公知乃至慣用の硬化促進剤を使用することができ、例えば、1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデセン-7(DBU)又はその塩(例えば、フェノール塩、オクチル酸塩、p-トルエンスルホン酸塩、ギ酸塩、テトラフェニルボレート塩等);1,5-ジアザビシクロ[4.3.0]ノネン-5(DBN)又はその塩(例えば、フェノール塩、オクチル酸塩、p-トルエンスルホン酸塩、ギ酸塩、テトラフェニルボレート塩等);ベンジルジメチルアミン、2,4,6-トリス(ジメチルアミノメチル)フェノール、N,N-ジメチルシクロヘキシルアミン等の第3級アミン;2-エチル-4-メチルイミダゾール、1-シアノエチル-2-エチル-4-メチルイミダゾール等のイミダゾール;リン酸エステル、トリフェニルホスフィン等のホスフィン類;テトラフェニルホスホニウムテトラ(p-トリル)ボレート等のホスホニウム化合物;オクチル酸亜鉛やオクチル酸スズ等の有機金属塩;金属キレート等が挙げられる。
[Curing accelerator (C)]
The curable epoxy resin composition of the present invention contains a curing accelerator (C). The curing accelerator (C) is a compound having a function of accelerating the reaction rate when a compound having an epoxy group reacts with a curing agent or the like. As the curing accelerator (C), a known or commonly used curing accelerator can be used. 1,5-diazabicyclo[4.3.0]nonene-5 (DBN) or salts thereof (e.g., phenol salts, octylate, p-toluenesulfonate, formate, tetraphenylborate salt, etc.); class amines; imidazoles such as 2-ethyl-4-methylimidazole and 1-cyanoethyl-2-ethyl-4-methylimidazole; phosphines such as phosphoric acid esters and triphenylphosphine; tetraphenylphosphonium tetra(p-tolyl)borate and the like; organic metal salts such as zinc octylate and tin octylate; and metal chelates.

硬化促進剤(C)は、一種を単独で使用することもできるし、二種以上を組み合わせて使用することもできる。また、硬化促進剤(C)は、公知乃至慣用の方法により製造することもできるし、例えば、商品名「U-CAT SA 506」、「U-CAT SA 102」、「U-CAT 5003」、「U-CAT 18X」、「12XD」(開発品)(以上、サンアプロ(株)製);商品名「TPP-K」、「TPP-MK」(以上、北興化学工業(株)製);商品名「PX-4ET」(日本化学工業(株)製)等の市販品を使用することもできる。 A hardening accelerator (C) can also be used individually by 1 type, and can also be used in combination of 2 or more types. The curing accelerator (C) can also be produced by a known or commonly used method, for example, trade names "U-CAT SA 506", "U-CAT SA 102", "U-CAT 5003", "U-CAT 18X", "12XD" (development products) (manufactured by San-Apro Co., Ltd.); trade names "TPP-K" and "TPP-MK" (manufactured by Hokko Chemical Industry Co., Ltd.); A commercially available product such as "PX-4ET" (manufactured by Nippon Kagaku Kogyo Co., Ltd.) can also be used.

硬化促進剤(C)の含有量(配合量)は、特に限定されないが、硬化性エポキシ樹脂組成物に含まれるエポキシ基を有する化合物の全量100重量部に対して、0.05~10重量部が好ましく、より好ましくは0.1~5重量部である。硬化促進剤の含有量を0.05重量部以上とすることにより、より効率的に硬化反応を進行させることができる傾向がある。一方、硬化促進剤の含有量を10重量部以下とすることにより、着色が抑制され色相に優れた硬化物が得られやすい傾向がある。 The content (compounding amount) of the curing accelerator (C) is not particularly limited, but is 0.05 to 10 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the total amount of the compound having an epoxy group contained in the curable epoxy resin composition. is preferred, more preferably 0.1 to 5 parts by weight. By setting the content of the curing accelerator to 0.05 parts by weight or more, there is a tendency that the curing reaction can proceed more efficiently. On the other hand, when the content of the curing accelerator is 10 parts by weight or less, coloring tends to be suppressed and a cured product with an excellent hue tends to be obtained.

本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物には、上記の成分以外にも、本発明の効果を損なわない範囲内で各種添加剤を使用することができる。このような添加剤としては、例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリン等のヒドロキシ基を有する化合物を使用すると、反応を緩やかに進行させることができる。その他にも、粘度や透明性を損なわない範囲内で、消泡剤、レベリング剤、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシランや3-メルカプトプロピルトリメトキシシラン等のシランカップリング剤、界面活性剤、難燃剤、着色剤、イオン吸着体、紫外線吸収剤、光安定剤、白色顔料以外の顔料等の慣用の添加剤を使用することができる。これら添加剤の含有量は特に限定されず、適宜選択可能である。 In the curable epoxy resin composition of the present invention, in addition to the above components, various additives can be used as long as they do not impair the effects of the present invention. As such additives, for example, compounds having a hydroxyl group such as ethylene glycol, diethylene glycol, propylene glycol and glycerin can be used to allow the reaction to proceed slowly. In addition, antifoaming agents, leveling agents, silane coupling agents such as γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane and 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, surfactants and Conventional additives such as flame retardants, colorants, ion adsorbents, ultraviolet absorbers, light stabilizers, and pigments other than white pigments can be used. The content of these additives is not particularly limited and can be selected as appropriate.

本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物は、特に限定されないが、上記の各成分を、必要に応じて加熱した状態で撹拌・混合することにより調製することができる。なお、本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物は、各成分があらかじめ混合されたものをそのまま使用する1液系の組成物として使用することもできるし、例えば、別々に保管しておいた2以上の成分を使用前に所定の割合で混合して使用する多液系(例えば、2液系)の組成物として使用することもできる。上記撹拌・混合の方法は、特に限定されず、例えば、ディゾルバー、ホモジナイザー等の各種ミキサー、ニーダー、ロール、ビーズミル、自公転式撹拌装置等の公知乃至慣用の撹拌・混合手段を使用できる。また、撹拌・混合後、真空下にて脱泡してもよい。 Although the curable epoxy resin composition of the present invention is not particularly limited, it can be prepared by stirring and mixing each of the above components in a heated state if necessary. The curable epoxy resin composition of the present invention can be used as a one-liquid composition in which each component is premixed and used as it is. It can also be used as a multi-liquid system (for example, two-liquid system) composition in which the components are mixed in a predetermined ratio before use. The stirring/mixing method is not particularly limited, and known or commonly used stirring/mixing means such as various mixers such as dissolvers and homogenizers, kneaders, rolls, bead mills, and rotation-revolution stirrers can be used. Moreover, after stirring and mixing, defoaming may be performed under vacuum.

硬化の手段としては、加熱処理等の公知の手段を利用できる。加熱により硬化させる際の温度(硬化温度)は、特に限定されないが、45~200℃が好ましく、より好ましくは50~190℃、さらに好ましくは55~180℃である。また、硬化の際に加熱する時間(硬化時間)は、特に限定されないが、30~600分が好ましく、より好ましくは45~540分、さらに好ましくは60~480分である。硬化温度と硬化時間が上記範囲の下限値より低い場合は硬化が不十分となり、逆に上記範囲の上限値より高い場合は樹脂成分の分解が起きる場合があるので、いずれも好ましくない。硬化条件は種々の条件に依存するが、例えば、硬化温度を高くした場合は硬化時間を短く、硬化温度を低くした場合は硬化時間を長くする等により、適宜調整することができる。また、硬化は、一段階で行うこともできるし、二段階以上の多段階で行うこともできる。 As a curing means, known means such as heat treatment can be used. The temperature for curing by heating (curing temperature) is not particularly limited, but is preferably 45 to 200.degree. C., more preferably 50 to 190.degree. C., still more preferably 55 to 180.degree. The time for heating during curing (curing time) is not particularly limited, but is preferably 30 to 600 minutes, more preferably 45 to 540 minutes, and even more preferably 60 to 480 minutes. When the curing temperature and curing time are lower than the lower limit of the above range, the curing becomes insufficient. The curing conditions depend on various conditions, but can be adjusted as appropriate by, for example, shortening the curing time when the curing temperature is raised and lengthening the curing time when the curing temperature is lowered. Moreover, curing can be carried out in one step or in multiple steps of two or more steps.

更に、式(b9)で表される化合物及び/又は式(b10)で表される化合物、式(b11)で表される化合物、エポキシ化合物(A)、並びに硬化促進剤(C)を含有する組成物を所定の形状に成形した後、紫外線照射を行うことで、式(b9)で表される化合物及び/又は式(b10)で表される化合物と式(b11)で表される化合物の反応によって硬化剤(B)を形成させ、続いて熱硬化を行うことでエポキシ樹脂組成物の硬化物を得ることもできる。 Furthermore, it contains a compound represented by formula (b9) and/or a compound represented by formula (b10), a compound represented by formula (b11), an epoxy compound (A), and a curing accelerator (C). After molding the composition into a predetermined shape, the compound represented by the formula (b9) and/or the compound represented by the formula (b10) and the compound represented by the formula (b11) are formed by irradiating with ultraviolet rays. A cured product of the epoxy resin composition can also be obtained by forming the curing agent (B) through a reaction, followed by thermal curing.

本発明の硬化性樹脂組成物は、例えば、封止剤として好ましく用いられる。中でも、LED等の光学素子の封止剤として特に好ましく用いられる。本発明の封止剤は、その硬化物の透明性が高く、耐熱性、耐水性が高いため、光量の低下や色彩の変化がなく好ましい。さらに、硬化時の収縮が小さく、生産工程での素子の破損を大幅に低減でき、生産性が向上する。 The curable resin composition of the present invention is preferably used as, for example, a sealant. Among them, it is particularly preferably used as a sealant for optical elements such as LEDs. The encapsulant of the present invention is preferable because the cured product thereof has high transparency, heat resistance and water resistance, and does not cause a decrease in light intensity or a change in color. Furthermore, shrinkage during curing is small, and damage to elements in the production process can be greatly reduced, improving productivity.

本発明の硬化性樹脂組成物は、透明性が高く光の損失が小さいことや、硬化収縮が小さいこと、また、硬化物の耐熱性、耐水性、柔軟性が高く、長期使用時の劣化・着色がない等の観点から、接着剤としても好ましく用いられる。接着剤は、例えば、液晶パネル部品や光ファイバー等の光通信デバイスの組立及び接続、光センサー、光学レンズ等の各種光学部品の固定、光学レンズ、プリズム等の光学部品の貼り合わせ等に好ましく用いられる。 The curable resin composition of the present invention has high transparency, low light loss, low curing shrinkage, and high heat resistance, water resistance, and flexibility of the cured product, and is resistant to deterioration and deterioration during long-term use. It is also preferably used as an adhesive from the viewpoint of no coloring. Adhesives are preferably used for, for example, assembly and connection of optical communication devices such as liquid crystal panel components and optical fibers, fixing of various optical components such as optical sensors and optical lenses, and bonding of optical components such as optical lenses and prisms. .

本発明の樹脂硬化物は、液晶パネル等の光学部品の保護用等のコーティング剤としても好ましく用いられる。硬化物の透明性が高いため画質の低下がなく、また耐熱性、耐水性、柔軟性が高いため好ましい。 The cured resin product of the present invention is also preferably used as a coating agent for protecting optical parts such as liquid crystal panels. Since the cured product has high transparency, there is no deterioration in image quality, and heat resistance, water resistance, and flexibility are high, which is preferable.

<硬化物>
本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物を硬化させることにより、耐熱性、耐水性等の諸物性に優れた硬化物(以下、「本発明の硬化物」と称することがある)を得ることができる。硬化の際の加熱温度(硬化温度)は、特に限定されないが、45~200℃が好ましく、より好ましくは50~190℃、さらに好ましくは55~180℃である。また、硬化の際に加熱する時間(硬化時間)は、特に限定されないが、30~600分が好ましく、より好ましくは45~540分、さらに好ましくは60~480分である。硬化温度と硬化時間が上記範囲の下限値より低い場合は、硬化が不十分となり、逆に上記範囲の上限値より高い場合は、樹脂成分の分解が起きる場合があるので、いずれも好ましくない。硬化条件は種々の条件に依存するが、例えば、硬化温度を高くした場合は硬化時間を短く、硬化温度を低くした場合は硬化時間を長くする等により、適宜調整することができる。
<Cured product>
By curing the curable epoxy resin composition of the present invention, a cured product having excellent physical properties such as heat resistance and water resistance (hereinafter sometimes referred to as "cured product of the present invention") can be obtained. . The heating temperature (curing temperature) for curing is not particularly limited, but is preferably 45 to 200.degree. C., more preferably 50 to 190.degree. C., still more preferably 55 to 180.degree. The time for heating during curing (curing time) is not particularly limited, but is preferably 30 to 600 minutes, more preferably 45 to 540 minutes, and even more preferably 60 to 480 minutes. When the curing temperature and curing time are lower than the lower limit of the above range, the curing becomes insufficient. The curing conditions depend on various conditions, but can be adjusted as appropriate by, for example, shortening the curing time when the curing temperature is raised and lengthening the curing time when the curing temperature is lowered.

本発明の硬化物は、高い透明性や光反射性を有し、耐熱性、耐水性にも優れる。したがって、本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物は、光半導体封止用途(例えば、LEDの封止材用途)や、LEDパッケージ用途(LEDパッケージの構成材、例えば、光半導体装置におけるリフレクター材、ハウジング材等)といった光学部材に使用することができる。 The cured product of the present invention has high transparency and light reflectivity, and is also excellent in heat resistance and water resistance. Therefore, the curable epoxy resin composition of the present invention can be used for optical semiconductor encapsulation applications (e.g., LED encapsulant applications) and LED package applications (components of LED packages, e.g., reflector materials and housings in optical semiconductor devices). material, etc.).

本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物及び硬化物は、上記以外にも、電気絶縁材、積層板、インク、塗料、シーラント、レジスト、複合材料、透明基材、透明シート、透明フィルム、光学素子、光学レンズ、光学部材、光造形、電子ペーパー、タッチパネル、太陽電池基板、光導波路、導光板、ホログラフィックメモリ、チップ部品、ベアチップ実装、光ファイバー、光ピックアップセンサー(例えば、DVDレコーダ、Blue Rayレコーダ等における光ピックアップセンサー)、光電センサー(例えば、非接触スイッチ等における光電センサー)、カラーセンサー(例えば、カメラ、プリンタ等におけるカラーセンサー)、照度センサー(例えば、携帯端末、テレビ等における照度センサー)、近接センサー(例えば、携帯端末等における近接センサー)、複合センサー(例えば、携帯端末等における複合センサー)、イメージセンサー(例えば、カメラ等におけるイメージセンサー)、AFセンサー(例えば、カメラ等におけるAFセンサー)、MEMS実装等の各種用途にも用いることができる。 In addition to the above, the curable epoxy resin composition and cured product of the present invention can also be Optical lenses, optical members, stereolithography, electronic paper, touch panels, solar cell substrates, optical waveguides, light guide plates, holographic memories, chip parts, bare chip mounting, optical fibers, optical pickup sensors (e.g., DVD recorders, Blue Ray recorders, etc. optical pickup sensor), photoelectric sensor (e.g., photoelectric sensor in contactless switch, etc.), color sensor (e.g., color sensor in camera, printer, etc.), illuminance sensor (e.g., illuminance sensor in mobile terminal, TV, etc.), proximity sensor (e.g., proximity sensors in mobile terminals, etc.), composite sensors (e.g., composite sensors in mobile terminals, etc.), image sensors (e.g., image sensors in cameras, etc.), AF sensors (e.g., AF sensors in cameras, etc.), MEMS mounting It can also be used for various applications such as.

以下に、実施例に基づいて本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例により限定されるものではない。 EXAMPLES The present invention will be described in more detail below based on examples, but the present invention is not limited to these examples.

(参考例1)
反応容器に3.00gのペンタエリスリトールテトラキス(3-メルカプトプロピオネート)(PEMP;SC有機化学株式会社製)、7mLのテトラヒドロフラン(THF)を仕込み、室温にて撹拌した。続いて、2.03gの5-ノルボルネン-2,3-ジカルボン酸無水物(CPDMA)を加えた後、反応温度60℃にてUVを10分間照射した。NMRにて反応が定量的に進行していることを確認した後、THFを減圧留去して残渣として目的の酸無水物(化合物A)を得た。
(Reference example 1)
A reactor was charged with 3.00 g of pentaerythritol tetrakis(3-mercaptopropionate) (PEMP; manufactured by SC Organic Chemical Co., Ltd.) and 7 mL of tetrahydrofuran (THF) and stirred at room temperature. Subsequently, after adding 2.03 g of 5-norbornene-2,3-dicarboxylic anhydride (CPDMA), UV irradiation was performed at a reaction temperature of 60° C. for 10 minutes. After confirming that the reaction was progressing quantitatively by NMR, THF was distilled off under reduced pressure to obtain the target acid anhydride (compound A) as a residue.

なお、参考例1の実施に際して、原料であるPEMP及びCPDMAの反応によって得られた化合物の1H-NMRチャートを図1に示した。図1より、反応によってCPDMAのビニレンピークが消失していることが観察され、目的の酸無水物が得られていることが明らかである。 FIG. 1 shows the 1 H-NMR chart of the compound obtained by the reaction of the raw materials PEMP and CPDMA when carrying out Reference Example 1. From FIG. 1, it is observed that the vinylene peak of CPDMA disappears due to the reaction, and it is clear that the desired acid anhydride is obtained.

Figure 0007329350000044
Figure 0007329350000044

(実施例1)
表1に示す配合処方(単位:重量部)に従って、セロキサイド2021P(CEL2021P、株式会社ダイセル製)、参考例1にて得られた酸無水物(化合物A)、U-CAT 18X(18X、サンアプロ(株)製)、及びエチレングリコール(和光純薬工業(株)製)を、自公転式撹拌装置(商品名「あわとり練太郎 AR-250」、(株)シンキー製)を使用して撹拌・脱泡を行った。得られた溶液を枠型に流し込み、120℃で5時間加熱し、硬化させてエポキシ樹脂組成物の硬化物を得た。
(Example 1)
According to the formulation (unit: parts by weight) shown in Table 1, Celoxide 2021P (CEL2021P, manufactured by Daicel Corporation), the acid anhydride obtained in Reference Example 1 (Compound A), U-CAT 18X (18X, San-Apro ( Co., Ltd.) and ethylene glycol (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) are stirred using a rotation-revolution stirring device (trade name “Awatori Mixer AR-250”, manufactured by Thinky Co., Ltd.). defoamed. The obtained solution was poured into a frame mold, heated at 120° C. for 5 hours, and cured to obtain a cured product of the epoxy resin composition.

(実施例2、比較例1)
配合組成を表1に示すように変更したこと以外は、実施例1と同様にして硬化性エポキシ樹脂組成物及びその硬化物を得た。
(Example 2, Comparative Example 1)
A curable epoxy resin composition and a cured product thereof were obtained in the same manner as in Example 1, except that the composition was changed as shown in Table 1.

<評価>
実施例1、2、比較例1で得られた硬化物について、下記の評価を実施した。
<Evaluation>
The cured products obtained in Examples 1 and 2 and Comparative Example 1 were evaluated as follows.

[硬化物-Tg]
実施例及び比較例で得られた硬化物より、縦5mm、横4mm、高さ10mmのサイズの試験片を切り出し、熱機械測定装置(TMA)(セイコーインスツルメント(株)製)を用いて上記試験片のガラス転移温度(Tg、単位:℃)を測定した。結果を表1の「Tg(℃)」の欄に示す。
[Cured product-Tg]
A test piece having a size of 5 mm long, 4 mm wide, and 10 mm high was cut out from the cured products obtained in Examples and Comparative Examples, and was measured using a thermomechanical measurement apparatus (TMA) (manufactured by Seiko Instruments Inc.). The glass transition temperature (Tg, unit: °C) of the test piece was measured. The results are shown in the "Tg (°C)" column of Table 1.

[硬化物-透明性]
実施例及び比較例で得られた硬化物より、縦50mm、横30mm、高さ3mmのサイズの試験片を切り出し、分光光度計(商品名「UV-2400」、(株)島津製作所製)を用いて上記試験片の透過率(波長:450nm、単位:%T)を測定した。結果を表1の「透明性[%T]」の欄に示す。
[Cured product - transparency]
A test piece having a size of 50 mm long, 30 mm wide, and 3 mm high was cut out from the cured products obtained in Examples and Comparative Examples, and a spectrophotometer (trade name “UV-2400”, manufactured by Shimadzu Corporation) was used. was used to measure the transmittance of the test piece (wavelength: 450 nm, unit: %T). The results are shown in Table 1, "Transparency [%T]" column.

[硬化物-屈折率]
実施例及び比較例で得られた硬化物より、縦50mm、横30mm、高さ0.5mmのサイズの試験片を切り出し、プリズムカプラ(2010/M)(Metricon製)を用いて上記試験片の屈折率(波長:589nm)を測定した。結果を表1の「屈折率」の欄に示す。
[Cured product - refractive index]
A test piece having a size of 50 mm long, 30 mm wide, and 0.5 mm high was cut out from the cured products obtained in Examples and Comparative Examples, and the test piece was cut using a prism coupler (2010/M) (manufactured by Metricon). A refractive index (wavelength: 589 nm) was measured. The results are shown in the "refractive index" column of Table 1.

[硬化物-硬化収縮率]
実施例及び比較例における硬化性樹脂組成物の比重aを比重瓶にて測定し、硬化物の比重bを水中置換法で測定し、次式により硬化収縮率(%)を求めた。結果を表1の「硬化収縮率(%)」の欄に示す。
硬化収縮率(%)=[1-(b/a)]×100
[Cured product-curing shrinkage]
The specific gravity a of the curable resin composition in Examples and Comparative Examples was measured using a pycnometer, the specific gravity b of the cured product was measured by the water substitution method, and the cure shrinkage (%) was determined by the following equation. The results are shown in the column of "cure shrinkage (%)" in Table 1.
Cure shrinkage rate (%) = [1-(b/a)] x 100

[硬化物-総合判定]
硬化物のガラス転移温度が138℃以上、透明性が85%T以上、屈折率が1.52以上、硬化収縮率が3.0%以下である場合は「〇」、いずれか一つでもこれを満たさない場合は「×」と表1に記載した。
[Cured product - Comprehensive judgment]
If the cured product has a glass transition temperature of 138°C or higher, a transparency of 85% T or higher, a refractive index of 1.52 or higher, and a curing shrinkage of 3.0% or lower, "O" is given. When not satisfying, it was described in Table 1 as "x".

[光学材料(光半導体装置)の作製]
光半導体のリードフレーム(InGaN素子、3.5mm×2.8mm)に、実施例及び比較例における樹脂組成物を注型した後、120℃のオーブンで5時間加熱することで、前記樹脂組成物の硬化物により光半導体素子が封止された光半導体装置を得た(図2参照)。得られた光半導体装置の透明性(明るさ)及び耐熱性を評価した。なお、図2において、100はリフレクター(光反射用樹脂組成物)、101は金属配線、102は光半導体素子、103はパッケージ基板を示す。
[Production of optical material (optical semiconductor device)]
After casting the resin composition in Examples and Comparative Examples into a lead frame (InGaN element, 3.5 mm × 2.8 mm) of an optical semiconductor, the resin composition was heated in an oven at 120 ° C. for 5 hours. An optical semiconductor device in which an optical semiconductor element was sealed with the cured product of (see FIG. 2) was obtained. The transparency (brightness) and heat resistance of the obtained optical semiconductor device were evaluated. In FIG. 2, 100 is a reflector (light reflecting resin composition), 101 is a metal wiring, 102 is an optical semiconductor element, and 103 is a package substrate.

[光学材料-透明性(明るさ)]
光半導体装置の透明性(明るさ)(ルーメン:lm)は、光半導体装置の全光束を全光束測定機(商品名「マルチ分光放射測定システム OL771」、オプトロニックラボラトリーズ社製)を使用して測定した。結果を表1の「透明性(lm)」の欄に示す。
[Optical Materials - Transparency (Brightness)]
The transparency (brightness) (lumen: lm) of the optical semiconductor device was measured by measuring the total luminous flux of the optical semiconductor device using a total luminous flux measuring machine (trade name “Multi-spectral radiation measurement system OL771”, manufactured by Optronic Laboratories). It was measured. The results are shown in the "transparency (lm)" column of Table 1.

[光学材料-耐熱性]
光半導体装置を120℃で300時間の加熱処理(エージング)に付して、光線透過率の保持率を下記式から算出し、これを耐熱性の指標とした。結果を表1の「耐熱性(%)」の欄に示す。
光線透過率の保持率(%)=(加熱処理後の光半導体装置の光線透過率/加熱処理前の光半導体装置の光線透過率)×100
[Optical Materials - Heat Resistance]
The optical semiconductor device was subjected to heat treatment (aging) at 120° C. for 300 hours, and the light transmittance retention rate was calculated from the following formula and used as an index of heat resistance. The results are shown in the column of "heat resistance (%)" in Table 1.
Light transmittance retention (%)=(light transmittance of optical semiconductor device after heat treatment/light transmittance of optical semiconductor device before heat treatment)×100

[光学材料-総合判定]
光半導体装置の透明性が0.60lm以上、耐熱性が80%以上である場合は「〇」、いずれか一つでもこれを満たさない場合は「×」と表1に記載した。
[Optical materials - Comprehensive judgment]
If the transparency of the optical semiconductor device was 0.60 lm or more and the heat resistance was 80% or more, it was described as "O", and if even one of these conditions was not satisfied, it was described as "X".

[コーティング剤-反応性]
実施例及び比較例における樹脂組成物(コーティング剤)の反応性を、ゲルタイム測定装置(商品名「No.153 ゲルタイムテスター(マグネット式)」、(株)安田精機製作所製)を用いて測定した。なお、120℃で加熱した際の反応性(硬化性;ゲルタイム)を評価した。結果を表1の「反応性(sec)」の欄に示す。
[Coating agent - reactivity]
The reactivity of the resin compositions (coating agents) in Examples and Comparative Examples was measured using a gel time measuring device (trade name “No. 153 Gel Time Tester (magnet type)”, manufactured by Yasuda Seiki Seisakusho Co., Ltd.). In addition, the reactivity (curing property; gel time) when heated at 120° C. was evaluated. The results are shown in the "reactivity (sec)" column of Table 1.

[コーティング剤-熱衝撃試験]
実施例及び比較例における硬化物に対し、-40℃の雰囲気下に30分曝露し、続いて、100℃の雰囲気下に30分曝露することを1サイクルとした熱衝撃を、熱衝撃試験機を用いて200サイクル分与えた。その後、デジタルマイクロスコープ(商品名「VHX-900」、(株)キーエンス製)を使用して硬化物を観察し、長さが90μm以上のクラックが発生したか否かを確認した。硬化物に長さが90μm以上のクラックが発生した個数を表1の「熱衝撃試験[クラック数]」の欄に示した。
[Coating agent - thermal shock test]
The cured products in Examples and Comparative Examples were exposed to an atmosphere of −40° C. for 30 minutes and then exposed to an atmosphere of 100° C. for 30 minutes. was given for 200 cycles. After that, the cured product was observed using a digital microscope (trade name “VHX-900”, manufactured by Keyence Corporation) to confirm whether or not cracks having a length of 90 μm or more occurred. The number of cracks having a length of 90 μm or more generated in the cured product is shown in the column of “thermal shock test [number of cracks]” in Table 1.

[コーティング剤-総合判定]
樹脂組成物(コーティング剤)の反応性が250sec以下、硬化物の熱衝撃性試験におけるクラック数が5以下である場合は「〇」、いずれか一つでもこれを満たさない場合は「×」と表1に記載した。
[Coating agent - Comprehensive judgment]
If the reactivity of the resin composition (coating agent) is 250 sec or less, and the number of cracks in the thermal shock resistance test of the cured product is 5 or less, "O" will be given. It was described in Table 1.

100:リフレクター(光反射用樹脂組成物)
101:金属配線
102:光半導体素子
103:パッケージ基板
100: Reflector (resin composition for light reflection)
101: Metal wiring 102: Optical semiconductor element 103: Package substrate

本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物は、硬化させることにより、高い耐熱性、耐水性、及び柔軟性を備える硬化物を得ることができる。したがって、当該樹脂組成物は、封止剤、接着剤、コーティング剤として使用することができる。また、その硬化物は光学部材として使用することができる。 By curing the curable epoxy resin composition of the present invention, a cured product having high heat resistance, water resistance and flexibility can be obtained. Therefore, the resin composition can be used as a sealing agent, an adhesive and a coating agent. Moreover, the cured product can be used as an optical member.

Claims (9)

脂環式エポキシ化合物(A)と、硬化剤(B)と、硬化促進剤(C)を含む硬化性エポキシ樹脂組成物であって、
硬化剤(B)が、下記式(B1)
Figure 0007329350000045
[式中、Rxは、同一又は異なって、水素原子、下記式(b1)
Figure 0007329350000046
(R1~R6は、同一又は異なって、水素原子又は直鎖若しくは分岐状の炭素数1~4のアルキル基を示す。波線は結合部位を表す。)
で表される構造を有する基、又は下記式(b2)
Figure 0007329350000047
(R7~R10は、同一又は異なって、水素原子又は直鎖若しくは分岐状の炭素数1~4のアルキル基を示す。波線は結合部位を表す。)
で表される構造を有する基を示し、その1つ以上が式(b1)又は(b2)で表される構造を有する基である。Aは、置換基として環状炭化水素構造を有する基を有していてもよい、炭素数2~50の、a価の直鎖又は分岐状炭化水素基である。aは2~6の整数を示す。]
で表される酸無水物及び下記式(B2)
Figure 0007329350000048
[式中、Rxは、同一又は異なって、水素原子、下記式(b1)
Figure 0007329350000049
(R1~R6は、同一又は異なって、水素原子又は直鎖若しくは分岐状の炭素数1~4のアルキル基を示す。波線は結合部位を表す。)
で表される構造を有する基、又は下記式(b2)
Figure 0007329350000050
(R7~R10は、同一又は異なって、水素原子又は直鎖若しくは分岐状の炭素数1~4のアルキル基を示す。波線は結合部位を表す。)
で表される構造を有する基を示し、その1つ以上が式(b1)又は(b2)で表される構造を有する基である。Rsは、同一又は異なって、水素原子又はメチル基である。Rは、ヘテロ原子を含む官能基を有してもよい、炭素数2~28の、直鎖、分岐状、又は環状の構造を有する(b+c)価の基である。R’は、同一又は異なって、水素原子、炭素数が1~8のアルキル基、チオール基、又は下記式(b3)
Figure 0007329350000051
(式中、R11及びR12は、異なって、R11はチオール基又はメチル基を示し、R12は水素原子又はチオール基を示す。波線は結合部位を表す。)
で表される基を示す。bとcは、b+c=2~6であって、bは0を含む整数であり、cは1~6の整数を示す。]
で表される酸無水物からなる群より選択される少なくとも1つであることを特徴とする硬化性エポキシ樹脂組成物。
A curable epoxy resin composition containing an alicyclic epoxy compound (A), a curing agent (B), and a curing accelerator (C),
Curing agent (B) is represented by the following formula (B1)
Figure 0007329350000045
[Wherein, Rx is the same or different, a hydrogen atom, the following formula (b1)
Figure 0007329350000046
(R 1 to R 6 are the same or different and represent a hydrogen atom or a linear or branched alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. A wavy line represents a bonding site.)
A group having a structure represented by the following formula (b2)
Figure 0007329350000047
(R 7 to R 10 are the same or different and represent a hydrogen atom or a linear or branched alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. Wavy lines represent bonding sites.)
is a group having a structure represented by formula (b1) or (b2). A is an a-valent linear or branched hydrocarbon group having 2 to 50 carbon atoms which may have a group having a cyclic hydrocarbon structure as a substituent . a represents an integer of 2 to 6; ]
and an acid anhydride represented by the following formula (B2)
Figure 0007329350000048
[Wherein, Rx is the same or different, a hydrogen atom, the following formula (b1)
Figure 0007329350000049
(R 1 to R 6 are the same or different and represent a hydrogen atom or a linear or branched alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. A wavy line represents a bonding site.)
A group having a structure represented by the following formula (b2)
Figure 0007329350000050
(R 7 to R 10 are the same or different and represent a hydrogen atom or a linear or branched alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. Wavy lines represent bonding sites.)
is a group having a structure represented by formula (b1) or (b2). Rs are the same or different and are a hydrogen atom or a methyl group. R is a (b+c)-valent group having a linear, branched or cyclic structure and having 2 to 28 carbon atoms, which may have a functional group containing a heteroatom. R' is the same or different and is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, a thiol group, or the following formula (b3)
Figure 0007329350000051
(In the formula, R 11 and R 12 are different, R 11 represents a thiol group or a methyl group, R 12 represents a hydrogen atom or a thiol group, and the wavy line represents a binding site.)
represents a group represented by b and c are such that b+c=2-6, b is an integer including 0, and c is an integer of 1-6. ]
A curable epoxy resin composition characterized by being at least one selected from the group consisting of acid anhydrides represented by:
前記式(B2)で表される酸無水物におけるRが、下記式(b4)~(b8)
Figure 0007329350000052
Figure 0007329350000053
Figure 0007329350000054
Figure 0007329350000055
Figure 0007329350000056
(式中、nは1~10の整数を示す。波線は結合部位を示す。)
で表される基のいずれか1つである請求項1に記載の硬化性エポキシ樹脂組成物。
R in the acid anhydride represented by the formula (B2) is represented by the following formulas (b4) to (b8)
Figure 0007329350000052
Figure 0007329350000053
Figure 0007329350000054
Figure 0007329350000055
Figure 0007329350000056
(In the formula, n represents an integer of 1 to 10. A wavy line represents a binding site.)
The curable epoxy resin composition according to claim 1, which is any one of the groups represented by:
前記脂環式エポキシ化合物(A)の脂環エポキシ基がシクロヘキセンオキシド基である請求項1又は2に記載の硬化性エポキシ樹脂組成物。 3. The curable epoxy resin composition according to claim 1, wherein the alicyclic epoxy group of said alicyclic epoxy compound (A) is a cyclohexene oxide group. 前記脂環式エポキシ化合物(A)が下記式(I-1)
Figure 0007329350000057
で表される化合物である請求項1~3のいずれか1項に記載の硬化性エポキシ樹脂組成物。
The alicyclic epoxy compound (A) has the following formula (I-1)
Figure 0007329350000057
The curable epoxy resin composition according to any one of claims 1 to 3, which is a compound represented by
請求項1~4のいずれか1項に記載の硬化性エポキシ樹脂組成物の硬化物。 A cured product of the curable epoxy resin composition according to any one of claims 1 to 4. 請求項1~4のいずれか1項に記載の硬化性エポキシ樹脂組成物を含む封止剤。 A sealant comprising the curable epoxy resin composition according to any one of claims 1 to 4. 請求項1~4のいずれか1項に記載の硬化性エポキシ樹脂組成物を含む接着剤。 An adhesive comprising the curable epoxy resin composition according to any one of claims 1 to 4. 請求項1~4のいずれか1項に記載の硬化性エポキシ樹脂組成物を含むコーティング剤。 A coating agent comprising the curable epoxy resin composition according to any one of claims 1 to 4. 請求項5に記載の硬化物を含む光学部材。 An optical member comprising the cured product according to claim 5 .
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