JP7325038B2 - METHOD FOR MANUFACTURING METAL-CLAID LAMINATES - Google Patents

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Description

本開示は、一般に金属張積層板の製造方法に関し、より詳細には樹脂シートと金属箔とを重ねて加熱を行う金属張積層板の製造方法に関する。 TECHNICAL FIELD The present disclosure generally relates to a method for manufacturing a metal-clad laminate, and more particularly to a method for manufacturing a metal-clad laminate in which a resin sheet and a metal foil are laminated and heated.

特許文献1には、金属張積層板を作製する方法が開示されている。この方法では、金属張積層板は、プリプレグに金属箔を積層して積層体とし、この積層体を加熱加圧成形して作製される。加熱加圧の条件は、温度を170~210℃、圧力を1.5~4.0MPa、時間を60~150分間としている。 Patent Literature 1 discloses a method for producing a metal-clad laminate. In this method, a metal-clad laminate is produced by laminating a metal foil on a prepreg to form a laminate, and molding the laminate under heat and pressure. The heating and pressurizing conditions are a temperature of 170 to 210° C., a pressure of 1.5 to 4.0 MPa, and a time of 60 to 150 minutes.

国際公開第2015/064064号WO2015/064064

金属張積層板は、例えばビルドアップ法及びめっきスルーホール法などにより、プリント配線板に加工される。このようにして得られたプリント配線板は、マザーボードとして利用される以外に、パッケージ基板としても利用可能である。パッケージ基板には、例えばベアチップ等の半導体チップが搭載される。半導体チップは、リフローはんだ付けによりパッケージ基板に接続される。リフローはんだ付けでは、はんだ合金を溶融するまで加熱するため、パッケージ基板が高温に晒される。この高温によってパッケージ基板に反りが生じ、半導体チップの接続信頼性が低下するおそれがある。 A metal-clad laminate is processed into a printed wiring board by, for example, a build-up method and a plated through-hole method. The printed wiring board thus obtained can be used not only as a mother board but also as a package substrate. A semiconductor chip such as a bare chip is mounted on the package substrate. The semiconductor chip is connected to the package substrate by reflow soldering. Reflow soldering heats the solder alloy until it melts, which exposes the package substrate to high temperatures. The high temperature may warp the package substrate and reduce the connection reliability of the semiconductor chip.

本開示の目的は、高温時における反りを低減することができる金属張積層板の製造方法を提供することにある。 An object of the present disclosure is to provide a method for manufacturing a metal-clad laminate that can reduce warping at high temperatures.

本開示の一態様に係る金属張積層板の製造方法は、樹脂シートと、金属箔と、を重ねて積層体とする工程と、下記式(1)で示される熱履歴Thが500℃・min以上3000℃・min以下の範囲内となるように、前記積層体に対して加熱を行う処理工程と、を含む。前記樹脂シートは、不飽和二重結合を有する基を末端に有する変性ポリフェニレンエーテル化合物(A)、及び炭素-炭素二重結合を有する架橋剤(B)を含有する。 A method for manufacturing a metal-clad laminate according to an aspect of the present disclosure includes a step of stacking a resin sheet and a metal foil to form a laminate, and a treatment step of heating the laminate to a temperature within the range of 3000° C.·min or more. The resin sheet contains a modified polyphenylene ether compound (A) having terminal groups having unsaturated double bonds and a cross-linking agent (B) having carbon-carbon double bonds.

Figure 0007325038000001
Figure 0007325038000001

(式(1)中、Th(℃・min)は熱履歴を示す。Tmax(℃)は最高温度を示し、240≦Tmax≦350を満たす。Ts(℃)は昇温開始温度を示す。Tv(℃/sec)は昇温速度を示す。Ht(min)は最高温度保持時間を示し、1.5≦Ht≦6.0を満たす。) (In formula (1), Th (° C. min) indicates the thermal history. Tmax (° C.) indicates the maximum temperature and satisfies 240≦Tmax≦350. Ts (° C.) indicates the temperature at which temperature rise starts. (°C/sec) indicates the rate of temperature rise, Ht (min) indicates the maximum temperature retention time, and satisfies 1.5 ≤ Ht ≤ 6.0.)

本開示によれば、高温時における反りを低減することができる。 According to the present disclosure, warping at high temperatures can be reduced.

図1は、ダブルベルトプレス装置を模式的に示す概略正面図である。FIG. 1 is a schematic front view schematically showing a double belt press device. 図2は、樹脂組成物の硬化反応過程を模式的に示すグラフである。FIG. 2 is a graph schematically showing the curing reaction process of the resin composition.

(1)概要
本実施形態では、金属張積層板1を製造する。金属張積層板1は、プリント配線板を製造するための主要な材料である。
(1) Overview In this embodiment, a metal-clad laminate 1 is manufactured. The metal-clad laminate 1 is a main material for manufacturing printed wiring boards.

金属張積層板1は、絶縁層5と、金属箔3と、を備える(図1参照)。絶縁層5は、電気的絶縁性を有する層である。絶縁層5は、樹脂シート2が硬化して形成された層である。金属箔3は、絶縁層5の両面又は片面に接着されている。 The metal-clad laminate 1 includes an insulating layer 5 and a metal foil 3 (see FIG. 1). The insulating layer 5 is a layer having electrical insulation. The insulating layer 5 is a layer formed by curing the resin sheet 2 . The metal foil 3 is adhered to both sides or one side of the insulating layer 5 .

金属箔3が絶縁層5の両面に接着されている場合、金属張積層板1は、両面金属張積層板とも呼ばれる。金属箔3が絶縁層5の片面に接着されている場合、金属張積層板1は片面金属張積層板とも呼ばれる。以下では、特に両面金属張積層板の製造方法について説明するが、この方法は、片面金属張積層板の製造方法にも適用可能である。 When the metal foil 3 is adhered to both surfaces of the insulating layer 5, the metal-clad laminate 1 is also called a double-sided metal-clad laminate. When the metal foil 3 is adhered to one side of the insulating layer 5, the metal-clad laminate 1 is also called a single-sided metal-clad laminate. Although the method for manufacturing a double-sided metal-clad laminate will be described below, this method can also be applied to a method for manufacturing a single-sided metal-clad laminate.

本実施形態に係る金属張積層板1の製造方法は、樹脂シート2と、金属箔3と、を重ねて積層体4とする工程と、積層体4に対して加熱を行う処理工程と、を含む。樹脂シート2は、不飽和二重結合を有する基を末端に有する変性ポリフェニレンエーテル化合物(A)、及び炭素-炭素二重結合を有する架橋剤(B)を含有する。加熱は、下記式(1)で示される熱履歴Thが500℃・min以上3000℃・min以下の範囲内となるように行う。 The method for manufacturing the metal-clad laminate 1 according to the present embodiment includes a step of stacking a resin sheet 2 and a metal foil 3 to form a laminate 4, and a treatment step of heating the laminate 4. include. The resin sheet 2 contains a modified polyphenylene ether compound (A) having terminal groups having unsaturated double bonds and a cross-linking agent (B) having carbon-carbon double bonds. The heating is performed so that the heat history Th represented by the following formula (1) is within the range of 500° C.·min or more and 3000° C.·min or less.

Figure 0007325038000002
Figure 0007325038000002

(式(1)中、Th(℃・min)は熱履歴を示す。Tmax(℃)は最高温度を示し、240≦Tmax≦350を満たす。Ts(℃)は昇温開始温度を示す。Tv(℃/sec)は昇温速度を示す。Ht(min)は最高温度保持時間を示し、1.5≦Ht≦6.0を満たす。)
本実施形態では、低温長時間ではなく、高温短時間で金属張積層板1を製造するようにしている。これにより、金属張積層板1の絶縁層5のガラス転移温度(Tg)を低くすることができる。そのため、金属張積層板1の高温での弾性率を低くすることができる。したがって、高温時における反りを低減することができる。
(In formula (1), Th (° C. min) indicates the thermal history. Tmax (° C.) indicates the maximum temperature and satisfies 240≦Tmax≦350. Ts (° C.) indicates the temperature at which temperature rise starts. (°C/sec) indicates the rate of temperature rise, Ht (min) indicates the maximum temperature retention time, and satisfies 1.5 ≤ Ht ≤ 6.0.)
In this embodiment, the metal-clad laminate 1 is manufactured in a short period of time at a high temperature instead of a long period of time at a low temperature. Thereby, the glass transition temperature (Tg) of the insulating layer 5 of the metal-clad laminate 1 can be lowered. Therefore, the modulus of elasticity of the metal-clad laminate 1 at high temperatures can be reduced. Therefore, warping at high temperatures can be reduced.

(2)詳細
<材料>
本実施形態に係る金属張積層板1の材料には、樹脂シート2と、金属箔3と、が含まれる。
(2) Details <Material>
Materials for the metal-clad laminate 1 according to the present embodiment include a resin sheet 2 and a metal foil 3 .

≪樹脂シート≫
樹脂シート2は、長尺状をなし、巻き取り可能な樹脂製のシートである。樹脂シート2は、樹脂組成物(以下、組成物(X)ともいう)と、基材と、を含む。組成物(X)は、基材に含浸されている。
≪Resin sheet≫
The resin sheet 2 is a long resin sheet that can be wound up. The resin sheet 2 includes a resin composition (hereinafter also referred to as composition (X)) and a base material. The composition (X) is impregnated into the substrate.

組成物(X)は、不飽和二重結合を有する基を末端に有する変性ポリフェニレンエーテル化合物(A)(以下、化合物(A)ともいう)、及び炭素-炭素二重結合を有する架橋剤(B)(以下、架橋剤(B)ともいう)を含有する。すなわち、樹脂シート2は、化合物(A)及び架橋剤(B)を含有する。 The composition (X) includes a modified polyphenylene ether compound (A) (hereinafter also referred to as compound (A)) having a group having an unsaturated double bond at its end, and a cross-linking agent having a carbon-carbon double bond (B ) (hereinafter also referred to as a cross-linking agent (B)). That is, the resin sheet 2 contains the compound (A) and the cross-linking agent (B).

〔化合物(A)〕
化合物(A)は、組成物(X)の硬化物の低誘電率化及び低誘電正接化を実現しやすい。化合物(A)は、不飽和二重結合(炭素-炭素不飽和二重結合)を有する基により末端変性されたポリフェニレンエーテルである。すなわち、化合物(A)は、例えばポリフェニレンエーテル鎖と、ポリフェニレンエーテル鎖の末端に結合している不飽和二重結合を有する基とを、有する。
[Compound (A)]
The compound (A) tends to achieve a low dielectric constant and a low dielectric loss tangent of the cured product of the composition (X). Compound (A) is a polyphenylene ether terminally modified with a group having an unsaturated double bond (carbon-carbon unsaturated double bond). That is, compound (A) has, for example, a polyphenylene ether chain and a group having an unsaturated double bond bonded to the end of the polyphenylene ether chain.

不飽和二重結合を有する基としては、例えば、下記式(2)で表される置換基等が挙げられる。 Examples of the group having an unsaturated double bond include substituents represented by the following formula (2).

Figure 0007325038000003
Figure 0007325038000003

式(2)中、nは、0~10の数である。Zはアリーレン基である。R~Rは、各々独立に、水素原子又はアルキル基である。式(2)において、nが0である場合は、Zがポリフェニレンエーテル鎖の末端に直接結合している。 In formula (2), n is a number from 0 to 10. Z is an arylene group. R 1 to R 3 are each independently a hydrogen atom or an alkyl group. In formula (2), when n is 0, Z is directly attached to the end of the polyphenylene ether chain.

アリーレン基は、例えばフェニレン基等の単環芳香族基、又はナフチレン基等の多環芳香族基等である。アリーレン基における芳香族環に結合する少なくとも一つの水素原子が、アルケニル基、アルキニル基、ホルミル基、アルキルカルボニル基、アルケニルカルボニル基、又はアルキニルカルボニル基等の官能基で置換されていてもよい。アリーレン基は、前記のみには限られない。 The arylene group is, for example, a monocyclic aromatic group such as a phenylene group, or a polycyclic aromatic group such as a naphthylene group. At least one hydrogen atom bonded to an aromatic ring in the arylene group may be substituted with a functional group such as an alkenyl group, alkynyl group, formyl group, alkylcarbonyl group, alkenylcarbonyl group, or alkynylcarbonyl group. The arylene group is not limited to those mentioned above.

アルキル基は、例えば、炭素数1~18のアルキル基が好ましく、炭素数1~10のアルキル基がより好ましい。具体的には、アルキル基は、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ヘキシル基、又はデシル基等である。アルキル基は、前記のみには限られない。 The alkyl group is, for example, preferably an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, more preferably an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms. Specifically, the alkyl group is, for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a hexyl group, a decyl group, or the like. The alkyl group is not limited to those mentioned above.

不飽和二重結合を有する基は、例えばp-エテニルベンジル基、m-エテニルベンジル基等のビニルベンジル基(エテニルベンジル基)、ビニルフェニル基、アクリレート基、又はメタクリレート基等を有する。不飽和二重結合を有する基は、特にビニルベンジル基、ビニルフェニル基、又はメタクリレート基を有することが好ましい。不飽和二重結合を有する基がアリル基を有すれば、化合物(A)の反応性が低い傾向がある。また、不飽和二重結合を有する基がアクリレート基を有すれば、化合物(A)の反応性が高すぎる傾向がある。 Groups having an unsaturated double bond include vinylbenzyl groups (ethenylbenzyl groups) such as p-ethenylbenzyl groups and m-ethenylbenzyl groups, vinylphenyl groups, acrylate groups, methacrylate groups, and the like. A group having an unsaturated double bond preferably has a vinylbenzyl group, a vinylphenyl group, or a methacrylate group. If the group having an unsaturated double bond has an allyl group, the reactivity of compound (A) tends to be low. Also, if the group having an unsaturated double bond has an acrylate group, the reactivity of compound (A) tends to be too high.

不飽和二重結合を有する基の好ましい具体例としては、ビニルベンジル基を含む官能基が挙げられる。具体的には、不飽和二重結合を有する基は、例えば下記式(3)に示す置換基である。 A preferred specific example of the group having an unsaturated double bond is a functional group containing a vinylbenzyl group. Specifically, the group having an unsaturated double bond is, for example, a substituent represented by the following formula (3).

Figure 0007325038000004
Figure 0007325038000004

式(3)中、Rは、水素原子又は炭素数1~10のアルキル基であり、Rは単結合又は炭素数1~10のアルキレン基である。Rは炭素数1~10のアルキレン基であることが好ましい。 In formula (3), R 1 is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and R 2 is a single bond or an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms. R 2 is preferably an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms.

不飽和二重結合を有する基は、(メタ)アクリレート基でもよい。(メタ)アクリレート基は、例えば、下記式(4)で示される。 A group having an unsaturated double bond may be a (meth)acrylate group. A (meth)acrylate group is represented, for example, by the following formula (4).

Figure 0007325038000005
Figure 0007325038000005

式(4)中、Rは、水素原子又はアルキル基である。アルキル基は、炭素数1~18のアルキル基が好ましく、炭素数1~10のアルキル基がより好ましい。具体的には、例えば、アルキル基は、メチル基、エチル基、プロピル基、ヘキシル基、又はデシル基等である。アルキル基は前記のみには制限されない。 In formula (4), R4 is a hydrogen atom or an alkyl group. The alkyl group is preferably an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, more preferably an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms. Specifically, for example, the alkyl group is a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a hexyl group, a decyl group, or the like. Alkyl groups are not limited to those listed above.

化合物(A)は、上記のとおり、ポリフェニレンエーテル鎖を分子中に有している。ポリフェニレンエーテル鎖は、例えば、下記式(5)で表される繰り返し単位を有する。 As described above, compound (A) has a polyphenylene ether chain in its molecule. A polyphenylene ether chain has, for example, a repeating unit represented by the following formula (5).

Figure 0007325038000006
Figure 0007325038000006

式(5)において、mは、1~50の数である。R~Rは、各々独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、ホルミル基、アルキルカルボニル基、アルケニルカルボニル基、又はアルキニルカルボニル基である。R~Rの各々は、水素原子又はアルキル基であることが好ましい。アルキル基は、例えば、炭素数1~18のアルキル基が好ましく、炭素数1~10のアルキル基がより好ましい。具体的には、アルキル基は、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ヘキシル基、又はデシル基等である。アルケニル基は、例えば、炭素数2~18のアルケニル基が好ましく、炭素数2~10のアルケニル基がより好ましい。具体的には、アルケニル基は、例えば、ビニル基、アリル基、又は3-ブテニル基等である。アルキニル基は、例えば、炭素数2~18のアルキニル基が好ましく、炭素数2~10のアルキニル基がより好ましい。具体的には、アルキニル基は、例えば、エチニル基、又はプロパ-2-イン-1-イル基(プロパルギル基)等である。アルキルカルボニル基は、アルキル基で置換されたカルボニル基であればよく、例えば、炭素数2~18のアルキルカルボニル基が好ましく、炭素数2~10のアルキルカルボニル基がより好ましい。具体的には、アルキルカルボニル基は、例えば、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、ピバロイル基、ヘキサノイル基、オクタノイル基、又はシクロヘキシルカルボニル基等である。アルケニルカルボニル基は、アルケニル基で置換されたカルボニル基であればよく、例えば、炭素数3~18のアルケニルカルボニル基が好ましく、炭素数3~10のアルケニルカルボニル基がより好ましい。具体的には、アルケニルカルボニル基は、例えば、アクリロイル基、メタクリロイル基、又はクロトノイル基等である。アルキニルカルボニル基は、アルキニル基で置換されたカルボニル基であればよく、例えば、炭素数3~18のアルキニルカルボニル基が好ましく、炭素数3~10のアルキニルカルボニル基がより好ましい。具体的には、アルキニルカルボニル基は、例えば、プロピオロイル基等である。アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、ホルミル基、アルキルカルボニル基、アルケニルカルボニル基及びアルキニルカルボニル基は、前記のみには制限されない。 In formula (5), m is a number from 1 to 50. Each of R 5 to R 8 is independently a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, a formyl group, an alkylcarbonyl group, an alkenylcarbonyl group, or an alkynylcarbonyl group. Each of R 5 to R 8 is preferably a hydrogen atom or an alkyl group. The alkyl group is, for example, preferably an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, more preferably an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms. Specifically, the alkyl group is, for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a hexyl group, a decyl group, or the like. The alkenyl group is, for example, preferably an alkenyl group having 2 to 18 carbon atoms, more preferably an alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms. Specifically, the alkenyl group is, for example, a vinyl group, an allyl group, a 3-butenyl group, or the like. The alkynyl group is, for example, preferably an alkynyl group having 2 to 18 carbon atoms, more preferably an alkynyl group having 2 to 10 carbon atoms. Specifically, the alkynyl group is, for example, an ethynyl group, a prop-2-yn-1-yl group (propargyl group), or the like. The alkylcarbonyl group may be any carbonyl group substituted with an alkyl group. For example, an alkylcarbonyl group having 2 to 18 carbon atoms is preferable, and an alkylcarbonyl group having 2 to 10 carbon atoms is more preferable. Specifically, the alkylcarbonyl group is, for example, an acetyl group, a propionyl group, a butyryl group, an isobutyryl group, a pivaloyl group, a hexanoyl group, an octanoyl group, a cyclohexylcarbonyl group, or the like. The alkenylcarbonyl group may be a carbonyl group substituted with an alkenyl group. For example, an alkenylcarbonyl group having 3 to 18 carbon atoms is preferable, and an alkenylcarbonyl group having 3 to 10 carbon atoms is more preferable. Specifically, the alkenylcarbonyl group is, for example, an acryloyl group, a methacryloyl group, a crotonoyl group, or the like. The alkynylcarbonyl group may be a carbonyl group substituted with an alkynyl group. For example, an alkynylcarbonyl group having 3 to 18 carbon atoms is preferable, and an alkynylcarbonyl group having 3 to 10 carbon atoms is more preferable. Specifically, an alkynylcarbonyl group is, for example, a propioloyl group and the like. Alkyl groups, alkenyl groups, alkynyl groups, formyl groups, alkylcarbonyl groups, alkenylcarbonyl groups and alkynylcarbonyl groups are not limited to those mentioned above.

化合物(A)の数平均分子量は、1000以上5000以下であることが好ましく、1000以上4000以下であることがより好ましく、1000以上3000以下であることがさらに好ましい。数平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ(GPC)で得られた測定結果をポリスチレン換算した値である。化合物(A)が、式(5)で表される繰り返し単位を分子中に有している場合、式(5)中のmは、化合物(A)の数平均分子量が上記の好ましい範囲内になるような数値であることが好ましい。具体的には、mは、1以上50以下であることが好ましい。化合物(A)の数平均分子量がこのような範囲内であると、化合物(A)は、ポリフェニレンエーテル鎖によって組成物(X)の硬化物に優れた誘電特性を付与し、更に硬化物の耐熱性及び成形性を向上させることができる。その理由として、以下のことが考えられる。変性されていないポリフェニレンエーテルは、その数平均分子量が1000以上5000以下程度であると、比較的低分子量であるので、硬化物の耐熱性を低下させる傾向がある。これに対し、化合物(A)は、末端に不飽和二重結合を有するので、硬化物の耐熱性を高められると考えられる。また化合物(A)の数平均分子量が5000以下であると、組成物(X)の成形性が阻害されにくいと考えられる。よって、化合物(A)は、硬化物の耐熱性を向上できるだけではなく、組成物(X)の成形性を向上できると考えられる。なお、化合物(A)の数平均分子量が1000以下であると、硬化物のガラス転移温度が低下しにくく、このため硬化物が良好な耐熱性を有しやすい。さらに、化合物(A)におけるポリフェニレンエーテル鎖が短くなりにくいため、ポリフェニレンエーテル鎖による硬化物の優れた誘電特性が維持されやすい。また、数平均分子量が5000以下であると、化合物(A)は溶剤に溶解しやすく、組成物(X)の保存安定性が低下しにくい。また、化合物(A)は組成物(X)の粘度を上昇させにくく、そのため組成物(X)の良好な成形性が得られやすい。 The number average molecular weight of compound (A) is preferably 1,000 to 5,000, more preferably 1,000 to 4,000, even more preferably 1,000 to 3,000. The number average molecular weight is a value obtained by converting the measurement results obtained by gel permeation chromatography (GPC) into polystyrene. When compound (A) has a repeating unit represented by formula (5) in the molecule, m in formula (5) is such that the number average molecular weight of compound (A) is within the above preferred range. It is preferable that the numerical value is such that Specifically, m is preferably 1 or more and 50 or less. When the number average molecular weight of the compound (A) is within such a range, the compound (A) imparts excellent dielectric properties to the cured product of the composition (X) due to the polyphenylene ether chain, and furthermore, the cured product Heat resistance and moldability can be improved. The reason for this is as follows. When the number average molecular weight of unmodified polyphenylene ether is about 1000 or more and 5000 or less, the polyphenylene ether has a relatively low molecular weight and tends to lower the heat resistance of the cured product. On the other hand, since compound (A) has an unsaturated double bond at the terminal, it is thought that the heat resistance of the cured product can be enhanced. Further, when the number average molecular weight of compound (A) is 5,000 or less, it is believed that the moldability of composition (X) is less likely to be impaired. Therefore, it is considered that compound (A) can improve not only the heat resistance of the cured product, but also the moldability of composition (X). When the number average molecular weight of compound (A) is 1000 or less, the glass transition temperature of the cured product is less likely to decrease, and thus the cured product tends to have good heat resistance. Furthermore, since the polyphenylene ether chain in the compound (A) is less likely to be shortened, the excellent dielectric properties of the cured product due to the polyphenylene ether chain are likely to be maintained. Moreover, when the number average molecular weight is 5000 or less, the compound (A) is easily dissolved in a solvent, and the storage stability of the composition (X) is less likely to deteriorate. In addition, the compound (A) does not easily increase the viscosity of the composition (X), so that the composition (X) is likely to have good moldability.

化合物(A)は分子量13000以上の高分子量成分を含有せず、又は化合物(A)中の分子量13000以上の高分子量成分の含有量が5質量%以下であることが好ましい。すなわち、化合物(A)中の分子量13000以上の高分子量成分の含有量は0質量%以上5質量%以下であることが好ましい。この場合、硬化物は特に優れた誘電特性を有することができ、かつ組成物(X)は特に優れた反応性及び保存安定性を有することができ、更に特に流動性に優れる。高分子量成分の含有量が3質量%以下であればより好ましい。なお、高分子量成分の含有量は、例えば、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)を用いて、分子量分布を測定し、測定された分子量分布に基づいて算出することができる。 Compound (A) preferably does not contain high molecular weight components having a molecular weight of 13,000 or more, or the content of high molecular weight components having a molecular weight of 13,000 or more in compound (A) is 5% by mass or less. That is, the content of high molecular weight components having a molecular weight of 13000 or more in compound (A) is preferably 0% by mass or more and 5% by mass or less. In this case, the cured product can have particularly excellent dielectric properties, and the composition (X) can have particularly excellent reactivity and storage stability, and is particularly excellent in fluidity. More preferably, the content of the high molecular weight component is 3% by mass or less. The content of the high-molecular-weight component can be calculated based on the measured molecular weight distribution, for example, by measuring the molecular weight distribution using gel permeation chromatography (GPC).

化合物(A)の1分子当たりの、不飽和二重結合を有する基の平均個数(末端官能基数)は、1個以上であることが好ましく、1.5個以上であることがより好ましく、1.7個以上であれば更に好ましく、1.8個以上であれば特に好ましい。これらの場合、組成物(X)の硬化物の耐熱性を確保しやすい。また不飽和二重結合を有する基の平均個数は5個以下であることが好ましく3個以下であればより好ましく、2.7個以下であれば更に好ましく、2.5個以下であれば特に好ましい。これらの場合、化合物(A)の反応性及び粘度が過度に高くなることを抑制でき、このため、組成物(X)の保存性が低下したり、組成物(X)の流動性が低下したりする不具合を起こりにくくできる。また組成物(X)の硬化後に、未反応の不飽和二重結合を残りにくくできる。なお、化合物(A)の末端官能基数は、化合物(A)1モル中の、1分子あたりの、置換基の平均値である。この末端官能基数は、例えば、ポリフェニレンエーテルを変性して化合物(A)を合成した場合、化合物(A)中の水酸基数を測定して、化合物(A)中の水酸基数の、変性前のポリフェニレンエーテルの水酸基数からの減少分を算出することによって、得られる。この変性前のポリフェニレンエーテルの水酸基数からの減少分が、末端官能基数である。化合物(A)に残存する水酸基数は、化合物(A)の溶液に、水酸基と会合する4級アンモニウム塩(テトラエチルアンモニウムヒドロキシド)を添加して得られる混合溶液のUV吸光度を測定することによって、求めることができる。 The average number of groups having an unsaturated double bond (number of terminal functional groups) per molecule of compound (A) is preferably 1 or more, more preferably 1.5 or more, and 1 .7 or more is more preferable, and 1.8 or more is particularly preferable. In these cases, it is easy to ensure the heat resistance of the cured product of the composition (X). The average number of groups having unsaturated double bonds is preferably 5 or less, more preferably 3 or less, more preferably 2.7 or less, particularly 2.5 or less. preferable. In these cases, it is possible to prevent the reactivity and viscosity of compound (A) from becoming excessively high. It is possible to make it difficult to cause troubles such as In addition, it is possible to make it difficult for unreacted unsaturated double bonds to remain after the composition (X) is cured. The terminal functional group number of the compound (A) is the average value of the substituents per molecule in 1 mol of the compound (A). The number of terminal functional groups is, for example, when polyphenylene ether is modified to synthesize compound (A), the number of hydroxyl groups in compound (A) is measured, and the number of hydroxyl groups in compound (A) is the number of polyphenylenes before modification. It is obtained by calculating the amount of decrease from the number of hydroxyl groups of the ether. The decrease from the number of hydroxyl groups of the polyphenylene ether before modification is the number of terminal functional groups. The number of hydroxyl groups remaining in compound (A) is determined by measuring the UV absorbance of a mixed solution obtained by adding a quaternary ammonium salt (tetraethylammonium hydroxide) that associates with hydroxyl groups to a solution of compound (A). can ask.

化合物(A)の固有粘度は、0.03dl/g以上0.12dl/g以下であることが好ましく、0.04dl/g以上0.11dl/g以下であることがより好ましく、0.06dl/g以上0.095dl/g以下であることが更に好ましい。この場合、組成物(X)の硬化物の誘電率及び誘電正接を、より低下させやすい。また組成物(X)に充分な流動性を付与することで、組成物(X)の成形性を向上させることができる。 The intrinsic viscosity of compound (A) is preferably 0.03 dl/g or more and 0.12 dl/g or less, more preferably 0.04 dl/g or more and 0.11 dl/g or less, and 0.06 dl/g or more. It is more preferably 0.095 dl/g or less. In this case, the dielectric constant and dielectric loss tangent of the cured product of composition (X) are more likely to be lowered. By imparting sufficient fluidity to the composition (X), the moldability of the composition (X) can be improved.

なお、固有粘度は、25℃の塩化メチレン中で測定した固有粘度であり、より具体的には、例えば、化合物(A)を塩化メチレンに0.18g/45mlの濃度で溶解させて調製される溶液の、25℃における粘度である。この粘度は、例えばSchott社製のAVS500 Visco System等の粘度計で測定される。 The intrinsic viscosity is the intrinsic viscosity measured in methylene chloride at 25° C. More specifically, for example, compound (A) is dissolved in methylene chloride at a concentration of 0.18 g/45 ml. It is the viscosity of the solution at 25°C. This viscosity is measured with a viscometer such as Schott's AVS500 Visco System.

化合物(A)の合成方法に、特に制限はない。例えばポリフェニレンエーテルに、不飽和二重結合を有する基とハロゲン原子とが結合された化合物を反応させることで、化合物(A)を合成できる。より具体的には、ポリフェニレンエーテルと、不飽和二重結合を有する基とハロゲン原子とが結合された化合物とを溶媒に溶解させ、攪拌する。これにより、ポリフェニレンエーテルと、不飽和二重結合を有する基とハロゲン原子とが結合された化合物とが反応し、化合物(A)が得られる。 There are no particular restrictions on the method for synthesizing compound (A). For example, compound (A) can be synthesized by reacting polyphenylene ether with a compound in which a group having an unsaturated double bond and a halogen atom are bonded. More specifically, polyphenylene ether and a compound in which a group having an unsaturated double bond and a halogen atom are bonded are dissolved in a solvent and stirred. Thereby, the polyphenylene ether reacts with the compound in which the group having an unsaturated double bond and the halogen atom are bonded to obtain the compound (A).

〔架橋剤(B)〕
架橋剤(B)は、化合物(A)と反応することで架橋構造を形成する。
[Crosslinking agent (B)]
The cross-linking agent (B) forms a cross-linked structure by reacting with the compound (A).

架橋剤(B)は、例えばジビニルベンゼン、ポリブタジエン、アルキル(メタ)アクリレート、トリシクロデカノール(メタ)アクリレート、フルオレン(メタ)アクリレート、イソシアヌレート(メタ)アクリレート、及びトリメチロールプロパン(メタ)アクリレートからなる群から選択される少なくとも一種の成分を含有する。 Crosslinkers (B) are for example from divinylbenzene, polybutadiene, alkyl (meth)acrylates, tricyclodecanol (meth)acrylate, fluorene (meth)acrylate, isocyanurate (meth)acrylate and trimethylolpropane (meth)acrylate. containing at least one component selected from the group consisting of

このなかでも、低誘電率化の観点から、架橋剤(B)はポリブタジエンを含有することが好ましい。架橋剤(B)の百分比は、化合物(A)と架橋剤(B)との合計量に対して5質量%以上70質量%以下であることが好ましく、10質量%以上60質量%以下であることがより好ましく、10質量%以上50質量%以下であることが更に好ましい。これらの場合、硬化物が化合物(A)による優れた誘電特性を維持したまま、組成物(X)の成形性が特に向上でき、かつ硬化物の耐熱性も特に向上できる。 Among these, the cross-linking agent (B) preferably contains polybutadiene from the viewpoint of lowering the dielectric constant. The percentage of the cross-linking agent (B) is preferably 5% by mass or more and 70% by mass or less, and is 10% by mass or more and 60% by mass or less with respect to the total amount of the compound (A) and the cross-linking agent (B). is more preferable, and more preferably 10% by mass or more and 50% by mass or less. In these cases, the moldability of the composition (X) can be particularly improved and the heat resistance of the cured product can be particularly improved while the cured product maintains the excellent dielectric properties of the compound (A).

〔リン化合物〕
組成物(X)は、リン化合物(以下、リン化合物(C)ともいう)を更に含有してもよい。すなわち、樹脂シート2は、リン化合物(C)を更に含有してもよい。これにより、金属張積層板1に難燃性を付与することができる。
[Phosphorus compound]
Composition (X) may further contain a phosphorus compound (hereinafter also referred to as phosphorus compound (C)). That is, the resin sheet 2 may further contain a phosphorus compound (C). Thereby, flame retardance can be imparted to the metal-clad laminate 1 .

リン化合物(C)としては、特に限定されないが、例えば、リン酸エステル、及びホスフィン酸塩が挙げられる。特にリン酸エステルは、樹脂を可塑化する効果も併せ持つ。したがって、樹脂シート2にリン酸エステルが含有されていると、ガラス転移温度(Tg)が低下し、リン酸エステルが含有されていない場合に比べて低温で軟化するため、塑性加工が容易になる。一方、ホスフィン酸塩は、黄変などの着色抑制にも有効である。 Examples of the phosphorus compound (C) include, but are not particularly limited to, phosphates and phosphinates. In particular, phosphate esters also have the effect of plasticizing resins. Therefore, if the resin sheet 2 contains a phosphate ester, the glass transition temperature (Tg) is lowered, and the resin sheet 2 softens at a lower temperature than when the phosphate ester is not contained, thereby facilitating plastic working. . On the other hand, phosphinates are also effective in suppressing coloration such as yellowing.

樹脂シート2がリン化合物(C)を更に含有する場合、リン化合物(C)の含有量は、化合物(A)及び架橋剤(B)の合計100質量部に対して、好ましくは40質量部未満、より好ましくは35質量部以下、さらに好ましくは30質量部以下である。これにより、金属張積層板1を低誘電率化しやすくなる。低誘電率の金属張積層板1は、高周波信号の伝送損失低減に有用である。 When the resin sheet 2 further contains the phosphorus compound (C), the content of the phosphorus compound (C) is preferably less than 40 parts by weight with respect to a total of 100 parts by weight of the compound (A) and the cross-linking agent (B). , more preferably 35 parts by mass or less, and still more preferably 30 parts by mass or less. This makes it easier to lower the dielectric constant of the metal-clad laminate 1 . The low-permittivity metal-clad laminate 1 is useful for reducing transmission loss of high-frequency signals.

樹脂シート2がリン化合物(C)を更に含有する場合、リン原子の含有量は、化合物(A)及び架橋剤(B)の合計100質量部に対して、好ましくは6質量部以下、より好ましくは4.5質量部以下、さらに好ましくは4質量部以下である。これにより、金属張積層板1を低誘電率化しやすくなる。低誘電率の金属張積層板1は、高周波信号の伝送損失低減に有用である。 When the resin sheet 2 further contains the phosphorus compound (C), the content of phosphorus atoms is preferably 6 parts by mass or less, more preferably 100 parts by mass in total of the compound (A) and the cross-linking agent (B). is 4.5 parts by mass or less, more preferably 4 parts by mass or less. This makes it easier to lower the dielectric constant of the metal-clad laminate 1 . The low-permittivity metal-clad laminate 1 is useful for reducing transmission loss of high-frequency signals.

〔無機充填材〕
組成物(X)は、無機充填材(以下、無機充填材(D)ともいう)を更に含有してもよい。すなわち、樹脂シート2は、無機充填材(D)を更に含有してもよい。これにより、機械的性質の改善、機能性付与、加工性制御などを有効に行うことができる。
[Inorganic filler]
Composition (X) may further contain an inorganic filler (hereinafter also referred to as inorganic filler (D)). That is, the resin sheet 2 may further contain an inorganic filler (D). This makes it possible to effectively improve mechanical properties, impart functionality, control workability, and the like.

無機充填材(D)としては、特に限定されないが、例えば、シリカが挙げられる。シリカは、線膨張率低減、硬化収縮防止、及び熱伝導性向上などに有効である。シリカには、溶融シリカ等が含まれる。 Examples of the inorganic filler (D) include, but are not limited to, silica. Silica is effective in reducing the coefficient of linear expansion, preventing curing shrinkage, and improving thermal conductivity. Silica includes fused silica and the like.

無機充填材(D)の形状は、特に限定されないが、例えば、球形が好ましい。 The shape of the inorganic filler (D) is not particularly limited, but is preferably spherical, for example.

無機充填材(D)の平均粒子径は、特に限定されないが、例えば、0.2μm以上15μm以下の範囲内である。 The average particle size of the inorganic filler (D) is not particularly limited, but is, for example, within the range of 0.2 μm or more and 15 μm or less.

樹脂シート2が無機充填材(D)を含有する場合、無機充填材(D)の含有量は、化合物(A)及び架橋剤(B)の合計100質量部に対して、好ましくは20質量部以上250質量部以下の範囲内である。 When the resin sheet 2 contains the inorganic filler (D), the content of the inorganic filler (D) is preferably 20 parts by mass with respect to a total of 100 parts by mass of the compound (A) and the cross-linking agent (B). It is within the range of 250 mass parts or less.

〔溶剤〕
組成物(X)は、溶剤を更に含有してもよい。これにより、組成物(X)をワニスとして基材に含浸させやすくなる。
〔solvent〕
Composition (X) may further contain a solvent. This makes it easier to impregnate the substrate with the composition (X) as a varnish.

〔基材〕
基材としては、特に限定されないが、例えば、ガラスクロスが挙げられる。基材の厚さは、特に限定されないが、例えば、8μm以上200μm以下の範囲内である。
〔Base material〕
Examples of the substrate include, but are not limited to, glass cloth. The thickness of the substrate is not particularly limited, but is, for example, within the range of 8 μm or more and 200 μm or less.

樹脂シート2は、組成物(X)を基材に含浸させて得られる。組成物(X)が溶剤を含有する場合、組成物(X)を基材に含浸させた後に、溶剤を除去するために乾燥してもよい。 The resin sheet 2 is obtained by impregnating a base material with the composition (X). When the composition (X) contains a solvent, the substrate may be impregnated with the composition (X) and then dried to remove the solvent.

≪金属箔≫
金属箔3としては、特に限定されないが、例えば、銅箔が挙げられる。金属箔3の厚さは、特に限定されないが、例えば、2μm以上105μm以下の範囲内である。
≪Metal foil≫
The metal foil 3 is not particularly limited, but for example, a copper foil can be used. The thickness of the metal foil 3 is not particularly limited, but is, for example, within the range of 2 μm or more and 105 μm or less.

<製造方法>
本実施形態に係る金属張積層板1の製造方法は、樹脂シート2と、金属箔3と、を重ねて積層体4とする工程と、積層体4に対して加熱を行う処理工程と、を含む。好ましくは、処理工程において、積層体4に対して加熱と共に加圧を行う。以下、金属張積層板1の製造に好適な装置、及び加熱加圧条件について説明する。
<Manufacturing method>
The method for manufacturing the metal-clad laminate 1 according to the present embodiment includes a step of stacking a resin sheet 2 and a metal foil 3 to form a laminate 4, and a treatment step of heating the laminate 4. include. Preferably, in the treatment step, the laminate 4 is heated and pressurized. Apparatus suitable for manufacturing the metal-clad laminate 1 and heating and pressurizing conditions will be described below.

≪装置≫
図1にダブルベルトプレス装置100を示す。ダブルベルトプレス装置100は、第1コンベア110と、第2コンベア120と、加熱加圧装置130と、を備える。ダブルベルトプレス装置100は、冷却装置140を更に備えてもよい。
≪Equipment≫
A double belt press device 100 is shown in FIG. The double belt press device 100 includes a first conveyor 110, a second conveyor 120, and a heating and pressurizing device . The double belt press device 100 may further include a cooling device 140 .

第1コンベア110は、第1ベルト151と、第1入口ロール161と、第1出口ロール171と、を有する。第1ベルト151は、エンドレスベルトである。エンドレスベルトは、無端状に接合したベルトである。第1ベルト151は、スチールベルトであり、例えばステンレス製のベルトである。第1ベルト151は、第1入口ロール161及び第1出口ロール171間に掛け渡されている。第1入口ロール161及び第1出口ロール171は、回転可能に支持され、平行に配置されている。第1ベルト151の速度は調整可能である。 The first conveyor 110 has a first belt 151 , a first entrance roll 161 and a first exit roll 171 . The first belt 151 is an endless belt. An endless belt is a belt that is joined endlessly. The first belt 151 is a steel belt, such as a stainless steel belt. The first belt 151 is stretched between the first entrance roll 161 and the first exit roll 171 . The first entrance roll 161 and the first exit roll 171 are rotatably supported and arranged in parallel. The speed of the first belt 151 is adjustable.

第2コンベア120は、第1コンベア110に対向して配置されている。第2コンベア120は、第2ベルト152と、第2入口ロール162と、第2出口ロール172と、を有する。第2ベルト152は、エンドレスベルトである。第2ベルト152は、スチールベルトであり、例えばステンレス製のベルトである。第2ベルト152は、第2入口ロール162及び第2出口ロール172間に掛け渡されている。第2ベルト152は、第1ベルト151に対向している。第2入口ロール162及び第2出口ロール172は、回転可能に支持され、平行に配置されている。第2ベルト152の速度は調整可能である。第2ベルト152は、第1ベルト151と同期させることも可能である。 The second conveyor 120 is arranged facing the first conveyor 110 . The second conveyor 120 has a second belt 152 , a second entry roll 162 and a second exit roll 172 . The second belt 152 is an endless belt. The second belt 152 is a steel belt, such as a stainless steel belt. The second belt 152 is stretched between the second entrance roll 162 and the second exit roll 172 . The second belt 152 faces the first belt 151 . A second entry roll 162 and a second exit roll 172 are rotatably supported and arranged in parallel. The speed of the second belt 152 is adjustable. The second belt 152 can also be synchronized with the first belt 151 .

第1入口ロール161及び第2入口ロール162は、平行に配置されている。以下、第1入口ロール161及び第2入口ロール162をまとめて入口ロール160という場合がある。第1出口ロール171及び第2出口ロール172も、平行に配置されている。以下、第1出口ロール171及び第2出口ロール172をまとめて出口ロール170という場合がある。 The first inlet roll 161 and the second inlet roll 162 are arranged in parallel. Hereinafter, the first entrance roll 161 and the second entrance roll 162 may be collectively referred to as the entrance roll 160. The first exit roll 171 and the second exit roll 172 are also arranged in parallel. Hereinafter, the first exit roll 171 and the second exit roll 172 may be collectively referred to as the exit roll 170 .

加熱加圧装置130は、入口ロール160と出口ロール170との間に配置されている。加熱加圧装置130の加熱手段及び加圧手段には、公知の手段が適用可能である。加熱加圧装置130は、加熱温度、プレス圧、昇温速度、及び加熱時間を調整可能である。 The heating and pressurizing device 130 is arranged between the entrance roll 160 and the exit roll 170 . Known means can be applied to the heating means and pressurizing means of the heating and pressurizing device 130 . The heating and pressurizing device 130 can adjust the heating temperature, press pressure, temperature increase rate, and heating time.

冷却装置140は、加熱加圧装置130と出口ロール170との間に配置されている。冷却装置140の冷却手段には、公知の手段が適用可能である。冷却装置140は、加圧手段を更に有してもよい。冷却装置140の加圧手段には、公知の手段が適用可能である。冷却装置140は、冷却温度、降温速度、及び冷却時間を調整可能である。冷却装置140が加圧手段を更に有する場合、プレス圧も調整可能である。 The cooling device 140 is arranged between the heating and pressurizing device 130 and the exit roll 170 . A known means can be applied to the cooling means of the cooling device 140 . The cooling device 140 may further have pressurizing means. A known means can be applied to the pressurizing means of the cooling device 140 . The cooling device 140 can adjust the cooling temperature, cooling rate, and cooling time. If the cooling device 140 further comprises pressurizing means, the press pressure can also be adjusted.

このように、本実施形態では、ダブルベルトプレス装置100を用いて、加熱をロールツーロール方式により行うようにしている。より詳しくは、加熱加圧をロールツーロール方式により行うようにしている。したがって、バッチプレス装置を用いたバッチプレス方式に比べて、生産性を向上させることができる。 As described above, in this embodiment, the double belt press device 100 is used to perform heating by a roll-to-roll method. More specifically, heating and pressurization are performed by a roll-to-roll method. Therefore, productivity can be improved as compared with a batch press method using a batch press device.

≪加熱加圧条件≫
本実施形態では、図1に示すダブルベルトプレス装置100を用いて、金属張積層板1として両面金属張積層板を製造する。すなわち、樹脂シート2の両側に金属箔3を配置し、これらを重ねて積層体4とし、この積層体4を入口ロール160側から第1コンベア110と第2コンベア120との間に挿入する。積層体4は、第1ベルト151及び第2ベルト152で挟み込まれて、入口ロール160側から出口ロール170側に搬送される。積層体4は、搬送中に加熱加圧装置130によって加熱加圧される。これにより、積層体4は、金属張積層板1となる。具体的には、樹脂シート2は、絶縁層5となり、両側の金属箔3と接着される。加熱加圧後、金属張積層板1は、必要に応じて冷却装置140によって冷却された後、出口ロール170側から出てくる。
≪Heating and pressurizing conditions≫
In this embodiment, a double-sided metal-clad laminate is manufactured as the metal-clad laminate 1 using the double belt press apparatus 100 shown in FIG. That is, the metal foils 3 are arranged on both sides of the resin sheet 2, these are stacked to form a laminate 4, and the laminate 4 is inserted between the first conveyor 110 and the second conveyor 120 from the inlet roll 160 side. The laminate 4 is sandwiched between the first belt 151 and the second belt 152 and conveyed from the entrance roll 160 side to the exit roll 170 side. The laminate 4 is heated and pressurized by the heating and pressurizing device 130 during transportation. As a result, the laminate 4 becomes the metal-clad laminate 1 . Specifically, the resin sheet 2 becomes the insulating layer 5 and is adhered to the metal foils 3 on both sides. After being heated and pressurized, the metal-clad laminate 1 is cooled by the cooling device 140 as necessary, and then comes out from the exit roll 170 side.

本実施形態では、加熱は、下記式(1)で示される熱履歴Thが500℃・min以上3000℃・min以下の範囲内となるように行う。このように、熱履歴Thを調整することで、金属張積層板1の高温時における反りを低減することができる。高温とは、例えば、リフローはんだ付け時にパッケージ基板が晒される温度である。具体的には260℃程度の温度である。 In the present embodiment, the heating is performed so that the heat history Th represented by the following formula (1) falls within the range of 500° C.·min or more and 3000° C.·min or less. By adjusting the thermal history Th in this manner, warping of the metal-clad laminate 1 at high temperatures can be reduced. A high temperature is, for example, a temperature to which the package substrate is exposed during reflow soldering. Specifically, the temperature is about 260°C.

Figure 0007325038000007
Figure 0007325038000007

(式(1)中、Th(℃・min)は熱履歴を示す。Tmax(℃)は最高温度を示し、240≦Tmax≦350を満たす。Ts(℃)は昇温開始温度を示す。Tv(℃/sec)は昇温速度を示す。Ht(min)は最高温度保持時間を示し、1.5≦Ht≦6.0を満たす。)
昇温開始温度(Ts)は、加熱加圧装置130によって積層体4を加熱する直前の温度である。昇温開始温度(Ts)は、特に限定されないが、例えば、15℃以上50℃以下の範囲内の温度である。
(In formula (1), Th (° C. min) indicates the thermal history. Tmax (° C.) indicates the maximum temperature and satisfies 240≦Tmax≦350. Ts (° C.) indicates the temperature at which temperature rise starts. (°C/sec) indicates the rate of temperature rise, Ht (min) indicates the maximum temperature retention time, and satisfies 1.5 ≤ Ht ≤ 6.0.)
The temperature rise start temperature (Ts) is the temperature immediately before the laminate 4 is heated by the heating and pressurizing device 130 . The temperature rise start temperature (Ts) is not particularly limited, but is, for example, a temperature within the range of 15°C or higher and 50°C or lower.

次に昇温開始温度(Ts)から最高温度(Tmax)まで加熱加圧装置130によって積層体4を加熱する。このときの昇温速度(Tv)は、特に限定されないが、好ましくは2℃/sec以上8℃/sec以下の範囲内である。すなわち、上記式(1)中、2≦Tv≦8を更に満たすことが好ましい。上記範囲内の昇温速度で加熱すれば、上記範囲外の昇温速度で加熱する場合に比べて、金属張積層板1の高温時における反りを更に低減することができる。最高温度(Tmax)は、240℃以上350℃以下の範囲内の温度である。 Next, the laminate 4 is heated by the heating/pressurizing device 130 from the temperature rise start temperature (Ts) to the maximum temperature (Tmax). The rate of temperature increase (Tv) at this time is not particularly limited, but is preferably in the range of 2° C./sec or more and 8° C./sec or less. That is, it is preferable to further satisfy 2≦Tv≦8 in the above formula (1). By heating at a temperature rising rate within the above range, warpage of the metal-clad laminate 1 at high temperatures can be further reduced compared to heating at a temperature rising rate outside the above range. The maximum temperature (Tmax) is a temperature within the range of 240°C or higher and 350°C or lower.

一方、昇温開始温度(Ts)から最高温度(Tmax)まで加熱加圧装置130によって積層体4を加圧する。このときの圧力(プレス圧)は、特に限定されないが、例えば、0.5MPa以上5MPa以下の範囲内である。 On the other hand, the laminate 4 is pressurized by the heating and pressurizing device 130 from the temperature rise start temperature (Ts) to the maximum temperature (Tmax). The pressure (press pressure) at this time is not particularly limited, but is, for example, within the range of 0.5 MPa or more and 5 MPa or less.

最高温度(Tmax)に到達してから、最高温度(Tmax)を1.5分以上6.0分以下の範囲で保持する。 After reaching the maximum temperature (Tmax), the maximum temperature (Tmax) is maintained within a range of 1.5 minutes or more and 6.0 minutes or less.

一方、最高温度(Tmax)を保持する間の圧力(プレス圧)は0.5MPa以上であることが好ましい。上記範囲内の圧力で加圧すれば、上記範囲外の圧力で加圧する場合に比べて、高温時における反りを更に低減することができる。なお、最高温度(Tmax)を保持する間の圧力の上限値は、特に限定されないが、例えば、5MPaである。 On the other hand, the pressure (press pressure) while maintaining the maximum temperature (Tmax) is preferably 0.5 MPa or more. Pressurization at a pressure within the above range can further reduce warpage at high temperatures compared to pressurization at a pressure outside the above range. Although the upper limit of the pressure while maintaining the maximum temperature (Tmax) is not particularly limited, it is, for example, 5 MPa.

<推定メカニズム>
次に、本実施形態に係る金属張積層板1について、高温時のおける反りが低減される推定メカニズムについて説明する。
<Presumed mechanism>
Next, regarding the metal-clad laminate 1 according to the present embodiment, a presumed mechanism for reducing warpage at high temperatures will be described.

図2は、樹脂組成物の硬化反応過程を模式的に示すグラフである。縦軸は、樹脂組成物の溶融粘度を示し、横軸は、樹脂組成物の加熱時間を示す。樹脂組成物には、樹脂A(本実施形態では化合物(A))及び樹脂B(本実施形態では架橋剤(B))が含有されている。曲線C1は、高温短時間での硬化反応過程を示すグラフである。曲線C1は、本実施形態を示すグラフである。曲線C2は、低温長時間での硬化反応過程を示すグラフである。図2中、η(ab)は、樹脂Aと樹脂Bとが架橋可能な最高溶融粘度を示す。 FIG. 2 is a graph schematically showing the curing reaction process of the resin composition. The vertical axis indicates the melt viscosity of the resin composition, and the horizontal axis indicates the heating time of the resin composition. The resin composition contains resin A (compound (A) in the present embodiment) and resin B (crosslinking agent (B) in the present embodiment). Curve C1 is a graph showing the curing reaction process at high temperature for a short period of time. A curve C1 is a graph showing the present embodiment. Curve C2 is a graph showing the curing reaction process at low temperature for a long time. In FIG. 2, η(ab) indicates the maximum melt viscosity at which resin A and resin B can be crosslinked.

樹脂組成物が加熱される場合、樹脂Aの反応基と樹脂Bの反応基とが出会う確率が高いと、架橋密度が高くなる。上記の確率は、樹脂組成物の溶融粘度に反比例する。すなわち、溶融粘度が低ければ、樹脂A及び樹脂Bが移動しやすくなるので、上記の確率は高くなる。逆に、溶融粘度が高ければ、樹脂A及び樹脂Bが移動しにくくなるので、上記の確率は低くなる。 When the resin composition is heated, the higher the probability that the reactive groups of resin A and the reactive groups of resin B meet, the higher the crosslink density. The above probability is inversely proportional to the melt viscosity of the resin composition. That is, when the melt viscosity is low, the resin A and the resin B move more easily, so the above probability increases. Conversely, if the melt viscosity is high, the resin A and the resin B will be difficult to move, so the above probability will be low.

低温長時間での硬化反応過程では、図2の曲線C2で示すように、加熱するにしたがって緩やかに溶融粘度が低下し、さらに加熱すると、硬化反応が開始して緩やかに溶融粘度が上昇する。このような過程では、昇温速度が遅く、最低溶融粘度が高くなる。曲線C2では、η(ab)から最低溶融粘度を経て再びη(ab)に至るまでの時間(t2)が長くなるため、樹脂Aと樹脂Bとが出会う確率が高くなり、架橋密度が高くなる。これにより、樹脂組成物の硬化物のガラス転移温度(Tg)は高くなり、例えば210℃を超えやすくなる。そのため、高温(例えば260℃)での硬化物の弾性率が高くなりやすい。したがって、低温長時間での硬化反応過程を経て製造された金属張積層板1については、高温時において反りやすくなる。 In the curing reaction process at a low temperature for a long time, as shown by the curve C2 in FIG. 2, the melt viscosity gradually decreases with heating, and when further heated, the curing reaction starts and the melt viscosity gradually increases. In such a process, the temperature rise rate is slow and the minimum melt viscosity is high. In curve C2, the time (t2) from η(ab) to η(ab) again after passing through the lowest melt viscosity increases, so the probability that resin A and resin B meet increases, and the crosslink density increases. . As a result, the glass transition temperature (Tg) of the cured product of the resin composition becomes high, and easily exceeds 210° C., for example. Therefore, the elastic modulus of the cured product at a high temperature (for example, 260° C.) tends to be high. Therefore, the metal-clad laminate 1 manufactured through a curing reaction process at a low temperature for a long time tends to warp at a high temperature.

これに対して、高温短時間での硬化反応過程(つまり本実施形態)では、図2の曲線C1で示すように、加熱するにしたがって急速に溶融粘度が低下し、さらに加熱すると、硬化反応が開始して急速に溶融粘度が上昇する。このような過程では、昇温速度が速く、最低溶融粘度が低くなる。曲線C1では、η(ab)から最低溶融粘度を経て再びη(ab)に至るまでの時間(t1)が、上記のt2に比べて短くなるため(t1<t2)、樹脂Aと樹脂Bとが出会う確率が低くなり、架橋密度が低くなる。これにより、樹脂組成物の硬化物のガラス転移温度(Tg)は低くなり、例えば210℃以下となりやすくなる。そのため、高温(例えば260℃)での硬化物の弾性率が低くなりやすい。したがって、高温短時間での硬化反応過程を経て製造された金属張積層板1については、高温時において反りにくくなる。バッチプレス方式では、このような金属張積層板1を得ることが難しい。なお、樹脂組成物の硬化物のガラス転移温度(Tg)は、好ましくは180℃以上である。 On the other hand, in the curing reaction process at high temperature for a short time (that is, this embodiment), as shown by the curve C1 in FIG. The melt viscosity begins to rise rapidly. In such a process, the temperature rise rate is high and the minimum melt viscosity is low. In the curve C1, the time (t1) from η(ab) to η(ab) again after passing through the lowest melt viscosity is shorter than the above t2 (t1<t2). are less likely to meet, resulting in a lower crosslink density. As a result, the glass transition temperature (Tg) of the cured product of the resin composition is lowered, and tends to be 210° C. or lower, for example. Therefore, the elastic modulus of the cured product at a high temperature (for example, 260° C.) tends to be low. Therefore, the metal-clad laminate 1 produced through the curing reaction process at high temperature for a short period of time is less likely to warp at high temperatures. It is difficult to obtain such a metal-clad laminate 1 by the batch press method. The glass transition temperature (Tg) of the cured product of the resin composition is preferably 180°C or higher.

(3)変形例
上記実施形態では、ダブルベルトプレス装置100を用いて金属張積層板1を製造しているが、高温短時間での加熱加圧が可能な装置であれば、ダブルベルトプレス装置100に限定されない。例えば、ロール式ラミネート機でもよい。
(3) Modification In the above-described embodiment, the metal-clad laminate 1 is manufactured using the double belt press machine 100. However, a double belt press machine can be used as long as it is capable of heating and pressurizing at high temperature in a short time. Not limited to 100. For example, a roll type laminator may be used.

以下、本開示を実施例によって具体的に説明する。ただし、本開示は、実施例に限定されない。 EXAMPLES The present disclosure will be specifically described below with reference to Examples. However, the present disclosure is not limited to the examples.

[金属張積層板]
<材料>
≪樹脂シート≫
樹脂シートは、以下の樹脂組成物を以下の基材に含浸させて得た。
[Metal clad laminate]
<Material>
≪Resin sheet≫
The resin sheet was obtained by impregnating the following base material with the following resin composition.

〔樹脂組成物〕
樹脂組成物には、以下の(A)変性ポリフェニレンエーテル(不飽和二重結合を有する基を末端に有する)、(B)架橋剤(炭素-炭素二重結合を有する)、(C)リン化合物、及び(D)無機充填材が表1に示す含有量(質量部)で含有されている。
[Resin composition]
The resin composition includes the following (A) modified polyphenylene ether (having a group having an unsaturated double bond at its end), (B) a cross-linking agent (having a carbon-carbon double bond), and (C) a phosphorus compound , and (D) an inorganic filler in the content (parts by mass) shown in Table 1.

(A)変性ポリフェニレンエーテル(m-PPE)
・SABICイノベーティブプラスチックス社製、商品名「SA9000」
(B)架橋剤
・日本曹達株式会社製、商品名「B-1000」、ポリブタジエンオリゴマー(1,2-ポリブタジエンホモポリマー)、数平均分子量1200
(C)リン化合物
・リン酸エステル:大八化学工業株式会社製、商品名「PX-200」
・ホスフィン酸塩:クラリアントジャパン株式会社製、商品名「OP935」
(D)無機充填材
・株式会社アドマテックス、商品名「SC-2050MTX」、球状シリカ、平均粒子径0.5μm
〔基材〕
・ガラスクロス:日東紡績株式会社製、商品名「#7628タイプ」、厚さ173μm
≪金属箔≫
金属箔は、以下の銅箔を用意した。
(A) modified polyphenylene ether (m-PPE)
・Manufactured by SABIC Innovative Plastics Co., Ltd., product name “SA9000”
(B) Crosslinking agent Nippon Soda Co., Ltd., trade name “B-1000”, polybutadiene oligomer (1,2-polybutadiene homopolymer), number average molecular weight 1200
(C) Phosphorus compound Phosphate ester: Daihachi Chemical Industry Co., Ltd., trade name “PX-200”
・ Phosphinate: Clariant Japan Co., Ltd., trade name “OP935”
(D) Inorganic filler Admatechs Co., Ltd., trade name “SC-2050MTX”, spherical silica, average particle size 0.5 μm
〔Base material〕
・ Glass cloth: manufactured by Nitto Boseki Co., Ltd., trade name “#7628 type”, thickness 173 μm
≪Metal foil≫
As the metal foil, the following copper foil was prepared.

・銅箔:三井金属鉱業株式会社製、商品名「3EC-M3-VLP」、厚さ18μm
<製造方法>
≪装置≫
実施例1~10及び比較例2~3ではダブルベルトプレス装置を使用して、両面銅張積層板を製造した。比較例1ではバッチプレス装置を使用して、両面銅張積層板を製造した。
・Copper foil: Mitsui Kinzoku Mining Co., Ltd., product name “3EC-M3-VLP”, thickness 18 μm
<Manufacturing method>
≪Equipment≫
In Examples 1-10 and Comparative Examples 2-3, double-sided copper-clad laminates were produced using a double belt press. In Comparative Example 1, a double-sided copper-clad laminate was manufactured using a batch press apparatus.

≪加熱加圧条件≫
表1に示すように、加熱加圧条件を変えて、両面銅張積層板を製造した。具体的には、昇温速度Tv(℃/sec)、昇温開始温度Ts(℃)、最高温度Tmax(℃)、最高温度を保持する間のプレス圧(MPa)、及び最高温度保持時間Ht(min)のうち、昇温速度Tv(℃/sec)、最高温度Tmax(℃)、及び最高温度保持時間Ht(min)を変えた。これらの数値から熱履歴Th(℃・min)を算出した。
≪Heating and pressurizing conditions≫
As shown in Table 1, double-sided copper-clad laminates were produced by changing the heating and pressurizing conditions. Specifically, the temperature rise rate Tv (° C./sec), the temperature rise start temperature Ts (° C.), the maximum temperature Tmax (° C.), the press pressure (MPa) while maintaining the maximum temperature, and the maximum temperature holding time Ht (min), the temperature increase rate Tv (°C/sec), the maximum temperature Tmax (°C), and the maximum temperature holding time Ht (min) were changed. Thermal history Th (°C·min) was calculated from these values.

上記のようにして得られた両面銅張積層板について、以下の試験項目で試験を行った。その結果を表1に示す。 The double-sided copper-clad laminate obtained as described above was tested under the following test items. Table 1 shows the results.

[反り]
両面銅張積層板の両面の銅箔を除去して17mm角の基板を得、この基板の片面に15mm角のシリコンチップを実装して試料を得た。この試料の260℃における反りを測定した。具体的には、260℃の雰囲気下において、シリコンチップが上側、基板が下側となるように試料を水平面に配置した。そして、水平面からの試料の最大高さを反りとして測定した。なお、試料が上側に反っている場合は、反りの数値にプラスの符号を付け、試料が下側に反っている場合は、反りの数値にマイナスの符号を付けた。
[warp]
A 17 mm square substrate was obtained by removing the copper foil on both sides of the double-sided copper-clad laminate, and a 15 mm square silicon chip was mounted on one side of this substrate to obtain a sample. The warpage of this sample at 260°C was measured. Specifically, in an atmosphere of 260° C., the sample was placed on a horizontal plane so that the silicon chip was on the upper side and the substrate was on the lower side. Then, the maximum height of the sample from the horizontal plane was measured as warpage. When the sample warps upward, a plus sign is given to the warp value, and when the sample warps downward, a minus sign is given to the warp value.

[比誘電率(Dk)]
10GHzにおける両面銅張積層板の比誘電率を空洞共振器摂動法で測定した。測定には、ネットワーク・アナライザ(キーサイトテクノロジー社製、商品名「N5230A」)を用いた。
[Dielectric constant (Dk)]
The dielectric constant of the double-sided copper-clad laminate at 10 GHz was measured by the cavity resonator perturbation method. A network analyzer (manufactured by Keysight Technologies, trade name “N5230A”) was used for the measurement.

[ガラス転移温度(Tg)]
両面銅張積層板の両面の銅箔を除去した。これを試料として、動的粘弾性測定(DMA)により、tanδ(損失弾性率/貯蔵弾性率)の最大値をガラス転移温度(Tg)とした。測定には、動的粘弾性測定装置(エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社製、商品名「DMS6100」)を用いた。引張モジュールで5℃/分の昇温条件にて測定を行った。
[Glass transition temperature (Tg)]
The copper foils on both sides of the double-sided copper-clad laminate were removed. Using this as a sample, the maximum value of tan δ (loss modulus/storage modulus) was defined as the glass transition temperature (Tg) by dynamic viscoelasticity measurement (DMA). A dynamic viscoelasticity measuring device (manufactured by SII Nanotechnology Co., Ltd., trade name "DMS6100") was used for the measurement. The measurement was performed with a tensile module under the condition of temperature increase of 5°C/min.

[銅箔引きはがし強さ]
両面銅張積層板の絶縁層から銅箔を引きはがした。このときの引きはがし強さをJIS C 6481に準拠して測定した。具体的には、幅10mm、長さ100mmのパターンを形成し、引っ張り試験機により50mm/分の速度で引きはがし、そのときの引きはがし強さを測定した。
[Copper foil peeling strength]
The copper foil was peeled off from the insulating layer of the double-sided copper-clad laminate. The peel strength at this time was measured according to JIS C 6481. Specifically, a pattern with a width of 10 mm and a length of 100 mm was formed and peeled off at a speed of 50 mm/min by a tensile tester, and the peel strength at that time was measured.

Figure 0007325038000008
Figure 0007325038000008

実施例1~10では、いずれも高温時における反りが低減されていることが分かる。 In Examples 1 to 10, it can be seen that warpage at high temperatures is reduced.

これに対して、比較例1では、最高温度が各実施例に比べて低いにもかかわらず、昇温速度が遅すぎるため、ガラス転移温度(Tg)が高くなり過ぎることが分かる。 On the other hand, in Comparative Example 1, although the maximum temperature is lower than those of the Examples, the rate of temperature increase is too slow, so that the glass transition temperature (Tg) is too high.

また比較例2では、最高温度保持時間が短く、熱履歴の数値が小さくなってしまうので、ガラス転移温度(Tg)が低くなり過ぎることが分かる。つまり、未硬化部分が残ってしまう。 In Comparative Example 2, the maximum temperature holding time was short, and the numerical value of the thermal history was small, so it can be seen that the glass transition temperature (Tg) was too low. That is, an uncured portion remains.

また比較例3では、熱履歴の数値が大きくなってしまうので、ガラス転移温度(Tg)が高くなり過ぎることが分かる。 Also, in Comparative Example 3, the numerical value of the thermal history becomes large, so it can be seen that the glass transition temperature (Tg) becomes too high.

1 金属張積層板
2 樹脂シート
3 金属箔
1 metal-clad laminate 2 resin sheet 3 metal foil

Claims (6)

不飽和二重結合を有する基を末端に有する変性ポリフェニレンエーテル化合物(A)、及び炭素-炭素二重結合を有する架橋剤(B)を含有する樹脂シートと、金属箔と、を重ねて積層体とする工程と、下記式(1)で示される熱履歴Thが500℃・min以上3000℃・min以下の範囲内となるように、前記積層体に対して加熱を行う処理工程と、を含み、
前記変性ポリフェニレンエーテル化合物(A)の1分子当たりの、前記不飽和二重結合を有する基の平均個数が、1個以上5個以下であり、
前記架橋剤(B)の百分比が、前記変性ポリフェニレンエーテル化合物(A)と前記架橋剤(B)との合計量に対して5質量%以上70質量%以下である
金属張積層板の製造方法。
(式(1)中、Th(℃・min)は熱履歴を示す。Tmax(℃)は最高温度を示し、240≦Tmax≦350を満たす。Ts(℃)は昇温開始温度を示す。Tv(℃/sec)は昇温速度を示す。Ht(min)は最高温度保持時間を示し、1.5≦Ht≦6.0を満たす。)
A laminate by stacking a resin sheet containing a modified polyphenylene ether compound (A) having a group having an unsaturated double bond at its end and a cross-linking agent (B) having a carbon-carbon double bond and a metal foil and a treatment step of heating the laminate so that the thermal history Th represented by the following formula (1) is in the range of 500 ° C. min or more and 3000 ° C. min or less. fruit,
The average number of groups having an unsaturated double bond per molecule of the modified polyphenylene ether compound (A) is 1 or more and 5 or less,
The percentage of the cross-linking agent (B) is 5% by mass or more and 70% by mass or less with respect to the total amount of the modified polyphenylene ether compound (A) and the cross-linking agent (B).
A method for producing a metal-clad laminate.
(In formula (1), Th (° C. min) indicates the thermal history. Tmax (° C.) indicates the maximum temperature and satisfies 240≦Tmax≦350. Ts (° C.) indicates the temperature at which temperature rise starts. (°C/sec) indicates the rate of temperature rise, Ht (min) indicates the maximum temperature retention time, and satisfies 1.5 ≤ Ht ≤ 6.0.)
前記式(1)中、2≦Tv≦8を更に満たす、
請求項1に記載の金属張積層板の製造方法。
In the above formula (1), further satisfying 2 ≤ Tv ≤ 8,
The method for manufacturing the metal-clad laminate according to claim 1.
前記処理工程において、前記積層体に対して加熱と共に加圧を行い、
前記最高温度を保持する間の圧力が0.5MPa以上である、
請求項1又は2に記載の金属張積層板の製造方法。
In the treatment step, the laminate is heated and pressurized,
The pressure while holding the maximum temperature is 0.5 MPa or more,
A method for producing a metal-clad laminate according to claim 1 or 2.
前記加熱をロールツーロール方式により行う、
請求項3に記載の金属張積層板の製造方法。
The heating is performed by a roll-to-roll method,
The method for manufacturing the metal-clad laminate according to claim 3.
前記樹脂シートは、リン化合物を更に含有する、
請求項1~4のいずれか1項に記載の金属張積層板の製造方法。
The resin sheet further contains a phosphorus compound,
A method for producing a metal-clad laminate according to any one of claims 1 to 4.
前記樹脂シートは、無機充填材を更に含有する、
請求項1~5のいずれか1項に記載の金属張積層板の製造方法。
The resin sheet further contains an inorganic filler,
A method for producing a metal-clad laminate according to any one of claims 1 to 5.
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