JP7318522B2 - 推定装置、推定方法、推定プログラム - Google Patents
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Description
外界へのビーム照射により観測したターゲット(6)からのビーム反射を受けて光学画像(Is)を出力する光学センサ(30)を、搭載した車両(4)の位置を含む状態量(Z)を、推定する推定装置(1)であって、
前後方向(X)に沿う基準方位(Bs)から側方へ広がる照射レンジ(Θs)でのビーム照射に応じてターゲットまでの距離値がデータ化されて光学センサから出力される光学画像に基づいて、状態量を推定する状態量推定部(100)と、
状態量の推定に生じる推定誤差であって、光学画像に対する地図情報(Im)のマッチング処理による観測残差(Δox,Δoy)に対する推定誤差として、前後方向(X)における前後推定誤差(Eex)及び左右方向(Y)における左右推定誤差(Eey)を取得する推定誤差取得部(120)と、
前後推定誤差及び左右推定誤差のうち大きい側を大側推定誤差と定義すると、照射レンジにおける照射タイミング(t)毎のビームステアリング角度(θ)のうち、大側推定誤差の方向に最も近いビームステアリング角度側において照射密度を高い側にバイアスする指向パターン(Psd)へ、照射レンジでの照射タイミング毎のビームステアリング角度に応じた照射密度の分布であるビームパターン(Ps)を調整するビーム調整部(180)とを、備える。
外界へのビーム照射により観測したターゲット(6)からのビーム反射を受けて光学画像(Is)を出力する光学センサ(30)を、搭載した車両(4)の位置を含む状態量(Z)を、推定するためにプロセッサ(12)により実行される推定方法であって、
前後方向(X)に沿う基準方位(Bs)から側方へ広がる照射レンジ(Θs)でのビーム照射に応じてターゲットまでの距離値がデータ化されて光学センサから出力される光学画像に基づいて、状態量を推定する状態量推定プロセス(S10)と、
状態量の推定に生じる推定誤差であって、光学画像に対する地図情報(Im)のマッチング処理による観測残差(Δox,Δoy)に対する推定誤差として、前後方向(X)における前後推定誤差(Eex)及び左右方向(Y)における左右推定誤差(Eey)を取得する推定誤差取得プロセス(S20)と、
前後推定誤差及び左右推定誤差のうち大きい側を大側推定誤差と定義すると、照射レンジにおける照射タイミング(t)毎のビームステアリング角度(θ)のうち、大側推定誤差の方向に最も近いビームステアリング角度側において照射密度を高い側にバイアスする指向パターン(Psd)へ、照射レンジでの照射タイミング毎のビームステアリング角度に応じた照射密度の分布であるビームパターン(Ps)を調整するビーム調整プロセス(S50)とを、含む。
外界へのビーム照射により観測したターゲット(6)からのビーム反射を受けて光学画像(Is)を出力する光学センサ(30)を、搭載した車両(4)の位置を含む状態量(Z)を、推定するために記憶媒体(10)に格納され、プロセッサ(12)に実行させる命令を含む推定プログラムであって、
命令は、
前後方向(X)に沿う基準方位(Bs)から側方へ広がる照射レンジ(Θs)でのビーム照射に応じてターゲットまでの距離値がデータ化されて光学センサから出力される光学画像に基づいて、状態量を推定させる状態量推定プロセス(S10)と、
状態量の推定に生じる推定誤差であって、光学画像に対する地図情報(Im)のマッチング処理による観測残差(Δox,Δoy)に対する推定誤差として、前後方向(X)における前後推定誤差(Eex)及び左右方向(Y)における左右推定誤差(Eey)を取得させる推定誤差取得プロセス(S20)と、
前後推定誤差及び左右推定誤差のうち大きい側を大側推定誤差と定義すると、照射レンジにおける照射タイミング(t)毎のビームステアリング角度(θ)のうち、大側推定誤差の方向に最も近いビームステアリング角度側において照射密度を高い側にバイアスする指向パターン(Psd)へ、照射レンジでの照射タイミング毎のビームステアリング角度に応じた照射密度の分布であるビームパターン(Ps)を調整させるビーム調整プロセス(S50)とを、含む。
以上説明した本実施形態の作用効果を、以下に説明する。
以上、一実施形態について説明したが、本開示は、当該実施形態に限定して解釈されるものではなく、本開示の要旨を逸脱しない範囲内において種々の実施形態に適用することができる。
Claims (18)
- 外界へのビーム照射により観測したターゲット(6)からのビーム反射を受けて光学画像(Is)を出力する光学センサ(30)を、搭載した車両(4)の位置を含む状態量(Z)を、推定する推定装置(1)であって、
前後方向(X)に沿う基準方位(Bs)から側方へ広がる照射レンジ(Θs)での前記ビーム照射に応じて前記ターゲットまでの距離値がデータ化されて前記光学センサから出力される前記光学画像に基づいて、前記状態量を推定する状態量推定部(100)と、
前記状態量の推定に生じる推定誤差であって、前記光学画像に対する地図情報(Im)のマッチング処理による観測残差(Δox,Δoy)に対する推定誤差として、前後方向(X)における前後推定誤差(Eex)及び左右方向(Y)における左右推定誤差(Eey)を取得する推定誤差取得部(120)と、
前記前後推定誤差及び前記左右推定誤差のうち大きい側を大側推定誤差と定義すると、前記照射レンジにおける照射タイミング(t)毎のビームステアリング角度(θ)のうち、前記大側推定誤差の方向に最も近い前記ビームステアリング角度側において照射密度を高い側にバイアスする指向パターン(Psd)へ、前記照射レンジでの前記照射タイミング毎の前記ビームステアリング角度に応じた前記照射密度の分布であるビームパターン(Ps)を調整するビーム調整部(180)とを、備える推定装置。 - 前記前後推定誤差及び前記左右推定誤差のうち小さい側を小側推定誤差と定義すると、前記ビーム調整部は、前記小側推定誤差の方向に最も近い前記ビームステアリング角度側において照射密度を低い側にバイアスする前記指向パターンへ、前記ビームパターンを調整する請求項1に記載の推定装置。
- 前記ビーム調整部は、前記前後推定誤差と前記左右推定誤差との推定比率(Re)に基づく照射密度を前記ビームステアリング角度に関して関数化した、密度関数(Fd)を満たす前記指向パターンへ、前記ビームパターンを調整する請求項1又は2に記載の推定装置。
- 前記光学センサによる前記ターゲットの観測に生じる誤差として、前後方向(X)における前後観測誤差(Eox)及び左右方向(Y)における左右観測誤差(Eoy)を、前記照射タイミング毎の前記ビームステアリング角度に対応付けて取得する観測誤差取得部(160)を、さらに備え、
前記ビーム調整部は、前記推定比率に基づくと共に、前記前後観測誤差と前記左右観測誤差との観測比率(Ro)に基づいた前記密度関数を満たす前記指向パターンへ、前記ビームパターンを調整する請求項3に記載の推定装置。 - 前記ビーム調整部は、前記密度関数において前記観測比率に対する調整ゲイン(δ,ε)を、前記推定比率に基づいて設定する請求項4に記載の推定装置。
- 前記前後推定誤差及び前記左右推定誤差のうち少なくとも一方が許容範囲から大きい側に外れる場合に前記ビーム調整部は、前記ビームパターンを更新する請求項1~5のいずれか一項に記載の推定装置。
- 外界へのビーム照射により観測したターゲット(6)からのビーム反射を受けて光学画像(Is)を出力する光学センサ(30)を、搭載した車両(4)の位置を含む状態量(Z)を、推定するためにプロセッサ(12)により実行される推定方法であって、
前後方向(X)に沿う基準方位(Bs)から側方へ広がる照射レンジ(Θs)での前記ビーム照射に応じて前記ターゲットまでの距離値がデータ化されて前記光学センサから出力される前記光学画像に基づいて、前記状態量を推定する状態量推定プロセス(S10)と、
前記状態量の推定に生じる推定誤差であって、前記光学画像に対する地図情報(Im)のマッチング処理による観測残差(Δox,Δoy)に対する推定誤差として、前後方向(X)における前後推定誤差(Eex)及び左右方向(Y)における左右推定誤差(Eey)を取得する推定誤差取得プロセス(S20)と、
前記前後推定誤差及び前記左右推定誤差のうち大きい側を大側推定誤差と定義すると、前記照射レンジにおける照射タイミング(t)毎のビームステアリング角度(θ)のうち、前記大側推定誤差の方向に最も近い前記ビームステアリング角度側において照射密度を高い側にバイアスする指向パターン(Psd)へ、前記照射レンジでの前記照射タイミング毎の前記ビームステアリング角度に応じた前記照射密度の分布であるビームパターン(Ps)を調整するビーム調整プロセス(S50)とを、含む推定方法。 - 前記前後推定誤差及び前記左右推定誤差のうち小さい側を小側推定誤差と定義すると、前記ビーム調整プロセスは、前記小側推定誤差の方向に最も近い前記ビームステアリング角度側において照射密度を低い側にバイアスする前記指向パターンへ、前記ビームパターンを調整する請求項7に記載の推定方法。
- 前記ビーム調整プロセスは、前記前後推定誤差と前記左右推定誤差との推定比率(Re)に基づいて照射密度を前記ビームステアリング角度に関して関数化した、密度関数(Fd)を満たす前記指向パターンへ、前記ビームパターンを調整する請求項7又は8に記載の推定方法。
- 前記光学センサによる前記ターゲットの観測に生じる誤差として、前後方向(X)における前後観測誤差(Eox)及び左右方向(Y)における左右観測誤差(Eoy)を、前記照射タイミング毎のビームステアリング角度に対応付けて取得する観測誤差取得プロセス(S40)を、さらに含み、
前記ビーム調整プロセスは、前記推定比率に基づくと共に、前記前後観測誤差と前記左右観測誤差との観測比率(Ro)に基づいた前記密度関数を満たす前記指向パターンへ、前記ビームパターンを調整する請求項9に記載の推定方法。 - 前記ビーム調整プロセスは、前記密度関数において前記観測比率に対する調整ゲイン(δ,ε)を、前記推定比率に基づいて設定する請求項10に記載の推定方法。
- 前記前後推定誤差及び前記左右推定誤差のうち少なくとも一方が許容範囲から大きい側に外れる場合に前記ビーム調整プロセスは、前記ビームパターンを更新する請求項7~11のいずれか一項に記載の推定方法。
- 外界へのビーム照射により観測したターゲット(6)からのビーム反射を受けて光学画像(Is)を出力する光学センサ(30)を、搭載した車両(4)の位置を含む状態量(Z)を、推定するために記憶媒体(10)に格納され、プロセッサ(12)に実行させる命令を含む推定プログラムであって、
前記命令は、
前後方向(X)に沿う基準方位(Bs)から側方へ広がる照射レンジ(Θs)での前記ビーム照射に応じて前記ターゲットまでの距離値がデータ化されて前記光学センサから出力される前記光学画像に基づいて、前記状態量を推定させる状態量推定プロセス(S10)と、
前記状態量の推定に生じる
前記状態量の推定に生じる推定誤差であって、前記光学画像に対する地図情報(Im)のマッチング処理による観測残差(Δox,Δoy)に対する推定誤差として、前後方向(X)における前後推定誤差(Eex)及び左右方向(Y)における左右推定誤差(Eey)を取得させる推定誤差取得プロセス(S20)と、
前記前後推定誤差及び前記左右推定誤差のうち大きい側を大側推定誤差と定義すると、前記照射レンジにおける照射タイミング(t)毎のビームステアリング角度(θ)のうち、前記大側推定誤差の方向に最も近い前記ビームステアリング角度側において照射密度を高い側にバイアスする指向パターン(Psd)へ、前記照射レンジでの前記照射タイミング毎の前記ビームステアリング角度に応じた前記照射密度の分布であるビームパターン(Ps)を調整させるビーム調整プロセス(S50)とを、含む推定プログラム。 - 前記前後推定誤差及び前記左右推定誤差のうち小さい側を小側推定誤差と定義すると、前記ビーム調整プロセスは、前記小側推定誤差の方向に最も近い前記ビームステアリング角度側において照射密度を低い側にバイアスする前記指向パターンへ、前記ビームパターンを調整させる請求項13に記載の推定プログラム。
- 前記ビーム調整プロセスは、前記前後推定誤差と前記左右推定誤差との推定比率(Re)に基づく照射密度を前記ビームステアリング角度に関して関数化した、密度関数(Fd)を満たす前記指向パターンへ、前記ビームパターンを調整させる請求項13又は14に記載の推定プログラム。
- 前記命令は、
前記光学センサによる前記ターゲットの観測に生じる誤差として、前後方向(X)における前後観測誤差(Eox)及び左右方向(Y)における左右観測誤差(Eoy)を、前記照射タイミング毎のビームステアリング角度に対応付けて取得させる観測誤差取得プロセス(S40)を、さらに含み、
前記ビーム調整プロセスは、前記推定比率に基づくと共に、前記前後観測誤差と前記左右観測誤差との観測比率(Ro)に基づいた前記密度関数を満たす前記指向パターンへ、前記ビームパターンを調整させる請求項15に記載の推定プログラム。 - 前記ビーム調整プロセスは、前記密度関数において前記観測比率に対する調整ゲイン(δ,ε)を、前記推定比率に基づいて設定させる請求項16に記載の推定プログラム。
- 前記前後推定誤差及び前記左右推定誤差のうち少なくとも一方が許容範囲から大きい側に外れる場合に前記ビーム調整プロセスは、前記ビームパターンを更新させる請求項13~17のいずれか一項に記載の推定プログラム。
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