JP7301607B2 - Radiological diagnostic equipment - Google Patents

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Description

本発明の実施形態は、放射線診断装置に関する。 An embodiment of the present invention relates to a radiological diagnostic apparatus.

X線CT(Computed Tomography)装置やPET(Positron Emission Tomography)装置、SPECT(Single Photon Emission Computed Tomography)装置等の放射線診断装置では、シンチレータによってX線やガンマ線等の放射線が可視光に変換される。そして、フォトダイオード等の光センサによって可視光がアナログ形式の電気信号に変換される。そして、DAS(Data Acquisition System)等によってアナログ形式の電気信号がデジタル形式の電気信号(デジタルデータ)に変換される。 2. Description of the Related Art In radiation diagnostic apparatuses such as X-ray CT (Computed Tomography) apparatuses, PET (Positron Emission Tomography) apparatuses, and SPECT (Single Photon Emission Computed Tomography) apparatuses, scintillators convert radiation such as X-rays and gamma rays into visible light. Visible light is then converted into an analog electrical signal by a photosensor such as a photodiode. Then, the analog electrical signal is converted into a digital electrical signal (digital data) by a DAS (Data Acquisition System) or the like.

シンチレータは、X線の入力に対して、発せられる光が時間をかけて徐々に減衰する遅延蛍光(アフターグロー)という特性を有する。アフターグローによって、例えば、X線CT装置による撮影において、後続の複数のビューに亘って、シンチレータから光が発せられる。このため、放射線診断装置により得られる放射線画像の時間分解能が悪化したり、放射線画像にアーチファクトが発生したり、放射線画像がぼけたりする。例えば、X線のエネルギーが刻々と変化するデュアルエナジースキャンや、X線管及びX線検出器が高速で回転する高速スキャンでは、アフターグローを起因として時間分解能が顕著に悪化したり、アフターグローを起因とするアーチファクトが顕著に発生したりする。また、心臓等の動きが比較的速い撮影対象を高速スキャンで撮影する場合にも、アフターグローを起因として時間分解能が顕著に悪化したり、アフターグローを起因とするアーチファクトが顕著に発生したりする。 A scintillator has a characteristic of delayed fluorescence (afterglow) in which the emitted light is gradually attenuated over time with respect to the input of X-rays. Afterglow causes light to be emitted from the scintillator over a plurality of subsequent views in, for example, X-ray CT imaging. As a result, the time resolution of the radiographic image obtained by the radiodiagnostic apparatus deteriorates, artifacts occur in the radiographic image, and the radiographic image blurs. For example, in a dual energy scan in which the X-ray energy changes moment by moment, or a high-speed scan in which the X-ray tube and X-ray detector rotate at high speed, the afterglow causes a significant deterioration in the time resolution, or the afterglow Artifacts caused by this may occur remarkably. Also, when imaging an object to be imaged that moves relatively quickly, such as the heart, by high-speed scanning, temporal resolution is significantly deteriorated due to afterglow, and artifacts due to afterglow are significantly generated. .

一方で、アフターグローによって、光センサから出力される電気信号のS/N(signal-to-noise ratio)が改善される面もある。そして、例えば、骨等の動きが小さい撮影対象を撮影する場合には、ノイズの少ない画像を得るために、アフターグローの影響を許容してでも、S/Nを良好にしたいという操作者の要望がある。また、例えば、体幹部等のノイズの影響を比較的受けやすい撮影対象を撮影する場合にも、ノイズの少ない画像を得るために、アフターグローの影響を許容してでも、S/Nを良好にしたいという操作者の要望がある。 On the other hand, the afterglow also improves the S/N (signal-to-noise ratio) of the electrical signal output from the optical sensor. For example, when photographing an object to be photographed such as a bone whose movement is small, the operator desires to improve the S/N even if the influence of afterglow is allowed in order to obtain an image with less noise. There is Also, for example, when photographing an object relatively susceptible to the effects of noise, such as the torso, in order to obtain an image with little noise, the S/N ratio should be good even if the influence of afterglow is allowed. There is an operator's desire to

したがって、撮影する部位、スキャン条件に応じて適切にアフターグローの影響を低減させることが望まれる。 Therefore, it is desirable to appropriately reduce the influence of afterglow according to the site to be imaged and the scanning conditions.

特開平10-274675号公報JP-A-10-274675 特表2016-519183号公報Japanese Patent Publication No. 2016-519183 特開平11-160440号公報JP-A-11-160440

本発明が解決しようとする課題は、適切にアフターグローの影響を低減させることができる放射線診断装置を提供することである。 A problem to be solved by the present invention is to provide a radiological diagnostic apparatus that can appropriately reduce the influence of afterglow.

実施形態の放射線診断装置は、放射線検出器と、受付部と、処理部とを備える。放射線検出器は、入射放射線に応じて発光するシンチレータ、及び、シンチレータから発せられた光を検出し当該光に応じた信号を出力する光センサを含む。受付部は、スキャン条件の入力を受け付ける。処理部は、スキャン条件に基づいて、放射線検出器からの出力に対してアフターグローの影響を低減する処理を実行する。 A radiation diagnostic apparatus according to an embodiment includes a radiation detector, a reception unit, and a processing unit. The radiation detector includes a scintillator that emits light in response to incident radiation, and a photosensor that detects light emitted from the scintillator and outputs a signal corresponding to the light. The reception unit receives input of scan conditions. The processing unit executes processing for reducing the influence of afterglow on the output from the radiation detector based on the scan conditions.

図1は、第1の実施形態に係るX線CT装置の構成の一例を示す図である。FIG. 1 is a diagram showing an example of the configuration of an X-ray CT apparatus according to the first embodiment. 図2は、第1の実施形態に係るX線検出器の構成の一例を示す図である。FIG. 2 is a diagram illustrating an example of the configuration of the X-ray detector according to the first embodiment; 図3は、第1の実施形態に係るX線CT装置が実行する第1処理の一例の流れを示すフローチャートである。FIG. 3 is a flow chart showing an example of the flow of the first process executed by the X-ray CT apparatus according to the first embodiment. 図4は、第1の実施形態の変形例1に係るX線検出器の構成の一例を示す図である。FIG. 4 is a diagram showing an example of the configuration of an X-ray detector according to Modification 1 of the first embodiment. 図5Aは、第1の実施形態の変形例2に係る光センサの有感体積の一例を示す図である。5A is a diagram illustrating an example of a sensitive volume of an optical sensor according to Modification 2 of Embodiment 1. FIG. 図5Bは、第1の実施形態の変形例2に係る光センサの有感体積の一例を示す図である。5B is a diagram illustrating an example of a sensitive volume of an optical sensor according to Modification 2 of Embodiment 1. FIG. 図6は、第1の実施形態の変形例3に係るX線CT装置が実行する処理の一例を説明するための図である。FIG. 6 is a diagram for explaining an example of processing executed by the X-ray CT apparatus according to Modification 3 of the first embodiment. 図7は、第2の実施形態に係るX線CT装置の構成の一例を示す図である。FIG. 7 is a diagram showing an example of the configuration of an X-ray CT apparatus according to the second embodiment. 図8は、第2の実施形態に係るX線検出器の構成の一例を示す図である。FIG. 8 is a diagram showing an example of the configuration of an X-ray detector according to the second embodiment. 図9は、第2の実施形態に係るX線CT装置が実行する第2処理の一例の流れを示すフローチャートである。FIG. 9 is a flowchart showing an example of the flow of second processing executed by the X-ray CT apparatus according to the second embodiment. 図10は、第3の実施形態に係るX線CT装置の構成の一例を示す図である。FIG. 10 is a diagram showing an example configuration of an X-ray CT apparatus according to the third embodiment. 図11は、第3の実施形態に係るX線検出器の構成の一例を示す図である。FIG. 11 is a diagram illustrating an example of the configuration of an X-ray detector according to the third embodiment; 図12は、第3の実施形態に係るX線CT装置が実行する第3処理の一例の流れを示すフローチャートである。FIG. 12 is a flow chart showing an example of the flow of the third process executed by the X-ray CT apparatus according to the third embodiment.

以下、図面を参照して、放射線診断装置の実施形態について詳細に説明する。なお、一つの実施形態又は変形例に記載した内容は、他の実施形態又は他の変形例にも同様に適用されてもよい。 Hereinafter, embodiments of a radiological diagnostic apparatus will be described in detail with reference to the drawings. Note that the contents described in one embodiment or modified example may be similarly applied to other embodiments or other modified examples.

(第1の実施形態)
図1を参照しながら、第1の実施形態に係るX線CT装置1の構成について説明する。図1は、第1の実施形態に係るX線CT装置1の構成の一例を示す図である。図1に示すように、X線CT装置1は、架台装置10と、寝台装置30と、コンソール装置40とを有する。X線CT装置1は、放射線診断装置の一例である。
(First embodiment)
The configuration of an X-ray CT apparatus 1 according to the first embodiment will be described with reference to FIG. FIG. 1 is a diagram showing an example of the configuration of an X-ray CT apparatus 1 according to the first embodiment. As shown in FIG. 1, the X-ray CT apparatus 1 has a gantry device 10, a bed device 30, and a console device 40. As shown in FIG. The X-ray CT apparatus 1 is an example of a radiodiagnostic apparatus.

図1においては、非チルト状態での回転フレーム13の回転軸又は寝台装置30の天板33の長手方向をZ軸方向とする。また、Z軸方向に直交し、床面に対し水平である軸方向をX軸方向とする。また、Z軸方向及びX軸方向に直交し、床面に対し垂直である軸方向をY軸方向とする。なお、図1は、説明のために架台装置10を複数方向から描画したものであり、X線CT装置1が架台装置10を1つ有する場合を示す。 In FIG. 1, the rotation axis of the rotating frame 13 or the longitudinal direction of the top plate 33 of the bed apparatus 30 in the non-tilt state is the Z-axis direction. Further, the axial direction perpendicular to the Z-axis direction and horizontal to the floor surface is defined as the X-axis direction. Further, the axial direction perpendicular to the Z-axis direction and the X-axis direction and perpendicular to the floor surface is defined as the Y-axis direction. Note that FIG. 1 illustrates the gantry 10 from a plurality of directions for explanation, and shows the case where the X-ray CT apparatus 1 has one gantry 10 .

架台装置10は、X線管11と、X線検出器12と、回転フレーム13と、X線高電圧装置14と、制御装置15と、ウェッジ16と、コリメータ17と、DAS18とを有する。架台装置10は、収集部の一例である。 The gantry device 10 has an X-ray tube 11 , an X-ray detector 12 , a rotating frame 13 , an X-ray high voltage device 14 , a control device 15 , a wedge 16 , a collimator 17 and a DAS 18 . The gantry device 10 is an example of a collection unit.

X線管11は、熱電子を発生する陰極(フィラメント)と、熱電子の衝突を受けてX線を発生する陽極(ターゲット)とを有する真空管である。X線管11は、X線高電圧装置14からの高電圧の印加により、陰極から陽極に向けて熱電子を照射することで、被検体Pに対し照射するX線を発生する。例えば、X線管11には、回転する陽極に熱電子を照射することでX線を発生させる回転陽極型のX線管がある。なお、X線管11は、X線発生部の一例である。 The X-ray tube 11 is a vacuum tube having a cathode (filament) that generates thermoelectrons and an anode (target) that generates X-rays upon collision with thermoelectrons. The X-ray tube 11 emits thermal electrons from the cathode to the anode by applying a high voltage from the X-ray high voltage device 14, thereby generating X-rays to be irradiated to the subject P. As shown in FIG. For example, the X-ray tube 11 is a rotating anode type X-ray tube that generates X-rays by irradiating a rotating anode with thermal electrons. Note that the X-ray tube 11 is an example of an X-ray generator.

X線検出器12は、X線管11から照射されて被検体Pを通過したX線を検出し、検出したX線量に対応した信号をDAS18へと出力する。X線検出器12は、例えば、X線管11の焦点を中心とした1つの円弧に沿ってチャネル方向に複数の検出素子が配列された、複数の検出素子列を有する。X線検出器12は、例えば、チャネル方向に複数の検出素子が配列された検出素子列が列方向(スライス方向、row方向)に複数配列された構造を有する。X線は、放射線の一例である。 The X-ray detector 12 detects X-rays emitted from the X-ray tube 11 and passed through the subject P, and outputs a signal corresponding to the detected X-ray dose to the DAS 18 . The X-ray detector 12 has, for example, a plurality of detector element arrays in which a plurality of detector elements are arranged in the channel direction along one circular arc centered on the focal point of the X-ray tube 11 . The X-ray detector 12 has, for example, a structure in which a plurality of detector element arrays each having a plurality of detector elements arranged in the channel direction are arranged in the column direction (slice direction, row direction). X-rays are an example of radiation.

図2は、第1の実施形態に係るX線検出器12の構成の一例を示す図である。図2に示すように、X線検出器12は、例えば、シンチレータアレイ12aと、光センサアレイ12bと、グリッド(図示せず)とを有する間接変換型の検出器である。 FIG. 2 is a diagram showing an example of the configuration of the X-ray detector 12 according to the first embodiment. As shown in FIG. 2, the X-ray detector 12 is, for example, an indirect conversion type detector having a scintillator array 12a, a photosensor array 12b, and a grid (not shown).

シンチレータアレイ12aは、複数のシンチレータ12a_1を有する。シンチレータ12a_1は入射X線量に応じた光子量の光(シンチレーション光)を出力するシンチレータ結晶を有する。すなわち、シンチレータ12a_1は、入射X線に応じて発光する。グリッドは、シンチレータアレイ12aのX線入射側の面に配置され、散乱X線を吸収するX線遮蔽板を有する。なお、グリッドはコリメータ(1次元コリメータ又は2次元コリメータ)と呼ばれる場合もある。 The scintillator array 12a has a plurality of scintillators 12a_1. The scintillator 12a_1 has a scintillator crystal that outputs a photon amount of light (scintillation light) corresponding to the amount of incident X-rays. That is, the scintillator 12a_1 emits light in response to incident X-rays. The grid is arranged on the X-ray incident side of the scintillator array 12a and has an X-ray shielding plate that absorbs scattered X-rays. Note that the grid may also be called a collimator (one-dimensional collimator or two-dimensional collimator).

図2に示すように、シンチレータ12a_1は、入射X線に応じて、短波長の光90及び長波長の光91を発する。光90は、入射X線に対して即時にシンチレータ12a_1から発せられた後、即時に減衰する(即発蛍光)。一方、光91は、アフターグローであり、入射X線に対してシンチレータ12a_1から発せられた後、ゆっくり時間をかけて徐々に減衰する。ここで、アフターグローの波長(ピーク波長)は、一般的に、即発蛍光と比して長い。本実施形態では、光91の波長(ピーク波長)は、光90の波長(ピーク波長)よりも長い。 As shown in FIG. 2, the scintillator 12a_1 emits short-wavelength light 90 and long-wavelength light 91 in response to incident X-rays. The light 90 is immediately emitted from the scintillator 12a_1 with respect to the incident X-rays and then immediately attenuated (prompt fluorescence). On the other hand, the light 91 is afterglow, and after being emitted from the scintillator 12a_1 with respect to the incident X-rays, it gradually attenuates over time. Here, the afterglow wavelength (peak wavelength) is generally longer than prompt fluorescence. In this embodiment, the wavelength (peak wavelength) of the light 91 is longer than the wavelength (peak wavelength) of the light 90 .

光センサアレイ12bは、複数の光センサ12b_1及び複数の光センサ12b_2を有する。第1の実施形態に係る光センサ12b_1,12b_2は、例えば、フォトダイオード等により実現される。X線検出器12は、単一(1つ)のシンチレータ12a_1に対して1つの光センサ12b_1及び1つの光センサ12b_2が対応付けられて構成されている。図2に示すように、シンチレータ12a_1、光センサ12b_1及び光センサ12b_2が、矢印92が示す深さ方向に沿って、この順で配置されている。光センサ12b_1は、第1の光センサの一例である。光センサ12b_2は、第2の光センサの一例である。 The photosensor array 12b has a plurality of photosensors 12b_1 and a plurality of photosensors 12b_2. The optical sensors 12b_1 and 12b_2 according to the first embodiment are implemented by, for example, photodiodes. The X-ray detector 12 is configured such that one photosensor 12b_1 and one photosensor 12b_2 are associated with a single (one) scintillator 12a_1. As shown in FIG. 2, the scintillator 12a_1, the photosensor 12b_1, and the photosensor 12b_2 are arranged in this order along the depth direction indicated by the arrow 92. As shown in FIG. The optical sensor 12b_1 is an example of a first optical sensor. The optical sensor 12b_2 is an example of a second optical sensor.

光センサ12b_1,12b_2は、光センサ12b_1,12b_2に対応付けられたシンチレータ12a_1からの光を、光量に応じた電気信号に変換する機能を有する。すなわち、光センサ12b_1,12b_2は、単一のシンチレータ12a_1から発せられた光を検出し、検出した光に応じた電気信号を出力する。X線検出器12は、放射線検出器の一例である。また、電気信号は、信号の一例である。 The photosensors 12b_1 and 12b_2 have a function of converting the light from the scintillators 12a_1 associated with the photosensors 12b_1 and 12b_2 into electrical signals corresponding to the amount of light. That is, the photosensors 12b_1 and 12b_2 detect light emitted from the single scintillator 12a_1 and output electrical signals according to the detected light. X-ray detector 12 is an example of a radiation detector. Also, an electrical signal is an example of a signal.

ここで、光センサ12b_1は、光90を検出可能な波長感度特性を有する。また、光センサ12b_2は、光91を検出可能な波長感度特性を有する。すなわち、光センサ12b_1により検出可能な光の波長帯域内に、光90の波長(ピーク波長)が含まれる。また、光センサ12b_2により検出可能な光の波長帯域内に、光91の波長(ピーク波長)が含まれる。本実施形態では、光センサ12b_1を構成する材料の種類と、光センサ12b_2を構成する材料の種類とが異なるため、光センサ12b_1が有する波長感度特性と、光センサ12b_2が有する波長感度特性とが異なる。 Here, the optical sensor 12b_1 has wavelength sensitivity characteristics that can detect the light 90 . Also, the optical sensor 12b_2 has a wavelength sensitivity characteristic capable of detecting the light 91. FIG. That is, the wavelength (peak wavelength) of the light 90 is included in the wavelength band of light detectable by the optical sensor 12b_1. Further, the wavelength (peak wavelength) of the light 91 is included in the wavelength band of light detectable by the optical sensor 12b_2. In the present embodiment, since the type of material forming the optical sensor 12b_1 and the type of material forming the optical sensor 12b_2 are different, the wavelength sensitivity characteristics of the optical sensor 12b_1 and the wavelength sensitivity characteristics of the optical sensor 12b_2 different.

したがって、光センサ12b_1は、光90を検出し、光90に応じた電気信号を出力する。また、光センサ12b_2は、光91を検出し、光91に応じた電気信号を出力する。以下の説明では、光90に応じた電気信号を、第1電気信号と称し、光91に応じた電気信号を、第2電気信号と称する場合がある。 Accordingly, the optical sensor 12b_1 detects the light 90 and outputs an electrical signal corresponding to the light 90. FIG. Also, the optical sensor 12b_2 detects the light 91 and outputs an electrical signal corresponding to the light 91 . In the following description, an electrical signal corresponding to the light 90 may be referred to as a first electrical signal, and an electrical signal corresponding to the light 91 may be referred to as a second electrical signal.

図1の説明に戻り、回転フレーム13は、X線管11とX線検出器12とを対向支持し、制御装置15によってX線管11とX線検出器12とを回転させる円環状のフレームである。例えば、回転フレーム13は、アルミニウムを材料とした鋳物である。なお、回転フレーム13は、X線管11及びX線検出器12に加えて、X線高電圧装置14やウェッジ16、コリメータ17、DAS18等を更に支持することもできる。更に、回転フレーム13は、図1において図示しない種々の構成を更に支持することもできる。以下では、架台装置10において、回転フレーム13、及び、回転フレーム13と共に回転移動する部分を、回転部とも記載する。 Returning to the description of FIG. 1, the rotation frame 13 supports the X-ray tube 11 and the X-ray detector 12 facing each other, and rotates the X-ray tube 11 and the X-ray detector 12 by the control device 15. is. For example, the rotating frame 13 is a casting made of aluminum. In addition to the X-ray tube 11 and the X-ray detector 12, the rotating frame 13 can also support the X-ray high voltage device 14, the wedge 16, the collimator 17, the DAS 18, and the like. Additionally, the rotating frame 13 may further support various configurations not shown in FIG. Hereinafter, in the gantry device 10, the rotating frame 13 and the portion that rotates together with the rotating frame 13 are also referred to as a rotating portion.

X線高電圧装置14は、変圧器(トランス)及び整流器等の電気回路を有し、X線管11に印加する高電圧を発生する高電圧発生装置と、X線管11が発生するX線に応じた出力電圧の制御を行うX線制御装置とを有する。高電圧発生装置は、変圧器方式であってもよいし、インバータ方式であってもよい。なお、X線高電圧装置14は、回転フレーム13に設けられてもよいし、図示しない固定フレームに設けられても構わない。 The X-ray high-voltage device 14 has electric circuits such as a transformer and a rectifier, and includes a high-voltage generator that generates a high voltage to be applied to the X-ray tube 11 and an X-ray that the X-ray tube 11 generates. and an X-ray controller for controlling the output voltage according to. The high voltage generator may be of a transformer type or an inverter type. The X-ray high-voltage device 14 may be provided on the rotating frame 13 or may be provided on a fixed frame (not shown).

制御装置15は、CPU(Central Processing Unit)等を有する処理回路と、モータ及びアクチュエータ等の駆動機構とを有する。制御装置15は、入力インターフェース43からの入力信号を受けて、架台装置10及び寝台装置30の動作制御を行う。例えば、制御装置15は、回転フレーム13の回転や架台装置10のチルト、寝台装置30及び天板33の動作等について制御を行う。一例を挙げると、制御装置15は、架台装置10をチルトさせる制御として、入力された傾斜角度(チルト角度)情報により、X軸方向に平行な軸を中心に回転フレーム13を回転させる。なお、制御装置15は架台装置10に設けられてもよいし、コンソール装置40に設けられてもよい。 The control device 15 has a processing circuit having a CPU (Central Processing Unit) and the like, and drive mechanisms such as motors and actuators. The control device 15 receives an input signal from the input interface 43 and controls the operations of the gantry device 10 and the bed device 30 . For example, the control device 15 controls the rotation of the rotating frame 13, the tilt of the gantry device 10, the motions of the bed device 30 and the tabletop 33, and the like. As an example, the control device 15 rotates the rotating frame 13 about an axis parallel to the X-axis direction based on input inclination angle (tilt angle) information as control for tilting the gantry device 10 . Note that the control device 15 may be provided in the gantry device 10 or may be provided in the console device 40 .

ウェッジ16は、X線管11から照射されたX線量を調節するためのフィルタである。具体的には、ウェッジ16は、X線管11から被検体Pへ照射されるX線の分布が、予め定められた分布になるように、X線管11から照射されたX線を透過して減衰するフィルタである。例えば、ウェッジ16は、ウェッジフィルタ(wedge filter)やボウタイフィルタ(bow-tie filter)であり、所定のターゲット角度や所定の厚みとなるようにアルミニウム等を加工したフィルタである。 Wedge 16 is a filter for adjusting the dose of X-rays emitted from X-ray tube 11 . Specifically, the wedge 16 transmits the X-rays emitted from the X-ray tube 11 so that the distribution of the X-rays emitted from the X-ray tube 11 to the subject P becomes a predetermined distribution. is a filter that attenuates For example, the wedge 16 is a wedge filter or a bow-tie filter, which is a filter made of aluminum or the like so as to have a predetermined target angle and a predetermined thickness.

コリメータ17は、ウェッジ16を透過したX線の照射範囲を絞り込むための鉛板等であり、複数の鉛板等の組み合わせによってスリットを形成する。なお、コリメータ17は、X線絞りと呼ばれる場合もある。また、図1においては、X線管11とコリメータ17との間にウェッジ16が配置される場合を示すが、X線管11とウェッジ16との間にコリメータ17が配置される場合であってもよい。この場合、ウェッジ16は、X線管11から照射され、コリメータ17により照射範囲が制限されたX線を透過して減衰させる。 The collimator 17 is a lead plate or the like for narrowing down the irradiation range of the X-rays transmitted through the wedge 16, and a slit is formed by combining a plurality of lead plates or the like. Note that the collimator 17 may also be called an X-ray diaphragm. 1 shows the case where the wedge 16 is arranged between the X-ray tube 11 and the collimator 17, the case where the collimator 17 is arranged between the X-ray tube 11 and the wedge 16 good too. In this case, the wedge 16 transmits and attenuates the X-rays emitted from the X-ray tube 11 and whose irradiation range is limited by the collimator 17 .

DAS18は、X線検出器12が有する各検出素子によって検出されるX線の信号を収集する。例えば、DAS18は、各検出素子から出力される電気信号に対して増幅処理を行う増幅器と、電気信号をデジタル信号に変換するA/D変換器とを有し、検出データを生成する。 The DAS 18 collects X-ray signals detected by each detection element of the X-ray detector 12 . For example, the DAS 18 has an amplifier that amplifies an electrical signal output from each detection element and an A/D converter that converts the electrical signal into a digital signal, and generates detection data.

以下の説明では、DAS18により、第1電気信号(光90に応じた電気信号)を基に生成された検出データを、第1検出データと称する場合がある。また、DAS18により、第2電気信号(光91に応じた電気信号)を基に生成された検出データを、第2検出データと称する場合がある。 In the following description, detection data generated by the DAS 18 based on the first electrical signal (the electrical signal corresponding to the light 90) may be referred to as first detection data. Moreover, the detection data generated by the DAS 18 based on the second electrical signal (the electrical signal corresponding to the light 91) may be referred to as second detection data.

DAS18が生成したデータは、回転フレーム13に設けられた発光ダイオード(Light Emitting Diode: LED)を有する送信機から、光通信によって、架台装置10の非回転部分(例えば、固定フレーム等。図1での図示は省略している)に設けられた、フォトダイオードを有する受信機に送信され、コンソール装置40へと転送される。ここで、非回転部分とは、例えば、回転フレーム13を回転可能に支持する固定フレーム等である。なお、回転フレーム13から架台装置10の非回転部分へのデータの送信方法は、光通信に限らず、非接触型の如何なるデータ伝送方式を採用してもよいし、接触型のデータ伝送方式を採用しても構わない。 The data generated by the DAS 18 is transmitted from a transmitter having a light emitting diode (LED) provided on the rotating frame 13 to a non-rotating portion (for example, a fixed frame, etc.) of the gantry 10 by optical communication. (not shown) is transmitted to a receiver having a photodiode and transferred to the console device 40 . Here, the non-rotating portion is, for example, a fixed frame or the like that rotatably supports the rotating frame 13 . The method of transmitting data from the rotating frame 13 to the non-rotating portion of the gantry 10 is not limited to optical communication, and any non-contact data transmission method may be employed. I don't mind if you hire me.

寝台装置30は、スキャン対象の被検体Pを載置、移動させる装置であり、基台31と、寝台駆動装置32と、天板33と、支持フレーム34とを有する。基台31は、支持フレーム34を鉛直方向に移動可能に支持する筐体である。寝台駆動装置32は、被検体Pが載置された天板33を、天板33の長手方向に移動する駆動機構であり、モータ及びアクチュエータ等を含む。支持フレーム34の上面に設けられた天板33は、被検体Pが載置される板である。なお、寝台駆動装置32は、天板33に加え、支持フレーム34を天板33の長手方向に移動してもよい。 The bed device 30 is a device for placing and moving a subject P to be scanned, and has a base 31 , a bed driving device 32 , a top board 33 and a support frame 34 . The base 31 is a housing that supports the support frame 34 so as to be vertically movable. The bed drive device 32 is a drive mechanism that moves the table 33 on which the subject P is placed in the longitudinal direction of the table 33, and includes a motor, an actuator, and the like. A top plate 33 provided on the upper surface of the support frame 34 is a plate on which the subject P is placed. Note that the bed driving device 32 may move the support frame 34 in the longitudinal direction of the top plate 33 in addition to the top plate 33 .

コンソール装置40は、メモリ41と、ディスプレイ42と、入力インターフェース43と、処理回路44とを有する。なお、コンソール装置40は架台装置10とは別体として説明するが、架台装置10にコンソール装置40又はコンソール装置40の各構成要素の一部が含まれてもよい。 The console device 40 has a memory 41 , a display 42 , an input interface 43 and a processing circuit 44 . Although the console device 40 is described as being separate from the gantry device 10 , the console device 40 or a part of each component of the console device 40 may be included in the gantry device 10 .

メモリ41は、例えば、RAM(Random Access Memory)、フラッシュメモリ等の半導体メモリ素子、ハードディスク、光ディスク等により実現される。メモリ41は、例えば、投影データや再構成画像データを記憶する。また、例えば、メモリ41は、X線CT装置1に含まれる回路がその機能を実現するためのプログラムを記憶する。なお、メモリ41は、X線CT装置1とネットワークを介して接続されたサーバ群(クラウド)により実現されることとしてもよい。メモリ41は、記憶部の一例である。 The memory 41 is implemented by, for example, a RAM (Random Access Memory), a semiconductor memory device such as a flash memory, a hard disk, an optical disk, or the like. The memory 41 stores projection data and reconstructed image data, for example. Also, for example, the memory 41 stores a program for the circuit included in the X-ray CT apparatus 1 to realize its function. Note that the memory 41 may be realized by a server group (cloud) connected to the X-ray CT apparatus 1 via a network. The memory 41 is an example of a storage unit.

ディスプレイ42は、各種の情報を表示する。例えば、ディスプレイ42は、処理回路44によって生成された画像データが示す画像を表示したり、医師や診療放射線技師等の操作者からの各種操作を受け付けるためのGUI(Graphical User Interface)等を表示したりする。例えば、ディスプレイ42は、液晶ディスプレイやCRT(Cathode Ray Tube)ディスプレイである。ディスプレイ42は、デスクトップ型でもよいし、コンソール装置40本体と無線通信可能なタブレット端末等で構成されることにしても構わない。 The display 42 displays various information. For example, the display 42 displays an image indicated by the image data generated by the processing circuit 44, and displays a GUI (Graphical User Interface) for receiving various operations from operators such as doctors and radiological technologists. or For example, the display 42 is a liquid crystal display or a CRT (Cathode Ray Tube) display. The display 42 may be of a desktop type, or may be configured by a tablet terminal or the like capable of wireless communication with the main body of the console device 40 .

入力インターフェース43は、操作者からの各種の入力操作を受け付け、受け付けた入力操作を電気信号に変換して処理回路44に出力する。例えば、入力インターフェース43は、スキャン条件を操作者から受け付ける。例えば、スキャン条件には、本スキャンにおける管電圧値や管電流値、回転部の回転速度に関する設定値、FOV(Field Of View)、撮影スライス厚、撮影範囲、撮影対象部位等が含まれる。 The input interface 43 receives various input operations from the operator, converts the received input operations into electrical signals, and outputs the electrical signals to the processing circuit 44 . For example, the input interface 43 receives scan conditions from the operator. For example, the scan conditions include the tube voltage value and tube current value in the main scan, setting values related to the rotation speed of the rotating unit, FOV (Field Of View), imaging slice thickness, imaging range, imaging target region, and the like.

例えば、入力インターフェース43は、マウスやキーボード、トラックボール、スイッチ、ボタン、ジョイスティック、操作面へ触れることで入力操作を行うタッチパッド、表示画面とタッチパッドとが一体化されたタッチスクリーン、光学センサを用いた非接触入力回路、音声入力回路等により実現される。なお、入力インターフェース43は、架台装置10に設けられてもよい。また、入力インターフェース43は、コンソール装置40本体と無線通信可能なタブレット端末等で構成されることにしても構わない。また、入力インターフェース43は、マウスやキーボード等の物理的な操作部品を備えるものだけに限られない。例えば、コンソール装置40とは別体に設けられた外部の入力機器から入力操作に対応する電気信号を受け取り、この電気信号を処理回路44へ出力する電気信号の処理回路も入力インターフェース43の例に含まれる。入力インターフェース43は、受付部の一例である。 For example, the input interface 43 includes a mouse, a keyboard, a trackball, a switch, a button, a joystick, a touch pad that performs input operations by touching the operation surface, a touch screen that integrates a display screen and a touch pad, and an optical sensor. It is realized by the used non-contact input circuit, voice input circuit, or the like. Note that the input interface 43 may be provided in the gantry device 10 . Also, the input interface 43 may be composed of a tablet terminal or the like capable of wireless communication with the main body of the console device 40 . Also, the input interface 43 is not limited to having physical operation parts such as a mouse and a keyboard. For example, an electrical signal processing circuit that receives an electrical signal corresponding to an input operation from an external input device provided separately from the console device 40 and outputs this electrical signal to the processing circuit 44 is an example of the input interface 43. included. The input interface 43 is an example of a reception unit.

処理回路44は、X線CT装置1全体の動作を制御する。なお、処理回路44は、コンソール装置40に含まれる場合に限られない。例えば、処理回路44は、複数のX線CT装置にて取得された検出データに対する処理を一括して行なう統合サーバに含まれてもよい。例えば、X線CT装置1とネットワークで接続された統合サーバが処理回路44を有してもよい。この場合、X線CT装置1は、収集した検出データを統合サーバへ送信する。そして、統合サーバは、検出データを受信する。そして、統合サーバの処理回路44は、受信した検出データに対して、以下で説明する各種の処理を実行する。 A processing circuit 44 controls the operation of the entire X-ray CT apparatus 1 . Note that the processing circuit 44 is not limited to being included in the console device 40 . For example, the processing circuit 44 may be included in an integrated server that collectively processes detection data acquired by a plurality of X-ray CT apparatuses. For example, an integrated server connected to the X-ray CT apparatus 1 via a network may have the processing circuit 44 . In this case, the X-ray CT apparatus 1 transmits the collected detection data to the integration server. The integration server then receives the detection data. Then, the processing circuit 44 of the integration server executes various processes described below on the received detection data.

例えば、処理回路44は、システム制御機能441、前処理機能442、処理実行機能443、再構成処理機能444、画像処理機能445及び出力機能446を実行する。例えば、処理回路44は、メモリ41からシステム制御機能441に相当するプログラム(制御プログラム)を読み出して実行することにより、入力インターフェース43を介して操作者から受け付けた入力操作に基づいて、処理回路44の各種機能を制御する。 For example, the processing circuit 44 executes a system control function 441 , a preprocessing function 442 , a process execution function 443 , a reconstruction processing function 444 , an image processing function 445 and an output function 446 . For example, the processing circuit 44 reads out a program (control program) corresponding to the system control function 441 from the memory 41 and executes it, so that the processing circuit 44 may controls various functions of

システム制御機能441は、X線CT装置1を制御して、位置決め撮影を実行する。例えば、システム制御機能441は、X線管11の位置を所定の回転角度に固定し、天板33をZ方向に移動させながらX線管11からのX線を被検体Pに照射することで、位置決め撮影を実行する。また、処理回路44は、メモリ41から再構成処理機能444に相当するプログラムを読み出して実行することにより、位置決め撮影により収集されたX線の信号に基づいて、位置決め画像データを生成する。なお、位置決め画像データは、スキャノ画像データやスカウト画像データと呼ばれる場合もある。 The system control function 441 controls the X-ray CT apparatus 1 to perform positioning imaging. For example, the system control function 441 fixes the position of the X-ray tube 11 at a predetermined rotation angle, and irradiates the subject P with X-rays from the X-ray tube 11 while moving the top plate 33 in the Z direction. , to perform positioning shooting. Further, the processing circuit 44 reads out and executes a program corresponding to the reconstruction processing function 444 from the memory 41 to generate positioning image data based on X-ray signals acquired by positioning imaging. Note that the positioning image data may also be called scanogram image data or scout image data.

そして、システム制御機能441は、位置決め画像データが示す位置決め画像をディスプレイ42に表示させる。そして、システム制御機能441は、位置決め画像を確認した操作者から、入力インターフェース43を介して入力されたスキャン条件を取得する。そして、システム制御機能441は、取得したスキャン条件をメモリ41に格納する。なお、システム制御機能441は、位置決め画像データに基づいて、自動的に、本スキャンのスキャン条件を設定してもよい。 Then, the system control function 441 causes the display 42 to display the positioning image indicated by the positioning image data. Then, the system control function 441 acquires the scan conditions input via the input interface 43 from the operator who confirmed the positioning image. The system control function 441 then stores the acquired scan conditions in the memory 41 . Note that the system control function 441 may automatically set the scan conditions for the main scan based on the positioning image data.

そして、システム制御機能441は、スキャン条件に基づいて、X線CT装置1を制御して、以下に説明する、投影データを収集する本スキャンを実行する。例えば、システム制御機能441は、寝台駆動装置32を制御することにより、被検体Pを架台装置10の撮影口内へ移動させる。また、システム制御機能441は、コリメータ17の開口度及び位置を調整する。また、システム制御機能441は、制御装置15を制御することにより回転部を回転させる。また、システム制御機能441は、X線高電圧装置14を制御することにより、X線管11へ高電圧を供給させる。これにより、X線管11は、被検体Pに対して照射するX線を発生する。 Then, the system control function 441 controls the X-ray CT apparatus 1 based on the scan conditions to perform a main scan for acquiring projection data, which will be described below. For example, the system control function 441 moves the subject P into the imaging port of the gantry device 10 by controlling the bed driving device 32 . Also, the system control function 441 adjusts the aperture and position of the collimator 17 . Also, the system control function 441 rotates the rotating portion by controlling the control device 15 . Also, the system control function 441 supplies a high voltage to the X-ray tube 11 by controlling the X-ray high voltage device 14 . Thereby, the X-ray tube 11 generates X-rays with which the subject P is irradiated.

システム制御機能441によって本スキャンが実行される間、DAS18は、複数の検出素子によって検出される複数のX線の信号を収集し、検出データを生成する。また、処理回路44は、メモリ41から前処理機能442に相当するプログラムを読み出して実行することにより、DAS18から出力された検出データに対して前処理を施す。例えば、前処理機能442は、DAS18から出力された検出データに対して、対数変換処理やオフセット補正処理、チャネル間の感度補正処理、ビームハードニング補正等の前処理を施す。なお、前処理を施した後のデータは、生データとも称される。また、前処理を施す前の検出データ及び前処理を施した後の生データは、総称して、投影データとも称される。 While the main scan is being performed by the system control function 441, the DAS 18 collects signals of multiple X-rays detected by multiple detector elements and generates detection data. The processing circuit 44 also preprocesses the detection data output from the DAS 18 by reading out a program corresponding to the preprocessing function 442 from the memory 41 and executing the program. For example, the preprocessing function 442 performs preprocessing such as logarithmic conversion processing, offset correction processing, inter-channel sensitivity correction processing, and beam hardening correction on the detection data output from the DAS 18 . Note that data after preprocessing is also referred to as raw data. The detection data before preprocessing and the raw data after preprocessing are also collectively referred to as projection data.

以下の説明では、前処理機能442により前処理が施された第1検出データを、第1生データと称する場合がある。また、前処理機能442により前処理が施された第2検出データを、第2生データと称する場合がある。 In the following description, the first detection data preprocessed by the preprocessing function 442 may be referred to as first raw data. Also, the second detection data preprocessed by the preprocessing function 442 may be referred to as second raw data.

また、処理回路44は、メモリ41から処理実行機能443に相当するプログラムを読み出して実行することにより、スキャン条件に基づいて、X線検出器12からの出力、すなわち、前処理が施された生データに対してアフターグローの影響を低減する処理(第1処理)を実行する。処理実行機能443は、処理部の一例である。処理実行機能443の詳細については後述する。 In addition, the processing circuit 44 reads out a program corresponding to the processing execution function 443 from the memory 41 and executes it, thereby outputting the output from the X-ray detector 12, that is, the preprocessed raw image, based on the scanning conditions. A process (first process) for reducing the influence of afterglow is executed on the data. The processing execution function 443 is an example of a processing unit. Details of the processing execution function 443 will be described later.

また、処理回路44は、メモリ41から再構成処理機能444に相当するプログラムを読み出して実行することにより、第1処理後の生データに基づいてCT画像データを再構成する。具体的には、再構成処理機能444は、第1処理後の生データに対して、フィルタ補正逆投影法や逐次近似再構成法等を用いた再構成処理を行ってCT画像データを再構成する。再構成処理機能444は、再構成処理部の一例である。CT画像データは、放射線画像データの一例である。また、CT画像は、放射線画像の一例である。 The processing circuit 44 also reads out a program corresponding to the reconstruction processing function 444 from the memory 41 and executes it, thereby reconstructing CT image data based on the raw data after the first processing. Specifically, the reconstruction processing function 444 performs reconstruction processing using the filtered back projection method, the iterative reconstruction method, or the like on the raw data after the first processing, and reconstructs the CT image data. do. The reconstruction processing function 444 is an example of a reconstruction processing unit. CT image data is an example of radiation image data. A CT image is an example of a radiation image.

また、処理回路44は、メモリ41から画像処理機能445に相当するプログラムを読み出して実行することにより、CT画像データに対して各種の画像処理を施す。例えば、画像処理機能445は、入力インターフェース43を介して操作者から受け付けた入力操作等に基づいて、再構成されたCT画像データを、公知の方法により任意断面の断層像データや3次元画像データに変換する。また、画像処理機能445は、変換した断層像データや3次元画像データをメモリ41に記憶させる。 Further, the processing circuit 44 performs various image processing on the CT image data by reading a program corresponding to the image processing function 445 from the memory 41 and executing the program. For example, the image processing function 445 converts the reconstructed CT image data into tomographic image data or three-dimensional image data of an arbitrary cross section by a known method based on an input operation or the like received from the operator via the input interface 43. Convert to The image processing function 445 also stores the converted tomographic image data and three-dimensional image data in the memory 41 .

また、処理回路44は、メモリ41から出力機能446に相当するプログラムを読み出して実行することにより、断層像データや3次元画像データ、CT画像データ等を出力する。例えば、出力機能446は、断層像データが示す断層像やCT画像データが示すCT画像等の各種の画像をディスプレイ42に表示させる。出力機能446は、表示制御部の一例である。また、例えば、出力機能446は、断層像データや3次元画像データ、CT画像データを、X線CT装置1とネットワークを介して接続された外部装置(例えば、画像データを保管するサーバ装置等)に出力する。 Further, the processing circuit 44 reads out a program corresponding to the output function 446 from the memory 41 and executes it to output tomographic image data, three-dimensional image data, CT image data, and the like. For example, the output function 446 causes the display 42 to display various images such as a tomographic image indicated by the tomographic image data and a CT image indicated by the CT image data. The output function 446 is an example of a display controller. Also, for example, the output function 446 outputs tomographic image data, three-dimensional image data, and CT image data to an external device (for example, a server device that stores image data) connected to the X-ray CT apparatus 1 via a network. output to

図1に示すX線CT装置1においては、各処理機能がコンピュータによって実行可能なプログラムの形態でメモリ41に記憶されている。処理回路44は、メモリ41から各プログラムを読み出して実行することで各プログラムに対応する機能を実現するプロセッサである。換言すると、各プログラムを読み出した状態の処理回路44は、読み出したプログラムに対応する機能を有することとなる。なお、図1においては、システム制御機能441、前処理機能442、処理実行機能443、再構成処理機能444、画像処理機能445及び出力機能446の各処理機能が単一の処理回路44によって実現される場合を示したが、実施形態はこれに限られるものではない。例えば、処理回路44は、複数の独立したプロセッサを組み合わせて構成され、各プロセッサが各プログラムを実行することにより各処理機能を実現するものとしても構わない。また、処理回路44が有する各処理機能は、単一又は複数の処理回路に適宜に分散又は統合されて実現されてもよい。 In the X-ray CT apparatus 1 shown in FIG. 1, each processing function is stored in the memory 41 in the form of a computer-executable program. The processing circuit 44 is a processor that implements a function corresponding to each program by reading each program from the memory 41 and executing the program. In other words, the processing circuit 44 in a state where each program has been read has a function corresponding to the read program. Note that in FIG. 1, the processing functions of the system control function 441, the preprocessing function 442, the processing execution function 443, the reconstruction processing function 444, the image processing function 445, and the output function 446 are realized by a single processing circuit 44. Although the case is shown, the embodiment is not limited to this. For example, the processing circuit 44 may be configured by combining a plurality of independent processors, and each processor may implement each processing function by executing each program. Further, each processing function of the processing circuit 44 may be appropriately distributed or integrated in a single or a plurality of processing circuits and implemented.

上記説明において用いた「プロセッサ」という文言は、例えば、CPU、GPU(Graphics Processing Unit)、特定用途向け集積回路(Application Specific Integrated Circuit:ASIC)、若しくは、プログラマブル論理デバイス(例えば、単純プログラマブル論理デバイス(Simple Programmable Logic Device:SPLD)、複合プログラマブル論理デバイス(Complex Programmable Logic Device:CPLD)、又は、フィールドプログラマブルゲートアレイ(Field Programmable Gate Array:FPGA))等の回路を意味する。プロセッサはメモリ41に保存されたプログラムを読み出し実行することで機能を実現する。 The term "processor" used in the above description is, for example, a CPU, a GPU (Graphics Processing Unit), an application specific integrated circuit (ASIC), or a programmable logic device (for example, a simple programmable logic device ( Circuits such as Simple Programmable Logic Device (SPLD), Complex Programmable Logic Device (CPLD), or Field Programmable Gate Array (FPGA)). The processor implements functions by reading and executing programs stored in the memory 41 .

なお、図1においては、単一のメモリ41が各処理機能に対応するプログラムを記憶するものとして説明した。しかしながら、複数のメモリ41を分散して配置し、処理回路44は、個別のメモリ41から対応するプログラムを読み出す構成としても構わない。また、メモリ41にプログラムを保存する代わりに、プロセッサの回路内にプログラムを直接組み込むよう構成しても構わない。この場合、プロセッサは回路内に組み込まれたプログラムを読み出し実行することで機能を実現する。 In FIG. 1, the single memory 41 has been described as storing programs corresponding to each processing function. However, a configuration may be adopted in which a plurality of memories 41 are distributed and the processing circuit 44 reads corresponding programs from individual memories 41 . Also, instead of storing the program in the memory 41, the program may be configured to be directly embedded in the circuit of the processor. In this case, the processor realizes its function by reading and executing the program embedded in the circuit.

また、処理回路44は、ネットワークを介して接続された外部装置のプロセッサを利用して、各種の機能を実現することとしてもよい。例えば、処理回路44は、メモリ41から各機能に対応するプログラムを読み出して実行するとともに、X線CT装置1とネットワークを介して接続された外部のワークステーションや、サーバ群(クラウド)を計算資源として利用することにより、図1に示す各機能を実現してもよい。 Also, the processing circuit 44 may implement various functions using a processor of an external device connected via a network. For example, the processing circuit 44 reads and executes a program corresponding to each function from the memory 41, and uses an external workstation or server group (cloud) connected to the X-ray CT apparatus 1 via a network as computational resources. , each function shown in FIG. 1 may be realized.

以上、X線CT装置1の構成の一例について説明した。かかる構成の下、X線CT装置1は、適切にアフターグローの影響を低減させることができるように、以下に説明する各種の処理を実行する。 An example of the configuration of the X-ray CT apparatus 1 has been described above. Under such a configuration, the X-ray CT apparatus 1 performs various processes described below so as to appropriately reduce the influence of afterglow.

図3は、第1の実施形態に係るX線CT装置1が実行する第1処理の一例の流れを示すフローチャートである。図3の例に示すように、処理実行機能443は、スキャン条件が記憶されたメモリ41から、スキャン条件を取得する(ステップS101)。 FIG. 3 is a flow chart showing an example of the first process executed by the X-ray CT apparatus 1 according to the first embodiment. As shown in the example of FIG. 3, the process execution function 443 acquires the scan conditions from the memory 41 storing the scan conditions (step S101).

そして、処理実行機能443は、スキャン条件から、アフターグローの影響を抑制するのか、又は、アフターグローの影響を許容しつつS/Nの向上を図るのかを、判定する(ステップS102)。 Then, the processing execution function 443 determines from the scanning conditions whether to suppress the influence of afterglow or to improve the S/N while allowing the influence of afterglow (step S102).

例えば、スキャン条件に含まれる撮影対象が心臓等の動きが比較的速い部位である場合には、アフターグローを起因とする時間分解能の悪化やアーチファクトの発生が考えられる。また、スキャン条件が示す照射X線のエネルギーが刻々と変化する場合(例えば、デュアルエナジー収集の場合)にも、アフターグローを起因とする時間分解能の悪化やアーチファクトの発生が考えられる。 For example, if the object to be imaged included in the scan conditions is a region such as the heart that moves relatively quickly, it is conceivable that afterglow will cause deterioration in temporal resolution and the occurrence of artifacts. Also, when the energy of irradiated X-rays indicated by the scanning conditions changes every moment (for example, in the case of dual energy acquisition), it is conceivable that afterglow will cause deterioration of time resolution and generation of artifacts.

そこで、これらの場合、すなわち、アフターグローの影響を抑制する場合(ステップS102:アフターグローの影響を抑制)には、処理実行機能443は、ステップS103に進む。ステップS103では、処理実行機能443は、以下の式(1)にしたがって、第1生データに、第2の生データが所定の重み付けの係数αにより重み付けされることにより得られた生データを加算することにより、第3生データを生成する。 Therefore, in these cases, that is, when suppressing the effect of afterglow (step S102: suppressing the effect of afterglow), the processing execution function 443 proceeds to step S103. In step S103, the process execution function 443 adds raw data obtained by weighting the second raw data by a predetermined weighting coefficient α to the first raw data according to the following equation (1). By doing so, the third raw data is generated.

D3=D1+(α×D2) (1) D3=D1+(α×D2) (1)

ただし、「+」は、加算を示す記号であり、「×」は、乗算を示す記号である。また、「D1」は、第1生データを示し、「D2」は、第2生データを示し、「D3」は、第3生データを示す。また、係数αは、0以上1未満の値である。係数αの値が、0に近づくほど、第3生データから再構成されるCT画像データにおけるアフターグローの影響が小さくなる。一方、係数αの値が、1に近づくほど、第3生データから再構成されるCT画像データにおけるアフターグローの影響が大きくなる。係数αの値は、例えば、操作者により設定される。 However, "+" is a symbol indicating addition, and "x" is a symbol indicating multiplication. Also, "D1" indicates the first raw data, "D2" indicates the second raw data, and "D3" indicates the third raw data. Also, the coefficient α is a value of 0 or more and less than 1. As the value of the coefficient α approaches 0, the effect of afterglow on the CT image data reconstructed from the third raw data becomes smaller. On the other hand, as the value of the coefficient α approaches 1, the effect of afterglow on the CT image data reconstructed from the third raw data increases. The value of coefficient α is set by the operator, for example.

式(1)において、「α×D2」は、所定の係数αで重み付けされた第2生データを示す。ステップS103で生成された第3生データは、再構成処理機能444によりCT画像データを再構成する際に用いられる1チャネルのデータである。 In Equation (1), "α×D2" indicates the second raw data weighted by a predetermined coefficient α. The third raw data generated in step S103 is 1-channel data used when the reconstruction processing function 444 reconstructs CT image data.

このように、処理実行機能443は、スキャン条件に基づいて、光センサ12b_2の寄与を光センサ12b_1と比して低減させる。具体的には、処理実行機能443は、光センサ12b_1から出力される第1電気信号に基づく第1生データに対する光センサ12b_2から出力される第2電気信号に基づく第2生データの割合が、比較的低くなるように、第3生データを生成する。そして、処理実行機能443は、第3生データが、CT画像データを再構成する際に用いられるように制御する。そして、第1処理が終了される。この場合、再構成処理機能444は、第3生データを用いて、CT画像データを再構成する。したがって、再構成されたCT画像データの時間分解能の悪化、及び、アーチファクトの発生を抑制することができる。 In this way, the processing execution function 443 reduces the contribution of the optical sensor 12b_2 compared to the optical sensor 12b_1 based on the scan conditions. Specifically, the processing execution function 443 determines that the ratio of the second raw data based on the second electrical signal output from the optical sensor 12b_2 to the first raw data based on the first electrical signal output from the optical sensor 12b_1 is A third raw data is generated to be relatively low. Then, the processing execution function 443 controls so that the third raw data is used when reconstructing the CT image data. Then, the first process ends. In this case, the reconstruction processing function 444 uses the third raw data to reconstruct the CT image data. Therefore, it is possible to suppress the deterioration of the time resolution of the reconstructed CT image data and the occurrence of artifacts.

ここで、アフターグローの測定値をモデルとして用いて、ソフトウェアによって補正をかける従来手法がある。このような従来手法に対して、第1の実施形態に係るX線CT装置1は、物理的にアフターグローの影響が抑制された第3生データを用いて、CT画像データを再構成する。したがって、第1の実施形態に係るX線CT装置1によれば、従来手法よりも確実に、アフターグローの影響を低減することができる。また、第1の実施形態に係るX線CT装置1によれば、従来手法における計算機による補正を行う際の処理負荷よりも、少ない処理負荷で、アフターグローの影響を低減することができる。 Here, there is a conventional method of using a measured value of afterglow as a model and correcting it by software. In contrast to such a conventional method, the X-ray CT apparatus 1 according to the first embodiment reconstructs CT image data using third raw data in which the influence of afterglow is physically suppressed. Therefore, according to the X-ray CT apparatus 1 according to the first embodiment, the influence of afterglow can be reduced more reliably than the conventional method. Further, according to the X-ray CT apparatus 1 according to the first embodiment, it is possible to reduce the influence of afterglow with less processing load than the processing load when performing correction by a computer in the conventional method.

一方、スキャン条件に含まれる撮影対象が骨等の動きが比較的小さい部位である場合には、アフターグローの影響を許容してでも、S/Nを良好にすることが考えられる。また、スキャン条件に含まれる撮像対象が、体幹部等のノイズの影響を比較的受けやすい部位である場合にも、アフターグローの影響を許容してでも、S/Nを良好にすることが考えられる。そこで、これらの場合、すなわち、S/Nの向上を図る場合(ステップS102:S/Nの向上)には、処理実行機能443は、ステップS104に進む。 On the other hand, if the object to be imaged included in the scan conditions is a site such as a bone that moves relatively little, it is conceivable to improve the S/N even if the influence of afterglow is allowed. In addition, even if the object to be imaged included in the scan conditions is a part that is relatively susceptible to noise, such as the trunk of the body, it is conceivable to improve the S/N even if the influence of afterglow is allowed. be done. Therefore, in these cases, that is, when improving the S/N (step S102: improving the S/N), the processing execution function 443 proceeds to step S104.

ステップS104では、処理実行機能443は、以下の式(2)にしたがって、第1生データに、第2生データを加算することにより、第4生データを生成する。 In step S104, the process execution function 443 generates fourth raw data by adding the second raw data to the first raw data according to the following equation (2).

D4=D1+D2 (2) D4=D1+D2 (2)

ただし、「D4」は、第4生データを示す。 However, "D4" indicates the fourth raw data.

第4生データは、再構成処理機能444によりCT画像データを再構成する際に用いられる1チャネルのデータである。そして、第1処理が終了される。この場合、再構成処理機能444は、第4生データを用いて、CT画像データを再構成する。したがって、再構成されたCT画像データのS/Nの改善を図ることができる。 The fourth raw data is 1-channel data used when reconstructing CT image data by the reconstruction processing function 444 . Then, the first process ends. In this case, the reconstruction processing function 444 uses the fourth raw data to reconstruct the CT image data. Therefore, the S/N of the reconstructed CT image data can be improved.

以上、第1の実施形態に係るX線CT装置1について説明した。第1の実施形態に係るX線CT装置1によれば、適切にアフターグローの影響を低減させることができる。また、第1の実施形態に係るX線CT装置1によれば、従来では、アフターグローによる影響が強いため使用することが困難であった、高発光かつ低価格のシンチレータを、シンチレータ12a_1として使用することができる。また、第1の実施形態に係るX線CT装置1によれば、互いにトレードオフの関係にある時間分解能及びS/Nを適切に調整することができる。 The X-ray CT apparatus 1 according to the first embodiment has been described above. The X-ray CT apparatus 1 according to the first embodiment can appropriately reduce the influence of afterglow. Further, according to the X-ray CT apparatus 1 according to the first embodiment, a high-emission and low-cost scintillator, which has been difficult to use due to the strong influence of afterglow, is used as the scintillator 12a_1. can do. Moreover, according to the X-ray CT apparatus 1 according to the first embodiment, it is possible to appropriately adjust the time resolution and the S/N, which are in a trade-off relationship.

(第1の実施形態の変形例1)
なお、第1の実施形態では、光センサ12b_1及び光センサ12b_2が、矢印92が示す深さ方向に並んで配置される場合について説明した。しかしながら、光センサ12b_1及び光センサ12b_2の配置は、これに限られない。そこで、光センサ12b_1及び光センサ12b_2の配置の他の例を、第1の実施形態の変形例1として説明する。
(Modification 1 of the first embodiment)
In the first embodiment, the case where the optical sensor 12b_1 and the optical sensor 12b_2 are arranged side by side in the depth direction indicated by the arrow 92 has been described. However, the arrangement of the optical sensors 12b_1 and 12b_2 is not limited to this. Therefore, another example of arrangement of the optical sensor 12b_1 and the optical sensor 12b_2 will be described as Modified Example 1 of the first embodiment.

以下、第1の実施形態の変形例1の説明では、第1の実施形態と異なる点を主に説明し、第1の実施形態と同様の構成の説明については、省略する場合がある。図4は、第1の実施形態の変形例1に係るX線検出器12の構成の一例を示す図である。 Hereinafter, in the description of Modified Example 1 of the first embodiment, differences from the first embodiment will be mainly described, and the description of the same configuration as the first embodiment may be omitted. FIG. 4 is a diagram showing an example of the configuration of the X-ray detector 12 according to Modification 1 of the first embodiment.

図4に示すように、矢印92が示す深さ方向ではなく、シンチレータ12a_1の一面に沿って、光センサ12b_1及び光センサ12b_2が並ぶように配置されている。このため、第1の実施形態の変形例1によれば、第1の実施形態と比較して、光センサアレイ12bの深さ方向の寸法の増大を抑制することができる。すなわち、第1の実施形態の変形例1によれば、光センサアレイ12bのサイズの増大を抑制することができる。 As shown in FIG. 4, the optical sensors 12b_1 and 12b_2 are arranged side by side along one surface of the scintillator 12a_1 instead of in the depth direction indicated by the arrow 92 . Therefore, according to Modification 1 of the first embodiment, it is possible to suppress an increase in the dimension of the photosensor array 12b in the depth direction as compared with the first embodiment. That is, according to Modification 1 of the first embodiment, it is possible to suppress an increase in the size of the photosensor array 12b.

以上、第1の実施形態の変形例1について説明した。第1の実施形態の変形例1によれば、図4に示すように光センサ12b_1,12b_2を配置した場合であっても、第1の実施形態と同様に、適切にアフターグローの影響を低減させることができる。また、第1の実施形態の変形例1によれば、光センサアレイ12bのサイズの増大を抑制することができる。 Modification 1 of the first embodiment has been described above. According to Modification 1 of the first embodiment, even when the optical sensors 12b_1 and 12b_2 are arranged as shown in FIG. 4, the influence of afterglow is appropriately reduced as in the first embodiment. can be made Further, according to Modification 1 of the first embodiment, it is possible to suppress an increase in the size of the optical sensor array 12b.

(第1の実施形態の変形例2)
第1の実施形態では、光センサ12b_1を構成する材料の種類と、光センサ12b_2を構成する材料の種類とが異なるため、光センサ12b_1が有する波長感度特性と、光センサ12b_2が有する波長感度特性とが異なる場合について説明した。しかしながら、光センサ12b_1を構成する材料の種類と、光センサ12b_2を構成する材料の種類とが同一であってもよい。そして、光センサ12b_1の有感体積と、光センサ12b_2の有感体積とが異なることにより、光センサ12b_1が有する波長感度特性と、光センサ12b_2が有する波長感度特性とを異ならせてもよい。そこで、このような変形例を、第1の実施形態の変形例2として説明する。
(Modification 2 of the first embodiment)
In the first embodiment, the type of material forming the optical sensor 12b_1 and the type of material forming the optical sensor 12b_2 are different. The case where is different is explained. However, the type of material forming the optical sensor 12b_1 and the type of material forming the optical sensor 12b_2 may be the same. The wavelength sensitivity characteristic of the optical sensor 12b_1 and the wavelength sensitivity characteristic of the optical sensor 12b_2 may be different by differentiating the sensitive volume of the optical sensor 12b_1 and the sensitive volume of the optical sensor 12b_2. Therefore, such a modification will be described as Modification 2 of the first embodiment.

以下、第1の実施形態の変形例2の説明では、第1の実施形態と異なる点を主に説明し、第1の実施形態と同様の構成の説明については、省略する場合がある。第1の実施形態の変形例2では、光センサ12b_1を構成する材料の種類と、光センサ12b_2を構成する材料の種類とが同一である。ただし、後述するように、光センサ12b_1の有感体積と、光センサ12b_2の有感体積とが異なる。 Hereinafter, in the description of Modified Example 2 of the first embodiment, differences from the first embodiment will be mainly described, and the description of the same configuration as the first embodiment may be omitted. In Modified Example 2 of the first embodiment, the type of material forming the optical sensor 12b_1 and the type of material forming the optical sensor 12b_2 are the same. However, as will be described later, the sensitive volume of the optical sensor 12b_1 and the sensitive volume of the optical sensor 12b_2 are different.

図5Aは、第1の実施形態の変形例2に係る光センサ12b_2の有感体積の一例を示す図である。図5Bは、第1の実施形態の変形例2に係る光センサ12b_1の有感体積の一例を示す図である。ここでは、有感体積を、模式的に、直方体で表す。 FIG. 5A is a diagram showing an example of the sensitive volume of the optical sensor 12b_2 according to Modification 2 of the first embodiment. FIG. 5B is a diagram showing an example of the sensitive volume of the optical sensor 12b_1 according to Modification 2 of the first embodiment. Here, the sensitive volume is schematically represented by a rectangular parallelepiped.

図5A及び図5Bに示すように、光センサ12b_2の有感体積及び光センサ12b_1の有感体積において、長さL1の辺及び長さL2の辺が共通する。長さL1の辺と、長さL2の辺とで規定される2つの面のうち1つの面Fが、シンチレータ12a_1の一面と対向する。そして、図5Aに示す矢印92により示される深さ方向に延びる長さL3の辺は、図5Bに示す深さ方向に延びる長さL4の辺よりも長い。これは、光センサ12b_1,12b_1に入射されるシンチレーション光の波長が長くなるほど、深さ方向におけるキャリアの発生位置が、より深くなるからである。したがって、光センサ12b_2の有感体積の方が、光センサ12b_1の有感体積よりも大きい。 As shown in FIGS. 5A and 5B, the sensitive volume of the optical sensor 12b_2 and the sensitive volume of the optical sensor 12b_1 have a common side of length L1 and a side of length L2. One surface F of the two surfaces defined by the side of length L1 and the side of length L2 faces one surface of scintillator 12a_1. The side of length L3 extending in the depth direction indicated by arrow 92 shown in FIG. 5A is longer than the side of length L4 extending in the depth direction shown in FIG. 5B. This is because the longer the wavelength of the scintillation light incident on the photosensors 12b_1 and 12b_1, the deeper the position where carriers are generated in the depth direction. Therefore, the sensitive volume of the optical sensor 12b_2 is larger than the sensitive volume of the optical sensor 12b_1.

このような構成により、光センサ12b_1は、光90を検出可能な波長感度特性を有し、光センサ12b_2は、光90及び光91を検出可能な波長感度特性を有する。そして、変形例2では、X線CT装置1は、光センサ12b_1から出力される電気信号を第1電気信号とし、光センサ12b_2から出力される電気信号を第2電気信号として、第1の実施形態と同様の処理を行う。 With such a configuration, the optical sensor 12b_1 has wavelength sensitivity characteristics capable of detecting the light 90, and the optical sensor 12b_2 has wavelength sensitivity characteristics capable of detecting the light 90 and the light 91. FIG. In Modified Example 2, the X-ray CT apparatus 1 uses the electrical signal output from the optical sensor 12b_1 as the first electrical signal and the electrical signal output from the optical sensor 12b_2 as the second electrical signal. Perform the same processing as for the form.

以上、第1の実施形態の変形例2について説明した。第1の実施形態の変形例2によれば、光センサ12b_1を構成する材料の種類と、光センサ12b_2を構成する材料の種類とが同一であっても、光センサ12b_1が有する波長感度特性と、光センサ12b_2が有する波長感度特性とを異ならせることができる。また、第1の実施形態の変形例2によれば、第1の実施形態と同様の効果を奏する。 Modification 2 of the first embodiment has been described above. According to Modification 2 of the first embodiment, even if the type of material forming the optical sensor 12b_1 and the type of material forming the optical sensor 12b_2 are the same, the wavelength sensitivity characteristic of the optical sensor 12b_1 is , the wavelength sensitivity characteristic of the optical sensor 12b_2 can be made different. Moreover, according to the modification 2 of the first embodiment, the same effects as those of the first embodiment are obtained.

(第1の実施形態の変形例3)
次に、第1の実施形態の変形例3に係るX線CT装置1について説明する。第1の実施形態の変形例3では、X線CT装置1が、X線のエネルギーを推定する。
(Modification 3 of the first embodiment)
Next, an X-ray CT apparatus 1 according to Modification 3 of the first embodiment will be described. In Modified Example 3 of the first embodiment, the X-ray CT apparatus 1 estimates the energy of X-rays.

以下、第1の実施形態の変形例3の説明では、第1の実施形態と異なる点を主に説明し、第1の実施形態と同様の構成の説明については、省略する場合がある。図6は、第1の実施形態の変形例3に係るX線CT装置1が実行する処理の一例を説明するための図である。 Hereinafter, in the description of Modified Example 3 of the first embodiment, differences from the first embodiment will be mainly described, and the description of the same configuration as the first embodiment may be omitted. FIG. 6 is a diagram for explaining an example of processing executed by the X-ray CT apparatus 1 according to Modification 3 of the first embodiment.

第1の実施形態の変形例3に係る処理実行機能443は、図6に示すように、光センサ12b_1から出力される電気信号に基づくデータ(例えば、第1生データ)61と、光センサ12b_2から出力される電気信号に基づくデータ(例えば、第2生データ)62との差D又は比を算出する。ここで、算出された差D又は比は、シンチレータ12a_1の深さ方向における光が発生した位置に対応する。例えば、シンチレータ12a_1内部をシンチレーション光が伝播する際に、シンチレータ12a_1の媒質中の光の透過率が波長によって異なる。このため、差Dが大きくなるほど、シンチレータ12a_1内を光が移動する距離が長くなる。すなわち、差Dが大きくなるほど、光が、シンチレータ12a_1内のより浅い位置で発生していることとなる。そのため、処理実行機能443は、差D又は比から、シンチレータ12a_1の深さ方向における光が発生した位置を推定することができる。そして、処理実行機能443は、推定した位置に基づいて、光センサ12b_1,12b_2に入射したX線のエネルギーを推定する。すなわち、処理実行機能443は、光センサ12b_1から出力される電気信号と、光センサ12b_2から出力される電気信号とに基づいて、入射X線のエネルギーを推定する。例えば、処理実行機能443は、光センサ12b_1から出力される電気信号に基づくデータと、光センサ12b_2から出力される電気信号に基づくデータとに基づいて、入射X線のエネルギーを推定する。 As shown in FIG. 6, the processing execution function 443 according to Modification 3 of the first embodiment includes data (for example, first raw data) 61 based on the electrical signal output from the optical sensor 12b_1 and the optical sensor 12b_2. A difference D or ratio with data (for example, second raw data) 62 based on the electrical signal output from is calculated. Here, the calculated difference D or ratio corresponds to the position where the light is generated in the depth direction of the scintillator 12a_1. For example, when scintillation light propagates inside the scintillator 12a_1, the transmittance of light in the medium of the scintillator 12a_1 varies depending on the wavelength. Therefore, the larger the difference D, the longer the distance that light travels in the scintillator 12a_1. That is, the larger the difference D, the more shallow the light is generated in the scintillator 12a_1. Therefore, the processing execution function 443 can estimate the position where the light is generated in the depth direction of the scintillator 12a_1 from the difference D or the ratio. Then, the processing execution function 443 estimates the energy of the X-rays incident on the optical sensors 12b_1 and 12b_2 based on the estimated positions. That is, the processing execution function 443 estimates the energy of the incident X-ray based on the electrical signal output from the optical sensor 12b_1 and the electrical signal output from the optical sensor 12b_2. For example, the processing execution function 443 estimates the energy of incident X-rays based on data based on the electrical signal output from the optical sensor 12b_1 and data based on the electrical signal output from the optical sensor 12b_2.

このようにして推定されたエネルギーは、例えば、スペクトラルCTを実行するアプリケーション等に用いられる。 The energy estimated in this way is used, for example, in applications such as performing spectral CT.

以上、第1の実施形態の変形例3に係るX線CT装置1について説明した。第1の実施形態の変形例3に係るX線CT装置1によれば、入射X線のエネルギーを推定することできる。また、第1の実施形態の変形例3に係るX線CT装置1によれば、第1の実施形態と同様の効果を奏する。 The X-ray CT apparatus 1 according to Modification 3 of the first embodiment has been described above. According to the X-ray CT apparatus 1 according to Modification 3 of the first embodiment, the energy of incident X-rays can be estimated. Further, according to the X-ray CT apparatus 1 according to Modification 3 of the first embodiment, the same effects as those of the first embodiment are obtained.

(第1の実施形態の変形例4)
なお、アフターグローの影響を抑制する場合、DAS18が、第1電気信号を増幅し、増幅された第1電気信号に、第2電気信号を加算することにより、第3電気信号を生成してもよい。第3電気信号は、CT画像データを再構成する際に用いられる1チャネルの生データの元となる信号である。そこで、このような変形例を、第1の実施形態の変形例4として説明する。
(Modification 4 of the first embodiment)
When suppressing the influence of afterglow, the DAS 18 may generate a third electrical signal by amplifying the first electrical signal and adding the second electrical signal to the amplified first electrical signal. good. The third electrical signal is a signal that is a source of one-channel raw data used when reconstructing CT image data. Therefore, such a modification will be described as Modification 4 of the first embodiment.

以下、第1の実施形態の変形例4の説明では、第1の実施形態と異なる点を主に説明し、第1の実施形態と同様の構成の説明については、省略する場合がある。 Hereinafter, in the description of Modified Example 4 of the first embodiment, differences from the first embodiment will be mainly described, and descriptions of configurations similar to those of the first embodiment may be omitted.

第1の実施形態の変形例4では、DAS18は、処理回路と、増幅器とを有する。処理回路は、デジタル形式のデータを処理可能な回路である。例えば、処理回路は、プロセッサにより実現される。増幅器は、第1電気信号を増幅する増幅処理を行う。 In variant 4 of the first embodiment, the DAS 18 has processing circuitry and an amplifier. A processing circuit is a circuit capable of processing data in digital form. For example, the processing circuitry is implemented by a processor. The amplifier performs amplification processing for amplifying the first electrical signal.

そして、変形例4では、処理実行機能443は、第1の実施形態と同様に、スキャン条件が記憶されたメモリ41から、スキャン条件を取得する。そして、処理実行機能443は、第1の実施形態と同様に、スキャン条件から、アフターグローの影響を抑制するのか、又は、アフターグローの影響を許容しつつS/Nの向上を図るのかを、判定する。そして、処理実行機能443は、判定結果を示す判定結果情報をDAS18の処理回路に送信する。判定結果情報は、アフターグローの影響を抑制すること、又は、アフターグローの影響を許容しつつS/Nの向上を図ることを示す情報である。 Then, in Modification 4, the processing execution function 443 acquires the scan conditions from the memory 41 in which the scan conditions are stored, as in the first embodiment. Then, as in the first embodiment, the processing execution function 443 determines whether to suppress the influence of afterglow or to improve the S/N while allowing the influence of afterglow from the scanning conditions. judge. The processing execution function 443 then transmits determination result information indicating the determination result to the processing circuit of the DAS 18 . The determination result information is information indicating that the influence of afterglow should be suppressed, or that the S/N should be improved while allowing the influence of afterglow.

そして、DAS18の処理回路は、判定結果情報を受信する。そして、DAS18の処理回路は、判定結果情報がアフターグローの影響を抑制することを示す場合、第1電気信号を増幅器に増幅させる。そして、DAS18の処理回路は、増幅された第1電気信号に、第2電気信号が係数αにより重み付けされることにより得られた電気信号を加算することにより、第3電気信号を生成する。第3電気信号は、再構成処理機能444によりCT画像データを再構成する際に用いられる1チャネルの生データの元となるデータである。このように、DAS18の処理回路は、スキャン条件に基づいて、光センサ12b_1の寄与を、光センサ12b_2と比して大きくする処理を実行する。変形例4に係るDAS18は、処理部の一例である。 The processing circuitry of DAS 18 then receives the determination result information. Then, the processing circuit of the DAS 18 causes the amplifier to amplify the first electrical signal when the determination result information indicates that the influence of afterglow should be suppressed. Then, the processing circuitry of DAS 18 generates a third electrical signal by adding an electrical signal obtained by weighting the second electrical signal by a factor α to the amplified first electrical signal. The third electrical signal is data that is the source of 1-channel raw data used when reconstructing CT image data by the reconstruction processing function 444 . Thus, the processing circuitry of the DAS 18 executes processing to increase the contribution of the photosensor 12b_1 relative to the photosensor 12b_2 based on the scan conditions. The DAS 18 according to modification 4 is an example of a processing unit.

そして、DAS18は、第3電気信号から検出データを生成する。前処理機能442は、検出データに対して前処理を施す。そして、再構成処理機能444は、前処理が施された検出データ(生データ)を用いて、CT画像データを再構成する。したがって、変形例4によれば、再構成されたCT画像データの時間分解能の悪化、及び、アーチファクトの発生を抑制することができる。 DAS 18 then generates detection data from the third electrical signal. A preprocessing function 442 preprocesses the detected data. Then, the reconstruction processing function 444 reconstructs CT image data using the preprocessed detection data (raw data). Therefore, according to Modification 4, it is possible to suppress the deterioration of the temporal resolution of reconstructed CT image data and the occurrence of artifacts.

一方、DAS18の処理回路は、判定結果情報がアフターグローの影響を許容しつつS/Nの向上を図ることを示す場合には、第1電気信号に第2電気信号を加算することにより、第4電気信号を生成する。第4電気信号は、再構成処理機能444によりCT画像データを再構成する際に用いられる1チャネルの生データの元となるデータである。 On the other hand, the processing circuit of the DAS 18 adds the second electrical signal to the first electrical signal when the determination result information indicates that the S/N should be improved while allowing the influence of afterglow. 4 Generate electrical signals. The fourth electrical signal is data that is the source of one-channel raw data used when reconstructing CT image data by the reconstruction processing function 444 .

そして、DAS18は、第4電気信号から検出データを生成する。前処理機能442は、検出データに対して前処理を施す。そして、再構成処理機能444は、前処理が施された検出データ(生データ)を用いて、CT画像データを再構成する。したがって、再構成されたCT画像データのS/Nの改善を図ることができる。 DAS 18 then generates detection data from the fourth electrical signal. A preprocessing function 442 preprocesses the detected data. Then, the reconstruction processing function 444 reconstructs CT image data using the preprocessed detection data (raw data). Therefore, the S/N of the reconstructed CT image data can be improved.

以上、第1の実施形態の変形例4に係るX線CT装置1について説明した。第1の実施形態の変形例4に係るX線CT装置1によれば、第1の実施形態と同様の効果を奏する。 The X-ray CT apparatus 1 according to Modification 4 of the first embodiment has been described above. The X-ray CT apparatus 1 according to Modification 4 of the first embodiment has the same effects as those of the first embodiment.

なお、変形例4において、処理実行機能443がスキャン条件をDAS18の処理回路に送信してもよい。そして、DAS18の処理回路が、スキャン条件から、アフターグローの影響を抑制するのか、又は、アフターグローの影響を許容しつつS/Nの向上を図るのかを、判定してもよい。 It should be noted that in Modification 4, the processing execution function 443 may transmit the scan conditions to the processing circuit of the DAS 18 . Then, the processing circuit of the DAS 18 may determine, from the scan conditions, whether to suppress the influence of afterglow or to improve the S/N while allowing the influence of afterglow.

(第1の実施形態の変形例5)
なお、アフターグローの影響を抑制する場合、光センサ12b_2における電荷の積分時間の方が光センサ12b_1における電荷の積分時間よりも短くなるように、X線検出器12が、光センサ12b_1及び光センサ12b_2を制御してもよい。そして、DAS18が、このように制御された積分時間の元で得られた第1電気信号と、第2電気信号とを加算してもよい。このような加算により得られた電気信号は、CT画像データを再構成する際に用いられる1チャネルの生データの元となる信号である。そこで、このような変形例を、第1の実施形態の変形例5として説明する。
(Modification 5 of the first embodiment)
Note that when suppressing the influence of afterglow, the X-ray detector 12 is configured such that the charge integration time in the photosensor 12b_2 is shorter than the charge integration time in the photosensor 12b_1. 12b_2 may be controlled. Then, the DAS 18 may add the first electrical signal and the second electrical signal obtained under the integration time thus controlled. The electric signal obtained by such addition is the original signal of one-channel raw data used when reconstructing the CT image data. Therefore, such a modification will be described as Modification 5 of the first embodiment.

以下、第1の実施形態の変形例5の説明では、第1の実施形態と異なる点を主に説明し、第1の実施形態と同様の構成の説明については、省略する場合がある。 Hereinafter, in the description of Modified Example 5 of the first embodiment, differences from the first embodiment will be mainly described, and descriptions of configurations similar to those of the first embodiment may be omitted.

第1の実施形態の変形例5では、X線検出器12は、処理回路を備える。変形例5では、X線検出器12と、処理回路44とは、互いに通信可能である。そして、変形例5では、処理実行機能443は、判定結果情報をX線検出器12の処理回路に送信する。なお、変形例5に係る判定結果情報は、変形例4に係る判定結果情報と同様の情報である。 In variant 5 of the first embodiment, the X-ray detector 12 comprises a processing circuit. In Modified Example 5, the X-ray detector 12 and the processing circuit 44 can communicate with each other. Then, in Modification 5, the processing execution function 443 transmits determination result information to the processing circuit of the X-ray detector 12 . Note that the determination result information according to Modification 5 is the same information as the determination result information according to Modification 4. FIG.

そして、X線検出器12の処理回路は、判定結果情報を受信する。そして、X線検出器12の処理回路は、判定結果情報がアフターグローの影響を抑制することを示す場合、光センサ12b_2における電荷の積分時間の方が光センサ12b_1における電荷の積分時間よりも短くなるように、光センサ12b_1及び光センサ12b_2を制御する。そして、DAS18の処理回路は、このように制御された積分時間の元で得られた第1電気信号と、第2電気信号とを加算する。このような加算により得られた電気信号は、再構成処理機能444によりCT画像データを再構成する際に用いられる1チャネルの生データの元となる信号である。この場合、DAS18は、このような加算により得られた電気信号から検出データを生成する。前処理機能442は、検出データに対して前処理を施す。そして、再構成処理機能444は、前処理が施された検出データ(生データ)を用いて、CT画像データを再構成する。したがって、再構成されたCT画像データの時間分解能の悪化、及び、アーチファクトの発生を抑制することができる。 Then, the processing circuit of the X-ray detector 12 receives the determination result information. Then, when the determination result information indicates that the influence of afterglow is suppressed, the processing circuit of the X-ray detector 12 sets the charge integration time in the photosensor 12b_2 to be shorter than the charge integration time in the photosensor 12b_1. The optical sensor 12b_1 and the optical sensor 12b_2 are controlled so that The processing circuit of DAS 18 then adds the first electrical signal obtained under the controlled integration time and the second electrical signal. The electric signal obtained by such addition is the original signal of one-channel raw data used when reconstructing the CT image data by the reconstruction processing function 444 . In this case, DAS 18 generates detection data from the electrical signals resulting from such summation. A preprocessing function 442 preprocesses the detected data. Then, the reconstruction processing function 444 reconstructs CT image data using the preprocessed detection data (raw data). Therefore, it is possible to suppress the deterioration of the time resolution of reconstructed CT image data and the occurrence of artifacts.

一方、X線検出器12の処理回路は、判定結果情報がアフターグローの影響を許容しつつS/Nの向上を図ることを示す場合、光センサ12b_1における電荷の積分時間と光センサ12b_2における電荷の積分時間とが同一となるように、光センサ12b_1及び光センサ12b_2を制御する。そして、DAS18の処理回路は、このように制御された積分時間の元で得られた第1電気信号と、第2電気信号とを加算する。このような加算により得られた電気信号は、再構成処理機能444によりCT画像データを再構成する際に用いられる1チャネルの生データの元となる信号である。この場合、DAS18は、加算により得られた電気信号から検出データを生成する。前処理機能442は、検出データに対して前処理を施す。そして、再構成処理機能444は、前処理が施された検出データ(生データ)を用いて、CT画像データを再構成する。したがって、再構成されたCT画像データのS/Nの改善を図ることができる。 On the other hand, when the determination result information indicates that the S/N should be improved while allowing the influence of afterglow, the processing circuit of the X-ray detector 12 determines the integration time of the charge in the photosensor 12b_1 and the charge in the photosensor 12b_2. The optical sensor 12b_1 and the optical sensor 12b_2 are controlled so that the integration time of . The processing circuit of DAS 18 then adds the first electrical signal obtained under the controlled integration time and the second electrical signal. The electric signal obtained by such addition is the original signal of one-channel raw data used when reconstructing the CT image data by the reconstruction processing function 444 . In this case, the DAS 18 generates detection data from the electrical signals obtained by summation. A preprocessing function 442 preprocesses the detected data. Then, the reconstruction processing function 444 reconstructs CT image data using the preprocessed detection data (raw data). Therefore, the S/N of the reconstructed CT image data can be improved.

以上、第1の実施形態の変形例5に係るX線CT装置1について説明した。第1の実施形態の変形例5に係るX線CT装置1によれば、第1の実施形態と同様の効果を奏する。 The X-ray CT apparatus 1 according to Modification 5 of the first embodiment has been described above. According to the X-ray CT apparatus 1 according to Modification 5 of the first embodiment, the same effects as those of the first embodiment are obtained.

なお、変形例5において、処理実行機能443がスキャン条件をX線検出器12の処理回路に送信してもよい。そして、X線検出器12の処理回路が、スキャン条件から、アフターグローの影響を抑制するのか、又は、アフターグローの影響を許容しつつS/Nの向上を図るのかを、判定してもよい。 It should be noted that in Modification 5, the processing execution function 443 may transmit the scan conditions to the processing circuit of the X-ray detector 12 . Then, the processing circuit of the X-ray detector 12 may determine from the scan conditions whether to suppress the influence of afterglow or to improve the S/N while allowing the influence of afterglow. .

なお、上述した第1の実施形態では、処理実行機能443が、第1生データ(前処理が施された第1検出データ)及び第2生データ(前処理が施された第2検出データ)に対して、各種の処理を実行する場合について説明した。しかしながら、DAS18の処理回路が、判定結果情報に基づいて、第1検出データ(第1電気信号を基に生成された検出データ)及び第2検出データ(第2電気信号を基に生成された検出データ)に対して、同様の処理を実行してもよい。また、DAS18の処理回路が、第1電気信号及び第2電気信号に対して、同様の処理を実行してもよい。この場合においても、第1の実施形態と同様の効果が得られる。DAS18の処理回路が、上述したような処理を行うことにより、DAS18からコンソール装置40へ送信されるデータの量を削減することができる。 In the above-described first embodiment, the processing execution function 443 uses first raw data (preprocessed first detection data) and second raw data (preprocessed second detection data). , the case of executing various processes has been described. However, based on the determination result information, the processing circuit of the DAS 18 detects the first detection data (detection data generated based on the first electrical signal) and the second detection data (detection data generated based on the second electrical signal). data) may be subjected to similar processing. Also, the processing circuitry of DAS 18 may perform similar processing on the first electrical signal and the second electrical signal. Also in this case, the same effect as in the first embodiment can be obtained. The amount of data transmitted from the DAS 18 to the console device 40 can be reduced by the processing circuit of the DAS 18 performing the processing described above.

(第2の実施形態)
次に、第2の実施形態に係るX線CT装置1について説明する。第2の実施形態では、シンチレータと、光センサとの間にフィルタが設けられ、フィルタにより光センサに入射される光の波長が変調される。
(Second embodiment)
Next, an X-ray CT apparatus 1 according to a second embodiment will be described. In the second embodiment, a filter is provided between the scintillator and the photosensor, and the wavelength of light incident on the photosensor is modulated by the filter.

図7は、第2の実施形態に係るX線CT装置1の構成の一例を示す図である。以下、第2の実施形態の説明において、主に第1の実施形態と異なる点を説明し、第1の実施形態と同様の構成の説明については省略する場合がある。例えば、第1の実施形態と同様の構成については、同一の符号を付して、説明を省略する場合がある。 FIG. 7 is a diagram showing an example of the configuration of the X-ray CT apparatus 1 according to the second embodiment. Hereinafter, in the description of the second embodiment, differences from the first embodiment will be mainly described, and description of the same configuration as the first embodiment may be omitted. For example, configurations similar to those of the first embodiment may be denoted by the same reference numerals, and description thereof may be omitted.

図7に示す第2の実施形態に係る処理回路44は、第1の実施形態に係る処理実行機能443に代えて、処理実行機能447を備える点が、図1に示す第1の実施形態に係る処理回路44と異なる。また、図7に示すように、第2の実施形態では、処理回路44と、X線検出器12との通信が可能な点が、第1の実施形態と異なる。 The processing circuit 44 according to the second embodiment shown in FIG. 7 has a processing execution function 447 instead of the processing execution function 443 according to the first embodiment, unlike the first embodiment shown in FIG. It is different from the processing circuit 44 concerned. Further, as shown in FIG. 7, the second embodiment differs from the first embodiment in that communication between the processing circuit 44 and the X-ray detector 12 is possible.

図8は、第2の実施形態に係るX線検出器12の構成の一例を示す図である。図8に示すように、X線検出器12は、シンチレータアレイ12aと、光センサアレイ12bと、複数のフィルタ12cと、複数の電圧印加回路12dと、グリッド(図示せず)とを有する間接変換型の検出器である。 FIG. 8 is a diagram showing an example of the configuration of the X-ray detector 12 according to the second embodiment. As shown in FIG. 8, the X-ray detector 12 has a scintillator array 12a, a photosensor array 12b, a plurality of filters 12c, a plurality of voltage application circuits 12d, and a grid (not shown). type detector.

シンチレータアレイ12aは、第1の実施形態と同様に、複数のシンチレータ12a_1を有する。 The scintillator array 12a has a plurality of scintillators 12a_1 as in the first embodiment.

光センサアレイ12bは、複数の光センサ12b_3を有する。第2の実施形態に係る光センサ12b_3は、例えば、フォトダイオード等により実現される。X線検出器12は、単一(1つ)のシンチレータ12a_1に対して1つの光センサ12b_3、1つのフィルタ12c及び1つの電圧印加回路12dが対応付けられて構成されている。図8に示すように、シンチレータ12a_1、フィルタ12c及び光センサ12b_3が、深さ方向に沿って、この順で配置されている。 The photosensor array 12b has a plurality of photosensors 12b_3. The optical sensor 12b_3 according to the second embodiment is implemented by, for example, a photodiode. The X-ray detector 12 is configured such that one photosensor 12b_3, one filter 12c, and one voltage application circuit 12d are associated with a single (one) scintillator 12a_1. As shown in FIG. 8, a scintillator 12a_1, a filter 12c, and an optical sensor 12b_3 are arranged in this order along the depth direction.

光センサ12b_3は、光センサ12b_3に対応付けられたシンチレータ12a_1からの光を、光量に応じた電気信号に変換する機能を有する。すなわち、光センサ12b_3は、単一のシンチレータ12a_1から発せられた光を検出し、検出した光に応じた電気信号を出力する。 The optical sensor 12b_3 has a function of converting the light from the scintillator 12a_1 associated with the optical sensor 12b_3 into an electrical signal corresponding to the amount of light. That is, the photosensor 12b_3 detects light emitted from the single scintillator 12a_1 and outputs an electrical signal corresponding to the detected light.

ここで、光センサ12b_3は、光90及び光91を検出可能な波長感度特性を有する。すなわち、光センサ12b_3により検出可能な光の波長帯域内に、光90の波長(ピーク波長)、及び、光91の波長(ピーク波長)が含まれる。 Here, the optical sensor 12b_3 has wavelength sensitivity characteristics that can detect the light 90 and the light 91 . That is, the wavelength band of light detectable by the optical sensor 12b_3 includes the wavelength of the light 90 (peak wavelength) and the wavelength of the light 91 (peak wavelength).

したがって、光センサ12b_3は、光90が入射された場合には、光90を検出し、光90に応じた電気信号を出力する。また、光センサ12b_3は、光91が入射された場合には、光91を検出し、光91に応じた電気信号を出力する。 Therefore, when the light 90 is incident, the optical sensor 12b_3 detects the light 90 and outputs an electrical signal corresponding to the light 90. FIG. In addition, when the light 91 is incident, the optical sensor 12b_3 detects the light 91 and outputs an electric signal corresponding to the light 91 .

フィルタ12cは、液晶等の偏光フィルムにより実現される。フィルタ12cは、シンチレータ12a_1と、光センサ12b_3との間に設けられる。フィルタ12cは、印加される電圧の大きさに応じた波長帯域の光を透過させる光学特性を有する。本実施形態では、フィルタ12cは、第1電圧が印加されると、光90のピーク波長を含む第1の波長帯域の光を透過させ、光91のピーク波長を含む第2の波長帯域の光を遮る。また、フィルタ12cは、第1電圧とは異なる第2電圧が印加されると、第1の波長帯域の光及び第2の波長帯域の光を透過させる。 The filter 12c is realized by a polarizing film such as liquid crystal. The filter 12c is provided between the scintillator 12a_1 and the photosensor 12b_3. The filter 12c has an optical characteristic of transmitting light in a wavelength band corresponding to the magnitude of the applied voltage. In this embodiment, when the first voltage is applied, the filter 12c transmits light in a first wavelength band including the peak wavelength of the light 90, and transmits light in a second wavelength band including the peak wavelength of the light 91. block the Further, when a second voltage different from the first voltage is applied, the filter 12c transmits light in the first wavelength band and light in the second wavelength band.

電圧印加回路12dは、処理実行機能447による制御を受けて、フィルタ12cに電圧を印加する。例えば、電圧印加回路12dは、第1電圧又は第2電圧をフィルタ12cに印加する。 The voltage application circuit 12d applies a voltage to the filter 12c under the control of the process execution function 447. FIG. For example, the voltage application circuit 12d applies a first voltage or a second voltage to the filter 12c.

図7の説明に戻り、処理回路44は、メモリ41から処理実行機能447に相当するプログラムを読み出して実行することにより、スキャン条件に基づいて、アフターグローに対応する波長の光91を少なくとも低減するように、フィルタ12cの光学特性を制御する処理(第2処理)を実行する。処理実行機能447は、処理部の一例である。 Returning to the description of FIG. 7, the processing circuit 44 reads out and executes a program corresponding to the processing execution function 447 from the memory 41, thereby at least reducing the light 91 of the wavelength corresponding to the afterglow based on the scan conditions. , a process (second process) for controlling the optical characteristics of the filter 12c is executed. The processing execution function 447 is an example of a processing unit.

図9は、第2の実施形態に係るX線CT装置1が実行する第2処理の一例の流れを示すフローチャートである。図9の例に示すように、処理実行機能447は、第1の実施形態に係る第1処理のステップS101と同様に、スキャン条件が記憶されたメモリ41から、スキャン条件を取得する(ステップS201)。 FIG. 9 is a flow chart showing an example of the second process executed by the X-ray CT apparatus 1 according to the second embodiment. As shown in the example of FIG. 9, the process execution function 447 acquires the scan conditions from the memory 41 storing the scan conditions (step S201), as in step S101 of the first process according to the first embodiment. ).

そして、処理実行機能447は、第1処理のステップS102と同様に、スキャン条件から、アフターグローの影響を抑制するのか、又は、アフターグローの影響を許容しつつS/Nの向上を図るのかを、判定する(ステップS202)。 Then, similarly to step S102 of the first process, the processing execution function 447 determines whether to suppress the influence of afterglow or to improve the S/N while allowing the influence of afterglow from the scanning conditions. , is determined (step S202).

アフターグローの影響を抑制する場合(ステップS202:アフターグローの影響を抑制)には、処理実行機能447は、ステップS203に進む。ステップS203では、処理実行機能447は、第1電圧がフィルタ12cに印加されるように、電圧印加回路12dを制御する。例えば、処理実行機能447は、第1電圧をフィルタ12cに印加するように、電圧印加回路12dを制御する。 If the effect of afterglow is to be suppressed (step S202: suppress the effect of afterglow), the processing execution function 447 proceeds to step S203. In step S203, the process execution function 447 controls the voltage application circuit 12d so that the first voltage is applied to the filter 12c. For example, the process execution function 447 controls the voltage application circuit 12d to apply the first voltage to the filter 12c.

この場合、光センサ12b_3は、光90を検出し、第1電気信号(光90に応じた電気信号)を出力する。第2の実施形態において、第1電気信号は、再構成処理機能444によりCT画像データを再構成する際に用いられる1チャネルの生データの元となる信号である。そして、DAS18は、第1電気信号から第1検出データを生成する。そして、DAS18は、第1検出データを処理回路44に送信する。 In this case, the optical sensor 12b_3 detects the light 90 and outputs a first electrical signal (an electrical signal corresponding to the light 90). In the second embodiment, the first electrical signal is a source signal of one-channel raw data used when reconstructing CT image data by the reconstruction processing function 444 . DAS 18 then generates first detection data from the first electrical signal. DAS 18 then transmits the first sensed data to processing circuitry 44 .

そして、前処理機能442は、第1検出データに対して前処理を施す。そして、再構成処理機能444は、第1生データ(前処理が施された第1検出データ)を用いて、CT画像データを再構成する。したがって、再構成されたCT画像データの時間分解能の悪化、及び、アーチファクトの発生を抑制することができる。 Then, the preprocessing function 442 preprocesses the first detection data. Then, the reconstruction processing function 444 reconstructs the CT image data using the first raw data (preprocessed first detection data). Therefore, it is possible to suppress the deterioration of the time resolution of the reconstructed CT image data and the occurrence of artifacts.

一方、S/Nの向上を図る場合(ステップS202:S/Nの向上)には、処理実行機能447は、ステップS204に進む。ステップS204では、処理実行機能447は、第2電圧がフィルタ12cに印加されるように、電圧印加回路12dを制御する。例えば、処理実行機能447は、第2電圧をフィルタ12cに印加するように、電圧印加回路12dを制御する。 On the other hand, if the S/N is to be improved (step S202: S/N improvement), the processing execution function 447 proceeds to step S204. In step S204, the process execution function 447 controls the voltage application circuit 12d so that the second voltage is applied to the filter 12c. For example, the process execution function 447 controls the voltage application circuit 12d to apply the second voltage to the filter 12c.

この場合、光センサ12b_3は、光90及び光91を検出し、光90及び光91に応じた電気信号を出力する。 In this case, the optical sensor 12b_3 detects the light 90 and the light 91 and outputs an electrical signal corresponding to the light 90 and the light 91. FIG.

そして、DAS18は、光90及び光91に応じた電気信号から光90及び光91に応じた検出データを生成する。そして、DAS18は、光90及び光91に応じた検出データを処理回路44に送信する。 The DAS 18 then generates detection data corresponding to the light 90 and the light 91 from electrical signals corresponding to the light 90 and the light 91 . DAS 18 then transmits detection data corresponding to light 90 and light 91 to processing circuit 44 .

そして、前処理機能442は、光90及び光91に応じた検出データに対して前処理を施す。このような処理により得られた生データ(前処理が施された光90及び光91に応じた検出データ)は、再構成処理機能444によりCT画像データを再構成する際に用いられる1チャネルのデータである。そして、再構成処理機能444は、このような生データを用いて、CT画像データを再構成する。したがって、再構成されたCT画像データのS/Nの改善を図ることができる。 A pre-processing function 442 pre-processes the detection data corresponding to the light 90 and the light 91 . The raw data obtained by such processing (detection data corresponding to preprocessed light 90 and light 91) is a 1-channel data used when reconstructing CT image data by the reconstruction processing function 444. Data. Then, the reconstruction processing function 444 reconstructs CT image data using such raw data. Therefore, the S/N of the reconstructed CT image data can be improved.

以上、第2の実施形態に係るX線CT装置1について説明した。第2の実施形態に係るX線CT装置1によれば、第1の実施形態と同様に、適切にアフターグローの影響を低減させることができる。 The X-ray CT apparatus 1 according to the second embodiment has been described above. According to the X-ray CT apparatus 1 according to the second embodiment, the influence of afterglow can be appropriately reduced as in the first embodiment.

(第3の実施形態)
次に、第3の実施形態に係るX線CT装置1について説明する。第3の実施形態では、波長感度特性が変更可能な光センサが用いられる。
(Third embodiment)
Next, an X-ray CT apparatus 1 according to a third embodiment will be described. In the third embodiment, an optical sensor whose wavelength sensitivity characteristic can be changed is used.

図10は、第3の実施形態に係るX線CT装置1の構成の一例を示す図である。以下、第3の実施形態の説明において、主に第1の実施形態と異なる点を説明し、第1の実施形態と同様の構成の説明については省略する場合がある。例えば、第1の実施形態と同様の構成については、同一の符号を付して、説明を省略する場合がある。 FIG. 10 is a diagram showing an example of the configuration of the X-ray CT apparatus 1 according to the third embodiment. Hereinafter, in the description of the third embodiment, differences from the first embodiment will be mainly described, and the description of the same configuration as the first embodiment may be omitted. For example, configurations similar to those of the first embodiment may be denoted by the same reference numerals, and description thereof may be omitted.

図10に示す第3の実施形態に係る処理回路44は、第1の実施形態に係る処理実行機能443に代えて、処理実行機能448を備える点が、図1に示す第1の実施形態に係る処理回路44と異なる。また、図10に示すように、第3の実施形態では、処理回路44と、X線検出器12との通信が可能な点が、第1の実施形態と異なる。 The processing circuit 44 according to the third embodiment shown in FIG. 10 differs from the first embodiment shown in FIG. 1 in that it includes a process execution function 448 instead of the process execution function 443 according to the first embodiment. It is different from the processing circuit 44 concerned. Further, as shown in FIG. 10, the third embodiment differs from the first embodiment in that communication between the processing circuit 44 and the X-ray detector 12 is possible.

図11は、第3の実施形態に係るX線検出器12の構成の一例を示す図である。図11に示すように、X線検出器12は、シンチレータアレイ12aと、光センサアレイ12bと、複数のバイアス電圧印加回路12eと、グリッド(図示せず)とを有する間接変換型の検出器である。 FIG. 11 is a diagram showing an example of the configuration of the X-ray detector 12 according to the third embodiment. As shown in FIG. 11, the X-ray detector 12 is an indirect conversion type detector having a scintillator array 12a, a photosensor array 12b, a plurality of bias voltage applying circuits 12e, and a grid (not shown). be.

シンチレータアレイ12aは、第1の実施形態と同様に、複数のシンチレータ12a_1を有する。 The scintillator array 12a has a plurality of scintillators 12a_1 as in the first embodiment.

光センサアレイ12bは、複数の光センサ12b_4を有する。第3の実施形態に係る光センサ12b_4は、例えば、アバランシェフォトダイオードにより実現される。X線検出器12は、単一(1つ)のシンチレータ12a_1に対して1つの光センサ12b_4及び1つのバイアス電圧印加回路12eが対応付けられて構成されている。図11に示すように、シンチレータ12a_1及び光センサ12b_4が、深さ方向に沿って、この順で配置されている。 The photosensor array 12b has a plurality of photosensors 12b_4. The optical sensor 12b_4 according to the third embodiment is implemented by, for example, an avalanche photodiode. The X-ray detector 12 is configured such that one photosensor 12b_4 and one bias voltage application circuit 12e are associated with a single (one) scintillator 12a_1. As shown in FIG. 11, the scintillator 12a_1 and the photosensor 12b_4 are arranged in this order along the depth direction.

光センサ12b_4は、光センサ12b_4に対応付けられたシンチレータ12a_1からの光を、光量に応じた電気信号に変換する機能を有する。すなわち、光センサ12b_4は、単一のシンチレータ12a_1から発せられた光を検出し、検出した光に応じた電気信号を出力する。 The optical sensor 12b_4 has a function of converting the light from the scintillator 12a_1 associated with the optical sensor 12b_4 into an electrical signal corresponding to the amount of light. That is, the photosensor 12b_4 detects light emitted from the single scintillator 12a_1 and outputs an electrical signal corresponding to the detected light.

ここで、光センサ12b_4は、印加されるバイアス電圧の大きさに応じて変化する波長感度特性を有する。本実施形態では、光センサ12b_4は、バイアス電圧として第3電圧が印加されている場合には、光90を検出可能であり、光91を検出できない波長感度特性を有する。すなわち、第3電圧が印加されている場合には、光センサ12b_4により検出可能な光の波長帯域内に、光90の波長(ピーク波長)が含まれているが、光91の波長(ピーク波長)が含まれない。 Here, the photosensor 12b_4 has a wavelength sensitivity characteristic that changes according to the magnitude of the applied bias voltage. In this embodiment, the optical sensor 12b_4 has a wavelength sensitivity characteristic that can detect the light 90 and cannot detect the light 91 when the third voltage is applied as the bias voltage. That is, when the third voltage is applied, the wavelength (peak wavelength) of the light 90 is included in the wavelength band of light detectable by the optical sensor 12b_4, but the wavelength (peak wavelength) of the light 91 is ) is not included.

したがって、光センサ12b_4は、第3電圧が印加されている場合には、光90を検出し、第1電気信号(光90に応じた電気信号)を出力する。 Therefore, when the third voltage is applied, the photosensor 12b_4 detects the light 90 and outputs a first electrical signal (an electrical signal corresponding to the light 90).

また、本実施形態では、光センサ12b_4は、バイアス電圧として、第3電圧と異なる第4電圧が印加されている場合には、光90及び光91を検出可能な波長感度特性を有する。すなわち、第4電圧が印加されている場合には、光センサ12b_4により検出可能な光の波長帯域内に、光90の波長(ピーク波長)、及び、光91の波長(ピーク波長)が含まれる。例えば、第4電圧は、第3電圧よりも大きい。バイアス電圧は、負荷電圧の一例である。 Further, in the present embodiment, the optical sensor 12b_4 has wavelength sensitivity characteristics capable of detecting the light 90 and the light 91 when a fourth voltage different from the third voltage is applied as the bias voltage. That is, when the fourth voltage is applied, the wavelength band of light detectable by the optical sensor 12b_4 includes the wavelength (peak wavelength) of the light 90 and the wavelength (peak wavelength) of the light 91. . For example, the fourth voltage is greater than the third voltage. A bias voltage is an example of a load voltage.

バイアス電圧印加回路12eは、処理実行機能448による制御を受けて、光センサ12b_4にバイアス電圧を印加する。例えば、バイアス電圧印加回路12eは、バイアス電圧として、第3電圧又は第4電圧を光センサ12b_4に印加する。 The bias voltage application circuit 12e is controlled by the process execution function 448 and applies a bias voltage to the photosensor 12b_4. For example, the bias voltage application circuit 12e applies the third voltage or the fourth voltage as the bias voltage to the photosensor 12b_4.

図10の説明に戻り、処理回路44は、メモリ41から処理実行機能448に相当するプログラムを読み出して実行することにより、スキャン条件に基づいて、光センサ12b_4に印加されるバイアス電圧の大きさを制御する処理(第3処理)を実行する。また、処理回路44は、処理実行機能448に相当するプログラムを実行することにより、スキャン条件に基づいて、アフターグローに対応する波長に対応する信号の出力を下げるように、バイアス電圧の大きさを制御する処理を第3処理として実行する。処理実行機能448は、処理部の一例である。 Returning to the description of FIG. 10, the processing circuit 44 reads out a program corresponding to the processing execution function 448 from the memory 41 and executes it, thereby determining the magnitude of the bias voltage applied to the photosensor 12b_4 based on the scan conditions. A process to be controlled (third process) is executed. Further, the processing circuit 44 executes a program corresponding to the processing execution function 448 to reduce the magnitude of the bias voltage based on the scan conditions so as to reduce the output of the signal corresponding to the wavelength corresponding to the afterglow. The process to be controlled is executed as the third process. The processing execution function 448 is an example of a processing unit.

図12は、第3の実施形態に係るX線CT装置1が実行する第3処理の一例の流れを示すフローチャートである。図12の例に示すように、処理実行機能448は、第1処理のステップS101と同様に、スキャン条件が記憶されたメモリ41から、スキャン条件を取得する(ステップS301)。 FIG. 12 is a flow chart showing an example of the third process executed by the X-ray CT apparatus 1 according to the third embodiment. As shown in the example of FIG. 12, the process execution function 448 acquires the scan conditions from the memory 41 storing the scan conditions, as in step S101 of the first process (step S301).

そして、処理実行機能448は、第1処理のステップS102と同様に、スキャン条件から、アフターグローの影響を抑制するのか、又は、アフターグローの影響を許容しつつS/Nの向上を図るのかを、判定する(ステップS302)。 Then, as in step S102 of the first process, the processing execution function 448 determines whether to suppress the influence of afterglow or to improve the S/N while allowing the influence of afterglow from the scanning conditions. , is determined (step S302).

アフターグローの影響を抑制する場合(ステップS302:アフターグローの影響を抑制)には、処理実行機能448は、ステップS303に進む。ステップS303では、処理実行機能448は、第3電圧が光センサ12b_4に印加されるように、バイアス電圧印加回路12eを制御する。例えば、処理実行機能447は、第3電圧を光センサ12b_4に印加するように、バイアス電圧印加回路12eを制御する。 If the effect of afterglow is suppressed (step S302: suppress the effect of afterglow), the processing execution function 448 proceeds to step S303. In step S303, the process execution function 448 controls the bias voltage application circuit 12e so that the third voltage is applied to the photosensor 12b_4. For example, the process execution function 447 controls the bias voltage application circuit 12e to apply the third voltage to the photosensor 12b_4.

この場合、光センサ12b_4は、光90を検出し、第1電気信号(光90に応じた電気信号)を出力する。第1電気信号は、再構成処理機能444により再構成されるCT画像データの元となる1チャネルの生データの元となる信号である。そして、DAS18は、第1電気信号から第1検出データを生成する。そして、DAS18は、第1検出データを処理回路44に送信する。 In this case, the optical sensor 12b_4 detects the light 90 and outputs a first electrical signal (an electrical signal corresponding to the light 90). The first electrical signal is a signal that is the source of one-channel raw data that is the source of CT image data reconstructed by the reconstruction processing function 444 . DAS 18 then generates first detection data from the first electrical signal. DAS 18 then transmits the first sensed data to processing circuitry 44 .

そして、前処理機能442は、第1検出データに対して前処理を施す。そして、再構成処理機能444は、前処理が施された第1検出データ(第1生データ)を用いて、CT画像データを再構成する。したがって、再構成されたCT画像データの時間分解能の悪化、及び、アーチファクトの発生を抑制することができる。 Then, the preprocessing function 442 preprocesses the first detection data. Then, the reconstruction processing function 444 reconstructs CT image data using the preprocessed first detection data (first raw data). Therefore, it is possible to suppress the deterioration of the time resolution of the reconstructed CT image data and the occurrence of artifacts.

一方、S/Nの向上を図る場合(ステップS302:S/Nの向上)には、処理実行機能448は、ステップS304に進む。ステップS304では、処理実行機能448は、第4電圧が光センサ12b_4に印加されるように、バイアス電圧印加回路12eを制御する。例えば、処理実行機能448は、第4電圧を光センサ12b_4に印加するように、バイアス電圧印加回路12eを制御する。 On the other hand, if the S/N is to be improved (step S302: S/N improvement), the processing execution function 448 proceeds to step S304. In step S304, the process execution function 448 controls the bias voltage application circuit 12e so that the fourth voltage is applied to the photosensor 12b_4. For example, the process execution function 448 controls the bias voltage application circuit 12e to apply the fourth voltage to the photosensor 12b_4.

この場合、光センサ12b_3は、光90及び光91を検出し、光90及び光91に応じた電気信号を出力する。 In this case, the optical sensor 12b_3 detects the light 90 and the light 91 and outputs an electrical signal corresponding to the light 90 and the light 91. FIG.

そして、DAS18は、光90及び光91に応じた電気信号から光90及び光91に応じた検出データを生成する。そして、DAS18は、光90及び光91に応じた検出データを処理回路44に送信する。 The DAS 18 then generates detection data corresponding to the light 90 and the light 91 from electrical signals corresponding to the light 90 and the light 91 . DAS 18 then transmits detection data corresponding to light 90 and light 91 to processing circuit 44 .

そして、前処理機能442は、光90及び光91に応じた検出データに対して前処理を施す。再構成処理機能444は、このようして得られた生データ(前処理が施された、光90及び光91に応じた検出データ)を用いて、CT画像データを再構成する。したがって、再構成されたCT画像データのS/Nの改善を図ることができる。 A pre-processing function 442 pre-processes the detection data corresponding to the light 90 and the light 91 . The reconstruction processing function 444 reconstructs CT image data using the raw data thus obtained (preprocessed detection data corresponding to the light 90 and the light 91). Therefore, the S/N of the reconstructed CT image data can be improved.

以上、第3の実施形態に係るX線CT装置1について説明した。第3の実施形態に係るX線CT装置1によれば、第1の実施形態と同様に、適切にアフターグローの影響を低減させることができる。 The X-ray CT apparatus 1 according to the third embodiment has been described above. According to the X-ray CT apparatus 1 according to the third embodiment, similarly to the first embodiment, it is possible to appropriately reduce the influence of afterglow.

なお、第3の実施形態において、ステップS303において、処理実行機能448が、アフターグローに対応する波長に対応する電気信号の出力を下げるように、バイアス電圧の大きさを制御する場合について説明した。しかしながら、ステップS303において、処理実行機能448が、メインピークに対応する波長(光90のピーク波長)に対応する電気信号の出力を上げるように、バイアス電圧の大きさを制御してもよい。この場合、再構成処理機能444は、前処理機能442により前処理が施された、光90及び光91に応じた検出データ(生データ)を用いて、CT画像データを再構成する。 In the third embodiment, in step S303, the processing execution function 448 controls the magnitude of the bias voltage so as to reduce the output of the electrical signal corresponding to the wavelength corresponding to afterglow. However, in step S303, the process execution function 448 may control the magnitude of the bias voltage so as to increase the output of the electrical signal corresponding to the wavelength corresponding to the main peak (the peak wavelength of the light 90). In this case, the reconstruction processing function 444 reconstructs CT image data using detection data (raw data) corresponding to the light 90 and light 91 preprocessed by the preprocessing function 442 .

なお、上述した各実施形態及び各変形例において、X線CT装置1が各種の処理を実行する場合について説明した。しかしながら、X線CT装置1と同様にシンチレータ及び光センサを含む放射線検出器を備えるPET装置、及び、SPECT装置等の放射線診断装置が、X線CT装置1が実行する各種の処理と同様の処理を実行してもよい。 In each of the embodiments and modifications described above, cases where the X-ray CT apparatus 1 executes various types of processing have been described. However, similar to the X-ray CT apparatus 1, a PET apparatus equipped with a radiation detector including a scintillator and an optical sensor, and a radiation diagnostic apparatus such as a SPECT apparatus perform the same processing as the various processes executed by the X-ray CT apparatus 1. may be executed.

上述した実施形態に係る各装置の各構成要素は機能概念的なものであり、必ずしも物理的に図示の如く構成されていることを要しない。即ち、各装置の分散・統合の具体的形態は図示のものに限られず、その全部又は一部を、各種の負荷や使用状況などに応じて、任意の単位で機能的又は物理的に分散・統合して構成することができる。更に、各装置にて行われる各処理機能は、その全部又は任意の一部が、CPU及び当該CPUにて解析実行されるプログラムにて実現され、あるいは、ワイヤードロジックによるハードウェアとして実現されうる。 Each component of each device according to the above-described embodiments is functionally conceptual, and does not necessarily need to be physically configured as illustrated. That is, the specific form of distribution/integration of each device is not limited to the illustrated one, and all or part of them can be functionally or physically distributed/integrated in arbitrary units according to various loads and usage conditions. Can be integrated and configured. Furthermore, all or any part of each processing function performed by each device can be implemented by a CPU and a program analyzed and executed by the CPU, or implemented as hardware based on wired logic.

また、上述した実施形態で説明した各種の処理は、予め用意されたプログラムをパーソナルコンピュータやワークステーション等のコンピュータで実行することによって実現することができる。このプログラムは、インターネット等のネットワークを介して配布することができる。また、このプログラムは、ハードディスク、フレキシブルディスク(FD)、CD-ROM、MO、DVD等のコンピュータで読み取り可能な記録媒体に記録され、コンピュータによって記録媒体から読み出されることによって実行することもできる。 Also, various processes described in the above-described embodiments can be realized by executing a prepared program on a computer such as a personal computer or a workstation. This program can be distributed via a network such as the Internet. The program can also be recorded on a computer-readable recording medium such as a hard disk, flexible disk (FD), CD-ROM, MO, DVD, etc., and executed by being read from the recording medium by a computer.

以上説明した少なくとも1つの実施形態又は変形例によれば、適切にアフターグローの影響を低減させることができる。 According to at least one embodiment or modified example described above, the influence of afterglow can be appropriately reduced.

本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれると同様に、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれるものである。 While several embodiments of the invention have been described, these embodiments have been presented by way of example and are not intended to limit the scope of the invention. These embodiments can be implemented in various other forms, and various omissions, replacements, and modifications can be made without departing from the scope of the invention. These embodiments and their modifications are included in the scope and spirit of the invention, as well as the scope of the invention described in the claims and equivalents thereof.

1 X線CT装置
12 X線検出器
43 入力インターフェース
443 処理実行機能
1 X-ray CT apparatus 12 X-ray detector 43 Input interface 443 Processing execution function

Claims (9)

入射放射線に応じて発光するシンチレータ、及び、前記シンチレータから発せられた光を検出し当該光に応じた信号を出力する光センサを含む放射線検出器と、
撮影対象部位又は管電圧値を含むスキャン条件の入力を受け付ける受付部と、
前記スキャン条件に含まれる前記撮影対象部位又は前記管電圧値に基づいて、前記放射線検出器からの出力に対してアフターグローの影響を低減する第1の処理又は前記放射線検出器からの出力がアフターグローの影響が低減された出力となるように前記放射線検出器を制御する第2の処理を実行する処理部と、
を備える、放射線診断装置。
a radiation detector including a scintillator that emits light in response to incident radiation, and a photosensor that detects light emitted from the scintillator and outputs a signal corresponding to the light;
a reception unit that receives an input of scanning conditions including a region to be imaged or a tube voltage value ;
a first process for reducing the influence of afterglow on the output from the radiation detector or output from the radiation detector based on the imaging target site or the tube voltage value included in the scan conditions; a processing unit that performs a second process of controlling the radiation detector so as to produce an output with a reduced effect of glow;
A radiological diagnostic device comprising:
前記放射線検出器は、単一のシンチレータに対して第1の光センサ及び前記第1の光センサよりも長波長の光を検出する第2の光センサが対応付けられて構成され、
前記処理部は、前記スキャン条件に基づいて前記第2の光センサの寄与を前記第1の光センサと比して低減する前記第1の処理を実行する、
請求項1に記載の放射線診断装置。
The radiation detector is configured such that a first photosensor and a second photosensor that detects light having a longer wavelength than the first photosensor are associated with a single scintillator,
The processing unit performs the first process of reducing the contribution of the second photosensor compared to the first photosensor based on the scan condition.
The radiation diagnostic apparatus according to claim 1.
前記処理部は、前記第1の光センサから出力される信号に基づくデータに、所定の係数で重み付けされた前記第2の光センサから出力される信号に基づくデータを加算することにより得られたデータ、又は、前記第1の光センサ及び前記第2の光センサのうち前記第1の光センサから出力される信号に基づくデータを、放射線画像データを再構成する際に用いられるように制御する前記第1の処理を実行する、
請求項2に記載の放射線診断装置。
The processing unit adds data based on the signal output from the second photosensor weighted by a predetermined coefficient to data based on the signal output from the first photosensor. Data, or data based on a signal output from the first optical sensor out of the first optical sensor and the second optical sensor, is controlled to be used when reconstructing radiation image data. executing the first process;
The radiation diagnostic apparatus according to claim 2.
前記放射線検出器は、単一のシンチレータに対して第1の光センサ及び前記第1の光センサよりも長波長の光を検出する第2の光センサが対応付けられて構成され、
前記処理部は、前記スキャン条件に基づいて前記第1の光センサの寄与を前記第2の光センサと比して大きくする前記第1の処理を実行する、
請求項1に記載の放射線診断装置。
The radiation detector is configured such that a first photosensor and a second photosensor that detects light having a longer wavelength than the first photosensor are associated with a single scintillator,
The processing unit performs the first process of increasing the contribution of the first photosensor compared to the second photosensor based on the scan condition.
The radiation diagnostic apparatus according to claim 1.
前記第2の光センサの有感体積は、前記第1の光センサの有感体積よりも大きい、請求項2~4のいずれか1つに記載の放射線診断装置。 5. The radiation diagnostic apparatus according to claim 2, wherein the sensitive volume of said second photosensor is larger than the sensitive volume of said first photosensor. 前記処理部は、前記第1の光センサから出力される信号と、前記第2の光センサから出力される信号とに基づいて、前記入射放射線のエネルギーを推定する、請求項2~5のいずれか1つに記載の放射線診断装置。 6. The processing unit estimates the energy of the incident radiation based on the signal output from the first photosensor and the signal output from the second photosensor. 1. A radiological diagnostic apparatus according to claim 1. 前記放射線検出器は、前記シンチレータと前記光センサとの間に設けられたフィルタを更に備え、
前記処理部は、前記スキャン条件に基づいてアフターグローに対応する波長の光を少なくとも低減するように前記フィルタの特性を制御する前記第2の処理を実行する、請求項1に記載の放射線診断装置。
The radiation detector further comprises a filter provided between the scintillator and the photosensor,
2. The radiation diagnostic apparatus according to claim 1, wherein said processing unit executes said second processing of controlling characteristics of said filter so as to at least reduce light of a wavelength corresponding to afterglow based on said scanning conditions. .
前記光センサは、負荷電圧に応じて変化する波長感度特性を有し、
前記処理部は、前記スキャン条件に基づいて前記負荷電圧を制御する前記第2の処理を実行する、
請求項1に記載の放射線診断装置。
The optical sensor has a wavelength sensitivity characteristic that changes according to the load voltage,
The processing unit executes the second process of controlling the load voltage based on the scan conditions.
The radiation diagnostic apparatus according to claim 1.
前記光センサは、アバランシェフォトダイオードであり、
前記処理部は、前記スキャン条件に基づいてアフターグローに対応する波長に対応する信号の出力を下げるか、又は、メインピークに対応する波長に対応する信号の出力を上げるように、前記アバランシェフォトダイオードに印加されるバイアス電圧を制御する、
請求項8に記載の放射線診断装置。
the optical sensor is an avalanche photodiode;
The processing unit reduces the output of the signal corresponding to the wavelength corresponding to the afterglow, or increases the output of the signal corresponding to the wavelength corresponding to the main peak, based on the scanning conditions. controls the bias voltage applied to
A radiation diagnostic apparatus according to claim 8 .
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