JP7300545B1 - Screen mask manufacturing method and screen mask - Google Patents
Screen mask manufacturing method and screen mask Download PDFInfo
- Publication number
- JP7300545B1 JP7300545B1 JP2022135683A JP2022135683A JP7300545B1 JP 7300545 B1 JP7300545 B1 JP 7300545B1 JP 2022135683 A JP2022135683 A JP 2022135683A JP 2022135683 A JP2022135683 A JP 2022135683A JP 7300545 B1 JP7300545 B1 JP 7300545B1
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- positive image
- forming
- pattern opening
- image
- surface side
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 71
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 22
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 273
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 89
- 238000013459 approach Methods 0.000 abstract description 5
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 39
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 37
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 19
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 10
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 7
- 238000003892 spreading Methods 0.000 description 5
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 5
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 3
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 238000007517 polishing process Methods 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 2
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 1
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920002379 silicone rubber Polymers 0.000 description 1
- 239000004945 silicone rubber Substances 0.000 description 1
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 1
- 238000009941 weaving Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C1/00—Forme preparation
- B41C1/14—Forme preparation for stencil-printing or silk-screen printing
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41N—PRINTING PLATES OR FOILS; MATERIALS FOR SURFACES USED IN PRINTING MACHINES FOR PRINTING, INKING, DAMPING, OR THE LIKE; PREPARING SUCH SURFACES FOR USE AND CONSERVING THEM
- B41N1/00—Printing plates or foils; Materials therefor
- B41N1/24—Stencils; Stencil materials; Carriers therefor
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/12—Production of screen printing forms or similar printing forms, e.g. stencils
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Manufacture Or Reproduction Of Printing Formes (AREA)
- Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
【課題】陰像形成材料の表面側の平滑性を向上させ、厚さ方向の高さを一定に近づけることが可能となるスクリーンマスクの製造方法およびスクリーンマスクを提供する。【解決手段】陽像形成工程は、第1面になる側のパターン開口形成陽像以外の位置および第2面になる側のパターン開口形成陽像以外の位置の少なくともいずれか一方に凹部形成陽像を形成し、陰像形成工程は、パターン開口形成陽像71a以外の部分であって凹部形成陽像42,62a以外の部分に陰像85を形成し、陽像除去工程は、パターン開口形成陽像71aを除去すると共に凹部形成陽像42,62aを除去することによって、陰像85により、第1面91と第2面92とパターン開口とに加えて、第1面91から第2面92の手前まで凹む第1面側凹部および第2面92から第1面91の手前まで凹む第2面側凹部の少なくともいずれか一方を形成する。【選択図】図9A method for manufacturing a screen mask and a screen mask are provided that improve the smoothness of the surface side of a negative image forming material and allow the height in the thickness direction to approach a constant value. In the positive image forming step, at least one of a position other than the pattern opening forming positive image on the side to be the first surface and a position other than the pattern opening forming positive image on the side to be the second surface is formed. In the negative image forming step, a negative image 85 is formed in a portion other than the pattern opening forming positive image 71a and in a portion other than the recess forming positive images 42 and 62a. By removing the positive image 71a and removing the recessed positive images 42, 62a, the negative image 85 allows the first surface 91 to the second surface 91 to the second surface in addition to the first surface 91 and the second surface 92 and the pattern openings. At least one of a first-surface-side recess recessed to the front of 92 and a second-surface-side recess recessed from the second surface 92 to the front of the first surface 91 is formed. [Selection drawing] Fig. 9
Description
本発明は、スクリーンマスクの製造方法およびスクリーンマスクに関する。 The present invention relates to a screen mask manufacturing method and a screen mask.
陽像を形成し、陽像以外の部分に陰像を形成した後、陽像を除去することで、陰像によってパターン開口を形成するスクリーン印刷版の製造方法およびスクリーン印刷版がある(例えば、特許文献1,2参照)。 There is a screen printing plate manufacturing method and a screen printing plate in which a positive image is formed, a negative image is formed in a portion other than the positive image, and then the positive image is removed to form pattern openings with the negative image (for example, See Patent Documents 1 and 2).
上記のようなスクリーンマスクの製造時において、陰像を形成する際に、印刷解像性向上、印刷厚さの安定性確保の観点から、陰像形成材料の表面側を平面状に近づけたい、すなわち平滑性を向上させ、厚さ方向の高さを一定に近づけたいという要望がある。 When forming a negative image during the production of the screen mask as described above, it is desirable to make the surface side of the negative image forming material as close to planar as possible from the viewpoint of improving the printing resolution and ensuring the stability of the printing thickness. That is, there is a demand to improve the smoothness and make the height in the thickness direction closer to a constant value.
したがって、本発明は、陰像形成材料の表面側の平滑性を向上させ、厚さ方向の高さを一定に近づけることが可能となるスクリーンマスクの製造方法およびスクリーンマスクの提供を目的とする。 SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, it is an object of the present invention to provide a method for manufacturing a screen mask and a screen mask that can improve the smoothness of the surface of the negative image forming material and make the height in the thickness direction close to constant.
上記目的を達成するために、本発明に係るスクリーンマスクの製造方法の一態様は、パターン開口形成陽像を形成する陽像形成工程と、前記パターン開口形成陽像以外の部分に陰像を形成する陰像形成工程と、前記パターン開口形成陽像を除去して前記陰像により第1面と第2面と前記第1面及び前記第2面を連通させるパターン開口とを形成する陽像除去工程と、を含むスクリーンマスクの製造方法であって、前記陽像形成工程は、前記パターン開口形成陽像に加えて、前記第1面になる側の前記パターン開口形成陽像以外の位置と前記第2面になる側の前記パターン開口形成陽像以外の位置とに凹部形成陽像を形成し、前記陰像形成工程は、前記パターン開口形成陽像以外の部分であって前記凹部形成陽像以外の部分に陰像を形成し、前記陽像除去工程は、前記パターン開口形成陽像を除去すると共に前記凹部形成陽像を除去することによって、前記陰像により、前記第1面と前記第2面と前記パターン開口とに加えて、前記第1面から前記第2面の手前まで凹む第1面側凹部と前記第2面から前記第1面の手前まで凹む第2面側凹部とを形成することを特徴とする。 In order to achieve the above object, one aspect of the method for manufacturing a screen mask according to the present invention comprises a positive image forming step of forming a pattern opening forming positive image, and forming a negative image in a portion other than the pattern opening forming positive image. and a positive image removing step of removing the pattern opening forming positive image to form a pattern opening connecting the first surface and the second surface and the first surface and the second surface by the negative image. wherein the positive image forming step includes, in addition to the pattern opening forming positive image, positions other than the pattern opening forming positive image on the first surface side and the forming a concave portion forming positive image at a position other than the pattern opening forming positive image on the side of the second surface, and forming the negative image at a portion other than the pattern opening forming positive image and forming the concave portion forming positive image; In the positive image removing step, the positive image forming the pattern openings and the positive image forming the recesses are removed so that the first surface and the first surface are separated from each other by the negative images. In addition to the two surfaces and the pattern opening, a first surface side recess recessed from the first surface to the front of the second surface and a second surface side recess recessed from the second surface to the front of the first surface . characterized by forming
これにより、陽像形成工程において、パターン開口形成陽像に加えて、第1面になる側のパターン開口形成陽像以外の位置と第2面になる側のパターン開口形成陽像以外の位置とに凹部形成陽像を形成しておく。その結果、陰像形成工程において、パターン開口形成陽像以外の部分であって凹部形成陽像以外の部分に陰像形成材料を充填すると、陰像形成材料が、パターン開口形成陽像に加えて凹部形成陽像にも支持される。よって、陰像形成材料の凹部形成陽像側の表面の平滑性を向上させ、厚さ方向の高さを一定に近づけることが可能となる。 As a result, in the positive image forming step, in addition to the pattern opening forming positive image, positions other than the pattern opening forming positive image on the first surface side and positions other than the pattern opening forming positive image on the second surface side. A recess formation positive image is formed in advance. As a result, in the negative image forming step, when the negative image forming material is filled in the portion other than the pattern opening forming positive image and the recess forming positive image, the negative image forming material is added to the pattern opening forming positive image. It is also supported by the recessed positive image. Therefore, it is possible to improve the smoothness of the surface of the negative image forming material on the recessed positive image side and make the height in the thickness direction close to a constant value.
本発明に係るスクリーンマスクの一態様は、第1面と第2面とを連通させるパターン開口が形成されたスクリーンマスクであって、前記第1面の前記パターン開口とは異なる位置に、前記第1面から前記第2面の手前まで凹む第1面側凹部が設けられ、前記第2面の前記パターン開口とは異なる位置に、前記第2面から前記第1面の手前まで凹む第2面側凹部が設けられており、前記第1面側凹部と前記第2面側凹部とは、スクリーンメッシュまで延びていることを特徴とする。 One aspect of the screen mask according to the present invention is a screen mask in which a pattern opening that communicates between a first surface and a second surface is formed, wherein the first surface is located at a position different from the pattern opening on the first surface. A first surface side concave portion is provided which is recessed from the first surface to the front of the second surface, and the second surface is recessed from the second surface to the front of the first surface at a position different from the pattern opening of the second surface. A side recess is provided, and the first surface side recess and the second surface side recess extend to the screen mesh .
これにより、陽像形成工程において、パターン開口形成陽像に加えて、第1面になる側のパターン開口形成陽像以外の位置および第2面になる側のパターン開口形成陽像以外の位置の両方に凹部形成陽像を形成しておくことになる。その結果、陰像形成工程において、パターン開口形成陽像以外の部分であって凹部形成陽像以外の部分に陰像形成材料を充填すると、陰像形成材料が、パターン開口形成陽像に加えて凹部形成陽像にも支持される。よって、陰像形成材料の第1面になる側の表面および第2面になる側の表面の平滑性を向上させ、第1面、第2面の厚さ方向の高さを一定に近づけることが可能となる。 As a result, in the positive image forming step, in addition to the pattern opening forming positive image, positions other than the pattern opening forming positive image on the first surface side and positions other than the pattern opening forming positive image on the second surface side. A recess formation positive image is formed on both. As a result, in the negative image forming step, when the negative image forming material is filled in the portion other than the pattern opening forming positive image and the recess forming positive image, the negative image forming material is added to the pattern opening forming positive image. It is also supported by the recessed positive image. Therefore, the smoothness of the surface of the negative image forming material on the side to be the first side and the surface of the side to be the second side should be improved, and the heights in the thickness direction of the first side and the second side should be made close to constant. becomes possible.
本発明によれば、陰像形成材料の表面側の平滑性を向上させ、厚さ方向の高さを一定に近づけることが可能となる。 According to the present invention, the smoothness of the surface side of the negative image forming material can be improved, and the height in the thickness direction can be made nearly constant.
[第1実施形態]
本発明に係る第1実施形態のスクリーンマスクの製造方法およびこれを用いて製造されるスクリーンマスクについて、図1~図10を参照しつつ説明する。以下の説明における厚さ方向は、図1~図4、図8~図14、図18~図24、図28~図30における上下方向である。
[First embodiment]
A method for manufacturing a screen mask according to a first embodiment of the present invention and a screen mask manufactured using the method will be described with reference to FIGS. 1 to 10. FIG. The thickness direction in the following description is the vertical direction in FIGS. 1 to 4, 8 to 14, 18 to 24, and 28 to 30.
第1実施形態のスクリーンマスクの製造方法では、図1に示すように、マスクベース11を準備する。マスクベース11は、シート状であり、シート状のベース材12と、ベース材12内にベース材12と同様に広がるように埋設されたシート状のスクリーンメッシュ13とを有している。スクリーンメッシュ13は一定の張力で張られた状態で、図示略の枠に張り付けられている。ベース材12は、光硬化型であって硬化前の樹脂材料からなっている。スクリーンメッシュ13は、金属製または合成樹脂製の線状部材が網目状に織られて形成されている。あるいは、スクリーンメッシュ13は、電気メッキ工法で作製された多数の開口を持つシート状の金属板の場合もある。
In the screen mask manufacturing method of the first embodiment, as shown in FIG. 1, a
ベース材12は、その厚さ方向の一側に平面状の第1面21を有しており、その厚さ方向の他側に平面状の第2面22を有している。マスクベース11においても、第1面21が厚さ方向の一側に、第2面22が厚さ方向の他側にある。第1面21と第2面22とは互いに反対に向いて平行に広がっている。スクリーンメッシュ13は、ベース材12内で第1面21および第2面22と平行に広がっており、第1面21との間の距離が、第2面22との間の距離よりも大きくなっている。以下においては、マスクベース11の第1面21および第2面22を基準とした方向を用いて説明する。
The
第1実施形態のスクリーンマスクの製造方法では、陽像形成工程を行う。陽像形成工程では、まず、準備されたマスクベース11の第2面22に、ベース材12とは異なる色の感光乳剤を平面状に塗布して着色層25を形成する第2面着色工程を行う。
In the screen mask manufacturing method of the first embodiment, a positive image forming step is performed. In the positive image forming step, first, a second surface coloring step is performed in which a photosensitive emulsion having a color different from that of the
陽像形成工程では、次に、図2に示すように、適宜の位置にパターン開口形成用開口31および第1面側凹部形成用開口32が形成された第1面側露光用マスク33で第1面21を覆ってマスクベース11のベース材12にマスクベース11の厚さ方向に沿って第1面21側から露光を行う第1露光工程を行う。第1露光工程によって、第1面21の広がる方向の位置および形状をパターン開口形成用開口31と合わせた第1面側パターン開口形成陽像41と、第1面21の広がる方向の位置および形状を第1面側凹部形成用開口32と合わせた第1面側凹部形成陽像42(凹部形成陽像)とが、ベース材12が硬化することによって形成される。第1露光工程では、第1面側パターン開口形成陽像41および第1面側凹部形成陽像42が、いずれも、ベース材12の第1面21から、第2面22より手前であるスクリーンメッシュ13の位置まで硬化するように露光を調整する。第1露光工程では、第1面側露光用マスク33を用いずにレーザ等によって第1面側パターン開口形成陽像41および第1面側凹部形成陽像42を直接描画しても良い。
In the positive image forming step, as shown in FIG. 2, a first surface
陽像形成工程では、次に、図3に示すように、適宜の位置にパターン開口形成用開口51および第2面側凹部形成用開口52が形成された第2面側露光用マスク53で着色層25を覆って着色層25およびマスクベース11のベース材12にマスクベース11の厚さ方向に沿って着色層25側から露光を行う第2露光工程を行う。第2露光工程によって、第2面22の広がる方向の位置および形状をパターン開口形成用開口51と合わせた第2面側パターン開口形成陽像61と、第2面22の広がる方向の位置および形状を第2面側凹部形成用開口52と合わせた第2面側凹部形成陽像62とが、着色層25およびベース材12が硬化することによって形成される。第2露光工程では、第2面側パターン開口形成陽像61および第2面側凹部形成陽像62が、いずれも、着色層25から、ベース材12の第1面21より手前であるスクリーンメッシュ13の位置まで硬化するように露光を調整する。第2露光工程でも、第2面側露光用マスク53を用いずにレーザ等によって第2面側パターン開口形成陽像61および第2面側凹部形成陽像62を直接描画しても良い。
In the positive image forming step, as shown in FIG. 3, coloring is performed using a second surface
ここで、第1面側露光用マスク33のパターン開口形成用開口31と、第2面側露光用マスク53のパターン開口形成用開口51とは、第1面21および第2面22の広がる方向における位置および形状が一致している。言い換えれば、第1面側露光用マスク33のパターン開口形成用開口31と、第2面側露光用マスク53のパターン開口形成用開口51とは、マスクベース11の厚さ方向に鏡面対称状に形成されている。このため、第1面側パターン開口形成陽像41に第2面側パターン開口形成陽像61が繋がって第1面21と第2面22とを結ぶパターン開口形成陽像71となる。
Here, the pattern
これに対して、第1面側露光用マスク33の第1面側凹部形成用開口32と、第2面側露光用マスク53の第2面側凹部形成用開口52とは、第1面21および第2面22の広がる方向における位置が完全にずれている。言い換えれば、第1面側露光用マスク33の第1面側凹部形成用開口32は、マスクベース11の厚さ方向に鏡面対称状とした場合に、第2面側露光用マスク53の第2面側凹部形成用開口52とは重ならない位置に形成されている。このため、第1面側凹部形成陽像42と第2面側凹部形成陽像62とは一切繋がることがなく、互いに完全に分離した位置に形成される。
On the other hand, the first surface side
また、第1面側露光用マスク33のパターン開口形成用開口31および第2面側露光用マスク53のパターン開口形成用開口51に対して、第1面側露光用マスク33の第1面側凹部形成用開口32と、第2面側露光用マスク53の第2面側凹部形成用開口52とは、第1面21および第2面22の広がる方向における位置が完全にずれている。このため、第1面側凹部形成陽像42と第2面側凹部形成陽像62とは、パターン開口形成陽像71とも完全に分離した位置に形成される。
Moreover, the first surface side of the first surface
陽像形成工程では、次に、図4に示すように、着色層25の硬化していない部分およびベース材12の硬化していない部分を除去する現像工程を行う。現像工程は、着色層25およびベース材12の材質に応じて行うことになり、例えば、これらの硬化していない部分を水で洗い流す水現像を行う。これにより、パターン開口形成陽像71と、第1面側凹部形成陽像42と、第2面側凹部形成陽像62とが残る。残ったパターン開口形成陽像71、第1面側凹部形成陽像42および第2面側凹部形成陽像62は、いずれもスクリーンメッシュ13に支持された状態となる。
In the positive image forming step, as shown in FIG. 4, a developing step is performed to remove the uncured portion of the
以上により、陽像形成工程は、硬化した着色層25および硬化したベース材12からなるパターン開口形成陽像71を形成することになり、パターン開口形成陽像71に加えて、第1面21側のパターン開口形成陽像71以外の位置に、硬化したベース材12からなる第1面側凹部形成陽像42を形成すると共に、第2面22側のパターン開口形成陽像71以外の位置に、硬化した着色層25および硬化したベース材12からなる第2面側凹部形成陽像62を形成する。しかも、陽像形成工程は、パターン開口形成陽像71と第1面側凹部形成陽像42と第2面側凹部形成陽像62とを、第1面21および第2面22の広がる方向の位置をずらして形成する。第1面21側の第1面側凹部形成陽像42と第2面22側の第2面側凹部形成陽像62とは、スクリーンメッシュ13まで硬化している。陽像形成工程は、第1面21側と第2面22側との両側から露光を行う。
As described above, in the positive image forming step, the pattern opening formation
ここで、パターン開口形成陽像71、第1面側凹部形成陽像42および第2面側凹部形成陽像62は、一例として、図5に示すようになっている。図5の例では、第2面22側から見た場合、パターン開口形成陽像71は、直線状であり、第1面側凹部形成陽像42および第2面側凹部形成陽像62は、いずれも円形のドット状である。すなわち、パターン開口形成陽像71は、スクリーンメッシュ13の厚さ方向に広がる平板状であり、第1面側凹部形成陽像42および第2面側凹部形成陽像62は、いずれも、スクリーンメッシュ13の厚さ方向に延びる円柱状である。第1面側凹部形成陽像42および第2面側凹部形成陽像62は、第2面22の広がる方向において、パターン開口形成陽像71に平行な縦方向およびパターン開口形成陽像71に垂直な横方向共に等間隔に広がる格子の交点位置に、均等の密度となるように配置されている。第1面側凹部形成陽像42および第2面側凹部形成陽像62は、格子の縦方向に等間隔で交互に配置されており、格子の横方向にも等間隔で交互に配置されている。なお、第1面側凹部形成陽像42および第2面側凹部形成陽像62の形状は、円柱状以外に、四角柱状、三角柱状、楕円柱状等の種々の形状を採用することが可能である。また、第1面側凹部形成陽像42および第2面側凹部形成陽像62の大きさ、並べ方も種々のパターンを採用することが可能である。
Here, the pattern opening formation
パターン開口形成陽像71、第1面側凹部形成陽像42および第2面側凹部形成陽像62は、別の例として、図6に示すようにすることも可能である。図6の例では、第2面22側から見た場合、パターン開口形成陽像71、第1面側凹部形成陽像42および第2面側凹部形成陽像62は、互いに平行な直線状である。すなわち、パターン開口形成陽像71、第1面側凹部形成陽像42および第2面側凹部形成陽像62は、いずれもスクリーンメッシュ13の厚さ方向に広がる平板状であり、互いに平行な平板状である。第1面側凹部形成陽像42および第2面側凹部形成陽像62は、スクリーンメッシュ13の広がる方向において等間隔で交互に配置されている。
As another example, the pattern opening formation
パターン開口形成陽像71、第1面側凹部形成陽像42および第2面側凹部形成陽像62は、さらに別の例として、図7に示すようにすることも可能である。図7の例では、第2面22側から見た場合、パターン開口形成陽像71は直線状であり、第1面側凹部形成陽像42は、パターン開口形成陽像71に平行な直線状の部分とパターン開口形成陽像71に垂直な直線状の部分とからなる格子状であり、第2面側凹部形成陽像62はドット状である。第2面側凹部形成陽像62は、格子状の第1面側凹部形成陽像42の各直線間の中央位置に配置されている。なお、第1面側凹部形成陽像42をドット状とし、第2面側凹部形成陽像62を格子状としても良い。
The pattern opening formation
よって、第1面側凹部形成陽像42および第2面側凹部形成陽像62は、それぞれが、ドット状、ライン状および格子状のいずれか一つである。第1面側凹部形成陽像42と第2面側凹部形成陽像62との組み合わせを、ドット状とライン状との組み合わせとしたり、ライン状と格子状との組み合わせとしたりすることも可能である。
Therefore, each of the positive
陽像形成工程の次に、図8に示すように陰像形成工程を行う。陰像形成工程では、まず、現像工程で残った、パターン開口形成陽像71の第1面21からなる端面と第1面側凹部形成陽像42の第1面21からなる端面とに閉塞シート80を平面状に広げて貼付して第1面21側を閉塞させる閉塞工程を行う。ここで、閉塞シート80は、例えば一面に粘着層が形成された粘着シートであり、この粘着シートの粘着層を、全てのパターン開口形成陽像71の第1面21からなる端面と、全ての第1面側凹部形成陽像42の第1面21からなる端面とに貼り付ける。
The positive image forming step is followed by a negative image forming step as shown in FIG. In the negative image forming step, first, a closing sheet is attached to the end face of the pattern opening forming
陰像形成工程では、次に、着色層25側すなわち第2面22側から、閉塞シート80までの範囲の、パターン開口形成陽像71と第1面側凹部形成陽像42と第2面側凹部形成陽像62とスクリーンメッシュ13との隙間に、これらの第2面22側を全て覆うまで陰像形成材料81を充填し硬化させる陰像形成材料充填硬化工程を行う。これにより、陰像形成材料81内に、パターン開口形成陽像71と第1面側凹部形成陽像42と第2面側凹部形成陽像62とスクリーンメッシュ13とが埋設された状態になる。ここで、出来上がったスクリーンマスクが印刷用として使用される場合には、陰像形成材料81としてインクの種類に応じた材料が選択される。例えば、水性インクの印刷用マスクとして使用される場合には、水に強いシリコーンゴムが用いられ、有機溶剤インクの印刷用マスクとして使用される場合には、エポキシ樹脂が用いられる。そして、陰像形成材料81を、材料に合わせた、加熱、光の照射等の適した硬化方法で硬化させる。陰像形成材料81は、硬化する樹脂であれば種々の材料を使用することができる。
In the negative image forming step, next, the pattern opening forming
陰像形成工程では、次に、パターン開口形成陽像71と第2面側凹部形成陽像62と硬化した陰像形成材料81とを、閉塞シート80とは反対側から、平面研磨を行って、閉塞シート80とは反対側の面82を平面状に近づける第2面研磨工程を行って陰像85を形成する。第2面研磨工程では、パターン開口形成陽像71と第2面側凹部形成陽像62とに形成された着色層25の硬化部分がなくなるまで平面研磨を行うことによって、面82が所定の平面状となる。勿論、第2面研磨工程においては、スクリーンメッシュ13および第1面側凹部形成陽像42が露出する位置まで平面研磨を行うことはない。第2面研磨工程によって、パターン開口形成陽像71が削られてパターン開口形成陽像71aとなり、第2面側凹部形成陽像62が削れられて第2面側凹部形成陽像62a(凹部形成陽像)となる。
In the negative image forming step, the pattern opening forming
以上により、陰像形成工程は、パターン開口形成陽像71a以外の部分であって第1面側凹部形成陽像42以外の部分であり、さらに第2面側凹部形成陽像62a以外の部分に陰像85を形成する。
As described above, the negative image forming process is carried out on the portions other than the pattern opening formation
次に、図10に示すように、陽像除去工程を行う。陽像除去工程では、まず、閉塞シート80を剥がして除去し、その後、溶剤を用いて、パターン開口形成陽像71aと、第1面側凹部形成陽像42と、第2面側凹部形成陽像62aとを除去する。これにより、陰像85によって、第1面21側に第1面91が形成され、第2面22側に面82の一部からなる第2面92が形成され、第1面91と第2面92とを連通させるパターン開口95が形成されたスクリーンマスク100が形成される。スクリーンマスク100には、これら第1面91、第2面92およびパターン開口95に加えて、第1面91から第2面92の手前にあるスクリーンメッシュ13の位置まで凹む第1面側凹部101と第2面92から第1面91の手前にあるスクリーンメッシュ13の位置まで凹む第2面側凹部102とが形成される。
Next, as shown in FIG. 10, a positive image removing step is performed. In the positive image removing step, first, the blocking
以上により、陽像除去工程は、パターン開口形成陽像71aを除去して陰像85により、第1面91と、第2面92と、第1面91及び第2面92を連通させるパターン開口95と、を形成する。また、陽像除去工程は、パターン開口形成陽像71aに加えて、第1面側凹部形成陽像42と、第2面側凹部形成陽像62aとを除去することによって、陰像85により、第1面91と第2面92とパターン開口95とに加えて、第1面91から第2面92の手前にあるスクリーンメッシュ13の位置まで凹む第1面側凹部101と、第2面92から第1面91の手前にあるスクリーンメッシュ13の位置まで凹む第2面側凹部102とを形成する。
As described above, the positive image removing step removes the pattern opening forming
ここで、第1面91は、剥がされた閉塞シート80の形状に倣った形状となる。閉塞シート80は、パターン開口形成陽像71に加えて第1面側凹部形成陽像42にも貼り付けられるため、パターン開口形成陽像71だけに貼り付けられる場合と比べて平面状に近づいて平滑性が向上し、厚さ方向の高さが一定に近づく。これにより、閉塞シート80に倣って形成される第1面91は、閉塞シート80がパターン開口形成陽像71だけに貼り付けられる場合と比べて、平面状に近づいて平滑性が向上し、厚さ方向の高さが一定に近づく。すなわち、陰像85を形成する際に、陰像形成材料81の第1面21側の表面の平滑性を向上させ、厚さ方向の高さも一定に近づけることが可能となる。
Here, the
第2面92は、上記したように平面研磨で形成される。パターン開口形成陽像71に加えて第2面側凹部形成陽像62が形成されていることから、陰像形成材料81が、平面研磨前の充填時にパターン開口形成陽像71と第2面側凹部形成陽像62との両方に支持される状態となって、パターン開口形成陽像71だけに支持される場合と比べて第2面22側の表面が平面状に近づいて平滑性が向上し、厚さ方向の高さが一定に近づく。すなわち、陰像85を形成する際に、平面研磨前の陰像形成材料81の第2面22側の表面の平滑性を向上させ、厚さ方向の高さを一定に近づけることが可能となる。これにより、平面研磨により第2面22側の表面を研磨して第2面92を形成する際に必要な取り代が少なくて済む。
The
以上の製造方法で製造されたスクリーンマスク100は、第1面91と第2面92とを連通させるパターン開口95が形成されている。スクリーンマスク100は、第1面91のパターン開口95とは異なる位置に、第1面91から第2面92の手前まで凹む第1面側凹部101が設けられ、第2面92のパターン開口95とは異なる位置に、第2面92から第1面91の手前まで凹む第2面側凹部102が設けられている。スクリーンマスク100は、第1面側凹部101と第2面側凹部102とが、第1面91および第2面92の広がる方向の位置をずらしている。スクリーンマスク100は、第1面側凹部101と第2面側凹部102とが、スクリーンメッシュ13まで延びている。スクリーンマスク100は、印刷用とされる場合、第1面91が被印刷物側に、第2面92がインクを刷り込むスキージ側に、それぞれ配置される。
The
以上のように、スクリーンマスク100には、第1面21側に第1面91が形成されることになり、第2面22側に第2面92が形成されることになる。言い換えれば、スクリーンマスク100において、第1面91になる側が第1面21側であり、第2面92になる側が第2面22側である。第1面21および第2面22の広がる方向が、第1面91および第2面92の広がる方向となる。
As described above, the
ここで、パターン開口形成陽像71、第1面側凹部形成陽像42および第2面側凹部形成陽像62が図5に示す形状である場合、スクリーンマスク100を第2面92側から見たり透過したりすれば、パターン開口95は、直線状となり、第1面側凹部101および第2面側凹部102は、いずれもドット状となる。第1面側凹部101および第2面側凹部102は、第2面92の広がる方向において、パターン開口95に平行な縦方向およびパターン開口95に垂直な横方向共に等間隔に広がる格子の交点位置に、均等の密度となるように配置される。第1面側凹部101および第2面側凹部102は、格子の縦方向に等間隔で交互に配置され、格子の横方向にも等間隔で交互に配置される。
Here, when the pattern opening formation
パターン開口形成陽像71、第1面側凹部形成陽像42および第2面側凹部形成陽像62が図6に示す形状である場合、スクリーンマスク100を第2面92側から見たり透過したりすれば、パターン開口95、第1面側凹部101および第2面側凹部102は、互いに平行な直線状となる。第1面側凹部101および第2面側凹部102は、第2面92の広がる方向において等間隔で交互に配置される。
When the pattern opening formation
パターン開口形成陽像71、第1面側凹部形成陽像42および第2面側凹部形成陽像62が図7に示す形状である場合、スクリーンマスク100を第2面92側から見たり透過したりすれば、パターン開口95は直線状となり、第1面側凹部101は、パターン開口95に平行な直線状の部分とパターン開口95に垂直な直線状の部分とからなる格子状となり、第2面側凹部102はドット状となる。第2面側凹部102は、格子状の第1面側凹部101の各直線間の中央位置に配置される。なお、第1面側凹部101をドット状とし、第2面側凹部102を格子状としても良い。
When the pattern opening formation
よって、スクリーンマスク100において、第1面側凹部101および第2面側凹部102は、それぞれが、ドット状、ライン状および格子状のいずれか一つである。第1面側凹部101と第2面側凹部102との組み合わせを、ドット状とライン状との組み合わせとしたり、格子状とライン状との組み合わせとしたりすることも可能である。
Therefore, in the
以上に述べたスクリーンマスク100の製造方法によれば、陽像形成工程において、パターン開口形成陽像71に加えて、第1面21側のパターン開口形成陽像71以外の位置に第1面側凹部形成陽像42を形成すると共に、第2面22側のパターン開口形成陽像71以外の位置に第2面側凹部形成陽像62を形成する。したがって、陰像形成工程において充填される陰像形成材料81が、パターン開口形成陽像71と第2面側凹部形成陽像62との両方に支持される状態となって、パターン開口形成陽像71だけに支持される場合と比べて第2面22側の表面の平滑性を向上させ、厚さ方向の高さを一定に近づけることができる。これにより、その後の第2面92を形成するための平面研磨の取り代を少なくすることができ、平面研磨の工数を低減できて、製造コストを低減することができる。
According to the method of manufacturing the
また、第1面91を形成する閉塞シート80は、パターン開口形成陽像71に加えて第1面側凹部形成陽像42にも貼り付けられるため、パターン開口形成陽像71だけに貼り付けられる場合と比べて平滑性を向上させ、厚さ方向の高さを一定に近づけることができる。これにより、閉塞シート80に倣って形成される陰像形成材料81の第1面21側の表面は、閉塞シート80がパターン開口形成陽像71だけに貼り付けられる場合と比べて平滑性を向上させ、厚さ方向の高さを一定に近づけることができる。すなわち、第1面91の平滑性を向上させ、厚さ方向の高さを一定に近づけることができる。これにより、第1面91の形成に平面研磨等を行わなくて済むことになるため、製造コストを低減することができる。
In addition, since the
第1面91のパターン開口95とは異なる位置に、第1面91から第2面92の手前にあるスクリーンメッシュ13の位置まで凹む第1面側凹部101が設けられ、第2面92のパターン開口95とは異なる位置に、第2面92から第1面91の手前にあるスクリーンメッシュ13の位置まで凹む第2面側凹部102が設けられるスクリーンマスク100は、上記の製造方法で製造することができる。これにより、スクリーンマスク100の製造コストを低減することができる。
At a position different from the pattern opening 95 of the
スクリーンマスク100は、平滑性が高められ、厚さ方向の高さが一定に近づけられた閉塞シート80に倣って第1面91の平滑性を向上させ、陰像85の厚さを一定に近づけることができるため、スクリーンマスク100を基板を覆って基板に接触させる場合、第1面91の基板への密着性を高めることができる。よって、印刷に使用する場合のインクの吐出厚および印刷解性が安定する。
The
スクリーンマスク100は、第2面92を形成する際の平面研磨の取り代が少なく済むため、陰像85のスクリーンメッシュ13から第2面92側の部分の厚さを厚くすることができる。よって、陰像85のこの部分の強度を向上させることができ、陰像85のこの部分とスクリーンメッシュ13との接合強度を高めることができる。
Since the
なお、着色層25が形成された一枚のマスクベース11において、場所によって、一の範囲に第1面側凹部形成陽像42および第2面側凹部形成陽像62の両方を形成し、これとは異なる範囲に、第1面側凹部形成陽像42および第2面側凹部形成陽像62のうちの一方である第1面側凹部形成陽像42のみを形成し、これらとは異なる範囲に、第1面側凹部形成陽像42および第2面側凹部形成陽像62のうちの他方である第2面側凹部形成陽像62のみを形成することもできる。ここで、陰像形成材料81の第1面21側の表面の平滑性を向上させ、厚さ方向の高さを一定に近づけるためには、第1面側凹部形成陽像42を、隣り合うパターン開口形成陽像71の間隔が広い場合に形成するのが良い。隣り合うパターン開口形成陽像71の間隔が例えば5mm以上の場合には、これらの間に一つ以上の第1面側凹部形成陽像42を設けるのが好ましい。また、陰像形成材料81の第2面22側の表面の平滑性を向上させ、厚さ方向の高さを一定に近づけるためには、第2面側凹部形成陽像62を、隣り合うパターン開口形成陽像71の間隔が広い場合に形成するのが良い。隣り合うパターン開口形成陽像71の間隔が例えば1mm以上の場合には、これらの間に一つ以上の第2面側凹部形成陽像62を設けるのが好ましい。
In one
陽像形成工程は、第1面側凹部形成陽像42と第2面側凹部形成陽像62とを、第1面21および第2面22の広がる方向の位置をずらして形成するため、形成されたスクリーンマスク100は、第1面側凹部101と第2面側凹部102とが、第1面91および第2面92の広がる方向の位置をずらして形成される。これにより、第1面側凹部101と第2面側凹部102とが繋がって第1面91と第2面92とを連通させる開口となってしまうことがないため、このような開口を閉塞させる処理が不要となる。
In the positive image forming step, the first surface side recess formation
第1面側凹部形成陽像42と第2面側凹部形成陽像62とは、スクリーンメッシュ13まで延びており、よって、第1面側凹部101と第2面側凹部102とが、スクリーンメッシュ13まで延びている。したがって、第1面側凹部形成陽像42と第2面側凹部形成陽像62とを、スクリーンメッシュ13で支持することができる。
The first-side recess formation
陽像形成工程は、第1面21側と第2面22側との両側から露光を行う。このため、厚さの厚いマスクベース11を使用してもパターン開口形成陽像71を形成することができ、また、着色層25の厚さを厚くしてもパターン開口形成陽像71を形成することができる。よって、硬化した陰像形成材料81、パターン開口形成陽像71および第2面側凹部形成陽像62の第2面22側の平面研磨によって、スクリーンメッシュ13および第1面側凹部形成陽像42を露出させることなく確実に不要部分を除去できて第2面92を平面状に近づけることができる。
In the positive image forming step, exposure is performed from both the
第1面側凹部形成陽像42および第2面側凹部形成陽像62は、それぞれが、ドット状、ライン状および格子状のいずれか一つであり、よって、第1面側凹部101および第2面側凹部102は、それぞれが、ドット状、ライン状および格子状のいずれか一つである。したがって、第1面側凹部形成陽像42および第2面側凹部形成陽像62を効果的な位置に容易に形成することができる。
なお、露光工程は、第1面21と第2面22とを同時に行っても良い。また、第1面21の露光、現像を順に行い、その後、第2面22側にベース材12を再度塗布し、着色層25の塗布、第2面22の露光、現像を順に行っても良い。また、第1面21と第2面22の露光時の合わせ精度に余裕を持たせるため、第2面側露光用マスク53のパターン開口形成用開口51の開口幅を、第1面側露光用マスク33のパターン開口形成用開口31の開口幅に対して数μmから数十μm程度大きくても良い。
The first-surface-side recess-forming
Note that the exposure process may be performed simultaneously on the
[第2実施形態]
本発明に係る第2実施形態のスクリーンマスクの製造方法およびこれを用いて製造されるスクリーンマスクについて、図11~図20を参照しつつ第1実施形態との相違部分を中心に説明する。
[Second embodiment]
A method of manufacturing a screen mask according to a second embodiment of the present invention and a screen mask manufactured using the method will be described with reference to FIGS. 11 to 20, focusing on differences from the first embodiment.
第2実施形態のスクリーンマスクの製造方法では、陽像形成工程において、図11に示すように、第1実施形態と同様、マスクベース11の第2面22に着色層25を形成する第2面着色工程を行い、次に、図12に示すように、第1実施形態と同様の第1面側露光用マスク33で第1面21を覆ってマスクベース11のベース材12にマスクベース11の厚さ方向に沿って第1面21側から露光を行う第1露光工程を行う。第1露光工程によって、第1面21の広がる方向の位置および形状をパターン開口形成用開口31と合わせた第1面側パターン開口形成陽像41と、第1面21の広がる方向の位置および形状を第1面側凹部形成用開口32と合わせた第1面側凹部形成陽像42とが、ベース材12が硬化することによって形成される。第1露光工程では、第1面側パターン開口形成陽像41および第1面側凹部形成陽像42が、いずれも、ベース材12の第1面21から、第2面22より手前であるスクリーンメッシュ13の位置まで硬化するように露光を調整する。
In the screen mask manufacturing method of the second embodiment, as shown in FIG. 11, in the positive image forming step, as in the first embodiment, the second surface of the
陽像形成工程では、次に、図13に示すように、適宜の位置にパターン開口形成用開口51のみが形成された第2面側露光用マスク53Aで着色層25を覆って着色層25およびマスクベース11のベース材12にマスクベース11の厚さ方向に沿って着色層25側から露光を行う第2露光工程を行う。第2露光工程によって、第2面22の広がる方向の位置および形状をパターン開口形成用開口51と合わせた第2面側パターン開口形成陽像61が、着色層25およびベース材12が硬化することによって形成される。第2露光工程では、第2面側パターン開口形成陽像61が、着色層25から、ベース材12の第1面21より手前であるスクリーンメッシュ13の位置まで硬化するように露光を調整する。
In the positive image forming step, as shown in FIG. 13, the
ここで、第1面側露光用マスク33のパターン開口形成用開口31と、第2面側露光用マスク53Aのパターン開口形成用開口51とは、第1面21および第2面22の広がる方向における位置および形状が一致している。このため、第1面側パターン開口形成陽像41に第2面側パターン開口形成陽像61が繋がって第1面21と第2面22とを結ぶパターン開口形成陽像71となる。
Here, the pattern
第1面側露光用マスク33のパターン開口形成用開口31および第2面側露光用マスク53Aのパターン開口形成用開口51に対して、第1面側露光用マスク33の第1面側凹部形成用開口32は、第1面21および第2面22の広がる方向における位置が完全にずれている。このため、第1面側凹部形成陽像42は、パターン開口形成陽像71とは完全に分離した位置に形成される。
First-surface-side recesses are formed in the first-surface-
陽像形成工程では、次に、図14に示すように、着色層25の硬化していない部分およびベース材12の硬化していない部分を除去する第1実施形態と同様の現像工程を行う。これにより、パターン開口形成陽像71と、第1面側凹部形成陽像42とが残る。残ったパターン開口形成陽像71および第1面側凹部形成陽像42は、いずれもスクリーンメッシュ13に支持された状態となる。
In the positive image forming step, as shown in FIG. 14, the uncured portion of the
以上により、陽像形成工程は、硬化した着色層25および硬化したベース材12からなるパターン開口形成陽像71を形成することになり、パターン開口形成陽像71に加えて、第1面21側のパターン開口形成陽像71以外の位置に、硬化したベース材12からなる第1面側凹部形成陽像42を形成する。しかも、陽像形成工程は、パターン開口形成陽像71と第1面側凹部形成陽像42とを、第1面21および第2面22の広がる方向の位置をずらして形成する。第1面21側の第1面側凹部形成陽像42は、スクリーンメッシュ13まで延びている。陽像形成工程は、第1面21側と第2面22側との両側から露光を行う。
As described above, in the positive image forming step, the pattern opening formation
ここで、パターン開口形成陽像71および第1面側凹部形成陽像42は、一例として、図15に示すようになっている。図15の例では、第2面22側から見た場合、パターン開口形成陽像71は、直線状であり、第1面側凹部形成陽像42は、円形のドット状である。すなわち、パターン開口形成陽像71は、スクリーンメッシュ13の厚さ方向に広がる平板状であり、第1面側凹部形成陽像42は、スクリーンメッシュ13の厚さ方向に延びる円柱状である。第1面側凹部形成陽像42は、スクリーンメッシュ13の広がる方向において均等の密度となるように千鳥状に配置されている。なお、第1面側凹部形成陽像42の形状は、円柱状以外に、四角柱状、三角柱状、楕円柱状等の種々の形状を採用することが可能である。また、第1面側凹部形成陽像42の大きさ、並べ方も種々のパターンを採用することが可能である。
Here, the pattern opening formation
パターン開口形成陽像71および第1面側凹部形成陽像42は、別の例として、図16に示すようにすることも可能である。図16の例では、第2面22側から見た場合、パターン開口形成陽像71および第1面側凹部形成陽像42は、互いに平行な直線状である。すなわち、パターン開口形成陽像71および第1面側凹部形成陽像42は、いずれもスクリーンメッシュ13の厚さ方向に垂直に広がり、互いに平行な平板状である。
As another example, the pattern opening formation
パターン開口形成陽像71および第1面側凹部形成陽像42は、さらに別の例として、図17に示すようにすることも可能である。図17の例では、第2面22側から見た場合、パターン開口形成陽像71は直線状であり、第1面側凹部形成陽像42は、パターン開口形成陽像71に平行な直線状の部分とパターン開口形成陽像71に垂直な直線状の部分とからなる格子状である。すなわち、パターン開口形成陽像71は、スクリーンメッシュ13の厚さ方向に広がる平板状であり、第1面側凹部形成陽像42は、パターン開口形成陽像71と平行に広がる平板状の部分と、パターン開口形成陽像71と垂直に広がる平板状の部分とからなる。
As yet another example, the pattern opening forming
よって、第1面側凹部形成陽像42は、ドット状、ライン状および格子状のいずれか一つである。
Therefore, the
陽像形成工程の次に、図18に示すように陰像形成工程を行う。陰像形成工程では、まず、第1実施形態と同様に、現像工程で残った、パターン開口形成陽像71の第1面21からなる端面と第1面側凹部形成陽像42の第1面21からなる端面とに閉塞シート80を平面状に広げて貼付して第1面21側を閉塞させる閉塞工程を行う。
The positive image formation step is followed by a negative image formation step as shown in FIG. In the negative image forming process, first, as in the first embodiment, the end face consisting of the
陰像形成工程では、次に、第1実施形態と同様に、着色層25側すなわち第2面22側から、閉塞シート80までの範囲の、パターン開口形成陽像71と第1面側凹部形成陽像42とスクリーンメッシュ13との隙間に、これらの第2面22側を全て覆うまで陰像形成材料81を充填し硬化させる陰像形成材料充填硬化工程を行う。これにより、陰像形成材料81内に、パターン開口形成陽像71と第1面側凹部形成陽像42とスクリーンメッシュ13とが埋設された状態になる。
In the negative image forming step, next, similarly to the first embodiment, pattern opening forming
陰像形成工程では、次に、パターン開口形成陽像71と硬化した陰像形成材料81とを、閉塞シート80とは反対側から、第1実施形態と同様の平面研磨を行って、閉塞シート80とは反対側の面82Aを平面状に近づける第2面研磨工程を行って陰像85Aを形成する。第2面研磨工程では、パターン開口形成陽像71に形成された着色層25の硬化部分がなくなるまで平面研磨を行うことによって、面82Aが形成される。第2面研磨工程によって、パターン開口形成陽像71が削られてパターン開口形成陽像71aとなる。
In the negative image forming step, the pattern opening forming
以上により、陰像形成工程は、パターン開口形成陽像71以外の部分であって第1面側凹部形成陽像42以外の部分に陰像85Aを形成する。
As described above, in the negative image forming step, the
次に、図20に示すように、第1実施形態と同様の陽像除去工程を行う。陽像除去工程では、まず、閉塞シート80を剥がして除去し、その後、溶剤を用いて、パターン開口形成陽像71aと、第1面側凹部形成陽像42とを除去する。これにより、陰像85Aによって、第1面21側に第1面91が形成され、第2面22側に面82Aの一部からなる第2面92Aが形成され、第1面91と第2面92Aとを連通させるパターン開口95が形成されたスクリーンマスク100Aが形成される。スクリーンマスク100Aには、これら第1面91、第2面92Aおよびパターン開口95に加えて、第1面91から第2面92Aの手前にあるスクリーンメッシュ13の位置まで凹む第1面側凹部101が形成される。
Next, as shown in FIG. 20, the same positive image removing process as in the first embodiment is performed. In the positive image removing step, first, the blocking
以上により、陽像除去工程は、パターン開口形成陽像71aを除去して陰像85Aにより第1面91と、第2面92Aと、第1面91及び第2面92Aを連通させるパターン開口95と、を形成する。また、陽像除去工程は、パターン開口形成陽像71aに加えて、第1面側凹部形成陽像42を除去することによって、陰像85Aにより、第1面91と第2面92Aとパターン開口95とに加えて、第1面91から第2面92Aの手前にあるスクリーンメッシュ13の位置まで凹む第1面側凹部101を形成する。
As described above, the positive image removing step removes the pattern opening forming
ここで、第1面91は、剥がされた閉塞シート80の形状に倣った形状となる。閉塞シート80は、パターン開口形成陽像71に加えて第1面側凹部形成陽像42にも貼り付けられるため、パターン開口形成陽像71だけに貼り付けられる場合と比べて平面状に近づいて平滑性が向上し、厚さ方向の高さが一定に近づく。これにより、閉塞シート80に倣って形成される第1面91は、閉塞シート80がパターン開口形成陽像71だけに貼り付けられる場合と比べて、平面状に近づいて平滑性が向上し、厚さ方向の高さが一定に近づく。すなわち、陰像85Aを形成する際に、陰像形成材料81の第1面21側の表面の平滑性を向上させ、厚さ方向の高さを一定に近づけることが可能となる。
Here, the
以上の製造方法で製造されたスクリーンマスク100Aは、第1面91のパターン開口95とは異なる位置に、第1面91から第2面92Aの手前まで凹む第1面側凹部101が設けられている。スクリーンマスク100Aは、第1面側凹部101が、スクリーンメッシュ13まで延びている。スクリーンマスク100Aは、印刷用とされる場合、第1面91が被印刷物側に、第2面92Aがインクを刷り込むスキージ側に、それぞれ配置される。
The
スクリーンマスク100Aにおいて、第1面91になる側が第1面21側であり、第2面92Aになる側が第2面22側である。第1面21および第2面22の広がる方向が、第1面91および第2面92Aの広がる方向となる。
In the
ここで、パターン開口形成陽像71および第1面側凹部形成陽像42が図15に示す形状である場合、スクリーンマスク100Aを第2面92A側から見たり透過したりすれば、パターン開口95は、直線状となり、第1面側凹部101は、ドット状となる。第1面側凹部101は、第1面91の広がる方向において均等の密度となるように千鳥状に配置される。
Here, when the pattern opening formation
パターン開口形成陽像71および第1面側凹部形成陽像42が図16に示す形状である場合、スクリーンマスク100Aを第2面92A側から見たり透過したりすれば、パターン開口95および第1面側凹部101は、互いに平行な直線状となる。
When the pattern opening formation
パターン開口形成陽像71および第1面側凹部形成陽像42が図17に示す形状である場合、スクリーンマスク100Aを第2面92A側から見たり透過したりすれば、パターン開口95は直線状となり、第1面側凹部101は、パターン開口95に平行な直線状の部分とパターン開口95に垂直な直線状の部分とからなる格子状となる。
When the pattern opening formation
よって、スクリーンマスク100Aにおいて、第1面側凹部101は、ドット状、ライン状および格子状のいずれか一つである。
Therefore, in the
以上に述べたスクリーンマスク100Aの製造方法によれば、陽像形成工程において、パターン開口形成陽像71に加えて、第1面21側のパターン開口形成陽像71以外の位置に第1面側凹部形成陽像42を形成する。したがって、第1面91を形成する閉塞シート80は、パターン開口形成陽像71に加えて第1面側凹部形成陽像42にも貼り付けられるため、パターン開口形成陽像71だけに貼り付けられる場合と比べて平滑性を向上させ、厚さ方向の高さを一定に近づけることができる。これにより、閉塞シート80に倣って形成される陰像形成材料81の第1面21側の表面は、閉塞シート80がパターン開口形成陽像71だけに貼り付けられる場合と比べて平滑性を向上させ、厚さ方向の高さを一定に近づけることができる。すなわち、第1面91の平滑性を向上させ、厚さ方向の高さを一定に近づけることができる。これにより、第1面91の形成に平面研磨等を行わなくて済むことになるため、製造コストを低減することができる。
According to the manufacturing method of the
第1面91のパターン開口95とは異なる位置に、第1面91から第2面92Aの手前にあるスクリーンメッシュ13の位置まで凹む第1面側凹部101が設けられるスクリーンマスク100Aは、上記の製造方法で製造することができる。これにより、スクリーンマスク100Aの製造コストを低減することができる。
The
スクリーンマスク100Aは、平滑性が高められた閉塞シート80に倣って第1面91の平滑性を向上させ、厚さ方向の高さを一定に近づけることができるため、スクリーンマスク100Aを基板を覆って基板に接触させる場合、第1面91の基板への密着性を高めることができる。よって、印刷に使用する場合のインクの吐出厚および印刷解性が安定する。
The
第1面側凹部形成陽像42は、スクリーンメッシュ13まで硬化しており、よって、第1面側凹部101が、スクリーンメッシュ13まで延びている。したがって、第1面側凹部形成陽像42を、スクリーンメッシュ13で支持することができる。
The first side recess formation
陽像形成工程は、第1面21側と第2面22側との両側から露光を行う。このため、厚さの厚いマスクベース11を使用してもパターン開口形成陽像71を形成することができ、また、着色層25の厚さを厚くしてもパターン開口形成陽像71を形成することができる。よって、硬化した陰像形成材料81およびパターン開口形成陽像71の第2面22側の平面研磨によって、スクリーンメッシュ13および第1面側凹部形成陽像42を露出させることなく確実に不要部分を除去できて第2面92Aを平面状に近づけることができる。
In the positive image forming step, exposure is performed from both the
第1面側凹部形成陽像42は、ドット状、ライン状および格子状のいずれか一つであり、よって、第1面側凹部101は、ドット状、ライン状および格子状のいずれか一つである。したがって、第1面側凹部形成陽像42を効果的な位置に容易に形成することができる。
なお、露光工程は、第1面21と第2面22とを同時に行っても良い。また、第1面21の露光、現像を順に行い、その後、第2面22側にベース材12を再度塗布し、着色層25の塗布、第2面22の露光、現像を順に行っても良い。また、第1面21と第2面22の露光時の合わせ精度に余裕を持たせるため、第2面側露光用マスク53のパターン開口形成用開口51の開口幅を、第1面側露光用マスク33のパターン開口形成用開口31の開口幅に対して数μmから数十μm程度大きくても良い。
The
Note that the exposure process may be performed simultaneously on the
[第3実施形態]
本発明に係る第3実施形態のスクリーンマスクの製造方法およびこれを用いて製造されるスクリーンマスクについて、図21~図30を参照しつつ第1実施形態との相違部分を中心に説明する。
[Third embodiment]
A method of manufacturing a screen mask according to a third embodiment of the present invention and a screen mask manufactured using the method will be described with reference to FIGS. 21 to 30, focusing on differences from the first embodiment.
第3実施形態のスクリーンマスクの製造方法では、陽像形成工程において、第1実施形態と同様に、図21に示すようにマスクベース11の第2面22に着色層25を形成する第2面着色工程を行う。 In the screen mask manufacturing method of the third embodiment, in the positive image forming step, as in the first embodiment, as shown in FIG. Carry out the coloring process.
陽像形成工程では、次に、図22に示すように、適宜の位置にパターン開口形成用開口31のみが形成された第1面側露光用マスク33Bで第1面21を覆ってマスクベース11のベース材12にマスクベース11の厚さ方向に沿って第1面21側から露光を行う第1露光工程を行う。第1露光工程によって、第1面21の広がる方向の位置および形状をパターン開口形成用開口31と合わせた第1面側パターン開口形成陽像41が、ベース材12が硬化することによって形成される。第1露光工程では、第1面側パターン開口形成陽像41が、ベース材12の第1面21から、第2面22より手前であるスクリーンメッシュ13の位置まで硬化するように露光を調整する。
In the positive image forming step, as shown in FIG. 22, the
陽像形成工程では、次に、図23に示すように、適宜の位置にパターン開口形成用開口51および第2面側凹部形成用開口52が形成された第1実施形態と同様の第2面側露光用マスク53で着色層25を覆って着色層25およびマスクベース11のベース材12にマスクベース11の厚さ方向に沿って着色層25側から露光を行う第2露光工程を行う。第2露光工程によって、第2面22の広がる方向の位置および形状をパターン開口形成用開口51と合わせた第2面側パターン開口形成陽像61と、第2面22の広がる方向の位置および形状を第2面側凹部形成用開口52と合わせた第2面側凹部形成陽像62とが、着色層25およびベース材12が硬化することによって形成される。第2露光工程では、第2面側パターン開口形成陽像61および第2面側凹部形成陽像62が、いずれも、着色層25から、ベース材12の第1面21より手前であるスクリーンメッシュ13の位置まで硬化するように露光を調整する。
In the positive image forming step, next, as shown in FIG. 23, a pattern
ここで、第1面側露光用マスク33Bのパターン開口形成用開口31と、第2面側露光用マスク53のパターン開口形成用開口51とは、第1面21および第2面22の広がる方向における位置および形状が一致している。このため、第1面側パターン開口形成陽像41に第2面側パターン開口形成陽像61が繋がって第1面21と第2面22とを結ぶパターン開口形成陽像71となる。
Here, the pattern opening forming
第1面側露光用マスク33Bのパターン開口形成用開口31および第2面側露光用マスク53のパターン開口形成用開口51に対して、第2面側露光用マスク53の第2面側凹部形成用開口52は、第1面21および第2面22の広がる方向における位置が完全にずれている。このため、第2面側凹部形成陽像62は、パターン開口形成陽像71とは完全に分離した位置に形成される。
Second-surface-side recesses are formed in the second-surface-
陽像形成工程では、次に、図24に示すように、着色層25の硬化していない部分およびベース材12の硬化していない部分を除去する第1実施形態と同様の現像工程を行う。これにより、パターン開口形成陽像71と、第2面側凹部形成陽像62とが残る。残ったパターン開口形成陽像71および第2面側凹部形成陽像62は、いずれもスクリーンメッシュ13に支持された状態となる。
In the positive image forming step, as shown in FIG. 24, the same developing step as in the first embodiment is performed to remove the uncured portion of the
以上により、陽像形成工程は、硬化した着色層25および硬化したベース材12からなるパターン開口形成陽像71を形成することになり、パターン開口形成陽像71に加えて、第2面22側のパターン開口形成陽像71以外の位置に、硬化した着色層25および硬化したベース材12からなる第2面側凹部形成陽像62を形成する。第2面22側の第2面側凹部形成陽像62は、スクリーンメッシュ13まで硬化している。陽像形成工程は、第1面21側と第2面22側との両側から露光を行う。
As described above, in the positive image forming step, the pattern opening formation
ここで、パターン開口形成陽像71および第2面側凹部形成陽像62は、一例として、図25に示すようになっている。図25の例では、第2面22側から見た場合、パターン開口形成陽像71は、直線状であり、第2面側凹部形成陽像62は、円形のドット状である。すなわち、パターン開口形成陽像71は、スクリーンメッシュ13の厚さ方向に広がる平板状であり、第2面側凹部形成陽像62は、スクリーンメッシュ13の厚さ方向に延びる円柱状である。第2面側凹部形成陽像62は、スクリーンメッシュ13の広がる方向において均等の密度となるように千鳥状に配置されている。なお、第2面側凹部形成陽像62の形状は、円柱状以外に、四角柱状、三角柱状、楕円柱状等の種々の形状を採用することが可能である。また、第2面側凹部形成陽像62の大きさ、並べ方も種々のパターンを採用することが可能である。
Here, the pattern opening formation
パターン開口形成陽像71および第2面側凹部形成陽像62は、別の例として、図26に示すようにすることも可能である。図26の例では、第2面22側から見た場合、パターン開口形成陽像71および第2面側凹部形成陽像62は、互いに平行な直線状である。すなわち、パターン開口形成陽像71および第2面側凹部形成陽像62は、いずれもスクリーンメッシュ13の厚さ方向に広がる平板状であり、互いに平行な平板状である。隣り合う第2面側凹部形成陽像62と第2面側凹部形成陽像62との間の間隔は、スクリーンメッシュ13の広がる方向において均等となっている。
As another example, the pattern opening formation
パターン開口形成陽像71および第2面側凹部形成陽像62は、さらに別の例として、図27に示すようにすることも可能である。図27の例では、第2面22側から見た場合、パターン開口形成陽像71は直線状であり、第2面側凹部形成陽像62は、パターン開口形成陽像71に平行な直線状の部分とパターン開口形成陽像71に垂直な直線状の部分とからなる格子状である。すなわち、パターン開口形成陽像71は、スクリーンメッシュ13の厚さ方向に広がる平板状であり、第2面側凹部形成陽像62は、パターン開口形成陽像71と平行に広がる平板状の部分と、パターン開口形成陽像71と垂直に広がる平板状の部分とからなる。
As another example, the pattern opening formation
よって、第2面側凹部形成陽像62は、ドット状、ライン状および格子状のいずれか一つである。
Therefore, the
陽像形成工程の次に、図28に示すように陰像形成工程を行う。陰像形成工程では、まず、現像工程で残った、パターン開口形成陽像71の第1面21からなる端面に閉塞シート80をできるだけ平面状に広げて貼付して第1面21側を閉塞させる閉塞工程を行う。
The positive image forming step is followed by the negative image forming step as shown in FIG. In the negative image forming step, first, the
陰像形成工程では、次に、着色層25側すなわち第2面22側から、閉塞シート80までの範囲の、パターン開口形成陽像71と第2面側凹部形成陽像62とスクリーンメッシュ13との隙間に、これらの第2面22側を全て覆うまで陰像形成材料81を充填し硬化させる陰像形成材料充填硬化工程を行う。これにより、陰像形成材料81内に、パターン開口形成陽像71と第2面側凹部形成陽像62とスクリーンメッシュ13とが埋設された状態になる。
In the negative image forming step, next, the pattern opening forming
陰像形成工程では、次に、図29に示すように、パターン開口形成陽像71と第2面側凹部形成陽像62と硬化した陰像形成材料81とを、閉塞シート80とは反対側から、平面研磨を行って、閉塞シート80とは反対側の面82を平面状に近づける第2面研磨工程を行って陰像85Bを形成する。第2面研磨工程では、パターン開口形成陽像71と第2面側凹部形成陽像62とに形成された着色層25の硬化部分がなくなるまで平面研磨を行うことによって、面82が所定の平面状となる。勿論、第2面研磨工程においては、スクリーンメッシュ13が露出する位置まで平面研磨を行うことはない。第2面研磨工程によって、パターン開口形成陽像71が削られてパターン開口形成陽像71aとなり、第2面側凹部形成陽像62が削れられて第2面側凹部形成陽像62aとなる。
In the negative image forming step, as shown in FIG. Then, a
以上により、陰像形成工程は、パターン開口形成陽像71a以外の部分であって第2面側凹部形成陽像62a以外の部分に陰像85Bを形成する。
As described above, in the negative image forming step, the
次に、図30に示すように、陽像除去工程を行う。陽像除去工程では、第1実施形態と同様に、まず、閉塞シート80を剥がして除去し、その後、溶剤を用いて、パターン開口形成陽像71aと、第2面側凹部形成陽像62aとを除去する。これにより、陰像85Bによって、第1面21側に第1面91Bが形成され、第2面22側に面82の一部からなる第2面92が形成され、第1面91Bと第2面92とを連通させるパターン開口95が形成されたスクリーンマスク100Bが形成される。スクリーンマスク100Bには、これら第1面91B、第2面92およびパターン開口95に加えて、第2面92から第1面91Bの手前にあるスクリーンメッシュ13の位置まで凹む第2面側凹部102が形成される。
Next, as shown in FIG. 30, a positive image removal step is performed. In the positive image removing step, as in the first embodiment, first, the blocking
以上により、陽像除去工程は、パターン開口形成陽像71aを除去して陰像85Bにより、第1面91Bと、第2面92と、第1面91B及び第2面92を連通させるパターン開口95と、を形成する。また、陽像除去工程は、パターン開口形成陽像71aに加えて、第2面側凹部形成陽像62aを除去することによって、陰像85Bにより、第1面91Bと第2面92とパターン開口95とに加えて、第2面92から第1面91Bの手前にあるスクリーンメッシュ13の位置まで凹む第2面側凹部102を形成する。
As described above, the positive image removing step removes the pattern opening forming
ここで、第2面92は、上記したように平面研磨で形成される。パターン開口形成陽像71に加えて第2面側凹部形成陽像62が形成されていることから、陰像形成材料81が、平面研磨前の充填時にパターン開口形成陽像71と第2面側凹部形成陽像62との両方に支持される状態となって、パターン開口形成陽像71だけに支持される場合と比べて第2面22側の表面が平面状に近づいて平滑性が向上し、厚さ方向の高さが一定に近づく。すなわち、陰像85Bを形成する際に、平面研磨前の陰像形成材料81の第2面22側の表面の平滑性を向上させ、厚さ方向の高さを一定に近づけることが可能となる。これにより、平面研磨により第2面22側の表面を研磨して第2面92を形成する際に必要な取り代が少なくて済む。
Here, the
以上の製造方法で製造されたスクリーンマスク100Bは、第1面91Bと第2面92とを連通させるパターン開口95が形成されている。スクリーンマスク100Bは、第2面92のパターン開口95とは異なる位置に、第2面92から第1面91Bの手前まで凹む第2面側凹部102が設けられている。スクリーンマスク100Bは、第2面側凹部102が、スクリーンメッシュ13まで延びている。スクリーンマスク100Bは、印刷用とされる場合、第1面91Bが被印刷物側に、第2面92がインクを刷り込むスキージ側に、それぞれ配置される。スクリーンマスク100Bは、逆に、第2面92が被印刷物側に、第1面91Bがスキージ側に、それぞれ配置されても良い。
The
スクリーンマスク100Bにおいて、第1面91Bになる側が第1面21側であり、第2面92になる側が第2面22側である。第1面21および第2面22の広がる方向が、第1面91Bおよび第2面92の広がる方向となる。
In the
ここで、パターン開口形成陽像71および第2面側凹部形成陽像62が図25に示す形状である場合、スクリーンマスク100Bを第2面92側から見ると、パターン開口95は、直線状となり、第2面側凹部102は、ドット状となる。第2面側凹部102は、第2面92の広がる方向において、均等の密度となるように千鳥状に配置される。
Here, when the pattern opening formation
パターン開口形成陽像71および第2面側凹部形成陽像62が図26に示す形状である場合、スクリーンマスク100Bを第2面92側から見ると、パターン開口95および第2面側凹部102は、互いに平行な直線状となる。第2面側凹部102は、隣り合うもの同士が等間隔となる。
When the pattern opening formation
パターン開口形成陽像71および第2面側凹部形成陽像62が図27に示す形状である場合、スクリーンマスク100Bを第2面92側から見ると、パターン開口95は直線状となり、第1面側凹部101は、パターン開口95に平行な直線状の部分とパターン開口95に垂直な直線状の部分とからなる格子状となる。
When the pattern opening formation
よって、スクリーンマスク100Bにおいて、第2面側凹部102は、ドット状、ライン状および格子状のいずれか一つである。
Therefore, in the
以上に述べたスクリーンマスク100Bの製造方法によれば、陽像形成工程において、パターン開口形成陽像71に加えて、第2面22側のパターン開口形成陽像71以外の位置に第2面側凹部形成陽像62を形成する。したがって、陰像形成工程において充填される陰像形成材料81が、パターン開口形成陽像71と第2面側凹部形成陽像62との両方に支持される状態となって、パターン開口形成陽像71だけに支持される場合と比べて第2面22側の表面の平滑性を向上させ、厚さ方向の高さを一定に近づけることができる。これにより、その後の第2面92を形成するための平面研磨の取り代を少なくすることができ、平面研磨の工数を低減できて、製造コストを低減することができる。
According to the manufacturing method of the
第2面92のパターン開口95とは異なる位置に、第2面92から第1面91Bの手前にあるスクリーンメッシュ13の位置まで凹む第2面側凹部102が設けられるスクリーンマスク100Bは、上記の製造方法で製造することができる。これにより、スクリーンマスク100Bの製造コストを低減することができる。
The
スクリーンマスク100Bは、第2面92を形成する際の平面研磨の取り代が少なく済むため、陰像85Bのスクリーンメッシュ13から第2面92側の部分の厚さを厚くすることができる。よって、陰像85Bのこの部分の強度を向上させることができ、陰像85Bのこの部分とスクリーンメッシュ13との接合強度を高めることができる。
Since the
第2面側凹部形成陽像62は、スクリーンメッシュ13まで延びており、よって、第2面側凹部102が、スクリーンメッシュ13まで延びている。したがって、第2面側凹部形成陽像62をスクリーンメッシュ13で支持することができる。
The second side recess formation
陽像形成工程は、第1面21側と第2面22側との両側から露光を行う。このため、厚さの厚いマスクベース11を使用してもパターン開口形成陽像71を形成することができ、また、着色層25の厚さを厚くしてもパターン開口形成陽像71を形成することができる。よって、硬化した陰像形成材料81、パターン開口形成陽像71および第2面側凹部形成陽像62の第2面22側の平面研磨によって、スクリーンメッシュ13を露出させることなく確実に不要部分を除去できて第2面92を平面状に近づけることができる。
In the positive image forming step, exposure is performed from both the
第2面側凹部形成陽像62は、ドット状、ライン状および格子状のいずれか一つであり、よって、第2面側凹部102は、ドット状、ライン状および格子状のいずれか一つである。したがって、第2面側凹部形成陽像62を効果的な位置に容易に形成することができる。
なお、露光工程は、第1面21と第2面22とを同時に行っても良い。また、第1面21の露光、現像を順に行い、その後、第2面22側にベース材12を再度塗布し、着色層25の塗布、第2面22の露光、現像を順に行っても良い。また、第1面21と第2面22の露光時の合わせ精度に余裕を持たせるため、第2面側露光用マスク53のパターン開口形成用開口51の開口幅を、第1面側露光用マスク33のパターン開口形成用開口31の開口幅に対して数μmから数十μm程度大きくても良い。
The
Note that the exposure process may be performed simultaneously on the
(付記1)
パターン開口形成陽像を形成する陽像形成工程と、
前記パターン開口形成陽像以外の部分に陰像を形成する陰像形成工程と、
前記パターン開口形成陽像を除去して前記陰像により第1面と第2面と前記第1面及び前記第2面を連通させるパターン開口とを形成する陽像除去工程と、
を含むスクリーンマスクの製造方法であって、
前記陽像形成工程は、
前記パターン開口形成陽像に加えて、前記第1面になる側の前記パターン開口形成陽像以外の位置および前記第2面になる側の前記パターン開口形成陽像以外の位置の少なくともいずれか一方に凹部形成陽像を形成し、
前記陰像形成工程は、
前記パターン開口形成陽像以外の部分であって前記凹部形成陽像以外の部分に陰像を形成し、
前記陽像除去工程は、
前記パターン開口形成陽像を除去すると共に前記凹部形成陽像を除去することによって、前記陰像により、前記第1面と前記第2面と前記パターン開口とに加えて、前記第1面から前記第2面の手前まで凹む第1面側凹部および前記第2面から前記第1面の手前まで凹む第2面側凹部の少なくともいずれか一方を形成することを特徴とするスクリーンマスクの製造方法。
(Appendix 1)
a positive image forming step of forming a pattern opening forming positive image;
a negative image forming step of forming a negative image in a portion other than the pattern opening forming positive image;
a positive image removing step of removing the pattern opening forming positive image to form a first surface, a second surface, and a pattern opening that communicates the first surface and the second surface with the negative image;
A method for manufacturing a screen mask comprising
The positive image forming step includes
In addition to the pattern opening formation positive image, at least one of a position other than the pattern opening formation positive image on the first surface side and a position other than the pattern opening formation positive image on the second surface side forming a recessed positive image in the
The negative image forming step includes
forming a negative image in a portion other than the pattern opening forming positive image and in a portion other than the recess forming positive image;
The positive image removing step includes
By removing the pattern opening forming positive image and removing the recess forming positive image, the negative image allows the first surface, the second surface, and the pattern openings to be removed from the first surface. A method of manufacturing a screen mask, characterized by forming at least one of a first surface side recess that is recessed to the front of the second surface and a second surface side recess that is recessed from the second surface to the front of the first surface.
(付記2)
前記陽像形成工程は、
前記パターン開口形成陽像に加えて、前記第1面になる側の前記パターン開口形成陽像以外の位置と前記第2面になる側の前記パターン開口形成陽像以外の位置とに前記凹部形成陽像を形成し、
前記陽像除去工程は、
前記パターン開口形成陽像を除去すると共に前記凹部形成陽像を除去することによって、前記陰像により、前記第1面と前記第2面と前記パターン開口とに加えて、前記第1面から前記第2面の手前まで凹む第1面側凹部と前記第2面から前記第1面の手前まで凹む第2面側凹部とを形成することを特徴とする付記1に記載のスクリーンマスクの製造方法。
(Appendix 2)
The positive image forming step includes
In addition to the pattern opening formation positive image, the concave portions are formed at positions other than the pattern opening formation positive image on the first surface side and at positions other than the pattern opening formation positive image on the second surface side. form a positive image,
The positive image removing step includes
By removing the pattern opening forming positive image and removing the recess forming positive image, the negative image allows the first surface, the second surface, and the pattern openings to be removed from the first surface. A method for manufacturing a screen mask according to Supplementary Note 1, wherein a first-surface-side recess that is recessed to the front of the second surface and a second-surface-side recess that is recessed from the second surface to the front of the first surface are formed. .
(付記3)
前記陽像形成工程は、
前記パターン開口形成陽像に加えて、前記第1面になる側の前記パターン開口形成陽像以外の位置と前記第2面になる側の前記パターン開口形成陽像以外の位置とに、前記第1面および前記第2面の広がる方向の位置をずらして前記凹部形成陽像を形成することを特徴とする付記2に記載のスクリーンマスクの製造方法。
(Appendix 3)
The positive image forming step includes
In addition to the pattern opening formation positive image, the second The method of manufacturing a screen mask according to appendix 2, wherein the recessed positive images are formed by shifting the positions of the first surface and the second surface in the direction in which the second surface spreads.
(付記4)
前記第1面になる側の前記凹部形成陽像と前記第2面になる側の前記凹部形成陽像とは、スクリーンメッシュまで硬化している付記3に記載のスクリーンマスクの製造方法。
(Appendix 4)
3. The method of manufacturing a screen mask according to claim 3, wherein the recessed positive image on the first surface side and the recessed positive image on the second surface side are hardened up to the screen mesh.
(付記5)
前記陽像形成工程は、
前記第1面になる側と前記第2面になる側との両側から露光を行うことを特徴とする付記1乃至付記4のいずれか一つに記載のスクリーンマスクの製造方法。
(Appendix 5)
The positive image forming step includes
5. The method of manufacturing a screen mask according to any one of Appendices 1 to 4, wherein the exposure is performed from both the first surface side and the second surface side.
(付記6)
前記凹部形成陽像は、ドット状、ライン状および格子状のいずれか一つである付記1乃至付記5のいずれか一つに記載のスクリーンマスクの製造方法。
(Appendix 6)
6. The method of manufacturing a screen mask according to any one of Appendices 1 to 5, wherein the recessed positive image has any one of a dot shape, a line shape and a lattice shape.
(付記7)
第1面と第2面とを連通させるパターン開口が形成されたスクリーンマスクであって、
前記第1面の前記パターン開口とは異なる位置に、前記第1面から前記第2面の手前まで凹む第1面側凹部が設けられ、
前記第2面の前記パターン開口とは異なる位置に、前記第2面から前記第1面の手前まで凹む第2面側凹部が設けられていることを特徴とするスクリーンマスク。
(Appendix 7)
A screen mask having a pattern opening that communicates between a first surface and a second surface,
A first surface side recess that is recessed from the first surface to the front of the second surface is provided at a position different from the pattern opening on the first surface,
A screen mask, wherein a recess on the second surface recessed from the second surface to the front of the first surface is provided at a position different from the pattern opening on the second surface.
(付記8)
前記第1面側凹部と前記第2面側凹部とは、前記第1面および前記第2面の広がる方向の位置をずらしていることを特徴とする付記7に記載のスクリーンマスク。
(Appendix 8)
The screen mask according to Supplementary Note 7, wherein the first surface side concave portion and the second surface side concave portion are shifted in position in the direction in which the first surface and the second surface spread.
(付記9)
前記第1面側凹部と前記第2面側凹部とは、スクリーンメッシュまで延びていることを特徴とする付記7または付記8に記載のスクリーンマスク。
(Appendix 9)
The screen mask according to appendix 7 or appendix 8, wherein the first surface side recess and the second surface side recess extend to the screen mesh.
(付記10)
前記第1面側凹部および前記第2面側凹部は、ドット状、ライン状および格子状のいずれか一つである付記7乃至付記9のいずれか一つに記載のスクリーンマスク。
(Appendix 10)
10. The screen mask according to any one of appendices 7 to 9, wherein the first-surface-side recesses and the second-surface-side recesses are dot-shaped, line-shaped, or grid-shaped.
71 パターン開口形成陽像
85,85A,85B 陰像
91,91B 第1面
92,92A 第2面
95 パターン開口
100,100A,100B スクリーンマスク
42 第1面側凹部形成陽像(凹部形成陽像)
62a 第2面側凹部形成陽像(凹部形成陽像)
101 第1面側凹部
102 第2面側凹部
71 Pattern opening forming
62a Positive image of recess formation on the second surface side (positive image of recess formation)
101 First
Claims (5)
前記パターン開口形成陽像以外の部分に陰像を形成する陰像形成工程と、
前記パターン開口形成陽像を除去して前記陰像により第1面と第2面と前記第1面及び前記第2面を連通させるパターン開口とを形成する陽像除去工程と、
を含むスクリーンマスクの製造方法であって、
前記陽像形成工程は、
前記パターン開口形成陽像に加えて、前記第1面になる側の前記パターン開口形成陽像以外の位置と前記第2面になる側の前記パターン開口形成陽像以外の位置とに凹部形成陽像を形成し、
前記陰像形成工程は、
前記パターン開口形成陽像以外の部分であって前記凹部形成陽像以外の部分に陰像を形成し、
前記陽像除去工程は、
前記パターン開口形成陽像を除去すると共に前記凹部形成陽像を除去することによって、前記陰像により、前記第1面と前記第2面と前記パターン開口とに加えて、前記第1面から前記第2面の手前まで凹む第1面側凹部と前記第2面から前記第1面の手前まで凹む第2面側凹部とを形成することを特徴とするスクリーンマスクの製造方法。 a positive image forming step of forming a pattern opening forming positive image;
a negative image forming step of forming a negative image in a portion other than the pattern opening forming positive image;
a positive image removing step of removing the pattern opening forming positive image to form a first surface, a second surface, and a pattern opening that communicates the first surface and the second surface with the negative image;
A method for manufacturing a screen mask comprising
The positive image forming step includes
In addition to the pattern opening formation positive image, recess formation positive images are formed at positions other than the pattern opening formation positive image on the first surface side and at positions other than the pattern opening formation positive image on the second surface side. form an image,
The negative image forming step includes
forming a negative image in a portion other than the pattern opening forming positive image and in a portion other than the recess forming positive image;
The positive image removing step includes
By removing the pattern opening forming positive image and removing the recess forming positive image, the negative image allows the first surface, the second surface, and the pattern openings to be removed from the first surface. A method of manufacturing a screen mask, comprising forming a first-surface-side recess that is recessed to the front of the second surface and a second-surface-side recess that is recessed from the second surface to the front of the first surface.
前記パターン開口形成陽像に加えて、前記第1面になる側の前記パターン開口形成陽像以外の位置と前記第2面になる側の前記パターン開口形成陽像以外の位置とに、前記第1面および前記第2面の広がる方向の位置をずらして前記凹部形成陽像を形成することを特徴とする請求項1記載のスクリーンマスクの製造方法。 The positive image forming step includes
In addition to the pattern opening formation positive image, the second 2. The method of manufacturing a screen mask according to claim 1 , wherein the recessed positive images are formed by shifting the positions of the first surface and the second surface in the direction in which the second surface spreads.
前記第1面の前記パターン開口とは異なる位置に、前記第1面から前記第2面の手前まで凹む第1面側凹部が設けられ、
前記第2面の前記パターン開口とは異なる位置に、前記第2面から前記第1面の手前まで凹む第2面側凹部が設けられており、
前記第1面側凹部と前記第2面側凹部とは、スクリーンメッシュまで延びていることを特徴とするスクリーンマスク。 A screen mask having a pattern opening that communicates between a first surface and a second surface,
A first surface side recess that is recessed from the first surface to the front of the second surface is provided at a position different from the pattern opening on the first surface,
A second surface side recess that is recessed from the second surface to the front of the first surface is provided at a position different from the pattern opening on the second surface ,
A screen mask , wherein the recesses on the first surface and the recesses on the second surface extend to a screen mesh .
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2022135683A JP7300545B1 (en) | 2022-08-29 | 2022-08-29 | Screen mask manufacturing method and screen mask |
PCT/JP2023/029604 WO2024048280A1 (en) | 2022-08-29 | 2023-08-16 | Screen mask manufacturing method and screen mask |
TW112132222A TW202413122A (en) | 2022-08-29 | 2023-08-28 | Method for fabricating screen mask and screen mask |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2022135683A JP7300545B1 (en) | 2022-08-29 | 2022-08-29 | Screen mask manufacturing method and screen mask |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP7300545B1 true JP7300545B1 (en) | 2023-06-29 |
JP2024032174A JP2024032174A (en) | 2024-03-12 |
Family
ID=86900514
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2022135683A Active JP7300545B1 (en) | 2022-08-29 | 2022-08-29 | Screen mask manufacturing method and screen mask |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7300545B1 (en) |
TW (1) | TW202413122A (en) |
WO (1) | WO2024048280A1 (en) |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008200958A (en) | 2007-02-19 | 2008-09-04 | Bonmaaku:Kk | Mask and its manufacturing method |
KR101436014B1 (en) | 2014-04-29 | 2014-11-04 | 주식회사 미래솔루텍 | Evaporration mask |
WO2015177850A1 (en) | 2014-05-19 | 2015-11-26 | 日産自動車株式会社 | Metal mask and screen printing apparatus |
JP2016078393A (en) | 2014-10-21 | 2016-05-16 | ミタニマイクロニクス株式会社 | Screen mask, and method for manufacturing screen mask |
JP2017187601A (en) | 2016-04-05 | 2017-10-12 | 株式会社ムラカミ | Manufacturing method of screen mask |
JP2018154101A (en) | 2017-03-21 | 2018-10-04 | 株式会社ソノコム | Screen printing plate and screen printing plate manufacturing method |
JP2019214139A (en) | 2018-06-11 | 2019-12-19 | 東京プロセスサービス株式会社 | Manufacturing method of screen printing plate |
JP2021172046A (en) | 2020-04-28 | 2021-11-01 | ミタニマイクロニクス株式会社 | Screen mask, production method of screen mask and printed matter production method |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6426446A (en) * | 1987-07-23 | 1989-01-27 | Tokyo Process Service | Screen printing plate and manufacture thereof |
US5390595A (en) * | 1993-05-05 | 1995-02-21 | Cutcher; Thomas V. | Printing screen with plugs and method for printing a variable thickness pattern |
JP4147610B2 (en) * | 1997-03-28 | 2008-09-10 | 凸版印刷株式会社 | Screen printing plate manufacturing method |
-
2022
- 2022-08-29 JP JP2022135683A patent/JP7300545B1/en active Active
-
2023
- 2023-08-16 WO PCT/JP2023/029604 patent/WO2024048280A1/en unknown
- 2023-08-28 TW TW112132222A patent/TW202413122A/en unknown
Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008200958A (en) | 2007-02-19 | 2008-09-04 | Bonmaaku:Kk | Mask and its manufacturing method |
KR101436014B1 (en) | 2014-04-29 | 2014-11-04 | 주식회사 미래솔루텍 | Evaporration mask |
WO2015177850A1 (en) | 2014-05-19 | 2015-11-26 | 日産自動車株式会社 | Metal mask and screen printing apparatus |
JP2016078393A (en) | 2014-10-21 | 2016-05-16 | ミタニマイクロニクス株式会社 | Screen mask, and method for manufacturing screen mask |
JP2017187601A (en) | 2016-04-05 | 2017-10-12 | 株式会社ムラカミ | Manufacturing method of screen mask |
JP2018154101A (en) | 2017-03-21 | 2018-10-04 | 株式会社ソノコム | Screen printing plate and screen printing plate manufacturing method |
JP2019214139A (en) | 2018-06-11 | 2019-12-19 | 東京プロセスサービス株式会社 | Manufacturing method of screen printing plate |
JP2021172046A (en) | 2020-04-28 | 2021-11-01 | ミタニマイクロニクス株式会社 | Screen mask, production method of screen mask and printed matter production method |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2024032174A (en) | 2024-03-12 |
TW202413122A (en) | 2024-04-01 |
WO2024048280A1 (en) | 2024-03-07 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CA1328049C (en) | Relief printing plate manufacture | |
JP7300545B1 (en) | Screen mask manufacturing method and screen mask | |
US3836367A (en) | Method for photo-mechanical composition of designs on stencils for film and screen printing, particularly rotary screen printing | |
CN108688299A (en) | A kind of multiple film layer silk-screen halftone and preparation method thereof | |
CN101526742B (en) | Manufacturing method of liquid resin printing plate | |
US20040121246A1 (en) | Lithography process to reduce seam lines in an array of microelements produced from a sub-mask and a sub-mask for use thereof | |
TWI596445B (en) | Method for generating exposure data, multilayer solid structure manufacturing method, apparatus for generating exposure data, storage medium, and multilayer solid structure manufacturing system | |
JP4799541B2 (en) | Partition wall forming soft mold, partition wall and lower panel manufacturing method, and plasma display panel | |
JP2529107B2 (en) | Screen printing plate manufacturing method | |
JP6943387B2 (en) | Screen mask and manufacturing method of screen mask | |
JPH0754166A (en) | Production of shaping mold for decorative board | |
JP4784244B2 (en) | Manufacturing method of color filter | |
JP7329359B2 (en) | screen printing mask | |
US3934504A (en) | Method for photo-mechanical composition of designs on stencils for film and screen printing, particularly rotary screen printing | |
US3122436A (en) | Making rotogravure cylinders or plates | |
RU2278406C2 (en) | Method of making screen printing plate | |
TWI609236B (en) | Screen printing plate and method for fabricating the same | |
JPS62276504A (en) | Mask for dyeing color filter | |
JPH0389349A (en) | Rugged image forming method | |
US1112540A (en) | Photographic screen and process of making the same. | |
JPH05297560A (en) | Production of mask film to be used for production of mold for molding decorative laminated sheet | |
JPH0844044A (en) | Image forming method for printing plate | |
KR101681770B1 (en) | Fabricating method of screen for printing and a screen for printing using the same | |
JPS5848897B2 (en) | Kanzai Yakido Hanteihou | |
TWM591923U (en) | Screen printing plate with positioning structure |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20220829 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20230418 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20230519 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20230530 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20230619 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7300545 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |