JP7288832B2 - rotary drive - Google Patents
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Description
本発明は、基板を回転させるための回転駆動装置に関する。 The present invention relates to a rotary drive device for rotating a substrate.
蒸着やスパッタリングなどにより成膜を行うための装置においては、静電チャックや粘着チャックなどの機能を有する基板保持体に対し、基板を吸着させた状態で、基板保持体と共に基板を反転させる回転駆動装置が備えられる技術が知られている(特許文献1参照)。 In equipment for forming films by vapor deposition, sputtering, etc., there is a rotation drive that reverses the substrate together with the substrate holder in a state where the substrate is attracted to a substrate holder that has functions such as an electrostatic chuck or an adhesive chuck. A technique in which the device is provided is known (see Patent Document 1).
このような装置においては、何らかの原因で基板保持体による基板の吸着力が不十分となって、回転駆動装置から基板が落下してしまうことが懸念される。また、機械的な保持具によって基板を基板保持体に保持させる構成が採用される場合でも、保持具から基板が外れてしまい、回転駆動装置から基板が落下してしまうことが懸念される。 In such an apparatus, there is a concern that for some reason the suction force of the substrate by the substrate holder becomes insufficient and the substrate falls from the rotary drive device. Moreover, even when a configuration is adopted in which the substrate is held on the substrate holder by a mechanical holder, there is a concern that the substrate may come off the holder and fall from the rotation drive device.
本発明の目的は、基板の落下を抑制可能とする回転駆動装置を提供することにある。 SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a rotary drive device capable of suppressing the dropping of a substrate.
本発明は、上記課題を解決するために以下の手段を採用した。 The present invention employs the following means to solve the above problems.
すなわち、本発明の回転駆動装置は、
基板を保持する基板保持体を回転させる回転機構を備える回転駆動装置であって、
前記基板保持体に保持される基板の外周に沿うように設けられる外周枠部を有し、前記基板保持体から基板が落下した際に、該基板を受け止める枠体と、
前記枠体と前記基板保持体との対向面間の距離を変更可能とするように、前記枠体を往復移動させる往復移動機構と、を備えることを特徴とする。
That is, the rotary drive device of the present invention is
A rotation drive device comprising a rotation mechanism for rotating a substrate holder that holds a substrate,
a frame having an outer peripheral frame provided along the outer periphery of the substrate held by the substrate holder and receiving the substrate when the substrate drops from the substrate holder;
a reciprocating mechanism for reciprocating the frame so as to change the distance between the facing surfaces of the frame and the substrate holder.
以上説明したように、本発明によれば、基板の落下を抑制することができる。 As described above, according to the present invention, it is possible to suppress the dropping of the substrate.
以下に図面を参照して、この発明を実施するための形態を、実施例に基づいて例示的に
詳しく説明する。ただし、この実施例に記載されている構成部品の寸法、材質、形状、その相対配置などは、特に特定的な記載がない限りは、この発明の範囲をそれらのみに限定する趣旨のものではない。本発明に係る回転駆動装置は、蒸着やスパッタリングなどにより成膜を行う装置などに適用される。以下の実施例においては、蒸着を行うための装置に回転駆動装置が適用される場合を例にして説明する。ただし、本発明に係る回転駆動装置は、スパッタリングを行うための装置にも適用することができる。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION A mode for carrying out the present invention will be exemplarily described in detail below based on an embodiment with reference to the drawings. However, unless otherwise specified, the dimensions, materials, shapes, relative arrangements, etc. of the components described in this embodiment are not intended to limit the scope of the present invention only to them. . INDUSTRIAL APPLICABILITY The rotation drive device according to the present invention is applied to a device for forming a film by vapor deposition, sputtering, or the like. In the following embodiments, a case where a rotation driving device is applied to an apparatus for vapor deposition will be described as an example. However, the rotary drive device according to the present invention can also be applied to devices for sputtering.
(実施例1)
図1~図5を参照して、本発明の実施例1に係る回転駆動装置について説明する。図1は本発明の実施例1に係る回転駆動装置の概略構成図であり、当該装置を正面から見た場合において、当該装置の主要構成について概略的に示している。なお、各構成の特徴を分かり易くするために、一部の構成については、断面的に示している。図2は本発明の実施例1に係る回転駆動装置の概略構成図であり、当該装置を上面から見た場合において、当該装置の主要構成について概略的に示している。なお、各構成の配置関係を分かり易くするために、一部の構成について、点線にて透視図で示している。また、図1及び図2においては、回転駆動装置内に配されるキャリア及び基板についても、位置関係を明確にするために点線で示している。
(Example 1)
A rotary drive device according to a first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 to 5. FIG. FIG. 1 is a schematic configuration diagram of a rotation drive device according to Embodiment 1 of the present invention, and schematically shows the main configuration of the device when the device is viewed from the front. In addition, in order to make the features of each configuration easy to understand, some configurations are shown in a cross-sectional manner. FIG. 2 is a schematic configuration diagram of a rotation drive device according to Embodiment 1 of the present invention, and schematically shows the main configuration of the device when the device is viewed from above. In addition, in order to make the arrangement relationship of each component easy to understand, a part of the component is shown in a perspective view with a dotted line. In addition, in FIGS. 1 and 2, the carrier and substrate arranged in the rotary drive device are also shown by dotted lines to clarify the positional relationship.
図3~図5は、本発明の実施例1に係る回転駆動装置等の動作説明図である。なお、図3においては、回転駆動装置を正面から見た場合において、当該装置の動作説明に必要な主要構成について概略的に示している。図4は回転駆動装置による回転動作後から成膜が行われるまでの工程における動作説明図である。図5は、回転駆動装置を側面から見た場合において、当該装置の動作説明に必要な主要構成について概略的に示している。なお、図3~図5においては、各構成の特徴を分かり易くするために、一部の構成については、断面的に示している。 3 to 5 are explanatory diagrams of the operation of the rotary drive device etc. according to the first embodiment of the present invention. Note that FIG. 3 schematically shows the main configuration necessary for explaining the operation of the rotary drive device when viewed from the front. FIG. 4 is an operation explanatory view in the process from after the rotation operation by the rotation drive device until film formation is performed. FIG. 5 schematically shows main components necessary for explaining the operation of the rotary drive device when viewed from the side. In addition, in FIGS. 3 to 5, in order to facilitate understanding of the features of each configuration, a part of the configuration is shown in cross section.
<回転駆動装置>
特に、図1及び図2を参照して、本実施例1に係る回転駆動装置の全体構成について説明する。本実施例に係る回転駆動装置100は、基板保持体としてのキャリア110を回転させる回転機構を備えている。回転機構は、回転軸120と、回転軸120に固定されるキャリア載置部材121と、回転軸120を回転させるためのモータなどの回転駆動源131と、回転軸120の軸受132とを備えている。
<Rotation drive device>
In particular, referring to FIGS. 1 and 2, the overall configuration of the rotary drive device according to the first embodiment will be described. The
キャリア110は、吸着により基板10を保持する機能を備えている。具体的には、静電吸着力により基板10を保持する静電チャックや、粘着力により基板10を保持する粘着チャックなどを好適に適用することができる。回転軸120に固定されるキャリア載置部材121には、キャリア110を固定するためのクランプなどの固定具(不図示)が設けられている。キャリア110を介して、基板10が配される側とは反対側には、磁力を発生可能な磁気吸着部材140が設けられている。この磁気吸着部材140は、例えば、キャリア110に対して昇降可能にキャリア110に内蔵させるとよい。
The
また、本実施例に係る回転駆動装置100は、キャリア110から基板10が落下した際に、基板10を受け止める枠体150と、この枠体150を往復移動させる往復移動機構160とを備えている。各種部材や各種装置を往復移動させるための機構については公知技術であるので、往復移動機構160の詳細な説明は省略する。例えば、ボールねじとボールねじを回転させるモータ等によって、往復移動機構160を構成することができる。また、モータの軸にピニオンを設け、枠体150にラックを設けることで、いわゆるラック・アンド・ピニオンにより往復移動機構160を構成することもできる。本実施例に係る往復移動機構160は、枠体150の両側にそれぞれ設けられている。これら一対の往復移動機構160により、枠体150とキャリア110との対向面間の距離を変更可能
とするように、枠体150を往復移動させることができる。すなわち、往復移動機構160により、図1中、上下方向に枠体150を往復移動させることができる。
The
回転軸120に固定されるキャリア載置部材121と、枠体150及び往復移動機構160は、各図においては不図示の部材によって連結されており、これらは、回転機構によって、一体的に回転するように構成されている。従って、キャリア載置部材121にキャリア110と磁気吸着部材140が固定された状態においては、回転機構によって、キャリア110及び磁気吸着部材140は、キャリア載置部材121及び枠体150等と共に一体的に回転する。
The
<枠体>
枠体150について、より詳細に説明する。枠体150は、キャリア110に保持される基板10の外周に沿うように設けられる外周枠部151と、外周枠部151に連結され、かつ、キャリア110に保持される基板10の中央の少なくとも一部を覆うように設けられる桟部152とを備えている。桟部152は、基板10に対する成膜領域(蒸着領域)Rを妨げない位置に設けられている。
<frame body>
The
外周枠部151は、キャリア110に保持される基板10におけるキャリア110との密着面とは反対側の面と対向する第1の対向面151aを有している。また、外周枠部151は、キャリア110に保持される基板10の外周側面と対向する第2の対向面151bを有している。そして、桟部152は、キャリア110に保持される基板10におけるキャリア110との密着面とは反対側の面と対向する第3の対向面152aを有している。なお、上述の「枠体150とキャリア110との対向面」とは、第1の対向面151a及び第3の対向面152aとキャリア110との対向面ということもできる。
The outer
<回転駆動装置の動作説明>
特に、図3~図5を参照して、上記のように構成される回転駆動装置100等の動作について説明する。なお、図3~図5においては、図中上方向が鉛直方向の上方向に相当し、図中下方向が鉛直方向の下方向に相当する。ここで、一般的に、一連の成膜工程(蒸着工程)を行うための装置においては、複数の室が設けられており、ある工程が終了すると、基板等は、他の室に搬送されて、次の工程が行われる。このような技術については、公知技術であるので、その説明は省略する。本実施例に係る回転駆動装置100は、一連の成膜工程において、基板10をキャリア110に載置(固定)させる工程後であって、基板10とマスク20とのアライメント工程(位置合わせ工程)の前に、キャリア110と共に基板10を反転させるための工程を行う室内に設けられる。以下、基板10に蒸着が行われるまでの工程順に従って、回転駆動装置100等の動作について説明する。なお、以下の説明においては、回転駆動装置100が設けられている室を、反転室と称する。
<Description of the operation of the rotary drive device>
Particularly, with reference to FIGS. 3 to 5, the operation of the
反転室内での反転動作が行われる前の工程において、キャリア110に基板10が吸着される動作が行われる。基板10が吸着されたキャリア110が反転室内に搬送される前の段階においては、枠体150は、図3(a)中、上方に退避した位置に配されている。この状態で、基板10が吸着されたキャリア110が、キャリア載置部材121と枠体150との間に搬送される。具体的には、図3において、図中、紙面の手前側から奥側、または、奥側から手前側に基板10が吸着されたキャリア110が搬送される。その後、キャリア110がキャリア載置部材121に載置され、かつ固定される。
In the step before the reversing operation in the reversing chamber, the
キャリア110がキャリア載置部材121に固定された後に、往復移動機構160によって、枠体150はキャリア110に向かって移動する。この枠体150は、外周枠部151の先端151cがキャリア110に接する位置まで移動する。図3(b)は、外周枠部151の先端151cがキャリア110に接する位置まで枠体150が移動した状態を
示している。これにより、キャリア110と、キャリア110に吸着された基板10と、枠体150との位置関係が決まる。
After the
その後、回転機構によって、キャリア110と、キャリア載置部材121と、磁気吸着部材140と、枠体150及び往復移動機構160とが一体となって、180度回転する。これにより、基板10の成膜面(蒸着面)が鉛直方向下向きの状態となる(図3(c)参照)。このように、基板10の成膜面が鉛直方向下向きの状態になった後に、マスク20が基板10の成膜面側に吸着される。マスク20を吸着する方法については、各種公知技術を採用することができるが、ここでは、その一例を説明する。回転駆動装置100による反転動作がなされた後に、基板10が吸着されたキャリア110は、回転駆動装置100から取り外されて、反転室から搬出され、基板10とマスク20とのアライメント工程が行われる室内に搬送される。この室内においては、マスク20がマスク台200に予め載置されている。この状態で、基板10と、マスク台200に載置されたマスク20との位置合わせがなされた状態で、基板10とマスク20とを接近させる動作がなされる。具体的には、マスク台200を鉛直方向上向きに移動させるか、キャリア110を鉛直方向下向きに移動させるか、これらの動作を同時に行わせることで、基板10とマスク20が接近する。これらが接近すると、キャリア110に備えられた磁気吸着部材140によって、磁気的に、マスク20が基板10に向って吸着される。なお、図4(a)においては、基板10とマスク20が接近している途中の状態を示している。
Thereafter, the
マスク20が吸着された後に、成膜(蒸着)が行われる。すなわち、マスク20が吸着された後に、キャリア110に吸着された基板10及びマスク20は、成膜室(蒸着室)に搬送される。図4(b)は成膜装置(蒸着装置)の主要構成が示されている。図示のように、成膜装置においては、マスク20を介してキャリア110に保持される基板10に成膜する成膜源としての蒸発源30が設けられている。蒸発源30については、公知技術であるので、その詳細な説明は省略する。例えば、蒸発源30は、坩堝と、坩堝を加熱する加熱装置等により構成することができる。また、一般的に、蒸着装置は、各種装置が配される真空チャンバなども備えられるが、公知技術であるので、その説明は省略する。
After the
次に、回転駆動装置100の動作中における基板10と枠体150との関係について、特に、図5を参照して説明する。なお、図5においては、説明の便宜上、基板10と、キャリア110と、枠体150のみについて示している。キャリア110に吸着された基板10の成膜面は、枠体150が所定位置まで移動した直後においては、鉛直方向上向きの状態である(図5(a)参照)。そして、回転機構による回転動作により、当該成膜面は、水平方向を向いた状態(図5(b)参照)を経て、鉛直方向下向きの状態となる(図5(c)参照)。
Next, the relationship between the
ここで、キャリア110に基板10が保持された状態では、基板10と枠体150における外周枠部151の第1の対向面151aとの間には隙間が確保されるように構成されている。また、同様に、キャリア110に基板10が保持された状態では、基板10と枠体150における外周枠部151の第2の対向面151bとの間には隙間が確保されるように構成されている。なお、基板10の平面形状は矩形であり、基板10の外周側面は、4か所の平面部分を有している。従って、外周枠部151における第2の対向面151bも、4つの平面部分から構成されている。本実施例においては、キャリア110に基板10が保持された状態では、基板10における外周側面である4つの平面と、外周枠部151における第2の対向面151b(4つの平面)との間に、隙間が確保されるように構成されている。更に、キャリア110に基板10が保持された状態では、基板10と桟部152における第3の対向面152aとの間にも隙間が確保されるように構成されている。
Here, in a state where the
<本実施例に係る回転駆動装置の優れた点>
本実施例に係る回転駆動装置100によれば、基板10を受け止める枠体150が備えられている。そのため、何らかの影響で、キャリア110の吸着力に抗して基板10がキャリア110から離脱してしまっても、回転駆動装置100から基板10が落下してしまうことを抑制することができる。すなわち、例えば、図5(b)に示すように、基板10の成膜面が水平方向を向いた状態で、何らかの影響で、基板10がキャリア110から離脱した場合には、基板10は枠体150の第2の対向面151bにより受け止められる。また、図5(c)に示すように、基板10の成膜面が鉛直方向下向きの状態で、何らかの影響で、基板10がキャリア110から離脱した場合には、基板10は枠体150の第1の対向面151a及び桟部152の第3の対向面152aにより受け止められる。また、特に、図示はしないが、基板10の成膜面が鉛直方向下向きに対して傾いた状態で、何らかの影響で、基板10がキャリア110から離脱した場合には、基板10は、枠体150における第1の対向面151a及び第2対向面151bと桟部152の第3の対向面152aにより受け止められる。以上より、回転駆動装置100から基板10が落下してしまうことが抑制される。
<Excellent points of the rotary drive device according to the present embodiment>
According to the
また、図5(c)に示す状態で、基板10がキャリア110に吸着された状態が維持されつつも、基板10の中央付近が鉛直方向下方に撓んでしまった場合には、基板10の中央付近は、桟部152の第3の対向面152aに突き当たる。これにより、基板10がキャリア110から離脱してしまうことを抑制し、かつ、基板10の撓み量を制限することができる。また、上記の通り、桟部152は、基板10に対する成膜領域(蒸着領域)Rを妨げない位置に設けられている。従って、基板10が桟部152の第3の対向面152aに突き当たってしまっても、成膜領域Rに悪影響を及ぼしてしまうことを抑制することができる。
In addition, in the state shown in FIG. 5C, when the
更に、枠体150は、往復移動機構160によって、往復移動可能に構成されている。従って、枠体150が、基板10が吸着されたキャリア110をキャリア載置部材121に載置させ、かつ固定させる動作の障害になってしまうことはない。
Furthermore, the
(実施例2)
図6及び図7には、本発明の実施例2が示されている。上記実施例1では、キャリアに基板が保持された状態では、基板と、外周枠部における第2の対向面との間には、全ての領域に亘って隙間が確保される構成を示したが、本実施例では、その一部の隙間をなくす構成を示す。その他の基本的な構成および作用については実施例1と同一なので、同一の構成部分については同一の符号を付して、その説明は省略する。
(Example 2)
6 and 7 show Embodiment 2 of the present invention. In the above-described first embodiment, a configuration is shown in which a gap is secured over the entire region between the substrate and the second facing surface of the outer peripheral frame portion while the substrate is held by the carrier. , and the present embodiment shows a configuration in which some of the gaps are eliminated. Since other basic configurations and functions are the same as those of the first embodiment, the same components are denoted by the same reference numerals, and descriptions thereof are omitted.
図6は本発明の実施例2に係る回転駆動装置の概略構成図であり、当該装置を上面から見た場合において、当該装置の主要構成について概略的に示している。なお、各構成の配置関係を分かり易くするために、一部の構成について、点線にて透視図で示している。また、図6においては、回転駆動装置内に配されるキャリア及び基板についても、位置関係を明確にするために点線で示している。図7は、本発明の実施例2に係る回転駆動装置の動作説明図である。なお、図7は、回転駆動装置を側面から見た場合において、当該装置の動作説明に必要な主要構成について概略的に示している。また、図7においては、各構成の特徴を分かり易くするために、一部の構成については、断面的に示している。 FIG. 6 is a schematic configuration diagram of a rotation drive device according to Embodiment 2 of the present invention, and schematically shows the main configuration of the device when the device is viewed from above. In addition, in order to make the arrangement relationship of each component easy to understand, a part of the component is shown in a perspective view with a dotted line. Further, in FIG. 6, the carrier and the substrate arranged in the rotary drive device are also indicated by dotted lines to clarify the positional relationship. 7A and 7B are explanatory diagrams of the operation of the rotary drive device according to the second embodiment of the present invention. It should be noted that FIG. 7 schematically shows the main configuration necessary for explaining the operation of the device when the rotary drive device is viewed from the side. In addition, in FIG. 7, in order to facilitate understanding of the features of each configuration, a part of the configuration is shown in cross section.
本実施例においては、上記実施例1で示す構成に対して、第1の基板押圧機構と、第2の基板押圧機構が追加されている。また、これらの機構が追加されたことに伴って、枠体150の一部の形状が、実施例1の場合とは異なっている。その他の構成及び作用については、上記実施例1に示す構成と同一であるので、その説明は省略する。
In this embodiment, a first substrate pressing mechanism and a second substrate pressing mechanism are added to the configuration shown in the first embodiment. Also, the shape of a portion of the
実施例1でも説明した通り、キャリア110に保持される基板10の平面形状は矩形で
あり、基板10の外周側面は4つの平面を有している。そして、実施例1においては、キャリア110に基板10が保持された状態では、基板10における外周側面である4つの平面と、外周枠部151における第2の対向面151b(4つの平面)との間に、隙間が確保されるように構成されている。この場合、何らかの影響で、キャリア110の吸着力に抗して基板10がキャリア110から離脱してしまうと、基板10の位置がずれてしまう。また、場合によっては、基板10が衝撃を受けてしまい、基板10の品質が低下してしまうことも懸念される。
As described in the first embodiment, the planar shape of the
そこで、本実施例においては、このような懸念を払しょくさせるために、第1の基板押圧機構と第2の基板押圧機構とを備える構成を採用している。第1の基板押圧機構は、第1の押圧部材171aと、第1の押圧部材171aを往復移動させるための第1の駆動機構172aとを備えている。第1の駆動機構172aについては、上記の往復移動機構160の場合と同様に、ボールねじとボールねじを回転させるモータ等からなる機構や、ラック・アンド・ピニオンからなる機構を採用することができる。また、枠体150には、第1の押圧部材171aの進入を可能とするスリット153が設けられている。このスリット153が設けられていることにより、第1の押圧部材171aが基板10の外周側面に接触することができ、第1の押圧部材171aにより基板10を押圧することが可能となっている。第2の基板押圧機構の構成も、第1の基板押圧機構の構成と同様である。従って、第2の基板押圧機構についても、第2の押圧部材171bと、第2の駆動機構172bとを備えている。そして、枠体150には、第2の押圧部材171bの進入を可能とするスリット154が設けられている。
Therefore, in this embodiment, in order to eliminate such concerns, a configuration including a first substrate pressing mechanism and a second substrate pressing mechanism is adopted. The first substrate pressing mechanism includes a first pressing
特に、図7を参照して、第1の基板押圧機構と第2の基板押圧機構の動作について説明する。なお、上記の通り、両者の構成は同様であり、まとめて説明する。図7中の押圧部材171は、第1の押圧機構における第1の押圧部材171aに相当し、かつ、第2の押圧機構における第2の押圧部材171bにも相当する。また、図7中の駆動機構172は、第1の押圧機構における第1の駆動機構172aに相当し、かつ、第2の押圧機構における第2の駆動機構172bにも相当する。
In particular, operations of the first substrate pressing mechanism and the second substrate pressing mechanism will be described with reference to FIG. As described above, both have the same configuration, and will be described together. A
図7に示すように、キャリア110に基板10が吸着された状態で、駆動機構172により押圧部材171を移動させることにより、基板10を押圧し、基板10を移動させることができる。図7(a)は基板10が押圧部材171により押圧されている途中の様子を示しており、図7(b)は基板10の外周側面が、枠体150の外周枠部151における第2の対向面151bに突き当たった状態を示している。このように、基板10の外周側面と外周枠部151における第2の対向面151bとの間の隙間をなくすことができる。
As shown in FIG. 7, by moving the
ここで、第1の基板押圧機構においては、基板10の外周側面である4つの平面のうち、回転機構によってキャリア110が回転する過程で、鉛直方向上方となる側の平面(端面)を、鉛直方向下方となる側の平面(端面)側に向かって押圧する役割を担っている。これにより、上記4つの平面のうち回転中に鉛直方向下方となる平面(外周側面)と、外周枠部151における第2の対向面151bとの間の隙間をなくすことができる。
Here, in the first substrate pressing mechanism, among the four planes that are the outer peripheral side surfaces of the
また、第2の基板押圧機構においては、基板10の外周側面である4つの平面のうち、回転軸線方向における一方の平面(端面)を他方の平面(端面)側に向かって押圧する役割を担っている。これにより、上記4つの平面のうち回転中に水平方向の他端側となる平面(外周側面)と、外周枠部151における第2の対向面151bとの間の隙間をなくすことができる。
Further, the second substrate pressing mechanism has a role of pressing one plane (end face) in the rotation axis direction toward the other plane (end face) of the four planes that are the outer peripheral side surfaces of the
なお、第1の基板押圧機構による押圧動作、及び第2の基板押圧機構による押圧動作は
、上記実施例1の中で説明した枠体150の移動動作の完了後(図3(b))であって、回転機構による回転動作(図3(c))の前に行われる。
The pressing operation by the first substrate pressing mechanism and the pressing operation by the second substrate pressing mechanism are performed after the moving operation of the
以上のように構成される本実施例に係る回転駆動装置100によれば、基板10の外周側面と外周枠部151における第2の対向面151bとの間の隙間がなくなるように、基板10は押圧部材171により押圧される。これにより、回転動作中において、基板10の位置ズレを抑制することができる。
According to the
本実施例においては、第1の基板押圧機構と第2の基板押圧機構とを備える構成を示したが、いずれか一方の基板押圧機構のみを備える構成を採用することもできる。特に、回転動作中においては、基板10は鉛直方向下方に位置ずれし易いため、第1の基板押圧機構を設けると好適である。
In this embodiment, the configuration including the first substrate pressing mechanism and the second substrate pressing mechanism is shown, but a configuration including only one of the substrate pressing mechanisms may be employed. In particular, since the
(その他)
上記実施例においては、キャリア110が、静電チャックや粘着チャックにより、基板10を吸着する機能を備えている場合について説明した。しかしながら、本発明においては、キャリアが吸着機能を備えていない場合にも適用可能である。例えば、反転時にキャリアから離脱して枠体150上に支持された基板10を、吸着機能を有する別のキャリアに吸着させて、次工程である基板10とマスク20とのアライメント工程が行われる室内に搬送可能な構成としたり、上述の基板押圧機構を有する構成としたりする場合などには、反転時のキャリアが吸着機能を備えていなくても本発明は適用され得る。この場合でも、何らかの原因で、基板がキャリアから離脱してしまっても、基板が枠体により受け止められることで、回転駆動装置から基板が落下してしまうことを抑制することができる。
(others)
In the above embodiment, the case where the
10 基板
20 マスク
30 蒸発源
100 回転駆動装置
110 キャリア
120 回転軸
121 キャリア載置部材
131 回転駆動源
132 軸受
140 磁気吸着部材
150 枠体
151 外周枠部
151a 第1の対向面
151b 第2の対向面
151c 先端
152 桟部
152a 第3の対向面
153,154 スリット
160 往復移動機構
171,171a,171b 押圧部材
172,172a,172b 駆動機構
200 マスク台
R 成膜領域(蒸着領域)
REFERENCE SIGNS
Claims (10)
前記基板保持体に保持される基板の外周に沿うように設けられる外周枠部を有し、前記基板保持体から基板が落下した際に、該基板を受け止める枠体と、
前記枠体と前記基板保持体との対向面間の距離を変更可能とするように、前記枠体を往復移動させる往復移動機構と、を備えることを特徴とする回転駆動装置。 A rotation drive device comprising a rotation mechanism for rotating a substrate holder that holds a substrate,
a frame having an outer peripheral frame provided along the outer periphery of the substrate held by the substrate holder and receiving the substrate when the substrate drops from the substrate holder;
and a reciprocating mechanism for reciprocating the frame so as to change the distance between the facing surfaces of the frame and the substrate holder.
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