JP7282017B2 - Method for producing alkenyl phosphorus compound - Google Patents
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Description
本発明は、アルケニルリン化合物の製造方法に関する。より詳細には、本発明は、触媒として樹脂担持遷移金属錯体を用いて、ヒドロホスホリル化反応によってアルケニルリン化合物を製造する方法に関する。 The present invention relates to a method for producing alkenylphosphorus compounds. More particularly, the present invention relates to a method for producing alkenyl phosphorus compounds by hydrophosphorylation reaction using a resin-supported transition metal complex as a catalyst.
有機リン化合物は、例えば、難燃剤、可塑剤、殺虫剤、医農薬、金属錯体の配位子等の様々な製品に幅広く使用されている化学物質である。近年、有機リン化合物は、機能性材料として金属表面処理剤、及び難燃性樹脂等の構成材料や電子材料分野においても、工業的に特に注目されている。 Organophosphorus compounds are chemical substances that are widely used in various products such as flame retardants, plasticizers, insecticides, pharmaceuticals and agricultural chemicals, and ligands for metal complexes. In recent years, organophosphorus compounds have been attracting particular industrial attention as functional materials in the fields of constituent materials such as metal surface treatment agents and flame-retardant resins, and electronic materials.
有機リン化合物の中でも、アルケニルホスホン酸誘導体は、上記の様々な化学物質の有用な前駆体物質であるため、従来から様々な製造方法が検討されてきた。例えば、触媒を用いて、ホスホン酸のP(O)-H結合のアルキン類への付加反応(以下、ヒドロホスホリル化反応)によって、アルケニルホスホン酸誘導体を製造することが行われてきた。例えば、非特許文献1では、トリフェニルホスフィンが結合したポリスチレン樹脂に遷移金属を固定化した触媒を用いて、ヒドロホスホリル化反応を行うことが提案されている。
Among organophosphorus compounds, alkenylphosphonic acid derivatives are useful precursors of the above-mentioned various chemical substances, and thus various production methods have been investigated. For example, alkenylphosphonic acid derivatives have been produced by the addition reaction of the P(O)—H bond of phosphonic acid to alkynes (hereinafter referred to as hydrophosphorylation reaction) using a catalyst. For example, Non-Patent
しかしながら、非特許文献1に記載のトリフェニルホスフィンが結合したポリスチレン樹脂に遷移金属を固定化した触媒では、樹脂表面のリン含量が十分ではなく、反応に必要なリン量を添加するためには非常に多くの樹脂量が必要となったり、反応効率が低かったり、また、樹脂表面からの金属成分のリーチングが多く、副反応が多く進行したりするという問題があった。そのため、ヒドロホスホリル化反応に用いた際の反応効率に改善の余地があった。また、ヒドロホスホリル化反応に用いる触媒は高価であったり、寿命が短かったりするため、製造コストの低減のためには、触媒の再利用が望まれている。
However, in the catalyst in which a transition metal is immobilized on a polystyrene resin to which triphenylphosphine is bound, as described in
したがって、本発明の目的は、ヒドロホスホリル化反応を効率的に進行できる触媒を用いてアルケニルリン化合物の製造方法を提供することにある。また、本発明の目的は、このような触媒の再利用を行うことにある。 Accordingly, an object of the present invention is to provide a method for producing an alkenylphosphorus compound using a catalyst capable of efficiently proceeding a hydrophosphorylation reaction. Another object of the present invention is to recycle such catalysts.
本発明者は、上記課題を解決するために鋭意検討を行った結果、表面にホスフィン置換基を有する樹脂と遷移金属とを反応させた錯体化合物を触媒として用いてヒドロホスホリル化反応を行うことで、アルケニルリン化合物を効率的に製造できることを見出し、本発明を完成するに至った。また、本発明者は、使用後の触媒に錯体化合物の前駆体である遷移金属化合物を反応させることで、触媒の再利用が可能になることを見出し、本発明を完成するに至った。 As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have found that a hydrophosphorylation reaction is performed using a complex compound obtained by reacting a resin having a phosphine substituent on the surface with a transition metal as a catalyst. , found that an alkenyl phosphorus compound can be efficiently produced, and completed the present invention. In addition, the present inventors have found that the catalyst can be reused by reacting the used catalyst with a transition metal compound, which is a precursor of the complex compound, and have completed the present invention.
すなわち、本発明によれば、以下の発明が提供される。
[1] 下記一般式(1):
で表されるリン化合物と、
下記一般式(2):
で表されるアルキニル化合物とを、下記一般式(3):
で表される樹脂微粒子と、遷移金属との錯体化合物の存在下で反応させて、
下記一般式(4):
で表されるアルケニルリン化合物を製造する方法。
[2] 前記樹脂微粒子中のホスフィン基と前記遷移金属の物質量比が10:1~1:2である、[1]に記載の製造方法。
[3] 一般式(1)および(4)中、R1およびR2は、それぞれ独立して、炭素数が1~10の置換もしくは非置換のアルコキシ基である、[1]または[2]に記載の製造方法。
[4] 一般式(2)および(4)中、R3およびR4は、それぞれ独立して、炭素数が1~10の、置換もしくは非置換のアルキル基、置換もしくは非置換のアリール基、または置換もしくは非置換のアラルキル基である、[1]~[3]のいずれかに記載の製造方法。
[5] 一般式(3)中、R5は、炭素数が6~12の炭化水素基である、[1]~[4]のいずれかに記載の製造方法。
[6] 一般式(3)中、R6は、炭素数が1~8のアルキル基、または炭素数が5~12のアリール基である、[1]~[5]のいずれかに記載の製造方法。
[7] 一般式(3)中、R7およびR8は、炭素数が1~8のアルキル基、または炭素数が5~12のアリール基である、[1]~[6]のいずれかに記載の製造方法。
[8] 前記遷移金属が、ニッケル、パラジウム、またはロジウムである、[1]~[7]のいずれかに記載の製造方法。
[9] 一般式(4)で表されるアルケニルリン化合物を製造した後、反応液から前記錯体化合物を回収する工程と、
回収された錯体化合物を再利用して、一般式(4)で表されるアルケニルリン化合物を製造する工程をさらに含む、[1]~[8]のいずれかに記載の製造方法。
[10] 前記回収された錯体化合物を、錯体化合物の前駆体である遷移金属化合物により活性化する工程をさらに含む、[9]に記載の製造方法。
[11] 前記錯体化合物の前駆体である遷移金属化合物が、ゼロ価ニッケル化合物である、[10]に記載の製造方法。
[12] 前記ゼロ価ニッケル化合物が、ビス(1,5-シクロオクタジエン)ニッケル(0)、テトラキス(トリフェニルホスフィン)ニッケル(0)、またはニッケルカルボニルである、[11]に記載の製造方法。
That is, according to the present invention, the following inventions are provided.
[1] the following general formula (1):
A phosphorus compound represented by
The following general formula (2):
and an alkynyl compound represented by the following general formula (3):
is reacted in the presence of a complex compound of a resin fine particle represented by and a transition metal,
The following general formula (4):
A method for producing an alkenyl phosphorus compound represented by
[2] The production method according to [1], wherein the substance amount ratio of the phosphine groups in the resin fine particles and the transition metal is 10:1 to 1:2.
[3] In general formulas (1) and (4), R 1 and R 2 are each independently a substituted or unsubstituted alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms [1] or [2] The manufacturing method described in .
[4] In general formulas (2) and (4), R 3 and R 4 are each independently a substituted or unsubstituted alkyl group or a substituted or unsubstituted aryl group having 1 to 10 carbon atoms; Or the production method according to any one of [1] to [3], which is a substituted or unsubstituted aralkyl group.
[5] The production method according to any one of [1] to [4], wherein R 5 in general formula (3) is a hydrocarbon group having 6 to 12 carbon atoms.
[6] The formula according to any one of [1] to [5], wherein R 6 is an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms or an aryl group having 5 to 12 carbon atoms in general formula (3). Production method.
[7] Any one of [1] to [6], wherein R 7 and R 8 in general formula (3) are an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms or an aryl group having 5 to 12 carbon atoms The manufacturing method described in .
[8] The production method according to any one of [1] to [7], wherein the transition metal is nickel, palladium, or rhodium.
[9] After producing the alkenyl phosphorus compound represented by the general formula (4), a step of recovering the complex compound from the reaction solution;
The production method according to any one of [1] to [8], further comprising a step of producing the alkenylphosphorus compound represented by the general formula (4) by reusing the recovered complex compound.
[10] The production method according to [9], further comprising the step of activating the recovered complex compound with a transition metal compound that is a precursor of the complex compound.
[11] The production method according to [10], wherein the transition metal compound that is the precursor of the complex compound is a zerovalent nickel compound.
[12] The production method according to [11], wherein the zerovalent nickel compound is bis(1,5-cyclooctadiene)nickel(0), tetrakis(triphenylphosphine)nickel(0), or nickelcarbonyl. .
本発明によれば、表面にホスフィン置換基を有する樹脂と遷移金属とを反応させた錯体化合物を触媒として用いて、ヒドロホスホリル化反応を行うことで、アルケニルリン化合物を効率的に製造することができる。特に室温以上の加熱温度条件下においてヒドロホスホリル化反応を効率良く行うことができる。また、触媒の寿命が長く、さらに触媒の再利用が可能なことから、製造コストを低減することができる。 According to the present invention, an alkenyl phosphorus compound can be efficiently produced by performing a hydrophosphorylation reaction using a complex compound obtained by reacting a resin having a phosphine substituent on the surface with a transition metal as a catalyst. can. In particular, the hydrophosphorylation reaction can be efficiently carried out under heating temperature conditions of room temperature or higher. In addition, since the life of the catalyst is long and the catalyst can be reused, the manufacturing cost can be reduced.
[アルケニルリン化合物の製造方法]
(ヒドロホスホリル化反応)
本発明のアルケニルリン化合物の製造方法は、原料物質であるリン化合物とアルキニル化合物とを触媒の存在下で、ヒドロホスホリル化反応によって、アルケニルリン化合物を製造するものである。本発明のアルケニルリン化合物の製造方法によれば、室温以上の加熱温度条件下において、アルケニルリン化合物を効率良く合成することができる。
[Method for Producing Alkenyl Phosphorus Compound]
(Hydrophosphorylation reaction)
In the method for producing an alkenyl phosphorus compound of the present invention, an alkenyl phosphorus compound is produced by subjecting a phosphorus compound and an alkynyl compound, which are starting materials, to a hydrophosphorylation reaction in the presence of a catalyst. According to the method for producing an alkenyl phosphorus compound of the present invention, an alkenyl phosphorus compound can be efficiently synthesized under heating temperature conditions of room temperature or higher.
(リン化合物)
ヒドロホスホリル化反応の原料物質としては、下記一般式(1)で表されるリン化合物を用いることができる。
A phosphorus compound represented by the following general formula (1) can be used as a starting material for the hydrophosphorylation reaction.
一般式(1)中、R1およびR2のアルキル基、アルコキシ基、シクロアルキル基、アラルキル基、アリール基、アリールオキシ基の炭素数は、1~10であることが好ましい。なお、上記炭素数に置換基の炭素数は含まれない。例えば、R1およびR2としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基等のアルコキシ基、シクロヘキシル基等のシクロアルキル基、ベンジル基、フェネチル基等のアラルキル基、フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基等のアリール基、フェノキシ基等のアリールオキシ基が挙げられる。これらの中でも、R1およびR2は、それぞれ独立して、置換もしくは非置換のアルコキシ基であることが好ましい。 In general formula (1), the alkyl group, alkoxy group, cycloalkyl group, aralkyl group, aryl group, and aryloxy group of R 1 and R 2 preferably have 1 to 10 carbon atoms. In addition, the number of carbon atoms of the substituent is not included in the above number of carbon atoms. For example, R 1 and R 2 include alkyl groups such as methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, pentyl group and hexyl group, methoxy group and ethoxy group. , alkoxy groups such as butoxy group, cycloalkyl groups such as cyclohexyl group, benzyl group, aralkyl group such as phenethyl group, aryl group such as phenyl group, tolyl group, xylyl group, naphthyl group, aryloxy group such as phenoxy group mentioned. Among these, R 1 and R 2 are each independently preferably a substituted or unsubstituted alkoxy group.
一般式(1)中、R1およびR2が有してもよい置換基としては、例えば、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、複素環基、アルキリデン基、シリル基、アシル基、アシルオキシ基、カルボキシ基、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、メルカプト基、およびオキソ基等が挙げられる。また、置換基に含まれる炭素数は好ましくは1~6であり、より好ましくは1~4であり、さらに好ましくは1~3である。 In general formula (1), examples of substituents that R 1 and R 2 may have include an alkyl group, a cycloalkyl group, an alkoxy group, a cycloalkoxy group, a heterocyclic group, an alkylidene group, a silyl group, and an acyl group. groups, acyloxy groups, carboxy groups, cyano groups, nitro groups, hydroxy groups, mercapto groups, oxo groups, and the like. The number of carbon atoms contained in the substituent is preferably 1-6, more preferably 1-4, still more preferably 1-3.
(アルキニル化合物)
ヒドロホスホリル化反応の原料物質としては、下記一般式(2)で表されるアルキニル化合物を用いることができる。
Alkynyl compounds represented by the following general formula (2) can be used as starting materials for the hydrophosphorylation reaction.
一般式(2)中、R3およびR4のアルキル基、シクロアルキル基、アラルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、アルケニル基、アルコキシ基、アリールオキシ基の炭素数は、1~10であることが好ましい。なお、上記炭素数に置換基の炭素数は含まれない。例えば、R3およびR4としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等のアルキル基、シクロヘキシル基等のシクロアルキル基、ベンジル基、フェネチル基等のアラルキル基、フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基等のアリール基、1-ブテニル基、2-ブテニル基、1,3-ブタジエニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基等のアルケニル基、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基等のアルコキシ基、フェノキシ基等のアリールオキシ基が挙げられる。これらの中でも、R3およびR4は、それぞれ独立して、炭素数が1~10の、置換もしくは非置換のアルキル基、置換もしくは非置換のアリール基、または置換もしくは非置換のアラルキル基であることが好ましい。 In general formula (2), the alkyl group, cycloalkyl group, aralkyl group, aryl group, heteroaryl group, alkenyl group, alkoxy group, and aryloxy group of R 3 and R 4 have 1 to 10 carbon atoms. is preferred. In addition, the number of carbon atoms of the substituent is not included in the above number of carbon atoms. For example, R 3 and R 4 include alkyl groups such as methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, pentyl group and hexyl group, and cyclo groups such as cyclohexyl group. Alkyl group, benzyl group, aralkyl group such as phenethyl group, phenyl group, tolyl group, xylyl group, aryl group such as naphthyl group, 1-butenyl group, 2-butenyl group, 1,3-butadienyl group, pentenyl group, hexenyl group alkenyl groups such as groups; alkoxy groups such as methoxy groups, ethoxy groups and butoxy groups; and aryloxy groups such as phenoxy groups. Among these, R 3 and R 4 are each independently a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted aryl group, or a substituted or unsubstituted aralkyl group having 1 to 10 carbon atoms. is preferred.
一般式(2)中、R3およびR4が有してもよい置換基としては、例えば、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、複素環基、アルキリデン基、シリル基、アシル基、アシルオキシ基、カルボキシ基、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、メルカプト基、およびオキソ基等が挙げられる。また、置換基に含まれる炭素数は好ましくは1~6であり、より好ましくは1~4であり、さらに好ましくは1~3である。 In general formula (2), examples of substituents that R 3 and R 4 may have include an alkyl group, a cycloalkyl group, an alkoxy group, a cycloalkoxy group, a heterocyclic group, an alkylidene group, a silyl group, and an acyl group. groups, acyloxy groups, carboxy groups, cyano groups, nitro groups, hydroxy groups, mercapto groups, oxo groups, and the like. The number of carbon atoms contained in the substituent is preferably 1-6, more preferably 1-4, still more preferably 1-3.
ヒドロホスホリル化反応における原料物質の一般式(1)で表されるリン化合物と一般式(2)で表されるアルキニル化合物の物質量比は、好ましくは10:1~0.1:1であり、より好ましくは3:1~0.7:1であり、さらに好ましくは1.1:1~0.9:1である。 In the hydrophosphorylation reaction, the material amount ratio of the phosphorus compound represented by the general formula (1) and the alkynyl compound represented by the general formula (2), which are raw materials, is preferably 10:1 to 0.1:1. , more preferably 3:1 to 0.7:1, more preferably 1.1:1 to 0.9:1.
(錯体化合物(触媒))
ヒドロホスホリル化反応に用いる触媒としては、下記で詳述する樹脂微粒子と、遷移金属との錯体化合物(樹脂担持遷移金属錯体)を用いることができる。このような錯体化合物は、樹脂微粒子の表面に高濃度にホスフィン置換基を有することで、室温以上の温度条件下においてヒドロホスホリル化反応を効率良く進行させることができる。
(Complex compound (catalyst))
As the catalyst used for the hydrophosphorylation reaction, a complex compound (resin-supported transition metal complex) of a resin fine particle described in detail below and a transition metal can be used. Since such a complex compound has a high concentration of phosphine substituents on the surface of the resin fine particles, the hydrophosphorylation reaction can proceed efficiently under a temperature condition of room temperature or higher.
(樹脂微粒子)
錯体化合物を形成する樹脂微粒子は、下記一般式(3)で表される。
The fine resin particles forming the complex compound are represented by the following general formula (3).
一般式(3)中、R5の置換もしくは非置換の炭化水素基としては、炭素数6~12の炭化水素基が好ましい。なお、上記炭素数に置換基の炭素数は含まれない。炭素数6~12の炭化水素基としては、へキシレン基、へプチレン基、オクチレン基等のアルキレン基、シクロヘキシレン基等のシクロアルキレン基、フェニレン基、ナフチレン基等の芳香族炭化水素基等が挙げられる。これらの中でもR5は、芳香族炭化水素基であることが好ましく、フェニレン基であることがより好ましい。 In general formula (3), the substituted or unsubstituted hydrocarbon group for R 5 is preferably a hydrocarbon group having 6 to 12 carbon atoms. In addition, the number of carbon atoms of the substituent is not included in the above number of carbon atoms. Examples of hydrocarbon groups having 6 to 12 carbon atoms include alkylene groups such as hexylene group, heptylene group and octylene group, cycloalkylene groups such as cyclohexylene group, aromatic hydrocarbon groups such as phenylene group and naphthylene group, and the like. mentioned. Among these, R5 is preferably an aromatic hydrocarbon group, more preferably a phenylene group.
一般式(3)中、R6の置換もしくは非置換のアルキル基としては、炭素数が1~8のアルキル基が好ましく、置換もしくは非置換のアリール基としては、炭素数が5~12のアリール基が好ましい。なお、上記炭素数に置換基の炭素数は含まれない。炭素数1~8のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等が挙げられる。炭素数が5~12のアリール基としては、フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基等が挙げられる。これらの中でも、R6は、芳香族炭化水素基であることが好ましく、フェニル基であることがより好ましい。 In general formula (3), the substituted or unsubstituted alkyl group for R 6 is preferably an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, and the substituted or unsubstituted aryl group is an aryl group having 5 to 12 carbon atoms. groups are preferred. In addition, the number of carbon atoms of the substituent is not included in the above number of carbon atoms. Examples of alkyl groups having 1 to 8 carbon atoms include methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, pentyl group and hexyl group. . The aryl group having 5 to 12 carbon atoms includes phenyl group, tolyl group, xylyl group, naphthyl group and the like. Among these, R6 is preferably an aromatic hydrocarbon group, more preferably a phenyl group.
一般式(3)中、R7およびR8の置換もしくは非置換のアルキル基としては、炭素数が1~8のアルキル基が好ましく、置換もしくは非置換のアリール基としては、炭素数が5~12のアリール基が好ましい。なお、上記炭素数に置換基の炭素数は含まれない。炭素数1~8のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等が挙げられる。炭素数が5~12のアリール基としては、フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基等が挙げられる。これらの中でも、R7およびR8は、それぞれ独立して、水素原子、メチル基、フェニル基のいずれかであることが好ましい。 In general formula (3), the substituted or unsubstituted alkyl group for R 7 and R 8 is preferably an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, and the substituted or unsubstituted aryl group is preferably 5 to 8 carbon atoms. Twelve aryl groups are preferred. In addition, the number of carbon atoms of the substituent is not included in the above number of carbon atoms. Examples of alkyl groups having 1 to 8 carbon atoms include methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, pentyl group and hexyl group. . The aryl group having 5 to 12 carbon atoms includes phenyl group, tolyl group, xylyl group, naphthyl group and the like. Among these, R7 and R8 are each independently preferably a hydrogen atom, a methyl group, or a phenyl group.
一般式(3)中、R5、R6、R7、およびR8が有してもよい置換基としては、例えば、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、複素環基、アルキリデン基、アミノ基、シリル基、アシル基、アシルオキシ基、カルボキシ基、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、メルカプト基、およびオキソ基等が挙げられる。また、置換基に含まれる炭素数は好ましくは1~6であり、より好ましくは1~4であり、さらに好ましくは1~3である。また、R5、R6、R7、およびR8は、フッ素原子を有してもよい。 In general formula (3), examples of substituents that R 5 , R 6 , R 7 and R 8 may have include an alkyl group, a cycloalkyl group, an alkoxy group, a cycloalkoxy group, a heterocyclic group, alkylidene group, amino group, silyl group, acyl group, acyloxy group, carboxy group, cyano group, nitro group, hydroxy group, mercapto group, oxo group and the like. The number of carbon atoms contained in the substituent is preferably 1-6, more preferably 1-4, still more preferably 1-3. Also, R 5 , R 6 , R 7 and R 8 may have a fluorine atom.
一般式(3)で表される樹脂の具体例としては、例えば、下記式で表される樹脂が挙げられる。
一般式(3)中、nおよびmの値の合計100%に対して、nの値は20~100%であり、好ましくは50~100%であり、より好ましくは80~100%であり、mの値は0~80%であり、好ましくは0~50%であり、より好ましくは0~20%である。 In the general formula (3), the value of n is 20 to 100%, preferably 50 to 100%, more preferably 80 to 100% with respect to the total 100% of the values of n and m, The value of m is 0-80%, preferably 0-50%, more preferably 0-20%.
一般式(3)で表される樹脂微粒子は、以下の方法により製造することができる。例えば、窒素雰囲気下、反応容器中にメリフィールド樹脂とアルカリ金属の有機リン化合物やエステル結合を持つ三価の有機リン化合物とを加え、-20~150℃で1~48時間反応させることで、樹脂微粒子を製造することができる。なお、メリフィールド樹脂とは、スチレン・クロロメチルスチレン架橋樹脂のことである。アルカリ金属の有機リン化合物としては、例えば、ナトリウムジフェニルホスフィド、ナトリウムメチルフェニルホスフィド等が挙げられる。エステル結合を持つ三価の有機リン化合物としては、例えば、亜リン酸トリエチル、ジフェニル亜ホスフィン酸メチル等が挙げられる。 The fine resin particles represented by formula (3) can be produced by the following method. For example, in a nitrogen atmosphere, Merrifield resin and an alkali metal organophosphorus compound or a trivalent organophosphorus compound having an ester bond are added to a reaction vessel, and reacted at -20 to 150°C for 1 to 48 hours. Resin microparticles can be produced. The Merrifield resin is a styrene/chloromethylstyrene crosslinked resin. Examples of alkali metal organophosphorus compounds include sodium diphenylphosphide and sodium methylphenylphosphide. Examples of trivalent organophosphorus compounds having an ester bond include triethyl phosphite and methyl diphenylphosphite.
また、窒素雰囲気下、反応容器中にエテニルフェニルメチルマグネシウムクロリドとハロゲン化ホスフィンとを加え、0~100℃で1~48時間反応させて得られるホスフィニルメチルスチレンとスチレン、架橋剤を懸濁重合することで、樹脂微粒子を製造することができる。 In addition, in a nitrogen atmosphere, ethenylphenylmethylmagnesium chloride and halogenated phosphine are added to a reaction vessel, and phosphinylmethylstyrene obtained by reacting at 0 to 100° C. for 1 to 48 hours, styrene, and a crosslinking agent are suspended. Resin microparticles can be produced by turbidity polymerization.
樹脂微粒子は、*で樹脂微粒子表面と結合しているため、表面のリン含量が高く、好ましくは1.0mmol/g以上であり、より好ましくは2.0mmol/g以上であり、さらに好ましくは2.5mmol/g以上である。樹脂微粒子表面のリン含量は、元素分析、有機ハライド化合物の吸着量、および酸化還元滴定により測定することができる。 Since the fine resin particles are bonded to the surface of the fine resin particles with *, the phosphorus content on the surface is high, preferably 1.0 mmol/g or more, more preferably 2.0 mmol/g or more, and still more preferably 2.0 mmol/g or more. .5 mmol/g or more. The phosphorus content on the surface of the resin fine particles can be measured by elemental analysis, adsorption amount of the organic halide compound, and oxidation-reduction titration.
樹脂微粒子は、従来公知の方法により分級したり、反応条件を調節したりすることで、所望の粒子径に調整することができる。樹脂微粒子の大きさは特に限定されるものではないが、遷移金属との錯体の形成し易さから、平均粒子径が好ましくは1~1000μmであり、より好ましくは10~100μmであり、さらに好ましくは30~75μmである。樹脂微粒子の平均粒子径は、レーザー回折式の粒度分布測定装置やふるい分け法(JIS K 0069:1992)を使用して測定することができる。 The fine resin particles can be adjusted to have a desired particle size by classifying them by a conventionally known method or by adjusting the reaction conditions. The size of the fine resin particles is not particularly limited, but the average particle size is preferably 1 to 1000 μm, more preferably 10 to 100 μm, and still more preferably 10 to 100 μm, because of the ease of forming a complex with a transition metal. is 30-75 μm. The average particle size of the resin fine particles can be measured using a laser diffraction particle size distribution analyzer or a sieving method (JIS K 0069:1992).
(遷移金属)
錯体化合物を形成する遷移金属としては、ニッケル、パラジウム、およびロジウムが挙げられ、ニッケルが好ましい。特に樹脂微粒子とニッケルが形成した錯体化合物を触媒として用いることで、室温(20℃)以上100℃未満の温度条件下においてヒドロホスホリル化反応を効率良く進行させることができる。
(transition metal)
Transition metals that form complex compounds include nickel, palladium, and rhodium, with nickel being preferred. In particular, by using a complex compound formed by fine resin particles and nickel as a catalyst, the hydrophosphorylation reaction can proceed efficiently under temperature conditions of room temperature (20°C) or more and less than 100°C.
樹脂微粒子中のホスフィン基と遷移金属の物質量比は、錯体化合物を形成できれば特に限定されないが、好ましくは10:1~1:2であり、より好ましくは8:1~1:1であり、さらに好ましくは5:1~2:1である。 The substance amount ratio of the phosphine group and the transition metal in the fine resin particles is not particularly limited as long as a complex compound can be formed, but is preferably 10:1 to 1:2, more preferably 8:1 to 1:1, More preferably 5:1 to 2:1.
(錯体化合物の製造方法)
上記の錯体化合物の製造方法は、上記一般式(3)で表される樹脂微粒子と、遷移金属化合物とを、有機溶媒の存在下で反応させる工程を含むものである。一般式(3)で表される樹脂微粒子については、上記で詳述した通りである。
(Method for producing complex compound)
The above method for producing a complex compound includes a step of reacting the fine resin particles represented by the general formula (3) with a transition metal compound in the presence of an organic solvent. The fine resin particles represented by formula (3) are as described in detail above.
錯体化合物の製造方法に用いる遷移金属化合物は、ニッケル化合物またはパラジウム化合物であることが好ましく、ゼロ価ニッケル化合物であることがより好ましい。ゼロ価ニッケル化合物としては、例えば、ビス(1,5-シクロオクタジエン)ニッケル(0)、テトラキス(トリフェニルホスフィン)ニッケル(0)、およびニッケルカルボニル等が挙げられる。ゼロ価ニッケル化合物は、樹脂微粒子の表面に存在するホスフィンよりも弱い配位力の配位子を有するものを用いることで、錯体化合物を形成することができる。 The transition metal compound used in the method for producing the complex compound is preferably a nickel compound or a palladium compound, more preferably a zerovalent nickel compound. Examples of zerovalent nickel compounds include bis(1,5-cyclooctadiene)nickel(0), tetrakis(triphenylphosphine)nickel(0), nickelcarbonyl, and the like. A complex compound can be formed by using a zero-valent nickel compound that has a ligand with a weaker coordinating force than the phosphine present on the surface of the resin fine particles.
樹脂微粒子と遷移金属化合物の反応温度は、特に限定されないが、反応効率や反応速度、副生成物を考慮して、好ましくは-10~100℃であり、より好ましくは0~60℃であり、さらに好ましくは10~30℃である。 The reaction temperature between the fine resin particles and the transition metal compound is not particularly limited, but is preferably -10 to 100°C, more preferably 0 to 60°C, in consideration of reaction efficiency, reaction rate, and by-products. More preferably, it is 10 to 30°C.
樹脂微粒子と遷移金属化合物の反応時間は、特に限定されないが、反応効率や反応速度、副生成物を考慮して、好ましくは10分~24時間であり、より好ましくは1時間~18時間であり、さらに好ましくは6~18時間である。 The reaction time between the fine resin particles and the transition metal compound is not particularly limited, but is preferably 10 minutes to 24 hours, more preferably 1 hour to 18 hours, in consideration of reaction efficiency, reaction rate, and by-products. , more preferably 6 to 18 hours.
樹脂微粒子と遷移金属化合物の反応に用いる有機溶媒は、特に限定されないが、例えば、エーテル類、炭化水素、ケトン類、エステル類、芳香族炭化水素等が挙げられ、テトラヒドロフラン等のエーテル類を用いることが好ましい。 The organic solvent used for the reaction between the fine resin particles and the transition metal compound is not particularly limited, but examples thereof include ethers, hydrocarbons, ketones, esters, aromatic hydrocarbons, etc. Ethers such as tetrahydrofuran are preferably used. is preferred.
樹脂微粒子と遷移金属化合物の反応は、反応効率や反応速度、副生成物を考慮して、不活性ガス雰囲気下で実施することが好ましい。不活性ガスとしては、窒素、アルゴン等を用いることが好ましい。 The reaction between the fine resin particles and the transition metal compound is preferably carried out under an inert gas atmosphere in consideration of reaction efficiency, reaction rate, and by-products. Nitrogen, argon, or the like is preferably used as the inert gas.
(反応条件)
ヒドロホスホリル化反応における錯体化合物(触媒)の使用量は、反応が十分に進行すれば特に限定されないが、原料物質であるリン化合物1molに対して、好ましくは0.001~0.5molであり、より好ましく0.01~0.1molであり、さらに好ましくは0.025~0.05molである
(Reaction conditions)
The amount of the complex compound (catalyst) used in the hydrophosphorylation reaction is not particularly limited as long as the reaction proceeds sufficiently. More preferably 0.01 to 0.1 mol, still more preferably 0.025 to 0.05 mol
ヒドロホスホリル化反応の反応温度は、特に限定されないが、反応効率や反応速度、副生成物を考慮して、好ましくは50~120℃であり、より好ましくは50~80℃であり、さらに好ましくは50~60℃である。 The reaction temperature of the hydrophosphorylation reaction is not particularly limited, but is preferably 50 to 120° C., more preferably 50 to 80° C., still more preferably in consideration of reaction efficiency, reaction rate and by-products. 50-60°C.
ヒドロホスホリル化反応の反応時間は、特に限定されないが、反応効率や反応速度、副生成物を考慮して、好ましくは30分~40時間であり、より好ましくは1時間~24時間であり、さらに好ましくは4~18時間である。 The reaction time of the hydrophosphorylation reaction is not particularly limited, but is preferably 30 minutes to 40 hours, more preferably 1 hour to 24 hours, in consideration of reaction efficiency, reaction rate, and by-products. It is preferably 4 to 18 hours.
ヒドロホスホリル化反応は、有機溶媒下で行ってもよいし、無溶媒下で行ってもよい。ヒドロホスホリル化反応に用いる有機溶媒は、特に限定されないが、例えば、アルコール類、エーテル類、炭化水素、ケトン類、エステル類等が挙げられる。 The hydrophosphorylation reaction may be performed in the presence of an organic solvent or in the absence of solvent. The organic solvent used in the hydrophosphorylation reaction is not particularly limited, and examples thereof include alcohols, ethers, hydrocarbons, ketones, esters and the like.
ヒドロホスホリル化反応は、反応効率や反応速度、副生成物を考慮して、不活性ガス雰囲気下で実施することが好ましい。不活性ガスとしては、窒素、アルゴン等を用いることが好ましい。 The hydrophosphorylation reaction is preferably carried out under an inert gas atmosphere in consideration of reaction efficiency, reaction rate and by-products. Nitrogen, argon, or the like is preferably used as the inert gas.
(アルケニルリン化合物)
本発明においては、ヒドロホスホリル化反応により、下記一般式(4)で表されるアルケニルリン化合物を得ることができる。
In the present invention, an alkenyl phosphorus compound represented by the following general formula (4) can be obtained by hydrophosphorylation reaction.
(触媒回収工程)
本発明のアルケニルリン化合物の製造方法は、一般式(4)で表されるアルケニルリン化合物を製造した後、反応液から錯体化合物を回収する工程をさらに含むことができる。反応液から錯体化合物を回収する方法は、特に限定されず、デカンテーションや遠心分離、ろ過等の従来公知の方法を用いることができる。
(Catalyst recovery step)
The method for producing an alkenyl phosphorus compound of the present invention can further include a step of recovering the complex compound from the reaction solution after producing the alkenyl phosphorus compound represented by general formula (4). A method for recovering the complex compound from the reaction solution is not particularly limited, and conventionally known methods such as decantation, centrifugation, and filtration can be used.
(触媒再利用工程)
本発明のアルケニルリン化合物の製造方法は、上記で回収された錯体化合物を反応系内に添加し、触媒として再利用して、一般式(4)で表されるアルケニルリン化合物を製造する工程をさらに含むことができる。
(Catalyst reuse process)
The method for producing an alkenyl phosphorus compound of the present invention includes a step of adding the complex compound recovered above into the reaction system and reusing it as a catalyst to produce an alkenyl phosphorus compound represented by the general formula (4). can further include:
(触媒活性化工程)
本発明のアルケニルリン化合物の製造方法は、上記の触媒再利用工程の前に、回収された錯体化合物を活性化する工程をさらに含むことが好ましい。触媒活性化工程は、回収された錯体化合物と、錯体化合物の前駆体である遷移金属化合物とを、有機溶媒中で反応させることで、錯体化合物を触媒として再生することができる。触媒活性化工程の反応条件は、好ましくは0~100℃、より好ましくは20~60℃で、好ましくは60分~24時間、より好ましくは6~18時間加熱することが挙げられる。
(Catalyst activation step)
The method for producing an alkenyl phosphorus compound of the present invention preferably further includes a step of activating the recovered complex compound prior to the above catalyst recycling step. In the catalyst activation step, the recovered complex compound and a transition metal compound, which is a precursor of the complex compound, are allowed to react in an organic solvent, thereby regenerating the complex compound as a catalyst. The reaction conditions for the catalyst activation step include heating at preferably 0 to 100° C., more preferably 20 to 60° C., preferably 60 minutes to 24 hours, more preferably 6 to 18 hours.
触媒活性化工程で用いる錯体化合物の前駆体である遷移金属化合物としては、上述の錯体化合物の製造方法に用いる遷移金属化合物を挙げることができる。特に、錯体化合物の製造方法に用いる遷移金属化合物と触媒活性化工程で用いる遷移金属化合物とは同一であることが好ましい。例えば、錯体化合物の製造においてゼロ価ニッケル化合物を用いた場合、触媒活性化工程においてもゼロ価ニッケル化合物を用いることが好ましい。 Examples of the transition metal compound, which is the precursor of the complex compound used in the catalyst activation step, include the transition metal compound used in the method for producing the complex compound described above. In particular, the transition metal compound used in the method for producing the complex compound and the transition metal compound used in the catalyst activation step are preferably the same. For example, when a zero-valent nickel compound is used in the production of the complex compound, it is preferable to use the zero-valent nickel compound also in the catalyst activation step.
以下に実施例および比較例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。 EXAMPLES The present invention will be specifically described below with reference to Examples and Comparative Examples, but the present invention is not limited to these Examples.
<錯体化合物(触媒)の合成>
[合成例1]
窒素雰囲気下、反応容器中にテトラヒドロフラン(THF)40mLとトリフェニルホスフィン10.5gを加えよく攪拌した。続いて、反応容器中に金属ナトリウム分散体(ナトリウム含有量約25質量%、金属ナトリウム微粒子の平均粒子径:10μm、(株)神鋼環境ソリューション製、SD)7.36gを加えた後、25℃で18時間攪拌を行い、ナトリウムジフェニルホスフィド(Ph2P-Na)を得た。
<Synthesis of complex compound (catalyst)>
[Synthesis Example 1]
In a nitrogen atmosphere, 40 mL of tetrahydrofuran (THF) and 10.5 g of triphenylphosphine were added to the reactor and stirred well. Subsequently, 7.36 g of metallic sodium dispersion (sodium content: about 25% by mass, average particle size of metallic sodium fine particles: 10 µm, manufactured by Kobelco Eco-Solutions Co., Ltd., SD) was added to the reaction vessel, and then heated to 25°C. and stirred for 18 hours to obtain sodium diphenylphosphide (Ph 2 P—Na).
窒素雰囲気下、上記のナトリウムジフェニルホスフィニドを調整した反応容器中にメリフィールド樹脂(シグマアルドリッチジャパン合同会社製、4.4mmoL Cl/g、架橋剤:ジビニルベンゼン1mol%)9.8gを加え、60℃で15時間反応させた。反応後、2-プロパノール20mLを反応液に1時間かけて滴下した。この懸濁液から沈殿物を空気中に取り出し、THF20mLで3回、精製水20mLで3回、アセトン20mLで1回洗浄した。60℃で18時間減圧乾燥し、下記式で表される樹脂微粒子(I)を得た。
である。)
Under a nitrogen atmosphere, 9.8 g of Merrifield resin (manufactured by Sigma-Aldrich Japan LLC, 4.4 mmol Cl/g, cross-linking agent:
is. )
得られた樹脂微粒子(I)の表面のリン含量を、下記の有機ハライド吸着法により測定したところ、2.34mmol/gであった。
(有機ハライド吸着法による表面リン含量測定法)
樹脂微粒子100mgと5.5質量%ベンジルブロミドTHF溶液2.0mLをバイアルに量り取り、60℃で18時間攪拌した。上澄み液を抜き取り、GC-FIDを使用して、内部標準法(標準物質ジフェニルエーテル)で吸着されたベンジルブロミドの物質量を算出し、樹脂微粒子のリン含量を求めた。
The phosphorus content on the surface of the obtained resin fine particles (I) was measured by the following organic halide adsorption method and found to be 2.34 mmol/g.
(Method for measuring surface phosphorus content by organic halide adsorption method)
100 mg of resin fine particles and 2.0 mL of a 5.5% by mass benzyl bromide THF solution were weighed into a vial and stirred at 60° C. for 18 hours. The supernatant was removed, and the amount of adsorbed benzyl bromide was calculated by the internal standard method (standard substance diphenyl ether) using GC-FID to determine the phosphorus content of the fine resin particles.
得られた樹脂微粒子(I)を300メッシュのふるいに掛けて、通過したものを回収したところ、15.9gの淡黄色の樹脂微粒子を得た。 The resulting fine resin particles (I) were passed through a 300-mesh sieve and collected to obtain 15.9 g of pale yellow fine resin particles.
窒素雰囲気下、反応容器中で、得られた樹脂微粒子(I)0.21mmolと、ビス(1,5-シクロオクタジエン)ニッケル(0)0.05mmolとを、THF1.0mLの存在下で、25℃で6時間反応させた。沈殿物を回収しTHF1.0mLで3回洗浄し、錯体化合物(I)を得た。このとき、反応液の上澄み液に、ジメチルグリオキシムを100mg加えたところ、沈殿の生成はほとんど確認できなかった。一方、THFにビス(1,5-シクロオクタジエン)ニッケル(0)のみを溶解し、ジメチルグリオキシムを加えた場合には、大量の沈殿物が析出したため、ビス(1,5-シクロオクタジエン)ニッケル(0)は樹脂微粒子(I)と反応し、錯体を形成したと考えられる。 In a reaction vessel under a nitrogen atmosphere, 0.21 mmol of the obtained resin fine particles (I) and 0.05 mmol of bis(1,5-cyclooctadiene)nickel (0) were added in the presence of 1.0 mL of THF. It was made to react at 25 degreeC for 6 hours. The precipitate was collected and washed with 1.0 mL of THF three times to obtain complex compound (I). At this time, when 100 mg of dimethylglyoxime was added to the supernatant of the reaction solution, almost no precipitation was observed. On the other hand, when only bis(1,5-cyclooctadiene)nickel(0) was dissolved in THF and dimethylglyoxime was added, a large amount of precipitate was deposited, so bis(1,5-cyclooctadiene) ) Nickel (0) reacted with the fine resin particles (I) to form a complex.
得られた樹脂微粒子(I)をIRにより測定した。得られたIRスペクトルを図1に示す。IRスペクトルを確認したところ、原料のメリフィールド樹脂に含まれるC-Cl由来のピーク(波数:1295cm-1)が消失し、P-C由来のピーク(波数:694cm-1)の生成が確認できた。また、上記でNiと配位させてビニルリンの生成が確認できた。これらの結果から樹脂微粒子の表面にはリンの化学的な結合が形成されたと言える。 The obtained resin fine particles (I) were measured by IR. The IR spectrum obtained is shown in FIG. When the IR spectrum was confirmed, the C—Cl-derived peak (wavenumber: 1295 cm −1 ) contained in the raw material Merrifield resin disappeared, and the formation of the PC-derived peak (wavenumber: 694 cm −1 ) could be confirmed. rice field. In addition, it was confirmed that vinyl phosphorus was produced by coordination with Ni. From these results, it can be said that a chemical bond of phosphorus was formed on the surface of the resin fine particles.
[合成例2]
窒素雰囲気下、反応容器中にTHF132mLとトリフェニルホスフィン20.17gを加えよく攪拌した。続いて、反応容器中に金属ナトリウム分散体(ナトリウム含有量約25質量%、金属ナトリウム微粒子の平均粒子径:10μm、(株)神鋼環境ソリューション製、SD)25.4gを加えた後、25℃で18時間攪拌を行い、ナトリウムジフェニルホスフィド(Ph2P-Na)を得た。
[Synthesis Example 2]
In a nitrogen atmosphere, 132 mL of THF and 20.17 g of triphenylphosphine were added to the reactor and stirred well. Subsequently, 25.4 g of a metallic sodium dispersion (sodium content: about 25% by mass, average particle size of metallic sodium fine particles: 10 µm, manufactured by Kobelco Eco-Solutions Co., Ltd., SD) was added to the reaction vessel, and the temperature was kept at 25°C. and stirred for 18 hours to obtain sodium diphenylphosphide (Ph 2 P—Na).
次に、反応容器中にメリフィールド樹脂(シグマアルドリッチジャパン合同会社製、5.5mmol Cl/g、架橋剤:ジビニルベンゼン5mol%、粒径16-50mesh)9.76gを加え、25℃で20時間反応させた後、2-プロパノール20mLを一時間かけて滴下し、沈殿物を空気中に取り出した。この沈殿物をTHF60mLで3回、水60mLで3回、アセトン30mLで1回洗浄した。これを60℃で18時間減圧乾燥し、下記式で表される樹脂微粒子(II)を得た。得られた樹脂微粒子(II)の表面のリン含量を、実施例1と同様にして測定したところ、2.96mmol/gであった。
反応容器中で、得られた樹脂微粒子(II)0.21mmolと、ビス(1,5-シクロオクタジエン)ニッケル(0)0.05mmolとを、THF1.0mLの存在下で、25℃で6時間反応させた。沈殿物を回収し、THF1.0mLで3回洗浄し、錯体化合物(II)を得た。 In a reaction vessel, 0.21 mmol of the obtained resin fine particles (II) and 0.05 mmol of bis(1,5-cyclooctadiene)nickel (0) were mixed at 25° C. for 6 hours in the presence of 1.0 mL of THF. reacted over time. The precipitate was collected and washed with 1.0 mL of THF three times to obtain complex compound (II).
得られた樹脂微粒子(II)をIRにより測定した。得られたIRスペクトルを図2に示す。IRスペクトルを確認したところ、原料のメリフィールド樹脂に含まれるC-Cl由来のピーク(波数:1285cm-1)が消失し、P-C由来のピーク(波数:694cm-1)の生成が確認できた。また、上記でNiと配位させてビニルリンの生成が確認できた。これらの結果から樹脂微粒子の表面にはリンの化学的な結合が形成されたと言える。 The resulting fine resin particles (II) were measured by IR. The IR spectrum obtained is shown in FIG. When the IR spectrum was confirmed, the C—Cl-derived peak (wavenumber: 1285 cm −1 ) contained in the raw material Merrifield resin disappeared, and the formation of the PC-derived peak (wavenumber: 694 cm −1 ) could be confirmed. rice field. In addition, it was confirmed that vinyl phosphorus was produced by coordination with Ni. From these results, it can be said that a chemical bond of phosphorus was formed on the surface of the resin fine particles.
[合成例3]
アルゴンガス雰囲気下、反応容器中にTHF30mL、メチルジフェニルホスフィン5.0gを加えた。次いで、金属ナトリウム分散体(ナトリウム含有量約25質量%、金属ナトリウム微粒子の平均粒子径:10μm、(株)神鋼環境ソリューション製、SD)を4.8g加えた後、0℃で18時間反応させて、ナトリウムメチルフェニルホスフィド(MePhP-Na)を得た。31P NMRで確認したところ収率70.0%であった。
[Synthesis Example 3]
In an argon gas atmosphere, 30 mL of THF and 5.0 g of methyldiphenylphosphine were added to the reactor. Next, after adding 4.8 g of a metallic sodium dispersion (sodium content: about 25% by mass, average particle size of metallic sodium fine particles: 10 μm, manufactured by Kobelco Eco-Solutions Co., Ltd., SD), the mixture was reacted at 0° C. for 18 hours. to obtain sodium methylphenyl phosphide (MePhP-Na). The yield was 70.0% as confirmed by 31 P NMR.
調整したナトリウムメチルフェニルホスフィドにメリフィールド樹脂(シグマアルドリッチジャパン合同会社製、5.5mmol Cl/g、架橋剤:ジビニルベンゼン5mol%、粒径16-50mesh)3.81gを加え、60℃で23時間反応させた。上澄み液を抜き取り、2-プロパノール20mLを一時間かけて滴下した。上澄み液をデカントし、THF20mLで3回、イオン交換水20mLで3回、アセトン20mLで洗浄した後、60℃で18時間減圧乾燥し、下記式で表される樹脂微粒子(III)を得た。得られた樹脂微粒子(III)の表面のリン含量を、実施例1と同様にして測定したところ、3.85mmol/gであった。
反応容器中で、得られた樹脂微粒子(III)0.21mmolと、ビス(1,5-シクロオクタジエン)ニッケル(0)0.05mmolとを、THFの存在下で、25℃で4時間反応させて、錯体化合物(III)を得た。
3.81 g of Merrifield resin (manufactured by Sigma-Aldrich Japan G.K., 5.5 mmol Cl/g, cross-linking agent: divinylbenzene 5 mol%, particle size 16-50 mesh) was added to the prepared sodium methylphenyl phosphide, and the mixture was heated at 60°C for 23 hours. reacted over time. The supernatant liquid was removed, and 20 mL of 2-propanol was added dropwise over 1 hour. The supernatant was decanted, washed three times with 20 mL of THF, three times with 20 mL of deionized water, and 20 mL of acetone, and dried under reduced pressure at 60° C. for 18 hours to obtain resin fine particles (III) represented by the following formula. When the phosphorus content on the surface of the obtained resin fine particles (III) was measured in the same manner as in Example 1, it was 3.85 mmol/g.
In a reaction vessel, 0.21 mmol of the obtained resin fine particles (III) and 0.05 mmol of bis(1,5-cyclooctadiene)nickel (0) were reacted at 25° C. for 4 hours in the presence of THF. to obtain a complex compound (III).
得られた樹脂微粒子(III)をIRにより測定した。得られたIRスペクトルを図3に示す。IRスペクトルを確認したところ、原料のメリフィールド樹脂に含まれるC-Cl由来のピーク(波数:1295cm-1)が消失し、P-C由来のピーク(波数:694cm-1)の生成が確認できた。また、上記でNiと配位させてビニルリンの生成が確認できた。これらの結果から樹脂微粒子の表面にはリンの化学的な結合が形成されたと言える。 The obtained resin fine particles (III) were measured by IR. The obtained IR spectrum is shown in FIG. When the IR spectrum was confirmed, the C—Cl-derived peak (wavenumber: 1295 cm −1 ) contained in the raw material Merrifield resin disappeared, and the formation of the PC-derived peak (wavenumber: 694 cm −1 ) could be confirmed. rice field. In addition, it was confirmed that vinyl phosphorus was produced by coordination with Ni. From these results, it can be said that a chemical bond of phosphorus was formed on the surface of the resin fine particles.
[合成例4]
窒素雰囲気下、反応容器中にメリフィールド樹脂(シグマアルドリッチジャパン合同会社製、5.5mmol Cl/g、架橋剤:ジビニルベンゼン5mol%、粒径16-50mesh)20gと、亜リン酸トリエチル((EtO)3P)50mLとを加え、130℃で20時間加熱攪拌を行った。室温まで放冷した反応液から沈殿物を回収しアセトン20mLで5回、水20mLで3回、アセトン20mLで3回洗浄し淡黄色の樹脂微粒子25.08gを得た。続いて、得られた樹脂1.0gと、水素化アルミニウムリチウム(1mol/LTHF溶液)8.46mLを25℃で二日間反応させた。反応液にメタノール2mLをゆっくり加えた後、上澄み液をデカントし、10質量%水酸化ナトリウム水溶液5mLで6回、水5mLで5回洗浄し、60℃で18時間減圧乾燥することで、下記式で表される樹脂微粒子(IV)を得た。得られた樹脂微粒子(IV)の表面のリン含量は、理論値で4.80mmol/gであった。
Under a nitrogen atmosphere, 20 g of Merrifield resin (manufactured by Sigma-Aldrich Japan LLC, 5.5 mmol Cl/g, cross-linking agent: divinylbenzene 5 mol%, particle size 16-50 mesh) and triethyl phosphite ((EtO ) 3 P) (50 mL) was added, and the mixture was heated and stirred at 130° C. for 20 hours. The precipitate was recovered from the reaction solution which was allowed to cool to room temperature, and washed with 20 mL of acetone 5 times, 20 mL of water 3 times, and 20 mL of acetone 3 times to obtain 25.08 g of pale yellow resin microparticles. Subsequently, 1.0 g of the obtained resin and 8.46 mL of lithium aluminum hydride (1 mol/LTHF solution) were reacted at 25° C. for two days. After slowly adding 2 mL of methanol to the reaction solution, the supernatant was decanted, washed 6 times with 5 mL of 10% by mass sodium hydroxide aqueous solution and 5 times with 5 mL of water, and dried under reduced pressure at 60 ° C. for 18 hours. Resin fine particles (IV) represented by were obtained. The theoretical phosphorus content on the surface of the obtained resin fine particles (IV) was 4.80 mmol/g.
反応容器中で、得られた樹脂微粒子(IV)2.8mmolと、ビス(1,5-シクロオクタジエン)ニッケル(0)0.7mmolとを、THF2mLの存在下で、25℃で18時間反応させ沈殿物を回収、THF1.0mLで三回洗浄し、錯体化合物(IV)を得た。 In a reaction vessel, 2.8 mmol of the obtained resin fine particles (IV) and 0.7 mmol of bis(1,5-cyclooctadiene)nickel(0) were reacted at 25° C. for 18 hours in the presence of 2 mL of THF. The precipitate was recovered and washed with 1.0 mL of THF three times to obtain the complex compound (IV).
得られた樹脂微粒子(IV)100mgを5%過酸化水素水5.0mLで処理し、IRにより測定した。得られたIRスペクトルを図4に示す。IRスペクトルを確認したところ、原料のメリフィールド樹脂に含まれるC-Cl由来のピーク(波数:1295cm-1)が消失し、P-C由来のピーク(波数:703cm-1)およびP(O)-OH由来のピーク(波数:1025cm-1)の生成が確認できた。また、上記でNiと配位させてビニルリンの生成が確認できた。これらの結果から樹脂微粒子の表面にはリンとニッケルの配位が形成されたと言える。 100 mg of the obtained resin microparticles (IV) was treated with 5.0 mL of 5% hydrogen peroxide solution and measured by IR. The IR spectrum obtained is shown in FIG. When the IR spectrum was confirmed, the C—Cl-derived peak (wavenumber: 1295 cm −1 ) contained in the raw material Merrifield resin disappeared, and the PC-derived peak (wavenumber: 703 cm −1 ) and P(O) Generation of a peak derived from —OH (wave number: 1025 cm −1 ) was confirmed. In addition, it was confirmed that vinyl phosphorus was produced by coordination with Ni. From these results, it can be said that coordination of phosphorus and nickel was formed on the surface of the fine resin particles.
[合成例5]
反応容器中で、トリメチルホスフィン(ALDRICH製、1.0mol/L THF溶液)1mLと、ビス(1,5-シクロオクタジエン)ニッケル(0)68.75mgとを、0℃で1時間反応させた。このTHF溶液を減圧下で溶媒を留去することで錯体化合物(V)を得た。
[Synthesis Example 5]
In a reaction vessel, 1 mL of trimethylphosphine (manufactured by ALDRICH, 1.0 mol/L THF solution) and 68.75 mg of bis(1,5-cyclooctadiene)nickel(0) were reacted at 0° C. for 1 hour. . The complex compound (V) was obtained by distilling off the solvent from this THF solution under reduced pressure.
[合成例6]
反応容器に4-Diphenylphosphinomethyl Polystyrene Resin cross-linked with 2% DVB(200-400mesh) (0.5-1.0mmol/g)(カタログ番号D2766、東京化成(株)製)200mgとビス(1,5-シクロオクタジエン)ニッケル(0)13.8mgをはかりとりTHF1mLを加え25℃で18時間攪拌した。上澄み液をデカントし、沈殿物をTHF0.5mLで3回洗浄することで錯体化合物(VI)を得た。
[Synthesis Example 6]
200 mg of 4-Diphenylphosphine Polystyrene Resin cross-linked with 2% DVB (200-400 mesh) (0.5-1.0 mmol/g) (catalog number D2766, manufactured by Tokyo Kasei Co., Ltd.) and bis(1,5 -Cyclooctadiene)nickel(0) (13.8 mg) was weighed out, 1 mL of THF was added, and the mixture was stirred at 25°C for 18 hours. The supernatant was decanted, and the precipitate was washed with 0.5 mL of THF three times to obtain complex compound (VI).
<アルケニルリン化合物の合成>
[実施例1]
反応容器中に出発物質としてリン化合物((MeO)2P(O)H)300mmolを量り取り、錯体化合物(I)を1.5mmol添加した。反応装置にアセチレンバルーンを取り付け、60℃で4時間反応させて、アルケニルリン化合物((MeO)2P(O)CH=CH2)を得た。GC-FIDを用いて内部標準法(標準物質ジフェニルエーテル)によりアルケニルリン化合物の生成量を測定した結果、Ni1mmol当たりのアルケニルリン化合物の生成量は、1.46gであった。
<Synthesis of Alkenyl Phosphorus Compound>
[Example 1]
300 mmol of a phosphorus compound ((MeO) 2 P(O)H) as a starting material was weighed into a reaction vessel, and 1.5 mmol of complex compound (I) was added. An acetylene balloon was attached to the reactor, and the mixture was reacted at 60° C. for 4 hours to obtain an alkenylphosphorus compound ((MeO) 2 P(O)CH═CH 2 ). As a result of measuring the amount of alkenyl phosphorus compound produced by the internal standard method (standard substance diphenyl ether) using GC-FID, the amount of alkenyl phosphorus compound produced per 1 mmol of Ni was 1.46 g.
[実施例2]
触媒として上記で合成した錯体化合物(II)1.5mmolを用いた以外は、実施例1と同様にして、アルケニルリン化合物((MeO)2P(O)CH=CH2)を得た。Ni1mmol当たりのアルケニルリン化合物の生成量は、2.11gであった。
[Example 2]
An alkenyl phosphorus compound ((MeO) 2 P(O)CH=CH 2 ) was obtained in the same manner as in Example 1, except that 1.5 mmol of the complex compound (II) synthesized above was used as a catalyst. The amount of alkenyl phosphorus compound produced per 1 mmol of Ni was 2.11 g.
[実施例3]
反応温度を80℃に変更した以外は、実施例2と同様にして、アルケニルリン化合物((MeO)2P(O)CH=CH2)を得た。Ni1mmol当たりのアルケニルリン化合物の生成量は、4.57gであった。
[Example 3]
An alkenyl phosphorus compound ((MeO) 2 P(O)CH=CH 2 ) was obtained in the same manner as in Example 2, except that the reaction temperature was changed to 80°C. The amount of alkenyl phosphorus compound produced per 1 mmol of Ni was 4.57 g.
[実施例4]
触媒として上記で合成した錯体化合物(III)1.5mmolを用いた以外は、実施例1と同様にして、アルケニルリン化合物((MeO)2P(O)CH=CH2)を得た。Ni1mmol当たりのアルケニルリン化合物の生成量は、3.48gであった。
[Example 4]
An alkenyl phosphorus compound ((MeO) 2 P(O)CH=CH 2 ) was obtained in the same manner as in Example 1, except that 1.5 mmol of the complex compound (III) synthesized above was used as a catalyst. The amount of alkenyl phosphorus compound produced per 1 mmol of Ni was 3.48 g.
[実施例5]
触媒として上記で合成した錯体化合物(IV)1.5mmolを用いた以外は、実施例1と同様にして、アルケニルリン化合物((MeO)2P(O)CH=CH2)を得た。Ni1mmol当たりのアルケニルリン化合物の生成量は、2.81gであった。
[Example 5]
An alkenyl phosphorus compound ((MeO) 2 P(O)CH=CH 2 ) was obtained in the same manner as in Example 1, except that 1.5 mmol of the complex compound (IV) synthesized above was used as a catalyst. The amount of alkenyl phosphorus compound produced per 1 mmol of Ni was 2.81 g.
[比較例1]
触媒として上記で合成した錯体化合物(V)1.5mmolを用いた以外は、実施例1と同様にして、アルケニルリン化合物((MeO)2P(O)CH=CH2)を得た。Ni1mmol当たりのアルケニルリン化合物の生成量は、0.08gであった。
[Comparative Example 1]
An alkenyl phosphorus compound ((MeO) 2 P(O)CH=CH 2 ) was obtained in the same manner as in Example 1, except that 1.5 mmol of the complex compound (V) synthesized above was used as a catalyst. The amount of alkenyl phosphorus compound produced per 1 mmol of Ni was 0.08 g.
上記の実施例1~5および比較例1の結果の一覧を表1に示した。
[実施例6]
リン化合物((MeO)2P(O)H)1mmol、アルキニル化合物(1-オクチン)1mmol、THF1mLをガラス製シュレンクに量り取り、錯体化合物(I)0.05mmolを加えた。60℃で3時間加熱攪拌を行い、アルケニルリン化合物(30%:(MeO)2P(O)CH=CC6H13、70%:(MeO)2P(O)C(C6H13)=CH2の混合物)を得た。Ni1mmolあたりのアルケニルリン化合物生成量は4.40gであった。
[Example 6]
1 mmol of the phosphorus compound ((MeO) 2 P(O)H), 1 mmol of the alkynyl compound (1-octyne) and 1 mL of THF were weighed into a glass Schlenk, and 0.05 mmol of the complex compound (I) was added. Heated and stirred at 60° C. for 3 hours to obtain an alkenyl phosphorus compound (30%: (MeO) 2 P(O)CH═CC 6 H 13 , 70%: (MeO) 2 P(O)C(C 6 H 13 ). = mixture of CH2 ) was obtained. The amount of alkenyl phosphorus compound produced per 1 mmol of Ni was 4.40 g.
[実施例7]
出発物質のアルキニル化合物としてフェニルアセチレンを用いた以外は、実施例6と同様にして、アルケニルリン化合物(64%:(MeO)2P(O)CH=CH-Ph、36%:(MeO)2P(O)CH(Ph)=CH2の混合物)を得た。Ni1mmol当たりのアルケニルリン化合物の生成量は、1.27gであった。
[Example 7]
An alkenyl phosphorus compound (64%: (MeO) 2 P(O)CH=CH—Ph, 36%: (MeO) 2 A mixture of P(O)CH(Ph)= CH2 ) was obtained. The amount of alkenyl phosphorus compound produced per 1 mmol of Ni was 1.27 g.
[実施例8]
出発物質のアルキニル化合物として2-メチル-3-ブチン-2-オールを用いた以外は、実施例6と同様にして、
アルケニルリン化合物(37%:(MeO)2P(O)CH=CH-C(CH3)2OH、63%:(MeO)2P(O)C(C(CH3)2OH)=CH2の混合物)を得た。Ni1mmol当たりのアルケニルリン化合物の生成量は、1.67gであった。
[Example 8]
In the same manner as in Example 6, except that 2-methyl-3-butyn-2-ol was used as the starting alkynyl compound.
Alkenyl Phosphorus Compounds (37%: (MeO) 2 P(O)CH=CH—C(CH 3 ) 2 OH, 63%: (MeO) 2 P(O)C(C(CH 3 ) 2 OH)=CH 2 ) was obtained. The amount of alkenyl phosphorus compound produced per 1 mmol of Ni was 1.67 g.
[実施例9]
出発物質のリン化合物として(CF3CH2O)2P(O)Hを用いた以外は、実施例6と同様にして、アルケニルリン化合物(11%:(CF3CH2O)2P(O)CH=CH-C6H13、89%:(CF3CH2O)2P(O)C(C6H13)=CH2の混合物)を得た。Ni1mmol当たりのアルケニルリン化合物の生成量は、4.06gであった。
[Example 9]
An alkenyl phosphorus compound ( 11% : ( CF3CH2O ) 2P ( O) CH=CH—C 6 H 13 , 89%: (CF 3 CH 2 O) 2 P(O)C(C 6 H 13 )=CH 2 mixture) was obtained. The amount of alkenyl phosphorus compound produced per 1 mmol of Ni was 4.06 g.
[比較例2]
錯体化合物(I)の代わりに、錯体化合物(VI)を用いた以外は実施例6と同様の条件で反応を行ったが、生成物を得ることが出来ず、1-オクチンのオリゴマーのみが得られた。
[Comparative Example 2]
The reaction was carried out under the same conditions as in Example 6, except that complex compound (VI) was used instead of complex compound (I), but no product was obtained, and only 1-octyne oligomers were obtained. was taken.
上記の実施例6~9の結果の一覧を表2に示した。
[実施例10]
反応容器中で、出発物質としてリン化合物((MeO)2P(O)H)1mmolと、1-オクチン1mmolとを、触媒として上記で合成した錯体化合物(I)0.05mmolの存在下で、60℃で3時間反応させて、アルケニルリン化合物(30%:(MeO)2P(O)CH=CH-C6H13、70%:(MeO)2P(O)C(C6H13)=CH2)を得た。リン化合物からアルケニルリン化合物への転化率は100%であった。合成終了後、反応液をデカント、THF0.5mLで3回洗浄し、合成に使用した錯体化合物(I-1)を回収した。
[Example 10]
In a reaction vessel, 1 mmol of a phosphorus compound ((MeO) 2 P(O)H) and 1 mmol of 1-octyne as starting materials were mixed in the presence of 0.05 mmol of the complex compound (I) synthesized above as a catalyst. Reaction at 60° C. for 3 hours yields alkenyl phosphorus compounds (30%: (MeO) 2 P(O)CH═CH—C 6 H 13 , 70%: (MeO) 2 P(O)C(C 6 H 13 )=CH 2 ). The conversion rate from the phosphorus compound to the alkenyl phosphorus compound was 100%. After completion of the synthesis, the reaction solution was decanted and washed with 0.5 mL of THF three times to recover the complex compound (I-1) used in the synthesis.
[実施例11]
反応容器中で、出発物質としてリン化合物((MeO)2P(O)H)1mmolと、1-オクチン1mmolとを、上記で回収した錯体化合物(I-1)全量の存在下で、60℃で7時間反応させて、アルケニルリン化合物(64%:(MeO)2P(O)CH=CH-C6H13、34%:(MeO)2P(O)C(C6H13)=CH2)を得た。リン化合物からアルケニルリン化合物への転化率は100%であった。合成終了後、反応液をデカント、THF0.5mLで3回洗浄し、合成に2回使用した錯体化合物(I-2)を回収した。
[Example 11]
In a reaction vessel, 1 mmol of a phosphorus compound ((MeO) 2 P(O)H) as starting materials and 1 mmol of 1-octyne were added at 60° C. in the presence of the entire amount of the complex compound (I-1) recovered above. for 7 hours to give alkenyl phosphorus compounds (64%: (MeO) 2 P(O)CH=CH—C 6 H 13 , 34%: (MeO) 2 P(O)C(C 6 H 13 )= CH2 ). The conversion rate from the phosphorus compound to the alkenyl phosphorus compound was 100%. After completion of the synthesis, the reaction solution was decanted and washed with 0.5 mL of THF three times to recover the complex compound (I-2) used twice in the synthesis.
[実施例12]
反応容器中で、出発物質としてリン化合物((MeO)2P(O)H)1mmolと、1-オクチン1mmolとを、上記で回収した錯体化合物(I-2)全量使用し、60℃で18時間反応させて、アルケニルリン化合物(64%:(MeO)2P(O)CH=CH-C6H13、34%:(MeO)2P(O)C(C6H13)=CH2)を得た。リン化合物からアルケニルリン化合物への転化率は100%であった。合成終了後、反応液をデカント、THF0.5mLで3回洗浄し、合成に3回使用した錯体化合物(I-3)を回収した。
[Example 12]
In a reaction vessel, 1 mmol of a phosphorus compound ((MeO) 2 P(O)H) and 1 mmol of 1-octyne were used as starting materials, and the entire amount of the complex compound (I-2) recovered above was used. After reacting for hours, alkenyl phosphorus compounds (64%: (MeO) 2 P(O)CH=CH—C 6 H 13 , 34%: (MeO) 2 P(O)C(C 6 H 13 )=CH 2 ). The conversion rate from the phosphorus compound to the alkenyl phosphorus compound was 100%. After completion of the synthesis, the reaction solution was decanted and washed with 0.5 mL of THF three times to recover the complex compound (I-3) used three times in the synthesis.
[実施例13]
反応容器中で、出発物質としてリン化合物((MeO)2P(O)H)1mmolと、1-オクチン1mmolとを、上記で回収した錯体化合物(I-3)全量使用し、60℃で18時間反応させて、アルケニルリン化合物(64%:(MeO)2P(O)CH=CH-C6H13、34%:(MeO)2P(O)C(C6H13)=CH2)を得た。リン化合物からアルケニルリン化合物への転化率は67%であった。合成終了後、反応液をデカント、THF0.5mLで3回洗浄し、合成に4回使用した錯体化合物(I-4)を回収した。
[Example 13]
In a reaction vessel, 1 mmol of a phosphorus compound ((MeO) 2 P(O)H) and 1 mmol of 1-octyne were used as starting materials, and the entire amount of the complex compound (I-3) recovered above was used. After reacting for hours, alkenyl phosphorus compounds (64%: (MeO) 2 P(O)CH=CH—C 6 H 13 , 34%: (MeO) 2 P(O)C(C 6 H 13 )=CH 2 ). The conversion rate from the phosphorus compound to the alkenyl phosphorus compound was 67%. After completion of the synthesis, the reaction solution was decanted and washed with 0.5 mL of THF three times to recover the complex compound (I-4) used four times in the synthesis.
[実施例14]
反応容器中で、出発物質としてリン化合物((MeO)2P(O)H)1mmolと、1-オクチン1mmolとを、上記で回収した錯体化合物(I-4)全量使用し、60℃で18時間反応させたが、アルケニルリン化合物は得られなかった。合成終了後、合成に5回使用した錯体化合物(I-5)を回収した。
[Example 14]
In a reaction vessel, 1 mmol of a phosphorus compound ((MeO) 2 P(O)H) and 1 mmol of 1-octyne were used as starting materials, and the entire amount of the complex compound (I-4) recovered above was used. The alkenylphosphorus compound was not obtained even though it was reacted for hours. After completion of the synthesis, the complex compound (I-5) used five times in the synthesis was recovered.
次に、上記で回収した錯体化合物(I-5)と、ビス(1,5-シクロオクタジエン)ニッケル(0)0.07mmolとを、THF1mLの存在下で、25℃で18時間反応させて、触媒として錯体化合物(I-5)を再生した。 Next, the complex compound (I-5) recovered above and 0.07 mmol of bis(1,5-cyclooctadiene)nickel(0) were reacted at 25° C. for 18 hours in the presence of 1 mL of THF. , the complex compound (I-5) was regenerated as a catalyst.
続いて、反応容器中で、出発物質としてリン化合物((MeO)2P(O)H)1mmolと、1-オクチン1mmolとを、上記で再生した錯体化合物(I-5)全量の存在下で、60℃で3時間反応させて、アルケニルリン化合物(30%:(MeO)2P(O)CH=CH-C6H13、70%:(MeO)2P(O)C(C6H13)=CH2)を得た。リン化合物からアルケニルリン化合物への転化率は100%であった。合成終了後、反応液をデカント、THF0.5mLで3回洗浄し、合成に6回使用した錯体化合物(I-6)を回収した。 Subsequently, in a reaction vessel, 1 mmol of a phosphorus compound ((MeO) 2 P(O)H) as starting materials and 1 mmol of 1-octyne were added in the presence of the entire amount of the complex compound (I-5) regenerated above. , at 60° C. for 3 hours to give alkenyl phosphorus compounds (30%: (MeO) 2 P(O)CH═CH—C 6 H 13 , 70%: (MeO) 2 P(O)C(C 6 H 13 )=CH 2 ). The conversion rate from the phosphorus compound to the alkenyl phosphorus compound was 100%. After completion of the synthesis, the reaction solution was decanted and washed with 0.5 mL of THF three times to recover the complex compound (I-6) used six times in the synthesis.
[実施例15]
反応容器中で、出発物質としてリン化合物((MeO)2P(O)H)1mmolと、1-オクチン1mmolとを、上記で再生した錯体化合物(I-6)全量の存在下で、60℃で7時間反応させて、アルケニルリン化合物(64%:(MeO)2P(O)CH=CH-C6H13、34%:(MeO)2P(O)C(C6H13)=CH2)を得た。リン化合物からアルケニルリン化合物への転化率は100%であった。
[Example 15]
In a reaction vessel, 1 mmol of a phosphorus compound ((MeO) 2 P(O)H) as starting materials and 1 mmol of 1-octyne were added at 60° C. in the presence of the entire amount of the complex compound (I-6) regenerated above. for 7 hours to give alkenyl phosphorus compounds (64%: (MeO) 2 P(O)CH=CH—C 6 H 13 , 34%: (MeO) 2 P(O)C(C 6 H 13 )= CH2 ). The conversion rate from the phosphorus compound to the alkenyl phosphorus compound was 100%.
Claims (12)
(一般式(1)中、R1およびR2は、それぞれ独立して、炭素数が1~10の置換もしくは非置換のアルコキシ基を示す。)
で表されるリン化合物と、
下記一般式(2):
(一般式(2)中、R3およびR4は、それぞれ独立して、炭素数が1~10の、置換もしくは非置換のアルキル基、置換もしくは非置換のアラルキル基、置換もしくは非置換のアリール基を示す。)
で表されるアルキニル化合物とを、下記一般式(3):
(一般式(3)中、R5は、炭素数が6~12の置換もしくは非置換の炭化水素基を表し、R6は、炭素数が1~8の置換もしくは非置換のアルキル基または置換もしくは非置換の炭素数が5~12のアリール基を示し、R7およびR8は、それぞれ独立して、炭素数が1~8の置換もしくは非置換のアルキル基、または炭素数が5~12の置換もしくは非置換のアリール基を示し、nおよびmの値の合計100%に対して、nの値は20~100%の範囲内であり、mの値は0~80%の範囲内であり、*で樹脂微粒子表面と結合している。)
で表され、樹脂微粒子表面のリン含量が1.0mmol/g以上である樹脂微粒子と、遷移金属との錯体化合物の存在下で反応させて、
下記一般式(4):
(一般式(4)中、R1およびR2は、一般式(1)中のR1およびR2と同義であり、R3およびR4は、一般式(2)中のR3およびR4と同義である。)
で表されるアルケニルリン化合物を製造する方法。 The following general formula (1):
(In general formula (1), R 1 and R 2 each independently represent a substituted or unsubstituted alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms .)
A phosphorus compound represented by
The following general formula (2):
(In general formula (2), R 3 and R 4 are each independently a substituted or unsubstituted alkyl group , a substituted or unsubstituted aralkyl group, or a substituted or unsubstituted indicates an aryl group .)
and an alkynyl compound represented by the following general formula (3):
(In general formula (3), R 5 represents a substituted or unsubstituted hydrocarbon group having 6 to 12 carbon atoms, and R 6 represents a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 8 carbon atoms or a substituted or an unsubstituted aryl group having 5 to 12 carbon atoms, and each of R 7 and R 8 independently represents a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 8 carbon atoms , or an alkyl group having 5 to 12 carbon atoms. represents a substituted or unsubstituted aryl group, wherein the value of n is in the range of 20 to 100% and the value of m is in the range of 0 to 80%, relative to the total 100% of the values of n and m. There is, and * is connected to the surface of the resin fine particles.)
and reacting in the presence of a complex compound of a resin fine particle having a phosphorus content of 1.0 mmol/g or more on the surface of the resin fine particle and a transition metal,
The following general formula (4):
(In general formula (4), R 1 and R 2 are synonymous with R 1 and R 2 in general formula (1), R 3 and R 4 are R 3 and R in general formula (2) 4 is synonymous.)
A method for producing an alkenyl phosphorus compound represented by
回収された錯体化合物を再利用して、一般式(4)で表されるアルケニルリン化合物を製造する工程をさらに含む、請求項1~8のいずれか一項に記載の製造方法。 After producing the alkenyl phosphorus compound represented by the general formula (4), a step of recovering the complex compound from the reaction solution;
The production method according to any one of claims 1 to 8, further comprising a step of producing the alkenylphosphorus compound represented by the general formula (4) by reusing the recovered complex compound.
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