JP7281224B2 - Sealant for liquid crystal drop method - Google Patents

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Description

本発明は、液晶滴下工法用シール剤に関する。 TECHNICAL FIELD The present invention relates to a sealant for a liquid crystal dropping method.

液晶表示素子の製造方法において、滴下工法は真空下でシール剤の閉ループ内に液晶を直接滴下、貼り合わせ、真空開放を行うことでパネルを作製することができる工法である。この滴下工法では、液晶の使用量の低減、液晶のパネルへの注入時間の短縮等のメリットが数多くあり、現在の大型基板を使った液晶パネルの製造方法として主流となっている。滴下工法を含む方法では、シール剤・液晶を塗布して、貼り合わせた後、ギャップだし、位置あわせを行い、シール剤の硬化を主に紫外線硬化により行っている。 In the manufacturing method of the liquid crystal display element, the dropping method is a method in which a panel can be manufactured by directly dropping the liquid crystal in the closed loop of the sealant under vacuum, bonding them together, and releasing the vacuum. This dripping method has many advantages such as a reduction in the amount of liquid crystal used and a shortened injection time of the liquid crystal into the panel, and is currently the mainstream method for manufacturing liquid crystal panels using large substrates. In the method including the dropping method, the sealant and the liquid crystal are applied, and after bonding, the gap is formed, the alignment is performed, and the sealant is cured mainly by ultraviolet curing.

特許文献1には、液晶滴下工法用シール剤の原料として、フェノール性水酸基を1以上有するフェノール化合物に、アルキレンカーボネート又はハロアルコール化合物を付加させ、さらにグリシジルエーテル化させたエポキシ樹脂、及びこのエポキシ樹脂を、カルボン酸、カルボン酸無水物又はフェノール化合物で変性した変性エポキシ樹脂が提案されている(特許文献1)。 Patent Document 1 describes an epoxy resin obtained by adding an alkylene carbonate or a haloalcohol compound to a phenolic compound having one or more phenolic hydroxyl groups and further glycidyl etherifying the epoxy resin as a raw material for a sealant for a liquid crystal dropping method, and this epoxy resin. is modified with a carboxylic acid, a carboxylic acid anhydride, or a phenol compound (Patent Document 1).

特開2017-002246号公報JP 2017-002246 A

近年、液晶パネルの狭額縁化に伴い、シール剤と配向膜がオーバーラップする傾向にある。これにより、配向膜に対する接着性が求められている。また、同時にシール剤の線幅が狭くなる傾向にある。これにより、低透湿性が求められている。 In recent years, as the frame of liquid crystal panels has become narrower, there has been a tendency for the sealant and the alignment film to overlap. Accordingly, adhesiveness to the alignment film is required. At the same time, the line width of the sealant tends to be narrowed. Therefore, low moisture permeability is required.

よって、本発明は、配向膜に対する接着性に優れ、低透湿性に優れる硬化物を与える、液晶滴下工法用シール剤を提供することを課題とする。 Accordingly, an object of the present invention is to provide a sealant for a liquid crystal dropping method, which has excellent adhesiveness to an alignment film and gives a cured product having excellent low moisture permeability.

本発明は以下の構成を有する。
[1]硬化性樹脂、光開始剤及び熱硬化剤を含む、液晶滴下工法用シール剤であって、
硬化性樹脂が、オリゴマーA及びオリゴマーBを含み、
オリゴマーAが、エポキシ当量が200g/epo以上であり、かつ、芳香環量が0.43以上であるエポキシ樹脂を部分(メタ)アクリル変性した化合物であり、
オリゴマーBが、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールAD型エポキシ樹脂、ビスフェノールA型エポキシ樹脂を部分(メタ)アクリル変性した化合物、ビスフェノールF型エポキシ樹脂を部分(メタ)アクリル変性した化合物及びビスフェノールAD型エポキシ樹脂を部分(メタ)アクリル変性した化合物からなる群から選択される1種以上である、液晶滴下工法用シール剤。
[2]オリゴマーAが、1分子中にベンゼン環を3つ以上有する、[1]の液晶滴下工法用シール剤。
[3]オリゴマーAが、ビスフェノールF型の構造を有する、[1]又は[2]の液晶滴下工法用シール剤。
[4]オリゴマーBが、ビスフェノールF型エポキシ樹脂又はビスフェノールF型エポキシ樹脂の部分(メタ)アクリル変性した化合物である、[1]~[3]のいずれかの液晶滴下工法用シール剤。
The present invention has the following configurations.
[1] A sealant for a liquid crystal dropping method containing a curable resin, a photoinitiator and a thermosetting agent,
the curable resin comprises an oligomer A and an oligomer B;
Oligomer A is a compound obtained by partially (meth)acrylic modifying an epoxy resin having an epoxy equivalent of 200 g/epo or more and an aromatic ring weight of 0.43 or more,
Oligomer B is a bisphenol A type epoxy resin, a bisphenol F type epoxy resin, a bisphenol AD type epoxy resin, a compound obtained by partially (meth)acrylic modifying a bisphenol A type epoxy resin, or a partially (meth)acrylic modifying bisphenol F type epoxy resin. A sealant for a liquid crystal dropping method, which is one or more selected from the group consisting of a compound and a compound obtained by partially (meth)acrylic modifying a bisphenol AD type epoxy resin.
[2] The sealant for liquid crystal dropping method according to [1], wherein the oligomer A has three or more benzene rings in one molecule.
[3] The sealant for liquid crystal dropping method according to [1] or [2], wherein the oligomer A has a bisphenol F type structure.
[4] The sealant for a liquid crystal dropping method according to any one of [1] to [3], wherein the oligomer B is a bisphenol F type epoxy resin or a partially (meth)acryl-modified compound of a bisphenol F type epoxy resin.

本発明によれば、配向膜に対する接着性に優れ、低透湿性に優れる硬化物を与える、液晶滴下工法用シール剤が提供される。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the adhesiveness with respect to an alignment film is excellent, and the sealing compound for liquid crystal dripping methods which gives the hardened|cured material which is excellent in low moisture permeability is provided.

以下、本発明の好適な実施形態について説明する。本明細書において、「グリシジル基」とは、2,3-エポキシプロピル基を意味する。「メチルグリシジル基」とは、2,3-エポキシ-2-メチルプロピル基を意味する。「エポキシ基」とは、グリシジル基及びメチルグリシジル基の少なくとも一方を含む。「(メタ)アクリロイル基」とは、アクリロイル基(CH=CH-C(=O)-)及びメタクリロイル基(CH=CH(CH)-C(=O)-)の少なくとも一方を含む。「置換されていてもよい」とは、「置換又は非置換」を意味する。Preferred embodiments of the present invention are described below. As used herein, "glycidyl group" means a 2,3-epoxypropyl group. "Methylglycidyl group" means a 2,3-epoxy-2-methylpropyl group. "Epoxy group" includes at least one of glycidyl group and methylglycidyl group. "(Meth)acryloyl group" means at least one of acryloyl group (CH 2 =CH 2 -C(=O)-) and methacryloyl group (CH 2 =CH(CH 3 )-C(=O)-) include. "Optionally substituted" means "substituted or unsubstituted."

[液晶滴下工法用シール剤]
液晶滴下工法用シール剤は、硬化性樹脂、光開始剤及び熱硬化剤を含み、硬化性樹脂が、オリゴマーA及びオリゴマーBを含み、オリゴマーAが、エポキシ当量が200g/epo以上であり、かつ、芳香環量が0.43以上であるエポキシ樹脂を部分(メタ)アクリル変性した化合物であり、オリゴマーBが、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールAD型エポキシ樹脂、ビスフェノールA型エポキシ樹脂を部分(メタ)アクリル変性した化合物、ビスフェノールF型エポキシ樹脂を部分(メタ)アクリル変性した化合物及びビスフェノールAD型エポキシ樹脂を部分(メタ)アクリル変性した化合物からなる群から選択される1種以上である。
[Sealant for Liquid Crystal Dropping Method]
The sealing agent for the liquid crystal dropping method contains a curable resin, a photoinitiator and a thermosetting agent, the curable resin contains an oligomer A and an oligomer B, the oligomer A has an epoxy equivalent of 200 g/epo or more, and is a compound obtained by partially (meth)acrylic modifying an epoxy resin having an aromatic ring content of 0.43 or more, and oligomer B is a bisphenol A type epoxy resin, a bisphenol F type epoxy resin, a bisphenol AD type epoxy resin, a bisphenol A type epoxy resin. One selected from the group consisting of a compound obtained by partially (meth)acrylic modifying an epoxy resin, a compound obtained by partially (meth)acrylic modifying a bisphenol F type epoxy resin, and a compound obtained by partially (meth)acrylic modifying a bisphenol AD type epoxy resin. That's it.

(硬化性樹脂)
硬化性樹脂は、オリゴマーA及びオリゴマーBを含む。
(Curable resin)
The curable resin includes Oligomer A and Oligomer B.

<オリゴマーA>
オリゴマーAは、エポキシ当量が200g/epo以上であり、かつ、芳香環量が0.43以上であるエポキシ樹脂(以下、「原料エポキシ樹脂」ともいう。)を部分(メタ)アクリル変性した化合物である。ここで、エポキシ樹脂を「部分(メタ)アクリル変性した」とは、エポキシ樹脂のエポキシ基の一部が(メタ)アクリル変性されていることを意味する。
<Oligomer A>
Oligomer A is a compound obtained by partially (meth)acrylic-modifying an epoxy resin having an epoxy equivalent of 200 g/epo or more and an aromatic ring weight of 0.43 or more (hereinafter also referred to as "raw material epoxy resin"). be. Here, "partially (meth)acryl-modified" the epoxy resin means that a part of the epoxy group of the epoxy resin is (meth)acryl-modified.

<<原料エポキシ樹脂>>
<<<エポキシ当量>>>
原料エポキシ樹脂のエポキシ当量は、200g/epo以上である。このようなエポキシ当量を有する原料エポキシ樹脂を用いることで、オリゴマーAの1分子中における官能基濃度が低くなり、配向膜に対する接着性に優れる液晶滴下工法用シール剤が得られる。原料エポキシ樹脂のエポキシ当量は、200~400g/epoであることが好ましく、230~330g/epoであることがより好ましく、260~320g/epoであることが特に好ましい。本明細書において、エポキシ当量は、JISK7236:2001(ISO3001:1999に対応)に準拠して求められる。
<< raw material epoxy resin >>
<<<epoxy equivalent>>>
The epoxy equivalent weight of the raw material epoxy resin is 200 g/epo or more. By using a raw material epoxy resin having such an epoxy equivalent, the concentration of functional groups in one molecule of the oligomer A is lowered, and a sealant for a liquid crystal dripping method having excellent adhesiveness to an alignment film can be obtained. The epoxy equivalent weight of the starting epoxy resin is preferably 200-400 g/epo, more preferably 230-330 g/epo, and particularly preferably 260-320 g/epo. In this specification, the epoxy equivalent is determined according to JISK7236:2001 (corresponding to ISO3001:1999).

<<<芳香環量>>>
原料エポキシ樹脂の芳香環量は、0.43以上である。このような芳香環量を有する原料エポキシ樹脂を用いて得られたオリゴマーAを、後述するオリゴマーBと組み合わせることで、低透湿性に優れる液晶滴下工法用シール剤が得られる。原料エポキシ樹脂の芳香環量は、0.43~0.60であることが好ましく、0.43~0.55であることがより好ましく、0.48~0.53であることが特に好ましい。
<<<Amount of aromatic rings>>>
The aromatic ring content of the raw material epoxy resin is 0.43 or more. By combining the oligomer A obtained using the starting material epoxy resin having such an aromatic ring content with the oligomer B described later, a sealant for liquid crystal dropping method excellent in low moisture permeability can be obtained. The aromatic ring content of the starting epoxy resin is preferably 0.43 to 0.60, more preferably 0.43 to 0.55, and particularly preferably 0.48 to 0.53.

本明細書において、芳香環量は、原料エポキシ樹脂に占める芳香環構造の割合を意味する。即ち、芳香環量は、以下の式(数1)によって求められる値である。
芳香環量=原料エポキシ樹脂の1分子中における芳香環構造の分子量の総数÷原料エポキシ樹脂の1分子の分子量 (数1)
In the present specification, the aromatic ring content means the proportion of the aromatic ring structure in the raw material epoxy resin. That is, the aromatic ring content is a value obtained by the following formula (Equation 1).
Aromatic ring weight = total number of molecular weights of aromatic ring structures in one molecule of raw material epoxy resin/molecular weight of one molecule of raw material epoxy resin (Equation 1)

また、芳香環構造の分子量は、芳香環を構成する炭素原子の重量に基づく。例えば、フェニル基、フェニレン基等のベンゼン環が1つの基は、ベンゼン環(炭素原子数6の環)を構成する炭素原子の分子量の合計(即ち、72)である。また、ナフタレン環(炭素原子数10の環)及びアントラセン環(炭素原子数14の環)のような縮合環の基は、当該縮合環を構成する炭素原子の分子量の合計(即ち、120及び168)である。なお、芳香環がヘテロ芳香環の場合の芳香環構造の分子量は、当該ヘテロ芳香環を構成するヘテロ原子及び炭素原子の重量に基づく。オリゴマーAを構成する芳香環基は、ヘテロ原子を含まないことが好ましい。 Also, the molecular weight of the aromatic ring structure is based on the weight of the carbon atoms that constitute the aromatic ring. For example, a group having one benzene ring, such as a phenyl group and a phenylene group, has a total molecular weight of carbon atoms (ie, 72) constituting the benzene ring (a ring having 6 carbon atoms). In addition, condensed ring groups such as naphthalene ring (10 carbon atoms ring) and anthracene ring (14 carbon atoms ring) are the total molecular weight of the carbon atoms constituting the condensed ring (i.e., 120 and 168 ). When the aromatic ring is a heteroaromatic ring, the molecular weight of the aromatic ring structure is based on the weights of heteroatoms and carbon atoms forming the heteroaromatic ring. The aromatic ring group that constitutes the oligomer A preferably does not contain a heteroatom.

<<<好ましい原料エポキシ樹脂の態様>>>
このような原料エポキシ樹脂として、下記式(1)で表されるエポキシ樹脂が好ましい。
<<<Embodiment of Preferred Raw Material Epoxy Resin>>>
As such a raw material epoxy resin, an epoxy resin represented by the following formula (1) is preferable.

Figure 0007281224000001
Figure 0007281224000001

〔式中、
及びGは、独立に、グリシジル基又はメチルグリシジル基であり、
11は、水素原子又はメチル基であり、
は、置換されていてもよい炭素原子数6~20のアリール-O-基、置換されていてもよい炭素原子数6~20のアリール-(O-Rn1-O-基(式中、Rは、炭素原子数1~6のアルキレンであり、n1は、1~10の整数である)、又は、置換されていてもよい総原子数5~30のヘテロアリール基であり、
は、炭素原子数6~20のアリーレン基、炭素原子数1~4のアルキレン-炭素原子数6~20のアリーレン基、炭素原子数1~4のアルキレン-炭素原子数6~20のアリーレン-炭素原子数1~4のアルキレン基、炭素原子数6~20のアリーレン-炭素原子数1~4のアルキレン-炭素原子数6~20のアリーレン基又は基:-R-(O-Rn2-(式中、Rは、炭素原子数1~6のアルキレン基であり、n2は、0又は1~6の整数である)であるが、
但し、分子中のベンゼン環の数は3以上である〕
[In the formula,
G 1 and G 2 are independently a glycidyl group or a methylglycidyl group;
R 11 is a hydrogen atom or a methyl group,
X 1 is an optionally substituted aryl-O- group having 6 to 20 carbon atoms, an optionally substituted aryl-(OR 1 ) n1 -O- group having 6 to 20 carbon atoms ( wherein R 1 is an alkylene having 1 to 6 carbon atoms and n1 is an integer of 1 to 10), or an optionally substituted heteroaryl group having a total number of atoms of 5 to 30 ,
Y 1 is an arylene group having 6 to 20 carbon atoms, alkylene having 1 to 4 carbon atoms-arylene group having 6 to 20 carbon atoms, or alkylene having 1 to 4 carbon atoms-arylene having 6 to 20 carbon atoms. - alkylene group having 1 to 4 carbon atoms, arylene group having 6 to 20 carbon atoms - alkylene group having 1 to 4 carbon atoms - arylene group or group having 6 to 20 carbon atoms: -R 2 -(OR 2 ) n2 — (wherein R 2 is an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms and n2 is 0 or an integer of 1 to 6), but
provided that the number of benzene rings in the molecule is 3 or more]

式(1)中、G及びGは、独立に、グリシジル基又はメチルグリシジル基である。合成が容易である観点から、G及びGは、同一であって、グリシジル基であることが好ましい。In formula (1), G 1 and G 2 are independently a glycidyl group or a methylglycidyl group. From the viewpoint of ease of synthesis, G 1 and G 2 are preferably the same and a glycidyl group.

式(1)中、R11は、水素原子又はメチル基である。合成が容易である観点から、R11は、水素原子であることが好ましい。In formula (1), R 11 is a hydrogen atom or a methyl group. From the viewpoint of ease of synthesis, R 11 is preferably a hydrogen atom.

式(1)中、Xは、置換されていてもよい炭素原子数6~20のアリール-O-基、置換されていてもよい炭素原子数6~20のアリール-(O-Rn1-O-基(式中、Rは、炭素原子数1~6のアルキレン基であり、n1は、1~10の整数である)、又は、置換されていてもよい総原子数5~30のヘテロアリール基である。In formula (1), X 1 is an optionally substituted aryl-O- group having 6 to 20 carbon atoms, or an optionally substituted aryl-(OR 1 ) having 6 to 20 carbon atoms. n1 -O- group (wherein R 1 is an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms and n1 is an integer of 1 to 10), or a total number of atoms that may be substituted 5 to 30 heteroaryl groups.

炭素原子数6~20のアリール基は、単環又は多環の芳香族炭化水素基であり、フェニル基、ビフェニリル基、ナフチル基、ターフェニリル基、アントラセニル基、フルオレニル基等が挙げられ、フェニル基及びビフェニリル基であることが好ましい。 The aryl group having 6 to 20 carbon atoms is a monocyclic or polycyclic aromatic hydrocarbon group, and includes a phenyl group, a biphenylyl group, a naphthyl group, a terphenylyl group, an anthracenyl group, a fluorenyl group and the like. A biphenylyl group is preferred.

炭素原子数6~20のアリール基の置換基は、特に限定されず、炭素原子数1~4のアルキル基、アルコキシ基、アルキルカルボニル基、アルキルメルカプト基、シクロアルキル基が挙げられる。 Substituents of the aryl group having 6 to 20 carbon atoms are not particularly limited, and examples thereof include alkyl groups, alkoxy groups, alkylcarbonyl groups, alkylmercapto groups and cycloalkyl groups having 1 to 4 carbon atoms.

炭素原子数1~4のアルキル基は、メチル基、エチル基、プロピル基、i-プロピル基、ブチル基、i-ブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基が挙げられる。 Examples of the alkyl group having 1 to 4 carbon atoms include methyl group, ethyl group, propyl group, i-propyl group, butyl group, i-butyl group, sec-butyl group and tert-butyl group.

アルコキシ基におけるアルキル部分の例示は、前記した炭素原子数1~4のアルキル基の例示が挙げられる。アルコキシ基として、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、i-ブトキシ基、sec-ブトキシ基、tert-ブトキシ基等が挙げられる。アルキルカルボニル基及びアルキルメルカプト基におけるアルキル基の例示は、前記した炭素原子数1~4のアルキル基の例示が挙げられる。アルキルカルボニル基として、アセチル基、プロパノイル基、2-メチルプロパノイル基、ブタノイル基等が挙げられる。アルキルメルカプト基として、メチルメルカプト基、エチルメルカプト基、プロピルメルカプト基、i-プロピルメルカプト基、ブチルメルカプト基、i-ブチルメルカプト基、sec-ブチルメルカプト基、tert-ブチルメルカプト基等が挙げられる。シクロアルキル基は、炭素原子数3~20の単環又は多環の脂肪族炭化水素基であり、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロデシル基、シクロドデシル基、アダマンチル基等が挙げられる。 Examples of the alkyl moiety in the alkoxy group include the aforementioned alkyl groups having 1 to 4 carbon atoms. Alkoxy groups include methoxy, ethoxy, propoxy, butoxy, i-butoxy, sec-butoxy and tert-butoxy groups. Examples of the alkyl group in the alkylcarbonyl group and the alkylmercapto group include the aforementioned alkyl groups having 1 to 4 carbon atoms. The alkylcarbonyl group includes acetyl group, propanoyl group, 2-methylpropanoyl group, butanoyl group and the like. The alkylmercapto group includes methylmercapto group, ethylmercapto group, propylmercapto group, i-propylmercapto group, butylmercapto group, i-butylmercapto group, sec-butylmercapto group, tert-butylmercapto group and the like. The cycloalkyl group is a monocyclic or polycyclic aliphatic hydrocarbon group having 3 to 20 carbon atoms, and includes cyclopropyl, cyclobutyl, cyclopentyl, cyclohexyl, cycloheptyl, cyclooctyl, cyclodecyl, A cyclododecyl group, an adamantyl group, and the like can be mentioned.

炭素原子数1~4のアルキレン基は、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、プロピレン基(プロパン-1,2-ジイル基)、プロピリデン基(プロパン-1,1-ジイル基)、イソプロピリデン基(プロパン-2,2-ジイル基)、テトラメチレン基、ブチリデン基(ブタン-1,1-ジイル基)、イソブチリデン基(2-メチルプロパン-1,1-ジイル基)等が挙げられる。また、炭素原子数1~6のアルキレン基は、前記の炭素原子数1~4のアルキレン基に加えて、ペンタメチレン基、2-メチルペンタン-1,5-ジイル基、ヘキサメチレン基等の炭素原子数5及び6のアルキレン基が含まれる。 Alkylene groups having 1 to 4 carbon atoms are methylene group, ethylene group, trimethylene group, propylene group (propane-1,2-diyl group), propylidene group (propane-1,1-diyl group), isopropylidene group ( propane-2,2-diyl group), tetramethylene group, butylidene group (butane-1,1-diyl group), isobutylidene group (2-methylpropane-1,1-diyl group) and the like. In addition, the alkylene group having 1 to 6 carbon atoms is, in addition to the above alkylene group having 1 to 4 carbon atoms, carbon atoms such as pentamethylene group, 2-methylpentane-1,5-diyl group and hexamethylene group. Alkylene groups having 5 and 6 atoms are included.

総原子数5~30のヘテロアリール基は、炭素原子の他に、少なくとも酸素原子、硫黄原子及び窒素原子からなる群から選択される1以上のヘテロ原子を含む単環又は多環の複素環基であり、フタルイミジル基、イミダゾリル基、キサンテニル基、チオキサンテニル基、チエニル基、ジベンゾフリル基、クロメニル基、イソチオクロメニル基、フェノキサチイニル基、ピロリル基、ピラゾリル基、ピラジニル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、インドリジニル基、イソインドリル基、インドリル基、インダゾリル基、プリニル基、キノリジニル基、イソキノリル基、キノリル基、フタラジニル基、ナフチリジニル基、キノキサリニル基、キナゾリニル基、シンノリニル基、プテリジニル基、カルバゾリル基、β-カルボリニル基、フェナントリジニル基、アクリジニル基、ペリミジニル基、フェナントロリニル基、フェナジニル基、イソチアゾリル基、フェノチアジニル基、イソオキサゾリル基、フラザニル基等が挙げられる。総原子数5~30のヘテロアリール基の置換基は、前記した炭素原子数6~20のアリール基の置換基が挙げられる。 A heteroaryl group having a total number of atoms of 5 to 30 is a monocyclic or polycyclic heterocyclic group containing, in addition to carbon atoms, at least one heteroatom selected from the group consisting of at least an oxygen atom, a sulfur atom and a nitrogen atom. , phthalimidyl group, imidazolyl group, xanthenyl group, thioxanthenyl group, thienyl group, dibenzofuryl group, chromenyl group, isothiochromenyl group, phenoxathiinyl group, pyrrolyl group, pyrazolyl group, pyrazinyl group, pyrimidinyl group, pyridazinyl group , indolizinyl group, isoindolyl group, indolyl group, indazolyl group, purinyl group, quinolidinyl group, isoquinolyl group, quinolyl group, phthalazinyl group, naphthyridinyl group, quinoxalinyl group, quinazolinyl group, cinnolinyl group, pteridinyl group, carbazolyl group, β-carbolinyl group , phenanthridinyl group, acridinyl group, perimidinyl group, phenanthrolinyl group, phenazinyl group, isothiazolyl group, phenothiazinyl group, isoxazolyl group, furazanyl group and the like. Substituents for the heteroaryl group having a total number of atoms of 5 to 30 include the aforementioned substituents for the aryl group having 6 to 20 carbon atoms.

は、フェノキシ基、4-tert-ブチル-フェノキシ基、ビフェニル-2-イルオキシ基、フタルイミジル基、フェニル-(OCHCHn1a-O-基(式中、n1aは2~10の整数を表す)が好ましく、フェノキシ基がより好ましい。X 1 is a phenoxy group, 4-tert-butyl-phenoxy group, biphenyl-2-yloxy group, phthalimidyl group, phenyl-(OCH 2 CH 2 ) n1a -O- group (wherein n1a is an integer of 2 to 10 is preferred, and a phenoxy group is more preferred.

式(1)中、Yは、炭素原子数6~20のアリーレン基、炭素原子数1~4のアルキレン-炭素原子数6~20のアリーレン基、炭素原子数1~4のアルキレン-炭素原子数6~20のアリーレン-炭素原子数1~4のアルキレン基、炭素原子数6~20のアリーレン-炭素原子数1~4のアルキレン-炭素原子数6~20のアリーレン基又は基:-R-(O-Rn2-(式中、Rは、炭素原子数1~6のアルキレン基であり、n2は、0又は1~6の整数である)である。In formula (1), Y 1 is an arylene group having 6 to 20 carbon atoms, an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms-an arylene group having 6 to 20 carbon atoms, or an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms. arylene having 6 to 20 carbon atoms - alkylene group having 1 to 4 carbon atoms, arylene having 6 to 20 carbon atoms - alkylene having 1 to 4 carbon atoms - arylene group or group having 6 to 20 carbon atoms: -R 2 —(OR 2 ) n2 — (wherein R 2 is an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms and n2 is 0 or an integer of 1 to 6).

炭素原子数6~20のアリーレン基は、単環又は多環の芳香族基であり、フェニレン基、ナフチレン基、及びアントラセニレン基が挙げられ、好ましくはフェニレン基である。 The arylene group having 6 to 20 carbon atoms is a monocyclic or polycyclic aromatic group and includes a phenylene group, a naphthylene group and an anthracenylene group, preferably a phenylene group.

炭素原子数1~4のアルキレン-炭素原子数6~20のアリーレン基における炭素原子数1~4のアルキレン基及び炭素原子数6~20のアリーレン基の例示は、前記したとおりである。炭素原子数1~4のアルキレン-炭素原子数6~20のアリーレン基として、エチレン-1,4-フェニレン基が好ましい。炭素原子数1~4のアルキレン-炭素原子数6~20のアリーレン基における各基への結合の順序はいずれであってもよいが、Xを含む基が結合する酸素原子には、炭素原子数1~4のアルキレン-炭素原子数6~20のアリーレン基における、炭素原子数6~20のアリーレン基が結合しているのが好ましい。Examples of the alkylene group having 1 to 4 carbon atoms and the arylene group having 6 to 20 carbon atoms in the alkylene group having 1 to 4 carbon atoms and the arylene group having 6 to 20 carbon atoms are as described above. As the alkylene group having 1 to 4 carbon atoms and the arylene group having 6 to 20 carbon atoms, an ethylene-1,4-phenylene group is preferred. The order of bonding to each group in the alkylene group having 1 to 4 carbon atoms and the arylene group having 6 to 20 carbon atoms may be any, but the oxygen atom to which the group containing X 1 is bonded may be a carbon atom The arylene group having 6 to 20 carbon atoms in the alkylene group having 1 to 4 carbon atoms and the arylene group having 6 to 20 carbon atoms is preferably bonded.

炭素原子数1~4のアルキレン-炭素原子数6~20のアリーレン-炭素原子数1~4のアルキレン基における炭素原子数1~4のアルキレン基及び炭素原子数6~20のアリーレン基の例示は、前記したとおりである。炭素原子数1~4のアルキレン-炭素原子数6~20のアリーレン-炭素原子数1~4のアルキレン基として、1,3-フェニレンビスメチレン基(m-キシリレン基)及び1,4-フェニレンビスメチレン基(p-キシリレン基)が好ましい。 Examples of the alkylene group having 1 to 4 carbon atoms and the arylene group having 6 to 20 carbon atoms in the alkylene group having 1 to 4 carbon atoms - the arylene group having 6 to 20 carbon atoms - the alkylene group having 1 to 4 carbon atoms are , as described above. 1,3-phenylenebismethylene group (m-xylylene group) and 1,4-phenylenebismethylene group as the alkylene group having 1 to 4 carbon atoms - arylene group having 6 to 20 carbon atoms - alkylene group having 1 to 4 carbon atoms A methylene group (p-xylylene group) is preferred.

炭素原子数6~20のアリーレン-炭素原子数1~4のアルキレン-炭素原子数6~20のアリーレン基における炭素原子数1~4のアルキレン基及び炭素原子数6~20のアリーレン基の例示は、前記したとおりである。炭素原子数6~20のアリーレン-炭素原子数1~4のアルキレン-炭素原子数6~20のアリーレン基として、下記の基:

Figure 0007281224000002

(式中、R21及びR22は、互いに独立して、水素原子、メチル基、エチル基、トリフルオロメチル基又はフェニル基である)が好ましく、
Figure 0007281224000003

が特に好ましい。Examples of the arylene group having 1 to 4 carbon atoms and the arylene group having 6 to 20 carbon atoms in the arylene group having 6 to 20 carbon atoms-alkylene having 1 to 4 carbon atoms-arylene group having 6 to 20 carbon atoms are , as described above. The following group as the arylene group having 6 to 20 carbon atoms-alkylene group having 1 to 4 carbon atoms-arylene group having 6 to 20 carbon atoms:
Figure 0007281224000002

(wherein R 21 and R 22 are each independently a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, a trifluoromethyl group or a phenyl group) are preferably
Figure 0007281224000003

is particularly preferred.

式(1)中、Yは、炭素原子数6~20のアリーレン基、炭素原子数1~4のアルキレン-炭素原子数6~20のアリーレン基、炭素原子数1~4のアルキレン-炭素原子数6~20のアリーレン-炭素原子数1~4のアルキレン基、又は、炭素原子数6~20のアリーレン-炭素原子数1~4のアルキレン-炭素原子数6~20のアリーレン基であるのが好ましい。好ましいYを有するエポキシ化合物は、X及びYがいずれも芳香環を有する。X及びYがいずれも芳香環を有するエポキシ化合物を用いると、得られる硬化物の低透湿性がより優れる。In formula (1), Y 1 is an arylene group having 6 to 20 carbon atoms, an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms-an arylene group having 6 to 20 carbon atoms, or an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms. Arylene having 6 to 20 carbon atoms - alkylene group having 1 to 4 carbon atoms, or arylene having 6 to 20 carbon atoms - alkylene having 1 to 4 carbon atoms - arylene group having 6 to 20 carbon atoms preferable. In preferred epoxy compounds having Y 1 , both X 1 and Y 1 have an aromatic ring. When an epoxy compound in which both X 1 and Y 1 have an aromatic ring is used, the obtained cured product is more excellent in low moisture permeability.

また、式(1)において、X及びYが有するベンゼン環の数の合計が3以上である。X及びYが有するベンゼン環の数の合計が2であるエポキシ樹脂を用いると、エポキシ当量が200g/epo以上であり、かつ、芳香環量が0.43以上であるエポキシ樹脂とはならない場合があり、配向膜に対する接着性が劣る場合及び/又は透湿性が高くなる場合がある。In formula (1), the total number of benzene rings possessed by X 1 and Y 1 is 3 or more. Using an epoxy resin in which the total number of benzene rings possessed by X 1 and Y 1 is 2 does not result in an epoxy resin with an epoxy equivalent of 200 g/epo or more and an aromatic ring weight of 0.43 or more. In some cases, the adhesion to the alignment layer may be poor and/or the moisture permeability may be high.

このような式(1)で表されるエポキシ樹脂を部分(メタ)アクリル変性した化合物は、式(1)で表されるエポキシ樹脂におけるG及び/又はGの一部が、基:-CHCR13(OR31)CHO-Z(式中、R13は、水素原子又はメチル基であり、R31は、水素原子又は(メタ)アクリロイル基であり、Zは、(メタ)アクリロイル基である)に置き換わった化合物である。Such a compound obtained by partially (meth)acrylic modifying the epoxy resin represented by formula (1) is such that part of G 1 and/or G 2 in the epoxy resin represented by formula (1) is a group:- CH 2 CR 13 (OR 31 )CH 2 OZ (wherein R 13 is a hydrogen atom or a methyl group, R 31 is a hydrogen atom or a (meth)acryloyl group, Z is a (meth) is an acryloyl group).

上記式(1)で示されるエポキシ化合物及び上記式(1)で示されるエポキシ化合物を部分(メタ)アクリル変性した化合物は、特開2017-002246号公報に記載の方法により製造することができる。 The epoxy compound represented by the above formula (1) and the compound obtained by partially (meth)acrylic modifying the epoxy compound represented by the above formula (1) can be produced by the method described in JP-A-2017-002246.

<<オリゴマーAの好ましい態様>>
オリゴマーAは、低透湿性の観点から、1分子中にベンゼン環を3つ以上有することが好ましく、1分子中にベンゼン環を3~6有することがより好ましく、1分子中にベンゼン環を4~6有することが特に好ましい。ここで、縮合環を有する基は、縮合環を構成する単環におけるベンゼン環の数をいう。例えば、ナフタレン環はベンゼン環の数が2であり、ピレン環はベンゼン環の数が4である。オリゴマーAが1分子中にベンゼン環を3つ以上有する場合、当該ベンゼン環は、独立して存在する(即ち、縮合環を含まない)ことが好ましい。
<<Preferred Embodiment of Oligomer A>>
From the viewpoint of low moisture permeability, the oligomer A preferably has 3 or more benzene rings in one molecule, more preferably 3 to 6 benzene rings in one molecule, and 4 benzene rings in one molecule. It is particularly preferred to have ~6. Here, the group having a condensed ring refers to the number of benzene rings in a single ring constituting the condensed ring. For example, a naphthalene ring has two benzene rings, and a pyrene ring has four benzene rings. When the oligomer A has three or more benzene rings in one molecule, the benzene rings preferably exist independently (that is, contain no condensed rings).

また、オリゴマーAは、低透湿性の観点から、ビスフェノールF型の構造を有することが好ましく、1分子中にベンゼン環を3つ以上有し、かつ、ビスフェノールF型の構造を有することが特に好ましい。ここで、ビスフェノールF型の構造とは、下記:

Figure 0007281224000004

で表される構造である。このような特に好ましい化合物としてビスフェノールF型の構造の他に、フェニル基を1つ有する化合物が挙げられる。In addition, from the viewpoint of low moisture permeability, the oligomer A preferably has a bisphenol F type structure, and particularly preferably has three or more benzene rings in one molecule and has a bisphenol F type structure. . Here, the structure of bisphenol F type is as follows:
Figure 0007281224000004

It is a structure represented by Examples of such particularly preferred compounds include compounds having one phenyl group in addition to the bisphenol F type structure.

オリゴマーAは、1種又は2種以上の組み合わせであってもよい。なお、オリゴマーAは、後述するオリゴマーBに相当する成分ではない。即ち、オリゴマーAは、ビスフェノールA型エポキシ樹脂を部分(メタ)アクリル変性した化合物、ビスフェノールF型エポキシ樹脂を部分(メタ)アクリル変性した化合物及びビスフェノールAD型エポキシ樹脂を部分(メタ)アクリル変性した化合物ではない。 Oligomer A may be one or a combination of two or more. Oligomer A is not a component corresponding to oligomer B described later. That is, the oligomer A is a compound obtained by partially (meth)acrylic modifying a bisphenol A type epoxy resin, a compound obtained by partially (meth)acrylic modifying a bisphenol F type epoxy resin, and a compound obtained by partially (meth)acrylic modifying a bisphenol AD type epoxy resin. isn't it.

<オリゴマーB>
オリゴマーBは、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールAD型エポキシ樹脂及びそれらの部分(メタ)アクリル変性化合物(即ち、ビスフェノールA型エポキシ樹脂を部分(メタ)アクリル変性した化合物、ビスフェノールF型エポキシ樹脂を部分(メタ)アクリル変性した化合物及びビスフェノールAD型エポキシ樹脂を部分(メタ)アクリル変性した化合物)からなる群から選択される1種以上である。ここで、ビスフェノールA型エポキシ樹脂は、ビスフェノールA(2,2-ビス(4-ヒドロキシフェニル)プロパン)とエピクロルヒドリンとの縮合生成物であるエポキシ樹脂である。ビスフェノールF型エポキシ樹脂は、ビスフェノールF(ビス(4-ヒドロキシフェニル)メタン)とエピクロルヒドリンとの縮合生成物であるエポキシ樹脂である。ビスフェノールAD型エポキシ樹脂は、ビスフェノールAD(1,1-ビス(4-ヒドロキシフェニル)エタン)とエピクロルヒドリンとの縮合生成物であるエポキシ樹脂である。
<Oligomer B>
Oligomer B is a bisphenol A type epoxy resin, a bisphenol F type epoxy resin, a bisphenol AD type epoxy resin, and partially (meth)acrylic modified compounds thereof (that is, a compound obtained by partially (meth)acrylic modifying a bisphenol A type epoxy resin, bisphenol It is one or more selected from the group consisting of compounds obtained by partially (meth)acryl-modified F-type epoxy resins and compounds obtained by partially (meth)acryl-modified bisphenol AD-type epoxy resins. Here, the bisphenol A type epoxy resin is an epoxy resin which is a condensation product of bisphenol A (2,2-bis(4-hydroxyphenyl)propane) and epichlorohydrin. Bisphenol F type epoxy resin is an epoxy resin which is a condensation product of bisphenol F (bis(4-hydroxyphenyl)methane) and epichlorohydrin. A bisphenol AD type epoxy resin is an epoxy resin which is a condensation product of bisphenol AD (1,1-bis(4-hydroxyphenyl)ethane) and epichlorohydrin.

配向膜に対する密着性の観点から、オリゴマーBは、ビスフェノールF型エポキシ樹脂及びビスフェノールF型エポキシ樹脂を部分(メタ)アクリル変性した化合物からなる群から選択される1種以上であることが好ましい。
オリゴマーBは、1種又は2種以上の組み合わせであってもよい。
From the viewpoint of adhesion to the alignment film, oligomer B is preferably one or more selected from the group consisting of bisphenol F-type epoxy resins and compounds obtained by partially (meth)acrylic modifying bisphenol F-type epoxy resins.
Oligomer B may be one or a combination of two or more.

<その他の硬化性樹脂>
オリゴマーA及びオリゴマーB以外の硬化性樹脂(以下、「オリゴマーC」ともいう。)としては、特に限定されず、液晶滴下工法用シール剤の主剤として用いられる従来のエチレン性不飽和基及び/又はエポキシ基を有する樹脂が挙げられる。
<Other curable resins>
The curable resin other than oligomer A and oligomer B (hereinafter also referred to as "oligomer C") is not particularly limited, and conventional ethylenically unsaturated groups and/or A resin having an epoxy group can be mentioned.

エポキシ基を有する樹脂であるオリゴマーCは、エポキシ基を1以上有するものであれば特に限定されない。このようなエポキシ基を有する樹脂としては、原料エポキシ樹脂、及び原料エポキシ樹脂以外のエポキシ樹脂が挙げられる。ここで、「原料エポキシ樹脂以外のエポキシ樹脂」は、エポキシ当量が200g/epo以上であり、かつ、芳香環量が0.43未満であるエポキシ樹脂;エポキシ当量が200g/epo未満であり、かつ、芳香環量が0.43以上であるエポキシ樹脂;又は、エポキシ当量が200g/epo未満であり、かつ、芳香環量が0.43未満であるエポキシ樹脂である。エポキシ基を有する樹脂であるオリゴマーCは、特開2017-214462号公報に記載されている、フェノール性水酸基を1以上有する化合物に、アルキレンカーボネート又はハロアルコールを付加させ、さらにグリシジルエーテル化させたエポキシ樹脂が好ましい。 Oligomer C, which is a resin having an epoxy group, is not particularly limited as long as it has one or more epoxy groups. Examples of resins having such an epoxy group include raw material epoxy resins and epoxy resins other than raw material epoxy resins. Here, the "epoxy resin other than the raw material epoxy resin" is an epoxy resin having an epoxy equivalent weight of 200 g/epo or more and an aromatic ring weight of less than 0.43; an epoxy equivalent weight of less than 200 g/epo, and , an epoxy resin having an aromatic ring weight of 0.43 or more; or an epoxy resin having an epoxy equivalent weight of less than 200 g/epo and an aromatic ring weight of less than 0.43. Oligomer C, which is a resin having an epoxy group, is an epoxy obtained by adding an alkylene carbonate or haloalcohol to a compound having one or more phenolic hydroxyl groups and further glycidyl etherifying, as described in JP-A-2017-214462. Resins are preferred.

エチレン性不飽和基を有する樹脂であるオリゴマーCとしては、エポキシ基を有する樹脂であるオリゴマーCの、エポキシ基の全部が(メタ)アクリル変性された化合物等が挙げられる。 Examples of the oligomer C, which is a resin having an ethylenically unsaturated group, include compounds in which all the epoxy groups of the oligomer C, which is a resin having an epoxy group, are (meth)acryl-modified.

エチレン性不飽和基及びエポキシ基を有する樹脂であるオリゴマーCとしては、原料エポキシ樹脂以外のエポキシ樹脂の部分(メタ)アクリル変性化合物等が挙げられる。 Examples of the oligomer C, which is a resin having an ethylenically unsaturated group and an epoxy group, include partially (meth)acryl-modified compounds of epoxy resins other than the raw material epoxy resin.

オリゴマーCは、上記した以外に、WO2014/057871、特開2017-002204号公報等に記載されており、適宜選択できる。なお、オリゴマーCは、ケイ素原子を有さないことが好ましい。 Oligomer C is described in WO2014/057871, JP-A-2017-002204, etc., in addition to those described above, and can be selected as appropriate. In addition, it is preferable that the oligomer C does not have a silicon atom.

(光開始剤)
光重合開始剤は、光のエネルギーを吸収することによって活性化し、ラジカルを発生する化合物を意味する。光重合開始剤は、特に限定されず、ベンゾイン類、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、チオキサトン類、α-アシロキシムエステル類、フェニルグリオキシレート類、ベンジル類、アゾ系化合物、ジフェニルスルフィド系化合物、アシルホスフィンオキシド系化合物、ベンゾイン類、ベンゾインエーテル類及びアントラキノン類の重合開始剤が挙げられる。光重合開始剤は、液晶への溶解性が低く、また、それ自身で光照射時に分解物がガス化しないような反応性基を有するものが好ましい。このような好ましい重合開始剤として、例えばEYレジンKR-2(ケイエスエム社製)等が挙げられる。また、ラジカル重合開始剤として、WO2012/077720に記載されている、少なくとも2個のエポキシ基を有する化合物と、ジメチルアミノ安息香酸とを反応させて得られる化合物、及び、少なくとも2個のエポキシ基を有する化合物と、ヒドロキシチオキサントンとを反応させて得られる化合物との混合物である重合開始剤が好ましい。
(photoinitiator)
A photoinitiator means a compound that is activated by absorbing light energy and generates radicals. Photopolymerization initiators are not particularly limited, and include benzoins, acetophenones, benzophenones, thioxatones, α-acyloxime esters, phenylglyoxylates, benzils, azo compounds, diphenylsulfide compounds, acylphosphines. Polymerization initiators such as oxide compounds, benzoins, benzoin ethers and anthraquinones can be mentioned. The photopolymerization initiator preferably has a low solubility in liquid crystals and has a reactive group that itself does not gasify decomposition products upon irradiation with light. Examples of such a preferable polymerization initiator include EY Resin KR-2 (manufactured by KSM Co., Ltd.). Further, as a radical polymerization initiator, a compound obtained by reacting a compound having at least two epoxy groups and dimethylaminobenzoic acid, which is described in WO2012/077720, and at least two epoxy groups. A polymerization initiator that is a mixture of a compound obtained by reacting a compound having a hydroxythioxanthone with hydroxythioxanthone is preferred.

(熱硬化剤)
熱硬化剤は、特に限定されないが、アミン系硬化剤、例えば有機酸ジヒドラジド化合物、アミンアダクト、イミダゾール及びその誘導体、ジシアンジアミド、芳香族アミン、エポキシ変性ポリアミン、およびポリアミノウレア等が挙げられ、VDH(1,3-ビス(ヒドラジノカルボエチル)-5-イソプロピルヒダントイン)、ADH(アジピン酸ジヒドラジド)、UDH(7,11-オクタデカジエン-1,18-ジカルボヒドラジド)及びLDH(オクタデカン-1,18-ジカルボン酸ジヒドラジド)等の有機酸ジヒドラジド;ADEKA社から、アデカハードナーEH5030S、味の素ファインテクノ社から、アミキュアPN-23、アミキュアPN-30、アミキュアMY-24、アミキュアMY-H等として市販されているアミンアダクトが好ましい。これらの硬化剤は、単独で用いても、複数で用いてもよい。
(Heat curing agent)
The heat curing agent is not particularly limited, but includes amine-based curing agents such as organic acid dihydrazide compounds, amine adducts, imidazole and its derivatives, dicyandiamide, aromatic amines, epoxy-modified polyamines, and polyaminourea. ,3-bis(hydrazinocarboethyl)-5-isopropylhydantoin), ADH (adipic dihydrazide), UDH (7,11-octadecane-1,18-dicarbohydrazide) and LDH (octadecane-1,18 - organic acid dihydrazides such as dicarboxylic acid dihydrazide); ADEKA Co., Ltd., ADEKA HARDNER EH5030S, Ajinomoto Fine-Techno Co., Ltd., Amicure PN-23, Amicure PN-30, Amicure MY-24, Amicure MY-H, etc. Amine adducts are preferred. These curing agents may be used alone or in combination.

(更なる成分)
液晶滴下工法用シール剤は、更に、フィラー、カップリング剤等の更なる成分を含むことができる。更なる成分は、それぞれ、単独又は2種以上の組合せであってもよい。
(additional ingredients)
The liquid crystal dropping method sealant can further contain additional components such as fillers and coupling agents. Each additional ingredient may be used alone or in combination of two or more.

フィラーは、液晶滴下工法用シール剤の粘度制御や液晶滴下工法用シール剤を硬化させた硬化物の強度向上、または線膨張性を抑えることによって液晶滴下工法用シール剤の接着信頼性を向上させる等の目的で添加される。フィラーは、特に限定されず、液晶滴下工法用シール剤に対して用いられる公知の無機フィラー及び有機フィラーが挙げられる。 The filler controls the viscosity of the liquid crystal dripping method sealant, improves the strength of the cured product obtained by curing the liquid crystal dripping method sealant, or improves the adhesion reliability of the liquid crystal dripping method sealant by suppressing linear expansion. It is added for purposes such as The filler is not particularly limited, and examples thereof include known inorganic fillers and organic fillers used for sealant for liquid crystal dripping method.

無機フィラーとしては、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、硫酸バリウム、硫酸マグネシウム、珪酸アルミニウム、酸化チタン、アルミナ、酸化亜鉛、二酸化ケイ素、カオリン、タルク、ガラスビーズ、セリサイト活性白土、ベントナイト、窒化アルミニウム、及び窒化ケイ素が挙げられる。 Inorganic fillers include calcium carbonate, magnesium carbonate, barium sulfate, magnesium sulfate, aluminum silicate, titanium oxide, alumina, zinc oxide, silicon dioxide, kaolin, talc, glass beads, sericite activated clay, bentonite, aluminum nitride, and nitride. silicon.

有機フィラーとしては、ポリメタクリル酸メチル、ポリスチレン、これらを構成するモノマーと他のモノマーとを共重合させて得られる共重合体、ポリエステル微粒子、ポリウレタン微粒子、ゴム微粒子、及び高いガラス転移温度を有する共重合体を含むシェルと低いガラス転移温度を有する共重合体のコアとから構成されるコアシェルタイプ粒子等が挙げられる。 Examples of organic fillers include polymethyl methacrylate, polystyrene, copolymers obtained by copolymerizing the monomers constituting these with other monomers, polyester fine particles, polyurethane fine particles, rubber fine particles, and copolymers having a high glass transition temperature. Examples include core-shell type particles composed of a shell containing a polymer and a core of a copolymer having a low glass transition temperature.

フィラーは、市販品を用いることができる。無機フィラーの市販品としては、ガラスフィラー(日本フリット社製「CF0023-05C」)、アモルファスシリカ(日本触媒社製「シーホスターKE-P250」)、フュームドシリカ(チキソ付与剤)(キャボット・スペシャリティーケミカルズ社製「TG-308F」)、球状シリカ(日本フリット社製「CF0018-WB15C」)、シリカ粒子(シーホスターKEシリーズ(KE-C50等))等が挙げられる。また、有機フィラーの市販品としては、コアシェルタイプ粒子として、ゼフィアックシリーズ(F-351等、アイカ工業社製)等が挙げられる。
フィラーは、それぞれ、1種又は2種以上の組み合わせであってもよい。
A commercial item can be used for the filler. Commercially available inorganic fillers include glass filler (“CF0023-05C” manufactured by Nippon Frit Co., Ltd.), amorphous silica (“Seahoster KE-P250” manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd.), fumed silica (thixotropic agent) (Cabot Specialty) "TG-308F" manufactured by Chemicals Co., Ltd.), spherical silica ("CF0018-WB15C" manufactured by Nihon Frit Co., Ltd.), silica particles (Seahoster KE series (KE-C50, etc.)), and the like. In addition, commercially available organic fillers include Zefiac series (F-351, etc., manufactured by Aica Kogyo Co., Ltd.) as core-shell type particles.
Each filler may be one or a combination of two or more.

カップリング剤は、液晶表示基板との接着性をさらに良好とすることを目的として添加される。カップリング剤は、特に限定されず、γ-アミノプロピルトリメトキシシラン、γ-メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ-イソシアネートプロピルトリメトキシシラン、3-グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン及び3-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。シランカップリング剤は、1種又は2種以上の組合せであってもよい。 A coupling agent is added for the purpose of further improving the adhesiveness to the liquid crystal display substrate. The coupling agent is not particularly limited and includes γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-isocyanatopropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane and 3-glycidoxysilane. propyltrimethoxysilane and the like. The silane coupling agent may be one or a combination of two or more.

フィラー、カップリング剤以外の更なる成分は、液晶滴下工法用シール剤に添加される添加剤として公知の成分や市販品が挙げられる。 Further components other than the filler and the coupling agent include known components and commercial products as additives added to the sealing agent for the liquid crystal dropping method.

(組成)
オリゴマーA及びオリゴマーBの合計100重量部に対して、オリゴマーAの含有量は、1~99重量部であることが好ましく、10~95重量部であることがより好ましく、40~90重量部であることが特に好ましい。
(composition)
The content of oligomer A is preferably 1 to 99 parts by weight, more preferably 10 to 95 parts by weight, and more preferably 40 to 90 parts by weight with respect to a total of 100 parts by weight of oligomer A and oligomer B. It is particularly preferred to have

オリゴマーAの合計100重量部に対して、好ましいオリゴマーAの含有量は、1~100重量部であることが好ましく、50~99重量部であることがより好ましく、90~95重量部であることが特に好ましい。 The content of the oligomer A is preferably 1 to 100 parts by weight, more preferably 50 to 99 parts by weight, and 90 to 95 parts by weight with respect to the total 100 parts by weight of the oligomer A. is particularly preferred.

オリゴマーBの合計100重量部に対して、好ましいオリゴマーBの含有量は、1~100重量部であることが好ましく、50~99重量部であることがより好ましく、90~95重量部であることが特に好ましい。 The content of the oligomer B is preferably 1 to 100 parts by weight, more preferably 50 to 99 parts by weight, and 90 to 95 parts by weight with respect to the total 100 parts by weight of the oligomer B. is particularly preferred.

硬化性樹脂の合計100重量に対する、オリゴマーAの含有量及びオリゴマーBの含有量の合計は、50~100重量部であることが好ましく、70~100重量部であることが特に好ましい。なお、硬化性樹脂において、オリゴマーA及びオリゴマーB以外の成分は、オリゴマーCである。 The total content of oligomer A and oligomer B is preferably 50 to 100 parts by weight, particularly preferably 70 to 100 parts by weight, with respect to 100 parts by weight of the total curable resin. In addition, in the curable resin, the oligomer C is the component other than the oligomer A and the oligomer B.

光重合開始剤の含有量は、硬化性樹脂の合計100重量部に対して、0.1~10重量部であることが好ましく、1~5重量部であることがより好ましい。 The content of the photopolymerization initiator is preferably 0.1 to 10 parts by weight, more preferably 1 to 5 parts by weight, with respect to 100 parts by weight of the total curable resin.

熱硬化剤の含有量は、硬化性樹脂の合計100重量部に対して、1~50重量部であることが好ましく、5~40重量部であることがより好ましい。 The content of the thermosetting agent is preferably 1 to 50 parts by weight, more preferably 5 to 40 parts by weight, with respect to 100 parts by weight of the total curable resin.

フィラーの含有量は、硬化性樹脂の合計100重量部に対して、1~50重量部であることが好ましく、5~30重量部であることがより好ましい。 The content of the filler is preferably 1 to 50 parts by weight, more preferably 5 to 30 parts by weight, with respect to the total 100 parts by weight of the curable resin.

カップリング剤の含有量は、硬化性樹脂の合計100重量部に対して、0.1~10重量部であることが好ましく、0.5~5重量部であることがより好ましい。 The content of the coupling agent is preferably 0.1 to 10 parts by weight, more preferably 0.5 to 5 parts by weight, with respect to 100 parts by weight of the total curable resin.

液晶滴下工法用シール剤の合計100重量部にして、硬化性樹脂の含有量は、40重量部以上100重量部未満であることが好ましく、60重量部以上100重量部未満であることがより好ましい。 The content of the curable resin is preferably 40 parts by weight or more and less than 100 parts by weight, and more preferably 60 parts by weight or more and less than 100 parts by weight, based on a total of 100 parts by weight of the sealant for the liquid crystal dropping method. .

(用途)
液晶滴下工法用シール剤の硬化物は、液晶表示体をシールするために用いられる。液晶表示体は、特に限定されず、従来の液晶滴下工法用シール剤が適用される液晶表示体を用いることができる。液晶滴下工法用シール剤は、紫外線等のエネルギー線の照射により、熱を加えることにより、又は紫外線等のエネルギー線の照射の、前、後又は同時に熱を加えることにより硬化させることができる。
(Application)
A cured product of the sealant for the liquid crystal dropping method is used for sealing the liquid crystal display. The liquid crystal display is not particularly limited, and a liquid crystal display to which a conventional liquid crystal dropping method sealant is applied can be used. The sealant for the liquid crystal dropping method can be cured by applying heat by irradiation with energy rays such as ultraviolet rays, or by applying heat before, after, or simultaneously with irradiation with energy rays such as ultraviolet rays.

次に実施例により本発明の具体的態様を更に詳細に説明するが、本発明はこれらの例によって限定されるものではない。 Specific embodiments of the present invention will now be described in more detail with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.

(使用製品)
実施例及び比較例で使用した成分は以下のとおりである。実施例及び比較例の液晶滴下工法用シール剤は、表に記載された組成になるように、以下の成分を混合することにより調製した。なお、表における値は重量部である。
(product used)
Components used in Examples and Comparative Examples are as follows. The sealants for the liquid crystal dripping method of Examples and Comparative Examples were prepared by mixing the following components so as to have the compositions described in the table. In addition, the value in a table|surface is a weight part.

1.オリゴマーA
(1)化合物1

Figure 0007281224000005

化合物1は以下の方法で得た。1. Oligomer A
(1) Compound 1
Figure 0007281224000005

Compound 1 was obtained by the following method.

(化合物1の製造)
フェニルグリシジルエーテル(EX-141、ナガセケムテックス社製)166g、レヂトップBPF-SG(ビスフェノールF)(群栄化学工業社製)200g、ベンジルトリメチルアンモニウムクロライド(東京化成社製)10g、トルエン(関東化学社製)600gを温度計、攪拌機を取り付けたフラスコに入れ、120℃で8時間攪拌した。反応終了後に混合物を室温まで冷却し、1%水酸化ナトリウム水溶液2000gで1回、水2000mLで2回洗浄した。得られた有機相の溶媒を減圧留去により除去し、黄色透明粘稠物の開環体(EX-141-ビスフェノールF開環体)336gを得た。
(Production of compound 1)
Phenyl glycidyl ether (EX-141, manufactured by Nagase ChemteX Corporation) 166 g, Resitop BPF-SG (bisphenol F) (manufactured by Gunei Chemical Industry Co., Ltd.) 200 g, benzyltrimethylammonium chloride (manufactured by Tokyo Kasei Co., Ltd.) 10 g, toluene (Kanto Chemical Co., Ltd.) was placed in a flask equipped with a thermometer and a stirrer, and stirred at 120° C. for 8 hours. After completion of the reaction, the mixture was cooled to room temperature and washed once with 2000 g of a 1% aqueous sodium hydroxide solution and twice with 2000 mL of water. The solvent in the resulting organic phase was removed by distillation under reduced pressure to obtain 336 g of a yellow transparent viscous ring-opened compound (EX-141-bisphenol F ring-opened compound).

EX-141-ビスフェノールF開環体330g、エピクロロヒドリン(和光純薬社製)1742g、ベンジルトリメチルアンモニウムクロライド(東京化成社製)35gを温度計、冷却管、ディーン-スターク・トラップ、滴下ロート、攪拌機を取り付けた2Lの三口丸底フラスコに入れた。次いで、混合物を50トール(torr)の減圧下攪拌しながら約50℃に加熱し、282gの48%水酸化ナトリウム水溶液(関東化学社製)を3時間かけて滴下した。共沸で留出した水/エピクロロヒドリン混合物のうち、エピクロロヒドリンを反応系に戻しながら攪拌を続けた。添加終了後、3時間にわたり攪拌を継続した。次いで、反応混合物を室温に冷却しトルエン900g、メチルイソブチルケトン300gを加え1500mLの水で4回洗浄した。得られた有機相の溶媒を減圧留去により除去し、黄色透明粘稠物のグリシジルエーテル体(化合物1a、原料エポキシ樹脂)395gを得た。 330 g of EX-141-bisphenol F ring-opening compound, 1742 g of epichlorohydrin (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), and 35 g of benzyltrimethylammonium chloride (manufactured by Tokyo Kasei Co., Ltd.) were added to a thermometer, a condenser, a Dean-Stark trap, and a dropping funnel. , was placed in a 2 L three-necked round bottom flask equipped with a stirrer. The mixture was then heated to about 50° C. with stirring under a vacuum of 50 torr, and 282 g of 48% aqueous sodium hydroxide solution (manufactured by Kanto Kagaku Co., Ltd.) was added dropwise over 3 hours. Stirring was continued while returning epichlorohydrin from the azeotropically distilled water/epichlorohydrin mixture to the reaction system. Stirring was continued for 3 hours after the addition was complete. Then, the reaction mixture was cooled to room temperature, added with 900 g of toluene and 300 g of methyl isobutyl ketone, and washed four times with 1500 mL of water. The solvent in the resulting organic phase was removed by distillation under reduced pressure to obtain 395 g of a yellow transparent viscous glycidyl ether (compound 1a, raw material epoxy resin).

化合物1aを200g、メタクリル酸(東京化成社製)35g、触媒であるトリフェニルホスフィン(東京化成社製)212mg、BHT(ジブチルヒドロキシトルエン、関東化学社製)50mgを温度計、攪拌機を取り付けたフラスコに入れ、100℃で8時間撹拌した。反応終了後、部分メタクリル化エポキシ化合物(化合物1)を得た。 200 g of compound 1a, 35 g of methacrylic acid (manufactured by Tokyo Kasei Co., Ltd.), 212 mg of triphenylphosphine (manufactured by Tokyo Kasei Co., Ltd.) as a catalyst, and 50 mg of BHT (dibutylhydroxytoluene, manufactured by Kanto Kagaku Co., Ltd.) are placed in a flask equipped with a thermometer and a stirrer. and stirred at 100° C. for 8 hours. After completion of the reaction, a partially methacrylated epoxy compound (compound 1) was obtained.

(2)化合物2

Figure 0007281224000006

化合物2は、特開2017-002246号公報の第106段落~第111段落に記載の方法に従って得た。(2) Compound 2
Figure 0007281224000006

Compound 2 was obtained according to the method described in paragraphs 106 to 111 of JP-A-2017-002246.

(3)化合物3

Figure 0007281224000007

化合物3は以下の方法で得た。(3) Compound 3
Figure 0007281224000007

Compound 3 was obtained by the following method.

(化合物3の製造)
フェニルグリシジルエーテル(EX-141、ナガセケムテックス社製)50g、BisP-AP(本州化学工業社製)116g、ベンジルトリメチルアンモニウムクロライド(東京化成社製)3.1g、トルエン(関東化学社製)200gを温度計、攪拌機を取り付けたフラスコに入れ、120℃で8時間攪拌した。反応終了後に混合物を室温まで冷却し、メチルイソブチルケトン(関東化学社製)200gを加え、1%水酸化ナトリウム水溶液500gで4回、水500mLで4回洗浄した。得られた有機相の溶媒を減圧留去により除去し、黄色透明粘稠物の開環体(EX-141-BisP-AP開環体)124gを得た。
(Production of compound 3)
Phenyl glycidyl ether (EX-141, manufactured by Nagase ChemteX Corporation) 50 g, BisP-AP (manufactured by Honshu Chemical Industry Co., Ltd.) 116 g, benzyltrimethylammonium chloride (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) 3.1 g, toluene (manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd.) 200 g was placed in a flask equipped with a thermometer and a stirrer, and stirred at 120°C for 8 hours. After completion of the reaction, the mixture was cooled to room temperature, 200 g of methyl isobutyl ketone (manufactured by Kanto Kagaku Co., Ltd.) was added, and the mixture was washed with 500 g of a 1% aqueous sodium hydroxide solution four times and with 500 mL of water four times. The solvent in the obtained organic phase was removed by distillation under reduced pressure to obtain 124 g of a yellow transparent viscous ring-opened compound (EX-141-BisP-AP ring-opened compound).

EX-141-BisP-AP開環体100g、エピクロロヒドリン(和光純薬社製)421g、ベンジルトリメチルアンモニウムクロライド(東京化成社製)8.4gを温度計、冷却管、ディーン-スターク・トラップ、滴下ロート、攪拌機を取り付けた1Lの三口丸底フラスコに入れた。次いで、混合物を50トール(torr)の減圧下攪拌しながら約50℃に加熱し、68gの48%水酸化ナトリウム水溶液(関東化学社製)を3時間かけて滴下した。共沸で留出した水/エピクロロヒドリン混合物のうち、エピクロロヒドリンを反応系に戻しながら攪拌を続けた。添加終了後、3時間にわたり攪拌を継続した。次いで、反応混合物を室温に冷却しトルエン250g、メチルイソブチルケトン250gを加え500mLの水で4回洗浄した。得られた有機相の溶媒を減圧留去により除去し、黄色透明粘稠物のグリシジルエーテル体(化合物3a、原料エポキシ樹脂)120gを得た。 100 g of EX-141-BisP-AP ring-opened product, 421 g of epichlorohydrin (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), and 8.4 g of benzyltrimethylammonium chloride (manufactured by Tokyo Kasei Co., Ltd.) were added to a thermometer, a condenser, and a Dean-Stark trap. , addition funnel, and a 1 L three-necked round-bottomed flask equipped with a stirrer. The mixture was then heated to about 50° C. with stirring under a vacuum of 50 torr, and 68 g of 48% aqueous sodium hydroxide solution (manufactured by Kanto Kagaku Co., Ltd.) was added dropwise over 3 hours. Stirring was continued while returning epichlorohydrin from the azeotropically distilled water/epichlorohydrin mixture to the reaction system. Stirring was continued for 3 hours after the addition was complete. Then, the reaction mixture was cooled to room temperature, added with 250 g of toluene and 250 g of methyl isobutyl ketone, and washed four times with 500 mL of water. The solvent in the resulting organic phase was removed by distillation under reduced pressure to obtain 120 g of a yellow transparent viscous glycidyl ether (compound 3a, raw material epoxy resin).

化合物3aを50g、メタクリル酸(東京化成社製)7.2g、触媒であるトリフェニルホスフィン(東京化成社製)22mg、BHT(ジブチルヒドロキシトルエン、関東化学社製)11mgを温度計、攪拌機を取り付けたフラスコに入れ、100℃で8時間撹拌した。反応終了後、部分メタクリル化エポキシ化合物(化合物3)を得た。 50 g of compound 3a, 7.2 g of methacrylic acid (manufactured by Tokyo Kasei Co., Ltd.), 22 mg of triphenylphosphine (manufactured by Tokyo Kasei Co., Ltd.) as a catalyst, and 11 mg of BHT (dibutylhydroxytoluene, manufactured by Kanto Kagaku Co., Ltd.) were added with a thermometer and a stirrer. The mixture was placed in a flask and stirred at 100° C. for 8 hours. After completion of the reaction, a partially methacrylated epoxy compound (compound 3) was obtained.

(4)化合物4

Figure 0007281224000008

化合物4は以下の方法で得た。(4) Compound 4
Figure 0007281224000008

Compound 4 was obtained by the following method.

(化合物4の製造)
ビフェニル型単官能エポキシ樹脂(OPP-G、三光社製)75g、2,2-ビス(4-ヒドロキシフェニル)プロパン(ビスフェノールA)(関東化学社製)91g、ベンジルトリメチルアンモニウムクロライド(東京化成社製)3.1g、トルエン(関東化学社製)200gを温度計、攪拌機を取り付けたフラスコに入れ、120℃で8時間攪拌した。反応終了後に混合物を室温まで冷却し、メチルイソブチルケトン(関東化学社製)200gを加え、1%水酸化ナトリウム水溶液1000gで2回、水1000mLで2回洗浄した。得られた有機相の溶媒を減圧留去により除去し、黄色透明粘稠物の開環体(OPP-G-ビスフェノールA開環体)135gを得た。
(Production of compound 4)
Biphenyl-type monofunctional epoxy resin (OPP-G, manufactured by Sanko) 75 g, 2,2-bis(4-hydroxyphenyl)propane (bisphenol A) (manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd.) 91 g, benzyltrimethylammonium chloride (manufactured by Tokyo Kasei Co., Ltd.) ) and 200 g of toluene (manufactured by Kanto Kagaku Co., Ltd.) were placed in a flask equipped with a thermometer and a stirrer, and stirred at 120° C. for 8 hours. After completion of the reaction, the mixture was cooled to room temperature, 200 g of methyl isobutyl ketone (manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd.) was added, and the mixture was washed twice with 1000 g of 1% aqueous sodium hydroxide solution and twice with 1000 mL of water. The solvent in the obtained organic phase was removed by distillation under reduced pressure to obtain 135 g of a yellow transparent viscous ring-opened compound (OPP-G-bisphenol A ring-opened compound).

OPP-G-ビスフェノールA開環体100g、エピクロロヒドリン(和光純薬社製)406g、ベンジルトリメチルアンモニウムクロライド(東京化成社製)8.2gを温度計、冷却管、ディーン-スターク・トラップ、滴下ロート、攪拌機を取り付けた1Lの三口丸底フラスコに入れた。次いで、混合物を50トール(torr)の減圧下攪拌しながら約50℃に加熱し、66gの48%水酸化ナトリウム水溶液(関東化学社製)を3時間かけて滴下した。共沸で留出した水/エピクロロヒドリン混合物のうち、エピクロロヒドリンを反応系に戻しながら攪拌を続けた。添加終了後、3時間にわたり攪拌を継続した。次いで、反応混合物を室温に冷却しトルエン250g、メチルイソブチルケトン250gを加え500mLの水で4回洗浄した。得られた有機相の溶媒を減圧留去により除去し、黄色透明粘稠物のグリシジルエーテル体(化合物4a、原料エポキシ樹脂)113gを得た。 100 g of OPP-G-bisphenol A ring-opening compound, 406 g of epichlorohydrin (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), 8.2 g of benzyltrimethylammonium chloride (manufactured by Tokyo Kasei Co., Ltd.) were added to a thermometer, a cooling tube, a Dean-Stark trap, Place in a 1 L 3-necked round-bottomed flask equipped with a dropping funnel and stirrer. The mixture was then heated to about 50° C. with stirring under a vacuum of 50 torr, and 66 g of 48% aqueous sodium hydroxide solution (manufactured by Kanto Kagaku Co., Ltd.) was added dropwise over 3 hours. Stirring was continued while returning epichlorohydrin from the azeotropically distilled water/epichlorohydrin mixture to the reaction system. Stirring was continued for 3 hours after the addition was complete. Then, the reaction mixture was cooled to room temperature, added with 250 g of toluene and 250 g of methyl isobutyl ketone, and washed four times with 500 mL of water. The solvent in the resulting organic phase was removed by distillation under reduced pressure to obtain 113 g of a yellow transparent viscous glycidyl ether (compound 4a, raw material epoxy resin).

化合物4aを50g、メタクリル酸(東京化成社製)7.0g、触媒であるトリフェニルホスフィン(東京化成社製)21mg、BHT(ジブチルヒドロキシトルエン、関東化学社製)11mgを温度計、攪拌機を取り付けたフラスコに入れ、100℃で8時間撹拌した。反応終了後、部分メタクリル化エポキシ化合物(化合物4)を得た。 50 g of compound 4a, 7.0 g of methacrylic acid (manufactured by Tokyo Kasei Co., Ltd.), 21 mg of triphenylphosphine (manufactured by Tokyo Kasei Co., Ltd.) as a catalyst, and 11 mg of BHT (dibutylhydroxytoluene, manufactured by Kanto Kagaku Co., Ltd.) were added with a thermometer and a stirrer. The mixture was placed in a flask and stirred at 100° C. for 8 hours. After completion of the reaction, a partially methacrylated epoxy compound (compound 4) was obtained.

2.オリゴマーB
(1)化合物5

Figure 0007281224000009

化合物5は以下の方法で得た。2. Oligomer B
(1) Compound 5
Figure 0007281224000009

Compound 5 was obtained by the following method.

(化合物5の製造)
ビスフェノールF型エポキシ樹脂(EXA-830CRP、DIC社製)を200g、メタクリル酸(東京化成社製)54g、触媒であるトリフェニルホスフィン(東京化成社製)328mg、BHT(ジブチルヒドロキシトルエン、関東化学社製)50mgを温度計、攪拌機を取り付けたフラスコに入れ、100℃で8時間撹拌した。反応終了後、部分メタクリル化エポキシ化合物(化合物5)を得た。
(Production of compound 5)
200 g of bisphenol F type epoxy resin (EXA-830CRP, manufactured by DIC), 54 g of methacrylic acid (manufactured by Tokyo Kasei Co., Ltd.), 328 mg of triphenylphosphine as a catalyst (manufactured by Tokyo Kasei Co., Ltd.), BHT (dibutylhydroxytoluene, Kanto Chemical Co., Ltd.) 50 mg of the product) was placed in a flask equipped with a thermometer and a stirrer, and stirred at 100° C. for 8 hours. After completion of the reaction, a partially methacrylated epoxy compound (compound 5) was obtained.

(2)化合物6

Figure 0007281224000010

化合物6は、WO2014/057871の第92段落に記載された方法に従って得た。(2) Compound 6
Figure 0007281224000010

Compound 6 was obtained according to the method described in paragraph 92 of WO2014/057871.

3.オリゴマーC
(1)化合物7

Figure 0007281224000011

化合物7は、特開2017-214462号公報の第131段落~第135段落に記載の方法に従って得た。3. Oligomer C
(1) Compound 7
Figure 0007281224000011

Compound 7 was obtained according to the method described in paragraphs 131 to 135 of JP-A-2017-214462.

4.光開始剤
(1)光開始剤1

Figure 0007281224000012

光開始剤1は、WO2012/077720の第58段落に記載された方法に従って得た。4. Photoinitiator (1) Photoinitiator 1
Figure 0007281224000012

Photoinitiator 1 was obtained according to the method described in paragraph 58 of WO2012/077720.

(2)光開始剤2

Figure 0007281224000013

光開始剤2は、WO2012/077720の第60段落に記載された方法に従って得た。(2) Photoinitiator 2
Figure 0007281224000013

Photoinitiator 2 was obtained according to the method described in paragraph 60 of WO2012/077720.

5.熱硬化剤
ポリアミン系化合物(EH-5030S、ADEKA社製、活性水素当量105g/eq)
5. Heat curing agent polyamine compound (EH-5030S, manufactured by ADEKA, active hydrogen equivalent 105 g / eq)

6.その他の成分
(1)フィラー
・有機フィラー;コアシェルタイプ粒子(ゼフィアックF-351、アイカ工業社製)
・無機フィラー;二酸化ケイ素粒子(シーホスターKE-C50、日本触媒社製)
・無機フィラー;フュームドシリカ(チキソ付与剤)(TG-308F、キャボット・スペシャルティケミカルズ社製)
(2)カップリング剤
・シランカップリング剤;3-グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン(KBM-403、信越化学工業社製)
6. Other components (1) Filler/organic filler; core-shell type particles (Zefiac F-351, manufactured by Aica Kogyo Co., Ltd.)
Inorganic filler; silicon dioxide particles (Seahoster KE-C50, manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd.)
Inorganic filler; fumed silica (thixotropic agent) (TG-308F, manufactured by Cabot Specialty Chemicals)
(2) Coupling agent/silane coupling agent; 3-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane (KBM-403, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)

(エポキシ当量の測定)
化合物1~7のメタクリル酸変性前のエポキシ樹脂(原料エポキシ樹脂)についてのエポキシ当量は、JISK7236:2001により測定した。
(Measurement of epoxy equivalent)
The epoxy equivalents of the epoxy resins (raw material epoxy resins) before methacrylic acid modification of compounds 1 to 7 were measured according to JIS K7236:2001.

(芳香環量)
化合物1~7のメタクリル酸変性前のエポキシ樹脂についての芳香環量は、対応する原料エポキシ樹脂の構造式に基づいて算出した。
(Aromatic ring amount)
The aromatic ring content of the epoxy resin before methacrylic acid modification of compounds 1 to 7 was calculated based on the structural formula of the corresponding starting epoxy resin.

(接着強度)
純水洗浄後乾燥させたITO基板(403005XG-10SQ1500A、ジオマテック社製)にエアディスペンサーを用いてポリイミド系配向液(サンエバーSE-7492、日産化学工業社製)を滴下(0.4MPa、5.0秒)した後、スピンコーターにて10秒で5000rpmに達し、その後20秒キープする条件で均一塗布した。均一塗布した後、85℃のホットプレート上でプリベーク(1分)、230℃のオーブンでポストベーク(60分)し、ポリイミド配向膜付基板を作製した。
(adhesion strength)
Polyimide-based alignment liquid (Sunever SE-7492, manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.) was dropped (0.4 MPa, 5.0) using an air dispenser onto an ITO substrate (403005XG-10SQ1500A, manufactured by Geomatec) that had been washed with pure water and dried. After that, the spin coater reached 5000 rpm in 10 seconds and was then kept for 20 seconds for uniform coating. After uniform application, pre-baking (1 minute) on a hot plate at 85° C. and post-baking (60 minutes) in an oven at 230° C. produced a substrate with a polyimide alignment film.

液晶滴下工法用シール剤を、6μmスペーサーを散布したITO基板、ポリイミド配向膜付基板(30mm×30mm×0.5mmt)上の15mm×3mm、15mm×21mmの位置に、貼り合わせ後の液晶滴下工法用シール剤の直径が1.5~2.5mmφの範囲となるように点塗布した。その後、同種の基板(23mm×23mm×0.5mmt)を貼り合わせ、紫外線を積算光量3,000mJ/cmで照射(照射装置:UVX-01224S1、ウシオ電機社製)して硬化させ、120℃オーブンで1時間熱硬化を行い、試験片を作製した。オートグラフ(TG-2kN、ミネベア社製)を用い、試験片を固定して基板の15mm×25mmの位置を5mm/分の速度で押し抜き、ITO基板同士(ITO/ITO)及びポリイミド基板同士(PI/PI(TN))の接着強度を測定した。A sealant for the liquid crystal dropping method was applied to the positions of 15 mm × 3 mm and 15 mm × 21 mm on the ITO substrate with 6 μm spacers and the substrate with polyimide alignment film (30 mm × 30 mm × 0.5 mmt). The diameter of the sealing agent for the substrate was in the range of 1.5 to 2.5 mm. After that, the same type of substrate (23 mm × 23 mm × 0.5 mmt) is bonded together and irradiated with ultraviolet light at an integrated light amount of 3,000 mJ/cm 2 (irradiation device: UVX-01224S1, manufactured by Ushio Inc.) to cure at 120 ° C. Heat curing was performed in an oven for 1 hour to prepare a test piece. Using an autograph (TG-2kN, manufactured by Minebea Co., Ltd.), the test piece is fixed and the position of 15 mm × 25 mm of the substrate is punched out at a speed of 5 mm / min, ITO substrates (ITO / ITO) and polyimide substrates ( The adhesive strength of PI/PI(TN)) was measured.

(透湿度)
液晶滴下工法用シール剤を、直径3.6mm~3.8mm厚さ0.28mm~0.32mmになるように100mm×100mm厚さ0.1mmのPETフィルムにより挟み、100mW/cmの紫外線照射照度で両面を1,500mJ/cmずつの光エネルギーで照射を行い、120℃の熱風オーブンで1時間熱硬化を行い透湿度測定用のサンプルとした。透湿度測定はJISK0208:1976に準じ、65℃/95%の恒温恒湿槽を用い、透湿カップ法での重量変化より、透湿度を算出した。透湿度の単位はg/(m・24h)である。
(moisture permeability)
A sealant for the liquid crystal dropping method is sandwiched between PET films of 100 mm × 100 mm and a thickness of 0.1 mm so that the diameter is 3.6 mm to 3.8 mm and the thickness is 0.28 mm to 0.32 mm, and UV irradiation is performed at 100 mW/cm 2 . Both surfaces were irradiated with light energy of 1,500 mJ/cm 2 at an illuminance, and heat curing was performed in a hot air oven at 120° C. for 1 hour to obtain a sample for moisture permeability measurement. Moisture permeability was measured according to JISK0208:1976, using a constant temperature and humidity chamber of 65°C/95%, and calculating the moisture permeability from the weight change by the moisture permeable cup method. The unit of moisture permeability is g/(m 2 ·24h).

(液晶テストセルにおけるシールパス試験)
配向膜(SE-5662・日産化学工業株式会社製)付きITOガラス基板上(厚さ0.7mm)に、シールディスペンサーを用いて、液晶滴下工法用シール剤を、それぞれ25mm×25mmの枠状のパターンにディスペンス塗布した。その後、基板上に液晶(MLC-6609・メルク株式会社製)を液晶滴下工法により滴下して上下基板を貼り合わせ、3分後に紫外線(UV照射装置:UVX-01224S1、ウシオ電機社製、積算光量:3,000mJ/cm)を照射して光硬化させ、その後120℃の熱風オーブンで60分熱硬化を行い、テストセルを作製した。
作製した液晶テストセルについて、シールパスがあるものを×、シールパスが見られないものを○とした。
(Seal pass test in liquid crystal test cell)
On an ITO glass substrate (thickness 0.7 mm) with an alignment film (SE-5662, manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.), a sealant for the liquid crystal dropping method is applied using a seal dispenser to a frame shape of 25 mm × 25 mm. A pattern was applied by dispensing. After that, liquid crystal (MLC-6609, manufactured by Merck Co., Ltd.) is dropped onto the substrate by the liquid crystal dropping method, and the upper and lower substrates are bonded together. : 3,000 mJ/cm 2 ) for photocuring, and then heat curing for 60 minutes in a hot air oven at 120°C to prepare a test cell.
Regarding the prepared liquid crystal test cells, those with seal paths were evaluated as x, and those with no seal paths were evaluated as ○.

結果を表1及び表2にまとめる。 The results are summarized in Tables 1 and 2.

Figure 0007281224000014
Figure 0007281224000014

Figure 0007281224000015
Figure 0007281224000015

実施例の液晶滴下工法用シール剤は、配向膜に対する接着性に優れ、低透湿性に優れる硬化物を与えた。また、実施例の液晶滴下工法用シール剤は、シールパス試験においてシールパスが見られず、液晶をシールできた。
実施例1及び2の比較により、オリゴマーBがビスフェノールF型の構造を有する場合、低透湿性に優れていた。
実施例1及び3の比較により、オリゴマーAがビスフェノールF型の構造を有する場合、低透湿性に優れていた。
実施例1及び4の比較により、オリゴマーA及びオリゴマーBの合計100重量部に対して、オリゴマーAの含有量が少なくなる場合、低透湿性に優れていた。
実施例4~6の比較により、オリゴマーAの原料エポキシ樹脂のエポキシ当量及び芳香環量がより好ましい範囲である場合、低透湿性に優れていた。特に、実施例5及び6の比較により、オリゴマーAの原料エポキシ樹脂のエポキシ当量が大きくなる場合、低透湿性により優れていた。
The sealant for the liquid crystal dropping method of the example gave a cured product having excellent adhesiveness to the alignment film and excellent low moisture permeability. Further, in the seal pass test, no seal pass was observed with the sealant for the liquid crystal dripping method of the example, and the liquid crystal could be sealed.
By comparing Examples 1 and 2, when the oligomer B had a bisphenol F type structure, it was excellent in low moisture permeability.
By comparing Examples 1 and 3, when the oligomer A had a bisphenol F type structure, it was excellent in low moisture permeability.
By comparing Examples 1 and 4, when the content of oligomer A is small with respect to a total of 100 parts by weight of oligomer A and oligomer B, low moisture permeability is excellent.
By comparing Examples 4 to 6, when the epoxy equivalent weight and the aromatic ring weight of the raw material epoxy resin of oligomer A were within the more preferable ranges, low moisture permeability was excellent. In particular, by comparing Examples 5 and 6, when the epoxy equivalent of the raw material epoxy resin of the oligomer A was large, the low moisture permeability was excellent.

一方、比較例1の液晶滴下工法用シール剤は、オリゴマーAのみを含むため、比較例1の液晶滴下工法用シール剤を用いて得られた硬化物は、透湿性が高かった。
比較例2の液晶滴下工法用シール剤は、オリゴマーBのみを含むため、比較例2の液晶滴下工法用シール剤は、配向膜に対する接着性に劣っており、比較例2の液晶滴下工法用シール剤を用いて得られた硬化物は、透湿性が高かった。
比較例3の液晶滴下工法用シール剤は、オリゴマーBを2種含む。また、比較例3の液晶滴下工法用シール剤は、オリゴマーAの代わりに、「エポキシ当量が200g/epo未満であり、かつ、芳香環量が0.43以上である、オリゴマー」である化合物5を含むため、比較例3の液晶滴下工法用シール剤は、配向膜に対する接着性に劣っており、比較例3の液晶滴下工法用シール剤を用いて得られた硬化物は、透湿性が高かった。
比較例4の液晶滴下工法用シール剤は、オリゴマーAの代わりに、「エポキシ当量が200g/epo以上であり、かつ、芳香環量が0.43未満である、オリゴマー」である化合物7を含むため、比較例4の液晶滴下工法用シール剤を用いて得られた硬化物は、透湿性が高かった。
On the other hand, since the sealant for the liquid crystal dropping method of Comparative Example 1 contained only the oligomer A, the cured product obtained using the sealant for the liquid crystal dropping method of Comparative Example 1 had high moisture permeability.
Since the sealant for liquid crystal dropping method of Comparative Example 2 contains only oligomer B, the sealant for liquid crystal dropping method of Comparative Example 2 is inferior in adhesion to the alignment film, and the sealant for liquid crystal dropping method of Comparative Example 2 is inferior in adhesion to the alignment film. The cured product obtained using the agent had high moisture permeability.
The sealant for liquid crystal dripping method of Comparative Example 3 contains two kinds of oligomers B. In addition, the sealant for the liquid crystal dripping method of Comparative Example 3 is compound 5, which is "an oligomer having an epoxy equivalent of less than 200 g/epo and an aromatic ring content of 0.43 or more" instead of oligomer A. Therefore, the sealing compound for liquid crystal dropping method of Comparative Example 3 has poor adhesion to the alignment film, and the cured product obtained using the sealing compound for liquid crystal dropping method of Comparative Example 3 has high moisture permeability. rice field.
The sealant for liquid crystal dropping method of Comparative Example 4 contains compound 7, which is "an oligomer having an epoxy equivalent of 200 g/epo or more and an aromatic ring weight of less than 0.43" instead of oligomer A. Therefore, the cured product obtained by using the sealant for liquid crystal dripping method of Comparative Example 4 had high moisture permeability.

Claims (3)

硬化性樹脂、光開始剤及び熱硬化剤を含む、液晶滴下工法用シール剤であって、
硬化性樹脂が、オリゴマーA及びオリゴマーBを含み、
オリゴマーAが、エポキシ当量が200g/epo以上であり、かつ、芳香環量が0.43以上であるエポキシ樹脂を部分(メタ)アクリル変性した化合物であってビスフェノールF型の構造を有する化合物であるか、又は、
オリゴマーAが、エポキシ当量が200g/epo以上であり、かつ、芳香環量が0.43以上である、下記式(1):
Figure 0007281224000016

〔式中、
及びG は、独立に、グリシジル基又はメチルグリシジル基であり、
11 は、水素原子又はメチル基であり、
は、置換されていてもよい炭素原子数6~20のアリール-O-基、置換されていてもよい炭素原子数6~20のアリール-(O-R n1 -O-基(式中、R は、炭素原子数1~6のアルキレンであり、n1は、1~10の整数である)、又は、置換されていてもよい総原子数5~30のヘテロアリール基であり、
は、炭素原子数6~20のアリーレン基、炭素原子数1~4のアルキレン-炭素原子数6~20のアリーレン基、炭素原子数1~4のアルキレン-炭素原子数6~20のアリーレン-炭素原子数1~4のアルキレン基、炭素原子数6~20のアリーレン-炭素原子数1~4のアルキレン-炭素原子数6~20のアリーレン基又は基:-R -(O-R n2 -(式中、R は、炭素原子数1~6のアルキレン基であり、n2は、0又は1~6の整数である)であり、ここで、炭素原子数6~20のアリーレン-炭素原子数1~4のアルキレン-炭素原子数6~20のアリーレン基における炭素原子数1~4のアルキレン基は、非置換であるか、又は、トリフルオロメチル基若しくはフェニル基で置換されているが、
但し、分子中のベンゼン環の数は3以上であり、
は、以下:
Figure 0007281224000017

で表される基ではない〕
で表されるエポキシ樹脂を部分(メタ)アクリル変性した化合物であり、
オリゴマーBが、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールAD型エポキシ樹脂、ビスフェノールA型エポキシ樹脂を部分(メタ)アクリル変性した化合物、ビスフェノールF型エポキシ樹脂を部分(メタ)アクリル変性した化合物及びビスフェノールAD型エポキシ樹脂を部分(メタ)アクリル変性した化合物からなる群から選択される1種以上であここで、ビスフェノールA型エポキシ樹脂は、ビスフェノールAとエピクロルヒドリンとの縮合生成物であるエポキシ樹脂であり、ビスフェノールF型エポキシ樹脂は、ビスフェノールFとエピクロルヒドリンとの縮合生成物であるエポキシ樹脂であり、ビスフェノールAD型エポキシ樹脂は、ビスフェノールADとエピクロルヒドリンとの縮合生成物であるエポキシ樹脂である、液晶滴下工法用シール剤。
A sealant for a liquid crystal dropping method, comprising a curable resin, a photoinitiator and a thermosetting agent,
the curable resin comprises an oligomer A and an oligomer B;
Oligomer A is a compound obtained by partially (meth)acrylic modifying an epoxy resin having an epoxy equivalent of 200 g/epo or more and an aromatic ring weight of 0.43 or more, and having a bisphenol F type structure. or
Oligomer A has an epoxy equivalent of 200 g/epo or more and an aromatic ring weight of 0.43 or more, represented by the following formula (1):
Figure 0007281224000016

[In the formula,
G 1 and G 2 are independently a glycidyl group or a methylglycidyl group;
R 11 is a hydrogen atom or a methyl group,
X 1 is an optionally substituted aryl-O- group having 6 to 20 carbon atoms, an optionally substituted aryl-(OR 1 ) n1 -O- group having 6 to 20 carbon atoms ( wherein R 1 is an alkylene having 1 to 6 carbon atoms and n1 is an integer of 1 to 10), or an optionally substituted heteroaryl group having a total number of atoms of 5 to 30 ,
Y 1 is an arylene group having 6 to 20 carbon atoms, alkylene having 1 to 4 carbon atoms-arylene group having 6 to 20 carbon atoms, alkylene having 1 to 4 carbon atoms-arylene having 6 to 20 carbon atoms - alkylene group having 1 to 4 carbon atoms, arylene group having 6 to 20 carbon atoms - alkylene group having 1 to 4 carbon atoms - arylene group or group having 6 to 20 carbon atoms: -R 2 - ( OR 2 ) n2 — (wherein R 2 is an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms and n2 is 0 or an integer of 1 to 6), wherein arylene having 6 to 20 carbon atoms The alkylene group having 1 to 4 carbon atoms in the alkylene group having 1 to 4 carbon atoms and the arylene group having 6 to 20 carbon atoms is unsubstituted or substituted with a trifluoromethyl group or a phenyl group. there is,
provided that the number of benzene rings in the molecule is 3 or more,
Y 1 is:
Figure 0007281224000017

is not a group represented by]
is a compound obtained by partially (meth)acrylic modifying the epoxy resin represented by
Oligomer B is a bisphenol A type epoxy resin, a bisphenol F type epoxy resin, a bisphenol AD type epoxy resin, a compound obtained by partially (meth)acrylic modifying a bisphenol A type epoxy resin, or a partially (meth)acrylic modifying bisphenol F type epoxy resin. compound and a compound obtained by partially (meth)acrylic modifying a bisphenol AD type epoxy resin, wherein the bisphenol A type epoxy resin is a condensation product of bisphenol A and epichlorohydrin. A bisphenol F type epoxy resin is an epoxy resin that is a condensation product of bisphenol F and epichlorohydrin, and a bisphenol AD type epoxy resin is an epoxy resin that is a condensation product of bisphenol AD and epichlorohydrin. There is a sealant for the liquid crystal drop method.
オリゴマーAが、1分子中にベンゼン環を3つ以上有し、かつ、ビスフェノールF型の構造を有する化合物である、請求項1に記載の液晶滴下工法用シール剤。 2. The sealant for liquid crystal dripping method according to claim 1, wherein the oligomer A is a compound having three or more benzene rings in one molecule and a bisphenol F type structure . オリゴマーBが、ビスフェノールF型エポキシ樹脂又はビスフェノールF型エポキシ樹脂を部分(メタ)アクリル変性した化合物である、請求項1又は2に記載の液晶滴下工法用シール剤。 3. The sealant for liquid crystal dripping method according to claim 1 , wherein the oligomer B is a bisphenol F type epoxy resin or a compound obtained by partially (meth)acrylic modifying a bisphenol F type epoxy resin.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007297470A (en) 2006-04-28 2007-11-15 Dainippon Ink & Chem Inc Curable composition, its cured product, sealing agent for liquid crystal display element, liquid crystal display element and vinyl group-containing epoxy resin
JP2018105989A (en) 2016-12-26 2018-07-05 日本化薬株式会社 Sealing agent for display device and display device using the same

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100776721B1 (en) * 2005-10-05 2007-11-28 주식회사 두산 Sealantcomposition for use of LCD device and seals using the same
TWI680994B (en) * 2014-03-31 2020-01-01 日商協立化學產業股份有限公司 Composition of curable resin with excellent flexibility after curing, (meth)acrylic curable resin, and liquid crystal sealant
JP6471620B2 (en) 2015-06-15 2019-02-20 協立化学産業株式会社 Epoxy compound, partially esterified epoxy compound and curable composition containing them
KR102149717B1 (en) * 2016-11-21 2020-08-31 교리쯔 가가꾸 산교 가부시키가이샤 Resin composition for electronic device

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007297470A (en) 2006-04-28 2007-11-15 Dainippon Ink & Chem Inc Curable composition, its cured product, sealing agent for liquid crystal display element, liquid crystal display element and vinyl group-containing epoxy resin
JP2018105989A (en) 2016-12-26 2018-07-05 日本化薬株式会社 Sealing agent for display device and display device using the same

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