JP7277136B2 - Epoxy resin, epoxy resin composition, and cured product thereof - Google Patents

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Description

本発明は、エポキシ樹脂、エポキシ樹脂組成物、及びエポキシ樹脂硬化物に関し、詳しくは、半導体封止、積層板、放熱基板等の電気・電子部品用絶縁材料に有用な常温で固形としての取扱性、成形時の低粘度性、溶剤溶解性に優れたエポキシ樹脂、エポキシ樹脂組成物、及びそれらを硬化させて得られる耐熱性、熱分解安定性、熱伝導性、耐トラッキング性に優れるエポキシ樹脂硬化物に関する。 TECHNICAL FIELD The present invention relates to epoxy resins, epoxy resin compositions, and cured epoxy resins. More specifically, the present invention relates to an epoxy resin, an epoxy resin composition, and a cured epoxy resin, which are useful as insulating materials for electric and electronic parts such as semiconductor encapsulation, laminates, and heat dissipation substrates, and have good handleability as solids at room temperature. , Epoxy resins and epoxy resin compositions with low viscosity during molding and excellent solvent solubility, and cured epoxy resins with excellent heat resistance, thermal decomposition stability, thermal conductivity, and tracking resistance obtained by curing them. about things.

エポキシ樹脂は工業的に幅広い用途で使用されてきているが、その要求性能は近年ますます高度化している。この様な中で、近年開発が進められているパワーデバイスにおいては、デバイスのパワー密度の更なる向上が求められており、その結果、動作時のチップ表面の温度は200℃以上となることから、その温度に耐え得る封止材料の開発が望まれている。 Epoxy resins have been used in a wide range of industrial applications, and their required performance has become increasingly sophisticated in recent years. Under these circumstances, power devices, which have been under development in recent years, are required to have higher power densities. , the development of a sealing material that can withstand such temperatures is desired.

このような中、特許文献1にはビフェノール‐ビフェニルアラルキル構造を有するエポキシ樹脂、エポキシ樹脂組成物及び硬化物が開示されており、耐熱性、耐湿性、及び熱伝導性に優れることが示されている。 特許文献2にもビフェノール‐ビフェニルアラルキル構造を有するエポキシ樹脂組成物、エポキシ樹脂硬化物の製造方法、及び半導体装置が開示されており、耐熱性、熱分解安定性に優れる硬化物が得られることが示されている。しかしながら、その取扱い性は100℃以上の融点を示す結晶性のエポキシ樹脂であることから、硬化剤等との混合処理を行う場合には高温での溶融混練が必要であった。高温では、エポキシ樹脂と硬化剤の硬化反応が急速に進みゲル化時間が短くなるため、混合処理は厳しく制限されていた。さらに、強い結晶性を示すことから溶剤溶解性に課題があり、積層板への適用が困難であった。 Under these circumstances, Patent Document 1 discloses an epoxy resin, an epoxy resin composition, and a cured product having a biphenol-biphenylaralkyl structure, which are shown to be excellent in heat resistance, moisture resistance, and thermal conductivity. there is Patent Document 2 also discloses an epoxy resin composition having a biphenol-biphenylaralkyl structure, a method for producing a cured epoxy resin product, and a semiconductor device, and it is believed that a cured product having excellent heat resistance and thermal decomposition stability can be obtained. It is shown. However, since it is a crystalline epoxy resin that exhibits a melting point of 100° C. or higher, it is difficult to handle, so melt-kneading at a high temperature is required when mixed with a curing agent or the like. At elevated temperatures, the curing reaction between the epoxy resin and the hardener accelerates rapidly, shortening the gelation time and severely limiting the mixing process. Furthermore, since it exhibits strong crystallinity, it has a problem of solubility in solvents, making it difficult to apply it to laminates.

特許文献3にビフェノール‐ビフェニルアラルキル構造を有するエポキシ樹脂の結晶成分を除去することで結晶性を低減する提案があるが、溶剤溶解性が不十分であり、実用性に課題があった。また、成形性および溶剤溶解性の向上のために別のエポキシ樹脂を混合する場合、樹脂の融点が低下して均一混合しやすくなる一方、その硬化物の物性である耐熱性、熱分解安定性、機械強度、熱伝導率を維持することが困難となる。特許文献4では、物性を維持可能な組成物が提案されているが、100℃以下での溶融混練は困難であり、溶剤溶解性も積層板用途への実用性には不十分であった。 Patent Document 3 proposes to reduce the crystallinity by removing the crystalline component of an epoxy resin having a biphenol-biphenylaralkyl structure, but the solvent solubility is insufficient and there is a problem in practicality. In addition, when another epoxy resin is mixed to improve moldability and solvent solubility, the melting point of the resin is lowered, making it easier to mix uniformly. , it becomes difficult to maintain mechanical strength and thermal conductivity. Patent Document 4 proposes a composition capable of maintaining physical properties, but melt-kneading at 100° C. or less is difficult, and solvent solubility is also insufficient for practical use in laminates.

WO2011/074517号WO2011/074517 WO2014/065152号WO2014/065152 特開2017-95524号公報JP 2017-95524 A 特開2015-160893号公報JP 2015-160893 A

本発明の目的は、100℃以下の溶融混練性が良好であり、溶剤溶解性に優れるとともに、耐熱性、熱分解安定性、熱伝導性、耐トラッキング性にも優れた硬化物を与える電気・電子部品類の封止、回路基板材料等に有用なエポキシ樹脂組成物を提供すること、及びその硬化物を提供することにある。また、他の目的はこのエポキシ樹脂組成物に使用されるエポキシ樹脂と、このエポキシ樹脂の中間体として適する多価ヒドロキシ樹脂を提供することにある。 An object of the present invention is to provide a cured product that has good melt-kneadability at 100° C. or less, excellent solvent solubility, and excellent heat resistance, thermal decomposition stability, thermal conductivity, and tracking resistance. An object of the present invention is to provide an epoxy resin composition useful for encapsulation of electronic parts, circuit board materials and the like, and to provide a cured product thereof. Another object is to provide an epoxy resin used in this epoxy resin composition and a polyhydric hydroxy resin suitable as an intermediate for this epoxy resin.

本発明者等は、鋭意検討し、特定の構造を有するエポキシ樹脂が、上記の課題を解決することが期待されること、そしてその硬化物が耐熱性、熱分解安定性、熱伝導性、耐トラッキング性に効果を発現することを見出した。 The present inventors have made intensive studies and found that an epoxy resin having a specific structure is expected to solve the above problems, and that the cured product has heat resistance, thermal decomposition stability, thermal conductivity, and resistance. It was found that the effect was exhibited in the tracking property.

すなわち、本発明は、下記一般式(1)で表されるエポキシ樹脂であって、エポキシ当量が180~220g/eq、軟化点が40~100℃の範囲であることを特徴とするエポキシ樹脂である。

Figure 0007277136000001

(ここで、nは0~20の数を示し、Gはグリシジル基を示し、OG基を2つ有するビフェニル環は4,4’体及び2,2’体を含む。) That is, the present invention provides an epoxy resin represented by the following general formula (1), characterized by having an epoxy equivalent of 180 to 220 g/eq and a softening point of 40 to 100°C. be.
Figure 0007277136000001

(Here, n represents a number from 0 to 20, G represents a glycidyl group, and biphenyl rings having two OG groups include 4,4' and 2,2' isomers.)

上記一般式(1)において、OG基を2つ有するビフェニル環中に4,4’体が占める割合が30~90モル%であり、2,2’体が占める割合が10~70モル%であることがよく、4,4’体が占める割合が50~90モル%であり、2,2’体が占める割合が10~50モル%であることが好ましい。 In the above general formula (1), the proportion of the 4,4' form in the biphenyl ring having two OG groups is 30 to 90 mol%, and the proportion of the 2,2' form is 10 to 70 mol%. It is preferable that the ratio of the 4,4'-isomer is 50 to 90 mol% and the ratio of the 2,2'-isomer is 10 to 50 mol%.

上記エポキシ樹脂は、4,4’-ジヒドロキシビフェニルと、2,2’-ジヒドロキシビフェニルを含むジヒドロキシビフェニルの混合物と、ビフェニル構造を有する芳香族架橋剤とを反応させて多価ヒドロキシ樹脂とした後、エピクロルヒドリンを反応して得られるものであることができる。
上記ジヒドロキシビフェニルの混合物が、4,4’-ジヒドロキシビフェニルを50~90重量%と、2,2’-ジヒドロキシビフェニルを10~50重量%含むことができ、また、芳香族架橋剤が、4,4’-ビスクロロメチルビフェニルであることができる。
The epoxy resin is obtained by reacting a mixture of dihydroxybiphenyl containing 4,4'-dihydroxybiphenyl and 2,2'-dihydroxybiphenyl with an aromatic cross-linking agent having a biphenyl structure to obtain a polyhydroxy resin, It can be obtained by reacting epichlorohydrin.
The mixture of dihydroxybiphenyls can comprise 50-90% by weight of 4,4'-dihydroxybiphenyl and 10-50% by weight of 2,2'-dihydroxybiphenyl, and the aromatic cross-linking agent comprises 4, 4'-bischloromethylbiphenyl.

また本発明は、下記一般式(2)で表される多価ヒドロキシ樹脂であって、OH基を2つ有するビフェニル環が4,4’体及び2,2’体を含むことを特徴とするエポキシ樹脂である。

Figure 0007277136000002

(ここで、nは0~20の数を示す。) The present invention also provides a polyhydric hydroxy resin represented by the following general formula (2), wherein the biphenyl ring having two OH groups includes 4,4' and 2,2' isomers. Epoxy resin.
Figure 0007277136000002

(Here, n represents a number from 0 to 20.)

また、本発明は上記のエポキシ樹脂、及び硬化剤を必須成分とすることを特徴とするエポキシ樹脂組成物であり、また、このエポキシ樹脂硬化物を硬化させたことを特徴とするエポキシ樹脂硬化物である。 The present invention also provides an epoxy resin composition comprising the above epoxy resin and a curing agent as essential components, and an epoxy resin cured product obtained by curing the epoxy resin cured product. is.

更に本発明は、4,4’-ジヒドロキシビフェニルと、2,2’-ジヒドロキシビフェニルを含むジヒドロキシビフェニルの混合物と、ビフェニル構造を有する芳香族架橋剤とを反応させて多価ヒドロキシ樹脂とした後、エピクロルヒドリンを反応させることを特徴とする上記のエポキシ樹脂の製造方法である。 Furthermore, the present invention provides a polyhydric hydroxy resin by reacting a mixture of dihydroxybiphenyl containing 4,4'-dihydroxybiphenyl and 2,2'-dihydroxybiphenyl with an aromatic cross-linking agent having a biphenyl structure, The method for producing the above epoxy resin is characterized by reacting epichlorohydrin.

本発明のエポキシ樹脂は、100℃以下での溶融混練性が良好であり、溶剤溶解性に優れるので、積層、成形、注型、接着等の用途に使用されるエポキシ樹脂組成物及びその硬化物に適する。そして、この硬化物は耐熱性、熱分解安定性、熱伝導性、耐トラッキング性にも優れたものとなるので、電気・電子部品類の封止、回路基板材料等に好適である。 The epoxy resin of the present invention has good melt-kneadability at 100° C. or less and excellent solvent solubility. Suitable for The cured product is also excellent in heat resistance, thermal decomposition stability, thermal conductivity and tracking resistance, and is suitable for sealing electric/electronic parts, circuit board materials, and the like.

実施例1で得られたエポキシ樹脂のGPCチャートGPC chart of the epoxy resin obtained in Example 1

以下、本発明を詳細に説明する。 The present invention will be described in detail below.

本発明のエポキシ樹脂は、上記一般式(1)で表され、エポキシ当量(g/eq.)は180~220である。nは繰り返し数(数平均)であり、0~20の数を示し、Gはグリシジル基である。好ましくは、nの値が異なる成分の混合物である。一般式(1)において、ビフェニル環に結合する2つのOG基の置換位置は、4,4’位と2,2’位であることが好ましく、4,4’体(4,4’位構造を有する単位)が全体の30~90モル%であることがより好ましく、50~90モル%であることが更に好ましい。また、2,2’体が全体の10~70モル%であることが好ましく、10~50モル%であることが更に好ましい。
別の観点からは、4,4’体が100/200~100/110(モル比)の範囲にあることがより好ましい。50~90モル%が4,4’位構造で、10~50モル%が2,2’位構造であることが更に好ましい。4,4’体と2,2’体以外の異性体構造が含まれてもよいが、10モル%以下が好ましい。
The epoxy resin of the present invention is represented by the above general formula (1) and has an epoxy equivalent (g/eq.) of 180-220. n is the number of repetitions (number average) and represents a number from 0 to 20, and G is a glycidyl group. Preferred are mixtures of components with different values of n. In general formula (1), the substitution positions of the two OG groups bonded to the biphenyl ring are preferably the 4,4′ and 2,2′ positions, and the 4,4′ structure (4,4′ position structure Units having a) is more preferably 30 to 90 mol% of the whole, more preferably 50 to 90 mol%. The 2,2' form is preferably 10 to 70 mol% of the whole, more preferably 10 to 50 mol%.
From another point of view, it is more preferable that the 4,4' isomer is in the range of 100/200 to 100/110 (molar ratio). More preferably, 50 to 90 mol % are 4,4'-position structures and 10 to 50 mol % are 2,2'-position structures. Isomeric structures other than 4,4' and 2,2' may be contained, but are preferably 10 mol % or less.

本発明のエポキシ樹脂の軟化点は、40~100℃の範囲である。軟化点が40℃より低いと液状もしくは半固形状のエポキシ樹脂となるために取扱性が困難となり、100℃よりも高いと溶融混練性が低下し、結晶性を有する場合はさらに溶剤溶解性も低下してしまう。 The softening point of the epoxy resin of the present invention is in the range of 40-100°C. If the softening point is lower than 40°C, the epoxy resin becomes liquid or semi-solid, making it difficult to handle. will decline.

本発明のエポキシ樹脂は、上記式(2)で表される多価ヒドロキシ樹脂とエピクロロヒドリンを反応させることにより製造することができる。この多価ヒドロキシ樹脂は、本発明の多価ヒドロキシ樹脂でもあり、OH基を2つ有するビフェニル環が4,4’体及び2,2’体を含む。4,4’体、2,2’体の意味は上記本発明のエポキシ樹脂における説明と同じであり、好ましい存在量も同様である。 The epoxy resin of the present invention can be produced by reacting the polyhydric hydroxy resin represented by the above formula (2) with epichlorohydrin. This polyvalent hydroxy resin is also the polyvalent hydroxy resin of the present invention, and includes 4,4' and 2,2' biphenyl rings having two OH groups. The meanings of the 4,4' and 2,2' isomers are the same as those described for the epoxy resin of the present invention, and the preferred abundances are also the same.

そして、この多価ヒドロキシ樹脂は、ビフェノール類と下記式(3)で表されるビフェニル構造を有する芳香族系縮合剤とを反応させることにより製造することができる。

Figure 0007277136000003

(ここで、Xは水酸基、ハロゲン原子又は炭素数1~6のアルコキシ基を示す。) This polyhydric hydroxy resin can be produced by reacting biphenols with an aromatic condensing agent having a biphenyl structure represented by the following formula (3).
Figure 0007277136000003

(Here, X represents a hydroxyl group, a halogen atom, or an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms.)

合成原料のビフェノール類としては、4,4’-ジヒドロキシビフェニル、2,2’-ジヒドロキシビフェニル等のジヒドロキシビフェニル類が挙げられる。4,4’-ジヒドロキシビフェニルのみを用いた場合には結晶性が高くなるため、2,2’-ジヒドロキシビフェニルと併用することが溶剤溶解性の観点からは好ましい。4,4’-ジヒドロキシビフェニルは、上記4,4’体を与え、2,2’-ジヒドロキシビフェニルは、上記2,2’体を与える。 Biphenols used as starting materials for synthesis include dihydroxybiphenyls such as 4,4'-dihydroxybiphenyl and 2,2'-dihydroxybiphenyl. When 4,4'-dihydroxybiphenyl is used alone, the crystallinity increases, so it is preferable to use it together with 2,2'-dihydroxybiphenyl from the viewpoint of solvent solubility. 4,4'-dihydroxybiphenyl gives the 4,4' isomer, and 2,2'-dihydroxybiphenyl gives the 2,2' isomer.

好ましくは、ビフェノール類として、4,4’-ジヒドロキシビフェニルと2,2’-ジヒドロキシビフェニルを使用し、4,4’-ジヒドロキシビフェニル30~90重量%と、2,2’-ジヒドロキシビフェニル10~70重量%を含むジヒドロキシビフェニルの混合物を使用する。好ましくは4,4’-ジヒドロキシビフェニル50~90重量%と、2,2’-ジヒドロキシビフェニル10~50重量%を含むジヒドロキシビフェニルの混合物を使用する。ジヒドロキシビフェニルの混合物には上記以外のジヒドロキシビフェニルを含むことができるが、10~50重量%以下が好ましい。
4,4’-ジヒドロキシビフェニルの割合が増えるとエポキシ樹脂とされたときの軟化点は上昇するが、溶解性が低下するので、上記範囲の使用量とすることがよい。
Preferably, 4,4'-dihydroxybiphenyl and 2,2'-dihydroxybiphenyl are used as biphenols, and 30 to 90% by weight of 4,4'-dihydroxybiphenyl and 10 to 70% by weight of 2,2'-dihydroxybiphenyl are used. A mixture of dihydroxybiphenyls containing % by weight is used. Preferably a mixture of dihydroxybiphenyls containing 50-90% by weight of 4,4'-dihydroxybiphenyl and 10-50% by weight of 2,2'-dihydroxybiphenyl is used. The mixture of dihydroxybiphenyls can contain dihydroxybiphenyls other than those mentioned above, but preferably 10 to 50% by weight or less.
As the proportion of 4,4'-dihydroxybiphenyl increases, the softening point of the epoxy resin increases, but the solubility decreases.

上記式(3)において、Xは水酸基、ハロゲン原子又は炭素数1~6のアルコキシ基を示す。芳香族系縮合剤として、具体的には、4,4’-ビスヒドロキシメチルビフェニル、4,4’-ビスクロロメチルビフェニル、4,4’-ビスブロモメチルビフェニル、4,4’-ビスメトキシメチルビフェニル、4,4’-ビスエトキシメチルビフェニルが挙げられる。反応性の観点からは、4,4’-ビスヒドロキシメチルビフェニル、又は4,4’-ビスクロロメチルビフェニルが好ましく、イオン性不純分低減の観点からは、4,4’-ビスヒドロキシメチルビフェニル、又は4,4’-ビスメトキシメチルビフェニルが好ましい。 In the above formula (3), X represents a hydroxyl group, a halogen atom or an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms. Specific examples of aromatic condensing agents include 4,4'-bishydroxymethylbiphenyl, 4,4'-bischloromethylbiphenyl, 4,4'-bisbromomethylbiphenyl, 4,4'-bismethoxymethyl biphenyl, 4,4'-bisethoxymethylbiphenyl. From the viewpoint of reactivity, 4,4'-bishydroxymethylbiphenyl or 4,4'-bischloromethylbiphenyl is preferred, and from the viewpoint of reducing ionic impurities, 4,4'-bishydroxymethylbiphenyl, or 4,4'-bismethoxymethylbiphenyl is preferred.

ビフェノール類と芳香族系縮合剤とを反応させる際のモル比は、一般的にはビフェノール類1モルに対して、芳香族系縮合剤0.1~0.5モルの範囲であり、より好ましくは0.2~0.4モルの範囲である。0.1モルより少ないと得られる多価ヒドロキシ樹脂のn=0体の比率が高くなり、結晶性を示すなど溶解性の低下が懸念される。一方、0.5モルよりも多いと高分子量化することで軟化点および溶融粘度が高くなり、取扱い作業性、成形性に支障をきたす。 The molar ratio in reacting the biphenols and the aromatic condensing agent is generally in the range of 0.1 to 0.5 mol of the aromatic condensing agent per 1 mol of the biphenols, and more preferably. is in the range of 0.2-0.4 mol. If it is less than 0.1 mol, the resulting polyhydric hydroxy resin will have a high ratio of n=0 isomers, and there is a concern that the solubility may decrease, such as exhibiting crystallinity. On the other hand, when the amount is more than 0.5 mol, the softening point and melt viscosity are increased due to the increase in molecular weight, which impairs handling workability and moldability.

ビフェノール類と芳香族系縮合剤との反応は、無触媒、又は無機酸、有機酸等の酸触媒の存在下に行うことができる。4,4’-ビスクロロメチルビフェニルを用いる際には、無触媒下で反応させることもできるが、一般的に、クロロメチル基と水酸基が反応してエーテル結合が生じるなどの副反応を抑えるために、酸性触媒の存在下に行うことがよい。この酸性触媒としては、周知の無機酸、有機酸より適宜選択することができ、例えば、塩酸、硫酸、燐酸等の鉱酸や、ギ酸、シュウ酸、トリフルオロ酢酸、p-トルエンスルホン酸、メタスルホン酸、トリフルオロメタスルホン酸等の有機酸や、塩化亜鉛、塩化アルミニウム、塩化鉄、三フッ化ホウ素等のルイス酸、あるいは固体酸等が挙げられる。 The reaction between the biphenols and the aromatic condensing agent can be carried out without a catalyst or in the presence of an acid catalyst such as an inorganic acid or an organic acid. When using 4,4'-bischloromethylbiphenyl, the reaction can be carried out without a catalyst, but in general, the chloromethyl group reacts with the hydroxyl group to suppress side reactions such as formation of an ether bond. Secondly, it is preferable to carry out in the presence of an acidic catalyst. The acidic catalyst can be appropriately selected from well-known inorganic acids and organic acids. Acids, organic acids such as trifluoromethosulfonic acid, Lewis acids such as zinc chloride, aluminum chloride, iron chloride and boron trifluoride, solid acids, and the like.

通常、この反応は100~250℃で1~20時間行う。好ましくは100~180℃で、より好ましくは140~180℃で行うとよい。反応温度が低いと反応性が乏しく時間を要してしまい、反応温度が高いと樹脂の分解の恐れがある。 The reaction is usually carried out at 100-250° C. for 1-20 hours. The temperature is preferably 100 to 180°C, more preferably 140 to 180°C. If the reaction temperature is low, the reactivity will be poor and time will be required, and if the reaction temperature is high, the resin may decompose.

反応の際に溶剤として、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、エチレングリコール、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ジエチレングリコールジメチルエーテル、トリグライム等のアルコール類や、ベンゼン、トルエン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等の芳香族化合物などを使用することがよく、これらの中でエチルセロソルブ、ジエチレングリコールジメチルエーテル、トリグライムなどが特に好ましい。反応終了後、得られた多価ヒドロキシ樹脂は、減圧留去、水洗又は貧溶剤中での再沈殿等の方法により溶剤を除去してもよいが、溶剤を残したままエポキシ化反応の原料として用いてもよい。 Examples of solvents used in the reaction include alcohols such as methanol, ethanol, propanol, butanol, ethylene glycol, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, diethylene glycol dimethyl ether, and triglyme, and aromatic compounds such as benzene, toluene, chlorobenzene, and dichlorobenzene. Among these, ethyl cellosolve, diethylene glycol dimethyl ether, triglyme and the like are particularly preferred. After completion of the reaction, the polyhydric hydroxy resin obtained may be used as a raw material for the epoxidation reaction with the solvent remaining, although the solvent may be removed by a method such as distillation under reduced pressure, washing with water, or reprecipitation in a poor solvent. may be used.

このようにして得られた多価ヒドロキシ樹脂は、エポキシ樹脂の原料として用いられる以外に、エポキシ樹脂硬化剤としても使用することができる。また、さらにヘキサミン等の硬化剤と組み合わせることにより、フェノール樹脂成形材料としても応用できる。 The polyhydric hydroxy resin thus obtained can be used not only as a raw material for epoxy resins, but also as an epoxy resin curing agent. Further, by combining with a curing agent such as hexamine, it can be applied as a phenolic resin molding material.

上記式(2)で表される多価ヒドロキシ樹脂とエピクロルヒドリンとの反応による本発明のエポキシ樹脂の製造方法について説明する。この反応は周知のエポキシ化反応と同様に行うことができる。 A method for producing the epoxy resin of the present invention by reacting the polyhydric hydroxy resin represented by the above formula (2) with epichlorohydrin will be described. This reaction can be carried out in a manner similar to well-known epoxidation reactions.

例えば、上記多価ヒドロキシ樹脂を過剰のエピクロルヒドリンに溶解した後、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物の存在下に50~150℃、好ましくは60~120℃の範囲で1~10時間反応させる方法が挙げられる。この際のエピクロルヒドリンの使用量は、多価ヒドロキシ樹脂中の水酸基1モルに対して0.8~2モル、好ましくは0.9~1.2モルの範囲である。反応終了後過剰のエピクロルヒドリンを留去し、残留物をトルエン、メチルイソブチルケトン等の溶媒に溶解し、濾過し、水洗して無機塩を除去し、次いで溶媒を留去することにより前記一般式(1)で表される目的のエポキシ樹脂を得ることができる。エポキシ化反応を行う際に、四級アンモニウム塩等の触媒を用いてもよい。 For example, after dissolving the polyhydric hydroxy resin in excess epichlorohydrin, in the presence of an alkali metal hydroxide such as sodium hydroxide or potassium hydroxide at 50 to 150 ° C., preferably 60 to 120 ° C. A method of reacting for 10 hours can be mentioned. The amount of epichlorohydrin used in this case is in the range of 0.8 to 2 mol, preferably 0.9 to 1.2 mol, per 1 mol of hydroxyl groups in the polyhydroxy resin. After completion of the reaction, excess epichlorohydrin is distilled off, the residue is dissolved in a solvent such as toluene or methyl isobutyl ketone, filtered and washed with water to remove inorganic salts, and then the solvent is distilled off to obtain a compound of the general formula ( The desired epoxy resin represented by 1) can be obtained. A catalyst such as a quaternary ammonium salt may be used in the epoxidation reaction.

本発明のエポキシ樹脂の純度、特に加水分解性塩素量は、適用する電子部品の信頼性向上の観点より少ない方がよい。特に限定するものではないが、好ましくは1000ppm以下、さらに好ましくは500ppm以下である。なお、本発明でいう加水分解性塩素とは、以下の方法により測定された値をいう。すなわち、試料0.5gをジオキサン30mlに溶解後、1N-KOH、10mlを加え30分間煮沸還流した後、室温まで冷却し、さらに80%アセトン水100mlを加え、0.002N-AgNO3水溶液で電位差滴定を行い得られる値である。 The purity of the epoxy resin of the present invention, particularly the amount of hydrolyzable chlorine, should be less from the viewpoint of improving the reliability of electronic components to which it is applied. Although not particularly limited, it is preferably 1000 ppm or less, more preferably 500 ppm or less. In addition, the hydrolyzable chlorine referred to in the present invention refers to the value measured by the following method. That is, after dissolving 0.5 g of a sample in 30 ml of dioxane, adding 10 ml of 1N-KOH and boiling under reflux for 30 minutes, cooling to room temperature, further adding 100 ml of 80% acetone water, and applying a potential difference with an aqueous 0.002N-AgNO 3 solution. It is a value obtained by titration.

本発明のエポキシ樹脂組成物は、エポキシ樹脂と硬化剤を含み、エポキシ樹脂成分として上記一般式(1)のエポキシ樹脂を含む。 The epoxy resin composition of the present invention contains an epoxy resin and a curing agent, and contains the epoxy resin of general formula (1) as an epoxy resin component.

本発明のエポキシ樹脂組成物には、必須成分として使用される一般式(1)のエポキシ樹脂以外に、分子中にエポキシ基を2個以上有する通常の他のエポキシ樹脂を併用してもよい。例を挙げれば、ビスフェノールA、ビスフェノールF、3,3',5,5'-テトラメチル-4,4'-ジヒドロキシジフェニルメタン、4,4'-ジヒドロキシジフェニルスルホン、4,4'-ジヒドロキシジフェニルスルフィド、4,4'-ジヒドロキシジフェニルケトン、フルオレンビスフェノール、4,4'-ビフェノール、3,3',5,5'-テトラメチル-4,4'-ジヒドロキシビフェニル、2,2'-ビフェノール、レゾルシン、カテコール、t-ブチルカテコール、t-ブチルハイドロキノン、1,2-ジヒドロキシナフタレン、1,3-ジヒドロキシナフタレン、1,4-ジヒドロキシナフタレン、1,5-ジヒドロキシナフタレン、1,6-ジヒドロキシナフタレン、1,7-ジヒドロキシナフタレン、1,8-ジヒドロキシナフタレン、2,3-ジヒドロキシナフタレン、2,4-ジヒドロキシナフタレン、2,5-ジヒドロキシナフタレン、2,6-ジヒドロキシナフタレン、2,7-ジヒドロキシナフタレン、2,8-ジヒドロキシナフタレン、上記ジヒドロキシナフタレンのアリル化物又はポリアリル化物、アリル化ビスフェノールA、アリル化ビスフェノールF、アリル化フェノールノボラック等の2価のフェノール類、あるいは、フェノールノボラック、ビスフェノールAノボラック、o-クレゾールノボラック、m-クレゾールノボラック、p-クレゾールノボラック、キシレノールノボラック、ポリ-p-ヒドロキシスチレン、トリス-(4-ヒドロキシフェニル)メタン、1,1,2,2-テトラキス(4-ヒドロキシフェニル)エタン、フルオログリシノール、ピロガロール、t-ブチルピロガロール、アリル化ピロガロール、ポリアリル化ピロガロール、1,2,4-ベンゼントリオール、2,3,4-トリヒドロキシベンゾフェノン、フェノールアラルキル樹脂、ナフトールアラルキル樹脂、ジシクロペンタジエン系樹脂等の3価以上のフェノール類、または、テトラブロモビスフェノールA等のハロゲン化ビスフェノール類から誘導されるグリシジルエーテル化物等がある。これらのエポキシ樹脂は、1種または2種以上を混合して用いることができる。 In the epoxy resin composition of the present invention, other ordinary epoxy resins having two or more epoxy groups in the molecule may be used in combination with the epoxy resin of general formula (1) used as an essential component. Examples include bisphenol A, bisphenol F, 3,3′,5,5′-tetramethyl-4,4′-dihydroxydiphenylmethane, 4,4′-dihydroxydiphenyl sulfone, 4,4′-dihydroxydiphenyl sulfide, 4,4'-dihydroxydiphenyl ketone, fluorene bisphenol, 4,4'-biphenol, 3,3',5,5'-tetramethyl-4,4'-dihydroxybiphenyl, 2,2'-biphenol, resorcin, catechol , t-butyl catechol, t-butyl hydroquinone, 1,2-dihydroxynaphthalene, 1,3-dihydroxynaphthalene, 1,4-dihydroxynaphthalene, 1,5-dihydroxynaphthalene, 1,6-dihydroxynaphthalene, 1,7- Dihydroxynaphthalene, 1,8-dihydroxynaphthalene, 2,3-dihydroxynaphthalene, 2,4-dihydroxynaphthalene, 2,5-dihydroxynaphthalene, 2,6-dihydroxynaphthalene, 2,7-dihydroxynaphthalene, 2,8-dihydroxy Naphthalene, allylated or polyallylated dihydroxynaphthalene, allylated bisphenol A, allylated bisphenol F, dihydric phenols such as allylated phenol novolak, or phenol novolak, bisphenol A novolak, o-cresol novolak, m- cresol novolak, p-cresol novolak, xylenol novolak, poly-p-hydroxystyrene, tris-(4-hydroxyphenyl)methane, 1,1,2,2-tetrakis(4-hydroxyphenyl)ethane, fluoroglycinol, pyrogallol , t-butyl pyrogallol, allylated pyrogallol, polyallylated pyrogallol, 1,2,4-benzenetriol, 2,3,4-trihydroxybenzophenone, phenol aralkyl resin, naphthol aralkyl resin, dicyclopentadiene-based resin, etc. There are glycidyl etherified products derived from the above phenols or halogenated bisphenols such as tetrabromobisphenol A. These epoxy resins can be used singly or in combination of two or more.

本発明のエポキシ樹脂組成物は、エポキシ樹脂として上記一般式(1)のエポキシ樹脂をエポキシ樹脂成分の50重量%以上含むことが望ましい。さらに好ましくは、全エポキシ樹脂の70重量%以上、より好ましくは80重量%以上である。使用割合がこれより少ないとエポキシ樹脂組成物としての成形性が悪化するとともに、硬化物とした際の耐熱性、熱伝導性等の向上効果が小さい。 The epoxy resin composition of the present invention desirably contains 50% by weight or more of the epoxy resin component of the epoxy resin represented by the general formula (1) as the epoxy resin. More preferably, it is 70% by weight or more, more preferably 80% by weight or more of the total epoxy resin. If the proportion is less than this range, the moldability of the epoxy resin composition is deteriorated, and the effect of improving the heat resistance and thermal conductivity of the cured product is small.

本発明のエポキシ樹脂組成物に用いる硬化剤としては、一般にエポキシ樹脂の硬化剤として知られているものはすべて使用でき、ジシアンジアミド、酸無水物類、多価フェノール類、芳香族及び脂肪族アミン類等がある。これらの中でも、半導体封止材等の高い電気絶縁性が要求される分野においては、多価フェノール類を硬化剤として用いることが好ましい。以下に、硬化剤の具体例を示す。 As the curing agent used in the epoxy resin composition of the present invention, all those generally known as curing agents for epoxy resins can be used, including dicyandiamide, acid anhydrides, polyhydric phenols, aromatic and aliphatic amines. etc. Among these, polyhydric phenols are preferably used as a curing agent in fields such as semiconductor encapsulants that require high electrical insulation. Specific examples of the curing agent are shown below.

多価フェノール類としては、例えば、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールS、フルオレンビスフェノール、4,4’-ビフェノール、2,2’-ビフェノール、ハイドロキノン、レゾルシン、ナフタレンジオール等の2価のフェノール類、あるいは、トリス-(4-ヒドロキシフェニル)メタン、1,1,2,2-テトラキス(4-ヒドロキシフェニル)エタン、フェノールノボラック、o-クレゾールノボラック、ナフトールノボラック、ポリビニルフェノール等に代表される3価以上のフェノール類がある。更には、フェノール類、ナフトール類、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールS、フルオレンビスフェノール、4,4’-ビフェノール、2,2’-ビフェノール、ハイドロキノン、レゾルシン、ナフタレンジオール等の2価のフェノール類と、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、ベンズアルデヒド、p-ヒドロキシベンズアルデヒド、p-キシリレングリコール等の縮合剤により合成される多価フェノール性化合物等がある。 Examples of polyhydric phenols include dihydric phenols such as bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, fluorene bisphenol, 4,4'-biphenol, 2,2'-biphenol, hydroquinone, resorcinol, naphthalene diol, or , tris-(4-hydroxyphenyl)methane, 1,1,2,2-tetrakis(4-hydroxyphenyl)ethane, phenol novolak, o-cresol novolak, naphthol novolak, polyvinylphenol, etc. There are phenols. Furthermore, dihydric phenols such as phenols, naphthols, bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, fluorene bisphenol, 4,4'-biphenol, 2,2'-biphenol, hydroquinone, resorcinol, and naphthalenediol, There are polyhydric phenolic compounds synthesized with condensing agents such as formaldehyde, acetaldehyde, benzaldehyde, p-hydroxybenzaldehyde and p-xylylene glycol.

酸無水物硬化剤としては、例えば、無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、メチル無水ハイミック酸、無水ドデシニルコハク酸、無水ナジック酸、無水トリメリット酸等がある。 Examples of acid anhydride curing agents include phthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, methyltetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, methylhexahydrophthalic anhydride, methyl himic anhydride, dodecynylsuccinic anhydride, nadic anhydride, and trimellitic anhydride.

アミン系硬化剤としては、4,4’-ジアミノジフェニルメタン、4,4’-ジアミノジフェニルプロパン、4,4’-ジアミノジフェニルスルホン、m-フェニレンジアミン、p-キシリレンジアミン等の芳香族アミン類、エチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン等の脂肪族アミン類がある。 Amine curing agents include aromatic amines such as 4,4'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminodiphenylpropane, 4,4'-diaminodiphenylsulfone, m-phenylenediamine and p-xylylenediamine; There are aliphatic amines such as ethylenediamine, hexamethylenediamine, diethylenetriamine and triethylenetetramine.

上記エポキシ樹脂組成物には、これら硬化剤の1種又は2種以上を混合して用いることができる。 One or a mixture of two or more of these curing agents can be used in the epoxy resin composition.

エポキシ樹脂と硬化剤の配合比率は、エポキシ基と硬化剤中の官能基が当量比で0.8~1.5の範囲であることが好ましい。この範囲外では硬化後も未反応のエポキシ基、又は硬化剤中の官能基が残留し、封止機能に関しての信頼性が低下するため好ましくない。 The mixing ratio of the epoxy resin and the curing agent is preferably in the range of 0.8 to 1.5 in terms of the equivalent ratio of the epoxy groups to the functional groups in the curing agent. Outside this range, unreacted epoxy groups or functional groups in the curing agent remain even after curing, and the reliability of the sealing function is lowered, which is not preferable.

本発明のエポキシ樹脂組成物中には、ポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、ポリエーテル、ポリウレタン、石油樹脂、インデン樹脂、インデン・クマロン樹脂、フェノキシ樹脂等のオリゴマー又は高分子化合物を他の改質剤等として適宜配合してもよい。添加量は、通常、樹脂成分の合計100重量部に対して、1~30重量部の範囲である。 In the epoxy resin composition of the present invention, oligomers or polymer compounds such as polyester, polyamide, polyimide, polyether, polyurethane, petroleum resin, indene resin, indene-cumarone resin, phenoxy resin, etc. may be used as other modifiers. It may be blended as appropriate. The amount added is usually in the range of 1 to 30 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the total resin components.

また、本発明のエポキシ樹脂組成物には、無機充填剤、顔料、難然剤、揺変性付与剤、カップリング剤、流動性向上剤等の添加剤を配合できる。無機充填剤としては、例えば、球状あるいは、破砕状の溶融シリカ、結晶シリカ等のシリカ粉末、アルミナ粉末、ガラス粉末、又はマイカ、タルク、炭酸カルシウム、アルミナ、水和アルミナ等が挙げられ、半導体封止材に用いる場合の好ましい配合量は70重量%以上であり、更に好ましくは80重量%以上である。 Additives such as inorganic fillers, pigments, flame retardants, thixotropic agents, coupling agents, fluidity improvers and the like can be added to the epoxy resin composition of the present invention. Examples of inorganic fillers include spherical or crushed fused silica, silica powder such as crystalline silica, alumina powder, glass powder, mica, talc, calcium carbonate, alumina, and hydrated alumina. When used as a sealing material, the blending amount is preferably 70% by weight or more, more preferably 80% by weight or more.

顔料としては、有機系又は無機系の体質顔料、鱗片状顔料等がある。揺変性付与剤としては、シリコン系、ヒマシ油系、脂肪族アマイドワックス、酸化ポリエチレンワックス、有機ベントナイト系等を挙げることができる。 Pigments include organic or inorganic extender pigments, scaly pigments, and the like. Examples of the thixotropic agent include silicon-based, castor oil-based, aliphatic amide wax, oxidized polyethylene wax, and organic bentonite-based agents.

更に、本発明のエポキシ樹脂組成物には必要に応じて硬化促進剤を用いることができる。例を挙げれば、アミン類、イミダゾール類、有機ホスフィン類、ルイス酸等があり、具体的には、1,8-ジアザビシクロ(5,4,0)ウンデセン-7、トリエチレンジアミン、ベンジルジメチルアミン、トリエタノールアミン、ジメチルアミノエタノール、トリス(ジメチルアミノメチル)フェノールなどの三級アミン、2-メチルイミダゾール、2-フェニルイミダゾール、2-エチル-4-メチルイミダゾール、2-フェニル-4-メチルイミダゾール、2-へプタデシルイミダゾールなどのイミダゾール類、トリブチルホスフィン、メチルジフェニルホスフイン、トリフェニルホスフィン、ジフェニルホスフィン、フェニルホスフィンなどの有機ホスフィン類、テトラフェニルホスホニウム・テトラフェニルボレート、テトラフェニルホスホニウム・エチルトリフェニルボレート、テトラブチルホスホニウム・テトラブチルボレートなどのテトラ置換ホスホニウム・テトラ置換ボレート、2-エチル-4-メチルイミダゾール・テトラフェニルボレート、N-メチルモルホリン・テトラフェニルボレートなどのテトラフェニルボロン塩などがある。添加量としては、通常、樹脂成分の合計100重量部に対して、0.01から5重量部の範囲である。 Furthermore, a curing accelerator can be used in the epoxy resin composition of the present invention, if necessary. Examples include amines, imidazoles, organic phosphines, Lewis acids, etc. Specific examples include 1,8-diazabicyclo(5,4,0)undecene-7, triethylenediamine, benzyldimethylamine, tri Tertiary amines such as ethanolamine, dimethylaminoethanol, tris(dimethylaminomethyl)phenol, 2-methylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole, 2- imidazoles such as heptadecylimidazole; organic phosphines such as tributylphosphine, methyldiphenylphosphine, triphenylphosphine, diphenylphosphine, and phenylphosphine; tetraphenylphosphonium/tetraphenylborate; tetraphenylphosphonium/ethyltriphenylborate; Tetra-substituted phosphonium/tetra-substituted borate such as butylphosphonium/tetrabutylborate, tetraphenylboron salts such as 2-ethyl-4-methylimidazole/tetraphenylborate and N-methylmorpholine/tetraphenylborate. The amount added is usually in the range of 0.01 to 5 parts by weight per 100 parts by weight of the total resin components.

更に必要に応じて、本発明のエポキシ樹脂組成物には、カルナバワックス、OPワックス等の離型剤、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン等のカップリング剤、カーボンブラック等の着色剤、三酸化アンチモン等の難燃剤、シリコンオイル等の低応力化剤、ステアリン酸カルシウム等の滑剤等を使用できる。 Furthermore, if necessary, the epoxy resin composition of the present invention may contain a releasing agent such as carnauba wax or OP wax, a coupling agent such as γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, a coloring agent such as carbon black, Flame retardants such as antimony oxide, stress reducing agents such as silicone oil, and lubricants such as calcium stearate can be used.

本発明のエポキシ樹脂組成物は、有機溶剤を溶解させたワニス状態とした後に、ガラスクロス、アラミド不織布、液晶ポリマー等のポリエステル不織布、等の繊維状物に含浸させた後に溶剤除去を行い、プリプレグとすることができる。また、場合により銅箔、ステンレス箔、ポリイミドフィルム、ポリエステルフィルム等のシート状物上に塗布することにより積層物とすることができる。 The epoxy resin composition of the present invention is made into a varnish state by dissolving an organic solvent, impregnated with a fibrous material such as a glass cloth, an aramid nonwoven fabric, a polyester nonwoven fabric such as a liquid crystal polymer, and the like, and then the solvent is removed to obtain a prepreg. can be In some cases, a laminate can be obtained by coating a sheet-like material such as a copper foil, a stainless steel foil, a polyimide film, a polyester film, or the like.

本発明のエポキシ樹脂組成物を加熱硬化させれば、本発明の樹脂硬化物とすることができる。この硬化物は、エポキシ樹脂組成物を注型、圧縮成形、トランスファー成形等の方法により、成形加工して得ることができる。この際の温度は通常、120~220℃の範囲である。 The resin cured product of the present invention can be obtained by heat-curing the epoxy resin composition of the present invention. This cured product can be obtained by molding the epoxy resin composition by a method such as casting, compression molding, or transfer molding. The temperature at this time is usually in the range of 120 to 220°C.

以下、合成例、実施例及び比較例を挙げて本発明を具体的に説明する。ただし、本発明はこれらに限定されるものではない。特に断りがない限り、「部」は重量部を表し、「%」は重量%を表す。また、測定方法はそれぞれ以下の方法により測定した。 The present invention will be specifically described below with reference to Synthesis Examples, Examples and Comparative Examples. However, the present invention is not limited to these. Unless otherwise specified, "parts" represent parts by weight and "%" represents weight percent. Moreover, the measurement method was each measured by the following methods.

1)エポキシ当量の測定
電位差滴定装置を用い、溶媒としてメチルエチルケトンを使用し、臭素化テトラエチルアンモニウム酢酸溶液を加え、電位差滴定装置にて0.1mol/L過塩素酸-酢酸溶液を用いて測定した。
1) Measurement of Epoxy Equivalent Using a potentiometric titrator, using methyl ethyl ketone as a solvent, adding a tetraethylammonium bromide acetic acid solution, and measuring using a 0.1 mol/L perchloric acid-acetic acid solution with a potentiometric titrator.

2)融点
示差走査熱量分析装置(エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社製 EXSTAR6000 DSC/6200)により、昇温速度5℃/分の条件で、DSCピーク温度を求めた。すなわち、このDSCピーク温度を樹脂の融点とした。
2) Melting point A DSC peak temperature was obtained with a differential scanning calorimeter (EXSTAR6000 DSC/6200, manufactured by SII Nanotechnology Co., Ltd.) under the condition of a heating rate of 5°C/min. That is, this DSC peak temperature was taken as the melting point of the resin.

3)溶融粘度
BROOKFIELD製、CAP2000H型回転粘度計を用いて、150℃にて測定した。
3) Melt viscosity Measured at 150°C using a CAP2000H rotational viscometer manufactured by BROOKFIELD.

4)軟化点
JIS-K-2207に従い環球法にて測定した。
4) Softening point Measured by the ring and ball method according to JIS-K-2207.

5)GPC測定
本体(東ソー株式会社製、HLC-8220GPC)にカラム(東ソー株式会社製、TSKgelG4000HXL、TSKgelG3000HXL、TSKgelG2000HXL)を直列に備えたものを使用し、カラム温度は40℃にした。また、溶離液にはテトラヒドロフラン(THF)を使用し、1mL/分の流速とし、検出器は示差屈折率検出器を使用した。測定試料はサンプル0.1gを10mLのTHFに溶解し、マイクロフィルターで濾過したものを50μL使用した。データ処理は、東ソー株式会社製GPC-8020モデルIIバージョン6.00を使用した。
5) GPC Measurement A column (TSKgelG4000HXL, TSKgelG3000HXL, TSKgelG2000HXL, manufactured by Tosoh Corporation) in series with a main body (HLC-8220GPC manufactured by Tosoh Corporation) was used, and the column temperature was set to 40°C. Tetrahydrofuran (THF) was used as an eluent at a flow rate of 1 mL/min, and a differential refractive index detector was used as a detector. As a measurement sample, 0.1 g of the sample was dissolved in 10 mL of THF and filtered through a microfilter, and 50 μL of the solution was used. For data processing, GPC-8020 model II version 6.00 manufactured by Tosoh Corporation was used.

6)ガラス転移点(Tg)
熱機械測定装置(エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社製 EXSTAR6000TMA/6100)により、昇温速度10℃/分の条件でTgを求めた。
6) Glass transition point (Tg)
Tg was determined with a thermomechanical measurement device (EXSTAR6000TMA/6100 manufactured by SII Nanotechnology Co., Ltd.) under the condition of a temperature increase rate of 10° C./min.

7)5%重量減少温度(Td5)、残炭率
熱重量/示差熱分析装置(エスアイアイ・ナノテクノロジー製 EXSTAR6000TG/DTA6200、)を用いて、窒素雰囲気下、昇温速度10℃/分の条件において、5%重量減少温度(Td5)を測定した。また、700℃における重量減少を測定し、残炭率として算出した。
7) 5% weight loss temperature (Td5), residual carbon ratio Using a thermogravimetry/differential thermal analyzer (EXSTAR6000TG/DTA6200, manufactured by SII Nanotechnology), under a nitrogen atmosphere, at a heating rate of 10°C/min. , the 5% weight loss temperature (Td5) was measured. Also, the weight loss at 700° C. was measured and calculated as the residual charcoal rate.

8)熱伝導率
熱伝導率は、NETZSCH製LFA447型熱伝導率計を用いて非定常熱線法により測定した。
8) Thermal conductivity Thermal conductivity was measured by the unsteady hot wire method using a NETZSCH LFA447 thermal conductivity meter.

実施例1
1000mlの4口フラスコに、4,4’-ジヒドロキシビフェニル38.9g、2,2’-ジヒドロキシビフェニル38.9g、ジエチレングリコールジメチルエーテル119.6g、4,4’-ビスクロロメチルビフェニル41.9gを仕込み、窒素気流下、攪拌しながら170℃まで昇温して2時間反応させて、多価ヒドロキシ樹脂を生成させた。反応終了後、ジエチレングリコールジメチルエーテルを45.6g回収し、エピクロルヒドリン455.1gを加え、減圧下(約130Torr)62℃にて48%水酸化ナトリウム水溶液70.5gを4時間かけて滴下した。この間、生成する水はエピクロルヒドリンとの共沸により系外に除き、留出したエピクロルヒドリンは系内に戻した。滴下終了後、さらに1時間反応を継続した。その後、エピクロルヒドリンを留去し、メチルイソブチルケトンを加えた後、水洗により塩を除いた後、濾過、水洗を行ない、次にメチルイソブチルケトンを減圧留去し、エポキシ樹脂129gを得た(エポキシ樹脂A)。このエポキシ樹脂Aのエポキシ当量は200、軟化点は51℃、溶融粘度0.19Pa・s、加水分解性塩素は65ppmであった。得られた樹脂のGPCチャートを図1に示す。
Example 1
38.9 g of 4,4'-dihydroxybiphenyl, 38.9 g of 2,2'-dihydroxybiphenyl, 119.6 g of diethylene glycol dimethyl ether, and 41.9 g of 4,4'-bischloromethylbiphenyl were charged into a 1000 ml four-necked flask, Under a nitrogen stream, the temperature was raised to 170° C. while stirring, and the mixture was reacted for 2 hours to produce a polyhydric hydroxy resin. After completion of the reaction, 45.6 g of diethylene glycol dimethyl ether was recovered, 455.1 g of epichlorohydrin was added, and 70.5 g of a 48% sodium hydroxide aqueous solution was added dropwise at 62° C. under reduced pressure (about 130 Torr) over 4 hours. During this time, the generated water was removed from the system by azeotroping with epichlorohydrin, and the distilled epichlorohydrin was returned to the system. After the dropwise addition was completed, the reaction was further continued for 1 hour. Thereafter, epichlorohydrin was distilled off, methyl isobutyl ketone was added, and after removing salts by washing with water, filtration and washing were carried out, and then methyl isobutyl ketone was distilled off under reduced pressure to obtain 129 g of an epoxy resin (epoxy resin). A). This epoxy resin A had an epoxy equivalent of 200, a softening point of 51° C., a melt viscosity of 0.19 Pa·s, and a hydrolyzable chlorine content of 65 ppm. A GPC chart of the obtained resin is shown in FIG.

実施例2
4,4’-ジヒドロキシビフェニルの使用量を54.4g、2,2’-ジヒドロキシビフェニルの使用量を23.3gとした他は、実施例1と同様にして反応を行い、エポキシ樹脂128gを得た(エポキシ樹脂B)。このエポキシ樹脂Bのエポキシ当量は200、軟化点は84℃、溶融粘度0.19Pa・s、加水分解性塩素は78ppmであった。
Example 2
The reaction was carried out in the same manner as in Example 1 except that the amount of 4,4'-dihydroxybiphenyl used was 54.4 g and the amount of 2,2'-dihydroxybiphenyl used was 23.3 g to obtain 128 g of an epoxy resin. (epoxy resin B). This epoxy resin B had an epoxy equivalent of 200, a softening point of 84° C., a melt viscosity of 0.19 Pa·s, and a hydrolyzable chlorine content of 78 ppm.

参考例1
4,4’-ジヒドロキシビフェニル77.5g、ジエチレングリコールジメチルエーテル180.8g、4,4’-ビスクロロメチルビフェニル52.3gを仕込み、窒素気流下、攪拌しながら170℃まで昇温して2時間反応させた。反応後、ジエチレングリコールジメチルエーテルを123g回収し、エピクロルヒドリン385.4gを加え、減圧下(約130Torr)62℃にて48%水酸化ナトリウム水溶液69.4gを4時間かけて滴下した他は、実施例1と同様にしてエポキシ樹脂129gを得た(エポキシ樹脂C)。このエポキシ樹脂Cのエポキシ当量は196、融点は126℃、溶融粘度は0.68Pa・s、加水分解性塩素390ppmであった。
Reference example 1
77.5 g of 4,4′-dihydroxybiphenyl, 180.8 g of diethylene glycol dimethyl ether, and 52.3 g of 4,4′-bischloromethylbiphenyl were charged, heated to 170° C. with stirring under a nitrogen stream, and reacted for 2 hours. rice field. After the reaction, 123 g of diethylene glycol dimethyl ether was recovered, 385.4 g of epichlorohydrin was added, and 69.4 g of a 48% aqueous sodium hydroxide solution was added dropwise at 62° C. under reduced pressure (about 130 Torr) over 4 hours. 129 g of epoxy resin was obtained in the same manner (epoxy resin C). This epoxy resin C had an epoxy equivalent of 196, a melting point of 126° C., a melt viscosity of 0.68 Pa·s, and hydrolyzable chlorine of 390 ppm.

参考例2
200mlの4口フラスコに参考例1で得られたエポキシ樹脂Cを30g、下記式(4)で表されるフェノールノボラック型エポキシ樹脂D(エポキシ当量175、GPC測定によるm=1成分の含有率は9.0%、m=2成分;37.7%、m=3成分;17.1%、m=4成分;8.2%、及びm=5成分以上の合計の含有率は27.9%。)を20g加え、150℃にて30分溶融混練してエポキシ樹脂Eを得た。このエポキシ樹脂Eのエポキシ当量は187、軟化点は92℃、溶融粘度0.13Pa・s、加水分解性塩素は280ppmであった。

Figure 0007277136000004

(ここで、mは0~20の数を示し、Gはグリシジル基を表す。) Reference example 2
30 g of the epoxy resin C obtained in Reference Example 1 was placed in a 200 ml four-necked flask, and a phenol novolak type epoxy resin D represented by the following formula (4) (epoxy equivalent: 175, m = 1 by GPC measurement. 9.0%, m = 2 components; 37.7%, m = 3 components; 17.1%, m = 4 components; 8.2%, and the total content of m = 5 or more components is 27.9 %.) was added and melt-kneaded at 150° C. for 30 minutes to obtain an epoxy resin E. This epoxy resin E had an epoxy equivalent of 187, a softening point of 92° C., a melt viscosity of 0.13 Pa·s, and a hydrolyzable chlorine content of 280 ppm.
Figure 0007277136000004

(Here, m represents a number from 0 to 20, and G represents a glycidyl group.)

溶剤溶解性
溶剤溶解性の判定は、溶剤(メチルエチルケトン、トルエン、シクロヘキサノン)5gに実施例1で得たエポキシ樹脂A、実施例2で得たエポキシ樹脂B、参考例1で得たエポキシ樹脂C又は参考例2で得たエポキシ樹脂Eを固形分濃度(エポキシ樹脂g/溶剤100g)で30重量%、50重量%、又は70重量%となるように投入し、室温下で十分に撹拌した後、不溶分を目視で確認した。不溶分がある場合を×、ない場合を〇とした。また、不溶分が確認されたものを60℃に加熱した際に不溶分の溶解が確認されたものを△とした。また、融点(mp)又は軟化点(sp)を測定した。結果を表1に示す。
Solvent solubility Solvent solubility was determined by adding 5 g of a solvent (methyl ethyl ketone, toluene, cyclohexanone) to epoxy resin A obtained in Example 1, epoxy resin B obtained in Example 2, epoxy resin C obtained in Reference Example 1 or The epoxy resin E obtained in Reference Example 2 was added so that the solid content concentration (g of epoxy resin/100 g of solvent) was 30% by weight, 50% by weight, or 70% by weight. Insoluble matter was visually confirmed. The case where insoluble matter was present was evaluated as x, and the case where there was no insoluble matter was evaluated as ◯. In addition, Δ indicates that the insoluble matter was confirmed to dissolve when the insoluble matter was confirmed to be heated to 60°C. Melting points (mp) or softening points (sp) were also measured. Table 1 shows the results.

Figure 0007277136000005
Figure 0007277136000005

実施例3~5および比較例1~4
エポキシ樹脂成分として、実施例1で得たエポキシ樹脂A、実施例2で得たエポキシ樹脂B、参考例1で得たエポキシ樹脂C、参考例2で使用したエポキシ樹脂D又は下記エポキシ樹脂Fを用い、硬化剤として、硬化剤A~Bを用い、硬化促進剤としてトリフェニルホスフィンを用い、表2に示す配合でエポキシ樹脂組成物を得た。表中の数値は配合における重量部を示す。
このエポキシ樹脂組成物を用いて175℃にて成形し、175℃にて5時間ポストキュアを行い、硬化物試験片を得た後、各種物性測定に供した。
Examples 3-5 and Comparative Examples 1-4
As an epoxy resin component, epoxy resin A obtained in Example 1, epoxy resin B obtained in Example 2, epoxy resin C obtained in Reference Example 1, epoxy resin D used in Reference Example 2, or epoxy resin F below was used. Curing agents A to B were used as the curing agent, and triphenylphosphine was used as the curing accelerator to obtain an epoxy resin composition with the formulation shown in Table 2. Numerical values in the table indicate parts by weight in the formulation.
This epoxy resin composition was molded at 175° C. and post-cured at 175° C. for 5 hours to obtain a cured product test piece, which was subjected to various physical property measurements.

使用したエポキシ樹脂、硬化剤、硬化促進剤を次に示す。
エポキシ樹脂F;o-クレゾールノボラック型エポキシ樹脂(日鉄ケミカル&マテリアル製YDCN-700-3、エポキシ当量200)
硬化剤A;トリフェノールメタン型多価ヒドロキシ樹脂(群栄化学工業株式会社製TPM-100、OH当量 97.5、軟化点 105℃)
硬化剤B;フェノールノボラック樹脂(水酸基当量105、軟化点67℃)
硬化促進剤;トリフェニルホスフィン
The epoxy resins, curing agents, and curing accelerators used are shown below.
Epoxy resin F: o-cresol novolac type epoxy resin (Nippon Steel Chemical & Material YDCN-700-3, epoxy equivalent 200)
Curing agent A: Triphenolmethane type polyhydric hydroxy resin (TPM-100 manufactured by Gun Ei Chemical Industry Co., Ltd., OH equivalent 97.5, softening point 105 ° C.)
Curing agent B: phenolic novolac resin (hydroxyl equivalent 105, softening point 67°C)
Curing accelerator; triphenylphosphine

Figure 0007277136000006
Figure 0007277136000006

これらの結果から明らかなとおり、実施例で得られるエポキシ樹脂は溶剤溶解性に優れ、その硬化物は熱安定性が良好であり、残炭率の低減が確認されることから耐トラッキング性の向上が期待できる。さらに、熱伝導率が良好であることからパワーデバイス、および車載用途に適する。
As is clear from these results, the epoxy resins obtained in Examples have excellent solvent solubility, and the cured products thereof have good thermal stability. can be expected. Furthermore, it is suitable for power devices and in-vehicle applications due to its good thermal conductivity.

Claims (7)

下記一般式(1)で表されるエポキシ樹脂であって、エポキシ当量が180~220g/eq、軟化点が40~100℃の範囲であることを特徴とするエポキシ樹脂。
Figure 0007277136000007

(ここで、nは0~20の数を示し、Gはグリシジル基を示し、OG基を2つ有するビフェニル環は4,4’体及び2,2’体を含み、4,4’体が占める割合が50~70モル%であり、2,2’体が占める割合が30~50モル%である。
An epoxy resin represented by the following general formula (1), characterized by having an epoxy equivalent of 180 to 220 g/eq and a softening point of 40 to 100°C.
Figure 0007277136000007

(Here, n represents a number from 0 to 20, G represents a glycidyl group, biphenyl rings having two OG groups include 4,4' and 2,2', and 4,4' is 50 to 70 mol%, and the 2,2' isomer is 30 to 50 mol%.)
4,4’-ジヒドロキシビフェニルと、2,2’-ジヒドロキシビフェニルを含むジヒドロキシビフェニルの混合物と、ビフェニル構造を有する芳香族架橋剤とを反応させて多価ヒドロキシ樹脂とした後、エピクロルヒドリンを反応して得られる請求項1に記載のエポキシ樹脂。 A mixture of dihydroxybiphenyl containing 4,4′-dihydroxybiphenyl and 2,2′-dihydroxybiphenyl is reacted with an aromatic cross-linking agent having a biphenyl structure to obtain a polyvalent hydroxy resin, which is then reacted with epichlorohydrin. The epoxy resin of claim 1 obtained. 芳香族架橋剤が4,4’-ビスクロロメチルビフェニルである請求項2に記載のエポキシ樹脂。 3. The epoxy resin of claim 2, wherein the aromatic cross-linking agent is 4,4'-bischloromethylbiphenyl. 4,4’-ジヒドロキシビフェニルと、2,2’-ジヒドロキシビフェニルを含むジヒドロキシビフェニルの混合物と、ビフェニル構造を有する芳香族架橋剤とを反応させて多価ヒドロキシ樹脂とした後、エピクロルヒドリンを反応させることを特徴とする請求項1に記載のエポキシ樹脂の製造方法。 A mixture of 4,4'-dihydroxybiphenyl and dihydroxybiphenyl containing 2,2'-dihydroxybiphenyl is reacted with an aromatic cross-linking agent having a biphenyl structure to obtain a polyvalent hydroxy resin, and then reacted with epichlorohydrin. The method for producing an epoxy resin according to claim 1, characterized by: 下記一般式(2)で表される多価ヒドロキシ樹脂であって、OH基を2つ有するビフェニル環が4,4’体及び2,2’体を含み、4,4’体が占める割合が50~70モル%であり、2,2’体が占める割合が30~50モル%であることを特徴とする多価ヒドロキシ樹脂
Figure 0007277136000008

(ここで、nは0~20の数を示す。)
A polyhydric hydroxy resin represented by the following general formula (2), wherein the biphenyl ring having two OH groups includes 4,4' and 2,2' isomers, and the proportion occupied by the 4,4' isomers is 50 to 70 mol%, and the proportion of the 2,2' form is 30 to 50 mol% .
Figure 0007277136000008

(Here, n represents a number from 0 to 20.)
請求項1~3のいずれかに記載のエポキシ樹脂、及び硬化剤を必須成分とすることを特徴とするエポキシ樹脂組成物。 An epoxy resin composition comprising the epoxy resin according to any one of claims 1 to 3 and a curing agent as essential components. 請求項6に記載のエポキシ樹脂組成物を硬化させたことを特徴とするエポキシ樹脂硬化物。 A cured epoxy resin product obtained by curing the epoxy resin composition according to claim 6 .
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