JP2015160893A - Epoxy resin composition and hardened product of the shame - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an epoxy resin composition which provides a hardened product excellent in heat resistance, thermal decomposition stability and mechanical strength retention and also in fluidity during molding and is suitable for power device sealing materials and its resin hardened product.SOLUTION: An epoxy resin composition comprises an epoxy resin and an epoxy resin hardening agent and contains 50% or more of a biphenyl aralkyl type epoxy resin as the epoxy resin, and the epoxy resin used contains at least 10% of one or more polyfunctional epoxy resins selected from bisphenol methane type epoxy resin, trisphenol methane type epoxy resin and tetrakisphenol ethane type epoxy resin. The epoxy resin composition uses as a phenol-based hardening agent as the hardening agent.

Description

本発明は、溶剤溶解性、高熱伝導性及び絶縁性に優れるエポキシ樹脂組成物及び硬化物に関する。   The present invention relates to an epoxy resin composition and a cured product excellent in solvent solubility, high thermal conductivity, and insulation.

エポキシ樹脂は工業的に幅広い用途で使用されてきているが、その要求性能は近年ますます高度化している。その中で、高熱伝導性に優れたエポキシ樹脂組成物としては、メソゲン構造を有するエポキシ樹脂を用いたものが知られており、例えば、特許文献1には、ビフェノール型エポキシ樹脂と多価フェノール樹脂硬化剤を必須成分としたエポキシ樹脂組成物が示され、高温下での安定性と強度に優れ、接着、注型、封止、成型、積層等の広い分野で使用できることが開示されている。また、特許文献2には、屈曲鎖で連結された二つのメソゲン構造を分子内に有するエポキシ化合物の開示がある。さらに、特許文献3には、メソゲン基を有するエポキシ化合物を含む樹脂組成物の開示がある。   Epoxy resins have been used in a wide range of industrial applications, but their required performance has become increasingly sophisticated in recent years. Among them, as an epoxy resin composition excellent in high thermal conductivity, one using an epoxy resin having a mesogenic structure is known. For example, Patent Document 1 discloses a biphenol type epoxy resin and a polyhydric phenol resin. An epoxy resin composition containing a curing agent as an essential component is shown, and it is disclosed that it is excellent in stability and strength at high temperatures and can be used in a wide range of fields such as adhesion, casting, sealing, molding and lamination. Patent Document 2 discloses an epoxy compound having in its molecule two mesogenic structures connected by a bent chain. Furthermore, Patent Document 3 discloses a resin composition containing an epoxy compound having a mesogenic group.

特開平7−90052号公報Japanese Patent Laid-Open No. 7-90052 特開平9−118673号公報JP-A-9-118673 特開平11−323162号公報JP-A-11-323162 特開平4−255714号公報JP-A-4-255714 特開平10−292032号公報Japanese Patent Laid-Open No. 10-292032 WO2011/074517号公報WO2011 / 074517

しかし、このようなメソゲン構造を有するエポキシ樹脂は融点が高く、混合処理を行う場合、高融点成分が溶解し難く溶け残りを生じるため、硬化性や耐熱性が低下する問題があった。また、メソゲン系ポキシ樹脂組成物は溶剤溶解性も低く、ワニス等のエポキシ樹脂組成物への応用に課題があった。このようなエポキシ樹脂を硬化剤と均一に混合するには、高温が必要である。高温では、エポキシ樹脂の硬化反応が急速に進みゲル化時間が短くなるため、混合処理は厳しく制限され取り扱いが難しいという問題があった。そして、その欠点を補うために溶解性の第3成分を添加すると、樹脂の融点が低下して均一混合しやすくなるが、その硬化物は熱伝導率が低下するという問題を生じた。   However, the epoxy resin having such a mesogenic structure has a high melting point, and when performing a mixing process, the high melting point component is difficult to dissolve and remains undissolved, resulting in a problem that curability and heat resistance are lowered. Moreover, the mesogen-based poxy resin composition has low solvent solubility, and there has been a problem in application to epoxy resin compositions such as varnish. High temperature is required to uniformly mix such an epoxy resin with a curing agent. At high temperatures, the curing reaction of the epoxy resin proceeds rapidly and the gelation time is shortened, so that the mixing process is severely limited and difficult to handle. When a soluble third component is added to make up for the drawback, the melting point of the resin is lowered to facilitate uniform mixing, but the cured product has a problem that the thermal conductivity is lowered.

一方、特許文献4、5には、ビフェノールアラルキル型エポキシ樹脂及びその樹脂組成物が開示されており、耐熱性、耐湿性、機械的特性等に優れることが記載されているが、低応力性や熱伝導性に着目したものもなかった。特許文献6には、ビフェニル環を有するアラルキル型エポキシ樹脂とそれを含む組成物が記載されている。   On the other hand, Patent Documents 4 and 5 disclose a biphenol aralkyl type epoxy resin and a resin composition thereof, which are described as being excellent in heat resistance, moisture resistance, mechanical properties, etc. None focused on thermal conductivity. Patent Document 6 describes an aralkyl type epoxy resin having a biphenyl ring and a composition containing the same.

本発明の目的は、積層、成形、注型、接着等の用途において、溶剤溶解性に優れるとともに、高熱伝導性、絶縁性等にも優れた硬化物を与える電気・電子部品類の封止、回路基板材料等に有用なエポキシ樹脂組成物を提供すること、及びその硬化物を提供することにある。   The purpose of the present invention is to seal electrical and electronic components that give a cured product that is excellent in solvent solubility, high thermal conductivity, insulation, etc. in applications such as lamination, molding, casting, and adhesion, An object of the present invention is to provide an epoxy resin composition useful for circuit board materials and the like and to provide a cured product thereof.

本発明は、エポキシ樹脂、フェノール系硬化剤を含有するエポキシ樹脂組成物であって、下記一般式(1)で表されるエポキシ樹脂を50wt%以上含有し、一般式(2)〜(4)で表されるエポキシ樹脂のいずれかを10wt%以上含有することを特徴とするエポキシ樹脂組成物である。

Figure 2015160893
(但し、kは平均値として0.2〜4.0を示し、tは1又は2の数を示し、Gはグリシジル基を示す。)
Figure 2015160893
(但し、lは1以上の数を示し、Gはグリシジル基を示す。)
Figure 2015160893
(但し、mは0以上の数を示し、Gはグリシジル基を示す。)
Figure 2015160893
(但し、nは0以上の数を示し、Gはグリシジル基を示す。) The present invention is an epoxy resin composition containing an epoxy resin and a phenolic curing agent, containing 50 wt% or more of an epoxy resin represented by the following general formula (1), and the general formulas (2) to (4) 10 wt% or more of any of the epoxy resins represented by
Figure 2015160893
(However, k shows 0.2-4.0 as an average value, t shows the number of 1 or 2, and G shows a glycidyl group.)
Figure 2015160893
(However, l represents a number of 1 or more, and G represents a glycidyl group.)
Figure 2015160893
(However, m represents a number of 0 or more, and G represents a glycidyl group.)
Figure 2015160893
(However, n represents a number of 0 or more, and G represents a glycidyl group.)

また、本発明は、無機充填材を含有することを特徴とする上記のエポキシ樹脂組成物である。更に、本発明は、上記のエポキシ樹脂組成物を硬化させたことを特徴とするエポキシ樹脂硬化物である。   Moreover, this invention is said epoxy resin composition characterized by containing an inorganic filler. Furthermore, this invention is an epoxy resin hardened | cured material characterized by hardening said epoxy resin composition.

本発明のエポキシ樹脂を配合したエポキシ樹脂組成物を加熱硬化させれば、エポキシ樹脂硬化物とすることができ、このエポキシ樹脂組成物は溶剤溶解性が優れ、これから得られる硬化物は高熱伝導性及び絶縁性等の点で優れたものとなり、電気・電子部品類の封止材料、半導体モジュール用高放熱シート、回路基板材料等の用途に好適に使用することが可能である。   If the epoxy resin composition containing the epoxy resin of the present invention is cured by heating, it can be made into an epoxy resin cured product. This epoxy resin composition has excellent solvent solubility, and the cured product obtained therefrom has a high thermal conductivity. It is excellent in terms of insulation and the like, and can be suitably used for applications such as sealing materials for electrical and electronic parts, high heat dissipation sheets for semiconductor modules, circuit board materials, and the like.

以下、本発明を詳細に説明する。   Hereinafter, the present invention will be described in detail.

本発明のエポキシ樹脂組成物の必須成分である上記一般式(1)で表されるエポキシ樹脂は、下記一般式(a)で表される多価ヒドロキシ樹脂とエピクロロヒドリンとを反応させることにより製造することができる。そして、この多価ヒドロキシ樹脂は、4,4'-ビフェノールと下記一般式(b)で表される縮合剤とを反応させることにより製造することができる。

Figure 2015160893
(但し、nは平均値として0.2〜4.0を示し、tは1又は2の数を示す。)
Figure 2015160893
(但し、tは1又は2の数を示し、Xは水酸基、ハロゲン原子又は炭素数1〜6のアルコキシ基を示す。) The epoxy resin represented by the general formula (1), which is an essential component of the epoxy resin composition of the present invention, reacts a polyvalent hydroxy resin represented by the following general formula (a) with epichlorohydrin. Can be manufactured. The polyvalent hydroxy resin can be produced by reacting 4,4′-biphenol and a condensing agent represented by the following general formula (b).
Figure 2015160893
(However, n represents an average value of 0.2 to 4.0, and t represents a number of 1 or 2.)
Figure 2015160893
(However, t shows the number of 1 or 2, X shows a hydroxyl group, a halogen atom, or a C1-C6 alkoxy group.)

多価ヒドロキシ樹脂の合成原料としては、4,4’−ジヒドロキシビフェニルが使用されるが、2,2’−ジヒドロキシビフェニル等の異性体を熱伝導性が低下しない範囲で少量併用してもよい。これらのジヒドロキシビフェニルは熱伝導性発現の観点から無置換であることが好ましいが、炭素数1〜6の炭化水素基を置換基として有するジヒドロキシビフェニル類を物性の低下を生じない範囲で含有してもよい。炭化水素置換基としては、例えばメチル基、エチル基、イソプロピル基、アリル基、ターシャリーブチル基、アミル基、シクロヘキシル基、フェニル基などが挙げられる。   4,4'-dihydroxybiphenyl is used as a raw material for synthesizing the polyvalent hydroxy resin, but a small amount of an isomer such as 2,2'-dihydroxybiphenyl may be used in such a range that the thermal conductivity does not decrease. These dihydroxybiphenyls are preferably unsubstituted from the viewpoint of thermal conductivity expression, but contain dihydroxybiphenyls having a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms as a substituent in a range that does not cause deterioration in physical properties. Also good. Examples of the hydrocarbon substituent include a methyl group, an ethyl group, an isopropyl group, an allyl group, a tertiary butyl group, an amyl group, a cyclohexyl group, and a phenyl group.

一般式(b)において、tは1又は2の数を示し、Xは水酸基、ハロゲン原子又は炭素数1〜6のアルコキシ基を示す。tが1であるフェニル系縮合剤としては、o−体、m−体、p−体のいずれでもよいが、好ましくは、m−体、p−体である。具体的には、p−キシリレングリコール、α,α’−ジメトキシ−p−キシレン、α,α’−ジエトキシ−p−キシレン、α,α’−ジイソプロピル−p−キシレン、α,α’−ジブトキシ−p−キシレン、m−キシリレングリコール、α,α’−ジメトキシ−m−キシレン、α,α’−ジエトキシ−m−キシレン、α,α’−ジイソプロポキシ−m−キシレン、α,α’−ジブトキシ−m−キシレン等が挙げられる。
また、tが2であるビフェニル系縮合剤として、具体的には、4,4’−ビスヒドロキシメチルビフェニル、4,4’−ビスクロロメチルビフェニル、4,4’−ビスブロモメチルビフェニル、4,4’-ビスメトキシメチルビフェニル、4,4'-ビスエトキシメチルビフェニルが挙げられる。反応性の観点からは、4,4'−ビスヒドロキシメチルビフェニル、4,4'−ビスクロロメチルビフェニルが好ましく、イオン性不純分低減の観点からは、4,4'−ビスヒドロキシメチルビフェニル、4,4’-ビスメトキシメチルビフェニルが好ましい。
In general formula (b), t shows the number of 1 or 2, and X shows a hydroxyl group, a halogen atom, or a C1-C6 alkoxy group. The phenyl-based condensing agent in which t is 1 may be any of o-, m-, and p-forms, and preferably m-forms and p-forms. Specifically, p-xylylene glycol, α, α′-dimethoxy-p-xylene, α, α′-diethoxy-p-xylene, α, α′-diisopropyl-p-xylene, α, α′-dibutoxy -P-xylene, m-xylylene glycol, α, α'-dimethoxy-m-xylene, α, α'-diethoxy-m-xylene, α, α'-diisopropoxy-m-xylene, α, α ' -Dibutoxy-m-xylene etc. are mentioned.
Specific examples of the biphenyl condensing agent in which t is 2 include 4,4′-bishydroxymethylbiphenyl, 4,4′-bischloromethylbiphenyl, 4,4′-bisbromomethylbiphenyl, 4, Examples include 4'-bismethoxymethylbiphenyl and 4,4'-bisethoxymethylbiphenyl. From the viewpoint of reactivity, 4,4′-bishydroxymethylbiphenyl and 4,4′-bischloromethylbiphenyl are preferable. From the viewpoint of reducing ionic impurities, 4,4′-bishydroxymethylbiphenyl, 4 4,4'-bismethoxymethylbiphenyl is preferred.

反応させる際のモル比は、4,4’−ジヒドロキシビフェニル1モルに対して、縮合剤1モル以下が好ましく、一般的には0.1〜0.7モルの範囲であり、より好ましくは0.2〜0.5モルの範囲である。これより少ないと結晶性が強くなり、エポキシ樹脂を合成する際のエピクロロヒドリンへの溶解性が低下するとともに、得られたエポキシ樹脂の融点が高くなり、取扱い性が低下する。また、これより多いと樹脂の結晶性が低下するとともに軟化点および溶融粘度が高くなり、取扱い作業性、成形性に支障をきたす。   The molar ratio at the time of reaction is preferably 1 mol or less of the condensing agent with respect to 1 mol of 4,4′-dihydroxybiphenyl, generally in the range of 0.1 to 0.7 mol, more preferably 0. The range is from 2 to 0.5 mol. If it is less than this, the crystallinity becomes strong, the solubility in epichlorohydrin when synthesizing the epoxy resin is lowered, the melting point of the obtained epoxy resin is increased, and the handleability is lowered. On the other hand, if the amount is larger than this, the crystallinity of the resin is lowered and the softening point and the melt viscosity are increased, which hinders handling workability and moldability.

一般式(1)、(a)及び(b)において、共通する記号は特段の断りがない限り、同じ意味を有する。一般式(1)のkと、一般式(a)のnは通常同じ意味を有する。k、nは平均値(数平均)として0.2〜4.0であり、好ましくは0.4〜2.0である。これらは、エポキシ当量又は水酸基当量に関係し、エポキシ当量としては150〜500g/eqの範囲が好ましい。また、エポキシ当量はエポキシ樹脂の軟化点又は融点にも関係し、エポキシ当量を高めることにより、軟化点又は融点は高くなる。   In general formulas (1), (a) and (b), common symbols have the same meanings unless otherwise specified. K in the general formula (1) and n in the general formula (a) usually have the same meaning. k and n are 0.2 to 4.0 as an average value (number average), preferably 0.4 to 2.0. These are related to epoxy equivalent or hydroxyl equivalent, and the epoxy equivalent is preferably in the range of 150 to 500 g / eq. The epoxy equivalent is also related to the softening point or melting point of the epoxy resin, and the softening point or melting point is increased by increasing the epoxy equivalent.

一般式(1)で表されるエポキシ樹脂の軟化点又は融点は、エポキシ樹脂原料である多価ヒドロキシ樹脂を合成する際のビフェノール類と架橋剤のモル比を変えることにより容易に調整可能であるが、エポキシ樹脂組成物を調製する際の高融点成分の溶け残りによる物性低下を抑制する観点より、その軟化点又は融点は130℃以下が好ましく、さらに好ましくは120℃以下である。これより軟化点又は融点が高い場合、硬化性や耐熱性等の物性低下を生じる傾向にある。   The softening point or melting point of the epoxy resin represented by the general formula (1) can be easily adjusted by changing the molar ratio of the biphenols and the crosslinking agent when synthesizing the polyvalent hydroxy resin which is the epoxy resin raw material. However, the softening point or melting point is preferably 130 ° C. or lower, more preferably 120 ° C. or lower, from the viewpoint of suppressing deterioration in physical properties due to unmelted high melting point components when preparing the epoxy resin composition. When the softening point or melting point is higher than this, physical properties such as curability and heat resistance tend to be lowered.

また、縮合剤として一般式(b)におけるXがClであるビスクロロメチル化合物を用いる際には、無触媒下で反応させることもできるが、酸性触媒の存在下に行うことが好ましい。この酸性触媒としては、周知の無機酸、有機酸より適宜選択することができ、例えば、塩酸、硫酸、燐酸等の鉱酸や、ギ酸、シュウ酸、トリフルオロ酢酸、p−トルエンスルホン酸、メタスルホン酸、トリフルオロメタスルホン酸等の有機酸や、塩化亜鉛、塩化アルミニウム、塩化鉄、三フッ化ホウ素等のルイス酸、あるいは固体酸等が挙げられる。   Moreover, when using the bischloromethyl compound whose X in General formula (b) is Cl as a condensing agent, it can also make it react in the absence of a catalyst, However, It is preferable to carry out in presence of an acidic catalyst. The acidic catalyst can be appropriately selected from known inorganic acids and organic acids. For example, mineral acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid, phosphoric acid, formic acid, oxalic acid, trifluoroacetic acid, p-toluenesulfonic acid, metasulfone Examples thereof include organic acids such as acid and trifluorometasulfonic acid, Lewis acids such as zinc chloride, aluminum chloride, iron chloride, and boron trifluoride, and solid acids.

4,4'-ビフェノールと一般式(b)で表される縮合剤とを反応させる反応は、10〜250℃で1〜20時間行われる。また、反応の際にメタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、エチレングリコール、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等のアルコール類や、ベンゼン、トルエン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等の芳香族化合物等を溶媒として使用することができる。反応終了後、必要に応じて溶媒、又は縮合反応により生成する水、アルコール類等が除去される。   The reaction of reacting 4,4′-biphenol and the condensing agent represented by the general formula (b) is performed at 10 to 250 ° C. for 1 to 20 hours. In the reaction, alcohols such as methanol, ethanol, propanol, butanol, ethylene glycol, methyl cellosolve and ethyl cellosolve, and aromatic compounds such as benzene, toluene, chlorobenzene and dichlorobenzene can be used as a solvent. . After completion of the reaction, the solvent, water produced by the condensation reaction, alcohols, etc. are removed as necessary.

一般式(a)で表される多価ヒドロキシ樹脂とエピクロルヒドリンとの反応による本発明のエポキシ樹脂の製造方法について説明する。この反応は周知のエポキシ化反応と同様に行うことができる。   The method for producing the epoxy resin of the present invention by the reaction between the polyvalent hydroxy resin represented by the general formula (a) and epichlorohydrin will be described. This reaction can be performed in the same manner as a well-known epoxidation reaction.

例えば、一般式(a)で表される多価ヒドロキシ樹脂を過剰のエピクロルヒドリンに溶解した後、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物の存在下に50〜150℃、好ましくは60〜120℃の範囲で1〜10時間反応させる方法が挙げられる。この際のエピクロルヒドリンの使用量は、多価ヒドロキシ樹脂中の水酸基1モルに対して0.8〜2モル、好ましくは0.9〜1.2モルの範囲である。反応終了後過剰のエピクロルヒドリンを留去し、残留物をトルエン、メチルイソブチルケトン等の溶媒に溶解し、濾過し、水洗して無機塩を除去し、次いで溶媒を留去することにより前記一般式(1)で表される目的のエポキシ樹脂を得ることができる。エポキシ化反応を行う際に、四級アンモニウム塩等の触媒を用いてもよい。   For example, after the polyvalent hydroxy resin represented by the general formula (a) is dissolved in excess epichlorohydrin, it is 50 to 150 ° C., preferably 60 in the presence of an alkali metal hydroxide such as sodium hydroxide or potassium hydroxide. The method of making it react for 1 to 10 hours in the range of -120 degreeC is mentioned. In this case, the amount of epichlorohydrin used is in the range of 0.8 to 2 mol, preferably 0.9 to 1.2 mol, relative to 1 mol of the hydroxyl group in the polyvalent hydroxy resin. Excess epichlorohydrin was distilled off after completion of the reaction, the residue was dissolved in a solvent such as toluene and methyl isobutyl ketone, filtered, washed with water to remove inorganic salts, and then the solvent was distilled off to remove the general formula ( The target epoxy resin represented by 1) can be obtained. When performing the epoxidation reaction, a catalyst such as a quaternary ammonium salt may be used.

本発明のエポキシ樹脂の純度、特に加水分解性塩素量は、適用する電子部品の信頼性向上の観点より少ない方がよい。特に限定するものではないが、好ましくは1000ppm以下、さらに好ましくは500ppm以下である。なお、本発明でいう加水分解性塩素とは、以下の方法により測定された値をいう。すなわち、試料0.5gをジオキサン30mlに溶解後、1N−KOH、10mlを加え30分間煮沸還流した後、室温まで冷却し、さらに80%アセトン水100mlを加え、0.002N−AgNO3水溶液で電位差滴定を行い得られる値である。 The purity of the epoxy resin of the present invention, in particular the amount of hydrolyzable chlorine, is better from the viewpoint of improving the reliability of the applied electronic component. Although it does not specifically limit, Preferably it is 1000 ppm or less, More preferably, it is 500 ppm or less. In addition, the hydrolyzable chlorine as used in the field of this invention means the value measured by the following method. Specifically, 0.5 g of a sample was dissolved in 30 ml of dioxane, 1N-KOH, 10 ml was added, and the mixture was boiled and refluxed for 30 minutes. The mixture was cooled to room temperature, and further 100 ml of 80% acetone water was added, and a potential difference was obtained with 0.002N-AgNO 3 aqueous solution. This is a value obtained by titration.

次に、本発明のエポキシ樹脂組成物について説明する。本発明のエポキシ樹脂組成物は、上記一般式(1)のエポキシ樹脂、一般式(2)〜(4)から選ばれる少なくとも1種のエポキシ樹脂及び硬化剤を含む。   Next, the epoxy resin composition of the present invention will be described. The epoxy resin composition of this invention contains the epoxy resin of the said General formula (1), the at least 1 sort (s) of epoxy resin chosen from General formula (2)-(4), and a hardening | curing agent.

エポキシ樹脂中の一般式(1)で表されるエポキシ樹脂の含有量は、50wt%以上であり、好ましくは60wt%以上であり、より好ましくは70wt%以上である。これより少ないと熱伝導性が十分に発現されなくなる。   Content of the epoxy resin represented by General formula (1) in an epoxy resin is 50 wt% or more, Preferably it is 60 wt% or more, More preferably, it is 70 wt% or more. If it is less than this, the thermal conductivity is not sufficiently developed.

また、一般式(2)〜(4)で表されるエポキシ樹脂の含有量は、エポキシ樹脂成分中において10wt%〜50wt%であり、好ましくは20wt%〜40wt%であり、より好ましくは30wt%〜40wt%の範囲である。これより少ないと溶剤溶解性が低下し、また、これより多いと熱伝導性が十分に発現されなくなる。   Further, the content of the epoxy resin represented by the general formulas (2) to (4) is 10 wt% to 50 wt% in the epoxy resin component, preferably 20 wt% to 40 wt%, more preferably 30 wt%. It is in the range of ˜40 wt%. If it is less than this, solvent solubility will fall, and if it is more than this, heat conductivity will not fully be expressed.

一般式(2)で表されるエポキシ樹脂は、パラホルムアルデヒド又はホルマリン溶液とフェノール性水酸基含有化合物とを反応させることにより多価ヒドロキシ化合物を得て、つづくエポキシ化により製造できる。   The epoxy resin represented by the general formula (2) can be produced by reacting a paraformaldehyde or formalin solution with a phenolic hydroxyl group-containing compound to obtain a polyvalent hydroxy compound, followed by epoxidation.

また、一般式(2)において、lは1以上であり、高Tg性の発現および溶剤溶解性向上の観点から、好ましくは平均値(数平均)として2〜10であり、より好ましくは2〜5の範囲である。更に、lが2または3であるものが50wt%以上含まれることが最も好ましい。これより小さいと架橋密度の低下によりTgの低下を生じ、また、これより大きいと分子量の増大により溶剤溶解性の低下を生じることがある。   Moreover, in General formula (2), l is 1 or more, From a viewpoint of expression of high Tg property and a solvent solubility improvement, Preferably it is 2-10 as an average value (number average), More preferably, it is 2 The range is 5. Further, it is most preferable that 1 is 2 or 3 and 50 wt% or more is contained. If it is smaller than this, the Tg will decrease due to a decrease in the crosslinking density, and if it is higher than this, the solvent solubility may decrease due to an increase in molecular weight.

また、一般式(3)において、mは0以上であり、高Tg性の発現および溶剤溶解性向上の観点から、好ましくは平均値(数平均)として0〜5であり、より好ましくは0〜1の範囲である。これより大きいと分子量の増大により溶剤溶解性の低下を生じることがある。   Moreover, in General formula (3), m is 0 or more, and from a viewpoint of expression of high Tg property and a solvent solubility improvement, Preferably it is 0-5 as an average value (number average), More preferably, it is 0-0. 1 range. If it is larger than this, the solvent solubility may be lowered due to the increase in molecular weight.

一般式(3)で表されるエポキシ樹脂は、サリチルアルデヒド又はp−ヒドロキシアルデヒドとフェノール性水酸基含有化合物とを反応させることにより多価ヒドロキシ化合物を得て、つづくエポキシ化により製造できる。   The epoxy resin represented by the general formula (3) can be produced by reacting salicylaldehyde or p-hydroxyaldehyde with a phenolic hydroxyl group-containing compound to obtain a polyvalent hydroxy compound, followed by epoxidation.

また、一般式(4)において、mは0以上であり、高Tg性の発現および溶剤溶解性向上の観点から、好ましくは平均値(数平均)として0〜5であり、より好ましくは0〜1の範囲である。これより大きいと分子量の増大により溶剤溶解性の低下を生じることがある。   Moreover, in General formula (4), m is 0 or more, From a viewpoint of expression of high Tg property and a solvent solubility improvement, Preferably it is 0-5 as an average value (number average), More preferably, it is 0-0. 1 range. If it is larger than this, the solvent solubility may be lowered due to the increase in molecular weight.

一般式(4)で表されるエポキシ樹脂は、グリオキザールとフェノール性水酸基含有化合物とを反応させることにより多価ヒドロキシ化合物を得て、つづくエポキシ化により製造できる。   The epoxy resin represented by the general formula (4) can be produced by reacting glyoxal with a phenolic hydroxyl group-containing compound to obtain a polyvalent hydroxy compound, followed by epoxidation.

ここで、一般式(3)、(4)で表されるエポキシ樹脂の製造の際に使用するフェノール性水酸基含有化合物としては、熱伝導性発現の観点から無置換であるフェノールが好ましいが、置換基を有するフェノール性水酸基含有化合物を物性の低下を妨げない範囲で含んでいても良い。置換基を有するフェノール性水酸基含有化合物としてはo−クレゾール、m−クレゾール、p−クレゾール、2−エチルフェノール、4−エチルフェノール、2−プロピルフェノール、4−プロピルフェノール、4−tert−ブチルフェノール、4−ペンチルフェノール、4−tert−ペンチルフェノール、4−ネオペンチルフェノール、2−シクロペンチルフェノール、2−ヘキシルフェノール、4−ヘキシルフェノール等が挙げられる。   Here, as the phenolic hydroxyl group-containing compound used in the production of the epoxy resin represented by the general formulas (3) and (4), unsubstituted phenol is preferable from the viewpoint of thermal conductivity expression. A phenolic hydroxyl group-containing compound having a group may be included within a range that does not hinder a decrease in physical properties. Examples of the phenolic hydroxyl group-containing compound having a substituent include o-cresol, m-cresol, p-cresol, 2-ethylphenol, 4-ethylphenol, 2-propylphenol, 4-propylphenol, 4-tert-butylphenol, 4 -Pentylphenol, 4-tert-pentylphenol, 4-neopentylphenol, 2-cyclopentylphenol, 2-hexylphenol, 4-hexylphenol and the like.

これら一般式(2)〜(4)で表されるエポキシ樹脂はそれぞれ単独で一般式(1)のエポキシ樹脂と混合して使用されることが好ましいが、一般式(2)〜(4)のエポキシ樹脂の合計が50wt%を超えない範囲でこれらの2〜3種を任意の割合で混合して使用しても良い。中でも一般式(2)のエポキシ樹脂は一般式(1)のエポキシ樹脂と混合したときの溶剤溶解性と硬化物の熱伝導性のバランスから好ましく使用される。   The epoxy resins represented by the general formulas (2) to (4) are preferably used alone and mixed with the epoxy resin of the general formula (1), but the general formulas (2) to (4) You may mix and use these 2-3 types in arbitrary ratios in the range which the sum total of an epoxy resin does not exceed 50 wt%. Among them, the epoxy resin of the general formula (2) is preferably used from the balance between the solvent solubility when mixed with the epoxy resin of the general formula (1) and the thermal conductivity of the cured product.

本発明のエポキシ樹脂組成物は、上記のエポキシ樹脂と、フェノール系硬化剤を必須成分とする。有利には、これらと無機充填材を必須成分とする。   The epoxy resin composition of the present invention contains the above epoxy resin and a phenolic curing agent as essential components. Advantageously, these and inorganic fillers are essential components.

フェノール系硬化剤としては、半導体封止材等の高い電気絶縁性が要求される分野においては、多価フェノール類を用いることが好ましい。以下に、硬化剤の具体例を示す。   As the phenolic curing agent, polyhydric phenols are preferably used in a field where high electrical insulation properties such as a semiconductor sealing material are required. Below, the specific example of a hardening | curing agent is shown.

多価フェノール類としては、例えば、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールS、フルオレンビスフェノール、ハイドロキノン、レゾルシン、カテコール、ビフェノール類、ナフタレンジオール類等の2価のフェノール類、更にはトリス−(4−ヒドロキシフェニル)メタン、1,1,2,2−テトラキス(4−ヒドロキシフェニル)エタン、フェノールノボラック、o−クレゾールノボラック、ナフトールノボラック、ジシクロペンタジエン型フェノール樹脂、フェノールアラルキル樹脂等に代表される3価以上のフェノール類、更にはフェノール類、ナフトール類又は、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールS、フルオレンビスフェノール、4,4' −ビフェノール、2,2'−ビフェノール、ハイドロキノン、レゾルシン、カテコール、ナフタレンジオール類等の2価のフェノール類とホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、ベンズアルデヒド、p−ヒドロキシベンズアルデヒド、p−キシリレングリコール、p−キシリレングリコールジメチルエーテル、ジビニルベンゼン、ジイソプロペニルベンゼン、ジメトキシメチルビフェニル類、ジビニルビフェニル、ジイソプロペニルビフェニル類等の架橋剤との反応により合成される多価フェノール性化合物、フェノール類とビスクロロメチルビフェニル等から得られるビフェニルアラルキル型フェノール樹脂、ナフトール類とパラキシリレンジクロライド等から合成されるナフトールアラルキル樹脂類等が挙げられる。   Examples of polyhydric phenols include divalent phenols such as bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, fluorene bisphenol, hydroquinone, resorcin, catechol, biphenols, naphthalenediols, and tris- (4-hydroxyphenyl). ) Trivalent or higher typified by methane, 1,1,2,2-tetrakis (4-hydroxyphenyl) ethane, phenol novolak, o-cresol novolak, naphthol novolak, dicyclopentadiene type phenol resin, phenol aralkyl resin, etc. Phenols, further phenols, naphthols, or bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, fluorene bisphenol, 4,4'-biphenol, 2,2'-biphenol, hydroxyl Divalent phenols such as ethanol, resorcin, catechol, naphthalenediols, and formaldehyde, acetaldehyde, benzaldehyde, p-hydroxybenzaldehyde, p-xylylene glycol, p-xylylene glycol dimethyl ether, divinylbenzene, diisopropenylbenzene, dimethoxy Polyphenolic compounds synthesized by reaction with crosslinkers such as methyl biphenyls, divinyl biphenyls, diisopropenyl biphenyls, biphenyl aralkyl type phenol resins obtained from phenols and bischloromethyl biphenyls, naphthols and para Examples thereof include naphthol aralkyl resins synthesized from xylylene dichloride and the like.

また、他の硬化剤成分も使用でき、例えば、ジシアンジアミド、酸無水物類、芳香族及び脂肪族アミン類等が使用できる。本発明のエポキシ樹脂組成物には、これら硬化剤の1種又は2種以上を混合して用いることができる。しかし、フェノール系硬化剤は必須であり、硬化剤の50wt%以上であることが好ましい。   Other curing agent components can also be used, such as dicyandiamide, acid anhydrides, aromatic and aliphatic amines. In the epoxy resin composition of the present invention, one or more of these curing agents can be mixed and used. However, the phenolic curing agent is essential and is preferably 50 wt% or more of the curing agent.

硬化剤の配合量は、エポキシ樹脂中のエポキシ基と硬化剤の官能基(多価フェノール類の場合は水酸基)との当量バランスを考慮して配合する。エポキシ樹脂及び硬化剤の当量比は、通常、0.2から5.0の範囲であり、好ましくは0.5から2.0の範囲であり、さらに好ましくは0.8〜1.5の範囲である。これより大きくても小さくても、エポキシ樹脂組成物の硬化性が低下するとともに、硬化物の耐熱性、力学強度等が低下する。   The amount of the curing agent is blended in consideration of an equivalent balance between the epoxy group in the epoxy resin and the functional group of the curing agent (a hydroxyl group in the case of polyhydric phenols). The equivalent ratio of epoxy resin and curing agent is usually in the range of 0.2 to 5.0, preferably in the range of 0.5 to 2.0, more preferably in the range of 0.8 to 1.5. It is. If it is larger or smaller than this, the curability of the epoxy resin composition is lowered, and the heat resistance, mechanical strength and the like of the cured product are lowered.

また、このエポキシ樹脂組成物中には、エポキシ樹脂成分として、一般式(1)〜(4)で表されるエポキシ樹脂以外に別種のエポキシ樹脂を配合してもよい。この場合の別種のエポキシ樹脂としては、分子中にエポキシ基を2個以上有する通常のエポキシ樹脂はすべて使用できる。例を挙げれば、ビスフェノールA、ビスフェノールS、フルオレンビスフェノール、4,4' −ビフェノール、3,3',5,5'−テトラメチル−4,4'−ジヒドロキシビフェニル、レゾルシン、ナフタレンジオール類等の2価のフェノール類のエポキシ化物、トリス−(4−ヒドロキシフェニル)メタン、o−クレゾールノボラック等の3価以上のフェノール類のエポキシ化物、ジシクロペンタジエンとフェノール類から得られる共縮合樹脂のエポキシ化物、クレゾール類とホルムアルデヒドとアルコキシ基置換ナフタレン類から得られる共縮合樹脂のエポキシ化物、フェノール類とパラキシリレンジクロライド等から得られるフェノールアラルキル樹脂のエポキシ化物、フェノール類とビスクロロメチルビフェニル等から得られるビフェニルアラルキル型フェノール樹脂のエポキシ化物、ナフトール類とパラキシリレンジクロライド等から合成されるナフトールアラルキル樹脂類のエポキシ化物等がある。これらのエポキシ樹脂は、1種又は2種以上を混合して用いることができる。そして、エポキシ樹脂全体中の別種のエポキシ樹脂の配合量は、0〜40wt%の範囲であり、好ましくは0〜20wt%の範囲である。   Moreover, in this epoxy resin composition, you may mix | blend another kind of epoxy resin other than the epoxy resin represented by General formula (1)-(4) as an epoxy resin component. As other types of epoxy resins in this case, all ordinary epoxy resins having two or more epoxy groups in the molecule can be used. Examples include 2 such as bisphenol A, bisphenol S, fluorene bisphenol, 4,4′-biphenol, 3,3 ′, 5,5′-tetramethyl-4,4′-dihydroxybiphenyl, resorcin, naphthalenediols, etc. Epoxidized products of polyvalent phenols, epoxidized products of trivalent or higher phenols such as tris- (4-hydroxyphenyl) methane, o-cresol novolak, epoxidized products of cocondensation resins obtained from dicyclopentadiene and phenols, Epoxy products of cocondensation resins obtained from cresols, formaldehyde and alkoxy-substituted naphthalenes, epoxidation products of phenol aralkyl resins obtained from phenols and paraxylylene dichloride, bifes obtained from phenols and bischloromethylbiphenyl, etc. Ruararukiru type phenolic resin of epoxide, there is epoxidized naphthol aralkyl resin and the like which are synthesized from naphthols and para-xylylene dichloride and the like. These epoxy resins can be used alone or in combination of two or more. And the compounding quantity of another kind of epoxy resin in the whole epoxy resin is the range of 0-40 wt%, Preferably it is the range of 0-20 wt%.

本発明のエポキシ樹脂組成物には、上記成分の他に、他の添加剤を加えることができる。   In addition to the above components, other additives can be added to the epoxy resin composition of the present invention.

更には、硬化物の応力を低減させる目的で、エポキシ樹脂組成物中に架橋弾性体を含有することもできる。架橋弾性体を配合すると、硬化物の熱衝撃テストにおけるパッケージクラックの発生を著しく少なくすることが可能である。   Furthermore, a crosslinked elastic body can be contained in the epoxy resin composition for the purpose of reducing the stress of the cured product. When a crosslinked elastic body is blended, it is possible to significantly reduce the occurrence of package cracks in a thermal shock test of a cured product.

架橋弾性体の含有量は、エポキシ樹脂100重量部に対し、3〜30重量部の範囲がよいが、好ましくは5〜20重量部であり、より好ましくは5〜15重量部である。これより小さいと低弾性が十分に発揮されない。また反対にこれより大きくなると、硬化物のTgが低くなるとともに、流動性が低くなり成形加工性に劣る傾向にある。   The content of the cross-linked elastic body is preferably in the range of 3 to 30 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the epoxy resin, preferably 5 to 20 parts by weight, and more preferably 5 to 15 parts by weight. If it is smaller than this, low elasticity is not sufficiently exhibited. On the other hand, if it is larger than this, the Tg of the cured product is lowered, the fluidity is lowered, and the moldability tends to be inferior.

架橋弾性体としては、公知のものを用いることができるが、エポキシ樹脂との相溶性向上の観点から、スチレン系ゴム、アクリル系ゴムを用いることが好ましい。   As the cross-linked elastic body, known materials can be used, but from the viewpoint of improving compatibility with the epoxy resin, it is preferable to use styrene rubber or acrylic rubber.

エポキシ樹脂組成物に無機充填材を配合する場合、無機充填材としては、例えば、球状あるいは、破砕状の溶融シリカ、結晶シリカ等のシリカ粉末、アルミナ粉末、ガラス粉末、又はマイカ、タルク、炭酸カルシウム、アルミナ、水和アルミナ等が挙げられ、半導体封止材に用いる場合の好ましい配合量は70重量%以上であり、更に好ましくは80重量%以上である。無機充填材の形状には制限はないが、球状、破砕状、扁平状、繊維状等が使用でき、その粒径又は長径は1〜1000μmの範囲が好ましい。プリプレグとする場合の繊維状基材の繊維長は、10mm以上であることが好ましく、これに配合される無機充填材の量は、10〜90重量%の範囲であることが好ましい。   When an inorganic filler is blended in the epoxy resin composition, examples of the inorganic filler include silica powder such as spherical or crushed fused silica and crystalline silica, alumina powder, glass powder, mica, talc, and calcium carbonate. , Alumina, hydrated alumina, and the like, and a preferable blending amount when used for a semiconductor encapsulant is 70% by weight or more, and more preferably 80% by weight or more. Although there is no restriction | limiting in the shape of an inorganic filler, A spherical shape, a crushing shape, a flat shape, a fiber shape, etc. can be used, The range of 1-1000 micrometers is preferable for the particle size or major axis. When the prepreg is used, the fiber length of the fibrous base material is preferably 10 mm or more, and the amount of the inorganic filler blended therein is preferably in the range of 10 to 90% by weight.

無機充填材は、より高い熱伝導率を付与する目的で、熱伝導率が高いものほど好ましい。好ましくは20W/m・K以上、より好ましくは30W/m・K以上、さらに好ましくは50W/m・K以上である。そして、無機充填材の少なくとも一部、好ましくは50wt%以上が20W/m・K以上の熱伝導率を有する。そして、無機充填材全体としての平均の熱伝導率が、20W/m・K以上、30W/m・K以上、及び50W/m・K以上の順に好ましさが向上する。   For the purpose of imparting higher thermal conductivity, the inorganic filler is preferably as high as possible. It is preferably 20 W / m · K or more, more preferably 30 W / m · K or more, and still more preferably 50 W / m · K or more. At least a part of the inorganic filler, preferably 50 wt% or more, has a thermal conductivity of 20 W / m · K or more. The average thermal conductivity of the inorganic filler as a whole is improved in the order of 20 W / m · K or higher, 30 W / m · K or higher, and 50 W / m · K or higher.

このような熱伝導率を有する無機充填材の例としては、窒化ホウ素、窒化アルミニウム、窒化ケイ素、炭化ケイ素、窒化チタン、酸化亜鉛、炭化タングステン、アルミナ、酸化マグネシウム等の無機粉末充填材等が挙げられる。   Examples of inorganic fillers having such thermal conductivity include inorganic powder fillers such as boron nitride, aluminum nitride, silicon nitride, silicon carbide, titanium nitride, zinc oxide, tungsten carbide, alumina, and magnesium oxide. It is done.

本発明のエポキシ樹脂組成物中には、ポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、ポリエーテル、ポリウレタン、石油樹脂、インデン樹脂、インデン・クマロン樹脂、フェノキシ樹脂等のオリゴマー又は高分子化合物を他の改質剤等として適宜配合してもよい。添加量は、通常、エポキシ樹脂100重量部に対して、2〜30重量部の範囲である。   In the epoxy resin composition of the present invention, an oligomer or a polymer compound such as polyester, polyamide, polyimide, polyether, polyurethane, petroleum resin, indene resin, indene-coumarone resin, phenoxy resin, etc. is used as another modifier. You may mix | blend suitably. The addition amount is usually in the range of 2 to 30 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the epoxy resin.

また、本発明のエポキシ樹脂組成物には、顔料、難然剤、揺変性付与剤、カップリング剤、流動性向上剤等の添加剤を配合できる。   The epoxy resin composition of the present invention may contain additives such as pigments, refractory agents, thixotropic agents, coupling agents, fluidity improvers and the like.

顔料としては、有機系又は、無機系の体質顔料、鱗片状顔料等がある。揺変性付与剤としては、シリコン系、ヒマシ油系、脂肪族アマイドワックス、酸化ポリエチレンワックス、有機ベントナイト系等を挙げることができる。   Examples of the pigment include organic or inorganic extender pigments and scaly pigments. Examples of the thixotropic agent include silicon-based, castor oil-based, aliphatic amide wax, polyethylene oxide wax, and organic bentonite.

更に、本発明のエポキシ樹脂組成物には必要に応じて硬化促進剤を用いることができる。例を挙げれば、アミン類、イミダゾール類、有機ホスフィン類、ルイス酸等があり、具体的には、1,8−ジアザビシクロ(5,4,0)ウンデセン−7、トリエチレンジアミン、ベンジルジメチルアミン、トリエタノールアミン、ジメチルアミノエタノール、トリス(ジメチルアミノメチル)フェノールなどの三級アミン、2−メチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール、2−フェニル−4−メチルイミダゾール、2−へプタデシルイミダゾールなどのイミダゾール類、トリブチルホスフィン、メチルジフェニルホスフイン、トリフェニルホスフィン、ジフェニルホスフィン、フェニルホスフィンなどの有機ホスフィン類、テトラフェニルホスホニウム・テトラフェニルボレート、テトラフェニルホスホニウム・エチルトリフェニルボレート、テトラブチルホスホニウム・テトラブチルボレートなどのテトラ置換ホスホニウム・テトラ置換ボレート、2−エチル−4−メチルイミダゾール・テトラフェニルボレート、N−メチルモルホリン・テトラフェニルボレートなどのテトラフェニルボロン塩などがある。添加量としては、通常、エポキシ樹脂100重量部に対して、0.2〜5重量部の範囲である。   Furthermore, a curing accelerator can be used in the epoxy resin composition of the present invention as necessary. Examples include amines, imidazoles, organic phosphines, Lewis acids, etc., specifically 1,8-diazabicyclo (5,4,0) undecene-7, triethylenediamine, benzyldimethylamine, Tertiary amines such as ethanolamine, dimethylaminoethanol, tris (dimethylaminomethyl) phenol, 2-methylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole, 2- Imidazoles such as heptadecylimidazole, organic phosphines such as tributylphosphine, methyldiphenylphosphine, triphenylphosphine, diphenylphosphine, and phenylphosphine, tetraphenylphosphonium tetraphenylborate, tetraphenyl Tetraphenyl such as ruphosphonium / ethyltriphenylborate, tetrabutylphosphonium / tetrabutylborate, tetrasubstituted phosphonium / tetrasubstituted borate, 2-ethyl-4-methylimidazole / tetraphenylborate, N-methylmorpholine / tetraphenylborate, etc. There is boron salt. As addition amount, it is the range of 0.2-5 weight part normally with respect to 100 weight part of epoxy resins.

更に必要に応じて、本発明の樹脂組成物には、カルナバワックス、OPワックス等の離型剤、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン等のカップリング剤、カーボンブラック等の着色剤、三酸化アンチモン等の難燃剤、ステアリン酸カルシウム等の滑剤等を使用できる。   Further, if necessary, the resin composition of the present invention includes a release agent such as carnauba wax and OP wax, a coupling agent such as γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, a colorant such as carbon black, and trioxide. Flame retardants such as antimony and lubricants such as calcium stearate can be used.

本発明のエポキシ樹脂組成物は、有機溶剤に一部又は全部を溶解させたワニス状態(ワニスという。)として有利に使用することができる。無機充填材等の溶剤不溶分を含む場合は、それを溶解させる必要はないが、懸濁状態にして、可級的に均一の溶液とすることが望ましい。樹脂組成物中の、エポキシ樹脂は全部を溶解させることが望ましいが、本発明のエポキシ樹脂は、溶解性が優れ、保存状態において、固形分が析出しにくいという特徴を有する。ワニス中のエポキシ樹脂の一部が固形物となって分離すると、これの硬化物の特性が劣るものとなる。   The epoxy resin composition of the present invention can be advantageously used as a varnish state (referred to as varnish) in which a part or all of the epoxy resin composition is dissolved in an organic solvent. When a solvent-insoluble component such as an inorganic filler is included, it is not necessary to dissolve it, but it is desirable to make it a suspended state to obtain a uniform solution. The epoxy resin in the resin composition is desirably completely dissolved, but the epoxy resin of the present invention has the characteristics that the solubility is excellent and the solid content hardly precipitates in the storage state. If a part of the epoxy resin in the varnish becomes a solid and separates, the properties of the cured product are inferior.

本発明のエポキシ樹脂組成物は、有利には樹脂分を溶剤に溶解させた状態の組成物(ワニス)とした後に、ガラスクロス、アラミド不織布、液晶ポリマー系のポリエステル不織布等の繊維状の基材に含浸させた後に溶剤除去を行うことにより、エポキシ樹脂組成物と繊維状の基材を複合化したプリプレグとすることができる。また、場合により銅箔、ステンレス箔、ポリイミドフィルム、ポリエステルフィルム等のシート状物上に上記ワニスを塗布することにより積層物とすることができる。また、上記プリプレグを複数積層することにより、プリプレグと上記シート状物を積層することによっても、積層物とすることができる。   The epoxy resin composition of the present invention is preferably a fibrous base material such as a glass cloth, an aramid nonwoven fabric, a liquid crystal polymer polyester nonwoven fabric, etc. after a resin component is dissolved in a solvent (varnish). By removing the solvent after impregnating, the prepreg in which the epoxy resin composition and the fibrous base material are combined can be obtained. Moreover, it can be set as a laminated body by apply | coating the said varnish on sheet-like objects, such as copper foil, stainless steel foil, a polyimide film, and a polyester film depending on the case. Moreover, it can be set as a laminated body also by laminating | stacking a plurality of said prepregs, and laminating | stacking a prepreg and the said sheet-like material.

本発明のエポキシ樹脂組成物を加熱硬化させれば、エポキシ樹脂硬化物とすることができ、この硬化物は低吸湿性、高耐熱性、密着性、難燃性等の点で優れたものとなる。この硬化物は、エポキシ樹脂組成物を注型、圧縮成形、トランスファー成形等の方法により、成形加工して得ることができる。この際の温度は通常、120〜220℃の範囲である。   If the epoxy resin composition of the present invention is cured by heating, an epoxy resin cured product can be obtained, and this cured product is excellent in terms of low hygroscopicity, high heat resistance, adhesion, flame retardancy, and the like. Become. This cured product can be obtained by molding the epoxy resin composition by a method such as casting, compression molding, transfer molding or the like. The temperature at this time is usually in the range of 120 to 220 ° C.

以下、合成例、実施例及び比較例に基づき、本発明を具体的に説明する。   Hereinafter, based on a synthesis example, an Example, and a comparative example, this invention is demonstrated concretely.

合成例1
2Lの4口フラスコに、4,4’−ジヒドロキシビフェニル186g(1.0モル)、p−キシリレングリコール69g(0.5モル)、溶剤のジエチレングリコールジメチルエーテル743g、酸触媒としてp−トルエンスルホン酸2.55gを仕込み160℃に昇温した。次に、160℃にて攪拌しながら3時間反応させた。次に、減圧下にて溶剤を一部留去した。得られた樹脂237gにエピクロルヒドリン740gを仕込み溶解させた。続いて、減圧下75℃にて49%水酸化ナトリウム水溶液150.8gを4時間かけて滴下し、この滴下中に還流留出した水とエピクロルヒドリンを分離槽で分離しエピクロルヒドリンは反応容器に戻し、水は系外に除いて反応した。反応終了後、濾過により生成した塩を除き、更に水洗したのちエピクロルヒドリンを留去し、エポキシ樹脂279gを得た(エポキシ樹脂A)。得られた樹脂のエポキシ当量は185g/eq.であった。DSC測定におけるピーク温度(融点)は125℃、150℃における溶融粘度は0.48Pa・sであった。
Synthesis example 1
In a 2 L 4-neck flask, 186 g (1.0 mol) of 4,4′-dihydroxybiphenyl, 69 g (0.5 mol) of p-xylylene glycol, 743 g of diethylene glycol dimethyl ether as a solvent, p-toluenesulfonic acid 2 as an acid catalyst .55 g was charged and the temperature was raised to 160 ° C. Next, it was made to react for 3 hours, stirring at 160 degreeC. Next, a part of the solvent was distilled off under reduced pressure. Into 237 g of the obtained resin, 740 g of epichlorohydrin was charged and dissolved. Subsequently, 150.8 g of a 49% aqueous sodium hydroxide solution was added dropwise at 75 ° C. under reduced pressure over 4 hours, and water and epichlorohydrin distilled under reflux during the dropping were separated in a separation tank, and epichlorohydrin was returned to the reaction vessel. Water reacted outside the system. After completion of the reaction, the salt produced by filtration was removed, and after further washing with water, epichlorohydrin was distilled off to obtain 279 g of an epoxy resin (epoxy resin A). The epoxy equivalent of the obtained resin was 185 g / eq. Met. The peak temperature (melting point) in DSC measurement was 125 ° C., and the melt viscosity at 150 ° C. was 0.48 Pa · s.

合成例2
1000mlの4口フラスコに、4,4’−ジヒドロキシビフェニル77.5g、ジエチレングリコールジメチルエーテル180.8g、4,4’−ビスクロロメチルビフェニル52.3gを仕込み、窒素気流下、攪拌しながら170℃まで昇温して2時間反応させた。反応後、ジエチレングリコールジメチルエーテルを123g回収し、エピクロルヒドリン385.4g、ジエチレングリコールジメチルエーテル57.8gに溶解し、減圧下(約130Torr)62℃にて48%水酸化ナトリウム水溶液69.4gを4時間かけて滴下した。この間、生成する水はエピクロルヒドリンとの共沸により系外に除き、留出したエピクロルヒドリンは系内に戻した。滴下終了後、さらに1時間反応を継続した。その後、エピクロルヒドリンを留去し、メチルイソブチルケトンを加えた後、水洗により塩を除いた後、濾過、水洗を行なった後、溶媒であるメチルイソブチルケトンを減圧留去し、エポキシ樹脂129gを得た(エポキシ樹脂B)。得られた樹脂のエポキシ当量は196g/eq.であった。DSC測定におけるピーク温度(融点)は126℃、150℃における溶融粘度は0.68Pa・sであった。
Synthesis example 2
In a 1000 ml four-necked flask, 77.5 g of 4,4′-dihydroxybiphenyl, 180.8 g of diethylene glycol dimethyl ether, and 52.3 g of 4,4′-bischloromethylbiphenyl were charged, and the temperature was raised to 170 ° C. with stirring in a nitrogen stream. The reaction was allowed to warm for 2 hours. After the reaction, 123 g of diethylene glycol dimethyl ether was recovered, dissolved in 385.4 g of epichlorohydrin and 57.8 g of diethylene glycol dimethyl ether, and 69.4 g of 48% aqueous sodium hydroxide solution was added dropwise at 62 ° C. under reduced pressure (about 130 Torr) over 4 hours. . During this time, the generated water was removed from the system by azeotropy with epichlorohydrin, and the distilled epichlorohydrin was returned to the system. After completion of the dropwise addition, the reaction was continued for another hour. Thereafter, epichlorohydrin was distilled off, methyl isobutyl ketone was added, salts were removed by washing with water, filtration and washing were performed, and then methyl isobutyl ketone as a solvent was distilled off under reduced pressure to obtain 129 g of an epoxy resin. (Epoxy resin B). The epoxy equivalent of the obtained resin was 196 g / eq. Met. The peak temperature (melting point) in DSC measurement was 126 ° C., and the melt viscosity at 150 ° C. was 0.68 Pa · s.

実施例1〜7、比較例1〜4
表1に示すエポキシ樹脂組成物を作成し、この樹脂組成物の溶剤溶解性を、溶剤としてシクロペンタノンを用い、固形分濃度30wt%となるようにエポキシ樹脂組成物を溶解させた樹脂溶液を室温で放置し、析出物が確認されるまでの日数(時間)により、溶液安定性を評価した。結果を表1に示した。実施例1、3〜7は、7日間以上の安定性を示したが、比較例3、4は3時間、6時間と短いものであった。なお、比1は比較例1を意味し、比2以降も同様である。
Examples 1-7, Comparative Examples 1-4
An epoxy resin composition shown in Table 1 was prepared, and a resin solution in which the resin solubility of this resin composition was dissolved using cyclopentanone as a solvent and a solid content concentration of 30 wt% was obtained. The solution stability was evaluated based on the number of days (hours) until the precipitate was confirmed after standing at room temperature. The results are shown in Table 1. Examples 1 and 3 to 7 showed stability for 7 days or more, but Comparative Examples 3 and 4 were as short as 3 hours and 6 hours. Note that the ratio 1 means Comparative Example 1, and the same applies to the ratio 2 and later.

Figure 2015160893
Figure 2015160893

表中の略号の説明は以下のとおりである。
(エポキシ樹脂)
・エポキシ樹脂A;合成例1で得たエポキシ樹脂
・エポキシ樹脂B;合成例2で得たエポキシ樹脂
・エポキシ樹脂C;一般式(2)で表されるエポキシ樹脂(エポキシ当量175g/eq.、GPC測定によるl=1成分の含有率は9.0%、l=2成分;37.7%、l=3成分;17.1%、l=4成分;8.2%、及びl=5成分以上の合計の含有率は27.9%。)
・エポキシ樹脂D;一般式(2)で表されるエポキシ樹脂(エポキシ当量177g/eq.、GPC測定によるl=1成分の含有率は21.9%、l=2成分;14.7%、l=3成分;10.4%、l=4成分;8.1%、及びl=5成分以上の合計の含有率は44.9%。)
・エポキシ樹脂E;一般式(3)で表されるエポキシ樹脂(EPPN−501H(日本化薬製)エポキシ当量168g/eq.)
・エポキシ樹脂F;一般式(4)で表されるエポキシ樹脂(エポキシ当量173g/eq.)
・エポキシ樹脂G;ビスフェノールA型エポキシ樹脂(YD−128(新日鉄住金化学製)エポキシ当量188g/eq.)
・エポキシ樹脂H;o-クレゾールノボラック型エポキシ樹脂(YDCN−700−3(新日鉄住金化学製)エポキシ当量200g/eq.)
The abbreviations in the table are explained as follows.
(Epoxy resin)
Epoxy resin A; Epoxy resin obtained in Synthesis Example 1 Epoxy resin B; Epoxy resin obtained in Synthesis Example 2 Epoxy resin C; Epoxy resin represented by the general formula (2) (epoxy equivalent 175 g / eq., The content of l = 1 component by GPC measurement is 9.0%, l = 2 component; 37.7%, l = 3 component; 17.1%, l = 4 component; 8.2%, and l = 5 (The total content of the components or more is 27.9%.)
Epoxy resin D: epoxy resin represented by general formula (2) (epoxy equivalent 177 g / eq., 1 = 1 component content by GPC measurement is 21.9%, l = 2 component; 14.7%, (1 = 3 component; 10.4%, l = 4 component; 8.1%, and the total content of 1 = 5 component or more is 44.9%.)
Epoxy resin E; epoxy resin represented by the general formula (3) (EPPN-501H (manufactured by Nippon Kayaku) epoxy equivalent 168 g / eq.)
Epoxy resin F: epoxy resin represented by the general formula (4) (epoxy equivalent 173 g / eq.)
Epoxy resin G; bisphenol A type epoxy resin (YD-128 (manufactured by Nippon Steel & Sumikin Chemical) epoxy equivalent 188 g / eq.)
Epoxy resin H; o-cresol novolac type epoxy resin (YDCN-700-3 (manufactured by Nippon Steel & Sumikin Chemical) epoxy equivalent 200 g / eq.)

(硬化剤)
・硬化剤A;フェノールノボラック型多価ヒドロキシ樹脂(PSM−4261(群栄化学工業株式会社製)、OH当量 103、軟化点 82℃)
・硬化剤B;トリフェノールメタン型多価ヒドロキシ樹脂(TPM−100(群栄化学工業株式会社製)、OH当量 97.5、軟化点 105℃)
(硬化触媒)
・硬化触媒A;トリフェニルホスフィン(製品名;TPP、北興化学工業株式会社製)
(無機充填剤)
・球状アルミナ(製品名;DAW−100、電気化学工業株式会社製、熱伝導率38W/m・K)
(離型剤)
・カルナバワックス(製品名;TOWAX171、東亜化成株式会社製)
(着色剤)
・カーボンブラック(製品名;MA−100、三菱化学株式会社製)
(Curing agent)
Curing agent A: phenol novolac type polyvalent hydroxy resin (PSM-4261 (manufactured by Gunei Chemical Industry Co., Ltd.), OH equivalent 103, softening point 82 ° C.)
Curing agent B: Triphenolmethane type polyvalent hydroxy resin (TPM-100 (manufactured by Gunei Chemical Industry Co., Ltd.), OH equivalent 97.5, softening point 105 ° C.)
(Curing catalyst)
Curing catalyst A: triphenylphosphine (product name: TPP, manufactured by Hokuko Chemical Co., Ltd.)
(Inorganic filler)
Spherical alumina (Product name: DAW-100, manufactured by Denki Kagaku Kogyo Co., Ltd., thermal conductivity 38 W / m · K)
(Release agent)
・ Carnauba wax (Product name: TOWAX171, manufactured by Toa Kasei Co., Ltd.)
(Coloring agent)
・ Carbon black (Product name: MA-100, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation)

実施例8〜14、比較例5〜8
表2〜3に示す配合(重量部)でエポキシ樹脂組成物作成した。このエポキシ樹脂組成物を用いて175℃で成形し、更に175℃にて12時間ポストキュアを行い、硬化物試験片を得た後、各種物性測定に供した。結果を合わせて表2〜3に示す。
Examples 8-14, Comparative Examples 5-8
Epoxy resin compositions were prepared with the formulations (parts by weight) shown in Tables 2-3. This epoxy resin composition was molded at 175 ° C., and further post-cured at 175 ° C. for 12 hours to obtain a cured product test piece, which was then subjected to various physical property measurements. The results are shown in Tables 2-3.

エポキシ樹脂、エポキシ樹脂組成物及び硬化物の試験条件を次に示す。
1)ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)測定
東ソー株式会社製 TSKgelG4000HXL、TSKgelG3000HXL、TSKgelG2000HXLを直列に備えたものを使用し、カラム温度は40℃にした。また、溶離液にはテトラヒドロフランを用い、1ml/minの流速とし、検出器はRI(示差屈折計)検出器を用いた。
2)エポキシ当量の測定
電位差滴定装置を用い、溶剤としてメチルエチルケトンを使用し、臭素化テトラエチルアンモニウム酢酸溶液を加え、電位差滴定装置にて0.1mol/L過塩素酸−酢酸溶液を用いて測定した。
Test conditions for the epoxy resin, the epoxy resin composition and the cured product are shown below.
1) Gel permeation chromatography (GPC) measurement Tosoh Corporation TSKgelG4000HXL, TSKgelG3000HXL, TSKgelG2000HXL were used in series, and the column temperature was 40 ° C. Tetrahydrofuran was used as the eluent, the flow rate was 1 ml / min, and an RI (differential refractometer) detector was used as the detector.
2) Measurement of epoxy equivalent Using a potentiometric titrator, methyl ethyl ketone was used as a solvent, a brominated tetraethylammonium acetic acid solution was added, and a 0.1 mol / L perchloric acid-acetic acid solution was measured with a potentiometric titrator.

3)融点
示差走査熱量分析装置(エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社製 EXSTAR6000 DSC/6200)により、昇温速度5℃/分の条件で、DSCピーク温度を求めた。すなわち、このDSCピーク温度をエポキシ樹脂の融点とした。
3) Melting | fusing point DSC peak temperature was calculated | required on the conditions of the temperature increase rate of 5 degree-C / min with the differential scanning calorimetry apparatus (SII nanotechnology Co., Ltd. EXSTAR6000 DSC / 6200). That is, this DSC peak temperature was taken as the melting point of the epoxy resin.

4)溶融粘度
BROOKFIELD製、CAP2000H型回転粘度計を用いて、150℃にて測定した。
4) Melt viscosity Measured at 150 ° C. using a CAP2000H type rotational viscometer manufactured by BROOKFIELD.

5)ゲルタイム(秒)
JISK6910に従い、175℃にて測定した。
5) Gel time (seconds)
According to JISK6910, it measured at 175 degreeC.

6)ガラス転移点(Tg)
熱機械測定装置(エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社製 EXSTAR6000TMA/6100)により、昇温速度10℃/分の条件でTgを求めた。
6) Glass transition point (Tg)
Tg was calculated | required on the conditions of the temperature increase rate of 10 degree-C / min with the thermomechanical measuring apparatus (SII nanotechnology Co., Ltd. product EXSTAR6000TMA / 6100).

7)熱伝導率
熱伝導率は、NETZSCH製LFA447型熱伝導率計を用いて非定常熱線法により測定した。
7) Thermal conductivity Thermal conductivity was measured by the unsteady hot wire method using an LFA447 type thermal conductivity meter manufactured by NETZSCH.

8)絶縁性(体積固有抵抗)
体積固有抵抗測定装置(ADVANTEST社製、R8340 ULTRA HIGH RESISTANCE METER)を用い、JIS−K−6911に従い体積固有抵抗を測定した。
8) Insulation (volume resistivity)
The volume resistivity was measured according to JIS-K-6911 using a volume resistivity measuring device (manufactured by ADVANTEST, R8340 ULTRA HIGH RESISTANCE METER).

Figure 2015160893
Figure 2015160893

Figure 2015160893
Figure 2015160893

Claims (3)

エポキシ樹脂、及びフェノール系硬化剤を含有するエポキシ樹脂組成物であって、エポキシ樹脂が下記一般式(1)で表されるエポキシ樹脂を50wt%以上と、一般式(2)〜(4)で表されるエポキシ樹脂のいずれかを10wt%以上含有することを特徴とするエポキシ樹脂組成物。
Figure 2015160893
(但し、kは平均値として0.2〜4.0を示し、tは1又は2の数を示し、Gはグリシジル基を示す。)
Figure 2015160893
(但し、lは1以上の数を示し、Gはグリシジル基を示す。)
Figure 2015160893
(但し、mは0以上の数を示し、Gはグリシジル基を示す。)
Figure 2015160893
(但し、nは0以上の数を示し、Gはグリシジル基を示す。)
It is an epoxy resin composition containing an epoxy resin and a phenolic curing agent, and the epoxy resin is represented by the following general formula (1) with 50 wt% or more of the epoxy resin represented by the general formulas (2) to (4). An epoxy resin composition comprising 10 wt% or more of any of the represented epoxy resins.
Figure 2015160893
(However, k shows 0.2-4.0 as an average value, t shows the number of 1 or 2, and G shows a glycidyl group.)
Figure 2015160893
(However, l represents a number of 1 or more, and G represents a glycidyl group.)
Figure 2015160893
(However, m represents a number of 0 or more, and G represents a glycidyl group.)
Figure 2015160893
(However, n represents a number of 0 or more, and G represents a glycidyl group.)
請求項1に記載のエポキシ樹脂組成物において、無機充填材を含有することを特徴とするエポキシ樹脂組成物。   The epoxy resin composition according to claim 1, further comprising an inorganic filler. 請求項1又は2に記載のエポキシ樹脂組成物を硬化させたことを特徴とするエポキシ樹脂硬化物。   An epoxy resin cured product obtained by curing the epoxy resin composition according to claim 1.
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