JP7267327B2 - Wafer mounting station and method for forming wafer embedding structure - Google Patents
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Description
本発明は、ウェハマウントステーションに関するものであり、特に、ワックスを用いたウェハ埋め込み構造を形成するのに適したウェハマウントステーションに関するものである。 The present invention relates to a wafer mount station, and more particularly to a wafer mount station suitable for forming a wafer embedding structure using wax.
ウェハ加工の流れには、結晶成長(crystal growth)、スライシング(slicing)、ラッピング(lapping)、エッチング(etching)、研磨(polishing)、および/または洗浄(cleaning)等の工程が含まれる。加工が終わった後のウェハは、ベアウェハ(bare wafer)と称される。その後、ベアウェハの表面に対応する半導体プロセスを行い、チップを形成する。 Wafer processing flows include steps such as crystal growth, slicing, lapping, etching, polishing, and/or cleaning. A wafer after processing is called a bare wafer. After that, semiconductor processes corresponding to the surface of the bare wafer are performed to form chips.
ウェハのラッピングまたは研磨を行うステップの前に、ラッピングまたは研磨に用いるキャリアにワックスを塗布することができる。その後、ラッピングまたは研磨されていないウェハをキャリア上のワックスに付着させる。そして、キャリアおよび/またはウェハに対して適切な圧力を印加し、ラッピングまたは研磨されていないウェハをワックスでキャリアに緊密に接着することにより、ウェハ埋め込み構造を構成することができる。ウェハ埋め込み構造は、キャリアと、キャリア上にあるワックスと、ワックスに埋め込まれたウェハとを含むことができる。その後、上述したウェハ埋め込み構造をラッピング設備または研磨設備に移動し、ウェハに対してラッピングまたは研磨を行う。 Wax may be applied to the carrier used for lapping or polishing prior to the step of lapping or polishing the wafer. A wafer that has not been lapped or polished is then adhered to the wax on the carrier. A wafer-embedded structure can then be constructed by applying appropriate pressure to the carrier and/or wafer and tightly bonding the unlapped or polished wafer to the carrier with wax. A wafer-embedded structure can include a carrier, wax on the carrier, and a wafer embedded in the wax. After that, the wafer-embedded structure described above is moved to lapping or polishing equipment, and the wafer is lapped or polished.
ベアウェハの平坦度は、半導体プロセスの生産高または品質に対して一定の影響を与える。したがって、いかにしてベアウェハのウェハ全体の平坦度を上げるかが、現在解決すべき課題となっている。 The flatness of bare wafers has a certain impact on the yield or quality of semiconductor processes. Therefore, how to improve the flatness of the entire wafer of bare wafers is a problem to be solved at present.
本発明は、ウェハマウントステーションを提供し、それを使用して製造したウェハ埋め込み構造のベアウェハに対して研磨を行うことにより、ウェハ全体の平坦度を上げることができる。 The present invention provides a wafer mount station and polishes a bare wafer having a wafer-embedded structure manufactured using the wafer mount station, thereby improving the flatness of the entire wafer.
本発明のウェハマウントステーションは、ベアウェハを載置するのに適している。ウェハマウントステーションは、マウントベースと、環状パッドとを含む。マウントベースは、ベース面を含む。環状パッドは、マウントベースのベース面にある。マウントベースのベース面と環状パッドの頂面の間は、間隔を有する。環状パッドの頂面とマウントベースのベース面は、ウェハマウント面を構成し、且つベアウェハは、ウェハマウント面に置かれるのに適している。 The wafer mounting station of the present invention is suitable for mounting bare wafers. The wafer mount station includes a mount base and an annular pad. The mounting base includes a base surface. An annular pad is on the base surface of the mounting base. A space is provided between the base surface of the mounting base and the top surface of the annular pad. The top surface of the annular pad and the base surface of the mount base constitute a wafer mounting surface, and the bare wafer is suitable to be placed on the wafer mounting surface.
本発明のウェハ埋め込み構造の形成方法は、上述したウェハマウントステーションのウェハマウント面にウェハ、ワックス、およびキャリアを置き、ワックスがウェハとキャリアの間にあるステップと、ウェハマウントステーション上のウェハまたはキャリアに力を加え、ウェハ埋め込み構造を形成するステップとを含む。 The method for forming a wafer-embedded structure of the present invention comprises the steps of placing a wafer, wax, and carrier on the wafer mounting surface of the wafer mounting station as described above, with the wax between the wafer and the carrier; and forming a wafer-embedded structure.
以上のように、本発明のウェハマウントステーションを使用して製造されたウェハ埋め込み構造のベアウェハに対して研磨を行うことにより、ウェハ全体の平坦度を上げることができる。 As described above, by polishing a bare wafer having a wafer-embedded structure manufactured using the wafer mount station of the present invention, the flatness of the entire wafer can be improved.
本発明の上記および他の目的、特徴、および利点をより分かり易くするため、図面と併せた幾つかの実施形態を以下に説明する。 In order to make the above and other objects, features, and advantages of the present invention more comprehensible, several embodiments accompanied with drawings are described below.
添付図面は、本発明の原理がさらに理解されるために含まれており、本明細書に組み込まれ、且つその一部を構成するものである。図面は、本発明の実施形態を例示しており、説明とともに、本発明の原理を説明する役割を果たしている。 The accompanying drawings are included to provide a further understanding of the principles of the invention, and are incorporated in and constitute a part of this specification. The drawings illustrate embodiments of the invention and, together with the description, serve to explain the principles of the invention.
以下の詳細な説明では、限定ではなく説明の目的で、本開示の様々な原理の完全な理解を提供するために具体的な詳細を開示する例示的な実施形態を述べる。しかし、本開示の利益を享受した当業者には、本開示が、本明細書に開示された具体的な詳細とは異なる他の実施形態で実施され得ることは自明である。更に、本開示の様々な原理の記載を不明瞭にしないために、周知の装置、方法および材料の説明は省略され得る。最後に、当てはまる場合には、類似の参照番号は類似の要素を示す。 DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The following detailed description, for purposes of explanation and not limitation, sets forth exemplary embodiments disclosing specific details in order to provide a thorough understanding of various principles of the present disclosure. However, it will be apparent to one skilled in the art having the benefit of this disclosure that the present disclosure may be embodied in other embodiments that differ from the specific details disclosed herein. Moreover, descriptions of well-known devices, methods and materials may be omitted so as not to obscure the description of various principles of the disclosure. Finally, like reference numbers indicate like elements where applicable.
本明細書で用いる「基本的に」、「およそ」、「約」等の用語は、許容される公差範囲(tolerance range)を含むことができる。 The terms "essentially," "approximately," "about," and the like as used herein can include an acceptable tolerance range.
本明細書で用いる方向を表す用語(例えば、上、下、右、左、前、後、上部、下部等)は、単に描かれた図面を参照したものであり、絶対的な向きを暗示することは意図しない。 The directional terms used herein (e.g., up, down, right, left, front, back, top, bottom, etc.) refer only to the drawing figures and imply absolute orientation. I don't mean to.
図1Aは、本発明の第1実施形態に係るウェハマウントステーションの立体概略図である。図1Bは、本発明の第1実施形態に係るウェハマウントステーションの局部断面概略図である。具体的に説明すると、図1Bは、図1Aにおける断面S1の断面概略図である。 1A is a three-dimensional schematic diagram of a wafer mounting station according to a first embodiment of the present invention; FIG. FIG. 1B is a partial cross-sectional schematic diagram of a wafer mount station according to the first embodiment of the present invention. Specifically, FIG. 1B is a schematic cross-sectional view of section S1 in FIG. 1A.
図1Aおよび図1Bを参照すると、ウェハマウントステーション100は、マウントベース(mounting base)110と、環状パッド120とを含む。マウントベース110は、ベース面112を有する。環状パッド120は、マウントベース110のベース面112にある。マウントベース110のベース面112(または、そこから外側に延伸する仮想平面)と環状パッド120の頂面122(または、そこから外側に延伸する仮想平面)の間は、間隔を有する。環状パッド120の頂面122とマウントベース110のベース面112は、ウェハマウント面130を構成する。
Referring to FIGS. 1A and 1B,
1つの実施形態において、1片のベアウェハ(bare wafer)(例えば、図7に示したベアウェハ90と同じ、または類似する)は、ウェハマウント面130に置くのに適している。
In one embodiment, a piece of bare wafer (eg, the same or similar to
ベアウェハは、機械の方法(例えば、粉砕、剪断、切断、鋸で切る、研磨等の方法)で素子を異なる単一材料に切り離すことのできない均質材料である。つまり、ベアウェハの正面および背面には、基本的に、いかなる膜層(例えば、シリコン膜層、酸化シリコン膜層、窒化シリコン膜層、金属膜層、フォトレジスト層、またはその他の半導体プロセスにおいて使用される膜層(film layer))または局所注入(例えば、P型局所注入、N型局所注入、またはその他の類似する局所注入(local implantation)領域)も存在しない。1つの実施形態において、ベアウェハは、シリコンウェハであってもよいが、本発明はこれに限定されない。1つの実施形態において、ベアウェハの周縁にノッチ(notch)またはフラット(flat)を有してもよい。後続のプロセス(本発明はこれに限定されない)において、ノッチまたはフラットは、ウェハの結晶方向をより簡単に揃えるために使用することができる。 A bare wafer is a homogenous material from which elements cannot be separated into different single materials by mechanical methods (eg, grinding, shearing, cutting, sawing, polishing, etc.). That is, the front and back sides of the bare wafer are essentially any film layer (e.g., silicon film layer, silicon oxide film layer, silicon nitride film layer, metal film layer, photoresist layer, or other film used in semiconductor processes). There are no film layers) or local implants (eg, P-type local implants, N-type local implants, or other similar local implantation regions). In one embodiment, the bare wafer may be a silicon wafer, although the invention is not so limited. In one embodiment, the bare wafer may have a notch or flat around its perimeter. In subsequent processes (the invention is not so limited), the notches or flats can be used to more easily align the crystal orientation of the wafer.
本実施形態において、マウントベース110のベース面112は、基本的に、円形であり、且つベース面112は、ベース面直径112Rを有する。
In this embodiment,
1つの実施形態において、ベース面112のベース面直径112Rは、基本的に、載置するベアウェハの直径よりもわずかに大きい。一般的な8インチウェハを例に挙げると、8インチベアウェハを載置するのに適したウェハマウントステーション(例えば、ウェハマウントステーション100)において、ベース面(例えば、ベース面112)のベース面直径(例えば、ベース面直径112R)は、約200ミリメートル(または、約8インチ)である。一般的に言うと、ベース面112のベース面直径112Rは、基本的に、研磨したいウェハの直径よりもわずかに大きい。
In one embodiment, the
環状パッド120は、内縁123および外縁121を有し、パッド幅120Wは、基本的に、内縁123と外縁121の間の最短距離である。
本実施形態において、内縁123の輪郭は、基本的に、円形であり、外縁121の輪郭は、基本的に、円形であり、且つ内縁123と外縁121は、基本的に、平行である。
In this embodiment, the contour of
本実施形態において、環状パッド120の外縁121は、基本的に、マウントベース110の外縁111を切り揃える。つまり、ベース面112のベース面直径112Rは、基本的に、ウェハマウント面130のマウント面直径とみなすことができる。
In this embodiment, the
本実施形態において、パッド幅120Wとベース面直径112Rの比率は、0.5%~3.0%の間である。8インチベアウェハを載置するのに適したウェハマウントステーション(例えば、ウェハマウントステーション100)を例に挙げると、環状パッド(例えば、環状パッド120)のパッド幅(例えば、パッド幅120W)は、およそ1ミリメートル(millimeter, mm)~6ミリメートルである。
In this embodiment, the ratio of
より好ましい実施形態において、パッド幅120Wとベース面直径112Rの比率は、0.5%~2.5%の間である。8インチベアウェハを載置するのに適したウェハマウントステーション(例えば、ウェハマウントステーション100)を例に挙げると、環状パッド(例えば、環状パッド120)のパッド幅(例えば、パッド幅120W)は、およそ1ミリメートル~5ミリメートルである。
In a more preferred embodiment, the ratio of
本実施形態において、環状パッド120は、頂面122を有し、頂面122は、内縁123と外縁121の間の間にあり、パッド高さ120Hは、基本的に、環状パッド120の頂面122とマウントベース110のベース面112の間(または、ベース面112から延伸した仮想面)の最長距離である。
In this embodiment,
本実施形態において、パッド高さ120Hとベース面直径112Rの比率は、0.7%以下であり、且つ0%よりも大きい。8インチベアウェハを載置するのに適したウェハマウントステーション(例えば、ウェハマウントステーション100)を例に挙げると、環状パッド(例えば、環状パッド120)のパッド高さ(例えば、パッド高さ120H)は、およそ1.4ミリメートル以下であり、且つ0ミリメートルよりも大きい。
In this embodiment, the ratio of
より好ましい実施形態において、パッド高さ120Hとベース面直径112Rの比率は、0.5%以下であり、且つ0.025%よりも大きい。8インチベアウェハを載置するのに適したウェハマウントステーション(例えば、ウェハマウントステーション100)を例に挙げると、環状パッド(例えば、環状パッド120)のパッド高さ(例えば、パッド高さ120H)は、およそ1.0ミリメートル以下であり、且つ0.05ミリメートルよりも大きい。
In a more preferred embodiment, the ratio of
本実施形態において、マウントベース110のベース面112は、基本的に、平面である。つまり、ベアウェハをウェハマウント面130に置き、ベアウェハと環状パッド120の頂面122とマウントベース110のベース面112を部分的に接触させた(直接接触させる、または間接的に接触させることを含む)時、ベアウェハの内側は、概ね凹んだ状態を表す。このようにして、ベアウェハに対してウェハ研磨(wafer polish)を行った時に、ウェハ全体の平坦度を上げることができる。
In this embodiment, the
本実施形態において、マウントベース110と環状パッド120は、異なる部材であってもよいが、本発明はこれに限定されない。つまり、マウントベース110と環状パッド120は、インターフェースを有してもよい。
In this embodiment, the
また、本発明は、マウントベース110の材質と環状パッド120の材質を限定しない。例を挙げて説明すると、環状パッド120は、金属環状シート、プラスチック環状シート、セラミック環状シート、またはその他の適切な環状シートであってもよい。より好ましくは、環状パッド120は、耐酸耐アルカリ性の材質(例えば、耐酸耐アルカリ性の合金)で製造してもよい。
Also, the present invention does not limit the material of the
図2は、本発明の第2実施形態のウェハマウントステーションの局部断面概略図である。本実施形態のウェハマウントステーション200と第1実施形態のウェハマウントステーション100は類似しているため、類似する部材を同じ番号で示し、且つ類似する機能、材質、または相対関係については、説明を省略する。
FIG. 2 is a partial cross-sectional schematic diagram of a wafer mount station according to a second embodiment of the present invention. Since the
本実施形態のウェハマウントステーション200と第1実施形態のウェハマウントステーション100の外観は、類似している。例を挙げて説明すると、本実施形態のウェハマウントステーション200の外観は、図1に示したウェハマウントステーション100と同じ、または類似していてもよい。また、図2は、図1Aにおける断面S1のウェハマウントステーションの断面概略図と類似していてもよい。
The appearance of the
本実施形態において、マウントベース210および環状パッド220は、同一体である。つまり、マウントベース210と環状パッド220の間には、インターフェースがない。
In this embodiment, mounting
また、マウントベース210のベース面212およびそこから延伸する仮想面で区分する場合、例を挙げて説明すると、ベース面212およびそこから延伸する仮想面の下方は、マウントベース210とみなすことができ、ベース面212およびそこから延伸する仮想面の上方は、環状パッド220とみなすことができる。つまり、環状パッド220は、マウントベース210のベース面212から延伸する仮想面にあるとみなすことができ、且つパッド高さ120Hは、基本的に、環状パッド220の頂面120とマウントベース210のベース面212から延伸する仮想面の最長距離である。
In addition, when the
図3Aは、本発明の第3実施形態のウェハマウントステーションの拡大概略図である。図3Bは、本発明の第3実施形態のウェハマウントステーションの局部断面概略図である。本実施形態のウェハマウントステーション300と第1実施形態のウェハマウントステーション100は類似しているため、類似する部材を同じ番号で示し、且つ類似する機能、材質、または相対関係については、説明を省略する。
FIG. 3A is an enlarged schematic diagram of a wafer mount station according to a third embodiment of the present invention. FIG. 3B is a partial cross-sectional schematic diagram of a wafer mount station according to a third embodiment of the present invention. Since the
本実施形態のウェハマウントステーション300と第1実施形態のウェハマウントステーション100の組み立てた後の外観は、類似している。例を挙げて説明すると、本実施形態のウェハマウントステーション300の外観は、図1に示したウェハマウントステーション100と同じ、または類似していてもよい。つまり、図3Aに示したマウントベース310と環状パッド320の組み立てた後のウェハマウントステーション300は、外観が図1に示したウェハマウントステーション100と同じ、または類似していてもよい。また、図3Bは、図1Aにおける断面S1のウェハマウントステーションの断面概略図と類似していてもよい。
The
本実施形態において、マウントベース310は、環状凹溝313を有し、環状パッド320は、環状凸部324を有する。組み立てた後のウェハマウントステーション300において、環状凸部324は、凹溝313の中に嵌入することができる。このようにして、環状パッド320をマウントベース310のベース面312に固定させることができる。
In this embodiment, the
図4Aは、本発明の第4実施形態のウェハマウントステーションの拡大概略図である。図4Bは、本発明の第4実施形態のウェハマウントステーションの立体概略図である。本実施形態のウェハマウントステーション400と第1実施形態のウェハマウントステーション100または第3実施形態のウェハマウントステーション300は類似しているため、類似する部材を同じ番号で示し、且つ類似する機能、材質、または相対関係については、説明を省略する。
FIG. 4A is an enlarged schematic diagram of a wafer mount station according to a fourth embodiment of the present invention. FIG. 4B is a three-dimensional schematic diagram of a wafer mounting station according to a fourth embodiment of the present invention; Since the
図4Aに示したマウントベース410と環状パッド420を組み立てた後のウェハマウントステーション400は、図4Bに示した外観であってもよい。つまり、本実施形態のウェハマウントステーション400と第1実施形態のウェハマウントステーション100または第3実施形態のウェハマウントステーション300の組み立てた後の外観は、類似している。また、図4Bにおいて、断面S2(つまり、環状パッド420の凸部424とマウントベース410の凹溝413がある位置)のウェハマウントステーション400の断面概略図は、図3Bと同じ、または類似していてもよく、断面S3(つまり、環状パッド420の凸部424とマウントベース410の凹溝413から離れた位置)のウェハマウントステーション400の断面概略図は、図1Bと同じ、または類似していてもよい。
After assembling the mounting
本実施形態において、マウントベース410は、複数の凹溝413を有し、環状パッド420は、複数の凸部424を有し、マウントベース410の凹溝413の個数は、環状パッド420の凸部424の個数よりも多いか、それに等しい。組み立てた後のウェハマウントステーション400において、環状パッド420の凸部424は、マウントベース410の凹溝413の中に嵌入することができる。このようにして、環状パッド420をマウントベース410のベース面412に固定させることができ、且つ環状パッド420がマウントベース410のベース面412で回転する可能性をさらに下げることができる。
In this embodiment, the
本実施形態において、マウントベース410の凹溝413の個数は、環状パッド420の凸部424の個数に等しいが、本発明はこれに限定されない。図示していない実施形態において、マウントベース410の凹溝413の個数は、環状パッド420の凸部424の個数よりも大きくてもよい。
In this embodiment, the number of
また、本発明は、環状パッド420の凸部424をマウントベース410の凹溝413に嵌入することさえできれば、マウントベース410の凹溝413の輪郭と環状パッド420の凸部424の外形を限定しない。
In addition, the present invention does not limit the outline of the
1つの実施形態において、複数の凹溝413および複数の凸部424は、非対称の方法で配置してもよい。このようにして、環状パッド420とマウントベース410を互いに何度も分解する、または組み立てる過程において、環状パッド420の方位(orientation)を一致させることができる。
In one embodiment, the plurality of
図5は、本発明の第5実施形態のウェハマウントステーションの局部断面概略図である。本実施形態のウェハマウントステーション500と第1実施形態のウェハマウントステーション100、第3実施形態のウェハマウントステーション300、または第4実施形態のウェハマウントステーション400は類似しているため、類似する部材を同じ番号で示し、且つ類似する機能、材質、または相対関係については、説明を省略する。
FIG. 5 is a partial cross-sectional schematic diagram of a wafer mount station according to a fifth embodiment of the present invention. Since the
本実施形態のウェハマウントステーション500と第1実施形態のウェハマウントステーション100は、組み立てた後の外観が類似している。例を挙げて説明すると、本実施形態のウェハマウントステーション500の外観は、図1に示したウェハマウントステーション100または図4Bに示したウェハマウントステーション400と同じ、または類似していてもよい。また、図5は、図3Bにおけるウェハマウントステーションの断面概略図と類似していてもよく;あるいは図5は、図4Bにおける断面S2のウェハマウントステーションの断面概略図と類似していてもよい。
The
本実施形態において、環状パッド520は、第1リング520aおよび第2リング520bを含む。第1リング520aは、マウントベース310のベース面312にある。第2リング520bは、第1リング520aの上にある。第2リング520bは、少なくとも上述した第1リング520aの頂面522aを覆う。
In this embodiment,
本実施形態において、環状パッド520は、2つのリング(すなわち第1リング520aおよび第2リング520b)で構成される。つまり、第2リング520bの頂面522aは、基本的に、環状パッド520の頂面である。
In this embodiment,
1つの実施形態において、環状パッドは、複数のリング(例えば、2個以上のリング)で構成されてもよい。つまり、最上層のリングの頂面は、基本的に、環状パッドの頂面である。 In one embodiment, the annular pad may consist of multiple rings (eg, two or more rings). That is, the top surface of the topmost ring is essentially the top surface of the annular pad.
複数のリング(すなわち第1リング520aおよび第2リング520b)により、環状パッド520は、パッド高さ120Hを調整する際に、よりフレキシブルになる。
The multiple rings (ie,
図6は、本発明の第6実施形態のウェハマウントステーションの立体概略図である。本実施形態のウェハマウントステーション600と第1実施形態のウェハマウントステーション100は類似しているため、類似する部材を同じ番号で示し、且つ類似する機能、材質、または相対関係については、説明を省略する。
FIG. 6 is a three-dimensional schematic diagram of a wafer mounting station according to a sixth embodiment of the present invention. Since the
本実施形態において、ウェハマウントステーション600は、さらに、位置決めピン640を含む。位置決めピン640は、ベース面112の外側にある。位置決めピン640は、頂斜面643を有し、且つ頂斜面643は、基本的に、少なくともマウントベース110に面している。つまり、位置決めピン640の頂端は、円錐状に類似していてもよい。このようにして、ベアウェハをウェハマウント面130に容易に置くことができ、且つベアウェハ(例えば、図7に示したベアウェハ90と同じ、または類似する)をおよそウェハマウント面130の範囲内に置くことができる。
In this embodiment,
注意すべきこととして、本実施形態において、ウェハマウントステーション600におけるマウントベース110および環状パッド120は、第1実施形態のウェハマウントステーション100におけるマウントベース110および環状パッド120と同じ、または類似していてもよいが、本発明はこれに限定されない。その他の図示していない実施形態において、位置決めピン640を有するウェハマウントステーションにおけるマウントベースおよび環状パッドは、その他の実施形態のウェハマウントステーションにおけるマウントベースおよび環状パッドと同じ、または類似していてもよい。
It should be noted that in this embodiment, the
図7は、本発明の1つの実施形態のベアウェハ埋め込み構造の一部を形成する方法の局部立体概略図である。図8A~図8Bは、本発明の1つの実施形態のベアウェハ埋め込み構造の一部を形成する方法の局部側面概略図である。注意すべきこととして、図7および図8A~図8Bに示した実施形態において、第1実施形態のウェハマウントステーション100をウェハマウントステーションとして例示的に使用しているが、本発明はこれに限定されない。その他の図示していない実施形態において、その他のウェハマウントステーション100と同じ、または類似するウェハマウントステーション(例えば、ウェハマウントステーション100、ウェハマウントステーション200、ウェハマウントステーション300、ウェハマウントステーション400、ウェハマウントステーション500、ウェハマウントステーション600、またはこれらの組み合わせと同じ、または類似する)を使用してもよい。
FIG. 7 is a partial three-dimensional schematic diagram of a method of forming part of the bare wafer embedded structure of one embodiment of the present invention. 8A-8B are partial side schematic views of a method of forming part of a bare wafer embedded structure in accordance with one embodiment of the present invention. It should be noted that although the embodiments shown in FIGS. 7 and 8A-8B illustratively use the
図7を参照すると、ベアウェハ90をウェハマウントステーション100のマウントベース110上に置くことができる。その後、ベアウェハ90をキャリア750上のワックス760に付着させる。1つの実施形態において、まず、ワックス760をキャリア750のマウント面752に塗布した後、キャリア750上に塗布したワックス760をマウントベース110上のベアウェハ90に接触させることができるが、本発明はこれに限定されない。別の可能な実施形態において、ワックス760をベアウェハ90に塗布した後、キャリア750のマウント面752をベアウェハ90に塗布したワックス760と接触させてもよい。
Referring to FIG. 7,
本実施形態において、ウェハマウントステーション100は、さらに、位置決めベース91を含んでもよく、マウントベース110は、位置決めベース91に固定されるが、本発明はこれに限定されない。
In this embodiment, the
図7および図8Aを参照すると、本実施形態において、マウントベース110のウェハマウント面130にウェハマウントパッド(wafer mount pad)770を配置することができる。ウェハマウントパッド770は、ベアウェハ90をより簡単にウェハマウント面130に固定させることができる。
7 and 8A, in this embodiment, a
図8A~図8Bを参照すると、ベアウェハ90をキャリア750上のワックス760に接触させた後、マウント蓋(mount lid)780によりキャリア750に適切な圧力を印加して、ベアウェハ90をワックス760でキャリア750上に緊密に接着することにより、図8Bに示したウェハ埋め込み構造800を構成することができる。また、作用力と反作用力に類似する原理に基づいて、キャリア750に印加する圧力は、キャリア750のベアウェハ90に印加する圧力と同じであってもよい。図8Bに示すように、ウェハ埋め込み構造800は、キャリア750と、キャリア750上にあるワックス760’と、ワックス760’に埋め込まれたベアウェハ90とを含むことができる。その後、通常使用するラッピング方法または研磨方法と同じ、または類似する方法により、図8Bに示したウェハ埋め込み構造800に対してラッピングまたは研磨を行うことができるため、ラッピング方法または研磨方法の詳細については、説明を省略する。
8A-8B, after the
本実施形態において、ウェハマウントステーション100は、環状パッド120を含むため、マウント蓋780でキャリア750に適切な圧力を印加した時、ベアウェハ90を埋め込むためのワックス760とベアウェハ90の間の受力は、ウェハマウントステーション100の環状パッド120によって変更されてもよい。このようにして、ベアウェハ90をワックス760に埋め込んだ後、ワックス760の辺縁と中央の間の受力によって分布が不均一になる問題を減らす、またはさらに解決することができる。
In this embodiment, the
[比較例と試験例] [Comparative example and test example]
本発明のウェハマウントステーション(例えば、ウェハマウントステーション100、ウェハマウントステーション200、ウェハマウントステーション300、ウェハマウントステーション400、ウェハマウントステーション500、ウェハマウントステーション600と同じ、または類似するウェハマウントステーション)で製造されたウェハ埋め込み構造(例えば、図8Bに示したウェハ埋め込み構造800と同じ、または類似する)を使用して研磨を行うことにより、ウェハ全体の平坦度を上げることができることを証明するため、特に、比較例と試験例を用いて説明を行う。しかしながら、これらの試験例は、いかなる意義においても、本発明の範囲を限定するものと解釈されてはならない。
manufactured in a wafer mount station of the present invention (e.g., a wafer mount station the same as or similar to
一般的に、ウェハ全体の平坦度は、STIR(Site Total Indicator Reading)で表すことができる。数値は、STIRが小さければ小さいほど、ウェハの平坦度が良好であることを表す。 In general, the flatness of the entire wafer can be represented by STIR (Site Total Indicator Reading). Numerical values indicate that the smaller the STIR, the better the flatness of the wafer.
図9~図11に示すように、比較例と各試験例の統計データは、一般的な統計において通常使用されている箱ひげ図(box plot)で表示する。箱ひげ図は、1組のデータにおける最大値、最小値、中央値、および上下四分位数を示すために使用することができる。また、図9~図11において、縦の座標は、比較例と試験例1~8の間の相対するSTIRを示す。 As shown in FIGS. 9 to 11, the statistical data of the comparative example and each test example are displayed in box plots commonly used in general statistics. Boxplots can be used to show the maximum, minimum, median, and upper and lower quartiles in a set of data. Also, in FIGS. 9-11, the vertical coordinates indicate the relative STIR between the comparative example and test examples 1-8.
[比較例と試験例1] [Comparative Example and Test Example 1]
図9は、比較例と試験例1の間の比較図である。具体的に説明すると、図9は、「比較例のウェハマウントステーションで製造したウェハ埋め込み構造のベアウェハ」と「試験例のウェハマウントステーションで製造したウェハ埋め込み構造のベアウェハ」に対して研磨を行った後の比較図である。 9 is a comparison diagram between Comparative Example and Test Example 1. FIG. Specifically, in FIG. 9, polishing was performed on "a bare wafer with a wafer-embedded structure manufactured by a wafer mount station of a comparative example" and "a bare wafer with a wafer-embedded structure manufactured by a wafer mount station of a test example". It is a later comparison diagram.
試験例1は、第1実施形態~第6実施形態のウェハマウントステーション100、200、300、400、500、600で製造したウェハ埋め込み構造と同じ、または類似するウェハ埋め込み構造を使用した。簡単に説明すると、試験例1が使用したウェハマウントステーションは、マウントベースのベース面にある環状パッドを含む。
Test Example 1 used a wafer embedding structure that was the same as or similar to the wafer embedding structures manufactured in the
比較例が使用したウェハマウントステーションは異なるが、試験例1のウェハマウントステーションと類似しており、相違点は、比較例が使用したウェハマウントステーションのマウントベースのベース面に環状パッドがないことである。 The wafer mount station used in the comparative example is different but similar to the wafer mount station of Test Example 1, the difference being that the base surface of the mount base of the wafer mount station used in the comparative example does not have an annular pad. be.
図9に示すように、比較例のウェハマウントステーションと比較して、試験例1のウェハマウントステーションでウェハ埋め込み構造を製造してから、上述したウェハ埋め込み構造のベアウェハに対して研磨を行った後、ウェハ全体の平坦度は、比較的良好であった。 As shown in FIG. 9, compared with the wafer mount station of the comparative example, after manufacturing the wafer-embedded structure in the wafer mount station of Test Example 1 and then polishing the bare wafer of the wafer-embedded structure described above. , the flatness of the entire wafer was relatively good.
[試験例2~試験例5] [Test Examples 2 to 5]
図10は、異なる試験例の間の比較図である。具体的に説明すると、図10は、試験例2、試験例3、試験例4、および試験例5(以降、試験例2~試験例5と称す)のウェハマウントステーションを使用してウェハ埋め込み構造を製造し、上述したウェハ埋め込み構造のベアウェハに対して研磨を行った後の比較図である。 FIG. 10 is a comparison diagram between different test examples. Specifically, FIG. 10 shows a wafer embedding structure using the wafer mount station of Test Example 2, Test Example 3, Test Example 4, and Test Example 5 (hereinafter referred to as Test Examples 2 to 5). is manufactured, and a bare wafer having the above-described wafer-embedded structure is polished.
試験例2~試験例5で使用するウェハマウントステーションは、上述した実施形態のウェハマウントステーションと同じ、または類似していてもよい。つまり、試験例2~試験例5で使用するウェハマウントステーションは、第1実施形態~第6実施形態のウェハマウントステーション100、200、300、400、500、600と同じ、または類似するウェハマウントステーションを含むことができ、相違点は:試験例2~試験例5で使用するウェハマウントステーションにおいて、環状パッドのパッド幅がそれぞれ異なることである。
The wafer mount stations used in Test Examples 2-5 may be the same as or similar to the wafer mount stations of the embodiments described above. That is, the wafer mount stations used in Test Examples 2 to 5 are the same as or similar to the
詳しく説明すると、試験例2~試験例5において、8インチベアウェハに対してウェハ埋め込み構造を形成してから、上述したウェハ埋め込み構造のベアウェハに対してウェハ研磨試験を行った。さらに、試験例2~試験例5で使用したウェハマウントステーションにおいて、マウントベースのベース面のベース面直径は、約200ミリメートルであり、且つ環状パッドのパッド高さは、約1.2ミリメートルである。また、各試験例の環状パッドのパッド幅に対し、試験例2のパッド幅は、約3ミリメートリであり、試験例3のパッド幅は、約4ミリメートリであり、試験例4のパッド幅は、約5ミリメートリであり、試験例5のパッド幅は、約6ミリメートリである。つまり、各試験例のパッド幅とベース面直径の比率は、試験例2が約1.5%であり、試験例3が約2.0%であり、試験例4が約2.5%であり、試験例5が約3%である。 Specifically, in Test Examples 2 to 5, a wafer-embedded structure was formed on an 8-inch bare wafer, and then a wafer polishing test was performed on the above-described bare wafer having the wafer-embedded structure. Further, in the wafer mount stations used in Test Examples 2 to 5, the base surface diameter of the base surface of the mount base is approximately 200 millimeters, and the pad height of the annular pad is approximately 1.2 millimeters. . Further, with respect to the pad width of the annular pad of each test example, the pad width of test example 2 is about 3 mm, the pad width of test example 3 is about 4 mm, and the pad width of test example 4 is It is about 5 millimeters, and the pad width of Test Example 5 is about 6 millimeters. That is, the ratio of the pad width to the base surface diameter in each test example was about 1.5% in test example 2, about 2.0% in test example 3, and about 2.5% in test example 4. and about 3% in Test Example 5.
図9および図10に示すように、比較例のウェハマウントステーションと比較して、試験例2~試験例5のウェハマウントステーションによりウェハ埋め込み構造を製造してから、上述したウェハ埋め込み構造のベアウェハに対して研磨を行った後、ウェハ全体の平坦度は、比較的良好であった。 As shown in FIGS. 9 and 10, compared with the wafer mount station of the comparative example, the wafer-embedded structure was manufactured by the wafer mount stations of Test Examples 2 to 5, and then the bare wafer of the above-described wafer-embedded structure was obtained. After polishing, the flatness of the entire wafer was relatively good.
図10に示すように、試験例2~試験例5のウェハマウントステーションで製造したウェハ埋め込み構造のベアウェハに対して研磨を行った後、STIRの最大値を比較すると、試験例2、試験例3、および試験例4は、試験例5よりも優れていた。 As shown in FIG. 10, after polishing the bare wafers of the wafer-embedded structure manufactured by the wafer mount stations of Test Examples 2 to 5, the maximum values of STIR were compared. , and Test Example 4 were superior to Test Example 5.
[試験例6~試験例8] [Test Examples 6 to 8]
図11は、異なる試験例の間の比較図である。具体的に説明すると、図11は、試験例6、試験例7、および試験例8(以降、試験例6~試験例8と称す)のウェハマウントステーションを使用してウェハ埋め込み構造を製造してから、上述したウェハ埋め込み構造のベアウェハに対して研磨を行った後の比較図である。 FIG. 11 is a comparison diagram between different test examples. Specifically, FIG. 11 shows a wafer embedding structure manufactured using the wafer mount stations of Test Examples 6, 7, and 8 (hereinafter referred to as Test Examples 6 to 8). 1 is a comparison diagram after polishing a bare wafer having the wafer-embedded structure described above.
試験例6~試験例8で使用するウェハマウントステーションは、上述した実施形態のウェハマウントステーションと同じ、または類似していてもよい。つまり、試験例6~試験例8で使用するウェハマウントステーションは、第1実施形態~第6実施形態のウェハマウントステーション100、200、300、400、500、600と同じ、または類似するウェハマウントステーションを含むことができ、相違点は:試験例6~試験例8で使用するウェハマウントステーションにおいて、環状パッドのパッド高さがそれぞれ異なることである。
The wafer mount stations used in Examples 6-8 may be the same as or similar to the wafer mount stations of the embodiments described above. That is, the wafer mount stations used in Test Examples 6 to 8 are the same as or similar to the
詳しく説明すると、試験例6~試験例8において、8インチベアウェハに対してウェハ埋め込み構造を形成してから、上述したウェハ埋め込み構造のベアウェハに対してウェハ研磨試験を行った。さらに、試験例6~試験例8で使用したウェハマウントステーションにおいて、マウントベースのベース面のベース面直径は、約200ミリメートルであり、且つ環状パッドのパッド高さは、約3ミリメートルである。また、各試験例の環状パッドのパッド高さに対し、試験例6のパッド幅は、約0.65ミリメートリであり、試験例7のパッド幅は、約1.2ミリメートリであり、試験例8のパッド幅は、約1.4ミリメートリである。つまり、各試験例のパッド高さとベース面直径の比率は、試験例6が約0.325%であり、試験例7が約0.6%であり、試験例8が約0.7%である。 Specifically, in Test Examples 6 to 8, a wafer-embedded structure was formed on an 8-inch bare wafer, and then a wafer polishing test was performed on the above-described bare wafer having the wafer-embedded structure. Further, in the wafer mount stations used in Test Examples 6-8, the base surface diameter of the base surface of the mount base is approximately 200 millimeters, and the pad height of the annular pad is approximately 3 millimeters. Further, the pad width of Test Example 6 was about 0.65 mm, the pad width of Test Example 7 was about 1.2 mm, and the pad width of Test Example 8 was about 0.65 mm with respect to the pad height of the annular pad of each Test Example. is about 1.4 millimeters. That is, the ratio of the pad height to the base surface diameter in each test example was about 0.325% in test example 6, about 0.6% in test example 7, and about 0.7% in test example 8. be.
図9および図11に示すように、比較例のウェハマウントステーションと比較して、試験例6~試験例8のウェハマウントステーションによりウェハ埋め込み構造を製造してから、上述したウェハ埋め込み構造のベアウェハに対して研磨を行った後、ウェハ全体の平坦度は、比較的良好であった。 As shown in FIGS. 9 and 11, compared with the wafer mount station of the comparative example, the wafer-embedded structure was manufactured by the wafer mount stations of Test Examples 6 to 8, and then the bare wafer of the above-described wafer-embedded structure was obtained. After polishing, the flatness of the entire wafer was relatively good.
図11に示すように、試験例6~試験例8のウェハマウントステーションで製造したウェハ埋め込み構造のベアウェハに対して研磨を行った後、STIRの最大値を比較すると、試験例6は、試験例7よりも優れており、且つ試験例7は、試験例8よりも優れていた。 As shown in FIG. 11, after polishing the bare wafers of the wafer-embedded structure manufactured by the wafer mount stations of Test Examples 6 to 8, the maximum values of STIR were compared. 7, and Test Example 7 was better than Test Example 8.
以上のように、本発明のウェハマウントステーションを使用して製造されたウェハ埋め込み構造のベアウェハに対して研磨を行うことにより、ウェハ全体の平坦度を上げることができる。 As described above, by polishing a bare wafer having a wafer-embedded structure manufactured using the wafer mount station of the present invention, the flatness of the entire wafer can be improved.
以上のごとく、この発明を実施形態により開示したが、もとより、この発明を限定するためのものではなく、当業者であれば容易に理解できるように、この発明の技術思想の範囲内において、適当な変更ならびに修正が当然なされうるものであるから、その特許権保護の範囲は、特許請求の範囲および、それと均等な領域を基準として定めなければならない。 As described above, the present invention has been disclosed through the embodiments, but it is not intended to limit the present invention. Since variations and modifications are naturally possible, the scope of patent protection should be determined with reference to the appended claims and their equivalents.
本発明が提供するウェハマウントステーションを使用して製造したウェハ埋め込み構造のベアウェハに対して研磨を行うことができる。 A bare wafer having a wafer-embedded structure manufactured using the wafer mount station provided by the present invention can be polished.
100、200、300、400、500、600 ウェハマウントステーション
110、210、310、410 マウントベース
111 外縁
112、212、312、412 ベース面
112R ベース面直径
313、413 凹溝
120、220、320、420、520 環状パッド
121 外縁
122、522a、522b 頂面
123 内縁
120W パッド幅
120H パッド高さ
324、424 凸部
520a 第1リング
520b 第2リング
130 ウェハマウント面
640 位置決めピン
643 頂斜面
750 キャリア
752 マウント面
760、760’ ワックス
780 マウント蓋
770 ウェハマウントパッド
90、90’ ヴェアウェハ
91 位置決めベース
800 ウェハ埋め込み構造
S1、S2、S3 断面
100, 200, 300, 400, 500, 600
Claims (12)
ベース面を含むマウントベースと、
前記マウントベースの前記ベアウェハに対応する周辺の前記ベース面のみにあり、前記マウントベースの前記ベース面と頂面の間に間隔を有するし、前記マウントべースの外縁で切り揃えられた環状パッドと、
を含み、
前記環状パッドの前記頂面と前記マウントベースの前記ベース面が、ウェハマウント面を構成し、且つ前記ベアウェハが、前記ウェハマウント面に置かれるウェハマウントステーション。 A wafer mounting station for mounting a bare wafer,
a mounting base including a base surface;
An annular pad located only on the peripheral base surface of the mount base corresponding to the bare wafer, having a space between the base surface and the top surface of the mount base, and trimmed at the outer edge of the mount base. and,
including
A wafer mounting station wherein the top surface of the annular pad and the base surface of the mount base form a wafer mounting surface, and the bare wafer is placed on the wafer mounting surface.
前記環状パッドが、パッド幅を有し、
前記パッド幅と前記ベース面直径の比率が、0.5%~3%である請求項1に記載のウェハマウントステーション。 the base surface is circular, and the base surface has a base surface diameter;
the annular pad has a pad width,
2. The wafer mount station as claimed in claim 1, wherein the ratio of said pad width to said base surface diameter is 0.5% to 3%.
前記環状パッドが、パッド高さを有し、
前記パッド高さと前記ベース面直径の比率が、0.7%以下である請求項1に記載のウェハマウントステーション。 the base surface is circular, and the base surface has a base surface diameter;
the annular pad has a pad height,
2. The wafer mount station of claim 1, wherein a ratio of said pad height to said base surface diameter is 0.7% or less.
前記環状パッドが、少なくとも1つの凸部を有し、
前記凸部が、前記凹溝の中に嵌入する請求項1に記載のウェハマウントステーション。 wherein the mounting base has at least one concave groove;
wherein the annular pad has at least one protrusion;
2. A wafer mount station as set forth in claim 1, wherein said protrusion fits into said recess.
前記少なくとも1つの凸部が、環状凸部である請求項6に記載のウェハマウントステーション。 the at least one groove is an annular groove,
7. The wafer mount station of claim 6, wherein said at least one protrusion is an annular protrusion.
前記少なくとも1つの凸部が、複数の凸部であり、
前記複数の凹溝の個数が、前記複数の凸部の個数よりも多いか、それに等しい請求項6に記載のウェハマウントステーション。 the at least one groove is a plurality of grooves,
the at least one protrusion is a plurality of protrusions;
7. The wafer mount station according to claim 6, wherein the number of said plurality of grooves is greater than or equal to the number of said plurality of protrusions.
前記マウントベースの前記ベース面にある第1リングと、
前記第1リングの上にあり、且つ少なくとも前記第1リングの頂面を覆う第2リングと、
を含む請求項1に記載のウェハマウントステーション。 The annular pad is
a first ring on the base surface of the mounting base;
a second ring overlying the first ring and covering at least the top surface of the first ring;
2. The wafer mount station of claim 1, comprising:
前記ウェハマウントステーション上の前記ウェハまたは前記キャリアに力を加えて、ウェハ埋め込み構造を形成することと、
を含むウェハ埋め込み構造の形成方法。 placing a wafer, wax and a carrier on the wafer mounting surface of a wafer mounting station according to any one of claims 1 to 11, the wax being between the wafer and the carrier;
applying force to the wafer or the carrier on the wafer mount station to form a wafer embedding structure;
A method of forming a wafer-embedded structure comprising:
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