JP7264328B1 - 空間除染方法及び空間除染装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】空間の湿度を抑制しつつ、除染の効果が高い空間除染方法及び空間除染装置を提供すること。【解決手段】空間除染方法では、過酢酸及び過酸化水素を含む溶液の中に空気を送気してバブリングすることで、空気及び過酢酸を含む混合ガスを生成する。また、前記混合ガスを空間に供給する。また、過酸化水素を含む水溶液を用いて前記空間を加湿する。空間除染装置は、混合ガス供給ユニットと、加湿ユニットとを備える。混合ガス供給ユニットは、過酢酸及び過酸化水素を含む溶液の中に空気を送気してバブリングすることで、空気及び過酢酸を含む混合ガスを生成し、前記混合ガスを空間に供給する。加湿ユニットは、過酸化水素を含む水溶液を用いて前記空間を加湿する。【選択図】図１
Description
本開示は、空間除染方法及び空間除染装置に関する。
医薬品製造所、バイオハザード施設、細胞培養加工施設等には、除染を行う必要がある空間が存在する。除染の方法は、特許文献１に開示されている。除染の方法として、過酢酸と過酸化水素とを含む溶液を、噴霧装置を用いて空間に噴霧する方法がある。
過酢酸と過酸化水素とを含む溶液を空間に噴霧する方法において、除染の効果を高めるために噴霧量を多くした場合、空間の湿度が高くなる。空間の湿度が高くなると、空間に設置された機器等で結露が生じ、機器等が腐食するおそれがある。
本開示の１つの局面では、空間の湿度を抑制しつつ、除染の効果が高い空間除染方法及び空間除染装置を提供することが好ましい。
本開示の１つの局面は、空間除染方法である。空間除染方法では、過酢酸及び過酸化水素を含む溶液の中に空気を送気してバブリングすることで、空気及び過酢酸を含む混合ガスを生成し、前記混合ガスを空間に供給し、過酸化水素を含む水溶液を用いて前記空間を加湿する。
本開示の１つの局面である空間除染方法によれば、空間の湿度を抑制しつつ、空間を除染することができる。
本開示の別の局面は、空間除染装置である。空間除染装置は、過酢酸及び過酸化水素を含む溶液の中に空気を送気してバブリングすることで、空気及び過酢酸を含む混合ガスを生成し、前記混合ガスを空間に供給するように構成された混合ガス供給ユニットと、過酸化水素を含む水溶液を用いて前記空間を加湿するように構成された加湿ユニットと、を備える。
本開示の別の局面は、空間除染装置である。空間除染装置は、過酢酸及び過酸化水素を含む溶液の中に空気を送気してバブリングすることで、空気及び過酢酸を含む混合ガスを生成し、前記混合ガスを空間に供給するように構成された混合ガス供給ユニットと、過酸化水素を含む水溶液を用いて前記空間を加湿するように構成された加湿ユニットと、を備える。
本開示の別の局面である空間除染装置は、空間の湿度を抑制しつつ、空間を除染することができる。
本開示の例示的な実施形態について図面を参照しながら説明する。
１．空間除染方法
本開示の空間除染方法は、空間を除染する。空間は、例えば、医薬品製造所、バイオハザード施設、細胞培養加工施設等にある空間である。空間は、例えば、安全キャビネット、アイソレータ、アクセス制限バリアシステム（Restricted Access Barrier System）等の内部の空間である。空間は、例えば、清浄区域の空間、無菌操作区域の空間である。空間は、例えば、その空間と他の領域との境界にある壁、床、又は天井を含む。
１．空間除染方法
本開示の空間除染方法は、空間を除染する。空間は、例えば、医薬品製造所、バイオハザード施設、細胞培養加工施設等にある空間である。空間は、例えば、安全キャビネット、アイソレータ、アクセス制限バリアシステム（Restricted Access Barrier System）等の内部の空間である。空間は、例えば、清浄区域の空間、無菌操作区域の空間である。空間は、例えば、その空間と他の領域との境界にある壁、床、又は天井を含む。
除染とは、空間に存在する微生物を減少させることを意味する。除染とは、例えば、空間に存在する微生物を予め指定された菌数のレベルにまで減少させることを意味する。除染とは、例えば、ＢＩを６ｌｏｇ以上減少させることである。ＢＩとは、バイオロジカルインジケータであり、指標菌を意味する。
本開示の空間除染方法では、過酢酸及び過酸化水素を含む溶液（以下では第１溶液とする）の中に空気を送気してバブリングすることで、空気及び過酢酸を含む混合ガスを生成する。第１溶液及び混合ガスは、例えば、酢酸をさらに含む。
第１溶液として、例えば、過酢酸と過酸化水素との平衡溶液が挙げられる。過酢酸と過酸化水素との平衡溶液は、過酢酸及び過酸化水素に加えて、酢酸及び水を含む。第１溶液における過酢酸の濃度は、１質量％以上、１５質量％以下であることが好ましい。過酢酸の濃度が１質量％以上、１５質量％以下である場合、空間を除染する効果が一層高い。
第１溶液として、例えば、過酢酸と過酸化水素との平衡溶液が挙げられる。過酢酸と過酸化水素との平衡溶液は、過酢酸及び過酸化水素に加えて、酢酸及び水を含む。第１溶液における過酢酸の濃度は、１質量％以上、１５質量％以下であることが好ましい。過酢酸の濃度が１質量％以上、１５質量％以下である場合、空間を除染する効果が一層高い。
混合ガスは、空気及び過酢酸に加えて、水蒸気及び過酸化水素をさらに含んでいてもよい。本開示の空間除染方法では、混合ガスを空間に供給する。混合ガスを生成し、空間に供給する方法として、図１に示す混合ガス供給ユニット１を使用する方法がある。
混合ガス供給ユニット１は、流量計１１と、容器１３と、トラップ１５と、配管１７、１９、２１と、を備える。配管１７は、図示しない空気供給源から供給された空気１８を、流量計１１を経て、容器１３の内部に送る。流量計１１は、容器１３の内部に送られる空気１８の流量を計測し、表示する。空気１８の流量は、例えば、１Ｌ／ｍｉｎ以上５Ｌ／ｍｉｎ以下である。
容器１３の内部には第１溶液２３が収容されている。配管１７の先端１７Ａは第１溶液２３の中にある。そのため、先端１７Ａから出た空気１８によりバブリングが生じる。容器１３のうち、第１溶液２３の液面より上の部分には、混合ガス２５が生じる。混合ガス２５は、第１溶液２３を通過した空気のバブルから成る。混合ガス２５は、空気と、過酢酸と、酢酸とを含む。混合ガス２５は、微量の水蒸気及び過酸化水素も含む。
混合ガス２５は、容器１３から、配管１９を通り、トラップ１５に流れる。トラップ１５は空の容器である。トラップ１５において、混合ガス２５から、突発した水滴が除去される。混合ガス２５は、トラップ１５から、配管２１を通り、空間除染方法の対象である空間１０５に流れる。
本開示の空間除染方法では、過酸化水素を含む水溶液（以下では第２溶液とする）を用いて空間１０５を加湿する。第２溶液における過酸化水素の濃度は、２質量％以上１０質量％以下であることが好ましい。過酸化水素の濃度が２質量％以上である場合、空間１０５を除染する効果が一層高い。過酸化水素の濃度が１０質量％以下である場合、空間除染方法を行うときの安全性が一層向上し、過酸化水素の濃度が６質量％以下である場合、空間除染方法を行うときの安全性が特に向上する。
例えば、加湿器を用いて第２溶液を気化させ、空間１０５を加湿することができる。加湿器として、市販の製品を使用できる。加湿器の形式として、超音波式、スチーム式、気化式、ハイブリッド式等が挙げられる。
本開示の空間除染方法を行っているとき、空間１０５の湿度は、６０％ＲＨ以上８０％ＲＨ以下であることが好ましい。空間１０５の湿度が６０％ＲＨ以上である場合、空間１０５を除染する効果が一層高い。空間１０５の湿度が８０％ＲＨ以下である場合、結露を一層抑制することができる。
本開示の空間除染方法を行っているとき、空間１０５における過酢酸の濃度は、５ｐｐｍ以上５０ｐｐｍ以下であることが好ましい。空間１０５における過酢酸の濃度が５ｐｐｍ以上である場合、空間１０５を除染する効果が一層高い。空間１０５における過酢酸の濃度が５０ｐｐｍ以下である場合、除染後のガス処理が簡便になる。空間１０５への混合ガス２５の供給量が多いほど、空間１０５における過酢酸の濃度は高くなる。第１溶液２３における過酢酸の濃度が高いほど、空間１０５における過酢酸の濃度は高くなる。
空間１０５における過酢酸の濃度の測定方法は、定電位電解法である。測定には、定電位電解式ポータブルガス検知器を使用する。
本開示の空間除染方法を行っているとき、空間１０５における過酸化水素の濃度は、１０ｐｐｍ以上５０ｐｐｍ以下であることが好ましい。空間１０５における過酸化水素の濃度が１０ｐｐｍ以上である場合、空間１０５を除染する効果が一層高い。空間１０５における過酸化水素の濃度が５０ｐｐｍ以下である場合、空間除染方法を行うときの安全性が一層向上する。第２溶液における過酸化水素の濃度が高いほど、空間１０５における過酸化水素の濃度が高くなる。第２溶液を用いた加湿を促進するほど、空間１０５における過酸化水素の濃度及び湿度が高くなる。
本開示の空間除染方法を行っているとき、空間１０５における過酸化水素の濃度は、１０ｐｐｍ以上５０ｐｐｍ以下であることが好ましい。空間１０５における過酸化水素の濃度が１０ｐｐｍ以上である場合、空間１０５を除染する効果が一層高い。空間１０５における過酸化水素の濃度が５０ｐｐｍ以下である場合、空間除染方法を行うときの安全性が一層向上する。第２溶液における過酸化水素の濃度が高いほど、空間１０５における過酸化水素の濃度が高くなる。第２溶液を用いた加湿を促進するほど、空間１０５における過酸化水素の濃度及び湿度が高くなる。
空間１０５における過酸化水素の濃度の測定方法は、定電位電解法である。測定には、定電位電解式ポータブルガス検知器を使用する。
本開示の空間除染方法では、例えば、混合ガス２５を空間１０５に供給すると同時に、第２溶液を用いて空間１０５を加湿する。この場合、空間１０５を除染する効果が一層高い。
本開示の空間除染方法では、例えば、混合ガス２５を空間１０５に供給すると同時に、第２溶液を用いて空間１０５を加湿する。この場合、空間１０５を除染する効果が一層高い。
２．空間除染装置１０１
本開示の空間除染装置１０１は、例えば、図２に示す構成を備える。空間除染装置１０１は、混合ガス供給ユニット１を備える。混合ガス供給ユニット１は、第１溶液２３の中に空気１８を送気してバブリングすることで、空気及び過酢酸を含む混合ガス２５を生成し、混合ガス２５を空間１０５に供給する。
本開示の空間除染装置１０１は、例えば、図２に示す構成を備える。空間除染装置１０１は、混合ガス供給ユニット１を備える。混合ガス供給ユニット１は、第１溶液２３の中に空気１８を送気してバブリングすることで、空気及び過酢酸を含む混合ガス２５を生成し、混合ガス２５を空間１０５に供給する。
混合ガス供給ユニット１として、例えば、図１に示すものが挙げられる。図１に示す混合ガス供給ユニット１の構成は、前記「１．空間除染方法」の項で述べたものである。
本開示の空間除染装置１０１は、例えば、本開示の空間除染方法を行うために使用される。第１溶液２３及び混合ガス２５は、例えば、前記「１．空間除染方法」の項で述べたものである。
本開示の空間除染装置１０１は、例えば、本開示の空間除染方法を行うために使用される。第１溶液２３及び混合ガス２５は、例えば、前記「１．空間除染方法」の項で述べたものである。
空間除染装置１０１は、加湿ユニット１０３を備える。加湿ユニット１０３は、第２溶液を用いて空間１０５を加湿する。加湿ユニット１０３は、例えば、加湿器を用いて第２溶液を気化させ、空間１０５を加湿する。加湿器として、市販の製品を使用できる。加湿器の形式として、超音波式、スチーム式、気化式、ハイブリッド式等が挙げられる。第２溶液は、例えば、前記「１．空間除染方法」の項で述べたものである。
空間除染装置１０１は、例えば、混合ガス供給ユニット１及び加湿ユニット１０３のうちの少なくとも一方を制御するように構成された制御ユニット１０７をさらに備える。
制御ユニット１０７は、ＣＰＵ１０７Ａと、例えば、ＲＡＭ又はＲＯＭ等の半導体メモリ（以下、メモリ１０７Ｂとする）と、を有するマイクロコンピュータを備える。
制御ユニット１０７は、ＣＰＵ１０７Ａと、例えば、ＲＡＭ又はＲＯＭ等の半導体メモリ（以下、メモリ１０７Ｂとする）と、を有するマイクロコンピュータを備える。
制御ユニット１０７の各機能は、ＣＰＵ１０７Ａが非遷移的実体的記録媒体に格納されたプログラムを実行することにより実現される。この例では、メモリ１０７Ｂが、プログラムを格納した非遷移的実体的記録媒体に該当する。また、このプログラムが実行されることで、プログラムに対応する方法が実行される。なお、制御ユニット１０７は、１つのマイクロコンピュータを備えてもよいし、複数のマイクロコンピュータを備えてもよい。
空間除染装置１０１は、例えば、情報取得ユニット１０９をさらに備える。情報取得ユニット１０９は、空間１０５の湿度、空間１０５の温度、空間１０５における過酢酸の濃度、及び、空間１０５における過酸化水素の濃度から成る群から選択される１以上を表す情報（以下では空間情報とする）を取得するように構成されている。情報取得ユニット１０９は、例えば、空間情報を検出可能なセンサを備える。
制御ユニット１０７は、例えば、情報取得ユニット１０９が取得した空間情報に基づき、混合ガス供給ユニット１及び加湿ユニット１０３のうちの少なくとも一方を制御する。
制御ユニット１０７は、例えば、情報取得ユニット１０９が取得した空間情報に基づき、加湿ユニット１０３を制御することで、空間１０５の湿度を、６０％ＲＨ以上８０％ＲＨ以下とする。空間１０５の湿度が６０％ＲＨ以上である場合、空間１０５を除染する効果が一層高い。空間１０５の湿度が８０％ＲＨ以下である場合、結露を一層抑制することができ、空間１０５の湿度が７５％ＲＨ以下である場合、結露を特に抑制することができる。
制御ユニット１０７は、例えば、情報取得ユニット１０９が取得した空間情報に基づき、加湿ユニット１０３を制御することで、空間１０５の湿度を、６０％ＲＨ以上８０％ＲＨ以下とする。空間１０５の湿度が６０％ＲＨ以上である場合、空間１０５を除染する効果が一層高い。空間１０５の湿度が８０％ＲＨ以下である場合、結露を一層抑制することができ、空間１０５の湿度が７５％ＲＨ以下である場合、結露を特に抑制することができる。
制御ユニット１０７は、例えば、情報取得ユニット１０９が取得した空間情報に基づき、混合ガス供給ユニット１を制御することで、空間１０５における過酢酸の濃度を、５ｐｐｍ以上５０ｐｐｍ以下とする。空間１０５における過酢酸の濃度が５ｐｐｍ以上である場合、空間１０５を除染する効果が一層高い。空間１０５における過酢酸の濃度が５０ｐｐｍ以下である場合、除染後のガス処理が簡便になる。
制御ユニット１０７は、例えば、情報取得ユニット１０９が取得した空間情報に基づき、加湿ユニット１０３を制御することで、空間１０５における過酸化水素の濃度を、１０ｐｐｍ以上５０ｐｐｍ以下とする。空間１０５における過酸化水素の濃度が１０ｐｐｍ以上である場合、空間１０５を除染する効果が一層高い。空間１０５における過酸化水素の濃度が５０ｐｐｍ以下である場合、空間除染方法を行うときの安全性が一層向上する。
本開示の空間除染装置１０１は、例えば、混合ガスを空間１０５に供給すると同時に、第２溶液を用いて空間１０５を加湿する。この場合、空間１０５を除染する効果が一層高い。
３．空間除染方法及び空間除染装置１０１が奏する効果
空間除染方法及び空間除染装置１０１を用いれば、空間１０５の湿度を抑制しつつ、空間１０５を効果的に除染することができる。その理由は以下のとおりである。混合ガス２５は、過酢酸を多く含むが、水蒸気の含有量は少ない。そのため、混合ガス２５を空間１０５に供給することで、空間１０５の湿度を抑制しつつ、空間１０５における過酢酸の濃度を高くすることができる。また、第２溶液を用いて空間１０５を加湿することで、空間１０５の湿度を適度に高めるとともに、空間１０５における過酸化水素の濃度を高めることができる。第２溶液を用いる加湿を抑制すると、空間１０５における過酢酸の濃度を低下させることなく、空間１０５の湿度を抑制できる。その結果、空間１０５の湿度を抑制しつつ、過酢酸と過酸化水素との相乗効果により、空間１０５を効果的に除染することができる。
３．空間除染方法及び空間除染装置１０１が奏する効果
空間除染方法及び空間除染装置１０１を用いれば、空間１０５の湿度を抑制しつつ、空間１０５を効果的に除染することができる。その理由は以下のとおりである。混合ガス２５は、過酢酸を多く含むが、水蒸気の含有量は少ない。そのため、混合ガス２５を空間１０５に供給することで、空間１０５の湿度を抑制しつつ、空間１０５における過酢酸の濃度を高くすることができる。また、第２溶液を用いて空間１０５を加湿することで、空間１０５の湿度を適度に高めるとともに、空間１０５における過酸化水素の濃度を高めることができる。第２溶液を用いる加湿を抑制すると、空間１０５における過酢酸の濃度を低下させることなく、空間１０５の湿度を抑制できる。その結果、空間１０５の湿度を抑制しつつ、過酢酸と過酸化水素との相乗効果により、空間１０５を効果的に除染することができる。
４．実施例
（４－１）実施例１
図３、図４に示す安全キャビネット２０１を用意した。安全キャビネット２０１は、例えば、感染性の高い微生物を取り扱うバイオハザード施設で用いられる。また、安全キャビネット２０１は、例えば、再生医療等の技術分野において、無菌性を求められる細胞加工等で用いられる。安全キャビネット２０１は、例えば、６ｌｏｇ以上の高い除染レベルが要求される装置である。安全キャビネット２０１の内部は空間１０５に対応する。
（４－１）実施例１
図３、図４に示す安全キャビネット２０１を用意した。安全キャビネット２０１は、例えば、感染性の高い微生物を取り扱うバイオハザード施設で用いられる。また、安全キャビネット２０１は、例えば、再生医療等の技術分野において、無菌性を求められる細胞加工等で用いられる。安全キャビネット２０１は、例えば、６ｌｏｇ以上の高い除染レベルが要求される装置である。安全キャビネット２０１の内部は空間１０５に対応する。
安全キャビネット２０１は、作業台２０３を備える。作業台２０３の上方に作業空間２０５が存在する。安全キャビネット２０１は、正面側開口部２０７を備える。作業空間２０５は、正面側から見て、正面側開口部２０７の奥側にある。安全キャビネット２０１は、ファンルーム２０９と、天井部排気口２１１と、ＨＥＰＡ２１３と、を備える。
図３に示すように、安全キャビネット２０１の外に設置した循環ファン２１５と、正面側開口部２０７とをダクト２１７で接続した。また、天井部排気口２１１と循環ファン２１５とをダクト２１９で接続した。正面側開口部２０７のうち、ダクト２１７を接続した部分以外を、養生テープ及び塩ビパネルで密封した。また、天井部排気口２１１のうち、ダクト２１９を接続した部分以外を、を養生テープ及び塩ビパネルで密封した。また、安全キャビネット２０１におけるその他の隙間も養生テープで密封した。
循環ファン２１５を動作させたとき、図４において矢印で示す経路に沿った空気の循環が生じる。作業空間２０５内の空気は、正面側開口部２０７から、ダクト２１７、循環ファン２１５、ダクト２１９、及び天井部排気口２１１を順次通り、ファンルーム２０９に入る。ファンルーム２０９内の空気の一部は、ＨＥＰＡ２１３を通り、作業空間２０５に入る。ファンルーム２０９内の空気の一部は、奥側通路２２１を通り、作業台２０３の奥側から作業空間２０５に入る。
図３に示すように、混合ガス供給ユニット１で生成した混合ガス２５を、作業空間２０５に供給した。混合ガス供給ユニット１はエアーポンプ２２３を備えていた。エアーポンプ２２３は、作業空間２０５から空気１８を取り入れ、取り入れた空気１８を流量計１１に供給する。空気１８の流量は５Ｌ／ｍｉｎであった。第１溶液２３は、過酢酸除染剤（商品名：MinncareTM）の原液であり、第１溶液２３の量は約３３ｍｌであった。第１溶液２３における過酢酸の濃度は５．６質量％であった。第１溶液２３における過酸化水素の濃度は２３．３質量％であった。図３に示すように、作業台２０３の上にサーキュレータファン２２５を設置した。混合ガス２５を供給する位置は、サーキュレータファン２２５の前方であった。混合ガス供給ユニット１により供給された混合ガス２５は、サーキュレータファン２２５が発生させる風により拡散され、ダクト２１７に送られた。
図３に示すように、加湿ユニット１０３を作業台２０３の上に置き、加湿ユニット１０３により作業空間２０５を加湿した。第２溶液は、濃度が３質量％である過酸化水素の水溶液であった。本実施例では、情報取得ユニット１０９は温湿度センサであった。情報取得ユニット１０９は、天井部排気口２１１における空気の温度と湿度とを検出し、検出結果を制御ユニット１０７に送った。制御ユニット１０７は、温度と湿度との測定結果に基づき、加湿ユニット１０３を制御した。
図４に示すＰ１～Ｐ８の場所にＢＩを設置した。Ｐ１～Ｐ３は、ファンルーム２０９の内部であった。Ｐ４は、奥側通路２２１の内部であった。Ｐ５は、天井部排気口２１１に設けられたパンチングメタルの位置であった。Ｐ６は、作業台２０３の下部であった。Ｐ７は、作業空間２０５のうち、ＨＥＰＡ２１３の側の位置であった。Ｐ８は、作業台２０３の上であった。ＢＩは、Geobacillus stearothermophilus （ATCC#12980)であった。ＢＩの菌数は２．４×１０６以上であった。
安全キャビネット２０１において図４に示す空気の循環が生じている状態で、除染を開始した。除染とは、混合ガス供給ユニット１により混合ガス２５を供給し、加湿ユニット１０３により加湿することである。除染の開始時以降の、安全キャビネット２０１内の過酢酸の濃度と、過酸化水素の濃度と、温度と、湿度との推移を図５に示す。
除染の開始時から１２分が経過すると、安全キャビネット２０１内の湿度が７５％ＲＨに達した。その後、制御ユニット１０７は、情報取得ユニット１０９が検出した湿度の測定結果に基づき、加湿ユニット１０３のオン／オフを切り替えることで、安全キャビネット２０１内の湿度を７５％ＲＨ付近に維持した。
除染の開始時から経過した時間を経過時間とした。経過時間が１０分の時点から、経過時間が１６０分の時点までの時間帯をＴ１とした。時間帯Ｔ１において、安全キャビネット２０１内の湿度は、７５％ＲＨ付近に維持されており、平均湿度は７４％ＲＨであった。時間帯Ｔ１において、安全キャビネット２０１内の温度は、２６℃付近に維持されており、平均温度は２６℃であった。時間帯Ｔ１において、安全キャビネット２０１内の過酢酸の濃度の平均値は１３ｐｐｍであった。時間帯Ｔ１において、安全キャビネット２０１内の過酸化水素の濃度の平均値は１０ｐｐｍであった。
時間帯Ｔ１において、ＢＩを安全キャビネット２０１内の空気に暴露した。次に、専用培地にて適正温度の下でＢＩを７日間培養し、陰性であるか陽性であるかを確認した。陰性とはＢＩが死滅していることである。陽性とは、ＢＩが死滅していないことである。Ｐ１～Ｐ８の全て場所のＢＩが陰性であった。この結果から、除染により、Ｐ１～Ｐ８の全ての場所で６ｌｏｇ以上の除染レベルを達成できることが確認できた。
（４－２）実施例２
基本的には実施例１と同様に除染を行った。ただし、実施例２では、第１溶液２３は、以下のものであった。市販されている食品添加物用の過酢酸製剤を用意した。この過酢酸製剤の原液は、１５質量％の過酢酸と、５．５質量％の過酸化水素と、４５質量％の酢酸とを含んでいた。原液を５０％希釈した溶液を第１溶液２３とした。第１溶液２３の量は４０ｍｌであった。
（４－２）実施例２
基本的には実施例１と同様に除染を行った。ただし、実施例２では、第１溶液２３は、以下のものであった。市販されている食品添加物用の過酢酸製剤を用意した。この過酢酸製剤の原液は、１５質量％の過酢酸と、５．５質量％の過酸化水素と、４５質量％の酢酸とを含んでいた。原液を５０％希釈した溶液を第１溶液２３とした。第１溶液２３の量は４０ｍｌであった。
また、実施例２では、図４に示すＰ６の位置に８個のＢＩを設置した。そして、除染の開始時から６０分経過時、７０分経過時、８０分経過時、９０分経過時、１００分経過時、１１０分経過時、１２０分経過時、及び１３０分経過時に、それぞれ、１つのＢＩをＰ６の位置から取り出した。なお、位置Ｐ６は、安全キャビネット２０１内の空気の循環経路において、混合ガス２５の供給位置から最も遠い位置である。また、ＢＩの菌数は、１．６×１０６であった。
それぞれのＢＩについて、実施例１と同様にして、陰性であるか陽性であるかを確認した。除染の開始時から９０分経過時以降に取り出したＢＩは陰性であった。この結果から、安全キャビネット２０１において、９０分間以上の除染により、６ｌｏｇ以上の除染レベルを達成できることが確認できた。
除染の開始時以降の、安全キャビネット２０１内の過酢酸の濃度と、過酸化水素の濃度と、温度と、湿度との推移を図６に示す。除染の開始時から１３分が経過すると、安全キャビネット２０１内の湿度が７５％ＲＨに達した。その後、制御ユニット１０７は、情報取得ユニット１０９が検出した湿度の測定結果に基づき、加湿ユニット１０３のオン／オフを切り替えることで、安全キャビネット２０１内の湿度を７５％ＲＨ付近に維持した。
経過時間が１０分の時点から、経過時間が１００分の時点までの時間帯をＴ２とした。時間帯Ｔ２において、安全キャビネット２０１内の湿度は、７５％ＲＨ付近に維持されており、平均湿度は７４％ＲＨであった。時間帯Ｔ２において、安全キャビネット２０１内の温度は、２６℃付近に維持されており、平均温度は２６℃であった。時間帯Ｔ２において、安全キャビネット２０１内の過酢酸の濃度の平均値は１５ｐｐｍであった。時間帯Ｔ２において、安全キャビネット２０１内の過酸化水素の濃度の平均値は１９ｐｐｍであった。
（４－３）実施例３
基本的には実施例１と同様に除染を行った。ただし、実施例３では、安全キャビネット２０１ではなく、密閉度の高い小型ブース内を除染した。小型ブースの内容積は約１ｍ３であった。小型ブースの内部は空間１０５に対応する。第１溶液２３における過酢酸の濃度は１．５質量％であった。第１溶液２３における過酸化水素の濃度は０．６質量％であった。第１溶液２３の量は４０ｍｌであった。
（４－３）実施例３
基本的には実施例１と同様に除染を行った。ただし、実施例３では、安全キャビネット２０１ではなく、密閉度の高い小型ブース内を除染した。小型ブースの内容積は約１ｍ３であった。小型ブースの内部は空間１０５に対応する。第１溶液２３における過酢酸の濃度は１．５質量％であった。第１溶液２３における過酸化水素の濃度は０．６質量％であった。第１溶液２３の量は４０ｍｌであった。
除染の開始時以降の、小型ブース内の過酢酸の濃度と、過酸化水素の濃度と、温度と、湿度との推移を図７に示す。図７に示すように、経過時間が３分の時点から、経過時間が９３分の時点までの時間帯をＴ３とした。時間帯Ｔ３においてＢＩを小型ブース内の空気に暴露した。
次に、ＢＩを取り出し、実施例１と同様にして、陰性であるか陽性であるかを確認した。ＢＩは陰性であった。この結果から、小型ブースにおいて、６ｌｏｇ以上の除染レベルを達成できることが確認できた。
時間帯Ｔ３において、小型ブース内の湿度は、７５％ＲＨ付近に維持されており、平均湿度は７５％ＲＨであった。時間帯Ｔ３において、小型ブース内の温度は３１℃付近に維持されており、平均温度は３１℃であった。時間帯Ｔ３において、小型ブース内の過酢酸の濃度の平均値は３４ｐｐｍであった。時間帯Ｔ３において、小型ブース内の過酸化水素の濃度の平均値は２８ｐｐｍであった。
（４－４）比較例１
基本的には実施例３と同様に除染を行った。ただし、比較例１では、加湿ユニット１０３を使用しなかった。また、第１溶液２３における過酢酸の濃度は３．８質量％であった。第１溶液２３における過酸化水素の濃度は１．４質量％であった。第１溶液２３の量は４０ｍｌであった。
除染の開始時以降の、小型ブース内の過酢酸の濃度と、温度と、湿度との推移を図８に示す。なお、過酸化水素の濃度は常に０ｐｐｍであった。図８に示すように、経過時間が８３分の時点から、経過時間が１４３分の時点までの時間帯をＲＴ１とした。時間帯ＲＴ１においてＢＩを小型ブース内の空気に暴露した。次に、ＢＩを取り出し、実施例１と同様にして、陰性であるか陽性であるかを確認した。ＢＩは陽性であった。
（４－４）比較例１
基本的には実施例３と同様に除染を行った。ただし、比較例１では、加湿ユニット１０３を使用しなかった。また、第１溶液２３における過酢酸の濃度は３．８質量％であった。第１溶液２３における過酸化水素の濃度は１．４質量％であった。第１溶液２３の量は４０ｍｌであった。
除染の開始時以降の、小型ブース内の過酢酸の濃度と、温度と、湿度との推移を図８に示す。なお、過酸化水素の濃度は常に０ｐｐｍであった。図８に示すように、経過時間が８３分の時点から、経過時間が１４３分の時点までの時間帯をＲＴ１とした。時間帯ＲＴ１においてＢＩを小型ブース内の空気に暴露した。次に、ＢＩを取り出し、実施例１と同様にして、陰性であるか陽性であるかを確認した。ＢＩは陽性であった。
時間帯ＲＴ１において、小型ブース内の湿度は、６２％ＲＨ付近であり、平均湿度は６２％ＲＨであった。時間帯ＲＴ１において、小型ブース内の温度は３０℃付近に維持されており、平均温度は３０℃であった。時間帯ＲＴ１において、小型ブース内の過酢酸の濃度は時間の経過とともに増加しており、平均値は１８３ｐｐｍであった。
（４－５）比較例２
基本的には実施例３と同様に除染を行った。ただし、比較例２では、加湿ユニット１０３は、過酸化水素の水溶液ではなく、水を用いて加湿を行った。第１溶液２３における過酢酸の濃度は１．５質量％であった。第１溶液２３における過酸化水素の濃度は０．６質量％であった。第１溶液２３の量は４０ｍｌであった。
（４－５）比較例２
基本的には実施例３と同様に除染を行った。ただし、比較例２では、加湿ユニット１０３は、過酸化水素の水溶液ではなく、水を用いて加湿を行った。第１溶液２３における過酢酸の濃度は１．５質量％であった。第１溶液２３における過酸化水素の濃度は０．６質量％であった。第１溶液２３の量は４０ｍｌであった。
除染の開始時以降の、小型ブース内の過酢酸の濃度と、温度と、湿度との推移を図９に示す。なお、過酸化水素の濃度は常に０ｐｐｍであった。図９に示すように、経過時間が３分の時点から、経過時間が１２３分の時点までの時間帯をＲＴ２とした。時間帯ＲＴ２においてＢＩを小型ブース内の空気に暴露した。次に、ＢＩを取り出し、実施例１と同様にして、陰性であるか陽性であるかを確認した。ＢＩは陽性であった。
時間帯ＲＴ２において、小型ブース内の湿度は、７５％ＲＨ付近であり、平均湿度は７５％ＲＨであった。時間帯ＲＴ２において、小型ブース内の温度は３１℃付近に維持されており、平均温度は３１℃であった。時間帯ＲＴ２において、小型ブース内の過酢酸の濃度は時間の経過とともに増加しており、平均値は４２ｐｐｍであった。
５．他の実施形態
以上、本開示の実施形態について説明したが、本開示は上述の実施形態に限定されることなく、種々変形して実施することができる。
以上、本開示の実施形態について説明したが、本開示は上述の実施形態に限定されることなく、種々変形して実施することができる。
（１）上記実施例では、安全キャビネット内の空間を除染したが、これに限定されるものではない。例えば、アイソレータ、アクセス制限バリアシステム等の内部の空間を除染してもよい。
（２）除染する空間の容積が小さい場合は、循環ファンを使用せず、サーキュレータを使用してもよい。
（２）除染する空間の容積が小さい場合は、循環ファンを使用せず、サーキュレータを使用してもよい。
（３）第２溶液における過酸化水素の濃度は３質量％より高くてもよく、例えば、１０質量％とすることができる。
（４）本開示に記載の制御ユニット１０７及びその手法は、コンピュータプログラムにより具体化された一つ乃至は複数の機能を実行するようにプログラムされたプロセッサ及びメモリを構成することによって提供された専用コンピュータにより、実現されてもよい。あるいは、本開示に記載の制御ユニット１０７及びその手法は、一つ以上の専用ハードウェア論理回路によってプロセッサを構成することによって提供された専用コンピュータにより、実現されてもよい。もしくは、本開示に記載の制御ユニット１０７及びその手法は、一つ乃至は複数の機能を実行するようにプログラムされたプロセッサ及びメモリと一つ以上のハードウェア論理回路によって構成されたプロセッサとの組み合わせにより構成された一つ以上の専用コンピュータにより、実現されてもよい。また、コンピュータプログラムは、コンピュータにより実行されるインストラクションとして、コンピュータ読み取り可能な非遷移有形記録媒体に記憶されてもよい。制御ユニット１０７に含まれる各部の機能を実現する手法には、必ずしもソフトウェアが含まれている必要はなく、その全部の機能が、一つあるいは複数のハードウェアを用いて実現されてもよい。
（４）本開示に記載の制御ユニット１０７及びその手法は、コンピュータプログラムにより具体化された一つ乃至は複数の機能を実行するようにプログラムされたプロセッサ及びメモリを構成することによって提供された専用コンピュータにより、実現されてもよい。あるいは、本開示に記載の制御ユニット１０７及びその手法は、一つ以上の専用ハードウェア論理回路によってプロセッサを構成することによって提供された専用コンピュータにより、実現されてもよい。もしくは、本開示に記載の制御ユニット１０７及びその手法は、一つ乃至は複数の機能を実行するようにプログラムされたプロセッサ及びメモリと一つ以上のハードウェア論理回路によって構成されたプロセッサとの組み合わせにより構成された一つ以上の専用コンピュータにより、実現されてもよい。また、コンピュータプログラムは、コンピュータにより実行されるインストラクションとして、コンピュータ読み取り可能な非遷移有形記録媒体に記憶されてもよい。制御ユニット１０７に含まれる各部の機能を実現する手法には、必ずしもソフトウェアが含まれている必要はなく、その全部の機能が、一つあるいは複数のハードウェアを用いて実現されてもよい。
（５）上記各実施形態における１つの構成要素が有する機能を複数の構成要素に分担させたり、複数の構成要素が有する機能を１つの構成要素に発揮させたりしてもよい。また、上記各実施形態の構成の一部を省略してもよい。また、上記各実施形態の構成の少なくとも一部を、他の上記実施形態の構成に対して付加、置換等してもよい。
（６）上述した空間除染装置１０１の他、当該空間除染装置１０１を構成要素とするシステム、制御ユニット１０７としてコンピュータを機能させるためのプログラム、このプログラムを記録した半導体メモリ等の非遷移的実態的記録媒体、空間除染装置の製造方法等、種々の形態で本開示を実現することもできる。
１…混合ガス供給ユニット、１３…容器、１５…トラップ、１７、１９、２１…配管、１７Ａ…先端、１８…空気、２３…第１溶液、２５…混合ガス、１０１…空間除染装置、１０３…加湿ユニット、１０５…空間、１０７…制御ユニット、１０７Ａ…ＣＰＵ、１０７Ｂ…メモリ、１０９…情報取得ユニット、２０１…安全キャビネット、２０３…作業台、２０５…作業空間、２０７…正面側開口部、２０９…ファンルーム、２１１…天井部排気口、２１５…循環ファン、２１７、２１９…ダクト、２２１…奥側通路、２２３…エアーポンプ、２２５…サーキュレータファン
Claims (5)
- 過酢酸及び過酸化水素を含む溶液の中に空気を送気してバブリングすることで、空気及び過酢酸を含む混合ガスを生成し、
前記混合ガスを空間に供給し、
過酸化水素を含み、過酢酸を含まない水溶液を用いて前記空間を加湿し、
空間除染方法を行っているとき、前記空間における前記過酸化水素の濃度が１０ｐｐｍ以上５０ｐｐｍ以下であり、前記空間における前記過酢酸の濃度が５ｐｐｍ以上５０ｐｐｍ以下である、
空間除染方法。 - 過酢酸及び過酸化水素を含む溶液の中に空気を送気してバブリングすることで、空気及び過酢酸を含む混合ガスを生成し、
前記混合ガスを空間に供給し、
超音波式、スチーム式、気化式、又はハイブリッド式の加湿器を用いて、過酸化水素を含む水溶液を気化させることで前記空間を加湿し、
空間除染方法を行っているとき、前記空間における前記過酸化水素の濃度が１０ｐｐｍ以上５０ｐｐｍ以下であり、前記空間における前記過酢酸の濃度が５ｐｐｍ以上５０ｐｐｍ以下である、
空間除染方法。 - 請求項１又は２に記載の空間除染方法であって、
空間除染方法を行っているとき、前記空間の湿度が６０％ＲＨ以上８０％ＲＨ以下である、
空間除染方法。 - 過酢酸及び過酸化水素を含む溶液の中に空気を送気してバブリングすることで、空気及び過酢酸を含む混合ガスを生成し、前記混合ガスを空間に供給するように構成された混合ガス供給ユニットと、
過酸化水素を含み、過酢酸を含まない水溶液を用いて前記空間を加湿するように構成された加湿ユニットと、
を備える空間除染装置。 - 過酢酸及び過酸化水素を含む溶液の中に空気を送気してバブリングすることで、空気及び過酢酸を含む混合ガスを生成し、前記混合ガスを空間に供給するように構成された混合ガス供給ユニットと、
超音波式、スチーム式、気化式、又はハイブリッド式の加湿器を用いて、過酸化水素を含む水溶液を気化させることで前記空間を加湿するように構成された加湿ユニットと、
を備える空間除染装置。
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