JP7260938B2 - 足被覆具 - Google Patents

Description

本発明は、足被覆具に関する。

一般に、人が歩行する際、足部が接地面に接地して体重を支持する立脚期と、足部が接地面を離れて前方に振り出される遊脚期とが周期的に繰り返される。立脚期が開始すると、ウィンドラス機構は、足趾と踵骨を繋ぐ足底腱膜の伸張によって足部アーチを下降させ、足部が受ける衝撃の吸収を行う。また、ウィンドラス機構は、立脚期後半の推進期において、中足趾節関節の背屈（足背側へ反らす動作）によって足底腱膜を牽引し、足部アーチを上昇させ、足部の剛性を向上させるとともに、足部を前方に進めるための推進力を強化する。

足部アーチは、踵骨と第１中足骨前部の間に形成される内側縦アーチと、踵骨と第５中足骨前部との間に形成される外側縦アーチと、内側縦アーチと外側縦アーチの間に形成される横アーチとによって構成される。横アーチは、第２中足骨骨頭部を頂上として第１～第５中足骨骨頭部によって形成される前方横アーチと、内側楔状骨、中間楔状骨、外側楔状骨、及び立方骨によって形成される中間横アーチと、舟状骨及び立方骨によって形成される後方横アーチとによって構成される。

筋力低下又は疲労蓄積等によって足部アーチの下降状態が慢性化すると、足部の距骨下関節が過回内になり、脛骨及び大腿骨の内旋によって下肢機能軸がずれ、下肢の運動連鎖によって膝等の足部に障害を生じさせることがある。さらに、大腿骨は、大腰筋を介して背骨と繋がる他、腸骨筋を介して骨盤の内側とも繋がっており、足部アーチの下降状態の慢性化は、大腰筋及び腸腰筋を介して腰及び肩等にも障害を生じさせることがある。

また、人が歩行する際、骨盤は、身体の動きに合わせて回旋する。立脚期では、接地面との摩擦力によって足部が接地面に対して回転し難い状態になったまま、骨盤が回旋すると、運動連鎖によって下肢に捻じれ方向のストレスを生じさせることがある。

従来、足部の前方横アーチを整えることができるように、足裏の一部を支持する靴下がある。例えば、実用新案登録第３２１２２３０号公報には、足裏の第２中足骨骨頭部及び第３中足骨骨頭部の少なくとも一方を押圧する押圧部材を設けた靴下が開示される。

実用新案登録第３２１２２３０号公報

しかしながら、従来の靴下では、特に第２中足骨骨頭部を押圧する押圧部材があると、歩行、走行又は立位姿勢をとることによって着用者の荷重がかけられた際、押圧部材による押圧が第２中足骨の下降を抑制し、第２中足骨に繋がるリスフラン関節の可動性を低下させ、足部に負担がかかることによって足部の障害及び足部の障害に起因した身体の障害を生じさせる懸念がある。

また、靴下は、着用者の足部の第４中足骨骨頭部を適正な高さ位置に押し上げることができず、前方横アーチ、及び前方横アーチに連動する足部アーチの全体に歪みを生じさせる懸念もある。

また、靴下は、歩行や走行等の動作をする際、靴の中や床面上で位置ずれし、足部の運動性を低下させることもある。

そこで、本発明は、着用者の足部アーチを整え、足部の運動性を向上させるとともに足部が受ける衝撃やストレスを軽減させることができ、足部の障害や、足部の障害に起因する身体の障害を予防し、改善することができる、足被覆具を提供することを目的とする。

請求項１に係る発明は、着用者の第３中足骨骨頭部の略全体、第４中足骨骨頭部の略全体、第３基節骨、及び第４基節骨に対応する足裏部における支持領域に設けられ、足裏を支持する足裏支持体を有し、前記支持領域は、前記第３中足骨及び前記第４中足骨の長さ方向中央部から前記第３基節骨及び前記第４基節骨の長さ方向中央部に至る領域を含み、前記着用者の幅方向内側の足趾を収容する内側趾袋と、前記着用者の幅方向外側の足趾を収容する外側趾袋と、足趾の指の腹に対応する指の腹領域を挟むように、前記足趾の基節骨に対応する基節骨領域と、前記足趾の先端部に対応する先端領域とに設けられた滑止め部と、を有する足被覆具である。

請求項２に係る発明は、請求項１に記載の足被覆具からさらに、前記支持領域は、前記着用者の第５中足骨骨頭部及び第５基節骨に対応する領域を含むものである。

請求項３に係る発明は、請求項１又は２に記載の足被覆具からさらに、前記足裏支持体は、一定の厚みを有するものである。

請求項４に係る発明は、請求項２に記載の足被覆具からさらに、前記支持領域は、前記第３中足骨骨頭部、前記第４中足骨骨頭部、前記第３基節骨、及び前記第４基節骨に対応する第１領域と、前記第５中足骨骨頭部及び前記第５基節骨に対応する第２領域と、を有し、前記足裏支持体は、前記第２領域の厚みよりも、前記第１領域の厚みが厚く構成されるものである。

請求項５に係る発明は、請求項１に記載の足被覆具からさらに、前記内側趾袋は、前記着用者の第１趾、第２趾、第３趾、及び第４趾を収容し、前記外側趾袋は、前記着用者の第５趾を収容するものである。

請求項６に係る発明は、請求項５に記載の足被覆具からさらに、前記基節骨領域は、第２基節骨、前記第３基節骨、及び前記第４基節骨に対応する領域であり、前記先端領域は、前記第１趾乃至前記第４趾の先端部に対応する領域であるものである。

請求項７に係る発明は、請求項１に記載の足被覆具からさらに、前記滑止め部は、合成樹脂によって構成されるものである。

請求項８に係る発明は、請求項１乃至７のいずれか１項に記載の足被覆具からさらに、前記足裏支持体は、生地の肉厚によって構成されるものである。

請求項９に係る発明は、請求項１乃至７のいずれか１項に記載の足被覆具からさらに、前記足裏支持体は、Ｓｈｏｒｅ（００Ｓｃａｌｅ）硬度３０以上、かつ７０以下である粘弾性部材からなるものである。

（Ａ）内側趾袋に着用者の幅方向内側の足趾が収容され、外側趾袋に着用者の幅方向外側の足趾が収容されることによって内側趾袋に収容された足趾と外側趾袋に収容された足趾の間に内側趾袋と外側趾袋の各々の生地が挟まり、足裏支持体及び滑止め部が、より確実に、着用者の足部に対して位置決めされ、位置ずれし難い。

位置決めされた足裏支持体は、前方横アーチを支える靭帯に押上げ力を作用させ、前方横アーチ、及び前方横アーチと連動する内側縦アーチを整える。

足裏全体が接地する際、足趾が底背屈中間位になることによって基節骨が床面に対して離隔し、基節骨領域の滑止め部は、押圧解除状態になる。これにより、足裏部は、床面に対して位置ずれしやすくなり、接地の際に受ける衝撃を位置ずれによって軽減可能にされる。

基節骨領域に位置決めされた滑止め部は、立脚期後期の足部の蹴出しの際、背屈位にされた足趾の基節骨から加えられた押圧力を受け、床面を押圧する押圧状態となり、床面との摩擦力を高め、足部の運動性を向上させる。

立脚期後期において、踵の上昇が進むことによって基節骨領域の滑止め部の押圧状態が解除された後、更なる踵の上昇によって先端領域の滑止め部が押圧状態になるまでの間、滑止め部を有しない足趾の指の腹に対応した、指の腹領域が床面を押圧する。これにより、基節骨領域の滑止め部及び先端領域の滑止め部のいずれも押圧解除状態となり、足趾は、骨盤の回旋によって生じた下肢の過度な捻じれ方向のストレスを位置ずれによって軽減可能にされる。

先端領域に位置決めされた滑止め部は、立脚期終了時における足趾離地の際、足趾の先端部から受けた押圧力によって床面を押圧する押圧状態となり、床面との摩擦力を高め、足部の運動性を向上させる。

（Ｂ）足裏支持体は、足部アーチを上昇させて整える。足部アーチが整うと、距骨下関節が回内・回外中間位に位置することによってウィンドラス機構が正しく機能し、足部の障害や、足部の障害に起因する身体の障害は、予防され、改善される。

また、足裏支持体は、前方横アーチの下降を妨げることなく、リスフラン関節の可動性を良好に維持する。足裏支持体は、リスフラン関節に繋がる第１中足骨及び母趾球の下降も妨げることなく、ウィンドラス機構を正しく機能させる。

着用者は、立位姿勢やしゃがみ姿勢にあるとき、足部の幅方向外側に位置する小趾球から効率よく床反力を得ることによって左右のバランスを取りやすく、姿勢を安定させることができる。

（Ｃ）足裏支持体は、母趾球よりも小趾球を高い位置に支持する。したがって、小趾球は、足裏支持体を介し、足圧力に応じた床反力を効率よく得ることができる。これにより、着用者は、小趾球側から母趾球側への重心移動がスムーズになり、歩行や走行等の動作が容易になる。

（Ｄ）足裏支持体は、第５中足骨骨頭部よりも高い位置に、第４中足骨骨頭部を支持する。さらに、周辺組織を介し、第４中足骨骨頭部が第３中足骨骨頭部を押し上げ、第３中足骨骨頭部が第２中足骨骨頭部を押し上げ、第５中足骨骨頭部乃至第２中足骨骨頭部の各々が順次高い位置に配置されるように、足部の前方横アーチは整えられる。

足裏支持体は、前方横アーチを整えることにより、中足骨を介して後側に連なる中間横アーチを整え、中間横アーチが整えられることによって中間アーチの後側に連なる後方横アーチも整え、足部アーチの全体を整えることができる。

足部アーチが整うと、距骨下関節が回内・回外中間位に位置することによってウィンドラス機構が正しく機能するようになり、足部の障害や、足部の障害に起因する身体の障害は、予防され、改善される。

（Ｅ）足裏支持体は、第５趾よりも高い位置に配置された第４趾によって第５趾の浮き上がりを抑え、第５趾及び小趾球が受ける床反力をより強くすることができる。これにより、足裏支持体は、遊脚期に爪先が外側を向くトゥーアウトを抑制し、踵接地から連続する煽り運動を正しく行えるようにし、歩行動作を安定させることができる。

（Ｆ）足被覆具は、第１趾乃至第４趾を収容する内側趾袋と、第５趾を収容する外側趾袋を分けることによって、第５趾に対して第１趾乃至第４趾を動きやすくする。着用者は、遊脚後期から踵接地をする際に、正しく第１趾を背屈させることができ、歩行動作を安定させることができる。

（Ｇ）第１趾乃至第４趾を収容する内側趾袋は、隣り合う第１趾乃至第４趾の各々を互いに密着させ、足部の把持力を向上させる。したがって、着用者は、安定して立位姿勢をとることができる。

また、着用者は、歩行や走行等の動作における接地の際に、隣り合う第１趾乃至第４趾の各々を互いに密着させて足裏を硬くすることによって衝撃に対する高い耐性を得ることができる。

（Ｈ）滑止め部は、第２基節骨乃至第４基節骨に対応する基節骨領域と、第１趾乃至第４趾の先端部に対応する先端領域とに設けられる。滑止め部は、より確実に、足部の運動性を向上させる。

（Ｉ）滑止め部は、合成樹脂によって構成され、床面との摩擦力を高め、足部の運動性を向上させる。

（Ｊ）足被覆具は、足被覆具本体を構成する生地の肉厚を部分的に変えることにより、足被覆具本体と足裏支持体を一体的に構成することができ、製造にかかる金銭的及び時間的コストを減少させることができる。

（Ｋ）足裏支持体は、粘弾性部材からなり、保形成に優れ、かつ衝撃力の吸収性に優れる。また、足裏支持体は、着用者の方向転換動作等の足部を捻じる動作によって生じたせん断力や回転力の吸収性も優れる。また、足裏支持体は、履物内底において長時間足圧力を受けても圧縮残留歪（ヘタリ）が少なく、耐久性に優れる。

本発明によれば、着用者の足部アーチを整え、足部の運動性を向上させるとともに足部が受ける衝撃やストレスを軽減させることができ、足部の障害や、足部の障害に起因する身体の障害を予防し、改善することができる足被覆具を提供することができる。

第１実施形態に係る、足被覆具の構成の一例を示す底面図である。 足被覆具を着用した足部の状態を説明するための前方説明図であり、（Ａ）が従来の足被覆具を示し、（Ｂ）が第１実施形態の足被覆具を示す。 しゃがみ姿勢下における足被覆具を着用した足部を説明するための後方説明図であり、（Ａ）が従来の足被覆具を示し、（Ｂ）が第１実施形態の足被覆具を示す。 足部のウィンドラス機構を説明するための側面図であり、（Ａ）が足裏全体を床面に接地させた状態の足骨及び足底腱膜を示し、（Ｂ）が踵を上げた状態の足骨及び足底腱膜を示す。 第１実施形態に係る、足被覆具の前足部の側面図であり、（Ａ）が基節骨領域の滑止め部の押圧解除状態を示し、（Ｂ）が基節骨領域の滑止め部の押圧状態を示す。 第１実施形態に係る、足被覆具の前足部の側面図であり、（Ａ）が指の腹領域の押圧状態を示し、（Ｂ）が先端領域の滑止め部の押圧状態を示す。 第２実施形態に係る、足被覆具の構成の一例を示す底面図である。 第２実施形態に係る、足被覆具を着用した足部の状態を説明するための前方説明図である。 第３実施形態に係る、足被覆具の構成の一例を示す底面図である。 第４実施形態に係る、足被覆具の構成の一例を示す底面図である。 第５実施形態に係る、履物の構成の一例を示す側面図である。

（第１実施形態）
以下、図面を参照しながら、第１実施形態の構成を説明する。

図１は、足被覆具１の構成の一例を示す底面図である。図１は、右足用の足被覆具１を底面視したものであり、左足用のものは、足被覆具１とは左右対称に構成される。

足被覆具１は、例えば、靴下である。足被覆具１は、足被覆具本体１０、内側趾袋２０、外側趾袋３０、足裏支持体４０、及び滑止め部５０を有する。

足被覆具本体１０は、例えば、ウールやカシミヤ等の動物繊維、綿や麻等の植物繊維、ポリエステルやアクリル、ナイロン等の合成繊維、又はこれらをすべて若しくは一部を組み合わせた生地によって構成される。足被覆具本体１０は、着用者の足首に対応した位置に開口を有する足首部１１と、着用者の踵を覆う踵部１２と、着用者の足背を覆う足背部１３と、着用者の足裏に敷設される足裏部１４とを有する。

内側趾袋２０は、足被覆具１の前部の幅方向内側に設けられ、着用者の幅方向内側の足趾を収容する。より具体的には、内側趾袋２０は、着用者の第１趾Ｔ１、第２趾Ｔ２、第３趾Ｔ３、及び第４趾Ｔ４を収容する。

外側趾袋３０は、足被覆具１の前部の幅方向外側に設けられ、着用者の幅方向外側の足趾を収容する。より具体的には、外側趾袋３０は、着用者の第５趾Ｔ５を収容する。

第１趾Ｔ１乃至第４趾Ｔ４が内側趾袋２０に収容され、第５趾Ｔ５が外側趾袋３０に収容されると、内側趾袋２０に収容された第４趾Ｔ４と、外側趾袋３０に収容された第５趾Ｔ５の間に、内側趾袋２０と外側趾袋３０の各々の生地が挟まり、足裏支持体４０及び滑止め部５０は、着用者の足部に対して位置決めされる。

足裏支持体４０は、足裏部１４における支持領域Ａｓに設けられ、足被覆具本体１０の生地を肉厚にすることによって一定の厚みを有するように構成され、足裏を支持する。支持領域Ａｓは、着用者の第３中足骨骨頭部Ｍｈ３、第４中足骨骨頭部Ｍｈ４、第５中足骨骨頭部Ｍｈ５、第３基節骨Ｐ３、第４基節骨Ｐ４、及び第５基節骨Ｐ５に対応する領域である。図１では、支持領域Ａｓは、第３中足骨Ｍ３乃至第５中足骨Ｍ５の長さ方向中央部から第３基節骨Ｐ３乃至第５基節骨Ｐ５の長さ方向中央部に至る領域を含む。

図１では、足裏支持体４０は、略平行四辺形状であるが、これに限定されず、他の形状であってもよい。

足裏支持体４０は、足被覆具本体１０の生地の厚みに所定厚みＫを加えた厚みを有する（図２（Ｂ））。次の数式（１）の例に示すとおり、所定厚みＫは、第５中足骨骨頭部Ｍｈ５から第２中足骨骨頭部Ｍｈ２へ向けて各々の中足骨骨頭部Ｍｈの高さ位置が順次高くなるように、標準的な第２中足骨骨頭部Ｍｈ２と第５中足骨骨頭部Ｍｈ５の高さの差の１／１０以上、かつ１／２以下の範囲で定められる。数式（１）において、Ｈｍｈ２が第２中足骨骨頭部Ｍｈ２の高さ位置であり、Ｈｍｈ５が第５中足骨骨頭部Ｍｈ５の高さ位置である。

（Ｈｍｈ２－Ｈｍｈ５）×１／１０≦Ｋ≦（Ｈｍｈ２－Ｈｍｈ５）／２ ・・・ （１）

数式（１）に定める他、例えば、所定厚みＫは、０．５ｍｍ以上、かつ３．０ｍｍ以下の範囲で定めてもよい。より好ましくは、所定厚みＫは、０．５ｍｍ以上、かつ１．０ｍｍ以下の範囲で定めてもよい。また、所定厚みＫは、これらの例に限定されることなく、着用者の足部に合わせ、足部アーチＲが整うように、経験的又は実験的に調整してもよい。

滑止め部５０は、足被覆具本体１０に付着された複数の円形状のゴム部材からなる。滑止め部５０は、滑止め部５１、５２を有する。実施形態では、滑止め部５０は、滑止め部５１、５２のいずれか一方又は両方をいう。

滑止め部５１は、足趾の基節骨Ｐに対応する基節骨領域Ａｐに設けられる。基節骨領域Ａｐは、第１基節骨Ｐ１乃至第５基節骨Ｐ５の一部又はすべてを含むものとしてもよいが、より好ましくは、第２基節骨Ｐ２、第３基節骨Ｐ３、及び第４基節骨Ｐ４に対応する領域である（図１）。

滑止め部５２は、基節骨領域Ａｐとの間に、足趾の指の腹に対応する指の腹領域Ａｆを挟むように、足趾の先端部に対応する先端領域Ａｔに設けられる。先端領域Ａｔは、第１趾Ｔ１乃至第５趾Ｔ５の先端部の一部又はすべてを含むものとしてもよいが、より好ましくは、第１趾Ｔ１乃至第４趾Ｔ４の先端部に対応する領域である（図１）。

図２は、足被覆具１を着用した足部の状態を説明するための前方説明図である。

図２（Ａ）は、従来の足被覆具Ｘを着用し、横アーチが下降して距骨下関節Ｊｓが過回内になった着用者の足部を示す。

図２（Ｂ）は、足被覆具１を着用した足部を示す。図２（Ｂ）に示すように、足部に足被覆具１を装着すると、足裏支持体４０によって第５中足骨骨頭部Ｍｈ５及び第４中足骨骨頭部Ｍｈ４が高い位置に支持され、周辺組織を介して第４中足骨骨頭部Ｍｈ４が第３中足骨骨頭部Ｍｈ３を押し上げ、第３中足骨骨頭部Ｍｈ３が及び第１中足骨骨頭部Ｍｈ１が第２中足骨骨頭部Ｍｈ２を押し上げ、第２中足骨骨頭部Ｍｈ２を頂上とした前方横アーチＲｈ１が整えられる。

図３は、しゃがみ姿勢下における足被覆具１を着用した足部を説明するための後方説明図である。

図３（Ａ）は、従来の足被覆具Ｘを着用した足部を示す。従来の足被覆具Ｘを着用し、爪先立ちでしゃがみ姿勢をとった場合、下腿の外旋とともに距骨下関節Ｊｓが回外する。足部は、踵が外方を向き、冠状面上において、鉛直軸Ｌｖから、踵の中心と第２趾Ｔ２を結ぶ中心軸Ｌｃが、傾斜角度Ｃ１だけ傾斜する。

図３（Ｂ）は、足被覆具１を着用した足部を示す。足被覆具１を着用し、爪先立ちでしゃがみ姿勢をとった場合、足裏支持体４０が第３中足骨骨頭部Ｍｈ３、第４中足骨骨頭部Ｍｈ４及び第５中足骨骨頭部Ｍｈ５の高さ位置を上げることによって距骨下関節Ｊｓの回内を促し、下腿を内旋させて内側に締め、足部は、冠状面上において、中心軸Ｌｃが、鉛直軸Ｌｖから傾斜角度Ｃ２だけ外側に傾斜する。従来の足被覆具Ｘを着用した場合の傾斜角度Ｃ１と比べ、足被覆具１を着用した場合の傾斜角度Ｃ２の方が小さい。着用者の膝関節及び足首関節は、捻じれが少なく、負担が少ない。また、着用者は、足部の左右外側に位置する小趾球Ｅｈから効率よく床反力を得ることによって左右のバランスをとりやすい。また、矢状面上において、足部は、従来の足被覆具Ｘを着用した場合の踵の浮き度合に比べ、足被覆具１を着用した場合の踵の浮き度合いの方が小さく、着用者は、距骨下関節Ｊｓの背屈度合いが小さく、前後のバランスがとりやすくなる。

図４は、足部のウィンドラス機構を説明するための側面図であり、（Ａ）が足裏全体を床面に接地させた状態の足骨及び足底腱膜Ｐａを示し、（Ｂ）が踵を上げた状態の足骨及び足底腱膜Ｐａを示す。図５は、足被覆具１の前足部の側面図であり、（Ａ）が基節骨領域Ａｐの滑止め部５１の押圧解除状態を示し、（Ｂ）が基節骨領域Ａｐの滑止め部５１の押圧状態を示す。図６は、足被覆具１の前足部の側面図であり、（Ａ）が指の腹領域Ａｆの押圧状態を示し、（Ｂ）が先端領域Ａｔの滑止め部５２の押圧状態を示す。図５及び図６には、一例として、第３趾Ｔ３に対応する基節骨領域Ａｐが示される。

図４（Ａ）に示すように、足裏全体が接地すると、足部は、接地の衝撃を緩和させることができるように、足部アーチＲを下降させる。足趾は、足底腱膜Ｐａに牽引され、底背屈中立位になる。図５（Ａ）に示すように、足趾の底背屈中立位によって基節骨Ｐが床面に対して離隔した位置に配置されると、滑止め部５１は、押圧状態が解除された押圧解除状態になる。押圧解除状態になると、滑止め部５１は、床面に対して位置ずれしやすく、足部が受ける衝撃やストレスを位置ずれによって軽減可能である。

押圧状態は、足被覆具１が直接床面を押圧した状態を含む他、靴やインソールを介して床面を押圧した状態も含む。

押圧解除状態は、床面を押圧していない状態、及び床面に接していても床面に押圧力が有効に作用していない状態も含む。

図４（Ｂ）に示すように、立脚期後半の推進期において、踵が上昇すると、足部は、推進力を高めるため、中足趾節関節の背屈によって足底腱膜Ｐａを牽引し、足部アーチＲを上昇させる。中足趾節関節が背屈すると、中足趾節関節を介して基節骨Ｐに荷重がかかり、基節骨Ｐは、下方へ押圧力を加える。図５（Ｂ）に示すように、基節骨Ｐ（図５（Ｂ）の例では第３基節骨Ｐ３）の押圧力を受けると、滑止め部５１は、床面を押圧する押圧状態にされ、床面に対して位置ずれし難くなり、床面に対するグリップ力を強める。

さらに踵が上昇すると、図６（Ａ）に示すように、滑止め部５１が床面から離隔し、指の腹領域Ａｆが、床面を押圧する。指の腹領域Ａｆは、足被覆具本体１０の生地で構成されており、滑止め部５０よりも床面に対して位置ずれしやすく、骨盤の回旋が下肢に運動連鎖して生じさせた過度な下肢の捻じれ方向のストレスを位置ずれによって軽減可能である。

立脚期終了時における足趾離地の際、図６（Ｂ）に示すように、滑止め部５２は、足趾の先端部から受けた押圧力によって床面を押圧する押圧状態となり、床面に対するグリップ力を強める。

（第２実施形態）
図７は、第２実施形態に係る、足被覆具１ａの構成の一例を示す底面図である。本実施形態の説明では、他の実施形態と同じ構成については、説明を省略する。他の実施形態でも同様に、それ以外の実施形態と同様の構成については、説明を省略する。

第１実施形態では、足裏支持体４０が一定の厚みを有するが、足被覆具１ａの足裏支持体４１は、第５趾Ｔ５の領域よりも、第３趾Ｔ３及び第４趾Ｔ４の領域の厚みを厚くしてもよい。

足被覆具１ａの支持領域Ａｓは、第１領域Ａ１及び第２領域Ａ２を有する。第１領域Ａ１は、第３中足骨骨頭部Ｍｈ３、第４中足骨骨頭部Ｍｈ４、第３基節骨Ｐ３、及び第４基節骨Ｐ４に対応する領域である。第２領域Ａ２は、第５中足骨骨頭部Ｍｈ５及び第５基節骨Ｐ５に対応する領域である。第１領域Ａ１の厚みは、第２領域Ａ２の厚みよりも厚く構成される。

図８は、足被覆具１ａを着用した足部の状態を説明するための前方説明図である。

図８に示すように、足被覆具１ａは、第２領域Ａ２の厚みよりも、第１領域Ａ１の厚みが厚く構成され、第５中足骨骨頭部Ｍｈ５よりも高い位置に、第４中足骨骨頭部Ｍｈ４を支持する。

（第３実施形態）
図９は、第３実施形態に係る、足被覆具１ｂの構成の一例を示す底面図である。

第１実施形態及び第２実施形態では、足裏支持体４０、４１は、生地の肉厚によって構成したが、これに限定されない。足被覆具１ｂの足裏支持体４２は、例えば、足被覆具本体１０の内側又は外側に設けられた板状部材であってもよい。

足裏支持体４２は、粘弾性を有する樹脂を材質として構成される。足裏支持体４２は、例えば、Ｓｈｏｒｅ（００Ｓｃａｌｅ）硬度２０以上、かつ８０以下とし、常温（２０℃）、４０Ｈｚにおける粘弾性部の損失係数（ｔａｎδ）を略０．３以上、かつ１．２以下とする樹脂が好ましい。より好ましくは、足裏支持体４２は、Ｓｈｏｒｅ（００Ｓｃａｌｅ）硬度３０以上、かつ７０以下とし、常温（２０℃）、４０Ｈｚにおける粘弾性部の損失係数（ｔａｎδ）を略０．５以上、かつ１．０以下とし、保形成に優れ、衝撃力、せん断力、及び回転力の吸収性に優れる樹脂が好ましい。これらの基準に適する樹脂として、足裏支持体４２には、例えば、ソルボセイン（登録商標）を用いることができる。ソルボセインは、ＥＶＡ及びＰＵよりも、着用者の方向転換動作等の足部を捻じる動作によって生じたせん断力や回転力の吸収性に優れる。また、ソルボセインは、履物内底において長時間足圧力を受けた場合、ＥＶＡやＰＵよりも、圧縮残留歪（ヘタリ）が少なく、耐久性にも優れる。

（第４実施形態）
図１０は、第４実施形態に係る、足被覆具１ｃの構成の一例を示す底面図である。

第１実施形態、第２実施形態、及び第３実施形態では、第３中足骨骨頭部Ｍｈ３、第４中足骨骨頭部Ｍｈ４、第５中足骨骨頭部Ｍｈ５、第３基節骨Ｐ３、第４基節骨Ｐ４、及び第５基節骨Ｐ５に対応する領域を支持領域Ａｓとしているが、支持領域Ａｓは、第５中足骨骨頭部Ｍｈ５及び第５基節骨Ｐ５に対応する領域を含まなくてもよい。

図１０に示すように、足被覆具１ｃの足裏支持体４３は、円形状を有し、着用者の第３中足骨骨頭部Ｍｈ３、第４中足骨骨頭部Ｍｈ４、第３基節骨Ｐ３、及び第４基節骨Ｐ４に対応する足裏部１４における支持領域Ａｓに設けられ、足裏を支持する。

（第５実施形態）
図１１は、第５実施形態に係る、履物２の構成の一例を示す側面図である。

第１実施形態、第２実施形態、第３実施形態、及び第４実施形態では、内側趾袋２０、外側趾袋３０、足裏支持体４０、４１、４２、４３及び滑止め部５０の各々が、靴下１、１ａ、１ｂ、１ｃに設けられる例を説明したが、これに限定されず、内側趾袋２０ａ、外側趾袋３０ａ、足裏支持体４０ａ、及び滑止め部５０ａは、履物２に設けられてもよい。

履物２は、内側趾袋２０ａ、外側趾袋３０ａ、足裏支持体４０ａ、及び滑止め部５０ａを有する。内側趾袋２０ａは、着用者の第１趾Ｔ１、第２趾Ｔ２、第３趾Ｔ３、及び第４趾Ｔ４を収容する。外側趾袋３０ａは、着用者の第５趾Ｔ５を収容する。足裏支持体４０ａは、着用者の第３中足骨骨頭部Ｍｈ３、第４中足骨骨頭部Ｍｈ４、第５中足骨骨頭部Ｍｈ５、第３基節骨Ｐ３、第４基節骨Ｐ４、及び第５基節骨Ｐ５に対応する足裏部１４における支持領域Ａｓａに設けられ、足裏を支持する。足裏支持体４０ａは、Ｓｈｏｒｅ（００Ｓｃａｌｅ）硬度３０以上、かつ７０以下である粘弾性部材から構成される。滑止め部５０ａは、足趾の指の腹に対応する指の腹領域Ａｆａを挟むように、足趾の基節骨Ｐに対応する基節骨領域Ａｓａに設けられた滑止め部５１ａと、足趾の先端部に対応する先端領域Ａｔａとに設けられた滑止め部５２ａを有する。

（作用効果）
実施形態によれば、以下の作用効果を奏する。以下、内側趾袋２０というとき内側趾袋２０、２０ａの一部又はすべてをいい、外側趾袋３０というとき外側趾袋３０、３０ａの一部又はすべてをいい、足裏支持体４０というとき足裏支持体４０、４０ａ、４１、４２、４３の一部又はすべてをいい、滑止め部５０というとき滑止め部５０、５０ａの一部又はすべてをいい、滑止め部５１というとき滑止め部５１、５１ａの一部又はすべてをいい、滑止め部５２というとき滑止め部５２、５２ａの一部又はすべてをいい、支持領域Ａｓというとき支持領域Ａｓ、Ａｓａの一部又はすべてをいい、基節骨領域Ａｐというとき基節骨領域Ａｐ、Ａｐａの一部又はすべてをいい、指の腹領域Ａｆａというとき指の腹領域Ａｆ、Ａｆａの一部又はすべてをいう。

（ａ）内側趾袋２０に着用者の幅方向内側の足趾が収容され、外側趾袋３０に着用者の幅方向外側の足趾が収容されることによって内側趾袋２０に収容された足趾と外側趾袋３０に収容された足趾の間に内側趾袋２０と外側趾袋３０の各々の生地が挟まり、足裏支持体４０及び滑止め部５０が、より確実に、着用者の足部に対して位置決めされ、位置ずれし難い。

位置決めされた足裏支持体４０は、前方横アーチＲｈ１を支える靭帯に押上げ力を作用させ、前方横アーチＲｈ１、及び前方横アーチＲｈ１と連動する内側縦アーチＲｖを整える。

足裏全体が接地する際、足趾が底背屈中間位になることによって基節骨Ｐが床面に対して離隔し、基節骨領域Ａｐの滑止め部５０は、押圧解除状態になる。これにより、足裏部１４は、床面に対して位置ずれしやすくなり、接地の際に受ける衝撃を位置ずれによって軽減可能にされる。

基節骨領域Ａｐに位置決めされた滑止め部５０は、立脚期後期の足部の蹴出しの際、背屈位にされた足趾の基節骨Ｐから加えられた押圧力を受け、床面を押圧する押圧状態となり、床面との摩擦力を高め、足部の運動性を向上させる。

立脚期後期において、踵の上昇が進むことによって基節骨領域Ａｐの滑止め部５０の押圧状態が解除された後、更なる踵の上昇によって先端領域Ａｔの滑止め部５０が押圧状態になるまでの間、滑止め部５０を有しない足趾の指の腹に対応した、指の腹領域Ａｆが床面を押圧する。これにより、基節骨領域Ａｐの滑止め部５０及び先端領域Ａｔの滑止め部５０のいずれも押圧解除状態となり、足趾は、骨盤の回旋によって生じた下肢の過度な捻じれ方向のストレスを位置ずれによって軽減可能にされる。

先端領域Ａｔに位置決めされた滑止め部５０は、立脚期終了時における足趾離地の際、足趾の先端部から受けた押圧力によって床面を押圧する押圧状態となり、床面との摩擦力を高め、足部の運動性を向上させる。

（ｂ）足裏支持体４０は、足部アーチＲを上昇させて整える。足部アーチＲが整うと、距骨下関節Ｊｓが回内・回外中間位に位置することによってウィンドラス機構が正しく機能し、足部の障害や、足部の障害に起因する身体の障害は、予防され、改善される。

また、足裏支持体４０は、前方横アーチＲｈ１の下降を妨げることなく、リスフラン関節の可動性を良好に維持する。足裏支持体４０は、リスフラン関節に繋がる第１中足骨Ｍ１及び母趾球Ｅｔの下降も妨げることなく、ウィンドラス機構を正しく機能させる。

着用者は、立位姿勢やしゃがみ姿勢にあるとき、足部の幅方向外側に位置する小趾球Ｅｈから効率よく床反力を得ることによって左右のバランスを取りやすく、姿勢を安定させることができる。

（ｃ）足裏支持体４０は、母趾球Ｅｔよりも小趾球Ｅｈを高い位置に支持する。したがって、小趾球Ｅｈは、足裏支持体４０を介し、足圧力に応じた床反力を効率よく得ることができる。これにより、着用者は、小趾球Ｅｈ側から母趾球Ｅｔ側への重心移動がスムーズになり、歩行や走行等の動作が容易になる。

（ｄ）足裏支持体４０は、第５中足骨骨頭部Ｍｈ５よりも高い位置に、第４中足骨骨頭部Ｍｈ４を支持する。さらに、周辺組織を介し、第４中足骨骨頭部Ｍｈ４が第３中足骨骨頭部Ｍｈ３を押し上げ、第３中足骨骨頭部Ｍｈ３が第２中足骨骨頭部Ｍｈ２を押し上げ、第５中足骨骨頭部Ｍｈ５乃至第２中足骨骨頭部Ｍｈ２の各々が順次高い位置に配置されるように、足部の前方横アーチＲｈ１は整えられる。

足裏支持体４０は、前方横アーチＲｈ１を整えることにより、中足骨を介して後側に連なる中間横アーチＲｈ２を整え、中間横アーチＲｈ２が整えられることによって中間アーチの後側に連なる後方横アーチＲｈ３も整え、足部アーチＲの全体を整えることができる。

足部アーチＲが整うと、距骨下関節Ｊｓが回内・回外中間位に位置することによってウィンドラス機構が正しく機能するようになり、足部の障害や、足部の障害に起因する身体の障害は、予防され、改善される。

（ｅ）足裏支持体４０は、第５趾Ｔ５よりも高い位置に配置された第４趾Ｔ４によって第５趾Ｔ５の浮き上がりを抑え、第５趾Ｔ５及び小趾球Ｅｈが受ける床反力をより強くすることができる。これにより、足裏支持体４１は、遊脚期に爪先が外側を向くトゥーアウトを抑制し、踵接地から連続する煽り運動を正しく行えるようにし、歩行動作を安定させることができる。

（ｆ）足被覆具１は、第１趾Ｔ１乃至第４趾Ｔ４を収容する内側趾袋２０と、第５趾Ｔ５を収容する外側趾袋３０を分けることによって、第５趾Ｔ５に対して第１趾Ｔ１乃至第４趾Ｔ４を動きやすくする。着用者は、遊脚後期から踵接地をする際に、正しく第１趾Ｔ１を背屈させることができ、歩行動作を安定させることができる。

（ｇ）第１趾Ｔ１乃至第４趾Ｔ４を収容する内側趾袋２０は、隣り合う第１趾Ｔ１乃至第４趾Ｔ４の各々を互いに密着させ、足部の把持力を向上させる。したがって、着用者は、安定して立位姿勢をとることができる。

また、着用者は、歩行や走行等の動作における接地の際に、隣り合う第１趾Ｔ１乃至第４趾Ｔ４の各々を互いに密着させて足裏を硬くすることによって衝撃に対する高い耐性を得ることができる。

（ｈ）滑止め部５０は、第２基節骨Ｐ２乃至第４基節骨Ｐ４に対応する基節骨領域Ａｐと、第１趾Ｔ１乃至第４趾Ｔ４の先端部に対応する先端領域Ａｔとに設けられる。滑止め部５０は、より確実に、足部の運動性を向上させる。

（ｉ）滑止め部５０は、合成樹脂によって構成され、床面との摩擦力を高め、足部の運動性を向上させる。

（ｊ）足被覆具１は、足被覆具本体１０を構成する生地の肉厚を部分的に変えることにより、足被覆具本体１０と足裏支持体４０、４１、４２、４３を一体的に構成することができ、製造にかかる金銭的及び時間的コストを減少させることができる。

（ｋ）足裏支持体４０は、粘弾性部材からなり、保形成に優れ、かつ衝撃力の吸収性に優れる。また、足裏支持体４０は、着用者の方向転換動作等の足部を捻じる動作によって生じたせん断力や回転力の吸収性も優れる。また、足裏支持体４０は、履物内底において長時間足圧力を受けても圧縮残留歪（ヘタリ）が少なく、耐久性に優れる。

実施形態によれば、足被覆具１、１ａ、１ｂ、１ｃ、足裏支持体４０及び履物２は、着用者の足部アーチＲを整え、足部の運動性を向上させるとともに足部が受ける衝撃やストレスを軽減させることができ、足部の障害や、足部の障害に起因する身体の障害を予防し、改善することができる。

すなわち、 足被覆具１、１ａ、１ｂ、１ｃは、着用者の幅方向内側の足趾を収容する内側趾袋２０と、着用者の幅方向外側の足趾を収容する外側趾袋３０と、着用者の第３中足骨骨頭部Ｍｈ３、第４中足骨骨頭部Ｍｈ４、第３基節骨Ｐ３、及び第４基節骨Ｐ４に対応する足裏部１４における支持領域Ａｓａに設けられ、足裏を支持する、足裏支持体４０と、足趾の指の腹に対応する指の腹領域Ａｆを挟むように、足趾の基節骨Ｐに対応する基節骨領域Ａｐと、足趾の先端部に対応する先端領域とに設けられた滑止め部５０と、を有する。

また、支持領域Ａｓは、着用者の第５中足骨骨頭部Ｍｈ５及び第５基節骨Ｐ５に対応する領域を含んでもよい。

また、足裏支持体４０は、一定の厚みを有する。

また、支持領域Ａｓは、第３中足骨骨頭部Ｍｈ３、第４中足骨骨頭部Ｍｈ４、第３基節骨Ｐ３、及び第４基節骨Ｐ４に対応する第１領域Ａ１と、第５中足骨骨頭部Ｍｈ５及び第５基節骨Ｐ５に対応する第２領域Ａ２と、を有し、足裏支持体４１は、第２領域Ａ２の厚みよりも、第１領域Ａ１の厚みが厚く構成されてもよい。

内側趾袋２０は、着用者の第１趾Ｔ１、第２趾Ｔ２、第３趾Ｔ３、及び第４趾Ｔ４を収容し、外側趾袋３０は、着用者の第５趾Ｔ５を収容する。

また、基節骨領域Ａｐは、第２基節骨Ｐ２、第３基節骨Ｐ３、及び第４基節骨Ｐ４に対応する領域であり、先端領域Ａｔは、第１趾Ｔ１乃至第４趾Ｔ４の先端部に対応する領域である。

また、滑止め部５０は、合成樹脂によって構成される。

足裏支持体４０、４１、４３は、生地の肉厚によって構成される。

足裏支持体４０は、Ｓｈｏｒｅ（００Ｓｃａｌｅ）硬度３０以上、かつ７０以下である粘弾性部材から構成してもよい。

また、足裏支持体４０は、着用者の第３中足骨骨頭部Ｍｈ３、第４中足骨骨頭部Ｍｈ４、第３基節骨Ｐ３、及び第４基節骨Ｐ４に対応する足裏部１４における支持領域Ａｓに設けられ、足裏を支持する。

また、履物２は、着用者の第３中足骨骨頭部Ｍｈ３、第４中足骨骨頭部Ｍｈ４、第３基節骨Ｐ３、及び第４基節骨Ｐ４に対応する足裏部１４における支持領域Ａｓａに設けられ、足裏を支持する、足裏支持体４０ａを有する。

以上、本発明の実施例を図面により詳述したが、本発明の具体的な構成はこの実施例に限られるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲の設計の変更等があっても本発明に含まれる。

例えば、実施形態では、足被覆具１、１ａ、１ｂ、１ｃが靴下である一例を説明したが、これに限られない。足被覆具１、１ａ、１ｂ、１ｃは、例えば、フットカバー、ソックスカバー、インナーソックス、ヌードソックス、カバーソックス、ストッキング、タイツ、スパッツ、レギンス、トレンカ、ハイソックス、又はサポーターであってもよい。

また、実施形態では、滑止め部５０が複数の小球状のゴム部材からなる例を説明したが、これに限定されない。滑止め部５０は、ゴム以外にも、アクリル系樹脂、ポリエステル、シリコン、ポリウレタン、ＰＶＣ、塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニル、エラストマー等の合成樹脂によって構成してもよい。また、滑止め部５０は、基節骨領域Ａｐと先端領域Ａｔの各々に延在する板状であってもよいし、複数の略平行直線状等のパターンであってもよい。

また、実施形態では、内側趾袋２０、２０ａに着用者の第１趾Ｔ１乃至第４趾Ｔ４が収容され、外側趾袋３０、３０ａに着用者の第５趾Ｔ５が収容される例を説明したが、これに限定されない。例えば、内側趾袋２０、２０ａに第１趾Ｔ１乃至第３趾Ｔ３が収容され、外側趾袋３０、３０ａに第４趾Ｔ４及び第５趾Ｔ５が収容されてもよい。また、例えば、５本指の各々を収容する５つの趾袋が設けられ、このうち内側趾袋２０、２０ａが幅方向内側の第４趾Ｔ４を収容し、外側趾袋３０、３０ａが幅方向外側の第５趾Ｔ５を収容してもよい。

本発明によれば、着用者の足部アーチを整え、足部の運動性を向上させるとともに足部が受ける衝撃やストレスを軽減させることができ、足部の障害や、足部の障害に起因する身体の障害を予防し、改善することができる、足被覆具を提供することができる。

１・・・足被覆具
１ａ・・・足被覆具
１ｂ・・・足被覆具
１０・・・足被覆具本体
１１・・・足首部
１２・・・踵部
１３・・・足背部
１４・・・足裏部
２０、２１・・・内側趾袋
３０、３１・・・外側趾袋
４０、４１、４２、４３・・・足裏支持体
５０、５１、５２、５０ａ、５１ａ、５２ａ・・・滑止め部
Ａ１・・・第１領域
Ａ２・・・第２領域
Ａｆ、Ａｆａ・・・指の腹領域
Ａｐ、Ａｐａ・・・基節骨領域
Ａｓ、Ａｓａ・・・支持領域
Ａｔ、Ａｔａ・・・先端領域
Ｃ１・・・傾斜角度
Ｃ２・・・傾斜角度
Ｅｈ・・・小趾球
Ｅｔ・・・母趾球
Ｋ・・・所定厚み
Ｊｓ・・・距骨下関節
Ｌｃ・・・中心軸
Ｌｖ・・・鉛直軸
Ｍ１・・・第１中足骨
Ｍ３・・・第３中足骨
Ｍ５・・・第５中足骨
Ｍｈ・・・中足骨骨頭部
Ｍｈ１・・・第１中足骨骨頭部
Ｍｈ２・・・第２中足骨骨頭部
Ｍｈ３・・・第３中足骨骨頭部
Ｍｈ４・・・第４中足骨骨頭部
Ｍｈ５・・・第５中足骨骨頭部
Ｐ・・・基節骨
Ｐ１・・・第１基節骨
Ｐ２・・・第２基節骨
Ｐ３・・・第３基節骨
Ｐ４・・・第４基節骨
Ｐ５・・・第５基節骨
Ｐａ・・・足底腱膜
Ｒ・・・足部アーチ
Ｒｈ１・・・前方横アーチ
Ｒｈ２・・・中間横アーチ
Ｒｈ３・・・後方横アーチ
Ｒｖ・・・内側縦アーチ
Ｔ１・・・第１趾
Ｔ２・・・第２趾
Ｔ３・・・第３趾
Ｔ４・・・第４趾
Ｔ５・・・第５趾
Ｘ・・・従来の足被覆具

Claims (9)

1. 着用者の第３中足骨骨頭部の略全体、第４中足骨骨頭部の略全体、第３基節骨、及び第４基節骨に対応する足裏部における支持領域に設けられ、足裏を支持する足裏支持体を有し、
   前記支持領域は、前記第３中足骨及び前記第４中足骨の長さ方向中央部から前記第３基節骨及び前記第４基節骨の長さ方向中央部に至る領域を含み、
   前記着用者の幅方向内側の足趾を収容する内側趾袋と、
   前記着用者の幅方向外側の足趾を収容する外側趾袋と、
   足趾の指の腹に対応する指の腹領域を挟むように、前記足趾の基節骨に対応する基節骨領域と、前記足趾の先端部に対応する先端領域とに設けられた滑止め部と、
   を有する足被覆具。
2. 前記支持領域は、前記着用者の第５中足骨骨頭部及び第５基節骨に対応する領域を含む、請求項１に記載の足被覆具。
3. 前記足裏支持体は、一定の厚みを有する、請求項１又は２に記載の足被覆具。
4. 前記支持領域は、
   前記第３中足骨骨頭部、前記第４中足骨骨頭部、前記第３基節骨、及び前記第４基節骨に対応する第１領域と、
   前記第５中足骨骨頭部及び前記第５基節骨に対応する第２領域と、
   を有し、
   前記足裏支持体は、前記第２領域の厚みよりも、前記第１領域の厚みが厚く構成される、
   請求項２に記載の足被覆具。
5. 前記内側趾袋は、前記着用者の第１趾、第２趾、第３趾、及び第４趾を収容し、
   前記外側趾袋は、前記着用者の第５趾を収容する、
   請求項１に記載の足被覆具。
6. 前記基節骨領域は、第２基節骨、前記第３基節骨、及び前記第４基節骨に対応する領域であり、
   前記先端領域は、前記第１趾乃至前記第４趾の先端部に対応する領域である、
   請求項５に記載の足被覆具。
7. 前記滑止め部は、合成樹脂によって構成される、請求項１に記載の足被覆具。
8. 前記足裏支持体は、生地の肉厚によって構成される、請求項１乃至７のいずれか１項に記載の足被覆具。
9. 前記足裏支持体は、Ｓｈｏｒｅ（００Ｓｃａｌｅ）硬度３０以上、かつ７０以下である粘弾性部材からなる、請求項１乃至７のいずれか１項に記載の足被覆具。

Images