JP7255964B2 - 多波長紫外線光消毒システム及び方法 - Google Patents

多波長紫外線光消毒システム及び方法 Download PDF

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Description

本開示の実施例は、広くは、紫外線光消毒システム及び方法に関し、特に、多波長紫外線光消毒システム及び方法に関する。
民間航空機は、様々な場所の間で乗客を輸送するために使用される。通常の民間航空機は、内部客室内に１以上の洗面所を含む。
紫外線（ＵＶ）光を使用して航空機の洗面所内の表面を殺菌又はさもなければ消毒するシステムが、現在、開発されている。例えば、遠ＵＶ光は、洗面所内の露出された表面を効果的に殺菌することが分かってきた。
構造物の表面を消毒するために、既知のＵＶ光殺菌方法は、構造物に広域スペクトルのＵＶＣ光を放射する。しかし、ＵＶＣ光は、通常、様々な微生物を殺すために非常に長い時間（例えば、３分）を必要とする。更に、様々な微生物は、ＵＶＣ光に対して脆弱ではない場合もある。すなわち、そのような微生物は、ＵＶＣ光への曝露に耐え得る。
更に、特定の種類の微生物は、ＵＶＣ光への耐性を高め得る。例えば、ＵＶＣ光が特定の種類の微生物を最初は殺し、経時的にＵＶＣ光への曝露が継続されるが、特定の種類の微生物は、ＵＶＣ光に対する耐性を高め、ＵＶＣ光への曝露に耐えることができる。
紫外線光を使用して効率的且つ効果的に構造物を消毒するためのシステム及び方法が必要である。構造物から幅広い種類の微生物を根絶するためのシステム及び方法が必要である。
それらの必要性を考慮して、本開示の特定の実施例は、構造物を消毒するように構成された、紫外線（ＵＶ）光消毒システムを提供する。ＵＶ光消毒システムは、構造物にＵＶ光を放射するように構成されたＵＶ光アセンブリ、及びＵＶ光アセンブリに接続されたＵＶ光放射制御ユニットを含む。ＵＶ光放射制御ユニットは、ＵＶ光アセンブリを制御して、構造物を消毒する消毒サイクルの間に、少なくとも第１のＵＶバンド及び狭い第１のＵＶバンドとは異なる第２のＵＶバンド内のＵＶ光を個別に構造物に放射するように構成されている。第１及び第２のＵＶバンド内のＵＶ光は、少なくとも１つの種類の微生物を殺すように構成されている。
少なくとも１つの実施例では、第１のＵＶバンドが、ＵＶスペクトル内の、遠ＵＶ光範囲、ＵＶＣ光範囲、ＵＶＢ光範囲、ＵＶＡ光範囲、又は真空ＵＶ光範囲のうちの１つを含む。第２のＵＶバンドは、遠ＵＶ光範囲、ＵＶＣ光範囲、ＵＶＢ光範囲、ＵＶＡ光範囲、又は真空ＵＶ光範囲のうちの別の１つを含む。
ＵＶ光放射制御ユニットは、ＵＶ光アセンブリを制御して、第１の期間に第１のＵＶバンド内のＵＶ光を放射し、第２の期間に第２のＵＶバンド内のＵＶ光を放射する。第１の期間は、第２の期間とは異なり得る。少なくとも１つの実施例では、第２の期間が、第１の期間の後に連続的に続く。少なくとも１つの他の実施例では、第１の期間が、第２の期間と同時に生じる。少なくとも１つの他の実施例では、第１の期間が、第２の期間と少なくとも部分的に重なる。
ＵＶ光アセンブリは、複数のＵＶ光素子を含み得る。複数のＵＶ光素子のうちの第１のものは、第１のＵＶバンド内のＵＶ光を放射するように構成され、複数のＵＶ光素子のうちの第２のものは、第２のＵＶバンド内のＵＶ光を放射するように構成され得る。任意選択的に、ＵＶ光放射制御ユニットは、複数のＵＶ光素子によって放射されるＵＶ光を変調して、第１及び第２のＵＶバンド内のＵＶ光を選択的に放射するように構成されている。
ＵＶ光アセンブリは、複数のＵＶ光素子に接続された少なくとも１つのフィルタを含み得る。フィルタは、第１及び第２のＵＶバンドに関して、ＵＶ光をフィルタリングするように構成されている。
本開示の特定の実施例は、構造物を消毒するように構成された、紫外線（ＵＶ）光消毒方法を提供する。ＵＶ光消毒方法は、ＵＶ光放射制御ユニットをＵＶ光アセンブリに接続すること、及びＵＶ光アセンブリからＵＶ光を構造物に放射することを含む。放射することは、ＵＶ光放射制御ユニットを使用して、ＵＶ光アセンブリを制御し、構造物を消毒する消毒サイクルの間に、少なくとも第１のＵＶバンド及び狭い第１のＵＶバンドとは異なる第２のＵＶバンド内のＵＶ光を、個別に構造物に放射することを含む。第１及び第２のＵＶバンド内のＵＶ光は、少なくとも１つの種類の微生物を殺すように構成されている。
本開示の特定の実施例は、内部客室、内部客室内の洗面所、及び洗面所内の少なくとも１つの構造物を消毒するように構成された紫外線（ＵＶ）光消毒システムを含む輸送体を提供する。
本開示の一実施例による、取り囲まれた空間内の紫外線光消毒システムの概略図を示す。 紫外線光スペクトルを示す。 本開示の一実施例による、消毒サイクルの間のＵＶ光放射波形のグラフを示す。 本開示の一実施例による、消毒サイクルの間のＵＶ光放射波形のグラフを示す。 本開示の一実施例による、消毒サイクルの間のＵＶ光放射波形のグラフを示す。 本開示の一実施例による、航空機の上面斜視図を示す。 本開示の一実施例による、航空機の内部客室の上面図を示す。 本開示の一実施例による、航空機の内部客室の上面図を示す。 本開示の一実施例による、洗面所の内部斜視図を示す。 本開示の一実施例による、構造物を消毒する方法のフローチャートを示す。
上記の概要、及び特定の実施例の以下の詳細な説明は、添付の図面を参照して読むことにより、より深く理解される。本明細書で使用される「一（ａ）」又は「１つの（ａｎ）」に続く単数形の要素又はステップは、複数の当該要素又はステップを必ずしも除外しないものと理解されたい。更に、「一実施例」への言及は、追加の実施例の存在を除外すると解釈されることを意図せず、それら追加の実施例もまた、本明細書に記載の特徴を内包する。更に、逆に明示的に記述されない限り、特定の性質を有する１以上の要素を「備える」、「含む」、又は「有する」実施例は、その性質を有しない追加の要素を含み得る。
本開示の特定の実施例は、ＵＶスペクトルの全体にわたるＵＶ光のうちの狭いバンドを選択的に放射するように構成された、プログラム可能な多波長紫外線（ＵＶ）光消毒システムを提供する。少なくとも１つの実施例では、ＵＶ光消毒システムが、遠ＵＶ光範囲、ＵＶＣ光範囲、ＵＶＢ光範囲、ＵＶＡ光範囲、又は真空ＵＶ光範囲のうちの２以上の範囲内のＵＶ光を放射するように構成されている。ＵＶ光の種類は、特定の構造物に存在し得る微生物（例えば、バクテリア、ばい菌、菌類、ウイルス、細菌など）の種類に基づいて選択され得る。そのようにして、ＵＶ光消毒システムは、異なる種類のＵＶ光を用いて、特定の種類の微生物を殺すように特に適合され得る。ＵＶ光消毒システムは、（ＵＶ光の単一の広いバンドとは対照的に）複数の高エネルギーの狭いバンドの異なる種類のＵＶ光を放射する。それらは、洗面所内の便器、キャビネット、シンク、床などの、構造物をより効果的且つ効率的に消毒する。
ＵＶ光消毒システムは、通常の広いスペクトルのシステムよりも少ない電力を消費する一方で、放射されるＵＶ光の継続時間、周波数、順序などを変更して、構造物を効率的に消毒するように構成され得る。少なくとも１つの実施例では、ＵＶ光消毒システムが、広い放射照度源、及び望ましいＵＶ波長と周波数に関して放射される光をフィルタリングするように構成された１以上のフィルタを含む。少なくとも１つの他の実施例では、ＵＶ光消毒システムが、複数のＵＶ光素子（例えば、レーザ、ランプ、発光ダイオード、マイクロフィラメントなど）を含み、それらは、異なる波長と周波数のＵＶ光を放射するように構成されている。
本開示の特定の実施例は、消毒されるべき領域を特定すること、及びその領域を少なくとも２つの狭いバンドのＵＶ光に連続的に曝露することを含む、方法を提供する。各狭いバンドのＵＶ光に対する曝露は１０秒以下であり、それは、電力消費を低減させる。狭いバンドのＵＶ光の各々は、少なくとも１つの重なっていないバンド幅のＵＶ光を含む。少なくとも１つの実施例では、全体の曝露が１分以下であり得る。各狭いバンドは、１以上の特定の微生物を殺すのに特に適しているだろう。
図１は、本開示の一実施例による、取り囲まれた空間１０２内のＵＶ光消毒システム１００の概略図を示す。取り囲まれた空間１０２は、床１０４、天井１０６、及び床１０４と天井１０６との間で延在する壁１０８によって画定され得る。ドア１１０は、壁１０８のうちの１つと可動に固定され得る。ドア１１０は、ドア１１０を閉じた位置内にしっかりとロックするように構成された、錠１１２を含む。錠１１２がロックされた位置内にあるときに、ドア１１０は、開くことができない。錠１１２がロックされていない位置内にあるときに、ドア１１０は、開くことができる。取り囲まれた空間１０２は、民間航空機に搭載された閉鎖空間であり得る。例えば、取り囲まれた空間１０２は、航空機に搭載された洗面所であり得る。別の一実施例として、取り囲まれた空間１０２は、航空機に搭載された調理室であり得る。更に別の一実施例として、取り囲まれた空間１０２は、航空機に搭載された客室であり得る。取り囲まれた空間１０２は、ドア１１０を含んでもよいし又は含まなくてもよい。取り囲まれた空間１０２は、様々な他の輸送体、構造物などの範囲内にあり得る。例えば、取り囲まれた空間１０２は、民間、行政、若しくは住居のための建物内にある部屋であり、又は列車、バス、船舶などに搭載された部屋であり得る。
取り囲まれた空間１０２は、使用後に消毒（例えば、殺菌、滅菌、又はさもなければ洗浄）されるべき、少なくとも１以上の構造物１１４を含む。例えば、構造物１１４は、航空機の洗面所内の便器、シンク、床、キャビネットなどであり得る。
構造物１１４を消毒するために、ＵＶ光消毒システム１００は、構造物１１４に及び／又は構造物１１４の中に、多波長ＵＶ光１１６を放射する。ＵＶ光消毒システム１００は、ＵＶ光放射制御ユニット１２０に接続された、ＵＶ光アセンブリ１１８を含む。ＵＶ光放射制御ユニット１２０は、１以上の有線又は無線の接続を通して、ＵＶ光アセンブリ１１８と動作可能に接続されている。少なくとも１つの実施例では、ＵＶ光放射制御ユニット１２０が、ＵＶ光アセンブリ１１８内に収容されている。少なくとも１つの他の実施例では、ＵＶ光放射制御ユニット１２０が、ＵＶ光アセンブリ１１８から遠隔に配置されている。例えば、ＵＶ光アセンブリ１１８は、取り囲まれた空間１０２内にあるが、ＵＶ光放射制御ユニット１２０は、取り囲まれた空間１０２の外側にあり得る。
ＵＶ光アセンブリ１１８は、複数のＵＶ光素子１２４、１２６、１２８、１３０、及び１３２を含む、ハウジング１２２を含む。ハウジング１２２は、示されているものよりも多くの又は少ないＵＶ光素子を含み得る。各ＵＶ光素子１２４、１２６、１２８、１３０、及び１３２は、レーザ、ランプ、発光ダイオード（ＬＥＤ）、マイクロフィラメント、光ファイバー素子などであり又はさもなければそれらを含み得る。少なくとも１つの実施例では、ＵＶ光素子１２４～１３２が、異なるＵＶバンド（例えば、異なる波長及び異なる周波数）を有するＵＶ光を放射するように構成されている。例えば、ＵＶ光素子１２４は、遠ＵＶ光を放射するように構成され、一方で、ＵＶ光素子１２６は、ＵＶＣ光を放射するように構成され得る。例えば、ＵＶ光素子１２８は、ＵＶＢ光を放射するように構成され、一方で、ＵＶ光素子１３０は、ＵＶＡ光を放射するように構成され得る。ＵＶ光素子１３２は、真空ＵＶ光を放射するように構成され得る。他の実施例では、ＵＶ光素子１２４～１３２の群が、特定の種類のＵＶ光を放射するように構成され得る。例えば、ＵＶ光素子１２４と１２６は、遠ＵＶ光を放射するように構成され、一方で、ＵＶ光素子１２８と１３０は、ＵＶＣ光を放射するように構成され得る。
少なくとも１つの実施例では、ＵＶ光素子１２４～１３２が、ＵＶ光放射制御ユニット１２０によって制御され、変化するＵＶ光を放射する。例えば、少なくとも１つの実施例では、ＵＶ光放射制御ユニット１２０が、消毒サイクルの間に、ＵＶ光素子１２４～１３２から放射されるＵＶ光の周波数及び波長を変更するように構成されている。例えば、消毒サイクルの第１の部分の間に、ＵＶ光放射制御ユニット１２０は、ＵＶ光素子１２４～１３２を制御して遠ＵＶ光を放射し、一方で、消毒サイクルの第２の部分の間に、ＵＶ光放射制御ユニット１２０は、（消毒サイクルの第１の部分と比較して、放射されるＵＶ光の周波数及び波長を変調することなどによって）ＵＶ光素子１２４～１３２を制御してＵＶＣ光を放射し得る。消毒サイクルの第１の部分は、消毒サイクルの第２の部分よりも、短く、長く、又は同じ若しくは同様な時間の長さであり得る。例えば、５秒以下の長さだけ続く第１の部分の間に、ＵＶ光素子１２４～１３２は、遠ＵＶ光を構造物１１４に放射し、一方で、１分以下の長さだけ続く第２の部分の間に、ＵＶ光素子１２４～１３２は、ＵＶＣ光を構造物１１４に放射し得る。
ＵＶ光放射制御ユニット１２０は、消毒サイクルの間に殺されるべき微生物の種類に基づいて、ＵＶ光素子１２４～１３２から放射されるＵＶ光の種類を制御するように構成され、特定の時間量のＵＶ光が放射される。例えば、第１の微生物は、ＵＶＣに耐え得るが、遠ＵＶ光には脆弱であり、一方で、第２の微生物は、遠ＵＶ光に耐え得るが、ＵＶＣ光には脆弱である。ＵＶ光放射制御ユニット１２０は、両方の種類の微生物を殺すために、遠ＵＶ光とＵＶＣ光の両方を、各々所定時間だけ、構造物１１４に放射するようにプログラムされ得る。
示されているように、ＵＶ光消毒システム１００は、ＵＶ光素子１２４～１３２の上方に配置されたフィルタ１３４も含み得る。フィルタ１３４は、望ましいＵＶ光バンドに関して、ＵＶ光素子１２４～１３２から放射されたＵＶ光をフィルタリングするように構成された、複数のフィルタセグメントを含み得る。このやり方では、ＵＶ光素子１２４～１３２の各々が、同じ種類のＵＶ光を放射するように構成され得るが、フィルタ１３４は、遠ＵＶ光及びＵＶＣ光などの、２つの分離した特有のＵＶ光バンドに関して、ＵＶ光素子１２４～１３２から放射されたＵＶ光をフィルタリングする。代替的に、ＵＶ光消毒システム１００は、フィルタ１３４を含まなくてもよい（ＵＶ光素子１２４～１３２のうちの少なくとも２つが、異なるＵＶバンドのＵＶ光を放射するように構成されているならば、及び／又はＵＶ光放射制御ユニット１２０が、ＵＶ光素子１２４～１３２から可変ＵＶ光を放射するように構成されているならば、などである）。
動作では、ドア１１０がロックされているが、取り囲まれた空間内に誰も存在しないときなどの、消毒サイクルの間に、ＵＶ光消毒システム１００がＵＶ光を構造物１１４に放射する。ＵＶ光放射制御ユニット１２０は、消毒サイクルにしたがって、ＵＶ光アセンブリ１１８を操作する。例えば、ＵＶ光放射制御ユニット１２０は、消毒サイクルデータを記憶したメモリを含み又はさもなければ該メモリと動作可能に接続され、消毒サイクルデータは、ＵＶ光放射制御ユニット１２０によって使用され、ＵＶ光アセンブリ１１８を制御する。消毒サイクルは、所定の期間だけ続く。
消毒サイクルの間に、ＵＶ光アセンブリ１１８は、構造物１１４上に又は構造物１１４の中に存在し得る様々な微生物を殺すために、構造物１１４の表面又は内部へ、種々の周波数及び波長のバンドのＵＶ光を放射する。例えば、第１の期間だけ続く消毒サイクルの第１の部分の間に、ＵＶ光素子１２４～１３２のうちの１以上は、（遠ＵＶ光などの）第１の特有の狭いバンド内のＵＶ光を構造物１１４に放射する。第２の期間（その長さは、第１の期間より短くても、長くても、又は等しくてもよい）だけ続く消毒サイクルの第２の部分の間に、ＵＶ光素子１２４～１３２のうちの１以上は、（ＵＶＣ光などの）第２の特有の狭いバンド内のＵＶ光を構造物１１４の表面又は内部へ放射する。複数の特有なＵＶバンドは、幅広い様々な微生物を効果的に殺すために使用される。微生物のうちの一部は、特定の種類のＵＶ光に対して耐え得るが、他の種類のＵＶ光に対して脆弱であり得る。第３の期間（その長さは、第１及び／又は２の期間より短くても、長くても、又は等しくてもよい）だけ続く消毒サイクルの第３の部分の間に、ＵＶ光素子１２４～１３２のうちの１以上は、（ＵＶＢ光などの）第３の特有の狭いバンド内のＵＶ光を構造物１１４の表面又は内部へ放射する。第４の期間（その長さは、第１、２、及び／又は３の期間より短くても、長くても、又は等しくてもよい）だけ続く消毒サイクルの第４の部分の間に、ＵＶ光素子１２４～１３２のうちの１以上は、（ＵＶＡ光などの）第４の特有の狭いバンド内のＵＶ光を構造物１１４の表面又は内部へ放射する。第５の期間（その長さは、第１、２、３、及び／又は４の期間より短くても、長くても等しくてもよい）だけ続く消毒サイクルの第５の部分の間に、ＵＶ光素子１２４～１３２のうちの１以上は、（真空ＵＶ光などの）第５の特有の狭いバンド内のＵＶ光を構造物１１４の表面又は内部へ放射する。
第１、２、３、４、及び５の期間は、連続的であり得る。すなわち、第２の期間は、第１の期間に続き得る。以下も、同様である。少なくとも１つの他の実施例では、期間の少なくとも部分が重なり得る。少なくとも１つの他の実施例では、第１、２、３、４、及び５の期間が、実質的に同時に生じ得る。
消毒サイクルは、述べられたものよりも多い又は少ない期間を含み得る。例えば、消毒サイクルは、上述された第１及び第２の期間のみを含み得る。更に、ＵＶ光素子１２４～１３２は、上述されたものよりも多い又は少ない特有の狭いバンドのＵＶ光を放射するように構成され得る。例えば、消毒サイクルの間に、ＵＶ光素子１２４～１３２は、遠ＵＶ光及びＵＶＣ光のみを放射し得る。
少なくとも１つの他の実施例では、ＵＶ光放射制御ユニット１２０が、ＵＶ光素子１２４～１３２を操作して、同じ時間に又は重なり合った時間に、異なる狭いバンドのＵＶ光を放射するように構成され得る。例えば、ＵＶ光素子１２４～１３２のうちの少なくとも２つが、異なる狭いバンドのＵＶ光（例えば、遠ＵＶ光及びＵＶＣ光）を、共に、同時に、又は少なくとも重なりあった時間において放射するように構成され得る。
図２は、ＵＶ光スペクトル２００を示す。示されているように、ＵＶ光スペクトル２００は、複数のバンドを含む。それらの各々は、波長及び周波数の特有なＵＶ範囲を含む。例えば、ＵＶ光スペクトル２００は、狭い真空ＵＶバンド２０２、狭い遠ＵＶバンド２０４、狭いＵＶＣバンド２０６、狭いＵＶＢバンド２０８、及び狭いＵＶＡバンド２１０を含む。示されているように、バンド２０２、２０４、２０６、２０８、及び２１０は、重ならない。例えば、狭い真空ＵＶバンド２０２は、１２２ナノメートル（ｎｍ）未満であり得る。狭い遠ＵＶバンド２０４は、１２２～２００ｎｍの間であり得る。狭いＵＶＣバンド２０６は、２００～２８０ｎｍの間であり得る。狭いＵＶＢバンド２０８は、２８０～３１５ｎｍの間であり得る。狭いＵＶＡバンド２１０は、３１５～４００ｎｍの間であり得る。図１及び図２を参照すると、ＵＶ光消毒システム１００は、狭いバンド２０２、２０４、２０６、２０８、及び２１０のうちの少なくとも２つの範囲内のＵＶ光を、構造物１１４に放射するように構成されている。
とりわけ、光の周波数及び波長は、反比例している。したがって、周波数が高くなれば、波長が短くなる。そのようにして、狭い真空ＵＶバンド２０２の周波数は、狭い遠ＵＶバンド２０４の周波数よりも高い。少なくとも１つの実施例では、ＵＶ光放射制御ユニット１２０が、ＵＶ光素子１２４～１３２のうちの１以上から放射されるＵＶ光の周波数（及びしたがって波長）を変更して、ＵＶ光アセンブリ１１８から放射されるＵＶ光の種類を選択的に変更するように構成されている。
図１及び図２を参照すると、ＵＶ光消毒システム１００は、異なる種類のＵＶ光を用いて、構造物１１４を消毒するように構成されている。ＵＶ光アセンブリ１１８は、構造物１１４へＵＶ光を放射するように構成されている。ＵＶ光放射制御ユニット１２０は、（１以上の有線又は無線の接続を通すなどして）ＵＶ光アセンブリ１１８に接続され、ＵＶ光アセンブリ１１８を制御して、第１のＵＶバンド及び狭い第１のＵＶバンドとは異なる第２のＵＶバンド内のＵＶ光を、個別に構造物１１４へ放射するように構成されている。第１のＵＶバンドは、ＵＶ光スペクトル２００内の、遠ＵＶ光範囲２０４、ＵＶＣ光範囲２０６、ＵＶＢ光範囲２０８、ＵＶＡ光範囲２１０、又は真空ＵＶ光範囲２０２のうちの１つを含み得る。第２のＵＶバンドは、遠ＵＶ光範囲２０４、ＵＶＣ光範囲２０６、ＵＶＢ光範囲２０８、ＵＶＡ光範囲２１０、又は真空ＵＶ光範囲２０２のうちの別の１つを含む。
述べられるように、第１のバンド内のＵＶ光は、第２のバンド内のＵＶ光とは別々に放射される。すなわち、第１のバンド内のＵＶ光の放射は、第２のバンド内のＵＶ光の放射とは区別された特有のものである。第１及び２のバンド内のＵＶ光は、複数のバンドのＵＶ光を含むＵＶ光スペクトルの広いスペクトル、範囲、又は部分の放射の部分ではない。ＵＶ光の各バンドは、ＵＶ光の別のバンドとは重ならない。
図３は、本開示の一実施例による、消毒サイクルの間のＵＶ光放射波形３００のグラフを示す。図３で示されているグラフは、簡略化されたグラフであり、縮尺通りに描かれていないことが理解されるべきである。図１～図３を参照すると、ＵＶ光放射制御ユニット１２０は、消毒サイクルの間に、ＵＶ光アセンブリ１１８から放射されるＵＶ光を変更するように構成され得る。例えば、期間ｔ１の間に、ＵＶ光放射制御ユニット１２０は、ＵＶ光アセンブリ１１８を操作して、狭いＵＶＡバンド２１０内の周波数の光を放射し得る。期間ｔ２の間に、ＵＶ光放射制御ユニット１２０は、ＵＶ光アセンブリ１１８を操作して、狭いＵＶＢバンド２０８内の周波数の光を放射し得る。期間ｔ３の間に、ＵＶ光放射制御ユニット１２０は、ＵＶ光アセンブリ１１８を操作して、狭いＵＶＣバンド２０６内の周波数の光を放射し得る。期間ｔ４の間に、ＵＶ光放射制御ユニット１２０は、ＵＶ光アセンブリ１１８を操作して、狭い遠ＵＶバンド２０４内の周波数の光を放射し得る。期間ｔ５の間に、ＵＶ光放射制御ユニット１２０は、ＵＶ光アセンブリ１１８を操作して、狭い真空ＵＶバンド２０２内の周波数の光を放射し得る。
示されているように、ＵＶ光放射制御ユニット１２０は、ＵＶ光放射波形３００が正弦波の形を有するように、放射される周波数を徐々に移行させ得る。少なくとも１つの他の実施例では、ＵＶ光放射制御ユニット１２０が、特定の期間だけ特定の周波数を維持及び保持し、その後、ＵＶ光放射波形が階段状の波形を有するように、唐突に異なる周波数へと変化し得る。
示されているように、期間ｔ１～ｔ５の長さは、等しくなくてもよい。ＵＶ光放射制御ユニット１２０は、ＵＶ光の特定の狭いバンドによって根絶されるべき微生物の特性に応じて、ＵＶ光アセンブリ１１８に、種々の長さの時間において異なる狭いバンドのＵＶ光を放射させるようにプログラムされ得る。例えば、遠ＵＶバンド２０４内のＵＶ光は、３又は４秒でターゲット微生物を殺し得る。代替的に、期間ｔ１～ｔ５は、等しい長さであり得る。
ＵＶ光放射制御ユニット１２０は、示されているものよりも多い又は少ない光バンドに関して、ＵＶ光を変更し得る。例えば、ＵＶ光放射制御ユニット１２０は、遠ＵＶバンド２０４とＵＶＣバンド２０６との間で、放射される光を変更し得る。
図４は、本開示の一実施例による、消毒サイクルの間のＵＶ光放射波形４００のグラフを示す。図４で示されているグラフは、簡略化されたグラフであり、縮尺通りに描かれていないことが理解されるべきである。図１、図２、及び図４を参照すると、ＵＶ光放射制御ユニット１２０は、図４などで示されているように、消毒サイクルの間に、ＵＶ光アセンブリ１１８から放射されるＵＶ光を変更するように構成され得る。特に、ＵＶ光放射制御ユニット１２０は、所定の期間の間に特定のバンド内の特定の周波数を維持し、その後、続く期間の間に種々のバンド内の異なる周波数へ唐突に移行し得る。
期間ｔ１～ｔ５の各々は、同じ又は異なる長さであり、示されているよりも長く又は短くてもよい。更に、ＵＶ光放射制御ユニット１２０は、示されているものよりも多い又は少ない光バンドに関して、ＵＶ光を変更し得る。例えば、ＵＶ光放射制御ユニット１２０は、遠ＵＶバンド２０４とＵＶＣバンド２０６との間で、放射される光を変更し得る。
図５は、本開示の一実施例による、消毒サイクルの間のＵＶ光放射波形５００、５０２、及び５０４のグラフを示す。図５で示されているグラフは、簡略化されたグラフであり、縮尺通りに描かれていないことが理解されるべきである。図１、図２、及び図５を参照すると、ＵＶ光放射制御ユニット１２０は、図５などで示されているように、消毒サイクルの間に、ＵＶ光アセンブリ１１８から放射されるＵＶ光を変更するように構成され得る。特に、少なくとも３つの異なるＵＶ光素子１２４～１３２が、消毒サイクルの間に、特定の時間だけ異なるバンドのＵＶ光を放射し得る。すなわち、ＵＶ光放射制御ユニット１２０は、複数の異なるＵＶ光素子１２４～１３２を制御して、消毒サイクルの間に異なるＵＶ光を放射し得る。
述べられているように、各ＵＶ光素子１２４～１３２は、消毒サイクルの間に、共に、同時に、又は時間において少なくとも部分的に重なった状態で、異なる周波数のＵＶ光を放射し得る。少なくとも１つの他の実施例では、ＵＶ光素子１２４～１３２の第１の群が、第１の周波数のＵＶ光を放射し、一方で、ＵＶ光素子１２４～１３２の第２の群が、第１の周波数とは異なる第２の周波数のＵＶ光を放射し得る。示されているように、ＵＶ光放射制御ユニット１２０は、経時的に、ＵＶ光素子１２４～１３２によって放射されるＵＶ光の周波数を変調し得る。ＵＶ光放射制御ユニット１２０は、ＵＶ光アセンブリ１１８のＵＶ光素子１２４～１３２を制御して、図５で示されるものとは異なるより多くの又は少ないＵＶ光波形を同時に放射し得る。
図１～図５を参照すると、ＵＶ光消毒システムは、変動するＵＶバンドのＵＶ光を放射するようにプログラムされ得る。ＵＶ光放射制御ユニット１２０は、ＵＶ光アセンブリ１１８を制御して、ＵＶスペクトルの全体にわたる狭いバンドのＵＶ光を、選択的に放射する。例えば、ＵＶ光放射制御ユニット１２０は、ＵＶ光アセンブリ１１８を制御して、遠ＵＶ光、ＵＶＣ光、ＵＶＢ光、ＵＶＡ光、及び／又は真空ＵＶ光のうちの２以上を放射する。ＵＶ光アセンブリ１１８から放射されるＵＶ光の種類は、構造物１１４に存在し得る微生物（例えば、バクテリア、ばい菌、菌類、ウイルス、細菌など）の種類に基づいて選択され得る。そのようにして、ＵＶ光消毒システム１００は、異なる種類のＵＶ光を用いて、特定の種類の微生物を殺すように特に適合され得る。ＵＶ光消毒システムは、（ＵＶ光の単一の広いバンドとは対照的に）複数の高エネルギーの狭いバンドの異なる種類のＵＶ光を放射し、それによって、構造物１１４をより効果的且つ効率的に消毒する。
少なくとも１つの実施例では、ＵＶ光放射制御ユニット１２０が、ＵＶ光アセンブリ１１８から放射される、ＵＶ光の継続時間、周波数、順序などを変更して、通常の広いスペクトルのシステムよりも電力消費を削減する一方で、構造物１１４を効率的に消毒する。少なくとも１つの実施例では、ＵＶ光アセンブリが、広い放射照度源、及び所望のＵＶ波長と周波数に関して放射される光をフィルタリングするように構成された１以上のフィルタ１３４を含む。
構造物１１４は、異なる光バンド内のＵＶ光に曝露される。各狭いバンドの組のＵＶ光に対する曝露は１０秒以下であり、それは、電力消費を低減させ得る。少なくとも１つの実施例では、狭いバンドの組のＵＶ光の各々は、少なくとも１つの重なっていないバンド幅のＵＶ光を含む。少なくとも１つの実施例では、消毒サイクルの間の全体の曝露が１分以下であり得る。（バンド２０２～２１０などの）各狭いバンドの組は、１以上の特定の微生物を殺すために特に適しているだろう。
本明細書で使用される際に、「制御ユニット」、「中央処理装置」、「ＣＰＵ」、「コンピュータ」などという用語は、マイクロコントローラ、縮小指示命令セットコンピュータ（ＲＩＳＣ）、特定用途向け集積回路（ＡＳＩＣ）、論理回路、及び、本明細書で説明される機能を実行することが可能なハードウェア、ソフトウェア、又はそれらの組み合わせを含む任意の他の回路又はプロセッサを使用するシステムを含む、任意のプロセッサベース又はマイクロプロセッサベースのシステムを含み得る。上述したものは例示的なものに過ぎず、したがって、そのような用語の定義及び／又は意味を何らかのやり方で限定することを意図していない。例えば、上述されたように、ＵＶ光放射制御ユニット１２０は、ＵＶ光アセンブリ１１８の動作を制御するように構成された、１以上のプロセッサであり又はそれらを含み得る。
ＵＶ光放射制御ユニット１２０は、データを処理するために、（１以上のメモリなどの）１以上のデータ記憶ユニット又は素子内に記憶された、一組の指示命令を実行するように構成されている。例えば、ＵＶ光放射制御ユニット１２０は、１以上のメモリを含み又はそれらに接続され得る。データ記憶ユニットは、所望又は必要に応じて、データ又は他の情報も記憶し得る。データ記憶ユニットは、情報ソース、又は処理マシン内の物理メモリ要素という形態を採り得る。
一組の指示命令は、ＵＶ光放射制御ユニット１２０が、処理マシンとして、本明細書で説明される主題の様々な実施例の方法及びプロセスなどの、特定の動作を実行するように指示命令する、様々なコマンドを含み得る。一組の指示命令は、ソフトウェアプログラムの形態を採ってもよい。ソフトウェアは、システムソフトウェア又はアプリケーションソフトウェアなどの様々な形態を採り得る。更に、ソフトウェアは、分離したプログラムの集合、より大きなプログラム内のプログラムサブセット、又はプログラムの一部分の形態を採り得る。ソフトウェアは、オブジェクト指向プログラミングの形態を採るモジュラープログラミングも含み得る。処理マシンによる入力データの処理は、ユーザのコマンドに応じ、又は、従前の処理の結果に応じ、又は、別の処理マシンによってなされた要求に応ずるものであり得る。
本明細書の実施例の図面は、ＵＶ光放射制御ユニット１２０などの１以上の制御又は処理ユニットを示し得る。処理又は制御ユニットは、本明細書で説明される動作を実行する、関連する指示命令（例えば、コンピュータハードドライブ、ＲＯＭ、ＲＡＭなどの、有形且つ非一過性のコンピュータ可読記憶媒体に記憶されたソフトウェア）を含むハードウェアとして実装され得る、回路、電気回路、又はそれらの部分を表し得ることが、理解されるべきである。そのようなハードウェアは、本明細書に記載の機能を実行するようハードワイヤード（ｈａｒｄｗｉｒｅｄ）されたステートマシン（ｓｔａｔｅ ｍａｃｈｉｎｅ）回路を含み得る。任意選択的に、ハードウェアは、マイクロプロセッサ、プロセッサ、コントローラなどの、１以上の論理ベースのデバイスを含み及び／又はそれらに接続された電子回路を含んでもよい。任意選択的に、ＵＶ光放射制御ユニット１２０は、フィールドプログラマブルゲートアレイ（ＦＰＧＡ）、特定用途向け集積回路（ＡＳＩＣ）、（１以上の）マイクロプロセッサなどの、処理回路を表してもよい。様々な実施例内の回路は、本明細書で説明される機能を実施するために、１以上のアルゴリズムを実行するように構成されてもよい。そのような１以上のアルゴリズムは、フローチャート又は方法において明示的に特定されているか否かに関わらず、本明細書に記載の実施例の諸態様を含み得る。
本明細書で使用される際に、「ソフトウェア」及び「ファームウェア」という用語は、置き換え可能であり、ＲＡＭメモリ、ＲＯＭメモリ、ＥＰＲＯＭメモリ、ＥＥＰＲＯＭメモリ、及び不揮発性ＲＡＭ（ＮＶＲＡＭ）メモリを含む、コンピュータによる実行のためのデータ記憶ユニット（例えば、１以上のメモリ）に記憶される任意のコンピュータプログラムを含む。上記のデータ記憶ユニットのタイプは例示的なものにすぎず、したがって、コンピュータプログラムを記憶するために使用することができるメモリのタイプを限定するものではない。
図６は、本開示の一実施例による、航空機６００の上面斜視図を示す。航空機６００には、例えば、２つのターボファンエンジン６１４を含み得る、推進システム６１２が含まれる。任意選択的に、推進システム６１２には、図示したものよりも更に多くのエンジン６１４が含まれ得る。エンジン６１４は、航空機６００の翼６１６によって担持される。他の実施例では、エンジン６１４が、胴体６１８及び／又は尾部６２０によって担持され得る。尾部６２０は、水平尾翼６２２と垂直尾翼６２４も支持し得る。
航空機６００の胴体６１８は内部客室を画定し、内部客室には、操縦室、１以上の作業セクション（例えば、調理室、個人の手荷物領域など）、１以上の乗客セクション（例えば、ファーストクラス、ビジネスクラス、及びエコノミーセクション）、及び後方休憩領域アセンブリが配置され得る後方セクションが含まれ得る。それらのセクションの各々は、１以上のクラス分離アセンブリを含み得る、客室分離領域によって分離され得る。頭上の荷物棚アセンブリが、内部客室の全体を通して配置され得る。内部客室は、例えば、洗面所などの１以上の部屋を含む。（図１に関連して示され説明された）１以上のＵＶ光消毒システム１００が、内部客室内に配置され得る。
代替的に、航空機の代わりに、本開示の実施例が、自動車、バス、機関車及び列車、船舶などの、様々な他の輸送体で使用されてもよい。更に、本開示の実施例は、商業建物及び住居建物などの、固定された構造物に関して使用されてもよい。
図７Ａは、本開示の一実施例による、航空機の内部客室の上面図を示す。内部客室６３０は、航空機の胴体６３２内にあり得る。例えば、１以上の胴体壁により、内部客室630が画定され得る。内部客室６３０には、前方セクション６３３、ファーストクラスセクション６３４（又はファーストクラススイート、客室など）、ビジネスクラスセクション６３６、前方調理室ステーション６３８、拡張されたエコノミーすなわちコーチセクション６４０、標準のエコノミーすなわちコーチセクション６４２、及び洗面所と調理室ステーションなどの複数の部屋１０２を含み得る、後方セクション６４４を含む、複数のセクションが含まれる。内部客室６３０は、図示したものよりも多い又は少ないセクションを含み得ると理解すべきである。例えば、内部客室６３０には、ファーストクラスセクションが含まれなくてもよく、図示したものよりも多くの又は少ない調理室ステーションが含まれてもよい。それらのセクションの各々は、通路６４８の間のクラス分離アセンブリを含み得る、客室分離領域６４６によって分離され得る。
図７Ａで示されるように、内部客室６３０は、後方セクション６４４につながっている２つの通路６５０及び６５２を含む。任意選択的に、内部客室６３０は、図示したものよりも少ない又は多い通路を有し得る。例えば、内部客室６３０には、後方セクション６４４につながっている内部客室６３０の中央を通って延在する単一の通路が含まれ得る。
洗面所などの１以上の部屋１０２は、内部客室６３０内に配置され得る。ＵＶ光消毒システム１００は、図１に関連して上述されたような、洗面所１０２内の構造物を消毒するために使用され得る。
図７Ｂは、本開示の一実施例による、航空機の内部客室の上面図を示す。内部客室６８０は、航空機の胴体６８１内にあり得る。例えば、１以上の胴体壁により、内部客室６８０が画定され得る。内部客室６８０は、乗客席６８３を有する主要な客室６８２、及び主要な客室６８２の後ろの後方セクション６８５を含む、複数のセクションを含む。内部客室６８０は、図示したものよりも多い又は少ないセクションを含み得ると理解すべきである。
内部客室６８０には、後方セクション６８５につながる単一の通路６８４が含まれ得る。単一の通路６８４は、後方セクション６８５につながる内部客室６８０の中央を通って延在し得る。例えば、単一の通路６８４は、内部客室６８０の中央縦断面の同軸上に位置合わせされ得る。
洗面所などの１以上の部屋１０２は、内部客室６８０内に配置され得る。ＵＶ光消毒システム１００は、図１に関連して上述されたような、洗面所１０２内の構造物を消毒するために使用され得る。
図８は、本開示の一実施例による、洗面所１０２の内部斜視図を示す。述べられるように、洗面所１０２は、図１に関連して示され且つ説明された取り囲まれた空間１０２の一実施例である。洗面所１０２は、上述されたように、航空機に搭載され得る。任意選択的に、洗面所１０２は、様々な他の輸送体に搭載され得る。他の実施例では、洗面所１０２が、商業建物又は住居建物などの固定された構造物内にあり得る。
洗面所１０２は、便器８０４、キャビネット８０６、及びシンク８０８を支持する、ベースフロア８０２を含む。ＵＶ光アセンブリ１１８は、洗面所１０２内に固定され、消毒サイクルの間に起動されて、便器８０４、床８０２、キャビネット８０６、及び／又はシンク８０８などの、洗面所１０２内の様々な構造物を、消毒（例えば、殺菌、滅菌、又は清掃）するように構成されている。
図９は、本開示の一実施例による、構造物を消毒する方法のフローチャートを示す。図１及び図９を参照すると、該方法は、９００で開始し、構造物１１４から根絶されるべき微生物の種類に関して判定が行われる。そのような判定は、ターゲット微生物を殺すのに特に適したＵＶ光の種類に関する判定を可能にする。例えば、ＵＶ光放射制御ユニット１２０は、それらの種類のＵＶ光によって効果的且つ効率的に殺される微生物と、ＵＶ光の種類と、を相互に関連付けたデータを記憶し又はさもなければそのようなデータにアクセスし得る。
９０２では、消毒サイクルが、構造物１１４から根絶されるべき微生物の種類に基づいて判定される。少なくとも１つの実施例では、個人が、（キーボード、マウス、タッチスクリーンなどの入力装置を介するなどして）ターゲットにされた微生物の種類を入力し、ＵＶ光放射制御ユニット１２０が、ターゲット微生物に対する効率的な消毒サイクルを判定し得る。
消毒サイクルが判定され且つメモリ内に記憶された後で、９０４において、ＵＶ光放射制御ユニット１２０は、構造物１１４が使用されているか否かを判定する。例えば、ＵＶ光放射制御ユニット１２０は、ＵＶ光放射制御ユニット１２０、ドアロックシーケンスなどと通信する運動センサ又は近接センサに基づいて、洗面所が使用されていることを判定し得る。９０４では、ＵＶ放射制御ユニット１２０が、構造物１１４が使用されていると判定したならば、ＵＶ光放射制御ユニット１２０は、９０６で消毒サイクルを開始することを差し控える。
しかし、９０４で構造物が使用されていなければ、ＵＶ光放射制御ユニット１２０は、９０８で構造物１１４が既に洗浄されたか否かを判定する。例えば、以前の消毒サイクルの後で構造物１１４が使用されていなければ、ＵＶ光放射制御ユニット１２０は、構造物１１４が既に洗浄されたと判定し得る。構造物１１４が既に洗浄されたならば、該方法は、９０８から９１０に進み、ＵＶ光放射制御ユニット１２０は、消毒サイクルを開始することを差し控え、該方法は、９０４に戻る。
しかし、９０８で構造物が洗浄されていなければ、該方法は、９０８から９１２に進み、ＵＶ光放射制御ユニット１２０が、消毒サイクルを開始する。９１４では、消毒サイクルの間に、ＵＶ光放射制御ユニット１２０が、ＵＶ光アセンブリ１１８を操作して、第１のＵＶバンド内のＵＶ光を構造物１１４に放射する。第１のＵＶバンド内のＵＶ光が、1以上の種類の微生物を殺すのに適していると予め判定され得る。
９１６において、ＵＶ光放射制御ユニット１２０は、第１のＵＶバンド内のＵＶ光が放射された期間が、その種類の微生物を殺すのに十分であるか否かを判定する。そうでなければ、該方法は９１４に戻って、第１のＵＶバンド内のＵＶ光が、構造物１１４に放射され続ける。
しかし、９１６で（例えば、所定の消毒サイクルに基づいて）その時間が微生物を殺すのに十分であれば、該方法は、９１６から９１８へ進み、ＵＶ光放射制御ユニット１２０が、ＵＶ光アセンブリ１１８を操作して、（第１のＵＶバンドとは異なる特有の）第２のＵＶバンド内のＵＶ光を構造物１１４に放射する。第２のＵＶバンド内のＵＶ光が、１以上の種類の微生物を殺すのに適していると予め判定され得る。
９２０において、ＵＶ光放射制御ユニット１２０は、第２のＵＶバンド内のＵＶ光が放射された期間が、その種類の微生物を殺すのに十分であるか否かを判定する。そうでなければ、該方法は９１８に戻って、第２のＵＶバンド内のＵＶ光が、構造物１１４に放射され続ける。
しかし、９２０で（例えば、所定の消毒サイクルに基づいて）その時間が微生物を殺すのに十分であれば、該方法は、９２０から９２２へ進み、ＵＶ光放射制御ユニット１２０が、消毒サイクルを止める。その後、該方法は、９２２から９０４へ戻る。
ステップ９１４と９１８は、異なる時間に生じ得る。任意選択的に、ステップ９１４と９１８は、同時に生じ得るか、又は少なくとも部分的に時間において重なり得る。更に、該方法は、第３、４、５、及び／又はそれ以上のバンド内のＵＶ光の放射を含み得る。
図１～図９を参照すると、上述のように、本開示の実施例は、ＵＶ光を使用して構造物を効率的に消毒するシステム及び方法を提供する。特に、本開示の実施例は、複数のＵＶバンド内の紫外線光の放射によって、構造物から幅広い種類の微生物を根絶するシステム及び方法を提供する。
更に、本開示は下記の条項に係る実施例を含む。
条項１
構造物を消毒するように構成された紫外線（ＵＶ）光消毒システム（１００）であって、
前記構造物へＵＶ光を放射するように構成されたＵＶ光アセンブリ（１１８）、及び
前記ＵＶ光アセンブリ（１１８）に接続されたＵＶ光放射制御ユニット（１２０）であって、前記ＵＶ光アセンブリ（１１８）を制御して、前記構造物を消毒する消毒サイクルの間に、少なくとも第１のＵＶバンド及び前記第１のＵＶバンドとは異なる第２のＵＶバンド内のＵＶ光を個別に前記構造物へ放射するように構成され、前記第１のＵＶバンドと前記第２のＵＶバンド内の前記ＵＶ光が、少なくとも１つの種類の微生物を殺すように構成されている、ＵＶ光放射制御ユニット（１２０）を備える、ＵＶ光消毒システム（１００）。
条項２
前記第１のＵＶバンドが、ＵＶスペクトル内の、遠ＵＶ光範囲（２０４）、ＵＶＣ光範囲（２０６）、ＵＶＢ光範囲（２０８）、ＵＶＡ光範囲（２１０）、又は真空ＵＶ光範囲（２０２）のうちの１つを含み、前記第２のＵＶバンドが、前記遠ＵＶ光範囲（２０４）、前記ＵＶＣ光範囲（２０６）、前記ＵＶＢ光範囲（２０８）、前記ＵＶＡ光範囲（２１０）、又は前記真空ＵＶ光範囲（２０２）のうちの別の１つを含む、条項１に記載のＵＶ光消毒システム（１００）。
条項３
前記ＵＶ光放射制御ユニット（１２０）が、前記ＵＶ光アセンブリ（１１８）を制御して、第１の期間に前記第１のＵＶバンド内の前記ＵＶ光を放射し、第２の期間に前記第２のＵＶバンド内の前記ＵＶ光を放射する、条項１に記載のＵＶ光消毒システム（１００）。
条項４
前記第１の期間が、前記第２の期間とは異なる、条項３に記載のＵＶ光消毒システム（１００）。
条項５
前記第２の期間が、前記第１の期間の後に連続的に続く、条項３に記載のＵＶ光消毒システム（１００）。
条項６
前記第１の期間が、前記第２の期間と同時に生じる、条項３に記載のＵＶ光消毒システム（１００）。
条項７
前記第１の期間が、前記第２の期間と少なくとも部分的に重なる、条項３に記載のＵＶ光消毒システム（１００）。
条項８
前記ＵＶ光アセンブリ（１１８）が、複数のＵＶ光素子（１２４～１３２）を備える、条項１に記載のＵＶ光消毒システム（１００）。
条項９
前記複数のＵＶ光素子（１２４～１３２）のうちの第１のものが、前記第１のＵＶバンド内の前記ＵＶ光を放射するように構成され、前記複数のＵＶ光素子（１２４～１３２）のうちの第２のものが、前記第２のＵＶバンド内の前記ＵＶ光を放射するように構成されている、条項８に記載のＵＶ光消毒システム（１００）。
条項１０
前記ＵＶ光放射制御ユニット（１２０）が、前記複数のＵＶ光素子（１２４～１３２）によって放射される前記ＵＶ光を変調して、前記第１のＵＶバンドと前記第２のＵＶバンド内の前記ＵＶ光を選択的に放射するように構成されている、条項８に記載のＵＶ光消毒システム（１００）。
条項１１
前記ＵＶ光アセンブリ（１１８）が、前記複数のＵＶ光素子（１２４～１３２）に接続された少なくとも１つのフィルタ（１３４）であって、前記第１のＵＶバンドと前記第２のＵＶバンドに関して、前記ＵＶ光をフィルタリングするように構成された、フィルタ（１３４）を更に備える、条項８に記載のＵＶ光消毒システム（１００）。
条項１２
構造物を消毒するように構成された紫外線（ＵＶ）光消毒方法であって、
ＵＶ光放射制御ユニット（１２０）をＵＶ光アセンブリ（１１８）に接続すること、及び
前記ＵＶ光アセンブリ（１１８）から前記構造物へＵＶ光を放射することであって、前記放射することが、前記ＵＶ光放射制御ユニット（１２０）を使用して、前記ＵＶ光アセンブリ（１１８）を制御し、前記構造物を消毒する消毒サイクルの間に、少なくとも第１のＵＶバンド及び前記第１のＵＶバンドとは異なる第２のＵＶバンド内の前記ＵＶ光を個別に前記構造物へ放射することを含み、前記第１のＵＶバンドと前記第２のＵＶバンド内の前記ＵＶ光が、少なくとも１つの種類の微生物を殺すように構成されている、放射することを含む、ＵＶ光消毒方法。
条項１３
前記放射することが、前記ＵＶ光放射制御ユニット（１２０）を使用して、前記ＵＶ光アセンブリ（１１８）を制御し、前記構造物を消毒する消毒サイクルの間に、少なくとも、ＵＶスペクトル内の、遠ＵＶ光範囲（２０４）、ＵＶＣ光範囲（２０６）、ＵＶＢ光範囲（２０８）、ＵＶＡ光範囲（２１０）、又は真空ＵＶ光範囲（２０２）のうちの１つを含む第１のＵＶバンドと、前記遠ＵＶ光範囲（２０４）、前記ＵＶＣ光範囲（２０６）、前記ＵＶＢ光範囲（２０８）、前記ＵＶＡ光範囲（２１０）、又は前記真空ＵＶ光範囲（２０２）のうちの別の１つを含む第２のＵＶバンド内の、前記ＵＶ光を個別に前記構造物へ放射することを含む、条項１２に記載のＵＶ光消毒方法。
条項１４
前記放射することが、
前記ＵＶ光放射制御ユニット（１２０）を使用して、前記ＵＶ光アセンブリ（１１８）を制御すること、
前記制御することによって、第１の期間に前記第１のＵＶバンド内の前記ＵＶ光を放射すること、及び
前記制御することによって、第２の期間に前記第２のＵＶバンド内の前記ＵＶ光を放射することを含む、条項１２に記載のＵＶ光消毒方法。
条項１５
前記放射することが、
前記ＵＶ光アセンブリ（１１８）の第１のＵＶ光素子から、前記第１のＵＶバンド内の前記ＵＶ光を放射すること、及び
前記ＵＶ光アセンブリ（１１８）の第２のＵＶ光素子から、前記第２のＵＶバンド内の前記ＵＶ光を放射することを含む、条項１２に記載のＵＶ光消毒方法。
条項１６
前記放射することが、
前記ＵＶ光アセンブリ（１１８）によって放射される前記ＵＶ光を変調すること、及び
前記変調することによって、前記第１のＵＶバンドと前記第２のＵＶバンド内の前記ＵＶ光を選択的に放射することを含む、条項１２に記載のＵＶ光消毒方法。
条項１７
前記放射することが、前記複数のＵＶ光素子（１２４～１３２）に接続された少なくとも１つのフィルタ（１３４）を使用して、前記第１のＵＶバンドと前記第２のＵＶバンドに関して、前記ＵＶ光をフィルタリングすることを含む、条項１２に記載のＵＶ光消毒方法。
条項１８
内部客室（６３０、６８０）、
前記内部客室（６３０、６８０）内の洗面所（１０２）、並びに
前記洗面所（１０２）内の少なくとも１つの構造物を消毒するように構成された紫外線（ＵＶ）光消毒システム（１００）を備えた、輸送体であって、前記ＵＶ光消毒システム（１００）が、
前記少なくとも１つの構造物へＵＶ光を放射するように構成されたＵＶ光アセンブリ（１１８）であって、複数のＵＶ光素子（１２４～１３２）を備えた、ＵＶ光アセンブリ（１１８）、並びに
前記ＵＶ光アセンブリ（１１８）に接続されたＵＶ光放射制御ユニット（１２０）であって、前記ＵＶ光アセンブリ（１１８）を制御して、前記少なくとも１つの構造物を消毒する消毒サイクルの間に、少なくとも第１のＵＶバンド及び前記第１のＵＶバンドとは異なる第２のＵＶバンド内のＵＶ光を個別に前記少なくとも１つの構造物へ放射するように構成され、前記第１のＵＶバンドが、ＵＶスペクトル内の、遠ＵＶ光範囲（２０４）、ＵＶＣ光範囲（２０６）、ＵＶＢ光範囲（２０８）、ＵＶＡ光範囲（２１０）、又は真空ＵＶ光範囲（２０２）のうちの１つを含み、前記第２のＵＶバンドが、前記遠ＵＶ光範囲（２０４）、前記ＵＶＣ光範囲（２０６）、前記ＵＶＢ光範囲（２０８）、前記ＵＶＡ光範囲（２１０）、又は前記真空ＵＶ光範囲（２０２）のうちの別の１つを含み、前記第１のＵＶバンドと前記第２のＵＶバンド内の前記ＵＶ光が、少なくとも１つの種類の微生物を殺すように構成されている、ＵＶ光放射制御ユニット（１２０）を備える、輸送体。
条項１９
前記ＵＶ光放射制御ユニット（１２０）が、前記ＵＶ光アセンブリ（１１８）を制御して、第１の期間に前記第１のＵＶバンド内の前記ＵＶ光を放射し、第２の期間に前記第２のＵＶバンド内の前記ＵＶ光を放射し、前記第１の期間が、前記第２の期間と、同時、異なる、後に連続的に続く、又は部分的に重なるのうちの１つである、条項１８に記載の輸送体。
条項２０
前記ＵＶ光放射制御ユニット（１２０）が、前記複数のＵＶ光素子（１２４～１３２）によって放射される前記ＵＶ光を変調して、前記第１のＵＶバンドと前記第２のＵＶバンド内の前記ＵＶ光を選択的に放射するように構成されている、条項１８に記載の輸送体。
本開示の実施例の説明のために、上部、底部、下方、中央、横方向、水平、垂直、前方などの空間及び方向に関する様々な語が用いられているが、そのような語は図面で示す方向に対するものとして用いられているにすぎないことを理解されたい。向きを、反転させる、回転させる、又はそうでなければ、上部が下部に、また下部が上部になるように、また水平が垂直になるように変化させることができる。
本明細書で使用する、作業又は工程を実施する「ように構成される」構造、限定事項、又は要素は、特に作業又は工程に対応する方法で構造的に形成、構成、又は適合されている。明確さのため、及び誤解を避けるために、作業又は工程を実施するために変更可能であるに過ぎない対象物は、本明細書で使用する作業又は工程を実施する「ように構成」されてはいない。
上記の説明は、限定ではなく例示を意図するものであることを理解されたい。例えば、上述の実施例（及び／又はそれらの態様）は、互いに組み合わせて使用され得る。加えて、本開示の様々な実施例の範囲から逸脱することなく、特定の状況又は材料に適応させるために、様々な実施例の教示に多数の改変を加え得る。本明細書に記載の材料の形状寸法及びタイプは、本開示の様々な実施例のパラメータを規定することを意図しており、これらの実施例は限定的なものではなく例示的な実施例である。本発明を精査することにより、当業者には他の多くの実施例が明らかであろう。本開示の様々な実施例の範囲は、添付の特許請求の範囲、並びに、かかる特許請求の範囲が認められる均等物の全範囲を参照して、決定されるべきである。添付の特許請求の範囲において、「含む（ｉｎｃｌｕｄｉｎｇ）」及び「そこにおいて（ｉｎ ｗｈｉｃｈ）という用語は、それぞれ、「備える（ｃｏｍｐｒｉｓｉｎｇ）」及び「そこで（ｗｈｅｒｅｉｎ）」という用語の、明白な同義語として使用される。また、「第１」、「第２」、及び「第３」等の用語は単に符号として使用され、それらの対象物に数的要件を課すことを意図するものではない。更に、以下の特許請求の範囲の限定は、ミーンズ・プラス・ファンクション書式で記述されておらず、かかる特許請求の範囲の限定が、更なる構造のない機能の記述が後続する「のための手段（ｍｅａｎｓ ｆｏｒ）」という言い回しを明示的に使用しない限り、米国特許法第１１２条、段落（ｆ）、３５に基づいて解釈されることを意図するものではない。
ここに記載した説明では、ベストモードを含む本開示の様々な実施例を開示し、且つ当業者が任意のデバイス又はシステムの作成及び使用、並びに組込まれた任意の方法の実行を含め、本開示の様々な実施例を実施することを可能にするために実施例を使用している。本開示の様々な実施例の特許性の範囲は、特許請求の範囲によって画定され、当業者が想起する他の実施例を含み得る。かかる他の実施例は、実施例が特許請求の範囲の文言と相違しない構造要素を有する場合、又は、実施例が、特許請求の範囲の文言とごくわずかな相違しかない同等の構造要素を含む場合、特許請求の範囲内であることが意図される。

Claims (15)

  1. 構造物を消毒するように構成された紫外線（ＵＶ）光消毒システム（１００）であって、該システムは、
    前記構造物へＵＶ光を放射するように構成されたＵＶ光アセンブリ（１１８）、及び
    前記ＵＶ光アセンブリ（１１８）に接続されたＵＶ光放射制御ユニット（１２０）を備え、前記ＵＶ光放射制御ユニット（１２０）が、前記ＵＶ光アセンブリ（１１８）を制御して、前記構造物を消毒する消毒サイクルの間に、少なくとも第１のＵＶバンド及び前記第１のＵＶバンドとは異なる第２のＵＶバンド内のＵＶ光を個別に前記構造物へ放射するように構成され、前記第１のＵＶバンドと前記第２のＵＶバンド内の前記ＵＶ光が、複数の種類の微生物を殺すように構成されており、
    前記ＵＶ光放射制御ユニット（１２０）が、殺されるべき微生物の前記複数の種類に基づいて、前記ＵＶ光アセンブリ（１１８）により放射されるＵＶ光の周波数を変更するように構成されている、ＵＶ光消毒システム（１００）。
  2. 前記第１のＵＶバンドが、ＵＶスペクトル内の、遠ＵＶ光範囲（２０４）、ＵＶＣ光範囲（２０６）、ＵＶＢ光範囲（２０８）、ＵＶＡ光範囲（２１０）、又は真空ＵＶ光範囲（２０２）のうちの１つを含み、前記第２のＵＶバンドが、前記遠ＵＶ光範囲（２０４）、前記ＵＶＣ光範囲（２０６）、前記ＵＶＢ光範囲（２０８）、前記ＵＶＡ光範囲（２１０）、又は前記真空ＵＶ光範囲（２０２）のうちの別の１つを含む、請求項１に記載のＵＶ光消毒システム（１００）。
  3. 前記ＵＶ光放射制御ユニット（１２０）が、前記ＵＶ光アセンブリ（１１８）を制御して、第１の期間に前記第１のＵＶバンド内の前記ＵＶ光を放射し、第２の期間に前記第２のＵＶバンド内の前記ＵＶ光を放射する、請求項１又は２に記載のＵＶ光消毒システム（１００）。
  4. 前記第１の期間が前記第２の期間とは異なるか、前記第２の期間が前記第１の期間の後に連続的に続くか、前記第１の期間が前記第２の期間と同時に生じるか、又は前記第１の期間が前記第２の期間と少なくとも部分的に重なるかの何れかである、請求項３に記載のＵＶ光消毒システム（１００）。
  5. 前記ＵＶ光アセンブリ（１１８）が、複数のＵＶ光素子（１２４～１３２）を備える、請求項１から４のいずれか一項に記載のＵＶ光消毒システム（１００）。
  6. 前記複数のＵＶ光素子（１２４～１３２）のうちの第１のものが、前記第１のＵＶバンド内の前記ＵＶ光を放射するように構成され、前記複数のＵＶ光素子（１２４～１３２）のうちの第２のものが、前記第２のＵＶバンド内の前記ＵＶ光を放射するように構成されている、請求項５に記載のＵＶ光消毒システム（１００）。
  7. 前記ＵＶ光放射制御ユニット（１２０）が、前記複数のＵＶ光素子（１２４～１３２）によって放射される前記ＵＶ光を変更して、前記第１のＵＶバンドと前記第２のＵＶバンド内の前記ＵＶ光を選択的に放射するように構成されている、請求項５に記載のＵＶ光消毒システム（１００）。
  8. 構造物を消毒するように構成された紫外線（ＵＶ）光消毒方法であって、該方法は、
    ＵＶ光放射制御ユニット（１２０）をＵＶ光アセンブリ（１１８）に接続すること、及び
    前記ＵＶ光アセンブリ（１１８）から前記構造物へＵＶ光を放射することを含み、前記放射することが、前記ＵＶ光放射制御ユニット（１２０）を使用して、前記ＵＶ光アセンブリ（１１８）を制御し、前記構造物を消毒する消毒サイクルの間に、少なくとも第１のＵＶバンド及び前記第１のＵＶバンドとは異なる第２のＵＶバンド内の前記ＵＶ光を個別に前記構造物へ放射することを含み、前記第１のＵＶバンドと前記第２のＵＶバンド内の前記ＵＶ光が、複数の種類の微生物を殺すように構成されており、
    前記放射することが、殺されるべき微生物の前記複数の種類に基づいて、前記ＵＶ光アセンブリ（１１８）により放射されるＵＶ光の周波数を変更することを含む、ＵＶ光消毒方法。
  9. 前記放射することが、前記ＵＶ光放射制御ユニット（１２０）を使用して、前記ＵＶ光アセンブリ（１１８）を制御し、前記構造物を消毒する消毒サイクルの間に、少なくとも、ＵＶスペクトル内の、遠ＵＶ光範囲（２０４）、ＵＶＣ光範囲（２０６）、ＵＶＢ光範囲（２０８）、ＵＶＡ光範囲（２１０）、又は真空ＵＶ光範囲（２０２）のうちの１つを含む第１のＵＶバンドと、前記遠ＵＶ光範囲（２０４）、前記ＵＶＣ光範囲（２０６）、前記ＵＶＢ光範囲（２０８）、前記ＵＶＡ光範囲（２１０）、又は前記真空ＵＶ光範囲（２０２）のうちの別の１つを含む第２のＵＶバンド内の、前記ＵＶ光を個別に前記構造物へ放射することを含む、請求項８に記載のＵＶ光消毒方法。
  10. 前記放射することが、
    前記ＵＶ光放射制御ユニット（１２０）を使用して、前記ＵＶ光アセンブリ（１１８）を制御すること、
    前記制御することによって、第１の期間に前記第１のＵＶバンド内の前記ＵＶ光を放射すること、及び
    前記制御することによって、第２の期間に前記第２のＵＶバンド内の前記ＵＶ光を放射することを含む、請求項８に記載のＵＶ光消毒方法。
  11. 前記放射することが、
    前記ＵＶ光アセンブリ（１１８）の第１のＵＶ光素子から、前記第１のＵＶバンド内の前記ＵＶ光を放射すること、及び
    前記ＵＶ光アセンブリ（１１８）の第２のＵＶ光素子から、前記第２のＵＶバンド内の前記ＵＶ光を放射することを含む、請求項８に記載のＵＶ光消毒方法。
  12. 前記放射することが、
    前記変更によって、前記第１のＵＶバンドと前記第２のＵＶバンド内の前記ＵＶ光を選択的に放射することを含む、請求項８に記載のＵＶ光消毒方法。
  13. 内部客室（６３０、６８０）、
    前記内部客室（６３０、６８０）内の洗面所（１０２）、並びに
    前記洗面所（１０２）内の少なくとも１つの構造物を消毒するように構成された紫外線（ＵＶ）光消毒システム（１００）を備えた、輸送体であって、前記ＵＶ光消毒システム（１００）が、
    前記少なくとも１つの構造物へＵＶ光を放射するように構成されたＵＶ光アセンブリ（１１８）であって、複数のＵＶ光素子（１２４～１３２）を備えた、ＵＶ光アセンブリ（１１８）、並びに
    前記ＵＶ光アセンブリ（１１８）に接続されたＵＶ光放射制御ユニット（１２０）を備え、前記ＵＶ光放射制御ユニット（１２０）が、前記ＵＶ光アセンブリ（１１８）を制御して、前記少なくとも１つの構造物を消毒する消毒サイクルの間に、少なくとも第１のＵＶバンド及び前記第１のＵＶバンドとは異なる第２のＵＶバンド内のＵＶ光を個別に前記少なくとも１つの構造物へ放射するように構成され、前記第１のＵＶバンドが、ＵＶスペクトル内の、遠ＵＶ光範囲（２０４）、ＵＶＣ光範囲（２０６）、ＵＶＢ光範囲（２０８）、ＵＶＡ光範囲（２１０）、又は真空ＵＶ光範囲（２０２）のうちの１つを含み、前記第２のＵＶバンドが、前記遠ＵＶ光範囲（２０４）、前記ＵＶＣ光範囲（２０６）、前記ＵＶＢ光範囲（２０８）、前記ＵＶＡ光範囲（２１０）、又は前記真空ＵＶ光範囲（２０２）のうちの別の１つを含み、前記第１のＵＶバンドと前記第２のＵＶバンド内の前記ＵＶ光が、複数の種類の微生物を殺すように構成されており、
    前記ＵＶ光放射制御ユニット（１２０）が、殺されるべき微生物の前記複数の種類に基づいて、前記複数のＵＶ光素子（１２４～１３２）により放射されるＵＶ光の周波数を変更するように構成されている、輸送体。
  14. 前記ＵＶ光放射制御ユニット（１２０）が、前記ＵＶ光アセンブリ（１１８）を制御して、第１の期間に前記第１のＵＶバンド内の前記ＵＶ光を放射し、第２の期間に前記第２のＵＶバンド内の前記ＵＶ光を放射し、前記第１の期間が、前記第２の期間と、同時、異なる、後に連続的に続く、又は部分的に重なるのうちの１つである、請求項１３に記載の輸送体。
  15. 前記ＵＶ光放射制御ユニット（１２０）が、前記複数のＵＶ光素子（１２４～１３２）によって放射される前記ＵＶ光を変更して、前記第１のＵＶバンドと前記第２のＵＶバンド内の前記ＵＶ光を選択的に放射するように構成されている、請求項１３又は１４に記載の輸送体。
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