JP7255964B2 - 多波長紫外線光消毒システム及び方法 - Google Patents
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Description
条項1
構造物を消毒するように構成された紫外線(UV)光消毒システム(100)であって、
前記構造物へUV光を放射するように構成されたUV光アセンブリ(118)、及び
前記UV光アセンブリ(118)に接続されたUV光放射制御ユニット(120)であって、前記UV光アセンブリ(118)を制御して、前記構造物を消毒する消毒サイクルの間に、少なくとも第1のUVバンド及び前記第1のUVバンドとは異なる第2のUVバンド内のUV光を個別に前記構造物へ放射するように構成され、前記第1のUVバンドと前記第2のUVバンド内の前記UV光が、少なくとも1つの種類の微生物を殺すように構成されている、UV光放射制御ユニット(120)を備える、UV光消毒システム(100)。
条項2
前記第1のUVバンドが、UVスペクトル内の、遠UV光範囲(204)、UVC光範囲(206)、UVB光範囲(208)、UVA光範囲(210)、又は真空UV光範囲(202)のうちの1つを含み、前記第2のUVバンドが、前記遠UV光範囲(204)、前記UVC光範囲(206)、前記UVB光範囲(208)、前記UVA光範囲(210)、又は前記真空UV光範囲(202)のうちの別の1つを含む、条項1に記載のUV光消毒システム(100)。
条項3
前記UV光放射制御ユニット(120)が、前記UV光アセンブリ(118)を制御して、第1の期間に前記第1のUVバンド内の前記UV光を放射し、第2の期間に前記第2のUVバンド内の前記UV光を放射する、条項1に記載のUV光消毒システム(100)。
条項4
前記第1の期間が、前記第2の期間とは異なる、条項3に記載のUV光消毒システム(100)。
条項5
前記第2の期間が、前記第1の期間の後に連続的に続く、条項3に記載のUV光消毒システム(100)。
条項6
前記第1の期間が、前記第2の期間と同時に生じる、条項3に記載のUV光消毒システム(100)。
条項7
前記第1の期間が、前記第2の期間と少なくとも部分的に重なる、条項3に記載のUV光消毒システム(100)。
条項8
前記UV光アセンブリ(118)が、複数のUV光素子(124~132)を備える、条項1に記載のUV光消毒システム(100)。
条項9
前記複数のUV光素子(124~132)のうちの第1のものが、前記第1のUVバンド内の前記UV光を放射するように構成され、前記複数のUV光素子(124~132)のうちの第2のものが、前記第2のUVバンド内の前記UV光を放射するように構成されている、条項8に記載のUV光消毒システム(100)。
条項10
前記UV光放射制御ユニット(120)が、前記複数のUV光素子(124~132)によって放射される前記UV光を変調して、前記第1のUVバンドと前記第2のUVバンド内の前記UV光を選択的に放射するように構成されている、条項8に記載のUV光消毒システム(100)。
条項11
前記UV光アセンブリ(118)が、前記複数のUV光素子(124~132)に接続された少なくとも1つのフィルタ(134)であって、前記第1のUVバンドと前記第2のUVバンドに関して、前記UV光をフィルタリングするように構成された、フィルタ(134)を更に備える、条項8に記載のUV光消毒システム(100)。
条項12
構造物を消毒するように構成された紫外線(UV)光消毒方法であって、
UV光放射制御ユニット(120)をUV光アセンブリ(118)に接続すること、及び
前記UV光アセンブリ(118)から前記構造物へUV光を放射することであって、前記放射することが、前記UV光放射制御ユニット(120)を使用して、前記UV光アセンブリ(118)を制御し、前記構造物を消毒する消毒サイクルの間に、少なくとも第1のUVバンド及び前記第1のUVバンドとは異なる第2のUVバンド内の前記UV光を個別に前記構造物へ放射することを含み、前記第1のUVバンドと前記第2のUVバンド内の前記UV光が、少なくとも1つの種類の微生物を殺すように構成されている、放射することを含む、UV光消毒方法。
条項13
前記放射することが、前記UV光放射制御ユニット(120)を使用して、前記UV光アセンブリ(118)を制御し、前記構造物を消毒する消毒サイクルの間に、少なくとも、UVスペクトル内の、遠UV光範囲(204)、UVC光範囲(206)、UVB光範囲(208)、UVA光範囲(210)、又は真空UV光範囲(202)のうちの1つを含む第1のUVバンドと、前記遠UV光範囲(204)、前記UVC光範囲(206)、前記UVB光範囲(208)、前記UVA光範囲(210)、又は前記真空UV光範囲(202)のうちの別の1つを含む第2のUVバンド内の、前記UV光を個別に前記構造物へ放射することを含む、条項12に記載のUV光消毒方法。
条項14
前記放射することが、
前記UV光放射制御ユニット(120)を使用して、前記UV光アセンブリ(118)を制御すること、
前記制御することによって、第1の期間に前記第1のUVバンド内の前記UV光を放射すること、及び
前記制御することによって、第2の期間に前記第2のUVバンド内の前記UV光を放射することを含む、条項12に記載のUV光消毒方法。
条項15
前記放射することが、
前記UV光アセンブリ(118)の第1のUV光素子から、前記第1のUVバンド内の前記UV光を放射すること、及び
前記UV光アセンブリ(118)の第2のUV光素子から、前記第2のUVバンド内の前記UV光を放射することを含む、条項12に記載のUV光消毒方法。
条項16
前記放射することが、
前記UV光アセンブリ(118)によって放射される前記UV光を変調すること、及び
前記変調することによって、前記第1のUVバンドと前記第2のUVバンド内の前記UV光を選択的に放射することを含む、条項12に記載のUV光消毒方法。
条項17
前記放射することが、前記複数のUV光素子(124~132)に接続された少なくとも1つのフィルタ(134)を使用して、前記第1のUVバンドと前記第2のUVバンドに関して、前記UV光をフィルタリングすることを含む、条項12に記載のUV光消毒方法。
条項18
内部客室(630、680)、
前記内部客室(630、680)内の洗面所(102)、並びに
前記洗面所(102)内の少なくとも1つの構造物を消毒するように構成された紫外線(UV)光消毒システム(100)を備えた、輸送体であって、前記UV光消毒システム(100)が、
前記少なくとも1つの構造物へUV光を放射するように構成されたUV光アセンブリ(118)であって、複数のUV光素子(124~132)を備えた、UV光アセンブリ(118)、並びに
前記UV光アセンブリ(118)に接続されたUV光放射制御ユニット(120)であって、前記UV光アセンブリ(118)を制御して、前記少なくとも1つの構造物を消毒する消毒サイクルの間に、少なくとも第1のUVバンド及び前記第1のUVバンドとは異なる第2のUVバンド内のUV光を個別に前記少なくとも1つの構造物へ放射するように構成され、前記第1のUVバンドが、UVスペクトル内の、遠UV光範囲(204)、UVC光範囲(206)、UVB光範囲(208)、UVA光範囲(210)、又は真空UV光範囲(202)のうちの1つを含み、前記第2のUVバンドが、前記遠UV光範囲(204)、前記UVC光範囲(206)、前記UVB光範囲(208)、前記UVA光範囲(210)、又は前記真空UV光範囲(202)のうちの別の1つを含み、前記第1のUVバンドと前記第2のUVバンド内の前記UV光が、少なくとも1つの種類の微生物を殺すように構成されている、UV光放射制御ユニット(120)を備える、輸送体。
条項19
前記UV光放射制御ユニット(120)が、前記UV光アセンブリ(118)を制御して、第1の期間に前記第1のUVバンド内の前記UV光を放射し、第2の期間に前記第2のUVバンド内の前記UV光を放射し、前記第1の期間が、前記第2の期間と、同時、異なる、後に連続的に続く、又は部分的に重なるのうちの1つである、条項18に記載の輸送体。
条項20
前記UV光放射制御ユニット(120)が、前記複数のUV光素子(124~132)によって放射される前記UV光を変調して、前記第1のUVバンドと前記第2のUVバンド内の前記UV光を選択的に放射するように構成されている、条項18に記載の輸送体。
Claims (15)
- 構造物を消毒するように構成された紫外線(UV)光消毒システム(100)であって、該システムは、
前記構造物へUV光を放射するように構成されたUV光アセンブリ(118)、及び
前記UV光アセンブリ(118)に接続されたUV光放射制御ユニット(120)を備え、前記UV光放射制御ユニット(120)が、前記UV光アセンブリ(118)を制御して、前記構造物を消毒する消毒サイクルの間に、少なくとも第1のUVバンド及び前記第1のUVバンドとは異なる第2のUVバンド内のUV光を個別に前記構造物へ放射するように構成され、前記第1のUVバンドと前記第2のUVバンド内の前記UV光が、複数の種類の微生物を殺すように構成されており、
前記UV光放射制御ユニット(120)が、殺されるべき微生物の前記複数の種類に基づいて、前記UV光アセンブリ(118)により放射されるUV光の周波数を変更するように構成されている、UV光消毒システム(100)。 - 前記第1のUVバンドが、UVスペクトル内の、遠UV光範囲(204)、UVC光範囲(206)、UVB光範囲(208)、UVA光範囲(210)、又は真空UV光範囲(202)のうちの1つを含み、前記第2のUVバンドが、前記遠UV光範囲(204)、前記UVC光範囲(206)、前記UVB光範囲(208)、前記UVA光範囲(210)、又は前記真空UV光範囲(202)のうちの別の1つを含む、請求項1に記載のUV光消毒システム(100)。
- 前記UV光放射制御ユニット(120)が、前記UV光アセンブリ(118)を制御して、第1の期間に前記第1のUVバンド内の前記UV光を放射し、第2の期間に前記第2のUVバンド内の前記UV光を放射する、請求項1又は2に記載のUV光消毒システム(100)。
- 前記第1の期間が前記第2の期間とは異なるか、前記第2の期間が前記第1の期間の後に連続的に続くか、前記第1の期間が前記第2の期間と同時に生じるか、又は前記第1の期間が前記第2の期間と少なくとも部分的に重なるかの何れかである、請求項3に記載のUV光消毒システム(100)。
- 前記UV光アセンブリ(118)が、複数のUV光素子(124~132)を備える、請求項1から4のいずれか一項に記載のUV光消毒システム(100)。
- 前記複数のUV光素子(124~132)のうちの第1のものが、前記第1のUVバンド内の前記UV光を放射するように構成され、前記複数のUV光素子(124~132)のうちの第2のものが、前記第2のUVバンド内の前記UV光を放射するように構成されている、請求項5に記載のUV光消毒システム(100)。
- 前記UV光放射制御ユニット(120)が、前記複数のUV光素子(124~132)によって放射される前記UV光を変更して、前記第1のUVバンドと前記第2のUVバンド内の前記UV光を選択的に放射するように構成されている、請求項5に記載のUV光消毒システム(100)。
- 構造物を消毒するように構成された紫外線(UV)光消毒方法であって、該方法は、
UV光放射制御ユニット(120)をUV光アセンブリ(118)に接続すること、及び
前記UV光アセンブリ(118)から前記構造物へUV光を放射することを含み、前記放射することが、前記UV光放射制御ユニット(120)を使用して、前記UV光アセンブリ(118)を制御し、前記構造物を消毒する消毒サイクルの間に、少なくとも第1のUVバンド及び前記第1のUVバンドとは異なる第2のUVバンド内の前記UV光を個別に前記構造物へ放射することを含み、前記第1のUVバンドと前記第2のUVバンド内の前記UV光が、複数の種類の微生物を殺すように構成されており、
前記放射することが、殺されるべき微生物の前記複数の種類に基づいて、前記UV光アセンブリ(118)により放射されるUV光の周波数を変更することを含む、UV光消毒方法。 - 前記放射することが、前記UV光放射制御ユニット(120)を使用して、前記UV光アセンブリ(118)を制御し、前記構造物を消毒する消毒サイクルの間に、少なくとも、UVスペクトル内の、遠UV光範囲(204)、UVC光範囲(206)、UVB光範囲(208)、UVA光範囲(210)、又は真空UV光範囲(202)のうちの1つを含む第1のUVバンドと、前記遠UV光範囲(204)、前記UVC光範囲(206)、前記UVB光範囲(208)、前記UVA光範囲(210)、又は前記真空UV光範囲(202)のうちの別の1つを含む第2のUVバンド内の、前記UV光を個別に前記構造物へ放射することを含む、請求項8に記載のUV光消毒方法。
- 前記放射することが、
前記UV光放射制御ユニット(120)を使用して、前記UV光アセンブリ(118)を制御すること、
前記制御することによって、第1の期間に前記第1のUVバンド内の前記UV光を放射すること、及び
前記制御することによって、第2の期間に前記第2のUVバンド内の前記UV光を放射することを含む、請求項8に記載のUV光消毒方法。 - 前記放射することが、
前記UV光アセンブリ(118)の第1のUV光素子から、前記第1のUVバンド内の前記UV光を放射すること、及び
前記UV光アセンブリ(118)の第2のUV光素子から、前記第2のUVバンド内の前記UV光を放射することを含む、請求項8に記載のUV光消毒方法。 - 前記放射することが、
前記変更によって、前記第1のUVバンドと前記第2のUVバンド内の前記UV光を選択的に放射することを含む、請求項8に記載のUV光消毒方法。 - 内部客室(630、680)、
前記内部客室(630、680)内の洗面所(102)、並びに
前記洗面所(102)内の少なくとも1つの構造物を消毒するように構成された紫外線(UV)光消毒システム(100)を備えた、輸送体であって、前記UV光消毒システム(100)が、
前記少なくとも1つの構造物へUV光を放射するように構成されたUV光アセンブリ(118)であって、複数のUV光素子(124~132)を備えた、UV光アセンブリ(118)、並びに
前記UV光アセンブリ(118)に接続されたUV光放射制御ユニット(120)を備え、前記UV光放射制御ユニット(120)が、前記UV光アセンブリ(118)を制御して、前記少なくとも1つの構造物を消毒する消毒サイクルの間に、少なくとも第1のUVバンド及び前記第1のUVバンドとは異なる第2のUVバンド内のUV光を個別に前記少なくとも1つの構造物へ放射するように構成され、前記第1のUVバンドが、UVスペクトル内の、遠UV光範囲(204)、UVC光範囲(206)、UVB光範囲(208)、UVA光範囲(210)、又は真空UV光範囲(202)のうちの1つを含み、前記第2のUVバンドが、前記遠UV光範囲(204)、前記UVC光範囲(206)、前記UVB光範囲(208)、前記UVA光範囲(210)、又は前記真空UV光範囲(202)のうちの別の1つを含み、前記第1のUVバンドと前記第2のUVバンド内の前記UV光が、複数の種類の微生物を殺すように構成されており、
前記UV光放射制御ユニット(120)が、殺されるべき微生物の前記複数の種類に基づいて、前記複数のUV光素子(124~132)により放射されるUV光の周波数を変更するように構成されている、輸送体。 - 前記UV光放射制御ユニット(120)が、前記UV光アセンブリ(118)を制御して、第1の期間に前記第1のUVバンド内の前記UV光を放射し、第2の期間に前記第2のUVバンド内の前記UV光を放射し、前記第1の期間が、前記第2の期間と、同時、異なる、後に連続的に続く、又は部分的に重なるのうちの1つである、請求項13に記載の輸送体。
- 前記UV光放射制御ユニット(120)が、前記複数のUV光素子(124~132)によって放射される前記UV光を変更して、前記第1のUVバンドと前記第2のUVバンド内の前記UV光を選択的に放射するように構成されている、請求項13又は14に記載の輸送体。
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