JP7248170B2 - 印字システム、印字装置、印字方法およびプログラム - Google Patents
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Description
上述の開示において、印字パラメータは、対象物の個体識別情報を含む。第1の設定部は、外部からの指示を受け付けることにより個体識別情報を設定する。
上述の開示において、印字パラメータは、対象物の基準位置に対する印字位置と、基準位置からの印字方向とを含む。
この開示によれば、レーザマーカを用いた印字において、対象物に応じて印字条件を柔軟に変更することができる。これにより利便性に優れたレーザマーカを提供できる。
ことが可能なようにマーカを移動させるマーカ移動装置とを制御して、対象物に印字するステップとを実行させる、プログラムである。
まず、図1を参照して、本発明が適用される場面の一例について説明する。図1は、本実施の形態に係る印字システムの一つの構成例を示すブロック図である。図1に示すように、印字システム100は、レーザマーカ10と、ロボット20と、センサ30と、コントローラ40と、設定装置50と、上位システム60と、ネットワーク70とを含む。たとえばワークWは、コンベア(図示せず)により、製造ラインを移動する。印字システム100が適用される製造工程は特に限定されない。
る情報(ワーク到来の検出、画像情報、3D情報など)を、センサ30から取得する。コントローラ40は、その情報に基づいてロボット20を制御して、ワークWに応じてレーザマーカ10の位置および姿勢を変化させる。さらにコントローラ40は、ワークWに印字を行うようレーザマーカ10を制御する。
図2は、図1に示したコントローラ40のハードウエア構成を示す図である。コントローラ40は、プロセッサ2と、BIOSや各種データを格納するROM(Read Only Memory)3と、RAM4と、記憶装置5とを含む。
ッサ2が実行する各種機能を実現するための制御プログラム9を保持する。
設定装置50は、コンピュータにより実現可能である。したがって、設定装置50の基本的なハードウエア構成は、図2に示す構成と同じである。コンピュータのプロセッサが必要なプログラムを実行することにより、コンピュータを、第1の設定部51および第2の設定部52を含む設定装置50として実現することができる。
レーザマーカは、レーザ光をワークの表面に照射することによりワークに印字する装置である。図3は、図1に示すレーザマーカの第1の構成例を示した図である。図3に示すように、レーザマーカ10は、レーザ光源11と、光学系12とを含む。レーザ光源11と、光学系12とは筐体13に収容される。
ワークWに印字を行うに先立ち、コントローラ40が設定される。図1を再び参照して、コントローラ40は、印字パラメータを取得する。この実施の形態では、印字パラメータはワークWの種類ごとに設定される。コントローラ40は、印字パラメータを設定装置50の第1の設定部51から取得する。上位システム60が第1の設定部51を有してもよい。この場合には、コントローラ40は、上位システム60から印字パラメータを取得する。
れる。したがってセンサ32の設置方向は、上方に限定されるものではない。
図5を再び参照して、コントローラ40は、センサ31の検出値からワークWの移動速度を求めることができる。コントローラ40は、さらに、センサ32によりワークWを検出した時刻、そのワークWが検出された位置、および、ロボット20がレーザマーカ10を所定の位置に移動させるのに要する所要時間に関する情報を取得する。その情報に基づき、コントローラ40は、センサ33およびレーザマーカ10の移動先の目標位置(目標値)を定めることができる。その目標位置にレーザマーカ10を移動させることにより、
ワークWの所定の印字位置に印字が可能である。
ワークWの表面に起伏がある場合、あるいはワークWの表面が曲面である場合には、印字面とレーザマーカとの距離が一定ではない。一般的なレーザマーカでは、その焦点深度が浅い。したがって、印字面とレーザマーカとの距離が一定であるとの前提で、起伏のある表面、あるいは曲面に印字を行うと、印字の品質が劣化する可能性がある。この実施の形態では、ワークWとレーザマーカ10との間の相対位置を変化させながら段階的に印字を実行する。
図10は、ワークW1の側面への印字を説明する図である。図10に示した例では、印字範囲W11は、ワークW1の側面の一部である。図10において符号(1)により示されるように、本実施の形態では、レーザ光ビームLの光軸をワークW1の表面の法線の方向と平行になるように、レーザマーカ10の姿勢を制御してもよい。これにより印字範囲W11に印字が可能となる。レーザマーカ10からの距離が一定になるので、良好な印字品質を得ることができる。さらに、レーザ光ビームLの光軸と印字面とが垂直であるので、透視変換歪み(台形歪み)を低減できる。
を適用することができる。
本実施の形態において、印字システム100は印字パラメータに従ってワークWの印字を実行する。印字パラメータは、ワークの基準位置に対する印字位置と、その基準位置からの印字方向とを含む。さらに、印字パラメータは、印字パターンを含むことができる。上述のように、印字パターンは特に限定されず、ヒューマンリーダブルなシンボル(たとえば英数字等のシンボル)からなるパターンでもよく、QRコード(登録商標)などの情報シンボルでもよいし、任意の図形、直線、曲線または点であってもよい。
50は、ディスプレイに設定画面55を表示させる。設定画面55は、レーザマーカ10およびワークWを表示する。たとえばワークWの3次元CADデータを設定装置50に入力することにより、ワークWの三次元透視像が設定画面55に表示される。
設定装置50により印字位置を設定したとしても、実際には、その指定された位置に印字ができない可能性がある。図13に例示されたワークWにおいて、印字位置W31が指定される。しかし、トレイ81の構造体などのような、ワークWの周囲環境物がロボットあるいはセンサと干渉する場合がある。このような場合には、印字位置W31に印字を行うことができない。
上述の実施形態では、1つのトレイに1つのワークが載せられる。しかし、製造現場においては、1つのトレイ内に配置された複数の製品のそれぞれに個体識別番号などの印字を行う場合もある。以下では複数のワークへの印字について説明する。
図18は、本実施の形態に係る印字システムとリーダとを組み合わせたシステムの構成図である。図18に示す例では、製造システム200は、4つの工程(工程A、工程B、工程C、工程D)を実行するためのシステムである。製造システム200において、製造工程は、工程A、工程B、工程C、工程Dの順に実行される。各工程の具体的な内容は特に限定されるものではない。
以上のように、本実施形態は以下のような開示を含む。
対象物(W)に印字を行うためのマーカ(10)と、
前記対象物(W)と前記マーカ(10)との間の相対位置を3以上の自由度で変化させることが可能なように前記マーカ(10)を移動させる、マーカ移動装置(20)と、
制御プログラムを実行することにより前記マーカ(10)および前記マーカ移動装置(20)を制御するコントローラ(40)と、
前記コントローラ(40)の内部または外部に設けられ、前記マーカ(10)による前記対象物(W)への印字のための印字パラメータを設定する第1の設定部(51)と、
前記コントローラ(40)の内部または外部に設けられ、前記印字パラメータと、前記対象物(W)の三次元形状および位置に関する情報とに基づいて、前記コントローラ(40)の前記制御プログラムを設定する第2の設定部(52)とを備える、印字システム。
前記印字パラメータは、前記対象物(W)の個体識別情報を含み、
前記第1の設定部(51)は、外部からの指示を受け付けることにより前記個体識別情報を設定する、構成1に記載の印字システム。
前記印字パラメータは、
前記対象物(W)の基準位置に対する印字位置と、前記基準位置からの印字方向とを含む、構成1または構成2に記載の印字システム。
前記第2の設定部(52)は、さらに、
前記対象物(W)の移動速度と、
前記マーカ移動装置(20)の可動範囲と、
前記マーカ移動装置(20)の三次元形状および前記マーカ(10)の三次元形状と、
前記マーカ(10)の印字可能距離の範囲と、
のうちの少なくとも1つの情報に基づいて、前記制御プログラムを設定する、構成1から構成3のいずれか1つに記載の印字システム。
前記対象物(W)の位置を計測するセンサ(33)を含み、
前記第2の設定部(52)は、前記センサ(33)により計測された前記対象物(W)の位置に基づいて前記マーカ(10)の目標位置を決定する、構成1から構成4のいずれか1つに記載の印字システム。
前記コントローラ(40)は、前記対象物(W)と前記マーカ(10)との間の前記相対位置を変化させながら段階的に印字を実行するように、前記マーカ(10)および前記マーカ移動装置(20)を制御する、構成1から構成5のいずれか1つに記載の印字システム。
前記第2の設定部(52)は、前記対象物(W)の前記三次元形状および前記位置の情報に基づいて、前記対象物(W)に印字が可能であるかどうかを判定するように構成され、
前記印字システムは、
前記第2の設定部(52)による判定の結果をユーザに通知する通知部(55)をさらに備える、構成4または構成5に記載の印字システム。
前記印字パラメータは、冗長性をもつ印字位置情報を含み、
前記コントローラ(40)は、前記センサ(33)の計測結果および前記印字位置情報に基づいて、印字位置を調整するように、前記マーカ(10)および前記マーカ移動装置(20)を制御する、構成5に記載の印字システム。
前記マーカ(10)は、レーザマーカである、構成1から構成8のいずれか1つに記載の印字システム。
対象物(W)に印字を行うためのマーカ部(10)と、
前記対象物(W)と前記マーカ部(10)との間の相対位置を3以上の自由度で変化させることが可能なように前記マーカ部(10)を移動させるマーカ移動部(20)と、
制御プログラムを実行することにより前記マーカ部(10)および前記マーカ移動部(20)を制御する制御部(40)とを備え、
前記制御部(40)は、印字パラメータ、ならびに、前記対象物(W)情報取得部により取得された前記対象物(W)の前記三次元形状および前記位置に基づいて、前記対象物(W)の所定の位置に印字が行われるように、前記マーカ部(10)および前記マーカ移動部(20)を制御する、印字装置。
マーカ(10)と、前記マーカ(10)と対象物(W)との間の相対位置を3以上の自由度で変化させることが可能なように前記マーカ(10)を移動させるマーカ移動装置(20)と、コントローラ(40)とを備えた印字システムによる、印字方法であって、
前記対象物(W)の三次元形状および位置に関する情報を取得するステップ(S2)と、
印字パラメータを設定するステップ(S1)と、
前記印字パラメータと、前記対象物(W)の前記三次元形状および前記位置とに基づいて、前記コントローラ(40)の制御プログラムを設定するステップ(S2)と、
前記制御プログラムを前記コントローラ(40)が実行することにより、前記マーカ(10)および前記マーカ移動装置(20)を制御して前記対象物(W)に印字するステップ(S13)とを備える、印字方法。
前記印字するステップは、
前記対象物(W)と前記マーカ(10)との間の前記相対位置を変化させながら印字を行うことを繰り返すステップを含む、構成11に記載の印字方法。
前記印字パラメータは、冗長性をもつ印字位置情報を含み、
前記対象物(W)の三次元形状、前記対象物(W)の位置および前記印字位置情報に基づいて前記マーカ(10)および前記マーカ移動装置(20)を制御して印字位置を調整するステップを含む、構成11に記載の印字方法。
コントローラ(40)に、
対象物(W)の三次元形状および位置に関する情報を取得するステップ(S2)と、
印字パラメータと、前記対象物(W)の前記三次元形状および前記位置とに基づいて、マーカ(10)と、前記マーカ(10)と前記対象物(W)との間の相対位置を3以上の自由度で変化させることが可能なように前記マーカ(10)を移動させるマーカ移動装置(20)とを制御して、前記対象物(W)に印字するステップ(S13)とを実行させる、プログラム。
前記印字するステップは、
前記対象物(W)と前記マーカ(10)との間の前記相対位置を変化させながら印字を行うことを繰り返すステップを含む、構成14に記載のプログラム。
前記印字パラメータは、冗長性をもつ印字位置情報を含み、
前記印字するステップは、
前記対象物(W)の三次元形状、前記対象物(W)の位置および前記印字位置情報に基づいて前記マーカ(10)および前記マーカ移動装置(20)を制御して印字位置を調整するステップを含む、構成14に記載のプログラム。
設定装置、51 第1の設定部、52 第2の設定部、55 設定画面、57 編集エリア、58 ツールアイコン、60 上位システム、70 ネットワーク、80 コンベア、81 トレイ、82 RFIDタグ、100 印字システム、200 製造システム、A 軸、C1 観測座標系、C2 マーカ座標系、L レーザ光ビーム、M1,M2,M3,M4 印字面、P1,P2,P3,P4,P5 点、S1,S2,S11,S12,S13,S21,S22,S23 ステップ、W,W1,WA,WB,WC,WD ワーク、W2 障害物、W11,W12 印字範囲、W21,W31,W32,W41 印字位置。
Claims (8)
- レーザ光を走査して対象物に印字を行うためのマーカと、
前記対象物と前記マーカとの間の相対位置を3以上の自由度で変化させることが可能なように前記マーカを移動させる、マーカ移動装置と、
前記対象物の三次元形状および位置を計測するセンサと、
制御プログラムを実行することにより前記マーカおよび前記マーカ移動装置を制御するコントローラとを備え、
前記対象物が移動する場合に、前記コントローラは、前記センサの計測結果に基づいて、前記対象物と前記マーカとの間の相対速度がより小さくなるように、前記マーカ移動装置を制御するとともに、前記対象物に印字を行うための前記レーザ光の走査を行うように前記マーカを制御する、印字システム。 - 前記コントローラは、前記対象物に対する前記マーカの相対速度を0に近づける、請求項1に記載の印字システム。
- 前記コントローラは、前記センサから取得した情報から、前記マーカ移動装置の経路を動的に算出して、その算出した経路に基づいて前記マーカ移動装置を制御する、請求項2に記載の印字システム。
- 対象物に印字を行うためのマーカと、
前記対象物と前記マーカとの間の相対位置を3以上の自由度で変化させることが可能なように前記マーカを移動させる、マーカ移動装置と、
制御プログラムを実行することにより前記マーカおよび前記マーカ移動装置を制御するコントローラとを備え、
前記対象物が移動する場合に、前記コントローラは、前記対象物の三次元CADの情報および前記対象物の印字位置に基づいて予め設定された経路に基づいて、前記対象物と前記マーカとの間の相対速度がより小さくなるように前記マーカ移動装置を制御する、印字システム。 - 前記マーカは、レーザ光を走査して前記対象物に印字を行うためのマーカである、請求項4に記載の印字システム。
- レーザ光を走査して対象物に印字を行うためのマーカ部と、
前記対象物と前記マーカ部との間の相対位置を3以上の自由度で変化させることが可能なように前記マーカ部を移動させるマーカ移動部と、
制御プログラムを実行することにより前記マーカ部および前記マーカ移動部を制御する制御部とを備え、
前記対象物が移動する場合に、前記制御部は、前記対象物の三次元形状および位置を計測するセンサの計測結果に基づいて、前記対象物と前記マーカ部との間の相対速度がより小さくなるように、前記マーカ移動部を制御するとともに、前記対象物に印字を行うための前記レーザ光の走査を行うように前記マーカを制御する、印字装置。 - レーザ光を走査して対象物に印字を行うためのマーカと、前記マーカと前記対象物との間の相対位置を3以上の自由度で変化させることが可能なように前記マーカを移動させるマーカ移動装置と、コントローラとを備えた印字システムによる、印字方法であって、
前記対象物の三次元形状および位置に関する情報を取得するステップと、
前記対象物が移動する場合に、前記対象物の前記三次元形状と前記位置とに基づいて、前記対象物と前記マーカとの間の相対速度がより小さくなるように、前記マーカおよび前記マーカ移動装置を制御するととともに、前記レーザ光の走査を行うように前記マーカを制御して前記対象物に印字するステップとを備える、印字方法。 - コントローラに、
対象物の三次元形状および位置に関する情報を取得するステップと、
印字パラメータと、前記対象物の前記三次元形状および前記位置とに基づいて、前記対象物が移動する場合に、前記対象物と、レーザ光を走査して前記対象物に印字を行うためのマーカとの間の相対速度がより小さくなるように、前記マーカと、前記マーカと前記対象物との間の相対位置を3以上の自由度で変化させることが可能なように前記マーカを移動させるマーカ移動装置と、前記マーカによる前記レーザ光の走査とを制御して、前記対象物に印字するステップとを実行させる、プログラム。
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