JP7245418B2 - Composition for thick film resistor, paste for thick film resistor, and thick film resistor - Google Patents

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Description

本発明は、チップ抵抗器やハイブリッドICなどの抵抗部品における厚膜抵抗体の形成に使用される、厚膜抵抗体用組成物および厚膜抵抗体用ペースト、並びに、これらを用いて形成された厚膜抵抗体に関する。 The present invention provides a composition for a thick film resistor and a paste for a thick film resistor, which are used for forming a thick film resistor in a resistance component such as a chip resistor or a hybrid IC, and a composition formed using these It relates to thick film resistors.

従来、電子部品のうちの抵抗部品としては、抵抗ペーストを用いて形成される厚膜抵抗体と、膜形成材料のスパッタリングなどにより形成される薄膜抵抗体とが存在する。これらのうち、厚膜抵抗体は、その製造設備が安価で、かつ、その生産性も高いことから、チップ抵抗器やハイブリッドICなどの抵抗部品として、広範に利用されている。 2. Description of the Related Art Conventionally, as a resistance component among electronic components, there are a thick film resistor formed using a resistance paste and a thin film resistor formed by sputtering a film forming material. Among these, thick-film resistors are widely used as resistance components such as chip resistors and hybrid ICs because of their low manufacturing facilities and high productivity.

厚膜抵抗体は、厚膜抵抗体用ペーストをセラミックス基板上に印刷し、焼成することにより形成される。この厚膜抵抗体用ペーストは、導電性粉末と、ガラスフリットと、これらを印刷に適したペースト状にするための有機ビヒクルとにより、実質的に構成される。 A thick film resistor is formed by printing a paste for a thick film resistor on a ceramic substrate and firing the paste. This thick-film resistor paste is substantially composed of conductive powder, glass frit, and an organic vehicle for making these pastes suitable for printing.

導電性粉末としては、二酸化ルテニウム(RuO)やパイロクロア型ルテニウム系酸化物(PbRu7-X、BiRu )などのルテニウム(Ru)化合物が、一般的に使用されている。導電性粉末として二酸化ルテニウムやルテニウム化合物が使用される理由は、主にその濃度の変化に対して抵抗値がなだらかに変化するという特性を有するためである。 Ruthenium (Ru) compounds such as ruthenium dioxide (RuO 2 ) and pyrochlore-type ruthenium-based oxides (Pb 2 Ru 2 O 7-X , Bi 2 Ru 2 O 7 ) are generally used as the conductive powder. ing. The reason why ruthenium dioxide and ruthenium compounds are used as the conductive powder is mainly that they have the characteristic that the resistance value changes smoothly with changes in their concentration.

しかしながら、これらのルテニウム系では、抵抗値を下げるのには限界があり、その面積抵抗値の下限は10Ω/□程度、実用的には100Ω/□程度である。 However, in these ruthenium-based materials, there is a limit to lowering the resistance value, and the lower limit of the area resistance value is about 10Ω/□, and practically about 100Ω/□.

これに対して、特開平04-206602号公報には、導電性粉末として、貴金属粉末、より具体的には、銀44重量%~47重量%とパラジウム53重量%~56重量%の組成を有する貴金属粉末を採用した厚膜抵抗体用組成物が開示されている。また、これらの貴金属粉末とルテニウム系材料粉末とからなる厚膜抵抗体用組成物も知られている。これらの厚膜抵抗体用組成物を用いて形成された厚膜抵抗体は、100mΩ/□~10Ω/□の範囲にある低い面積抵抗値を有する。 On the other hand, in JP-A-04-206602, as the conductive powder, a precious metal powder, more specifically, a composition of 44% to 47% by weight of silver and 53% to 56% by weight of palladium Compositions for thick film resistors employing noble metal powders are disclosed. Compositions for thick film resistors comprising these noble metal powders and ruthenium-based material powders are also known. Thick film resistors formed using these compositions for thick film resistors have low area resistance values in the range of 100 mΩ/□ to 10 Ω/□.

特開平11-288801号公報には、導電性粉末として、銅系導体、より具体的には、銅粉とニッケル粉の混合粉(Cu/Ni=60/40~80/20)を採用した厚膜抵抗体用ペーストが開示されている。この銅系の厚膜抵抗体用ペーストは、銀系の厚膜抵抗体用ペーストよりも低コストで得られる。かかる厚膜抵抗体用ペーストを窒素雰囲気下で焼成することにより、厚膜抵抗体が形成される。 In JP-A-11-288801, as the conductive powder, a copper-based conductor, more specifically, a mixed powder of copper powder and nickel powder (Cu/Ni = 60/40 to 80/20). A film resistor paste is disclosed. This copper-based thick-film resistor paste can be obtained at a lower cost than the silver-based thick-film resistor paste. A thick film resistor is formed by firing such a thick film resistor paste in a nitrogen atmosphere.

特開平04-206602号公報JP-A-04-206602 特開平11-288801号公報JP-A-11-288801

しかしながら、銀およびパラジウムは、価格が高いという問題がある。特に、厚膜抵抗体の温度特性を良好なものとするためには、非常に高価なパラジウムを多く使用する必要がある。また、銀系の電極、抵抗体にはエレクトロマイグレ-ションを引き起こす可能性がある。 However, silver and palladium have the problem of being expensive. In particular, in order to improve the temperature characteristics of the thick film resistor, it is necessary to use a large amount of very expensive palladium. Electromigration may also occur in silver-based electrodes and resistors.

さらに、銅およびニッケルを用いた厚膜抵抗体では、その面積抵抗値が1Ω/□未満となって、1Ω/□~10Ω/□の範囲にある面積抵抗値を有する厚膜抵抗体を得ることができない。厚膜抵抗体のガラス量を増やしてその面積抵抗値を1Ω/□以上まで上げることは可能であるが、この場合には厚膜抵抗体の特性が悪化してしまうという問題がある。 Further, the thick film resistor using copper and nickel has a sheet resistance value of less than 1 Ω/□, and a thick film resistor having a sheet resistance value in the range of 1 Ω/□ to 10 Ω/□ is obtained. can't It is possible to increase the sheet resistance of the thick film resistor to 1 Ω/□ or more by increasing the amount of glass in the thick film resistor.

本発明は、銀、パラジウム、ルテニウム系材料などの高価な材料を使用することなく、100mΩ/□~15Ω/□の範囲にある面積抵抗値を有し、かつ、良好な特性を備えた厚膜抵抗体、および、このような厚膜抵抗体を形成するための厚膜抵抗体用組成物および厚膜抵抗体用ペーストを提供することを目的とする。 The present invention provides a thick film having a sheet resistance value in the range of 100 mΩ/□ to 15 Ω/□ and having good properties without using expensive materials such as silver, palladium, and ruthenium-based materials. An object of the present invention is to provide a resistor, and a thick film resistor composition and a thick film resistor paste for forming such a thick film resistor.

本発明の厚膜抵抗体用組成物は、導電性粉末と、鉛を実質的に含まないガラスフリットとを含み、
前記導電性粉末は、銅、ニッケル、および、ニッケル酸ランタンからなり、
前記銅の含有量は30質量%~70質量%の範囲にあり、前記ニッケルの含有量は10質量%~35質量%の範囲にあり、ニッケル酸ランタンの含有量は0質量%を超えて20質量%以下であり、および、前記ガラスフリットの含有量は5質量%~50質量%の範囲にある、
ことを特徴とする。
A composition for a thick film resistor of the present invention comprises a conductive powder and a glass frit substantially free of lead,
the conductive powder comprises copper, nickel, and lanthanum nickelate;
The content of copper is in the range of 30% by mass to 70% by mass, the content of nickel is in the range of 10% by mass to 35% by mass, and the content of lanthanum nickelate is in the range of 0% by mass to 20% by mass. % by mass or less, and the content of the glass frit is in the range of 5% by mass to 50% by mass,
It is characterized by

前記導電性粉末は、銅およびニッケルからなる粉末と、ニッケル酸ランタン粉末とからなり、前記銅およびニッケルからなる粉末は、0.1μm~3.0μmの範囲にあるBET法による平均粒径を有し、前記ニッケル酸ランタン粉末は、0.01μm~0.2μmの範囲にあるBET法による平均粒径を有することが好ましい。 The conductive powder is composed of a powder made of copper and nickel and a powder of lanthanum nickelate, and the powder made of copper and nickel has an average particle size according to the BET method in the range of 0.1 μm to 3.0 μm. The lanthanum nickelate powder preferably has an average particle size measured by the BET method in the range of 0.01 μm to 0.2 μm.

前記ガラスフリットは、5μm以下のレーザー式粒度分布測定による平均粒径D50を有することが好ましい。 The glass frit preferably has an average particle size D50 according to laser particle size distribution measurement of 5 μm or less.

本発明の厚膜抵抗体用ペーストは、厚膜抵抗体用組成物と有機ビヒクルとを含み、前記厚膜抵抗体用組成物として、本発明の厚膜抵抗体用組成物が用いられていることを特徴とする。 The thick film resistor paste of the present invention contains a thick film resistor composition and an organic vehicle, and the thick film resistor composition of the present invention is used as the thick film resistor composition. It is characterized by

前記有機ビヒクルの含有量は、前記厚膜抵抗体用ペースト全体に対して、20質量%~50質量%の範囲にあることが好ましい。 The content of the organic vehicle is preferably in the range of 20% by mass to 50% by mass with respect to the entire thick film resistor paste.

本発明の厚膜抵抗体は、導電性成分と、鉛を実質的に含まないガラス成分とを含む焼成体からなり、
前記導電性成分は、銅、ニッケル、および、ニッケル酸ランタンからなり、
前記銅の含有量は30質量%~70質量%の範囲にあり、前記ニッケルの含有量は10質量%~35質量%の範囲にあり、ニッケル酸ランタンの含有量は0質量%を超えて20質量%以下であり、および、前記ガラス成分の含有量は5質量%~50質量%の範囲にある、
ことを特徴とする。
The thick film resistor of the present invention comprises a fired body containing a conductive component and a glass component substantially free of lead,
the conductive component comprises copper, nickel, and lanthanum nickelate;
The copper content is in the range of 30% by mass to 70% by mass, the nickel content is in the range of 10% by mass to 35% by mass, and the lanthanum nickelate content is 0% by mass to 20% by mass. % by mass or less, and the content of the glass component is in the range of 5% by mass to 50% by mass,
It is characterized by

本発明によれば、銅およびニッケル系であって、すなわち、高価な銀、パラジウム、および、ルテニウム系材料を使用することなく、良好な特性を有し、かつ、100mΩ/□~15Ω/□の範囲にある面積抵抗値を有する、低抵抗の厚膜抵抗体を提供することが可能となる。 According to the present invention, copper- and nickel-based, that is, without using expensive silver, palladium, and ruthenium-based materials, has good properties and has a resistance of 100 mΩ/square to 15 Ω/square. It is possible to provide a low resistance thick film resistor with a range of area resistance values.

以下、本発明の厚膜抵抗体用組成物、厚膜抵抗体用ペースト、および、厚膜抵抗体について、詳細に説明する。 Hereinafter, the composition for thick film resistors, the paste for thick film resistors, and the thick film resistors of the present invention will be described in detail.

(1)厚膜抵抗体用組成物
本発明の厚膜抵抗体用組成物は、導電性粉末およびガラスフリットを主成分とする。
(1) Thick Film Resistor Composition The thick film resistor composition of the present invention contains conductive powder and glass frit as main components.

[導電性粉末]
本発明の厚膜抵抗体用組成物を構成する導電性粉末は、銅、ニッケル、および、ニッケル酸ランタンからなる。
[Conductive powder]
The conductive powder constituting the composition for thick film resistors of the present invention consists of copper, nickel and lanthanum nickelate.

導電性粉末の存在形態については限定されることはないが、本発明の導電性粉末は、通常、銅およびニッケルからなる粉末と、ニッケル酸ランタン粉末とにより構成される。 Although the form in which the conductive powder exists is not limited, the conductive powder of the present invention is usually composed of a powder made of copper and nickel and a lanthanum nickelate powder.

銅およびニッケルからなる粉末についても、その存在形態について限定されることはない。すなわち、銅粉末とニッケル粉末との混合粉末、銅ニッケル複合粉末、銅ニッケル合金粉末のいずれも用いることできる。 The form of existence of the powder made of copper and nickel is also not limited. That is, any of mixed powder of copper powder and nickel powder, copper-nickel composite powder, and copper-nickel alloy powder can be used.

これらの銅およびニッケルからなる粉末のBET法による平均粒径は、0.1μm~3.0μmの範囲にあることが好ましい。 It is preferable that the average particle diameter of these powders composed of copper and nickel as determined by the BET method is in the range of 0.1 μm to 3.0 μm.

導電性粉末のうちのニッケル酸ランタン粉末を構成するニッケル酸ランタン(LaNiO:「LNO」と略記される)は、ペロブスカイト型の結晶構造を有し、電気抵抗が比較的小さな金属的導電性酸化物である。銀系抵抗体における二酸化ルテニウムの働きと同様に、ニッケル酸ランタンは、金属とガラスだけの電気的に不安定な状態を安定なものにする働きを有する。このため、厚膜抵抗体において、抵抗値を十分に低下させる機能を有する。 Lanthanum nickelate (LaNiO 3 : abbreviated as “LNO”), which constitutes the lanthanum nickelate powder among the conductive powders, has a perovskite-type crystal structure and is a metallic conductive oxide with relatively low electrical resistance. It is a thing. Similar to the function of ruthenium dioxide in silver-based resistors, lanthanum nickelate has the function of stabilizing the electrically unstable state of metal and glass alone. Therefore, it has a function of sufficiently lowering the resistance value of the thick film resistor.

本発明において、ニッケル酸ランタン粉末のBET法による平均粒径は、0.01μm~0.2μmの範囲にあることが好ましく、0.05μm~0.1μmの範囲にあることがより好ましい。これにより、焼成により得られる厚膜抵抗体において、導電パスが微細となり、その抵抗値のばらつきを抑制することが可能となる。 In the present invention, the average particle size of the lanthanum nickelate powder measured by the BET method is preferably in the range of 0.01 μm to 0.2 μm, more preferably in the range of 0.05 μm to 0.1 μm. As a result, in the thick-film resistor obtained by firing, the conductive paths become finer, and variations in the resistance value thereof can be suppressed.

なお、「BET法による平均粒径」とは、粉末粒子を球体と見なして比表面積より算出するものであり、以下の式により求めることができる。
平均粒径(μm)={6/(理論密度(g/cm)×比表面積(m/g))}
The "average particle size according to the BET method" is calculated from the specific surface area assuming that the powder particles are spherical, and can be obtained by the following formula.
Average particle size (μm)={6/(theoretical density (g/cm 3 )×specific surface area (m 2 /g))}

本発明の厚膜抵抗体用組成物において、銅の含有量は30質量%~70質量%の範囲にあり、ニッケルの含有量は10質量%~35質量%の範囲にあり、ニッケル酸ランタンの含有量は0質量%を超えて20質量%以下である。 In the thick film resistor composition of the present invention, the copper content is in the range of 30% by mass to 70% by mass, the nickel content is in the range of 10% by mass to 35% by mass, and lanthanum nickelate The content is more than 0% by mass and 20% by mass or less.

ニッケル酸ランタンの含有量は、厚膜抵抗体の抵抗値に応じて適宜決定され、厚膜抵抗体を高抵抗に構成する場合に、ニッケル酸ランタンの含有量が20質量%を超えると、厚膜抵抗体を構成する抵抗膜が脆くなってしまう。また、ブレンド性を考慮すると厚膜抵抗体を低抵抗に構成する場合でも、0質量%を超える僅かな量だけニッケル酸ランタンを配合する必要がある。 The content of lanthanum nickelate is appropriately determined according to the resistance value of the thick film resistor. The resistive film forming the film resistor becomes fragile. In addition, considering the blendability, it is necessary to blend lanthanum nickelate in a small amount exceeding 0% by mass even when the thick film resistor is configured to have a low resistance.

銅およびニッケルの含有量についても、厚膜抵抗体の抵抗値に応じて適宜決定される。また、厚膜抵抗体の抵抗温度係数(TCR)を小さくする場合における、銅とニッケルの含有比率については、銅とニッケルの比率が、75:25~65:35の範囲にあるようにすることが好ましく、70:30とすることがより好ましい。 The contents of copper and nickel are also appropriately determined according to the resistance value of the thick film resistor. When reducing the temperature coefficient of resistance (TCR) of the thick film resistor, the content ratio of copper and nickel should be in the range of 75:25 to 65:35. is preferred, and 70:30 is more preferred.

導電性粉末を構成するそれぞれの粉末の製法に関しては、特に制限はなく、種々の製法で得られた粉末を使用することができる。 There are no particular restrictions on the method for producing each powder that constitutes the conductive powder, and powders obtained by various production methods can be used.

本発明の厚膜抵抗体用組成物において、導電性粉末を構成する、銅およびニッケルからなる粉末、および、ニッケル酸ランタン粉末の含有量は、厚膜抵抗体の抵抗値、導電性粉末およびガラスフリットの種類および粒径に応じて、適宜調整される。たとえば、面積抵抗値を100mΩ/□~1Ω/□とする場合には、銅およびニッケルからなる粉末の含有量を相対的に多くして、ニッケル酸ランタン粉末およびガラスフリット粉末の含有量を相対的に少なくする。面積抵抗値が1Ω/□以上の場合には、面積抵抗値が高くなるにつれて、銅およびニッケルからなる粉末の含有量を相対的に減少させて、ニッケル酸ランタン粉末およびガラスフリット粉末の含有量を相対的に増加させる。 In the composition for a thick film resistor of the present invention, the content of the powder composed of copper and nickel and the lanthanum nickelate powder, which constitute the conductive powder, is determined by the resistance value of the thick film resistor, the conductive powder and the glass. It is adjusted appropriately according to the type and particle size of the frit. For example, when the area resistance value is 100 mΩ/□ to 1 Ω/□, the content of the powder made of copper and nickel is relatively increased, and the content of the lanthanum nickelate powder and the glass frit powder is relatively increased. to less. When the area resistance value is 1 Ω/□ or more, as the area resistance value increases, the content of the powder composed of copper and nickel is relatively decreased, and the content of the lanthanum nickelate powder and the glass frit powder is reduced. Relative increase.

[ガラスフリット]
本発明の厚膜抵抗体用組成物を構成するガラスフリットは、鉛を実質的に含まないガラスにより構成される。
[Glass frit]
The glass frit constituting the composition for a thick film resistor of the present invention is made of glass substantially free of lead.

ここで、ガラスフリットにおける「鉛を実質的に含まない」とは、ガラスフリットにおける鉛の含有量がRoHS指令の規制値(0.1質量%)以下であるか、または、鉛の含有量が通常の測定機器において検出限界以下であることを意味する。 Here, "substantially free of lead" in the glass frit means that the lead content in the glass frit is the RoHS directive regulation value (0.1% by mass) or less, or the lead content is It means that it is below the detection limit in normal measuring equipment.

本発明の厚膜抵抗体用組成物を構成するガラスフリットにおける、その他のガラス成分については、基本的には限定されない。ガラスフリットとして、アルミノホウケイ酸アルカリ土類亜鉛ガラス(SiO-B-RO-ZnO-Al:RはCa、Sr、およびBaから選択される少なくとも1種)、ホウケイ酸ガラス(SiO-B)、アルミノホウケイ酸ガラス(SiO-B-Al)、あるいはホウケイ酸アルカリ土類ガラス(SiO-B-RO:RはCa、Sr、およびBaから選択される少なくとも1種)を、好適に用いることができる。 Other glass components in the glass frit constituting the composition for thick film resistors of the present invention are basically not limited. Alkaline earth zinc aluminoborosilicate glass (SiO 2 —B 2 O 3 —RO—ZnO—Al 2 O 3 : R is at least one selected from Ca, Sr, and Ba), borosilicate glass as glass frit (SiO 2 —B 2 O 3 ), aluminoborosilicate glass (SiO 2 —B 2 O 3 —Al 2 O 3 ), or alkaline earth borosilicate glass (SiO 2 —B 2 O 3 —RO: R is Ca , Sr, and Ba) can be suitably used.

ガラスフリットは、5μm以下、具体的には、0.5μm~5.0μmの範囲にあるレーザー式粒度分布測定による平均粒径D50を有することが好ましい。所望の平均粒径のガラスフリットを得るためには、熔融し冷却したガラスフリットを、ボールミル、ジェットミルなどの公知の粉砕方法を用いて粉砕すればよい。ガラスフリットのレーザー式粒度分布測定による平均粒径D50は、1.0μm~3.0μmの範囲にあることが好ましい。 The glass frit preferably has an average particle size D 50 according to laser particle size distribution measurement of 5 μm or less, in particular in the range from 0.5 μm to 5.0 μm. In order to obtain a glass frit having a desired average particle size, the melted and cooled glass frit may be pulverized using a known pulverization method such as a ball mill or a jet mill. The average particle size D 50 of the glass frit determined by laser particle size distribution measurement is preferably in the range from 1.0 μm to 3.0 μm.

厚膜抵抗体用組成物におけるガラスフリットの含有量についても、上述のように、得られる厚膜抵抗体における所望の抵抗値、導電性粉末およびガラスフリットの種類および粒径に応じて、適宜調整される。ガラスフリットの含有量は、5質量%~60質量%の範囲にあることが好ましく、5質量%~50質量%の範囲にあることがより好ましく、7質量%~30質量%の範囲にあることがさらに好ましい。 The content of the glass frit in the composition for thick film resistors is also appropriately adjusted according to the desired resistance value in the resulting thick film resistor, the types and particle sizes of the conductive powder and glass frit, as described above. be done. The glass frit content is preferably in the range of 5% to 60% by mass, more preferably in the range of 5% to 50% by mass, and in the range of 7% to 30% by mass. is more preferred.

[任意の含有成分]
本発明の厚膜抵抗体用組成物において、導電性粉末とガラスフリットのほかに、他の添加剤を添加することも可能である。たとえば、厚膜抵抗体における、抵抗値や抵抗温度係数などの電気的特性や温度特性の調整、膨張係数の調整、耐電圧性の向上、その他の改質を目的として、本発明の厚膜抵抗体用組成物は、酸化マンガン、酸化銅、酸化ニオブ、酸化スズ、酸化タンタル、酸化チタンなどの無機成分を、適宜含有することができる。
[Optional ingredients]
In addition to the conductive powder and the glass frit, other additives may be added to the thick film resistor composition of the present invention. For example, in a thick film resistor, the thick film resistor of the present invention is used for the purpose of adjusting electrical characteristics such as resistance value and temperature coefficient of resistance, temperature characteristics, adjusting expansion coefficient, improving voltage resistance, and other modifications. The body composition can optionally contain inorganic ingredients such as manganese oxide, copper oxide, niobium oxide, tin oxide, tantalum oxide and titanium oxide.

これらの無機成分の含有量は、導電性粉末とガラスフリットの合計質量に対して、0.05質量%以上10質量%以下の範囲とすることが一般的である。 The content of these inorganic components is generally in the range of 0.05% by mass or more and 10% by mass or less with respect to the total mass of the conductive powder and the glass frit.

(2)厚膜抵抗体用ペースト
本発明の厚膜抵抗体用ペーストは、厚膜抵抗体用組成物と有機ビヒクルとを含み、該厚膜抵抗体用組成物として、上記の本発明の厚膜抵抗体用組成物が用いられていることを特徴とする。具体的には、本発明の厚膜抵抗体用ペーストは、本発明の厚膜抵抗体用組成物と有機ビヒクルの混練物により構成される。以下、詳細を説明する。
(2) Thick film resistor paste The thick film resistor paste of the present invention comprises a thick film resistor composition and an organic vehicle. A composition for a membrane resistor is used. Specifically, the paste for thick film resistors of the present invention is composed of a kneaded product of the composition for thick film resistors of the present invention and an organic vehicle. Details will be described below.

[有機ビヒクル]
厚膜抵抗体用ペーストを構成する有機ビヒクルは、少なくとも樹脂と溶剤により構成される。
[Organic vehicle]
The organic vehicle that constitutes the thick film resistor paste is composed of at least a resin and a solvent.

有機ビヒクルとして用いることができる樹脂としては、エチルセルロース樹脂、アクリル樹脂、メチルスチレン樹脂などが挙げられる。これらの樹脂は、窒素雰囲気焼成においてガラスが軟化する前の温度で分解する樹脂が好ましい。より好ましくは、500℃以下の温度で分解する樹脂が好ましい。 Examples of resins that can be used as organic vehicles include ethyl cellulose resins, acrylic resins, and methylstyrene resins. These resins are preferably resins that decompose at a temperature before the glass is softened when baked in a nitrogen atmosphere. A resin that decomposes at a temperature of 500° C. or less is more preferable.

樹脂を溶解する溶剤としては、ターピネオール、ブチルカルビトール、ブチルカルビトールアセテートなどを用いることができる。 As a solvent for dissolving the resin, terpineol, butyl carbitol, butyl carbitol acetate, etc. can be used.

これらの樹脂と溶剤により調合された有機ビヒクルの樹脂と溶剤の配合比は、所望する粘度や用途によって適宜調整することができる。 The compounding ratio of the resin and the solvent in the organic vehicle prepared from these resins and the solvent can be appropriately adjusted depending on the desired viscosity and application.

また、厚膜抵抗体用ペーストに要求される連続印刷性を考慮し、ペーストの乾燥速度を制御する観点から、高い沸点を有する可塑剤をさらに加えることができる。この場合の可塑剤の配合比も、所望する乾燥速度に応じて適宜調整することができる。 In addition, a plasticizer having a high boiling point can be further added from the viewpoint of controlling the drying rate of the paste in consideration of the continuous printability required for the paste for thick film resistors. The blending ratio of the plasticizer in this case can also be appropriately adjusted according to the desired drying rate.

厚膜抵抗体用ペーストに対する有機ビヒクルの含有量は特に限定されることはないが、厚膜抵抗体用ペースト全体に対して、20質量%~50質量%とすることが一般的である。 The content of the organic vehicle in the thick film resistor paste is not particularly limited, but is generally 20% by mass to 50% by mass with respect to the entire thick film resistor paste.

[その他の成分]
本発明の厚膜抵抗体用ペーストは、厚膜抵抗体用組成物と有機ビヒクルのほかに、添加剤を含むことができる。たとえば、導電性粉末やその他の無機成分などの凝集を防ぐ観点から、分散剤を含むことができる。また、塗布作業性の観点から、レオロジーコントロール剤を含むことができる。
[Other ingredients]
The thick film resistor paste of the present invention can contain additives in addition to the thick film resistor composition and the organic vehicle. For example, a dispersant can be included from the viewpoint of preventing aggregation of the conductive powder and other inorganic components. Moreover, from the viewpoint of coating workability, a rheology control agent can be included.

[厚膜抵抗体用ペーストの調製方法]
厚膜抵抗体用ペーストの調製は、公知の技術を用いればよく、たとえば、3本ロールミル、ボールミルなどを用いることができる。
[Method for preparing thick film resistor paste]
The thick film resistor paste may be prepared using a known technique, such as a three-roll mill, ball mill, or the like.

厚膜抵抗体用ペーストでは、導電性粉末、ガラスフリット、および、その他の無機成分などの凝集を解し、これらを有機ビヒクル中に分散させることが望ましい。 In pastes for thick film resistors, it is desirable to break up agglomeration of conductive powder, glass frit, and other inorganic components and to disperse them in an organic vehicle.

(3)厚膜抵抗体
本発明の厚膜抵抗体は、導電性成分とガラス成分とを含む焼成体からなる。前記導電性成分は、銅、ニッケル、ニッケル酸ランタンを含む。前記ガラス成分は、鉛を実質的に含まないことを特徴とする。すなわち、本発明の厚膜抵抗体は、本発明の厚膜抵抗体用ペーストを用いて形成され、本発明の厚膜抵抗体用組成物の焼成体により構成される。
(3) Thick Film Resistor The thick film resistor of the present invention is made of a fired body containing a conductive component and a glass component. The conductive component includes copper, nickel and lanthanum nickelate. The glass component is characterized by being substantially free of lead. That is, the thick film resistor of the present invention is formed using the paste for thick film resistor of the present invention, and is composed of a fired body of the composition for thick film resistor of the present invention.

したがって、導電性成分は、本発明の厚膜抵抗体用組成物を構成する導電性粉末と同様の組成となり、ガラス成分は、本発明の厚膜抵抗体用組成物を構成するガラスフリットと同様の組成となる。具体的には、銅の含有量は30質量%~70質量%の範囲にあり、ニッケルの含有量は10質量%~35質量%の範囲にあり、ニッケル酸ランタンの含有量は0質量%を超えて20質量%以下である。これらの詳細な説明については、厚膜抵抗体用組成物における内容と同様であるため、ここでは省略する。 Therefore, the conductive component has the same composition as the conductive powder that constitutes the composition for thick film resistors of the present invention, and the glass component has the same composition as the glass frit that constitutes the composition for thick film resistors of the present invention. is the composition of Specifically, the copper content is in the range of 30% by mass to 70% by mass, the nickel content is in the range of 10% by mass to 35% by mass, and the lanthanum nickelate content is 0% by mass. more than 20% by mass or less. A detailed description of these is omitted here because it is the same as the content of the composition for thick film resistors.

以下、厚膜抵抗体の製造方法について説明する。なお、厚膜抵抗体の抵抗値は厚膜抵抗体中の導電性成分とガラス成分の割合で適宜調整することが可能である。 A method for manufacturing a thick film resistor will be described below. Incidentally, the resistance value of the thick film resistor can be appropriately adjusted by the ratio of the conductive component and the glass component in the thick film resistor.

[厚膜抵抗体の製造方法]
本発明の厚膜抵抗体の製造方法は、以下の内容に限定されるものではなく、処理条件などについては、公知の手段および方法を用いて、適宜変更することができる。
[Manufacturing method of thick film resistor]
The manufacturing method of the thick film resistor of the present invention is not limited to the following contents, and the processing conditions can be appropriately changed using known means and methods.

まず、厚膜抵抗体用ペーストを基板に塗布する塗布工程を行う。すなわち、アルミナ(Al)などのセラミックス基板上に銅などからなる電極を形成し、その上に、本発明の厚膜抵抗体用ペーストを、スクリーン印刷などの手段により塗布する。 First, a coating step of coating a substrate with a thick-film resistor paste is performed. That is, an electrode made of copper or the like is formed on a ceramic substrate such as alumina (Al 2 O 3 ), and the thick film resistor paste of the present invention is applied thereon by means of screen printing or the like.

次に、厚膜抵抗体用ペーストが塗布された基板を焼成する焼成工程を行い、厚膜抵抗体を作製する。具体的には、塗布工程において、基板に塗布された厚膜抵抗体用ペーストを、オーブンなどを用いて乾燥させて、その後、ベルト炉などを用いて窒素雰囲気で焼成して、導電性成分とガラス成分とを含む焼成体を得る。なお、基本的には、厚膜抵抗体用ペーストに含まれていた、導電性粉末およびガラスフリットに起因する以外の成分、すなわち、有機ビヒクルを構成する樹脂および溶剤、さらには、その他の有機物添加剤は、焼成工程を経てすべて分解される。 Next, a baking step is performed to bake the substrate coated with the paste for thick film resistors, thereby fabricating the thick film resistors. Specifically, in the coating step, the thick-film resistor paste applied to the substrate is dried using an oven or the like, and then baked in a nitrogen atmosphere using a belt furnace or the like to combine with the conductive component. A fired body containing a glass component is obtained. Basically, the components other than the conductive powder and the glass frit contained in the thick film resistor paste, that is, the resin and solvent constituting the organic vehicle, and the addition of other organic substances All the agents are decomposed through the firing process.

以上のような工程により、本発明の厚膜抵抗体が得られる。 The thick-film resistor of the present invention is obtained through the steps described above.

本発明の厚膜抵抗体によれば、銅、ニッケル、ニッケル酸ランタンを含む導電性成分と、鉛を実質的に含まないガラス成分とにより少なくとも構成される。よって、鉛を実質的に含有せず、かつ、100mΩ/□~15Ω/□の範囲にある面積抵抗値を有し、かつ、良好な特性を有する厚膜抵抗体が提供される。 The thick film resistor of the present invention is composed of at least a conductive component containing copper, nickel and lanthanum nickelate and a glass component substantially free of lead. Accordingly, a thick film resistor is provided which does not substantially contain lead, has a sheet resistance value in the range of 100 mΩ/square to 15 Ω/square, and has excellent characteristics.

[抵抗値]
本発明の厚膜抵抗体の抵抗値は、抵抗体幅と抵抗体長さの比を1:100とした抵抗値から計算した面積抵抗値で評価される。本発明の厚膜抵抗体は、100mΩ/□~15Ω/□の範囲にある面積抵抗値を有する。
[Resistance value]
The resistance value of the thick film resistor of the present invention is evaluated by the area resistance value calculated from the resistance value with the ratio of resistor width to resistor length being 1:100. The thick film resistor of the present invention has a sheet resistance value in the range of 100 mΩ/square to 15 Ω/square.

[抵抗温度係数(TCR)]
抵抗温度係数(TCR)は、厚膜抵抗体の熱的安定性(温度特性)の指標となる。抵抗温度係数は次のように計算される。なお、抵抗温度係数の単位は、ppm/℃である。
[Temperature coefficient of resistance (TCR)]
A temperature coefficient of resistance (TCR) is an index of thermal stability (temperature characteristics) of a thick film resistor. The temperature coefficient of resistance is calculated as follows. The unit of temperature coefficient of resistance is ppm/°C.

高温抵抗温度係数(HTCR)=[(R125-R25)/R25(125-25)]×10
低温抵抗温度係数(CTCR)=[(R-55-R25)/R25(-55-25)]×10
High temperature resistance temperature coefficient (HTCR) = [(R 125 - R 25 )/R 25 (125 - 25)] x 10 6
Low temperature temperature coefficient of resistance (CTCR) = [(R −55 −R 25 )/R 25 (−55−25)]×10 6

ここで、R25は25℃での抵抗値、R125は125℃での抵抗値、R-55は-55℃での抵抗値である。 Here, R25 is the resistance value at 25°C, R125 is the resistance value at 125°C, and R -55 is the resistance value at -55°C.

高温抵抗温度係数(HTCR)および低温抵抗温度係数(CTCR)はいずれも、±100ppm/℃以内であることが好ましい。 Both the high temperature temperature coefficient of resistance (HTCR) and the low temperature temperature coefficient of resistance (CTCR) are preferably within ±100 ppm/°C.

[負荷特性]
負荷特性は、厚膜抵抗体の電流負荷に対する安定性(電気的特性の安定性)の指標となる。本発明においては、負荷特性として、200pFのコンデンサに2kVで充電した電荷を抵抗体に5回放電したときの抵抗値変化率の測定値(ΔR)を採用している。
[Load characteristics]
The load characteristics serve as an index of the stability (stability of electrical characteristics) of the thick film resistor with respect to current load. In the present invention, the measured value (ΔR) of the rate of change in resistance when a 200 pF capacitor is charged at 2 kV and discharged five times to a resistor is used as the load characteristic.

この抵抗値変化率(ΔR)は、1%以下であることが好ましい。 This rate of change in resistance value (ΔR) is preferably 1% or less.

本発明の厚膜抵抗体は、導電性成分とガラス成分のほかに、酸化マンガン、酸化銅、酸化ニオブ、酸化スズ、酸化タンタル、酸化チタンなどの無機成分を含むことができる。 The thick film resistor of the present invention can contain inorganic components such as manganese oxide, copper oxide, niobium oxide, tin oxide, tantalum oxide, and titanium oxide in addition to the conductive component and the glass component.

以上においては、主として特定の実施形態を用いて本発明について説明を行い、また、本発明を実施するための最良の構成、方法などについて開示を行った。ただし、本発明は、これらに限定されるものではない。本発明の技術的思想および目的の範囲から逸脱することなく、以上に述べた実施形態に対し、形状、材質、数量、その他の詳細な構成に関して、当業者が、省略、追加、変更ないしは修正を加えることは可能であり、これらについても、本発明の範囲に包含される。 In the foregoing, the present invention has been primarily described using specific embodiments, and also the best configuration, method, etc. for carrying out the present invention has been disclosed. However, the present invention is not limited to these. A person skilled in the art can make omissions, additions, changes or modifications to the above-described embodiments with respect to the shape, material, quantity, and other detailed configurations without departing from the scope of the technical idea and purpose of the present invention. Additions are possible and are also included in the scope of the present invention.

以下、本発明の実施例および比較例によって、本発明をさらに詳細に説明する。ただし、本発明は、以下の実施例により限定させるものではない。 EXAMPLES The present invention will be described in more detail below with reference to examples and comparative examples of the present invention. However, the present invention is not limited by the following examples.

(実施例1)
[厚膜抵抗体用組成物]
〔導電性粉末〕
導電性粉末として、銅粉末、ニッケル粉末、ニッケル酸ランタン粉末を使用した。
(Example 1)
[Composition for thick film resistor]
[Conductive powder]
Copper powder, nickel powder, and lanthanum nickelate powder were used as the conductive powder.

銅粉末には、BET法による平均粒径が2.5μmであるアトマイズ銅粉末を用いた。 Atomized copper powder having an average particle size of 2.5 μm as determined by the BET method was used as the copper powder.

ニッケル粉末には、水酸化ニッケルを400℃で水素還元して得た、BET法による平均粒径が0.5μmであるニッケル粉末を用いた。 As the nickel powder, nickel powder having an average particle size of 0.5 μm according to the BET method obtained by hydrogen reduction of nickel hydroxide at 400° C. was used.

ニッケル酸ランタン粉末には、塩化ニッケルと硝酸ランタンとアルカリにて得た共沈物を焙焼することによって作製した、BET法による平均粒径が0.05μmであるニッケル酸ランタン粉末を用いた。 As the lanthanum nickelate powder, lanthanum nickelate powder having an average particle size of 0.05 μm according to the BET method, which was produced by roasting a coprecipitate obtained from nickel chloride, lanthanum nitrate and alkali, was used.

〔ガラスフリット〕
ガラスフリットには、37重量%BaO-43重量%SiO-7重量%B-13重量%Alの組成のガラスフリットを用いた。このガラスフリットは、通常の手段である、混合、溶融、急冷、および粉砕の工程を経ることによって作製した。なお、粉砕工程後のガラスフリットのレーザー式粒度分布測定器を用いた測定により得られた平均粒径D50は、2.0μmであった。
[Glass frit]
A glass frit having a composition of 37 wt % BaO-43 wt % SiO 2 -7 wt % B 2 O 3 -13 wt % Al 2 O 3 was used as the glass frit. The glass frit was made by conventional means of mixing, melting, quenching, and grinding. The average particle size D50 of the glass frit after the pulverization step was 2.0 μm, as measured using a laser particle size distribution analyzer.

銅粉末:63.5質量%、ニッケル粉末:27.2質量%、ニッケル酸ランタン粉末:1.5質量%、および、ガラスフリット:7.7質量%を混合して、厚膜抵抗体用組成物を得た。厚膜抵抗体用組成物の組成を表1に示す。 Copper powder: 63.5% by mass, nickel powder: 27.2% by mass, lanthanum nickelate powder: 1.5% by mass, and glass frit: 7.7% by mass were mixed to form a thick film resistor composition. got stuff Table 1 shows the compositions of the compositions for thick film resistors.

[厚膜抵抗体用ペースト]
厚膜抵抗体用組成物:70質量%、および、アクリルとターピネオールを主成分とする有機ビヒクル(アクリル:ターピネオールは、1:4):30質量%を混合し、三本ロ-ルミルで混練して抵抗ペーストを作製した。
[Paste for thick film resistors]
70% by mass of composition for thick film resistor and 30% by mass of organic vehicle mainly composed of acrylic and terpineol (acrylic:terpineol is 1:4) were mixed and kneaded in a triple roll mill. A resistor paste was prepared by

あらかじめ銅ペーストを用いて電極を形成しておいたアルミナ基板上に、厚膜抵抗体用ペーストを、幅0.5mm×長さ50mmのパターンにスクリーン印刷し、次に、厚膜抵抗体用ペーストを、150℃で10分間乾燥し、その後、ベルト焼成炉を用いて、窒素雰囲気中、ピ-ク温度:900℃で10分間、厚膜抵抗体用ペーストを焼成して、厚膜抵抗体を得た。 The thick-film resistor paste was screen-printed in a pattern of 0.5 mm width x 50 mm length on an alumina substrate on which electrodes had been formed in advance using copper paste. is dried at 150° C. for 10 minutes, and then the thick film resistor paste is fired at a peak temperature of 900° C. for 10 minutes in a nitrogen atmosphere using a belt firing furnace to form a thick film resistor. Obtained.

[厚膜抵抗体の評価]
次に、得られた厚膜抵抗体の特性(面積抵抗値、抵抗温度係数(TCR)、負荷特性)を測定した。
[Evaluation of thick film resistor]
Next, the characteristics (area resistance value, temperature coefficient of resistance (TCR), load characteristics) of the obtained thick film resistor were measured.

ここで、抵抗値は、マルチメータ(KEITHLEY社製、Model2001)を用いて4端子法にて測定し、その面積抵抗値を算出した。 Here, the resistance value was measured by the 4-probe method using a multimeter (Model 2001 manufactured by KEITHLEY), and the area resistance value was calculated.

次に、高温抵抗温度係数(HTCR)および低温抵抗温度係数(CTCR)を、得られた面積抵抗値を用いて、次式により計算した。なお、抵抗温度係数の単位は、ppm/℃である。 Next, the high-temperature temperature coefficient of resistance (HTCR) and the low-temperature temperature coefficient of resistance (CTCR) were calculated by the following equation using the obtained sheet resistance values. The unit of temperature coefficient of resistance is ppm/°C.

高温抵抗温度係数(HTCR)=[(R125-R25)/R25(125-25)]×10
低温抵抗温度係数(CTCR)=[(R-55-R25)/R25(-55-25)]×10
High temperature resistance temperature coefficient (HTCR) = [(R 125 - R 25 )/R 25 (125 - 25)] x 10 6
Low temperature temperature coefficient of resistance (CTCR) = [(R −55 −R 25 )/R 25 (−55−25)]×10 6

ここで、R25は25℃での抵抗値、R125は125℃での抵抗値、R-55は-55℃での抵抗値である。 Here, R25 is the resistance value at 25°C, R125 is the resistance value at 125°C, and R -55 is the resistance value at -55°C.

また、負荷特性として、200pFのコンデンサに2kVで充電した電荷を、厚膜抵抗体に5回放電した後に測定して得られた抵抗値の変化率を求めた。 Also, as load characteristics, a rate of change in resistance value obtained by measuring a charge charged at 2 kV in a 200 pF capacitor at 2 kV to a thick film resistor and measuring it was obtained.

厚膜抵抗体のそれぞれの特性について、表2に示す。 Table 2 shows the characteristics of each thick film resistor.

実施例2および3、並びに、比較例1~4については、厚膜抵抗体用組成物の組成を表1に示すように変更した以外は、実施例1と同様にして、厚膜抵抗体用ペーストおよび厚膜抵抗体を作製して、得られた厚膜抵抗体の特性を測定した。実施例2および実施例3および比較例2~比較例4についても、厚膜抵抗体の特性について、表1に示す。なお、比較例1については、厚膜抵抗体を構成する抵抗膜が脆いため、その特性の評価は行わなかった。 For Examples 2 and 3 and Comparative Examples 1 to 4, the thick film resistor composition was prepared in the same manner as in Example 1 except that the composition of the thick film resistor composition was changed as shown in Table 1. A paste and a thick film resistor were prepared, and the properties of the resulting thick film resistor were measured. Table 1 also shows the characteristics of the thick film resistors of Examples 2 and 3 and Comparative Examples 2 and 4. In Comparative Example 1, the characteristics were not evaluated because the resistive film constituting the thick film resistive element was fragile.

Figure 0007245418000001
Figure 0007245418000001

Figure 0007245418000002
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以上の実施例と比較例で作製された厚膜抵抗体の特性の比較から、本発明による厚膜抵抗体は、100mΩ/□~15Ω/□の範囲にある面積抵抗値を有し、かつ、高温抵抗温度係数(HTCR)および低温抵抗温度係数(CTCR)の絶対値、並びに、負荷特性を示す抵抗値変化率の値が小さいものとなっており、厚膜抵抗体として優れていることが明らかである。 From the comparison of the characteristics of the thick film resistors produced in the above examples and comparative examples, the thick film resistor according to the present invention has a sheet resistance value in the range of 100 mΩ/□ to 15 Ω/□, and The absolute values of the high temperature resistance temperature coefficient (HTCR) and the low temperature resistance temperature coefficient (CTCR) as well as the resistance value change rate, which indicates the load characteristics, are small. is.

Claims (6)

導電性粉末と、鉛を実質的に含まないガラスフリットとを含み、
前記導電性粉末は、銅、ニッケル、および、ニッケル酸ランタンからなり、
前記銅の含有量は30質量%~70質量%の範囲にあり、前記ニッケルの含有量は10質量%~35質量%の範囲にあり、ニッケル酸ランタンの含有量は0質量%を超えて20質量%以下であり、および、前記ガラスフリットの含有量は5質量%~50質量%の範囲にある、厚膜抵抗体用組成物。
comprising a conductive powder and a glass frit substantially free of lead;
the conductive powder comprises copper, nickel, and lanthanum nickelate;
The content of copper is in the range of 30% by mass to 70% by mass, the content of nickel is in the range of 10% by mass to 35% by mass, and the content of lanthanum nickelate is in the range of 0% by mass to 20% by mass. % by mass or less, and the content of the glass frit is in the range of 5% by mass to 50% by mass.
前記導電性粉末は、銅およびニッケルからなる粉末と、ニッケル酸ランタン粉末とからなり、前記銅およびニッケルからなる粉末は、0.1μm~3.0μmの範囲にあるBET法による平均粒径を有し、前記ニッケル酸ランタン粉末は、0.01μm~0.2μmの範囲にあるBET法による平均粒径を有する、請求項1に記載の厚膜抵抗体用組成物。 The conductive powder is composed of a powder made of copper and nickel and a powder of lanthanum nickelate, and the powder made of copper and nickel has an average particle size according to the BET method in the range of 0.1 μm to 3.0 μm. 2. The composition for a thick film resistor according to claim 1, wherein said lanthanum nickelate powder has an average particle size according to the BET method in the range of 0.01 μm to 0.2 μm. 前記ガラスフリットは、5μm以下のレーザー式粒度分布測定による平均粒径D50を有する、請求項1または2に記載の厚膜抵抗体用組成物。 3. The composition for a thick film resistor according to claim 1, wherein said glass frit has an average particle size D50 according to laser particle size distribution measurement of 5 [mu]m or less. 厚膜抵抗体用組成物と有機ビヒクルとを含み、前記厚膜抵抗体用組成物として、請求項1~3のいずれかに記載の厚膜抵抗体用組成物が用いられている、厚膜抵抗体用ペースト。 A thick film comprising a composition for a thick film resistor and an organic vehicle, wherein the composition for a thick film resistor according to any one of claims 1 to 3 is used as the composition for a thick film resistor. Paste for resistors. 前記有機ビヒクルの含有量は、前記厚膜抵抗体用ペースト全体に対して、20質量%~50質量%の範囲にある、請求項4に記載の厚膜抵抗体用ペースト。 5. The thick film resistor paste according to claim 4, wherein the content of said organic vehicle is in the range of 20% by mass to 50% by mass with respect to said entire thick film resistor paste. 導電性成分と、鉛を実質的に含まないガラス成分とを含む焼成体からなり、
前記導電性成分は、銅、ニッケル、および、ニッケル酸ランタンからなり、
前記銅の含有量は30質量%~70質量%の範囲にあり、前記ニッケルの含有量は10質量%~35質量%の範囲にあり、ニッケル酸ランタンの含有量は0質量%を超えて20質量%以下であり、および、前記ガラス成分の含有量は5質量%~50質量%の範囲にある、
厚膜抵抗体。
Consisting of a fired body containing a conductive component and a glass component substantially free of lead,
the conductive component comprises copper, nickel, and lanthanum nickelate;
The copper content is in the range of 30% by mass to 70% by mass, the nickel content is in the range of 10% by mass to 35% by mass, and the lanthanum nickelate content is 0% by mass to 20% by mass. % by mass or less, and the content of the glass component is in the range of 5% by mass to 50% by mass.
thick film resistor.
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