JP7245117B2 - Polyacetal powder, method of use thereof, and additive manufacturing method - Google Patents
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Description
本発明は、ポリアセタール粉末及びその使用方法、並びに付加製造方法に関する。 The present invention relates to polyacetal powders and methods of use thereof, as well as additive manufacturing methods.
近年、複雑な構造を有する造形品を作製する技術の一つとして、付加製造技術が広く普及しつつある。 In recent years, additive manufacturing technology has been widely used as one of the techniques for producing a modeled product having a complicated structure.
この付加製造技術は、金型を使用しない方法であるため、短期間で試作できるというメリットがあり、例えば機能確認用の試作に用いられることが多くなってきている。また、試作への適用のみならず、少量多品種製品の直接製造への適用のニーズも増加している。そして、このような背景の中、付加製造技術の中でも、特に、選択的レーザー焼結法のように粉末状の樹脂を造形材料として用いる3Dプリンターが注目されている。 Since this additive manufacturing technology is a method that does not use a mold, it has the advantage of being able to produce prototypes in a short period of time, and is increasingly being used, for example, for functional confirmation of prototypes. Moreover, there is an increasing need for application not only to trial production but also to direct production of small-lot, high-variety products. Against this background, among the additive manufacturing technologies, 3D printers that use powdered resin as a modeling material, such as selective laser sintering, are attracting attention.
選択的レーザー焼結法は、造形台の上に、粉末材料をローラーやブレードで敷き、その粉末材料に選択的にレーザーを照射し、加熱-焼結し、それらを順次繰り返すことで積層品を作る方法である(特許文献1)。選択的レーザー焼結法は、現在、樹脂製の工業部品に使用されている熱可塑性樹脂が使用可能な方法であるため、他の付加製造技術(液槽光重合法、材料噴射法等)に比べ、造形品の強度、信頼性、寸法安定性が高い点で優れている。また、選択的レーザー焼結法は、機械加工等の従来の方法では達成し得なかった、相当複雑な形状及び輪郭を有する造形品の製造を可能にすることも、特徴の一つである。 In the selective laser sintering method, a powder material is spread on a modeling table with a roller or blade, and the powder material is selectively irradiated with a laser, heated and sintered, and the process is repeated in sequence to create a laminate. It is a method of making (Patent Document 1). Selective laser sintering is a method that can be used with thermoplastic resins that are currently used for resin-made industrial parts, so it can be used for other additive manufacturing technologies (liquid bath photopolymerization, material injection, etc.). In comparison, it is superior in that the strength, reliability, and dimensional stability of the molded product are high. Another feature of the selective laser sintering method is that it enables the production of shaped articles with rather complex shapes and contours, which cannot be achieved by conventional methods such as machining.
選択的レーザー焼結法に使用可能な粉末材料を構成する樹脂としては、ポリアミド11、ポリアミド12、ポリプロピレン等が広く知られている(特許文献2)。また、特許文献3には、選択的レーザー焼結法に使用可能なポリアセタールから構成される粉末が開示されている。 Polyamide 11, polyamide 12, polypropylene and the like are widely known as resins constituting powder materials that can be used in the selective laser sintering method (Patent Document 2). Further, Patent Document 3 discloses a powder composed of polyacetal that can be used in selective laser sintering.
しかしながら、特許文献1~3では、ポリアセタールの造形時の反りの問題や、造形品の反り、機械的物性については十分な検討がなされておらず、未だ改良の余地があった。 However, in Patent Documents 1 to 3, there is still room for improvement because the problem of warpage during molding of polyacetal, warpage of molded articles, and mechanical properties have not been sufficiently studied.
そこで、本発明が解決しようとする課題は、反りが少なく、機械的物性に優れた造形品を得ることが可能なポリアセタール粉末を提供することである。また、本発明が解決しようとする課題は、上記ポリアセタール粉末の使用方法、及び上記ポリアセタール粉末を用いた付加製造方法を提供することである。 Therefore, the problem to be solved by the present invention is to provide a polyacetal powder that is capable of obtaining a molded product with less warpage and excellent mechanical properties. Another object of the present invention is to provide a method of using the polyacetal powder and an additive manufacturing method using the polyacetal powder.
本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、特定の粉体特性を有し、特定質量割合のポリエチレンを含むポリアセタール粉末が、反りが少なく、機械的物性に優れた造形品の製造を可能にすることを見出し、本発明を完成した。 As a result of extensive research to solve the above problems, the present inventors have found that polyacetal powder having specific powder characteristics and containing polyethylene in a specific mass ratio has less warpage and excellent mechanical properties. The present invention was completed by discovering that it is possible to manufacture products.
すなわち、本発明は以下のとおりである。
[1]
平均粒子径(D50)が5μm以上70μm以下であり、
ポリアセタールを100質量部、ポリエチレン0.01~5質量部、を含み、
固め嵩密度をゆるめ嵩密度で除した値(固め嵩密度/ゆるめ嵩密度)が、1.45以下であることを特徴とする、ポリアセタール粉末。
[2]
結晶化速度が40秒以上である、[1]に記載のポリアセタール粉末。
[3]
結晶化温度が130℃以上145℃以下である、[1]又は[2]に記載のポリアセタール粉末。
[4]
ポリエチレンの密度が0.88~0.93g/cm3である、[1]~[3]のいずれかに記載のポリアセタール粉末。
[5]
ポリエチレンのMFRが0.2~100g/10分である、[1]~[4]のいずれかに記載のポリアセタール粉末。
[6]
径が前記D50の2倍以上である粒子の割合が10vol%以下である、[1]~[5]のいずれかに記載のポリアセタール粉末。
[7]
径が前記D50の0.2倍以下である粒子の割合が10vol%以下である、[1]~[6]のいずれかに記載のポリアセタール粉末。
[8]
前記D50が65μm以下であり、径が前記D50の0.2倍以下である粒子の割合が3vol%以下である、[1]~[7]のいずれかに記載のポリアセタール粉末。
[9]
前記ポリアセタール粉末100質量%に対して、疎水性シリカを0.05質量%以上1.0質量%以下含む、[1]~[8]のいずれかに記載のポリアセタール粉末。
[10]
前記疎水性シリカが乾式法シリカである、[9]に記載のポリアセタール粉末。
[11]
前記疎水性シリカの平均一次粒子径が1nm以上20nm以下である、[9]又は[10]に記載のポリアセタール粉末。
[12]
前記疎水性シリカのBET比表面積が50m2/g以上300m2/g以下である、[9]~[11]のいずれかに記載のポリアセタール粉末。
[13]
前記疎水性シリカが、ジメチルジクロロシラン、トリメチルクロロシラン、及びシリコーンオイルからなる群より選択される1種以上で疎水化されている、[9]~[12]のいずれかに記載のポリアセタール粉末。
[14]
前記ポリアセタール粉末の融点より10℃低い温度で1時間保持したときの重量減少率が、5%以下である、[1]~[13]のいずれかに記載のポリアセタール粉末。
[15]
付加製造に用いられる、[1]~[14]のいずれかに記載のポリアセタール粉末。
[16]
付加製造に用いることを特徴とする、[1]~[15]のいずれかに記載のポリアセタール粉末の使用方法。
[17]
[1]~[15]のいずれかに記載のポリアセタール粉末を造形材料として用いることを特徴とする、付加製造方法。
That is, the present invention is as follows.
[1]
The average particle diameter (D50) is 5 μm or more and 70 μm or less,
100 parts by mass of polyacetal and 0.01 to 5 parts by mass of polyethylene ,
A polyacetal powder , wherein the value obtained by dividing the solid bulk density by the loose bulk density (solid bulk density/loose bulk density) is 1.45 or less .
[2]
The polyacetal powder according to [1], which has a crystallization speed of 40 seconds or more.
[3]
The polyacetal powder according to [1] or [2], which has a crystallization temperature of 130°C or higher and 145°C or lower.
[4]
The polyacetal powder according to any one of [1] to [3], wherein polyethylene has a density of 0.88 to 0.93 g/cm 3 .
[5]
The polyacetal powder according to any one of [1] to [4], wherein MFR of polyethylene is 0.2 to 100 g/10 minutes.
[6 ]
The polyacetal powder according to any one of [1] to [ 5 ], wherein the proportion of particles whose diameter is twice or more the D50 is 10 vol% or less.
[ 7 ]
The polyacetal powder according to any one of [1] to [ 6 ], wherein the proportion of particles having a diameter of 0.2 times or less of D50 is 10 vol% or less.
[ 8 ]
The polyacetal powder according to any one of [1] to [ 7 ], wherein the D50 is 65 μm or less, and the proportion of particles having a diameter of 0.2 times or less of the D50 is 3 vol % or less.
[ 9 ]
The polyacetal powder according to any one of [1] to [ 8 ], containing 0.05% by mass or more and 1.0% by mass or less of hydrophobic silica with respect to 100% by mass of the polyacetal powder.
[ 10 ]
The polyacetal powder according to [ 9 ], wherein the hydrophobic silica is dry-process silica.
[ 11 ]
The polyacetal powder according to [ 9 ] or [ 10 ], wherein the hydrophobic silica has an average primary particle size of 1 nm or more and 20 nm or less.
[ 12 ]
The polyacetal powder according to any one of [ 9 ] to [ 11 ], wherein the hydrophobic silica has a BET specific surface area of 50 m 2 /g or more and 300 m 2 /g or less.
[ 13 ]
The polyacetal powder according to any one of [ 9 ] to [ 12 ], wherein the hydrophobic silica is hydrophobized with one or more selected from the group consisting of dimethyldichlorosilane, trimethylchlorosilane, and silicone oil.
[ 14 ]
The polyacetal powder according to any one of [1] to [ 13 ], which has a weight loss rate of 5% or less when held for 1 hour at a temperature 10°C lower than the melting point of the polyacetal powder.
[ 15 ]
The polyacetal powder according to any one of [1] to [ 14 ], which is used for additive manufacturing.
[ 16 ]
A method for using the polyacetal powder according to any one of [1] to [ 15 ], which is characterized in that it is used for additive manufacturing.
[ 17 ]
[1] An additive manufacturing method, wherein the polyacetal powder according to any one of [1] to [ 15 ] is used as a molding material.
本発明によれば、反りが少なく、機械的物性に優れた造形品を得ることが可能なポリアセタール粉末を提供することができる。また、本発明によれば、上記ポリアセタール粉末の使用方法、及び上記ポリアセタール粉末を用いた付加製造方法を提供することができる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, it is possible to provide a polyacetal powder with which it is possible to obtain a shaped article with less warpage and excellent mechanical properties. Further, according to the present invention, it is possible to provide a method of using the polyacetal powder and an additive manufacturing method using the polyacetal powder.
以下、本発明を実施するための形態(以下、本実施形態と言う。)について詳細に説明する。なお、本発明は、以下の実施形態に限定されるものではなく、その要旨の範囲内で種々変形して実施することができる。 EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, the form (henceforth this embodiment) for implementing this invention is demonstrated in detail. It should be noted that the present invention is not limited to the following embodiments, and various modifications can be made within the scope of the gist of the present invention.
[ポリアセタール粉末]
本実施形態のポリアセタール粉末は、平均粒子径(D50)が5μm以上70μm以下であり、ポリアセタールを100質量部、ポリエチレン0.01~5質量部、を含むことを特徴とする。
本実施形態のポリアセタール粉末は、樹脂成分が少なくとも1種のポリアセタールと少なくとも1種のポリエチレンとのみであるポリアセタール粉末であってもよいし、樹脂成分が1種のポリアセタールと1種のポリエチレンとのみであるポリアセタール粉末であってもよい。
本実施形態のポリアセタール粉末によれば、反りが少なく、機械的物性に優れた造形品を得ることができる。
[Polyacetal powder]
The polyacetal powder of the present embodiment has an average particle diameter (D50) of 5 μm or more and 70 μm or less, and is characterized by containing 100 parts by mass of polyacetal and 0.01 to 5 parts by mass of polyethylene.
The polyacetal powder of the present embodiment may be a polyacetal powder containing only at least one polyacetal and at least one polyethylene as resin components, or a powder containing only one polyacetal and one polyethylene as resin components. It may also be some polyacetal powder.
According to the polyacetal powder of the present embodiment, it is possible to obtain a molded product with less warpage and excellent mechanical properties.
また、本実施形態におけるポリアセタール粉末は、必要に応じ、疎水性シリカ、他の樹脂、添加剤等を更に含有してもよい。
特に疎水性シリカを含むことにより、本実施形態のポリアセタール粉末の高温時積層性及び造形箇所への粉載りが向上し、より高い機械的物性を有する造形品を得ることができる。
Moreover, the polyacetal powder in the present embodiment may further contain hydrophobic silica, other resins, additives, etc., if necessary.
In particular, by including hydrophobic silica, the polyacetal powder of the present embodiment can be improved in high-temperature lamination properties and powder application to a modeled portion, and a modeled article having higher mechanical properties can be obtained.
<ポリアセタール>
本実施形態のポリアセタール粉末に含まれるポリアセタールとしては、例えば、ポリアセタールホモポリマー及びポリアセタールコポリマー等が挙げられるが、造形性、熱安定性の観点からは、ポリアセタールコポリマーが好ましい。その一方で、得られる造形品の機械的強度の観点からは、ポリアセタールホモポリマーが好ましい。
上記ポリアセタールは、1種を単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
<Polyacetal>
Polyacetal contained in the polyacetal powder of the present embodiment includes, for example, polyacetal homopolymers and polyacetal copolymers, and polyacetal copolymers are preferred from the viewpoint of moldability and thermal stability. On the other hand, polyacetal homopolymer is preferred from the viewpoint of the mechanical strength of the resulting shaped article.
The above polyacetal may be used alone or in combination of two or more.
[ポリアセタールホモポリマー]
ポリアセタールホモポリマーは、オキシメチレンユニットのみを主鎖に有するポリマーである。
ポリアセタールホモポリマーは、例えば、公知のスラリー重合法(例えば、特公昭47-6420号公報及び特公昭47-10059号公報に記載の方法)により得ることができる。
また、市販されているポリアセタールホモポリマーとしては、旭化成株式会社製のテナック(商標)が挙げられる。
[Polyacetal homopolymer]
A polyacetal homopolymer is a polymer having only oxymethylene units in its main chain.
A polyacetal homopolymer can be obtained, for example, by a known slurry polymerization method (for example, the method described in JP-B-47-6420 and JP-B-47-10059).
In addition, commercially available polyacetal homopolymers include Tenac (trademark) manufactured by Asahi Kasei Corporation.
[ポリアセタールコポリマー]
ポリアセタールコポリマーは、主モノマーに由来するオキシメチレンユニットと、コモノマーに由来するコモノマーユニットとを主鎖に有する共重合ポリマーである。コモノマーユニットは、オキシメチレンユニットと共重合できるユニットであれば特に限定されないが、炭素数2以上のオキシアルキレンユニットであることが好ましい。ポリアセタールコポリマーの両末端又は片末端は、エステル基及び/又はエーテル基により封鎖されていてもよい。
[Polyacetal Copolymer]
A polyacetal copolymer is a copolymer having, in the main chain, oxymethylene units derived from a main monomer and comonomer units derived from a comonomer. The comonomer unit is not particularly limited as long as it is a unit that can be copolymerized with an oxymethylene unit, but an oxyalkylene unit having 2 or more carbon atoms is preferable. Both ends or one end of the polyacetal copolymer may be blocked with an ester group and/or an ether group.
ポリアセタールコポリマーは、コモノマーユニットを、オキシメチレンユニット100molに対して、0.3mol以上含有することが好ましく、0.4mol以上含有することがより好ましく、0.5mol以上含有することが更に好ましく、0.6mol以上含有することが一層好ましく、1.2mol以上含有することが特に好ましい。また、ポリアセタールコポリマーは、コモノマーユニットを、3.0mol以下含有することが好ましく、2.0mol以下含有することがより好ましく、1.5mol以下含有することが更に好ましい。オキシメチレンユニット100molに対するコモノマーユニットの含有割合を上述した好ましい範囲にすることで、3Dプリンターによる造形性と熱安定性とのバランスが良好なポリアセタール粉末が得られる傾向にある。 The polyacetal copolymer preferably contains 0.3 mol or more, more preferably 0.4 mol or more, still more preferably 0.5 mol or more of the comonomer unit per 100 mol of the oxymethylene unit. It is more preferable to contain 6 mol or more, and it is particularly preferable to contain 1.2 mol or more. In addition, the polyacetal copolymer preferably contains 3.0 mol or less, more preferably 2.0 mol or less, and even more preferably 1.5 mol or less of the comonomer unit. By setting the content ratio of the comonomer unit to 100 mol of the oxymethylene unit within the preferred range described above, there is a tendency to obtain a polyacetal powder having a good balance between sculptability by a 3D printer and thermal stability.
ポリアセタールコポリマーにおけるコモノマーユニットの含有割合については、1H-NMR法を用いて、以下の手順で求めることができる。
なお、以下の手順は、コモノマーユニットが炭素数2以上のオキシアルキレンユニットであるポリアセタールコポリマーについて述べる。
即ち、ポリアセタールコポリマーを、ヘキサフルオロイソプロパノールにより濃度1.5質量%となるように24時間かけて溶解させ、この溶解液を用いて1H-NMR解析を行い、オキシメチレンユニットと、炭素数2以上のオキシアルキレンユニットと、の帰属ピ-クの積分値の比率から、オキシメチレンユニット(a=100mol)に対する炭素数2以上のオキシアルキレンユニット(bmol)の含有割合(b/a:mol/100mol)を求めることができる。
The content of comonomer units in the polyacetal copolymer can be obtained by the following procedure using 1 H-NMR method.
The procedure below describes a polyacetal copolymer in which the comonomer unit is an oxyalkylene unit having 2 or more carbon atoms.
That is, the polyacetal copolymer was dissolved in hexafluoroisopropanol to a concentration of 1.5% by mass over 24 hours, and 1 H-NMR analysis was performed using this solution, and an oxymethylene unit and a carbon number of 2 or more were detected. From the ratio of the integral value of the oxyalkylene unit and the peak attributed to, the content ratio of the oxyalkylene unit having 2 or more carbon atoms (bmol) to the oxymethylene unit (a = 100mol) (b/a: mol/100mol) can be asked for.
1)主モノマー
ポリアセタールコポリマーの製造に使用する主モノマーとしては、例えば、ホルムアルデヒド又はその3量体であるトリオキサン若しくは4量体であるテトラオキサン等の環状オリゴマー等が挙げられる。
本実施形態において「主モノマー」とは、全モノマー量に対して50質量%以上含有されているモノマーユニットをいう。
1) Main Monomer Examples of main monomers used in the production of polyacetal copolymers include cyclic oligomers such as formaldehyde, its trimer trioxane, and its tetramer tetraoxane.
In the present embodiment, "main monomer" refers to a monomer unit containing 50% by mass or more of the total amount of monomers.
2)コモノマー
ポリアセタールコポリマーの製造に使用するコモノマーとしては、特に限定されないが、例えば、分子中に炭素数2以上のオキシアルキレンユニットを有する環状エーテル化合物が挙げられる。
2) Comonomer The comonomer used in the production of the polyacetal copolymer is not particularly limited, but examples thereof include cyclic ether compounds having an oxyalkylene unit with 2 or more carbon atoms in the molecule.
環状エーテル化合物としては、特に限定されないが、例えば、エチレンオキシド、プロピレンオキシド、1,3-ジオキソラン、1,3-プロパンジオールホルマール、1,4-ブタンジオールホルマール、1,5-ペンタンジオールホルマール、1,6-ヘキサンジオールホルマール、ジエチレングリコールホルマール、1,3,5-トリオキセパン、1,3,6-トリオキオカン、及び分子に分岐若しくは架橋構造を構成しうるモノ-若しくはジ-グリシジル化合物等が挙げられる。
環状エーテル化合物は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
The cyclic ether compound is not particularly limited, but examples include ethylene oxide, propylene oxide, 1,3-dioxolane, 1,3-propanediol formal, 1,4-butanediol formal, 1,5-pentanediol formal, 1, Examples include 6-hexanediol formal, diethylene glycol formal, 1,3,5-trioxepane, 1,3,6-trioxiocane, and mono- or di-glycidyl compounds capable of forming a branched or crosslinked structure in the molecule.
A cyclic ether compound may be used individually by 1 type, and may be used in combination of 2 or more type.
ポリアセタールコポリマーの製造方法は、特に限定されないが、従来公知の方法、例えば、米国特許第3027352号明細書、同第3803094号明細書、独国特許発明第1161421号明細書、同第1495228号明細書、同第1720358号明細書、同第3018898号明細書、特開昭58-98322号公報、特開平7-70267号公報等に記載の方法によって重合することができる。具体的には、カチオン開始剤を重合触媒とし、ホルムアルデヒド単量体又はホルムアルデヒドの環状オリゴマーと、コモノマーである環状エーテル化合物と、連鎖移動剤(分子量調節剤)と、有機溶剤とを原料として重合反応器に供給して、連続塊状重合反応によって製造する方法等が挙げられる。また、得られたポリアセタールコポリマー(末端が安定化されていない粗ポリアセタールコポリマー)を公知の方法(例えば、特公昭63-452号公報に記載の方法等)により、エーテル基やエステル基等で末端を封止して安定化してもよい。
また、市販されているポリアセタールコポリマーとしては、旭化成株式会社製のテナック-C(商標)が挙げられる。
The method for producing the polyacetal copolymer is not particularly limited, but conventionally known methods such as U.S. Pat. , No. 1720358, No. 3018898, JP-A-58-98322 and JP-A-7-70267. Specifically, a cationic initiator is used as a polymerization catalyst, and a formaldehyde monomer or a cyclic oligomer of formaldehyde, a cyclic ether compound as a comonomer, a chain transfer agent (molecular weight modifier), and an organic solvent are used as raw materials for a polymerization reaction. and a method of producing by a continuous bulk polymerization reaction. In addition, the obtained polyacetal copolymer (crude polyacetal copolymer whose terminals are not stabilized) is subjected to a known method (for example, the method described in JP-B-63-452, etc.) to add an ether group, an ester group, or the like to the end. It may be sealed and stabilized.
Commercially available polyacetal copolymers include Tenac-C (trademark) manufactured by Asahi Kasei Corporation.
本実施形態のポリアセタール粉末100質量%中のポリアセタールの含有量としては、90質量%以上であることが好ましく、より好ましくは95質量%以上、特に好ましくは97~99.7質量%である。 The polyacetal content in 100% by mass of the polyacetal powder of the present embodiment is preferably 90% by mass or more, more preferably 95% by mass or more, and particularly preferably 97 to 99.7% by mass.
<ポリエチレン>
本実施形態のポリアセタール粉末に含まれるポリエチレンとしては、特に限定されず、一般に市販されている高密度ポリエチレン(例えば、密度が0.942g/cm3以上のポリエチレン)でも低密度ポリエチレン(例えば、密度が0.930g/cm3未満のポリエチレン)でも構わないが、ポリアセタールとの相溶性の観点、及び、ポリアセタール粉末の結晶化速度を遅くし、3Dプリンターでの造形性を向上させる観点から、低密度ポリエチレンがより好ましい。
<Polyethylene>
The polyethylene contained in the polyacetal powder of the present embodiment is not particularly limited, and generally commercially available high-density polyethylene (e.g., polyethylene having a density of 0.942 g/cm 3 or more) or low-density polyethylene (e.g., density Polyethylene of less than 0.930 g/cm 3 ) may also be used, but from the viewpoint of compatibility with polyacetal, and from the viewpoint of slowing the crystallization speed of polyacetal powder and improving moldability with a 3D printer, low-density polyethylene is more preferred.
上記ポリエチレンの密度としては、0.88~0.93g/cm3が好ましく、一層反りが少なく、層間の密着性に一層優れた造形品が得られる観点から、0.91~0.93g/cm3がより好ましい。 The density of the polyethylene is preferably 0.88 to 0.93 g/cm 3 , and 0.91 to 0.93 g/cm 3 from the viewpoint of obtaining a molded product with less warpage and more excellent adhesion between layers. 3 is more preferred.
低密度ポリエチレンとしては、高圧法低密度ポリエチレン及び/又は直鎖状低密度ポリエチレンを用いることができ、反りが一層少なく、層間の密着性に一層優れた造形品が得られる観点から、高圧法低密度ポリエチレンが好ましい。
高圧法低密度ポリエチレンは、例えば、1000~3000kg/cm2の高圧下でのラジカル重合で製造できる。重合中にback bitingによる分子内の水素引抜き反応により、短鎖分岐(エチル分岐やブチル分岐)が生成し、低密度となっている。高圧法低密度ポリエチレンは、分子間の水素引抜き反応により主鎖に比肩する分岐(長鎖分岐)を持つことが好ましい。高圧法低密度ポリエチレンの密度は、0.91~0.93g/cm3が好ましい。
直鎖状低密度ポリエチレンは、例えば、イオン重合によるポリエチレンで、1-ブテン、1-ヘキセン、4-メチルペン-1、1-オクテンのようなα-オレフィンをエチレンの重量に対して数%~数10%重合させることにより短鎖分岐を導入して得ることができる。直鎖状低密度ポリエチレンの密度は0.88~0.93g/cm3が好ましい。
As the low-density polyethylene, high-pressure low-density polyethylene and/or linear low-density polyethylene can be used. Density polyethylene is preferred.
High-pressure low-density polyethylene can be produced, for example, by radical polymerization under high pressure of 1000 to 3000 kg/cm 2 . Short-chain branching (ethyl branching or butyl branching) is generated by an intramolecular hydrogen abstraction reaction due to back biting during polymerization, resulting in a low density. The high-pressure low-density polyethylene preferably has branches (long-chain branches) comparable to the main chain due to an intermolecular hydrogen abstraction reaction. The density of the high-pressure low-density polyethylene is preferably 0.91-0.93 g/cm 3 .
Linear low-density polyethylene is, for example, polyethylene produced by ionic polymerization, and α-olefins such as 1-butene, 1-hexene, 4-methylpen-1, and 1-octene are added at a few percent to a few percent relative to the weight of ethylene. It can be obtained by introducing short chain branches by polymerizing 10%. The density of the linear low-density polyethylene is preferably 0.88-0.93 g/cm 3 .
ポリエチレンのメルトフローインデックス(MFR)は、0.2~100g/10分であることが好ましく、より好ましくは3~12g/10分、更に好ましくは5~10g/10分である。
なお、MFRは、ISO1133のA法で190℃、2.16kg荷重の条件で測定することができる。
The melt flow index (MFR) of polyethylene is preferably 0.2 to 100 g/10 minutes, more preferably 3 to 12 g/10 minutes, still more preferably 5 to 10 g/10 minutes.
The MFR can be measured under the conditions of 190° C. and a load of 2.16 kg according to the ISO1133 A method.
ポリエチレンの配合量は、ポリアセタール100質量部に対して0.01~5質量部であり、好ましくは0.05~3質量部、より好ましくは0.06~3質量部、更に好ましくは0.13~3質量部である。0.01質量部未満では、結晶化速度を遅くすることによる造形品の反りや層間密着性の改良効果が不十分で、5質量部を越えて添加すると造形品の表面及び内部に剥離を生ずる場合があり好ましくない。 The blending amount of polyethylene is 0.01 to 5 parts by mass, preferably 0.05 to 3 parts by mass, more preferably 0.06 to 3 parts by mass, and still more preferably 0.13 parts by mass with respect to 100 parts by mass of polyacetal. ~3 parts by mass. If it is less than 0.01 part by mass, the effect of slowing down the crystallization speed to improve the warpage of the shaped product and the adhesion between layers is insufficient, and if it is added in excess of 5 parts by mass, peeling occurs on the surface and inside of the shaped product. It is not desirable in some cases.
<疎水性シリカ>
本実施形態のポリアセタール粉末は、更に疎水性シリカを含んでいてもよい。
本実施形態のポリアセタール粉末100質量%中の疎水性シリカの含有量としては、0.05質量%以上1.0質量%以下であることが好ましい。
付加製造では、ポリアセタール粉末の流動性が非常に重要である。造形箇所ではレーザーによる加熱でポリアセタール粉末が溶融して凹むが、流動性に劣る粉末を用いると凹みの表面の粗さが大きくなり、更に造形箇所への粉載りが悪くなり、空隙(ボイド)が生じて造形品の機械的物性が損なわれたり、造形が中止する恐れがある。この点に関し、本発明者らは、ポリアセタール粉末が更に疎水性シリカを0.05質量%以上1.0質量%以下の含有量で含み、なお且つ、表面に疎水性シリカが付着(露出)した粒子状であると、粉末の流動性を向上させることができ、高温時の積層性及び造形箇所への粉載りを向上させ、造形品の機械的物性を高めることができることを見出した。
更に、ポリアセタール粉末としては、通常、個数基準の頻度分布として表示される粒度分布曲線(以下、単に「粒度分布曲線」と称する)の幅が狭い粉末が好まれるが、粒度分布曲線の幅が広い粉末であっても上記と同様の効果が得られることを見出した。これにより、ポリアセタール粉末の生産性(例えば、分級工程後の収率等)も高めることができる。
<Hydrophobic silica>
The polyacetal powder of this embodiment may further contain hydrophobic silica.
The content of hydrophobic silica in 100% by mass of the polyacetal powder of the present embodiment is preferably 0.05% by mass or more and 1.0% by mass or less.
In additive manufacturing the flowability of the polyacetal powder is very important. The polyacetal powder is melted and dented in the molding area by heating with a laser, but if powder with poor fluidity is used, the roughness of the surface of the dent becomes large, and the powder does not adhere to the molding area, resulting in voids. There is a risk that the mechanical properties of the molded product will be impaired or the molding will be stopped. In this regard, the present inventors have found that the polyacetal powder further contains hydrophobic silica in a content of 0.05% by mass or more and 1.0% by mass or less, and the hydrophobic silica is adhered (exposed) to the surface It has been found that when the powder is in the form of particles, the fluidity of the powder can be improved, the layering property at high temperatures and the powder application to the molded part can be improved, and the mechanical properties of the molded product can be improved.
Furthermore, as the polyacetal powder, a powder having a narrow particle size distribution curve (hereinafter simply referred to as "particle size distribution curve") expressed as a number-based frequency distribution is usually preferred, but the width of the particle size distribution curve is wide. The inventors have found that the same effect as described above can be obtained even when the powder is used. Thereby, the productivity of the polyacetal powder (for example, the yield after the classification step, etc.) can also be increased.
一方、ポリアセタール粉末における疎水性シリカの含有量が0.05質量%未満の場合は、粉末の流動性を向上させる効果が不十分である。また、疎水性シリカの含有量が1.0質量%超の場合は、ポリアセタール粉末のレーザー吸収が疎水性シリカによって阻害されるため加熱-焼結に必要な熱量を得ることができず、空隙(ボイド)が生じて造形品の機械的物性や造形精度が損なわれる恐れがある。また、疎水性シリカに替えて親水性シリカを用いても、親水性シリカが表面に付着(露出)した状態とはならず、粉末の流動性を向上させる効果を発揮できない。
同様の観点から、本実施形態のポリアセタール粉末における疎水性シリカの含有量は、ポリアセタール粉末100質量%に対し、0.1質量%以上0.7質量%以下であることがより好ましく、0.2質量%以上0.5質量%以下であることが更に好ましい。
On the other hand, when the content of hydrophobic silica in the polyacetal powder is less than 0.05% by mass, the effect of improving the fluidity of the powder is insufficient. In addition, if the content of hydrophobic silica exceeds 1.0% by mass, the laser absorption of the polyacetal powder is inhibited by the hydrophobic silica, so that the amount of heat required for heating and sintering cannot be obtained, and the voids ( Voids) may occur, which may impair the mechanical properties and molding accuracy of the molded product. Also, even if hydrophilic silica is used instead of hydrophobic silica, the hydrophilic silica does not adhere (expose) to the surface, and the effect of improving the fluidity of the powder cannot be exhibited.
From the same point of view, the content of hydrophobic silica in the polyacetal powder of the present embodiment is more preferably 0.1% by mass or more and 0.7% by mass or less with respect to 100% by mass of the polyacetal powder. More preferably, the content is not less than 0.5% by mass and not more than 0.5% by mass.
本実施形態のポリアセタール粉末において、表面に疎水性シリカが付着(露出)した粒子状であるとは、疎水性シリカ粒子1個の少なくとも一部分が粉末粒子の表面に露出してさえいれば、残りの部分が該粒子内に埋まっている状態であってもよい。一方、ポリアセタール及びポリエチレンを含むポリアセタール組成物に疎水性シリカが混練されてポリアセタール粉末が製造される等により、粉末粒子の表面に疎水性シリカ粒子が露出していない場合は、含まれない。
ポリアセタール粉末が、表面に疎水性シリカが付着(露出)した粒子状であるか否かは、粉末粒子の表面を走査電子顕微鏡(SEM)により観察することで確認することができる。
上述のポリアセタール粉末は、後述するように、分級工程の前若しくは後に、又は分級工程と同時に、所定量の疎水性シリカを添加し混合すること(疎水性シリカ混合工程)によって得ることができる。
In the polyacetal powder of the present embodiment, the particulate with hydrophobic silica attached (exposed) to the surface means that at least a portion of one hydrophobic silica particle is exposed to the surface of the powder particle, and the remaining A portion may be embedded in the particles. On the other hand, when the hydrophobic silica particles are not exposed on the surface of the powder particles, such as when hydrophobic silica is kneaded into a polyacetal composition containing polyacetal and polyethylene to produce polyacetal powder, it is not included.
Whether or not the polyacetal powder is particulate with hydrophobic silica adhered (exposed) to the surface can be confirmed by observing the surface of the powder particles with a scanning electron microscope (SEM).
The polyacetal powder described above can be obtained by adding and mixing a predetermined amount of hydrophobic silica (hydrophobic silica mixing step) before or after the classification step, or at the same time as the classification step, as described later.
本実施形態において、疎水性シリカとしては、特に限定されず、工業用途で通常使用されているものを用いることができ、例えば、乾式法シリカ及び湿式法シリカのいずれも用いることができるが、中でも乾式法シリカを用いることが好ましい。湿式法シリカは、その製造過程でポリアセタールを分解する不純物が含まれる場合があり、ポリアセタール粉末の樹脂特性等を損なう恐れがある。一方、乾式法シリカは、その製造過程でそのような不純物が含まれる可能性がなく、ポリアセタール粉末の樹脂特性等を損なう恐れがない。 In the present embodiment, the hydrophobic silica is not particularly limited, and those commonly used in industrial applications can be used. For example, both dry process silica and wet process silica can be used. Dry process silica is preferably used. Wet-process silica may contain impurities that decompose polyacetal during its manufacturing process, and may impair the resin characteristics of the polyacetal powder. On the other hand, dry-process silica is unlikely to contain such impurities during its manufacturing process, and there is no risk of impairing the resin characteristics of the polyacetal powder.
本実施形態において、疎水性シリカの平均一次粒子径は、特に限定されないが、1nm以上20nm以下であることが好ましい。疎水性シリカの平均一次粒子径が前記範囲内であれば、ポリアセタール粉末の流動性をより高めることができ、高温時の積層性、造形箇所への粉載り、及び造形品の機械的特性をより向上させることができる。
同様の観点から、疎水性シリカの平均一次粒子径は、5nm以上15nm以下であることがより好ましく、7nm以上13nm以下であることが更に好ましい。
なお、疎水性シリカの平均一次粒子径は、レーザー回折・散乱法によって湿式(溶媒:水)で測定することができる。
In the present embodiment, the average primary particle size of the hydrophobic silica is not particularly limited, but is preferably 1 nm or more and 20 nm or less. If the average primary particle size of the hydrophobic silica is within the above range, the fluidity of the polyacetal powder can be further improved, and the layering properties at high temperatures, the powder placement on the molded part, and the mechanical properties of the molded product can be improved. can be improved.
From the same point of view, the average primary particle size of the hydrophobic silica is more preferably 5 nm or more and 15 nm or less, and even more preferably 7 nm or more and 13 nm or less.
The average primary particle size of hydrophobic silica can be measured by a wet method (solvent: water) by a laser diffraction/scattering method.
本実施形態において、疎水性シリカのBET比表面積は、特に限定されないが、50m2/g以上300m2/g以下であることが好ましい。疎水性シリカのBET比表面積が前記範囲内であれば、ポリアセタール粉末の流動性を更に高め、高温時の積層性、造形箇所への粉載り、及び造形品の機械的特性を更に向上させることができる。
同様の観点から、疎水性シリカのBET比表面積は、100m2/g以上250m2/g以下であることがより好ましく、130m2/g以上200m2/g以下であることが更に好ましい。
なお、疎水性シリカのBET比表面積は、BET法に従って求めることができる。
In the present embodiment, the BET specific surface area of the hydrophobic silica is not particularly limited, but is preferably 50 m 2 /g or more and 300 m 2 /g or less. If the BET specific surface area of the hydrophobic silica is within the above range, the fluidity of the polyacetal powder can be further increased, and the lamination property at high temperatures, powder placement on the molded part, and the mechanical properties of the molded product can be further improved. can.
From the same point of view, the BET specific surface area of the hydrophobic silica is more preferably 100 m 2 /g or more and 250 m 2 /g or less, and still more preferably 130 m 2 /g or more and 200 m 2 /g or less.
The BET specific surface area of hydrophobic silica can be determined according to the BET method.
本実施形態において、乾式法シリカとしては、特に限定されず、工業用途で通常使用されているものを用いることができるが、表面改質剤で疎水性シリカの表面水酸基(シラノール基)を疎水化したものであることが好ましい。表面改質剤で疎水化した疎水性シリカは、表面水酸基が低減して、ポリアセタール組成物の粒子の表面への付着性が高まり、ポリアセタール粉末の流動性を一層高めることができる。
前記表面改質剤としては、シリカの表面改質処理に通常使用されるものであれば特に限定されず、例えば、ジメチルジクロロシラン、トリメチルクロロシラン、シリコーンオイル、オクチルシラン、ヘキサメチルシラザン等が挙げられる。中でも、ジメチルジクロロシラン、トリメチルクロロシラン、及びシリコーンオイルからなる群より選択される少なくとも1種以上の表面改質剤で疎水化されていることが好ましい。
上記表面改質剤は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
上記表面改質剤で疎水化された疎水性シリカとしては、市販品を用いてもよく、表面改質剤を用いて疎水化を行って得られた疎水性シリカを用いてもよい。
In the present embodiment, the dry-process silica is not particularly limited, and one commonly used in industrial applications can be used. It is preferable that the Hydrophobic silica that has been hydrophobized with a surface modifier has a reduced number of surface hydroxyl groups, thereby increasing adhesion to the surface of particles of the polyacetal composition and further increasing the fluidity of the polyacetal powder.
The surface modifier is not particularly limited as long as it is commonly used for surface modification treatment of silica, and examples thereof include dimethyldichlorosilane, trimethylchlorosilane, silicone oil, octylsilane, hexamethylsilazane, and the like. . Above all, it is preferable to hydrophobize with at least one surface modifier selected from the group consisting of dimethyldichlorosilane, trimethylchlorosilane, and silicone oil.
One of the above surface modifiers may be used alone, or two or more thereof may be used in combination.
As the hydrophobic silica hydrophobized with the surface modifier, a commercially available product may be used, or a hydrophobic silica obtained by hydrophobization using a surface modifier may be used.
<他の樹脂>
本実施形態のポリアセタール粉末は、樹脂として、ポリアセタール、ポリエチレン以外の他の樹脂を含んでいてもよい。
樹脂成分として含まれ得る他の樹脂の具体例としては、特に制限はされず、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ポリアミド6、ポリアミド11、ポリアミド12、ポリアミド66、ポリプロピレン、ポリエーテルエーテルケトン(PEEK)、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリブチレンテレフレラート(PBT)等の結晶性樹脂が挙げられる。これらは、1種単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
ポリアセタール粉末中の他の樹脂の含有量は、ポリアセタール100質量部に対して、0.05~5質量部としてよい。
<Other resins>
The polyacetal powder of the present embodiment may contain resins other than polyacetal and polyethylene as resins.
Specific examples of other resins that can be contained as a resin component are not particularly limited and can be appropriately selected depending on the purpose. Examples include polyamide 6, polyamide 11, polyamide 12, polyamide 66, polypropylene, polyether Crystalline resins such as ether ketone (PEEK), polyethylene terephthalate (PET), and polybutylene terephthalate (PBT) are included. These may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.
The content of other resins in the polyacetal powder may be 0.05 to 5 parts by mass with respect to 100 parts by mass of polyacetal.
<添加剤>
また、本実施形態のポリアセタール粉末は、例えば、酸化防止剤、安定剤(熱安定剤等)、耐候(光)剤(紫外線吸収剤等)、潤滑剤(離型剤等)、結晶核剤、無機・有機の充填剤、導電剤・帯電防止剤、外観改良剤(顔料や染料等)等の添加剤を含んでいてもよい。特に、本実施形態のポリアセタール粉末は、添加剤として酸化防止剤及び熱安定剤を含むことが好ましい。酸化防止剤は、ヒンダードフェノール系酸化防止剤が好ましく、熱安定剤は、ホルムアルデヒド反応性窒素を含むものが好ましい。
添加剤は、1種単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
<Additive>
Further, the polyacetal powder of the present embodiment includes, for example, antioxidants, stabilizers (thermal stabilizers, etc.), weathering (light) agents (ultraviolet absorbers, etc.), lubricants (release agents, etc.), crystal nucleating agents, Additives such as inorganic/organic fillers, conductive agents/antistatic agents, and appearance modifiers (pigments, dyes, etc.) may also be included. In particular, the polyacetal powder of the present embodiment preferably contains an antioxidant and a heat stabilizer as additives. The antioxidant is preferably a hindered phenolic antioxidant, and the heat stabilizer preferably contains formaldehyde-reactive nitrogen.
An additive may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.
<<酸化防止剤>>
酸化防止剤としては、ヒンダードフェノール系酸化防止剤が好適に用いられる。
ヒンダードフェノール系酸化防止剤としては、例えば、n-オクタデシル-3-(3’,5’-ジ-t-ブチル-4’-ヒドロキシフェニル)-プロピオネート、n-オクタデシル-3-(3’-メチル-5’-t-ブチル-4’-ヒドロキシフェニル)-プロピオネート、n-テトラデシル-3-(3’,5’-ジ-t-ブチル-4’-ヒドロキシフェニル)-プロピオネート、1,6-ヘキサンジオール-ビス-[3-(3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシフェニル)-プロピオネート]、1,4-ブタンジオール-ビス-[3-(3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシフェニル)-プロピオネート]、トリエチレングリコール-ビス-[3-(3-t-ブチル-5-メチル-4-ヒドロキシフェニル)-プロピオネート]、ペンタエリスリトールテトラキス[メチレン-3-(3’,5’-ジ-t-ブチル-4’-ヒドロキシフェニル)プロピオネート]メタン等が挙げられる。好ましくは、トリエチレングリコール-ビス-[3-(3-t-ブチル-5-メチル-4-ヒドロキシフェニル)-プロピオネート]及びペンタエリスリトールテトラキス[メチレン-3-(3’,5’-ジ-t-ブチル-4’-ヒドロキシフェニル)プロピオネート]メタンである。
酸化防止剤は、1種単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
<<Antioxidant>>
As the antioxidant, a hindered phenol-based antioxidant is preferably used.
Examples of hindered phenol antioxidants include n-octadecyl-3-(3',5'-di-t-butyl-4'-hydroxyphenyl)-propionate, n-octadecyl-3-(3'- methyl-5'-t-butyl-4'-hydroxyphenyl)-propionate, n-tetradecyl-3-(3',5'-di-t-butyl-4'-hydroxyphenyl)-propionate, 1,6- Hexanediol-bis-[3-(3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl)-propionate], 1,4-butanediol-bis-[3-(3,5-di-t-butyl -4-hydroxyphenyl)-propionate], triethylene glycol-bis-[3-(3-t-butyl-5-methyl-4-hydroxyphenyl)-propionate], pentaerythritol tetrakis[methylene-3-(3' , 5′-di-t-butyl-4′-hydroxyphenyl)propionate]methane and the like. Preferably, triethylene glycol-bis-[3-(3-t-butyl-5-methyl-4-hydroxyphenyl)-propionate] and pentaerythritol tetrakis[methylene-3-(3',5'-di-t -Butyl-4′-hydroxyphenyl)propionate]methane.
An antioxidant may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.
<<熱安定剤>>
熱安定剤としては、例えば、アミノ置換トリアジン化合物、アミノ置換トリアジン化合物とホルムアルデヒドの付加物、アミノ置換トリアジン化合物とホルムアルデヒドの縮合物、尿素、尿素誘導体、ヒドラジン誘導体、イミダゾール化合物、イミド化合物等が挙げられる。
<<Thermal Stabilizer>>
Examples of heat stabilizers include amino-substituted triazine compounds, adducts of amino-substituted triazine compounds and formaldehyde, condensates of amino-substituted triazine compounds and formaldehyde, urea, urea derivatives, hydrazine derivatives, imidazole compounds, imide compounds, and the like. .
アミノ置換トリアジン化合物の具体例としては、2,4-ジアミノ-sym-トリアジン、2,4,6-トリアミノ-sym-トリアジン、N-ブチルメラミン、N-フェニルメラミン、N,N-ジフェニルメラミン、N,N-ジアリルメラミン、ベンゾグアナミン(2,4-ジアミノ-6-フェニル-sym-トリアジン)、アセトグアナミン(2,4-ジアミノ-6-メチル-sym-トリアジン)、2,4-ジアミノ-6-ブチル-sym-トリアジン等が挙げられる。 Specific examples of amino-substituted triazine compounds include 2,4-diamino-sym-triazine, 2,4,6-triamino-sym-triazine, N-butylmelamine, N-phenylmelamine, N,N-diphenylmelamine, N , N-diamino-6-butyl, N-diallylmelamine, benzoguanamine (2,4-diamino-6-phenyl-sym-triazine), acetoguanamine (2,4-diamino-6-methyl-sym-triazine) -sym-triazine and the like.
アミノ置換トリアジン化合物とホルムアルデヒドの付加物の具体例としては、N-メチロールメラミン、N,N’-ジメチロールメラミン、N,N’,N”-トリメチロールメラミン等が挙げられる。 Specific examples of adducts of amino-substituted triazine compounds and formaldehyde include N-methylolmelamine, N,N'-dimethylolmelamine and N,N',N''-trimethylolmelamine.
アミノ置換トリアジン化合物とホルムアルデヒドの縮合物の具体例としては、メラミン・ホルムアルデヒド縮合物等が挙げられる。 Specific examples of the condensates of amino-substituted triazine compounds and formaldehyde include melamine/formaldehyde condensates.
尿素誘導体の例としては、N-置換尿素、尿素縮合体、エチレン尿素、ヒダントイン化合物、ウレイド化合物等が挙げられる。N-置換尿素の具体例としては、アルキル基等の置換基が置換したメチル尿素、アルキレンビス尿素、アリール置換尿素等が挙げられる。尿素縮合体の具体例としては、尿素とホルムアルデヒドの縮合体等が挙げられる。ヒダントイン化合物の具体例としては、ヒダントイン、5,5-ジメチルヒダントイン、5,5-ジフェニルヒダントイン等が挙げられる。ウレイド化合物の具体例としては、アラントイン等が挙げられる。 Examples of urea derivatives include N-substituted urea, urea condensates, ethylene urea, hydantoin compounds, ureido compounds and the like. Specific examples of N-substituted urea include methyl urea, alkylenebis urea, and aryl-substituted urea substituted with a substituent such as an alkyl group. Specific examples of urea condensates include condensates of urea and formaldehyde. Specific examples of hydantoin compounds include hydantoin, 5,5-dimethylhydantoin, 5,5-diphenylhydantoin and the like. Specific examples of ureido compounds include allantoin and the like.
ヒドラジン誘導体の例としては、ヒドラジド化合物を挙げることができる。ヒドラジド化合物の具体例としては、ジカルボン酸ジヒドラジド等が挙げられ、より具体的には、マロン酸ジヒドラジド、コハク酸ジヒドラジド、グルタル酸ジヒドラジド、アジピン酸ジヒドラジド、ピメリン酸ジヒドラジド、スペリン酸ジヒドラジド、アゼライン酸ジヒドラジド、セバチン酸ジヒドラジド、ドデカン二酸ジヒドラジド、イソフタル酸ジヒドラジド、フタル酸ジヒドラジド、2,6-ナフタレンジカルボジヒドラジド等が挙げられる。 Examples of hydrazine derivatives include hydrazide compounds. Specific examples of the hydrazide compound include dicarboxylic acid dihydrazide, and more specific examples include malonic acid dihydrazide, succinic acid dihydrazide, glutaric acid dihydrazide, adipic acid dihydrazide, pimelic acid dihydrazide, sperate dihydrazide, azelaic acid dihydrazide, Sebacic acid dihydrazide, dodecanedioic acid dihydrazide, isophthalic acid dihydrazide, phthalic acid dihydrazide, 2,6-naphthalenedicarbodihydrazide and the like can be mentioned.
イミダゾール化合物の具体例としては、イミダゾール、1-メチルイミダゾール、2-メチルイミダゾール、1,2-ジメチルイミダゾール等が挙げられる。 Specific examples of imidazole compounds include imidazole, 1-methylimidazole, 2-methylimidazole, 1,2-dimethylimidazole and the like.
イミド化合物の具体例としては、スクシンイミド、グルタルイミド、フタルイミド等が挙げられる。 Specific examples of imide compounds include succinimide, glutarimide, and phthalimide.
熱安定剤は、1種単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。 A heat stabilizer may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.
熱安定剤以外の安定剤、耐候(光)剤(紫外線吸収剤等)、潤滑剤(離型剤等)、結晶核剤、無機・有機の充填剤、導電剤・帯電防止剤、外観改良剤(顔料や染料等)としては、通常汎用されるものを適宜使用することができる。 Stabilizers other than heat stabilizers, weathering (light) agents (ultraviolet absorbers, etc.), lubricants (mold release agents, etc.), crystal nucleating agents, inorganic/organic fillers, conductive agents/antistatic agents, appearance improvers As (pigments, dyes, etc.), commonly used ones can be appropriately used.
上記添加剤の含有量は、特に限定されることなく、本発明の効果を損なわない範囲で適宜設定することができる。 The content of the additive is not particularly limited, and can be appropriately set within a range that does not impair the effects of the present invention.
<平均粒子径(D50)>
本実施形態のポリアセタール粉末は、平均粒子径(D50)が、5μm以上70μm以下であることを特徴とする。ポリアセタール粉末の平均粒子径(D50)が前記範囲内であれば、作業性を十分に確保することができ、例えば100μm程度の厚みに十分均一に敷き詰めることができ、得られる造形品における微小な空隙(ボイド)の発生を十分に抑制することができる。
ポリアセタール粉末のD50が5μm未満であると、作業性が悪化し、一方、70μmを超えると、例えば100μm程度の薄さに均一に敷き詰めることが困難となり、得られる造形品に微小な空隙(ボイド)が多く発生する虞がある。
同様の観点から、ポリアセタール粉末のD50は、10μm以上60μm以下であることが好ましく、20μm以上55μm以下であることがより好ましい。
<Average particle size (D50)>
The polyacetal powder of the present embodiment is characterized by having an average particle size (D50) of 5 μm or more and 70 μm or less. If the average particle size (D50) of the polyacetal powder is within the above range, sufficient workability can be ensured, for example, it can be sufficiently uniformly spread to a thickness of about 100 μm, and the resulting molded product has minute voids. It is possible to sufficiently suppress the generation of (voids).
When the D50 of the polyacetal powder is less than 5 μm, the workability deteriorates. is likely to occur frequently.
From the same point of view, D50 of the polyacetal powder is preferably 10 μm or more and 60 μm or less, more preferably 20 μm or more and 55 μm or less.
本実施形態のポリアセタール粉末のD50は、レーザー回折・散乱法によって湿式(溶媒:水)で測定した体積基準の粒度分布から求められる、微粒径側から累積した50%粒子径(メジアン径)を意味し、より具体的には、後述の実施例記載の方法によって測定することができる。 The D50 of the polyacetal powder of the present embodiment is the 50% particle diameter (median diameter) accumulated from the fine particle side, which is obtained from the volume-based particle size distribution measured by the wet method (solvent: water) by the laser diffraction/scattering method. More specifically, it can be measured by the method described in Examples below.
<粒度分布>
本実施形態のポリアセタール粉末は、径が平均粒子径(D50)の2倍以上である粒子(例えば、D50が50μmである場合には、径が100μm以上である粒子)の割合が、10vol%以下であることが好ましい。上記割合が10vol%以下であることで、ポリアセタール粉末の流動性を向上させ、造形品を高密度にして、機械的物性を高めることが可能となる上、造形品の表面をより滑らかにでき、造形精度が向上するので、精密な部品を製造し易くなる。
同様の観点から、ポリアセタール粉末における、径がD50の2倍以上である粒子の割合は、5vol%以下であることがより好ましく、3vol%以下であることが更に好ましく、実質的に0vol%であることがより更に好ましい。
<Particle size distribution>
In the polyacetal powder of the present embodiment, the proportion of particles whose diameter is two times or more the average particle diameter (D50) (for example, when D50 is 50 μm, particles whose diameter is 100 μm or more) is 10 vol% or less. is preferably When the above ratio is 10 vol% or less, it is possible to improve the fluidity of the polyacetal powder, increase the density of the molded product, improve the mechanical properties, and make the surface of the molded product smoother. Since the molding accuracy is improved, it becomes easier to manufacture precise parts.
From the same point of view, the proportion of particles having a diameter of at least twice the D50 in the polyacetal powder is more preferably 5 vol% or less, further preferably 3 vol% or less, and substantially 0 vol%. is even more preferable.
本実施形態のポリアセタール粉末は、径が平均粒子径(D50)の0.2倍以下である粒子(例えば、D50が50μmである場合には、径が10μm以下である粒子)の割合が、10vol%以下であることが好ましい。
造形に用いるレーザービームは、照射スポット寸法を非常に小さくできるので、造形品の輪郭の解像度を非常に鮮明にすることができる。しかしながら、レーザーでの加熱により融着した箇所からの熱伝導により、レーザーが走査された箇所の外側にある粉末が焼結対象の部分に直接融着し、レーザー走査領域を越え、従って設計寸法を越えて粉末が融着する恐れがある。また、焼結からの熱が残っていると、単に粉末をその層の上に新たに敷き並べただけでも、当該粉末が先の層の焼結部分に焼結して、いわゆる層間成長が生じる恐れがある。このような層間成長が生じた場合には、造形精度が低下する上、完成品から未焼結粉末を除去することが困難になる。この点に関し、本発明者らは、径がD50の0.2倍以下である粒子が、特に融着し易く、造形精度に影響を与えること、並びに、その割合を10vol%以下とすることで、造形精度が高まり、精密な部品を製造し易くなることを見出した。更に、上記割合が10vol%以下であることで、ポリアセタール粉末の流動性を向上させ、造形品を高密度にして、機械的物性を高めることも可能となる。
同様の観点から、ポリアセタール粉末における、径がD50の0.2倍以下である粒子の割合は、5vol%以下であることがより好ましく、3vol%以下であることが更に好ましく、実質的に0vol%であることがより更に好ましい。
In the polyacetal powder of the present embodiment, the proportion of particles whose diameter is 0.2 times or less the average particle diameter (D50) (for example, when D50 is 50 μm, particles whose diameter is 10 μm or less) is 10 vol. % or less.
The laser beam used for shaping can have a very small irradiation spot size, so that the contour resolution of the shaped article can be very sharp. However, due to heat conduction from the point fused by heating with the laser, the powder outside the point scanned by the laser fuses directly to the part to be sintered, exceeding the laser scanning area, and thus exceeding the design dimensions. There is a risk that the powder will fuse beyond the limit. In addition, if the heat from the sintering remains, even if the powder is simply laid on top of the layer, the powder will sinter into the sintered portion of the previous layer, causing so-called inter-layer growth. There is fear. When such inter-layer growth occurs, the molding precision is lowered, and it becomes difficult to remove the unsintered powder from the finished product. In this regard, the present inventors have found that particles with a diameter of 0.2 times or less of D50 are particularly prone to fusion, affecting modeling accuracy, and that the ratio is 10 vol% or less. , It was found that the molding accuracy was improved and it became easy to manufacture precise parts. Furthermore, when the above ratio is 10 vol % or less, it is possible to improve the fluidity of the polyacetal powder, increase the density of the molded article, and improve the mechanical properties.
From the same point of view, the proportion of particles having a diameter of 0.2 times or less of D50 in the polyacetal powder is more preferably 5 vol% or less, further preferably 3 vol% or less, and substantially 0 vol%. is even more preferable.
また、本実施形態のポリアセタール粉末は、D50が65μm以下であり、径が前記D50の0.2倍以下である粒子の割合が3vol%以下であることが好ましい。D50及び径が該D50の0.2倍以下である粒子の割合が各々前記範囲内であれば、ポリアセタール粉末の積層性を一層向上させ、得られる造形品の機械的物性を一層高めることができる。
同様の観点から、D50が63μm以下であり、径がD50の0.2倍以下である粒子の割合が2vol%以下であることがより好ましく、D50が62μm以下であり、径がD50の0.2倍以下である粒子の割合が1vol%以下であることが更に好ましい。
In addition, the polyacetal powder of the present embodiment preferably has a D50 of 65 μm or less and a proportion of particles having a diameter of 0.2 times or less of the D50 of 3 vol % or less. When the D50 and the ratio of particles having a diameter of 0.2 times or less of the D50 are each within the above ranges, the layering property of the polyacetal powder can be further improved, and the mechanical properties of the resulting shaped article can be further improved. .
From the same point of view, it is more preferable that the proportion of particles having a D50 of 63 μm or less and a diameter of 0.2 times or less of the D50 be 2 vol % or less, more preferably 2 vol % or less of particles having a D50 of 62 μm or less and a diameter of 0.2 times the D50. It is more preferable that the proportion of particles having a ratio of 2 times or less is 1 vol % or less.
径がD50の2倍以上である粒子の割合、径がD50の0.2倍以下である粒子の割合は、レーザー回折・散乱法によって測定した粒度分布及びD50から求めることができる。
径がD50の2倍以上である粒子の割合又は/及び径がD50の0.2倍以下である粒子の割合が上記範囲内のポリアセタール粉末は、ポリアセタール粉末の製造方法の粉砕工程及び/又は分級工程における各種条件を調整することによって得ることができる。
The proportion of particles with a diameter of 2 times or more D50 and the proportion of particles with a diameter of 0.2 times or less than D50 can be obtained from the particle size distribution and D50 measured by a laser diffraction/scattering method.
The polyacetal powder in which the ratio of particles having a diameter of 2 times or more D50 and/or the ratio of particles having a diameter of 0.2 times or less than D50 is within the above range is obtained by the pulverization step and/or classification of the method for producing polyacetal powder. It can be obtained by adjusting various conditions in the process.
<融点>
本実施形態のポリアセタール粉末は、融点が160℃以上173℃以下であることが好ましい。融点が前記範囲内であれば、ポリアセタール粉末の結晶化温度との温度差(プロセスウィンドウ)を十分広くすることができ、造形時の造形エリア内の温度差に対するポリアセタール粉末の許容性を広げ(例えば、造形エリアの温度が、周囲への放熱等により、設定温度よりも低くなってしまっている部分があっても、造形時の反りの発生を抑制でき)、得られる造形品の造形精度を高めることができる。また、一度に多量の造形品を量産する場合は、造形装置内の温度差に対するポリアセタール粉末の許容性を広げ、造形品間の造形精度のばらつきを抑制することができる。
同様の観点から、ポリアセタール粉末の融点は、162℃以上171℃以下であることがより好ましい。
<Melting point>
The polyacetal powder of the present embodiment preferably has a melting point of 160° C. or higher and 173° C. or lower. If the melting point is within the above range, the temperature difference (process window) from the crystallization temperature of the polyacetal powder can be sufficiently widened, and the tolerance of the polyacetal powder to the temperature difference in the molding area during molding is widened (for example, (Even if there are parts where the temperature of the molding area is lower than the set temperature due to heat radiation to the surroundings, it is possible to suppress the occurrence of warping during molding), and improve the molding accuracy of the resulting molded product. be able to. In addition, when mass-producing a large number of shaped products at once, it is possible to widen the tolerance of the polyacetal powder to the temperature difference in the shaping apparatus, and to suppress variations in shaping accuracy between shaped products.
From the same point of view, the melting point of the polyacetal powder is more preferably 162° C. or higher and 171° C. or lower.
ここで、ポリアセタール粉末の融点とは、当該ポリアセタール粉末が本来有する固有の融点を意味し、示差走査熱量(DSC)測定でセカンドスキャンの融点として測定することができる。DSCで測定したファーストスキャンの融点は、測定対象のポリアセタール粉末の熱履歴の影響を受けるため、製造過程で凍結粉砕された場合等、ポリアセタール粉末の固有の融点より下がる場合があり得る。一方、DSCで測定するセカンドスキャンの融点は、ポリアセタール粉末がファーストスキャン測定時に一度融解し固化した後に再度融解する際の融点として測定されるため、熱履歴の影響を受けず、測定対象物が本来有する固有の融点とすることができる。 Here, the melting point of the polyacetal powder means the intrinsic melting point of the polyacetal powder, which can be measured as the second scan melting point in differential scanning calorimetry (DSC). The melting point of the first scan measured by DSC is affected by the thermal history of the polyacetal powder to be measured, so it may be lower than the intrinsic melting point of the polyacetal powder, such as when freeze-pulverized during the manufacturing process. On the other hand, the melting point of the second scan measured by DSC is measured as the melting point when the polyacetal powder melts and solidifies once during the first scan measurement, and then melts again. can have an intrinsic melting point.
上記範囲の融点を有するポリアセタール粉末は、コモノマーユニットの含有割合を上記範囲内で調整してポリアセタールコポリマーの結晶化度を制御することによって、得ることができる。
なお、通常、ポリアセタールコポリマー中のコモノマーの含有割合を増やすと結晶化度が下がり、ポリアセタール粉末の融点を低くすることができる。逆に、ポリアセタールコポリマー中のコモノマー含有割合を減らせば結晶化度が上がり、ポリアセタール粉末の融点を高くすることができる。
A polyacetal powder having a melting point within the above range can be obtained by controlling the crystallinity of the polyacetal copolymer by adjusting the comonomer unit content within the above range.
Generally, increasing the comonomer content in the polyacetal copolymer lowers the degree of crystallinity and lowers the melting point of the polyacetal powder. Conversely, decreasing the comonomer content in the polyacetal copolymer increases the degree of crystallinity and can increase the melting point of the polyacetal powder.
<ファーストスキャン融点とセカンドスキャン融点との差>
本実施形態のポリアセタール粉末は、示差走査熱量(DSC)測定におけるファーストスキャンの融点とセカンドスキャンの融点との差が0℃以上5℃以下であることが好ましい。
樹脂粉末を造形材料として使用する付加製造において重要となるプロセスウィンドウの広さを決めることになるポリアセタール粉末の融点は、DSC測定におけるファーストスキャンの融点に相当する。ファーストスキャンの融点は、ポリアセタール粉末が製造されるまでに受けた熱履歴を反映している。
一方、セカンドスキャンの融点は、樹脂自体の実力としての融点であり、高い方が好ましい。ファーストスキャンの融点が低くてもセカンドスキャンの融点が高ければ、後述するアニール等の後処理を事前にすることで、ファーストスキャンの融点を高めることが可能である。
<Difference between First Scan Melting Point and Second Scan Melting Point>
In the polyacetal powder of the present embodiment, the difference between the melting point of the first scan and the melting point of the second scan in differential scanning calorimetry (DSC) measurement is preferably 0° C. or more and 5° C. or less.
The melting point of polyacetal powder, which determines the width of the process window, which is important in additive manufacturing using resin powder as a modeling material, corresponds to the melting point of the first scan in DSC measurement. The fast scan melting point reflects the thermal history that the polyacetal powder was subjected to before it was manufactured.
On the other hand, the melting point of the second scan is the melting point of the resin itself, and the higher the better. Even if the melting point of the first scan is low, if the melting point of the second scan is high, it is possible to raise the melting point of the first scan by performing a post-treatment such as annealing, which will be described later.
そして、ファーストスキャンの融点とセカンドスキャンの融点との差が0℃以上5℃以下であれば樹脂の持つ実力に近い広いプロセスウィンドウを達成することができる。
同様の観点から、ポリアセタール粉末における、DSC測定におけるファーストスキャンの融点とセカンドスキャンの融点との差は、0℃以上4℃以下であることがより好ましく、0℃以上3℃以下であることが更に好ましい。
なお、DSC測定におけるファーストスキャンの融点とセカンドスキャンの融点との差は、DSC測定で測定されたファーストスキャンの融点及びセカンドスキャンの融点のうち、高温である方の融点から低温である方の融点を差し引いた値とする。
上記範囲内のファーストスキャンの融点とセカンドスキャンの融点との差を有するポリアセタール粉末は、製造過程における凍結粉砕の条件を制御すること、凍結粉砕後で分級工程の前又は後にアニール(融点より低温かつ結晶成長が可能な程度の高温で一定時間保持すること。例えば、120℃で1時間等)によって結晶成長させること、等によって得ることができる。
If the difference between the melting point of the first scan and the melting point of the second scan is 0° C. or more and 5° C. or less, a wide process window close to the capabilities of the resin can be achieved.
From the same point of view, the difference between the melting point of the first scan and the melting point of the second scan in the DSC measurement of the polyacetal powder is more preferably 0° C. or higher and 4° C. or lower, and more preferably 0° C. or higher and 3° C. or lower. preferable.
In addition, the difference between the melting point of the first scan and the melting point of the second scan in DSC measurement is the melting point of the higher one to the lower melting point of the melting point of the first scan and the melting point of the second scan measured by DSC measurement. is subtracted from the value.
Polyacetal powder having a difference between the melting point of the first scan and the melting point of the second scan within the above range should be annealed (lower than the melting point and It can be obtained by holding for a certain period of time at a high temperature that allows crystal growth (for example, 120° C. for 1 hour) to allow crystal growth.
<結晶化温度>
本実施形態のポリアセタール粉末は、結晶化温度が130℃以上145℃以下であることが好ましい。
付加製造中の造形エリア内及び造形装置内の温度は、樹脂粉末の結晶化温度より高温に常時保たれている。しかし、造形エリア内又は造形装置内において多少の温度差(温度ムラ)が生じた場合、加熱-焼結された造形層において結晶化温度まで冷却された部分のポリアセタールが結晶化し、特に積層方向に反りが生じ、得られる造形品において造形精度を低下させていた。この点に関し、本発明者らは、ポリアセタール粉末の融点と結晶化温度との温度差を大きくすることによって造形エリア内及び造形装置内での温度差(温度ムラ)に対する許容性を広げることができ、造形中の反りを抑制し、得られる造形品の造形精度を高めることができることを見出した。そして、一度に多量の造形品を量産する場合は、造形品間の造形精度のばらつきも抑えることができることを見出した。
同様の観点から、ポリアセタール粉末の結晶化温度は、135℃以上143℃以下であることがより好ましい。
ポリアセタール粉末の結晶化温度は、示差走査熱量(DSC)測定によって測定することができ、より具体的には、後述の実施例記載の方法によって測定することができる。
上記範囲の結晶化温度を有するポリアセタール粉末は、ポリアセタールコポリマーのコモノマーユニットの主鎖中の含有割合及び/又は結晶核剤の量等を調整することによって得ることができる。
<Crystallization temperature>
The polyacetal powder of the present embodiment preferably has a crystallization temperature of 130°C or higher and 145°C or lower.
The temperature in the modeling area and in the modeling apparatus during additive manufacturing is always kept higher than the crystallization temperature of the resin powder. However, if there is some temperature difference (temperature unevenness) within the modeling area or within the modeling device, the polyacetal in the portion cooled to the crystallization temperature in the heated and sintered modeling layer will crystallize, especially in the stacking direction. Warpage occurs, and the molding accuracy is reduced in the resulting molded product. In this regard, the present inventors have found that by increasing the temperature difference between the melting point and the crystallization temperature of the polyacetal powder, the tolerance for temperature differences (temperature unevenness) within the molding area and within the molding apparatus can be increased. , it was found that warping during molding can be suppressed, and the molding accuracy of the resulting molded product can be improved. They also found that when mass-producing a large number of shaped products at one time, variations in modeling accuracy between shaped products can be suppressed.
From the same point of view, the crystallization temperature of the polyacetal powder is more preferably 135°C or higher and 143°C or lower.
The crystallization temperature of the polyacetal powder can be measured by differential scanning calorimetry (DSC), and more specifically by the method described in Examples below.
A polyacetal powder having a crystallization temperature within the above range can be obtained by adjusting the content of the comonomer unit in the main chain of the polyacetal copolymer and/or the amount of the crystal nucleating agent.
<結晶化速度>
本実施形態のポリアセタール粉末は、結晶化速度が40秒以上であることが好ましい。結晶化速度が40秒以上であることにより、造形途中の造形エリア内や層間の温度ムラを許容して、造形中の反りを一層抑制し、得られる造形品の造形精度を高めることができる。同様の観点から、ポリアセタール粉末の結晶化速度は、45秒以上であることがより好ましく、50秒以上であることが更に好ましい。
ここで、結晶化速度は、示差走査熱量測定(DSC)により、例えば、Parkin Elmer社製「DSC-2C」を用い、一旦融解させたポリアセタール粉末を急速降温して結晶化温度付近の所定温度で保持し結晶化による発熱ピークを観察して、前記所定温度での保持開始から発熱ピークの最高温度(ピークトップ温度)に達するまでの時間とする。より具体的には、後述の実施例記載の方法によって測定することができる。
<Crystallization rate>
The polyacetal powder of the present embodiment preferably has a crystallization speed of 40 seconds or more. When the crystallization speed is 40 seconds or more, it is possible to allow temperature unevenness in the molding area and between layers during molding, further suppress warpage during molding, and improve the molding accuracy of the resulting molded product. From the same point of view, the crystallization speed of the polyacetal powder is more preferably 45 seconds or longer, and even more preferably 50 seconds or longer.
Here, the crystallization rate is determined by differential scanning calorimetry (DSC), for example, using "DSC-2C" manufactured by Parkin Elmer Co., Ltd., and rapidly lowering the temperature of the once melted polyacetal powder to a predetermined temperature near the crystallization temperature. After holding and observing the exothermic peak due to crystallization, the time from the start of holding at the predetermined temperature to reaching the maximum temperature of the exothermic peak (peak top temperature) is taken. More specifically, it can be measured by the method described in Examples below.
ポリアセタール粉末の結晶化速度を制御する方法としては、ポリアセタールコポリマーのコモノマーユニットの含有割合や、結晶核剤の有無、種類、及び添加量等を調節すること等が挙げられる。具体的には、コモノマーユニットの含有割合を多くすれば結晶化度が下がるので結晶化速度が遅くなる傾向にある。また、結晶核剤となるような添加剤を含まないようにすることでも結晶化速度を遅くすることができる。
また、結晶化速度は、例えば、ポリエチレンの種類、密度、含有量等により調整することができ、特定割合の低密度ポリエチレン(特に直鎖状低密度ポリエチレン、高圧法低密度ポリエチレン)を用いること等で上記範囲とすることができる。
Methods for controlling the crystallization speed of the polyacetal powder include adjusting the content of comonomer units in the polyacetal copolymer, the presence/absence, type and amount of the crystal nucleating agent, and the like. Specifically, if the content of the comonomer unit is increased, the degree of crystallinity is lowered, so the crystallization rate tends to be slowed down. The crystallization rate can also be slowed by not including additives that act as crystal nucleating agents.
In addition, the crystallization speed can be adjusted, for example, by the type, density, content, etc. of polyethylene, and by using a specific proportion of low-density polyethylene (especially linear low-density polyethylene, high-pressure low-density polyethylene), etc. can be within the above range.
なお、一般に、射出成形において成形品の反りを抑制する方法としては、成形材料の結晶化速度を速くして、金型内で十分に結晶化させることで、金型から取り出した後に反りが生じるのを抑える方法がある。
一方で、3Dプリンター等による造形では、上述の方法とは逆に、結晶化速度を十分に遅くすることによって、造形時における反りを抑制することができる。
In addition, in general, as a method for suppressing the warp of a molded product in injection molding, the crystallization speed of the molding material is increased to sufficiently crystallize it in the mold, so that the warp occurs after it is removed from the mold. There are ways to reduce the
On the other hand, in modeling using a 3D printer or the like, warping during modeling can be suppressed by sufficiently slowing down the crystallization rate, contrary to the above method.
<重量減少率>
本実施形態のポリアセタール粉末は、当該ポリアセタール粉末の融点より10℃低い温度で1時間保持したときの重量減少率が、5%以下であることが好ましい。ポリアセタール粉末の上記重量減少率が5%以下であることにより、高い熱安定性を保持することができ、長時間の造形も安定的に可能となり、加熱によるホルムアルデヒド等の揮発性有機物質(VOC)の放出を十分に抑制することができる。
同様の観点から、ポリアセタール粉末の上記重量減少率は、3%以下であることがより好ましく、1%以下であることが更に好ましい。
ポリアセタール粉末の上記重量減少率は、熱重量測定装置(Perkin Elmer社製、商品名「Pyris 1 TGA」等)を用いて測定することができ、より具体的には、後述する実施例に記載の方法により測定することができる。
上記範囲内の重量減少率を有するポリアセタール粉末は、上記ポリアセタールコポリマー以外の成分、例えば、ポリエチレン、疎水性シリカ、他の樹脂、各種添加剤等の種類及び/又は添加量を調整することによって得ることができる。
<Weight reduction rate>
The polyacetal powder of the present embodiment preferably has a weight loss rate of 5% or less when held for 1 hour at a temperature 10° C. lower than the melting point of the polyacetal powder. When the weight loss rate of the polyacetal powder is 5% or less, high thermal stability can be maintained, and long-term modeling is possible stably, and volatile organic substances (VOCs) such as formaldehyde due to heating are released. can be sufficiently suppressed.
From the same point of view, the weight loss rate of the polyacetal powder is more preferably 3% or less, and even more preferably 1% or less.
The weight loss rate of the polyacetal powder can be measured using a thermogravimetry device (manufactured by Perkin Elmer, trade name "Pyris 1 TGA", etc.), and more specifically, described in the examples below. method.
A polyacetal powder having a weight reduction rate within the above range can be obtained by adjusting the type and/or amount of components other than the polyacetal copolymer, such as polyethylene, hydrophobic silica, other resins, and various additives. can be done.
<MFR>
本実施形態のポリアセタール粉末は、メルトフローレート(MFR)が70g/10分未満であることが好ましい。MFRが70g/10分未満である程にポリアセタール自体が高分子量体であれば、クリープ特性に優れた造形品が得られる。
また、本実施形態のポリアセタール粉末は、メルトフローレート(MFR)が2.0g/10分以上であることも好ましい。ポリアセタール粉末のMFRが2.0g/10分以上であることにより、レーザーで溶融した際に、ポリアセタールが流れることで粒子同士の隙間をより効率的に埋めることができ、これにより、造形品中のボイドがより少なくなり、引張強さ等の機械的物性に優れた造形品が得られる。
同様の観点から、ポリアセタール粉末のMFRは、2.5g/10分以上55g/10分以下であることがより好ましく、3g/10分以上40g/10分以下であることが更に好ましい。
ここで、ポリアセタール粉末のMFRは、ISO1133(条件D・温度190℃)に準拠して測定されるものである。
上記範囲内のMFRを有するポリアセタール粉末は、ポリアセタールコポリマーの重合工程において連鎖移動剤の添加量を調整することによって得ることができる。
<MFR>
The polyacetal powder of the present embodiment preferably has a melt flow rate (MFR) of less than 70 g/10 minutes. If the polyacetal itself is of such a high molecular weight that the MFR is less than 70 g/10 minutes, shaped articles with excellent creep properties can be obtained.
Moreover, the polyacetal powder of the present embodiment preferably has a melt flow rate (MFR) of 2.0 g/10 minutes or more. When the MFR of the polyacetal powder is 2.0 g/10 minutes or more, the polyacetal flows when melted by a laser, so that the gaps between the particles can be filled more efficiently. A shaped article with fewer voids and excellent mechanical properties such as tensile strength is obtained.
From the same point of view, the MFR of the polyacetal powder is more preferably 2.5 g/10 min or more and 55 g/10 min or less, and still more preferably 3 g/10 min or more and 40 g/10 min or less.
Here, the MFR of the polyacetal powder is measured according to ISO1133 (condition D, temperature 190°C).
A polyacetal powder having an MFR within the above range can be obtained by adjusting the amount of the chain transfer agent added in the polymerization process of the polyacetal copolymer.
<固め嵩密度/ゆるめ嵩密度>
本実施形態のポリアセタール粉末は、固め嵩密度をゆるめ嵩密度で除した値(固め嵩密度/ゆるめ嵩密度)が、1.45以下であることが好ましい。固め嵩密度をゆるめ嵩密度で除した値が前記範囲内であれば、ポリアセタール粉末が流動性及び積層性に優れ、ボイドの発生を一層抑制することができ、造形品を高密度にして機械的物性を一層高めることができる。
同様の観点から、固め嵩密度をゆるめ嵩密度で除した値は、1.40以下であることがより好ましく、1.36以下であることが更に好ましい。
ゆるめ嵩密度は、所定容積の容器内に粉末を疎充填した(タップしない)状態で測定する密度である。固め嵩密度は、粉末を充填した所定容積の容器を一定高さから一定速度で繰り返し落下させ(タップ)、容器内の粉末の嵩密度がほぼ一定となるまで密に充填した状態で測定する密度である。固め嵩密度、ゆるめ嵩密度は、具体的には、後述の実施例記載の方法によって測定することができる。
<Fixed Bulk Density/Loose Bulk Density>
In the polyacetal powder of the present embodiment, the value obtained by dividing the solid bulk density by the loose bulk density (solid bulk density/loose bulk density) is preferably 1.45 or less. If the value obtained by dividing the compacted bulk density by the loosened bulk density is within the above range, the polyacetal powder has excellent fluidity and stackability, and the generation of voids can be further suppressed. Physical properties can be further improved.
From the same point of view, the value obtained by dividing the solid bulk density by the loose bulk density is more preferably 1.40 or less, and even more preferably 1.36 or less.
The loose bulk density is the density measured when the powder is loosely packed (untapped) in a container of a given volume. The compacted bulk density is measured by repeatedly dropping (tapping) a container of a specified volume filled with powder from a constant height at a constant speed, and filling the container tightly until the bulk density of the powder in the container becomes almost constant. is. Specifically, the hardened bulk density and loose bulk density can be measured by the methods described in Examples below.
固め嵩密度をゆるめ嵩密度で除した値が上記範囲内のポリアセタール粉末は、粒度分布(例えば、径がD50の2倍以上である粒子の割合、径がD50の0.2倍以下である粒子の割合等)、粒子形状(例えば、後述する、平均短径長径比、平均表面平滑形状係数等)等を制御することによって、得ることができる。 Polyacetal powder whose value obtained by dividing the solid bulk density by the loose bulk density is within the above range has a particle size distribution (for example, the proportion of particles whose diameter is 2 times or more of D50, particles whose diameter is 0.2 times or less of D50 ratio, etc.), particle shape (for example, the ratio of the average short diameter to the long diameter, the average surface smoothness shape factor, etc., which will be described later).
<粒子形状>
本実施形態のポリアセタール粉末を構成する粒子は、流動性の観点から、球形であることが好ましい。一般に、粒子材料としてのポリアセタール等の樹脂は、重合により微粒子を直接形成することが難しく、かかる樹脂を用いて粉末を製造するためには、任意の方法で得たペレットを粉砕する等といった操作が必要となる。そのため、その際に、粉砕方法や粉砕条件を適宜調整して、球形に近い粒子を直接得るか、或いは、粉砕した粉末を後加工により加熱しながら撹拌し、粒子の角を取って丸める等して、球形の粒子を得ることができる。
以下、本実施形態のポリアセタール粉末を構成する粒子の形状について、より具体的に説明する。
<Particle shape>
From the viewpoint of fluidity, the particles constituting the polyacetal powder of the present embodiment are preferably spherical. In general, it is difficult to directly form fine particles of resins such as polyacetal as a particle material by polymerization, and in order to produce powder using such resins, operations such as pulverizing pellets obtained by any method are required. necessary. Therefore, at that time, the pulverization method and pulverization conditions are appropriately adjusted to directly obtain nearly spherical particles, or the pulverized powder is stirred while being heated in post-processing, and the corners of the particles are rounded off. to obtain spherical particles.
The shape of the particles constituting the polyacetal powder of the present embodiment will be described in more detail below.
<<粒子の平均短径長径比>>
本実施形態のポリアセタール粉末を構成する粒子は、平均短径長径比が0.50以上であることが好ましい。粒子の平均短径長径比が0.50以上であることで、いびつさを回避して流動性を高め、粉末を隙間なく敷き並べることができる。
同様の観点から、粒子の平均短径長径比は、0.65以上であることがより好ましく、0.70以上であることが更に好ましい。
ここで、平均短径長径比とは、粒子の長径に対する短径の比(短径/長径)をいい、平均短径長径比とは、任意に選択した100個の粒子の短径長径比の平均値をいう。また、短径、長径とは、それぞれ、粒子の境界画素上に外接する面積が最小となる外接長方形の短辺、長辺をいう。
ポリアセタール粉末を構成する粒子の平均短径長径比は、デジタルマイクロスコープ((株)キーエンス製、「VH-7000型」、「VH-501レンズ」使用)を用いて撮影した画像を、1360×1024ピクセル、TIFFファイル形式で保存し、画像処理解析ソフト((株)デジモ製「Image HyperII」)を使用して、100個の粒子の短径/長径の平均値として求めることができる。
粒子の平均短径長径比が上記範囲内であるポリアセタール粉末は、ポリアセタール粉末の製造方法の粉砕工程及び/又は分級工程における各種条件を調整することによって得ることができる。
<<Ratio of average short diameter to long diameter of particles>>
It is preferable that the particles constituting the polyacetal powder of the present embodiment have an average minor axis to major axis ratio of 0.50 or more. When the average minor axis to major axis ratio of the particles is 0.50 or more, irregularities can be avoided, fluidity can be improved, and the powder can be laid out without gaps.
From the same point of view, the average minor axis to major axis ratio of the particles is more preferably 0.65 or more, and still more preferably 0.70 or more.
Here, the average short diameter to long diameter ratio refers to the ratio of the short diameter to the long diameter of the particles (short diameter / long diameter), and the average short diameter to long diameter ratio is the ratio of the short diameter to the long diameter of 100 arbitrarily selected particles. mean value. The minor axis and major axis respectively refer to the short side and long side of the circumscribing rectangle having the smallest circumscribing area on the boundary pixel of the particle.
The average short diameter to long diameter ratio of the particles constituting the polyacetal powder was obtained by using a digital microscope (manufactured by Keyence Corporation, "VH-7000 type" and "VH-501 lens") to obtain an image of 1360 × 1024. It can be obtained as an average value of short diameter/long diameter of 100 particles by saving in pixels and TIFF file format and using image processing analysis software ("Image HyperII" manufactured by Digimo Co., Ltd.).
A polyacetal powder having particles with an average ratio of minor axis to major axis within the above range can be obtained by adjusting various conditions in the pulverization step and/or the classification step of the method for producing the polyacetal powder.
<<粒子の平均表面平滑形状係数>>
本実施形態のポリアセタール粉末を構成する粒子は、平均表面平滑形状係数が0.80以上であることが好ましい。粒子の平均表面平滑形状係数が0.80以上であることで、粒子がより規則的で凹凸の少ない形状となる結果、粒子の流動性をより向上させることができる。同様の観点から、粒子の平均表面平滑形状係数は、0.85以上であることがより好ましく、0.90以上であることが更に好ましい。
ここで、表面平滑形状係数とは、粒子の円又は楕円らしさを表す指数であり、粒子の短径、長径及び周囲長の測定値を用い、以下の式により表わされる。
表面平滑形状係数=[π×(粒子の長径+粒子の短径)]/[2×粒子の周囲長]
<<Average surface smoothness shape factor of particles>>
The particles constituting the polyacetal powder of the present embodiment preferably have an average surface smoothness shape factor of 0.80 or more. When the average surface smoothness shape factor of the particles is 0.80 or more, the particles have a more regular shape with less unevenness, and as a result, the fluidity of the particles can be further improved. From the same point of view, the average surface smoothness shape factor of the particles is more preferably 0.85 or more, more preferably 0.90 or more.
Here, the surface smoothness shape factor is an index representing the circularity or ellipticalness of particles, and is expressed by the following formula using the measured values of the minor axis, major axis and peripheral length of particles.
Surface smoothness shape factor = [π × (long diameter of particle + short diameter of particle)] / [2 × circumference length of particle]
表面平滑形状係数は、粒子が完全な円の場合には1に、完全な楕円の場合にはほぼ1となる。形状が平滑な円や楕円ではなく、不規則な形状となるほど、粒子の周囲長が長くなるため、表面平滑形状係数は、1よりも小さくなる。
そして、平均表面平滑形状係数とは、任意に選択した100個の粒子の表面平滑形状係数の平均値をいう。
ポリアセタール粉末を構成する粒子の平均表面平滑形状係数は、上述のデジタルマイクロスコープを用いて撮影した画像を、1360×1024ピクセル、TIFFファイル形式で保存し、上述の画像処理解析ソフトを使用して、100個の粒子の長径、短径、周囲長を測定し、上述の式に従ってそれぞれの表面平滑形状係数を求め、その平均値として求めることができる。
粒子の平均表面平滑形状係数が上記範囲内であるポリアセタール粉末は、ポリアセタール粉末の製造方法の粉砕工程及び/又は分級工程における各種条件を調整することによって得ることができる。
The surface smoothness shape factor is 1 if the particle is a perfect circle and nearly 1 if the particle is a perfect ellipse. The surface smoothness shape factor becomes smaller than 1 when the shape is not smooth circle or ellipse but irregular shape, because the perimeter of the particle becomes longer.
The average surface smoothness shape factor is the average value of surface smoothness shape factors of 100 arbitrarily selected particles.
The average surface smoothness shape factor of the particles constituting the polyacetal powder is obtained by saving the image taken using the above-mentioned digital microscope in 1360 × 1024 pixels in TIFF file format and using the above-mentioned image processing analysis software. The major axis, minor axis and perimeter of 100 particles are measured, the surface smoothness shape factor of each is obtained according to the above formula, and the average value can be obtained.
A polyacetal powder whose particles have an average surface smoothness shape factor within the above range can be obtained by adjusting various conditions in the pulverization step and/or classification step of the method for producing the polyacetal powder.
[ポリアセタール粉末の製造方法]
本実施形態におけるポリアセタール粉末は、例えば、ポリアセタール及びポリエチレン等の樹脂材料を造粒する工程(造粒工程)と、造粒された樹脂材料を粉砕する工程(粉砕工程)と、粉砕した樹脂材料を篩にかけて所望の粉体特性を有する粉末を得る工程(分級工程)と、任意で、疎水性シリカと混合して表面に疎水性シリカが付着(露出)した粒子状の粉末を得る工程(疎水性シリカ混合工程)とを実施することにより、製造することができる。
以下、各工程について具体的に説明する。
[Method for producing polyacetal powder]
The polyacetal powder in the present embodiment is produced by, for example, a step of granulating a resin material such as polyacetal and polyethylene (granulation step), a step of pulverizing the granulated resin material (pulverization step), and a step of pulverizing the pulverized resin material. A step of sieving to obtain a powder having the desired powder properties (classification step) and, optionally, a step of mixing with hydrophobic silica to obtain a particulate powder with hydrophobic silica attached (exposed) on the surface (hydrophobic silica mixing step).
Each step will be specifically described below.
[[造粒工程]]
造粒工程では、例えば、ポリアセタール及びポリエチレン等の樹脂材料を、ニーダー、ロールミル、単軸押出機、二軸押出機、多軸押出機等を用いて溶融混練することにより、ペレットを得ることができる。
[[Granulation step]]
In the granulation step, for example, pellets can be obtained by melt-kneading resin materials such as polyacetal and polyethylene using a kneader, roll mill, single-screw extruder, twin-screw extruder, multi-screw extruder, or the like. .
ここで、樹脂材料の溶融混練を行う場合には、品質や作業環境の保持のために、雰囲気を不活性ガスにより置換したり、一段及び多段ベントによる脱気をしたりすることが好ましい。溶融混練の際の温度は、樹脂材料の融点以上250℃以下とすることが好ましく、樹脂材料の融点より20~50℃高い温度であってもよい。 Here, when the resin material is melt-kneaded, it is preferable to replace the atmosphere with an inert gas or perform degassing by single-stage or multi-stage venting in order to maintain quality and work environment. The temperature during melt-kneading is preferably above the melting point of the resin material and below 250° C., and may be 20 to 50° C. higher than the melting point of the resin material.
また、造粒工程では、樹脂材料に上述した添加剤を添加して混合し、得られる樹脂組成物を溶融混練してもよい。このとき、添加剤は、何回かに分けて、樹脂材料と混合してもよい。 In addition, in the granulation step, the above-described additives may be added to the resin material and mixed, and the resulting resin composition may be melt-kneaded. At this time, the additive may be divided into several times and mixed with the resin material.
[[粉砕工程]]
粉砕工程では、造粒工程で得られたペレットを粉砕して、粉末を得ることができる。粉砕方法としては、特に制限されず、例えば、常温粉砕、凍結粉砕等が挙げられる。また、造粒工程で得られたペレットを溶媒に溶解させたのち、析出させる方法も挙げられる。
[[Pulverization process]]
In the pulverization step, the pellets obtained in the granulation step can be pulverized to obtain powder. The pulverization method is not particularly limited, and examples thereof include ordinary temperature pulverization and freeze pulverization. Moreover, after dissolving the pellet obtained by the granulation process in a solvent, the method of precipitating is also mentioned.
[[分級工程]]
分級工程では、粉砕工程で得られた粉末を篩にかけることにより、平均粒子径(D50)、径がD50の2倍以上である粒子の割合、径がD50の0.5倍以下である粒子の割合等を適宜調整して、最終的に本実施形態のポリアセタール粉末を得ることができる。
[[Classification process]]
In the classification step, by sieving the powder obtained in the pulverization step, the average particle size (D50), the ratio of particles with a diameter of 2 times or more of D50, and the particles with a diameter of 0.5 times or less than D50 By appropriately adjusting the ratio of and the like, the polyacetal powder of the present embodiment can be finally obtained.
また、本実施形態のポリアセタール粉末の製造方法においては、任意により、分級工程の前又は後に、熱処理による結晶化度の調整をおこなってもよい。 In addition, in the method for producing the polyacetal powder of the present embodiment, the degree of crystallinity may optionally be adjusted by heat treatment before or after the classification step.
[[疎水性シリカ混合工程]]
本実施形態のポリアセタール粉末の製造方法においては、分級工程の前、分級工程と同時、又は分級工程に次いで、任意で疎水性シリカ混合工程を実施することができる。
疎水性シリカ混合工程では、ポリアセタール及びポリエチレンを含むポリアセタール組成物の粉末と、疎水性シリカとを混合することにより、表面に疎水性シリカが付着(露出)した粒子状のポリアセタール粉末が得られ、ポリアセタール粉末の流動性を向上させることができる。
混合方法としては、特に制限されず、通常の粉体混合機、例えば、ナウターミキサー、ヘンシェルミキサー、タンブラーミキサー等を使用して混合すればよい。また、手動による撹拌等で混合してもよい。
[[Hydrophobic silica mixing step]]
In the method for producing the polyacetal powder of the present embodiment, a hydrophobic silica mixing step can optionally be carried out before the classification step, simultaneously with the classification step, or subsequent to the classification step.
In the hydrophobic silica mixing step, powder of a polyacetal composition containing polyacetal and polyethylene is mixed with hydrophobic silica to obtain particulate polyacetal powder having hydrophobic silica adhered (exposed) to the surface, and polyacetal Fluidity of powder can be improved.
The mixing method is not particularly limited, and may be mixed using an ordinary powder mixer such as a Nauta mixer, a Henschel mixer, a tumbler mixer, or the like. Alternatively, the mixture may be mixed by manual stirring or the like.
[ポリアセタール粉末の用途]
本実施形態のポリアセタール粉末は、付加製造技術に好適に用いられ、特に選択的レーザー焼結法に好適に用いられる。本実施形態におけるポリアセタール粉末は、粉体特性及び粒子特性の適正化が図られているため、例えば100μm程度の薄さに均一に敷き並べることが可能である。従って、この樹脂粉末を選択的レーザー焼結法に用いて付加製造を行うことにより、微小な空隙(ボイド)が十分に抑制され、反りが少なく、層間密着性に優れた、高い機械的物性を有する造形品を得ることができる。このような造形品は、自動車部品、電気・電子部品、工業部品、医療用部品等の機構部品等に、広範囲に亘って適用可能である。
[Applications of polyacetal powder]
The polyacetal powder of the present embodiment is suitable for use in additive manufacturing techniques, and particularly suitable for selective laser sintering. Since the polyacetal powder in the present embodiment has optimized powder properties and particle properties, it can be uniformly laid out to a thickness of, for example, about 100 μm. Therefore, by performing additive manufacturing using this resin powder in the selective laser sintering method, it is possible to sufficiently suppress minute voids, reduce warpage, and achieve excellent interlayer adhesion and high mechanical properties. It is possible to obtain a shaped article having Such molded products are widely applicable to mechanical parts such as automobile parts, electric/electronic parts, industrial parts, and medical parts.
[ポリアセタール粉末の使用方法]
本実施形態のポリアセタール粉末の使用方法は、上述した本実施形態のポリアセタール粉末を、付加製造に用いることを含む。
付加製造に使用する付加製造技術としては、特に限定されず、選択的レーザー焼結法や、樹脂粉末を敷き詰めた造形エリアの造形したい箇所に熱吸収剤を塗布しヒーターで上面から熱を与えて造形する、熱溶融法等が挙げられる。
なお、本実施形態のポリアセタール粉末の使用方法において、具体的な使用条件等は、特に制限されず、使用する付加製造技術、造形品の用途及び目的等に応じて適宜選択して、ポリアセタール粉末を使用することができる。
[How to use polyacetal powder]
A method of using the polyacetal powder of the present embodiment includes using the polyacetal powder of the present embodiment described above for additive manufacturing.
There are no particular restrictions on the additive manufacturing technology used for additive manufacturing, such as the selective laser sintering method, or applying a heat-absorbing agent to the desired part of the molding area covered with resin powder and applying heat from the top surface with a heater. Modeling, heat melting method, and the like can be mentioned.
In the method of using the polyacetal powder of the present embodiment, specific usage conditions are not particularly limited, and are appropriately selected according to the additive manufacturing technology to be used, the application and purpose of the molded product, etc., and the polyacetal powder is used. can be used.
[付加製造方法]
本実施形態の付加製造方法は、上述した本実施形態のポリアセタール粉末を造形材料として用いることを含む。本実施形態の付加製造方法によれば、上述した本実施形態のポリアセタール粉末を用いるため、高い造形精度及び機械的物性を有する造形品を得ることができる。
本実施形態の付加製造方法で使用する付加製造技術は、樹脂粉末を造形材料として用いることができるものであれば特に限定されず、例えば、選択的レーザー焼結法、熱溶融法、等が挙げられる。
本実施形態の付加製造方法における具体的な造形条件等は、特に制限されず、使用する付加製造技術及び造形品の用途等に応じて適宜選択して、造形することができる。
[Additive manufacturing method]
The additive manufacturing method of this embodiment includes using the polyacetal powder of this embodiment described above as a modeling material. According to the additive manufacturing method of the present embodiment, since the polyacetal powder of the present embodiment described above is used, it is possible to obtain a molded article having high molding accuracy and mechanical properties.
The additive manufacturing technique used in the additive manufacturing method of the present embodiment is not particularly limited as long as the resin powder can be used as a modeling material, and examples thereof include selective laser sintering and heat melting. be done.
Specific modeling conditions and the like in the additive manufacturing method of the present embodiment are not particularly limited, and can be appropriately selected and modeled according to the additive manufacturing technique to be used and the application of the modeled product.
以下、本発明を、実施例を挙げて説明するが、本実施形態は、以下の実施例に限定されるものではない。実施例及び比較例のポリアセタール粉末及び造形品に対する各種測定方法と、実施例及び比較例に用いたポリアセタール粉末及び造形品の原料成分とを以下に示す。 EXAMPLES The present invention will be described below with reference to examples, but the present embodiment is not limited to the following examples. Various measurement methods for the polyacetal powders and shaped articles of Examples and Comparative Examples, and raw material components of the polyacetal powders and shaped articles used in Examples and Comparative Examples are shown below.
(1)ポリアセタールコポリマーのコモノマーユニット含有割合
ポリアセタールコポリマーのコモノマーユニットの含有割合について、1H-NMR法を用いて、以下の手順で求めた。
即ち、ポリアセタールコポリマーを、ヘキサフルオロイソプロパノールにより濃度1.5質量%となるように24時間かけて溶解させ、この溶解液を用いて1H-NMR解析(磁場強度:400MHz、測定溶媒:ヘキサフルオロイソプロパノール、基準物質:テトラメチルシラン、温度55℃、積算回数500回)を行った。
1H-NMR解析で得られたオキシメチレンユニットの帰属ピーク(δ(ppm):4.8~5.4)の積分値と、コモノマーユニットである炭素数2以上のオキシアルキレンユニットの帰属ピーク(δ(ppm):例えば、コモノマーユニットがオキシエチレンユニットである場合は、3.6~4.0)の積分値との比率から、オキシメチレンユニット(a=100mol)に対するコモノマーユニット(bmol)の含有割合(b/a:mol/100mol)を求めた。
(1) Comonomer Unit Content Ratio of Polyacetal Copolymer The comonomer unit content ratio of the polyacetal copolymer was obtained by the following procedure using the 1 H-NMR method.
That is, the polyacetal copolymer was dissolved in hexafluoroisopropanol to a concentration of 1.5% by mass over 24 hours, and this solution was subjected to 1 H-NMR analysis (magnetic field strength: 400 MHz, measurement solvent: hexafluoroisopropanol , reference material: tetramethylsilane, temperature 55° C., number of times of accumulation 500).
The integral value of the attributed peak of the oxymethylene unit obtained by 1 H-NMR analysis (δ (ppm): 4.8 to 5.4) and the attributed peak of the oxyalkylene unit having 2 or more carbon atoms which is the comonomer unit ( δ (ppm): For example, when the comonomer unit is an oxyethylene unit, the content of the comonomer unit (bmol) with respect to the oxymethylene unit (a = 100 mol) from the ratio with the integrated value of 3.6 to 4.0) A ratio (b/a: mol/100 mol) was obtained.
(2)粒子径等
マルバーン社製のマスターサイザーを使用し、平均粒子径(D50)、径がD50の2倍以上である粒子の割合、径がD50の0.2倍以下である粒子の割合、D50が65μm以下であり、径がD50の0.2倍以下である粒子の割合を測定した。
(2) Particle size, etc. Average particle size (D50), ratio of particles with a diameter of 2 times or more than D50, ratio of particles with a diameter of 0.2 times or less of D50, using a Malvern Mastersizer , D50 of 65 μm or less, and the proportion of particles having a diameter of 0.2 times or less of D50 was measured.
(3)融点、結晶化温度、結晶化速度
示差走査熱量計(Parkin Elmer社製:DSC-2C)を用いて、下記の手順1~8に従って測定を行って得られたDSC曲線に基づき、ファーストスキャン融点、セカンドスキャン融点、結晶化温度、及び結晶化速度を求めた。
1:測定対象のポリアセタール粉末3mgを測定用アルミパンの中に封入し、示差走査熱量計の加熱炉内の所定位置に配置する。
2:10℃/分の昇温速度で220℃に達するまで昇温し、その際の吸熱ピーク(融点ピーク)の最高点を「ファーストスキャン融点」とする。
3:220℃に達してから2分間、その温度を保持する。
4:次いで、80℃/分の降温速度で149℃に達するまで降温し、10分間、その温度を保持して、結晶化による発熱ピークを測定する。
5:149℃での保持開始から発熱ピークの最高点に達するまでの時間を、「結晶化速度」とする。なお、この時間が長いほど、結晶化速度が遅いことを意味する。
6:次いで、20℃/分の昇温速度で210℃に達するまで昇温し、5分間、その温度を保持する。
7:次いで、20℃/分の降温速度で、210℃から100℃に冷却する。この際の発熱ピーク(結晶化ピーク)を「結晶化温度」とする。
8:次いで、20℃/分の昇温速度で100℃から210℃に昇温し、その際の吸熱ピーク(融点ピーク)の最高点を「セカンドスキャン融点」とする。
(3) Melting point, crystallization temperature, crystallization speed Using a differential scanning calorimeter (manufactured by Parkin Elmer: DSC-2C), the DSC curve obtained by performing the measurement according to the following procedures 1 to 8, the first Scan melting point, second scan melting point, crystallization temperature, and crystallization rate were determined.
1: 3 mg of polyacetal powder to be measured is enclosed in an aluminum pan for measurement, and placed at a predetermined position in a heating furnace of a differential scanning calorimeter.
2: The temperature is raised at a heating rate of 10°C/min until it reaches 220°C, and the highest point of the endothermic peak (melting point peak) at that time is defined as the "first scan melting point".
3: Hold the temperature for 2 minutes after reaching 220°C.
4: Then, the temperature is lowered at a rate of 80°C/min until it reaches 149°C, and the temperature is maintained for 10 minutes to measure the exothermic peak due to crystallization.
5: The time from the start of holding at 149° C. to the highest point of the exothermic peak is defined as the “crystallization speed”. It should be noted that the longer the time, the slower the crystallization rate.
6: Next, the temperature is raised at a rate of temperature increase of 20°C/min until it reaches 210°C, and the temperature is maintained for 5 minutes.
7: Then, the temperature is lowered from 210°C to 100°C at a rate of 20°C/min. The exothermic peak (crystallization peak) at this time is defined as "crystallization temperature".
8: Next, the temperature was raised from 100°C to 210°C at a heating rate of 20°C/min, and the maximum endothermic peak (melting point peak) at that time was taken as the "second scan melting point".
(4)DSC測定におけるファーストスキャンとセカンドスキャンの融点差
上記のようにしてDSC測定で求めたセカンドスキャンの融点からファーストスキャンの融点を差引くことによって、ファーストスキャンとセカンドスキャンの融点差(表1で「1st・2ndスキャンの融点差」と称する)を求めた。
(4) Melting point difference between the first scan and the second scan in DSC measurement By subtracting the melting point of the first scan from the melting point of the second scan obtained by DSC measurement as described above, the melting point difference between the first scan and the second scan (Table 1) (referred to as "melting point difference between 1st and 2nd scans").
(5)重量減少率
熱重量測定装置(Perkin Elmer社製、商品名「Pyris1 TGA」)を用いて、試料重量:5mg、空気流量:10mL/分、昇温速度:10℃/分にて室温から、測定対象のポリアセタール粉末の融点より10℃低い温度まで昇温し、その温度にて1時間保持した後の重量減少率を測定した。
(5) Weight reduction rate Using a thermogravimetry device (manufactured by Perkin Elmer, trade name "Pyris1 TGA"), sample weight: 5 mg, air flow rate: 10 mL / min, temperature increase rate: room temperature at 10 ° C. / min From there, the temperature was raised to a temperature 10° C. lower than the melting point of the polyacetal powder to be measured, and the weight loss rate was measured after holding at that temperature for 1 hour.
(6)メルトフローレート(MFR)
東洋精機製作所製「P-111」を用い、190℃、荷重2.16kgの条件で、ISO1133(条件D)に準拠してMFRを測定した。
(6) Melt flow rate (MFR)
Using "P-111" manufactured by Toyo Seiki Seisakusho, the MFR was measured in accordance with ISO 1133 (Condition D) under conditions of 190°C and a load of 2.16 kg.
(7)固め嵩密度/ゆるめ嵩密度
パウダテスターPT-X型(ホソカワミクロン製)を用いて、固め嵩密度とゆるめ嵩密度の測定を行った。
具体的には、ステンレス製100cm3円筒容器に,粉体が容器に山盛りになるまでサンプル供給装置を振動させて粉体を流下し、ブレードを用いて容器上の余分な粉を擦切って測定した密度を、ゆるめ嵩密度(g/cm3)とした。
また、ステンレス製100cm3円筒容器にキャップをかぶせ、サンプル供給装置を振動させて粉体を流下し、ストローク長(タッピング高さ)18mm、タッピング速度60回/分、タッピング回数180回、でタッピングを行った。その後、ブレードを用いて容器上の余分な粉を擦切って測定した密度を、固め嵩密度(g/cm3)とした。
上述のように測定された、固め嵩密度の測定値をゆるめ嵩密度の測定値で除して、固め嵩密度/ゆるめ嵩密度の値を求めた。
(7) Hardened Bulk Density/Loosen Bulk Density Powder tester PT-X type (manufactured by Hosokawa Micron) was used to measure the hardened bulk density and loose bulk density.
Specifically, the sample feeder was vibrated until the powder piled up in a stainless steel 100 cm 3 cylindrical container, causing the powder to flow down. The resulting density was defined as loose bulk density (g/cm 3 ).
In addition, a stainless steel 100 cm 3 cylindrical container was capped, the sample supply device was vibrated to let the powder flow down, and tapping was performed with a stroke length (tapping height) of 18 mm, a tapping speed of 60 times/minute, and a tapping frequency of 180 times. gone. After that, the excess powder on the container was scraped off with a blade, and the measured density was taken as the compacted bulk density (g/cm 3 ).
The hardened bulk density measurement, measured as described above, was divided by the loosed bulk density measurement to obtain the hardened bulk density/loosen bulk density value.
(8)造形中の反り、めくれ
造形中の短冊型造形試験片を観察し、以下の基準で、反り及びめくれを評価した。
(評価基準)
◎(優れる):造形箇所にカールが発生せず、短冊をきれいに造形できた。
○(良好):最初の数層は短冊の端部周辺が少しカールしたが、すぐに収まり、短冊をきれいに造形できた。
×(劣る):短冊の端部がカールし、短冊の一部がきれいに造形できなかった。又は、レーザー照射部が大きくカールし、造形部がリコーターに引きずられて短冊を造形できなかった。
カールの発生が少ない程、造形時の反りが抑制され、造形精度に優れる。
(8) Warp and turn-up during shaping Observe the strip-shaped shaped test piece during shaping, and evaluate warp and turn-up according to the following criteria.
(Evaluation criteria)
⊚ (excellent): No curling occurred in the molded portion, and the strip could be molded neatly.
◯ (Good): In the first few layers, the edges of the strip were slightly curled, but soon settled, and the strip was formed neatly.
x (poor): The ends of the strip were curled, and part of the strip could not be shaped neatly. Alternatively, the laser-irradiated portion was greatly curled, and the shaped portion was dragged by the recoater, making it impossible to shape the strip.
The less curling occurs, the less warpage occurs during molding, and the better the molding accuracy.
(9)造形品の機械的物性
造形した短冊型造形試験片について、ISO527-1に準拠して、引張速度5mm/分で引張試験を行い、引張破壊応力を測定した。得られた測定値を、下記の基準に従って評価した。
(評価基準)
◎(優れる):40MPa以上
○(良好):20MPa以上40MPa未満
△(不良):10MPa以上20MPa未満
×(劣る):10MPa未満
引張破壊応力の値が大きい程、機械的物性に優れる。
(9) Mechanical Properties of Shaped Product The shaped strip-shaped shaped test piece was subjected to a tensile test at a tensile speed of 5 mm/min in accordance with ISO527-1 to measure the tensile breaking stress. The measured values obtained were evaluated according to the following criteria.
(Evaluation criteria)
◎ (excellent): 40 MPa or more ○ (good): 20 MPa or more and less than 40 MPa Δ (poor): 10 MPa or more and less than 20 MPa × (poor): less than 10 MPa The higher the tensile breaking stress value, the better the mechanical properties.
(10)造形品の反りの評価
造形した短冊型造形試験片を観察し、以下の基準で、造形品の反りを評価した。
(評価基準)
◎(優れる):ほぼ反っていない。
○(良好):平面に置いたときに、少なくとも一方の端部の反りが2mm以内。
×(劣る):平面に置いたときに、両端の反りが2mm以上。
(10) Evaluation of Warpage of Modeled Product Observing the shaped strip-shaped modeled test piece, the following criteria were used to evaluate the warpage of the modeled product.
(Evaluation criteria)
⊚ (excellent): Almost no warp.
◯ (Good): Warpage of at least one end is within 2 mm when placed on a flat surface.
x (inferior): Warp at both ends of 2 mm or more when placed on a flat surface.
<ポリアセタール>
ポリアセタールコポリマー(旭化成(株)製テナック-C(商標)3510)
<Polyacetal>
Polyacetal copolymer (Tenac-C (trademark) 3510 manufactured by Asahi Kasei Corp.)
<ポリエチレン>
A:高密度ポリエチレン(旭化成(株)製;MFR=7g/10分、密度0.96g/cm3)
B:高密度ポリエチレン(旭化成(株)製;MFR=15g/10分、密度0.95g/cm3)
C:直鎖状低密度ポリエチレン(旭化成(株)製;MFR=0.5g/10分、密度0.92g/cm3)
D:直鎖状低密度ポリエチレン(旭化成(株)製;MFR=9g/10分、密度0.92g/cm3)
E:直鎖状低密度ポリエチレン(旭化成(株)製;MFR=16g/10分、密度0.92g/cm3)
F:高圧法低密度ポリエチレン(旭化成(株)製;MFR=7g/10分、密度0.92g/cm3)
G:高圧法低密度ポリエチレン(旭化成(株)製;MFR=0.5g/10分、密度0.92g/cm3)
H:高圧法低密度ポリエチレン(旭化成(株)製;MFR=15g/10分、密度0.92g/cm3)
I:高圧法低密度ポリエチレン(旭化成(株)製;MFR=90g/10分、密度0.92g/cm3)
J:高圧法低密度ポリエチレン(旭化成(株)製;MFR=0.1g/10分、密度0.92g/cm3)
K:高圧法低密度ポリエチレン(旭化成(株)製;MFR=120g/10分、密度0.91g/cm3)
<Polyethylene>
A: High-density polyethylene (manufactured by Asahi Kasei Corporation; MFR = 7 g/10 minutes, density 0.96 g/cm 3 )
B: High-density polyethylene (manufactured by Asahi Kasei Corporation; MFR = 15 g/10 minutes, density 0.95 g/cm 3 )
C: Linear low-density polyethylene (manufactured by Asahi Kasei Corporation; MFR = 0.5 g/10 minutes, density 0.92 g/cm 3 )
D: Linear low-density polyethylene (manufactured by Asahi Kasei Corporation; MFR = 9 g/10 minutes, density 0.92 g/cm 3 )
E: Linear low-density polyethylene (manufactured by Asahi Kasei Corporation; MFR = 16 g/10 minutes, density 0.92 g/cm 3 )
F: High-pressure low-density polyethylene (manufactured by Asahi Kasei Corporation; MFR = 7 g/10 minutes, density 0.92 g/cm 3 )
G: High-pressure low-density polyethylene (manufactured by Asahi Kasei Corporation; MFR = 0.5 g/10 minutes, density 0.92 g/cm 3 )
H: High-pressure low-density polyethylene (manufactured by Asahi Kasei Corporation; MFR = 15 g/10 minutes, density 0.92 g/cm 3 )
I: High-pressure low-density polyethylene (manufactured by Asahi Kasei Corporation; MFR = 90 g/10 minutes, density 0.92 g/cm 3 )
J: High-pressure low-density polyethylene (manufactured by Asahi Kasei Corporation; MFR = 0.1 g/10 minutes, density 0.92 g/cm 3 )
K: High-pressure low-density polyethylene (manufactured by Asahi Kasei Corporation; MFR = 120 g/10 minutes, density 0.91 g/cm 3 )
<シリカ>
ジメチルジクロロシランで疎水化された乾式法シリカ((株)トクヤマ製レオロシール(登録商標)DM20-S)
トリメチルクロロシランで疎水化された乾式法シリカ((株)トクヤマ製HM-20L)
<Silica>
Dry process silica hydrophobized with dimethyldichlorosilane (Reolosil (registered trademark) DM20-S manufactured by Tokuyama Co., Ltd.)
Dry process silica hydrophobized with trimethylchlorosilane (HM-20L manufactured by Tokuyama Corp.)
(実施例1~14、比較例1、2)
<造粒工程>
表1に示される配合処方で、各成分を、二軸混練機により溶融混練(シリンダ-温度:165℃~210℃)し、ペレッ卜状の造形材料を得た。
(Examples 1 to 14, Comparative Examples 1 and 2)
<Granulation process>
Each component was melt-kneaded (cylinder temperature: 165° C. to 210° C.) with a twin-screw kneader according to the formulation shown in Table 1 to obtain a pellet-like molding material.
<粉砕・分級工程>
得られたペレットを液体窒素で凍結しながら、リンレックスミル(登録商標)(ホソカワミクロン(株)製)で凍結粉砕し、篩にかけて粉体特性を適宜調整することで、ポリアセタール粉末を得た。
<Pulverization/classification process>
While freezing the obtained pellets with liquid nitrogen, they were freeze-pulverized with a Rinrex Mill (registered trademark) (manufactured by Hosokawa Micron Corporation), and sieved to appropriately adjust the powder characteristics to obtain a polyacetal powder.
(実施例15~17)
シリカを含む実施例については、上記の粉砕・分級工程の後に、下記のシリカ混合工程を行い、シリカを含むポリアセタール粉末を得た。
また、得られたポリアセタール粉末の表面をSEMで観察し、表面にシリカの粒子が付着(露出)しているかどうかを観察した。
<シリカ混合工程>
粉砕・分級工程で得られた粉末に対し、表1に示す配合処方でシリカを添加し、タンブラーミキサーで混合して、シリカを含むポリアセタール粉末を得た。
(Examples 15-17)
For the examples containing silica, after the pulverization and classification process described above, the following silica mixing process was performed to obtain a polyacetal powder containing silica.
In addition, the surface of the obtained polyacetal powder was observed with an SEM to see whether or not silica particles adhered (exposed) to the surface.
<Silica mixing step>
Silica was added to the powder obtained in the pulverization and classification process according to the compounding recipe shown in Table 1, and the mixture was mixed with a tumbler mixer to obtain a silica-containing polyacetal powder.
(短冊型造形試験片)
実施例及び比較例で得られたポリアセタール粉末を用い、市販の選択的レーザー焼結法の造形装置で、各々、縦5cm、横1cm、積層方向の厚み4mmの短冊型に造形し、評価用の短冊型造形試験片とした。
(Rectangular shaped test piece)
Using the polyacetal powders obtained in Examples and Comparative Examples, each was shaped into a strip shape having a length of 5 cm, a width of 1 cm, and a thickness of 4 mm in the stacking direction using a commercially available selective laser sintering molding apparatus. A strip-shaped shaped test piece was used.
実施例・比較例において行った各測定・評価の結果を、表1に示す。 Table 1 shows the results of each measurement and evaluation performed in Examples and Comparative Examples.
表1に示すとおり、実施例に係るポリアセタール粉末は、造形中の反り、めくれが少なく、また、実施例に係るポリアセタール粉末を用いて選択的レーザー焼結法により形成した造形品は、反りが少なく、機械的物性に優れ、高い造形精度を有していることが分かった。 As shown in Table 1, the polyacetal powder according to the example has less warping and turning during molding, and the molded product formed by the selective laser sintering method using the polyacetal powder according to the example has less warping. , It was found to have excellent mechanical properties and high molding accuracy.
本発明によれば、反りが少なく、機械的物性に優れた造形品を得ることが可能なポリアセタール粉末を提供することができる。また、本発明によれば、当該ポリアセタール粉末の使用方法、及び、反りが少なく、機械的物性に優れた造形品を得ることが可能な付加製造方法を提供することができる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, it is possible to provide a polyacetal powder with which it is possible to obtain a shaped article with less warpage and excellent mechanical properties. In addition, according to the present invention, it is possible to provide a method of using the polyacetal powder and an additive manufacturing method capable of obtaining a molded article with less warpage and excellent mechanical properties.
Claims (17)
ポリアセタールを100質量部、ポリエチレン0.01~5質量部、を含み、
固め嵩密度をゆるめ嵩密度で除した値(固め嵩密度/ゆるめ嵩密度)が、1.45以下であることを特徴とする、ポリアセタール粉末。 The average particle diameter (D50) is 5 μm or more and 70 μm or less,
100 parts by mass of polyacetal and 0.01 to 5 parts by mass of polyethylene ,
A polyacetal powder , wherein the value obtained by dividing the solid bulk density by the loose bulk density (solid bulk density/loose bulk density) is 1.45 or less .
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