JP7230077B2 - 温度測定方法、光加熱方法及び光加熱装置 - Google Patents
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- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 title claims description 63
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 23
- 238000009529 body temperature measurement Methods 0.000 title claims description 19
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 97
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 42
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 38
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 claims description 30
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 26
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 21
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 4
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 9
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 230000010365 information processing Effects 0.000 description 2
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 2
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 2
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 230000003631 expected effect Effects 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 238000010183 spectrum analysis Methods 0.000 description 1
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- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J5/00—Radiation pyrometry, e.g. infrared or optical thermometry
- G01J5/0003—Radiation pyrometry, e.g. infrared or optical thermometry for sensing the radiant heat transfer of samples, e.g. emittance meter
- G01J5/0007—Radiation pyrometry, e.g. infrared or optical thermometry for sensing the radiant heat transfer of samples, e.g. emittance meter of wafers or semiconductor substrates, e.g. using Rapid Thermal Processing
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
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- G01J5/02—Constructional details
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- H01L21/67248—Temperature monitoring
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- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
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Description
主発光波長域が0.3μm以上0.5μm未満の範囲内である光を出射する複数の半導体発光素子を有する光源部を点灯させ、加熱対象である被処理基板に対して加熱用の光を照射する工程(A)と、
前記工程(A)の後、前記光源部を消灯する工程(B)と、
前記工程(B)の後、前記光源部の消灯状態を維持する工程(C)と、
前記工程(C)の間に、前記光源部が出射する光の前記主発光波長域とは異なる波長域に感度波長域を有する温度計を用いて前記被処理基板から放射される光を観測し、前記被処理基板の温度を測定する工程(D)とを含むことを特徴とする。
前記温度計の感度波長域が0.5μm以上5μm未満の範囲内に設定されて行われても構わない。
前記工程(D)は、放射温度計によって前記被処理基板の温度の測定をする方法であっても構わない。
主発光波長域が0.3μm以上0.5μm未満の範囲内である光を出射する複数の半導体発光素子を有する光源部を点灯させ、加熱対象である被処理基板に対して加熱用の光を照射する工程(A)と、
前記工程(A)の後、前記光源部を消灯する工程(B)と、
前記工程(B)の後、前記光源部の消灯状態を維持する工程(C)と、
前記工程(C)の間に、前記光源部が出射する光の前記主発光波長域とは異なる波長域に感度波長域を有する温度計を用いて前記被処理基板から放射される光を観測し、前記被処理基板の温度を測定する工程(D)と、
前記工程(D)の後、前記光源部を点灯する工程(E)とを含むことを特徴とする。
被処理基板を加熱処理する光加熱装置であって、
前記被処理基板を収容するチャンバと、
前記チャンバ内において、前記被処理基板を支持する支持部材と、
主発光波長域が0.3μm以上0.5μm未満の範囲内である光を出射する複数の半導体発光素子を有し、前記支持部材で支持された前記被処理基板に対して加熱用の光を照射する光源部と、
前記被処理基板から放射される光によって前記被処理基板の温度を測定する、前記光源部が出射する光の前記主発光波長域とは異なる波長域に感度波長域を有する温度計と、
前記光源部の点灯と消灯とを切り替える点灯制御部と、
前記光源部の消灯状態下で前記被処理基板の温度を測定するように、前記温度計を制御する測定制御部とを備えることを特徴とする光加熱装置。
前記温度計の感度波長域が0.5μm以上5μm未満の範囲内であっても構わない。
前記温度計は、放射温度計であっても構わない。
前記光源部の点灯時間を計測し、前記点灯制御部に温度測定のタイミングを通知するための通知信号を出力するタイマを備えていても構わない。
以下、別実施形態につき説明する。
10 : チャンバ
10a : 支持部材
10b : 透光窓
10c : 観測用窓
11 : 光源部
11a : LED素子
11b : LED基板
12 : 放射温度計
13 : 制御部
13a : 点灯制御部
13b : 測定制御部
13c : タイマ
30 : 操作端末
30a : 表示部
W1 : 被処理基板
W1a : 第一主面
W1b : 第二主面
Claims (7)
- 主発光波長域が0.3μm以上0.5μm未満の範囲内である光を出射する複数の半導体発光素子を有する光源部を点灯させ、加熱対象である被処理基板に対して加熱用の光を照射する工程(A)と、
前記工程(A)の後、前記光源部を消灯する工程(B)と、
前記工程(B)の後、前記光源部の消灯状態を維持する工程(C)と、
前記工程(C)の間に、前記光源部が出射する光の前記主発光波長域とは異なる波長域に感度波長域を有する光学式の温度計を用いて前記被処理基板から放射される光を観測し、前記被処理基板の温度を測定する工程(D)とを含むことを特徴とする温度測定方法。 - 前記温度計の感度波長域が0.5μm以上5μm未満の範囲内であることを特徴とする請求項1に記載の温度測定方法。
- 前記工程(D)は、放射温度計によって前記被処理基板の温度の測定をすることを特徴とする請求項1又は2に記載の温度測定方法。
- 主発光波長域が0.3μm以上0.5μm未満の範囲内である光を出射する複数の半導体発光素子を有する光源部を点灯させ、加熱対象である被処理基板に対して加熱用の光を照射する工程(A)と、
前記工程(A)の後、前記光源部を消灯する工程(B)と、
前記工程(B)の後、前記光源部の消灯状態を維持する工程(C)と、
前記工程(C)の間に、前記光源部が出射する光の前記主発光波長域とは異なる波長域に感度波長域を有する光学式の温度計を用いて前記被処理基板から放射される光を観測し、前記被処理基板の温度を測定する工程(D)と、
前記工程(D)の後、前記光源部を点灯する工程(E)とを含むことを特徴とする光加熱方法。 - 被処理基板を加熱処理する光加熱装置であって、
前記被処理基板を収容するチャンバと、
前記チャンバ内において、前記被処理基板を支持する支持部材と、
主発光波長域が0.3μm以上0.5μm未満の範囲内である光を出射する複数の半導体発光素子を有し、前記支持部材で支持された前記被処理基板に対して加熱用の光を照射する光源部と、
前記被処理基板から放射される光によって前記被処理基板の温度を測定する、前記光源部が出射する光の前記主発光波長域とは異なる波長域に感度波長域を有する光学式の温度計と、
前記光源部の点灯と消灯とを切り替える点灯制御部と、
前記光源部の消灯状態下で前記被処理基板の温度を測定するように、前記温度計を制御する測定制御部と、
前記光源部の点灯時間を計測し、前記点灯制御部に温度測定のタイミングを通知するための通知信号を出力するタイマとを備えることを特徴とする光加熱装置。 - 前記温度計の感度波長域が0.5μm以上5μm未満の範囲内であることを特徴とする請求項5に記載の光加熱装置。
- 前記温度計は、放射温度計であることを特徴とする請求項5又は6に記載の光加熱装置。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2021021084A JP7230077B2 (ja) | 2021-02-12 | 2021-02-12 | 温度測定方法、光加熱方法及び光加熱装置 |
US17/665,167 US20220260421A1 (en) | 2021-02-12 | 2022-02-04 | Temperature measurement method, optical heating method, and optical heating device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2021021084A JP7230077B2 (ja) | 2021-02-12 | 2021-02-12 | 温度測定方法、光加熱方法及び光加熱装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2022123646A JP2022123646A (ja) | 2022-08-24 |
JP7230077B2 true JP7230077B2 (ja) | 2023-02-28 |
Family
ID=82800238
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2021021084A Active JP7230077B2 (ja) | 2021-02-12 | 2021-02-12 | 温度測定方法、光加熱方法及び光加熱装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20220260421A1 (ja) |
JP (1) | JP7230077B2 (ja) |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP7134069B2 (ja) | 2018-11-12 | 2022-09-09 | 清水建設株式会社 | 覆工躯体構造および覆工躯体構造の施工方法 |
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JP4558411B2 (ja) * | 2004-08-24 | 2010-10-06 | 富士通セミコンダクター株式会社 | 急速熱処理装置及び方法 |
US10490426B2 (en) * | 2014-08-26 | 2019-11-26 | Lam Research Ag | Method and apparatus for processing wafer-shaped articles |
-
2021
- 2021-02-12 JP JP2021021084A patent/JP7230077B2/ja active Active
-
2022
- 2022-02-04 US US17/665,167 patent/US20220260421A1/en active Pending
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JP7134069B2 (ja) | 2018-11-12 | 2022-09-09 | 清水建設株式会社 | 覆工躯体構造および覆工躯体構造の施工方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20220260421A1 (en) | 2022-08-18 |
JP2022123646A (ja) | 2022-08-24 |
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Legal Events
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A621 | Written request for application examination |
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|
A871 | Explanation of circumstances concerning accelerated examination |
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|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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A02 | Decision of refusal |
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|
C60 | Trial request (containing other claim documents, opposition documents) |
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A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
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|
C21 | Notice of transfer of a case for reconsideration by examiners before appeal proceedings |
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|
A912 | Re-examination (zenchi) completed and case transferred to appeal board |
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|
C211 | Notice of termination of reconsideration by examiners before appeal proceedings |
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|
C22 | Notice of designation (change) of administrative judge |
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|
C302 | Record of communication |
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A521 | Request for written amendment filed |
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C23 | Notice of termination of proceedings |
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C30A | Notification sent |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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