JP7215886B2 - inspection equipment - Google Patents

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Description

本発明は、検査装置に関する。例えば、半導体製造に用いる露光用マスク基板のパターン欠陥を検査する装置に関する。 The present invention relates to an inspection device. For example, the present invention relates to an apparatus for inspecting pattern defects of an exposure mask substrate used in semiconductor manufacturing.

近年、大規模集積回路(LSI)の高集積化及び大容量化に伴い、半導体素子に要求される回路線幅はますます狭くなってきている。これらの半導体素子は、回路パターンが形成された原画パターン(マスク或いはレチクルともいう。以下、マスクと総称する)を用いて、いわゆるステッパと呼ばれる縮小投影露光装置でウェハ上にパターンを露光転写して回路形成することにより製造される。よって、かかる微細な回路パターンをウェハに転写するためのマスクの製造には、微細な回路パターンを描画することができる電子ビームを用いたパターン描画装置を用いる。かかるパターン描画装置を用いてウェハに直接パターン回路を描画することもある。或いは、電子ビーム以外にもレーザビームを用いて描画するレーザビーム描画装置の開発が試みられている。 2. Description of the Related Art In recent years, as large-scale integrated circuits (LSIs) have become highly integrated and have large capacities, the circuit line width required for semiconductor elements has become increasingly narrow. These semiconductor elements are manufactured by exposing and transferring the pattern onto a wafer using a reduction projection exposure apparatus called a stepper using an original image pattern (also called a mask or reticle, hereinafter collectively referred to as a mask) on which a circuit pattern is formed. Manufactured by circuit forming. Therefore, a pattern drawing apparatus using an electron beam capable of drawing a fine circuit pattern is used to manufacture a mask for transferring such a fine circuit pattern to a wafer. A pattern circuit may be drawn directly on a wafer using such a pattern drawing apparatus. Alternatively, attempts have been made to develop a laser beam drawing apparatus that uses a laser beam for drawing in addition to the electron beam.

そして、多大な製造コストのかかるLSIの製造にとって、歩留まりの向上は欠かせない。しかし、1ギガビット級のDRAM(ランダムアクセスメモリ)に代表されるように、LSIを構成するパターンは、ナノメータのオーダーになっている。歩留まりを低下させる大きな要因の一つとして、半導体ウェハ上に超微細パターンをフォトリソグラフィ技術で露光、転写する際に使用されるマスクのパターン欠陥があげられる。近年、半導体ウェハ上に形成されるLSIパターン寸法の微細化に伴って、パターン欠陥として検出しなければならない寸法も極めて小さいものとなっている。そのため、LSI製造に使用される転写用マスクの欠陥を検査するパターン検査装置の高精度化が必要とされている。 In addition, the improvement of yield is essential for the manufacture of LSIs, which requires a great manufacturing cost. However, as typified by 1 gigabit class DRAMs (random access memories), patterns constituting LSIs are on the order of nanometers. One of the major causes of yield reduction is the pattern defect of the mask used when exposing and transferring an ultra-fine pattern onto a semiconductor wafer by photolithography. In recent years, as the dimensions of LSI patterns formed on semiconductor wafers have become finer, the dimensions that must be detected as pattern defects have become extremely small. Therefore, it is necessary to improve the precision of pattern inspection apparatuses for inspecting defects in transfer masks used in LSI manufacturing.

検査手法としては、拡大光学系を用いてリソグラフィマスク等の試料上に形成されているパターンを所定の倍率で撮像した光学画像と、設計データ、あるいは試料上の同一パターンを撮像した光学画像と比較することにより検査を行う方法が知られている。例えば、パターン検査方法として、同一マスク上の異なる場所の同一パターンを撮像した光学画像データ同士を比較する「die to die(ダイ-ダイ)検査」や、パターン設計されたCADデータをマスクにパターンを描画する時に描画装置が入力するための装置入力フォーマットに変換した描画データ(設計パターンデータ)を検査装置に入力して、これをベースに設計画像(参照画像)を生成して、それとパターンを撮像した測定データとなる光学画像とを比較する「die to database(ダイ-データベース)検査」がある。かかる検査装置における検査方法では、検査対象はテーブル上に載置され、テーブルが動くことによって光束が試料上を走査し、検査が行われる。被検査対象には、光源及び照明光学系によって光束が照射される。被検査対象を透過あるいは反射した光は光学系を介して、センサ上に結像される。センサで撮像された画像は測定データとして比較部へ送られる。比較部では、画像同士の位置合わせの後、測定データと参照データとを適切なアルゴリズムに従って比較し、一致しない場合などには、パターン欠陥有りと判定する。 As an inspection method, an optical image of a pattern formed on a sample, such as a lithography mask, captured at a predetermined magnification using a magnifying optical system is compared with an optical image of the design data or the same pattern on the sample. It is known to perform the inspection by For example, as a pattern inspection method, there is a "die to die inspection" that compares optical image data obtained by imaging the same pattern at different locations on the same mask, and a pattern is inspected using pattern-designed CAD data as a mask. The drawing data (design pattern data) converted into the device input format for input by the drawing device at the time of drawing is input to the inspection device, and based on this, the design image (reference image) is generated, and the pattern is imaged. There is a "die to database inspection" that compares the measured data to the optical image. In the inspection method for such an inspection apparatus, an inspection object is placed on a table, and the table is moved to scan a light beam over the sample for inspection. An object to be inspected is irradiated with a light beam by a light source and an illumination optical system. The light transmitted or reflected by the object to be inspected is imaged on the sensor via the optical system. The image captured by the sensor is sent to the comparison section as measurement data. After aligning the images, the comparison unit compares the measurement data and the reference data according to an appropriate algorithm, and determines that there is a pattern defect if they do not match.

このように、パターン検査の手法として、被検査対象を透過した透過像を検査する透過検査と被検査対象から反射された反射像を検査する反射検査がある。また、これらの両方を同時に検査する透過/反射検査を行う場合もある。透過/反射検査を行う場合、光源からの光を2つに分岐して、一方を透過検査用に他方を反射検査用にそれぞれ異なる照明光学系を介して被検査対象の異なる位置に同時に照射する。 As described above, pattern inspection methods include transmission inspection for inspecting a transmitted image transmitted through an object to be inspected and reflection inspection for inspecting a reflected image reflected from the object to be inspected. In some cases, transmission/reflection inspection is performed to inspect both of these simultaneously. When conducting a transmission/reflection inspection, the light from the light source is split into two, one for the transmission inspection and the other for the reflection inspection, which are simultaneously irradiated to different positions on the object to be inspected via different illumination optical systems. .

ところで、光源や光学系起因で光量が変位すると光学画像データの階調値に変位が生じてパターン検査の精度が低下してしまうことがある。検査光の一部を補正光として用いて、光量変位を検知して、検査精度を向上させることが出来るが、マスクの反射率によって欠陥検査に必要な光量が変化する。欠陥検査に必要な光量が変化すると、補正光の光量も変化してしまい、光量変位を適切に補正することが出来なくなる。 By the way, if the amount of light is changed due to the light source or the optical system, the gradation value of the optical image data is changed, and the accuracy of the pattern inspection may be lowered. A portion of the inspection light is used as correction light to detect the variation in the amount of light, thereby improving the inspection accuracy. If the amount of light required for defect inspection changes, the amount of correction light also changes, making it impossible to appropriately correct the variation in the amount of light.

特開2014-222175号公報JP 2014-222175 A

そこで、本発明の一態様は、補正光の光量を調整可能な検査装置を提供する。 Accordingly, one aspect of the present invention provides an inspection apparatus capable of adjusting the amount of correction light.

本発明の一態様の検査装置は、光源と、光源からの光を被検査対象に照明する光と被検査対象の面を介さない補正光とに分岐させ、補正光の光量を変えることの出来る光学素子と、補正光を受光するセンサと、センサで受光した補正光の光量の変位率を求める変位率演算部と被検査対象を照明して反射された光の光量を基に被検査対象の光学画像データを作成する光学画像作成部と、変位率から光学画像データを補正する光量補正部と、を備える。 An inspection apparatus according to one aspect of the present invention can change the amount of the correction light by dividing the light from the light source into the light that illuminates the object to be inspected and the correction light that does not pass through the surface of the object to be inspected. An optical element, a sensor for receiving the correction light, a displacement rate calculator for calculating the displacement rate of the light amount of the correction light received by the sensor, and an inspection target based on the light amount of the light reflected by illuminating the inspection object. It includes an optical image creating unit that creates optical image data, and a light amount correcting unit that corrects the optical image data based on the displacement rate.

上述の検査装置において、光学素子は、第1の光分岐素子、2分の1波長板、第1の4分の1波長板、第2の4分の1波長板及びミラーを含み、光源からの光は、2分の1波長板を通り、2分の1波長板を通った光は、第1の光分岐素子で、被検査対象を照明する光と補正光に分岐され、第1の光分岐素子で分岐された補正光は、第1の4分の1波長板を通って、前記ミラーで反射され、ミラーで反射された補正光は、第1の4分の1波長板を通って、第1の光分岐素子で反射され、第1の光分岐素子で反射された補正光は、センサで受光され、第1の光分岐素子で分岐された被検査対象に照明する光は、第2の4分の1波長板を通り、第2の4分の1波長板を通った被検査対象に照明する光は、被検査対象の面を照射することが好ましい。 In the inspection apparatus described above, the optical element includes a first light branching element, a half-wave plate, a first quarter-wave plate, a second quarter-wave plate, and a mirror. The light passes through the half-wave plate, and the light passing through the half-wave plate is split by the first light splitting element into light for illuminating the object to be inspected and correction light. The correction light branched by the light branching element passes through the first quarter-wave plate and is reflected by the mirror , and the correction light reflected by the mirror passes through the first quarter-wave plate. The corrected light that passes through and is reflected by the first light branching element is received by the sensor, and the light that is branched by the first light branching element and illuminates the inspection object is , the light passing through the second quarter-wave plate and illuminating the object to be inspected after passing through the second quarter-wave plate preferably illuminates the surface of the object to be inspected.

上述の検査装置において、第1の光分岐素子は、偏光ビームスプリッタであり、2分の1波長板の光学軸方向を調整することによって、第1の光分岐素子で被検査対象に照明する光と補正光に分岐する比率を調整することが好ましい。 In the inspection apparatus described above, the first optical branching element is a polarizing beam splitter, and by adjusting the optical axis direction of the half-wave plate, the first optical branching element illuminates the object to be inspected. and correction light are preferably adjusted.

上述の検査装置において、光学素子は、第2の光分岐素子、調光フィルタ及びミラーを有し、光源からの光は、第2の光分岐素子で、被検査対象に照明する光補正光に分岐され、第2の光分岐素子で分岐された補正光は、調光フィルタを通って、ミラーで反射され、ミラーで反射された補正光は、調光フィルタを通って、第2の光分岐素子で反射され、第2の光分岐素子で反射された補正光は、センサで受光され、第2の光分岐素子で分岐された被検査対象に照明する光は、被検査対象の面を照射することが好ましい。 In the inspection apparatus described above, the optical element has a second light branching element, a light control filter, and a mirror, and the light from the light source is converted into light correction light that illuminates the object to be inspected by the second light branching element. The correction light branched and branched by the second light branching element passes through the light control filter and is reflected by the mirror, and the correction light reflected by the mirror passes through the light control filter and enters the second light branch. The corrected light reflected by the element and reflected by the second light splitting element is received by the sensor, and the light split by the second light splitting element to illuminate the object to be inspected irradiates the surface of the object to be inspected. preferably.

上述の検査装置において、第2の光分岐素子は、反射透過部材であり、調光フィルタの光透過率を調整して補正光の光量を調整することが好ましい。 In the inspection apparatus described above, it is preferable that the second light branching element is a reflection-transmission member, and adjusts the light amount of the correction light by adjusting the light transmittance of the light control filter.

上述の検査装置において、補正光が前記センサによって受光された光量に対する被検査対象に照明して反射された光が当該光を受光するセンサによって受光された光量の差が±0.5%以内になるように光学素子を調整することが好ましい。 In the inspection apparatus described above, the difference between the amount of light received by the sensor receiving the light and the amount of light reflected by the object to be inspected is within ±0.5% with respect to the amount of light received by the sensor. It is preferable to adjust the optical element so that

上述の検査装置において、光源からの光を被検査対象に照明する透過照明光学系と、光源からの光を透過照明光学系側と光学素子側に分岐する第3の光分岐素子を備え、補正光がセンサによって受光された光量に対する被検査対象に照明して反射された光が当該光を受光するセンサによって受光された光量の差が±0.5%以内であり、補正光がセンサによって受光された光量に対する透過照明光学系を通り被検査対象を透過した光が光を受光するセンサによって受光された光量の差が±0.5%以内であり、かつ、被検査対象を照明して反射された光が当該光を受光するセンサによって受光された光量に対する透過照明光学系を通り被検査対象を透過した光が当該光を受光するセンサによって受光された光量の差が0.5%以内になるように光学素子及び第3の光分岐素子を調整することが好ましい。 The inspection apparatus described above includes a transmission illumination optical system for illuminating an object to be inspected with light from the light source, and a third light splitting element for splitting the light from the light source into the transmission illumination optical system side and the optical element side. The difference between the amount of light received by the sensor that receives the light and the amount of light reflected by the object to be inspected is within ±0.5% of the amount of light received by the sensor, and the correction light is received by the sensor. The difference in the amount of light received by the sensor that receives the light transmitted through the transmitted illumination optical system and the object to be inspected is within ±0.5% of the amount of light received, and the object to be inspected is illuminated and reflected. The difference between the amount of light received by the sensor that receives the light and the amount of light that has passed through the inspection object through the transmission illumination optical system with respect to the amount of light received by the sensor that receives the light is within 0.5%. It is preferable to adjust the optical element and the third optical branching element so that

本発明の一態様によれば、光源や光学的要因による光量変位による影響を好適に補正することができる。 According to one aspect of the present invention, it is possible to suitably correct the influence of light intensity variation due to a light source or optical factors.

実施の形態1におけるパターン検査装置の構成を示す構成図である。1 is a configuration diagram showing the configuration of a pattern inspection apparatus according to Embodiment 1; FIG. 実施の形態1におけるパターン検査方法の要部工程を示すフローチャート図である。4 is a flow chart diagram showing main steps of a pattern inspection method according to the first embodiment; FIG. 実施の形態2におけるパターン検査装置の構成を示す構成図である。FIG. 10 is a configuration diagram showing the configuration of a pattern inspection apparatus according to Embodiment 2; 実施の形態2におけるパターン検査方法の要部工程を示すフローチャート図である。FIG. 10 is a flow chart showing main steps of a pattern inspection method according to a second embodiment;

実施の形態1
図1は、実施の形態1におけるパターン検査装置の構成を示す構成図である。図1において、被検査対象Maに形成されたパターンの欠陥を検査する検査装置100は、検査装置100を制御する制御部110及び被検査対象Maを撮像する光学画像取得機構150を備えている。被検査対象Maは、例えば、マスクである。
Embodiment 1
FIG. 1 is a configuration diagram showing the configuration of the pattern inspection apparatus according to the first embodiment. In FIG. 1, an inspection apparatus 100 for inspecting defects in a pattern formed on an object to be inspected Ma includes a control unit 110 for controlling the inspection apparatus 100 and an optical image acquisition mechanism 150 for imaging the object to be inspected Ma. The object to be inspected Ma is, for example, a mask.

制御部110は、例えば、制御計算機121、バス122、テーブル制御部131、位置演算部132、参照画像作成部133、比較部134、光量補正部135、変位率演算部136、光学画像作成部137、記憶装置141、パターンモニタ142、モニタ143及びプリンタ144を有する。光学画像作成部137は、反射用信号処理部137a及び透過用信号処理部137bを有する。 The control unit 110 includes, for example, a control computer 121, a bus 122, a table control unit 131, a position calculation unit 132, a reference image creation unit 133, a comparison unit 134, a light amount correction unit 135, a displacement rate calculation unit 136, and an optical image creation unit 137. , a storage device 141 , a pattern monitor 142 , a monitor 143 and a printer 144 . The optical image forming section 137 has a reflection signal processing section 137a and a transmission signal processing section 137b.

光学画像取得機構150は、例えば、光源161、拡大光学系162、第3の光分岐素子163、ミラー164、XYθテーブル165、レーザ測長システム166、ミラー167、光源161からの光を被検査対象Maに照明する光と被検査対象Maの面を介さない補正光とに分岐させ、補正光の光量を変えることの出来る光学素子(以下、光分岐調光素子)180、対物レンズ168、ミラー169、ミラー170、レンズ171、透過用TDI(Time Delay Integration)センサ172、ミラー173、レンズ174及び反射用TDIセンサ175を有する。 The optical image acquisition mechanism 150, for example, the light source 161, the magnifying optical system 162, the third light branching element 163, the mirror 164, the XYθ table 165, the laser length measurement system 166, the mirror 167, the light from the light source 161 to the inspection object. An optical element (hereinafter referred to as a light branching and adjusting element) 180 that can split the light illuminating Ma and the correction light that does not pass through the surface of the object to be inspected Ma and change the light amount of the correction light, an objective lens 168, and a mirror 169. , a mirror 170 , a lens 171 , a transmission TDI (Time Delay Integration) sensor 172 , a mirror 173 , a lens 174 and a reflection TDI sensor 175 .

検査装置100全体を制御する制御計算機121が、バス122を介して、テーブル制御部131、位置演算部132、参照画像作成部133、比較部134、光量補正部135、変位率演算部136、光学画像作成部137、記憶装置141、パターンモニタ142、モニタ143及びプリンタ144に接続されている。 A control computer 121 that controls the entire inspection apparatus 100 provides a table control unit 131 , a position calculation unit 132 , a reference image creation unit 133 , a comparison unit 134 , a light intensity correction unit 135 , a displacement rate calculation unit 136 , an optical It is connected to the image forming section 137 , storage device 141 , pattern monitor 142 , monitor 143 and printer 144 .

テーブル制御部131は、XYθテーブル165に接続されて、制御されている。XYθテーブル165は、例えば、X軸モータ、Y軸モータ、θ軸モータにより駆動される。比較部134は、位置演算部132、参照画像作成部133及び光量補正部135と接続されている。位置演算部132は、レーザ測長システム166と接続されている。光量補正部135は、変位率演算部136及び光学画像作成部137と接続されている。光学画像作成部137の反射用信号処理部137aは、反射用TDIセンサ175と接続され、透過用信号処理部137bは、透過用TDIセンサ172と接続されている。 The table control unit 131 is connected to and controlled by the XYθ table 165 . The XYθ table 165 is driven by, for example, an X-axis motor, a Y-axis motor, and a θ-axis motor. The comparison section 134 is connected to the position calculation section 132 , the reference image creation section 133 and the light amount correction section 135 . The position calculator 132 is connected to the laser length measurement system 166 . The light amount correction section 135 is connected to the displacement rate calculation section 136 and the optical image generation section 137 . The reflection signal processor 137 a of the optical image generator 137 is connected to the reflection TDI sensor 175 , and the transmission signal processor 137 b is connected to the transmission TDI sensor 172 .

実施の形態1の分岐調光素子180は、2分の1波長板181、第1の光分岐素子182、第1の4分の1波長板183、ミラー184及び第2の4分の1波長板185を有する。第1の光分岐素子182としては、偏光ビームスプリッタが好ましい。2分の1波長板181と偏光ビームスプリッタ182を組み合わせて光源161からの光を被検査対象Maに照明する光と被検査対象Maの面を介さない補正光に、任意の割合で分岐させることができる。 The branching light control element 180 of Embodiment 1 includes a half wavelength plate 181, a first optical branching element 182, a first quarter wavelength plate 183, a mirror 184 and a second quarter wavelength It has a plate 185 . A polarizing beam splitter is preferable as the first optical branching element 182 . A half-wave plate 181 and a polarizing beam splitter 182 are combined to split the light from the light source 161 into light for illuminating the object to be inspected Ma and correction light not passing through the surface of the object to be inspected Ma at an arbitrary ratio. can be done.

光源161か出射された光(実線)は、拡大光学系162で任意の撮像倍率に調整され、第3の光分岐素子163によって、透過照明光学系側(破線)と光路光分岐調光素子180側(一点鎖線)に分岐される。第3の光分岐素子163は、例えば、透過反射板、又は、2分の1波長板並びに偏光ビームスプリッタを含むものである。被検査対象Maを透過する光によって被検査対象Maを検査しない場合は、第3の光分岐素子163をミラーに置き換えることが出来る。被検査対象Maを透過した光が当該光を受光するセンサによって受光された光量、被検査対象Maで反射された光が当該光を受光するセンサによって受光された光量及び補正光が当該光を受光するセンサによって受光された光量が同程度になるように第3の光分岐素子163の分岐率が調整される。 The light (solid line) emitted from the light source 161 is adjusted to an arbitrary imaging magnification by the magnifying optical system 162, and is split by the third light splitting element 163 into the transmitted illumination optical system side (broken line) and the optical path light splitting/adjusting element 180. side (chain line). The third optical branching element 163 includes, for example, a transmissive reflector or a half-wave plate and a polarizing beam splitter. When the object to be inspected Ma is not inspected by the light passing through the object to be inspected Ma, the third light branching element 163 can be replaced with a mirror. The amount of light transmitted through the object to be inspected Ma received by the sensor that receives the light, the amount of light reflected by the object to be inspected Ma received by the sensor that receives the light, and the correction light received by the sensor The branching ratio of the third light branching element 163 is adjusted so that the amount of light received by the sensors is approximately the same.

透過照明光学系は、ミラー164を含む。透過照明光学系を通った光は、XYθテーブル165上に配置された被検査対象Maを照明する。被検査対象Maを透過した光は、対物レンズ168、光分岐調光素子180の第2の4分の1波長板185及び第1の光分岐素子182を通る。被検査対象Maを透過して第1の光分岐素子182を通った光は、ミラー169で反射され、さらに、ミラー170で反射される。被検査対象Maを透過してミラー170で反射された光は、レンズ171を通り、透過用TDIセンサ172で受光される。透過用TDIセンサ172で受光された光は光電変換され、光学画像作成部173の透過用信号処理部137bで信号が処理され、被検査対象Maを透過した光を基に光学画像データが作成される。センサとしてTDIセンサを挙げているが、TDIセンサに限定されるものではない。 Transillumination optics includes mirror 164 . The light that has passed through the transmission illumination optical system illuminates the object to be inspected Ma placed on the XYθ table 165 . The light that has passed through the object to be inspected Ma passes through the objective lens 168 , the second quarter-wave plate 185 of the light branching and adjusting device 180 , and the first light branching device 182 . The light that has passed through the object to be inspected Ma and passed through the first optical branching element 182 is reflected by the mirror 169 and further reflected by the mirror 170 . The light transmitted through the object to be inspected Ma and reflected by the mirror 170 passes through the lens 171 and is received by the transmission TDI sensor 172 . The light received by the transmission TDI sensor 172 is photoelectrically converted, the signal is processed by the transmission signal processing unit 137b of the optical image generation unit 173, and optical image data is generated based on the light transmitted through the object to be inspected Ma. be. Although the TDI sensor is mentioned as the sensor, it is not limited to the TDI sensor.

光分岐調光素子180側に分岐された光は、ミラー167で反射される。ミラー167で反射された光は、2分の1波長板181を通り、第1の光分岐素子182で反射された被検査対象Maを照明する光(長い破線)と第1の光分岐素子182を透過した補正光(短い破線)に分岐される。被検査対象Maを照明する光と補正光に分岐する比率は、被検査対象Maの反射率及びその他光学素子による損失などを考慮して選択される。被検査対象Maを照明して反射される光と補正光に分岐する比率は、被検査対象Maで反射された光が当該光を受光するセンサによって受光された光量と補正光が当該光を受光するセンサによって受光された光量の比率が同程度になるように調整されることが好ましい。 The light branched to the light branching and adjusting device 180 side is reflected by the mirror 167 . The light reflected by the mirror 167 passes through the half-wave plate 181 and is reflected by the first optical branching element 182 to illuminate the object to be inspected Ma (long dashed line) and the first optical branching element 182 is branched into the correction light (short dashed line) that has passed through the . The ratio of splitting into the light for illuminating the object to be inspected Ma and the correction light is selected in consideration of the reflectance of the object to be inspected Ma and loss due to other optical elements. The ratio of splitting into the light reflected by illuminating the inspection object Ma and the correction light is the amount of light reflected by the inspection object Ma received by the sensor that receives the light and the correction light receiving the light. It is preferable that the ratio of the amount of light received by each sensor is adjusted to be approximately the same.

第1の光分岐素子182を透過した光(補正光)は、第1の4分の1波長板183を通り、ミラー184で反射される。ミラー184で反射された光は、再び第1の4分の1波長板183を通り、第1の光分岐素子182で反射されてミラー169側へ導かれる。ミラー169側へ導かれた補正光は、ミラー169で反射される。ミラー169で反射された補正光は、ミラー173で反射され、レンズ174を通り、反射用TDIセンサ175の補正光用の領域で受光される。反射用TDIセンサ175で受光された光は光電変換され、変位率演算部136で信号が処理され、補正光の光量の変位率(経時的光量変位率)が求められる。なお、図1では、検査装置100は、補正光が反射用TDIセンサ175で受光される構成となっているが、補正光は、透過用TDIセンサ172で受光されるように検査装置100が構成されていてもよい。 The light (correction light) that has passed through the first optical branching element 182 passes through the first quarter-wave plate 183 and is reflected by the mirror 184 . The light reflected by the mirror 184 passes through the first quarter-wave plate 183 again, is reflected by the first optical branching element 182, and is guided to the mirror 169 side. The correction light guided to the mirror 169 side is reflected by the mirror 169 . The correction light reflected by the mirror 169 is reflected by the mirror 173 , passes through the lens 174 , and is received by the correction light area of the reflection TDI sensor 175 . The light received by the reflection TDI sensor 175 is photoelectrically converted, the signal is processed by the displacement rate calculator 136, and the displacement rate of the light amount of the correction light (time light amount change rate) is obtained. In FIG. 1, the inspection apparatus 100 is configured such that the correction light is received by the reflection TDI sensor 175, but the inspection apparatus 100 is configured so that the correction light is received by the transmission TDI sensor 172. may have been

補正光の光量の経時的変化は、光源161から出射される光の光量変化や揺らぎ等の光学的要因によるものである。補正光の光量の経時的変化は、被検査対象Maを照明して透過した光にも被検査対象Maを照明して反射された光にも同様に生じている。被検査対象Maを照明して透過した光及び被検査対象Maを照明して反射された光は検査光であるため、光源161からの光源161から出射される光量変化や光学的要因等の理由の他に被検査対象Maの検査そのものによって受光される光量が変化する。従って、受光された光量の変化が光源161から出射される光量変化や光学的要因などを理由するものであるのか被検査対象Maの検査によるものか区別することが出来ない。補正光の光量変位は、被検査対象Maの検査に影響されず、さらに、被検査対象Maで反射されないため、被検査対象Maの反射率に影響されないことから、補正光は、光源161から出射される光の光量変化や揺らぎ等に起因する光量の経時的変位を正確に測定することが出来る。光源161から出射される光量を測定しても光学的要因による光量変位を測定することはできない。補正光は、被検査対象Maを照明して透過した光、被検査対象Maを照明して反射された光、又は、被検査対象Maを照明して透過した光並びに被検査対象Maを照明して反射された光と同時にセンサに受光されるため被検査対象Maの検査位置における光量変位率が容易に求められる。 The temporal change in the amount of correction light is due to optical factors such as changes in the amount of light emitted from the light source 161 and fluctuations. The change in the amount of correction light over time occurs in both the light that illuminates and passes through the object to be inspected Ma and the light that illuminates and reflects from the object to be inspected Ma. The light transmitted through the object to be inspected Ma and the light reflected by the object to be inspected Ma are the inspection light. In addition, the amount of light received varies depending on the inspection itself of the object to be inspected Ma. Therefore, it is not possible to distinguish whether the change in the amount of received light is due to the change in the amount of light emitted from the light source 161, optical factors, or the like, or due to the inspection of the object to be inspected Ma. The change in the amount of correction light is not affected by the inspection of the object to be inspected Ma, and is not reflected by the object to be inspected Ma. It is possible to accurately measure the change in the amount of light emitted, the temporal change in the amount of light caused by fluctuations, and the like. Even if the amount of light emitted from the light source 161 is measured, the change in amount of light due to optical factors cannot be measured. The correction light is light that illuminates and passes through the object to be inspected Ma, light that illuminates and reflects from the object to be inspected Ma, or light that illuminates and passes through the object to be inspected Ma, and illuminates the object to be inspected Ma. Since the light is received by the sensor at the same time as the reflected light, the light intensity variation rate at the inspection position of the object to be inspected Ma can be easily obtained.

第1の光分岐素子182で反射された被検査対象Maを照明する光は、第2の4分の1波長板185を通る。第2の4分の1波長板185を通った被検査対象Maを照明する光は、被検査対象Maを照明する。被検査対象Maを照明して反射された光は、再び第2の4分の1波長板185を通る。被検査対象Maで反射され第2の4分の1波長板185を通った光は、第1の光分岐素子182を通りミラー169で反射される。被検査対象Maで反射され第2の4分の1波長板185を通ってミラー169で反射された光は、ミラー173で反射される。ミラー173で反射された光は、レンズ174を通り反射用TDIセンサ175で受光される。被検査対象Maで反射された光を受光する反射用TDIセンサ175の領域は、補正光を受光する反射用TDIセンサ175の領域とは異なる。反射用TDIセンサ175で受光された光は光電変換され、光学画像作成部173の反射用信号処理部137aで信号が処理され、被検査対象Maで反射された光を基に光学画像データが作成される。 The light illuminating the inspection target Ma reflected by the first optical branching element 182 passes through the second quarter-wave plate 185 . The light that illuminates the object to be inspected Ma that has passed through the second quarter-wave plate 185 illuminates the object to be inspected Ma. The light reflected by illuminating the object to be inspected Ma passes through the second quarter-wave plate 185 again. The light reflected by the object to be inspected Ma and passed through the second quarter-wave plate 185 passes through the first optical branching element 182 and is reflected by the mirror 169 . The light reflected by the object to be inspected Ma, passed through the second quarter-wave plate 185 and reflected by the mirror 169 is reflected by the mirror 173 . The light reflected by the mirror 173 passes through the lens 174 and is received by the reflection TDI sensor 175 . The area of the reflective TDI sensor 175 that receives the light reflected by the object to be inspected Ma is different from the area of the reflective TDI sensor 175 that receives the correction light. The light received by the reflective TDI sensor 175 is photoelectrically converted, the signal is processed by the reflective signal processing unit 137a of the optical image creating unit 173, and optical image data is created based on the light reflected by the object to be inspected Ma. be done.

光学画像データは、光量補正部135において、補正光の光量変位率を考慮して光学画像データの階調値が補正される。光学画像データは、他にも画像処理されてもよい。 The gradation value of the optical image data is corrected by the light amount correction unit 135 in consideration of the light amount change rate of the correction light. Optical image data may also be subjected to other image processing.

レーザ測長システム166からのXYθテーブル165の移動位置は位置情報部132に送られる。そして、位置情報部132で被検査対象Maの位置情報が演算される。補正された光学画像データは、参照画像作成部133で作成された参照用光学画像データ及び位置情報とともに比較部134へ送られる。比較部134では、光学画像データと参照用光学画像データを比較して、被検査対象Maの欠陥検出を行なう。検出された欠陥は、位置情報とともに記憶装置141に保存される。 The movement position of the XYθ table 165 from the laser length measurement system 166 is sent to the position information section 132 . Then, the position information of the object to be inspected Ma is calculated by the position information unit 132 . The corrected optical image data is sent to the comparing section 134 together with the reference optical image data created by the reference image creating section 133 and the position information. The comparison unit 134 compares the optical image data and the reference optical image data to detect defects in the inspection object Ma. The detected defects are stored in the storage device 141 together with the position information.

実施の形態では、補正光を比較的簡素な光学素子で分岐及び調光されてセンサに導くことが出来る。また、補正光は、被検査対象Maを照明して透過した光を受光するセンサ又は被検査対象Maを照明して反射された光を受光するセンサで受光して光電変換されることから、被検査対象Maを検査する光に生じる検査以外の要因で生じる光量変位率を被検査対象Maを検査するのと同等の構成(方法)で補正光を測定することが出来る。従って、被検査対象Maを検査する光が通る光路で生じる光学的要因による光量変化を正確に測定することが出来る。補正光が被検査対象Maを検査する光と全く異なる光路を通る場合は、光学的要因による光量変化を正確に測定することは出来ない。 In the embodiment, the correction light can be branched and dimmed by a relatively simple optical element and guided to the sensor. Further, the correction light is received by a sensor that illuminates the object to be inspected Ma and receives the light transmitted therethrough or by a sensor that receives light that is reflected by illuminating the object to be inspected Ma and is photoelectrically converted. The correction light can be measured with the same configuration (method) as that for inspecting the object Ma for the light amount variation rate caused by factors other than the inspection, which occurs in the light for inspecting the object Ma to be inspected. Therefore, it is possible to accurately measure the change in the amount of light due to optical factors that occur in the optical path through which the light inspecting the object to be inspected Ma passes. If the correction light passes through a completely different optical path from the light for inspecting the object to be inspected Ma, it is impossible to accurately measure the change in the amount of light due to optical factors.

ここで、図1では、実施の形態1を説明する上で必要な構成部分について記載している。検査装置100にとって、通常、必要なその他の構成が含まれても構わないことは言うまでもない。また、図1では、被検査対象Maを透過した光からパターン検査を行なう光学素子、センサ及び信号処理系が含まれるが、これらを省略することが出来る。 Here, in FIG. 1, constituent parts necessary for explaining the first embodiment are described. It goes without saying that other configurations normally required for the inspection apparatus 100 may be included. Also, although FIG. 1 includes an optical element, a sensor, and a signal processing system for performing pattern inspection from light transmitted through the object to be inspected Ma, these can be omitted.

図2は、実施の形態1におけるパターン検査方法の要部工程を示すフローチャート図である。図2において、実施の形態1におけるパターン検査方法は、第1の検査光測定工程(S101)、第2の検査光測定工程(S102)、第1の分岐割合調整工程(S103)、第2の分岐割合調整工程(S104)、全体光量調整工程(S105)、スキャン工程(S106)、光学画像作成工程(S107)、光量変位率演算工程(S108)、光学画像補正工程(S109)、参照画像作成工程(S110)及び比較工程(S111)の各工程を実施する。なお、上記工程を行なう前に、TDIセンサの特性を調整してセンサ特性のばらつきを減らす(無くす)キャリブレーションを行なうことが好ましい。以下、各工程を説明する。 FIG. 2 is a flow chart showing main steps of the pattern inspection method according to the first embodiment. 2, the pattern inspection method according to the first embodiment includes a first inspection light measurement step (S101), a second inspection light measurement step (S102), a first branch ratio adjustment step (S103), a second Branch ratio adjustment step (S104), total light amount adjustment step (S105), scanning step (S106), optical image creation step (S107), light amount displacement rate calculation step (S108), optical image correction step (S109), reference image creation Each step of the step (S110) and the comparison step (S111) is performed. Before performing the above steps, it is preferable to perform calibration by adjusting the characteristics of the TDI sensor to reduce (or eliminate) variations in the sensor characteristics. Each step will be described below.

<第1の検査光測定工程(S101)>
第1の検査光測定工程(S101)は、被検査対象Maを照明して透過した光の光量を測定する工程である。好適にはキャリブレーションを行なった後、第1の検査光測定工程を行なう。具体的には、光源161から出射され、拡大光学系162を通り、第3の光分岐素子163で分岐され、そして、ミラー164で反射された光が被検査対象Maを照明する。被検査対象Maを照明し、透過した光の光量を透過用TDIセンサ172で受光して、被検査対象Maを照明して透過した光量を測定する。透過用TDIセンサ172で光電変換されたアナログ信号は、透過用信号処理部137bでデジタル変換を含む処理がなされる。そして、透過用信号処理部137bで被検査対象Maを照明して透過した光から光学画像データで作成される。
<First Inspection Light Measurement Step (S101)>
The first inspection light measurement step (S101) is a step of illuminating the inspection object Ma and measuring the amount of light transmitted therethrough. Preferably, after performing calibration, the first inspection light measurement step is performed. Specifically, the light emitted from the light source 161, passes through the magnifying optical system 162, is branched by the third light branching element 163, and is reflected by the mirror 164 to illuminate the inspection object Ma. The object to be inspected Ma is illuminated, the amount of transmitted light is received by the transmission TDI sensor 172, the object to be inspected Ma is illuminated, and the amount of transmitted light is measured. The analog signal photoelectrically converted by the transmission TDI sensor 172 is processed including digital conversion by the transmission signal processing unit 137b. Then, optical image data is created from the light transmitted by illuminating the object to be inspected Ma by the transmission signal processing unit 137b.

予め被検査対象Maを透過した光の光量を測定することで、後に被検査対象Maを透過して受光された光の光量と補正光が受光された光の光量との差を少なくする調整を行なうことが出来る。本工程は、被検査対象Maを照明して透過する光で被検査対象Maの欠陥検査を行なう場合に実施すればよい。 By measuring the amount of light transmitted through the object to be inspected Ma in advance, it is possible to reduce the difference between the amount of light transmitted through the object to be inspected Ma and the amount of light received by the correction light. can do it This process may be carried out when inspecting the object to be inspected Ma for defects using light that illuminates the object to be inspected and passes through the object to be inspected.

透過照明光学系を有しない場合や被検査対象Maを照明して透過する光によって被検査対象Maを検査しない場合は、本工程は、省略される。 This step is omitted when there is no transmission illumination optical system or when the object to be inspected Ma is not inspected by light that illuminates and passes through the object to be inspected Ma.

<第2の検査光測定工程(S102)>
第2の検査光測定工程(S102)は、被検査対象Maを照明して反射された光の光量を測定する工程である。具体的には、光源161から出射され、拡大光学系162を通り、第3の光分岐素子163で光分岐調光素子180側に分岐され、ミラー167で反射され、2分の1波長板181を通り、第1の光分岐素子182で分岐(反射)され、第2の4分の1波長板185を通って、対物レンズ168を通って、被検査対象Maを照明する。このとき、2分の1波長板181の光学軸方向を調整し、偏光ビームスプリッタ182を透過する光が無くなる(反射:透過=1:0)ようにする。被検査対象Maを照明して反射された光の光量を反射用TDIセンサ175で受光して光量を測定する。反射用TDIセンサ175で光電変換されたアナログ信号は、反射用信号処理部137aでデジタル変換を含む処理がなされる。被検査対象Maの反射率によって、反射用TDIセンサ175で受光される光量が変化する。
<Second Inspection Light Measurement Step (S102)>
The second inspection light measurement step (S102) is a step of illuminating the inspection target Ma and measuring the amount of reflected light. Specifically, the light is emitted from the light source 161 , passes through the magnifying optical system 162 , is branched to the light branching and adjusting device 180 side by the third light branching device 163 , is reflected by the mirror 167 , and is reflected by the half-wave plate 181 . , is branched (reflected) by the first optical branching element 182, passes through the second quarter-wave plate 185, passes through the objective lens 168, and illuminates the object to be inspected Ma. At this time, the optical axis direction of the half-wave plate 181 is adjusted so that no light passes through the polarization beam splitter 182 (reflection:transmission=1:0). The TDI sensor 175 for reflection receives the amount of light reflected by illuminating the object to be inspected Ma to measure the amount of light. The analog signal photoelectrically converted by the reflection TDI sensor 175 is processed including digital conversion by the reflection signal processing unit 137a. The amount of light received by the reflection TDI sensor 175 changes depending on the reflectance of the object to be inspected Ma.

予め被検査対象Maを照明して反射された光の光量を測定することで、被検査対象Maで反射されて受光された光の光量と補正光が受光された光の光量との差を少なくする調整を行なうことが出来る。 By illuminating the object to be inspected Ma in advance and measuring the amount of reflected light, the difference between the amount of light reflected and received by the object to be inspected Ma and the amount of light received by the correction light can be reduced. can be adjusted.

<第1の分岐割合調整工程(S103)>
第1の分岐割合調整工程(S103)は、被検査対象Maを照明して反射される光と補正光との比率を変更する工程である。被検査対象Maを照明する光と補正光との比率を変更するために光分岐調光素子180の2分の1波長板181の光学軸方向を調整する。実施の形態1では、光源161からの光を被検査対象Maに照明する光と被検査対象Ma面を介さない補正光とに分岐させ、補正光の光量を変えるために、2分の1波長板181と偏光ビームスプリッタ182を組み合わせている。従って、2分の1波長板181の光学軸方向を調整することで、偏光ビームスプリッタ182で反射する光と偏光ビームスプリッタ182を透過する光の割合を調整することが出来る。補正光は、偏光ビームスプリッタ182を通り、第1の4分の1波長板183を通って、ミラー184で反射され、再び第1の4分の1波長板183を通る。再び第1の4分の1波長板183を通った光は、偏光ビームスプリッタ182で反射されて反射用TDIセンサ175で受光される。
<First branch ratio adjustment step (S103)>
The first branch ratio adjustment step (S103) is a step of changing the ratio between the light reflected by illuminating the inspection object Ma and the correction light. The optical axis direction of the half-wave plate 181 of the light branching/adjusting element 180 is adjusted in order to change the ratio of the light that illuminates the inspection target Ma and the correction light. In Embodiment 1, the light from the light source 161 is split into the light that illuminates the object to be inspected Ma and the correction light that does not pass through the surface of the object to be inspected Ma. A plate 181 and a polarizing beam splitter 182 are combined. Therefore, by adjusting the optical axis direction of the half-wave plate 181, the ratio of the light reflected by the polarization beam splitter 182 and the light transmitted through the polarization beam splitter 182 can be adjusted. The correction light passes through polarizing beam splitter 182 , through first quarter-wave plate 183 , is reflected off mirror 184 , and passes through first quarter-wave plate 183 again. The light that has passed through the first quarter-wave plate 183 again is reflected by the polarization beam splitter 182 and received by the reflection TDI sensor 175 .

キャリブレーションをしている場合は、予めTDIセンサの感度調整がなされているため、測定した被検査対象Maの反射率を含むパラメータから計算によって偏光ビームスプリッタ182の分岐割合、すなわち、2分の1波長板181の光学軸方向を求めることができる。また、2分の1波長板181の光学軸方向を調整しながら、反射用TDIセンサ175で受光された光量を測定して被検査対象Maを照明して反射された光が当該光を受光するセンサで受光される光量と補正光が当該光を受光するセンサで受光される光量の比率を調整することが出来る。 When calibration is performed, the sensitivity of the TDI sensor is adjusted in advance, so the splitting ratio of the polarizing beam splitter 182, that is, 1/2, is calculated from parameters including the measured reflectance of the object to be inspected Ma. The optical axis direction of the wave plate 181 can be determined. Also, while adjusting the optical axis direction of the half-wave plate 181, the amount of light received by the reflecting TDI sensor 175 is measured to illuminate the object to be inspected Ma, and the reflected light receives the light. The ratio of the amount of light received by the sensor and the amount of correction light received by the sensor that receives the light can be adjusted.

補正光が当該光を受光するセンサによって受光された光量に対する検査対象Maを照明して反射された光が当該光を受光するセンサによって受光された光量の差Δ1(=([検査対象Maを照明して反射された光が当該光を受光するセンサによって受光された光量]-[補正光が当該光を受光するセンサによって受光された光量])/[補正光が当該光を受光するセンサによって受光された光量])は、±0.5%以下であることが好ましい。上記光量の差Δ1が小さいと、補正光のSN比と検査対象Maを照明して反射されて受光された光のSN比が同程度となり、補正光を用いた補正の精度が向上する。同観点から、上記光量の差Δ1は、±0.25%以下がより好ましい。 The difference Δ1 (=([illuminating the inspection object Ma Amount of light received by the sensor that receives the light reflected by the light] - [Amount of light that the correction light received by the sensor that receives the light]) / [Correction light received by the sensor that receives the light] The amount of light applied]) is preferably ±0.5% or less. When the light quantity difference Δ1 is small, the S/N ratio of the correction light and the S/N ratio of the light reflected and received by illuminating the inspection object Ma are approximately the same, and the accuracy of correction using the correction light is improved. From the same point of view, the difference Δ1 in the amount of light is more preferably ±0.25% or less.

<第2の分岐割合調整工程(S104)>
第2の分岐割合調整工程(S104)として、第3の光分岐素子163の分岐比率を調整する。第3の光分岐素子163の分岐比率を調整することで、透過照明光学系側と光分岐調光素子180側に分岐する光の割合が調整される。より具体的には、被検査対象Maを照明して透過された光が当該光を受光するセンサによって受光された光量と被検査対象Maを照明して反射された光が当該光を受光するセンサによって受光された光量の比率、及び、被検査対象Maを照明して透過された光が当該光を受光するセンサによって受光された光量と補正光が当該光を受光するセンサによって受光された光量の比率が同程度になることが好ましい。補正光が当該光を受光するセンサによって受光された光量に対する被検査対象Maを照明して透過して受光された光量との差Δ2(=([被検査対象Maを照明して透過された光が当該光を受光するセンサによって受光された光量]-[補正光が当該光を受光するセンサによって受光された光量])/[補正光が当該光を受光するセンサによって受光された光量])は、±0.5%以下であることが好ましい。同観点から、上記光量の差Δ2は、±0.25%以下であることがより好ましい。
<Second branch ratio adjustment step (S104)>
As the second branching ratio adjustment step (S104), the branching ratio of the third optical branching element 163 is adjusted. By adjusting the branching ratio of the third light branching element 163, the ratio of the light branched to the transmitted illumination optical system side and the light branching and adjusting element 180 side is adjusted. More specifically, the amount of light transmitted by illuminating the object to be inspected Ma received by a sensor that receives the light and the amount of light that is reflected by illuminating the object to be inspected Ma by the sensor that receives the light and the ratio of the amount of light received by the sensor that receives the light transmitted by illuminating the object to be inspected Ma and the amount of correction light received by the sensor that receives the light. It is preferred that the ratios are comparable. The difference Δ2 between the amount of light received by the sensor that receives the correction light and the amount of light that is received after illuminating the object to be inspected Ma (=([light that is transmitted by illuminating the object to be inspected Ma is the amount of light received by the sensor that receives the light] - [the amount of light received by the sensor that receives the correction light]) / [the amount of light received by the sensor that receives the correction light]) is , ±0.5% or less. From the same point of view, the difference Δ2 in the amount of light is more preferably ±0.25% or less.

被検査対象Maを照明して透過した光に基づいて作成される光学画像データと被検査対象Maを照明して反射された光に基づいて作成される光学画像データにおいて、両光学画像データを比較することなどを考慮すると、光量の変位にともなう補正量は、同じ又は同程度であることが好ましい。反射に基づく光学画像データと透過に基づく光学画像データで補正量が大きく異なると、両画像データの補正の精度が大きく異なってしまうことは好ましくない。そこで、被検査対象Maを照明して反射された光が受光された光量に対する被検査対象Maを照明して透過された光が当該光を受光するセンサによって受光され光量の差Δ3(=([被検査対象Maを照明して透過された光が当該光を受光するセンサによって受光された光量]-[検査対象Maを照明して反射された光が当該光を受光するセンサによって受光された光量])/[検査対象Maを照明して反射された光が当該光を受光するセンサによって受光された光量])は、±0.5%以下であることが好ましい。同観点から、上記光量の差Δ3は、±0.25%以下であることがより好ましい。 Comparing the optical image data created based on the light transmitted by illuminating the object to be inspected Ma and the optical image data created based on the light reflected by illuminating the object to be inspected Ma In view of the fact that the amount of light is changed, it is preferable that the amount of correction associated with the change in the amount of light be the same or approximately the same. If the amount of correction is greatly different between the optical image data based on reflection and the optical image data based on transmission, it is not preferable that the accuracy of correction of both image data will be greatly different. Therefore, the difference Δ3 (=([ Amount of light received by a sensor that illuminates and passes through the inspection target Ma]−[Amount of light that is reflected by illuminating the inspection target Ma and received by a sensor that receives the light ])/[amount of light received by the sensor that receives the light reflected by illuminating the inspection target Ma]) is preferably ±0.5% or less. From the same point of view, the difference Δ3 in the amount of light is more preferably ±0.25% or less.

<全体光量調整工程(S105)>
全体光量調整工程(S105)において、光源161から出射される光量を調整する。上記工程を行なうことで分岐された各光の光量は調整前よりも減っていることから、適切な光量になるように光源161の出力を調整する。全体光量調整後も上記光量の差Δ1からΔ3は好適な値であることが好ましい。全体光量調整工程(S105)を行なった後の、補正光が当該光を受光するセンサによって受光された光量を基準光量(補正光の基準光量)とする。基準光量をスキャン時の光量変動の基準値とする。
<Overall Light Amount Adjustment Step (S105)>
In the overall light intensity adjustment step (S105), the light intensity emitted from the light source 161 is adjusted. Since the light amount of each branched light is reduced by performing the above steps, the output of the light source 161 is adjusted so as to obtain an appropriate light amount. It is preferable that the differences .DELTA.1 to .DELTA.3 between the amounts of light are suitable values even after the adjustment of the total amount of light. The amount of correction light received by the sensor that receives the light after the overall light amount adjustment step (S105) is defined as a reference light amount (reference light amount of correction light). The reference light quantity is used as a reference value for light quantity fluctuations during scanning.

<スキャン工程(S106)>
スキャン工程(S106)は、被検査対象Maの検査対象領域をスキャンする工程である。スキャン工程において、被検査対象Maをスキャンして、透過用TDIセンサ172で受光された信号は、透過用信号処理部137bに送られ、反射用TDIセンサ175で受光された信号は、反射用画像処理部137aに送られる。スキャン工程において、検査時の光量変位を光学画像データに反映できるようにするために、反射用TDIセンサ175で受光された検査光の信号は、変位率演算部136に送られる。スキャン工程(S106)の際に、レーザ測長システム166は、XYθテーブル165の位置を測長する。即徴された位置情報は、位置演算部132に出力される。位置演算部132は、測長された位置情報を用いて、被検査対象Maの位置を演算する。演算された被検査対象Maの位置は、欠陥位置の特定や光学画像データの作成、比較並びに補正などに利用される。
<Scanning step (S106)>
The scanning step (S106) is a step of scanning the inspection target area of the inspection target Ma. In the scanning process, the object to be inspected Ma is scanned, and the signal received by the transmission TDI sensor 172 is sent to the transmission signal processing unit 137b, and the signal received by the reflection TDI sensor 175 is used as a reflection image. It is sent to the processing unit 137a. In the scanning process, a signal of the inspection light received by the reflection TDI sensor 175 is sent to the displacement rate calculator 136 so that the change in the amount of light during inspection can be reflected in the optical image data. During the scanning step (S106), the laser length measurement system 166 measures the position of the XYθ table 165. FIG. The acquired position information is output to the position calculator 132 . The position calculation unit 132 calculates the position of the object to be inspected Ma using the measured position information. The calculated position of the object to be inspected Ma is used for specifying a defect position, creating optical image data, comparing and correcting the data.

<光学画像作成工程(S107)>
光学画像作成工程(S107)は、スキャン工程で得られた信号を処理して光学画像データを作成する工程である。透過用TDIセンサ172で受光された信号は、透過用信号処理部137bに送られ、アナログ信号からデジタル信号へ変換される。変換されたデジタル信号は、増幅処理などが任意に行なわれ、光学画像データとして記憶装置141に記憶される。反射用TDIセンサ175で受光された信号は、反射用信号処理部137aに送られ、アナログ信号からデジタル信号へ変換される。変換されたデジタル信号は、増幅処理などが任意に行なわれ、光学画像データとして記憶装置141に記憶される。
<Optical Image Creation Step (S107)>
The optical image creation step (S107) is a step of processing the signals obtained in the scanning step to create optical image data. A signal received by the transmission TDI sensor 172 is sent to the transmission signal processing section 137b and converted from an analog signal to a digital signal. The converted digital signal is optionally subjected to amplification processing and the like, and is stored in the storage device 141 as optical image data. A signal received by the reflection TDI sensor 175 is sent to the reflection signal processing section 137a and converted from an analog signal to a digital signal. The converted digital signal is optionally subjected to amplification processing and the like, and is stored in the storage device 141 as optical image data.

<光量変位率演算工程(S108)>
光量変位率演算工程(S108)は、スキャン時の光量変位率を計算する工程である。反射用TDIセンサ175で補正光が受光された信号は、変位率演算部136に送られ被検査対象Maをスキャンした信号と同様にデジタル信号へ変換される。被検査対象Maをスキャンした信号と同様の処理がなされ、画像データ又は位置情報と階調値情報を含むデータとして記憶装置に記憶される。補正光の基準光量と測定された補正光の光量から光量変位率が求まる(より具体的には、補正光の基準光量の階調値である基準階調値を求め、基準階調値と測定された補正光の階調値から光量変位率が求まる)。具体的には、光量変位率は、[測定された補正光の光量]/[補正光の基準光量]で求まる(より具体的には、[測定された補正光の階調値]/[補正光の基準光量の階調値]で求まる)。光量変位率は、画像データ又は位置情報と光量変位率を含む光学画像データの補正用データとして記憶装置に記憶される。
<Light amount variation rate calculation step (S108)>
The light quantity change rate calculation step (S108) is a step of calculating the light quantity change rate during scanning. A signal obtained by receiving the correction light by the reflection TDI sensor 175 is sent to the displacement rate calculation unit 136 and converted into a digital signal in the same manner as the signal obtained by scanning the object to be inspected Ma. The signal is processed in the same manner as the signal obtained by scanning the object to be inspected Ma, and is stored in the storage device as image data or data including position information and gradation value information. The light amount displacement rate is obtained from the reference light amount of the correction light and the measured light amount of the correction light (more specifically, the reference gradation value, which is the gradation value of the reference light amount of the correction light, is obtained, and the reference gradation value and the measured The light amount displacement rate is obtained from the gradation value of the corrected light that has been corrected). Specifically, the light amount displacement rate is obtained by [measured light amount of correction light]/[reference light amount of correction light] (more specifically, [measured gradation value of correction light]/[correction light gradation value of the reference light amount of light]). The light amount variation rate is stored in the storage device as correction data for optical image data including image data or position information and the light amount variation rate.

<光学画像補正工程(S109)>
光学画像補正工程(S109)は、求められた光量変位率(補正用データ)を用いて光学画像データを補正する工程である。具体的には光学画像データの階調値を補正する。補正された光学画像データは、記憶装置141に記憶される。なお、光量変位率の補正は、光学画像データの被検査対象Maの検査対象領域の光量(階調値)に当該検査対象領域を検査した際の光量変位率を除算する処理である。
<Optical Image Correction Step (S109)>
The optical image correction step (S109) is a step of correcting the optical image data using the obtained light amount displacement rate (correction data). Specifically, the gradation value of the optical image data is corrected. The corrected optical image data is stored in storage device 141 . The correction of the light amount change rate is a process of dividing the light amount (gradation value) of the inspection target area of the inspection target Ma in the optical image data by the light amount change rate when the inspection target area is inspected.

被検査対象Maを照明して反射された光から作成された光学画像データを補正する場合、被検査対象を照明して反射された光が当該光を受光するセンサによって受光された光量(より具体的には、被検査対象を照明して反射された光が当該光を受光するセンサによって受光された光量の階調値)に光量変位率を除算して([被検査対象を照明して反射された光が当該光を受光するセンサによって受光された光量]÷[光量変位率] より具体的には、[被検査対象を照明して反射された光が当該光を受光するセンサによって受光された光量の階調値]÷[光量変位率])、光学画像データを補正する。同様に、被検査対象Maを照明して透過した光から作成された光学画像データを補正する場合、被検査対象Maを照明して透過した光が当該光を受光するセンサによって受光された光量(より具体的には、被検査対象Maを照明して透過した光が当該光を受光するセンサによって受光された光量の階調値)に光量変位率を除算して([被検査対象を照明して透過した光が当該光を受光するセンサによって受光された光量]÷[光量変位率] より具体的には、[被検査対象を照明して透過した光が当該光を受光するセンサによって受光された光量の階調値]÷[光量変位率])、光学画像データを補正する。かかる方法によれば、階調値の高低や被検査対象Maで反射された光であるか透過した光であるか等に影響されず、検査時の光量変化による影響を高精度かつ簡便に補正をすることが出来る。そして、光量変化の影響を受けていない(影響が小さくなるように処理された)光学画像データを下記工程に示す方法で比較することで、欠陥検出の精度が高まる。 When correcting the optical image data created from the light reflected by illuminating the object to be inspected Ma, the amount of light received by the sensor that receives the light reflected by the object to be inspected (more specifically Specifically, the gradation value of the amount of light received by the sensor that receives the light reflected by illuminating the object to be inspected is divided by the light intensity displacement rate ([illuminating the object to be inspected and reflected Quantity of light received by the sensor that receives the light]÷[Light quantity change rate] The gradation value of the amount of light applied]÷[the rate of change in the amount of light]) to correct the optical image data. Similarly, when correcting the optical image data created from the light that illuminates and passes through the object to be inspected Ma, the amount of light ( More specifically, the gradation value of the amount of light received by the sensor that receives the light transmitted by illuminating the object to be inspected Ma is divided by the light intensity displacement rate ([illuminating the object to be inspected Quantity of light received by the sensor that receives the light] ÷ [Light quantity change rate] The gradation value of the amount of light applied]÷[the rate of change in the amount of light]) to correct the optical image data. According to this method, the effects of changes in the amount of light during inspection can be accurately and easily corrected without being affected by the level of the gradation value or whether the light is reflected or transmitted by the object to be inspected Ma. can do By comparing optical image data that is not affected by changes in the amount of light (processed to reduce the influence) by the method shown in the steps below, the accuracy of defect detection is improved.

<参照画像作成工程(S110)>
参照画像作成工程(S110)は、測定されて補正された光学画像データと比較対象となる画像データを作成する工程である。die to database検査の場合、被検査対象Maを形成する基になった設計データ(描画データ)に定義されたパターンデータに基づいて参照用光学画像データを作成する。die to die検査の場合、過去に検査した光学画像データを参照用の画像データとして用意する。
<Reference Image Creation Step (S110)>
The reference image creation step (S110) is a step of creating image data to be compared with the measured and corrected optical image data. In the case of die to database inspection, optical image data for reference is created based on pattern data defined in design data (drawing data) that is the basis for forming the object to be inspected Ma. In the case of die to die inspection, optical image data inspected in the past is prepared as image data for reference.

<比較工程(S111)>
比較工程(S111)測定されて補正された光学画像データと参照用光学画像データを比較して欠陥を検出する工程である。測定されて補正された光学画像データと参照用光学画像データの位置を合わせ、例えば、画素毎の階調値の差が判定閾値Thよりも大きければ欠陥と判定する。検出された欠陥情報は、位置情報とともに記憶装置141に記憶される。
<Comparison step (S111)>
Comparison step (S111) This is a step of comparing the measured and corrected optical image data with the reference optical image data to detect defects. The positions of the measured and corrected optical image data and the reference optical image data are aligned, and, for example, if the difference in gradation value for each pixel is larger than the determination threshold Th, the defect is determined. The detected defect information is stored in the storage device 141 together with the position information.

光量変位量の補正がなされていても、補正光の光量と検査光の光量(被検査対象Maを照明して反射された光が当該光を受光するセンサによって受光された光量と被検査対象Maを照明して透過した光が当該光を受光するセンサによって受光された光量)が大きく違えば、光学画像データの補正の精度が下がるため、欠陥判定が正確に行えない場合がある。実施の形態では、検査光と補正光の受光光量を合わせているため補正光の光量変位量と同じ又は同程度の補正を光学画像データに行なうことが出来るため、精度の高い補正が可能となる。実施の形態の検査装置は、被検査対象Maの反射率に応じて補正光の光量を調整することが出来る構成であるため、被検査対象Maの反射率が高くても低くても光量変位量の補正を精度高く行なうことが出来る。例えば、補正光と検査光の受光光量の差が例えば数倍など大きな差であると、補正光による補正の誤差は欠陥の判定に影響を及ぼすことが危惧される程度であるが、検査光と補正光の受光光量を上記の差に抑えることで補正の誤差を極めて小さくすることが出来、欠陥検査の精度が向上する。従って、上記光量の差Δ1、Δ2及びΔ3は、上述の範囲内の値であることが好ましい。 Even if the light amount displacement amount is corrected, the light amount of the correction light and the light amount of the inspection light (the amount of light reflected by illuminating the object to be inspected Ma and the amount of light received by the sensor that receives the light and the amount of light to be inspected Ma If there is a large difference in the amount of light received by the sensor that receives the light, the accuracy of correction of the optical image data is lowered, and defect determination may not be performed accurately. In the embodiment, since the amounts of received light of the inspection light and the correction light are matched, the optical image data can be corrected in the same or the same degree as the light amount displacement amount of the correction light, so that highly accurate correction is possible. . Since the inspection apparatus according to the embodiment is configured to be able to adjust the light amount of the correction light according to the reflectance of the object to be inspected Ma, the light amount displacement amount is can be corrected with high accuracy. For example, if the difference in the amount of received light between the correction light and the inspection light is large, for example, several times, the error in the correction by the correction light may affect the defect determination. By suppressing the received light amount to the above difference, the correction error can be extremely reduced, and the accuracy of the defect inspection is improved. Therefore, the light amount differences Δ1, Δ2 and Δ3 are preferably values within the above range.

実施の形態2
図3は、実施の形態2におけるパターン検査装置の構成を示す構成図である。図2において、被検査対象Maに形成されたパターンの欠陥を検査する検査装置200は、検査装置200を制御する制御部110及び被検査対象Maを撮像する光学画像取得機構150を備えている。被検査対象Maは、例えば、マスクである。実施の形態2は、実施の形態1の変形例である。以下、実施の形態2における実施の形態1と異なる構成などについて説明する。
Embodiment 2
FIG. 3 is a configuration diagram showing the configuration of the pattern inspection apparatus according to the second embodiment. In FIG. 2, an inspection apparatus 200 for inspecting defects in patterns formed on an object to be inspected Ma includes a control unit 110 for controlling the inspection apparatus 200 and an optical image acquisition mechanism 150 for imaging the object to be inspected Ma. The object to be inspected Ma is, for example, a mask. The second embodiment is a modification of the first embodiment. Configurations of the second embodiment that are different from those of the first embodiment will be described below.

光源からの光を被検査対象に照明する光と被検査対象Maの面を介さない補正光とに分岐させ、補正光の光量を変えることの出来る光学素子である光分岐調光素子190は、第2の光分岐素子191、調光フィルタ192及びミラー193を含む。第2の光分岐素子191は、透過反射板であることが好ましい。調光フィルタ192は、1つ又は複数の透過する光量を減少させるフィルタを用いる。調光フィルタ192は、調光量が固定されたフィルタや調光量が可変であるフィルタを用いることができる。 The light branching and adjusting element 190, which is an optical element capable of branching the light from the light source into the light for illuminating the object to be inspected and the correction light that does not pass through the surface of the object to be inspected Ma, and changing the light amount of the correction light, It includes a second light branching element 191 , a light control filter 192 and a mirror 193 . The second light branching element 191 is preferably a transmissive reflector. Dimming filter 192 uses one or more filters that reduce the amount of light transmitted. As the light control filter 192, a filter whose light control amount is fixed or a filter whose light control amount is variable can be used.

実施の形態1では、補正光は、反射用TDIセンサ175で受光される構成となっているが、実施の形態2では、補正光は、透過用TDIセンサ172で受光される構成となっている。なお、実施の形態2において、補正光は、反射用TDIセンサ175で受光されるように検査装置200が構成されていてもよい。 In Embodiment 1, the correction light is received by the TDI sensor 175 for reflection, but in Embodiment 2, the correction light is received by the TDI sensor 172 for transmission. . In the second embodiment, inspection apparatus 200 may be configured such that correction light is received by reflection TDI sensor 175 .

光源161か出射された光(実線)は、拡大光学系162で任意の撮像倍率に調整され、第3の光分岐素子163によって、透過照明光学系側(破線)と光分岐調光素子190側(一点鎖線)に分岐される。第3の光分岐素子163は、例えば、偏光ビームスプリッタ又は透過反射板を含むものである。被検査対象Maを透過する光によって被検査対象Maを検査しない場合は、第3の光分岐素子163をミラーに置き換えることが出来る。、受光された被検査対象Maを透過した光の光量、受光された被検査対象Maで反射された光の光量及び受光された補正光の光量が同程度になるように第3の光分岐素子163の分岐率が調整される。 The light (solid line) emitted from the light source 161 is adjusted to an arbitrary imaging magnification by the magnifying optical system 162, and is split by the third light splitting element 163 into the transmission illumination optical system side (dashed line) and the light splitting/adjusting element 190 side. (chain line). The third optical branching element 163 includes, for example, a polarizing beam splitter or a transmissive reflector. When the object to be inspected Ma is not inspected by the light passing through the object to be inspected Ma, the third light branching element 163 can be replaced with a mirror. , the amount of received light transmitted through the object to be inspected Ma, the amount of received light reflected by the object to be inspected Ma, and the amount of received correction light are approximately the same. 163 branch ratios are adjusted.

透過照明光学系は、ミラー164を含みXYθテーブル165上に配置された被検査対象Maを照明する。被検査対象Maを透過した光は、対物レンズ168、光分岐調光素子190の第2の光分岐素子191を通る。第2の光分岐素子191を通った被検査対象Maを透過した光は、ミラー169で反射され、さらに、ミラー170で反射される。ミラー170で反射された被検査対象Maを透過した光は、レンズ171を通り、透過用TDIセンサ172で受光される。透過用TDIセンサ172で受光された光は光電変換され、光学画像作成部173の透過用信号処理部137bで信号が処理され、被検査対象Maを透過した光を基に光学画像データが作成される。センサとしてTDIセンサを挙げているが、TDIセンサに限定されるものではない。 The transmission illumination optical system includes a mirror 164 and illuminates an object to be inspected Ma placed on an XYθ table 165 . The light transmitted through the object to be inspected Ma passes through the objective lens 168 and the second light branching element 191 of the light branching light control element 190 . The light that has passed through the second optical branching element 191 and passed through the object to be inspected Ma is reflected by the mirror 169 and further reflected by the mirror 170 . The light transmitted through the object to be inspected Ma reflected by the mirror 170 passes through the lens 171 and is received by the transmission TDI sensor 172 . The light received by the transmission TDI sensor 172 is photoelectrically converted, the signal is processed by the transmission signal processing unit 137b of the optical image generation unit 173, and optical image data is generated based on the light transmitted through the object to be inspected Ma. be. Although the TDI sensor is mentioned as the sensor, it is not limited to the TDI sensor.

光分岐調光素子190側に分岐された光は、ミラー167で反射される。ミラー167で反射された光は、光分岐調光素子190の第2の光分岐素子191で反射された被検査対象Maを照明する光(長い破線)と第2の光分岐素子191を透過した補正光(短い破線)に分岐される。被検査対象Maを照明する光と補正光に分岐する比率は、被検査対象Maの反射率及びその他光学素子による損失を考慮して選択される。被検査対象Maを照明する光と補正光に分岐する比率は、受光された被検査対象Maで反射された光の光量と受光された補正光の光量の比率が同程度になるように調整されることが好ましい。 The light branched to the light branching and adjusting device 190 side is reflected by the mirror 167 . The light reflected by the mirror 167 passes through the second light branching element 191 and the light (long dashed line) that illuminates the object to be inspected Ma and is reflected by the second light branching element 191 of the light branching/adjusting element 190. It is branched into correction light (short dashed line). The ratio of splitting into the light for illuminating the object to be inspected Ma and the correction light is selected in consideration of the reflectance of the object to be inspected Ma and losses due to other optical elements. The ratio of splitting into the light for illuminating the object to be inspected Ma and the correction light is adjusted so that the ratio of the light quantity of the received light reflected by the object to be inspected Ma and the light quantity of the received correction light is approximately the same. preferably.

第2の光分岐素子191を透過した補正光は、調光フィルタ192を通り、ミラー193で反射される。ミラー193で反射された光は、再び調光フィルタ192を通り、第1の光分岐素子182で反射されてミラー169側へ導かれる。ミラー169側へ導かれた補正光は、ミラー169で反射される。ミラー169で反射された補正光は、ミラー170で反射され、レンズ171を通り、透過用TDIセンサ172の補正光用の領域で受光される。透過用TDIセンサ172で受光された光は光電変換され、変位量演算部136で信号が処理され、補正光の光量の変位率(経時的光量変位率)が求められる。 The correction light that has passed through the second light branching element 191 passes through the light control filter 192 and is reflected by the mirror 193 . The light reflected by the mirror 193 passes through the dimmer filter 192 again, is reflected by the first light branching element 182, and is guided to the mirror 169 side. The correction light guided to the mirror 169 side is reflected by the mirror 169 . The correction light reflected by the mirror 169 is reflected by the mirror 170 , passes through the lens 171 , and is received by the correction light area of the transmission TDI sensor 172 . The light received by the transmission TDI sensor 172 is photoelectrically converted, the signal is processed by the displacement calculation unit 136, and the light amount change rate of the correction light (time light amount change rate) is obtained.

図4は、実施の形態2におけるパターン検査方法の要部工程を示すフローチャート図である。図4において、実施の形態2におけるパターン検査方法は、第1の検査光測定工程(S101)、第2の検査光測定工程(S202)、第3の分岐割合調整工程(S203)、第2の分岐割合調整工程(S104)、全体光量調整工程(S105)、スキャン工程(S106)、光学画像作成工程(S107)、光量変位率演算工程(S108)、光学画像補正工程(S109)、参照画像作成工程(S110)及び比較工程(S111)の各工程を実施する。上記に説明した光路の違いの他、第2の検査光測定工程(S202)、第の分岐割合調整工程(S203)と補正光が透過用TDIセンサ172で受光されて光電変換されること以外は、実施の形態1の検査方法と共通する。なお、上記工程を行なう前に、TDIセンサの特性を調整してセンサ特性のばらつきを減らす(無くす)キャリブレーションを行なうことが好ましい。以下、各工程を説明する。
FIG. 4 is a flow chart showing main steps of the pattern inspection method according to the second embodiment. 4, the pattern inspection method according to the second embodiment includes a first inspection light measurement step (S101), a second inspection light measurement step (S202), a third branch ratio adjustment step (S203), a second Branch ratio adjustment step (S104), total light amount adjustment step (S105), scanning step (S106), optical image creation step (S107), light amount displacement rate calculation step (S108), optical image correction step (S109), reference image creation Each step of the step (S110) and the comparison step (S111) is performed. Other than the difference in the optical path described above, the second inspection light measurement step (S202), the third branch ratio adjustment step (S203), and the correction light are received by the transmission TDI sensor 172 and photoelectrically converted. are common to the inspection method of the first embodiment. Before performing the above steps, it is preferable to perform calibration by adjusting the characteristics of the TDI sensor to reduce (or eliminate) variations in the sensor characteristics. Each step will be described below.

<第2の検査光測定工程(S202)>
第2の検査光測定工程(S202)は、被検査対象Maを照明して反射された光の光量を測定する工程である。具体的には、光源161から出射され、拡大光学系162を通り、第3の光分岐素子163で光分岐調光素子190側に分岐され、ミラー167で反射され、第2の光分岐素子191で反射され、対物レンズ168を通って、被検査対象Maを照明する。このとき、2の光分岐素子191に透過反射板を用いているため、被検査対象Maを照明する光と補正光の分岐率は固定されている。被検査対象Maを照明して反射された光の光量を反射用TDIセンサ175で受光して光量を測定する。反射用TDIセンサ175で光電変換されたアナログ信号は、反射用信号処理部137aでデジタル変換を含む処理がなされる。被検査対象Maの反射率によって、反射用TDIセンサ175で受光される光量が変化する。
<Second Inspection Light Measurement Step (S202)>
The second inspection light measurement step (S202) is a step of illuminating the object to be inspected Ma and measuring the amount of reflected light. Specifically, the light is emitted from the light source 161 , passes through the magnifying optical system 162 , is branched by the third light branching element 163 to the light branching/adjusting element 190 side, is reflected by the mirror 167 , and passes through the second light branching element 191 . , passes through the objective lens 168 and illuminates the object to be inspected Ma. At this time, since a transmissive reflector is used for the second light branching element 191, the branching ratio of the light for illuminating the inspection object Ma and the correction light is fixed. The TDI sensor 175 for reflection receives the amount of light reflected by illuminating the object to be inspected Ma to measure the amount of light. The analog signal photoelectrically converted by the reflection TDI sensor 175 is processed including digital conversion by the reflection signal processing unit 137a. The amount of light received by the reflection TDI sensor 175 changes depending on the reflectance of the object to be inspected Ma.

<第3の分岐割合調整工程(S203)>
第3の分岐割合調整工程(S203)は、被検査対象Maを照明する光と補正光との比率を変更する工程である。被検査対象Maを照明する光と補正光との比率を変更するために光分岐調光素子190の調光フィルタ192の光透過率を調整する。補正光は、調光フィルタ192を2回通るため、目的とする減光量に対して半分の補正がなされるように調光フィルタの光透過率を調整する。光透過率の調整は、調光フィルタ192の光透過率が違うものに置き換えること、調光フィルタ192の複数使用すること、及び、可変の調光フィルタ192の光透過率を調整することをいずれか1つ又は組み合わせて行なう。本工程を含む操作によって、被検査対象Maの反射率によらず補正光の光量が適切になるように調整することが出来る。実施の形態2では、透過率(反射率)が固定された透過反射板191を用いているため、被検査対象Maを照明する光の光量は調整されない。補正光は、透過反射板191を通り、調光フィルタ192を通って、ミラー193で反射され、再び調光フィルタ192を通る。再び調光フィルタ192を通った光は、透過反射板191で反射されて透過用TDIセンサ172で受光される。透過用TDIセンサ172で受光された補正光の信号は、光量変位率演算工程(S108)において、信号処理がなされる。
<Third branch ratio adjustment step (S203)>
The third branch ratio adjustment step (S203) is a step of changing the ratio of the light illuminating the inspection object Ma and the correction light. The light transmittance of the light control filter 192 of the optical splitter light control element 190 is adjusted in order to change the ratio of the light that illuminates the object to be inspected Ma and the correction light. Since the correction light passes through the light control filter 192 twice, the light transmittance of the light control filter is adjusted so that half of the target light reduction amount is corrected. The adjustment of the light transmittance includes replacing the light control filter 192 with one having a different light transmittance, using a plurality of light control filters 192, and adjusting the light transmittance of the variable light control filter 192. or one or a combination. By the operation including this step, it is possible to adjust the light amount of the correction light so as to be appropriate regardless of the reflectance of the object to be inspected Ma. In the second embodiment, since the transmissive reflector 191 with a fixed transmittance (reflectance) is used, the amount of light that illuminates the inspection object Ma is not adjusted. The corrected light passes through the transmissive reflector 191, passes through the light control filter 192, is reflected by the mirror 193, and passes through the light control filter 192 again. The light passing through the dimmer filter 192 again is reflected by the transmissive reflector 191 and received by the transmissive TDI sensor 172 . A signal of the correction light received by the transmission TDI sensor 172 is subjected to signal processing in the light amount variation rate calculation step (S108).

実施の形態2においても、被検査対象Maの反射率に応じて適切な補正光の光量となるように調整が可能である。従って、光源161からの光量の変位などの理由による光量変位に基づいて精度の高い光学画像データの補正が可能となる。 Also in the second embodiment, it is possible to adjust the light amount of the correction light so as to be appropriate according to the reflectance of the object to be inspected Ma. Therefore, it is possible to correct the optical image data with high accuracy based on the change in the amount of light from the light source 161 due to the change in the amount of light.

以上の説明において、各「~部」は、ハードウェア、ソフトウェア及びハードウェア並びにソフトウェアの組み合わせを含む。 In the above description, each "-part" includes hardware, software, and a combination of hardware and software.

以上、具体例を参照しつつ実施の形態について説明した。しかし、本発明は、これらの具体例に限定されるものではない。 The embodiments have been described above with reference to specific examples. However, the invention is not limited to these specific examples.

また、装置構成や制御手法等、本発明の説明に直接必要しない部分等については記載を省略したが、必要とされる装置構成や制御手法を適宜選択して用いることができる。 In addition, descriptions of parts that are not directly necessary for the explanation of the present invention, such as the device configuration and control method, are omitted, but the required device configuration and control method can be appropriately selected and used.

その他、本発明の要素を具備し、当業者が適宜設計変更しうる全てのパターン検査装置、及びパターン検査方法方法は、本発明の範囲に包含される。 In addition, all pattern inspection apparatuses and pattern inspection methods that have the elements of the present invention and whose designs can be modified as appropriate by those skilled in the art are included in the scope of the present invention.

100 検査装置
110 制御系
121 制御計算機
122 バス
131 テーブル制御部
132 位置演算部
133 参照画像作成部
134 比較部
135 光量補正部
136 変位率演算部
137 光学画像作成部
137a 反射用信号処理部
137b 透過用信号処理部
141 記憶装置
142 パターンモニタ
143 モニタ
144 プリンタ
150 光学画像取得機構
161 光源
162 拡大光学系
163 第3の光分岐素子
164 ミラー
165 テーブル
Ma 被検査対象
166 レーザ測長システム
167 ミラー
168 対物レンズ
169 ミラー
170 ミラー
171 レンズ
172 透過用TDIセンサ
173 ミラー
174 レンズ
175 反射用TDIセンサ
180 光源からの光を被検査対象に照明する光と被検査対象の面を介さない補正光とに分岐させ、補正光の光量を変えることの出来る光学素子(光分岐調光素子)
181 2分の1波長板
182 第1の光分岐素子(偏光ビームスプリッタ)
183 第1の4分の1波長板
184 ミラー
185 第2の4分の1波長板
190 光源からの光を被検査対象に照明する光と被検査対象の面を介さない補正光とに分岐させ、補正光の光量を変えることの出来る光学素子(光分岐調光素子)
191 透過反射板
192 調光フィルタ
193 ミラー
100 inspection apparatus 110 control system 121 control computer 122 bus 131 table control unit 132 position calculation unit 133 reference image creation unit 134 comparison unit 135 light amount correction unit 136 displacement rate calculation unit 137 optical image creation unit 137a reflection signal processing unit 137b for transmission Signal processing unit 141 Storage device 142 Pattern monitor 143 Monitor 144 Printer 150 Optical image acquisition mechanism 161 Light source 162 Enlargement optical system 163 Third light branching element 164 Mirror 165 Table Ma Object to be inspected 166 Laser length measurement system 167 Mirror 168 Objective lens 169 Mirror 170 Mirror 171 Lens 172 Transmissive TDI sensor 173 Mirror 174 Lens 175 Reflective TDI sensor 180 Light from the light source is split into light for illuminating the object to be inspected and correction light not passing through the surface of the object to be inspected. Optical element that can change the amount of light (optical branch light control element)
181 half-wave plate 182 first optical branching element (polarization beam splitter)
183 First quarter-wave plate 184 Mirror 185 Second quarter-wave plate 190 Light from the light source is split into light for illuminating the object to be inspected and correction light not passing through the surface of the object to be inspected. , an optical element that can change the amount of correction light (optical splitter light control element)
191 transmissive reflector 192 light control filter 193 mirror

Claims (6)

光源と、
前記光源からの光を被検査対象に照明する光と前記被検査対象の面を介さない補正光とに分岐させ、前記補正光の光量を変えることの出来る光学素子と、
前記補正光を受光するセンサと、
前記センサで受光した前記補正光の光量の変位率を求める変位率演算部と、
前記被検査対象を照明して反射された光の光量を基に前記被検査対象の光学画像データを作成する光学画像作成部と、
前記変位率から前記光学画像データを補正する光量補正部と、
を備え
前記光学素子は、第1の光分岐素子、2分の1波長板、第1の4分の1波長板、第2の4分の1波長板及びミラーを含み、
前記光源からの光は、前記2分の1波長板を通り、
前記2分の1波長板を通った光は、前記第1の光分岐素子で、前記被検査対象を照明する光と前記補正光に分岐され、
前記第1の光分岐素子で分岐された前記補正光は、前記第1の4分の1波長板を通って、前記ミラーで反射され、
前記ミラーで反射された前記補正光は、前記第1の4分の1波長板を通って、前記第1の光分岐素子で反射され、
前記第1の光分岐素子で反射された前記補正光は、前記センサで受光され、
前記第1の光分岐素子で分岐された前記被検査対象に照明する光は、前記第2の4分の1波長板を通り、
前記第2の4分の1波長板を通った前記被検査対象に照明する光は、前記被検査対象の面を照射する検査装置。
a light source;
an optical element capable of branching the light from the light source into light for illuminating the object to be inspected and correction light not passing through the surface of the object to be inspected, and changing the amount of the correction light;
a sensor that receives the correction light;
a displacement rate calculator that calculates a displacement rate of the amount of the correction light received by the sensor;
an optical image creating unit that creates optical image data of the object to be inspected based on the amount of light reflected by illuminating the object to be inspected;
a light amount correction unit that corrects the optical image data from the displacement rate;
with
The optical element includes a first optical branching element, a half-wave plate, a first quarter-wave plate, a second quarter-wave plate and a mirror;
light from the light source passes through the half-wave plate,
The light passing through the half-wave plate is split by the first light splitting element into light for illuminating the object to be inspected and the correction light,
the correction light split by the first light splitting element passes through the first quarter-wave plate and is reflected by the mirror;
the correction light reflected by the mirror passes through the first quarter-wave plate and is reflected by the first optical branching element;
the correction light reflected by the first light branching element is received by the sensor;
The light split by the first light splitting element and illuminating the object to be inspected passes through the second quarter-wave plate,
An inspection apparatus in which the light passing through the second quarter-wave plate and illuminating the object to be inspected irradiates the surface of the object to be inspected .
光源と、
前記光源からの光を被検査対象に照明する光と前記被検査対象の面を介さない補正光とに分岐させ、前記補正光の光量を変えることの出来る光学素子と、
前記補正光を受光するセンサと、
前記センサで受光した前記補正光の光量の変位率を求める変位率演算部と、
前記被検査対象を照明して反射された光の光量を基に前記被検査対象の光学画像データを作成する光学画像作成部と、
前記変位率から前記光学画像データを補正する光量補正部と、
を備え、
前記光学素子は、第2の光分岐素子、調光フィルタ及びミラーを有し、
前記光源からの光は、前記第2の光分岐素子で、前記被検査対象に照明する光と前記補正光に分岐され、
前記第2の光分岐素子で分岐された前記補正光は、前記調光フィルタを通って、前記ミラーで反射され、
前記ミラーで反射された前記補正光は、前記調光フィルタを通って、前記第2の光分岐素子で反射され、
前記第2の光分岐素子で反射された前記補正光は、前記センサで受光され、
前記第2の光分岐素子で分岐された前記被検査対象に照明する光は、前記被検査対象の面を照射する検査装置。
a light source;
an optical element capable of branching the light from the light source into light for illuminating the object to be inspected and correction light not passing through the surface of the object to be inspected, and changing the amount of the correction light;
a sensor that receives the correction light;
a displacement rate calculator that calculates a displacement rate of the amount of the correction light received by the sensor;
an optical image creating unit that creates optical image data of the object to be inspected based on the amount of light reflected by illuminating the object to be inspected;
a light amount correction unit that corrects the optical image data from the displacement rate;
with
The optical element has a second light branching element, a light control filter and a mirror,
Light from the light source is split by the second light splitting element into light for illuminating the inspection object and the correction light,
the correction light split by the second light splitting element passes through the light control filter and is reflected by the mirror;
the correction light reflected by the mirror passes through the light control filter and is reflected by the second light branching element;
the correction light reflected by the second light branching element is received by the sensor;
The inspection apparatus according to claim 1, wherein the light split by the second optical branching element and illuminating the object to be inspected irradiates the surface of the object to be inspected .
前記第1の光分岐素子は、偏光ビームスプリッタであり、
前記2分の1波長板の光学軸方向を調整することによって、前記第1の光分岐素子で前記被検査対象に照明する光と前記補正光に分岐する比率を調整する請求項に記載の検査装置。
The first optical branching element is a polarizing beam splitter,
2. The method according to claim 1 , wherein by adjusting the optical axis direction of said half-wave plate, said first optical branching element adjusts a ratio of branching into light for illuminating said object to be inspected and said correction light. inspection equipment.
前記第2の光分岐素子は、反射透過部材であり、
前記調光フィルタの光透過率を調整して前記補正光の光量を調整する請求項に記載の検査装置。
The second optical branching element is a reflective and transmissive member,
3. The inspection apparatus according to claim 2 , wherein the light amount of the correction light is adjusted by adjusting the light transmittance of the light control filter.
前記補正光が前記センサによって受光された光量に対する前記被検査対象に照明して反射された光が当該光を受光するセンサによって受光された光量の差が±0.5%以内になるように前記光学素子を調整する請求項1からまでのいずれか1つの請求項に記載の検査装置。 The correction light is arranged so that the difference between the amount of light received by the sensor and the amount of light received by the sensor that receives the light is within ±0.5%. 5. Inspection apparatus according to any one of claims 1 to 4 , wherein an optical element is adjusted. 前記光源からの光を前記被検査対象に照明する透過照明光学系と、
前記光源からの光を前記透過照明光学系側と前記光学素子側に分岐する第3の光分岐素子を備え、
前記補正光が前記センサによって受光された光量に対する前記被検査対象に照明して反射された光が当該光を受光するセンサによって受光された光量の差が±0.5%以内であり、前記補正光が前記センサによって受光された光量に対する前記透過照明光学系を通り前記被検査対象を透過した光が当該光を受光するセンサによって受光された光量の差が±0.5%以内であり、かつ、前記被検査対象を照明して反射された光が当該光を受光するセンサによって受光された光量に対する前記透過照明光学系を通り前記被検査対象を透過した光が当該光を受光するセンサによって受光された光量の差が0.5%以内になるように前記光学素子及び前記第3の光分岐素子を調整する請求項1からまでのいずれか1つの請求項に記載の検査装置。
a transmission illumination optical system that illuminates the inspection object with light from the light source;
a third light splitting element that splits the light from the light source into the transmission illumination optical system side and the optical element side;
A difference in the amount of light received by the sensor that receives the light and the amount of light reflected by the object to be inspected is within ±0.5% with respect to the amount of light received by the sensor with the correction light, and The difference between the amount of light received by the sensor and the amount of light transmitted through the transmission illumination optical system and received by the sensor is within ±0.5%, and and the amount of light transmitted through the object to be inspected through the transmission illumination optical system is received by the sensor for receiving the light with respect to the amount of light reflected by illuminating the object to be inspected and received by the sensor for receiving the light. 5. The inspection apparatus according to any one of claims 1 to 4 , wherein the optical element and the third light branching element are adjusted so that the difference in the amount of light obtained is within 0.5%.
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