JP7215826B2 - 3次元計測装置、電子部品実装装置、及び3次元計測方法 - Google Patents
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Description
<3次元計測装置>
第1実施形態について説明する。図1及び図2は、本実施形態に係る3次元計測装置1の一例を示す模式図である。図1及び図2に示すように、3次元計測装置1は、計測対象物である物体Sを支持するステージ2と、パターン光PLを射出する投影装置3と、パターン光PLを反射する反射部材6と、パターン光PLが照射された物体Sの画像データを取得する撮像装置4と、撮像装置4により取得された物体Sの画像データに基づいて物体Sの3次元形状を算出する制御装置5とを備える。
図3は、本実施形態に係る制御装置5の一例を示す機能ブロック図である。制御装置5は、入出力部51と、パターン生成部52と、画像データ取得部53と、位相値算出部54と、3次元形状算出部55とを有する。
次に、本実施形態に係る3次元計測方法について説明する。図5は、本実施形態に係る3次元計測方法の一例を示すフローチャートである。
以上説明したように、本実施形態によれば、投影装置3から射出されたパターン光PLを反射する反射部材6が設けられる。これにより、投影装置3が1台でも、第1方向から物体Sに第1パターン光PL1を照射し、第1方向とは異なる第2方向から物体Sに第2パターン光PL2を照射することができる。すなわち、投影装置3の数を増やすことなく、複数の方向から物体Sにパターン光PLを照射することができる。したがって、3次元計測装置1の大型化及びコストアップが抑制される。また、複数の方向からパターン光PLが照射された物体Sの画像データが画像処理されることにより、物体Sの3次元形状の計測精度は向上する。
第2実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成要素については同一の符号を付し、その説明を簡略又は省略する。
第3実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成要素については同一の符号を付し、その説明を簡略又は省略する。
なお、上述の実施形態においては、投影装置3から射出されたパターン光PL(第2パターン光PL2)が反射部材6に照射されることとした。投影装置3から射出されたパターン光PLが中継用の反射部材に照射され、中継用の反射部材で反射したパターン光PLが反射部材6に照射されてもよい。中継用の反射部材が設けられることにより、投影装置3と反射部材6と撮像装置4との相対位置を任意に定めることができる。
Claims (11)
- パターン投影法に基づいて物体の3次元形状を計測する3次元計測装置であって、
パターン光を射出する投影装置と、
パターン光を反射する反射部材と、
パターン光が照射された物体の表面の画像データを取得する撮像装置と、
前記物体の表面の画像データに基づいて、前記物体の3次元形状を算出する制御装置と、を備え、
第1パターン光と前記反射部材で反射した第2パターン光とが前記物体の表面に照射され、
前記物体の表面に対する前記第1パターン光の入射方向と前記第2パターン光の入射方向とは、異なり、
前記撮像装置は、前記第1パターン光が照射された前記物体の表面の画像データと前記第2パターン光が照射された前記物体の表面の画像データとを取得し、
前記制御装置は、前記第1パターン光が照射された前記物体の表面の画像データと前記第2パターン光が照射された前記物体の表面の画像データとに基づいて、前記物体の3次元形状を算出し、
前記第1パターン光が照射された前記物体の表面と前記第2パターン光が照射された前記物体の表面とは、同じ領域である、
3次元計測装置。 - 前記第1パターン光は、前記投影装置から前記物体にダイレクトに照射されるパターン光である、
請求項1に記載の3次元計測装置。 - 前記投影装置は、パターン光を生成する光変調素子を有し、
前記物体に前記第1パターン光が照射される状態と前記第2パターン光が照射される状態との一方から他方に変化するように前記光変調素子を制御する制御装置を備える、
請求項2に記載の3次元計測装置。 - 前記制御装置は、前記物体の表面に前記第1パターン光を照射するとき、前記投影装置の射出面の第1領域からパターン光が射出され、前記射出面の第2領域からパターン光が射出されないように、前記光変調素子を制御し、前記物体の表面に前記第2パターン光を照射するとき、前記第2領域からパターン光が射出され、前記第1領域からパターン光が射出されないように、前記光変調素子を制御する、
請求項3に記載の3次元計測装置。 - 前記反射部材は、第1反射面と第2反射面とを含み、
前記第1パターン光は、前記第1反射面で反射して前記物体の表面に照射されるパターン光であり、
前記第2パターン光は、前記第2反射面で反射して前記物体の表面に照射されるパターン光である、
請求項1に記載の3次元計測装置。 - 前記投影装置は、前記第1反射面及び前記第2反射面にパターン光を同時に照射する、
請求項5に記載の3次元計測装置。 - 前記撮像装置の結像光学系の入射面は、前記物体と対向し、
前記反射部材は、前記入射面と前記物体との間の前記結像光学系の光軸の周囲の少なくとも一部に配置され、
前記投影装置から射出された前記パターン光は、前記光軸を通過して前記反射部材に照射される、
請求項1から請求項6のいずれか一項に記載の3次元計測装置。 - 電子部品を保持するノズルを有し、前記ノズルに保持された前記電子部品を基板に実装する実装ヘッドと、
前記ノズルに保持された前記電子部品の3次元形状を計測する請求項1から請求項7のいずれか一項に記載の3次元計測装置と、を備える
電子部品実装装置。 - 前記実装ヘッドは、電子部品供給装置から供給された前記電子部品を供給位置において前記ノズルで保持した後、実装位置に配置されている基板に実装し、
前記3次元計測装置は、前記電子部品供給装置と前記実装位置との間の前記実装ヘッドの移動経路に配置され、
前記実装ヘッドは、前記ノズルに保持された前記電子部品を前記基板に実装する前に、前記3次元計測装置の計測位置に配置し、
前記投影装置、前記撮像装置、及び前記反射部材を支持するハウジングを備え、
前記撮像装置は、前記計測位置よりも下方に配置され、
前記反射部材は、前記撮像装置の入射面と前記計測位置に配置される前記電子部品との間の前記撮像装置の結像光学系の光軸の周囲の少なくとも一部に配置され、
前記投影装置は、前記光軸の周囲の少なくとも一部に配置され、
前記反射部材は、前記投影装置よりも前記計測位置に近い位置に配置される、
請求項8に記載の電子部品実装装置。 - 前記実装ヘッドは、前記3次元計測装置の計測データに基づいて、前記電子部品と前記基板との相対位置を調整する、
請求項8又は請求項9に記載の電子部品実装装置。 - パターン投影法に基づいて物体の3次元形状を計測する3次元計測方法であって、
第1パターン光を物体の表面に照射することと、
反射部材で反射した第2パターン光を前記物体の表面に照射することと、
前記第1パターン光が照射された前記物体の表面の画像データと前記第2パターン光が照射された前記物体の表面の画像データとを取得することと、
前記第1パターン光が照射された前記物体の表面の画像データと前記第2パターン光が照射された前記物体の表面の画像データとに基づいて、前記物体の3次元形状を算出することと、を含み、
前記物体の表面に対する前記第1パターン光の入射方向と前記第2パターン光の入射方向とは、異なり、
前記第1パターン光が照射された前記物体の表面と前記第2パターン光が照射された前記物体の表面とは、同じ領域である、
3次元計測方法。
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