JP7213864B2 - 経皮照射装置および神経変性疾患の治療への応用 - Google Patents
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Description
本発明は、より詳細には、経皮照射による治療の実施を可能にする装置に関する。
本発明の装置の範囲は、神経疾患の治療の分野に含まれる。
上記の照射技術では、神経障害の進化に関して十分に満足のいく結果が得られない。
本発明は、アルツハイマー病などの神経疾患および/または精神疾患の症状に対して実質的な効能を有する経皮照射装置を主に目的としている。
・各々の経皮照射モジュール(10)が少なくとも1つのパルスレーザー光源(14a)を含む。
・パルスレーザー光源(14a)は、赤外スペクトルで放射するビームを生成し、前記ビームは、700~1200ナノメートルの波長と、
20~200ナノ秒のパルス幅、
1kHz以上25kHz以下のパルス列繰り返し周波数、
0.5ワット以上12ワット以下のインパルス電力、および
2ボルト以上5ボルト以下の電圧、を含むパルス列と、を有する。
・ビームは、800~900ナノメートル、好ましくは約850ナノメートルの波長を有する。
・パルスレーザー光源(14a)によって生成されるビームのパルス持続時間が75~150ナノ秒、好ましくは90~110ナノ秒である。
・パルスレーザー光源(14a)によって生成されたビームの繰り返し周波数が10kHz以上15kHz以下、好ましくは約15kHzである。
・パルスレーザー光源(14a)によって生成されたビームのインパルス電力が1ワット以上7ワット以下である。
・各々の経皮照射モジュール(10)が、可視スペクトルまたは赤外スペクトルで放射するビームを生成する少なくとも1つの発光ダイオード(14b、14c)を備える。
・各々の経皮照射モジュール(10)が、少なくとも
赤外スペクトルで放射するビームを生成するパルスレーザー光源(14a)と、
赤色スペクトルで放射するビームを生成する発光ダイオードまたはレーザー光源(14b)と、
赤外スペクトルで放射するビームを生成する発光ダイオード(14c)と、を含む。
・少なくとも1つの発光ダイオードまたはレーザー光源(14b)によって生成される赤色スペクトルで放射するビームは600~700ナノメートルの波長を有し、少なくとも1つの発光ダイオード(14c)によって生成される赤外スペクトルの波長は700~1200ナノメートルである。
・少なくとも1つの発光ダイオードまたはレーザー光源(14b)によって生成される赤色スペクトルで放射するビームは、620~650ナノメートル、好ましくは約640ナノメートルまたは約625nmの波長を有する。
・少なくとも1つの発光ダイオード(14c)によって生成された赤外スペクトルで放射するビームの波長が約850ナノメートルである。
・各々の経皮照射モジュール(10)が、静磁場(18)の生成源、好ましくは磁石または電磁石をさらに備える。
・静磁場(18)の生成源は、少なくとも1つの照射源(14a、14b、14c)によって経皮照射が生成される平面に垂直に配置されるリング形状を有する。
・装置は、1000ヘルツ以下、好ましくは1ヘルツ以上1000ヘルツ以下の周波数により少なくとも1つの照射源(14a、14b、14c)によって照射を加える手段を備える。
・照射を加える手段は、上部(1)の経皮照射モジュールによる放射を下部(9)の経皮照射モジュールによる放射と同期させるためのモジュールを含み、前記ビームは:
上部(1)および下部(9)のそれぞれの経皮照射モジュール(10)について、約9~11Hz、好ましくは約10Hzである全体変調周波数、または
上部(1)の経皮照射モジュール(10)のそれぞれについて約9~11Hz、好ましくは約10Hz、および下部(9)の経皮照射モジュール(10)のそれぞれについて約900~1000kHz、好ましくは約1000Hz、である全体変調周波数で送信される。
・装置は、ユーザの頭部に配置された、好ましくは対称的に配置された少なくとも2つの経皮照射モジュール(10)と、ユーザの腹部に配置された、好ましくは対称的に配置された少なくとも2つの経皮照射モジュール(10)と、を備える。
・少なくとも1つの照射源(14a、14b、14c)は、実質的に円筒の形状の保持手段内に保持され、前記保持手段は、ビームが円筒の軸線に平行に放射されるように患者と接触するようになっている。
・装置は、ユーザの頭部に対称に配置された少なくとも2つの照射モジュールと、ユーザの腹部に配置された、好ましくは対称に配置された少なくとも2つの照射モジュールとを含む。
・各々のモジュールは、照射される領域のレベルに前記支持体を配置するための手段を含むモジュール支持体、ならびに弾性材料および/または可撓性材料で作られ、弾性グリップによって前記照射モジュールを固定するのに適した少なくとも1つのリングに固定される。
・モジュール支持体は、ユーザの頭部に配置するのに適した経頭蓋照射モジュール支持体を形成する接続要素によって互いに接続された複数のリングを含む。
・リングは、支持体がユーザの頭部に配置されているときに、頭部の中心軸と一致する軸の両側に対称的に配置され、リングは周辺リングを含み、その少なくともいくつかは接続要素によって互いに接続されていない。
・周辺リングは、接続要素によって互いに接続されていない。
・リングは第2の周辺リングと4つの中央リングとを含み、少なくともいくつかの第2の周辺リングは接続要素によって互いに接続されておらず、4つの中央リングは接続要素によって互いに接続されている。
・支持体は、周辺リングを接続する少なくとも1つの接続部を含む制御された締め付けストラップを含む。
・ストラップは、支持体の両側で2つの接続要素に伸びる顎ストラップを含み、顎ストラップは、ユーザの耳の両側にそれぞれ配置されることが意図されるとともに、前記顎ストラップと接続部との間に接合部を形成する。
・各々のリングの内面には、専用モジュールの固定に役立つ溝が含まれている。
・リングは、可撓性材料および/または弾性材料で作られている。
・本発明の装置は、上述の支持体を備え、照射モジュールは、支持体のリング上に同軸に固定されるように適合されている。
図1、図2および図3を参照すると、本発明の経皮照射装置は2つの部分からなる。第1の上部1は、ユーザの頭部3に配置するための1つまたは複数の経皮照射モジュール10を含む。また、第2の下部9は、ユーザの腹部16上に配置するための1つまたは複数の経皮照射モジュール10も備える。
・赤外スペクトル14cで放射するビームを生成し、700~1200ナノメートル、好ましくは800~900ナノメートル、好ましくは約850ナノメートルの波長を有する少なくとも1つ、優先的には2つ、さらに優先的には3つ以上の発光ダイオード(LED)(LED14cは円形であり、モジュールの主軸XX’の周りおよびその近くに均等に分布している);
・赤色スペクトル14bで放射するビームを生成し、600~700ナノメートル、好ましくは約640ナノメートル、または好ましくは約625nmの波長を有する少なくとも1つ、優先的に2つ、さらに優先的に3つ以上の発光ダイオード(LED)(LED14bは、主軸XX’上のLED14cの周りに、より大きな距離で、円形かつ均一に分布している);
・赤外スペクトルで放射するビームを生成し、700~1200ナノメートル、好ましくは800~900ナノメートル、好ましくは約850ナノメートルの波長を有する少なくとも1つ、優先的に2つ、さらに優先的に3つ、さらに優先的に4つ以上のパルスレーザー源(好ましくはレーザーダイオード)14a(一実施形態では、これらのレーザー源14aのそれぞれは、
・20~200ナノ秒のパルス幅、
・1kHz以上25kHz以下、好ましくは10kHz以上15kHz以下、好ましくは15kHzまたは好ましくは10kHzのパルス列繰り返し周波数、
・0.5ワット以上12ワット以下、好ましくは1ワット以上7ワット以下のインパルス電力、および
・2ボルト以上5ボルト以下、好ましくは4.24ボルト±10%、または好ましくは2.30ボルト±10%の電圧、
を含むパルス列を有する);
に分けられる。
・内因性であって、1kHz以上25kHz以下、好ましくは10kHz以上15kHz以下、好ましくは15kHzまたは好ましくは10kHzの繰り返し周波数を含むパルス列を有する第1のパルス、および
・外因性であって、0~4000Hz、好ましくは1~1000Hz、好ましくは1~100Hz、好ましくは約10Hzの繰り返し周波数を含み、LED14bおよびLED14cにも適用可能な第2のパルス、にさらされる。
頭部3または腹部16に適用される経皮照射モジュール10の固定された正確な位置決めを確実にするために、モジュールは、弾力性のあるグリップにより、経皮照射モジュールの固定メンテナンスを確実に行うことを可能にする可撓性材料および/または弾性材料で作られた1つ以上のリングを含むモジュール支持体上に配置される。可撓性材料および/または弾性材料は、前記リングを離すことにより、実質的に円筒形の外面弾性率をリングに挿入し、弾性率に対して弾性復帰することを可能にするエラストマーまたはゴムなどの材料を意味する。材料は、弾性を持たずに柔軟であり、モジュールを挿入および固定するための間隔は、材料の大幅な延長を意味し、摩擦によりモジュールをリングに保持できる。支持体はまた、照射される領域に配置する手段を含む。これらの手段は、ストラップの形をとってもよいが、さらに、または加えて、治療される領域に載ることにより、その領域に適応し、この適応した支持体形状により所定の位置に保持される支持体の形状であってもよい。
本発明はまた、少なくとも1つの照射源14a、14b、14cのそれぞれのパラメータを構成するための制御インターフェースと、前記装置へのデジタル制御命令を提供するための通信インターフェースとを含む制御コンソールを備えた、本発明による装置を備えたシステムに関する。
本発明はまた、それを必要とするユーザの神経障害および/または神経変性疾患の予防および/または治療のために構成された、本発明による装置またはシステムに関する。特に、本発明による装置またはシステムは、アルツハイマー病、パーキンソン病および/またはハンチントン病の予防および/または治療のために構成される。
[実施例1]
本発明の装置の有効性を評価するために試験が実施された。より具体的には、マウスへのベータアミロイドの注射によって誘発される病理の軽減に対する本発明の装置の有効性が評価された。これらの試験により、アルツハイマー病などの神経変性疾患の治療に使用される照射プロトコルを決定することも可能になった。
・参照30:治療なしのSc.Aβの注射(対照1)。
・参照31:治療なしのAβ25-35の注射(対照2)。
・参照32:「装置A」による頭部と腹部に1日1回、10分間の治療を伴うAβ25-35の注射。
・参照33:「装置A」による頭部と腹部に1日1回、20分間の治療を伴うAβ25-35の注射。
・参照34:「装置B」による頭部と腹部に同時に1日1回、5分間の治療を伴うAβ25-35の注射。
・参照35:「装置C」による頭部と腹部に同時に1日1回、2.5分間の治療を伴うAβ25-35の注射。
・参照36:「装置D」による頭部と腹部に1日1回、10分間の治療を伴うAβ25-35の注射。
・参照37:「装置E」による頭部と腹部に同時に1日1回、10分間の治療を伴うAβ25-35の注射。
・参照38:「装置F」による頭部と腹部に1日1回、10分間の治療を伴うAβ25-35の注射。
・850ナノメートルの波長の赤外スペクトルで放射するビームを生成する発光ダイオード(LED)。
・625ナノメートルの波長の赤色スペクトルで放射するビームを生成する発光ダイオード(LED)。
・120~150ナノ秒のパルス持続時間、10kHz(または0.1ミリ秒)のパルス列繰り返し周波数、および1ワット~7ワットのパルス電力により、850ナノメートルの波長の赤外スペクトルで放射するビームを生成するパルスレーザーダイオード。
・2.30Vの電圧。
・200ミリテスラの静磁場および円形磁場。
治療は、頭部が10ヘルツ、腹部が1000ヘルツの全体変調周波数においてパルスモードで確立される。
・850ナノメートルの波長の赤外スペクトルで放射するビームを生成する発光ダイオード(LED)。
・625ナノメートルの波長の赤色スペクトルで放射するビームを生成する発光ダイオード(LED)。
・120~150ナノ秒のパルス持続時間、10kHz(または0.1ミリ秒)のパルス列繰り返し周波数、および1ワット~7ワットのパルス電力により、850ナノメートルの波長の赤外スペクトルで放射するビームを生成するパルスレーザーダイオード。
・200ミリテスラの静磁場および円形磁場。
治療は連続モード、つまり、頭部と腹部の全体変調周波数がない(0ヘルツ)モードで確立される。
・625ナノメートルの波長の赤色スペクトルで放射するビームを生成する発光ダイオード(LED)。
・850ナノメートルの波長の赤外スペクトルで放射するビームを生成する連続型レーザーダイオード。
・200ミリテスラの静磁場および円形磁場。
治療は、頭部が10ヘルツ、腹部が1000ヘルツの全体変調周波数においてパルスモードで確立される。
・850ナノメートルの波長の赤外スペクトルで放射するビームを生成する発光ダイオード(LED)。
・625ナノメートルの波長の赤色スペクトルで放射するビームを生成する発光ダイオード(LED)。
・120~150ナノ秒のパルス持続時間、10kHz(または0.1ミリ秒)のパルス列繰り返し周波数、および10ワット~13ワットのパルス電力により、850ナノメートルの波長の赤外スペクトルで放射するビームを生成するパルスレーザーダイオード。
・200ミリテスラの静磁場および円形磁場。
治療は、頭部が10ヘルツ、腹部が1000ヘルツの全体変調周波数によりパルスモードで確立される。
・850ナノメートルの波長の赤外スペクトルで放射するビームを生成する3つの発光ダイオード(LED)。
・200ミリテスラの静磁場および円形磁場。
治療は、頭部が10ヘルツ、腹部が1000ヘルツの全体変調周波数によりパルスモードで確立される。
・850ナノメートルの波長の赤外スペクトルで放射するビームを生成する発光ダイオード(LED)。
・625ナノメートルの波長の赤色スペクトルで放射するビームを生成する発光ダイオード(LED)。
・80~100ナノ秒のパルス持続時間、10kHz(または0.1ミリ秒)のパルス列繰り返し周波数、および1ワット~7ワットのパルス電力により、波長850ナノメートルの赤外スペクトルで放射するビームを生成するパルスレーザーダイオード。
・磁場なし。
治療は、頭部が10ヘルツ、腹部が1000ヘルツの全体変調周波数によりパルスモードで確立される。
・参照30:治療なしのSc.Aβの注射(対照1)。
・参照31:治療なしのAβ25-35の注射(対照2)。
・参照39:上記の「装置A」を使用して、頭部にのみ1日2回、2.5分間の治療を伴うAβ25-35の注射。
・参照40:上記の「装置A」を使用して、頭部と腹部に同時に1日2回、2.5分間の治療を行う。
・参照41:上記の「装置A」を使用して、頭部と腹部に同時に1日2回、5分間の治療を行う。
・参照42:上記の「装置A」を使用して、頭部と腹部に同時に1日1回、10分間の治療を行う(図11~図16の参照32に相当)。
・参照30:治療なしのSc.Aβの注射(対照1)。
・参照31:治療なしのAβ25-35の注射(対照2)。
・参照43:上記の「装置A」を使用して、頭部と腹部とに1日に1回、10分間の治療を伴うAβ25-35の注射(図11~図16の参照32および図17~図22の参照42に相当)。
・参照44:上記の「装置A」を使用して、頭部にのみ1日1回、20分間の治療を伴う注射。
・参照45:上記の「装置A」を使用して、腹部にのみ1日1回、20分間の治療を伴う注射。
・参照46:上記の「装置A」を使用して、頭部と腹部とに1日に1回、10分間の治療を伴うAβ25-35の注射。治療は、頭部と腹部とに1000ヘルツのパルスモードで確立される。
・参照47:上記の「装置A」を使用して、頭部と腹部とに1日に1回、10分間の治療を伴うAβ25-35の注射。治療は、頭部と腹部とに対して10ヘルツのパルスモードで確立される。
・参照48:上記の「装置B」を使用して、頭部と腹部とに1日に1回、10分間の治療を伴うAβ25-35の注射。治療は、頭部と腹部との連続モード(0ヘルツ)で確立される。
・参照30:治療なしのSc.Aβの注射(対照1)。
・参照31:治療なしのAβ25-35の注射(対照2)。
・参照49:上記の「装置A」を使用して、頭部と腹部とに1日に1回10分間の治療を行う。治療は、頭部と腹部とに対して10ヘルツのパルスモードで確立される。
・参照50:上記の「装置F」(磁場なし)を使用して、頭部と腹部とに1日に1回10分間の治療を行う。治療は、頭部が10ヘルツ、腹部が1000ヘルツのパルスモードで確立される。
・参照30:治療なしのSc.Aβの注射(対照1)。
・参照31:治療なしのAβ25-35の注射(対照2)。
・参照51:上記の「装置A」を使用して、頭部と腹部とに同時に1日10分間の治療を行う。治療は、頭部と腹部とに対して10ヘルツのパルスモードで確立される。
材料および方法
材料
動物
この研究には、JANUARY(Saint-Berthevin、France)から入手した5週齢で体重30~35gのSWISSマウス96匹が使用された。マウスは、行動試験期間を除き、水と食物とを自由に摂取できるグループで飼育された(#04C、Safe Diet、Augy France)。動物飼育施設は、12時間/12時間の昼夜サイクルにわたって、一定の温度および湿度に維持された。マウスは、尾に永続的なマーカで印を付けることで識別された。
使用された経皮照射装置「RGn530」は、上部1と下部9とを備え、各部分は経皮照射モジュール10を含む。各経皮照射モジュール10は以下を含む。
・850ナノメートルの波長、15kHzの固有パルス列、90~110ナノ秒のパルス持続時間、1~11ワットのピークパルス電力、4.24ボルトの供給電圧で、赤外スペクトルで放射するビームを生成する1つのレーザーダイオード14a。
・640ナノメートルの波長の赤色スペクトルで放射するビームを生成する1つの発光ダイオード14b。
・850ナノメートルの波長の赤外スペクトルで放射するビームを生成する1つの発光ダイオード14c。
・200ミリテスラの静磁場および円形磁場。
治療は、頭部と腹部とに対して10ヘルツのパルスモードで確立された。
β-アミロイドペプチドの調製および注射
マウスを最初に2.5%イソフルランで5分間麻酔した。
短期空間記憶の評価のためのY迷路試験
研究の8日目に、すべてのマウスを短期間の空間記憶を評価するためにY迷路試験で試験した。
研究の9日目と10日目に、すべてのマウスをステップスルー受動回避(STPA)試験で試験し、長期の文脈記憶を評価した。
研究プロトコルの10日目に、動物は安楽死せずに断頭により殺された。
Hermes-Lima et al.(1995.Free Radic Biol Med.19(3):271-80)に記載されているように、各グループの10日目に収集された12個の海馬のうち6個を使用して脂質過酸化活性を測定した。
各グループについて10日目に収集された海馬を使用して、ELISA(製品番号EMTNFA、ThermoScientific、USA)によりTNFαの量を測定した。
回避潜時および腸内微生物叢の組成分析を除くすべての値は、平均±平均の標準偏差として表される。
プロトコルの10日目に収集された盲腸サンプル中の細菌集団を、ユニバーサルプライマによって増幅された16S rRNA可変領域V12-V4のハイスループットシーケンス(MiSeq technology、Illumina、USA)によって分析した。
「RGn530」装置による経皮照射の対照および異なる治療計画に対応する研究グループが定義された(表1)。
短期空間記憶に対する治療の効果(Y迷路試験)
Aβ25-35を注射すると、対照ペプチド(Sc.Aβ)を注射したマウスと比較して、短期の空間記憶が大幅に減少する。
Alt%F(7;95)22.91、p>0.001
Loc%F(7;95)0.9366、p>0.05
Aβ25-35を注射すると、対照ペプチド(Sc.Aβ)を注射したマウスと比較して、長期の文脈記憶が大幅に減少する。
STL H=62.05、p>0.0001
EL H=57.03、p>0.05
Aβ25-35の注射は、対照ペプチド(Sc.Aβ)を注射したマウスと比較して、酸化ストレスレベルの大幅な増加をもたらす。
F(7;47)8.705、p<0.001
Aβ25-35の注射は、対照ペプチド(Sc.Aβ)を注射したマウスと比較して、TNFαのレベルを大幅に増加させる。
F(7;47)220.9 p<0.0001
Aβ25-35の注射は、対照ペプチド(Sc.Aβ)を注射したマウスと比較して、盲腸内のファーミキューテス門、テネリキューテス門、およびデフェリバクター門の量に有意な変動をもたらす。特に、Aβ25-35の注射後、ファーミキューテス門の存在量は大幅に減少するが、テネリキューテス門の存在量は著しく増加する。
Aβ25-35の注入により、短期の空間記憶と長期の文脈記憶が減少する。Aβ25-35の注射は、酸化ストレスのレベルとTNFαのレベルの増加にもつながる。
Claims (20)
- 神経障害および/または神経変性疾患の予防または治療のために構成された経皮照射装置であって、
ユーザの頭部(3)に配置され、少なくとも1つの照射源(14a、14b、14c)からなる少なくとも1つの経皮照射モジュール(10)を含む上部(1)と、
前記ユーザの腹部(16)に配置され、少なくとも1つの照射源(14a、14b、14c)からなる少なくとも1つの経皮照射モジュール(10)を含む下部(9)と、
を備え、
各々の前記経皮照射モジュール(10)が少なくとも1つのパルスレーザー光源(14a)を含み、
前記照射源(14a、14b、14c)に、非照光範囲と照光範囲との交互の確立である全体変調周波数が適用され、前記パルスレーザー光源(14a)は二重パルスにさらされ、
前記二重パルスは、
内因性であって、前記少なくとも1つのパルスレーザー光源によって生成されたパルスに相当するとともに1kHz以上25kHz以下の繰り返し周波数を含む第1のパルスと、
外因性であって、前記少なくとも1つのパルスレーザー光源によって生成されたパルスへの前記全体変調周波数の適用から生じるとともに0~4000Hzの繰り返し周波数を含む第2のパルスと
を備えることを特徴とする経皮照射装置。 - 前記全体変調周波数は、1~1000Hz、好ましくは1~100Hz、好ましくは約10Hzであることを特徴とする、請求項1に記載の経皮照射装置。
- 前記パルスレーザー光源(14a)は、赤外スペクトルで放射するビームを生成し、前記ビームは、700~1200ナノメートルの間の波長と、
20~200ナノ秒のパルス幅、
1kHz以上25kHz以下、好ましくは10kHz以上15kHz以下、好ましくは15kHzのパルス列繰り返し周波数、
前記パルスレーザー光源(14a)の出力が有する0.5ワット以上12ワット以下のインパルス電力、および
前記パルスレーザー光源(14a)の出力が有する2ボルト以上5ボルト以下の電圧、
を含むパルス列と、
を有することを特徴とする、請求項1または2に記載の経皮照射装置。 - 前記ビームは、800~900ナノメートル、好ましくは約850ナノメートルの波長を有することを特徴とする、請求項3に記載の経皮照射装置。
- 前記パルスレーザー光源(14a)によって生成される前記ビームのパルス持続時間が75~150ナノ秒、好ましくは90~110ナノ秒であることを特徴とする、請求項3または4に記載の経皮照射装置。
- 前記パルスレーザー光源(14a)によって生成された前記ビームの繰り返し周波数が10kHz以上15kHz以下、好ましくは約15kHzであることを特徴とする、請求項3~5のいずれか一項に記載の経皮照射装置。
- 前記パルスレーザー光源(14a)によって生成された前記ビームのパルス電力が1ワット以上7ワット以下であることを特徴とする、請求項3~6のいずれか一項に記載の経皮照射装置。
- 各々の前記経皮照射モジュール(10)が、可視スペクトルまたは赤外スペクトルで放射するビームを生成する少なくとも1つの発光ダイオード(14b、14c)を備えることを特徴とする、請求項1~7のいずれか一項に記載の経皮照射装置。
- 各々の前記経皮照射モジュール(10)が、少なくとも
赤外スペクトルで放射するビームを生成するパルスレーザー光源(14a)と、
赤色スペクトルで放射するビームを生成する、発光ダイオードまたはレーザー光源(14b)と、
赤外スペクトルで放射するビームを生成する発光ダイオード(14c)と、を含むことを特徴とする、請求項1~8のいずれか一項に記載の経皮照射装置。 - 前記少なくとも1つの発光ダイオードまたはレーザー光源(14b)によって生成される赤色スペクトルで放射する前記ビームは600~700ナノメートルの間の波長を有し、前記少なくとも1つの発光ダイオード(14c)によって生成される赤外スペクトルの波長は700~1200ナノメートルであることを特徴とする、請求項9に記載の経皮照射装置。
- 前記少なくとも1つの発光ダイオードまたはレーザー光源(14b)によって生成される赤色スペクトルで放射する前記ビームは、620~650ナノメートル、好ましくは約640ナノメートルまたは約625ナノメートルの波長を有することを特徴とする、請求項9または10に記載の経皮照射装置。
- 前記少なくとも1つの発光ダイオード(14c)によって生成された赤外スペクトルで放射する前記ビームの波長が約850ナノメートルであることを特徴とする、請求項9~11のいずれか一項に記載の経皮照射装置。
- 各々の前記経皮照射モジュール(10)が、静磁場(18)の生成源、好ましくは磁石または電磁石をさらに備えることを特徴とする、請求項1~12のいずれか一項に記載の経皮照射装置。
- 前記静磁場の生成源は、前記少なくとも1つの照射源(14a、14b、14c)によって前記経皮照射が生成される平面に垂直に配置されるリング形状を有することを特徴とする、請求項13に記載の経皮照射装置。
- 1000ヘルツ以下、好ましくは1ヘルツ以上1000ヘルツ以下の周波数により前記少なくとも1つの照射源(14a、14b、14c)による照射を加える手段を備えることと、
前記照射を加える手段は、前記上部(1)の前記経皮照射モジュールによる前記放射を前記下部(9)の前記経皮照射モジュールによる前記放射と同期させるためのモジュールを含み、前記ビームは、前記上部(1)および前記下部(9)のそれぞれの前記経皮照射モジュール(10)について、約9~11Hz、好ましくは約10Hzである全体変調周波数で送信されることと
を特徴とする、請求項1~14のいずれか一項に記載の経皮照射装置。 - 前記ユーザの頭部に配置された、好ましくは対称的に配置された少なくとも2つの経皮照射モジュールと、前記ユーザの腹部に配置された、好ましくは対称的に配置された少なくとも2つの経皮照射モジュール(10)と、を備えることを特徴とする、請求項1~15のいずれか一項に記載の経皮照射装置。
- 少なくとも1つの照射源(14a、14b、14c)は、実質的に円筒の形状の保持手段内に保持され、前記保持手段は、前記ビームが前記円筒の軸線に平行に放射されるように患者と接触するようになっていることを特徴とする、請求項1~16のいずれか一項に記載の経皮照射装置。
- 前記少なくとも1つの照射源(14a、14b、14c)の各々のパラメータを構成するための制御インターフェースと、前記経皮照射装置にデジタル制御命令を提供するための通信インターフェースとを含む制御コンソールを含むことを特徴とする、請求項1~17のいずれか一項に記載の経皮照射装置を備えたシステム。
- アルツハイマー病、パーキンソン病および/またはハンチントン病の予防または治療のために構成された、請求項1~17のいずれか一項に記載の経皮照射装置、または請求項18に記載のシステム。
- 前記上部(1)の前記少なくとも1つの照射源(14a、14b、14c)に適用される前記全体変調周波数は、前記下部(9)の前記少なくとも1つの照射源(14a、14b、14c)に適用される前記全体変調周波数とは異なる、請求項1~15のいずれか一項に記載の経皮照射装置。
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